INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Sans stimulation, les cellules dendritiques dérivées des monocytes ne produisent pas d’IL-6. Cependant, la culture planctonique de C. acnes induit significativement la production d’IL-6 par les cellules dendritiques dérivées des monocytes. Le contrôle positif, la dexaméthasone à 300 ng/ml, inhibe de façon significative cette production, ces résultats attendus permettent de valider ce test.
L’extrait de Garcinia mangostana à 1,25 µg/ml ne modifie pas la libération d’IL-6 par rapport à la condition de stimulation par la culture de C. acnes , en revanche, à partir de 2,5 µg/ml l’extrait de Garcinia mangostana inhibe significativement la production d’IL-6 par les cellules dendritiques dérivées des monocytes. Le jus d’Avena sativa fraiche à toutes les concentrations testées, est dénué d’effets sur la production d’IL-6 par les cellules dendritiques dérivées des monocytes. En revanche, l’association d’un extrait de Garcinia mangostana à 1,25 µg/ml et de jus d’Avena sativa fraiche à 10 µg/ml inhibe de manière significative la production d’IL-6 avec un effet synergique. De même aux concentrations intermédiaires, l’association d’un extrait de Garcinia mangostana et de jus d’Avena sativa fraiche permet de démasquer un effet inhibiteur statistiquement plus important (P<0,001) versus les agents utilisés individuellement.
Ainsi, il est possible d’associer des espaces inter-couches de vide comportant des nervures transversales et/ou longitudinales. Dans un mode de réalisation, la paroi du réservoir comporte au moins deux espaces inter-couches de vides, dont les nervures sont alternativement transversales puis longitudinales afin de mieux répartir les efforts s’exerçant sur la paroi du réservoir.
Dans un autre exemple de réalisation, les parties renforcées de la couche composite renforcée, décrite précédemment, peuvent faire office de supports inter-couches. Ainsi, un ultravide peut être fait entre une couche composite renforcée et la couche suivante, sans ajout de supports supplémentaires.
5. Description d’un premier exemple de réalisation spécifique
Dans un exemple de réalisation particulier, illustré par la , les différentes couches composant les parois du réservoir sont successivement, de l’intérieur vers l’extérieur :
une première couche interne (12) étanche constituée d’aluminium ou de composite (recouvert sur sa partie supérieure ou intérieure d’un film ou d’un tissu supportant les températures ultra-basses comme le polyimide (TECASINT®, KAPTON®), le polytétrafluoroéthylène (TECAFLON®, GORE-TEX®), le polyoléfine (membrane Porelle®), ou encore une couche de NEGs (Non-Evaporable Getters)… un espace inter-couches (92) placé sous vide (ou ultravide), les couches adjacentes étant maintenues éloignées à l’aide de supports/nervures. une deuxième couche (94) composée d’un empilement de plis en matériau composite à base de fibres de carbone, ou autre type de fibres, l’angle des plis entre eux pouvant être toute valeur d’angle jugée adéquate par l’homme du métier. L’épaisseur de cette deuxième couche est comprise entre 0,5mm à 20mm suivant les spécifications techniques requises. Cette couche est saturée par une résine assurant l’étanchéité inter-couches et inter-plis. Cette couche peut également se présenter sous la forme d’un sandwich composite-mousse-composite en partie ou en totalité, elle sera alors obtenue par cuissons successives ou simultanées. Cette deuxième couche (94) est recouverte sur sa partie intérieure d’un isolant (93) de type Mylar ou d’une couche de NEGs, et sur sa partie extérieure d’une nappe d’isolation (95), optionnelle, de type « nappe en verre isolant cryogénique » par exemple celle de la société UNIFRAX ou un film polyimide ou polyamide. Cette deuxième couche (94) est répétée autant de fois que nécessaire pour contrôler le gradient de température.
un espace inter-couches (96) placé sous vide (ou ultravide), les couches adjacentes étant maintenues éloignées à l’aide de supports/nervures. la couche externe (11), dernière couche qui fait face à l’atmosphère extérieure, est une couche composite permettant de prévenir le flambage de la structure, à l’aide de portions ou de parties renforcées, telles que décrites précédemment.
