INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
R 1 peut être un groupe aliphatique contenant 1 à 25 atomes de carbone ou un groupe aromatique contenant 6 à 25 atomes de carbone. De préférence, R 1 est un groupe aliphatique saturé. Lorsque R 1 est un groupe aliphatique saturé, il peut être linéaire, cyclique ou ramifié. Selon une première variante, R 1 est un groupe alcanediyle de formule -C y H 2y - , y étant un nombre entier allant de 1 à 6, préférentiellement de 1 à 3. Selon une deuxième variante, R 1 est un groupe alcanediyle interrompu par un ou plusieurs atomes d’oxygène de formule -(C x H 2x -O) p -C x H 2x -, x étant un nombre entier allant de 1 à 6, préférentiellement de 1 à 3, p étant un nombre entier supérieur ou égal à 1, préférentiellement égal à 1 ou à 2.
R 2 peut être un groupe aliphatique contenant 1 à 25 atomes de carbone ou un groupe aromatique contenant 6 à 25 atomes de carbone. De préférence, R 2 est choisi parmi les groupes alkyles linéaires, ramifiés ou cycliques, les groupes aralkyles, les groupes alkylaryles et les groupes aryles.
Dans la formule (I), n est préférentiellement égal à 2. Dans la formule (II), m est préférentiellement égal à 2 et n’ est égal à 1. Selon une première variante, m est égal à 2 et R 1 est un groupe alcanediyle de formule -C y H 2y - , y étant un nombre entier allant de 1 à 6, préférentiellement de 1 à 3. Selon une deuxième variante, m est égal à 2 et R 1 est un groupe alcanediyle interrompu par un ou plusieurs atomes d’oxygène de formule -(C x H 2x -O) p -C x H 2x -, x étant un nombre entier allant de 1 à 6, préférentiellement de 1 à 3, p étant un nombre entier supérieur ou égal à 1, préférentiellement égal à 1 ou à 2, plus préférentiellement égal à 1.
A titre de composés de formule (I), conviennent tout particulièrement les composés pour lesquels n est égal à 2 et R 2 est méthyle ou phényle, plus particulièrement le composé N,N'-[2,5-furandiyldimethylidyne]bis(N-phénylamine oxide) de formule (III).
A titre de composé de formule (II), conviennent tout particulièrement les composés pour lesquels m est égal à 2, n’ est égal à 1, R 2 est méthyle ou phényle et R 1 est un groupe alcanediyle de formule -C y H 2y - , y étant un nombre entier allant de 1 à 3, ou un groupe de formule -(C x H 2x -O) p -C x H 2x -, x étant un nombre entier allant de 1 à 3, p étant égal à 1, plus particulièrement le composé N,N′-[oxybis(méthylene-5,2-furandiylméthylidyne)]bis (N-phénylamine oxide)] de formule (IV).
Selon l’un quelconque des modes de réalisation de l’invention, la polynitrone est avantageusement de formule (III).
Les polynitrones peuvent être synthétisées selon les méthodes de synthèse bien connues pour synthétiser les nitrones qui résultent de l’addition d’un réactif qui est une hydroxylamine sur un substrat qui est un aldéhyde. Dans le cas de la synthèse d’une polynitrone utile aux besoins de l’invention, le réactif est l’hydroxylamine substituée par le groupe R 2 et le substrat est un composé qui contient au moins deux fonctions aldéhydes liées de façon covalente avec un atome de carbone d’un cycle aromatique furane.
Le composé polynitrone de formule (I) ou (II) est utile aux besoins de l’invention à titre d’agent de réticulation et compose le système de réticulation de la composition de caoutchouc. Selon l’invention, la composition de caoutchouc comprend un agent de réticulation qui est un composé de formule (I) ou un mélange de composés de formule (I), un composé de formule (II) ou un mélange de composés de formule (II) ou bien le mélange d’au moins un composé de formule (I) et d’au moins un composé de formule (II). Le taux molaire de composé de formule (I) ou (II) dans la composition de caoutchouc, qu’il s’agisse d’un seul composé polynitrone utile aux besoins de l’invention ou d’un mélange de polynitrones, est ajusté par l’homme du métier selon le niveau de rigidité requis par l’application envisagée de la composition de caoutchouc. Il est préférentiellement de 0.01% à 10%, plus préférentiellement de 0.05 à 2% en mole de motif constitutif de l’élastomère diénique.
