INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans le premier mode, la bride 5 d’entrainement est remarquable en ce qu’elle est formée à chaud. Les disques de retenue 41, 42 sont remarquables en ce qu’ils sont à l’inverse formés à froid. On entend par étapes : - de « formage » à chaud ou à froid : toute opération d’écrasement, de déformation plastique de matière, réalisé par chocs ou par pression, par un outillage approprié, pour lui faire épouser une forme donnée, sans rupture des fibres du métal, en particulier sur la périphérie radialement externe et/ou interne. Dans les exemples illustrés : - Le formage des disques 41, 42 de retenue réalise les enfoncements 414, 424 et/ou l’extrémité additionnelle 90 ; - Le formage de la bride 5 d’entrainement réalise le corps central 50 et/ou les pattes 59 ; - de formage « à froid »: emboutissage, pliage, forgeage à froid, extrusion, frappe à froid, tréfilage, étirage (par exemple de fibres d'inox), cintrage-roulage, martelage ... ; - de formage « à chaud »: emboutissage, matriçage, estampage, forgeage, chaud de retrait ;
Par ailleurs, le premier groupe de garniture G1 est remarquable en ce qu’il est préassemblé fixement sur le corps central 50 de la bride 5, ici sur la première zone de friction 510. Le premier groupe de garniture G1 est disposé de manière à coopérer avec le premier disque 41 de retenue, notamment avec l’intérieur de l’enfoncement 414.
Par ailleurs, le deuxième groupe de garniture G2 est remarquable en ce qu’il est préassemblé fixement : - soit sur le corps central 50, ici sur la deuxième zone de friction 520. Ainsi fixé, le deuxième groupe de garniture G2 est destiné à coopérer avec le deuxième disque 42 de retenue, ici avec l’intérieur de l’enfoncement 424 du disque 42. - soit au sein de l’enfoncement 424 de matière du deuxième disque 42 de retenue. Ainsi fixé, le deuxième groupe de garniture G2 peut coopérer avec la deuxième zone de friction 520, en particulier ici la recouvrir. Sur les FIGURES 6-10 et 15, le deuxième cercle d'implantation C2 est formé dans la deuxième zone de friction 520. Sur les FIGURES 11-13, le cercle d'implantation C2 est formé à l’intérieur de l’enfoncement 424 de matière
Afin d’économiser des quantités de matériaux de friction et de résine, il est possible que - le premier groupe de garnitures G1 recouvre dans la direction circonférentielle une partie de la première zone de friction 510, en particulier moins de 90% de la première zone de friction 510 (voir les FIGURES 3, 7-9, 12, 15) ; et/ou - le deuxième groupe de garnitures G2 recouvre dans la direction circonférentielle une partie de la deuxième zone de friction 520, en particulier moins de 90% de la deuxième zone de friction 520 (voir les FIGURES 3, 7-9, 12, 15).
Par « recouvrir » une zone de friction, on entend toute garniture pouvant être assemblée ou pouvant coopérer avec ladite zone de friction. On peut alors définir par - « surface n1 » la somme des parties de la première zone de friction 510 recouvertes par le premier groupe de garnitures G1, la surface n1 étant ainsi inférieure à 320 degrés autour de l’axe X ; - « surface n2 » la somme des parties de la deuxième zone de friction 520 recouvertes par le deuxième groupe de garnitures G2, la surface n2 étant ainsi inférieure à 320 degrés autour de l’axe X ;
Pour ce faire, le premier groupe de garnitures G1 peut être avantageusement formé d’une série de segments 100 sur lesquelles sont réparties les garnitures de friction. De manière analogue, le deuxième groupe de garnitures G2 peut être formé d’une série de segments 200 sur lesquelles sont réparties les garnitures de friction.
Avantageusement, les segments 100 de friction peuvent être contigus ou espacés circonférentiellement autour de l’axe X, selon une répartition régulière ou uniforme. Les segments 200 de friction peuvent être contigus ou espacés circonférentiellement autour de l’axe X, selon une répartition régulière ou uniforme.
L'autre extrémité de piste conductrice 84 située dans la couche 80 et l'autre extrémité de pistes conductrice 84 située dans la couche 82 sont par exemple reliée l'une à l'autre par un via conducteur 126. Cette connexion correspond au point milieu 57 ( ). Lesdites extrémités formant le point 57 sont, en outre, reliées à un plot 92b par des pistes conductrices 128 et des vias conducteurs 130 situés dans le substrat. Ledit plot 92b constitue alors la borne 44.
