INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Selon un mode de réalisation, R 1 , R 2 et R 3 , identiques ou différents, représentent chacun un atome d’hydrogène ou un groupement hydrocarboné choisi parmi méthyle, éthyle, n-propyle, iso-propyle, cyclopropyle, tert-butyle, iso-butyle, n-butyle, sec-butyle, cyclobutyle, n-pentyle, cyclopentyle, n-hexyle, cyclohexyle, un alkyle substitué par un aryle (tel qu’un phényle), un phényle substitué ou non par un ou plusieurs groupements tels qu’un alkyle, un cycloalkyle, un alkoxy, un halogène, un groupement nitro et/ou un groupement carbonyle, un naphthyle substitué ou non par un ou plusieurs groupements tels qu’un alkyle, un cycloalkyle, un alkoxy, un halogène, un groupement nitro et/ou un groupement carbonyle, un hétéroaryle substitué ou non par un ou plusieurs groupements tels qu’un alkyle, un cycloalkyle, un alkoxy, un halogène, un groupement nitro et/ou un groupement carbonyle. Comme exemples de groupements hétéroaryles on peut citer les pyridines, les pyrroles et les carbazoles. Alternativement, deux des R 1 , R 2 et R 3 peuvent faire partie d’un même cycle, par exemple d’une pyrrolidine, d’une pipéridine, d’une morpholine, d’une thiomorpholine, voire de plusieurs cycles, par exemple le 1-azabicyclo[2.2.2]octane (ou quinuclidine).
De préférence, lorsque l’amine est une monoamine, elle est choisie parmi la tert-butylamine, la 3-méthoxypropylamine, la diisopropylamine, la diéthylamine, la triéthylamine et la diéthylaniline, notamment la 3-méthoxypropylamine.
Selon un autre mode de réalisation, la monoamine est une polyétheramine, c’est-à-dire une amine comprenant plusieurs fonctions éther.
La polyétheramine peut être de formule (II’) :
- R 4 , R 5 et R 10 , identiques ou différents, représentent chacun un atome d’hydrogène ou un groupement comprenant de 1 à 10 atomes de carbone, linéaire ou ramifié, saturé ou insaturé.
Les compositions selon l’invention pourraient être utilisées comme shampooings ; elles donnent une mousse abondante, qui pourrait être rincée facilement ; sur cheveux mouillés, le démêlage est bon et les cheveux sont lisses au toucher, avec une sensation d'enrobage et de souplesse.
Une fois secs, les cheveux ont un bon volume et une sensation d'enrobage ; les paramètres de démêlage, de caractère lisse et de brillance sont bons.
Les dépôts de silicone et de PQ-7 des compositions A1 et B ci-dessus ont été évalués sur des mèches de cheveux indiens naturels.
L’évaluation a été effectuée avec le système XRF Optim'x Thermofisher (dispersion de longueur d’onde) WDXRF. Le principe repose sur les caractéristiques d’émission de rayonnement de l’élément chimique, produites par l’impact de photons à haute énergie distribués par un tube à rayons X.
Paramètres de fonctionnement :
- Gaz d'écoulement Hélium – Argon/Méthane (90/10)
- Tube à rayons X (Rh), Crystal PET et détecteur FPC
- Tension 25 kV-2 mA
- 3 mesures/mèche = 60 s/mesure
- Taille minimale de l’échantillon 250 mg (morceaux de 2 mm)
Protocole : 0,4 g de composition a été appliqué pour 1 g de mèche de cheveux. Le shampooing a été massé 6 fois avec les doigts de la racine à la pointe pour générer de la mousse. La mèche a ensuite été rincée sous l’eau courante (25 °C) pendant 10 secondes. La mèche a ensuite été séchée à 45 °C dans un four.
Les dépôts de silicone des compositions A1 et B sur les fibres de kératine ont été mesurés après 5 applications.
Les résultats obtenus sont détaillés dans le tableau ci-dessous.
Dépôt moyen de silicone et PQ-7 (ppm) Silicones PQ7 Dépôt total (Si + PQ7) Composition A1 (invention) 436 ± 16,17 192 ± 7,02 628 Composition B (comparative) 257 ± 7,77 182 ± 10,26 439
La composition A1 selon l’invention (çàd comprenant une émulsion de silicone) présente un dépôt de silicone plus élevé et un dépôt de PQ7 plus élevé, que la composition comparative B (comprenant uniquement l’amodiméthicone).
