INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Selon une caractéristique de l’invention, le dispositif de compactage comprend : - une pluralité de chambres de compactage, chacune destinée à recevoir une partie de la poudre et comprenant chacune une ouverture de remplissage ; - un obturateur mobile entre une position de fermeture dans laquelle l’obturateur obture toutes les ouvertures de remplissage et une position de dégagement dans laquelle l’obturateur est situé à distance de toutes les ouvertures de remplissage ; - une unité de compression comprenant une pluralité de pistons et au moins un actionneur, chaque piston étant positionné à l’opposé d’une des ouvertures de remplissage et étant adapté à être déplacé par l’actionneur dans la chambre de compactage correspondante.
Les à illustrent une structure d’un empilement 14 monocouche fonctionnelle selon l’invention déposé sur une face 11 d’un substrat 10 verrier, transparent, dans laquelle la couche fonctionnelle 140 unique, en particulier à base d’argent ou d’alliage métallique contenant de l'argent, est disposée entre deux revêtements antireflet, le revêtement antireflet 120 sous-jacent situé en dessous de la couche fonctionnelle 140 en direction du substrat 10 et le revêtement antireflet 160 sus-jacent disposé au-dessus de la couche fonctionnelle 140 à l’opposé du substrat 30. Ces deux revêtements antireflet 120, 160, comportent chacun au moins une couche diélectrique 122, 128 ; 164, 165, 166, 167, 169.
En , la couche fonctionnelle 140 est située indirectement sur le revêtement antireflet 120 sous-jacent et indirectement sous le revêtement antireflet 160 sus-jacent : il y a une couche de sous-blocage 130 située entre le revêtement antireflet 120 sous-jacent et la couche fonctionnelle 140 et une couche de sur-blocage 152 située entre la couche fonctionnelle 140 et le revêtement antireflet 160.
Un tel empilement de couches minces peut être utilisé dans un vitrage multiple 100 réalisant une séparation entre un espace extérieur ES et un espace intérieur IS ; ce vitrage peut présenter une structure de double vitrage, comme illustré en ou : ce vitrage est alors constitué de deux substrats 10, 30, qui sont maintenus ensemble par une structure de châssis 90 et qui sont séparés l’un de l’autre par une lame de gaz intercalaire 15.
En et , le sens incident de la lumière solaire entrant dans le bâtiment est illustré par la double flèche, à gauche.
En , l’empilement 14 de couches minces est positionné en face 2 (sur la feuille la plus à l’extérieur du bâtiment en considérant le sens incident de la lumière solaire entrant dans le bâtiment et sur sa face tournée vers la lame de gaz), c’est-à-dire sur une face intérieure 14 du substrat 10 en contact avec la lame de gaz intercalaire 15, l’autre face 11 du substrat 10 étant en contact avec l’espace extérieur ES. Le substrat 30, non porteur d’un empilement, présente une face 29 en contact avec la lame de gaz intercalaire 15, l’autre face 31 du substrat 30 étant en contact avec l’espace intérieur IS.
En , l’empilement 14 de couches minces est positionné en face 3 (sur la feuille la plus à l’intérieur du bâtiment en considérant le sens incident de la lumière solaire entrant dans le bâtiment et sur sa face tournée vers la lame de gaz), c’est-à-dire sur une face intérieure 11 du substrat 10 en contact avec la lame de gaz intercalaire 15, l’autre face 9 du substrat 10 étant en contact avec l’espace intérieur IS. Le substrat 30, non porteur d’un empilement, présente une face 29 en contact avec la lame de gaz intercalaire 15, l’autre face 31 du substrat 30 étant en contact avec l’espace extérieur ES.
Toutefois, il peut aussi être envisagé que dans cette structure de double vitrage, l’un des substrats présente une structure feuilletée.
