INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
L’invention concerne donc également un extrait de parois cellulaires de levure Saccharomyces cerevisiae riche en β-glucanes, tel que décrit ici, seul ou combiné à au moins un agent bioactif, pour utilisation dans la prévention ou le traitement d’une maladie associée ou causée par une infection à Lawsonia intracellularis chez le cochon.
La maladie associée ou causée par Lawsonia intracellularis, peut être une inflammation intestinale, en particulier sélectionnée dans le groupe constituée de l’entérite, ou de l’iléite.
L’invention également un extrait de parois cellulaires de levure Saccharomyces cerevisiae riche en β-glucanes, tel que décrit ici, seul ou combiné à au moins un agent bioactif, pour une utilisation dans la prévention ou le traitement de maladies intestinales inflammatoires chez le cochon, en particulier associées ou causées par une infection à Lawsonia intracellularis, comme l’iléite.
Tel qu'utilisé ici, le terme de « prévention » se réfère à tout acte visant à prévenir ou à retarder l'apparition d'une maladie, en particulier réduire ou inhiber, de manière partielle ou totale, la probabilité qu’un sujet développe un ou plusieurs symptômes liés à une maladie associée ou causée par une infection à Lawsonia intracellularis (diarrhées, réduction de l’engraissement, épaississement de la paroi intestinale, etc …). Les termes de « prévention » et de « traitement prophylactique » sont équivalents et peuvent s'employer l'un pour l'autre dans le cadre de la présente invention. La prévention peut viser aussi bien des sujets présentant une prédisposition à des infections, de préférence à des infections intestinales, que des sujets non prédisposés.
Tel qu'utilisé ici, le terme de « traitement » se réfère à tout acte visant à améliorer le statut médical d’un sujet atteint d'une maladie. Le traitement peut viser aussi bien à une amélioration de l'état du patient, c'est-à-dire à une régression de la maladie ou de certains de ses symptômes, qu'à une éradication de la maladie ou de certains de ses symptômes. Le traitement peut également avoir pour effet d'empêcher ou de ralentir la progression d'une maladie.
Dans des modes de réalisation de la présente invention, les extraits ou compositions sont destinés à la prévention d’une maladie associée ou causée par Lawsonia intracellularis chez le cochon.
Dans certains modes de réalisation de la présente invention, l’utilisation d’un extrait de parois cellulaires de levure Saccharomyces cerevisiae riche en β-glucanes, seul ou combiné à au moins un agent bioactif, dans la prévention d’une maladie associée ou causée par la bactérie Lawsonia intracellularis, comprend le mélange d’un extrait de parois cellulaires de levure Saccharomyces cerevisiae riche en β-glucanes avec un aliment pour animaux. Le mélange peut se faire par n’importe quelle méthode appropriée connue dans l’art.
Tel qu’utilisé ici, les termes “aliment pour animaux”, “ingrédient alimentaire pour animaux” et “produit alimentaire pour animaux” désignent toute matière organique naturelle ou transformée qui est sensible à la biodégradation et qui peut être consommée par un animal. Les exemples de telles matières organiques vont des grains fraîchement récoltés aux aliments granulés, et englobent par exemple tout composé, grain, noix, fourrage, ensilage, préparation, composition ou mélange approprié ou destiné à être ingéré par un animal. L’aliment pour animal peut être notamment sous forme de granulés, de liquide, de bouillie ou de mélange de farines (« mash feed » en anglais).
