INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
En fonction de la fonction f implémentée, n x et n y peuvent être distincts. Dans l’exemple de la figure 2, n x et n y sont identiques lorsque la fonction somme x + y n’est pas implémentée sous forme d’une table de correspondance, mais directement sous la forme d’une opération native du commutateur. Dans cet exemple, n x et n y peuvent aussi être distincts lorsque la fonction somme x + y est implémentée sous forme d’une table de correspondance. Dans ce cas la table de correspondance correspondant à x+y ou à un ensemble d’opérations comprenant x+y (par exemple, ) prend en compte les représentations RVR x et RVR y utilisées et donc peut s’adapter à des différences dans les représentations.
Toutes les distributions des bits entre la partie entière et la partie décimale peuvent être implémentées. Toutefois, il est possible de choisir des distributions optimisées en fonction de la fonction implémentée et des entrées possibles. Cela permet d’optimiser la précision des valeurs calculées et de réduire les erreurs dans le calcul du résultat de la fonction f. Cette optimisation est réalisée dans une étape ultérieure.
De plus, une valeur (la représentation réelle d’une valeur entière x i obtenue au moyen de la table de correspondance LUT x ) et une valeur (la représentation réelle d’une valeur entière y j obtenue au moyen de la table de correspondance LUT y ) peuvent également différer alors que les valeurs de x i et de y i sont identiques. En principe, la différence entre les deux valeurs et sera faible, mais peut être plus conséquente lorsque la fonction somme x + y est implémentée sous forme d’une table de correspondance, c’est-à-dire que la première opération pratiquée sur x et y l’est au moyen d’une table de correspondance et non d’une opération native. Dans ce cas la table de correspondance correspondant à l’opération x + y prend en compte les différences induites par les tables de correspondance LUT x et LUT y dans la transformation d’entiers identiques.
a) 8 à 66,5% de copolymère(s) de VDF,
b) 4 à 76% de plastifiant(s), et
c) 0,8 à 28,5% de sel(s) de lithium,
d) 5 à 60% de renfort mécanique,
la somme de tous les constituants étant de 100%.
Selon un mode de réalisation, la composition d’électrolyte solide consiste en :
- 18 à 45% de composant a),
- 24 à 63% de composant b),
- 1,8 à 9% de composant c), et
- 10 à 40% de composant d).
Selon un mode de réalisation, la composition d’électrolyte solide consiste en un copolymère P(VDF-HFP), un mélange EMIM-FSI/EG4DME, LiFSI, et un non-tissé de PVDF en proportion massique de 32/44,8/3,2/20, le rapport massique EMIM-FSI/EG4DME étant de 1:1.
L’invention concerne également un film non-poreux ou membrane consistant en ladite composition d’électrolyte solide. Avantageusement, le film ne contient pas de solvant et présente une conductivité ionique élevée. Avantageusement, le film est autosupporté, c'est-à-dire qu’il est manipulable sans l'aide de support. Avantageusement, le film est apte à s’enrouler, c’est-à-dire qu’il est manipulable de sorte qu’on puisse l’enrouler sur une bobine.
Selon un mode de réalisation, ledit film présente une épaisseur de 5 à 60 μm, de préférence de 5 à 30 μm, plus préférentiellement de 7 µm à 20 μm.
Selon un mode de réalisation, le film selon l’invention présente une conductivité ionique allant de 0,01 à 5 mS/cm, de préférence de 0,05 à 5 mS/cm, avantageusement de 0,5 à 5 mS/cm, à 25°C. La conductivité est mesurée par spectroscopie d’impédance électrochimique. Selon un mode de réalisation, le film non poreux est placé entre deux électrodes en or dans une cellule de conductivité étanche et sous atmosphère inerte (CESH, Biologic) et une spectroscopie d’impédance électrochimique est réalisée entre 1 Hz et 1 MHz avec une amplitude de 10 mV. On détermine ensuite la résistance R du film par régression linéaire de la courbe -Im(Z) = f (Re(Z)). La conductivité σ est alors donnée par la relation suivante :
où l est l’épaisseur du film et S sa surface. Pour chaque composition, la valeur de conductivité à une température donnée est obtenue en faisant la moyenne sur au moins deux mesures réalisées sur des échantillons différents.
Avantageusement, le film selon l’invention présente une bonne stabilité électrochimique sur la plage de températures allant de -20°C à 80°C.
Par « référentiel » on entend dans le présent texte un système de coordonnées attaché à un substrat portant les pavés, ou à l’ensemble des pavés, et qui permet de définir la position de chaque point de la surface du substrat ou de l’ensemble des pavés.
