INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Ensuite, la face supérieure du premier substrat et la face supérieure du deuxième substrat sont collées ensemble par thermocompression à une température de 240°C et une force de 20 kN, de telles conditions permettant à la couche adhésive présente initialement sur la face supérieure du premier substrat de fluer et de s’étaler pour assurer un contact entre la couche périphérique du premier substrat et la périphérie du deuxième substrat. L’adhérence de l’interface entre la couche adhésive et la périphérie du deuxième substrat (bordure non revêtue d’une couche antiadhésive) est de 3 J/m 2 , tandis que l’adhérence entre la couche adhésive et la périphérie du premier substrat est de 0,9 J/m 2 . Grâce à cette différence d’adhérence, le deuxième substrat est séparé du premier substrat par simple insertion d’un coin, en emportant la couche adhésive qui reste collée sur le deuxième substrat via sa périphérie.
EXEMPLE 5 Cet exemple illustre un mode particulier de mise en œuvre du procédé de transfert de l’invention.
Au moyen d’une scie diamantée, une première plaque de silicium est détourée, sur la périphérie de sa face supérieure, sur une largeur de 2 mm et une profondeur de 15 µm, moyennant quoi il subsiste une première plaque en silicium dont la zone centrale de la face supérieure est en protubérance par rapport à sa périphérie. La première plaque de silicium ainsi détourée est ensuite immergée dans une solution d’octadécyltrichlorosilane dans l’isooctane puis séché par centrifugation, moyennant quoi une couche antiadhésive recouvre toute la face supérieure tant sur sa zone centrale en protubérance que sur sa périphérie. La couche antiadhésive présente une énergie de surface de 17 mJ/m 2 . Au moyen d’une roue diamantée, la zone centrale est soumise à une abrasion mécanique de sorte à éliminer 10 µm d’épaisseur et, par ailleurs, la couche antiadhésive à la surface de la zone centrale. Ladite zone centrale est ensuite soumise à un polissage mécano-chimique de sorte à gommer les irrégularités induites par l’abrasion mécanique. A l’issue de ce polissage est déposée, par enduction centrifuge, sur la zone centrale de la face supérieure de la première plaque, une couche adhésive obtenue par dépôt du produit commercial BrewerBond® 305 (comprenant des particules polymères dans du D-limonène) suivie d’un séchage à 200° C, ladite couche adhésive présentant une épaisseur de 50 µm.
En parallèle, il est procédé au masquage par photolithographie de la périphérie de la face supérieure (selon une largeur de 1 mm) d’une deuxième plaque en silicium suivi du dépôt sur la zone centrale non masquée d’une solution d’octadécyltrichlorosilane dans l’isooctane et du séchage de ladite solution ainsi déposée. Après suppression du masque, il résulte une plaque en silicium, dont la face supérieure est revêtue sur sa zone centrale d’une couche antiadhésive et la périphérie est dénuée de ladite couche selon une bande extérieure de 2 mm.
Ensuite, la face supérieure du premier substrat et la face supérieure du deuxième substrat sont collées ensemble par thermocompression à une température de 250°C et une force de 15 kN, de telles conditions permettant à la couche adhésive présente initialement sur la face supérieure du premier substrat de fluer et de s’étaler pour assurer un contact entre la couche périphérique du premier substrat et la périphérie du deuxième substrat. L’adhérence de l’interface entre la couche adhésive et la périphérie du deuxième substrat (bordure non revêtue d’une couche antiadhésive) est de 2 J/m 2 , tandis que l’adhérence entre la couche adhésive et la périphérie du premier substrat est de 0,1 J/m 2 . Grâce à cette différence d’adhérence, le deuxième substrat est séparé du premier substrat par simple insertion d’un coin, en emportant la couche adhésive qui reste collée sur le deuxième substrat via sa périphérie.
