INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Le procédé 1 est de préférence mis en œuvre de manière embarquée dans un module logiciel qui s’ajoute ou est intégré à un navigateur Web, pour la prise en compte des images enregistrées selon le procédé 1, éventuellement leur compression ou décompression 12 telle que décrite par la suite, et/ou leur visualisation ou affichage 13 dans une partie ou dans la totalité d’un écran en interaction avec le navigateur web.
peuvent être ajoutés directement à l’image enregistrée selon le procédé 1 ou ajoutés lors de sa visualisation 13, afin d’être visualisables, éventuellement selon une sélection particulière qui n’en montre que tout ou partie, lors d’une restitution de l’image enregistrée.
Ainsi, le procédé 1 peut s’appliquer :
- à des images qui reçoivent (à partir d’un autre canal) des informations textuelles codées par des codes de caractères, activant des symboles sur l’image (tel un sous-titrage par exemple, ou une surcharge avec des caractères), et/ou
disperser le revêtement souple ; et
ajouter le matériau actif d’électrode positive ternaire dans le revêtement souple dispersé pour une opération de revêtement, de sorte que des surfaces de particules de matériau actif d’électrode positive ternaire sont revêtues d’une masse de revêtement souple pour obtenir le matériau d’électrode positive ternaire haute tension.
Dans un mode de réalisation, la procuration du revêtement souple comprend spécifiquement les étapes suivantes consistant à :
se procurer de l’aniline ;
ajouter de l’élastomère de polyuréthane dans l’aniline pour des opérations de dispersion et d’adhésion, de sorte que l’aniline est amenée à adhérer à l’élastomère de polyuréthane pour obtenir un liquide de revêtement ; et
exécuter une opération de polymérisation par oxydation in situ sur le liquide de revêtement pour obtenir le revêtement souple.
Dans un mode de réalisation, un rapport massique de l’aniline à l’élastomère de polyuréthane est de (0,5 à 1,25):1.
Dans un mode de réalisation, avant l’étape consistant à ajouter l’élastomère de polyuréthane dans l’aniline pour des opérations de dispersion et d’adhésion, la procuration du revêtement souple comprend en outre spécifiquement les étapes suivantes consistant à :
disperser et mélanger l’aniline et un acide phosphotungstique.
Dans un mode de réalisation, un rapport massique de l’aniline à l’acide phosphotungstique est de 1:(5 à 10).
Dans un mode de réalisation, de l’H 2 O 2 est utilisé pour exécuter l’opération de polymérisation par oxydation in situ sur le liquide de revêtement.
Par comparaison avec la technologie existante, la présente demande a au moins les avantages suivants :
Selon le matériau d’électrode positive ternaire haute tension de la présente invention, la masse de revêtement souple est le mélange de la polyaniline et de l’élastomère de polyuréthane et est appliquée en revêtement sur les surfaces externes des particules de matériau actif d’électrode positive ternaire, de sorte que le matériau d’électrode positive ternaire haute tension devient une pluralité de particules de matériau actif d’électrode positive ternaire dont la surface est revêtue de la polyaniline et de l’élastomère de polyuréthane mélangés. Du fait que la masse de revêtement souple contenant le mélange de la polyaniline et de l’élastomère de polyuréthane a à la fois de la souplesse et de la conductivité, la masse de revêtement souple peut s’adapter à des changements d’interface des particules de matériau actif d’électrode positive ternaire, de façon à maintenir une intégrité dynamique et une stabilité d’interface des particules de matériau actif d’électrode positive ternaire pendant le processus de charge et de décharge de la batterie contenant le matériau d’électrode positive ternaire haute tension (c’est-à-dire pendant un processus de désintercalation de lithium). Par ailleurs, la masse de revêtement souple peut fournir une interface de transmission d’ions lithium uniforme pour la désintercalation d’ions lithium, ce qui de cette manière réduit des réactions secondaires provoquées par une fragmentation facile des particules de matériau actif d’électrode positive ternaire et répond au problème d’incidence en fin de compte sur la performance après des cycles et la performance de sécurité de la batterie et de cette manière améliore la performance après des cycles et la performance de sécurité de la batterie.
