INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Pince (10) de mesure comportant une mâchoire fixe (12) et une mâchoire mobile (14), la mâchoire fixe comportant un premier noyau magnétique (20) entouré d’un premier blindage magnétique (24) et la mâchoire mobile comportant un second noyau magnétique (22) entouré d’un second blindage magnétique (26), les premier et second noyaux magnétiques étant séparés par deux entrefers diamétralement opposés (28, 30) recevant chacun un capteur à flux magnétique (32, 34), caractérisé en ce qu’elle comporte en outre une bobine externe d’annulation de flux (40, 42) entourant l’un ou l’autre, ou les deux, des premier et second blindages magnétiques et en ce que le capteur à flux magnétique est un capteur AMR. Pince de mesure selon la revendication 1, dans laquelle chacune des mâchoires fixe et mobile est formée d’un demi-tore de mesure (20, 22) assurant la concentration du champ magnétique interne entouré par un demi-blindage en matériau magnétique (24, 26) protégeant des champs magnétiques extérieurs, de préférence en Mu-métal. Pince de mesure selon la revendication 2, dans laquelle le demi-tore de mesure (20) de la mâchoire fixe (12) comporte une fenêtre (44) à chaque extrémité pour les amenées de courant depuis une carte électronique (36) reliée par un câble de connexion (38) à une interface utilisateur de la pince de mesure. Pince de mesure selon la revendication 2, dans laquelle la bobine externe d’annulation de flux est constituée de deux bobinages (40, 42) placés autour d’un seul des deux demi-blindages magnétiques, de préférence le demi-blindage (26) de la mâchoire mobile (14), et aptes à générer deux champs magnétiques en opposition. Pince de mesure selon la revendication 2, dans laquelle la bobine externe d’annulation de flux est constituée de deux bobinages (40, 42) placés autour des deux demi-blindages magnétiques et aptes à générer deux champs magnétiques en opposition. Pince de mesure selon l’une quelconque des revendications 1 à 5, comprenant en outre une bobine de test (46, 48) disposée sous chacun des capteurs AMR (32, 34) pour générer un champ magnétique de valeur connue au niveau du capteur AMR et un circuit de test associé pour déterminer l’état de saturation des capteurs AMR. Pince de mesure selon l’une quelconque des revendications 1 à 6, dans laquelle le capteur AMR se compose de quatre résistances ferromagnétiques à couche mince reliées à un pont de Wheatstone, une bobine de flip et un circuit de commande associé permettant d’inverser la polarité de la tension de sortie du pont en appliquant des impulsions de courant de réglage (set) et de réinitialisation (reset) à la bobine de flip. Pince de mesure selon la revendication 7, dans laquelle les impulsions de set/reset sont pilotées à une fréquence de quelques kHz avec une durée de quelques centaines de nano secondes à quelques micros secondes. Pince de mesure selon l’une quelconque des revendications 1 à 8, dans lesquels les entrefers (28, 30) ont une largeur inférieure à 1mm et supérieure à la largeur du capteur AMR. Utilisation d’une pince de mesure selon l’une quelconque des revendications 1 à 9 à la mesure de courants de fuite AC et DC.
Machine électrique (1000) comprenant au moins une phase (100, 200, 300) comportant deux voies électriques (101, 102, 201, 202, 301, 302) en parallèle, chaque voie électrique d’une même phase comportant un enroulement (111, 112, 211, 212, 311, 312), les premières voies électriques de toutes les phases étant connectées à un même premier nœud électrique (10) et les deuxièmes voies électriques de toutes les phases étant connectées à un même deuxième nœud électrique (20), caractérisée en ce que la machine électrique comprend un fil équipotentiel (400) reliant électriquement les premier et deuxième nœuds électriques et un capteur de courant (500) configuré pour mesurer un courant électrique (I101 + I201 + 1301 – (I102 + I202 + I302)) circulant dans le fil équipotentiel. Machine électrique selon la revendication 1, dans laquelle le capteur de courant est un transformateur de courant et le fil équipotentiel est placé au centre du transformateur de courant. Procédé de détection (2000) d’un court-circuit dans une machine électrique selon l’une quelconque des revendications 1 ou 2 comprenant la mesure (2010) d’un courant électrique (I mesure ) circulant dans le fil équipotentiel, la détermination (2020) d’un courant électrique résiduel (I residuel ) circulant dans le fil équipotentiel, et la détection (2030) d’un court-circuit si le courant électrique mesuré (I mesure ) devient supérieur à au moins deux fois le courant électrique résiduel déterminé (I residuel ).
