INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Le film mince d'oxyde métallique est appliqué par un procédé connu de l'art antérieur, par exemple des procédés plasma, tels que le PVD pour " physical vapour deposition " au sein d'un réacteur plasma.
Comme expliqué précédemment, la couche mince d'oxyde métallique doit former un fond neutre et opaque pour la couche d'impression couleur 24. A cet effet, la couche mince d'oxyde métallique est réalisée opaque dans le spectre des longueurs d'onde du visible.
En outre, le film mince d'oxyde métallique est sensible à un premier rayonnement 34 de sorte que le film mince est rendu transparent lorsqu'il est exposé à ce premier rayonnement 34. Le premier rayonnement 34 peut être appliqué par un laser. Lorsque le premier rayonnement 34 est appliqué sur le film mince d'oxyde métallique, dans la région non couverte par l'impression, la zone du film mince exposée au premier rayonnement 34 est localement transformée pour devenir transparente. Il est entendu que la nature de la transformation, physique et/ou chimique, conduisant de l'opacité à la transparence dépend du type d'oxyde métallique et du type de rayonnement irradiant la zone. Il peut s'agir d'une ablation locale de l'oxyde métallique pour former des micro-perforations dans le film d'oxyde métallique, ou d'une modification de la structure cristalline du film mince d'oxyde métallique entraînant une modification de la composition chimique du film mince se traduisant par une décoloration ou un blanchiment local des pigments du film mince d'oxyde métallique. La zone modifiée par le rayonnement est limitée/localisée au point de contact du rayonnement sur le film mince d'oxyde métallique. Cette zone présente donc une très faible dimension, de l'ordre de 500μm de diamètre, ou dimension transversale, et forme un point 16a.
Les première et deuxième couches externes 20a, 20b ne sont pas sensibles au premier rayonnement 34 et ne réagissent pas lorsqu'elles sont exposées au premier rayonnement 34. Cette sensibilité dépend non seulement de la longueur d'onde mais aussi de l'énergie. En effet, soit 20a et 20b ne sont pas sensibles au rayonnement 34, soit le seuil de sensibilité est supérieur à l'énergie du rayonnement 34 nécessaire pour réaliser l'ablation dans la couche 32. Grâce à la structure décrite ci-dessus, on évite la personnalisation, la destruction partielle des couches de polymère ou la délamination de ces couches de polymère. Seule la couche mince d'oxyde métallique est localement transformée par le rayonnement.
Le rayonnement est appliqué par une technologie laser émettant dans les longueurs d'onde du rayonnement UV (190mm - 400nm), ou infrarouge (700nm- 2500nm), ou vert (500nm - 550 nm). La longueur d'onde du rayonnement sera choisie en fonction des propriétés du film mince d'oxyde métallique. En particulier, le film mince d'oxyde métallique doit être sensible au rayonnement laser choisi.
Le mouvement de positionnement approprié du rayonnement laser sur plusieurs points 16a de l'oxyde métallique permet de former un ensemble de points 16a décolorés et permanents, formant ensemble le contour d'un motif 16, tel qu'un portrait secondaire 16 illustré à la . Le contour du motif 16 est réalisé dans la partie de la couche mince non recouverte d'impression ou recouverte sur un pourcentage très limité de la surface, avec de rares guilloches par exemple.
Chacun des points transparents 16a présente de très petites dimensions, inférieures à environ 500µm, en diamètre ou en dimension transversale. En conséquence, en lumière ambiante, ces points transparents 16a sont difficilement visibles pour un œil humain à une distance d'observation normale de l'ordre de 30 à 40 cm en éclairage frontal. Cette caractéristique est avantageuse car elle permet d'intégrer, de manière discrète, en lumière ambiante, c'est-à-dire principalement en lumière frontale, un portrait secondaire formé par le motif de contour 16, sans modifier l'aspect général du document d'identité.
En outre, le portrait secondaire 16 est visible lorsqu'il est exposé à une lumière arrière plus intense que la lumière ambiante. A cet effet, un utilisateur pourra voir le motif de contour 16 formé par les points transparents 16a lorsqu'il est rétro-éclairé. La illustre le portrait secondaire 16 lorsqu'il est mis en évidence.
Selon une autre caractéristique du joint de cardan de l’invention, la paroi interne les bagues est pourvue de rainures longitudinales de guidage destinées à coulisser sur des nervures en regard réalisés sur la paroi externe de ladite glissière.
Selon une variante spécifique de réalisation, le joint de cardan de l’invention comprend un manchon élastiquement déformable dans lequel sont enfermés de manière étanche la glissière centrale et les bagues de liaison avec les douilles.
