INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Ainsi, les éléments de chargement configurés pour charger la batterie 32 du dispositif de stockage d’énergie électrique 24 à partir de l’énergie solaire permettent de convertir l’énergie solaire récupérée par le panneau photovoltaïque 25 en énergie électrique.
En variante ou en complément, le dispositif d’entraînement motorisé 5, en particulier l’actionneur électromécanique 11, est alimenté en énergie électrique au moyen de la batterie 32 ou à partir d’un réseau d’alimentation électrique du secteur, en particulier par le réseau alternatif commercial, notamment en fonction d’un état de charge de la batterie 32.
De préférence, l’invention concerne également un procédé cosmétique de soin des matières kératiniques, en particulier de la peau, comprenant au moins une étape d’application sur lesdites matières kératiniques, d’une composition telle que définie ci-dessus.
Les procédés cosmétiques de maquillage et/ou de soin des matières kératiniques, en particulier de la peau, sont non-thérapeutiques.
En particulier, une composition selon l’invention peut être mise en œuvre dans le but de lutter contre les signes du vieillissement cutanés.
Ainsi, la présente demande concerne encore l’utilisation d’une composition selon l’invention afin de lutter contre les signes du vieillissement cutané.
La composition peut être appliquée sur la peau à la main ou à l’aide d’un applicateur.
Méthodes de mesure et évaluation Mesure de stabilité Une première méthode d’évaluation de la stabilité est effectuée par observation de la composition au cours du temps, comparativement à une référence.
L’instabilité peut être détectée par évaluation du relargage, du crémage, de la coalescence, de la formation d’un film en surface, de marbrures …
Les variations de texture, d’aspect, de couleur et d’odeur peuvent également être évaluées.
En particulier, les compositions sont observées après stockage pendant 1 et/ou 2 mois à différentes températures, à savoir à 4 °C, à température ambiante, à 37 °C et/ou à 45 °C.
Une autre méthode d’évaluation de la stabilité consiste à observer les formules au microscope en lumière non polarisée aux grossissements x100 et si besoin x400.
Ceci permet d’évaluer la finesse des gouttes et/ou l’absence d’agrégats et/ou la présence de cristaux.
La stabilité de la composition peut encore être évaluée par examen des défauts de la composition après plusieurs cycles de changement de température.
Chaque cycle est constitué des étapes suivantes : a) Maintien de la composition à 20 °C pendant 6 heures ; b) Descente de température jusqu’à -20 °C sur une durée de 6 heures ; c) Maintien de la composition à -20 °C pendant 6 heures ; et d) Montée en température jusqu’à 20 °C sur une durée de 6 heures.
Dix cycles sont réalisés et les défauts de la composition sont évalués entre chaque cycle.
Tous les paramètres des premier et deuxième ensembles permettent de définir complètement la position de l’écran 2, notamment dans un référentiel géocentrique.
Dans une troisième étape E30, on obtient un horodatage. Cet horodatage peut être saisi par l’utilisateur ou l’installateur ou le concepteur. Cette saisie est avantageusement faite au niveau du terminal mobile, par exemple via son écran tactile. L’horodatage peut alternativement être obtenu automatiquement, par exemple par l’obtention de la date et l’heure au moment de la mise en œuvre du procédé. Ainsi, la donnée d’horodatage inclut l’identification d’une journée et d’un instant donné dans cette journée à l’aide d’une heure. Le but est en effet ici de déterminer la position du soleil dans la voute céleste à l’instant correspondant à l’horodatage.
De manière facultative, mais préférentielle, dans une quatrième étape E50, on obtient un masque solaire M au lieu d’implantation de l’installation ou au lieu d’implantation prévue de l’installation. Le masque solaire M est produit par plusieurs obstacles disposés plus ou moins à proximité de l’installation et susceptibles provoquer une ombre sur celle-ci, à des instants donnés, en particulier au cours d’une année. Ce ou ces obstacles peuvent être, par exemple : - un bâtiment, notamment une maison ou un immeuble, - de la végétation, notamment un arbuste ou un arbre, - un relief du paysage autour de l’installation 100, notamment une montagne, - de manière générale, l’environnement de l’installation.
Ces données de masque solaire peuvent faire partie du deuxième ensemble.
Dans une première sous-étape E51, on positionne le terminal mobile 33 à l’endroit où se trouve l’installation 100 ou à l’endroit où est projetée l’installation 100.
De cette manière, l’emplacement de l’installation correspond à l’emplacement à partir duquel le masque solaire M est déterminé.
