INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans la présente demande, on entend par « textile » tout matériau réalisé à partir de fibres ou de fils. En particulier, le textile peut être un arrangement de fibres et/ou de fils sous la forme d’un tricot, d’un tissé, d’un non-tissé, d’une tresse et leur combinaisons.
Un autre aspect de l’invention se rapporte à un vêtement comprenant au moins un fil élastique susceptible d’être obtenu par le procédé selon l’invention.
Un autre aspect de l’invention est une installation configurée pour mettre en œuvre le procédé selon l’invention, ladite installation comprenant :
- une machine de filage comprenant une extrudeuse, une pompe doseuse de filage, un pack de filage comprenant au moins une filière,
- un système de refroidissement disposé à la sortie de la filière,
- au moins un rouleau délivreur disposé à la sortie du système de refroidissement,
- au moins un premier rouleau étireur, disposé en aval du rouleau délivreur,
- au moins un deuxième rouleau étireur, disposé en aval du premier rouleau étireur,
- un moyen de chauffage disposé entre le rouleau délivreur et le premier rouleau étireur.
Dans la présente demande, on entend par « amont » la direction allant vers le lieu de « naissance » ou d’extrusion du fil (pack de filage) et par « aval » la direction opposée, autrement dit la direction allant vers le lieu de stockage du fil élastique, une fois que le fil a subi l’ensemble des étirages souhaités.
Le procédé de fabrication d’un fil élastique selon l’invention est basé sur la technique du filage à voie fondue utilisant l’extrusion-filage d’un polymère fondu au sein d’une extrudeuse puis d’un pack de filage. A cet égard, les différentes étapes du procédé telles que décrites ci-dessous sont réalisées en continu.
Ainsi, dans une première étape du procédé selon l’invention, une extrudeuse est alimentée en granulés d’un copolymère à blocs polyamide et à blocs polyéther, les blocs polyamide étant choisis parmi le PA 11, PA 12, PA 1010, PA 1014, leur copolymère et leur mélange, les blocs polyéther étant des blocs issus du polytétraméthylèneglycol, la dureté du copolymère mesurée selon la norme 7619-1 étant comprise entre 22 et 61 ShD, afin d’obtenir par extrusion un élastomère fondu du copolymère à blocs polyamide et à blocs polyéther.
La nomenclature utilisée pour définir les polyamides est décrite dans la norme ISO 1874- 1:2011 "Plastiques - Matériaux polyamides (PA) pour moulage et extrusion - Partie 1 : Désignation", notamment en page 3 (tableaux 1 et 2) et est bien connue de l’homme du métier.
L’article “ Catalyst deactivation in liquid- and gas-phase hydrogenation acetylene using a monolithic catalyst reactor” de Asplud et al. publié dans Catalysis Today, vol. 24 (181-187) 1995, s’intéresse à l’utilisation d’un support de catalyseur sous la forme de monolithe céramique en alumine-α pour l’hydrogénation sélective de l’acétylène. Ce document divulgue l’utilisation d’un support en monolithe imprégné directement avec du PdCl 2 sur les parois du monolithe, la phase active obtenue à base de palladium étant sous la forme de couche ayant une épaisseur de 200 µm.
La Demanderesse a mis au point un nouveau procédé de préparation d’un catalyseur comprenant une phase active à base d’un métal du groupe VIII déposé sur une alumine alpha, et comprenant un support se présentant sous la forme d’un monolithe ou d’une mousse, ledit procédé comprenant une étape de mise en contact du précurseur de la phase active avec un support d’alumine alpha se présentant sous la forme d’une poudre, puis une étape de mise en contact du précurseur de la phase active déposé sur l’alumine alpha avec le support se présentant sous la forme d’un monolithe ou d’une mousse. Ce procédé de préparation particulier permet une bonne accroche de la phase active sur les parois du support se présentant sous la forme d’un monolithe ou d’une mousse métallique ou céramique.
a) on approvisionne une poudre d’alumine alpha comprenant une surface spécifique comprise entre 1 et 50 m²/g ;
b) on met en contact ladite poudre d’alumine de l’étape a) avec une solution comprenant au moins un précurseur de la phase active comprenant au moins un métal du groupe VIII pour obtenir un précurseur de catalyseur ;
c) on sèche le précurseur de catalyseur à une température inférieure à 250°C puis on calcine le précurseur de catalyseur séché à une température comprise entre 250°C et 550°C pour obtenir un précurseur de catalyseur calciné ;
d) on met en contact le précurseur de catalyseur calciné obtenu à l’issue de l’étape c) avec un support se présentant sous la forme d’un monolithe ou d’une mousse céramique ou métallique ;
e) on calcine le matériau obtenu à l’issue de l’étape d) à une température comprise entre 250°C et 600°C.
