INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Avant mélange, la nourriture est prédécoupée (6).
Les végétaux crus suivent un parcours particulier et sont conditionnés et mis en plateaux (7).
Selon un mode de réalisation particulier, durant l’étape E4, la pression du gaz présent dans la cavité 28 du moule d’assemblage 20 est maintenue, pendant la période d’assemblage, inférieure à -0,5 bar, préférentiellement entre -0,7 bar et -1 bar. Autrement dit, l’étape E4 est réalisée dans des conditions proches du vide, pour éviter le défauts dans la pièce finale (bulle, délamination…).
Préférentiellement, l’étape E4 comprend une étape E41 durant laquelle les première et deuxième parties de moule 22, 24 du moule d’assemblage 20 exercent, sur l’empilement, une pression mécanique inférieure ou égale à 5 bars. Cette pression mécanique, repérée par les flèches F1 sur la durant les phases P2 et P3, peut être obtenue par le fait que le moule d’assemblage 20 soit associé à une presse apte à exercer cette pression mécanique, par exemple une presse chauffante adaptée en sus à la mise en température nécessaire à la mise en œuvre de l’étape E4.
Ainsi, l’étape E4 est préférentiellement opérée à une pression inférieure à 5 bars et une température comprise entre 70 et 180°C, préférentiellement entre 80°C et 150°C, laquelle température permet l’intégration des cellules photovoltaïques 16 dans l’ensemble encapsulant 18. La température de cette mise en œuvre doit être soigneusement ajustée pour éviter autant que possible le fluage de l’ensemble encapsulant 18, favorisé par la forme gauche du module photovoltaïque 10. De même, l’entrefer 26 du moule d’assemblage 20 doit être ajusté avec précision pour ne pas endommager les cellules photovoltaïques 16.
Préférentiellement, l’étape E41 débute après que la température fonctionnelle Tfonc (voir ) soit atteinte, après une période prédéterminée non nulle comprise entre 0,5 min et 2 min et préférentiellement de l’ordre de 1 min. Cette période est par exemple visible sur la et notée Δ. En pratique, la température fonctionnelle Tfonc peut correspondre à la température de fusion de l’encapsulant. Cette durée non nulle permet de laisser le temps de tirer le vide dans la cavité et de permettre la diffusion thermique de la température du moule au cœur de la pièce pour ramollir l’encapsulant.
Alternativement, et même si cela présente un peu plus de risque de casse en raison d’un manque de fluidité de l’encapsulant au moment où il vient juste de franchir la température de transition vitreuse, il reste envisageable que l’étape E41 puisse débuter dès que la température fonctionnelle Tfonc évoquée en lien avec l’étape E4 est atteinte.
Selon un mode de réalisation préférentiel, l’étape E41 est mise en œuvre durant une période comprise entre 30 s et 10 min. Cette durée doit être soigneusement ajustée là encore pour éviter autant que possible le fluage de l’ensemble encapsulant 18, favorisé par la forme gauche du module photovoltaïque 10, une fois que les matériaux d’encapsulation ont suffisamment fondu pour pénétrer entre les cellules photovoltaïques 16 et pour pouvoir adhérer, après refroidissement, à la première couche 12, à la deuxième couche 14 et aux cellules photovoltaïques 16.
De manière générale, il est avantageux de prévoir que l’étape E4 soit la plus courte possible pour optimiser le temps de cycle, tout en prenant soin, bien entendu, d’ajuster les paramètres de température et de durée afin d’arriver au résultat défini pour l’étape E4 vis-à-vis de l’ensemble encapsulant 18 à obtenir, notamment en fonction de la nature et de l’épaisseur de l’au moins un matériau d’encapsulation 181, 182.
Selon un mode de réalisation particulier, le procédé de fabrication comprend une étape E5 consistant à chauffer le moule d’assemblage 20 à une température supérieure ou égale à la température fonctionnelle Tfonc, l’étape E5 étant mise en œuvre avant l’étape E4.
