INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Les cellules sont ainsi à nouveau alimentées et leurs transistors d’accès sont alors typiquement désactivés. Chaque cellule peut alors individuellement basculer à une valeur ‘1’ ou ‘0’ (correspondant par exemple par convention à un état logique ‘1’ ou ‘0’ de leur premier nœud NT) d’une manière libre ou aléatoire, mais qui suit la statistique fonction des variations locales et des conditions d’opérations propres de cette cellule et de la puce à qui elle appartient. Ainsi, certaines cellules sont alors mises à un état logique ‘1’ tandis que d’autres sont mises à un état logique ‘0’.
L’exemple de réalisation qui vient d’être donné et dans lequel on effectue l’égalisation des nœuds par connexion des lignes de bits entre elles lors de la phase d’effacement permet de réaliser une initialisation plus rapide et moins consommatrice qu’une simple mise à la masse des nœuds de stockage.
Dans l’exemple de réalisation qui vient d’être décrit, suite à l’effacement complet d’un groupe de cellules ou de mémoire la SRAM en égalisant les nœuds internes à une valeur identique lors de la phase d’effacement, on configure de manière libre ou déterministe son nouveau contenu. Le circuit d’initialisation permet d’utiliser alternativement l’une ou l’autre de ces deux techniques tout en limitant le nombre de composants nécessaires et la consommation engendrée par l’initialisation.
Outre le fait de permettre d’effectuer différents types d’initialisation, le circuit d’initialisation permet également d’accélérer l’écriture déterministe de l’ensemble ou d’un sous ensemble de la mémoire à une valeur fixée par l’utilisateur ou le concepteur de la mémoire, grâce à la présence et au procédé de commande des transistors reliés aux réseaux d’alimentation 191 et 192.
Toutefois, en variante ou en combinaison de l’exemple de réalisation décrit précédemment, la phase d’effacement lors de laquelle on égalise le premier nœud NT et le deuxième nœud NF de chaque cellule peut être réalisée en forçant les lignes de bits à la masse.
Alternativement, il est possible d’utiliser des cellules mémoire non conventionnelles 6T, qui incluent, comme représenté en , un transistor d’effacement T 1 bien que cela soit moins avantageux en termes de compacité et de densité d’intégration. Dans ce cas, l’effacement ne nécessite plus d’avoir le transistor 171 en pied de colonne. La logique de commande peut alors être adaptée pour commander la conduction des transistors d’effacement dans chaque cellule grâce à un signal de commande de ces transistors d’effacement qui peut être similaire à celui du signal ERASE_IO. L’activation du signal ERASE_WL n’est alors plus nécessaire dans cette phase d’effacement et il est éventuellement possible de s’affranchir de la présence de ce signal ERASE_IO avec les transistors 181 associés. L’intérêt éventuel de conserver ces derniers réside dans la mise en œuvre de l’initialisation pour pouvoir conduire une initialisation déterministe ou libre sur une pluralité de lignes de cellules mémoire simultanément. De même, dans l’exemple qui vient d’être donné, pour permettre l’initialisation déterministe on applique lors de la deuxième phase suivant l’effacement, un potentiel égal à VDD sur l’une des lignes de bits tandis que l’autre ligne de bit reste flottante. On peut en variante envisager une autre manière de polariser les lignes de bits ou un autre écart de polarisation entre les lignes de bits.
Selon une première option, on peut utiliser des transistors NMOS reliés à des lignes de masse à la place de transistors PMOS reliés à des lignes d’alimentation 193 et 194 mises à VDD.
Selon une deuxième option, on effectue un réglage « analogique » du courant ou de la tension à imposer sur l’une ou l’autre des lignes de bits lors de la deuxième phase d’initialisation, en particulier en appliquant un courant ou une tension sur la ligne de bits intermédiaire par rapport à celle (celui) appliqué lorsque la ligne de bit est couplée à la masse ou au potentiel d’alimentation VDD, et ce, afin d’obtenir un tirage aléatoire associé à une probabilité différente d’une probabilité « standard » définie lorsqu’on applique un potentiel d’alimentation VDD ou la masse GND. Un mode de réalisation particulier de cette deuxième option sera décrit ultérieurement en liaison avec la .
