INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Ainsi, l’interface neuronale est accessible à un plus grand nombre de catégories d’utilisateurs, non seulement au voyant avec le signal visuel, mais aussi au malvoyant avec le signal audio.
Avantageusement, l’interface-stimulateur neuronal est une interface parmi les suivantes : une interface-stimulateur neuronal composant 20 de l’équipement électronique, une interface-stimulateur neuronal connectée à un réseau de communication auquel est connecté l’équipement électronique.
Ainsi, l’interface neuronale est utilisable avec un plus grand nombre de catégories d’équipement électronique, non seulement les équipements électroniques dotés de dispositifs de reproduction visuel et/ou audio, mais aussi ceux qui ne sont pas dotés d’écran, ni de haut-parleurs.
Un objet de l’invention est, en outre, une interface neuronale directe apte à capter une fréquence neuronale relative à un utilisateur lors d’une reproduction d’un signal à reproduire avec une fréquence donnée, dans laquelle l’interface neuronale directe comporte un émetteur de la fréquence neuronale captée via un réseau de communication, l’émetteur de la fréquence neuronale captée étant apte à déclencher un réglage d’un paramètre de commande donnée d’un équipement électronique, le réglage du paramètre de commande étant effectué dans une direction de réglage donnée associée à une des fréquences données des signaux à reproduire par une interface-stimulateur neuronal, la fréquence donnée associée à la direction de réglage donnée étant une fréquence donnée dont la fréquence neuronale émise est fonction.
Un objet de l’invention est aussi un équipement électronique, dans lequel l’équipement électronique comporte un régulateur apte à régler un paramètre de commande d’un composant 20 de l’équipement électronique dans plusieurs directions de réglage données distinctes, une direction de réglage donnée étant fonction d’une fréquence neuronale émise par une interface neuronale directe lors d’une reproduction d’un signal à reproduire avec une fréquence donnée par une interface-stimulateur neuronal, la fréquence neuronale émise étant fonction d’une des fréquences données, les directions de réglage données distinctes étant associées à des fréquences données distinctes.
Avantageusement, l’équipement électronique comporte une interface-stimulateur neuronal.
De façon optionnelle également, le bras de commutation comporte en outre un dissipateur de chaleur plaqué contre la face inférieure de la carte de circuit imprimé.
Il est également proposé une alimentation à découpage comportant au moins un bras de commutation selon l’invention.
Il est également proposé un engin de mobilité comportant une alimentation à découpage selon l’invention.
Brève description des figures L’invention sera mieux comprise à l’aide de la description qui va suivre, donnée uniquement à titre d’exemple et faite en se référant aux dessins annexés dans lesquels : la est un schéma électrique d’une installation électrique dans laquelle l’invention est mise en œuvre, la est une vue en coupe transversale d’éléments d’un bras de commutation de l’installation électrique, utilisant une carte de circuit imprimé multicouche, la est une vue de dessus d’une couche supérieure de la carte de circuit imprimé du bras de commutation de la avec l‘indication en pointillés de l’emprise des composants du bras de commutation, la est une vue de dessus d’une couche interne de bouclage de la carte de circuit imprimé du bras de commutation de la , la est une vue de dessus d’une couche interne de doublage de la carte de circuit imprimé du bras de commutation de la , la est une vue en coupe transversale d’éléments d’un autre bras de commutation pouvant être utilisé dans l’installation électrique, à la place de celui de la , utilisant également une carte de circuit imprimé multicouche, et la est une vue de dessus d’une couche interne de bouclage de la carte de circuit imprimé du bras de commutation de la .
Description détaillée de l’invention En référence à la , un exemple d’une installation électrique 100 dans laquelle l’invention est mise en œuvre, va à présent être décrit.
L’installation électrique 100 peut par exemple être utilisée dans un engin de mobilité par exemple un véhicule automobile, un vélo électrique, un drone, une trottinette électrique, etc.
L’installation électrique 100 comporte tout d’abord une source de tension continue 102 conçue pour fournir une tension continue U, comme une batterie.
