INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Une première forme consiste à avoir un capteur photoresistif. Un tel capteur photoresistif consiste en une jonction PN sur laquelle une couche résistive R est déposée permettant d’avoir une jonction PIN comme visible à la . Cette couche résistive R présente deux électrodes X1 et X2 alors que la couche N de la jonction PN présente une électrode dite commune. Le capteur est construit pour que les deux électrodes X1, X2 soient écartées d’une distance Lx et que l’électrode commune soit agencée à égale distance des deux électrodes X1, X2.
Un tel capteur photorésistif fonctionne sur le principe que lorsque qu’un faisceau de lumière est pointé sur la couche résistive, un courant I est généré. Pour connaitre la position du faisceau sur le capteur, on utilise alors une formule qui permet de déterminer la position, la distance X A du faisceau par rapport au point milieu. Cette formule est la suivante et repose sur le principe que le courant généré se propage vers les deux électrodes X1, X2 avec un courant Ix1 et Ix2.
Les courants Ix2, Ix1 sont ensuite traités. Pour cela, les courants Ix1 et Ix2 sont convertis en tension puis convertis en valeur via un convertisseur analogique numérique avant d’être envoyé vers un processeur pour un traitement ultérieur. Les moyens de conversions en tension, les moyens de conversion analogique numérique et le processeur peuvent faire partie de la même unité de calcul ou peuvent être dissocié. Dans ce cas-là, les moyens de conversions en tension et les moyens de conversion analogique numérique sont séparés du processeur et des moyens de communication du type sans fil comme Bluetooth ou wifi sont agencés pour permettre l’envoi des données. Les données traitées par le processeur permettent de déterminer la distance X A du faisceau par rapport au point milieu. Ces données sont stockées dans une mémoire interne ou externe et/ou envoyées vers des moyens d’affichage.
Pour mesurer la planéité du substrat, l’invention consiste en un procédé qui utilise la source lumineuse 12 et le module détecteur 10 précédemment décrit. Le procédé consiste ainsi à fixer la source lumineuse 12 sur le substrat ou sur le support portant le substrat. Ce substrat 3 peut être horizontal par rapport au plan du sol ou vertical ou incliné.
Dans l’exemple de la , la structure lumineuse 30 comprend un moteur de lumière 12 qui est un dispositif électronique à circuit imprimé 13, comprenant les LED 11 et un guide de lumière 14 pour guider la lumière émise par la ou les LED.
On a illustré, en référence aux figures 8 et 9, une structure lumineuse 30, qui peut, dans un autre exemple de mise en œuvre de l’invention, être utilisée à la place de la structure lumineuse 30 précédemment décrite, dans le dispositif de chauffage et d’éclairage 1.
Ledit pommeau 83 de douche peut être relié à deux tuyaux indépendants 831, 832, de préférence souples, un premier étant relié au circuit d’eau propre 70, un deuxième étant relié au circuit d’eau grise 700. Les tuyaux souples rattachés aux pommeaux de douche sont communément appelés « flexibles » et cette nomination sera utilisée par la suite.
Le premier flexible 831 est relié au pommeau 83 au niveau d’une première sortie du pommeau 833, et le deuxième flexible 832 est relié au pommeau 83 au niveau d’une deuxième sortie du pommeau 834. Le premier flexible 831 permet de faire circuler l’eau propre jusqu’à la première sortie du pommeau 833. De manière similaire, le deuxième flexible 832 permet de faire circuler l’eau grise 600 jusqu’à la deuxième sortie du pommeau 834.
Préférentiellement, les deux tuyaux souples 831 et 832 peuvent être intégrés -tout ou partie- à l’intérieur d’un troisième tuyau souple.
De préférence, les deux sorties du pommeau 833, 834 comprennent classiquement des trous répartis de manière régulière sur le pommeau 83. Selon un exemple de réalisation de l’invention, l’une des deux sorties 833, 834 comprend les trous qui sont plus proche du centre du pommeau, et l’autre comprend les trous en périphérie du pommeau.
Dans un autre mode de réalisation, le capteur électronique 510 peut être un potentiomètre à axe creux.
