INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Selon une caractéristique possible, ledit un train épicycloïdal comprend un solaire solidaire en rotation dudit rotor, un porte-satellites solidaire en rotation dudit organe de sortie, et une couronne dentée intérieure engrenant avec des satellites portés par ledit porte-satellites, ladite couronne étant :
mobile en rotation par rapport audit carter dans ledit état de désenclenchement dudit train d’engrenages additionnel, et bloquée en rotation par rapport audit carter dans ledit état d’enclenchement dudit train d’engrenages additionnel.
Selon une caractéristique possible, un dispositif selon l’invention comprend une première paire d’embrayages unidirectionnels comprenant ledit carter et ladite couronne intérieure.
Selon une caractéristique possible, un dispositif selon l’invention comprend une deuxième paire d’embrayages unidirectionnels comprenant ledit rotor et une bague d’entrainement en rotation,
ladite deuxième paire d’embrayages unidirectionnels mettant en prise ledit rotor avec ladite bague d’entrainement en rotation lorsque lesdits moyens d’enclenchement occupent ledit état de désenclenchement dudit train d’engrenages additionnel et que ledit rotor tourne en sens vissage, ladite première paire d’embrayages unidirectionnels laissant libre en rotation ladite couronne dentée intérieure, ladite deuxième paire d’embrayages unidirectionnels ne mettant pas en prise ledit rotor avec ladite bague d’entrainement lorsque lesdits moyens d’enclenchement occupent ledit état d’enclenchement dudit train d’engrenages additionnel et que ledit rotor tourne en sens vissage, ladite première paire d’embrayages unidirectionnels bloquant en rotation ladite couronne dentée intérieure.
ladite deuxième paire d’embrayages unidirectionnels ne met pas en prise ledit rotor avec ladite bague d’entrainement lorsque lesdits moyens d’enclenchement occupent ledit état de désenclenchement dudit train d’engrenages additionnel et que ledit rotor tourne en sens dévissage, ladite première paire d’embrayages unidirectionnels bloquant en rotation ladite couronne dentée intérieure, ledit deuxième embrayage unidirectionnel ne met pas en prise ledit rotor avec ladite bague d’entrainement lorsque ledit lesdits moyens d’enclenchement occupent ledit état d’enclenchement dudit train d’engrenages additionnel et que ledit rotor tourne en sens dévissage, ladite première paire d’embrayages unidirectionnels laissant libre en rotation ladite couronne dentée intérieure.
Selon une caractéristique possible, un dispositif selon l’invention comprend au moins un organe de verrouillage en rotation, solidaire en rotation dudit rotor, et mobile entre :
une position de blocage en rotation, prise lorsque lesdits moyens d’enclenchement occupent ledit état de désenclenchement dudit train d’engrenages additionnel, dans laquelle il coopère avec un logement de blocage ménagé dans ladite bague d’entrainement de telle sorte que ladite bague et ledit rotor soient liés en rotation, et une position de déblocage en rotation, prise lorsque lesdits moyens d’enclenchement occupent ledit état de sélection dudit train d’engrenages additionnel, dans laquelle il ne coopère pas avec ledit logement de blocage ménagé dans ladite bague d’entrainement de telle sorte que ladite bague et ledit rotor ne sont pas liés en rotation.
lorsque ledit organe de verrouillage en rotation occupe ladite position de blocage en rotation et que ledit rotor tourne en sens vissage, ledit premier embrayage unidirectionnel laisse libre en rotation ladite couronne dentée intérieure, lorsque ledit organe de verrouillage en rotation occupe ladite position de déblocage en rotation et que ledit rotor tourne en sens vissage, ledit premier embrayage unidirectionnel bloque en rotation ladite couronne dentée intérieure.
