INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Selon une caractéristique remarquable de la boîte de sol 1, comme le montrent les figures 2 et 3, au moins une desdites rainures 100, 200 présente, d’une part, une partie de guidage 110, distincte de ladite partie de rotation 120, qui s’étend au moins en partie 111 selon un axe X1 parallèle au bord avant 11 de la paroi latérale 10, et, d’autre part, une partie de jonction 130 en forme de chicane qui établit le lien entre la partie de rotation 120 et la partie de guidage 110. Cette partie de jonction 130 présente un bord de butée 131 qui fait face à ladite partie de rotation 120 et qui s’étend selon une direction Y perpendiculaire audit bord avant 11, sur une distance d supérieure ou égale à la hauteur H du tourillon 36 (voir figures 3 et 9).
Ici, comme le montre la , les deux rainures 100, 200 sont différentes, la rainure 100 comporte les parties de rotation et d’engagement reliées par la partie de jonction et l’autre rainure 200 comprend uniquement la partie de rotation 220.
Selon l’exemple représenté sur les figures 1 à 9, les rainures 100, 200 viennent de formation avec ladite paroi latérale 10. Elles sont découpées dans les panneaux 10B pour déboucher sur les deux faces opposées des panneaux 10B de cette paroi latérale 10. En particulier, la rainure 100 est délimitée entre deux bords longitudinaux 100A, 100B continus qui s’étendent en parallèle depuis un bord d’extrémité 100C, situé à une extrémité de la partie d’engagement 110, jusqu’à l’autre bord d’extrémité 100D situé à l’extrémité de la partie de rotation 120.
Chaque rainure 100, 200 présente une largeur l qui correspond au jeu près à la hauteur H de chaque tourillon 36. Ainsi, la partie de guidage 110, la partie de jonction 130 et la partie de rotation 120 de ladite rainure 100 présentent la même largeur l , mesurée entre les bords longitudinaux 100A, 100B de ladite rainure 100 (voir ).
Comme le montre plus particulièrement la , la partie de jonction 130 comporte, d’une part, une première section d’extrémité S1, située du même côté que ledit bord de butée 131 et communiquant avec ladite partie de guidage 110, et, d’autre part, une deuxième section d’extrémité S2, distincte de la première section d’extrémité S1, faisant face audit bord de butée 131 et communiquant avec ladite partie de rotation 120.
- le couple de points proches est disposé à égale distance de la première languette et de la deuxième languette.
- le couple de points distants est disposé à égale distance de la première languette et de la deuxième languette.
- chaque coque comprend au moins deux bossages longitudinaux qui s’étendent entre la première extrémité de manchon et une bordure externe de collerette et qui bordent conjointement une ligne d’inflexion qui s’étend également entre la première extrémité de manchon et une bordure externe de collerette.
- le premier orifice est pourvue d’une lentille correctrice.
La est une vue de côté d’une tête d’un cheval équipée d’une paire de lunettes de la présente invention.
La est une vue de face de la tête de cheval qui est illustrée sur la et qui est porteuse de la paire de lunettes de la présente invention.
La est une vue de côté d’une coque constitutive de la paire de lunettes illustrée sure les figures précédentes.
La est une vue en coupe de la coque illustrée sur la .
La est une vue de dessous de la coque illustrée sure les figures 3 et 4.
La présente invention concerne une paire de lunettes 1 destinée à équiper une tête 100 d’un équidé, la paire de lunettes 1 comprend un jeu de sangles 20 et deux coques 11, 12, chaque coque 11, 12 comprenant un manchon 3 qui s’étend entre une première extrémité de manchon 31 et une deuxième extrémité de manchon 32, la première extrémité de manchon 31 étant pourvue d’un premier orifice 41 et la deuxième extrémité de manchon 32 étant pourvue d’un deuxième orifice 42.
Ladite deuxième extrémité du manchon 32 est pourvue d’une collerette 5 équipant un pourtour 4 du deuxième orifice 42.
