Dans certains modes de réalisation, l’extrémité distale biseautée (31) du support (3) comporte une aire de polissage (310) circonférentielle sur la surface du biseau selon un angle (A) de biseautage et comporte un second biseau, obtenu par un second polissage (313) d’une portion de ladite (310) aire de polissage. Ce second polissage forme ainsi un moyen de déviation de lumière pour une émission de lumière déviée par l’instrument. Dans certains de ces modes de réalisation, ledit second polissage (313) est réalisé sur une portion latérale de ladite (310) aire de polissage, fournissant un angle (C) de déviation optique latérale. L’angle de polissage latéral du biseau (C) conditionne la pénétrance en raison du caractère sectionnant et coupant du bord de l’aiguille. De plus, il conditionne aussi le débordement du champ de photons, donc sa forme, donc l’effet biologique. De préférence l’angle de polissage latéral du biseau (C) est compris entre 10-40 de préférence 20° et 30°, encore préférentiellement 25°. Des exemples illustratifs et non limitatifs d’un tel polissage ou biseau latéral sont représentés sur les , , et . On notera que dans le cas où ce second polissage est associé à un orifice latéral, ce dernier est aligné par rapport au second polissage, par exemple pour obtenir une photo-coagulation par l’orifice latérale à l’endroit de la section obtenu par le polissage latéral. D’une manière générale, les orifices latéraux sont généralement alignés selon la génératrice du cylindre formé par le support, de façon à fournir leur effet dans le prolongement du biseau distal ou du moyen de déviation situé plus vers l’apex que cet orifice latéral. Ainsi, lorsque l’instrument comporte deux orifices latéraux, ils sont généralement alignés sur ladite génératrice. Par ailleurs, dans certains de ces modes de réalisation, ledit second polissage (313) est circonférentiel sur toute ladite (310) aire de polissage et fournit un angle (D) de déviation optique distale. L’angle de déviation distal (D) va conditionner le champ de photons au niveau de son débordement inférieur et donc l’effet biologique de section renforcée par la qualité de l’usinage du bord du dispositif conditionnant aussi la capacité de section mécanique de l’outil. Un exemple illustratif et non limitatif d’un tel polissage est représenté sur la . D’autre part, dans certains de ces modes de réalisation, ledit second polissage (313) est réalisé sur une portion centrale et apicale de ladite (310) aire de polissage, fournissant un angle (G) de déviation optique apicale. Des exemples illustratifs et non limitatifs d’un tel polissage ou biseau (ou méplat) apical sont représentés sur les , , et . Ces modes de réalisation permettent par exemple d’obtenir une photo-coagulation par le second polissage apical aux berges de la section obtenu par le biseau distal du support. De plus, dans le cas où le second polissage apical (313) est réalisé à la fois sur le support et la fibre, on obtient une surface active (212) avantageusement déformée, pour un effet multiple de l’instrument sur les tissus, organes (6) ou Vaisseaux (V). En effet, dans certains de ces modes de réalisation à polissage apical, ledit second polissage (313) est réalisé à une hauteur (H1, H2) déterminée pour obtenir également une aire (210) de polissage de l’extrémité distale du guide (2) de lumière, résultant en deux angles (G) de déviation optique et une surface active (212) déformée du guide (2) de lumière, par exemple comme représenté sur les et . Enfin, dans certains modes de réalisation, l’extrémité distale biseautée (31) du support (3) comporte une aire de polissage (310) circonférentielle sur la surface du biseau selon un angle (A) de biseautage et ledit moyen de déviation de lumière comporte au moins une échancrure (314) semi-sphérique et ou triangulaire formant au moins un moyen de déviation optique, soit latéral, soit central et apical. Un exemple illustratif et non limitatif de telles échancrures est représenté sur la .