Procédé de fabrication d'un capteur d'image, comprenant : la fourniture d'un substrat ; la formation d'une couche de lentille au-dessus du substrat ; la formation d'une couche de masque dur à motif sur la couche de lentille ; la gravure de la couche de lentille pour transférer un motif de la couche de masque dur à motif sur la couche de lentille de sorte qu'une pluralité de lentilles soit définie, dans lequel les lentilles sont des microlentilles ou des lentilles à méta-surface ; la formation d'une couche de revêtement pour recouvrir la pluralité de lentilles et le substrat ; la gravure de parties de la couche de revêtement pour former une première paroi latérale inclinée et une deuxième paroi latérale inclinée, dans lequel la première paroi latérale inclinée est au-dessus de la deuxième paroi latérale inclinée, dans lequel une extension de la première paroi latérale inclinée sur le substrat est espacée d'une extension de la deuxième paroi latérale inclinée sur le substrat ; et la formation conforme d'une couche de filtre à bande passante ayant plusieurs films sur la couche de revêtement et recouvrant le substrat. Procédé de fabrication du capteur d'image selon la revendication 1, dans lequel, avant la formation de la couche de lentille au-dessus du substrat, le procédé comprend en outre : la formation d'une couche de résine photosensible avec une troisième paroi latérale inclinée et ayant une tranchée sur le substrat ; la formation de la couche de lentille avec une quatrième paroi latérale inclinée dans la tranchée ; et le retrait de la couche de résine photosensible, dans lequel un angle entre la troisième paroi latérale inclinée et une surface supérieure du substrat est supérieur à 90 degrés, et un angle entre la quatrième paroi latérale inclinée et la surface supérieure du substrat est inférieur à 90 degrés. Procédé de fabrication du capteur d'image selon la revendication 2, dans lequel, après la formation de la couche de lentille au-dessus du substrat, le procédé comprend en outre : la formation d'une couche de remplissage sur le substrat et entourant la couche de lentille, dans lequel une surface supérieure de la couche de lentille est sensiblement coplanaire avec une surface supérieure de la couche de remplissage ; la formation de la couche de masque dur à motif sur la couche de remplissage ; et la gravure de la couche de remplissage pour transférer le motif de la couche de masque dur à motif sur la couche de remplissage, de sorte qu'une partie restante de la couche de remplissage et une couche sous-jacente soient définies, dans lequel la couche sous-jacente est disposée entre la pluralité de lentilles et le substrat, et la couche sous-jacente est connectée à la partie restante. Procédé de fabrication du capteur d'image selon la revendication 3, dans lequel, après la définition de la partie restante de la couche de remplissage et de la couche sous-jacente, le procédé comprend en outre : la formation d'une couche de protection pour recouvrir la pluralité de lentilles et exposer la partie restante de la couche de remplissage ; le retrait de la partie restante de la couche de remplissage ; le retrait de la couche de protection ; et la formation d'un film antireflet sur des surfaces supérieures de la pluralité de lentilles. Procédé de fabrication du capteur d'image selon la revendication 3, dans lequel, après la définition de la partie restante de la couche de remplissage et de la couche sous-jacente, le procédé comprend en outre : la formation d'une couche de protection pour recouvrir la pluralité de lentilles et une première partie de la partie restante de la couche de remplissage, dans lequel une deuxième partie de la partie restante de la couche de remplissage est exposée ; le retrait de la deuxième partie de la partie restante de la couche de remplissage ; le retrait de la couche de protection ; et la formation d'un film antireflet sur des surfaces supérieures de la pluralité de lentilles et une surface supérieure de la première partie de la partie restante de la couche de remplissage. Procédé de fabrication du capteur d'image selon la revendication 1, dans lequel, avant la formation de la couche de lentille au-dessus du substrat, une couche sous-jacente est formée sur le substrat. Procédé de fabrication du capteur d'image selon la revendication 1, dans lequel la formation de la couche de revêtement pour recouvrir la pluralité de