INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
c) une étape de séparation solvant-polymère mettant en œuvre au moins une section de séparation supercritique opérée à une température comprise entre 160 et 300°C, de préférence entre 190 et 250°C, préférentiellement entre 200 et 230°C, et à une pression (Psupercritique) comprise entre 2,7 et 10,0 MPa abs., de préférence entre 3,0 et 6,0 MPa abs., préférentiellement entre 3,0 et 5,0 MPa abs. et de manière préférée entre 3,0 et 4,0 MPa abs., suivie par au moins une section de récupération de solvant, opérée à une température comprise entre 160 et 300°C et une pression comprise entre la pression de la section de séparation supercritique (Psupercritique) et 0,000005 MPa (soit 5 Pa), pour obtenir au moins une fraction de polypropylène purifié.
Une charge issue de déchets plastiques et contenant 95% poids de polypropylène (PP) est introduite sous forme de paillettes dans une extrudeuse chauffée à 180°C. En sortie d’extrudeuse, la charge est au moins en partie sou forme fondue et est mélangée avec un solvant comprenant 99% de n-pentane et préalablement chauffée à 180°C, selon un ratio massique solvant/charge de 9/1. Le mélange de solvant et de charge est introduit dans un réacteur agité et chauffé à 180°C, et maintenu à 7 MPa absolu, pendant un temps de séjour de 1 heure. Une solution polymère est alors obtenue.
La solution polymère purifiée issue de la section d’adsorption est ensuite chauffée à 210°C, la pression étant légèrement inférieure à 7 MPa (pression de dissolution moins les pertes de charges induites dans les sections de l’étape b) de purification). La solution polymère est ensuite détendue à 4 MPa absolu puis injectée dans un décanteur maintenu à 4 MPa abs et 210°C et pendant un temps de séjour de 5 minutes. Deux phases se forment : une phase supérieure comprenant majoritairement le solvant à l’état supercritique et une phase inférieure liquide comprenant le polypropylène dissout dans du solvant. La phase supérieure est soutirée de la partie supérieure du décanteur.
En sortie de procédé, à température et pression atmosphérique, un solide A composé de polypropylène (PP) purifié est obtenu. Le solide A est analysé.
Exemple 2 (non conforme) Dans cet exemple 2, les étapes a) de dissolution et b) de purification sont conduites de manière identique au procédé décrit dans l’exemple 1.
La solution purifiée issue de l’étape b) de purification est soumise à une étape de séparation solvant-polymère ne comprenant pas de section supercritique :
La solution polymère purifiée issue de la section d’adsorption est maintenue à 180°C et détendue à 2 MPa absolu puis injectée dans un décanteur maintenu à 2 MPa abs et 180°C, pendant un temps de séjour de 5 minutes. Deux phases se forment : une phase supérieure gazeuse comprenant majoritairement le solvant et une phase inférieure liquide comprenant le polypropylène dissout dans du solvant. La phase gazeuse est soutirée de la partie supérieure du décanteur.
La phase liquide inférieure est ensuite soumise à une évaporation du solvant résiduel, dans un premier temps à une température de 210°C et une pression 0,5 MPa pendant 5 minutes, puis dans un second temps une température de 210°C et une pression 0,01 MPa pendant 2 minutes.
Typiquement, les moyens de détermination comprennent au moins un ordinateur, une unité centrale ou de calcul, un circuit électronique analogique (de préférence dédié), un circuit électronique numérique (de préférence dédié), et/ou un microprocesseur (de préférence dédié), et/ou des moyens logiciels.
Le système selon l’invention peut être utilisé pour la mesure de la chiralité de molécules dans le domaine de la pharmacologie, de l’agro-alimentaire ou encore des pesticides. En effet, ces industries, parmi d’autres, ont besoin de techniques d’analyse chirale fiables et rapides, notamment dans les phases de développement de nouveaux composés, afin d’identifier, par exemple, les produits de réaction et leurs excès énantiomériques.
