INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Tel que décrit ci-dessus, la présente invention porte sur un contenant de bâton dans lequel le premier élément de retenue 40 et le deuxième élément de retenue 50 sont séquentiellement relevés et abaissés par l’opération de rotation du corps principal 10, de façon à utiliser entièrement le cosmétique en bâton S relié aux premier et deuxième éléments de retenue 40 et 50 sans gaspillage, dans lequel le tube d’étanchéité 20 est prévu entre le corps principal 10 et le tube de guidage 30 pour obturer simultanément de manière étanche les interstices entre le corps principal 10 et le tube d’étanchéité 20 et entre le tube d’étanchéité 20 et le tube de guidage 30, et le capuchon d’étanchéité 80 est prévu sur l’intérieur du couvercle de corps 60 pour obturer de manière étanche la partie d’entrée 32 du tube de guidage 30, de sorte qu’il est possible de prévenir la contamination et la détérioration du cosmétique en bâton S logé dans le tube de guidage 32 lorsqu’il est porté ou stocké. Autrement dit, le cosmétique en bâton S est logé à l’intérieur du tube de guidage 30, et les portions du tube de guidage 30 avec la possibilité d’arrivée d’air externe sont efficacement obturées de manière étanche par le biais du tube d’étanchéité 20 et du capuchon d’étanchéité 80, de sorte que l’étanchéité à l’air à l’intérieur du tube de guidage 30 peut être maintenue de manière plus stable.
Les Figs 7 à 9 sont des vues illustrant les procédés d’opération du contenant de bâton ayant une structure d’étanchéité pour la prévention d’un résidu selon le mode de réalisation de la présente invention. Le procédé d’utilisation du contenant de bâton ayant une structure d’étanchéité pour la prévention d’un résidu selon le mode de réalisation de la présente invention va être décrit en référence aux dessins ci-dessus.
La est une vue en coupe illustrant un état dans lequel le premier élément de retenue et le deuxième élément de retenue sont levés ensemble selon les modes de réalisation de la présente invention. La est une vue en coupe illustrant un état dans lequel le soulèvement du premier élément de retenue est restreint selon les modes de réalisation de la présente invention. La est une vue en coupe illustrant un état dans lequel le deuxième élément de retenue est levé selon les modes de réalisation de la présente invention.
Afin d’utiliser le contenant de bâton ayant une structure d’étanchéité pour la prévention d’un résidu selon les modes de réalisation de la présente invention, tout d’abord, le couvercle de corps principal 60 est séparé du corps principal 10 pour exposer le tube de guidage 30 vers l’extérieur.
Ensuite, tel que montré sur la , lorsque le tube de guidage 30 est tenu par une main et le corps principal 10 est tourné par l’autre main, le tube d’étanchéité 20 ajusté à l’intérieur du corps principal 10 est tourné conjointement avec le corps principal 10. Le corps principal 10 et le tube d’étanchéité 20 sont tournés, toutefois, le tube de guidage 30 tenu par l’utilisateur et les premier et deuxième éléments de retenue 40 et 50 couplés à l’intérieur du tube de guidage 30 sont restreints en termes de rotation, et en conséquence, le deuxième élément de retenue 50 couplé par vissage au corps principal 10 et le premier élément de retenue 40 verrouillé et couplé au deuxième élément de retenue 50 sont déplacés vers le haut ensemble le long du tube de guidage 30, de sorte que le bâton de produit cosmétique S relié au premier élément de retenue 40 est amené vers l’extérieur à travers la partie d’entrée 32 du tube de guidage 30.
Ensuite, le bâton de produit cosmétique S amené vers l’extérieur à partir du tube de guidage 30 est appliqué uniformément sur la peau pendant le maquillage.
De plus, tel que montré sur la , afin d’utiliser le résidu du cosmétique en bâton S restant à l’intérieur du premier élément de retenue 40 lorsque le cosmétique en bâton S relié au premier élément de retenue 40 est presque utilisé, le corps principal 10 est tourné de sorte que le deuxième élément de retenue 50 couplé par vissage au corps principal 10 et le premier élément de retenue 40 verrouillé et couplé au deuxième élément de retenue 50 sont déplacés vers le haut ensemble le long du tube de guidage 30, puis la première saillie de prévention de séparation 44a du premier élément de retenue 40 est saisie sur la plaque de cloison 34 du tube de guidage 30, arrêtant ainsi l’ascension du premier élément de retenue 40.
