INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Selon le mode de réalisation considéré, le procédé de l'invention peut comprendre l'une ou plusieurs des caractéristiques suivantes : l’appareil numérique de prise de vue est un téléphone multifonction ou une tablette numérique. l’appareil numérique de prise de vue est du type à plusieurs optiques. l’étape b), le moule de visage 3D est réalisé en polymère, de préférence en ABS. le rebord périphérique bordant l’ouverture arrière du corps de masque comprend des structures d’accrochage. le rebord périphérique bordant l’ouverture arrière du corps de masque a une forme annulaire. la paroi formant le rebord périphérique bordant l’ouverture arrière du corps de masque est conformée pour présenter lesdites structures d’accrochage. le corps de masque est en polymère rigide ou semi-rigide, par exemple en polycarbonate (PC), polypropylène (PP) ou polyamide (PA), tel du Nylon® ou tout autre polymère adapté. le corps de masque comprend un orifice avant de raccordement pour recevoir un connecteur d’un tuyau flexible relié à une source de gaz, tel un ventilateur médical. le corps de masque définit un volume interne, c'est-à-dire une chambre ou compartiment pour recevoir du gaz. le corps de masque comprend des structures d’arrimage de harnais, tels des boucles, crochets ou similaires, permettant d’y fixer un harnais permettant de maintenir le masque sur le visage d’une personne, c'est-à-dire d’un utilisateur du masque, tel un patient. les structures d’arrimage sont conformées pour y fixer les sangles d’un harnais. l'orifice avant de raccordement est en communication fluidique avec le volume interne du corps de masque.
L’invention porte aussi sur un masque respiratoire comprenant un corps de masque, de préférence rigide ou semi-rigide, avec une ouverture arrière bordée par un rebord périphérique, et une structure annulaire en pâte souple partiellement solidifiée en un coussinet souple formant un joint d’étanchéité le long du rebord périphérique de l’ouverture arrière du corps de masque, directement obtenu par le procédé de fabrication selon l'invention.
illustre le procédé de fabrication de masque selon l’invention,
est une vue schématique de ¾ avant d’un corps de masque utilisé dans le procédé de l’invention, et
est une vue schématique arrière du corps de masque de .
illustre le procédé de fabrication d’un masque 10 respiratoire selon l’invention permettant d’obtenir une représentation suffisamment précise du visage V d’un patient P, sans avoir un accès physique à ce patient, c'est-à-dire à distance, pour permettre de réaliser un coussinet ou une interface du masque parfaitement adaptée au visage V du patient P, c'est-à-dire se conformant fidèlement à la morphologie faciale particulière du patient P, même lorsque cette morphologie est compliquée et/ou non-habituelle.
Dans un premier temps, on opère une (ou des) prise de vue de la forme du visage V d’une personne, c'est-à-dire d’un patient P, à l’aide d’un appareil numérique de prise de vue 20 comprenant des moyens de prise vue pour réaliser cette (ou ces) prise de vue et des moyens de traitement informatiques à processeur, notamment une carte électronique portant un ou des microprocesseurs mettant en œuvre des algorithmes, pour traiter cette (ou ces) prise de vue et délivrer un modèle numérique 3D 21 du visage V du patient considéré.
De préférence, la prise de vue est réalisée à distance, c'est-à-dire hors présence de personnel soignant et par le patient lui-même par exemple.
L’appareil numérique 30 est préférentiellement un téléphone multifonction (smartphone) ou une tablette numérique équipé de plusieurs objectifs de prise de vue, de préférence au moins 3 objectifs.
L’appareil numérique 30 est choisi pour permettre de réaliser une prise précise de la forme du visage V du patient P et pouvoir ensuite délivrer un modèle numérique fidèle en 3D du visage du patient. Les résolutions disponibles aujourd’hui sur les smartphones modernes, en particulier ceux équipés de caméras multifoyer, c'est-à-dire à plusieurs objectifs de prise de vue, permettent, grâce à une application logicielle, c'est-à-dire un programme informatique ou algorithme de traitement adapté, de produire le modèle numérique 3D de bonne résolution.