Sur les figures 1 et 2, une tête 100 d’un équidé est équipée d’une paire de lunettes 1 selon la présente invention. On note qu’un tel équidé est indifféremment un cheval, un âne, un poney ou un équidé analogue. La description suivante se concentre sur une paire de lunettes 1 prévues pour équiper la tête 100 d’un cheval mais est transposable à un quelconque équidé. La paire de lunettes 1 comprend deux coques 11, 12, dont une première coque 11 destinée à équiper un œil droit du cheval et une deuxième coque 12 destinée à équiper un œil gauche. La première coque 11 et la deuxième coque 12 sont habituellement la symétrique l’une de l’autre par rapport à un plan de symétrie P interposé entre l’une et l’autre. Autrement dit, on obtient l’une des coques 11, 12 à partir d’une symétrie orthogonale par rapport au plan de symétrie P interposé entre les deux coques 11, 12. Lorsque la paire de lunettes 1 équipe le cheval le plan de symétrie P est préférentiellement un plan sagittal du cheval. Selon une autre variante, la première coque 11 et la deuxième coque 12 ne sont pas symétriques par rapport au plan sagittal du cheval.
Un jeu de sangles 20 est prévu pour maintenir les coques 11, 12 sur la tête 100 du cheval de manière fiable, précise et robuste sans toutefois entraîner une gêne pour le cheval, et a fortiori sans risque de le blesser. Plus particulièrement, le jeu de sangles 20 est prévu pour maintenir chaque coque 11, 12 autour d’un œil 101, 102 du cheval respectif que la coque 11, 12 équipe. Le jeu de sangles 20 comprend une sangle frontale 21 qui est destinée à relier les deux coques 11, 12 ensemble sur une ligne frontale 210 reliant sensiblement les deux yeux 101, 102 du cheval. La sangle frontale 210 est notamment réglable en fonction d’une largeur du chanfrein du cheval. Le jeu de sangles 20 comprend aussi une sangle inférieure 22 qui est destinée à relier également les deux coques 11, 12 ensemble en s’étendant le long d’une ligne inférieure 220 qui passe sous une sous-gorge 103 du cheval. La ligne inférieure 220 s’étend sensiblement dans le prolongement de la ligne frontale 210. Le jeu de sangles 20 comprend également une sangle supérieure 23 qui s’étend entre deux extrémités 231 pourvues de boucles 232 à l’intérieur desquelles coulisse la sangle inférieure 22. On comprend que chaque boucle 232 délimite un espace interne 234 apte à recevoir une portion de la sangle inférieure 22. Chaque boucle 232 est par exemple réalisée à partir d’un repli de l’extrémité 231 de la sangle supérieure 23 sur elle-même, l’extrémité 231 de la sangle supérieure 23 étant pourvue de premiers éléments d’accroche 231a coopérants avec des deuxièmes éléments d’accroche 231b équipant la sangle supérieure 23 pour former ladite boucle 232. On comprend que les éléments d’accroche 231a, 231b sont des éléments de liaison réversibles pour faciliter une pose et une dépose de la sangle supérieure 23 sur la sangle inférieure 22. On note aussi que chacune des sangles 21, 22, 23 est pourvue de moyens de réglage 2 d’une longueur de la sangle 21, 22, 23 pour faciliter et optimiser une mise en place de la paire de lunettes 1 sur la tête 100 du cheval ainsi qu’une stabilité de la paire de lunettes 1 sur la tête 100 du cheval.
Sur les figures 3 à 5, sont représentés une des deux coques 11, 12, et notamment en l’espèce la première coque 11. On note à ce stade de la description que ce qui va être dit pour la première coque 11 est transposable pour la deuxième coque 12 en raison de la symétrie évoquée selon la variante ci-dessus. Chaque coque 11, 12 comprend un manchon 3 qui s’étend axialement entre une première extrémité de manchon 31 et une deuxième extrémité de manchon 32. On comprend en cela que le manchon 3 s’étend principalement selon un axe d’extension générale A1. La première extrémité de manchon 31 est pourvue d’un premier orifice 41 et la deuxième extrémité de manchon 32 est pourvue d’un deuxième orifice 42. Le premier orifice 41 et le deuxième orifice 42 sont ménagées en vis-à-vis l’un de l’autre. L’axe d’extension générale A1 traverse chacun des orifices 41, 42. L’axe d’extension générale A1 est disposé à égal distance des rebords qui délimitent chacun des orifices 41, 42. On note que le premier orifice 41 est d’une première surface S1 qui est inférieure à une deuxième surface S2 du deuxième orifice. Préférentiellement, la première surface correspond à 60% de la deuxième surface S2, à +/- 10% près.
