INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans certains cas, les composés gras peuvent être choisis parmi les acides gras, les dérivés d'acides gras, les esters d'acides gras, les acides gras à substitution hydroxyle et les acides gras alcoxylés. Les acides gras peuvent être des acides à chaîne droite ou ramifiée et/ou peuvent être saturés ou insaturés. Des exemples non limitatifs d'acides gras incluent les diacides, triacides et autres acides multiples ainsi que les sels de ces acides gras. Par exemple, l'acide gras peut facultativement inclure ou être choisi parmi acide laurique, acide palmitique, acide stéarique, acide béhénique, acide arichidonique, acide oléique, acide isostéarique, acide sébacique et un mélange de ceux-ci. Dans certains cas, les acides gras sont choisis dans le groupe consistant en l'acide palmitique, l'acide stéarique et un mélange de ceux-ci.
Des exemples non limitatifs d'esters de polyglycérol d'acides gras incluent ceux de formule suivante :
Les dérivés d'acides gras sont définis ici pour inclure les esters d'acides gras des alcools gras tels que définis ci-dessus, les esters d'acides gras des dérivés d'alcools gras tels que définis ci-dessus lorsque ces dérivés d'alcools gras ont un groupe hydroxyle estérifiable, les esters d'acides gras d'alcools autres que les alcools gras et les dérivés d'alcools gras décrits ci-dessus, les acides gras hydroxy-substitués, et un mélange de ceux-ci. Des exemples non limitatifs de dérivés d'acides gras incluent acide ricinoléique, monostéarate de glycérol, acide 12-hydroxystéarique, stéarate d'éthyle, stéarate de cétyle, palmitate de cétyle, stéarate d'éther cétylique polyoxyéthylène, stéarate d'éther stéarylique polyoxyéthylène, stéarate d'éther laurique polyoxyéthylène, monostéarate d'éthylèneglycol, monostéarate polyoxyéthylène, distéarate polyoxyéthylène, monostéarate de propylèneglycol, distéarate de propylèneglycol, distéarate de triméthylolpropane, stéarate de sorbitan, stéarate de polyglycéryle, sébacate de diméthyle, cocoate de PEG-15, stéarate de PPG-15, monostéarate de glycéryle, distéarate de glycéryle, tristéarate de glycéryle, laurate de PEG-8, isostéarate de PPG-2, laurate de PPG-9, et un mélange de ceux-ci. Les produits préférés sont monostéarate de glycérol, acide 12-hydroxystéarique et un mélange de ceux-ci.
R 3 -(OCH 2 CH 2 ) c OH,
- R 3 représentant un groupe alkyle ou alkényle linéaire ou ramifié en C 8 -C 40 , de préférence un groupe alkyle ou alkényle en C 8 -C 30 , éventuellement substitué par un ou plusieurs groupes hydroxyle et
- c étant un nombre entier compris entre 1 et 200 inclus, de préférence entre 2 et 150 et plus particulièrement entre 4 et 50, tout particulièrement entre 8 et 20.
Les alcools gras (poly)éthoxylés sont plus particulièrement des alcools gras comprenant de 8 à 22 atomes de carbone, oxyéthylénés avec 1 à 30 moles d'oxyde d'éthylène (1 à 30 OE) ;
(ii) des éthers alkylphénylique en (C 8 -C 32 )de polyoxyalkylène,
(iii) les esters d'acides gras de polyoxyalkylène de sorbitane en (C 8 -C 32 ), notamment les esters d'acides gras polyéthoxylés de sorbitane contenant de préférence de 2 à 40 unités d’oxyde d'éthylène, de préférence de 2 à 20 unités d’oxyde d'éthylène ; de préférence les esters d'acides gras de sorbitane en (C 10 -C 24 ) polyoxyéthylénés contenant de préférence de 2 à 40 unités d'oxyde d'éthylène, mieux encore de 2 à 20 unités d'oxyde d'éthylène et
(iv) des esters d'acides gras polyoxyéthylénés en (C 8 -C 32 ) contenant, par exemple, de 2 à 150 moles d'oxyde d'éthylène ; de préférence des esters d’acide gras polyoxyéthylénés en (C 10 -C 24 ) contenant, par exemple, de 2 à 150 moles d’oxyde d’éthylène.
De préférence, les émulsifiants non ioniques pourront être choisis parmi les éthers d'alkyle de polyalkylèneglycol et les esters d'alkyle de polyalkylèneglycol ; de préférence de polyéthylèneglycol (PEG).