Selon des aspects avantageux mais non obligatoires, un tel système peut incorporer une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prises isolément ou suivant toute combinaison techniquement admissible :
Le dispositif électronique de commande est configuré pour gérer les paramètres d’alimentation d’au moins une partie des charges électriques afin de réduire le courant électrique consommé par ces charges et/ou gérer des paramètres de fonctionnement d’au moins une partie des sources d’alimentation électrique secondaires pour réduire le courant électrique délivré par ces sources électriques afin de respecter le premier seuil de courant et le deuxième seuil de courant ; gérer des paramètres d’alimentation d’au moins une partie des charges électriques comporte des étapes consistant au moins à déconnecter ou reconnecter automatiquement ladite ou lesdites charges électriques, ou moduler la consommation électrique de ladite ou desdites charges électriques ; ladite pluralité de charges électriques comporte un ou plusieurs des éléments suivants : un véhicule électrique ou une station de charge d’un véhicule électrique, un chauffe-eau, une pompe à chaleur, ou climatiseur, ou une pompe ; le système comporte un ou plusieurs dispositifs de commutation électrique pour sélectivement déconnecter ou reconnecter une ou plusieurs desdites charges électriques, le ou les dispositifs de commutation étant pilotés par le dispositif électronique de commande ; au moins une desdites charges électriques comporte un dispositif de régulation intégré connecté au dispositif électronique de commande, le dispositif de régulation intégré étant configuré pour piloter la consommation électrique de ladite charge électrique en fonction d’informations envoyées par le dispositif électronique de commande ; ladite charge électrique est une station de charge pour un véhicule électrique ; chacune desdites charges électriques est raccordée au répartiteur par l’intermédiaire d’un conducteur électrique ; au moins une source d’alimentation électrique secondaire comporte des générateurs photovoltaïques ; le système comporte au moins un système de stockage d’électricité pouvant être source ou charge ; une source d’alimentation électrique secondaire alternative comporte un groupe électrogène ; le répartiteur comporte des conducteurs électriques en cuivre ; l’élément de protection comporte un appareil de protection électrique tel qu’un disjoncteur ou un fusible ou un compteur d’énergie à limitation de puissance ; le répartiteur est également configuré pour être connecté, côté aval, à des charges électriques additionnelles, telles que des charges électriques domestiques, par exemple des éclairages.
Selon un autre aspect, l’invention concerne un procédé de gestion d’un système de distribution électrique pour distribuer des courants électriques entre un réseau de distribution électrique et un tableau électrique dans une installation domestique, dans lequel le système comporte un répartiteur et un dispositif électronique de commande, le répartiteur étant agencé pour distribuer un courant électrique dans l’installation, le répartiteur étant configuré pour être connecté, côté amont, à un réseau de distribution électrique et à au moins une source d’alimentation électrique secondaire, le répartiteur étant configuré pour être connecté, côté aval, à une pluralité de charges électriques, dans lequel le dispositif électronique de commande est configuré pour :
déterminer, au moyen de dispositifs de mesure associés aux sources et aux charges, les courants électriques circulant dans l’installation, et notamment le courant électrique véhiculé dans le réseau de distribution électrique,
en fonction du courant mesuré, gérer des paramètres d’alimentation d’au moins une partie des charges électriques , afin de réduire le courant électrique consommé par ces charges électriques et/ou gérer des paramètres de fonctionnement d’au moins une partie des sources d’alimentation électrique secondaires pour réduire le courant électrique délivré par ces sources électriques afin de respecter un premier seuil de courant imposé par un élément de protection entre l’installation électrique et le réseau de distribution électrique et/ou un deuxième seuil de courant correspondant à une limite en courant imposée par le répartiteur afin d’éviter que le courant délivré par les sources électriques au travers du répartiteur dépasse la limite en courant imposée par le répartiteur.
L’invention sera mieux comprise et d’autres avantages de celle-ci apparaîtront plus clairement à la lumière de la description qui va suivre d’un mode de réalisation d’un système donné uniquement à titre d’exemple et faite en référence aux dessins annexés, dans lesquels :
la représente schématiquement une installation électrique selon l’état de la technique ;
la représente schématiquement une installation électrique conforme à l’invention ;
la représente schématiquement un procédé de fonctionnement de l’installation électrique de la ;
la représente schématiquement une partie des étapes du procédé de fonctionnement de la ;
la représente schématiquement une partie des étapes du procédé de fonctionnement de la
La représente un mode de réalisation conforme à l’invention d’un système de distribution d’électricité 30 pour une installation domestique.
Dans de nombreux modes de réalisation, au moins une partie des constituants du système 30 sont logés dans un tableau électrique, ce dernier pouvant être au moins en partie installé dans un tableau électrique (par exemple un tableau mural) ou dans une armoire électrique.
