INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Comme montré sur les figures 2 et 3, et pour augmenter le confort du porteur de masque, la pièce poreuse 2 comprend en outre un premier et un deuxième élément inférieur de renforcement 16,17 s’étendant au moins partiellement le long d’une première et d’une deuxième ligne oblique inférieure d3,d4 s’écartant l’une de l’autre depuis la portion du bord proximal inférieur 4 destinée à être en contact avec le menton du porteur, ladite première et ladite deuxième ligne oblique inférieure formant entre elles un angle β compris entre 35° et 50°.
Les lignes d3,d4 sont des lignes imaginaires permettant de définir la position des éléments de renforcement.
Selon la réalisation du masque des figures, le premier et le deuxième élément inférieur de renforcement 16,17 sont prévus sur la partie inférieure 6 de la pièce poreuse 2.
En particulier, la première et la deuxième ligne oblique inférieure d3, d4 forment un angle β identique à l’angle α, c’est-à-dire un angle d’environ 40° entre elles. Cet angle
Ce premier et ce deuxième élément inférieur de renforcement 16,17 sont conçus pour correspondre essentiellement aux plis qui se forment naturellement au niveau du menton lorsque le masque est porté. Ce premier et ce deuxième élément inférieur de renforcement 16,17 augmentent ainsi la résistance à la déformation de la pièce poreuse 2.
Ce premier et ce deuxième élément inférieur de renforcement 16,17 sont réalisés comme le premier et le deuxième élément supérieur de renforcement 14,15. En particulier, le premier et le deuxième élément inférieur de renforcement 16,17 sont formés d’une ligne de soudure discontinue. Chaque ligne de soudure discontinue est en particulier constituée d’une alternance de tirets longs et tirets courts.
Le premier et le deuxième élément inférieur de renforcement 16,17 sont agencés symétriquement par rapport à l’axe vertical y de la pièce poreuse 2, notamment de la partie inférieure 6 de la pièce poreuse 2.
En particulier, la première et la deuxième ligne oblique inférieure se coupent au-delà du bord proximal inférieur 4 de la pièce poreuse 2, notamment à une distance l2 comprise entre 40 et 60 mm, par exemple 50 mm.
Ainsi, les éléments supérieurs de renforcement 14,15 disposés sur la partie supérieure 5 de la pièce poreuse 2 et les éléments inférieurs de renforcement 16,17 disposés sur la partie inférieur 6 de la pièce poreuse ne sont pas superposables lorsque le masque 1 est plié.
Le masque de protection respiratoire de l’invention possède ainsi une respirabilité améliorée du fait de la présence des éléments supérieurs et inférieurs de renforcement qui permettent notamment de maintenir la forme coupe du masque lorsque le porteur inspire. La forme particulière en demi-cercle tronqué du masque permet de plus d’augmenter la surface de filtration et améliore ainsi le confort du porteur.
représente une vue schématique en perspective d’un four de boulanger.
représente une vue schématique et en perspective d’un premier mode de réalisation de la porte de four de boulanger selon l’invention
représente une vue schématique et en perspective d’un autre mode de réalisation de la porte de four de boulanger selon l’invention,
représente une vue schématique et en perspective d’un premier mode de réalisation de la porte de four de boulanger selon l’invention,
A, B et C représentent des vues schématiques et en perspective de différents modes de réalisation de module adaptable sur un four de boulanger, selon l’invention.
En référence à la , on peut voir un four de boulanger 1, se présentant sous la forme d’un bloc parallélépipédique rectangle, comprenant des chambres 2 superposées, en l’occurrence non limitativement quatre, s’ouvrant en façade sur une face verticale avant 10, chacune étant équipée de portillons 20, de préférence en verre. Le four 1 incorpore des moyens internes non visibles de génération de chaleur, permettant de chauffer les chambres 2 pour y réaliser les cuissons.
Le four 1 représenté, comporte sur sa face avant 10, non limitativement, supérieurement une casquette 11 et inférieurement une plateforme transversale 12, encadrant les ouvertures des chambres 2.
