INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
On aurait pu choisir de former un empilement de couches, par exemple des couches isolantes, comprenant par exemple des pistes et des vias conducteurs, puis de graver la cavité dans l'empilement de couches. Cependant, un tel procédé ne permettrait pas de contrôler aussi précisément les dimensions les dimensions de la cavité. De plus, un tel procédé ne permet pas de former des cavités profondes avec les techniques de gravure actuelles.
Les figures 5A à 5C représentent des étapes, de préférence successives, d'un mode de mise en œuvre d'un autre procédé de fabrication du mode de réalisation de la . L'étape 5A représente la formation de la base 12. Les étapes 5B et 5C représentent la formation du mur 14. Bien que les figures 5A à 5C représentent la formation d'un unique support 10, le procédé permet par exemple la formation simultanée de plusieurs supports 10.
Le procédé des figures 5A à 5C diffère principalement du procédé des figures 4A à 4D en ce que la base 12 est formée avant le mur 14. Ainsi, la base est formée en contact avec la plaque 44 avant la formation du mur.
La représente une étape d'un autre mode de mise en œuvre d'un procédé de fabrication du mode de réalisation de la .
La représente la formation de la base 12. Dans l'exemple de la , la base comprend des est entièrement constituée de résine. La base 12 peut donc être considérée comme un seul niveau constitué de résine.
Au cours de cette étape, une couche de résine, par exemple liquide, est formée sur la plaque 44. La résine est ensuite chauffée de manière à ce qu'elle devienne solide. L'épaisseur de la couche de résine est au moins égale à l'épaisseur de la base 12. La couche de résine est par exemple ensuite amincie, par exemple par un procédé de polissage mécano-chimique, de manière à ce que la couche de résine soit sensiblement plane et ait une épaisseur sensiblement égale à l'épaisseur de la base 12. La couche de résine forme alors la base 12. Les niveaux N3 et N4 de la sont ainsi formés.
La représente une autre étape d'un autre mode de mise en œuvre d'un procédé de fabrication du mode de réalisation de la .
Au cours de cette étape, le niveau N2 est formé sur la base 12. Plus précisément, l'étape de la est effectuée sur la base 12. Autrement dit, l'étape de la comprend la formation, par croissance sur la base 12, des pistes 18 et des vias 20 du niveau N2, le placement du bloc 50 à l'emplacement de la cavité 16 dans le niveau N2, la formation de la couche de résine du niveau N2. Le bloc 50 est par exemple fixé à la base 12, par exemple par une couche de colle non représentée.
Au cours de cette étape, le niveau N1 est formé sur le niveau N2. Plus précisément, l'étape de la est effectuée sur la base 12. Autrement dit, l'étape de la comprend la formation, par croissance sur le niveau N2, des pistes 18 et des vias 20 du niveau N1, le placement du bloc 46 à l'emplacement de la cavité 16 dans le niveau N1, la formation de la couche de résine du niveau N1. Le bloc 46 est par exemple fixé au niveau N2, de préférence au bloc 50, par exemple par une couche de colle non représentée.
De préférence, le bloc 46 recouvre entièrement le bloc 50. De manière plus générale, dans le procédé des figures 5A à 5C, chaque bloc d'un niveau formant le mur 14 recouvre entièrement le bloc du niveau sur lequel il est formé. Autrement dit, chaque bloc correspondant à un niveau donné du mur recouvre entièrement les blocs correspondant aux niveaux situés entre ledit niveau donné du mur et la base.
Le procédé comprend ensuite une étape de retrait de la plaque 44 et des blocs 46 et 50.
La représente un autre mode de réalisation d'un support 54 de puce électronique.
A une étape 101, les éléments, ou tokens, des données du corpus sont soumis à un algorithme de plongement textuel afin de déterminer, pour chaque élément, un vecteur correspondant dans un espace à M dimensions. M peut par exemple être compris entre 20 et 100.
L’algorithme appliqué peut être un algorithme Word2Vec par exemple. Les méthodes de plongement textuel, ou « word embedding » en anglais, sont bien connues et ne sont pas décrites davantage dans la présente description.