COMPOSITION COSMÉTIQUE DE SOIN DE matière kératineuse La présente invention concerne une composition cosmétique de soin de matière kératineuse, et en particulier une composition anti-vieillissement et anti-glycation.
- R 1 et R 2 sont tels que décrits ci-avant ;
- t, x et y, identiques ou différents, représentent chacun un nombre de 0 à 70, préférentiellement de 0 à 50, plus préférentiellement de 0 à 30, au moins l’un des nombres t, x et/ou y étant différent de 0.
De préférence, R 4 , R 5 et R 10 , identiques ou différents, représentent chacun un groupement comprenant de 1 à 10 atomes de carbone, de préférence de 1 à 7 atomes de carbone et encore de préférence de 1 à 3 atomes de carbone linéaire ou ramifié. Plus préférentiellement, R 4 , R 5 et R 10 , identiques ou différents, représentent chacun un groupement alkyle, en particulier un groupement méthyle ou éthyle.
Les nombres t, x et y peuvent être entiers ou non. Par exemple, si un mélange de différents oxydes d’alkylène est utilisé, t correspond au degré moyen d’éthoxylation des groupements éthoxy substitués par un groupement R 10 .
Les monoamines de formule (II’) peuvent avoir une masse moléculaire de 200 à 5500 g/mol, et de préférence de 500 à 2 500 g/mol.
Ce type de polyétheramines est par exemple commercialisé sous le nom « Jeffamine serie M » par la société HUNTSMAN.
Lorsque l’amine est une polyamine, elle comprend au moins deux groupements amine pouvant être de type primaire, secondaire et/ou tertiaire.
Des polyamines comprenant plus que deux groupements amine (par exemple trois ou quatre) telles que les polyéthylèneimines (aussi appelées polyaziridines) peuvent être utilisées, comme la tétraéthylènepentamine, ainsi que les polyéthylèneimines commercialisées sous le nom EPOMIN (notamment EPOMIN SP-012) par la société NIPPON SHOKUBAI, ou LUPASOL® (notamment LUPASOL® FG) par la société BASF.
De préférence, la polyamine est une polyamine primaire, c’est-à-dire que tous ses groupements amine sont primaires, plus préférentiellement la polyamine est une diamine primaire.
Par exemple, la polyamine peut être de formule (III) :
- R 6 représente un groupement divalent saturé ou insaturé comprenant de 2 à 60 atomes de carbone, de préférence de 2 à 40 atomes de carbone, plus préférentiellement de 2 à 15 atomes de carbone, et
- R i , R ii , R iii et R iv , identiques ou différents, représentent chacun un atome d’hydrogène ou un groupement hydrocarboné, saturé ou insaturé, comprenant de 1 à 20 atomes de carbone, pouvant être aliphatique à chaîne ouverte linéaire ou ramifiée, ou pouvant comprendre un ou plusieurs cycles éventuellement aromatiques.
De plus, R 6 représente un groupement divalent pouvant être aliphatique à chaîne ouverte linéaire ou ramifiée, ou pouvant comprendre un ou plusieurs cycles éventuellement aromatiques, et comprenant éventuellement un ou plusieurs hétéroatomes, de préférence au plus un seul hétéroatome, tels que oxygène, soufre, azote et ou halogène.
De préférence, R 6 est un groupement alkyle.
Selon un mode de réalisation, R i , R ii , R iii et R iv , identiques ou différents, représentent chacun un atome d’hydrogène ou un groupement hydrocarboné choisi parmi méthyle, éthyle, n-propyle, iso-propyle, cyclopropyle, tert-butyle, iso-butyle, n-butyle, sec-butyle, cyclobutyle, n-pentyle, cyclopentyle, n-hexyle, cyclohexyle, un alkyle substitué par un aryle (tel qu’un phényle), un phényle substitué ou non par un ou plusieurs groupements tels qu’un alkyle, un cycloalkyle, un alkoxy, un halogène, un groupement nitro et/ou un groupement carbonyle, un naphthyle substitué ou non par un ou plusieurs groupements tels qu’un alkyle, un cycloalkyle, un alkoxy, un halogène, un groupement nitro et/ou un groupement carbonyle, un hétéroaryle substitué ou non par un ou plusieurs groupements tels qu’un alkyle, un cycloalkyle, un alkoxy, un halogène, un groupement nitro et/ou un groupement carbonyle. Comme exemples de groupements hétéroaryles on peut citer les pyridines, les pyrroles et les carbazoles. Alternativement, R i et R ii et/ou R iii et R iv peuvent faire partie d’un même cycle, par exemple d’une pyrrolidine, d’une pipéridine, d’une morpholine, d’une thiomorpholine.