lentilles et le substrat et la gravure des parties de la couche de revêtement pour former la première paroi latérale inclinée et la deuxième paroi latérale inclinée, comprend en outre : la formation d'une première couche de revêtement pour recouvrir la pluralité de lentilles et le substrat ; la gravure d'une partie de la première couche de revêtement pour exposer une partie du substrat et pour former une troisième paroi latérale inclinée, dans lequel un angle entre la troisième paroi latérale inclinée et une surface supérieure du substrat est dans une plage allant de 20 degrés à 60 degrés ; la formation d'une deuxième couche de revêtement sur la première couche de revêtement et la partie du substrat pour former la première paroi latérale inclinée sur un sommet de la couche de revêtement ; et la gravure d'une partie de la deuxième couche de revêtement pour former la deuxième paroi latérale inclinée sur un fond de la couche de revêtement, dans lequel un angle entre la deuxième paroi latérale inclinée et la surface supérieure du substrat est dans une plage allant de 20 degrés à 60 degrés. Procédé de fabrication du capteur d'image selon la revendication 1, dans lequel la gravure des parties de la couche de revêtement pour former la première paroi inclinée et la deuxième paroi inclinée comprend en outre : la gravure d'une première partie de la couche de revêtement pour former la première paroi latérale inclinée sur un sommet de la couche de revêtement, dans lequel un angle entre la première paroi latérale inclinée et une surface supérieure du substrat est dans une plage allant de 20 degrés à 60 degrés ; et la gravure d'une deuxième partie de la couche de revêtement pour former la deuxième paroi latérale inclinée sur un fond de la couche de revêtement, dans lequel un angle entre la deuxième paroi latérale inclinée et la surface supérieure du substrat est dans une plage allant de 20 degrés à 60 degrés. Capteur d'image, comprenant : un substrat ; une pluralité de lentilles disposée sur le substrat, dans lequel la pluralité de lentilles sont des microlentilles ou des lentilles à méta-surface ; une couche de revêtement disposée sur la pluralité de lentilles et le substrat, dans lequel la couche de revêtement a une première paroi latérale inclinée et une deuxième paroi latérale inclinée, et la première paroi latérale inclinée est au-dessus de la deuxième paroi latérale inclinée, dans lequel une extension de la première paroi latérale inclinée sur le substrat est séparée d'une extension de la deuxième paroi latérale inclinée sur le substrat ; et une couche de filtre passe-bande ayant plusieurs films déposée de façon conforme sur la couche de revêtement et recouvrant le substrat. Capteur d'image selon la revendication 9, comprenant en outre une couche de remplissage et un film antireflet, dans lequel la couche de remplissage est disposée sur le substrat et entoure la pluralité de lentilles, une épaisseur de la couche de remplissage est dans une plage allant de 0,1 µm à 100 µm, et le film antireflet est disposé sur des surfaces supérieures des lentilles et une surface supérieure de la couche de remplissage. Capteur d'image selon la revendication 9, comprenant en outre une couche sous-jacente disposée entre la pluralité de lentilles et le substrat, dans lequel une épaisseur de la couche sous-jacente est dans une plage allant de 0,01 µm à 100 µm. Capteur d'image selon la revendication 11, dans lequel un matériau des lentilles est un a-Si, SiH, GeH, Ge, GeO ou GeSiH, un matériau de la couche sous-jacente est identique à ou différent d'un matériau des lentilles, une épaisseur de la couche sous-jacente est dans une plage allant de 0,01 µm à 100 µm, et une distance entre une partie la plus externe de la deuxième paroi latérale inclinée et une partie la plus externe de la couche sous-jacente est dans une plage allant de 40 µm à 100 µm, dans lequel, lorsque la pluralité de lentilles sont des microlentilles, une extension des microlentilles sur le substrat est dans une extension de la couche sous-jacente sur le substrat. Capteur d'image selon la revendication 9, dans lequel un angle entre la première paroi latérale inclinée et une surface supérieure du substrat est dans une plage allant de 20 degrés à 60 degrés, dans lequel un angle entre la deuxième paroi latérale inclinée et la surface supérieure du substrat est dans une plage allant de 20 degrés à 60 degrés.