INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans une amélioration du microcapteur 1, le support 2 est annulaire. L’épaisseur du support 2 est de 2 mm selon le mode de réalisation. Une telle épaisseur permet d’avoir au niveau du support une masse thermique importante qui définit une température constante. L’agencement du support 2 permet de maximiser le gradient de température radial, noté ΔT2, s’étendant latéralement ou perpendiculairement par rapport à l’axe 4 d’empilement de couches, s’établissant dans le microcapteur 1 lorsqu’un rayonnement thermique est absorbée au centre du microcapteur 1. L’optimisation du gradient de température ΔT2 induira une augmentation de la différence de potentiel, notée ΔV, mesurée aux bornes des thermocouples 61, 62, c’est-à-dire entre les portions annulaires 71, 72 et 71, 74 de la couche de métal d’un thermocouple 61, 62, et permettra donc d’augmenter la sensibilité et de diminuer le seuil de détection du microcapteur 1.
Dans une amélioration du microcapteur 1, la couche 3 présente une épaisseur qui varie latéralement ou radialement. L’épaisseur Σ de la partie de la couche 3 en vis-à-vis du support 2 annulaire est de 25 µm. Cette épaisseur doit être suffisante pour assurer une isolation électrique entre la couche métallique 71, 72 et 71, 74 et 75, 76 et les couches 51, 52, 53, 54 des thermocouples 61, 62 et le support 2. Un tel agencement de la couche 3 permet de diminuer le gradient de température ΔT3 entre le support 2 et les couches 51, 52, 53, 54 des thermocouples 61, 62 de sorte à maximiser le gradient de température ΔT2.
En outre, l’épaisseur β de la partie de la couche 3 s’étendant depuis le centre du microcapteur 1 jusqu’au bord intérieur ou proximal du support 2, c’est-à-dire la partie présentant un diamètre égal au double de R 1 , est de 1 µm. Cette épaisseur doit être la plus faible possible pour diminuer le gradient de température latéral ΔT’2 au sein de la couche 3 de sorte à maximiser le gradient de température latéral ΔT2 dans les couches 51, 52, 53, 54 des thermocouples 61, 62. Idéalement, les couches 51, 52, 53, 54 des thermocouples 61, 62 sont suspendues et la couche 3 est annulaire.
Dans une amélioration du microcapteur 1, la longueur ou le rayon R 4 de la couche 3 est égale à la longueur R 4 du support 2. Le rayon R 4 de la couche 3 est supérieure au rayon R 3 des couches 51, 52, 53, 54 des thermocouples 61, 62 et au rayon des portions annulaires 71, 72 et 71, 74 de la couche de métal. Autrement dit, l’extrémité distale de la couche 3 s’étend radialement au-delà de l’extrémité distale des couches 51, 52, 53, 54 des thermocouples 61, 62 et de l’extrémité distale au rayon R 3 -R 1 des portions annulaires 71, 72 et 71, 74 de la couche de métal. Cela a pour effet d’empêcher un court-circuit entre des couches 51, 52, 53, 54 des thermocouples 61, 62 et/ou les portions annulaires 71, 72 et 71, 74 de la couche de métal et le support 2 en cuivre.
Dans une amélioration du microcapteur 1, un ratio entre l’épaisseur λ des couches 51, 52, 53, 54 des thermocouples 61, 62 et la longueur, égale à R 1 -R 2 , des couches 51, 52, 53, 54 des thermocouples 61, 62 est inférieur à 0,1 %. Le ratio est de l’ordre de 0,01 % selon le mode de réalisation. Un agencement respectant un tel ratio permet de maximiser le gradient de température latéral ΔT2 dans les couches 51, 52, 53, 54 des thermocouples 61, 62. De plus, un agencement respectant un tel ratio permet de minimiser le gradient de température vertical ΔT3 entre les couches 51, 52, 53, 54 des thermocouples 61, 62 et la couche 3. En outre, pour la première configuration, un agencement respectant un tel ratio permet de minimiser le gradient de température vertical ΔT1 entre les couches 51, 52, 53, 54 des thermocouples 61, 62 et les portions centrales 75, 76 de la couche de métal.
