INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Exposé détaillé d’au moins un mode de réalisation Sur la on a représenté schématiquement une vue en coupe d’une nacelle 1 de turbomachine 2 d’aéronef, qui comprend deux antennes 3 à retournement temporel reliées à une unité centrale 4.
Le retournement temporel est une technique permettant de focaliser spatialement et temporellement une onde à partir du signal reçu en différents points du milieu. Cette technique est applicable à tout type d’onde quelle que soit sa bande de fréquence, autrement dit elle est utilisable pour des ondes radio dans la plage de fréquences « ultra haute fréquence » ou UHF, situées entre 860 et 930 MHz.
Il est à noter que la technique de retournement temporel fonctionne d’autant mieux dans un milieu clos réverbérant, dans lequel les ondes réfléchissent et se diffusent en de multiples trajets.
A l’intérieur de la nacelle, on a représenté des équipements montés sur la turbomachine 2, tels que E1, E2 ou E3 munis chacun d’une radio-étiquette individuelle.
L’unité centrale 4 comprend des moyens de calcul 5, des moyens de mesure 6 et des moyens de contrôle 7. L’unité centrale 4 est reliée également à un lecteur de radio-identification 8.
On va maintenant décrire en référence à la un procédé d’inventorisation 10 permettant de réaliser l’inventaire des équipements montés sur une turbomachine 2.
Un tel procédé est notamment mis en œuvre par l’unité centrale 4.
Le procédé 10 débute par une étape 1 au cours de laquelle l’unité centrale 4 effectue une cartographie du champ électromagnétique à l’intérieur de la nacelle 1 de la turbomachine 2.
Selon un mode de réalisation, une étape de traitement de surface de la couche intermédiaire peut être réalisée, en particulier un traitement par plasma, encore plus en particulier un plasma d’oxygène O 2 . Un traitement par plasma est un traitement par voie sèche qui permet la fonctionnalisation et/ou l’activation de la surface. Le traitement de surface plasma consiste en une très forte oxydation de la surface d'un matériau. L'oxydation des molécules de surface permet d'augmenter la tension de surface d'un support. Le traitement de plasma permet la création de radicaux libres en surface qui favorisent l’adhésion successive d’une couche mince en contact avec ces radicaux libres. Ainsi, le traitement de surface plasma permet d'améliorer les caractéristiques chimiques du matériau pour une meilleure adhésion à une couche de revêtement. Ainsi, l’étape de traitement par plasma du procédé selon l’invention permet d’améliorer l’adhérence entre la couche diélectrique formée sur le substrat piézoélectrique et la couche polymère du substrat donneur, et résulte en une stabilité mécanique du substrat donneur améliorée par rapport à l’état de l’art.
Selon un mode de réalisation, une étape d’amincissement du substrat piézoélectrique du substrat donneur peut être réalisée, de manière à obtenir soit un substrat piézoélectrique aminci avec une épaisseur t inférieure à t 1 du substrat piézoélectrique, soit une couche piézoélectrique d’une épaisseur t 2 inférieure à l’épaisseur t 1 du substrat piézoélectrique. L’étape d’amincissement peut être réalisée par un procédé de meulage ou bien par un procédé de gravure chimique du substrat piézoélectrique. Ainsi, à partir d’un substrat épais piézoélectrique, un substrat piézoélectrique plus mince ou une couche piézoélectrique d’une épaisseur voulue plus mince est obtenu/e et le substrat donneur ainsi fabriqué par le procédé selon l’invention peut être utilisé comme substrat donneur dans un processus ultérieur de transfert de couche pour transférer une fine couche du matériau piézoélectrique sur un substrat support pour former ainsi un substrat piézoélectrique sur isolant (POI). L'utilisation d'un substrat piézoélectrique plus fin permet de réduire les problèmes ultérieurs dus à une non-symétrie des coefficients de dilatation thermique et ainsi de minimiser la déformation de l'assemblage lors de l'application d’étapes ultérieures de procédé.