Dans un autre mode de réalisation, le capteur électronique 510 peut être composé d’un potentiomètre multi-tours ainsi que d’un système de couplage de rotation par engrenage sur le potentiomètre multi-tours.
Dans un autre mode de réalisation, le système de changement de configuration 910 est constitué d’un dispositif comprenant un ou des boutons électroniques et une ou des électrovannes.
Les boutons électroniques et les électrovannes sont reliés électriquement à l’unité centrale 950. Les boutons électroniques ont deux positions distinctes : une première position correspondant à la configuration normale, et une deuxième position correspondant à la configuration recyclage.
L’unité centrale 950 peut également envoyer un ordre aux électrovannes. Celles-ci sont alors configurées pour fermer le circuit d’eau grise 700 et ouvrir le circuit d’eau propre 70.
Ouvrir le circuit d’eau propre 70 signifie permettre le passage de l’eau propre 60 dans le circuit d’eau propre 70. Fermer le circuit d’eau grise 700 signifie ne pas permettre le passage de l’eau grise 600 dans le circuit d’eau grise 700. De manière analogue, ouvrir le circuit d’eau grise 700 signifie permettre le passage de l’eau grise 600 dans le circuit d’eau grise 700. Fermer le circuit d’eau propre 70 signifie ne pas permettre le passage de l’eau propre 60 dans le circuit d’eau propre 70.
Lorsque l’utilisateur indique la configuration recyclage via le ou les boutons électroniques, une information est transmise à l’unité centrale 950. La douche cyclique passe alors dans une configuration d’amorçage.
De même que dans le mode de réalisation précédent, l’unité centrale 950 transmet un ordre d’alimentation à l’appareil de contrôle thermique 500, au chauffe-eau 400, au module UV 300, au(x) filtre(x) 200 et à la pompe 100. Elle transmet également de préférence un ordre de fermeture à la bonde 1500 qui empêche l’évacuation de l’eau du bac de récupération 30 vers les égouts.
Lorsque le débit mesuré par le capteur de débit 512 dépasse le seuil de débit, l’unité centrale 950 envoie un ordre de changement de configuration pour un passage en configuration recyclage aux électrovannes. Lesdites électrovannes ouvrent alors le circuit d’eau grise 700 et ferment le circuit d’eau propre 70.
De même que pour le cas précédent, lorsque l’utilisatrice ou l’utilisateur indique la configuration normale, l’unité centrale 950 envoie un ordre d’ouverture à la bonde 1500 si celle-ci est contrôlée électroniquement. L’unité centrale 950 coupe l’alimentation de l’appareil de contrôle thermique 500, du chauffe-eau 400, du module UV 300, du ou des filtres 200 et de la pompe 100.
L’invention concerne également un kit de montage d’une douche cyclique 10 comprenant une douche cyclique 10, un manuel de montage et de préférence des outils de montage. Ledit kit permet avantageusement à un particulier ou un professionnel d’installer la douche cyclique 10 selon des étapes décrites dans le manuel de montage et à l’aide des outils de montage. Lesdits outils de montage sont configurés pour permettre l’installation de la douche cyclique 10 en kit de préférence par une personne au minimum.
Construction, de préférence modulaire, comprenant un châssis de plafond en bois et un châssis de plancher en bois DOMAINE DE L’INVENTION La présente invention concerne de manière générale les constructions.
La 1-(4-(2-fluoropropyl)pipérazin-1-yl)éthanone 1a a été obtenue en suivant la procédure générale d‘écoulement sous flux en utilisant un réacteur tubulaire de longueur L = 47 cm (t R = 8,2 s) plongé dans un bain maintenu à -20°C. Des débits de mélange superacide HF/SbF 5 1:1 v/v (F 1 = 1 mL/min) et de substrat 1-(4-allylpipérazin-1-yl)éthan-1-one 1 (F 2 = 1 mL/min, c = 0,5 mol/L) dans HF ont été réglés produisant une acidité finale de 8,3 mol% SbF 5 . Le mélange réactionnel a été recueilli pendant 1 min (0,43 mmol engagée, 73 mg). La purification effectuée par chromatographie sur silice (98/2 CH 2 Cl 2 /MeOH) a permis d'obtenir 61,2 mg du produit 1a (75%).
