INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Le mécanisme de libération est en outre configuré pour permettre un réengagement du dispositif de serrage en faisant pivoter axialement le support de rouleaux depuis la position de désengagement jusqu’à la position de fonctionnement. Ainsi, le dispositif de serrage est utilisable à nouveau sans qu’il n’y ait besoin d’une intervention d’un opérateur sur le dispositif de serrage. On comprend donc que le passage de la position de fonctionnement à la position de désengagement est réversible.
Le dispositif de serrage est du type à étrier flottant. Cette configuration permet d’utiliser moins d’actionneurs électriques et ainsi d’être plus compact. Bien entendu, dans le cas d’un dispositif de serrage du type à étrier fixe, il peut être envisagé que les deux butées de serrage solidaires chacune d’un actionneur électrique comportent chacune un mécanisme de libération. Il pourrait alors être déterminé si une seule (ou les deux) butée(s) de serrage nécessite(nt) la course de raccourcissement prédéterminée. Bien entendu, chaque course de raccourcissement prédéterminée est identique ou non à l’autre.
L’invention se rapporte également à un système de freinage pour véhicule comportant une paire d’éléments de friction destinée à coopérer par friction avec un disque, caractérisé en ce qu’il comporte un dispositif de serrage tel que présenté plus haut agencé pour rapprocher la paire d’éléments de friction en direction de deux faces opposées du disque afin de l’enserrer.
Enfin, l’invention se rapporte à un véhicule caractérisé en ce qu’il comprend au moins un système de freinage tel que décrit précédemment.
la est une vue schématique de dessus d’un véhicule dans lequel un système de freinage selon l’invention est montré ;
la est une vue en perspective d’un dispositif de serrage selon un premier mode de réalisation de l’invention ;
la est une vue partielle en coupe selon le plan IV-IV de la dans laquelle un mécanisme de libération selon le premier mode de réalisation de l’invention n’est pas représenté ;
la est une autre vue partielle en coupe selon le plan IV-IV de la dans laquelle un mécanisme de libération selon le premier mode de réalisation de l’invention est représenté ;
la est une vue en coupe du mécanisme de libération selon le premier mode de réalisation de l’invention en position de fonctionnement ;
la est une vue en coupe du mécanisme de libération selon le premier mode de réalisation de l’invention en position de désengagement ;
la est une vue partielle en coupe selon le plan IV-IV de la d’un dispositif de serrage selon un deuxième mode de réalisation de l’invention ;
Les inventeurs ont constaté que, par rapport à un pixel de référence, l'augmentation de l'efficacité quantique d'un pixel similaire mais dans lequel le photodétecteur est associé à des structurations de surface formées du côté de sa face arrière augmente avec la diminution du pas des structurations et/ou avec la diminution de la dimension critique des structurations, en particulier lorsque les structurations ont des dimensions critiques par exemple inférieures à 100 nm et un pas de répétition par exemple inférieur à 100 nm.
Pour des structurations ayant une dimension critique donnée, par exemple inférieure à 100 nm, et un pas de répétition donné, par exemple inférieur à 100 nm, plus le pas des photodétecteurs diminue, plus le nombre maximal de structurations auxquelles un photodétecteur peut être associé diminue. Dit autrement, pour des structurations ayant une dimension critique donnée et un pas de répétition donné, dans chaque photodétecteur, plus la surface du photodétecteur destinée à recevoir de la lumière diminue, plus le nombre maximal de structurations auxquelles le photodétecteur peut être associé diminue.
Les structurations de surface usuelles ont des dimensions critiques de l'ordre de plusieurs centaines de nanomètres, par exemple des dimensions critiques supérieures ou égales à 200 nm, et un pas de répétition également de l'ordre de plusieurs centaines de nanomètres, par exemple un pas supérieur ou égal à 200 nm. Ainsi, pour un pas de photodétecteur inférieur ou égale à 1,5 µm, voire inférieur ou égale à 1 µm, il devient impossible d'associer un grand nombre de structurations de surface avec le photodétecteur, par exemple un nombre de structurations de surface supérieure ou égale à 5, de préférence supérieur ou égal à 10.
