Capteur électromécanique (1), comportant : une membrane (25), suspendue sur au moins une cavité (11), ménagée dans un substrat (10), la cavité s’étendant entre la membrane et un fond (14), la distance entre la membrane et le fond formant une profondeur de la cavité (d 2 ); un empilement piézoélectrique (30), porté par la membrane, et comportant une couche (33) d’un matériau piézoélectrique s’étendant entre une première couche conductrice (31) et une deuxième couche conductrice (32); le capteur étant tel que : la membrane est susceptible de vibrer sous l’effet d’une tension alternative, ou d’un courant alternatif, entre la première couche conductrice et la deuxième couche conductrice ; et/ou la membrane, sous l’effet d’une vibration, est susceptible de générer une tension alternative, ou un courant alternatif, entre la première couche conductrice et la deuxième couche conductrice ; le capteur étant caractérisé en ce que : la cavité comporte au moins une butée (15), s’étendant à partir du fond de la cavité, vers la membrane, jusqu’à une extrémité (13), l’extrémité étant disposée à une hauteur (h), par rapport au fond, inférieure à la profondeur de la cavité (d 2 ) ; la membrane s’étend selon une épaisseur ( ); la hauteur de la butée correspond à la profondeur de la cavité (d 2 ) diminuée de fois l’épaisseur de la membrane, où est un réel compris entre 0.5 et 3 ou entre 0.5 et 2. Capteur selon la revendication 1, dans lequel la membrane (25) s’étend, en dessus de la cavité (11), selon un diamètre ou une diagonale supérieure à 100 µm. Capteur selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel : la cavité comporte plusieurs butées (15); chaque butée s’étend, à partir du fond de la cavité (14), vers la membrane, jusqu’à une extrémité, l’extrémité étant disposée à une hauteur, par rapport au fond, inférieure à la profondeur (d 2 ) de la cavité. Capteur selon la revendication 3, dans lequel au moins deux butées différentes ont deux hauteurs différentes. Capteur selon la revendication 4, dans lequel la hauteur des butées est d’autant plus faible que la butée est proche d’une zone médiane de la cavité. Capteur selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel l’empilement piézoélectrique (30) comporte une partie centrale (30 c ), à l’aplomb d’une zone médiane de la cavité, et une partie périphérique (30 p ), autour de la partie centrale, le capteur étant tel qu’une portion de la partie périphérique ne comporte pas de couche de matériau piézoélectrique. Capteur selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel plusieurs cavités sont formées sous un même empilement piézoélectrique. Procédé de fabrication d’un capteur électromécanique (1), selon l’une quelconque des revendications précédentes, le procédé comportant les étapes suivantes: a) gravure d’une cavité (11) dans un substrat inférieur (10), le substrat inférieur s’étendant entre une face inférieure (10 i ) et une face supérieure (10 s ), la cavité débouchant sur la face supérieure; b) scellement d’un substrat supérieur (20) sur la face supérieure du substrat inférieur, de façon à fermer la cavité (11); c) amincissement du substrat supérieur (20), de façon à former la membrane (25) du capteur; d) formation d’un empilement piézoélectrique (30) sur la membrane, l’empilement piézoélectrique comportant une couche (33) d’un matériau piézoélectrique s’étendant entre une première couche conductrice (31) et une deuxième couche conductrice (32) ; le procédé étant caractérisé en ce qu’il comporte, préalablement à l’étape a), une prise en compte d’une épaisseur ; et en ce que l’étape a) comporte les sous-étapes suivantes : a-1) première gravure du substrat inférieur (10), de façon à former une cavité (11), la cavité s’étendant, à partir de la face supérieure (10 s ), jusqu’à un premier fond (14 1 ); a-2) définition d’au moins une surface d’appui (13) sur le premier fond ; a-3) deuxième gravure du substrat inférieur (10), dans la cavité, autour de la surface d’appui, jusqu’à un deuxième fond (14), formant le fond de la cavité, de façon que suite à la deuxième gravure, la cavité comporte une butée (15), s’étendant à partir du fond de la cavité, vers la membrane, jusqu’à la surface d’appui (13), la surface d’appui formant une extrémité de la butée, l’extrémité étant disposée à une hauteur (h), par rapport au fond, inférieure à la profondeur de la cavité (d 2 ), la hauteur de la butée correspondant à la profondeur de la cavité (d 2 ) diminuée de fois l’épaisseur préalablement prise en compte, où est un réel compris entre 0.5 et 3 ou entre 0.5 et 2 ;. et en ce que suite à l’étape c), l’épaisseur de la membrane correspond à la valeur d’épaisseur préalablement prise en compte, de façon que la surface d’appui limite une déflexion de la membrane à l’intérieur de la cavité. Procédé selon la revendication 8, dans lequel : la cavité s’étend, parallèlement à la face supérieure, selon un diamètre ou une diagonale; au moins une butée (15) s’étend au niveau de la moitié du diamètre ou de la diagonale. Procédé selon l’une quelconque des revendications 8 ou 9 dans lequel : la cavité s’étend, parallèlement à la face supérieure, selon un diamètre ou une diagonale; plusieurs butées (15) s’étendent le long du diamètre ou de la diagonale. Procédé selon l’une quelconque des revendications 8 à 10, dans lequel : la portion d’appui définie lors de la sous-étape a-1), est une portion d’appui initiale (13 1 ); la deuxième gravure comporte : une gravure intermédiaire, jusqu’à un fond intermédiaire ; une définition d’au moins une surface d’appui intermédiaire (13 2 ) sur le fond intermédiaire ; une gravure de la cavité (11) autour de la surface d’appui intermédiaire et autour de la portion d’appui initiale, jusqu’au fond de la cavité ; de façon que suite à la sous-étape a-3), la surface d’appui intermédiaire s’étend, par rapport au fond, à une hauteur inférieure à celle de la surface d’appui initiale. Procédé selon l’une quelconque des revendications 8 à 11, dans lequel l’étape d) comporte : dépôt de la première couche conductrice (31) sur la membrane (25), de façon à former une première électrode ; dépôt de la couche du matériau piézoélectrique (33) sur la première couche conductrice ; dépôt d’une deuxième couche conductrice (32) sur la couche de matériau piézoélectrique (33) , de façon à former une deuxième électrode. Procédé selon la revendication 12, dans lequel l’étape d) comporte également : formation d’un premier contact électrique (35 1 ), à travers la couche de matériau piézoélectrique, pour polariser la première électrode ; formation d’un deuxième contact électrique (35 2 ) pour polariser la deuxième électrode. Procédé selon la revendication 13, comportant un retrait d’une partie de la deuxième électrode (32) et du matériau piézoélectrique (33), à l’aplomb de la cavité, de façon à diminuer la rigidité de la membrane, le retrait étant réalisé de façon à maintenir une connexion électrique entre la deuxième électrode et le deuxième contact électrique (35 2 ). Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel la membrane s’étend, sur une cavité, selon un diamètre ou une diagonale supérieure à 100 µm.