Une série d’exemples a été réalisée sur la base de la structure d’empilement illustrée en avec, en partant de la surface 14 du substrat 10, d’une épaisseur de 4 mm, uniquement les couches suivantes, dans cet ordre : - une couche diélectrique de dioxyde de titane, TiO 2 122 d’une épaisseur physique de 24 nm, déposée à partir d’une cible en dioxyde de titane dans une atmosphère à 6,25 % d’oxygène sur le total d’oxygène et d’argon et sous une pression de 2.10 -3 mbar ; - une couche d’oxyde à base de zinc, ZnO 128, d’une épaisseur physique de 4 nm, déposée à partir d’une cible céramique en ZnO, dans une atmosphère d’argon et sous une pression de 2.10 -3 mbar ; - une couche fonctionnelle métallique 140 à base d’argent, et plus précisément ici en argent, d’une épaisseur physique de 13,5 nm, déposée à partir d’une cible métallique en argent, dans une atmosphère d’argon et sous une pression de 8.10 -3 mbar ; - une couche de sublocage à base d’oxyde de titane, 152, présentant : * une première partie d’une épaisseur physique de 5 nm, déposée à partir d’une cible céramique en TiO 2 , dans une atmosphère d’argon et sous une pression de 2.10 -3 mbar ; * une seconde partie de couche de sublocage à base d’oxyde de titane, 152’ d’une épaisseur physique de 5 nm, déposée à partir d’une cible céramique en TiO 2 , dans une atmosphère d’argon et d’oxygène, à 6,25 % d’oxygène sur le total d’oxygène et d’argon , et sous une pression de 2.10 -3 mbar ; - une couche diélectrique intermédiaire d’oxyde 165 en oxyde mixte de zinc et d’étain Sn x Zn y O, d’une épaisseur physique de 15 nm, déposée à partir d’une cible métallique à 50 % en poids d’étain et 50 % en poids de zinc dans une atmosphère à 75 % d’oxygène sur le total d’argon et d’oxygène et sous une pression de 2.10 -3 mbar - une couche diélectrique de nitrure 166, à base de silicium, ici en Si 3 N 4 , d’une épaisseur physique de 15 nm, déposée à partir d’une cible en silicium dopé à l’aluminium, à 92 % en poids de silicium et 8 % en poids d’aluminium dans une atmosphère à 45 % d’azote sur le total d’azote et d’argon et sous une pression de 2.10 -3 mbar ; et - une couche diélectrique d’oxyde 167, en mixte de zinc et d’étain Sn x Zn y O, d’une épaisseur physique de 15 nm, déposée à partir d’une cible métallique à 50 % en poids d’étain et 50 % en poids de zinc dans une atmosphère à 75 % d’oxygène sur le total d’argon et d’oxygène et sous une pression de 2.10 -3 mbar.
Dans cette série, l’empilement décrit au pragraphe précédant contistue une référence (« Ref. » sur les figures).
Dans cette structure de référence, ainsi que dans tous les exemples qui suivent : - il n’y a pas de couche de sous-blocage 130 située entre le revêtement antireflet 120 sous-jacent et la couche fonctionnelle 140 ; - la seconde partie 152’ de la couche de surblocage à base d’oxyde de titane qui plus éloignée de la couche métallique fonctionnelle 140 est plus oxydée que la première partie, au contact de la couche métallique fonctionnelle 140 ; - chaque partie de la couche de surblocage à base d’oxyde de titane est déposée à partir d'une cible céramique de TiO x sous stœchiométrique, où x est un nombre tel que 1,7 < x < 1,95.
Un exemple 1 (« Ex. 1 » sur les figures) a été réalisé en disposant sur le substrat les mêmes couches 122, 128, 140, 152, 152’, 165, 166, 167, que pour la référence, dans le même ordre, avec les mêmes matériaux et les mêmes épaisseurs, puis sur la couche 167 une couche métallique absorbante 168, comme visible en , en SnZn, d’une épaisseur physique de 2 nm, déposée à partir d’une cible métallique composée à 50 % en poids de Sn et 50 % en poids de Zn, dans une atmosphère d’argon et sous une pression de 2.10 -3 mbar.
