INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
De manière préférentielle, le dispositif de soufflage du fluide gazeux coopère avec un dispositif de répartition du fluide gazeux, ledit dispositif de répartition étant conçu pour assurer d’une part la collecte du fluide gazeux sortant de la zone de travail par les orifices de sortie et d’autre part le retour dudit fluide gazeux vers ladite zone de travail en passant par les orifices d’entrée.
Selon un mode de réalisation préféré du dispositif de répartition du fluide gazeux, ledit dispositif de répartition du fluide gazeux comprend un plateau intermédiaire, parallèle au plateau de fabrication et positionné en-dessous dudit plateau de fabrication et à l’extérieur de la zone de travail, ledit plateau intermédiaire comprenant une ouverture circulaire en son centre et des encoches à sa périphérie, ledit plateau intermédiaire formant, avec ledit plateau de fabrication et l’élévation du fût, une cavité appelée zone d’aspiration, ladite zone d’aspiration recevant le fluide gazeux provenant de la zone de travail par les orifices de sortie.
Avantageusement, le dispositif de répartition du fluide gazeux comporte des ouvertures d’entrée formées par la coopération des encoches et de l’élévation, lesdites ouvertures d’entrée coïncidant par une superposition, selon la direction de l’axe central, avec les orifices d’entrée réalisés dans le plateau de fabrication.
Préférentiellement, le dispositif de répartition du fluide gazeux comprend des cloisons normales au plateau intermédiaire, s’étendant depuis le plateau intermédiaire jusqu’au plateau de fabrication, lesdites cloisons coopérant avec l’élévation pour former des conduits étanches qui relient les ouvertures d’entrée du plateau intermédiaire aux orifices d’entrée réalisés dans le plateau de fabrication.
Selon une forme préférée du dispositif de répartition du fluide gazeux, ledit dispositif de répartition du fluide gazeux comprend un plateau support, parallèle au plateau intermédiaire et situé au-dessous dudit plateau intermédiaire, ledit plateau support formant avec ledit plateau intermédiaire et l’élévation du fût une cavité appelée zone de refoulement, ladite zone de refoulement permettant d’une part de recevoir le fluide gazeux provenant de la zone d’aspiration par l’ouverture circulaire et d’autre part d’injecter ledit fluide gazeux dans la zone de travail en passant par les ouvertures d’entrée, les conduits étanches et les orifices d’entrée.
Avantageusement, le dispositif de chauffage du fluide gazeux comprend au moins un tube chauffant, contenant une résistance électrique chauffante, ledit tube chauffant étant placé dans la zone de refoulement.
Selon une forme de réalisation préférée du dispositif de soufflage du fluide gazeux, ledit dispositif de soufflage du fluide gazeux comprend un ventilateur, comprenant des pales situées dans la zone de refoulement et permettant de mettre en mouvement le fluide gazeux présent dans la zone de refoulement, de mettre en contact ledit fluide gazeux avec le tube chauffant, avant de faire pénétrer ledit fluide gazeux dans la zone de travail en passant par les ouvertures d’entrée du plateau de fabrication, les conduits étanches, reliant le plateau de fabrication au plateau intermédiaire, et les orifices d’entrée du plateau intermédiaire.
Avantageusement, le dispositif de soufflage du fluide gazeux et le dispositif de chauffage du fluide gazeux sont alimentés électriquement par un connecteur électrique qui est embarqué sur ledit module et qui est agencé pour coopérer de façon amovible avec un connecteur électrique complémentaire qui est intégré à la machine de fabrication additive.
Encore avantageusement, la chemise est montée coulissante par rapport au plateau de fabrication selon l’axe central, afin de faire varier le volume de la zone de travail et ainsi former une structure télescopique.
