Substrat transparent (1000) muni sur une de ses surfaces principales d’un empilement (1001) de couches minces, ledit empilement (1001) de couches est constitué des couches suivantes en partant du substrat (1000) : - un premier module diélectrique (1002) d’une ou plusieurs couches minces ; - une couche absorbante (1003) d’oxyde de tungstène ; - un deuxième module diélectrique (1004) d’une ou plusieurs couches minces ; dans lequel l’oxyde de tungstène comprend au moins un élément dopant sélectionné parmi les éléments chimiques du groupe 1 selon la nomenclature de l’IUPAC. Substrat (1000) selon la revendication 1, tel que la couche absorbante (1003) d’oxyde de tungstène comprend l’élément dopant ou plusieurs éléments dopants dans des proportions telles que le rapport molaire dudit élément sur le tungstène ou la somme des rapports molaires de chaque élément sur le tungstène est compris entre 0,01 et 1, de préférence entre 0,01 et 0,6, voire entre 0,02 et 0,3. Substrat (1000) selon l’une quelconque des revendications 1 à 2, tel que la couche absorbante (1003) d’oxyde de tungstène comprend au moins un élément dopant sélectionné parmi l’hydrogène, le lithium, le sodium, le potassium et le césium. Substrat (1000) selon la revendication 3, tel que la couche absorbante (1003) d’oxyde de tungstène comprend le césium comme élément dopant, et le rapport molaire du césium sur le tungstène est compris entre 0,01 et 1, de préférence entre 0,05 et 0,4. Substrat (1000) selon l’une quelconque des revendications 1 à 4, tel que l’épaisseur de la couche absorbante (1003) d’oxyde de tungstène est comprise entre 6 et 450 nm, de préférence entre 20 et 250 nm, voire entre 40 et 200 nm. Substrat (1000) selon l’une quelconque des revendications 1 à 5, tel que le premier module diélectrique (1002) et/ou le deuxième module diélectrique (1004) sont constitués d’une ou plusieurs couches à base de nitrure. Substrat (1000) selon la revendication 6, tel que la ou les couches à base de nitrure du premier module diélectrique (1002) et/ou le deuxième module diélectrique (1004) sont choisies parmi le nitrure d’aluminium, le nitrure de silicium, le nitrure de titane, le nitrure de niobium, le nitrure silicium et de zirconium, le nitrure de silicium dopé par l’aluminium, le zirconium et/ou le bore. Simple ou double vitrage comprenant un substrat transparent selon l'une quelconque des revendications 1 à 7. Verre feuilleté (4000) comprenant un premier substrat transparent (1000) selon l’une quelconque des revendications 1 à 9, un intercalaire (4001) de feuilletage et un deuxième substrat transparent (4002), tel que le premier substrat transparent (1000) et le deuxième substrats transparent (4002) sont en contact adhésif avec l’intercalaire (4001) de feuilletage et l’empilement (1001) de couches minces du premier substrat transparent (1000) est en contact avec l’intercalaire (4001) de feuilletage. Procédé de fabrication d’un substrat transparent (1000) selon l’une quelconque de revendications 1 à 7, tel que la couche absorbante (1003) d’oxyde de tungstène est déposée par une méthode de pulvérisation cathodique magnétron à l’aide d’une cible en oxyde de tungstène dopé l’aide d’un élément chimique choisi parmi les éléments chimiques du groupe 1 selon la nomenclature de l’IUPAC. Procédé de fabrication selon la revendication 10, tel que la couche absorbante (1003) d’oxyde de tungstène est déposée à une température de substrat inférieure à 100°C, de préférence comprise entre 20 et 60°C. Procédé de fabrication selon l’une quelconque des revendications 10 à 11, tel que la couche absorbante (1003) à base d’oxyde de tungstène est déposée dans une atmosphère de dépôt composée de 60 à 100 % d’argon et 0 à 40 % de dioxygène, de préférence de 70 à 85% d’argon et de 15 à 30% de dioxygène. Procédé de fabrication selon l’une quelconque des revendications 10 à 12, tel que la couche absorbante (1003) d’oxyde de tungstène est déposée à une pression comprise entre 1 et 15 mTorr, de préférence entre 3 et 10 mTorr.