INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Selon une alternative complémentaire, un réservoir de liquide vaisselle (415) est intégré dans le dispositif (1). Ce réservoir de liquide vaisselle (415) est soit directement connecté à l'injecteur par l'intermédiaire d'une vanne de commande qui permet de distribuer précisément la quantité adéquate de liquide vaisselle. Dans ce cas, le dispositif (1) n'est composé que d'un seul injecteur (43) qui remplit le rôle de lavage et de rinçage. Dans un second cas, le réservoir de liquide vaisselle (415) est relié au circuit d'alimentation d'eau de l'injecteur de lavage (42), également par une vanne de commande. Également dans ce cas, les deux injecteurs (lavage et rinçage) peuvent fusionner (la vanne de commande de la réserve de liquide vaisselle permet d'avoir soit de l'eau savonneuse dans le circuit d'alimentation lorsque la vanne est ouverte, soit uniquement de l'eau claire dans le même circuit d'alimentation de l'injecteur lorsque la vanne est fermée) ou être séparé (un circuit d'alimentation d'eau pour chaque injecteur, dont un qui est relié au réservoir de liquide de lavage).
Enfin, dans un dernier cas, le réservoir de liquide vaisselle (415) est relié à un réservoir tampon d'eau d'alimentation (410) à travers une vanne de commande qui permet la dilution du liquide vaisselle dans le réservoir. De la même manière que précédemment, les deux injecteurs peuvent fusionner (deux réservoirs tampon d'eau (410 et 420), dont l'un avec du liquide vaisselle, reliés tous deux à un même circuit d'alimentation d'eau par l'intermédiaire de vannes de commande) ou être séparés : les deux réservoirs tampons (410 et 420) sont reliés chacun à un circuit d'alimentation indépendant, l'un pour l'injecteur de lavage (41) ; l'autre pour l'injecteur de rinçage (42).
L’homme du métier saura adapter la température et la durée de la réaction en fonction des réactifs mis en œuvre et des réacteurs.
Le procédé de l’invention permet avantageusement d’obtenir un rendement massique en organochlorosilane SC supérieur à 80%, de préférence supérieur à 90%, de préférence supérieur à 95%.
Dans le cadre de la présente invention, on entend par organochlorosilane des composés de formule (A), (B) ou (C) suivantes :
R 2 SiCl 2 (A) R 3 SiCl (B) RSiCl 3 (C)
avec R, identique ou différent, est choisi parmi :
H, alkyle linéaire ou ramifié comprenant de 1 à 15 atomes de carbone, de préférence de 1 à 12 atomes de carbone, de préférence de 1 à 10 atomes de carbone, de préférence de 1 à 5 atomes de carbone, de préférence méthyle ; aryle comprenant de 6 à 10 atomes de carbone, de préférence phényle OH ; alcényle notamment comprenant de 2 à 6 atomes de carbone, de préférence vinyle ; un groupe alkyle linéaire ou ramifié comprenant de 1 à 10 atomes de carbone, de préférence de 1 à 5 atomes de carbone, substitué par au moins un atome de fluor, par exemple 1 à 10 atomes de fluor, par exemple (C1-C5)alkyle-CF 3 , l’alkyle étant linéaire ou ramifié ; O-Alk avec Alk représente un groupe alkyle comprenant de 1 à 15 atomes de carbone, de préférence de 1 à 12 atomes de carbone, de préférence de 1 à 10 atomes de carbone, de préférence de 1 à 5 atomes de carbone, de préférence méthyle ; (O-Alk) x avec Alk représente un groupe alkyle comprenant de 1 à 15 atomes de carbone, de préférence de 1 à 12 atomes de carbone, de préférence de 1 à 10 atomes de carbone, de préférence de 1 à 5 atomes de carbone, de préférence méthyle, et x représente un entier compris entre 2 et 200 ; groupement aminé, notamment (Alk)-NH 2 ou (Alk)-NH-(Alk)-NH 2 , avec Alk représente un alkyle comprenant de 1 à 5 atomes de carbone ; amine cyclique par exemple –(CH2) z -O-pipéridine dans lequel z représente un entier de 1 à 5, de préférence 3, et la pipéridine peut être substitué notamment par un ou plusieurs groupes alkyle comprenant de 1 à 3 atomes de carbone, de préférence méthyle, de préférence la pipéridine substituée est un groupe ,
de préférence les organochlorosilanes de l’invention comprennent au plus un atome d’hydrogène.
