INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
- le module de détermination du niveau de risque détermine la chaussette en projection dans un plan horizontal, le niveau de risque étant donné par la distance transversale entre la trajectoire calculée et les bords latéraux de la chaussette ou/et dans lequel le module de détermination du niveau de risque détermine la chaussette en projection dans un plan vertical, le niveau de risque étant défini par la distance entre la trajectoire et les bords supérieur et inférieur de la chaussette.
L’invention sera mieux comprise à la lecture de la description qui va suivre, donnée uniquement à titre d’exemple, en se référant aux dessins annexés, sur lesquels :
- la est un schéma synoptique illustrant un premier système de calcul de mission selon l’invention ;
- la est une vue illustrant le principe de détermination d’isochrones, et d’isochrones étendues à différents niveaux de vol ;
- la est une vue illustrant l’obtention d’une trajectoire à partir d’isochrones étendues ;
- la est une vue illustrant le profil vertical pouvant être obtenu pour une trajectoire calculée ;
- la est une vue analogue à la illustrant le principe d’obtention de courbes isochrones inverses à partir du point géographique de destination jusqu’au point géographique d’origine en suivant la trajectoire calculée de la ;
- la illustre la définition d’une chaussette de détermination de niveau de risque en projection dans un plan horizontal ;
- la illustre le principe d’obtention d’isochrones verticales à différents paliers de vol à partir de la trajectoire de la ;
Le deuxième capteur 3 mesure des propriétés d’air sur un deuxième chemin aéraulique.
Le couvercle 8 comporte un orifice d’entrée 11 et un orifice de sortie 12 pour le premier chemin aéraulique 4.
L’orifice d’entrée 11 est bordé par un rebord fendu 14 de forme cylindrique.
L’orifice de sortie 12 du premier chemin aéraulique 4 est bordé par un rebord 15 en partie en arc de cercle.
Le couvercle 8 comprend une paroi latérale 16 ayant une hauteur plus grande que la hauteur de ce premier capteur 2, comme on peut le voir sur la .
Le couvercle 8 présente une paroi de fond 17 qui est à distance du premier capteur 2 lorsque ce dernier est placé dans l’espace intérieur 10 du couvercle 8.
Cette paroi de fond 17 est sensiblement plane.
Le pourtour de cette paroi de fond 17 présente deux grands cotés et deux petits côtés, parallèles deux à deux.
L’orifice d’entrée 11 du premier chemin aéraulique 4 est formé sur cette paroi de fond 17 plane, comme visible sur la .
L’orifice de sortie 12 du premier chemin aéraulique 4 est formé sur la paroi latérale 16 du couvercle 8.
Le logement 9 comprend une ouverture 19 pour introduire le deuxième capteur 3.
Le logement 9 comprend un fond ajouré 20 sur la lequel s’appuie le deuxième capteur 3 lorsqu’il est en place dans le logement 9.
Le fond ajouré 20 permet de laisser passer des éléments de connexion électrique entre le deuxième capteur 3 et une carte électronique 21, notamment de type PCB, sous cette paroi ajourée.
L’espace intérieur 10 du couvercle 8 dédié au premier capteur 2 et le logement 9 dédié au deuxième capteur 3 sont sur des côtés opposés du support multifonction 7.
Cet espace intérieur 10 communique avec l’extérieur du module 1 pour permettre de créer le premier chemin aéraulique 4. Ainsi cet espace 10 n’est pas totalement hermétique de l’extérieur.
Le support multifonction 7 comprend la paroi latérale 16 de forme cylindrique appartenant au couvercle 8 pour le premier capteur 2 et une paroi latérale 23 de forme cylindrique appartenant au logement 9 pour le deuxième capteur 3.
La source ionique S peut par exemple être une source radio fréquence de type Kaufman.
Le capot 2a est ici porté par un support rotatif permettant d’obtenir une uniformité du dépôt reçu par le capot 2a autour de l’axe de rotation du support.
