INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
- le pignon d’hybridation comporte un voile qui présente un diamètre supérieur au second tronçon de l’arbre du pignon d’hybridation et qui porte à sa périphérie externe une denture d’engrènement, et le rotor s’étend axialement à partir dudit voile vers le second palier, une portée extérieure du rotor agencée en retrait d’une extrémité libre de l’arbre recevant une bague intérieure du palier,
- des moyens de liaison en rotation sont interposés entre un alésage interne du rotor et le second tronçon de l’arbre du pignon d’hybridation,
- le pignon d’hybridation comporte un tronçon tubulaire qui s’étend à partir de son voile vers la paroi latérale adjacente et qui comporte à son extrémité une première collerette d’extrémité recevant au moins une bague intérieure d’un des paliers,
- l’arbre porteur du pignon d’hybridation est tubulaire et il comporte un alésage qui est coaxial avec un orifice formé dans une des parois latérales adjacente, ledit alésage comportant des cannelures internes d’accouplement avec un arbre d’un des accessoires fixé à ladite paroi adjacente,
- le pignon d’hybridation est un pignon intermédiaire du train d’engrenages,
- une face externe d’une des parois latérales porte un fourreau tubulaire qui est apte à entourer et à être traversé par l’arbre de transfert, et il comporte une machine électrique supplémentaire qui est montée à l’intérieur dudit fourreau,
- un stator de la machine électrique supplémentaire est fixé dans le fourreau et un rotor de la machine électrique supplémentaire est fixé à l’arbre de transfert, le stator de la machine supplémentaire étant monté autour du rotor de la machine électrique supplémentaire.
L’invention concerne aussi une turbomachine d’aéronef comportant un dispositif de transmission de puissance comportant :
- un arbre d’entraînement sensiblement radial monté solidaire en rotation d’un arbre principal de ladite turbomachine,
- un dispositif de renvoi d’angle accouplé audit arbre d’entrainement,
- un arbre de transfert accouplé audit dispositif de renvoi d’angle,
Exemple 1 Cet exemple fournit un procédé pour recycler le lithium d’un électrolyte d’une pile au lithium-ion, dans lequel une pile au lithium ternaire usagée comprend les composants suivants en pourcentage en poids : 30 % de carbonate de diméthyle, 33 % de carbonate d’éthylène, 32 % de carbonate d’éthyle et de méthyle et 9 g/l de lithium.
S1, une pile au lithium ternaire usagée est prélevée, déchargée, puis piquée pour collecter 2 000 ml d’électrolyte (électrolyte au lithium-ion usagé), ajoutée à 1 000 ml de solution de chlorure de sodium avec une concentration massique de 15 %, puis additionnée de 1 000 ml d’éthanol (une concentration massique de l’éthanol est de 100 %) pour le mélange à une température de mélange de 50 ℃, et une vitesse d’agitation de 400 tours/min, puis lavée pendant 15 minutes, et ensuite stratifiée après avoir reposé pendant 0,5 heure. Dans ce cas, une densité d’une phase organique supérieure est de 0,9 g/cm 3 , et une densité d’une phase inférieure chargée en lithium est de 1,15 g/cm 3 , et la phase inférieure chargée en lithium et la phase supérieure d’électrolyte débarrassée du lithium sont collectées par séparation de liquide.
S2, un fractionnement par lots est effectué sur la phase supérieure d’électrolyte débarrassée du lithium après élimination du lithium pour obtenir du carbonate de diméthyle et du carbonate d’éthyle et de méthyle, le fractionnement par lots étant effectué pendant 20 minutes à une température de 80 °C et à une pression de 30 kPa.
S3, après avoir supplémenté la phase inférieure chargée en lithium avec 100 ml d’éthanol et 1 l d’électrolyte, l’étape S1 est répétée ; la concentration de lithium dans la phase chargée en lithium est continuellement augmentée, et une teneur en lithium de la phase chargée en lithium (phase secondaire chargée en lithium) dans le système est finalement de 20 g/l.
