INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Le dispositif de balai d'essuie-glace 10 comprend une unité de déflecteur 16. L’unité de déflecteur 16 a deux éléments de déflecteur 18, 18’. Les éléments de déflecteur 18, 18’ sont prévus sur les côtés opposés de l’adaptateur de balai d'essuie-glace 12 notamment selon l’axe longitudinal 20 du balai d'essuie-glace 108. L’unité de déflecteur 16 est obtenu par un procédé par stratification, notamment en un élastomère.
L’axe longitudinal 20 du balai d'essuie-glace 108 est identique à l’axe longitudinal 20 de l’unité de déflecteur 16, de chacun des éléments de déflecteur 18, 18’ et de l’adaptateur de balai d'essuie-glace 12 ; à la , pour des raisons de clarté, cet axe n’a qu’une seule référence.
Le dispositif de balai d'essuie-glace 10 comprend une unité de distribution de liquide 22. L’unité de distribution de liquide 22 comprend un ensemble d’éléments de distribution de liquide 24. Seule une référence est utilisée de façon générique pour les éléments de distribution de liquide 24 pour simplifier la présentation.
L’unité de distribution de liquide 22 est destinée à distribuer du liquide dans deux directions opposées perpendiculaires à l’axe longitudinal 20 de l’unité de déflecteur 16 avec un écart maximum de 45° ; cet angle est notamment mesuré orienté vers l’extérieur sur l’élément de distribution de liquide 24 correspondant.
L’unité de déflecteur 16 comporte seize premiers éléments de distribution de liquide 26 parmi les éléments de distribution de liquide 24. Les huit seconds éléments de distribution de liquide 28 parmi les éléments de distribution de liquide 24 sont prévus sur l’adaptateur de balai d'essuie-glace 12. Les seconds éléments de distribution de liquide 28 ont chacun une direction de distribution de liquide 30 qui est inclinée d’un angle compris entre 10° et 80° par rapport à la direction de distribution de liquide 32 des premiers éléments de distribution de liquide 26. La direction de distribution de liquide 32 des premiers éléments de distribution de liquide 26 est deux fois représentative de tous les premiers éléments de distribution de liquide 26 avec une seule référence.
L’adaptateur de balai d'essuie-glace 12 est au milieu du balai d'essuie-glace 108 notamment par rapport à l’axe longitudinal 20 du balai d'essuie-glace 108. Les éléments déflecteurs 18, 18’ sont prévus sur les côtés opposés de l’adaptateur de balai d'essuie-glace 12 selon l’axe longitudinal 20 du balai d'essuie-glace 108.
Les éléments déflecteurs 18, 18’ sont reliés notamment par une liaison fluidique à l’adaptateur de balai d'essuie-glace 112 sur les côtés de cet adaptateur de balai d'essuie-glace 12 opposés selon l’axe longitudinal 20 du balai d'essuie-glace 108.
L’unité de distribution de liquide 22 comporte six canaux 36 (indiqués schématiquement à la ). Chaque fois deux canaux 36 sont prévus dans chacun des deux éléments déflecteurs 18, 18’ et dans l’adaptateur de balai d'essuie-glace 12, notamment dans le corps de base de cet adaptateur. Deux canaux 36 sont intégrés dans chaque élément déflecteur 18, 18’. Les deux canaux 36 de chaque élément déflecteur 18, 18’ traverse complètement l’élément déflecteur 18, 18’ selon l’axe longitudinal 20 de l’élément déflecteur 18, 18’ respectif.
Les deux canaux 36 dans chaque élément déflecteur 18, 18’ sont prévus sur les côtés opposés selon l’axe de pivotement 34 de l’adaptateur de balai d'essuie-glace 12. L’axe de pivotement 34 est perpendiculaire à l’axe longitudinal 20 du balai d'essuie-glace 108.