Les parois 50 et 55 ont chacune une épaisseur notée t NEMS . Il s’agit de leur extension parallèlement à l’axe Z. Cette épaisseur est inférieure, et même nettement inférieure à l’épaisseur t MEMS de la masse d’épreuve (extension de la masse d’épreuve selon l’axe Z). L’épaisseur t NEMS de ces parois peut par exemple être inférieure à un dixième, et même à un trentième de l’épaisseur t MEMS de la masse d’épreuve. t NEMS est par exemple inférieure à 2 microns, voire à 1 micron ou même à 0,5 micron. Quant à t MEMS , elle est par exemple comprise entre 5 et 100 microns, ou entre 15 et 50 microns.
Les parois 50 et 55 s’étendent chacune dans le prolongement de la face inférieure 44 de la masse d’épreuve 4.
Les parois 50 et 55 peuvent, être formées chacune par une portion d’une couche supérieure 12 mince en silicium d’un substrat SOI, en silicium sur isolant, à partir duquel est fabriqué le gyromètre.
Un tel substrat SOI comprend une couche support, épaisse (en général au moins 100 microns d’épaisseur, généralement plus), recouverte par une couche isolante, généralement en oxyde de silicium, elle-même recouverte par la couche supérieure mince, en silicium, souvent appelée couche Si-top. Cette couche Si-top, a, par fabrication, une épaisseur réduite (par exemple de 250 nm) et très bien contrôlée. Elle est donc propice à la réalisation des parois de transmission 50 et 55. Elle est par ailleurs essentiellement monocristalline, et donc propice à la réalisation de jauges piézorésistives. Ici, les jauges sont d’ailleurs réalisées dans cette couche 12. Lors de la fabrication du gyromètre, une couche supplémentaire de silicium (plus généralement, de matériau semi-conducteur), assez épaisse, d’épaisseur h = t MEMS - t NEMS , est déposée sur la couche 12, pour former l’essentiel des masses d’épreuve et des cadres (d’épaisseur totale t MEMS ). Cette couche supplémentaire peut être polycristalline ou monocristalline, et son épaisseur h est de typiquement de quelques microns ou dizaines de microns. Lors de la fabrication du gyromètre, la couche 12 et cette couche supplémentaire sont gravées pour définir les différents éléments du gyromètre. La couche d’oxyde de silicium mentionnée plus haut, située sous la couche NEMS 12, est retirée (par attaque chimique) notamment sous les parties du gyromètre qui sont mobiles par rapport au support (cadres et masses d’épreuve notamment), pour libérer ces parties mobiles. Après fabrication, la couche support, épaisse, du substrat SOI forme le support 2 du gyromètre.
On remarque que les parois 50 et 55 sont obtenues en quelques sorte en découpant latéralement la couche 12. Leur épaisseur est donc fixée par l’épaisseur, initiale, de la couche 12 ; cette épaisseur réduite ne résulte donc pas d’un affinement ou d’une gravure locale d’une couche plus épaisse (autrement dit, elle n’est pas obtenue par gravure partielle. Son épaisseur est donc très bien maitrisée, et une éventuelle « surgravure » des bords n’a qu’une influence limitée sur la raideur de la liaison mécanique).
La troisième paroi 55 est ici identique à la première paroi 50, si bien que seule la géométrie de la première paroi est décrite maintenant plus en détail.