Selon un ou plusieurs modes de réalisation, ladite phase active déposée sur l’alumine alpha, se présente sous la forme d’une couche sur les parois dudit support, ladite couche présentant une épaisseur comprise entre 10 µm et 150 µm.
Selon un ou plusieurs modes de réalisation, à l’étape d) le précurseur de catalyseur calciné est mis en contact avec ledit support par enduction.
Dans un mode de réalisation selon l’invention, lorsque le support se présente sous la forme d’une mousse céramique ou métallique, ladite étape d) comprend les sous-étapes suivantes :
d1) on disperse le précurseur de catalyseur calciné obtenu à l’issue de l’étape c) dans une solution à base d’eau et de glycérol, puis on broie le précurseur de catalyseur calciné dispersé dans la solution de manière à obtenir une suspension ;
d2) on enduit la mousse céramique ou métallique de ladite suspension obtenue à l’issue de l’étape d1) par trempage-retrait ;
d3) on réalise :
Selon un autre mode de réalisation préféré, les composés de formule (I) et le tautomère (I') sont choisis parmi les composés de formule (II) ainsi que leurs tautomères, leurs sels, leurs solvates et leurs isomères optiques, et leurs racémates, seuls ou en mélange :
De préférence, les composés de formule (I), les composés suivants sont de préférence utilisés, et leur tautomère (I') ou leurs sels, leurs isomères optiques, racémates, et/ou solvates tels que les hydrates et leurs dérivés, seuls ou en mélange :
Dans le procédé de synthèse traditionnel ci-dessus, la deuxième étape a aussi les inconvénients suivants : 1. Pour la 2,6-(2,4-dihydroxyphényl)-4-(4-méthoxyphényl)triazine (II), le DMF est utilisé en tant que solvant tandis qu'un alcali est utilisé en tant qu'agent se liant à un acide, et une éthérification est réalisée avec l'isooctane halogéné à une température élevée, de 100°C à 130°C. En présence d'un alcali fort, la matière première isooctane halogéné est sévèrement endommagée. 2. Il y a de multiples sites réactionnels durant la réaction, et des produits de mono-substitution, de di-substitution, de tri-substitution et de tétra-substitution peuvent être générés. Du fait d'une température réactionnelle élevée, il y a une sélectivité médiocre, davantage d'impuretés générées, et un rendement indésirable. 3. Une fois que la réaction est terminée, le produit doit être séparé par de l'eau et des solvants d'extraction. Dans cette étape, une grande quantité d'eaux usées contenant du DMF est produite. Il n'est pas facile de traiter les eaux usées, qui peuvent engendrer une pollution environnementale importante. Par conséquent, cette étape ne satisfait pas aux exigences de protection environnementale.
Au vu des inconvénients ci-dessus dans le procédé traditionnel, Rong Wang et al. ont proposé en 2020 (CN112321520A, procédé de préparation pour synthétiser du bémotrizinol par un procédé monotope) ont proposé un procédé monotope pour synthétiser le bémotrizinol. Dans ce procédé, une première étape est améliorée par l'utilisation de toluène en tant que solvant, et l'introduction de benzonitrile en tant que co-solvant du trichlorure d'aluminium pour le problème d'hétérogénéité. Après l'alkylation, un système réactionnel est dilué avec de l'eau et une grande quantité de DMF (avec une masse de 12,5 fois celle de la 2,4-dichloro-6-(4-méthoxyphényl)triazine). Après chauffage jusqu'à ce que la solution devienne clarifiée, la valeur du pH du système réactionnel est ajustée à 7 à 8, et le chloroisooctane est soumis à une réaction utilisant du carbonate de potassium en tant qu'alcali. Une fois la réaction terminée, une pompe à eau est ajustée à un degré de vide de -0,01 MPa, et le solvant est récupéré sous pression réduite jusqu'à ce que la température du réacteur soit de 140°C. Après récupération du solvant, le système est ramené à une température de 50°C à 60°C, du toluène et de l'eau du robinet sont ajoutés, une couche aqueuse est séparée, et une couche organique est lavée deux fois avec de l'eau du robinet. Après précipitation, cristallisation, recristallisation et séchage de la couche huileuse obtenue, un produit fini du bémotrizinol est obtenu.
