INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
DESCRIPTION DETAILLEE DE L'INVENTION La présente invention vise un procédé mis en œuvre par ordinateur, pour déterminer au moins une région cible thérapeutique à la surface d’une protéine candidate d’un organisme pathogène. Un tel procédé peut par exemple être mis en œuvre par une unité de traitement telle qu’un ou plusieurs processeurs ou tout autre moyen équivalent.
Par « organisme pathogène cible », on entend ici désigner tout type d’organisme pouvant causer des maladies chez un « hôte » (tel qu'un être humain, une plante ou un animal). Cet organisme est de préférence un microorganisme tel qu’un virus, une bactérie, un parasite, un champignon, un protozoaire (amibe, sporozoaire ou flagellés), etc. Certains de ces organismes n’ont été séquencés qu’au cours des dernières décennies, comme : les Rotavirus , les Calicivirus (Norwalk et hépatite E), Ebola, le chikungunya, le Coronavirus du SRAS ; les bactéries Legionella, Campylobacter, Helicobacter , Mycobacterium et Escherichia coli souche O157 : H7 ; les Sporozoaires (protozoaires parasites) des ordres des Coccidies ( Cryptosporidium, Cyclospora, Toxo-plasma ) ou des Microsporidies ( Enterocytozoon, Encephalitozoon, Nosema ).
Il peut également s’agir d’un macro-organisme nuisible, tel qu’un ver (appartenant par exemple au groupe des helminthes, plathelminthes comme les trématodes ou cestodes, ou nemathelminthes tels que les nématodes Ascaris, Toxocara, ou Trichuris ) ou un insecte.
Par extension, il est également inclus sous la dénomination « organisme pathogène cible » des cellules tumorales ou des cellules infectées par un microorganisme pathogène tel qu’un virus, une bactérie, etc. En effet, ces cellules expriment souvent à leur surface ou dans leur cytoplasme (voire dans leurs noyaux) des protéines impliquées dans le maintien des signaux de prolifération de ces cellules, la résistance à la mort cellulaire, l’échappement au système immunitaire, l’angiogénèse, activant l’invasion et les métastases, l’immortalité réplicative, l’échappement aux suppresseurs de facteurs de croissance, la reprogrammation du métabolisme énergétique, ce qui amplifie le mal (cancer ou infection). Il est donc tout à fait logique d’utiliser le procédé de l’invention pour identifier des régions cibles propices à la recherche thérapeutique, sur des protéines qui sont impliquées dans ces dérèglements également.
De manière avantageuse, les plateaux s’étendent perpendiculairement à la direction longitudinale d.
Suivant une possibilité, au moins certains plateaux disposent de trous les traversant de sorte à autoriser un passage d’air d’une partie amont à une partie aval dudit plateau suivant la direction longitudinale d. Suivant une possibilité additionnelle, les trous d’un plateau présentent un même diamètre. Ils peuvent être régulièrement répartis sur le plateau, de sorte à définir des secteurs angulaires identiques. De telles dispositions participent un écoulement régulier de l’air, mais ce dernier est freiné par le plateau.
Dans l’exemple de la , représentant un plateau 65, huit trous sont présents. Le plateau 65 est, dans le cas d’espèce, le premier plateau disposé au-dessus du brûleur 13. Le plateau 62 est un autre plateau troué dont une vue de dessus est fournie à la . Le plateau 62 dispose dans cet exemple de cinq trous. Suivant un exemple, le plateau 62 est situé à mi-distance entre le plateau 65 et un plateau 63 formant le dernier plateau le long du tube 2. La fournit un exemple pour le plateau 63. Dans ce cas, il dispose de quatre trous. Dans les représentations données aux figures, on note que les trous des différents plateaux 65,62, 63 ont un même diamètre. Dans ce contexte, en modulant le nombre de trous, on modifie la section de passage de l’air au travers des plateaux.
