INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Système de projection de fluide de nettoyage avec deux buses de projection et une valve directionnelle La présente invention concerne un système de projection de fluide de nettoyage, notamment pour système d’essuyage de véhicule automobile, et en particulier un système de projection comprenant au moins deux buses de projection distinctes.
Il est fréquent qu’un équipement tel qu’un véhicule automobile possède un système de projection de fluide de nettoyage avec plusieurs buses de projection, parfois même de différents types, pour réaliser diverses fonctions de nettoyage de surfaces de capteurs ou de vitres notamment. Un tel système de projection avec plusieurs buses n’est pas propre aux véhicules automobiles et peut être utiles pour d’autres équipements comprenant plusieurs surfaces à nettoyer.
Il peut être prévu de mutualiser une pompe pour alimenter en fluide de nettoyage les buses d’un système de projection. Afin d’alimenter sélectivement deux buses de projection, notamment pour alimenter l’une puis l’autre, il est connu d’utiliser une électrovalve entre chaque buse de projection et la pompe. L’électrovalve peut être contrôlée par un signal électrique afin de distribuer ou non le fluide de nettoyage vers la buse de projection.
Toutefois, un contrôle par signal électrique est peu robuste, en cas de panne électrique ou de choc mécanique notamment, implique une utilisation de fils électriques encombrants, et est coûteux.
Il existe ainsi le besoin de proposer un système de projection de fluide de nettoyage avec au moins deux buses de projection et une unique pompe, qui soit à la fois robuste, peu encombrant, léger et peu coûteux.
- dans un premier mode de réalisation, à T = 0, une force de 3,8 newtons par centimètre carré est appliquée sur la couche de gel contenant les trois actifs mentionnés en exemple 1, la couche de gel est mise au contact d’un papier buvard, et le diamètre de la tâche qui devient visible sur le papier buvard est mesuré à T = 12 heures, T = 14 heures, T = 96 heures et T = 168 heures ;
- dans un second mode de réalisation, en plus des conditions identiques au premier mode de réalisation, un textile en polyester est placé entre la couche de gel et le papier buvard.
T = 12 h T = 14 h T = 96 h T = 168 h Premier mode de réalisation : Gel en élastomère silicone (épaisseur 3,5 mm) 4,3 cm 5,2 cm 7,8 cm 9,3 cm Second mode de réalisation : Gel en élastomère silicone (épaisseur 3,5 mm) + textile 1 cm 1,3 cm 1,8 cm 2,5 cm
S’agissant du premier mode de réalisation, cette expérience illustre que les trois actifs présents au sein de la couche de gel sont effectivement relargués par le gel durant plusieurs jours.
S’agissant du second mode de réalisation, de manière encore plus surprenante, les trois actifs présents au sein de la couche de gel sont également relargués par le gel et diffusent à travers le textile en polyester durant plusieurs jours.
PRODUIT COSMÉTIQUE DE TYPE FEUILLE La présente invention porte sur un produit cosmétique de type feuille, de préférence un produit cosmétique de type feuille comprenant de l’argile.
CONTEXTE DE L’ART L’excès de sécrétion de matières grasses/cireuses par les glandes sébacées est responsable de l’aspect gras de la peau. Les glandes sébacées sont principalement présentes sur le visage et le cuir chevelu, bien qu’elles soient réparties sur toutes les zones de la peau, à l’exception de la paume des mains et de la plante des pieds. Le sébum contient des triglycérides, des cires, du squalène et des métabolites de cellules produisant des graisses. Bien que le sébum garde les cheveux et la peau souples, l’excès de sébum peut contribuer à la concentration de cellules cornées au niveau de l’orifice des follicules sébacés à la surface de la peau, ce qui provoque une constriction dans l’orifice folliculaire, entraînant un bouchon ou des comédons. Cela peut entraîner des points noirs, des points blancs, une irritation importante, des rougeurs, des lésions tissulaires et de l’acné.
