INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans le cadre de l’invention, m représente un nombre strictement inférieur à 1, ce qui signifie que le matériau semi-conducteur dopé obtenu par le procédé selon l’invention comporte obligatoirement l’élément E au moins en partie sous sa forme trivalente. Pour le cas particulier où m=0, le matériau semi-conducteur dopé obtenu ne comporte l’élément E que sous sa forme trivalente E 3+ , ce qui signifie que cet élément métastable est passé intégralement de sa forme divalente à sa forme trivalente au cours du procédé selon l’invention. De préférence dans le cadre de l’invention, m est inférieur ou égal à 0,5, de préférence inférieur ou égal à 0,3, et mieux encore inférieur ou égal à 0,1.
De préférence, le dépôt sur le substrat S du précurseur de pérovskite II et du composé III est réalisé sous atmosphère inerte, et par exemple sous atmosphère de N 2 . Avantageusement, l’ensemble du procédé est réalisé sous atmosphère inerte, et par exemple sous atmosphère de N 2 . Avantageusement, le procédé selon l’invention est réalisé à pression atmosphérique.
Selon une première variante de réalisation, le procédé de formation sur un substrat S d’une couche de matériau semi-conducteur dopé de formule I comprend les étapes suivantes : a1) disposer d’une solution de précurseur de pérovskite de formule II dans un solvant polaire ou un mélange de solvants polaires, a2) disposer d’une solution d’un composé de formule III dans un solvant polaire ou un mélange de solvants polaires, b) disposer d’un substrat S, c1) déposer la solution de précurseur de pérovskite II sur le substrat S, c2) chauffer à une température allant de 50°C à 150°C, afin d’obtenir un substrat couvert d’une couche de pérovskite, c3) déposer la solution du composé de formule III sur le substrat couvert d’une couche de pérovskite, c4) chauffer à une température allant de 50°C à 150°C.
Le ou les solvants polaires utilisés dans les étapes a1) et a2) peuvent être identiques ou différents et peuvent être par exemple choisis parmi le diméthylformamide (DMF), la gamma butyro lactone, l’isopropanol, le diméthylsulfoxyde (DMSO), et la N-méthylpyrrolidone (NMP). Cette liste n’est pas limitative, tout solvant polaire pouvant convenir dans la mesure où ils dissolvent le précurseur de pérovskite II et/ou le composé III et où ils sont inertes vis-à-vis de ceux-ci.
La préparation de la solution de précurseur de pérovskite de formule II peut comprendre la mise en contact de A 2+ X - 2 et B + X - , selon des procédures connues de l’homme du métier. La concentration de cette solution de précurseur de pérovskite de formule II n’est pas limitante, et va typiquement de 0,2 M à 1,2 M. Selon la nature de la pérovskite, cela peut correspondre à une teneur allant de 200 mg/mL à 600 mg/mL.
La concentration de la solution de composé de formule III utilisée n’est pas limitante. Des concentrations inférieures à 50 mg/mL sont de préférence employées, et par exemple allant de 0,001 mg/mL à 50 mg/mL, de 0,01 mg/mL à 20 mg/mL et ou encore de 0,1 mg/mL à 15 mg/mL. Selon la nature du composé de formule E, cela peut correspondre à des concentrations inférieures à 0,1 mol/L.
Le dépôt de la solution de précurseur de pérovskite II à l’étape c1) peut être réalisé par exemple par enduction par centrifugation, avec une vitesse allant typiquement de 800 rpm à 6000 rpm pendant 0,5 min à 3 min. Toute autre méthode permettant le dépôt d’une couche mince de pérovskite II pourrait être utilisée de manière alternative, comme par exemple l’impression jet d’encre, l’enduction à rouleau (« roll to roll » en anglais), la filière à fente (« slot die » en anglais), la vaporisation ou encore l’évaporation sous vide.