Dans ce cas, la paroi du manchon est avantageusement pourvue d’un orifice pour l’injection d’un produit lubrifiant.
De préférence, cet orifice susceptible d’être obturé par un bouchon amovible.
Selon une variante de réalisation particulière, le manchon est formé d’un soufflet en matière élastomère.
Un autre objet de l’invention est un système de transmission pour véhicules automobiles, caractérisé en ce qu’il comprend au moins un joint de cardan présentant les caractéristiques définies ci-dessus.
Encore un autre objet de l’invention est un véhicule automobile équipé d’un système de transmission tel que défini ci-dessus.
Ainsi, dans son principe, l’invention propose de remplacer les double joints de cardan traditionnels par un joint de cardan unique dont la structure est simplifiée en offrant ainsi un allègement et une meilleure compacité par une réduction du nombre des liaisons dynamiques de cinq à trois.
Par conséquent, le joint de cardan de l’invention, en contenant une quantité plus faible de matières et en ayant moins de composants, peut être fabriqué plus facilement et plus rapidement et offre ainsi un gain significatif de coûts et une meilleure ergonomie au montage et au démontage lors d’opérations d’entretien.
En outre, grâce à l’apport de moyens permettant une lubrification optimale et durable, voire permanente, des liaisons mécaniques internes, l’invention permet d’obtenir un meilleur rendement de transmission de l’énergie et une plus faible usure de ces liaisons.
Le joint de cardan de l’invention peut être avantageusement utilisé pour remplacer le cardan homocinétique dans les systèmes de transmissions des véhicules automobiles et plus largement pour répondre à tous besoins de transmission de mouvement ou d’énergie dans un système mécanique et dynamique quelconque.
est une vue en perspective partiellement éclatée d’un mode de réalisation préférentiel du joint de cardan de l’invention.
est une vue de côté partiellement éclatée du joint de cardan de la .
est une vue de détail en perspective éclatée du joint de cardan de de la .
Un « référentiel » a pour fonction de servir de base pour mesurer une ou plusieurs distances. Un référentiel peut être par exemple un repère tridimensionnel, par exemple orthonormé. Le repère tridimensionnel est de préférence fixe par rapport au modèle considéré. Si le modèle représente une arcade, il peut par exemple avoir son origine au centre de la cavité buccale de l’utilisateur. En particulier, le repère tridimensionnel est de préférence indépendant de la position et de l’orientation du scanner portable.
Les dimensions (longueur, largeur, hauteur) d’une arcade sont classiquement mesurées en considérant que l’arcade est dans un plan horizontal. La direction de la hauteur Y est alors la direction verticale. La direction de la largeur X est la direction transversale pour l’utilisateur, qui s’étend de la droite à la gauche de l’utilisateur. La direction de la longueur Z est la direction de la profondeur pour l’utilisateur, qui s’étend de l’avant à l’arrière de l’utilisateur.
Les dimensions (longueur, largeur, hauteur) d’une dent sont classiquement mesurées en considérant que l’arcade est dans un plan horizontal. La direction de la hauteur Y’ est alors la direction verticale. La direction de la largeur X’ est la direction de la plus grande dimension de la dent lorsqu’elle est observée de face, perpendiculairement à la direction de la hauteur. La direction de la longueur Z’ est la direction perpendiculaire aux directions Y’ et X’.
Selon la convention internationale de la Fédération Dentaire Internationale, chaque dent d’une arcade dentaire a un numéro prédéterminé. Les numéros de dent définis par cette convention sont rappelés sur la .
Un « point remarquable » est un point d’un modèle d’arcade ou de dent que l’on peut identifier, par exemple le sommet de la dent ou à la pointe d’une cuspide, un point de contact interdentaire, c'est-à-dire d’une dent avec une dent adjacente, par exemple un point mésial ou distal du bord incisif d’une dent, ou un point au centre de la couronne de la dent, ou « barycentre ».
Une « angulation » est une orientation de l’axe optique du scanner portable par rapport à l’utilisateur, lors de l’acquisition du modèle à l’étape a).
Un scanner 3D, ou « scanner », est un appareil permettant d’obtenir un modèle d’une dent ou d’une arcade dentaire. Il utilise classiquement une lumière structurée et, à partir de différentes images et, de préférence par la mise en correspondance de points particuliers sur ces images, parvient à constituer un modèle 3D.
Plus précisément, le scanner portable projette la lumière structurée sur les dents du patient tout en acquérant lesdites images. Le scanner peut projeter un motif lumineux sur les dents. La déformation de ce motif permet l’interprétation spatiale de la scène.
