INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Le circuit de commande 2 décrit précédemment permet une commande en temps réel des diodes électroluminescentes 10 par le superviseur 40, ce qui permet également d’ajuster certains paramètres en temps réel. En particulier, le dispositif 1 de traitement photo-biologique peut comprendre un ou plusieurs capteurs de température 60, adaptés pour mesurer une température à l’un au moins des emplacements suivants : au niveau d’au moins une diode électroluminescente, au niveau d’un dissipateur thermique d’au moins une diode électroluminescente, des exemples de dissipateur thermique sont décrits plus en détails ci-après, au voisinage de la cible à traiter, au niveau du superviseur. Le ou les capteurs de température 60 sont de plus reliés au superviseur pour pouvoir transmettre cette/ces température(s) à celui-ci.
Dans un mode de réalisation, le dispositif 1 peut comprendre un capteur de température adapté pour mesurer la température sur un dissipateur thermique placé sur la face arrière d’une diode ou d’un groupe de diodes, puisque c’est de ce côté que la chaleur est générée par une diode. Dans un mode de réalisation, plusieurs diodes électroluminescentes peuvent être montées sur un support, typiquement un circuit imprimé, en étant placées à intervalles réguliers, et un capteur de température peut être monté sur le même support entre deux diodes consécutives. Pour la mesure d’une température au voisinage de la cible, le dispositif 1 peut comprendre un boitier 100 délimitant une cavité 110 dans laquelle une cible à traiter peut être positionnée, et un ou plusieurs capteurs de température peuvent être placés dans la cavité. Alternativement, un capteur de température peut être placé entre une diode et la cible à traiter.
Le superviseur 40 peut en outre être configuré pour modifier en temps réel le signal de commande en fonction de la température mesurée afin d’éviter un échauffement de la cible à traiter et un échauffement des diodes. Dans un mode de réalisation, lorsque la température mesurée au voisinage des diodes et/ou de la cible excède un seuil déterminé, le superviseur est configuré pour modifier le rapport cyclique, en particulier pour diminuer le rapport cyclique des créneaux du signal de commande, et pour allonger les durées d’émissions respectives de chaque diode ou groupe de diodes. En effet, la diminution du rapport cyclique permet de diminuer la puissance lumineuse et donc la production de chaleur, et l’allongement de la durée de la phase permet de compenser cette réduction de puissance pour rester à iso-énergie. De cette façon, le superviseur peut générer des signaux de commande asservis à la température mesurée au voisinage des diodes pour limiter l’échauffement de la cible et des diodes, mais maintenir la même énergie lumineuse totale reçue par la cible.
Le fait de réguler la température en fonction de la température au niveau de la cible permet d’éviter qu’une chaleur trop importante ne dégrade la cible à traiter. Le fait de réguler la température en fonction de la température des diodes permet de toujours faire fonctionner les diodes dans leur zone d’efficacité maximale et de limiter leur vieillissement. Ceci permet de garantir une durée d’utilisation maximale des diodes en évitant un vieillissement prématuré.
L’interface Homme Machine 20 peut alors être configurée pour afficher la température mesurée par chaque capteur de température 60. Elle peut également être configurée pour afficher un message ou une icône informant que les paramètres du signal de commande ont été modifiés compte-tenu d’une température mesurée.
Dans des modes de réalisation, le dispositif 1 de traitement photo-biologique peut également comprendre un capteur de distance 70 entre la ou les diodes et la cible, et le superviseur 40 peut être configuré pour modifier en temps réel chaque signal de commande en fonction de la distance entre la diode et la cible, de sorte que le niveau d’énergie reçu par la cible soit toujours égal à un niveau d’énergie déterminé. Le signal de commande peut également être adapté en fonction de la température ambiante et de la température mesurée au voisinage d’une diode, comme décrit ci-avant.
