INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Une acquisition d’une image d’une zone de l’espace dans lequel l’objet virtuel est représenté en 3D et est positionné à la première position sur un afficheur du premier terminal électronique ; Un calcul d’une seconde coordonnée de référence d’au moins un point de référence associé à un élément détecté automatiquement à partir d’un algorithme de traitement de l’image acquise dans laquelle l’objet virtuel est représenté ; Attribution de la seconde coordonnée de référence à une coordonnée de la première position.
Selon un autre aspect, l’invention concerne un procédé d’affichage d’un objet virtuel ayant été ancré selon le procédé de l’invention comprenant :
Emission d’une requête d’identification d’un second terminal électronique vers la borne de positionnement, ladite requête d’identification comportant un identifiant enregistré dans une mémoire du second terminal électronique ; Génération d’une réponse comportant un identifiant d’objet virtuel et ladite position d’ancrage dudit objet virtuel vis-à-vis de la borne de positionnement ; Affichage dudit objet virtuel sur un afficheur du second terminal électronique en superposition d’une image acquise par une optique dudit second terminal électronique.
Selon un autre aspect, l’invention concerne un produit programme d’ordinateur comportant au moins un calculateur et une mémoire et comprenant des instructions qui, lorsque le programme est exécuté par un ordinateur, conduisent celui-ci à mettre en œuvre les étapes réalisées par le terminal électronique du procédé de l’invention.
Selon un autre aspect, l’invention concerne un produit programme d’ordinateur comportant au moins un calculateur et une mémoire et comprenant des instructions qui, lorsque le programme est exécuté par un ordinateur, conduisent celui-ci à mettre en œuvre les étapes réalisées par la borne de positionnement du procédé de l’invention.
Selon un autre aspect, l’invention concerne un système d’ancrage d’un objet virtuel, ledit système comportant :
Une borne de positionnement comportant une mémoire et un calculateur et une première interface de communication UWB ; Un terminal électronique comportant une seconde interface de communication UWB ;
la borne de positionnement et le terminal électronique étant configurés pour mettre en œuvre le procédé de l’invention.
Selon un mode de réalisation, le procédé d’ancrage d’un objet virtuel pour être affiché sur un afficheur électronique d’un terminal électronique à une position donnée de l’espace, ledit procédé comportant :
De façon classique, les procédés PEALD mettent en œuvre des plasmas à couplage capacitif ou à couplage inductif (respectivement communément désignées CCP, de l’anglais Capacitively Coupled Plasma, et ICP, de l’anglais Inductively Coupled Plasma). Pour cela, ces procédés sont réalisés dans des réacteurs comprenant généralement une chambre 10’ de réaction, une arrivée de précurseur gazeux 12’ configurée pour amener des précurseurs gazeux dans la chambre 10’, et un module de pompage 13’ de la chambre 10’. Dans un réacteur 1’ CCP conventionnel, par exemple illustré en , le plasma est typiquement généré 3 typiquement à des pressions de l’ordre de quelques Torr entre deux électrodes 110’, 18’ avec un dispositif de puissance radiofréquence (RF) 16’. Les électrodes 110’, 18’ sont disposées parallèlement l’une en face de l’autre et le substrat est déposé entre elles, une électrode 110’ étant le plateau relié à la masse 110’ portant le substrat 2. Dans les procédés classiques de CCP, le bombardement ionique sur le plateau est toutefois important. Des grilles peuvent être ajoutées dans l’espace inter-électrodes pour limiter ce bombardement ionique.
Dans un réacteur 1’ ICP, par exemple illustré en , le plasma est généré 3, typiquement à des pressions de l’ordre de 100 mTorr et de façon déportée, par une source 15’ par induction avec un dispositif de puissance RF 16’, puis est amené dans la chambre de réaction 10’ jusqu’au substrat 2 par diffusion. Le bombardement ionique est ainsi limité.