Après traitement de la (ou des) prise de vue, c'est-à-dire de la ou des images obtenues, les moyens de traitement informatiques de l’appareil numérique 30 fournissent un modèle numérique 3D 21 du visage obtenu à un dispositif d’impression 3D 22, telle une imprimante 3D, laquelle est configurée pour opérer une impression en 3D d’un moule de visage 23 en 3D à partir du modèle numérique 3D 21 du visage lui ayant été fourni. Le moule de visage 23 en 3D peut être fait en ABS.
L’impression peut être aussi réalisée à distance, c'est-à-dire à un endroit différent de celui où se trouve le patient P.
Une fois le moule de visage 23 fabriqué, on dépose sur ce moule, une pâte souple comprenant du silicone, de préférence du silicone médical, et au moins un durcisseur, de manière à former une structure annulaire 24, par exemple une sorte de boudin annulaire, venant épouser les contours du moule en 3D 23 dans des régions du visage situées autour du nez et/ou de la bouche, en fonction du type de masque désiré, à savoir un masque nasal ou facial, i.e. bucco-nasal.
Ainsi, en cas de secousses durant son utilisation, le mécanisme de verrouillage reste fonctionnel.
Selon un aspect avantageux, le mécanisme de verrouillage comprend également un connecteur intercalé entre le chariot et l’actionneur, l’élément de rappel étant relié par une première extrémité à l’actionneur, et par une deuxième extrémité au connecteur.
Le connecteur permet d’assurer une réversibilité du mécanisme de verrouillage, c’est-à-dire un réarmement lorsque le chariot passe de sa deuxième position à sa première position.
Autrement dit, lorsque l’ouvrant est déplacé à l’opposé du dormant, le mécanisme de verrouillage s’arme pour permettre un futur verrouillage.
Selon un aspect avantageux, le connecteur comprend : - une bascule prolongeant l’actionneur ; - une première bielle montée à rotation sur la bascule, et - une deuxième bielle intercalée entre la première bielle et le chariot, la deuxième bielle étant articulée par rapport à la première bielle par une liaison pivot, et la deuxième extrémité de l’élément de rappel étant raccordée à la bascule.
Cette configuration du connecteur permet de créer une liaison de type genou, c’est-à-dire une liaison débrayable, pour assurer la tension de l’élément de rappel lorsque le chariot passe de sa première position à sa deuxième position, ou pour assurer une absence de tension de l’élément de rappel lorsque le chariot passe de sa deuxième position à sa première position.
En effet, une tension de l’élément de rappel lorsque le chariot passe de sa deuxième position à sa première position empêcherait le réarmement du mécanisme de verrouillage en contrant la rotation du crochet.
Selon un aspect avantageux, la bascule est montée à rotation par rapport à l’actionneur, et est mobile entre une position écartée de l’actionneur destinée à tendre l’élément de rappel lors du déplacement du chariot de sa première position vers sa deuxième position, et une position d’entraînement de l’actionneur dans laquelle elle fait pivoter l’actionneur lors du déplacement du chariot de sa deuxième position vers sa première position.
La position écartée permet la tension de l’élément de rappel alors que la position d’entraînement assure le réarmement du mécanisme de verrouillage.
En d’autres termes, lorsque la bascule est sans sa position écartée, l’élément de rappel peut se tendre pour permettre à l’actionneur de déplacer le crochet dans le but de plaquer l’ouvrant contre le dormant, alors que dans sa position d’entraînement, la bascule empêche la tension dans l’élément de rappel et fait pivoter le crochet pour permettre la libération de l’ouvrant.
Selon un aspect avantageux, le mécanisme de verrouillage comprend un troisième élément de rappel intercalé entre le chariot et la deuxième bielle, le troisième élément de rappel étant configuré pour positionner la première bielle et la deuxième bielle dans une position de transmission d’effort du chariot à la bascule lors du déplacement du chariot de sa première position à sa deuxième position.
