INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Un tel procédé CMP habituellement configuré pour planariser une surface en retirant de la matière peut être configuré de façon à limiter ou éviter le retrait de matière de la couche diélectrique 200. En particulier, des paramètres tels que la force d’appui du tampon de polissage ou de brassage, la vitesse de rotation du tampon de brassage, le mouvement relatif du tampon de brassage vis-à-vis de la face exposée 202 de la couche diélectrique 200, la durée d’application du tampon de brassage, la nature des particules P, peuvent être choisis de façon à éviter une réduction significative d’épaisseur de la couche diélectrique 200. Selon un exemple, à l’issue de cette étape CMP, la couche diélectrique 200 peut présenter une épaisseur e’ ≥ 0,9.e, voire e’ ≥ 0,95.e, voire e’ ≥ 0,98.e. Dans un procédé CMP classique, une étape de nettoyage est réalisée après application du tampon de brassage afin de retirer le maximum de particules. Dans le procédé selon l’invention, ce procédé CMP n’est pas finalisé, en particulier l’étape de nettoyage final n’est pas ou pas complétement réalisée et les particules P ne sont pas retirées en totalité à l’issue du brassage.
Selon une possibilité préférée, le procédé selon l’invention utilise donc avantageusement un procédé CMP incomplet ou dégradé pour déposer et répartir les particules P sur la face exposée 202 de la couche diélectrique 200. Comme les procédés CMP sont très classiques et parfaitement connus dans les technologies de la micro-électronique, le recours à un tel procédé CMP de façon détournée par le procédé selon l’invention permet une mise en œuvre du procédé selon l’invention à un coût réduit. Les coûts de mise au point ou de développement sont ainsi réduits ou inexistants. La mise en œuvre du procédé selon l’invention bénéficie également de la fiabilité des procédés CMP existants. Le procédé selon l’invention permet ainsi de répartir des particules P sur la face exposée 202 de la couche diélectrique 200 de façon fiable et parfaitement aléatoire.
Selon une possibilité, les particules P sont des billes d’oxyde de silicium, également dénommées billes de slurry, couramment utilisées dans les procédés CMP classiques. Ces billes de slurry sont sensiblement sphériques et présentent généralement une taille ou un diamètre bien calibré. De façon préférée, la taille ou le diamètre des particules P est supérieure ou égale au diamètre des motifs d’ouvertures réalisés ensuite. Selon un exemple, les billes de slurry présentent un diamètre de l’ordre de 100 nm.
D’autres particules P de tailles et de formes variées sont envisageables. Des particules organométalliques ou organo-minérales peuvent également être envisagées. La nature et/ou la composition chimique des particules P peut être avantageusement choisie en fonction de la nature et/ou de la composition chimique de la couche diélectrique et de la couche de masque. La nature et/ou la composition chimique des particules P peut notamment être sensiblement identique à la nature et/ou à la composition chimique de la couche diélectrique.
Comme illustré aux figures 5A, 5B, à l’issue du dépôt et du brassage aléatoire des particules P à la surface 202 de la couche diélectrique 200, une couche de masque 300 est formée.
La couche de masque 300 est de préférence déposée de façon conforme sur la couche diélectrique 200 et sur les particules P. Elle est choisie de préférence en un matériau présentant une sélectivité de gravure importante vis-à-vis du matériau diélectrique, par exemple pour une gravure HF vapeur. La sélectivité de gravure S diélec: HM entre le matériau diélectrique et le matériau de la couche de masque est de préférence supérieure ou égale à 10:1. Pour une couche diélectrique 200 à base de SiO2, la couche de masque 300 peut être à base de SiN ou de TiN. Pour une couche diélectrique 200 à base de SiN, la couche de masque 300 peut être à base de Si. La couche de masque 300 peut présenter une épaisseur comprise entre 20 nm et 1000 nm, de préférence entre 50 nm et 300 nm. L’épaisseur de la couche de masque 300 pourra notamment être déterminée en fonction de la sélectivité de gravure entre les matériaux de la couche de masque et de la couche diélectrique. Selon un exemple, l’épaisseur de la couche de masque 300 est de l’ordre de la dimension en hauteur des particules P.