En effet, le bombardement ionique peut générer des défauts ponctuels ou étendus, tels que des implantations, déplacements d’atomes, stress en compression dans la couche en croissance, voire sa pulvérisation.
Cependant le bombardement ionique peut être bénéfique pour moduler la réactivité de surface et améliorer les propriétés du dépôt telles que la densité, la morphologie, la contrainte, la conformité notamment sur un substrat 3D, à condition que l’énergie de ce bombardement et sa densité ionique soient maîtrisées.
À cette fin, certains procédés récemment développés utilisent des plasmas ICP auxquels une polarisation RF supplémentaire a été ajoutée au niveau du porte-substrat, pour permettre l’extraction des ions du plasma déporté avec une énergie incidente contrôlée au moment où ils arrivent au voisinage du substrat.
En pratique, les matériaux élaborés dans ces réacteurs sont surtout des oxydes ou des nitrures, dont les propriétés physico-chimiques peuvent être éventuellement modulées par une polarisation supplémentaire permettant d’extraire les ions du plasma pour qu’ils assistent les mécanismes de croissance. L’obtention d’autres matériaux reste limitée.
Un bombardement ionique mal maîtrisé peut en outre affecter les propriétés visées de la couche déposée, et le substrat peut être endommagé par le bombardement ionique.
Un objet de la présente invention est donc de proposer une solution améliorée de dépôt assisté par plasma. Un objectif non limitatif de l’invention peut être de proposer un procédé amélioré de dépôt par couche atomique assisté par plasma, et notamment en termes de nature de couche déposée et/ou de sélectivité du dépôt.
RESUME Pour atteindre cet objectif, selon un aspect on prévoit un procédé de dépôt de couches atomiques assisté par plasma comprenant : une fourniture d’un substrat présentant une surface exposée dans un réacteur plasma, le réacteur plasma comprenant une chambre de réaction délimitée par des parois et un plateau électriquement conducteur. Le plateau électriquement conducteur présente une face supérieure sur laquelle est disposé le substrat. Une paroi latérale de la chambre de réaction est au moins en partie non parallèle à la face supérieure du plateau et électriquement conductrice. une pluralité de cycles de dépôt de couches atomiques sur la surface exposée du substrat, chaque cycle comprenant : une injection dans la chambre de réaction d’un précurseur à base d’une première espèce, un traitement plasma de la surface exposée du substrat par un plasma généré par couplage capacitif entre le plateau et la paroi latérale, par application d’une puissance radiofréquence au plateau.
Grâce à la configuration non parallèle des deux électrodes, le couplage capacitif entre le plateau et les parois de la chambre permet de créer un plasma localisé au voisinage du substrat, à une énergie et une densité des ions faibles et finement ajustables, notamment par rapport à un réacteur CCP classique. Ces paramètres peuvent être ajustés selon les conditions de puissance RF et de pression. Cela limite ainsi grandement les dommages au substrat occasionnés par le bombardement ionique. Ce flux ionique plus faible est en outre plus finement contrôlable par rapport à un réacteur ICP avec polarisation du substrat, ce qui permet d’aboutir à un meilleur compromis entre les dommages induits au substrat et l’efficacité du bombardement ionique. Cela limite ainsi grandement les dommages au substrat par rapport au réacteur CCP et au réacteur ICP avec polarisation du substrat.
En outre, cela permet d’accéder à des paramètres de plasma permettant des dépôts de chimie et de microstructure variées, comme cela apparaîtra à la lecture de la description.
Selon un deuxième aspect, on prévoit un réacteur de dépôt assisté par plasma comprenant : une chambre de réaction délimitée par des parois et comprenant un plateau électriquement conducteur présentant une face supérieure destinée à recevoir un substrat, une arrivée de précurseur gazeux configurée pour amener des précurseurs gazeux dans la chambre de réaction, un module de pompage de la chambre de réaction, une source de puissance configurée pour appliquer une puissance radiofréquence au plateau.
