INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
La valeur d’accélération, notée ‘a pente ’ est par exemple obtenue à partir de l’équation suivante :
a pente = g * sin θ
avec g l’accélération gravitationnelle (g = 9.8 m.s -2 ) et θ l’angle d’inclinaison de la pente
Une fois déterminée, cette valeur d’accélération est par exemple stockée dans une mémoire du calculateur mettant en œuvre le processus ou dans une mémoire associée à ce calculateur.
Dans une troisième opération, une deuxième vitesse est déterminée en fonction de la valeur d’accélération calculée à la deuxième opération et d’une première vitesse correspondant à une vitesse limite maximale du véhicule fixée ou paramétrée via le limiteur de vitesse.
La première vitesse correspond à la vitesse que le véhicule 10 ne doit pas dépasser, cette première vitesse correspondant au paramètre de contrôle du limiteur de vitesse et appelé vitesse limite réglable selon le vocabulaire défini par le règlement de Genève n°89 (série CEE-ONU).
La première vitesse est par exemple fixée par le conducteur du véhicule au moyen d’une manette de commande associée au limiteur de vitesse ou comprise dans système de limitation de vitesse formant le limiteur de vitesse.
Selon un autre exemple, la première vitesse est fixée automatiquement par le limiteur de vitesse, cette première vitesse correspondant à une vitesse maximale autorisée sur la portion de route sur laquelle circule le véhicule 10. Selon cet exemple, l’information de vitesse maximale autorisée est reçue par le calculateur en charge du limiteur de vitesse du système de reconnaissance des panneaux de signalisation embarqué dans le véhicule, une telle information de vitesse maximale autorisée étant obtenue par la lecture du panneau 12.
La deuxième vitesse correspond par exemple à la vitesse maximale à laquelle le véhicule 10 peut circuler lorsqu’il atteint le début de la portion de route descendante 102 pour que la vitesse du véhicule 10 ne dépasse pas la première vitesse en tout point de la portion de route descendante 102. Selon un autre exemple, la deuxième vitesse correspond à une valeur de vitesse qu’il faut déduire de la première vitesse, la vitesse correspondant à la première vitesse moins la deuxième vitesse correspondant alors à la vitesse maximale à laquelle le véhicule 10 peut circuler lorsqu’il atteint le début de la portion de route descendante 102 pour que la vitesse du véhicule 10 ne dépasse pas la première vitesse en tout point de la portion de route descendante 102.
Selon un mode de réalisation préféré de l’invention, la cinquième couche de mélange(s) polymérique(s) située axialement entre le retournement de la couche d’armature de carcasse et le raidisseur présente un module sécant d’élasticité à 10 % d'allongement supérieur à 6 MPa et de préférence supérieur à 9 MPa.
Selon un autre mode préféré de l’invention, le mélange polymérique présent dans un cercle centré sur l’extrémité du retournement de l’armature de carcasse et présentant un rayon d’au moins 1.5 mm présente un module sécant d’élasticité à 10 % d'allongement supérieur à 6 MPa et de préférence supérieur à 9 MPa.
Selon l’un ou l’autre de ces modes de réalisation préféré de l’invention, le choix de mélanges polymériques, dont le module sécant d’élasticité à 10 % d'allongement est supérieur à 6 MPa et de préférence supérieur à 9 MPa, contribue à une augmentation de la rigidité de la zone du bourrelet qui vient compenser la faible rigidité à faible déformation du sixième mélange polymérique, notamment lors d’une sollicitation de type freinage important.
Ces deux modes de réalisations préférés de l’invention peuvent encore avantageusement être réalisés simultanément.
Selon une variante de réalisation avantageuse de l’invention, l’extrémité radialement la plus extérieure du raidisseur est radialement extérieure à l’extrémité du retournement de la couche d’armature de carcasse. Une telle réalisation permet d’une part d’éviter la coïncidence des extrémités respectives du raidisseur et du retournement de la couche d’armature de carcasse, lesdites extrémités étant radialement décalées. D’autre part le raidisseur assure ainsi pleinement une fonction de protection du retournement de la couche d’armature de carcasse notamment au regard du contact avec le crochet de jante et des appuis sur celui-ci lorsque le pneumatique est en roulage.