En outre, dans certains modes de réalisation, le dispositif 1 peut comprendre des moyens 71 de réglage de la distance entre la ou les diodes et la cible. Il peut s’agir par exemple d’un support positionné sous la cible et présentant une hauteur réglable. La distance entre la ou les diodes et la cible est avantageusement affichée par l’interface Homme-Machine.
En référence aux figures 4, 5a et 5b, dans des modes de réalisation, le dispositif 1 de traitement photo-biologique comprend au moins un, et de préférence une pluralité de modules d’éclairage 90, chaque module d’éclairage comprenant un ensemble de diodes électroluminescentes 10 et un circuit d’alimentation 50 de cet ensemble de diodes. Le module d’éclairage peut comprendre un support mécanique des diodes, par exemple un circuit imprimé 91, permettant également d’assurer la connexion électrique des diodes au circuit d’alimentation 50.
Dans des modes de réalisation, chaque module d’éclairage 90 comprend en outre un dissipateur thermique 92 adapté pour évacuer la chaleur générée par la ou les diodes. Le dissipateur thermique peut être actif ou passif. Par exemple, le dissipateur thermique 92 peut comprendre un ensemble d’ailettes de refroidissement disposées parallèlement les unes aux autres, sur une face arrière du circuit imprimé portant les diodes, c’est-à-dire du côté opposé au côté où les diodes émettent de la lumière, puisque c’est le côté où les diodes émettent le plus de chaleur. Chaque module d’éclairage peut également comprendre un capteur de température, ce capteur étant par exemple inséré entre deux diodes consécutives ou entre deux rangées de diodes du module ou dans le dissipateur, permettant de mesurer la température au voisinage des diodes.
Le circuit d’alimentation 50 des diodes 10 du module d’éclairage 90 est connecté au superviseur 40, et est configuré pour recevoir un signal de commande pour l’ensemble des diodes 10 du module d’éclairage, que celles-ci présentent la même longueur d’onde ou non.
De plus, chaque module d’éclairage 90 est avantageusement configuré pour être amovible par rapport au reste du dispositif de traitement 1.
De nouveau, de telles étapes d’assemblage de procédé de réalisation selon l’invention ne génèrent pas de résidus et est simple à mettre en œuvre.
En exemple pratique de réalisation d’un module de grille de ventilation 1 selon l’invention consiste en l’utilisation de deux traverses 20 de 1m de longueur et d’une série de 18 éléments longitudinaux de grille 30 de longueur de l’ordre de 297 mm. Au final, le module de grille de ventilation et de séchage selon l’invention est de dimension en vue de dessus de 1m sur une trentaine de centimètre. Il est ainsi facilement manipulable tout en résistant à la déformation sous le poids d’une remorque agricole chargées.
Dispositif formant un chauffe-eau pour une unité mobile de décontamination La présente demande concerne les unités mobiles de décontamination, en particulier les dispositifs servant à chauffer l’eau utilisée dans les unités mobiles de décontamination.
Etat de la technique À la suite de l’interdiction de l’amiante en France et dans plusieurs pays européens, des actions de désamiantage ont été engagées et se poursuivent encore aujourd’hui afin de retirer l’amiante, notamment des bâtiments.
Le désamiantage est effectué selon une réglementation stricte par des entreprises accréditées et ouvriers spécialisés et certifiés.
Pour prévenir tout risque relatif à l’amiante, les entreprises accréditées sont dans l’obligation de tenir compte de la protection individuelle et collective de leurs opérateurs.
Dans ce contexte, pour assurer la décontamination des opérateurs et récupérer l’amiante en vue de son traitement, des unités mobiles de décontamination (UMD) sont déplacées de site en site selon les interventions.
Ces UMDs se présentent généralement sous la forme de remorques aménagées comprenant un ensemble de pièces formant un circuit au cours duquel des opérateurs peuvent retirer leurs équipements et protections, et prendre une douche afin de retirer toute trace d’amiante lors de la sortie du chantier.