Une fois la solution de précurseur de pérovskite II déposée sur le substrat S, le substrat ainsi enduit est chauffé à une température allant de 50 °C à 150°C lors de l’étape c2), de préférence allant de 80 °C à 110 °C, et par exemple pendant 0,5 min à 3 min. Cette étape permet d’obtenir le substrat couvert d’une couche de pérovskite de formule II. Préalablement à ce chauffage, il est possible de sécher le substrat enduit de solution de pérovskite II à température ambiante, typiquement pendant quelques minutes. Ce séchage permet d’évaporer une partie des solvants (selon leur nature), et facilite alors l’étape ultérieure de cristallisation lors du recuit.
Lors de l’étape c3), le dépôt du composé de formule III peut être réalisé par exemple par enduction par centrifugation, avec une vitesse allant typiquement de 1000 rpm à 4000 rpm pendant 0,5 min à 5 min. Toute autre méthode permettant le dépôt du composé III dans les quantités souhaitées pourrait être utilisée de manière alternative, et notamment celles mentionnées pour l’étape c1) de dépôt de la solution de précurseur de pérovskite II.
Enfin à l’étape c4), un traitement thermique à une température allant de 50°C à 150°C, de préférence de 80 °C à 110 °C permet, d’obtenir le substrat couvert d’une couche de matériau semi-conducteur dopé de formule I. Ce chauffage peut être réalisé pendant 1 min à 5 min. Ce chauffage peut être précédé d’une étape de séchage à température ambiante pendant quelques minutes.
Selon une seconde variante de réalisation, le procédé de formation sur un substrat S d’une couche de matériau semi-conducteur dopé de formule I comprend les étapes suivantes : A) disposer d’une solution de précurseur de pérovskite de formule II et de composé de formule III dans un solvant polaire ou un mélange de solvants polaires, B) disposer d’un substrat S, C1) déposer la solution de précurseur de pérovskite II et de composé de formule III sur le substrat S, C2) chauffer à une température allant de 50°C à 150°C.
Selon ce mode de réalisation, le précurseur de pérovskite II et le composé III sont ajoutés simultanément.
De préférence, tous les réactifs et solvants utilisés selon cette seconde variante de réalisation sont anhydres, c’est-à-dire qu’ils contiennent moins de 10 ppm d’eau.
Le ou les solvants polaires utilisés dans à l’étape A peut (peuvent) être par exemple choisi(s) parmi le diméthylformamide (DMF), la gamma butyro lactone, l’isopropanol, le diméthylsulfoxyde (DMSO), et la N-méthylpyrrolidone (NMP). Cette liste n’est pas limitative, tout solvant polaire pouvant convenir dans la mesure où ils dissolvent le précurseur de pérovskite II et le composé III et où ils sont inertes vis-à-vis de ceux-ci.
Le précurseur de pérovskite II peut être préparé de la même manière que décrit précédemment pour le mode de réalisation où la solution de précurseur de pérovskite II et la solution de composé III sont déposés de manière subséquente sur le substrat.
Egalement par exemple, et comme illustré non limitativement sur les figures 1 à 4, chaque conduit CAj peut être associé à une électrovanne EVj contrôlant l’accès de l’air à la ligne d’échappement LE et contrôlée par l’unité de contrôle UC en fonction des premier id1 ou second id2 instant de début et premier if1 ou second if2 instant de fin. On comprendra qu’à chaque premier instant de début id1 l’unité de contrôle UC provoque le placement de la première électrovanne EV1 dans un état passant (ou ouvert) afin que l’air fourni par la première pompe à air PA1 puisse entrer dans la ligne d’échappement LE via la première entrée d’air EA1, et qu’à chaque premier instant de fin if1 l’unité de contrôle UC provoque le placement de la première électrovanne EV1 dans un état non passant (ou fermé) afin que l’air fourni par la première pompe à air PA1 ne puisse plus entrer dans la ligne d’échappement LE via la première entrée d’air EA1. De même, à chaque second instant de début id2 l’unité de contrôle UC provoque le placement de la seconde électrovanne EV2 dans un état passant (ou ouvert) afin que l’air fourni par la seconde pompe à air PA2 puisse entrer dans la ligne d’échappement LE via la seconde entrée d’air EA2, et à chaque second instant de fin if2 l’unité de contrôle UC provoque le placement de la seconde électrovanne EV2 dans un état non passant (ou fermé) afin que l’air fourni par la seconde pompe à air PA2 ne puisse plus entrer dans la ligne d’échappement LE via la seconde entrée d’air EA2.
