INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Comme cela est représenté dans la et dans la , une couche de revêtement 196 est formée sur la couche de revêtement 192 et la partie 110a du substrat 110 pour former une paroi latérale inclinée 197 sur un sommet de la couche de revêtement 192. En particulier, la couche de revêtement 196 est une doublure sur la couche de revêtement 192 de sorte que la couche de revêtement 196 ait la paroi latérale inclinée 197 au-dessus de la paroi latérale inclinée 194 de la couche de revêtement 192.
Comme cela est représenté dans la et dans la , une portion de la couche de revêtement 196 est gravée pour former la paroi latérale inclinée 198 sur un fond de la couche de revêtement 196. Dans certains modes de réalisation, la paroi latérale inclinée 198 est formée par un processus de lithographie et un processus de gravure. La paroi latérale inclinée 197 est au-dessus de la paroi latérale inclinée 198. Dans certains modes de réalisation, un angle θ4 entre la paroi latérale inclinée 198 et une surface supérieure 114 du substrat 110 est dans une plage allant de 20 degrés à 60 degrés, par exemple, 30, 40 ou 50 degrés. Dans certains modes de réalisation, une distance D2 entre une partie la plus externe de la paroi latérale inclinée 198 et une partie la plus externe de la paroi latérale inclinée 197 est dans une plage allant de 20 µm à 50 µm, par exemple, 30 ou 40 µm. Dans certains modes de réalisation, une distance D3 entre la partie la plus externe de la paroi latérale inclinée 198 et la partie la plus externe de la couche sous-jacente 182 est dans une plage allant de 40 µm à 100 µm, par exemple 50, 60, 70, 80 ou 90 µm. Dans certains modes de réalisation, une extension P6 de la paroi latérale inclinée 197 de la couche de revêtement 196 sur le substrat 110 est espacée d'une extension P7 de la paroi latérale inclinée 198 de la couche de revêtement 196 sur le substrat 110. Dans certains modes de réalisation, une largeur de la couche de revêtement 196 est supérieure à une largeur de la couche de revêtement 192. Dans certains modes de réalisation, un matériau de la couche de revêtement 192 et/ou de la couche de revêtement 196 peut être un diélectrique ou un polymère transparent, tel qu'une résine, du verre tourné, du dioxyde de silicium, etc. En d'autres mots, chacune parmi la couche de revêtement 192 et la couche de revêtement 196 peut être une couche de polymère et/ou une couche de diélectrique. Dans certains modes de réalisation, la couche de revêtement 192 et/ou de la couche de revêtement 196 peut être formée par un processus d'implantation d'ions ou un autre processus de revêtement approprié.
Comme cela est représenté dans la et dans la , une couche de résine photosensible 2000 et une couche de filtre à bande-passante 2100 sont formées sur le substrat 110. En particulier, le filtre à bande-passante 2100 comporte une première partie 2100a et une deuxième partie 2100b. La première partie 2100a de la couche de filtre à bande-passante 2100 est disposée de façon conforme sur la couche de revêtement 196 et la surface supérieure 114 du substrat 110. La deuxième partie 2100b de la couche de filtre à bande-passante 2100 est disposée sur la couche de résine photosensible 2000. La première partie 2100a entoure et scelle la couche de revêtement 196. Dans certains modes de réalisation, un matériau de la couche de résine photosensible 2000 peut être une résine photosensible du type positif ou une résine photosensible du type négatif. Dans certains modes de réalisation, le motif de la couche de résine photosensible 2000 peut être formé par un processus de lithographie. La couche de résine photosensible 2000 a un angle obtus entre une paroi latérale inclinée 2002 de la couche de résine photosensible 2000 et de la surface supérieure 114 du substrat 110.
