INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans certains modes de réalisation, l’équipement de supervision 400 peut être agencé pour déterminer la matrice de connectivité globale en associant à chaque identifiant de l’ensemble des dispositifs 100-n du système 10, au moins une partie des données de géolocalisation relatives au dispositif 100-n. Dans un tel cas, l’équipement de supervision 400 peut être configuré pour extraire les informations relatives aux données de géolocalisation du dispositif 100-n à partir du message de connectivité relayée reçu et/ou de n’importe quel autre messages de communication directe d(n) et/ou les messages de communication relayée r(n) émis par le dispositif 100-n. En particulier, l’équipement de supervision 400 peut être configuré pour déterminer, à partir des différentes données de géolocalisation et des identifiants une cartographie du positionnement des différents dispositifs 100-n du système.
Dans un mode de réalisation, la matrice de connectivité globale peut comprendre l’ensemble des identifiants des dispositifs 100-n du système 10 et une information de ‘statut’ associé à chacun des identifiants . Par exemple et sans limitation, un statut peut être « connecté réseau et mode direct », « connecté réseau », « connecté mode direct » ou « non connecté ».
La figure 5 représente une matrice connectivité globale d’un système 10 comprenant les dispositifs 100-n, 100-(n+1), 100-(n+2) et 100-(n+3), selon un autre exemple de réalisation. La matrice de connectivité globale est représentée dans cet exemple par une table de données comprenant les informations relatives aux états de connectivité relayée , , et de chacun des dispositifs du système 10. La table de données comprend également :
- les informations relatives aux états de connectivité directe , et des dispositifs 100-(n+1), 100-(n+2) et 100-(n+3) du système 10 avec le dispositif 100-n, mises à jour à chaque réception de message de connectivité relayé ;
- les informations relatives aux états de connectivité directe , et des dispositifs 100-n, 100-(n+2) et 100-(n+3) du système 10 avec le dispositif 100-(n+1), mises à jour à chaque réception de message de connectivité relayé ;
Lors de l’apparition de l’entité nommée, à t+4j, le taux de connaissance courant kr new est de .
Dans une première variante, par exemple où on ne tient pas compte d’évènements de type « IKnow » et/ou « IdontKnow », le nombre de répétition peut être ramené à 1, du fait du rendu de la séquence.
Dans une seconde variante, comme détaillé ci-d’après en lien avec cet exemple 2, le rendu de la séquence n’est pas pris en compte, quant au nombre de répétitions d’Apparitions » du fait que le rendu de la séquence n’a pas été suivi d’une confirmation par l’utilisateur de sa connaissance ou de sa non-connaissance de la séquence.
Ainsi, selon le deuxième exemple, aucun évènement de type I IdontKnow/ IKnow n’étant apparu, le nombre nb-repetition est augmenté. De ce fait, le taux de connaissance est lui aussi à nouveau augmenté du fait de la succession d’évènements de type Apparition, de . Le taux de connaissance est donc de 0.59306554(soit environ 0.59).
Le taux de connaissance est inférieur au premier taux de connaissance donc la proposition du rendu de la séquence est effectuée.
Ici, l’utilisateur ne demande pas le rendu de la séquence audiovisuelle associée à l’élément audiovisuel, et ne précise pas non plus s’il la connaît ou non. De ce fait, le coefficient d’apprentissage et la force mémorielle n’évoluent pas.
Cinquième rendu de l’élément audiovisuel :
Lors de l’apparition de l’entité nommée, à t+5j, le taux de connaissance est de .
Du fait de la succession d’évènements de type Apparition, le taux de connaissance est augmenté à nouveau de . Le taux de connaissance est donc de 0.47639978 (soit environ 0.48).
Le taux de connaissance est inférieur à la première valeur du taux de connaissance donc la proposition du rendu de la séquence est effectuée.