Un exemple 2 (« Ex. 2 » sur les figures) a été réalisé en disposant sur le substrat les mêmes couches 122, 128, 140, 152, 152’, 165, 166, 167, que pour la référence, dans le même ordre, avec les mêmes matériaux et les mêmes épaisseurs, puis, comme visible en , une couche métallique absorbante 168, puis une couche de protection terminale 169 : - pour cet exemple 2, la couche métallique absorbante 168 est en SnZn, d’une épaisseur physique de 2 nm, déposée à partir d’une cible métallique composée à 50 % en poids de Sn et 50 % en poids de Zn, dans une atmosphère d’argon et sous une pression de 2.10 -3 mbar ; - la couche de protection terminale 169 est en dioxyde de titane, TiO 2 , d’une épaisseur physique de 10,0 nm, déposée à partir d’une cible en dioxyde de titane dans une atmosphère à 6,25 % d’oxygène sur le total d’oxygène et d’argon et sous une pression de 2.10 -3 mbar.
Les éléments Sn et Zn présentent chacun un rapport 0 -5 Ω.cm.
L’argent présente aussi un rapport 0 -5 Ω.cm.
La et la illustrent respectivement en ordonnée la résistance par carré, R, en ohms par carré et, l’absorption lumineuse, LA, en pourcent, des empilements de référence, de l’exemple 1 et de l’exemple 2 après leur dépôt et après le traitement laser.
Ce traitement de laser a constisté ici en un défilement du substrat 10 à une vitesse S variant de 7 mètres par minute à 18 mètres par minutes sous une ligne laser 20 avec un faisceau continu provenant d’une source laser à disque Yb, YAG, d’une longueur d’onde de 1030 nm, de 0,06 mm de large, 11,20 mm de long et une densité de puissance totale de 70 W/cm², avec la ligne laser orientée quasiment perpendiculairement à la face 11 (avec une inclinaison de 7°) et en direction de l’empilement 14, c’est-à-dire en disposant la ligne laser au-dessus de l’empilement, comme visible en à (la flèche noire droite illustrant l’orientation de la lumière émise), à une distance de 114 mm de la face 11.
L’élément de support est par exemple un dossier ou une assise de siège de véhicule.
Selon un deuxième aspect, l’invention concerne un siège de véhicule comprenant un tel élément de support.
Selon un troisième aspect, l’invention concerne un procédé d’assemblage d’un tel élément de support.
La réalisation de l’élément de support nécessite la fixation de la coiffe sur les autres éléments du siège. Par exemple, la coiffe enveloppe la matelassure et est maintenue en place à l’aide de fermetures éclairs. On connait également des sièges de véhicule pour lesquels la coiffe est fixée sur des éléments métalliques du châssis du siège. Pour ce type de siège, les opérations d’assemblage sont longues et fastidieuses et nécessitent de nombreuses pièces additionnelles pour positionner correctement la coiffe. Le remplacement de la coiffe est tout aussi complexe.
L’un des buts de l’invention est de pallier ces inconvénients en proposant un élément de support d’un siège de véhicule léger, peu coûteux, respectueux de l’environnement et pour lequel la coiffe est facile et rapide à assembler et à désassembler.
A cet effet, l’invention concerne un élément de support d’un siège de véhicule du type précité, dans lequel la coiffe comprend une pluralité de boucles de fixation fixées sur la surface arrière de la coiffe, la coque comprenant une pluralité d’ouvertures traversantes disposées sensiblement en regard des boucles de fixation, les boucles de fixation traversant lesdites ouvertures traversantes et coopérant mécaniquement avec la coque de sorte à maintenir la coiffe solidaire de la coque.
Les boucles de fixation permettent de fixer simplement et rapidement la coiffe à la coque du siège. Le changement de coiffe est tout aussi facile à mettre en œuvre. L’élément de support est léger, facile, peu coûteux à fabriquer et respectueux de l’environnement puisqu’il ne comprend qu’un nombre limité d’éléments.
- les boucles de fixation sont cousues sur la surface arrière de la coiffe ;
- la coque comprend une pluralité d’organes de maintien, chaque boucle de fixation coopérant mécaniquement avec un organe de maintien respectif ;
- chaque organe de maintien est venu de matière avec la coque ;
- chaque organe de maintien est formé par une saillie définie par la coque ;
- une portion de la coiffe forme une enveloppe recevant une extrémité de la coque et une extrémité de la matelassure ; et
- la coque comprend une partie centrale et deux parties latérales disposées de part et d’autre de la partie centrale, la coiffe et la matelassure couvrant la partie centrale de la coque, les parties latérales définissant chacune une surface libre d’appui.
