INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
La illustre une variante dans laquelle le porte-électrode 31 est muni d’une pluralité de masques 312 , chacun monté fixe sur un bloc porte-électrode 310 , de préférence au niveau des portions du bloc porte-électrode 310 destinés à recevoir et maintenir les électrodes. Comme visible sur la , une empreinte 3120 est ménagée dans le masque 312 , avantageusement de manière traversante. L’empreinte 3120 est de forme complémentaire à celle de l’électrode au niveau de laquelle elle se situe. Plus exactement, l’empreinte 3120 est de même forme qu’une section de l’électrode dans un plan transverse à la direction d’extension principale de l’électrode, et entoure l’électrode une fois celle-ci montée sur le bloc porte-électrode 310 . Le masque 312 n’a, en effet, qu’une fonction de maintien limitée de l’électrode, typiquement empêchant certains comportements vibratoires de l’électrode dans le plan transverse précédemment évoqué. Le masque 312 a plutôt une fonction de protection du bloc prote-électrodes lors du taillage de l’électrode. En effet, il est préférable que, lors du taillage de l’électrode, et plus précisément de son extrémité, les organes de taillage n’entrent pas en contact avec le bloc porte-électrode 310 sur lequel l’électrode est fixée, afin d’éviter de l’endommager. Le masque 312 , dont le coût de fabrication est généralement plus faible que celui du bloc porte-électrode 310 , assure ainsi cette fonction de protection du bloc porte-électrode 310 , notamment lors du taillage de l’électrode.
De manière avantageuse, une composition de refroidissement et/ou de lubrification comprend au moins un additif antioxydant exempt de cendres.
Le ou lesdits additifs peuvent être mis en œuvre, dans une composition de refroidissement selon l’invention, à raison de 0,1 à 2 % massique, par rapport à la masse totale de la composition.
Une composition de refroidissement et/ou de lubrification selon l’invention peut comprendre au moins un additif anti-usure et/ou extrême-pression.
Il existe une grande variété d’additifs anti-usure. De manière préférée, les additifs anti-usure sont choisis parmi des additifs phosphosoufrés comme les alkylthiophosphates métalliques, en particulier les alkylthiophosphates de zinc, et plus spécifiquement les dialkyldithiophosphates de zinc ou ZnDTP. Les composés préférés sont de formule Zn((SP(S)(OQ 2 )(OQ 3 )) 2 , dans laquelle Q 2 et Q 3 , identiques ou différents, représentent indépendamment un groupement alkyle, préférentiellement un groupement alkyle comportant de 1 à 18 atomes de carbone.
Les phosphates d’amines sont également des additifs anti-usure qui peuvent être employés dans une composition selon l’invention. Toutefois, le phosphore apporté par ces additifs peut agir comme poison des systèmes catalytiques des automobiles car ces additifs sont générateurs de cendres. On peut minimiser ces effets en substituant partiellement les phosphates d’amines par des additifs n’apportant pas de phosphore, tels que, par exemple, les polysulfures, notamment les oléfines soufrées.
Une composition de refroidissement et/ou de lubrification peut comprendre de 0,01 à 6 % massique, préférentiellement de 0,05 à 4 % massique, plus préférentiellement de 0,1 à 2 % massique d’additifs anti-usure et d’additifs extrême-pression, massique par rapport à la masse totale de composition.
Une composition de refroidissement et/ou de lubrification selon l’invention peut comprendre en outre un agent antimousse.
Une composition de refroidissement et/ou de lubrification peut comprendre de 0,01 à 2 % massique ou de 0,01 à 5 % massique, préférentiellement de 0,1 à 1,5 % massique ou de 0,1 à 2 % massique d’agent antimousse, par rapport à la masse totale de la composition.
Une composition de refroidissement et/ou de lubrification selon l’invention peut comprendre au moins un additif modificateur de frottement.
