INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
- un moule métallique comprenant une matrice fixe délimitant une cavité et au moins un poinçon qui est complémentaire d’une section de la cavité, et qui est mu par une presse hydraulique entre une position hors de la cavité et une position dans laquelle il obture la cavité et pénètre dans ladite cavité selon une course déterminée,
représente en coupe, le dispositif de l’invention pour l’eau de boisson
représente en coupe, une variante de ce dispositif pour le traitement de réseau d’eau.
En référence à ces dessins, le dispositif comporte un boîtier (1) fabriqué dans un matériau organique ou dans un matériau laissant passer les ondes bioénergétiques, comme par exemple du bois. Pour amplifier l’effet, le bois peut être vernis avec de la cire d’abeille ou une résine naturelle. Les dimensions et forme du dispositif peuvent varier en fonction des utilisations. Le boîtier (1) peut comporter une porte ou un trou pour insérer par exemple une bouteille pour l’utilisation de l’eau de boisson . Le boîtier (1) peut comporter deux trous de part en part pour permettre le passage d’ un tuyau dans le cas d’utilisation sur un réseau d’eau . La couche extérieure (2) est composée de matière organique, toutes les matières organiques peuvent être utilisées comme les laines et fibres organique animales, végétales ou minérales. La couche intermédiaire (3) est composée d’une alternance de couches organiques et de couches métalliques ou d’un mélange des ces matériaux, auxquels est ajouté du quartz ou tous minéraux contenant du quartz. Au plus le volume est important, au plus les couches de matière organique et de matière métallique sont nombreuses, au plus le rayonnement sera puissant. La couche intérieur (4) est composée de métal, différents métaux peuvent être utilisés mais avec une préférence pour ceux à base de fer, en milieu humide il est judicieux d’utiliser l’acier inoxydable pour sa résistance à la corrosion. Au centre du dispositif, se trouve l’eau à dynamiser (6) dans un contenant (5) de préférence en verre ou un matériau laissant passer le rayonnement bioénergétique.
PROCEDE DE TRAITEMENT DE LA SURFACE D’UN MATERIAU AMORPHE IONIQUE POUR LE CONTROLE DE L’ORIENTATION DE CRISTAUX LIQUIDES, PROCEDE DE FABRICATION DE CELLULES A CRISTAUX LIQUIDES A MULTI-DOMAINES D’ALIGNEMENTS Domaine de l’invention L’invention concerne une méthode pour traiter électriquement la surface d’un matériau amorphe ionique, tel que le verre, pour son utilisation dans la conception d’une cellule à cristaux liquides de manière à contrôler l’orientation desdits cristaux liquides. Le domaine concerne celui des cellules à cristaux liquides et des structures associées aux cristaux liquides pour le contrôle notamment de leur orientation.
État de la technique Il existe différentes techniques pour contrôler les propriétés d’alignement des cristaux liquides. Généralement, une cellule à cristaux liquides est contenue en sandwich entre différentes couches permettant de maintenir les cristaux et de les contrôler, notamment leur alignement. Une solution largement répandue est basée sur l’utilisation de surfaces traitées telles que celles de polymères afin de contrôler les alignements des cristaux liquides. Ces surfaces traitées des polymères gouvernent au contact des cristaux liquides l’orientation de leur alignement. Toutefois, il est difficile d’obtenir des orientations multi-domaines dans le polymère. En effet, les techniques de traitement des polymères pour le contrôle des alignements des cristaux liquides comprennent un traitement de la surface impliquant une opération mécanique tel qu’un brossage de la surface. Cette technique ne permet pas de définir des régions dans lesquelles les propriétés électriques ou chimiques des polymères seront différenciées pour orienter les cristaux liquides selon différentes directions.
Actuellement, il existe une technique dite de photo alignement permettant de contrôler localement les alignements des cristaux liquides selon des régions du polymère délimitées. Ces techniques imposent un traitement photoélectrique du polymère par application d’une chimie de surface et d’un traitement à la lumière de la surface du polymère.