De manière évidente, tous les côtés du four 1 sont intérieurement isolés pour contenir la chaleur, à l’exception de la façade avant 10 puisqu’elle comporte les ouvertures vers les chambres 2.
Par conséquent, la façade avant 10 constitue une zone de dispersion de la chaleur, et donc de perte lorsque le four 1 est éteint.
La présente invention a pour but de limiter cette perte, en permettant d’isoler la face verticale avant 10.
La représente le même four 1 équipé d’une porte 3 déployée sur la face avant 10, au droit des chambres 2, non visibles. Cette porte 3 est constituée de deux vantaux 30 et 31, articulés chacun par des charnières respectivement 32 et 33, solidarisées à un côté du four 1, respectivement 13 et 14, et qui permettent le déplacement et le guidage des deux vantaux 30 et 31 entre une position active et une position passive, et inversement.
En l’occurrence, non limitativement, chacun des vantaux 30 et 31 est constitué de deux sections verticales, respectivement 34 et 35, permettant de limiter l’encombrement en position inactive d’attente, en repli contre les côtés respectivement 13 et 14.
Sur la on peut voir, selon un autre mode réalisation, le four 1 équipé d’une porte sectionnelle 4, repliable en accordéon contre la casquette 11. Cette porte sectionnelle 4 est constituée de quatre sections horizontales 40, articulées deux-à-deux autour d’axes horizontaux 41, tandis que la section 40 supérieure est articulée à la casquette 11 autour d’un axe horizontal 42.
En référence maintenant à la , on peut voir, selon un autre mode de réalisation, un four 1 équipé d’une porte sectionnelle 5, montée coulissante entre deux rails 50 et 51 solidaires du côté 14 du four 1. La porte 5 est constituée d’une multitude de sections verticales 52 articulées deux à deux.
Quel que soit le mode de réalisation, les éléments constituant les portes, à savoir 34, 35, 40 et 52, se présentent sous la forme d’un caisson comprenant une enveloppe en métal remplie d’un matériau isolant, par exemple, non limitativement, de la laine de verre ou laine de roche.
Les différents modes de réalisation présentés ne sont pas limitatifs, d’autres sont envisageables, et dépendent des caractéristiques dimensionnelles et architecturales du four. Les différents modèles de porte proposés sont prévus adaptables à des fours existants, en première monte, il est toutefois envisageable d’équiper des fours en seconde monte.
Dans ce mode de réalisation, les positions candidates sur les zones différentielles peuvent être obtenues indépendamment et en amont de la phase de construction globale.
L’avantage de réaliser des multi-échantillonnages sur de petites surfaces est de diminuer le coût des calculs par rapport à un échantillonnage haute résolution sur toutes les zones différentielles.
Selon une caractéristique avantageuse de l’invention, les points de la trajectoire principale peuvent être déterminés par échantillonnage aléatoire, systématique, notamment à intervalle régulier, ou selon une règle prédéterminée.
Selon l’invention, le score peut être une longueur du segment balayé ou le nombre de points balayés.
Selon un mode de réalisation préféré, l’objet est un dispositif électronique de détection. Il peut s’agir d’un laser, une caméra, une tribune à disposer le long d’un circuit automobile, etc.
Il est également prévu un système de traitement de données comprenant des moyens pour mettre en œuvre les étapes du procédé tel que défini ci-dessus.
L’invention concerne également un produit programme d'ordinateur comprenant des instructions qui, lorsque le programme est exécuté par un ordinateur, conduisent celui-ci à mettre en œuvre les étapes du procédé tel que défini ci-dessus.