On se référera de nouveau à la . On notera que la première partie 2100a et la deuxième partie 2100b de la couche de filtre à bande-passante 2100 sont formées en même temps. La couche de filtre à bande-passante 2100 comporte plusieurs films et chaque film peut être formé par PVD ou par un autre processus de dépôt approprié. Dans certains modes de réalisation, un matériau de la couche de filtre à bande-passante 2100 comporte a-Si, SiO2, Nb2O5, GeO2, TiO2, etc. Pendant le processus de dépôt de la couche de filtre à bande-passante 2100, la couche de résine photosensible 2000 peut être utilisée comme avancée de sorte que la première partie 2100a adjacente à la couche de résine photosensible 2000 ait une paroi latérale inclinée 2102. La première partie 2100a a un angle aigu entre la paroi latérale inclinée 2102 de la première partie 2100a et la surface supérieure 114 du substrat 110. Comme cela est représenté dans la , un espace d'air est présent entre la paroi latérale inclinée 2102 et la paroi latérale inclinée 2002. La structure de la couche de filtre à bande-passante 2100 peut être réglée en fonction de la longueur d'onde de fonctionnement du capteur d'image.
Comme cela est représenté dans la et dans la , dans certains modes de réalisation, la couche de résine photosensible 2000 et la deuxième partie 2100b de la couche de filtre à bande-passante 2100 sont retirées par un processus de décollage. En conséquence, le capteur d'image 1000A ayant des microlentilles 180, la couche sous-jacente 182 et la partie restante 160a de la couche de remplissage 160 sont formés, comme cela est représenté dans la . Les lentilles 180 sont configurées pour recevoir une lumière externe. Dans certains modes de réalisation, un indice de réfraction de la couche de revêtement 196 et/ou de la couche de revêtement 192 est dans une plage allant de 1,1 à 1,6, par exemple 1,2, 1,3, 1,4 ou 1,5. Dans certains modes de réalisation, un indice de réfraction des lentilles 180 est dans une plage allant de 1,7 à 4,5, par exemple 2,5, 3,3 ou 3,8. Dans certains modes de réalisation, l'indice de réfraction de la couche de revêtement 196 et/ou de la couche de revêtement 192 est entre l'indice de réfraction des lentilles 180 et l'indice de réfraction de l'air.
La différence d'indice de réfraction entre la couche de revêtement 196 et les lentilles 180 est importante, assurant ainsi une bonne performance au capteur d'image 1000A. Comme les couches de revêtement ont des parois latérales inclinées, la première partie 2100a de la couche de filtre à bande-passante 2100 a également des parois latérales inclinées. Les parois latérales inclinées (telles que les parois latérales inclinées 197, 198) des couches de revêtement rendent lisses les bords des couches de revêtement, de sorte que les couches de revêtement soient mieux recouvertes par la couche de filtre à bande-passante 2100 qui a plusieurs films. De plus, les parois latérales inclinées de la couche de filtre à bande-passante 2100 aident à réduire la contrainte au niveau des limites des plusieurs films de la couche de filtre à bande-passante 2100, évitant ainsi la délamination entre des matériaux différents. Autrement dit, une épaisseur du capteur d'image 1000A depuis la zone de matrice de lentille AA jusqu'à la zone périphérique PA est progressivement réduite. Le capteur d'image 1000A a une topographie plate et peut éviter un déséquilibre de contraintes sur les bords des plusieurs films entre une matrice de microlentilles (telles que les lentilles 180) et des éléments disposés au-dessus de la matrice de microlentilles qui conduirait à un fléchissement de la tranche, assurant ainsi de bonnes performances optiques.
Les figures 2A à 2C sont une succession de vues en coupe transversale de fabrication d'une couche de revêtement du capteur 1000A de la selon des variantes de mode de réalisation de la présente description. En particulier, les étapes de fabrication des figures 1G à 1J pourraient être remplacées par les étapes de fabrication des figures 2A à 2C.