1 H RMN (400 MHz, CDCl 3 , ppm) δ: 1.42 (dd, CH 3 , J = 23.8 Hz, J = 6.3 Hz), 3.28 (m, CH 2 ), 3.98 (sl, NH).4.89 (dm, CH, J = 49.4 Hz), 6.64 (dd, 2CH, J = 8.5 Hz, J = 0.9 Hz), 6.74 (t, CH, J = 7.3 Hz), 7.19 (dd, 2CH, J = 8.4 Hz, J = 7.4 Hz). 13 C RMN (100 MHz, CDCl 3 , ppm) δ: 18.8 (d, CH 3 , = 22 Hz), 49.6 (d, CH 2 , J = 21 Hz), 89.6 (d, CH, J = 167 Hz), 113.1 (2CH), 118.1 (1CH), 129.4 (2CH), 147.9. 19 F{ 1 H} RMN (CDCl 3 , 376 MHz, ppm) δ: -180.0.
Le 4,6-diméthyl-3,4-dihydro-2H-benzo[e][1,2]thiazine 1,1-dioxyde 2a a été obtenu en suivant la procédure générale d’écoulement sous flux en utilisant un réacteur tubulaire de longueur L = 130 cm (t R = 52,3 s) plongé dans un bain maintenu à -20°C. Des débits de mélange superacide HF/SbF 5 1:1 (F 1 = 0,25 mL/min) et de substrat N -allyl-4-méthylbenzènesulfonamide 2 dans HF (c = 0,5 mol/L) F 2 = 0,5 mL/min ont été réglés produisant une acidité finale de 5,1 mol% SbF 5 . Le mélange réactionnel a été recueilli pendant 2 min (0,887 mmol engagée, 187,8 mg). La purification effectuée par chromatographie sur silice (98/2 CH 2 Cl 2 /MeOH) a permis d’obtenir 171,2 mg du produit 2a (76%).
1 H RMN (400 MHz, CDCl 3 , ppm) δ: 1.34 (d, J = 7.2Hz, 3H), 2.37 (s, 3H), 2.98 (m, 1H), 3.41 (m, 1H), 3.82 (m, 1H), 4.89 (t, J = 7.7 Hz, 1H), 7.09 (s, 1H), 7.14 (d, J = 8.1Hz, 1H), 7.62 (d, J = 8.1Hz, 1H). 13 C RMN (100 MHz, CDCl 3 , ppm) δ: 19.5 (CH 3 ), 21.6 (CH 3 ), 31.5 (CH), 48.2 (CH 2 ), 124.0 (CH), 128.2 (CH), 129.0, 134.2, 140.2, 142.7.
Le N-(2-fluoropropyl)-4-méthylbenzènesulfonamide 2b a été obtenu en suivant la procédure générale d’écoulement sous flux en utilisant un réacteur tubulaire de longueur L = 78,2 cm (t R = 9,2 s) plongé dans un bain maintenu à -20°C. Des débits de mélange superacide HF/SbF 5 1:1 v/v (F 1 = 1 mL/min) et de substrat N-allyl-4-methylbenzènesulfonamide 2 (F 2 = 2 mL/min, c = 1 mol/L) dans HF ont été réglés produisant une acidité finale de 1,9 mol% SbF 5 . Le mélange réactionnel a été recueilli pendant 30 s (0,852 mmol engagée, 180 mg). La purification effectuée par chromatographie sur silice (98/2 CH 2 Cl 2 /MeOH) a permis d’obtenir 147,7 mg du produit 2b (75%).
