INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans ce premier exemple, comme l'illustre la , des structurations 122 ont été formées du côté de la face arrière 106 de la couche 100 sur quasiment toute la surface du photodétecteur PD disposée du côté de la face 106 de la couche 100, par exemple sur plus de 80% de cette surface. Ainsi, en , toutes les structurations 122 appartiennent à une seule et même zone 124, et aucune zone 126 n'est associée au photodétecteur PD.
Dans cet exemple, les structurations 122 ont été obtenues au moyen d'un autoassemblage dirigé mis en œuvre par chemo-épitaxie ou par grapho-épitaxie.
En outre, à l'étape de la , un masque 300 est formé du côté de la face arrière 106. Le masque 300 comprend des portions recouvrant des structurations 122, et des ouvertures 302 débouchant sur des structurations 122. Chaque ouverture 302 est disposée à un emplacement où l'on souhaite former une structuration correspondante de plus grande dimension critique que celles des structurations 122.
Dans l'exemple de la , le masque 300 comprend plusieurs ouvertures 302 pour le photodétecteur PD illustré. Dans un autre exemple non illustré, le masque 300 peut ne comprendre qu'une seule ouverture 302 pour le photodétecteur PD.
A l'étape de la , des structurations 304 de plus grandes dimensions critiques que celles des structurations 122 ont été formées dans la couche 100, par gravure du côté de la face arrière 106 de cette couche 100. Les structurations 304 sont formées chacune à partir d'une ouverture 302 correspondante.
A l'étape de la , le masque 300 a été retiré, et, à une étape suivante non illustrée, les structurations 122 et 304 peuvent être remplies d'un matériau d'indice optique différent de celui du silicium.
Le photodétecteur PD ainsi obtenu est donc associé à des structurations 122 de petites dimensions critiques et à des structurations 304 de plus grandes dimensions critiques, par exemple à des structurations 304 de grandes dimensions critiques. En outre, certaines structurations 122 sont empilées avec une structuration 304 correspondante, et d'autres structurations 122 ne sont pas empilées avec une structuration 304 et sont disposées autour des structurations 304.
Les figures 4A et 4B illustrent un deuxième exemple d'un procédé comprenant une étape de gravure supplémentaire pour former des structurations de plus grandes dimensions critiques que les structurations 122.
Les figures 4A et 4B n'illustrent qu'une partie du capteur de lumière 1, et, plus particulièrement, un seul photodétecteur PD du capteur 1. Toutefois, les étapes décrites en relation avec les figures 4A et 4B pour un seul photodétecteur PD sont, de préférence, mises en œuvre simultanément dans plusieurs photodétecteur PD du capteur 1, par exemple dans tous les photodétecteurs PD du capteur.
Dans ce deuxième exemple, comme l'illustre la , des structurations 122 ont été formées du côté de la face arrière 106 de la couche 100. Toutefois, à la différence de la , du côté de la face 106, il y a des zones 126 dépourvues de structuration 122, et une ou plusieurs zones 124 munies de structurations 122.
En outre, à l'étape de la , un masque 400 est formé du côté de la face arrière 106. Le masque 400 comprend des portions recouvrant chacune une zone 126 correspondante, et comprend en outre au moins une ouverture 402 débouchant sur des structurations 122. Chaque ouverture 402 débouche sur une zone 124 correspondante. Dans l'exemple de la , il y a autant d'ouvertures 402 que de zones 124.
A l'étape de la , des structurations 404 de plus grandes dimensions critiques que les structurations 122 ont été formées dans la couche 100, par gravure du côté de la face arrière 106 de cette couche 100. Les structurations 404 sont formées chacune à partir d'une ouverture 402 correspondante
En outre, à l'étape de la , le masque 400 a été retiré, et, à une étape suivante non illustrée, les structurations 122 et 404 peuvent être remplies d'un matériau d'indice optique différent de celui du silicium.
Le photodétecteur PD ainsi obtenu est associé à des structurations 122 et à au moins une structuration 404 de plus grande dimension critique que celles des structurations 122, par exemple à au moins une structuration 404 de grande dimension critique.