Comme cela est représenté dans la et dans la , une couche de revêtement 2300 est formée pour recouvrir la pluralité de lentilles 180 et le substrat 110. Une épaisseur de la couche de revêtement 2300 de la peut être supérieure à une épaisseur de la couche de revêtement 192 de la . Un matériau de la couche de revêtement 2300 peut être identique au matériau de la couche de revêtement 192 et/ou de la couche de revêtement 196.
Comme cela est représenté dans la et dans la , une partie de la couche de revêtement 2300 est gravée pour former une paroi latérale inclinée 2302 sur un sommet de la couche de revêtement 2300. Dans certains modes de réalisation, un angle θ5 entre la paroi latérale inclinée 2302 et la surface supérieure 114 du substrat 110 est dans une plage allant d 20 degrés à 60 degrés, par exemple 30, 40 ou 50 degrés. Dans certains modes de réalisation, une profondeur de gravure d de la paroi latérale inclinée 2302 peut être la moitié, le tiers ou les deux tiers d'une épaisseur totale de la couche de revêtement 2300 en fonction de la longueur de la paroi latérale inclinée 2302. Dans certains modes de réalisation, une distance D4 entre une partie la plus externe de la paroi latérale inclinée 2302 et la partie la plus externe de la couche sous-jacente 182 est dans une plage allant de 20 µm à 50 µm, par exemple 30 ou 40 µm.
Comme cela est représenté dans la et dans la , une partie de la couche de revêtement 2300 est gravée pour former la paroi latérale inclinée 2304 sur un fond de la couche de revêtement 2300. Dans certains modes de réalisation, un angle θ6 entre la paroi latérale inclinée 2304 et la surface supérieure 114 du substrat 110 est dans une plage allant de 20 degrés à 60 degrés, par exemple 30, 40 ou 50 degrés. Dans certains modes de réalisation, une distance D5 entre une partie la plus externe de la paroi latérale inclinée 2304 et la partie la plus externe de la paroi latérale inclinée 2302 est dans une plage allant de 20 µm à 50 µm, par exemple 30 ou 40 µm. Dans certains modes de réalisation, une distance D6 entre la partie la plus externe de la paroi latérale inclinée 2304 et la partie la plus externe de la couche sous-jacente 182 est dans une plage allant de 40 µm à 100 µm, par exemple 50, 60, 70, 80 ou 90 µm.
On se référera de nouveau à la . La couche de revêtement 2300 pourrait être constituée d'une première couche de revêtement 2300a et d'une deuxième couche de revêtement 2300b. La deuxième couche de revêtement 2300b est disposée sur la première couche de revêtement 2300a. La première couche de revêtement 2300a a la paroi latérale inclinée 2304 et la deuxième couche de revêtement 2300b a la paroi latérale inclinée 2302. Une largeur de la première couche de revêtement 2300a est supérieure à une largeur de la deuxième couche de revêtement 2300b. La paroi latérale inclinée 2302 de la deuxième couche de revêtement 2300b est au-dessus de la paroi latérale inclinée 2304 de la première couche de revêtement 2300a. Une extension P8 de la paroi latérale inclinée 2302 de la deuxième couche de revêtement 2300b sur le substrat 110 est espacé d'une extension P9 de la paroi latérale inclinée 2304 de la première couche de revêtement 2300a sur le substrat 110.
Après la formation de la couche de revêtement 2300 dans la , l'exécution des étapes de la à 1L se poursuit de sorte que le capteur d'image 1000A de la soit formé.
La fabrication de la couche de revêtement 196 ou de la couche de revêtement 2300 du capteur d'image 1000A (ainsi que des capteurs d'image 1000B à 1000C, 8000A à 8000D) peut être effectuée par les étapes des figures 1C à 1J ou par les étapes des figures 2A à 2C. Les parois latérales inclinées de la couche de revêtement 196 et de la couche de revêtement 2300 peuvent être formées par 2 fois un processus de lithographie et 2 fois un processus de gravure pour lisser les bords de la couche de revêtement. Par conséquent, les parois latérales inclinées peuvent assurer une pente douce pour réduire la contrainte dans des angles des plusieurs films de la couche de filtre à bande-passante 2100 (voir la ).