Selon un premier exemple d’application, il peut être très utile de suivre en temps réel la composition d’un mélange dans lequel se déroule une réaction chimique. Ce suivi réactionnel peut être réalisé directement avec le système selon l’invention, notamment en collectant les vapeurs émises par le réservoir dans lequel se déroule la réaction.
Selon un deuxième exemple d’application, il peut être très utile de procéder à des mesures d'analyse chirale en série, notamment lors de la synthèse de multiples produits aux structures très proches dans la recherche et le développement, où les facteurs fiabilité et rapidité sont très importants. Par exemple, à une molécule de base peuvent être substitués différents groupes fonctionnels pour converger vers un composé présentant des propriétés recherchées optimales. Dans ce domaine spécialisé, les composés intermédiaires à mesurer sont souvent générés en faible quantité, contrainte que le système selon la présente invention propose à respecter.
Selon un troisième exemple d’application, l’analyse chirale est effectuée en contrôle de qualité et notamment en fin de production. Idéalement, un prélèvement très régulier, voire en continu, de très petites quantités de produits à analyser avec une analyse en temps réel permet de quantifier l'excès énantiomérique et son évolution dans le temps.
Selon un quatrième exemple d’application, il est possible de faire des tests en criblage, où par un exemple un très grand nombre de catalyseurs ou de conditions opératoires (températures, pH, etc.) sont utilisés pour orienter une réaction chimique à produire préférentiellement un énantiomère plutôt qu’un autre.
Plus généralement, le système de mesure selon l’invention peut être utilisé pour l’analyse de la pureté énantiomérique d’un échantillon de molécules chirales.
la est une représentation schématique d’un exemple de réalisation non limitatif d’un système selon l’invention ; la montre des exemples de mesures de foyers dans la cavité optique d’un système selon un mode de réalisation ; la représente schématiquement l’interaction du rayonnement laser avec un échantillon dans une cavité optique d’un système selon l’invention ; la montre des exemples de mesures de signaux chiroptiques avec un système selon l’invention ; et la présente des résultats de mesures réalisées avec un système selon l’invention.
Il est bien entendu que les modes de réalisation qui seront décrits dans la suite ne sont nullement limitatifs. On pourra notamment imaginer des variantes de l’invention ne comprenant qu’une sélection de caractéristiques décrites par la suite isolées des autres caractéristiques décrites, si cette sélection de caractéristiques est suffisante pour conférer un avantage technique ou pour différencier l’invention par rapport à l’état de la technique antérieur. Cette sélection comprend au moins une caractéristique de préférence fonctionnelle sans détail structurel, ou avec seulement une partie des détails structurels si cette partie uniquement est suffisante pour conférer un avantage technique ou pour différencier l’invention par rapport à l’état de la technique antérieur.
La est une représentation schématique d’un exemple de réalisation non limitatif d’un système de mesure selon l’invention.
Le système 1, représenté sur la , comprend une source laser pulsée 10.
Selon un exemple, cette source laser 10 est une source laser fibré doublé en fréquence (par exemple, 515 nm) au moyen de cristaux non-linéaires. Les impulsions émises sont des impulsions femto-secondes, par exemple de l’ordre de 350 fs à une cadence de 100 kHz. L’énergie par impulsion est de l’ordre de 20 µJ pour une puissance moyenne de 2W. Avec une telle source laser, l’ionisation de molécules est une ionisation multi-photonique résonante.
Il existe différents types de sources laser femto-secondes utilisables dans le cadre de l’invention, qui sont bien connues de l’homme du métier et ne seront pas détaillées ici.