Parmi les techniques classiquement utilisées, on peut citer la projection d’un motif à 1 dimension ou à 2 dimensions, la triangulation laser multi bande, en anglais " Multistripe laser Triangulation (MLT)", et les franges numériques et la technique à phase modulée.
Alternativement ou en complément de la projection de lumière structurée, le scanner portable projette de la lumière modulée sur les dents du patient tout en acquérant lesdites images. La lumière projetée est alors changeante et la caméra du scanner mesure la variation de la lumière réfléchie au cours du temps afin d’en déduire la distance que celle-ci parcourt. Parmi les techniques classiquement utilisées, on peut citer en particulier la technique à phase modulée.
L’analyse des images permet la construction du modèle.
Les images peuvent être du même type que les images acquises par les scanners optiques 3D intraoraux conventionnels.
Les images sont des représentations de la scène observée, en l’occurrence des dents du patient, mais leur nature est spécifique à la nature de la source lumineuse éclairant la scène. Les images ne sont de préférence pas des photos représentant la scène de manière réaliste, comme l’observerait directement une personne.
La différence maximale de forme entre le modèle acquis avec le scanner et l’objet scanné, à l’échelle réelle, est inversement proportionnelle à la performance du scanner. Elle est appelée « résolution d’acquisition » ou « précision » du scanner. Plus la résolution est petite, plus le modèle est fidèle à la réalité.
Un télédétecteur par laser est particulièrement bien adapté à l’invention car il permet une acquisition extraorale d’un modèle précis de l’arcade, par le patient lui-même, la lumière laser étant projetée directement sur les dents du patient.
Un scanner professionnel a de préférence une précision inférieure à 5/10 mm (c'est-à-dire que la différence maximale de forme entre le modèle acquis avec le scanner et l’objet réel scanné, à l’échelle réelle, est inférieure à 5/10 mm), de préférence inférieure à 3/10 mm, de préférence inférieure à 1/10 mm, de préférence inférieure à 1/50 mm, de préférence inférieure à 1/100 mm et/ou supérieure à 1/500 mm.
Cependant, cette configuration actuelle n’est pas pleinement satisfaisante car la grille n’évite pas les entrées de la boue, de poussière, d’herbes sèches et de toutes autres particules susceptibles de pénétrer dans le ventilateur à l’arrêt et d’engendrer, par la suite, son blocage et, en conséquence, une panne de charge des batteries ce qui est très préjudiciable pour les véhicules à motorisation électrique.
Il existe des dispositifs utilisés pour le refroidissement des batteries de véhicules électriques tel que celui décrit dans le brevet US10889204B2. Ce dispositif comprend un échangeur thermique alimenté en air extérieur grâce à la vitesse du véhicule à partir d’une bouche à claires-voies ouvertes vers l’avant et obturées par des lames pivotantes. Le pivotement de ces lames est piloté par un microprocesseur associé à l’échangeur de façon à régler le débit du flux d’air entrant en fonction des besoins.
Toutefois, la structure de ce dispositif est complexe car elle nécessite des moyens électroniques et mécaniques pour commander les déplacements des lames d’obturation des claires-voies.
En outre, ce dispositif antérieur pour refroidir les batteries n’a vocation à fonctionner que lorsque le véhicule est en marche alors que le chargeur auquel s’intéresse l’invention n’est actionné et ne doit être refroidi que lorsque le véhicule est à l’arrêt.
Par conséquent, les solutions antérieures ne sont pas adaptées à la résolution du problème technique auquel est confrontée l’invention.
Dans ce contexte, l'invention vise à proposer une solution technique simple et efficace permettant d’isoler et de protéger le ventilateur lorsqu’il est à l’arrêt et de façon quasi-automatique.
Ce but est atteint, selon l’invention, au moyen d’un dispositif de refroidissement du chargeur de batteries des véhicules automobiles comprenant, notamment, un ventilateur logé dans un boîtier séparé de l’extérieur par une grille d’aération pourvue d’un élément d’obturation, caractérisé en ce que ledit élément d’obturation comprend au moins un rideau intérieur dont le bord supérieur est solidaire de la partie supérieure de la grille de telle sorte que, lorsque le ventilateur est désactivé, le rideau s’étend par gravité contre la face interne de la grille et, lorsque le ventilateur est activé, le rideau se soulève sous l’action du courant d’air aspiré dans le boîtier au travers de la grille.
De préférence, le rideau est réalisé avec une matière plastique souple en une épaisseur comprise entre _mm et _mm.
Selon une variante spécifique de réalisation du dispositif de l’invention, la grille comporte un cadre dont la partie haute supporte le bord supérieur du rideau.
