INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Selon le mode de réalisation représenté sur les figures 1 à 7, le dispositif de soulèvement 26 comporter une ou plusieurs rampe(s) de soulèvement 27 prévue(s) sur le corps principal 3, et un ou plusieurs organe(s) de soulèvement 28 monté(s) sur le tube d’aspiration 11 et configuré(s) pour coopérer avec la rampe de soulèvement 27 respective lorsque le tube d’aspiration 11 est déplacé de la deuxième configuration de tube à la première configuration de tube. De façon avantageuse, le ou chaque organe de soulèvement 28 est un galet de roulement monté rotatif sur le tube d’aspiration 11 et configuré pour rouler sur la rampe de soulèvement 27 respective lorsque le tube d’aspiration 11 est déplacé de la deuxième configuration de tube à la première configuration de tube. Le dispositif de soulèvement 26 peut par exemple comporter deux rampes de soulèvement 27 qui sont situées de part et d’autre du tube d’aspiration 11, et deux organes de soulèvement 28 situés de part et d’autre de l’axe longitudinal de tube A. Selon une variante de réalisation de l’invention, le ou chaque galet de roulement pourrait être monté rotatif sur la tête de nettoyage 5. Selon encore une variante de réalisation de l’invention, le ou chaque galet de roulement pourrait être remplacé par un patin de glissement monté sur le tube d’aspiration 11 ou la tête de nettoyage 5 et configuré pour glisser sur la rampe de soulèvement 27 respective au cours de la deuxième portion de course de rétractation.
Selon le mode de réalisation représenté sur les figures 1 à 7, le dispositif de soulèvement 26 comporte également une partie d’articulation 29 qui est fixée au tube d’aspiration 11 et qui est montée articulée par rapport au corps principal 3 autour d’un axe d’articulation C. L’axe d’articulation C est sensiblement horizontal lorsque le robot de nettoyage autonome 2 repose sur une surface horizontale, et est sensiblement parallèle aux axes de rotation des roues motrices 4. Selon le mode de réalisation représenté sur les figures 1 à 7, l’axe d’articulation C est situé dans une partie arrière du corps principal 3.
Ainsi, le dispositif de soulèvement 26 est plus particulièrement configuré pour faire pivoter la tête de nettoyage 5 autour de l’axe d’articulation C et à distance de la surface à nettoyer au cours de la deuxième portion de course de rétractation.
Selon le mode de réalisation représenté sur les figures 1 à 7, l’unité d’aspiration 13, le mécanisme d’entraînement 16 et le dispositif de collecte de déchets 14 forme un sous-ensemble 30 qui est monté sur le tube d’aspiration 11 et/ou la partie d’articulation 29, et qui est configuré pour être déplacé en pivotement autour de l’axe d’articulation C précité et par rapport au corps principal 3 lorsque la tête de nettoyage 5 est soulevée par le dispositif de soulèvement 26.
Les figures 8 à 12 représentent un robot de nettoyage autonome 2 selon un deuxième mode de réalisation de l’invention qui diffère du premier mode de réalisation notamment en ce que le mécanisme d’entraînement 16 comporte deux tiges d’entraînement 22 qui sont situées de part et d’autre du tube d’aspiration 11, et donc à l’extérieur du tube d’aspiration 11.
Le robot de nettoyage autonome 2 selon le deuxième mode de réalisation de l’invention diffère du premier mode de réalisation précité également en ce que la tête de nettoyage 5 est montée pivotante par rapport au tube d’aspiration 11 autour d’un axe de pivotement E (voir notamment la ) qui s’étend sensiblement verticalement lorsque simultanément le robot de nettoyage autonome 2 repose sur une surface horizontale et la tête de nettoyage 5 est dans la position déployée.
Un tel pivotement de la tête de nettoyage 5 peut être obtenu en prévoyant un mécanisme de pivotement de tête disposé au moins en partie dans la tête de nettoyage 5, et couplé en rotation à un secteur denté fixé à la portion d’extrémité distale 11.1 du tube d’aspiration 11.