A une étape 102, des correspondances entre les éléments, ou tokens, et leurs vecteurs correspondants issus de l’étape 101, sont stockés en association, dans une deuxième base de données.
La phase préalable s’achève à l’issue de l’étape 102.
Une phase courante débute par l’étape 110.
A l’étape 110, un ou plusieurs objets de référence sont définis en déterminant un vecteur de référence pour chaque objet de référence.
Dans le premier exemple de la fabrication d’un objet tel qu’un véhicule automobile, un objet de référence est un véhicule précédemment fabriqué, via une succession de phases de fabrication, correspondant à la séquence d’éléments associés à cet objet. Le vecteur correspondant à chaque phase de fabrication peut être déterminé à partir des correspondances de la deuxième base de données, et un vecteur résultant de référence, appelé vecteur de référence, peut être défini à partir de tous les vecteurs associés aux phases de fabrication. Chaque vecteur associé à une phase de fabrication peut en outre être pondéré par un coefficient de pondération temporel déterminé à partir d’une durée de la phase de fabrication. Le vecteur de référence ainsi déterminé est associé au véhicule de référence. En outre, le véhicule de référence, qui est un véhicule précédemment fabriqué, peut être associé à une étiquette, ou label, indiquant notamment si le véhicule de référence est défaillant ou non défaillant. Dans cet exemple, plusieurs vecteurs de référence sont déterminés pour plusieurs véhicules de référence, certains des véhicules de référence étant labellisés défaillants tandis que d’autres véhicules de références sont labellisés comme non défaillants.
Dans le deuxième exemple où l’objet est un individu associé à une séquence de postes occupés, l’objet de référence peut être un poste à pourvoir. Le poste à pourvoir correspond à un vecteur, dit vecteur de référence, dans la deuxième base de données. Dans cet exemple, un unique objet de référence associé à un unique vecteur de référence est considéré.
A une étape 111, une première séquence d’éléments associée à un premier objet est reçue.
Dans le premier exemple de la fabrication d’un objet tel qu’un véhicule automobile, le premier objet est un premier véhicule associé à une première succession de phases de fabrication.
Dans le deuxième exemple, le premier objet est un premier candidat associé à une carrière correspondant à une succession de postes occupés. La première séquence comprend donc un élément pour chaque poste occupé.
A une étape 112, pour chaque élément de la première séquence reçue, un vecteur correspondant à l’élément est obtenu par consultation de la deuxième base de données.
Ainsi, dans le premier exemple, pour chaque phase de fabrication de la première succession, un vecteur correspondant est obtenu de la deuxième base de données.
Dans le deuxième exemple, pour chaque poste occupé par le candidat, un vecteur correspondant est obtenu de la deuxième base de données.
A une étape 113, une première somme pondérée de vecteurs est déterminée à partir des vecteurs déterminés obtenus à l’étape 112 et à partir de coefficients de pondération temporels respectivement associés aux vecteurs obtenus, la somme pondérée formant un premier vecteur résultant.
Les coefficients de pondération temporels peuvent être des données extrinsèques au corpus.
Les gîtes larvaires en eau polluée naturelles sont les fossés, les marais et les canaux, qui contiennent des eaux stagnantes et des déchets organiques. Outre l'asséchement des marais et le comblement des fossés et étangs, poser des drains ou prendre des mesures semi-permanentes, le débroussaillage des berges des étangs et ruisseaux et le curage des cours d’eau seront eux, à reprendre de temps à autre.
Les gîtes larvaires en eau polluée artificiels sont les systèmes individuels d’assainissement ou de collections d’eau stagnante tels que les drains, les latrines, les fosses septiques, les puits perdus, les puisards.
Seule une conception et une réalisation de ces ouvrages suivant les règles de l’art, munies d’une couverture adéquate, visant à empêcher les insectes d’y pénétrer ou d’en sortir permet de lutter de manière pérenne contre les larves de moustiques.
k) Les a utres alternatives de destruction
Pour les objets inamovibles naturels, mares, trous d’arbres, extrémités creuses de piquets de clôtures, gouttières, on procédera par curage réguliers ou à défaut on les comblera avec du sable par exemple.
