INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
- L représente –C(=O)- ou –C(=O)-(CH 2 )k-C(=O)-, avec k étant égal à 1, 2 ou 3, en particulier 2.
D’autres composés de formule générale (I) peuvent être couplés avec des molécules données afin de former des prodrogues.
Les prodrogues permettent en particulier d’améliorer la biodisponibilité de composés, et notamment d’augmenter leur sélectivité pour une cible visée en augmentant leur capacité à passer les membranes cellulaires.
Par « couplage », on entend la création d’une liaison chimique entre des composés de formule (I) et d’autres molécules. Ces liaisons peuvent être des liaisons covalentes, des liaisons ioniques ou iono-covalentes, des liaisons métalliques, des liaisons hydrogène ou des forces de Van der Waals.
Selon un mode de réalisation particulier, certains composés de formule générale (I) peuvent être couplés avec des molécules hydrophiles.
Selon un mode de réalisation particulier, certains composés de formule générale (I) peuvent être couplés avec des molécules amphiphiles.
Selon un mode de réalisation particulier, certains composés de formule générale (I) peuvent être couplés avec des molécules lipophiles.
En particulier, certains composés de formule générale (I) peuvent être couplés avec des acides gras. Des acides gras convenant à un tel couplage sont des acides gras saturés et des acides gras insaturés.
Peuvent notamment être cités les acides gras saturés suivants : l’acide caprylique (8 :0), l’acide caprique (10 :0), l’acide laurique (12 :0), l’acide myristique (14 :0), l’acide palmitique (16 :0), l’acide stéarique (18 :0), l’acide arachidique (20 :0), l’acide béhénique (22 :0), l’acide lignocérique (24 :0) et l’acide cérotique (26 :0).
Peuvent également être cités les acides gras insaturés suivants : l’acide myristoléique (14 :1), l’acide palmitoléique(16 :1), l’acide sapiénique (16 :1), l’acide oléique (18 :1), l’acide élaïdique (18 :1), l’acide trans-vaccénique (18 :1), l’acide linoléique (18 :2), l’acide linolélaïdique (18 :2), l’acide α-linolénique (18 :3), l’acide γ-linolénique (18 :3), l’acide dihomo-γ-linolénique (20 :3), l’acide arachidonique (20 :4), l’acide eicosapentaénoïque (20 :5), l’acide clupanodonique (22 :5) et l’acide docosahexaénoïque (22 :6).
Selon un autre aspect, l’invention concerne une composition pharmaceutique ou un médicament comprenant au moins un composé de formule générale (I) tel que défini précédemment, en tant que principe actif, et un véhicule pharmaceutiquement acceptable, ladite composition pharmaceutique ou ledit médicament étant notamment adapté à une administration par les voies aérienne, orale, parentérale, locale, intramusculaire ou sous-cutanée.
Il est à noter que tous les modes de réalisation mentionnés ci-dessus à propos du composé de formule générale (I) s’appliquent également ici, seuls ou en combinaison.
Selon un autre aspect, l’invention concerne un composé de formule générale (I) tel que défini précédemment, pour son utilisation pour la prévention et/ou le traitement des désordres induits par les toxines à mode d’action intracellulaire utilisant le transport rétrograde, ou par les virus ou bactéries utilisant le transport rétrograde et/ou dépendant de la syntaxine 5 pour infecter les cellules, notamment les virus ou bactéries entrant dans les cellules par endocytose, ou par des parasites intracellulaires.
est une représentation schématique d’un système d’alimentation de la dans un premier état de fonctionnement,
est une représentation schématique d’un système d’alimentation des figures 1 et 2 dans un deuxième état de fonctionnement,
est une représentation schématique d’un système d’alimentation selon l’invention, selon un autre mode de réalisation.
Les éléments identiques conservent la même référence quel que soit les figures où ils apparaissent.
La représente un système d’alimentation 1 en gaz embarqué sur un ouvrage flottant. Le système d’alimentation 1 permet de faire circuler du gaz pouvant être à l’état liquide, à l’état vapeur, à l’état diphasique ou à l’état supercritique, et ce à partir d’une cuve 8 de stockage et/ou de transport, et jusqu’à un appareil consommateur de gaz à haute pression 4 et jusqu’à un appareil consommateur de gaz à basse pression 5, afin d’alimenter ces derniers en carburant.
