INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Ainsi, le rapport pondéral de la quantité de (b) diol(s) ayant au moins une chaîne carbonée comprenant 3 atomes de carbone ou plus par rapport à la quantité (a) d’huile(s) peut être compris entre 4 et 20, de préférence entre 5 et 15 et, mieux encore, entre 6 et 10.
La composition selon la présente invention comprend (c) au moins un principe actif de soin de la peau. Un seul type de (c) principe actif pour le soin de la peau peut être utilisé, mais deux ou plusieurs types différents de (c) principes actifs pour le soin de la peau peuvent être utilisés en combinaison.
Il est préférable que le (c) principe actif de soin de la peau ait une valeur Log P de 4 ou moins, mieux encore comprise entre -4,5 et 4,0, et encore mieux encore entre -4,0 et 3,5.
Une valeur Log P est une valeur du logarithme décimal du coefficient apparent de partage octanol-1-ol/eau. Les valeurs Log p sont connues et sont déterminées par un essai standard qui détermine la concentration du composé (c) dans l’octanol-1 et l’eau. Le Log P peut être calculé selon la méthode décrite dans l’article de Meylan et Howard : Atom/Fragment contribution method for estimating octanol-water partition coefficients , J. Pharm. Sci., 84: 83-92, 1995. Cette valeur peut également être calculée à l’aide de nombreux progiciels disponibles dans le commerce, qui déterminent le log P en fonction de la structure d’une molécule. À titre d’exemple, il peut être fait mention du logiciel Epiwin de l’Agence américaine pour l’environnement.
Les techniques couramment utilisées pour mesurer simultanément la concentration d'un grand nombre de types différents d'ARN messagers sont connues de la personne du métier et il n’est pas nécessaire d’en donner le détail. A titre d’exemple, on citera notamment les puces à ADN, le CAGE, le SAGE et, plus récemment, le séquençage d'ARN à haut débit dit RNA-Seq.
Selon la présente description, l’expression des gènes au niveau transcriptionnel peut être mesurée par toute méthode connue de détection moléculaire. Ainsi, la variation de l’expression génique peut être mesurée par amplification via notamment une Reverse Transcription-Polymerase Chain Reaction ou RT-PCR, par séquençage (de préférence par séquençage haut débit) ou par des techniques d’hybridation (par exemple avec des micropuces d’hybridation ou par des techniques du type NanoString® nCounter®). Toutes ces méthodes sont également bien connues de la personne du métier et il n’est pas nécessaire de les détailler ici.
Selon un mode de réalisation particulier, la détermination de l’expression des gènes peut être réalisée de la manière suivante : (1) extraction des ARN totaux d'un échantillon sanguin ou des PBMC et réalisation d’une étape de transcription inverse afin d'obtenir les différents ADN complémentaires des différents ARN messagers initialement présents dans l'échantillon ou les PBMC (ou ADNc), (2) amplification spécifique des ADNc. Dans ce cas, le réactif spécifique utilisé comprend au moins une amorce d’amplification spécifique du gène. Cette étape peut être réalisée par une réaction d’amplification de type PCR ou par tout autre technique d’amplification appropriée, (3) détermination de l’expression du gène en quantifiant les ADNc.
Selon un mode de réalisation préféré, la mesure de l’expression génique est réalisée par RT-PCR, de préférence RT-PCR quantitative ou semi-quantitative, ou par PCR nichée également appelée « Nested » PCR, par exemple en utilisant la technologie FilmArray® (Poritz et al. 2011) ou la plateforme Biomark™ de Fluidigm. Selon ce mode de réalisation, l’expression est mesurée au niveau des transcrits ARNm des gènes cibles.
La personne du métier est tout en fait en mesure de déterminer les séquences des amorces ou couples d’amorces nécessaires à l’amplification des transcrits des gènes cibles, et éventuellement des gènes cibles additionnels définis plus loin dans la description, pour déterminer leurs niveaux d’expressions respectifs. En effet, de nombreux outils sont disponibles, par exemple Geneious ou Primer 3, lesdites séquences pouvant ensuite être ajustées si besoin par la personne du métier.
La mesure du niveau d’expression permet de déterminer la quantité des transcrits dans l’échantillon biologique ou également d’en donner une valeur dérivée.
Selon un mode de réalisation particulier, le niveau d’expression des gènes cibles de la signature est une valeur dérivée ou normalisée de la quantité des transcrits, notamment ARNm, desdits gènes cibles.
