INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans le processus de formation d'une/de couche(s) formée(s) d'un film de silicium polycristallin (voir S310 et S320 en ), une couche formée d'un film de silicium polycristallin 335 fait de silicium polycristallin est formée à la surface de la galette de silicium pour substrat de support 310. La couche formée d'un film de silicium polycristallin 335 peut être formée par des procédés généralement connus. L'épaisseur de la couche formée d'un film de silicium polycristallin 335 formée ici devrait être de 15 nm ou plus afin que la zone formée par la structure stratifiée du silicium polycristallin et du silicium amorphe fonctionne en tant que film de silicium réfléchissant les infrarouges lorsqu'elle est transformée en la galette de silicium liée 300. Puisque la zone activée faite de silicium amorphe est formée à partir de la surface de chaque galette de silicium jusqu'à une position en profondeur d'environ 1 nm pendant le traitement d'activation, un film de silicium réfléchissant les infrarouges 330 d'une épaisseur de 16 nm ou plus est formé lorsque les galettes de silicium sont liées ensemble. L'épaisseur de la couche de silicium polycristallin 335 formée au cours de ce processus est de préférence de 19 nm ou plus, plus préférablement de 24 nm ou plus, et encore plus préférablement de 29 nm ou plus. La limite supérieure de l'épaisseur de la couche formée d'un film de silicium polycristallin 335 n'est pas particulièrement limitée, mais la limite supérieure est d'environ 40 nm pour une productivité industrielle.
La couche formée d'un film de silicium polycristallin 335, qui est faite de silicium polycristallin, peut être formée à la surface de la galette de silicium pour substrat de support 310 en utilisant un procédé CVD tel qu'un CVD au plasma. Si la couche est formée alors que la température de la galette de silicium pour substrat de support 310 est comprise entre 700°C et 900°C, la couche formée d'un film de silicium polycristallin faite de silicium polycristallin peut être amenée à croître.
Le traitement d'activation peut être effectué de la même manière que les premier et deuxième modes de réalisation décrits ci-dessus. Autrement dit, en se référant à S330 et S340 en , la surface de la couche formée d'un film de silicium polycristallin 335 de la galette de silicium pour substrat de support 310 et la surface de la galette de silicium pour couche de silicium monocristallin 320 sont soumises à un traitement d'activation par irradiation de faisceaux d'ions ou de faisceaux d'atomes neutres 910 sous vide à température normale pour former des zones activées 332a, 332b sur les surfaces respectives de la galette de silicium pour substrat de support 310 et de la galette de silicium pour couche de silicium monocristallin 320. Comme décrit ci-dessous, à la surface de chaque galette de silicium, une zone activée faite de silicium amorphe est formée à une position en profondeur d'environ 1 nm de la surface du côté irradié par le faisceau.
Processus de liaison
Dans le processus de liaison (voir S350 en ), à la suite du processus de traitement d'activation, en mettant en contact les zones activées 332a, 332b à la fois de la galette de silicium pour substrat de support 310 et de la galette de silicium pour couche de silicium monocristallin 320 l'une l'autre sous vide à température normale, les deux galettes de silicium sont liées ensemble par l’intermédiaire de la couche formée d’un film de silicium polycristallin 335. A ce moment, au moins 1 nm de silicium amorphe est également formé à la surface de la galette de silicium pour couche de silicium monocristallin 320, là où la couche formée d'un film de silicium polycristallin 335 n'a pas été formée. Par conséquent, au moment de la liaison, conjointement avec la couche formée d'un film de silicium polycristallin 335, un film de silicium réfléchissant les infrarouges 330 fait de silicium polycristallin et de silicium amorphe sera formé avec une épaisseur de 16 nm ou plus.
Le processus de réduction d'épaisseur ultérieur peut être réalisé de la même manière que dans les premier et deuxième modes de réalisation.
La galette de silicium liée 300 ainsi obtenue comprend la galette de silicium pour substrat de support 310, la couche de silicium monocristallin 321 sur la galette de silicium pour substrat de support 310, et le film de silicium réfléchissant les infrarouges 330 prévu entre la galette de silicium pour substrat de support 310 et la couche de silicium monocristallin 321. Le film de silicium réfléchissant les infrarouges 330 comprend une couche formée d'un film de silicium polycristallin 335 fait de silicium polycristallin et de la zone activée 332. La zone activée 332 est dérivée des zones activées 332a, 332b décrites ci-dessus.
