INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
- l’installation comprend une pompe de soutirage reliée au moyen de récupération de la solution aqueuse 25, et un réservoir tampon installé entre le moyen de récupération de la solution aqueuse 25 et la pompe de soutirage.
- la ligne d’acheminement supérieure 21 et le réservoir tampon sont reliés fluidiquement par un tronçon T de manière à permettre un passage d’un reliquat d’hydrogène du réservoir tampon vers la ligne d’acheminement supérieure 21. En effet, dans le cas où il resterait quelques bulles d’hydrogène dans la solution aqueuse soutirée, ces quelques bulles viendraient se coller dans la partie supérieure de la paroi interne du réservoir tampon avant de rejoindre la ligne d’acheminement supérieure 21 par le biais du tronçon T. A noter que cet acheminement du reliquat d’hydrogène vers la ligne d’acheminement supérieure 21 pourra se faire en continu ou par intermittence au moyen d’une vanne de contrôle commandée automatiquement et placée sur le tronçon T ; Une tête de séparateur pourra être placée entre le réservoir tampon et le tronçon T afin de faciliter la remontée des bulles d’hydrogène.
- le moyen de récupération du flux de solution aqueuse 25 est associé à un briseur de vortex;
- l’installation comprend au moins un moyen de contrôle du niveau de solution aqueuse dans la ligne d’acheminement inférieure 22 et/ou dans le réservoir tampon ;
- l’installation comprend un seul dispositif de séparation de gaz-liquide 8 et n lignes configurées pour fournir le mélange hydrogène – solution aqueuse généré par les n électrolyseurs 4 au dispositif de séparation gaz-liquide 8. Notons qu’une ou plusieurs conduites pourront récupérer le flux des n lignes raccordées aux n électrolyseurs avant de l’envoyer au dispositif de séparation gaz-liquide 8 par souci de mutualisation ;
- les lignes d’acheminement 21 et 22 présentent une longueur exprimée en mètre comprise entre 0.2 et 2 fois la capacité globale des n électrolyseurs exprimée en MW, de préférence comprise entre 0.5 et 1.5 fois la capacité globale des n électrolyseurs exprimée en MW; Notons que ces longueurs s’appliquent en particulier au cas où les électrolyseurs sont de type alcalin ;
- le dispositif de séparation gaz-liquide 8 présente un inventaire H en hydrogène inférieur ou égal à 0.5nh avec :
- n le nombre d’électrolyseurs 4 et,
Selon un mode de réalisation, les acides monocarboxyliques, identiques ou différents, comportent une chaîne hydrocarbonée linéaire et saturée comportant de 5 à 10 atomes de carbone, de préférence de 5 à 9 atomes de carbone, de préférence encore de 5 à 8 atomes de carbone.
Les acides monocarboxyliques mis en œuvre selon l’invention peuvent être disponibles commercialement ou synthétisés selon toute méthode connue de l’homme du métier.
De préférence, les acides monocarboxyliques mis en œuvre selon l’invention comprennent une teneur en carbone d’origine biologique d’au moins 60% en masse, de préférence d’au moins 70% en masse, de préférence encore d’au moins 80% en masse, encore plus préférentiellement d’au moins 90% en masse, par rapport à la masse totale des atomes de carbone des acides monocarboxyliques.
De préférence, le(s) diester(s) mis en œuvre selon l’invention est(sont) saturé(s).
Par « diester saturé » au sens de l’invention, on entend un diester comportant des chaines hydrocarbonées saturées. Ainsi, de préférence, le diol mis en œuvre selon l’invention comporte une chaine hydrocarbonée saturée et les acides monocarboxyliques mis en œuvre selon l’invention comportent, chacun, une chaine hydrocarbonée saturée, de préférence, ladite chaine hydrocarbonée est constituée d’atomes de carbone et d’hydrogène.
Selon un mode de réalisation préféré, le diester mis en œuvre dans l’invention est un diester ramifié.
Par « diester ramifié » au sens de l’invention, on entend un diester comportant une chaîne hydrocarbonée ramifiée qui peut être située entre les deux fonctions ester et/ou à l’une ou aux deux extrémités du diester.