Occasionnellement, épandre de l’huile, des larvicides chimiques ou des billes de polystyrène pour recouvrir entièrement la surface de l’eau avec un matériau impénétrable peut être envisagé si les mesures précitées ne sont pas applicables.
Enfin, s’il n’y pas d’autre méthode qui donne satisfaction, on peut épandre sur les gîtes larvaires des larvicides efficaces et sans danger.
Il suffit donc de réduire les sources de prolifération pour éviter la reproduction des moustiques à l’intérieur et à l’entour des habitations.
La destruction des larves protège les foyers situés à proximité de l’endroit où se trouvaient les gîtes larvaires mais les moustiques continueront à sévir si, non loin de là, subsistent d’autres lieux de ponte.
Globalement, ces mesures préventives sont les plus efficaces et les plus économiques pour réduire la densité des vecteurs en détruisant les gîtes larvaires que constituent les réceptacles naturels ou artificiels.
L’invention propose un piège aquatique compact de faible épaisseur, (de l'ordre du centimètre de hauteur), à plonger directement dans le gîte larvaire de moustiques, et destiné à capturer les larves et éventuellement les noyer en les retenant suffisamment longtemps sous l’eau. Pour se faire, l’invention est constitué d’une suite de compartiments (A), (B), (C) qui forment un labyrinthe anaérobique conduisant les larves vers une chambre sans issues (D), l'ensemble constituant une nasse multi niveaux plate.
En périphérie extérieure de l'invention, sont placées de nombreuses entrées en niches (6) visant à piéger les larves en offrant une cache facile d’accès constituant un abri à la lumière ou contre les prédateurs.
Ces entrées en niches donnent accès à une suite de compartiments (A), (B) et (C), communicants entre eux par des sas (1), (2), (3) en forme de tronc de pyramide à base rectangulaire horizontal pour orienter la progression des larves. Ces sas (1), (2) et (3) débouchent systématiquement en pleines eaux dans le compartiment suivant, et leurs sorties (7), (8) et (9) ont des mensurations décroissantes jusqu'à la dernière chambre sans issues (D).
Cette succession de sas (1), (2) et (3) permet une capture progressive, et d’avoir globalement de nombreuses ouvertures d’entrée (6), et une très petite ouverture de sortie (9). L’ensemble forme un labyrinthe plat, et permet de diriger les larves par paliers successifs de difficulté croissante, vers la chambre finale d’asphyxie sans issues (D).
La forme interne du piège étant propice à enfermer des bulles d’air à l’immersion, le dispositif peut avantageusement être perfectionnée d’un système de dégazage, constitué d’évents (10) munis de filtres (11) comme sur la , ou d’un capot amovible (16) comme sur la , 4 et 6, devant être manipulés sous l’eau lors de la pose, pour chasser manuellement toutes bulles d’air. L'invention étant alors anaérobique, les larves (12) meurent dans la chambre sans issues (D) par asphyxie, en quelques heures, car incapables de retrouver la sortie de pars la forme particulière des sas (1), (2) et (3) en forme de tronc de pyramide couchée.
Avec son format compact, l'invention peut être directement plongé dans les récipients de toutes tailles et de toutes formes, naturels ou artificiels, même de faible profondeur ou inamovibles au sol, comme les vases, les pots de plantes ornementales, les gouttières, les puisards, regards d'égouts et autres gîtes habituels y compris difficiles d'accès...
Au cours de cette étape, les pistes 18 et les vias 20 d'un niveau N1 sont formés sur une plaque 44, par exemple une plaque métallique. L'étape de la comprend ainsi la croissance des pistes et des vias métalliques à partir de la plaque 44. Les pistes 18 et les vias 20 sont par exemple en cuivre.
Les pistes 18 et les vias 20 correspondent aux pistes et aux vias du niveau N1 du support 10 de la , c’est-à-dire le niveau supérieur, le plus éloigné de la base.