L’utilisation d’argiles minérales comme outils médicinaux et cosmétiques est populaire depuis longtemps. Les argiles sont utilisées pour absorber l’excès d’huile, de saletés et de toxines de la peau tout en exfoliant la peau et en améliorant la circulation cutanée. A titre d’exemple : le brevet U.S. 2006/0292108 décrit une composition de soins de la peau composée de 10 % de kaolin.
De plus, l’argile sous forme de poudre ou sous forme de pâte prête à l’emploi est vendue en tant que masque à l’argile ou masque de beauté pour le visage. Le terme « masque de beauté pour le visage » fait ici référence à un produit sous forme de crème ou de pâte qui est appliqué comme un masque en formant une fine couche sur la peau pendant une période spécifique ou jusqu’au séchage du produit, puis est éliminé en frottant ou est éliminé par rinçage à l’eau. Cependant, l’application d’un tel produit est un procédé salissant et les consommateurs doivent frotter la peau pour éliminer un tel produit. Lors du séchage de tels produits argileux, lorsqu’un consommateur bouge les muscles de son visage, la boue sèche a tendance à tomber du visage et à salir la salle de bain, les vêtements, etc., obligeant l’utilisateur à nettoyer ou à laver. En outre, en général, après l’application de tels masques à l’argile, les consommateurs doivent également utiliser un produit nettoyant pour se nettoyer le visage.
De plus, WO2015/075143 rapporte une composition corporelle à applicateur comprenant au moins une argile et au moins un polymère soluble dans l’eau, qui peut être fournie sous la forme d’un masque pour le visage. Le produit de cette publication est destiné à être décollé de la peau après son application sur la peau.
Cependant, il reste encore à développer un produit en feuille à base d’argile qui ait une facilité d’utilisation améliorée, en particulier qui puisse être facilement éliminé de la peau après utilisation.
DIVULGATION DE L’INVENTION Un objectif de la présente invention est de fournir un produit en feuille à base d’argile qui ait une facilité d’utilisation améliorée, en particulier qui puisse être facilement éliminé de la peau après utilisation.
L’objectif ci-dessus de la présente invention peut être atteint par un produit cosmétique de type feuille, comprenant
Le produit peut être destiné au soin et/ou à la revitalisation d’une substance kératineuse, telle que la peau.
Selon un mode de réalisation, ledit coefficient est compris entre un tiers et deux tiers.
Selon un mode de réalisation, le quatrième instant est compris entre le deuxième instant et le troisième instant.
Un autre mode de réalisation prévoit un circuit de commande adapté à mettre en oeuvre le procédé décrit précédemment.
Encore un autre mode de réalisation prévoit un dispositif électronique comprenant un circuit de commande décrit précédemment.
Selon un mode de réalisation, le dispositif comprend, en outre, un transistor de type MOS à canal N, et un circuit de pilotage dudit transistor.
Encore un autre mode de réalisation prévoit un dispositif de conversion de tension comprenant le dispositif décrit précédemment.
Selon un mode de réalisation, le dispositif de conversion de tension est un convertisseur à découpage à transformateur.
Selon un mode de réalisation, le dispositif de conversion de tension est un convertisseur de type élévateur.
Selon un mode de réalisation, le dispositif de conversion de tension est un convertisseur de type buck.
la représente, très schématiquement et sous forme de blocs, un mode de réalisation général d'un circuit de commande d'un transistor ;
la représente, schématiquement et partiellement sous forme de blocs, un exemple d'application du mode de réalisation de la ;
la représente, schématiquement et partiellement sous forme de blocs, un autre exemple d'application du mode de réalisation de la ;
la représente, schématiquement et sous forme de blocs, un premier mode de réalisation plus détaillé d'un circuit de commande d'un transistor ;
la représente des chronogrammes illustrant le fonctionnement du mode de réalisation de la ;
la représente, schématiquement, un exemple de réalisation d'une partie du mode de réalisation de la ;
Par ailleurs, chaque rebord 32 présente un bossage 34 formé en relief de la paroi interne 37 du carter 21, de manière à former de la matière pour fiabiliser le vissage de ladite platine tout en limitant l’encombrement axial dudit vissage dans le logement 27. Cet agencement permet également d’éviter que les vis 33 ne fassent saillie à l’intérieur du carter 21, et ainsi d’éviter leur interférence avec les capteurs 19, 20 et/ou les codeurs 15, 16.