L’installation électrique 100 comporte en outre un bras de commutation 104 conçu pour recevoir la tension continue U et pour alternativement fournir la tension continue U et une tension nulle. Le bras de commutation 104 fait par exemple partie d’une alimentation à découpage, telle qu’un onduleur, un convertisseur continu-continu, un convertisseur alternatif-continu, etc.
Plus précisément, le bras de commutation 104 comporte un interrupteur de côté haut HS (de l’anglais « high side ») et un interrupteur de côté bas LS (de l’anglais « low side ») connectés l’un à l’autre en un point milieu M. Ainsi, chacun de l’interrupteur de côté haut HS et de l’interrupteur de côté bas LS présente une borne d’entrée de courant D HS , D LS et une borne de sortie de courant S HS , S LS , en considérant un écoulement du courant comme illustré sur la . Avec cette convention, la borne de sortie de courant S HS de l’interrupteur de côté haut HS est connectée à la borne d’entrée de courant D HS de l’interrupteur de côté bas LS.
Chacun de l’interrupteur de côté haut HS et de l’interrupteur de côté bas LS présente en outre par exemple une borne de commande G HS , G LS permettant de définir son état, passant ou bien bloqué. Ainsi, le bras de commutation 104 est conçu pour alternativement passer d’une configuration où l’interrupteur de côté haut HS est passant et l’interrupteur de côté bas LS bloqué pour fournir la tension U, à une configuration où l’interrupteur de côté haut HS est bloqué et l’interrupteur de côté bas LS passant pour fournir la tension nulle.
Chacun de l’interrupteur de côté haut HS et de l’interrupteur de côté bas LS est de préférence un interrupteur commandable à semi-conducteur, comme par exemple un interrupteur à transistor tel qu’un transistor à effet de champ à grille métal-oxyde (de l’anglais « Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor » également désigné par l’acronyme MOSFET) ou bien un transistor bipolaire à grille isolée (de l’anglais « Insulated Gate Bipolar Transistor » également désigné par l’acronyme IGBT) ou bien encore un transistor à effet de champ de Nitrure de gallium (de l’anglais « Gallium nitride Field Effect Transistor » également désigné par l’acronyme GaN FET).
Dans le cas d’un transistor à effet de champ comme illustré sur la , la borne d’entrée de courant est appelée « drain », la borne de sortie de courant est appelée « source », et la borne de commande est appelée « grille ».
Le bras de commutation 104 comporte en outre une capacité d’entrée C connecté entre l’interrupteur de côté haut HS et l’interrupteur de côté bas LS, et plus particulièrement entre la borne d’entrée de courant D HS de l’interrupteur de côté haut HS et la borne de sortie de courant S LS de l’interrupteur de côté bas LS. En pratique, la capacité C peut regrouper plusieurs composants capacitifs, par exemple connectés en parallèle.
La capacité C est alors par exemple connectée à la source de tension continue 102 pour recevoir la tension continue U.
L’installation électrique 100 comporte en outre un composant de sortie 106 connecté entre le point milieu M et la borne de sortie de courant S LS de l’interrupteur de côté bas LS. Ce composant de sortie 106 est par exemple une phase d’une machine électrique. De façon générale, le composant de sortie 106 peut être une charge inductive qui se comporte essentiellement comme une source de courant.
En référence à la , le bras de commutation 104 va être décrit plus en détail.
Les aubes à calage variable 44 sont de préférence toutes identiques. Leurs bords d’attaque 44a sont de préférence situés dans un même plan transversal ou traversés par un même plan transversal.
Le nombre d’aubes à calage variable 44 est par exemple compris entre 10 et 200.
Chacune des aubes à calage variable 44 est mobile en rotation autour d’un axe de calage Y qui a une orientation sensiblement radiale. La rotation de chacune des aubes à calage variable 44 est obtenue grâce à un système de commande 50 qui est ici situé radialement à l’extérieur de la paroi externe 14.