Le deuxième orifice 42 est délimité par un pourtour 4 qui est pourvue d’une collerette 5. En chaque point du pourtour 4, la collerette 5 et le manchon 3 forment un premier angle α qui est compris entre 90° et 120°, tel qu’illustré sur la . Ainsi, la collerette 5 forme une surface d’appui de la coque 11, 12 sur la tête 100 du cheval. Plus particulièrement, la collerette 5 est conformée pour épouser un squelette et/ou une musculature de la tête 100 du cheval, pour un maintien optimisé de la paire de lunettes 1 sur la tête 100 du cheval. Ainsi la collerette 5 comprend au moins un point d’inflexion et/ou une circonvolution permettant une telle adaptation de la coque 11, 12 sur la tête 100 du cheval.
En référence aux figures 2 à 4, ladite poutre centrale 2 comporte au moins un caisson 6 en partie fermé, ce dernier étant formé par au moins : - une aile supérieure 7 horizontale et en forme générale de rectangle allongé, c'est-à-dire que sa forme est inscrite dans un rectangle allongé, - une aile inférieure 8 comprenant une paroi médiane 9 basse horizontale, deux parois d'extrémités 10 hautes horizontales et deux parois inclinées 11 reliant chacune la paroi médiane 9 à l'une des parois d'extrémités 10, et - deux âmes 12 verticales parallèles entre elles et reliant l'aile supérieure 7 à l'aile inférieure 8 de sorte que lesdites ailes supérieure et inférieure 7, 8 s'étendent au-delà desdites deux âmes 12 verticales.
On désigne ici par "caisson" un élément ou partie d'élément comportant deux parois sensiblement horizontales reliées entre elles par deux parois sensiblement verticales de sorte à avoir une section transversale en forme générale de quadrilatère.
De plus, on désigne ici par "sensiblement horizontal" ou "sensiblement vertical" des élément ou partie d'élément faisant respectivement avec l'horizontale ou la, verticale un angle compris entre -20 et + 20°.
Les ailes supérieure et inférieure 7, 8 et les âmes 12 pourront être formées à partir de plusieurs pièces assemblées classiquement par soudure et être ajourées sans sortir du cadre de la présente invention.
Avec cette configuration, on comprend bien que le caisson qui est formé par les ailes supérieure et inférieure 7, 8 et les deux âmes 12, permet le passage éventuel de câbles électriques et/ou du circuit hydraulique et pneumatique. Par ailleurs, ce type de poutre centrale 2 en caisson est significativement plus flexible qu'une structure en treillis. De plus, avec cette configuration, la hauteur de la poutre centrale 2 est maximale au niveau de la paroi médiane 9 de son aile inférieure 8 et minimale au niveau des parois d'extrémités 10 de son aile inférieure 8. Cette configuration spécifique permet de limiter le poids de la poutre centrale 2 tout en garantissant une résistance mécanique élevée de cette dernière, de manière à respecter notamment les exigences fonctionnelles issues des normes de transport de fret (Définition d'une flèche maximale pour un cas de chargement donné). Ainsi, grâce à sa flexibilité et sa légèreté, la configuration en caisson de la poutre centrale 2 permet d’améliorer l’amicalité au rail d'un wagon muni de la structure 1 selon l'invention et de réduire l’usure de la bande de roulement des essieux et les émissions de bruit.
Par ailleurs, on comprend bien que, de manière classique, les ailes supérieure et inférieure 7, 8 et les deux âmes 12 sont en outre liées entre elles par une pluralité de voiles internes 13.