Selon un mode de réalisation préféré, le diester mis en œuvre dans l’invention est saturé et ramifié.
Selon un mode de réalisation, le diester mis en œuvre selon l’invention présente une viscosité cinématique, mesurée à 100°C selon la norme ASTM D445, allant de 1 à 6 mm²/s, de préférence de 1 à 4 mm²/s.
Selon un mode de réalisation, le diester mis en œuvre selon l’invention présente une viscosité cinématique, mesurée à 40°C selon la norme ASTM D445, allant de 2 à 20 mm²/s, de préférence de 3 à 10 mm²/s.
Il est entendu que les définitions données ci-dessus pour l’acide carboxylique et l’alcool peuvent être combinées, dans la mesure du possible, pour définir d’autres modes de réalisation particuliers.
Un diester mis en œuvre selon l’invention peut répondre plus particulièrement à la formule (I) suivante : [Chem 1] dans laquelle :
R 1 représente une chaîne hydrocarbonée, linéaire ou ramifiée, saturée ou insaturée, de préférence saturée, présentant de 3 à 9 atomes de carbone, de préférence de 4 à 8 atomes de carbone, de préférence de 5 à 7 atomes de carbone, ladite chaîne hydrocarbonée étant éventuellement interrompue par un ou plusieurs hétéroatomes, tels que des atomes d’oxygène, de préférence la chaine hydrocarbonée est constituée d’atomes de carbone et d’hydrogène ; et R 2 représente une chaîne hydrocarbonée, linéaire ou ramifiée, saturée ou insaturée, de préférence saturée, présentant de 4 à 9 atomes de carbone, ladite chaîne hydrocarbonée étant éventuellement interrompue par un ou plusieurs hétéroatomes, tels que des atomes d’oxygène, de préférence la chaine hydrocarbonée est constituée d’atomes de carbone et d’hydrogène ; et R 3 représente une chaîne hydrocarbonée, linéaire ou ramifiée, saturée ou insaturée, de préférence saturée, présentant de 3 à 10 atomes de carbone, ladite chaîne hydrocarbonée étant éventuellement interrompue par un ou plusieurs hétéroatomes, tels que des atomes d’oxygène, de préférence la chaine hydrocarbonée est constituée d’atomes de carbone et d’hydrogène.
De préférence, le(s) diester(s) répondant à la formule (I) comportent de 13 à 25 atomes de carbone, de préférence de 15 à 24 atomes de carbone.
Selon un mode de réalisation particulier, le radical R 3 représente le groupement suivant : -CH(G 1 )-CH(G 2 )-
L’enceinte 2 comporte une tubulure d’entrée permettant d’assurer l’apport de fluide porteur permettant d’assurer un flux de balayage dans l’enceinte 2. La tubulure d’entrée comporte ainsi l’interface d’entrée de l’enceinte 12.
La disposition de la tubulure d’aspiration et de la tubulure d’entrée (en particulier de leur piquage dans l’enceinte) est choisie pour favoriser un balayage uniforme du volume intérieur de l’enceinte 2.
L’enceinte est bien évidemment dotée d’une porte permettant le chargement et le déchargement des produits à déshydrater.
Les produits peuvent avantageusement être chargés sur des plateaux ou bacs, adaptés au contact alimentaire le cas échéant. Les produits traités peuvent être sous forme solide ou liquide (y compris pâteuse). La configuration de l’enceinte tend à maximiser la surface d’échange des produits avec le fluide porteur, par exemple avec l’air.
Afin de favoriser leur déshydratation, dans un fluide porteur sec, les produits à déshydrater peuvent être chauffés (néanmoins, sous, vide, la déshydratation est réalisée à faible température, ce qui permet de ne pas altérer certaines qualités des produits traités).
Enfin, en complément de la faible température de déshydratation et du recyclage complet ou partiel du fluide porteur, un module de préservation moléculaire 14 peut être interposé dans le flux de fluide porteur sortant de l’enceinte. Le module de préservation moléculaire 14 comporte un tamis moléculaire afin que seule l’eau sous forme gazeuse sorte de l’enceinte avec le fluide porteur, et non certaines molécules d’intérêt (composés aromatiques notamment) qui sont ainsi maintenues dans l’environnement du produit en cours de déshydratation. Le module de préservation moléculaire 14, qui est optionnel, peut donc être situé en tout point du flux entre l’enceinte de déshydratation 2 et le module de gestion de flux 5 : dans l’enceinte de déshydratation 2, entre l’enceinte de déshydratation 2 et le dispositif de déshydratation 1, ou à l’entrée du dispositif de déshydratation 1.