Virus de Klebsiella JD18
Virus de Klebsiella PKO111
Karamvirus
Virus d’Enterobacter PG7
Virus d’Escherichia CC31
Krischvirus
Virus d’Escherichia ECD7
Virus d’Escherichia GEC3S
Virus d’Escherichia JSE
Virus d’Escherichia phi1
Virus d’Escherichia RB49
Moonvirus
Virus de Citrobacter CF1
Virus de Citrobacter Merlin
Virus de Citrobacter Moon
Mosigvirus
Le but de la présente invention est par conséquent de pallier les inconvénients de l’art antérieur et notamment de fournir un procédé de recyclage de déchets de béton issus de la construction et/ou de la déconstruction permettant d’accéder à des granulats récyclés présentant une meilleure qualité, notamment en termes d’absorption d’eau et/ou de propriétés mécaniques, qui soit simple, industrialisable, utilisant des matières premières abondantes, et qui soit bénéfique sur le plan environnemental.
L’invention a pour premier objet un procédé de recyclage d’un béton issu de la construction et/ou de la démolition, caractérisé en ce qu’il comprend au moins les étapes suivantes : i) une ou plusieurs étape(s) de traitement par micro-ondes de blocs de béton de construction et/ou de démolition ayant une taille centimétrique, pour former des blocs de béton micro-fracturés, ii) une ou plusieurs étape(s) de traitement mécanique permettant d’extraire à partir desdits blocs de béton micro-fracturés, des granulats recyclés comprenant des granulats naturels nus et des granulats naturels associés à une matrice cimentaire résiduelle adhérente ; et des fines recyclées, iii) une ou plusieurs étape(s) de carbonatation des granulats recyclés, en présence de dioxyde de carbone, pour former des granulats recyclés carbonatés (dénommés ci-après Granulats Naturels de Béton Recyclé ou GNBR), et iv) optionnellement une étape de carbonatation des fines recyclées, pour former des fines recyclées carbonatées.
Le procédé de l’invention est simple, facile à mettre en œuvre, et conduit à des granulats recyclés carbonatés ou Granulats Naturels de Béton Recyclé (GNBR) et optionnellement des fines recyclées carbonatées, les granulats recyclés carbonatés ou GNBR présentant une meilleure qualité, notamment en termes d’absorption d’eau et/ou de propriétés mécaniques. Par ailleurs, le procédé est industrialisable, utilise des matières premières abondantes (déchets de béton de construction ou de démolition) et réduit l’impact environnemental puisqu’il permet de recycler le béton de construction non utilisé ou le béton de démolition, tout en garantissant l’utilisation ou la valorisation du CO 2 . Le procédé de l’invention est un procédé de recyclage intégral en ce qu’il permet de recycler tout le béton initial, i.e. les granulats naturels ainsi qu’au moins une partie de la matrice cimentaire qui les entoure.
Le procédé est un procédé de recyclage d’un béton issu de la construction et/ou de la démolition, notamment dans la filière du bâtiment et des travaux publics. En d’autres termes, le béton peut être un déchet de béton de construction de bâtiments et/ou de structures de chaussées, un rebus de production de béton, un béton de démolition de bâtiments ou de structures de chaussées, ou un de leurs mélanges.
Les blocs de béton de construction et/ou de démolition centimétriques mis en œuvre dans l’étape i) comprennent des granulats naturels nus (i.e. des granulats naturels non associés à une matrice cimentaire résiduelle adhérente ou exempts de matrice cimentaire résiduelle adhérente ) tels que des gravillons ou du sable (i.e. des gravillons, du sable « nus » ou non associés à une, ou exempts de, matrice cimentaire résiduelle adhérente ), ainsi que des granulats naturels tels que des gravillons, du sable, associés à une matrice cimentaire résiduelle adhérente .
Dans l’invention, la matrice cimentaire résiduelle adhérente comprend du ciment, du sable, de l’eau, et éventuellement un ou plusieurs additifs.
L’étape i) permet de la formation d’un réseau primaire de fractures au sein des blocs de béton, et plus particulièrement autour des granulats (libération texturale des granulats) ; puis la formation d’un réseau secondaire de fractures dans la matrice cimentaire (libération physique des agrégats et fracturation dense de la matrice cimentaire). Cela conduit à une fracturation sélective permettant de séparer les granulats naturels de la majeure partie de la matrice cimentaire, voire la totalité de la matrice cimentaire, sans endommager les granulats naturels.