Le substrat 72 comprend, en outre des pistes 132. Les pistes 132 sont des pistes factices, c’est-à-dire des portions de pistes conductrices situées dans les couches du substrat permettant d'assurer une densité en métal relativement homogène sur l'ensemble du substrat. Dans les figures 3B à 3E, les pistes 132 sont représentées par des croix. Dans l'exemple des figures 3A à 3E, le substrat comprend des pistes 132 dans les couches comprenant des pistes conductrices. Par exemple, le substrat ne comprend pas de pistes 132 dans les couches ne comprenant que des vias conducteurs. Ainsi, dans l'exemple des figures 3A à 3B, le substrat comprend des pistes 132 dans les couches 80, 82, 76, et 102. Les pistes 132 sont de préférence isolées les unes des autres, et isolées des pistes conductrices et des vias conducteurs, par exemple par le matériau des couches du substrat. Les pistes 132 n'ont de préférence aucune utilité électrique dans le fonctionnement du circuit de transformateur.
Le boitier 70 comprend une couche de protection, ou couche de surmoulage, 134. La couche 134 recouvre la face supérieure du substrat, c’est-à-dire la couche sur laquelle repose les puces 94 et 112, et recouvre les puces 94 et 112. La couche 134 recouvre en particulier les pistes du niveau supérieure du substrat, c’est-à-dire les pistes 84, 96, 114 et 122 de la couche 80. La couche 134 recouvre de plus les câbles 118 et 124. La couche 134 est par exemple en un ou plusieurs matériaux isolants électriquement, par exemple en ceramique, en nitrure de silicium ou en une résine.
La représente schématiquement une partie du mode de réalisation de la . Plus précisément, la illustre un exemple d'agencements des pistes conductrices 84 des niveaux 80 et 82. La n'est, bien entendu, pas à l'échelle. Les dimensions relatives ne sont pas correctes. En particulier, les dimensions de la région 83 située au centre des spirales formées par les enroulements, et ainsi entourées par les enroulements, sont différentes dans un circuit en fonctionnement.
La comprend une vue A illustrant les pistes conductrices 84 du niveau 80 et une vue B illustrant les pistes conductrices 84 du niveau 82. Dans l'exemple illustré par la , chaque enroulement 52, 54 ( ) comprend une portion sur chaque niveau 80, 82.
L'enroulement 52 comprend une portion 138 située dans le niveau 80 et une portion 140 dans le niveau 82. L'enroulement 54 comprend une portion 142 située dans le niveau 80 et une portion 144 dans le niveau 82.
La portion 138, constituée d'une piste 84 de la couche 80, forme une spirale tournant autour, c’est-à-dire entourant, la région 83 dans la couche 80. La portion 138 comprend une extrémité 146, par exemple située à l'extérieur de ladite spirale, c’est-à-dire n'étant pas entourée par ladite spirale. La portion 138 comprend une autre extrémité 148, par exemple située à l'intérieure de ladite spirale, c’est-à-dire étant entourée par ladite spirale. La portion 138 s'étend par exemple alternativement, dans la couche 80, dans une direction X et dans une direction Y, sensiblement perpendiculaire à la direction X, la portion 138 s'étendant sur une distance inférieure à chaque changement de direction.
L'extrémité 148 de la portion 138 est reliée, par un via conducteur traversant la ou les couches situées entre les couches 80 et 82, à une extrémité 150 de la portion 140. L'extrémité 150 est située de préférence en regard de, c’est-à-dire verticalement (dans une direction Z orthogonale au plan formé par les directions X et Y) alignée avec, l'extrémité 148.
La portion 140, constituée d'une piste 84 dans la couche 82, forme une spirale tournant autour, c’est-à-dire entourant, la région 83. La portion 140 comprend une autre extrémité 152 par exemple située à l'extérieur de ladite spirale, c’est-à-dire n'étant pas entourée par ladite spirale. L'extrémité 150 est par exemple située à l'intérieure de ladite spirale, c’est-à-dire étant entourée par ladite spirale. La portion 140 s'étend par exemple alternativement, dans la couche 82, dans la direction X et dans la direction Y, la portion 140 s'étendant sur une distance inférieure à chaque changement de direction.
