INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
La présente invention a pour objet de remédier à cet inconvénient. Pour cela, elle concerne un fuselage d’aéronef destiné à recevoir deux réservoirs prévus pour contenir de l’hydrogène liquide, l’hydrogène liquide étant destiné à alimenter des moteurs d’au moins un système de propulsion de l’aéronef, le fuselage présentant un plan de symétrie vertical et un premier axe longitudinal, les deux réservoirs présentant chacun un second axe longitudinal, le fuselage comportant dans le sens d’avancement de l’aéronef au moins un premier tronçon de fuselage configuré pour recevoir un poste de pilotage et un deuxième tronçon de fuselage configuré pour recevoir une cabine de passagers.
Selon l’invention, le fuselage comprend un troisième tronçon de fuselage distinct du premier tronçon de fuselage et du deuxième tronçon de fuselage, le troisième tronçon de fuselage comportant deux logements destinés à loger chacun un réservoir, les deux logements sont configurés pour que le second axe longitudinal des deux réservoirs soit parallèle au premier axe longitudinal du fuselage d’aéronef quand les deux réservoirs sont installés dans leur logement, les deux logements étant disposés symétriquement l’un par rapport à l’autre de part et d’autre du plan de symétrie vertical, les deux logements étant configurés pour que le second axe longitudinal des deux réservoirs soit compris dans un plan commun quand les deux réservoirs sont installés dans leur logement.
Ainsi, grâce au fait que les réservoirs peuvent être installés côté à côte dans un tronçon de fuselage distinct des tronçons de fuselage comprenant la cabine passager et le poste de pilotage, les réservoirs peuvent être situés au plus proches des moteurs qu’ils ont à alimenter.
De plus, le troisième tronçon de fuselage comprend une structure travaillante à laquelle les deux réservoirs sont fixés.
Selon un premier mode de réalisation, le troisième tronçon de fuselage est situé à l’arrière du deuxième tronçon de fuselage, le troisième tronçon de fuselage comportant une cloison étanche séparant le deuxième tronçon de fuselage et le troisième tronçon de fuselage.
En outre, le troisième tronçon de fuselage comprend une zone avant située entre le deuxième tronçon de fuselage et les deux logements, la zone avant comprenant une première portion de la structure travaillante destinée à recevoir le ou les systèmes de propulsion de l’aéronef.
De plus, le fuselage comprend deux mâts de moteur fixés à la première portion de la structure travaillante de part et d’autre du plan de symétrie vertical.
Par ailleurs, le troisième tronçon de fuselage comprend une zone arrière, la zone arrière comprenant une deuxième portion de la structure travaillante destinée à recevoir un empennage vertical de l’aéronef.
Selon un deuxième mode de réalisation, le troisième tronçon de fuselage est situé entre le premier tronçon de fuselage et le deuxième tronçon de fuselage, le troisième tronçon de fuselage comportant une première cloison étanche séparant le premier tronçon de fuselage et le troisième tronçon de fuselage, le troisième tronçon de fuselage comportant en outre une deuxième cloison étanche séparant le troisième tronçon de fuselage et le deuxième tronçon de fuselage.
De plus, le troisième tronçon de fuselage comprend une zone arrière située entre les deux logements et le deuxième tronçon de fuselage, la zone arrière comprenant une portion de la structure travaillante destinée à porter le ou les systèmes de propulsion de l’aéronef.
En outre, le fuselage comprend deux mâts de moteur fixés à la portion de la structure travaillante de part et d’autre du plan de symétrie vertical.