On notera que pour des pixels de relativement grandes dimensions, par exemple des pixels ayant des côtés de longueur supérieure à 1,5 µm en vue de dessus, des structurations de plus grandes dimensions, par exemple de dimensions critiques supérieures à 500 nm, peuvent permettre d'atteindre des optimums d'absorption avec un nombre de structurations relativement faible, par exemple inférieur à 5. Toutefois, le pas et les dimensions critiques de ces structurations qui conviennent à des pixels de relativement grandes dimensions ne peuvent pas être mis en œuvre pour des pixels de relativement faibles dimensions, par exemple des pixels ayant des côtés de longueur inférieure à 1,5 µm, par exemple inférieure à 1 µm.
Il est ici proposé de pallier tout ou partie des inconvénients des capteurs de lumière usuels décrits précédemment en associant, à chaque photodétecteur, au moins une structuration de surface, par exemple plusieurs structurations de surface, de préférence au moins dix structurations de surface, obtenues au moyen d'un masque lui-même obtenu par autoassemblage dirigé ("Direct Self-Assembly" – DSA) de copolymère à blocs. Un tel masque peut être obtenu en mettant œuvre l'autoassemblage dirigé des copolymères à blocs par chemo-épitaxie ou par grapho-épitaxie.
Cela permet de tirer parti du fait qu'un masque obtenu par autoassemblage dirigé de copolymères à blocs permet d'obtenir des structures de masquage ayant des faibles dimensions dans un plan parallèle à une face d'une couche sur laquelle reposent ces structurations, par exemple des dimensions plus faibles que les dimensions critiques des structurations de surface connues. Par exemple, quand la période, ou longueur caractéristique, L0 du copolymère à blocs est inférieure ou égale à 100 nm, par exemple inférieure ou égale à 50 nm les structures de masquage obtenue ont chacune, dans un plan parallèle à la couche de silicium des photodétecteurs, une plus petite dimension, ou dimension critique, inférieure ou égale à 100 nm, voire inférieure ou égale à 50 nm. Le recours à de telles structures de masquage permet de former, par gravure, des structurations de surface ayant des dimensions critiques similaires ou égales à celles des structures de masquage, par exemple des structurations de surface ayant des dimensions critiques inférieures ou égales à 100 nm, voire inférieures ou égales à 50 nm.
En outre, cela permet de tirer également parti du fait qu'un masque obtenu par autoassemblage dirigé de copolymères à blocs permet d'obtenir des structures de masquage répétées avec un pas plus faible que le pas de répétition des structurations de surfaces connues. Par exemple, quand la période, ou longueur caractéristique, L0 du copolymère à blocs est inférieure ou égale à 100 nm, par exemple inférieure ou égale à 50 nm, les structures de masquage obtenue ont chacune, dans un plan parallèle à la couche de silicium des photodétecteurs, un pas de répétition, inférieur ou égal à 100 nm, voire inférieure ou égale à 50 nm. Le recours à de telles structures de masquage permet de former, par gravure, des structurations de surface ayant un pas de répétition similaire ou identique au pas de répétition des structures de masquage, par exemple des structurations de surface ayant un pas de répétition inférieur ou égal à 100 nm, voire inférieur ou égal à 50 nm.
A titre d'exemple, l'utilisation d'un masque obtenu par autoassemblage dirigé de copolymères à blocs permet de former, par gravure, des structurations de surface ayant des dimensions critiques inférieures à 100 nm et un pas de répétition à 100 nm, par exemple quand la longueur caractéristique du copolymère à bloc utilisé est inférieure à 100 nm.