Certains émulsifiants utiles sont :
- l'éther octylique de polyéthylèneglycol ; l’éther laurylique de polyéthylèneglycol ; l’éther tridécylique de polyéthylèneglycol ; l’éther cétylique de polyéthylèneglycol ; l’éther stéarylique de polyéthylèneglycol ; parmi ces derniers, on peut citer plus particulièrement le trideceth-3, le trideceth-10 et le stéareth-6.
- l'éther nonylphénylique de polyéthylèneglycol ; l'éther dodécylphénylique de polyéthylèneglycol ; l’éther de polyéthylèneglycol cétylphényle ; l'éther de polyéthylèneglycol stéarylphénylique ;
- le monostéarate de polyéthylèneglycol sorbitan, monooléate de polyéthylèneglycol sorbitan.
- le stéarate de polyéthylèneglycol et notamment le stéarate de PEG-100.
Idéalement, les émulsifiants non ioniques sont choisis parmi le stéareth-6, le stéarate de PEG-100, le trideceth-3 et le trideceth-10 et leur mélange ; de préférence, tous ces émulsifiants sont présents dans le mélange d'émulsifiants.
Le mélange d'émulsifiants pourra comprendre un ou plusieurs émulsifiants cationiques qui pourront être choisis parmi les halogénures de tétraalkylammonium, les halogénures de tétraarylammonium, les halogénures de tétraalkylarylammonium et leurs sels ; les composés d'ammonium quaternaire, y compris les sels ; de préférence, les émulsifiants cationiques pourront être choisis parmi les halogénures de cétrimonium ou de behentrimonium, tels que le chlorure.
De préférence, toute la couche à base d’oxyde de titane est déposée à partir d’une cible céramique, notamment sous stœchiométrique. La couche à base d’oxyde de titane peut être déposée à partir d'une cible céramique de TiO x sous stœchiométrique, où x est un nombre différent de la stœchiométrie de l'oxyde de titane TiO 2 , c'est-à-dire différent de 2 et de préférence inférieur à 2, en particulier compris entre 0,75 fois et 0,99 fois la stœchiométrie normale de l'oxyde. TiOx peut être en particulier tel que 1,5 < x < 1,98 ou 1,5 < x < 1,7, voire 1,7 < x < 1,95.
L’atmosphère de dépôt peut comprendre un mélange de gaz noble (He, Ne, Xe, Ar, Kr) et d’oxygène. Le gaz noble est de préférence de l’argon. Le seuil maximal d’oxygène peut varier dans une certaine mesure en fonction, par exemple : - de la nature de la cible de TiOx, notamment de sa sous-stœchiométrie en oxygène ou - de la puissance, - de la configuration de chambre de dépôt de pulvérisation cathodique (géométrie, lieux des arrivées de gaz…
La couche à base d’oxyde de titane ayant une épaisseur supérieure ou à égale à 3 nm se trouve en-dessous et au contact d’une couche diélectrique. La couche diélectrique peut être à base d’oxyde, de nitrure ou d’oxynitrure d’un ou plusieurs éléments choisis parmi le silicium, le zirconium, le titane, l’aluminium, l’étain et/ou le zinc. De préférence, cette couche diélectrique a une épaisseur supérieure à 5 nm, 8 nm, 10 nm ou 15 nm.
L’empilement peut comprendre au moins une couche comprenant du silicium. De préférence, le revêtement diélectrique situé au-dessus de la couche fonctionnelle à base d’argent peut comprendre une couche comprenant du silicium. Chaque revêtement diélectrique peut aussi comprendre au moins une couche comprenant du silicium.
Les couches comprenant du silicium sont extrêmement stables aux traitements thermiques. Par exemple, on n’observe pas de migrations des éléments les constituant. Par conséquent, ces éléments ne sont pas susceptibles d’altérer la couche d’argent. Les couches comprenant du silicium contribuent donc également à la non altération des couches d’argent et donc à l’obtention d’une faible émissivité après traitement thermique.
Les couches comprenant du silicium peuvent être choisies parmi les couches à base d’oxyde, à base de nitrure ou à base d’oxynitrure telles que les couches à base d’oxyde de silicium, les couches à base de nitrure de silicium et les couches à base d’oxynitrure de silicium.
