Microsystème (MS) comprenant : Un substrat (SB) ; Une partie principale (PP) reliée au substrat par l’intermédiaire d’un ancrage (AN) ; Une partie mobile (PM), la partie mobile (PM) étant configurée pour tourner autour d’un axe de rotation O ; Une première poutre (P1) reliant la partie mobile (PM) à la partie principale (PP), la direction principale de ladite première poutre (P1) étant selon un premier vecteur e j1 ayant pour origine la jonction M 1 de la partie mobile (PM) avec la première poutre (P1) et pour direction la partie principale (PP) ; Une deuxième poutre (P2) reliant la partie mobile (PM) à la partie principale (PP), la direction principale de ladite deuxième poutre (P2) étant selon un deuxième vecteur e j 2 ayant pour origine la jonction M 2 de la partie mobile (PM) avec la deuxième poutre (P2) et pour direction la partie principale (PP) ; le microsystème (MS) étant caractérisé en ce que le premier vecteur e j1 et le deuxième vecteur e j 2 ont même direction et sont de sens opposé, la position des jonctions M 1 et M 2 étant choisie de sorte que le produit vectoriel OM 1 ∧ e j1 et le produit vectoriel OM 2 ∧ e j 2 ont même signe. Microsystème (MS) selon la revendication précédente dans lequel la première poutre (P1) et la deuxième poutre (P2) sont réalisées dans un matériau piézorésistif. Microsystème (MS) selon la revendication précédente dans lequel la première poutre (P1) et la deuxième poutre (P2) sont réalisées dans du silicium dopé p ou dopé n. Microsystème (MS) selon l’une des revendications précédentes dans lequel la distance OM 1 projetée selon le vecteur e j1 est inférieure ou égale à cinq fois la distance OM 1 projetée selon un axe perpendiculaire à e j1 et dans le plan de la partie mobile PM et/ou la distance OM 2 projetée selon le vecteur e j2 est inférieure ou égale à cinq fois la distance OM 2 projetée selon un axe perpendiculaire à e j2 et dans le plan de la partie mobile PM. Microsystème (MS) selon l’une des revendications précédentes dans lequel le matériau de la première poutre (P1) et de la deuxième poutre (P2) ont un même module de Young et les relations suivante sont vérifiées : où est la longueur de la première poutre, est la longueur de la deuxième poutre, est la distance qui sépare la première poutre du point de rotation selon un axe perpendiculaire à e j1 , est la distance qui sépare la deuxième poutre du point de rotation selon un axe perpendiculaire à e j2 , est la section de la première poutre et est la section de la deuxième poutre. Microsystème (MS) selon l’une des revendications précédentes dans lequel le matériau de la première poutre (P1) et de la deuxième poutre (P2) ont une même résistivité et un même module de Young et les relations suivantes sont vérifiées : où est la longueur de la première poutre, est la longueur de la deuxième poutre, est la distance qui sépare la première poutre du point de rotation selon un axe perpendiculaire à e j1 , est la distance qui sépare la deuxième poutre du point de rotation selon un axe perpendiculaire à e j2 , est la section de la première poutre et est la section de la deuxième poutre. Microsystème (MS) selon la revendication précédente dans lequel . Microsystème (MS) selon l’une des revendications précédentes dans lequel la partie principale (PP) comprend : une structure de liaison (SL) à laquelle sont reliées la première poutre (P1) et la deuxième poutre (P2) ; un bras primaire (BP) relié de manière rigide à la structure de liaison (SL) ; un bras secondaire (BS) relié au substrat par l’ancrage (AN) ; le bras secondaire (BS) étant relié au bras primaire (BP) par au moins une première liaison (L1) ayant une direction principale perpendiculaire à e j1 ou e j 2 et une deuxième liaison (L2) ayant une direction principale perpendiculaire à e j1 ou e j 2 . Microsystème (MS) selon l’une des revendications précédentes, dans lequel la partie