INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Les dimensions de la bobine d’excitation 2 peuvent être réduites car le champ magnétique d’excitation recherché peut être de l’ordre de quelques mT, typiquement entre 1 et 20mT.
Un premier connecteur 4 est monté dans le boitier 10 et est relié à la bobine d’émission 2 par un premier fil d’alimentation électrique 40 à l’intérieur du boitier. Ce premier connecteur 4 est relié à distance à un générateur basse fréquence 6 par un premier câble d’alimentation électrique 41.
Un deuxième connecteur 5 est monté dans le boitier 10 et est relié aux bobines de réception 3.1 et 3.2 par un deuxième fil d’alimentation électrique 50 à l’intérieur du boitier. Ce deuxième connecteur 5 est relié à distance à un amplificateur à détection synchrone 7 par un deuxième câble d’alimentation électrique 51.
Ainsi, le boitier 10 est compact et embarque toute la partie d’acquisition de la mesure du système (bobines 2 ; 3.1, 3.2) et la connectique afférente, le générateur basse fréquence 6 et l’amplificateur 7 étant déportés de l’environnement dans lequel le boitier est implanté. Ainsi, si l’environnement est soumis à des radiations, la partie génération des signaux et la partie du traitement de signal sont immunes, c’est-à-dire protégées des radiations.
On décrit maintenant un procédé de mesure de concentrations massiques relatives de matériaux d’un mélange binaire sous la forme d’une pastille solide mis en œuvre selon l’invention notamment par le système qui vient d’être décrit.
La est une vue en coupe représentant un système de traitement par réduction catalytique d’un moteur.
La est une vue partielle représentant un mode de réalisation d’un dispositif de protection, un câble de connexion électrique étant maintenu par le système d’attache du dispositif de protection.
La représente un mode de réalisation d’un dispositif de protection, un câble de connexion électrique étant maintenu par le système d’attache du dispositif de protection.
La est une vue partielle représentant un mode de réalisation d’un dispositif de protection comprenant un système d’attache selon une variante de réalisation.
La est une autre vue du dispositif de protection selon la .
Un exemple d’un véhicule 1 équipé d’un système de traitement par réduction catalytique d’un moteur est décrit ci-après en référence aux figures 1 et 2.
Le véhicule 1 peut être un véhicule automobile, par exemple un véhicule automobile à motorisation thermique, comprenant notamment un moteur 3 à combustion interne.
Le véhicule 1 comprend par exemple un système de traitement par réduction catalytique 5, notamment de type SCR (acronyme d’origine anglo-saxonne pour « Selective Catalytic Reduction »).
Le système de traitement par réduction catalytique 5 comprend par exemple au moins une unité de traitement 6, 7, 8 dite « pain catalytique ».
Le système de traitement par réduction catalytique 5 présente une température élevée ou émet une quantité élevée de chaleur lorsqu’il est en fonctionnement.
Le système de traitement par réduction catalytique 5 est notamment entouré par un dispositif de protection thermique 10.
Le dispositif de protection thermique 10 peut comprendre une enveloppe de protection 12, notamment en aluminium, et une couche 15 en au moins un matériau isolant thermique, par exemple en laine de verre.
La couche 15 est notamment disposée entre le système de traitement par réduction catalytique 5 et l’enveloppe de protection 12.
L’enveloppe de protection 12 peut comprendre une première portion 13 et une deuxième portion 14.
A l’emplacement de la première portion 13, une portion de la couche 15 peut être disposée entre le système de traitement par réduction catalytique 5 et l’enveloppe de protection 12. A l’emplacement de la deuxième portion 14, dite peau, le dispositif de protection peut être dépourvu de portion de la couche 15.
La température à l’emplacement de la deuxième portion 14 est par exemple de l’ordre de 350°C.
L’obstacle 2 a été rapproché de l’obstacle 1. On remarque que les deux premiers obstacles ne sont plus discriminés par la fonction d’analyse simple Dirac, et que le signal traité correspond à un obstacle fictif situé entre les deux obstacles réels.
Afin de régler ce problème et identifier avec précision la position de l’obstacle le plus proche, on applique alors une fonction d’analyse double Dirac préférentiellement selon un processus itératif.
La illustre les signaux traités avec la fonction d’analyse double Dirac, illustrée en A, pour la troisième configuration d’obstacles. En B figurent les différents signaux traités obtenus pour différentes valeurs de a6 qui est augmenté de 1 à chaque itération. On constate qu’entre les deux premières itérations X=1 et X=2 et la troisième itération X=3, la positon du premier obstacle n’est pas stabilisée et varie. Il convient de continuer l’itération.