Le troisième mode de réalisation du procédé de production de la galette de silicium liée 300 conformément au premier aspect est décrit ci-dessus en référence à la . Dans ce mode de réalisation, la couche formée d'un film de silicium polycristallin 335 est formée sur la galette de silicium pour substrat de support 310, cependant, en variante alternative du troisième mode de réalisation, le même processus que dans le troisième mode de réalisation ci-dessus peut être suivi à ceci près que la couche de silicium polycristallin 335 est formée sur la galette de silicium pour couche de silicium monocristallin 320 ; par ce processus, la galette de silicium liée 4 selon le deuxième aspect illustré en peut être produite. En d'autres termes, la galette de silicium liée 4 selon le deuxième aspect peut être produite par les étapes suivantes : un processus de formation d'une/de couche(s) formée(s) d'un film de silicium polycristallin formant la couche formée d'un film de silicium polycristallin 335 faite de silicium polycristallin à la surface de la galette de silicium pour couche de silicium monocristallin 320 ; un processus de traitement d'activation soumettant la surface de la galette de silicium pour substrat de support 310 et la surface de la galette de silicium pour couche de silicium monocristallin 320 à un traitement d'activation sous vide à température normale pour réaliser les zones activées 332a, 332b sur chaque surface parmi la galette de silicium pour substrat de support 310 et la galette de silicium pour couche de silicium monocristallin 320 ; un processus de liaison, suivant ce processus de traitement d'activation, mettant en contact les deux zones activées 332a, 332b l'une l'autre sous vide à température normale, liant ainsi à la fois la galette de silicium pour substrat de support 310 et la galette de silicium pour couche de silicium monocristallin 320 ensemble via la couche formée d’un film de silicium polycristallin 335 ; et un processus de réduction d’épaisseur, réduisant l'épaisseur de la galette de silicium pour couche de silicium monocristallin 320 depuis le côté opposé de la surface stratifiée, obtenant ainsi la couche de silicium monocristallin 321 faite de silicium monocristallin. La formation de la couche formée d'un film de silicium polycristallin 335, la liaison sous vide à température normale, et le meulage et le polissage pour réduction d'épaisseur peuvent être accomplis en utilisant les mêmes techniques que celles décrites ci-dessus dans le troisième mode de réalisation, de sorte que les descriptions redondantes sont omises.
La représente un système d'impression d'étiquettes selon un mode de réalisation ;
La montre une illustration schématique d'un module de commande pour un appareil d'impression d'étiquettes selon un mode de réalisation ;
La montre une illustration schématique d'une étiquette d'étagère électronique (ESL) selon un mode de réalisation ;
La montre un organigramme illustrant un procédé selon un mode de réalisation ;
La montre un organigramme illustrant un procédé selon un mode de réalisation ; et
La représente un système d'impression d'étiquettes selon un mode de réalisation.
DESCRIPTION DÉTAILLÉE Les exemples divulgués ici concernent un module de commande pour un appareil d'impression d'étiquettes. Le module de commande est agencé pour gérer les mises à jour des données de produit stockées localement au niveau de l'appareil d'impression d'étiquettes et des données de produit affichées au niveau d'une étiquette d’étagère électronique (ESL) afin de détecter des incohérences entre l'appareil d'impression d'étiquettes et l'ESL.
La montre un système d'impression d'étiquettes 100 selon l'art antérieur. Une étiquette d'étagère électronique (ESL) 120 est située dans un point de vente au détail associé à un produit à vendre. L'ESL 120 est généralement disposée adjacente à un stock du produit, par exemple sur ou à proximité d'une étagère ou d'un conteneur contenant un stock du produit. L'ESL 120 est un dispositif électronique comprenant un affichage agencé pour afficher des données de produit associées au produit, telles qu'un prix par unité, un type de produit et des informations sur les allergènes pour le produit. L'ESL 120 est couplée de manière communicante à au moins un dispositif externe 130, généralement par communication sans fil. De cette manière, des données de produit mises à jour à afficher peuvent être transmises à l'ESL 120 à partir du dispositif externe 130. Généralement, le produit est un produit en vrac qui est présenté dans un conteneur en vrac adjacent à l'ESL 120.