En outre, dans l'exemple des figures 4A et 4B, chaque structuration 122 est empilée avec une structuration 404 correspondante, et aucune structuration 122 n'est disposée autour des structurations 404. Dit autrement, les structurations 404 sont formées uniquement en regard de zones 124 munies de structurations 122.
Les figures 5A et 5B illustrent un troisième exemple d'un procédé comprenant une étape de gravure supplémentaire pour former des structurations de grandes dimensions.
Les figures 5A et 5B n'illustrent qu'une partie du capteur de lumière 1, et, plus particulièrement, un seul photodétecteur PD du capteur 1. Toutefois, les étapes décrites en relation avec les figures 5A et 5B pour un seul photodétecteur PD sont, de préférence, mises en œuvre simultanément dans plusieurs photodétecteur PD du capteur 1, par exemple dans tous les photodétecteurs PD du capteur.
Dans ce troisième exemple, comme l'illustre la , des structurations 122 ont été formées du côté de la face arrière 106 de la couche 100. Comme en , du côté de la face 106, il y a une ou plusieurs zones 126 dépourvues de structuration 122, et une ou plusieurs zones 124 munies de structurations 122.
En outre, à l'étape de la , un masque 520 est formé du côté de la face arrière 106. Le masque 520 comprend des portions recouvrant chacune une zone 124 correspondante et donc les structurations 122. Le masque 520 comprend en outre au moins une ouverture 502 débouchant sur une zone 126 dépourvue de structuration 122. Dans cet exemple, le masque 520 comprend trois ouvertures 502, bien que dans d'autres exemples non illustrés le masque puisse comprendre une, deux ou plus de trois ouvertures 502.
A l'étape de la , des structurations 504 de plus grandes dimensions critiques que celles des structurations 122 ont été formées dans la couche 100, par gravure du côté de la face arrière 106 de cette couche 100. Les structurations 504 sont formées chacune à partir d'une ouverture 502 correspondante.
En outre, à l'étape de la , le masque 520 a été retiré, et, à une étape suivante non illustrée, les structurations 122 et 504 peuvent être remplies d'un matériau d'indice optique différent de celui du silicium.
Le photodétecteur PD ainsi obtenu est associé à des structurations 122 et à des structurations 504 de plus grandes dimensions critiques que celles des structurations 122, par exemple des structurations 504 de grandes dimensions critiques.
En outre, aucune structuration 122 n'est empilée avec une structuration 504, et les structurations 122 sont disposées autour des structurations 504. Dit autrement, les structurations 504 sont formées uniquement en regard de zones 126 dépourvue de structurations 122.
Bien que l'on ait décrit en relation avec les figures 3A à 3C, 4A et 4B, et 5A et 5B le cas où les structurations 304, 404 et 504 sont formées lors d'une gravure postérieure à la gravure pour former les structurations 122, dans d'autres exemples non illustrés, cet ordre des gravures peut être inversé ou les deux gravures peuvent être mises en œuvre simultanément. La mise en œuvre de ces autres exemples est à la portée de la personne du métier.
En outre, la personne du métier est en mesure d'adapter les exemples précédant de procédé de fabrication permettant d'associer des structurations 122 avec des structurations de plus grandes dimensions critiques que celles des structurations 122, au cas où l'autoassemblage dirigé est mis en œuvre par grapho-épitaxie et les cavités de guidage 114 sont gravées directement dans la couche 100.
On a décrit ci-dessus en relation avec les figures 1A à 5B des exemples de modes de réalisation et de variantes dans lesquelles les structurations sont formées dans la couche 100, en retirant par gravure des portions de cette couche 100.
Suite à l’authentification du parent, le dispositif 10 transmet une requête Req BD pour la génération d’un justificatif électronique vérifiable de déclaration de naissance numérique VC Digital Birth Declaration. Ce VC Digital Birth Declaration est généré par l’établissement émetteur 40 et stocké dans un wallet cloud du parent.
