INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Comme illustré à la , un objet de l’invention est un procédé de fabrication d’une cellule photovoltaïque, comportant les étapes : a) prévoir une structure comportant : - un substrat 1 à base de silicium cristallin, présentant des première et seconde surfaces 10, 11 opposées ; - des premier et second films d’oxyde 2a, 2b, de préférence de type oxyde tunnel, formés respectivement sur les première et seconde surfaces 10, 11 du substrat 1 ; - des première et seconde couches de polysilicium 3a, 3b, formées respectivement sur les premier et second films d’oxyde 2a, 2b, et comprenant respectivement des dopants de type n et des dopants de type p présentant respectivement des première et seconde concentrations surfaciques ; les dopants de type n étant de préférence des atomes de phosphore, les dopants de type p étant de préférence des atomes de bore ; les première et seconde couches de polysilicium 3a, 3b présentant chacune une épaisseur supérieure ou égale à 15 nm, de préférence supérieure ou égale à 20 nm ; l’étape a) est illustrée à la (1a) ; b) appliquer un recuit thermique à la structure, sous une atmosphère A, à une température de recuit T A supérieure à une température minimale T min au-delà de laquelle les dopants de type n et les dopants de type p peuvent être électriquement activés ; l’étape b) est illustrée à la (1b) ; c) démarrer une injection d’un agent oxydant 4 dans l’atmosphère A au cours de l’étape b), de manière à former des première et seconde couches d’oxyde 5a, 5b, respectivement sur les première et seconde couches de polysilicium 3a, 3b ; l’injection étant démarrée à un premier instant t 1 définissant, avec la température de recuit T A , un premier budget thermique adapté pour activer électriquement les dopants de type n et les dopants de type p ; l’étape c) est illustrée à la (1c) ; d) arrêter l’injection de l’agent oxydant 4 à un second instant t 2 définissant, avec la température de recuit T A , un second budget thermique adapté à la première concentration surfacique de sorte que : - les première et seconde couches d’oxyde 5a, 5b, formées entre les premier et second instants t 1 , t 2 , présentent respectivement des première et seconde épaisseurs, la première épaisseur étant prédéterminée ; - la formation des première et seconde couches d’oxyde 5a, 5b, selon les première et seconde épaisseurs, consomme une quantité de polysilicium entre les premier et second instants t 1 , t 2 , adaptée pour que la première couche de polysilicium 3’a présente une épaisseur strictement inférieure à 15 nm à l’issue de l’étape d) ; la situation à l’issue de l’étape d) est illustrée à la (1d).
Le corps de base d’essuyage 14 comprend au moins deux parois de cavité 22a, 24a entourant de façon périphérique la cavité longitudinale 18. De façon préférentielle, les parois de cavité 22, 24 ont la même forme. En particulier, les parois de cavité 22, 24 réalisent en commun la paroi complète de la cavité. Les deux parois de cavité 22, 24 sont symétriques plan l’une par rapport à l’autre, en particulier, par rapport à l’axe de symétrie 102. De façon préférentielle, la lèvre d’essuyage 12 est à l’extérieur de la cavité longitudinale 18. De manière préférentielle, la lèvre d’essuyage 12 a une forme pratiquement triangulaire.
On peut envisager de réaliser la lèvre d’essuyage 12 en un matériau plein ou aussi avec la lèvre d’essuyage 12 comportant des évidements supplémentaires dans la direction transversale à l’axe de symétrie 12. La cavité longitudinale 18 et la lèvre d’étanchéité 12 sont reliées l’une à l’autre par une entretoise de liaison 34 relativement étroite. A la fois la cavité longitudinale 18 et la lèvre d’essuyage 12 sont symétriques par rapport à l’axe de symétrie 102.
