INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Le dispositif de détection 2 est configuré pour réaliser, comme dans le premier exemple, l’étape de mesures E3 d’une densité de flux magnétique B et d’enregistrement dans une base de donnée la mesure, l’emplacement Ea20, Em20 de l’appareil de mesure 20 et de l’aimant 10’ et la date de la mesure et l’étape d’estimation E4 par le processeur d’au moins la valeur d’une caractéristique magnétique (B%, ), de l’aimant 10’ selon son repère tridimensionnel propre x, y et z et de comparaison E5 de sa valeur d’une caractéristique magnétique (B, ) estimée et celle estimée précédemment ou acquise à l’étape E1.
Enfin, le dispositif de détection 2 est configuré pour réaliser l’étape de déduction E6 de la corrosion de la couche corrodable 9 entre l’au moins emplacement de l’aimant Em20, Em21 et l’emplacement Ea20, Ea21 de l’appareil de mesure 20 en fonction de la comparaison de la valeur d’une caractéristique magnétique acquise à l’étape E1.
Par exemple, le dispositif de détection 2 est configuré pour déduire une corrosion entre l’emplacement de l’aimant Em20, et l’emplacement de l’appareil Ea20.
Le procédé peut aussi comprendre une étape d’estimation de l’orientation de l’aimant 10’. Par exemple, dans la portion cabossée 901, l’aimant 10’ ou l’appareil de mesure 20 peut difficilement être mis l’un en face de l’autre. Par exemple comme sur la , à l’emplacement de l’aimant Em21, l’aimant 10’ peut être incliné par rapport à l’appareil de mesure 20 à l’emplacement Ea21.
Ensuite le dispositif de détection 2 peut être configuré pour dans l’étape de détermination de l’emplacement E2 prendre en compte cette orientation et ainsi déterminer en outre l’inclinaison de son appareil de mesure 20 pour être en face des deux pôles de l’aimant 10’ de façon équilibrée. Le dispositif de détection 2 peut être configuré pour dans l’étape d’estimation E4 par le processeur d’au moins la valeur d’une caractéristique magnétique (B%, ) qu’elle soit aussi fonction de l’orientation de l’aimant 10’ par rapport à l’appareil de mesure 20.
METHODE ET SYSTEME DE CONTROLE EN LIGNE DE L’ELIMINATION DE MICROPOLLUANTS DES EAUX USEES D’UNE UNITE DE TRAITEMENT DOMAINE DE L’INVENTION L’invention concerne le domaine du traitement de l’eau, et plus particulièrement le traitement des substances présentes à l’état de traces aussi appelées micropolluants. L’invention concerne en particulier une méthode de contrôle en ligne de l’élimination de ces micropolluants.
ARRIERE-PLAN TECHNOLOGIQUE Le terme « micropolluant » désigne un groupe de substances chimiques qui proviennent au moins en partie des activités humaines et qui ont des effets néfastes connus ou supposés même aux faibles concentrations (de ng/L à μg/L) auxquelles elles sont présentes dans l'environnement. Parmi les 100 000 substances chimiques référencées en Europe, certaines reconnues comme "micropolluants" sont réglementées et d'autres non. Elles peuvent être regroupées par familles chimiques, usages, effets ou statut réglementaire, et un micropolluant peut ainsi appartenir à plusieurs groupes. Les effluents industriels, les rejets urbains, l'agriculture et les produits agricoles sont des sources qui ont été identifiées et étudiées depuis les années 1970. Plus récemment, des sources de micropolluants liés aux émissions domestiques (produits pharmaceutiques, cosmétiques, détergents, pesticides, solvants, tensioactifs, plastifiants, retardateurs de flamme, etc.) ont été identifiées et sont désormais au cœur des problèmes associés aux micropolluants. Ainsi, depuis quelques années, les eaux traitées à potabiliser mais aussi les eaux traitées déversées dans le milieu naturel, doivent répondre à des exigences règlementaires de plus en plus strictes et la teneur en micropolluants doit être contrôlée afin de ne pas dépasser certains seuils.