Selon d’autres modes de réalisation, l’extrémité radialement la plus extérieure du raidisseur est radialement intérieure à l’extrémité du retournement de la couche d’armature de carcasse.
D’autres détails et caractéristiques avantageux de l’invention ressortiront ci-après de la description des exemples de réalisation de l’invention notamment en référence aux figures 1 et 2 qui représentent : - , une vue méridienne d’un schéma d’un pneumatique selon l’invention, - , une représentation schématique de la zone d’un bourrelet selon l’invention.
9b Caméra
10 Installation de saisie
11 Traverse
13 Dispositif d’affichage
14 Ecran
15 Poste de conduite du chariot élévateur
16 Entrepôt à étagères
17 Obstacle
18 Personne
20 Toit du poste de conduite
20 Installation de surveillance de l’environnement
20 Capteur optique
20a Capteur optique
20b Capteur optique
Réservoir à hydrogène pourvu d’un système de capture d’hydrogène gazeux. La présente invention concerne un réservoir à hydrogène, en particulier un réservoir à hydrogène liquide, pourvu d’un système de capture d’hydrogène gazeux comprenant des charges absorbantes, ainsi qu’un procédé de restitution d’hydrogène gazeux capturé par les charges absorbantes du réservoir à hydrogène.
Etat de la technique Bien que non exclusivement, la présente invention s’applique plus particulièrement à un réservoir à hydrogène liquide, et notamment à un réservoir à hydrogène liquide équipant un aéronef et en particulier un avion de transport.
C’est le choix de la variation de diamètre du mandrin de tissage, aussi appelée profil prédéfini du mandrin dans cette demande, qui permet d’obtenir la pièce souhaitée par la méthode de tissage de contour. Ce choix permet d’obtenir la ou les préformes de pièce de révolution à réaliser.
Le tissage permet l’obtention d’un tissu enroulé autour du mandrin, et il est nécessaire au cours d’une étape ultérieure de dérouler la préforme tissée obtenue, et de l’enrouler sur un conformateur reproduisant la géométrie souhaitée pour la pièce finale.
Dans un mode de réalisation, le déploiement de la préforme fibreuse sur le conformateur peut être réalisé en enroulant la préforme tissée sur un conformateur. L’épaisseur finale de la préforme souhaitée peut être obtenue en enroulant plusieurs couches successives de préforme sur le conformateur.
Lors de cette étape de dévidement du tissu sur le conformateur, il est opéré un retournement des points de la préforme correspondant à des points de rebroussements. Ces rebroussements opérés lors du transfert entre le mandrin et le conformateur peuvent être opérés manuellement, ou au moyen de surfaces d’appel forçant le retournement du tissu, par exemple en présentant une forme vrillée à 180° amenant le tissu à faire un demi-tour sur lui-même aux endroits correspondant aux points de rebroussement.
Réaliser l’étape au moyen de surfaces d’appel forçant le retournement du tissu permet d’éviter toute erreur de manipulation et permet ainsi de faciliter le procédé.
Une fois la préforme enroulée sur un conformateur, le conformateur peut être refermé par un ou plusieurs contre-moule si nécessaire. Une étape d’infiltration, d’imprégnation ou de densification de la matrice peut alors être réalisée de manière classique, par exemple par injection de la matrice sous pression au travers de la préforme fibreuse ou par densification en voie gazeuse.
Dans un mode de réalisation, le rapport entre le plus grand et le plus petit diamètre du mandrin est inférieur ou égale à 2.
Les inventeurs ont constaté que cette valeur maximale pour la différence de diamètres permet d’éviter que les vitesses d’appel des fils de chaine au cours du tissage ne soient trop différentes entre deux parties du mandrin et permet de limiter les déséquilibres chaînes / trames des préformes ainsi réalisées.
Dans un mode de réalisation, le mandrin comprend plusieurs répétitions du profil prédéfini dans la direction longitudinale du mandrin, le procédé comprenant en outre une étape de découpe ultérieure à l’étape de tissage, de sorte que les préformes issues des parties du mandrin de profils distincts soient séparées avant d’être déployées sur des conformateurs.