Selon un mode de réalisation particulier, l’expression génique est normalisée par rapport à l’expression d’un ou plusieurs gènes de ménage (ou gènes de référence) selon les méthodes connues de la personne du métier. Ainsi, l’expression est normalisée en utilisant un ou plusieurs des gènes de ménage suivants : DECR1 (localisation chromosomique : chr8, 90001352-90053633), HPRT1 (localisation chromosomique: chrX, 134452842-134520513) et PPIB (localisation chromosomique: chr15:64155812-64163205), RPLP0 (localisation chromosomique : chr12 , 120196699-120201111), PPIA (localisation chromosomique : chr7 , 44795960-44803117), GLYR1 (localisation chromosomique : chr16 , 4803203-4847288), RANBP3 (localisation chromosomique : chr19 , 5916139-5978140), B2M (localisation chromosomique : chr15, 44711492-44718145), TBP (localisation chromosomique : chr6, 170554369-170572859), GAPDH (localisation chromosomique : chr12, 6534517-6538371) et ACTB (localisation chromosomique : chr14 , 5527148-5530601). Les localisations chromosomiques sont données selon le GRCh38/hg38. De préférence, l’expression est normalisée en utilisant un ou plusieurs gènes de ménage choisis parmi : DECR1, HPRT1, PPIB, GAPDH, ACTB et leurs combinaisons, de préférence encore, choisis parmi DECR1, HPRT1, PPIB et leurs combinaisons.
Dans un tel cas, le niveau de référence utilisé est également normalisé au préalable, de la même manière. La normalisation, que ce soit pour le niveau de référence ou pour le niveau de transcrits de l’échantillon biologique à tester, est réalisée avant la comparaison, notamment avant le calcul d’un rapport entre le niveau de transcrits dudit échantillon à tester et le niveau de référence. Lorsqu’une valeur seuil différente d’un niveau de référence est utilisée pour émettre une conclusion, il pourra être tenu compte de cette normalisation, pour le choix de la valeur seuil.
Dans le cas où le niveau de(s) transcrits des gènes est normalisé par rapport au niveau de transcrits d’un ou plusieurs gènes de ménage, bien entendu, cela implique que la présente méthode inclut la détermination du niveau de transcrits du ou des gènes de ménage utilisé(s) pour la normalisation.
D’une manière générale, selon la méthode de la présente invention, et quels que soient ses modes de réalisations, le niveau d’expression d’un gène cible (de préférence l’expression normalisée) dans l’échantillon biologique du sujet est comparé à une valeur d’expression prédéterminée de ce même gène (de préférence l’expression normalisée) dans un échantillon biologique de référence. Cette comparaison permet d’obtenir la variation de l’expression dudit gène cible mesurée selon la présente méthode.
Pour un gène cible donné, la valeur d’expression de référence correspond à un niveau d’expression de transcrits dudit gène obtenu à partir d’un échantillon biologique de référence issu d’un sujet ayant une infection de nature déterminée. L’échantillon biologique de référence est de même nature que l’échantillon biologique à tester ou tout du moins d’une nature compatible pour constituer une référence quant à la détermination du niveau d’expression des gènes cibles. Avantageusement, et notamment pour les modes de réalisation ci-après, la valeur de référence pour un gène donné correspond à la moyenne du niveau de transcrits ARNm dudit gène obtenue à partir d’échantillons biologiques de références issus d’une population de sujets présentant une infection.
Au sens de la présente description, l’expression « valeur de référence » ou « valeur de référence prédéterminée », est synonyme des expressions « valeur contrôle » ou « valeur seuil », et sert de point de comparaison pour déterminer si le niveau d’expression d’un gène cible est diminué ou augmenté.
Selon un mode de réalisation particulier, la valeur de référence des gènes cibles correspond au niveau d’expression des transcrits ARNm desdits gènes obtenus à partir d’un échantillon biologique de référence issu d’un sujet ayant une infection bactérienne.
Selon un mode de réalisation particulier, la valeur de référence des gènes cibles correspond au niveau d’expression des transcrits ARNm desdits gènes obtenus à partir d’un échantillon biologique de référence issu d’un sujet ayant une infection virale.
La comparaison peut être effectuée par toutes méthodes connues de la personne du métier et peut par exemple impliquer le calcul d’un rapport ou d’une différence. Avantageusement, dans le cadre de la présente méthode, la(les) comparaison(s) et l’émission d’une conclusion quant à la nature de l’infection chez le sujet dont est issu l’échantillon biologique, est effectuée par une technique automatisée, réalisée par un ordinateur ou assistée par ordinateur.
