INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Ces deux premières portions de fixation peuvent être vues comme une même portion de fixation discontinue.
Avantageusement, la première portion de fixation 31 peut comprendre une première portion 311 de réception d’un premier palier de guidage 5 du mobile d’échappement 94. Le premier palier de guidage est par exemple une pierre chassée dans un trou prévu dans la première portion 311.
La première portion 32 de réception peut avoir une forme annulaire entourant le trou prévu pour recevoir le premier palier 2.
De préférence, la première portion 32 de réception du premier palier de guidage 2 présente une épaisseur de l’ordre de 0.2 mm ou inférieure à 0.23 mm ou inférieure à 0.14 mm, cette épaisseur étant mesurée dans la direction de l’axe A, soit généralement selon la direction de l’épaisseur du mouvement.
L’au moins un premier bras est de préférence configuré et/ou agencé : - de sorte à définir une rigidité de déplacement de la première portion de réception de l’ordre de 8 N/mm ou inférieure à 10 N/mm ou inférieure à 20 N/mm ou inférieure à 50 N/mm ou inférieure à 100 N/mm selon la direction de l’axe A du palier de guidage, et/ou - de sorte que la première portion de réception peut se déplacer de plus de 0.05 mm ou d’environ 0.1 mm selon la direction de l’axe A. Ce déplacement peut être limité par un élément de boîte de montre, comme une glace ou un fond, ou par un élément du mouvement, comme la platine.
De préférence, le ou les premiers bras s’étendent sensiblement radialement à la direction de l’axe A du palier de guidage.
Pour atteindre de telles caractéristiques de flexibilité de la première ébauche, le ou les premiers bras comprennent une géométrie ajourée. Pour réaliser cette géométrie ajourée, chaque bras peut comprendre deux branches parallèles 331 s’étendant depuis la ou les premières portions 31 de fixation. Néanmoins, ces branches se rapprochent l’une de l’autre à proximité de la première portion 32 de réception du palier de guidage 2. Les branches sont de nouveau parallèles au lieu où elles rejoignent la première portion 32 de réception du palier de guidage 2. Elles sont cependant séparées par une fente étroite au niveau de cette jonction.
- la hauteur des branches (mesurée parallèlement à la direction A) est par exemple comprise entre 0.14 mm et 0.23 mm, - la largeur des branches (mesurée orthoradialement à la direction A) est par exemple comprise entre 0.24 mm et 0.25 mm, - la distance entre les branches (mesurée orthoradialement à la direction A) est par exemple comprise entre 1.4 mm et 1.7 mm, - la largeur de la fente est par exemple de l’ordre de 0.1 mm, par exemple 0.12 mm.
De préférence, comme dans le mode de réalisation représenté sur les figures 1 et 2, l’élément 1 de guidage comprend : - un deuxième palier de guidage 6 dépourvu d’amortisseur, et - une deuxième ébauche 4, notamment un deuxième pont de balancier ou coq comme représenté sur les figures.
Le deuxième palier comprend de préférence une pierre de pivot 61 et une pierre de contre-pivot 62. Ce deuxième palier est monté, en particulier chassé, dans un alésage prévu dans la deuxième ébauche 4. Le deuxième palier, en particulier les pierres évoquées précédemment, est avantageusement monté directement dans la deuxième ébauche. Aucun amortisseur n’est prévu entre le deuxième palier (ou les pierres qui le composent) et la deuxième ébauche.
La deuxième ébauche 4 comprend : - au moins une deuxième portion 41 de fixation à la première ébauche 3, - une deuxième portion 42 de réception du deuxième palier de guidage 6, et - au moins un deuxième bras 43 flexible reliant mécaniquement la deuxième portion 41 de fixation à la deuxième portion 42 de réception.
L’au moins une deuxième portion de fixation présente avantageusement des moyens de fixation pour sa fixation à la première ébauche 3. Ces moyens peuvent comprendre des pieds-vis destinés à recevoir les vis précédemment évoquées. Alternativement, l’assemblage peut être assuré par des goupilles pour le positionnement et par des vis pour la fixation.