Selon une variante de réalisation, le mécanisme d’entraînement 16 pourrait en outre être configuré pour entraîner en pivotement la tête de nettoyage 5 autour de l’axe de pivotement. Un tel pivotement de la tête de nettoyage 5 peut être obtenu en commandant en rotation les deux moteurs d’entraînement 21 indépendamment l’un de l’autre, et plus particulièrement en entraînant en rotation l’un des enrouleurs 19 dans le premier sens de rotation (de manière à déplacer la tige d’entraînement 22 respective dans la configuration rétractée) et en entraînant en rotation l’autre des enrouleurs 19 dans le deuxième sens de rotation (de manière à déplacer la tige d’entraînement 22 respective dans la configuration déployée).
Un avantage de ce mode de réalisation est que la présence du matériau 801 permet d'améliorer l'évacuation de chaleur dans le capot 119.
Le dispositif 800 présente, en outre, les mêmes avantages que ceux du dispositif 600 décrit en relation avec la .
La est une vue en coupe de côté illustrant un mode de réalisation d'un dispositif électronique 900.
De plus, le dispositif électronique 900 présente des éléments communs avec le dispositif électronique 800 décrit en relation avec la . Ces éléments communs ne sont pas décrits de nouveau en détails ici, et seules les différences entre les dispositifs 800 et 900 sont mises en exergue.
Le dispositif 900 se différencie du dispositif 800 en ce que le dispositif 900 comprend une ou plusieurs, de préférence plusieurs, barres 501 conductrices thermiquement comme décrit en relation avec la . Dans le dispositif 900, la ou les barres 501 sont disposées entre le ou les allongements 601 du capot 119 et la face 113 du substrat 111. Plus particulièrement, selon un mode de réalisation, la ou les barres 501 sont en contact direct avec le ou les allongements 601 du capot 119 et avec la face 113 du substrat 111.
Le dispositif 900 présente les mêmes avantages que ceux des dispositifs 500 et 800 décrits en relation avec les figures 5 et 8.
La est une vue en coupe de côté illustrant un mode de réalisation d'un dispositif électronique 1000 selon un autre aspect.
Le dispositif électronique 1000 présente des éléments communs avec le dispositif électronique 600 décrit en relation avec la . Ces éléments communs ne sont pas décrits de nouveau en détails ici, et seules les différences entre les dispositifs 1000 et 600 sont mises en exergue.
Le dispositif 1000 se différencie du dispositif 600 en ce que le dispositif 1000 ne comprennent pas de pilier 127 conducteurs thermiquement entre la face 105 de la puce 101 et la partie transversale du capot métallique 119.
A la place, le dispositif 1000 comprend une couche 1001 en un matériau conducteur thermiquement. La couche 1001 s'étend de la face 105 de la puce 101 jusqu'à la partie transversale 121 du capot 119. Plus particulièrement, selon un mode de réalisation, une face inférieure de la couche 1001 est en contact direct avec la face 105, et une face supérieure, opposée à la face inférieure, est en contact direct avec la partie transversale 121 du capot 119. Selon un mode de réalisation, la couche 1001 peut s'étendre sur toute la face 105 ou sur une ou plusieurs portions de la face 105 de la puce 101, comme décrit pour la couche 301 en relation avec la . Selon un exemple, la couche 1001 est formée au niveau d'un ou plusieurs points chauds de la puce 101. De plus, comme la couche 401 décrite en relation avec la , la couche 1001 peut, en outre, recouvrir tout ou partie des faces latérales 109 de la puce 101. Selon un exemple, la couche 1001 est en un matériau choisi dans le groupe comprenant : le matériau portant la référence SE4450 commercialisé par la société Dow Corning, et le matériau portant la référence TC3040 commercialisé par la société Dow Corning.