La présence des structures de diffraction 119 permet, dans chaque pixel, d’améliorer la sensibilité à la polarisation du pixel, c’est à dire le rendement quantique du pixel éclairé selon la polarisation du pixel. Les structures de diffraction 119 permettent en outre d’augmenter le coefficient d’extinction ou contraste des pixels, c’est à dire, dans chaque pixel, le rapport entre le rendement quantique du pixel éclairé selon la polarisation du pixel et le rendement quantique du pixel éclairé selon la polarisation orthogonale à la polarisation du pixel.
Les structures de diffraction 119 sont par exemple fortement asymétriques pour favoriser la diffraction de la lumière selon la polarisation du pixel par rapport aux autres polarisations.
Le choix des motifs et le dimensionnement des structures de diffraction 119 peut être réalisé au moyen d’outils de simulation électromagnétiques.
La illustre schématiquement un exemple de réalisation des structures de diffraction 119 des pixels P du macropixel M de la . Dans cet exemple, dans chaque pixel, la structure de polarisation 119 est constituée de tranchées parallèles aux barres métalliques de la structure de polarisation 111 du pixel, s’étendant verticalement dans le substrat 101 à partir de la face supérieure du substrat 101.
On notera toutefois que les structures de polarisation 111 et les structures de diffraction 119 peuvent être différentes en termes de dessin et de matériaux, et n’exploitent pas les mêmes principes physiques. En particulier, le rôle des structures de polarisation 111 est de transmettre majoritairement la polarisation principale du pixel et d’absorber ou réfléchir les autres polarisations, tandis que le rôle de la structure de diffraction 119 est de diffracter plus fortement la polarisation principale du pixel par rapport aux autres polarisations.
Il en résulte que les structures 111 et 119 d’un même pixel P n’ont pas nécessairement le même axe principal et leurs orientations respectives peuvent dépendre de paramètres comme la longueur d’onde, le taux d’ouverture et/ou la taille du pixel.
Ainsi, à titre de variante, non représentée, chaque structure de diffraction 119 peut être constituée de tranchées orthogonales aux barres métalliques de la structure de polarisation 111 du pixel.
On notera en outre que les dimensions latérales et la période de répétition des tranchées des structures de diffraction 119 ne sont pas nécessairement identiques aux dimensions latérales et à la période de répétition des barres métalliques des structures de polarisation 111. De plus, la profondeur des tranchées des structures de diffraction peut être différente de la hauteur des barres métalliques des structures de polarisation.
Dans l’exemple considéré ci-dessus dans lequel chaque macropixel M comprend plusieurs pixels P adaptés à mesurer respectivement des polarisations linéaires différentes, les structures de polarisation 111 des différents pixels ont par exemple le même motif, tourné d’un angle θ égal à l’angle formé entre la direction de polarisation à mesurer et une direction de référence. De façon similaire, les structures de diffraction 119 des différents pixels ont par exemple le même motif, également tourné de l’angle θ.
Les figures 4A à 4I sont des vues en coupe illustrant des étapes successives d’un exemple d’un procédé de fabrication du capteur 100 de la .
La illustre une structure intermédiaire à l’issue d’une étape de formation des photodétecteurs 107 dans le substrat 101, du côté de la face inférieure du substrat, puis d’une étape de formation de l’empilement d’interconnexion 105 sur la face inférieure du substrat. Des transistors de contrôle et/ou de lecture, non détaillés sur les figures, peuvent en outre être formés dans et sur la face inférieure du substrat, avant la réalisation de l’empilement d’interconnexion 105.
Dans l’exemple de la , après la formation des photodétecteurs 107 et de l’empilement d’interconnexion 105, le substrat 101 est aminci par sa face arrière, c’est à dire sa face supérieure dans l’orientation de la .
Avant l’étape d’amincissement, un substrat 401, servant de poignée de support, est fixé, par sa face supérieure, à la face inférieure de l’empilement d’interconnexion 105.
On notera que sur les vues en coupe des figures 4A à 4I, les murs 109 d’isolation latérale des pixels n’ont pas été représentés. Les murs 109 peuvent être formés du côté de la face avant du substrat 101, avant la formation de l’empilement d’interconnexion 105, ou par la face arrière du substrat 101, après l’étape d’amincissement du substrat.
La illustre la structure obtenue à l’issue d’une étape de gravure de tranchées localisées dans le substrat 101, du côté de la face arrière du substrat 101, pour former les structures de diffraction 119 des pixels. Les tranchées gravées à cette étape ont par exemple une profondeur comprise entre 50 et 500 nm.
