INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Les paramètres ont été mesurés pour différentes épaisseurs (100 nm, 500 nm et 900 nm) d’une couche intermédiaire en d’oxyde de silicium (SiO 2 ). Le tantalate de lithium et l’oxyde de silicium sont optiquement transparents et leurs indices de réfraction présentent un contraste important entre les couches respectives, ce qui facilite les mesures optiques sur l’empilement des couches.
La charge peut être constituée de ces deux seules fractions : la fraction d’huile de pyrolyse et la fraction lourde d’hydrocarbures, la somme de la fraction d’huile de pyrolyse et de la fraction lourde d’hydrocarbures formant 100% poids de la charge. La fraction lourde d’hydrocarbures peut constituer, de préférence lorsque la charge est constituée de ladite fraction lourde d’hydrocarbures et de la fraction d’huile de pyrolyse, entre 55 % et 99% poids de la charge, de préférence entre 70% et 98% poids de la charge, plus préférentiellement entre 75% et 98% poids de la charge, encore plus préférentiellement entre 80% et 97% poids de la charge, et de manière encore plus préférée entre 80% et 95% poids de la charge, voire entre 85% et 95% poids de la charge.
Selon l’invention, une « huile de pyrolyse de plastiques ou huile de pyrolyse de CSR » est une huile, avantageusement sous forme liquide à température ambiante, issue de la pyrolyse de plastiques, de préférence de déchets plastiques provenant notamment de filières de collecte et de tri, ou issue de la pyrolyse de CSR. Elle comprend en particulier un mélange de composés hydrocarbonés, notamment des paraffines, des oléfines, des naphtènes et des aromatiques. Au moins 80% poids de ces composés hydrocarbonés ont de préférence un point d’ébullition inférieur à 700°C, et de manière préférée inférieur à 550°C. En particulier, selon l’origine de l’huile de pyrolyse, celle-ci peut comprendre jusqu’à 70% poids en paraffines, jusqu’à 90 % poids en oléfines et jusqu’à 90 % poids en aromatiques, étant entendu que la somme des paraffines, des oléfines et des aromatiques est égale à 100 % poids des composées hydrocarbonés.
La densité de l’huile de pyrolyse, mesurée à 15°C selon la méthode ASTM D4052, est généralement comprise entre 0,75 g/cm 3 et 0,99 g/cm 3 , de préférence comprise entre 0,75 g/cm 3 et 0,95 g/cm 3 .
L’huile de pyrolyse peut comprendre, et le plus souvent comprend, des impuretés comme des métaux, notamment du fer, du silicium, des composés halogénés, notamment des composés chlorés. Ces impuretés peuvent être présentes dans l’huile de pyrolyse à des teneurs élevées, par exemple jusqu’à 500 ppm poids ou encore 1000 ppm poids voire 5000 ppm poids d’éléments halogène (e.g. chlore) apportés par des composés halogénés (e.g. composés chlorés), et jusqu’à 2500 ppm poids, voire 10000 ppm poids d’éléments métalliques ou semi-métalliques. Les métaux alcalins, les alcalino-terreux, les métaux de transition, les métaux pauvres et les métalloïdes peuvent être assimilés aux contaminants de nature métallique, appelés métaux ou éléments métalliques ou semi-métalliques. L’huile de pyrolyse peut comprendre jusqu’à 200 ppm poids ou encore 1000 ppm poids de silicium, et jusqu’à 15 ppm poids ou encore 100 ppm poids de fer. L’huile de pyrolyse peut également comprendre d’autres impuretés comme des hétéroéléments apportés notamment par des composés soufrés, des composés oxygénés et/ou des composés azotés, à des teneurs généralement inférieures à 20000 ppm poids d’hétéroéléments, et de préférence inférieures à 10000 ppm poids d’hétéroéléments.