Ce procédé a principalement l'inconvénient suivant. : 1. Le solvant à haut point d'ébullition DMF est utilisé en une grande quantité, et le produit d'un lot unique a un médiocre rendement de production (parce que le DMF fait 12,5 fois la masse de la 2,4-dichloro-6-(4-méthoxyphényl)triazine, et il y a aussi le benzonitrile et le toluène, si bien que la réaction est une réaction à forte dilution). 2. Une distillation de longue durée sous vide poussé et à température élevée est requise pour éliminer le DMF. 3. De plus, une grande quantité d'eaux usées contenant de l'aluminium et contenant des sels est produite. Fondamentalement, ce procédé est un procédé de production non économique et non écologique avec des coûts élevés de production et des matières premières, ce qui ne convient pas pour une production industrielle.
En 2018, Jiwen Meng et al. (CN108947921A, procédé de préparation de 2,4 bis(2,4-dihydroxyphényl)-6-(4-méthoxyphényl)-s-triazine) ont proposé d'adopter un liquide ionique de chloroaluminate en tant que solvant réactionnel ainsi qu'en tant que catalyseur. Dans ce procédé, un produit est extrait du catalyseur liquide ionique avec un agent d'extraction après la réaction, ce qui réalise ainsi une séparation du produit et du catalyseur. Le liquide ionique de chloroaluminate peut être recyclé, ce qui évite ainsi la pression que le catalyseur trichlorure d'aluminium anhydre traditionnel exerce sur le traitement des eaux usées, des gaz d'échappement, et des déchets solides, ce qui satisfait aux exigences de protection environnementale. Le procédé évite de préférence le traitement d'une grande quantité d'eaux usées contenant du trichlorure d'aluminium dans l'alkylation de Friedel-Crafts traditionnelle dans la première étape. Toutefois, le procédé ne réalise pas la deuxième étape pour préparer du bémotrizinol, si bien que les problèmes ne peuvent pas être résolus durant l'éthérification dans la deuxième étape.
Résumé Au vu de cela, un objectif du présent exposé est de mettre à disposition un procédé de préparation de bémotrizinol. Dans le présent exposé, le bémotrizinol est préparé en une seule étape avec du dioxyde de carbone supercritique en tant que solvant. Le présent exposé évite une grande quantité d'eaux usées contenant du trichlorure d'aluminium durant l'alkylation de Friedel-Crafts traditionnelle dans une première étape. Le présent exposé évite aussi une grande quantité d'eaux usées contenant des sels et du DMF, produite dans une deuxième étape. Par conséquent, le présent exposé satisfait aux exigences de protection environnementale.
Pour atteindre l'objectif ci-dessus, le présent exposé met à disposition les solutions techniques suivantes.
Le présent exposé met à disposition un procédé de préparation de bémotrizinol, comprenant les étapes suivantes :
De préférence, le catalyseur acide de Lewis comprend du trichlorure d'aluminium.
De préférence, la 2,4-dichloro-6-(4-méthoxyphényl)triazine et l'éther monoisooctylique de résorcinol sont présents en un rapport molaire de 1/(2 à 2,2).
De préférence, la 2,4-dichloro-6-(4-méthoxyphényl)triazine et le catalyseur acide de Lewis sont présents en un rapport molaire de 1/(2 à 2,2).
De préférence, la 2,4-dichloro-6-(4-méthoxyphényl)triazine et le dioxyde de carbone supercritique sont présents en un rapport en masse de 1/(1 à 8).
De préférence, l'alkylation de Friedel-Crafts est réalisée à une température de 0°C à 30°C pendant 6 heures à 14 heures.
De préférence, l'alkylation de Friedel-Crafts est réalisée dans un réacteur sous pression équipé d'un système de régulation de la température à circulation externe, d'une vanne d'échantillonnage, et d'un dispositif d'agitation.
De préférence, le procédé de préparation comprend en outre les étapes suivantes une fois que l'alkylation de Friedel-Crafts est terminée : soumission du matériau obtenu après l'alkylation de Friedel-Crafts à une récupération de dioxyde de carbone, à une récupération de catalyseur acide de Lewis, et à une purification et une cristallisation en séquence pour que soit obtenu le bémotrizinol.
De préférence, la récupération de dioxyde de carbone comprend spécifiquement : la connexion d'un système de récupération de dioxyde de carbone avec le réacteur une fois que l'alkylation de Friedel-Crafts est terminée, et la récupération de dioxyde de carbone à la température ambiante jusqu'à ce que la pression interne du réacteur atteigne la pression normale, pour que soit obtenu un produit dont le dioxyde de carbone a été éliminé ; et la récupération de catalyseur acide de Lewis comprend spécifiquement : le mélange du produit dont le dioxyde de carbone a été éliminé avec un solvant organique, et une filtration pour que soient obtenus le catalyseur acide de Lewis et une phase organique ; et la soumission de la phase organique à un lavage et à une distillation sous vide en séquence pour que soient obtenus le solvant organique et un produit final sous une forme non solide.
