INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Les architectures distribuées cherchent à réduire ce problème d’encombrement et de masse, qui est particulièrement critique pour une utilisation sur un aéronef.
Dans ce type d’architecture, les sources sont connectées en parallèle sur un bus d’alimentation commun desservant tous les moteurs. En mode nominal, les tensions entre les différentes batteries s’équilibrent de sorte que les batteries alimentent de manière partagée les différentes charges. En cas de perte d’une batterie, les charges propulsives sont alimentées par les batteries restantes.
Ceci permet de dimensionner les batteries au plus près du fonctionnement nominal, et ainsi d’optimiser la masse des batteries. Le réseau de distribution électrique devient également plus intégré car le bus de distribution associe plusieurs charges à plusieurs batteries.
Un défaut important des architectures distribuées est la gestion des incidents, et en particulier la vulnérabilité aux courts-circuits.
En effet, en cas de court-circuit, une batterie peut délivrer en quelques millisecondes un courant de quelques milliers d’ampères. Lorsque les batteries sont connectées en parallèle sur le réseau, le phénomène est multiplié par le nombre de batteries en parallèle.
La première conséquence, directe, est que les courants mis en jeu dans ce type de court-circuit peuvent être destructifs pour les composants aéronautiques, et les solutions de protection active ne sont pas capables d’isoler le défaut.
La seconde conséquence est liée à la nature de l’architecture de distribution distribuée. En effet, contrairement à une architecture de distribution ségréguée, qui ne propage pas les conséquences d’un court-circuit à l’ensemble du réseau propulsif, dans ce type d’architecture, la tension du réseau perçue par tous les moteurs va s’écrouler sur une durée suffisamment longue pour causer la perte inacceptable de la propulsion de l’aéronef, tous les moteurs liés au bus n’étant plus alimentés du fait d’une mise en protection automatique liée à un niveau de tension de bus trop faible.
L’invention concerne également un procédé de commande d’un circuit pour véhicule automobile, mis en œuvre par le microcontrôleur, lorsqu’il est nécessaire de commander la fermeture de deux interrupteurs montés en parallèle, ledit procédé étant remarquable en ce qu’il une première phase dite « de commutation » comprenant : a. une première étape de fermeture d’un premier interrupteur parmi les deux interrupteurs, b. après un délai prédéfini par rapport à la fermeture du premier interrupteur, une deuxième étape de fermeture de l’interrupteur monté en parallèle du premier interrupteur fermé, c. après une durée prédéfinie après la deuxième étape de fermeture, une première étape d’ouverture du premier interrupteur fermé, d. après un délai prédéfini par rapport à l’ouverture du premier interrupteur, une deuxième étape d’ouverture de l’interrupteur monté en parallèle du premier interrupteur ouvert.
Ainsi, lors de la première phase de commutation, le fait qu’un des interrupteurs connecté en parallèle soit déjà fermé lorsque le deuxième interrupteur se ferme, permet au deuxième interrupteur fermé de ne pas subir de pertes de commutation. De même, lors de la première étape d’ouverture d’un interrupteur, puisque l’autre interrupteur est toujours fermé, l’interrupteur qui s’ouvre ne subira pas de pertes.
De préférence encore, le procédé comprend après la première phase de commutation, une deuxième phase dite « de commutation » comprenant : a. une première étape de fermeture de l’interrupteur fermé lors de la deuxième étape de fermeture de la première phase, b. après un délai prédéfini par rapport à la fermeture de l’interrupteur lors de la deuxième phase, une deuxième étape de fermeture de l’interrupteur fermé lors de la première étape de fermeture de la première phase, c. après une durée prédéfinie après la deuxième étape de fermeture de la deuxième phase, une première étape d’ouverture de l’interrupteur fermé lors de la première étape de fermeture de la deuxième phase, d. après un délai prédéfini par rapport à l’ouverture de l’interrupteur lors de la deuxième phase, une deuxième étape d’ouverture de l’interrupteur fermé lors de la deuxième étape de fermeture de la deuxième phase.