De préférence, dans les formules (A), (B) et (C), R, identique ou différent, est choisi parmi :
H, alkyle linéaire ou ramifié comprenant de 1 à 15 atomes de carbone, de préférence de 1 à 12 atomes de carbone, de préférence de 1 à 10 atomes de carbone, de préférence de 1 à 5 atomes de carbone, de préférence méthyle ; aryle comprenant de 6 à 10 atomes de carbone, de préférence phényle OH ; alcényle notamment comprenant de 2 à 6 atomes de carbone, de préférence vinyle ; un groupe alkyle linéaire ou ramifié comprenant de 1 à 10 atomes de carbone, de préférence de 1 à 5 atomes de carbone, substitué par au moins un atome de fluor, par exemple 1 à 10 atomes de fluor, par exemple (C1-C5)alkyle-CF 3 , l’alkyle étant linéaire ou ramifié ;
De préférence, les organochlorosilanes préférés de l’invention sont ceux de formule (I) ou (II).
Sans vouloir être lié par une quelconque théorie :
les organopolysiloxanes de formule (I) sont issus des motifs D du silicone S , les R de la formule (I) dépendent donc des motifs D du silicone S ; les organopolysiloxanes de formule (II) sont issus des motifs M du silicone S , les R de la formule (II) dépendent donc des motifs M du silicone S ; les organopolysiloxanes de formule (III) sont issus des motifs T du silicone S , les R de la formule (III) dépendent donc des motifs T du silicone S.
De façon particulièrement avantageuse, les organochlorosilanes obtenus par le procédé de l’invention peuvent être directement utilisés dans d’autres procédés industriels comme source de matières premières pour ensuite être hydrolysés et condensés et fabriquer de nouvelles huiles, résines ou gommes.
La présente demande concerne également l’utilisation des organochlorosilanes obtenus pas le procédé de l’invention pour la préparation de silicone par exemple pour la préparation d’ huiles, résines ou gommes silicones.
La présente demande concerne également un procédé de préparation de silicone, notamment huiles, résines ou gommes comprenant les étapes suivantes :
La illustre une coupe transversale de l’ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 400 de la , tel qu’il pourrait exister dans son état étendu. Dans au moins un mode de réalisation, comme illustré, la pluralité de sections ductiles 430 ne sont plus radialement à l’extérieur de la pluralité de sections durcies 420 lorsque l’ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 400 est à l’état étendu.
La illustre une coupe transversale d’un ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 400c conçu, fabriqué et/ou exploité, tel qu’il pourrait exister dans son état initial (par exemple, non étendu ou descendu dans le trou). L’ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 400c, dans le mode de réalisation illustré de la , comporte une section durcie unique 420c placée circonférentiellement autour d’un élément tubulaire radialement extensible 410. Dans le mode de réalisation illustré, la section durcie unique 420c est configurée comme un anneau en C avec une découpe 440, ce qui permettrait à la section durcie unique 420c de s’étendre.
La illustre une coupe transversale de l’ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 400c de la , tel qu’il pourrait exister dans son état étendu.
La illustre un mode de réalisation alternatif d’un système de puits 500 conçu, fabriqué et/ou exploité selon un ou plusieurs modes de réalisation de la divulgation. Le système de puits 500 est similaire à bien des égards au système de puits 100 de la . Par conséquent, des numéros de référence identiques ont été utilisés pour indiquer des caractéristiques similaires, voire identiques. Le système de puits 500 diffère, pour l’essentiel, du système de puits 100, en ce qu’il utilise un ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 535 différent de l’ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 135 de la . Par exemple, l’ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 535 ne comporte pas les une ou plusieurs nervures d’ancrage continues 145 ayant la pluralité de sections durcies localisées 150 placées circonférentiellement autour. En revanche, l’ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 535 de la comporte une rainure peu profonde 542 située dans la surface extérieure de son élément tubulaire radialement extensible 540, et une pluralité de dents coulissantes discrètes 545 placées à l’intérieur de la rainure peu profonde 542 circonférentiellement autour de l’élément tubulaire radialement extensible 540. La pluralité de dents coulissantes discrètes 545 du mode de réalisation de la fournissent la même fonction que les une ou plusieurs nervures d’ancrage continues 145 ayant la pluralité de sections durcies localisées 150 placées circonférentiellement autour, qui est de saisir l’élément tubulaire de puits de forage 120 lorsqu’il est déplacé de l’état initial à l’état étendu.