S4, l’éthanol dans la phase chargée en lithium est évaporé dans un évaporateur rotatif à 80 ℃ et 30 kPa pendant 20 minutes, et le solvant éthanol dans l’agent d’extraction est condensé et collecté à 20 ℃ ; la teneur en lithium du liquide résiduel après évaporation de l’éthanol est testée, une solution de carbonate de sodium à 10 % est ajoutée selon un rapport molaire tel que Li + /CO 3 2- est de 2/1,2, agitée et mise en réaction pendant 20 minutes, puis soumise à un filtrage-pressage pour obtenir un précipité de carbonate de lithium et un filtrat.
S5, un acide chlorhydrique est ajouté au filtrat à l’étape S4 pour ajuster un pH à 1 afin d’éliminer le CO 3 2- , puis additionné d’hydroxyde de sodium pour ajuster le pH à 7 afin d’obtenir la solution aqueuse de sel dans l’agent d’extraction. Le recyclage de la solution aqueuse de sel est réalisé.
La est un organigramme du procédé de recyclage de lithium selon l’Exemple 1 de la présente divulgation.
Grâce à un test élémentaire ICP, à l’étape S1, la teneur en lithium de la phase supérieure d’électrolyte débarrassée du lithium est de 0,01 g/l ; le précipité de carbonate de lithium inférieur est obtenu, et un taux d’extraction de cette partie du lithium est de 99 %. Le procédé de calcul est le suivant : (9-0,01)/9 = 99 %.
Le taux d’extraction est calculé par le procédé de calcul suivant : (la teneur en lithium dans l’électrolyte - la teneur en lithium dans la phase d’électrolyte débarrassée du lithium après la stratification à l’étape S1)/la teneur en lithium dans l’électrolyte.
Une analyse qualitative et quantitative est réalisée par chromatographie en phase gazeuse et spectrométrie de masse (GCMS). Lors de l’étape S2, un taux de recyclage du carbonate de diméthyle est de 80 % et un taux de recyclage du carbonate d’éthyle et de méthyle est de 75 %.
Exemple 2 Cet exemple fournit un procédé pour recycler le lithium d’un électrolyte d’une pile au lithium-ion, dans lequel une pile au lithium ternaire usagée comprend les composants suivants en pourcentage en poids : 30 % de carbonate de diméthyle, 33 % de carbonate d’éthylène, 32 % de carbonate d’éthyle et de méthyle et 9 g/l de lithium.
S1, une pile au lithium ternaire usagée est prélevée, déchargée, puis piquée pour collecter 2 000 ml d’électrolyte, ajoutée dans 1 000 ml de solution de chlorure de sodium avec une concentration massique de 5 %, puis additionnée de 1 000 ml d’éthanol pour le mélange à une température de mélange de 50 ℃, et une vitesse d’agitation de 400 tours/min, puis lavée pendant 15 minutes, puis stratifiée après avoir reposé pendant 0,5 heure pour collecter une phase inférieure chargée en lithium et une phase supérieure d’électrolyte débarrassé du lithium.
S2, un fractionnement par lots est effectué sur la phase supérieure d’électrolyte débarrassé du lithium après élimination du lithium pour obtenir du carbonate de diméthyle et du carbonate d’éthyle et de méthyle, le fractionnement par lots étant effectué pendant 20 minutes à une température de 80 ℃ et à une pression de 30 kPa.
S3, l’éthanol dans la phase chargée en lithium est évaporé dans un évaporateur rotatif à un degré de vide de 30 kPa et une température de 60 °C pendant 40 minutes, et le solvant éthanol dans l’agent d’extraction est condensé et collecté à 25 °C ; la teneur en lithium du liquide résiduel après évaporation de l’éthanol est testée, une solution de carbonate de sodium à 5 % est ajoutée selon un rapport molaire tel que Li + /CO 3 2- est de 2/1,2, agitée et mise en réaction pendant 20 minutes, puis soumise à un filtrage-pressage pour obtenir un précipité de carbonate de lithium et un filtrat.
la , la , la , la , la et la sont des vues en coupe illustrant des étapes successives d’un exemple d’un procédé de remplissage d’une tranchée selon un mode de réalisation.