L’invention concerne aussi un siège de véhicule comprenant un élément de support tel que décrit ci-dessus.
Un avantage technique d’avoir un diamètre interne réduit du tuyau étanche est la faculté d’utiliser le cas échéant l’effet de capillarité pour augmenter la force motrice d’entrainement du fluide dans le tuyau.
Un autre avantage d’avoir un diamètre interne réduit du tuyau étanche est la réduction du risque de court-circuit avec des quantités de fluide limitées.
En outre, si la valeur du diamètre externe du tuyau étanche est proche de celle du diamètre interne du tuyau étanche (c’est-à-dire que l’enveloppe du tuyau est fine), les échanges de chaleur vers le fluide caloriporteur sont facilités.
De manière préférée, le dispositif selon la présente invention peut être caractérisé en ce que le diamètre externe du tuyau est inférieur ou égal à 12 mm, préférentiellement inférieur ou égal à 10 mm, inférieur ou égal à 8 mm, inférieur ou égal à 6 mm, inférieur ou égal à 5 mm, inférieur ou égal à 3,5 mm, inférieur ou égal à 2,5 mm ou encore inférieur ou égal à 1,5 mm.
De manière préférée, le dispositif selon la présente invention peut être caractérisé en ce que le tuyau étanche est configuré pour que lesdites sections froides sont exposées à une même source froide.
Ceci permet ainsi de récupérer la source froide en une zone du véhicule, par exemple en lien avec un système d’air conditionné.
De manière préférée, le dispositif selon la présente invention peut être caractérisé en ce que le tuyau étanche comprend au moins une partie en zigzag.
Par « zigzag », il est compris dans le contexte de la présente invention une ligne brisée formant des angles alternativement saillants et/ou rentrants, plus ou moins arrondis, plus ou moins réguliers.
Lorsque la mesure d’un angle est comprise entre 180 et 360 degrés, l’angle est dit rentrant. Lorsque la mesure d’un angle est comprise entre 0 et 180 degrés, l’angle est dit saillant.
Dans un mode de réalisation particulier, le dispositif selon la présente invention peut être caractérisé en ce que le tuyau étanche comprend au moins une partie présentant plusieurs changements de direction du tuyau avec des angles (plus ou moins arrondis) de 180 degrés puis 180 degrés dans le sens opposé du changement d’angle précédent, de manière à ce que le tuyau présente plusieurs sections parallèles les unes aux autres.
De manière préférée, le dispositif selon la présente invention peut être caractérisé en ce que ladite au moins une source chaude comprend une plaque conductrice de chaleur, laquelle chaleur provient d’au moins une batterie.
Une plaque conductrice de chaleur permet de diriger, concentrer ou diffuser la chaleur où on le souhaite.
De manière préférée, la plaque conductrice de chaleur est une plaque métallique, lequel est un matériau particulièrement bien adapté pour la conduction de la chaleur. Par exemple, la plaque de concentration de chaleur est une plaque en aluminium.
De manière préférée, le dispositif selon la présente invention peut être caractérisé en ce que la pompe est une pompe capillaire de préférence chauffée. Cette pompe est activée et désactivée par un chauffage électrique (par exemple d’environ 100 W) qui sert à transférer une petite quantité du fluide caloriporteur dans la pompe capillaire au vapeur. Cette vaporisation permet de créer plus de porosité vide dans la pompe capillaire, et ainsi plus de fluide est absorbé par la pompe. Le vapeur entre dans le tuyau attaché au condensateur, et le transforme en fluide.
De manière préférée, le dispositif selon la présente invention peut être caractérisé en ce que ledit dispositif comprend en outre une chambre de compensation (préférentiellement avant la pompe capillaire selon le sens du flux).
Le chambre de compensation sert à stocker le fluide et faire le système adapter à différente charge de chaleur.
Avant le traitement de laser, l’absorption lumineuse LA de la référence était de 9 % et celle des exemples 1 et 2 respectivement de 22 % et 24 %. Le traitement de laser a provoqué la diminution de l’absorption lumineuse LA et cette diminution conduit à une absorption lumineuse finale généralement plus petite pour l’exemple 1 et l’exemple 2 que pour la référence, à même vitesse de défilement, quelle que soit la vitesse de défilement. Il est donc possible d’augmenter la vitesse de défilement du substrat, et ainsi augmenter la productivité.