La est une vue schématique d’un modèle de l’environnement,
La est une vue schématique de plusieurs modèles représentant le champ de vision d’un phare, avec θ variant,
La est une schématique illustrant un principe de détermination d’une bande de tolérance,
La est une vue schématique permettant de comparer des largeurs de bandes comme définies sur la ,
La est une vue schématique illustrant des sentiers idéaux, représentés dans l’environnement,
La est une vue schématique illustrant des sentiers adaptés à l’environnement, trajectoire sous-échantillonnée,
La est une vue schématique illustrant des sentiers adaptés calculés en utilisant tous les points,
La est une vue schématique illustrant un processus pour déterminer le champ de vision local,
et, le dispositif de commande tel que défini ci-dessus.
La batterie peut avoir une tension nominale inférieure à 60V, étant par exemple égale à 48V ou à 52V. En variante, la batterie peut avoir une tension nominale supérieure à 200V, par exemple supérieure à 300V.
L’unité de stockage d’énergie électrique peut être formée un condensateur ou par plusieurs condensateurs montés en parallèle, par exemple cinq condensateurs.
Chaque cellule de commutation commandable peut comprendre un transistor à effet de champ. La température de la cellule de commutation commandable est alors celle de la jonction P-N du transistor. Il s’agit par exemple d’un transistor MOS. Ce transistor peut être réalisé en silicium.
Le circuit électrique comprend par exemple deux sous-réseaux entre lesquels est interposé un système de commutation définissant un convertisseur de tension continu/continu. Le convertisseur de tension continu/continu peut mettre en œuvre des interrupteurs électroniques commandables, tels que des transistors en nitrure de galium (GaN), en carbure de silicium (SiC), ou en silicium. Le premier sous-réseau électrique, est par exemple celui connecté à l’onduleur/redresseur, et le deuxième sous-réseau électrique présente par exemple une tension nominale de 12V.
L’invention a encore pour objet, selon un autre de ses aspects, un ensemble de propulsion, comprenant :
- une machine électrique tournante de propulsion, et
- le circuit électrique ci-dessus
Selon un autre aspect, l’invention concerne un substrat comprenant une couche mince en matériau ferroélectrique disposé sur un support, la couche mince présentant une épaisseur inférieure ou égale à 700nm et une uniformité d’épaisseur inférieure ou égale à 60 nm.
le substrat te comprend une couche intercalaire amorphe disposée entre la couche mince et le support ; la couche intercalaire amorphe est un oxyde de silicium, un oxynitrure de silicium ou un nitrure de silicium ; la couche mince comprend une face libre présentant une rugosité inférieure à 0,5 nm ; le matériau ferroélectrique de la couche mince est LiTaO3 ou du LiNbO3 ; le matériau ferroélectrique de la couche mince présente une direction cristalline 42°RY ; le support comprend, du côté de la couche mince, une couche de piégeage de charges.
D’autres caractéristiques et avantages de l’invention ressortiront de la description détaillée de l’invention qui va suivre en référence aux figures annexées sur lesquelles :
La représente une étape de fourniture d’une couche mince selon un premier mode de mis en œuvre ;
La représente une étape de fourniture d’une couche mince selon un second mode de mis en œuvre ;
La représente un procédé de préparation conforme à l’invention.
L’expression « coefficient de dilatation thermique » employée dans la suite de cette description en relation à une couche ou à un substrat fait référence au coefficient de dilatation selon une direction définie dans le plan principal définissant cette couche ou ce substrat. Si le matériau est anisotrope, la valeur du coefficient retenue sera celle de plus grande amplitude. La valeur du coefficient est celle mesurée à température ambiante.
L’invention concerne un procédé de préparation d’une couche mince 3 en un matériau ferroélectrique transférée d’un substrat donneur 1 sur un substrat support 7 par une technique de transfert incluant une implantation d’espèces légères dans le substrat donneur 1. Plusieurs modes de réalisation de cette étape de fourniture d’une couche mince existent.
