INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans un mode de réalisation, le dispositif comprend en outre une frette fixée sur le récipient de stockage et supportant la pompe de distribution. Dans ce cas, la pompe de distribution est montée sur le récipient via la frette.
De plus, selon une variante, les étapes 70 à 82 sont appliquées périodiquement, avec une période égale à un nombre de bribes prédéterminé .
La illustre la performance de décodage dans un exemple pratique dans lequel p=6, q=64. Le code correcteur d’erreur non binaire utilisé est le code NB-LDPC sur GF 64 , avec des nœuds de variable de degré 2 et des nœuds de parité de degré 3, et un rendement R=1/3.
Le message à transmettre comprend 20 symboles source de GF 64 (correspondant à Kp=120 bits source), incluant le symbole d’ancrage. Le mot de code généré par le codage LDPC non binaire contient N=60 symboles de GF 64 .
Les symboles de mot de code sont modulés selon la première modulation CCSK modifiées, pour obtenir 60 séquences de q-1=63 bribes, soit une trame de 3780 bribes. La séquence constante Z est une séquence « tout à zéro ».
La modulation BPSK est appliquée aux séquences de bribes, y compris la séquence Z, selon le schéma de modulation : 0->1 et 1->-1.
Le signal obtenu est bruité par un bruit blanc Gaussien de variance pour simuler le canal de transmission.
Les courbes de résultat sont tracées dans le plan du taux d’erreur par trame en réception FER (pour « Frame Error Rate ») en fonction du rapport signal à bruit SNR.
La courbe F 0 correspond au cas sans décalage de synchronisation (k=0).
Les courbes F 1 , F’ 1 correspondent à un décalage de synchronisation inférieur ou égal à 4, le décodage étant répété périodiquement toutes les bribes. La courbe F 1 en trait plein correspond au résultat après la première application du décodage conjoint avec l’estimation de décalage de synchronisation, et la courbe F 1 ’ en traits pointillés correspond au résultat après l’application du décodage conjoint avec l’estimation de décalage de synchronisation avec une itération supplémentaire.
Les courbes F 2 , F’ 2 correspondent à un décalage de synchronisation inférieur ou égal à 10, le décodage étant répété périodiquement tous les bribes, respectivement la courbe F 2 en trait plein correspond au résultat après la première application du décodage conjoint avec l’estimation de décalage de synchronisation, et la courbe F 2 ’ en traits pointillés correspond au résultat après l’application du décodage conjoint avec l’estimation de décalage de synchronisation avec une itération supplémentaire.
Les courbes F 3 , F’ 3 correspondent à un décalage de synchronisation inférieur ou égal à 15, le décodage étant répété périodiquement tous les bribes, respectivement la courbe F 3 en trait plein correspond au résultat après la première application du décodage conjoint avec l’estimation de décalage de synchronisation, et la courbe F 3 ’ en traits pointillés correspond au résultat après l’application du décodage conjoint avec l’estimation de décalage de synchronisation avec une itération supplémentaire.
Selon une variante de réalisation, la formation du message M se fait de manière à déterminer « partiellement » la valeur d’un symbole d’ancrage placé à une position prédéterminée soit dans le message M, soit dans le mot de code C, cette valeur appartenant à un sous-ensemble prédéterminé de GF q , de cardinal supérieur à 1.
On note également que si le symbole d'ancrage prend une valeur dans un sous-ensemble prédéterminé de éléments de GFq, avec , le message comporte alors bits utiles.
Dans ce cas, à l’étape 78 on pourra déterminer plusieurs estimations du décalage de synchronisation. Précisément, une estimation du décalage de synchronisation peut être obtenue pour chaque valeur possible du symbole d’ancrage. On pourra ensuite choisir une parmi les estimations du décalage de synchronisation, en utilisant par exemple un critère de vraisemblance, ou une connaissance a priori de l’intervalle du décalage de synchronisation.