Le procédé selon l’invention est particulièrement bien adapté pour traiter une huile de pyrolyse chargée en impuretés, en combinaison avec une charge lourde d’hydrocarbures telle que définie plus en détails plus bas. Par chargée en impuretés, on entend que l’huile de pyrolyse a les propriétés suivantes : - une teneur en aromatiques comprise entre 0 et 90 % poids, souvent comprise entre 20 et 90 % poids, et pouvant être comprise entre 50 et 90 % poids ; - une teneur en halogénés comprise entre 2 ppm poids et 5000 ppm poids, souvent comprise entre 200 ppm poids et 5000 ppm poids, et pouvant être comprise entre 500 ppm poids et 5000 ppm poids ; - une teneur en éléments métalliques comprise entre 10 ppm poids et 10000 ppm poids, souvent comprise entre 2000 ppm poids et 10000 ppm poids, et pouvant être comprise entre 2250 ppm poids et 5000 ppm poids ; - dont une teneur en élément fer comprise entre 0 et 100 ppm poids, souvent comprise entre 10 ppm poids et 100 ppm poids, et pouvant être comprise entre 15 ppm poids et 100 ppm poids ; - une teneur en élément silicium comprise entre 0 et 1000 ppm poids, souvent comprise entre 50 ppm poids et 1000 ppm poids, voire entre 80 ppm poids ou 100 ppm poids et 1000 ppm poids, et pouvant aussi être comprise entre 200 ppm poids et 1000 ppm poids.
Le procédé selon l’invention est particulièrement bien adapté pour traiter une huile de pyrolyse fortement chargée en impuretés, en combinaison avec une charge lourde d’hydrocarbures telle que définie plus en détails plus bas. Par fortement chargée en impuretés, on entend que l’huile de pyrolyse a les propriétés suivantes : - une teneur en aromatiques comprise entre 30 et 70 % poids ; - une teneur en halogénés comprise entre 500 ppm poids et 5000 ppm poids ; - une teneur en éléments métalliques comprise entre 300 ppm poids et 5000 ppm poids ; - dont une teneur en élément fer comprise entre 15 ppm poids et 100 ppm poids ; - une teneur en élément silicium comprise 200 ppm poids et 1000 ppm poids.
La fraction lourde d’hydrocarbures d’origine fossile de la charge du procédé selon l’invention est une fraction lourde d’hydrocarbures contenant une partie d'au moins 50% poids, de préférence d’au moins 80% poids, ayant une température d'ébullition d'au moins 300°C, de préférence d’au moins 350°C, et de manière encore plus préférée d'au moins 375°C.
La fraction lourde d’hydrocarbures de la charge peut être un pétrole brut, un pétrole brut étêté ou peut comprendre, ou être constituée pare, des résidus atmosphériques et/ou de résidus sous-vides issus de la distillation atmosphérique et/ou sous vide d’un pétrole brut.
De manière préférée, la fraction lourde d’hydrocarbures de la charge est une fraction lourde d’hydrocarbures contenant une partie d'au moins 50% poids, voire d’au moins 80% poids, ayant une température d'ébullition d'au moins 450°C, de préférence d’au moins 500°C, et de manière encore plus préférée d'au moins 540°C, tel qu’un résidu sous-vide.
Ces interstices sont suffisamment étroits pour permettre de couler en place l’absorbeur de chocs 19. Ils sont suffisamment larges pour que, en fonctionnement du moteur électrique, il n’y ait pas de contact direct entre le support de ventilateur 17 et le moyeu 15.
Il est à noter que le fait que l’absorbeur de chocs 19 soit logé dans une cavité sensiblement fermée permet d’éviter le fluage de la matière constituant l’absorbeur de chocs hors de son logement.
L’absorbeur de chocs est par exemple en un caoutchouc élastomère.
Avantageusement, la première partie annulaire 51 porte des dents 65 coopérant avec des dents complémentaires 67 ménagées sur l’anneau 23 de l’absorbeur de chocs. Les dents 65 sont agencées en un cercle, sur la face de la première partie annulaire 57 qui est en contact avec l’anneau 23.
Les dents complémentaires 67 sont ménagées sur la première grande face 27 de l’anneau 23. Elles sont délimitées chacune entre deux creux 69, les dents 65 étant reçues dans les creux 69.
De la même manière, le moyeu 15 porte d’autres dents 71, coopérant avec d’autres dents complémentaires 73 de l’anneau 23.