Par ailleurs, de manière conventionnelle, ces surfaces traitées de polymère peuvent être associées à des couches structurées comportant des électrodes pour former une matrice d’écran typiquement définissant des pixels/voxels d’un afficheur. Ces électrodes peuvent en outre être associées à des polariseurs pouvant par exemple être configurés pour définir des filtres de la lumière notamment en utilisant les propriétés de biréfringence des cristaux liquides. Les électrodes permettent de contrôler la dynamique des cristaux liquides et leur alignement et donc les propriétés induites de la lumière traversant une cellule.
Ces solutions permettent de contrôler les cristaux liquides au sein d’espace localisé par exemple dans des cellules. Pour cela, l’utilisation d’électrodes permet un contrôle local des alignements des cristaux liquides. Ces électrodes permettent notamment d’appliquer des champs électromagnétiques locaux et d’obtenir des effets d’orientation des cristaux liquides pour une partie seulement des cellules.
Il existe également des possibilités de contrôler l’alignement localement en utilisant des masques. Toutefois, ces solutions ont l’inconvénient d’être peu paramétrables.
De manière conventionnelle, une couche de verre peut être utilisée pour constituer un support transparent des cellules de cristaux liquides d’une matrice et ainsi former une protection extérieure.
Ces structures nécessitent une grande complexité de fabrication et de mise en œuvre. En outre, elles nécessitent de nombreux composants.
Par ailleurs, les technologies de l’art antérieur avaient l’inconvénient d’avoir des angles de visualisation faible. Pour augmenter l’angle de vue il est nécessaire de faire varier microscopiquement l’alignement. Des techniques ont été développer et récemment adaptée aux méthodes industrielles dans le but de remédier à ce défaut. Or pour l'instant celles-ci sont basées sur des dépôts locaux de polymères, ce qui est difficile à mettre en œuvre et ne permet pas d’obtenir un résultat ayant une efficacité optimale.
Selon un aspect l’invention concerne un procédé de traitement d’une surface d’un matériau amorphe ionique (MA) comprenant :
Agencement de ladite première surface du matériau amorphe ionique au contact ou à proximité d’au moins une première électrode structurée géométriquement ; Application d’une température audit matériau amorphe ionique à partir d’une source de chaleur sur une première zone dudit matériau amorphe ionique ; Application d’une tension aux bornes de la première électrode d’une valeur prédéfinie pendant une période donnée ; Génération d’un plasma de surface à la surface du matériau amorphe ionique entre au moins deux portions de la première électrode à partir de l’ionisation d’un gaz situé entre ladite première surface de matériau amorphe ionique et différentes portions de la première électrode et de l’application d’une tension donnée aux bornes de la première électrode, ladite application de la tension aux bornes de la première électrode et ladite génération de plasma étant configurées de sorte à modifier les propriétés électriques dudit matériau amorphe ionique pour définir au moins une zone polarisée localement entre les différentes portions de la première électrode ; Extraction du matériau amorphe ionique traitée.
Un avantage est d’induire une polarisation des charges du verre au sein de zones pouvant avoir des dimensions de plusieurs centaines de micromètres. La distance entre deux portions de la première électrode peut être adaptée selon le nombre de charges ioniques comprises dans le verre.
Un autre avantage est de définir des zones polarisées selon des propriétés électriques souhaitées selon une géométrie donnée. La définition de zones polarisées dans la surface du matériau amorphe permet par exemple de contrôler l’orientation de cristaux liquides sensibles aux champs électriques.
L'embase peut comprendre une interface de fixation destinée à être fixée sur une planche de glisse, et un support destiné à recevoir l'appui d'une semelle de chaussure de ski, le support étant articulé en rotation par rapport à l'interface de fixation autour d'un axe vertical.