Alternativement à l’étape E5 ou de manière combinée à celle-ci, le procédé de fabrication peut comprendre une étape E6 consistant à chauffer l’empilement au moyen d’une source de chaleur par infrarouge, l’étape E6 étant réalisée après l’étape E3 et avant l’étape E4.
Enfin, le procédé de fabrication comprend une étape E7 de refroidissement de l’empilement, ladite étape E7 étant assurée pendant que les première et deuxième parties de moule 22, 24 du moule d’assemblage 20 exercent, sur l’empilement, une pression mécanique inférieure ou égale à 5 bars. La pression mécanique appliquée durant l’étape E7, durant laquelle notamment les deux parties de moule 22, 24 du moule d’assemblage 20 subissent une diminution de température et durant laquelle le module photovoltaïque 10 tel qu’issu de l’étape E4 transfère des calories au moule d’assemblage 20 en vue de son refroidissement, peut être différente ou égale à la pression mécanique F1 exercée durant l’étape E41 décrite précédemment, en fonction des besoins. Cette étape E7 peut éventuellement s’opérer dans un autre moule que les moules utilisés dans les autres étapes précédentes, moyennant toutefois la conservation de l’entrefer adapté. La pression doit être un minimum maintenue.
Dans ce qui vient d’être décrit, le premier entrefer prédéterminé 26 utilisé pour la mise en œuvre de l’étape E4 est préférentiellement au minimum égal à une valeur égale à la somme des épaisseurs de chaque pli ou couche appartenant à l’empilement moins un certain écart compris dans une plage comprise entre 0,1 et 0,3 mm et préférentiellement égal à 0,2 mm, et préférentiellement au maximum égal à la somme des épaisseurs de chaque pli ou couche appartenant à l’empilement.
Les figures 7 et 8 représentent les différentes situations à quatre phases successives P1 à P4 d’un exemple de procédé de réalisation reprenant les enseignements généraux listés précédemment, ces phases P1 à P4 étant associées en particulier à la mise en œuvre de l’étape E4.
Ces phases successives P1 à P4 sont notamment appliquées sur un empilement comprenant la première couche 12, les cellules photovoltaïques 16 prises en sandwich entre deux matériaux d’encapsulation 181, 182, et la deuxième couche 14, où la première couche 12 et la deuxième couche 14 présentent chacune une forme gauche, en particulier conformé typiquement avec une courbure qui peut être identique ou différente selon deux axes distincts d’un repère associé au module photovoltaïque, et de surcroit possiblement réalisé en utilisant uniquement des matières recyclables.
Dans une première phase P1, il est procédé à une augmentation de la température du moule d’assemblage 20. C’est la raison pour laquelle, dans la phase P1, la courbe illustrée sur la (laquelle représente l’évolution de la température (en ordonnées) du moule d’assemblage 20 en fonction du temps (en abscisses)) se présente sous la forme d’un profil croissant dans le temps, par exemple de manière rectiligne. A titre d’exemple, le moule d’assemblage 20 est associé à une presse chauffante et sa température augmente à une vitesse de 4°C/min, jusqu’à atteindre une température nominale à la fin de la phase P1. Cette température nominale, qui peut être comprise entre 80°C et 150°C, est ici strictement supérieure à la température fonctionnelle Tfonc évoquée précédemment. Il est à noter que la phase P1 peut être initiée après la mise en œuvre de l’étape E3, ce qui implique alors que l’empilement (qui présente alors une épaisseur notée E1) est déjà mis en place entre les deux parties de moule 22, 24 du moule d’assemblage 20. L’apport de chaleur à l’empilement dû au phénomène de chauffe du moule d’assemblage 20 est schématisé par les flèches F0. Alternativement l’assemblage peut être réalisé en dehors du moule d’assemblage 20, et simultanément à la chauffe du moule d’assemblage 20, permettant un gain de temps, l’empilement étant alors déposé dans le moule d’assemblage 20 déjà chaud