Les autres dents 71 sont portées par la zone de bord 49 de la grande face frontale 47 du moyeu.
Les autres dents complémentaires 73 sont ménagées entre des creux 75 formés dans la seconde grande face 29 de l’anneau 23 de l’absorbeur de chocs.
Les autres dents 71 sont agencées en cercle, centrées sur l’axe de rotation X. Elles sont engagées chacune dans un des creux 75.
Typiquement, les dents 65 sont décalées circonférentiellement par rapport aux autres dents 71, chaque dent 65 étant circonférentiellement disposée entre deux autres dents 71 et inversement.
De même, les dents complémentaires 67 sont décalées circonférentiellement par rapport aux autres dents complémentaires 73. Plus précisément, chaque creux 69 constitue l’une des autres dents complémentaires 73, et chaque creux 75 constitue l’une des dents complémentaires 67.
Ainsi, les dents 65 et les autres dents 71 sont agencées sur un même cercle, avec interposition circonférentielle d’un voile de matière de l’absorbeur de chocs entre les dents 65 et 71.
La transmission du couple du moyeu 15 au support de ventilateur 17 est donc particulièrement bonne.
Le ventilateur 9 est fixé de manière amovible sur le support de ventilateur 17, typiquement par des vis telles que les vis 77 représentées sur la .
Le procédé de fabrication du moteur décrit ci-dessus va maintenant être détaillé.
Le stator 3, le rotor 5 et l’arbre rotatif 7 sont assemblés de manière usuelle, ces étapes n’étant donc pas décrites ici.
- actionner la pince du véhicule sous-marin depuis la position fermée vers la position ouverte de la pince ;
- guider le véhicule sous-marin par le biais de l’organe de guidage vers le câble de récupération pour que le câble de récupération se loge dans la pince ouverte ;
- actionner la pince du véhicule sous-marin depuis la position ouverte vers la position fermée ;
- actionner le mécanisme de treuillage pour remonter le véhicule sous-marin.
La représente schématiquement et en vue de profil un véhicule sous-marins remorqué à partir d’un navire, dit aussi TUV, conforme à l’invention.
La représente schématiquement et en vue de dessous le TUV de la .
La représente schématiquement, en vue de profil, une étape de récupération du TUV des figures 1 et 2 à l’aide d’une plateforme d’accueil disposée à bord d’un navire, la plateforme et le TUV formant ensemble un système de récupération selon un premier mode de réalisation.
La est une vue similaire à la , montrant une autre étape de récupération.
La est une vue similaire aux et 4, montrant encore une autre étape de récupération.
La est une vue similaire aux à 5, mais en perspective et montrant encore une autre étape de récupération.
La représente en vue de profil le système de récupération comprenant le TUV illustré aux figures 1 et 2 et une plateforme d’accueil selon une variante de réalisation.
Description détaillée Les éléments identiques représentés sur les figures précitées sont identifiés par des références numériques identiques dans ce qui suit.
L’invention trouve une application dans le domaine des véhicules sous-marins remorqués, ou tractés, connus sous le terme TUV, comme précisé plus haut.
Les TUVs sont utilisés pour effectuer différentes opérations en mer, telles que des opérations de surveillance.
Pour cela, les véhicules sous-marins sont lancés à partir d’un navire, par exemple les bateaux de type USV, en anglais « Unmanned Surface Vessel », et sont remorqués, totalement immergés dans l’eau dans une position nominale.
require(exists( tokenId ), "Approved query for nonexistent token");
return _ tokenApprovals [ tokenId ];
function setApprovalForAll (address operator, bool approved)
_ setApprovalForAll ( msg.sender , operator, approved);
function isApprovedForAll (address __owner, address operator)
Les rayons réfléchis 21 sont renvoyés en direction de la surface de détection 2.
Les rayons réfléchis 21 vont venir illuminer la surface de détection 2 et les photodétecteurs.
L’étape d’acquisition de ACQU1 est réalisée par la mesure de chaque photodétecteur 33 de la surface de détection 2 de l’intensité lumineuse reçue. Avantageusement, ladite mesure est réalisée en même temps que l’étape d’émission MOT1 ou en même temps que l’émission des rayons 22 par les photoémetteurs 31. Ainsi, la mesure réalisée par l’étape d’acquisition comprend la détection de l’intensité lumineuse réfléchie 21 par un objet 10 placé devant la surface de détection 2.