Les figures 3A à 3F sont une succession de vues en coupe transversale d'un procédé de fabrication d'un capteur d'image 1000B selon certains modes de réalisation de la présente description. La est une vue en coupe transversale du capteur d'image 1000B selon le procédé de fabrication représenté dans les figures 3A à 3F. Le procédé de fabrication du capteur d'image 1000B comporte les étapes des figures 1A à 1L et des figures 2A à 2C telles que décrites précédemment, dans lesquelles la fabrication de la couche de revêtement peut être effectuée par les étapes des figures 1G à 1J ou par les étapes des figures 2A à 2C. Les références numériques sont répétées ici pour montrer des caractéristiques identiques ou similaires représentées dans les figures précédentes, la description précédente s'applique de façon égale aux modes de réalisation décrits ci-dessous, et ses détails ne seront pas décrits de nouveau.
Comme cela est représenté dans la et dans la , après la définition des lentilles 180 avec la couche sous-jacente 182 et de la partie restante 160a de la couche de remplissage 160, une couche de protection 310 est formée pour recouvrir les lentilles 180 et pour exposer la partie restante 160a de la couche de remplissage 160. En particulier, la couche de protection 310 est formée dans la zone de matrice de lentilles AA. Dans certains modes de réalisation, le motif de la couche de protection 310 peut être formée par un processus de lithographie. Dans certains modes de réalisation, un matériau de la couche de protection 310 peut être une résine photosensible du type positif ou négatif.
Comme cela est représenté dans la et dans la , la partie restante 160a de la couche de remplissage 160 est retirée. La surface supérieure 114 du substrat 110 est exposée. Dans certains modes de réalisation, la partie restante 160a est retirée par un processus de gravure sèche.
- le distributeur comprend une frette rotative liée en rotation avec la pièce d’actionnement, la bague de came comprenant au moins un premier moyen de verrouillage coopérant avec au moins un deuxième moyen de verrouillage de la frette rotative de sorte à bloquer le mouvement de rotation de la pièce d’actionnement par rapport à la bague de came lorsque la pièce d’actionnement est en position basse de repos,
Grâce à l’invention, une fois la fonction de régulation de vitesse sélectionnée, elle peut être immédiatement et continument surveillée, permettant ainsi d’augmenter la sécurité du véhicule et de ses passagers, mais aussi des personnes et objets situés dans l’environnement proche du véhicule.
- dans son étape, lorsqu’une seconde vitesse déterminée à un second instant, postérieur au premier instant, devient supérieure à la consigne réduite d’un troisième seuil choisi alors que la première vitesse était inférieure à la consigne, on peut vérifier si des vitesses déterminées successivement après ce second instant sont comprises dans un troisième intervalle défini à partir de la consigne réduite de ce troisième seuil et de la consigne augmentée d’un quatrième seuil choisi, et dans la négative on peut interdire temporairement l’utilisation de la fonction de régulation de vitesse ;
- en présence de la première option, dans son étape, le troisième seuil peut être un seuil de tolérance minimal autorisé en-dessous de la consigne, et le quatrième seuil peut être un seuil de tolérance maximal autorisé au-dessus de la consigne ;
- dans son étape, lorsqu’une seconde vitesse déterminée à un second instant, postérieur au premier instant, devient inférieure à la consigne augmentée d’un cinquième seuil choisi alors que la première vitesse était supérieure à la consigne, on peut vérifier si des vitesses déterminées successivement après ce second instant sont comprises dans un quatrième intervalle défini à partir de la consigne réduite d’un sixième seuil choisi et de la consigne augmentée de ce cinquième seuil, et dans la négative on peut interdire temporairement l’utilisation de la fonction de régulation de vitesse ;
- en présence de la dernière option, dans son étape, le cinquième seuil peut être un seuil de tolérance maximal autorisé au-dessus de la consigne, et le sixième seuil peut être un seuil de tolérance minimal autorisé en-dessous de la consigne ;
- dans son étape, le premier seuil peut être un seuil de tolérance minimal autorisé en-dessous d’une vitesse déterminée, et le deuxième seuil peut être un seuil de tolérance maximal autorisé au-dessus d’une vitesse déterminée ;
- en présence de la dernière sous-option, dans son étape, le cinquième seuil peut être égal au quatrième seuil, et le sixième seuil peut être égal au troisième seuil ;
- dans son étape, en cas d’interdiction temporaire de l’utilisation de la fonction de régulation de vitesse, on peut aussi effectuer dans le véhicule au moins une action complémentaire qui est choisie parmi une génération d’une alerte d’un usager du véhicule de cette interdiction d’utilisation et un enregistrement d’au moins un code défaut représentatif d’une cause de cette interdiction d’utilisation.
