INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dispositif d’entretoisement réglable en longueur pour la fixation d’une ossature de doublage sur une structure à doubler La présente invention concerne le doublage de structures de façon générale, et plus particulièrement, mais non limitativement, le doublage de charpentes. La présente invention concerne en particulier un dispositif d'entretoisement réglable en longueur pouvant être utilisé pour la fixation d'une ossature de doublage sur une structure à doubler. La présente invention est particulièrement adaptée pour le doublages de toitures dites « monopentes » ou de charpentes anciennes.
Etat de la technique Dans le domaine de la construction, et plus particulièrement dans celui du second œuvre, il est bien connu de doubler une structure au moyen d’un système d'habillage qui comprend usuellement une garniture d'isolation thermique et/ou acoustique telle que de la laine minérale, le plus souvent une membrane flexible, telle qu’une membrane pare-vapeur, qui est rapportée contre la garniture d'isolation, et des plaques de parement telles que des plaques de plâtre ou des plaques de faux-plafond qui constituent le parement de doublage. Pour fixer les plaques de parement, une ossature métallique faite de profilés est rapportée à distance de la structure à doubler, la garniture d'isolation étant interposée entre la structure à doubler et les profilés.
Afin de faciliter l'installation de la garniture d'isolation et la fixation des profilés, il est connu d'utiliser des dispositifs d'entretoisement qui servent à la fois pour rapporter à distance les profilés, et maintenir en place la garniture d'isolation et la membrane.
De part et d’autre de l’engrenage principal 702, le système de transmission 223 comporte une entretoise 704a-b qui est taraudée et vissée sur le filetage du fût mobile 608 et en appui contre une face de l’engrenage principal 702. Chaque entretoise 704a-b est encastrée dans un premier roulement à billes 706a-b.
Selon un autre mode de réalisation, les entretoises 704a-b sont lisses et montées coulissantes sur le filetage du fût mobile 608 et en appui contre une face de l’engrenage principal 702. Chaque entretoise 704a-b est encastrée dans un premier roulement à billes 706a-b. Lors du déplacement de l’engrenage principal 702, celui-ci pousse sur l’entretoise 7040a-b qui est devant lui.
Le système de transmission 223 comporte également une base 708 constituée ici de deux flancs 708a-b disposés de part et d’autre de l’engrenage principal 702 et rendus solidaires l’un de l’autre par une poutrelle 708c. Chaque flanc 708a-b est traversé par un trou dans lequel est encastré un premier roulement à billes 706a-b.
La base 708 présente des moyens de blocage 710 qui assurent son blocage en rotation par rapport à l’axe longitudinal A. Dans le mode de réalisation de l’invention présenté à la , les moyens de blocage 710 sont constitués d’une rainure 710 parallèle à l’axe longitudinal A et la structure fixe 206 présente une nervure 206a (en traits fantômes) qui est parallèle à l’axe longitudinal A et qui est arrangée à l’intérieur de la rainure 710 pour assurer un guidage en translation parallèlement à l’axe longitudinal A et un blocage en rotation.
Ainsi, lors de la rotation et de la translation du fût mobile 608, l’engrenage principal 702 suit les mêmes déplacements, et du fait de l’interaction entre le taraudage de chaque entretoise 704a-b et le filetage du fût mobile 608, une rotation de ce dernier entraîne un déplacement en rotation et en translation de chaque entretoise 704a-b qui entraîne la base 708 bloquée et guidée par la nervure 206a.
Pour chaque bras 250 qu’il porte, le système de transmission 223 comporte un engrenage secondaire 712 monté mobile en rotation sur la base 708, ici entre les deux flancs 708a-b, autour d’un axe parallèle à l’axe longitudinal A et solidaire dudit bras 250. L’arbre de chaque engrenage secondaire 712 est ici encastré dans un deuxième roulement à billes 714 qui est lui-même encastré dans un trou de la base 708, ici dans le flanc 708a-b correspondant. Chaque engrenage secondaire 712 est entraîné en rotation par l’engrenage principal 702 soit de manière directe par engrènement direct entre ledit engrenage secondaire 712 et l’engrenage principal 702, soit de manière indirecte, par engrènement entre ledit engrenage secondaire 712 et l’engrenage principal 702 à travers un autre engrenage secondaire 712.
