INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Comme évoqué précédemment, afin d’optimiser les procédures au sein du réseau cœur CN, les fonctions NF peuvent faire appel à une fonction NF spécifique chargée de collecter et d’analyser des données du réseau, appelée fonction NWDAF (pour « NetWork Data Analytics Function » en anglais). Cette fonction NWDAF propose aux fonctions NF du réseau qui la sollicitent, des analyses statistiques et/ou prédictives sur le comportement du réseau CN, ou plus généralement du réseau NW, en termes notamment de qualité de service, et/ou sur le comportement des UE du réseau NW. Ces analyses peuvent être globales (ex. établies au niveau du réseau, d’un serveur, d’une application ou encore d’une région), ou être individuelles (i.e. porter sur un UE ou sur un groupe d’UE particulier). Elles sont réalisées à partir de données brutes collectées par la fonction NWDAF et de modèles d’analyse statistique et/ou prédictive appliqués à ces données brutes.
Conformément à l’invention, le système 1 comprend : au moins une première entité applicative 2, conforme à l’invention. Dans le mode de réalisation décrit ici, l’entité applicative 2 héberge une fonction réseau NWDAF de collecte et d’analyse de données du réseau NW telle que décrite ci-avant, et est désignée dans la suite de la description par entité NWDAF 2 ; et au moins une deuxième entité applicative 3, conforme à l’invention, configurée pour consommer les services offerts par l’entité NWDAF 2, autrement dit, solliciter l’entité NWDAF 2 pour obtenir des analyses statistiques et/ou prédictives sur le comportement du réseau et/ou d’un UE ou d’un groupe d’UE. Dans le mode de réalisation décrit ici, la ou les entités applicatives 3 hébergent également des fonctions NF du réseau cœur CN. Aucune limitation n’est attachée aux fonctions NF hébergées par les entités applicatives 3. Ainsi, dans l’exemple représenté sur la , le système 1 comprend une pluralité d’entités applicatives 3 conformes à l’invention, parmi lesquelles notamment une entité applicative 3-1 hébergeant une fonction AMF d’accès au réseau (aussi désignée ci-après par entité AMF 3-1), une entité applicative 3-2 hébergeant une fonction SMF de gestion de sessions (ou entité SMF 3-2), une entité applicative 3-3 hébergeant une fonction PCF de contrôle de politique (ou entité PCF 3-3), et une entité applicative 3-4 hébergeant une fonction AF d’application (ou entité AF 3-4). Cette liste n’est pas limitative et n’est donnée qu’à titre illustratif.
Chaque entité applicative du système 1 est un dispositif communicant, matériel ou virtuel (i.e. logiciel), configuré pour mettre en œuvre une logique de traitement déterminée, correspondant à la fonction réseau qu’elle héberge. Ainsi l’invention s’applique indifféremment à des entités applicatives logicielles ou virtuelles et à des entités applicatives matérielles hébergeant des fonctions réseau.
Lorsque les entités applicatives considérées sont des dispositifs matériels (par exemple des serveurs d’une infrastructure du réseau cœur CN), elles ont alors l’architecture matérielle d’un ordinateur 4, tel qu’illustrée à la . Cette architecture matérielle s’appuie sur un processeur PROC, une mémoire vive MEM, une mémoire morte ROM, une mémoire non volatile NVM, et des moyens COM de communications avec d’autres entités, par exemple, d’autres entités applicatives du réseau cœur CN, des entités d’un réseau d’accès au réseau cœur CN comme par exemple une entité OAM de gestion du réseau NW (non représentée sur la ), ou encore avec des UE du réseau NW. Ces moyens COM de communication peuvent notamment s’appuyer sur une interface de communication filaire ou sans fil, connue en soi et non décrite plus en détail ici, mais également sur une ou plusieurs interfaces logicielles telles qu’une interface de programmation applicative (ou API pour « Application Programming Interface » en anglais) ou une interface de communication point-à-point.