- Dilution par de l’eau, et/ou émulsification d’huile(s), et/ou émulsification de corps gras (ces derniers étant éventuellement fondu(s) à une température comprise dans la gamme de 60 à 75°C dans le cas des corps gras solides à température inférieure à 30°C) pour personnaliser la texture de la composition finale ; et/ou
- Mélange avec d’autres blocs : tels que des blocs sensoriels à base d’ingrédients susceptibles de modifier l’aspect sensoriel des formules ; et/ou des blocs fonctionnels à base d’agents cosmétiques ou d’actifs cosmétiques.
Avantageusement, la composition de l’invention forme une base formulatoire, telle qu’une composition aqueuse émulsifiante, de composition telle que définie précédemment.
La présente invention a également pour objet l’utilisation d’une telle composition de base formulatoire, notamment d’une composition aqueuse émulsifiante, selon l’invention telle que définie ci-dessus, pour la fabrication d’au moins un produit cosmétique de texture personnalisée, dans laquelle ladite composition aqueuse est mélangée, de préférence par blocs, à une ou plusieurs autres compositions ou blocs, notamment pré-formulé(e)(s), ledit mélange étant réalisé de préférence à température comprise dans la gamme de 15 à 50°C, de préférence à température ambiante comprise dans la gamme de 20 à 30°C, de préférence à une température proche de 25°C, de préférence sous agitation selon une vitesse d’agitation comprise dans la gamme de 200 à 3000 rpm, de préférence de 200 à 2800 rpm, de préférence de 200 à 2500 rpm, de préférence au moyen d’un Speedmixer®, de préférence directement dans le récipient final dudit produit cosmétique.
La composition selon l’invention, qu’elle constitue une base formulatoire ou bien une composition finale, peut se présenter sous forme liquide, sous forme d’un sérum, d’un lait, sous forme épaissie, en particulier un gel, une crème, une cire, une pâte, un beurre ou sous forme de mousse.
dans lequel lesdites compositions respectivement (b) et (a) sont conditionnées séparément et destinées à être mélangées extemporanément, de préférence à une température inférieure à 30°C, pour former un produit cosmétique, de préférence une émulsion huile-dans-eau, notamment un produit de maquillage, de démaquillage, de nettoyage ou de soin, de la peau, des muqueuses, des phanères ou des cheveux.
- Mélangeur à mouvement planétaire : Speed Mixer TM DAC400FVZ. La vitesse du mélangeur est réglée (en rpm) et la durée du mélange (en minutes) comme indiqué dans les tests des exemples ci-dessous.
Il est notamment connu du document US10434749 B2 un procédé comprenant la formation d’une couche de collage SiOF sur la couche exposée d’un substrat par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (Communément abrégé PECVD, de l’anglais Plasma- Enhanced Chemical Vapor Deposition) , préalablement à l’assemblage du substrat avec un autre substrat. Cette solution reste toutefois améliorable.
Un objet de la présente invention est donc de proposer une solution visant à améliorer le collage direct sur un substrat, et notamment visant à limiter la gravure de la couche exposée.
RESUME Pour atteindre cet objectif, selon un mode de réalisation on prévoit un procédé d’activation d’une couche exposée d’une structure comprenant : une fourniture d’une structure comprenant une couche exposée, un dépôt, sur la couche exposée, d’une couche à base d’un matériau de formule Si a Y b X c , dite couche Si a Y b X c , avec X choisi parmi le fluor F et le chlore Cl, et Y choisi parmi l’oxygène O et l’azote N, a, b et c étant des entiers positifs non nuls, un traitement de la couche Si a Y b X c par un plasma d’activation à base de l’un au moins parmi de l’oxygène et de l’azote, et dans lequel les paramètres du dépôt de la couche Si a Y b X c sont choisis de façon à obtenir une densité de matière suffisamment faible pour que la couche Si a Y b X c soit au moins en partie consommée par le plasma d’activation.
Ce procédé permet ainsi de dissocier temporellement la formation d’une couche fluorée et/ou chlorée et l’activation par le plasma d’activation. La consommation de la couche exposée est donc limitée par rapport aux solutions mettant en œuvre un apport de gaz fluoré dans le plasma d’activation.