Procédé de dépôt d’un revêtement en oxyde d’aluminium La présente invention se rapporte au domaine général des revêtements en oxyde d’aluminium (également dénommé alumine) et plus particulièrement des revêtements pour alliages métalliques, et encore plus particulièrement elle concerne un dispositif et un procédé de dépôt de revêtements en oxyde d’aluminium par la voie dépôt chimique sous pression et en température.
Différents alliages métalliques tels que les alliages de titane, TiAl, ou les alliages base nickel nécessitent une protection contre l’oxydation et/ou la corrosion pour maintenir leurs performances à des températures d’emploi plus élevées.
Parmi les nombreuses solutions qui peuvent être envisagées, une couche d’alumine alpha est la meilleure solution possible dans la majorité des cas. En effet, l’alumine alpha présente d’excellentes performances de résistance à l’oxydation et à la corrosion. De plus, le coefficient de diffusion de l’oxygène dans sa forme cristalline alpha est faible, ce qui la rend relativement imperméable à l’oxygène. C’est aussi la forme d’alumine la plus stable à haute température.
Cependant, le domaine de température nécessaire usuellement pour faire croître de l’alumine alpha (germinations homogène et hétérogène) est de l’ordre de 900°C et plus. En effet l’oxyde d’aluminium alpha est classiquement élaboré par dépôt chimique en phase vapeur (« Chemical Vapor Deposition » ou « CVD »), dépôt physique en phase vapeur (« Physical Vapor Deposition » ou « PVD ») ou par sol-gel. Les méthodes de CVD et sol-gel utilisent toutes deux des températures supérieures à 1000°C pour la stabilisation de la phase alpha de l’oxyde d’aluminium. Cette température n’est pas compatible avec la plupart des alliages métalliques. Quant à la PVD, cette technique permet de stabiliser la phase désirée à plus faible température (de 480 °C à 580 °C), même si, généralement, le revêtement possède des phases mixtes d’oxyde d’aluminium métastables telles que la phase gamma. L’inconvénient de la PVD est son aspect directionnel qui n’offre pas la possibilité de revêtir des substrats de géométries complexes comme les aubes de turbine, au contraire des techniques de dépôts par voies chimiques. De plus, ces méthodes souffrent généralement d’une vitesse de dépôt relativement faible.
Différentes études ont été menées pour tenter d’obtenir une alumine alpha à partir d’une alumine d’une phase différente. Cependant, la conversion d’une alumine d’une phase quelconque en alumine alpha engendre un changement de volume important qui impacte les performances mécaniques du revêtement, voire de la pièce revêtue.
Il est certes connu d’utiliser des températures plus faibles pour obtenir de l’alumine alpha, mais uniquement dans le cadre de la germination homogène qui permet la synthèse de matériaux sous forme de poudres et non sous forme de revêtement. L’oxyde d’aluminium alpha est ainsi stabilisé dans l’eau à relativement faible pression (à partir de 1 MPa) et à une température comprise entre 374 °C et 500 °C, selon le diagramme binaire Al 2 O 3 -H 2 O.
Par synthèse hydrothermale, l’oxyde d’aluminium est élaboré en deux étapes successives. La première consiste en l’hydrolyse par l’eau d’un précurseur d’aluminium afin de former un oxyde d’aluminium hydraté, la boehmite ϒ-AlO(OH) : Al(NO 3 ) 3 + 2H 2 O ----> γ-AlOOH + 3HNO 3 (Eq. 1)
La seconde étape consiste en la déshydratation de cette phase intermédiaire qu’est la boehmite afin d’obtenir l’oxyde d’aluminium alpha : 2γ-AlOOH ---->α-Al 2 O 3 + H 2 O (Eq.2)
D’après la littérature, la déshydratation est l’œuvre de phénomènes successifs d’hydroxylation/déshydroxylation provoquant une réorganisation de la structure à l’état solide de la boehmite vers l’oxyde d’aluminium alpha.
Toutefois comme indiqué précédemment, la synthèse hydrothermale sous pression permet l’élaboration d’oxyde d’aluminium alpha mais sous forme de poudres et non pas de revêtements.