Puis pour les itérations suivantes cette position devient stable ; Une fois la positon du premier obstacle stabilisée on peut arrêter le processus.
A noter que lors de l’application du double Dirac seule la position de premier obstacle doit être pris en compte. Ce qui se passe après (temporellement) ne doit pas être considéré.
Selon une variante le circuit d’amplification CA du lidar 10 selon l’invention présente un composant additionnel.
De manière classique le montage récepteur associé à une photodiode PD le plus adapté et le plus usité est appelé amplificateur de transimpédance (« Trans Impedance Amplifier » ou TIA. Ses éléments sont connus des professionnels. Dans sa version la plus basique, il est constitué d’une résistance et d’un amplificateur opérationnel Amp tel qu’illustré .
En considérant les composants idéaux : -La photodiode PD transforme le flux lumineux en courant de photo génération . -Le TIA transforme le courant en tension suivant la relation . -La valeur de la résistance fixe le gain de l’amplificateur. La sensibilité du TIA est liée à cette valeur.
Une photodiode de type PIN est préférée, plus fiable et plus simple à mettre en œuvre qu’une photodiode à avalanche (APD).
Le courant issu de la photodiode peut être décrit par la relation :
(9) Dans laquelle : est la sensibilité de la photodiode, de l’ordre de 0.6A/W, est la puissance lumineuse reçue, est la somme des courants statiques inverses de la photodiode (courant de saturation, courant de noir), représente la somme des bruits intrinsèques de la photodiode (principalement bruit de grenaille).
La puissance lumineuse captée est constituée d’une partie dynamique telle l’impulsion réfléchie et d’une partie statique causée par un fond lumineux , provoqué par le soleil par exemple (voir également formule (3) et A0). La relation s’écrit alors
: (10)
Une photodiode PIN génère environ 600 mA/W. L’amplificateur transimpédance a un gain qui est en général un compromis entre la bande passante désirée et la sensibilité (capacité de détection) du capteur. Il peut être également limité par l’intensité des courants statiques inverses de la photodiode.
Il convient, en termes de sensibilité de capteur et de rapport signal à bruit de mesure S/N, d’utiliser une résistance élevée conduisant à un gain élevé (et donc à une bande passante faible).
La luminosité ambiante est amplifiée de la même manière que les signaux optiques des échos. Les ordres de grandeurs sont très différents entre les courants générés par les impulsions échos (typiquement quelques pour un écho de quelques ) et celui induit par la luminosité ambiante (typiquement quelques dizaines de mA pour une photodiode silicium de 5x5mm²).
Le domaine de l’invention concerne les silos ayant des cellules juxtaposées de stockage, ayant un tunnel sous-jacent desservant les cellules et recevant un convoyeur pour y convoyer de la matière vidangée depuis les cellules.
Il est connu de relier le tunnel à des gaines de ventilation perforées positionnées dans le fond des cellules pour y envoyer de l’air par un ventilateur positionné dans le tunnel. Cette ventilation peut servir à refroidir la matière stockée dans les cellules et également à pousser la matière vers le convoyeur lorsque l’écoulement gravitaire de la matière vers le convoyeur ne suffit pas en cas de talus résiduel.
L’un des problèmes des silos est les températures de plus en plus chaudes apparaissant tout au long de l’année du fait du changement climatique, et notamment lors de la moisson de céréales. Ces températures plus chaudes lors de la moisson contribuent à la prolifération d’insectes et de charançons nuisibles à la qualité des céréales stockées dans les cellules du silo.
Pour résoudre ce problème, il a été proposé un premier système connu, ayant un ventilateur en bout de tunnel (local ventilateur) pour ventiler les cellules par de l’air passant par des ouvertures du tunnel dans des gaines débouchant sous les cellules. Un inconvénient de ce premier système connu est la grande consommation d’énergie du ventilateur, ce qui augmente considérablement le coût de fonctionnement du silo avec l’augmentation du prix de l’électricité.
Il a également été proposé un deuxième système connu ayant une ventilation par air froid, envoyé par un groupe froid connecté au tunnel. Un autre inconvénient de ce deuxième système connu est que la ventilation par air froid dure longtemps et empêche ou réduit le temps d’utilisation du tunnel pour son premier usage, qui est de vidanger la matière stockée des cellules vers le convoyeur.
Un objectif de l’invention est d’obtenir un silo, qui résolve le problème indiqué ci-dessus en palliant en même temps les inconvénients mentionnés ci-dessus, pour permettre un refroidissement de la matière stockée dans les cellules, qui soit plus rapide et moins consommateur d’énergie en augmentant ainsi la disponibilité des cellules en vidange vers le convoyeur.