Puis la deuxième phase P2 débute, laquelle correspond concrètement à la mise en œuvre de l’étape E41. Le décalage temporel entre le moment où la température fonctionnelle Tfonc a été atteinte et le début de la phase P2, correspond à la période Δ déjà décrite, comprise entre 0,5 min et 2 min et préférentiellement de l’ordre de 1 min. Pour la mise en œuvre de la phase P2, les deux parties de moule 22, 24 subissent un rapprochement relatif schématisé par la flèche D1, jusqu’à être distant l’un de l’autre d’une distance égale à la valeur du premier entrefer prédéterminé 26. Dans ce rapprochement relatif des parties de moule 22, 24, le moule d’assemblage 20 exerce la pression mécanique (par exemple d’environ 5 bars), schématisée par les flèches F1, évoquée en lien avec l’étape E41, ce qui implique une compression de l’empilement présent dans la cavité 28 du moule d’assemblage 20. L’empilement subit alors une réduction de son épaisseur, laquelle passe de la valeur K1 à une valeur notée K2. Durant toute la phase P2, le moule d’assemblage 20 est maintenu en température à la température nominale (c’est la raison pour laquelle, dans la phase P2, la courbe illustrée sur la se présente sous la forme d’un profil constant dans le temps) et continue de chauffer l’empilement, d’où la présence des flèches F0 dans la phase P2 sur la . La phase P2 est mise en œuvre durant une période comprise entre 30 s et 10 min, notamment entre 3 min et 5 min et préférentiellement de l’ordre de 4 min. Cette durée doit être soigneusement ajustée pour éviter autant que possible le fluage de l’ensemble encapsulant 18, favorisé par la forme gauche du module photovoltaïque 10, une fois que l’au moins un matériau d’encapsulation 181, 182 a suffisamment fondu pour pénétrer entre les cellules photovoltaïques 16 et pour pouvoir adhérer, après refroidissement, à la première couche 12, à la deuxième couche 14 et aux cellules photovoltaïques 16.
Puis la troisième phase P3 débute, durant laquelle il est procédé à une diminution de la température du moule d’assemblage 20 et c’est la raison pour laquelle, dans la phase P3, la courbe illustrée sur la se présente sous la forme d’un profil décroissant dans le temps, par exemple de manière rectiligne. Il s’agit de la mise en œuvre de l’étape E7 décrite précédemment. A titre d’exemple, la température du moule d’assemblage 20 diminue à une vitesse de 8°C/min, jusqu’à atteindre la température initiale du début de la phase P1. Le transfert de chaleur du module photovoltaïque 10 vers le moule d’assemblage 20 est schématisé par les flèches F2. En outre, durant toute la phase P3, une pression mécanique continue d’être exercée par le moule d’assemblage 20. La pression mécanique appliquée alors que les deux parties de moule 22, 24 du moule d’assemblage 20 subissent la diminution de température peut être égale à la pression mécanique exercée durant la phase P2 décrite précédemment (c’est la raison pour laquelle dans la phase P3 sur la la pression mécanique est schématisée par les mêmes flèches F1 que durant la phase 2), ou peut être différente en fonction des besoins.
Des rainures peuvent être réalisées sur les autres composants pour réduire les surfaces d’échanges, notamment entre la couronne thermique DT et l’anneau, ou dans le bol.
L’avantage de ces rainures par rapport à une solution de réduction de la largeur L de la partie cylindrique B1 (ici de 46,5 mm) est de pouvoir : - Positionner des ponts thermiques à des endroits où le flux thermique est maximal ; - Ne pas réduire la largeur de la couronne thermique DT et conserver les propriétés correspondantes pour des cycles thermiques à forts niveaux énergétiques.
Le gain thermique a été validé par calculs par éléments finis et est visualisable en . Les références F2, F1, C1 et C2 sont des lignes isothermes respectivement plus froide et moins froide, moins chaude et plus chaude. On obtient ainsi un lissage des températures et un gradient thermique plus faible. Par conséquent, les contraintes thermomécaniques seront moins élevées.
