Procédé de fabrication d’une nanostructure tridimensionnelle, le procédé comprenant les étapes suivantes : - faire osciller un injecteur (100) entre une position basse en contact avec un substrat (20) et une position haute hors de contact avec le substrat (20), l’injecteur (100) comprenant un orifice d’éjection (108) dont le diamètre est supérieur à 0,1 µm ; - déposer une encre sur le substrat (20) au moyen de l'injecteur lors d'un contact de l’orifice d’éjection (108) de l'injecteur (100) avec le substrat (20), l’encre comprenant, en % en volume par rapport au volume total de l’encre : - moins de 15% de nanoparticules choisies parmi des nanoparticules métalliques, des nanoparticules d’oxydes métallique, des nanoparticules d’oxyde de graphène ou leurs combinaisons ; - 0,5% à 5% de dispersant, - au moins 80% d’un solvant apte à disperser les nanoparticules métalliques pour former l’encre à injecter et suffisamment volatil pour permettre la solidification de l’encre une fois qu’elle est déposée ; et - éloigner l'injecteur (100) par rapport au substrat (20) à une vitesse inférieure ou égale à 10 µm/s selon une direction sensiblement perpendiculaire au substrat tout en maintenant un débit d’encre sortant de l'injecteur. Procédé selon la revendication précédente, dans lequel l’encre comprend de 0,05 % à 15 % en volume, avantageusement de 0,2 % à 10 % en volume, plus avantageusement 4 à 8 %, en volume de nanoparticules, par rapport au volume total de l’encre. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le diamètre de l’orifice d’éjection (108) va de 0,1 µm à 50 µm, avantageusement de 0,5 µm à 30 µm. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le temps caractéristique de l’évaporation du solvant τ répond à la formule suivante : avec le diamètre de l’orifice d’éjection (108), la pression de vapeur saturante du solvant ou du mélange de solvants, la masse volumique du solvant ou du mélange de solvants, la fraction volumique des nanoparticules. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le solvant volatil comprend un solvant choisi parmi l’eau, un alcool, un glycol, un éther de glycol, et les mélanges de ceux-ci. Procédé selon la revendication précédente, dans lequel l’encre comprend de 80 % à 99,45 % en volume dudit solvant, par rapport au volume total de l’encre. Procédé selon l’une quelconque des revendications 5 à 6, dans lequel le solvant volatil comprend en outre un deuxième solvant choisi parmi le glycérol, avantageusement en une teneur telle que l’encre comprend de 0 % à 25 % en volume de glycérol, par rapport au volume total de l’encre. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le métal des nanoparticules métalliques est choisi parmi l’argent, le cuivre, l’or, le platine, le nickel, l’aluminium, le cobalt, leurs combinaisons ou leurs alliages. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 7, dans lequel l’oxyde métallique des nanoparticules d’oxyde métallique est choisi parmi ZnO, TiO 2 ou V 2 O 5 . Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel l’encre comprend en outre un dispersant, avantageusement choisi parmi la polyvinylpyrrolidone (PVP), la gomme arabique, l’alcool polyvinylique (PVA), l’acide polyacrylique (PAA), la polyallylamine (PAAm), le polysodium styrène sulfonate (PSS), le 3-(aminopropyl)triméthylsylane (APS), un acide gras, le bromure de cétyltriméthyammonium (CTAB), le bromure de tétraoctylammonium (TOAB), le citrate de sodium, la lauryl amine, le dodecanethiol, le mercapto-polyethylene glycol, le mercapto-polypropylene glycol, ou leurs combinaisons. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel l’injecteur s’éloigne à une vitesse allant de 1 µm/s à 10 µm/s durant l’étape d’éloigner l'injecteur par rapport au substrat. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, comprenant une étape de rupture entre la nanostructure tridimensionnelle formée et l’encre à déposer, avantageusement par éloignement de l'injecteur (100) par rapport au substrat (20) à une vitesse supérieure à 10 µm/s. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, comprenant en outre l’exécution au moins une fois d’un cycle d’étapes suivantes de sorte à former au moins une deuxième nanostructure tridimensionnelle : - déplacement relatif de l’injecteur par rapport au substrat (20) selon une direction parallèle (x,y) au substrat, et - réalisation des étapes de l’une quelconque des revendications 1 à 12. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, comprenant une étape de cuisson du substrat contenant la nanostructure formée. Produit comprenant un substrat sur lequel est déposé au moins une nanostructure tridimensionnelle obtenue au moyen d'un procédé selon l'une des revendications précédentes, dans lequel la nanostructure est sous forme de pion conique ayant un diamètre qui diminue dans le sens de la hauteur et répondant à au moins une des caractéristiques suivantes : - le diamètre de la base varie de 0,5 µm à 50 µm ; - le diamètre du sommet varie de 0,2 µm à 30 µm ; - l’angle de la pente avec la verticale varie de 0,1° à 70°. Produit comprenant un substrat sur lequel est déposé au moins une nanostructure tridimensionnelle obtenue au moyen d'un procédé selon l'une des revendications précédentes, dans lequel la nanostructure est sous forme de colonne ayant une hauteur au moins dix fois supérieure au diamètre de la base, le diamètre de la base étant avantageusement inférieur à 1µm.