La illustre, par des vues A, B et C en coupe, un autre mode de mise en oeuvre d'un procédé de fabrication d'un filtre pixelisé 108. Bien que l'on illustre ici la fabrication d'un seul pixel Pix du filtre 108, la personne du métier est en mesure d'en déduire comment fabriquer le filtre 108, en mettant en œuvre les étapes décrites ci-dessous pour chaque pixel Pix du filtre 108, par exemple de manière simultanée pour toute ou partie des pixels Pix du filtre 108.
La illustre le cas où le filtre 108 est fabriqué sur un support 1300, plutôt que directement sur une couche 103 comprenant les éléments photosensibles 102. Dans ce cas, le filtre 108 fabriqué est configuré pour reposer sur une face 106 des éléments photosensibles 102 de sorte que, lorsque le filtre 108 repose effectivement sur les éléments 102, chaque élément 102 soit en face d'un pixel Pix du filtre pixelisé 108.
Les vues A, B et C de la diffèrent des vues respectives A, B et C de la en ce que : la couche 103 comprenant les éléments 102 est remplacée par un support 1300 ; et la position des couches 110B et 100C est intervertie, c'est à dire que les couches disposées entre le support 1300 et la structure 1000 sont ici référencées 110B plutôt que 110C comme c'était le cas en , et que les couches reposant sur la structure 1000 sont ici référencées 110C plutôt que 110B comme c'était le cas en .
Pour le reste, la description faite des vues A, B et C de la s'applique aux vues respectives A, B et C de la , en intervertissant les références 110B et 110C dans cette description. En particulier, les différents exemples de mises en œuvre décrits en relation avec la s'appliquent au procédé de la , en intervertissant les références 110B et 110C dans la description faite de ces exemples en relation avec la .
Plus généralement, les exemples de variante de réalisation décrits en relation avec les figures 11 et 12 s'appliquent au cas où les couches 110B et 110C sont interverties et où la pluralité d'éléments 102 est remplacée par un support 1300, en intervertissant les références 110B et 110C dans la description faite précédemment de ces exemples.
La illustre par une vue en coupe une étape suivante d'un procédé de fabrication du filtre 108 sur le support 1300. En , on appelle 1400 l'ensemble du support 1300 et du filtre 108 obtenu à l'issu d'un des exemples de procédé de fabrication décrits précédemment.
Dans cet exemple, une couche 110B est intercalée entre le support 1300 et le filtre 108. Dans d'autres exemples non illustrés, plusieurs couches 110B sont prévues entre le support 1300 et le filtre 108 ou le filtre 108 peut être directement en contact du support 1300. Dit autrement, selon l'exemple considéré, l'ensemble 1400 peut ou non comprendre une ou plusieurs couches 110B.
A titre d'exemple, en , la couche 110B est une couche d'arrêt de gravure pour la gravure des tranchées 1006 (voir ).
Dans cet exemple, une couche 110C a été formée sur le filtre 108, du côté opposé au support 1300. Dans d'autres exemples non illustrés, plusieurs couches 110B peuvent être formées sur le filtre 108, ou, à l'inverse, aucune couche 110C n'est formée sur le filtre 108. Dit autrement, selon l'exemple considéré, l'ensemble 1400 peut ou non comprendre une ou plusieurs couches 110C.
A titre d'exemple, en la couche 110C est une couche de passivation.
A l'étape de la , l'ensemble 1400 comprenant le support 1300 et le filtre 108 a été reporté sur une pluralité d'éléments 102, c'est à dire sur une face 106 d'une couche 103 comprenant les éléments 102, de sorte que chaque élément 102 se retrouve en face d'un pixel Pix du filtre 108.
A titre d'exemple, avant l'étape de report, une couche de passivation 110C a été formée sur la face 106 des éléments 102, de sorte que sa mise en contact avec la couche de passivation 110C de l'ensemble 1400 permette un collage moléculaire.
