Structure (10, 10’, 10’’, 1000, 1000’, 1000’’) de métrologie formée sur au moins un support (2) et dotée de cibles (12, 12’, 12’’, 12w, 12x, 12y) élémentaires identiques, chaque cible élémentaire comprenant un premier motif (14, 14’, 1400, 1400’) et un deuxième motif (16, 16’,16’’) superposés, - le premier motif étant formé d’un premier ensemble de segments (141, 142, 143, 144, 141a, 141b, 142a, 142b, 143a, 143b, 144a, 144b) agencés dans un premier plan et répartis le long d’un contour polygonal, en particulier rectangulaire ou carré, - le deuxième motif étant formé d’un deuxième ensemble de segments (161, 162) agencés dans un deuxième plan parallèle ou sensiblement parallèle au premier plan et distinct du premier plan, les segments (161, 162) du deuxième ensemble étant répartis de sorte qu’un premier segment (161) du deuxième ensemble est orthogonal ou sensiblement orthogonal et joint en un point donné (G2) un deuxième segment (162) du deuxième ensemble, de sorte à former une croix, lesdites cibles élémentaires étant réparties selon un agencement matriciel comportant parallèlement à une première direction, une ou plusieurs premières rangées de cibles élémentaires identiques et, parallèlement à une deuxième direction orthogonale à la première direction, une ou plusieurs autres rangées de cibles élémentaires identiques. Structure de métrologie selon la revendication 1, dans lequel au moins un segment donné parmi lesdits segments (141, 142, 143, 144) du premier motif et/ou du deuxième motif (161, 162) comporte des dents (163, 165, 164, 166, 143, 145, 144, 146) de part et d’autre dudit segment donné, de sorte à former une structure de peigne. Structure de métrologie selon la revendication 2, dans lequel la structure de peigne est pourvue d’une ou plusieurs premières dents (163, 164, 143, 144) situées d’un premier côté dudit segment donné et d’une ou plusieurs deuxièmes dents (165, 166, 145, 146) situées d’un deuxième côté dudit segment donné opposé au premier côté. Structure de métrologie selon l’une des revendications 2 ou 3, dans laquelle au moins une première dent (163) est prévue avec une largeur (WT1) mesurée parallèlement à la direction donnée différente de la largeur (WT2) d’une deuxième dent en regard de laquelle la première dent est agencée, et/ou dans laquelle - au moins une première dent (163) est prévue avec une longueur (LT1) mesurée orthogonalement à la direction donnée différente d’une longueur (LT2) d’une deuxième dent (165) en regard de laquelle la première dent est agencée, et/ou dans laquelle - des premières dents (163) adjacentes sont espacées deux à deux selon un premier espacement (gT1) et des deuxièmes dents en regard des premières dents sont espacées deux à deux selon un deuxième espacement (gT2), le premier espacement étant prévu différent du deuxième espacement. Structure de métrologie selon l’une des revendications 3 ou 4, dans lequel ledit au moins un autre segment (162) orthogonal au segment donné (161) forme un peigne muni de dents (164, 166) réparties de part et d’autre dudit autre segment (162). Structure de métrologie selon l’une revendication 3 à 5, dans lequel ledit segment donné appartient au premier motif, le premier segment et/ou le deuxième segment dudit deuxième motif comportant également des dents de sorte à former une structure de peigne. Structure de métrologie selon l’une des revendications 1 à 6, dans lequel dans la première direction, le premier motif (14) et le deuxième motif (16) sont répétés selon un même premier pas (V-P1, V-P2) de répartition et dans lequel, dans la deuxième direction, le premier motif (14) et le deuxième motif (16) sont répétés selon un même deuxième pas (H-P1, H-P2) de répartition, ledit premier pas (V-P1, V-P2) de répartition étant différent dudit deuxième pas (H-P1, H-P2) de répartition. Structure de métrologie selon l’une des revendications 1 à 7, dans lequel dans la première direction, un deuxième motif (16’, 16’’) d’une première cible élémentaire (12’, 12’’) est relié à un deuxième motif (16’, 16’’) d’une deuxième cible élémentaire (12’, 12’’) et dans lequel dans ladite deuxième direction, ledit deuxième motif (16’, 16’’) de ladite première cible élémentaire (12’, 12’’) et un autre deuxième motif d’une troisième cible élémentaire (12’ 12’’) sont disjoints. Structure de métrologie selon la revendication 8, dans lequel le deuxième motif (16’, 16’’) de ladite première cible élémentaire et le deuxième motif (16’, 16’’) de la deuxième cible élémentaire sont espacés d’une première distance (D 21 ) et dans lequel dans la deuxième direction, le deuxième motif (16’’) de la première cible élémentaire (12’’) et ledit autre deuxième motif (16b) de ladite troisième cible élémentaire (12b) sont espacés d’une deuxième distance différente de la première distance (D 22 ). Structure de métrologie selon l’une des revendications 1 à 9, dans lequel ledit premier ensemble de segments dudit premier motif (1400’) est formé, dans la première direction, de segments (141a, 141b) espacés entre eux d’une distance donnée (D 1 1 ) et, dans la deuxième direction, de segments (144a, 144b) espacés d’une autre distance (D 1 2 ) distincte de ladite distance donnée. Structure de métrologie selon l’une des revendications 1 à 9, dans lequel ledit premier ensemble de segments (141, 142, 143, 144) dudit premier motif est formé, dans la première direction, de segments (144a, 144b) espacés entre eux d’une distance donnée et dans la deuxième direction de segments continus. Structure de métrologie selon l’une des revendications 1 à 11, dans lequel le premier segment (161) et le deuxième segment (162) ont des largeurs respectives (WS3, WS4) différentes, et/ou dans lequel des segments du premier ensemble de segments (141, 142, 143, 144) parallèles à la première direction ont une première largeur (WS1) et des segments du premier ensemble de segments parallèles à la deuxième direction ont une deuxième largeur (WS2) différente de la première largeur. Structure de métrologie selon l’une des revendications 1 à 12, ledit premier ensemble de segments et le deuxième ensemble de segments étant répartis de sorte qu’un axe (A’A) orthogonal au support (2) et passant par ledit point donné (G2), passe également par un point central (G1) dudit contour polygonal. Structure de métrologie selon l’une des revendications 1 à 13, dans lequel ledit support est un substrat sur lequel un empilement de couches minces est formé, le premier motif étant réalisé dans une première couche mince dudit empilement, le deuxième motif étant réalisé dans une deuxième couche mince dudit empilement, la première couche mince et la deuxième couche mince étant situées à des niveaux distincts d’une superposition de niveaux dudit empilement. Ensemble de masques de photolithographie formant une structure de métrologie selon l’une des revendications 1 à 14. Procédé de fabrication d’un dispositif microélectronique ou d’un microsystème comprenant au moins une étape de mesure de dimension critique ou de recouvrement (overlay) ou une étape de détection du focus d’un appareil de photolithographie au moyen d’une structure de métrologie selon l’une des revendications 1 à 14.