Ce troisième élément de rappel assure que la première bielle et la deuxième bielle soient correctement alignées pour permettre la tension de l’élément de rappel lorsque le chariot passe de sa première position à sa deuxième position, ce qui assure alors le verrouillage par plaquage de l’ouvrant contre le dormant.
Selon un aspect avantageux, le mécanisme de verrouillage comprend également un poussoir solidaire du bâti, le poussoir étant configuré pour agir sur la liaison pivot et provoquer un désalignement de la première bielle par rapport à la deuxième bielle et provoquer le passage de la bascule de sa position écartée à sa position d’entraînement, préalablement au déplacement du chariot de sa deuxième position à sa première position.
Le poussoir permet de casser la tension de l’ élément de rappel afin de faciliter le retrait du crochet par l’effet du deuxième élément de rappel. Cela assure alors le déplacement du crochet et donc l’écartement de l’ouvrant par rapport au dormant.
Autrement dit, lorsque le poussoir agit sur la liaison pivot, l’élément de rappel n’est plus en tension, ce qui autorise le pivotement du crochet pour libérer l’ouvrant.
Selon un aspect avantageux, le mécanisme de verrouillage comprend également une masselotte de protection, montée à pivotement sur le bâti, la masselotte de protection étant configurée pour exercer un effort de retenue du poussoir en cas de choc.
Comme le montre la , le dispositif de commande 300 déplace la première navette 201 de la station d’attente 111 à la station d’attente de troisième opération 112 (étape S5). En conséquence, la station d’attente 111 devient vide.
Le dispositif de commande 300 déplace la deuxième navette 202 de la station de fourniture 110 à la station d’attente 111 (étape S4). En conséquence, la station de fourniture 110 devient vide.
Le dispositif de commande 300 déplace la troisième navette 203 vide de la station d’attente de fourniture 119 vers la station de fourniture 110 (étape S2). En conséquence, la station d’attente de fourniture 119 devient vide.
Le dispositif de commande 300 déplace la quatrième navette 204 vide de la station d’éjection 118 vers la station d’attente de fourniture 119 (étape S1). En conséquence, la station d’éjection 118 devient vide.
Le dispositif de commande 300 déplace la cinquième navette 205 de la première station d’attente d’éjection 117A vers la station d’éjection 118 (étape S13). En conséquence, la première station d’attente d’éjection 117A devient vide.
Comme le montre la , le dispositif de commande 300 commande le robot manipulateur 400 pour éjecter la pièce 705 de la cinquième navette 205 située à la station d’éjection 118 (étape S14).
Simultanément, comme la station d’attente de première opération 115 et la station d’attente de deuxième opération 116 sont toutes deux vides, le dispositif de commande 300 déplace la première navette 201 de la station d’attente de troisième opération 112 vers la station de deuxième opération 114 (étape S9). En conséquence, la station d’attente de troisième opération 112 devient vide.
Simultanément, le dispositif de commande 300 commande le robot manipulateur 400 pour monter une pièce 709 sur la troisième navette vide 203 située à la station de fourniture 110 (étape S3).
4. Exemples de première machine et de deuxième machine
La première machine 500 ou la deuxième machine 600 comprend typiquement une unité de fourniture 20 qui fournit une composition L ayant une certaine fluidité sur une pièce 700 à laquelle la composition doit être fournie, et une buse 21 intégralement disposée de manière à communiquer avec l’unité de fourniture 20. Typiquement, une navette 200 de type plaque plate est disposée à une position inférieure à la buse 21 et en face de la buse 21, et la pièce 700 peut être montée sur la surface supérieure de la navette 200. La montre un exemple incluant ces composants.
