INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
HYDROXYACIDES La composition selon la présente invention comprend au moins un hydroxyacide. Cet hydroxyacide peut être choisi parmi entre un alpha hydroxyacide et/ou un bêta hydroxyacide. De préférence, l' au moins un hydroxyl acide est une combinaison d'un alpha-hydroxyacide et d'un bêta-hydroxyacide.
Alpha hydroxyacides Par "alpha hydroxyacide", on entend, selon la présente invention, un acide carboxylique ayant au moins un groupe fonctionnel hydroxyle occupant une position alpha sur ledit acide (carbone adjacent à un groupe fonctionnel acide carboxylique).
Les alpha hydroxyacides convenables incluent acide glycolique, acide citrique, acide lactique, acide méthyllactique, acide glucuronique, acide pyruvique, acide 2-hydroxybutanoïque, acide 2-hydroxypentanoïque, acide 2-hydroxyhexanoïque, acide 2-hydroxyheptanoïque, acide 2-hydroxyoctanoïque, acide 2-hydroxynonanoïque, acide 2-hydroxydécanoïque, acide 2-hydroxyundécanoïque, acide 2-hydroxydodécanoïque, acide 2-hydroxytétradécanoïque, acide 2-hydroxyhexadécanoïque, acide 2-hydroxyoctadécanoïque, acide 2-hydroxytétracosanoïque, acide 2-hydroxyeicosanoïque, acide mandélique, acide phényllactique, acide gluconique, acide galacturonique, acide aleuritique, acide ribonique, acide tartronique, acide tartrique, acide malique, acide fumarique.
Le compartiment à batterie 3 peut être muni d’un chemin de galets sur lequel le bloc-batterie 5 se déplace à travers l’ouverture latérale 4 pour sortir du compartiment de batterie 3 ou s’y engager.
A la , le bloc-batterie 5 sorti du compartiment de batterie 3 se trouve sur un poste de changement de batterie 6, par exemple, réalisé comme un chemin à galets.
Sur le côté du compartiment à batterie 3 à l’opposé de l’ouverture 4, le chariot de manutention 1 est muni d’un dispositif de verrouillage 10 représenté de manière plus détaillée à la ; ce dispositif verrouille le bloc-batterie 5 dans le compartiment à batterie 3 pendant le fonctionnement du chariot de manutention 1.
La est une vue éclatée du dispositif de verrouillage 10 du chariot de manutention 1 selon l’invention.
Le dispositif de verrouillage 10 comprend un support 11 fixé au châssis 2 du chariot de manutention 1, par exemple, à la paroi latérale 12 ( ) du compartiment à batterie 3, à l’opposé de son ouverture 4.
Le dispositif de verrouillage 10 comporte un levier de verrouillage 15 monté pivotant sur le support 11 et ainsi au châssis 2 autour d’un premier axe de pivotement S1. Deux consoles de palier 11a, 11b du support 11 portent les perçages de réception 14a, 14b correspondants, recevant les goujons de palier 17a, 17b logés dans les perçages de réception 16a, 16b du levier de verrouillage 15.
Le levier de verrouillage 15 est réalisé de façon à verrouiller le bloc-batterie 5 engagé dans le compartiment à batterie 3. A cet effet, le levier de verrouillage 15 est muni, d’une surface de butée 19 pour coopérer avec le côté intérieur de la zone d’extrémité supérieure d’un segment de paroi 5a, par exemple, d’une paroi latérale du bloc-batterie 5 logée dans le compartiment à batterie 3.
Le dispositif de verrouillage 10 comporte un levier de manœuvre 20 monté pivotant sur le support 11 et ainsi sur le châssis 2 autour d’un second axe de pivotement S2. Les deux consoles de palier 11c, 11d du support 11 comportent des perçages de réception 18 correspondants, recevant les goujons de palier 17c, 17d des perçages de réception 21a, 21b du levier de manœuvre 20. La montre uniquement les perçages de réception 18 de la console de palier 11c. Le perçage de réception 18 de la console de palier 11d est caché à la par d’autres composants du dispositif de verrouillage 10.