Les capteurs de lumière comprenant une pluralité de pixels, par exemple organisés en matrice, sont connus. Dans un pixel d'un capteur de lumière, une quantité de lumière reçue par un ou plusieurs photodétecteurs du pixel pendant une phase d'intégration de la lumière par le pixel détermine une tension d'un noeud de détection du pixel. La lecture du pixel consiste alors à obtenir un signal représentatif de la valeur de la tension du noeud de détection. Ce signal représentatif de la tension du noeud de détection peut alors être comparé à une tension de comparaison pour obtenir un signal binaire dont l'état binaire indique si ce signal représentatif de la tension du noeud de détection est supérieur ou inférieur à la tension de comparaison. L'obtention du signal binaire constitue tout ou partie d'une conversion analogique-numérique.
Pour mettre en oeuvre la comparaison du signal représentatif de la tension du noeud de détection d'un pixel à la tension de comparaison, un comparateur est utilisé.
Il existe un besoin d'un capteur de lumière palliant tout ou partie des inconvénients des capteurs de lumière connus.
Un mode de réalisation pallie tout ou partie des inconvénients des capteurs de lumière connus, par exemple des pixels connus de ces capteurs de lumière connus.
Par exemple, un mode de réalisation prévoit un capteur de lumière dans lequel chaque pixel comprend un comparateur tel que décrit ci-dessus, le pixel étant plus compact que les pixels à comparateur intégré des capteurs de lumière connu.
Par exemple, un mode de réalisation prévoit un capteur de lumière dans lequel chaque pixel comprend un comparateur tel que décrit ci-dessus, le comparateur présentant moins de dispersions que celui des pixels à comparateur intégré des capteurs de lumière connu.
Par exemple, un mode de réalisation prévoit un capteur de lumière mis en oeuvre dans un empilement de niveaux ("tier" ou "layer" en anglais) semiconducteurs qui nécessite moins de connexions par collage hybride ("hybrid bonding" en anglais) que les capteurs de lumière connus mis en oeuvre dans un empilement de niveaux semiconducteurs.
Un mode de réalisation prévoit un capteur de lumière comprenant une pluralité de pixels, chaque pixel comprenant : un premier transistor MOS à canal d'un premier type et un deuxième transistor MOS à canal d'un second type, les premier et deuxième transistors étant connectés en série et ayant leurs sources connectées, une grille du deuxième transistor étant configurée pour recevoir une tension de comparaison ; une première source de courant connectée en série avec les premier et deuxième transistors entre un premier noeud configuré pour recevoir un premier potentiel d'alimentation et un deuxième noeud configuré pour recevoir un deuxième potentiel d'alimentation ; un troisième transistor MOS et une deuxième source de courant connectés en série entre un troisième noeud configuré pour recevoir un troisième potentiel d'alimentation et un quatrième noeud configuré pour recevoir un quatrième potentiel d'alimentation, le troisième transistor ayant une grille connectée à un cinquième noeud de connexion de la première source de courant aux premier et deuxième transistors en série et étant à canal du même type que celui du premier transistor ; au moins une photodiode couplée à une grille du premier transistor ; et un interrupteur de réinitialisation ayant une borne de conduction connectée à la grille du premier transistor.
Selon un mode de réalisation, une autre borne de conduction de l'interrupteur de réinitialisation est connectée au noeud de connexion de la deuxième source de courant au troisième transistor.
Selon un mode de réalisation, le capteur comprend en outre, pour chaque troisième transistor, un circuit de mise en forme ayant une entrée couplée au noeud de connexion de la deuxième source de courant au troisième transistor.
Selon un mode de réalisation : ladite au moins une photodiode appartient à un substrat semiconducteur ; et les premier, deuxième, troisième transistors, les première et deuxième sources de courant et l'interrupteur appartiennent à une couche semiconductrice reposant sur une couche isolante reposant elle-même sur ledit substrat semiconducteur.