Le système est configuré pour être alimenté par un réseau de distribution électrique 32 (secteur, ou « grid » en anglais) et par au moins une source d’alimentation secondaire 34.
Le système 30 comporte ici un point de raccordement comportant des bornes de raccordement destinées à être connectées au réseau 32. Selon les modes de réalisation, il peut s’agir d’un point de raccordement monophasé ou polyphasé (par exemple triphasé) avec ou sans ligne de neutre.
DESCRIPTION DETAILLEE DE L’INVENTION Par souci de simplification de la description à venir, les mêmes références sont utilisées pour des éléments identiques ou assurant la même fonction dans les différents modes de mise en œuvre exposés de l’invention et dans l’état de la technique.
Le filtre qui sera décrit dans la suite de cette description est réalisé sur un substrat composite formé d’un substrat de base et d’une couche supérieure piézoélectrique qui repose sur ce substrat de base. On peut prévoir d’autres couches entre ces deux éléments. Il peut par exemple s’agir d’une ou d’une pluralité de couche(s) amorphe(s) facilitant leur assemblage. Cette couche amorphe (ou la pluralité de couches amorphes) peut être, ou comprendre, de l’oxyde de silicium. L'épaisseur de la couche amorphe peut être supérieure ou inférieure à 200nm d'épaisseur, en particulier elle peut être choisie entre 10 nm et 6 microns. On peut également placer entre la couche supérieure et le substrat de silicium un miroir de Bragg formé d’un empilement de couches à impédance élastique périodiquement alternée.
La couche supérieure piézoélectrique du substrat composite peut être constituée de nitrure d'aluminium (AlN), d'oxyde de zinc (ZnO), de PZT, de niobate de potassium (KNbO3) et de matériaux similaires tels que du KTN, du PMN-PT et les matériaux apparentés, le nitrure de gallium (GaN), le tantalate de lithium (LiTaO3) ou le niobate de lithium LiNbO3. De préférence, l’orientation cristallographique du tantalate de lithium (LiTaO3) ou du niobate de lithium (LiNbO3) est définie comme (YX l )/θ selon la norme IEEE 1949 Std-176, θ étant un angle d'orientation cristallographique compris entre 0° et 60° ou entre 90° et 150° ; Y et X étant les axes cristallins, et l représentant la longueur d’une plaque colinéaire à X autour de laquelle la rotation θ est réalisée.
Le substrat de base du substrat composite peut être un substrat à haute résistivité électrique, en particulier un substrat en silicium. Par haute résistivité, on entend une résistivité électrique de plus de 1000 Ohm.cm. On peut prévoir que le substrat de base comprenne une couche supérieure de piégeage des charges électriques, par exemple une couche de silicium polycristallin. Le substrat composite peut également être en carbone diamant, en saphir, en verre ou en carbure de silicium.
Le substrat composite peut être formé de multiples manières, et notamment par l’intermédiaire de la technologie Smart Cut™. Selon cette technologie, on définit une couche mince à transférer dans un substrat donneur piézoélectrique par implantation ionique d’espèces légères (hydrogène et/ou hélium par exemple) à travers une face principale de ce substrat donneur. Cette implantation forme une zone fragile définissant la couche mince avec la face principale du substrat. On assemble le substrat donneur, par sa face principale, au substrat de base, et on fracture le substrat donneur au niveau de la zone fragile pour transférer la couche mince, par exemple à l’aide d’un traitement thermique et/ou mécanique.
Alternativement à cette approche, et notamment lorsque la couche supérieure piézoélectrique du substrat composite est relativement épaisse, de l’ordre de 5 microns à 20 microns ou plus, on peut former le substrat composite par assemblage d’un substrat donneur au substrat de base et amincissement du substrat donneur, par exemple par CMP, meulage, polissage.
Dans tous les cas, et quelle que soit l’approche retenue, le transfert de la couche mince conduit à former un substrat composite formé d’une couche supérieure piézoélectrique monocristallin sur le substrat de base.
L'épaisseur de la couche supérieure piézoélectrique est de l'ordre de grandeur de la longueur de l’onde élastique qui est destinée à s’y propager. Préférentiellement, l’épaisseur de la couche supérieure piézoélectrique est moindre que cette longueur d’onde, par exemple environ 20 microns ou moins. L'épaisseur du substrat de base est quant à lui bien supérieure à l'épaisseur de la couche supérieure piézoélectrique, et typiquement au moins dix fois ou cent fois supérieure à cette couche, par exemple entre 250 microns et 500 microns.