A cet effet, un premier objet de l’invention est un silo de stockage de matière, notamment de céréales, comportant des cellules de stockage de matière, disposées côte à côte suivant une direction horizontale déterminée le long de laquelle est disposée au moins une rangée de cellules, au moins un tunnel de reprise, qui est positionné le long de la direction horizontale déterminée et qui contient un convoyeur de matière pour convoyer de la matière issue des cellules le long de la direction horizontale déterminée, chaque cellule ayant en partie inférieure au moins un conduit de vidange de matière descendant vers le convoyeur, apte à passer d’une première position fermée à une première position ouverte pour vidanger par gravité de la matière de la cellule sur le convoyeur, le fond de chaque cellule comportant une ou plusieurs gaines de ventilation forcée, comportant des orifices de sortie d’air vers la cellule, chaque gaine de ventilation s’étendant depuis le tunnel et débouchant dans le tunnel par une première ouverture, pouvant être maintenue dans une deuxième position ouverte ou dans une deuxième position fermée par une trappe, caractérisé en ce que le silo comporte en outre au moins une source d’envoi d’air réfrigéré vers les cellules et un réseau de conduites de connexion à la source d’envoi d’air réfrigéré, lesquelles sont distinctes du tunnel et débouchent dans la ou au moins l’une des gaines de ventilation d’au moins certaines des cellules par une deuxième ouverture distincte de la première ouverture.
Grâce à l'invention, le réseau de conduites de connexion est dédié à la source d’envoi d’air réfrigéré et est moins consommateur d’énergie que le premier système connu, mentionné ci-dessus. En effet, les conduites de connexion peuvent être de section de passage d’air plus petites que celle du tunnel. Le tunnel a le plus souvent de grandes dimensions, pouvant être par exemple de celles d’un homme pour qu’il puisse passer dans le tunnel afin de manœuvrer les trappes. L’invention évite aussi de devoir réfrigérer l’ensemble du volume d’air du tunnel selon le deuxième système connu mentionné ci-dessus, et diminue le réchauffement thermique de l’air réfrigéré, provoqué par le volume d’air du tunnel. Chaque cellule peut ainsi être refroidie plus rapidement via la deuxième ouverture de sa gaine de ventilation et sa conduite de connexion avec sa première ouverture maintenue dans sa deuxième position fermée, ce qui augmente le temps de disponibilité du tunnel pour la vidange de la matière stockée des cellules vers le convoyeur.
Suivant un mode de réalisation de l’invention, le réseau comporte une conduite principale, qui est distincte du tunnel, qui est positionnée dans le tunnel et qui relie la source d’envoi d’air réfrigéré aux conduites de connexion.
Suivant un mode de réalisation de l’invention, les conduites de connexion sont aptes à être ouvertes et fermées individuellement par un moyen de commande individuel (ou registre) de chaque conduite de connexion. Grâce à ce mode de réalisation, il est possible d’effectuer simultanément une ventilation par air réfrigéré d’une cellule, via la deuxième ouverture de sa gaine de ventilation et sa conduite de connexion en position ouverte avec sa première ouverture maintenue dans sa deuxième position fermée, et une vidange d’une autre cellule, dont la gaine de ventilation est maintenue dans sa deuxième position ouverte et éventuellement dont la conduite de connexion est maintenue en position fermée, pour déverser de la matière de cette autre cellule dans le convoyeur.
Suivant un mode de réalisation de l’invention, le tunnel est séparé des cellules par des premières parois, les conduites de connexion sont délimitées au moins par des deuxièmes parois distinctes des premières parois.
Suivant un mode de réalisation de l’invention, les deuxièmes parois sont situées en partie contre les premières parois.
Suivant un mode de réalisation de l’invention, les conduites de connexion sont positionnées dans le tunnel, la deuxième ouverture étant située sur un tronçon intérieur de la gaine de ventilation, lequel dépasse dans le tunnel et porte la première ouverture située à distance de la deuxième ouverture.
Suivant un autre mode de réalisation de l’invention, le réseau comporte une conduite principale, qui est distincte du tunnel, qui est positionnée dans le tunnel et qui relie la source d’envoi d’air réfrigéré aux conduites de connexion, les conduites de connexion comportent chacune un premier tronçon, qui est relié à la conduite principale et qui est positionné dans le tunnel, et un deuxième tronçon, qui est relié au premier tronçon, qui traverse une paroi du tunnel et qui est positionné dans la cellule, la deuxième ouverture étant située sur un tronçon extérieur de la gaine de ventilation, lequel est situé dans le fond de la cellule, la première ouverture étant située à distance de la deuxième ouverture.
