INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Les véhicules automobiles comprennent de plus en plus de capteurs d’assistance à la conduite de véhicules automobiles qui peuvent faire l’objet de différents types de salissures. On peut par exemple citer les différentes caméras ou encore les capteurs de distance, les capteurs à ultrason, les radars, les lidars ou encore les capteurs de pluie placés sur le véhicule.
Or, ces salissures peuvent conduire à un dysfonctionnement de certains dispositifs d’aide à la conduite ou à l’apparition de difficultés pour un utilisateur du véhicule (manque de visibilité à cause de salissures sur le pare-brise). Il est donc nécessaire de prévoir au moins un dispositif de nettoyage de ces surfaces.
Classiquement, de tels dispositifs de nettoyage comprennent un réservoir dans lequel du liquide de nettoyage est stocké et d’un circuit de distribution fluidique composé de différentes canalisations ou tuyaux permettant d’acheminer le liquide de nettoyage vers au moins une buse de nettoyage placée devant une surface de manière à projeter du liquide de nettoyage sur cette dernière (il y a en règle générale plusieurs buses de nettoyage pour plusieurs surfaces).
Une pompe destinée à projeter du liquide de nettoyage dans le circuit de distribution fluidique jusqu’à la buse de nettoyage est généralement montée directement sur le réservoir. Plus précisément, un tube d’admission de liquide de la pompe est monté en force dans une ouverture ménagée dans le réservoir (un joint permet de garantir l’étanchéité de l’ensemble), l’orifice de sortie de liquide est quant à lui connecté au circuit de distribution fluidique.
Il est également connu de placer, sur le circuit de distribution fluidique, un bloc de distribution de liquide de nettoyage (ou blocs de vannes) comprenant par exemple plusieurs vannes disposées entre la pompe et la ou les buses de nettoyage, chaque vanne pouvant être reliée fluidiquement à une buse de nettoyage. Ce bloc de vannes permet par exemple une ouverture sélective des vannes pour ne projeter du liquide de nettoyage qu’à travers les buses de nettoyage situées face à un capteur devant être nettoyé et conserver les autres buses de nettoyage fermées. Il est également possible d’utiliser le bloc de vannes comme palier intermédiaire permettant une pressurisation maximale d’une partie du circuit de distribution fluidique située entre la pompe et le bloc de distribution afin de limiter les pertes de charge jusqu’aux buses de nettoyage.
Il est dès lors envisagé de placer plusieurs blocs de distribution de liquide de nettoyage au niveau du circuit de distribution fluidique, chaque bloc de distribution de liquide de nettoyage étant relié fluidiquement à au moins une buse de nettoyage. Il est de plus avantageux de déporter ces blocs de distribution de liquide de nettoyage afin de les placer au plus près de la ou des buses auxquelles ils sont reliés (cela permet par exemple de limiter les pertes de charges entre la sortie de liquide de nettoyage du bloc de distribution de liquide de nettoyage et la sortie de ce même liquide de nettoyage de la ou des buses reliées).
Ainsi, pendant cette de détermination d’un deuxième scalaire intermédiaire (étape E112), un deuxième scalaire intermédiaire k’ est déterminé en additionnant ou soustrayant à un scalaire résultat d’un produit du premier scalaire intermédiaire k et d’un scalaire sélectionné, un scalaire résultat d’un produit d’un premier scalaire de dérivation t 1 et d’un troisième scalaire intermédiaire k’’, le scalaire sélectionné ayant pour valeur 1.
Le procédé comprend également une étape de détermination d’un deuxième point de signature R 0 (étape E114) égal à la combinaison au moyen de l’opération du groupe Gr, d’éléments égaux au premier point générateur dérivé T 0 de la courbe et en nombre égal au deuxième scalaire intermédiaire k’ et d’autres éléments égaux à l’opposé du deuxième point générateur dérivé T 1 pour ladite opération et en nombre égal au troisième scalaire intermédiaire k’’, par exemple en multipliant le premier point générateur dérivé T 0 par le deuxième scalaire intermédiaire k’ et en multipliant par le troisième scalaire intermédiaire k’’ l’opposé du deuxième point générateur dérivé T 1 , puis en additionnant dans le groupe Gr le résultat de chacune de ces multiplications : R 0 = [k’] T 0 – [k’’] T 1 .