La illustre bien les ponts thermiques autour des rainures circonférentielles RC. L’effet isolant des rainures circonférentielles RC est démontré car la chaleur n’est pas transmise dans la couronne thermique DT.
Ainsi, on canalise le transfert chaleur en fonction des dimensions des rainures RC, et on répartit le flux thermique entre l’anneau F et le bol B.
Certains aspects supplémentaires sont prévus pour éviter un glissement axial relatif de l’anneau F par rapport à la couronne thermique DT et/ou la partie cylindrique B1. Ces aspects évitent des impacts mécaniques ou géométriques sur le bol B avec un risque de déformation de la piste de freinage. En effet, les tolérances sur la piste de freinage sont serrées pour éviter les problèmes de vibration. En fonctionnement et lors de freinages, ces solutions permettent de limiter les gradients thermiques et d’avoir, autant que possible, des températures homogènes.
Ainsi, dans une variante, le tambour de frein comprend au moins un poinçon tangentiel P de maintien d’au moins deux de ses composants. Le nombre est de préférence supérieur à 1 avec une répartition circulaire uniforme pour éviter les problèmes de balourd. Il s’agit d’au moins l’anneau F et la partie cylindrique B1, comme on peut le voir sur la . Le poinçon P est dans le sens tangentiel et parallèle à l’axe A1. Le poinçon P est représenté par un petit disque sur le bord du composant en cause montrant la matière écrasée.
Plus précisément, il s’agit des emboutis locaux (par poinçonnage) répartis tangentiellement de manière uniforme et dont le nombre est dépendant de la tenue souhaitée. Le diamètre du poinçon dépend de l’épaisseur de tôle. Il est possible de couvrir l’anneau F et la couronne thermique DT. Le poinçon P peut être cylindrique ou dans une autre forme. Sa base peut être différente, par exemple ovale ou autre, pour améliorer la tenue mécanique du poinçon. Il est bien sûr possible d’appliquer axialement le poinçon P du côté du moyeu ou du côté de l’ouverture du bol B.
Selon une variante, le tambour de frein comprend au moins un repli local RF d’anneau F, débordant d’un bord de la couronne thermique DT, maintenant ladite couronne DT dans le sens axial. Le repli local RF d’anneau F, pouvant être appelé ergot RF, est visible sur les figures 5 et 7. Dans cette solution technique, on replie localement une languette de l’anneau F sur un bord de la couronne thermique DT du côté de l’ouverture du bol B ou de préférence du côté du moyeu comme on peut le voir sur la . Dans l’exemple illustré, la couronne thermique DT a des bords droits et la base de la couronne est de même épaisseur que la partie cylindrique B1. La matière nécessaire pour réaliser ce repli est peu importante car l’anneau F est contre la couronne thermique DT. Le nombre est supérieur à 1 avec une répartition circulaire uniforme pour éviter les problèmes de balourd.
Selon une variante, le tambour de frein comprend au moins un repli local RT de bol B maintenant la couronne thermique DT dans le sens axial. Le repli local RT de bol est visible sur la . Cette solution technique repli localement une languette de la partie cylindrique B1 sur un bord de la couronne thermique DT du côté du moyeu ou de préférence du côté de l’ouverture du bol B. La matière nécessaire pour réaliser ce repli est plus importante que dans le cas précédent.
Le blocage en translation de l’anneau F par rapport au bol B est assuré par un frettage de l’ensemble, autrement dit un emmanchement avec serrage. Ce frettage peut être accru par l’ajout de moletage sur l’un de ces deux composants.
Alternativement, un collage de l’anneau F et de la partie cylindrique B1 peut être réalisé avec une colle à haute température par exemple à base silicone ou colle céramique. La colle a par exemple une résistance supérieure à 300°C.
L’invention concerne en outre un véhicule automobile comprenant un tambour de frein tel que décrit précédemment.
L’invention porte en outre un procédé de fabrication d’un tambour de frein tel que décrit précédemment.