L’utilisation d’une première EV1 ou seconde EV2 électrovanne permet non seulement d’avoir une plus grande précision sur la quantité d’air qui est injectée localement dans la ligne d’échappement LE via la première EA1 ou seconde EA2 entrée d’air, mais aussi d’éviter la remontée de gaz d’échappement chauds vers la première PA1 ou seconde PA2 pompe à air.
On notera également que chaque électrovanne EVj peut être placée n’importe où sur le conduit d’air CAj associé, dès lors que ce placement a lieu entre la pompe à air PAj et l’entrée d’air EAj associées.
On notera également, comme illustré non limitativement sur les figures 1 à 4, que la ligne d’échappement LE peut aussi comprendre classiquement un filtre à particule FP en amont de son premier catalyseur CT1, lequel produit généralement des résidus de dépollution, comme par exemple du NH 3 .
Procédé de contrôle d’un système électrique pour une turbomachine hybridée électriquement Le présent exposé concerne le domaine des turbomachines, en particulier des moteurs d’aéronef. Plus précisément, le présent exposé concerne la gestion de l’alimentation de charges électriques d’un moteur et/ou d’un aéronef.
ETAT DE LA TECHNIQUE Un aéronef peut comprendre au moins un moteur, lequel peut comprendre au moins deux corps rotatifs distincts. En outre, chacun du moteur et de l’aéronef peut comprendre des charges électriques et/ou des sources d’alimentation électrique. Un système électrique peut relier les charges, les sources et le moteur entre eux pour permettre des échanges électriques entre ces différents éléments. En outre, le moteur peut comprendre au moins une machine électrique reliée aux corps rotatifs. Ainsi, au moins une des charges peut être alimentée par la machine électrique qui, pour ce faire, prélève une puissance mécanique sur au moins un des corps rotatifs. Par ailleurs, au moins un des corps rotatifs peut être assisté par prélèvement d’une puissance électrique sur au moins une source. Le cas échéant, c’est la machine électrique qui peut être une source, et qui prélève alors une puissance mécanique sur l’autre des corps rotatifs. Les corps rotatifs ainsi sollicités par prélèvement ou injection de puissance mécanique peuvent comprendre des modes propres, par exemple en torsion et/ou en flexion. Dès lors, y réaliser un prélèvement ou une injection de puissance mécanique à des fréquences proches de ces modes propres peut entraîner une mise en résonnance de tout ou partie du moteur, ce qui est susceptible de l’endommager. D’un autre côté, éviter de prélever ou d’injecter de la puissance mécanique sur les corps rotatifs à cause de ces modes propres peut réduire les performances du système électrique, et donc du moteur, voire de l’aéronef.
Un but du présent exposé est d’améliorer la durée de vie d’un moteur d’aéronef comprenant une charge électrique alimentée par prélèvement mécanique sur le moteur tout en garantissant les performances du moteur.
Il est à cet effet proposé, selon un aspect du présent exposé, un procédé de contrôle d’un système électrique comprenant : le traitement d’un signal principal de commande d’un prélèvement d’une puissance mécanique par le système électrique sur une turbomachine hybridée électriquement de sorte à en extraire une première composante fréquentielle correspondant à une fréquence propre d’un premier corps rotatif de la turbomachine et à générer un premier signal principal filtré privé de la première composante fréquentielle ; la génération d’un premier signal subsidiaire de commande d’un prélèvement d’une puissance mécanique par le système électrique sur le premier corps rotatif à partir du premier signal principal filtré ; et la génération d’un deuxième signal subsidiaire de commande d’un prélèvement d’une puissance par le système électrique sur une source de puissance auxiliaire à partir de la première composante fréquentielle.