La est un organigramme d’un procédé de préparation d’un matériau d’électrode positive ternaire haute tension selon un mode de réalisation de la présente invention ;
La est une image de MEB d’un matériau d’électrode positive ternaire haute tension du mode de réalisation 3 de la présente invention ; et
Dans l’étape 204, on détermine au moins un paramètre local dépendant de granulométrie. Le paramètre local dépendant de granulométrie caractérise un état physique de la matière. Le paramètre dépendant de granulométrie σy (x) caractérise dans l’exemple, la contrainte de cisaillement de critique du matériau, c’est-à-dire le comportement de la matière au point d’intégration associé à cet élément. Les paramètres dépendants de granulométrie A(x),B (x) caractérisent dans l’exemple la solidification cinématique du matériau, c’est-à-dire, le comportement du matériau au point d’intégration auquel est associé l’élément.
Dans l’exemple, on détermine un paramètre dépendant de granulométrie en fonction d’au moins un paramètre indépendant de granulométrie de l’élément. Dans l’exemple, on détermine les paramètres dépendants de granulométrie σy (x) ,A(x),B (x) pour l’élément en fonction des paramètres indépendants de granulométrie σ*y,A*,B*.
Dans l’exemple, on associe à l’élément un lieu x dans le matériau. Par exemple, dans l’étape 204, en fonction d’au moins un paramètre indépendant de granulométrie, on détermine un ensemble de valeurs d’au moins un paramètre local dépendant de granulométrie et ces paramètres sont associés à l’emplacement x dans le matériau. Dans l’exemple, en fonction des paramètres indépendants de granulométrie σ*y,A*,B* , on détermine un ensemble de valeurs de paramètres locaux dépendants de granulométrie σy (x) ,A(x),B (x) qui sont associés respectivement à un emplacement x dans le matériau.
A titre d’exemple, on associe à l’élément au moins un paramètre dépendant de granulométrie qui est associé au même emplacement x que l’élément. Dans l’exemple, on associe à l’élément les paramètres dépendants de granulométrie σy (x) ,A(x),B (x) qui correspondent au même emplacement x que l’élément.
On associe au moins un paramètre indépendant de granulométrie à une partie d’un volume du matériau. On associe l’ensemble des paramètres locaux dépendants de granulométrie à la partie du volume du matériau. Dans l’étape 204, on détermine par exemple des valeurs d’un paramètre à partir de l’ensemble des paramètres locaux dépendants de granulométrie dont la valeur moyenne, c’est-à-dire, dont la valeur moyenne pondérée en volume est principalement égale à au moins un paramètre indépendant de granulométrie.
A titre d’exemple, les paramètres indépendants de granulométrie σ*y, A* sont associés respectivement à un volume V du matériau. L’ensemble des paramètres locaux dépendants de granulométrie σy (x) ,A(x) est associé à une partie du volume V du matériau. Dans l’étape 204, on détermine au moins une valeur pour au moins l’un des paramètres dépendants de granulométrie σy (x) ,A(x),B (x), valeur pour laquelle une valeur moyenne respective pondérée en volume des valeurs de ce paramètre local dépendant de granulométrie σy (x) ,A(x),B (x) qui sont associés à cette partie du volume V du matériau est pratiquement égale au paramètre respectif indépendant de granulométrie σ*y, A*,B*.
On peut prévoir de subdiviser le volume V en un nombre de grains ngrain. Dans l’exemple, on considère les grains comme partie du volume V. Dans l’exemple, en fonction d’une distribution prédéfinie de diamètres équivalents d pour les grains du matériau dans le volume V, pour un grain associé au même emplacement x auquel est associé l’élément, on détermine un diamètre équivalent d(x) de grain et le paramètre local dépendant de la taille du grain σy (x) = σy0+ k/√d (x) en fonction du diamètre équivalent d(x) de ce grain.