Selon un mode de réalisation, l’étape d’assemblage du procédé de fabrication d’un substrat donneur peut comprendre une étape de traitement de la couche polymère pour obtenir une couche polymère réticulée pour coller le substrat de manipulation au substrat piézoélectrique. La formation d’une couche polymère réticulée par une étape de traitement de la couche polymère est simple à mettre en place et permet une adhésion qui satisfait les conditions du procédé.
L’objet de l’invention est aussi réalisé par un substrat donneur pour le transfert d’une couche piézoélectrique comprenant un substrat de manipulation, en particulier un substrat à base de silicium, un substrat piézoélectrique, une couche polymère en sandwich entre le substrat de manipulation et le substrat piézoélectrique, et caractérisé en ce que le substrat donneur comprend en outre une couche intermédiaire en sandwich entre le substrat piézoélectrique et la couche polymère. Grace à la présence de la couche intermédiaire en sandwich entre le substrat piézoélectrique et la couche polymère, une meilleure liaison est réalisée entre le substrat piézoélectrique et la couche polymère. Cette liaison résulte en un substrat donneur ayant une stabilité mécanique améliorée et permet d’utiliser ce substrat donneur dans des procédés à posteriori sans rencontrer des problèmes de décollage au niveau de l’interface polymère - piézoélectrique.
Selon un mode de réalisation, la couche intermédiaire peut comprendre une seule couche ou plusieurs sous-couches.
Selon un mode de réalisation, la couche intermédiaire peut comprendre au moins une couche diélectrique, en particulier une couche à base d’oxyde de silicium et/ou de nitrure de silicium ou une combinaison de nitrure et d’oxyde de silicium SiO x N y . L’utilisation d’une couche diélectrique formée sur un matériau piézoélectrique permet par la suite d’utiliser le substrat piézoélectrique pour assemblage à un autre substrat pour former un substrat donneur via cette couche diélectrique d’une manière solide et stable pour les différentes étapes de procédé que va ensuite subir le substrat donneur.
Selon un mode de réalisation, la couche diélectrique de la couche intermédiaire peut être en contact direct avec la couche polymère du substrat donneur. Ainsi, la liaison entre le substrat piézoélectrique et la couche polymère du substrat donneur se fait via la couche diélectrique, ce qui permet d’obtenir une liaison stable pour que le substrat donneur subisse par la suite des étapes de procédé thermiques et/ou mécanique sans souffrir de dégradation au niveau de la liaison piézoélectrique – polymère.
Selon un mode de réalisation, la couche polymère peut être une couche adhésive polymérisée pour coller le substrat piézoélectrique au substrat de manipulation via la couche intermédiaire du substrat piézoélectrique. La présence d’une couche polymère réticulée permet d’obtenir une liaison stable avec la couche intermédiaire du substrat piézoélectrique.
Selon un mode de réalisation, le substrat piézoélectrique peut être un substrat de Tantalate de Lithium (LTO), de Niobate de Lithium (LNO), de Nitrure d’Aluminium (AlN), de Titano-Circonate de Plomb (PZT), de Langasite ou de Langatate. Le substrat donneur selon l’invention peut comprendre ces matériaux, qui jouent un rôle majeur dans les dispositifs exploitant l'effet piézoélectrique.
L’objet de l’invention peut aussi être réalisé par un procédé de transfert d’une couche piézoélectrique sur un substrat support comprenant les étapes de fournir un substrat donneur comme décrit auparavant avec un substrat piézoélectrique aminci ou obtenu par la mise en œuvre du procédé de fabrication comme décrit auparavant, former une zone de fragilisation à l’intérieur du substrat piézoélectrique, fournir un substrat support, en particulier un substrat à base de silicium, attacher le substrat donneur sur le substrat support, pour obtenir un assemblage substrat donneur – substrat support, et réaliser la fracture le long de la zone de fragilisation pour séparer une couche piézoélectrique du restant du substrat donneur.
