INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
De préférence, la surface irrégulière comprend de multiples parties en saillie et de multiples rainures ; chacune des rainures est formée entre deux des parties en saillie adjacentes.
De préférence, la seconde surface de contact est une surface convexe, et une forme de la surface intérieure de la coque est en correspondance avec la surface convexe.
De préférence, chacun de l’au moins un tampon thermique est monté sur une surface de chacun de l’au moins un module d'élément de batterie par une structure de montage.
A titre d'exemple, en , la couche d’isolant de grille 232 est sur et en contact avec la couche semiconductrice 220 et la portion inférieure 230B de la région de grille 230 est sur et en contact avec la couche d’isolant de grille 232.
De part et d’autre de la région de grille 230, sur des parties de la couche de semiconducteur 220 non recouvertes par la portion inférieure 230B de la région de grille, et sur les flancs de la région de grille 230, le transistor 200 comprend une fine couche d’oxyde 234 de protection, par exemple une couche de SiO 2 . L’épaisseur de la fine couche d’oxyde est par exemple comprise entre 2 et 10 nm, voire entre 2 et 5 nm. Sur les flancs de la région de grille 230, la fine couche d’oxyde 234 de protection épouse la forme de ladite région de grille.
En outre, le transistor 200 comprend un espaceur isolant 236 qui vient revêtir les flancs de la région de grille 230 recouverte par la couche d’oxyde 234 et qui s’étend sur les parties de la couche de semiconducteur 220 recouvertes par la couche d’oxyde 234. L’espaceur isolant 236 est, par exemple, en un nitrure de silicium (SiN).
La , la , la , la , la et la sont des vues en coupe illustrant de façon partielle et schématique des étapes successives d'un exemple de procédé de fabrication d'un transistor MOSFET 200 selon le mode de réalisation de la .
La représente une structure de départ comportant une couche isolante enterrée 210, surmontée d’une couche semiconductrice 320. La structure de la comprend en outre une couche d’isolant de grille 332 sur la couche semiconductrice 320, et une couche conductrice de grille 330 sur la couche d’isolant de grille 332.
La couche conductrice de grille 330 est surmontée par une couche de masquage 302. La couche de masquage 302 recouvre partiellement la surface supérieure 330A de la couche conductrice de grille 330 pour une étape de gravure qui est détaillée ci-après en relation avec la .
La correspond à une structure obtenue à l'issue d'une étape de gravure de la couche conductrice de grille 330 de la structure illustrée en . Lors de cette étape, la couche conductrice de grille 330 est gravée, à partir de sa surface supérieure 330A, de sorte que seule la partie de la couche conductrice de grille 330 située sous la couche de masquage 302 subsiste, les parties de la couche conductrice de grille 330 non recouvertes par la couche de masquage 302 étant retirées.
L’étape de gravure est réalisée en au moins deux étapes consécutives : - une première étape de gravure anisotropique adaptée à graver la couche conductrice de grille 330 à partir de la surface supérieure 330A de ladite couche préférentiellement dans la direction verticale Z ; cette gravure est réalisée sur une profondeur H3A, correspondant à la hauteur de la portion supérieure 230A de la future région de grille 230 ; puis - une deuxième étape de gravure, moins anisotropique (ou plus isotropique) que la première étape de gravure, adaptée à graver le reste de la couche conductrice de grille 330 verticalement sur une profondeur H3B et latéralement sur une longueur L5 vers le centre de la future région de grille, formant la portion inférieure 230B de la région de grille 230.
Par exemple, la première étape de gravure est réalisée avec du dichlore (Cl 2 ) et du tétrafluorure de carbone (CF 4 ), par exemple pendant une durée comprise entre 10 et 70 secondes.
Par exemple, la deuxième étape de gravure est réalisée avec du bromure d’hydrogène (HBr), par exemple pendant une durée comprise entre 50 et 150 secondes.