Par souci de clarté, seuls les étapes et éléments utiles à la compréhension des modes de réalisation décrits ont été représentés et sont détaillés. En particulier, seule la réalisation des tranchées des dispositifs électroniques a été détaillée. Les autres éléments des dispositifs électroniques n’ont pas été détaillés, les modes de réalisation décrits étant compatibles avec toutes ou la plupart des réalisations connues de dispositif électroniques comportant des tranchées remplies de silicium polycristallin.
Les figures 1A à 1F sont des vues en coupe partielles et schématiques illustrant des étapes successives d’un exemple d’un procédé de remplissage d’une tranchée selon un mode de réalisation.
La illustre la structure obtenue à l’issue d’une étape de formation d’une tranchée 101 dans un substrat semiconducteur 103. La tranchée s’étend verticalement depuis une face du substrat, la face supérieure dans l’exemple représenté, sur une profondeur inférieure à l’épaisseur du substrat 103, par exemple sur une profondeur comprise entre 1 et 50 µm, par exemple entre 2 et 15 µm, par exemple de l’ordre de 6 µm.
La largeur de la tranchée 101 est par exemple comprise entre 0,1 et 2 µm, par exemple de l’ordre de 600 nm.
Le substrat 103 est par exemple en silicium, par exemple en silicium monocristallin. Les modes de réalisation décrits ne se limitent toutefois pas à ce cas particulier et peuvent s’appliquer à des substrats en d’autre matériaux semiconducteurs, comprenant ou non du silicium.
Dans l’exemple représenté, la face supérieure du substrat est revêtue d’une couche diélectrique de passivation 105, par exemple en nitrure de silicium. La tranchée 103 s’étend à travers la couche 105.
La tranchée 101 est par exemple formée par photolithographie puis gravure, par exemple par un procédé de gravure plasma, par exemple par un procédé de type DRIE (de l’anglais « Deep Reactive Ion Etching » - gravure ionique réactive profonde).
La illustre la structure obtenue à l’issue d’une étape optionnelle de dépôt d’une couche ou liner 107 d’un matériau diélectrique, par exemple de l’oxyde de silicium, sur les parois latérales et sur le fond de la tranchée 101. Dans cet exemple, la couche 107 sert à isoler électriquement le matériau semiconducteur du substrat du silicium polycristallin déposé ultérieurement dans la tranchée. Dans cet exemple, la couche 107 est en contact avec le matériau du substrat 103 sur les parois latérales et sur le fond de la tranchée 101. La couche 107 est par exemple déposée par un procédé de dépôt conforme sur toute la surface supérieure du substrat 103. Ainsi, dans l’exemple représenté, la couche 107 s’étend en outre sur la face supérieure de la couche diélectrique 105. L’épaisseur de la couche diélectrique 107 est par exemple comprise entre 2 nm et 200 nm.
La illustre la structure obtenue à l’issue d’une étape de dépôt d’une couche de silicium amorphe 109 sur les parois latérales et sur le fond de la tranchée 101. Dans cet exemple, la couche 109 est déposée sur et en contact avec la face supérieure de la couche diélectrique 107. La couche 109 est par exemple déposée par un procédé de dépôt conforme sur toute la surface supérieure du substrat 103. L’épaisseur de la couche de silicium amorphe 109 est par exemple comprise entre 50 et 500 nm, par exemple de l’ordre de 150 nm.
De préférence, la couche 109 est dopée in-situ lors de son dépôt. Le dopage peut être de type P ou de type N. A titre d’exemple, le dopage est un dopage au bore ou au phosphore. Le niveau de dopage de la couche 109 est par exemple compris entre 1*10 18 atomes/cm 3 et 1*10 22 atomes/cm 3 .
Le dépôt est par exemple effectué à une température inférieure à 600°C, par exemple comprise entre 400 et 580 ° C , de manière à obtenir un état amorphe du silicium de la couche 109 à l’issue du dépôt.