La représente, selon un schéma industriel simplifié (la plupart des vannes, capteurs, mise à l’air libre, et systèmes périphériques étant omis), un exemple de système de déshydratation conforme à un mode de réalisation de l’invention.
Le système comporte une enceinte de déshydratation 2 dans laquelle le produit à déshydrater est mis en place.
Un circuit de chauffage 15 associé à un système thermorégulateur 16 permet de chauffer le produit présent dans l’enceinte de déshydratation 2, à l’aide d’un fluide caloporteur.
Le dispositif de déshydratation comporte, dans l’exemple représenté, trois dispositifs assécheurs, à savoir trois pièges à eau 6, 6’, 6’’. Chaque piège à eau comporte un lit de zéolite 4 angströms en tant que matériau adsorbant. Le fluide porteur utilisé est de l’air, sous basse pression. Le flux est créé dans le dispositif à l’aide d’une pompe à rotor du module de circulation 7 du module de gestion de flux. Le module de circulation 7 est placé, dans l’exemple représenté, en aval des pièges à eau 6, 6’, 6’’. Le dispositif de déshydratation est configuré, pour ce qui concerne ces tubulures d’entrée 17 (qui sont liées à l’interface de sortie de l’enceinte 2), de sorte que chaque piège à eau peut être, ou ne pas être, traversé par le fluide porteur et la vapeur d’eau issue de l’enceinte de déshydratation 2. Une vanne est ainsi prévue à l’entrée de chaque piège à eau pour autoriser ou interdire l’entrée du fluide porteur chargé de vapeur d’eau.
Notamment, un seul des pièges à eau peut être utilisé pour adsorber l’eau présente dans le fluide porteur issu de l’enceinte 2. En traversant un piège à eau, le fluide porteur est asséché par adsorption de la vapeur d’eau qu’il contient dans la zéolite du piège à eau traversé.
Les tubulures de sortie du piège à eau sont fluidiquement liées à l’équipement du module de circulation 7 adapté à créer le flux de fluide porteur. Le fluide porteur circule alors vers le module de balayage 8, via un conduit de retour 18.
Le module de balayage 8 pilote le flux de fluide porteur dirigé vers l’interface d’entrée de l’enceinte 2 via une tubulure de sortie 19. Si un appoint de vide est nécessaire, la pression peut être diminuée grâce à la source de vide 9, ici sous la forme d’une pompe à vide.
Si un apport de fluide porteur sec est nécessaire, cet apport peut être réalisé via une branche d’apport 20 qui prélève de l’air dans l’atmosphère au travers d’un filtre 21, et l’assèche dans l’un des pièges à eau 6, 6’, 6’’ du dispositif de déshydratation, différent du piège à eau alors utilisé pour assécher le fluide porteur issu de l’enceinte de déshydratation 2.
Ainsi, alternativement au dispositif représenté à la , l’ensemble du fluide porteur sec introduit dans l’enceinte peut être issu de la branche d’apport 20, tandis qu’il n’y a pas de conduit de retour 18 et que le module de circulation comporte une pompe à vide (en tant qu’équipement pour générer le flux) qui rejette le fluide porteur asséché dans l’atmosphère.
Enfin, tandis qu’un des pièges à eau 6, 6’, 6’’ est utilisé pour récupérer l’eau issue du produit contenu dans l’enceinte de déshydratation, et optionnellement un autre est utilisé pour un apport de fluide porteur sec, un piège à eau peut être simultanément régénéré. Pour cela le module de régénération 13 assure le chauffage de l’air aspiré dans le piège à eau en régénération, tandis que la source de vide permet la mise en dépression du piège à eau afin de réaliser une régénération sous vide.
L’identification de l’événement peut par exemple s’appuyer sur la mise en œuvre de la technique décrite dans la demande de brevet FR2103983.