La portion supérieure 230A a une longueur L3A supérieure à la longueur L3B de la portion inférieure 230B, de sorte que la portion supérieure déborde de part et d’autre au-dessus de la portion inférieure. La hauteur H3A de la portion supérieure 230A et la hauteur H3B de la portion inférieure 230B peuvent être définis en adaptant les conditions de gravure et la transition entre la première étape de gravure et la deuxième étape de gravure. La longueur L5 peut être modifiée en adaptant les conditions de la deuxième étape de gravure, par exemple afin de la rendre plus ou moins anisotropique.
A titre d'exemple, le procédé de gravure représenté comprend ensuite une troisième étape de gravure de la couche d’isolant de grille 332 pour, à l’issue de cette gravure, ne laisser que l’isolant de grille 232 sous la région de grille 230. Cette troisième étape de gravure est de préférence une gravure anisotropique adaptée à graver la couche d’isolant de grille 332 préférentiellement dans la direction verticale Z.
En variante, le procédé de gravure peut être adapté à graver le matériau de la couche conductrice de grille 330 sélectivement par rapport au matériau de la couche d’isolant de grille 332. La couche d'isolant de grille 332 peut alors jouer un rôle de barrière à la gravure de sorte que la gravure s’interrompt sur la face supérieure de la couche d'isolant de grille 332 (représentée en pontillés sur la ). Selon cette variante, à l’issue de l’étape de gravure, la couche d'isolant de grille 332 est encore présente, même dans les parties non recouvertes par la région de grille 230.
La correspond à une structure obtenue à l’issue : - d’une étape de formation d’une fine couche d’oxyde 334 de protection, par exemple une couche de SiO 2 , sur les flancs de la région de grille 230 et sur la couche semiconductrice 320, par exemple par une technique CVD ; sur les flancs de la région de grille 230, la fine couche d’oxyde 334 de protection épouse la forme de ladite région de grille ; et - d’une première étape d’implantation ionique pour former des régions de drain légèrement dopé (LDD) 328 dans la couche semiconductrice 320.
L’ordre de ces deux étapes peut être permuté.
La correspond à une structure obtenue à l’issue : - d’une étape de suppression de la couche de masquage 302 ; puis - d’une étape de formation d’une couche d’isolant 336 qui vient revêtir les flancs de la région de grille 230 recouverte par la couche d’oxyde 334 et qui s’étend sur les parties de la couche de semiconducteur 320 recouvertes par la couche d’oxyde 334.
Selon un exemple se rapportant à une autre variante de réalisation de la brique de l’invention susceptible d’être combinée avec les variantes de réalisation précédemment détaillées, l’épaisseur du relief 5 est comprise entre 2 et 5 millimètres par rapport à la surface de la paroi 4 qui porte le relief 5. De façon préférée, un tel relief 5 présente une épaisseur de l’ordre de 3 millimètres. Toutefois, il convient de garder à l’esprit que l’épaisseur de ce relief 5 est susceptible d’être ajustée en fonction du matériau qui constitue l’élément inséré et de la variabilité de dimensionnement susceptible d’affecter l’élément inséré. De même, l’épaisseur de ce relief 5 est susceptible d’être ajustée en fonction de l’éventuelle présence d’un relief 5 supplémentaire similaire positionné en vis-à-vis à l’intérieur du logement 3.
Selon un exemple se rapportant à une autre variante de réalisation de la brique de l’invention susceptible d’être combinée avec les variantes de réalisation précédemment détaillées, dans un plan en section sensiblement parallèle aux faces 2 opposées de la brique 1, le au moins un logement 3 traversant présente une forme sensiblement rectangulaire dont chacune des surfaces 4a, 4b en vis-à-vis de plus petite longueur comprend au moins un relief 5 positionné en vis-à-vis de son relief 5 homologue. A l’inverse d’autres formes notamment circulaire ou triangulaire, la forme rectangulaire en section du logement 3 présente l’avantage d’être adaptée à un format d’élément destiné à être inséré qui soit facile à produire. Par ailleurs, de façon préférée, la forme en section du logement 3 est sensiblement constante le long de l’épaisseur de la brique 1. Outre de permettre une insertion d’un élément dont la forme parallélépipèdique est plus simple à fabriquer, cette construction préférée présente également l’avantage d’être facilement réalisable dans le cadre d’une production de brique 1 par extrusion.