Suivant un mode de réalisation de l’invention, le tunnel est relié à au moins un ventilateur, apte à envoyer de l’air dans le tunnel et dans chaque gaine de ventilation par chaque première ouverture, lorsqu’elle est maintenue dans la deuxième position ouverte.
Suivant un mode de réalisation de l’invention, chaque gaine de ventilation comporte, au niveau des orifices de sortie d’air vers la cellule, des ailettes de guidage de l’air en poussée de la matière vers le conduit de vidange.
est une représentation d’un dispositif de séquençage mettant en œuvre des moyens de détection opto-mécaniques,
est une vue de dessus d’un système comprenant un réseau de dispositifs de séquençage.
Sur la , on peut voir un exemple de réalisation d’un dispositif de séquençage de génomes. L’invention s’applique à la détermination de fragments d’ADN et de fragments d’ARN.
Le séquençage de l'ADN ou de l’ARN consiste à déterminer l'ordre d'enchaînement des nucléotides pour un fragment d’ADN donné ou d’un fragment d’ARN donné respectivement.
Sur les figures 1, 2 et 3A et 3B, on peut voir un exemple d’un dispositif de séquençage comportant au moins une partie fixe 2, deux dans l’exemple représenté, par exemple solidaire d’un support 3 et une partie 4, désignée partie mobile, destinée à être mobile par rapport à la partie fixe 2 dans le plan du dispositif. La partie fixe 2 est disposée à proximité de la partie mobile 4. La distance entre le bord de la partie fixe 2 et le bord en regard de la partie mobile 4 est par exemple comprise entre 100 nm et 200 nm. Cette distance est choisie de sorte à éviter tout contact entre la partie mobile et la partie fixe dans des conditions normales d’oscillation de la partie mobile.
Le plan du dispositif ou du capteur est le plan parallèle au support 3, généralement formé par un substrat mis en œuvre en micro-électromécanique.
Dans l’exemple représenté la partie mobile comporte une plateforme 6 suspendue par un pied 8. Les dimensions du pied et de la plateforme 6 sont telles que la plateforme 6 peut osciller sensiblement dans le plan.
Le dispositif est un dispositif résonant et comporte des moyens d’excitation 10 pour mettre en vibration la partie mobile 4 dans le plan. Dans l’exemple représenté de manière schématique sur la , les moyens d’excitation sont de type électrostatique et comportent une électrode 10.1 sur la partie fixe et une électrode 10.2 sur la partie mobile formée par le pied directement. L’application d’une différence de potentiels entre les électrodes génère des forces électrostatiques entre le pied et la partie fixe mettant en vibration la plateforme. La mise en œuvre de moyens d’excitation au niveau du pied permet de limiter l’encombrement.
En variante, il est également possible d’utiliser des moyens d’excitation optiques. On utilise en particulier des forces de radiation ou thermo-optiques. Dans les deux cas, il s’agit d’utiliser un laser de longueur d’onde dans un pic optique, mais dont la puissance est modulée à la fréquence d’intérêt, en l’occurrence celle de la résonance mécanique du dispositif. Ce laser peut être le même que celui utilisé pour la lecture optique, ou un autre laser, par exemple que l’on vient superposer au premier.
Le dispositif comporte également des moyens de mesure (non représentés) de la fréquence de vibration de la partie mobile. La partie mobile forme alors un résonateur mécanique. Ces moyens comportent par exemple un ou plusieurs transducteurs capacitifs, piézo-résistifs, opto-mécaniques, à ondes acoustiques de type à onde acoustique de volume BAW (« Bulk Acoustic Wave » en terminologie anglo-saxonne) ou de type à onde acoustique de surface SAW (« Surface Acoustic Wave » en terminologie anglo-saxonne).
La partie mobile 4 peut être une poutre encastrée par une extrémité et mise en vibration par des moyens électrostatiques et dont la fréquence est mesurée par des jauges piézorésistives.
Selon un autre exemple, la partie mobile 4 peut être une plaque vibrante dans un mode de Lamé ou de respiration.
Un exemple de détection opto-mécanique sera décrit en détail.
De préférence la partie mobile est excitée à une fréquence de résonance permettant une amplification maximale du signal d’entrée et un maximum de sensibilité de la réponse du dispositif à une perturbation (modification de l’environnement).
Le résonateur est choisi de préférence de sorte à présenter un amortissement visqueux réduit. En effet, le dispositif est destiné à être disposé dans un canal fluidique dans lequel s’écoule un liquide contenant le ou les brins analysés.
