INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Selon un mode de réalisation de l’invention, l’invention concerne également une ombrière photovoltaïque comprenant le système selon l’invention.
montre une vue schématique d’un système de panneaux photovoltaïques selon l’invention, ledit système étant installé dans un champ,
représente une vue détaillée d’un poteau de support d’un système de panneaux photovoltaïques selon la ,
montre une partie du système selon l’invention pour représenter la fixation des éléments de fixation sur des câbles porteurs et câbles auxiliaires,
représente la même partie du système selon l’invention, tel que montré sur la , les panneaux photovoltaïques étant installés selon une deuxième orientation par rapport au support,
montre un premier mode de réalisation d’un élément de fixation selon l’invention, selon une vue illustrant un premier côté,
représente l’élément de fixation selon la , selon une vue illustrant un côté opposé au premier côté,
montre une deuxième mode de réalisation d’un élément de fixation selon l’invention, et
La température du traitement thermique mis en œuvre au cours de l’étape de nucléation (c) doit être strictement inférieure à 1000 °C. En effet, une température supérieure ou égale à 1000 °C entrainerait une diffusion trop importante de l’azote interstitiel 6 hors du substrat 2. Une température inférieure à 800 °C permet de limiter encore plus la diffusion de l’azote interstitiel 6 hors du substrat 2.
L’étape de stabilisation (d) comprend par exemple un traitement thermique au cours duquel on applique au substrat support 2 une température supérieure à 900 °C et strictement inférieure à 1000 °C pendant une durée supérieure à deux heures, préférentiellement une durée de quatre heures.
La température du traitement thermique mis en œuvre au cours de l’étape de stabilisation (d) doit être strictement inférieure à 1000 °C. En effet, une température supérieure ou égale à 1000 °C entrainerait la redissolution des germes de précipités d’oxygène et d’azote 9 générés lors de l’étape de nucléation (c) et la diffusion de l’azote interstitiel 6 hors du substrat 2, de sorte qu’il ne serait pas possible d’obtenir les précipités d’oxygène et d’azote 8.
La température du traitement thermique mis en œuvre au cours de l’étape de stabilisation (d) est préférentiellement supérieure à 900 °C. L’étape de stabilisation (d) permet ainsi d’obtenir des précipités stables pendant un traitement thermique jusqu’à une température de l’ordre de 1200 °C appliquée pendant plus d’une heure. Les procédés de « back-end » que doit subir ultérieurement la structure présentent généralement un budget thermique inférieur, de sorte que les précipités ne sont pas susceptibles de disparaître lors de ces traitements ultérieurs.
Etape de formation d’une couche de piégeage de charge (e)
Optionnellement, en référence à la , on forme, lors d’une étape (e), une couche de piégeage de charge 5 sur le substrat support 2, entre le substrat support 2 et la couche électriquement isolante 3. Comme mentionné précédemment, la couche de piégeage de charges est particulièrement avantageuse dans des applications radiofréquences car elle permet de piéger les charges qui s’accumulent sous la couche électriquement isolante 3. La couche de piégeage de charge peut être en silicium polycristallin.
Lors de l’étape de formation de la couche de piégeage de charge (e), le substrat support 2 ne doit pas être porté à une température supérieure à 1200 °C pendant plus d’une heure ou deux heures. En effet, au-delà de 1200 °C, les précipités d’oxygène et d’azote 8 peuvent se redissoudre et l’azote interstitiel 6 diffuser hors du matériau du substrat support 2.
L’étape de formation de la couche de piégeage de charges comprend par exemple un dépôt chimique en phase vapeur (CVD) ou un dépôt par épitaxie sur le substrat support à une température pouvant être comprise entre 600 °C et 1100°C selon la technique utilisée, en présence ou en l’absence d’un germe.
Eventuellement, la couche de piégeage de charges peut être formée avant le traitement thermique de nucléation.