Pour que les deux voiles 252 se déplient et se replient en même temps, il est nécessaire que les sens de rotation des engrenages secondaires 712 soient inversés. Dans le mode de réalisation de l’invention présenté sur la et les Figs. 4 et 5, l’engrenage principal 702 engrène avec un premier engrenage secondaire 712 et le deuxième engrenage secondaire 712 engrène avec le premier engrenage secondaire 712.
Dans le cas où il y a un seul bras 250, il y a également un seul premier engrenage secondaire 712.
L’invention a été plus particulièrement décrite dans le cas d’une nacelle sous une aile mais elle peut s’appliquer à une nacelle située à l’arrière du fuselage.
Pour répondre à cette problématique, il a été proposé d’utiliser de l’air pressurisé de la veine secondaire pour générer une pression sur des volets d’obturation écopants, afin de provoquer le déplacement de la structure mobile vers l’arrière. Cependant, cette solution s’avère complexe à mettre en œuvre, et nécessite une cinématique particulière pour les volets d’obturation afin de les rendre écopants, cette cinématique n’étant pas forcément désirée par le concepteur de l’inverseur. De plus, avec ce type de conception, une étanchéité à l’air peut être requise au niveau des extrémités amont et aval du volet d’obturation, en position rabattue du volet. Cette étanchéité peut s’avérer compliquée à réaliser, en particulier entre l’extrémité aval du volet et la paroi radialement interne du capot d’inverseur sur laquelle cette extrémité aval de volet est montée articulée.
Avantageusement, les dispositifs générateur de tourbillon 80 d’un même groupe 90, 92 sont disposés sur la trajectoire d’un même tourbillon induit. Par exemple, les dispositifs générateur de tourbillon 80 du premier groupe 90 sont disposés sur la trajectoire du premier tourbillon induit et les dispositifs générateur de tourbillon 80 du deuxième groupe 92 sont disposés sur la trajectoire du deuxième tourbillon induit.
Chaque groupe 90, 92 de dispositifs générateur de tourbillon 80 comprend un nombre entier N de dispositifs générateur de tourbillon 80 agencés successivement de l’amont vers l’aval. Selon l’exemple illustré sur les Figures 4 à 6, chaque groupe 90, 92 de dispositifs générateur de tourbillon 80 comprend au moins trois dispositifs générateur de tourbillon 80, notamment exactement trois dispositifs générateur de tourbillon 80. Autrement dit, selon l’exemple des Figures 4 à 6, le nombre entier N est égal à 3.
Par exemple, comme illustré sur la , pour chaque dispositif générateur de tourbillon 80 du premier groupe 90, l’angle βi formé par le plan d’ailette du i-ème dispositif générateur de tourbillon 80 du premier groupe 90 de dispositifs générateur de tourbillon 80 avec la direction longitudinale X est égal à l’opposé de l’angle βi formé par le plan d’ailette du i-ème dispositif générateur de tourbillon 80 du deuxième groupe 92 de dispositifs générateur de tourbillon 80 avec la direction longitudinale X, i étant un nombre entier compris entre 1 et N.
Dans l’exemple illustré sur la , pour chaque dispositif générateur de tourbillon 80 des deux groupes 90, 92, la distance entre l’extrémité amont du bord amont 85 de l’ailette 82 et le plan longitudinal médian M, mesurée selon la direction transversale Y est plus grande que la distance entre l’extrémité aval du bord aval 86 de l’ailette 82 et le plan longitudinal médian M, également mesurée selon la direction transversale Y.
Comme illustré sur les Figures 4 à 6, chaque groupe 90, 92 de dispositifs générateur de tourbillon 80 comprend un dispositif générateur de tourbillon amont 80A, un dispositif générateur de tourbillon intermédiaire 80B et un dispositif générateur de tourbillon aval 80C.