Ici encore, l’utilisateur ne demande pas le rendu de la séquence audiovisuelle associée à l’élément, et ne précise pas non plus s’il la connaît ou non. De ce fait, le coefficient d’apprentissage et la force mémorielle n’évoluent pas. Sixième rendu de l’élément audiovisuel :
Lors de l’apparition suivante de l’entité nommée, à t+7j, le taux de connaissance est de .
Le taux de connaissance est augmenté de . Le taux de connaissance est donc de 0.31974551 (soit environ 0.32).
Selon une variante, le taux de connaissance continue donc à augmenter, au fil des successions d’évènements de type « Apparition » comme décrit ci-dessus, ou suite à un demande de rendu par l’utilisateur (évènement Showdef), ou à un évènement « IKnow dans certains modes de réalisation) jusqu’à devenir supérieur à la première valeur, où le coefficient d’apprentissage augmente à nouveau de 20% (faisant ainsi varier également la force mémorielle).
Selon une autre variante ; après une succession de plusieurs évènements de type Apparition (par exemple 3 ici) ,le coefficient de facilité d’apprentissage peut être augmenté. En effet, plus le nombre de répétitions des rendus de l’élément augmente, plus l’utilisateur a de chances d’avoir prêté attention, lors d’au moins un de ces rendus à l’élément (augmentant donc ainsi sa facilité d’apprentissage come expliqué plus haut).
L’invention porte également sur une installation 100 de fabrication de bandage 1, ladite installation 100 comprenant : - un noyau 10 qui présente une surface de réception 11 de forme toroïdale qui est centrée sur un axe central X10 et qui comprend une zone sommitale 12 destinée à recevoir des composants du sommet 2 du bandage 1, et, de part et d’autre axialement de ladite zone sommitale 12, une première zone latérale 13 destinée à recevoir des composants d’un premier flanc 6 et d’un premier talon 4 du bandage, ainsi qu’une seconde zone latérale 14 opposée axialement à la première zone latérale 13 et destinée à recevoir des composants d’un second flanc 7 et d’un second talon 5 du bandage, - au moins une tête de pose 20 agencée pour pouvoir poser les uns après les autres sur la surface de réception 11 du noyau une pluralité de renforts dits « renforts de carcasse » 21, 22 qui s’étendent chacun depuis une position de départ 21A, 22A, située dans la première zone latérale 13, jusqu’à une position d’arrivée 21B, 22B, située dans la seconde zone latérale 14, en passant par la zone sommitale 12, ladite tête de pose 20 étant montée basculante autour d’un axe dit « axe de roulis » Y20 qui est orthogonal à l’axe central X10.
Ledit axe de roulis Y20 est plus préférentiellement contenu dans un plan dit « plan médian » qui est normal à l’axe central X10 et qui se situe à mi-distance de la largeur axiale W11 de la surface de réception 11, et qui correspond de préférence au plan équatorial P_EQ du bandage 1 fabriqué sur le noyau 10.
Le noyau 10 est monté en rotation autour de son axe central X10 sur un support 38.
L’axe central X10 est de préférence horizontal.
Selon l’invention, l’installation 100 comprend des organes de réglage 40, 41 conçus pour placer la tête de pose 20 dans au moins une configuration selon laquelle l’axe de roulis Y20 est orienté de telle sorte que la trajectoire, dite « trajectoire de pose » T1, T2, que ladite tête de pose 20 décrit en basculant autour de l’axe de roulis Y20 pour relier la position de départ 21A, 22A de chaque renfort de carcasse 21, 22 à la position d’arrivée 21B, 22B dudit renfort de carcasse, est contenue dans un plan dit « plan de pose » P1, P2 qui est parallèle à l’axe central X0 et distant de l’axe central X10, de sorte que ladite trajectoire de pose T1, T2 suit, en vis-à-vis de la zone sommitale 12 du noyau, un plan radial PR1, PR2 contenant l’axe central tandis que, en projection orthogonale dans un plan de référence P0 normal à l’axe central X10, cette même trajectoire de pose T1, T2 présente, dans les première et seconde zones latérales 13, 14 du noyau 10, par rapport audit plan radial PR1, PR2 contenant l’axe central, un angle d’inclinaison A1, A2 non nul.