Dans ce mode de réalisation, la répétition de plusieurs profils dans la direction longitudinale du mandrin permet d’obtenir plusieurs pièces en une seule étape de tissage. Un tel mandrin nécessite une étape de découpe avant la disposition de la préforme fibreuse sur le conformateur afin d’assurer que la préforme correspondant au profil soit séparée de celle qui la suit dans la direction longitudinale du mandrin, de sorte que chacune puisse être disposée sur un conformateur distinct.
Dans ce mode de réalisation, l’étape de découpe est une étape de découpe transverse, c’est-à-dire que le tissu est découpé dans une direction perpendiculaire à la direction longitudinale du mandrin.
L’étape de découpe peut être réalisée à tout moment entre la fin du tissage et le dépôt de la préforme sur un conformateur.
Par exemple, l’étape de découpe peut être réalisée au cours du dévidage du mandrin de tissage, que les préformes soient alors disposées sur des conformateurs ou soient à nouveau enroulées, par exemple sur des rouleaux de transports ou de stockage.
Dans un autre exemple, l’étape de découpe peut être réalisée juste avant le dépôt des préformes sur des conformateurs.
Une telle étape de découpe peut être assurée par un élément de découpe disposé entre deux préformes de pièces distinctes, par exemple lorsque la préforme est déployée sur le conformateur.
Dans un mode de réalisation, entre deux profils différents, le mandrin peut comprendre une zone de séparation, c’est-à-dire une partie du mandrin qui ne correspond pas au profil et qui permet d’assurer la jonction entre les deux profils successifs.
La somme des épaisseurs physiques de toutes les couches comprenant du silicium dans chaque revêtement diélectrique est supérieure à 50 %, supérieure à 60 %, supérieure à 65 %, supérieure à 70 % de l’épaisseur totale du revêtement diélectrique.]
Les couches diélectriques peuvent être des couches dites stabilisantes. Au sens de l'invention, « stabilisante » signifie que l'on sélectionne la nature de la couche de façon à stabiliser l'interface entre la couche fonctionnelle et cette couche. Cette stabilisation conduit à renforcer l'adhérence de la couche fonctionnelle aux couches qui l'entourent, et de fait elle va s'opposer à la migration de son matériau constitutif. Les couches stabilisantes sont de préférence des couches à base d’oxyde de zinc éventuellement dopé, par exemple, par de l’aluminium. L’oxyde de zinc est cristallisé. La couche à base d’oxyde de zinc comprend, par ordre de préférence croissant, au moins 90,0 %, au moins 92,0 %, au moins 95,0 %, au moins 98,0 % en masse de zinc par rapport à la masse d’éléments autres que de l’oxygène dans la couche à base d’oxyde de zinc.
La ou les couches diélectriques stabilisantes peuvent se trouver directement au contact d’une couche fonctionnelle ou séparées par une couche de blocage.
De préférence, la dernière couche diélectrique de chaque revêtement diélectrique situé en-dessous d’une couche fonctionnelle est une couche diélectrique stabilisante. En effet, il est avantageux d'avoir une couche stabilisante, par exemple, à base d'oxyde de zinc en-dessous d’une couche fonctionnelle, car elle facilite l'adhésion et la cristallisation de la couche fonctionnelle à base d'argent et augmente sa qualité et sa stabilité à haute température.
Il est également avantageux d’avoir une couche stabilisante, par exemple, à base d'oxyde de zinc au-dessus d’une couche fonctionnelle, pour en augmenter l'adhésion et s'opposer de manière optimale à la diffusion du côté de l'empilement opposé au substrat.
La ou les couches diélectriques stabilisantes peuvent donc se trouver au-dessus et/ou en dessous d’au moins une couche fonctionnelle ou de chaque couche fonctionnelle, soit directement à son contact ou soit séparées par une couche de blocage.