6. Description d’un second exemple de réalisation spécifique
Dans un exemple de réalisation particulier, les différentes couches composant les parois du réservoir sont successivement, de l’intérieur vers l’extérieur :
une couche interne étanche constituée d’aluminium ou de composite, pouvant présenter les caractéristiques d’une couche composite renforcée telle que décrite précédemment ; un espace inter-couches placé sous vide ou sous ultravide (c’est-à-dire entre des pressions comprises entre 10 -3 et 10 -6 mbar) ; une couche externe en composite renforcée dont les parties renforcées sont allongées dans le sens des efforts auxquels est soumise la structure, de façon à empêcher le flambement ;
Dans un exemple de réalisation, l’espace inter-couches sous vide ou sous ultravide présent entre la couche interne et la couche externe peut être créé sans ajout de support, par simple mise sous vide des espaces formés entre les couches interne(s) et externe(s) par les parties renforcées. Lorsque la couche interne est une couche composite, elle peut présenter des parties renforcées perpendiculaires aux parties renforcées de la couche externe afin de limiter les zones de ponts thermiques.
Dans un autre exemple de réalisation, l’espacement inter-couches sous vide présent entre la couche interne et la couche externe peut être créé à l’aide de supports de type nervures permettant de maintenir un écartement entre la couche interne et la couche externe, les nervures étant perpendiculaires aux parties renforcées de la (ou des) couche(s) composite(s) renforcée(s). Si la couche interne est une couche composite renforcées, tel qu’illustré par la , elle peut présenter des parties renforcées (62) parallèles aux parties renforcées de la couche externe (11, 61), tandis que les nervures (71) sont perpendiculaires aux parties renforcées (62) des couches interne (12, 61) et externe (11, 61), limitant par conséquent les zones de ponts thermiques. Dans la , les parties renforcées possèdent une section en chapeau de gendarme due à la forme des éléments de support (67) qui est épousée par les plis divergés (66). De plus, les nervures présentent des évidements (72) de section elliptique.
7. Description d’un procédé de fabrication
Le procédé de fabrication du réservoir tel que décrit précédemment met donc en œuvre au moins deux couches dont au moins une couche formant un matériau stratifié. La fabrication d’un tel réservoir peut être effectuée en partie grâce à des procédés adaptés aux matériaux composites, ces procédés peuvent être manuels (moulage au contact, moulage sous vide, infusion, pré-imprégnés…), et/ou mécanisés (RTM, thermoformage, moulage, enroulement filamentaire…) ou tout autre type de procédé jugé adapté par l’homme du métier.
Dans un exemple de réalisation, le réservoir est constitué d’une couche interne (composite ou métallique), augmentée de l’intérieur vers l’extérieur par des couches en matériaux composite (fibres de carbone, de verre, zylon, kevlar, avec de la résine), fabriqué par le dépôt de plis composite et/ou par enroulement filamentaire. Le réservoir est donc capable de prendre toute forme géométrique. L’étanchéité des couches composites de l’ensemble de la paroi est obtenue par saturation en résine des plis de composite de façon à éliminer toute porosité.
En relation avec les figures 1 et 6, le procédé de fabrication général d’un réservoir (10) comprend les étapes suivantes :
mise en forme d’une couche interne (12) ; adjonction optionnelle de nervures (71) ; adjonction optionnelle d’au moins une couche intermédiaire pouvant être en composite (94) et/ou isolante (93, 95) et/ou résistante mécaniquement (94) ; adjonction d’une couche externe (11) autour de l’ensemble formé par ladite couche interne (12) et optionnellement ladite au moins une couche intermédiaire (93, 94, 95) ; mise sous vide d’au moins un espace inter-couche (92, 96) ;
D’autres particularités et avantages du dispositif d’alarme apparaîtront dans la description détaillée qui suit, donnée uniquement à titre d’exemple, et illustrée par les Figures 1 à 5 en annexe, parmi lesquelles :
La est une représentation schématique en perspective d’un exemple de dispositif d’alarme selon un mode de réalisation de l’invention, une cible étant positionnée face à un télémètre du dispositif d’alarme sur cette figure.