La mesure par chaque photodétecteur 33 de l’intensité lumineuse reçue permet de construire une cartographie d’intensité lumineuse 4. Un exemple d’une telle cartographie 4 est illustré sur la . Dans un mode de réalisation, une cartographie d’intensité lumineuse comprend une représentation en deux dimensions représentant l’intensité de la lumière détectée par chaque photodétecteur 33 en fonction de sa position sur la surface de détection 2.
Préférentiellement, la couleur à une coordonnée donnée de ladite cartographie d’intensité lumineuse est fonction de l’intensité lumineuse mesurée par un photodétecteur agencé à une coordonnée sur la surface de détection 2 représentative de la coordonnée donnée.
Ladite image est construite en fonction de l’intensité lumineuse reçue par chaque photodétecteur et en fonction de sa position sur la surface de détection. Notamment, la couleur d’un pixel de ladite cartographie (par exemple une position sur une échelle de gris) est fonction de l’intensité reçue par le photodétecteur dont la position sur la surface de détection correspond à la position du pixel sur la cartographie.
Un exemple d’une telle cartographie d’intensité lumineuse acquise est représenté sur la .
Une telle acquisition comprend la génération d’un premier motif par la commande de l’allumage des photoémetteurs.
Fonction d’étalement du point La fonction d’étalement du point (aussi appelée « point spread function » en anglais ou « PSF ») est une fonction mathématique décrivant la réponse d’un système d’imagerie à une source ponctuelle de lumière. Cette fonction est représentative de l’étalement d’un point lumineux. Pour simplifier, la projection sur une paroi d’une source de lumière apparaît floue et plus diffuse que la source elle-même. Cela est dû à cet étalement naturel de la lumière.
Quand le substrat comprend plusieurs couches intermédiaires 2A et 2B, en référence à la , on peut effectuer successivement ou simultanément une mesure de l’épaisseur d’une première couche intermédiaire 2A et une mesure d’épaisseur de la deuxième couche intermédiaire 2B pour établir une cartographie de l’épaisseur de chaque couche intermédiaire et de la couche piézoélectrique 3. Dans d’autres cas, uniquement les épaisseurs de la couche piézoélectrique 3 et de la couche intermédiaire supérieure 2B sont déterminées, sans mesurer l’épaisseur d’éventuelles couches intermédiaires inférieures 2A.
La mesure de l’épaisseur de la ou les couches intermédiaires est avantageusement réalisée en utilisant un dispositif de mesure optique. Un tel dispositif est de préférence un dispositif d’ellipsométrie ou un dispositif de réflectométrie. Un avantage de ces techniques optiques est qu’elles permettent la mesure simultanée de l’épaisseur de plusieurs couches superposées, comme illustré dans la . De telles technologies optiques sont particulièrement adaptées pour des couches piézoélectriques tel que du LiTaO 3 et des couches intermédiaires en oxyde tel que le SiO 2 , car ces matériaux sont optiquement transparents dans la gamme de longueurs d'onde classiquement utilisée dans le domaine des semi-conducteurs (par exemple, 360 nm à 900 nm ou 190 nm à 1700 nm). Un empilement de ces matériaux présente en outre un grand contraste d'indice de réfraction entre chaque couche respective, ce qui facilite la mesure de l’empilement de couches par des moyens optiques.
Cependant, l’invention n’est pas limitée à ces techniques de mesure. La détermination de l’épaisseur de la couche intermédiaire peut être réalisée par tout autre dispositif permettant de mesurer l’épaisseur d’une couche agencée en-dessous la couche piézoélectrique 3 de manière non-destructive.
Dans certains modes de réalisation, on réalise la mesure d’épaisseur d’une ou plusieurs couches intermédiaires avant le transfert de la couche piézoélectrique. Cette technique est particulièrement utilisée en cas de couches supérieures opaques ne permettant pas de détermination d’épaisseur par des moyens optiques à travers la couche opaque.
