INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Lorsqu’une de ces interactions est détectée, le code JavaScript déclenche une requête silencieuse Int_Dat vers le serveur CDN. Le terme de requête silencieuse est utilisé car cette requête vise un contenu qui n’a pas d’intérêt pour le dispositif 8, et dont le résultat doit rester transparent pour ce dernier. Ainsi, dans l’exemple décrit ici, cette requête vise une image qui contient un unique pixel (c’est-à-dire une image de dimension 1 pixel* 1 pixel) et dont l’affichage ne pourra pas se voir. La requête Int_Dat contient donc l’adresse sur le serveur CDN de cette ressource, mais également toutes les données d’intérêt pour la journalisation. Pour cela, ces données sont passées en tant que paramètres de la requête. Avantageusement, la ressource côté serveur de journalisation pèsera moins de 1ko, ce qui permet de préserver la bande passante, et d’offrir une ressource qui, même si elle est affichée, ne sera pas perçue par l’utilisateur.
Ci-dessous, un exemple de l’adresse visée par la requête sur le serveur CDN.
https://8vhgfgcwsnjp.air360tracker.net/i?a=8vhgfgcwsnjp&d=dc4912ea8f9b966fa386081cbfe8e46e&s=648d8686-fa31-4d55-bd04-075294e3155c-1632908375& p=web&t=1632909753.266&et=pv&el=Pageview&wu=https%3A%2F%2Fbilletterie.fr%2F&wt=Billetterie&wr=https%3A%2F%2Fbilletterie.fr%2Fcontent%2F168-billetterie-europa-league-21-22&web_i=1
Dans cette requête, on voit :
- l’adresse de la ressource sur le serveur CDN : 8vhgfgcwsnjp.air360tracker.net/i?a=8vhgfgcwsnjp,
- l’identifiant d’utilisateur : dc4912ea8f9b966fa386081cbfe8e46e,
- le code CSS de l’élément concerné : p=web
- l’identifiant de session : 648d8686-fa31-4d55-bd04-075294e3155c-1632908375,
- le type d’interaction et son marqueur de temps : Pageview ; 1632909753.266,
- l’URL de la page web d’origine : https%3A%2F%2Fbilletterie.fr%2F&wt=Billetterie
Selon un mode de réalisation particulier, l’étendue du plafond 156 est plus petite que l’étendue du rebord 158 de la coque. Le module 100 présente alors, le long de la périphérie du plafond 156, un écart entre le rebord 158 et le plafond 156. Pour obturer cet écart, un mastic est déposé pour obturer l’écart et l’étanchéifier. Ce mastic permet également d’absorber les variations géométriques dues aux dilatations thermiques.
Selon un autre mode de réalisation particulier, l’étendue du plafond 156 est plus grande que l’étendue du rebord 158 de la coque et le plafond 156 déborde alors sur le rebord 158 avec soyage pour limiter l’impact aérodynamique. Le soyage consiste à combler l’écart vertical entre le plafond 156 et le rebord 158 par une surface à double pliage qui affleure le plafond 156 et le rebord 158 et qui est réalisée par exemple avec un mastic.
Toutes autres formes permettant de réduire les perturbations aérodynamiques peuvent être utilisées comme par exemple un chanfrein.
La fixation du plafond 156 s’effectue par exemple à l’aide de vis de serrage qui se vissent à travers ledit plafond 156 dans des trous prévus à cet effet. Les trous sont avantageusement des trous oblongs orientés selon différentes orientations pour absorber les variations géométriques du plafond 156 dues aux dilatations thermiques.
STRUCTURE DE METROLOGIE La présente demande a trait au domaine de la fabrication de dispositifs en couches minces tels que les dispositifs microélectroniques et/ou les microsystèmes et concerne plus précisément une nouvelle structure de métrologie adaptée à la détermination ou la mesure de paramètres tels que la dimension critique, le recouvrement (overlay) et le focus utilisés lors des procédés de fabrication en couches minces en particulier lors d’étapes de photolithographie.