Ces UMDs comprennent en général un dispositif de production d’eau chaude qui est associé à une ou plusieurs pompes pour alimenter en eau chaude certains équipements sanitaires.
La production d’eau chaude doit répondre à plusieurs contraintes, imposées par la réglementation stricte relative aux activités de désamiantage.
En effet, des besoins en eau chaude sont nécessaires lors de la mise en œuvre pratique des missions de désamiantage. En particulier, au terme des vacations des opérateurs qui durent entre 2h et 2h30, une production d’eau chaude doit être assurée pour notamment fournir les douches. Par conséquent, le dispositif de production d’eau chaude doit être capable de produire de l’eau chaude en moins de 2h30.
En outre, les dispositifs produisant l’eau chaude doivent répondre à d’autres exigences telles qu’une consommation électrique limitée ou un encombrement limité.
Également, le dispositif d’eau chaude doit permettre d’assurer une fourniture d‘eau chaude exempte de bactérie L egionella ou de tout autre virus.
L’invention a pour objet de fournir un dispositif répondant à au moins l’une des contraintes précitées.
Pour cela, la présente invention propose un dispositif de production d’eau chaude pour une unité mobile de décontamination, le dispositif comprenant :
Le deuxième dispositif 101 présente des premier et deuxième états fonctionnels et :
-dans le premier état fonctionnel qui est l’état éteint ici, à partir d’une lumière incidente non polarisée côté opposé au premier dispositif (représentée schématiquement par des composantes Pa et Pb normales de même intensité, avec k le vecteur de propagation de la lumière suivant Z), le deuxième dispositif est apte à délivrer une lumière de sortie polarisée coté premier dispositif 10 avec une première composante du champ électrique polarisée P1 suivant un axe X et une deuxième composante du champ électrique polarisée P2 suivant un axe Y normal à Y, avec un premier ratio de polarisation défini par
rp1 étant de préférence d’au moins 70%ou 90%, et même d’au moins 95% T1 étant la transmission totale à une longueur d’onde entre 380 et 800nm suivant X et T2 étant la transmission totale suivant Y à la longueur d’onde entre 380 et 800nm pour une première tension U2a entre les troisième et quatrième électrodes donnée de préférence nulle
P1 est donc ultra dominant par rapport à P2
-et dans le deuxième état fonctionnel qui est ici un état on, de mise sous tension U2 (entre deux électrodes en bandes de préférence coplanaires, deux à deux):
i) à partir d’une lumière incidente non polarisée côté opposé au premier dispositif, le deuxième dispositif étant apte à délivrer une lumière de sortie polarisée côté premier dispositif avec un deuxième ratio de polarisation défini par
rp2 étant d’au moins 30%, et même d’au moins 50% ou 60% T’1 étant la transmission totale à une longueur d’onde entre 380 et 800nm suivant le premier axe et T’2 étant la transmission totale suivant le deuxième axe à la longueur d’onde entre 380 et 800nm pour une deuxième tension U2b entre les troisième et quatrième électrodes donnée, non nulle, U2b distincte de U2a
P2 est de préférence majoritaire par rapport à P1.
La polarisation de la lumière de sortie du deuxième dispositif peut être elliptique
Naturellement le deuxième dispositif présente alors une multitude d’états fonctionnels à l’état allumé. Il existe en particulier une tension seuil à partir duquel la force d’ancrage des deuxième cristaux liquides est vaincue pour une partie des cristaux liquides et plus on augmente la tension plus les cristaux liquides se réorientent jusqu’à une tension de saturation qui est de préférence d’au plus 80V.
Le premier dispositif électrocommandable 10 comporte une première couche électroactive qui a une réponse optique dépendant de l’état de polarisation d’une lumière incidente sur le premier dispositif la réponse optique va varier suivant que b est normal ou parallèle à P1.
