Dispositif (1) de dépôt physique en phase vapeur, comprenant une chambre de dépôt (2) en partie délimitée par un fond de chambre (6), le dispositif comprenant en outre, logés dans la chambre : - des moyens de support de substrat (24) ; et - au moins une cible (14a) agencée dans une partie basse de la chambre (2), entre les moyens de support de substrat (24) et le fond de chambre (6) en rapport à une direction de la hauteur (16) du dispositif de dépôt, caractérisé en ce qu’il comporte en outre un système de rupture de court-circuit (50) susceptible d’être provoqué par un substrat (26) tombé et se trouvant en position de court-circuit en contact simultané avec la cible (14a) et le fond de chambre (6), le système de rupture de court-circuit (50) comprenant une structure (52) d’appui sur le/les éventuels substrats (26) tombés en position de court-circuit, ainsi que des moyens (60) de mise en mouvement de la structure d’appui (52) dans un espace (56) situé entre le fond de chambre (6) et la cible (14a). Dispositif de dépôt selon la revendication 1, caractérisé en ce que ladite au moins une cible (14a) agencée en partie basse de la chambre correspond à une ou plusieurs cibles rotatives, de préférence selon un/des axes de rotation (40a) parallèles à un plan principal de fond de chambre (12). Dispositif de dépôt selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que dans la direction de la hauteur (16), l’écartement (E) entre ladite au moins une cible (14a) agencée en partie basse de la chambre, et le fond de chambre (6), est inférieur à 20 mm. Dispositif de dépôt selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la structure d’appui (52) du système de rupture de court-circuit (50) comprend une barre d’appui (54) parallèle à un plan principal de fond de chambre (12). Dispositif de dépôt selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le fond de chambre (6) est équipé d’au moins une rampe d’injection de gaz (47a) dans la chambre de dépôt (2), et en ce que la structure d’appui (52) du système de rupture de court-circuit (50) comprend, associée à chaque rampe d’injection de gaz (47a), une portion d’appui (58) destinée à être déplacée au-dessus de la rampe d’injection (47a). Dispositif de dépôt selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que les moyens (60) de mise en mouvement sont conçus pour déplacer en translation la structure d’appui (52) du système de rupture de court-circuit (50). Dispositif de dépôt selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que les moyens (60) de mise en mouvement comprennent un vérin pneumatique, de préférence télescopique. Dispositif de dépôt selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le système de rupture de court-circuit (50) comprend un dispositif (70) de commande des moyens de mise en mouvement (60), le dispositif de commande (70) étant actionnable par un opérateur. Dispositif de dépôt selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu’il comprend un système (72) de détection de court-circuit entre ladite au moins une cible (14a) agencée en partie basse de la chambre, et le fond de chambre (6), et en ce que le système de détection (72) est relié au système de rupture de court-circuit (50) de manière à actionner automatiquement le dispositif de commande (70) des moyens de mise en mouvement (60), en cas de détection de court-circuit. Dispositif de dépôt selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que les moyens de support de substrat (24) sont des moyens permettant de mettre des substrats (26) en déplacement à l’intérieur de la chambre de dépôt (2). Dispositif de dépôt selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la chambre de dépôt (2) comporte un premier compartiment (2a) dans lequel se trouve ladite au moins une cible (14a) agencée en partie basse de la chambre, ainsi qu’un second compartiment (2b) communiquant avec le premier et logeant au moins une cible (14b) agencée dans une partie haute de la chambre, les moyens de support de substrat (24) étant agencés sous ladite au moins une cible (14b) agencée en partie haute de la chambre. Dispositif de dépôt selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que ladite au moins une cible (14a) agencée en partie basse de la chambre fait partie intégrante d’un bloc cible amovible (32a) comprenant un capot supérieur (36a) de fermeture de la chambre de dépôt (2). Dispositif de dépôt selon la revendication précédente, caractérisé en ce que le bloc cible (32a) comprend des supports de cibles (34a) agencés entre le capot supérieur de fermeture (36a) et la/les cibles (14a) agencées en partie basse de la chambre. Procédé de rupture d’un court-circuit dans un dispositif (1) de dépôt physique en phase vapeur selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu’il comprend la mise en mouvement de la structure d’appui (52) dans l’espace (56) situé entre le fond de chambre (6) et la cible (14a), de manière à venir contacter le substrat (26) en position de court-circuit puis à le déplacer / le casser, de sorte qu’il ne se trouve plus en contact simultané avec la cible (14a) et le fond de chambre (6).