La composition de caoutchouc peut comprendre en outre dans son système de réticulation du soufre, sous la forme de soufre moléculaire ou d’un donneur de soufre, un accélérateur de vulcanisation et un activateur de vulcanisation. Le soufre moléculaire (S 8 ), les donneurs de soufre, les accélérateurs de vulcanisation et les activateurs de vulcanisation sont des composés bien connus de l’homme du métier des compositions de caoutchouc diénique comme le décrit le document « Compounding and Vulcanization » de R. Rajesh Babu et al ., publié dans « Advances in Elastomer I, Advanced Structured Materials 11, Ed Springer-Verlag Berlin Heidelberg, 2013, pages 83-135. Ils constituent les systèmes de vulcanisation traditionnellement utilisés dans les compositions de caoutchouc diénique par exemple pour pneumatique.
L’utilisation d’une polynitrone de formule (I) ou (II) dans une composition de caoutchouc diénique renforcée d’une charge a l’avantage de pouvoir diminuer la part d’un système de vulcanisation dans le système de réticulation de la composition de caoutchouc conforme à l’invention et même de s’affranchir de l’utilisation d’un système de vulcanisation dans la composition de caoutchouc conforme à l’invention. Comme un système de vulcanisation contient généralement au moins trois ingrédients que sont le soufre ou le donneur de soufre, l’accélérateur de vulcanisation et l’activateur de vulcanisation, l’utilisation de la polynitrone dans la composition de caoutchouc permet de simplifier ainsi la formulation d’une composition de caoutchouc par le simple remplacement du système de vulcanisation par un seul composé, la polynitrone. Selon l’un quelconque des modes de réalisation de l’invention, la composition de caoutchouc conforme à l’invention contient préférentiellement moins de 1 pce de soufre, qu’il provienne d’une source moléculaire (S8) ou d’un donneur de soufre. Avantageusement, selon l’un quelconque des modes de réalisation de l’invention, elle est dépourvue de soufre, qu’il provienne d’une source moléculaire (S8) ou d’un donneur de soufre.
La composition de caoutchouc conforme à l'invention peut comporter également tout ou partie des additifs usuels habituellement utilisés dans les compositions d'élastomères destinées à constituer des articles finis en caoutchouc tels que des pneumatiques, comme par exemple des plastifiants ou des huiles d'extension, des pigments, des agents de protection tels que cires anti-ozone, anti-ozonants chimiques, anti-oxydants, des agents anti-fatigue.
La composition de caoutchouc conforme à l’invention est fabriquée dans des mélangeurs appropriés, en utilisant deux phases de préparation successives bien connues de l'homme du métier : une première phase de travail ou malaxage thermomécanique (phase dite « non-productive ») à haute température, jusqu'à une température maximale comprise entre 130°C et 200°C, suivie d'une seconde phase de travail mécanique (phase dite « productive ») jusqu'à une plus basse température, typiquement inférieure à 110°C, par exemple entre 40°C et 100°C, phase de finition au cours de laquelle est incorporé le système de réticulation.
La composition de caoutchouc peut être calandrée ou extrudée sous la forme d'une feuille ou d'une plaque, notamment pour une caractérisation au laboratoire, ou encore sous la forme d'un semi-fini (ou profilé) de caoutchouc utilisable dans un pneumatique. La composition peut être soit à l’état cru (avant réticulation), soit à l’état cuit (après réticulation) et peut constituer tout ou partie d’un article semi-fini, en particulier destiné à être utilisé dans un bandage pneumatique ou non pneumatique. La réticulation est conduite à une température généralement comprise entre 100 et 200°C préférentiellement entre 120°C et 180°C, pendant un temps suffisant qui peut varier par exemple entre 5 et 90 minutes en fonction notamment de la température de cuisson de la composition considérée.