La représente une vue en coupe schématique d’un système optique 1002 composé d’un premier dispositif électrocommandable 10 qui est à diffusion et couleur variable par premiers cristaux liquides et premiers colorants dichroïques et d’un deuxième dispositif électrocommandable à polarisation variable 101 par deuxièmes cristaux liquides et deuxièmes colorants dichroïques 102 dans un deuxième mode de réalisation de l’invention.
Le système 1002 diffère du précédent en ce que le deuxième dispositif 102 (par exemple qui a tourné de 90°) a une direction r1 parallèle à b, autrement dit P1 est normal à b.
La représente une vue en coupe schématique d’un système optique 1003 composé d’un premier dispositif électrocommandable 10 qui est à diffusion et couleur variable par premiers cristaux liquides et premiers colorants dichroïques et d’un deuxième dispositif électrocommandable à polarisation variable 103 par deuxièmes cristaux liquides et deuxièmes colorants dichroïques 103 dans un troisième mode de réalisation de l’invention.
Le système 1002 diffère du premier système 1001 en ce que le deuxième dispositif 102 en ce que dans le deuxième état on, à partir d’une lumière incidente non polarisée côté opposé au premier dispositif, le deuxième dispositif étant apte à fournir une lumière de sortie non polarisée côté premier dispositif.
schématiquement le dispositif de détection de position du système de mesure de déplacement de la ;
des étapes du procédé selon l'invention pour fournir un ensemble de données de position et d’intensité ;
autres étapes du procédé selon l'invention ;
des étapes du procédé selon l'invention pour déterminer la position ; et
une représentation schématique des données de position et d’intensité stockées, des résultats de mesure d'un dispositif de détection de position avec trois capteurs à effet Hall et de la position du générateur de signaux déterminée par le système de mesure de déplacement.
Les figures 1 et 2 montrent un système de mesure de déplacement 10, ici dans une soupape 11, en particulier une soupape de processus, présentant un dispositif de détection de position 12 représenté schématiquement, qui est ici logé dans une tête de commande 14 de la soupape 11.
Le système de mesure de déplacement 10 peut bien sûr être utilisé à d'autres fins, notamment dans tout type d'entraînement comportant un élément à mouvement linéaire.
La tête de commande 14 comprend ici exclusivement des éléments de la soupape 11 qui ne sont pas traversés par le fluide de traitement.
L'élément de soupape 20 coopère avec les composants de la soupape 11 transportant les fluides de traitement, qui sont uniquement esquissés ici. Par exemple, l'élément de soupape 20 peut obturer ou libérer un siège de soupape ou coopérer avec un composant qui obture ou libère le siège de soupape. Dans tous les cas, le mouvement du poussoir de soupape 16 se transmet directement et immédiatement à l'élément de soupape 20, de sorte qu'une position du poussoir de soupape 16 donne une information univoque sur la position de l'élément de soupape 20.
Un générateur de signaux 22 est agencé sur le poussoir de soupape 16 à l'extrémité opposée à l'élément de soupape 20. Le générateur de signaux 22 est ici un aimant à polarisation axiale dont les pôles sont agencés le long de l'axe longitudinal du poussoir de soupape 16. L’agencement des pôles représenté sur la est choisi à titre d'exemple, le générateur de signaux 22 pouvant bien entendu être polarisé en sens inverse.
L'axe longitudinal du poussoir de soupape 16 définit une trajectoire de déplacement sous forme d'axe de déplacement A y , le poussoir de soupape 16 se déplaçant linéairement en va-et-vient le long de l'axe de déplacement A y dans une zone de déplacement prédéterminée pour déplacer l'élément de soupape 20.
Le générateur de signaux 22 est monté dans une position fixe sur le poussoir de soupape 16 et génère un champ magnétique à symétrie de révolution autour de l'axe de déplacement A y . Qu’un seul générateur de signaux 22 est ici prévu dans la soupape 11.