La illustre un sixième mode de réalisation de l’invention qui diffère du premier mode de réalisation par le fait que des aubes à calage variable 44 sont en outre réparties autour de l’axe dans la veine secondaire externe 28. Les aubes à calage variable 44 de la veine interne 26 peuvent être similaires à celles décrites dans ce qui précède en relation avec les figures 3a et 3b, ou 4a et 4b, et les aubes à calage variable 44 de la veine externe 28 peuvent être similaires à celles décrites dans ce qui précède en relation avec les figures 7a et 7b.
Le calage angulaire des aubes à calage variable 44 situées dans les deux veines est ici commandé par des systèmes 50 indépendants. Un premier système de commande 50 est situé dans le séparateur 24 et commande le calage des aubes à calage variable 44 dans la veine interne 26, et un second système de commande 50 est situé radialement à l’extérieur de la paroi 14 et commande le calage des aubes à calage variable 44 dans la veine externe 28.
Dans le septième mode de réalisation de la , un système de commande 50 unique est utilisé pour contrôler le calage angulaire des aubes à calage variable 44 situées dans les deux veines 26, 28. Ce système de commande 50 est situé radialement à l’extérieur de la paroi 14.
La illustre un huitième mode de réalisation de l’invention qui diffère du premier mode de réalisation essentiellement par le fait que les aubes fixes 42 ne sont pas toutes identiques. Les aubes fixes 42 sont au moins de deux types qui différent l’un de l’autre par leurs dimensions et/ou leurs géométries et/ou leurs cambrures, etc. Les différents types des aubes fixes 42 sont régulièrement répartis autour de l’axe de façon à obtenir une répartition cyclique de ces aubes 42 autour de l’axe.
Dans le neuvième mode de réalisation de l’invention illustré à la , des bras structuraux 32 sont situés dans la veine externe 14 en aval des bords de fuite 42c des aubes fixes 42. Le nombre de bras 32 est inférieur au nombre d’aubes fixes 42 et les bras 32 peuvent s’étendre dans le prolongement axial de certaines des aubes fixes 42. Les bras 32 peuvent être tous identiques.
Dans le dixième mode de réalisation de l’invention illustré à la , les bras structuraux 32 sont rapprochés axialement vers l’amont et sont reliés à certaines aubes fixes 42. Les bras 32 sont donc intégrés aux aubes fixes 42. Les aubes fixes 42 qui ne sont pas reliées à des bras 32 ont leurs bords de fuite 42c qui sont situés en amont des bords de fuite 32a des bras.
Les bras 32 sont tous identiques dans la et sont différents et ont une répartition cyclique dans le onzième mode de réalisation de la . Dans les modes de réalisation des figures 11 à 13, certains bras 32 peuvent être pleins par exemple et d’autres peuvent être tubulaires pour le passage de servitudes depuis la paroi externe 14 jusqu’au séparateur 24.
COMMANDE DE SYSTÈME DE PROPULSION La présente divulgation se rapporte à des systèmes de propulsion d’aéronefs et à des procédés de fonctionnement d’aéronefs impliquant la gestion de carburants de différents types, y compris la détection des propriétés de carburants et des actions prises pour améliorer les performances d’aéronefs sur la base des données acquises, et à des procédés de modification d’aéronefs de manière à permettre la mise en œuvre de tels procédés.
représente un troisième mode de mise en œuvre du procédé d’activation par balayage selon l’invention.
montre la température maximale atteinte dans l’épaisseur de la cellule photovoltaïque pour chaque point de la face exposée, au cours d’un procédé d’activation selon la .
représente l’amplitude de la surchauffe dans une portion adjacente à un bord de fuite de la cellule photovoltaïque, en fonction de la vitesse de balayage du rayonnement électromagnétique.
représente la largeur de la portion surchauffée en fonction de la vitesse de balayage du rayonnement électromagnétique.
représente les températures en deux points de la cellule photovoltaïque et la différence de température entre ces deux points, en fonction de la densité surfacique d’énergie apportée à la cellule photovoltaïque, lorsque la face de de la cellule photovoltaïque est entièrement balayée par le rayonnement électromagnétique.
représente la largeur de la portion surchauffée en fonction de la vitesse de balayage du rayonnement électromagnétique, pour différentes séries de calculs.