Lorsque les entités applicatives considérées sont logicielles, elles sont elles-mêmes hébergés par un dispositif matériel ayant l’architecture matérielle de l’ordinateur 4, et peuvent alors s’appuyer sur les moyens matériels de l’ordinateur 4 évoqués ci-avant (PROC, MEM, ROM, NVM, COM). Dans la suite de la description, par souci de simplification, on fait indifféremment référence aux moyens PROC, MEM, ROM, NVM, COM de l’entité applicative considérée, que celle-ci soit matérielle ou logicielle.
Lorsque le tube 46 de la téterelle 6 est inséré dans la cavité de la partie centrale 74, l’orifice inférieur 56 ménagé dans la paroi annulaire du tube 46 débouche dans le canal d’écoulement de lait. Dans cette position, l’orifice inférieur 56 se trouve même en regard de la sortie du canal d’écoulement de lait. De la sorte, du lait peut s’écouler depuis l’orifice inférieur 56 du tube 46 jusqu’à la sortie en s’écoulant dans une direction transversale à l’axe du tube 46.
La partie supérieure 72 du connecteur 10 sert de support pour le diaphragme 12. La partie supérieure 72 comprend une nervure annulaire adaptée pour être reçue dans la gorge annulaire du diaphragme 12, de sorte à fixer le diaphragme 12 sur le connecteur 10 par friction.
La partie supérieure 72 comprend un canal d’air. Ce passage d’air est obstrué de manière étanche par le diaphragme 12 lorsque le diaphragme 12 est fixé sur la partie supérieure 72. Lorsque le tube 46 de la téterelle 6 est inséré dans la cavité formé dans la partie centrale 74 du connecteur 10, l’orifice supérieur 54 ménagé dans le tube 46 débouche dans le canal d’air.
En référence aux figures 15 à 17 , le réservoir 8 a pour fonction de stocker du lait.
Le réservoir comprend une paroi proximale 94 et une paroi distale 96 entre lesquelles un espace de stockage de lait 95 est ménagé.
La paroi proximale 94 est plane. La paroi proximale 94 est agencée pour prolonger la paroi proximale du boîtier 2, une fois que l’unité de collecte de lait 4 est fixée au boîtier 2.
La paroi distale 96 est bombée. La paroi distale 96 est agencée pour prolonger la coque 30 du boîtier 2, une fois que l’unité de collecte de lait 4 est fixée au boîtier 2.
Le réservoir 8 comprend par ailleurs une paroi de fond 98 reliant la paroi distale 96 à la paroi proximale 94.
Tout ou partie des parois 94, 96, 98 est translucide afin de permettre d’observer le niveau de lait dans l’espace de stockage 95 depuis l’extérieur du réservoir 8.
Le réservoir 8 comprend en outre un goulot 100 délimitant une entrée de lait 102 via laquelle du lait peut pénétrer dans l’espace de stockage de lait 95. L’espace de stockage de lait 95 est ménagé entre le goulot 100 et la paroi de fond 98.
Le réservoir 8 comprend des pions 104 adaptés pour coopérer le système de fixation à baïonnette 90 décrit précédemment, pour fixer le réservoir 8 au connecteur 10. Les pions 104, au nombre de trois, font saillie sur le goulot 100 dans l’entrée 102.
En référence à la , la valve 14, connue en elle-même, définit un passage fluidique unidirectionnel. Ainsi, un fluide, en particulier du lait, peut traverser ce passage fluidique dans un premier sens (indiqué par la flèche en pointillés sur la ), mais ne peut pas traverser ce passage fluidique dans un deuxième sens opposé un premier sens.
La valve 14 est de dimensions adaptées pour être insérée dans le canal d’écoulement située dans la partie inférieure 70 du connecteur 10, dans un sens adapté pour que le passage fluidique unidirectionnel autorise du lait en provenance du connecteur 10 de pénétrer dans le réservoir 8 par le goulot 100.
Assemblage du tire-lait Les étapes qui suivent peuvent être mises en œuvre pour obtenir le tire-lait 1 à partir des parties décrites précédemment, par exemple par l’utilisatrice du tire-lait 1.