Selon une réalisation, les rebords 32 et les petits côtés de la platine 28 peuvent être pourvus d’une structure de détrompage pour indiquer le sens et la position de montage à respecter pour fixer ladite platine dans son logement 27.
De façon avantageuse, la vis de réglage 29 présente une tête d’actionnement 29a qui est disposée dans le logement 27 de la cavité 26 sans dépasser axialement au-delà de la paroi externe 22, de manière à ne pas interférer avec la manivelle 3 du pédalier, et ainsi ne pas entraver l’actionnement dudit pédalier.
Pour ce faire, la platine 28 comprend un lamage central 28c sur lequel la tête d’actionnement 29a est disposée en retrait de la surface supérieure 28b de ladite platine. En particulier, dans le mode de réalisation représenté, la vis de réglage 29 présente un diamètre plus important que les vis de fixation 33 et est agencée de manière à ce que sa tête d’actionnement 29a dépasse légèrement de la surface supérieure 28b de la platine 28, par opposition aux têtes 33a desdites vis de fixation, qui sont toutes deux disposées dans le prolongement de ladite surface supérieure. Ainsi, la vis de réglage 29 est plus facilement repérable par un opérateur, ce qui permet d’éviter une confusion entre ladite vis de réglage et les vis de fixation 33.
De façon avantageuse, la cavité 26 est équipée d’une trappe 35 de fermeture notamment étanche, qui est disposée dans le prolongement de la paroi externe 22. La tête 29a est disposée sous la trappe 35, notamment en ce que la vis de réglage 29 est agencée pour que sa tête d’actionnement 29a soit en retrait de la surface de contact entre la trappe 35 et le logement 27, un jeu fonctionnel devant rester entre la vis 29 et la trappe 35.
Ainsi, le dispositif de détermination, et de façon plus générale l’intérieur du carter 21, est protégé de l’environnement extérieur lorsque la trappe 35 est présente, de manière à éviter l’entrée par la cavité 26 de polluants extérieurs tels que de l’eau, de la poussière et/ou de la boue. Par ailleurs, l’absence de protubérance axiale au niveau de la trappe 35 permet d’éviter son interférence avec la manivelle 3 du pédalier.
En particulier, le dispositif de détermination tout comme l’ensemble des éléments internes au carter 21 peuvent baigner constamment dans un bain d’huile, la trappe permettant de garantir que l’huile ne s’échappe pas du carter 21 ce qui entrainerait une dégradation rapide du système mécanique de transmission et une casse potentielle des éléments d’entrainement.
La vis de réglage 29 est disposée en rotation au travers de la platine 28 en étant immobilisée en translation, et est montée en liaison hélicoïdale dans le support 18 pour permettre un déplacement en translation dudit support par rotation de ladite vis de réglage.
Pour ce faire, la vis de réglage 29 est fixée à la platine 28 au moyen d’un anneau d’arrêt métallique 36, par exemple de type « truarc », qui est disposé dans une gorge 38 prévue à cet effet sous la tête d’actionnement 29a de ladite vis de réglage, et qui vient en butée axiale sous la surface inférieure 28d de ladite platine.
En particulier, l’anneau d’arrêt 36 peut être agencé pour limiter tout jeu selon l’axe de la vis 29 dudit anneau dans la gorge 38, par exemple en réalisant un bombage par déformation locale dudit anneau. Ainsi, l’anneau 36 peut remplir une fonction ressort, afin de limiter les jeux axiaux dudit anneau dans la gorge 38, et ainsi d’éviter l’emploi d’une rondelle ressort supplémentaire.