Suite à la sous-étape E51, on effectue, dans une sous-étape E52, une prise d’une photographie ou de plusieurs photographies P au moyen de l’appareil photographique 37 du terminal mobile 33. Des données définissant cette photographie ou ces photographies P, prises lors de l’étape E52, sont stockées dans une mémoire du contrôleur 35 du terminal mobile 33.
Dans une sous-étape E53, on détermine l’orientation de l’appareil photographique 37 du terminal mobile 33, lors de la sous-étape E52 de prise de photographie P, au moyen du dispositif de détection d’orientation 38 et du contrôleur 35 du terminal mobile 33. Ainsi, cette étape E50 d’obtention du masque solaire comprend une étape de réalisation d’au moins une image photographique depuis le lieu d’implantation de l’installation et dans une direction connue. La photographie ou les photographies sont encore traitées numériquement par exemple par détection de seuil de luminosité pour discriminer le ciel, des obstacles. La représente un exemple d’une telle photographie P après traitement, les zones noires représentant les obstacles. Ainsi, cette étape E50 comprend une étape de traitement de l’au moins une image photographique.
L’étape E50 comprend, en outre, une sous-étape E54 de superposition de données de la photographie traitée avec un diagramme de parcours solaires S, dans un repère commun R, V, de sorte à déterminer le masque solaire M à l’emplacement prédéterminé de l’installation 100. Le diagramme de parcours solaires peut être calculé au niveau du terminal mobile ou peut être importé ou téléchargé, notamment depuis le serveur 28.
Le diagramme de parcours solaires S, également appelé diagramme solaire, est un diagramme indiquant, à différents instants de l’année, une hauteur angulaire, également appelée hauteur d’angle ou d’élévation, du soleil et un azimut de la direction du soleil pour une latitude donnée. Le diagramme de parcours solaires S permet ainsi de définir une trajectoire du soleil perçue à l’emplacement prédéterminé de l’installation pour différents instants, au cours de l’année. De cette manière, le diagramme de parcours solaires S permet de définir des instants pendant lesquels un rayonnement solaire direct incident existe à l’emplacement prédéterminé de l’installation, en particulier dans des conditions météorologiques où le ciel est clair et en l’absence d’autres obstacles au rayonnement solaire.
Le diagramme de parcours solaires S illustré à la est un exemple de représentation graphique pour une latitude et une longitude données. Chaque courbe représente une course apparente du soleil en fonction de l’heure pour une date déterminée de l’année.
Le masque solaire M est ainsi une représentation d’éléments projetant, selon la direction définie en abscisses et en ordonnées, une ombre à l’emplacement prédéterminé de l’installation 100.
Par ailleurs, la superposition des données de la photographie P, correspondant au résultat de la sous-étape E52, avec le diagramme de parcours solaires S, dans le repère commun R, V, permet de déterminer à chaque instant, en particulier au cours de l’année, si le soleil est visible ou non à l’emplacement prédéterminé de l’installation.
Ici, l’application du terminal mobile 33 permet de déterminer le masque solaire M pour l’installation 100.
Afin de mettre en œuvre l’étape E54 de superposition, les données de la photographie P et les données du diagramme de parcours S sont exprimées dans le même repère, autrement dit dans le repère commun R, V. Ainsi, cette étape E50 comprend une étape de traitement de l’au moins une image photographique.
Un tel repère commun peut être, notamment, un repère cardinal R, un repère tridimensionnel centré sur un point milieu du capteur d’image de l’appareil photographique 37 du terminal mobile 33, un repère tridimensionnel centré sur un point focal de l’objectif de l’appareil photographique 37 du terminal mobile 33 ou un repère sphérique de voute céleste, appelé également repère de projection V.
La illustre une vue en coupe schématique d’un exemple de configuration d’un guide d’écoulement selon autre exemple de réalisation.
DESCRIPTION DÉTAILLÉE Avant d’entamer une revue détaillée de modes de réalisation de l’invention, sont énoncées ci-après des caractéristiques optionnelles qui peuvent éventuellement être utilisées en association ou alternativement aux différents aspects de l’invention.
Selon un exemple, le substrat est électriquement conducteur.
Selon un exemple, les nervures sont électriquement conductrices.
Selon un exemple, la plaque bipolaire est électriquement conductrice.
Selon un exemple, le substrat est métallique, de préférence le substrat est en acier, et plus préférentiellement encore en acier inoxydable.