La puissance radiofréquence appliquée au plateau et la distance entre le plateau et la paroi latérale permettent de générer le plasma par couplage capacitif entre ces deux éléments. Le plasma est ainsi généré de façon localisée au voisinage du substrat, grâce à la configuration non parallèle des deux électrodes, ce qui présente les avantages décrits ci-dessus. Enfin, ce réacteur permet des dépôts de couches de chimie et microstructures plus variées qu’un réacteur ICP conventionnel avec ou sans polarisation du substrat.
La présente invention a aussi pour objet un extrait de Dendrobium officinale, ou d’une composition dermatologique le comprenant, pour son utilisation par voie topique, pour le traitement et/ou la prévention et/ou la diminution de la survenance de pathologies telles que la xérose sénile, le diabète, la tétraplégie, le Peeling Skin Syndrome, le psoriasis et/ou la dermatite atopique liées à la diminution de la prolifération des kératinocytes de la peau pathologique, préférentiellement de l’épiderme pathologique, plus préférentiellement de la couche basale de l’épiderme pathologique.
En particulier l’extrait est un extrait selon l’invention plus particulièrement tel que décrit et/ou défini ci-dessus dans la présente description.
Selon un mode de réalisation, l’extrait selon l’invention est caractérisé en ce qu’il se trouve sous la forme d’une composition dermatologique comprenant au moins un excipient dermatologiquement acceptable.
Selon un mode de réalisation, l’extrait selon la présente invention n’est pas utilisé en combinaison avec du ribose et du beta-glucane.
Selon un mode de réalisation, la composition est caractérisée en ce que l’extrait de Dendrobium officinale est présent dans ladite composition à une teneur comprise entre 1x10 -4 % et 10% (p/p), préférentiellement entre 1x10 -3 % et 10% (p/p), avantageusement entre 1x10 -3 % et 3% (p/p), plus préférentiellement entre 0,01% et 3% (p/p), et encore plus préférentiellement entre 0,01 % et 1% (p/p), par rapport au poids total de la composition.
Préférentiellement, la composition cosmétique selon l’invention comprend un ou plusieurs ingrédients actifs cosmétiques tels que des actifs hydratants, des actifs anti-âges, des actifs anti-radicalaires, les agents protecteurs du facteur de croissance des fibroblastes (FGF), les agents stimulant l’activité et/ou la prolifération des fibroblastes et/ou des eaux thermales.
Plus préférentiellement, la composition selon l’invention ne contient pas de ribose et/ou de beta-glucane.
Les compositions selon l’invention peuvent contenir tout solvant approprié et / ou tout véhicule approprié et/ou tout excipient approprié, éventuellement en combinaison avec d’autres composés d’intérêt.
