INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
De plus, un tel ensemble 15, 15’ peut comporter un écrou 30, 30’ présentant un alésage taraudé 31, 31’ vissé avec une portion filetée 25, 25’ de l’arbre de guidage 17, 17’. Un tel écrou 30, 30’ est alors solidarisé avec la première bague de poussée 13 sans degré de liberté sous une réaction en traction transmise par l’arbre de guidage 17, 17’ à l’écrou 30, 30’. En outre, une telle réaction en traction s’oppose à l’effort de compression transmis par le ressort hélicoïdal 16, 16’ à la première bague de poussée 13 et à la seconde bague de poussée 14.
Ainsi un troisième épaulement 32 peut être ménagé sur l’écrou 30, 30’ pour venir au contact d’une première face 135 de la première bague de poussée 13 et un ou plusieurs méplats 33, 33’ peuvent être ménagés sur l’écrou 30, 30’ pour coopérer avec un alésage 137 de forme complémentaire.
La première bague de poussée 13 peut également comporter une seconde face 136 sur laquelle une seconde extrémité 162 du ressort 16, 16’ peut venir prendre appui pour transmettre un effort de compression.
Une telle seconde face 136 peut être agencée parallèlement à la première face 135 et perpendiculairement à l’axe de révolution R1, R2.
Dispositif de guidage pour une canalisation La présente invention concerne un dispositif de guidage pour une canalisation de section circulaire.
Un tel dispositif de guidage est plus particulièrement destiné à être mis en œuvre dans une cuve étanche et thermiquement isolante pour le transport et/ou stockage de gaz liquéfié, afin de maintenir et guider une canalisation du type rampe de spray, ou tout autre type de canalisation (par exemple des canalisations du type ligne d’évacuation, ligne d’apport ou de retour de carburant, radar).
Chaque paroi de cuve présente successivement, dans le sens de l'épaisseur, depuis l'intérieur vers l'extérieur de la cuve, au moins une membrane d'étanchéité, destinée à être en contact avec le fluide contenu dans la cuve, une barrière thermiquement isolante destinée à reposer contre une structure porteuse. Alternativement, une paroi peut également comporter deux niveaux d'étanchéité et d'isolation thermique.
Une cuve comprend généralement au moins une canalisation, ou rampe de spray, pour acheminer ou injecter du gaz liquéfié dans la cuve. Une telle canalisation est guidée le long d’une paroi par un ensemble de guidage comprenant un support fixé à la paroi de la cuve et un dispositif de guidage destiné à recevoir, maintenir et guider la canalisation. Le support est généralement soudé à la membrane d’étanchéité.
représente une tête de décapage de ce faisceau laser, comprenant un module de réflexion,
représente des étapes d’un procédé de contrôle d’une membrane d’étanchéité selon l’invention, dans un mode de réalisation de l’invention.
Selon un mode de réalisation de l’invention représenté sur la , on génère un profil d’une partie d’une membrane d’étanchéité 2 adaptée pour une cuve destinée à contenir du gaz à l’état liquide, à l’aide d’un dispositif 1 de génération de profil. Cette membrane d’étanchéité 2 est, dans ce mode de réalisation de l’invention, réalisée à partir de plaques métalliques de 1,2 millimètre d’épaisseur, soudées entre elles ou à souder entre elles.
La cuve est typiquement délimitée par une coque interne d’un navire de transport et présente une capacité de plusieurs milliers de mètres cubes de gaz à l’état liquide, voire plusieurs dizaines de milliers de mètres cubes de gaz liquide. La membrane d’étanchéité 2 couvre la totalité d’une surface interne de la cuve d’un tel navire de transport. Afin de compenser les déformations de la cuve dues notamment aux variations de température ou aux conditions de navigation, la membrane d’étanchéité 2 comporte des nervures ou ondes 24 quadrillant la surface de la membrane d’étanchéité 2. Vue de profil dans un plan parallèle à une direction longitudinale L et à une direction transversale T orthogonale à la direction longitudinale L, la membrane d’étanchéité comporte donc des zones de plat 22 et des ondes 24.