La illustre la structure obtenue à l’issue d’une étape de dépôt d’une couche de passivation 403, par exemple en un matériau diélectrique, sur et en contact avec la face supérieure du substrat 102 à l’issue de l’étape de gravure de la . La couche 403 est par exemple déposée de façon continue et avec une épaisseur sensiblement uniforme sur toute la surface supérieure de la structure de la . La couche 403 est par exemple déposée par une méthode de dépôt conforme. L’épaisseur de la couche 403 est par exemple relativement faible de façon que la couche 403 ne comble pas entièrement les tranchées. A titre d’exemple, l’épaisseur de la couche 403 est comprise entre 1 et 20 nm, par exemple entre 1 et 10 nm. La couche 403 est par exemple en un oxyde chargé électriquement, par exemple de l’alumine (Al 2 O 3 ) ou de l’oxyde d’hafnium (HfO 2 ).
Pour pallier ces inconvénients, un objet de l’invention est de proposer une solution permettant la géolocalisation d’un émetteur radiofréquence depuis un satellite « conventionnel », ne nécessitant pas le développement d’équipements spécifiques à la fonction de localisation. Cette solution a pour but d’accélérer le développement et l’intégration des satellites de communication, et d’en diminuer les coûts.
Pour cela, elle s’appuie sur deux éléments : la transmission vers le sol des signaux radiofréquence reçus à partir d’équipements analogiques ne nécessitant pas de développements spécifiques, la mise en œuvre au sol des traitements de goniométrie.
A cet effet, la présente invention décrit un satellite configuré pour opérer des communications radiofréquence à partir d’un ou plusieurs systèmes antennaires. Le satellite selon l’invention comprend en outre un dispositif dédié à la localisation d’équipements RF. Il comprend : une antenne de réception comprenant une pluralité N d’éléments rayonnants configurés pour recevoir un signal RF, des moyens analogiques de multiplexage fréquentiel des signaux reçus sur les N éléments rayonnants, configurés pour transposer lesdits signaux autour de fréquences centrales distinctes réparties dans une bande de fréquence donnée et pour les combiner, et des moyens d’émission du signal combiné vers une station satellitaire au sol pour la mise en œuvre de traitements de goniométrie.
Selon un mode de réalisation de l’invention, les moyens analogiques de multiplexage fréquentiel des N signaux reçus comprennent N filtres passe-bande analogiques ayant des bandes passantes sensiblement identiques et N moyens de transposition analogiques configurés pour transposer lesdits signaux de sorte que l’écart entre deux fréquences centrales de signaux transposés soit supérieur ou égal à la bande passante des N filtres passe-bande analogiques.
Avantageusement, le satellite est configuré de sorte que la bande de fréquences dans laquelle sont retransmis les signaux RF multiplexés fréquentiellement soit réservée pour ces retransmissions.
Selon un mode de réalisation du satellite selon l’invention, le nombre N d’éléments rayonnants de l’antenne de réception du dispositif dédié à la localisation d’équipements RF est inférieur à 10.
L’invention décrit également un système de communications satellitaires permettant la localisation d’un émetteur radiofréquence comprenant un satellite selon l’invention, et une ou plusieurs stations satellitaires au sol, le satellite et les stations étant configurés pour permettre ensemble la calibration du système par : l’émission d’un signal de calibration depuis une station satellitaire dont la position est connue, la réception dudit signal de calibration sur une pluralité d’éléments rayonnants, le multiplexage fréquentiel des signaux de calibration reçus sur lesdits éléments rayonnants et la réémission des signaux de calibration multiplexés fréquentiellement, par le dispositif dédié à la localisation d’équipements RF du satellite, la réception, par une station satellitaire, des signaux de calibration multiplexés fréquentiellement réémis par le satellite, le démultiplexage et la numérisation des signaux de calibration, et la mise en œuvre de traitements de goniométrie sur les signaux de calibration démultiplexés et numérisés, de manière à calculer : une direction d’arrivée du signal de calibration, une position de la station satellitaire émettant le signal de calibration, puis un écart de calibration entre la position connue de la station satellitaire émettant le signal de calibration et la position de la station satellitaire émettant le signal de calibration déterminée à l’aide des traitements de goniométrie puis pour permettre ensemble la détermination de la position d’un équipement RF émettant un signal interférent par : la réception d’un signal RF comprenant ledit signal interférent sur une pluralité d’éléments rayonnants, le multiplexage fréquentiel des signaux RF reçus par lesdits éléments rayonnants et la réémission des signaux RF multiplexés fréquentiellement, par le dispositif dédié à la localisation d’équipements RF du satellite, la réception, par une station satellitaire, des signaux RF multiplexés fréquentiellement émis par le satellite, le démultiplexage et la numérisation desdits signaux RF, la mise en œuvre d’un algorithme de goniométrie sur les signaux RF démultiplexés et numérisés de manière à déterminer une direction d’arrivée du signal interférent, le calcul d’une position de l’équipement RF émettant ledit signal interférent, et la correction de la position calculée par l’écart de calibration.