Les ions I utilisés sont généralement des ions Argon (Ar+) car ils sont faciles à produire, n’occasionnent pas de réaction chimique avec les matériaux constituant la cible, et ont une masse atomique relativement élevée nécessaire pour avoir une pulvérisation importante.
La cible C peut être multi-bandes et être constituée d’une bande de vanadium, d’une bande de zirconium et d’une bande du titane. Les ions I viennent alors frapper les différentes bandes simultanément dans des proportions correspondant à la stœchiométrie souhaitée tout en tenant compte du rendement de pulvérisation du matériau constituant les bandes. On comprend que la largeur de chaque bande est proportionnelle à la proportion stœchiométrique du matériau dans le getter 7 et inversement proportionnelle à son rendement de pulvérisation : plus la proportion souhaitée de matériau est importante, plus la bande est large pour un rendement de pulvérisation donné mais plus le rendement de pulvérisation donné est élevé et plus la bande est étroite pour une proportion de matériau souhaité.
La cible C peut aussi être une mosaïque de vanadium, de zirconium et de titane, ou bien encore un alliage de vanadium, de zirconium et de titane à la stœchiométrie contrôlée. Là encore, les proportions de vanadium, de zirconium et de titane dans la cible C dépendent des proportions de vanadium, de zirconium et de titane souhaitée dans le getter 7 et des rendements de pulvérisation du vanadium, du zirconium et du titane.
L’angle d’incidence α est choisi le plus petit possible de manière à pouvoir réaliser une couche de getter poreuse permettant d’augmenter la surface active du getter 7 déposé sur le capot 2b et donc d’augmenter la capacité de pompage dudit getter 7. De préférence, l’angle d’incidence α est compris entre 5 et 30 degrés environ par rapport à la surface du capot 2a.
Un élément chauffant E, par exemple par rayonnement infrarouge, est introduit dans le réacteur R afin d’améliorer la tenue du dépôt, de conditionner la température d’activation du getter 7, mais aussi d’améliorer la capacité de pompage dudit getter 7 et donc d’augmenter la durée de vie du système microélectronique ou nanoélectronique 4, ou du détecteur infrarouge 5.
En référence à la , le dépôt du getter 7 sur le capot 2b peut aussi être réalisé sous vide par pulvérisation cathodique par magnétron à l’aide de deux cathodes S’ magnétron confocales.
Ainsi, l’application d’une différence de potentiel entre une cible C’ et les parois d’un réacteur R’ au sein d’une atmosphère raréfiée crée un plasma P’ froid composé d’électrons, d’ions, de photons et de neutrons dans un état excité. Sous l’effet du champ électrique, les espèces positives du plasma P’ se trouvent attirées par les cathodes S’ et entrent en collision avec la cible C’. Les espèces communiquent alors leur quantité de mouvement, provoquant ainsi la pulvérisation de particules de vanadium, de zirconium et de titane qui se condensent sur le capot 2a pour former le getter 7.
Quelle que soit la méthode de dépôt utilisée, le getter est activé par chauffage juste avant que le capot 2a ne soit fixé à la base 2b. Une fois le getter 7 activé, le dispositif électronique 1 est scellé en fixant le capot 2a à la base 2b soit par brasure sous vide, soit par sertissage étanche par écrasement d’un tube à froid.
Bien qu’ici le getter 7 soit déposé sur une paroi du capot 2a, il peut aussi être déposé sur une ou des parois de la base 2b ou sur un substrat rapporté dans l’enceinte avant sa fermeture.
Le dépôt du getter 7 à l’intérieur du dispositif électronique 1 s’étend à tout dispositif comprenant un composant électronique nécessitant un environnement étanche et sec : machine à froid, cryostat de modules de détection infrarouge, centrale inertielle, tête de missile ou de bombes guidée…
L’enceinte peut contenir tout composant dont le fonctionnement et/ou les performances optimales nécessitent une pression partielle de gaz, comme par exemple un ou des composants électroniques, la partie mécanique d’un MEMS…
Procédé de caractérisation en mode impulsionnel d’un transistor à semi-conducteur III-V et banc de mesures associé La présente invention concerne le domaine des procédés de caractérisation de transistors, et porte en particulier sur un procédé de caractérisation en mode impulsionnel d’un transistor à semi-conducteur III-V permettant de prendre en compte la variation dynamique de l’état de charge des pièges dans le transistor, et sur un banc de mesures associé.