La distribution des diamètres équivalents d pour établir une microstructure pour un modèle de simulation sera faite par exemple en fonction de données de microstructure qui caractérisent une granulométrie. Les données de microstructure peuvent être prédéfinies ou se définir par une détermination expérimentale de la taille de grain du matériau.
Pour les autres grains et éléments des autres emplacements, on procède de façon correspondante.
Dans l’exemple, le paramètre local dépendant de granulométrie selon la formule :
est déterminé en fonction du paramètre local dépendant de granulométrie σ*y et des sommes de fonctions notamment des puissances qui est exploitée selon le diamètre équivalent di , pour les grains du matériau dans le volume V :
k est une classe prédéfinie de matière caractérisant le matériau, pondérée avec le terme indiqué ;
σy est la contrainte de cisaillement critique résultante,
d est le diamètre équivalent de grain à l’emplacement x,
σy0 et k sont des constantes du matériau par exemple selon la littérature.
Une tour de lavage du type précité est décrite dans le document FR-A1-3028191. Son châssis est de préférence métallique et est constitué de profilés, qui forment les montants et les traverses, et de tôles pleines ou à mailles. En partie supérieure de ce châssis, en avant de l’espace sécurisé prévu pour l’opérateur, les butées latérales destinées à soutenir la benne à laver sont disposées à droite et à gauche de l’ouverture centrale autorisant le passage de la partie inférieure de la benne, le long des traverses longitudinales, respectivement droite et gauche du châssis.
Toutefois, les chantiers peuvent utiliser différents types de bennes présentant des dimensions variées pour répondre à des besoins spécifiques, comportant notamment des volumes pouvant aller de 500 à 4000 litres, des piètements différents permettant de laisser la benne debout ou de l’incliner, et bien sûr des formes différentes de sa partie inférieure, qui peut être tronc-pyramidale ou tronconique.
Au niveau de la plate-forme et des butées, l’opérateur peut donc être confronté à des surfaces variées de la partie inférieure de la benne se resserrant vers le bas, présentant ainsi des largeurs et des inclinaisons différentes, autant de surfaces variées qu’il faut néanmoins, à l’aide des butées latérales, centrer et caler de manière suffisamment précise pour assurer la sécurité. En particulier, au niveau des butées de la plate-forme à proprement parler, la cuve tronc-pyramidale présente une section carrée et la forme tronconique présente une section circulaire.
On pourrait prévoir un système de butées latérales commun et standard pour les différentes bennes, réalisant un compromis pour l’essentiel des types de bennes présents. Dans ce cas, en particulier selon les volumes des bennes, la partie inférieure de la cuve présenterait, à une distance donnée de son entrée supérieure, une dimension particulière pour chaque volume.
Avec une largeur fixe standard du passage existant entre les butées latérales en vis-à-vis, on obtiendrait alors une position en hauteur différente de l’entrée de la cuve, les plus petites bennes descendant plus et les plus grandes remontant. L’opérateur serait alors confronté à des entrées supérieures de cuves situées à des hauteurs différentes, ce qui pourrait par conséquent se traduire par un travail peu ergonomique, avec des difficultés pour laver et vérifier la propreté de l’ensemble de la surface intérieure de la cuve de chaque benne, et qui pourrait dans certains cas entraîner des risques d’incidents.
En variante, on pourrait prévoir des tours de lavage spécifiques pour chaque famille de bennes, avec pour chaque type un système de butées latérales adapté à la forme de la partie inférieure de la cuve de la benne. Mais dans ce cas, lors d’un changement de benne sur un chantier, on devra prévoir une autre tour adaptée à ce matériel différent. Cette solution compliquerait à l’évidence la gestion de la fabrication de tours de lavage comportant différents modèles, le stockage de ces modèles et leur distribution, et en outre utiliserait plus de place et entraînerait des coûts plus élevés.