Les deux canaux 36 sont intégrés dans l’adaptateur de balai d'essuie-glace 12. Les deux canaux 36 traversent complètement l’adaptateur de balai d'essuie-glace 12 selon son axe longitudinal 20. Les deux canaux 36 sont prévus dans l’adaptateur de balai d'essuie-glace 12, sur les côtés opposés selon l’axe de pivotement 34 de l’adaptateur de balai d'essuie-glace 12.
L’adaptateur de balai d'essuie-glace 12 pivote autour de l’axe de pivotement 34 avec l’adaptateur de bras d’essuie-glace 106 en étant notamment relié à un élément de broche de l’adaptateur de bras d’essuie-glace 106. Chaque canal 36 est prévu dans l’adaptateur de balai d'essuie-glace 12 dans l’alignement de deux canaux 36 dans deux éléments de déflecteur 18, 18’ différents en étant relié à ceux-ci, notamment par une connexion fluidique. Chaque fois, trois canaux 36 passent parallèlement aux trois autres canaux 36, notamment selon l’axe longitudinal 20 du balai d'essuie-glace 108.
L’adaptateur de balai d'essuie-glace 12 a un élément de connexion fluidique pour réaliser un couplage fluidique avec une conduite d’alimentation 38 et qui est réalisée en partie comme élément de canal dans l’adaptateur de balai d'essuie-glace 12 pour relier l’orifice d’entrée de l’élément de connexion aux deux canaux 36 dans l’adaptateur de balai d'essuie-glace 12.
Le balai d'essuie-glace 108 notamment le dispositif de balai d'essuie-glace 10 en particulier l’élément de connexion fluidique comprend une soupape à trois voies 40. La soupape ou vanne à trois voies 40 est réalisée pour alimenter l’unité de distribution de liquide 22 en fonction de la direction d’essuyage du balai d'essuie-glace 108 avec du liquide pour le distribuer dans la direction d’essuyage en cours. La vanne à trois voies 40 a une entrée de liquide. La vanne à trois voies 40 a deux sorties de liquide dont à chaque instant, au maximum l’une est reliée par une liaison fluidique à l’entrée de liquide. La vanne à trois voies 40 est électro-commandée. La vanne à trois voies 40 notamment son entrée de liquide, est reliée directement aux deux canaux 36 dans l’adaptateur de balai d'essuie-glace 12 et par les deux canaux 36 dans l’adaptateur de balai d'essuie-glace 12 aux canaux 36 de l’unité de déflecteur 16.
L’unité de distribution de liquide 22 comporte un ensemble d’éléments de distribution de liquide 24 qui sont en partie dans l’adaptateur de balai d'essuie-glace 12 et en partie dans les deux éléments de déflecteur 18, 18’. Les éléments de distribution de liquide 24 sont en partie des orifices de distribution des canaux 36 de l’unité de distribution de liquide 22. Les éléments de distribution de liquide 24 comprennent en partie des buses de distribution de liquide couplées aux canaux 36 notamment certains sont prévus directement sur les canaux 36.
L’unité de distribution de liquide 22 est réalisée pour la distribution de liquide dans deux directions opposées, vers l’extérieur, à partir des éléments de déflecteur 18, 18’ ou de l’adaptateur de balai d'essuie-glace 12 perpendiculairement à l’axe longitudinal 20 de l’unité de déflecteur 16 avec un écart maximum de 45° ; cet angle est notamment mesuré sur l’élément de distribution de liquide 24 respectif. L’unité de distribution de liquide 22 est réalisée pour distribuer du liquide dans deux directions opposées, vers l’extérieur à partir des éléments déflecteurs 18, 18’ ou de l’adaptateur de balai d'essuie-glace 12, perpendiculairement à l’axe de pivotement 34 de l’adaptateur de balai d'essuie-glace avec un écart maximum de 45° ; l’angle est mesuré sur l’élément de distribution de liquide 24 respectif.