De préférence, comme dans le mode de réalisation représenté sur les figures, la deuxième portion de fixation a de préférence une forme de jante. Alternativement, comme sur la première ébauche représentée, il peut exister plusieurs deuxièmes portions de fixation. Ces différentes deuxièmes portions de fixation peuvent être vues comme une même portion de fixation discontinue.
Avantageusement, la deuxième portion de fixation 41 peut comprendre une deuxième portion 411 de réception d’un deuxième palier de guidage 7 du mobile d’échappement 94. Le deuxième palier de guidage est par exemple une pierre chassée dans un trou prévu dans la deuxième portion 411.
Sur la base des renseignements de la , on choisit qt 1 ( e 1 ) = 0 dans la couche intermédiaire 106 à l’interface 112 avec la couche diélectrique 110. Ensuite qt 1 croît en fonction de l’épaisseur e 1 jusqu’à arriver à une quantité qt 1 ( e 1 =0) ≥ 0.4, en particulier qt 1 ( e 1 =0) = 0.7 à l’interface avec le substrat support. Ainsi, l’impédance acoustique de la couche intermédiaire 106 à l’interface 108 avec le substrat support 102 ( e 1 = 0) est de l’ordre de la première impédance acoustique du substrat support 102.
La couche intermédiaire 106 permet ainsi de réduire la différence d’impédance acoustique entre le substrat support 102 et la couche diélectrique d’oxyde de silicium 110 par son impédance acoustique qui est comprise entre l’impédance du substrat support 102 et celle de la couche diélectrique 110.
De plus, l’interface 112 entre la couche diélectrique 110 et la couche intermédiaire 106 est une interface sans azote (N) et qui comporte des liaisons oxyde de silicium – oxyde de silicium, qui sont connues pour être des liaisons stables qui améliore l’adhésion.
De plus, étant donné que la couche intermédiaire 106 est une couche à base de SiO x N y , la présence d’azote dans la couche intermédiaire 106 permet de réduire la diffusion de Lithium ou d’Hydrogène dans le substrat support 102.
Ainsi, le substrat piézoélectrique sur isolant (POI) 100 selon l’invention présente une stabilité améliorée ainsi que des caractéristiques améliorées pour son usage dans des dispositifs à ondes de surfaces (SAWs) tels que des capteurs, filtres ou autres. La réduction de la différence d’impédance acoustique dans le substrat piézoélectrique sur isolant (POI) 100 résulte en une réduction de modes indésirables dans les plages de fréquences voulues de fonctionnement de dispositifs à ondes de surfaces (SAWs).
La montre une variante du premier mode de réalisation de l’invention. La seule différence entre le substrat POI 100 et le substrat POI 200 de la variante est la présence d’une couche de piégeage 116 entre le substrat support 102 et la couche intermédiaire 106. Toutes les autres caractéristiques du substrat POI sont les mêmes que celles décrites à la . Toutes les caractéristiques communes avec le premier mode de réalisation utilisant le même numéro de référence que ci-dessus ne seront pas décrites à nouveau, mais il est fait référence à leur description détaillée ci-dessus.
La couche de piégeage 116 est en contact avec le substrat support 102 à l’interface 118 et est aussi en contact avec la couche intermédiaire 106 à l’interface 120. La couche de piégeage 116 est en sandwich entre le substrat support 102 et la couche intermédiaire 106.
La couche de piégeage 116 est une couche à base de silicium poly-cristallin ou amorphe ou poreux, ayant une épaisseur comprise entre 200nm et 5µm, en particulier entre 500nm et 2µm. La couche de piégeage 116 a une troisième impédance acoustique d’une valeur d’environ 21*10 6 Pa·s/m, cette valeur étant proche de la moyenne des valeurs de l’acoustique impédance pour les trois orientations du silicium possibles citées auparavant.