Le dispositif 1000 se différencie, en outre, du dispositif 600 en ce que les allongements 601 du capot 119 du dispositif 1000 comprennent au moins une rainure 1003, ou tranchée 1003, entourant la puce 101. Plus particulièrement, la rainure 1003 est formée à partir d'une face supérieure de l'allongement 601, par exemple une face de l'allongement dirigée du côté de la partie transversale du capot 119. La rainure 1003 est, par exemple, placée à une distance de la puce 101 comprise entre 500 µM et 2 mm, par exemple de l'ordre de 1 mm . Selon un exemple, la rainure a une profondeur comprise entre 30 µm et 150 µm, par exemple de l'ordre de 70 µm, et une largeur comprise entre 500 µm et 1,5 mm, par exemple de l'ordre de 1 mm.
Selon une variante de réalisation, les allongements 601 peuvent comprendre plus d'une rainure 1003, par exemple des rainures 1003 parallèles entre elles et/ou concentriques.
Un avantage de ce mode de réalisation est que ladite rainure permet de ralentir, voire d'empêcher, la migration de la couche 1001 lors du fonctionnement de la puce.
La est une vue en coupe de côté illustrant un mode de réalisation d'un dispositif électronique 1100 selon un autre aspect.
De plus, le dispositif électronique 1100 présente des éléments communs avec le dispositif électronique 1000 décrit en relation avec la . Ces éléments communs ne sont pas décrits de nouveau en détails ici, et seules les différences entre les dispositifs 1100 et 1000 sont mises en exergue.
Le dispositif 1100 se différencie du dispositif 1000 en ce que le dispositif 1100 ne comprend pas la couche 1001 mais la couche 401 décrite en relation avec la et les piliers 127 décrits en relation avec la .
Dans un mode de réalisation, le solvant cosmétiquement acceptable est présent en une quantité allant de 10% à 60% en poids par rapport au poids total de la composition concentrée, préférentiellement allant de 15% à 55%, plus préférentiellement allant de 20% à 50%.
Selon un mode de réalisation préféré, lorsque la composition concentrée selon la présente invention comprend au moins un agent épaississant et/ou gélifiant de phase aqueuse tel que décrit ci-dessus, alors le solvant cosmétiquement acceptable est un mélange d’eau et d’au moins un solvant organique soluble dans l’eau.
Selon l’invention, lorsque la composition cosmétique concentrée comprend au moins un agent épaississant et/ou gélifiant de phase aqueuse, alors la composition cosmétique concentrée comprend moins de 30% d’eau en poids par rapport au poids total de la composition cosmétique concentrée.
Avantageusement, l’agent épaississant et/ou gélifiant de phase aqueuse se trouve solubilisé et non déployé, c’est-à-dire ne créant pas de réseau tridimensionnel, dans la composition cosmétique concentrée, permettant ainsi de garder la composition cosmétique concentrée selon la présente invention à l’état liquide, c’est-à-dire ayant une viscosité inférieure à 1300 mPa.s, et homogène, sans altération de la stabilité.
Selon un autre mode de réalisation, lorsque la composition concentrée selon la présente invention ne comprend pas d’agent épaississant et/ou gélifiant de phase aqueuse tel que décrit ci-dessus alors le solvant cosmétiquement acceptable est de l’eau présente en une quantité inférieure à 60% en poids par rapport au poids total de la composition cosmétique concentrée, préférentiellement inférieure à 50%.
Selon un mode de réalisation, la composition cosmétique concentrée selon l’invention comprend en outre au moins un composé additionnel différent des ingrédients tels que décrits ci-dessus.
Dans un mode de réalisation, la composition concentrée selon l’invention comprend en outre au moins un agent humectant, au moins un agent colorant choisi parmi les colorants organiques hydrosolubles ou liposolubles, les colorants naturels d’origine végétale ou minérale, les pigments, les nacres ou un mélange de ceux-ci ; et au moins un ingrédient choisi parmi les actifs cosmétiques tels que les agents conditionneurs, les parfums, les stabilisateurs, les chélateurs, les agents ajusteurs de pH ou un mélange de ceux-ci.