Comme illustré dans les modes de réalisation (B), (C), (D), (E) et (F), la structure de protection SP peut également comporter également au moins un élément métallique CTC, identique à des contacts utilisés dans les zones actives du circuit intégré ou à des contacts CTC_SR utilisés dans les anneaux de bord de puce. L’élément métallique CTC peut s’étendre verticalement de façon à connecter l’empilement EPL au substrat SUB de la plaque semiconductrice PLQ. Cet élément métallique CTC peut être en tungstène. L’empilement EPL et l’élément métallique CTC permettent de dissiper profondément vers le substrat SUB la chaleur produite par l’ablation laser. L’utilisation d’un élément métallique CTC permet d’ajouter un élément thermiquement conducteur afin d’améliorer la dissipation de la chaleur produite par l’ablation laser.
Comme illustré dans chaque mode de réalisation (A) à (F), La structure de protection SP peut également comprendre un épaulement STP du substrat SUB de la plaquette semiconductrice à proximité de la zone d’ablation laser. L’épaulement STP de substrat SUB permet d’obtenir une tranchée STI plus profonde qui permet une isolation thermique plus profondément dans le substrat et de limiter, voire d’empêcher la propagation dans le substrat SUB des fissures latérales pouvant être générées lors de la gravure plasma du fait de la chaleur générée par l’ablation laser. En particulier, l’épaulement STP peut être formé au niveau de l’empilement EPL ou bien entre l’empilement EPL et la zone d’ablation laser ou encore entre l’empilement EPL et l’anneau de bord de puce . L’épaulement STP peut présenter une hauteur de quelques centaines de nanomètres par exemple.
Par ailleurs, illustré dans le mode de réalisation (C), l’élément métallique CTC est connecté directement à l’épaulement STP du substrat SUB. La structure de protection SP ne comprend donc pas de tranchées TRCH entre l’élément métallique CTC et la substrat SUB.
Dans les modes de réalisation (D), (E) et (F), la structure de protection comporte en outre au moins une tranchée TRCH formée en partie dans la tranchée d’isolation peu profonde STI et s’étendant en profondeur dans le substrat semiconducteur SUB.
Chaque tranchée TCRH est remplie d’un matériau conducteur thermique. Par exemple, chaque tranchée TRCH est remplie de polysilicium. Le polysilicium permettent d’introduire une résistance thermique dans le substrat. Par exemple, le polysilicium peut être dopé avec des concentrations de dopage entre 10 13 atomes/cm 3 et 10 24 atomes/cm 3 . Chaque tranchée s’étend en profondeur dans le substrat de la plaque semiconductrice. Comme illustrée dans les modes de réalisation (D) et (E), la largeur d’une tranchée peut varier. Le fait de former une tranchée TRCH dans une tranchée d’isolation peu profonde STI permet d’obtenir une tranchée TRCH s’étendant plus profondément dans le substrat SUB. Chaque tranchée TRCH permet d’obtenir une isolation thermique plus profonde et d’empêcher la propagation de fissures latérales vers la zone active ZA du circuit intégré.
Dans les modes de réalisation (D) et (E) de la , la structure de protection comporte une unique tranchée. En variante, la structure de protection peut comporter plusieurs tranchées TRCH différentes. Ainsi, comme illustrée dans le mode de réalisation (F) de la , l’empilement EPL peut être relié à deux tranchées TRCH différentes par deux éléments métalliques CTC, par exemple.
Plus particulièrement, la illustre différents modes de réalisation d’une tranchée TRCH en vue de dessus. Comme illustrée dans les modes de réalisation (a) et (b) de la , chaque tranchée TRCH peut être continue autour de la zone active du circuit intégré. En particulier, le mode de réalisation (a) de la présente une tranchée continue ayant une largeur importante comme illustré dans le mode de réalisation (D) de la . Le mode de réalisation (b) présente deux tranchées continues ayant une largeur plus faible comme illustré dans le mode de réalisation (F) de la .
