INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Pour assurer une délivrance de NO, même en cas de panne, de ventilation par ballon de ventilation manuelle ou autre, il est connu d’équiper le dispositif de fourniture de NO d’un système ou circuit secondaire, appelé circuit de secours, entièrement pneumatique conçu pour délivrer un débit d’O 2 réglable entre 0 et 20 L/min et un débit fixe de NO, par exemple de l’ordre de 230 mL/min de mélange NO/N 2 , qui sont mélangés l’un à l’autre dans le dispositif de fourniture de NO avant d’être injectés dans un ballon de ventilation manuelle. L’oxygène est typiquement fourni par une source d’oxygène, telle une bouteille d’oxygène sous pression, venant se raccorder au dispositif de fourniture de NO. Ainsi, on peut citer EP-A-3233171 qui enseigne l’usage d’un tel circuit de secours.
L’effet vortex correspond à un tourbillon que l’on va générer dans le flux d’air qui est aspiré vers l’intérieur de la cuve, avec une vitesse angulaire constante.
La illustre la circulation de l’air soumis à cet effet vortex.
L’air sale qui est soufflé de part et d’autre de la turbine (7) le long son pourtour circulaire est dirigé pour être évacué au travers de deux orifices (14) ménagés de part et d’autre dans sa partie arrière, et disposés de telle sorte qu’un effet vortex est généré pour provoquer l’aspiration d’un air propre au travers de la grille (9), qui peut alors être utilisé pour refroidir le moteur (11) de la turbine (7).
Liste des repères numériques 1. Châssis 1a. Partie avant 1b. Partie arrière 2. Cabine 3. Cuve 3a Partie avant de la cuve 3b Partie arrière de la cuve 4. Conduit d’aspiration 5. Couvercle 5a. Partie avant du couvercle 5b. Partie arrière du couvercle 5c. Charnière du couvercle 6. Clapet inférieur 6’. Clapet supérieur 7. Turbine 8. Coquille de protection 8e. Entrée d’air de la coquille 8ed. Entrée d’air droite 8eg. Entrée d’air gauche 8s. Sortie d’air de la coquille 9. Grilles de filtration 10. Entrée d’air de la cuve 11. Moteur 12. Evacuation d’air de la cuve 13. Carter de refoulement 14. Orifice de refoulement
SIPHON DE SOL A HAUTEUR REGLABLE A ISOLATION ACCOUSTIQUE La présente invention concerne le domaine de la plomberie, plus particulièrement des écoulements d’eaux usées, et notamment des bondes et siphons. L’invention se rapporte à une bonde siphoïde de sol combinant bonde et siphon dans un volume compact. La bonde siphoïde selon l’invention est adaptée en particulier pour l’aménagement intérieur, par exemple de bacs de douche, permettant l’évacuation d’eau.
Les bondes siphoïdes de sol sont implémentées dans des installations telles que des bacs de douche. Ces bondes impliquent un perçage dans le sol pour être connectées à une conduite d’évacuation d’eaux usées elle-même raccordée aux égouts.
Dans le cas des douches affleurantes ou à fond rapporté de type « douches à l’italienne », il est de coutume de découpler l’étanchéité à l’eau et l’isolation phonique en dédiant une couche de matériau à chaque fonction. La couche d’étanchéité est généralement déposée au-dessus du bac de douche ou de la chape formant ledit bac. La couche d’isolation phonique est alors déposée sous le bac ou la chape formant bac de douche.
Le perçage pour l’installation de la bonde et du siphon se fait alors au travers de l’empilement de couches formant le sol, empilement qui comprend en partant du haut vers le bas : - un revêtement décoratif, - une couche d’étanchéité à l’eau, - un bac de douche ou une chape formant ledit bac, - une couche d’isolation phonique, - la dalle du sol.
Les siphons de sol peuvent être réalisés en métal, en particulier en acier inoxydable. L’acier inoxydable présente plusieurs avantages : solidité et durabilité, neutralité chimique, résistance à la rouille, susceptibilité faible au dépôt de biofilms etc.
En revanche, un siphon en métal de type acier inoxydable forme un conducteur de vibrations sonores à fort pouvoir de transmission. En s’étendant à travers la couche d’isolation phonique, ledit siphon en métal conduit les vibrations à travers cette couche d’isolation jusqu’à la conduite d’évacuation d’eaux usées.
