INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Selon une caractéristique de l’invention, la couche d’aplanissement est réalisée dans un troisième matériau ; et l’étape d’) est exécutée par une gravure : - non-sélective entre le troisième matériau et le deuxième matériau ; - sélective du deuxième matériau par rapport au premier matériau ; la gravure étant de préférence une gravure plasma.
Ainsi, un avantage procuré est de retirer efficacement les zones de la couche d’aplanissement, faisant face aux amas de matière, ainsi que les zones supérieures de la couche de protection s’étendant sur les amas de matière, de manière à exposer les amas de matière tout en gardant protégées les zones d’épitaxie sélective.
Selon une caractéristique de l’invention, l’étape a) est exécutée de sorte que les zones d’épitaxie sélective comportent des nanofils.
Ainsi, un avantage procuré est de pouvoir fabriquer ultérieurement des diodes électroluminescentes à nanofils.
Un autre avantage de ce mode de réalisation est que la concentration en piliers peut être augmentée au niveau de points chauds de la puce 101, c'est-à-dire les zones de la face 103 dégageant le plus de chaleur. Ce qui n'est pas le cas avec une couche uniforme en un matériau conducteur thermiquement.
La comprend six vues en coupe (A), (B), (C), (D), (E), et (F) illustrant chacune une étape d'un mode de mise en oeuvre d'un procédé de fabrication du dispositif 100 décrit en relation avec la .
Les étapes illustrées par la sont effectuées alors que les puces sont encore en plaquette. Pour simplifier, seule une puce 201 est représentée en .
A l'étape de la vue (A), Les différentes puces 201 comprennent une zone active 203 disposée du côté d'une face 205, opposée à une face 207, à l'échelle de la plaquette.
A l'étape de la vue (B), des connecteurs 209 du type des connecteurs 115 de la sont formés au niveau de contacts de la zone active 203 de la puce 201. La plaquette est ensuite retournée de façon à ce que sa face 207 soit accessible. La plaquette est alors amincie pour que son épaisseur soit à une épaisseur souhaitée.
A l'étape de la vue (C), la plaquette 201 est fixée sur un support temporaire 211 par l'intermédiaire d'une couche de fixation temporaire 213 disposée au niveau des connecteurs 209.
A l'étape de la vue (D), un ou plusieurs, de préférence plusieurs, piliers conducteurs thermiquement 215 sont formés au niveau de la face 207 des différentes puces 201 de la plaquette. Selon un mode de réalisation, une portion métallique 217 est formée en premier, puis une deuxième portion métallique 219 est formée par-dessus. Par exemple, les piliers sont formés par dépôt électrolytique.
A l'étape de la vue (E), le support temporaire est retiré. La fabrication des puces unitaires 201 est, par exemple, achevée, par une étape de singularisation.
A l'étape de la vue (F), la puce 201 est fixée sur un substrat 221 du type du substrat 111 de la par l'intermédiaire des connecteurs 209. Un matériau de remplissage 223 est ensuite disposé entre la zone active de la puce 201 et une face 225 du substrat 221.
Ensuite, un capot 227 du type du capot 119 de la est disposé sur la puce 201. Pour cela, des parties latérales du capot 227 sont fixées, par exemple par collage, à la face 225 du substrat 221. Le collage est, par exemple, effectué par dépôt d'une couche de colle 229. Selon un exemple, si le capot 227 est composé de plusieurs pièces collées ensemble, le capot 227 peut être assemblé autour de la puce 201.
La comprend deux vues en coupe (A) et (B) illustrant un mode de réalisation d'un dispositif électronique 300. La vue (A) est, plus particulièrement, une vue en coupe de côté du dispositif 300 selon l'axe AA représenté en vue (B). La vue (B) est, plus particulièrement, une vue en coupe de haut du dispositif 300 selon l'axe BB représenté en vue (A).
De plus, le dispositif électronique 300 présente des éléments communs avec le dispositif électronique 100 décrit en relation avec la . Ces éléments communs ne sont pas décrits de nouveau en détails ici, et seules les différences entre les dispositifs 100 et 300 sont mises en exergue.