De ce fait, pour ces compositions, l'excipient contient par exemple au moins un composé choisi parmi le groupe comprenant les conservateurs, les émollients, les émulsifiants, les tensioactifs, les hydratants, les épaississants, les conditionneurs, les agents matifiants, les stabilisants, les antioxydants, les agents de texture, les agents de brillance, les agents filmogènes, les solubilisants, les pigments, les colorants, les parfums et les filtres solaires. Ces excipients sont de préférence choisis parmi le groupe consistant en les acides aminés et leurs dérivés, les polyglycérols, les esters, les polymères et dérivés de cellulose, les dérivés de Lanoline, les phospholipides, les lactoferrines, les lactoperoxydases, les stabilisants à base de sucrose, les vitamines E et ses dérivés, les cires naturelles et synthétiques, les huiles végétales, les triglycérides, les insaponifiables, les phytostérols, les esters végétaux, les silicones et ses dérivés, les hydrolysats de protéines, l’huile de Jojoba et ses dérivés, les esters lipo/hydrosolubles, les bétaïnes, les aminoxydes, les extraits de plantes, les esters de Saccharose, les dioxydes de Titane, les glycines, et les parabènes, et encore de préférence parmi le groupe consistant en le butylène glycol, le stéareth-2, le stéareth-21, le glycol-15 stéaryle éther, le cétéaryl alcool, le phénoxyéthanol, le méthyl parabène, l’éthylparabene, le propylparabene, le butylparabene, le butylène glycol, les tocophérols naturels, la glycérine, le dihydroxycétyl sodium phosphate, l’isopropyl hydroxycétyl éther, le glycol stéarate, la triisononanoïne, l’octyl cocoate, le polyacrylamide, l’isoparaffine, le laureth-7, un carbomer, le propylène glycol, le glycérol, le bisabolol, une diméthicone, l’hydroxyde de sodium, le PEG 30-dipolyhydroxystérate, les triglycérides caprique/caprylique, le cétéaryl octanoate, le dibutyl adipate, l’huile de pépin de raisin, l’huile de jojoba, le sulfate de magnésium, l’EDTA, une cyclométhicone, la gomme de xanthane, l’acide citrique, le lauryl sulfate de sodium, les cires et les huiles minérales, l’isostéaryl isostéarate, le dipélargonate de propylène glycol, l’isostéarate de propylène glycol, le PEG 8, la cire d'abeille, les glycérides d’huile de cœur de palme hydrogénée, les glycérides d’huile de palme hydrogénée, l’huile de lanoline, l’huile de sésame, le cétyl lactate, le lanoline alcool, l’huile de ricin, le dioxyde de titane, le lactose, le saccharose, le polyéthylène basse densité, une solution isotonique salée, et leurs mélanges.
De nombreux ingrédients cosmétiquement actifs sont connus par l'homme du métier pour améliorer la santé et / ou l'apparence physique de la peau (y compris le cuir chevelu). L'homme du métier sait formuler les compositions cosmétiques et/ou dermatologiques pour obtenir les meilleurs effets. D'autre part, ces composés peuvent avoir un effet de synergie lorsqu'ils sont combinés les uns aux autres. Ces combinaisons sont également couvertes par la présente invention. Le CTFA Cosmetic Ingredient Handbook, Second Edition (1992) décrit différents ingrédients cosmétiques et pharmaceutiques utilisés couramment dans l'industrie cosmétique et pharmaceutique, qui sont en particulier adaptés à une utilisation topique. Des exemples de ces classes d'ingrédients comprennent, sans en être limités, les composés suivants: abrasifs, absorbants, composés à but esthétique tel que les parfums, les pigments, les colorants, les huiles essentielles, les astringents, etc. (par exemple: l’huile de clou de girofle, menthol, camphre, l’huile d’eucalyptus, eugénol, menthyl lactate, distillat d’hamamélis), les agents anti-acné, les agents anti-floculants, les agents antimousse, les agents antimicrobiens (par exemple: iodopropyl butylcarbamate), les antioxydants, les liants, les additifs biologiques, les agents tampons, les agents gonflants, les agents chélatants, les additifs, les agents biocides, les dénaturants, les épaississants, et les vitamines, et les dérivés ou équivalents de ceux-ci, les matériaux formant des films, les polymères, les agents opacifiants, les ajusteurs de pH, les agents réducteurs, les agents dépigmentants ou éclaircissants (par exemple : hydroquinone, acide kojique, acide ascorbique, magnésium ascorbyl phosphate, ascorbyl glucosamine), les agents de conditionnement (par exemple : les humectants).
La composition cosmétique pourra comprendre par ailleurs d’autres agents cosmétiques et/ou dermatologiques possédant les mêmes propriétés et induisant un effet synergique ou non avec l’extrait de Dendrobium officinale selon l’invention, ou des agents cosmétiques à effets complémentaires.