En effet, les étapes de nucléation (c) et de stabilisation (d) susmentionnées sont réalisées avec des budgets thermiques suffisamment faibles pour éviter ou tout au moins limiter la recristallisation du silicium polycristallin de la couche de piégeage de charge 5.
De préférence, la couche de piégeage de charges 5 est formée après le traitement thermique de nucléation (c), voire après le traitement thermique de stabilisation (d), afin d’éviter de modifier la structure de cette couche lors de ces traitements.
Etape d’assemblage d’un substrat donneur sur le substrat support (a) et étape de transfert d’une couche semi-conductrice (b)
On réalise une étape (a) d’assemblage d’un substrat donneur d’une couche semi-conductrice à transférer 4 sur le substrat support 2, une couche électriquement isolante 3 étant à l’interface entre le substrat support 2 et la couche semi-conductrice à transférer 4. On réalise ensuite une étape (b) de transfert de la couche semi-conductrice à transférer 4 de sorte à obtenir la structure multicouche 1 représentée sur la .
Le substrat donneur de la première couche semi-conductrice 4 se présente sous la forme d’une plaque, par exemple une plaque circulaire de même dimension que le substrat support 2. Le substrat donneur comprend un matériau semi-conducteur, par exemple du silicium monocristallin.
Le transfert de couche peut par exemple être réalisé selon un procédé Smart Cut TM . Dans ce cas, l’étape (a) comprend les sous-étapes suivantes :
- fourniture d’un substrat donneur de la couche semi-conductrice monocristalline 4 représenté sur la ,
- usinage de tenons dans la périphérie externe de chaque disque annulaire comprenant le tronçon de la deuxième couronne fibreuse.
Comme indiqué ci-avant, les disques de frein sont ici fabriqués sans perte de matière et présentent de très bonnes propriétés mécanique grâce à l’orientation des plis fibreux présents dans le tronçon de la deuxième couronne et grâce à une densification homogène.
La est une vue schématique de face montrant la réalisation d’un secteur angulaire d’une couronne fibreuse selon un mode de réalisation de l’invention,
La est une vue schématique en perspective du secteur angulaire de la ,
La est une vue schématique de face d’une couronne fibreuse formée par une pluralité de secteur angulaires,
La est une vue schématique en perspective de la couronne fibreuse de la ,
La est une vue schématique de face montrant la réalisation d’une deuxième couronne fibreuse sur la couronne des figures 3 et 4,
La est une vue schématique en perspective d’une ébauche fibreuse cylindrique selon un mode de réalisation de l’invention,
La est une vue schématique en perspective d’une préforme fibreuse obtenue à partir de l’ébauche fibreuse de la ,
La est une vue schématique de face d’un disque stator de frein en matériau composite réalisé à partir de la préforme fibreuse de la ,
La est une vue schématique de face montrant la réalisation d’une couronne fibreuse selon un autre mode de réalisation de l’invention,
La est une vue schématique en perspective de la couronne de la ,
La est une vue schématique de face montrant la réalisation d’un secteur angulaire d’une deuxième couronne fibreuse sur la couronne de la ,
une surface de détection, notamment pour la détection d’un objet en champ proche comprenant : un substrat ; une pluralité de photoémetteurs séparés les uns des autres sur ledit substrat ; une pluralité de photodétecteurs, au moins une partie de ces photodétecteurs étant disposés entre lesdits photoémetteurs sur le substrat ; une première unité d’acquisition d’une cartographie d’intensité lumineuse connectée à la pluralité de photoémetteurs et à la pluralité de photodétecteurs comprenant des moyens adaptés pour exécuter les étapes suivantes : la génération d’un premier motif d’émission par la commande de l’allumage d’un premier ensemble de photoémetteurs de la surface de détection ; l’acquisition d’une première cartographie d’intensité lumineuse en fonction de la position et de l’intensité lumineuse reçue par chaque photodétecteur lors de la génération du premier motif d’émission ; une seconde unité de génération d’un nuage de point dudit objet placé devant la surface de détection comprenant des moyens pour l’exécution d’une fonction de construction permettant de générer un nuage de point final dudit objet à partir du premier motif d’émission et de la première cartographie d’intensité lumineuse acquise.
