INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Une cellule à homojonction de silicium (PERC, TOPCon…) peut supporter des températures plus élevées qu’une cellule SHJ (on parle de cellule « haute température »). La température de dégradation d’une cellule à homojonction est généralement comprise entre 400 °C et 500 °C. Les paramètres E, V et L du procédé d’activation sont alors préférentiellement choisis de sorte que la température de plateau T plateau soit inférieure ou égale à cette température de dégradation, et de préférence inférieure ou égale à 400 °C. Les paramètres E, V et L sont en outre avantageusement choisis de sorte que la température maximale T max soit comprise entre 200°C et 800 °C. A nouveau, à chaque valeur de température maximale T max supérieure à la température de dégradation est associée une valeur maximale de temps d’exposition.
A l’inverse, une cellule tandem peut supporter des températures plus faibles qu’une cellule SHJ. La température de dégradation d’une cellule tandem est d’environ 120 °C. Les paramètres E, V et L du procédé d’activation sont alors préférentiellement choisis de sorte que la température de plateau T plateau soit inférieure ou égale à la température de dégradation de la cellule tandem, soit inférieure ou égale à 120 °C. Les paramètres E, V et L sont en outre avantageusement choisis de sorte que la température maximale T max soit comprise entre 100 °C et 200 °C. A nouveau, à chaque valeur de température maximale T max supérieure à la température de dégradation (ici 120 °C) est associée une valeur maximale de temps d’exposition (par exemple, quelques secondes à 200 °C).
Quel que soit le type de cellule photovoltaïque, l’étape d’exposition au rayonnement électromagnétique peut comprendre plusieurs phases de balayage successives, par exemple en faisant défiler la cellule photovoltaïque 20 plusieurs fois devant la même source de rayonnement 40 (grâce notamment à un parcours en boucle), en multipliant le nombre de source de rayonnement électromagnétique 40 ou en effectuant plusieurs aller-retours avec la même ligne 60 de rayonnement électromagnétique. Plusieurs phases de balayage successives permettent de cumuler le temps d’exposition de la couche de passivation à la température T max (aussi appelée température d’activation thermique), et donc de maximiser l’effet de passivation. Deux phases de balayage successives sont avantageusement espacées (dans le temps) par une phase de refroidissement de la cellule photovoltaïque. Le nombre de phases de balayage dépend du temps d’exposition total souhaité.
Etant donné que la température d’activation pour une cellule SHJ ou une cellule tandem est plus faible que celle d’une cellule à homojonction, le temps d’exposition de la cellule SHJ ou de la cellule tandem devrait être plus important que celui de la cellule à homojonction. La cellule SHJ et la cellule tandem sont donc plus susceptibles d’être exposées plusieurs fois de suite.
Les figures 11A à 11C représentent un mode de mise en œuvre préférentiel d’un procédé de fabrication de sous-cellules photovoltaïques selon un deuxième aspect de l’invention. Une sous-cellule photovoltaïque désigne ici une fraction ou un morceau d’une cellule photovoltaïque de pleine taille, aussi qualifiée de cellule photovoltaïque « entière ». Les sous-cellules photovoltaïques sont par exemple destinées à la fabrication de modules photovoltaïques ayant des pertes résistives faibles comparées à celles des modules photovoltaïques classiques (composés de cellules photovoltaïques entières).
Ce procédé de fabrication comprend une étape S1 consistant à découper des cellules photovoltaïques 100 de pleine taille en une pluralité de sous-cellules 200 (cf. Figs.11A-11B) et une étape S2 de passivation des sous-cellules 200 (cf. ). Dans un souci de clarté, seule une cellule photovoltaïque 100 et une sous-cellule 200 ont été représentées (en vue de coupe) sur les figures 11A et 11C respectivement.