Le terme “fourrage” désigne du matériel végétal (principalement des feuilles et des tiges de plantes) consommé par les animaux au pâturage. Le terme “ensilage” désigne un fourrage fermenté et à haute teneur en humidité qui peut être destiné à l’alimentation des ruminants. Les préparations, compositions et mélanges, par exemple les préparations, compositions et mélanges commerciaux, peuvent être sous n’importe quelle forme appropriée, par exemple sous la forme de concentrés, de prémélanges, de suppléments, de ration totale mélangée (RTM), etc. L’aliment pour animal peut contenir des céréales (par exemple, maïs, blé, orge, seigle, riz, sorgho, millet ou une de leurs combinaisons), du fourrage, de l’ensilage, des légumineuses (par exemple, soja), de drêches, des produits animaux, etc. Les drêches sont principalement issues de processus industriels que sont la brasserie et la distillerie, destinées à la production d’alcool de consommation (whisky, vodka ou gin) ou de biocarburants. Les drêches de brasserie sont produites à partir du malt, lui-même dérivé de l’orge. Des céréales autres que l’orge peuvent occasionnellement être utilisées en brasserie, comme le sorgho, notamment en Afrique. Les drêches issues de la fabrication du bioéthanol sont de maïs ou de blé. Les drêches humides sont séchées pour produire des drêches sèches, qui sont principalement utilisées comme aliment pour animaux.
L’eau contenue dans l’effluent gazeux issu de l’étape a1) peut avantageusement être condensée et recyclée dans l’étape b) d’électrolyse du procédé selon l’invention.
a2) Opération de torréfaction
L'étape a) de prétraitement de la charge peut comprendre une opération de torréfaction a2), de préférence de la charge séchée issue de l’opération de séchage a1).
L’opération de torréfaction a2) peut être réalisée dans un four de torréfaction qui produit un effluent de charge plus friable, et par conséquent nécessitant moins d'énergie pour être finement broyée de manière à obtenir un effluent torréfié. L'opération de torréfaction est avantageusement réalisée à une température comprise entre 220 et 350°C, de préférence entre 250 et 320°C et plus préférentiellement entre 270 et 300°C pendant une durée comprise entre 5 et 180 minutes, et préférentiellement entre 15 et 60 minutes, à une pression opératoire absolue comprise préférentiellement entre 0,01 et 1,5 MPa, de manière préférée entre 0,01 et 1,0 MPa et de manière plus préférée entre 0,05 et 0,15 MPa. L'opération de torréfaction est réalisée dans un environnement dont la teneur en oxygène est avantageusement inférieure à 10 % volume, de préférence inférieure à 8 % volume et préférentiellement inférieure à 3 % volume.
L'opération de torréfaction présente l'avantage de diminuer le coût énergétique de l'opération a3) de broyage et s'accompagne d'une perte de matière sèche comprise entre 5 et 40% masse, de préférence entre 10 et 35% masse. Cependant, cette perte de matière sèche s'accompagne d'une perte de pouvoir calorifique beaucoup plus limitée de l'ordre de 5 à 20 %. A ce titre, l’opération de torréfaction permet d’augmenter le contenu énergétique volumique de la biomasse, c'est-à-dire son énergie par unité de volume.
a3) Opération de broyage
L'étape a) de prétraitement de la charge peut comprendre une opération de broyage a3), de préférence de l’effluent torréfié issu de l’opération a2).
L’opération de broyage a3) peut être réalisée dans des conditions permettant une réduction de la charge en particules de taille convenant au traitement dans une unité de gazéification en flux entraîné (étape c). A l'issue de l'opération de broyage a3), 90 % des particules de charge présentent de préférence un diamètre équivalent inférieur à 300 microns et 90 % des particules de charge présentent de préférence un diamètre équivalent supérieur à 1 micron; de manière préférée 90 % des particules de charge présentent un diamètre équivalent inférieur à 200 microns et 90 % des particules de charge présentent un diamètre équivalent supérieur à 5 microns; et de manière plus préférée 90 % des particules de charge présentent un diamètre équivalent inférieur à 100 microns et 90 % des particules de charge présentent un diamètre équivalent supérieur à 10 microns. Le diamètre équivalent noté de est défini par exemple selon la relation suivante :
avec V le volume de la particule,
S la surface de la sphère de même volume que la particule.