Selon le mode de réalisation présenté à la , la cavité longitudinale 18 a une forme pratiquement rectangulaire. Mais on peut également envisager d’autres formes de cavité dans la mesure où elles permettent une compensation dans la direction longitudinale. La lèvre d’essuyage 12 est, de préférence, en contact avec la surface à nettoyer par son extrémité opposée à la cavité. La lèvre d’essuyage 12 est orientée pratiquement perpendiculairement à la direction d’essuyage 30a, 32a.
Selon le mode de réalisation de l’invention présenté à la , l’unité de lame d’essuyage 11 comprenant la lèvre d’essuyage 12, l’entretoise de liaison 34 et le corps de base 14 réalisés en une seule pièce en caoutchouc d’essuie-glace. L’unité de lame d’essuyage 11 est, de préférence, extrudée en caoutchouc EPDM. On utilise, pour cela, un procédé de coextrusion ; en variante, on peut, toutefois, n’utiliser qu’une seule matière plastique. Un mode de réalisation préférentiel de l’invention prévoit que la lèvre d’essuyage 12 est en un caoutchouc EPDM plus souple que la partie restante de l’unité de lame d’essuyage 11. La cavité longitudinale 18 peut également être plus rigide que la lèvre d’essuyage 12. La cavité longitudinale 18 a un coefficient d’amortissement plus fort que celui de la lèvre d’essuyage 125. Le logement de rail élastique 15 est en une matière plastique de forme stable ce qui permet d’avoir des surfaces d’appui de rail élastique 16a, 16b particulièrement stables.
Selon le mode de réalisation de l’invention présenté à la , la cavité longitudinale 18 fait suite au logement de rail élastique 15. Le logement de rail élastique 15 a un segment pratiquement en forme de T et des surfaces d’appui de rail élastique 16a, 16b. Le segment en forme de T comprend la traverse supérieure 126 et la branche 128. La branche 128 venant contre la cavité longitudinale 18 et ainsi contre la surface d’appui de rail élastique 16a, 16b formée par la paroi supérieure de la cavité longitudinale 18 et la traverse 126 réalisent en section un logement de rail élastique en forme de rainure de maintien. Les logements de rail élastique 16a, 16b sont réalisés pour recevoir un premier segment de rail élastique 17a et de façon correspondante, un second segment de rail élastique 17b. La longueur de l’entretoise de liaison 128 correspond sensiblement à l’épaisseur du premier segment de rail élastique 17a ou du second segment de rail élastique 17b de sorte que l’unité de lame d’essuyage 11 est maintenue en sécurité dans la direction verticale entre le premier segment de rail élastique 17a et le second segment de rail élastique 17b.
Le volume creux de la cavité longitudinale 18 peut être rempli à la pression atmosphérique, avec un gaz particulier ou en variante avec de l’air comprimé.
Le côté de l’unité de lame d’essuyage 11 à l’opposé de la lèvre d’essuyage 12 comporte un élément de couverture 100. L’élément de couverture 100 est, de préférence, sous la forme d’un déflecteur. L’élément de couverture 100 comporte deux parois latérales 104a, 104b. Les parois latérales 104a, 104b sont dirigées pratiquement dans la direction de l’axe de symétrie 102. Les parois latérales 104a, 104b couvrent, de préférence, l’ensemble de la hauteur de la cavité longitudinale 18a. Les parois latérales 104a, 104b se poursuivent, de préférence chacune, par un contour 105a, 105b. Le contour 105a, 105b est, un relief qui s’étend pratiquement dans la direction d’essuyage sur la paroi latérale 104a, 104b correspondante. Le contour 104a, 105b s’étend ainsi, de préférence, en direction des segments de rail élastique 17a, 17b. Le contour 105a, 105b se situe, de préférence, en contact avec la paroi inférieure du corps de base 14, de la cavité longitudinale 18.