Pour chaque groupe 90, 92, le dispositif générateur de tourbillon amont 80A est le dispositif générateur de tourbillon 80 le plus en amont selon la direction longitudinale X, le dispositif générateur de tourbillon aval 80C est le dispositif générateur de tourbillon le plus en aval selon la direction longitudinale X et le dispositif générateur de tourbillon intermédiaire 80B est situé entre le dispositif générateur de tourbillon amont 80A et le dispositif générateur de tourbillon aval 80C selon la direction longitudinale X.
Dans ce qui suit, on décrit les dispositifs générateur de tourbillon amont 80A, intermédiaire 80B et aval 80C du premier groupe 90. Cette description s’applique également, par symétrie, aux dispositifs générateur de tourbillon amont 80A, intermédiaire 80B et aval 80C du deuxième groupe 92.
On définit les grandeurs éloignement longitudinal de référence ELOREF et éloignement latéral de référence ELAREF de sorte que :
- l’éloignement longitudinal de référence ELOREF correspond à la distance entre le plan transversal PT et l’extrémité aval du carénage jonction 18 mesurée selon la direction longitudinale X ;
- l’éloignement latéral de référence ELAREF correspond à la distance entre le plan longitudinal médian M et la ligne de jonction 78 mesurée selon la direction transversale Y à l’abscisse le long de la direction longitudinale X du point de référence arrière P2.
Le dispositif générateur de tourbillon amont 80A est caractérisé par un premier éloignement longitudinal ELO1 relativement au plan transversal PT. Le premier éloignement longitudinal ELO1 est une distance mesurée selon une direction perpendiculaire au plan transversal PT, c’est-à-dire sensiblement parallèle au plan longitudinal médian M, entre le plan transversal PT et l’extrémité amont du bord amont 85 de l’ailette 82 du dispositif générateur de tourbillon amont 80A. Le premier éloignement longitudinal ELO1 est, par exemple, compris entre 0% et 10% de l’éloignement longitudinal de référence ELOREF, notamment sensiblement égal à 5 % de l’éloignement longitudinal de référence ELOREF.
Le dispositif générateur de tourbillon intermédiaire 80B est caractérisé par un deuxième éloignement longitudinal ELO2 relativement au plan transversal PT. Le deuxième éloignement longitudinal ELO2 est une distance mesurée selon une direction perpendiculaire au plan transversal PT, c’est-à-dire sensiblement parallèle au plan longitudinal médian M, entre le plan transversal PT et l’extrémité amont du bord amont 85 de l’ailette 82 du dispositif générateur de tourbillon intermédiaire 80B. Le deuxième éloignement longitudinal ELO2 est, par exemple, compris entre 10% et 30% de l’éloignement longitudinal de référence ELOREF, notamment sensiblement égal à 19% de l’éloignement longitudinal de référence ELOREF.
Le dispositif générateur de tourbillon aval 80C est caractérisé par un troisième éloignement longitudinal ELO3 relativement au plan longitudinal transversal PT. Le troisième éloignement longitudinal ELO3 est une distance mesurée selon une direction perpendiculaire au plan transversal PT, c’est-à-dire sensiblement parallèle au plan longitudinal médian M, entre le plan transversal PT et l’extrémité amont du bord amont 85 de l’ailette 82 du dispositif générateur de tourbillon aval 80C. Le troisième éloignement longitudinal ELO3 est, par exemple, compris entre 35% et 50% de l’éloignement longitudinal de référence ELOREF, notamment sensiblement égal à 44% de l’éloignement longitudinal de référence ELOREF.