Le dispositif électronique 300 se différencie du dispositif 100 en ce qu'une couche 301 en un matériau conducteur thermiquement est formée autour du ou des piliers 127. La couche 301 s'étend sur toute la hauteur du ou des piliers 127, c'est-à-dire de la couche 105 de la puce 101 jusqu'à la partie transversale 121 du capot 119. Plus particulièrement, selon un mode de réalisation, une face inférieure de la couche 301 est en contact direct avec la face 105, et une face supérieure, opposée à la face inférieure, est en contact direct avec la partie transversale 121 du capot 119.
Selon un mode de réalisation, la couche 301 peut s'étendre sur une ou plusieurs portions (voir vue (B)) de la face 105 de la puce 101, mais peut, selon une variante, s'étendre sur toute la face 105 de la puce 101. Selon un exemple, la couche 301 est formée au niveau d'un ou plusieurs points chauds de la puce 101.
Comme dit précédemment, la couche 301 est en un matériau conducteur thermiquement. Selon un exemple, ce matériau est choisi par le groupe comprenant : le matériau portant la référence SE4450 commercialisé par la société Dow Corning, et le matériau portant la référence TC3040 commercialisé par la société Dow Corning.
Un avantage de ce mode de réalisation est que la couche 301 permet d'améliorer le transfert de chaleur de la puce vers l'extérieur du boîtier.
La plateforme 2 comporte un cadre 7 comprenant quatre traverses latérales 8a à 8d reliées deux à deux entre elles par l’intermédiaire de quatre pièces d’angle 9a à 9d.
Chaque traverse latérale 8a à 8d est disposée à coulissement par rapport à deux pièces d’angle 9a à 9d, de façon que deux pièces d’angle 9a à 9d disposées à coulissement par rapport à une même traverse latérale 8a à 8d peuvent être sélectivement rapprochées ou éloignées l’une de l’autre par coulissement par rapport à ladite traverse latérale 8a à 8d. Par exemple, la traverse latérale 8a est disposée à coulissement par rapport aux deux pièces d’angle 9a et 9d, de façon que les deux pièces d’angle 9a et 9d disposées à coulissement par rapport à la même traverse latérale 8a peuvent être sélectivement rapprochées ou éloignées l’une de l’autre par coulissement par rapport à ladite traverse latérale 8a à 8d. Pour ce faire, il est prévu des liaisons glissières 10a à 10h entre les pièces d’angle 9a à 9d et les traverses latérales 8a à 8d.
On observe également que chaque traverse latérale 8a à 8d est reliée par une liaison coulissante 11a à 11d à une structure centrale de plateforme 12, de façon à pouvoir être sélectivement rapprochée ou éloignée de ladite structure centrale de plateforme 12 par translation par rapport à ladite structure centrale de plateforme 12 (selon des mouvements illustrés par les flèches 13a à 13d). Par exemple, la traverse latérale 8a est reliée par une liaison en translation 11a à la structure centrale de plateforme 12, de façon à pouvoir être sélectivement rapprochée ou éloignée de ladite structure centrale de plateforme 12 par translation par rapport à ladite structure centrale de plateforme 12 selon un mouvement illustré par la flèche 13a.
De façon plus précise : - les liaisons glissières 10a à 10h sont librement coulissantes. Chaque traverse latérale 8a à 8d est ainsi disposée à coulissement libre par rapport à deux pièces d’angle 9a à 9d ; - les liaisons en translation 11a à 11d sont hélicoïdales. Chaque traverse latérale 8a à 8d est reliée à la structure centrale de plateforme 12 par une liaison hélicoïdale 11a, 11b, 11c ou 11d.
La longueur L1 de la plateforme 2 selon ladite direction longitudinale I-I est réglable de façon continue entre une longueur L1 minimale (figures 1 et 2) et une longueur L1 maximale ( ), et la largeur L2 de la plateforme 2 selon ladite direction transversale II-II est réglable de façon continue entre une largeur L2 minimale ( ) et une largeur L2 maximale (figures 2 et 3).