Le support 1300 peut ensuite être aminci, voire supprimé. Bien entendu, dans le cas où toute ou partie du support 1300 est laissé en place sur le filtre 108 après son report sur les éléments 102, le support 1300 est en un matériau transparent aux longueurs d'onde transmises par les pixels Pix.
La personne du métier est en mesure d'adapter les exemples de mode de mise en œuvre de procédé décrits ci-dessus en relation avec les figures 10 à 14 au cas d'un pixel Pix ne comprenant qu'un seul guide d'onde 114.
En outre, dans les exemples de modes de mise en œuvre de procédé décrits précédemment, les tranchées 1006 ont toutes la même longueur, d'où il résulte que les guides d'onde 114 qui y sont formés ont tous la même longueur. La personne du métier est en mesure d'adapter ces exemples au cas où les guides d'onde 114 ont des longueurs différentes, par exemple en répétant les étapes de masquage, gravure de tranchée, remplissage des tranchées pour y former des guides d'onde pour chaque longueur différente de guide d'onde 114.
On a décrit ci-dessus des exemples de modes de réalisation et de variantes dans des cas où le dispositif 1 est un capteur de lumière et où les éléments photo-actifs 102 sont des éléments photosensibles configurés pour recevoir de la lumière. La personne du métier est en mesure d'adapter ces exemples de modes de réalisation et de variantes au cas où le dispositif 1 est un dispositif émettant de la lumière, par exemple un micro-écran ("micro-display" en anglais), les éléments 102 étant alors des éléments photoémetteurs configurés pour émettre de la lumière.
Le fond 210 est bordé sur l’ensemble de son contour par une ceinture de quatre parois latérales 220, 221. Ces parois latérales sont par exemple repliées à angle droit par rapport au fond 210, d’un côté supérieur du fond 210, auquel cas le plateau 200 présente une forme globalement parallélépipédique. En variante, l’angle d’inclinaison des parois latérales par rapport au fond pourrait être différent, auquel cas le plateau présenterait une forme de pyramide tronquée.
A ce stade, on peut définir par rapport à ce plateau 200 un axe longitudinal A1 passant par le centre du fond 210 et s’étendant parallèlement à ses grands côtés. On peut aussi définir un axe transversal A2 passant par le centre du fond et s’étendant parallèlement à ses petits côtés. On peut enfin définir un axe normal aux axes précédents, ci-après appelé axe vertical A3. Dans la suite de la description, et pour la clarté de l’exposé, on considérera en effet que le fond du plateau est positionné à plat sur une surface sensiblement horizontale.
Les parois latérales longeant les grands côtés du fond 210, ci-après appelées parois latérales longues 220, s’élèvent sur une hauteur environ deux fois inférieure à la hauteur des deux autres parois latérales.
Les parois latérales longeant les petits côtés du fond 210, ci-après appelées parois latérales courtes 221, portent chacune, le long de leur bord d’extrémité supérieur, un trottoir 230 qui est replié à angle droit vers l’autre trottoir. Ces deux trottoirs 230 présentent alors des faces supérieures planes situées dans un même plan géométrique.
Ces deux trottoirs 230 sont écartés l’un de l’autre d’une distance notée Lp2.
On pourra ici noter qu’une encoche est découpée dans chaque trottoir, au niveau du milieu de sa ligne de jonction avec la paroi latérale courte 221 correspondante, de manière à délimiter une patte de centrage 240. Après la mise en volume du plateau, les pattes de centrage 240 s’étendent vers le haut, dans le prolongement des parois latérales courtes 221, en saillie au-dessus des trottoirs 230.
La forme du plateau 200 ne faisant pas en propre l’objet de la présente invention, elle ne sera pas ici davantage décrite.
La coiffe 100 est réalisée d’une seule pièce monobloc, à partir d’un flan prédécoupé.
