INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans le domaine des véhicules électriques, des connectiques appelées barres d’interconnexion (busbar) sont présentes pour faire circuler le courant à haute intensité à l’intérieur et à l’extérieur des batteries. Ces barres doivent être protégés par un revêtement isolant et résistant aux sollicitations mécaniques et au vieillissement. Compte tenu des conséquences qu’aurait un incendie dans un tel environnement, le revêtement doit aussi présenter une excellente résistance au feu.
Plusieurs procédés existent pour préparer des busbars. Le principal est l’extrusion du polymère autour de la lamelle de cuivre centrale. Cette structure est ensuite découpée et pliée (à température ambiante) pour adopter la forme requise par l’agencement du véhicule. Pour les formes les plus complexes de busbar, un recouvrement par voie de dépôt de poudre « powder coating » peut aussi être utilisé avec des grades spécifiques.
La problématique technique liée à l’application busbar pour batterie consiste à former une couche fine de polymère qui soit résistante au feu (UL94 V0 à 0,8 mm), tout en conservant un haut niveau de flexibilité pour accommoder la déformation des busbars. Lors d’un pliage, un matériau trop rigide forme des fissures sur la face externe et des « vagues » ou « bourrelets » en face interne, phénomènes qui sont rédhibitoires pour l’application.
Le comportement au seuil de plasticité du matériau est donc capital. Des faibles contraintes au seuil et un grand allongement au seuil sont recherchés.
Les niveaux de déformation de ces revêtements restent faibles mais le matériau doit tout de même présenter un allongement à la rupture > 50%. Une bonne résistance à l’abrasion est aussi nécessaire pour cette application.
Le revêtement doit aussi jouer le rôle d’isolant électrique qui se traduit sur des propriétés telles que la tension de claquage, la rigidité diélectrique et le « comparative tracking index » (CTI) > 600V. Cette isolation doit être conservé au cours de vieillissements thermiques accélérés pouvant aller jusqu’à 150°C.
Enfin les propriétés rhéologiques de l’alliage doivent être adaptées à l’extrusion de couche mince de polymère de l’ordre de 0,5 mm.
Le noir de carbone utilisé était du noir de carbone Propel ® X25 (« X25 » ; Cabot Corporation). L’élastomère utilisé était du caoutchouc naturel SMR20 (Hokson Rubber, Malaisie). Les descriptions techniques de ces caoutchouc naturels sont largement disponibles, tel que dans le Rubber World Magazine’s Blue Book publié par Lippincott et Peto, Inc. (Akron, Ohio, États-Unis). Du noir de carbone humide a été préparé par laminage de pastilles sèches de noir de carbone avec un laminoir de 8” modèle MicroJet pour générer des particules de noir de carbone floconneux ayant 99,0 % des particules d’un diamètre inférieur à 10 μm. Ce noir de carbone floconneux a alors été mis sous forme de pastilles par voie humide dans une pastilleuse à broche. Le noir de carbone humide résultant (noir de carbone réhumidifié) avait une teneur en humidité de 57 %. La résine utilisée était une résine modifiée Oppera ® PR373, une résine en C5/C9 de ExxonMobil, ayant une Tg = 44 °C et un point de ramollissement par bille et anneau de 89 °C.
Un protocole de mélange à trois stades a été suivi pour préparer les composés de mélange par voie sèche de référence et de mélange par voie humide. Les protocoles de mélange de stade 1 pour les composés de mélange par voie sèche et pour les composés de mélange par voie humide sont montrés dans le Tableau 11 et le Tableau 12, respectivement. Une température TCU de 50 °C, une vitesse de rotor de 80 tr/min, et un facteur de remplissage de 70 % ont été appliqués dans le mélange par voie sèche de stade 1 tandis qu’une température TCU de 85 °C, une vitesse de rotor de 105 tr/min, et un facteur de remplissage de 70 % au stade 1 ont été appliqués pour le mélange par voie humide. Pour le procédé de mélange par voie sèche, de la résine a été ajoutée avec un élastomère pendant le mélange de premier stade, tel qu’indiqué dans le Tableau 11. Les intervalles de temps font référence à la période de temps à partir du démarrage du mélange, défini comme étant « 0 s ».