Dans le cas où un produit de soin des cheveux est désiré, alors, la composition concentrée selon l’invention peut comprendre en outre au moins un agent conditionneur choisi parmi les polymères cationiques ; les tensioactifs cationiques ; les organosilicones ; les substances grasses liquides ou solides non siliconées telles que les acides gras hydroxylés ou non, les alcools gras liquides ou solides, les huiles ou cires minérales, végétales ou animales, les esters gras, les composés hydrocarbonés liquides ou solides, les amides grasses liquides ou solides ; les acides aminés ; les agents hydratants ou humectants, notamment les glycols et les polyols qui sont en particulier liquides, les saccharides non ioniques, y compris les oligosaccharides hydrolysés ou non, modifiés ou non.
Le terme « agent conditionneur » concerne tout composé capable de produire un effet conditionneur de la peau ou des cheveux lorsque la composition cosmétique concentrée selon l’invention est utilisée pour reconstituer une composition cosmétique prête à l’emploi appropriée pour le nettoyage des fibres kératiniques telle que décrite ci-dessous.
Dans un mode de réalisation préféré, l’agent conditionneur est choisi parmi les polymères cationiques.
Des exemples non limitatifs de polymères cationiques pouvant être utilisés selon l’invention incluent le chlorure d'hydroxypropyltrimonium d'amidon, le chlorure d’hydroxypropyltrimonium de guar, chlorure d'hydroxypropyltrimonium de caroube, le chlorure d'hydroxypropyltrimonium de caesalpinia spinosa, le chlorure d’hydroxypropyltrimonium de cassia, le chlorure d’hydroxypropyltrimonium de dextran, le chlorure d’hydroxypropyltrimonium hydroxypropyl guar, le chlorure d'hydroxypropyl d’amidon oxydé pg-trimonium, le chlorure d'hydroxypropyltrimonium d’hydrolysat d'amidon hydrogéné, le chlorure d’hydroxypropyltrimonium de ginseng, le chlorure de lauryl methyl gluceth-10 hydroxypropyldimonium, le copolymère de chlorure d’acrylamidopropyltrimonium /acrylamide, le copolymère de propyltrimoniumchloride acrylamide/dimethylacrylamide, le copolymère de chlorure de dimethylacrylamide/ethyltrimonium methacrylate, le chlorure de polymethacrylamidopropyltrimonium, le copolymère dechlorure d’acrylamidopropyltrimonium/acrylate, le chlorure de pg-hydroxyethylcellulose cocodimonium, le chlorure de pg-hydroxyethylcellulose stearyldimonium, le chlorure de soyamidopropalkonium, le chlorure de distearoylethyl dimonium, le chlorure de dipalmitoylethyl dimonium, les polyquaternium tels que polyquaternium-1, polyquaternium-10, polyquaternium-104, polyquaternium-11, polyquaternium-15, polyquaternium-16, polyquaternium-18, polyquaternium-19, polyquaternium-2, polyquaternium-22, polyquaternium-24, polyquaternium-28, polyquaternium-30, polyquaternium-32, polyquaternium-33, polyquaternium-35, polyquaternium-37, polyquaternium-39, polyquaternium-4, polyquaternium-43, polyquaternium-44, polyquaternium-46, polyquaternium-47, polyquaternium-49, polyquaternium-50, polyquaternium-51, polyquaternium-52, polyquaternium-53, polyquaternium-55, polyquaternium-56, polyquaternium-57, polyquaternium-6, polyquaternium-61, polyquaternium-62, polyquaternium-63, polyquaternium-64, polyquaternium-65, polyquaternium-67, polyquaternium-68, polyquaternium-69, polyquaternium-7, polyquaternium-73, polyquaternium-74, polyquaternium-75, polyquaternium-76, polyquaternium-78 and polyquaternium-80.