La densité de la couche Si a Y b X c plus faible fait qu’il est possible de retirer au moins en partie cette couche par le plasma d’activation pour activer la surface exposée d’un substrat avant collage. L’épaisseur de la couche Si a Y b X c déposée est ainsi réduite par le traitement par le plasma d’activation. De préférence la couche Si a Y b X c est entièrement consommée , préalablement à un assemblage de la structure avec un autre substrat, tout en permettant de modifier chimiquement la surface de la couche exposée pour son activation.
Le retrait au moins partiel, et de préférence total, de cette couche permet d’éviter des modifications des propriétés de l’assemblage après collage, pour son intégration dans un dispositif microélectronique. Les espèces F ou Cl, et O ou N, peuvent être implantées uniquement en surface de la couche exposée.
Typiquement, les couches déposées en réacteur de dépôt, par exemple par PECVD, présentent une densité trop forte pour pouvoir être consommées par le plasma d’activation. Pour retirer une couche de Si a Y b X c déposée en réacteur de dépôt, la personne du métier aurait envisagé de retirer la couche Si a Y b X c de façon usuelle par gravure à l’acide fluorhydrique. Toutefois, dans le cadre du développement de la présente invention, il s'est avéré que cette gravure est trop agressive et risque de graver la couche exposée et d’enlever le fluor/chlore en surface de la couche exposée permettant son activation. Le collage subséquent serait donc détérioré.
Un deuxième aspect concerne un procédé de collage d’une couche exposée d’une structure avec une couche exposée d’un substrat distinct, le procédé comprenant : l’activation de la couche exposée de la structure en mettant en œuvre le procédé selon le premier mode de réalisation, la mise en contact de la couche exposée de la structure avec la couche exposée du substrat distinct.
De préférence, la couche exposée de la structure avec la couche exposée du substrat distinct sont assemblées par collage direct. Ce procédé présente les effets et avantages du procédé selon le premier aspect. Le procédé de collage permet d’obtenir un assemblage présentant une interface de collage, entre la couche exposée de la structure et la couche exposée du substrat distinct, améliorée par rapport aux solutions existantes.
La représente une vue en coupe transversale de la structure présentant la couche exposée illustrée en et la couche à base du matériau de formule chimique Si a Y b X c , selon un exemple de réalisation.
La représente, une vue en coupe de la structure présentant une couche exposée activée, suite à l’exemple illustré par la .
En fonction du format de récipient final sélectionné, l'installation 1 sera alimentée avec des préformes 3 présentant des caractéristiques intrinsèques adaptées.
Comme représenté à la , une préforme 3 présente un corps 26 cylindrique à paroi 27 tubulaire fermée à l'une de ses extrémités axiales par un fond 28, et qui est prolongé à son autre extrémité par un col 29, lui aussi tubulaire. Le col 29 est généralement injecté de manière à posséder déjà sa forme définitive tandis que le corps 26 de la préforme 3 est destiné à subir une déformation relativement importante pour former le récipient 2 final lors de l'étape de formage. Les préformes 3 sont ici venues de matière en "PET" recyclé ou non ou en "PP", c'est à dire que la préforme 3 est réalisée par moulage d'un unique matériau thermoplastique de composition déterminée.
Parmi les caractéristiques susceptibles de varier d'un lot de préformes à un autre, on notera par exemple l'épaisseur de la paroi 27 de la préforme 3, ou encore le taux d'absorption de rayonnement infrarouge par le matériau thermoplastique.
L'invention propose un procédé de commande de l'installation 1 de formage de corps creux permettant de régler automatiquement les paramètres de traitement des stations de traitement en fonction des mesures effectuées directement sur les récipients à la sortie de la station de formage, comme cela est illustré schématiquement à la . On observera que l’épaisseur du récipient est mesurée à au moins deux hauteurs différentes par tout moyen approprié bien connu de l’homme du métier tel que par des capteurs à interférométrie par exemple.