Par exemple, lorsque les étapes 70 à 82 sont appliquées périodiquement, avec une période égale à un nombre de bribes prédéterminé , alors on en déduit comme information a priori que le décalage de synchronisation . Si une seule des estimations obtenues tombe dans cet intervalle, on pourra alors déterminer avec précision la valeur du décalage de synchronisation.
Dans tous les modes de réalisations décrits précédemment, la séquence de bribes Z, associée au symbole 0 de GF q , est une séquence constante formée de q-1 bribes de même valeur, et donc invariante par tout décalage circulaire (ou permutation circulaire).
ENSEMBLE COMPRENANT AU MOINS DEUX MÉMOIRES RÉSISTIVES NON-VOLATILES ET UN SÉLECTEUR, MATRICE ET PROCÉDÉS DE FABRICATION ASSOCIÉS DOMAINE TECHNIQUE DE L’INVENTION Le domaine technique de l’invention est celui des mémoires résistives non-volatiles. Il concerne également la fabrication de telles mémoires.
Les mémoires résistives sont typiquement réalisées dans des couches situées au-dessus d’un substrat (par exemple un substrat en Silicium) sur lequel est réalisée la matrice. On parle alors de composants appartenant au BEOL pour « Back-End-Of-Line » en anglais (fabriqués lors des étapes finales de fabrication), contrairement aux composants appartenant au FEOL pour « Front-End-Of-Line » (FEOL) en anglais. Les composants appartement au BEOL sont par exemple intégrés entre les niveaux métalliques d'interconnexion. Les composants FEOL sont fabriqués à la surface du substrat (diodes et transistors CMOS par exemple).
L’utilisation des mémoires résistives se révèle une solution prometteuse pour l’augmenter la densité des matrices de mémoires. Elles s’insèrent également dans le développement de nouvelles applications telles que le calcul dit « neuromorphique » ou le développement d’une nouvelle classe de mémoires appelée « Storage Class Memory » en anglais. Cependant, les mémoires résistives peuvent présenter différents inconvénients.
Dans une matrice de points mémoire, une pluralité de mémoires résistives sont connectées à une même ligne ou une même colonne. L’application d’une tension d’adressage aux bornes d’une de ces mémoires (par exemple pour la lire) crée toutefois un courant de fuite non-négligeable au niveau des autres mémoires de la même ligne, et de la même colonne. Ce courant de fuite dégrade les capacités de lecture et/ou d’écriture de l’information au niveau d’une des mémoires.
Afin de résoudre ce problème, il est connu d’ajouter des dispositifs de sélection, appelé « sélecteurs », relié chacun en série avec chaque mémoire (agencement de type « 1S1R »). L’activation d’un seul sélecteur parmi la pluralité des sélecteurs permet ainsi de sélectionner une seule mémoire, tandis que les autres sélecteurs, bloqués, suppriment ou réduisent les courants de fuites des autres mémoires.
Un type de sélecteur cointégrable dans le « back-end », appelé sélecteur « cointégrable » ou sélecteur « back end » dans la suite, offre une facilité de cointégration avec la mémoire, en série avec celle-ci, ses dimensions pouvant être ajustées aux dimensions de la mémoire résistive. En effet, l’état passant d’un sélecteur « back-end » est suffisamment conducteur et permet de réduire ses dimensions au même niveau que celles de la mémoire avec laquelle il peut être connecté en série. Par ailleurs, un sélecteur « back-end » peut être formé de couches déposées sur ou sous un couche mémoire, et gravées en bloc, en même temps que la couche mémoire. Il existe plusieurs types de sélecteurs back-end. Il existe plusieurs types de sélecteurs back-end dont une liste non exhaustive regroupe les types suivants :
Un sélecteur ovonique à seuil ou OTS pour « Ovonic Threshold Switching » en anglais, met en œuvre une propriété caractéristique de certains matériaux chalcogénures ; Il s’agit du passage, sous l'effet d'un champ électrique, d'un état résistif à un état conducteur métastable ; L’état conducteur métastable peut être maintenu aussi longtemps qu’un courant de maintien circule dans le sélecteur OTS ; En dehors de quoi, le sélecteur OTS retrouve l’état résistif (état bloqué) ;