En complément optionnel non représenté, le procédé comprend en outre une étape de renouvellement de ladite clé de chiffrement symétrique, ledit renouvellement étant propre à être :
- périodique, par exemple, de quelques heures à une journée selon le chiffreur utilisé et le contexte d’utilisation ;
- mis en œuvre en fonction de la durée et/ou de la quantité de données à transmettre associée à ladite pluralité d’ensembles de donnée(s) préalablement chiffrés distinctement en utilisant des clés distinctes de chiffrement d’origine.
Un tel renouvellement étant effectué de manière transparente de bout en bout.
En complément optionnel non représenté, le procédé comprend en outre une étape préalable de surchiffrement desdites clés distinctes de chiffrement d’origine, notamment des clés d’origine asymétriques. Un tel surchiffrement optionnel permet de réduire les traitements de séparation 12 de l’en-tête, et nécessite une gestion avec double clés symétriques encapsulées.
De manière non représentée, le dispositif électronique d’adaptation dynamique du format de transmission d’un chiffrement de données basé sur les attributs, et propre à mettre en œuvre le procédé selon la présente invention pour application à chaque ensemble de donnée(s) préalablement chiffré au moyen dudit chiffrement basé sur les attributs, comprend - un module de séparation configuré pour séparer ledit ensemble de donnée(s), préalablement chiffré, en deux parties distinctes comprend :
Selon une mise en œuvre non représentée, un tel dispositif d’adaptation dynamique du format de transmission d’un chiffrement de données basé sur les attributs comprend une unité de traitement formée par exemple d’une mémoire et d’un processeur associé à la mémoire, et le dispositif d’adaptation dynamique du format de transmission d’un chiffrement de données basé sur les attributs est au moins en partie réalisé sous forme d’un logiciel, ou d’une brique logicielle, exécutable par le processeur, notamment le module de séparation, le module de désynchronisation, et le module de réutilisation. La mémoire du dispositif d’adaptation dynamique du format de transmission d’un chiffrement de données basé sur les attributs est alors apte à stocker de tels logiciels ou briques logicielles, et le processeur est alors apte à les exécuter.
Selon une autre mise en œuvre également non représentée, le module de séparation, le module de désynchronisation, et le module de réutilisation sont réalisés chacun sous forme d’un composant logique programmable, tel qu’un FPGA (de l’anglais Field Programmable Gate Array ), ou encore sous forme d’un circuit intégré dédié, tel qu’un ASIC (de l’anglais Application Specific integrated Circuit ).
Lorsqu’une partie du dispositif d’adaptation dynamique du format de transmission d’un chiffrement de données basé sur les attributs selon la présente invention est réalisée sous forme d’un ou plusieurs logiciels, c’est-à-dire sous forme d’un programme d’ordinateur, cette partie est en outre apte à être enregistrée sur un support, non représenté, lisible par ordinateur. Le support lisible par ordinateur est par exemple, un médium apte à mémoriser des instructions électroniques et à être couplé à un bus d’un système informatique. A titre d’exemple, le support lisible est un disque optique, un disque magnéto-optique, une mémoire ROM, une mémoire RAM, tout type de mémoire non-volatile (par exemple EPROM, EEPROM, FLASH, NVRAM), une carte magnétique ou encore une carte optique. Sur le support lisible est alors mémorisé un programme d’ordinateur comportant des instructions logicielles.
La présente invention propose ainsi d’optimiser la taille des données protégées par un chiffrement basé sur les attributs, notamment par le chiffrement ABE précité, et permet du fait de l’adaptation dynamique de format avant transmission de réduire la taille des données transmises par rapport à la taille des données initiales chiffrées au préalable avec un chiffrement basé sur les attributs, notamment par le chiffrement ABE, et ce sans modifier le contenu des données à protéger.