Système pour le taillage d’électrode DOMAINE DE L'INVENTION Le présent exposé concerne l’usinage de pièce mécaniques, en particulier dans le domaine aéronautique.
ETAT DE LA TECHNIQUE L'électroérosion par enfonçage, ou EDM (pour « Electrical Discharge Machining » dans la terminologie anglo-saxonne), est un procédé d'usinage qui consiste à retirer de la matière d’une pièce au moyen de décharges électriques. Ce procédé nécessite l’emploi d’au moins une électrode, typiquement en graphite, laquelle doit présenter une forme complémentaire de l’empreinte que le procédé permet de ménager au sein de la pièce usinée. A l’usage, l’électrode peut s’user, ce qui oblige à la retailler régulièrement afin qu’elle conserve une forme appropriée. Ce taillage est généralement mis en œuvre à la main, ce qui peut s’avérer long, fastidieux, voire même dangereux pour l’opérateur en charge. En outre, la précision d’un taillage à la main peut, dans certains cas, ne pas être acceptable.
Un but de l’invention est d’améliorer le taillage d’électrodes pour un usinage du type électroérosion par enfonçage.
Il est à cet effet proposé, selon un aspect du présent exposé, un système pour le taillage d’une électrode d’électroérosion par enfonçage, le système comprenant : un bâti ; un organe de taillage monté mobile sur le bâti et présentant une surface de taillage prévue pour venir en contact avec l’électrode de sorte à ce qu’un mouvement de l’organe de taillage par rapport au bâti entraîne un taillage de l’électrode par frottement de la surface de taillage sur l’électrode ; et un dispositif de positionnement comprenant : un support aimanté configuré pour coopérer avec un bloc porte-électrode, l’électrode étant montée sur le bloc porte-électrode, afin de fixer l’électrode au support ; et un actionneur monté fixe sur le bâti et configuré pour déplacer le support par rapport au bâti de sorte à mettre en contact l’électrode avec la surface de taillage.
Selon un autre aspect de l’exposé, il est proposé un procédé de taillage d’une électrode d’électroérosion par enfonçage, le procédé étant mis en œuvre au moyen d’un système tel que précédemment décrit et comprenant : le montage de l’électrode sur un bloc porte-électrode ; la fixation du bloc porte-électrode au support ; le déplacement du support par rapport au bâti de sorte à mettre en contact l’électrode avec la surface de taillage ; et la mise en mouvement de l’organe de taillage de sorte à tailler l’électrode par frottement de la surface de taillage sur l’électrode.
DESCRIPTION DES FIGURES D’autres caractéristiques, buts et avantages ressortiront de la description qui suit, qui est purement illustrative et non limitative, et qui doit être lue en regard des dessins annexés, dans lesquels :
La est une vue en coupe schématique d’un ensemble propulsif.
La est une vue en perspective schématique d’un secteur de distributeur de turbine.
La est une vue de côté du secteur de la .
La est une vue en perspective schématique d’un système d’électroérosion par enfonçage.
La est une vue en perspective schématique d’une variante avantageuse d’une partie du système illustré sur la .
La est une vue en perspective schématique d’un système pour le taillage d’une électrode sans bloc porte-électrode.
La est une vue en perspective schématique d’un système pour le taillage d’une électrode avec des blocs porte-électrode.
Dans ce mode de réalisation, l'interrupteur RST est connecté entre le noeud SN et le noeud 114. Le potentiel sur le noeud SN s'établit donc à une valeur déterminée par : - la valeur de la tension Vcmp sur la grille du transistor T2 lorsque l'interrupteur RST est fermé, - la tension de seuil Vt1 du transistor T1, et - la tension de seuil Vt2 du transistor T2. Cela permet de tenir compte des dispersions présentes dans le comparateur du pixel 1, par exemple des dispersions sur les tensions de seuils des transistors T1, T2 et T3. En particulier, pour une consommation équivalente et pour une surface occupée équivalente, le comparateur du pixel 1 présente moins de dispersion qu'un comparateur mis en oeuvre à partir d'une paire différentielle. Dit autrement, dans ce mode de réalisation, l'interrupteur RST permet de faire une correction du décalage ("offset" en anglais) du comparateur du pixel 1.
