INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
L’invention a ainsi pour objet, dans son acception la plus large, un matériau comprenant un substrat revêtu sur une face d’un empilement de couches minces à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire comportant une seule couche fonctionnelle métallique, en particulier une couche fonctionnelle métallique à base d’argent ou d’alliage métallique contenant de l'argent et deux revêtements antireflet, lesdits revêtements antireflet comportant chacun au moins une couche diélectrique, ladite couche fonctionnelle étant disposée entre deux revêtements antireflet, ledit matériau étant remarquable en ce qu’un revêtement antireflet situé plus loin de ladite face qu’une couche fonctionnelle comporte : - une couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z qui présente une proportion atomique d’aluminium par rapport au total d’aluminium et de silicium comprise entre 91,0% et 55,0 %, voire entre 90,0 % et 60,0 %, et au moins une couche diélectrique supérieure (appelée « supérieure » car appartenant au revêtement antireflet situé plus loin de ladite face que la couche fonctionnelle et étant en un matériau différent de ladite couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z ), - ladite couche diélectrique supérieure étant de nitrure et/ou d’oxyde et étant située plus loin de ladite face du substrat que ladite couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z , ladite couche diélectrique supérieure de nitrure et/ou d’oxyde étant de préférence au contact, au-dessus de ladite couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z , et/ou - ladite couche diélectrique supérieure étant de nitrure et étant située plus près de ladite face du substrat que ladite couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z , ladite couche diélectrique de nitrure étant de préférence au contact, sous ladite couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z .
Ladite couche à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z est une couche barrière qui empêche la pénétration d’éléments provenant de l’extérieur en direction de la couche fonctionnelle métallique. Ladite couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z présente, de préférence, une épaisseur physique qui est comprise entre 5,0 et 100,0 nm, voire entre 7,0 et 95,0 nm, voire entre 10,0 et 90,0 nm.
Ladite couche fonctionnelle est, de préférence, une couche continue.
Ladite couche fonctionnelle métallique, présente de préférence une épaisseur physique qui est comprise entre 8,0 et 22,0 nm, voire entre 9,0 et 16,4 nm, voire entre 9,5 et 12,4 nm.
Ladite couche diélectrique supérieure présente, de préférence, une épaisseur comprise entre 5,0 et 75,0 nm, voire entre 7,0 et 70,0 nm, voire entre 10,0 et 65,0 nm. Elle peut présenter une épaisseur en particulier entre 5,0 et 30,0 nm, ou encore entre 7,0 et 30 nm, ou même entre 10,0 et 30,0 nm.
Ladite couche diélectrique supérieure peut-être une couche diélectrique de nitrure à base de silicium Si y’ N z’ , qui présente une vitesse de dépôt proche de celle de ladite couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z .
Ladite couche diélectrique supérieure peut être une couche diélectrique d’oxyde, de préférence à base de zinc et d’étain, Sn i Zn j O, qui présente une vitesse de dépôt proche de celle de ladite couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z .
Préférentiellement, l’agent de transfert de phase est parmi les sels de phosphonium, les sels d’ammonium et leurs mélanges.
Comme mentionné ci-dessus, un premier objet de la présente invention concerne un composé de formule (I) suivante : [Chem 9]
T représente un groupement chimique choisi dans le groupe constitué par -CHO, -CH=NOH et -CN + -O - ; R 1 représente un groupement chimique choisi dans le groupe constitué par -OCH 3 , -OCH 2 CH 3 , et -OR 3 ; R 2 représente un groupement chimique choisi dans le groupe constitué par -OCH 3 , et -OR 3 ; à la condition que R 1 ou R 2 soit -OR 3 ; R 3 représente un groupement chimique de formule (II) [Chem 10]
L’invention ainsi que ses avantages seront aisément compris à la lumière de la description et des exemples de réalisation qui suivent. Dans la présente, sauf indication expresse différente, tous les pourcentages (%) indiqués sont des pourcentages (%) en masse.