Temps (s) Temp (°C) Description 0 50 Ajout de polymère et de résine (le cas échéant) 30 Ajout de 2/3 du noir de carbone 90 Ajout du noir de carbone restant 120 Balayage 180 Ajout de ZnO, d’acide stéarique, de 6 PPD, de TMQ, de cire 240 Raclage/balayage 300 160 Déversement à 300 s et ajustement des tr/min pour atteindre une temp
Temps (s) Temp (°C) Description 0 85 Ajout de polymère 30 Ajout de 3/4 du noir de carbone 150 125 Balayage et ajout du noir de carbone restant à 150 s ou 125 °C 190 Balayage 150 Ajout de 6 PPD et de résine (le cas échéant) 155 Raclage/balayage 160 Déversement
Les protocoles des deuxième et troisième stades des Tableaux 5 et 6 ont été effectués pour des composés de caoutchouc mélangés à la fois par voie sèche et humide. Pour le composite mélangé par voie humide, du ZnO (3 pce), de l’acide stéarique (2 pce), de la 6PPD (0,5 pce), du TMQ (1,5 pce) et de la cire (1,5 pce) ont été ajoutés pendant le mélange de deuxième stade tel qu’indiqué dans le Tableau 5. Pour le mélange du stade final, des vulcanisants (1,2 pce de soufre et 1,4 pce de TBBS) ont été ajoutés selon le Tableau 6. Le Tableau 13 montre les propriétés des composés de caoutchouc durcis.
Ingrédient 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 Mélange Mélange par voie sèche Mélange par voie humide NR (SMR20) 100 100 100 100 100 100 100 100 100 100 CB sec X25 46 50 50 50 55 CB humide X25 46 50 50 50 55 Résine en C5/C9 5 10 10 5 10 10 6PPD 1,5 1,5 1,5 1,5 1,5 1,5 1,5 1,5 1,5 1,5 TMQ 1,5 1,5 1,5 1,5 1,5 ZnO 3,0 3,0 3,0 3,0 3,0 SA 2,0 2,0 2,0 2,0 2,0 Cire 1,5 1,5 1,5 1,5 1,5 Propriétés Teneur en eau 1,2 1,0 1,0 1,3 1,0 Résistivité volumique, log Ohm.cm 2,7 2,5 2,5 2,8 2,7 3,1 2,8 3,3 3,5 3,2 M100 à 23 °C, MPa 2,8 3,2 2,6 2,3 2,6 2,6 3,0 2,6 2,3 2,5 M300 à 23 °C, MPa 16,3 18,2 15,0 13,1 14,6 16,7 18,5 16,8 14,9 16,0 M300/M100 5,8 5,7 5,8 5,7 5,7 6,3 6,3 6,4 6,5 6,3 Résistance à la déchirure au niveau de la filière B à 23 °C, KNm 183 163 179 177 184 169 163 144 151 133 tan δ max à 60 °C -Balayage de déformation 0,197 0,218 0,232 0,238 0,268 0,172 0,187 0,188 0,197 0,220
D’après les données du Tableau 13, on peut également voir que les composés de caoutchouc mélangés par voie humide, comparativement aux composés analogues mélangés par voie sèche, ont fourni des valeurs M300/M100 accrues et une hystérésis réduite tel que reflété par les valeurs tan δ inférieures. On peut également voir que les composés de caoutchouc mélangés par voie humide, comparativement aux composés analogues mélangés par voie sèche, présentaient une résistivité électrique accrue. L’Ex. 29, qui est un composé mélangé par voie sèche sans résine, a la valeur de résistivité électrique la plus faible (log résistivité -= 2,5). L’ajout de 10 pce de résine augmente la résistivité de l’échantillon de mélange par voie sèche (Ex. 31). Les exemples de mélange par voie humide fournissent une résistivité électrique accrue en particulier pour les échantillons dans lesquels de la résine a été ajoutée (voir Ex. 35 et Ex. 36). Cette augmentation de résistivité peut indiquer une microdispersion améliorée des charges à partir du procédé de mélange par voie humide.
