INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Selon ce mode de réalisation, le revêtement diélectrique situé en-dessous de la couche fonctionnelle peut comprendre une couche à base d’oxyde de zinc située directement au contact de la couche fonctionnelle. En effet, il est avantageux d'avoir une couche stabilisante, en-dessous et au contact d’une couche fonctionnelle, car elle facilite l'adhésion et la cristallisation de la couche fonctionnelle à base d'argent et augmente sa qualité et sa stabilité. La couche fonctionnelle métallique est déposée au-dessus et au contact d’une couche à base d’oxyde de zinc. La couche à base d’oxyde de zinc peut être déposée à partir d’une cible céramique, avec ou sans oxygène ou à partir d’une cible métallique. Les couches d’oxyde de zinc ont une épaisseur : - d'au moins 1,0 nm, d'au moins 2,0 nm, d'au moins 3,0 nm, d'au moins 4,0 nm, d'au moins 5,0 nm, d'au moins 6,0 nm et/ou - d’au plus 25 nm, d’au plus 10 nm, d’au plus 8,0 nm.
Le revêtement diélectrique situé en dessous de la couche d’argent peut également comprendre une couche à base d’oxyde de zinc et d’étain comprenant au moins 10 % en masse d’étain par rapport à la masse totale de zinc et d’étain, située en dessous et au contact de la couche à base d’oxyde de zinc.
L’empilement peut donc comprendre une ou plusieurs couches à base d’oxyde de zinc et d’étain comprenant au moins 10 % en masse d’étain par rapport à la masse totale de zinc et d’étain, située au-dessus et au contact de la couche à base d’oxyde de titane. Les couches à base d’oxyde de zinc et d’étain comprennent de préférence en masse d’étain par rapport à la masse totale de zinc et d’étain : - au moins 10 %, au moins 15 %, au moins 20 %, au moins 30 %, au moins 40 %, au moins 45 %, au moins 50 % ou au moins 55 %, - au plus 90 %, au plus 80 %, au plus 70 %, au plus 65 % ou au plus 60 % en masse de zinc. Les couches à base d’oxyde de zinc et d’étain présentent une épaisseur : - supérieure à 5 nm, et/ou - inférieure à 40 nm, inférieure à 30 nm, inférieure à 25 nm.
Le revêtement diélectrique situé en dessous de la couche fonctionnelle peut comprendre une couche comprenant du silicium choisie parmi les couches de nitrure de silicium ou les couches de nitrure de silicium et de zirconium.
Le revêtement diélectrique situé en dessous de la couche fonctionnelle peut comprendre une couche d’indice de réfraction supérieure à 2,20. La présence de couches haut indice au-dessus et en dessous de la couche fonctionnelle à base d’argent concourt à l’obtention d’une haute transmission lumineuse.
Parmi les couches diélectriques, on distingue, en fonction de leur indice de réfraction à 550 nm, les couches à bas indice de réfraction, les couches d’indice de réfraction intermédiaire et les couches à haut indice de réfraction. Les couches à bas à bas indice de réfraction présentent un indice de réfraction inférieure à 1,70. Les couches d’indice de réfraction intermédiaire présentent un indice de réfraction compris entre 1,70 et 2,2. Les couches à haut indice de réfraction présentent un indice de réfraction supérieur à 2,2.
Les couches à haut indice de réfraction peuvent être choisies parmi : - les couches à base d’oxyde de titane (n550=2,4), - les couches à base d’oxyde mixte de titane et d’un autre composant choisi dans le groupe constitué par Zn, Zr et Sn, - les couches à base une couche de nitrure de zirconium (n 550 = 2,55), - les couches à base de nitrure de silicium et de zirconium (n550 nm = 2,20 - 2,40), - les couches à base une couche d’oxyde de zirconium, - les couches à base d’oxyde de manganèse MnO (n550 = 2,16), - les couches à base une couche d’oxyde de tungstène (n550 = 2,15), - les couches à base une couche d’oxyde de niobium (n550 = 2,30), - les couches à base une couche d’oxyde de bismuth (n 550 = 2,60). De préférence, la couche à haut indice de réfraction est choisie parmi les couches à base d’oxyde de titane et le couche à base de nitrure de silicium et de zirconium.
