Roue d’implantation (1) pour former un plan de fragilisation dans une pluralité de plaquettes donneuses (3), la roue (1) comprenant un disque principal (1a) et une pluralité de supports de plaquette (2) disposés sur une face du disque principal (1a), chaque support de plaquette (2) présentant une surface d’accueil sur laquelle est disposée une face dite « arrière » d’une plaquette donneuse (3), la surface d’accueil comprenant au moins partiellement une couche d'élastomère superficielle (2b), la couche élastomère superficielle (2b) présentant une dimension au moins égale à celle de la face arrière de la plaquette donneuse (3) afin de permettre la mise en contact de toute l’étendue de la face arrière de la plaquette donneuse (3) avec le support de plaquette (2). Roue d’implantation (1) selon la revendication précédente dans laquelle chaque surface d’accueil de la pluralité de supports de plaquette (2) présente une forme bombée, la forme bombée étant choisie pour correspondre à la forme de la plaquette donneuse (3) lorsque celle-ci se déforme sous l’effet de la température. Roue d’implantation (1) selon la revendication précédente dans laquelle la couche d’élastomère superficielle (2b) présente une épaisseur variable, cette épaisseur variable définissant la forme bombée du support de plaquette (2). Roue d’implantation (1) selon l’une des deux revendications précédente dans laquelle la forme bombée se présente sous la forme d’un évidemment concave ou sous la forme d’un dôme convexe. Roue d’implantation (1) selon la revendication précédente dans laquelle l’évidemment concave ou le dôme convexe présente une hauteur comprise entre 0,1mm et 5mm. Roue d’implantation (1) selon l’une des revendications précédentes dans laquelle la plaquette donneuse (3) est une hétérostructure donneuse formée d’une couche dite « épaisse » assemblée à un substrat manipulateur, la couche épaisse et le substrat manipulateur présentant des coefficients de dilatation différents. Roue d’implantation (1) selon la revendication précédente dans laquelle la couche épaisse comprend un matériau ferroélectrique et/ou piézoélectrique, et/ou le substrat manipulateur est un substrat de silicium. Roue d’implantation (1) selon l’une des revendications précédentes présentant un axe de symétrie définissant un axe de rotation (R) et dans laquelle chaque surface d’accueil de la pluralité de supports de plaquette (2) est orientée vers l’axe de rotation (R) de sorte qu’une composante normale à la surface d’accueil de la force centrifuge s’applique à la plaquette donneuse (3) lors de la rotation de la roue et presse celle-ci contre la surface d’accueil. Roue d’implantation (1) selon l’une des revendications précédentes dans laquelle chaque support de plaquette (2) est muni d’une cale (2a) permettant de retenir une plaquette donneuse (3) en s’opposant à une composante coplanaire à la surface d’accueil de la force centrifuge s’appliquant à la plaquette donneuse (3) lors de la rotation de la roue. Roue d’implantation (1) selon la revendication précédente dans laquelle la surface d’accueil de chaque support de plaquette (2) présente une élévation, l’élévation de la surface d’accueil présente un maximum (h) au niveau de la cale (2a). Roue d’implantation (1) selon la revendication précédente dans laquelle chaque support de plaquette (2) est muni d’un pion rétractable. Roue d’implantation (3) selon l’une des revendications 9 à 11 dans laquelle chaque support de plaquette (2) est muni d’au moins un clip permettant de positionner et retenir une plaquette contre la cale (2a).