Un bloc 46 est fixé sur la plaque 44. Le bloc 46 a par exemple une forme de parallélépipède rectangle. Le bloc 46 est situé à l'emplacement de la cavité 16 dans le niveau N1. Le bloc 46 est par exemple fixé sur la plaque 16 par une couche de fixation, par exemple une couche de colle. Les dimensions du bloc 46 sont sensiblement égales aux dimensions de la partie de la cavité 16 dans le niveau N1. En particulier, la hauteur du bloc 46 est sensiblement égal, de préférence égal, à la hauteur du niveau N1.
Le bloc 46 est par exemple en résine, en plastique ou en métal. Le bloc 46 est en un matériau différent de la résine formant le support 10. Le bloc 46 est de préférence en un matériau ne se fixant pas à la résine.
La représente une autre étape d'un mode de mise en œuvre d'un procédé de fabrication du mode de réalisation de la .
Au cours de cette étape, la résine, par exemple sous forme liquide, est placée sur la plaque 46 de manière à former une couche de résine 48. La quantité de résine utilisée est suffisante pour que les pistes 18, les vias 20 et le bloc 46 soient enterrés dans la résine. Ainsi, l'épaisseur de la couche de résine est supérieure à la hauteur du niveau N1 et est donc supérieure à la hauteur du bloc 46.
La résine est ensuite chauffée de manière à ce qu'elle devienne solide. La résine est amincie, par exemple par un procédé de polissage mecano-chimique, de telle manière que la hauteur de la couche soit égale à la hauteur du niveau N1. L'amincissement de la résine est effectuée de manière à ce que les extrémités des vias 20 et la face supérieure du bloc 46, c’est-à-dire la face la plus éloignée de la plaque 44, affleurent la face supérieure de la couche 48.
Au cours de cette étape, le niveau N2 est formé. Les étapes des figures 4A et 4B sont effectuées sur le niveau formé précédemment, c’est-à-dire sur le niveau N1, de manière à former le niveau N2. Autrement dit, l'étape de la comprend la formation, par croissance sur le niveau N1, des pistes 18 et des vias 20 du niveau N2, le placement d'un bloc 50 à l'emplacement de la cavité 16 dans le niveau N2, la formation de la couche de résine du niveau N2. Le bloc 50 est de préférence en le même matériau que le bloc 46. Le bloc 50 a par exemple la forme d'un parallélépipède rectangle. Le bloc 50 est par exemple fixé au bloc 46, par exemple par une couche de colle.
Dans l'exemple de la , les parois de la cavité 16 sont sensiblement verticales, c’est-à-dire orthogonaux à la face supérieure de la base 12. Ainsi, le bloc 50 a par exemple des dimensions horizontales sensiblement identiques à celles du bloc 46.
De préférence, le bloc 50 a des dimensions horizontales inférieures ou égales à celles du bloc 46. Autrement dit, le bloc 50 repose de préférence uniquement sur le bloc 46 et ne repose pas sur la résine du niveau N1. De manière plus générale, dans le procédé des figures 4A à 4D, chaque bloc d'un niveau formant le mur 14 repose de préférence uniquement sur le bloc du niveau sur lequel il est formé. Autrement dit, chaque bloc correspondant à un niveau donné du mur recouvre entièrement les blocs correspondant aux niveaux situés entre ledit niveau donné du mur et la base.
Dans l'exemple de la , le mur 14 comprend deux niveaux. Selon d'autres modes de réalisation, le mur 14 peut comprendre un plus grand nombre de niveaux. Les étapes des figures 4A et 4B sont alors reproduites sur le niveau fabriqué précédemment, de manière à former tous les niveaux des murs. Chaque niveau correspondant à un niveau du mur 14 comprend un bloc, tel que les blocs 46 et 50 à l'emplacement de la cavité 16 dans ce niveau. Chaque bloc est par exemple fixé sur le bloc sur lequel il repose, par exemple par une couche de colle, de manière à assurer que le bloc reste à l'emplacement voulu de la cavité. L'empilement de blocs est par exemple fixé à la plaque 44.