Comme illustré aux figures 6A, 6B, une étape de planarisation est effectuée de manière à obtenir une couche composite 300’ présentant une surface plane 302’. Cette couche composite 300’ comprend des parties de la couche de masque 300 et au moins des parties des particules P. La planarisation peut être effectuée classiquement par CMP (avec une étape de nettoyage complète en fin de CMP), ou par gravure, par exemple par un procédé de gravure classique dénommé « etch back ».
A l’issue de la planarisation, les particules P peuvent rester totalement couvertes par la couche de masque 300, ou affleurer au niveau de la surface plane 302’ de la couche composite 300’. Cette planarisation permet d’obtenir une surface plane 302’ sur laquelle la lithographie suivante peut être effectuée de façon optimisée.
Les figures 7A, 7B, illustrent des étapes de lithographie mises en œuvre pour former les motifs d’ouvertures correspondant à la définition des vias dans la zone d’individualisation.
Typiquement, une couche de lithographie 400 à base de résine est déposée sur la couche composite 300’ comprenant les particules P.
La lame ressort 140 ; 240 passe ainsi dans sa configuration d’attente lorsque le poussoir 130 ; 230 est enfoncé dans son conduit d’accueil 117 ; 217 : les deux parties de la branche de support 141 ; 241 de la lame ressort 140 ; 240 formant un U se rapprochent, la branche d’interaction 142 ; 242 est déplacée vers le conduit d’insertion 111 ; 211. La fenêtre 143 ; 243 de la branche d’interaction 142 ; 242 est décalée et vient se placer dans le conduit d’insertion 111 ; 211, à la sortie du puits 111B ; 211B, de manière à libérer l’accès à la borne de connexion (figures 12 et 13).
Chaque borne de connexion de l’appareil électrique 100 ; 200 est ainsi armée et prête à recevoir un conducteur électrique pour sa connexion (figures 1 à 3 et 10 à 13).
De préférence, chaque borne de connexion de l’appareil électrique 100 ; 200 est armée en usine afin d’être livrée prête à l’emploi pour l’utilisateur.
Lorsque le poussoir 130 ; 230 est dans sa position enfoncée, le poussoir 130 ; 230 est intégralement logé dans le boîtier 110 ; 210. Sa tête d’actionnement 131 ; 231 affleure ou se situe en retrait de la face avant 114 ; 214 du boîtier 110 ; 210 (figures 1, 2, 10 et 11).
Avantageusement, le fait que le poussoir 130 ; 230 ne dépasse pas du boîtier 110 ; 210 dans sa position enfoncée indique visuellement à l’opérateur que la borne de connexion correspondante est armée. En outre, comme représenté sur la , l’ouverture d’accès 111A ; 211A du conduit d’insertion 111 ; 211 permet de vérifier que la borne de connexion est accessible pour le conducteur électrique.
Une deuxième étape de la mise en œuvre du bornier électrique 100 ; 200 consiste à introduire le conducteur électrique dans le conduit d’insertion 111 ; 211 du boîtier 110 ; 210 (figures 3 et 12). Il s’agit par exemple d’un conducteur électrique du type câble souple avec un embout serti. D’autres types de conducteurs électriques peuvent cependant être utilisés.
L’extrémité du conducteur électrique passe à travers l’ouverture d’accès 111A ; 211A, dans le puits 111B ; 211B délimitant partiellement le conduit d’insertion 111 ; 211 et à travers la fenêtre 143 ; 243 de la branche d’interaction 142 ; 242 de la lame ressort 140 ; 240. L’extrémité du conducteur électrique est introduite entre le bord de l’ouverture de la fenêtre 143 ; 243 de la branche d’interaction 142 ; 242 de la lame ressort 140 ; 240 et la barre conductrice 150 ; 250 (figures 3, 12, 13 et 15).
Elle arrive en contact avec la plate-forme de la partie d’actionnement 162 ; 262 de la pièce intermédiaire 160 ; 260 et appuie sur celle-ci, repoussant ainsi la partie d’actionnement 162 ; 262 de la pièce intermédiaire 160 ; 260 vers la face arrière du boîtier 110 ; 210. Le mouvement de translation de la partie d’actionnement 162 ; 262 de la pièce intermédiaire 160 ; 260 déforme le lien 163 ; 263 et entraîne le mouvement de la partie de retenue 161 ; 261 de la pièce intermédiaire 160 ; 260 pour libérer le poussoir 130 ; 230.