Une plateforme d’observation ou de visée spatiale pour une optique d’observation comprenant : un axe principal dont l’inclinaison est réglable ; un disque traversé en son centre par l’axe principal et dont le plan d’inclinaison est réglable, le disque étant mobile en rotation autour de son axe de révolution ; un moyen de support d’une optique d’observation agençable parallèlement à une droite passant par un point A de l’axe principal et un point B fixe du pourtour du disque, la position du point A de l’axe principal étant ajustable le long de cet axe pour ajuster l’angle β entre la droite et le plan du disque. Plateforme spatiale selon la revendication 1, dans laquelle le moyen de support est solidaire de l’axe principal et du disque, au niveau des points A et B respectivement, au moyen d’articulations pour permettre la révolution du disque sans déconnection des points A et B. Plateforme spatiale selon la revendication 2, dans laquelle le moyen de support comprend un élément de longueur variable. Plateforme spatiale selon l’une des revendications 1 à 3, comprenant en outre une équerre optique pour estimer et/ou confirmer la distance de l’objet observé. Méthode d’observation ou de visée spatiale à l’aide de la plateforme selon les revendications 1 à 3, comprenant les étapes de : On incline le disque d’un angle α de manière à ce que le disque soit parallèle au plan équatorial de la terre ; On dispose l’optique d’observation selon un angle β dépendamment de l’éloignement de l’objet spatial et de sa déclinaison ; Si nécessaire, on incline l’ensemble de la plateforme d’observation selon un angle φ dépendamment de la position de l’objet spatial par rapport au plan équatorial , et On vise l’objet spatial en appliquant si nécessaire une rotation au disque de la plateforme. Méthode d’observation ou de visée spatiale selon la revendication 5, pour laquelle l’objet spatial n’est pas géostationnaire, comprenant l’étape : on suit le déplacement de l’objet spatial en appliquant une rotation au disque pour compenser la dérive par rapport au point d’observation. Méthode d’observation ou de visée spatiale selon l’une des revendications 5 et 6, d’après laquelle on aligne la visée de l’optique d’observation avec l’axe du méridien M.
Procédé de fabrication d’une microcavité concave (250) dans une couche (200) d’un premier matériau, comprenant les étapes successives suivantes : a) former une couche de masque dur (203) sur la couche (200) du premier matériau ; b) former une ouverture (209 ; 309) dans la couche de masque dur (203) ; et c) former la microcavité concave (250) par gravure partielle de la couche (200) du premier matériau à travers l’ouverture (209), par un procédé de gravure à base d’acide fluorhydrique en phase vapeur. Procédé selon la revendication 1, dans lequel ladite couche (200) en le premier matériau est une couche d’oxyde de silicium. Procédé selon la revendication 1 ou 2, dans lequel la couche de masque dur (203) est une couche métallique. Procédé selon la revendication 3, dans lequel la couche de masque dur (203) est en nitrure de titane, en aluminium, en cuivre, ou en un alliage aluminium-cuivre. Procédé selon la revendication 1 ou 2, dans lequel la couche de masque dur (203) est en un matériau diélectrique de constante diélectrique supérieure à celle de l’oxyde de silicium. Procédé selon la revendication 5, dans lequel la couche de masque dur (203) est en nitrure d’aluminium, en alumine, ou en oxyde d’hafnium. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 6, dans lequel ladite ouverture (209 ; 309) présente une largeur inférieure à 500 nm, de préférence inférieure à 300 nm. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 7, dans lequel, à l’étape b), ladite ouverture (209 ; 309) est formée par gravure à travers une ouverture (207) préalablement formée par photolithographie dans une couche de résine photosensible (205). Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 8, dans lequel l’ouverture (309) formée à l’étape b) se prolonge à travers une partie de l’épaisseur de la couche (200) en le premier matériau. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 9, comprenant, après l’étape c), une étape de retrait de la couche de masque dur (203). Utilisation du procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 10 pour former des microlentilles optiques. Utilisation du procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 10 pour former des microcavités destinées à servir de réceptacle pour des applications de microbiologie.