Selon un exemple se rapportant à une autre variante de réalisation de la brique de l’invention susceptible d’être combinée avec les variantes de réalisation précédemment détaillées, dans un plan en section sensiblement parallèle aux faces 2 opposées de la brique 1, le au moins un logement 3 traversant présente une forme sensiblement rectangulaire dont chacune des surfaces en vis-à-vis de plus grande longueur comprend au moins un relief positionné en vis-à-vis de son relief homologue.
Il convient de relever que le au moins un logement 3 traversant est susceptible de comprendre des reliefs 5 au niveau de plusieurs surfaces de la paroi intérieure 4 de ce même logement 3. De même, le au moins un logement 3 traversant est susceptible de comprendre plusieurs reliefs 5 au niveau d’une même surface de la paroi intérieure 4 de ce même logement 3.
Selon un exemple se rapportant à une autre variante de réalisation de la brique de l’invention susceptible d’être combinée avec les variantes de réalisation précédemment détaillées, le au moins un logement traversant 3 comprend au moins un isolant maintenu inséré à l’intérieur du logement 3 par au moins un relief 5 de la paroi intérieure 4 du logement 3. Aussi, l’élément inséré dans le logement correspond à un isolant. Cet isolant est ainsi maintenu dans un logement 3 de la brique 1 de façon à être positionné en compression entre au moins deux surfaces 4a, 4b opposées de la paroi intérieure 4 du logement 3 dont au moins une des deux surfaces 4a, 4b comprend au moins un relief 5 en appui contre la surface de l’isolant de façon à y exercer des contraintes de cisaillement.
Selon un exemple se rapportant à une variante particulière de la variante de réalisation précédemment détaillée, le au moins un isolant présente une propriété élastique autorisant une déformation en compression. Cette propriété permet ainsi une insertion de l’isolant dans un logement 3 de la brique 1 sous une forme comprimée ou écrasée dans un plan sensiblement perpendiculaire à l’axe traversant du logement 3, de sorte que, une fois en position à l’intérieur du logement 3, l’isolant reprend sa forme dilatée et appuie contre au moins deux surfaces 4a, 4b opposées du logement 3 dont au moins l’une d’entre elles comprend un relief 5.
Selon un exemple se rapportant à une variante particulière de la variante de réalisation précédemment détaillée, le au moins un isolant présente au moins une partie de sa composition d’origine biosourcée qui, outre son intérêt environnemental et renouvelable, est susceptible d’améliorer la qualité de l’air naturellement en circulation dans les logements 3 de la brique 1.
Selon un exemple se rapportant à une variante particulière de la variante de réalisation précédemment détaillée, le au moins un isolant présente une composition comprenant au moins un matériau de type laine de bois ou fibre de bois. Toutefois, des matériaux complémentaires ou alternatifs sont également susceptibles d’être utilisés tels que la laine de mouton, la laine de chanvre, la laine de coton, la ouate de cellulose issue du papier, la plume de canard mais encore le liège, la paille, le lin, voire même le textile recyclé. Il convient de relever que la majorité des isolants réalisés à partir de tels matériaux biosourcés présente l’avantage de propriétés élastiques autorisant leurs déformations en compression.
Bien entendu, l'invention n'est pas limitée aux modes de réalisation décrits et représentés au dessin annexé. Des modifications restent possibles, notamment du point de vue de la constitution des divers éléments ou par substitution d'équivalents techniques, sans sortir pour autant du domaine de protection de l'invention.