Lorsque le conducteur électrique est complètement inséré dans le conduit d’insertion 111 ; 211, la partie de retenue 161 ; 261 de la pièce intermédiaire 160 ; 260 pivote autour de l’axe de pivotement B1 ; B2 défini par le tourillon 166 ; 266 de la pièce intermédiaire 160 ; 260, en direction de la partie d’actionnement 162 ; 262. Ce faisant, le crochet formé par l’extrémité libre de la partie de retenue 161 ; 261 se désengage de sa coopération avec le pied 133 ; 233 du poussoir 130 ; 230 et libère celui-ci.
Le poussoir 130 ; 230 n’étant plus retenu dans sa position enfoncée, il remonte vers sa position relevée sous la pression de la lame ressort 140 ; 240 qui tend à reprendre sa forme initiale, c’est-à-dire sa forme au repos dans la configuration d’obturation. La surface de coopération 134 ; 234 du poussoir 130 ; 230 est ainsi adaptée à coopérer avec le coude de la lame ressort 140 ; 240 de manière à déplacer le poussoir 130 ; 230 vers l’avant.
Le coude 144 ; 244 de la lame ressort 140 ; 240 glisse sur la surface de coopération 134 ; 234 du poussoir 130 ; 230 et repousse ainsi celui-ci vers l’extérieur du boîtier 110 ; 210. Le poussoir 130 ; 230 se déplace alors en translation le long de la direction de déplacement D1 ; D2 jusqu’à ce que les éléments de butée du poussoir arrivent en butée contre les parois de butée du boîtier 110 ; 210. Le coude 144 ; 244 se positionne contre la partie de courbure concave de la surface de coopération 134 ; 234 du poussoir 130 ; 230.
Ce faisant, la fenêtre 143 ; 243 de la branche d’interaction 142 ; 242 de la lame ressort 140 ; 240 se déplace et son bord vient serrer le conducteur électrique 1 inséré dans le conduit d’insertion 111 ; 211 contre la barre conductrice 150 ; 250.
Ce mouvement de la lame ressort 140 ; 240 se traduit par un signal sonore du type « click » qui indique à l’opérateur que la connexion est effectuée.
Ainsi, la connexion électrique est établie uniquement lorsque le poussoir 130 ; 230 est libéré de sa coopération avec la partie de retenue 161 ; 261 de la pièce intermédiaire 160 ; 260, c’est –à-dire lorsque le conducteur électrique est complétement inséré dans le conduit d’insertion 111 ; 211 et appuie sur la partie d’actionnement 162 ; 262 de la pièce intermédiaire 160 ; 260.
En conséquence, la connexion électrique est fiable et sécurisée.
Pour déconnecter un conducteur électrique de la borne de connexion, il est nécessaire d’enfoncer le poussoir 130 ; 230, manuellement ou à l’aide d’un outil ( ), pour faire passer la lame ressort 140 ; 240 dans sa configuration d’attente, au moins temporairement. Il n’est pas nécessaire d’enfoncer complètement le poussoir 130 ; 230 jusqu’à l’accrocher sur la partie de retenue de la pièce intermédiaire 160 ; 260.
Les supports sont mis en contact avec un mélange contenant 95 ml de milieu minimum appauvri, 0.067 % de carbonate de sodium (NaHCO 3 ) et 5 ml de la suspension bactérienne de P.fluorescens préalablement préparée, ce mélange constituant la solution d’ensemencement.
Le tout est ensuite incubé pendant 48 h à 30 °C avec une agitation de 150 tour/min et une excentration de 5 cm.
3.Séchage
1 g de support inoculé est prélevé dans les erlenmeyers, puis les supports sont disposés dans une boîte de pétri de diamètre de 55 mm. Ces dernières sont mises à sécher en étuve sous vide 4 h à 35 °C sous une pression de 30 mbar.
