Composition pour réaliser un revêtement de masquage filmogène adhérant à au moins une partie d’une surface d’un substrat destiné à être thermoformé pour la fabrication d’un article tridimensionnel sélectivement métallisé, ladite composition comprenant au moins une matrice polymère organique formée d’un ou plusieurs monomères et/ou polymères organiques, ladite matrice polymère étant durcissable pour former ledit revêtement de masquage qui après durcissement, pour une épaisseur comprise entre 0,1 μm et 50 μm, présente un taux de déformation avant rupture supérieur à 30 %, à une température comprise entre 20 °C et 270 °C. Composition selon la revendication précédente, caractérisé en ce qu’elle est conçue pour que le revêtement présente, pour une épaisseur comprise entre 0,1 µm à 30 µm d’épaisseur, par exemple égale à 5 μm d’épaisseur, un taux de déformation avant rupture supérieur à 100 %, de préférence supérieur à 300 %, plus préférentiellement supérieur à 600 %, plus préférentiellement encore supérieur à 1 000 %, à une température comprise entre 20 °C et 270 °C, de préférence comprise entre 50 °C et 250 °C, plus préférentiellement comprise entre 70 °C et 230 °C. Composition selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que ladite matrice organique comprend au moins un monomère et/ou un polymère choisi(s) parmi : les composés acryliques, les polyesters, les composés vinyliques, les composés styréniques, les polyamides, les composés acrylates, et/ou les polymères cationiques ou anioniques. Composition selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que ladite matrice organique comprend au moins un ou plusieurs des composés suivants : PETIA (triacrylate de pentaérythritol), HDDA (diacrylate d'hexanediol), IBOA (acrylate d'isobornyle), TMPTA (triacrylate de triméthylolpropane), TPGDA (diacrylate de tripropylène glycol), HEMA (méthacrylate d'hydroxyéthyle), copolymère de chlorure et d'acétate de vinyle, résine acrylique, alcool polyvinylique, polyvinylpyrrolidone, polyuréthane, copolymère acrylique de styrène, uréthane acrylate aliphatique, polyester acrylate, polyester, copolymère de méthacrylate de méthyle et d’acrylate d’éthyle, copolymère de méthacrylate de méthyle et de méthacrylate de butyle, monomère acrylate monofonctionnel, et/ou monomère acrylate trifonctionnel. Composition selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que ladite matrice organique comprend au moins un copolymère de méthacrylate de méthyle et d’acrylate d’éthyle formant de préférence entre 10 et 20 % du poids total de la composition, un copolymère de méthacrylate de méthyle et de méthacrylate de butyle formant de préférence entre 10 et 20 % du poids total de la composition, et un polyamide formant de préférence entre 5 et 25 % du poids total de la composition. Composition selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que ladite matrice organique comprend au moins du polyuréthane formant de préférence entre 10 et 25 % du poids total de la formulation, un monomère acrylate trifonctionnel formant de préférence entre 5 et 20 % du poids total de la composition, et un monomère acrylate monofonctionnel formant de préférence entre 5 et 15% du poids total de la composition. Composition selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que la matrice polymère organique et/ou le revêtement de masquage est alcali-sensible. Composition selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que la matrice polymère organique et/ou le revêtement est soluble et/ou dispersible dans un liquide, par exemple une solution aqueuse, présentant un pH égal ou supérieur à 9. Composition selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que la matrice polymère organique forme entre 20 et 80 % du poids total de la composition. Composition selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce qu’elle comprend en outre un ou plusieurs solvants, ledit ou lesdits solvants formant entre 15 et 80 % du poids total de la composition, de préférence entre 20 et 75 % du poids total de la composition, par exemple entre 30 et 60% du poids total de la composition. Composition selon la revendication précédente, caractérisée en ce que ledit ou lesdits solvants comprennent au moins un ou plusieurs des composés suivants : isopropanol, butanol, méthoxypropanol, acétate d'éthyle, acétate de