La représente une autre étape d'un mode de mise en œuvre d'un procédé de fabrication du mode de réalisation de la . La représente la formation de la base 12.
Dans l'exemple de la , la base est entièrement constituée de résine. La base peut donc être considérée comme un seul niveau. Les niveaux N3 et N4 sont donc entièrement constitués de résine et peuvent être fabriqués simultanément.
Au cours de cette étape, une couche 52 de résine est formée sur le dernier niveau du mur 14 fabriqué, c’est-à-dire le niveau N2 dans l'exemple de la . La résine est par exemple sous forme liquide. La résine est ensuite chauffée de manière à ce qu'elle devienne solide. L'épaisseur de la couche 52 est au moins égale à l'épaisseur de la base 12. La couche 52 est par exemple ensuite amincie, par exemple par un procédé de polissage mécano-chimique, de manière à ce que la couche 52 soit sensiblement plane et ait une épaisseur sensiblement égale à l'épaisseur de la base 12.
Le procédé comprend ensuite une étape de retrait de la plaque 44 et des blocs 46 et 50. Dans le cas où les blocs 46 et 50 sont fixés à la plaque 44, les blocs sont retirés par le retrait de la plaque.
L’insert 3 est monté d’une manière adaptée dans la base 2, de préférence sans pouvoir ressortir du volume intérieur V. Une projection intérieure, globalement annulaire, peut être prévue dans la paroi de fond P2 externe du conteneur 1, avec éventuellement des fentes dans la projection pour faciliter un effet d’emboîtage élastique par au moins une nervure ou bourrelet annulaire, saillant radialement ici vers l’axe central Z1, afin de retenir un relief complémentaire saillant prévu dans le bas de la paroi latérale 3a de l’insert 3. Ceci permet une retenue axiale de l’insert 3.
Les figures 26A à 27B illustrent une autre variante de réalisation du système de préhension du godet 4.
Avantageusement, cette variante peut être appliquée à des modes de réalisation utilisant un système d’ouverture/fermeture avec une tige 61, le ressort 71 ou organe de rappel analogue pouvant solliciter le couvercle 5 vers la position fermée et un guide ou partie embarquée sur la tige, par exemple un anneau plat 64, associée à une extrémité inférieure de la tige 61.
Comme plus particulièrement visible sur les figures 27A et 27B, l’anneau plat 64 ou organe de guidage analogue solidaire de la tige 61 peut comporter une came 64A, ici sur sa périphérie. L’insert 3 correspond à un assemblage d’au moins deux pièces, dont l’une forme la paroi latérale 3a et au moins une autre forme une partie de la paroi de fond 30 de l’insert 3, mobile, servant à supporter le godet 4 par le dessous. Il est formé ainsi une partie mobile dans le fond de l’insert 3, cette partie étant un suiveur de came 98 couplé à la came 64A à une extrémité de cette partie mobile qui est proximale de la tige 61. Le suiveur de came 98 est ici maintenu dans l’insert 3 et soutenu par la paroi de fond P2 de la base 2, par exemple au moyen d’au moins deux pieds 98A.
On peut prévoir de former, en un bloc ou une unité préassemblée, les différentes parties 98A, 98B et 98C, ainsi que les pieds 98A.
Le suiveur de came 98 est en outre en regard, ici à l’opposé de son extrémité proximale de la tige 61, d’une section 98C de support du godet 4 qui appartient à l’insert 3. Le suiveur de came 98 présente une partie plane 98B coplanaire avec une partie complémentaire de la section 98C, de sorte que l’appui axial du godet 4 sur l’insert 3 peut être distribué sur les deux éléments 98B et 98C, sur une surface sensiblement plane. Plus généralement, le godet 4 est typiquement posé sur les deux sections 98B, 98C. Le suiveur de came 98 peut être mobile par rapport à la section 98C. Un pied 98A soutient l’élément 98C qui peut être en outre attaché à la paroi latérale 3a, afin de former une partie fixe dans le conteneur 1.
