Composant photonique (100) destiné à la mesure d’indice de réfraction d’un milieu, ledit composant comprenant un guide d’onde à nervure (10) s’étendant sur une face d’un substrat semi-conducteur, le guide d’onde ayant un profil opto-géométrique pour contraindre la transmission d’énergie d’un signal optique sous forme d’une pluralité de modes guidés le long d’un axe de propagation, ledit composant étant caractérisé en ce que : - le guide d’onde comprend une plaque (1) et une nervure centrale (2) s’étendant en surface de ladite plaque (1), la nervure présentant une dimension géométrique périodiquement variable le long de l’axe de propagation pour définir un réseau de motifs à longue période (LPG), - le guide d’onde comprend en outre une couche d’inhibition modale (3) s’étendant le long de la nervure centrale (2) de sorte à créer une région de guide inhibée de l’influence du milieu, ladite couche d’inhibition modale (3) étant conformée pour empêcher le milieu d’interagir avec au moins un des modes guidés se propageant dans la région de guide inhibée. Composant photonique selon la revendication 1, dans lequel les modes guidés de ladite pluralité comprennent un mode fondamental confiné dans une région centrale du guide et au moins un mode d’ordre supérieur confiné dans des régions latérales du guide. Composant photonique selon la revendication 2, dans lequel la couche d’inhibition modale (3) s’étend en surface de la nervure centrale (2). Composant photonique selon la revendication 2, dans lequel la couche d’inhibition modale (3) s’étend en surface de la nervure centrale (2) et recouvre les parois latérales de la nervure centrale (2). Composant photonique selon la revendication 2, dans lequel la couche d’inhibition modale (3) s’étend en surface libre de la plaque, de part et d’autre de la nervure centrale (2). Composant photonique selon l’une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel la couche d’inhibition modale (3) a un indice de réfraction inférieur à l’indice de réfraction de la plaque (1) et de la nervure centrale (2). Composant photonique selon la revendication 5, dans lequel, chaque mode guidé de ladite pluralité étant caractérisé par un indice de réfraction de groupe (n g ) à une longueur d’onde de référence du signal optique, ledit profil opto-géométrique du guide d’onde étant défini pour que : - la différence entre l’indice de groupe du mode fondamental et l’indice de groupe dudit au moins un mode d’ordre supérieur soit inférieure à 0,01. Composant photonique selon la revendication 7, dans lequel, chaque mode guidé de ladite pluralité étant caractérisé par un indice de réfraction effectif (n eff ) à la longueur d’onde de référence, ledit profil opto-géométrique du guide d’onde étant défini pour que : - la différence entre l’indice effectif du mode fondamental et l’indice effectif dudit au moins un mode d’ordre supérieur soit inférieure à 0,02. Composant photonique selon l’une quelconque des revendications 1 à 8, dans lequel la dimension géométrique périodiquement variable de la nervure (2) est la largeur et/ou la hauteur de la nervure centrale (2). Composant photonique selon l’une quelconque des revendications 1 à 9, dans lequel le réseau de motifs à longue période est défini par une modulation de forme appartenant au groupe comprenant : sinusoïdale, carrée, rectangulaire, triangulaire, gaussienne. Composant photonique selon l’une quelconque des revendications 1 à 10, dans lequel la période du réseau à longue période est comprise entre 10 et 100 fois la longueur d’onde de référence, et le nombre de périodes est compris entre 10 et 500. Circuit photonique destiné à la mesure d’indice de réfraction d’un milieu, caractérisé en ce qu’il comprend, disposés en série, une source de lumière, un coupleur d’entrée, au moins un composant photonique (100) défini selon les revendications 1 à 11, un coupleur de sortie et un détecteur de lumière. Procédé de fabrication d’un composant photonique (100) destiné à la mesure d’indice de réfraction d’un milieu, ledit composant photonique comprenant un guide d’onde à nervure (10) le guide d’onde ayant un profil opto-géométrique pour contraindre la transmission d’énergie d’un signal optique sous forme d’une pluralité de modes guidés le long d’un axe de propagation, le procédé étant caractérisé en ce qu’il comprend les étapes ordonnées suivantes : - dépôt (S1) d’une couche photonique sur un substrat semi-conducteur ; - création (S2) d’une couche d’inhibition modale (3) sur la couche photonique, la couche d’inhibition modale définissant un motif de masquage surfacique prédéfini, ladite couche d'inhibition modale étant conformée pour empêcher le milieu d'interagir avec au moins un des modes guidés se propageant dans la région de guide inhibée ; - dépôt (S3) d’une résine de masquage électro-sensible ; - structuration (S4) d’une plaque (1) par lithographie, puis gravure via la résine de masquage électro-sensible ; - structuration (S5) d’une nervure centrale (2) par gravure en utilisant la couche d’inhibition modale en tant que masque de protection à la gravure, de manière à former un réseau de motifs à longue période prédéfini. Procédé de fabrication selon la revendication 13, dans lequel l’étape de structuration (S4) comprend une étape d’estimation de hauteur de gravure en fonction d’une plage de longueurs d’onde de résonance donnée.