Les cellules photovoltaïques 100 ont été préalablement fabriquées à partir de substrats semi-conducteurs, par exemple en silicium cristallin. Ces substrats ont été initialement découpés dans un lingot de silicium, puis ont été soumis à plusieurs étapes de fabrication (par exemple des étapes de structuration de surface, dopage, recuit, passivation, sérigraphie...), mais aucune autre étape de découpage.
Les cellules photovoltaïques 100 comprennent chacune une première face 100a, une deuxième face 100b opposée à la première face 100a et des surfaces ou parois latérales 100c reliant la première face 100a et la deuxième face 100b.
De préférence, les cellules photovoltaïques 100 sont prêtes à être interconnectées en une chaîne de cellules. Elles sont munies sur la première face 100a et/ou sur la deuxième face 100b d’une ou plusieurs métallisations 110 destinées à collecter les porteurs de charge photogénérés et à recevoir des éléments d’interconnexion, par exemple des fils ou rubans métalliques. Les métallisations 110 sont de préférence des pistes électriquement conductrices appelées « busbars ». Les busbars 110 peuvent relier électriquement des doigts de collecte (non représentés sur la ) répartis sur toute la superficie de la première face 100a et/ou de la deuxième face 100b. L’une des première et deuxième faces 100a-100b (la face arrière) des cellules photovoltaïques 100 peut aussi être entièrement métallisée. Dans une variante de mise en œuvre, les cellules photovoltaïques 100 sont dépourvues de busbars 110 mais comportent uniquement des doigts de collecte.
La première face 100a et la deuxième face 100b de chaque cellule photovoltaïque 100 présentent avantageusement une couche de passivation 120. Cette couche de passivation 120 rend inactifs les défauts de surface de la cellule photovoltaïque 100 et améliore la durée de vie des porteurs de charge photogénérés. De préférence, la couche de passivation 120 recouvre également les surfaces latérales 100c de la cellule photovoltaïque 100.
Dans ce mode de mise en œuvre préférentiel, le découpage de chaque cellule photovoltaïque 100 s’effectue en deux opérations successives F1 et F2, illustrées respectivement par les figures 11A et 11B.
- chaque paire de languettes de connexion électrique adjacentes délimitent entre elles un interstice recevant le premier dispositif de séparation, la largeur du premier dispositif de séparation entre les languettes de connexion électrique adjacentes, prise selon la direction d’empilement, étant au moins égale à 60 % de la largeur de l’interstice ;
- les bords inférieurs du premier dispositif de séparation sont disposés à l’écart, selon la direction verticale, des bord supérieurs des collecteurs des électrodes de première polarité de la pluralité d’empilements ;
- le premier dispositif de séparation est soudé à la languette de connexion électrique par au moins une soudure ;
- la soudure est une soudure laser ou une soudure ultrason ;
- chaque languette de connexion électrique s’étend entre un premier bord latéral et un deuxième bord latéral selon une direction horizontale sensiblement perpendiculaire à la direction verticale et la direction d’empilement, le premier dispositif de séparation étant un ruban métallique continu entourant successivement le premier bord latéral d’une languette de connexion électrique et le deuxième bord latéral d’une languette de connexion électrique adjacente ; et
- le premier dispositif de connexion électrique comprend une pluralité d’organes de séparation métalliques, distincts les uns des autres, interposés respectivement entre chaque paire de languettes de connexion électrique adjacentes, chaque organe de séparation s’étendant entre un bord inférieur et un bord supérieur selon la direction verticale, les bords supérieurs du premier dispositif de séparation étant formés par les bords supérieurs des différents organes de séparation.
L’invention a également pour objet un élément de batterie comprenant :
- un godet ou une poche délimitant un volume intérieur,
- au moins un faisceau électrochimique, tel que décrit ci-dessus, disposé dans le volume intérieur,
- au moins un premier connecteur électrique soudé sur les bords supérieurs des languettes de connexion électrique des électrodes de première polarité et sur les bords supérieurs du premier dispositif de séparation.