, et représentent des étapes d’un procédé de fabrication de sous-cellules photovoltaïques selon un deuxième aspect de l’invention.
DESCRIPTION DÉTAILLÉE La représente schématiquement un procédé d’activation thermique d’une couche de passivation 10 disposée sur une cellule photovoltaïque 20.
La cellule photovoltaïque 20 comprend une première face 20a, une deuxième face 20b opposée à la première face 20 et des surfaces latérales 20c reliant les première et deuxième faces 20a-20b.
La première face 20a et la deuxième face 20b peuvent être qualifiées de « principales » en raison de leur superficie bien supérieure à celles des surfaces latérales 20c. De préférence, elles sont de mêmes dimensions et s’étendent selon des plans parallèles entre eux. Elles peuvent également présenter une texturation de surface, comme cela est illustré sur la . L’une des première et deuxième faces 20a-20b constitue la face avant de la cellule photovoltaïque 20, c’est-à-dire la face destinée à être exposée au rayonnement solaire incident, tandis que l’autre constitue la face arrière de la cellule photovoltaïque 20.
Les première et deuxième faces 20a-20b de la cellule photovoltaïque 20 ont de préférence une forme rectangulaire ou globalement rectangulaire, par exemple carrée ou pseudo-carrée. Par « globalement rectangulaire », on entend qu’un ou plusieurs coins des première et deuxième faces 20a-20b peuvent être tronqués ou arrondis. Par exemple, dans une cellule photovoltaïque 20 au format pseudo-carré, les quatre coins des première et deuxième faces 20a-20b de la cellule photovoltaïque 20 sont tronqués ou arrondis.
Ainsi, la cellule photovoltaïque 20 a globalement la forme d’un parallélépipède rectangle. L’épaisseur de la cellule photovoltaïque 20 (mesurée perpendiculairement aux première et deuxième faces 20a-20b) est typiquement comprise entre 50 µm et 200 µm.
La couche de passivation 10 recouvre une ou plusieurs surfaces latérales 20c de la cellule photovoltaïque 20. Elle vise à augmenter la durée de vie des porteurs de charge libres dans la cellule photovoltaïque 20, en réduisant le nombre de recombinaisons de paires électron-trou en surface de la cellule photovoltaïque 20, et donc à augmenter le rendement de conversion de la cellule photovoltaïque 20. La couche de passivation 10 peut recouvrir toutes les surfaces latérales 20c. Elle peut également recouvrir une partie de la première face 20a et/ou une partie de la deuxième face 20b (typiquement des bandes attenantes aux surfaces latérales recouvertes).
La couche de passivation 10 est par exemple constituée d’alumine (Al 2 O 3 ), de dioxyde de silicium (SiO 2 ), de nitrure de silicium (Si 3 N 4 ) ou de nitrure de silicium amorphe hydrogéné (a-Si x N y :H). Elle peut être formée par dépôt de couches atomiques (ALD) ou par dépôt chimique en phase vapeur (CVD), assisté ou non par plasma (PEALD ou PECVD). Elle peut également être obtenue par dépôt spatial de couches atomiques (SALD). La technique du dépôt spatial de couches atomiques est une variante de la technique ALD classique (dite « temporelle »). Dans cette variante, les différents gaz précurseurs permettant le dépôt du matériau sont séparés dans l'espace plutôt que dans le temps.
La couche de passivation 10 comprend de préférence des atomes d’hydrogène. L’hydrogène peut être apporté lors du dépôt de la couche ou après dépôt grâce à une étape d’implantation ionique (procédé basse température).