Les figures 2a et 2b représentent un filtre à ondes élastiques de surface et à cavités résonantes 1, qui fait l’objet de la présente description. Ce filtre 1 est réalisé sur ou dans la couche supérieure piézoélectrique S1 du substrat composite S, de manière conventionnelle, ici assemblé à un support S3 par l’intermédiaire d’une couche d’assemblage S2. On pourra se référer à l’ouvrage « Surface acoustic wave filters with application to electronic communications and signal processing » de David P. Morgan Academic Press; 2nd edition (August 9, 2007) pour obtenir les principes généraux permettant la synthèse d’un tel filtre à ondes élastiques de surface.
Le filtre est un filtre passe-bande qui présente une fréquence centrale f 0 et une largeur de bande passante Δf qui peut s’exprimer comme une fraction de cette fréquence centrale, typiquement comprise entre 0.1% et 10%.
Le filtre 1 comprend au moins un transducteur électroacoustique d’entrée 2a et un transducteur électroacoustique de sortie 2b. Le signal électromagnétique à filtrer est appliqué sur le transducteur électroacoustique d’entrée 2a et le signal électromagnétique filtré est prélevé sur le transducteur électroacoustique de sortie 2b. Ces deux transducteurs forment donc respectivement un port d’entrée et un port de sortie du filtre. On note toutefois que la désignation « d’entrée » et « de sortie » est parfaitement arbitraire et que le filtre peut être exploité en appliquant/prélevant indifféremment un signal électromagnétique sur l’un ou l’autre des deux ports.
D’une manière très générale, les transducteurs 2a, 2b sont conformes à ceux connus de l’état de la technique, dont on rappelle quelques caractéristiques ci-après.
Chaque transducteur 2a, 2b est ici constitué de deux électrodes en peigne inter-digité. Comme cela est bien connu en soi, de tels transducteurs 2a, 2b sont constitués d’un réseau de doigts métalliques qui sont alternativement reliés à deux bus entre lesquels une différence de potentiel électrique est appliquée/prélevée. Avec ce dispositif on peut générer/détecter directement une onde élastique de surface dans la couche supérieure piézoélectrique. Les transducteurs d’entrée 2a et de sortie 2b sont généralement configurés pour être identiques, mais il n’est pas exclu qu’ils diffèrent, notamment en vue d’optimiser la réponse du filtre.
Le métal des électrodes est typiquement à base d'aluminium, par exemple de l'aluminium pur ou un alliage d'aluminium tel que l'aluminium dopé avec Cu, Si ou Ti. Il est néanmoins possible d'utiliser un autre matériau, par exemple pour établir un coefficient de réflexion plus élevé pour une épaisseur relative d'électrode plus faible. À cet égard, les matériaux d'électrode préférés sont le cuivre (Cu), le molybdène (Mo), le nickel (Ni), le platine (Pt) ou l'or (Au) avec une couche d'adhérence telle que le titane (Ti) ou le tantale (Ta) ou le chrome (Cr), le zirconium (Zr), le palladium (Pd), l'iridium (Ir), le tungstène (W), etc.
La période p des électrodes est généralement choisie telle que p = λ/2, λ étant la longueur d’onde de l’onde élastique qui se propage dans la couche supérieure piézoélectrique à la fréquence de résonance f r du transducteur. D’autres configurations sont possibles, et plus généralement la période p peut s’écrire comme p = λ/(nb_elec), avec nb_elec le nombre de doigts (électrodes) par longueur d’onde. Ces paramètres sont reliés par la relation λ= V/f r , dans laquelle V représente la vitesse de phase de l’onde élastique sous le transducteur. La vitesse de l’onde élastique en surface libre ou sous un transducteur électroacoustique dépend notamment de la nature du matériau dans lequel l’onde se propage, et elle est généralement connue ou accessible à la personne du métier.
Dans le cas du filtre passe-bande qui fait l’objet de cette description, on fixe la fréquence de résonance f r dans la bande passante du filtre ou, de préférence, à une fréquence inférieure à la borne inférieure de cette bande. En fixant cette fréquence de résonance, on peut déterminer la longueur d’onde λ de l’onde et donc la période p du transducteur.
Ainsi, l’esthétique du véhicule est améliorée puisque les équipements n’apparaissent pas comme des ajouts et ne présentent pas de discontinuité apparente avec le reste de l’ouvrant.
En outre, il est également possible de faire en sorte que les équipements portés par la platine de support soient dissimulés par la peau extérieure, y compris, dans le cas d’un hayon, les feux arrière par exemple lorsqu’ils ne sont pas allumés. Par « dissimulés par la peau extérieure » on entend que les équipements ne sont pas visibles pour un utilisateur de manière évidente.