En résumé, l’invention est mise en œuvre avantageusement selon l’un quelconque des modes de réalisation suivants 1 à 20 :
Ce pilotage par seuils Th permet de définir des zones, entre deux seuils Th dans lesquelles la loi de commande SCf de la vitesse de l’aéronef suiveur Af demeure sensiblement inchangée. De plus, tel que cela sera développé ci-après, la loi de commande SCf diffère en fonction de la zone dans laquelle se situe l’aéronef suiveur Af par rapport à la position longitudinale ciblée Xt de l’aéronef suiveur par rapport à l’aéronef meneur Al. En d’autres termes, les seuils Th permettent d’éviter des accélérations et décélérations incessantes pour recaler l’aéronef suiveur Af sur sa position longitudinale ciblée Xt. Ainsi, l’utilisation de seuils contribue à un pilotage fluide de la loi de commande de la vitesse de l’aéronef suiveur Af, ce qui améliore le confort des passagers de l’aéronef suiveur. En d’autres termes, l’utilisation de seuils contribue à un pilotage moins dynamique de la loi de commande de l’aéronef suiveur Af, par rapport aux systèmes et procédés de l’art antérieur.
En référence à la , schématiquement, les seuils Th définissent des zones Z de différence D Xt-Xr entre la position longitudinale réelle Xr de l’aéronef suiveur Af et la position longitudinale ciblée Xt de l’aéronef suiveur Af.
Selon le mode de réalisation ici présenté, le procédé de gestion utilise six seuils prédéfinis Th, identifiés de Th1 à Th6. Bien entendu il est possible d’utiliser une quantité différente de seuils Th.
Les seuils Th sont répartis en considérant la position longitudinale ciblée Xt de l’aéronef suiveur Af comme origine. Chaque seuil Th correspond à une distance par rapport à la position longitudinale ciblée Xt de l’aéronef suiveur Af. Le positionnement des seuils Th se fait selon un axe orienté allant de la position longitudinale ciblée Xt de l’aéronef suiveur Af vers la position de l’aéronef meneur Al. Ainsi, selon le mode de réalisation ici présenté, lorsque la position longitudinale réelle Xr de l’aéronef suiveur Af est comprise entre la position longitudinale ciblée Xt de l’aéronef suiveur Af par rapport à l’aéronef meneur Al et la position de l’aéronef meneur Al, alors la différence D Xt-Xr entre la position longitudinale ciblée Xt de l’aéronef suiveur Af et la position longitudinale réelle Xr de l’aéronef suiveur Af est exprimée positivement. Inversement, lorsque la distance entre la position longitudinale réelle Xr de l’aéronef suiveur Af et la position de l’aéronef meneur Al est supérieure à la différence D Xt-Xr entre la position longitudinale ciblée Xt de l’aéronef suiveur Af et la position longitudinale réelle Xr de l’aéronef suiveur Af par rapport à l’aéronef meneur Al, alors la différence D Xt-Xr entre la position longitudinale ciblée Xt de l’aéronef suiveur Af et la position longitudinale réelle Xr de l’aéronef suiveur Af est exprimée négativement.
Ainsi, selon le mode de réalisation ici présenté, le premier seuil Th1, le troisième seuil Th3 et le quatrième seuil Th4 correspondent à des positionnements auxquels l’aéronef suiveur Af est en retard par rapport à la position longitudinale ciblée Xt. Les valeurs de ces seuils Th sont donc exprimées négativement par rapport au point d’origine constitué de la position longitudinale ciblée Xt de l’aéronef suiveur Af. Une autre manière équivalente d’exprimer la position longitudinale de ces seuils Th est d’indiquer que la distance entre le premier seuil Th1, le troisième seuil Th3 et le quatrième seuil Th4, avec la position longitudinale de l’aéronef meneur Al est supérieure à la distance entre la position longitudinale ciblée Xt de l’aéronef suiveur Af par rapport à l’aéronef meneur Alet la position de l’aéronef meneur Al. Selon le mode de réalisation ici présenté, la distance entre le premier seuil Th1 et la position longitudinale ciblée Xt par rapport à l’aéronef meneur Alest plus importante que la distance entre le quatrième seuil Th4 et la position longitudinale ciblée. De plus, la distance entre le troisième seuil Th3 et la position longitudinale ciblée Xt par rapport à l’aéronef meneur Al est plus importante que la distance entre le premier seuil Th1 et la position longitudinale ciblée Xt. Ainsi par ordre du plus proche de la position longitudinale ciblée Xt au plus éloigné, ces seuils peuvent être classés comme suit : quatrième seuil Th4, puis premier seuil Th1, puis troisième seuil Th3.