Selon une caractéristique avantageuse de l’invention, le rideau est collé sur le cadre de la grille.
De préférence, la grille est réalisée en matière plastique et le cadre en aluminium (ou en plastique).
Selon une autre variante de réalisation, la grille est constitué d’au moins deux zones ajourées obturées chacune par un rideau intérieur.
Un autre objet de l’invention est un chargeur de batteries pour véhicules automobiles pourvu d’un dispositif de refroidissement présentant les caractéristiques définies ci-dessus.
Encore un autre objet de l’invention est un véhicule à motorisation électrique équipé d’un chargeur de batteries tel que défini ci-dessus.
Le dispositif de refroidissement selon l’invention s’applique plus spécifiquement à des chargeurs de batteries mais pourrait aussi bien être utilisé pour d’autres applications dans lesquelles il est nécessaire de protéger un ventilateur de particules ou de débris susceptibles de pénétrer dans son boîtier et d’entraver son fonctionnement.
Grâce à l’invention, l’ouverture et la fermeture de la grille de séparation s’effectuent automatiquement, respectivement, à la mise en charge des batteries et à l’activation conjointe du ventilateur de refroidissement du chargeur et à la fin de la phase de charge des batteries lorsque le ventilateur s’arrête, sans qu’il soit nécessaire d’utiliser des moyens mécaniques, électriques ou électroniques.
Selon un exemple, les particules présentent chacune au moins une dimension supérieure ou égale à un diamètre des ouvertures de masque. Cela permet d’augmenter la probabilité qu’une particule bouche totalement une ouverture de masque. Cela permet d’obtenir un via inactif sans conduction électrique.
Selon un exemple, les particules présentent une dimension minimale L supérieure à 20 nm et de préférence supérieure à 70 nm. Cette dimension minimale L correspond typiquement à la dimension critique CD via du via. Cette dimension critique est par exemple le diamètre du via, pris selon une coupe parallèle aux différents niveaux des pistes électriques intégrées. Une dimension L en adéquation avec la dimension critique CD via permet d’augmenter la probabilité qu’une particule bouche totalement une ouverture de masque. Cela permet d’obtenir un via inactif sans conduction électrique. Cela évite de recourir ultérieurement à une étape supplémentaire d’inactivation, qui est généralement mise en œuvre lorsque le via dysfonctionnel considéré présente une faible conduction électrique.
Selon un exemple, l’au moins une couche diélectrique comprend une couche à base de SiOCH dense ou poreux (p-SiOCH), ou à base de SiO 2 .
Selon un exemple, les particules sont minérales, de préférence à base d’oxyde de silicium.
Selon un exemple, les particules présentent une sélectivité de gravure S P:HM vis-à-vis du masque de gravure, lors de la gravure de l’au moins une couche diélectrique, inférieure ou égale à 1:1. Cela permet de conserver en partie la particule lors de la gravure de la couche diélectrique. L’ouverture de masque dégradée reste ainsi bouchée suffisamment longtemps. La gravure de la couche diélectrique est limitée ou évitée.
Par souci de clarté, seuls les étapes et éléments utiles à la compréhension des modes de réalisation décrits ont été représentés et sont détaillés. En particulier, les diverses applications que peuvent avoir les transducteurs décrits n'ont pas été détaillées, les modes de réalisation décrits étant compatibles avec les applications usuelles de transducteurs ultrasonores, notamment dans des dispositifs d'imagerie ultrasonore. En outre, les circuits de contrôle des transducteurs décrits n'ont pas été détaillés, les modes de réalisation décrits étant compatibles avec tous ou la plupart des circuits connus de contrôle de transducteurs CMUT.
Dans la présente description, sauf précision contraire, on appelle transducteur CMUT un dispositif composé d’un ou plusieurs éléments de transduction CMUT disposés selon les besoins de l’application. Chaque élément de transduction CMUT est constitué d’une ou plusieurs cellules élémentaires de transduction CMUT connectées électriquement les unes aux autres, par exemple en parallèle. Chaque cellule élémentaire CMUT comprend par exemple une seule membrane flexible suspendue au-dessus d’une cavité, et deux électrodes opposées adaptées à recevoir un signal électrique d’excitation pour faire vibrer la membrane et/ou à générer un signal électrique de réponse sous l’effet d’une vibration de la membrane.
Les figures 1A à 1I sont des vues en coupe illustrant des étapes successives d’un exemple d’un procédé de fabrication de transducteurs CMUT selon un mode de réalisation. Sur les figures 1A à 1I, la réalisation d’une unique cellule élémentaire de transducteur CMUT a été représentée. Dans la pratique, un grand nombre de cellules peuvent être réalisés simultanément à partir d’un même substrat de départ.