Selon un exemple, le composé absorbeur de cations métalliques est un polymère servant de liant. Lorsque le composé absorbeur de cation est un polymère servant de liant, le composé peut se substituer au moins partiellement au polymère servant de liant dans les nervures formées, par rapport à un composé absorbeur de type charge inorganique pouvant se substituer au matériau électriquement conducteur. La conductivité électrique n’est ainsi pas diminuée.
Selon cet exemple, le composé absorbeur de cations métalliques est un ionomère, de préférence un polymère perfluorosulfoné. Ici encore, lorsque le composé absorbeur de cation est un ionomère, le composé se substitue au polymère servant de liant dans les nervures formées, par rapport à un composé absorbeur de type charge inorganique se substituant au matériau électriquement conducteur. Un ionomère évite donc d’abaisser la conductivité électrique.
Selon un exemple alternatif, le composé absorbeur de cations métalliques n’est pas un polymère, et plus particulièrement n’est pas un polymère servant de liant.
Selon un exemple, les charges de matériau électriquement conducteur sont choisies parmi le groupe constitué de noir de carbone, graphite, fibre de carbone ou leurs dérivés, éventuellement en mélange.
Selon un exemple, le polymère servant de liant est choisi parmi le groupe constitué de : polyfluorure de vinylidène (PVdF), l’alcool polyvinylique (PVA), le polyméthylméthacrylate (PMMA), polyoxyde d’éthylène (POE), polyéthylène téréphtalate (PET), un polyacrylique, un polyimide, un polyétheréthercétone, un polyéthersulfone, une polyoléfine, le polyéthylène, un polymère de cellulose tel que la carboxyméthylcellulose ou les fibres de cellulose, un copolymères tel que le PVdF-HFP (hexafluoropropylène) ou le PVdF-POE, un latex acrylique, un caoutchouc synthétique tel que le styrène-butadiène (SBR) et le butadiène-acrylonitrile (NBR, de l’anglais nitrile butadiene rubber), un résine époxy, une résine polyuréthane, leurs dérivés et/ou leurs mélanges.
Selon un exemple, la composition et le matériau composite comprennent un mélange de plusieurs polymères servant de liant, par exemple choisis dans le groupe ci-dessus.
Selon un exemple, le solvant est apte à dissoudre le polymère servant de liant, par exemple le solvant est choisi parmi le groupe constitué de N-méthyl-2-pyrrolidone (NMP), triéthyle phosphate (TEP), N,N-diméthylformamide (DMF), diméthylsulfoxyde (DMSO), leurs dérivés et/ou leurs mélanges.
Selon un exemple, la composition comprend, en poids par rapport au poids total de la composition, une proportion comprise entre 1 % et 4 % de composé absorbeur de cations métalliques. Lors du développement de l’invention, il a été mis en évidence que cette gamme, de façon synergique avec le volume dans lequel est présent le composé absorbeur, permet une bonne captation des cations métalliques dans les nervures.
Sauf précision contraire, les valeurs d’angle sont données dans le sens trigonométrique. Par exemple une valeur d’angle de 45°, de 90° ou de 120° doit se comprendre comme étant respectivement +45°, +90° ou +120° dans le sens trigonométrique.
Un exemple de générateur 100 de champ magnétique est représenté en . Il comprend un circuit magnétique comportant un cadre 102 sensiblement carré dont l’axe (axe central) s’étend selon une direction verticale Z, et des barreaux verticaux 104 s’étendant vers le bas à partir de chaque coin du cadre. Chaque barreau vertical se prolonge vers l’axe central par un bras radial 106 se terminant par une extrémité polaire 108 (pôle planaire). Chaque barreau vertical est entouré par deux bobines 110, 112 (représentées en transparence dans la pour pouvoir visualiser les barreaux verticaux). Deux autres bobines 118A, 118B sont disposées autour d'une tige horizontale 114 de part et d'autre d'un bloc de liaison 116 situé au milieu de la tige 114. La tige horizontale 114 est attachée à deux côtés opposés du cadre 102. Le bloc de liaison 116 se prolonge par un bras vertical 120 ayant une extrémité polaire 122 (pôle central) en forme de cône. Le pôle central peut être entouré par une bobine 124.
Les bobines sont connectées à des circuits d'alimentation, non représentés.
On a représenté en plus précisément toutes les bobines autour des barreaux verticaux : une première bobine supérieure 110A et une première bobine inférieure 112A autour d’un premier barreau vertical 104A, une deuxième bobine supérieure 110B et une deuxième bobine inférieure 112B autour d’un deuxième barreau vertical 104B, une troisième bobine supérieure 110C et une troisième bobine inférieure 112C autour d’un troisième barreau vertical 104C, une quatrième bobine supérieure 110D et une quatrième bobine inférieure 112D autour d’un quatrième barreau vertical 104D.