La est une représentation d’une face latérale du dispositif d’alarme selon le mode de réalisation de la , comportant une interface utilisateur dotée d’un système de visualisation de données.
La est une représentation en perspective du dispositif d’alarme selon le mode de réalisation de la , ce dispositif faisant face à un obstacle proche qui s’intercale entre le télémètre et la cible.
La est une représentation schématique d’un écran de système de visualisation de données du dispositif d’alarme selon un exemple.
La représente de manière fonctionnelle des éléments et modules du dispositif d’alarme selon un exemple.
On décrit ci-après un dispositif d’alarme 1 amélioré. Le dispositif 1 permet la détection en temps réel et automatisée du déplacement d’une cible 2 sur un site, telle qu’un élément d’un édifice, un arbre fragilisé ou tout élément nécessitant une surveillance. Pour ce faire, le dispositif 1 est mis en place sur le site dans le voisinage de la cible 2 à surveiller. Le site concerné est typiquement un site de construction, un chantier de rénovation, un édifice faisant l’objet de travaux, etc.
Un élément du site peut par exemple nécessiter une surveillance en temps réel sur un site, du fait qu’un déplacement ou une chute intempestive dudit élément représenterait un danger important, par exemple pour des opérateurs ou des passants présents sur le site. La cible 2 faisant l’objet de la surveillance par le dispositif d’alarme 1 est donc typiquement une portion d’édifice pouvant se déplacer ou chuter de façon imprévue, telle qu’une portion de façade. Alternativement, il peut s’agir de toute charge, masse, objet potentiellement dangereux susceptible d’être déplacé de façon imprévisible.
Présentation du dispositif d’alarme
Les Figures 1 à 3 annexées illustrent un dispositif d’alarme 1 selon un exemple de réalisation, positionné de manière stable face à une cible 2.
Le dispositif d’alarme 1 comporte notamment un télémètre 3, un système d’alarme 4 et un module anti-déclenchement intempestif 50 décrits de manière détaillée ci-après. Le système d’alarme 4 est configuré pour émettre au moins un signal d’alarme lors de la détection par le télémètre 3 d’une variation de distance entre le télémètre 3 et la cible 2. Un utilisateur présent au voisinage du dispositif 1 peut ainsi être alerté en cas de déplacement de la cible 2 par rapport au télémètre 3 du dispositif 1.
Dans cet exemple, le dispositif 1 comporte un boîtier 14. Le boîtier 14 est de préférence de forme générale parallélépipédique. L’ensemble formé par le boîtier 14 et la lunette de visée 16 présente de préférence les dimensions externes suivantes : longueur comprise entre 150 millimètres et 250 millimètres, largeur comprise entre 100 millimètres et 200 millimètres, hauteur comprise entre 100 millimètres et 200 millimètres. Ce boîtier est typiquement formé en résine, mais peut également être formé en métal, par exemple en aluminium. Ce boîtier peut être renforcé afin d’augmenter sa résistance aux chocs.
De façon préférentielle, le boîtier 14 est surélevé par rapport au sol du site. Le boîtier 14 est ici monté sur la partie supérieure d’un support 22 tel qu’un trépied ici.
De manière avantageuse, le boîtier 14 intègre non seulement le télémètre 3 et le système d’alarme 4 (et le module anti-déclenchement intempestif 50), mais également un bouton de mise en marche 144 et des moyens d’alimentation. Un avantage associé est de permettre l’omission d’un boîtier annexe, le dispositif d’alarme 1 étant alors autosuffisant et limitant le besoin de branchements et l’encombrement sur le site.
