INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Cette fonction de score permet de donner un score à chacune des cibles déterminées par notre logiciel et définit la « druggabilité » (en anglais « druggability ») de cette cible. La « druggability » signifie pouvoir lier efficacement une petite molécule qui aurait des capacités thérapeutiques donc représenter un futur médicament. A cette définition est ajouté que cette cible laisserait peu ou pas de possibilité d’échappement thérapeutique. Ainsi une petite molécule, futur médicament, doit pouvoir se lier chimiquement à un groupe de résidus ( ) se trouvant dans un espace concave (appelé poche), dont on peut déterminer le volume ( ), et ayant la plus grande invariance possible ( .
: qualité de l’alignement tridimensionnel :
: qualité de la prédiction statistique de l’alignement structurel :
: Impact de l’alignement tridimensionnel sur la prédiction de la cible :
REFERENCES BIBLIOGRAPHIQUES Alland et al., 2005 Alland et al. : Alland C, Moreews F, Boens D, Carpentier M, Chiusa S, Lonquety M, Renault N, Wong Y, Cantalloube H, Chomilier J, et al. 2005. RPBS: a web resource for structural bioinformatics. Nucleic Acids Res 33:W44-49.
Barlow, D. J. & Thornton, J. M. Ion-pairs in proteins. Journal of Molecular Biology 168, 867–885 (1983).
Avantageusement, le dispositif de marchepied comprend en outre un renfort latéral comprenant une patte externe s’étendant depuis un côté latéral de l’embase au moins selon l’axe verticale et une patte de liaison s’étendant depuis la patte externe selon l’axe transversal vers le longeron.
La deuxième partie de la patte latérale externe du renfort arrière et la patte de liaison du renfort latéral forment ensemble une deuxième portion de fixation à l’élément de liaison de la doublure avant, ladite deuxième portion de fixation étant soudée via la patte de liaison et la deuxième partie directement à l’élément de liaison de la doublure avant, c’est-à-dire sans interface supplémentaire.
Avantageusement, la première partie de la patte latérale externe du renfort arrière s’étend de manière oblique vers l’arrière et vers le haut du véhicule et dans lequel la patte externe du renfort latéral s’étend verticalement et de manière oblique vers l’arrière et vers le haut du véhicule.
Par exemple, le dispositif de marchepied comprend au moins une portion d’absorption de choc s’étendant verticalement vers le bas à partir d’un côté avant de l’embase.
La portion d’absorption de choc est, par exemple, située du côté de la première portion de fixation au longeron.
Selon un mode de réalisation, le véhicule automobile tel que décrit précédemment comprend un longeron droit et un longeron gauche s’étendant selon un axe longitudinal, une doublure droite reliée au longeron droit par un premier élément de liaison transversal, et une doublure gauche reliée au longeron gauche par un deuxième élément de liaison transversal, le véhicule comprenant un premier dispositif de marchepied droit tel que décrit précédemment soudé directement au longeron droit et au premier élément de liaison transversal, et un deuxième dispositif de marchepied gauche tel que décrit précédemment soudé directement au longeron gauche et au deuxième élément de liaison transversal.
illustre, en perspective, une partie avant d’un véhicule automobile comprenant un dispositif de marchepied droit et un dispositif de marchepied gauche selon un mode de réalisation de l’invention ;
représente en détails le dispositif de marchepied droit de la ;
représente une vue de dessus du dispositif le marchepied droit de la ;
représente en perspective le dispositif de marchepied gauche de la ;
représente en perspective le dispositif de marchepied droit de la ;
est une vue de dessus du représente du dispositif de marchepied gauche de la ; et
représente en perspective le dispositif de marchepied droit selon un autre mode de réalisation.
Dans la description qui suit, les termes « longitudinal », « transversal », « vertical », « avant », « arrière », « gauche » et « droite » sont définis selon le repère orthogonal habituel des véhicules à moteur, représenté sur les dessins, et qui comprend :
- un axe longitudinal X, horizontal et orienté de l’avant vers l’arrière du véhicule ;
EXEMPLE 2 : obtention d’un exemple de deuxième composition d’encre E20 pour la réalisation de la couche active photovoltaïque 212.