ÉTAT DE LA TECHNIQUE ANTÉRIEURE Pour réaliser un dispositif en couche minces sur un substrat et en particulier un dispositif microélectronique ou un microsystème on utilise couramment des procédés de photolithographie permettant de former des motifs en réalisant ces derniers tout d’abord dans une couche de matériau photosensible avant de les transférer dans la couche mince à structurer.
Il est souhaitable d'effectuer fréquemment des mesures sur le dispositif en cours de réalisation ou sur un étalon en particulier pour le contrôle et la vérification d’un procédé de photolithographie. Plusieurs paramètres intrinsèques à un équipement de photolithographie peuvent influencer le procédé de photolithographie et doivent être suivis.
Parmi les paramètres mesurés, on compte notamment la mesure de dimension critique CD (pour « Critical Dimension ») qui est la plus petite dimension de motifs structurés hormis leur épaisseur et qui correspond typiquement à leur largeur. Un tel paramètre varie en fonction de la dose d’exposition au rayonnement lumineux utilisé, typiquement UV et de la mise au point (focus).
Différentes méthodes permettent d’effectuer une mesure de dimension critique. Un premier type de méthode appelée CD-SEM (pour « Critical Dimension- Scanning Electron Measurement ») décrite par exemple dans le document US 552 3567A est basée sur l’imagerie électronique. Un faisceau d’électrons est mis en forme et focalisé sur une surface d’un échantillon de manière à balayer une surface de cet échantillon. Au cours de ce balayage, des électrons réémis sont détectés par un détecteur ayant un fonctionnement semblable à celui d’un scintillateur.
Un deuxième type de méthode appelée « scatterométrie » et décrite par exemple dans les documents US20160076876A1, EP2486378A1, EP1628164B1, est fondée sur l’analyse d’une lumière diffusée. Une telle technique repose en outre sur l’association d’une mesure physique par réflectométrie et d’une modélisation mathématique. La structure à analyser est illuminée par une source lumineuse de gamme spectrale pouvant aller de l’ultraviolet (UV) à l’infrarouge (IR). Un faisceau lumineux incident d’intensité I0 est émis sur la structure et subit principalement deux modifications physiques : la diffraction et l’interaction avec la structure. Un détecteur collecte des intensités Ir de différents ordres de diffraction.
Un troisième type de méthode, reposant sur une analyse d’interaction atomique, est décrit par exemple dans le document US4724318A. Le principe réside dans l’interaction atomique entre une pointe et une surface d’une structure à mesurer. La structure est balayée par cette pointe qui suit la topographie de la surface. La position de la pointe, peut être détectée grâce à la réflexion d’un laser. Une photodiode permet de collecter et positionner le signal lumineux réfléchi. Par le biais d’un tel signal, on peut remonter aux variations de la position de la pointe et ainsi à une valeur de dimension critique.
Pour les deux premières méthodes on prévoit de diriger un faisceau lumineux ou de particules sur une structure de métrologie spécifique comportant des motifs prédéterminés particuliers afin d’étalonner un équipement et/ou vérifier la fiabilité d’un procédé. Pour la troisième méthode, une structure de métrologie peut également être employée et se présenter sous forme d’un réseau de lignes sondé grâce à des pointes calibrées.
Un autre paramètre communément appelé « overlay » (recouvrement) est évalué afin de vérifier le bon positionnement d’un niveau par rapport au(x) niveau(x) inférieur(s) d’un même empilement de couches minces.
Un tel paramètre est défini précisément par le standard SEMI P18-92 comme une grandeur vectorielle égale à la différence entre un vecteur position : d’une structure au niveau substrat et un vecteur position : de la même structure au niveau d’une couche réalisée lors d’une étape courante typiquement de photolithographie.
La mesure de ce paramètre peut être réalisée par une technique utilisant la diffraction, telle que décrite par exemple dans les documents US8670118B2 ou EP1601931B1.
La détermination du recouvrement (overlay) peut être également réalisée à l’aide d’une technique d’imagerie utilisant des mesures effectuées sur une structure de métrologie dédiée et placée sur un circuit intégré en cours de réalisation.