La première machine 500 ou la deuxième machine 600 supporte ou maintient l’unité de fourniture 20 et la navette 200 à des positions prédéterminées. Le dispositif de commande 300 commande la première machine 500 ou la deuxième machine 600 pour déplacer la position de la buse 21 et la position de la navette 200 l’une par rapport à l’autre dans n’importe quelle direction. Il est ainsi possible de déplacer au moins une parmi la buse 21 et la navette 200 dans une direction du plan, une direction verticale ou une combinaison de ces directions pour déplacer au moins une parmi la buse 21 et la pièce 700 sur la navette 200 par rapport à l’autre.
L’unité de fourniture 20 est un élément qui alimente la composition L ayant une certaine fluidité du côté de la pièce 700. L’unité de fourniture 20 comprend de préférence une partie d’alimentation en liquide 25 et une partie de stockage de la composition 26.
La partie d’alimentation en liquide 25 est de préférence reliée à la partie de stockage de la composition 26 par une trajectoire d’écoulement 28. Cela permet d’alimenter de manière continue ou de manière non continue la composition L, qui est fournie par la partie de stockage de la composition 26 à l’intérieur de la partie d’alimentation en liquide 25, du côté de la buse 21, ou d’arrêter la fourniture. Pour une telle partie d’alimentation en liquide 25, on peut utiliser un distributeur à jet capable de décharger la composition L sous forme de gouttelettes liquides, ou un MOHNO DISPENSER (marque déposée) ou un distributeur à vis capable de décharger la composition L en continu.
La partie de stockage de la composition 26 est de préférence configurée pour être reliée, à l’une de ses extrémités, à un moyen de pressurisation pour l’air ou analogue ou à une pompe, et configurée pour être capable d’alimenter sous pression la composition L stockée dans la partie de stockage de la composition 26 vers la partie d’alimentation en liquide 25 par le biais de la trajectoire d’écoulement 28.
La buse 21 est typiquement un élément tubulaire qui fournit la composition L depuis l’unité de fourniture 20 vers la pièce 700. La buse 21 comprend une trajectoire d’écoulement pour la composition L, qui est un espace formé dans celle-ci le long d’une direction d’écoulement de la composition L. Dans la buse 21, un embout de buse à une extrémité constitue un port de fourniture pour la composition L, et son autre extrémité est reliée pour communiquer avec l’unité de fourniture 20 décrite ci-dessus. Le matériau constitutif de la buse n’est pas particulièrement limité et, par exemple, du métal ou du plastique peuvent être utilisés.
5. Exemples de composition
L’équipement 3 illustré par la peut avantageusement être configuré pour réaliser le procédé d’amélioration sur le groupe de cellule 2. Il suffit, par exemple, que le groupe entier puisse être placé sous la source lumineuse 32 et sous la soufflerie 34.
PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D’UN MODULE PHOTOVOLTAÏQUE PAR IMMERSION DE LUMIÈRE DOMAINE TECHNIQUE DE L’INVENTION La présente invention concerne un procédé de traitement d’un module photovoltaïque comprenant une pluralité de cellules photovoltaïques, afin d’améliorer et stabiliser le rendement des cellules photovoltaïques, et par conséquent, les performances électriques du module photovoltaïque.
ARRIERE-PLAN TECHNOLOGIQUE DE L’INVENTION La représente un exemple de cellule photovoltaïque 10 à hétérojonction de silicium (SHJ). La cellule photovoltaïque 10 comprend un substrat 11 en silicium cristallin dopé et deux couches de silicium amorphe 12-13 disposées de part et d'autre du substrat 11. L’une des couches de silicium amorphe 12-13 est dopée du même type de conductivité que le substrat 11, par exemple de type n, et l'autre couche est dopée du type de conductivité opposé, c’est-à-dire de type p.
L'hétérojonction est formée par le substrat 11 en silicium cristallin dopé n et la couche de silicium amorphe dopé p, cette couche formant l'émetteur de la cellule photovoltaïque. L’émetteur peut être situé en face avant ou en face arrière de la cellule photovoltaïque.