Le dispositif 10 transmet ensuite une requête de témoignage de naissance auprès d’un témoin assermenté préalablement authentifié (non représenté sur la ). Dans le cas où le témoin assermenté certifie la naissance de l’individu, le dispositif 10 transmet une requête Req DW pour la génération d’un justificatif électronique vérifiable de déclaration de témoin de naissance VC Birth Declaration Witness. Ce VC Birth Declaration Witness est généré par l’établissement émetteur 40 et stocké dans le wallet cloud du parent. Dans une variante de réalisation, un acte de naissance VC Birth Certificate peut être généré par l’établissement émetteur 40 à partir du VC Digital Birth Declaration et du VC Birth Declaration Witness. Ce VC Birth Certificate est généré par à un agent virtuel 510 associé à l’établissement émetteur 40. L’agent virtuel 510 est ici stocké dans une infrastructure de stockage dématérialisée 50 de type Cloud. L’acte de naissance VC Birth Certificate est transmis à l’agent virtuel 310 pour y être stocké dans le dossier numérique dématérialisé Wallet Cloud associé au parent. Cette transmission à l’agent virtuel 310 peut avoir lieu après une validation par le parent à l’aide de son téléphone mobile 20.
Préférentiellement, la transmission à l’agent virtuel 310 est sécurisée.
Préférentiellement, l’acte de naissance VC Birth Certificate est fragmenté pour être stocké sur différentes infrastructures de stockage dématérialisées 30. Le dossier numérique dématérialisé Wallet Cloud est ainsi réparti sur ces différentes infrastructures de stockage.
La illustre le dispositif de fourniture d’un service de confiance 10 des figures 1 et 2 et un établissement vérifieur 60 dans une phase de vérification de l’acte de naissance, selon un premier mode de réalisation. Cet établissement vérifieur 60 est ainsi adapté pour transmettre une requête Req proof de preuve de la naissance de l’individu au dispositif 10. Le dispositif 10 va alors interroger le parent via un SMS. Dans le cas où le parent accepte la demande de preuve de l’établissement vérifieur 60, l’agent virtuel 310 associé au parent transmet l’acte de naissance VC Birth Certificate à un agent virtuel 710 associé à l’établissement vérifieur 60. Cet agent virtuel 710 est ici stocké dans une infrastructure de stockage dématérialisée 70 de type Cloud.
Préférentiellement, la transmission à l’agent virtuel 710 est sécurisée.
La illustre des étapes d’échanges de données entre le dispositif de service de confiance et le dispositif d’émission d’un acte de naissance dans une phase de demande dudit acte de naissance, selon un second mode de réalisation.
Les échanges de données pour une déclaration de naissance et une émission d’un justificatif de naissance comprennent les étapes suivantes : - une déclaration de naissance est transmise sous la forme d’un ou plusieurs message(s) textuel(s) de type SMS ou USSD ; - le serveur d’application collecte et envoie des informations de la demande à un émetteur (issuer) ; - l’établissement émetteur établit une connexion sécurisée avec le parent (agent virtuel) pour un échange de clé ; - le parent reçoit la demande de connexion par SMS ; - le parent accepte la connexion par SMS et s’authentifie vocalement ; - l’établissement émet le justificatif électronique vérifiable et publie les informations de vérification dans un « ledger » (blockchain). Une variante consiste à signer le certificat électroniquement par clé asymétrique ; - le parent accepte le justificatif électronique vérifiable par SMS ; - le justificatif électronique vérifiable est stocké par l’agent virtuel dans le wallet cloud.
Les échanges de données pour une demande d’acte de naissance comprennent les étapes suivantes : - une demande d’acte de naissance est transmise sous la forme d’un ou plusieurs message(s) textuel(s) de type SMS ou USSD ; - le serveur d’application identifie le demandeur ; - le serveur d’application authentifie le demandeur par biométrie vocale ; - l’état civil envoie une requête de preuve de déclaration de naissance et de témoignage ; - le demandeur donne son consentement par SMS pour le partage ; - les justificatifs électroniques vérifiables sont transmis par l’agent virtuel au service d’état civil ; - l’état civil vérifie l’authenticité du justificatif électronique à partir des informations stockées dans le ledger lors des phases d’émissions ; - l’état civil émet un justificatif électronique vérifiable de type Acte de naissance (extrait ou intégrale).