L’additif modificateur de frottement peut être choisi parmi un composé apportant des éléments métalliques et un composé exempt de cendres. Parmi les composés apportant des éléments métalliques, on peut citer les complexes de métaux de transition tels que Mo, Sb, Sn, Fe, Cu, Zn dont les ligands peuvent être des composés hydrocarbonés comprenant des atomes d’oxygène, d’azote, de soufre ou de phosphore. Les additifs modificateurs de frottement exempt de cendres sont généralement d’origine organique et peuvent être choisis parmi les monoesters d’acides gras et de polyols, les amines alcoxylées, les amines grasses alcoxylées, les époxydes gras, les époxydes gras de borate ; les amines grasses ou les esters de glycérol d’acide gras. Selon l’invention, les composés gras comprennent au moins un groupement hydrocarboné comprenant de 10 à 24 atomes de carbone.
Une composition de refroidissement et/ou de lubrification peut comprendre de 0,01 à 2 % massique ou de 0,01 à 5 % massique, préférentiellement de 0,1 à 1,5 % massique ou de 0,1 à 2 % massique d’additif modificateur de frottement, par rapport à la masse totale de la composition.
De manière avantageuse, une composition de refroidissement et/ou de lubrification est exempte d’additif modificateur de frottement, en particulier pour une utilisation visant à refroidir la partie batterie.
La représente un mode de réalisation d'un pixel 1 d'un capteur de lumière.
Le pixel 1 comprend un transistor MOS ("Métal Oxyde Semiconducteur") T1 à canal d'un premier type parmi le type N et le type P. Dans l'exemple de la , le transistor T1 est à canal P, ou, dit autrement, est un transistor PMOS. Toutefois, dans d'autres exemples non illustrés, le transistor T1 est à canal N.
Le transistor T1 est monté en source suiveuse. La grille du transistor T1 est couplée, de préférence connectée, à un noeud de détection ("sense node" en anglais) SN.
Le pixel 1 comprend un transistor MOS T2 à canal d'un deuxième type parmi le type N et le type P. Dit autrement, le transistor T2 est à canal du type opposé à celui du canal du transistor T1. Dans l'exemple de la où le transistor T1 est à canal P, le transistor T2 est donc à canal N, ou, dit autrement, est un transistor NMOS.
Le transistor T2 est monté en source suiveuse. La grille du transistor T2 est configurée pour recevoir une tension de comparaison Vcmp. La tension Vcmp est la tension à laquelle est comparée la tension du noeud SN. De préférence, la tension Vcmp est une tension ayant une valeur commandable. Par exemple, la grille du transistor T2 reçoit des rampes de tension Vcmp. A titre d'exemple, la tension Vcmp est fournie par un circuit générateur de tension du capteur de lumière comprenant le pixel 1, le capteur comprenant plusieurs pixels 1 et cette tension Vcmp étant, par exemple, fournie simultanément à tout ou partie des pixels 1 du capteur.
Les deux transistors T1 et T2 sont connectés en série l'un avec l'autre. Plus particulièrement, une première borne de conduction du transistor T1, à savoir sa source, est connectée à une première borne de conduction du transistor T2, à savoir la source du transistor T2. Dit autrement, les transistors T1 et T2 ont leurs sources S connectées l'une avec l'autre. Les deuxièmes bornes de conduction des transistors T1 et T2, à savoir leurs drains, sont couplées à des noeuds 100 et 102. Dit autrement, l'un des transistors T1 et T2 a son drain couplé au noeud 100, l'autre des transistors T1 et T2 ayant son drain couplé au noeud 102. Les transistors T1 et T2 sont donc connectés en série entre les deux noeuds 100 et 102.
Le noeud 100 est configuré pour recevoir un potentiel d'alimentation, par exemple la masse GND en . Le noeud 102 est configuré pour recevoir un autre potentiel d'alimentation VDD2. Dans l'exemple de la où le transistor T1 est à canal P et le transistor T2 est à canal N, le potentiel VDD2 du noeud 102 est positif par rapport au potentiel GND du noeud 100. Dans un autre exemple non illustré où le transistor T1 est à canal N et le transistor T2 à canal P, le potentiel du noeud 102 est inférieur à celui du noeud 100, par exemple négatif par rapport au potentiel GND du noeud 100.