La cellule photovoltaïque SHJ est particulièrement sensible aux défauts situés à l’interface entre le substrat 11 en silicium cristallin et les couches de silicium amorphe 12-13. Ces défauts peuvent être des liaisons pendantes, appelées « dangling bonds » en anglais, ou des impuretés telles que des ions métalliques. Ils introduisent des niveaux d’énergie dans la bande interdite du silicium et augmentent le nombre de recombinaisons électron-trou aux interfaces, ce qui détériore les paramètres de sortie de la cellule photovoltaïque, tels que la tension en circuit ouvert V OC .
Pour obtenir une cellule photovoltaïque performante, il est donc nécessaire de minimiser le nombre de recombinaisons en surface du substrat 11, ce qui est généralement accompli en déposant une couche de passivation 14 en silicium amorphe hydrogéné intrinsèque sur chacune des faces du substrat 11, avant la couche de silicium amorphe 12, 13. Les atomes d’hydrogène contenus dans les couches de passivation 14 diffusent jusqu’à la surface du substrat 11 et neutralisent les défauts.
Chacune des couches de silicium amorphe 12-13 est par ailleurs recouverte d’une couche d’oxyde transparent conducteur (ou TCO, pour « Transparent Conductive Oxyde » en anglais) 15, puis par des électrodes de collecte 16 communément appelées métallisations.
Les cellules photovoltaïques SHJ sont connues pour voir leur rendement de conversion énergétique s’améliorer d’environ 0,3 % absolu sous l’action conjuguée de l’éclairement et de la température. Ce phénomène dit de bonification des cellules résulte de l’amélioration d’au moins une des couches de passivation 14 en silicium amorphe hydrogéné, de l’amélioration des couches de TCO 15 ainsi que de l’amélioration des interfaces entre les couches de TCO 15 et les métallisations 16.
L’observation du phénomène de bonification des cellules photovoltaïques SHJ a conduit au développement de procédés de traitement comprenant une étape d’exposition des cellules photovoltaïques à un flux lumineux. Ces procédés sont communément appelés procédé de traitement par immersion de lumière (ou « light-soaking » en anglais).
Dans l’article [« Transferability of the light-soaking benefits on silicon heterojunction cells to modules », arXiv e-prints, 2021, p. arXiv: 2107.00293], J. Cattin et al. enseignent que le gain en rendement des cellules photovoltaïques SHJ soumises à un procédé de traitement par immersion de lumière peut être en partie perdu lors de la fabrication du module photovoltaïque, et plus particulièrement lors de l’étape de lamination. Ils constatent par ailleurs qu’un procédé de traitement conduit à l’échelle du module photovoltaïque résulte en un gain en rendement semblable à celui obtenu avec des cellules photovoltaïques nues. Ils en concluent qu’un seul traitement à l’échelle du module photovoltaïque pourrait s’avérer suffisant.
Le traitement d’un module photovoltaïque peut s’avérer plus avantageux que le traitement des cellules photovoltaïques nues en termes de cadence de production, étant donné que les cellules photovoltaïques du module (généralement au nombre de 72 ou 144) sont exposées simultanément au flux lumineux.
Enfin, le document WO 2021018757 A1 décrit un procédé de traitement d’un module photovoltaïque comprenant au moins deux cellules photovoltaïques SHJ connectées électriquement entre elles. Chaque cellule SHJ comprend un substrat en silicium cristallin dopé de type n et une couche de passivation en silicium amorphe hydrogéné disposée sur une face du substrat. Le procédé de traitement comprend une étape d’exposition des cellules SHJ à un rayonnement électromagnétique présentant une forte irradiance, typiquement supérieure ou égale à 200 kW/m 2 .
La durée du traitement avec une telle irradiance doit être très courte, typiquement inférieure à 12 s, au risque d’endommager le module photovoltaïque à cause d’un échauffement excessif. Sauf à être accompli plusieurs fois de suite, ce qui est long (phases de refroidissement entre les expositions) et contraignant, ce procédé de traitement ne permet pas d’atteindre le maximum du gain en rendement.
