Installation d’infiltration chimique en phase gazeuse ou de dépôt chimique en phase gazeuse (100) comprenant une enceinte (110) renfermant une première chambre de réaction (120) comprenant une première entrée de gaz (122), une première chambre de préchauffage (123), une première zone de chargement (124) et une première sortie de gaz (125), la première chambre de préchauffage (123) étant présente entre la première entrée de gaz (122) et une première extrémité (1241) de la première zone de chargement, la première sortie d’évacuation de gaz (125) étant présente à une deuxième extrémité (1242) de la première zone de chargement opposée à la première extrémité, l’enceinte (110) étant reliée à au moins une conduite d’alimentation en gaz (150) et à au moins une conduite d’évacuation de gaz, caractérisée en ce que l’enceinte (110) renferme en outre une deuxième chambre de réaction (130) comprenant une deuxième entrée de gaz (132), une deuxième chambre de préchauffage (133), une deuxième zone de chargement (134) et une deuxième sortie de gaz (135), la deuxième chambre de préchauffage (133) étant présente entre la deuxième entrée de gaz (132) et une première extrémité (1341) de la deuxième zone de chargement (134), la deuxième sortie d’évacuation de gaz (135) étant présente à une deuxième extrémité (1342) de la deuxième zone de chargement opposée à la première extrémité et en ce que les première et deuxième entrées de gaz (122, 132) sont indépendantes l’une de l’autre. Installation selon la revendication 1, dans laquelle les première et deuxième chambres de réaction (120, 130) sont superposées à l’intérieur de l’enceinte. Installation selon la revendication 2, comprenant en outre un circuit interne d’alimentation en gaz (160) contournant la première chambre de réaction (120), ledit circuit interne d’alimentation en gaz étant relié à la deuxième entrée de gaz (132) de la deuxième chambre de réaction (130). Installation selon la revendication 3, dans lequel le circuit interne d’alimentation en gaz (160) comprend un ou plusieurs canaux de circulation (161, 162, 163, 164) s’étendant chacun à l’extérieur de la première chambre de réaction (120) entre un port d’injection de gaz (170) et la deuxième entrée de gaz (132) de la deuxième chambre de réaction (130). Installation selon la revendication 4, dans laquelle le ou les canaux de circulation comprennent des chicanes. Installation selon la revendication 4 ou 5, comprenant un premier port d’injection de gaz (140) reliant ladite au moins une conduite d’alimentation de gaz (150) à la première entrée de gaz (122) de la première chambre de réaction (120) et un deuxième port d’injection de gaz (170) reliant ladite au moins une conduite d’alimentation de gaz à l’un ou les canaux de circulation. Installation selon l’une quelconque des revendications 3 à 6, dans laquelle la deuxième entrée de gaz (132) de la deuxième chambre de réaction (130) comprend un module redresseur de flux (1320). Installation selon la revendication 2, dans laquelle les première et deuxième sorties d’évacuation de gaz (225, 235) des première et deuxième chambres de réaction (220, 230) sont en vis-à-vis l’une de l’autre tandis que les première et deuxième entrées de gaz (222, 232) des première et deuxième chambres de réaction sont à des endroits opposés dans l’enceinte (210), la première entré de gaz (222) de la première chambre de réaction (220) étant reliée à un premier port d’injection de gaz (240) et la deuxième entrée de gaz (232) de la deuxième chambre de réaction (230) étant reliée à un deuxième port d’injection de gaz (270).