Le pixel 1 comprend en outre une source de courant 104. La source de courant 104 est connectée en série avec les transistors T1 et T2, entre les noeuds 100 et 102. Dit autrement, la source de courant 104 à une borne de conduction connectée à l'association en série des transistors T1 et T2, et, plus exactement, au drain de l'un des transistors T1 et T2. Dans la suite de la description, la référence 106 désigne le noeud de connexion de la source de courant 104 à l'association en série des transistors T1 et T2.
Dans l'exemple de la où le transistor T1 est à canal P et le transistor T2 est à canal N, la source de courant 104 est connectée entre le transistor T2 et le noeud 102, et la référence 106 désigne alors le drain du transistor T2. Ainsi, dans l'exemple de la , le drain du transistor T2 est couplé au noeud 102, le drain du transistor T1 étant couplé, de préférence connecté, au noeud 100. Dit autrement, dans l'exemple de la , la source de courant 104 a une borne de conduction couplée, par exemple connectée, au noeud 102, et une autre borne de conduction couplée, par exemple connectée, au transistor T2.
Dans un autre exemple non illustré où le transistor T1 est à canal N et le transistor T2 est à canal P, la source de courant 104 couple le drain du transistor T1 au noeud 100, c'est à dire qu'elle est connectée entre le noeud 100 et le transistor T1, la référence 106 désignant alors le drain du transistor T1 et le drain du transistor T2 étant couplé, par exemple connecté, au noeud 102
La source 104 est, par exemple, configurée pour délivrer un courant constant Ibias1.
A titre d'exemple, la source 104 est mise en oeuvre par un transistor MOS ayant une grille configurée pour recevoir une tension continue de polarisation. Dans l'exemple de la où la source de courant 104 couple le transistor T2 à canal N au noeud 102 recevant un potentiel supérieur à celui du noeud 100, le transistor MOS mettant en oeuvre la source de courant 104 est à canal P et a une borne de conduction, par exemple sa source, connectée au noeud 102 et une borne de conduction, par exemple son drain, connecté au noeud 106.
Dans le pixel 1, les transistors T1 et T2 sont passants lorsque la tension entre les grilles des transistors T1 et T2 est supérieure à la somme de la tension de seuil du transistor T1 et de la tension de seuil du transistor T2. Lorsque les transistors T1 et T2 sont bloqués, la borne de la source de courant 104 connectée au noeud 106 est à une tension sensiblement égale à la tension sur l'autre borne de la source de courant 104, à savoir la tension VDD2 du noeud 102 dans l'exemple de la . En revanche, dès que la différence entre la tension Vcmp et la tension du noeud SN est suffisante pour que les transistors T1 et T2 soient passants, la tension sur la borne de la source de courant 104 connectée au noeud 106 est tirée vers, ou se rapproche de, la tension sur celui des noeuds 100 et 102 qui n'est pas connectée à la source de courant 104, c'est à dire d'une tension nulle dans l'exemple de la .
La tension sur le noeud 106 est donc représentative de la comparaison de la tension Vcmp à la tension sur le noeud SN.
Le pixel 1 comprend au moins un photodétecteur PD, par exemple un seul photodétecteur PD dans l'exemple de la . Le noeud SN, c'est à dire la grille du transistor T1, est couplée au photodétecteur PD. Dans d'autres exemples non illustrés où le pixel 1 comprend plusieurs photodétecteurs PD, ceux-ci sont tous couplés au noeud SN.
Dans l'exemple de , le photodétecteur PD est une photodiode clampée ("pinned photodiode" en anglais), qui est alors couplée au noeud SN par une grille de transfert TG, représentée sous la forme d'un interrupteur en . La grille TG est connectée entre le noeud SN et la photodiode PD. La grille de transfert TG est commandé par un signal sTG, par exemple fournit par un circuit du capteur configuré pour commander les pixels 1 du capteur. En , la photodiode clampée PD est représentée connectée entre la grille TG et un noeud 108, par exemple mis à la masse GND bien que ce noeud puisse recevoir d'autres potentiels que la masse.
La taille des nanoparticules est mesurée par DLS. On a mesuré que les noyaux de silice comprenant le composé ACVA ont un diamètre moyen de 344 nm avec une déviation standard de 32 nm. L’indice de polydispersité moyen mesuré également en DLS vaut 0.084. Un cliché des nanoparticules obtenu par microscopie électronique à balayage est présenté à la .