Dispositif de liaison pour panneaux plans de salle propre. La présente invention concerne le domaine des salles propres, indistinctement appelées salles blanches.
La présente invention peut être mise en œuvre autant pour les salles qui sont en dépression, afin que les particules en suspension dans la salle ne puissent pas sortir de ladite salle, que pour les salles qui sont en surpression afin que les particules de l’extérieur ne puissent entrer dans ladite salle.
Ainsi une salle propre est un ensemble d’au moins une pièce où la concentration en particules est maîtrisée afin de minimiser l'introduction, la génération ou la rétention de particules à l'intérieur.
Une salle propre peut comprendre un système de traitement de l'air (filtration, maintien d'une surpression, maîtrise de la température et de l'hygrométrie, etc.) qui ne sera pas décrit ici, et vise la maîtrise de la contamination, pour une activité industrielle de production, de recherche, de soins, etc.
En fonction de la quantité de poussière par unité de volume, il est courant aujourd’hui de classer les salles propres selon leur propreté particulaire, désignée par un numéro de classification ISO N (avec N = 1 à 9).
La présente invention peut être mise en œuvre quelle que soit la classe ISO N.
Une salle blanche est construite à partir de panneaux sandwich plans. Un panneau classique comprend une âme, généralement isolante, par exemple en mousse de polyuréthane, en laine de roche ou encore en aluminium alvéolaire en nid d’abeille, prise en sandwich entre deux couches de parement, typiquement en métal.
Selon l’un des aspects de l’invention, un chemin de liquide provenant du réservoir de liquide et un chemin d’air provenant du réservoir d’air se rejoignent au sein d’un tuyau commun, en amont de la buse de projection de sorte que cette buse de projection puisse être alimentée sélectivement par de l’air et/ou du liquide.
Selon l’un des aspects de l’invention, une vanne anti-retour est placée sur le chemin d’air pour empêcher du liquide d’être refoulé dans le réservoir d’air.
Selon l’un des aspects de l’invention, une vanne anti-retour est placée sur le chemin de liquide pour empêcher de l’air d’être refoulé dans le réservoir de liquide.
Selon un autre des aspects de l’invention, la buse de projection est placée à distance des extrémités du balai, par exemple à un emplacement du balai qui est éloigné de ses extrémités à plus de 5% ou plus de 10% de la longueur totale du balai.
Selon l’un des aspects de l’invention, la buse est réalisée en matière plastique.
Selon l’un des aspects de l’invention, le dispositif optique est une caméra, notamment une caméra infrarouge, agencée pour détecter la présence de gouttes d’eau sur la vitre, de sorte à déclencher le fonctionnement du balai d’essuyage en cas de détection de gouttes d’eau.
Selon l’un des aspects de l’invention, l’appareil de mise en mouvement de l’air peut être un ventilateur, à la place du compresseur. Ce ventilateur est notamment à pales radiales.
Selon l’un des aspects de l’invention, le dispositif optique fait saillie de la vitre de sorte que la surface optique à nettoyer déborde de la vitre.
Ainsi le nettoyage de cette surface optique par un jet d’air n’endommage pas le dispositif optique à la différence, par exemple, du passage d’un balai sur le dispositif optique, passage qui est susceptible d’endommager le dispositif optique par abrasion car celui est débordant par rapport à la vitre. On évite également la génération de bruits indésirables par le passage du balai sur le dispositif optique débordant de la vitre, ou l’usure prématurée et le dépôt de matière caoutchouc provenant de la lame sur le dispositif optique.
L’invention a encore pour objet une buse de projection d‘air agencée pour être fixée sur un balai d’essuyage en vue de former un système de nettoyage tel que décrit plus haut.
L’invention a également pour objet un procédé de nettoyage d’une surface optique (3) d’un dispositif optique, ce procédé de nettoyage comprenant l’étape suivante: projeter un jet de fluide en direction de la surface optique à l’aide d’une buse de projection de fluide porté par un balai d’essuyage de la vitre, ce balai étant agencé pour essuyer une zone d’essuyage de la vitre distincte de la surface optique.