1 H RMN (400 MHz, CDCl 3 , ppm) δ: 1.32 (dd, J = 23.8, 6.3 Hz, 3H, CH 3 ), 2.46 (s, 3H, CH 3 ), 3.03 (dddd, J = 18.4, 13.8, 7.6, 4.8 Hz, 1H), 3.23 (dddd, J = 28.4, 13.7, 8.1, 2.9 Hz, 1H), 4.84 – 4.62 (dm, J H-F = 45 Hz, 1H), 4.84 (s, 1H), 7.35 (d, J = 8 Hz, 2H), 7.77 (d, J = 8.3 Hz, 2H). 13 C RMN (100 MHz, CDCl 3 , ppm) δ: 143.8 (Cq), 136.94 (Cq), 129.9 (2CH), 127.16 (2CH), 89.3 (d, J = 167.6 Hz), 48.3 (CH 2 , d, J = 21.0 Hz), 21.7 (CH 3 ), 18.2 (CH 3 , d, J = 21.8 Hz). 19 F{ 1 H} RMN (CDCl 3 , 376 MHz, ppm) δ: -180.2. HRMS (ESI): Calc pour C10H14FNO2S: 231.0729, trouvé : 232.080241 [M+H] + et 254.062169 [M+Na] + .
Le N-(2-fluoropropyl)-4-nitrobenzènesulfonamide 3b a été obtenu en suivant la procédure générale d’écoulement sous flux en utilisant un réacteur tubulaire de longueur L = 78,2 cm (t R = 13,6 s) plongé dans un bain maintenu à -20°C. Des débits de mélange superacide HF/SbF 5 1:1 v/v (F 1 = 1 mL/min) et de substrat N-allyl-4-nitrobenzènesulfonamide 3 (F 2 = 1 mL/min, c = 1 mol/L) dans HF ont été réglés produisant une acidité finale de 8,4 mol% SbF 5 . Le mélange réactionnel a été recueilli pendant 1 min (0,867 mmol engagée, 120 mg). La purification effectuée par chromatographie sur silice (98/2 CH 2 Cl 2 /MeOH) a permis d’obtenir 190 mg du produit 3b (84%).
1 H RMN (400 MHz, CDCl 3 , ppm) δ: 1.32 (dd, J = 23.8 Hz, J = 6.3 Hz, 3H), 3.10 (m, 1H), 3.26 (dm, J = 28.1 Hz, 1H), 4.73 (dm, J = 48.9 Hz, 1H), 5.38 (1H, m, NH), 8.07 (d, J = 9.1 Hz, 2H), 8.38 (d, J =9.1 Hz, 2H). 13 C RMN (100 MHz, CDCl 3 , ppm) δ: 18.0 (d, J = 22 Hz, CH 3 ), 48.2 (d, J = 21 Hz, CH 2 ), 89.1 (d, J = 168 Hz, CH), 124.5 (s, 2CH), 128.3 (s, 2CH), 145.8 (s), 150.1 (s). 19 F{ 1 H} RMN (CDCl 3 , 376 MHz, ppm) δ: -180.2
Le N-(2-fluoropropyl)-4-(trifluorométhyl)benzènesulfonamide 4b été obtenu en suivant la procédure générale d’écoulement sous flux en utilisant un réacteur tubulaire de longueur L = 78.2 cm (t R =35,7s) plongé dans un bain maintenu à -20°C. Des débits de mélange superacide HF/SbF 5 1:1 v/v (F 1 = 0,25 mL/min) et de substrat N-allyl-4-trifluorobenzènesulfonamide 4 (F 2 = 0,5 mL/min, c = 0.49 mol/L) dans HF ont été réglés produisant une acidité finale de 5,2 mol% SbF 5 . Le mélange réactionnel a été recueilli pendant 2 min (0,398 mmol engagée, 105,6 mg). La purification effectuée par chromatographie sur silice (98/2 CH 2 Cl 2 /MeOH) a permis d’obtenir 90,8 mg du produit 4b (80%).
Aucune trace du produit de cyclisation 4a n’a été observée dans les conditions étudiées.
1 H RMN (400 MHz, CDCl 3 , ppm) δ : 1.29 (dt, J = 23.8, 6.3 Hz, 3H), 3.34 – 2.97 (m, 2H), 4.71 (dm, J = 49 Hz, 1H), 5.24 (brs, NH), 7.78 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 8.00 (d, J = 8.2 Hz, 2H). 19 F{ 1 H} RMN (CDCl 3 , 376 MHz, ppm) δ : -179.8.