Dans cette variante, la valeur de la quantité qt 1 de la composition variable de la couche d’oxynitrure de silicium SiO x N y 106 varie de telle manière que l’impédance acoustique de la couche intermédiaire 106 à l’interface 120 avec la couche de piégeage 116 est de l’ordre de la troisième impédance acoustique de la couche de piégeage 116.
Le substrat piézoélectrique sur isolant (POI) 200 présente les mêmes avantages que le substrat piézoélectrique sur isolant (POI) 100 décrit à la .
représente schématiquement un procédé de fabrication d’un substrat piézoélectrique sur isolant (POI) selon un deuxième mode de réalisation de l’invention pour obtenir un substrat POI tel que décrit ci-dessus aux Figures 1 et 4 selon le premier mode de réalisation de l’invention. Des éléments avec les mêmes numéros de références ainsi que leurs propriétés ne seront pas décrits à nouveau mais référence est faite à leur description ci-dessus.
Le procédé de fabrication d’un substrat piézoélectrique sur isolant (POI) 200 commence par l’étape I) de fournir un substrat support 102, notamment un substrat à base de silicium, en particulier un substrat de silicium cristallin ou poly-cristallin.
Selon l’invention, l’étape II) consiste en la formation de la couche de piégeage 116 sur la surface libre 122 du substrat support 102. La formation de la couche de piégeage 116 peut être réalisée par une technique de croissance thermique ou assisté par plasma telle que PECVD (acronyme de l’expression anglaise « Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition », en français « technique de dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma ») ou PVD (acronyme de l’expression anglaise « Physical Vapor Deposition », en français « technique de dépôt physique en phase vapeur »).
La couche de piégeage 116 formée sur le substrat support 102 est une couche à base de silicium, en particulier du silicium poly-cristallin. L’épaisseur de la couche de piégeage 116 est comprise entre 200nm et 5µm, en particulier entre 500nm et 2µm. La couche de piégeage 116 a une quatrième impédance acoustique, qui peut être la même que celle du substrat support 102 ou bien une autre.
Lors de l’étape III) la couche intermédiaire 106 est formée sur la surface libre 124 de la couche de piégeage 116.
La formation de la couche intermédiaire 106 peut être réalisée par une technique de croissance thermique ou assisté par plasma telle que LPCVD (acronyme de l’expression anglaise « Low Pressure Chemical Vapor Deposition », en français « dépôt chimique en phase vapeur à basse pression ») ou PECVD (en français « technique de dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma »).
En référence aux figures 2 et 3, l’échangeur de chaleur 50 est relié, d’une part, au flux d’air basse pression A1, A1’ et, d’autre part, au flux d’air haute pression A2. L’échangeur de chaleur 50 permet avantageusement de refroidir le flux d’air haute pression A2 à partir du flux d’air basse pression A1, A1’ tout en conservant une pression élevée pour permettre une injection optimale dans le système de conditionnement SC comme cela sera présenté par la suite. L’échangeur de chaleur 50 peut mettre en œuvre différentes technologies de refroidissement, à ailettes, à tubes, etc.
Le turbocompresseur 60 comprend un compresseur 61 et une turbine 62, reliés l’un à l’autre via un arbre 63 afin qu’une rotation du compresseur 61 entraine une rotation de la turbine 62 et réciproquement.
Comme illustré aux figures 2 et 3, le flux d’air haute pression A2f refroidi par l’échangeur de chaleur 50 est ensuite comprimé par le compresseur 61 pour augmenter encore sa pression avant de permettre l’injection d’un flux d’air d’alimentation A3 dans le système de conditionnement SC. Le refroidissement du flux d’air haute pression A2 permet d’utiliser un compresseur 61 ayant une structure traditionnelle afin de fournir en sortie un flux d’air ayant une pression et une température qui soient adaptées au système de conditionnement SC. Il n’est avantageusement pas nécessaire de prévoir des moyens de renforcement thermique du compresseur 61.