Dans un tel procédé, grâce à l’usage d’un substrat donneur obtenu selon le procédé de fabrication décrit plus tôt, qui présente une meilleure stabilité mécanique au niveau de la liaison du matériau piézoélectrique avec la couche polymère grâce à la présence de la couche intermédiaire, le risque de décollement du matériau piézoélectrique dans l’assemblage substrat support – substrat donneur lors de la réalisation des différentes étapes de procédé appliquées à posteriori à l’assemblage substrat donneur – substrat support et qui est dû aux différences dans les coefficients de dilatation thermique est réduit. Ainsi, l’utilisation de substrats donneurs fabriqués selon l’invention permet la fabrication de substrats POI avec un meilleur rendement.
L’invention et ses avantages seront expliqués plus en détail dans la suite au moyen de modes de réalisation préférés et en s’appuyant notamment sur les figures d’accompagnement suivantes, dans lesquelles les numéros de référence identifient des caractéristiques de l’invention.
représente schématiquement un procédé de fabrication d’un substrat donneur et un substrat donneur selon un premier mode de réalisation de l’invention.
représente schématiquement un procédé de fabrication d’un substrat donneur et un substrat donneur selon une première variante du premier mode de réalisation de l’invention.
représente schématiquement un procédé de fabrication d’un substrat donneur et un substrat donneur selon une deuxième variante du premier mode de réalisation de l’invention.
représente schématiquement un procédé de fabrication d’un substrat donneur et un substrat donneur selon un deuxième mode de réalisation de l’invention.
Dans certains modes de réalisation, le système cristallin du nitrure de tantale de la couche principale est cubique. En effet, bien qu’un peu moins conducteur que le nitrure de tantale hexagonal, le nitrure de tantale cubique bénéficie également d’une excellente résistance à la corrosion, tout particulièrement lorsqu’il est dopé comme c’est le cas ici.
Dans certains modes de réalisation, la teneur totale en dopants au sein de la couche principale est comprise entre 1 ppm et 10% at, de préférence entre 10 ppm et 1% at, de préférence encore entre 0,2 et 0,5% at.
Dans certains modes de réalisation, l’élément dopant principal est choisi parmi le zirconium, le hafnium, le titane, le vanadium, le niobium, le chrome ou le molybdène.
Dans certains modes de réalisation, l’élément dopant utilisé, de préférence unique, est le titane (Ti). En effet, le titane bénéficie d’une bonne tenue en environnement alcalin. De plus, il s’agit d’un élément assez peu onéreux. En particulier, la durée de vie d’une pile à combustible à électrolyte alcalin étant relativement courte, il est rare que la pile à combustible fonctionne une durée suffisamment longue pour voir apparaitre un phénomène de pollution interne important : dans ces conditions, il est superflu de sélectionner des matériaux plus résistants mais plus onéreux.
Dans certains modes de réalisation, l’élément dopant utilisé, de préférence unique, est le vanadium (V). En effet, le vanadium forme très facilement une solution solide avec le nitrure de tantale, ce qui augmente sa stabilité. De plus, le vanadium s’oxyde difficilement : en conséquence, même si une petite fraction de vanadium se retrouve libérée dans le milieu de la pile à combustible ou de l’électrolyseur, son impact sur l’électrolyte ou les catalyseurs sera très faible.
Dans certains modes de réalisation, la teneur du dopant principal au sein de la couche principale est comprise entre 1 ppm et 10% at, de préférence entre 10 ppm et 1% at, de préférence encore entre 0,2 et 0,5% at.
Dans certains modes de réalisation, l’épaisseur du revêtement anticorrosion est comprise entre 5 nm et 5 µm, de préférence entre 10 nm et 1 µm, de préférence encore entre 100 nm et 300 nm.