La conduite transmet à son tour les vibrations à la dalle de sol et donc le son occasionné par l’eau et son écoulement sera audible à travers ladite dalle. En transmettant ainsi les vibrations, le siphon accroit les nuisances sonores pour le voisinage.
Dans les douches de type affleurantes dites « à l’italienne », les chapes formant bac de douche sont dimensionnées pour affleurer avec le sol hors de la douche, et sont recouvertes, sur leur surface supérieure d’un carrelage ou revêtement, qui recouvre alors aussi la couche d’étanchéité.
Ces couches sont de hauteur variable et non standardisée. Aussi, il est connu de réaliser les siphons avec une hauteur totale réglable, par exemple au moyen de parties emboîtées coulissant les unes dans les autres, afin de permettre leur adaptation à la chape ou au fond de sorte qu’ils affleurent eux-mêmes avec le bac de douche.
Les parties emboîtées des siphons sont en général ajustées, et entrent ainsi en prise par friction. Aussi, les parties emboîtées forment des ponts pour les vibrations sonores.
Le Centre Scientifique et Technique du Bâtiment (CSTB) préconise dans son « guide pour la mise en œuvre d’une douche de plain-pied dans les salles d’eau à usage individuel en travaux neufs » de faire une découpe en étoile dans la couche d’isolation phonique qui se présente sous forme de film souple absorbant les vibrations.
Il est en alternative préconisé dans ce guide qu’une épaisseur de béton de l’ordre de 7 cm sous le siphon et la conduite d’évacuation soit implémentée, afin d’atténuer les désagréments acoustiques.
Selon une autre variante encore, l’un des clips 42 est percé d’un orifice, plus précisément la patte élastique 44 de l’un des clips 42 est percée d’un orifice, tandis que le verrou 50 ou 150 comprend une saillie, qui est reçue dans l’orifice de cette patte élastique 44 lorsque le verrou 50 est en position de verrouillage, de manière à former une goupille de retenue du clip 42 percé et à maintenir le couvercle 32 en position fermée. Les clips 42 sont alors directement maintenus dans leur configuration relâchée et sans degré de liberté pour passer dans la configuration déformée, par la goupille lorsque le verrou 50 ou 150 est en position de verrouillage.
Plus généralement, quel que soit l’agencement du verrou 50 ou 150, que ce verrou bloque directement l’élément d’accrochage 68 ou au moins un clip du type des clips 42, le verrou 50 ou 150 en position de verrouillage empêche le déplacement du couvercle 32 de sa position fermée vers sa position ouverte, tandis que le verrou 50 ou 150 en position de déverrouillage autorise – autrement dit n’empêche pas – le déplacement du couvercle 32 de la position fermée vers la position ouverte.
Dans le premier mode de réalisation représenté, le mouvement de déverrouillage F50 est un mouvement de translation et l’organe de rappel 54 est un ressort, une telle configuration étant relativement simple à assembler. En particulier, l’axe de verrouillage A52 est parallèle à l’axe de charnière A34.
Selon une variante non représentée, l’axe de verrouillage A52 forme un angle, en particulier un angle droit, avec l’axe de charnière A34 tout en restant parallèle au plan moyen P30, l’agencement de la portion de verrouillage 38 étant modifié en conséquence.
Dispositif de signalisation pour une chaîne de tri, chaîne de tri et procédé associés La présente invention concerne les chaînes de tri de marchandises, et se rapporte plus particulièrement à un dispositif de signalisation pour une chaîne de tri de marchandises, à un transpalette de la chaîne de tri comportant un tel dispositif, et un procédé mettant en œuvre un tel dispositif.
Généralement une chaîne de tri de marchandises comprend un rail de guidage en boucle fermée permettant de véhiculer des transpalettes de façon autonome, une zone de chargement et des zones de déchargement différentes réparties sur le rail de guidage.
Chaque zone de déchargement est associée à une destination différente des marchandises triées.
Lorsque des marchandises sont réceptionnées dans la zone de chargement, un opérateur transfère les marchandises sur un transpalette vide.
Chaque transpalette est équipé d’un disque d’identification manuel comportant plusieurs couleurs différentes, chaque couleur étant associée à une zone de déchargement.
Lors de l’insertion du transpalette dans le rail de guidage, l’opérateur de la zone de chargement manipule un cache de sorte qu’une seule couleur du disque d’identification soit visible des opérateurs.
La couleur visible est associée à la zone de déchargement liée à la destination des marchandises chargées sur le transpalette.