Exemple 2 : Etude comparative de la survie des microorganismes issus de la lyophilisation et ceux issus du procédé selon l’invention
Afin de comparer l’efficacité du procédé de l’invention dans le maintien de la survie des microorganismes au cours du temps, une souche de bactéries P seudomonas fluoresce ns immobilisée selon le procédé de l’invention a été comparée avec cette même souche commercialisée sous forme lyophilisée.
Après séchage, chaque prélèvement de 1 g séché est stocké dans un flacon en polypropylène (PP) stérile placé à l’obscurité. A chaque temps de stabilité, deux prélèvements de 1 g sont analysés. Ces prélèvements sont ensuite placés dans 9 ml de tryptone-sel puis soumis à un vortex pendant 1 min avant d’être mis au bain ultrason pendant 10 min. La suspension obtenue est diluée en cascade et les dilutions sont dénombrées en surface sur milieu gélosé TSA, puis incubées à une température comprise entre 30 et 32 °C pendant 24 h.
Après l’incubation, les colonies sont comptées afin de déduire le pourcentage de survie. Pour finir, la moyenne des concentrations bactériennes des deux prélèvements analysés est effectuée.
Ces résultats montrent que, lorsque les bactéries sont lyophilisées, le taux de survie chute drastiquement au cours des 10 premières semaines, avec une perte a plus de 50 % de survie bactérienne. En revanche, lorsque les bactéries sont immobilisées, la perte de 50 % de survie bactérienne apparait seulement au bout de 30 semaines.
Sur une année complète, soit environ 52 semaines, ces résultats sont d’autant plus probants sur l’efficacité du procédé de la demanderesse dans le maintien de la survie des bactéries.
En effet, la survie moyenne reste aux alentours des 50 % après un an pour l’immobilisation alors qu’elle ne cesse de décroitre pour la lyophilisation pour atteindre 10 % après un an.
Ces résultats montrent ainsi que le procédé de la demanderesse permet le maintien de la survie dans le temps des microorganismes.
montre un comparatif du pourcentage de la survie de la bactérie Pseudomonas f luorescens immobilisée sur la rafle de maïs selon le procédé de fabrication du support microbien de l’invention et de cette même souche sous forme lyophilisée.
L’invention concerne un procédé de fabrication d’un support microbien solide comprenant les étapes suivantes :
- Préparation d’un support solide, dans laquelle on effectue une étape de germination et qui comprend au moins une phase d’aseptisation ;
- Immobilisation des microorganismes par inoculation puis incubation du support à l’aide d’une solution d’ensemencement comprenant un milieu minimum appauvri ;
6. Système de gestion thermique selon lʼun quelconque des aspects 1 à 5, comprenant en outre un réservoir de liquide de refroidissement, le réservoir ayant une taille qui est suffisamment grande pour maintenir une quantité suffisante de liquide de refroidissement pour l’extinction dʼincendie.
7. Système de gestion thermique selon l’un quelconque des aspects 1 à 6, dans lequel la vanne est une vanne de régulation.
8. Système de gestion thermique selon l’un quelconque des aspects 1 à 7, dans lequel chaque sortie de pulvérisation comprend une buse de pulvérisation respective.
9. Système de gestion thermique selon lʼun quelconque des aspects 1 à 8, dans lequel le composant générateur de chaleur est lʼun dʼune pluralité de composants générateurs de chaleur ; et dans lequel la ligne de liquide de refroidissement est lʼune dʼune pluralité de lignes de liquide de refroidissement acheminées au-delà des composants générateurs de chaleur ; et dans lequel une pluralité des composants générateurs de chaleur sont à proximité des buses de pulvérisation correspondantes couplées aux lignes de liquide de refroidissement.
10. Système de gestion thermique selon l’un quelconque des aspects 1 à 9, dans lequel le composant générateur de chaleur comporte une batterie, un moteur, ou un convertisseur de puissance.