Ainsi, le procédé suivant l’invention consiste à mesurer l’épaisseur de la paroi desdits récipients à la sortie du moule (étape 100), à au moins deux hauteurs différentes ; puis à comparer (étape 200) les mesures des épaisseurs avec des valeurs de consigne déterminées pour chaque hauteur des récipients et, si l’écart des mesures des épaisseurs avec les valeurs de consigne déterminées est supérieur à un seuil déterminé, à modifier (étape 300) au moins un des paramètres de pilotage, le ou lesdits paramètres de pilotage modifié(s) étant sélectionné(s) au moins en calculant les effets théoriques de la variation pour chaque paramètre sur les épaisseurs puis en sélectionnant le ou les paramètres induisant le plus petit écart entre les valeurs mesurées et les valeurs théoriques d’épaisseurs et les précédentes étapes sont répétées jusqu’à ce que l’écart des mesures des épaisseurs avec les valeurs de consigne déterminées est inférieur audit seuil déterminé.
Plus précisément, en référence à la , l’étape de modification (300) d’au moins un des paramètres de pilotage comprend au moins les étapes suivantes de : - définition (310), pour chaque paramètre, d’un coefficient de référence optimal attribué à chaque zone d’épaisseur de la paroi des récipients ; - mémorisation (320) des limites inférieure et supérieure ainsi que des échelles pour chacun desdits paramètres ; - calcul d’un ajustement (330) de chaque paramètre en fonction du coefficient de référence optimal préalablement défini ; - un éventuel recalcul (340) des ajustements si les ajustements calculés ne sont pas dans lesdites limites ; - calcul des corrections théoriques (350) pour chaque zone d’épaisseur en fonction des ajustements calculés et des échelles ; - calcul de l’écart théorique (360) d’épaisseur des récipients en fonction des corrections théoriques calculées pour chaque zone d’épaisseur ; - addition, pour chaque paramètre, desdits écarts théoriques calculés (370) ; et - sélection d’au moins un paramètre (380) présentant la valeur d’écart cumulé la plus faible.
Préalablement à l’étape de sélection d’au moins un paramètre, il comporte une étape de hiérarchisation des paramètres en fonction desdits écarts théoriques calculés. Lesdits paramètres sont hiérarchisés de manière croissante, de la valeur d’écart cumulé la plus faible à la valeur d’écart cumulé la plus grande.
De préférence, les corrections théoriques calculées nulles sont exclues et l’addition des écarts théoriques calculés est réalisée en valeur absolue.
De manière avantageuse, l’étape de sélection du paramètre est réalisée après le calcul d’une nouvelle moyenne des épaisseurs pour chaque zone et/ou que la combinaison des écarts pour chaque zone d’épaisseur a changé. De cette manière, la régulation suivant l’invention permet de corriger les éventuels écarts en temps réel sans être obligé d’arrêter l’installation de production et, ce faisant, de maintenir la qualité des récipients produits. Une nouvelle moyenne des épaisseurs pour chaque zone est calculée à une fréquence prédéterminée. Par exemple, la nouvelle moyenne des épaisseurs pour chaque zone est calculée toutes les m bouteilles sorties du moule et pour lesquelles les épaisseurs ont été mesurées, m étant un nombre entier compris entre 30 et 80. Par exemple, m est égal à 50. Toutefois, il est bien évident que m pourra être un nombre entier quelconque sans pour autant sortir du cadre de l’invention.
On observera que, si après n corrections sur ledit paramètre selectionné, n étant un nombre prédéterminé supérieur ou égal à 1, l’écart des mesures des épaisseurs avec les valeurs de consigne déterminées est supérieur à un seuil déterminé, on sélectionne alors un nouveau paramètre. Ledit nouveau paramètre i+1 sélectionné correspond au paramètre i+1 hiérarchisé.
Par ailleurs, de manière avantageuse les coefficients de référence optimaux attribués à chaque zone d’épaisseur de la paroi des récipients sont variables et sont calculés à chaque modification d’un paramètre. Ledit calcul du coefficient de référence optimal attribué à chaque zone d’épaisseur de la paroi des récipients est obtenu à partir du calcul de l’effet réel de l’ajustement sur chaque zone d’épaisseur de la paroi des récipients.