Les bobines 118A, 118B disposées autour de la tige horizontale 114 peuvent être alimentées au sein d’un même réseau d’alimentation (alimentation champ en Z) de manière à produire des flux d'induction magnétique respectifs qui, soit s'éloignent de l'axe Z, d’où il résulte un flux magnétique dirigé vers le haut dans le bras vertical 120, soit sont dirigés vers l'axe Z, d’où il résulte un flux dirigé vers le bas dans le bras vertical 120. Dans les deux cas, cela vise à obtenir le plus de flux magnétique dans la direction Z.
Lorsqu’on vise à obtenir le plus de flux d'induction magnétique dans la direction X, on peut agir sur les alimentations des bobines supérieures 110A, 110B, 110C, 110D au sein d’un même réseau d’alimentation (alimentation champ en X). Par exemple, on peut alimenter les bobines 110C, 110D en opposition de phase par rapport aux bobines 110A, 110B. Selon un exemple, on peut alimenter les bobines 110A, 110B pour produire un flux magnétique dirigé vers le haut et les bobines 110C, 110D pour produire un flux magnétique dirigé vers le bas, les deux flux pouvant se combiner dans la direction X.
Lorsqu’on vise à obtenir le plus de flux d'induction magnétique dans la direction Y, on peut agir sur les alimentations des bobines inférieures 112A, 112B, 112C, 112D au sein d’un même réseau d’alimentation (alimentation champ en Y). Par exemple, on peut alimenter les bobines 112A, 112D en opposition de phase par rapport aux bobines 112B, 112C. Par exemple, on peut alimenter les bobines 112A, 112D pour produire un flux magnétique dirigé vers le bas et les bobines 112B, 112C pour produire un flux magnétique dirigé vers le haut, les deux flux pouvant se combiner dans la direction Y.
Un inconvénient de cette technique est qu’on ne peut pas attribuer la puissance de toutes les bobines dans une seule direction, et qu’on ne peut donc pas maximiser le champ magnétique qui pourrait être généré par toutes les bobines. Si on prend le problème à l’inverse, cette technique nécessite de disposer de beaucoup de bobines pour générer un champ magnétique élevé dans plusieurs directions en même temps.
Une autre technique, visant à augmenter le flux magnétique dans une direction, consiste à utiliser un système de relais reliés aux bobines pour réattribuer une ou plusieurs bobines d’un réseau d’alimentation sur une autre direction. Par exemple, on peut réattribuer tout ou partie des bobines 110A, 110B, 110C, 110D à une direction autre que la direction X ou tout ou partie des bobines 112A, 112B, 112C, 112D à une direction autre que la direction Y.
Un inconvénient de cette autre technique est d’une part que l’obtention d’un flux magnétique élevé selon une direction se fait au détriment d’autres directions, et qu’elle ne permet donc pas de maximiser le flux magnétique dans plusieurs directions. En outre, le changement d’une configuration à une autre, en activant les relais concernés, peut être une opération longue, qui peut durer quelques centaines de millisecondes, par exemple entre environ 500 et environ 1000 millisecondes, et peut induire des usures du système de génération de champ, notamment des relais.
Dans certaines applications de la présente description, le champ magnétique généré est par exemple appliqué pour le test de plaquette de circuits intégrés, où des pointes de test sont mises en contact électrique avec un composant de la plaquette, généralement via des plots de contact électrique. Les mesures électriques réalisées sur les pointes de test, par exemple des variations de résistance électrique entre les pointes de test, en fonction de l'intensité et/ou de la direction du champ magnétique appliqué permettent de caractériser le composant de la plaquette.
Pour ces applications, en particulier lorsqu’il est recherché l’application au composant d’un champ magnétique d’amplitude élevée dans plusieurs directions, il peut être nécessaire de réaliser plusieurs tests en changeant de configuration à chaque test, par exemple une première configuration de test à champ magnétique élevé dans une première direction, puis une deuxième configuration de test à champ magnétique élevé dans une deuxième direction. La multiplication des tests peut aussi avoir pour conséquence une usure prématurée des pointes de test et/ou des plots de contact électrique de la plaquette par des contacts répétés avec les pointes.
Les inventeurs proposent un système permettant de répondre aux besoins d'amélioration des techniques de génération de champ magnétique, permettant de générer un champ magnétique d’amplitude élevée simultanément dans plusieurs directions, sans que cela ne nécessite des opérations trop longues, sans qu’il soit nécessaire de multiplier les bobines et/ou d’utiliser des relais, et sans risquer une usure prématurée du système.