La charge de surface des nanoparticules est déterminée à différentes valeurs de pH sur des échantillons prélevés sans dilution et dont le pH est ajustée à la valeur voulue. Le potentiel zêta varie en fonction du pH, ce qui conditionnera le pH d’incubation de la première couche de l’écorce. Les résultats sont présentés dans le Tableau 3.
[Table 3] Mesure du potentiel zêta des nanoparticules de silice hybride pH Zêta (mV) Conductivité (mS/cm) 5.7 26.04 0.1844 7.9 -0.15 0.07 10.2 -39.85 0.32 Exemple 2 : Synthèse de nanoparticules cœur-écorce selon l’invention
Etape 1 : Enrobage des cœurs de silice hybrides avec une écorce
On a réalisé l’assemblage de la coque sur les nanoparticules de silice hybrides préparées selon l’Exemple 1, en utilisant une technique couche par couche.
1. Synthèse On prélève 1,25 mL de la suspension aqueuse des nanoparticules de silice hybrides (Nps) préparées selon l’Exemple 1. On joute 1.43 mL d'une solution de carboxyméthylcellulose (CMC 250 kDa, ref : 419311-100G, Aldrich, à 1 g/L dans l'eau). Puis 1.3 mL d’une solution de NaCl à 10 g/L, et on complète avec 6 mL d’eau déionisée pour obtenir un volume total de 10 mL. On ajuste le pH à 5.8, et on laisse incuber entre 40 min et 1h sous agitation magnétique à température contrôlée, soit 23.5°C. On laver l'excès de CMC en centrifugeant la suspension (10 000 rpm, 10 min, 15°C). On retire le surnageant qu’on resuspend dans de l’eau déionisée et on recommence un lavage. On retire ensuite de nouveau le surnageant.
On ajouter de nouveau 7.250 mL d’eau déionisée, ainsi que les 1.3 mL de NaCl à 10 g/L. Pour la deuxième couche, on ajoute 1.43 mL d'une solution de chitosane à 1 g/L (faible poids moléculaire, 50-190 kDa, dans l'eau, pH de solubilisation = 5,5, ref:448869-50G, Aldrich). Ajuster le pH à 5.7, et laisser incuber entre 40 min et 1h sous agitation magnétique, à température contrôlée soit 23.5°C. On ave l'excès de chitosane en centrifugeant comme décrit pour la couche précédente. Ensuite, on recommence une fois le même cycle pour construire quatre couches. Les concentrations massiques des réactifs et leurs ratios sont présentés dans le Tableau 4 suivant.
[Table 4] Concentrations et ratios massiques des réactifs Concentration en Nps (g/L) Concentration en chitosane (g/L) Concentration en CMC (g/L) Concentration NaCl (g/L) Ratio massique Nps/ polymère Ratio massique polymère / NaCl 1 0.143 0.143 1.3 7 0.11
2. Caractérisation La formation des couches est suivie par des mesures du potentiel zêta à un pH de 6 environ. Les résultats sont présentés dans le Tableau 5.
[Table 5] Mesure du potentiel zêta des nanoparticules cœur-écorce Nano-objet pH de mesure Zeta +/- déviation (mV) Nanoparticules de silice hybride (Nps) 6.01 -13.8 +/- 1.8 Nanoparticules 1 ère couche CMC 6.05 -45.5 +/- 0.2 Nanoparticules 2 eme couche Chitosane 6.10 11.8 +/- 0.4
Étape 2 : Dégradation du cœur sous irradiation UV On prépare 10 ml des nanoparticules cœur-écorce obtenues à l’Etape 1. Sous agitation magnétique, dans une boite noire, on place la lampe au même niveau horizontal que les échantillons, à une distance de 10 cm. On rradie pendant 4,5 h avec une lampe UV (Fire Edge FE300® 75x10AC 365, 345-385 nm, Phasem Techno).
Composition anhydre de maquillage DOMAINE DE L'INVENTION La présente invention concerne le domaine cosmétique et en particulier des compositions anhydres de soin et/ou de maquillage de la peau ou des lèvres.