Ainsi, lors de la deuxième phase de commutation, l’interrupteur fermé en premier lors de la première phase est fermé en second et l’interrupteur fermé en second lors de la première phase, est fermé en premier. Il en est de même pour l’ouverture des interrupteurs.
La première phase et la deuxième phase permettent ainsi de prévenir une partie des pertes de commutation sur chacun des interrupteurs.
De préférence, la première phase et la deuxième phase sont itérées chacune un nombre de fois identique. Ainsi, les pertes en commutation sont réparties équitablement sur chacun des interrupteurs en parallèle.
Selon un premier mode de réalisation, la première phase et la deuxième phase sont itérées successivement l’une après l’autre.
Selon un deuxième mode de réalisation, la première phase est réitérée N fois à la suite, N désignant un entier naturel positif, puis la deuxième phase est itérée N fois à la suite.
Avantageusement, le délai est prédéfini par une durée comprise entre 50 et 100 ns.
La est une illustration d’un chargeur selon l’invention,
La présente un schéma électronique d’un circuit correcteur de facteur de puissance d’un chargeur selon la ,
La présente un schéma électronique d’une deuxième forme de réalisation d’un circuit correcteur de facteur de puissance d’un chargeur selon la ,
La présente la variation, en fonction du temps, des états ouverts ou fermés d’un ensemble d’interrupteurs du circuit correcteur selon l’une quelconque des figures 2 et 3,
La représente une illustration du procédé selon l’invention.
Le bloqueur fixe 110 est délimité radialement, à l’extérieur par une surface externe de révolution autour de l’axe X et à l’intérieur par le premier alésage 113 traversant et coaxial avec la direction de largage X. Le bloqueur fixe 110 comporte en outre une extrémité distale 1101, orientée selon la direction de largage du côté du sens de largage, autrement dit vers le bas et une extrémité proximale orientée à l’opposé. Le bloqueur fixe 110 comporte les deux ouvertures 117 symétriques l’une de l’autre par rapport à la direction de largage X, traversantes dans une direction radiale et ouvertes au niveau de l’extrémité distale 1101 du bloqueur fixe 110.
Chaque ouverture 117 comporte une encoche 111. Chaque encoche 111 est formée par un évidement délimité verticalement par la paroi proximale 1112 et par la paroi distale 1111. Chaque encoche 111 est traversante dans une direction radiale et comporte, dans une direction tangentielle, une extrémité ouverte et une extrémité fermée.
La paroi proximale 1112 délimitant l’encoche 111 se prolonge à partir de l’extrémité ouverte jusqu’à l’extrémité distale 1101 du bloqueur fixe 110 par un premier plan 112. L’angle formé entre la paroi distale 1112 et le premier plan 112 prolongeant la paroi proximale 1112 est un angle obtus. Le premier plan 112 prolongeant la paroi proximale 1112 délimite une zone de l’ouverture du bloqueur fixe 110 dite zone d’expulsion. La paroi distale 1111 délimitant l’encoche 111 se prolonge à partir de l’extrémité ouverte jusqu’à l’extrémité distale 1101 du bloqueur fixe 110 par un second plan 1102. Selon un mode de réalisation, le second plan 1102 prolongeant la paroi distale 1111 est vertical. Alternativement, le second plan 1102 est incliné et forme un angle aigu avec la paroi distale 1111 de l’encoche 111, permettant ainsi de faciliter l’éjection de l’attache 400.
Chaque ouverture 117 est ainsi successivement délimitée par le premier plan 112 prolongeant la paroi proximale 1112, la paroi proximale 1112 de l’encoche 111, l’extrémité fermée de l’encoche 111, la paroi distale 1111 de l’encoche 111 et le second plan 1102 prolongeant la paroi distale 1111. Ainsi, le bloqueur fixe 110 comporte deux encoches 111a, 111b symétriques par rapport à la direction de largage X et deux premiers plans 112a, 112b symétriques par rapport à la direction de largage X, chacun des premiers plans 112a, respectivement 112b étant associé à une encoche 111a, respectivement 111b.
Selon un mode de réalisation, la paroi proximale 1112 s’étend, du côté de l’extrémité ouverte, au-delà de la paroi distale 1111, formant alors un plan horizontal délimitant une zone de l’ouverture du bloqueur fixe 110 entièrement ouverte vers le bas, dite zone de libération.