Les couches à base d’oxyde de silicium comprennent au moins 90 % en pourcentage atomique d’oxygène par rapport à l’oxygène et l’azote dans la couche à base d’oxyde de silicium. Les couches à base nitrure de silicium comprennent au moins 90 % en pourcentage atomique d’azote par rapport à l’oxygène et l’azote dans la couche à base de nitrure de silicium. Les couches à base d’oxynitrure de silicium comprennent 10 à 90 % (bornes exclues) en pourcentage atomique d’azote par rapport à l’oxygène et l’azote dans la couche à base d’oxyde de silicium. De préférence, les couches à base d’oxyde de silicium sont caractérisées par un indice de réfraction à 550 nm, inférieur ou égale à 1,55. De préférence, les couches à base de nitrure de silicium sont caractérisées par un indice de réfraction à 550 nm, supérieur ou égale à 1,95.
Les couches comprenant du silicium peuvent comprendre ou être constituées d’éléments autres que le silicium, l’oxygène et l’azote. Ces éléments peuvent être choisis parmi l’aluminium, le bore, le titane, et le zirconium. Les couches comprenant du silicium peuvent comprendre au moins 2 %, au moins 5 % ou au moins 8 % en masse d’aluminium par rapport à la masse de tous les éléments constituant la couche comprenant du silicium autres que de l’oxygène et l’azote.
Les couches comprenant de l’aluminium peuvent être choisies parmi les couches à base d’oxyde, à base de nitrure ou à base d’oxynitrure telles que les couches à base d’oxyde de d’aluminium tels que Al2O3, les couches à base de nitrure d’aluminium tels que AIN et les couches à base d’oxynitrure d’aluminium tels que AlOxNy.
Les couches à base de nitrure de silicium peuvent comprendre de l’aluminium et/ou du zirconium. De tels couches peuvent comprendre, en proportion atomique par rapport au proportion atomique de Si, Zr et Al : - 50 à 98 %, 60 à 90 %, 60 à 70 % atomique de silicium, - 0 à 10%, 2 à 10 % atomique d’aluminium, - 0 à 30 %, 10 à 40 % ou 15 à 30 % atomique de zirconium.
De préférence, le revêtement diélectrique situé au-dessus de la couche d’argent comprend une couche comprenant du silicium. Ces couches comprenant du silicium ont, par ordre de préférence croissant, une épaisseur : - inférieure ou égale à 40 nm et/ou - supérieure ou égale à 5 nm, supérieure ou égale à 10 nm ou supérieure ou égale à 15 nm.
De préférence, au moins un revêtement diélectrique comprend une couche comprenant du silicium choisie parmi les couches à base de nitrure de silicium. De préférence, le revêtement diélectrique situé au-dessus de la couche fonctionnelle à base d’argent comprend une couche comprenant du silicium choisie parmi les couches à base de nitrure de silicium. Chaque revêtement diélectrique peut comprendre une couche comprenant du silicium choisie parmi les couches à base de nitrure de silicium.
De préférence, la somme des épaisseurs de toutes les couches comprenant du silicium dans le revêtement diélectrique situé au-dessus de la première couche métallique fonctionnelle à base d’argent peut être supérieure à 35 %, supérieure à 50 %, de l’épaisseur totale du revêtement diélectrique.
L’espace de réservation (7) de la paroi latérale gauche (4) est destiné au logement du moyen d’entraînement (10, 11) ou d’une partie du moyen d’entraînement (10, 11), de préférence du moyen de rappel (11) ou d’une partie du moyen de rappel (11), tel qu’explicité plus en détail dans la suite de la description.
Dans une optique d’harmoniser la description, et tel qu’illustré, il sera considéré que la paroi de fond (2) se retire dans l’espace de réservation (7) de la paroi latérale droite (3).
Selon les modes de réalisation illustrés aux figures 1 à 9, les parois latérales (3, 4), à savoir la paroi latérale droite (3) et la paroi latérale gauche (4), comprennent deux plaques (8) parallèles, à savoir une plaque interne (81) et une plaque externe (82), délimitant l’espace de réservation (7).
En d’autres termes, les parois latérales (3, 4) sont des parois creuses constituées par deux plaques (8) parallèles délimitant un espace de réservation (7).
Plus précisément, les parois latérales (3, 4) comprennent également deux plaques transversales (9), bordant dans la largeur l’espace de réservation (7), les deux plaques transversales (9) sont agencées perpendiculairement à la plaque interne (81) et la plaque externe (82).
Selon des modes de réalisation non illustrés, les parois latérales (3, 4) comprennent une unique plaque (8), plus précisément une plaque interne (81), participant à délimiter l’espace intérieur de la boite de transfert (1), l’espace de réservation (7) étant adjacent à la plaque (8), plus précisément l’espace de réservation (7) est localisé à l’opposé de l’espace intérieur de la boîte de transfert (1) par rapport à la plaque interne (81).
