Système pour déformer une structure utile (1), comportant : - un empilement comprenant successivement la structure utile (1) et une matrice tampon (2) ; l’empilement possédant une interface entre la structure utile (1) et la matrice tampon (2), l’interface présentant un plan moyen ; - des moyens de compression, agencés pour appliquer à l’empilement une force de compression (F) selon la normale (Z’-Z) au plan moyen de l’interface ; - des moyens de cisaillement, agencés pour appliquer à la matrice tampon (2) des forces de cisaillement (f) longitudinales, parallèles au plan moyen de l’interface ; la matrice tampon (2) étant adaptée pour transmettre les forces de cisaillement (f) à la structure utile (1), dans le plan moyen de l’interface, de manière à déformer la structure utile (1). Système selon la revendication 1, dans lequel les moyens de cisaillement comportent un organe de préhension (6) de la matrice tampon (2), mobile en translation selon une direction longitudinale, parallèle au plan moyen de l’interface. Système selon la revendication 2, dans lequel les moyens de cisaillement comportent un parallélogramme articulé, agencé pour mouvoir l’organe de préhension (6) en translation selon la direction longitudinale. Système selon la revendication 2 ou 3, dans lequel l’organe de préhension (6) est mobile en rotation autour d’un axe de rotation (ω) perpendiculaire au plan moyen de l’interface. Système selon l’une des revendications 1 à 4, dans lequel l’empilement comprend une couche caoutchoutique (3) ; la matrice tampon (2) étant intercalée entre la structure utile (1) et la couche caoutchoutique (3) ; et les moyens de cisaillement comportent la couche caoutchoutique (3), la couche caoutchoutique (3) étant adaptée pour convertir la force de compression (F) en des forces de cisaillement (f) longitudinales, parallèles au plan moyen de l’interface, s’appliquant à la matrice tampon (2). Système selon la revendication 5, dans lequel la couche caoutchoutique (3) est réalisée dans un matériau choisi parmi : - un polymère de type silicone, comprenant de préférence le polydiméthylsiloxane ; - l'éthylène-acétate de vinyle ; - un polyuréthane ; - un polyacrylique ; - le butadiène ; - un composé comprenant un groupement butyle ; - un caoutchouc de type EPDM ; - un fluoroélastomère, notamment un perfluoroélastomère ; - l’isoprène ; - un composé comprenant un groupement nitrile ; - le polychloroprène ; - le styrène-butadiène. Système selon l’une des revendications 1 à 6, dans lequel la matrice tampon (2) possède un module d’Young supérieur ou égal à 1 GPa. Système selon l’une des revendications 1 à 7, dans lequel la structure utile (1) possède un taux de déformation à la rupture, noté τ R1 , et la matrice tampon (2) possède un taux de déformation à la rupture, noté τ R 2 , vérifiant τ R 2 > τ R 1 . Système selon l’une des revendications 1 à 8, dans lequel la matrice tampon (2) est réalisée dans un matériau choisi parmi : - un polymère, de préférence un polyimide, le polycarbonate, un polyéthérimide, un polyamide-imide, le polyéthylène, un verre, le polyétheréthercétone, le polypropylène, le polyméthacrylate de méthyle, le polyéthersulfone, le polychlorure de vinyle, le polystyrène, le polytéréphtalate d'éthylène ; - une céramique, de préférence SiN, SiC, Al 2 O 3 . Système selon l’une des revendications 1 à 9, dans lequel la structure utile (1) est choisie parmi une : - une structure à base d’un matériau de type semiconducteur ; - une structure à base d’un matériau de type pérovskite ; - une structure de type cristal photonique ; - une structure à base d’un matériau composite ; - un cristal ; - un métal ; - un polymère ; - une céramique ; - une chaux ; - un ciment. Système selon l’une des revendications 1 à 10, dans lequel les moyens de compression comportent une plaque inférieure (5a) et une plaque supérieure (5b), agencées pour enserrer l’empilement. Système selon la revendication 11, en combinaison avec la revendication 5 ou 6, dans lequel la plaque supérieure (5b) présente une surface de contact non-plane avec la couche caoutchoutique (3), la surface de contact non-plane étant géométriquement adaptée de sorte que la couche caoutchoutique (3) convertit la force de compression (F) en des forces de cisaillement (f) longitudinales, parallèles au plan moyen de l’interface, s’appliquant de manière anisotrope à la matrice tampon (2). Système selon l’une des revendications 1 à 12, dans lequel l’empilement comprend une couche anti-glissement (4), intercalée entre la structure utile (1) et la matrice tampon (2), la couche anti-glissement (4) possédant un coefficient de friction adapté pour maintenir en position la structure