La illustre des étapes d’échanges de données entre le service de confiance de la et le dispositif de vérification d’un acte de naissance émis par le dispositif d’émission de la dans une phase de vérification de l’acte de naissance, selon un second mode de réalisation.
Les échanges de données pour une demande de vérification comprennent les étapes suivantes : - l’établissement vérifieur établit une connexion sécurisée avec le parent (agent virtuel) pour un échange de clé ; - le parent reçoit la demande de connexion par SMS ; - le parent accepte la connexion par SMS et s’authentifie vocalement ; - l’établissement verifier fait une demande de preuve ; - le parent accepte la demande de preuve par SMS ; - l’agent virtuel partage le justificatif électronique vérifiable avec le vérifieur via la connexion sécurisée ; - le vérifieur vérifie les informations grâce aux informations stockées préalablement dans le ledger. Dans une variante de réalisation, la signature du justificatif est vérifiée grâce à une clé publique mise à disposition du vérifieur par l’issuer.
Ainsi, l’invention permet : - à un demandeur de s’enregistrer auprès d’un service d’authentification par SMS/empreinte vocal pour authentifications ; - à un Trusted Service Provider de créer un wallet cloud pour le demandeur à partir de SMS ; - à un propriétaire du wallet de demander des Vérifiables credentials aux émetteurs en utilisant des SMS et la voix comme moyen d’authentification ; - à un émetteur de générer et émettre à travers une connexion sécurisée le VC demandé ; - à un demandeur d’accepter par SMS la connexion avec l’émetteur et d’accepter le VC émis en utilisant les SMS ; - à un propriétaire du wallet de partager, via une connexion sécurisée, avec un verifieur les informations d’un Verifiable Credential par SMS ; - à un vérifieur de vérifier l’authenticité du Verifiable Credential et les informations demandées.
Toutes les opérations effectuées via SMS sont archivées et visibles via le wallet cloud du demandeur et reste aussi faisable via ce wallet.
L’invention s’applique à toute entité, organisation ou établissement souhaitant émettre des vérifiables credentials à un propriétaire de wallet.
L’invention s’applique également à toute entité, organisation ou établissement souhaitant vérifier des vérifiables credentials afin de donner accès au propriétaire de wallet à un ou plusieurs services demandés.
Traitement d’images pour la détermination d’un paramètre physiologique L’invention se rapporte au domaine du traitement d’images.
Etape b) L’étape b) du procédé selon l’invention consiste en la fourniture d’au moins une molécule de formule Chem. I telle que présentée ci-dessus.
De préférence, dans la formule Chem. I, T représente un groupement isocyanate, sulfhydryle, amino, époxyde, vinyle, formyle, ou carbodiimide, plus avantageusement, T représente un groupement époxyde ou amino, encore plus avantageusement T représente un groupement époxyde.
De préférence, dans la formule Chem. I, A représente un groupement espaceur, plus préférentiellement une chaîne divalente hydrocarbonée aliphatique, notamment linéaire ou ramifiée et saturée, comportant de 1 à 12 atomes de carbone :
- dans laquelle sont éventuellement intercalés, entre deux atomes de carbone de ladite chaîne, un ou plusieurs (notamment 1, 2, 3 ou 4) motifs divalents choisis parmi les arylènes,-O-, -S-, -S(O)-, -C(=O)-, -SO 2 - et -N(R 9 )- avec R 9 représentant un atome d'hydrogène, un groupement hydrocarboné aliphatique comportant de 1 à 6 atomes de carbone, ou un aryl-(C1-C6)alkyle,
- ladite chaîne étant non substituée ou substituée par un ou plusieurs groupes monovalents choisis parmi un atome d'halogène, un hydroxyle, un aryl-(C1-C6)alkyle.