Dans un mode de réalisation préféré, le polymère cationique est choisi parmi les polyquaterniums tels que décrit ci-dessus.
Dans un mode de réalisation, lorsque la composition concentrée selon l’invention comprend un polymère cationique, celui-ci est présent en une quantité allant de 0,1% à 10,0% en poids par rapport au poids total de la suspension. Dans un mode de réalisation préféré, en une quantité allant de 0,1% à 5,0%.
pH, viscosité et stabilité
La structure du mandrin transversal simplifie son montage en bénéficiant en plus du support du châssis qui forme le palier de cet ensemble rotatif.
Suivant une autre caractéristique le disque de support est combiné à un disque de came,
A. le disque de came
* est monté pivotant par rapport au disque de support et,
- a des coulisses de guidages inclinées par rapport à la direction radiale, symétriques en rotation par rapport à l’axe,
B. le disque de support a
* des coulisses radiales associées chacune à une coulisse de guidage,
C. chaque mors a un organe suiveur de, étant engagé de manière mobile à l’intersection d’une coulisse radiale et d’une coulisse de guidage,
D. la rotation relative du disque de support par rapport au disque de came produisant le déplacement radial des mors par rapport à l’axe dans le sens ouvrant ou dans le sens fermant selon le sens de la rotation du disque de support.
Le mandrin transversal intègre ainsi son mode de fonctionnement pour l’ouverture du mandrin face à l’entrée de l’objet du châssis, sans nécessiter la commande séparée des composants de la machine.
Suivant une autre caractéristique le dispositif d’alimentation
comprend :
A. un convoyeur d’étiquette ayant
* un axe entraîné et
* un autre axe parallèle à l’axe entrainé,
* des courroies transporteuses passant sur les axes et formant une surface de transport recevant le côté encollé de l’étiquette,
- des premières dents (adjacentes sont espacées deux à deux selon un premier espacement gT1 et des deuxièmes dents en regard des premières dents sont espacées deux à deux selon un deuxième espacement gT2, le premier espacement étant prévu différent du deuxième espacement.
Des dimensions différentes des dents au niveau d’un réticule peuvent permettre d’obtenir des formes de structures différentes lorsque, après exposition par l’outil de photolithographie, la structure de métrologie est reportée au niveau d’une plaque (« wafer » selon la terminologie anglo-saxonne).
Avantageusement, au moins un autre segment orthogonal au segment donné forme un peigne muni de dents réparties de part et d’autre dudit autre segment.
Selon une possibilité de mise en œuvre, le segment donné appartient au premier motif, le premier segment et/ou le deuxième segment dudit deuxième motif comportant également des dents de sorte à former une structure de peigne.
Selon un mode de réalisation avantageux de la structure de métrologie, dans la première direction, le premier motif et le deuxième motif peuvent être répétés selon un même premier pas de répartition tandis que dans la deuxième direction, le premier motif et le deuxième motif sont répétés selon un même deuxième pas de répartition, ledit premier pas de répartition étant différent dudit deuxième pas de répartition. Un tel agencement permet de réaliser un détrompeur et permettre de distinguer une orientation selon la première direction d’une orientation selon la deuxième direction.
Avantageusement, dans la première direction, un deuxième motif d’une première cible élémentaire peut être relié à un deuxième motif d’une deuxième cible élémentaire tandis que dans la deuxième direction, ledit deuxième motif de ladite première cible élémentaire et un autre deuxième motif d’une troisième cible élémentaire sont disjoints. Là encore, un tel agencement peut permettre de réaliser un détrompeur
Selon une possibilité de mise en œuvre, le deuxième motif de ladite première cible élémentaire et le premier motif de la deuxième cible élémentaire peuvent être espacés d’une première distance tandis que la deuxième direction, le deuxième motif de la première cible élémentaire et ledit autre deuxième motif de ladite troisième cible élémentaire sont espacés d’une deuxième distance différente de la première distance. Un tel agencement peut également permettre de réaliser un détrompeur.