Les couches à base d’oxyde de zinc ont, par ordre de préférence croissant, une épaisseur : - d'au moins 3,0 nm, d'au moins 4,0 nm, d'au moins 5,0 nm, et/ou - d’au plus 15 nm, d’au plus 10 nm, d’au plus 8,0 nm.
Les couches diélectriques peuvent être des couches dites de lissage. Au sens de l'invention, une couche de lissage est une couche qui permet de lisser l’interface entre deux couches. Avantageusement, les couches de lissage sont des couches à base de de zinc et d’étain. Ces couches peuvent notamment être utilisées pour lisser l’interface avec une couche stabilisante à base d’oxyde de zinc située en dessous d’une couche fonctionnelle à base d’argent.
Il semble que les couches d’oxyde de zinc et d’étain contribuent à réduire la rugosité globale du revêtement diélectrique. Ces couches sont particulièrement avantageuses lorsqu’elles sont présentes dans le premier revêtement diélectrique. En diminuant la rugosité globale de ce premier revêtement diélectrique, on améliore la qualité de la couche d’agent située directement au-dessus.
Les couches à base d’oxyde de zinc et d’étain ont, par ordre de préférence croissant, une épaisseur : - d'au moins 3,0 nm, d'au moins 4,0 nm, d'au moins 5,0 nm, et/ou - d’au plus 20 nm, d’au plus 15 nm, d’au plus 10 nm.
Selon des modes de réalisation avantageux, le premier revêtement diélectrique satisfait une ou plusieurs des conditions suivantes : - il comprend une couche à base d’oxynitrure de silicium située en dessous de la couche à base de nitrure de silicium et de zirconium à haut indice de réfraction, de préférence au contact du substrat, et/ou - il comprend outre une couche à base de nitrure de silicium située en dessous de la couche à base de nitrure de silicium et de zirconium à haut indice de réfraction et éventuellement au-dessus de la couche à base d’oxynitrure de silicium, et/ou - il comprend une couche à base d’oxyde de zinc et d’étain située au-dessous et au contact d’une couche à base d’oxyde de zinc.
Les couches d’oxynitrure de silicium et de zirconium améliorent la capacité du revêtement à être déposé dans des conditions difficiles et à prévenir l’apparition de défaut. Cette couche se situe avantageusement au contact du substrat.
Le revêtement fonctionnel peut éventuellement comprendre une couche supérieure de protection. La couche supérieure de protection est de préférence la dernière couche de l’empilement, c’est-à-dire la couche la plus éloignée du substrat revêtu de l’empilement. Ces couches supérieures de protection sont considérées comme comprises dans le dernier revêtement diélectrique. Ces couches ont en général une épaisseur comprise entre 1 et 10 nm, de préférence 1 et 3 nm.
D’une manière générale, le procédé de fabrication du dispositif fonctionnel 100 comporte les étapes successives suivantes : - une étape de raccordement de l’élément de connexion électrique 160 à l’élément électriquement ou optiquement actif 110 ; et - une étape de formation de l’empilement multicouche permettant d’enrober l’élément électriquement ou optiquement actif 110 dans l’ensemble encapsulant 107 entre le premier film de protection 101 et le deuxième film de protection 105, une extrémité 162 de l’élément de connexion électrique 160 sortant directement dudit dispositif fonctionnel 100.
Dans le cas où les éléments électriquement ou optiquement actifs sont des cellules photovoltaïques, le procédé comprend également, avant l’étape de formation de l’empilement multicouche, une étape de raccordement d’au moins une diode de dérivation 120 aux cellules photovoltaïques. Cette diode de dérivation 120 est ou non montée sur un support de circuit imprimé.
La diode de dérivation 120 est ensuite également enrobée dans l’ensemble encapsulant 107 lors de l’étape de formation de l’empilement multicouche.
L’étape de formation de l’empilement multicouche est par exemple réalisée par lamination à chaud. En variante, elle peut être mise en œuvre par thermocompression, ou par infusion, ou encore par moulage par transfert de résine (ou RTM pour « Resin Transfer Molding » selon l’acronyme d’origine anglo-saxonne).