Le terme composé 1,3-dipolaire est compris selon la définition donnée par IUPAC. Par définition, un composé 1,3-dipolaire comprend un dipôle. Lorsque T est CN + -O - , le dipôle est un oxyde de nitrile.
Ledit revêtement antireflet comportant ladite couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z peut comporter une seconde couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z . Cette seconde couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z peut être de composition identique ou différente d’une première couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z .
De préférence, ladite seconde couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z présente une épaisseur physique qui est comprise entre 5,0 et 100,0 nm, voire entre 7,0 et 95,0 nm, voire entre 10,0 et 90,0 nm. Elle peut être en particulier entre 5,0 et 30,0 nm, ou encore entre 7,0 et 30 nm, ou même entre 10,0 et 30,0 nm. Elle peut aussi présenter une proportion atomique d’aluminium par rapport au total d’aluminium et de silicium comprise entre 91,0% et 55,0 %, voire entre 90,0 % et 60,0 %.
De préférence, ladite couche diélectrique, ou lesdites couches diélectriques, de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z ne comporte(nt) pas d’oxygène ; l’oxygène peut avoir un effet néfaste sur la faible contrainte interne.
De préférence, un revêtement antireflet situé entre ladite face et ladite couche fonctionnelle métallique ne comporte pas de couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z qui présente une proportion atomique d’aluminium par rapport au total d’aluminium et de silicium comprise entre 91,0% et 55,0 %, voire entre 90,0 % et 60,0 %, afin de ne pas avoir de couche avec une faible contrainte interne dans ce revêtement antireflet.
De préférence, ledit empilement de couches minces comporte une couche de protection, finale, la plus éloignée de ladite face, présentant une épaisseur comprise entre 0,5 et 4,5 nm.
Les détails et caractéristiques avantageuses de l’invention ressortent des exemples non limitatifs suivants, illustrés à l’aide des figures ci-jointes : - illustre une première structure d’un empilement monocouche fonctionnelle ; - illustre une seconde structure d’un empilement bicouche fonctionnelle ; - illustre un double vitrage incorporant un empilement selon l’invention ; - illustre un triple vitrage incorporant deux empilements ; - illustre un vitrage feuilleté incorporant un empilement selon l’invention ; - illustre un tableau récapitulatif d’exemples monocouches fonctionnelles dont certains comportent une couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z présentant une proportion atomique de Al/(Al + Si) de 90 % ; - illustre un tableau récapitulatif d’exemples monocouches fonctionnelles dont certains comportent une couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z présentant une proportion atomique de Al/(Al + Si) de 70 % ; - illustre un tableau récapitulatif d’exemples bicouches fonctionnelles dont certains comportent une (ou plusieurs) couche(s) diélectrique(s) de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z présentant une proportion atomique de Al/(Al + Si) de 80 % ; et - illustre un tableau récapitulatif des conditions de dépôt des couches des exemples.
La illustre une première structure d’un empilement 14 monocouche fonctionnelle déposé sur une face 29 d’un substrat 30 verrier, transparent, dans laquelle la couche fonctionnelle 140 unique, en particulier à base d’argent ou d’alliage métallique contenant de l'argent, est disposée entre deux revêtements antireflet, le revêtement antireflet 120 sous-jacent situé en dessous de la couche fonctionnelle 140 en direction du substrat 30 et le revêtement antireflet 160 sus-jacent disposé au-dessus de la couche fonctionnelle 140 à l’opposé du substrat 30. Ces deux revêtements antireflet 120, 160, comportent chacun au moins une couche diélectrique 121, 128, 129 ; 161, 163, 165, 166, 167.
En , le revêtement antireflet 120 situé sous la couche fonctionnelle 140 en direction de la face 29 comporte : - une sous-couche d’oxyde à base de zinc, ZnO 129 qui est située sous et au contact de la couche fonctionnelle 140 ; et - une sous-couche diélectrique d’oxyde mixte à base de zinc et d’étain Sn i Zn j O 128 qui est située sous et au contact de la sous-couche d’oxyde à base de zinc ZnO 129, ; et - une sous-couche diélectrique de nitrure à base de silicium Si x’ N y ’ 121 qui est située sous et au contact de la sous-couche diélectrique d’oxyde mixte à base de zinc et d’étain Sn i Zn j O 128.