Selon les modes de réalisation précédents, les parois latérales (3, 4) comprennent deux plaques transversales (9), bordant dans la largeur l’espace de réservation (7), les deux plaques transversales (9) sont agencées perpendiculairement à la plaque interne (81).
De la position déployée à la position retirée, la paroi de fond (2) coulisse le long des extrémités inférieures de la paroi frontale (5) et de la paroi arrière (6) et vient épouser l’extrémité inférieure de la paroi latérale droite (3), et coulisser dans l’espace de réservation (7) de la paroi latérale droite (3).
Afin de pouvoir épouser l’extrémité inférieure de la paroi latérale droite (3) et coulisser dans l’espace de réservation (7), la paroi de fond (2) est soit flexible, à savoir souple, soit articulée.
Selon une autre caractéristique, la paroi de fond (2) est une toile renforcée ou un assemblage de lattes articulées, tel qu’un volet roulant.
La paroi de fond (2) doit être suffisamment rigide pour supporter le poids des articles et suffisamment flexible ou articulée pour le passage de l’angle, par exemple droit, matérialisé par l’extrémité inférieure de la paroi latérale droite (3).
Selon les modes de réalisation illustrés aux figures 1 à 5, le moyen de retrait (10) et le moyen de rappel (11) sont localisés chacun dans un espace de réservation (7) délimité par la plaque interne (81) et la plaque externe (82) de leur paroi latérale (3, 4) respective.
Selon d’autres modes de réalisation non illustrés, le moyen de retrait (10) et le moyen de rappel (11) sont localisés chacun dans un espace de réservation (7) bordé par la plaque interne (81) de leur paroi latérale (3, 4) respective.
Selon d’autres modes d’exécution, non illustré, le moyen de retrait (10) et le moyen de retrait (11) sont localisés chacun à l’aplomb d’un espace de réservation (7), à savoir localisés dans le prolongement de l’extrémité supérieure de la paroi latérale (3, 4) auquel il est associé.
Selon un mode d’exécution illustré à la , le moyen de retrait (10) et le moyen de rappel (11) sont localisés à l’aplomb de l’extrémité supérieure de l’espace intérieur de la boîte de transfert (1).
Selon une caractéristique complémentaire, la première extrémité longitudinale de la paroi de fond (2) est avantageusement reliée au moyen de retrait (10) par l’intermédiaire d’un moyen de liaison (14).
Le substrat est de préférence transparent, incolore (il s’agit alors d’un verre clair ou extra-clair) ou coloré, par exemple en bleu, gris ou bronze. Le verre est de préférence de type silico-sodo-calcique, mais il peut également être en verre de type borosilicate ou alumino-borosilicate. Selon un mode de réalisation préféré, le substrat est en verre, notamment silico-sodo-calcique ou en matière organique polymérique.
L’invention concerne un vitrage sous forme de vitrage multiple, en particulier double vitrage ou triple vitrage. Un double vitrage comporte 4 faces, la face 1 est à l'extérieur du bâtiment et constitue donc la paroi extérieure du vitrage, la face 4 est à l'intérieur du bâtiment et constitue donc la paroi intérieure du vitrage, les faces 2 et 3 étant à l'intérieur du double vitrage. L’empilement selon l’invention se trouve en face 2. Un triple vitrage comporte 6 faces, la face 1 est à l'extérieur du bâtiment et constitue donc la paroi extérieure du vitrage, la face 6 est à l'intérieur du bâtiment et constitue donc la paroi intérieure du vitrage, les faces 2 et 3 et 4 et 5 étant à l'intérieur du double vitrage. L’empilement selon l’invention peut se trouver en face 2 et/ou en face 5. Ces vitrages peuvent être montés sur un bâtiment ou un véhicule.
Les exemples suivants illustrent l’invention.
Exemples I. Préparation des substrats : Empilement s, conditions de dépôt Des empilements de couches minces définis ci-après sont déposés sur des substrats en verre sodo-calcique clair d’une épaisseur de 4 mm. Dans les exemples de l'invention : - les couches fonctionnelles sont des couches d’argent (Ag), - les couches diélectriques sont à base de nitrure de silicium dopé à l’aluminium (Si 3 N 4 : Al), à base de nitrure de silicium et de zirconium dopé à l’aluminium (SiZrN : Al), à base d’oxyde de zinc et d’étain, à base d’oxyde de zinc (ZnO). Les couches d’oxyde de titane TiOx sont déposées à partir d’une cible céramique de TiOx avec ou sans oxygène dans l’atmosphère de dépôt. Les conditions de dépôt des couches, qui ont été déposées par pulvérisation (pulvérisation dite « cathodique magnétron »), sont résumées dans le tableau 1.