L’invention concerne aussi un procédé mis en œuvre par un ordinateur de génération d’un nuage de point d’un objet placé devant la surface de détection d’un dispositif électronique selon l’invention comprenant les étapes suivantes :
la génération d’un premier motif d’émission par la commande de l’allumage d’un premier ensemble de photoémetteurs de la surface de détection ; l’acquisition d’une première cartographie d’intensité lumineuse en fonction de la position et de l’intensité lumineuse reçue par chaque photodétecteur lors de la génération du premier motif d’émission ; l’exécution d’une fonction de construction permettant de générer un nuage de point final dudit objet à partir du premier motif d’émission et de la première cartographie d’intensité lumineuse acquise.
Un avantage d’un tel dispositif électronique et d’un tel procédé est d’autoriser la détection et la reconstruction d’un nuage de points d’un objet, sans être freiné par l’angle de détection. Il est par conséquent possible de détecter un objet en champ proche ou à courte distance d’une surface étendue ce qui n’est pas possible avec une optique ou une caméra de profondeur traditionnelle.
Dans un mode de réalisation, l’exécution de la fonction de construction comprend l’exécution des étapes suivantes :
la génération d’une première image en réalisant une simulation de rayons lumineux émis par les photoémetteurs du premier ensemble et réfléchis par un objet défini par un nuage de points candidat ; une première comparaison de la première cartographie d’intensité lumineuse acquise avec la première image générée ; une minimisation du résultat de la première comparaison en faisant varier le nuage de points candidat ; la détermination d’un nuage de points représentatif dudit objet en fonction de la minimisation.
Dans un mode de réalisation, la génération du nuage de point final comprend :
la génération d’un second motif d’émission par la commande de l’allumage d’un second ensemble de photoémetteurs différent du premier ensemble ; l’acquisition d’une seconde cartographie d’intensité lumineuse en fonction de la position et de l’intensité lumineuse reçue par chaque photodétecteur lors de la génération du second motif d’émission.
Dans un mode de réalisation, la génération du nuage de point dudit objet est réalisée à partir du premier motif d’émission et de la première cartographie d’intensité lumineuse acquise ainsi que du second motif d’émission et de la seconde cartographie d’intensité lumineuse.
Dans un mode de réalisation, la mise en œuvre de la fonction de construction comprend :
la génération d’une seconde image en réalisant une simulation de rayons lumineux émis par les photodétecteurs du second ensemble et réfléchis par un objet défini par le nuage de points candidat ; une seconde comparaison de la seconde cartographie d’intensité lumineuse acquise avec la seconde image générée.
Dans un mode de réalisation, l’étape de minimisation comprend une minimisation du résultat de la seconde comparaison et de la première comparaison en faisant varier le nuage de points candidat dudit objet.
Dans un mode de réalisation, l’étape de minimisation est mise en œuvre par une méthode de descente de gradient.
Dans un mode de réalisation, l’étape de génération d’une image comprend la génération d’un objet virtuel défini par un nuage de point candidat dans un environnement virtuel comprenant une simulation d’une surface similaire à la surface de détection.
Dans un mode de réalisation, la fonction de construction est une fonction apprenante, mise en œuvre par un réseau de neurones entraîné pour générer un nuage de point d’un objet à partir d’une ou plusieurs paires de motifs et de cartographies d’intensité lumineuse acquises.
Dans un mode de réalisation, le dispositif électronique comprend une mémoire comprenant une bibliothèque (ou une base de données) de cartographies d’intensité lumineuse acquises, chacune associée à un motif d’émission et à un nuage de point d’un objet, la fonction de construction étant capable de générer ledit nuage de point par comparaison avec les cartographies de ladite bibliothèque.