En d’autres termes, la fracturation secondaire produit un réseau (secondaire) dense de microfractures qui innerve la matrice cimentaire, qu’elle adhère ou non à la surface des granulats naturels ; elle permet la libération de la matrice cimentaire dans une fraction granulométrique fine, ce qui favorise l’étape d’extraction ii) suivante, ainsi que l’étape iii) de carbonatation de la matrice cimentaire qui est associée à certains granulats naturels et adhère à la surface de ceux-ci.
La formation des réseaux de fractures primaires et secondaires mentionnés ci-dessus permet ainsi de favoriser l’étape suivante ii) de libération sélective des granulats naturels contenus dans le béton de construction et/ou de démolition.
En d’autres termes, plus le nombre de microfractures par unité de volume dans la matrice cimentaire est important, plus les granulats naturels de béton recyclé obtenus sont propres (i.e. sans matrice cimentaire), et plus le procédé est performant, et notamment les étapes ii) et iii) suivantes.
À la différence d’un concasseur qui fracture le béton de manière aléatoire (comme explicité ci-après dans la ), le traitement micro-ondes permet de fragiliser sélectivement la phase cimentaire, sans altérer la structure des granulats naturels. L’intégrité des granulats naturels est par conséquent préservée.
Le traitement micro-ondes de l’étape i) peut être effectué à une puissance incidente suffisante pour induire la fracturation des blocs de béton.
De préférence, le traitement micro-ondes de l’étape i) est effectué à une puissance allant de 5 kW à 50 kW, et de façon particulièrement préférée de 15kW à 35 kW.
Ces puissances sont particulièrement appropriées pour traiter 1 t/h de blocs de béton.
De préférence, la durée du traitement micro-ondes de l’étape i) (durée d’exposition) va de 30 s à 10 min environ, et de façon particulièrement préférée de 1 min à 5 min environ.
diverticulite
fibromyalgie
hépatite
syndrome du côlon irritable (SCI)
lupus érythémateux disséminé (LED)
néphrite
maladie de Parkinson
rectocolite hémorragique
L’apport amélioré possible en utilisant des cellules bactériennes supports de bactéries, bactériophages et phagémides tels que divulgué(e)s ici a également une large gamme d'applications non médicales, telles que le traitement de bactéries associées à une corrosion microbienne ou à un encrassement biologique d'un substrat ou fluide dans un système industriel ou domestique.
Tout aspect de la présente invention est destiné à une utilisation industrielle ou domestique, ou est utilisé dans un procédé pour une telle utilisation. Par exemple, elle est destiné à ou utilisé dans l'agriculture, l'industrie pétrolière ou des hydrocarbures, l'industrie alimentaire ou des boissons, l'industrie du vêtement, l'industrie de l'emballage, l'industrie électronique, l'industrie informatique, l'industrie environnementale, l'industrie chimique, l'industrie aérospatiale, l'industrie automobile, l'industrie biotechnologique, l'industrie médicale, l’industrie de la santé, l’industrie dentaire, l’industrie de l'énergie, l’industrie des produits de consommation, l’industrie pharmaceutique, l’industrie minière, l’industrie du nettoyage, l’industrie forestière, l’industrie de la pêche, l’industrie des loisirs, l’industrie du recyclage, l’industrie cosmétique, l’industrie des plastiques, l’industrie de la pâte à papier ou du papier, l’industrie textile, l'industrie de l’habillement, l'industrie du cuir ou daim ou des peaux animales, l'industrie du tabac ou l'industrie de l’acier.
Ces différentes applications impliquent que la cellule bactérienne support comprenant des plasmides et ou un bactériophage conjugatif(s) utilisé(s) soi(en)t capable d’apporter la MTase aux bactéries associées à l’encrassement biologique ou à la corrosion microbienne dans ces industries.
En effet, on verra que l'invention trouve une application dans tout procédé qui génère un effet par la modification ciblée spécifique (par ex. la destruction) d'une cellule bactérienne cible dans le contexte d'une autre, de sorte que la population relative de la bactérie ciblée et d'une autre la bactérie est altérée. Ceci peut avoir des applications médicales et non médicales.