Dans une première étape de montage, l’utilisatrice assemble le connecteur 10, la téterelle 6, le réservoir 8, la valve 14 et le diaphragme 12, afin de former l’unité de collecte de lait 4. Cette première étape comprend les sous étapes suivantes.
L’utilisatrice fixe la téterelle 6 au connecteur 10. Pour ce faire, l’utilisatrice insère le tube 46 dans la cavité 76 ménagée dans la partie centrale 74 du connecteur 10, à commencer par son extrémité distale 52. L’utilisatrice pousse le tube 46 dans la cavité 76 jusqu’à ce que la butée 58 de la téterelle 6 vienne en butée sur la partie centrale 74 du connecteur 10. La téterelle 6 se trouve alors dans une position de fin de course dans laquelle l’orifice inférieur 56 débouche dans le canal d’écoulement de lait formé dans la partie inférieure 70 du connecteur 10 et dans laquelle l’orifice supérieur 54 débouche dans le canal d’air formé dans la partie supérieure 72 du connecteur. La téterelle 6 est maintenue dans cette position de fin de course par friction entre le tube 46 et la paroi latérale de la partie centrale 74 du connecteur 10.
La première ligne de contrôle 41, respectivement la deuxième ligne de contrôle 42 et la troisième ligne de contrôle 43, comprend une première cellule de commutation 44, respectivement une deuxième cellule de commutation 45 et une troisième cellule de commutation 46. Avantageusement, la première cellule de commutation 44, la deuxième cellule de commutation 45 et la troisième cellule de commutation 46 sont identiques.
La première cellule de commutation 44, respectivement la deuxième cellule de commutation 45 et la troisième cellule de commutation 46, comporte une première extrémité 47, respectivement une première extrémité 48 et une première extrémité 49, reliée à une première entrée 50, respectivement une deuxième entrée 51 et une troisième entrée 52, du circuit auxiliaire 7 et une deuxième extrémité 53, respectivement une deuxième extrémité 54 et une deuxième extrémité 55, reliée à une sortie 56, respectivement une sortie 57 et une sortie 58, du circuit auxiliaire 7.
La première entrée 50, respectivement la deuxième entrée 51 et la troisième entrée 52, du circuit auxiliaire 7 est reliée à la deuxième borne de sortie 11 du module d’alimentation 5.
La sortie 56, respectivement la sortie 57 et la sortie 58, du circuit auxiliaire 7 est reliée à une deuxième connexion 59, respectivement deuxième connexion 60 et une deuxième connexion 61, située entre le premier interrupteur principal 21 et le deuxième interrupteur principal 22 du premier bras de commutation principale 18, respectivement du deuxième bras de commutation principale 19 et du troisième bras de commutation principale 20.
Comme la première cellule de commutation 44, la deuxième cellule de commutation 45 et la troisième cellule de commutation 46 sont identiques, seuls un exemple de réalisation de la première cellule de commutation 44 et de la première ligne de contrôle 41 sont à présent détaillés.
La première cellule de commutation 44 de la première ligne de contrôle 41 comprend un interrupteur auxiliaire 62, notamment un interrupteur auxiliaire 62 en carbure de silicium (SiC), comportant un premier transistor 63 et un deuxième transistor 64, notamment un premier transistor 63 et un deuxième transistor 64 à effet de champs en carbure de silicium (SiC), en particulier un premier transistor 63 et un deuxième transistor 64 identiques.
Un drain D1 du premier transistor 63 est relié à la première extrémité 47 de la première cellule de commutation 44 de la ligne de contrôle 41 et à la cathode d’une diode 65, en particulier en tant que diode interne du premier transistor 63.
Par ailleurs, une source S1 du premier transistor 63 est reliée à une anode de la diode 65 du premier transistor 63. Enfin, l’anode de la diode 65 du premier transistor 63 est reliée à une source S1 du deuxième transistor 64.