Présentation générale de l’invention La présente invention a notamment pour but d’éviter ces problèmes de l’art antérieur.
Elle propose à cet effet une tour de lavage pour tout type de benne de chantier destinée à recevoir des produits fluides tel du béton, la benne comprenant une cuve qui repose sur un piétement et dont la partie inférieure se resserre vers le bas, ladite tour étant du type comportant une plate-forme présentant une ouverture équipée de butées latérales de centrage recevant l’appui de la partie inférieure de la benne, et étant remarquable en ce que les butées sont montées sur des supports fixés sur le châssis de la plate-forme, ces supports étant aptes à adopter plusieurs positions de montage relativement à l’ouverture de la plate-forme donnant chacune un positionnement de l’ensemble des butées approprié à un type de benne.
Un avantage de cette tour de lavage est qu’avec un unique modèle de tour comportant une plate-forme standard présentant pour chaque butée différentes positions de fixation du support, avec des supports qui peuvent être identiques, on obtient une forte modularité de la tour permettant notamment de recevoir des parties inférieures de bennes plus ou moins larges, en choisissant à cette fin l’écartement latéral. En particulier, on peut maintenir une hauteur sensiblement constante de l’entrée supérieure de la cuve de la benne afin d’assurer l’ergonomie et la sécurité des opérations.
On peut aussi, en choisissant les positions de fixation donnant une autre orientation des butées dans le plan de la plate-forme, à savoir tournées vers le centre de la benne, recevoir la partie inférieure de toutes les bennes dont la cuve est tronconique. En complément, en réglant les butées avant et arrière à des hauteurs différentes, on peut modifier l’inclinaison de la benne et de son entrée supérieure, pour notamment l’incliner vers l’opérateur afin de faciliter son travail.
Avec un unique modèle de tour de lavage, qui facilite ainsi sa fabrication, son stockage et sa livraison avec un coût optimum, on peut donc couvrir toute la gamme des bennes disponibles, en assurant un réglage des butées chez le constructeur de la tour. On peut aussi régler les butées directement sur le chantier, ce qui assure une flexibilité si ce chantier possède plusieurs types de bennes ou en acquiert d’autres. Enfin, en évitant des solutions mal adaptées, on assure désormais une sécurité par un positionnement et un maintien optimaux de la benne.
La tour de lavage selon l’invention peut comporter de plus une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, qui peuvent être combinées entre elles.
Ainsi, dans une construction préférentielle, les supports sont fixés sur deux plaques latérales supérieures du châssis de ladite tour de lavage.
Avantageusement, les deux plaques latérales supérieures dudit châssis peuvent être inclinées vers le bas, de l’avant vers l’arrière de ladite tour de lavage.
Toujours avantageusement, les positions de montage des supports sur les plaques latérales supérieures de la plate-forme peuvent comporter des perçages de ces deux plaques destinés à recevoir les moyens de fixation des supports dans différentes positions.
Dans cette dernière construction, les perçages des plaques latérales supérieures de la plate-forme peuvent alors permettre différents écartements des supports, tant dans une direction latérale que dans une direction longitudinale de la tour, et différents pivotements des supports dans le plan desdites plaques latérales supérieures de cette plate-forme.