Les premier et deuxième rayons de mesure renvoyés 36,38 sont réfléchis par l’unité de superposition 20, tandis que les premier et deuxième rayons de mesure 30,32 ainsi que les premier et deuxième rayons de référence 40,42 passent à travers l’unité de superposition 20.
Le vecteur normal 48 à la surface du diviseur de faisceau 58 se trouve sur la bissectrice entre les rayons de mesure 36,38 renvoyés réfléchis ou les rayons de référence 40,42 et les rayons de mesure 30,32. De cette manière, les rayons de mesure renvoyés 36,38 sont réfléchis sur les rayons de référence 40,42 et amenés à provoquer une interférence.
De plus, pour compenser des changements de rayon par propagation, des optiques de compensation peut être apportés dans les deux ou l’un des deux trajet optiques 50,52,54. Les premier et deuxième rayons de mesure 30,32, tout comme les premier et deuxième rayons de mesure renvoyés 36,38 peuvent en outre, comme cela est visible sur la , être projetés par des éléments d’un système optique 26 comme des lentilles ou des objectifs sur l’élément optique 46 comme aussi sur l’unité de réception 22.
Sur la est représenté une décomposition du trajet optique d’émission 50 et/ou du trajet optique de réception 52 sur différents chemins de rayon 62,64 d’après un autre exemple de réalisation.
La montre comme on peut changer entre des chemins de rayon différents 62,64 dans les trajet optiques 50,52. Typiquement les rayons de mesure 30,32 y sont guidés différemment à travers un volume de mesure par décalage de rayon ou par déviation de rayon, par exemple au moyen d’un scanner, de sorte à rencontrer un élément optique approprié 46 sous la forme d’un réflecteur ou d’un diffuseur. Grâce à la variation du parcours de mesure, des paramètres libres peuvent être calibrés lors de l’exploitation, des phases mesurées par rapport à la pression ou la concentration gazeuse, sans avoir recours à des systèmes de mesure complémentaires. Des méthodes typiques de manipulation de rayon, sont des diviseurs de faisceau et un élément polarisant rotatif, comme par exemple une plaque Lambda/2 tournante, des prismes tournants ou des miroirs, des cristaux liquides ou similaires.
Pour cela, il est possible de disposer dans le trajet optique d’émission 50 et/ou dans le trajet optique de réception 52, une unité de déviation de rayon 60 qui décompose le trajet optique d’émission 50 et/ou le trajet optique de réception 52 en un premier chemin de rayon 62 et un deuxième chemin de rayon 64. En particulier, il est possible de choisir comme trajet optique d’émission 50 et/ou comme trajet optique de réception 52, le premier chemin de rayon 62 ou le deuxième chemin de rayon 64 au moyen de l’unité de déviation de rayon 60. En variante, il est possible d’ajouter une deuxième unité de réception 22, afin d’exploiter parallèlement les deux chemins de rayon 62,64.
Numéros de référence
10 source de rayonnement laser
12 installation de doublement de fréquence
14 oscillateur
16 installation de modulation optique
18 miroir
20 unité de superposition
22 unité de réception
24 unité d’exploitation
26 système optique
Le filtre 3 est un dispositif remplaçable facilement. En maintenance, il suffit de le retirer de l’évent, par ouverture du bac 1. Sa proximité avec la paroi permet à un agent de maintenance de le retirer aisément puis de fixer un autre. Le filtre 3 est un dispositif de type cartouche remplaçable.
On notera que la présence du filtre 3 à l’intérieur du bac 1 permet d’absorber de l’humidité directement à l’intérieur du bac 1, sans circulation d’air dans le conduit.
Le filtre à charbon actif 3 est une cartouche comportant des ouvertures 9 en regard des accès 5 du dispositif de sécurité 2 qui assure le passage de l’air à travers le filtre 3. Il comporte d’autres ouvertures 11 permettant le passage de l’air vers l’intérieur du bac 1 ou depuis l’intérieur vers l’extérieur. Les ouvertures 9 et 11 sont réparties en surface du filtre à charbon actif 3 de manière à favoriser le passage de l’air.