Néanmoins, l’objet de la présente invention, à savoir en premier lieu l’utilisation d’un bois d’une nature spécifique pour constituer le support de réception 20, peut être également envisagée pour former un support de réception 20 plan ou horizontal, autrement dit ne présentant aucun relief en creux ou en protubérance. Une telle réalisation du support de réception 20 plan ou horizontal est visible sur les figures 2 à 4.
Dans le cadre de l’invention, pour une meilleure ou parfaite processabilité d’une ou des couches à base de composition polymère, on veut obtenir un résultat de conductivité thermique au plus égal à 0,25 W.m -1 .K -1 ainsi qu’un résultat en dilatation thermique inférieur à 7.10 -6 K -1 .
Il faut noter par ailleurs qu’étant donné qu’il existe un lien entre la rugosité d’un matériau et sa conductivité thermique, les expérimentations ont eu lieu avec des niveaux de rugosité différentes pour chacun des matériaux testés. Tableau 1 support de reception (nature) Rugosité (en µm) Conductivité thermique (W.m -1 .K -1 ) Dilatation thermique (K -1 ) Acier 0,8 52 12,0 × 10 −6 1,6 50 3,2 46 6,3 42 Aluminium 0,8 230 23,0 × 10 −6 1,6 205 3,2 198 6,3 187 Céramique (grès) 0,8 3,5 7,0 × 10 −6 1,6 3,2 3,2 3,0 6,3 2,6 Bois (noyer) 0,8 0,23 6 × 10 -6 1,6 0,21 3,2 0,18 6,3 0,15 Bois (bouleau) 0,8 0,20 5 × 10 -6 1,6 0,19 3,2 0,17 6,3 0,16 Bois laminé (bouleau) 0,8 0,15 3.5 x 10 -6 1,6 0,14 3,2 0,12 6,3 0,11
Le critère de rugosité est considéré, éventuellement avec un léger aménagement structurel, selon la norme ISO 4287. La norme EN 12939 est considérée pour la détermination de la conductivité thermique. La norme ISO 11359 est considérée pour la dilatation thermique ou coefficient de dilatation thermique linéique.
Quatre types de polymères ont été dans le cadre du tableau 2 ci-dessus, à savoir ABS : Acrylonitrile butadiène styrène ; PC : Polycarbonate et PLA : polymère d’acide polylactique ; PET : Polyéthylène Téréphtalate.
Il faut noter aussi que certains bois de la classe C de dureté Brinell comprise entre 30 N.mm -2 et 40 N .mm -2 , tels le hêtre ou l’acacia, ont montré des résultats relativement satisfaisant sur les critères techniques susvisés mais ces bois sont trop chers et plus difficilement usinable, ce qui les rend impropre pour cet usage industriel.
Ce support de réception 20 présente une épaisseur comprise entre cinq millimètres et trente millimètres. Des fonctions secondaires de ce support de réception 20 consistent à réceptionner le cordon extrudé sans que ce dernier n’adhère au support de réception 20, ni bien entendu ne soit déformé ou dégradé par ce dernier.
Cela laisse le temps au nœud intermédiaire 11 de mettre en œuvre le mécanisme HARQ et de transmettre les données manquantes au premier équipement de communication 10 dans une étape G10.
Ce retardement de la transmission du message MSGRT à destination du deuxième équipement de communication 20 permet de ne pas engorger le chemin cid1 et de ne pas utiliser des ressources inutilement au niveau du deuxième équipement de communication 20 .
Lorsque le compte à rebours expire et que les données manquantes sensées avoir été émises par le nœud intermédiaire 11 n’ont pas été reçues, le premier équipement de communication 10 peut émettre ledit message MSGRT demandant la retransmission des données manquantes à destination du deuxième équipement de communication 20 au cours d’une étape G11.