Le dispositif 1 de génération de profil comporte un support mobile 11 doté d’un capteur de position 12 qui mesure la distance qui sépare un point de référence du dispositif d’un point d’impact sur la membrane. Le capteur de position 12 est ici un capteur de distance laser de classe 2, de fréquence de mesure 300 à 600 Hz (Hertz). Alternativement, le capteur de position 12 peut être un capteur de type LVDT (pour l'anglais Linear Variable Differential Transformer).
Le rail 3 suit ce bord de la plaque d’étanchéité 2-1, disposé selon la direction longitudinale L, la distance entre le bord de la plaque d’étanchéité 2-1 et le rail 3 étant constante à quelques centimètres près, le rail pouvant faire plusieurs dizaines mètres, par exemple trente mètres, et étant éventuellement réalisé en plusieurs morceaux. Le rail 3 est tenu par des pinces 4, fixées par exemple sur des nœuds du quadrillage formé par les ondes de la membrane d’étanchéité 2.
Une première étape 100 du procédé de génération du profil est le passage du capteur de position 12 au-dessus du bord de la plaque d’étanchéité 2-1.
Enfin, une dernière sous-étape 106 de la première étape 100 de passage du capteur de position 12, est le déplacement du support mobile 11. Le dispositif 1 de génération comporte pour cela un module logiciel interfacé avec des actionneurs du support mobile 11. La combinaison de la vitesse de déplacement du support mobile 11 et de la fréquence de pulsation du faisceau laser résulte en un pas de déplacement, par exemple un pas d’un dixième de millimètre, la vitesse de déplacement du support mobile 11 étant, dans ce mode de réalisation de l’invention, entre 100 et 200mm/s (millimètres par seconde).
Enfin, lors d’une étape 240 de caractérisation, l’unité de traitement 3 détermine une valeur stationnaire Φ i(n) du déphasage déplié Φ (n) (t i ), représentative de la phase de référence Ph ref (absence des analytes), et une valeur stationnaire Φ f(n) représentative de la phase de caractérisation Ph carac (présence des analytes). La signature S des analytes peut ensuite être déterminée, par exemple à partir de la relation : S = { Φ f(n) – Φ i(n) } n=1 ;N .
Les figures 4A et 4B sont des vues schématiques et partielles d’un système de caractérisation 1 à calibrer, selon une variante de réalisation, où le dispositif de calibration 20 comporte un réservoir d’analytes 21 dits de calibration, dont la concentration est adaptée pour provoquer une variation minimale prédéfinie du déphasage déplié Φ (n) (t).
Le système de caractérisation 1 comporte un dispositif de mesure 10 et une unité de traitement 3 identiques à ceux du système de caractérisation 1 de la . Il comporte en outre un dispositif de calibration 20, permettant de déterminer, avec l’unité de traitement 3, les valeurs des paramètres de calibration (puissance P in(n) et décalages o 1(n) et o 2(n) ) associés à chaque interféromètre 12 (n) de Mach-Zehnder.
Le système de caractérisation 1 peut comporter un réservoir 4 d’un fluide de référence, ne comportant pas d’analytes, ce fluide étant destiné à être amené au contact de la surface fonctionnalisée lors de la phase de référence. Il peut s’agir d’un réservoir ou d’un accès contrôlé à un environnement sans analytes du système de caractérisation 1. Il peut également comporter un réservoir 5 d’un fluide contenant les analytes à caractériser, ce fluide étant destiné à être amené au contact de la surface fonctionnalisée lors de la phase de caractérisation. Ici également, il peut s’agir d’un réservoir ou d’un accès contrôlé à un environnement avec analytes du système de caractérisation 1. Il comporte enfin le réservoir 21 d’un fluide contenant des analytes de calibration.