Selon que l’on utilise du PC70BM associé à PV2000 ou du PC70BM associé à du PTB7-Th, on obtient respectivement les compositions d’encre E201 et E202, dont les compositions sont détaillées dans le tableau 1 ci-après :
Composition E201 E202 PC70BM 15 mg 15 mg PTB7-Th 10 mg 0 mg PV2000 0 mg 10 mg O-xylène 1 mL 1 mL Tétraline 60 microlitres 60 microlitres
La composition d’encre E201 est obtenue comme suit : - 10 mg PTB7-th mélangés avec 15 mg de PC70BM (correspondant à un rapport massique 1 :1.5) dans 1 millilitre de o-xylène et 60 microlitres de tétraline. - Le mélange est mis sous agitation magnétique sur plaque chauffante à 80°C pendant 24 heures. - Avant l’impression, l’encre est préalablement filtrée avec un filtre 0.45 micromètres en AC. - Les couches imprimées subissent ensuite un recuit thermique sur plaque chauffante à 85 °C pendant 2 minutes.
La composition d’encre E202 est obtenue comme suit : - 10 mg PV2000 mélangés avec 15 mg de PC70BM (correspondant à un rapport massique 1 : 1.5) dans 1 millilitre de o-xylène et 60 microlitres de tétraline. - Le mélange est mis sous agitation magnétique sur une plaque chauffante à 80°C pendant 24 heures. - Avant l’impression par voie jet d’encre, l’encre E142 est filtrée avec un filtre 0.45 micromètres en AC. - Après impression jet d’encre d’E201 ou E202, on obtient des couches actives photovoltaïques qui, une fois imprimées sont soumises à un recuit thermique sur plaque chauffante à 85 °C pendant 2 minutes.
EXEMPLE 3 : obtention d’un exemple de deuxième composition d’encre E20 pour la réalisation de la couche active photovoltaïque 212.
On utilise du PC60BM comme accepteur associé au PV2000 comme donneur pour obtenir la composition d’encre E203 dont la composition est détaillée dans le tableau 1 ci-après : Composition E203 PC60BM 22.5 mg PV2000 15 mg O-xylène 0.5 mL Tétraline 0.5 mL
La composition d’encre E203 est obtenue comme suit : - 15 mg PV2000 mélangés avec 22.5 mg de PC60BM (correspondant à un rapport massique 1 :1.5) dans 0.5 millilitre d’o-xylène et 0.5 millilitre de tétraline. - Le mélange est mis sous agitation magnétique sur plaque chauffante à 80°C pendant 24 heures. - Avant l’impression, l’encre est préalablement filtrée avec un filtre AC présentant un seuil de coupure environ égal à 0.45 micromètres. - Après impression jet d’encre d’E203, on obtient une couche active photovoltaïque qui, une fois imprimée est soumise à un recuit thermique sur plaque chauffante à 85 °C pendant 2 minutes.
EXEMPLE 4 : obtention d’exemples de troisième composition d’encre E30 pour la réalisation de la couche d’électrode supérieure 213 lorsque celle-ci est également la deuxième couche interfaciale.
Cette troisième composition d’encre E30 pour la réalisation de la couche d’électrode supérieure 213 est obtenue comme suit : - on filtre le PEDOT:PSS avec un filtre 0.45 µm ; - on mélange 500 µl de Triton X-100 (a) avec 200 µl Ethylène Glycol (b), 200 µl Glycérol (c) et 100 µl Ethanolamine (d) dans 9 ml d’eau déionisée (e) ; - on met le mélange ainsi obtenu sous agitation magnétique à 50°C sur plaque chauffante pendant 30 minutes, puis sous agitation magnétique à température ambiante pendant 20 minutes ; - on mélange le PEDOT:PSS initialement filtré avec mélange ainsi obtenu après agitation, dans les proportions suivantes : 30 µl de mélange des 3 additifs dans l’eau déionisée pour 1 ml de PEDOT:PSS ; on met le mélange résultant (avec PEDOT:PSS) sous agitation magnétique sur plaque chauffante à température ambiante pendant 1 heure au minimum ; et - on dégaze la solution finale ainsi obtenue E30 pendant 3 à 5 minutes dans un bain ultrason avant l’impression.