Les termes « comprenant », « ayant », « incluant » et « contenant » doivent être interprétés comme des termes ouverts (à savoir, signifiant « incluant, mais sans s’y limiter, ») sauf indication contraire. La citation de plages de valeurs ici est simplement destinée à servir de méthode raccourcie pour faire référence individuellement à chaque valeur séparée se trouvant à l’intérieur de la plage, sauf indication contraire ici, et chaque valeur séparée est incorporée dans le mémoire descriptif comme si elle était citée individuellement ici. Toutes les méthodes décrites ici peuvent être effectuées dans tout ordre approprié, sauf indication contraire ici ou si clairement contre-indiqué par le contexte. L’utilisation de l’un quelconque et de tous les exemples, ou d’une expression donnée à titre d’exemple (par exemple, « tel que ») fournie ici, est simplement destinée à mieux éclairer l’invention et ne pose pas de limitation sur la portée de l’invention, sauf revendication contraire. Aucune expression dans le mémoire descriptif ne doit être interprétée comme indiquant un élément non revendiqué comme étant essentiel à la mise en pratique de l’invention.
La découpe peut être alignée avec l’impression, avec des moyens de repérage optiques similaires à ceux utilisés pour l’alignement du recto et du verso.
À la suite de la découpe du textile (T), les étiquettes obtenues peuvent être disposées en vrac dans un récipient tel qu’un sachet, ou de préférence être convoyées lors d’une étape de convoyage (91), afin d’être conditionnées lors d’une étape d’empilage (92).
L’empileur utilisé lors de cette étape d’empilage (92) comprend de préférence plusieurs postes, ou magasins, afin que l’opérateur puisse manipuler une pile déjà complète, pendant qu’une autre pile est en train d’être constituée.
En particulier, certaines étapes du procédé peuvent être réalisées dans un ordre différent de celui présenté : - par exemple, l’étape de contrôle (60) peut être effectuée après l’étape de découpe (90) afin que la qualité de la découpe soit également vérifiée ; - la première impression (40a) peut être effectuée juste après la première dépose de primaire (20a), et la seconde étape d’impression (40b) juste après la seconde étape de dépose de primaire (20b). Ceci permet de ne nécessiter qu’une seule étape de retournement (30) durant le procédé.
En outre, certaines étapes peuvent être facultatives. Par exemple si le textile (T) à imprimer a été au préalable enduit par le fabricant du textile, alors la dépose de primaire est inutile.
La machine permettant de mettre en œuvre un tel procédé nécessite des modules de guidage adaptés à des laizes étroites du textile (T), afin d’assurer le bon déroulement et enroulage du textile (T) souple. Ces modules de guidage sont en particulier adaptés afin de ne pas modifier la tension du textile (T) outre mesure, car cela aurait pour conséquence de le déformer, si bien que le pas de l’impression effectuée ne correspondrait plus à la valeur théorique prévue.
Les modules de guidage peuvent donc inclure des tenseurs en cas de matière avec des déformations importantes, et ces tenseurs sont tarés ou asservis afin que la tension du textile (T) soit maîtrisée.
Les modules de guidage sont également adaptés pour effectuer les va et vient nécessaires à l’enroulement sous forme de bobines.
L’avance du textile (T) lors du procédé peut être générée par une motorisation des moyens de guidage, et de préférence par plusieurs motorisations régulièrement réparties de manière que chaque étape du procédé ait sa propre motorisation. Cela permet de maîtriser parfaitement l’avance du textile (T), notamment lors des étapes d’impression. Dans ce cas, les moyens de guidage incluent aux endroits nécessaires des régulateurs de tension et des moyens de synchronisation de préférence optiques, entre les différents postes.
En outre, les caractéristiques techniques des différents modes de réalisation et variantes mentionnés ci-dessus peuvent être, en totalité ou pour certaines d’entre elles, combinées entre elles. Ainsi, le procédé peut être adapté en termes de coût, de fonctionnalités et de performance.
Ensemble d’usure, pour un godet d’une machine d’extraction ou de travaux La présente invention concerne un ensemble d’usure, pour un godet d’une machine d’extraction ou de travaux.