Selon une variante pour cette étape de détermination d’un deuxième point de signature (étape E114), le deuxième point de signature R 0 est déterminé par combinaison au moyen de l’opération du groupe Gr, d’éléments égaux au premier point générateur dérivé T 0 de la courbe et en nombre égal au deuxième scalaire intermédiaire k’ et d’autres éléments égaux au deuxième point générateur dérivé T 1 et en nombre égal au troisième scalaire intermédiaire k’’, par exemple en multipliant le premier point générateur dérivé T 0 par le deuxième scalaire intermédiaire k’ et en multipliant par le troisième scalaire intermédiaire k’’ le deuxième point générateur dérivé T 1 , puis en additionnant dans le groupe Gr le résultat de chacune de ces multiplications : R 0 = [k’] T 0 + [k’’] T 1 .
Ainsi, cette étape de détermination d’un deuxième point de signature (étape E114) détermine un deuxième point de signature R 0 égal à la combinaison au moyen de ladite opération, d’éléments égaux à un point sélectionné de la courbe et en nombre égal au deuxième scalaire intermédiaire k’, et d’autres éléments égaux à un point parmi un deuxième point générateur dérivé T 1 ou l’opposé du deuxième point générateur dérivé T 1 pour ladite opération et en nombre égale au troisième scalaire intermédiaire k’’, le point sélectionné étant le premier point générateur dérivé T 0 .
La variante de cette étape de détermination d’un deuxième point de signature (étape E114) est typiquement utilisée quand l’étape de détermination d’un deuxième scalaire intermédiaire (étape E112) est implémentée selon sa variante qui a été décrite plus tôt.
Enfin, le procédé comprend une étape de détermination d’une partie de signature (étape E16) identique à celle du premier mode d’implémentation.
A l’issu du procédé de la , le dispositif électronique 2 dispose donc de la signature de la donnée m par l’algorithme ECDSA au moyen de la clé privée d, à savoir la partie de signature s et une autre partie de signature déterminée à partir d’une coordonnée affine r 0 (typiquement selon une deuxième dimension prédéterminée dans le repère affine de l’espace prédéterminé, par exemple la première dimension décrite pour la coordonnée affine r 1 du premier point de signature R 1 à l’étape de détermination d’une partie de signature E16) du deuxième point de signature R 0 . Ici l’autre partie de signature est la coordonnée affine r 0 du deuxième point de signature R 0 .
L’attaque mentionnée en introduction ne peut plus être menée. En effet, l’attaquant a besoin de connaître la valeur de la coordonnée affine fautée qui est utilisée dans le calcul de la partie de signature. Il faudrait donc que l’attaquant injecte deux fois la même faute, une fois dans le calcul de la coordonnée affine du premier point de signature et une autre fois dans le calcul de la coordonnée affine du deuxième point de signature. En implémentant différemment ces deux calculs, l’attaque devient impossible.
Un homme du métier comprendra que les étapes de ce procédé peuvent être exécutées selon d’autres ordres dans la mesure où chaque étape dispose des éléments (par exemple scalaires et/ou points de la courbe elliptique) nécessaires à son exécution.
Selon un premier exemple, l’étape de détermination d’un deuxième point générateur dérivé (étape E106) peut être exécutée avant l’étape de détermination d’un premier point générateur dérivé (étape E4), quand le deuxième point générateur dérivé T 1 est déterminé par calcul à partir du premier scalaire de dérivation t 1 , du deuxième scalaire de dérivation t 0 et du point générateur G, ou par lecture d’une mémoire du dispositif électronique 2.
Selon un deuxième exemple, l’étape d’initialisation (étape E2) peut être effectuée après l’étape de détermination d’un premier générateur dérivé (étape E4) et/ou après l’étape de détermination d’un deuxième point générateur dérivé (étape E6), notamment quand la détermination du premier point générateur dérivé T 0 et/ou du deuxième point générateur dérivé T 1 est par lecture d’une mémoire du dispositif électronique 2.