De préférence, les organes de réglage 40, 41 sont agencés de manière à pouvoir faire passer alternativement la tête de pose 20 : - d’une première configuration (figures 4, 5 et 6), à laquelle correspond un premier angle d’inclinaison A1 du plan de pose P1, et qui permet à la tête de pose 20 de poser une première série de renforts de carcasse 21 qui sont orientés selon ledit premier angle d’inclinaison A1 dans les première et seconde zones latérales 13, 14 du noyau 10 et qui sont orientés selon des plans radiaux PR1 dans la zone sommitale 12, - à une seconde configuration ( ), à laquelle correspond un second angle d’inclinaison A2 du plan de pose P2, de signe opposé au premier angle d’inclinaison A1, et qui permet à la tête de pose 20 de poser, par-dessus la première série de renforts de carcasse 21, une seconde série de renforts de carcasse 22, qui sont orientés selon le second angle d’inclinaison A2 dans les première et seconde zones latérales 13, 14 du noyau de sorte à se croiser avec les renforts de carcasse 21 de la première série dans lesdites première et seconde zones latérales 13, 14 du noyau 10, et qui sont orientés selon des plans radiaux PR2, parallèlement aux renforts de carcasse 21 de la première série, dans la zone sommitale 12 du noyau 10, tel que cela est illustré notamment sur la .
De préférence, tel que cela est visible sur les figures 4, 6 et 7, les organes de réglage 40, 41 comprennent : - un chariot 40 de réglage en translation, qui permet de déplacer la tête de pose 20, ici plus particulièrement le corps de pose 30, en translation T30 rectiligne par rapport au noyau 10, et plus globalement par rapport au support 38, selon une direction orthogonale à l’axe central X10, ici par exemple selon une direction verticale matérialisée par un mât vertical 42 pourvu d’un ou plusieurs rails guidant ledit chariot 40, - et/ou un berceau 41 qui permet de faire basculer la tête de pose 20, ici plus particulièrement le corps de pose 30, en tangage R_X30 autour d’un axe auxiliaire de tangage X30 qui est parallèle à l’axe central X10 et distant dudit axe central X10.
De préférence, le berceau 41 est embarqué sur le chariot 40.
Avantageusement, les organes de réglage 40, 41 permettent de reconfigurer la tête de pose 20, et plus particulièrement la position et l’orientation dans l’espace du corps de pose 30 et donc de ladite tête de pose 20, par rapport au support 38 et donc par rapport à l’axe central X10 du noyau 10, en fonction de l’angle d’inclinaison A1, A2 souhaité pour la pose des renforts de carcasse 21, 22 considérés.
De préférence, l’installation 100 comprend une unité de commande permettant de configurer automatiquement la tête de pose 20 en fonction, notamment, d’une consigne d’angle d’inclinaison A1, A2. L’unité de commande permettra de préférence de piloter à cet effet des moteurs, de préférence des moteurs électriques, qui actionnent les organes de réglage 40, 41. L’unité de commande pourra notamment comprendre un sélecteur pour commander la commutation de la première configuration à la seconde configuration et réciproquement, la commutation de la seconde configuration à la première configuration.
Par ailleurs, l’installation 100 comprend de préférence également des organes de positionnement 43, 44 qui permettent de positionner la tête de pose 20 à la distance radiale voulue et à la position axiale voulue par rapport à l’axe central X10 du noyau 10.