Selon que l’on utilise le PEDOT: PSS IJ1005 ou le PEDOT:PSS ORGACON S315, on obtient respectivement les compositions d’encre E301 et E302, dont les compositions sont détaillées dans les deux tableaux 2 et 3 ci-après : Composition Solution X (a+b+c+d+e) a-Triton x-100 a 500 µL b-Ethylène Glycol b 200 µL c-Glycérol c 200 µL d-Ethanolamine d 100 µL e-Eau déionisée e 9 mL Composition E301 E302 IJ1005 1 mL 0 mL Orgacon S315 0 mL 1 mL Solution X a)+b)+c)+d+e) 30 µL 30 µL
EXEMPLE 5 : obtention d’un exemple d’une troisième composition d’encre E30 pour la réalisation de la couche d’électrode supérieure 213.
Cette troisième composition d’encre E303 pour la réalisation de la couche d’électrode supérieure 213 est obtenue comme suit : - on filtre la solution PEDOT:PSS (IJ1005) initialement stockée dans un frigo avec un filtre présentant un seuil de coupure environ égal à 0.45 µm ; - on mélange 30 µl de Triton X-100 avec 10 ml de la solution filtrée du PEDOT:PSS, - on met le mélange ainsi obtenu sous agitation magnétique à température ambiante sur un agitateur magnétique pendant 16 heures, et - on dégaze la solution finale ainsi obtenue E30 pendant 3 à 5 minutes dans un bain ultrason avant l’impression.
EXEMPLE 6 : obtention d’exemples de modules photovoltaïques selon l’invention :
On réalise une cellule photovoltaïque C1 conforme à l’invention selon le procédé suivant : - Fourniture d’un support transparent en PET ou en verre contenant la première électrode inférieure. - Réalisation sur ladite première électrode inférieure d’une première couche interfaciale organique issues de la composition E11 de l’exemple 1. En particulier, réalisation de cette couche par impression numérique à jet d’encre de la composition d’encre E11, puis ensuite réalisation d’un recuit thermique dans une étuve à convection à 145 °C pendant 3 minutes. L’épaisseur d’une première couche interfaciale organique 211 imprimées sur les couches l’électrode inférieure 210 est d’environ 2-5 nm avec des rugosités Rms inférieurs à 2 nm. - Réalisation sur ladite première couche interfaciale organique 211 d’une couche active photovoltaïque 212 suite à l’application par impression numérique à jet d’encre de la composition d’encre E203 de l’exemple 3 avant la réalisation d’un recuit thermique dans une étuve à convection à 145 °C pendant 3 minutes. L’épaisseur des couches actives photovoltaïques 212 imprimées est environ égale à 350 nm avec des rugosités Rms inférieures à 5 nm. - Réalisation sur ladite couche active photovoltaïque 212 d’une électrode supérieure 213 suite à l’application par impression numérique à jet d’encre de la composition d’encre E303 de l’exemple 5 avant la réalisation d’un recuit thermique dans une étuve à convection à 145°C pendant 3 minutes. L’épaisseur des couches imprimées d’électrode supérieure 213 est environ égale à 500 nm avec des rugosités Rms inférieures à 10 nm.
On obtient, à l’issue du procédé de fabrication, une cellule photovoltaïque C1A qui comprend entre autres une première couche interfaciale continue, transparente, et exempte d’oxyde métallique selon des exemples de réalisation de l’invention.
- représente un exemple de réalisation d’une cellule photovoltaïque à contacts passivés intégrés en double face ; - représente un exemple de réalisation d’une cellule photovoltaïque à contacts passivés, objet de la présente invention, selon un premier mode de réalisation ;
- représente un exemple de réalisation d’une cellule photovoltaïque à contacts passivés, objet de la présente invention, selon un deuxième mode de réalisation ;
- un exemple de réalisation d’une cellule photovoltaïque à contacts passivés, objet de la présente invention, selon un troisième mode de réalisation.