La est une vue en coupe illustrant la structure obtenue à l’issue d’une étape de formation, sur un substrat de départ 101 en silicium, d’une couche d’oxyde de silicium 103 puis d’une couche de nitrure de silicium 105. Le substrat 101 est de préférence relativement fortement dopé. A titre d’exemple, le substrat 101 est un substrat en silicium de niveau de dopage compris entre 1013 et 1018 atomes/cm3. L’épaisseur du substrat 101 est par exemple comprise entre 30 µm et 1 mm, par exemple entre 400 et 800 µm. Le substrat 101 correspond par exemple à un tranche (wafer en anglais) de silicium ou à une portion de tranche de silicium. On notera que le substrat 101 peut éventuellement être aminci en fin de procédé.
La couche d’oxyde de silicium 103 est formée sur et en contact avec la face supérieure du substrat 101. La couche 103 est par exemple formée par oxydation thermique en croissance sèche de façon à obtenir un oxyde de haute qualité. La couche 103 s’étend par exemple de façon continue et avec une épaisseur sensiblement uniforme sur toute la surface supérieure du substrat 101. L’épaisseur de la couche 103 est par exemple comprise entre 20 et 300 nm, par exemple entre 100 et 150 nm, par exemple de l’ordre de 125 nm.
La couche de nitrure de silicium 105 est par exemple déposée sur et en contact avec la face supérieure de la couche 103. La couche 105 s’étend par exemple de façon continue et avec une épaisseur sensiblement uniforme sur toute la surface du substrat 101. La couche 105 est par exemple déposée par dépôt chimique en phase vapeur, par exemple par LPCVD (de l’anglais « Low Pressure Chemical Vapor Deposition » - dépôt chimique en phase vapeur à basse pression), ce qui présente l’avantage de ne pas dégrader la qualité de la couche d’oxyde de silicium 103 sous-jacente. A titre de variante, la couche 105 peut être déposée par PECVD (de l’anglais « Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition » - dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma), ou par toute autre méthode de dépôt adaptée. L’épaisseur de la couche 105 est par exemple comprise entre 50 et 500 nm, par exemple entre 100 et 300 nm, par exemple de l’ordre de 200 nm.
La illustre la structure obtenue à l’issue d’une étape de gravure localisée de l’empilement formé par les couches 103 et 105. Dans cet exemple, les couches 103 et 105 sont conservées uniquement en vis à vis des futures cavités des transducteurs CMUT. Les couches 103 et 105 sont par exemple gravées par un procédé de gravure sèche, par exemple par gravure plasma. A l’issue de la gravure, la face supérieure du substrat 101 se trouve exposée autour des futures cavités des transducteurs CMUT.
La illustre la structure obtenue à l’issue d’une étape d’oxydation localisée du silicium du substrat 101, aussi appelé procédé LOCOS (de l’anglais LOCal Oxidation of Silicon). Lors de cette étape, on met en œuvre une oxydation thermique des portions de la face supérieure du substrat 101 exposées à l’issue de l’étape de gravure de la . Ceci conduit à une croissance de murs d’oxyde de silicium 107 en vis à vis des portions exposées de la face supérieure du substrat 101, c’est à dire autour des futures cavités des transducteurs CMUT. La couche de nitrure de silicium 105 bloque en revanche l’oxydation aux emplacements des futures cavités du substrat 101. La hauteur des murs d’oxyde de silicium 107 définit l’épaisseur ou profondeur des futures cavités des transducteurs CMUT. Plus particulièrement, dans cet exemple, la profondeur des futures cavités des transducteurs CMUT correspond à la distance entre le plan de face supérieure des murs d’oxyde de silicium 107 et le plan de face supérieure de la couche d’oxyde de silicium 103, étant entendu que le plan de face supérieure des murs d’oxyde 107 est situé au-dessus du plan de face supérieure de la couche d’oxyde 103. Un avantage du procédé LOCOS est que la hauteur des murs 107, et donc la profondeur des cavités, peut être contrôlée précisément en contrôlant notamment la température et le temps d’oxydation. Ceci est tout particulièrement avantageux pour la réalisation de cavités de faible profondeur, par exemple de moins de 100 nm de profondeur, par exemple de l’ordre 50 nm de profondeur. Les modes de réalisation décrits ne se limitent toutefois aux cavités de faible profondeur. A titre d’exemple, la profondeur des cavités des transducteurs CMUT est comprise entre 10 nm et 1 µm.