Pour des raisons évidentes de simplicité de fabrication et de mise en œuvre, l'aile supérieure 7, la paroi médiane 9, les parois d'extrémités 10, les parois inclinées 11 et les âmes 12 sont avantageusement planes. Toutefois, il va de soi qu'elles pourront également ne pas être planes sans sortir du cadre de la présente invention.
De plus, en référence aux figures 2 et 3, selon un mode de réalisation avantageux, l'aile supérieure 7 comprend une pluralité de rebords longitudinaux 14 disposés en vis-à-vis le long de chacun de ses faces longitudinales verticales 15, chaque rebord longitudinal 14 étant apte à recevoir au moins une partie d'un des supports longitudinaux 5. Chaque rebord longitudinal 14 présente avantageusement un congé 16 au niveau de la jonction de chacune de ses faces latérales verticales 17 avec la face longitudinale verticale 15 correspondante de l'aile supérieure 7, afin de ne pas comporter d'angle vif et réduire les concentrations de contraintes mécaniques.
De même, afin de renforcer la structure 1 à la jonction entre la poutre centrale 2 et chacune des première et deuxième plateformes d’attelage 3, 4, les extrémités longitudinales du caisson 6, à savoir celles de l'aile supérieure 7 et des deux parois d'extrémités 10 de l'aile inférieure 8, s'évasent en direction de l'extérieur du caisson 6.
Comme décrit précédemment, ladite structure 1 comprend également des première et deuxième plateformes d’attelage 3, 4 fixées chacune à l'une des extrémités longitudinales de ladite poutre centrale 2.
Ainsi, en référence aux figures 6 à 8, chacune des première et deuxième plateformes d’attelage 3, 4 comporte au moins un caisson 18 en partie fermé, ce dernier étant formé par au moins: - une paroi supérieure 19 ayant une section transversale en forme de U inversé et comprenant une portion horizontale 20 en forme générale de rectangle et deux bords tombés 21 s'étendant chacun verticalement vers le bas de la structure 1 depuis l'un des bords longitudinaux de ladite portion horizontale 20, et - une paroi inférieure 22 horizontale en forme générale de rectangle et fixée entre les deux bords tombés 21 de paroi supérieure 19 de sorte que ces derniers s'étendant avantageusement au-delà de ladite paroi inférieure 22, les parois supérieure et inférieure 19, 22 formant alors ledit caisson.
Par ailleurs, chacune des première et deuxième plateformes d’attelage 3, 4 comporte également une traverse 24 en forme générale de tube constitué d'au moins deux âmes 25 verticales parallèles entre elles, disposées transversalement entre les parois supérieure et inférieure 19, 22, et reliant ces dernières entre elles, ladite traverse 24 étant agencée pour permettre la fixation d'un bogie sous la première plateforme d’attelage 3 ou la deuxième plateforme d’attelage 4 et reprendre les efforts mécaniques associés, mais également pour permettre le passage éventuel de câbles électriques et/ou du circuit hydraulique et pneumatique.
Les parois supérieure et inférieure 19, 22 pourront être formées à partir de plusieurs pièces assemblées classiquement par soudure et être ajourées sans sortir du cadre de la présente invention.
La hauteur de chacune des première et deuxième plateformes d’attelage 3, 4 est relativement réduite et égale à la hauteur minimale de la poutre centrale 2, c'est-à-dire la hauteur aux extrémités longitudinales de son caisson 6 au niveau des parois d'extrémités 10 de son aile inférieure 8. Cette configuration est intéressante car elle permet d'optimiser la structure 1 selon l'invention en réduisant sensiblement son poids. Par ailleurs, avec cette configuration, chacune des première et deuxième plateformes d’attelage 3, 4 est assemblée sur la poutre centrale 2 et fixant ses parois supérieure et inférieure 19, 22 respectivement sur et dans le prolongement de l'aile supérieure 7 et d'une des deux parois d'extrémités 10 de l'aile inférieure 8 de ladite poutre centrale 2.
