Procédé (P) de fabrication d’une anode (A) pour une source à rayons X de type cathode froide comprenant les étapes suivantes : fabriquer un élément dit cible (C) dans un premier matériau adapté pour générer des rayons X à partir de l’absorption d’un faisceau d’électrons, le premier matériau présentant un premier coefficient d’expansion thermique à une température prédéterminée d’utilisation de l’anode dans ladite source à rayons X, fabriquer un élément dit support cible (SC) dans un deuxième matériau présentant un deuxième coefficient d’expansion thermique à la température prédéterminée , fixation de la cible avec le support cible par brasage fort avec un matériau de brasage, à une température de brasage supérieure à une température de fusion du matériau de brasage, et de manière à former un film de brasure (FB) interposé entre la cible et le support cible, ladite température prédéterminée étant inférieure à ladite température de fusion du matériau de brasage. Procédé de fabrication la revendication 1, dans lequel le premier et le deuxième matériaux sont tels que XX. Procédé de fabrication selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le premier matériau est à base de tungstène et dans lequel le deuxième matériau est à base de molybdène, de cuivre ou en alliage comprenant du cuivre, du tungstène et du nickel. Procédé de fabrication selon la revendication précédente, dans lequel le matériau de brasage est à base d’or, d’argent, de cuivre, de nickel, ou de palladium. Procédé de fabrication selon la revendication précédente, dans lequel le deuxième matériau est un alliage de cuivre, de nickel et de tungstène, le matériau de brasure est un alliage d’argent, de cuivre et de palladium ou encore un alliage d’argent, de cuivre et d’or. Procédé de fabrication selon l’une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel l’étape de fixation est effectuée dans un four entre 700°C et 1100°C. Procédé de fabrication selon la revendication précédente, dans lequel l’étape de fixation est effectuée sous vide. Procédé de fabrication selon la revendication précédente, dans lequel le matériau de brasure est un alliage d’argent, de cuivre et d’étain et le deuxième matériau est du molybdène et le premier matériau est du tungstène. Procédé de fabrication selon la revendication 5, dans lequel l’étape de fixation est effectuée sous un flux d’hydrogène. Procédé de fabrication selon la revendication précédente, dans lequel le deuxième matériau est du molybdène et le premier matériau est du tungstènel, et le matériau de brasure est un alliage d’argent, de cuivre et de palladium. Procédé de fabrication selon l’une quelconque des revendications précédentes, comprenant une étape intermédiaire B’ entre l’étape B et l’étape C, de métallisation du support cible, de manière à former une couche de métal (CM) d’épaisseur inférieure à 150 autour du support cible. Procédé de fabrication selon la revendication précédente, dans lequel la métallisation est effectuée à base de cuivre. Procédé de fabrication selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel la cible et le support cible présentent chacun une forme adaptée pour permettre un emboitement de la cible dans le support cible. Anode pour une source à rayons X de type cathode froide, ladite anode étant obtenue par un procédé de fabrication selon l’une quelconque des revendications précédentes et comprenant : la cible, le support cible le film de brasure interposé entre la cible et le support cible de manière à permettre la fixation entre la cible et le support cible. Source à rayons X (2) comprenant : une enceinte à vide (EV) une cathode (Cat) adaptée pour émettre un faisceau d’électrons (FE) au sein de l’enceinte à vide une anode selon la revendication 14, agencée pour que le faisceau d’électron impacte la cible de manière à générer un rayonnement X (FX). Source à rayons X selon la revendication précédente, dans laquelle la cathode est adaptée pour émettre un faisceau d’électrons en régime impulsionnel, et dans laquelle la cible et le support cible présentent chacun un volume suffisament grand pour que ladite température prédéterminée soit inférieure à 800°C, sans élément thermique de refroidissement actif dans la source.