Selon un troisième exemple, les étapes de détermination d’un premier scalaire intermédiaire (étape E8) et de détermination d’un troisième scalaire intermédiaire (étape E9) peuvent être exécutées dans un ordre arbitraire. L’étape de détermination d’un premier scalaire intermédiaire (étape E8) et /ou l’étape de détermination d’un troisième scalaire intermédiaire (étape E9) peuvent être exécutées avant l’une quelconque des étapes d’initialisation (étape E2), de détermination d’un premier point générateur dérivé (étape E4) et de détermination d’un deuxième point générateur dérivé (étape E106).
Selon un quatrième exemple, l’étape de détermination d’un premier point de signature (étape E10) peut être effectuée à tout moment après l’étape de détermination d’un premier point générateur dérivé (étape E4) et l’étape de détermination d’un premier scalaire intermédiaire (étape E8).
Selon un cinquième exemple, l’étape de détermination d’un deuxième point de signature (étape E114) peut être effectuée à tout moment après les étapes de détermination d’un premier point générateur dérivé (étape E4), de détermination d’un deuxième point générateur dérivé (étape E106) et de détermination d’un deuxième scalaire intermédiaire (étape E112).
Selon un dernier exemple, l’étape de détermination d’une partie de signature (étape E16) peut être effectuée à tout moment après l’étape de détermination d’un premier point de signature (étape E10).
On a décrit ci-dessus deux modes de réalisation d’un procédé de signature cryptographique ECDSA d’une donnée selon l’invention.
La est une vue de détail d’un œillet 3 correspondant à un levier 51. L’œillet 3 diffère de celui représenté en par le fait que l’ergot d’appui 35, qui comme dans le cadre de la est en saillie vers l’intérieur de la section de passage 34 par rapport au contour fermé 32, est également en saillie par rapport au plan de coupe 92. Ce mode de réalisation est préféré, car il permet une parfaite maniabilité des ciseaux.
La illustre un mode de réalisation préféré dans lequel l’ergot d’appui 35 et l’élément 331 étant un ergot présentant une extrémité libre 332 prennent leur origine dans des portions opposées dudit contour fermé 32.
Procédé de fabrication d’une architecture amorphe de type micro-treillis formé de micro-poutres reliées entre elles par des nœuds Domaine technique de l’invention L’invention se rapporte au domaine des matériaux cellulaires, et plus particulièrement aux matériaux présentant une architecture de type micro-treillis, lequel est formé de micro-poutres reliées entre elles par des nœuds.
Arrière-plan technique Les contraintes, à la fois environnementales, de coûts, d’accès aux matières premières ou de recyclage, incitent à une utilisation aussi parcimonieuse que possible des matières premières dans la fabrication des matériaux de structure.
Une voie largement explorée est donc de réduire au maximum la masse volumique ρ (ou densité) des matériaux sans nuire à leur comportement mécanique. Le comportement mécanique du matériau est défini notamment par sa rigidité, sa dureté et sa résistance à la fracturation.
La manière la plus naturelle d’alléger un matériau est d’y introduire des pores.
L’introduction de pores dans le matériau peut s’effectuer de manière aléatoire.
C’est par exemple le cas des mousses solides ou des aérogels. Ceux-ci sont en effet des solides très poreux et, de fait, très légers. Ils trouvent donc de nombreuses applications dans l’industrie mais leur importante porosité se traduit par une réduction drastique de leur tenue mécanique. Typiquement, une mousse solide avec une densité relative de 1% (par référence au matériau plein) présente une rigidité 10 6 fois plus faible que celle du matériau qui la constitue. La rigidité évolue avec le cube de la densité. Dit autrement, le rapport entre rigidité et densité évolue donc avec le carré de la densité et est donc divisé d’environ 10000 en passant du matériau plein à une mousse solide de densité relative de 1% faite de ce matériau.