On désigne ici par "hauteur de chacune des première et deuxième plateformes d’attelage 3, 4" la dimension hors-tout entre leur paroi supérieure 19 et leur paroi inférieure 22.
Chacune des première et deuxième plateformes d’attelage 3, 4 comporte en outre un logement 26 aménagé sur sa face latérale située du côté opposé à la poutre centrale 2 de la structure 1, ledit évidement 26 étant agencé pour recevoir une partie d'un attelage permettant d'atteler ladite structure 1 selon l'invention à une structure 1 d'un wagon adjacent ou à une locomotive.
Les figures 2B à 2D illustrent chacune schématiquement les premier à troisième aspects dans lesquels les films de silicium réfléchissant les infrarouges 30 sont formés par une structure stratifiée d’une/de couche(s) de silicium amorphe et d’une/de couche(s) de silicium polycristallin.
Dans le premier aspect du film de silicium réfléchissant les infrarouges 30 illustré en , la couche de silicium polycristallin 35 est prévue sur un côté de surface de la galette de silicium pour substrat de support 10, et la couche de silicium amorphe 32 est prévue sur le côté de surface de la couche de silicium monocristallin 21.
Dans le deuxième aspect du film de silicium réfléchissant les infrarouges 30 illustré en , la couche de silicium polycristallin 35 est prévue sur un côté de surface de la couche de silicium monocristallin 21, et la couche de silicium amorphe 32 est prévue sur le côté de surface de la galette de silicium pour substrat de support 10.
Dans le troisième aspect du film de silicium réfléchissant les infrarouges 30 illustré en , le film de silicium réfléchissant les infrarouges 30 a une couche de silicium polycristallin 35a et une couche de silicium polycristallin 35b prévues sur le côté de surface d’à la fois la galette de silicium pour substrat de support 10 et la couche de silicium monocristallin 21, respectivement. La couche de silicium amorphe 32 est prévue entre la couche de silicium polycristallin 35a et la couche de silicium polycristallin 35b.
Dans les premier à troisième aspects où le film de silicium réfléchissant les infrarouges 30 est formé par une structure stratifiée d’une/de couche(s) de silicium amorphe et d’une/de couche(s) de silicium polycristallin, les cas suivants sont déterminés en raison des modes de réalisation du procédé de production : le cas où la couche de silicium polycristallin et la couche de silicium amorphe sont stratifiées dans cet ordre à partir du côté de la galette de silicium pour substrat de support 10 dans le film de silicium réfléchissant les infrarouges 30 ; le cas où la couche de silicium amorphe et la couche de silicium polycristallin sont stratifiées dans cet ordre à partir du côté de la galette de silicium pour substrat de support 10 dans le film de silicium réfléchissant les infrarouges 30 ; et le cas où la couche de silicium polycristallin, la couche de silicium amorphe et la couche de silicium polycristallin sont stratifiées dans cet ordre à partir du côté de la galette de silicium pour substrat de support 10 dans le film de silicium réfléchissant les infrarouges 30. De plus, dans les premier à troisième aspects illustrés, bien que ceci ne soit pas représenté, la structure stratifiée peut en outre comprendre une structure stratifiée formée par une ou chacune des couche(s) de silicium amorphe et couche(s) de silicium polycristallin supplémentaire(s). Dans les deux cas, pour les galettes de silicium liées 2 à 5 selon cette divulgation, la structure stratifiée de la ou des couche(s) de silicium amorphe et de la ou des couche(s) de silicium polycristallin fonctionnera également en tant que film de silicium réfléchissant les infrarouges. Ce qui suit est une description séquentielle des modes de réalisation pour produire les galettes de silicium liées 2 à 5.
(3. Premier mode de réalisation de procédé pour la production d’une galette de silicium liée)
En référence à la , le procédé de production d'une galette de silicium liée 100 selon le premier mode de réalisation est décrit. Ce mode de réalisation est un procédé de production de la galette de silicium liée 2 en , et est un mode de réalisation de la galette de silicium liée 1 en où le film de silicium réfléchissant les infrarouges 30 est fait de silicium amorphe.