Il peut s’agir par ailleurs d’ingrédients actifs anti-âge comme un extrait de feuilles de Nephelium lappaceum commercialisé sous le nom de Nephoria TM par BASF Beauty Care Solutions ou un extrait de Cichorium intybus commercialisé sous le nom de Lox-Age TM par BASF Beauty Care Solutions de et/ou des agents tenseurs et/ou des ingrédients actifs hydratant tel qu’un extrait d’écorce de Nephelium lappaceum commercialisé sous le nom de Nephydrat TM par BASF Beauty Care Solutions et/ou des agents actifs augmentant l’effet barrière de l’épiderme comme par exemple un extrait de graines de lin hydrolysées commercialisé sous le nom d’Oligolin TM par BASF Beauty Care Solutions.
Chacune des cloisons latérales 174 comprend un bord longitudinal libre 180, à l’opposé de la cloison supérieure 176. Une paroi coudée 182 s’étend depuis chacun des bords longitudinaux libres 180 de chacune des cloisons latérales 174, et en direction du volume de réception 178 de l’adaptateur 20. De manière plus précise, chacune des parois coudées 182 comprend une face interne 184 tournée vers la cloison supérieure 176 destinée à être au contact de la surface de contact 164 d’une des parois de maintien 162 formant un des moyens de butée de l’adaptateur, la surface de contact 164 formant un plan de calage selon la direction verticale, apte à bloquer en position le bras 119a sur l’adaptateur 20 selon le premier sens vertical SV1. L’adaptateur 20 embarque ainsi des moyens de calage aptes à bloquer la position verticale du premier type de bras d’essuie-glace dans les deux sens, avec donc deux plans de calage différents selon la direction verticale PV1, PV2 référencés sur la . De manière arbitraire, dans cette description des figures, on appelle premier plan de calage selon la direction verticale PV1 le plan de calage formé par la face supérieure 1680 des plots 168 formant les premiers moyens de calage, et deuxième plan de calage selon la direction PV2 le plan de calage formé par la surface de contact 164 des parois de maintien 162.
Tel que visible sur la , l’extrémité du bras 119a, ici la chape 124, comprend par ailleurs au moins un doigt 186 qui s’étend dans le prolongement transversal d’une des parois coudées 182, sensiblement dans le même plan longitudinal L et transversal T dans lequel s’étend ladite paroi coudée 182. Le doigt 186 est notamment formé sur l’extrémité du bras 119a de telle sorte qu’il coopère, lorsque ce bras est fixé sur l’adaptateur amovible, avec l’épaulement vertical 154 formé sur l’adaptateur 20 au niveau de la première extrémité longitudinale 146 de ce dernier. Plus particulièrement, l’épaulement vertical 154 forme une butée longitudinale à la mise en place du bras 119a sur l’adaptateur amovible selon un premier sens longitudinal SL1, dirigé depuis la première extrémité longitudinale 146 de l’adaptateur vers la deuxième extrémité longitudinale 158 de l’adaptateur. De manière arbitraire, dans cette description des figures, on appelle premier plan de calage selon la direction longitudinale PL1 le plan de calage formé par l’épaulement vertical 154, formant un des moyens de calage ou de butée de l’adaptateur.
Par ailleurs, la illustre que les parois de maintien 162 s’étendent en saillie transversale de l’adaptateur selon une dimension telle que chaque bord d’extrémité transversale 166 est sensiblement au contact de la chape 124 et participe à bloquer la position transversale de la chape par rapport à l’adaptateur. On appelle ici le premier plan de calage selon la direction transversale PT1 et le deuxième plan de calage selon la direction transversale PT2 les plans de calage formés par chacun des bords d’extrémité transversale 166.