Selon l’un des aspects de l’invention, le procédé comporte l’étape suivante : commander la projection du jet de fluide entre une position angulaire de début de projection et une position angulaire de fin de projection.
Autrement dit, le jet de fluide, notamment d’air, n’est pas assuré pendant toute la phase de fonctionnement du balai d’essuyage, mais seulement pendant un laps de temps limité durant lequel la buse de projection se trouve au plus près de la surface optique à nettoyer.
Par exemple, la surface optique à nettoyer se trouve au plus proche de la buse lorsque le balai est dans une position angulaire de A degrés par rapport à une position de référence, et le jet d’air est déclenché entre une position angulaire de début de projection de (A- d) degrés et une position angulaire de fin de projection de (A+d) degrés, l’angle A étant par exemple de 75° ou 80° et l’angle d étant par exemple de l’ordre de 10° ou 5°.
Ainsi le jet d’air est déclenché par intermittence.
Selon l’un des aspects de l’invention, la détection de la position angulaire du balai est assurée par un détecteur de position angulaire disposé au niveau du moteur électrique du balai. Ce détecteur est par exemple du type à effet Hall.
De cette manière, le capteur radar 8 peut avantageusement être utilisé à la fois pour les fonctions de collision MD1 et MD2.
La illustre schématiquement un dispositif de détection 4 destiné à équiper un véhicule, tel que le véhicule 2 comme précédemment décrit en référence aux figures 1-7, selon un exemple de réalisation particulier et non limitatif de la présente invention. Le dispositif de détection 4 correspond par exemple à un dispositif embarqué dans le véhicule 2, par exemple un calculateur.
Le dispositif de détection 4 est par exemple configuré pour la mise en œuvre des opérations du processus de détection tel que précédemment décrit en regard des figures 1-7 et/ou des étapes du procédé décrit ci-après en regard de la . Des exemples d’un tel dispositif de détection comprennent, sans y être limités, un équipement électronique embarqué tel qu’un ordinateur de bord d’un véhicule, un calculateur électronique tel qu’une UCE (« Unité de Commande Electronique »), un téléphone intelligent (de l’anglais « smartphone »), une tablette, un ordinateur portable. Les éléments du dispositif détection 4, individuellement ou en combinaison, peuvent être intégrés dans un unique circuit intégré, dans plusieurs circuits intégrés, et/ou dans des composants discrets. Le dispositif de détection 4 peut être réalisé sous la forme de circuits électroniques ou de modules logiciels (ou informatiques) ou encore d’une combinaison de circuits électroniques et de modules logiciels.
Le dispositif de détection 4 comprend un (ou plusieurs) processeur(s) 40 configurés pour exécuter des instructions pour la réalisation des étapes du procédé (ou du processus) de détection et/ou pour l’exécution des instructions du ou des logiciels embarqués dans le dispositif de détection 4. Le processeur 40 (correspondant par exemple au processeur 20 de la ) peut inclure de la mémoire intégrée, une interface d’entrée/sortie, et différents circuits connus de l’homme du métier. Le dispositif de détection 4 comprend en outre au moins une mémoire 41 correspondant par exemple à une mémoire volatile et/ou non volatile et/ou comprend un dispositif de stockage mémoire qui peut comprendre de la mémoire volatile et/ou non volatile, telle que EEPROM, ROM, PROM, RAM, DRAM, SRAM, flash, disque magnétique ou optique.
Le code informatique du ou des logiciels embarqués comprenant les instructions à charger et exécuter par le processeur 40 est par exemple stocké sur la mémoire 41. La mémoire 41 peut constituer un support d’informations selon un mode de réalisation particulier en ce qu’elle comprend un programme d’ordinateur (par exemple PG1 en ) comportant des instructions pour la réalisation des étapes du procédé (ou du processus) de détection de l’invention.