Dans un premier temps, les premier et deuxième dispositifs 10A, 10B sont rapprochés transversalement l’un de l’autre, selon l’axe Y, jusqu’à ce que la face avant 32 des plaques 30 des premier et deuxième dispositifs 10A, 10B soit en appui contre la face avant 71 des couvercles 70 desdits premier et deuxième dispositifs 10A, 10B, la fente 51 du premier dispositif 10A recevant alors une portion de la languette 41 du deuxième dispositif 10B et la fente 51 du deuxième dispositif 10B recevant une portion de la languette 41 du premier dispositif 10A ( ).
En poursuivant le rapprochement des premier et deuxième dispositifs 10A, 10B, la plaque 30 du premier dispositif 10A exerce sur le couvercle 70 du deuxième dispositif 10B un effort transversal entraînant un déplacement dudit couvercle 70 de sa position d’obturation vers sa position de dégagement. De même, la plaque 30 du deuxième dispositif 10B exerce sur le couvercle 70 du premier dispositif 10A un effort transversal entraînement un déplacement dudit couvercle 70 de sa position d’obturation vers sa position de dégagement.
Dans un deuxième temps, les premier et deuxième dispositifs 10A, 10B continuent d’être rapprochés l’un de l’autre jusqu’à ce que les premières extrémités des inserts 61 des premier et deuxième dispositifs 10A, 10B soient en contact l’une de l’autre ( ). En ne masquant plus les éléments d’étanchéité 60, les couvercles 70 n’exercent alors plus aucun effort sur les inserts 61 qui passent alors de la position reculée à la position avancée.
En poursuivant le rapprochement des premier et deuxième dispositifs 10A, 10B jusqu’à ce que l’embout 21 du premier du dispositif 10A s’étende coaxialement à l’embout 21 du deuxième dispositif 10B, les inserts 61 des premier et deuxième dispositifs 10A, 10B exercent l’un sur l’autre un effort axial entraînant le retour desdits inserts 61 en position reculée et assurant une mise en contact étanche de ceux-ci ( ). Le bourrelet 65 du premier dispositif 10A est alors en contact étanche avec le bourrelet 65 du deuxième dispositif 10B et les extensions 73 des premier et deuxième dispositifs 10A, 10B coopèrent avec les encoches 54 des premier et deuxième dispositifs 10A, 10B.
On parle alors de couplage des premier et deuxième dispositifs 10A, 10B qui forment ainsi ensemble un canal pour le passage d’un fluide entre le premier tube 100 et le deuxième tube 200.
On notera que la pression du fluide circulant entre le premier tube 100 et le deuxième tube 200 exercera un effort axial sur les deuxièmes extrémités des inserts 61, ce qui aura pour effet d’augmenter la pression de contact entre les premières extrémités desdits inserts 61 formant pistons.
On notera également que le passage des inserts 61 de la position avancée à la position reculée à la fin du rapprochement des premier et deuxième dispositifs 10A, 10B permet de limiter les efforts exercés par l’opérateur pour rapprocher lesdits premier et deuxième dispositifs 10A, 10B.
La illustre une variante du dispositif de raccordement 10, dans laquelle l’insert 61 est pourvu d’une armature 67 permettant de limiter la déformation dudit insert 61 et donc son poumonage sous la pression du fluide. L’armature 67 est ici réalisée sous forme d’une portion tubulaire rigide/tissée s’étendant coaxialement à l’insert 61. L’armature peut être réalisé en matériau métallique, plastique (polymère)…
La illustre un dispositif 10’ de raccordement selon un deuxième mode de réalisation de l’invention. Le dispositif 10’ diffère du dispositif 10 en ce qu’il comprend un élément d’étanchéité 60’ ayant une collerette 63’ de forme sensiblement différente de celle de la collerette 63 de l’élément d’étanchéité 60. En référence à la , un pourtour intérieur de la collerette 63’ est pourvu d’une gorge annulaire 66’ agencée de manière faciliter la déformation de la collerette 63’ lors de son passage de l’état de repos à l’état déformé, en lieu et place de la fraisure 26 du troisième alésage 23.3 du dispositif 10.