En variante, comme illustré dans le mode de réalisation (c) de la , lorsque la structure comporte plusieurs tranchées, notamment des tranchées fines comme illustré dans le mode de réalisation (F) de la , les tranchées peuvent être discontinus. Dans ce dernier cas, il est préférable d’agencer les tranchées TRCH de façon à avoir au moins une tranchée en regard de la zone active en tout point autour de la zone active. Ce mode de réalisation permet de simplifier la fabrication des tranchées TRCH car les tranchées TRCH sont alors composées de portions de longueur limitée.
La illustre un procédé de fabrication de circuits intégrés à partir d’une plaquette PLQ en substrat semiconducteur SUB.
Le procédé comprend plusieurs étapes 40, 41 et 42 effectuées simultanément. En particulier, le procédé comprend une fabrication 40 des circuits intégrés dans la plaquette PLQ en substrat semiconducteur SUB. Le procédé comprend également une fabrication 41 d’anneaux de bord de puce autour des zones actives ZA des circuits intégrés. Le procédé comprend également une fabrication 42 d’une structure de protection SP selon l’un des modes de réalisation décrits précédemment.
En particulier, la formation 42 de la structure de protection peut comprendre la formation d’au moins une tranchée TRCH. la formation 42 de la structure de protection peut également comprendre en outre une formation de l’empilement EPL et d’au moins un autre élément métallique CTC relié ou non à ladite au moins une tranchée TRCH. Comme vu précédemment, la formation 42 de la structure de protection SP est effectuée avec la formation des circuits intégrés CI. En particulier, la formation des tranchées TRCH peut être effectuée simultanément avec une formation de tranchées pour une fabrication d’autres composants (non représentés), tels que des capacités dans les circuits intégrés CI, les tranchées TRCH de la structure d’isolation étant identique aux tranchées utilisées pour la fabrication desdits autres composants. En outre, la formation de l’empilement EPL et dudit au moins un élément métallique CTC peut être effectué simultanément avec une formation d’empilements et d’éléments métalliques identiques à l’élément CTC utilisés pour la fabrication des circuits intégrés ou des anneaux de bord de puce SR. En particulier, l’empilement EPL et ledit au moins un élément métallique CTC peuvent être formés en même temps que l’empilement EPL-SR et de l’élément métallique CTC_SR des anneaux de bord de puces illustrés à la .
Le procédé comprend ensuite une découpe 43 dans laquelle les circuits intégrés CI sont séparés les uns des autres. En particulier, la plaquette est découpée en suivant les chemins de découpe. La découpe de la plaquette comprend tout d’abord une ablation laser puis une gravure chimique ou un découpage physique (sciage ou gravure plasma par exemple). La structure de protection SP permet de dissiper profondément dans le substrat la chaleur produite par l’ablation laser, afin de réduire le risque d’apparition de fissures dans le substrat semiconducteur lors de la gravure chimique ou lors du découpage physique. Après découpe, chaque circuit intégré comporte en bordure ladite structure de protection SP qui peut avoir été partiellement endommagée par la découpe.
Procédé de traitement de substrats L’invention concerne un procédé de traitement de substrats, et plus en particulier un procédé de traitement de substrats semi-conducteurs et/ou de substrats piézoélectriques.
Lors de traitements thermiques dans des procédés utilisant des substrats semi-conducteur et/ou piézoélectrique, la diffusion d’un élément métallique, tel que par exemple le lithium, peut aboutir à une contamination de l’équipement réalisant le traitement thermique, tel qu’un four. Le niveau de contamination par cet élément peut par exemple être déterminé par VPD ICPMS (de l’anglais « Vapour Phase Decomposition » et « Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry » ou « décomposition en phase vapeur » et « Spectroscopie de masse à plasma à couplage inductif ») en nombre d’atomes par centimètre carré. Le niveau de contamination peut dépendre du nombre de cycles réalisés avec des substrats comprenant l’élément métallique, des conditions du processus utilisé et du type de substrat utilisé. Une forte augmentation du niveau de contamination est notamment observée quand un substrat se brise à l’intérieur de l’équipement. Un niveau élevé de contamination dans un équipement peut ensuite réduire le rendement de production.