utile (1) au sein de l’empilement. Système selon l’une des revendications 1 à 12, dans lequel l’empilement comprend un film de collage (4’), intercalé entre la structure utile (1) et la matrice tampon (2). Ensemble de caractérisation d’une structure utile (1) à déformer, comportant : - un système selon l’une des revendications 1 à 14 ; - un instrument (7) de caractérisation, agencé pour mesurer la déformation de la structure utile (1), l’instrument (7) de caractérisation étant de préférence choisi parmi : un spectroscope, de préférence un diffractomètre à rayons X, un spectromètre Raman, un spectroscope de photoluminescence, un spectroscope de réflectance ; un instrument de mesure de la résistivité électrique, de préférence par la méthode des quatre pointes ou par la méthode de Van der Pauw. Ensemble de caractérisation selon la revendication 15, dans lequel : - les moyens de compression comportent une plaque inférieure (5a) et une plaque supérieure (5b), agencées pour enserrer l’empilement ; - l’empilement comprend : une première couche caoutchoutique (3), intercalée entre la matrice tampon (2) et la plaque supérieure (5b) ; une deuxième couche caoutchoutique (3’), intercalée entre la plaque inférieure (5a) et la structure utile (1) ; l’empilement possédant une interface additionnelle entre la structure utile (1) et la deuxième couche caoutchoutique (3’), l’interface additionnelle présentant un plan moyen ; - les moyens de cisaillement comportent la première couche caoutchoutique (3), la première couche caoutchoutique (3) étant adaptée pour convertir la force de compression (F) en des forces de cisaillement (f) longitudinales, parallèles au plan moyen de l’interface, s’appliquant à la matrice tampon (2) ; - la deuxième couche caoutchoutique (3’) est adaptée pour convertir la force de compression (F) en des forces de cisaillement (f) longitudinales s’appliquant à la structure utile (1), dans le plan moyen de l’interface additionnelle. Ensemble de fabrication d’une structure utile (1) déformée sur un substrat support (S), l’ensemble de fabrication comportant : - un système selon l’une des revendications 1 à 14 ; - le substrat support (S) ; l’empilement étant formé sur le substrat support (S). Ensemble de fabrication selon la revendication 17, dans lequel l’empilement comprend une couche d’air (8), agencée sous la structure utile (1), et adaptée pour mettre à distance la structure utile (1) du substrat support (S). Ensemble de fabrication selon la revendication 18, dans lequel le substrat support (S) est perméable à l’air ; l’ensemble de fabrication comportant des moyens de circulation, agencés pour faire circuler un flux d’air à partir du substrat support (S) vers la couche d’air (8) de sorte que le flux d’air génère une force de sustentation maintenant en position la structure utile (1) au sein de l’empilement. Ensemble de fabrication selon la revendication 19, dans lequel les moyens de circulation comportent un régulateur, agencé pour réguler le flux d’air circulant au sein de la couche d’air (8). Ensemble de fabrication d’une structure utile (1) déformée sur un substrat support (S), l’ensemble de fabrication comportant : - un empilement comprenant successivement le substrat support (S), un film de collage (FC), la structure utile (1) et une matrice tampon (2) ; l’empilement possédant une interface entre la structure utile (1) et la matrice tampon (2), l’interface présentant un plan moyen ; - des moyens de compression, agencés pour appliquer à l’empilement une force de compression (F) selon la normale (Z’-Z) au plan moyen de l’interface ; - des moyens de cisaillement, agencés pour appliquer à la matrice tampon (2) des forces de cisaillement (f) longitudinales, parallèles au plan moyen de l’interface ; la matrice tampon (2) étant adaptée pour transmettre les forces de cisaillement (f) à la structure utile (1), dans le plan moyen de l’interface, de manière à déformer la structure utile (1). Ensemble de fabrication selon la revendication 21, comportant une couche de détachement, intercalée entre le film de collage (FC) et la structure utile (1), la couche de détachement étant adaptée pour détacher le substrat support (S) lorsque la couche de détachement est soumise à un traitement thermique. Ensemble de fabrication selon la revendication 21 ou 22, dans lequel le film de collage (FC) est réalisé dans un matériau polymère ; l’ensemble de fabrication comportant des moyens d’émission (9), agencés pour émettre un rayonnement électromagnétique (90) à travers le substrat support (S) de manière à irradier le film de collage (FC), le substrat support (S) étant transparent au rayonnement électromagnétique (90).