En variante, non représentée en , le filtre à charbon actif est intégré à l’intérieur du dispositif de sécurité 2. Il est monté dans la zone du conduit 6. Ainsi, son montage est effectif dès le montage du dispositif de sécurité 2 de l’évent 8. L’invention concerne donc un dispositif de sécurité remplaçable comportant un filtre à charbon, prévu pour un évent de bac de batterie, notamment de batterie de traction d’un véhicule à motorisation électrique. Dans cette variante, le filtre à charbon actif comporte également des ouvertures permettant le passage de l’air entre l’extérieur et l’intérieur du bac de la batterie.
En outre, le filtre à charbon 3 peut comporter un moyen de signalement visuel indiquant le niveau d’humidité absorbé. Par exemple, le moyen de signalement est un réactif à couleur dont l’état dépendant du niveau d’humidité. Lors d’une opération de maintenance, cela permet à un opérateur de savoir s’il est nécessaire de la remplacer. On évite ainsi l’intégration d’un capteur électronique d’humidité.
L’invention s’applique de préférence pour les véhicules automobiles électrifiés comportant une machine électrique de traction alimentée par une batterie ayant un bac dont au moins un évent ou plusieurs évents sont équipés d’un filtre à charbon.
Électrolyte solide dopé au Se, son procédé de préparation et son utilisation La présente divulgation se rapporte à un domaine de batteries de stockage d’énergie électrochimique, en particulier à un électrolyte solide dopé au Se et à son procédé de préparation et à son utilisation.
La batterie au lithium-ion (LIB), constituant actuellement le système de stockage d’énergie préféré pour les appareils électroniques portables et les véhicules électriques, est toujours à la traîne par rapport à la demande croissante de batteries à haute densité d’énergie. En tant que matériau de cathode de la LIB rechargeable, le cobaltate de lithium domine dans les dispositifs électroniques 3C en raison de sa haute densité vibratoire. Cependant, dans les applications pratiques, le cobaltate de lithium n’exerce que 1/2 de sa capacité théorique (environ 140 mAh/g), ce qui signifie que seule la moitié du Li + est détachée du cobaltate de lithium. Bien que le chargement du cobaltate de lithium à haute tension puisse augmenter la densité d’énergie de plus de 40%, lors du cycle du cobaltate de lithium à haute tension, l’oxydoréduction des ions oxygène contribue à la capacité participante, et la migration facile des ions oxygène dans un état d’oxydation élevé entraîne une grave perte d’oxygène provenant du cobaltate de lithium pendant le cycle à haute tension, ce qui conduit non seulement à un changement de phase irréversible du matériau de cathode pour empêcher la conduction des ions lithium, mais également à une décomposition par oxydation de l’électrolyte carbonate, conduisant ainsi à une forte diminution de la durée de vie de la batterie.
Pour relever le défi de la diminution de la durée de vie de la batterie, diverses stratégies de traitement ont été développées, notamment la conception morphologique, le dopage et le revêtement élémentaires, etc. En tant qu’élément spécial ayant une fonction « anti-âge » dans le corps humain, l’élément Se peut ralentir le vieillissement cellulaire en capturant les radicaux d’ions oxygène en excès au cours du métabolisme humain. Grâce à cette caractéristique unique de l’élément Se de capturer les radicaux d’ions oxygène, le traitement au Se peut ralentir la perte d’oxygène du cobaltate de lithium pendant le cycle à haute tension. CN110668509A divulgue la préparation de cobaltate de lithium revêtu de Se sous la forme d’un frittage co-mélangé de Se élémentaire et de cobaltate de lithium, qui est un processus simple, mais la conductivité ion/Li + de la couche de revêtement SeO formée par Se élémentaire dans le processus frittage ultérieur est faible. Ces problèmes augmenteront la polarisation électrochimique du matériau de cathode en cobaltate de lithium, ce qui entraînera une capacité spécifique plus faible et une stabilité de cycle plus faible.