Chaque paroi proximale 1112 et distale 1111 est perpendiculaire à la direction de largage X, autrement dit située dans un plan horizontal. La paroi distale 1111 de l’encoche 111 et le second plan 1102 délimitent une saillie qui s’étend sous l’encoche 111, ladite saillie étant en outre délimitée par l’extrémité distale 1101 du bloqueur fixe 110. L’encoche 111 permet alors de supporter l’attache 400 portant un objet lorsque la première tige 401 de l’attache 401 repose sur la paroi distale 1111 de l’encoche 111, autrement dit lorsque la première tige 401 est posée sur la saillie, la première tige 401 étant attirée vers le bas sous l’effet du poids combiné de l’attache 400 et de l’objet.
L’encoche 111 a une hauteur, définie entre la paroi distale 1111 de l’encoche 111 et la paroi proximale 1112 de l’encoche 111, préférentiellement comprise entre 1,5 fois et 2,5 fois le diamètre de la première tige 401 de l’attache 400 pour assurer une mise en place aisée de la tige 401 dans l’encoche 111. Par exemple, la première tige 401 a un diamètre de 2mm et la hauteur de l’encoche 111 est de 3mm. L’encoche 111 a une longueur, définie entre l’extrémité ouverte de l’encoche 111 et l’extrémité fermée de l’encoche 111, qui est préférentiellement au moins égale à la largeur de la fente 121 au niveau de la surface interne formée par le premier alésage 113 pour assurer le maintien de la première tige 401 de l’attache 400 lorsque le bloqueur mobile 120 est en position de verrouillage.
Le bloqueur fixe 110 comporte trois parties cylindriques de révolution ayant un diamètre extérieur distinct : une partie supérieure 114, une partie inférieure 116 et une partie intermédiaire 115 de diamètre plus élevé que les parties supérieure 114 et inférieure 116. La partie inférieure 116 comporte les ouvertures 117.
Le bloqueur fixe 110 comporte en outre deux trous oblongs 1150 traversant la partie intermédiaire 115 du bloqueur fixe 110 selon un axe parallèle à la direction de largage X. Chaque trou oblong 1150 s’étend dans un plan perpendiculaire à la direction de largage X et dans une direction tangentielle par rapport au bloqueur fixe 110. Les deux trous oblongs 1150 sont diamétralement opposés par rapport au bloqueur fixe 110 et permettent de faire passer des vis pour fixer le bloqueur fixe 110 sur le bâti 190. Les trous oblongs 1150 permettent en outre d’ajuster l’orientation, selon une rotation autour de l’axe X, du bloqueur fixe 110 par rapport au bâti 190 avant de fixer ledit bloqueur fixe 110 sur le bâti 190. L’ajustement en rotation du bloqueur fixe 110 permet d’orienter le bloqueur fixe 110 dans une position prédéfinie par rapport à l’orientation du bloqueur mobile 120 lorsque ledit bloqueur mobile 120 est arrêté, par exemple consécutivement à la détection de la position de verrouillage effectuée par l’actionneur du bloqueur mobile 120. Ainsi, il est aisé d’ajuster précisément l’orientation du bloqueur fixe 110 par rapport à l’orientation du bloqueur mobile 120 lorsque l’ensemble de largage est dans une phase de verrouillage, autrement dit lorsque le bloqueur mobile 120 est arrêté, ce qui permet d’assurer le maintien d’une attache 400.
La illustre schématiquement une attache 400 telle qu’une épingle pouvant être utilisée avec l’ensemble de largage 100.
L’attache 400 comporte une première partie longiforme telle que la première tige 401.
L’attache 400 comporte en outre deux deuxièmes tiges 402a et 402b et un élément support 403 destiné à accrocher un objet tel qu’un lest ou un dispositif donné.
Dans le mode de réalisation de l’invention présenté ici, la première tige 401 de l’attache 400 est ouverte en son milieu formant deux demi-tiges 401a et 401b. Une extrémité extérieure de chaque demi-tige 401a, 401b est solidaire d’une première extrémité d’une deuxième tige 402a, 402b, et une deuxième extrémité de chaque deuxième tige 402a, 402b est solidaire de l’élément de support 403.