Un exemple de réalisation d’une cellule photovoltaïque 100 à contacts passivés selon un premier mode de réalisation est décrit ci-dessous en lien avec la .
La cellule photovoltaïque 100 comporte un substrat 102 semi-conducteur cristallin d’un premier type de conductivité. De manière avantageuse, le semi-conducteur du substrat 102 correspond à du silicium. Dans l’exemple de réalisation décrit ici, le premier type de conductivité correspond à une conductivité de type n. A titre d’exemple, le substrat 102 peut correspondre à un wafer standard M2 (environ 156 mm de côté), ou d’une autre dimension.
Le substrat 102 comprend une première face 104 disposée du côté d’une face avant de la cellule 100 qui est destinée à recevoir une lumière incidente, et une deuxième face 106 disposée du côté d’une face arrière, opposée à la face avant, de la cellule 100.
La cellule 100 comporte une première couche de passivation 108 disposée contre la première face 104 du substrat 102, et une deuxième couche de passivation 110 disposée contre la deuxième face 106 du substrat 102. Dans l’exemple de réalisation décrit ici, les première et deuxième couches de passivation 108, 110 comportent de l’oxyde de silicium (SiO X ) ou du silicium amorphe intrinsèque hydrogéné (a-Si:H(i)). Les épaisseurs des première et deuxième couches de passivation 108, 110 sont par exemple comprises entre 1 nm et 10 nm.
La cellule 100 comporte également une première couche de semi-conducteur sélective de charge 112 dopée selon le premier type de conductivité et disposée contre la première couche de passivation 108, et une deuxième couche de semi-conducteur sélective de charge 114 dopée selon un deuxième type de conductivité, opposé au premier type de conductivité, disposée contre la deuxième couche de passivation 110. De manière avantageuse, les première et deuxième couches de semi-conducteur sélective de charge 112, 114 comportent du silicium polycristallin dopé ou du silicium amorphe hydrogéné dopé. Les épaisseurs des première et deuxième couches de semi-conducteur sélective de charge 112, 114 sont par exemple comprises entre 5 nm et 20 nm.
La cellule 100 comporte également une couche d’oxyde d’indium 116 disposée entre des contacts électriques 118 de face arrière de la cellule 100 et la deuxième couche de semi-conducteur sélective de charge 114. La couche 116 peut notamment comporter de l’oxyde d’indium dopé à l’étain, hydrogéné ou non (ITO:H ou ITO). Il est également possible que la couche 116 comporte de l’oxyde d’indium hydrogéné (IO:H), c’est-à-dire non dopé à l’étain. La couche 116 comporte par exemple une épaisseur égale à 100 nm, ou par exemple comprise entre 70 nm et 100 nm.
La cellule 100 comporte également des premières portions 120 d’oxyde transparent conducteur comportant du zinc disposées entre des contacts électriques 122 de face avant de la cellule 100 et des premières régions 124 de la première couche de semi-conducteur sélective de charge 112. De manière avantageuse, l’oxyde transparent conducteur comportant du zinc est de l’oxyde de zinc dopé à l’aluminium (AZO) ou dopé au bore (BZO). L’épaisseur (dimension selon l’axe Z représenté sur la ) des premières portions 120 est par exemple égale à 70 nm, ou plus généralement comprise entre 0 et 70 nm.
Dans la cellule 100 selon l’exemple de réalisation représenté sur la , des deuxièmes régions 126 de la première couche de semi-conducteur sélective de charge 112, localisées entre et/ou à côté des premières régions 124 de la première couche de semi-conducteur sélective de charge 112, ne sont pas recouvertes d’oxyde transparent conducteur comportant du zinc. Selon une variante, il est possible que les deuxièmes régions 126 soient recouvertes de deuxièmes portions d’oxyde transparent conducteur comportant du zinc de plus faible épaisseur que celle des premières portions 120 et par exemple issues de la même couche que celle ayant servie à la réalisation des premières portions 120.