L’invention porte également sur un procédé de fabrication d’un faisceau électrochimique tel que décrit ci-dessus, le procédé comprenant :
- déposer successivement les empilements selon la direction d’empilement,
- interposer le premier dispositif de séparation entre chaque paire de languettes de connexion électrique adjacentes,
- fixer le premier dispositif de séparation à au moins une desdites languettes de connexion électrique,
la pluralité de bord supérieurs du premier dispositif de séparation affleurant sensiblement au niveau des bords supérieurs des languettes de connexion électrique des électrodes de première polarité.
Selon un mode de réalisation particulier, le procédé comprend la caractéristique suivante : la fixation du premier dispositif de séparation à la languette de connexion électrique est effectuée par soudage.
Le procédé comprend une étape S000 de calibration, optionnelle, permettant d’initialiser différentes constantes utilisées dans des étapes ultérieures du procédé.
L’étape S000 de calibration peut comprendre : - une sous-étape de réception d’une pluralité de signaux radiofréquence élémentaires dits de référence, Sref(k), 1 1 , provenant du capteur 2 et relatifs à une série d’impulsions émises TX(k) ), 1 1 . Ladite pluralité de signaux se présente par exemple sous la forme d’une matrice similaire à celle décrite en référence à la , - une sous-étape de calcul, pour chaque fenêtre d’échantillonnage d’indice i et pour la pluralité de signaux radiofréquence élémentaires de référence Sref(k) , 1 3 , d’une moyenne Mref(i) de référence, avec N 3 un entier supérieur ou égal à 2, - une sous-étape d’’initialisation, pour chaque fenêtre d’échantillonnage d’indice i, d’une composante G(i) d’un vecteur de bruit G à partir de la moyenne de référence Mref(i) .
Ainsi, l’étape S000 de calibration permet notamment d’initialiser les différentes composantes G(i) d’un vecteur de bruit G destiné à être soustrait d’un signal d’amplitude élémentaire S(k) .
L’étape S000 peut également l’initialisation de la valeur d’un seuil Th, tel que mentionné dans la suite.
L’étape S000 peut également comprendre l’initialisation d’un nombre N 2 mentionné ultérieurement, et relatif à un nombre de signaux d’amplitude élémentaires formant ensemble un sous-ensemble tel que mentionné ultérieurement.
On notera que les signaux de référence Sref(k) sont obtenus de préférence dans des conditions préétablies de calibration, en l’absence de cible mouvante, par exemple sur une chaine de production avec un environnement prédéfini ou au démarrage du procédé (sous l’hypothèse que l’utilisateur attendra quelques instants avant de démarrer son geste).
Le procédé comprend également une étape S100 de réception d’un nombre N 1 de signaux d’amplitude élémentaires S(k) , avec N 1 un entier supérieur ou égal à 2. Les N 1 signaux d’amplitude élémentaires S(k) se présentent par exemple sous la forme d’une matrice telle que décrite en référence à la . Cette étape peut être mise en œuvre après l’étape S000 de calibration, ou pendant l’étape S000 de calibration, les signaux d’amplitude élémentaires reçus à l’étape S100 pouvant alors être au moins partiellement confondus avec les signaux élémentaires de référence Sref(k) .
Le procédé comporte ensuite puis une étape S200 de sélection de N 2 signaux, parmi les N 1 signaux d’amplitude élémentaires reçus à l’étape S100, pour former un sous-ensemble prédéterminé de signaux d’amplitude élémentaires, avec N 2 un entier supérieur ou égal à 3, de préférence supérieur ou égal à 10. Il s’agit de préférence de sélectionner N 2 signaux consécutifs parmi l’ensemble de signaux S(k) reçus à l’étape S100. Le sous ensemble est alors constitué des signaux S(k) avec k 0 0 +N 2 , avec k 0 un entier strictement positif définissant un indice de la première impulsion radiofréquence émise considérée.