Il existe donc un besoin de prévoir un procédé de traitement par immersion de lumière d’un module photovoltaïque qui procure un meilleur contrôle de l’amplitude du gain en rendement des cellules photovoltaïques.
Selon un premier aspect de l’invention, on tend à satisfaire ce besoin en prévoyant un procédé de traitement d’un module photovoltaïque comprenant une pluralité de cellules photovoltaïques enrobées d’un matériau encapsulant et disposées entre deux plaques de protection, ledit procédé comprenant successivement : une première étape d’exposition d’au moins une cellule photovoltaïque du module photovoltaïque à un rayonnement électromagnétique, au cours de laquelle la température de ladite au moins une cellule photovoltaïque augmente jusqu’à atteindre une température dite de bonification du rendement supérieure ou égale à 100 °C ; une deuxième étape d’exposition de ladite au moins une cellule photovoltaïque au rayonnement électromagnétique, au cours de laquelle la température de ladite au moins une cellule photovoltaïque est maintenue entre T s - 5 °C et T s + 5 °C, où T s est la température de bonification du rendement, la deuxième étape d’exposition présentant une durée supérieure ou égale à 5 s, de préférence supérieure ou égale à 10 s ; une étape de refroidissement de ladite au moins une cellule photovoltaïque jusqu’à atteindre une température inférieure à 100 °C.
La deuxième étape d’exposition, accomplie autour de la température de bonification, améliore le gain en rendement des cellules à une vitesse élevée (on parle de cinétique du gain en rendement) et permet en outre de contrôler facilement l’amplitude du gain en rendement, puisqu’il suffit d’ajuster sa durée en fonction du gain en rendement visé.
Le réservoir 1 illustré est un réservoir cryogénique par exemple pour le stockage et le transport de fluide cryogénique, par exemple de l’hydrogène ou de l'hélium liquéfié.
Ce réservoir 1 comprend une enveloppe 2 interne en matériau métallique ou alliage et destinée à contenir le fluide cryogénique. Le réservoir 1 comprend également une enveloppe 3 externe en matériau métallique ou alliage disposée autour de l'enveloppe 2 interne et délimitant un espacement entre les deux enveloppes 2, 3. Cet espacement est sous-vide et contient de préférence un isolant thermique, par exemple du type multicouches (« MLI »).
Le réservoir 1 et notamment l’enveloppe 3 externe s’étend selon une direction longitudinale A.
Comme illustré, la première enveloppe 2 et la deuxième enveloppe 3 ont de préférence une forme générale cylindrique à section circulaire qui s’étend selon la direction A longitudinale.
C’est-à-dire que chaque enveloppe possède une portion cylindrique centrale formée par une tôle ou virole dont les extrémités sont refermées par des dômes respectifs.
De préférence, l'axe A longitudinal est orienté horizontalement en configuration de transport ou d'utilisation du réservoir 1.
L’enveloppe 3 externe comprend une pluralités de nervures de renfort 4 réparties dans des plans perpendiculaires à la direction A longitudinale. Les nervures 4 sont formées par des déformations, par exemple par moletage, d’une même paroi de l’enveloppe 3 interne (portion cylindrique centrale).
Comme illustré, ces nervures 4 font de préférence saillie sur la surface extérieure de l’enveloppe 3 externe. De préférence, les nervures 4 sont formées sur toute la circonférence de l’enveloppe 3 externe. Par exemple, les nervures 4 sont formées sur la parois cylindrique de façon espacées selon la direction A longitudinale d’une distance comprise entre 50 et 200mm par exemple de l’ordre de 100mm.
De préférence, les nervures 4 sont réparties de façon régulière selon la direction A longitudinale sur la portion cylindrique (virole) par exemple selon la formule suivante : d = L/(n+2)