L'embase peut comprendre un support destiné à recevoir l'appui d'une semelle de chaussure de ski, et les deux bras peuvent être articulés en rotation par rapport au support autour d'un deuxième axe transversal.
L'au moins un élément de blocage peut comprendre une collerette recouvrant la première ouverture latérale du corps.
Le dispositif de fixation peut comprendre un couvercle refermant une troisième ouverture du corps.
Le dispositif de fixation peut comprendre un axe de verrouillage traversant l'au moins un élément de blocage et la came, suivant le premier axe transversal.
L'invention se rapporte également à un procédé d'assemblage d'un dispositif de fixation tel que défini précédemment, le procédé comprenant: - la fourniture de deux bras de l'embase, du corps, de la came, et de l'au moins un élément de blocage, puis - l'insertion de la came dans la chambre du corps au travers d'une troisième ouverture du corps, la troisième ouverture étant agencée à une extrémité inférieure de la chambre, puis - le positionnement du corps pourvu de la came relativement aux deux bras, puis - l'insertion de l'au moins un élément de blocage au travers de la première ouverture latérale du corps.
L'invention se rapporte également à une planche de glisse comprenant un dispositif de fixation tel que défini précédemment.
Présentation des figures Ces objets, caractéristiques et avantages de la présente invention seront exposés en détail dans la description suivante d’un mode de réalisation particulier fait à titre non-limitatif en relation avec les figures jointes parmi lesquelles : La est une vue en coupe d'un dispositif de fixation selon un mode de réalisation de l'invention, selon un plan de coupe perpendiculaire à un axe transversal du dispositif de fixation, le dispositif de fixation étant dans une configuration chaussée. La est une vue en coupe du dispositif de fixation, le dispositif de fixation étant dans une configuration d'attente. La est une vue en coupe du dispositif de fixation, le dispositif de fixation étant dans une configuration intermédiaire entre la configuration chaussée et la configuration d'attente. La est une vue en perspective et en éclaté du dispositif de fixation. La est une vue en coupe du dispositif de fixation, selon un plan de coupe perpendiculaire à un axe principal d'un corps du dispositif de fixation. La est une vue en coupe et en éclaté du dispositif de fixation, selon un plan de coupe perpendiculaire à un axe principal d'un corps du dispositif de fixation.
Description détaillée La illustre en vue de côté un dispositif de fixation 1 arrière selon un mode de réalisation de l'invention. Le dispositif de fixation 1 peut être fixé à une planche de glisse sur terrain enneigé (non représentée) telle qu'un ski, ou en variante un monoski. Le dispositif de fixation 1 est destiné à coopérer avec une partie arrière d'une chaussure de ski, notamment avec un trottoir formé à l'arrière de la chaussure de ski. En remarque, le terme "chaussure de ski" désigne toute chaussure adaptée au guidage d'une planche de glisse sur terrain enneigé. Ce terme couvre donc notamment des chaussures pour la pratique du ski alpin ou du monoski. Le dispositif de fixation est configuré pour maintenir une chaussure de ski attachée à la planche de glisse en coopération avec un dispositif de fixation avant, lequel coopère avec une partie avant de la chaussure de ski. Le dispositif de fixation 1 est articulé entre une configuration chaussée (visible sur la ) et une configuration d'attente (visible sur la ).
Selon le point de vue de la , l'avant se situe du côté gauche de la figure et l'arrière se situe du côté droit de la figure. On suppose que la planche de glisse repose sur un sol horizontal. Les termes "supérieur", "inférieur", "haut" et "bas" se rapportent à un positionnement relativement à un axe vertical. Les termes "avant" et "arrière" se rapportent à un positionnement relativement à un axe longitudinal correspondant à l'axe dans lequel la chaussure de ski s'étend : l'avant désigne la zone des orteils et l'arrière désigne la zone du talon. L'axe transversal désigne un axe perpendiculaire à l'axe vertical et à l'axe longitudinal. L'axe transversal est globalement parallèle à un axe passant par les malléoles interne et externe d'un utilisateur du dispositif de fixation.