De manière avantageuse, les contacts électriques 118, 122, ou métallisations, de la cellule 100 comportent de l’argent ou du cuivre. D’autres métaux sont toutefois possibles pour former les contacts électriques 118, 122
-- la distance axiale entre les segments ou la longueur du film d’huile ou de l’espace de formation du film d’huile, est comprise entre 10 et 50mm ;
-- le film d’huile ou l’espace de formation du film d’huile a un diamètre compris entre 100 et 500 mm ;
-- la gorge d’alimentation est du type centré et est située à mi-distance des segments d’étanchéité ;
-- la gorge d’alimentation est du type décentré et est situé à proximité de l’un des segments d’étanchéité ;
-- lorsque la gorge d’alimentation est du type centré, le dispositif comprend exactement deux gorges de mise en température
-- lorsque la gorge d’alimentation est du type décentré, le dispositif comprend une unique gorge de mise en température.
L’invention concerne en outre une turbomachine d’aéronef, comportant un dispositif tel que décrit ci-dessus.
la est une demi vue schématique en coupe axiale d’une turbomachine d’aéronef,
la est une vue schématique en coupe axiale et en perspective d’un dispositif de guidage selon la technique antérieure,
la est une vue schématique en coupe transversale du dispositif de guidage de la ,
la est une vue schématique en coupe axiale du dispositif de guidage de la ,
la est une vue schématique en perspective d’un segment d’étanchéité à coupe droite,
la est une vue schématique en perspective d’un segment d’étanchéité à coupe à recouvrement,
la est une vue schématique en coupe axiale similaire à celle de la et illustre un mode de réalisation d’un dispositif de guidage selon l’invention,
la est une vue similaire à celle de la et illustre une variante de réalisation de l’invention,
Le procédé comprend en outre avant l’étape i), une étape a) au cours de laquelle le monomère EDOT et ledit agent oxydant sous la forme gazeuse sont préparés.
La préparation d’EDOT gazeux peut être effectuée en soumettant l’EDOT à une température allant d’au moins 70°C.
La préparation de l’agent oxydant gazeux peut être effectuée en soumettant l’agent oxydant à une température allant d’au moins 50°C.
Le procédé comprend en outre avant l’étape i), une étape b) au cours de laquelle le substrat transparent non conducteur est nettoyé.
Le nettoyage du substrat transparent non conducteur a pour but d’éliminer les résidus organiques issus de la fabrication de celle-ci. L’étape b) favorise le bon fonctionnement de l’OLED (réduire la contamination, éliminer toutes aspérités sur la surface, etc...)
L’étape b) peut comprendre l’immersion dudit substrat transparent non conducteur dans un ou plusieurs solvants, en présence d’ultrasons.
Le solvant peut être de l’éthanol, de l’eau (de préférence déionisée), de l’isopropanol, et/ou de l’acétone
Lorsque le substrat transparent non conducteur est en verre, celui-ci peut par exemple être plongé successivement dans plusieurs bains sous ultra-sons : à savoir dans un bain d’eau déionisée (e.g. pendant 5 minutes), dans un bain d’acétone (e.g. pendant 5 minutes), puis dans un bain d’isopropanol (e.g. pendant 5 minutes).
Lorsque le substrat transparent non conducteur est en matière plastique, celui-ci peut par exemple être plongé successivement dans plusieurs bains sous ultra-sons : à savoir dans un bain d’eau déionisée (e.g. pendant 5 minutes), dans un bain d’éthanol (e.g. pendant 5 minutes), puis dans un bain d’isopropanol (e.g. pendant 5 minutes).
L’étape b) peut comprendre en outre après l’immersion, un traitement UV-Ozone, par exemple pendant 10 min, de préférence suivi d’un séchage du substrat transparent non conducteur sous atmosphère inerte, en particulier sous gaz inerte d’argon ou d’azote
Le procédé peut comprendre en outre après l’étape i) ou ii), une étape iii) de dépôt du système électroluminescent organique.