Le support 18 comprend une plaque 39 sur laquelle est associée une carte 40 d’un circuit imprimé portant les capteurs 19, 20, la vis de réglage 29 étant associée à ladite plaque. La plaque support 39 liée à la carte électronique 40 participe à donner une rigidité à cet ensemble. En particulier, la carte 40 est associée à la plaque 39 au moyen de deux vis 44 de fixation.
De façon avantageuse, l’implantation des deux vis 44 de fixation de la carte 40 sur la plaque 39 est prévue pour que les têtes desdites vis tombent entre les deux codeurs 15, 16, ce qui permettra de s’affranchir de tout risque de collision lors de la mise en contact entre lesdits codeurs et les capteurs 19, 20 lors de l’opération de réglage. En outre, la vis de réglage 29 est également comprise entre les deux codeurs 15, 16.
La vis de réglage 29 est montée dans un trou taraudé 41 formé dans la plaque 39 pour permettre la translation de ladite plaque par rotation de ladite vis de réglage, et la carte 40 présente un orifice 42 aligné avec ledit trou taraudé par lequel passe l’extrémité de la vis de réglage 29.
Comme représenté sur les figures 2a, 3a et 4a, les capteurs 19, 20 sont espacés d’une distance radiale R c , et la vis de réglage 29 est associée au support 18 au milieu de cette distance R c . Ainsi, on permet un réglage simultané de la distance de lecture E des deux capteurs 19, 20 au moyen de la vis 29, et ce avec un bon équilibrage entre lesdits réglages.
La platine 28 est associée au support 18 au moyen d’au moins une goupille 43 qui est agencée pour immobiliser en rotation relative ledit support et ladite platine. Sur les figures, la platine 28 est associée au support 18 au moyen de deux goupilles 43 qui sont disposées de part et d’autre de la vis de réglage 29 en étant alignées suivant la direction D présentée précédemment.
Chaque goupille 43 est fixée à l’un parmi le support 18 et la platine 28, et est montée en coulissement par rapport à l’autre parmi ledit support et ladite platine. Dans le mode de réalisation représenté, chaque goupille 43 est fixée dans le support 18 et est montée en coulissement dans respectivement un orifice 45 formé dans la platine 28, de manière à assurer un guidage en translation entre le support 18 et ladite platine sur une course de dimension réduite, mais suffisante pour absorber les variations dimensionnelles des composantes entrant dans la chaine de cote pouvant avoir un impact sur la distance de lecture E des capteurs 19, 20.
dans laquelle R 2 et R 3 sont tels que définis ci-dessus et n = 10 à 100 000, en particulier de 20 à 10 000.
On peut utiliser comme composé de formule (I), un composé dans lequel R 1 représente H, alkyle en C 1 -C 6 , linéaire ou ramifié, éventuellement substitué ; et R 2 et R 3 sont reliés entre eux pour former un groupe alcanediyl –(CH 2 ) 3 -. On peut utiliser en particulier la 2-pyrrolidone, la N-méthyl-2-pyrrolidone ou la 1-(2-hydroxyéthyl)-2-pyrrolidone, ou encore un composé de formule :
avec n = 20 à 10 000.
On peut utiliser comme composé de formule (I), un composé dans lequel R 1 et R 2 représentent chacun indépendamment H ou alkyle en C 1 -C 6 , linéaire ou ramifié, et R 3 représente H. On peut utiliser en particulier le formamide ou le N,N-diéthylformamide.
A l’étape (a), on peut mettre en présence l’amide et le précurseur d’hafnium dans un rapport molaire de 2 à 100, notamment de 3 à 40, le nombre de moles du précurseur d’hafnium étant indiqué en mole de Hf.
A l’étape (b), on peut chauffer la solution obtenue en (a) à une température supérieure à 150°C.