De préférence, ledit calcul comporte au moins des étapes suivantes de : - Calcul d’un offset du paramètre de soufflage et/ou de chauffe en multipliant ledit coefficient initial par la dérive d’épaisseur ; - Détermination du nouveau coefficient en fonction de l’offset appliqué au paramètre et de l’effet réel mesuré sur la répartition matière de chaque zone d’épaisseur
On observera que de tels coefficients de référence optimaux variables permettent de personnaliser ces coefficients en fonction de l’environnement, de la machine, de la résine des préformes, etc.
Ledit paramètre consiste en un paramètre de l’unité de chauffe tel que la puissance de chauffe à une hauteur déterminée de la préforme et/ou la cadence machine qui modifie la vitesse de défilement des préformes dans l’unité de chauffage et/ou la puissance d’une ventilation assurant l’évacuation d’une partie de la chaleur dans l’unité de chauffage et/ou le profil de température de la chauffe préférentielle, et/ou ledit paramètre consiste en un paramètre de l’unité de formage tel que la valeur de la pression de pré-soufflage et/ou le départ du pré-soufflage et/ou le débit de pré-soufflage et/ou la vitesse de la tige d’étirage et/ou la pression de soufflage.
De manière particulièrement avantageuse, afin de permettre un paramétrage rapide et efficace du procédé de régulation suivant l’invention, ce dernier comporte avantageusement une étape de présélection des paramètres à partir d’un GUI, selon l’acronyme anglo-saxon « Graphical User Interface », un ou plusieurs paramètres étant associé(s) à une configuration de production prédéfinie. A cet effet, l’installation comporte au moins un écran d’affichage, tactile ou non, non représenté sur les figures, connecté à l’unité de contrôle de l’installation.
Par exemple, le GUI comporte au moins trois configurations de production prédéfinies, une configuration dite de procédé, une configuration dite d’applications et une configuration dite d’options.
L’invention concerne aussi une installation de fourniture de gaz à un patient comprenant :
au moins une source de NO contenant un mélange gazeux NO/N 2 , un dispositif de délivrance de NO selon l'invention, alimenté en mélange gazeux NO/N 2 par ladite au moins une source de NO, une branche inspiratoire d’un circuit patient alimentée en mélange gazeux NO/N 2 par le dispositif de délivrance de NO, et un ventilateur médical, i.e. un appareil d’assistance respiratoire, en communication fluidique avec la branche inspiratoire pour alimenter ladite branche inspiratoire en un gaz respiratoire contenant au moins 21% d’oxygène.
Selon le mode de réalisation considéré, l’installation de fourniture de gaz de l'invention peut comprendre l'une ou plusieurs des caractéristiques suivantes :
le ventilateur médical délivre de l’air ou un mélange oxygène/azote. le ventilateur médical comprend une soufflante motorisée (i.e. turbine, compresseur ou analogue) délivrant le gaz respiratoire, typiquement de l’air ou un mélange oxygène/azote. le ventilateur médical comprend une soufflante motorisée commandée par des moyens de commande, telle une carte de commande électronique. le ventilateur médical est de type HFO. la source de NO contient un mélange gazeux NO/N 2 contenant entre 100 et 2000 ppmv de NO, le reste étant de l’azote (N 2 ), conditionné à une pression comprise entre 10 et 250 bar abs, typiquement à plus de 100 bar abs (avant début de soutirage). la source de NO est une (ou des) bouteille de gaz sous pression. la source de NO est une (ou des) bouteille de gaz ayant une contenance comprise entre 0,5 et 50 L (équivalent en eau). la bouteille de gaz comprend un corps cylindrique en acier ou en alliage d’aluminium. la bouteille de gaz est équipée d’un robinet simple (sans détendeur) ou à détendeur intégré ou RDI. la bouteille de gaz est équipée d’un RDI protégé par un capotage de protection, par exemple en métal ou polymère. le circuit patient comprend une branche inspiratoire et une branche expiratoire. la branche inspiratoire et la branche expiratoire sont raccordées à une pièce de jonction, telle une pièce en Y. la branche inspiratoire et/ou la branche expiratoire sont reliées fluidiquement à une interface respiratoire patient, de préférence via la pièce de jonction. l'interface respiratoire patient comprend une sonde d’intubation trachéale ou masque respiratoire. la branche inspiratoire et la branche expiratoire comprennent des conduites flexibles, par exemple en polymère. la branche inspiratoire et la branche expiratoire sont en outre fluidiquement raccordées à, respectivement, des orifices de sortie et d’entrée du ventilateur médical. la branche inspiratoire du circuit patient peut comprendre un humidificateur de gaz. l’humidificateur de gaz est agencé en aval du module d’injection de NO.