De plus, le fait que la peau extérieure soit rapportée directement et de manière étanche sur la platine de support d’équipements permet de créer une « zone sèche » spécifique pour les équipements portés par la platine de support. On entend ici par « zone sèche » un volume fermé, étanche par rapport à l’environnement extérieur. Ainsi, tous les équipements portés par la platine de support sont isolés de façon étanche de l’environnement extérieur via la liaison étanche obtenue entre la platine de support et la peau extérieure. Ceci est beaucoup plus aisé que d’assurer l’étanchéité autour de chaque équipement individuellement ou de rendre chaque équipement étanche, comme pour les blocs d’éclairage. Cela permet in fine de préserver ces équipements et donc d’assurer leur bon fonctionnement.
Enfin, le fait que la platine soit fixée sur le panneau intérieur de sorte que l’ensemble composé de la platine et de la peau extérieure soit fixé au panneau intérieur de manière amovible rend particulièrement aisé la réparation et/ou le remplacement de l’équipement porté par la platine. En effet, il suffit de détacher l’ensemble composé de la platine et de la peau du reste du hayon et de séparer la platine de la peau pour accéder à l’équipement et toute sa connectique.
Avantageusement, afin d’accéder facilement à l’équipement porté par la platine de support, l’ensemble composé de la platine et de la peau extérieure est configuré de sorte à pouvoir être détaché du panneau intérieur puis à en être écarté vers l’extérieur du véhicule. Il n’est en effet plus nécessaire de retirer l’équipement du véhicule à travers le panneau intérieur depuis l’intérieur du véhicule, ce qui facilite grandement sa maintenance, son remplacement et d’une manière générale le service après-vente.
Selon un mode de réalisation préféré de l’invention, la platine de support d’équipement est rapportée directement sur la surface externe du panneau intérieur de manière amovible, par exemple par vissage. Ceci permet de faciliter le démontage de la platine de support puisqu’il n’y a pas de pièce intermédiaire à démonter entre le panneau intérieur et la platine de support.
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention, la platine de support d’équipement comprend une niche dont les parois délimitent un volume dans lequel est inséré ledit au moins un équipement et un rebord périphérique prolongeant les parois de la niche, le rebord périphérique étant fixé de manière amovible à la surface externe du panneau intérieur. Le volume délimité par la niche peut ainsi former une « zone sèche » pour les équipements.
De manière à assurer une étanchéité dans le volume délimité par la niche de la platine de support et donc protéger l’équipement qui se trouve dans ce volume, un joint d’étanchéité est disposé entre la platine de support et la surface interne de la peau extérieure.
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention, la peau extérieure est rapportée sur la platine de support par collage.
Selon un autre mode de réalisation de l’invention, la peau extérieure est rapportée sur la platine de support de manière amovible, par exemple par vissage.
De préférence, la platine de support d’équipements comprend un dispositif émetteur et/ou récepteur d’un rayonnement électromagnétique et la peau extérieure comprend, en regard du dispositif émetteur et/ou récepteur de rayonnement électromagnétique, une zone de transmission, en matière plastique, qui est au moins partiellement transparente audit rayonnement électromagnétique.
On peut ainsi profiter de la platine de support pour disposer des dispositifs émetteurs de rayonnement dans le but d’établir par exemple une signature lumineuse continue sur toute la largeur du hayon si cela est désiré, ou encore y intégrer des dispositifs d’aide à la conduite, comme par exemple des radars (qui émettent généralement un rayonnement électromagnétique compris entre 20 et 80 GHz), des lidars (qui émettent généralement un rayonnement électromagnétique appartenant au spectre infrarouge) ou des caméras de recul. Enfin, il peut également s’agir d’équipement de communication, tels que des écrans ou des antennes. De façon générale, ces équipements peuvent être tout dispositif nécessitant une transparence aux ondes.
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention, le rayonnement électromagnétique appartient au spectre visible.
Selon un autre mode de réalisation de l’invention, le rayonnement électromagnétique appartient au spectre non visible.
Afin de d’accéder facilement à l’équipement porté par la platine de support sans avoir à détacher la peau extérieure de la platine de support, la platine de support comprend au moins un orifice d’accès à un des équipements portés par la platine de support, et de préférence au moins un organe de fermeture dudit orifice d’accès.
Selon un mode de réalisation particulier de l’invention, la platine de support est monobloc.
- la est une schématique partielle en coupe d’un pied d’une aube de rotor selon l’invention,