L’invention se rapporte au domaine des équipements des machines d’extraction et de travaux, concernant en particulier les godets, bennes ou autres réceptacles utilisés à la fois pour travailler, en particulier creuser, racler et/ou prélever, un matériau et déplacer ce matériau. Le matériau est généralement un matériau lourd, dur, granuleux et/ou abrasif. Par exemple le matériau est de la terre, des roches, des agrégats ou des gravats.
De manière connue, un godet comprend une lame d’attaque équipée de dents, qui sont des pièces d’usure conçues pour leur capacité d’attaque et de pénétration du matériau travaillé et transporté par le godet. On prévoit la possibilité de pouvoir remplacer individuellement chaque dent lorsqu’elle est usée.
FR 3 011 013 A1 divulgue un godet, avec un support et une dent, qui peut être verrouillée sur le support à l’aide d’un dispositif de liaison. Le dispositif de liaison comprend un fourreau élastiquement déformable, une clavette en métal, une came crantée en métal, un croissant en métal et deux joints. La clavette, la came crantée et le croissant sont reçus dans le fourreau. Lorsque le dispositif de liaison est reçu dans un logement du support et que la dent est montée sur le support, la clavette et la came sont mobiles solidairement en rotation dans une cavité interne du fourreau, entre une configuration d’insertion de la clavette dans la came et une ou plusieurs configurations de verrouillage, où la clavette appuie radialement contre la dent, tandis que la came appuie contre le fourreau pour que le fourreau appuie contre le logement du support, pour former une liaison d’accouplement de la dent et du support. La cavité interne du fourreau reçoit aussi le croissant métallique, qui sert de palier pour supporter la rotation de l’ensemble clavette-came. Les joints sont disposés de part et d’autre du fourreau pour assurer l’étanchéité.
Ce dispositif de liaison connu donne généralement satisfaction, en étant particulièrement endurant et fiable en dépit d’une utilisation intensive du godet. Toutefois, ce dispositif de liaison est relativement complexe à fabriquer, compte-tenu de la nécessité de prévoir un total de six pièces. Certaines pièces critiques, telles que la clavette et la came crantée, doivent être formées par un procédé de forgeage exigeant, tout en nécessitant des usinages ultérieurs pour obtenir le crantage et/ou former la tête de la clavette.
La composition présente une action lissante sur les rides de la zone du coin de l’œil. La surface totale de rides et la longueur totale de rides a diminué significativement (de -15% à -20%), quatre heures après application de la composition sur la zone étudiée.
Exemple 6 : Composition pour les lèvres La composition ci-dessous est une composition pour les lèvres, comprenant une association de polyglycérols de différents poids moléculaires, du glycérol et des agents lissants (acides hyaluroniques).
La formule est détaillée dans le Tableau 8 ci-dessous. Les pourcentages sont exprimés en poids de la composition finale.
Ingrédients Teneur (%) Polyglycerin-3 (PGL-S) 1,0 Polyglycerin-6 (POLYGLYCERIN 500 MB) 4,5 Huile végétale 38 Acide hydroxystéarique 1,2 Gélifiant (bentone) 13 Cire végétale 5 Cellulose 2 Glycérol 10 Carbopol 0,2 Sodium hyaluronate 0,5 Hyaluronate de sodium acétylé (Primalhyal TM Ultrafiller ) 0,3 Conservateurs 0,3 Eau QSP 100
Appliquée sur les lèvres et la zone du contour des lèvres, cette composition confère un effet lissant et repulpant des lèvres et de la zone qui l’entoure.
Compositions photoprotectrices minérales avec IPS et durée de vie élevés La présente invention concerne des compositions photoprotectrices et des procédés d'utilisation des compositions photoprotectrices pour protéger du rayonnement UV des substrats kératiniques tels que la peau et les cheveux.
Contexte Les effets négatifs de l'exposition à la lumière ultraviolette (« UV ») sont bien connus. Une exposition prolongée à la lumière du soleil provoque des dommages tels que des coups de soleil sur la peau et dessèche les cheveux, les rendant cassants. Lorsque la peau est exposée à une lumière UV ayant une longueur d'onde d'environ 290 nm à environ 400 nm, des dommages à long terme peuvent entraîner des affections graves telles que le cancer de la peau.