Dans le mode de réalisation particulier présenté ici, chaque deuxième tige 402a, 402b forme, au niveau de la jonction avec une demi-tige 401a-b, un angle égal ou supérieur à 90°.
Pour faciliter l’écartement des deux demi-tiges 401a et 401b sous une action extérieure telle que celle d’un technicien, l’élément de support 403 est un élément élastique. L’élément de support 403 élastique autorise ainsi l’écartement, dans une direction longitudinale desdites demi-tiges 401a et 401b et en l’absence d’action extérieure, l’élément de support 403 élastique contraint les demi-tiges 401a et 401b en position resserrée. Ainsi, une ouverture de l’attache 400 située entre les deux demi-tiges 401a et 401b peut être agrandie par une action extérieure agissant sur l’élément de support 403 élastique afin de positionner l’attache 400 dans l’ensemble de largage 100 lorsque ledit ensemble de largage 100 est dans une position de verrouillage, puis ladite ouverture de l’attache 400 peut être raccourcie par le relâchement de ladite action extérieure afin d’assurer le maintien de l’attache 400 par l’ensemble de largage 100.
Selon un exemple, la première tige 401 de l’attache 400 est en inox et a un diamètre de 2mm, ce qui permet de retenir un lest et de supporter des efforts appliqués sur la première tige 401 allant jusqu’à 50N.
La illustre une structure d’un empilement 14’ bicouche fonctionnelle selon l’invention déposé sur une face 29 d’un substrat 30 verrier, transparent, dans laquelle les deux couches fonctionnelles 140, 180, en particulier à base d’argent ou d’alliage métallique contenant de l'argent, sont disposées, chacune, entre deux revêtements antireflet : le revêtement antireflet 120 sous-jacent est situé en dessous de la couche fonctionnelle 140 la plus proche de la face 29 du substrat 30, le revêtement antireflet 160 intermédiaire est située entre les deux couches fonctionnelles et le revêtement antireflet 200 sus-jacent est située au-dessus de la couche fonctionnelle 180 la plus éloignée de la face 29 du substrat 30. Ces trois revêtements antireflet 120, 160, 200 comportent chacun au moins une couche diélectrique 121, 128, 129 ; 165, 166, 167, 165’ ; 201, 205, 207.
En : - la couche fonctionnelle 140 la plus proche du substrat est située directement sur le revêtement antireflet 120 sous-jacent et indirectement sous le revêtement antireflet 160 sus-jacent : il y a un revêtement de sur-blocage 150 situé entre la couche fonctionnelle 140 et le revêtement antireflet 160 ; Il n’y a pas de revêtement de sous-blocage située entre le revêtement antireflet 120 sous-jacent et la couche fonctionnelle 140 ; - la couche fonctionnelle 180 la plus éloignée du substrat : la couche fonctionnelle 180 est au contact direct du revêtement antireflet 160 situé directement dessous et indirectement sous le revêtement antireflet 200 situé au-dessus : il y a un revêtement de sur-blocage 190 situé entre la couche fonctionnelle 180 et le revêtement antireflet 200 ; Il n’y a pas de revêtement de sous-blocage situé entre le revêtement antireflet 160 sous-jacent et la couche fonctionnelle 180.
Toutefois, il pourrait être envisagé qu’un revêtement de sous-blocage soit en outre situé sous une, ou chaque, couche fonctionnelle 140, 180, ou qu’il y ait un, ou plusieurs, revêtement(s) de sous-blocage et un, ou aucun, revêtement de sur-blocage, ou encore qu’il n’y ait aucun revêtement de sous-blocage, ni de sur-blocage.
En , le revêtement antireflet 120 situé sous la couche fonctionnelle 140 en direction du substrat 30 comporte : - une sous-couche d’oxyde à base de zinc, ZnO 129 qui est située sous et au contact de la couche fonctionnelle 140 ; et - une sous-couche diélectrique d’oxyde mixte à base de zinc et d’étain Sn i Zn j O 128 qui est située sous et au contact de la sous-couche d’oxyde à base de zinc ZnO 129, ; et - une sous-couche diélectrique de nitrure à base de silicium Si x’ N y ’ 121 et qui est située sous et au contact de la sous-couche diélectrique d’oxyde mixte à base de zinc et d’étain Sn i Zn j O 128.