Dans un mode de réalisation particulier, l’étape de broyage a3) peut être réalisée en présence d’une seconde charge fossile ou de biomasse de manière à être broyée simultanément dans un unique et même broyeur. Lorsque ladite seconde charge est fossile alors elle peut être choisi parmi les hydrocarbures fossiles solides tels que du charbon, du coke de pétrole (petcoke selon la terminologie anglo-saxonne). Lorsque ladite seconde charge est de la biomasse alors elle peut être choisi parmi les charges biomasses tel que défini précédemment. Un avantage de réaliser le broyage en présence d’une seconde charge est de permettre de réaliser le broyage et le séchage efficace de ladite seconde charge.
De préférence, l’étape a3) de broyage peut être mise en œuvre en présence d’un composé additionnel utile pour l’étape ultérieure de gazéification, ledit composé est choisi parmi des cendres vitrifiées, du sable, du calcaire, de la chaux ou d’autres composés connus de l’Homme du métier pris seul ou en mélange.
De préférence, le broyeur est choisi de manière à optimiser le transport pneumatique de la poudre obtenue à l’issue de l’étape a3), en minimisant la vitesse minimale de fluidisation (UMF), ainsi que sa propre consommation énergétique.
De préférence, ladite étape a3) de co-broyage est mise en œuvre dans un broyeur de type « roller mill », « universel », « attrition », ou tout autre type de broyeurs connus de l’homme du métier
Etape b) d’électrolyse
Le procédé selon l’invention comprend une étape d’électrolyse d’eau en oxygène et en hydrogène permettant l’obtention d’un flux d’hydrogène, et d’un flux d’oxygène dans laquelle l’eau est issue, au moins en partie et de préférence en totalité, de l’étape e) de synthèse Fischer-Tropsch.
Description détaillée La plateforme d’assemblage 1 est représentée sur la et sur la . La plateforme d’assemblage 1 est destinée à manipuler au moins une coque inférieure 2 d’un aéronef AC en vue d’un assemblage d’un corps de fuselage 3 de l’aéronef AC.
Dans la description, on appelle « plan de symétrie central » d’un objet un plan qui coupe l’objet en deux parties égales dans une direction longitudinale de l’objet. L’adjectif « latéral » qualifie une partie qui se situe d’un côté ou/et de l’autre du plan de symétrie central sans couper le plan de symétrie central.
On appelle « extrémités longitudinales » d’un objet les extrémités longitudinalement opposées de l’objet.
L’adjectif « vertical » et l’adverbe « verticalement » font référence à la direction de la pesanteur. L’adjectif « horizontal » et l’adverbe « horizontalement » font référence à une direction perpendiculaire à la direction de la pesanteur.
La plateforme d’assemblage 1 comprend au moins un châssis rectangulaire 4 présentant un axe longitudinal A1 et quatre coins C1, C2, C3, C4.
La plateforme d’assemblage 1 comprend également au moins deux cadres 5 présentant une assiette ajustable par rapport au châssis rectangulaire 4.
Dans la suite de la description, on omet d’utiliser l’expression « au moins deux cadres » dans la suite de la description, mais on comprend que la plateforme d’assemblage 1 peut aussi comprendre plus de deux cadres 5.
Chacun des deux cadres 5 comprend un axe longitudinal A2.
La plateforme d’assemblage P comprend en outre au moins deux berceaux 6.
Dans le mode de réalisation représentée sur la , la plateforme d’assemblage 1 comprend deux berceaux 6.
Dans la suite de la description, on omet d’utiliser l’expression « au moins deux berceaux » mais on comprend que la plateforme d’assemblage 1 peut aussi comprendre plus de deux berceaux 6.
Chacun des deux berceaux 6 est fixé sur un cadre 5.
La plateforme d’assemblage comprend aussi au moins deux systèmes de réglage 8 associé chacun à un cadre 5 ( ). Autrement dit, chaque système de réglage 8 est associé à un cadre 5 différent.