Avantageusement, A est une chaîne divalente hydrocarbonée aliphatique, notamment linéaire ou ramifiée et saturée, dans laquelle sont éventuellement intercalés, entre deux atomes de carbone de ladite chaîne, un ou plusieurs motifs divalents -O-, plus avantageusement de 1 à 4 motifs divalents -O-, encore plus avantageusement un motif divalent O.
De préférence, A est une chaîne (C1-C12)alkylène dans laquelle sont éventuellement intercalés, entre deux atomes de carbone de ladite chaîne, un ou plusieurs motifs divalents -O-, plus préférentiellement de 1 à 4 motifs divalents -O-, encore plus préférentiellement un motif divalent -O-.
En particulier, A représente une chaîne divalente -(C1-C6)alkylène-O-(C1-C6)alkylène-, notamment -(C1-C4)alkylène-O-(C1-C4)alkylène-, plus particulièrement une chaine divalente -CH 2 -O-(CH 2 ) 3 -, le groupe CH 2 étant lié à T et le groupe (CH 2 ) 3 étant lié à Si dans la molécule de formule Chem. I.
Avantageusement, le groupement espaceur permettra également d’éviter une gêne stérique entre le groupement silylé et le groupement T de la molécule de formule Chem. I, tout en assurant une liaison stable entre ces deux groupements.
De préférence, dans la formule Chem. I, R 5 et R 6 , identiques ou différents, représentent un groupement –OR 4 avec R 4 représentant un atome d'hydrogène, un groupement aryle ou un groupe hydrocarboné aliphatique comportant de 1 à 6 atomes de carbone ; ou un groupe hydrocarboné aliphatique comportant de 1 à 6 atomes de carbone éventuellement substitué par un ou plusieurs groupes choisis parmi un atome d’halogène, un aryle et un hydroxyle.
En particulier, R 5 et R 6 , identiques ou différents, représentent un groupement –OR 4 avec R 4 représentant un groupe (C1-C6)alkyle ; ou un groupe (C1-C6)alkyle.
Avantageusement, R 5 et R 6 , identiques ou différents, représentent un groupement –OR 4 avec R 4 représentant un atome d'hydrogène, un groupement aryle ou un groupe hydrocarboné aliphatique comportant de 1 à 6 atomes de carbone, de préférence avec R 4 représentant un groupe hydrocarboné aliphatique comportant de 1 à 6 atomes de carbone, tel qu’un groupe (C1-C6)alkyle.
De préférence, dans la formule Chem. I, R 10 représente un atome d’hydrogène ou un groupe hydrocarboné aliphatique comportant de 1 à 6 atomes de carbone tel qu’un groupe (C1-C6)alkyle, plus avantageusement R 10 représente un groupe hydrocarboné aliphatique comportant de 1 à 6 atomes de carbone tel qu’un groupe (C1-C6)alkyle.
De préférence, la molécule de formule Chem. I est telle que :
- T est tel que défini ci-dessus et représente avantageusement un groupement amino ou époxyde, de préférence un groupement époxyde ;
- A est une chaîne divalente -(C1-C6)alkylène-O-((C1-C6)alkylène-, notamment -(C1-C4)alkylène-O-(C1-C4)alkylène-, telle que -CH 2 -O-(CH 2 ) 3 -, le groupe CH 2 étant de préférence lié à T et le groupe (CH 2 ) 3 étant lié à Si dans la molécule de formule Chem. I ;
Selon un mode de réalisation, un orifice intermédiaire peut être agencé en regard de l’orifice de sortie, et de préférence dans lequel un seul orifice intermédiaire peut être agencé en regard de l’orifice de sortie.
Selon un mode de réalisation, : - une surface latérale d’un cylindre de passage ayant une hauteur définie par une distance entre la face aval de la tuyère rapportée et une paroi de la chambre supportant l’orifice de sortie, et ayant une génératrice normale à la paroi de fond de chambre et suivant une courbe de base définie par la périphérie de l’orifice de sortie peut être inférieure à : - une surface totale des orifices intermédiaires situés à l’extérieur du cylindre de passage.