Les quatre plaques latérales 5a à 5d sont chacune solidaire d’une traverse latérale 8a à 8d respective. Par exemple, la plaque latérale 5a est solidaire de la traverse latérale 8a.
De leur côté, les quatre plaques d’angle 6a à 6d sont chacune solidaire d’une pièce d’angle 9a à 9d respective. Par exemple, la plaque d’angle 6a est solidaire de la pièce d’angle 9a.
Enfin, les plaques centrales 4a et 4b, formant une plaque centrale 40, sont solidaires de la structure centrale de plateforme 12. Ici, bien que la plaque centrale 40 soit formée au moyen de deux plaques centrales 4a et 4b, elle pourrait être formée par une seule et unique plaque, ou par un plus grand nombre de plaques.
Les pièces d’angle 9a à 9d sont illustrées sur les figures 6 et 7 (prises selon différents angles de vue). Elles comportent chacune deux tubes primaires 14a et 14b formant entre eux un angle droit, et deux tubes secondaires 15a et 15b formant entre eux un angle droit et chacun parallèle à un tube primaire 14a ou 14b respectif.
Les pièces d’angle 9a à 9d comportent également un galet de roulement 23 sur chacun de leur côté. La plateforme 2 est ainsi pourvue, sur chacun de ses côtés 2a à 2d, d’au moins deux galets de roulement 23 rotatifs autour d’axes de rotation parallèles auxdits côtés 2a à 2d.
La structure centrale de plateforme 12 et les traverses latérales 8a à 8d sont plus particulièrement illustrées sur la . Chaque traverse latérale 8a à 8d comporte une traverse latérale primaire 16a et une traverse latérale secondaire 16b parallèles l’une à l’autre.
En pratique, les tubes primaires 14a-14b et secondaires 15a-15b des pièces d’angle 9a à 9d sont destinés à recevoir par emmanchement librement coulissant les extrémités des traverses latérales primaires 16a et secondaires 16b des traverses latérales 8a à 8d. Par exemple, les tubes primaires 14a et 14b de la pièce d’angle 9a reçoivent par emmanchement librement coulissant les extrémités des traverses latérales primaires 16a des traverses latérales 8a à 8d, tandis que les tubes secondaires 15a et 15b de la pièce d’angle 9a reçoivent par emmanchement librement coulissant les extrémités des traverses latérales secondaires 16b des traverses latérales 8a à 8d.
Sur la est représentée la structure centrale de plateforme 12 avec la seule traverse latérale 8a pour plus de clarté. On constate que la structure centrale de plateforme 12 se présente sous la forme d’une croix formée par quatre tubes 12a à 12d. Le tube 12a est reçu selon un emmanchement coulissant dans un tube de liaison 17 solidaire de la traverse latérale 8a.
On voit plus particulièrement sur la que le tube 12a comporte, à son extrémité libre, un écrou 18 qui est captif et solidaire en rotation du tube 12a. L’écrou 18 est engagé par vissage sur une tige filetée 19 qui s’étend à l’intérieur du tube de liaison 17 et qui est solidaire en rotation d’une tête de manœuvre 20. La tige filetée 19 est immobile en translation dans le tube de liaison 17 et montée rotative par rapport au tube de liaison 17. Il est ainsi ménagé une liaison coulissante hélicoïdale entre la structure centrale de plateforme 12 et la traverse latérale 8a.
Lorsqu’un utilisateur entraîne en rotation la tête de manœuvre 20, il met en rotation la tige filetée 19 par rapport au tube de liaison et par rapport à l’écrou 18. Selon le sens de rotation, l’écrou 18 se déplace sur la tige filetée 19 et provoque le coulissement du tube 12a dans le tube de liaison 17. En augmentant le recouvrement du tube 12a par le tube de liaison 17, on rapproche la traverse latérale 8a de la structure centrale de plateforme 12 : on diminue ainsi la largeur L2 de la plateforme 2. En diminuant le recouvrement du tube 12a par le tube de liaison 17, on éloigne la traverse latérale 8a de la structure centrale de plateforme 12 : on augmente ainsi la largeur L2 de la plateforme 2.
Un agencement identique est prévu entre les tubes 12b à 12d et les traverses latérales 8b à 8d.