Suivant une possibilité, on s’arrange pour que les plateaux présentant des trous disposent de sections de passage d’air strictement décroissantes en allant vers l’extrémité supérieure du tube 2. Ainsi, le freinage de l’air est augmenté en allant vers cette extrémité.
Suivant une possibilité, au moins certains plateaux présentent un diamètre externe égal au diamètre interne du tube creux 2. Ce peut être le cas pour les plateaux présentant des trous. Ainsi, dans l’exemple correspondant aux figures, les diamètres d2, d3 et d4 sont identiques au diamètre interne d0 du tube 2. Il peut en être de même du diamètre d1 du plateau constituant le fond 14.
Suivant une possibilité, au moins certains plateaux présentent un diamètre externe inférieur au diamètre d0 du tube 2. Cette disposition permet de préserver un passage d’air entre la bordure externe d’un tel plateau et la paroi interne 23 du tube 2. Dans l’exemple représenté, ce sont typiquement les plateaux 64 qui correspondent à cette configuration. Non limitativement, dans l’exemple illustré, le plateau 64 ne dispose pas de trous.
Il est entendu que d’autres dispositions permettant de préserver un passage périphérique autour d’un plateau sont possibles ; par exemple, le plateau peut présenter une excavation latérale, par exemple formée par un plat sur sa tranche.
Suivant un exemple, les plateaux 64 préservant un passage d’air périphérique présentent un diamètre d5 (ou d6) tel que chaque plateau 64 définit un passage d’air d’une largeur supérieure ou égale à 10 mm et/ou inférieure ou égale à 30 mm. Suivant une possibilité, le diamètre d5 d’au moins un plateau est inférieur d’au moins 10 % au diamètre d0.
On peut en outre jouer sur la section de passage périphérique autour des plateaux, ou de certains d’entre eux, pour moduler le freinage de l’air. En particulier, pour les plateaux présentant un tel passage périphérique, on peut faire en sorte que la section de ces passages périphériques ne soit jamais croissante en allant vers l’extrémité supérieure du tube 2. Ainsi, cette section de passage périphérique peut être identique entre deux tels plateaux successifs et/ou être décroissante entre deux tels plateaux successifs.
La fournit un exemple dans lequel les plateaux 64 présentant de tels passages périphériques sont organisés en deux étages. Un premier étage, correspondant à un jeu inférieur de plateaux 64, présente un diamètre d5 inférieur à d0. Un deuxième étage, correspondant à un jeu supérieur de plateaux 64, présente un diamètre d6 strictement supérieur à d5. Par exemple, d6 est entre 5 et 8 % plus grand que d5.
On comprend que le changement d’étage fait entrer l’air dans d’une section de la longueur du tube 2 dans lequel il pourra moins facilement passer dans les passages périphériques.
Suivant une possibilité, le nombre de plateaux de chaque étage est identique. Suivant une autre possibilité, les plateaux 64 présentant un passage périphérique sont plus nombreux que les plateaux troués. Également, dans une configuration, les plateaux 64 présentant un passage périphérique ne présentent pas de trous. De cette façon, on peut favoriser un écoulement de l’air vers la paroi interne 23 du tube 2 pour optimiser la conduction thermique au travers du tube 2.
La représentation donnée aux figures 2 et 3 alterne les plateaux troués et les plateaux à passage d’air périphérique. Dans cet exemple, le plateau inférieur 65 est suivi d’une série de plateaux 64 d’un diamètre d5 (ici six plateaux ; mais ce nombre peut varier). La série de plateaux 64 est elle-même suivie d’un plateau troué de palier 62 auquel succède une autre série de plateaux 64 d’un diamètre d6. La colonne de pluralité de plateaux s’achève dans cet exemple par un plateau supérieur 63.