A l’étape (b), on peut chauffer la solution obtenue en (a) pendant un laps de temps supérieur ou égal à 1/2h.
A l’étape (c), on peut utiliser l’acétone comme solvant de précipitation.
A l’étape (c), on peut recueillir les nanoparticules par centrifugation, puis l’on fait suivre par une dispersion de ces nanoparticules dans l’eau pour obtenir lesdites nanoparticules en solution colloïdale aqueuse, ladite solution colloïdale aqueuse pouvant avoir un extrait sec d’au moins 50% en masse, notamment un extrait sec d’au moins 80% en masse.
Après l’étape (c), on peut redisperser les nanoparticules dans l’eau et on peut répéter l’étape (c), et le cas échéant on répète au moins encore une fois la redispersion dans l’eau suivie de l’étape (c) pour obtenir des nanoparticules, puis l’on fait suivre par une dispersion de ces nanoparticules dans l’eau pour obtenir lesdites nanoparticules en solution colloïdale aqueuse, ladite solution colloïdale aqueuse pouvant avoir un extrait sec d’au moins 50% en masse, notamment un extrait sec d’au moins 80% en masse.
Le procédé selon la présente invention peut conduire à des nanoparticules dont la taille est de 3 à 300 nm, notamment de 3 - 60, en particulier de 3 nm.
La présente invention porte également sur l’utilisation des nanoparticules telles que définies ci-dessus ou préparées par le procédé tel que défini ci-dessus, comme agent améliorant l’indice thérapeutique d’une radiothérapie.
Exemples 1 à 8 I - Mode opératoire général Obtention d’un milieu réactionnel précurseur d’hafnium + amide
On a placé x mL (x’g)(x’’mole) d’un solvant amide (Solvant Amide) dans le pot en Téflon d’un autoclave de Z mL, puis on a ajouté sous agitation y g (y’ mole de Hf) de l’oxychlorure d’hafnium (HfOCl 2 .8H 2 O).
la représente, schématiquement et sous forme de blocs, un deuxième mode de réalisation plus détaillé d'un circuit de commande d'un transistor ;
la représente un schéma-bloc illustrant un procédé de mise en oeuvre du mode de réalisation de la ;
la représente, schématiquement, un exemple de réalisation d'une partie du mode de réalisation de la ; et
la représente, schématiquement et sous forme de blocs, un troisième mode de réalisation plus détaillé d'un circuit de commande d'un transistor.
La représente, très schématiquement et sous forme de blocs, un mode de réalisation d'un dispositif électronique comprenant un transistor 150 et son circuit de commande 100.
Le transistor 150 est un transistor à effet de champ à grille isolée, ou transistor de type MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor), aussi appelé transistor de type MOS. De plus, et plus particulièrement, le transistor 150 est un transistor de type MOS à canal N, aussi appelé transistor NMOS. Le transistor 150 comprend deux bornes de conduction et une borne de commande. Une première borne de conduction est la borne de drain du transistor 150, et est reliée, de préférence connectée, à un noeud de drain D. Une deuxième borne de conduction est la borne de source du transistor 150 et est reliée, de préférence connectée, à un noeud de source S. La borne de commande du transistor 150 est la borne de grille du transistor 150 et est reliée, de préférence connectée, à un noeud de grille G. De plus, comme tout transistor de type MOS, le transistor 150 comprend une diode parasite, représentée en par une diode 151 dont l'anode est reliée, de préférence connectée, au noeud de de source S, et dont la cathode est reliée, de préférence connectée, au noeud de drain D.
Le circuit de commande 100 est un circuit relié aux noeuds de source S, de drain D, et de grille G du transistor 150, et permettant de fournir entre le noeud de grille G et le noeud de source S une tension de commande du transistor. Le circuit de commande 100 comprend une unité de commande 101, ou circuit de commande 101, et un circuit de pilotage 102. Le circuit de commande 100 a la particularité de s'autoalimenter à partir de la tension reçue entre les bornes de drain et de source du transistor 150. Le circuit de commande 100 a aussi la particularité de s'autocommander à partir de la tension reçue entre les bornes de drain et de source du transistor 150.