Le levier de manœuvre 20 sert à manœuvrer le levier de verrouillage 15.
Pour cela, le dispositif de verrouillage 10 a une barre de couplage 25 reliée de manière articulée au levier de verrouillage 15 par un premier axe d’articulation G1 et au levier de manœuvre 20 par un second axe d’articulation G2.
Le premier axe d’articulation G1 comprend les perçages de réception 26a, 26b dans le levier de verrouillage 15 et un perçage de réception 27 dans la barre de couplage 25 recevant les goujons de palier 28a, 28b.
Le second axe d’articulation G2 comprend des perçages de réception 30a, 30b dans le levier de manœuvre 20 et un perçage de réception 31 dans la barre de couplage 25 recevant les goujons de palier 32a, 32b.
Le levier de manœuvre 20 de l’exemple de réalisation présenté est un levier à deux bras ; un premier bras 20a du levier de manœuvre 20 est en forme de poignée 34 pour manœuvrer à la main le levier de manœuvre 20 et un second bras 20b du levier de manœuvre 20 est muni d’un élément d’éjection 33 pour coopérer avec le segment de paroi 5a du bloc-batterie 5.
Le support 11 comporte un élément de butée 35. L’élément de butée 35 est, de préférence, sous la forme d’un tampon en caoutchouc 36.
Le dessous du levier de verrouillage 15 a, une surface de manœuvre 37 de forme courbe ou d’arc, pour coopérer avec le côté supérieur du segment de paroi 5a du bloc-batterie 5.
La surface de manœuvre 37 rejoint la surface de butée 19, dans la zone d’extrémité tournée vers l’axe de pivotement S1. La transition entre la surface de manœuvre 37 et la surface de butée 19 fait, de préférence, un angle de l’ordre de 90°.
Cette valeur d’inclinaison angulaire présente l’avantage d’écarter suffisamment la plateforme rotative 16 de la base 14 pour permettre le montage de certains types de bras sur le dispositif de connexion 8, notamment des bras présentant une extrémité en forme de crochet, sans toutefois que le bras n’entre en contact avec le balai sur lequel est fixé le dispositif de connexion 8.
La base 14 comprend un cadre comportant au moins deux parois longitudinales, s’étendant le long de la direction longitudinale L entre la première extrémité longitudinale et la deuxième extrémité longitudinale parallèlement l’une par rapport à l’autre, et deux parois transversales s’étendant perpendiculairement et entre les parois longitudinales, une première paroi transversale étant disposée à la première extrémité longitudinale de la structure et en regard du bloc de guidage 42 tandis que la deuxième paroi transversale est disposée à la deuxième extrémité longitudinale et porte l’organe de rotation 40. En d’autres termes, les parois transversales s’étendent parallèlement à la direction transversale T, de sorte à former avec les parois longitudinales le cadre portant au moins le bloc de guidage 42 et l’organe de rotation 40.
Au moins une paroi longitudinale porte l’organe de pivotement 38 précédemment évoqué et configuré pour coopérer avec l’élément de pivotement 36 du connecteur 10. On comprend que le toron de l’organe de pivotement 38 s’étend vers l’extérieur de la paroi longitudinale qui le porte, c’est-à-dire à l’opposé de l’autre paroi longitudinale, pour coopérer avec l’orifice de l’élément de pivotement 36 porté par le pan 34 correspondant du connecteur 10.
Plus précisément, l’organe de pivotement 38 comprend une languette délimitée longitudinalement par au moins une rainure verticale formée dans la paroi longitudinale, la languette portant le toron s’étendant transversalement vers l’extérieur de la base 14. La languette s’étend principalement le long de la direction verticale V, de sorte qu’un axe de fléchissement de la languette s’étende parallèlement à la direction longitudinale L. Le fléchissement de la languette permet le montage de la base 14 sur le connecteur 10, la languette étant mobile autour de l’axe de fléchissement lors du montage de la base 14 sur le connecteur 10 de sorte à reprendre sa position initiale une fois que le toron s’étend au moins en partie dans l’orifice du pan 34.