De nos jours, les transistors à semi-conducteur III-V, tels que les transistors en technologie GaN, sont utilisés dans de nombreux domaines d’applications (par exemple, télécommunications, militaires et industriels). Cette technologie offre une forte densité de puissance, et permet d’atteindre des fréquences de fonctionnement élevées, deux caractéristiques essentielles, notamment pour des applications d’amplification radiofréquence (RF).
représente des vues agrandies de la ,
est vue en perspective d’un autre exemple de module élémentaire selon l’invention,
est une vue similaire à celle de la pour laquelle l’une des faces du caloduc a été retirée,
est une vue en coupe transversale d’un autre exemple de module élémentaire selon l’invention,
est une vue en coupe selon le plan BB du module de la ,
est une vue en coupe transversale d’un autre exemple de module élémentaire selon l’invention, et
est une vue en perspective d’un autre exemple de module élémentaire selon l’invention sur laquelle est indiqué un sens préféré de croissance de l’épaisseur du module lors de la fabrication par fabrication additive.
Sur la , on peut voir un exemple de caloduc à rainures réentrantes obtenu par assemblage des modules élémentaires selon l’invention.
Le caloduc C1 comporte cinq modules solidarisés les uns aux autres. Dans cet exemple, le caloduc C1 comporte un module MC formant l’extrémité de caloduc et destiné à former le condenseur, un module ME formant l’extrémité de caloduc et destiné à former évaporateur et trois modules élémentaires M1 formant la zone adiabatique.
Les modules ME, MC, et M1 sont formés par fabrication additive à partir d’un matériau conducteur thermique, de préférence un métal ou un alliage métallique.
La fabrication additive peut être la fusion sur lit de poudre. D'autres méthodes de fabrication additive seront décrites ci-dessous.
Sur les figures 1, 2 et 3, on peut voir un exemple de module élémentaire plus particulièrement adapté à la réalisation d’un module de la zone adiabatique. Le module M1 s’étend selon l’axe longitudinal X.
L’assemblage peut comprendre un organe de serrage apte à être monté sur l’arbre basse pression en amont de la virole du disque de soufflante et venir longitudinalement en butée contre ladite virole pour bloquer axialement le disque de soufflante par rapport à l’arbre basse pression.
Selon un mode de réalisation, les premiers moyens de crabotage et les seconds moyens de crabotage peuvent présenter un profil rectangulaire.
Selon un mode de réalisation, les premiers moyens de crabotage et les seconds moyens de crabotage peuvent présenter un profil sinusoïdal.
L’épaisseur des premiers moyens de crabotage, suivant la direction radiale, peut être inférieure à l’épaisseur total de la virole, suivant la direction radiale.
Les premiers moyens de crabotage et les seconds moyens de crabotage peuvent être formés par des rainures aménagées dans l’épaulement de la virole, respectivement dans l’épaule de l’arbre basse pression.
L’assemblage peut comprendre un palier de guidage dans lequel est monté l’arbre basse pression. La virole du disque de soufflante peut être longitudinalement en butée contre ledit palier de guidage.
Par exemple, le palier de guidage peut comprendre une bague interne montée serrée autour de l’arbre basse pression, ladite virole du disque de soufflante étant en butée contre la bague interne du palier de guidage.
L’assemblage peut comprendre des moyens d’étanchéité comprenant un flasque d’étanchéité et une cage d’étanchéité. Ledit flasque d’étanchéité peut comprendre une première partie d’extrémité formant un joint dynamique avec une partie correspondante de la virole du disque de soufflante et une seconde partie d’extrémité formant une retenue d’une partie élastiquement déformable de la cage d’étanchéité laquelle peut être reliée à une bague externe du palier de guidage en rotation de l’arbre basse pression.