Par exemple, l’épaisseur d’une couche opaque ou d’une autre couche située en-dessous d’une couche opaque peut être mesurée par analyse ultrasonique avec une résolution de picosecondes, ou par la fluorescence X à dispersion de longueur d'onde (WDXRF, acronyme du terme anglo-saxon « wavelength dispersive X-ray fluorescence »).
Avantageusement, le dispositif de mesure est configuré de manière à réaliser une série de mesures d’épaisseur automatisée sur une grille de points de mesure qui sont répartis sur la surface du substrat. Une telle grille de points est par exemple illustrée sur la .
Dans une telle grille, les points de mesure 5 se situent typiquement dans un plan (X, Y) parallèle à la surface du substrat. Chaque point de mesure est associé à une paire de coordonnées X, Y dans ce plan. De manière illustrative et non limitative, les points de mesure sont disposés le long de lignes droites afin de faciliter le guidage des moyens de mesure. Ces lignes peuvent être radiales par rapport au centre du substrat. De manière alternative, les points de mesure peuvent être disposés sur une grille rectangulaire ou être répartis de manière uniforme sur la surface du substrat. Si des variations d'épaisseur plus importantes sont à attendre dans une zone particulière, par exemple au milieu ou, en référence à la , à proximité du bord du substrat, les points de mesure 5 peuvent être choisis plus denses dans cette zone.
La grille, la densité et le positionnement des points de mesure peuvent être choisis selon la technique de mesure, les variations d’épaisseur dans les couches intermédiaires et la couche piézoélectrique, et en fonction de la précision souhaitée.
La illustre une cartographie d’épaisseur sur une grille de points de mesure, c’est-à-dire une représentation spatiale des épaisseurs mesurées sur une grille de points telle que décrite ci-dessus. Chaque point de mesure est associé à une valeur de mesure ou, dans le cas de plusieurs couches intermédiaires superposées, à un ensemble de valeurs de mesure dont chaque valeur respective correspond à une couche intermédiaire respective. Par exemple, chaque gamme d’épaisseur peut être associée à une couleur ou nuance prédéfinie sur la cartographie.
La réflectométrie optique consiste à mesurer la variation de l'intensité d’un faisceau de lumière réfléchi sur une surface ou une interface, par rapport à l'intensité d’un faisceau incident (on appelle ce rapport la réflectivité) en fonction de la longueur d’onde du faisceau.
En référence à la , des mesures en réflectométrie sous différents angles d’incidence fournissent des spectres d’intensité de réflexion en pourcentage de l’intensité incidente en fonction de la longueur d’onde λ du faisceau incident en nanomètres. Le spectre représenté par une ligne continue correspond à un angle de réflexion de 70°, et le spectre représenté par une ligne en pointillés correspond à un angle de réflexion de 6,5°. D’autres angles d’incidence et/ou un plus grand nombre d’angles différents peuvent être utilisés.
L’intensité réfléchie dépend de la longueur d’onde de la lumière et de l’épaisseur de chaque couche traversée par le faisceau incident et le faisceau réfléchi. L’intensité dépend en outre les propriétés optiques de chaque couche, qui sont connues pour les matériaux utilisés. Pour chaque angle de réflexion, la variation de l’intensité avec la longueur d’onde est différente. Chaque spectre enregistré à un angle de réflexion différent peut ainsi fournir des informations supplémentaires sur l’épaisseur de chaque couche dans un empilement de plusieurs couches superposées.
On peut calculer l’épaisseur d’un ensemble de n couches à partir de n spectres de réflectométrie à différents angles, n étant un nombre entier. La rugosité des couches peut être utilisée en tant que paramètre d’ajustement supplémentaire, ou être considérée constante.
L’ellipsométrie est une technique de caractérisation fondée sur le changement d’état de polarisation de la lumière, par réflexion de la lumière sur une surface ou interface. Un spectre d’ellipsométrie (non représenté) montre donc le changement de polarisation en fonction de la longueur d’onde d’un faisceau incident. Le changement de polarisation dépend également de l’épaisseur de chaque couche traversée par le faisceau incident et le faisceau réfléchi, et de l’angle de réflexion du faisceau. Similairement à un ensemble de spectres de réflectométrie, on peut calculer les épaisseurs respectives d’un ensemble de n couches à partir de n spectres d’ellipsométrie à différents angles, n étant un nombre entier.