De préférence, l’empilement multicouche possède une géométrie plane. En particulier, les couches s’étendent sur la face plane du support ou de la couche adjacente par leurs faces longitudinales. De préférence, toutes les couches d’un empilement multicouche de géométrie plane comportent des faces longitudinales planes. En particulier, toutes les couches de l’empilement multicouche comportent deux faces longitudinales planes sensiblement parallèles à la face plane du support en contact avec l’empilement multicouche.
Les faces longitudinales d’une couche peuvent être reliées entre elles par au moins des faces latérales. Les faces latérales de toutes les couches de l’empilement multicouche peuvent être alignées.
La couche à base de nickel peut être mise en contact avec la solution de traitement en au moins une surface d’une de ses faces. En particulier, au moins une surface des faces latérales peut être mise en contact avec la solution de traitement, et de préférence constitue le point de contact de la solution de traitement avec la couche à base de nickel.
En particulier, au moins une, et de préférence toutes les faces latérales d’un empilement multicouche peuvent être visualisées. De préférence, la face latérale de la couche de nickel peut être visualisée. Lorsque toutes les faces latérales peuvent être visualisées, il est notamment possible de visualiser la superposition des différentes couches constituant l’empilement multicouche. De préférence, les faces latérales de la couche à base de nickel, et plus préférentiellement les faces latérales de toutes les couches de l’empilement multicouche, ne sont pas revêtues d’un autre matériau solide.
En particulier, l’empilement multicouche solidaire du support comporte une succession de couches superposées et jointives les unes aux autres dans l’ordre suivant : le support inerte, la couche à base de cuivre et la couche à base de nickel.
Un exemple d’empilement multicouche 5 pouvant être mis en œuvre dans le procédé selon l’invention, est représenté en et comporte une couche à base de nickel 35 et une couche à base de cuivre 25 solidaire d’un support inerte plan 15, le support inerte plan 15 comportant une face 45 plane en contact avec une face de la couche de cuivre 25, et la couche à base de nickel 35 comportant une face latérale 55 pouvant être mise en contact avec la solution de traitement.
Selon un mode de réalisation particulier, l’empilement multicouche est un empilement multicouche plaqué comprenant en outre une couche de placage. Comme sa qualification l’indique, la couche de placage est la couche de surface de l’empilement. La couche de placage est en particulier disposée en surface de la couche à base de nickel.
Dans un empilement multicouche plaqué, une face de la couche à base de nickel est en contact avec tout ou partie d’une face de ladite couche de placage. De préférence, la couche de nickel d’un empilement multicouche plaqué est au moins en partie intercalée entre la couche de placage et la couche de cuivre.
En particulier, l’empilement multicouche plaqué solidaire du support comporte une succession de couches superposées et jointives les unes aux autres organisée dans l’ordre suivant : le support inerte, la couche à base de cuivre, la couche à base de nickel, et la couche de placage.
Un exemple d’empilement multicouche plaqué 6 pouvant être mis en œuvre dans le procédé selon l’invention est représenté en , comportant une couche de placage 46, une couche de nickel 36 et une couche de cuivre 26 solidaire d’un support inerte 16, le support inerte 16 comportant une face 46 plane en contact avec une face de la couche de cuivre 26, et la couche à base de nickel 36 comportant une face latérale 56 pouvant être mise en contact avec la solution de traitement.
L’empilement multicouche, en particulier l’empilement multicouche plaqué, possède notamment une architecture classique des empilements considérés pour les puces.
Au sens de l’invention, une couche « à base » d’un métal est une couche comprenant au moins 50 % en poids dudit métal, en particulier au moins 80 % en poids, plus particulièrement au moins 95 % en poids dudit métal, par rapport au poids de ladite couche, voire consistant en ledit métal.
Au sens de l’invention, une « couche de cuivre » ou une « couche de nickel » correspondent respectivement à une couche à base de cuivre ou une couche à base de nickel.
Par exemple, une couche à base de nickel comprend pour plus de 50 % en poids de nickel, en particulier pour plus de 80 % en poids, et avantageusement consiste en nickel. De préférence, la couche de nickel comprend moins de 5 % en poids de fer par rapport à son poids total, et plus préférentiellement est dénuée d’un alliage de nickel et de fer. L’épaisseur de la couche de base de nickel peut aller de 0,1 µm à 100 µm, de préférence de 1 µm à 10 µm.
Une couche à base de cuivre peut comprendre pour plus de 60 % en poids de cuivre, en particulier pour plus de 80% en poids, et avantageusement consiste en cuivre. La couche à base de cuivre peut comprendre un alliage de type laiton. L’épaisseur de la couche à base de cuivre peut aller de 100 µm à 10 mm, de préférence de 100 µm à 1 mm.