Matériaux Composition cible Pression Puissance Gaz sccm Ar O 2 N 2 Ar/O 2 (90/10) ZnO ZnO:Al 2%wt céramique 2 µbar 1300 W 40 2 - - TiOx_0 % TiOx céramique 2 µbar 2000 W 30 0 - - TiOx_10 % TiOx céramique 2 µbar 2000 W 30 03 - SnZnO Sn:Zn 60/40%wt métallique 2 µbar 1000 W 7 44 Ag Ag métallique 8 µbar 210 W 80 - - - Si3N4 Si:Al 8%wt métallique 2 µbar 2000 W 18 - 24 - SiZrN Si:Zr 27% at métallique 2 µbar 1000 W 15 - 15 -
%wt : % en poids ; at% : atomique.
I.1. Vitrage avec empilement non traité thermiquement
Les empilements suivants ont été développés pour être utilisés tels que déposés c’est à dire sans avoir été soumis à un quelconque traitement thermique à température élevée. Ni le substrat revêtu de l’empilement, ni l’empilement seul, n’a subi de traitement thermique à température élevée. Pour cette première série d’exemple, on cherche à obtenir une transmission lumineuse de 78,5 % et une résistance par carré de 2,3 Ω/□. Le tableau ci-dessous liste les matériaux et les épaisseurs physiques en nanomètres (sauf autres indications) de chaque couche ou revêtement qui constitue les empilements en fonction de leurs positions vis-à-vis du substrat porteur de l’empilement.
Matériaux Couches Réf.1 I.1a I.1b I.1c Rev. diélectrique TiOx 1 1 1 1 Si 3 N 4 25 22 20 14 SiZrN - - 8 - SnZnO - - - 10 TiOx 10 % O2 13 19 13 18 ZnO 5 - - - TiOx : 0% O2 1 1 1 1 Couche fonctionnelle Ag 17,4 16,2 16,2 16,2 Rev. diélectrique ZnO 5 5 5 5 TiOx 22 22 15 22 SiZrN - - 8 - Substrat (mm) verre 4 4 4 4
Dans les tous les tableaux exposant les caractéristiques optiques et performances, les caractéristiques ont été mesurées sur un double vitrage présentant un structure 4/16/4 : verre de 4 mm / espace intercalaire de 16 mm rempli de 90 % d’argon et 10 % d’air / verre de 4 mm, l’empilement étant positionné en face 2 (la face 1 du vitrage étant la face la plus à l’extérieur du vitrage, comme habituellement). La résistance carré Rsq, correspondant à la résistance rapportée à la surface, est mesurée par induction avec un Nagy SMR-12. La sélectivité « s » correspond au rapport Tl/g. Des vitrages comprenant chacun les empilements décrits ci-dessus ont été testés.
Vitrage g s TL a*T b*T RLext a* b* RLint a* b* Rsq Ug V.Réf.1 49,6 1,53 76,1 -3,9 3,8 16,0 3,5 -6,8 14,8 5,4 -8,5 2,30 1,11 VI.1a 52,8 1,49 78,5 -3,0 3,5 14,0 1,5 -7,5 13,1 3,3 -8,4 2,30 1,11 VI.1b 53,0 1,48 78,5 -3,0 3,5 14,1 1,5 -7,6 13,2 3,2 -8,4 2,30 1,11 VI.1c 52,8 1,49 78,5 -3,1 3,5 14,0 1,9 -7,5 13,1 3,6 -8,3 2,30 1,11
Dans le cas de l’empilement de référence ne comprenant pas de couche à base d’oxyde de titane épaisse, une transmission lumineuse de 78,5 % ne peut pas être obtenue lorsque l’on impose la contrainte sur la résistivité d’au moins 2,3 Ω/□. Pour atteindre cette valeur de 2,3 Ω/□, une couche de 17 nm d’argent est nécessaire. Or, il n’est pas possible d’atteindre une transmission lumineuse supérieure à 76 % avec de telles épaisseurs.