Selon une première configuration, le troisième tronçon de fuselage présente deux ouvertures latérales dans une partie latérale du troisième tronçon de fuselage, les deux ouvertures latérales communiquant respectivement avec un des deux logements, chacune des deux ouvertures latérales étant configurée pour laisser le passage d’un réservoir vers un logement respectif, le troisième tronçon de fuselage comportant deux carénages amovibles, chacun des carénages amovibles étant configuré pour fermer et ouvrir alternativement une ouverture latérale respective.
représente une vue en éclaté du bouchon d’étanchéité de la ;
illustre une autre vue en perspective du bouchon d’étanchéité de la ;
illustre une autre vue en perspective d’une partie du montant de battement équipé du bouchon d’étanchéité, au niveau de l’extrémité basse dudit montant de battement,
représente une vue en perspective de dessous d’une portion des deux vantaux, au niveau d’une extrémité basse du montant de battement, lorsque la fenêtre est fermée, illustrant l’appui du bouchon d’étanchéité sur le joint périphérique.
La représente un exemple d’une fenêtre 100 de type à frappe, à deux vantaux.
Il convient de noter que la suite de la description vise spécifiquement une fenêtre à frappe à deux vantaux. Cela étant, les modes de réalisation décrits ci-après s’appliquent tout aussi bien au cas d’une porte-fenêtre à frappe à deux vantaux sans qu’il soit nécessaire de procéder à des ajustement structurels. Quand bien même d’éventuels changements structurels seraient nécessaires, l’homme du métier saura les mettre en œuvre à partir de ses connaissances générales.
Une fenêtre 100, quelle qu’elle soit, a pour objectif de combler une ouverture pratiquée dans un mur ou une façade de bâtiment, et former ainsi une séparation entre un environnement intérieur, par exemple un lieu de vie dans le bâtiment, et un environnement extérieur. La correspond à une vue en perspective de la fenêtre à frappe à deux vantaux à partir d’un point d’observation situé dans ledit environnement intérieur.
La fenêtre 100 à frappe de la comporte de manière classique un cadre de dormant, dénommé par la suite simplement dormant 10, fixe et deux vantaux 30, 40, communément dénommés vantail semi-fixe 30 et vantail de service 40.
Le dormant 10 est destiné à être fixé solidairement dans l’ouverture de la façade ou d’un mur du bâtiment. Les deux vantaux 30, 40 sont quant à eux liés chacun au dormant 10 et sont destinés à supporter chacun un ou plusieurs vitrages 21.
Le dormant 10 comporte de manière conventionnelle deux traverses 11 reliées entre elles, au niveau de leurs extrémités, par deux montants 12. Lorsque la fenêtre 100 est en place dans l’ouverture du mur, les traverses 11 dudit dormant sont disposées de manière horizontale, et sont dites traverse haute et traverse basse, et les montants 12 dudit dormant sont verticaux.
Chaque vantail 30, 40 comporte de manière conventionnelle deux traverses 31, 41 reliées entre elles, au niveau de leurs extrémités, par deux montants 32, 33, 42, 43. Lorsque la fenêtre 100 est en place dans l’ouverture du mur, les traverses de chaque vantail sont disposées de manière horizontale, et sont dites traverse haute et traverse basse, et les montants de chaque vantail sont verticaux.
Chaque vantail 30, 40 est relié, au niveau d’un de ces montants, dit montant de rive 32, 42, à un des montants 12 du dormant 10 par des organes de rotation, par exemple des paumelles 22, lui permettant de pivoter par rapport au montant associé du dormant 10. L’autre montant du vantail 30, 40 est dénommé par la suite montant libre 33, 43.
Le vantail semi-fixe 30 comporte en outre un montant de battement 50. Ledit montant de battement s’étend parallèlement au montant libre 33 dudit vantail semi-fixe. Le montant de battement 50 s’étend longitudinalement entre deux extrémités longitudinales 51.
Le montant de battement 50 est fixé, préférentiellement par vissage, au vantail semi-fixe 30, plus précisément fixé au montant libre 33 du vantail semi-fixe.
Le montant de battement 50 comporte préférentiellement une rainure de réception des éléments de quincaillerie (non représentés), lesdits éléments de quincaillerie étant configurés pour et destinés à permettre notamment de verrouiller, ou de déverrouiller, le vantail semi-fixe contre le dormant 10.
