INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
L’unité centrale 42 dispose de moyens informatiques dans lesquels on a programmé deux types d’alerte relativement à la pression détectée dans la portion d’admission 19 du circuit de dérivation du sang du patient 12. Tout d’abord, un niveau seuil en valeur absolue de pression qui, s’il est atteint, déclenche une modification du pompage du sang, classiquement en diminuant le débit de pompage. Ensuite, la deuxième alerte consiste en l’accélération/décélération de la pression, entre deux mesures de pression dans le temps : à nouveau, si cette pente de seuil (d’accélération/décélération) est atteinte, l’aspiration du sang est modifiée, classiquement en la diminuant ou en la stoppant. Concernant la pente de seuil, le programme prédictif de l’évolution de la pression utilise classiquement le nombre de Reynold ou encore l’onde de Reynold. Le nombre de Reynolds correspond à un nombre sans dimension qui est utilisé en mécanique des fluides. Cette grandeur permet de caractériser un écoulement, en particulier la nature de son régime. Il est ainsi possible de savoir si un écoulement est laminaire, transitoire ou turbulent.
A chaque pulsation, un ordre de grandeur du volume de sang prélevé est de l’ordre de 50 ml (millilitre) mais cela peut monter à 100 ml, ceci dépendant du patient. Un débit cardiaque naturel est compris entre 2,5 et 4,5 l/mn/m² (litre par minute par mètre carré). Autrement dit, plus la surface d’un corps humain (et donc son poids) est importante, plus la circulation sanguine est également importante. En pratique, pour ajuster le poids ou le volume de sang à aspirer à chaque pulsation, le médecin considère le poids du patient 12 et en déduit le volume à chaque pulsation.
Pour un cœur battant à 70 bpm (battement par minute), la durée d’aspiration est d’environ 0,56 seconde de sorte qu’un débit normal est d’environ 90 ml/s (millilitre par seconde par systole) soit 5 l/mn (litre par minute). Or, dans la pratique, pour un CEC/ECMO/ECLS pulsatif, le médecin s’oriente sur un débit moyen de 3 ou 4 l/mn. Grâce au dispositif selon l’invention, on peut augmenter (ou éventuellement réduire) les quantités de sang aspiré pour correspondre au plus près au fonctionnement réel d’un cœur, sans risquer de collabage au niveau de la veine cave.
Dans un mode de réalisation de l’invention, le dispositif de liaison comporte un organe de maintien de l’organe de fixation, ledit organe de maintien étant relié à la pièce levier par une liaison glissière. Par exemple, la pièce levier pourra comporter une glissière dans laquelle coulisse une partie de l’organe de maintien.
Selon un exemple de réalisation, l’organe de fixation est relié audit organe de maintien par une liaison pivot, notamment selon un axe de rotation sensiblement parallèle à l’axe de rotation de la pièce levier vis-à-vis de la semelle.
Avantageusement, l’organe de fixation et l’organe de maintien sont pourvus de moyens de fixation amovible de l’organe de fixation sur l’organe de maintien, comme des moyens d’encliquetage.
De façon alternative ou cumulative, l’organe de maintien pourra comporter une rotule montée pivotante et coulissante dans une glissière de la pièce levier.
Avantageusement, l’organe de maintien comporte un arceau pourvu de deux pattes opposées, l’organe de fixation étant fixé à chacune desdites pattes, et l’organe de maintien comporte un organe de réglage de l’écartement desdites pattes.
Dans un mode de réalisation de l’invention, la chaussure de ski comporte une guêtre fixée à la semelle et/ou à la pièce levier. La guêtre pourra former une enveloppe étanche, de forme tubulaire avec un fût, une ouverture inférieure, une ouverture supérieure et une ouverture pour le chaussage. Avantageusement, la guêtre pourra comporter une couche isolante, en doublure fixe par collage ou en doublure amovible de l'enveloppe étanche.
L’invention a également pour objet un ensemble chaussant comportant une chaussure de ski selon l’invention et une chaussure légère, destinée à recevoir un pied d’un skieur, la chaussure légère étant destinée à être reçue sur la semelle de base de la chaussure de ski.