L’idée principale de cette invention consiste à prévoir un mécanisme d’entrainement qui permette de faire translater le piston au sein de la recharge, pour faire sortir le produit par un orifice de sortie. Ainsi, l’utilisateur récupère la dose de produit en sortie d’orifice. Il n’a pas directement accès à la chambre de stockage du produit. Il n’y a donc pas de risque de contamination du produit.
L’utilisateur peut actionner la distribution en faisant simplement tourner manuellement le système d’entrainement. Cet actionnement est facilement réalisable lorsque l’utilisateur tient le réceptacle dans une main. La rotation du système d’actionnement entraîne la montée en translation du piston, selon l’axe de montage, qui correspond à l’axe central du réceptacle. Et cette montée du piston comprime la chambre et entraîne l’expulsion du produit par l’orifice de sortie.
La dose de produit délivrée dépend de la rotation du système d’entrainement. Ainsi, pour avoir toujours la même dose de produit délivrée, il suffit que l’utilisateur tourne le système d’entrainement sur une même portion angulaire.
Dans cette invention, la recharge porte une partie du système d’entrainement. Il s’agit donc d’une recharge spécifique, propre à ce type de réceptacle. Il y a une interaction entre la recharge et la base qui porte l’autre partie du système d’entrainement.
la est une vue en perspective d’un réceptacle fermé selon l’invention ;
la est une vue éclatée du réceptacle selon la ;
la est une vue en coupe du réceptacle selon la ;
la est une vue en perspective du réceptacle ouvert selon l’invention.
Description détaillée de l'invention Par convention, la direction « axiale » correspond à celle d'extension principale du réceptacle 1, illustré par l'axe X sur les figures 1 et 2. Elle correspond concrètement à la direction de montage du réceptacle 1.
La direction « radiale » est orthogonale à la direction axiale.
Dans la description détaillée des figures qui suit, on utilisera de manière non limitative les termes « supérieur » et « inférieur » ou encore « haut » et « bas » en référence à la direction axiale. Ainsi, Le terme « supérieur » s’entend d’une partie se situant au voisinage d’un couvercle 2 du réceptacle 1, et le terme « inférieur » s’entend d’une partie se situant au voisinage d’un fond du réceptacle 1.
Le réceptacle 1 distributeur de produit 4 cosmétique représenté en , est principalement constitué d’une base 10 fermée par un couvercle 2 de façon étanche.
A titre d’exemple, la matière première PHYTOVIE DEFENSE commercialisée par la société Tri-K Industries, Inc. et correspondant à la désignation INCI Brassica Campestris/Aleurites Fordi Oil Copolymer peut être utilisée dans les compositions selon l’invention.
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention, le au moins un copolymère huileux biodégradable d’origine végétale représente au moins 0,5% en poids total de la composition, avantageusement plus de 0,5%.
Selon un mode de réalisation différent, le au moins un copolymère huileux biodégradable d’origine végétale représente au moins 1% en poids total de la composition, avantageusement plus de 1%.
En pratique, le au moins un copolymère huileux biodégradable d’origine végétale représente jusqu’à 5%, voire 10% en poids de la composition.
Au sens de l’invention par « filtre UV organique lipophile », on entend tout filtre UV organique, que ce soit UVB, UVA ou à large spectre, qui est exclusivement soluble dans la phase grasse et qui, dans le cas des émulsions, se trouve dans la phase grasse après émulsification. Des exemples non limitatifs de filtres organiques lipophiles adaptés à l’utilisation dans les compositions selon l’invention sont les composés répondant aux désignations INCI suivantes : tris biphenyl triazine, bis ethylhexyloxyphenol methoxyphenyl triazine, diethylhexyl butamido triazone, homosalate, ethylhexyl salicylate, ethylhexyl triazone, polysilicone-15, butyl methoxydibenzoylmethane, diethylamino hydroxybenzoyl hexyl benzoate, drometrizole trisiloxane ou leurs mélanges.
Selon mode de réalisation particulier de l’invention, l’au moins un filtre UV organique lipophile est un filtre solaire dérivé de triazine.