Ainsi, l'utilisation d'un masque obtenu par autoassemblage dirigé de copolymères à blocs peut permettre d'associer, à chaque photodétecteur d'un capteur de lumière, un grand nombre de structuration de surface, par exemple au moins 5 structurations de surface, de préférence au moins 10 structurations de surface, même lorsque le pas des photodétecteurs devient inférieur à 1,5 µm, par exemple inférieur à 1 µm.
Pour réaliser des structurations de surface de petites dimensions, c'est-à-dire des structurations de surface ayant, par exemple, des dimensions critiques inférieure à 100 nm et ayant, par exemple, un pas de répétition inférieur ou égal à 100 nm, on aurait pu penser recourir à une étape de lithographie par immersion pour former un masque permettant la formation des structurations par gravure. Toutefois, la photolithographie par immersion est complexe à mettre en œuvre et ne peut pas toujours être mise en œuvre du côté de la face arrière d'un capteur de lumière en raison de la topographie de la face arrière du capteur.
En outre, il est ici également proposé, en plus des structurations de surface de petites dimensions critiques formées au moyen d'un masque obtenu par autoassemblage direct de copolymère à blocs, de former à titre optionnel des structurations de surfaces de plus grandes dimensions critiques. Cela permet d'associer, pour au moins certains photodétecteurs du capteur, par exemple pour chaque photodétecteur du capteur, des structurations de faibles dimensions critiques avec des structurations de grandes dimensions critiques.
A titre d'exemple, ces structurations de grandes dimensions sont formées lors d'une étape de gravure, par exemple une étape de gravure réalisée postérieurement à l'étape de gravure permettant de former les structurations de petites dimensions.
A titre d'exemple, des structurations de petites dimensions critiques sont des structurations de surface obtenues au moyen d'un masque obtenu à partir d'un autoassemblage dirigé de copolymère à blocs, c'est-à-dire des structurations dont les dimensions critiques sont, par exemple, inférieures ou égales à 100 nm, voire à 50 nm, et dont le pas de répétition est, par exemple, inférieur ou égal à 100 nm, voire à 50 nm.
A titre d'exemple, des structurations de grandes dimensions critiques sont des structurations de surface obtenues au moyen d'un masque obtenu à partir d'une photolithographie classique, c'est-à-dire des structurations dont les dimensions critiques sont, par exemple, supérieures ou égales à 200 nm et dont le pas de répétition est, par exemple, supérieur ou égal à 200 nm.
A titre d'exemple, pour un photodétecteur donné, des structurations de faibles dimensions critiques peuvent être superposées à des structurations de grandes dimensions critiques.
Selon un autre exemple, pour un photodétecteur donné, des structurations de faibles dimensions critiques peuvent être disposées autour de structurations de grandes dimensions critiques.
Une fois le pivotement terminé, lorsque le capot 70 est en contact avec la plaque 13, la pression longitudinale est relâchée, ce qui permet à la zone 72 de retrouver sa forme initiale par élasticité. Le premier relief 77 du côté de la saillie de préhension 75 s’engage, pendant ce relâchement, dans le deuxième relief 80 de l’épaulement 18qui était en regard avant le relâchement de la pression.
Les premiers reliefs 77 ainsi positionnés dans les deuxièmes reliefs 80 permettent le maintien du capot 70 sur la mâchoire 3 ou 4.
Embout d’extrémité Sur l’exemple, des figures 16 à 18, le dispositif 2 comporte deux embouts 50 d’extrémité en matière plastique. Chaque embout 50 est monté de manière amovible par complémentarité de forme sur une extrémité distale de la mâchoire 3 ou 4 correspondante.
Hormis cette butée, les deux butées 50 ont par exemple une surface extérieure 64 lisse dépourvue de relief.
Chaque embout 50 peut présenter une coque 56 ayant une forme sensiblement complémentaire de celle de la mâchoire 3 ou 4 qu’elle recouvre, par exemple en forme d’ogive complémentaire de l’extrémité distale de la mâchoire 3 ou 4.
