Matériau comprenant un substrat (10), verrier, revêtu sur une face (11) d’un empilement de couches minces (14) à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire comportant au moins une, voire une seule, couche fonctionnelle métallique (140), en particulier à base d’argent ou d’alliage métallique contenant de l'argent et au moins deux revêtements antireflet (120, 160), lesdits revêtements antireflet comportant chacun au moins une couche diélectrique (122, 165), ladite couche fonctionnelle (140) étant disposée entre les deux revêtements antireflet (120, 160), caractérisé en ce que ledit empilement de couches minces (14) comporte, au-dessus de ladite couche fonctionnelle métallique (140) et à l’opposé dudit substrat (10) : - une couche de surblocage à base d’oxyde de titane (152) située au-dessus et au contact de ladite couche métallique fonctionnelle (140) et ayant une épaisseur supérieure ou égale à 3,0 nm, notamment entre 3,0 et 30,0 nm, voire entre 5,0 et 30,0 nm, et - une couche métallique absorbante (168, 168’), avec une épaisseur physique de ladite couche métallique absorbante (168, 168’) qui est comprise entre 1,0 et 8,0 nm, voire entre 1,5 et 5,0 nm, voire entre 1,8 et 2,5 nm, ladite couche métallique absorbante (168, 168’) étant située directement sur, ou directement sous, ou indirectement sous avec interposition d’au moins une couche comprenant de l’oxygène, une couche diélectrique intermédiaire d’oxyde (165). Matériau selon la revendication 1, dans lequel dans lequel ladite couche métallique absorbante (168, 168’) comporte au moins un élément choisi parmi Sn, Zn, Zr, Ti, In, Nb, Bi. Matériau selon la revendication 1 ou 2, dans lequel ladite couche diélectrique intermédiaire d’oxyde (165) présente une épaisseur physique qui est comprise entre 1,5 et 40,0 nm, voire entre 2,6 et 30,0 nm, voire entre 3,6 et 20,0 nm et ladite couche intermédiaire d’oxyde (165) comporte, de préférence, au moins un élément choisi parmi Sn, Zn, Zr. Matériau selon une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel ladite couche métallique absorbante (168) est située en dessous et au contact d’une couche de protection terminale (169), ladite couche de protection terminale (169) étant de préférence à base d’oxyde d’un ou plusieurs éléments choisis parmi le titane, le zirconium, le silicium, le zinc et l’étain et présentant de préférence une épaisseur comprise entre 2,0 et 15,0 nm. Matériau selon une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel une surcouche diélectrique d’oxyde (164) est interposée entre ladite couche métallique absorbante (168’) et ladite couche diélectrique intermédiaire d’oxyde (165), ladite surcouche diélectrique d’oxyde (164) présentant, de préférence, une épaisseur physique qui est comprise entre 1,5 et 40,0 nm, voire entre 2,6 et 20,0 nm, voire entre 3,6 et 10,0 nm. Matériau selon la revendication 5, dans lequel ladite surcouche diélectrique d’oxyde (164) comporte au moins un élément choisi parmi Sn, Zn, Ti, Si, Zr. Matériau selon une quelconque des revendications 1 à 6, dans lequel ledit revêtement antireflet (160) sus-jacent comporte une couche diélectrique de nitrure (166), de préférence une couche diélectrique de nitrure à base de silicium, ladite couche diélectrique de nitrure (166) étant de préférence à distance de ladite couche métallique absorbante (168, 168’). Matériau selon une quelconque des revendications 1 à 7, dans lequel ladite couche fonctionnelle métallique (140), présente une épaisseur physique qui est comprise entre 7,2 et 22,0 nm, voire entre 9,0 et 16,0 nm, voire entre 10,6 et 14,4 nm. Matériau selon une quelconque des revendications 1 à 8, dans lequel ladite couche de surblocage à base d’oxyde de titane (152) située au-dessus et au contact de ladite couche métallique fonctionnelle (140) est déposée à partir d’une cible céramique, notamment sous stœchiométrique. Matériau selon une quelconque des revendications 1 à 9, dans lequel ladite couche de surblocage à base d’oxyde de titane (152) située au-dessus et au contact de ladite couche métallique fonctionnelle (140) comprend un gradient d’oxydation, une partie de ladite couche de surblocage à base d’oxyde de titane plus éloignée de ladite couche métallique fonctionnelle (140) étant plus oxydée qu’une partie de ladite couche de surblocage au contact de ladite couche métallique fonctionnelle (140). Matériau selon une quelconque des revendications 1 à 3, 5 à 10, dans lequel ladite couche métallique absorbante (168’) est située au-dessus et au contact de ladite couche de surblocage à base d’oxyde de titane (152). Vitrage multiple comportant un matériau selon l’une quelconque des revendications 1 à 11, et au moins un autre substrat (30) verrier, les substrats (10, 30) étant maintenus ensemble par une structure de châssis (90), ledit vitrage réalisant une séparation entre un espace extérieur (ES) et un espace intérieur (IS), dans lequel au moins une lame de gaz intercalaire (15) est disposée entre les deux substrats. Procédé d’obtention d’un matériau comportant un substrat (10), verrier, revêtu sur une face (11) d’un empilement de couches minces (14) à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire comportant au moins une, voire une seule, couche fonctionnelle métallique (140), en particulier à base d’argent ou d’alliage métallique contenant de l'argent et deux revêtements antireflet (120, 160), lesdits revêtements antireflet comportant chacun au moins une couche diélectrique (122, 164), ladite couche fonctionnelle (140) étant disposée entre les deux revêtements antireflet (120, 160), ledit procédé comprenant les étapes suivantes, dans l’ordre : - le dépôt sur une face (11) dudit substrat (10) verrier, d’un empilement de couches minces (14) à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire comportant au moins une, voire une seule, couche fonctionnelle métallique (140), en particulier à base d’argent ou d’alliage métallique contenant de l'argent et au moins deux revêtements antireflet (120, 160), afin de former un matériau selon l’une quelconque des revendications 1 à 11, puis - le traitement dudit empilement de couches minces (14) à l’aide d’une source produisant un rayonnement et notamment un rayonnement infrarouge. Procédé selon la revendication 13, dans lequel ledit traitement est opéré dans une atmosphère ne comprenant pas d’oxygène et/ou ledit traitement est opéré avec la température de la face du substrat opposée à ladite face (11) traitée par le rayonnement qui n'excède pas 100°C pendant ledit traitement, notamment n'excède pas 50°C et même n'excède pas 30°C.