Les deux parties 98B, 98C sont reliées entre elle par une articulation 98D. L’articulation 98D est plus particulièrement visible sur les figures 27A et 27B, qui illustrent le suiveur de came 98 vu du haut. L’articulation 98D est formée par deux bras, chacun respectivement relié à une branche ou partie 98B, 98C. Les deux bras peuvent se raccorder à un pied 98A respectif des parties 98B, 98C, de sorte que l’articulation 98D peut être axialement décalée ver le bas par rapport aux parties 98B, 98C en contact avec le fond du godet 4. Les deux bras se joignent et forment un coude. Avantageusement, l’articulation 98D est réalisée dans un matériau élastiquement déformable, de sorte que les deux bras peuvent se rapprocher l’un de l’autre lorsqu’une force est appliquée sur l’un des deux bras, et revenant à l’état normal lorsque la force n’est plus appliquée. La partie 98B est mobile dans une direction générale radiale (par exemple la direction X, de l’arrière vers l’avant), perpendiculaire à l’axe central Z1.
L’insert 3 présente ici une cavité C30’ permettant de loger le système de préhension, notamment le suiveur de came 98, sachant que la came 64A peut être disposée à la fois dans un creux d’un guide associé à la tige et partiellement dans la cavité C30’, au moins pour s’engager contre le suiveur de came 98.
Le fonctionnement du système de préhension selon cette variante est expliqué ci-après.
La illustre le conteneur 1 avec le couvercle 5 en position ouverte, ici tourné à 180°. La tige 61 a effectué les mouvements de rotation et de déplacement transversal par rapport à la paroi de fond P2 ou surface inférieure 21 de la base 2 tel que décrit précédemment. En position ouverte, l’anneau plat 64 ou organe analogue formant la came 64A se trouve en face de la première branche constituant la section 98B. Dans un exemple de réalisation, la tige 61 a effectué une rotation de 180°, ici pour que l’ouverture supérieure O du conteneur soit complétement accessible.
Si l’utilisateur souhaite avoir accès au godet 4 pour le remplacer ou le recharger, il peut pousser sur le couvercle 5 de manière à continuer la rotation au-delà de 180°.
En effectuant cela, la came 64A de l’anneau plat 64 ou organe analogue porté par la tige 61 (et solidaire en rotation de celle-ci) entre en contact avec l’extrémité (proximale de la tige 61) de la première branche 98B (figures 26C et 27B). La came 64A applique une force sur la première branche 98B pour la repousser vers l’avant, illustrée par la flèche F sur la . La première branche 98B entre alors en contact avec la deuxième branche 98C. Une inclinaison est prévue dans la zone d’interface entre les branches 98B et 98C, pour faciliter/provoquer un chevauchement des branches avec une remonté de l’une sur l’autre. Avantageusement, l’extrémité de la première branche 98B qui est distale de la tige et adaptée pour entrer en contact avec la deuxième branche 98B peut être inclinée, de sorte que la première branche 98B se superpose sur la deuxième branche 98C. Comme visible sur la , cela est possible par la déformation de l’articulation 98D, lors de laquelle les deux bras se rapprochent l’un de l’autre. La branche 98C peut aussi présenter un chanfrein en regard de la branche 98B, ce qui facilite la remontée de la première branche 98B sur la face supérieure de le deuxième branche 98C.
Le godet 4, qui est posé sur les deux branches 98B, 98C se trouve alors surélevé du fait de la superposition de la première branche 98B sur la deuxième branche 98C. Le godet 4 dépasse axialement nettement du niveau de l’ouverture supérieure O est alors accessible par l’utilisateur.
En variante, de manière avantageuse, la formation de la structure de protection comporte en outre une formation d’au moins une tranchée en polysilicium s’étendant au moins en partie en profondeur dans le substrat semiconducteur.
Le fait de former une tranchée en polysilicium permet d’obtenir une tranchée s’étendant plus profondément dans le substrat. Chaque tranchée permet d’obtenir une isolation thermique plus profonde et d’empêcher la propagation de fissures latérales vers la zone active du circuit intégré.
Chaque tranchée en polysilicium peut être formée dans ladite tranchée d’isolation peu profonde.