Comme cela apparaît clairement à la , l’unité de lame d’essuyage 11 a un élément amortisseur 40. Selon le mode de réalisation de l’invention présenté à la , l’élément amortisseur 40 est réalisé en un élastomère expansé. L’élément d’amortissement est notamment caractérisé comme élément d’amortissement qui a un module d’élasticité E inférieur d’un facteur 10 GPa, notamment d’un facteur 100 GPa plus petit que le module d’élasticité du corps de base 14. On peut également envisager un tel effet d’amortissement en réalisant un ensemble de structures à trous ou inclusions dans un corps d’élément amortisseur réalisé en une matière pleine.
L’élément amortisseur 40 comporte, de préférence, un premier segment amortisseur 40a et un second segment amortisseur 40b. L’élément amortisseur 40 est formé, de préférence, séparément du corps de base 14. Chaque segment amortisseur 40a, 40b a, une structure de réseau pratiquement homogène.
L’élément amortisseur 40 permet, malgré la forte pression du corps de base sur le rail élastique par l’élément de couverture enveloppant pendant le mouvement d’essuyage, une compensation dans la direction longitudinale au-delà des points d’inversion. La forte pression du corps de base contre le rail élastique, évite en même temps tout décrochage non voulu du corps de base ou du logement de rail élastique par rapport au rail élastique, ce qui évite des bruits de rabattement.
L’élément amortisseur composé des segments amortisseurs 40a, 40b représenté à la peut être réalisé, par exemple, en une mousse de polyuréthane ayant une structure d’alvéoles ouvertes. La mousse de matière plastique comme mousse de polyuréthane souple, peut avoir un réseau pratiquement homogène à la fois dans la direction longitudinale et dans la direction perpendiculaire. La mousse de polyuréthane souple est particulièrement appropriée grâce à sa structure de réseau homogène pour l’amortissement pendant tout le mouvement d’essuyage. On peut également envisager, selon la fonction d’amortissement souhaitée, une structure de mousse à cellules ou alvéoles fermées avec également une répartition pratiquement homogène des pores et des cavités.
La matière expansée présente, selon la norme ISO 8465 une densité comprise entre 100kg/m3 et 400kg/m3, de préférence, comprise entre 150kg/m3 et 350kg/m3 et notamment, de préférence entre 200kg/m3 et 300kg/m3 et d’une manière particulièrement préférentielle, comprise entre 220kg/m3 et 260kg/m3. La densité est inférieure d’un multiple à celle du caoutchouc EPDM. Malgré le traitement onéreux des mousses de polyuréthane PUR, l’élément amortisseur 40 peut être fabriqué de manière économique grâce à sa forme géométrique très simple.
L’élément amortisseur 40 est réalisé comme structure de support élastique entre le rail élastique 17 et le corps de base 14. Les segments amortisseurs 40a, 40b s’étendent, de préférence, dans la direction d’essuyage 30a, 32a. De façon préférentielle, les segments amortisseurs 40a, 40b couvrent les segments de rail élastique 17a, 17b pratiquement au moins en partie.
Les segments amortisseurs 40a, 40b sont, des éléments plats en forme de poutre. Les segments amortisseurs s’étendent pratiquement sur l’ensemble de la couverture longitudinale du balai d'essuie-glace 10. Les segments amortisseurs 40a, 40b sont, respectivement en contact avec les surfaces d’appui de rail élastique 16a, 16b du corps de base 14 et du rail élastique.
(sauf exception, les références numériques sont sans suffixe alphabétique)
les figures 3A, 3B, 3C, 3D et 3E sont des vues en coupe illustrant des étapes d'un exemple d'un procédé de fabrication de puces élémentaires de pixel d'un dispositif d'imagerie à rayons X selon un mode de réalisation ;
les figures 4A et 4B sont des vues de dessus et en coupe illustrant des étapes d'un autre exemple d'un procédé de fabrication d'un dispositif d'imagerie à rayons X selon un mode de réalisation ; et
la est une vue en coupe illustrant une variante d'un dispositif d'imagerie à rayons X selon un mode de réalisation.