La illustre une variante du dispositif de raccordement 10’, dans laquelle l’insert 61’ est pourvu d’une armature métallique 67’ permettant de limiter la déformation dudit insert 61 et donc son poumonage sous la pression du fluide. L’armature 67’ est ici réalisée sous forme d’une portion tubulaire rigide/tissée s’étendant coaxialement à l’insert 61. L’armature peut être réalisé en matériau métallique, plastique (polymère)…
Bien que l’insert 61 de l’élément d’étanchéité 60 soit ici rappelé de sa position reculée à sa position avancée via la collerette 63, tout autre moyen de rappel élastique peut être utilisé (ressort en appui contre un fond du premier alésage 23.1 et sur la deuxième extrémité de l’insert, lames élastiques d’étendant en saille de la deuxième extrémité de l’insert et en appui contre un fond du premier alésage 23.1…).
Bien que l’ensemble de raccordement comprenne ici deux dispositifs 10A, 10B identiques, il peut aussi comprendre deux dispositifs différents.
Bien que l’ancrage des tubes 100, 200 sur les dispositifs 10A, 10B soit ici réalisé par un relief en dent de sapin, il peut aussi être réalisé par tout autre moyen tel qu’un jonc, une rondelle extérieurement dentée ou des bras élastiquement déformables.
Bien que la surface intérieure 66 de la deuxième extrémité de l’insert 61 soit ici de forme tronconique, elle peut être de forme radiale ou de tout autre forme permettant d’amener le fluide circulant dans le canal 22 à exercer sur ladite extrémité à exercer un effort tendant à amener l’insert 61 en position avancée.
Les armatures 67, 67’ équipant les insert 61, 61’ peuvent être surmoulées, collées, montées libre…
La ligne de rupture est par exemple formée par une partie du corps d’épaisseur amoindrie et/ou par au moins un évidement discontinu, i.e. interrompu par au moins un pont de matière, voire au moins deux ponts de matière, reliant l’élément détachable, par exemple la carte SIM ou l’éjecteur de SIM, au corps 110.
Ainsi, avant détachement, l'élément détachable, est maintenu dans le corps du support au moyen de l'épaisseur résiduelle de matière et/ou des ponts de matière, au niveau de cette ligne de rupture.
Eventuellement, le pont de matière peut être localement aminci, par exemple par une étape de prédécoupe dans laquelle, de chaque côté du support, une lame vient découper la matière et y créer une entaille. Il reste alors une épaisseur moindre entre les deux entailles formées de part et d’autre du support, ce qui facilite ensuite le retrait de la carte SIM par un utilisateur.
Par exemple, la première tige a une longueur inférieure à 10 mm, voire 5 mm.
Par exemple, la première tige a une dimension transverse, selon une épaisseur du corps, égale ou inférieure à une épaisseur du corps, par exemple égale ou inférieure à 760 µm, voire 720 µm, par exemple comprise entre 670 µm et 760 µm, voire comprise entre 670 µm et 720 µm.
Selon un exemple de réalisation, le grip comporte une ouverture.
Une telle ouverture est par exemple configurée pour amortir au moins une partie des contraintes qui peuvent être appliquées à la tige, en particulier liées à un effort de compression qui peut être appliqué à la tige, par exemple lorsque la tige est enfoncée dans l’orifice d’un tiroir d’un système électronique pour appuyer sur un système de déverrouillage du tiroir.
Par exemple, l’ouverture est placée dans un prolongement de la première tige.
Selon un exemple de réalisation, le support comporte en outre une feuille de renfort.
Une feuille de renfort permet de renforcer une rigidité et/ou une robustesse d’au moins une partie de l’éjecteur de SIM.
Par exemple, la feuille de renfort recouvre au moins une partie du grip de l’éjecteur de SIM, en particulier une zone de liaison de la première tige avec le grip.
Par exemple, la feuille de renfort recouvre au moins une partie du grip de l’éjecteur de SIM en face arrière du support.
Selon un exemple de réalisation, l’éjecteur de SIM est formé par une partie du corps, par exemple prédécoupée.
En d’autres termes, le grip ainsi qu’au moins la première tige sont formés dans le corps du support.