Dans la suite de la description, on omet d’utiliser l’expression « au moins deux systèmes de réglage » dans la suite de la description, mais on comprend que la plateforme d’assemblage 1 peut aussi comprendre plus de deux systèmes de réglage 8.
Chacun des deux systèmes de réglage 8 est destiné à ajuster l’assiette du cadre 5 auquel il est associé par rapport au châssis rectangulaire 4.
La présente invention décrit 7 modes de réalisation de capteurs d'image (représentés dans les figures 1L, 4, 6 et 8 à 11) et deux types de lentilles dans ces 7 modes de réalisation qui sont des microlentilles ou des lentilles à méta-surface. Dans les capteurs d'image des figures 1L, 4 et 6, les lentilles 180 sont des microlentilles. Dans les capteurs d'image des figures 8 à 11, les lentilles 750 sont des lentilles à méta-surface. Des modes de réalisation des procédés et des structures de la présente description seront décrits en détail ci-dessous.
On notera que des étapes supplémentaires peuvent être prévues avant, pendant et après des processus représentés par les figures qui suivent, et certaines des étapes décrites ci-dessous peuvent être remplacées ou supprimées, pour des modes de réalisation supplémentaires du processus. L'ordre des étapes peut être modifié.
Les figures 1A à 1L sont une succession de vues en coupe transversale d'un procédé de fabrication d'un capteur d'image 1000A selon certains modes de réalisation de la présente description. Comme cela est représenté dans la , un substrat 110 est prévu et comporte une matrice de circuits photosensibles intégrée dans le substrat 110. La matrice de circuits photosensibles comporte une pluralité d'éléments photosensibles 112. L'élément photosensible 112 peut être une photodiode ou des diodes à avalanche à photon unique (SPAD), mais n'est pas limité à cela. La matrice de circuits photosensibles est configurée pour détecter une lumière externe. Une couche de résine photosensible 120 est disposée sur le substrat 110 et une tranchée 130 est formée dans la couche de résine photosensible 120. En d'autres termes, le substrat 110 et la couche de résine photosensible 120 forment la tranchée 130. On notera que la couche de résine photosensible 120 et la tranchée 130 définissent une zone de matrice de lentilles AA dans laquelle une pluralité de lentilles (incluant des microlentilles ou des lentilles à méta-surface) sera formée, et une région périphérique PA est une région sans lentille.
Comme cela est représenté dans la , la couche de résine photosensible 120 a un angle obtus θ1 entre une paroi latérale inclinée 122 de la couche de résine photosensible 120 et une surface supérieure 114 du substrat 110 de sorte que la paroi latérale inclinée 122 soit tournée vers la surface supérieure 114 du substrat 110. L'angle obtus θ1 est supérieur à 90 degrés. Dans certains modes de réalisation, un matériau de la couche de résine photosensible 120 peut être une résine photosensible de type positif ou une résine photosensible de type négatif. Dans un mode de réalisation, le motif de la couche de résine photosensible 120 peut être formé par un processus de lithographie. La paroi latérale inclinée 122 peut être formée en réglant la distance focale de photolithographie, mais n'est pas limité à cela.