Le tambour de frein comprend un bol B, un anneau F et une couronne thermique DT décrits précédemment.
Le procédé comprend au moins une étape pour mettre en place au moins une rainure circonférentielle RC entre des surfaces de contact de composants du tambour de frein par rapport à au moins une zone de fortes contraintes thermiques. Il s’agit en particulier les surfaces de contact l’anneau F et de la partie cylindrique B1.
L’unité de commande peut en outre être configurée pour : - commander le générateur d’électroporation seul pour que ledit générateur d’électroporation génère le signal électrique d’électroporation, - commander le générateur de ionophorèse seul pour que ledit générateur de ionophorèse génère le signal électrique de ionophorèse.
L’unité de commande peut être déportée par rapport au corps, le système de traitement comportant en outre une interface de communication entre l’unité de commande et les générateurs d’électroporation et de ionophorèse.
Selon un autre aspect de la divulgation, il est proposé une installation de traitement d’une zone anatomique d’un être vivant, la zone anatomique étant recouverte par une couche de peau, comprenant : - un système de traitement tel que défini précédemment, - un dispositif de traitement par radiofréquence comportant un générateur de radiofréquence configuré pour générer un signal de radiofréquence, un ensemble d’électrodes de radiofréquence comprenant au moins deux électrodes de radiofréquence et configuré pour délivrer le signal de radiofréquence, et un corps additionnel configuré pour être tenu à la main par un praticien, le corps additionnel présentant une surface de traitement par radiofréquence configurée pour être placée en contact avec la couche de peau de la zone anatomique, l’ensemble d’électrodes de radiofréquence étant agencé sur la surface de traitement par radiofréquence.
Le corps additionnel peut comprendre une tête comportant la surface de traitement par radiofréquence, et une poignée agencée à l’opposé de la surface de traitement par radiofréquence et configurée pour être tenue à la main par le praticien, le corps additionnel comportant intérieurement un logement recevant le générateur de radiofréquence.
Le dispositif de traitement par radiofréquence peut être bipolaire, le signal de radiofréquence ayant une fréquence comprise entre 3 kHz et 300 MHz et une énergie comprise entre 10 J.cm -3 et 100 J.cm -3 .
L’installation de traitement peut comprendre en outre un dispositif de photothérapie comportant une source lumineuse configurée pour émettre une lumière de photothérapie et un support présentant une surface d’application configurée pour être placée en regard de la couche de peau de la zone anatomique, ladite au moins une source lumineuse étant agencée sur la surface d’application.
Le support peut constituer un masque configuré pour être porté sur au moins une partie de visage comme zone anatomique.
La source lumineuse peut comprendre au moins un groupe de diodes électroluminescentes choisies parmi : - des diodes électroluminescentes monochromatiques dont la lumière de photothérapie a une longueur d’onde comprise entre 620 nm et 660 nm et une puissance comprise entre de 2 mW/cm² et 5 mW/cm² à 1cm de la couche de peau, - des diodes électroluminescentes monochromatiques dont la lumière de photothérapie a une longueur d’onde comprise entre 820 nm et 840 nm et une puissance comprise entre de 1,5 mW/cm² et 3 mW/cm² à 1cm de la couche de peau.
Selon un autre aspect de la divulgation, il est proposé un procédé de traitement d’une zone anatomique d’un être vivant, la zone anatomique étant recouverte par une couche de peau, le procédé de traitement mettant en œuvre le système de traitement tel que défini précédemment, le procédé de traitement prévoyant : - de placer la surface de traitement en contact avec la couche de peau de la zone anatomique, - d’appliquer au moins un traitement choisi parmi une électroporation et une ionophorèse, l’électroporation étant appliquée en générant le signal électrique d’électroporation par le générateur d’électroporation et en délivrant le signal électrique d’électroporation par l’ensemble d’électrodes d’électroporation sur la couche de peau, et la ionophorèse étant appliquée en générant le signal électrique de ionophorèse par le générateur de ionophorèse et en délivrant le signal électrique de ionophorèse par les première et deuxième électrodes de ionophorèse sur la couche de peau.