Dans certains modes de réalisation, le revêtement anticorrosion comprend plusieurs couches superposées, de préférence entre 2 et 10 couches, le matériau de la couche principale constituant un matériau principal, et le revêtement anticorrosion comprenant au moins une couche secondaire à base d’un matériau secondaire différent du matériau principal. Une telle structure multicouche permet de renforcer la résistance mécanique du revêtement, chaque interface entre deux couches distinctes contribuant à dévier les éventuelles fissures apparaissant dans le matériau. En conséquence, il est possible de réduire le risque qu’une fissure ne se propage jusqu’au substrat, permettant ainsi au substrat de rester protégé contre la corrosion.
Dans certains modes de réalisation, le revêtement anticorrosion comprend au moins trois couches comprenant chacune un matériau différent.
Dans certains modes de réalisation, chaque couche du revêtement comprend une épaisseur comprise entre 1 et 500 nm, de préférence entre 10 et 100 nm.
Dans certains modes de réalisation, la couche la plus haute du revêtement anticorrosion est une couche principale réalisée dans le matériau principal. La première ligne de protection est ainsi assurée par le matériau principal, qui est généralement celui bénéficiant des meilleures propriétés anticorrosion. Toutefois, dans d’autres modes de réalisation, la couche la plus haute du revêtement anticorrosion pourrait être une couche secondaire.
Dans certains modes de réalisation, le matériau principal constitue au moins 30% en volume, de préférence au moins 50% en volume, du revêtement anticorrosion. On assure ainsi, au global, une protection anticorrosion particulièrement élevée.
Dans certains modes de réalisation, le revêtement anticorrosion comprend une alternance de couches à base alternativement du matériau principal et du matériau secondaire. Une telle alternance est particulièrement efficace pour arrêter les fissures avant d’atteindre le substrat.
Dans certains modes de réalisation, le matériau secondaire est du nitrure de tantale de cristallographie possédant un système cristallin et/ou un dopage différent du matériau principal. En particulier, le matériau secondaire peut comprendre un ou plusieurs éléments dopants différents, ou bien être non dopé. De cette manière, le matériau secondaire présente des propriétés anticorrosion qui restent très élevées, ce qui permet d’assurer une protection anticorrosion satisfaisante même en cas de fissuration de la couche principale.
Dans certains modes de réalisation, la couche secondaire est constituée essentiellement par le matériau secondaire.
Dans certains modes de réalisation, la couche secondaire est biphasée ou multiphasée. En particulier, la couche secondaire peut présenter un gradient de composition, par exemple dans le sens perpendiculaire au substrat.
Selon un mode de réalisation de l’invention, le dispositif est un dispositif parmi un connecteur électrique, une pompe à eau, un raccord fluidique, un boitier électronique, un composant électrotechnique, une conduite, un câble électrique, un capteur.
L’invention a également pour objet un véhicule automobile comprenant un châssis, et comprenant, fixé sur ce châssis : - un groupe électro-propulseur comprenant une machine motrice électrique et un onduleur fixé sur la machine motrice électrique, - un organe environnant, le groupe électro-propulseur comprenant un support tel que précédemment décrit, l’organe environnant étant fixé en vis-à-vis de la face de la paroi du support.
L’onduleur alimente la machine motrice électrique en courant, et l’ensemble du groupe électro-propulseur est par exemple monté dans un compartiment moteur du véhicule dont un tablier forme une cloison. L’organe environnant est par exemple un chargeur et/ou un convertisseur de courant, fixé sur ce tablier en vis-à-vis de la face de la paroi du support, ou encore une batterie de stockage d’énergie électrique alimentant un réseau de bord du véhicule et/ou l’onduleur de la machine motrice électrique. Ce chargeur et/ou un convertisseur de courant alimente par exemple la batterie. Mais d’autres organes environnants sont envisageables, comme un élément d’un système de freinage du véhicule, ou une barre anti-rapprochement du châssis rigidifiant ce dernier.