Les parois longitudinales sont écartées l’une de l’autre de sorte qu’elles s’étendent entre les pans 34 du connecteur 10 lorsque la base 14 est fixée sur le connecteur par encliquetage, la base 14 s’étendant au moins en partie dans le logement défini par les pans 34 du connecteur 10 tel qu’évoqué précédemment.
De plus, les parois longitudinales présentent chacune une encoche s’étendant longitudinalement sur un bord supérieur de la paroi longitudinale.
Le bloc de guidage 42, disposé à la première extrémité longitudinale de la base, comprend deux pans latéraux s’étendant parallèlement l’un par rapport à l’autre chacun dans le prolongement vertical de l’une des parois longitudinales, à l’opposé du connecteur 10. Les pans latéraux participent notamment à délimiter un logement de l’extrémité libre 44 de la plateforme rotative 16 lorsque celle-ci est dans la première position de travail.
Le bloc de guidage 42 comprend au moins un évidement formé sur une face interne d’un des pans latéraux. Préférentiellement, chacune des faces internes des pans latéraux présente un évidement. Au moins un évidement participe à former une empreinte de réception de l’extrémité libre 44 de la plateforme rotative 16.
Par ailleurs, la base 14 comprend un organe de pivot apte à coopérer avec un élément de pivot du capot 18 de manière former un dispositif de pivot entre base et capot autour de l’axe de pivot A. Le capot 18 est de la sorte mobile entre une position de recouvrement dans laquelle le capot 18 est en contact avec le bloc de guidage 42, en recouvrement au moins en partie du logement de l’extrémité libre 44 de la plateforme rotative 16 et d’une extrémité d’un bras d’essuie-glace fixé sur le dispositif de connexion, et une position de dégagement dans laquelle le capot 18 est à distance du bloc de guidage 42, pour permettre notamment le montage d’un bras d’essuie-glace sur la plateforme rotative dans sa position de montage. Ici, l’élément de pivot du capot est un orifice et l’organe de pivot comporte au moins un arbre faisant une saillie transversale de la base 14 au voisinage de la première extrémité longitudinale.
Un moyen de butée est associé à l’organe de pivot, de manière à former butée au pivot du capot 18 autour de l’axe de pivot A et bloquer le capot 18 dans sa position de dégagement. Le moyen de butée prend par exemple ici la forme d’un pion s’étendant depuis une face externe d’un des pans latéraux le long de la direction transversale T.
Tel que cela est illustré, les pans latéraux peuvent être symétriques l’un de l’autre par rapport à un plan médian de la base 14, perpendiculaire à l’axe de pivotement P.
À la deuxième extrémité longitudinale, la base 14 comprend au moins une excroissance qui fait saillie de la première paroi transversale à l’opposé du connecteur 10, notamment pour porter l’organe de rotation 40 précédemment évoqué et décaler verticalement cet organe de rotation 40 par rapport à l’organe de pivotement 38. L’organe de rotation 40 prend ici la forme d’un arbre porté par l’excroissance et dépassant transversalement de part et d’autre pour former deux portées aptes à coopérer avec un élément de rotation de la plateforme rotative. L’excroissance s’étend plus particulièrement depuis la paroi transversale principalement le long de la direction transversale T, à l’opposé du connecteur 10. Tel que cela a été évoqué, dans cette configuration, l’arbre est décalé au moins verticalement par rapport au cadre de la base 14, permettant ainsi à la plateforme rotative 16 de disposer de suffisamment d’espace pour pouvoir être entraîné en rotation autour de l’axe de rotation R.
La base 14 comprend un moyen de limitation de rotation de la plateforme rotative 16 autour de l’axe de rotation R, le moyen de limitation de rotation étant disposé à l’extrémité libre de l’excroissance. Le moyen de limitation de rotation permet ainsi de bloquer la rotation de la plateforme rotative 16 dans la deuxième position de montage, le moyen de limitation de rotation prenant par exemple la forme d’un doigt de butée.