Dans le mode de réalisation illustré de la , chacune de la pluralité de dents coulissantes discrètes 545 a une limite d’élasticité minimale d’au moins 175 ksi. Dans encore un autre mode de réalisation, chacune de la pluralité de dents coulissantes discrètes 545 a une limite d’élasticité minimale d’au moins 200 ksi, et dans encore un autre mode de réalisation, chacune de la pluralité de dents coulissantes discrètes 545 a une limite d’élasticité minimale d’au moins 250 ksi, sinon 300 ksi ou plus.
Dans le mode de réalisation illustré de la , l’ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 535 comporte au moins quatre dents coulissantes discrètes 545 placées circonférentiellement autour de l’élément tubulaire radialement extensible 540 dans une rainure peu profonde donnée 542. Par exemple, les au moins quatre dents coulissantes discrètes 545 peuvent être placées circonférentiellement à équidistance autour de l’élément tubulaire radialement extensible 540 pour une rainure peu profonde donnée 542. Dans encore un autre mode de réalisation, l’ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 535 comporte au moins dix-huit dents coulissantes discrètes 545 placées circonférentiellement (par exemple, circonférentiellement à équidistance) autour de l’élément tubulaire radialement extensible dans une rainure peu profonde donnée 542. Dans encore un autre mode de réalisation, l’ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 535 comporte au moins vingt-quatre dents coulissantes discrètes 545 placées circonférentiellement (par exemple, circonférentiellement à équidistance) autour de l’élément tubulaire radialement extensible dans une rainure peu profonde donnée 542.
Dans certains modes de réalisation, l’élément radialement extensible 540 peut comporter une pluralité de rainures peu profondes espacées 542. Dans un tel mode de réalisation, un premier ensemble d’une pluralité de dents coulissantes discrètes pourrait être positionné dans une première rainure peu profonde, et un second ensemble d’une pluralité de dents coulissantes discrètes pourrait être positionné dans une seconde rainure peu profonde, comme illustré sur la . La illustre en outre quatre rainures peu profondes différentes 542, dont deux comportent des ensembles d’une pluralité de dents coulissantes discrètes, et dont deux ne comportent pas encore d’ensembles d’une pluralité de dents coulissantes discrètes. La illustre en outre qu’une ou plusieurs nervures d’ancrage continues 160 peuvent être positionnées entre les premier et second ensembles de la pluralité de dents coulissantes discrètes.
La illustre une vue en élévation, avec écorché et coupe partielle, d’un mode de réalisation du système de puits 500 de la , avec l’ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 535 à l’état étendu. En conséquence, la pluralité de dents coulissantes discrètes 545 sont en prise par serrage avec l’élément tubulaire de puits de forage 120.
Dans certains modes de réalisation, la pluralité de dents coulissantes discrètes 545 sont ajustées individuellement par pression à l’intérieur des rainures peu profondes. Dans le mode de réalisation de la , la pluralité de dents coulissantes discrètes 545 sont couplées les unes aux autres à l’aide d’un matériau élastique 610 qui maintient la pluralité de dents coulissantes discrètes 545 à l’intérieur de la rainure peu profonde pendant que le dispositif de suspension de colonne perdue extensible 535 est descendu dans le trou, et jusqu’à ce qu’il soit déplacé vers l’état étendu.
La illustre une vue en perspective de l’ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 535 des figures 5 et 6 avec une première rainure peu profonde 542a comportant un premier ensemble d’une pluralité de dents coulissantes discrètes 545a et une seconde rainure peu profonde 542b comportant un second ensemble d’une pluralité de dents coulissantes discrètes 545b. La illustre en outre un premier matériau élastique 610a qui maintient la première pluralité de dents coulissantes discrètes 545a à l’intérieur de la première rainure peu profonde 542a, et un second matériau élastique 610b qui maintient la seconde pluralité de dents coulissantes discrètes 545b à l’intérieur de la première rainure peu profonde 542b.
La illustre une coupe transversale d’un ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 800 conçu, fabriqué et/ou exploité, tel qu’il pourrait exister dans son état initial (par exemple, non étendu ou descendu dans le trou). L’ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 800, dans le mode de réalisation illustré, comporte au moins dix-huit dents coulissantes discrètes 820 placées à l’intérieur de la rainure peu profonde circonférentiellement autour de l’élément tubulaire radialement extensible 810. Dans le mode de réalisation illustré, l’ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 800 comporte au moins vingt-quatre dents coulissantes discrètes 820 placées circonférentiellement à équidistance. À la suite du mode de réalisation de la , le matériau élastique 830 maintient la pluralité de dents coulissantes discrètes 820 à l’intérieur de la rainure peu profonde.