De préférence, l’empilement ne comprend pas de couche de blocage métallique ou à base d’oxyde de titane en-dessous et au contact de la couche métallique fonctionnelle à base d’argent. Dans ce cas, la couche métallique fonctionnelle à base d’argent est située au-dessus et au contact d’une couche diélectrique du revêtement diélectrique. De préférence, cette couche diélectrique est une couche stabilisante.
Le revêtement diélectrique situé en dessous de la couche fonctionnelle peut comprendre une séquence de couche, définie en partant du substrat, choisie parmi : - couche à base d’oxyde de titane (couche haut indice) // couche à base d’oxyde de zinc, - couche à base de nitrure de silicium // couche à base d’oxyde de zinc, - couche à base de nitrure de silicium et de zirconium (couche haut indice) // couche à base d’oxyde de zinc, - couche à base de nitrure de silicium // couche à base de nitrure de silicium et de zirconium (couche haut indice) // couche à base d’oxyde de zinc, - couche à base de nitrure de silicium // couche à base d’oxyde de titane (couche haut indice) // couche à base d’oxyde de zinc, - couche à base de nitrure de silicium et de zirconium (couche haut indice) // couche à base d’oxyde de titane (couche haut indice) // couche à base d’oxyde de zinc, - couche à base de nitrure de silicium // couche à base de nitrure de silicium et de zirconium // couche à base d’oxyde de titane (couche haut indice) // couche à base d’oxyde de zinc, - couche à base d’oxyde de titane (couche haut indice) // couche à base d’oxyde de zinc et d’étain // couche à base d’oxyde de zinc, - couche à base de nitrure de silicium // couche à base d’oxyde de zinc et d’étain // couche à base d’oxyde de zinc, - couche à base de nitrure de silicium et de zirconium (couche haut indice) // couche à base d’oxyde de zinc et d’étain // couche à base d’oxyde de zinc, - couche à base de nitrure de silicium // couche à base de nitrure de silicium et de zirconium (couche haut indice) // couche à base d’oxyde de zinc et d’étain // couche à base d’oxyde de zinc, - couche à base de nitrure de silicium // couche à base d’oxyde de titane (couche haut indice) // couche à base d’oxyde de zinc et d’étain // couche à base d’oxyde de zinc ? - couche à base de nitrure de silicium et de zirconium // couche à base d’oxyde de titane (couche haut indice) // couche à base d’oxyde de zinc et d’étain // couche à base d’oxyde de zinc, - couche à base de nitrure de silicium // couche à base de nitrure de silicium et de zirconium // couche à base d’oxyde de titane (couche haut indice) // couche à base d’oxyde de zinc et d’étain // couche à base d’oxyde de zinc.
Lorsque l’empilement comprend une couche de nitrure de silicium et une couche de nitrure de silicium et de zirconium, ces couches sont différentes, c’est à dire qu’elles ne sont pas composées des mêmes éléments dans les mêmes proportions.
Le revêtement diélectrique situé au-dessus de la couche fonctionnelle peut comprendre une séquence de couche, définie en partant du substrat, choisie parmi : - la couche à base de zinc // la couche à base d’oxyde de titane // couche à base de nitrure de silicium, - la couche à base de zinc // la couche à base d’oxyde de titane // couche à base de nitrure de silicium et de zirconium, - la couche à base de zinc // la couche à base d’oxyde de titane // couche à base de nitrure de silicium et de zirconium // couche à base de nitrure de silicium, - la couche à base de zinc // la couche à base d’oxyde de titane // couche à base d’oxyde de zinc et d’étain // couche à base de nitrure de silicium, - la couche à base de zinc // la couche à base d’oxyde de titane // couche à base d’oxyde de zinc et d’étain // couche à base d’oxyde de silicium, - la couche à base de zinc // la couche à base d’oxyde de titane // couche à base d’oxyde de zinc et d’étain // couche à base de nitrure de silicium et de zirconium, - la couche à base de zinc // la couche à base d’oxyde de titane // couche à base d’oxyde de zinc et d’étain // couche à base de nitrure de silicium et de zirconium // couche à base de nitrure de silicium, - la couche à base de zinc // la couche à base d’oxyde de titane // couche à base d’oxyde de zinc et d’étain // couche à base de nitrure de silicium // couche à base d’oxyde de zinc et d’étain, - la couche à base de zinc // la couche à base d’oxyde de titane // couche à base de nitrure de silicium // couche à base d’oxyde de silicium, - la couche à base de zinc // la couche à base d’oxyde de titane // couche à base d’oxyde de zinc et d’étain // couche à base de nitrure de silicium // couche à base d’oxyde de silicium, - la couche à base de zinc // la couche à base d’oxyde de titane // couche à base de nitrure de silicium et de zirconium // couche à base de nitrure de silicium // couche à base d’oxyde de silicium.