Un sélecteur à pont conducteur instable ou TS pour « Threshold Switch » en anglais, met en œuvre la formation d’un filament métallique métastable par la diffusion, sous l'effet d'un champ électrique, d'une électrode active dans un électrolyte ; Lorsque le champ n'est plus appliqué, le filament métallique métastable se dissout ;
Un sélecteur à conduction électronique et ionique ou MIEC pour « Mixed ion-electronic conduction » en anglais, met en œuvre la mobilité d’ions métalliques permettant la création d'un courant électrique sous l'effet d'un champ électrique ;
Par ailleurs, de manière avantageuse, le procédé comporte au moins les étapes suivantes de : i) mesure de l’épaisseur de la paroi desdits récipients à la sortie du moule, à au moins deux hauteurs différentes ; ii) comparaison des mesures des épaisseurs avec des valeurs de consigne déterminées pour chaque hauteur des récipients ; iii) si l’écart des mesures des épaisseurs avec les valeurs de consigne déterminées est supérieur à un seuil déterminé, modification d’au moins un des paramètres de pilotage, le ou lesdits paramètres de pilotage modifié(s) étant sélectionné(s) au moins en calculant les effets théoriques de la variation pour chaque paramètre sur les épaisseurs puis en sélectionnant le ou les paramètres induisant le plus petit écart entre les valeurs mesurées et les valeurs théoriques d’épaisseurs ; iv) les étapes i) à iii) sont répétées jusqu’à ce que les écarts des mesures des épaisseurs avec les valeurs de consigne déterminées soient inférieurs audit seuil déterminé.
Lesdits paramètres sont hiérarchisés de manière croissante, de la valeur d’écart cumulé la plus faible à la valeur d’écart cumulé la plus grande.
De plus, après l’étape de calcul des écarts et préalablement à l’étape de calcul des corrections théoriques, il comporte une étape additionnelle de recalcul des écarts si les écarts calculés ne sont pas dans lesdites limites.
Par ailleurs, les corrections théoriques calculées nulles sont exclues et l’addition des écarts théoriques calculés est réalisée en valeur absolue.
De plus, l’étape de sélection du paramètre est réalisée après le calcul d’une nouvelle moyenne des épaisseurs pour chaque zone et/ou que la combinaison des écarts pour chaque zone d’épaisseur a changé.
Ladite nouvelle moyenne des épaisseurs pour chaque zone est calculée à une fréquence prédéterminée.
De préférence, la nouvelle moyenne des épaisseurs pour chaque zone est calculée toutes les m bouteilles sorties du moule et mesurées, m étant un nombre entier compris entre 30 et 80.
De préférence, si après n corrections sur ledit paramètre sélectionné, n étant un nombre prédéterminé supérieur ou égal à 1, l’écart des mesures des épaisseurs avec les valeurs de consigne déterminées est supérieur à un seuil déterminé, on sélectionne un nouveau paramètre.
Ledit nouveau paramètre i+1 sélectionné correspond au paramètre i+1 hiérarchisé.
De manière avantageuse, les coefficients de référence optimaux, de chaque paramètre, attribués à chaque zone d’épaisseur de la paroi des récipients sont variables et sont calculés à chaque modification d’un paramètre.
Ledit calcul du coefficient de référence optimal attribué à chaque zone d’épaisseur de la paroi des récipients est obtenu à partir du calcul de l’effet réel de l’ajustement sur chaque zone d’épaisseur de la paroi des récipients.
Ledit calcul comporte au moins des étapes suivantes de : - Calcul d’un offset du paramètre de soufflage et/ou de chauffe en multipliant ledit coefficient initial par la dérive d’épaisseur ; - Détermination du nouveau coefficient en fonction de l’offset appliqué au paramètre et de l’effet réel mesuré sur la répartition matière de chaque zone d’épaisseur.