Si on le souhaite, la chaussure légère comprend une semelle rigide munis d'une première partie de moyens de fixation amovible, la seconde partie de ces moyens de fixation amovible étant portée par la semelle de base. Par exemple, les moyens de fixation amovible pourront être des vis, des fixations à encliquetage, par glissières ou tout moyen analogue, à l'avant et à l'arrière de la semelle.
représente, schématiquement et partiellement, un éclaté d’une chaussure de ski selon un mode de réalisation de l’invention ;
représente, schématiquement et partiellement, une vue en perspective de la chaussure de ski de la après assemblage ;
représente, schématiquement et partiellement, une vue de côté de la chaussure de ski de la après assemblage ;
représente, schématiquement et partiellement, une variante d’exécution d’une biellette de la chaussure de la ; et
représente, schématiquement et partiellement, une variante d’exécution d’une biellette de la chaussure de la .
Dans la description qui suit, les éléments identiques, par structure ou par fonction, apparaissant sur différentes figures conservent, sauf précision contraire, les mêmes références. En outre, les termes « avant », « arrière » doivent être interprétés dans le contexte de l’orientation de la chaussure de ski telle qu’elle a été représentée, correspondant à l’orientation d’une chaussure de ski montée sur une fixation d’un ski.
On a représenté en un éclaté d’une chaussure de ski 1 selon un mode de réalisation de l’invention. La représente une vue en perspective de la chaussure 1, après assemblage, tandis que la représente une vue en coupe de cette chaussure 1, après assemblage et après qu’un skieur équipé d’une chaussure légère 10 se soit équipé de cette chaussure 1.
Sous l’effet de la collecte de porteurs de charge, chaque pixel 12 génère une impulsion dont l’amplitude dépend de l’énergie libérée, dans le matériau détecteur, par un photon ionisant, au cours d’une interaction, cette énergie étant usuellement désignée « énergie de l’interaction ». La gamma-caméra 1 comporte une unité de spectrométrie 15. L’unité de spectrométrie permet une estimation aussi précise que possible de l’amplitude des impulsions résultant de la collecte de porteurs de charge suite à une interaction. L’unité de spectrométrie peut comporter aussi bien des moyens électroniques (circuit de mise en forme d’impulsion, analyseur multicanal, convertisseur analogique numérique) que des moyens logiciels. L'estimation de l'amplitude d’une impulsion permet d'estimer l'énergie de l'interaction. Cette énergie doit être estimée aussi précisément que possible. La plage d'énergie adressée est généralement comprise entre 10 keV et quelques centaines de keV, voire quelques MeV. Il est souhaitable que la précision de l'énergie soit de l'ordre du %, voire inférieure .
Ainsi, l’unité de spectrométrie 15 permet d'obtenir un spectre en énergie des interactions détectées par chaque pixel. Chaque interaction est ainsi classée dans un canal d’énergie . Chaque canal d’énergie s’étend entre . correspond alors à la largeur spectrale de chaque canal d’énergie. Par exemple, En fonction de l'énergie des photons détectés, on peut identifier les isotopes responsables de l'irradiation. L’énergie de chaque interaction peut également faire l’objet d’un traitement mettant en œuvre une réponse spectrale de la gamma caméra, comme décrit par la suite.
La gamma caméra est bimodale. Elle est configurée pour exploiter les interactions détectées dans le matériau détecteur 11 pour reconstruire une position de sources irradiantes dans le champ d’observation, et cela en utilisant une modalité de reconstruction dépendant de chaque interaction détectée. La gamma caméra comporte un collimateur 10, de type masque codé, tel que décrit dans l’art antérieur.
Selon une première modalité, les interactions détectées résultent de photons s’étant propagés à travers le collimateur 10 avant d’atteindre le matériau de détection. Cette première modalité permet une localisation de sources irradiantes potentiellement présentes dans un premier champ d’observation Ω1. Chaque point du premier champ d’observation peut être projeté à travers tout le masque, sur le détecteur. Cela signifie qu’un rayonnement émis par chaque point du premier champ, projeté à travers tout le masque codé 10, atteint le matériau de détection. Les interactions exploitées par la première modalité sont des interactions dites simples, au sens ou elles ne surviennent pas en coïncidence temporelle : elles sont détectées à des instants différents. Le premier champ d’observation Ω1 est représenté sur la .
Selon une deuxième modalité, dite d’imagerie Compton, les interactions détectées résultent de photons émis autour de la gamma caméra, et interagissant dans le matériau détecteur 11 par diffusion Compton. De façon connue, suite à une diffusion Compton, un photon diffusé se propage selon un angle de diffusion par rapport à la trajectoire incidente au matériau détecteur. Lorsque le photon diffusé est absorbé dans le matériau détecteur, il est possible d’estimer la trajectoire incidente. La survenue d’une diffusion inélastique (ou diffusion Compton), suivie d’une absorption du photon diffusé, engendre deux interactions qui sont détectées simultanément, c’est-à-dire temporellement coïncidente. La connaissance de la position et de le l’énergie de chaque interaction permet une estimation de la trajectoire incidente du photon, selon l’expression :
est un angle entre la trajectoire du photon incident au matériau détecteur 11 et une droite reliant la position des deux interactions dans le matériau détecteur. Il s’agit de l’angle de diffusion. et sont les énergies respectives de la première interaction et de la deuxième interaction, prises dans l’ordre chronologique. est la masse d’un électron ; est la célérité de la lumière dans le vide.