La turbine 62 est configurée pour entraîner l’arbre 63 et donc le compresseur 61 en rotation par circulation du flux d’air basse pression A1. Un turbocompresseur 60 est par ailleurs peu sujet aux pannes et est fiable. Ainsi, il n’y a pas de perte d’énergie. Le flux d’air haute pression A3 et à haute température alimentant le système de conditionnement SC permet l’injection d’air avec le carburant Q ayant une haute pression dans ledit système de conditionnement SC.
En référence à la , il est représenté une première forme de réalisation du système de suralimentation en air 1, pour un aéronef comprenant un turbomoteur T à double flux. Un turbomoteur de ce type comprend une veine dite primaire, comprenant la zone de compression d’air CA et la chambre de combustion CC et une veine secondaire s’étendant autour de la veine primaire. Ainsi, de l’air circule de l’amont vers l’aval d’une part dans la veine primaire afin d’être comprimé et éjecté après la chambre de combustion CC, et d’autre part dans la veine secondaire pour participer à la propulsion. L’air circulant dans chacune des veines primaire et secondaire se rejoint à la sortie de la chambre de combustion CC.
Selon la première forme de réalisation, le flux d’air basse pression A1 prélevé dans la zone de compression CA est acheminé à la turbine 62 pour la mettre en rotation et ainsi entrainer le compresseur 61. Le flux d’air basse pression A1’, qui est évacué par la turbine 62 et qui possède une pression et une température plus faibles, circule ensuite dans l’échangeur de chaleur 50 avec le flux d’air haute pression A2 comme illustré à la .
En sortie de l’échangeur 50, le flux d’air basse pression A1’’ ayant permis de refroidir le flux d’air haute pression A2 est ensuite évacué vers la veine secondaire du turbomoteur T. De manière préférée, afin de permettre une évacuation optimale, la pression de flux d’air basse pression A1’’ est plus élevée que la pression dans le flux d’air circulant d’amont en aval dans la veine secondaire. Le flux d’air basse pression A1 est ainsi utilisé comme fluide caloporteur et peut être réutilisé pour la propulsion.
Comme présenté précédemment, le flux d’air haute pression A2f refroidi par l’échangeur de chaleur 50 est ensuite comprimé par le compresseur 61, entrainé par la turbine 62, pour augmenter encore sa pression avant de permettre l’injection du flux d’air d’alimentation A3 dans le système de conditionnement SC.
Autrement dit, un premier circuit d’air basse pression (représenté en tirets fins sur la ) relie la première prise E1 à la turbine 62, la turbine 62 à l’échangeur de chaleur 50 et enfin l’échangeur de chaleur 50 à la veine secondaire. Un deuxième circuit d’air haute pression (représenté en tirets épais sur la ) relie la deuxième prise E2 à l’échangeur de chaleur 50, l’échangeur de chaleur 50 au compresseur 61 et enfin le compresseur 61 au système de conditionnement SC.
Le flux d’air basse pression A1 permet ici d’entraîner la turbine 62 et le compresseur 61, avant d’être évacué dans la veine secondaire. De plus, le flux d’air haute pression A2 permet ici d’alimenter le système de conditionnement SC, en circulant dans le compresseur 61, mis en rotation grâce au flux d’air basse pression A1.
En référence à la , il est représenté une deuxième forme de réalisation du système de suralimentation en air 1.
Selon la deuxième forme de réalisation, le flux d’air basse pression A1 circule successivement depuis la première prise d’air E1 dans l’échangeur de chaleur 50 puis la turbine 62. Ainsi, dans cette forme de réalisation, le flux d’air basse pression A1 participe au refroidissement du flux d’air haute pression A2 puis entraine le turbocompresseur 60.
Autrement dit, selon le deuxième mode de réalisation, un premier circuit d’air basse pression (représenté en tirets fins sur la ) relie la première prise E1 à l’échangeur de chaleur 50, et l’échangeur de chaleur 50 à la turbine 62. De plus, un deuxième circuit d’air haute pression (représenté en tirets épais sur la ), relie la première prise d’air E1 au système de conditionnement SC de la même manière que dans la première forme de réalisation.