Ledit ouvrage flottant peut par exemple être un navire de type méthanier pouvant stocker et/ou transporter du gaz à l’état liquide, notamment du gaz naturel. Le système d’alimentation 1 est dans ce cas apte à utiliser le gaz à l’état liquide que l’ouvrage flottant stocke et/ou transporte pour alimenter l’appareil consommateur de gaz à haute pression 4, lequel pouvant par exemple être un moteur de propulsion, et l’appareil consommateur de gaz à basse pression 5, lequel pouvant par exemple être un générateur électrique alimentant l’ouvrage flottant en électricité.
Le gaz à l’état liquide, selon un sens de circulation allant de la cuve 8 vers l’appareil consommateur de gaz à haute pression 4, traverse un premier échangeur de chaleur 6 et est mis en pression par une pompe 10, autrement appelé pompe haute pression. Par la suite, le gaz à l’état liquide traverse un deuxième échangeur de chaleur 7, puis un évaporateur haute pression 11 avant de rejoindre le moteur haute pression 4. La pompe 10 est avantageusement disposée entre le premier échangeur de chaleur 6 et le deuxième échangeur de chaleur 7.
L’évaporateur haute pression 11 permet de modifier l’état du gaz circulant dans le premier circuit d’alimentation 2 afin de le faire passer à l’état vapeur ou supercritique. Un tel état est un état compatible pour alimenter l’appareil consommateur de gaz à haute pression 4. L’évaporation du gaz à l’état liquide peut par exemple se faire par échange de chaleur entre le gaz à l’état liquide qui entre dans l’évaporateur haute pression 11 et un fluide caloporteur à température suffisamment élevée pour évaporer le gaz à l’état liquide, ici de l’eau glycolée, de l’eau de mer ou de la vapeur d’eau.
Grâce à la combinaison de la pompe 10 et de l’évaporateur haute pression 11, le gaz est à une pression et dans un état compatibles pour l’alimentation de l’appareil consommateur à haute pression 4. Une telle configuration permet d’éviter l’installation de dispositifs de compression haute pression sur le premier circuit d’alimentation 2 qui présentent des contraintes de coûts et génèrent de fortes vibrations.
Au sein de la cuve 8, une partie de la cargaison de gaz peut naturellement passer à l’état vapeur et être contenu dans un ciel de cuve 12. Afin d’éviter une surpression au sein de la cuve 8, le gaz à l’état vapeur contenu dans le ciel de cuve 12 doit être évacué.
Le système d’alimentation 1 comprend donc un deuxième circuit d’alimentation 3 en gaz, qui utilise le gaz à l’état vapeur pour alimenter l’appareil consommateur de gaz à basse pression 5. Le deuxième circuit d’alimentation 3 s’étend entre le ciel de cuve 12 et l’appareil consommateur de gaz à basse pression 5. Afin d’aspirer le gaz à l’état vapeur contenu dans le ciel de cuve 12, le deuxième circuit d’alimentation 3 comprend un dispositif de compression 13, notamment un compresseur. En plus d’aspirer le gaz à l’état vapeur, le dispositif de compression 13 permet également de comprimer le gaz à l’état vapeur circulant dans le deuxième circuit d’alimentation 3 à une pression comprise entre 6 et 20 bars absolus, et ce afin que le gaz à l’état vapeur soit à une pression compatible pour l’alimentation de l’appareil consommateur de gaz à basse pression 5. Le deuxième circuit d’alimentation 3 permet ainsi d’alimenter l’appareil consommateur de gaz à basse pression 5, et ce tout en régulant la pression au sein de la cuve 8 en aspirant le gaz à l’état vapeur présent dans le ciel de cuve 12.
Les documents de brevets publiés FR 3 087 157 A1 et FR 3 066 571 A1 divulguent respectivement un exemple d’une butée inertielle comprenant une chambre de compression reliée de manière fluidique à une chambre de compensation, au moyen d’un conduit permettant d’acheminer un fluide hydraulique de la chambre de compression vers la chambre de compensation afin de réaliser un freinage du fluide par effet d’inertie en opposition à l’accélération d’un effort généré, par exemple, par un choc de la roue du véhicule automobile contre un terrain bosselé.
Toutefois, les butées inertielles connues de l’état de l’art fonctionnent en attaque et en détente de manière symétrique, ce qui présente une lenteur et un manque de réactivité, notamment lors de la détente de la butée inertielle. En effet, de telles butées inertielles ne sont pas capables de reprendre des efforts répétés sur un court laps de temps, car le fluide hydraulique n’a pas le suffisamment le temps de revenir intégralement à la chambre de compression et la butée inertielle devient moins efficace.
Le document de brevet publié FR 3 002 013 A1 divulgue un amortisseur de fin de course d’un dispositif coulissant comprenant des orifices ayant une section de passage progressivement réduite et permettant un amortissement progressif en fin de course.