Le dispositif de fixation 1 comprend une embase 2 fixée à la planche de glisse. En particulier, l'embase 2 comprend une interface de fixation 3, un support 4 et deux bras 5 latéraux liés au support 4. L'interface de fixation 3 est fixée rigidement sur la planche de glisse, notamment au moyen de vis de fixation 6 vissées dans l'épaisseur de la planche de glisse. Le support 4 s'étend sous la semelle de la chaussure de ski, et est destiné à en recevoir l'appui. Le support 4 peut comprendre une plaque s'étendant parallèlement à la planche de glisse. L'embase 2 peut en outre comprendre un dispositif de freinage 7 pourvu d'une pédale de frein 8 et de deux branches de frein 9 agencés de chaque côté du dispositif de fixation 1. Le dispositif de freinage 7 est configuré pour freiner la planche de glisse lorsque le dispositif de fixation 1 est en configuration déchaussée. L'embase 2 peut également comprendre un dispositif de réglage de la position du support 4 sur la planche de glisse relativement à l'axe longitudinal. Le dispositif de réglage permet d'adapter la position du dispositif de fixation en fonction de la longueur de la chaussure de ski utilisée. L'embase 2 peut également comprendre un ressort de recul 10 configuré pour maintenir le dispositif de fixation en appui contre la chaussure de ski.
Les deux bras 5 s'étendent depuis le support 4 globalement vers le haut et vers l'arrière de la planche de glisse. Ils peuvent notamment s'étendre chacun dans un plan perpendiculaire à l'axe transversal, de part et d'autre d'une partie arrière inférieure de la chaussure de ski. Ils peuvent être suffisamment écartés l'un de l'autre pour permettre au talon de la chaussure de ski de prendre place entre les deux bras 5. Comme cela est mieux visible sur la , chacun des deux bras 5 peut comprendre une branche 11, notamment métallique, conçue pour résister aux efforts de traction induits par le fonctionnement du dispositif de fixation. Cette branche 11 comprend une première extrémité 12 reliée au support 4, et une deuxième extrémité 13 reliée à un corps 14 qui sera détaillé ultérieurement. Les deux bras 5 peuvent être articulés en rotation par rapport au support 4 autour d'un axe transversal Y2. En particulier, la première extrémité 12 de chaque branche 11 peut comprendre une ouverture 15 coopérant avec un axe de pivotement 16. Selon une variante de réalisation les deux bras 5 pourraient également être fixes par rapport au support 4.
Un tel dispositif de fixation 1 est particulièrement compact et possède une emprise limitée sur la planche de glisse. Notamment le dispositif de fixation ne comprend aucune structure encombrante fixée sur la planche de glisse à l'arrière de la chaussure de ski. Le corps 14 est suspendu au-dessus de la planche de glisse par l'intermédiaire des bras 5.
Avantageusement, le support 4 peut être articulé en rotation par rapport à l'interface de fixation 3 autour d'un axe vertical. Une telle articulation en rotation autorise une certaine rotation de la chaussure de ski autour de l'axe vertical. Le dispositif de fixation ainsi obtenu, également dénommé fixation pivot, permet d'encaisser certains chocs liés à la pratique du sport de glisse sans provoquer de déchaussage. Un tel dispositif de fixation peut notamment être particulièrement adapté à la pratique du ski dit "freeride" ou "freestyle". Cette articulation en rotation est notamment rendue possible grâce aux bras 5 qui relient le corps 14 au support pivotant. Le corps 14 peut ainsi suivre le mouvement en rotation du support 4. L'absence d'une structure fixée sur la planche de glisse à l'arrière de la chaussure de ski permet donc au support 4 de pivoter tout en conservant l'arrière de la chaussure bien maintenu. En variante, les bras 5 peuvent aussi être reliés à une embase 4 non pivotante.