Ainsi, lors du procédé préalable de calibration 100, le réservoir de calibration 21 est mis en communication fluidique avec le dispositif de mesure 10, et le fluide avec les analytes est amené jusqu’à la surface fonctionnalisée. La concentration des analytes a été prédéfinie pour qu’elle provoque une variation du déphasage déplié Φ (n) (t) au moins égale à une valeur minimale prédéfinie ΔΦ min , qui dépend de la méthode utilisée de détermination des paramètres de calibration P in(n) , o 1(n) et o 2(n) .
En référence à la qui illustre un exemple d’évolutions temporelles des puissances P 1(n) et P 2(n) , la méthode des « min max », décrite dans la demande de brevet EP21172910.8 déposée le 8 mai 2021, peut être utilisée. Dans ce cas, la valeur minimale ΔΦ min est de préférence au moins égale à 2π.
Lors de cette étape, on expose donc la surface fonctionnalisée aux analytes de calibration, et les photodétecteurs 16 mesurent la puissance P 1(n) et P 2(n) d’au moins un interféromètre (si l’on suppose que les paramètres de calibration P in(n) , o 1(n) et o 2(n) sont identiques pour tous les interféromètres 12), et de préférence, comme ici, de chacun des interféromètres 12 (n) . Les analytes de calibration ont donc provoqué une variation d’au moins 2π du déphasage déplié Φ (n) (t).
On mesure ensuite la valeur minimale min(P 1(n) (t)) qui est égale à P 1(n) (φ=π) et donc à o 1(n) , selon la définition de P 1(n) (φ) indiquée précédemment. De plus, on mesure la valeur maximale max(P 1(n) (t)) qui est égale à P 1(n) (φ=0) et donc à 2×(P in(n) /4)+o 1(n) . On peut donc en déduire P in(n) . La démarche est effectuée ensuite sur l’évolution temporelle de la puissance optique P 2(n) (t), ce qui permet d’en déduire o 2(n) , et donc de déterminer les valeurs des paramètres de calibration Param calib , lesquelles sont ensuite stockées dans l’unité de traitement 3. Comme on le voit, cette méthode permet également de déterminer P in1(n) et P in2(n) si ces valeurs n’étaient pas égales pour les deux sorties utiles 15u du coupleur multimode 15.
La illustre un exemple d’une évolution temporelle du déphasage extrait φ (n) (t i ) dans le plan complexe (x ; y), où x et y sont les paramètres définis précédemment. Cette représentation est utilisée dans le cadre de la méthode de l’ellipse, décrite notamment dans le document Halir et al 2013 mentionné précédemment. Dans ce cas, la valeur minimale ΔΦ min est avantageusement égale à 2π, mais elle peut être inférieure à 2π si l’on a acquis suffisamment de valeurs pour être en mesure de reconstruire une ellipse totale par ajustement de courbe ( curve fitting , en anglais).
Les paramètres de calibration Param calib peuvent être déduits de la position et de la forme de l’ellipse. En effet, la demi-longueur ‘a’ du petit axe est égale à P in1(n) et la demi-longueur ‘b’ du grand axe est égale à P in2(n) . De plus, les coordonnées (x 0 ; y 0 ) du centre de l’ellipse permettent de déduire les valeurs des décalages par les relations suivantes : x 0 = P in1(n) + o 1(n) ; y 0 = P in2(n) + o 2(n) .
Notons que d’autres méthodes de détermination des paramètres de calibration peuvent être utilisées, comme par exemple des méthodes de résolution par optimisation d’un système matriciel d’équations de type P = M × X , où la matrice d’observation P contient les puissances optiques mesurées P 1(n) et P 2(n) , la matrice M dépend des paramètres de calibration, et où la matrice X ne dépend que du déphasage Φ.
Aussi, cette variante de réalisation où le dispositif de calibration 20 comporte un réservoir d’analytes 21 permet de garder un encombrement réduit dans la puce photonique, dans la mesure où il ne comporte pas d’interféromètre(s) et de photodétecteurs supplémentaires. En effet, une fois que les valeurs des paramètres de calibration Param calib ont été définies et stockées dans l’unité de traitement 3, le réservoir 21 d’analytes de calibration peut être retiré, et on obtient ainsi un système de caractérisation 1 calibré. Notons que ce réservoir 21 peut être maintenu dans le système de caractérisation 1 calibré, par exemple pour être en mesure d’effectuer périodiquement une recalibration du système de caractérisation 1. Enfin, notons que cette méthode permet de déterminer les paramètres de calibration Param calib avec précision pour chacun des interféromètres 12 (n) de Mach-Zehnder.