Selon un autre aspect, il est proposé un système électrique comprenant : un bus d’alimentation électrique prévu pour être relié à au moins une charge et configuré pour fournir une puissance électrique à la charge sous forme d’un signal continu ; un premier générateur de courant alternatif prévu pour être relié à un premier corps rotatif d’une turbomachine hybridée électriquement pour prélever une puissance mécanique sur le premier corps rotatif et la transformer en puissance électrique susceptible d’être transférée au bus ; un deuxième générateur de courant alternatif prévu pour être relié à un deuxième corps rotatif de la turbomachine pour prélever une puissance mécanique sur le deuxième corps rotatif et la transformer en puissance électrique susceptible d’être transférée au bus ; un premier convertisseur reliant le premier générateur de courant alternatif au bus et configuré pour réguler le bus en tension à partir d’une puissance électrique fournie par le premier générateur de courant alternatif ; un deuxième convertisseur reliant le deuxième générateur de courant alternatif au bus et configuré pour réguler le bus en tension à partir d’une puissance électrique fournie par le deuxième générateur de courant alternatif ; et un dispositif de contrôle relié aux convertisseurs et configuré pour piloter les convertisseurs en vue de compenser une évolution d’une tension du bus par la mise en œuvre d’un procédé tel que précédemment décrit.
Selon un autre aspect, il est proposé une turbomachine comprenant : un système électrique tel que précédemment décrit ; un premier corps rotatif relié au premier générateur ; et un deuxième corps rotatif relié au deuxième générateur.
La illustre schématiquement un système électrique.
0° ; 30° ; 60° ; 90° ; 120° ; 150° ; 180° ; 210° ; 240° ; 270° ; 300° ; 330°,
- 4° ; 34° ; 56° ; 94° ; 116° ; 154° ; 176° ; 214° ; 236° ; 274° ; 296° ; 334°.
Cette configuration permet d’’atténuer l’excitation mécanique sans pour autant trop pénaliser les performances aérodynamiques de la turbomachine 1.
La illustre le carter 400 selon un mode de réalisation de l’invention pour lequel l’atténuation mécanique est maximale ainsi que le carter initial 200 sur plusieurs vues permettant de les distinguer et les figures 3 et 4 illustrent le carter 100 selon un mode de réalisation de l’invention acceptable d’un point de vue aérodynamique et le carter initial 200 (en traits discontinus).
VÉHICULE À LIGNE D’ÉCHAPPEMENT À TRAITEMENT AMÉLIORÉ DE RÉSIDUS DE COMBUSTION ET/OU DE DÉPOLLUTION Domaine technique de l’invention L’invention concerne les véhicules comprenant un moteur thermique alimentant en résidus de combustion une ligne d’échappement, et plus précisément le traitement des résidus de combustion et/ou de dépollution au sein de tels véhicules.
Etat de la technique Certains véhicules, généralement de type automobile, comprennent une ligne d’échappement alimentée en résidus de combustion par un moteur thermique, produisant des résidus de dépollution, et comprenant :
- un premier catalyseur traitant des résidus de combustion, comme par exemple des oxydes d’azote (ou NO x ) et/ou des hydrocarbures imbrulés (ou HC) et/ou du monoxyde de carbone (CO), et
- un second catalyseur placé en aval du premier catalyseur et traitant des résidus de dépollution, comme par exemple de l’ammoniac (ou NH 3 ).
Parfois, le premier catalyseur, comme le second catalyseur, assure un traitement des résidus de combustion ou de dépollution pour lesquels il est conçu lorsque sa température (interne) est comprise dans un intervalle de températures de fonctionnement prédéfini. De ce fait, tant que sa température (interne) n’a pas atteint la température minimale de son intervalle de températures de fonctionnement, les résidus de combustion ou de dépollution s’accumulent progressivement dans sa partie interne. Par conséquent, si le premier (ou second) catalyseur est saturé par accumulation de résidus de combustion ou de dépollution lorsque sa température atteint la température minimale de son intervalle de températures de fonctionnement, il éprouve des difficultés à assurer son traitement, et donc il est contraint de relâcher sans traitement une partie de ces résidus de combustion ou de dépollution accumulés.