Le corps 14 est suspendu par les deux bras 5 à l'arrière de la chaussure de ski. Il peut présenter une forme globalement parallélépipédique ou cylindrique. Plus généralement, il présente une forme globalement allongée selon un axe principal 17. Cet axe principal 17 s'étend au moins grossièrement verticalement ou incliné vers l’arrière de quelques degrés lorsque le dispositif de fixation 1 est en configuration chaussée. Le corps 14 comprend un agrippe-talon 18 apte à coopérer avec le trottoir formé à l'arrière de la chaussure de ski. L'agrippe-talon 18 est formé au niveau d'un bord inférieur du corps 14. Le corps 14 et l'agrippe-talon 18 peuvent former une seule et même pièce. L'agrippe-talon 18 est notamment configuré pour exercer un appui orienté vers le bas et vers l'avant sur la chaussure de ski lorsque le dispositif de fixation 1 est en configuration chaussée. De plus, le corps 14 contient un dispositif de désolidarisation automatique de la chaussure de ski en cas de contrainte excessive sur le dispositif de fixation.
Le corps 14 est relié aux deux bras 5 de l'embase 2 par une articulation en rotation autour d'un axe transversal Y1. Cet axe transversal Y1, dénommé par la suite "premier axe transversal Y1" est distinct de l'axe transversal Y2, lequel sera dénommé "deuxième axe transversal Y2". Le corps 14 est ainsi mobile par rapport à l'embase 2 selon une liaison pivot entre une position chaussée (illustrée sur la ) et une position d'attente (illustrée sur la ). Comme nous le verrons plus en détail par la suite, le premier axe transversal Y1 passe par les deuxièmes extrémités 13 de chaque bras 5 et au niveau d'une partie inférieure du corps 14. Lorsque le corps 14 est en position d'attente, l'axe principal 17 s'étend au moins grossièrement horizontalement. On comprend donc que le corps 14 pivote d'environ un quart de tour vers l'avant (c'est-à-dire dans le sens antihoraire selon le point de vue des figures 1,2 et 3) lorsqu'il passe de sa position d'attente à sa position chaussée. Avantageusement, la rotation du corps entre la position chaussée et la position d'attente peut être d'au moins 45°, voire au moins 70°, voire au moins 90°. Avantageusement, le corps 14 comprend en outre une pédale de chaussage 19, saillante vers l'avant lorsque le corps est en position d'attente. La pédale de chaussage 19 se positionne sur la trajectoire du talon de la chaussure de ski et peut être actionnée par l'utilisateur par un mouvement vers le bas du talon. La pédale de chaussage 19 est positionnée vers l'avant par rapport au premier axe de rotation Y1 et permet ainsi de faire basculer le corps 14 de sa position d'attente à sa position chaussée par un appui du talon.
Avantageusement, le dispositif de fixation 1 comprend en outre un moyen de butée 20, solidaire des bras 5, et configuré pour prendre appui sur la planche de glisse au moins lorsque le corps 14 est en position d'attente. Le moyen de butée 20 permet de maintenir le corps dans une position stable et optimale pour que la chaussure de ski appuie sur la pédale de chaussage 19. Notamment, le moyen de butée 20 limite l'amplitude de rotation des bras 5 autour du deuxième axe transversal Y2.