L’étape iii) est de préférence effectuée sous atmosphère inerte, et en particulier sous atmosphère d’azote.
L’étape iii) peut être effectuée par évaporation thermique.
L’étape iii) est de préférence réalisée sous vide, notamment à une pression inférieure à 10 -5 mbar environ.
A cet effet, l’invention a pour objet une machine de manutention comprenant : un châssis roulant, un système de manutention de charge ou de personne, comprenant par exemple un bras de levage équipé d’un dispositif de fourches ; un dispositif de contrôle d’accès principal par identification biométrique, le dispositif de contrôle d’accès principal étant apte à acquérir une donnée biométrique d’un utilisateur et à identifier un profil utilisateur auquel correspond la donnée biométrique acquise, pour autoriser ou non l’accès à la machine à cet utilisateur en fonction de la donnée biométrique acquise, et un dispositif de contrôle d’accès auxiliaire, différent du dispositif de contrôle d’accès principal, le dispositif de contrôle d’accès auxiliaire étant apte à recevoir un code ou lire un code fourni par un utilisateur audit dispositif de contrôle d’accès auxiliaire, pour autoriser ou non l’accès à la machine en fonction dudit code, et une unité de traitement configurée pour : dans un mode de fonctionnement, dit mode transport, qui est activé lorsque l’accès à la machine est autorisé par le dispositif de contrôle d’accès auxiliaire, autoriser le déplacement au sol de la machine tout en empêchant ou en restreignant le fonctionnement du système de manutention de la machine ; dans un mode de fonctionnement, dit mode travail, qui est activé lorsque l’accès à la machine est autorisé par le dispositif de contrôle d’accès principal, autoriser un fonctionnement sans restriction du système de manutention par rapport au mode transport, ou définir au moins un paramètre de fonctionnement du système de manutention, tel qu’un angle maximal autorisé du bras de levage, ladite autorisation de fonctionnement sans restriction et ladite définition d’au moins un paramètre de fonctionnement étant fonction des données du profil utilisateur identifié.
Une telle conception de la machine permet grâce au dispositif de contrôle d’accès principal de déterminer, de manière fiable, qui utilise la machine, et de permettre à cet utilisateur d’utiliser la machine selon une configuration de fonctionnement adaptée à son profil utilisateur, tout en permettant à d’autres utilisateurs, dans des cas particuliers tels que le transport ou l’intervention d’un service de secours, de pouvoir déplacer la machine sans risque d’accident de manipulation du système de manutention.
Une telle conception de la machine permet, lorsque des conditions de niveau élevé d’identification sont remplies grâce au dispositif de contrôle d’accès principal par identification biométrique, d’autoriser un fonctionnement complet de la machine (sans restriction) ou de définir/régler les fonctions et paramétrages autorisés pour le maniement de la machine, en fonction du profil de l’utilisateur identifié.
Les termes « sans restriction » s’entendent par opposition aux restrictions prévues dans le mode transport. Bien entendu, les capacités de fonctionnement peuvent être en tant que telles limitées par les caractéristiques de construction de la machine, ou par les normes de fonctionnement implémentées dans la machine, ou par des précautions de sécurité qui s’appliquent à la machine indépendamment du profil du conducteur.
Le risque d’accident ou de dégradation de la machine peut ainsi être réduit lorsque, suite à l’identification, il est déterminé, grâce au profil de l’opérateur, que l’opérateur ne possède pas les qualifications suffisantes (ce qui correspond à un niveau d’autorisation d’utilisation faible de la machine).
En effet, le fonctionnement du système de manutention de la machine, par exemple un bras télescopique muni de fourches, peut être bridé, voire empêché, lorsque le profil de l’opérateur identifié correspond à un profil peu ou pas expérimenté. Lorsque l’opérateur identifié présente un profil utilisateur dont les données correspondent à un utilisateur suffisamment qualifié, les fonctions associées de la machine peuvent être déverrouillées et la machine peut être paramétrée automatiquement pour permettre une utilisation complète de la machine.