Sur les figures 3 et 4 on a représenté deux modes de réalisation de cette coiffe 100. Le mode de réalisation de la est celui préféré. C’est d’ailleurs celui qui est représenté sur les autres figures.
Sur ces figures 3 et 4, la coiffe 100 est représentée à l’état découpé mais pas encore plié (on parlera alors dans la suite de cet exposé de « flan 100 »), alors qu’elle est représentée à l’état plié sur la (on parlera alors dans la suite de cet exposé de « coiffe 100 »).
On observe sur les figures 2 à 4 que cette coiffe 100 comporte un panneau principal 110 de forme sensiblement rectangulaire.
Ce panneau principal 110 est prévu pour couvrir l’ensemble du plateau 200. En d’autres termes, il est destiné à s’inscrire dans l’empreinte de la face supérieure du plateau 200. Il présente alors des dimensions sensiblement égales à celle du fond 210 du plateau 200.
Ce panneau principal 110 présente plus précisément une longueur Lc1 supérieure à la distance Lp2 séparant les deux trottoirs 230 du plateau 200. Sa longueur est ici de 586 millimètres et sa largeur est de 381 millimètres. Grâce à ces dimensions, le panneau principal 110 peut simultanément reposer sur les deux trottoirs 230 du plateau 200.
Selon une caractéristique particulièrement avantageuse de l’invention, le panneau principal 110 présente deux lignes de découpe 150 non rectilignes délimitant chacune au moins une languette 151, ces languettes 151 étant adaptées à être simultanément engagées sous les deux trottoirs 230 du plateau 200 comme cela est représenté sur la .
Une ligne de découpe est ici définie comme étant une ligne selon laquelle l’ensemble des couches de la feuille de carton sont découpées. Cette découpe est donc traversante.
Les deux lignes de découpe 150 sont situées le long des petits côtés du panneau principal 110. Elles s’étendent de préférence à distance du bord du panneau principal 110, et leurs extrémités ne débouchent pas sur celui-ci.
Des exemples de dispositifs interférométriques pouvant être mis en œuvre dans le cadre de la présente invention sont décrits dans le document WO2020/245511 A1. Des dispositifs mettant en œuvre des illuminations selon un point de mesure et/ou un champ de vue y sont décrits.
La donne une représentation schématique et partielle de données de mesures brutes obtenues pour une mesure d’interférométrie optique, telle que celle décrite en référence à la .
Dans cet exemple de mise en œuvre, une illumination selon un point de mesure est utilisée et la zone de cohérence est déplacée le long de l’axe Z 110 grâce à des moyens de déplacement.
Ainsi, comme décrit en référence à la , chaque mesure d’interférence fournit des données brutes 220. Les données brutes 220 comprennent des raies principales 222 i , chaque raie principale correspondant à une interface optique. Par exemple, on obtient une raie principale 222 1 pour l’interface 114 1 , une raie principale 222 2 pour l’interface 114 2 , etc. (l’interface 114 8 n’apparaissant pas sur l’exemple illustré par la ).
Les données brutes 220 comprennent aussi des raies secondaires correspondant à des réflexions multiples, et associées aux interfaces 114 2 -114 8 .
La position optique de chaque raie est donnée en abscisse et l’amplitude normalisée de chaque raie est donnée en ordonnées.
Les FIGURES 2c-2f sont des représentations schématiques et partielles d’un autre exemple de données de mesures brutes obtenues pour une mesure d’interférométrie optique, telle que celle décrite en référence à la
Dans l’exemple représenté sur les FIGURES 2c-2f, une illumination selon une mode plein champ est utilisée et la zone de cohérence a été positionnée afin de mesurer une surface de lentille enterrée. La présente le signal d’interférence détecté lors d’une mesure de microscopie par holographie numérique (« Digital Holography Microscopy (DHM)», en anglais). Les FIGURES 2d et 2e représentent respectivement les images d’amplitude et de phase (dans cet exemple repliée) calculées à partir du signal d’interférence. La est une image de la topographie de la surface d’une lentille enterrée obtenue à partir de l’information de phase.