La est une vue schématique et partielle d’un système de caractérisation 1 à calibrer, selon une autre variante de réalisation, où le dispositif de calibration 20 comporte un interféromètre 22 de Mach-Zehnder, dit de calibration, associé à au moins un photodétecteur de calibration 26. La illustre plus en détail un autre exemple d’interféromètre de calibration 22 du système de caractérisation 1 de la .
Le système de caractérisation 1 comporte ici un dispositif de mesure 10 et une unité de traitement 3 identiques à ceux du système de caractérisation 1 de la . Il comporte en outre un dispositif de calibration 20, permettant de déterminer, avec l’unité de traitement 3, les valeurs des paramètres de calibration (puissance P in(n) et décalages o 1(n) et o 2(n) ) associés à chaque interféromètre 12 (n) de Mach-Zehnder.
L’interféromètre de calibration 22 ne comporte pas de bras sensible, de sorte qu’il n’est pas affecté par l’éventuelle présence d’analytes dans le milieu fluide. Il présente de préférence une forme similaire à celle des interféromètres 12 du dispositif de mesure 10. Ainsi, il peut comporter deux bras s’étendant de manière continue entre le diviseur d’entrée 13 et le coupleur multimode 15 et optiquement indépendants du milieu extérieur, ou, comme illustré ici, un bras continu 24r et un bras discontinu 24d.
Dans cet exemple où l’interféromètre de calibration 22 comporte un bras discontinu 24d, la zone de la surface fonctionnalisée au niveau de ce bras discontinu 24d peut présenter une échancrure similaire à celle des interféromètres 12 et destinée à recevoir les analytes. Dans cette zone, les analytes peuvent malgré tout avoir été déposés. En variante, ils peuvent ne pas avoir été déposés, mais l’échancrure peut autoriser une éventuelle influence du milieu extérieur sur le mode guidé. C’est pourquoi le guide d’onde 24d est ici discontinu. Dans le cas où les deux bras sont continus, la gaine présente localement une épaisseur suffisante pour éviter toute influence du milieu extérieur sur les modes guidés.
Grâce à l’invention, un profil de la partie de membrane d’étanchéité est généré et disponible pour une étape de traitement ultérieure de la partie de membrane d’étanchéité, dont l’exécution sera accélérée par la connaissance préalable du profil de la membrane. Grâce à l’invention, l’étape de traitement ultérieure n’utilise pas de capteur de position visant à déterminer la distance entre un outil de traitement et la membrane d’étanchéité et le positionnement de l’outil de traitement par rapport à la membrane, même si l’étape de traitement utilise éventuellement d’autres capteurs, par exemple pour confirmer une position de l’outil de traitement le long d’un trajet prédéterminé.
Dans un mode de réalisation du procédé de génération selon l’invention, la partie de membrane d’étanchéité est un bord d’une première plaque d’étanchéité, un bord d’une deuxième plaque d’étanchéité étant disposé au-dessous du bord de la première plaque d’étanchéité, et les sous-étapes de l’étape de passage déterminent également des distances entre des points du bord de la deuxième plaque d’étanchéité et le point de référence du capteur de position, l’étape de génération produisant un profil du bord de la première plaque d’étanchéité, et du bord de la deuxième plaque d’étanchéité. Par bord de la deuxième plaque d’étanchéité, il faut comprendre une zone périphérique de la deuxième plaque d’étanchéité. Plus précisément, un bord d’une plaque d’étanchéité est disposé sur une portion de l’autre plaque d’étanchéité (dans la suite, bien que pas obligatoirement en périphérie de la plaque, cette portion peut aussi être dénommée bord de la plaque).