Cette première paroi 50 s’étend, depuis le cadre 3 jusqu’à la première extrémité 41 de la masse d’épreuve, le long d’une ligne moyenne qui est parallèle à l’axe X. La ligne moyenne en question relie le cadre 3 à la première extrémité 41 de la masse d’épreuve 4 (cette ligne moyenne correspond par exemple à la ligne (pas nécessairement rectiligne) qui passe par les centres des différentes sections droites de la paroi 50). La jonction entre la première paroi 50 et le cadre 3 correspond à une surface de raccord rectangulaire, très allongée, qui s’étend parallèlement à l’axe de rotation Δ 1 de la masse d’épreuve 4. La jonction entre la première paroi 50 et la masse d’épreuve 4 correspond elle aussi à une surface de raccord rectangulaire, très allongée, qui s’étend parallèlement à l’axe de rotation de la masse d’épreuve. La première paroi 50 est délimitée latéralement, d’un côté et de l’autre, par deux bords 53, 54, libres (c’est-à-dire qui ne sont pas liés, en tout cas pas directement, à un autre élément), qui s’étendent chacun depuis le cadre 3 jusqu’à la masse d’épreuve 4. Chacun de ces deux bords libres, 53, 54 est parallèle à l’axe de déplacement du cadre, X (et aucun de ces deux bords n’est parallèle à l’axe de rotation de la masse d’épreuve).
La première paroi 50 a une longueur L, selon l’axe X (il s’agit de la distance entre le côté du cadre 3 relié à la masse 4, et la première extrémité 41 de cette masse). En pratique, elle est comprise par exemple entre 5 et 50 microns, et elle est choisie plutôt courte, si possible (pour augmenter le coefficient de raideur k X , présenté dans la partie « résumé »). Comme déjà indiqué, la largeur de la paroi 50, c’est-à-dire son extension parallèlement à l’axe de rotation de la masse (axe de la liaison 5), est notée l. Elle est comprise par exemple entre 5 et 200 microns (plus généralement, la somme des largeurs des différentes parois de transmission (ici 50 et 55) est comprise entre 10 et 500 microns), et est choisie grande si possible, pour augmenter le coefficient de raideur k X . On notera que, dans le présent document, par convention, pour la première paroi de la liaison 5, 5’ (i.e. : pour la paroi de faible épaisseur t MEMS , et qui est parallèle au plan des couches), le terme « longueur » (en l’occurrence la longueur L) désigne l’extension de la première paroi selon une direction parallèle à l’axe X de déplacement des cadres, tandis que le terme « largueur » (en l’occurrence la largeur l) désigne son extension selon une direction parallèle à l’axe de rotation Y. On notera à ce sujet que la distance (L), appelée ainsi longueur de la première paroi, peut être plus petite que la distance (l) appelée largeur de la première paroi. Par ailleurs, cette convention lexicale concerne la première paroi, mais pas forcément les autres parois du dispositif (en particulier pas la paroi de retenue).
La deuxième paroi 61, de retenue, et l’élément de retenu 60 dont elle fait partie sont maintenant décrits plus en détail.
La deuxième paroi 61 se raccorde d’une part au cadre 3, et d’autre part à la première extrémité 41 de la masse d’épreuve 4. Cette paroi est plane, ici. Elle est perpendiculaire à l’axe X. Cette paroi est mince : sa largeur a (extension selon l’axe X) est inférieure à un quart, et même à un dixième de son épaisseur h. Sa largeur a est par ailleurs inférieure à un dixième, voire un trentième d’une longueur, b, présentée par cette paroi selon une direction parallèle à l’axe de rotation Δ 1 , entre un point de raccordement (E) au cadre mobile 3 et un point de raccordement (F) à la masse d’épreuve 4. La largeur a est par exemple comprise entre 0,5 et 5 microns (et est généralement inférieure à 2 microns). La longueur b est comprise par exemple entre 10 à 100 microns, et la hauteur h est comprise typiquement entre 5 et 100 microns.
La paroi de retenue 61 s’étend, parallèlement à l’axe Y, depuis une première extrémité 611 jusqu’à une deuxième extrémité 612. Ces deux extrémités sont raccordées ici au cadre 3 (respectivement par une première paroi de raccord 62, courte, et par une deuxième paroi de raccord 63, courte, également appelés éléments de raccord), toutes deux parallèles à l’axe Z. La masse d’épreuve 4 se raccorde quant à elle à la paroi de retenue 61 dans une zone médiane de cette paroi, située entre les deux extrémités 611 et 612 (à mi-distance de ces deux extrémités), là aussi par l’intermédiaire d’une paroi de raccord 64, courte, parallèle à l’axe Z.