L’introduction de pores de manière aléatoire a cependant l’intérêt de ne pas présenter d’orientations statistiquement privilégiées et le comportement mécanique est globalement isotrope. Dès lors, il est possible d’employer les constantes usuelles (module d’Young E et coefficient ν de Poisson pour définir sa rigidité, limite élastique σ Y pour définir sa dureté et ténacité K C pour définir sa résistance à la fracturation) pour caractériser mécaniquement le matériau ainsi formé. Ces constantes usuelles permettent en effet de prévoir le comportement mécanique des structures, indépendamment de la géométrie de ces structures et de la sollicitation exercée sur ces structures.
En variante, l’introduction de pores dans le matériau peut s’effectuer de manière contrôlée.
Ce contrôle peut notamment être obtenu au moyen d’une fabrication additive. La fabrication additive permet de moduler in extenso l’architecture du matériau, et donc de disposer les pores dans l’espace de manière contrôlée et, de fait, d’améliorer significativement les performances mécaniques.
On pourra par exemple se référer à l’article de T. A. Schaedler & al. : Ultralight Metallic Microlattices, Science , 334(6058), 962-965 (2011) qui propose une architecture de type micro-treillis dont les micro-poutres sont des tubes creux arrangés périodiquement. Comme on peut le constater dans cet article ( de cet article), cela permet de maintenir le rapport entre la rigidité et la densité à des valeurs relativement importantes.
Les règles à suivre pour contrôler ce rapport rigidité-densité dans un micro-treillis fait de micro-poutres arrangées périodiquement sont connues.
En effet, pour cela, il faut contrôler la connectivité dite Z, à savoir le nombre de micro-poutres par nœud. Si la connectivité Z est inférieure à 6, la rigidité varie avec le carré de la densité. Si la connectivité Z est supérieure ou égale à 12, la rigidité est sensiblement proportionnelle à la densité. Ainsi, pour un micro-treillis avec une connectivité de Z = 12 (l’exemple le plus connu est le micro-treillis nommé « octet-truss » dans la littérature et selon la terminologie anglo-saxonne), la rigidité de l’architecture de densité relative 1% (par référence au matériau plein) n’est plus dégradée que d’un facteur variant entre 300 et 1000 par rapport à celle du matériau qui la constitue. On pourra retrouver ces informations dans l’article de V.S. Despandes & al. : Foam topology: bending versus stretching dominated architectures, Acta Materialia , 49(6), 1035-1040 (2001) et V.S. Despandes & al. : Effective properties of the octet-truss lattice material, Journal of the Mechanics and Physics of Solids , 49, 1747-1769. Pour une densité relative de 1%, la performance sur l’évolution du rapport rigidité-densité est donc de 10 à 30 fois meilleure que celle obtenue avec une architecture aléatoire au comportement mécanique globalement isotrope (mousse solide).
La périodicité induit cependant un défaut majeur puisque le comportement mécanique du micro-treillis obtenu est anisotrope. Le matériau est moins rigide ou plus cassant lorsqu’on le sollicite selon certaines orientations. C’est d’ailleurs cette différence de comportement mécanique en fonction de la direction de sollicitation qui se traduit dans la gamme de valeurs fournie précédemment sur l’évolution du facteur rigidité sur densité compris entre 300 et 1000. En raison de cette anisotropie, il n’est donc plus possible de définir le matériau par les seules constantes usuelles (module d’Young, module de Poisson, limite élastique et ténacité) utilisées pour dimensionner les structures.
Certains auteurs ont étudié l’impact d’imperfections sur les performances mécaniques de micro-treillis dont les micro-poutres sont arrangées périodiquement.
Avantageusement, la serrure différentielle 1 selon l’invention présente un format modulaire qui est compatible avec un appareil électrique de protection différentielle 2 au format modulaire, plus particulièrement de préférence un appareil électrique de protection différentielle 2 au format modulaire à un module M, par exemple illustré aux figures 2 à 5 et 8 à 11, la valeur dudit module M étant de préférence égale à 18 millimètres. En effet, étant donné que le sous-ensemble modulaire, qui comprend au moins le déclencheur 5, les moyens de verrouillage 6 et les moyens de réarmement 7, s’étend sur une largeur L1 qui est inférieure ou égale à la valeur d’un quart de module M, le sous-ensemble modulaire présente un format compact et peut donc aisément prendre place dans un appareil électrique de protection différentielle 2 au format modulaire. Indirectement, la serrure différentielle 1 selon l’invention permet également un gain de place au sein d’un appareil électrique de protection différentielle 2 au format modulaire quand elle est intégrée à celui-ci, ce qui permet d’y loger dans un encombrement limité un relais électromagnétique 3, mais aussi par exemple un actionneur magnétique B et/ou un actionneur thermique ou d’autres éléments pouvant être constitutifs d’un appareil électrique de protection différentielle.