Le revêtement antireflet situé sous la seconde couche fonctionnelle 180, comporte, en direction dudit substrat deux, trois ou quatre couches diélectriques 165, 166, 167, 165’, 169 : - une couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z 165, 165’, qui présente une épaisseur physique qui est comprise entre 5,0 et 100,0 nm, voire entre 10,0 et 90,0 nm, - une couche diélectrique de nitrure à base de silicium Si x’ N y’ 167, - une couche diélectrique d’oxyde mixte à base de zinc et d’étain Sn i Zn j O 166, qui présente une épaisseur physique qui est comprise entre 3,0 et 50,0 nm, voire entre 4,0 et 40,0 nm, voire entre 5,0 et 35,0 nm, - une sous-couche d’oxyde à base de zinc, ZnO 169 qui est située sous et au contact de la couche fonctionnelle 180.
En , le revêtement antireflet 200 situé au-dessus la couche fonctionnelle 180 la plus éloignée de la face 29 comporte deux ou trois couches diélectriques 201, 205, 207 : - une couche d’oxyde à base de zinc, ZnO 201 ; - une couche diélectrique de nitrure à base d’aluminium et de silicium Al x Si y N z 165, qui présente une épaisseur physique qui est comprise entre 5,0 et 100,0 nm, voire entre 10,0 et 90,0 nm ; - une couche diélectrique de nitrure à base de silicium Si x’ N y ’ 207.
Le revêtement antireflet 160 situé au-dessus de l’unique couche fonctionnelle métallique en , ou le revêtement antireflet 200 qui est situé au-dessus de la couche fonctionnelle métallique la plus éloignée de la face 29 lorsqu’il y en a plusieurs couches fonctionnelles métalliques, peut être recouvert par une couche de protection terminale 300, appelée « overcoat » en anglais, qui est alors la couche de l’empilement qui est la plus éloignée de la face 29. Il peut s’agir par exemple d’une couche à base d’oxyde de titane ou en oxyde de titane.
Un tel empilement de couches minces 14, 14’ peut être utilisé dans un vitrage multiple 100 ou dans un vitrage feuilleté 200, réalisant une séparation entre un espace extérieur ES et un espace intérieur IS ; ce vitrage peut présenter une structure : - de double vitrage, comme illustré en : ce vitrage est alors constitué de deux substrats 10, 30 qui sont maintenus ensemble par une structure de châssis 90 et qui sont séparés l’un de l’autre par une lame de gaz intercalaire 15 ; ou - de triple vitrage, comme illustré en : ce vitrage est alors constitué de trois substrats 10, 20, 30, séparée deux par deux par une lame de gaz intermédiaire 15, 25, le tout étant maintenu ensemble par une structure de châssis 90 ; ou - de vitrage feuilleté, comme illustré en : ce vitrage comporte le substrat 30 qui réalise un substrat extérieur, un substrat 50 qui réalise un substrat intérieur, ainsi qu’une feuille intercalaire de matière plastique 40 disposée entre ces deux substrats, au contact.
Dans ces figures, le sens incident de la lumière solaire entrant dans le bâtiment est illustré par la double flèche, à gauche.
Il peut aussi être envisagé que dans une structure de double vitrage ou de triple vitrage, l’un des substrats présente une structure feuilletée.
En , l’empilement 14, 14’ de couches minces peut être positionné en face 3 (sur la feuille la plus à l’intérieur du bâtiment en considérant le sens incident de la lumière solaire entrant dans le bâtiment et sur sa face tournée vers la lame de gaz), c’est-à-dire sur une face intérieure 29 du substrat 30 en contact avec la lame de gaz intercalaire 15, l’autre face 31 du substrat 30 étant en contact avec l’espace intérieur IS. Toutefois, l’empilement 14 de couches minces peut être positionné en face 2, sur la feuille la plus à l’extérieur du bâtiment en considérant le sens incident de la lumière solaire entrant dans le bâtiment et sur sa face tournée vers la lame de gaz (non illustré).