Cependant, la solution proposée par le document représente un fonctionnement symétrique en attaque et en détente, et ne permet pas de pallier le problème susmentionné.
La présente invention a pour objectif de pallier au moins un des inconvénients de l’état de la technique susmentionné. Plus particulièrement, l’invention a pour objectif de proposer un amortisseur de fin de course capable de travailler en attaque et de revenir dans sa position d’équilibre le plus rapidement possible, ainsi si le véhicule franchi plusieurs obstacles consécutifs, l’amortisseur de fin de course permet de garantir une efficacité accrue.
À cet effet, l’invention a pour objet un amortisseur de fin de course pour suspension de véhicule automobile, comprenant : - un corps configuré pour être fixé à une structure du véhicule automobile ; - une butée mobile délimitant avec le corps une chambre de compression, configurée pour être contactée par la suspension en fin de course ; - une chambre de compensation ; - un conduit inertiel reliant de manière fluidique la chambre de compression avec la chambre de compensation, configuré pour, lors d’un mouvement d’attaque de la butée mobile, accélérer et acheminer un fluide hydraulique dans la chambre de compression vers la chambre de compensation ; remarquable en ce que l’amortisseur de fin de course comprend, en outre : - un passage de retour reliant de manière fluidique la chambre de compensation avec la chambre de compression, et configuré pour se fermer lors du mouvement d’attaque de la butée mobile et s’ouvrir lors d’un mouvement de détente de ladite butée mobile.
Selon un mode de réalisation, le passage de retour comprend un clapet anti-retour configuré pour s’ouvrir lors du mouvement de détente de la butée mobile.
Selon un mode de réalisation, le passage de retour comprend un conduit de retour qui est externe à la chambre de compensation et à la chambre de compression.
Selon un mode de réalisation, le conduit inertiel présente une section intérieure à 30 mm 2 et une longueur totale supérieure ou égale à 400 mm.
Selon un mode de réalisation, le conduit inertiel est spiralé autour de la chambre de compression.
Selon un mode de réalisation, le corps comprend un alésage dans lequel la butée mobile est montée coulissante et délimitant avec ladite butée mobile la chambre de compression.
Selon un mode de réalisation, le conduit inertiel est formé dans une paroi du corps formant l’alésage.
Selon un mode de réalisation, le conduit de retour est externe à la paroi et à l’alésage du corps.
Selon un mode de réalisation, la chambre de compensation comprend des moyens élastiques aptes à exercer sur le fluide hydraulique une pression croissante lors du mouvement d’attaque de la butée mobile, de manière à causer, après le mouvement d’attaque de la butée mobile, un écoulement dudit fluide hydraulique par le passage de retour et le mouvement de détente de ladite butée mobile.
L’invention a également pour objet un véhicule automobile comprenant une structure, au moins une suspension et au moins un amortisseur de fin de course de l’au moins une suspension, remarquable en ce que l’au moins un amortisseur de fin de course est selon l’invention, le corps étant rigidement fixé à la structure et une partie mobile de l’au moins une suspension étant apte, en fin de course, à contacter la butée mobile.
Avantageusement, le canal de retour permet d’accélérer le retour de la butée mobile dans sa position d’équilibre, ainsi l’amortisseur de fin de course est exempté de travailler en détente.
La formation de la structure de piégeage 104 commence par la formation d’une première couche de piégeage 104a réalisée par dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD). Selon des variantes la formation peut être réalisée par une technique de croissance thermique ou par dépôt physique en phase vapeur (PVD).
La couche de piégeage 104a formée sur le substrat support 102 est une couche à base de silicium polycristallin, amorphe ou poreux ou à base de carbure de silicium. L’épaisseur de la couche de piégeage 104a est égale ou inférieure à 2,5µm, en particulier égale ou inférieure à 1µm.
Ensuite une couche intermédiaire diélectrique 104b est formée sur la première couche de piégeage 104a. La couche intermédiaire diélectrique 104b peut être une couche d’oxyde de silicium, de préférence une couche d’oxyde de silicium natif. Selon une des variantes, la couche intermédiaire diélectrique est formée par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) ou par oxydation thermique. La couche intermédiaire diélectrique 104b a de préférence une épaisseur plus fine que la première couche de piégeage 104a, en particulier une épaisseur qui est inférieure à 5nm, en particulier inférieure à 1nm.
Pour terminer la formation de la structure de piégeage 104, une deuxième couche de piégeage 104c est formée sur la couche intermédiaire diélectrique 104b de la même manière que la première couche de piégeage 104a et notamment avec la même épaisseur.