De préférence, les traitements en surface des pigments sont choisis parmi les traitements suivants : - un traitement PEG-Silicone comme le traitement de surface AQ commercialisé par LCW ; - un traitement Chitosane comme le traitement de surface CTS commercialisé par LCW; - un traitement Triéthoxycaprylylsilane comme le traitement de surface AS commercialisé par LCW ; - un traitement Méthicone comme le traitement de surface SI commercialisé par LCW; - un traitement Diméthicone comme le traitement de surface Covasil 3.05 commercialisé par LCW ; - un traitement Diméthicone / Triméthylsiloxysilicate comme le traitement de surface Covasil 4.05 commercialisé par LCW ; - un traitement Lauroyl Lysine comme le traitement de surface LL commercialisé par LCW ; - un traitement Lauroyl Lysine Diméthicone comme le traitement de surface LL / SI commercialisé par LCW ; - un traitement Myristate de Magnésium comme le traitement de surface MM commercialisé par LCW ; - un traitement Dimyristate d’Aluminium comme le traitement de surface MI commercialisé par Miyoshi ; - un traitement Perfluoropolyméthylisopropyl éther comme le traitement de surface FHC commercialisé par LCW ; - un traitement Isostéaryl Sébacate comme le traitement de surface HS commercialisé par Miyoshi ; - un traitement Disodium Stéaroyl Glutamate comme le traitement de surface NAI commercialisé par Miyoshi ; - un traitement Diméthicone / Disodium Stéaroyl Glutamate comme le traitement de surface SA / NAI commercialisé par Miyoshi ; - un traitement Phosphate de Perfluoroalkyle comme le traitement de surface PF commercialisé par Daito ; - un traitement Copolymère acrylate / Diméthicone et Phosphate de Perfluoalkyle comme le traitement de surface FSA commercialisé par Daito ; - un traitement Polyméthylhydrogène siloxane / Phosphate de Perfluoroalkyle comme le traitement de surface FS01 commercialisé par Daito ; - un traitement Lauryl Lysine / Aluminium Tristéarate comme le traitement de surface LL-StAI commercialisé par Daito ; - un traitement Octyltriéthylsilane comme le traitement de surface OTS commercialisé par Daito ; - un traitement Octyltriéthylsilane / Phosphate de Perfluoroalkyle comme le traitement de surface FOTS commercialisé par Daito ; - un traitement Copolymère Acrylate / Diméthicone comme le traitement de surface ASC commercialisé par Daito ; - un traitement Isopropyl Titanium Triisostéarate comme le traitement de surface ITT commercialisé par Daito ; - un traitement Cellulose Microcrystalline et Carboxyméthyl Cellulose comme le traitement de surface AC commercialisé par Daito ; - un traitement Cellulose comme le traitement de surface C2 commercialisé par Daito; - un traitement copolymère Acrylate comme le traitement de surface APD commercialisé par Daito ; - un traitement Phosphate de Perfluoroalkyle / Isopropyl Titanium Triisostéarate comme le traitement de surface PF + ITT commercialisé par Daito.
Les pigments mis en œuvre dans la composition selon l’invention peuvent être traités en surface par un agent organique.
Les compositions mises en œuvre dans la composition selon la présente invention peuvent de plus comprendre un ou plusieurs pigments non traités en surface.
Par "sous-micronique" ou en anglais "sub-micronic", on entend des pigments dont la taille particulaire a été micronisée par méthode de micronisation et dont la taille moyenne de particule est inférieure au micromètre (µm), en particulier allant de 0,1 à 0,9 µm, et de préférence allant de 0,2 à 0,6 µm.
Selon un mode de réalisation, l’agent dispersant et le ou les pigments sont présents en quantité (dispersant : pigment) allant de 0,5 : 1 à 2 : 1, particulièrement allant de 0,6 : 1 à 1,5 : 1 ou mieux allant de 0,6 : 1 à 1,2 : 1.
Selon un mode de réalisation particulier, l’agent dispersant est adapté pour disperser les pigments et est compatible avec une formulation durcissable par condensation. Par "compatible", on entend, par exemple, que ledit agent dispersant est miscible dans la phase huileuse de la composition contenant le ou les pigments, il ne retarde pas, ou ne diminue pas le durcissement. L’agent de dispersion est de préférence cationique.