Ainsi, l’étape de communication du degré d’exécution de la tâche peut comprendre : - une sous-étape d’envoi d’un message au deuxième intervenant, notamment un message indiquant qu’il peut intervenir pour exécuter au moins une autre tâche définie lors de l’étape de définition, et/ou - une sous-étape d’affichage du degré d’exécution de la tâche sur une interface accessible au premier et au deuxième intervenant.
Avantageusement, la sous-étape d’affichage comprend : - comme représenté sur la , un affichage d’un plan du bâtiment et des représentations schématiques des tâches de la phase d’installation du projet en différents lieux du plan du bâtiment, la représentation schématique de chaque tâche indiquant de préférence un degré d’exécution de la tâche correspondante, et/ou - comme représenté sur la , un affichage d’un graphique sur lequel sont positionnées des représentations schématiques des tâches le long d’un axe temporel, les représentations des tâches indiquant de préférence un degré d’exécution des tâches.
Sur la , les appareils domotiques 3 sont avantageusement représentés dans les locaux 210 du bâtiment 1. Les appareils domotiques sont ainsi localisés relativement au bâtiment, notamment par leur appartenance à une zone, une pièce ou une façade du bâtiment. Par ailleurs, les appareils domotiques sont aussi associés à une représentation sous la forme d’une barre de progression indiquant comme sur la , le degré d’exécution d’une tâche concernant l’appareil domotique considéré, dans l’exemple le store, (par exemple le degré d’exécution de la tâche T2 à T13 mentionnée plus haut) relative à l’installation du store.
Sur la , un autre affichage du dispositif de gestion est représenté. Il s’agit d’un graphique temporel montrant, en ordonnées, différents intervenants devant agir dans une phase de d’installation des stores et, en abscisses, le temps. Les différentes tâches T2 à T13 ou interventions devant être exécutées dans cette phase d’installation des stores sont représentées par des rectangles dont les longueurs représentent les durées prévues d’intervention dans le planning. Les dates de début et de fin d’exécution des tâches sont ainsi représentées par les limites gauche et droite des rectangles. Les rectangles représentant les tâches sont en outre disposés en ordonnées en vis-à-vis des mentions des intervenants responsables de l’exécution de ces tâches. Sur une telle représentation, chaque rectangle peut apparaître sous la forme d’une barre de progression indiquant le degré d’exécution de chacune des tâches. Par exemple, sur la : - les tâches T2, T3 et T5 apparaissent terminées, - la tâche T4 apparaît à moitié réalisée, et - les tâches T6 à T13 apparaissent non commencées.
En outre, le procédé de fonctionnement peut aussi comprendre : - une étape de calcul d’un degré d’avancement de la phase de second œuvre et, en particulier une étape de calcul d’un degré d’avancement de la phase d’installation des stores faisant partie de la phase de second œuvre et comprenant les tâches énumérées plus haut, et - une étape d’affichage du degré d’avancement de la phase de second œuvre, en particulier une étape d’affichage du degré d’avancement de la phase d’installation des stores.
Une telle étape de calcul ou de détermination du degré d’avancement peut s’appuyer sur les calculs des degrés d’exécution de chacune des tâches qui constituent ensemble la phase. Par exemple, un degré d’avancement de la phase peut être déterminé comme le rapport :
- de la somme des durées cumulées des étapes déjà effectuées (au prorata temporis de leur exécutions partielles éventuelles), sur - la somme des durées cumulées de toutes les étapes constituant la phase.
Un autre exemple de détermination du degré d’avancement de la phase peut être comme suit. Sur le graphique de la , on définit la date A (la plus antérieure) correspondant à un état d’exécution non terminé d’une tâche de la phase. On connaît par ailleurs la date B de début de la phase et la date C de fin de la phase. L’état d’avancement de la phase peut être alors défini par la formule (A-B)/(C-B), avec A-B et C-B exprimés en jours par exemple.
Ainsi, le degré d’avancement peut être défini : - par le calcul d’avancement temporel défini ci-dessus en relation avec la , ou, - par le biais de retours d’informations de la part des différents intervenants comme décrit en relation à la , ou - par une combinaison de ces deux méthodes.