Le flux d’air basse pression A1 circule ici directement dans l’échangeur de chaleur 50, afin d’entraîner la turbine 62 et le compresseur 61, avant d’être évacué vers l’extérieur de l’aéronef. De plus, le flux d’air haute pression A2 permet ici d’alimenter le système de conditionnement SC, en circulant dans le compresseur 61, mis en rotation grâce au flux d’air basse pression A1.
Il va maintenant être décrit le procédé d’utilisation d’un système de suralimentation en air 1 tel que présenté précédemment.
Le procédé comprenant des étapes consistant à : prélever un flux d’air basse pression A1 issu du turbomoteur T, prélever un flux d’air haute pression A2 issu du turbomoteur T, refroidir le flux d’air haute pression A2 à partir du flux d’air basse pression A1, dans l’échangeur de chaleur 50, comprimer le flux d’air haute pression A2f, issu de l’échangeur de chaleur 50, en un flux d’air d’alimentation A3 destiné au système de conditionnement SC.
Selon un mode de réalisation, le procédé est mis en oeuvre par le système de communication d'informations de traitement à un utilisateur précédemment décrit.
Selon un mode de réalisation, l'étape d'émission de notification consiste à émettre une notification utilisateur à un utilisateur lorsqu'il est déterminé, lors de l'étape de détermination du déclenchement, qu'au moins le BT et le TT sont déclenchés ou lorsqu'au moins un contournement perturbatoire est déclenché.
Selon un mode de réalisation, l'étape d'émission de notification consiste à émettre une notification utilisateur à un utilisateur lorsqu'il est déterminé, lors de l'étape de détermination de déclenchement, qu'au moins le BT, l'IT et le TT sont déclenchés ou lorsqu'au moins un contournement perturbatoire est déclenché.
Selon un mode de réalisation, l'IT dépend d'une glycémie minimale à corriger et d'un facteur de compensation.
Selon un mode de réalisation, le BT diminue en fonction de la quantité de temps écoulé depuis qu'une notification utilisateur précédente a été émise à un utilisateur ou qu'un bolus précédent a été administré à l'utilisateur.
Selon un mode de réalisation, le BT a une valeur minimale après qu'une certaine durée de temps s'est écoulée depuis qu'une notification utilisateur précédente a été émise à un utilisateur ou qu'un bolus précédent a été administré à l'utilisateur.
Selon un mode de réalisation, un contournement perturbatoire est un contournement d'urgence, ledit contournement d'urgence étant déclenché lorsqu'un risque pour l'utilisateur est identifié à partir des données.
La présente invention concerne également un produit programme d'ordinateur comprenant des instructions qui, lorsque le programme est exécuté par un ordinateur, conduisent l'ordinateur à exécuter les étapes du procédé décrit ci-dessus.
Selon la présente invention, le terme « insuline » pourrait être compris comme étant tout type de médicament.
représente une vue schématique d'un système informatisé de communication d’informations de traitement à un utilisateur selon la présente invention ;
représente les étapes d'un procédé de communication d'informations de traitement à un utilisateur selon la présente invention ; et
représente un système de dosage de médicament selon la présente invention.
DESCRIPTION DÉTAILLÉE La montre un exemple d'un système de dosage de médicament 1. Le système de dosage de médicament 1 sera décrit en relation avec une application pour le diabète. Cependant, d'autres applications de l'invention sont possibles. Le système de dosage de médicament 1 comprend une unité de détection 2 adaptée pour mesurer un paramètre de l'utilisateur tel que des données temporelles de métabolites utilisateur, dans le présent exemple, l'unité de détection 2 est un capteur de surveillance continue du glucose. En particulier, l'unité de détection 2 peut comprendre un accessoire portable, qui est porté par l'utilisateur. De plus, l'unité de détection 2 est adaptée pour fournir de manière répétée une mesure du paramètre de l'utilisateur. L'unité de détection 2 peut comprendre une horloge, de sorte que des données temporelles sont associées à des données de mesure. De telles unités de détection peuvent être appelées unités de détection continues. L'unité de détection 2 peut être adaptée pour effectuer des mesures in vivo. Ainsi, le paramètre mesuré peut être une concentration d'un métabolite, tel que, par exemple, le glucose.