Un drain D1 du deuxième transistor 64 est reliée à la deuxième extrémité 53 de la première cellule de commutation 44 de la ligne de contrôle 41 et à la cathode de la diode 65, en particulier en tant que diode interne du deuxième transistor 64.
Une grille G1 du premier transistor 63, respectivement du deuxième transistor 64, est reliée au module de pilotage 40.
En variante, la première cellule de commutation 44 est susceptible de comprendre plusieurs interrupteurs auxiliaires 62 reliés en série de manière à réduire la tension entre le drain D1 et la source S1 du premier transistor 63, respectivement du deuxième transistor 64, pour augmenter la tenue du premier transistor 63, respectivement du deuxième transistor 64, aux hautes tensions.
Selon une autre variante représentée schématiquement à la , l’interrupteur auxiliaire 62 comporte un premier transistor 100 et un deuxième transistor 101 à effet de champs en nitrure de galium (GaN), avantageusement identiques.
Le premier transistor 100 et le deuxième transistor 101 à effet de champ en nitrure de gallium ne comportent pas de diode interne.
Un drain D100 d’un premier transistor 100 est relié à la première extrémité 47 de la première cellule de commutation 44 de la ligne de contrôle 41. Par ailleurs, une source S100 du premier transistor 100 est reliée à un drain D101 du deuxième transistor 101. Enfin, une source S101 du deuxième transistor 101 est reliée à la deuxième extrémité 53 de la première cellule de commutation 44 de la ligne de contrôle 41.
Une grille G100 du premier transistor 100, respectivement une grille G101 du deuxième transistor 101, est reliée au module de pilotage 40.
Selon encore un autre mode de réalisation représenté schématiquement à la , l’interrupteur auxiliaire 62 peut comprendre un transistor à double grille 103, notamment un transistor à double grille 103 en nitrure de gallium, piloté par une première gâchette 104 et une deuxième gâchette 105.
Dans un mode de réalisation, l’étape consistant à sécher le liquide de revêtement comprend spécifiquement : le séchage du liquide de revêtement après l’opération de polymérisation par oxydation in situ à 55 °C à 60 °C pendant 20 heures à 25 heures, ce qui réduit mieux l’eau ou le solvant résiduels du matériau d’électrode positive ternaire haute tension, de façon à garantir de préférence les performances électrochimiques du matériau d’électrode positive ternaire haute tension.
Selon le matériau d’électrode positive ternaire haute tension de la présente invention, la masse de revêtement souple est le mélange de la polyaniline et de l’élastomère de polyuréthane et est appliquée en revêtement sur les surfaces externes des particules de matériau actif d’électrode positive ternaire, de sorte que le matériau d’électrode positive ternaire haute tension devient une pluralité de particules de matériau actif d’électrode positive ternaire dont les surfaces sont revêtues du mélange de la polyaniline et de l’élastomère de polyuréthane. Du fait que la masse de revêtement souple contenant le mélange de la polyaniline et de l’élastomère de polyuréthane a à la fois de la souplesse et de la conductivité, la masse de revêtement souple peut s’adapter à des changements d’interface des particules de matériau actif d’électrode positive ternaire, de façon à maintenir une intégrité dynamique et une stabilité d’interface des particules de matériau actif d’électrode positive ternaire pendant le processus de charge et de décharge de la batterie contenant le matériau d’électrode positive ternaire haute tension (c’est-à-dire pendant un processus de désintercalation de lithium). Par ailleurs, la masse de revêtement souple peut fournir une interface de transmission d’ions lithium uniforme pour la désintercalation d’ions lithium, ce qui de cette manière réduit des réactions secondaires provoquées par une fragmentation facile des particules de matériau actif d’électrode positive ternaire et répond au problème d’incidence en fin de compte sur la performance après des cycles et la performance de sécurité de la batterie et de cette manière améliore la performance après des cycles et la performance de sécurité de la batterie.
Certains modes de réalisation sont listés ci-dessous, mais il faut noter que les modes de réalisation suivants ne sont pas exhaustifs de tous les cas possibles et que les matériaux utilisés dans les modes de réalisation suivants peuvent être obtenus à partir de sources du commerce sauf spécification contraire.