Dans une amélioration du microcapteur 1, la constante de temps thermique, notée tau, du microcapteur 1 est inférieure ou égale à 10 s. Une telle constante de temps est obtenue grâce à l’agencement des couches de l’empilement de couches du microcapteur 1 tel que défini ci-dessus. Une telle constante de temps thermique permet de diminuer le temps de réponse du microcapteur 1.
Dans une amélioration du microcapteur 1, l’agencement du microcapteur selon l’invention, permet d’obtenir une détectivité spécifique supérieure au détecteur de l’état de la technique. Cette détectivité spécifique est comprise entre 1.10 9 et 1.10 11 cm.Hz 0,5 .W -1 selon le mode de réalisation. Contrairement au détecteur de l’état de l’art, la détectivité spécifique du microcapteur 1 selon l’invention ne dépend que de l’épaisseur λ des couches 51, 52, 53, 54 des thermocouples 61, 62 et est inversement proportionnelle à l’épaisseur λ des couches 51, 52, 53, 54 des thermocouples 61, 62. Par conséquent, au plus l’épaisseur λ sera réduite au plus la détectivité spécifique du microcapteur 1 sera élevée.
La présence de deux éléments rotatifs permet d’équilibrer les forces en compression sur l’élément d’appui 7 et d’éviter que celui-ci soit en flexion avec une reprise d’effort trop importante dans le cas d’un unique organe de verrouillage 6.
Le dispositif 1 peut comporter en outre des moyens de rappel en position de déverrouillage 9, 12.
Ainsi, s’il ne subit pas d’appui par le poids d’une presse, l’élément d’appui 7 remonte automatiquement et maintien le ou les organes de verrouillage 6 en position de déverrouillage grâce aux moyens de rappel en position de déverrouillage 9,12, ce qui évite à un opérateur une manipulation à chaud de pièces potentiellement brulantes (de l’ordre de cent à cent-vingt degrés Celsius).
Avantageusement, au moins certains des moyens de rappel en position de déverrouillage 9,12 sont disposés sur l’élément d’appui 7 et comportent un élément de rappel élastique 9 adapté pour déplacer ledit élément d’appui 7 dans le deuxième sens.
L’élément de rappel élastique 9 permet d’assister automatiquement le retour vers la position de déverrouillage, et fournit un élément d’appui 7 simple à installer, puisqu’il comporte directement l’élément de rappel élastique 9.
L’élément de rappel élastique 9 comporte par exemple tout élément susceptible de fournir un renvoi élastique de par sa structure : ressort, matériau élastiquement compressible ou étirable de type résine ou élastomère, lamelle, élastique…
Selon une forme de réalisation, l’élément de rappel élastique 9 comporte un ressort travaillant en compression entre l’élément d’appui 7 et le plateau supérieur 2.
Un tel ressort facilite l’assemblage car il est susceptible d’être positionné très facilement avec le reste du dispositif 1 sur le plateau supérieur 2.
Dans un mode de réalisation, le ressort est disposé centralement dans l’élément d’appui 7, ce qui facilite son positionnement et diminue l’encombrement du dispositif 1.
Avantageusement, au moins certains des moyens de rappel en position de déverrouillage 9,12 sont disposés sur l’au moins un organe de verrouillage 6.
Cette disposition permet d’ajouter des moyens complémentaires de rappel en position de déverrouillage pour démultiplier leur effet.
Les moyens de rappel en position de déverrouillage 9,12 disposés sur le ou les organes de verrouillage 6 comportent par exemple, pour chaque organe de verrouillage 6, un contrepoids 12 transversal à l’au moins un organe de verrouillage 6 et adapté pour pouvoir faire tourner ce dernier selon son axe de rotation propre vers l’élément d’appui 7 de manière à positionner le ou les organes de verrouillage 6 dans leur position de déverrouillage sous l’effet de la gravité.