La 1-(4-(2-chloro-2-fluoropropyl)pipérazin-1-yl)éthan-1-one 5a a été obtenue en suivant la procédure générale d’écoulement sous flux en utilisant un réacteur tubulaire de longueur L = 200 cm (t R = 60,3 s) plongé dans un bain maintenu à -20°C. Des débits de mélange superacide HF/SbF 5 1:1 v/v (F 1 = 0,5 mL/min) et de substrat 1-(4-(2-chloroallyl)pipérazin-1-yl)éthan-1-one 5 (F 2 = 0,5 mL/min, c = 0,5 mol/L) dans HF ont été réglés produisant une acidité finale de 6,4 mol% SbF 5 . Le mélange réactionnel a été recueilli pendant 2 min (0,499 mmol engagée, 111,1 mg). La purification effectuée par chromatographie sur silice (99/1 CH 2 Cl 2 /MeOH) a permis d’obtenir 77 mg du produit 5a (70%).
1 H RMN (400 MHz, CDCl 3 , ppm) δ: 1.93 (d, J = 19.4 Hz, 3H), 2.06 (s, 3H), 2.57 (m, 4H), 2.78 (dd, J = 24.2 Hz, J = 14.3 Hz, 1H), 2.94 (dd, J = 14.3 Hz, J = 14.3 Hz, 1H), 3.42 et 3.57 (2m, 4H). 13 C RMN (100 MHz, CDCl 3 , ppm) δ: 21.7 (s, CH 3 ), 28.4 (d, J = 25 Hz, CH 3 ), 41.9 et 46.8 (2s, 2CH 2 ), 54.4 et 54.6 (s, CH 2 ), 67.8 (d, J = 22 Hz, CH 2 ), 114.3 (d, J = 243 Hz, 1C), 169.3 (s). 19 F{ 1 H} RMN (CDCl 3 , 376 MHz, ppm) δ: -98.9.
Voie A (à partir du composé 5 ) : La 1-(4-(2,2-difluoropropyl)pipérazin-1-yl)éthan-1-one 5b a été obtenue en suivant la procédure générale d’écoulement sous flux en utilisant un réacteur tubulaire de longueur L = 600 cm (t R = 274 s) plongé dans un bain maintenu à 0°C. Des débits de mélange superacide HF/SbF 5 1:1 v/v (F 1 = 0,5 mL/min) et de substrat 1-(4-(2-chloroallyl)pipérazin-1-yl)éthan-1-one 5 (F 2 = 0,25 mL/min, c = 0,499 mol/L) dans HF ont été réglés produisant une acidité finale de 12,1 mol% SbF 5 . Le mélange réactionnel a été recueilli pendant 2 min (0,215 mmol engagé, 44,3 mg). La purification effectuée par chromatographie sur silice (CH 2 Cl 2 100% à 98/2 CH 2 Cl 2 /MeOH) a permis d’obtenir 38 mg du produit 5b (74 %).
Voie B (à partir du composé 9 ) : La 1-(4-(2,2-difluoropropyl)pipérazin-1-yl)éthan-1-one 5b a alternativement été obtenue en suivant la procédure générale d’écoulement sous flux en utilisant un réacteur tubulaire de longueur L = 400 cm (t R = 136 s) plongé dans un bain maintenu à -40°C. Des débits de mélange superacide HF/SbF 5 3:1 v/v (F 1 = 0,5 mL/min) et de substrat 1-(4-(prop-2-yn-1-yl)piperazin-1-yl)éthan-1-one 9 (F 2 = 0,5 mL/min, c = 0,5 mol/L) dans HF ont été réglés conduisant à une acidité finale de 2,65 mol% SbF 5 . Le mélange réactionnel a été recueilli pendant 30 s (0,50 mmol engagée, 85,8 mg). La purification effectuée par chromatographie sur silice (CH 2 Cl 2 100% à 98/2 CH 2 Cl 2 /MeOH) a permis d’obtenir 73 mg du produit 5b (71 %).