L’empilement de couches minces peut éventuellement comprendre une couche de protection. La couche de protection est de préférence la dernière couche de l’empilement, c’est-à-dire la couche la plus éloignée du substrat revêtu de l’empilement (avant traitement thermique). Ces couches ont en général une épaisseur comprise entre 0,5 et 10 nm, entre 1 et 5 nm, entre 1 et 3 nm ou entre 1 et 2,5 nm. Cette couche de protection peut être choisie parmi une couche de titane, de zirconium, d’hafnium, de silicium, de zinc et/ou d’étain, ce ou ces métaux étant sous forme métallique, oxydée ou nitrurée.
Selon un mode de réalisation, la couche de protection est à base d’oxyde de zirconium et/ou de titane, de préférence à base d’oxyde de zirconium, d’oxyde de titane ou d’oxyde de titane et de zirconium.Lorsque l’on détermine l’épaisseur d’un revêtement diélectrique, on prend en compte l’épaisseur de la couche de protection.
Après des recherches approfondies, les inventeurs ont découvert qu’il est possible de fournir une composition pour fibres kératiniques, en particulier pour la décoloration ou la teinture de fibres kératiniques, qui peut doter les fibres kératiniques de bons effets de décoloration ou de teinture, tout en pouvant être respectueuse des environnements.
Le coefficient C 0 représente par exemple une distance entre le centre du véhicule 10 et chaque délimitation considérée. Le coefficient C 1 représente un angle entre la trajectoire du véhicule 10 et une tangente à la voie de circulation (le cap). Le coefficient C 2 représente un rayon de courbure et le coefficient C 3 représente une dérivée de ce rayon de courbure.
Ainsi, la ligne 101 est par exemple définie par le polynôme P 101 (x) = C 0_101 + C 1 * x + C 2 * x² + C 3 * x 3 et la ligne 102 est définie par le polynôme P 102 (x) = C 0_102 + C 1 * x + C 2 * x² + C 3 * x 3 .
La largeur L de la voie 1000 est alors obtenue grâce à l’équation suivante :
Et le centre ou le milieu C de la voie est obtenue grâce à l’équation suivante :
Selon une variante de réalisation, le centre ou le milieu 100 de la voie 1000 est déterminé ou obtenu à partir de données de cartographies, par exemple des données reçues d’un serveur via une connexion sans fil reliant le véhicule 10 à ce serveur.
Selon une variante optionnelle de réalisation, le véhicule 10 embarque en outre un ou plusieurs des capteurs suivants :
- un ou plusieurs radars à ondes millimétriques arrangés sur le véhicule 10, par exemple à l’avant, à l’arrière, sur chaque coin avant/arrière du véhicule ; chaque radar est adapté pour émettre des ondes électromagnétiques et pour recevoir les échos de ces ondes renvoyées par un ou plusieurs objets (par exemple les barrières 110), dans le but de détecter des obstacles ou autres objets et leurs distances vis-à-vis du véhicule 10 ; et/ou
- un ou plusieurs LIDAR(s) (de l’anglais « Light Detection And Ranging », ou « Détection et estimation de la distance par la lumière » en français), un capteur LIDAR correspondant à un système optoélectronique composé d’un dispositif émetteur laser, d’un dispositif récepteur comprenant un collecteur de lumière (pour collecter la partie du rayonnement lumineux émis par l’émetteur et réfléchi par tout objet situé sur le trajet des rayons lumineux émis par l’émetteur) et d’un photodétecteur qui transforme la lumière collectée en signal électrique ; un capteur LIDAR permet ainsi de détecter la présence d’objets situés dans le faisceau lumineux émis et de mesurer la distance entre le capteur et chaque objet détecté.