principale est dite première partie principale (PP), le microsystème comprenant : une deuxième partie principale (PP’) reliée au substrat par l’intermédiaire d’un ancrage (AN’) ; Une troisième poutre (P3) reliant la partie mobile (PM) à la deuxième partie principale (PP’), la direction principale de ladite troisième poutre (P3) étant selon un troisième vecteur e j 3 ayant pour origine la jonction M 3 de la partie mobile (PM) avec la troisième poutre (P3) et pour sens la partie deuxième principale (PP’) ; Une quatrième poutre (P4) reliant la partie mobile (PM) à la deuxième partie principale (PP’), la direction principale de ladite quatrième poutre (P4) étant selon un quatrième vecteur e j 4 ayant pour origine la jonction M 4 de la partie mobile (PM) avec la quatrième poutre (P4) et pour sens la deuxième partie principale (PP’) ; le troisième vecteur e j 3 et le quatrième vecteur e j 4 ayant même direction et étant de sens opposé, la position des jonctions M 3 et M 4 étant choisie de sorte que le produit vectoriel OM 3 ∧ e j 3 et le produit vectoriel OM 4 ∧ e j 4 ont même signe et sont de signe opposé à OM 1 ∧ e j1 et OM 2 ∧ e j 2 . Microsystème (MS) selon la revendication précédente dans lequel e j 1 = − e j 3 et e j 2 = − e j 4 . Microsystème (MS) selon l’une des deux revendications précédentes dans lequel l’ancrage de la deuxième partie principale (PP’) est identique à l’ancrage de la première partie principale (PP). Microsystème (MS) selon l’une des trois revendications précédentes dans lequel la troisième poutre (P3) est le symétrique de la première poutre (P1) par symétrie axiale selon un axe dans le plan de la partie mobile (PM) passant par l’axe de rotation O et perpendiculaire à e j1 et la quatrième poutre (P4) est le symétrique de la deuxième poutre (P2) par symétrie axiale selon un axe dans le plan de la partie mobile (PM) passant par l’axe de rotation O et perpendiculaire à e j 2 . Microsystème (MS) selon l’une des revendications précédentes dans lequel l’axe de rotation O est déporté par rapport à la première poutre (P1) et à la deuxième poutre (P2). Microsystème (MS) selon l’une des revendication précédentes comprenant un plateau de mesure (PD) relié au substrat par un deuxième ancrage (AN2), ledit plateur de mesure (PD) étant relié à la partie principale (PP), au niveau de la structure de liaison (SL) lorsqu’une telle structure (SL) existe, au moyen d’une liaison mécanique, la liaison mécanique (LM) et le plateau de mesure (PD) étant configuré pour permettre une mesure du potentiel électrique au voisinage de la première poutre (P1) et de la deuxième poutre (P2). Dispositif de mesure de la rotation à l’aide d’un microsystème selon l’une des revendications précédente, ledit dispositif comprenant des moyens de mesure configurés pour mesurer la déformation de la première poutre (P1) et la déformation de la deuxième poutre (P2), et des moyens configurés pour, à partir de ces deux déformations, de déterminer l’angle de rotation de la partie mobile (PM). Dispositif selon la revendication précédente dans lequel le microsystème est un microsystème selon la revendication 14, les moyens de mesure sont configurés pour réaliser une mesure quatre points. Dispositif selon la revendication 15 ou la revendication 16 comprenant des moyens de calcul configurés pour déterminer la rotation à partir du signal utile obtenu à l’aide de la relation suivante : où est le signal utile, est un coefficient de proportionnalité entre un déplacement relatif de la partie mobile (PM) par rapport à la partie principale (PP) et la déformation de la première poutre (P1), est un coefficient de proportionnalité entre un déplacement relatif de la partie mobile (PM) par rapport à la partie principale PP et la déformation de la deuxième poutre (P1), déformation est la déformation de la première poutre (P1) et est la déformation de la deuxième poutre (P2).