1 H RMN (400 MHz, CDCl 3 , ppm) δ: 3.66 - 3.59 (m, 2H), 3.47 (dd, J = 12.4, 7.3 Hz, 2H), 2.70 (t, J = 13.5 Hz, 2H), 2.58 (ddd, J = 21.2, 13.1, 8.0 Hz, 4H), 2.09 (d, J = 2.6 Hz, 3H), 1.66 (t, J = 18.7 Hz, 3H). 19 F{ 1 H} RMN (CDCl3, 376 MHz, ppm) δ: -92.2.
L’unité 80 électronique de commande est aussi reliée électriquement au capteur 50 de pression, aux électrovannes EV2, EV3, EV4 via des actionneurs R2, R3, R4 respectifs dont la fonction est d'assurer l'ouverture et/ou la fermeture des électrovannes EV2, EV3, EV4.
Dans l’exemple représenté à la , l'unité 80 électronique de commande comprend de manière non limitative un processeur 82, un module 84 d'entrée analogique relié au capteur 50 de pression pour en recueillir les mesures et les convertir en signal numérique en vue de leur traitement par le processeur 82, une mémoire 86 reliée au processeur pour le stockage de données issues du capteur 50 de pression (après conversion), un module 88 de sortie analogique commandé par le processeur 82, et contrôlant les électrovannes EV1, EV2, EV3, EV4 via les actionneurs R1, R2, R3, R4 de manière à moduler l'ouverture et la fermeture pour faire varier le débit de fluide fourni à la tuyère 48, et le dispositif de commande de déplacement axial de la tige 46 d'élongation, une interface 90 de communication pour l'implémentation dans l'unité 80 électronique de commande du programme régentant son fonctionnement.
Dans un mode de réalisation, l’unité 80 électronique de commande est aussi reliée électriquement à des moyens 92 d’entraînement de la tige 46 d’élongation pour commander son déplacement. Les moyens 92 d'entraînement sont constitués par un moteur électrique. Le module 88 de sortie analogique reçoit aussi les données de position de la tige 46 d'élongation provenant du moteur électrique.
Le fonctionnement de l’installation 10 de fabrication est similaire à celui des installations connues, à la différence que l’installation 10 de fabrication met en œuvre un procédé de commande selon lequel la position d’impact P0tha théorique de la tige 46 d’élongation est ajustée continuellement au cours de son fonctionnement, la position d’impact P0tha théorique ajustée étant plus proche de, voire confondue avec, la position d’impact P0r réelle par rapport à la position d’impact P0thi théorique initiale.
Ainsi, le procédé de fabrication d’un récipient 11 comporte une opération de chauffage du corps 14 de la préforme 12 à une température prédéterminée, notamment supérieure à la température de transition vitreuse, par passage de la préforme 12 à travers la zone 33 de chauffage.
A l’issue de l’opération de chauffage, le procédé comporte une opération d’introduction de la préforme 12 chauffée dans le moule 36 qui a lieu dans une zone 93 associée, comme représenté à la .
Après cette opération, le procédé comporte une opération d’étirage consistant à déplacer une tige 46 d’élongation afin d’étirer la préforme 12 introduite dans le moule 36, la tige 46 d’élongation passant, lors de son déplacement depuis sa position haute vers sa position basse P10, par la position P0r d’impact réel à l’instant où elle entre en contact avec le fond 18 de la préforme 12.
Le procédé de formage comporte aussi une opération de présoufflage consistant à injecter le fluide de formage sous pression, notamment à la pression de présoufflage, dans la préforme 12.
L'ordre du commencement du processus de soufflage est émis en fonction de cette position d’impact P0tha ajustée et non en fonction de la position d’impact P0thi théorique initiale déterminée à partir d’une préforme 12 froide, comme expliqué en préambule de la description.
Sur la , où la préforme 12 est illustrée en traits mixtes, la position d'impact (P0r) réelle de la tige 46 d'élongation, alors que l'étirage n'a pas encore commencé est indiquée. A supposer que la préforme 12 ait subi un retrait lors de sa chauffe par dans la station 24 de chauffage par les moyens 32 de chauffage, le point d’impact (P0thi) théorique initial utilisé dans les procédés antérieurs se trouverait un peu plus loin dans la course de la tige 46 d'élongation, tel que ceci est illustré par la .