Ledit paramètre consiste en un paramètre de l’unité de chauffe tel que la puissance de chauffe à une hauteur déterminée de la préforme et/ou la cadence machine qui modifie la vitesse de défilement des préformes dans l’unité de chauffage et/ou la puissance d’une ventilation assurant l’évacuation d’une partie de la chaleur dans l’unité de chauffage et/ou le profil de température de la chauffe préférentielle.
De plus, un dispositif de refroidissement est fourni afin d’obtenir un refroidissement rapide de la section cintrée. Préférablement en un temps inférieur ou égal à 390 secondes.
Avantageusement, il peut être instantané ou, en variante, un refroidissement lent.
Pour cela, le dispositif de cintrage peut être équipé d’un dispositif de refroidissement pour refroidir activement la partie cintrée. Ceci peut comprendre de l’air comprimé.
En variante, le dispositif de refroidissement peut comprendre un refroidissement passif ou un refroidissement automatique. Il peut être un moule, une buse, un circuit réfrigérant, un écoulement d’un fluide de refroidissement et/ou un ventilateur.
Selon un mode de réalisation, le dispositif de refroidissement peut être intégré directement dans le dispositif de cintrage.
Le système peut être agencé le long d’un dispositif de pultrusion. Un dispositif de pultrusion comprend tous les dispositifs nécessaires à la pultrusion tels qu’un dispositif d’alimentation, un bain de résine, un dispositif d’imprégnation, un dispositif de traction, un dispositif d’évacuation.
Avantageusement, le système peut comprendre un IHM ou un module d’automatisation pour configurer des paramètres du système et faire le suivi, contrôler et gérer tous les dispositifs du système, comme la température et/ou la durée.
L’invention peut être sujette à de nombreuses variantes et applications autres que celles décrites ci-dessus. Sauf indication contraire, les différentes caractéristiques structurales et fonctionnelles de chacune des implémentations décrites ci-dessus ne doivent pas être considérées comme combinées et/ou liées étroitement et/ou inextricablement les unes aux autres, mais au contraire comme de simples juxtapositions. De plus, les caractéristiques structurales et/ou fonctionnelles des différents modes de réalisation décrits ci-dessus peuvent être le sujet en entier ou en partie d’une quelconque juxtaposition différente ou d’une quelconque combinaison différente.
Installation de fabrication d’équipement de protection individuelle La présente invention se rapporte au domaine technique des équipements individuels de protection, dit EPI, et en particulier des EPIs sanitaires ou médicaux.
L’invention concerne une installation de fabrication d’EPIs. L’invention porte, en particulier, sur une installation pour la fabrication d’EPIs jetables.
Etat de la technique antérieure Il est connu de l’état dans la technique antérieure de personnaliser les EPIs en utilisant une méthode de fabrication additive pour déposer de la matière sur l’EPI. Les procédés de fabrication majoritairement utilisés sont le transfert sérigraphique ou la sublimation.
En outre, cette fabrication additive est réalisée hors de l’installation dédiée à la fabrication de l’EPI ou de la chaine production de l’EPI. En pratique, cette étape de fabrication additive est mise en œuvre subséquemment ou précédemment au procédé de fabrication de l’EPI.
De plus, les procédés de personnalisation de l’état de l’art ne permettent pas d’imprimer sur des matières sensible et/ou fragile et/ou rugueuse telles que, par exemple, les polymères.
Un but de l’invention est notamment : - de personnaliser des EPIs à la demande, et/ou - de personnaliser des EPIs en polymère, et/ou - de personnaliser des EPIs au moyen de motifs colorés, et/ou - de personnaliser des EPIs directement dans la chaine de fabrication de l’EPI, et/ou - de diminuer les coûts de fabrication d’un EPI personnalisé.