De préférence, le ou les pigments mis en œuvre dans la composition de l’invention sont choisis parmi les nacres, les noirs de carbone tel que le Black 2, les oxydes de fer notamment rouge, brun ou noir et les micas enrobés d’oxyde de fer, les pigments triarylméthane notamment bleu et violets tel que le BLUE 1 LAKE, les pigments azoïques notamment rouges tels que le D&C RED 7, les sels de métal alcalin ou alcalino-terreux de rouge de lithol tel que le sel de calcium du rouge de lithol B, et leurs mélanges.
Selon l’exemple de la , le piston de référence 65 est le deuxième piston 41. La tige de commande 60 s’étend alors dans la deuxième chambre 43 et traverse une paroi du deuxième corps 42, en particulier le deuxième fond précité. Par suite, la tige de commande 60 est reliée à un support 5 de la cellule 90, éventuellement via notamment une articulation. Le premier corps 32 est au contraire relié à la ou aux roues 15 de manière usuelle, et par exemple à une fusée de roue.
Selon une deuxième alternative de la première version illustrée par l’exemple de la , une tige de commande 60 est articulée à la tige de liaison 50. La tige de commande 60 est alors connectée mécaniquement à la ou aux roues 15, et par exemple via une fusée de roue voire une jambe de train 11.
Le premier corps 32 et/ou le deuxième corps 42 peuvent comprendre une rainure dans laquelle la tige de commande 60 peut notamment coulisser. Un effort exercé sur la tige de commande 60 lors d’un déplacement de la ou des roues 15 induit alors un effort dans la tige de liaison 50, et inversement.
Les figures 5 à 7 illustrent le fonctionnement du dispositif amortisseur 20 de la première version. Le dispositif amortisseur 20 correspondant à celui de la , mais les explications suivantes s’appliquent aux autres exemples.
En référence à la , le dispositif amortisseur 20 se trouve dans une position de repos juste avant que la ou les roues 15 touchent le sol avant l’atterrissage. Le gaz présent dans la première chambre 33 est comprimé alors que le gaz présent dans la deuxième chambre 43 est détendu.
Lorsque la ou les roues 15 de l’atterrisseur 10 touchent le sol, cette ou ces roues 15 tendent à se rapprocher de la cellule 90. Le dispositif amortisseur 20 est sollicité lors d’une phase d’enfoncement dès qu’un effort exercé sur le dispositif amortisseur 20 atteint un seuil.
En référence à la , le premier piston 31 s’éloigne selon la flèche illustrée du premier fond, alors qu’au contraire le deuxième piston 41 se rapproche du deuxième fond. La première pression P1 dans la première chambre 33 baisse alors que la deuxième pression P2 dans la deuxième chambre 43 augmente. Le dispositif amortisseur 20 dans son ensemble génère alors un effort qui croît très rapidement, le dispositif amortisseur absorbant un maximum d’énergie.
En référence à la , ce mouvement se poursuit jusqu’à un maximum. Le dispositif amortisseur 20 dans son ensemble génère alors un effort qui croît plus lentement.
A l’issue de la phase d’enfoncement, le dispositif amortisseur 20 fonctionne selon une phase de retour à la normale et tend à retourner dans sa forme initiale. Eventuellement, le dispositif amortisseur peut comprendre au moins un système de freinage pour optimiser la détente, et éviter un phénomène de rebond.
Selon une deuxième version illustrée sur la , l’atterrisseur 10 comporte une jambe de train 11 mobile en rotation autour d’un axe de pivotement 12. Cette jambe de train 11 porte une ou des roues 15.
Selon cette deuxième version, le premier sous-ensemble amortisseur 30 et le deuxième sous-ensemble amortisseur 40 sont agencés en parallèle. Contrairement à la première version, le premier sous-ensemble amortisseur 30 et le deuxième sous-ensemble amortisseur 40 sont dissociés.