butyle, cyclohexane, acétate de 2-butoxyéthanol, acétate de 2-méthoxy-1-méthyléthyle, carbonate de propylène, myristate d'isopropyle, acétate de diéthylène glycol monoéthyléther, glycérol, naphta lourd, hexane, et ou méthylcyclohexane. Composition selon la revendication 10 ou 11, caractérisée en ce que ledit ou lesdits solvants comprennent au moins de l’eau. Composition selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce qu’elle est dépourvue de particules métalliques et/ou électriquement conductrices. Composition selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce qu’elle est conçue pour que le revêtement soit isolant électriquement et/ou diélectrique. Composition selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce qu’elle comprend en outre au moins un solide organique ou inorganique dispersé, ledit solide étant de préférence formé par des particules pulvérulentes dispersées au sein des autres constituants de ladite composition. Composition selon la revendication précédente, caractérisée en ce que ledit solide comprend une charge minérale, une charge organique, et/ou une charge fibreuse. Composition selon la revendication 15 ou 16, caractérisée en ce que ledit solide comprend au moins un ou plusieurs des composés suivants : silice, carbonate de calcium, sulfate de baryum, hydroxyde d’aluminium, et/ou une cire. Composition selon l’une quelconque des revendications 15 à 17, caractérisée en ce que ledit solide forme entre 0,5 % à 50 %, de préférence entre 1 % et 40 %, plus préférentiellement entre 1,5 % et 30 %, plus préférentiellement encore entre 2 % et 20 %, du poids total de la composition. Composition selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce qu’elle comprend au moins un agent photoinitiateur radicalaire, cationique ou anionique, apte à réticuler une partie au moins de la matrice polymère lorsque la composition est soumise à des ultra-violets. Composition de revêtement selon la revendication précédente, caractérisée en ce l’agent photoinitiateur forme entre 0,5 % et 15 %, de préférence entre 1 % et 10 %, plus préférentiellement entre 1 % et 7 %, du poids total de la composition. Composition de revêtement la revendication 19 ou 20, caractérisée en ce que l’agent photoinitiateur comprend au moins l’un des composés suivants : benzophénone, 1-hydroxy-cyclohexyl-phényl-cétone, diméthylhydroxyacétophénone, oxyde de diphényl (2,4,6-triméthylbenzoyl)phosphine, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 2,2-diméthoxy-1,2-phénylacétophénone. Composition selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce qu’elle comprend au moins un ou plusieurs des composés additionnels suivants : agent de rhéologie, mouillant, antimousse, dispersant, tensioactif, stabilisant, colorant, amine synergiste. Composition selon la revendication précédente, caractérisée en ce que le ou les composés additionnels forment entre 0,01 % et 10 % du poids total de la composition. Composition selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce qu’elle est conçue pour que le revêtement présente une température de transition vitreuse et/ou une température de fusion inférieur à la température de transition vitreuse du substrat. Revêtement de masquage filmogène, réalisé à partir du dépôt, à une surface d’un substrat destiné à être thermoformé pour la fabrication d’un article tridimensionnel sélectivement métallisé, d’au moins une couche de la composition selon l’une quelconque des revendications précédentes, par exemple par sérigraphie et/ou par impression directe suivi d’un durcissement de ladite composition. Revêtement de masquage selon la revendication précédente, caractérisé en ce qu’il présente une épaisseur comprise entre 0,1 µm à 30 µm, de préférence comprise entre 1 µm et 20 µm, de préférence encore comprise entre 3 µm et 10 µm. Revêtement de masquage selon la revendication 25 ou 26, caractérisé en ce que le revêtement de masquage présente au moins une première portion et une deuxième portion, distinctes l’une de l’autre, l’épaisseur de la première portion étant différente de l’épaisseur de la deuxième portion. Utilisation d’une composition selon l’une quelconque des revendications 1 à 24 pour réaliser un revêtement de masquage filmogène à une surface d’un substrat destiné à être thermoformé pour la fabrication d’un article tridimensionnel sélectivement métallisé.