Selon un mode de réalisation, les orifices intermédiaires situés à l’extérieur du cylindre de passage peuvent être répartis de manière régulière autour de l’orifice de sortie.
Selon un mode de réalisation, la portion décalée peut être séparée de la paroi de fond de chambre par une distance d’au moins 0.4 mm.
Selon un mode de réalisation, la tuyère rapportée peut comprendre au moins une partie déformable, telle qu’une patte flexible, en appui sur la chambre. La patte flexible, en appui sur la chambre, permet un montage simple et robuste, car la tuyère rapportée peut être montée en force dans la chambre. On peut prévoir un arc-boutement entre la patte flexible et la chambre, pour garantir un appui sur le fond de chambre et éviter tout déplacement qui pourrait décaler la tuyère rapportée.
Selon un mode de réalisation, la tuyère rapportée peut comprendre une pluralité d’excroissances, telles que des pattes, avec au moins une patte agencée à distance de la chambre. Selon un mode de réalisation, la tuyère rapportée peut être une pièce formée par emboutissage, et dans ce cas, cette pluralité d’excroissances, telles que des pattes agencées à distance de la chambre rapporté permettent manipuler la pièce et/ou de fabriquer aisément la pièce par poinçonnage-emboutissage.
Selon un mode de réalisation, la tuyère rapportée peut présenter une épaisseur d’au moins 1.2 mm.
Selon un mode de réalisation, la tuyère rapportée peut présenter une partie périphérique recourbée vers une direction opposée à l’orifice de sortie, et une partie centrale recourbée vers une direction opposée à l’orifice de sortie. De manière schématique, la tuyère rapportée peut présenter une section transversale en W avec une partie centrale de grandes dimensions.
Selon un mode de réalisation, la tuyère rapportée peut être formée d’un seul tenant.
Selon un mode de réalisation, la tuyère rapportée peut être montée en force dans la chambre.
Selon un mode de réalisation, la tuyère rapportée peut comprendre au moins une excroissance formant un arc-boutement sur la chambre.
Selon un mode de réalisation, le générateur de gaz peut comprendre une portion de butée, formée par exemple par la chambre, et au moins une partie de la portion décalée de la tuyère rapportée peut être agencée pour entrer en butée mécanique avec la portion de butée si la différence de pression entre la face aval et la face amont de la tuyère rapportée exercée par la dite au moins une partie du ou des gaz sous pression excède un deuxième seuil prédéterminé. Une telle mise en butée permet de garantir la déformation maximale de la tuyère rapportée.
Selon un mode de réalisation, la tuyère rapportée peut être directement en regard des moyens d’étanchéité frangibles obturant l’orifice de sortie avant rupture. Autrement dit, seuls les moyens d’étanchéité frangibles sont entre la tuyère rapportée et l’orifice de sortie.
Selon un mode de réalisation, le fond de chambre peut présenter une épaisseur uniforme et/ou constante. On peut typiquement prévoir de fabriquer la pièce à partir d’un flan de tôle, avec le fond de chambre en forme de coupe et/ou avec une section transversale en forme de U. l’orifice de sortie étant ménagé ou fond de la coupe ou du U.
Selon un mode de réalisation, la tuyère rapportée peut présenter une épaisseur uniforme et/ou constante. On peut typiquement prévoir de fabriquer la pièce à partir d’un flan de tôle, et de poinçonner les orifices intermédiaires, puis faire la mise en forme avec une portion décalée du fond de chambre.
Selon un mode de réalisation, le générateur de gaz peut comprendre : - une première chambre ayant du ou des premiers gaz sous pression et un premier orifice de sortie obturé par des premiers moyens d’étanchéité frangibles, - une deuxième chambre avec du ou des deuxièmes gaz sous pression et un deuxième orifice de sortie obturé par des deuxièmes moyens d’étanchéité frangibles, - une zone de diffusion, agencée pour recevoir et diffuser vers un coussin gonflable le ou les premiers gaz sous pression et le ou les deuxièmes gaz sous pression lorsque les premiers moyens d’étanchéité frangibles et les deuxièmes moyens d’étanchéité frangibles sont rompus.