schématise une installation de délivrance de gaz équipée d’un système de dosage d’urgence de NO selon la présente invention ; schématise l’association entre orifice calibré et actionneur du système de dosage d’urgence de NO de ; et à schématisent le fonctionnement de l’association orifice calibré/actionneur de .
schématise un mode de réalisation d’une installation de délivrance de gaz 1, 2 selon la présente invention comprenant un dispositif de délivrance de NO 1 comprenant un mécanisme de dosage d’urgence de NO, associé à un ventilateur mécanique 2, c’est-à-dire un appareil respiratoire délivrant un gaz respiratoire, permettant de délivrer du NO sous forme gazeuse à un patient à une concentration désirée correspondant à une posologie fixée par un médecin-anesthésiste ou analogue, typiquement entre 1 et 80 ppmv de NO (i.e. ppm en volume).
Le ventilateur médical 2 délivre un gaz respiratoire contenant au moins 21% d’oxygène, tel que de l’air ou un mélange NO/N 2 , dans un circuit patient 3, en particulier dans une branche inspiratoire 31 dudit circuit patient 3, servant à acheminer et à fournir le gaz respiratoire à un patient P pendant ses phases inspiratoires, c’est-à-dire de fournir une assistance respiratoire au patient P, et à convoyer les gaz expirés par le patient lors de ses phases expiratoires.
Le ventilateur médical 2 est un appareil classique comprenant par exemple une soufflante motorisée, aussi appelée turbine ou compresseur, délivrant le gaz respiratoire dans le circuit patient 3 et dont le fonctionnement est contrôlé par une (ou des) carte électronique de commande ou analogue. Il est alimenté électriquement par des moyens d’alimentation électrique, tel le secteur (110/220V) et/ou une batterie interne.
Comme visible sur , le circuit patient 3 comprend ici une branche inspiratoire 31 et une branche expiratoire 32 reliées fluidiquement à une pièce Y 33 ou similaire, en communication fluidique avec une interface respiratoire 30 permettant de délivrer le gaz au patient P ou bien de collecter les gaz expirés par ledit patient P. L’interface respiratoire 30 peut par exemple être un masque facial ou une sonde d’intubation.
Les branches inspiratoire 31 et expiratoire 32 comprennent des conduits, canalisations, tuyaux, passages, tubulures ou similaires, par exemple des tuyaux flexibles en polymère, aptes à et configurés pour convoyer les flux gazeux.
Le gaz respiratoire circulant dans la branche inspiratoire 31 du circuit patient 3, c’est-à-dire allant du ventilateur mécanique 2 au patient P, est inhalé par le patient P tandis que les gaz expirés par ledit patient P, i.e. des gaz enrichis en CO 2 , empruntent la branche expiratoire 32 du circuit patient 3 en direction du ventilateur mécanique 2 pour être déchargés à l’atmosphère par le ventilateur mécanique 2.
Par ailleurs, un capteur de débit 100 ainsi qu’un module d’injection de NO 110 sont disposés dans la branche inspiratoire 31 du circuit patient 3. Le capteur de débit 100 est préférablement disposé dans la branche inspiratoire 31 entre le module d’injection de NO 110 et le ventilateur mécanique 2.