Dans l'exemple considéré ici et illustré par la , la photodiode PD du pixel 1 est clampée et est couplée au noeud SN par la grille de transfert TG ( ). Afin de vider la photodiode PD de ces charges, à l'instant t0, la grille de transfert TG est passante. Dans l'exemple illustré où le transistor T1 est à canal P, la photodiode PD est configurée pour stocker des trous, et c'est pour cela que, à l'instant t0, la grille du transistor T2 reçoit une valeur minimale Vmin des rampes Vcmp. A l'instant t0, la tension sur le noeud SN s'établit donc à une valeur égale à Vmin – Vt1 – Vt2.
Dans un autre exemple non illustré où le transistor T1 est à canal N, la photodiode clampée PD est configurée pour stocker des électrons et la grille du transistor T2 reçoit alors une tension supérieure à la tension Vmin, par exemple la tension maximale Vmax des rampes Vcmp.
Plus généralement, la personne du métier sera en mesure d'adapter la valeur de la tension reçue par la grille du transistor T2 lors d'une phase de réinitialisation du noeud SN comprenant la mise à l'état passant de l'interrupteur RST connecté entre le noeud SN et le noeud 114, par exemple pour tenir compte du type de charges stockées dans la photodiode PD pendant une phase d'intégration.
Après l'instant t0, dans cet exemple où la photodiode PD est clampée, la grille de transfert TG est commutée à l'état bloquée, par exemple à un instant t1 postérieur à l'instant t0, et une phase d'intégration de la lumière par la photodiode PD débute.
Entre l'instant t1 et un instant t2 postérieur à l'instant t1, l'interrupteur RST est commuté à l'état bloqué. A l'instant t2, la grille de transfert TG est commutée à l'état passant puis à l'état bloqué, la commutation de la grille TG à l'état bloquée marquant la fin de la période d'intégration. Pendant que la grille TG est passante, les charges photogénérées et accumulées dans la photodiode PD pendant la période d'intégration sont transférées sur le noeud SN, d'où il résulte une modification de la tension du noeud SN. Dans cet exemple où la photodiode est configurée pour stocker des trous, le transfert des charges de la photodiode PD vers le noeud SN résulte en une augmentation de la tension du noeud SN.
L'augmentation de la tension du noeud SN à l'instant t2 résulte en une diminution de la tension entre les grilles des transistors T1 et T2, qui commutent alors à l'état bloqué. Cela entraîne que la tension sur le noeud 106 devient sensiblement égale à VDD2 dans cet exemple où la source de courant 104 est connectée au noeud 102. En outre, du fait que la tension du noeud 106 est sensiblement égale à VDD2, qui est supérieur ou égal à VDD1, le transistor T3 est bloqué et la tension du noeud 114 est sensiblement nulle dans cet exemple où la source de courant 108 est connectée au noeud 110 recevant la masse GND.
A un instant t3 postérieur à l'instant t2, une phase de lecture du pixel 1 débute. Pendant cette phase de lecture la tension du noeud SN est comparée à la tension Vcmp. Dans cet exemple, l'instant t3 correspond au début d'une rampe de tension Vcmp croissante.
A un instant t4 postérieur à l'instant t3, la tension Vcmp atteint une valeur telle que la tension entre les grilles des transistors T1 et T2 est suffisante pour que ces transistors commutent à l'état passant, ou, dit autrement, pour que le courant Ibias1 circule à travers les transistors T1 et T2. Il en résulte que la tension du noeud 106 est tirée vers la tension du noeud 100 auquel la source 104 n'est pas connectée, bien qu'en pratique la tension du noeud 106 ne puisse pas descendre en dessous de la somme de la tension du noeud SN et de la tension de seuil du transistor T1. Cela entraîne la commutation à l'état passant du transistor T3, ou, dit autrement, une circulation du courant Ibias2 à travers le transistor T3, d'où il résulte que la tension du noeud 114 devient sensiblement égale à la tension VDD1.
A un instant t5 postérieur à l'instant t4, la rampe Vcmp atteint la valeur Vmax puis la tension Vcmp est commutée à la valeur Vmin, ce qui marque la fin de la phase de lecture du pixel 1. Il en résulte que les tensions des noeuds 106 et 114 retrouvent les niveaux qu'elles avaient entre les instants t2 et t3.