Paire de lunettes (1) comprenant un élément de lunettes (3, 20) monté sur une monture de ladite paire de lunettes ou sur un verre de ladite paire de lunettes, le verre ou la monture comportant au moins un orifice (6, 21) pourvu d’une portion d’introduction (7) pour l’introduction de l’élément à travers l’orifice, portion d’introduction prolongée par une portion (8) rétrécie de positionnement de l’élément dans le verre ou la monture, la paire de lunettes comprenant par ailleurs un pion de verrouillage (14, 22) agencé dans l’orifice de sorte à s’étendre au moins à travers la portion d’introduction entre l’élément d’une part et le verre ou la monture d’autre part pour bloquer l’élément dans la paire de lunettes. Paire de lunette selon la revendication 1, dans laquelle l’élément de lunettes est un tenon (5) ou un pontet (20). Paire de lunettes selon la revendication 1 ou la revendication 2, dans laquelle l’orifice (6) est conformé en un trou de serrure. Paire de lunettes selon l’une des revendications 1 à 3, dans laquelle la portion de positionnement (8) est agencée plus vers l’extérieur du verre ou de la monture que la portion d’introduction (7). Paire de lunettes selon l’une des revendications 1 à 4, dans laquelle le pion de verrouillage (14) recouvre au moins en partie une portion de l’élément de lunettes dépassant d’une face avant de la paire de lunettes. Paire de lunettes selon la revendication 5, dans laquelle le pion de verrouillage (14) comporte au moins un logement dans lequel est reçu la portion de l’élément. Paire de lunettes selon l’une des revendications 1 à 6, dans laquelle le pion de verrouillage (14, 22) comporte au moins une surface complémentaire d’au moins une surface de l’élément de lunettes. Paire de lunettes selon la revendication 7, dans laquelle le pion de verrouillage (14, 22) et l’élément de lunettes s’emboitent au moins en partie l’un dans l’autre. Paire de lunettes selon l’une des revendications 1 à 8, dans laquelle l’élément de lunettes comporte un doigt (11) conformé pour épouser au moins en partie la forme d’un bord latéral de la portion de positionnement (8). Procédé de montage d’un élément de lunettes sur une paire de lunettes selon l’une des revendications précédentes, le procédé comportant les étapes de : agencer l’élément de lunettes à travers la portion d’introduction (7), déplacer l’élément de lunettes le long de l’orifice de sorte qu’il s’étende à travers la portion de positionnement (8), placer le pion de verrouillage (14, 21) au niveau de la portion d’introduction.