Chaque plaque externe 13 peut être positionnée entre l’embout 50 et l’extrémité proximale de la mâchoire 3 ou 4. Par exemple, l’embout 50 recouvre moins de 5% de la plaque externe 13, par exemple la recouvre de 1 mm.
Chaque embout 50 s’étend sur la nervure formant l’épaulement 20 18 du côté distal de la portion externe de guidage.
Chaque embout 50 s’étend de l’extrémité distale de la mâchoire 3 ou 4 à la portion externe de guidage en recouvrant une partie distale de la portion externe de guidage.
Chaque embout 50 comporte sur sa surface interne une fente 57 configurée pour accueillir la nervure formant l’épaulement 2018, notamment par encliquetage.
Lorsque le milieu de réaction des étapes concomitantes de fonctionnalisation et de réaction sol-gel est liquide, à température ambiante (prototype 1 - comparatif), le gel préparé possède des propriétés viscoélastiques plus faibles (G’ et contrainte au croisement des G’ et G’’ plus faibles, angle de phase δ augmenté) que lorsque le milieu est solide, congelé conformément à l’invention, à une température de -20°C (prototype 2 – conforme à l’invention).
Seul le gel selon l’invention (prototype 2) présente des propriétés acceptables pour les applications thérapeutiques, cosmétiques et esthétiques visées par la présente invention (contrainte au croisement des G’ et G’’ supérieure à 50 Pa (208 ± 25 Pa) et G’ supérieur à 20 Pa (221 ± 21 Pa)). Au contraire, le gel comparatif (prototype 1) ne présente pas des propriétés acceptables (contrainte au croisement des G’ et G’’ inférieure à 50 Pa (29 ± 17 Pa)).
Exemple 2 : Influence de la température pour la préparation d’hydrogels selon l’invention
Les prototypes n° 3 (selon l’invention), n°4 (comparatif), n°5 (comparatif) sont préparés chacun de la manière suivante :
2- Le GPTMS est ajouté dans la poche stérile à hauteur de 0,35 moles de GPTMS pour 1 mole d’unité de répétition de NaHA,
- pour prototype n°3 : mise au congélateur à -20°C pendant 1 mois, le pH du mélange est d’environ 13, le milieu réactionnel est alors à l’état solide, puis la poche est décongelée à température ambiante en sortant la poche du congélateur et en la laissant à température ambiante jusqu’à retour à température ambiante du mélange dans la poche,
- pour le prototype n°4 : maintenue à 21°C pendant 72h, le milieu réactionnel est alors sous forme liquide, le pH du mélange est d’environ 13
- pour le prototype n°5 : maintenue à 52°C pendant 3 heures, le milieu réactionnel est alors sous forme liquide, le pH du mélange est d’environ 13
6- Le mélange est dilué avec du tampon phosphate salin jusqu’à une concentration de 23 mg d’acide hyaluronique/g de gel,
7- Le mélange est homogénéisé durant au moins 16h et jusqu’à 24h grâce à un agitateur tridimensionnel,
Il est donc toujours souhaitable de trouver un moyen de diminuer davantage les quantités d’agent réticulant conventionnel utilisé pour obtenir des gels de polysaccharide réticulé, tel que d’acide hyaluronique réticulé, avec des propriétés mécaniques adaptées au comblement des tissus mous.
Par ailleurs, il a été envisagé de fonctionnaliser des biopolymères, tels que l’acide hyaluronique, avec des groupes alcoxysilanes capables de réagir entre eux par réaction de condensation sol-gel pour former des liaisons Si-O-Si. Les gels préparés sont ainsi réticulés sans agent réticulant conventionnel. Cela est notamment illustré dans WO2011/089267 et WO2017/009200. Néanmoins, ce type de gels utilisant uniquement des dérivés du silicium sont peu stables à la stérilisation à la chaleur et deviennent des solutions après traitement. D’ailleurs, ni WO2011/089267, ni WO2017/009200 n’applique une telle étape de stérilisation finale. De plus, il est à noter que WO2011/089267 n’aboutit pas à la formation d’un gel avec des propriétés mécaniques souhaitables pour être injecté.