Suivant des modes de réalisation, il est possible d’utiliser un jeu optique comprenant les données de mesure brutes, en partie ou en totalité, à savoir : dans une configuration d’illumination selon un point de mesure, par exemple : la position, et éventuellement l’amplitude, de chaque raie principale, ou la position, et éventuellement l’amplitude, de chaque raie (principale et secondaire) ; dans une configuration d’illumination selon un champ de vue, par exemple : l’image d’interférence détectée par le capteur d’interférométrie 204, l’image d’amplitude associée à l’image d’interférence et/ou l’image de phase associée à l’image d’interférence, ou l’image de topographie associée à l’image d’interférence.
Suivant des modes de réalisation, il est possible d’utiliser un jeu optique comprenant, non pas des données de mesure brutes obtenues par interférométrie optique, mais des valeurs de paramètres géométriques relatives aux interfaces optiques de l’objectif, à savoir : la position, le long de l’axe Z, de chaque interface 114 i ou de chaque élément optique 102-108. Ces valeurs de distances peuvent être obtenues à partir des données brutes d’une seule mesure interférométrique. Dans ce cas, le jeu optique comprend une valeur de distance par interface, respectivement par élément optique ; le décentrement par rapport à l’axe Z ou relativement à d’autres interfaces, dans le plan X-Y, de chaque interface 114 i ou de chaque élément optique 102-108. Ces valeurs de décentrement peuvent être déduites à partir d’une image d’interférence associée à une interface optique, par exemple. Dans ce cas, le jeu optique comprend deux valeurs (signées) de distance (une selon l’axe X et l’autre selon l’axe Y) pour chaque interface, respectivement élément optique ; l’inclinaison par rapport à l’axe Z ou à l’inclinaison d’autres interfaces optiques de chaque interface optique 114 i ou de chaque élément optique 102-108. Ces valeurs d’inclinaison peuvent être déduites à partir de plusieurs mesures interférométriques réalisées en différents points de mesure, en particulier dans une zone périphérique de l’objectif optique. Dans ce cas, le jeu optique comprend deux valeurs d’angle (une par rapport l’axe X et l’autre par rapport à l’axe Y) pour chaque interface, respectivement élément optique.
Dans la suite, on note JO, un jeu optique obtenue par interférométrie optique sur l’empilement des éléments optiques composant l’objectif optique.
Suivant des modes de réalisation, il est possible d’utiliser un seul JO d’un objectif optique pour estimer un jeu de performance estimé, JPE, dudit objectif. Dans cette configuration, chaque jeu d’entrainement JE comprend aussi un seul jeu optique d’entrainement JOA.
Suivant des modes de réalisation, il est possible d’utiliser plusieurs JO pour estimer un JPE pour un objectif optique cible. Dans ce cas, les JOs peuvent être concaténés ou fournis individuellement. Par exemple, il est possible d’utiliser un JO relatif à la position dans l’axe Z, un JO relatif au décentrement par rapport à l’axe Z dans le plan X-Y, et un JO relatif à l’inclinaison par rapport à l’axe Z. Dans cette configuration, chaque jeu d’entrainement JE comprend aussi plusieurs jeux optiques d’entrainement JOA.
La est une représentation schématique d’un exemple de réalisation non limitatif d’un procédé d’obtention d’un outil caractérisation fonctionnelle, en cours de fabrication ou après fabrication, d’un objectif optique cible.
Le procédé 300 de la comprend une phase 302 de constitution d’une base d’entrainement, notée BA, comprenant une multitude de jeu d’entrainement, noté JE 1 -JE k . Chaque jeu d’entrainement JE i comprend : au moins un jeu optique, également appelé jeu optique d’entrainement, et noté JOA i . Dans la suite, pour simplifier la description, et sans perte de généralité, on considère que chaque jeu d’entrainement JE i comprend un seul jeu optique d’entrainement JOA i ; et au moins un jeu de performance, également appelé jeu de performance d’entrainement, et noté JPA i . Dans la suite, pour simplifier la description, et sans perte de généralité, on considère que chaque jeu d’entrainement JE i comprend un seul jeu de performance d’entrainement JPA i .