Selon l’exemple de réalisation de la , le véhicule 10 suit une trajectoire 110 et les clignotants droits du véhicule 10, représentés par une étoile, sont activés.
Selon l’exemple de réalisation de la , le véhicule 10 suit une trajectoire 210 et les clignotants droits du véhicule 10, représentés par une étoile, sont activés.
Un premier instant temporel t1 correspond à l’instant auquel la distance d1 entre un point de référence du véhicule 10 (par exemple le centre du véhicule 10 ou le milieu de l’essieu avant ou arrière du véhicule 10) et le milieu de la voie (selon l’axe transversal Y de la voie 1000) est supérieure à un premier seuil (par exemple 0.4, 0.5, 0.6 ou 0.7 m), alors que le point de référence du véhicule 10 est localisé sur la deuxième portion de la voie (la portion gauche selon les exemples des figures 1 et 2).
Un deuxième instant temporel t2 correspond à l’instant auquel la distance d2 entre le point de référence du véhicule 10 et le milieu de la voie (selon l’axe transversal Y de la voie 1000) est supérieure à un deuxième seuil (par exemple 0.8, 0.9 ou 1 m), alors que le point de référence du véhicule 10 est localisé sur la deuxième portion de la voie (la portion gauche selon les exemples des figures 1 et 2).
Un troisième instant temporel t3 correspond à l’échéance (la fin) d’un intervalle temporel ayant pour début l’instant t1 et pour durée une durée déterminée, par exemple 3, 5 ou 10 s.
Le cap du véhicule 10 à l’instant t2 est représenté par une flèche 111 sur la (et/ou par un angle entre ce cap et l’axe longitudinal de la voie 1000 représenté par la flèche 112 sur la ). De la même manière, le cap du véhicule 10 à l’instant t2 est représenté par une flèche 211 sur la (et/ou par un angle entre ce cap et l’axe longitudinal de la voie 1000 représenté par la flèche 112 sur la ).
Selon l’exemple de la , le cap 111 du véhicule 10 est dit négatif (angle entre l’axe 111 et l’axe 112 selon le sens horaire) en ce qu’il correspond à un mouvement latéral du véhicule 10 vers la gauche. Selon l’exemple de la , le cap 211 du véhicule 10 est dit positif (angle entre l’axe 211 et l’axe 112 selon le sens anti-horaire) en ce qu’il correspond à un mouvement latéral du véhicule 10 vers la droite.
Un problème qui se pose est que le déclenchement des clignotants peut être erroné et ainsi ne pas représenter la réelle intention du conducteur. Par exemple, le conducteur peut déclencher par erreur les clignotants droits alors qu’il souhaite en réalité changer de voie pour aller sur la voie à gauche de la voie courante 1000, et inversement, le conducteur peut déclencher par erreur les clignotants gauches alors qu’il souhaite en réalité changer de voie pour aller sur la voie à droite de la voie courante 1000. Le processus décrit en regard de la et/ou le procédé décrit en regard de la , en relation avec les figures 1 et 2, permettent notamment de résoudre un tel problème.
Cette couche à base d’oxyde de titane épaisse à proximité de l’argent concourt à l’obtention des propriétés avantageuses de l’invention. Cette couche d’oxyde est non absorbante et ce, a fortiori, quand elle est en majeure partie déposée à partir d’une cible céramique dans une atmosphère oxydante.
Les couches à base d’oxyde de titane peuvent avoir une épaisseur : - supérieure ou égale à 3 nm, supérieure ou égale à 4 nm, supérieure ou égale à 5 nm, et/ou - inférieure ou égale à 30 nm, inférieure ou égale à 25 nm, inférieure ou égale à 20 nm, inférieure ou égale à 15 nm, inférieure ou égale à 10 nm, inférieure ou égale à 8 nm, inférieure ou égale à 6 nm. Les couches à base d’oxyde de titane peuvent avoir une épaisseur comprise entre 5 et 30 nm.
Les couches à base d’oxyde de titane peuvent comprendre ou être constituées d’éléments autres que le titane et l’oxygène. Ces éléments peuvent être choisis parmi le silicium, le chrome et le zirconium. De préférence, les éléments sont choisis parmi le zirconium. De préférence, la couche à base d’oxyde de titane comprend au plus 35 %, au plus 20 % ou au plus 10 % en masse d’éléments autres que du titane par rapport à la masse de tous les éléments constituant la couche à base d’oxyde de titane autres que de l’oxygène.