Ces organes de positionnement 43, 44 pourront être formés par au moins une table de translation horizontale 43, de préférence orientée orthogonalement à l’axe central X10, voire, en variante, par deux tables de translation horizontales 43, 44 croisées, orientées l’une parallèlement à l’axe central X10 pour assurer le positionnement axial, et l’autre orthogonalement audit axe central X10 pour assurer le positionnement radial. Le mât 42 vertical est de préférence embarqué sur ladite table de translation ou, respectivement, sur lesdites tables de translation croisées.
Ces organes de positionnement 43, 44 seront de préférence motorisés, préférentiellement par des moteurs électriques, et pilotés par l’unité de commande susmentionnée.
Par ailleurs, l’installation 100 comprend de préférence une unité de commande (le cas échéant la même unité de commande que celle déjà mentionnée plus haut) pourvue d’un séquenceur qui est agencé pour faire exécuter automatiquement, et répéter autant de fois que nécessaire pour couvrir un tour complet du noyau 10 autour de l’axe central X10, une séquence dite « séquence élémentaire » qui comprend : - une phase de positionnement au cours de laquelle le séquenceur positionne la tête de pose 20 en vis-à-vis d’une position de départ 21A, 22A d’un renfort de carcasse 21, 22 à poser, dans un secteur angulaire prédéfini du noyau 10 autour de l’axe central X10, - puis une phase de pose au cours de laquelle le séquenceur provoque le basculement de la tête de pose 20 en roulis R_Y20 autour de l’axe de roulis Y20, tandis que le noyau 10 est fixe en rotation autour de son axe central X10, de manière à poser un renfort de carcasse 21, 22 dans le secteur angulaire considéré en suivant la trajectoire de pose T1, T2 contenue dans le plan de pose P1, P2 choisi, parallèle à l’axe central X10 et distant dudit axe central X10, - puis une phase d’incrémentation, au cours de laquelle le séquenceur incrémente la position angulaire du noyau 10 autour de son axe central X10 d’une valeur d’incrément qui est définie en fonction de, et de préférence égale à, un pas de répétition K1, K2 choisi selon lequel on souhaite répartir les renforts de carcasse 21, 22 autour de l’axe central X10, puis le séquenceur immobilise le noyau 10 dans ladite position angulaire, de sorte que le noyau 10 présente, en vis-à-vis de la tête de pose, un nouveau secteur angulaire dans lequel il est possible de poser, lors de la séquence élémentaire suivante, un autre renfort de carcasse 21, 22 en conservant le plan de pose P1, P2 choisi.
Avantageusement, les organes de réglage 40, 41 permettent de conserver un réglage fixe du corps de pose 30, et donc de la configuration de la tête de pose 20, par rapport au bâti de l’installation et à l’axe central du noyau X10, pendant toute la pose d’une même série de renforts de carcasse 21, 22, tandis que le noyau 10 tourne pas à pas, entre chaque pose d’un nouveau renfort de carcasse 21, 22 par basculement du balancier 32.
La matrice électronique de commande peut correspondre à une matrice active de transistors. Dans ce cas, la commande de chacune des régions de l’élément matriciel de polarisation est assurée par un transistor, par exemple de type TFT (« Thin Film Transistor » en anglais, ou transistor en couches minces). En variante, la matrice électronique de commande peut correspondre à une matrice passive formée de grille de fils conducteurs.
Le polariseur, l’élément matriciel de polarisation et l’analyseur peuvent être configurés pour polariser la lumière dans l’ensemble d’une gamme de longueurs d’onde comprises entre 400 nm et 1100 nm. Ainsi, l’ombre simulée par le dispositif s’applique également à une partie de la lumière dans le domaine infrarouge. Dans cette configuration, le polariseur et l’analyseur peuvent être par exemple de type à grille métallique ou à base de polymère.
Le dispositif de simulation d’ombrage peut comporter en outre une source lumineuse configurée pour illuminer la face d’entrée du dispositif de projection d’ombre. De manière avantageuse, la source lumineuse peut être configurée pour émettre une lumière conforme au spectre solaire AM 1.5 et/ou avec une puissance de 1000 W/m².