Dans ce mode de réalisation de l’invention, le support mobile est par exemple monté sur un rail solidarisé à la membrane d’étanchéité, le long des bords de la première plaque d’étanchéité et de la deuxième plaque d’étanchéité. Lorsque la membrane d’étanchéité comporte des ondes d’aide à la déformation de la cuve, ces ondes formant un quadrillage sur la membrane d’étanchéité, le rail est par exemple solidarisé à au moins deux nœuds du quadrillage, la distance entre les bords des plaques d’étanchéité de la membrane d’étanchéité et le rail étant sensiblement constante, c’est-à-dire constante à +/- 3 mm près.
Selon une caractéristique avantageuse du procédé de génération selon l’invention, le capteur de position est un capteur laser à balayage, la sous-étape de détermination d’une distance correspondant à une sous-étape de détermination de plusieurs distances pour une même position du support mobile, et l’étape de génération produisant un profil en trois dimensions de la partie de membrane d’étanchéité. Dans le cas où la partie de membrane d’étanchéité comporte deux bords de plaques d’étanchéité disposées l’une contre l’autre, ce profil en trois dimensions inclut donc un profil de chaque bord de plaque d’étanchéité de cette partie de membrane d’étanchéité.
L’invention concerne aussi un procédé de traitement d’une membrane d’étanchéité adaptée pour une cuve destinée à contenir du gaz à l’état liquide, utilisant un dispositif de traitement de la membrane d’étanchéité, le dispositif de traitement comportant un dispositif mobile et au moins un outil de traitement monté sur le dispositif mobile, le procédé de traitement comportant une étape de traitement de la membrane d’étanchéité par l’outil de traitement le long d’un trajet prédéterminé du dispositif mobile, le procédé de traitement étant caractérisé en ce qu’il comporte une étape préalable de génération d’un profil d’au moins une partie de la membrane d’étanchéité sur le trajet prédéterminé, utilisant le procédé de génération d’un profil selon l’invention. Le trajet prédéterminé est éventuellement issu d’une étape d’analyse du profil généré selon l’invention.
Le dispositif mobile est préférentiellement également le support mobile et comporte donc à la fois le capteur de position et l’outil de traitement, bien que le capteur de position ne soit pas utilisé lors de l’étape de traitement. Le dispositif de traitement comporte éventuellement un rail sur lequel évolue le dispositif mobile, et/ou un serveur distant.
Selon une caractéristique avantageuse du procédé de traitement selon l’invention, l’étape de traitement comporte au moins une sous-étape de modification de la configuration du dispositif mobile et/ou de l’outil de traitement, et l’étape de traitement est précédée d’une étape de découpage, en fonction du profil généré lors de l’étape de génération, du trajet prédéterminé en zones de traitement de la membrane d’étanchéité, entre lesquelles ladite au moins une sous-étape de modification de la configuration du dispositif mobile et/ou de l’outil de traitement est nécessaire. La connaissance préalable du profil de la partie de membrane d’étanchéité permet donc un traitement séquentiel du traitement, chaque séquence de traitement correspondant à une zone de traitement pour laquelle aucune modification de configuration du dispositif mobile et/ou de l’outil de traitement est nécessaire, de telles sous-étapes de modification de la configuration étant mises en œuvre uniquement entre chaque séquence de traitement.
Les zones de traitement sont préférentiellement ordonnées par le dispositif de traitement dans un ordre de traitement permettant de minimiser le temps de traitement de la membrane d’étanchéité par le dispositif de traitement. Cet ordre peut correspondre à un traitement discontinu de la membrane d’étanchéité lors d’un premier passage du dispositif mobile sur la membrane d’étanchéité, plusieurs passages étant alors nécessaires pour traiter l’ensemble de la membrane d’étanchéité sur le trajet prédéterminé.
Dans un mode de réalisation du procédé de traitement selon l’invention, le traitement correspond à une opération de décapage d’un cordon de soudure au niveau de deux bords de plaques d’étanchéité de la membrane d’étanchéité, la partie de membrane d’étanchéité étant un bord d’une première plaque d’étanchéité, un bord d’une deuxième plaque d’étanchéité étant disposé contre le bord de la première plaque d’étanchéité.