Le corps 14 comprend une chambre 21 interne qui s'étend globalement suivant l'axe principal 17. Le dispositif de désolidarisation automatique de la chaussure de ski comprend une came 22, un moyen élastique 23 et un piston 24 logés à l'intérieur de la chambre 21. Comme nous le verrons encore par la suite, la came 22 est bloquée en position par rapport aux bras 5. Le piston 24 est mobile en translation au sein de la chambre suivant l'axe principal 17. Le piston 24 est maintenu en appui contre la came 22 par le moyen élastique 23. Le moyen élastique 23 est, dans le cas d'espèce, un ressort hélicoïdal mais en variante, il pourrait prendre une forme différente. Le moyen élastique 23 comprend une première extrémité en appui sur le piston 24, et une deuxième extrémité en appui contre le corps 14. Plus précisément, le moyen élastique 23 peut prendre appui sur une surface d'un moyen de réglage 25 de la tension du moyen élastique 23, ce moyen de réglage 25 étant fixé au corps 14. Le moyen de réglage 25 peut notamment comprendre une vis de réglage 26 configurée pour ajuster la position de la surface sur laquelle le moyen élastique 23 prend appui. Une tête de la vis de réglage 26 est accessible au niveau d'une extrémité supérieure du corps 14. En ajustant la tension du moyen élastique 23, on peut régler la raideur du dispositif de fixation, c’est-à-dire le seuil d'effort à partir duquel le corps 14 bascule automatiquement en position déchaussée. Le moyen élastique 23 peut être équipé d'un curseur 27 solidaire de la surface sur laquelle le moyen élastique 23 prend appui. Une partie de ce curseur peut être rendue visible au travers d'une fenêtre 28 prévue à cet effet dans le corps 14. En outre, le corps 14 peut être recouvert par un capot 29 fixé sur le corps 14 (par exemple vissé et/ou clippé sur le corps 14). Ce capot 29 peut notamment intégrer une vitre recouvrant la fenêtre 28 de manière à conserver la chambre 21 bien étanche.
Lorsque le corps 14 pivote entre sa position chaussée et sa position d'attente, il pivote autour de la came 22 qui est fixe. Il se produit alors un glissement à l'interface entre le piston 24 et la came 22. En effet, d'une part la came 22 est fixe par rapport aux bras 5 et demeure donc immobile lorsque le corps 14 pivote. D'autre part, le piston 24 est maintenu selon une liaison glissière dans la chambre 21 et pivote donc avec le corps 14. La came 22 présente une surface d'appui 30 avec le piston 24 différente d'une surface de révolution centrée sur le premier axe transversal Y1. Notamment, la surface d'appui 30 peut s'étendre le long d'une saillie 22A de la came 22. La surface d'appui 30 peut être divisée en deux zones : une première zone 30A est un contact avec le piston 24 lorsque le corps 14 est en position chaussée et une deuxième zone 30B est un contact avec le piston 24 lorsque le corps 14 est en position d'attente. La première zone 30A peut avoir sensiblement la forme d'une vague. La deuxième zone 30B peut s'étendre selon une surface sensiblement perpendiculaire à la première zone 30A.
Le glissement du piston 24 le long des zones 30A et 30B de la surface d'appui 30 de la came 22 provoque un déplacement par translation du piston 24 à l'intérieur de la chambre 20. La forme de la surface d'appui 30 de la came 22 est choisie de sorte à ce que la tension du moyen élastique passe par une valeur maximale entre la position chaussée et la position déchaussée. Cette position, dite position d'équilibre ou position de rebroussement, est notamment illustrée sur la . Elle correspond à un état de compression maximale du moyen élastique 23. Par conséquent, la position chaussée et la position déchaussée du corps 14 correspondent à des états de moindre tension du moyen élastique 23 par rapport à la position d'équilibre. En position d'équilibre, la came 22 est en appui sur le piston 24 par un contact sensiblement linéaire, au niveau d'une portion arrondie formée entre la première zone 30A et la deuxième zone 30B de la surface d'appui. La position d'équilibre est une position instable depuis laquelle le corps 14 peut facilement basculer en position chaussée ou en position d'attente. Les position chaussée et d’attente sont des positions stables. En remarque, la came 22 est conçue de sorte que la tension du moyen élastique 23 est plus importante lorsque le corps est en position d'attente que lorsqu'il est en position chaussée.