Le problème de contamination peut également avoir un impact négatif sur les chaines de production d’un fabricant, car une contamination par un certain élément dans un équipement peut aboutir à une interdiction de réalisation de différents types de procédé sur un même équipement ce qui réduit grandement la flexibilité de fabrication et impose au fabricant la mise en place de plusieurs lignes distinctes de fabrication selon le procédé et les matériaux utilisés.
L’objet de l’invention est donc la mise en place d’un procédé de décontamination qui permet de réduire le niveau de contamination par un élément métallique dans un équipement réalisant un traitement thermique.
De façon préférentielle, chaque fois au moins deux premiers éléments de distribution de liquide sont installés parallèlement à l’axe de pivotement, en se faisant face sur l’élément de déflecteur. De façon préférentielle, chaque fois au moins les deux premiers éléments de distribution de liquide, sont disposés notamment parallèles à l’axe de pivotement dans l’alignement, notamment sur les côtés différents de l’élément respectif de déflecteur. De préférence, chaque fois au moins deux des premiers éléments de distribution de liquide sont dans des directions opposées pour distribuer du liquide le long de l’axe de basculement. Cela permet un effet de nettoyage des éléments de déflecteur notamment des deux côtés particulièrement avantageux.
Suivant une autre caractéristique, chacun des deux éléments de déflecteur comporte au moins deux premiers éléments de distribution de liquide parmi les éléments distribution de liquide et ces deux premiers éléments de distribution de liquide sont prévus sur chaque élément déflecteur, sur la moitié de l’élément déflecteur à l’opposé de l’adaptateur de balai d'essuie-glace. De façon préférentielle, chaque élément déflecteur comporte tous les éléments de distribution de liquide d’un côté opposé à l’adaptateur de balai d'essuie-glace notamment à la moitié géométrique opposée de l’adaptateur de balai d'essuie-glace muni de l’élément déflecteur respectif. De façon préférentielle, chaque élément déflecteur comporte tous les éléments de distribution de liquide sur un côté non tourné vers le milieu du balai d'essuie-glace en particulier dans la moitié géométrique opposée de l’adaptateur de balai d'essuie-glace, sur l’élément déflecteur respectif. On arrive ainsi, de façon avantageuse, à un effet de nettoyage des bords du balai d'essuie-glace éloignés de l’adaptateur de balai d'essuie-glace.
Suivant une autre caractéristique, au moins un adaptateur de balai d'essuie-glace comporte au moins deux autres seconds éléments de distribution de liquide parmi les éléments de distribution de liquide et qui sont orientés dans des directions opposées pour distribuer du liquide. De façon préférentielle, l’adaptateur de balai d'essuie-glace comporte au moins huit éléments de distribution de liquide. De façon préférentielle, respectivement deux seconds éléments de distribution de liquide sont orientés par paire pour la distribution de liquide dans les directions opposées, c’est-à-dire notamment à 180°. De façon préférentielle, tous les éléments de distribution de liquide, notamment de l’adaptateur de balai d'essuie-glace sont sous la forme d’orifices de distribution de liquide. Cela permet une répartition avantageuse régulière notamment par rapport aux côtés opposés l’un à l’autre du balai d'essuie-glace le long de l’axe de pivotement.
Suivant une autre caractéristique, l’adaptateur de balai d'essuie-glace comporte au moins deux autres seconds éléments de distribution de liquide parmi les éléments de distribution de liquide et qui ont une direction de distribution de liquide qui fait un angle compris entre 10° et 90° par rapport à l’axe longitudinal de l’adaptateur de balai d'essuie-glace. De façon préférentielle, les seconds éléments de distribution de liquide, notamment ceux de l’adaptateur de balai d'essuie-glace ont une direction de distribution de liquide qui est inclinée d’un angle compris entre 10° et 45° et de préférence entre 10° et 30° par rapport à l’axe longitudinal du balai d'essuie-glace. On arrive à une distribution avantageuse de liquide dans des conditions météorologiques de gel ou de neige dans la zone latérale du balai d'essuie-glace notamment parce que l’adaptateur de balai d'essuie-glace est réalisé de façon plus protégée contre le froid que ne le sont les éléments déflecteurs.