Dans le mode de réalisation illustré, chacune des dents coulissantes discrètes 820 s’étend circonférentiellement autour de l’élément tubulaire radialement extensible d’un angle (Γ). Dans au moins un mode de réalisation, l’angle (Γ) est de 30 degrés ou moins. Dans encore un autre mode de réalisation, l’angle (Γ) est de 20 degrés ou moins, sinon de 10 degrés ou moins ou de 5 degrés ou moins.
La illustre une coupe transversale de l’ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 800 de la , tel qu’il pourrait exister dans son état étendu.
La illustre une vue en perspective d’un ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 935, par exemple similaire au dispositif de suspension de colonne perdue extensible 535 des figures 5 et 6, mais utilisant un anneau d’extrémité ouvert 910 et des poutres fines pointant vers l’intérieur 920 couplées à l’une des dents coulissantes discrètes 545 pour maintenir la pluralité de dents coulissantes discrètes 545 à l’intérieur de la rainure peu profonde.
La illustre une vue en perspective d’un ensemble dispositif de suspension de colonne perdue extensible 1035, par exemple similaire au dispositif de suspension de colonne perdue extensible des figures 5 et 6, mais utilisant un anneau en C 1010 fixé aux dents coulissantes discrètes 545 pour maintenir la pluralité de dents coulissantes discrètes 545 à l’intérieur de la rainure peu profonde.
Les figures 10B et 10C illustrent des vues en coupe de différents modes de réalisation de l’anneau en C 1010b, 1010c, respectivement, auquel sont fixées les dents coulissantes discrètes 545, tel qu’il pourrait être conçu, fabriqué et/ou utilisé selon la présente divulgation.
Nonlimiting examples of surfactants that can be included in the wash solution include TRITON X 100, Tergitol 15-S-9, Tergitol 15-S-15, and Tergitol 15-S-12. In an embodiment, the surfactant in the wash solution includes a non-ionic secondary alcohol ethoxylate surfactant. Nonlimiting examples of suitable non-ionic secondary alcohol ethoxylate surfactants include Tergitol 15-S-9.
In an embodiment, the wash solution contains 0 wt%, or from 0.05 wt % to 5 wt%, or from 0.1 wt % to 3 wt%, or from 0. 5 wt % to 1.5 wt% of the surfactant, based on the total weight of the wash solution.
Nonlimiting examples of suitable base for the wash solution include NaOH and/or KOH. In an embodiment, the base in the wash solution is sodium hydroxide.
In an embodiment, the wash solution includes from 0.05 wt % to 5 wt%, or from 1 wt% to 5 wt%, or from 0.5 wt% to 3 wt%, or from 1 wt% to 2 wt% of the base, based on the total weight of the wash solution.
In an embodiment, the wash solution includes (i) water, (ii) 0 wt%, or from 0.05 wt % to 5 wt%, or from 0.1 wt % to 3 wt%, or from 0. 5 wt % to 1.5 wt% of a surfactant including a non-ionic secondary alcohol ethoxylate, based on the total weight of the wash solution, and (iii) from 0.05 wt % to 5 wt%, or from 0.1 wt% to 5 wt%, or from 0.5 wt% to 3 wt%, or from 1 wt% to 2 wt% of a base that is sodium hydroxide, based on the total weight of the wash solution.
The process includes contacting the article with the wash solution under conditions sufficient to separate the first substrate from the second substrate ( i.e. , label facestock).
In an embodiment, the term "contact" or "contacting" refers to immersing the article in the wash solution. The term "under conditions sufficient to separate the first substrate from the second substrate" includes (i) introducing the batch into a mixing device and (ii) agitating the batch under conditions sufficient to separate the first substrate from the second substrate. The mixing device may mechanically agitate the batch, or otherwise the batch can be manually agitated with a stirring rod. Nonlimiting examples of suitable mixing devices include a flask, a beaker, a horizontal ribbon mixer, a paddle mixer, a tumbler mixer, a drum mixer, a static mixer, a planetary mixer, and a premixer. Any of the foregoing mixing devices may be equipped with a suitable equipment to mix, agitate, blend, spin, and/or stir the contents therein. The mixing device mixes the article with the wash solution and brings the adhesive layer into full contact with the wash solution.
The term "agitate" or "agitating" refers to a motion of mixing, blending, spinning, tumbling, shaking, and/or stirring the article in the wash solution.
The term "conditions sufficient to separate the first substrate from the second substrate" further includes the operation parameters under which the swelling and detachment of the adhesive layer is promoted. In an embodiment, the conditions include (i) the agitation speed of the mixture including the article and the wash solution (interchangeably referred to as the "batch"), (ii) the temperature of the wash solution, and (iii) the pH of the wash solution.