Le procédé comprend ensuite une étape S300 de calcul, pour chaque fenêtre d’échantillonnage d’indice i , d’un indicateur de variation des signaux du sous-ensemble défini à l’étape S200. On peut par exemple calculer, pour chaque fenêtre d’échantillonnage d’indice i , l’écart-type STDV(i) pour le sous-ensemble défini à l’étape S200.
Le procédé comprend également une étape S310 de calcul, pour chaque fenêtre d’échantillonnage d’indice i , d’une moyenne M(i) des signaux S(k). Cette moyenne est calculée à partir des valeurs S(k, i) des signaux S(k) , k 0 0 +N 2 du sous-ensemble. Cette étape est de préférence réalisée après l’étape S300 pour optimiser les temps de calcul et les ressources mémoire nécessaires. En variante, elle peut être réalisée en même temps, ou avant l’étape S300.
Le procédé comprend ensuite une étape S410 lors de laquelle on détermine si oui ou non un nombre prédéterminé des indicateurs de variation définis à l’étape S300 est inférieur à un seuil prédéterminé Th . Lorsque c’est le cas, on met à jour le vecteur de bruit avec des valeurs prenant en compte l’environnement courant en regard du capteur. Avec cette vérification, on s’assure que la mise à jour n’est effectuée que lorsque les signaux du sous-ensemble ont une dérive assez faible, pour correspondre à des fluctuations dites normales de l’environnement, c’est-à-dire en l’absence d’un mouvement à détecter. S’il n’y a pas ledit nombre prédéterminé des indicateurs de variation qui est inférieur au seuil prédéterminé Th , on ne met pas à jour le vecteur de bruit et on passe directement à l’étape S500 décrite dans la suite.
Dans l’exemple décrit ici, on vérifie, lors d’une étape S410, si un nombre prédéterminé d’écart-types déterminés lors de l’étape S300 est inférieur à un même seuil prédéterminé Th , pour une pluralité de fenêtres d’échantillonnages. De préférence, la vérification est faite pour chacune des fenêtres d’échantillonnages.
On peut également, en variante, définir un seuil prédéterminé Th(i) propre à chaque fenêtre d’échantillonnage. Le seuil prédéterminé Th(i) est par exemple fonction d’un écart-type STDVref(i) calculé préalablement lors de l’étape S000 de calibration, pour chaque fenêtre d’échantillonnage d’indice i et pour la pluralité de signaux élémentaires de référence Sref(k ). L’étape S000 de calibration comprend alors une sous-étape optionnelle d’initialisation d’au moins un seuil prédéterminé Th (i) en fonction d’au moins un écart-type de référence STDVref(i) .
En vérifiant si chacun parmi un nombre prédéterminé d’indicateurs de variation est inférieur à un seuil prédéterminé, où chaque indicateur de variation est propre à l’une respective des fenêtres d’échantillonnage, on évite les mauvaises détections d’absence ou de présence de geste en cas d’anomalies ponctuelles. Le nombre prédéterminé d’indicateurs de variation pris en compte peut correspondre à l’intégralité des fenêtres d’échantillonnages i ou tout du moins à un nombre suffisant de fenêtres d’échantillonnages, par exemple au moins 10.
Si un nombre prédéterminé d’indicateurs de variation est inférieur à un seuil prédéterminé, on réalise une étape S420 de mise à jour du vecteur bruit G , lors de laquelle on met à jour chaque composante G(i) du vecteur G . Chaque composante G(i) est mise à jour en utilisant, au moins, la moyenne M(i) déterminée lors de l’étape S310 pour la même fenêtre d’échantillonnage d’indice i.
En particulier, chaque composante Gi du vecteur de bruit peut être calculée, pour chaque fenêtre d’échantillonnage d’indice i, comme suit :
Selon l’un des aspects de l’invention, chaque concavité forme l’un des canaux et s’étend entre une entrée de fluide et une sortie de fluide.
Selon l’un des aspects de l’invention, les entrée et sortie de fluide comportent des orifices présentes sur le deuxième élément de plaque.