Un mode de réalisation avantageux prévoit que le premier ensemble de segments du premier motif est formé dans la première direction de segments espacés entre eux d’une distance donnée tandis que dans la deuxième direction le premier motif est formé de segments espacés d’une autre distance distincte de ladite distance donnée.
En variante, le premier motif peut être prévu de sorte que le premier ensemble de segments est formé, dans la première direction, de segments espacés entre eux d’une distance donnée et dans la deuxième direction de segments continus.
Selon une possibilité de mise en œuvre de la structure de métrologie, le premier segment et le deuxième segment ont des largeurs respectives différentes, et/ou dans lequel les segments du premier ensemble de segments ont une première largeur dans la première direction et une deuxième largeur dans la deuxième direction. Un tel agencement peut également permettre de réaliser un détrompeur.
Selon une possibilité de mise en œuvre de la structure de métrologie, ledit premier ensemble de segments et le deuxième ensemble de segments peuvent être répartis de sorte qu’un axe orthogonal au support et passant par ledit point donné, passe également par un point central dudit contour polygonal.
Le support peut être un substrat sur lequel un empilement de couches minces est formé, le premier motif étant réalisé dans une première couche mince dudit empilement, le deuxième motif étant réalisé dans une deuxième couche mince dudit empilement. La structure de métrologie peut être ainsi intégrée à un dispositif en cours de réalisation voire un dispositif destiné à servir d’étalon.
Selon un autre aspect, la présente invention comprend un ensemble de masques de photolithographie formant une structure de métrologie telle que décrite précédemment.
Selon un autre aspect, la présente invention concerne un procédé de fabrication d’un dispositif microélectronique ou d’un micro-système comprenant au moins une étape de mesure de dimension critique ou de recouvrement (overlay) ou une étape de détection de focus d’un appareil de photolithographie au moyen d’une structure de métrologie telle que définie plus haut.
sert à illustrer un premier exemple de structure de métrologie suivant la présente invention.
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention la composition comprend en outre un ou plusieurs agents colorants notamment choisis parmi les pigments et les colorants de préférence directs.
Selon un mode de réalisation plus particulier de l’invention la composition comprend un ou plusieurs agents colorants choisis parmi les colorants pulvérulents comme les pigments, les charges, les nacres et les paillettes, et/ou les colorants liposolubles ou hydrosolubles.
Selon un mode de réalisation de l’invention la composition comprend un ou plusieurs agents colorants choisi parmi les pigments, les colorants directs et leurs mélanges.
Par « pigment », on entend tous les pigments apportant de la couleur aux matières kératiniques, d’origine synthétique ou naturelle. La solubilité des pigments dans l’eau à 25°C et à pression atmosphérique (760 mmHg) est inférieure à 0,05 % en poids, et de préférence inférieure à 0,01 %.
Il s’agit de particules solides, blanches ou colorées, naturellement insolubles dans les phases hydrophiles et lipophiles liquides usuellement employées en cosmétique ou rendue insoluble par formulation sous forme de laque, le cas échéant. Plus particulièrement les pigments peu ou pas solubles dans les milieux hydro alcooliques.
Le pigment peut-être un pigment organique. Par pigment organique, on entend tout pigment qui répond à la définition de l’encyclopédie Ullmann dans le chapitre pigment organique. Le pigment organique peut notamment être choisi parmi les composés nitroso, nitro, azo, xanthène, quinoléine, anthraquinone, phtalocyanine, de type complexe métallique, isoindolinone, isoindoline, quinacridone, périnone, pérylène, dicétopyrrolopyrrole, thioindigo, dioxazine, triphénylméthane, quinophtalone.