In an embodiment, the conditions sufficient to separate the first substrate from the second substrate includes one, some, or all of the following parameters:
(i) agitating the article immersed in the wash solution at a rate from 50 rpm to 1000rpm, or from 100 rpm to 600 rpm, or from 100 rpm to 500 rpm; and/or
(ii) heating the wash solution to a temperature from 30°C to 65°C, or from 30°C to 55°C, or from 35°C to 55°C, or from 35°C to 45°C; and/or
(iii) adjusting the pH of the wash solution from 7 to 14, or from 10 to 14.
Bounded by no particular theory, it is believed the wash solution swells the adhesive composition, such that some, or all, of the adhesive composition cleanly detaches from the first substrate and away from the first substrate. The term "separate" or "separating" refers to removing some, or all, of the adhesive layer (and concomitantly the second substrate) from the first substrate.
In an embodiment, the process further includes removing the first substrate (with little, or no, adhesive layer) from the wash solution and rinsing the first substrate with water before further recycling step. In this way, the label facestock and adhesive composition are removed from the first substrate.
In an embodiment, the process includes:
Il a notamment été proposé un système conformément à la , dans lequel les fonctions de gestion à distance des profils de service sont mises en œuvre par des dispositifs CLPA i externes au terminal hôte, situés dans le réseau de communication.
Plus précisément, la représente un terminal hôte 101 comprenant un élément sécurisé 102, par exemple un eUICC, et un agent de communication 103. Le terminal hôte 101 peut être par exemple un téléphone mobile, un dispositif embarqué dans une voiture et géré à distance par le système d’information du constructeur de la voiture, ou tout autre type d’objet connecté. L’élément sécurisé 102 mémorise typiquement un ou plusieurs profils. L’agent de communication 103 est situé dans le système d’exploitation du terminal hôte 101 ou dans l’élément sécurisé 102 du terminal hôte 101, et réalise l’interface entre l’élément sécurisé 102 et les différents dispositifs externes de gestion de profils CLPA i 105a, 105b, 105c, comme détaillé ci-dessous.
Le système de la comprend aussi un serveur SM-DP+ (pour « Subscription Manager Data Preparation », ou serveur de préparation de données et de gestion des abonnements en français) 104 d’un réseau mobile, lequel serveur mémorise ou reçoit plusieurs profils à transmettre à l’élément sécurisé 102. Différents types de serveurs distants peuvent être utilisés, par exemple le serveur SM-DP+ 104 peut être remplacé par deux serveurs SM-DP et SM-SR.
La gestion des profils stockés sur l’élément sécurisé 102 est assurée par une pluralité de dispositifs externes de gestion de profils CLPA i 105a, 105b, 105c qui ne sont pas dans le terminal hôte 101, mais sont des dispositifs (ou des serveurs) déportés dans le réseau. À ce titre, les dispositifs externes de gestion de profils CLPA i 105a, 105b, 105c assurent, pour les services qui leur sont respectivement associés, les fonctions de gestion des profils à la place de l’entité LPA définie par exemple dans le standard GSMA SGP.22 v2.0 intitulé « RSP Technical Specification - Version 2.0 » en date du 14 octobre 2016.
Chaque dispositif externe de gestion de profils CLPA i 105a, 105b, 105c est ainsi configuré pour communiquer d’une part avec le serveur SM-DP+ 104 et obtenir une (ou plusieurs) commande relative à la gestion d’un profil de l’élément sécurisé 102 (par exemple une commande d’installation ou de suppression d’un profil), et d’autre part avec l’agent de communication 103 du terminal hôte 101 pour lui envoyer ladite commande de gestion de profil. L’agent de communication 103 est en outre configuré pour envoyer à l’élément sécurisé 102 la commande de gestion de profil.
Un tel système est décrit de manière détaillée dans la demande FR 3 111 042.
Toutefois, au vu du nombre toujours croissant de services associés à un même élément sécurisé, et par conséquent du nombre de plus en plus important de dispositifs externes de gestion de profils, un tel système n’est pas entièrement satisfaisant.
En effet, comme les dispositifs externes de gestion de profils communiquent (directement ou par le biais de la plateforme de gestion du terminal) avec le terminal hôte, il est nécessaire, pour sécuriser l’accès à l’élément sécurisé, que les locaux hébergeant les dispositifs externes de gestion de profils soient certifiés par une autorité de certification. Or, de telles certifications représentent un coût non négligeable, dans lequel tous les fournisseurs de service ne veulent pas forcément investir.