La vue (b) représente, une étape de remplissage de la cavité 703 du substrat 701 avec un fluide de remplissage 711. Le fluide de remplissage 711 est par exemple un fluide de refroidissement du type du fluide de refroidissement 407 décrit en relation avec la .
La vue (b) représente, en outre, une étape de positionnement du substrat 702 sur le substrat 701. Le substrat 702 est positionné sur le substrat 701 de façon à avoir leurs faces 704 et 705 en regard, et plus particulièrement les couches d'or qui les recouvrent en regard l'une de l'autre. Par ailleurs, les substrats 701 et 702 sont séparés par des espaceurs 713 amovibles et ne sont donc pas en contact direct. Selon un exemple, les espaceurs 713 sont des lames de rasoirs, ayant une épaisseur de l'ordre de 100 µm.
La vue (c) représente une étape de mise sous vide de l'ensemble composé des substrats 701 et 702 de façon à évacuer les derniers gaz non condensables présents dans la cavité 703. Le substrat 702 étant en un matériau relativement flexible, comme le silicium, celui-ci se courbe. Selon un exemple, pendant cette étape sous vide la température est toujours égale à la température ambiante.
La vue (c) représente, en outre, une étape d'application d'une force verticale, symbolisée par la flèche F5 en vue (c), permettant aux couches d'or déposées sur les faces 704 et 705 des substrats 701 et 702 d'entrer en contact en certains points. Les espaceurs 713 sont toujours conservés. Cette étape correspond en partie à la mise en oeuvre de l'étape 615 décrite en relation avec la .
La vue (d) représente une étape de finalisation du collage, le collage ayant commencé à opérer au niveau de l'application de la force F5, il se propage jusqu'aux extrémités latérales des substrats 701 et 702 et les espaceurs sont retirés, par exemple manuellement. Une étape de repos est alors mise en oeuvre avant la mise en oeuvre d'un recuit final. Les substrats 701 et 702 sont collés hermétiquement. Cette étape correspond en partie à la mise en oeuvre de l'étape 615 décrite en relation avec la .
Les procédés présentés en relation avec les figures 6 et 7 sont décrits ici pour la réalisation d'une chambre à vapeur, mais ils peuvent être utilisés pour la réalisation plus générale de n'importe quel compartiment rempli d'un fluide et scellé hermétiquement. D'autres exemples de tels compartiment sont décrits en relation avec les figures 8 à 10.
La représente une vue en coupe, très schématique, d'un exemple général d'un compartiment 800 pouvant être scellé hermétiquement ou semi-hermétiquement de la manière décrite précédemment.
Le compartiment 800 est, comme les chambres à vapeur 401 décrite en relation avec la , formé à partir de deux plaques 801 et 802 collées hermétiquement ou semi-hermétiquement l'une à l'autre. Une cavité 803 est formée à partir d'une face d'au moins une des deux plaques 801 ou 802. En , les deux plaques ont des cavités 803 mises en regard pendant le procédé de collage. Selon un exemple, les plaques 801 et 802 sont des substrats semiconducteurs, par exemple en silicium, ou des substrats en verre.
La représente une vue en perspective, schématique, d'une variante 900 du compartiment 800 dans lequel les cavités 803 ont comme fond une membrane poreuse 901 permettant un échange entre le fluide encapsulé et l'environnement extérieur.
Un tel compartiment 900 peut être utilisé pour mettre en oeuvre un dispositif médical, ou paramédical, comme une bio-capsule.
La représente une vue en coupe, très schématique, d'une batterie 1000 pouvant être obtenue en utilisant les procédés des figures 6 et 7. Selon un exemple, la batterie 1000 est une microbatterie.
La batterie 1000 est formée à partir de deux substrats 1001 et 1002. Dans le substrat 1001, sont formés deux cavités jumelles 1003 et 1004 reliée par une tranchée 1005. Le substrat 1002 est collé sur le substrat 1001 de façon à fermer les cavités 1003 et 1004 et la tranchée 1005.
Selon un exemple de réalisation, la cavité 1003 est l'anode de la batterie 1000, et la cavité 1004 est la cathode de la batterie 1000.