Selon une variante, les deux couches de piégeage 104a et 104c peuvent être formées avec une ou plusieurs propriétés physiques, telle que la taille de grain, différentes. Selon une autre variante, les deux couches de piégeage 104a et 104c peuvent être à base de matériaux différents, parmi ceux nommés ci-dessus. Par exemple, la couche 104a peut être en silicium poreux et la couche 104a en silicium polycristallin.
Lors de l’étape III) une couche diélectrique 106a est formée sur la surface libre 122 de la deuxième couche de piégeage 104c. La couche diélectrique 106a est de préférence une couche d’oxyde de silicium formée par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) ou par dépôt physique en phase vapeur (PVD). Selon une variante, la couche 106a est formée par oxydation de silicium polycristallin.
Lors de l’étape IV) un substrat 124 comprenant une couche piézoélectrique 126, en particulier un substrat 124 comprenant du tantalate de lithium (LTO) ou du niobate de lithium (LNO) est fourni. La couche piézoélectrique 124 est dans ce mode de réalisation agencé au-dessus d’un substrat de base 126. Dans une alternative la couche piézoélectrique 126 est une couche massive et forme le substrat 124 en entier.
Selon une variante, une ou plusieurs étapes de traitement de surface de la surface libre 130 du substrat 124 comprenant une couche piézoélectrique peuvent être réalisées avant la formation de la couche diélectrique 106b. Par exemple peuvent être réalisés, un traitement d’activation de surface, tel qu’un traitement plasma et/ou un traitement à base d’ozone.
Lors de l’étape VI), le substrat 124 obtenu après l’étape V) est assemblé avec le substrat support 102 obtenu à l’étape III) d’assemblage pour former un assemblage 132 substrat support – substrat comprenant une couche piézoélectrique.
L’assemblage est mis en œuvre de manière à ce que les couches diélectriques 106a et 106b soient mises en contact direct. L’assemblage se met en œuvre de préférence par adhésion moléculaire.
Une fois les deux substrats assemblés, une étape d’amincissement VII) de l’assemblage 132 est réalisée pour obtenir le substrat POI 100 avec une couche plus mince piézoélectrique 108, tel qu’illustré dans la .
Par exemple, l’étape d’amincissement peut être réalisée par meulage ou par une étape de formation d’une zone de fragilisation dans la couche piézoélectrique 126 avant l’étape VI d’assemblage de manière à délimiter la couche piézoélectrique 108 à transférer sur le substrat support 102 et fracturation. Cette étape de formation d’une zone de fragilisation est réalisée par une implantation d'espèces atomiques ou ioniques dans la couche piézoélectrique 126. L’implantation atomique ou ionique peut être réalisée de telle manière que la zone de fragilisation est située à l’intérieur de la couche piézoélectrique 126 et délimite une couche piézoélectrique 108 à transférer du reste de la couche piézoélectrique 126. Ensuite, une étape de fracturation de l’assemblage 132 par un apport d’énergie thermique et/ou mécanique au niveau de la zone de fragilisation de la couche piézoélectrique 126 est ensuite réalisée pour obtenir le substrat piézoélectrique sur isolant (POI) 100.
Selon des variantes, le collage entre le substrat support 102 et le substrat 124 peut aussi se faire entre la structure de piégeage 104 et la couche diélectrique 106b, c’est-à-dire sans réaliser l’étape III), ou entre la couche diélectrique 106a et la couche piézoélectrique 126.
L’étape de détermination de la déviation du tube de forage par rapport à la trajectoire prédéterminée comprend avantageusement une étape de mesure(s) de position du tube de forage, par exemple une mesure de l’inclinaison, de l’orientation et/ou de la position géographique du tube de forage.
La trajectoire corrigée est avantageusement déterminée à partir d’une comparaison entre la déviation déterminée et la trajectoire prédéterminée. Ladite trajectoire corrigée est déterminée de manière à contrer la déviation et à ramener le tube de forage selon la trajectoire prédéterminée.
La position angulaire de la tête de correction de trajectoire comprend de préférence l’inclinaison de la tête de correction de trajectoire par rapport à la direction longitudinale du tube de forage et/ou l’orientation de la tête de correction de trajectoire autour d’un axe selon lequel elle s’étend. L’étape de détermination de la position angulaire de correction de la tête de correction de trajectoire comprend avantageusement une étape de détermination d’une inclinaison de correction de la tête de correction de trajectoire, par exemple par rapport à la direction longitudinale du tube de forage et/ou une étape de détermination d’une orientation de correction de la tête de correction de trajectoire, par exemple autour d’un axe selon lequel s’étend la tête de correction de trajectoire.