Présentation de l’invention A cet effet, il est proposé une installation de fabrication d’équipement de protection individuelle, dit EPI. L’installation de fabrication comprend une unité, dite de déroulement, apte à accueillir et à dérouler au moins un film stocké, de préférence dans l’installation de fabrication, sous forme de bobine. Ledit au moins film est destiné à constituer, au moins en partie, l’EPI. L’installation de fabrication comprend, en outre, une unité de travail pour fabriquer ledit EPI à partir de l’au moins un film. L’installation comprend, en outre, un système d’impression agencé pour imprimer un motif, en couleur, sur une surface d’un film, dit film externe, parmi l’au moins un film, ladite surface du film externe est destinée à constituer une surface externe de l’EPI. De préférence, le système d’impression est disposé dans l’installation de sorte à être situé, par rapport à un sens de déroulage du film externe, en amont de l’unité de travail.
L’EPI peut être un EPI sanitaire ou médical.
L’entretoise 52 est montée coulissante de façon coulissante dans la glissière 32 de la pièce levier arrière 3.
La glissière 32 définit ainsi des positions de début et de fin de course de l’entretoise 52 dans la glissière, et donc délimite des angles de débattements minimum et maximum de la pièce levier arrière 3 vis-à-vis de la semelle 2, lors de sa rotation autour de l’axe Y1-Y1.
La chaussure 1 comporte un organe élastiquement déformable 6, formé dans l’exemple décrit par un ressort de compression 6 monté dans la glissière 32. Ce ressort 6 est fixé d’une part à la pièce levier arrière 3, au-dessus de la glissière 32, et d’autre part à l’entretoise 52 de la biellette 5. Ce ressort 6 est ainsi agencé pour rappeler la biellette 5 dans une position de repos.
Dans l’exemple décrit, la biellette 5, la glissière 32 et le ressort 6 sont dimensionnés de sorte que la pièce levier arrière 3 puisse débattre vers l’avant de la chaussure 1 selon un angle maximum de 30° depuis cette position de repos, et vers l’arrière de la chaussure 1 selon un angle maximum de 55° depuis cette position de repos.
Comme montré en , la biellette 5 pourra comporter un piston agencé 56 agencé dans la glissière 32 et muni d’un crochet et le ressort 6 pourra être pourvu d’un pion 61 inséré dans ce crochet 57. Ce pion 61 et ce crochet forment ensemble un organe de débrayage permettant de désengager la biellette 5 du ressort 6 en dégageant manuellement le pion 61 du piston 56.
En variante au mode de réalisation représenté aux à , on pourrait concevoir de positionner la glissière 32 et le ressort 6 sur la semelle 2 et de relier la bielle 5 de façon pivotante à la pièce levier arrière 3, sans sortie du cadre de la présente invention.
L’ensemble formé par la semelle 2, la pièce levier arrière 3, le dispositif de liaison 4 et la biellette 5 associé au ressort 6 reprend ainsi les fonctions mécaniques d’une chaussure de ski, assurant un confort au skieur au regard des efforts qu’il transmet au ski, via la pièce levier 3, sans que ces efforts ne provoque de frottement ou d’échauffement au niveau de son tibia et lui permettant un contrôle important des skis, y compris pour des mouvements de flexion de grandes amplitudes. On pourra associer à cette chaussure de ski 1 une guêtre (non représentée), par exemple fixée à la semelle 2 et/ou à la pièce levier arrière 3 et permettant de remplir les fonctions d’isolation et d’étanchéité d’une chaussure de ski classique.
La description qui précède explique clairement comment l'invention permet d'atteindre les objectifs qu'elle s'est fixée, et notamment en proposant une chaussure de ski associant une pièce levier montée pivotante sur une semelle, vis-à-vis d’une zone de réception d’une chaussure d’un skieur, sur laquelle est montée de façon mobile, selon au moins un degré de liberté, un dispositif de liaison à la basse jambe du skieur, la semelle et la pièce levier étant reliée entre elles par une bielle et un ressort. Cette chaussure de ski permet ainsi de conserver les avantages des chaussures de ski modernes tout en améliorant l’ergonomie et le chaussage du skieur, en facilitant l’intégration de la chaussure de ski dans un modèle esthétique et en améliorant l’industrialisation de la chaussure de ski.