Le détecteur de position de papillon des gaz 42 détecte la position de papillon des gaz qui est une position du papillon des gaz 33.
Le détecteur de pression interne de passage d'admission 43 détecte la pression interne de passage d'admission qui est une pression à l'intérieur du passage d'admission 21.
En plus de ce qui précède, divers détecteurs (non illustrés) tels qu'un détecteur qui détecte la température à l'intérieur du passage d'admission 21, un détecteur qui détecte la température à l'intérieur du corps de moteur 10, et un détecteur qui détecte la vitesse de rotation de moteur sont fournis en tant que détecteurs.
Le dispositif d'injection de carburant 50 injecte du carburant dans le passage d'admission 21. Le dispositif d'injection de carburant 50 fournit du carburant à un intérieur du passage d'admission 21 en injectant du carburant.
Le dispositif de commande 60 présente un dispositif de traitement tel qu'une unité de traitement centrale (CPU), un dispositif de stockage tel qu'une mémoire vive (RAM) ou une mémoire morte (ROM), un cadenceur, et analogues. Le dispositif de commande 60 reçoit des résultats de détection provenant de détecteurs tels que le détecteur d'angle de vilebrequin 41, le détecteur de position de papillon des gaz 42 et le détecteur de pression interne de passage d'admission 43.
Le dispositif de commande 60 commande le dispositif d'injection de carburant 50 et la bougie d'allumage 19. Le dispositif de commande 60 commande une quantité d'injection de carburant du dispositif d'injection de carburant 50 et un cadencement auquel le dispositif d'injection de carburant 50 injecte du carburant. Le dispositif de commande 60 commande un cadencement pour additionner la bougie d'allumage 19.
Le moteur à quatre temps 100 configuré comme décrit ci-dessus répète un cycle de combustion. Un certain cycle de combustion comprend quatre courses définies par la position du piston et comprenant une course de compression en tant que course de début, une course de détente, une course d'échappement et une course d'admission en tant que course de fin. Avant la course d'admission, du carburant est injecté à partir du dispositif d'injection de carburant 50 dans le passage d'admission 21. Dans la course d'admission, lorsque la soupape d'admission 31 est ouverte, le mélange air-carburant d'air passant à travers le papillon des gaz 33 et de carburant injecté à partir du dispositif d'injection de carburant 50 est fourni vers la chambre de combustion 13 du cylindre 11. Dans la course de compression, le piston 14 comprime le mélange air-carburant dans la chambre de combustion 13. Dans la course de détente, le mélange air-carburant allumé par la bougie d'allumage 19 brûle et pousse le piston 14. Dans la course d'échappement, lorsque la soupape d'échappement 32 est ouverte, les gaz d'échappement après la combustion sont évacués à partir de la chambre de combustion 13 vers le passage d'échappement 22.
Un exemple de commande par le dispositif de commande 60 va être décrit en se reportant à la . La est un schéma illustrant schématiquement un exemple d'une relation temporelle entre une position de papillon des gaz P et un signal d'injection dans un dispositif d'injection de carburant 50. Sur la , l'axe horizontal représente un temps. Sur la figure Sur 2, l'axe horizontal peut être l’angle de rotation de vilebrequin.
Comme illustré sur la , le dispositif de commande 60 effectue une commande d'injection unique et une commande d'injections multiples en commutant entre elles. La commande d'injection unique fait référence à une commande du dispositif d'injection de carburant 50 de telle sorte qu'une injection J1 de carburant lorsque la soupape d'admission est fermée soit effectuée, et qu’une injection J2 de carburant lorsque la soupape d'admission est ouverte ne soit pas effectuée dans un cycle de combustion. La commande d'injections multiples fait référence à une commande du dispositif d'injection de carburant 50 de telle sorte que l'injection J1 de carburant lorsque la soupape d'admission est fermée et l'injection J2 de carburant lorsque la soupape d'admission est ouverte soient effectuées dans un cycle de combustion.