Par souci de clarté, seuls les étapes et éléments utiles à la compréhension des modes de réalisation décrits ont été représentés et sont détaillés. En particulier, les diverses applications que peuvent avoir les dispositifs d'imagerie à rayons X décrits n'ont pas été détaillées, les modes de réalisation décrits étant compatibles avec toutes ou la plupart des applications connues d'imagerie à rayons X, et tout particulièrement les applications pouvant tirer profit de dispositif d'imagerie à rayons X de grandes dimensions, par exemple des dispositifs de dimensions latérales supérieures à 10 cm et de préférence supérieures à 20 cm. En outre, la réalisation des détecteurs à conversion directe et des circuits électroniques de contrôle des dispositifs décrits n'ont pas été détaillés, la réalisation de ces éléments étant à la portée de la personne du métier à partir des indications de la présente description. Par rayons X on entend ici, par exemple, des rayonnements constitués de photons d'énergie comprise, par exemple, entre 1000 eV (électron-volt) et 20 MeV (méga-électron-volt).
Dans la description qui suit, lorsque l'on fait référence à des qualificatifs de position absolue, tels que les termes "avant", "arrière", "haut", "bas", "gauche", "droite", etc., ou relative, tels que les termes "dessus", "dessous", "supérieur", "inférieur", etc., ou à des qualificatifs d'orientation, tels que les termes "horizontal", "vertical", etc., il est fait référence sauf précision contraire à l'orientation des vues en coupe des figures.
Selon un aspect des modes de réalisation décrits, on prévoit un dispositif d'imagerie à rayons X comportant un substrat de report et une matrice de pixels de détection de rayons X formée sur le substrat de report. Chaque pixel de détection comprend un détecteur à base d'un matériau semiconducteur de conversion adapté à convertir directement des photons X en charges électriques, formé sur le substrat de report et relié ou connecté électriquement à des éléments de connexion électrique (piste, plages, bornes ou plots de connexion électrique) du substrat de report, et une puce élémentaire monolithique, fixée et connectée électriquement à des éléments de connexion électrique du substrat de report. Dans chaque pixel, la puce élémentaire est connectée au détecteur de rayons X, par exemple par au moins un élément de connexion électrique du substrat de report. La puce élémentaire comprend au moins un circuit intégré de lecture du détecteur à rayon X, de préférence réalisé en technologie CMOS.
Chaque puce élémentaire comporte une face de connexion comprenant une pluralité de plots (aussi appelées bornes ou plages) de connexion électrique destinés à être connectés au substrat de report pour la commande de la puce. Le substrat de report comprend une face de connexion comportant, pour chaque puce élémentaire, une pluralité de plots (aussi appelées bornes ou plages) de connexion électrique destinés à être connectés respectivement aux plots de connexion électrique de la puce. Les puces sont rapportées sur le substrat de report, faces de connexion tournées vers la face de connexion du substrat de report, et fixées sur le substrat de report de façon à connecter les plots de connexion électrique de chaque puce aux plots de connexion électrique correspondantes du substrat de report.
Dispositif électrique de conversion d’une tension et système d’alimentation associé La présente invention concerne un dispositif électrique de conversion d’une tension depuis un circuit d’alimentation, vers une sortie de distribution électrique.
L’invention concerne également un système d’alimentation électrique d’un véhicule ferroviaire comprenant un tel dispositif électrique de conversion.
Dans un véhicule ferroviaire, il est connu de proposer aux passagers une sortie de distribution électrique, notamment pour le rechargement d’appareils nomades. Pour cela, la sortie de distribution électrique est connectée à un circuit d’alimentation parcourant au moins partiellement le véhicule ferroviaire, et connectée à des infrastructures dudit véhicule.
Toutefois, les caractéristiques de la tension et/ou du courant dans le circuit d’alimentation ne respectent pas toujours les standards d’une sortie de distribution.