Le groupe électro-propulseur est en général fixé au châssis via des moyens de suspension propres à filtrer les vibrations provenant de la machine motrice électrique. Lors d’un choc frontal, ces moyens de suspension peuvent être amenés à se rompre et/ou le compartiment moteur à se déformer, provoquant une collision entre le chargeur et/ou le convertisseur d’une part, et le groupe électro-propulseur d’autre part. En particulier cette collision peut être localisée sur l’onduleur qui, dans ce cas, comprendra avantageusement le support.
: La , représente trois vues d’un même support selon l’invention : vue de face, de profil (vue B), de dessus (vue A), les notions de dessus, face, profile n’ayant qu’une valeur relative, conventionnelle, ce support pouvant être disposé dans n’importe quel sens dans un véhicule.
Il est à garder à l’esprit que la figure est donnée à titre d'exemple et n’est pas limitative de l’invention. Elle constitue une représentation schématique de principe destinée à faciliter la compréhension de l’invention. Quand il est fait référence à une ou des vues spécifiques, ces vues sont à prendre en combinaison avec les autres figures pour la reconnaissance des références numériques désignées. Les références des éléments inchangés ou ayant la même fonction sont communes à toutes les vues, et les variantes de réalisation.
La divulgue un support selon l’invention, ce support comprenant : - une paroi comprenant une face 1 et - un dispositif 2 fixé à cette paroi, en saillie de la face 1 selon une première hauteur h1 par rapport à la face 1 dont une première hauteur la plus haute du dispositif h10, - une ailette 3 comprenant une base 4 fixée à la face 1, et un bord libre 5 opposé à la base 4 en saillie de la face 1 selon une deuxième hauteur h2 dont une deuxième hauteur la plus haute de l’ailette h20 est supérieure ou égale à la première hauteur la plus haute du dispositif h10.
La deuxième hauteur h2 évolue, selon une direction X parallèle à la base 4, d’une deuxième hauteur minimale h0 jusqu’à la deuxième hauteur la plus haute h20, de sorte que le bord libre 5 forme une rampe.
L’ailette 3 a par exemple sa base 4 comprise dans un plan, et cette base peut être rectiligne ou courbe selon la forme de la face 1. Mais ce n’est pas obligatoire et la base 4 peut suivre une courbe ayant une ou plusieurs inflexions.
On notera que la face 1 est avantageusement plane, mais pas nécessairement : elle peut être concave, convexe, ou comprendre des décrochements. Dans tous les cas les hauteurs h1, h2, h20, h10, h0 sont prises en référence à la face 1, par projection orthogonale du point considéré du dispositif 2 ou du bord libre 5 sur cette face 1.
La première hauteur h1 est l’ensemble des hauteurs du dispositif 2 par rapport à la face 1, une hauteur singulière de cette première hauteur h1 étant la première hauteur la plus haute du dispositif h10, en d’autres termes le sommet du dispositif 2.
La deuxième hauteur h2 est l’ensemble des hauteurs du bord libre 5 par rapport à la face 1, une hauteur particulière de cette deuxième hauteur h2 étant la deuxième hauteur la plus haute de l’ailette h20, en d’autres termes le sommet du bord libre 5. On parlera indifféremment, pour la deuxième hauteur h2, de hauteur du bord libre 5 ou de hauteur de l’ailette 3.
On remarquera que le dispositif 2 sur la est un rectangle parfait fixé sur une face 1 plane. Aussi dans ce cas particulier illustré la première hauteur la plus haute du dispositif h10 est égale à la première hauteur h1, mais ce n’est qu’un cas particulier, et bien sur ce dispositif 2 peut être de forme quelconque et par conséquent comprendre un unique sommet.