Les technologies utilisées pour éliminer ces micropolluants des eaux sont typiquement l’adsorption, par exemple sur charbon actif en poudre ou en grain, et l’ozonation. La quantité de réactif (adsorbant ou ozone) utilisée et/ou consommée dépend alors de la concentration de l’eau à traiter en micropolluants. Un contrôle de cette quantité de réactif est alors préférable afin de réduire les coûts de traitement tout en assurant l’abattement souhaité des micropolluants.
Il existe ainsi des méthodes permettant de contrôler et/ou de suivre l’abattement des micropolluants, et, in fine, d’optimiser les concentrations en réactifs nécessaires à l’élimination de ces micropolluants.
Ainsi, le document FR3009789 propose une méthode de contrôle de l’abattement des micropolluants organiques dans les eaux usées par adsorption sur charbon actif dans laquelle on réalise régulièrement des mesures d’absorbance UV (ultraviolet) des eaux à traiter avant et après traitement. Ces mesures d’absorbance UV permettent de calculer le pourcentage d’abattement des micropolluants organiques et de réguler la concentration en charbon actif injectée dans les eaux à traiter en fonction de ce pourcentage calculé. Cette méthode utilise une corrélation entre le pourcentage de diminution de l’absorbance (déterminé à partir des absorbances mesurées avant et après traitement) et l’abattement qui n’est toutefois pas toujours assez robuste pour obtenir l’efficacité souhaitée d’élimination des micropolluants. Il est par ailleurs difficile de corréler les mesures d’absorbance UV à l’élimination d’un micropolluant particulier. Enfin, les mesures d’absorbance UV peuvent être perturbées par la présence de certaines molécules organiques, notamment présentes dans les eaux de provenance autre que domestique qui sont collectées avec les eaux usées, de sorte que la quantité de réactif ajoutée n’est pas contrôlée de manière précise.
Le tungstène, comme le rhénium, peut s’oxyder dans certaines conditions opératoires. L’ajout de la couche protectrice en céramique mentionnée ci-dessus est souhaitable. Afin de jouer son rôle protecteur, la céramique est la plus imperméable possible aux ions oxygène. La céramique étant déjà oxydée, une stabilité du volume est attendue en cours d’utilisation en raison de l’absence d’oxydation potentielle de ladite céramique. Ceci permet d’assurer plus encore la stabilité du système et de limiter les phénomènes d’écaillage pouvant survenir suite à une oxydation.
Dans un mode de réalisation, le corps est réalisé en un matériau métallique choisi parmi : W, W-Re, W-Ni, W-Y 2 O 3 avec 97 à 99% mol de W, W-La 2 O 3 avec 97 à 99% mol de W. Le tungstène permet de proposer des matériaux résistant à des températures supérieures aux solutions actuelles et à des coûts compétitifs.
Dans un mode de réalisation, le matériau céramique comprend de l’hafnie et/ou un oxyde de terre rare ou d’alcalino-terreux, et d’hafnium, notamment SrHfO 3 , BaHfO 3 , Lu 3 Hf 4 O 12 , Yb 3 Hf 4 O 12 . Les transitions de phase allotropiques réversibles lors des variations de température avec variation de volume sont réduites.
Dans un mode de réalisation, le matériau céramique comprend de 10 à 50% mol d’un stabilisateur comprenant au moins un oxyde de terre rare ou d’alcalino-terreux, préférablement de 25 à 40%. Les transitions de phase allotropiques réversibles lors des variations de température avec variation de volume sont réduites. Dans la plage préférée, une augmentation du taux d’yttrine Y 2 O 3 permet de réduire le coefficient d’expansion thermique et la conductivité ionique.
Dans un mode de réalisation, le stabilisateur comprend au moins un parmi: Y 2 O 3 , Lu 2 O 3 , Gd 2 O 3 . L’yttrine, présente dans la céramique de la couche intermédiaire, permet de stabiliser la couche intermédiaire en réduisant la perte de masse lors du fonctionnement. L’oxyde de lutétium et l’oxyde de gadolinium offrent des avantages similaires.
Dans un mode de réalisation, le matériau est dépourvu de Zr. Une tenue en température plus élevée est obtenue.