Selon un mode de réalisation : une première structure d'interconnexion repose sur la couche semiconductrice ; le circuit de mise en forme appartient à une autre couche semiconductrice ou à un autre substrat semiconducteur ; une deuxième structure d'interconnexion repose sur ladite autre couche semiconductrice ou ledit autre substrat semiconducteur ; et un ensemble comprenant le substrat, la couche isolante, la couche semiconductrice et de la première structure d'interconnexion est assemblé sur un ensemble comprenant la deuxième structure d'interconnexion et de ladite autre couche semiconductrice ou dudit autre substrat semiconducteur(L2), par collage hybride de la première structure d'interconnexion à la deuxième structure d'interconnexion.
Selon un mode de réalisation, le capteur comprend en outre un circuit configuré pour fournir la tension de comparaison.
Selon un mode de réalisation, la tension de comparaison comprend des rampes de tension.
Selon un mode de réalisation, les premier et troisième potentiels d'alimentation sont égaux et correspondent à la masse.
Dans l’exemple représenté, la face supérieure de la région 109 est revêtue d’une couche électriquement isolante 111. À titre d’exemple, la couche 111 est en un matériau diélectrique et thermiquement conducteur, par exemple le nitrure de silicium (SiN) ou le nitrure d’aluminium (AlN).
Dans cet exemple, le commutateur 100 comporte en outre un élément chauffant 113 situé sur et en contact avec la face supérieure de la couche 111, à l’aplomb de la région 109 en matériau à changement de phase. L’élément chauffant 113 est électriquement isolé de la région 109 par la couche 111. Dans l’exemple représenté, l’élément chauffant 113 présente une forme de bande s’étendant le long d’une direction sensiblement orthogonale à la direction de conduction du commutateur 100. Dans cet exemple, les extrémités de l’élément chauffant 113 sont connectées respectivement à des troisième et quatrième électrodes de commande 115a et 115b du commutateur 100 au moyen de plots conducteurs 117. L’élément chauffant 113 présente par exemple une épaisseur de l’ordre de 100 nm. À titre d’exemple, l’élément chauffant 113 est en un métal, par exemple le tungstène, ou en un alliage métallique, par exemple le nitrure de titane.
Bien que cela n’ait pas été illustré sur les figures, la structure du commutateur 100 peut être revêtue, du côté de la face supérieure du substrat 101, d’une couche thermiquement isolante destinée à confiner la chaleur produite par l’élément chauffant 113.
Lors des commutations entre les états passant et bloqué, les électrodes de commande 115a et 115b du commutateur 100 sont par exemple destinées à être soumises à une tension de commande provoquant une circulation de courant à travers l’élément chauffant 113. Ce courant entraîne, par effet Joule puis par rayonnement et/ou conduction à l’intérieur de la structure du commutateur 100, notamment à travers la couche 111, une élévation de température de la région 109 depuis sa face supérieure, située en regard de l’élément chauffant 113.
Dans une troisième opération, le dispositif de contrôle 4 transmet le signal sonore spatialisé SG2 au système de restitution acoustique 6 du véhicule 2 pour restituer le signal sonore spatialisé SG2 dans l’habitacle du véhicule 2. A cet effet, le processeur 20 piloté par le programme d’ordinateur PG1 met par exemple en œuvre un module de transmission MD6 configuré pour transmettre le signal sonore spatialisé SG2 au système de restitution acoustique 6 selon un quelconque format et une quelconque manière appropriée.
Selon un exemple particulier, le signal sonore spatialisé SG2 comprend une pluralité de paquets de données définissant des sons à reproduire par des haut-parleur 8 respectif du système de restitution acoustique 6 (ces paquets de données formant collectivement le signal sonore spatialisé SG2). Ces paquets de données peuvent ensuite être traités d’une quelconque façon appropriée par le système de restitution acoustique 6 pour restituer acoustiquement la source sonore virtuelle SC2.
Sur réception du signal sonore spatialisé SG2, les haut-parleurs 8 restituent sous forme acoustique le signal sonore spatialisé SG2 représentatif de la source sonore virtuelle.
Le signal sonore spatialisé SG2 est conçu pour occuper par nature un espace plus important dans l’habitacle que le signal sonore initial SG1 du fait de l’augmentation de la caractéristique spatiale de largeur apparente L réalisée lors du traitement de la deuxième opération. Autrement dit, du fait que L2 > L1, le signal sonore spatialisé SG2 donne l’impression pour un utilisateur de provenir d’une source sonore virtuelle qui est plus large (occupe plus d’espace) que si le signal sonore initial SG1 était restitué à la place de SG2 par le système de restitution acoustique 6.
Des exemples de mise en œuvre du traitement réalisé au cours de la deuxième opération pour augmenter la caractéristique spatiale de largeur apparente de la source sonore virtuelle SC2 vont à présent être décrits en référence aux figures 1 et 2.