Procédé de fabrication d’une couche de PEDOT-PSS (110) sur un substrat (140) en polysiloxane comprenant les étapes successives suivantes : i) hydrolyser le substrat (140) en polysiloxane de manière à avoir des groupements OH pendants, ii) fonctionnaliser le substrat (140) hydrolysé avec une couche moléculaire (150) formée de silyl ou de silane comprenant un groupement phosphonate POO-, carboxylique COOH, ou sulfo S(O) 2 OH, moyennant quoi on obtient un substrat en polysiloxane fonctionnalisé par une couche moléculaire (150), iii) déposer une couche de PEDOT-PSS (110) sur la couche moléculaire (150). Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l’étape i) est réalisée avec un traitement UV-ozone. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l’étape i) est réalisée avec un plasma O 2 , avantageusement dans les conditions suivantes : une pression supérieure ou égale à 150mTorr, une puissance inférieure à 150W et une durée inférieure à 5 min. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que la couche moléculaire (150) est une couche de 3-(Trihydroxysilyl)propyl méthylphosphonate. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que la couche moléculaire (150) est une couche d’acide triacétique de N-[(3-Triméthoxysilyl)Propyl]Ethylènediamine, de carboxyéthylsilanetriol ou d’acide 3-(Triméthylsilyl)-1-propanesulfonique. Procédé selon l’une quelconque des revendications 3 et 4, caractérisé en ce que le substrat (140) est en polydiméthylsiloxane, en ce que l’étape i) est réalisée avec un plasma O 2 et en ce que, lors de l’étape ii), on dépose par voie liquide une couche moléculaire (150) de 3-(Trihydroxysilyl)propyl méthylphosphonate. Procédé de fabrication d’un dispositif piézoélectrique (100) comprenant au moins les étapes suivantes : a) mettre en œuvre les étapes i) à iii) telle que définie dans l’une quelconque des revendications précédentes, pour fabriquer une couche de PEDOT-PSS (110) sur un substrat (140) en polysiloxane, b) déposer une couche en un matériau piézoélectrique (130), sur la couche de PEDOT-PSS (140), c) former une électrode supérieure (120) électriquement conductrice sur la couche en matériau piézoélectrique (130). Dispositif (100) obtenu par le procédé selon l’une des revendications 1 à 7, comprenant - un substrat (140) en polysiloxane, hydrolysé fonctionnalisé par une couche moléculaire (150) formée de silyl ou de silane comprenant un groupement phosphonate POO-, carboxylique COOH, ou sulfo S(O) 2 OH, - une couche de PEDOT-PSS (110). Dispositif selon la revendication 8, caractérisé en ce que la couche moléculaire (150) est une couche moléculaire de 3-(Trihydroxysilyl)propyl méthylphosphonate, d’acide triacétique de N-[(3-Triméthoxysilyl)Propyl]Ethylènediamine, de carboxyéthylsilanetriol ou d’acide 3-(Triméthylsilyl)-1-propanesulfonique. Dispositif piézoélectrique obtenu par le procédé selon la revendication 7, comprenant - un substrat (140) en polysiloxane, hydrolysé et fonctionnalisé par une couche moléculaire (150) formée de silyl ou de silane silyl ou un silane comprenant un groupement phosphonate POO-, carboxylique COOH, ou sulfo S(O) 2 OH, - une électrode inférieure formée d’une couche de PEDOT-PSS (110), - une couche de matériau piézoélectrique (130), - une électrode supérieure (120) électriquement conductrice, par exemple en PEDOT-PSS. Dispositif selon la revendication 10, caractérisé en ce que la couche moléculaire (150) est une couche de 3-(Trihydroxysilyl)propyl méthylphosphonate, d’acide triacétique de N-[(3-Triméthoxysilyl)Propyl]Ethylènediamine, de carboxyéthylsilanetriol ou d’acide 3-(Triméthylsilyl)-1-propanesulfonique.