Selon l’un des aspects de l’invention, le deuxième élément de plaque comporte une pluralité de concavités formant une pluralité de canaux, par exemple deux canaux d’écoulement parallèle.
Selon l’un des aspects de l’invention, ces canaux parallèles s’étendent entre une entrée de fluide commune et une sortie de fluide commune.
Selon l’un des aspects de l’invention, l’un au moins des canaux présente une forme en U.
Selon l’un des aspects de l’invention, les deux canaux parallèles présentent chacun en forme en U, l’une des formes en U étant à l’intérieur de l’autre forme en U.
Selon l’un des aspects de l’invention, les canaux présentent la même profondeur.
Autrement dit, en coupe transversale de la plaque, les canaux présentent la même profondeur mesurée depuis le premier élément de plaque jusqu’à au fond opposé du canal sur le deuxième élément de plaque.
Selon l’un des aspects de l’invention, les canaux présentent chacun un fond plat.
Selon l’un des aspects de l’invention, les canaux occupent la majeure partie du deuxième élément de plaque.
Ainsi lorsque l’on regarde la plaque suivant une direction perpendiculaire à la plaque, les canaux occupent la majeure partie de la superficie de la plaque.
L’invention a encore pour objet un compartiment pour un équipement susceptible de dégager de la chaleur lors de son fonctionnement, l’équipement étant notamment un dispositif de stockage d'énergie électrique pour véhicule, ce compartiment comportant au moins un logement agencé pour recevoir ledit équipement électrique, et une plaque de refroidissement telle que décrite plus haut, agencée pour refroidir l’équipement.
Le compartiment peut comporter une seule ou une pluralité de telles plaques de refroidissement.
Selon l’un des aspects de l’invention, le compartiment comporte des parois réalisées en matériau composite à base de matière plastique.
Le compartiment peut comporter une poutre formant une paroi latérale et un couvercle agencé pour être assemblé avec la poutre pour fermer le logement, et la poutre comprend une âme réalisée en matériau composite contenant une matière plastique et des éléments de renfort, par exemple en fibres de verre ou de carbone.
-R4 : risque de cyberattaque et/ou d’intrusion informatique pouvant affecter l’intégrités des données sensibles.
Les menaces internes respectivement prises en compte sont :
-R5 : risque de fraude et/ou de malveillance interne ;
-R6 : risques d’anomalie/dysfonctionnement critique.
Les sources de menaces internes sont soit la malveillance interne, soit la négligence ou l’incompétence.
Des données de fonctionnement de l’installation nucléaire sont collectées par campagne, sur une période temporelle donnée. La période temporelle est par exemple de six mois ou d’un an.
En général, dans le cadre de la routine d’exploitation industrielle, le chef d’installation, rassemble et vérifie les écarts et anomalies qui sont remontés par les équipes opérationnelles au niveau de chaque procédé, sous la responsabilité du chef d’équipe concerné. Ces écarts et anomalies font l’objet d’investigations pour en identifier les causes et en évaluer les conséquences.
Les résultats de ces investigations sont soumis à l’évaluation et la validation indépendante de la cellule de contrôle de 2nd niveau, qui enregistre ces écarts et anomalies, valide ou non leur nature « avérée » et les classe le cas échéant, en tant qu’événements et leur attribue individuellement un niveau de gravité G selon par exemple, la cotation suivante :
G = 1 : événement mineur ; G = 2 : événement modéré ; G = 3 : événement grave/significatif ; G = 4 : événement sévère.
Les données d’apprentissage fournies en entrée du procédé sont des données collectées durant une campagne, voire durant un nombre prédéterminé de campagnes précédentes.
Les données collectées sont des données de fonctionnement de l’installation nucléaire.