- (jj) une étape jj comportant au moins :
- une réception d’informations en provenance du deuxième dispositif et relatives à des bits de parité calculés par ledit deuxième dispositif en fonction de la réception, par le deuxième dispositif, des impulsions lumineuses émises par le premier dispositif ; puis
- une détection d’erreurs dans ladite séquence de bits en fonction des valeurs desdites informations relatives aux bits de parité reçues ;
ledit procédé étant caractérisé en ce que les étapes suivantes sont en outre mises en œuvre par le premier dispositif : répartition d’au moins certains des bits de la séquence générée en 3 ensembles de bits distincts, chaque bit étant associé à un numéro d’index fonction de son rang au sein d’au moins lesdits certains bits : un premier ensemble de bits pour définir la clef secrète, un deuxième ensemble de bits égaux à 0 et un troisième ensemble de bits égaux à 1 ; chaque bit d’au moins les deuxième et troisième ensembles étant associé, dans une mémoire du premier dispositif, à son numéro d’index ; si l’étape (j) est mise en œuvre, ladite étape (j) comporte les étapes suivantes : (j0) les bits de parité sont calculés en fonction de bits du premier ensemble ;
(j1) selon un code prédéterminé, codage de la valeur de chaque bit de parité calculé par une suite de bits b1 b2…bn de longueur n supérieure ou égale à 1 ;
(j2) pour chaque bit bi, i = 1 à n : si et seulement si bi = 0, sélection d’un des bits du deuxième ensemble et si et seulement si bi = 1, sélection d’un des bits du troisième ensemble ;
(j3) ladite transmission d’informations relatives aux bits de parité calculés comprend la transmission, sur le canal classique, pour chaque bit de parité calculé, d’une suite ind1 ind2 …indn où indi, i=1 à n, indique le numéro d’index associé audit bit sélectionné dans le deuxième ou troisième ensemble à l’étape j2 pour le bit bi ; si l’étape (jj) est mise en œuvre, ladite étape (jj) comporte les étapes suivantes : (jj0) les informations reçues en provenance du deuxième dispositif comportant, pour chacun desdits bits de parité, une suite ind1 ind2 …indn où indi, i = 1 à n avec n ≥ 1, indique un numéro d’index associé à un bit dans le deuxième ou troisième ensemble, pour chaque bit de parité : détermination de la valeur du bit bi associé, dans la mémoire du premier dispositif, au numéro d’index indi pour i = 1 à n, et décodage selon un code déterminé, de la valeur de chaque bit de parité en fonction de la suite de bits b1 b2…bn déterminée pour ledit bit de parité ;
(jj1) ladite détection d’erreurs est une détection d’erreurs dans le premier ensemble de bits pour définir la clé secrète et est effectuée en fonction des dites valeurs des bits de parité ainsi décodées.
La solution proposée réduit fortement la fuite d’information et améliore le secret : les valeurs des bits de parité pour la détection/correction des erreurs résiduelles ne sont pas transmises sur le canal public. Cette information est transmise indirectement et en deux temps : en transmettant un signal aléatoire de qubits sur le canal quantique, puis après sifting, en transmettant les numéros d’index des qubits de parité sur le canal public. Donc pour connaître les valeurs des bits de parité, il est nécessaire de disposer des qbits et de leur numéro d’index, la moitié des valeurs de qubits restant inaccessibles pour Eve.
- le procédé de distribution quantique de clé comprend au moins, pour l’étape j, l’une des dispositions parmi :
si la valeur de bi est 0, l’information transmise relative à bi indique le numéro d’index du bit sélectionné du deuxième ensemble et si la valeur de bi est 1, l’information transmise relative audit bit indique ainsi le numéro d’index du bit sélectionné du troisième ensemble ; ladite sélection étant effectuée par tirage ;
- le premier dispositif comporte au moins deux bases distinctes de codage entre des valeurs dudit paramètre et les valeurs 0 ou 1 d’un bit ; et le premier dispositif sélectionne aléatoirement, pour chaque bit considéré dans la séquence générée, une base parmi les au moins deux bases distinctes, pour effectuer ledit codage de bit par ladite valeur dudit paramètre d’impulsion lumineuse et stocke, pour chaque bit de la séquence, une indication de la base sélectionnée ;
après l’étape d’émission, transmission par le premier dispositif au deuxième dispositif sur le canal classique de l’indication de la base que le premier dispositif a sélectionnée pour chaque bit de la séquence et réception en provenance dudit deuxième dispositif, sur le canal classique, de l’indication, pour chaque bit de la séquence, de la base que ledit deuxième dispositif a sélectionnée pour évaluer la valeur dudit bit de la séquence ;
comparaison, pour chaque bit de la séquence, des indications de base stockée et reçue et identification des bits de la séquence pour lequel la base sélectionnée par le premier dispositif et le deuxième dispositif sont identiques ;
les premier, deuxième et troisième ensembles de bits sont composés de bits ainsi identifiés.