Plus précisément, dans le cas d’un premier mode de réalisation du procédé de fabrication du dispositif fonctionnel 100 (représenté sur la ), le procédé de fabrication du dispositif fonctionnel 100 comprend, dans cet ordre, les étapes suivantes :
- positionnement du deuxième film de protection 105 disposé en arrière dudit dispositif fonctionnel 100,
- positionnement de l’ensemble encapsulant,
- formation de l’orifice traversant 180 au travers au travers dudit ensemble encapsulant et dudit deuxième film de protection 105 de manière à permettre le passage de l’élément de connexion électrique 160 au travers dudit dispositif fonctionnel 100, - positionnement de l’élément de connexion électrique 160 et de l’élément électriquement ou optiquement actif 110, l’élément de connexion électrique 160 passant au travers de l’orifice traversant 180 de manière qu’une extrémité 162 de l’élément de connexion électrique 160 sorte directement du dispositif fonctionnel,
- raccordement de l’élément de connexion électrique 160 à l’élément électriquement ou optiquement actif 110,
- positionnement du premier film de protection 101 disposé en avant dudit dispositif fonctionnel 100, et
- lamination à chaud de l’assemblage.
Selon ce premier mode de réalisation, le dispositif fonctionnel 100 est donc fabriqué par empilement depuis la face arrière vers la face avant du dispositif.
Dans ce mode de réalisation, le procédé comprend également une étape de la fourniture d’une couche de téflon, temporairement pendant la lamination, positionnée entre le deuxième film de protection 105 et une portion de l’élément de connexion électrique 160 sortant dudit dispositif fonctionnel 100. Cette couche de téflon permet notamment d’éviter que l’élément de connexion électrique 160 ne soit encastré de manière irréversible dans le deuxième film de protection 105 lors du procédé de fabrication.
Selon un deuxième mode de réalisation du procédé de fabrication du dispositif fonctionnel 100 (représenté sur la ), le procédé de fabrication du dispositif fonctionnel 100 comprend, dans cet ordre, les étapes suivantes :
- positionnement du premier film de protection 101 disposé en avant dudit dispositif fonctionnel 100,
- positionnement de l’ensemble encapsulant 107,
- M est un métalloïde, il peut être choisi parmi B, Si, Ge et Sb,
- A est un lanthanide, il peut être choisi parmi La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb et Lu,
- M est un lanthanide, il peut être choisi parmi La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb et Lu.
De préférence, A et M différents l’un de l’autre sont B et/ou Mg.
Avantageusement, le revêtement selon l’invention est caractérisé en ce que le ΔE* du pigment de type (Bi 1-x A x )(V 1-y M y )O 4 dans ledit revêtement est supérieur ou égal à 11 entre la température ambiante et 150°C, ΔE* étant défini par la formule CIE1976 de l’espace colorimétrique CIELAB :
L 1 *, a 1 * et b 1 * caractérisant les valeurs L*a*b* dudit composé à température ambiante,
L 2 *, a 2 * et b 2 * caractérisant les valeurs L*a*b* dudit composé à 150°C.
De préférence, le pigment de type (Bi 1-x A x )(V 1-y M y )O 4, présente un ΔE* dans ledit revêtement entre la température ambiante et 150°C supérieur ou égal à 13, de manière particulièrement préférée supérieure ou égal à 15.
Avantageusement, le revêtement selon l’invention est caractérisé en ce que le ΔE* du pigment de type (Bi 1-x A x )(V 1-y M y )O 4, dans ledit revêtement est supérieur ou égal à 15 entre la température ambiante et 200°C, ΔE* étant défini par la formule CIE1976 de l’espace colorimétrique CIELAB :
L 1 *, a 1 * et b 1 * caractérisant les valeurs L*a*b* dudit composé à température ambiante, L 2 *, a 2 * et b 2 * caractérisant les valeurs L*a*b* dudit composé à 200°C.
De préférence, le pigment de type (Bi 1-x A x )(V 1-y M y )O 4 , présente un ΔE* dans ledit revêtement entre la température ambiante et 200°C supérieur à 17, de manière particulièrement préférée supérieure ou égal à 20.
