Procédé de dépôt sur un substrat métallique d’un revêtement continu d’oxyde d’aluminium par dépôt chimique sous pression et en température assisté par un chauffage en induction comprenant l’étape de synthèse solvothermale à partir d’un précurseur de l’oxyde d’aluminium dissout dans un mélange d’eau et de co-solvant chauffés par induction à une température comprise entre 400°C et 700°C et à une pression comprise entre 1 MPa et 25 MPa. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu’il comprend les étapes suivantes : a- introduction du substrat métallique à revêtir dans un réacteur de dépôt chimique sous pression et en température assisté par chauffage à induction ; b- introduction dans le réacteur du précurseur de l’oxyde d’aluminium préalablement dissout dans l’eau et du co-solvant ; c- mise en œuvre de la synthèse solvothermale à partir dudit précurseur de l’oxyde d’aluminium par chauffage par induction à une température comprise entre 400°C et 700°C et à une pression comprise entre 1 MPa et 25 MPa, avantageusement entre 6 MPa et 10 MPa, du précurseur de l’oxyde d’aluminium dissout dans le mélange d’eau et de co-solvant ; d- récupération du substrat revêtu d’un revêtement continu d’oxyde d’aluminium. Procédé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que le substrat métallique est en alliage de titane, avantageusement en alliage à base d’aluminure de titane. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que le co-solvant est choisi parmi les alcools, en particulier l’éthanol, l’azote, le dioxyde de carbone, l’argon et leurs mélanges, avantageusement il s’agit de l’azote. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que le procédé est un procédé semi-continu. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que l’oxyde d’aluminium du revêtement continu est un oxyde d’aluminium métastable, un oxyde d’aluminium alpha ou un mélange de ces oxydes, avantageusement un oxyde d’aluminium alpha. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 6 caractérisé en ce que la vitesse de dépôt est comprise entre 100 et 500nm/min, avantageusement elle est de 300nm/min. Dispositif (100) de dépôt d’un oxyde d’aluminium sur un substrat métallique (104) par la voie de dépôt chimique sous pression et en température comprenant : - une enceinte (102) délimitée par des parois formant un volume fermé (V), destinée à contenir un fluide sous pression et en température et dont le matériau des parois est transparent aux rayonnements électromagnétiques ; - un support (106) également transparent aux rayonnements électromagnétiques destiné à supporter le substrat métallique (104) situé à l’intérieur de l’enceinte ; - un dispositif de chauffage par induction (109) entourant l’extérieure de l’enceinte (102) de façon à pouvoir chauffer le substrat métallique (104) placé sur le support (106) - une entrée (116) située dans la partie supérieure de l’enceinte (102) et configurée pour permettre l’introduction du matériau précurseur préalablement dissout dans l’eau à l’intérieur de l’enceinte (102) ; - une entrée (120) située dans la partie inférieure de l’enceinte (102) et configurée pour permettre l’introduction d’un fluide à l’intérieur de l’enceinte (102) ; - au moins une sortie (124) configurée pour purger le volume (V) ; - une fenêtre saphir (112) disposée sur la partie supérieure de l’enceinte, permettant le contrôle de la température du substrat métallique (104) grâce à un pyromètre bichromatique (114) disposé à l’extérieur de l’enceinte ; - un ensemble de joints en polymère (200) ; - un ensemble métallique (202) vissé et contraint par des colonnes métalliques (204) dans lequel circule un fluide contrôlé en température à 20°C par un cryostat (206). Dispositif selon la revendication 8, caractérisé en ce qu’il ne comprend pas de double paroi. Utilisation du dispositif selon l’une quelconque des revendications 8 ou 9 pour la mise en œuvre du procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 7.