Dans un mode de réalisation, la région intermédiaire présente une épaisseur comprise entre 5 et 60% de l’épaisseur totale de la région intermédiaire et du revêtement.
Dans un mode de réalisation, la région intermédiaire présente une composition allant de la composition de ladite surface du corps à la composition du revêtement, avec éventuellement un dopage avec au moins un oxyde de terre rare ou d’alcalino-terreux. Une cohésion de haut niveau est obtenue.
L’invention propose un procédé de fabrication d’un matériau réfractaire à haute tenue thermomécanique et résistance à l’érosion pour applications en environnement extrême, comprenant : le mélange d’une poudre d’un matériau métallique choisi parmi : rhénium, tantale, niobium, molybdène, iridium, tungstène et leurs alliages ; et d’une poudre d’un matériau céramique réfractaire comprenant du hafnium et présentant une phase cubique, une phase pérovskite ou une phase rhomboédrique, puis l’agglomération desdites poudres en granules de composition choisie, puis l’apport par projection desdites granules sur un corps comprenant une surface réalisée en un matériau métallique choisi parmi : rhénium, tantale, niobium, molybdène, iridium, tungstène et leurs alliages, pour former une région en matériau réfractaire de température de fusion supérieure à 2700 K et comprenant ledit matériau métallique et ledit matériau céramique, puis l’apport par projection de granules dudit matériau céramique réfractaire pour former un revêtement.
Dans un mode de réalisation, l’agglomération est effectuée au moyen d’un liant, notamment organique, ou sans liant.
Dans un mode de réalisation, le procédé comprend, après l’apport, un traitement thermique à au moins 1600°C. La porosité résiduelle est sensiblement éliminée.
Dans un mode de réalisation, le procédé comprend la fabrication du corps par projection sur un support sacrificiel. Le support peut être réalisé en Mo. Le molybdène peut être éliminé par un acide ne réagissant pas avec le métal du corps.
Dans un mode de réalisation, l’apport par projection desdites granules sur le corps pour former une région en matériau réfractaire de température de fusion supérieure à 2700 K et comprenant ledit matériau métallique et ledit matériau céramique est effectué par couches, préférablement d’épaisseurs constantes ou évolutives, et de teneur en céramique progressant, préférablement selon une loi géométrique, en partant du corps .
Dans un mode de réalisation, les oxydes de tungstène sont éliminés par un traitement basse pression à une température inférieure à 1100°C.
Dans un mode de réalisation, le matériau est réalisé par projection à plasma d’arc soufflé sous air, ce qui permet de réduire les coûts.
avec x t la position temporaire de l'anche.
« Sans limitation » signifie que l’on ne tient pas compte du fait que le déplacement de l’anche est limité par la présence d’un obstacle, en particulier la table du bec de l’instrument à vent.
Selon l’invention, on prévoit de rectifier cette position pour prendre en compte le choc de l’anche avec la table du bec. Les coefficients de cette équation aux différences s'expriment en fonction des paramètres physiques du modèle d'anche :
où F s est la fréquence d'échantillonnage de la synthèse.
Pour réaliser la rectification, on considère que l'ouverture de l'anche ne conserve que la partie positive de la position de l'anche, et on y ajoute 1 (ouverture au repos sans dimension), soit :
Selon l’invention, on réalise une régularisation de la valeur absolue de forme , avec η un paramètre de régularisation qui peut dépendre des paramètres de contrôle et du doigté. La représente la fonction partie positive non régularisée et deux exemples de versions régularisées. On distingue la courbe pour η=0 qui est constituée de deux droites, une horizontale et l’autre oblique et qui se rejoignent à l’abscisse égal zéro. Les courbes pour η=0,01 et η=0,8 présentent un changement de direction plus doux, un rayon de courbure de plus en plus élevé.
L'ouverture d'anche x op s'obtient alors comme
dont on déduit la position rectifiée de l'anche
Le débit dû au déplacement de l'anche est donné par l'expression :
où λ peut dépendre des paramètres de contrôle et du doigté.
Concernant le modèle du canal d’anche 11 sur la .