Par exemple, ledit référentiel peut comprendre un point d’origine repérable sur un bord du substrat, tel qu’une encoche classiquement utilisée dans l’industrie des semi-conducteurs, et deux axes orthogonaux s’étendant dans le plan du substrat, l’un des axes s’étendant diamétralement à partir de l’encoche et l’autre axe coupant le premier axe au centre du substrat. Un tel référentiel est utilisé pour définir la position des composants à former dans ou sur le substrat et pour localiser les différentes étapes de procédé à mettre en œuvre pour former lesdits composants.
De manière alternative, le référentiel peut ne pas être défini par rapport au substrat support mais par rapport à l’ensemble des pavés. Par exemple, ledit référentiel peut être défini par une ou plusieurs marques formées sur l’un au moins des pavés et/ou sur le substrat support.
Dans certains modes de réalisation, les pavés sont placés successivement sur le substrat support.
Dans d’autres modes de réalisation, les pavés sont placés simultanément sur le substrat support.
En particulier, le procédé peut comprendre :
- la formation d’un substrat pseudo-donneur par placement de chaque pavé d’au moins un substrat donneur sur un premier substrat support ;
- le collage dudit substrat pseudo-donneur sur un second substrat support par l’intermédiaire des pavés ;
- le transfert d’une portion desdits pavés sur le second substrat support.
Dans certains modes de réalisation, le premier et le second substrat support présentent un diamètre identique, supérieur au diamètre du substrat donneur.
De manière particulièrement avantageuse, le collage du substrat pseudo-donneur sur le second substrat support peut être réalisé par adhésion moléculaire.
Le transfert de chaque portion de pavé peut comprendre successivement la formation d’une zone de fragilisation par implantation d’espèces atomiques dans chaque pavé placé sur le substrat pseudo-donneur pour définir une portion à transférer, le collage du substrat pseudo-donneur sur le second substrat support par l’intermédiaire des pavés, et le détachement de chaque pavé le long de la zone de fragilisation.
Chaque pavé peut typiquement présenter une épaisseur comprise entre 20 µm et 1000 µm, de préférence comprise entre 100 µm et 700 µm, et la portion transférée de chaque pavé présente une épaisseur comprise entre 30 nm et 1,5 µm.
La formation du masque et la gravure peuvent être mises en œuvre après le transfert de chaque portion de pavé sur le second substrat support. De manière alternative ou additionnelle, la formation du masque et la gravure peuvent être mises en œuvre sur les pavés du substrat pseudo-donneur avant le collage sur le second substrat support.
Dans certaines formes d’exécution, chaque pavé présente un côté de longueur inférieure ou égale à 10 mm, de préférence inférieure ou égale à 5 mm, et de manière encore préférée inférieure ou égale à 2 mm.
Dans d’autres formes d’exécution, chaque pavé présente un côté de longueur supérieure ou égale à 3 mm, de préférence supérieure ou égale à 5 mm, et de manière préférée supérieure ou égale à 8 mm.
Il existe également un besoin pour un article configuré pour limiter la condensation de l’eau sur sa face interne et/ou sa face externe.
La présente invention a pour objet, selon un premier aspect, un complexe limitant la condensation de l’eau ayant une face interne et une face externe, ladite face externe étant orientée directement en regard de l’atmosphère extérieure, et ledit complexe comprenant, notamment étant constitué essentiellement, de la face interne vers la face externe : - optionnellement un substrat de protection E ; et - un substrat imperméable à l’eau et perméable à la vapeur d’eau A, - un substrat textile B ; et - un métal M1, éventuellement sous forme d’alliage, déposé directement sur le substrat textile B et formant une couche métallique C ; et - optionnellement une couche de protection D de la couche métallique C ; et - optionnellement un apprêt déperlant à l’eau.
Avantageusement, la couche métallique C, combinée avec les substrats A et B, permet de limiter les conséquences du phénomène de refroidissement radiatif tout en autorisant la vapeur d’eau à être évacuée de la face interne vers la face externe, et donc à travers les substrats A et B, ainsi que la couche métallique C.
Avantageusement, ledit métal M1, et/ou un alliage comprenant ledit métal M1, forme une couche métallique mince C, appliquée directement sur le substrat textile B sans l’intermédiaire d’un liant organique venant boucher les pores du substrat textile, et donc altérer significativement sa perméabilité à la vapeur d’eau.
Avantageusement, la couche métallique C ne comprend pas de liant polymère.