La phase 302 comprend une étape 304 de détermination d’un jeu d’entrainement JE pour un objectif d’entrainement.
L’invention a également pour objet un wagon munie d’un système de couverture amovible telle que décrite ci-dessus, dans laquelle les rails d’écoute sont disposés sur des parois latérales opposées.
L’invention a également pour objet un bâtiment muni d’un système de couverture amovible telle que décrite ci-dessus, dans laquelle les rails d’écoute sont disposés sur des parois latérales opposées.
- la illustre les principaux éléments d’une vue plongeante sur le système de couverture amovible installé sur une remorque,
- la illustre les principaux éléments d’une vue partielle du système de couverture amovible restreinte à un arceau,
- la illustre les principaux éléments d’une vue en coupe du système de couverture amovible au niveau d’un arceau, et
- la illustre les principaux éléments d’une vue plongeante du système de couverture amovible au niveau d’un arceau.
Description détaillée Sur la , le système de couverture amovible 1 selon l’invention est disposé sur une remorque 2. On notera pour la suite de la description, que le système de couverture amovible 1 peut également être installé sur une semi-remorque, une benne, sur wagon, ou sur un bâtiment.
Le système de couverture amovible 1 comprend une couverture souple 3 disposée sur des arceaux fixés chacun à chacune de leurs extrémités à un curseur 5. Les curseurs 5 coulissent ensuite dans deux rails d’écoute 4 disposés chacun sur une des parois latérales de chaque côté de la remorque 2. Sur la , les arceaux sont masqués par la couverture souple 3 et ne sont donc pas illustrés sur la . Les curseurs 5 et rails d’écoute 4déssinés sur la le sont à titre purement illustratif. D’autres curseurs 5 et rails peuvent être employés tout en restant dans le périmètre de l’invention.
La illustre une vue partielle du système de couverture amovible 1 restreinte à une extrémité d’un arceau 6.
L’arceau 6 est ainsi fixé par une de ses extrémités à un curseur 5 par l’intermédiaire d’une plaque 7. Le curseur 5 est disposé dans un rail d’écoute 4 de sorte à pouvoir se déplacer longitudinalement sans sortir du rail d’écoute 4. Le rail d’écoute 4 est fixé sur une paroi latérale de la remorque 2.
La couverture souple 3 est disposée sur l’arceau 6 et la plaque 7 et est maintenue en place par un dispositif tenseur à ressorts 8, qui sera décrit plus loin en relation avec la . De par l’utilisation du dispositif tenseur à ressorts 8, la couverture souple 3 dispose d’une liberté de position verticale sur la plaque 7 par rapport aux fixations classiques par lassage, visserie ou rivets.
Une protection 9 peut être disposée entre la couverture souple 3 et la structure métallique formée par l’arceau 6 et la plaque 7 pour protéger la couverture souple 3 des frottements.
La illustre une vue en coupe du système de couverture amovible 1 au niveau d’un arceau 6.
On retrouve la couverture souple 3 disposée sur l’arceau 6 et la plaque 7, la couverture souple 3 étant fixée par le dispositif tenseur à ressorts 8 à la base de la plaque 7. La plaque 7 est fixée de façon solidaire au curseur 5 disposé dans le rail d’écoute 4.
La structure de l’arceau 6 est illustrée sur cette même . L’arceau 6 présente une forme parallélépipédique cintrée à section creuse. L’arceau 6 est relié à la plaque 7 par l’intermédiaire d’une plaque 10 aux extrémités recourbées, associée à une entretoise 11. Une première extrémité recourbée de la plaque 10 est disposée dans une lumière correspondante de la plaque 7. L’entretoise 11 est disposée au contact de la plaque 10 de sorte à être au contact de la première extrémité recourbée. La deuxième extrémité recourbée de la plaque 10 est alors introduite dans une lumière 13 de l’entretoise 11.