Le débit total u entrant dans l'instrument peut être exprimé comme la somme du débit dû au mouvement de l’anche u r et du débit à travers le canal d’anche u b :
u = u b + u r .
Le débit u b constitue en fait le principal mécanisme d'excitation du modèle : contrairement à u r , il n'est pas linéaire, et permet donc des oscillations auto-entretenues dans le modèle.
A la fin de cette première durée, le dispositif extérieur (ou un autre dispositif extérieur) communique avec le deuxième microcircuit pour lire la date et l’heure courante de la carte, puis les compare à la date et l’heure courante de l’horloge de référence. Le résultat de la comparaison permet au dispositif extérieur de calculer la dérive temporelle naturelle de la carte 100, par exemple de son horloge, et ainsi de calculer des données de calibration permettant de corriger la dérive temporelle naturelle.
Le dispositif extérieur communique ensuite avec le deuxième microcircuit 40 par la deuxième antenne pour enregistrer les données de calibrations dans le deuxième microcircuit 40. En outre, le dispositif extérieur enregistre une nouvelle fois, dans le deuxième microcircuit 40 de la carte à puce 100, la date et l’heure courante de l’horloge de référence.
Selon une étape de coupure E230, au moins une partie de la piste conductrice 50 est coupée par embossage d’au moins un relief dans le corps 10 de la carte à puce 100.
La coupure d’au moins une partie de la piste conductrice permet de modifier le fonctionnement du deuxième microcircuit et peut ainsi permettre de désactiver ou activer une fonctionnalité du deuxième microcircuit.
Cette étape est particulièrement avantageuse en ce qu’elle peut utiliser un équipement d’embossage déjà existant pour la configuration de cartes à puce.
Selon un premier mode de réalisation, ledit au moins un relief comporte plusieurs intersections avec la piste conductrice. Ce relief permet d’augmenter l’efficacité de l’étape de coupure E230 en coupant plusieurs fois la piste conductrice 50 par embossage dudit relief dans le corps 10.
Selon un deuxième mode de réalisation du procédé, il est être prévu que la coupure de l’au moins une partie de la piste conductrice 50 pendant l’étape de coupure E230 soit par embossage de plusieurs reliefs, par exemple plusieurs caractères, dans le corps 10 de la carte à puce 100. La fiabilité de l’étape de coupure E230 est ainsi renforcée.
Avantageusement et quel que soit le mode de réalisation, la coupure d’au moins une partie de la piste conductrice est par embossage dans le corps d’au moins un caractère d’une donnée propre à la carte à puce.
En effet, la configuration de la carte à puce peut comprendre l’inscription par embossage d’une ou plusieurs données propres à la carte à puce dans le corps de la carte à puce. Une donnée propre à la carte à puce peut être liée au porteur de la carte, c’est à dire au titulaire de la carte. Des exemples de données propres à la carte à puce sont le numéro de carte PAN, la date d’expiration de la carte, le nom du porteur de carte, la date de naissance du porteur de carte.
L’embossage de telles données permet aux personnes avec une déficience visuelle de pouvoir consulter au touché les informations. L’embossage permet aussi d’empêcher l’altération des données ainsi inscrites et d’utiliser différents dispositifs pour payer par exemple, et donc d’obtenir les informations de la carte de manière lisible humainement ou mécaniquement.
Ledit au moins un caractère peut être par exemple une lettre, un chiffre, un symbole, un idéogramme ou pictogramme.
L’embossage du relief, notamment d’un caractère, peut être selon les caractéristiques qui sont détaillées dans la norme ISO/IEC 7811-1.
Typiquement, l’étape de coupure E230 d’au moins une partie de la piste conductrice est par embossage dans le corps d’au moins un relief ayant une hauteur de relief HR comprise entre 0,36 millimètres et 0,48 millimètres et une largeur de trait (par exemple respectivement S1 et S2 pour la deuxième partie 50a et la première partie 50b de la piste conductrice 50), comprise entre 0,26 millimètres et 0,76 millimètres.