Le procédé de traitement peut prévoir de déplacer la surface de traitement sur la couche de peau de la zone anatomique.
Le procédé de traitement peut prévoir d’appliquer conjointement l’électroporation et la ionophorèse, les signaux électriques d’électroporation et de ionophorèse étant délivrés d’une manière synchronisée telle que chaque créneau de courant électrique continu du signal électrique de ionophorèse est généré dans l’intervalle de temps entre deux trains d’impulsions électriques successifs après qu’une temporisation s’est écoulée.
Le procédé de traitement peut prévoir de tenir la poignée avec une première main du praticien, la première main étant en contact avec la deuxième électrode de ionophorèse, et de mettre une partie de la deuxième main du praticien en contact avec une zone de peau opposée à la couche de peau de la zone anatomique, en regard de la surface de traitement.
– les figures 1 et 2 représentent des vues en élévation et en coupe longitudinale d’un système de traitement d’une zone anatomique d’un être vivant selon un mode de réalisation, le système de traitement comprenant un dispositif d’électroporation et un dispositif de ionophorèse intégrés à un corps,
– la est une représentation en plan d’une tête du corps du système de traitement de la , illustrant un agencement d’électrodes d’électroporation du dispositif d’électroporation et d’une première électrode de ionophorèse du dispositif de ionophorèse,
– la est une représentation agrandie du détail référencé IV sur la ,
La tension de commande est égale à la tension maximale v smax , La norme de courant i 0 est égale à la consigne, mais l’angle de défluxage δ n’est pas asservi, La tension prédite est supérieure à la tension maximale v smax obtenue, cela signifie que l’angle de défluxage est inférieur à celui attendu, le couple obtenu est donc supérieur à celui attendu, La variable de fonctionnement corrigée VAR corr évolue dans le sens de l’augmentation de la tension de commande. Si la variable de fonctionnement corrigé VAR corr est le régime, le régime corrigé diminue. Le calcul des consignes i d sp et i q sp par le modèle de contrôle MCO, obtenu via la variable de fonctionnement corrigée VAR corr , évolue dans le sens de la diminution du défluxage, à iso consigne de couple de commande (Cem* constant), ce qui entraîne aussi une diminution de la consigne de la norme de courant. La consigne de norme de courant étant asservie, la norme du courant obtenu diminue ainsi que le défluxage δ mais à iso amplitude de la tension de commande Iso-Vabs, Structurellement pour toutes les machines électriques synchrones assistés d’aimants, les trajectoires d’évolution de l’angle de défluxage à iso-couple et à iso-amplitude de la tension de commande se rejoignent, Lorsque les angles de défluxage de consigne et obtenus sont égaux, la tension prédite est égale à la tension maximale autorisée U smax , puisqu’elle est déterminée à l’aide de la variable de fonctionnement corrigée VAR corr , ainsi le système se stabilise, Enfin, les consignes de norme de courant (asservie) et d’angle de défluxage sont égales aux valeurs obtenues, ce qui permet d’obtenir la consigne de couple Cem*.
Ces étapes se traduisent sur la par la flèche qui va du point blanc Ci (consigne initiale) au point noir Cf (consigne finale), sur une courbe de couple constant, et par la flèche qui va du point gris mes (mesure) au point noir Cf (mesure finale) sur une courbe de tension constante, et avec une diminution de l’angle de défluxage δ. Les deux flèches se rejoignent donc en unique point, qui montre la convergence du procédé selon l’invention.
Dispositif et procédé de commande d’une machine synchrone et d’estimation de la position rotor, du démarrage à une faible vitesse prédéterminée DOMAINE TECHNIQUE DE L’INVENTION Le domaine technique de l’invention est celui de la commande des machines électriques tournantes synchrones dépourvues d'un capteur de position angulaire par une estimation d’une position angulaire d’un rotor par rapport à un stator.