Tel qu’évoqué précédemment, la protubérance 150 peut comporter deux bords droits formant épaulement vertical de sorte que le bras 119a pourrait être monté sur l’adaptateur amovible selon un deuxième sens longitudinal SL2, dirigé depuis la deuxième extrémité longitudinale 158 de l’adaptateur vers la première extrémité longitudinale 146 de l’adaptateur. Dans ce qui va suivre, il va être décrit principalement un montage selon le premier sens longitudinal SL1, et dans le cadre d’une application avec un module de connexion comportant une plateforme rotative, étant rappelé que l’adaptateur et les premiers plans de calage qui viennent d’être décrits pourraient être mis en œuvre sans que le module de connexion comporte une telle plateforme rotative.
Le procédé de montage d’un système d’essuyage 1 comprenant le bras 119a selon le premier type comprend au moins une première étape au cours de laquelle on déplace le capot 18 dans sa position de dégagement. Une telle première étape peut permettre notamment de libérer l’extrémité libre 44 de la plateforme rotative 16 de telle sorte que cette dernière se déplace depuis sa position travail à sa position de montage lors d’une deuxième étape. En d’autres termes, lors de la deuxième étape on bascule la plateforme rotative 16 dans sa position de montage afin que l’axe d’allongement principal de la plateforme rotative soit incliné par rapport à l’axe d’allongement principal de la base 14.
Une telle position de montage de la plateforme rotative 16 permet, lors d’une troisième étape, d’autoriser le glissement de la chape 124 du bras 119a le long de la plateforme rotative 16 portant l’adaptateur 20 suivant une translation parallèle à l’axe d’allongement principal de la plateforme rotative 16, cette translation étant effectuée selon le premier sens longitudinal SL1 depuis la première extrémité longitudinale 146 de l’adaptateur vers la deuxième extrémité longitudinale 158 de l’adaptateur. De manière plus précise, on peut définir ici une extrémité libre 188 de la chape 124 du bras 119a et une extrémité de liaison 190 de la chape 124 du bras 119a opposée à l’extrémité libre 188 selon la direction longitudinale L, la translation de la chape 124 du bras 119a le long de la plateforme rotative 16 commençant par un engagement de l’extrémité de liaison 190 autour de la première extrémité longitudinale 146 de l’adaptateur dans le cas du montage selon le premier sens longitudinal SL1, ou de l’extrémité libre 188 autour de la deuxième extrémité longitudinale 148 dans le cas du montage selon le deuxième sens longitudinal SL2. Lors de cette troisième étape, on translate l’extrémité du bras 119a le long de l’adaptateur 20 de telle sorte que les faces internes 184 des parois coudées 182 du bras 119a glissent le long de la surface de contact 164 de chacune des parois de maintien 162 de l’adaptateur 20 et jusqu’à ce que le doigt 186 de la chape 124 entre en contact de l’épaulement vertical 154 formé sur l’adaptateur 20 et formant un moyen de butée longitudinale selon le premier sens longitudinal SL1, ou selon le deuxième selon longitudinal SL2.
Par la suite, lors d’une quatrième étape, on déplace la plateforme rotative 16, portant l’adaptateur 20 et l’extrémité du bras 119a rendue solidaire de cet adaptateur, dans sa position de travail de telle sorte que son extrémité libre 44 coopère avec le bloc de guidage 42 de la base 14 du module de connexion 12. Enfin, à une cinquième étape, on bascule le capot 18 depuis sa position de dégagement à sa position de recouvrement de telle sorte qu’il forme un moyen de butée verticale du bras, selon le premier sens vertical SV1 et un moyen de butée longitudinale du bras, selon le deuxième sens longitudinal SL2. Plus particulièrement, un bord du capot 18 vient au contact de la cloison supérieure 176 de la chape 124 lorsque le capot est rabattu dans sa position de recouvrement, tel que visible sur la . Par ailleurs, lors de cette cinquième étape, la paroi d’extension 19 et notamment la surface interne 21 de la paroi d’extension 19 est disposée en regard de la cloison supérieure 176 de la chape 124 au niveau de son extrémité libre 188 et forme un moyen de butée verticale du bras selon le premier sens vertical SV1.