Le générateur de signaux 22 fait partie du dispositif de détection de position 12. Le dispositif de détection de position 12 comprend également un ou une pluralité de capteurs à effet Hall 24, 26, 28 (ici trois, en général n). Dans cet exemple, tous les capteurs à effet Hall 24, 26, 28 sont montés ensemble sur une platine 30 (voir ). Tous les capteurs à effet Hall 24, 26, 28 sont alignés le long d'une ligne droite suivant l'axe de déplacement A y et sont ici positionnés à des distances égales.
Il convient de souligner qu'un seul capteur à effet Hall, par exemple le capteur à effet Hall 26, est suffisant pour la détection de la position. Ce capteur à effet Hall unique serait également monté sur la platine 30. Les caractéristiques de la description détaillée qui suit après s'appliquent également à un capteur à effet Hall unique. En cas d'utilisation d'un seul capteur à effet Hall, celui-ci est réalisé de manière à pouvoir détecter des signaux de mesure B Mny , B Mnz dans au moins deux sens spatiaux perpendiculaires entre eux.
Afin de finaliser les lignes de couplage CL, telles qu'illustrées par la , l'étape de formation PROC105 peut comprendre la gravure PROC105-6 de la première couche conductrice M1 à travers ce masque de résine de manière à obtenir les lignes de couplage CL. L'étape de formation PROC105 peut par exemple comprendre, avant ladite gravure PROC105-6, une photolithographie PROC105-5 d'un masque de résine sur la première couche conductrice M1, suivi de la gravure PROC105-6 de la première couche conductrice M1 à travers le masque de résine de manière à obtenir les lignes de couplage CL. Les lignes de couplages sont préférentiellement sensiblement parallèles les unes aux autres et s'étendent préférentiellement selon la première direction X. Par sensiblement parallèle, on entend à ± 30° près, préférentiellement à ± 20° près, voire à ± 10° près.
Selon une variante de la gravure PROC105-4 de la première couche conductrice M1, seuls les capuchons CAP sont retirés, par exemple par gravure sélective. L'épaisseur résiduelle TD3 de la cinquième couche diélectrique D3 est alors utilisée pour former un masque lors de la sous-étape de photolithographie PROC105-5 précitée et permettre ainsi la gravure PROC105-6 des lignes de couplage CL à travers ledit masque. La cinquième couche diélectrique D3 est retirée, par exemple par gravure sélective, après l'obtention des lignes de couplage CL.
La présente schématiquement l'étape de dépôt PROC106 de la deuxième couche de séparation SEP2. La deuxième couche de séparation SEP2 est déposée de manière à recouvrir la pluralité de lignes de couplage CL, assurant ainsi leur isolation électrique. La deuxième couche de séparation SEP2 peut également être déposée de manière à recouvrir la première couche de séparation SEP1. Le dépôt PROC106 de la deuxième couche de séparation SEP2 est avantageusement réalisé de la même manière que le dépôt de la première couche de séparation SEP1, tel qu'illustré par les et . La deuxième couche de séparation SEP2 peut par exemple être réalisée à partir d'oxyde de silicium SiO 2 . L'épaisseur TSEP2 de la deuxième couche de séparation SEP2 est préférentiellement comprise entre 20 nm et 40 nm. Ladite épaisseur TSEP2 est mesurée depuis la première couche de séparation SEP1 sur laquelle reposent les lignes de couplage CL.
L'épaisseur TSEP2 de la deuxième couche de séparation SEP2 est préférentiellement choisie de sorte qu'au moins une deuxième portion PLR2 de chaque pilier PLR dépasse de la deuxième couche de séparation SEP2.
Les et illustrent l'étape de formation PROC107 de la pluralité colonnes de couplage CC. De la même manière que les lignes de couplage CL, Les colonnes de couplage CC forment avantageusement, avec les diélectriques de flanc LIN, une grille au niveau de chaque pilier PLR. Les lignes et les colonnes de couplage CL, CC sont ainsi destinées à appliquer un champ électrostatique sur les première et deuxième portions PLR1, PLR2 d'un même pilier PLR, permettant d'autoriser ou bloquer le passage d'électrons dans ledit pilier PLR. Les lignes et colonnes de couplage CL, CC sont agencées de sorte qu'appliquer un potentiel électrique à l'une des lignes CL et l'une des colonnes CC permet d'autoriser ou bloquer le passage d'électrons d'un seul pilier PLR parmi la pluralité de piliers PLR. Les lignes et colonnes de couplage CL, CC permettent ainsi l'indexation individuelle des qubits pour, par exemple, initialiser ou mesurer leur état.