Préparation d’un revêtement souple : agitation et dispersion uniformes de 0,1 kg de monomère aniline dans 100 l d’eau désionisée, puis ajout de 0,1 kg de poudre d’élastomère de polyamide, agitation pendant 15 minutes à 100 tr/min pour permettre au monomère aniline d’être totalement adsorbé sur une surface de la poudre d’élastomère de polyuréthane, puis ajout lent goutte à goutte de 0,4 l d’oxydant (solution de H 2 O 2 ayant une concentration de 3 %), exécution d’une réaction de polymérisation par oxydation in situ sur le monomère aniline dans l’élastomère de polyamide à température ambiante, filtration une fois la réaction terminée (25 heures), lavage avec de l’eau désionisée et exécution d’un séchage sous vide à 60 °C pendant 24 heures pour obtenir le revêtement souple.
Préparation d’un matériau d’électrode positive ternaire haute tension : introduction de 0,1 kg du revêtement souple dans de la NMP et agitation pour obtenir une dispersion ; et ajout de 5 kg du matériau actif d’électrode positive ternaire dans la dispersion, agitation et évaporation du solvant pour obtenir le matériau d’électrode positive.
Préparation d’un revêtement souple : dissolution de 1 kg d’acide phosphotungstique dans 100 l d’eau désionisée, ajout de 0,125 kg de monomère aniline pour agiter et disperser uniformément, puis ajout de 0,125 kg de poudre d’élastomère de polyamide, agitation pendant 20 minutes à 100 tr/min pour permettre au monomère aniline d’être totalement adsorbé sur une surface de la poudre d’élastomère de polyuréthane, puis ajout lent goutte à goutte de 0,4 l d’oxydant (solution de H 2 O 2 ayant une concentration de 3 %), exécution d’une réaction de polymérisation par oxydation in situ sur le monomère aniline dans l’élastomère de polyamide à température ambiante, filtration une fois la réaction terminée (environ 23 heures), lavage avec de l’eau désionisée et exécution d’un séchage sous vide à 55 °C pendant 25 heures pour obtenir le revêtement souple.
Préparation d’un matériau d’électrode positive ternaire haute tension : introduction de 0,1 kg du revêtement souple dans de la NMP et agitation pour obtenir une dispersion ; et ajout de 3 kg du matériau actif d’électrode positive ternaire dans la dispersion, agitation et évaporation du solvant pour obtenir le matériau d’électrode positive.
Préparation d’un revêtement souple : dissolution de 1 kg d’acide phosphotungstique dans 100 l d’eau désionisée, ajout de 0,2 kg de monomère aniline pour agiter et disperser uniformément, puis ajout de 0,4 kg de poudre d’élastomère de polyamide, agitation pendant 20 minutes à 100 tr/min pour permettre au monomère aniline d’être totalement adsorbé sur une surface de la poudre d’élastomère de polyuréthane, puis ajout lent goutte à goutte de 0,6 l d’oxydant (solution de H 2 O 2 ayant une concentration de 3 %), exécution d’une réaction de polymérisation par oxydation in situ sur le monomère aniline dans l’élastomère de polyamide à température ambiante, filtration une fois la réaction terminée (25 heures), lavage avec de l’eau désionisée et exécution d’un séchage sous vide à 60 °C pendant 24 heures pour obtenir le revêtement souple.
Préparation d’un matériau d’électrode positive ternaire haute tension : introduction de 0,1 kg du revêtement souple dans de la NMP et agitation pour obtenir une dispersion ; et ajout de 2 kg du matériau actif d’électrode positive ternaire dans la dispersion, agitation et évaporation du solvant pour obtenir le matériau d’électrode positive.
Lorsque ces efforts de traction sont appliqués, l’ensemble de la structure de véhicule est sollicité. En particulier, le pavillon de toit s’affaisse et la traverse transversale arrière, reliant les poutres de l’arc pavillon au niveau des pieds arrières de la structure, pivote autour de son axe longitudinal.