En , le revêtement antireflet 160 situé au-dessus la couche fonctionnelle 140 à l’opposé du substrat 30 comporte deux, trois ou quatre couches diélectriques : - une couche d’oxyde à base de zinc, ZnO 161 ; - une couche diélectrique de nitrure à base de silicium Si x’ N y ’ 163, 167 ; - une couche diélectrique d’oxyde à base de zinc et d’étain Sn i Zn j O 166 ; - une couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z 165, qui présente une épaisseur physique qui est comprise entre 5,0 et 100,0 nm, voire entre 10,0 et 90,0 nm.
En , la couche fonctionnelle 140 est située indirectement sur le revêtement antireflet 120 sous-jacent et indirectement sous le revêtement antireflet 160 sus-jacent : il y a un de revêtement de sous-blocage 130 situé entre le revêtement antireflet 120 sous-jacent et la couche fonctionnelle 140 et un revêtement de sur-blocage 150 situé entre la couche fonctionnelle 140 et le revêtement antireflet 160. Toutefois, un tel revêtement de sous-blocage et/ou un tel revêtement de sur-blocage peut ne pas être présent.
Dans un mode de réalisation, la teneur massique en agent bloquant la croissance des grains dans la première zone est supérieure ou égale à 0,05%. Par exemple, elle peut être comprise entre 0,05 % et 10 %
Une telle teneur permet d’assurer que la première zone ait un fluage diminué grâce à l’agent bloquant la croissance des grains, et permet également d’assurer que la teneur en agent bloquant la croissance des grains soit suffisamment faible pour éviter une trop grande diffusion de ce dernier vers la deuxième zone par exemple et également pour ne pas perturber les autres propriétés souhaitées pour la première zone.
Comme décrit plus haut, une faible quantité de l’agent bloquant la croissance des grains dans la deuxième zone, par exemple celle obtenue par diffusion lors de l’utilisation du revêtement, n’est pas de nature à changer radicalement le comportement en fluage de cette deuxième zone. En particulier, la deuxième zone conserve une valeur conforme au deuxième fluage.
Dans un mode de réalisation, la première zone comprend un silicate de terre rare choisi parmi le disilicate d’ytterbium (Yb 2 Si 2 O 7 ), le disilicate d’yttrium (Y 2 Si 2 O 7 ), ou un mélange de ces deux composés ((Yb,Y) 2 Si 2 O 7 ).
Dans un mode de réalisation, la première zone ne comprend pas d’autre silicate de terre rare que ceux de la liste ci-dessus.
Dans un mode de réalisation, la deuxième zone comprend un silicate de terre rare choisi parmi le disilicate d’ytterbium (Yb 2 Si 2 O 7 ), le disilicate d’yttrium (Y 2 Si 2 O 7 ), ou un mélange de ces deux composés ((Yb,Y) 2 Si 2 O 7 ).
Dans un mode de réalisation, la deuxième zone ne comprend pas d’autre silicate de terre rare que ceux de la liste ci-dessus.
Le cas échéant, la zone intermédiaire, présente entre la première et la deuxième zone peut comprendre un silicate de terre rare choisi parmi le disilicate d’ytterbium (Yb 2 Si 2 O 7 ), le disilicate d’yttrium (Y 2 Si 2 O 7 ), ou une combinaison de ces deux composés par exemple une combinaison d’au moins une couche de disilicate d’ytterbium et d’au moins une couche de disilicate d’yttrium.
Dans un mode de réalisation, la zone intermédiaire ne comprend pas d’autre silicate de terre rare que ceux de la liste ci-dessus.
Dans un mode de réalisation, la couche d’accrochage peut comprendre du silicium (Si).