Ainsi, il est connu de placer un dispositif de conversion électrique d’une tension entre le circuit d’alimentation et la sortie de distribution. Le dispositif de conversion comprend un transformateur, une unité de filtrage entre le transformateur et la sortie de distribution, et un interrupteur pilotable entre l’unité de filtrage et la sortie de distribution. L’unité de filtrage est alors configurée pour adapter la forme du courant au standard d’une sortie de distribution. L’interrupteur pilotable est quant à lui, configuré pour permettre une connexion entre l’unité de filtrage et la sortie de distribution après une temporisation prédéfinie. L’interrupteur comprend une chaîne de commandes connectée aux bornes de l’unité de filtrage, et configurée pour déclencher la fermeture dudit interrupteur après une temporisation prédéfinie.
Lorsque le transformateur est alimenté en énergie électrique, une surtension est présente à ses bornes, ladite surtension étant propre à endommager l’appareil nomade du passager. Ainsi, la sortie de distribution n’est alimentée, par le circuit d’alimentation, qu’après la fermeture de l’interrupteur.
Toutefois, la surtension endommage la chaîne de commande de l’interrupteur, conduisant, après de multiples utilisations, à rendre l’interrupteur non-fonctionnel. Ainsi, ledit interrupteur est alors une pièce consommable et le dispositif de conversion subit régulièrement des opérations de maintenance.
Il existe donc un besoin pour rendre le dispositif de conversion plus robuste afin de limiter les opérations de maintenance.
À cet effet, l’invention a pour objet un dispositif électrique de conversion d’une tension depuis un circuit d’alimentation, vers une sortie de distribution électrique, le dispositif comprenant :
un transformateur comportant un enroulement primaire et un enroulement secondaire, l’enroulement primaire étant configuré pour être connecté au circuit d’alimentation ; un premier interrupteur aval configuré pour connecter électriquement l’enroulement secondaire du transformateur et la sortie de distribution électrique ; et une unité de filtrage connectée à l’enroulement secondaire, entre l’enroulement secondaire et le premier interrupteur aval,
dans lequel le dispositif électronique de conversion comprend en outre :
une résistance en série de l’unité de filtrage et entre l’unité de filtrage et le premier interrupteur aval, un ensemble formé par la résistance et l’unité de filtrage étant connecté en parallèle de l’enroulement secondaire ; et un deuxième interrupteur aval connecté aux bornes de la résistance, le deuxième interrupteur aval étant configuré pour, lorsqu’il est fermé, court-circuiter la résistance.
Selon des modes de mise en œuvre particuliers, le procédé comprend une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prise(s) isolément ou suivant toutes les combinaisons techniquement possibles :
au moins l’une de la fermeture et de l’ouverture des premier et deuxième interrupteurs avals est synchrone ; le dispositif comprend un relais à retard temporisé comportant une chaine de commande et les premier et deuxième interrupteurs avals, la chaîne de commande étant connectée en parallèle de l’ensemble formé par la résistance et l’unité de filtrage,
le relais à retard temporisé étant configuré pour, suite à un retard prédéfini après la circulation d’un courant dans la chaine de commande, fermer les premier et deuxième interrupteurs avals ;
Par exemple, dans l'hypothèse d'une configuration de réseau de transducteurs en 2D, une carte de puissance en distance/azimut est obtenue après transformation des mesures du capteur utile 50. Une telle carte est propre à être fournie en entrée du réseau de neurones RN. En variante, d’autres représentations sont propres à être fournies en entrée du réseau de neurones RN, dont les données brutes en sortie d’un convertisseur analogique-numérique.
Dans un exemple de mise en œuvre, le capteur utile 50 est disposé sur un véhicule, tel qu’un véhicule autonome, et la scène S correspond à l’environnement situé dans le champ de vision du capteur utile 50. Dans un autre exemple de mise en œuvre, le capteur utile 50 est disposé dans une installation, telle qu’un équipement de bord de route, et la scène S correspond à l’environnement situé dans le champ de vision du capteur utile 50.