Dès lors, le premier sous-ensemble amortisseur 30 est articulé à un support 5 de la cellule 90. De plus, le premier sous-ensemble amortisseur 30 est articulé par une première connexion mécanique 70 à la jambe de train 11. Une première distance D1 sépare le long de la jambe de train 11 l’axe de pivotement 12 et la première connexion mécanique 70, et par exemple une première articulation 72 à pivot ou rotule de la première connexion mécanique 70 et l’axe de pivotement 12. Dans l’alternative à « corps fixe et piston mobile » illustrée, la première connexion mécanique 70 s’étend du premier piston 31 à la jambe de train 11. Cette première connexion mécanique 70 comporte par exemple un premier arbre 71 solidaire du premier piston 31 et articulé par une première articulation 72 à pivot ou rotule à la jambe de train 11, le premier corps 32 pouvant être articulé à un support 5 de la cellule 90. Selon un autre exemple à « corps mobile et piston fixe » non illustré pour ne pas multiplier les figures, la première connexion mécanique 70 comporte par exemple un premier arbre solidaire du premier corps 32 et articulé par une première articulation 72 à pivot ou rotule à la jambe de train 11, le premier piston 31 pouvant être solidaire d’une première tige articulée à un support 5 de la cellule 90.
Le deuxième sous-ensemble amortisseur 40 est articulé à un support 5 de la cellule 90. De plus, le deuxième sous-ensemble amortisseur 40 est articulé par une deuxième connexion mécanique 75 à la jambe de train 11. Une deuxième distance D2 sépare le long de la jambe de train 11 l’axe de pivotement 12 et la deuxième connexion mécanique 75, et par exemple une deuxième articulation 77 à pivot ou rotule de la deuxième connexion mécanique 75 et l’axe de pivotement 12. Dans l’alternative à « corps fixe et piston mobile » illustrée, la deuxième connexion mécanique 75 s’étend du deuxième piston 41 à la jambe de train 11. Cette deuxième connexion mécanique 75 comporte par exemple un deuxième arbre 76 solidaire du deuxième piston 41 et articulé par une deuxième articulation 77 à pivot ou rotule à la jambe de train 11, le deuxième corps 42 pouvant être articulé à un support 5 de la cellule 90. Selon un autre exemple à « corps mobile et piston fixe » non illustré pour ne pas multiplier les figures, la deuxième connexion mécanique 75 comporte par exemple un deuxième arbre solidaire du deuxième corps 42 et articulé par une deuxième articulation 77 à pivot ou rotule à la jambe de train 11, le deuxième piston 41 pouvant être solidaire d’une deuxième tige articulée à un support 5 de la cellule 90.
Par ailleurs, la première superficie S1, la pression maximale P1max, la deuxième superficie S2 et la pression minimale P2min ainsi que la première distance D1 et la deuxième distance D2 peuvent être définies afin qu’un premier produit de la première superficie S1 et de la pression maximale P1max et de la première distance D1 soit inférieur à un deuxième produit de la deuxième superficie S2 et de la pression minimale P2min et de la deuxième distance D2.
Quelle que soit l’alternative, la première connexion mécanique 70 et la deuxième connexion mécanique 75 sont articulées à la jambe de train 11 de part et d’autre de l’axe de pivotement 12. En particulier, la deuxième connexion mécanique 75 est articulée à la jambe de train 11 entre l’axe de pivotement 12 et l’axe de rotation 16 de la ou des roues 15 par rapport à la jambe de train 11.
La présente l’atterrisseur 10 dans la position de repos alors que la présente l’atterrisseur 10 lors de la remontée de la ou des roues 15 vers la cellule 90.
La cellule de protection de la synchronisation 200 comprend une paire de bascules bistables (FF) 202, 204, qui sont par exemple des bascules bistables de type D.