La fournit un mode de réalisation applicable à tout ou partie des plateaux 62,63, 64,65, et particulièrement aux plateaux 64, dans lequel le bord 66 du plateau est chanfreiné de sorte à produire un évasement du diamètre du plateau depuis une face inférieure 661 vers une face supérieure 662 dudit plateau, la face supérieure étant dirigée plus en aval selon la direction d’évolution de l’air chauffé. Dans le cas de plateaux 64 chanfreinés, les cotes d5 et d6 données aux figures correspondant au diamètre maximal du bord chanfreiné. Le bord chanfreiné préserve un passage d’air périphérique ; la forme chanfreinée a tendance à freiner l’air et à en perturber l’écoulement pour favoriser les échanges thermiques.
Selon un exemple, ce sont les plateaux non troués qui comportent un tel chanfrein.
Dans les descriptions qui précèdent en ce qui concerne les dimensions externes des plateaux, et typiquement leur diamètre lorsqu’ils ont une section circulaire, il est entendu que les dimensions discutées correspondent à la plus grande dimension extérieure d’un plateau. Dans le cas d’un plateau circulaire, les diamètres correspondant à d1, d2, d3, d4, d5 et d6 sont pris au niveau de la face supérieure 662 du plateau considéré.
De manière avantageuse, et comme c’est le cas dans l’exemple de réalisation représenté sur la , la cellule 100 comporte en outre un matériau antireflet 128 recouvrant les contacts électriques 122 de face avant et les deuxièmes régions 126 de la première couche de semi-conducteur sélective de charge 112. De manière avantageuse, le matériau antireflet 128 est riche en hydrogène et correspond par exemple à du SiO X N Y :H, ce qui lui permet d’assurer un piégeage optique optimal du rayonnement lumineux incident en face avant de la cellule 100, et ainsi maximiser le courant produit par la cellule 100. L’épaisseur du matériau antireflet 128 déposé est par exemple égale à 95 nm, ou comprise entre 50 nm et 200 nm.
Une cellule 100 telle que celle décrite ci-dessus peut présenter les caractéristiques suivantes : - tension de circuit ouvert supérieure à 690 mV ; - courant de court-circuit supérieur à 39 mA/cm² ; - altération du facteur de forme (FF) inférieure à 80 %, en raison de la perte de conductivité latérale due à l’absence d’oxyde transparent conducteur sur les deuxièmes régions 126.
Dans l’exemple de réalisation représenté sur la , la première face 104 du substrat 102 est texturée et forme des motifs antireflets qui se retrouvent au niveau de la face avant de la cellule 100.
Pour réaliser la cellule 100 telle que représentée sur la , la face avant 104 du substrat 102 est tout d’abord texturée, puis les couches de passivation 108, 110 sont formées, par exemple par croissance chimique et/ou thermique, sur les faces 104, 106 du substrat 102.
Les couches de semi-conducteur sélective de charge 112, 114 sont ensuite réalisées sur les couches de passivation 108, 110.
Selon un exemple de réalisation, les couches 112, 114 sont par exemple réalisées en déposant tout d’abord des couches de silicium amorphe intentionnellement non-dopée, par exemple par dépôt chimique en phase vapeur basse pression (LPCVD), sur les couches de passivation 108, 110.
Un dopage de type n du silicium amorphe déposé sur la couche 108 est ensuite mis en œuvre, par exemple par implantation ionique par immersion plasma (PIII) mise en œuvre avec de la phosphine (PH 3 ). Cette implantation est par exemple réalisée en utilisant une tension d’accélération de l’ordre de 4 kV et une dose de l’ordre de 7,5.10 15 at/cm².
Un dopage de type p du silicium amorphe déposé sur la couche 120 est ensuite mis en œuvre, par exemple par implantation ionique par immersion plasma (PIII) mise en œuvre avec du diborane (B 2 H 6 ). Cette implantation est par exemple réalisée en utilisant une tension d’accélération de l’ordre de 6 kV et une dose de l’ordre de 7.10 15 at/cm².
Un recuit d’activation des dopants et de cristallisation est ensuite mis en œuvre, par exemple à une température de 875 °C, pendant 30 mn et sous atmosphère de N 2 , transformant les couches de semi-conducteur amorphes dopées en couches de semi-conducteur polycristallin dopées.