Les moyens d’étanchéité peuvent être agencés en aval de la virole du disque de soufflante. La virole du disque de soufflante peut comprendre des léchettes d’abradable sur une surface radialement externe de ladite virole du disque de soufflante. La première partie d’extrémité du flasque d’étanchéité peut reposer sur lesdites léchettes d’abradable.
Le rotor de compresseur basse pression peut comprendre au moins deux étages d’aubes mobiles alternés avec des étages d’aubes de stator.
Le flasque d’étanchéité peut être agencé en amont de la cage d’étanchéité et la seconde extrémité du flasque d’étanchéité peut être agencée radialement à l’extérieur de la première extrémité du flasque d’étanchéité.
Le disque de soufflante peut comprendre une virole radialement externe par rapport à la virole comprenant les premiers moyens de crabotage et un moyeu reliant la virole radialement externe à ladite virole comprenant les premiers moyens de crabotage.
Le présent document concerne en outre une turbomachine un assemblage tel que précité.
Brève description des figures représente une partie amont d’une turbomachine selon l’art antérieur,
représente une vue schématique d’une partie amont d’une turbomachine selon le présent document,
la figure 3a représente une vue schématique en coupe longitudinale d’un disque de soufflante sur laquelle les hachures ne sont pas représentées pour plus de lisibilité et la figure 3b représente une vue de dessous selon la flèche F1 de la figure 3a et une vue de coupe selon l’axe A-A des moyens de crabotage du disque de soufflante,
Dans un tube 13ml contenant 100µl de solution de bactérie hôte (DO comprise entre 0,2 et 0,7), ajouter 100µl de la dilution de phage voulue et laisser en contact 10 min
Ajouter 3ml de milieu TSA+YE 6g/l d’agar + cycloheximide et couler sur une boite de gélose précédemment coulée et séchée. Laisser solidifier.
Incuber à la température de croissance de la bactérie hôte pendant 24h.
Technique de dénombrement des phages par spots
Préparation des boites gélosées
- faire fondre la gélose à 6g/L d’agar puis ajouter 0.5% d’cycloheximide, la maintenir en surfusion.
- à partir d’une colonie provenant d’une culture fraiche, ensemencer 20ml de bouillon TSB+YE. Incuber sous agitation jusqu’à obtenir une culture en début de phase exponentielle de croissance (exemple : arrêter la culture à une DO comprise entre 0,2 et 0,7 pour E. coli , Salmonella et Listeria ). Préparer les boites de Petri carrées avec 25 ml du milieu TSA+YE + cycloheximide (0.5%), les mettre à sécher sous hotte pendant 30 min.
- dans un tube 13ml contenant 300µl de solution de bactérie hôte (DO comprise entre 0,2 et 0,7), ajouter 9ml de milieu TSA+YE 6g/l d’agar + cycloheximide et couler sur une boite de gélose précédemment coulée et séchée ;
- laisser solidifier.
Préparation des dilutions décimales de la solution de phages
- remplir des colonnes de puits de microplaques 96 puits avec 180 µl de tampon SM en commençant à la colonne 3 et en sautant 1 colonne sur 2 afin de permettre l’ensemencement par spot.
- ajouter dans les puits de la première colonne 100µl de solution provenant de la réhydratation de l’échantillon qui constituent ici la première dilution au 10e (1E-01).
- à l’aide d’une pipette multicanaux, prélever 20µl dans la première colonne et transférer dans les puits de la colonne de dilutions suivantes et ainsi de suite jusqu’à la dernière dilution.
Dépôt sur boite
Il est nécessaire de prélever 10µl sur une ligne de microplaque (96 puits) avec une pipette multicanaux adaptée.
Les conducteurs électriques 22 sont disposés de manière rangée dans les encoches 21, selon une rangée de conducteurs électriques alignés.