Suivant un premier mode de réalisation, représenté sur les figures 1A à 1D, le substrat donneur 1 est composé d’un bloc massif et monodomaine de matériau ferroélectrique, par exemple de LiTaO3, LiNbO3, LiAlO3, BaTiO3, PbZrTiO3, KNbO3, BaZrO3, CaTiO3, PbTiO3 ou de KTaO3. Le substrat donneur 1 peut prendre la forme d'une plaquette, circulaire, de dimension normalisée, par exemple de 150 mm ou 200 mm de diamètre. Mais l'invention n'est nullement limitée à ces dimensions ou à cette forme. Le substrat donneur peut avoir été prélevé d’un lingot de matériaux ferroélectrique, ce prélèvement ayant été réalisé de manière à ce que le substrat donneur 1 présente une orientation cristalline prédéterminée. L’orientation est choisie en fonction de l’application visée. Ainsi, il est usuel de choisir une orientation 42°RY dans le cas où l’on souhaite exploiter les propriétés de la couche mince pour former un filtre SAW. Mais l’invention n’est nullement limitée à une orientation cristalline particulière.
Quel que soit l’orientation cristalline du substrat donneur 1, le procédé comprend l’introduction dans le substrat donneur 1 d’au moins une espèce légère. Cette introduction peut correspondre à une implantation, c’est-à-dire, un bombardement ionique d’une face plane 4 du substrat donneur 1 par des espèces légères telles que des ions d’hydrogène et/ou d’hélium.
De façon connue en soi, et comme cela est représenté sur la figure 1B, les ions implantés ont pour but de former un plan de fragilisation 2 délimitant une couche mince 3 de matériau ferroélectrique à transférer qui est située du côté de la face plane 4 et une autre partie 5 formant le reste du substrat.
La nature, la dose des espèces implantées et l’énergie d’implantation sont choisies en fonction de l’épaisseur de la couche que l’on souhaite transférer et des propriétés physico-chimiques du substrat donneur. Dans le cas d’un substrat donneur 1 en LiTaO3, on pourra ainsi choisir d’implanter une dose d’hydrogène comprise entre 1 E 16 et 5 E 17 at/cm² avec une énergie comprise entre 30 et 300keV pour délimiter une couche mince 3 de l’ordre de 200 à 2000 nm.
Dans une étape suivante, représentée sur la figure 1C, on assemble la face plane 4 du substrat donneur 1 avec une face 6 d’un substrat support 7. Le substrat support 7 peut présenter la même dimension et la même forme que celles du substrat donneur. Pour des raisons de disponibilité et de coût, le substrat support 7 est une plaquette de silicium, monocristallin ou polycristallin. Mais plus généralement, le substrat support 7 peut être constitué de tout matériau, par exemple du silicium, du saphir ou du verre, et présenter toute forme.
représente, schématiquement, en perspective et en coupe, un mode de réalisation particulier d’un module de mesure, également représenté en figures 12 et 13, d’un mode de réalisation particulier du dispositif objet de l’invention,
représente, schématiquement, en perspective, un mode de réalisation particulier d’une cartouche de filtration d’un mode de réalisation particulier du dispositif objet de l’invention,
représente, schématiquement, en vue de face et en coupe, un mode de réalisation particulier d’une cartouche de filtration, également représentée en , d’un mode de réalisation particulier du dispositif objet de l’invention,
représente, schématiquement, une première vue en perspective, un mode de réalisation particulier du dispositif objet de l’invention,
représente, schématiquement, une deuxième vue en perspective, un mode de réalisation particulier du dispositif objet de l’invention, également représenté en ,
représente, schématiquement, d’un mode de réalisation du dispositif objet de l’invention,
représente, schématiquement, d’un mode de réalisation du système objet de l’invention et
représente, schématiquement, d’un mode de réalisation du système objet de l’invention.
Les figures 4 à 18 sont à l’échelle, mais peuvent être à des échelles différentes. On note que les figures 1 à 3 et 19 à 22 ne sont pas à l’échelle.