Le contrepoids 12 facilite ainsi mouvement de l’élément d’appui 7 dans le premier sens, ce qui permet de donner à l’au moins un organe de verrouillage 6 une position naturelle en l’absence de presse qui est sa position de déverrouillage, et également d’assister les autres moyens de rappel en position et donc de diminuer leur encombrement.
A défaut de contrepoids 12, l’opérateur peut également appuyer sur le ou les organes de verrouillage 6 pour les mettre en position de déverrouillage.
Le ou les organes de verrouillage 6 comportent par exemple des extrémités coudées 13 adaptées pour crocheter le rebord 5 lorsqu’ils sont repoussés par l’élément d’appui 7, ce qui les maintient dans la position de verrouillage et bloque le plateau supérieur 2 par rapport au plateau inférieur 3.
La force supportée par le ou les organes de verrouillage 6 est par exemple de l’ordre de cent kilonewtons.
caractérisé en ce qu’il comprend : Pour chaque pixel final considéré ou chaque groupe de photogénérateurs considéré, une transcription d’au moins pixel initial ou d’au moins un domaine de pixel initial en ce pixel final ou groupe de photogénérateurs considéré: à partir des composantes de luminosité et/ou couleur et/ou teinte de cet au moins un pixel initial ou au moins un domaine de pixel initial vers ce pixel final ou groupe de photogénérateurs considéré,
la transcription se faisant au prorata de cet au moins pixel initial ou au moins un domaine de pixel initial au sein d’une surface commune en regard entre : cet au moins pixel initial ou au moins un domaine de pixel initial et le pixel final ou groupe de photogénérateur considéré.
Pour la transcription, si le pixel final ou groupe de photogénérateurs considéré est en regard de différents pixels initiaux et/ou domaines des pixels initiaux, ses composantes de luminosité et/ou couleur et/ou teinte peuvent être une moyenne pondérée au prorata des surfaces respectives de ces différents pixels initiaux et/ou domaines des pixels initiaux en regard du pixel final ou groupe de photogénérateurs considéré.
Pour la transcription, les composantes de luminosité et/ou couleur et/ou teinte d’un pixel initial peuvent être modulées par les valeurs de gradient spatial de chaque partie de domaine de pixel initial en regard du pixel final ou du groupe de photogénérateurs considéré.
Une ligne de séparation d’un pixel initial peut être utilisée pour être visualisable et apporter sa contribution aux luminosités et/ou couleurs et/ou teintes d’au moins du pixel final ou du groupe de photogénérateurs considéré, au prorata d’une surface de visualisation d’au moins une partie de la ligne de séparation en regard du pixel final ou du groupe de photogénérateurs considéré.
Suivant encore un autre aspect de l'invention, il est proposé un procédé de compression ou de décompression d’une image initiale enregistrée selon un procédé d’enregistrement selon l’invention, caractérisé en ce que l’on respectivement compresse ou décompresse l’image initiale en une image respectivement compressée ou décompressée respectivement en diminuant le volume d’informations représentant l’image compressée grâce à la compression, ou en augmentant le volume d’informations représentant l’image décompressée grâce à la décompression , la compression ou décompression portant sur au moins une composante parmi la ou les couleur(s) et/ou la ou les teinte(s) et/ou la luminosité et/ou l’au moins une ligne de séparation et/ou l’au moins un gradient spatial au sein de chaque pixel initial considéré.
On peut respectivement compresser ou décompresser l’image initiale de façon à rendre son contenu directement visualisable selon un procédé d’affichage ou de pixellisation ou de rastérisation selon l’invention.
On peut respectivement compresser ou décompresser l’image initiale, au moyen d’une transformation par ondelettes de chaque composante à compresser.
On peut respectivement compresser ou décompresser l’image initiale, au moyen d’une transformation par Transformation en Cosinus Discret (DCT).
Le procédé selon l’invention peut comprendre, après la compression ou décompression, une recherche de séquences identiques, et une indexation de ces séquences et remplacement de chaque séquence répétée par son indice dans un flux des données ou informations de l’image.