Il est ainsi également avantageux que le couplage de chaque colonne de couplage CC avec les piliers PLR soit reproductible et maximal. Il est ainsi préférable que les colonnes de couplage CC entourent, de la même manière que les lignes de couplage CL, une deuxième portion annulaire LINA2 d'un diélectrique de flanc LIN et donc la deuxième portion PLR2 d'un pilier PLR. Pour cela, chaque colonne de couplage CC est en contact avec au moins un diélectrique de flanc LIN. De préférence, chaque colonne de couplage CC est formée PROC107 de manière à entourer une deuxième portion annulaire LINA2 d'au moins un diélectrique de flanc LIN, dépassant de la deuxième couche de séparation SEP2.
Les colonnes de couplage CC s'étendent avantageusement sur la deuxième couche de séparation SEP2. Cette dernière, recouvrant les lignes de couplage CL, permet d'assurer une isolation électrique entre les lignes et les colonnes de couplage CL, CC. Toutefois, il peut subsister un couplage capacitif entre les lignes et les colonnes de couplages CL, CC. Afin de réduire le couplage capacitif, il est avantageux que les colonnes de couplage CC soient réalisées de manière à croiser les lignes de couplages CL selon un angle sensiblement droit. Par angle sensiblement droit, on entend droit à ± 30° près, préférentiellement à ± 20° près, voire à ± 10° près.
Ainsi, les colonnes de couplage CC s'étendent préférentiellement parallèlement entre elles et selon la deuxième direction Y. Ainsi, elles peuvent contacter les diélectriques de flanc LIN d'une pluralité de piliers PLR alignés selon la deuxième direction Y et réduire le couplage capacitif avec les lignes de couplages CL.
La illustre une vue 3D des piliers PLR, des lignes de couplage CL et des colonnes de couplages CC obtenues à l'issue de l'étape de formation PROC107 des colonnes CC.
Les piliers étant agencés en quinconce et formant des lignes et des colonnes selon, respectivement, la première direction X et la deuxième direction Y, les colonnes de couplages CC sont alors préférentiellement orientées perpendiculairement aux lignes de couplage CL. Il est toutefois envisageable que les colonnes de couplage CC forment un autre angle avec les lignes de couplage CL, par exemple égal à 45°. Auquel cas, les deuxièmes électrodes conductrices CC sont appelées "diagonales de couplage".
L'étape de formation PROC107 des colonnes de couplage CC est préférentiellement similaire à l'étape de formation PROC105 des lignes de couplage CL telle qu'illustrée par les à .
Les et illustrent l'étape de dépôt PROC108 de la troisième couche de séparation SEP3. Ladite troisième couche de séparation SEP3 repose sur la pluralité de colonnes de couplage CC et enrobe ladite pluralité de colonnes CC. Le dépôt PROC108 de la troisième couche de séparation SEP3 peut être réalisée de la même manière que le dépôt PROC105 de la première couche de séparation SEP1, tel qu'illustré par les et et/ou le dépôt PROC107 de la deuxième couche de séparation SEP2. La troisième couche de séparation SEP3 peut également être réalisée à partir d'oxyde de silicium SiO 2 . La troisième couche de séparation SEP3 enrobe les colonnes de couplage CC et peut également recouvrir la deuxième couche de séparation SEP2. Aussi, la troisième couche de séparation SEP3 présente une épaisseur TSEP3 mesurée à partir de la deuxième couche de séparation SEP2 sur laquelle repose les colonnes de couplage CC.