Le périmètre spatial considéré est le périmètre du site industriel, et il est de préférence modélisé selon une modélisation multi –échelle de la manière suivante :
Echelle 1 : périmètre du site 150 abritant l’installation nucléaire 156 ; Echelle 2 : périmètre de l’installation ; Echelle 3 : périmètre d’une cellule abritant plusieurs procédés ; Echelle 4 : périmètre d’un procédé.
Dans un exemple plus particulier, en considérant le périmètre du procédé (échelle 4), et un risque de vol et détournement de matières nucléaires, les évènements initiateurs identifiés suivants sont identifiés par le déploiement du procédé:
Evénement 1 (E 1 ) Intrusion d’un opérateur non habilité/non autorisé dans une cellule d’accès restreint/réglementé, abritant un procédé sensible : Sig_E 1 (t) = Evénement 2 (E 2 ) Modification du procédé sans autorisation préalable par le Chef d’Installation et non-conforme au cadre réglementaire : Sig_E 2 (t) = Evénement 3 (E 3 ) Falsification des données d’exploitation et de contrôle :
Sig_E 3 (t) = Dans cet exemple, les paramètres définissant les signatures élémentaires des évènements initiateurs sont estimés par des algorithmes d’apprentissage machine, non supervisé ou des algorithmes d’apprentissage profond (« deep learning ») mettant en œuvre des réseaux de neurones sur des données issues de fichiers d’écarts et anomalies disponibles au niveau de l’installation.
Dans des modes de réalisation, l’unité de classification et de traitement des notifications 164 peut utiliser un ensemble de critères prédéfinis afin d’associer une classe mathématique spécifique aux notifications. Ces critères peuvent comprendre des critères de pondération, des critères définis par une ontologie et/ou des critères définis par des règles.
L’unité de classification et de traitement des notifications 164 est ainsi configurée pour effectuer une opération de classification d’une notification, définie comme une analyse, selon des règles prédéfinies, de toutes les informations de la notification et pour calculer l’état de la notification à partir de cette analyse.
L’unité de classification et de traitement des notifications 164 est en outre configurée pour traiter la notification en fonction de la classe qui lui est associée. Cette opération de traitement de la notification peut correspondre à l’application d’une nouvelle opération de classification de la notification définie comme une opération de reclassification et/ou la génération du rendu des notifications sur l’interface Homme-Machine 180, et/ou l’enregistrement des notifications dans une mémoire de sauvegarde 166-6.
Selon certains modes de réalisation, une classe peut correspondre à un état dit « en attente » indiquant que la notification doit être mise en attente par l’unité de classification et de traitement des notifications 164. Si la classe est dans un état « en attente », un affichage ne sera pas généré pour la suggestion sur l’interface Homme-Machine 180.
Une classe peut correspondre à un état dit « à exécuter » indiquant que la notification doit être exécutée par l’unité de classification et de traitement des notifications 164. Si la classe est dans un état « à exécuter », un affichage sera généré pour la suggestion sur l’interface Homme-Machine 180.
Une classe peut correspondre à un état dit « à archiver » indiquant que la notification doit être doit être archivée dans une mémoire de sauvegarde 166-6 connectée à l’unité de classification et de traitement des notifications 164 au sein du dispositif de traitement des suggestions 160. Si la classe est dans un état « à archiver », un rendu d’archivage sera généré pour la suggestion sur l’interface Homme-Machine 180.
Dans des modes de réalisation, la mémoire de notifications 166-4 du dispositif de traitement des suggestions 160 comprend uniquement les notifications ayant un état « en attente » ou « à exécuter ».
La mémoire de sauvegarde 166-6 peut former, pour le dispositif d’assistance au pilotage d’un aéronef 100, une source de données internes à l’aéronef au sein des sources de données de mission en cours ou futures 120.
Selon certains modes de réalisation, la génération du rendu d’une notification peut être multiple et contrôlée par l’unité de classification et de traitement des notifications 164. Le rendu d’une notification utilise au moins une forme d’affichage et une dynamique d’affichage définies en fonction des métadonnées associées à la notification.