Le système d'impression d'étiquettes 100 comprend en outre un appareil d'impression d'étiquettes 110 pour imprimer une étiquette d'information pour le produit. Un client peut décanter une quantité du produit et emballer la quantité dans un conteneur, tel qu'un conteneur rechargeable, pour l'achat. L'appareil d'impression d'étiquettes 110 comprend un dispositif d'impression d'étiquettes 114 configuré pour imprimer une étiquette d'information afin de refléter la quantité du produit emballé par le client. Une « étiquette d’information » selon l'invention peut être toute étiquette affichant des informations associées à la quantité du produit emballé, telles qu'un poids du produit emballé, un volume du produit emballé, ou un prix total du produit emballé. L'étiquette d'information peut comprendre un code lisible par machine, tel qu'un code QR, un code à barres ou similaire codant certaines des données de produit. L'étiquette d'information imprimée peut être fixée sur le conteneur utilisé par le client pour faciliter le balayage au point de vente.
L'appareil d'impression d'étiquettes 110 comprend un module de commande 112 pour communiquer un signal d'impression au dispositif d'impression d'étiquettes 114 afin de commander le dispositif d'impression d'étiquettes 114 pour imprimer l'étiquette d'information. Le module de commande 112 comprend une mémoire configurée pour stocker des données de produit associées à un produit. Les données de produit peuvent comprendre les mêmes données de produit que celles affichées sur l'ESL 120, par exemple, un prix par poids du produit.
L'appareil d'impression d'étiquettes 110 comprend une interface utilisateur 116. L'interface utilisateur 116 peut être par exemple un écran tactile, un clavier ou similaire agencé pour recevoir une entrée utilisateur. Un client fournit une entrée au niveau de l'interface utilisateur 116 pour demander l'impression d'une étiquette d'information pour le produit. L'interface utilisateur 116 communique alors un signal de demande d'impression d'étiquette au module de commande 112. L'interface utilisateur 116 peut être locale par rapport à l'appareil d'impression d'étiquettes 110, ou l'interface utilisateur 116 peut être prévue sur un dispositif informatique externe associé à l'utilisateur, tel qu'un dispositif mobile, un ordinateur portable ou une tablette. L'interface utilisateur 116 peut ainsi être reliée fonctionnellement au module de commande 112 par une communication sans fil, telle que Wi-Fi, Bluetooth, NFC ou similaire. Le signal de demande d'impression d'étiquette comprend une indication du produit pour lequel une étiquette doit être imprimée. Le module de commande 112 est alors agencé pour récupérer les données de produit associées au produit indiqué. L'appareil d'impression d'étiquettes 110 comprend également une balance 118 agencée pour peser le produit emballé par le client et communiquer des données de poids au module de commande 112 indiquant le poids du produit. Le module de commande 112 peut alors déterminer le contenu de l'étiquette d'information en fonction des données de poids et des données de produit. Par exemple, un code lisible par machine tel qu'un code à barres peut être construit par le module de commande 112 pour refléter le coût total du produit en fonction du poids indiqué par les données de poids et du prix par poids indiqué par les données de produit.
Les données de produit associées au produit peuvent être périodiquement mises à jour, par exemple pour refléter un nouveau prix par unité pour le produit, ou pour refléter de nouveaux ingrédients, allergènes ou similaires. Les mises à jour associées aux données de produit sont généralement gérées par un ou plusieurs dispositifs externes 130. Le ou les dispositifs externes 130 peuvent comprendre un ou plusieurs dispositifs informatiques à distance tels qu'un ordinateur serveur ou une collection d'ordinateurs serveurs. Le ou les dispositifs externes 130 peuvent être associés à une pluralité d'ESL 120 et d'appareils d'impression d'étiquettes 110 et être agencés pour gérer les informations stockées au niveau de chaque ESL 120 et appareil d'impression d'étiquettes 110. Les données de produit pour un produit donné sont stockées à la fois au niveau de l'ESL 120 associée à ce produit pour affichage au client et stockées au niveau du module de commande 112 de l'appareil d'impression d'étiquettes 110 concerné. Ainsi, lorsque les données de produit pour un produit donné sont modifiées, il faut mettre à jour à la fois les informations stockées au niveau du module de commande 112 de l'appareil d'impression d'étiquettes 110 et l'ESL 120. Ainsi, le dispositif externe 130 est relié en communication avec chacun des modules de commande 112 et ESL 120. Lorsque le dispositif externe 130 détermine ou reçoit des données de produit mises à jour pour le produit, le dispositif externe 130 est agencé pour communiquer les données de produit mises à jour à chacun du module de commande 112 et de l'ESL 120.
