Installation (1) de traitement d’un gaz (G) effluent pollué comprenant au moins un ensemble (10a-10c) de capture d’un polluant dudit gaz effluent pollué, ledit ensemble de capture comprenant au moins : - un réservoir (12a-12c ; 12) comprenant un bain de liquide d’absorption (14a-14c ; 14) du polluant, - un dispositif (16a-16c ; 26) de capture comprenant une première portion (160a-160c ; 260) de capture située en une première position (P1) dans le bain et une deuxième portion (162a-162c ; 262) de capture, distincte de la première portion de capture, située en une deuxième position (P2) dans une région (RT) de traitement du gaz, et - un dispositif de déplacement (A ; V) apte à déplacer les première et deuxième portions de capture entre les première et deuxième positions. Installation (1) selon la revendication 1, comprenant en outre un deuxième ensemble (10b) de capture du polluant en aval de l’ensemble (10a) de capture et comprenant au moins : - un deuxième réservoir (12b) comprenant un deuxième bain de liquide d’absorption (14b) du polluant, - un deuxième dispositif (16b) de capture comprenant une première portion (160b) de capture située en une première position (P1) dans le deuxième bain et une deuxième portion de capture (162b), distincte de la première portion, située en une deuxième position (P2) dans la région de traitement (RT) du gaz, et - un deuxième dispositif de déplacement (A) apte à déplacer les première et deuxième portions de capture du deuxième dispositif de capture entre les première et deuxième positions. Installation (1) selon la revendication 2, dans laquelle l’installation (1) comprend en outre une source (EL) de liquide d’absorption en communication avec le deuxième réservoir (12b) et dans laquelle le deuxième réservoir (12b) est configuré pour être mis en communication avec le premier réservoir (12a) de sorte à apporter une fraction du deuxième bain dans le premier bain. Installation (1) selon la revendication 3, dans laquelle le deuxième réservoir est configuré pour apporter la fraction du deuxième bain dans le premier bain par débordement du deuxième réservoir. Installation (1) selon l’une quelconque des revendications 2 à 4, dans laquelle une surface spécifique du dispositif de capture (16a) est inférieure à une surface spécifique du deuxième dispositif de capture (16b). Installation (1) selon l’une quelconque des revendications 1 à 5, dans laquelle chaque dispositif de déplacement (A) est apte à déplacer les première (160a-160c) et deuxième (162a-162c) portions de capture en rotation autour d’une direction (D) d’écoulement du gaz (G) effluent pollué. Installation (1) selon l’une quelconque des revendications 1 à 6, dans laquelle chaque bain de liquide d’absorption (14a-14c) est en communication thermique avec un dispositif (18a-18c) de refroidissement. Installation pour le dépôt ou l’infiltration chimique en phase vapeur, comprenant au moins un four (2) de dépôt ou d’infiltration chimique en phase vapeur et une installation (1) selon l’une quelconque des revendications 1 à 7 en communication avec une sortie du four. Procédé de traitement d’un gaz (G) effluent pollué mettant en œuvre une installation (1) selon l’une quelconque des revendications 1 à 7, comprenant au moins pour chaque ensemble (10a-10c) de capture : la capture du polluant par mise en contact du gaz (G) effluent pollué avec la deuxième portion (162a-162c ; 262) de capture située à la deuxième position (P2), la récupération du polluant capturé par la deuxième portion par le bain de liquide d’absorption (14a-14c ; 14) associé par déplacement de cette deuxième portion dans la première position (P1), le déplacement de la première portion (160a-160c ; 260) de capture dans la deuxième position, et la capture du polluant par mise en contact du gaz effluent pollué avec la première portion de capture ainsi déplacée à la deuxième position. Procédé selon la revendication 9 mettant en œuvre une installation (1) selon la revendication 4 ou selon l’une quelconque des revendications 5 à 8 rattachée à la revendication 4, dans lequel du liquide d’absorption supplémentaire est apporté dans le deuxième réservoir (12b) de sorte à le faire déborder et à transférer une fraction du deuxième bain dans le premier bain. Procédé selon la revendication 9 ou 10 mettant en œuvre une installation selon la revendication 6 ou selon la revendication 7 rattachée à la revendication 6, dans lequel les première (160a-160c) et deuxième (260a-260c) portions de capture sont animées d’un mouvement de rotation (R) autour de la direction (D) d’écoulement du gaz (G) effluent pollué.