Par conséquent, la construction d’une couche de revêtement Se uniforme sur la surface du cobaltate de lithium sans réduire la conductivité ion/Li + du cobaltate de lithium est l’une des difficultés rencontrées pour atteindre le cycle stable du cobaltate de lithium à haute tension.
La présente divulgation fournit un électrolyte solide dopé au Se qui peut être uniformément appliqué sur la surface de cobaltate de lithium tout en maintenant une bonne conductivité Li + du cobaltate de lithium revêtu, ainsi que son procédé de préparation et son utilisation.
La présente divulgation fournit un électrolyte solide dopé au Se, qui a une composition chimique Li 6+x P 1-x Se x S 5 X2 ou Li 6+x P 1-x Se x S 5-2x X1 2x X2, dans laquelle 0 < x < 1, X1 représente O ou S, X2 représente au moins l’un parmi F, Cl, Br et I.
Dans la présente divulgation, en dopant l’élément Se dans l’électrolyte solide à base de soufre, l’électrolyte solide dopé au Se permet non seulement à l’électrolyte de maintenir l’excellente conductivité ion/Li + de l’électrolyte solide à base de soufre, mais améliore également considérablement la stabilité d’interface de l’électrolyte, et en même temps, l’électrolyte solide à base de soufre peut également avoir la fonction d’une couche protectrice, réalisant ainsi un cycle stable de cobaltate de lithium à haute tension.
La présente divulgation fournit également un procédé de préparation de l’électrolyte solide dopé au Se, qui comprend les étapes suivantes : pesage des matériaux Li 2 S, SeX1, P 2 S 5 et LiX2 dans un rapport stœchiométrique pour le prémélange, et concassage des matériaux mélangés pour obtenir l’électrolyte solide dopé au Se.
Le métier 10 comprend également un harnais 20 constitué d'une planche d'empoutage 21 et de fils de commande ou lisses 22, chaque lisse 22 étant reliée à une extrémité à un crochet de commande 12 de la mécanique Jacquard 11 et à l'autre extrémité à un des ressorts de rappel 13 fixés au bâti 14 du métier à tisser 10.
Chaque lisse 22 comprend un œillet 23 traversé par un fil de chaîne 30. Les lisses 22 et leur œillet 23 associé sont animés d'un mouvement d'oscillation sensiblement vertical représenté par la double flèche F sous les efforts de traction exercés respectivement par les crochets de commande 12 et les ressorts de rappel 13.
Les lisses 22 permettent de soulever certains fils de chaîne 30 et de créer ainsi une foule 15, c'est-à-dire une ouverture entre nappes inférieures et supérieures de fils de chaîne 30 permettant l'introduction de fils de trame 31 au moyen d'une lance 40.
La lance 40 est munie à son extrémité d'une pince 41 qui saisit un fil de trame 31 à partir d'une bobine 50 pour le placer au travers de l'ouverture entre les nappes de fils de chaîne 30 créée par la foule 15, le fil de trame 31 étant coupé à l'aide d'un couteau 60 après son positionnement dans la foule 15.
Un peigne 70 présent en amont de la lance 40 est alors rabattu afin de tasser le ou les fils de trame introduits dans la foule 15.
La lance 40 est alors prête pour saisir à nouveau un nouveau fil de trame 31 à partir de la bobine 50 et le placer soit à nouveau dans la foule 15, soit dans une foule différente en fonction du tissage défini.
On forme ainsi progressivement un tissu T présentant un tissage 3D ou multicouche entre les fils de chaîne 30 et les fils de trame 31.
Le métier à tisser 10 comprend en outre un dispositif de maintien du tissu T présent en aval des lisses 22 et de la lance 40.