Les réactions de condensation sol-gel sont connues pour être favorisées à des pH proches de la neutralité et/ou en milieu déshydraté notamment obtenu par séchage ( Lee et al., One-pot synthesis of silane-modified hyaluronic acid hydrogels for effective antibacterial drug delivery via sol–gel stabilization, Colloids and surfaces B : Biotinterfaces, 2019, 174:308-315 ). Néanmoins, ces conditions présentent plusieurs inconvénients. En effet, à pH proche de la neutralité, à température ambiante, sans séchage, la probabilité de rencontre entre deux groupements silanol reste faible et un nombre insuffisant de liaisons Si-O-Si sont formées. Lors d’un séchage : les chaînes de polymères sensibles à la chaleur, comme l’acide hyaluronique, se dégradent et génèrent des fragments de polymères de bas poids moléculaire dont la biocompatibilité est incertaine ; la concentration en polymère dans le milieu de réaction est difficile à contrôler ; des gradients de températures se créent dans le milieu de réaction qui est alors inhomogène ; une génération de bulles est possible ; et un asséchement du gel final est possible.
Il existe donc encore un besoin de fournir de nouveaux hydrogels à base de polysaccharide réticulé, notamment d’acide hyaluronique réticulé, contenant des quantités moindres d’agent réticulant conventionnel tel que le BDDE, voire ne contenant pas du tout d’agent réticulant conventionnel, et avantageusement pouvant être injectés et/ou stérilisés.
RESUME La présente invention porte sur un procédé de préparation d’un hydrogel, de préférence injectable, comprenant les étapes suivantes :
b) fourniture d’au moins une molécule de formule Chem. I :
ou un sel de celle-ci,
T représente un groupement isocyanate, amino, époxyde, carboxyle, N-succinimidyloxycarbonyle, N-sulfosuccinimidyloxycarbonyle, halogénocarbonyle, isothiocyanate, vinyle, formyle, hydroxyle, sulfhydryle, hydrazino, acylhydrazino, aminoxy, carbodiimide, ou un résidu d’anhydride d’acide ;
A représente une liaison chimique ou un groupement espaceur ;
R 5 et R 6 , identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène ; un atome d'halogène ; un groupement –OR 4 avec R 4 représentant un atome d'hydrogène, un groupement aryle ou un groupe hydrocarboné aliphatique comportant de 1 à 6 atomes de carbone ; un aryle ; ou un groupe hydrocarboné aliphatique comportant de 1 à 6 atomes de carbone éventuellement substitué par un ou plusieurs groupe(s) choisis parmi un atome d’halogène, un aryle et un hydroxyle ;
R 10 représente un atome d’hydrogène, un groupement aryle ou un groupe hydrocarboné aliphatique comportant de 1 à 6 atomes de carbone ;
c) fonctionnalisation du polysaccharide avec au moins une molécule de formule Chem. I ;
dans lequel l’étape d) comprend une réticulation par réaction sol-gel réalisée dans un milieu réactionnel à un pH supérieur ou égal à 9 et inférieur à 14, à une pression P inférieure ou égale à la pression atmosphérique et à une température T supérieure à la température du point eutectique du milieu réactionnel telle que mesurée à la pression P et inférieure à la température du point de congélation du milieu réactionnel telle que mesurée à la pression P , pendant une durée t allant de 2 semaines à 17 semaines,
- NaHA : hyaluronate de sodium non réticulé 1,5MDa et 4MDa (HTL)
- HCl 1M (Chem Lab)
- Tampon Phosphate PBS (Braun),
- Agitateur tridimensionnel Turbula®
- Homogénéisateur broyeur à palettes
- Poche stérile
Mesure des propriétés viscoélastiques Les propriétés viscoélastiques des prototypes obtenus ont été mesurées en utilisant un rhéomètre (DHR-2) ayant un cône en acier inoxydable (1° - 40 mm) à géométrie cône-plan et un plan peltier en aluminium anodisé (42 mm) (entrefer 24 μm).