Toutes ces applications bénéficient toutes également de la combinaison de l'utilisation des MTases telles que divulguées ici en combinaison avec des composants du système CRISPR comme décrit ci-dessus, pour modifier l'ADN des bactéries cibles, entraînant par exemple la destruction de cellules cibles.
On comprendra que les modes de réalisation particuliers décrits ici sont présentés à titre d'illustration et non en tant que limitations de l'invention.
Les caractéristiques principales de cette invention peuvent être utilisées dans divers modes de réalisation sans s'écarter de la portée de l'invention. Les personnes du métier reconnaîtront, ou seront capable de déterminer en n'utilisant rien de plus qu'une étude de routine, de nombreux équivalents aux procédures spécifiques décrites ici. De tels équivalents sont considérés comme étant compris dans la portée de cette invention et sont couverts par les revendications.
En relation avec la , le format Posit est construit de la façon suivante : 1) un bit de signe s, 0 pour un signe positif, 1 pour un signe négatif ; 2) un champ de bits de régime (RB), qui est une chaine binaire ( à en ) remplie avec des bits de la même valeur. La longueur du RB est indiquée par un compte Leading Zero One Count (LZOC). Les bits de régime indiquent un facteur d'échelle useedk (voir l'équation 4 ci-après). Pour calculer la valeur d'un nombre posit à partir du codage, useedk est par exemple indiqué par la longueur LZOC. Par exemple, k = -LZOC si les bits de régime sont 0 (exposant positif) ou k = LZOC - 1 si les bits de régime sont 1 (exposant négatif). Si les bits RB sont tous 0, ils expriment que l'exposant du nombre FP a un signe négatif ; d'autre part, tous les 1 sont représentatifs d'un signe d'exposant positif. 3) Les RB sont suivis d'1 bit r' du signe opposé. Ce dernier, également appelé bit de fin (TB), est utilisé pour marquer la fin du champ RB. 4) Immédiatement après le bit de fin, il y a un certain nombre de taille d'exposant (ES) de bits (deux dans l'exemple de la ) et qui codent l'exposant e. Ce champ est exprimé sous forme d'un entier non signé, donnant une contribution supplémentaire à l'exposant final de 2e (voir l'équation 3 ci-après). 5) Tout autre bit restant du codage est réservé pour la partie de fraction à .
Si le nombre est négatif, tout le codage est représenté en complément à deux.
Étant donnée la valeur du codage Posit sous forme d'entier signé et le nombre de bits du format Posit, l'équation 3 ci-dessous donne la valeur décimale représentée par le format Posit, l'équation 4 ci-dessous donne la valeur useed, et l'équation 5 ci-dessous donne , qui est la longueur de ligne des bits de régime : [Math 4] [Math 5] [Math 6] Le tableau 2 suivant indique des codages particuliers Posit : [Table 2] Tableau 2 : codages particuliers Posit
Dans Posit, en fonction de la valeur de l'exposant à coder dans celui-ci, le champ RB peut recouvrir tout le codage, incluant même le champ TB. De cette façon, il peut y avoir des nombres Posit qui ne contiennent aucun bit pour la partie de fraction.
Au contraire des autres formats, Posit ne distingue pas entre ±∞ et NaN. Ils sont tous considérés comme non un réel (NaR) (voir tableau 2).
La est un graphe représentant une longueur de bits d'exposant (EXP. BIT-LENGTH) en fonction de la valeur de l'exposant (EXP. VALUE) pour cinq différents formats FP POSIT, ES, UNUM, IEEE-Like et IEEE-754 float (FLOAT) et double (DOUBLE), en fonction d'une retenue "exposant minimal" MIN EXP. Les formats IEEE-754 float et double sont représentés par des lignes horizontales au niveau des valeurs 8 et 11, respectivement. La courbe "exposant minimal" indique le nombre minimal de bits pour représenter, dans une représentation de complément à deux, un nombre donné (une valeur d'exposant dans ce cas).