Les conducteurs électriques peuvent être en section transversale de forme générale rectangulaire, notamment avec des coins arrondis. Ils sont dans l’exemple décrit superposés radialement en une seule rangée. La dimension circonférentielle d’un conducteur électrique correspond sensiblement à la largeur d’une encoche. Ainsi, l’encoche ne comporte dans sa largeur qu’un seul conducteur électrique. Elle peut comporter plusieurs conducteurs électriques dans sa dimension radiale. Elle en comporte deux dans l’exemple décrit.
Par ailleurs, les conducteurs électriques en épingles ont chacun des première 22e et seconde 22f jambes qui se prolongent hors des encoches par une portion de soudage 22b inclinée par rapport à un plan perpendiculaire à un axe longitudinal du stator pour venir en surplomb de la masse statorique circonférentiellement au niveau d’une encoche, cette encoche étant séparée de la première A ou de la seconde R encoche respectivement par un nombre N1 et/ou N2 de dents.
Dans l’exemple décrit en référence aux figures 1 et 1a, on a la portion de soudage 22b de la seconde jambe extérieure 22f du conducteur électrique 22 qui est alignée avec celle-ci. Dans ce cas, on a N2 qui est nul. La première jambe intérieure 22e est disposée plus près du rotor que la seconde jambe 22f. La seconde jambe extérieure 22f est disposée plus près de la culasse du stator que la première jambe 22e. Ainsi, dans cet exemple, on a N1 qui vaut 11.
Pour chaque conducteur électrique, la portion de soudage 22b la plus intérieure par rapport à l’axe longitudinal du stator, qui est disposée plus près du rotor, est inclinée avec une même inclinaison par rapport au plan perpendiculaire à l’axe longitudinal du stator que les autres portions de soudage les plus intérieures.
Pour chaque conducteur électrique, la portion de soudage la plus extérieure par rapport à l’axe longitudinal du stator, qui est disposée plus loin du rotor, est inclinée avec une inclinaison qui peut être différente par rapport au plan perpendiculaire à l’axe longitudinal du stator que les autres portions de soudage les plus extérieures. Les portions de soudage les plus extérieures ne sont pas nécessairement toutes inclinées avec une même inclinaison par rapport au plan perpendiculaire à l’axe longitudinal du stator. Elles peuvent être inclinées avec au moins deux, voire trois ou quatre, inclinaisons différentes par rapport au plan perpendiculaire à l’axe longitudinal du stator.
Par ailleurs, certains conducteurs électriques ont une seconde jambe extérieure 22f se prolongeant hors de l’encoche par une portion de soudage 22b faisant un décrochement par rapport à l’encoche, tout en s’étendant dans un même plan radial que la seconde jambe. Cette portion de soudage 22b est radialement encore plus éloignée de l’axe de rotation de la machine. Ce décrochement du conducteur électrique permet d’atteindre les éléments métalliques du connecteur de phases de la machine. Il s’agit des conducteurs électriques d’entrée et/ou de sortie de phase.
On obtient ainsi, comme bien visible sur la , qu’au moins une portion de soudage d’un conducteur électrique d’entrée et/ou de sortie de phase est aligné radialement avec des portions de soudage d’autres conducteurs électriques. Chaque portion de soudage des conducteurs électriques d’entrée de phase est notamment alignée radialement avec des portions de soudage d’autres conducteurs électriques.
Par ailleurs, les portions de soudage des conducteurs électriques sont disposées en trois couches par rapport à l’axe longitudinal du stator, chaque couche comportant un nombre différent de portions de soudage de conducteurs électriques. Les différentes couches de portions de soudage de conducteurs électriques sont concentriques autour de l’axe longitudinal du stator.
Dans l’exemple décrit, la couche la plus intérieure Int comporte autant de portions de soudage que d’encoches au stator. La couche la plus extérieure Ext comporte un nombre de portions de soudage égal au double du nombre de phases du bobinage du stator, ici six avec un bobinage triphasé. Enfin, la couche intermédiaire Cen placée entre la couche la plus intérieure et la couche la plus extérieure comporte un nombre de portions de soudage égal au nombre d’encoches du stator duquel on déduit le double du nombre de phases du bobinage du stator, ici six avec le bobinage triphasé.