Le dispositif de simulation d’ombrage peut comporter en outre un deuxième support configuré pour supporter le dispositif de projection d’ombre.
Dans ce cas, le premier support et le deuxième support peuvent être configurés tels que la distance entre eux soit ajustable.
Le dispositif de simulation d’ombrage peut comporter en outre un dispositif de mesure courant – tension configuré pour mesurer la caractéristique courant - tension du panneau photovoltaïque.
L’invention concerne également un procédé de caractérisation d’au moins un panneau photovoltaïque, comportant au moins les étapes suivantes : - disposer le panneau photovoltaïque sur le premier support d’un dispositif de simulation d’ombrage tel que décrit ci-dessus ; - projection dynamique ou statique d’une image lumineuse incluant une ombre depuis le dispositif de projection d’ombre du dispositif de simulation d’ombrage sur le panneau photovoltaïque ; - mesure de la caractéristique courant – tension du panneau photovoltaïque par le dispositif de mesure courant – tension du dispositif de simulation d’ombrage, simultanément à la projection de l’image lumineuse sur le panneau photovoltaïque.
Une projection de l’image lumineuse incluant l’ombre est qualifiée de statique lorsque l’intensité, la forme et la position de l’ombre ne changent pas en fonction du temps. Une projection de l’image lumineuse incluant l’ombre est qualifiée de dynamique lorsque l’intensité et/ou la forme et/ou la position de l’ombre change en fonction du temps lors de la projection sur le panneau photovoltaïque.
représentent schématiquement un dispositif de simulation d’ombrage, objet de la présente invention, selon un mode de réalisation particulier ;
représente schématiquement une partie des éléments d’un dispositif de simulation d’ombrage, objet de la présente invention, selon un mode de réalisation particulier.
En variante, la benne peut également comprendre un poussoir dont un racleur est mobile dans la benne depuis l’extrémité avant vers l’extrémité arrière pour racler le corps longitudinal et extraire tout le contenu par l’extrémité arrière.
Le volet arrière s’étendant sur toute la hauteur du corps longitudinal, il est nécessaire de disposer d’un espace important pour permettre le passage du volet arrière de sa position de fermeture à sa position d’ouverture.
Pour faciliter la manœuvre du volet, notamment pour permettre son déplacement en position d’ouverture depuis sa position de fermeture, des volets arrière en deux parties ont été conçus.
De tels volets arrière comprennent ainsi une partie supérieure et une partie inférieure articulées à rotation l’une par rapport à l’autre, la partie supérieure étant montée à rotation sur un bord supérieur du corps longitudinal de la benne.
Lorsque le volet arrière est pivoté jusqu’à sa position d’ouverture, la partie inférieure pivote par rapport à la partie supérieure par simple gravité et conserve une orientation sensiblement verticale de sorte à limiter l’encombrement du volet et donc l’espace nécessaire à son pivotement.
Cependant, de tels volets arrière ne sont pas sans inconvénients.
En effet, pour certaines utilisations particulières, seulement une petite quantité de matériau doit pouvoir être extraite de la benne.
A titre d’exemple, pour les opérations de salage de chaussées, des épandeurs peuvent être fixés à la benne et être alimentés par un mélange de sable et de sel contenu dans la benne.
Pour cela, des volets arrière en une seule partie et comprenant une trappe et des moyens d’accrochage d’épandeurs sont utilisés.
Ainsi, entre deux utilisations différentes, par exemple la livraison de terre et le salage, le volet arrière de la benne doit être changé.
Un tel changement de volet arrière peut donc demander un temps important et des ressources importantes à cause du poids et de l’encombrement des volets arrière.
De plus, l’espace de stockage alloué aux volets doit être important, ce qui engendre un coût d’exploitation non négligeable.