Les couches à base d’oxyde de titane peuvent être obtenues : - par pulvérisation cathodique, - à partir d’une cible métallique de titane ou d’une cible céramique à base d’oxyde de titane de préférence sous stœchiométrique. Lorsque la couche à base d’oxyde de titane est obtenue à partir d’une cible métallique, l’atmosphère de dépôt comprend des proportions importantes d’oxygène. Les couches à base d’oxyde de titane sont de préférence obtenues à partir d’une cible céramique d’oxyde de titane, de préférence sous stœchiométrique en oxygène, dans une atmosphère comprenant de l’oxygène. La quantité d’oxygène dans l’atmosphère de dépôt peut être adaptée en fonction des propriétés recherchées. La couche à base d’oxyde de titane est de préférence déposée à partir d’une cible céramique, notamment sous stœchiométrique dans une atmosphère oxydante, de préférence dont le pourcentage en débit volumique d’oxygène représente entre 0 et 20 %, de préférence 2 à 15 %.
Selon le mode de réalisation préféré, une couche à base d’oxyde de titane est déposée à partir d’une cible céramique, notamment sous stœchiométrique. La couche à base d’oxyde de titane peut être déposée à partir d'une cible céramique de TiO x sous stœchiométrique, où x est un nombre différent de la stœchiométrie de l'oxyde de titane TiO 2 , c'est-à-dire différent de 2 et de préférence inférieur à 2, en particulier compris entre 0,75 fois et 0,99 fois la stœchiométrie normale de l'oxyde. TiOx peut être en particulier tel que 1,5 < x < 1,98 ou 1,5 < x < 1,7, voire 1,7 < x < 1,95.
Selon l’invention, on dépose dans une atmosphère comprenant une quantité optimisée d’oxygène pour obtenir les propriétés recherchées. L’atmosphère de dépôt comprend un mélange de gaz noble (He, Ne, Xe, Ar, Kr) et d’oxygène. Le gaz noble est de préférence de l’argon. Les paramètres suivants permettent de définir les conditions d’un dépôt par pulvérisation cathodique : - la pression de dépôt, - la composition des gaz en débit volumique (unité sccm « standard centimètre cube par minute »). Selon l’invention, les paramètre suivants ont été utilisés : - la pression dans l’enceinte de dépôt est comprise entre 1 et 15 µbar, de préférence 2 et 10 µbar ou 2 et 8 µbar, - l’atmosphère de dépôt comprend un mélange d’argon et d’oxygène.
Le seuil maximal d’oxygène peut varier dans une certaine mesure en fonction, par exemple : - de la nature de la cible de TiOx, notamment de sa sous-stœchiométrie en oxygène ou - de la puissance, - de la configuration de chambre de dépôt de pulvérisation cathodique (géométrie, lieux des arrivées de gaz… En effet, si une faible puissance de dépôt est utilisée, les quantités en débit volumique d’oxygène pouvant être utilisées lors du dépôt seront plus faibles car le TiOx se dépose plus lentement et est donc plus susceptible de s’oxyder.
L’homme du métier est en mesure de définir une atmosphère contrôlée satisfaisante en faisant varier dans une certaine mesure ces paramètres. L’homme du métier est notamment parfaitement en mesure de déterminer la puissance à appliquer à la cible et les débits volumiques d’oxygène et de gaz nobles.
Selon un mode de réalisation, la couche à base d’oxyde de titane est déposée à partir d’une cible céramique, notamment sous stœchiométrique, dans une atmosphère comprenant de l’oxygène.
Selon un mode de réalisation, on dépose au contact de la couche à base de zinc une première fine épaisseur de couche à base d’oxyde de titane, à partir d’une cible céramique, dans une atmosphère légèrement oxydante. Puis, on dépose une épaisseur plus épaisse de couche à base d’oxyde de titane à partir d’une cible céramique dans une atmosphère plus oxydante. La couche à base d’oxyde de titane épaisse selon l’invention est constituée de ces deux épaisseurs. La partie de la couche à base d’oxyde de titane en contact avec la couche à base de zinc est moins oxydée que la partie la plus éloignée. La couche à base d’oxyde de titane comprend un gradient d’oxydation, la partie de la couche à base d’oxyde de titane au contact de la couche à base de zinc est plus oxydée que la partie la plus éloignée.