Enfin, l’invention porte sur un procédé de détermination de la position d’un équipement de radiofréquence dans un système de communications satellitaires comprenant un satellite tel que décrit précédemment, et une ou plusieurs stations satellitaires au sol. Le procédé comprend : une étape de calibration dudit système de communications satellitaires, par : une sous-étape d’émission d’un signal de calibration depuis une station satellitaire dont la position est connue, une sous-étape de réception du signal de calibration sur une pluralité d’éléments rayonnants, de multiplexage fréquentiel des signaux de calibration reçus sur lesdits éléments rayonnants et de réémission des signaux de calibration multiplexés fréquentiellement, par le dispositif dédié à la localisation d’équipements RF du satellite, une sous-étape de réception, par une station satellitaire, des signaux de calibration multiplexés fréquentiellement réémis par le satellite, une sous-étape de démultiplexage et de numérisation desdits signaux de calibration, et de mise en œuvre de traitements de goniométrie sur les signaux de calibration démultiplexés et numérisés, de manière à déterminer une direction d’arrivée du signal de calibration, une position de la station satellitaire émettant le signal de calibration, puis un écart de calibration entre la position connue de la station satellitaire émettant le signal de calibration et la position de la station satellitaire émettant le signal de calibration déterminée à l’aide des traitements de goniométrie ; une ou plusieurs étapes de détermination de la position d’un émetteur RF émettant un signal interférent, par : une sous-étape de réception d’un signal RF comprenant ledit signal interférent sur une pluralité d’éléments rayonnants, de multiplexage fréquentiel des signaux RF reçus par lesdits éléments rayonnants et de réémission des signaux RF multiplexés fréquentiellement, par le dispositif dédié à la localisation d’équipements RF du satellite, une sous-étape de réception, par une station satellitaire, des signaux RF multiplexés fréquentiellement émis par le satellite, une sous-étape de démultiplexage et de numérisation desdits signaux RF, puis de mise en œuvre de traitements de goniométrie sur les signaux RF démultiplexés et numérisés de manière à déterminer une direction d’arrivée du signal interférent, de calcul d’une position de l’équipement radiofréquence émettant ledit signal interférent, et de correction de la position calculée par l’écart de calibration.
La représente un exemple de système de transmissions satellitaires adapté pour la mise en œuvre de l’invention.
La représente un mode de réalisation d’un dispositif dédié à la localisation d’équipements RF embarqué sur un satellite de manière à mettre en œuvre de l’invention.
La est un diagramme synoptique représentant les étapes d’un procédé de localisation d’un équipement radiofréquence selon un mode de réalisation de l’invention.
La représente un exemple de système de transmissions satellitaires adapté pour la mise en œuvre de l’invention. Il comprend un satellite 101 configuré pour opérer des communications radiofréquence, comme par exemple un satellite diffusant de la télévision numérique, un satellite de téléphonie, un satellite d’observation, un satellite pour système de positionnement par satellite (GNSS), ou n’importe quel autre type de satellite. Le satellite peut indifféremment être géostationnaire ou défilant. Il peut par exemple être configuré pour émettre/recevoir dans la bande de fréquence C (de 3.4 GHz à 7.075 GHz), Ku (de 10.70 GHz à 12.75 GHz) et/ou Ka (de 20 GHz à 30 GHz).
Le satellite 101 est généralement commandé par une passerelle satellitaire telle que la station 102, à travers un lien bidirectionnel de Télécommande et Télémesure (TC/TM). Il est configuré pour recevoir/envoyer des données depuis/vers une ou plusieurs stations satellitaires, comme la station 102 et/ou d’autres stations au sol. Cette configuration correspond à un système satellitaire selon l’état de l’art, configuré pour opérer une ou plusieurs missions de communications, et des variations évidentes peuvent y être apportées, par exemple en opérant le lien de télécommande et le lien de télémesure depuis deux stations différentes.
Le système satellitaire selon l’invention se distingue de l’état de l’art en ce que le satellite 101 est en outre configuré pour permettre la localisation d’un équipement radiofréquence tel que l’émetteur 103, dont les émissions sont susceptibles de perturber celles du satellite, que ce soit volontairement ou involontairement. Il peut s’agir par exemple d’un émetteur mal orienté appartenant à un système de communications tiers, d’une station satellitaire du système dont les émissions ne sont pas maitrisées, ou d’un équipement spécifiquement conçu pour perturber la liaison montante vers le satellite (brouilleur).