Ainsi, le procédé utilise astucieusement l’embossage des données propres à la carte à puce 100 pour modifier le fonctionnement du deuxième circuit 40, par exemple pour désactiver la communication du deuxième circuit 40 par la deuxième antenne 50. Le procédé permet donc de sécuriser la configuration de la carte à puce 100 et de réduire la durée du procédé de configuration. Le nombre d’outils utilisés lors de la configuration est en outre diminué.
Avantageusement, l’étape de coupure E230 d’au moins une partie de la piste conductrice 50 est par embossage dans le corps 10 où la piste conductrice 50 a une largeur L comprise entre 4 micromètres et 300 micromètres et/ou une épaisseur E comprise entre 4 micromètres et 300 micromètres.
L’étape de coupure E230 est ainsi particulièrement adaptée pour couper par embossage d’un relief, notamment d’un caractère selon la norme ISO/IEC 7811-1, au moins une partie de la piste conductrice 50.
La représente schématiquement une vue en coupe d’un dispositif 10 de bio-méthanation selon l’invention. Le dispositif de bio-méthanation 10 d’un gaz 8 contenant du CO et/ou du H2 comprend : un premier réacteur 11 comprenant une cavité 12, ledit premier réacteur étant configuré pour être placé à l’intérieur d’un bain liquide 13 comprenant au moins une population bactérienne, de sorte que, lorsque le premier réacteur 11 est en contact avec le bain liquide 13, un biofilm est formé autour de la cavité 12 ; un injecteur 7 du gaz 8 contenant du CO et/ou H2 dans la cavité 12, le biofilm étant apte à réaliser une conversion biologique du gaz contenant du CO et/ou H2 en méthane ; un premier dispositif d’injection 14 de CO2, configuré pour injecter du CO2 gazeux 9 dans le bain liquide 13.
La cavité 12 peut être vue comme un support de croissance du biofilm microbien à l’intérieur duquel du gaz contenant du CO et/ou du H2 est injecté dans le but de réaliser un transfert du gaz par diffusion via le support. Un exemple de cavité peut être une membrane à fibres creuses ou bien deux plaques disposées parallèlement entre elles et comprenant des canaux creux entre les plaques. Le gaz contenant du CO et/ou du H2 est injecté dans les canaux ou fibres creuses. Le gaz diffuse par perméation à travers la cavité. La population bactérienne fixée sur la cavité accède alors au gaz à l’intérieur du biofilm. Il y a conversion biologique du gaz. Autrement dit, le dispositif de bio-méthanation vise à alimenter la biologie pour augmenter la production de méthane. Le gaz contenant du CO et/ou H2 est injecté dans la cavité et le biofilm se développe autour de la cavité.
Il est important de souligner que l’injecteur 7 injecte le gaz 8 contenant le CO et/ou le H2 dans la cavité, alors que le premier dispositif d’injection 14 injecte le CO2 gazeux 9 dans le bain liquide 13. Il s’agit donc d’une injection différentielle de CO2 d’une part et de CO et/ou H2 d’autre part. Le H2 et/ou CO est ainsi injecté dans le lumen, c’est-à-dire l’espace creux défini par la cavité 12, afin de maximiser le différentiel de concentration (et donc la diffusion du gaz) des deux côtés de la cavité. Grâce au dispositif de l’invention, l’ajout de CO2 dans le bain liquide est contrôlé au juste nécessaire. L’injecteur 7 dédié à l’injection de CO2 permet de piloter la quantité de CO2 introduite dans le bain liquide 13. Le dispositif de bio-méthanation selon l’invention se distingue de l’art antérieur connu pour lequel le CO2 est souvent en excès à cause d’un ajout non-contrôlé car effectué en même temps que l’ajout de CO et/ou H2.
De manière préférentielle mais tout de même optionnelle, le dispositif de bio-méthanation selon l’invention peut comprendre un générateur 21 de fines bulles ou microbulles ou nanobulles, le générateur 21 comprenant : une première entrée 22 connectée au premier dispositif d’injection 14 de CO2 ; une première sortie 23 reliée au bain liquide 13, le générateur 21 de fines bulles ou microbulles ou nanobulles étant configuré pour délivrer à la première sortie 23 des fines bulles ou microbulles ou nanobulles du CO2 injectée à la première entrée 22.