Par ailleurs, la base 14 peut comprendre des moyens de reprise d’efforts, comportant notamment une aile 76 s’étendant dans un plan parallèle aux plans dans lesquels s’inscrivent respectivement les parois longitudinales, l’aile 76 formant une saillie d’une des parois longitudinales en s’étendant à l’opposé du bord supérieur de cette paroi longitudinale. Préférentiellement, la base 14 comprend une paire d’ailes 76 s’étendant de part et d’autre de la base 14, chacune des ailes 76 s’étendant dans un plan parallèle aux parois longitudinales et à distance de celles-ci en délimitant un logement d’un pan 34 du connecteur 10.
Pour certaines valeurs de paramètres, comme par exemple représenté sur la surface de réponse de la [Fig 45e], la surface de réponse montre qu’il n’y a pas de valeur de durée d’impulsion et de rapport cyclique Ton/Toff remplissant les critères d’efficacité de démaquillage précités.
Dispositif de traitement de matières kératiniques humaines La présente invention concerne le nettoyage des matières kératiniques humaines, et plus particulièrement mais non exclusivement le traitement de la peau, du scalp et/ou des cheveux, notamment ceux ayant subi une coloration.
La couche de masque 300 est formée sur la couche diélectrique 200. Elle est choisie de préférence en un matériau A présentant une sélectivité de gravure importante vis-à-vis du matériau diélectrique. La sélectivité de gravure S diélec:A entre le matériau diélectrique et le matériau A est de préférence supérieure ou égale à 10:1. Pour une couche diélectrique 200 à base de SiO2, la couche de masque 300 peut être à base de SiN ou de TiN. Ce choix de matériaux présente typiquement une bonne sélectivité pour une gravure HF vapeur de la couche diélectrique 200. Pour une couche diélectrique 200 à base de SiN, la couche de masque 300 peut être à base de Si. La couche de masque 300 peut présenter une épaisseur initiale e comprise entre 20 nm et 1000 nm, de préférence entre 50 nm et 300 nm. L’épaisseur initiale e pourra notamment être déterminée en fonction de la sélectivité de gravure entre les matériaux de la couche de masque et de la couche diélectrique.
Comme illustré aux figures 3A, 3B, et à la , des particules P sont ensuite déposées aléatoirement sur la face exposée 302 de la couche de masque 300. Le dépôt des particules P peut se faire par dispersion d’une solution colloïdale comprenant lesdites particules P en suspension. Dans une telle solution colloïdale, les particules P sont animées par un mouvement brownien qui assure une distribution aléatoire des positions de particules au sein de la solution, avant dépôt. Lors du dépôt sur la surface exposée 302 de la couche de masque 300, ce caractère aléatoire sur les positions de particules est conservé. À ce stade, les particules P se répartissent donc aléatoirement à la surface de la couche de masque 300. Le dépôt des particules P peut se faire sur une surface intermédiaire, typiquement une surface 30 d’un tampon 3 de polissage ou de brassage, mise en contact avec la face exposée 302 de la couche de masque 300, comme illustré à la . La dispersion peut se faire dans ce cas sur la surface intermédiaire 30, par exemple via une canule 4. Le caractère aléatoire sur les positions de particules est conservé lors de la mise en contact de la surface intermédiaire 30 avec la surface exposée 302 de la couche de masque 300.
Un brassage des particules P à la surface de la couche de masque 300 est ensuite effectué. Ce brassage est typiquement effectué par application d’un tampon 3 de brassage au contact des particules P et de la surface 302 de la couche de masque 300. Ainsi, au moins l’un parmi le tampon 3 de brassage et la face exposée 302 de la couche de masque 300 est déplacé par rapport à l’autre parmi le tampon de brassage et cette face exposée 302. Selon un mode de réalisation, le tampon 3 de brassage est déplacé et la face exposée 302 est fixe par exemple par rapport à un bâti de l’équipement supportant la face exposée. Selon un mode de réalisation alternatif, le tampon 3 de brassage est fixe et la face exposée 302 est déplacée. Alternativement le tampon 3 de brassage et la face exposée 302 sont tous les deux déplacés.