En tout état de cause, l'invention ne saurait se limiter aux modes de réalisation spécifiquement décrits dans ce document, et s'étend en particulier à tous moyens équivalents et à toute combinaison techniquement opérante de ces moyens. En particulier, on pourra envisager d’autres modes de montage du dispositif de liaison sur la pièce levier, par exemple au moyen d’une rotule montée pivotante et coulissante dans une glissière de la pièce levier. On pourra également envisager d’employer un ressort de torsion ou encore un élastique ou encore un vérin en tant qu’organe élastiquement déformable ou en tant qu’amortisseur permettant de s’opposer à un déplacement de la pièce levier depuis sa position de repos.
Dispositif monobloc de conditionnement de produit cosmétique La présente invention concerne le domaine du conditionnement de produits cosmétiques.
Plus particulièrement, le dispositif de conditionnement selon la présente invention est destiné à la distribution d’un produit cosmétique, tel que, par exemple, un produit anhydre, sous forme de poudre compacte, destiné à être appliqué, par exemple, sur l’épiderme de l’utilisateur. Le produit cosmétique peut être un produit de maquillage, par exemple un fard à paupières, un fard à joue, du fond de teint ou un autre produit de maquillage.
L'invention porte sur un dispositif de conditionnement et de distribution comprenant un couvercle supérieur monté de manière articulée sur une embase.
On peut se référer au document US 2002/0162565 - A1 qui décrit un contenant pour contenir un produit comprenant une embase et un couvercle articulé sur l’embase par un élément intermédiaire capable de pivoter de manière à permettre au couvercle de pivoter à 360° par rapport à l’embase. L'élément intermédiaire comprend une barre de verrouillage s’étendant verticalement en saillie de l'élément intermédiaire et conçue pour coopérer avec une ouverture allongée située sur une paroi latérale de l’embase.
On peut également se référer au document FR 2 791 042 qui décrit un boîtier mono pièce comprenant une première partie, une deuxième partie articulée sur la première partie au moyen d’une charnière centrale et de deux charnières film. La charnière centrale est formée par une barre formée sur la première partie et coopérant avec un organe de retenue formé sur la deuxième partie.
De tels contenants nécessitent un insert transversal mobile pour le moulage et le démoulage de l'ouverture allongée, ce qui génère une structure de moule complexe.
L’utilisation du cobalt est controversée pour des questions éthiques et du fait d’une grande fluctuation de son prix. En effet, le cobalt est principalement extrait par des enfants dans des mines de la république démocratique du Congo.
C’est pourquoi de nombreuses études sont menées actuellement dans le but de réduire son utilisation, voire de bannir totalement le cobalt des matériaux utilisés dans les batteries. En ce qui concerne le nickel, le prix de celui-ci ne cesse d’augmenter entrainant ainsi une augmentation du prix du pack batterie final.
Un autre des défis est lié à la réactivité aux interfaces solide-solide entre l’électrolyte solide et l’électrode positive et aux propriétés mécaniques des interfaces solide-solide. Ces problématiques peuvent être critiques car une réactivité trop importante aux interfaces solide-solide peut engendrer de mauvaises performances électrochimiques, par exemple une chute de capacité lors du cyclage de batterie.
Il existe donc un besoin de développer un nouveau matériau d’électrode permettant de surmonter les inconvénients ci-dessus.
Ainsi, le but de la présente invention est de concevoir un matériau d’électrode permettant d’obtenir de bonnes performances électrochimiques, notamment de bonnes capacités, et des performances qui se maintiennent avec les cycles de charge et de décharge d’une batterie.
L’invention a donc pour objet un matériau d’électrode ME comprenant un premier matériau d’électrode MN dont la surface est recouverte par une couche d’oxyde d’aluminium ou d’oxyhydroxyde d’aluminium.
L’invention a également pour objet un procédé d’élaboration d’un matériau d’électrode ME comprenant les étapes suivantes : a) mélanger un premier matériau d’électrode MN avec un agent comprenant de l’aluminium en présence d’au moins un solvant ; b) ajouter le mélange obtenu à l’issue de l’étape a) dans un réacteur et ajouter du dioxyde de carbone dans ledit réacteur ;