Le procédé selon l’invention peut utiliser une compression avec pertes sur au moins une composante parmi la ou les couleurs et/ou la ou les teinte(s) et/ou la luminosité et/ou l’au moins une ligne de séparation et/ou l’au moins un gradient spatial de chaque pixel initial considéré ou de l’au moins une séparation au sein de chaque pixel initial considéré, et sans perte sur au moins une autre composante parmi activation de l’au moins une séparation, et/ou visualisation de l’au moins une séparation et/ou largeur de l’au moins une séparation.
Suivant encore un autre aspect de l'invention, il est proposé un produit programme d'ordinateur ou un programme d'ordinateur comprenant des instructions :
- de code informatique pour exécuter l’un quelconque des procédés selon l'invention précédemment exposé, et/ou
- qui, lorsque le programme est exécuté par un ordinateur et/ou un processeur et/ou tout moyen informatique, conduisent celui-ci à mettre en œuvre l’un quelconque des procédés selon l'invention précédemment exposé.
Suivant encore un autre aspect de l'invention, il est proposé un support de données (lisible par ordinateur), sur lequel est enregistré (de préférence de manière non transitoire) un produit programme d'ordinateur ou un programme d'ordinateur selon l’invention.
De préférence, l’axe Y du tube 46 et l’axe de l’entonnoir 44 ne sont pas confondus, mais sécants. De la sorte, lorsque l’axe du tube 46 est orienté à l’horizontale, l’entonnoir 44 peut être orienté légèrement vers le bas, ce qui est plus confortable pour une utilisatrice dont le sein est placé dans l’entonnoir 44. En effet, une telle configuration permet d'imiter la position d’un l'enfant allaité sous la ligne médiane du mamelon et du tissu aréolaire d’un sein.
Le tube 46 a une extrémité proximale formant une jonction avec l’entonnoir 44, et une extrémité distale 50 libre, opposée à l’extrémité proximale. Le tube 46 présente à son extrémité distale 50 un orifice distal 52 (non visible sur la , mais visible sur la ). L’orifice distal 52 est délimité par la surface interne de la paroi annulaire. Lorsque cette surface est de révolution, l’orifice distal 52 est circulaire. L’orifice distal 52 constitue une sortie du tunnel. Ainsi du lait extrait d’un mamelon inséré dans le tunnel via l’extrémité proximale peut s’écouler dans le tunnel délimité par le tube 46 selon une direction d’écoulement sensiblement parallèle à l’axe du tube 46, et peut sortir du tunnel et plus généralement de la téterelle 6 par l’orifice distal 52.
Il est toutefois à relever que deux orifices supplémentaires 54, 56 sont ménagés dans la paroi annulaire 48 du tube 46.
Les orifices supplémentaires prolongent l’orifice distal 52.
Les deux orifices supplémentaires 54, 56 sont diamétralement opposés l’un à l’autre par rapport à l’axe du tube 46. Ils présentent par exemple une forme oblongue, c’est-à-dire allongée et arrondie à leur extrémité.
L’orifice 56 est un orifice inférieur, dans la mesure où celui-ci a vocation à être placé sous l’axe du tube 46 dans une position d’utilisation du tire-lait 1. Par contraste, l’orifice 54 est un orifice supérieur, dans la mesure où celui-ci a vocation à être placé au-dessus de l’axe du tube 46 dans la même position d’utilisation du tire-lait 1.
La téterelle 6 comprend par ailleurs une butée 58 faisant saillie depuis la surface extérieure du tube 46, au niveau de l’extrémité proximale du tube 46. La butée forme une collerette s’étendant autour de la paroi annulaire 48 du tube 46.
La téterelle 6 est réalisée dans un matériel souple et résistant tel que le silicone, de sorte à améliorer le confort d'utilisation par rapport aux téterelles en plastique rigide.
En référence à la , le diaphragme 12 comprend une paroi 60 de forme circulaire. La paroi 60 a une surface proximale 62 et une surface distale 64 opposée à la surface proximale 62.