En particulier, on comprend dans le présent texte par liant polymère tout polymère formant une matrice dans lequel des particules métalliques sont dispersées.
Avantageusement, la couche métallique C permet de limiter, voire d’éviter, les effets issus du phénomène de refroidissement radiatif, en limitant les transferts thermiques avec le ciel, en complément de la présence du substrat imper-respirant A.
De préférence, la couche métallique C est choisie en sorte que la face externe du complexe présente une faible émissivité. La couche métallique C permet de diminuer l’émissivité extérieure du complexe et donc de diminuer les pertes de chaleur au niveau du substrat textile B. Les échanges de chaleur avec l’extérieur sont alors diminués.
Le substrat textile B perd ainsi moins de chaleur durant la nuit.
Avantageusement, une perte de chaleur moindre dans l’ambiance intérieure, c’est-à-dire dans la zone d’abri d’un article formé au moins en partie par ledit complexe, mais aussi une perte de chaleur moindre du substrat textile B, permettent de réduire le risque de se retrouver au point de rosé dans la zone d’abri et donc prévient l’apparition de la condensation de la vapeur d’eau sur la face interne froide du complexe.
De préférence, ledit substrat A comprend des faces interne et externe, notamment sensiblement opposées.
On comprend par substrat imperméable à l’eau et perméable à la vapeur d’eau A que ledit substrat A ne peut pas être traversé de sa face externe vers sa face interne par l’eau mais peut être traversé de sa face interne vers sa face externe par la vapeur d’eau.
De préférence, la face interne dudit substrat A est orientée directement en regard de l’extérieur du complexe, en particulier directement vers l’usager à protéger de la condensation et/ou en regard de la zone d’abri de l’article comprenant ledit complexe.
De préférence, le substrat textile B comprend des faces interne et externe, notamment sensiblement opposées.
De préférence, la face externe du substrat A est disposée en regard de la face interne du substrat textile B.
De préférence, la face externe du substrat A est directement en contact avec la face interne du substrat textile B
Ensuite, dans une étape H2, l’orchestrateur 20 génère un jeu de paramètres de mise à jour de la politique d’accès PMaj en fonction des informations relatives à la modification de la politique d’accès obtenues au cours de l’étape H1.
Une fois le jeu de paramètres de mise à jour de la politique d’accès PMaj généré, l’orchestrateur 20 diffuse ce jeu de paramètres à destination d’au moins un équipement 11 implémentant la fonction PCF appartenant au réseau de communication radio MNO, dans une étape H3. Le jeu de paramètres de mise à jour de la politique d’accès PMaj est reçu, par l’équipement implémentant la fonction PCF 11, par le biais d’une interface de type N24.
Dans une étape H4, l’équipement implémentant la fonction PCF 11 acquitte la réception du jeu de paramètres de mise à jour de la politique d’accès PMaj auprès de l’orchestrateur 20.
L’équipement 11 implémentant la fonction PCF émet, dans une étape H5 qui peut être simultanée à la mise en œuvre de l’étape H4, un message informant l’équipement 12 implémentant la fonction SMF de la survenue d’une mise à jour de la politique d’accès du réseau de communication MEC. Un tel message comprend également le jeu de paramètres de mise à jour de la politique d’accès PMaj.
Suite à la réception du jeu de paramètres de mise à jour de la politique d’accès PMaj, l’équipement 12 implémentant la fonction SMF transmet ce jeu de paramètres de mise à jour de la politique d’accès PMaj à destination de l’équipement 13 implémentant la fonction UPF, au cours d’une étape H6.
Dans une étape H7, l’équipement 13 implémentant la fonction UPF met à jour au sa table de routage au moyen du jeu de paramètres de mise à jour de la politique d’accès PMaj.
Dans une étape H8, l’équipement 13 implémentant la fonction UPF informe l’équipement 12 implémentant la fonction SFM de la mise de jour de sa table de routage.
A réception du de l’information de mise à jour émise par l’équipement 13 implémentant la fonction UPF, l’équipement implémentant la fonction SMF 12 acquitte la mise à jour de la politique d’accès PMaj auprès de l’équipement implémentant la fonction PCF 11 dans une étape H9.
L’équipement implémentant la fonction PCF 11 informe également, dans une étape H10, les équipements 10 et 14 implémentant les fonctions NEF et NWDAF de la modification de la politique de routage du réseau de communication MEC. En effet, les équipements 10 et 14 implémentant les fonctions NEF et NWDAF sont les équipements centraux de la gestion du trafic de données au sein du réseau de communication MNO.