De même, selon le mode de réalisation ici présenté, le deuxième seuil Th2, le sixième seuil Th6 et le cinquième seuil Th5 correspondent à des positionnements auxquels l’aéronef suiveur Af est en avance par rapport à la position longitudinale ciblée Xt. Les valeurs de ces seuils Th sont donc exprimées positivement par rapport au point d’origine constitué de la position longitudinale ciblée Xt de l’aéronef suiveur Af. Selon le mode de réalisation ici présenté, la distance entre le deuxième seuil Th2 et la position longitudinale ciblée Xt est plus importante que la distance entre le cinquième seuil Th5 et la position longitudinale ciblée. De plus, la distance entre le sixième seuil Th6 et la position longitudinale ciblée Xt est plus importante que la distance entre le deuxième seuil Th2 et la position longitudinale ciblée Xt. Ainsi par ordre du plus proche de la position longitudinale ciblée Xt au plus éloigné, ces seuils peuvent être classés comme suit : cinquième seuil Th5, puis premier seuil Th2, puis sixième seuil Th6.
Ainsi, selon le mode de réalisation proposé : [Maths. 1] Th3<Th1<Th4 avec Th1, Th3 et Th4 négatifs. De plus selon le mode de réalisation proposé : [Maths. 2] Th5<Th2<Th6 avec Th5, Th2 et Th6 positifs.
Une autre manière équivalente d’exprimer la position de ces seuils Th est d’indiquer que la distance entre le deuxième seuil Th2, le sixième seuil Th6 et le cinquième seuil Th5, avec la position longitudinale de l’aéronef meneur Al est inférieure à la distance entre la position longitudinale ciblée Xt de l’aéronef suiveur Af et la position de l’aéronef meneur Al.
Comme indiqué précédemment, les seuils Th permettent de découper, de créer des zones Z, de sectoriser, les différences entre la position longitudinale réelle Xr de l’aéronef suiveur Af et la position longitudinale ciblée Xt de l’aéronef suiveur Af.
Ainsi, tel que schématisé sur la , la position longitudinale ciblée Xt de l’aéronef suiveur Af est prédéterminée par rapport à la position Xl de l’aéronef meneur Al.
Une première zone Z1 est définie autour de la position longitudinale ciblée Xt de l’aéronef suiveur Af. Cette première zone Z1 est bornée par le premier seuil Th1 prédéfini et le deuxième seuil prédéfini Th2. En d’autres termes, cette première zone Z1 correspond à un intervalle de valeurs de différences D comprises entre le premier seuil Th1 prédéfini et le deuxième seuil prédéfini Th2.
Une deuxième zone Z2 est bornée par le premier seuil Th1 prédéfini et le troisième seuil Th3 prédéfini. En d’autres termes, cette deuxième zone Z2 correspond à un intervalle de valeurs négatives de différences D comprises entre le premier seuil Th1 prédéfini et le troisième seuil Th3 prédéfini. Tel que cela est schématisé sur la , la deuxième zone Z2 correspond à une zone de retard de la position longitudinale réelle Xr de l’aéronef suiveur Af par rapport à la position longitudinale ciblée Xt.
Une troisième zone Z3 est bornée par le troisième seuil Th3 prédéfini et s’étend potentiellement jusqu’à moins l’infini. En d’autres termes, cette troisième zone Z3 correspond aux valeurs négatives de différences D inférieures au troisième seuil Th3 prédéfini. Tel que cela est schématisé sur la la troisième zone Z3 correspond à une zone de retard de la position longitudinale réelle Xr de l’aéronef suiveur Af par rapport à la position longitudinale ciblée Xt de l’aéronef suiveur Af. Selon l’exemple schématisé sur la , la position longitudinale réelle Xr de l’aéronef suiveur Af est dans la troisième zone Z3.