La couche d’oxyde d’indium 116 est ensuite déposée sur la deuxième couche de semi-conducteur sélective de charge 114, et une couche d’oxyde transparent conducteur comportant du zinc est déposée sur la première couche de semi-conducteur sélective de charge 112. Ces oxydes transparents conducteurs sont par exemple déposés par pulvérisation cathodique.
Les contacts électriques 118, 122 sont ensuite réalisés respectivement sur la couche d’oxyde transparent conducteur comportant du zinc et sur la couche d’oxyde d’indium 116, par sérigraphie. En variante, les contacts électriques 118, 122 peuvent être réalisés par d’autres techniques, comme par exemple le dépôt par évaporation, l’électro-dépôt, etc.
Une gravure est ensuite mise en œuvre afin de réduire l’épaisseur ou de supprimer (ce qui est le cas pour la réalisation de la cellule 100 représentée sur la ) les parties de la couche d’oxyde transparent conducteur comportant du zinc non recouvertes par les contacts électriques 122. Dans l’exemple de réalisation décrit ici, à l’issue de cette gravure, seules des premières portions 120 de la couche d’oxyde transparent conducteur comportant du zinc disposées entre les contacts électriques 122 de face avant et les premières régions 124 de la première couche de semi-conducteur sélective de charge 112 sont conservées.
La gravure est avantageusement mise en œuvre en plongeant tous les éléments de la cellule précédemment réalisés dans un bain d’acide chlorhydrique dilué par de l’eau avec un facteur de dilution compris entre 500 et 1000 (avantageusement égal à environ 800), pendant une durée comprise entre 25 secondes et 60 secondes (par exemple de l’ordre de 40 secondes lorsque le facteur de dilution est égal à 800). La durée de mise en œuvre de cette gravure est adaptée notamment en fonction du facteur de dilution de la solution de gravure utilisée ainsi que de l’épaisseur de la couche d’oxyde transparent conducteur comportant du zinc à graver.
Le faible temps nécessaire pour graver la couche d’oxyde transparent conducteur comportant du zinc permet de ne pas endommager, ou très peu, les portions 120 de cette couche localisées sous les contacts électriques avant 122 et qui les maintiennent mécaniquement. Par exemple, lorsque la largeur (dimension selon l’axe X représenté sur la ) des contacts 122 est égale à environ 50 µm, la gravure mise en œuvre peut réduire d’environ 5 µm la largeur des portions 120, ce qui n’empêche pas le maintien mécanique des contacts électriques 122 par les portions 120 obtenues à l’issue de cette gravure.
Durant cette gravure, la face arrière de la cellule, formée par la couche d’oxyde d’indium 116, ne nécessite pas de protection particulière du fait de son absence de gravure ou de sa très lente cinétique dans le bain d’acide chlorhydrique utilisé, en comparaison de l’oxyde transparent conducteur à base de zinc gravé.
Après la gravure, la cellule est par exemple rincée à l’eau dé-ionisée, puis séchée par étuvage.
La supination est le mouvement de rotation externe de l’avant-bras, amenant la paume de la main du bas vers le haut lorsque l’avant-bras est horizontal.
Lors du mouvement de supination de la main, le radius et le cubitus de l’avant-bras deviennent sensiblement parallèles entre eux alors que lors du mouvement de pronation, le radius et le cubitus se croisent progressivement.