L'unité de détection 2 comprend un dispositif de communication de données adapté pour communiquer des données à un système distant. Le dispositif de communication de données peut être adapté pour communiquer sans fil, par exemple en utilisant une communication radio courte portée correspondant au standard Bluetooth® ou au standard BLE à la date de priorité de la demande de brevet.
Le système de dosage de médicament 1 comprend en outre un terminal 3. Le terminal 3 comprend un système informatisé 1 pour communiquer des informations de traitement à un utilisateur. Ledit système informatisé 1, tel que représenté sur la , comprend un processeur 23 et une mémoire 22. Le terminal 3 comprend un module de communication de données 27 adapté pour communiquer des données à un système distant. Le module de communication de données 27 pourrait être adapté pour communiquer sans fil, par exemple en utilisant une communication radio à courte portée correspondant à la norme Bluetooth® à la date de priorité de la demande de brevet. Par exemple, le module de communication de données 27 du terminal 3 et le dispositif de communication de données de l'unité de détection 2 sont compatibles l'un avec l'autre, pour former un système de communication, par lequel le terminal 3 et l'unité de détection 2 communiquent entre eux. En particulier, des données de mesure, et éventuellement des données temporelles de métabolites utilisateur, sont communiquées de l'unité de détection 2 au terminal 3, et stockées dans la mémoire 22.
Une telle configuration permet de maintenir un bon équilibre entre la sécurité de l'utilisateur et sa perturbation. En effet, avoir un BT décroissant en fonction de la quantité de temps écoulé depuis qu'un précédent bolus a été administré à l'utilisateur permet d'émettre une notification utilisateur à l'utilisateur même si un court laps de temps s'est écoulé depuis la précédente notification utilisateur émise ou le précédent bolus administré si le dosage possible de médicament est bien supérieur à l'IT ou si la glycémie utilisateur pourrait être en dehors d'une plage acceptable à l'avenir, par exemple.
Selon un mode de réalisation, le BT diminue à partir d'une valeur maximale d'insuline, ladite valeur maximale d'insuline dépendant de l'impact physiologique d'une unité d'insuline sur l'utilisateur. Une telle configuration permet au système de s'adapter à l'utilisateur. Selon un mode de réalisation, le BT décroît à partir d'une valeur maximale, ladite valeur maximale d'insuline étant égale à [Math 3] min (xU, xCF), où xU correspond à une quantité maximale d'unités d'insuline et xCF étant un facteur de compensation multiplié par une constante afin de prendre en compte les besoins en insuline de l'utilisateur.
Selon un mode de réalisation, xU est une valeur pré-enregistrée comprise entre deux et huit unités d'insuline.
Selon un mode de réalisation, le BT a une valeur d'insuline minimale après qu'une certaine quantité de temps s'est écoulé depuis qu'une notification utilisateur précédente a été émise à un utilisateur ou qu'un bolus précédent a été administré à l'utilisateur.
Selon un mode de réalisation préféré, le BT ne peut pas diminuer plus qu'une valeur minimale d'insuline. BT est égal à ladite valeur minimale d'insuline après qu'une certaine durée de temps s'est écoulée depuis qu'un bolus précédent a été administré à l'utilisateur.
Une telle configuration permet de maintenir un bon équilibre entre la sécurité de l'utilisateur et sa perturbation. En effet, avoir une valeur minimale après une certaine durée de temps permet de ne pas émettre de notification utilisateur comportant un dosage de médicament trop faible pour être pertinent, même si le temps écoulé depuis la dernière notification utilisateur émise ou bolus administré est largement supérieur au TT.