Dans un mode de réalisation du procédé de traitement selon l’invention, la sous-étape de modification de configuration génère un déplacement du dispositif mobile et/ou de l’outil de traitement, le traitement étant interrompu lors de ladite sous-étape de modification de configuration. Autrement dit les sous-étapes de modification de configuration correspondent à des déplacements « à vide » c’est-à-dire sans traitement, du dispositif mobile et/ou de l’outil de traitement.
Dans un mode de réalisation du procédé de traitement selon l’invention, la membrane d’étanchéité comporte des ondes, ces ondes formant un quadrillage sur la membrane d’étanchéité, et l’outil de traitement est une tête de décapage laser positionnée sur le trajet prédéterminé pour décaper un cordon de soudure, une sous-étape de modification de configuration étant déclenchée pour positionner un point d’impact d’un faisceau laser projeté par la tête de décapage laser, sur une zone située au pied d’une onde de la membrane d’étanchéité. La sous-étape de modification de configuration permet donc de positionner l’outil de traitement de telle sorte qu’il puisse traiter entièrement une zone de traitement, ici la tête de décapage laser étant positionnée de sorte à ce que le point d’impact du faisceau laser puisse balayer l’ensemble de la zone située au pied de l’onde de la membrane d’étanchéité.
Dans un autre mode de réalisation du procédé de traitement selon l’invention, l’étape de traitement comporte au moins une sous-étape de modification de la configuration du dispositif mobile et/ou de l’outil de traitement, et l’étape de traitement comporte une sous-étape de lecture du profil généré lors de l’étape de génération, déterminant un déclenchement de ladite au moins une sous-étape de modification de la configuration du dispositif mobile et/ou de l’outil de traitement. Dans cette autre mode de réalisation de l’invention, la sous-étape de lecture du profil a lieu entièrement avant l’étape de traitement, ou est réalisée au fur et à mesure de la mise en œuvre de l’étape de traitement. La lecture du profil détermine les instants, lors de la mise en œuvre de l’étape de traitement, pour lesquels il est nécessaire de modifier la configuration du dispositif mobile et/ou de l’outil de traitement.
Dans cet autre mode de réalisation du procédé de traitement selon l’invention, le traitement correspond par exemple à une opération de soudure au niveau de deux bords de plaques d’étanchéité de la membrane d’étanchéité, la partie de membrane d’étanchéité étant un bord d’une première plaque d’étanchéité, un bord d’une deuxième plaque d’étanchéité étant disposé contre le bord de la première plaque d’étanchéité.
Par exemple, dans cet autre mode de réalisation du procédé de traitement selon l’invention, la membrane d’étanchéité comporte des ondes, ces ondes formant un quadrillage sur la membrane d’étanchéité, et l’outil de traitement est un outil de soudage, la sous-étape de modification correspondant à un changement de vitesse du dispositif mobile lorsque celui-ci arrive sur une onde de la membrane d’étanchéité. Dans cet exemple, la sous-étape de lecture permet donc de détecter les pieds d’onde de la partie de membrane d’étanchéité à souder, ce qui permet d’adapter la vitesse du dispositif mobile.
L’étape de traitement est éventuellement suivie d’une nouvelle étape de génération de profil de la partie de membrane d’étanchéité venant d’être traitée. L’invention concerne également un procédé de contrôle d’une membrane d’étanchéité, comportant des étapes de :
- génération d’un profil d’au moins une partie de la membrane d’étanchéité utilisant le procédé de génération d’un profil selon l’invention,
Cette image est ensuite envoyée à une centrale où elle est analysée en vue d’indiquer au client si la clé tombe dans la catégorie des clés pouvant être reproduites à distance.
Si tel est le cas, après approbation d’un devis par le client- ce devis étant établi manuellement et de manière non immédiate, la clé est reproduite à distance, puis envoyée au client.
Un exemple d’un tel processus est illustré par la demande de brevet EP3992821.