La cravache selon l’invention permet ainsi :
- une amélioration de la gestuelle et de la posture du cavalier (le cavalier ayant moins besoin d’écarter / pivoter le bras portant la cravache pour limiter les contacts involontaires entre la cravache et la monture) ;
- de faciliter le mouvement de supination de la main portant la cravache (la cravache courbée ne limitant pas le mouvement de supination), ce qui permet en virage, une tenue de rêne en supination pour guider le nez de la monture vers le côté où tourne la monture (la monture ayant ainsi une courbure adaptée / tangentée le long de la trajectoire à suivre) ;
- une amélioration de la locomotion de la monture / du cheval (la locomotion en ligne droite, courbe, deux-pistes n’est plus perturbée par des ordres involontaires résultant du contact involontaire avec la cravache) ; - une amélioration pédagogique (par exemple les enfants peuvent apprendre la position idéale, dite « rêne d’ouverture » avec la paume vers le haut, les ongles vers le ciel en prêtant une moindre attention à la position de la tige de cravache) ; - une facilitation de la réception sur le bon pied à l’obstacle en permettant « d’ouvrir le poignet interne » tout en gardant un écart entre la tige de cravache et la monture ;
- de faciliter la supination de la main du cavalier nécessaire à l’orientation de la rêne pour que le bout du nez du cheval soit du côté de l’incurvation de la monture vue de dessus.
La cravache selon l’invention permet aussi une amélioration du bien-être animal car elle ne touche pas facilement la monture mais seulement lorsque le cavalier le souhaite, par exemple en augmentant l’amplitude du mouvement de supination.
La décrit un cavalier assis sur une monture et portant une cravache droite de l’art antérieur ;
La décrit le cavalier assis sur la monture mais portant une cravache selon l’invention qui présente un angle saillant A qui est formé entre l’axe longitudinal de la poignée et l’axe de la tige, l’axe de tige passant par des extrémités longitudinales / terminales de la tige (cet angle A est compris entre 120° et 175° et il est orienté à l’opposé de la monture manière à éloigner l’extrémité terminale de la cravache par rapport au flanc de la monture) ;
La présente une vue de côté de la cravache selon l’invention observée suivant une direction d’observation perpendiculaire au plan dans lequel s’étendent l’axe longitudinal 1x de la poignée 1 et l’axe de tige 2x, l’angle saillant A étant ici apparent, dans ce mode de réalisation particulier, la cravache 0 comporte une claquette 20 formant une extrémité terminale de la cravache 0, la claquette 20 étant assujettie à l’extrémité distale de la tige 2 ;
La présente une vue de face de la cravache 0 selon l’invention illustrée à la , la cravache étant ici observée suivant une direction d’observation parallèle au plan dans lequel s’étendent l’axe longitudinal 1x de la poignée 1 et l’axe de la tige 2x, cette permettant d’illustrer la forme et la disposition de la claquette 20 par rapport à la tige 2 ;
La présente une vue de côté de la cravache 0 selon l’invention, dans un mode de réalisation particulier où la cravache comporte un mécanisme de réglage 30 de l’angle A formé entre la poignée 1 et la tige 2 ;
La présente une vue de côté de la cravache 0 selon l’invention, dans un mode de réalisation particulier où la tige 2 de la cravache 0 est courbée dans le plan dans lequel s’étendent l’axe longitudinal 1x de la poignée 1 et l’axe de la tige 2x, la tige 2 est ici fixée / encastrée vis-à-vis de la poignée mais elle pourrait aussi être reliée à la poignée par un mécanisme de réglage de l’angle A comme celui illustré à la .
En particulier, la machine électrique 10 et ses éléments électro-magnétiques peuvent être soumis à des températures extrêmes, par exemple supérieures à 100°C, notamment lorsque la machine électrique 10 est située dans un compartiment moteur tel qu’une nacelle d’avion ou un compartiment moteur d’un hélicoptère. En revanche, le système de contrôle 20 peut être soumis à des températures moindres lorsque le système de contrôle 20 est déporté pour être placé dans un environnement plus protégé où la température est maintenue dans une plage plus faible, voire très basse, par exemple inférieure à 20°C ou inférieure à -40°C. Un point de fonctionnement de la machine électrique 10 peut par exemple être atteint pour une vitesse de rotation et/ou une tension d’alimentation données de la machine électrique 10 placée dans la première enceinte 110 reproduisant une température supérieure à 100°C, le système de contrôle 20 étant placé dans la deuxième enceinte 120 reproduisant une température inférieure à -40°C, un harnais 70 étant le cas échéant placé dans l’une parmi la première et la deuxième enceinte 110, 120 ou dans une troisième enceinte 130 dédiée, selon les conditions susceptibles d’être rencontrées par le harnais 70.