L'injection J1 de carburant lorsque la soupape d'admission est ouverte est une injection dans laquelle la fourniture de carburant se termine pendant la période de fermeture de soupape avant que la soupape d’admission 31 ne soit ouverte. Le dispositif de commande 60 peut effectuer une commande de manière à effectuer l’injection J1 de carburant lorsque la soupape d'admission est fermée, par exemple, dans une situation stable dans laquelle une position du papillon des gaz 33 ne change pas, et dans une situation d'accélération progressive dans laquelle l'ouverture du papillon des gaz 33 augmente progressivement à un faible taux de variation constant de manière continue à partir d’un état à faible charge dans lequel l’ouverture du papillon des gaz 33 est petite.
L'injection J2 de carburant lorsque la soupape d'admission est ouverte est une injection dans laquelle la fourniture de carburant se termine pendant la période d’ouverture de soupape lorsque la soupape d’admission 31 est ouverte. Le dispositif de commande 60 peut effectuer l'injection J1 de carburant lorsque la soupape d'admission est fermée et l’injection J2 de carburant lorsque la soupape d'admission est ouverte dans une situation d'accélération dans laquelle la position du papillon des gaz 33 passe à une position pour un état d'ouverture plus large du papillon des gaz.
L'injection J2 de carburant lorsque la soupape d'admission est ouverte fait référence à une injection de carburant à partir du dispositif d'injection de carburant 50 pendant une période d'ouverture de soupape R1 lorsque la soupape d'admission 31 est ouverte après la période de fermeture de soupape R2 dans un cycle de combustion. La situation d'accélération dans laquelle la position du papillon des gaz 33 passe à une position pour un état d'ouverture plus large du papillon des gaz comprend, par exemple, une situation d'accélération dans laquelle la position du papillon des gaz 33 passe d’un état à faible charge à un état à forte charge. L’état à faible charge peut correspondre, par exemple, à un état dans lequel la charge est inférieure à une valeur moyenne de la charge dans un cycle de combustion. D'autre part, l’état à forte charge peut correspondre à un état dans lequel la charge est supérieure à la valeur moyenne de la charge dans un cycle de combustion.
Lorsque la commande d'injections multiples est effectuée, le dispositif de commande 60 acquiert une quantité d'injection de carburant lorsque la soupape d'admission est fermée correspondant à une quantité d'injection de carburant pour l'injection J1 de carburant lorsque la soupape d'admission est fermée, par exemple, en un premier point t1 qui est un cadencement prédéterminé pour l'injection J1 de carburant lorsque la soupape d'admission est fermée dans un cycle de combustion.
En outre, le dispositif de commande 60 acquiert une quantité d'injection de carburant lorsque la soupape d'admission est ouverte correspondant à une quantité d'injection de carburant pour l'injection J2 de carburant lorsque la soupape d'admission est ouverte, par exemple, en un second point t2 qui est un cadencement prédéterminé pour l'injection J2 de carburant lorsque la soupape d'admission est ouverte dans un cycle de combustion.
Comme illustré sur la , lorsque la position du papillon des gaz 33 est différente entre le premier point t1 et le second point t2, le dispositif de commande 60 peut effectuer la commande d’injections multiples indépendamment de la présence ou de l'absence d'une quantité limite qui sera décrite ultérieurement.
Un exemple de commande par le dispositif de commande 60 va être décrit en se reportant à la . La est un schéma illustrant schématiquement un exemple de relation temporelle entre la position de papillon des gaz P et le signal d'injection dans le dispositif d'injection de carburant 50. Sur la , l'axe horizontal représente le temps. Sur la figure Sur 3, l'axe horizontal peut être l’angle de rotation de vilebrequin.
Selon une autre approche, représentée sur la , l’étape de préparation comprend la préparation de la chambre de l’équipement d’activation plasma à l’aide d’un plasma d’un gaz comprenant du soufre puis, après la préparation de la chambre, le traitement de la couche superficielle diélectrique de l’un au moins des substrats, dans la chambre, par un plasma comprenant de l’oxygène ou de l’azote.