La cavité 1003 est remplie par : - une première couche 1006 de matériaux formant une électrode ; - une deuxième couche 1007 de matériaux formant l'anode de la batterie 1000 ; et - une troisième couche 1008 de matériaux formant l'électrolyte de la batterie 1000.
La troisième couche 1008 déborde de la cavité 1003, dans la tranchée 1005 et dans la cavité 1004. Ainsi, la cavité 1004 est remplie par : - une première couche 1009 de matériaux, par exemple identique à la couche 1006, formant une électrode ; - une deuxième couche 1008 de matériaux formant la cathode de la batterie 1000 ; et - une troisième couche 1008 de matériaux formant l'électrolyte de la batterie 1000.
Le collage des substrats 1001 et 1002, et le remplissage des cavités 1003 et 1004 peut être réalisés par un procédé similaire à ceux décrits en relation avec les figures 6 et 7.
Méthode de préparation d’une composition cosmétique prête à l’emploi selon l’invention
La présente invention concerne également une méthode de préparation d’une composition cosmétique prête à l’emploi selon l’invention, comprenant une étape de mélange de la composition cosmétique concentrée selon l’invention avec de l’eau, et une étape d’agitation du mélange obtenu.
Dans un mode de réalisation préféré, la méthode de préparation d’une composition cosmétique prête à l’emploi selon l’invention, comprend une étape de dilution dans un volume d’eau prédéfini de la composition cosmétique concentrée selon l’invention, et une étape d’agitation du mélange obtenu.
Dans un mode de réalisation préféré, la dilution dans un volume d’eau prédéfini de la composition cosmétique concentrée selon l’invention est réalisée dans un contenant approprié tel qu’un pot, un flacon, une fiole ou une bouteille, à température ambiante ou à une température proche de la température ambiante, c’est-à-dire à une température allant de 15°C à 40°C, préférentiellement allant de 17°C à 30°C.
Avantageusement, lorsque la composition cosmétique prête à l’emploi a été entièrement utilisée par l’utilisateur, le contenant approprié peut être réutilisé pour la dilution d’un nouvelle composition cosmétique concentrée.
Dans un mode de réalisation, la dilution de la composition cosmétique concentrée selon l’invention est réalisée par introduction d’un volume d’eau prédéfini dans la composition cosmétique concentrée suivie d’une agitation du mélange obtenu.
Dans un mode de réalisation préféré, la dilution de la composition cosmétique concentrée selon l’invention est réalisée par introduction de la composition cosmétique concentrée dans un volume d’eau prédéfini suivie d’une agitation du mélange obtenu.
Dans un mode de réalisation préféré, la dilution de la composition cosmétique concentrée est réalisée avec un ratio de la composition cosmétique concentrée sur l’eau allant de 1 :2 à 1 :20, préférentiellement allant de 1:2 à 1:15.
Dans un mode de réalisation préféré, l’agitation du mélange obtenu consiste en une simple agitation manuelle du contenant, réalisée par un utilisateur durant un temps inférieur à 2 minutes, préférentiellement inférieur à 1 min.
Avantageusement, lorsque la composition cosmétique concentrée selon l’invention comprend au moins un agent épaississant et/ou gélifiant de phase aqueuse, un épaississement après dilution de la composition cosmétique concentrée selon l’invention est observé en un temps inférieur à 2 minutes, de préférence inférieur à 1 minute.
Dans un mode de réalisation, la composition cosmétique concentrée est stockée dans un contenant approprié tel qu’un pot, un flacon, une fiole ou une bouteille, dont le volume est suffisamment grand pour permettre l'addition, par versage ou distribution, d’un volume d’eau nécessaire à la dilution de la composition cosmétique concentrée .
Dans un mode de réalisation préféré, le volume d’eau nécessaire à la dilution de la composition cosmétique concentrée est introduit dans un premier contenant tel qu’un pot, un flacon, une fiole, ou une bouteille, dont le volume est suffisamment grand pour permettre l'addition, par versage ou distribution, de la composition cosmétique concentrée contenue dans un second contenant tel qu’un pot, un flacon, une fiole, une bouteille, pouvant par exemple être muni d’un système de dosage ; un sachet hydrosoluble ou non, un berlingot, un contenant de type doypack ou une capsule.