Le dispositif générateur de tourbillon amont 80A est caractérisé par un premier éloignement latéral ELA1 relativement au plan longitudinal médian M. Le premier éloignement latéral ELA1 est une distance mesurée selon une direction perpendiculaire au plan longitudinal médian M, entre le plan longitudinal médian M et l’extrémité amont du bord amont 85 de l’ailette 82 du dispositif générateur de tourbillon amont 80A. Le premier éloignement latéral ELA1 est, par exemple, compris entre 80% et 95% de l’éloignement latéral de référence ELAREF, notamment sensiblement égal à 87% de l’éloignement latéral de référence ELAREF.
Le dispositif générateur de tourbillon intermédiaire 80B est caractérisé par un deuxième éloignement latéral ELA2 relativement au plan longitudinal médian M. Le deuxième éloignement latéral ELA2 est une distance mesurée selon une direction perpendiculaire au plan longitudinal médian M, entre le plan longitudinal médian M et l’extrémité amont du bord amont 85 de l’ailette 82 du dispositif générateur de tourbillon intermédiaire 80B. Le deuxième éloignement latéral ELA2 est, par exemple, compris entre 60% et 75% de l’éloignement latéral de référence ELAREF, notamment sensiblement égal à 68% de l’éloignement latéral de référence ELAREF.
Le dispositif générateur de tourbillon aval 80C est caractérisé par un troisième éloignement latéral ELA3 relativement au plan longitudinal médian M. Le troisième éloignement latéral ELA3 est une distance mesurée selon une direction perpendiculaire au plan longitudinal médian M, entre le plan longitudinal médian M et l’extrémité amont du bord amont 85 de l’ailette 82 du dispositif générateur de tourbillon aval 80C. Le troisième éloignement latéral ELA3 est, par exemple, compris entre 35% et 50% de l’éloignement latéral de référence ELAREF, notamment sensiblement égal à 42% de l’éloignement latéral de référence ELAREF.
Pour obtenir une forme plus homogène du rayonnement vertical, il peut être possible d'utiliser un réseau apodisé. Cette apodisation peut se faire de deux manières : soit par contrôle du diamètre des nano-trous, soit par décalage vertical de la position des nano-trous.
Enfin lorsque la période des nano-trous est 2 à 3 fois supérieure à λ/n, il existe plusieurs ordres de Bragg rayonnés (c'est-à-dire plusieurs directions du rayonnement de la lumière en plus de la direction normale). Il est également possible de répartir horizontalement et verticalement les nano-trous pour réduire l'influence du rayonnement dans les directions différentes de celle de la verticale.
L’invention peut ainsi permettre de développer un spectromètre optique compact, sans aucune pièce mobile, le détecteur étant collé au guide d'ondes collecteur de photons à caractériser, avec un réseau de Bragg pour seule optique de relais.
La présente invention a donc pour objet un substrat optique à guide d’ondes intégré, le substrat optique ayant une direction longitudinale, une direction transversale et une direction de hauteur et étant constitué d’un matériau d’indice de réfraction n, le guide d’ondes étant formé dans le substrat optique selon la direction longitudinale du substrat optique, au moins une antenne étant formée dans le substrat optique décalée du guide d’ondes dans la direction de hauteur, l’au moins une antenne étant configurée pour diffracter, dans la direction de hauteur du substrat optique, une onde évanescente produite à la surface du guide d’ondes par une onde stationnaire générée par l’injection d’un signal optique de longueur d’onde λ dans le guide d’ondes, caractérisé par le fait que l’au moins une antenne est formée par plusieurs nano-trous formés selon la direction transversale du substrat optique, au moins l’un des nano-trous différant des autres nano-trous par au moins l’un parmi son diamètre, son espacement du guide d’ondes selon la direction de hauteur du substrat optique et son écartement à un nano-trou adjacent de la même antenne selon la direction longitudinale du substrat optique.
La distribution des nano-trous dans la direction de hauteur et/ou leur apodisation permet d’améliorer l’extraction du flux issu du guide d’ondes vers l’extérieur du substrat.
Selon un mode de réalisation, l’au moins une antenne comprend un nombre impair de nano-trous, de préférence entre trois et cinq nano-trous, de façon davantage préférée comprend cinq nano-trous.