Une quatrième zone Z4 est bornée par le deuxième seuil Th2 prédéfini et le sixième seuil Th6 prédéfini. En d’autres termes, cette deuxième zone Z2 correspond à un intervalle de valeurs positives de différences D comprises entre le deuxième seuil Th2 prédéfini et le sixième seuil Th6 prédéfini. Tel que cela est schématisé sur la , la quatrième zone Z4 correspond à une zone d’avance de la position longitudinale réelle Xr de l’aéronef suiveur Af par rapport à la position longitudinale ciblée Xt.
Une cinquième zone Z5 est bornée par le sixième seuil Th6 prédéfini et s’étend potentiellement jusqu’à la position de l’aéronef meneur Al (à une marge de sécurité près). En d’autres termes, cette cinquième zone Z5 correspond aux valeurs positives de différences D Xt-Xr supérieures au sixième seuil prédéfini. Tel que cela est schématisé sur la , la cinquième zone Z5 correspond à une zone d’avance de la position longitudinale réelle Xr de l’aéronef suiveur Af par rapport à la position longitudinale ciblée Xt de l’aéronef suiveur Af.
Une sixième zone Z6 est définie autour de la position longitudinale ciblée Xt de l’aéronef suiveur Af. Cette sixième zone Z6 est bornée par le quatrième seuil Th4 prédéfini et un cinquième seuil Th5 prédéfini. En d’autres termes, cette sixième zone Z6 correspond à un intervalle de valeurs de différences D comprises entre le quatrième seuil Th4 prédéfini et le cinquième seuil prédéfini Th5. La sixième zone Z6 est comprise dans la première zone Z1.
La première étape 110 consiste à acquérir des données spectrales au moyen d’un dispositif d’acquisition approprié selon l’application visée. Si l’application concerne une analyse qualitative ou quantitative d’échantillons, par exemple d’un matériau, les données sont des données spectrales et sont par exemple acquises au moyen d’un dispositif de spectrométrie, par exemple de spectroscopie d’émission atomique de plasma induit par laser, ou un dispositif basé sur une technique de spectrométrie de masse couplée à une ablation laser ou à un faisceau d’ions ou à un faisceau de rayons X ou encore une technique de spectrométrie induite par un rayonnement synchrotron ou par un faisceau de particules chargées ou encore une spectrométrie de type Raman ou de type IR. Si l’application concerne une méthode de cartographie d’une zone géographique, les données multi- ou hyperspectrales sont par exemple acquises au moyen d’un capteur d’imagerie multi- ou hyperspectrale embarqué dans une charge utile de satellite. L’invention s’applique plus généralement pour tout autre dispositif d’acquisition de données multi- ou hyperspectrales permettant de générer, pour un échantillon donné, un spectre dans une plage de longueurs d’onde donnée.
La première étape 110 peut consister en la mesure d’un seul spectre par échantillon ou de plusieurs spectres par échantillon.
Dans une étape optionnelle 121, les données spectrales mesurées sont pré-traitées afin d’estimer et de corriger un éventuel offset lié à l’acquisition, de normaliser les différents spectres mesurés afin qu’ils soient homogènes entre eux et de supprimer les zones aveugles si elles existent. Autrement dit, chaque spectre mesuré peut être normalisé de différentes manières, par exemple par une raie ou une bande de longueurs d’onde d’émission/absorption connue, soit par l’intensité maximale, soit par d’autres méthodes. Si on utilise plusieurs spectres supposés représentatifs de la mesure, on peut aussi se focaliser sur un canal de longueur d’onde spécifique, considérer l’intensité moyenne et écarter les spectres qui contiennent des valeurs aberrantes pour ce canal de l’ensemble des données. Ce prétraitement permet d’utiliser seulement les spectres les plus représentatifs de l’échantillon, sans modéliser forcément des défauts en même temps.