Dispositif communiquant (1) pour véhicule automobile, ledit dispositif communiquant (1) comprenant : - un circuit imprimé de commande (10) s’étendant selon un premier plan (P1) et comprenant des composants électroniques de commande, - une première antenne (30) dite « externe » comprenant deux groupes (310) d’enroulements (311) disposés chacun autour de l’une des extrémités du circuit imprimé de commande (10), symétriquement par rapport à un plan orthogonal médian (PM), - une deuxième antenne (40) dite « interne » comprenant deux groupes (410) d’enroulements (411) disposés chacun autour du circuit imprimé de commande (10), entre les enroulements (311) de la première antenne (30) et symétriquement par rapport au plan orthogonal médian (PM). Dispositif communiquant (1) selon la revendication 1, dans lequel les groupes (310) d’enroulements (311) de la première antenne (30) sont connectés en série et sont en opposition de phase et reliés électriquement au circuit imprimé de commande (10). Dispositif communiquant (1) selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel les groupes (410) d’enroulement (411) de la deuxième antenne (40) sont connectés en série et sont en opposition de phase et reliés électriquement au circuit imprimé de commande (10). Dispositif communiquant (1) selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel chaque groupe (310) d’enroulements (311) de la première antenne (30) comprend au minimum un enroulement (311). Dispositif communiquant (1) selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel chaque groupe (410) d’enroulements (411) de la deuxième antenne (40) comprend au minimum un enroulement (411). Dispositif communiquant (1) selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel chaque groupe (310) d’enroulements (311) de la première antenne (30) est disposé en V. Dispositif communiquant (1) selon la revendication précédente, dans lequel l’angle (α) des enroulements (311) par rapport à un plan orthogonal médian (PM) est supérieur à 0° et inférieur à 40°. Dispositif communiquant (1) selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel chaque groupe (410) d’enroulements (411) de la deuxième antenne (40) est disposé en V. Dispositif communiquant (1) selon la revendication précédente, dans lequel l’angle (β) des enroulements par rapport au plan orthogonal médian (PM) est supérieur à 0° et inférieur à 90°. Véhicule automobile comprenant un dispositif communiquant (1) selon l’une quelconque des revendications précédentes, et un support de charge adapté pour recevoir un dispositif communiquant (1), ledit dispositif communiquant (1) étant monté sous le support de charge.
Circuit de référence de tension (1000, 1001, 1002) comportant : - une première branche (101) comprenant : • un premier transistor de tête à appauvrissement (M1) dont le drain est connecté à une source de tension (Vcc), • un premier transistor de pied à enrichissement (M3) dont la source est connectée à la masse, dont le drain est connecté, d’une part, à la grille du transistor de tête (M1), et d’autre part à la grille dudit transistor de pied (M3), et • un dipôle (D1, D11, D21) dont une première borne (Q1, Q11) est connectée à la source du transistor de tête (M1) et dont la seconde borne (Q2, 21) est connectée au drain du transistor de pied (M3), et - une seconde branche (102) comprenant : • un second transistor de tête à appauvrissement (M4) dont le drain est connecté à la source de tension (Vcc), dont la source est connectée au drain d’un troisième transistor à appauvrissement (M5) et dont la grille est connectée à la source dudit troisième transistor à appauvrissement (M5), et • un second transistor de pied à enrichissement (M7) dont la source est connectée à la masse et dont le drain est connecté à la source du troisième transistor à appauvrissement (M5), la source du premier transistor de tête (M1) de la première branche (101) étant connectée à la grille du troisième transistor à appauvrissement (M5) de la seconde branche (102), les grilles du premier transistor de pied (M3) de la première branche (101) et du second transistor de pied (M7) de la seconde branche (102) étant connectée de sorte à former un miroir de courant, la tension de référence (Vref) étant fournie au niveau de la source du second transistor de tête (M4) de la seconde branche (102). Circuit de référence de tension selon la revendication 1, caractérisé en ce que le dipôle (D1) est un transistor à enrichissement (M2) dont le drain est connecté, d’une part, à la grille dudit transistor à enrichissement (M2), et d’autre part, à la première borne (Q1) du dipôle (D1), et dont la source est connectée à la seconde borne (Q2) du dipôle (D1). Circuit de référence de tension selon la revendication 1, caractérisé en ce que le dipôle (D21) comporte n transistors à enrichissement (M31, M3n), chacun desdits transistors à enrichissement (M31-M3n) ayant sa grille connectée à son drain, lesdits transistors à enrichissement (M31-M3n) étant connectés en série, deux transistors (M31-M3n) consécutifs étant connectés par la source de l’un et le drain de l’autre et, le drain du premier transistor (M31) formant la première borne (Q21) du dipôle (D21) et la source du dernier transistor (M3n) formant la seconde borne (Q22) du second dipôle (D21). Circuit de référence de tension selon la revendication 4, caractérisé en ce que le dipôle (D11) comporte trois transistors à enrichissement (M21, M22, M23). Circuit de référence de tension selon la revendication 1, caractérisé en ce que les transistors sont des transistors GaN.