L'unité de commande 101 comprend des circuits logiques permettant de fournir plusieurs tensions de commande V-CMD au circuit de pilotage 102, et au moins un circuit d'alimentation permettant de fournir une tension d'alimentation VCC au circuit de pilotage 102. Pour cela, l'unité de commande 101 est reliée, de préférence connectée, aux noeuds D, S et G du transistor 150. L'unité de commande peut, en outre, recevoir une ou plusieurs tensions de contrôle V-CTRL de la part du circuit de pilotage 102. L'unité de commande ne reçoit pas de tension d'alimentation extérieure.
Le circuit de pilotage 102 est un circuit adapté à fournir une tension de commande entre les noeuds G et S destinée au transistor 150, en se basant sur les tensions de commande V-CMD fournies par l'unité de commande 100.
Des exemples d'application du transistor 150 associé au circuit de commande 100 sont décrits en relation avec les figures 2 et 3. Des exemples détaillés du circuit de commande 100 sont décrits en relation avec les figures 4 à 10.
La représente un exemple de réalisation d'un circuit 200 convertisseur à découpage à transformateur, aussi appelé convertisseur flyback, utilisant un dispositif du type de celui décrit en relation avec la . Dit autrement, le circuit 200 est une alimentation à découpage utilisant un transformateur.
Selon un mode de réalisation, ledit élément isolant secondaire est un bloc isolant secondaire.
Selon un mode de réalisation, ledit bloc isolant secondaire comporte un bloc de mousse isolante et une plaque de couvercle disposée sur le bloc de mousse isolante, une surface supérieure de la plaque de couvercle formant une surface de support pour la membrane étanche secondaire.
Selon un mode de réalisation, la plaque de couvercle est en bois contreplaqué.
Selon un mode de réalisation, la mousse isolante est une mousse de polyuréthane, optionnellement renforcée par des fibres de verre, présentant une masse volumique comprise entre 130 kg/m 3 et 200 kg/m 3 .
Selon un mode de réalisation, l’évidement s’étend dans au moins une partie de l’épaisseur de la plaque de couvercle.
Selon un mode de réalisation, l’évidement débouche sur le bloc de mousse isolante.
Selon un mode de réalisation, l’évidement s’étend en outre dans une partie de l’épaisseur du bloc de mousse isolante.
Selon un mode de réalisation, ledit bloc isolant secondaire comporte en outre une plaque de fond, le bloc de mousse isolante étant disposé entre la plaque de fond et la plaque de couvercle.
Selon un mode de réalisation, la plaque de fond est en bois contreplaqué.
Selon un mode de réalisation, l’évidement est formé entre au moins deux éléments isolants secondaires, par exemple entre quatre éléments isolants secondaires.
Selon un mode de réalisation, un organe d’ancrage secondaire pour ancrer un ou plusieurs éléments isolants secondaires est reçu dans l’évidement.
Selon un mode de réalisation, l’organe d’ancrage secondaire est lié mécaniquement à la paroi porteuse.
Selon un mode de réalisation, ladite base de système d’ancrage comporte : - une pièce mobile comportant un corps présentant une face supérieure affleurant la surface supérieure de la plaque de couvercle, le trou de positionnement étant traversant à travers ledit corps ; et - une pièce de retenue fixée à la plaque de couvercle et coopérant avec la pièce mobile de manière à arrêter la pièce mobile dans ledit évidement dans la direction d’épaisseur, ledit évidement et la pièce de retenue étant configurés pour permettre un déplacement de la pièce mobile perpendiculairement à la direction d’épaisseur.
Selon un mode de réalisation, ledit évidement et la pièce de retenue sont configurés pour permettre un déplacement de la pièce mobile selon une direction de déplacement parallèle à une direction longitudinale de la virure.