L’invention propose également un produit programme d’ordinateur comprenant un jeu d’instructions qui, lorsqu’il est exécuté par des moyens de traitement, est propre à mettre en œuvre un procédé de surveillance du type de celui présenté ci-avant pour surveiller une fonction de régulation de vitesse propre à contrôler un déplacement d’un véhicule à une vitesse égale à une consigne choisie.
L’invention propose également un dispositif de surveillance destiné à équiper un véhicule ayant une vitesse déterminable et comprenant une fonction de régulation de vitesse propre à contrôler son déplacement à une vitesse égale à une consigne choisie.
Ce dispositif de surveillance se caractérise par le fait qu’il comprend au moins un processeur et au moins une mémoire agencés pour effectuer les opérations consistant, dès que la fonction de régulation de vitesse a été sélectionnée en association avec une consigne à un premier instant, à vérifier :
- soit si des vitesses déterminées successivement après ce premier instant sont comprises dans un premier intervalle défini à partir d’une première vitesse déterminée au premier instant et réduite d’un premier seuil choisi et de la consigne augmentée d’un deuxième seuil choisi, lorsque la première vitesse est inférieure à la consigne,
- soit si les vitesses déterminées successivement après ce premier instant sont comprises dans un deuxième intervalle défini à partir de cette première vitesse augmentée de ce deuxième seuil et de la consigne réduite du premier seuil, lorsque la première vitesse est supérieure à la consigne, et
- dans la négative à interdire temporairement l’utilisation de la fonction de régulation de vitesse.
L’invention propose également un véhicule, éventuellement de type automobile, ayant une vitesse déterminable, et comprenant, d’une part, une fonction de régulation de vitesse propre à contrôler son déplacement à une vitesse égale à une consigne choisie, et, d’autre part, un dispositif de surveillance du type de celui présenté ci-avant.
Selon un exemple particulier et non limitatif de réalisation de la présente invention, le contrôle d’un système SALC d’un véhicule circulant sur une voie de circulation délimité par exemple d’un premier côté par une première ligne de marquage au sol et/ou d’un deuxième côté par une deuxième ligne de marquage au sol comprend la réception, depuis une caméra embarquée dans le véhicule, de données représentatives de la première ligne de marquage au sol et de la deuxième ligne de marquage au sol, le cas échéant.
Ces données comprennent par exemple ou permettent de déterminer un premier ensemble de premiers indicateurs locaux de qualité d’un tracé de la première ligne de marquage au sol et/ou, le cas échéant, un deuxième ensemble de deuxièmes indicateurs locaux de qualité d’un tracé de la deuxième ligne de marquage au sol. Les premiers et deuxièmes indicateurs locaux de qualité sont associés à un ensemble de segments de la voie de circulation s’étendant successivement devant le véhicule, à chaque segment étant associé un premier indicateur local et un deuxième indicateur local. Un coefficient de pondération est également associé à chaque segment, la valeur d’un coefficient de pondération étant fonction de la distance entre le segment auquel il est associé et le véhicule.