Le procédé de fabrication de la galette de silicium liée 100 comprend les étapes suivantes : un processus de formation d'une/de couche(s) formée(s) d'un film de silicium amorphe (voir S110 et S120 en ) formant la couche formée d'un film de silicium amorphe 131 d'une épaisseur de 15 nm ou plus à la surface de la galette de silicium pour substrat de support 110 ; un processus de traitement d'activation (voir S130 et S140 en ) soumettant la surface de la couche formée d’un film de silicium amorphe 131 et la surface de la galette de silicium pour couche de silicium monocristallin 120 à un traitement d'activation sous vide à température normale pour rendre les deux surfaces des zones activées 132a, 132b ; un processus de liaison (voir S150 en ), suivant ce processus de traitement d'activation, mettant en contact les deux zones activées 132a, 132b l'une avec l'autre sous vide à température normale, liant ainsi entre elles les deux zones activées 132a, 132b pour former le film de silicium réfléchissant les infrarouges 130 ; et un processus de réduction d'épaisseur (voir S160 en ), après le processus de liaison, réduisant l'épaisseur de la galette de silicium pour couche de silicium monocristallin 120, obtenant ainsi la couche de silicium monocristallin 121. Les détails de chaque processus sont décrits séquentiellement ci-dessous.
Dans le processus de formation d'une/de couche(s) formée(s) d'un film de silicium amorphe (voir S110 et S120 en ), la couche formée d'un film de silicium amorphe 131 faite de silicium amorphe est formée à la surface de la galette de silicium pour substrat de support 110. La couche formée d'un film de silicium amorphe 131 peut être formée par des procédés généralement connus. L'épaisseur de la couche formée d'un film de silicium amorphe 131 formée ici est de 15 nm ou plus de sorte que la zone de silicium amorphe fonctionnera en tant que film de silicium réfléchissant les infrarouges lorsqu'elle est transformée en une galette de silicium liée. Pendant le traitement d'activation, les zones activées faites de silicium amorphe sont formées à partir de surfaces de chaque galette de silicium jusqu'à une position en profondeur d'environ 1 nm, par conséquent, lorsque les galettes de silicium sont liées ensemble, un film de silicium réfléchissant les infrarouges 130 d'une épaisseur de 16 nm ou plus est formé. L'épaisseur de la couche formée d’un film de silicium amorphe 131 formée au cours de ce processus est de préférence de 19 nm ou plus, plus préférablement de 24 nm ou plus, et encore plus préférablement de 29 nm ou plus. La limite supérieure de l'épaisseur de la couche formée d'un film de silicium amorphe 131 n'est pas particulièrement limitée, mais la limite supérieure est d'environ 40 nm pour une productivité industrielle.
La couche formée d'un film de silicium amorphe 131, qui est faite de silicium amorphe, peut être formée à la surface de la galette de silicium pour substrat de support 110 en utilisant un procédé CVD tel qu'un CVD au plasma. Si la couche est formée alors que la température de la galette de silicium pour substrat de support 110 est comprise entre 500°C et 600°C, la couche formée d'un film de silicium amorphe faite de silicium amorphe peut être amenée à croître.
Ensuite, dans le processus de traitement d'activation (voir S130 et S140 en ), le traitement d'activation est effectué pour la liaison sous vide à température normale. Autrement dit, la surface de la couche formée d'un film de silicium amorphe 131 de la galette de silicium pour substrat de support 110 et la surface de la galette de silicium pour couche de silicium monocristallin 120 sont soumises à un traitement d'activation par irradiation de faisceaux d'ions ou de faisceaux d'atomes neutres 910 sous vide à température normale pour former des zones activées 132a, 132b sur chaque surface de la galette de silicium pour substrat de support 110 et de la galette de silicium pour couche de silicium monocristallin 120. Comme décrit ci-dessous, à la surface de chaque galette de silicium, une zone activée faite de silicium amorphe est formée à une position en profondeur d'environ 1 nm de la surface du côté irradié par le faisceau, bien que la profondeur dépende de l'énergie injectée.