ETAT DE LA TECHNIQUE Les consommatrices recherchent des produits dont le résultat maquillage est assez naturel.
L’invention concerne des compositions dont la couleur change au moment de leur application sur la peau ou les lèvres. Les compositions de l’invention se distinguent donc des compositions de maquillage classiques pour lesquelles on recherche généralement une identité de teinte entre la composition dans son conditionnement et le dépôt de cette composition sur la peau ou les lèvres, de faciliter à l’utilisateur/l’utilisatrice le choix de la couleur qu’il souhaite.
Dans les produits pour les lèvres, on connaît notamment l’utilisation de la tétrabromofluoresceine autrement nommée éosine ou colorant Red n° 21, Red n°27, ou leur mélange, dans des baumes ou des gloss peu ou pas colorés. Ces éosines ont la particularité de ne pas teinter la composition en masse (la coloration ne se révèle pas dans la composition), mais de réagir à l’humidité et au pH des lèvres pour libérer l’éosine et rosir instantanément la couleur des lèvres ; on dit aussi que les éosines colorent ou ‘tâchent’ les lèvres à l’application. Les colorants DC Red 21 et DC Red 27 colorent les lèvres en rose, mais afin de proposer une palette élargie aux consommatrices, la Demanderesse a développé des formules avec une autre éosine, le colorant liposoluble Orange 5, qui colore les lèvres en orange et apporte ainsi une coloration plus chaude.
Cependant, contrairement aux éosines classiques précitées, la Demanderesse a observé, de façon inattendue, que ce colorant Orange 5 a l’inconvénient de teinter la composition en masse et que cette teinte en masse évolue dans le temps et en fonction des conditions environnantes (ex : atmosphère humide), ce qui représente un inconvénient important pour un produit utilisé pendant plusieurs semaines ou plusieurs mois.
- Au moins un dispositif de séparation gaz-liquide 8 configuré pour éliminer la solution aqueuse contenue dans le mélange hydrogène-solution aqueuse 5 généré par la série de n électrolyseurs 4, et produire un flux d’hydrogène 9,
- Un moyen de récupération d’un flux d’hydrogène 24,
- Un moyen de récupération d’un flux de solution aqueuse 25,
Avec ledit dispositif de séparation gaz-liquide 8 comprenant deux lignes d’acheminement de flux – une ligne d'acheminement supérieure 21 et une ligne d'acheminement inférieure 22 - disposées l’une au-dessus de l’autre, avec la ligne d'acheminement supérieure 21 raccordée fluidiquement au moyen de récupération du flux d’hydrogène 24 et la ligne d’acheminement inférieure 22 raccordée fluidiquement au moyen de récupération du flux de solution aqueuse 25; l’une et/ou l’autre des deux lignes d’acheminement étant alimentées par le mélange hydrogène - solution aqueuse 5 et les deux lignes d’acheminement 21 et 22 étant reliées fluidiquement l’une à l’autre par un ou plusieurs tronçons 23 de manière à permettre un passage de l’hydrogène de la ligne inférieure 22 à la ligne supérieure 21 et/ou un passage de la solution aqueuse de la ligne supérieure 21 à la ligne inférieure 22.
Autrement dit dans la solution selon l’invention, l’hydrogène et la solution aqueuse seront séparés tout au long des lignes d’acheminement par gravité. La solution aqueuse descendra par gravité dans la ligne d’acheminement inférieure par l’intermédiaire des tronçons tandis que l’hydrogène montera dans la ligne d’acheminement supérieure également par l’intermédiaire des tronçons. Chaque tronçon pourra voir à la fois des flux montants et descendants. Notons que les flux descendants pourront également comprendre des condensats qui se seraient formés dans la ligne d’acheminement supérieure. Il va de soi que ces condensats sont essentiellement constitués d’eau.
Par « au moins un dispositif de séparation gaz-liquide » on entend que l’installation peut comprendre plusieurs dispositifs de séparation gaz-liquide en parallèle ou en série.
Par « lignes d’acheminement disposées l’une au-dessus de l’autre » on entend qu’elles sont disposées l’une au-dessus de l’autre selon un axe vertical ou qu’elles sont disposées l’une au-dessus de l’autre mais décalées horizontalement.