On notera que la quantité relâchée est d’autant plus grande que la vitesse du véhicule est petite (et donc que la charge du moteur thermique est petite), car la quantité d’O 2 présente dans les gaz d’échappement en sortie du moteur thermique (et indispensable au traitement des résidus de combustion ou des résidus de dépollution) est d’autant plus petite. On notera également que la quantité relâchée est actuellement plus grande dans le cas d’un moteur thermique à essence que dans le cas d’un moteur thermique diésel car la quantité d’O 2 utilisée est notablement plus petite dans le cas d’un moteur thermique à essence. On notera également que cette quantité relâchée est encore plus grande lorsque l’on effectue des oscillations d’enrichissement au niveau du moteur thermique et/ou lorsque la ligne d’échappement comprend en amont du premier catalyseur un filtre à particules qui consomme une grande partie de l’air contenu dans les gaz d’échappement et produit des résidus de dépollution tels que NH 3 .
L’invention a donc notamment pour but d’améliorer la situation, et plus précisément d’améliorer le traitement des résidus de combustion et/ou des résidus de dépollution.
Présentation de l’invention Elle propose notamment à cet effet un véhicule comprenant une ligne d’échappement alimentée en résidus de combustion, produisant des résidus de dépollution, et comprenant :
- un premier catalyseur traitant des résidus de combustion et ayant une première température, et
- un second catalyseur placé en aval du premier catalyseur, traitant des résidus de dépollution, et ayant une seconde température.
- au moins une pompe à air propre à alimenter en air, de façon contrôlée, un conduit communiquant avec la ligne d’échappement en amont du premier ou second catalyseur,
est une vue en perspective, de côté, du module lumineux de la ; et
est une vue en perspective de l’arrière du module lumineux de la .
Par ailleurs, tout ce qui dénommé « arrière » ou « avant » est dénommé de manière relative en référence à la face de l’élément d'éclairage et/ou de signalisation la plus proche de l’extérieur du véhicule. Ainsi, tout ce qui dénommé « arrière » se trouve du côté le plus éloigné de l’extérieur du véhicule selon la direction d’extension principale de ce dernier, tandis que tout ce qui est dénommé « avant » se trouve du côté le plus proche de l’extérieur du véhicule selon la direction d’extension principale de ce dernier. Toutefois, pour ce qui concerne les feux du véhicule, ceux-ci sont dénommés « avant » ou « arrière » selon le sens arrière-avant du véhicule, donc selon le sens de roulement classique de ce dernier.
Description détaillée Les figures 1 à 5 représentent un module lumineux 2 selon une première variante de réalisation de l’invention. Le module lumineux 2 présente un axe optique A-A’. Le module lumineux 2 est intégré en face avant ou arrière d’un véhicule et est destiné à être installé dans un élément d'éclairage et/ou de signalisation du véhicule (l’élément d'éclairage et/ou de signalisation et le véhicule n’étant pas représentés sur les figures). L’élément d'éclairage et/ou de signalisation peut typiquement faire partie d’un projecteur du véhicule.
Le module lumineux 2 comporte un système d’imagerie optique (non représenté sur les figures). Le système d’imagerie optique est configuré pour générer un faisceau lumineux, et est typiquement un système d’imagerie optique directe comportant par exemple une ou plusieurs lentille(s) de projection (ainsi qu’éventuellement une ou plusieurs lentille(s) de champ disposées à l’arrière des lentilles de projection). Le module lumineux 2 comporte également plusieurs sources lumineuses (non représentées sur les figures pour des raisons de clarté), une pièce en plastique 8 et une platine 9 de support des sources lumineuses. De préférence, le module lumineux 2 comporte également un dissipateur thermique (non représenté sur les figures pour des raisons de clarté). Le dissipateur thermique permet de dissiper la chaleur émise par les sources lumineuses et se présente par exemple sous la forme d’un ou plusieurs radiateur(s). De préférence, comme illustré sur la , le module lumineux 2 comporte également un ventilateur 10 qui permet d’augmenter les performances de dissipation thermique du ou des radiateur(s).