Sur les figures 2A et 2B, on a représenté l’angle entre la trajectoire incidente d’un photon et une droite séparant deux interactions générées sous l’effet de la diffusion inélastique du photon dans le matériau détecteur. Une première interaction, libérant une énergie , correspond à une diffusion selon un angle de diffusion α. L’énergie correspond à une partie de l’énergie du photon incident. Une deuxième interaction, libérant une énergie , correspond à une absorption du rayonnement diffusé. L’énergie correspond à l’énergie du photon diffusé. Les deux interactions sont décalées dans le temps mais l’intervalle de temps les séparant est trop court pour être déterminé. Aussi, les deux interactions sont considérées comme simultanée ou en coïncidence temporelle et forment une interaction multiple d’énergie totale Il n’est pas possible d’identifier, parmi les deux interactions, celle qui est antérieure à l’autre. Aussi, lors de la détection simultanée de deux interactions, on considère successivement que chaque interaction est la première interaction (diffusion), puis la deuxième (absorption du photon diffusé). Il en résulte deux estimations différentes de surfaces comportant la trajectoire du photon incident. La figure 2A correspond à une diffusion « vers l’avant » , l’angle de diffusion étant aigu, tandis que la figure 2B correspond à une rétrodiffusion (diffusion « vers l’arrière »), l’angle de diffusion étant obtus. Les termes avant/arrière sont à considérer en fonction de la trajectoire du photon incident au détecteur. La probabilité de chaque configuration (diffusion vers l’avant ou rétrodiffusion) est régie par la relation de Klein-Nishina :
où et est déduit de l’expression (1)
Sur les figures 2A et 2B, on a représenté deux surfaces coniques, chaque surface conique correspondant aux trajectoires potentielles du photon incident dans chaque cas de figure. Ainsi, à chaque interaction multiple, on assigne une ou deux surfaces coniques, pondérées par une probabilité résultant de la relation de Klein-Nishina. Après qu’un nombre suffisant d’interactions multiples a été détectée, la position de chaque source irradiante est déterminée par une intersection des différentes surfaces coniques assignées à chaque interaction multiple.
La deuxième modalité d’imagerie Compton permet la détection et la localisation de sources situées dans un deuxième champ d’observation, pouvant s’étendre selon un angle solide de 4π stéradians autour du matériau de détection.
Ainsi, la première modalité d’imagerie à travers le collimateur à masque codé adresse un premier champ d’observation relativement réduit, la deuxième modalité adresse un deuxième champ d’observation Ω2 s’étendant au-delà du premier champ d’observation Ω1 et s’étendant bien au-delà de ce dernier. Dans la suite, le premier champ d’observation Ω1 est une surface plane située à une distance prédéterminée de la gamma caméra. Le deuxième champ d’observation Ω2 est une sphère de rayon prédéterminé autour de la gamma caméra, et centrée sur le détecteur 11.
Le champ d’observation de la gamma caméra Ω correspond :
soit au deuxième champ d’observation Ω2 ; soit au deuxième champ d’observation Ω2, tronqué par une partie plane correspondant au premier champ d’observation Ω1, et auquel s’ajoute le premier champ d’observation Ω1. Le champ d’observation de la gamma caméra Ω comporte une partie sphérique (partie du champ d’observation Ω2 sans recoupement avec le champ d’observation Ω1) et une partie plane, cette dernière correspondant au premier champ d’observation Ω1. Cf. . Le premier champ d’observation et le deuxième champ d’observation comportent une partie commune, dans laquelle les deux modalités d’imagerie peuvent être combinées.
La première modalité peut être mise en œuvre à partir d’une localisation bidimensionnelle (c’est-à-dire parallèlement à la surface de détection) de chaque interaction simple. La deuxième modalité nécessite, de préférence, une localisation tridimensionnelle de chaque interaction multiple.