Par fines bulles, on entend des bulles issues de diffuseurs poreux ou à membrane (typiquement en élastomère équipé de trous de 0,5 à 2 mm de diamètre) et générant un panache de bulles dont le diamètre moyen à la genèse de la bulle est compris entre 1 et 5 mm. De telles bulles peuvent être obtenues par un générateur de type poreux. Par microbulles, on entend des bulles de très petite taille, d’échelle microscopique. Par nanobulles, on entend des bulles d’échelle nanoscopique. Les microbulles et nanobulles peuvent être obtenues par un générateur de type pompe à membranes. C’est le type de diffuseur qui définit la taille de bulles obtenues. La distinction entre les différentes catégories de tailles de bulles correspond à une discrétisation des mondes des nanobulles (obtenues avec des aérateurs et/ou flottation), microbulles (flottation de graisses/huile), fines bulles (aération) et grosses/moyennes bulles (aération, brassage).
Le gaz contenant du CO et/ou du H2 peut contenir également du CO2. Selon un mode de réalisation particulier, il s’agit de syngas (gaz de synthèse), notamment issu d’une unité de pyrolyse. Selon un mode de réalisation particulier, il s’agit de syngas issu de pyrolyse de : gisement organique à faible potentiel méthanogène (présence de lignine, siccité trop élevée…) ; gisement organique contenant des inhibiteurs de la méthanisation ou des composés réglementés (micro polluants, toxiques HAP, PCB, Cycle aromatique…) ; Gisement à faible cinétique de dégradation : TSH long (TSH est l’abréviation de temps de séjour hydraulique), Volume élevé de digesteur, Empreinte au sol élevée.
La représente schématiquement une vue en coupe d’un autre mode de réalisation d’un dispositif 20 de bio-méthanation selon l’invention. Le dispositif de bio-méthanation 20 comprend un deuxième dispositif d’injection 31 relié au bain liquide 13, ledit deuxième dispositif d’injection 31 étant destiné à injecter du bicarbonate de soude dans le bain liquide 13. Le bicarbonate de soude, par dissociation, produit du CO2 soluble. Cela évite à avoir à solubiliser un gaz. Alternativement, le deuxième dispositif d’injection 31 peut être relié à un réservoir en amont dans lequel le CO2 est généré à partir de bicarbonate de soude en milieu acide. Une telle injection non continue du réactif en excès (CO2) permet d’éviter toute recirculation inutile du gaz.
La représente schématiquement une vue en coupe d’un autre mode de réalisation d’un dispositif 30 de bio-méthanation selon l’invention. Le dispositif 30 de bio-méthanation comprend un troisième dispositif d’injection 41 de gaz, préférentiellement du CO2, configuré pour injecter par intermittence ledit gaz sous forme gazeuse dans le bain liquide 13, préférentiellement sous forme de fines bulles ou de grosses bulles. Le troisième dispositif d’injection 41 de gaz est destiné au récurage (ou scouring dans sa dénomination anglo-saxonne) dans le bain liquide 13. Le gaz ainsi injecté permet de balayer au moins partiellement le biofilm pour empêcher la prise en masse de la cavité. Un tel dispositif d’injection évite l’utilisation d’une pompe spécifique ou d’un brassage du bain liquide qui pourrait endommager la cavité (notamment lorsqu’il s’agit d’une membrane) et/ou le biofilm, et ainsi impacter négativement le rendement du traitement biologique. En outre, un tel dispositif d’injection 41 réduit les coûts de dépense d’exploitation liés au brassage. Dans un mode de réalisation de l’invention, le troisième dispositif d’injection 41 peut être positionné en bas de la cavité, et avantageusement combiné au premier dispositif d’injection 14 de CO2 tel que représenté sur la . Dans un autre mode de réalisation, le troisième dispositif d’injection 41 peut être positionné en surface du bain liquide. Enfin, il est également possible d’envisager deux troisièmes dispositifs d’injection 41, un en bas de la cavité et un autre en surface du bain liquide, les deux dispositifs 41 étant alors pilotables individuellement ou non.