En variante, la paroi de retenue pourrait se raccorder différemment au cadre mobile et la masse d’épreuve. A titre d’exemple, ses deux extrémités pourraient être raccordées à la masse, le cadre se raccordant alors à une partie médiane de la paroi (au lieu de l’inverse). Et, comme indiqué plus haut, la liaison pourrait comprendre plusieurs parois de retenue, minces, perpendiculaires à l’axe X.
La paroi de retenue 61 est délimitée, du côté du support, par un bord inférieur, libre, et, à l’opposé, par un bord supérieur, libre également.
L’élément de retenue 60, qui comprend la paroi de retenue 61 et les trois éléments de raccord 62, 63, 64, n’est pas en contact avec les parois de transmission 50 et 55. L’élément de retenue 60 est réalisé par gravure : de la couche supplémentaire en silicium mentionnée précédemment, sur toute la hauteur de cette couche, ainsi que de la couche NEMS 12 située en dessous (à moins que cette couche n’ai été préalablement retirée, dans cette zone).
Cette gravure produit ainsi des ouvertures 11 (en forme de fentes assez étroites) qui s’étendent sur toute la hauteur de la masse d’épreuve.
Ici, du côté de la première extrémité 41, la masse d’épreuve 4 et le cadre 3 sont reliés l’un à l’autre seulement par les parois de transmission (50 et 55) et par l’élément de retenue 60.
Selon une variante complémentaire optionnelle, ladite métrique prédéterminée représentative de la distance, dans l’espace des nombres d’ondes, entre la couverture fréquentielle normalisée d’une distribution de capteurs idéale, et la couverture fréquentielle normalisée de la distribution dudit ensemble de capteurs dont le capteur sélectionné est audit point, est une métrique de divergence de Kullback-Leibler.
En effet, en pratique, comme, les réseaux de capteurs S analysés ont un nombre de capteurs différents, un nombre de mesure très différent, l’ordre de grandeur des couvertures varie en conséquence grandement, c’est pourquoi, selon la présente invention, les couvertures sont normalisées, et du fait que la couverture fréquentielle est représentée par une distribution normée, la présente invention, selon cette variante complémentaire optionnelle, exploite la divergence de Kullback–Leibler (KL) telle que décrite par S. Kullback et R. Leibler dans l’article « On information and Sufficiency » de 1951, métrique qui correspond, en statistiques, à la distance asymétrique entre deux distributions statistiques et définies sur le domaine Ω. Cette distance est définie par la métrique :
Autrement dit, selon cette variante optionnelle, lors de l’étape 50, l’évaluation du critère selon l’équation 6 est mise en œuvre sur l’ensemble des points définis au sein de la zone de voisinage, dont un exemple est illustré par la suite par la .
En pratique, nous considérons un réseau de capteurs de référence (i.e. la distribution de capteurs idéale), typiquement un réseau de capteurs en nombre suffisant selon la théorie de la tomographie par diffraction classique et distribués régulièrement. On calcule la couverture fréquentielle normalisée du réseau de référence analogue à Q . P représente la couverture fréquentielle normalisée, d’un réseau de capteur « à évaluer » dont l’ensemble des positions est notée X . On a alors et
Le problème à résoudre, selon la présente invention, peut alors être formulé de la façon suivante .(7)
C’est-à-dire qu’il s’agit de minimiser la distance, dans l’espace des nombres d’onde, entre la distribution P de capteurs en cours d’optimisation, et une distribution Q de capteurs « idéale » (i.e. avec beaucoup de capteurs).
Autrement dit, l’étape de sélection 52 précitée vise à sélectionner le nouveau placement du capteur considéré lors de l’itération courante comme celui qui minimise le critère selon l’équation 7 ci-dessus.
Le procédé 30 selon la présente invention est donc itératif et vient déplacer les capteurs un par un en optimisant la valeur de la métrique .