Selon une caractéristique de l’invention, l’ensemble de cavités est dimensionné et réparti à la surface du second substrat prévu lors de l’étape b) de sorte que chaque couple de cavités adjacentes est espacé d’une distance comprise entre : - un premier seuil, au-delà duquel un collage direct entre les premier et second substrats est autorisé lors de l’étape c) ; - un second seuil, strictement supérieur au premier seuil, en-deçà duquel une initiation thermique de la fracture de la zone plane d’implantation fragilisée est interdite à l’issue de l’étape d).
Ainsi, un avantage procuré est d’obtenir : (i) des zones de collage présentant une superficie suffisante pour autoriser un collage direct entre les premier et second substrats lors de l’étape c) ; (ii) des zones libres, non soumises à un effet raidisseur, présentant une distribution spatiale adaptée et une étendue spatiale suffisante pour interdire une initiation thermique de la fracture de la zone plane d’implantation fragilisée à l’issue de l’étape d).
Selon une caractéristique de l’invention, la surface du second substrat présente une surface de collage avec le premier substrat à l’issue de l’étape c) ; et l’ensemble de cavités est dimensionné et réparti à la surface du second substrat prévu lors de l’étape b) de manière à occuper entre 50% et 85% de la surface de collage, de préférence entre 60% et 80% de la surface de collage.
Selon une caractéristique de l’invention, l’ensemble de cavités est dimensionné et réparti à la surface du second substrat prévu lors de l’étape b) de sorte que chaque cavité présente au moins une dimension, dans le plan de la surface du second substrat, inférieure ou égale au double d’un rayon moyen d’exfoliation prédéterminé, de préférence inférieur ou égal au double d’un rayon minimum d’exfoliation prédéterminé.
Selon une caractéristique de l’invention, chaque cavité de l’ensemble occupe la surface du second substrat prévu lors de l’étape b) de manière à délimiter une ouverture présentant une forme choisie parmi une forme rectangulaire, carrée, triangulaire ou circulaire.
Selon une caractéristique de l’invention, le budget thermique de l’étape d) est défini par : - une température du traitement thermique comprise entre 400°C et 600°C, - une durée du traitement thermique supérieure à 30 minutes.
Ainsi, un avantage procuré est d’obtenir une zone plane d’implantation résistant à une énergie thermique apportée par un traitement thermique de fracturation ou par un traitement thermique de renforcement de l’interface de collage. La zone plane d’implantation n’est pas fracturée par un tel budget thermique, mais est suffisamment fragilisée (par la présence de cloques) pour être fracturée ultérieurement par une énergie mécanique pour démonter les premier et second substrats, par exemple à l’aide de l’insertion d’une lame entre les premier et second substrats. Un tel budget thermique serait suffisant pour fracturer la zone plane d’implantation en l’absence d’un tel ensemble de cavités à la surface du second substrat.
Selon une caractéristique de l’invention, le premier substrat prévu lors de l’étape a) est réalisé dans un matériau choisi parmi : - un matériau semi-conducteur, de préférence sélectionné parmi Si, Ge, Si-Ge, un matériau III-V ; - le tantalate de lithium LiTaO 3 , le niobate de lithium LiNbO 3 .
L’invention a également pour objet un ensemble pour fabriquer des substrats démontables, comportant : - un premier substrat, comprenant des espèces implantées formant une zone plane d’implantation ; - un second substrat, comprenant une surface munie d’un ensemble de cavités dimensionné et réparti à la surface du second substrat de manière à : autoriser un collage direct entre les premier et second substrats ; interdire une initiation thermique de la fracture de la zone plane d’implantation, après un traitement thermique appliqué aux premier et second substrats collés, selon un budget thermique adapté pour que les espèces implantées génèrent des cloques fragilisant la zone plane d’implantation, les cloques s’étendant à l’intérieur de l’ensemble de cavités.
Les solutions actuelles sont insuffisantes car elles ne permettent pas à l’opérateur d’optimiser la phase de chauffe de la préforme de manière directe et rapide. Les informations à sa disposition ne permettent pas une correction du défaut tout en évitant de faire apparaître d’autres problèmes, par exemple à d’autres niveaux de hauteur du récipient.
Résumé de l’invention : Dans le domaine de l’invention, il est donc nécessaire de mettre au point un procédé de fabrication par moulage ou par étirage soufflage de récipients, rapide à mettre en œuvre, ne nécessitant pas une phase de mise au point trop longue, et pouvant être adapté aisément en cas de changement de format ou de l’apparition d’un nouveau défaut.
L’invention vise ainsi à fournir un procédé de fabrication de récipients à la fois fiable et aisé à mettre en œuvre.
L’invention vise également l’installation permettant la mise en œuvre de ce procédé.