De préférence et comme l’illustrent les figures 1 à 3, 5 à 9 et 11, le sous-ensemble modulaire comprend en outre une paroi plane 9 présentant une épaisseur E qui s’étend selon la première direction Y, la paroi plane 9 comprenant une face de montage 10 sur laquelle sont montés mobiles au moins le déclencheur 5, les moyens de verrouillage 6 et les moyens de réarmement 7.
Avantageusement et comme le représente la , la serrure différentielle 1 selon l’invention s’étend ainsi entre un premier plan P1 et un deuxième plan P2 qui sont sensiblement parallèles entre eux et espacés l’un de l’autre d’une distance égale à L1 qui est inférieure ou égale à un quart de module M.
Le premier plan P1 peut être matérialisé par une face 10’ de la paroi plane 9 qui est opposée à la face de montage 10. L’espace entre le premier plan P1 et le deuxième plan P2 contient ainsi au moins la paroi plane 9, le déclencheur 5, les moyens de verrouillage 6 et les moyens de réarmement 7.
De préférence et comme l’illustrent les figures 1 et 6, lesdits moyens de réarmement 7 sont aptes et destinés à déplacer les moyens de verrouillage 6 de la position verrouillée PV ( ) à la position déverrouillée PDV ( ) sous l’effet du déplacement du bouton poussoir 4 du relais électromagnétique 3 de la position rétractée PR ( ) à la position sortie PS ( ) dans un plan de déplacement sensiblement parallèle à la paroi plane 9.
Avantageusement, en cas d’apparition d’un défaut différentiel, le déplacement du bouton poussoir 4 de la position rétractée PR vers la position sortie PS entraîne le déplacement des moyens de réarmement 7 qui entraînent à leur tour le déplacement des moyens de verrouillage 6 de la position verrouillée PV à la positon déverrouillée PDV ce qui permet de libérer le déclencheur 5 qui est alors apte à être mobile et à être déplacé vers la position déclenchée PD. Le déclencheur 5 se trouve dans une position intermédiaire PI ( ) entre la position armée PA ( ) et la position déclenchée PD ( ).
De préférence et comme l’illustrent les figures 1, 6 et 7, les moyens de verrouillage 6 comportent un cliquet comprenant un crochet 11 agencé pour venir s’engager dans une portion de verrouillage 12 de forme complémentaire que comprend le déclencheur 5 dans la position verrouillée PV ( ).
Avantageusement, l’engagement du crochet 11 du cliquet dans la portion de verrouillage 12 du déclencheur 5 permet son immobilisation dans la position armée PA. On évite ainsi un déplacement involontaire du déclencheur 5 en absence de défaut différentiel.
De préférence et comme l’illustrent les figures 1, 6 et 7, le cliquet est monté pivotant sur la paroi plane 9 autour d’un premier axe A1 sensiblement perpendiculaire à la paroi plane 9 par une première liaison pivot 13 et les moyens de verrouillage 6 comportent un premier ressort de torsion 14 monté autour de la première liaison pivot 13, de sorte à ce que le cliquet soit configuré pour pivoter entre la position verrouillée PV ( ) à la position déverrouillée PDV ( ) autour dudit premier axe A1 dans ledit premier plan de déplacement.
De préférence et comme l’illustrent les figures 1, 6 et 7, les moyens de réarmement 7 comportent une came de réarmement 15 comprenant une portion d’actionnement 16 apte et destinée à être disposée sensiblement en regard dudit bouton poussoir 4 et à être percutée par le bouton poussoir 4 du relais électromagnétique 3 lors du passage de la position rétractée PR ( ) à la position sortie PS ( ).