Avantageusement, l’évolution de l’écart de couleur ΔE* en fonction de la température est linéaire. De préférence, cette évolution linéaire présente une pente comprise de 0,05 à 0,1, de préférence encore supérieure ou égale à 0,1.
La couleur peut être mesurée et caractérisée grâce à une classification des couleurs. Cette classification n’est possible que si les couleurs sont définies par des nombres, et c’est grâce aux espaces colorimétriques que cette conversion peut se réaliser.
« Un espace colorimétrique est un modèle mathématique tridimensionnel représentant l'ensemble des couleurs perceptibles, utilisables ou reproductibles par un humain ou un appareil ». De nombreux espaces existent avec leur propre répartition des couleurs ayant des coordonnées précises (exemples : l’espace RVB fortement utilisé par les systèmes de télévision ou encore l’espace CIELAB qui prend en compte la réponse logarithmique de l'œil).
L’espace colorimétrique CIELAB sert à caractériser les couleurs de différentes surfaces. Cet espace peut être représenté selon un modèle géométrique portant 3 axes orthogonaux représentant les grandeurs L*a*b*. Chaque couleur possède ainsi des coordonnées L*a*b* bien précises et propres à elle :
L* représentant la clarté sur un axe exprimé en pourcentage soit du noir : 0 au blanc : 100 a* l’axe allant du vert : -128 au rouge : +128 b* l’axe allant du bleu : -128 au jaune : +128
De préférence, les couches à base d’oxyde de silicium sont caractérisées par un indice de réfraction à 550 nm, inférieur ou égale à 1,55.
De préférence, les couches à base de nitrure de silicium sont caractérisées par un indice de réfraction à 550 nm, supérieur ou égale à 1,95.
De préférence, les couches à base d’oxynitrure de silicium sont caractérisées par un indice de réfraction à 550 nm intermédiaire entre une couche d’oxyde non nitrurée et une couche de nitrure non oxydée. Les couches à base d’oxynitrure de silicium ont de préférence un indice de réfraction à 550 nm supérieure à 1,55, 1,60 ou 1,70 ou compris entre 1,55 et 1,95, 1,60 et 2,00, 1,70 et 2,00 ou 1,70 et 1,90.
Ces indices de réfraction peuvent varier dans une certaine mesure selon les conditions de dépôts. En effet, en jouant sur certains paramètres tels que la pression ou présence de dopants, on peut obtenir des couches plus ou moins denses et donc une variation d’indice de réfraction.
Les couches à base de nitrure de silicium et de zirconium Si x Zr y N z font parties des couches comprenant du silicium, notamment des couches à base de nitrure du silicium.
L’indice de réfraction des couches à base de nitrure de silicium et de zirconium augmente avec l’augmentation des proportions de zirconium dans ladite couche.
Les couches à base de nitrure de silicium peuvent comprendre de l’aluminium et/ou du zirconium. De tels couches peuvent comprendre, en proportion atomique par rapport au proportion atomique de Si, Zr et Al :
- 50 à 98 %, 60 à 90 %, 60 à 70 % atomique de silicium,
- 0 à 10%, 2 à 10 % atomique d’aluminium
- 0 à 30 %, 10 à 40 % ou 15 à 30 % atomique de zirconium.
Selon l’invention, le premier revêtement diélectrique comprend une couche comprenant un nitrure de silicium et de zirconium haut indice Si x Zr y N z avec un rapport atomique de Zr sur la somme Si + Zr, y/(x+y), supérieur à 0,20. Une telle couche présente un indice de réfraction élevé, notamment supérieur à 2,30. Selon l’invention, ces couches selon cette définition sont appelées couches de nitrure de silicium et de zirconium haut indice.
Les couches de nitrure de silicium et de zirconium haut indice peuvent comprendre en outre de l’aluminium. Ces couches peuvent donc comprendre, en proportion atomique, par rapport au proportion atomique totale de Si, Zr et Al : - 60 à 80 %, 65 à 70% atomique de silicium, - 0 à 10 %, 1 à 10% , 2 à 7 % atomique d’aluminium - 20 à 40 %, 25 à 30 % atomique de zirconium.