Des modes de réalisation de systèmes vont être décrits ci-après. Les modes de réalisation décrits sont non limitatifs et diverses variantes apparaîtront à la personne du métier à partir des indications de la présente description.
Les figures 2A et 2B sont des vues respectivement en perspective et en coupe transversale d’un système 200 de génération de champ magnétique selon un mode de réalisation.
Le système 200 de génération de champ magnétique représenté comprend un circuit magnétique comportant un cadre 210 de section sensiblement carrée avec des coins arrondis. D’autres formes de cadre sont possibles. L’axe du cadre (axe central) s’étend selon la direction verticale Z (direction orthogonale) et chaque côté du cadre s’étend soit selon une première direction horizontale X, soit selon une deuxième direction horizontale Y perpendiculaire à la direction X. Des barreaux cylindriques verticaux 212A, 212B, 212C, 212D s’étendent vers le bas à partir de chaque coin du cadre, chaque barreau se prolongeant vers l’axe central par un bras radial 214A, 214B, 214C, 214D s’étendant sensiblement dans un plan horizontal, voire légèrement incliné par rapport à un plan horizontal, et se terminant par une extrémité polaire 216A, 216B, 216C, 216D (pôle planaire). Les pôles planaires ont des faces inférieures situées dans un même plan XY sensiblement horizontal.
(36)
(37)
CLml BASE est le coefficient de portance correspondant au coefficient minimal de trainée lorsque l’effet 3D devient négligeable ;
CDml BASE est le coefficient minimal de trainée lorsque l’effet 3D devient négligeable ;
kL BASE est le coefficient de pente du côté de la sous-incidence lorsque l’effet 3D devient négligeable ;
kR BASE est le coefficient de pente du côté de la sur-incidence lorsque l’effet 3D devient négligeable ;
ExpL BASE est l’exposant de pente du côté de la sous-incidence lorsque l’effet 3D devient négligeable ;
ExpR BASE est l’exposant de pente du côté de la sur-incidence lorsque l’effet 3D devient négligeable ;
k1corrCLml est le coefficient d’ordre 1 qui tient compte des effets 3D et corrige le coefficient de portance correspondant au coefficient minimal de trainée ;
k1corrCDml est le coefficient d’ordre 1 qui tient compte des effets 3D et corrige le coefficient minimal de trainée ;
k1corrKL est le coefficient d’ordre 1 qui tient compte des effets 3D et corrige le coefficient de pente du côté de la sous-incidence ;
k1corrKR est le coefficient d’ordre 1 qui tient compte des effets 3D et corrige le coefficient de pente du côté de la sur-incidence ;
k1corrExpL est le coefficient d’ordre 1 qui tient compte des effets 3D et corrige l’exposant de pente du côté de la sous-incidence ; et
k1corrExpR est le coefficient d’ordre 1 qui tient compte des effets 3D et corrige l’exposant de pente du côté de la sur-incidence.
3 – Première tôle de moindre épaisseur
30 – Troisième tôle de moindre épaisseur
4 – Seconde tôle plus épaisse
5 – Première grande face de la seconde tôle 4
50 – Seconde grande face de la seconde tôle 4
6 – Soudure continue
60 - Soudure continue
7 – Contour de la soudure continue
70 - Contour de la soudure continue
8 – Soudure discontinue
80 – Soudure discontinue
800 – Soudure continue disposée à l’intérieur du contour 7 formé par la soudure 6, 60 continue périphérique
9 – Volume entre les premières et secondes tôles
90 – Volume entre les secondes et troisièmes tôles
10 – Inducteur
11 – Paroi de l’inducteur disposée en vis-à-vis du produit 2
De manière générale, une évolution de date choisie peut occasionner, au niveau du service numérique de réalité augmentée : une suppression d’une instance précédemment restituée lorsque la nouvelle date choisie en outrepasse l’intervalle temporel de validité, ou une apparition d’une nouvelle instance à restituer lorsque la nouvelle date choisie entre dans son intervalle temporel de validité, ou encore un remplacement d’une instance précédemment restituée par une nouvelle instance à restituer lorsque les deux conditions précitées sont simultanément remplies.
A titre d’illustration, il est maintenant fait référence aux figures 5 et 6. La retrace l’évolution de la date choisie au cours d’une expérience de réalité augmentée dans laquelle un utilisateur opère plusieurs changements de repères temporels.