En complément facultatif de cette variante optionnelle, le critère d’arrêt C A prédéterminé correspond à une variation entre deux itérations successives de ladite métrique inférieure à un seuil prédéterminé, et/ou à une absence de changement de position de chacun des capteurs après parcours d’un tour complet dudit ensemble de capteurs disposés sur ledit cercle d’Ewald, et/ou à l’atteinte d’un nombre maximal d’itérations prédéterminé.
Autrement dit selon ce complément optionnel, en pratique le critère d’arrêt C A dépend d’une invariance relative de la métrique , par exemple , du non déplacement des capteurs sur un tour complet ainsi que d’un nombre maximal de boucles à des fins de sécurité de mise en œuvre dudit procédé.
La , est un schéma illustrant deux exemples de zones de voisinage d’un capteur selon les deux variantes précitées A (sans cible) et B (avec cible) de la présente invention et le déplacement obtenu.
Plus précisément, en complément facultatif, ladite détermination 48 d’une zone de voisinage définit une grille d’un nombre prédéterminé de positions potentielles 76 dudit capteur sélectionnées en fonction d’une longueur d’onde d’intérêt associée à ladite tomographie à onde guidées, ladite grille étant centrée sur la position courante 78 dudit capteur.
De plus, selon un aspect optionnel de ce complément facultatif, l’échantillonnage de ladite grille est une fraction de ladite longueur d’onde.
Autrement dit, on entend par « zone de voisinage », une grille de positions de capteurs potentielles dimensionnée (largeur, résolution) en fonction de la longueur d’onde d’intérêt de la tomographie λ. Ainsi, l’échantillonnage de la grille sera une fraction de la longueur d’onde λ, par exemple, tel que représenté sur la , λ/10 et la grille présente par exemple, tel qu’illustré par la , une dimension de l’ordre de 10 x 10 points (i.e. positions potentielles.
Lorsque la métrique, telle que la métrique est invariante par rotation de tout le réseau de capteurs, selon une variante optionnelle de la présente invention, un degré de liberté d’un capteur dudit ensemble de capteurs est inhibé.
est un diagramme illustrant un procédé d’homologation d’un véhicule automobile selon des mode de réalisation de l’invention ;
illustre la structure d’un dispositif de traitement de données selon certains modes de réalisation de l’invention.
La présente un système d’homologation d’un véhicule automobile 100 selon certains modes de réalisation de l’invention.
En particulier, l’homologation est basée sur au moins une situation de test qui définit un pourcentage cible, ou une fraction cible, du parcours maximal d’une pédale d’accélération, ou un intervalle centré autour d’un tel pourcentage cible ou d’une telle fraction cible.
De manière équivalente, la situation de test peut définir un pourcentage cible de l’accélération maximale, ou un intervalle autour d’un pourcentage cible de l’accélération maximale. Ce pourcentage cible de l’accélération maximale correspond de manière bijective à un pourcentage cible du parcours maximal de la pédale d’accélération 101, bien que la fonction qui les relie ne soit pas linéaire.
La situation de test peut ainsi imposer un maintien de la pédale d’accélération dans une position cible ou dans un intervalle de positions autour de la position cible, le parcours entre la position de repos et la position cible correspondant au pourcentage cible du parcours maximal. Chaque situation de test peut en outre définir un parcours donné du véhicule sur une piste de test, par exemple entre une position de départ du test et une position d’arrivée du test.
En référence à la , la pédale d’accélération 101 peut en effet varier entre une position de repos 201.1, lorsqu’aucune pression ne lui est appliquée par un conducteur, correspondant à une accélération nulle, et une position d’accélération maximale 201.2, lorsque le conducteur appuie sur la pédale de manière à ce qu’elle pivote ou se translate jusqu’à une position extrême au-delà de laquelle la pédale ne peut plus aller. Une telle position extrême peut, sur certains véhicules, correspondre à une position juste avant une rétrogradation par kickdown.
Le parcours 202.1 entre la position de repos 201.1 et la position d’accélération maximale 201.2 est ainsi le parcours maximal de la pédale d’accélération 101.
Une position cible 201.3 est ainsi strictement comprise entre la position de repos 201.1 et la position d’accélération maximale 201.2, et elle définit un parcours cible 202.2 depuis la position de repos 201.1, correspondant à une fraction cible ou un pourcentage cible du parcours maximal 202.1.