Comme cela est représenté dans la et dans la , une couche de lentille 140 est formée au-dessus du substrat 110. En particulier, une première partie 140a de la couche de lentille 140 est formée sur la surface supérieure 114 du substrat 110, et une deuxième partie 140b de la couche de lentille 140 est formée sur une surface supérieure 124 de la couche de résine photosensible 120, de sorte qu'une tranchée 150 soit formée au-dessus du substrat 110. On notera que la première partie 140a et la deuxième partie 140b de la couche de lentille 140 sont formées simultanément. Dans certains modes de réalisation, une épaisseur de la première partie 140a est identique à une épaisseur de la deuxième partie 140b. Dans certains modes de réalisation, la couche de lentille 140 peut être formée par un dépôt physique en phase vapeur (PVD), un dépôt chimique en phase vapeur (CVD), un dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD), ou un autre processus de dépôt approprié. Pendant le processus de dépôt de la couche de lentille 140, la couche de résine photosensible 120 peut être utilisée comme avancées de sorte que la première partie 140a de la couche de lentille 140 ait une paroi latérale inclinée 142. La première partie 140a a un angle aigu θ2 entre la paroi latérale inclinée 142 de la première partie 140a et la surface supérieure 114 du substrat 110 de sorte que la paroi latérale inclinée 142 soit tournée vers la paroi latérale inclinée 122. L'angle aigu θ2 est inférieur à 90 degrés. La première partie 140a est de forme trapézoïdale. Dans certains modes de réalisation, une pente de la paroi latérale inclinée 122 est supérieure à une pente de la paroi latérale inclinée 142.
Comme cela est représenté dans la , un intervalle d'air est présent entre la paroi latérale inclinée 122 et la paroi latérale inclinée 142. Dans certains modes de réalisation, la couche de lentille 140 est formée par un matériau inorganique incluant a-Si, SiH, GeH, Ge, GeO, GeSiH ou un autre matériau approprié.
Comme cela est représenté dans la et dans la , la couche de résine photosensible 120 et la deuxième partie 140b de la couche de lentille 140 sont retirées de la zone périphérique PA. Dans certains modes de réalisation, le processus de retrait est effectué par un processus de décollage. En particulier, la structure représentée dans la est trempée dans une solution aqueuse qui a une solubilité ou une capacité de gonflement relativement élevées pour la couche de résine photosensible 120 par rapport à la couche de lentille 140. Par conséquent la première partie 140a de la couche de lentille 140 est maintenue sur le substrat 110. Le processus de décollage de la présente description peut réduire la contrainte de film pour éviter un déséquilibre de contrainte et un fléchissement de la tranche.
Comme cela est représenté dans la et dans la , une couche de remplissage 160 est formée sur le substrat 110 et entoure la première partie 140a de la couche de lentille 140. En d'autres mots, la couche de remplissage 160 remplit la zone dépourvue de la première partie 140a de la couche de lentille 140. Une surface supérieure 144 de la première partie 140a de la couche de lentille 140 est sensiblement coplanaire avec une surface supérieure 162 de la couche de remplissage 160. En particulier, la couche de remplissage 160 recouvre et contacte la paroi latérale inclinée 142 de la couche de lentille 140. Dans certains modes de réalisation, un matériau de la couche de remplissage 160 peut être une résine photosensible, telle qu'une résine photosensible transparente. Dans certains modes de réalisation, le motif de la couche de remplissage 160 peut être réalisé par un processus de lithographie. Le processus de lithographie réalise une topographie plane de sorte que la couche de lentille 140 ait une première partie uniforme 140a. Une épaisseur de dépôt de la couche de remplissage 160 peut être réglée en fonction de l'épaisseur de la première partie 140a de la couche de lentille 140.
Comme cela est représenté dans la et dans la , une couche de masque dur à motif 170 est formée sur la première partie 140a de la couche de lentille 140. En particulier, la couche de masque dur à motif 170 a une première partie 170a ayant des profils hémisphériques et une deuxième partie 170b sous la première partie 170a. La deuxième partie 170b est un film plan disposé sur la surface supérieure 144 de la première partie 140a de la couche de lentille 140 et la surface supérieure 162 de la couche de remplissage 160. La première partie 170a de la couche de masque dur à motif 170 a un profil de surface d'une matrice de microlentilles. Dans certains modes de réalisation, un matériau de la couche de masque dur à motif 170 peut être une résine photosensible. Dans certains modes de réalisation, le motif de la couche de masque dur à motif 170 peut être formé par un processus de lithographie. Dans certains modes de réalisation, les positions de la première partie 170a peuvent être définies en premier, puis les profils hémisphériques formés. Comme cela est représenté dans la , chacun des profils hémisphériques de la couche de masque dur à motif 170 correspond à chacun des éléments photosensibles 112. On notera que le nombre de profils hémisphériques et le nombre d'éléments photosensibles 112 sont représentés essentiellement pour clarifier et ne sont pas destinés à limiter la présente description.