Un tel procédé de calibration à l’aide d’une ou plusieurs enceintes 110, 120, 130 comprenant la machine électrique 10 et/ou le système de contrôle 20 et/ou le harnais de puissance 70, permet de réaliser une calibration globale de l’ensemble comprenant la machine électrique 10, le système de contrôle 20 de la machine électrique 10, et le cas échéant le harnais de puissance 70 et permet de gommer au mieux les incertitudes liées à l’ensemble des paramètres environnementaux et topologiques du système, ce qui permet une calibration plus fiable, précise et facile à effectuer. En caractérisant le système de contrôle 20 et la machine électrique 10 de manière globale, le procédé de calibration est en outre simple à réaliser tout en garantissant l’obtention d’un modèle d’estimation du couple précis et robuste aux conditions d’utilisation.
Deuxième mode de réalisation – calibration séparée du système électronique de contrôle 20 et de la machine électrique 10
Dans un deuxième exemple de réalisation, ainsi qu’illustré à titre d’exemple non limitatif en , le système électronique de contrôle 20 et la machine électrique sont calibrés séparément. Cela permet en effet de simplifier la mise en œuvre de l’invention en cas de maintenance, notamment lorsque le système de contrôle 20 est déporté et doit être remplacé en cas de panne. En particulier, il est proposé ici d’étalonner indépendamment l’un de l’autre le système de contrôle 20 et la machine électrique 10. Plus précisément, dans ce mode de réalisation, la mesure de courant du système de contrôle 20 est caractérisée à l’aide d’un système de mesure de courant étalon afin d’obtenir une table de conformation de la mesure du courant en fonction du courant réellement commandé par l’électronique de puissance du système de contrôle 20 et le cas échéant des conditions de fonctionnement pouvant affecter la précision de la mesure du courant du système de contrôle (ex : température d’environnement, tension d’alimentation, etc.) (étape E200). Cette table de conformation est donc propre à chaque système de contrôle 20. Un moteur électrique 10 peut donc être associé à n’importe quel système de contrôle 20 en chargeant simplement la table de conformation obtenue pour ce système de contrôle 20. De même, la constante de couple de la machine électrique 10 est caractérisée en fonction du courant appliqué et mesuré à l’aide du système de mesure de courant étalon et comparée à la valeur du couple mesurée à l’aide d’un outillage de test (couplemètre du banc de test) (étape E100). On obtient alors une table de conformation du couple en fonction du courant circulant dans le moteur et le cas échéant des conditions de fonctionnement. Cette table de conformation du couple est donc propre à chaque moteur électrique 10. Un système de contrôle peut ainsi être associé à n’importe quel moteur électrique 10 en chargeant simplement la table de conformation du couple obtenue pour ce moteur électrique 10.
Ainsi, en utilisant un système de référence pour la détermination du modèle d’estimation, il est alors possible d’obtenir un modèle, valable pour un moteur électrique 10 donné, mais adaptable par simple mise en correspondance à tout système électronique de contrôle, sans nécessiter de recalibrer le système électronique de contrôle lorsque celui-ci doit être changé.
A cet effet, le procédé de calibration comprend :
- une étape E100 de calibration de la machine électrique 10, comprenant une sous-étape E101 de mesure de la force électromotrice à vide de la machine électrique 10 et une sous-étape E102 de mesure d’une vitesse de rotation de la machine électrique 10, pour un point de fonctionnement de la machine électrique 10, et une sous-étape E103 de détermination d’un modèle de machine électrique associant à la force électromotrice une vitesse de rotation de la machine électrique 10, à partir de la force électromotrice et de la vitesse de rotation mesurées ;