Lorsqu’un équipement utilisateur attaché au réseau de communication MNO souhaite accéder à un service et/ou une application accessible hébergé dans le réseau de communication MEC, l’équipement utilisateur UE émet un message MSG demandant l’accès au service et/ou à l’application en question au travers du réseau de communication MNO dans une étape H11.
Le message MSG est alors intercepté par l’équipement 13 implémentant la fonction UPF qui, en consultant sa table de routage au cours d’une étape H12, identifie le serveur d’accès 22 appartenant au réseau de communication MEC à destination duquel le message MSG doit être transmis dans une étape H13.
A réception du message MSG, le serveur d’accès 22 du réseau de communication MEC émet, dans une étape H14, un message d’acquittement à destination de l’équipement utilisateur UE.
On décrit enfin un troisième exemple de déroulement des procédés objets de l’invention. Les différentes étapes mises en œuvre lors de l’exécution de ces procédés au sein du système précédemment décrit sont représentées sous forme de diagramme à la .
Ainsi, dans une étape M1, l’orchestrateur 20 obtient des informations relatives à une modification de la politique d’accès au réseau de communication MEC. Ces informations sont par exemple transmises à l’orchestrateur 20 dans un ou plusieurs messages. Dans un autre exemple, l’orchestrateur 20 utilise une URL identifiant un serveur auprès duquel il peut télécharger les informations relatives à la modification de la politique d’accès. Dans un autre exemple, les d’informations relatives à la modification de la politique d’accès peuvent être transmises à l’orchestrateur 20 en mode « push » sous la forme d’un fichier de mise à jour à mettre en œuvre.
Ensuite, dans une étape M2, l’orchestrateur 20 génère un jeu de paramètres de mise à jour de la politique d’accès PMaj en fonction des informations relatives à la modification de la politique d’accès obtenues au cours de l’étape M1.
Une fois le jeu de paramètres de mise à jour de la politique d’accès PMaj généré, l’orchestrateur 22 diffuse ce jeu de paramètres à destination de l’équipement 10 implémentant la fonction NEF appartenant au réseau de communication radio MNO dans une étape M3. De manière facultative, l’équipement 10 implémentant la fonction NEF met à jour l’équipement 14 mettant en œuvre la fonction NWDAF avec le jeu de paramètres de mise à jour de la politique d’accès PMaj reçu.
Alors la monture optique dans sa version complète avec une structure transformable, autorise l’interchangeabilité d’éléments à la fois d’un point de vue électronique et d’un point de vue mécanique, par la présence de contacts électriques entre les éléments, et est donc une monture optique configurable à partir d’éléments mécatroniques.
Le système de configuration électronique d’une monture optique selon l’invention comporte une monture optique à éléments personnalisables et une unité de commande externe à ladite monture optique, interconnectée à ladite monture optique.
En termes d’utilisation du système de configuration électronique, il est avantageux que la configuration du client actuel ou futur de ladite monture optique soit effectuée à sa place.
Selon un premier mode d’utilisation du système de configuration électronique, la configuration électronique est effectuée dans l’usine de production.
Selon un deuxième mode d’utilisation du système de configuration électronique, la configuration électronique est effectuée dans le lieu de distribution ou de vente de ladite monture optique.
Selon un troisième mode d’utilisation du système de configuration électronique, la configuration électronique est effectuée en ligne en se connectant à un serveur distant via l’unité de commande elle-même également connectée au serveur distant.
représente un ensemble des éléments constituant une monture optique de l’invention dans sa configuration préférée associant deux porte-verre indépendants dits porte-verre.
représente un ensemble des éléments constituant une monture optique de l’invention dans une configuration à structure transformable par l’utilisateur portant des double porte-verre.
représente un ensemble des éléments constituant une monture optique de l’invention dans une configuration à structure transformable par l’utilisateur portant deux porte-verre massifs.
représente un ensemble des éléments constituant une monture optique de l’invention dans une configuration à structure transformable par l’utilisateur portant des double porte-verre massif.
représente une vue d’une monture optique de l’invention dans une configuration à structure transformable par l’utilisateur, assemblée et sans branche articulée.
représente une demi vue d’une monture optique de l’invention dans une configuration à structure transformable par l’utilisateur montrant l’assemblage d’une branche.
représente une demi vue d’une monture optique de l’invention dans une configuration à structure transformable par l’utilisateur, branche rabattue.
représente une vue d’une monture optique de l’invention dans une configuration de montage par application, portant deux porte-verre massif.
représente une demi vue de détail d’une monture optique de l’invention dans une configuration à structure transformable par l’utilisateur, particulière avec clip-de-nez et clip-de-branche portant un bouchon d’obturation.