Dans toute la description, on appelle « supérieur » ou « haut » tout ce qui est en haut en figures 3 à 18, qui correspond à la configuration normale d’utilisation du dispositif, « inférieur » ou « bas » ce qui est en bas dans ces figures 3 à 18. Les termes de « vertical » ou de « hauteur » découlent de ces définitions. Les dispositifs illustrés dans les figures présentent globalement un plan de symétrie vertical (parallèle au plan des figures). Un axe de rotation A est compris dans le plan de symétrie vertical. On appelle « interne » tout ce qui est proche ou orienté vers cet axe et « externe » ce qui plus est éloigné de cet axe ou orienté à l’opposé de cet axe. Les longueurs sont définies parallèlement à cet axe et les largeurs sont définies perpendiculairement au plan global de symétrie vertical.
Le terme « fluide » se réfère à un liquide ou un gaz, le liquide étant, par exemple, un effluent contaminé et le gaz étant, par exemple, de l’air.
Le terme « rayonnements » se réfère aux rayonnements provenant d’un ou plusieurs composés radioactifs.
Le terme de « système » se réfère à un ensemble de dispositifs.
Pour se mettre en position d’attente et ouvrir le mandrin transversal 32, la rotation se fait dans le sens (+R) et pour la pose de l’étiquette, le sens de rotation du mandrin 2 est le sens (-R).
Les figures 4B-4E montrent les détails d’un mode de réalisation du mors 321 en perspective et en vue de dessus.
Le mors 321 est composé de la plaquette 324 fixée au disque de support 31 et formant un rail retenant l’embase 323 contre le disque de support 31. L’embase 323 est poussée vers l’axe XX par deux ressorts de compression 326.
L’embase 323 porte une console 327 dont la tranche est équipée d’un rouleau 328, de préférence divisé en deux parties coaxiales pour mieux adapter les efforts exercés sur l’objet O à travers l’étiquette et tenir compte des irrégularités axiales de la surface de l’objet O lorsque le mors 321 roule sur l’objet et sur l’étiquette posée sur celui-ci.
L’axe du rouleau 328, libre en rotation, est perpendiculaire à la surface du disque de support 31, c’est-à-dire que cet axe est parallèle à l’axe XX et le contact entre le rouleau 328 et la surface de l’objet O est un contact linéaire.
La montre l’embase 323 rétractée, appuyée contre l’objet et la montre l’embase déployée lorsqu’elle est libre, rétractée ou encore non appuyée contre l’objet.
La forme de la console 327a du mors 321 de la est légèrement tronquée et déformée à cause de l’encombrement que constitue l’extrémité du dispositif d’alimentation en étiquettes 5 venant très près de l’axe XX, à côté de ce mors 321. Les mors 321 montés sur leur embase à ressorts, elle-même entraînée par l’organe suiveur 325 coopérant avec la coulisse de guidage 332 peuvent reculer de façon élastique en comprimant les ressorts 326 pour s’adapter à la section de l’objet à étiqueter. Cela se traduit par le déplacement de l’organe suiveur 325 et ainsi par un décalage angulaire entre le disque de came 33 et le disque de support 31 qui est sans importance pendant la pose de l’étiquette puisque ce décalage n’existe pas en position d’arrêt (mise en place de l’objet ou son enlèvement après étiquetage).
Le mors principal 322 comprend comme les deux autres mors 321 une embase 323 coulissant dans une plaquette 324 fixée au disque de support 31 n’apparaissant pas dans les figures. L’embase du mors principal 322 coulisse dans le rail constitué par la plaquette 324 contre l’action des ressors 326 comme l’ensemble des deux autres mors 321. Le mors principal 322 comporte un rouleau applicateur 51 qui sert à appliquer l’étiquette. Ce rouleau 51 équivalent des rouleaux 328 de chacun des deux autres mors 321 est intégré au dispositif d’alimentation en étiquettes 5.
Pour les raisons données ultérieurement, le diamètre du rouleau applicateur 51 est plus grand que celui des rouleaux 328 et sa matière est plus souple que celle des rouleaux 328.
Le mors principal 322 porte le dispositif d’alimentation en étiquettes 5 et le rouleau applicateur 51 intégré au dispositif d’alimentation en étiquettes 5 formant un ensemble démontable fixé à la console 327a de forme différente de la console 327 du mors 321.