La bascule bistable 202 a par exemple une entrée de données reliée à la sortie d'un multiplexeur à deux entrées (MUX) 206 ayant une de ses entrées reliée à une entrée de données de la cellule recevant un signal de données d'entrée D et son autre entrée reliée à une entrée d'injection de données de la cellule recevant un signal d'injection INJ_IN, utilisé par exemple à des fins de test. La bascule bistable 202 a également par exemple une entrée de commande de test recevant un signal d'entrée SCAN_IN de la cellule 200 et une entrée d'activation de balayage commandée par un signal de d'activation de balayage SCAN_EN de la cellule 200. La bascule bistable 202 est synchronisée par un signal CP' qui est par exemple le signal d'horloge d'entrée CP de la cellule 200 amplifié par un tampon 208. Dans certains modes de réalisation, comme cela est représenté par une ligne en traits pointillés 210, la bascule bistable 202 a une entrée de remise à zéro ou de mise à un qui reçoit un signal de remise à zéro ou de mise à un RESET/SET qui permet de réinitialiser la cellule. La bascule bistable 202 fournit par exemple, au niveau de sa sortie de données, un signal de donnée de sortie Q de la cellule 200.
Le circuit de protection de la synchronisation intégrée de la cellule 200 comprend par exemple la bascule bistable 204, le multiplexeur 206, les éléments de retard 212, 214, un comparateur (XOR) 216, une porte ET 218, une bascule bistable (FF ANTI-GLITCH) 220, un inverseur 222 et une porte ET 224.
La bascule bistable 204 a par exemple son entrée de données reliée à la sortie du multiplexeur 206 par l'intermédiaire de la connexion en série des éléments de retard 212 et 214. L'élément de retard 212 est par exemple un retard fixe, alors que l'élément de retard 214 est par exemple un retard variable. Par exemple, l'élément de retard 212 est constitué de la connexion en série d'une paire d'inverseurs. L'élément de retard variable 214 est par exemple constitué d'une chaîne d'une pluralité de paires d'inverseurs connectés en série, le nombre d'inverseurs étant sélectionné afin d'obtenir une valeur de retard cible souhaitée. Cette valeur de retard varie par exemple d'une cellule 200 à une autre, comme cela sera décrit plus en détail ultérieurement. La bascule bistable 204 a par exemple son entrée d'horloge reliée à la sortie du tampon 208 et ses entrées de données de balayage et d'activation de balayage tirées à un état logique bas ʽ0. Dans certains modes de réalisation, la bascule bistable 204 a une entrée de remise à zéro ou de mise à un qui reçoit le signal de remise à zéro ou de mise à un RESET/SET sur la ligne 210.
La sortie de données de la bascule bistable 204 est reliée à une entrée du comparateur 216, qui est par exemple mis en œuvre par une porte XOR. L'autre entrée du comparateur 216 est par exemple reliée à la sortie de la porte ET 218, qui a par exemple une de ses entrées reliée à la sortie de données de la bascule bistable 202 et son autre entrée reliée à une entrée de commande de mode d'injection de la cellule 200 recevant un signal de commande de mode d'injection INJ_MODE_n, utilisé à des fins de test. La sortie du comparateur 216 est par exemple reliée à une entrée de données de la bascule bistable 220, qui a par exemple son entrée d'horloge qui reçoit l'inverse CPN' du signal d'horloge CP' et une entrée de balayage tirée à un niveau logique bas ʽ0. Le signal CPN' est par exemple généré par l'inverseur 222, qui a son entrée reliée à la sortie du tampon 208. La bascule bistable 220 a par exemple une entrée d'activation de balayage reliée à la sortie de la porte ET 224, la porte ET 224 ayant une entrée reliée pour recevoir le signal SCAN_EN au niveau de l'entrée d'activation de balayage de la cellule 200 et son autre entrée reliée pour recevoir le signal INJ_MODE_n au niveau de l'entrée de mode d'injection de la cellule 200. La sortie de données de la bascule bistable 220 fournit par exemple un signal d'indicateur FLAG au niveau de la sortie de la cellule 200.
Dans certains modes de réalisation, la cellule 200 comprend également un circuit de synchronisation de remise à zéro (RESET SYNC) 224 qui reçoit un signal de remise à zéro R_SLG au niveau d'une entrée de la cellule 220, ainsi que le signal d'horloge CPN'. Le circuit de synchronisation de remise à zéro 224 est par exemple configuré pour générer et fournir à la bascule bistable 220 un signal de mise à un/remise à zéro resynchronisé, sur la base du signal de remise à zéro d'entrée R_SLG et du signal d'horloge CPN'. Si, toutefois, la cellule 200 comprend un port de mise à un/remise à zéro, le signal RESET/SET est par exemple fourni à partir de ce port à chacune des bascules bistables 202, 204 et 220 et le circuit 224 peut être omis.