La couche d’accrochage a pour effet de favoriser l’adhérence du revêtement protecteur sur le substrat.
Dans un mode de réalisation, la première zone et la deuxième zone peuvent être de natures différentes. Par exemple, le revêtement peut comprendre au moins une première couche définissant la première zone externe et comprenant un premier silicate de terre rare, et une deuxième couche définissant la deuxième zone interne et comprenant un deuxième silicate de terre rare différent du premier silicate de terre rare.
Ce mode de réalisation permet de choisir des compositions de chacune des zones particulièrement adaptées aux fonctions que l’on souhaite obtenir pour la première et la deuxième zone du revêtement protecteur.
Par exemple, la première couche est une couche abradable, et la deuxième couche une barrière environnementale. Indépendamment ou en combinaison, la première couche peut être une barrière thermique et la deuxième couche une barrière environnementale.
La première couche peut comprendre un disilicate d’yttrium (Y 2 Si 2 O 7 ) et au moins un agent bloquant la croissance des grains, par exemple de l’oxyde de zirconium (ZrO 2 ), et la deuxième couche peut comprendre un disilicate d’ytterbium (Yb 2 Si 2 O 7 ).
Dans ce mode de réalisation, la pièce peut être un secteur d’anneau de turbine dans lequel la première zone est un abradable. Selon une variante, la pièce peut être une aube de turbomachine avec un sommet abradable.
L’effluent récupéré est ensuite envoyé dans une première zone d’un dispositif comprenant une deuxième zone dans laquelle est envoyé le fluide caloporteur qui récupéré en sortie de réacteur multitubulaire.
La première zone du dispositif est alimentée également, au niveau de l’entrée de l’effluent, et avantageusement de manière co-courante, en oxygène à un débit ajusté de sorte que le ratio molaire entre l’oxygène et l’hydrogène de l’effluent de déshydrogénation introduits dans le dispositif soit égal à 0,45.
L’effluent obtenu en sortie de dispositif comprend très peu d’hydrogène, seulement environ 10% molaire de la quantité d’hydrogène présent dans l’effluent en sortie de réacteur multitubulaire. Le taux de conversion global en éthanol du procédé est de 30% avec une sélectivité en acétaldéhyde maintenue à 93%.
Le fluide caloporteur en sortie de dispositif est entièrement sous forme gaz et à une température d’environ 270°C sous forme de vapeur saturante.
Exemple 2 : comparatif L’étape de déshydrogénation est réalisée dans les mêmes conditions que pour l’Exemple 1.
L’effluent récupéré est ensuite envoyé dans une première zone d’un dispositif comprenant une deuxième zone dans laquelle est envoyé le fluide caloporteur qui est récupéré en sortie de réacteur multitubulaire.
La première zone du dispositif est alimentée également, au niveau de l’entrée de l’effluent, et avantageusement de manière co-courante, en oxygène à un débit ajusté de sorte que le ratio molaire entre l’oxygène et l’hydrogène de l’effluent de déshydrogénation introduits dans le dispositif soit égal à 0,2.
L’effluent obtenu en sortie de dispositif comprend encore de l’hydrogène, il reste en effet environ 60% molaire de la quantité d’hydrogène présente dans l’effluent en sortie de réacteur multitubulaire. Le taux de conversion global en éthanol du procédé est de 30% avec une sélectivité en acétaldéhyde maintenue à 93%.
Le fluide caloporteur en sortie de dispositif est en partie sous forme de gaz et en partie sous forme liquide.
PROCÉDÉ DE DESHYDROGENATION DE L’ÉTHANOL EN PRESENCE D’OXYGENE Domaine de l'invention La présente invention se rapporte à un procédé de déshydrogénation catalytique de l'éthanol, mettant en œuvre une étape d’oxydéshydrogénation de manière à optimiser la conversion de l’éthanol en acétaldéhyde. La présente invention concerne également un procédé de production de butadiène à partir d’éthanol qui comprend, comme première étape réactionnelle le procédé de déshydrogénation catalytique de l’éthanol mettant en œuvre une étape d’oxydéshydrogénation, pour produire de l’acétaldéhyde et une seconde étape réactionnelle produisant du butadiène à partir d’un mélange d’éthanol et d’acétaldéhyde.