Les lignes d’acheminement pourront être rectilignes ou courbées.
Le moyen de récupération de la solution aqueuse 25 pourra comprendre un tuyau installé en parallèle de la ligne d’acheminement inférieure 22, de préférence en dessous de la ligne d’acheminement inférieure 22, dans lequel pourra circuler au moins une partie du flux de solution aqueuse ; solution aqueuse soutirée dans ce cas là à différents points de la ligne d’acheminement inférieure 22.
De préférence, chaque électrolyseur consiste en un empilement de plusieurs cellules d’électrolyse pouvant être le plus probablement de type alcalin ou PEM (membrane échangeuse de protons – « proton exchange membrane » en anglais) montées en série, que l'on appelle communément un stack. Le stack est alimenté en courant continu par un système de distribution électrique dont la tension de sortie peut être réglable. D’autres types de cellules d’électrolyse peuvent être utilisées tels que les cellules AEM (membrane échangeuse d’anions – « anion exchange membrane » en anglais, les SOEC (cellules électrolytiques à oxyde solide – « solid oxide electrolysis cells » en anglais, les PCEC (cellules électrochimique céramique protonique - « protonic ceramic electrochemical cell » en anglais). Plus généralement, tout type d’électrolyseur pourra être utilisé.
Il va de soi que la série de n modules d’électrolyse de l’eau génère en plus de l’hydrogène de l’oxygène. Aussi avantageusement, l’installation comprendra un deuxième dispositif de séparation gaz-liquide configuré pour éliminer la solution aqueuse (ou eau comprenant jusqu’à environ 40% massique de sels) contenue dans le mélange oxygène-solution aqueuse généré par la série de n électrolyseurs. L’installation selon l’invention comprendra donc préférentiellement un moyen de récupération d’un flux d’oxygène et un deuxième dispositif de séparation gaz-liquide comprenant deux lignes d’acheminement de flux – une ligne d'acheminement supérieure et une ligne d'acheminement inférieure - disposées l’une au-dessus de l’autre, avec la ligne d'acheminement supérieure raccordée fluidiquement au moyen de récupération du flux d’oxygène et la ligne de conduite inférieure raccordée fluidiquement au moyen de récupération du flux de solution aqueuse; l’une et/ou l’autre des deux lignes d’acheminement étant alimentées par le mélange oxygène - solution aqueuse 6 et les deux lignes étant reliées fluidiquement l’une à l’autre par un ou plusieurs tronçons de manière à permettre un passage de l’oxygène de la ligne inférieure à la ligne supérieure et/ou un passage de la solution aqueuse de la ligne inférieure à la ligne supérieure. Le flux d’oxygène 15 récupéré en sortie du deuxième dispositif de séparation gaz-liquide sera ensuite refroidi dans un refroidisseur 16 à une température comprise entre 30 et 40°C, puis collecté dans un système de collecte 19 ou sera plus généralement envoyé à l’atmosphère.
- calcination à 500°C pendant 2 heures.
Après l’étape d’enduction, le précurseur de catalyseur obtenu est calciné dans four à moufle à 1100°C pendant 13 heures sous atmosphère statique avec une rampe de montée en température de 10°C/min.
Le catalyseur obtenu à l’issue de l’étape de calcination comprend les caractéristiques suivantes :
- surface spécifique, mesurée par porosimetrie mercure : 6 m²/gAl 2 O 3
- volume poreux total, mesuré par porosimetrie au mercure : 0,65 ml/g Al 2 O 3 (* Volume injecté à P max ≈ 400 MPa soit d pores ≈ 3,6 nm).
Une solution colloïdale de particules d’oxyde de palladium est préparée avec une concentration de 0,23 % poids en élément palladium en présence d’hydroxyde de sodium.
Un volume correspondant au volume poreux total de l’alumine enduite sur le support (VPT = 0,65 ml/g) de la solution colloïdale est ensuite déposé en goutte à goutte sur toute la surface du support enduit. S’en suit une maturation de 30 minutes à température ambiante. Le matériau obtenu est ensuite séché dans une étuve à 45°C pendant 48 heures puis calciné en four tubulaire à 450°C pendant 2 heures.