Ainsi, lors d’un changement de format ou de l’apparition d’un défaut, le procédé sera adapté en conséquence et le flux de production de récipients conformes pourra reprendre rapidement.
Brève description de l’invention : Pour ce faire, l’invention propose une solution visant à allouer les moyens de chauffe d’un échantillon d’une préforme à des sections définies d’un récipient, afin de permettre un pilotage plus précis du conditionnement thermique au cours de la fabrication d’un récipient par moulage. Le fait de connaître précisément quels sont les moyens de chauffe attribués à une section donnée du récipient permet de corriger la puissance de chaque moyen de chauffe en fonction des défauts détectés au niveau d’une ou de plusieurs sections. Dans le cadre de l’invention, on va pouvoir établir l’impact précis des moyens de chauffe lors du conditionnement thermique d’un échantillon, d’une préforme, sur des sections définies du récipient obtenu. En d’autres termes, on saura précisément quels sont les moyens de chauffe qui influencent directement la conformité d’une section d’un récipient.
A cet effet, l’invention vise un procédé de fabrication de récipients à partir de préformes, lesdits récipients pouvant présenter différents formats, chaque format de récipient présentant au moins trois sections le long de la hauteur du récipient, qui comprend au moins les étapes suivantes de :
- conditionnement thermique d’une préforme en un matériau thermoplastique, ledit conditionnement thermique étant réalisé par au moins une unité de chauffe comprenant au moins un module de chauffe, ledit module de chauffe comprenant plusieurs moyens de chauffe positionnés les uns au-dessus des autres ;
- moulage par soufflage ou étirage-soufflage du récipient au moyen d’une unité de formage de récipients.
Le procédé se caractérise en ce qu’il comprend une étape d’étalonnage pour au moins un des formats de récipient comprenant la succession d’actions suivantes : - fourniture d’un échantillon de préforme pour ledit format ; - apposition sur ledit échantillon de au moins deux repères répartis le long de la hauteur dudit échantillon, chacun des au moins deux repères étant associé à au moins un moyen de chauffe ; - conditionnement thermique dudit échantillon et soufflage dudit échantillon pour obtenir un récipient selon ledit format, - relevé de la position des repères sur ledit récipient obtenu ; - attribution de chacun des moyens de chauffe à au moins une des trois sections, en fonction de la position des repères sur ledit récipient obtenu.
Préalablement au lancement d’un cycle de production d’un format de récipients, il est avantageux, lors d’une étape d’étalonnage, de tester les paramètres de production du procédé au moyen d’un ou plusieurs échantillons d’une préforme. L’échantillon de préforme correspond à la préforme pour le récipient à obtenir. En d’autres termes, l’échantillon est représentatif des préformes qui seront utilisées pour le cycle de production de récipients, il possède les mêmes caractéristiques. En somme, un échantillon est un exemplaire d’une préforme pour un format donné d’un récipient.
Selon l’invention, l’utilisation d’un échantillon lors de l’étape d’étalonnage permet de connaître l’impact, lors du conditionnement thermique de la préforme pour un format donné d’un récipient, d’un ou plusieurs moyens de chauffe sur différentes sections du récipient. En d’autres termes, il est alors possible, de manière avantageuse, de savoir quels sont les moyens de chauffe associés directement à la fabrication d’une ou plusieurs sections données d’un récipient : quels sont les moyens de chauffe qui agissent directement par exemple au niveau du fond du récipient, de son corps, etc. Cela permet alors d’identifier facilement et rapidement l’une des causes possibles d’un défaut d’un récipient.
L’invention concerne également un procédé fabrication de récipients qui comprend une étape de contrôle de l’épaisseur de la paroi des récipients au niveau des sections, ledit contrôle étant réalisé au moyen d’une unité de contrôle, ladite unité comprenant des moyens de détection comprenant au moins deux capteurs et l’étape de contrôle comprenant la comparaison de ladite mesure d’épaisseur à une valeur de consigne.
Selon une caractéristique additionnelle, pour au moins une section, l’épaisseur est mesurée par le capteur qui lui correspond, au niveau de la limite inférieure et/ou de la limite supérieure de ladite section.
Selon d’autres modes de réalisation, le procédé de fabrication comprend une étape automatique de réglage de la puissance d’au moins un moyen de chauffe en fonction de l’épaisseur mesurée pour la section à laquelle ledit moyen est attribué.
Selon d’autres modes de réalisation, l’étape d’apposition de repères sur l’échantillon consiste à procéder à un marquage laser sur la circonférence dudit échantillon à au moins deux hauteurs.