La réaction de déshydrogénation catalytique de l’éthanol en acétaldéhyde peut être une étape réactionnelle intermédiaire dans plusieurs procédés. Par exemple, elle peut faire l’objet d’une première étape réactionnelle dans un procédé de conversion de l’éthanol en butadiène, connu en particulier sous le nom de procédé d’Ostromislensky et associé au procédé Lebedev. Le catalyseur utilisé typiquement est à base de cuivre.
La réaction de déshydrogénation de l’éthanol en acétaldéhyde est une réaction équilibrée qui présente des taux de conversion de l’éthanol autour de 30%. Elle est typiquement réalisée en présence de catalyseurs à base de cuivre, qui permettent d’atteindre des sélectivités satisfaisantes, notamment supérieures à 90%. Une optimisation des procédés mettant en œuvre la réaction de déshydrogénation de l’éthanol en acétaldéhyde apparait donc intéressante pour en particulier permettre d’améliorer la conversion de l’éthanol.
De nombreuses études portent sur les catalyseurs de déshydrogénation et en particulier sur l’introduction de promoteurs dans les catalyseurs à base de cuivre (Doca et al. , « Kinetics of dehydrogenation of lower aliphatic alcohols on copper catalysts containing small amounts of Cr, Mn, Fe, and Ni. », React. Kinet. Catal. Lett. 1985, 28, 123-127 ; Tu et al. , « Effect of chromium promoter on copper catalysts in ethanol dehydrogenation », Chem. Tech. Biotech., 1994, 59, 141-147 ; Tu et al. , « Effects of alkali metal oxyde additives on Cu/SiO 2 in the dehydrogenation of ethanol », Ind. Eng. Chem. 2001, 40, 5889-5893). L’effet associé à l’ajout de promoteurs sur les catalyseurs à base de cuivre réside souvent à l’amélioration de la stabilité du catalyseur.
D’autres travaux ont consisté à ajouter de l’oxygène en mélange avec la charge alcool, de manière à déplacer l’équilibre vers la formation du composé carbonyle en réagissant avec l’hydrogène généré par la déshydrogénation de l’alcool et à améliorer l’activité du catalyseur utilisé en « brûlant » le dépôt carboné formé lors de la déshydrogénation de l’alcool.
Par exemple, le document US 2,634,295 décrit un procédé de déshydrogénation d’alcool, en particulier du n-propanol ou de l’isopropanol, en mélange avec de l’oxygène (0,1 à 0,5 moles d’oxygène par mole d’alcool) et de l’eau (1 à 5 moles d’eau par mole d’alcool), en présence d’un catalyseur comprenant du cuivre, du chrome et du baryum sur des particules d’alumine entre 80 mesh (177 µm) et 200 mesh (74 µm), et mis en œuvre en lit fluidisé, à des températures entre 340°C (650°F) et 370°C (700°F).
Le brevet US 3,106,581, quant à lui, décrit la déshydrogénation d’éthanol en acétaldéhyde en présence d’oxygène (0,202 mole d’O 2 par mole de EtOH), de l’air étant mélangé à la charge éthanol, et un catalyseur à base d’argent, à des températures élevées, en particulier à 480°C, dans un réacteur tubulaire de manière à refroidir le système réactionnel. Les taux de conversion atteints sont élevés, supérieurs à 60%. Cependant, le brevet US 3,106,581 ne fait pas mention de la sélectivité en acétaldéhyde ; il précise juste la quantité en produits de décomposition (monoxyde de carbone, dioxyde de carbone et méthane).
