Procédé d’analyse cosmétique, caractérisé en ce qu’il comprend les étapes suivantes : application (étape A) d’au moins un patch (3) étiré de manière uniforme vers l’extérieur sur au moins une zone de la peau à analyser ; et analyse (étape J) par mesure de la résistance mécanique de l’au moins une zone à analyser après l’étape (A) d’application du patch (3). Procédé selon la revendication 1, dans lequel l’étape (J) d’analyse par mesure de la résistance mécanique de l’au moins une zone à analyser s’effectue par la mesure de la profondeur du creusement de la zone après l’étape (A) d’application du patch (3). Procédé selon l’une des revendications 1 et 2, dans lequel l’étape (J) d’analyse par mesure de la résistance mécanique de l’au moins une zone à analyser s’effectue par la mesure du diamètre de rétractation du patch après l’étape (A) d’application du patch (3). Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel l’étape (J) d’analyse par mesure de la résistance mécanique de l’au moins une zone à analyser s’effectue à l’aide de marquages de la zone et/ou du patch avec des points ou des lignes et/ou à l’aide de repères naturels. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel l’étape (J) d’analyse par mesure de la résistance mécanique de l’au moins une zone à analyser s’effectue en prenant en considération des informations concernant le climat et/ou des traitements cosmétiques. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, comprenant en outre les étapes suivantes : identification (étape K) d’au moins une zone d’évolution potentielle parmi l’au moins une zone analysée ; détermination (étape L) d’un traitement cosmétique non thérapeutique à appliquer sur l’au moins une zone d’évolution potentielle à partir des mesures de résistance mécanique réalisées à l’étape (J) d’analyse ; application (étape M) d’un produit de traitement cosmétique non thérapeutique sur l’au moins une zone d’évolution potentielle. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 6, dont les étapes sont répétées dans le temps afin de créer un suivi de l’analyse cosmétique. Procédé selon l’une des revendications 6 et 7, dans lequel à l’étape (A) d’application on applique au moins deux patch (3) étirés sur au moins deux zones distinctes de la peau à analyser, à l’étape (J) d’analyse on mesure la résistance mécanique des au moins deux zones à analyser, et on effectue l’étape (K) d’identification d’au moins une zone d’évolution potentielle par comparaison entre les au moins deux zones analysées. Procédé selon l’une des revendications 6 à 8, dans lequel à l’étape (A) d’application on applique au moins deux patchs (3) étirés sur au moins deux zones distinctes de la peau à analyser, dont une zone est traitée par un premier produit de traitement cosmétique, et une autre zone est traitée par un second produit de traitement cosmétique différent du premier produit cosmétique, ou par aucun produit de traitement cosmétique, et dans lequel à l’étape (L) de détermination d’un traitement cosmétique à appliquer on détermine lequel du premier, du second ou d’aucun produit de traitement cosmétique est le plus adapté pour être appliqué sur les zones de la peau analysées. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 9, dans lequel le patch (3) comprend et / ou est enduit d’actifs cosmétiques. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 10, dans lequel l’étape (A) d’application d’un patch, comprend les étapes suivantes : mise en place d’un film (étape B) sur la surface de montage du poussoir d’un dispositif d’étirage d’un patch, le dispositif comprenant un applicateur du patch pourvu d’un support, un poussoir comprenant une cavité et une surface de montage du patch à étirer, et une embase comprenant une protubérance qui est pourvue d’une surface de réception du support de l’applicateur et qui est emboitable dans la cavité du poussoir de sorte que, lorsque le patch à étirer est placé sur la surface de montage du poussoir et que ledit poussoir et l’embase sont emboîtés, ledit patch est étiré et vient en appui contre le support de l’applicateur.; mise en place du support (étape C) de l’applicateur sur la surface de réception de l’embase du dispositif ; mise en appui (étape D) du film sur le support de l’applicateur et simultanément réalisation de l’étape d’étirage du patch formé par la partie du film en appui sur le support de l’applicateur par l’emboîtement de l’embase et du poussoir du dispositif ; séparation du poussoir et de l’embase (étape E) ; retrait de l’applicateur hors du poussoir (étape F) ; et application du patch étiré sur la zone à analyser (étape G).