La durée de l'état haut (ou bas) du signal OUT pendant la rampe de tension Vcmp, c'est à dire de l'instant t3 à l'instant t4, est représentative de la valeur de la tension du noeud SN après l'instant t2 de transfert des charges de la photodiode PD vers le noeud SN, donc de la quantité de lumière reçue par la photodiode PD pendant la phase d'intégration (de l'instant t1 à l'instant t2.
Un avantage du fonctionnement décrit ci-dessus, et, en particulier du fait que l'interrupteur RST est connecté au noeud 114, est qu'il n'y a pas besoin de mettre en oeuvre une lecture de type à double échantillonnage corrélé (CDS de l'anglais "Correlated Double Sampling").
La personne du métier sera en mesure d'adapter le fonctionnement décrit ci-dessus au cas où le transistor T1 est à canal N, la source de courant 104 est connectée au noeud 100 plutôt qu'au noeud 102 et la photodiode PD clampée est configurée pour stocker des électrons.
On a décrit ici un exemple où la tension de comparaison Vcmp présente une rampe croissante pendant la phase de lecture du pixel. La personne du métier est en mesure d'adapter cette description au cas où la rampe Vcmp est décroissante, par exemple en commutant la tension Vcmp à la valeur Vmax à l'instant t3 de début de la phase de lecture, la rampe Vcmp décroissant alors de la valeur Vmax à l'instant t3 jusqu'à la valeur Vmin à l'instant t4.
Par ailleurs, dans des applications, il est souhaitable de déterminer rapidement si la quantité de lumière reçue par un pixel 1 pendant une phase d'intégration est supérieure ou non à un seuil. Dans ce cas, plutôt que de prévoir une rampe de tension Vcmp pendant la phase de lecture, la tension Vcmp a alors, pendant la phase de lecture de la tension du noeud SN, une valeur constante déterminée par la valeur du seuil susmentionné. L'état du signal OUT pendant la phase de lecture indique alors directement si la quantité de lumière reçue est supérieure ou non au seuil.
On a décrit ci-dessus un exemple de fonctionnement pour un mode de réalisation où l'interrupteur RST est connecté au noeud 114 ( ). Dans un autre mode de réalisation, l'interrupteur RST est connecté entre le noeud SN et un noeud configuré pour recevoir un potentiel de réinitialisation. A titre d'exemple, ce potentiel de réinitialisation est choisi sensiblement égal à la valeur du potentiel qu'a le noeud 114 lorsque l'interrupteur RST est connecté à ce noeud 114 et est passant. Dans ce cas, afin de tenir compte des dispersions, il peut être souhaitable de mettre en oeuvre un double échantillonnage corrélé, par exemple en mettant en oeuvre successivement : - une lecture de la tension du noeud SN après une réinitialisation du noeud SN, la réinitialisation du noeud SN comprenant une mise à l'état passant de l'interrupteur RST ; - un transfert des charges accumulées dans la photodiode PD vers le noeud SN, le transfert comprenant une mise à l'état passant de la grille de transfert TG alors que l'interrupteur RST est à l'état bloqué ; et - une deuxième lecture de la tension du noeud SN après ledit transfert.
est une vue en perspective plongeante par l’avant d’un pot d’un module selon l’invention.
est une vue en perspective contre-plongeante par l’arrière de ce même pot.
DESCRIPTION DETAILLEE DE L’INVENTION La illustre un module 1 comportant un pot 2 et un réservoir, formé par une coupelle 3 transparente indépendante du pot 2, par exemple en verre.
Le corps du pot 2, en matériau adapté à l’esthétique que l’on veut donner au module (céramique, terre cuite, métal ou matière plastique,…), forme l’enveloppe extérieure 4a d’un réceptacle 4 pour, soit un substrat de culture, soit un pot séparé. L’ouverture latérale 5 de cette enveloppe permet d’introduire le substrat ou un pot qui le contient avec un végétal déjà planté et constitue l’ouverture de sortie de la plante. La forme de cette enveloppe (ici en forme de bulbe) sera choisie en fonction de l’effet esthétique recherché.