Suite à la réception de ce message MSGRT, l’équipement de communication 20 retransmet les données manquantes au premier équipement de communication10 dans une étape G12.
Dans le cas où il est plus judicieux de demander directement une retransmission de bout-en-bout au deuxième équipement de communication 20, le premier équipement de communication 10 directement ledit message MSGRT demandant la retransmission des données manquantes à destination du deuxième équipement de communication 20 au cours d’une étape G13, sans attendre l’expiration du compte à rebours.
Suite à la réception de ce message MSGRT, l’équipement de communication 20 retransmet les données manquantes au premier équipement de communication10 dans une étape G14.
Dans un exemple, les données manquantes sont retransmises par le deuxième équipement de communication 20 dans un paquet de contrôle du niveau réseau, par exemple dans un message de type ICMP ICMP_SF propre au procédé objet de la présente demande.
Dans un autre exemple, les données manquantes sont retransmises par le deuxième équipement de communication 20 dans un message de la couche transport du protocole QUIC spécifique au procédé QUIC_SF, par exemple dans un DATAGRAM QUIC spécifique au procédé QUIC_DGRAM_SF ou encore un datagram MASQUE utilisant une capsule spécifique au procédé MASQUE_CAP_SF décrit dans le document normatif référencé https://datatracker.ietf.org/doc/html/draft-ietf-masque-h3-datagram-05#section-4.
A réception des messages de retransmission, une application de la couche réseau de l’équipement de communication 10 transmet les données manquantes retransmises à destination d’une application de la couche transport de l’équipement de communication 10 dans une notification setsockopt() de type SO_BLOCK_RTX propre au procédé objet de la présente solution, les données retransmises et les valeurs d’un identifiant de ces données repID, d’un identifiant indiquant les données reçues manquantes dans le paquet de données repPtr, d’une valeur du nombre des données repLen contenus dans le message ICMP_SF.
struct retx {
u_long repID;
uint32_t repPtr ;
uint32_t repLen;
char* subfrm;
setsockopt(sockfd, SOL_SOCKET, SO_BLOCK_RTX, (const char*)& retx, sizeof(retx))
Selon une possibilité offerte par l’invention, on peut noter ici que le support de réception peut être mobile indépendamment de la tête d’extrusion, cette dernière pouvant rester immobile tant que l’objectif de présenter la tête d’extrusion perpendiculaire à la surface du support de réception est atteint.
Selon un aspect particulièrement avantageux, le support de réception est monté mobile et commandé par les moyens de commande de sorte que l’axe z’z de la tête d’extrusion est perpendiculaire au support de réception.
Il doit être noté ici que cette caractéristique relative à la mobilité du support de réception, commandé par les moyens de commande, peut consister en une alternative aux caractéristiques susmentionnées relative à la tête d’extrusion, autrement dit le fait que cette dernière est orientable suivant les trois axes.
Avantageusement, un bras robotisé, commandé par les moyens de commande, comporte un moyen de stockage d’un volume de la composition à base polymère ainsi que des moyens de transport dudit polymère jusqu’à la tête d’extrusion.
Selon un premier mode de réalisation, la filière d’extrusion est montée à une extrémité du bras robotisé.
Selon un deuxième mode de réalisation, la filière d’extrusion est montée à distance du bras robotisé de sorte que seule ladite tête d’extrusion est déplacée pour suivre le trajet continu (cf. ).
Selon un mode de réalisation, lorsque le support de réception s’étend suivant un plan ou horizontalement, l’invention se rapporte également à un procédé de fabrication d’un objet décoratif à partir d’au moins une couche d’un cordon extrudé d’une composition à base polymère, comportant une étape de passage d’une composition à base polymère dans une filière d’extrusion depuis une entrée d’alimentation en ladite composition jusqu’à une tête d’extrusion, de laquelle sort un cordon extrudé de ladite composition, la température du cordon extrudé, à la sortie de la tête d’extrusion, étant comprise entre 180°C et 260°C, caractérisé en ce que le cordon extrudé est déposé sur un support de réception de la couche de cordon extrudé par l’effet de la gravitation et en ce que le support de réception est chauffé à une température de chauffe comprise entre 85°C et 170°C et en ce que le support de réception est en aluminium ou en un alliage à base d’aluminium, de préférence en aluminium.