Ainsi, les portions de soudage 22b de conducteurs électriques sont bien alignées entre elles, ce qui peut faciliter le soudage des conducteurs électriques 22 et simplifier la fabrication du stator.
On va maintenant décrire en détails le procédé de fabrication du stator, en référence aux figures 2 à 12c.
Dans une première étape (a) du procédé de fabrication, on fournit, comme visible sur la , une masse statorique 25, comportant un paquet de tôles magnétiques, la masse statorique 25 comportant des encoches 21 ménagées entre des dents 23, des conducteurs électriques 22 étant logés dans les encoches 21. Tous les conducteurs électriques sont en forme d'épingle en U, comportant chacun des jambes intérieure 22e et extérieure 22f, lesquelles s’étendent notamment axialement respectivement dans des première A et seconde R encoches. Au moins une des jambes intérieure 22e et extérieure 22f des conducteurs électriques 22 se prolonge hors des encoches par une portion de soudage.
Dans une deuxième étape (b), on va décaler circonférentiellement les jambes extérieures des conducteurs électriques d’un demi pas dentaire par rapport aux jambes intérieures. La deuxième étape (b) peut être décomposées en plusieurs sous-étapes (b1) à (b4).
L’étape (b) de décalage circonférentiel des jambes extérieures des conducteurs électriques d’un demi pas dentaire comporte une étape (b1) de mise en position de deux couronnes intérieure 31 et extérieure 32 de positionnement des conducteurs électriques 22. Les deux couronnes intérieure 31 et extérieure 32 de positionnement sont mises en place contre la masse statorique 25, juste au-dessus du paquet de tôles de celle-ci, comme visible sur la . La couronne intérieure 31 a une forme de disque.
Les deux couronnes intérieure 31 et extérieure 32 de positionnement comportent comme décrit plus loin, des doigts mobiles respectivement 33 et 34, qui s’étendent radialement et qui sont mobiles chacun selon un axe radial du stator. Durant l’étape (b1) de mise en position des couronnes de positionnement, les doigts mobiles sont en position escamotée dans les couronnes de positionnement.
OREILLETTE CIRCUM-AURICULAIRE OU SUPRA AURICULAIRE D’UN CASQUR AUDIO ET PROCEDE DE MONTAGE ASSOCIE L’invention concerne le domaine technique des casques audio dont les oreillettes comportent au moins un haut-parleur.
En particulier, l’invention concerne une oreillette circum-auriculaires ou supra auriculaire d’un casque audio. L’invention concerne également le procédé de montage de l’oreillette.
ETAT DE LA TECHNIQUE Les casques audio connaissent une croissance importante ces dernières années notamment avec le développement d'un grand nombre de fonctionnalités électroniques intégrées dans les casques audios. Par exemple, les casques audios intègrent de plus en plus de fonctions électroniques, telles que la suppression des bruits extérieurs pour améliorer le confort de l’utilisateur et la qualité du contenu sonore transmis à l'utilisateur.
De plus, d'autres fonctions électroniques peuvent également être intégrées dans ces casques audios, telles qu'une fonction permettant de couper le système de réduction active du bruit par une action de l'utilisateur sur une oreillette ou encore une transmission automatique des communications téléphoniques reçues par l’utilisateur sur son téléphone portable.
Une autre fonction électronique consiste à reconnaître lorsque l’utilisateur retire son casque de ses oreilles et à commander l'arrêt des fonctions électroniques de celui-ci afin d’économiser sa batterie.
Bien que ces nouvelles fonctionnalités aient entrainé un développement croissant du secteur des casques audios, l’invention concerne plus généralement tous les types de casques audios et également les casques audio passifs, c'est-à-dire les casques audios intégrant très peu d'électronique voire aucune électronique de commande du son transmis.
L’invention concerne plus spécifiquement les casques comportant des oreillettes circum-auriculaires ou supra auriculaires, contrairement aux oreillettes intra auriculaires.