La démontre que traiter une précision variable ne signifie pas représenter exactement une valeur donnée avec le nombre minimal de bits d'exposant. Par contre, il est souhaitable de pouvoir couvrir la plus grande plage d'exposants avec la retenue d'exposant minimal. A titre d'exemple, Posit est relativement bon pour coder des petites valeurs, mais tend à exploser en termes de longueur de bits d'exposant très facilement lorsque la valeur d'exposant augmente. Cela peut conduire à un état dans lequel Posit n'est pas le meilleur format VP pour tous les types d'application, en particulier pour celles à valeurs d'exposant élevées. D'autre part, le format IEEE-Like tend, par exemple, à se comporter de façon exactement opposée : son empreinte d'exposant n'augmente pas lorsque l'exposant augmente, mais, aux environs de la valeur zéro, il a une retenue supplémentaire par rapport aux formats à précision dynamique.
Ainsi, chacun des formats présente certains avantages et désavantages. Le choix du format à virgule flottante (FP) à précision variable (VP) peut dépendre de l'application particulière. La démontre qu'aucun format de codage d'exposant n'est une amélioration absolue par rapport à tous les autres et un quelconque des formats peut être plus approprié que les autres pour un type donné d'application.
Trois nouveaux formats, un format Custom Posit (PCUST), un format Not Contiguous Posit (NCP) et un format Modified Posit (MP) sont décrits plus en détails ci-après.
Le format Custom Posit est conçu pour optimiser la mise en œuvre logicielle du format Posit, tout en préservant ses caractéristiques. De plus, le Custom Posit est compatible avec les formats FP VP existants en termes de représentation de valeurs particulières (prise en charge de ±∞ et de NaN).
Le format Not Contiguous Posit combine les formats Posit et IEEE-Like en une seule représentation, conduisant à un codage d'exposant relativement compact pour la représentation de valeurs proches de zéro, tout en limitant la longueur d'exposant à une valeur maximale pour des nombres à exposant élevé et limitant ainsi la précision.
Enfin, le format Modified Posit essaie d'exploiter certaines caractéristiques de Posit, mais tend à limiter l'expansion du champ d'exposant selon une croissance logarithmique. Cela conduit à une représentation plus précise que Posit.
Format Custom Posit (PCUST) Le format Posit a trois points faibles différents principaux : • Le complément à deux du codage Posit est seulement une façon d'éviter de représenter la valeur "zéro négatif". Retirer cette condition dans le format Custom Posit conduit à une mise en œuvre matérielle plus compacte. • Le champ de bits de régime (RB) qui peut occuper tout le codage de format est un inconvénient est un inconvénient en termes de précision du format. Des nombres à grand exposant peuvent avoir seulement 1, 2 ou même 0 bit de précision, conduisant à un nombre qui est peu utile d'un point de vue algorithmique, en raison d'un résultat à erreur élevée. • Le format Posit ne fait pas la distinction entre l'infini et NaN, ce qui peut être une limitation par rapport à la norme actuelle, IEEE 754.
Par conséquent, un nouveau format appelé Custom Posit, ou PCUST, est proposé afin de pallier ces trois limitations.
Définition 1 : le format Custom Posit a les mêmes règles que le format Posit (signe, exposant et interprétation de mantisse), mais aucun complément à deux n'apparaît pendant la conversion de nombre négatif.
Étant donnée la valeur du codage Custom Posit sous forme d'un entier signé et le nombre de bits du format Custom Posit, l'équation suivante 6 donne la valeur représentée par le format Custom Posit : [Math 7]
Selon un mode de réalisation, les moyens de commande sont constitués par au moins l’un parmi un microcontrôleur, un processeur, un microprocesseur, un processeur de signaux numériques (DSP), une matrice prédiffusée programmable (FPGA), un composant à application spécifique (ASIC), un ordinateur, comprenant un logiciel configuré pour piloter le robot, l’outil d’impression et les moyens de maintien de distance.