La vitesse de défilement du substrat pendant le traitement peut être augmenter d’environ 2 mètres par minutes avec la solution de l’exemple 1 dont l’empilement se termine par la couche métallique absorbante 168 par rapport à la référence et la vitesse peut être augmenter d’environ 5 mètres par minutes par rapport à la référence avec la solution de l’exemple 2 dont l’empilement se termine par la couche métallique absorbante 168 puis la couche de protection terminale 169.
La résistance à la rayure a été testée avec une machine de test « Scratch Hardness Test 413 » de la société ERICHSEN : on déplace une pointe en métal dur Van Laar de diamètre 0,55 mm équipée d’une pointe en carbure de tungstène et chargée d’un poids sur le substrat à une vitesse donnée. On note la visibilité à travers la zone testée par la pointe en fonction de la charge, en unité arbitraire mais comparable d’un test à l’autre. Les tests de résistante mécanique ont été réalisés après le dépôt de l’empilement et après un traitement de l’empilement par un rayonnement de laser, de façon identique aux traitement précédents.
L’exemple 1 et l’exemple 2 présentent toujours une rayure moins visible que la référence ; cette visibilité est en particulier proche de zéro pour les charges faibles. Il est ainsi possible de tirer un bénéfice de la présence de la couche métallique absorbante à l’intérieur du revêtement diélectrique sus-jacent tout en conservant une résistance mécanique élevée.
Des exemples 1’ et 2’, identiques respectivement à l’exemple 1 et à l’exemple 2 ont été réalisé en substituant la couche métallique 168, absorbante, en SnZn, par une couche en titane, déposée à partir d’une cible métallique en bismuth dans une atmosphère d’argon et sous une pression de 2.10 -3 mbar. Des effets similaires ont été constatés.
Un exemple 3 (« Ex. 3 » sur les figures) a été réalisé en disposant sur le substrat les mêmes couches 122, 128, 140, 152, 152’, 165, 166 et 167 que pour la référence, dans le même ordre, avec les mêmes matériaux et les mêmes épaisseurs, mais en prévoyant en outre une couche métallique absorbante 168’, entre la couche 152’ et la couche 165, comme visible en . Pour cet exemple 3, cette couche métallique absorbante 168’ est en SnZn, d’une épaisseur physique de 2 nm, déposée à partir d’une cible métallique composée à 50 % en poids de Sn et 50 % en poids de Zn, dans une atmosphère d’argon et sous une pression de 2.10 -3 mbar.
Un exemple 4 (« Ex. 4 » sur les figures) a été réalisé en disposant sur le substrat les mêmes couches 122, 128, 140, 152, 152’, 165, 166 et 167 que pour la référence, dans le même ordre, avec les mêmes matériaux et les mêmes épaisseurs, mais en prévoyant en outre, comme visible en , une couche métallique absorbante 168’, puis une surcouche diélectrique 164 entre d’une part, en dessous, la couche 152’ et d’autre part, au-dessus, la couche 165 : - pour cet exemple 4, la couche métallique absorbante 168’ est en SnZn, d’une épaisseur physique de 2 nm, déposée à partir d’une cible métallique composée à 50 % en poids de Sn et 50 % en poids de Zn, dans une atmosphère d’argon et sous une pression de 2.10 -3 mbar ; et - la surcouche diélectrique d’oxyde 164 est en dioxyde de titane, TiO 2 , d’une épaisseur physique de 5,0 nm, déposée à partir d’une cible en dioxyde de titane dans une atmosphère à 6,25 % d’oxygène sur le total d’oxygène et d’argon et sous une pression de 2.10 -3 mbar.
La et la illustrent respectivement en ordonnée la résistance par carré, R, en ohms par carré et, l’absorption lumineuse, LA, en pourcent, des empilements de référence, de l’exemple 3 et de l’exemple 4 après leur dépôt et après le même traitement laser que pour les exemples 1 et 2.