La demanderesse dispose de résultats de test et essais comparatifs ayant permis de mettre en évidence l’intérêt très particulier de l’aluminium ou d’un alliage d’aluminium. Le support de réception présente alors en particulier une fonction d’adhésion mécanique appropriée pour le cordon extrudé.
On entend par l’expression « température de chauffe » relativement au support de réception le fait que ce dernier présente ce domaine de température à sa surface supérieure, soit la surface en contact (ou susceptible d’être en contact) avec le cordon extrudé.
Avantageusement, le support de réception présente en outre un revêtement destiné à autoriser une adhésion chimique du cordon extrudé. Ce revêtement consiste en un revêtement polymère, de quelques microns (µm) jusqu’à un ou plusieurs millimètres (au plus deux millimètres). De préférence, ce revêtement consiste en un polyétherimide (PEI).
De préférence, la température de chauffe est comprise entre 95°C et 125°C.
Selon une particularité avantageuse de l’invention, la tête d’extrusion est située à une distance H comprise entre deux et huit millimètres du susdit support de réception.
Avantageusement, l’objet décoratif comprend une pluralité de couches de cordons extrudé, chaque couche successive, après la première couche de cordon extrudé, formant alors le support de réception de la couche de cordon extrudé suivante.
Selon un autre aspect, l’invention concerne un procédé de fabrication d’un objet décoratif à partir d’au moins une couche d’un cordon extrudé d’une composition à base polymère, comportant une étape de passage d’une composition à base polymère dans une filière d’extrusion depuis une entrée d’alimentation en ladite composition jusqu’à une tête d’extrusion, présentant un diamètre d’ouverture D, de laquelle sort un cordon extrudé de ladite composition, la température du cordon extrudé, à la sortie de la tête d’extrusion, étant comprise entre 180°C et 260°C, le procédé selon l’invention se caractérisant en ce que la tête d’extrusion est située à une distance H comprise entre deux et huit millimètres d’un support de réception de la couche du cordon extrudé, le cordon extrudé étant déposé sur le support de réception par l’effet de la gravitation, et en ce que le diamètre d’ouverture D de la tête d’extrusion est égal à H +/- 1 millimètre.
Le signe « +/- » signifie « plus ou moins ». Ainsi, à titre d’exemple, si l’on considère une distance H égale à cinq millimètres, le diamètre D de la tête d’extrusion est compris entre quatre et six millimètres, bornes supérieure et inférieure inclues.
La demanderesse a réalisé des tests comparatifs montrant que lorsque D = +/- 1 mm (millimètre), et uniquement dans le cadre de cette équation, on obtient des propriétés mécaniques optimum pour le cordon extrudé d’une couche de l’objet décoratif. Ces tests comprennent le Module d’Young et l’élongation à la rupture (ISO 527-1) ainsi que le test du choc Charpy entaillé (ISO 179-1).
De préférence, les moyens de minuterie précités sont conçus pour interrompre ledit décompte dudit temps prédéterminé de brossage TDi lorsque ledit deuxième signal d'alerte est émis. Ainsi, le décompte dudit temps prédéterminé de brossage TDi tient avantageusement compte non seulement des périodes de temps de durée D1i pendant lesquelles la valeur de la grandeur électrique mesurée par le dispositif de mesure excède le seuil prédéterminé, pour exclure ces plages de durée D1i dudit décompte, mais également des périodes de temps de durée D2i pendant lesquelles un mouvement inapproprié est détecté, pour exclure aussi ces plages de durée D2i dudit décompte.