Le réseau de neurones RN à évaluer est un réseau de neurones entraîné pour déterminer un ensemble de données caractéristiques pour une scène S à caractériser en fonction d’un ensemble de données obtenu pour la scène S à un instant donné par le capteur utile 50. L’ensemble de données obtenues pour la scène S par le capteur utile 50 est donc l’entrées du réseau de neurones RN. L’ensemble de données caractéristiques de la scène S est la sortie du réseau de neurones RN.
Comme indiqué précédemment, les données d’entrée obtenues par le capteur utile 50 sont, par exemple, des mesures issues d’un capteur réel ou des données issues de simulations d’un modèle de capteur, mesures ou données qui correspondent à un paramètre de la scène S (distance ou vitesse des éléments de la scène S) ou une prise d’image de la scène S.
De préférence, les données présentées en entrée du réseau de neurones RN sont des données brutes obtenues en sortie du ou des convertisseurs analogiques numériques du capteur utile 50 ou des données en sortie du capteur utile 50 ayant au plus subies une ou plusieurs transformations linéaires (par exemple une ou plusieurs transformée(s) de Fourier rapide ou une fonction linéaire de formation de faisceaux).
L’ensemble de données caractéristiques (données de sortie) comprend un découpage de la scène S en zones Z avec au moins une caractéristique attribuée à chaque zone Z de la scène S à l’instant donné.
Au moins une caractéristique est, de préférence, une probabilité qu’un fait spécifique se produise sur la zone Z, ou une donnée (binaire, ternaire ou autre) relative à la survenue ou non d’un fait spécifique sur la zone Z. De préférence, au moins une caractéristique de chaque zone Z est choisie dans le groupe constitué de : une caractéristique relative à la présence ou non d’un ou plusieurs éléments sur la zone Z (probabilité de présence ou indication de présence ou non), une caractéristique relative au déplacement d’un ou plusieurs éléments sur la zone Z, une caractéristique relative au déplacement d’un élément à une vitesse donnée sur la zone Z et une caractéristique relative à la présence ou non d’un élément spécifique sur la zone Z.
De préférence, l’ensemble de données caractéristiques se présente sous l’une des formes suivantes : une représentation spatiale de la scène S découpée en zones Z, un tableau de correspondance entre chaque zone Z de la scène S et chaque caractéristique correspondante ou une liste associant chaque zone Z de la scène S à chaque caractéristique correspondante.
Ainsi, lorsque au moins une caractéristique de chaque zone Z est une probabilité de présence ou une donnée binaire de présence sur la zone Z, il est, par exemple, obtenu une représentation spatiale de la scène S découpée en zones Z, telle qu’une grille d’occupation. Une telle grille d’occupation est, par exemple, illustrée en à droite.
Lorsque au moins une caractéristique de chaque zone Z est une probabilité de déplacement sur la zone Z (à une vitesse quelconque) ou une donnée binaire de déplacement, il est, par exemple, obtenu une représentation spatiale de la scène S découpée en zones Z avec en superposition une information (grille de dynamicité) relative au déplacement d’un ou plusieurs éléments dans la zone Z à l’instant donné correspondant.
Lorsque au moins une caractéristique de chaque zone Z est une probabilité ou une donnée binaire de déplacement d’un élément sur la zone Z à une vitesse donnée sur la zone Z, il est, par exemple, obtenu une représentation spatiale de la zone Z tel que précédemment décrite avec en outre une indication de la vitesse de déplacement des éléments concernés.
Lorsque au moins une caractéristique de chaque zone Z est une probabilité ou une donnée binaire de présence d’un élément spécifique sur la zone Z, il est, par exemple, obtenu un tableau de correspondance entre chaque zone Z de la scène S et chaque caractéristique correspondante ou une liste associant chaque zone Z de la scène S à chaque caractéristique correspondante. L’élément spécifique est, par exemple, déterminé suite à une classification effectuée par le réseau de neurones RN parmi une liste d’éléments. Dans le cas de la conduite autonome, l’élément est, par exemple, choisi parmi un piéton, un animal, un véhicule et un deux-roues.