Si plusieurs mesures de spectres sont réalisées pour un même échantillon, les spectres sont moyennés à l’étape 122. Autrement dit, on peut utiliser plusieurs spectres représentant le même échantillon pour modéliser la distribution (par exemple, suite à plusieurs tirs laser sur le même échantillon dans le cadre de la technique LIBS). Les spectres utilisés pour la génération des données synthétiques sont moyennés pour obtenir une représentation plus précise de l’échantillon analysé. Dit autrement, au lieu d’utiliser un seul spectre comme représentatif d’un échantillon, on peut répliquer la mesure spectroscopique plusieurs fois et utiliser le spectre moyen obtenu d’un échantillon pour la synthèse. Cette approche permet d’avoir une représentation plus précise de l’échantillon, en prenant en compte des différences possibles en moyenne sur la surface. Toutefois, il faut noter que cette réalisation de l’invention est plus spécifiquement applicable à des données spectrales sans une notion d’image, c’est-à-dire pour des données pour lesquelles la mesure spectroscopique peut être répétée sans changements dans la signification physique des données (chaque spectre doit être représentatif de la même distribution). L’application de cette réalisation à des cartographies multi- ou hyperspectrales sous-entend la présence de plusieurs réalisations de la même image pour pouvoir moyenner la contribution d’un seul pixel. Cette application n’est pas possible avec la technique LIBS puisque la nature destructive de l’interaction du laser avec la surface ne permet pas de reproduire la mesure au même endroit. En revanche, l’acquisition d’images multi- ou hyperspectrales par une méthode de cartographie orbitale par exemple, permet de répliquer plusieurs fois la même image.
Dans tous les cas, on obtient une mesure expérimentale d’un spectre.
Ensuite, on détermine un modèle (étape 130) de la distribution des valeurs d’intensité des raies du spectre à partir de la mesure expérimentale.
Dans le cas de données spectrales obtenues par une méthode d’acquisition LIBS, la source principale de bruit aux faibles intensités et du signal aux fortes intensités est constituée par les photons ayant impacté le détecteur. On peut donc estimer la distribution réelle des données spectrales en utilisant une distribution qui modélise le comptage des photons.
Le modèle de distribution utilisé est donc basé sur une distribution de probabilité de Poisson exprimé par la formule , où est la variable de la distribution qui est ici l’intensité des raies du spectre et est le paramètre de la loi de Poisson.
Si on note le paramètre de la distribution de Poisson pour le canal de longueur d’onde , ce paramètre correspond également à la moyenne attendue de la distribution pour le canal . En conséquence, dans le cadre de l’invention, pour chaque canal de longueur d’onde , on impose , c’est-à-dire le pic de la distribution de probabilité des spectres synthétiques dans un canal est égal à l’intensité enregistrée pour le canal dans le spectre expérimental qu’on considère pour modéliser les spectres synthétiques (celui fourni en entrée de l’étape 130, éventuellement moyenné à l’étape 122).
Ensuite, à l’étape 140, on génère de nouvelles données spectrales synthétiques à partir du modèle obtenu à l’étape 130 pour chaque canal de longueur d’onde . Un nouveau spectre synthétique est obtenu en déterminant chaque intensité du spectre pour chaque longueur d’onde au moyen d’un tirage aléatoire suivant le modèle de distribution d’intensité obtenu à l’étape 130. L'extraction aléatoire est calculée en renversant la fonction de distribution cumulative, et en l'utilisant pour représenter une variable aléatoire, uniformément distribuée dans l'intervalle [0, 1], dans l'espace de probabilité. Il est ainsi possible de générer un nombre arbitraire de spectres ayant statistiquement les mêmes propriétés que les spectres expérimentaux 110.
A titre d’exemple illustratif, la montre le diagramme quantile-quantile des distributions réelle et synthétique pour un échantillon de ciment (type I) avec l’ajout de NaCl. Les données ont été synthétisées en modélisant l’intensité par une loi de Poisson. Le diagramme montre des points alignés sur la bissectrice du premier quadrant : les quantiles observés recouvrent efficacement les quantiles de la distribution expérimentale