11. Procédé d’extinction dʼincendie au sein dʼun aéronef comprenant :
le fonctionnement dʼun système de refroidissement embarqué de lʼaéronef comportant la circulation du liquide de refroidissement à travers le système de refroidissement embarqué au-delà dʼun ou plusieurs composants générateurs de chaleur ;
la détection de la fumée ou de l’incendie au niveau d’un premier du ou des composants générateurs de chaleur ; et
l’activation d’une sortie de pulvérisation le long du système de refroidissement embarqué pour diriger au moins une partie du liquide de refroidissement en circulation vers le premier composant générateur de chaleur.
12. Procédé selon l’aspect 11, dans lequel le liquide de refroidissement circulant à travers le système de refroidissement embarqué comprend la mise en circulation du SCO 2 à travers le système de refroidissement embarqué.
13. Procédé selon l’aspect 11 ou l’aspect 12, dans lequel l’ouverture de la sortie de pulvérisation comprend l’ouverture d’une vanne au niveau de la sortie de pulvérisation.
14. Procédé selon l’aspect 13, dans lequel l’ouverture de la sortie de pulvérisation comprend :
la réception, au niveau dʼun dispositif de commande, d’un signal de détection provenant dʼun détecteur de fumée ou d’incendie disposé au niveau du premier composant générateur de chaleur ; et
lʼenvoi, à partir du dispositif de commande, dʼun signal de commande à la vanne.
15. Procédé selon l’une quelconque des revendications 11 à 14, comprenant en outre :
la surveillance, par lʼintermédiaire du processeur couplé aux un ou plusieurs capteurs de niveau, dʼun niveau de liquide de refroidissement à lʼintérieur dʼun réservoir de liquide de refroidissement ; et
Inhibition croissance bactérienne C. acnes S. aureus S. epidermidis Avec illumination Extrait polaire 1/2 ++ + ++ Extrait polaire 1/20 ème + + + Gentamicine + +++ +++ Sans illumination Extrait polaire 1/2 + +/- +/- Extrait polaire 1/20 ème - - - Gentamicine ++ ++ +++
De façon attendue, les résultats montrent une zone d’inhibition de la croissance bactérienne pour chaque souche avec la gentamicine que ce soit sans illumination ou avec illumination avec une lumière blanche ou rouge. De même, on observe aucune inhibition de la croissance bactérienne en lien avec le contrôle négatif que ce soit avec ou sans illumination. Pour ce qui est de l’extrait polaire de l’algue Skeletonema marinoï , on observe peu ou pas d’inhibition de la croissance bactérienne en l’absence d’illumination. En revanche, on observe une inhibition de la croissance bactérienne de S. aureus, de S. epidermidis et de C. acnes , laquelle est d’autant plus forte que l’extrait est moins dilué.
En conclusion, les résultats montrent que l’extrait polaire ne possède pas d’activité antibiotique ou de toxicité vis-à-vis des modèles bactériens à l’obscurité. En revanche, l’extrait est bien photoactivable puisqu’il génère des zones d’inhibition de croissance aussi bien en lumière blanche que rouge. De plus il existe un effet dose puisque l’on observe une zone d’inhibition de croissance plus importante avec l’extrait dilué au 20 ème par rapport à l’extrait dilué au demi.
Les mêmes expériences sont réalisées pour des extraits polaires obtenus par le même protocole, mais à partir de cultures de
Exemple 3 : Détermination de la CMI (Concentration Minimale Inhibitrice) et de la CMB (Concentration Minimale Bactéricide) d’un extrait polaire d’une algue du genre Skeletonema :
La CMI et la CMB de l’extrait polaire sont déterminées par une microméthode en plaque 96 puits. La CMI de l’extrait correspond à la plus petite concentration en extrait polaire suffisante pour inhiber la croissance d'une souche bactérienne. La CMB de l’extrait correspond à la plus petite concentration en extrait suffisante pour tuer 99,99% des bactéries de l’inoculum initial. Les bactéries ( C. acnes , S. aureus …) en phase exponentielle de croissance sont incubées en présence de différentes concentrations de l’extrait polaire. Les bactéries en présence de l’extrait polaire sont ensuite soumises à une illumination, soit une lumière blanche (fluence totale de 25 J/cm²), soit une lumière rouge (fluence totale de 37,5 J/cm²). Une condition sans illumination est effectuée pour déterminer si l’extrait polaire a une activité antibactérienne (toxicité) ou non, en absence d’illumination (obscurité). Après la période d’illumination, les plaques 96 puits sont ensuite incubées dans une étuve en respectant les conditions optimales de croissance des bactéries.