Au sens de l’invention, par « filtre solaire dérivé de triazine », on désigne une molécule capable de filtrer les UV-A et/ou les UV-B et comprenant au moins un hétérocycle aromatique contenant trois atomes d’azote. L’isomère de triazine peut donc correspondre à une 1,2,4-triazine, une 1,3,5-triazine ou une 1,2,3-triazine.
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention, le au moins un filtre solaire dérivé de triazine est choisi dans le groupe comprenant les 1,2,4-triazines, les 1,3,5-triazines et les 1,2,3-triazines.
Avantageusement, le au moins un filtre solaire dérivé de triazine est choisi dans le groupe comprenant les composés correspondant aux désignations INCI suivantes : bis ethylhexyloxyphenol methoxyphenyl triazine, diethylhexyl butamido triazone, ethylhexyl triazone, tris-biphenyl triazine, phenylene bis-diphenyltriazine et bis-isopentylbenzoxazolylphenyl melamine.
Des filtres solaires dérivés de triazine aptes à être mis en œuvre dans une composition selon l’invention sont disponibles sur le marché auprès de plusieurs fournisseurs. A titre d’exemple, les matières premières suivantes peuvent être mises en œuvre dans la composition selon l’invention : - le TINOSORB™ S/TINOSORB™ AQUA commercialisé par la société BASF et correspondant à la désignation INCI bis ethylhexyloxyphenol methoxyphenyl triazine (numéro CAS : 187393-00-6) ; -l’ UVASORB™ HEB commercialisé par la société SIGMA 3V et correspondant à la désignation INCI diethylhexyl butamido triazone (numéro CAS 154702-15-5) ; - le TINOSORB™ A2B commercialisé par la société BASF et correspondant à la désignation INCI tris-biphenyl triazine (no CAS : 31274-51-8) ; -l’UVINUL™ T150 commercialisé par la société BASF et correspondant à la désignation INCI ethylhexyl triazone (numéro CAS : 88122-99-0) ; - le TRIASORB™ commercialisé par la société PLANTES & INDUSTRIE et correspondant à la désignation INCI phenylene bis-diphenyltriazine (numéro CAS 55514-22-2) ; - l’UVASORB™ K2A commercialisé par la société SIGMA 3V et correspondant à la désignation INCI bis-isopentylbenzoxazolylphenyl melamine (numéro CAS 288254-16-0) ; - les dérivés de 1,3,5-triazine correspondant aux numéros CAS 2174063-28-4, 2174063-29-5 et 2174063-30-8, décrits dans le document EP 3275872 ; - la 2,4,6-tris(4'-amino benzalmalonate de diéthyle)-s-triazine, la 2,4,6-tris(4'-amino benzalmalonate de diisopropyle)-1,3,5-triazine, la 2,4,6-tris(4'-amino benzalmalonate de diméthyle)-1,3,5,triazine ou encore la 2,4,6-tris(a-cyano-4-aminocinnamate d'éthyle)-1,3,5-triazine. Ces molécules sont décrites dans le document EP0507692.
Selon un mode de réalisation particulier, la composition selon l’invention comprend au moins deux filtres solaires dérivés de triazine différents, voire au moins trois filtres solaires dérivés de triazine différents.
De préférence, la composition selon l’invention comprend au moins les filtres solaires dérivés de triazine correspondant aux désignations INCI suivantes : bis-ethylhexyloxyphenol methoxyphenyl triazine, diethylhexyl butamido triazone, et ethylhexyl triazone.
Selon un mode de réalisation particulier, le au moins un filtre solaire dérivé de triazine représente entre 2% et 50% en poids total de la composition, avantageusement entre 5% et 40%, de préférence entre 10% et 30%.
Selon un mode de réalisation particulier, le au moins un filtre solaire dérivé de triazine représente plus de 10% en poids total de la composition, avantageusement plus de 12%, de préférence plus de 15%.
Il ressort de ce qui précède que le au moins un filtre solaire dérivé de triazine peut représenter entre 12% et 50% en poids de la composition, ou encore entre 15% et 50%.