Troisièmement, le connecteur 10 participe à l’acheminement de lait extrait d’un sein jusqu’au réservoir 8. A cet effet, le connecteur 10 comprend un canal d’écoulement de lait reliant de manière fluidique la téterelle 6 au réservoir 8, lorsque le réservoir 8 et la téterelle 6 sont fixés au connecteur 10.
Le connecteur 10 comprend trois parties : une partie inférieure 70, une partie supérieure 72, et une partie centrale 74 agencée entre la partie inférieure 70 et la partie supérieure 72.
La partie centrale 74 du connecteur 10 délimite une cavité 76 et un accès proximal 78 à la cavité 76 depuis l’extérieur du connecteur 10. La cavité 76 est adaptée pour recevoir le tube 46 de la téterelle 6 via l’accès proximal 78. Les dimensions de la cavité 76 sont adaptées pour que le tube 46 de la téterelle 6 soit maintenu dans la cavité 76 par friction entre le tube 46 et la partie centrale 74 du connecteur 10.
La partie centrale 74 comprend une paroi distale 80 formant un fond de la cavité 76. La cavité 76 s’étend entre la paroi distale 80 et l’accès proximal 78.
La partie centrale 74 comprend par ailleurs une paroi latérale 82 reliée à la paroi distale. La paroi latérale 82 délimite la cavité, ainsi que l’accès proximal pour le tube 46. La paroi latérale 82 est annulaire. La paroi latérale 82 a une surface interne complémentaire à la surface externe du tube 46, de sorte à créer une fiction entre ces deux surfaces.
La paroi latérale 82 a par ailleurs une surface externe opposée à la surface interne.
Le connecteur 10 comprend par ailleurs un premier trou borgne débouchant dans la surface externe de la paroi latérale 82. Le premier trou borgne est adapté pour recevoir la bille du premier plongeur 38 formé dans le boîtier 2, de manière à fixer le connecteur 10 (et plus généralement l’unité de collecte de lait 4) au boîtier 2.
Le connecteur 10 comprend par ailleurs un deuxième trou borgne 85 débouchant également dans la surface externe de la paroi latérale 82. Le deuxième trou borgne 85 est adapté pour recevoir la bille du deuxième plongeur 39 formé dans le boîtier 2, de manière à fixer le connecteur 10 (et plus généralement l’unité de collecte de lait 4) au boîtier 2.
Le premier trou borgne et le deuxième trou borgne 85 sont agencés de part et d’autre de la cavité 76, par exemple de manière symétrique.
Les trous borgnes et les plongeurs à bille à ressort 38, 39 forment donc des moyens de fixation de l’unité de collecte de lait 4 au boîtier 2.
Le connecteur 10 comprend par ailleurs un premier guide adapté pour guider la bille du premier plongeur à bille à ressort 38 vers le premier trou borgne. Le premier guide délimite une gorge s’étendant sur la surface externe de la paroi latérale 82. Le trou borgne est formé au fond de la gorge. Le premier guide présente une entrée. La bille du plongeur peut ainsi entrer dans la gorge par l’entrée, et être guidé par le guide jusqu’à atteindre le premier trou borgne, le premier trou borgne étant alors aligné avec la bille, de sorte que la bille pénètre dans le premier trou borgne.