La mise en vibration de la tête de correction de trajectoire placée dans la position angulaire de correction entraine son déplacement selon la trajectoire corrigée. Le tube de forage est par conséquent déplacé selon cette trajectoire corrigée, ce qui tend à le ramener dans la trajectoire prédéterminée. La déviation du tube de forage est compensée et sa trajectoire est donc corrigée. En d’autres mots, la mise en vibration de la tête de correction de trajectoire placée dans la position angulaire de correction entraine une déviation maitrisée du tube de forage vers sa trajectoire prédéterminée.
De manière non limitative, les étapes selon lesquelles on détermine une trajectoire corrigée pour le tube de forage, on détermine une position angulaire de correction de la tête de correction de trajectoire, on place ladite tête de correction de trajectoire dans ladite position angulaire de correction et on met en vibration la tête de correction de trajectoire, peuvent être réalisées en mettant en rotation le tube de forage ou en interrompant la rotation dudit tube de forage.
De préférence, la tête de correction de trajectoire présente une position active dans laquelle sa mise en vibration entraine un déplacement du tube de forage selon la trajectoire corrigée. Autrement dit, en position active, la tête de correction de trajectoire permet de dévier le tube de forage et d’en corriger la trajectoire. De préférence, la tête de correction de trajectoire présente en outre une position inactive dans laquelle elle est configurée pour ne pas modifier la trajectoire du tube de forage lorsque le tube de forage est mis en vibration.
De manière non limitative, la tête de correction de trajectoire présente en outre avantageusement une position de forage dans laquelle elle est configurée pour ne pas modifier la trajectoire du tube de forage lorsque ledit tube de forage est mis en rotation. Cette position de forage de la tête de correction de trajectoire dépend avantageusement de la nature de la tête de correction de trajectoire utilisée. De manière non limitative, ladite position de forage peut correspondre à la position active ou encore à la position inactive de la tête de correction de trajectoire.
La tête de correction de trajectoire est avantageusement placée en position inactive lorsqu’elle n’est pas mise en vibration. Un intérêt est d’éviter qu’elle ne dévie le tube de forage lors du forage lorsque ceci n’est pas souhaitable, et notamment lorsque ce dernier est mis en rotation.
Grâce à l’invention, en l’absence de déviation, le forage est réalisé en mettant en rotation le tube de forage, ce qui permet de réaliser rapidement l’excavation, en réduisant l’usure du tube de forage et de la tête de correction de trajectoire. En cas de déviation du tube de forage par rapport à sa trajectoire prédéterminée, la tête de forage mise en vibration permet de corriger la trajectoire déviée, afin de ramener le tube de forage dans sa trajectoire prédéterminée. La mise en vibration de la tête de correction de trajectoire permet une correction de la trajectoire du tube de forage dans un sol meuble, par exemple un sol sableux, mais également dans un sol dur, par exemple un sol rocheux. En effet, la mise en vibration de la tête de correction de trajectoire apporte l’énergie nécessaire au forage de sols durs, par exemple les sols rocheux, qui peuvent difficilement être forés par mise en rotation du tube de forage ou par projection d’un fluide de forage.
En d’autres mots, l’invention permet de réaliser un forage dirigé dans des sols durs. En outre, l’invention permet de poursuivre la correction de trajectoire du tube de forage, même lorsqu’un changement de nature du sol est rencontré. En effet, le forage vibratoire pour déplacer la tête de correction de trajectoire est adapté à tous types de sols, meubles ou durs. Il n’est donc pas nécessaire de changer de type de tête de correction de trajectoire lors d’un changement de nature de sol à forer. Le procédé selon l’invention permet un forage dirigé continu, même à l’interface entre deux sols de natures différentes.
Par ailleurs, la mise en vibration de la tête de correction de trajectoire permet également la création d’un espace annulaire autour de ladite tête de correction de trajectoire facilitant la correction de trajectoire.
De préférence, mais de manière non limitative, le déplacement de la tête de correction de trajectoire dans le sol, par mise en vibration de cette dernière, s’accompagne d’une projection de fluide de forage sous pression.
De préférence, la mise en vibration de la tête de correction de trajectoire est interrompue lorsque la trajectoire du tube de forage correspond à la trajectoire prédéterminée. Le forage peut alors être poursuivi au moyen du tube de forage mis en rotation. Alternativement, la mise en vibration peut être interrompue après que la tête de correction de trajectoire ait été déplacée sur une distance prédéterminée selon la trajectoire corrigée.