La lumière UV contribue également au vieillissement en provoquant la formation de radicaux libres dans la peau. Les radicaux libres comprennent, par exemple, l'oxygène singulet, le radical hydroxyle, l'anion superoxyde, l'oxyde nitrique et les radicaux hydrogène. Les radicaux libres attaquent l'ADN, les lipides membranaires et les protéines, générant des radicaux carbonés. Ceux-ci réagissent à leur tour avec l'oxygène pour produire un radical peroxyle qui peut attaquer les acides gras adjacents pour générer de nouveaux radicaux carbonés. Cette cascade conduit à une réaction en chaîne produisant des produits de peroxydation lipidique. Les dommages à la membrane cellulaire entraînent une perte de perméabilité cellulaire, une augmentation de la concentration ionique intercellulaire et une diminution de la capacité d'excréter ou de détoxifier les déchets. Le résultat final est une perte d'élasticité de la peau et l'apparition de rides. Ce processus est communément appelé photo-vieillissement.
Les écrans solaires peuvent être utilisés pour protéger contre les dommages causés par les UV et retarder les signes du photo-vieillissement. Le degré de protection contre les UV apporté par une composition photoprotectrice est directement lié à la quantité et au type de filtres anti-UV qu'elle contient. Plus la quantité de filtres anti-UV est importante, plus le degré de protection contre les UV sera important (UVA/UVB). Les consommateurs préfèrent que les compositions photoprotectrices contiennent des composants naturels et non irritants qui semblent naturels (imperceptibles) une fois appliqués. Il est admis que fournir des produits de protection solaire à base de minéraux ayant un indice de protection solaire (IPS) élevé à longue durée de conservation et capables de maintenir le bénéfice de l’IPS pose des défis.
Les inventeurs de la présente invention ont formulé un écran solaire à base minérale qui présente de manière inattendue un IPS élevé et une stabilité structurelle d'émulsion élevée en présence de quantités importantes d'écrans solaires à base minérale qui confèrent également un bon aspect esthétique.
Résumé La présente invention concerne une composition photoprotectrice qui comprend des agents minéraux filtrants les UV, qui sont connus pour être non irritants, naturels et doux pour la peau, ainsi que des épaississants acryliques à base d'huile et des tensioactifs non ioniques qui confèrent une protection solaire stable et une stabilité structurelle d'émulsion en la présence de quantités élevées de filtres anti-UV minéraux. La composition photoprotectrice relève les défis connus dans l'art dans lesquels des niveaux élevés de filtres anti-UV minéraux se sont avérés instables, comme décrit plus en détail ici. La composition photoprotectrice peut éventuellement comprendre des filtres anti-UV organiques.
Dans divers modes de réalisation, la composition photoprotectrice comprend des tensioactifs non ioniques qui sont choisis parmi les éthers de polyéthylène glycol d'acides gras ou les esters de polyéthylène glycol d'acides gras pour fournir une composition qui peut, de manière inattendue, être préparée à l'échelle commerciale et qui démontre une stabilité structurelle de l’IPS et de l'émulsion qui dépasse ce qui a été observé avec des compositions similaires qui incluent des filtres solaires minéraux et des épaississants d'huile à base d'acrylate lipophile sans les tensioactifs sélectionnés. La composition photoprotectrice a une valeur d’IPS testée in vivo de 50 ou plus.
La composition selon l’invention concerne une composition photoprotectrice comprenant une émulsion huile-dans-eau de phases aqueuse et huileuse, comprenant :
i. au moins un épaississant d’huile à base d'acrylate lipophile,
ii. au moins un filtre anti-UV minéral ;
iii. au moins un tensioactif non ionique choisi dans le groupe constitué par les éthers de polyéthylène glycol, les esters de polyéthylène glycol d'acides gras, et leurs combinaisons
A titre d'exemple, le niveau M1 comprend, pour chaque colonne de pixels du dispositif d'imagerie, trois pistes conductrices de colonne C1, C2, C3 destinées à véhiculer respectivement un signal VX représentatif de l'intensité du rayonnement X reçu par les détecteurs XD des pixels de la colonne correspondante, un signal DATA de commande des LED des pixels de la colonne correspondante, et un signal VDD d'alimentation des LED des pixels de la colonne correspondante. Dans cet exemple, le niveau M2 comprend, pour chaque ligne de pixels du dispositif d'imagerie, deux pistes conductrices de ligne L1 et L2 destinées à véhiculer respectivement un signal SELXD de sélection des détecteurs de rayons X des pixels de la ligne correspondante, et un signal SELLED de sélection des LED des pixels de la ligne correspondante.