L’invention propose enfin un support d’informations (par exemple non-transitoire) lisible par un ordinateur, sur lequel est enregistré un tel programme d'ordinateur.
représente schématiquement un hologramme numérique ;
représente un exemple de dispositif d’holographie numérique 10 utilisant les enseignements de l’invention ;
représente un exemple de procédé mis en œuvre par un module de traitement du dispositif d’holographie numérique de la ; et
représente un procédé de décodage d’un hologramme numérique à partir de données reçues dans un flux de données.
La représente schématiquement un hologramme numérique défini au moyen d’une fonction ψ 0 dans un plan de référence P ref d’équation (z=0) dans un espace de propagation E où les coordonnées tridimensionnelles d’un point sont définies dans un repère orthonormé (O,x,y,z). Autrement dit, les axes (Ox) et (Oy) (ou plus simplement les axes x et y) sont compris dans le plan de référence P ref et/ou définissent le plan de référence P ref . La direction de propagation (avant application de la transformation mentionnée plus bas) correspond ainsi ici à l’axe (Oz) ; dans cette situation, la direction de propagation (z) est perpendiculaire (ou orthogonale) au plan de référence P ref .
Le champ d’onde (représentant ici le champ lumineux monochromatique de longueur d’onde λ) associé à cet hologramme en un point de l’espace de propagation E de coordonnées r=(x,y,z) s’écrit alors (avant application de la transformation mentionnée plus bas) :
où la transformée de Fourier de la fonction ψ 0 est définie (dans le plan de référence P ref ) par
λ est la longueur d’onde de la lumière (monochromatique) concernée, η = (η x , η y , η z ) avec η z = SQRT(1 - η x 2 - η y 2 ), SQRT() étant l’opérateur racine carrée, est le produit scalaire de r et η, et D λ est le domaine défini par {η x 2 + η y 2 < 1}.
Le champ d’onde défini par l’hologramme numérique peut ainsi être vu comme une somme (en théorie continue ou infinie) d’ondes planes de longueur d’onde λ.
Afin de tenir compte des particularités des hologrammes, on utilise des représentations de ces hologrammes sous forme de distribution dans un domaine spatio-fréquentiel D (ou espace des phases) à 4 dimensions, dont les 2 premières dimensions correspondent aux coordonnées spatiales dans le plan P de l’hologramme et les 2 autres dimensions correspondent aux fréquences spatiales dans ce même plan. Une telle distribution comprend par exemple les valeurs d’énergie lumineuse respectivement associées aux coordonnées spatiales et aux fréquences spatiales du domaine spatio-fréquentiel D.
Ensuite, en référence à la , une porosité est formée à partir de la face arrière 420 de la portion destinée à former le substrat support 43, de sorte qu’aucune porosité n’est formée dans la portion destinée à former la couche superficielle 41.
On peut ensuite, de manière facultative, assembler une ou plusieurs couches supplémentaires 43B, 43C sur la face arrière du substrat support 43. L’assemblage d’une première couche 43B est illustré dans la . La première couche 43B présente un taux de porosité plus élevé que la portion 43 s’étendant de la face arrière 420 du substrat unique porosifié. Une telle couche est, par exemple, une couche en carbure de silicium fritté ou une couche en carbure de silicium porosifié, ou une combinaison de deux ou plusieurs couches poreuses. Une couche en carbure de silicium fritté peut, par exemple, être obtenue par un frittage réactionnel à une température d’environ 2000°C. On forme ainsi une nouvelle face arrière 421 du substrat support 430 à former.
L‘assemblage optionnel d’une deuxième couche 43C est illustré dans la . On forme, par cet assemblage, une nouvelle face arrière 422 du substrat à former. La deuxième couche 43C présente un taux de porosité plus élevé que la face arrière de la première couche 43B. Ainsi, on forme un nouveau substrat support 431 dont la porosité augmente successivement de la face avant 410 jusqu’à la face arrière 422 du substrat support 431 formé.