En , il y a deux empilements de couches minces, de préférence identiques : - un empilement 13 de couches minces est positionné en face 2 (sur la feuille la plus à l’extérieur du bâtiment en considérant le sens incident de la lumière solaire entrant dans le bâtiment et sur sa face tournée vers la lame de gaz), c’est-à-dire sur une face intérieure 11 du substrat 10 en contact avec la lame de gaz intercalaire 15, l’autre face 9 du substrat 10 étant en contact avec l’espace extérieur ES ; - et un empilement 14, 14’ de couches minces est positionné en face 5 (sur la feuille la plus à l’intérieur du bâtiment en considérant le sens incident de la lumière solaire entrant dans le bâtiment et sur sa face tournée vers la lame de gaz), c’est-à-dire sur une face intérieure 29 du substrat 30 en contact avec la lame de gaz intercalaire 25, l’autre face 31 du substrat 30 étant en contact avec l’espace intérieur IS.
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention, la composition C1 pu C’1 comprend également de l’eau.
Selon un mode de réalisation de l’invention la composition comprend une phase aqueuse. La composition est notamment formulée en émulsions eau-dans-huile, huile-dans-eau, ou en émulsion multiple (émulsion triple huile-dans-eau-dans-huile ou eau-dans-huile-dans-eau (de telles émulsions sont connues et décrites par exemple par C. FOX dans « Cosmetics and Toiletries » - November 1986 - Vol 101 - pages 101-112).
Le premier mode d’endommagement est la fissuration de surface, aussi appelé faïençage. La fissuration de surface est induite par un gradient thermique occasionnant des contraintes qui sont accommodées par fluage. Le fluage du revêtement est important dans sa partie externe qui est sujette à de grandes variations de température. Ce fluage peut conduire à l’apparition de fissures lors du refroidissement, ce qui diminue les performances de la partie externe.
Le second mode d’endommagement est une fissuration en profondeur localisée dans la barrière environnementale, entre la couche d’accrochage et le revêtement. Cet endommagement est dû à l’oxydation de la couche d’accrochage, qui peut conduire à la croissance d’une couche générant des contraintes locales. Cependant, les inventeurs ont également constaté que le fluage du revêtement à l’endroit où devrait apparaitre ce second mode d’endommagement permet la relaxation de ces contraintes locales. Grâce à ce fluage, la fissuration en profondeur n’est pas observée lorsque le revêtement est placé dans des conditions de fonctionnement.
Ainsi, les inventeurs ont proposé l’ajout d’un agent bloquant la croissance des grains, agent connu en soi dans la littérature, dans la première zone externe pour réduire le fluage de cette zone. Les matériaux classiques de barrière environnementale, comme le disilicate d’ytterbium (Yb 2 Si 2 O 7 ), présentent le deuxième fluage décrit plus haut. L’ajout de l’agent bloquant la croissance des grains dans la première zone permet de modifier les valeurs de fluage par rapport à un revêtement classique, et permet d’obtenir le premier fluage de la première zone tout en conservant le deuxième fluage de la deuxième zone. L’invention permet ainsi d’obtenir un revêtement protecteur conférant à la pièce revêtue une durée de vie améliorée, car il adapte les valeurs de fluage de sorte que ce dernier soit spécifiquement présent là où il est bénéfique et maîtrisé là où il n’est pas souhaitable.
Grâce à un tel revêtement, la fissuration de surface est largement réduite car le premier fluage permet d’éviter cette fissuration dans la première zone et la fissuration en profondeur reste inobservée, car le fluage à l’interface entre la couche d’accrochage et le revêtement est conservé grâce à la deuxième zone ayant le deuxième fluage.
La deuxième zone est présente entre la première zone et la couche d’accrochage.
Dans un mode de réalisation, la première zone peut avoir une épaisseur comprise entre 500 µm et 2000 µm.
Cette épaisseur présente un optimal en termes de coût et de performances d’une première zone dans le cas où cette dernière a pour fonction d’être une zone abradable.