La date courante T peut aussi être représentée sur un affichage du planning, à l’attention de l’utilisateur visualisant ce planning, afin de lui fournir ou de compléter des informations d’avancée de l’exécution des tâches. Cela permet aussi de visualiser de manière simple quelles sont les tâches achevées en avance et quelles sont les tâches pour lesquelles les intervenants sont en retard.
Avantageusement, le procédé de fonctionnement comprend : - une étape d’enregistrement de données numériques, par exemple des données numériques d’un plan d’architecture, sur un support numérique par un premier intervenant, et - une étape d’attribution, à un deuxième intervenant, de droits d’accès en lecture et/ou de modifications sur ces données numériques. Ceci permet une communication d’information et de documentation « sans papier » entre les différents intervenants. Par ailleurs, ceci permet aussi d’obtenir une traçabilité des échanges d’informations effectués entre les différents intervenants. Les dates de mise à disposition, les dates de modification des différents documents échangés et les différentes versions des documents échangés au travers du dispositif de gestion peuvent être archivées au sein du dispositif de gestion. La documentation peut inclure des schémas électriques mais aussi des schémas de localisation des différents appareils avec leur lieu d’implantation dans le bâtiment.
De préférence, à tout moment pendant la réalisation de la phase définie dans le planning, un intervenant peut enregistrer une date de fin d’exécution d’une tâche. Selon le moment d’un tel enregistrement, cette action peut avoir des conséquences sur le planning. En effet, en cas de dépassement de temps imparti pour exécuter une tâche, une nouvelle mise en œuvre de l’étape de définition du planning d’exécution des tâches de la phase de second œuvre peut être effectuée. Cette nouvelle mise en œuvre peut comprendre un recalcul automatique du planning et déclencher une nouvelle présentation d’un planning modifié aux différents intervenants concernés qui peuvent de nouveau accepter, modifier ou refuser le planning recalculé. Un fonctionnement similaire peut être mis en œuvre lorsqu’un intervenant signale avoir terminé la tâche dont il avait la charge de manière précoce en enregistrant une date de fin d’exécution d’une tâche antérieure à la date de fin définie au planning.
De manière avantageuse, l’étape d’enregistrement d’une date de fin d’exécution d’une tâche peut être déclenchée par une détection automatique d’une fin d’exécution de la tâche. Ceci peut alors être effectué sans action spécifique d’un intervenant. En effet, la détection automatique peut par exemple être la conséquence : - d’une mise à jour, sur un serveur, de données de fonctionnement d’un appareil électrique qui a été installé dans le bâtiment, et/ou - d’un message émis par un appareil électrique qui a été installé dans le bâtiment.
En effet, dans certaines situations, les appareils installés peuvent échanger, dès leur mise en service, ou peu de temps après leur mise en service, des informations directement avec le dispositif de gestion ou avec d’autres appareils liés au dispositif de gestion. En conséquence, le dispositif de gestion peut être informé de l’état d’installation d’appareils sans intervention spécifique d’un intervenant pour spécifier cet état.
Dans cet exemple, le port 12 est configuré pour établir une communication fluidique entre la conduite 25 et l’espace environnant du dispositif 3, cet espace environnant étant typiquement un local dans lequel le système est placé. Le port 12 constitue ainsi un port d’entrée/sortie établissant une communication fluidique entre cet espace environnant, qui contient dans cet exemple de l’air ambiant, et les conduites primaires 21 et 22, via les conduites secondaires 24 et 25 et les raccords 24 et 25.
Les éléments 16, 17, 24 et 25 forment ainsi un organe de mise à l’atmosphère qui assure dans cet exemple une fonction de régulation de débit permettant d’une part de protéger les équipements 1 et 2 et d’autre part d’ajuster le signal de mesure dans l’analyseur isotopique 2 (voir plus loin ci-dessous).
Dans cet exemple, le raccord 16 est coudé de sorte que la conduite 24 s’étende perpendiculairement par rapport aux conduites primaires 21 et 22.