Le diaphragme 12 comprend une gorge annulaire 66 formée dans la surface proximale 62. Par exemple, la gorge annulaire est ménagée entre deux nervures annulaires.
La paroi est réalisée dans un matériau déformable, tel que le silicone.
Au repos, c’est-à-dire dans un état non déformé, la surface distale 64 est concave, de sorte à définir un creux pouvant recevoir au moins en partie le bossage 43 du boîtier 2.
La paroi 60 est adaptée pour passer de l’état de repos à un état déformé. Au cours de cette déformation, la surface proximale 62 se creuse et la surface distale 64 se bombe. La paroi 60 est adaptée pour passer de l’état déformé à l’état de repos par retour élastique.
On va à présent décrire le connecteur 10 en référence aux figures 12 à 14 . Le connecteur 10 assure plusieurs fonctions.
Premièrement, le connecteur 10 sert de support pour les autres parties de l’unité de collecte de lait 4. Ainsi, le connecteur 10 constitue une pièce à laquelle la téterelle 6, le réservoir 8 et le diaphragme 12 peuvent simultanément être fixés de manière amovible.
Deuxièmement, le connecteur 10 participe à l’extraction de lait, en coopération avec la pompe 18 et le diaphragme 12. On verra plus loin comment cette extraction de lait est réalisée.
La présente demande peut être réalisée comme suit :
Dans un premier aspect, la présente demande fournit un matériau d’électrode positive d’oxyde de cobalt et de lithium modifié, qui est dopé au tungstène et à l’erbium ;
dans lequel, le dopage en tungstène a une concentration diminuant progressivement de l’intérieur vers l’extérieur du matériau d’électrode positive d’oxyde de cobalt et de lithium modifié, et le dopage de l’erbium a une concentration augmentant progressivement de l’intérieur vers l’extérieur du matériau d’électrode positive d’oxyde de cobalt et de lithium modifié.
Dans un deuxième aspect, la présente demande fournit un procédé de production du matériau d’électrode positive d’oxyde de cobalt et de lithium modifié du mode de réalisation susmentionné, comprenant les étapes de :
mélange d’un précurseur avec de l’oxyde d’erbium et une source de lithium, et frittage du mélange ;
dans lequel, le précurseur est le tétroxyde de tricobalt a un dopage à gradient au tungstène, et le tétroxyde de tricobalt a en outre des lacunes atomiques avec une distribution de densité à gradient pour permettre aux éléments erbium de s’intégrer dans les lacunes atomiques pendant le processus de frittage pour former un dopage à gradient ;
le dopage en tungstène a une concentration diminuant progressivement de l’intérieur vers l’extérieur du précurseur ; et les lacunes atomiques ont une densité augmentant progressivement de l’intérieur vers l’extérieur du précurseur.
Dans un mode de réalisation facultatif, le précurseur, l’oxyde d’erbium et la source de lithium sont mélangés selon un rapport molaire de l’élément lithium, de l’élément erbium et de l’élément cobalt de 1,0-1,3:0,3-0,5:1.
Dans un mode de réalisation facultatif, le précurseur, l’oxyde d’erbium et la source de lithium sont pré-mélangés à 500-800 tr/min pendant 5 à 8 min, puis mélangés à 3500-4000 tr/min pendant 10 à 20 min.
Dans un mode de réalisation facultatif, la source de lithium est choisie dans le groupe constitué par le carbonate de lithium, l’hydroxyde de lithium, l’acétate de lithium et une combinaison de ceux-ci.
Dans un mode de réalisation facultatif, le frittage est effectué à 800-1000°C pendant 10 à 20 h.
Dans un mode de réalisation facultatif, le processus de frittage est un frittage en phase solide dans une atmosphère contenant de l’oxygène.
Dans un mode de réalisation facultatif, le précurseur est préparé par :
la coprécipitation d’une solution de sel de cobalt, d’une solution de sel de tungstène et d’une solution de sel de molybdène pour obtenir de l’hydroxyde de cobalt dopé au tungstène et au molybdène ;
la calcination de l’hydroxyde de cobalt pour obtenir un matériau calciné ;
le trempage du matériau calciné dans une solution de sulfure de sodium pour éliminer le molybdène pour former de manière correspondante des lacunes atomiques, la soumission du mélange à une séparation solide-liquide et le séchage du matériau solide.