Le transpalette véhiculé par le rail de guidage est décroché par un opérateur situé dans la zone de déchargement associée à la couleur visible du disque d’identification.
Le disque d’identification est fixé à un timon du transpalette et est dimensionné de sorte que l’opérateur de la zone de déchargement identifie la couleur du disque d’identification pour décrocher seulement les transpalettes associés à cette zone de déchargement.
Cependant, les disques d’identification sont volumineux et lourds de sorte qu’ils complexifient la manutention des transpalettes.
De plus, l’opérateur de la zone de chargement est susceptible de commettre une erreur lors de la manipulation du cache en affichant une couleur qui n’est pas associée à la zone de déchargement recherchée de sorte que les marchandises sont déchargées et stockées dans une zone de déchargement erronée.
Puisque le substrat et le revêtement de masquage temporaire sont simultanément thermoformés (ou thermodéformés) au cours de l’étape D de thermoformage, il convient que le revêtement de masquage temporaire soit donc lui-même avantageusement thermoformable, ou à tout le moins thermodéformable, de manière à pourvoir subir une élongation et à suivre ainsi la déformation du substrat, tout en adhérant à la surface de ce dernier, au cours de l’étape D de thermoformage. Le revêtement de masquage temporaire est ainsi avantageusement conçu, en particulier en termes de capacité d’élongation / de déformation sans rupture, pour être apte à subir les conditions de réalisation de l’étape D de thermoformage du substrat, sans dégradation significative de sa fonction de masquage de la surface de ce dernier.
Afin de s’assurer d’une maîtrise parfaite de la forme dudit motif électro-conducteur 5 que l’on cherche à obtenir à la surface du substrat thermoformé, il est avantageux de prévoir, avant l’étape C précitée, une étape E de définition d’un motif de masquage bidimensionnel, suivant lequel le revêtement de masquage temporaire est ensuite formé à la surface du substrat au cours de ladite étape C de formation du revêtement de masquage temporaire, à partir d’une modélisation d’une déformation du substrat et du revêtement de masquage temporaire, au cours de l’étape D de thermoformage et d’une représentation (ou modélisation) dudit au moins un motif électro-conducteur 5 à obtenir. En d’autres termes, on procède à une définition d’un motif de masquage bidimensionnel par « anamorphose inverse », de sorte que ce motif de masquage bidimensionnel, suivant lequel le revêtement de masquage temporaire est formé à la surface du substrat lors de l’étape C, permet d’obtenir le ou les motif(s) électro-conducteur(s) 5 recherché(s) par anticipation et compensation des effets de la déformation engendrée par l’étape D de thermoformage. L’étape de définition d’un tel motif de masquage bidimensionnel peut être réalisée à l’aide de logiciels informatiques disponibles dans le commerce, tels que par exemple le logiciel T-SIM ® de la société SIMCON (anciennement CADFLOW), le logiciel PAM-FORM TM de la société ESI GROUP, la solution logicielle ANAMAP TM de la société KALLISTO ou encore le logiciel Thermo 3D TM de la société QUADRAXIS.
Etape F d’augmentation de l’énergie de la surface diélectrique
Le procédé comprend de préférence une étape F d’augmentation de l'énergie de surface de la surface diélectrique 4 du substrat 3 pour porter ladite énergie de surface à une valeur supérieure ou égale à 50 ou à 55 dynes, de préférence supérieure ou égale à 60 ou 65 dynes, et encore plus préférentiellement supérieure ou égale à 70 dynes. Cela permet de s’assurer d’un mouillage suffisant du substrat en vue de sa métallisation, et ainsi d’une adhérence suffisante du dépôt métallique obtenu après métallisation et destiné à former le ou les motif(s) électro-conducteurs 5. L’étape F peut intervenir avant ou après l'étape C de formation du revêtement de masquage temporaire.
L’étape F de traitement d’augmentation de l’énergie de surface du substrat peut être réalisée : – par traitement physique, de préférence choisi parmi les traitements physiques suivants : un flammage, un traitement plasma, un traitement corona, et leurs combinaisons, et / ou – par traitement chimique, de préférence choisi parmi les traitements chimiques suivants : une application d'une solution à base de silane, une dépassivation de la surface à l'aide d'une ou plusieurs solutions acides, un polissage à base d'oxyde de terres rares, une fluoration, une attaque chimique acide ou alcaline pour créer une microrugosité et leurs combinaisons.