La largeur (évasement angulaire) et l’intensité du signal diffracté sont liées au nombre de nano-trous : plus il y a de trous, plus le signal est cohérent, avec un pic plus fin et moins de diaphonie. Ainsi, l'intensité du signal est proportionnelle au nombre de trous, la largeur de diffraction étant quant à elle inversement proportionnelle au nombre de trous. L’augmentation du nombre de trous introduit des contraintes sur la répétabilité. Un compromis entre la cohérence du signal et la répétabilité est atteint avec autour de cinq nano-trous par antenne.
L’au moins une antenne peut être formée entre le guide d’ondes et le détecteur, auquel cas l’au moins une antenne diffracte l’onde évanescente à l’opposé du guide d’ondes, ou l’au moins une antenne peut être formée à l’opposé du détecteur par rapport au guide d’ondes, auquel cas l’au moins une antenne diffracte l’onde évanescente vers le guide d’ondes et le détecteur.
L’onde stationnaire formée dans le guide d’ondes par l’injection d’un signal optique de longueur d’onde λ peut être obtenue soit par réflexion en bout de guide d’ondes grâce à un miroir, soit par injection de deux sources de part et d'autre du guide d’ondes (donc injection par la gauche et par la droite du guide d’ondes simultanément), ce qui demande une division au préalable du flux optique de la source pour faire une répartition 50/50 puis une séparation des trajets optiques pour injecter par les deux entrées opposées du guide d’ondes.
Selon un mode de réalisation, les nano-trous ont des diamètres décroissant de façon symétrique d’un nano-trou central de l’antenne vers les nano-trous d’extrémité.
Un diamètre de nano-trous variable (apodisation) au sein d’une même antenne permet d’ajuster l’enveloppe du signal diffracté. Par exemple, un trou plus large au centre de l’antenne permet de réduire les lobes secondaires du signal diffracté par l’antenne pour améliorer la qualité d’extraction du signal diffracté vers l’extérieur du substrat optique, permettant par exemple de passer d’un signal diffracté ayant la forme d’un sinus cardinal à une forme de gaussienne.
Selon un mode de réalisation, les nano-trous sont dans des plans parallèles selon la direction de hauteur du substrat optique.
Selon un mode de réalisation, les nano-trous ont une disposition en V, le nano-trou central constituant la pointe du V étant en regard du guide d’ondes et les autres nano-trous étant disposés symétriquement selon chaque branche du V dans des plans perpendiculaires à la direction de hauteur du substrat optique s’éloignant du guide d’ondes selon que les nano-trous qu’ils contiennent se rapprochent des extrémités des branches du V, l’écartement espaçant deux nano-trous adjacents en projection dans un plan perpendiculaire à la direction de hauteur du substrat optique étant égal à λ/n ou à un multiple entier de λ/n. Au sein d’une même antenne, l’écartement séparant chaque couple de nano-trous adjacents peut être le même, mais l’invention n’est pas limitée à cet égard, les écartements au sein d’une même antenne pouvant différer pour autant que chaque écartement espaçant deux nano-trous adjacents en projection dans un plan perpendiculaire à la direction de hauteur du substrat optique est égal à λ/n ou à un multiple entier de λ/n.
Selon un mode de réalisation, l’au moins une antenne comprend cinq nano-trous ayant une disposition en W et disposés dans deux plans parallèles entre eux et perpendiculaires à la direction de hauteur du substrat optique, un premier plan comprenant le nano-trou central et les deux nano-trous d’extrémité, la distance entre chaque nano-trou d’extrémité et le nano-trou central selon la direction longitudinale du substrat optique dans le premier plan étant égale à une distance caractéristique égale à λ/n ou à un multiple entier de λ/n, un second plan disposé entre le guide d’ondes et le premier plan comprenant les deux autres nano-trous espacés d’une distance égale à la distance caractéristique selon la direction longitudinale du substrat optique, le premier plan et le second plan étant distants de la moitié de la distance caractéristique selon la direction de hauteur du substrat optique.