Un problème peut survenir lorsque l'ESL 120 fonctionne mal et ne réalise pas la mise à jour. Ainsi, l'ESL 120 peut être agencée pour afficher des informations obsolètes, telles qu'un prix obsolète pour le produit. Ceci est compliqué par le fait que l'appareil d'impression d'étiquettes 110 peut avoir été mis à jour avec succès. Ainsi, lorsque le client procède à l'impression d'une étiquette d'information pour son produit, les informations figurant sur l'étiquette entrent en conflit avec les informations qui sont affichées au niveau de l'ESL.
Selon la présente invention, il existe donc un système d'impression d'étiquettes et un module de commande améliorés qui permettent d'atténuer les problèmes causés par ces conflits. Pour ce faire, les mises à jour d'une ESL sont acheminées via le module de commande de l'appareil d'impression d'étiquettes associé, de sorte que l'appareil d'impression d'étiquettes peut contrôler si l'ESL a été mise à jour et prendre des mesures pour atténuer le conflit si l'ESL n'a pas été mise à jour.
La figure 2A illustre un module de commande 212 pour un appareil d'impression d'étiquettes 210 selon des modes de réalisation de la présente invention. L'appareil d'impression d'étiquettes 210 peut être mis en œuvre dans un système d'impression d'étiquettes 200 tel que représenté sur la figure 2B.
De façon similaire au système 100 de l'art antérieur, le système 200 d'impression d'étiquettes comprend une étiquette d'étagère électronique (ESL) 220 associée à un produit à vendre. L'ESL 220 est généralement disposée sur ou à proximité d'une étagère ou d'un conteneur contenant un stock du produit. Souvent, le produit est un produit en vrac qui est affiché dans un conteneur en vrac adjacent à l'ESL 220. L'ESL 220 est un dispositif électronique comprenant un affichage agencé pour afficher des données de produit associées au produit. Ces données de produits peuvent comprendre un ou plusieurs éléments parmi un prix par unité, un type de produit et des informations sur les allergènes pour le produit, bien que cette liste ne soit pas exhaustive.
Ce mode de réalisation a une application privilégiée lorsque la première entité applicative ne dispose pas de pré-configuration pour un contexte de formulation donné, ou de façon générale, ne dispose d’aucune pré-configuration. Dans ce mode de réalisation, c’est la première entité applicative qui optimise, par apprentissage, la sélection d’un modèle d’analyse en fonction du contexte de formulation de la requête d’analyse qui lui est adressée. Ce mode de réalisation est avantageusement évolutif et permet à la première entité applicative de tenir compte de la qualité des résultats d’analyse qu’elle obtient pour optimiser le choix des modèles d’analyse.
Dans un autre mode de réalisation encore, le procédé de traitement comprend :
- une étape préliminaire de configuration de la première entité applicative avec une liste comprenant au moins un modèle d’analyse associé à au moins un contexte de formulation d’une requête ; une étape d’apprentissage au cours de laquelle la première entité applicative : établit des corrélations entre des modèles d’analyse, des contextes de formulation d’une requête, et des indicateurs de qualité des analyses statistiques réalisées à partir desdits modèles dans lesdits contextes ; et met à jour et/ou complète ladite liste à partir desdites corrélations établies ; le modèle d’analyse appliqué lors de l’étape de réalisation étant un modèle d’analyse associé au contexte déterminé lors de l’étape d’obtention dans la liste mise à jour ou complétée lors de l’étape d’apprentissage.
Ce mode de réalisation combine avantageusement les deux précédents, et bénéficie ainsi des avantages associés à chacun d’entre eux.
Au vu de ce qui précède, l’invention s’appuie sur la première entité applicative qui obtient un contexte de formulation de la requête d’analyse qui lui est adressée et exploite ce contexte pour optimiser les résultats d’analyse qu’elle fournit en réponse à cette requête, mais également, dans un mode particulier de réalisation, sur la deuxième entité applicative à l’origine de la requête et qui fournit à la première entité applicative ledit contexte de formulation.
Ainsi, selon un autre aspect, l’invention concerne un procédé de communication avec une première entité applicative d’un réseau de communications, ce procédé de communication étant mis en œuvre par une deuxième entité applicative du réseau et comprenant : une étape d’envoi à la première entité applicative d’une requête d’analyse statistique ou prédictive comprenant, dans un champ dédié de la requête, un paramètre indiquant un contexte de formulation de la requête ; et une étape de réception, en réponse à la requête, d’au moins un résultat de l’analyse requise réalisée par la première entité applicative au moyen d’un modèle d’analyse sélectionné en fonction de ce contexte.