Selon un exemple ce déplacement comprend au moins une rotation R1, R2 et/ou au moins une translation T. De préférence ce déplacement comprend simultanément au moins une rotation R2 autour d’un axe zr selon z et une translation T dans un plan xy perpendiculaire à cet axe zr. Le déplacement peut comprendre au moins deux mouvements de rotation R1, R2. Par exemple, la face exposée 302 peut être mise en rotation selon une rotation R2 autour d’un axe correspondant sensiblement au centre de la face. Le tampon 3 de brassage peut être mis en rotation selon une rotation R1 autour d’un axe décalé vis-à-vis du centre de la face 302. Le tampon 3 de brassage et la face exposée 302 peuvent être mis en rotation selon des première et deuxième rotations R1, R2 de même sens ou contrarotatives. Le mouvement relatif du tampon 3 de brassage et de la face exposée 302 peut donc comprendre une ou plusieurs rotations, et éventuellement une ou plusieurs translations.
Ainsi selon un exemple, le tampon de brassage peut être animé par un mouvement de rotation et/ou de translation permettant de déplacer au moins certaines particules P à la surface 302 de la couche de masque 300. Cette étape de brassage permet ainsi de modifier les positions initiales des particules P sur la face exposée 302 de la couche de masque 300. Le caractère aléatoire de la répartition des particules P sur la face exposée 302 est ainsi renforcé. Selon une possibilité, les particules P sont déposées par dispersion sur le tampon 3 de brassage, puis mises en contact avec la face exposée 302 de la couche de masque 300 lors de l’application du tampon 3 de brassage sur ladite face exposée. Dans ce cas, la répartition des particules P est aléatoire sur la surface 30 du tampon 3 de brassage, et ces positions initiales aléatoires sont transférées à la surface de la couche de masque 300 lors de la mise en contact. Ces positions initiales sont ensuite modifiées telle que décrit précédemment, lors de la mise en mouvement du tampon 3 de brassage au contact de la face exposée 302 de la couche de masque 300. Selon un exemple, la surface 30 du tampon 3 de brassage présente des aspérités réparties aléatoirement. Ces aspérités aléatoires renforcent le caractère aléatoire sur les positions initiales des particules, avant brassage.
Selon un exemple, le déplacement relatif du tampon 3 de brassage par rapport à la face exposée 302 est défini par les paramètres des rotations R1 et/ou R2 et de la ou des translations T (vitesses, trajectoires, accélérations, décélérations etc). Selon un mode de réalisation optionnel ce déplacement est au moins en partie aléatoire. Par exemple la vitesse du déplacement, l’accélération ou la décélération, en rotation et/ou en translation, varient de manière aléatoire. De manière alternative ou combinée, la trajectoire du déplacement est aléatoire.
Selon un exemple, le déplacement relatif du tampon 3 de brassage par rapport à la face exposée 302 comprend une rotation R2 autour d’un axe de rotation zr qui se déplace dans un plan perpendiculaire à la face exposée 302. Selon un mode de réalisation optionnel ce déplacement de l’axe de rotation zr est aléatoire.
Comme illustré à la , en pratique, le dépôt et le brassage des particules P à la surface 302 de la couche de masque 300 peut avantageusement se faire par un procédé de polissage mécano-chimique CMP. Classiquement, dans un procédé CMP, la plaque 10, c’est-à-dire le substrat 100 portant le niveau d’interconnexions 10 A, est maintenue en face arrière par une tête de polissage 2, du côté opposé à la face exposée 302 de la couche de masque 300, et les particules P sont dispersées sur un tampon 3 de polissage faisant face à la tête de polissage 2. Le tampon 3 est porté par un bâti 1 d’entraînement en rotation. La tête de polissage 2 portant la plaque 10 est ensuite mise en contact avec le tampon 3 de polissage avec une certaine force d’appui, et la tête de polissage 2 et le tampon 3 de polissage sont animés par des mouvements de rotation/translation relatifs R1, R2, T. Dans le cadre de la présente invention, le tampon 3 de polissage de l’équipement CMP correspond avantageusement au tampon de brassage mis en œuvre dans le procédé selon l’invention.