Comme on l’a déjà présenté, l’activation plasma à l’aide d’un plasma d’un gaz comprenant du soufre est réalisée alors que le substrat à préparer n’est pas présent dans la chambre. Le gaz comprenant du soufre peut être de l’hexafluorure de soufre mélangé avec un gaz d’activation tel que de l’oxygène ou de l’azote. Cette sous-étape vise à recouvrir la surface interne de la chambre d’espèces soufrées et, éventuellement fluorées, ces espèces étant alors arrachées de la surface interne lors de l’activation plasma de la couche superficielle diélectrique menée dans la sous-étape suivante de l’étape de préparation. On ajustera les paramètres (notamment le débit du gaz soufré, la durée du plasma et sa puissance) pour faire en sorte que suffisamment d’espèces soient générées et incorporées, au cours de la sous-étape suivante d’activation plasma, dans la couche superficielle.
Pour compléter la description de la , l’étape de préparation de la couche superficielle diélectrique selon cette approche, est également suivie de l’étape de mise en contact des faces principales des deux substrats, puis de l’étape d’initiation et de propagation d'une onde de collage entre les faces principales des deux substrats pour les assembler l’un à l’autre.
La couche superficielle diélectrique est avantageusement une couche d’oxyde de silicium, pouvant incorporer de l’azote dans toute proportion souhaitée, ou du nitrure de silicium.
Avant, pendant ou à l’issue des étapes du procédé d’assemblage qui vient d’être décrit, il est naturellement possible d’appliquer d’autres étapes aux substrats, notamment celles d’un procédé de fabrication d’une structure obtenue par assemblage de deux substrats par adhésion moléculaire.
On peut notamment prévoir d’appliquer un traitement thermique de renforcement de l’assemblage, des étapes de réduction d’épaisseur de l’un au moins des deux substrats de manière à en former une couche. Cette réduction d’épaisseur peut être réalisée par amincissement du substrat (par exemple par meulage) ou par fracture. Dans ce cas, on a pu prévoir d’introduire dans le substrat à fracturer, et typiquement avant l’étape de mise en contact du procédé d’assemblage, des espèces légères visant à former un plan fragile de fracture dans le substrat dont on souhaite réduire l’épaisseur.
Dans cette application ou le procédé d’assemblage s’insère dans un procédé de report d’une couche, on dispose à l’issue de ce procédé et en référence à la d’une structure 1 comprenant un substrat support 2, une couche enterrée diélectrique 3, avantageusement une couche d’oxyde de silicium ou de nitrure de silicium, sur et en contact avec le substrat support 2 et une couche dite « utile » 4 sur et en contact avec la couche enterrée 3.
La couche enterrée présente une interface de collage, correspondant à son interface avec le substrat support 2, à son interface avec la couche utile 4 ou incorporée dans son épaisseur, selon que le procédé ait mis en œuvre une unique couche superficielle diélectrique disposée sur l’un ou l’autre des substrats ou deux de ces couches disposées sur chacune des faces principales des substrats.
Cette couche enterrée diélectrique 3 comprend une dose de soufre supérieure à 3,0 E13 at/cm^2, et avantageusement supérieure à 3,5 E13 at/cm^2. Elle peut présenter une dose de fluor supérieure à 4,0 E14 at/cm^2. Comme on l’a dit précédemment, lorsque la couche enterrée diélectrique est en oxyde de silicium, elle peut incorporer d’autres espèces, notamment d’azote. Avantageusement, ces doses correspondent à celles présentes dans une épaisseur d’au plus 10 nm d’un côté et/ou de l’autre de l’interface de collage.
Bien que l’on ait pris ici l’hexafluorure de soufre en exemple comme gaz comprenant du soufre (et du fluor), l’invention n’est nullement limitée à l’utilisation de ce gaz. On peut notamment prévoir d’utiliser en remplacement tout gaz soufré tel que du Fluorure de sulfuryle (SO2F2) ou du Tétrafluorure de thionyle (SO2F4).