Système de soin de la peau comprenant : un dispositif de distribution (200) conçu pour administrer une luminothérapie et un traitement par plasma ; et un applicateur (100) conçu pour appliquer une formule, l'applicateur (100) comportant un réservoir (130) conçu pour contenir la formule (140), une bille roulante (110) conçue pour appliquer la formule (140), une fixation conçue pour fixer la capsule au dispositif de distribution (200), et un micro-contrôleur (160) conçu pour commander le dispositif de distribution pour appliquer le traitement par plasma. Système de soin de la peau selon la revendication 1, dans lequel la luminothérapie et le traitement par plasma sont administrés simultanément avec l'application de la formule (140). Système de soin de la peau selon la revendication 1, dans lequel le dispositif de distribution (200) est conçu pour appliquer simultanément deux longueurs d'ondes ou plus de luminothérapie. Système de soin de la peau selon la revendication 1, dans lequel le dispositif de distribution (200) administre la luminothérapie par l'intermédiaire d'une ou de plusieurs sources de lumière (220a, 220b). Système de soin de la peau selon la revendication 4, dans lequel les une ou plusieurs sources de lumière (220a, 220b) sont un anneau de DEL autour d'un sommet du dispositif de distribution (200). Système de soin de la peau selon la revendication 4, dans lequel l'applicateur (100) comprend en outre une fixation transparente de façon que la lumière issue des une ou plusieurs sources de lumière (220a, 220b) sur le dispositif de distribution (200) puisse passer à travers la fixation pour administrer la luminothérapie. Système de soin de la peau selon la revendication 7, dans lequel l'applicateur (100) comprend en outre une électrode (180) conçue pour créer un plasma en contact avec une surface. Système de soin de la peau selon la revendication 7, dans lequel la fixation est l'électrode (180). Système de soin de la peau selon la revendication 7, dans lequel l'applicateur (100) comprend en outre un câble raccordant l'électrode (180) au dispositif de distribution (200) ; et dans lequel le dispositif de distribution est en outre conçu pour faire passer une haute tension dans le câble et jusque dans l'électrode (180).
Joint d’étanchéité (23) configuré pour être disposé entre un premier élément (17) et un deuxième élément (11) d’un ensemble propulsif dans une configuration assemblée, caractérisé en ce qu’il comprend un secteur longitudinal (29) destiné à être en contact avec le deuxième élément (11), le secteur longitudinal (29) étant formé d’une matière étanche aux fluides et au feu et sensiblement élastique, et comprenant un revêtement de matière (31) glissant et hydrophobe recouvrant le secteur longitudinal (29). Joint d’étanchéité selon la revendication 1, dans lequel le revêtement de matière (31) a un critère de mouillabilité correspondant à un angle de contact (A) supérieur ou égal à 90°. Joint d’étanchéité selon l’une des revendications 1 et 2, dans lequel le revêtement de matière (31) comprend un tissu ou une fibre de carbone imprégnée de résine et/ou de silicone. Joint d’étanchéité selon l’une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel le revêtement de matière (31) comprend une couche hydrophobe réalisée par projection de graphène. Joint d’étanchéité selon l’une quelconque des revendications 1 à 4, dans lequel la matière étanche comprend un matériau liant en élastomère et un matériau de renfort en tissu céramique ou de verre ou de carbone. Joint d’étanchéité selon l’une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel le revêtement de matière (31) est partiellement noyé dans la matière étanche ou recouvre la matière étanche. Joint d’étanchéité selon l’une quelconque des revendications 1 à 6, comprenant une section transversale de type « omega » comprenant une première partie (25) sensiblement plane fixée au premier élément (17) et une deuxième partie (27) arrondie comprenant le secteur longitudinal (29). Ensemble propulsif d’un aéronef comprenant un premier compartiment (9) susceptible d’être exposé à un feu et un deuxième compartiment (13), caractérisé en ce qu’il comprend un joint d’étanchéité (23) selon l’une quelconque des revendications 1 à 7 entre le premier compartiment (9) et le deuxième compartiment (13). Aéronef caractérisé en ce qu’il comprend un ensemble propulsif selon la revendication 8 et/ou un joint d’étanchéité (23) selon l’une quelconque des revendications 1 à 7.