Les sources lumineuses sont typiquement des diodes électroluminescentes, et sont orientées dans l’axe optique A-A’ du module lumineux 2. Le système d’imagerie optique est agencé en regard des sources lumineuses.
La pièce en plastique 8 est une pièce creuse délimitant un logement 12 et est fixée sur la platine de support 9, sur un flanc 13 de la platine 9. La pièce en plastique 8 s’étend à l’avant de la platine de support 9 et présente au moins une paroi latérale interne 14 qui délimite le logement 12. Dans l’exemple de réalisation particulier illustré sur les figures 1 à 5, la pièce en plastique 8 présente une forme sensiblement parallélépipédique qui a deux paires de parois latérales internes opposées 14A, 14B, 14C, 14D. Les parois latérales internes 14A, 14B, 14C, 14D sont planes : deux premières paires de parois latérales internes opposées 14A, 14C s’étendent parallèlement l’une à l’autre, et deux secondes paires de parois latérales internes opposées 14B, 14D s’étendent parallèlement l’une à l’autre. La pièce en plastique 8 forme en outre un couvercle pour le système d’imagerie optique, qui est reçu dans le logement 12. Plus précisément, dans l’exemple de réalisation particulier illustré sur les figures 1 à 5, la pièce en plastique 8 est munie d’une paroi verticale 15 qui sépare le logement 12 en deux compartiments adjacents 15A, 15B (la paroi verticale 15 est ainsi fixée aux deux premières parois latérales opposées 14A, 14C, sensiblement au niveau de leur ligne médiane, et s’étend transversalement à ces deux parois 14A, 14C). Chaque compartiment 15A, 15B de la pièce en plastique 8 reçoit par exemple un couple lentille de projection/lentille de champ distinct, chaque lentille de champ étant disposée à l’arrière d’une lentille de projection correspondante.
La platine de support 9 est munie d’au moins une excroissance faisant saillie depuis la platine de support 9, à l’intérieur du logement 12 délimité par la pièce en plastique 8. Dans l’exemple de réalisation particulier représenté sur les figures 1 à 5, la platine de support 9 est munie de deux telles excroissances 16A, 16B. Dans cet exemple de réalisation, la platine de support 9 s’étend dans un plan sensiblement vertical. Chaque excroissance 16A, 16B, qui présente de préférence la forme d’une nervure ou d’un muret latéral de protection et qui est venue de matière avec la platine de support 9, fait saillie à l’intérieur du logement 12 le long d’une des secondes parois latérales internes opposées 14B, 14D de la pièce en plastique 8. Chaque excroissance 16A, 16B s’étend ainsi parallèlement à l’axe optique A-A’ du module lumineux 2, vers l’avant du module 2. Chaque excroissance 16A, 16B est configurée pour protéger la paroi latérale interne 14B, 14D le long de laquelle elle s’étend de l'effet de rayons lumineux focalisés, en particulier de l’effet des rayons solaires et/ou des rayons lumineux indirects issus des sources lumineuses (de tels rayons étant focalisés par le système d’imagerie optique). Plus précisément, chaque excroissance 16A, 16B est dimensionnée et positionnée par rapport à la paroi latérale interne 14B, 14D le long de laquelle elle s’étend de telle sorte que son emplacement dans le logement 12 correspond à une zone de focalisation de rayons lumineux. De préférence, la platine de support 9 et les excroissances 16A, 16B sont constituées d’un matériau métallique, qui est préférentiellement de l’aluminium.