Dans un mode de réalisation, le premier contenant et le second contenant peuvent être séparés par une "barrière" temporaire qui est retirée ou compromise, avant l'utilisation, pour permettre le mélange de la composition cosmétique concentrée avec le volume d’eau nécessaire à la dilution de la composition cosmétique concentrée, la barrière pouvant être déformable, déchirable, cassable, amovible ou soluble.
Dans un mode de réalisation préféré, la composition cosmétique concentrée est stockée dans une capsule munie d’un opercule pouvant être altéré sous une action mécanique et permettant le déversement de la composition cosmétique concentrée dans le volume d’eau nécessaire à la dilution de la composition cosmétique concentrée, le volume d’eau nécessaire à la dilution étant stocké dans un contenant tel qu’un pot, un flacon, une fiole ou une bouteille. Le mélange obtenu est ensuite homogénéisé par simple agitation manuelle du contenant par un utilisateur.
Dans un mode de réalisation, l’eau utilisée pour la dilution de la composition cosmétique concentrée présente un titre hydrométrique compris entre 0 et 7 ; dans un mode de réalisation, un titre hydrométrique compris entre 7 et 15 ; dans un mode de réalisation, un titre hydrométrique compris entre 15 et 30 ; dans un mode de réalisation, un titre hydrométrique compris entre 30 et 40 ; dans un mode de réalisation, un titre hydrométrique supérieur à 40.
Le terme « titre hydrométrique » ou « dureté » concerne le taux de minéralisation de l’eau. Par définition, seuls les ions Ca 2+ et Mg 2+ , majoritairement présents dans l’eau, sont pris en compte dans le calcul de la dureté de l’eau, les autres étant considérés comme négligeables. Le titre hydrométrique (TH) est calculé suivant l’équation :
Dans ce cas, la circulation en sens contraire de la deuxième phase gazeuse lors de l’étape b) aura pour effet de casser la couche limite entourant les préformes fibreuses, ce qui, en plus de refroidir les pièces, facilitera le renouvèlement de la première phase gazeuse lors de l’étape a).
Dans un mode de réalisation une quantité calibrée de première phase gazeuse est introduite lors de chaque étape a). Par exemple, le circuit d’introduction de la première phase gazeuse comprend une chambre de réserve en amont du four de densification assurant que la quantité de première phase gazeuse délivrée au cours de chaque étape a) soit limitée à la quantité contenue dans cette chambre de réserve.
Ce mode de réalisation permet de connaître précisément la quantité de première phase gazeuse introduite dans l’enceinte du four de densification au moment de chaque étape a), et par conséquent de limiter la durée de chaque étape a) au temps nécessaire pour la décomposition de cette quantité de première phase gazeuse introduite. Il en résulte un procédé dont la durée de chaque étape a) peut être précisément connue, et relativement courte.
Par exemple, dans ce mode de réalisation, la durée de chaque étape a) peut être inférieure ou égale à une minute, voire inférieure ou égale à 30 secondes.
Dans un mode de réalisation, le débit de première phase gazeuse est constant au cours de chaque étape a).
Ce mode de réalisation permet un renouvellement constant de la première phase gazeuse de sorte qu’elle soit donc constamment chargée en espèces réactives, et ainsi, la durée de l’étape a) n’est pas limitée par l’appauvrissement de la première phase gazeuse en espèces réactives. Dans ce mode de réalisation, la durée de l’étape a) est donc limitée par la durée du réchauffement des surfaces des préformes fibreuses.
Dans un tel mode de réalisation, la durée de chaque étape a) peut être comprise entre 1 et 30 minutes, par exemple entre 3 et 10 minutes.
La représente schématiquement une installation pour la réalisation d’un procédé de l’invention.
La représente schématiquement l’évolution de grandeurs caractéristiques dans un premier mode de réalisation du procédé.
La représente schématiquement l’évolution de grandeurs caractéristiques dans un deuxième mode de réalisation du procédé.