Selon un mode de réalisation particulier, outre le au moins un filtre solaire dérivé de triazine, la composition selon l’invention comprend au moins un filtre UVA organique, qui peut se présenter en phase aqueuse (hydrophile) et/ou huileuse (lipophile).
Une structure 10’ de métrologie illustrée sur la prévoit ainsi un agencement matriciel avec une ou plusieurs rangées d’une telle variante de cible 12’ élémentaire. Avec une telle structure on peut également exploiter des mesures de distance D21 entre deux motifs 16’ adjacents et disjoints du deuxième niveau et situés dans une même première direction (correspondant dans l’exemple illustré à une direction horizontale de l’agencement matriciel), de distance D22 entre deux motifs 16’ adjacents et disjoints du deuxième niveau et situés dans une même deuxième direction orthogonale à la première direction (la deuxième direction correspondant dans l’exemple illustré à une direction verticale de l’agencement matriciel). On peut également exploiter des mesures de distance D12, D11 entre deux portions adjacentes en forme de ‘L’ du premier motif 14’. Les distances D11, D12, D21, D22 peuvent être comprises typiquement entre 1 nm et 1µm. De telles mesures peuvent servir pour la modélisation physique des signaux.
Les distances D 21 et D 22 peuvent être prévues différentes. Ainsi, dans l’exemple de réalisation particulier illustré sur la , dans une première direction, ici horizontale, un motif 16’’ d’une première cible élémentaire 12a et un motif 16’’ d’une deuxième cible élémentaire 12b adjacente (autrement dit voisine) de la première cible 12a sont espacés d’une première distance D 21 et dans lequel dans une deuxième direction, ici verticale, le motif 16’’ de la première cible élémentaire 12a et un motif d’une troisième cible élémentaire 12c adjacente ou voisine de la première cible 12a sont espacés d’une deuxième distance D 2 2 différente et en particulier supérieure à la première distance D 2 1 .
A l’aide de ces distances différentes D 2 1, D 2 2, on peut permettre à un équipement et/ou visuellement de distinguer une orientation verticale d’une orientation horizontale même lorsque le motif a une allure carrée.
Les distances D 11 et D 12 illustrées sur la peuvent être également prévues différentes.
Ainsi, dans l’exemple de réalisation particulier illustré sur la , l’ensemble de segments formant un motif 1400’ comporte, dans une première direction, ici horizontale, des segments 141a et 141b espacés entre eux d’une distance donnée D 1 1 et dans la deuxième direction des segments 141a, 141b espacés entre eux d’une autre distance D 1 2 distincte de ladite distance donnée.
Là encore, un tel agencement permet de faire une distinction entre une orientation selon la première direction et une orientation selon la deuxième direction, et ce, même lorsque le motif a une allure d’un contour de forme carrée.
Une autre variante de structure 10’’ de métrologie illustrée sur la , diffère de celle décrite précédemment en lien avec la , notamment en ce que chaque motif 16’’ du deuxième niveau N 2 de la cible élémentaire 12’’ est relié à un autre motif 16’’ du deuxième niveau N 2 d’une cible élémentaire 12’’ adjacente et agencée sur une même rangée horizontale de cibles élémentaires 12’’.
Pour cette variante, le motif 1400 du premier niveau N 1 de la cible élémentaire réalise un contour de forme rectangulaire discontinu cette fois formé par deux portions 1401, 1402 en ‘U’ symétriques et en regard l’une de l’autre.
Ainsi, dans l’ensemble de segments du motif 1400 des segments 144a, 144b sont disjoints et espacés entre eux d’une distance donnée et dans une deuxième direction, le motif 1400 est formé de segments 141, 143 continus. Là encore, le motif 1400 permet de former un détrompeur dans le plan xy.
Une autre variante de structure 1000 de métrologie est illustrée sur la . La cible 1200 élémentaire diffère cette fois de la précédente en ce que le motif 1400’ du premier niveau N 1 , réalise un contour discontinu de forme carrée.
Une autre variante structure 1000’ de métrologie illustrée sur la , diffère de celle décrite en lien avec la , en ce que les motifs 16 du deuxième niveau N 2 sont reliés entre eux.