Le dispositif de maintien 80 comprend une mâchoire inférieure 81 et une mâchoire supérieure 82 chacune reliée à un moyen d'actionnement (non représenté). Ledit dispositif de maintien permet notamment de contrôler la position du point d’ouverture de la foule 15, c’est-à-dire l’emplacement à partir duquel deux nappes de fils de chaîne s’écartent l’une de l’autre vers l’amont.
Une difficulté rencontrée lors du tissage d’un tissu tridimensionnel est le foisonnement du tissu, c’est-à-dire le phénomène de gonflement du tissu du fait de l’entrelacement des fils de chaîne et de trame.
A cause de ce foisonnement, le tissu tridimensionnel sortant du métier à tisser présente une épaisseur supérieure à l’épaisseur prévue, ce qui peut engendrer des défauts lors de la mise en œuvre du procédé RTM.
En particulier, le renfort peut former des bosses localisées, qui peuvent donner lieu à un pincement du tissu lors de la fermeture du moule, se traduisant, dans l’objet final, par des zones dont les propriétés mécaniques ne sont pas maîtrisées.
Le document WO 2021/048486 décrit ainsi un procédé de fermeture d’un moule destiné à éviter un tel pincement.
Brève description de l’invention Un but de l’invention est donc de concevoir un métier à tisser permettant de contrôler le foisonnement du tissu en forme et ainsi améliorer le procédé RTM susceptible d’être mis en œuvre par la suite.
A cet effet, l’invention propose un métier à tisser de type Jacquard pour la fabrication d’un tissu, notamment un tissu bidimensionnel ou tridimensionnel, présentant une épaisseur variable sur sa largeur par tissage entre une pluralité de fils de chaîne et une pluralité de fils de trame, ledit métier à tisser comprenant :
- une pluralité de fils de commande, reliés à une mécanique apte à déplacer les fils de commande suivant une direction verticale entre une position de référence et une première position d'ouverture des fils de chaîne, chaque fil de commande étant en outre muni d'un œillet traversé par l’un des fils de chaîne,
Dispositif de traitement de la peau DOMAINE DE L’INVENTION La présente invention concerne le domaine du traitement de la peau. Plus précisément, la présente invention concerne un dispositif pour le traitement de la peau, notamment par iontophorèse et/ou électroporation et/ou électrostimulation, préférentiellement non thérapeutique.
ETAT DE LA TECHNIQUE L'iontophorèse, l’électroporation ou l’électrostimulation permettent de traiter la peau à partir de courants électriques. On connait des dispositifs de traitement de la peau comme des masques pour le soin du visage conçus pour délivrer un courant électrique sur le visage d’un utilisateur. Ces dispositifs comprennent typiquement une matrice support en polymère sur laquelle sont disposés des générateurs de courant. Cependant, l’efficacité de ces masques est limitée voire même très faible notamment en raison de courts-circuits pouvant apparaitre entre les générateurs de courants et la matrice et/ou entre les générateurs de courant et la peau. Les courants électriques ne sont ainsi pas correctement délivrés à la peau de l’utilisateur, que ce soit en termes d’intensité et/ou de localisation. Le traitement par iontophorèse et/ou électrostimulation n’est donc pas optimal, et l’efficacité des dispositifs connus s’avère décevante. En outre, ces dispositifs connus peuvent provoquer des irritations et des rougeurs. De surcroît, il est généralement complexe d’utiliser ces masques.
Un but de l’invention est d’améliorer le fonctionnement de dispositifs de traitement de la peau par iontophorèse ou électrostimulation, notamment améliorer leur efficacité.
Un autre but de l’invention est de rendre plus facile et accessible à tous l’utilisation de dispositifs de traitement de la peau par iontophorèse ou électrostimulation.
Un autre but de l’invention est d’améliorer le stockage et la durabilité des dispositifs de traitement de la peau par iontophorèse ou électrostimulation.
Un autre but de l’invention est de proposer un dispositif de traitement de la peau qui soit particulièrement ergonomique et intuitif à utiliser.
Un autre but de l’invention est de proposer un dispositif de traitement de la peau qui soit particulière sûr, indolore et fiable.