L’étape de préparation conforme à l’invention peut s’appliquer à une unique couche superficielle diélectrique formé sur l’un des substrats, même si les deux substrats comportent une telle couche superficielle diélectrique. L’étape de préparation peut également s’appliquer à chacun des substrats, et dans ce cas chacun est muni d’une couche superficielle diélectrique.
Enfin, dans une alternative non détaillée, les espèces de soufre et, éventuellement, de fluor peuvent être incorporées dans la couche superficielle diélectrique lors de sa formation, par exemple lors de l’oxydation ou nitruration d’un substrat comprenant du silicium, ou lors de son dépôt.
Procédé de fabrication d'un capteur de lumière La présente description concerne de façon générale les dispositifs électroniques, et, plus particulièrement les capteurs de lumière, par exemple les capteurs de temps de vol.
On connait des capteurs de lumière comprenant une matrice de pixels, dans lequel chaque pixel comprend au moins un photodétecteur disposé dans une couche semiconductrice, typiquement une couche de silicium. Dit autrement, ces capteurs de lumière connus comprennent une matrice de photodétecteurs chacun disposé dans une couche en silicium du capteur.
Parmi ces capteurs de lumière connus, on distingue les capteurs à éclairement par la face avant et les capteurs à éclairement par la face arrière. Dans un capteur à éclairement par la face avant, la couche de silicium comprenant les photodétecteurs est destinée à recevoir de la lumière du côté de sa face avant, c'est-à-dire du côté de sa face qui est revêtue d'une structure d'interconnexion de fin de ligne ("Back End of Line") ou structure d'interconnexion BEOL. A l'inverse, dans un capteur à éclairement par la face arrière, la couche de silicium comprenant les photodétecteurs est destinée à recevoir de la lumière du côté de sa face arrière, c'est-à-dire du côté de sa face qui est opposée à sa face avant.
La « symétrie » des dentures des satellites du réducteur permet de symétriser les efforts axiaux ainsi que les moments auxquels les satellites sont soumis en fonctionnement.
L’invention propose un perfectionnement aux technologies décrites dans ce qui précède et illustrées aux figures 2 à 5.
L’invention propose d’ajouter au réducteur mécanique au moins un palier de guidage et de centrage du solaire.
Le réducteur comprend déjà des paliers, que l’on peut dénommer premiers paliers, et qui servent au guidage et au centrage des satellites. Le réducteur selon l’invention comprend un autre ou d’autres paliers, que l’on peut dénommer second(s) palier(s), et qui serve(nt) au guidage et au centrage du solaire. Les premiers et second(s) paliers sont différents. Les premiers et second(s) paliers peuvent être tous portés par le porte-satellites ou montés dans le porte-satellites, chacun des premiers paliers s’étendant à l’intérieur d’un satellite et le ou chacun des second paliers s’étendant de préférence autour du solaire et/ou au niveau de l’une des (ou des deux) extrémités axiales du solaire. Par ailleurs, comme illustré aux figures 4 et 5, le réducteur peut comprendre des troisièmes paliers de guidage du porte-couronne vis-à-vis du porte-satellite.
La illustre un premier mode de réalisation de l’invention dans le cadre d’un réducteur à simple étage d’engrènement. Dans la description qui va suivre en référence à cette figure, la description qui précède faite en relation avec la s’applique également et concerne l’invention dans la mesure où elle n’est pas contraire à ce qui suit.
De la même façon, les figures 7 à 11 illustrent un second mode et des variantes de réalisation de l’invention dans le cadre d’un réducteur à double étage d’engrènement. Dans la description qui va suivre en référence à ces figures, la description qui précède faite en relation avec les figures 4 et 5 s’applique également et concerne l’invention dans la mesure où elle n’est pas contraire à ce qui suit.