- R 1 représente un radical alkyle ou alcényle linéaire ou ramifié comprenant 6 à 24 atomes de carbone et notamment 8 à 18 atomes de carbone, ou un radical alkylphényle dont le radical alkyle linéaire ou ramifié comprend 6 à 24 atomes de carbone et notamment 8 à 18 atomes de carbone ;
- g représente une unité sucre comprenant 5 à 6 atomes de carbone,
- v désigne une valeur allant de 1 à 15 et de préférence 1 à 4.
De préférence, les tensioactifs alkylpolyglycosides sont des composés de formule décrite ci-dessus dans laquelle :
- R 1 désigne un radical alkyle, linéaire ou ramifié, saturé ou insaturé comprenant de 8 à 18 atomes de carbone,
- g désigne le glucose, le fructose ou le galactose, de préférence le glucose ;
- le degré de polymérisation, c'est-à-dire la valeur de v, pouvant aller de 1 à 15 et de préférence de 1 à 4 ; le degré moyen de polymérisation étant plus particulièrement compris entre 1 et 2.
Les liaisons glucosidiques entre les unités de sucre sont généralement de type 1-6 ou 1-4 et de préférence de type 1-4. De préférence, le tensioactif alkyl(poly)glycoside est un tensioactif alkyl(poly)glucoside. Les alkyl(poly)glycosides 1,4 en C 8 /C 16 et, en particulier, les glucosides décyliques et les caprylyl/capryl glucosides, sont tout particulièrement préférés.
Parmi les produits commerciaux, on peut citer les produits commercialisés par la société COGNIS sous les dénominations PLANTAREN® (600 CS/U, 1200 et 2000) ou PLANTACARE® (818, 1200 et 2000) ; les produits commercialisés par la société SEPPIC sous les dénominations ORAMIX CG 110 et ORAMIX NS 10 ; les produits commercialisés par la société BASF sous la dénomination LUTENSOL GD 70 ou encore les produits commercialisés par la société CHEM Y sous la dénomination AG10 LK.
Les émulsifiants non ioniques peuvent être choisis de préférence parmi les alcools aliphatiques éthoxylés, les tensioactifs polyoxyéthylénés, les esters carboxyliques, les esters de polyéthylène glycol, l'ester de sorbitol et leurs dérivés éthoxylés, les esters de glycol d'acides gras, les amides carboxyliques, les condensats de monoalcanolamine, les amides d'acides gras polyoxyéthylénés.
De préférence, les émulsifiants non ioniques sont choisis parmi :
(i) les éthers alkyliques de polyoxyalkylène, notamment les alcools gras (poly)éthoxylés de formule :
Selon une variante préférentielle, le procédé comprend en outre d’une étape de pose d’une mousse sur l’arête de la coque, ladite étape précédant l’étape de pose.
BRÈVE DESCRIPTION DES FIGURES D’autres avantages, buts et caractéristiques particulières de la présente invention ressortiront de la description non limitative qui suit d’au moins un mode de réalisation particulier des dispositifs et procédés objets de la présente invention, en regard des dessins annexés, dans lesquels : est un exemple particulier de réalisation élément d’habillage d’une arête de coque de siège aéronautique ; est une vue en coupe de face de l’élément d’habillage disposé en vis-à-vis d’une arête de coque de siège aéronautique selon un exemple particulier de réalisation ; est une vue en coupe en perspective de l’élément d’habillage disposé en vis-à-vis d’une arête de coque de siège aéronautique selon un exemple particulier de réalisation ; est un jeu de découpes dans un état désassemblé ; est une vue détaillée d’un exemple de résultat obtenu après couture des découpes entre elles ; est une vue en perspective de l’élément d’habillage, possédant une forme curviligne tridimensionnelle ; est un schéma synoptique d’un procédé de fabrication d’un élément d’habillage ; est un schéma synoptique d’un procédé de pose d’un élément d’habillage sur une arête de siège aéronautique.
Exemple d’un mode de réalisation particulier La représente un élément d’habillage 100 d’une arête de coque 200 de siège aéronautique selon un exemple particulier de réalisation de l’invention.
L’élément d’habillage 100 est conformé à la forme de l’arête de façon à être apte à la couvrir. On entend par « conformé » le fait que l’élément d’habillage est adapté ou configuré pour couvrir avec exactitude, c’est-à-dire avec un faible jeu, une arête de siège aéronautique. Ainsi, lorsqu’il est disposé sur l’arête, l’élément d’habillage 100 permet la finition de l’arête et par conséquent de la coque 200 de siège. On comprend également qu’un élément d’habillage 100 est conçu spécialement pour couvrir une coque 200 particulière, les formes des coques 200 pouvant varier.