Corrélativement, l’invention vise aussi une entité applicative d’un réseau de communications, dite deuxième entité applicative, comprenant : un module d’envoi, configuré pour envoyer à une première entité applicative du réseau une requête d’analyse statistique ou prédictive comprenant, dans un champ dédié de la requête, un paramètre indiquant un contexte de formulation de la requête ; et un module de réception, configuré pour recevoir en réponse à ladite requête, au moins un résultat de l’analyse requise réalisée par la première entité applicative au moyen d’un modèle d’analyse sélectionné en fonction de ce contexte.
Selon un autre aspect encore, l’invention concerne également un système dans un réseau de communications comprenant au moins une première entité applicative et au moins une deuxième entité applicative conformes à l’invention.
Le procédé de communication, la deuxième entité applicative et le système selon l’invention bénéficient des mêmes avantages cités précédemment que le procédé de traitement et la première entité applicative.
Dans un mode particulier de réalisation, les procédés de traitement et de communication sont mis en œuvre par un ordinateur.
L’invention vise également un programme d’ordinateur sur un support d’enregistrement, ce programme étant susceptible d’être mis en œuvre dans un ordinateur ou plus généralement dans une première entité applicative conforme à l’invention et comportant des instructions adaptées à la mise en œuvre d’un procédé de traitement tel que décrit ci-dessus.
L’invention vise également un programme d’ordinateur sur un support d’enregistrement, ce programme étant susceptible d’être mis en œuvre dans un ordinateur ou plus généralement dans une deuxième entité applicative conforme à l’invention et comportant des instructions adaptées à la mise en œuvre d’un procédé de communication tel que décrit ci-dessus.
La vérification peut être effectuée par un nœud tiers du réseau asynchrone, dit nœud validateur, pour une nouvelle transaction émise par le nœud client, ladite méthode étant caractérisée en ce que le nœud validateur extrait de la transaction courante la valeur du compte monotone et vérifie dans le registre distribué qu’elle est identique à celle de la transaction précédente, puis extrait les dérives des seconde et troisième horloges et les compare à une marge de tolérance prédéterminée pour vérifier la cohérence des horloges du nœud client.
Avantageusement, préalablement à la vérification de la cohérence des horloges du nœud client, le nœud vérificateur s’assure à l’aide de la signature de la transaction que celle-ci a bien été émise par le nœud client.
Le nœud vérificateur extrait ensuite de la transaction du nœud client la valeur de l’horloge de précision et la compare à la valeur de sa propre horloge de précision à la réception de cette transaction, et vérifie que la différence de la seconde avec la première est supérieure à zéro et inférieure un temps de propagation maximal prédéterminé.
De préférence, le nœud vérificateur est un nœud présentant un degré de fiabilité supérieur à une valeur prédéterminée, le degré de fiabilité d’un nœud étant une fonction croissante du nombre de transactions validées avec succès et du temps écoulé depuis son enregistrement dans le registre distribué.
Si la vérification a été effectuée avec succès, le nœud validateur émet une transaction, dite de transaction de validation, comprenant un haché de la transaction validée et le temps auquel elle a été reçue, mesurée par l’horloge de précision du nœud validateur.
Le nœud validateur peut vérifier préalablement la cohérence de ses première, seconde et troisième horloges avant d’émettre la transaction de validation vers le registre distribué.
La transaction de validation comprend typiquement les mesures du temps auquel est effectuée la validation au moyen des première, seconde et troisième horloges, la valeur du compteur monotone du nœud validateur ainsi que les dérives des seconde ( ) et troisième horloge ( ) du nœud validateur par rapport à la première horloge du nœud validateur sur l’intervalle de temps écoulé depuis la dernière transaction émise par le nœud validateur.
Avantageusement, la transaction de validation comprend en outre un haché du code exécutant la vérification dans l’environnement TEE du nœud validateur, au moment où la transaction du nœud client est validée.
représente de manière schématique un réseau de nœuds asynchrones illustrant le contexte d’application de la présente invention ;
représente de manière schématique un système embarqué dans un nœud asynchrone permettant de mettre en œuvre la méthode de génération de preuve de temps écoulé entre deux évènements selon un mode de réalisation de la présente invention ;
représente une vérification de la cohérence des temps mesurés par différentes horloges dans le système embarqué de la ;
représente un organigramme d’une méthode de génération de preuve de temps écoulé entre évènements successifs au sein d’un nœud, selon un mode général de réalisation de la présente invention ;
représente une méthode de vérification du temps écoulé entre transactions successives émises par un nœud dans un registre distribué ;