En fonctionnement, pendant un mode de surveillance de protection de la synchronisation, le signal de mode d'injection INJ_MODE_n est par exemple à un 1 logique, les signaux SCAN_IN et SCAN_EN sont par exemple bas et le multiplexeur 206 est commandé pour fournir le signal de données D à la bascule bistable 202 et à l'élément de retard 212. Les deux bascules bistables 202 et 204 sont configurées pour échantillonner les signaux de données au niveau de leurs entrées en même temps, mais le signal de données reçu par la bascule bistable 204 est retardé par le retard temporel supplémentaire SLG DELAY des éléments de retard 212 et 214 par rapport au signal de données reçu par la bascule bistable 202. Ainsi, si une transition du signal de données D survient à moins que ce temps de retard avant un front d'horloge du signal CP', les bascules bistables 202 et 204 fourniront en sortie différents états logiques, résultant en un état logique haut au niveau de la sortie du comparateur 216, et donc l'activation du signal d'indicateur FLAG au front descendant suivant du signal d'horloge CP', correspondant à un front montant du signal d'horloge CPN'. Le signal d'indicateur FLAG indique ainsi le moment où le retard de propagation du signal de données a ralenti de plus d'une durée donnée par rapport au signal d'horloge, cette durée étant fonction du retard introduit par les éléments de retard 212 et 214.
Il sera clair pour la personne du métier que la cellule 200 de la est essentiellement un exemple et que de nombreuses modifications pourraient être introduites tout en maintenant les mêmes principes de fonctionnement. Par exemple, l'élément de retard 212 et/ou la bascule bistable anti-perturbations 220 et/ou le circuit de synchronisation de remise à zéro 224 pourrait être omis dans certains modes de réalisation. En outre, dans des variantes de mode de réalisation, le mode de test de balayage et/ou le mode d'injection n'est pas pris en charge, simplifiant ainsi la cellule 200.
La cellule 200 de la est par exemple insérée à la place de bascules bistables de type D dans plusieurs trajets de propagation d'un circuit numérique et le retard temporel introduit par l'élément de retard 214 de chaque cellule 200 est par exemple adapté pour le trajet de propagation, comme cela sera décrit maintenant ci-après plus en détail en relation avec les figures 3 et 4.
La est un chronogramme représentant la synchronisation dans deux trajets d'un circuit numérique synchronisé par le signal d'horloge CP selon un exemple de mode de réalisation de la présente description. L'instant t0 d'un premier front d'horloge (1ST CLK EDGE) de l'horloge CP est représenté à gauche de la et un trajet 1 a le pire retard de propagation (WORST DLY PATH 1) au niveau de son extrémité terminale d'une première durée twd1 par rapport au premier front d'horloge et un trajet 2 a le pire retard de propagation (WORST DLY PATH 2) au niveau de son extrémité terminale d'une deuxième durée twd2 par rapport au premier front d'horloge, la deuxième durée twd2 étant plus longue que la première durée twd1. Chacun des trajets correspond par exemple à un trajet de propagation de signal entre des premier et deuxième dispositifs synchrones, le premier dispositif transmettant une transition de données au moment du premier front d'horloge et le deuxième dispositif échantillonnant les données au moment d'un deuxième front d'horloge (2ND CLK EDGE) du signal d'horloge CP. Le deuxième dispositif de chaque trajet est par exemple mis en œuvre par la cellule de protection de la synchronisation 200 de la avec un retard temporel adapté sur la base de retards temporels correspondants twd1, twd2 des trajets. Les pires retards de propagation de trajet twd1, twd2 sont par exemple estimés sur la base d'une simulation des pires conditions PVT dans le circuit numérique.