Compte tenu de la rigidité des charnières de coffre et de la liaison rigide entre les charnières de coffre et le support de caisse, le pivotement de la traverse arrière entraîne un effort de cisaillement important au niveau des points de soudure entre les charnières de coffre et le support de caisse.
Cet effort de cisaillement peut entraîner un déboutonnage au niveau des zones de la structure de véhicule contenant les charnières, engendrant une forte déformation de la structure de véhicule au niveau de la traverse arrière.
La présente invention vise à surmonter les inconvénients précités, et concerne pour ce faire une structure de véhicule automobile, comprenant : - deux poutres d’arc pavillon, s’étendant longitudinalement relativement à ladite structure, - un anneau arrière transversal, reliant entre elles lesdites poutres d’arc pavillon, - un support de caisse, sur lequel est fixée, d’une part, une extrémité transversale dudit anneau arrière et, d’autre part une extrémité arrière d’au moins une desdites poutres d’arc pavillon, ladite structure étant remarquable en ce qu’elle comporte : - une jambe limiteur d’effort, fixée sur ledit support de caisse, destinée à supporter une charnière de coffre arrière de véhicule et comportant au moins deux emboutis en marche d’escalier s’étendant verticalement relativement à ladite structure, et - une bretelle anti-soulèvement dudit support de caisse, agencée dans ladite structure pour exercer un effort de compression sur une face supérieure dudit support de caisse.
Ainsi, en prévoyant d’équiper la structure par une jambe limiteur d’effort comportant au moins au moins deux emboutis en marche d’escalier s’étendant verticalement relativement à ladite structure, on réduit la raideur de la structure au niveau des zones de liaison entre les charnières de coffre et le support de caisse.
En réduisant la raideur, on favorise la rotation des charnières de coffre lorsque e véhicule subit un choc frontal, ce qui permet d’éviter un déboutonnage des points de soudure entre les charnières de coffre et le support de caisse.
L’effort de soulèvement subi par le support de caisse est quant à lui maîtrisé et limité grâce à la bretelle anti-soulèvement qui est agencée dans la structure pour exercer un effort de compression sur une face supérieure du support de caisse.
Selon des caractéristiques optionnelles de la structure selon l’invention : - ladite bretelle anti-soulèvement s’étend sensiblement longitudinalement le long d’au moins une desdites poutres d’arc pavillon ; - ladite bretelle anti-soulèvement comporte une extrémité de fixation arrière fixée sur ladite face supérieure dudit support de caisse ; - ladite extrémité de fixation arrière de ladite bretelle anti-soulèvement comporte une fourchette ; - ladite bretelle anti-soulèvement comporte une extrémité de fixation avant fixée sur une traverse transversale de ladite structure, ladite traverse transversale étant située en avant dudit anneau arrière relativement à un axe longitudinal de ladite structure ; - ladite bretelle anti-soulèvement comporte une face longitudinale comportant, au niveau de l’une de ses extrémités, ladite extrémité de fixation arrière, et ladite bretelle anti-soulèvement comporte un embouti de liaison assurant la jonction entre ladite face longitudinale et ladite extrémité de fixation arrière ; - ladite jambe limiteur d’effort s’étend dans le prolongement transversal dudit anneau arrière ; - chacun desdits au moins deux emboutis en marche d’escalier de la jambe limiteur d’effort comporte une première face, sensiblement horizontale relativement à ladite structure et une deuxième face, s’étendant depuis une extrémité arrière de ladite première face, sensiblement verticale relativement à ladite structure ; - la jambe limiteur d’effort s’étend verticalement depuis le support de caisse jusqu’à une gouttière de la structure, destinée à border latéralement un coffre du véhicule.
est une vue analogue à celle de la , montrant une bretelle anti-soulèvement selon l’invention.
illustre les étapes de la cinématique subie par la structure selon l’invention lorsqu’un test visant à évaluer la tenue des ancrages des ceintures de sécurité est pratiqué.