Selon différents exemples de réalisation particuliers et non limitatifs, le dispositif de détection 4 est couplé en communication avec d’autres dispositifs ou systèmes similaires et/ou avec des dispositifs de communication, par exemple une TCU (de l’anglais « Telematic Control Unit » ou en français « Unité de Contrôle Télématique »), par exemple par l’intermédiaire d’un bus de communication ou au travers de ports d’entrée / sortie dédiés.
Selon un exemple de réalisation particulier et non limitatif, le dispositif de détection 4 comprend un bloc 42 d’éléments d’interface pour communiquer avec des dispositifs externes, par exemple un serveur distant ou le « cloud », ou le véhicule 2 lorsque le dispositif de détection 4 correspond à un téléphone intelligent ou une tablette par exemple. Les éléments d’interface du bloc 42 comprennent une ou plusieurs des interfaces suivantes :
Selon un autre exemple de réalisation particulier et non limitatif, le dispositif de détection 4 comprend une interface de communication 43 qui permet d’établir une communication avec d’autres dispositifs (tels que d’autres calculateurs du système embarqué ou des capteurs embarqués tel que le capteur d’obstacle 8) via un canal de communication 45. L’interface de communication 43 correspond par exemple à un transmetteur configuré pour transmettre et recevoir des informations et/ou des données via le canal de communication 45. L’interface de communication 43 correspond par exemple à un réseau filaire de type CAN (de l’anglais « Controller Area Network » ou en français « Réseau de contrôleurs »), CAN FD (de l’anglais « Controller Area Network Flexible Data-Rate » ou en français « Réseau de contrôleurs à débit de données flexible »), FlexRay (standardisé par la norme ISO 17458), Ethernet (standardisé par la norme ISO/IEC 802-3) ou LIN (de l’anglais « Local Interconnect Network », ou en français « Réseau interconnecté local »).
Le dispositif de détection 4 est par exemple couplé au capteur d’obstacle 8 et/ou aux moyens d’alerte 30, et le cas échéant aux moyens motorisés 32, via le bloc 42 d’éléments d’interface ou de l’interface de communication 43.
Selon un exemple de réalisation particulier et non limitatif, le dispositif de détection 4 peut fournir des signaux de sortie à un ou plusieurs dispositifs externes, tels qu’un écran d’affichage, tactile ou non, un ou des haut-parleurs et/ou d’autres périphériques (système de projection) via des interfaces de sortie respectives. Selon une variante, l’un ou l’autre des dispositifs externes est intégré au dispositif de détection 4.
La illustre un diagramme des différentes étapes d’un procédé de détection d’un véhicule, par exemple du véhicule 2 comme précédemment décrit (figures 1-8). Le procédé est par exemple mis en œuvre par le dispositif de détection 4 précédemment décrit, ce dispositif pouvant être embarqué dans le véhicule 2.
Dans une première étape 51, au moins un obstacle OB1 est détecté dans un cône de scrutation 10 du capteur radar 8 tandis que le volet arrière 6 est en position basse P1 et que le véhicule 2 réalise une manœuvre en marche arrière MV2.
Dans une deuxième étape 52, une position courante dudit au moins un obstacle OB1 est relativement à un bord arrière 12 du véhicule 2 est estimée tandis que le véhicule poursuit ladite manœuvre en marche arrière MV2 causant la sortie hors du cône de scrutation 10 dudit au moins un obstacle OB1.
Un aéronef à voilure tournante de type giravion comporte un rotor participant au moins partiellement à la sustentation de cet aéronef. Pour mettre en rotation un tel rotor, un giravion est muni d’une installation motrice comportant au moins un moteur. En outre, une boîte de transmission de puissance peut être interposée entre au moins un moteur et au moins un rotor. Une boîte de transmission de puissance comporte des éléments mobiles. Un système fluidique permet d’une part de lubrifier des zones de contact des éléments mobiles et, d’autre part, de les refroidir.