Avant le traitement de laser, l’absorption lumineuse LA des exemples 3 et 4 était respectivement de 22 % et 27 %. Le traitement de laser a provoqué la diminution de l’absorption lumineuse LA et cette diminution conduit à une absorption lumineuse finale généralement plus petite pour l’exemple 3 et l’exemple 4 que pour la référence, à même vitesse de défilement, quelle que soit la vitesse de défilement. Il est donc possible d’augmenter la vitesse de défilement du substrat, et ainsi augmenter la productivité.
La résistance à la rayure des exemples 3 et 4 est aussi bonne que celle des exemples 1 et 2.
Un exemple 5 et un exemple 6 ont été testés sur la base de l’exemple 4 en changeant la surcouche diélectrique d’oxyde 164 en dioxyde de titane, TiO 2 , respectivement par une surcouche diélectrique d’oxyde 164 en dioxyde de silicium, SiO 2 , et surcouche diélectrique d’oxyde 164 en oxyde de zinc, ZnO. Il a également été constaté que la vitesse de défilement du substrat pouvait être augmentée sans que l’absorption lumineuse ne soit trop élevée (moins de 8 %).
Un exemple 7 a été testé sur la base de l’exemple 4 en changeant la surcouche diélectrique d’oxyde 164 en dioxyde de titane, TiO 2 , par une surcouche diélectrique en nitrure de silicium, Si 3 N 4 . Il a été constaté que l’absorption lumineuse était trop élevée (entre 12 % et 16 %) lorsque la vitesse de défilement du substrat augmentait.
Dispositif de diffusion d’un précurseur à contenant ayant au moins un élément poreux permettant la génération d’un aérosol vers une surface de croissance Domaine technique de l’invention La présente invention concerne un dispositif de diffusion d’un précurseur configuré pour diffuser un précurseur de croissance vers une surface de croissance externe comprise sur un organe de croissance externe.
L’invention concerne aussi un procédé de dépôt d’une couche sur une surface de croissance, le procédé de dépôt comprenant une étape de fourniture d’un tel dispositif de diffusion, dans lequel l’au moins une enceinte de réception est remplie au moins partiellement par un fluide précurseur.
Etat de la technique L’augmentation de la part des énergies renouvelables dans le mix énergétique mondial contribue à augmenter le caractère intermittent de la fourniture en énergie électrique. Ainsi, il est nécessaire de coupler ces sources d’énergie intermittentes avec des sources énergétiques tierces stables et flexibles, afin de compenser leur caractère intermittent. Dans le cas où ladite source énergétique tierce est une source électronucléaire, la compensation donne lieu à une augmentation du nombre de phases de transitoires de puissance, qui vont alors devenir plus fréquentes pour le parc électronucléaire.
De façon particulièrement avantageuse, l’unité centrale 5 est configurée pour recalculer périodiquement la matrice de conversion articulaire et le poids de l’effecteur avec une troisième fréquence de calcul, notée F3 et inférieure à la deuxième fréquence F2. Par exemple, la deuxième fréquence F2 est entre deux et vingt fois plus élevée que la troisième fréquence F3. De préférence, la deuxième fréquence F2 est entre cinq et dix fois plus élevée que la troisième fréquence F3. De préférence encore, la deuxième fréquence F2 est huit fois plus élevée que la troisième fréquence F3. En choisissant, la troisième fréquence F3 égale à la première fréquence F1, l’unité centrale 5 peut mettre la matrice de conversion articulaire , le poids de l’effecteur , la matrice de comportement Y et la consigne composite u dans une même trame de données 30. La matrice de conversion articulaire et le poids de l’effecteur peuvent ensuite être interpolés linéairement pour obtenir des valeurs pour chacun des cycles de calcul des consignes de pilotage des boucles de courant ,
Le procédé de régulation d’impédance permet de fonctionner efficacement quel que soit le mode de fonctionnement choisi, que le robot fonctionne en mode de pilotage en effort, ou en mode de pilotage en position, ou dans le mode hybride ou en mode de pilotage en impédance.
Grâce à l’invention, le guidage du robot est amélioré lorsque le robot doit être guidé manuellement au moins partiellement.
Certains modes de réalisation peuvent être mis en œuvre indépendamment des autres modes de réalisation.