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention la ou les résines sont choisies parmi j) les élémis.
k) Les encens (Oliban)
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention la ou les résines sont choisies parmi k) les encens.
l) Les Galbanums
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention la ou les résines sont choisies parmi l) les galbanums.
n ayant la même signification que dans la Formule 1-C,
Selon un autre mode de réalisation particulier, la présente invention concerne un procédé pour revêtir une surface tel que défini ci-dessus, dans lequel le au moins un composé de Formule 1-C est tel que n = 1.
Selon un autre mode de réalisation particulier, la présente invention concerne un procédé pour revêtir une surface tel que défini ci-dessus, dans laquelle la composition comprend au moins un composé de Formule 2-C, ou au moins un composé de Formule 3-C, ou un mélange de ces composés
Selon un autre mode de réalisation particulier, la présente invention concerne un procédé pour revêtir une surface tel que défini ci-dessus, dans lequel la composition de revêtement comprend au moins un composé de Formule 4-C, ou au moins un composé de Formule 5-C ou un mélange de ces composés
Selon un autre mode de réalisation particulier, la présente invention concerne un procédé pour revêtir une surface tel que défini ci-dessus, dans lequel les Formules 1-C, 2-C, 3-C, 4-C et 5-sont telles que le substituant R 2 est choisi parmi un groupe pentadéca-8,11,14-triényle, un groupe pentadéca-8,11-diényle, un groupe pentadec-8-enyle et un groupe pentadécyle, ou un mélange de ces groupes.
On notera que l’invention n’est pas limitée aux modes de réalisation décrits précédemment. Il apparaîtra en effet à l'homme de l'art que diverses modifications peuvent être apportées aux modes de réalisation décrits ci-dessus, à la lumière de l'enseignement qui vient de lui être divulgué. En particulier, les caractéristiques des différents exemples de réalisation précédemment décrits peuvent être combinées entre elles suivant n’importe quelle combinaison techniquement possible.
Système de propulsion électrique pour un aéronef Domaine technique de l’invention L’invention concerne un système de propulsion électrique pour un aéronef. Un tel système est notamment installé sur un aéronef à propulsion uniquement électrique, par exemple un avion.
Etat de la technique antérieure Les aéronefs utilisant une propulsion employant pour seule énergie de l‘énergie électrique stockée dans des batteries ou d’autres éléments de stockage, doivent comprendre une architecture électrique de connexion capable de gérer les flux d’énergie des éléments de stockage vers les moteurs électriques quelles que soient les conditions d’utilisations et les éventuelles pannes.
Les réseaux de distribution d’énergie électrique embarqués sur la plupart des aéronefs actuels, destinés à l’alimentation des circuits secondaires (ventilation, éclairage, chauffage…), comprennent généralement un réseau alternatif avec des tensions alternatives de 115 V ou 230 V par exemple, et /ou un réseau à basse tension continue de 28 V. Les puissances électriques en jeu vont généralement de 50 à 500 kW.
Un aéronef à propulsion électrique nécessite une puissance électrique plus importante, et opèrent à des tensions continues plus élevées, de l’ordre de 400 à 1000 V. Pour ces aéronefs à propulsion électrique, il est nécessaire de définir de nouvelles architectures de distribution électrique. Aujourd’hui, deux topologies d’architecture de distribution sont étudiées : les architectures ségréguées et les architectures distribuées.
Les architectures ségrégées comprennent plusieurs canaux de distribution parallèles électriquement disjoints, comprenant chacun un bus d’alimentation reliant une source d’énergie à un ou plusieurs moteurs respectifs.
Dans une telle architecture, la perte d’une source d’énergie entraîne inévitablement la perte du ou des moteur(s) associé(s). En fonction du type d’aéronef et du type de système propulsif, il est possible que le système intègre une possibilité de redirection du ou des moteurs vers une source d’énergie secondaire de secours, de même type que la source principale ou d’un type différent (on parle alors d’architecture hybride).
Cependant, un tel système redondant entraîne un encombrement et une masse embarquée augmentés, en multipliant les bus de connexion et, le cas échéant, les sources secondaires qui ne sont pas utilisées en fonctionnement normal.