Un premier indicateur global de qualité du tracé de la première ligne de marquage au sol est déterminé ou calculé comme une moyenne pondérée des premiers indicateurs locaux de qualité, chaque premier indicateur local de qualité étant pondéré du coefficient de pondération associé au segment auquel ce premier indicateur local de qualité est associé. De la même manière et le cas échéant (c’est-à-dire lorsqu’une deuxième ligne de marquage au sol existe), un deuxième indicateur global de qualité du tracé de la deuxième ligne de marquage au sol est déterminé ou calculé comme une moyenne pondérée des deuxièmes indicateurs locaux de qualité.
Le système SALC est alors contrôlé en fonction du premier indicateur global de qualité et/ou du deuxième indicateur global de qualité.
Selon un ou plusieurs exemples de réalisation, la base de correction dans laquelle est définie ladite matrice distorsion est une base maximisant la taille des domaines d’isoplanétisme contenus dans le champ de vision, par exemple l’ensemble des points d’un plan conjugué avec le plan d’un aberrateur si celui-ci est bidimensionnel, ou par exemple un plan conjugué avec le plan pupille de l’objectif de microscope.
Selon un ou plusieurs exemples de réalisation, une détermination locale des invariants de ladite matrice distorsion comprend, comme décrit dans [Réf. 4], une décomposition en valeurs singulières de ladite matrice distorsion, une décomposition en valeurs singulières d’une matrice distorsion normalisée, c’est à dire dont le module de chacun des éléments aura été normalisé mais dont la phase aura été préservée, une décomposition en valeurs singulières d’une matrice de corrélation normalisée de ladite matrice distorsion, c’est-à-dire une matrice de corrélation de ladite première matrice distorsion dont le module de chacun des éléments aura été normalisé. D’autres méthodes sont possibles pour la détermination locale des invariants, comme par exemple un processus itératif de retournement de phase appliqué à ladite matrice distorsion.
Selon un ou plusieurs exemples de réalisation, la source lumineuse est une source à longueur d’onde variable et pour chaque onde lumineuse incidente de front d’onde donné, les signaux d’interférence de la deuxième pluralité de signaux d’interférence sont acquis pour fréquences (ou longueurs d’onde) de ladite onde lumineuse incidente et une différence de marche fixe entre le bras objet et le bras de référence du premier interféromètre. Par fréquence d’une onde incidente (respectivement longueur d’onde), on comprend dans la présente description la fréquence centrale (respectivement longueur d’onde centrale) du spectre de l’onde incidente.
Selon un ou plusieurs exemples de réalisation, pour chaque onde lumineuse incidente de front d’onde prédéterminé, les signaux d’interférence de ladite deuxième pluralité de signaux d’interférence sont acquis pour différences de marche entre le bras objet et le bras de référence du premier interféromètre. Une simple opération de transformée de Fourier temporelle permet alors d’obtenir, à partir desdits signaux d’interférence acquis pour des différences de marche, ou temps de vol, différentes, la matrice réflexion polychromatique.
Selon un ou plusieurs exemples de réalisation, la matrice réflexion polychromatique est générée entre une base de mesure à l’émission qui est une base des ondes planes (plan pupille entrée) et une base de mesure à la réception (plan de détection). Un propagateur permettant de déterminer une première matrice de réflexion volumique focalisée à partir de ladite matrice réflexion polychromatique, comprend par exemple un premier changement de base à l’entrée qui permet de passer du plan pupille entrée à un plan de focalisation à l’émission, et un deuxième changement de base à la sortie qui permet de passer du plan de détection à un plan de focalisation à la réception, aussi appelé plan de focalisation en sortie. De tels propagateurs sont connus de l’homme du métier. Ces propagateurs peuvent, par exemple, comprendre des opérations de transformées de Fresnel.