Une autre variante structure 1000’’ de métrologie est donnée sur la . La cible diffère de celle décrite de celle décrite en lien avec la de par le motif 14 du premier niveau qui suit ici un contour rectangulaire fermé comme dans l’agencement de la .
Dans l’exemple de structure 10w de métrologie illustrée sur la , chaque cible élémentaire 12w est formée d’un motif 1400’ dans le premier niveau N 1 réalisant un contour discontinu de forme carrée et d’un motif 1600’ du deuxième niveau N 2 en forme de croix.
Un autre exemple de structure 10x de métrologie est illustré sur la , dans lequel chaque cible élémentaire 12x est formée d’un motif dans le premier niveau N 1 réalisant un contour discontinu de forme carrée et d’un motif du deuxième niveau N 2 en forme de croix.
Dans l’exemple de structure 10y de métrologie illustrée sur la , chaque cible élémentaire 12y est formée d’un motif 1400’’ dans le premier niveau N 1 d’allure d’un carré discontinu et d’un motif du deuxième niveau N 2 en forme de croix.
Dans l’exemple de structure 10z de métrologie illustrée sur la , les motifs du deuxième niveau N 2 sont distincts et ne sont ainsi pas reliés entre eux.
- une polypropylèneimine,
- la triéthylamine (ou TEA, de pKa égal à 10,75),
- le 1,8-diazabicyclo(5.4.0)undec-7-ene (ou DBU) dont la formule développée est :
et dont le pKa est égal à 12 ;
- le 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane (ou DABCO), dont la formule développée est :
et dont le pKa est égal à 8,87 ;
- le 1,5-diazabicyclo[4.3.0]non-5-ène (DBN), dont la formule développée est :
- la N,N-dicyclohexylmethylamine (ou DCHMA), dont le pKa est égal à 11 ; et
- la trihexylamine (ou THA), dont le pKa est égal à 10,5.
Selon une variante davantage préférée, le pKa de l'amine correspondante est supérieur ou égal à 10.
Selon une variante tout particulièrement préférée, l'amine (D) est la triéthylamine (TEA) ou la trihexylamine (THA).
Selon une autre variante préférée, l'amine (D) est choisie parmi le DBU et le DABCO. Une telle amine est souvent incorporée en tant que catalyseur de réticulation dans une composition de mastic et/ou d'adhésif comprenant un SPUR. Elle a alors pour inconvénient de conduire, après réticulation de ladite composition, à un jaunissement du joint adhésif, probablement lié à sa migration en surface dudit joint. Au contraire, l'incorporation dans l'étape (ii) du procédé selon l'invention d'une telle amine, en tant qu'agent de neutralisation du groupe carboxylate pendant, a pour effet avantageux l'absence de jaunissement du joint adhésif qui résulte de la réticulation de la composition de mastic et/ou d'adhésif qui comprend la composition de copolyuréthanes silylés ioniques préparée par ledit procédé. Un tel effet est probablement lié à l'intégration chimique de l'ammonium quaternaire correspondant, dans la chaîne principale desdits copolyuréthanes.
L'amine (D) est avantageusement introduite dans l'étape (ii) dans une quantité correspondant à un rapport équivalent molaire : [nombre de mole de (D)]/[nombre de mole du diol carboxylique (C) introduit dans l'étape (i)] qui est compris dans un domaine allant de 0,5 à 2,5, de préférence de 0,5 à 2.
La réaction de neutralisation est mise en œuvre à une température comprise dans un domaine allant de 20 à 80°C, de préférence de 20 à 40°C.
Etape (iii) : L'étape (iii) est constituée par la réaction de la composition de copolyuréthanes à groupe terminaux –NCO formée à l’étape (ii) avec un aminosilane (E) dérivé d’une amine secondaire, de formule (iiiE) :
Il existe un besoin pour des procédés de fabrication de chambres à vapeur mieux adaptés à la fabrication en série de chambres à vapeur.
Un mode de réalisation pallie tout ou partie des inconvénients des chambres à vapeur connus.
Un mode de réalisation pallie tout ou partie des inconvénients des procédés de fabrication connus de chambres à vapeur.