Comme cela est représenté dans la et dans la , la couche de lentille 140 est gravée pour transférer un motif de la couche de masque dur à motif 170 (comportant la première partie 170a et la deuxième partie 170b) sur la couche de lentille 140 de sorte qu'une pluralité de lentilles 180 soit définie. La couche de lentille 140 est gravée par un processus de gravure E. En particulier, pendant le processus de gravure E, la couche de remplissage 160 est également gravée pour transférer le motif de la deuxième partie 170b de la couche de masque dur à motif 170 sur la couche de remplissage 160 de sorte que la pluralité de lentilles 180 ait une couche sous-jacente 182 et qu'une partie restante 160a de la couche de remplissage 160 soit définie. La couche sous-jacente 182 est disposée entre les lentilles 180 et le substrat 110. La couche sous-jacente 182 est disposée entre les lentilles 180 et le substrat 110 et la couche sous-jacente 182 est connectée à la partie restante 160a de la couche de remplissage 160. Comme les lentilles 180 et la couche sous-jacente 182 sont formées en gravant la couche de lentille 140, les matériaux des lentilles 180 et la couche sous-jacente 182 sont identiques au matériau de la couche de lentille 140, par exemple, un matériau inorganique (tel que a-Si, SiH, GeH, Ge, GeO ou GeSiH). Dans un tel mode de réalisation, la couche de remplissage 160 et la couche sous-jacente 182 peuvent également être utilisées comme couches de protection pour éviter que le substrat 110 en-dessous ne soit endommagé pendant le processus de gravure E.
Dans certains modes de réalisation, le processus de gravure E est un processus de gravure sèche. Dans certains modes de réalisation, une épaisseur de la partie restante 160a de la couche de remplissage 160 est dans une plage allant de 0,1 µm à 100 µm, par exemple 10, 20, 50 ou 80 µm. Une épaisseur de la couche sous-jacente 182 peut être réglée par la longueur focale pendant le processus de gravure E. Dans certains modes de réalisation, l'épaisseur de la couche sous-jacente 182 est dans une plage allant de 0,01 µm à 100 µm, par exemple 0,1, 1, 10, 20, 50 ou 80 µm. Dans certains modes de réalisation, l'épaisseur de la partie restante 160a est similaire à une épaisseur de la couche sous-jacente 182. Dans certains modes de réalisation, l'épaisseur de la partie restante 160a est identique à l'épaisseur de la couche sous-jacente 182. Dans certains modes de réalisation, l'épaisseur de la partie restante 160a est légèrement plus mince que l'épaisseur de la couche sous-jacente 182.
On se réfère toujours à la . La couche sous-jacente 182 est un film plan disposé sur la surface supérieure 114 du substrat 110. Les lentilles 180, la couche sous-jacente 182, et la partie restante 160a sont toutes disposées sur la surface supérieure 114 du substrat 110. Dans ce mode de réalisation, les lentilles 180 sont des microlentilles. Dans certains modes de réalisation, un diamètre/largeur des microlentilles 180 est dans une plage allant de 1 µm à 100 µm. Dans certains modes de réalisation, une hauteur H des microlentilles 180 est dans une plage allant de 0,1 µm à 50 µm. Comme la couche de masque dur à motif 170 a le profil de surface de la matrice de microlentilles, les lentilles 180 ont également le profil de surface de la matrice de microlentilles. Les lentilles 180 sont disposées au-dessus des éléments photosensibles 112 et chacune des lentilles 180 correspond à chacun des éléments photosensibles 112.