On remarquera que l’ailette 3 de la comprend un bord libre 5 dont la deuxième hauteur h2 est continument variable selon la direction X, c’est à dire en se déplaçant le long de sa base 4. Mais ce n’est pas obligatoire et ce bord libre 5 peut comprendre une première portion de deuxième hauteur 2 constante, mais selon l’invention il y aura obligatoirement une deuxième portion dont la deuxième hauteur h2 évolue, selon la direction X parallèle à la base 4, de la deuxième hauteur minimale h0 jusqu’à la deuxième hauteur la plus haute h20, de sorte que le bord libre 5 forme une rampe.
De même cette rampe peut inclure une première portion comprenant une rupture de pente, préférentiellement convexe, mais selon l’invention il y aura obligatoirement cette deuxième portion dont la deuxième hauteur h2 évolue, selon la direction X parallèle à la base 4, de la deuxième hauteur minimale h0 jusqu’à la deuxième hauteur la plus haute h20, de sorte que le bord libre 5 forme une rampe.
Un autre objet de l’invention vise à proposer un nouveau dispositif d’aide au chargement d’une civière à bord d’un véhicule dont la fabrication est simple et peut être réalisée à coût maîtrisé.
Un autre objet de l’invention vise à proposer un nouveau dispositif d’aide au chargement d’une civière à bord d’un véhicule dont la conception lui permet d’être aisément adapté à une grande variété de véhicules.
Un autre objet de l’invention vise à proposer un nouveau dispositif d’aide au chargement d’une civière à bord d’un véhicule qui est capable de s’adapter à tout type de civière, indépendamment de sa conception ou son poids.
Un autre objet de l’invention vise à proposer un nouveau dispositif d’aide au chargement d’une civière à bord d’un véhicule dont la conception assure à des opérateurs/sauveteurs un accès facilité à la personne ou au matériel chargé(e) sur ladite civière.
Un autre objet de l’invention vise à proposer un nouveau dispositif d’aide au chargement d’une civière à bord d’un véhicule dont la structure est simple et ne comprend qu’un nombre limité de pièces distinctes.
Un autre objet de l’invention vise à proposer un nouveau dispositif d’aide au chargement d’une civière à bord d’un véhicule dont la structure est durable, fiable et particulièrement résistante.
Un autre objet de l’invention vise à proposer un nouveau système de chargement permettant d’embarquer une personne, un animal ou du matériel dans un véhicule de manière pratique, rapide et dans des conditions de sécurité optimales.
Un autre objet de l’invention vise à proposer un nouveau véhicule pouvant embarquer une personne, un animal ou du matériel en son sein de manière pratique, rapide et dans des conditions de sécurité optimales.
Les objets assignés à la présente invention sont atteints à l’aide d’un dispositif d’aide au chargement d’une civière à bord d’un véhicule, ladite civière s’étendant longitudinalement entre une première et une deuxième extrémité, ledit dispositif comprenant au moins : – un moyen de guidage sensiblement allongé et inclinable entre une position sensiblement horizontale et une position inclinée, – un premier élément support conçu pour recevoir ladite civière vers ladite première extrémité, ledit premier élément support étant monté à translation relativement audit moyen de guidage de manière à ce qu’en position inclinée, ledit premier élément support puisse passer d’une position haute à une position basse.
Les objets assignés à la présente invention sont également atteints à l’aide d’un système de chargement comprenant au moins une civière et un dispositif d’aide au chargement de ladite civière conforme à l’invention tel que décrit précédemment.
Les objets assignés à la présente invention sont aussi atteints à l’aide d’un véhicule équipé d’un dispositif d’aide au chargement de civière conforme à l’invention tel que décrit ci-avant.
D’autres objets et avantages de l’invention ressortiront plus en détail à la lecture de la description qui suit, et à l’aide des figures annexées fournies à titre purement explicatif et non limitatif, dans lesquelles :
illustre de manière schématique, selon une vue en perspective, un dispositif d’aide au chargement conforme à l’invention selon un mode de réalisation particulier, en position sensiblement horizontale et rétractée.
illustre de manière schématique, selon une vue en perspective, le dispositif d’aide au chargement de la , à la différence qu’il est en position déployée.