Les plots métalliques P1, P2, P3, P4, P5, P6 sont formés sur des zones conductrices du niveau métallique M2 et sont destinés à recevoir respectivement six plots de connexion distincts de la puce élémentaire du pixel. Les plots P1, P2, P3, P4, P5, P6 sont connectés respectivement à la piste conductrice L1 de la ligne de pixels correspondante, à la piste conductrice L2 de la ligne de pixels correspondante, à l'électrode E1 du détecteur XD du pixel correspondant, à la piste conductrice C3 de la colonne de pixels correspondante, à la piste conductrice C4 de la colonne de pixels correspondante, et à la piste conductrice C5 de la colonne de pixels correspondante.
On notera que la variante des figures 4A et 4B peut être combinée à la variante de la , auquel cas les éléments de connexion CT et 301 de la peuvent être omis.
La est une vue en coupe illustrant une autre variante de réalisation d'un dispositif d'imagerie à rayons X selon un mode de réalisation. Dans cet exemple, le dispositif comprend deux dispositifs du type décrit en relation avec la , superposés.
Le dispositif de la permet de faire de l'imagerie à rayons X biénergie, aussi appelée imagerie à rayons X couleur, c'est-à-dire d'imager respectivement un premier niveau d'énergie, appelé niveau de basse énergie (BE), au moyen du dispositif d'imagerie supérieur, et un deuxième niveau d'énergie, appelé niveau de haute énergie (HE), au moyen du dispositif d'imagerie inférieur. A titre d'exemple, le dispositif d'imagerie supérieur est adapté à détecter des rayonnements de niveau d'énergie compris entre 1 keV et 140 keV, par exemple entre 40 keV et 80 keV, par exemple de l'ordre de 60 keV en moyenne, et le dispositif d'imagerie inférieur est adapté à détecter des rayonnements de longueur d'onde comprise entre 60 keV et 140 keV, par exemple entre 80 keV et 120 keV, par exemple de l'ordre de 100 keV en moyenne.
Dans l'exemple représenté, une couche d'interface 510 est disposée entre la face inférieure du substrat de support 101 du dispositif supérieur et la face supérieure de la structure de détection 310 du dispositif inférieur. L'épaisseur du substrat de support du dispositif supérieur est de préférence relativement faible pour limiter l'absorption des photons de haute énergie. A titre d'exemple, l'épaisseur du substrat de support du dispositif supérieur est inférieure à l'épaisseur du substrat de support du dispositif inférieur.
La couche d'interface 510 peut comprendre une couche de filtrage adaptée à filtrer le rayonnement basse-énergie de façon que seul le rayonnement haute-énergie parvienne sur le dispositif d'imagerie inférieur. La couche de filtrage est par exemple une couche métallique, par exemple continue, par exemple en cuivre ou en aluminium, par exemple d'épaisseur comprise entre 0,1 et 0,4 mm. La couche de filtrage permet d'améliorer la séparation spectrale entre les deux dispositifs d'imagerie. De préférence, la couche de filtrage est isolée électriquement de l'électrode supérieure de la structure de détection 310, par exemple au moyen d'un film transparent en un matériau électriquement isolant (non détaillé sur la figure), par exemple un matériau polymère. A titre d'exemple, chacun des deux dispositifs comprend un boîtier de protection, non visible sur les figures, par exemple en un matériau électriquement isolant, la couche de filtrage étant disposée entre les deux dispositifs.
A titre de variante, la couche d'interface 510 peut être omise.
Le mode de réalisation de la peut bien entendu être combiné à toutes les variantes décrites précédemment.