La couche à base d’oxyde de titane se trouve en-dessous et au contact d’une couche diélectrique. La couche diélectrique peut être à base d’oxyde, de nitrure ou d’oxynitrure d’un ou plusieurs éléments choisis parmi le silicium, le zirconium, le titane, l’aluminium, l’étain et/ou le zinc. De préférence, cette couche diélectrique a une épaisseur supérieure à 5 nm, 8 nm, 10 nm ou 15 nm.
L’empilement peut comprendre au moins une couche comprenant du silicium ou de l’aluminium. De préférence, le revêtement diélectrique situé au-dessus de la couche fonctionnelle peut comprendre une couche comprenant du silicium notamment choisie parmi les couches de nitrure de silicium ou les couches de nitrure de silicium et de zirconium. Chaque revêtement diélectrique peut aussi comprendre au moins une couche comprenant du silicium.
Les couches comprenant du silicium sont extrêmement stables aux traitements thermiques. Par exemple, on n’observe pas de migration des éléments les constituant. Par conséquent, ces éléments ne sont pas susceptibles d’altérer la couche d’argent. Les couches comprenant du silicium contribuent donc également à la non altération des couches d’argent et donc à l’obtention d’une faible émissivité après traitement thermique.
- 2,4-diméthyldibenzoylméthane,
- 2,5-diméthyldibenzoylméthane,
- 4,4'-diisopropyldibenzoylméthane,
- 4,4'-diméthoxydibenzoylméthane,
- 4-tert.-butyl-4'-méthoxydibenzoylméthane (également connu sous le nom Avobenzone),
- 2-méthyl-5-isopropyl-4'-méthoxydibenzoylméthane,
- 2-méthyl-5-tert-butyl-4'-méthoxydibenzoylméthane,
- 2,4-diméthyl-4'-méthoxydibenzoylméthane,
- 2,6-diméthyl-4-tert-butyl-4'-méthoxydibenzoylméthane.
Selon un mode de réalisation, la composition peut comprendre un ou plusieurs dérivés de benzylidène camphre. On peut citer en particulier :
Le 3-benzylidène camphre fabriqué sous le nom « MEXORYL SD » par CHIMEX,
Le 4-Méthylbenzylidène camphre vendu sous le nom « EUSOLEX 6300 » par MERCK,
Acide benzylidène camphre sulfonique fabriqué sous le nom « MEXORYL SL » par CHIMEX,
Méthosulfate de Camphre Benzalkonium fabriqué sous le nom « MEXORYL SO » par CHIMEX,
Polyacrylamidométhyl Benzylidène Camphre fabriqué sous le nom « MEXORYL SW » par CHIMEX.
L'acide téréphtalylidène dicamphre sulfonique vendu sous le nom MEXORYL SX par CHIMEX.
(b) le groupe trifluorométhyle,
(c) les groupes hydroxyle sous forme libre ou sous forme estérifiée avec un acide contenant de 1 à 6 atomes de carbone, ou
(d) une fonction carboxyle sous forme libre ou sous forme estérifiée avec un alcool inférieur contenant de 1 à 6 atomes de carbone ;
- Rb est un groupe hydroxyle ;
ainsi que leurs sels dérivés d’une base inorganique ou organique.
Selon un mode de réalisation, le radical Ra indique :
- une chaîne aliphatique saturée, linéaire, ramifiée ou cyclique, contenant de 3 à 11 atomes de carbone ; ou
- une chaîne insaturée contenant de 3 à 17 atomes de carbone et comprenant une ou plusieurs doubles liaisons conjuguées ou non conjuguées ;
lesdites chaînes à base d’hydrocarbures pouvant être substituées par un ou plusieurs substituants identiques ou différents choisis parmi :
(a) les atomes d’halogène ;
(b) le groupe trifluorométhyle ;
(c) les groupes hydroxyle sous forme libre ou sous forme estérifiée avec un acide contenant de 1 à 6 atomes de carbone ; ou
ainsi que leurs sels obtenus par salification avec une base inorganique ou organique. Les composés plus particulièrement préférés sont ceux dans lesquels le radical Ra est un groupe alkyle en C 3 -C 11 .