On peut également réaliser un assemblage d’une ou plusieurs couches 43B, 43C sur la face arrière du substrat 420 et/ou réaliser une porosification supplémentaire après l’assemblage (non illustré). Par exemple, on peut d’abord coller une couche en carbure de silicium fritté sur la face arrière du substrat de départ, déposer ensuite une couche de carbure de silicium polycristallin sur la face arrière de la couche en carbure de silicium fritté, et réaliser une étape de porosification de la couche en silicium polycristallin déposé sur la couche en carbure de silicium fritté.
Un mode de réalisation préféré est illustré dans les figures 8A à 8C. On forme d’abord un substrat support 530 et réalise par la suite un assemblage avec une couche superficielle 51 en carbure de silicium monocristallin.
En référence à la , on forme un substrat support à partir d’un substrat 50 en carbure de silicium polycristallin. En référence à la , on réalise une porosification d’une portion 53 destinée à former la portion poreuse s’étendant de la face arrière 520 du substrat à former. En référence à la , on assemble le substrat support sur sa face avant 510 avec une couche superficielle 51 de carbure de silicium monocristallin, typiquement par un procédé du type Smart Cut TM tel que décrit plus haut.
Afin d’illustrer les variantes d’un tel mode de réalisation, un procédé plus complexe est illustré dans les figures 8D à 8I. Dans ce mode de réalisation, on forme d’abord un substrat support et on réalise par la suite un assemblage avec une couche superficielle 51 en carbure de silicium monocristallin.
Pour former le substrat support, on peut, en référence à la , partir d’un substrat 50 de carbure de silicium polycristallin. On peut ensuite réaliser une porosification dudit substrat tel que décrite ci-dessus afin de former une zone poreuse 53 s’étendant à partir de la face arrière 520 du substrat 50. En référence à la , la porosification peut être réalisée de telle sorte qu’uniquement une portion 53 s’étendant à partir de la face arrière 520 du substrat présente une porosité, en conservant une portion 52 s’étendant à partir de la face avant 510 dans son état d’origine sans porosité. De manière alternative, on peut créer un gradient de porosité, de sorte que le taux de porosité augmente successivement ou par paliers de la face avant 510 vers la face arrière 520 du substrat 50. Dans d’autres cas, en référence à la , on réalise la porosification de manière homogène sur toute l’épaisseur du substrat comme illustré dans la .
On peut ensuite, en référence à la , réaliser une étape facultative de collage d’une couche 53B présentant un taux de porosité supérieur sur la face arrière 520 du substrat et créer ainsi un nouveau substrat support 531 comportant une nouvelle face arrière 521. La couche 53B présente un taux de porosité plus élevé que la portion 53 s’étendant de la face arrière 520 du substrat unique porosifié. Une telle couche est, par exemple, une couche en carbure de silicium fritté ou une couche en carbure de silicium porosifié avec un taux de porosité supérieur à celui de la portion 53 précédemment porosifiée, ou une combinaison de deux ou plusieurs couches poreuses. On forme ainsi une nouvelle face arrière 521 du substrat support 531 à former. En référence à la , on peut, de manière facultative, réaliser une étape de porosification supplémentaire dans une portion 53C s’étendant à partir de la nouvelle face arrière 521 du substrat à former. Pour cette étape de porosification supplémentaire, on va choisir les paramètres de sorte que la portion 53C présente un taux de porosité plus élevé que la couche poreuse 53B dans son état de départ. Ainsi, la porosité du substrat support 532 augmente progressivement de sa face avant 510 jusqu’à sa face arrière 522.
On peut, de manière facultative, réaliser un ou plusieurs collages d’autres couches présentant des taux de porosité supérieurs sur la face arrière du substrat (non illustré).