La distance caractéristique est, de préférence, égale à λ/n, mais peut également prendre la valeur d’un multiple entier de λ/n.
Selon un mode de réalisation, le substrat optique comprend plusieurs antennes formées d’un même côté du guide d’ondes dans la direction de hauteur et constituant un réseau d’antennes, le réseau d’antennes étant configuré pour diffracter une ou plusieurs longueurs d’onde.
Les différentes antennes formées dans le substrat optique peuvent ainsi soit être formées, dans la direction de hauteur du substrat optique, entre le guide d’ondes et le détecteur, soit à l’opposé du détecteur par rapport au guide d’ondes, le guide d’ondes étant alors entre les antennes et le détecteur.
La présente invention a également pour objet un spectromètre comprenant une source de lumière, un substrat optique tel que défini ci-dessus et un détecteur, le substrat ayant deux faces planes parallèles opposées selon la direction de hauteur du substrat optique, la source de lumière étant configurée pour injecter de la lumière dans le guide d’ondes du substrat optique, le détecteur étant disposé en regard de la face plane du substrat vers laquelle la lumière diffractée par l’au moins une antenne est dirigée.
L’injection de lumière peut se faire à l’aide d’une fibre optique collée au substrat, en face du guide d’ondes, ou bien à l’aide de microlentilles collées sur le guide d’ondes, ou encore en focalisant le faisceau provenant de la source de lumière avec des objectifs de microscope ou tout assemblage de lentilles optiques approprié.
Selon un mode de réalisation, des réservoirs de fluide sont formés à la surface du substrat optique, sur la face du substrat optique en regard du détecteur, afin de permettre une analyse par spectrométrie de la lumière diffractée par l’au moins une antenne et passant à travers les réservoirs.
Selon un mode de réalisation, un circuit microfluidique est formé entre la face du substrat optique en regard du détecteur et le détecteur, afin de permettre une analyse par spectrométrie de la lumière diffractée par l’au moins une antenne et passant à travers le circuit microfluidique.
Pour mieux illustrer l’objet de la présente invention, des modes de réalisation, donnés à titre illustratif et non limitatif, vont maintenant être décrits en référence aux dessins annexés.
est une vue en coupe d’un substrat optique intégrant un guide d’ondes selon l’état antérieur de la technique ;
est une vue schématique d’une antenne selon l’état antérieur de la technique ;
est une vue analogue à la d’une antenne selon un premier mode de réalisation de la présente invention ;
est une courbe illustrant les différences de performance entre une antenne selon l’état antérieur de la technique et une antenne selon le premier mode de réalisation ;
est une vue analogue à la d’une antenne selon un deuxième mode de réalisation de la présente invention ;
est une vue analogue à la d’une antenne selon un troisième mode de réalisation de la présente invention ;
est une courbe illustrant les différences de performances entre une antenne selon l’état antérieur de la technique et une antenne selon le troisième mode de réalisation de l’invention ; et
est une représentation schématique d’un spectromètre selon l’invention intégrant une antenne selon un quatrième mode de réalisation de l’invention.
Si l’on se réfère à la , on peut voir que l’on a représenté un substrat optique 1 avec guide d’ondes intégré selon l’état antérieur de la technique.
Le module 30 est configuré pour recevoir les données de localisation depuis le dispositif de localisation 10.
Le module 30 est configuré pour mesurer la coordonnée P du véhicule 3 en fonction du temps, à partir des données de localisation, notamment avec un deuxième intervalle de temps qui est par exemple constant entre les mesures. Le deuxième intervalle de temps est par exemple compris entre 400 ms et 800 ms, notamment sensiblement égal à 600 ms. Ainsi, à titre d’exemple, le module 30 est configuré pour mesurer la coordonnée P du véhicule 3 toutes les 600 ms.
Par exemple, le module 30 est configuré pour générer pour chaque mesure de la coordonnée P du véhicule, un groupe de données de mesure de la coordonnée P, chaque groupe de données de mesure de la coordonnée P comprenant :