Appareil (100) de spectrométrie de décharge luminescente comprenant une lampe (1) à décharge luminescente apte à former un plasma (2) de décharge luminescente et un spectromètre optique d’émission apte à recevoir une partie d’un faisceau lumineux (20) émis par le plasma de décharge luminescente caractérisé en ce que le spectromètre optique d’émission comprend un composant optique dispersif (7) et un réseau à échelle (8), le composant optique dispersif (7) et le réseau à échelle (8) étant disposés et configurés pour former un spectre bidimensionnel (26) du faisceaux lumineux, le spectre bidimensionnel (26) étant dispersé dans une pluralité d’ordres de diffraction (P 1 , …P j ,…P T ), la pluralité d’ordres de diffraction (P 1 , …P j ,…P T ) s’étendant suivant une première direction (X) et chaque ordre de diffraction (P 1 , …P j ,…P T ) s’étendant spectralement suivant une seconde direction (Y) transverse à la première direction (X) et un détecteur CMOS (10) à matrice de pixels disposé et configuré pour acquérir le spectre bidimensionnel (26) en fonction du temps. Appareil (100) de spectrométrie de décharge luminescente selon la revendication 1 dans lequel le détecteur CMOS est apte à acquérir au moins 20 images par seconde. Appareil (100) de spectrométrie de décharge luminescente selon la revendication 1 ou 2 dans lequel le détecteur CMOS comprend N lignes de M pixels, où N est supérieur ou égal à 512 et M est supérieur ou égal à 512. Appareil (100) de spectrométrie de décharge luminescente selon l’une des revendication 1 à 3 dans lequel chaque ordre de diffraction (P 1 , …P j ,…P T ) s’étend sur une ligne du détecteur CMOS. Appareil (100) de spectrométrie de décharge luminescente selon l’une des revendication 1 à 4 comprenant un système de traitement des données configuré pour traiter les signaux du détecteur CMOS par macropixels, chaque macropixel comprenant au moins 2x2 pixels adjacents du détecteur CMOS. Appareil (100) de spectrométrie de décharge luminescente selon l’une des revendication 1 à 5 comprenant un système optique de couplage entre la lampe (1) à décharge luminescente et une entrée (4) du spectromètre optique d’émission. Appareil (100) de spectrométrie de décharge luminescente selon l’une des revendication 1 à 6 dans lequel le composant optique dispersif (7) comprend un prisme. Appareil (100) de spectrométrie de décharge luminescente selon l’une des revendication 1 à 7 comprenant un monochromateur ou un polychromateur (15) apte à recevoir une autre partie du faisceau lumineux (21) émis par le plasma de décharge luminescente, le monochromateur, respectivement le polychromateur (15), comprenant un réseau de diffraction et un détecteur photomultiplicateur, respectivement plusieurs détecteurs photomultiplicateurs, chaque détecteur photomultiplicateur étant adapté pour détecter une émission optique à une longueur d’onde déterminée. Appareil (100) de spectrométrie de décharge luminescente selon l’une des revendication 1 à 8 comprenant un interféromètre différentiel pour mesurer une profondeur de gravure d’un cratère d’érosion dans un échantillon exposé au plasma (2) de décharge luminescente. Procédé de spectrométrie de décharge luminescente comprenant les étapes suivantes : - former un plasma de décharge luminescente ; - recevoir une partie d’un faisceau lumineux (20) émis par le plasma de décharge luminescente sur une entrée (4) d’un spectromètre optique d’émission ; - disperser spectralement la partie du faisceau lumineux sur un réseau à échelle (8) et un composant optique dispersif (7) pour former un spectre bidimensionnel, le spectre bidimensionnel étant dispersé dans une pluralité d’ordres de diffraction (P 1 , …P j ,…P T ), la pluralité d’ordres de diffraction (P 1 , …P j ,…P T ) s’étendant suivant une première direction (X) et chaque ordre de diffraction (P 1 , …P j ,…P T ) s’étendant spectralement suivant une direction transverse à la première direction ; et - acquérir le spectre bidimensionnel sur un détecteur CMOS à matrice de pixels en fonction du temps.