On peut, de manière facultative, assembler une ou plusieurs couches présentant un taux de porosité inférieur sur la face avant du substrat (non illustré).
En référence à la , on assemble le substrat support sur sa face avant 510 avec une couche superficielle 51 de carbure de silicium monocristallin.
Si aucune couche n’est assemblée sur la face avant du substrat 532, la couche superficielle 51 en carbure de silicium monocristallin peut être assemblée au substrat support 532 entre deux étapes quelconques du processus de formation du substrat support 532.
Dans certains modes de réalisation non illustrés, on réalise l’assemblage d’une partie du substrat support et de la couche superficielle en carbure de silicium monocristallin au cours de la formation du substrat support, avant la finalisation de toutes les étapes de la formation dudit substrat support.
D’autres modes de réalisation sont illustrées dans les figures 9A à 9B. En référence à la , on peut former le substrat support à partir d’un substrat 60 en carbure de silicium fritté. Le carbure de silicium fritté comprend généralement des inclusions de carbone, il s’agit donc d’un matériau poreux dont les pores sont remplis de ces inclusions.
On peut, en référence à la , assembler le substrat support 60 de carbure de silicium fritté avec une couche superficielle 61 de carbure de silicium monocristallin sur sa face avant 610. Ainsi, le substrat en carbure de silicium fritté forme une seule zone poreuse 60 s’étendant à partir de sa face arrière 620.
Selon un deuxième aspect, l’invention concerne les composés hydrosolubles d’intérêt nutritionnels obtenus par le procédé selon l’invention.
De manière préférée, lesdits composés hydrosolubles d’intérêts nutritionnels comprennent des protéines, vitamines, minéraux, ou sucres.
Lesdites protéines, vitamines, minéraux ou sucres varient en fonction de la microalgue utilisée dans le procédé.
Selon un troisième aspect, l’invention concerne l’utilisation des composés hydrosolubles d’intérêt nutritionnels obtenus par le procédé dans des produits alimentaires.
De manière préférée, lesdits composés hydrosolubles sont introduits dans une quantité comprise entre 2% et 10% de la composition desdits produits alimentaires.
De préférence, lesdits produits alimentaires sont choisis parmi les substituts de poisson, des boissons, des produits de la gamme boulangerie/pâtisserie…
Dans la description et dans les exemples suivants, sauf indication contraire, les pourcentages sont des pourcentages en poids et les plages de valeurs libellées sous la forme « entre ... et ... » incluent les bornes inférieure et supérieure précisées. Les exemples ci-après sont présentés à titre illustratif et non limitatif du domaine de l'invention.
Exemples Exemple 1 : Application du procédé d’extraction de composés d’intérêt nutritionnel selon l’invention à partir de Chlorelle.
Electroextraction des protéines cytoplasmiques de Chlorelle pour des applications alimentaires :
Avant de débuter le procédé, les souches de chlorelles sont mises en culture afin d’optimiser la production de biomasse jusqu’à atteindre une concentration de 10 7 cellules/mL.
Le procédé d’obtention des protéines cytoplasmiques de chlorelle comprend ensuite les étapes suivantes :
a. Séparation des algues fraîches de leur milieu de culture par centrifugation à 2500 g durant 5 minutes, à une température de 20°C,
b. Dilution des algues dans l’eau à 10% à une conductivité de 200 µS/cm,
e. Traitement de la solution algale à l’aide de champs électriques pulsés bipolaires selon le protocole détaillé dans le Tableau 1 ci-dessous,
f. Dilution du mélange 5 fois dans un tampon phosphate durant 1h,
g. Centrifugation du mélange à 2500 g durant 5 minutes, à une température de 20°C,
L’étape a) du procédé de culture d’une plante est identique à celle décrite ci-dessus. Ce procédé permet une accélération de la croissance de la plante et/ou d’augmenter le rendement de culture de cette plante.