Plus préférentiellement, le traitement physique est un traitement par flammage et / ou par plasma, dans le cas notamment où le substrat, souple ou rigide, est en un matériau polymère thermoformable ou en un matériau thermoformable composite à matrice polymère. Le flammage consiste, par exemple, en un passage du substrat sous une flamme dont la température est par exemple comprise entre 1 200 °C à 1 700 °C. La durée du flammage est généralement de 4 à 50 secondes. Le traitement (par) plasma correspond, par exemple, au passage du substrat à métalliser dans une torche à plasma. Par exemple, le substrat peut être ainsi soumis à un plasma dit « air » : 80 % d’azote / 20 % d’oxygène à 0,5 mbar pendant 2 min. Plus préférentiellement, le traitement chimique est un traitement par fluoration, dans le cas où le substrat, souple ou rigide, est en un matériau polymère thermoformable ou en un matériau thermoformable composite à matrice polymère. La fluoration correspond par exemple à la mise en contact, dans une enceinte sous pression réduite, du substrat à métalliser et d'une solution gazeuse à base de gaz inerte (argon) contenant un additif au fluor.
Etape G de mouillage de la surface diélectrique Le procédé peut comprendre, postérieurement à l’étape F de traitement d’augmentation de l’énergie de surface, une étape G de mouillage de la surface diélectrique 4, qui consiste typiquement à revêtir d'un film liquide la surface diélectrique 4, par exemple par pulvérisation ou par vaporisation / condensation d’un liquide de mouillage, pour favoriser l'étalement ultérieur de la ou des solution(s) de métallisation (« solution(s) oxydo-réductrice(s) »). Le choix du liquide de mouillage s'effectue de préférence dans le groupe suivant : l'eau déionisée ou non, éventuellement additionnée avec un ou plusieurs tensioactifs anioniques, cationiques ou neutres, une solution alcoolique comprenant un ou plusieurs alcools (par exemple l'isopropanol, l'éthanol et leur mélange), et leurs mélanges. Par exemple, on peut choisir comme liquide de mouillage, de l'eau déionisée additionnée avec un tensioactif anionique et de l'éthanol. La durée de mouillage dépend de la surface diélectrique 4 considérée et du débit de pulvérisation ou de vaporisation / condensation du liquide mouillage.
Etape H d’activation / sensibilisation de la surface diélectrique
Dans le cadre d’une métallisation par déposition non-électrolytique par projection d’une ou plusieurs solutions de métallisation sous forme d'aérosols, une étape H d’activation (ou à tout le moins de « sensibilisation ») préalable peut être nécessaire pour le dépôt de certains métaux. Elle vise en particulier à accélérer la réaction d'oxydo-réduction de métallisation. Au cours de l’étape H, la surface du substrat est mise en contact avec au moins une espèce chimique de sensibilisation, qui s'adsorbe sur la surface du substrat 3 et qui viendra ensuite accélérer ainsi la réaction de métallisation.
De préférence, l’étape H d’activation est réalisée après l’étape C de formation du revêtement de masquage temporaire, de sorte que la (ou les) espèce(s) chimique(s) de sensibilisation s'adsorbent donc à la fois sur le revêtement de masquage temporaire et sur la ou les zone(s) non masquées, c’est-à-dire non couvertes, par ce dernier.
Par exemple, une première solution de sensibilisation à base de chlorure stanneux (SnCl 2 ) ou de SnSO 4 /H 2 SO 4 /quinol/alcool, est appliquée par pulvérisation ou immersion. On dépose ensuite de la même façon une solution à base de de palladium ou d'argent apte à réagir avec les ions Sn 2+ pour former des centres de nucléation à la surface du substrat, ou bien encore d'une solution colloïdale PdSn formée ex situ . Pour plus de précision, on pourra se référer par exemple à « Metal Finishing Guidebook and Directory Issue », 1996 Metal Finishing publication, pages 354, 356 et 357. H. Narcus, à « Metallizing of Plastics », Reinhold Publishing Corporation, 1960, Chapitre 2, page 21. F. Lowenheim, ou encore à « Modern electroplating », John Wiley & Sons publication, 1974 Chapitre 28, page 636. Avantageusement, la sensibilisation de la surface du substrat est mise en œuvre au moyen d'une solution de sensibilisation à base de chlorure stanneux, par exemple conformément au mode de mise en œuvre décrit dans le document FR- 2 763 962 B1. Dans ce cas, une étape de rinçage à l'aide d'un liquide de rinçage est réalisée juste après la sensibilisation, sans étape intermédiaire. Selon une variante, l'activation de la surface du substrat 3 est mise en œuvre au moyen d'une solution de sensibilisation, notamment de chlorure de palladium, par exemple conformément au mode de mise en œuvre décrit dans le document FR- 2 763 962 B1. Dans ce cas, une étape de rinçage à l'aide d'un liquide de rinçage tel que décrit dans les exemples ci-après est réalisée juste après l'étape H d'activation, sans étape intermédiaire.
