Procédé de réalisation d’une couche mince de matériau sur une surface (S) d’un substrat (O), comprenant les étapes de maintenir le substrat sur un support (4) pour qu’au moins une portion de la surface (S) soit orientée vers une source (3) de particules de matériau, projeter les particules de matériau depuis la source (3) de particules de matériau, déplacer le support (4) sur une trajectoire fermée autour d’un premier axe de rotation (A1), faire pivoter le substrat (O) sur lui-même autour d’un deuxième axe de rotation (A3) correspondant à un axe de symétrie de la surface (S) du substrat (O), caractérisé en ce que le procédé comprend l’étape de déplacer le support (4) entre deux positions extrêmes sur une trajectoire en arc de cercle autour d’un troisième axe de rotation (A2) parallèle à une direction localement tangentielle à la trajectoire fermée pour exposer à une projection directe des particules de matériau différentes portions de la surface (S) du substrat (O) pendant un temps d’exposition dépendant de l’épaisseur de matériau souhaitée sur lesdites portions de surface. Procédé selon la revendication 1, dans lequel la trajectoire fermée est circulaire. Dispositif de dépôt d’un matériau sur une surface (S) d’un substrat (O), comprenant, un bâti (1) délimitant une enceinte hermétique (2) et, dans ladite enceinte hermétique (2) , une source (3) de matériau, et un support (4) de maintien d’au moins une portion de la surface (S) du substrat (O) en regard de la source (3), le support (4) de maintien du substrat étant monté sur le bâti (1) pour être déplacé le long d’une trajectoire fermée autour d’un premier axe de rotation (A1) et pour pivoter sur lui-même autour d’un deuxième axe de rotation (A3) correspondant à un axe de symétrie de la surface (S) du substrat (O), caractérisé en ce que le support (4) de maintien est monté sur le bâti (1) pour être déplacé entre deux positions extrêmes sur une trajectoire en arc de cercle autour d’un troisième axe de rotation (A2) parallèle à une direction tangentielle à la trajectoire fermée, et en ce que le dispositif comprend au moins un actionneur de déplacement du support de maintien et une unité électronique (20) de commande de l’actionneur qui sont agencés pour déplacer le support de maintien de manière à orienter vers la source (3) différentes portions de la surface (S) du substrat à une vitesse dépendant de l’épaisseur de matériau souhaitée sur lesdites portions. Dispositif selon la revendication 3, comprenant un plateau (6) monté sur le bâti (1) pour tourner autour du premier axe de rotation (A1), le plateau étant entrainé en rotation par un moteur (7) formant au moins en partie l’actionneur, le support (4) de maintien étant monté pour pivoter sur un basculeur (9) monté mobile sur le plateau (6) pour déplacer le support de maintien sur la trajectoire en arc de cercle. Dispositif selon la revendication 4, dans lequel le bâti (1) comprend un chemin de came (14) s’étendant sensiblement en regard de la trajectoire fermée avec un espacement variable par rapport au plateau (6) et le basculeur (9) est relié par au moins une tringle (11) à un chariot (12) parcourant le chemin de came de manière à amener le basculeur entre deux positions extrêmes correspondant aux positions extrêmes du support sur la trajectoire en arc de cercle. Dispositif selon la revendication 5, dans lequel le chemin de came (14) comprend au moins un tronçon haut (14.1) et un tronçon bas (14.2) reliés entre eux par deux tronçons intermédiaires (14.3) ; les tronçons hauts et bas ayant une longueur, et les tronçons intermédiaires ayant une longueur et une inclinaison, déterminées en fonction d’un temps d’exposition directe souhaité de chaque portion de la surface (S) aux particules de matériau provenant de la source (3) de matériau. Dispositif selon la revendication 4, dans lequel le bâti (1) est pourvu d’un rail (15) s’étendant en regard de la trajectoire fermée avec un espacement constant par rapport au plateau (6) et un galet (16) est monté sur le basculeur (9) coaxialement au support (4) de maintien pour être appliqué contre le rail (15) et est lié en rotation au support (4) de maintien de telle manière que le déplacement du support (4) de maintien le long de la trajectoire fermée provoque la rotation du support autour du deuxième axe de rotation (A3). Dispositif selon la revendication 7, dans lequel le rail (15) a une section transversale circulaire de telle manière que le galet (16) puisse coopérer avec le rail (15) quelle que soit la position du basculeur (9) par rapport au plateau (6).