En outre, le montage d’un volet arrière sur le corps longitudinal nécessite l’utilisation d’outils, notamment des clés et des boulons. Il existe donc un risque de perte de ces outils et leur utilisation requiert une force importante étant donné les dimensions des bennes et donc des boulons.
Plus précisément, l’invention a pour objectif de proposer un volet arrière de benne qui soit facilement adaptable à différentes utilisations.
L’invention a également pour objectif de fournir un tel volet arrière dont l’adaptation à différentes utilisations ne nécessite pas l’usage d’outils.
L’invention a notamment pour but de faciliter la réalisation de couches minces notamment sur les surfaces comportant au moins une zone ayant une forte inclinaison locale.
A cet effet, on prévoit un procédé de réalisation d’une couche mince de matériau sur une surface d’un substrat, le procédé comprenant les étapes de : maintenir le substrat sur un support pour qu’au moins une portion de la surface soit orientée vers une source de particules de matériau, projeter les particules de matériau depuis la source de particules de matériau, déplacer le support sur une trajectoire fermée autour d’un premier axe de rotation, faire pivoter le substrat sur lui-même autour d’un deuxième axe de rotation correspondant à un axe de symétrie de la surface du substrat. Selon l’invention, le procédé comprend l’étape de déplacer le support entre deux positions extrêmes sur une trajectoire en arc de cercle autour d’un troisième axe de rotation parallèle à une direction localement tangentielle à la trajectoire fermée pour exposer à une projection directe des particules de matériau différentes portions de la surface du substrat pendant un temps d’exposition dépendant de l’épaisseur de matériau souhaitée sur lesdites portions de surface.
Ainsi, on ajoute une troisième rotation aux deux existantes. Cette troisième rotation étant réalisée autour d’un axe sensiblement tangentiel à la trajectoire fermée, elle permet d’exposer à la source, autrement dit à la projection des particules de matériau, des portions de surface qui seraient difficilement atteignables par les particules de matériau avec les procédés de l’art antérieur. On comprend que l’épaisseur du dépôt de matériau sur une portion de surface est proportionnelle au temps pendant lequel cette portion de surface est exposée aux particules de matériau projetées. Ce temps d’exposition dépend de la vitesse de déplacement du support de maintien. Cette vitesse peut ne pas être constante autour du troisième axe de rotation selon la forme de la surface, par exemple pour augmenter le temps d’exposition de la périphérie de la surface par rapport au temps d’exposition du centre de la surface de manière à uniformiser l’épaisseur de matériau déposée sur l’ensemble de la surface.
Le dispositif de dépôt d’un matériau sur une surface d’un substrat, comprend, un bâti délimitant une enceinte hermétique et, dans ladite enceinte hermétique, une source de matériau, et un support de maintien d’au moins une portion de la surface du substrat en regard de la source. Le support de maintien du substrat est monté sur le bâti pour être déplacé le long d’une trajectoire fermée autour d’un premier axe de rotation et pour pivoter sur lui-même autour d’un deuxième axe de rotation correspondant à un axe de symétrie de la surface du substrat. Le support de maintien est monté sur le bâti pour être déplacé entre deux positions extrêmes sur une trajectoire en arc de cercle autour d’un troisième axe de rotation parallèle à une direction tangentielle à la trajectoire fermée. Le dispositif comprend au moins un actionneur de déplacement du support de maintien et une unité électronique de commande de l’actionneur qui sont agencés pour déplacer le support de maintien de manière à orienter vers la source différentes portions de la surface du substrat à une vitesse dépendant de l’épaisseur de matériau souhaitée sur lesdites portions.
Optionnellement, le dispositif comprend un plateau monté sur le bâti pour tourner autour du premier axe de rotation, le plateau étant entrainé en rotation par un moteur formant au moins en partie l’actionneur, le support de maintien étant monté pour pivoter sur un basculeur monté mobile sur le plateau pour déplacer le support de maintien sur la trajectoire en arc de cercle.