Procédé d’activation thermique d’une couche de passivation (10) disposée sur une cellule photovoltaïque (20), la cellule photovoltaïque (20) comprenant une première face (20a), une deuxième face (20b) opposée à la première face et des surfaces latérales (20c) reliant les première et deuxième faces, la couche de passivation (10) recouvrant au moins une des surfaces latérales (20c) de la cellule photovoltaïque (20), le procédé comprenant une étape d’exposition de la première face (20a) à un rayonnement électromagnétique (30) émis par une source de rayonnement (40), caractérisé en ce que le rayonnement électromagnétique (30) est appliqué sur la première face (20a) selon une ligne (60), en ce que la ligne (60) balaye une partie au moins de la première face (20a), et en ce que la ligne (60) est orientée par rapport à la première face (20a) de sorte à obtenir une zone de surchauffe (71, 72) englobant une partie au moins de la couche de passivation (10). Procédé selon la revendication 1, dans lequel la cellule photovoltaïque (20) et la source de rayonnement (40) sont animées d’un mouvement relatif de translation. Procédé selon l’une des revendications 1 et 2, dans lequel la première face (20a) comprend : un premier bord (21) appelé bord d’attaque ; un deuxième bord (22) appelé bord de fuite et opposé au premier bord (21) ; et des troisième et quatrième bords (23, 24) reliant les premier et deuxième bords (21, 22). Procédé selon la revendication 3, dans lequel : la couche de passivation (10) recouvre la surface latérale (20c) bordée par le bord de fuite (22) ; et la ligne (60) comprend un segment de droite (61) orienté perpendiculairement à une médiane (M) de la première face (20a), la médiane passant par le bord d’attaque (21) et le bord de fuite (22). Procédé selon l’une des revendications 3 et 4, dans lequel : la couche de passivation (10) comprend une première portion recouvrant la surface latérale (20c) bordée par le bord de fuite (22) et une deuxième portion recouvrant la surface latérale (20c) bordée par le bord d’attaque (21) ; et la ligne (60) balaye la première face (20a) dans un premier sens lors d’une première phase et dans un deuxième sens opposé lors d’une deuxième phase. Procédé selon la revendication 3, dans lequel : la couche de passivation (10) comprend une première portion recouvrant la surface latérale (20c) bordée par le bord de fuite (22) et une deuxième portion recouvrant la surface latérale (20c) bordée par l’un des troisième et quatrième bords (23-24) ; et la ligne (60) comprend un segment de droite (61’) incliné par rapport à une médiane (M) de la première face d’un angle (α) strictement inférieur à 90° en valeur absolue, la médiane (M) passant par le bord d’attaque (21) et le bord de fuite (22). Procédé selon la revendication 3, dans lequel : la couche de passivation (10) comprend une première portion recouvrant la surface latérale (20c) bordée par le troisième bord (23) et une deuxième portion recouvrant la surface latérale (20c) bordée par le quatrième bord (24) ; et la ligne (60) est une ligne brisée comprenant un premier segment de droite (62a) incliné par rapport à une médiane (M) de la première face (20a) d’un premier angle positif (α 1 ) et un deuxième segment de droite (62b) incliné par rapport à la médiane (M) d’un deuxième angle négatif (α 2 ), la médiane (M) passant par le bord d’attaque (21) et le bord de fuite (22), le premier angle (α 1 ) et le deuxième angle (α 2 ) étant inférieurs à 90° en valeur absolue, de préférence inférieurs à 45° en valeur absolue. Procédé selon la revendication 7, dans lequel le premier angle (α 1 ) et le deuxième angle (α 2 ) sont compris entre 10° et 20° en valeur absolue. Procédé selon l’une des revendications 7 et 8, dans lequel le premier angle (α 1 ) et le deuxième angle (α 2 ) sont égaux en valeur absolue. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 9, dans lequel la ligne (60) balaye toute la superficie de la première face (20a). Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 10, dans lequel la densité surfacique d’énergie (Q) reçue en tout point de la première face (20a) est comprise entre 1 kJ/m 2 et 1000 kJ/m 2 , avantageusement entre 10 kJ/m 2 et 100 kJ/m 2 . Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 11, dans lequel le rayonnement électromagnétique (30) présente une irradiance (E) supérieure ou égale à 1 kW/m 2 , de préférence comprise entre 100 kW/m 2 et 5000 kW/m 2 . Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 12, dans lequel la cellule photovoltaïque (20) et la source de rayonnement (40) sont en mouvement relatif de translation à une vitesse de déplacement (V) comprise entre 1 cm/s et 100 cm/s, de préférence supérieure ou égale à 2 cm/s. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 13, dans lequel la ligne (60) présente une largeur (L) comprise entre 0,1 mm et 100 mm, de préférence comprise entre 1 mm et 10 mm. Procédé de fabrication de sous-cellules photovoltaïques (200) passivées, comprenant les étapes suivantes : découper (S1) des cellules photovoltaïques (100) pour former une pluralité de sous-cellules photovoltaïques (200), chaque sous-cellule photovoltaïque comprenant une première face (200a), une deuxième face (200b) opposée à la première face (200a) et des surfaces latérales (200c, 200c’) reliant les première et deuxième faces, au moins une (200c’) des surfaces latérales de chaque sous-cellule photovoltaïque (200), dite additionnelle, résultant du découpage d’une cellule photovoltaïque (100) ; déposer (S2) une couche de passivation (210) sur au moins une surface latérale additionnelle (200c’) des sous-cellules photovoltaïques (200) ; activer (S2) thermiquement la couche de passivation (210) des sous-cellules photovoltaïques (200) en suivant un procédé d’activation thermique selon l’une quelconque des revendications 1 à 14. Procédé de fabrication selon la revendication 15, dans lequel les cellules photovoltaïques (100) sont découpées en demi-cellules (200) ou en sous-unités de superficie inférieure à celle d’une demi-cellule.