L’ajustement de la position d'impact (P0th) théorique de la tige 46 d'élongation peut être effectuée en mesurant la longueur d’au moins une préforme 12 après son chauffage et avant son introduction dans le moule 36. Plus particulièrement, on mesure la longueur « L » de la préforme 12 entre le fond 18 et un point de référence du col 16.
Durant le chauffage, seul le corps 14 de la préforme 12 est sensiblement dilaté. Le col 16 de la préforme 12 demeure suffisamment froid pour que ses dimensions ne varient pas. Notamment, la hauteur « h » du tronçon de col 16 pris axialement entre le buvant et la surface 22 d’appui de la collerette 20 demeure sensiblement invariable pendant la chauffe. Ainsi, une fois obtenue la longueur « L » de la préforme 12 entre le point de référence du col 16 et le fond 18, il est aisé de retrouver la distance axiale entre n’importe quel point du col 16 et le fond 18.
Le point de référence du col 16 est par exemple formé par la surface 22 d’appui, cette dernière formant un point fixe de référence par rapport au moule 36.
En variante, le point de référence du col 16 est formé par un bord d’extrémité supérieur du col 16, aussi appelé buvant.
Le procédé de commande de l’opération de formage comporte ainsi au moins une étape « E1 » de mesure de la longueur « L » d’une préforme 12. Comme représenté à la , la longueur « L » est prise parallèlement à l’axe « A » de la préforme 12, entre la surface 22 d’appui de la collerette 20 et le fond 18 du corps de la préforme 12.
Avantageusement, mais pas obligatoirement, pour obtenir une mesure plus précise, la longueur « L » s’étend axialement depuis la surface 22 d’appui jusqu’à un point de la face externe du fond 18 qui est situé au voisinage immédiat du point 23 d’injection. En effet, la dimension du point 23 d’injection est aléatoire d’une préforme 12 à l’autre, ce qui fausserait légèrement une longueur prise entre le point 23 d’injection et la surface 22 d’appui.
étant la fonction de Green, solution de l’équation de Helmholtz associée à l’état sain de ladite structure
- la est un schéma illustrant un dispositif d’optimisation du placement d’un ensemble de capteurs de détection de défaut(s) dans une structure par tomographie à ondes guidées selon la présente invention;
- la est un organigramme d’un procédé d’optimisation bi-niveau de la localisation d’un ensemble de capteurs de détection de défaut(s) dans une structure par tomographie à ondes élastiques guidées selon la présente invention ;
- la illustre le déplacement de capteurs obtenu après optimisation bi-niveau à partir d’une configuration initiale ;
- la compare sur un exemple donné les résultats obtenus selon la présente invention à ceux obtenus selon l’état de la technique.
Dans la suite de la description, l’expression « sensiblement égal à » s’entend comme une relation d’égalité à plus ou moins 10%, c’est-à-dire avec une variation d’au plus 10%, de préférence encore comme une relation d’égalité à plus ou moins 5%, c’est-à-dire avec une variation d’au plus 5%.
La est une représentation d’un dispositif électronique 10 d’optimisation bi-niveau de la localisation d’un ensemble de capteurs de détection de défaut(s) dans une structure par tomographie à ondes élastiques guidées, les capteurs (non représentés) dudit ensemble étant disposés sur ladite structure (non représentée sur la ).
Il est à noter que lesdits capteurs sont propres à fonctionner en « mode actif » selon lequel les capteurs génèrent et mesurent les ondes guidées (e.g. ultrasonores), ou en « mode passif » selon lequel les capteurs se contentent de mesurer les ondes guidées (e.g. ultrasonores) présentes dans la structures naturellement durant son exploitation.
Les méthodes passives (corrélation de bruit, filtre inverse passif ou encore corrélation de coda de corrélation) permettent de reconstruire les mêmes signaux (ou pratiquement les mêmes selon le respect ou non de certaines hypothèses) que ceux que l’on mesure en mode actif mais de manière totalement passive.