Il est alors nécessaire de mettre en place une méthode d’asservissement alternative des courants du stator. On utilise en général une méthode d’asservissement « à tension fixe » (également appelée méthode d’asservissement à une dimension ou méthode d’asservissement à un degré de liberté). En effet, on peut par exemple fixer la somme quadratique des composantes « directe » et « en quadrature » des tensions, et utiliser le degré de liberté restant pour asservir soit la composante « directe » des courants du stator, soit leur composante « en quadrature », soit encore toute autre variable calculée à partir des courants du stator.
Ainsi, en régime de « surmodulation », il n’est plus possible d’asservir à la fois les composantes « directe » et « en quadrature » des courants du stator. Ce type de méthode d’asservissement alternative, dite « à tension fixe », qui fonctionne de manière générale en régime de « saturation de tension », n’est donc pas pertinent en dehors de ce régime de fonctionnement particulier.
En conséquence, un procédé de commande d’une machine électrique doit généralement comporter deux méthodes d’asservissements différentes, utilisées selon que l’on se situe en régime de « surmodulation » ou en dehors du régime de « saturation de tension ». En régime de « saturation de tension linéaire », les deux méthodes d’asservissement, « complet » ou « à tension fixe » peuvent être utilisées au choix.
La demande de brevet FR3089368 décrit un tel procédé de commande de machine électrique, et divulgue en particulier une mise en œuvre d’une méthode d’asservissement à tension fixe.
Selon que l’on utilise la méthode d’asservissement « complet » des courants de stator ou celle « à tension fixe », les conséquences d’une détermination non optimale des composantes référentielles directe et en quadrature des courants de stator varient grandement.
Dans le cas de la méthode d’asservissement « complet », il est courant d’obtenir une tension de commande dont l’amplitude n’est pas celle anticipée lors de l’étape de détermination des composantes référentielles des courants de stator. Si l’amplitude de tension obtenue est inférieure à celle qui est anticipée et que l’on se trouve en régime de saturation de tension, le rendement ou la performance maximale de la machine électrique sont négativement impactés. Si l’amplitude de tension obtenue est supérieure à celle qui est anticipée et que l’on se trouve en régime de saturation de tension, elle est donc supérieure à l’amplitude maximale autorisée et n’est donc pas réalisable.
Dans le cas de la méthode d’asservissement « à tension fixe », l’amplitude de la tension de commande est par définition correctement appliquée. En revanche, les composantes référentielles directe et en quadrature des courants de stator n’étant pas simultanément asservies, au moins l’une d’entre elles n’est pas obtenue dans le cas général, ce qui conduit à une erreur de réalisation de couple.
L’invention a pour but de contrôler une machine électrique tournante pour tout régime de fonctionnement : hors du régime de saturation de tension, et en régime de saturation de tension, y compris en régime de surmodulation. L’invention a notamment pour but de garantir simultanément deux objectifs :
Une utilisation optimale de la tension de bus, permettant l’amélioration du rendement de la machine électrique et/ou de la performance maximale de la machine électrique, y compris en cas de calcul imparfait des consignes de courant optimales, quand l’asservissement est « complet », et Une amélioration de la précision de couple réalisé, grâce à l’obtention maîtrisée d’un binôme de composantes directe et en quadrature des courants, quand l’asservissement est « à tension fixe ».
Dans ces buts, la présente invention concerne un procédé et un système de commande d’une machine électrique pilotée par un onduleur, dans lequel on détermine la commande de l’onduleur. Le procédé et le système de commande selon l’invention mettent en œuvre un modèle de contrôle qui calcule les consignes de courant en fonction de la consigne de couple ou de la consigne de vitesse et d’autres variables de fonctionnement dont une variable de fonctionnement corrigée. La correction de cette variable de fonctionnement est mise en œuvre au moyen d’une boucle de rétroaction asservissant la tension de commande de la machine électrique à une valeur prédite de cette tension de commande. Puis, l’invention met en œuvre, en fonction du régime de fonctionnement de la machine électrique, un asservissement complet ou un asservissement à tension fixe pour déterminer les consignes de tension.
L’invention concerne un procédé de commande d’une machine électrique pilotée par un onduleur pourvu de plusieurs bras de commutation, dans lequel on met en œuvre les étapes suivantes :