Pour les convertisseurs résonants DC-DC LLC 140, la stratégie de modulation la plus fréquemment mise en œuvre est la modulation de fréquence d'impulsion généralement connue sous son appellation anglophone de Pulse Frequency M odulation , abrégé PFM. Elle consiste à faire varier la fréquence de commutation des signaux de commande des MOSFET avec un rapport cyclique fixe.
En mode G2V, les MOSFET de puissance du pont complet du côté primaire du transformateur sont commandés en complément avec un rapport cyclique de 0,5 ignorant le temps mort, où les MOSFET du pont complet du côté secondaire sont ouverts ( OFF ).
En mode V2G, les MOSFET du pont complet du côté secondaire sont commandés et ceux du pont complet du côté primaire sont ouverts.
Une stratégie de contrôle PFM basée sur une méthode d'inversion de gain a été développée dans le document FR1856534 assurant une réponse plus stable par rapport aux perturbations du courant continu à l'entrée DC-DC.
La zone de faisabilité de la fréquence de commutation est comprise entre 60 et 200 kHz pour garantir la condition dite ZVS ( Zero Voltage Switching ). Cette condition de faisabilité de la fréquence constitue un problème quant à la minimisation des coûts liés à l'implémentation logicielle (en particulier liée au fonctionnement du FPGA) et matérielle (concernant le dimensionnement du chargeur) dans le chargeur du véhicule électrique.
Cependant, lorsque la stratégie PFM est adoptée pour une application à large plage d'entrée/sortie dans le chargeur de batterie embarqué en modes G2V et V2G, une large plage de fréquences de commutation est nécessaire pour répondre à l'exigence de gain de tension du système dans les deux directions de charge.
Cette large plage de fréquences de commutation entraîne une perte d'opération de commutation douce, ce qui se traduit par un faible rendement de conversion et des performances de contrôle.
Les figures 4a et 4b représentent les fréquences de commutation obtenues à partir de la méthode d'inversion de gain décrit dans le document FR1856534, respectivement dans les modes G2V et V2G par rapport aux variations de tension et de puissance de la batterie.
On remarque que dans chaque et 4b est présent une zone 20, 20’ de fonctionnement où la fréquence de commande est saturée à 200 kHz, qui est la fréquence de commutation maximale autorisée.
En mode G2V, il existe une zone de taille réduite de saturation de la fréquence lors du fonctionnement dans la zone de faible tension de la batterie et de faible puissance.
En mode V2G, il existe une importante zone de saturation de fréquence.
Le fonctionnement en zone de saturation génère un rendement faible et provoque une erreur importante de régulation de la tension du bus DC avec la stratégie PFM.
Aussi il existe le besoin de trouver une solution pour permettre de réguler la tension du bus DC d’un chargeur bidirectionnel même lorsque le convertisseur LLC est saturé à des fréquences supérieures à 200KHz, évitant ainsi une perte de régulation du bus DC.
A cet effet, on propose un procédé de régulation d’un chargeur bidirectionnel comprenant un convertisseur AC-DC bidirectionnel connecté par un bus continu à un convertisseur DC-DC bidirectionnel, ledit chargeur étant connecté d’une part à une batterie électrique et d’autre part à un réseau électrique alternatif, ledit chargeur étant adapté pour fonctionner en charge et en décharge de ladite batterie.
Le procédé comprend une étape de détermination d’une zone de fonctionnement du convertisseur DC-DC bidirectionnel, choisie parmi une zone saturée et une zone non saturée, en fonction du mode de fonctionnement du chargeur, en charge ou en décharge, en fonction de la tension de la batterie et en fonction de la puissance de la batterie ;
le procédé met en œuvre un ensemble d’étapes de régulation de la tension du bus continu comprenant :
Détermination de la température des gaz de sortie