Le dispositif d’alimentation 5 comporte une barrette d’interface 55 pour sa commande et son alimentation électrique en position d’arrêt dans laquelle la barrette 55 est en contact avec une barrette d’interface fixe 6 solidaire du châssis 1. Elle s’en dégage par le mouvement de rotation (+R) en phase préparatoire.
Les figures 4F, 4G montrent une variante de réalisation d’un mors 421 muni d’un rouleau 328.
Selon la vue de face ( ) le mors 321a se compose d’une plaquette 324 portant une console 327b. La console 327b est munie d’une fente de guidage 3271 radiale par rapport au disque de support 31. La fente de guidage 3271 reçoit un support de rouleau 3272 en forme de lame portant un rouleau 328 en deux parties 328a,b, coaxiales.
Le support 3272 est engagé dans la fente 3271 en y étant retenu du côté distal par rapport à l’embase 3232 par un pivot 3273 engagé dans un perçage de la console et dans le support 3272. L’autre extrémité proximale du support 3272 est retenue par un limiteur de course formé par un trou oblong 3276 dans la lame du support 3272 et traversé par une broche 3275 logée dans un perçage de la console 327b. Ce limiteur de course (3275, 3276) est complété par un ressort de compression 3274 entre le fond de la fente 3271 et le support pour ouvrir élastiquement l’angle entre la console 327a et le support 3272.
Le pivotement élastique du support 3272 permet de compenser le jeu de guidage du mors 321a du côté du disque de support 31 qui est le côté préférentiel de guidage de l’étiquette E c’est-à-dire le côté par lequel l’étiquette sera guidée dans le dispositif d’alimentation en étiquette, quel que soit la largeur de l’étiquette.
La montre le dispositif d’alimentation en étiquettes 5 selon son orientation de la et la le montre côté tourné vers le disque de support 31.
Lors de l’étape de mise en contact mécanique 310, le ruban de colle 37 est déjà solide.
Lors de l’étape de circulation 320, la durée prédéterminée D p correspond avantageusement à la durée de la finition du haut-parleur 10.
L’étape d’application 330 comprend par exemple une sous-étape 332 d’application de la force E s de réaction du support 40, et une sous-étape 334 d’application d’une force tampographique E T .
La sous-étape 332 est par exemple analogue à l’étape d’application 130.
Lors de la sous-étape 334, un tampon 44 est appliqué sur la membrane 30. Le tampon 44 exerce alors la force tampographique E T sur la membrane 30. La force tampographique E T est préférentiellement axiale et orientée vers le côté arrière du porte-bobine 32. La force tampographique E T s’oppose à la force électromagnétique EM.
Lors de la sous-étape 334, la force tampographique E T se substitue progressivement à la force de réaction E s . Ainsi, plus la norme de la force tampographique E T s’accroit, plus la norme de la force de réaction E s diminue.
La somme de la force E S de réaction du support 40 et de la force tampographique E T constitue bien une force externe appliquée sur la membrane 30.
Optionnellement, la norme de la force tampographique E T est égale à la norme de la force électromagnétique EM. Ainsi, lors de l’application de la force tampographique E T , la norme de la force E S de réaction du support 40 est nulle.
De manière analogue au procédé selon le premier mode de réalisation de l’invention, grâce à l’étape 310 de mise en contact mécanique, à l’étape 320de circulation et à l’étape 330 d’application 330, le risque d’enfoncement du porte-bobine 32 lors de la finition du haut-parleur 10 est réduit.
Haut-parleur comprenant au moins une membrane et un organe de suspension assurant le rôle de plusieurs éléments de guidage La présente invention concerne un haut-parleur comprenant :
- un châssis, et
- au moins une membrane adaptée pour vibrer par rapport au châssis selon un axe du haut-parleur et émettre des ondes sonores,
la ou chaque membrane s’étendant radialement par rapport à l’axe du haut-parleur, la ou chaque membrane ayant un bord radialement extérieur.