Etape I de métallisation par déposition chimique non-électrolytique
Le procédé comprend ensuite une étape I de métallisation, pour la formation d’un dépôt métallique destiné à former le ou les motif(s) électro-conducteur(s) 5 en métal, qui est réalisée par déposition chimique non-électrolytique à partir : – soit d’une seule solution de métallisation contenant ledit au moins un métal sous forme de cation métallique et ledit au moins un réducteur apte à transformer le cation métallique en métal, – soit de deux solutions distinctes : la première solution (« solution oxydante ») contenant au moins un métal sous forme de cation métallique (oxydant(s)) et la seconde solution (« solution réductrice ») contenant un ou plusieurs réducteur(s), – soit encore d’une pluralité de solutions distinctes, chacune pouvant contenir soit au moins un métal sous forme de cation métallique (oxydant(s)), soit un ou plusieurs réducteur(s), à la condition qu’au moins l’une des solutions (« solution oxydante ») contient au moins un métal sous forme de cation métallique et qu’au moins une autre des solutions (« solution réductrice ») contient un ou plusieurs réducteur(s).
Pendant l’étape I de métallisation, la ou les solution(s) de métallisation est / sont projetée(s) sous forme d'un ou plusieurs aérosol(s) sur le substrat masqué, et en particulier au moins sur la ou les zone(s) non masquée(s) de ce dernier. Par « aérosol », on entend ici un ensemble de fines particules de la ou les solutions de métallisation en suspension dans un milieu gazeux (par exemple, de l’air). Il peut ainsi avantageusement s’agir d'un brouillard de gouttelettes de taille inférieure à 100 µm, de préférence inférieure à 60 µm, et plus préférentiellement encore de 0,1 µm à 50 µm, obtenu par nébulisation et / ou par atomisation de la ou les solutions de métallisation.
- au moins un mouvement de l’actionneur entraîne un réglage de la hauteur de course de l’actionneur et/ou un actionnement d’au moins une pompe pour permettre la distribution de la dose en produit fluide,
- un effort de l’actionnement d’au moins une pompe est non proportionnel à la hauteur de course de l’actionneur,
- le mouvement de réglage et le mouvement d’actionnement sont deux mouvements distincts,
- la dose de produit fluide est distribuée par un mouvement de translation de l’actionneur selon l’axe longitudinal de la tête de distribution,
- la hauteur de course est réglée par un mouvement de rotation de l’actionneur,
- la hauteur de course est réglée par un mouvement de translation de l’actionneur,
- la dose de produit fluide est définie par rotation de l’actionneur par rapport à la pièce intermédiaire et/ou au support de pompe,
- la dose de produit fluide est définie par translation de l’actionneur par rapport à la pièce intermédiaire et/ou au support de pompe,
- le moyen de réglage de la hauteur de course de l’actionneur est une vis sans fin portée par l’actionneur,
- le système de transmission comprend une double roue dentée et au moins une crémaillère,
- la au moins une crémaillère est portée par un support de pompe fixe de la tête de distribution,
- la double roue dentée est portée par une pièce intermédiaire mobile en translation axiale par rapport à l’actionneur et le support de pompe,
- la vis sans fin et la au moins une crémaillère sont reliées par la double roue dentée,
- le système de transmission comprend deux crémaillères et deux doubles roues dentées,
- la au moins une double roue dentée comprend deux roues de diamètres différents,
- la double roue présente une roue de grand diamètre reliée à la vis sans fin et une roue de petit diamètre reliée à la crémaillère,
Avantageusement, les filaments thermiquement conducteurs sont des filaments métalliques.
Selon un mode de réalisation particulier, les filaments sont orientés à 45° par rapport aux bords de la feuille ondulée qui les porte.
Selon un mode de réalisation particulier, les filaments sont orientés à 90° par rapport aux bords de la feuille ondulée qui les porte.
- une étape de fourniture au cours de laquelle une feuille est fournie, où la feuille porte les filaments,