En outre, suivant une autre caractéristique, l’adaptateur de balai d'essuie-glace comporte au moins deux troisièmes éléments de distribution de liquide parmi les éléments de distribution de liquide qui sont orientés respectivement selon une direction de distribution de liquide qui fait un angle de 90° par rapport à l’axe longitudinal de l’adaptateur de balai d'essuie-glace. Les troisièmes éléments de distribution de liquide sont tous réunis comme orifices de distribution de liquide. Les troisièmes éléments de distribution de liquide peuvent être tous réalisés comme des buses de distribution de liquide. De préférence, les troisièmes éléments de distribution de liquide ont chaque fois une direction de distribution de liquide, notamment une direction moyenne qui est parallèle à l’axe de pivotement, cet angle étant mesuré vers l’extérieur pour chaque élément de distribution de liquide. De façon préférentielle, les trois éléments de distribution de liquide sont situés respectivement au milieu par rapport à l’axe longitudinal du balai d'essuie-glace sur l’adaptateur. De façon préférentielle, les troisièmes éléments de distribution de liquide sont respectivement situés entre quatre seconds éléments de distribution de liquide selon l’axe longitudinal du balai d'essuie-glace. De façon préférentielle, les troisièmes éléments de distribution de liquide ne sont pas réglables, notamment pour la direction de distribution de liquide. On a ainsi l’avantage d’une distribution de liquide qui est centrée sur les deux côtés.
Suivant une autre caractéristique, le dispositif de balai d'essuie-glace comporte au moins un capuchon d’extrémité sans élément de distribution de liquide. Le capuchon d’extrémité est, de préférence, réalisé sans canaux. Le capuchon d’extrémité est de préférence distant des canaux. En variante, le capuchon d’extrémité est réalisé de façon à rendre étanches les canaux des éléments de déflecteur. On a ainsi l’avantage d’un balai d'essuie-glace économique notamment grâce aux liaisons fluidiques non compliquées.
Suivant une autre caractéristique, le dispositif de balai d'essuie-glace comporte au moins un autre capuchon d’extrémité sans élément de distribution de liquide. Le dispositif de balai d'essuie-glace comporte de préférence deux capuchons d’extrémité. Les capuchons d’extrémité sont installés aux extrémités opposées du balai d'essuie-glace selon son axe longitudinal. Les capuchons d’extrémité sont identiques, notamment vis-à-vis des canaux ou des éléments de distribution de liquide. On a l’avantage d’un balai d'essuie-glace symétrique et économique. En particulier, les capuchons d’extrémité sont interchangeables.
Suivant une autre caractéristique, le premier élément de distribution de liquide parmi les éléments de distribution de liquide est prévu sur l’unité de déflecteur et a une direction de distribution de liquide qui est réglable suivant un angle compris entre 45° et 90° par rapport à l’axe longitudinal de l’unité de déflecteur. De façon préférentielle, ce premier élément de distribution de liquide a une direction de distribution qui est réglable par rapport à l’axe longitudinal de l’unité de déflecteur suivant un angle compris entre 45° et 90° et d’une manière particulièrement préférentielle, cet angle est compris entre 60° et 90°. En particulier, cet angle est mesuré vers l’extérieur pour le premier élément de distribution de liquide, par rapport à l’élément de déflecteur respectif. Ce premier élément de distribution de fluide a une direction de distribution qui est réglable par rapport à l’axe de pivotement selon un angle compris entre 0° et 45° et d’une manière particulièrement préférentielle, cet angle est compris entre 0° et 30°. Cet angle est mesuré sur le premier élément de distribution de liquide, vers l’extérieur par rapport à l’élément de déflecteur. On a ainsi l’avantage d’une distribution de liquide adaptée à la longueur du balai d'essuie-glace.