Les résultats sous lumière blanche sont présentés dans le tableau 4 qui suit. Les résultats de CMI et de CMB sont exprimés en µg/ml d’extrait polaire.
CMI CMB S.aureus 62,5 62,5 C. Acnes 6,25 6,25
Les résultats sous lumière rouge sont présentés dans le tableau 5 qui suit. Les résultats de CMI et de CMB sont exprimés en µg/ml d’extrait polaire.
CMI CMB S.aureus 125 1000 C.acnes 125
Les résultats sans illumination sont présentés dans le tableau 6 qui suit. Les résultats de CMI et de CMB sont exprimés en µg/ml d’extrait polaire.
CMI CMB S.aureus 250 C.acnes
Les résultats confirment que les photosensibilisateurs de l’extrait polaire de Skeletonema sont responsables de l’inhibition de la croissance bactérienne et de la lyse bactérienne observées. Maintenant, il semble toutefois que d’autres composés de cet extrait contribuent également, mais légèrement, à l’inhibition de la croissance de S. aureus (cf. [Tableau 6]).
Exemple 4 : Activité anti-inflammatoire de l’extrait polaire d ’une algue du genre Skeletonema
Des kératinocytes épidermiques humains NHEK sont mis en culture à 37°C en présence de 5% de CO2 et d’antibiotiques dans un milieu de culture dédié. Après au moins un jour de mise en culture, les cellules NHEK sont pré-incubées en présence ou en l’absence de différentes concentrations de l’extrait polaire. A titre de témoin positif d’activité anti-inflammatoire, les cellules NHEK sont incubées en présence de bafilomycine. Les cellules NHEK sont ensuite incubées pendant 24 heures en présence de poly (I:C) de sorte d’induire une inflammation. Le niveau d’inflammation des kératinocytes est ensuite déterminé par ELISA en mesurant les quantités d’IL-6 et d’IL-8 sécrétées.
Exemple 5 : Activité d’inhibition de la synthèse de sébum
Selon une particularité, le procédé comporte une étape préalable de détection de la position du véhicule par rapport à la deuxième unité de connexion et une étape d'activation de la deuxième unité de contrôle de la deuxième unité de connexion lorsque le véhicule est dans une position à l'arrêt déterminée.
Selon une autre particularité, le procédé comporte une étape préalable de détection de la présence du véhicule à proximité de la deuxième unité de connexion et une étape de lancement d'une séquence de guidage du véhicule pour l'amener dans une position déterminée par rapport à la deuxième unité de connexion.
Selon une autre particularité, le procédé comporte une étape de surveillance de la vitesse du véhicule et une étape d'activation de moyens de détection de la première unité de connexion, mise en œuvre en tenant compte de ladite vitesse surveillée.
Selon une autre particularité, le procédé comporte une étape de pré-authentification entre la première unité de connexion et la deuxième unité de connexion, réalisée par échange de données via une liaison sans-fil entre les deux unités de connexion, mise en œuvre préalablement à l'étape de lancement de la séquence de connexion électrique.
Selon une autre particularité, le procédé comporte une étape d'authentification par échange de données via une liaison filaire entre la première unité de connexion et la deuxième unité de connexion, lorsque la fiche est connectée sur la prise.
L'invention concerne également un système de connexion électrique automatique utilisé pour la recharge filaire d'un véhicule électrique ou hybride, comprenant une fiche reliée à un ensemble d'alimentation électrique du véhicule électrique, et une prise reliée à un réseau électrique d'alimentation auquel l'ensemble d'alimentation du véhicule électrique doit se connecter pour se recharger, le système comprenant une première unité de connexion comprenant un boîtier dans lequel est logé initialement la fiche, ladite première unité de connexion étant située côté véhicule et comprenant une première unité de contrôle, et une deuxième unité de connexion portant la prise, située côté réseau électrique et comprenant une deuxième unité de contrôle, la fiche et la prise étant aptes à s'accoupler mécaniquement par effet magnétique, ledit système étant caractérisé en ce que :