De même, on peut combiner des spectres d’ellipsométrie et de réflectométrie afin de calculer les épaisseurs respectives d’un ensemble de couches intermédiaires sur chaque point de la grille choisie.
On réalise ensuite une étape d’interpolation d’épaisseur entre les points de mesure afin d’obtenir une cartographie d’épaisseur sur l’étendue du substrat. Avantageusement, on réalise une interpolation linéaire qui est rapide et facile à mettre en œuvre.
string private _name;
string private _symbol;
address private _issuer;
mapping(address => mapping(address => bool)) private _ operatorApprovals ;
mapping(uint256 => address) private _ tokenApprovals ;
mapping(uint256 => address) private _owners;
mapping(address => uint256) private _balances;
mapping(uint256 => string) private _ metadataURIs ;
mapping(uint256 => bool) private _ freezed ;
mapping(uint256 => address) private _ unfreezeAddresses ;
bool private _ isFreeMintable ;
constructor(
string memory name_,
string memory symbol_,
bool isFreeMintable _,
uint256 maxTotalSupply _
L’étage de mesure 1 comprend un premier module différentiel comportant deux amplificateurs opérationnels 15 et 16 connectés sur la borne d’entrée ND11 et la borne de sortie ND12 de la première résistance R1.
Plus précisément, l’entrée + du premier amplificateur opérationnel 15 est connectée d’une part à l’entrée + du deuxième amplificateur opérationnel 16 et à la borne d’entrée ND11 de la première résistance R1 tandis que l’entrée - du premier amplificateur opérationnel 15 est reliée d’une part à l’entrée - du deuxième amplificateur opérationnel 16 et à la borne de sortie ND12 de la première résistance R1.
L’étage de mesure 1 comporte également un deuxième module amplificateur différentiel comportant un troisième amplificateur opérationnel 17 et un quatrième amplificateur opérationnel 18.
Ce deuxième module amplificateur opérationnel est connecté aux deux bornes de la deuxième résistance R2.
Plus précisément, l’entrée + du troisième amplificateur opérationnel 17 est connectée d’une part à l’entrée + du quatrième amplificateur opérationnel 18 et à la borne d’entrée ND21 de la deuxième résistance R2, tandis que l’entrée - du troisième amplificateur opérationnel 17 est connectée d’une part à l’entrée - du quatrième amplificateur opérationnel 18 et à la borne de sortie ND22 de la deuxième résistance R2.
Le gain G1 du premier amplificateur opérationnel 15 est supérieur au gain G2 du deuxième amplificateur opérationnel 16.
De même, le gain G3 du troisième amplificateur opérationnel 17 est supérieur au gain G4 du quatrième amplificateur opérationnel 18.
L’étage de mesure 1 comporte également un premier module de conversion analogique numérique couplé à la sortie du premier module amplificateur différentiel 15, 16.
Ce premier module de conversion analogique numérique comporte un premier convertisseur analogique numérique 10 couplé à la sortie du premier amplificateur opérationnel 15 et un deuxième convertisseur analogique numérique 11 couplé à la sortie du deuxième amplificateur opérationnel 16.
L’étage de mesure comporte également un deuxième module de conversion analogique numérique couplé à la sortie du deuxième module amplificateur différentiel 17, 18.
Plus précisément, ce deuxième module de conversion analogique numérique comporte ici un troisième convertisseur analogique numérique 12 couplé à la sortie du troisième amplificateur opérationnel 17 et un quatrième convertisseur analogique numérique 13 couplé à la sortie du quatrième amplificateur opérationnel 18.
Les sorties des quatre convertisseurs analogiques numériques 10, 11, 12 et 13 sont connectées à une unité de traitement 14, par exemple un microcontrôleur, qui est configurée pour déterminer, comme on le verra plus en détail ci-après, la valeur courante du courant consommé par la charge DUT.