Un tel procédé CMP habituellement configuré pour planariser une surface en retirant de la matière peut être configuré de façon à limiter ou éviter le retrait de matière de la couche de masque 300. En particulier, des paramètres tels que la force d’appui du tampon de polissage ou de brassage, la vitesse de rotation du tampon de brassage, le mouvement relatif du tampon de brassage vis-à-vis de la face exposée 302 de la couche de masque 300, la durée d’application du tampon de brassage, la nature des particules P, peuvent être choisis de façon à éviter une réduction significative d’épaisseur de la couche de masque 300. Selon un exemple, à l’issue de cette étape CMP, la couche de masque 300 peut présenter une épaisseur e’ ≥ 0,9.e, voire e’ ≥ 0,95.e, voire e’ ≥ 0,98.e. Dans un procédé CMP classique, une étape de nettoyage est réalisée après application du tampon de brassage afin de retirer le maximum de particules. Dans le procédé selon l’invention, ce procédé CMP n’est pas finalisé, en particulier l’étape de nettoyage final n’est pas réalisée et les particules P ne sont pas retirées en totalité à l’issue du brassage.
Selon une possibilité préférée, le procédé selon l’invention utilise donc avantageusement un procédé CMP incomplet ou dégradé pour déposer et répartir les particules P sur la face exposée 302 de la couche de masque 300. Comme les procédés CMP sont très classiques et parfaitement connus dans les technologies de la micro-électronique, le recours à un tel procédé CMP de façon détournée par le procédé selon l’invention permet une mise en œuvre du procédé selon l’invention à un coût réduit. Les coûts de mise au point ou de développement sont ainsi réduits ou inexistants. La mise en œuvre du procédé selon l’invention bénéficie également de la fiabilité des procédés CMP existants. Le procédé selon l’invention permet ainsi de répartir des particules P sur la face exposée 302 de la couche de masque de façon fiable et parfaitement aléatoire.
Selon une possibilité, les particules P sont des billes d’oxyde de silicium, également dénommées billes de slurry, couramment utilisées dans les procédés CMP classiques. Ces billes de slurry sont sensiblement sphériques et présentent généralement une taille ou un diamètre bien calibré. De façon préférée, la taille ou le diamètre des particules P est supérieure ou égale au diamètre des ouvertures de masque réalisées ensuite. Selon un exemple, les billes de slurry présentent un diamètre de l’ordre de 100 nm.
A l’issue du dépôt et du brassage aléatoire des particules P à la surface 302 de la couche de masque 300, des étapes de lithographie visant à former des ouvertures de vias sont effectuées. La nature et/ou la composition chimique des particules P peut être avantageusement choisie en fonction de la nature et/ou de la composition chimique de la couche de lithographie mise en œuvre lors des étapes de lithographie.
Les figures 5A, 5B, 6A, 6B, illustrent un premier mode de réalisation des étapes de lithographie mises en œuvre pour former les motifs d’ouvertures correspondant à la définition des vias dans la zone d’indivdualisation.
Comme illustré aux figures 5A, 5B, une couche de lithographie 400 à base de résine est déposée sur la couche de masque 300 en présence des particules P.
Une fois la quantité de grains de catalyseur souhaitée introduite dans le dispositif de régénération 100 (par exemple lorsque le pot de chargement 70 est vide), l’alimentation en liquide de fluidisation est interrompue. Les grains de catalyseur sédimentent alors naturellement. La sédimentation permet d’obtenir naturellement une répartition des grains de catalyseurs formant un lit homogène ayant un niveau sensiblement horizontal et uniforme sur l’ensemble de la section de la deuxième enceinte 107.