Pour les mesures de module élastique G’, de module visqueux G’’ et d’angle de phase δ, un balayage en contraintes est effectué à 1 Hz et 25°C sur le gel.
Le module élastique G’, le module visqueux G’’ et l’angle de phase δ sont reportés pour une contrainte de 5 Pa.
La contrainte au croisement de G’ et G’’ notée τ par la suite est déterminée au croisement des courbes des modules G’ et G’’, et est exprimée en Pascal.
Mesure de la cohésivité Pour la mesure de cohésivité (ou résistance mécanique, exprimée en Newton), le gel est déposé sur le plan Peltier avec un entrefer initial de 2.60mm. Le gel est ensuite comprimé à une vitesse constante de 100 μm/s jusqu’à 70 % de l’entrefer initial, à 25°C. La cohésivité du gel est mesurée à la fin de la course de compression.
Mesure de la force d’extrusion Les forces d’extrusion (en Newton) des prototypes conditionnés en seringues ont été conduites par le biais d’un banc d’essai (Mecmesin 2.5-dV) équipé d’un dynamomètre (Mecmesin AFG 100N) à une vitesse constance de 12.5 mm/min, sur une distance de 2.5 cm, à travers une aiguille 27G ½’’ et à température ambiante. Les résultats de forces d’extrusion correspondent à la moyenne des forces moyennes d’extrusion sur au moins 3 échantillons.
Etude qualitative du caractère filant d’un produit
1mL de produit étudié est déposé sur une surface lisse et dure, e.g. une paillasse de laboratoire. A l’aide de son index, l’opérateur exerce une pression sur le produit de façon à le comprimer contre la surface puis relève son index à une vitesse de l’ordre du cm/sec, jusqu’à une hauteur d’environ 2cm de la surface. Une photographie est prise lorsque l’index est à une hauteur d’environ 2cm de la surface. Si le gel s’est rompu, le gel n’est pas filant ou présente un faible caractère filant. Si le gel n’est pas rompu, il présente un caractère filant acceptable.
A titre d’exemple seulement, la combinaison d’acide citrique et d’au moins un composé d’urée peut être produite en combinant et en mélangeant des quantités particulières d’acide citrique et de composés d’urée avec des rapports molaires et/ou pondéraux spécifiques comme décrit ci-dessus pour former un mélange de pré-phase. Le mélange de pré-phase peut ensuite être ajouté au mélange de la composition de base (de couleur) capillaire et de la composition de révélateur en une quantité allant d’environ 0,5 % à environ 20 %, y compris toutes les plages et sous-plages intermédiaires, comme par exemple d’environ 0,75 % à environ 15 %, d’environ 1 % à environ 10 %, d’environ 1,25 % à environ 9 %, d’environ 1,5 % à environ 8 %, d’environ 1,75 % à environ 7 %, d’environ 2 % à environ 6 %, d’environ 2,25 % à environ 5,5 %, ou d’environ 2,5 % à environ 5 % en poids, par rapport au poids total de la composition de modification permanente de la couleur des cheveux selon la divulgation, c’est-à-dire le mélange de la composition de base (de couleur) capillaire + la composition de révélateur + le mélange de pré-phase.
II. Procédés Les compositions décrites dans le présent document apportent de manière étonnante de la résistance ainsi qu’une variété d’autres bénéfices tels qu’une meilleure discipline, un contrôle des frisottis, de la brillance, une définition des boucles, du caractère lisse, et/ou de la douceur, ainsi que d’autres bénéfices sensoriels, aux cheveux décolorés et/ou colorés. Par conséquent, la présente divulgation concerne également des procédés de traitement et de soin des cheveux avant et/ou après que les cheveux aient été décolorés et/ou colorés, ou pendant le processus de modification de la couleur des cheveux.