Dispositif (200) à ondes élastiques de surface comprenant : - un substrat (210) ; - une couche piézoélectrique (240) au-dessus d’une face supérieure du substrat (210) ; - une paire d’électrodes (250A, 250B) en contact avec la couche piézoélectrique, les deux électrodes comprenant des doigts (252A, 252B) s’étendant selon une même direction (D) de manière à former une structure périodique dans laquelle les doigts des deux électrodes alternent les uns avec les autres, et présentant une distance interdigitale (2×p) séparant des centres de deux doigts adjacents d’une même électrode ; - une couche métallique (220) interposée entre le substrat et la couche piézoélectrique ; et - au moins une couche diélectrique (230) interposée entre la couche métallique et la couche piézoélectrique, le dispositif étant caractérisé en ce que : - la couche métallique (220) présente une épaisseur comprise entre 5 nm et 100 nm ; et - la au moins une couche diélectrique (230) présente une épaisseur comprise entre 25 nm et 600 nm. Le dispositif à ondes élastiques de surface selon la revendication 1, dans lequel la couche métallique présente une épaisseur comprise entre 0,25% et 5% de la distance interdigitale. Le dispositif à ondes élastiques de surface selon l’une quelconque des revendications précédentes 1 et 2, dans lequel la couche diélectrique présente une épaisseur comprise entre 250 nm et 400 nm. Le dispositif à ondes élastiques de surface selon l’une quelconque des revendications précédentes 1 et 2, dans lequel la couche diélectrique présente une épaisseur supérieure à cinq fois l’épaisseur de la couche métallique. Le dispositif à ondes élastiques de surface selon l’une quelconque des revendications précédentes 1 et 2, dans lequel la couche diélectrique présente une épaisseur inférieure à 200 nm. Le dispositif à ondes élastiques de surface selon l’une quelconque des revendications précédentes 1 à 5, comprenant en outre une couche diélectrique optionnelle (330), interposée entre le substrat (210) et la couche métallique (220). Le dispositif à ondes élastiques de surface selon la revendication 6, dans lequel la couche diélectrique (230) et la couche diélectrique optionnelle (330) ont chacune une épaisseur inférieure à 300 nm. Le dispositif à ondes élastiques de surface selon la revendication 6, dans lequel la somme de l’épaisseur de la couche diélectrique (230) et de l’épaisseur de la couche diélectrique optionnelle (330) est inférieure à 200 nm. Le dispositif à ondes élastiques de surface selon la revendication 6, dans lequel le rapport de l’épaisseur de la couche diélectrique optionnelle (330) sur la somme de l’épaisseur de la couche diélectrique (230) et de l’épaisseur de la couche diélectrique optionnelle (330) est compris entre 15% et 30%. Le dispositif à ondes élastiques de surface selon l’une quelconque des revendications précédentes 1 à 9, dans lequel la couche piézoélectrique comprend une juxtaposition d’une couche de tantalate de lithium LiTaO 3 et d’une couche de niobate de lithium LiNbO 3 . Le dispositif à ondes élastiques de surface selon l’une quelconque des revendications précédentes 1 à 10, dans lequel la couche métallique (220) comprend des surfaces métallisées séparées d’une distance inférieure ou égale à la distance interdigitale. Dispositif (900) de filtrage à ondes élastiques de surface comprenant le dispositif à ondes élastiques de surface selon l’une quelconque des revendications précédentes 1 à 11. Procédé (1100) de fabrication du dispositif selon l’une quelconque des revendications précédentes 1 à 12, comprenant une étape (1150) de collage direct.