De préférence et comme l’illustrent les figures 1, 6 et 7, la came de réarmement 15 est montée pivotante sur la paroi plane 9 autour d’un deuxième axe A2 sensiblement perpendiculaire à la paroi plane 9 par une deuxième liaison pivot 17 et les moyens de réarmement 7 comportent un deuxième ressort de torsion 18 monté autour de la deuxième liaison pivot 17, de sorte à ce que la came de réarmement 15 soit configurée pour pivoter autour dudit deuxième axe A2 dans un deuxième plan de déplacement sensiblement parallèle à la paroi plane 9.
De préférence, le déclencheur 5 est monté mobile en translation relativement à la paroi plane 9 de sorte à être apte à coulisser dans un plan de translation sensiblement parallèle à la paroi plane 9 entre ladite position armée PA ( ) et la position déclenchée PD ( ) et le déclencheur 5 est relié mécaniquement à un troisième ressort de torsion 19 monté sur la paroi plane 9.
Avantageusement, le déclencheur 5 est monté en liaison glissière sur la paroi plane 9 et le troisième ressort de torsion 19 agit sur le déclencheur 5.
De préférence, le déclencheur 5 comprend une portion de réarmement 20 agencée pour contraindre le deuxième ressort de torsion 18 lors du déplacement en translation du déclencheur 5 de la position armée PA à la position déclenchée PD, de sorte à entrainer le pivotement de la came de réarmement 15 autour dudit deuxième axe A2 pour déplacer le bouton poussoir 4 du relais électromagnétique 3 de la position sortie PS ( ) vers la position rétractée PR ( ).
Avantageusement, à la suite de la détection d’un défaut différentiel, le déplacement du déclencheur 5 de la position armée PA à la position déclenchée PD entraîne le réarmement du bouton poussoir 4 du relais électromagnétique 3.
De préférence et comme l’illustrent les figures 1, 3, 5 à 9 et 11, le sous-ensemble modulaire comprend en outre un indicateur de défaut différentiel 21 relié mécaniquement au déclencheur 5.
Les phase 4 et 5 sont pesées dans un contenant fermé en verre, puis sont chauffées sous agitation modérée jusqu’à fusion complète de la cire. Les phases 4 et 5 sont refroidies jusqu’à 40°C puis sont mélangées aux autres phases 1, 2 et 3.
Enfin, la phase 6 est pesée et est ajoutée aux autres phases (1,2, 3, 4 et 5). Le mélange est agité avec un Turax. La formulation est ensuite refroidie jusqu’à température ambiante.
La composition de la formulation du rouge à lèvres à indice de naturalité élevé selon l’invention est: Formule de rouge à lèvres selon la présente invention Phase Nom Commercial INCI % 1 Mélange volatil d’alcanes selon l'invention 29,40 BELSIL TMMS 803 TRIMETHYLSILLOXYSILICATE 5,00 C47-5001 SUNPURO CI 77891 0,60 C37038 SUNCROMA DC RED 30 CI 73360 4,40 C19011 SUNCROMA DC RED 7 CA LAKE CI 15850 (AND) RED 7 LAKE 2,20 C694424 SUNCROMA FDC YELLOW 5 AL LAKE CI 19140 3,70 C339001 SUNPRO YELLOW IRON OXIDE CI 77492 1,60 2 Mélange volatil d’alcanes selon l'invention 20,00 OLO 3D STEARALKONIUM BENTONITE 1,00 3 CITROFLEX 2 TRIETHYL CITRATE 0,20 4 VEGELIGHT SILK COCONUT ALKANES 6,90 RHEOPEARL KL2 DEXTRIN PALMITATE 4,00 5 VEGELIGHT Si-118 COCONUT ALKANES & DIMETHICONNE CROSSPOLYMER 8,00 OLIVE GEL SQE Dimer dilinoleyl dimer dilinoleate & Olive oil unsaponifiables & dilinoleic acid / butanediol copolymer 6,50 VISCOPLAST WR Dilinoleic acid / butanediol Copolymer & C18-21 alkane 1,50 KAHLWAX 6607 H SUNFLOWER WAX 3,00 6 TALC IMERCARE DOLCE TALC 2,00 TOTAL 100,00