De préférence, au moins une partie de la portion 138 est située en regard de, c’est-à-dire verticalement alignée avec, au moins une partie de la portion 140.
Similairement, la portion 142, constituée d'une piste 84 de la couche 80, forme une spirale tournant autour, c’est-à-dire entourant, la région 83 dans la couche 80. La portion 142 comprend une extrémité 154, par exemple située à l'extérieur de ladite spirale, c’est-à-dire n'étant pas entourée par ladite spirale. La portion 142 comprend une autre extrémité 156, par exemple située à l'intérieure de ladite spirale, c’est-à-dire étant entourée par ladite spirale. La portion 142 s'étend par exemple alternativement, dans la couche 80, dans la direction X et dans la direction Y, la portion 142 s'étendant sur une distance inférieure à chaque changement de direction.
L'extrémité 156 de la portion 142 est reliée, par un via conducteur traversant la ou les couches situées entre les couches 80 et 82, à une extrémité 158 de la portion 144. L'extrémité 158 est située de préférence en regard de, c’est-à-dire verticalement (dans une direction Z orthogonale au plan formé par les directions X et Y) alignée avec, l'extrémité 156.
La portion 144, constituée d'une piste 84 dans la couche 82, forme une spirale tournant autour, c’est-à-dire entourant, la région 83. La portion 144 comprend une autre extrémité 160 par exemple située à l'extérieur de ladite spirale, c’est-à-dire n'étant pas entourée par ladite spirale. L'extrémité 158 est par exemple située à l'intérieure de ladite spirale, c’est-à-dire étant entourée par ladite spirale. La portion 144 s'étend par exemple alternativement, dans la couche 82, dans la direction X et dans la direction Y, la portion 144 s'étendant sur une distance inférieure à chaque changement de direction.
De préférence, au moins une partie de la portion 142 est située en regard de, c’est-à-dire verticalement alignée avec, au moins une partie de la portion 144.
Les portions 138 et 142 de la couche 80 sont entrelacées. Autrement dit, les portions 138 et 142 sont parallèle l'une à l'autre dans la couche 80. Ainsi, chaque segment de la portion 138, respectivement 142, à l'exception des segments les plus extérieurs des portions 138 et 142, est située entre deux segments de la portion 142, respectivement 138. Ainsi, chaque segment de la portion 138, respectivement 142, est séparé du segment de la portion 138, respectivement 142, le plus proche par un segment de la portion 142, respectivement 138.
Similairement, les portions 140 et 144 de la couche 82 sont entrelacées. Autrement dit, les portions 140 et 144 sont parallèle l'une à l'autre dans la couche 82. Ainsi, chaque segment de la portion 140, respectivement 144, à l'exception des segments les plus extérieurs des portions 140 et 144, est située entre deux segments de la portion 144, respectivement 140. Ainsi chaque segment de la portion 140, respectivement 144, est séparé du segment de la portion 140, respectivement 144, le plus proche par un segment de la portion 144, respectivement 140.
Les bras latéraux 30 de la chape 3 délimitent chacun un logement 31 pour une colonnette de guidage 22 de l’étrier 2 relativement à la chape 3. Les bras latéraux 30 délimitent chacun aussi deux coulisse 32 qui sont orientées axialement et qui sont espacées axialement l’une de l’autre. Les bras latéraux 30 comportent deux nervures de retenue 34 de ressorts de patin 5, qui sont visibles à la , et qui sont au-dessus des coulisses 32.
Les coulisses 32 délimitent chacune un logement 33 pour une des oreilles 72 de patin. Elles guident chacune un des patins 7 axialement en translation relativement au disque 9.
En référence conjointe aux figures 3 à 6, chaque logement 33 comporte une face horizontale inférieure 33a, une face verticale de fond 33b et une face horizontale supérieure 33c. Chaque logement 33 a une forme générale de U en section transversale. La face horizontale inférieure 33a de chaque logement 33 se prolonge verticalement vers le bas du bras 30 correspondant par une face verticale inférieure 30a. La face horizontale supérieure 33c de chaque logement 33 se prolonge verticalement vers le haut du bras 30 correspondant par une face verticale supérieure 30b.
La nervure de retenue 34 de chaque bras 30 est formé par un bossage qui est en saillie axialement, pour servir d’appui plan à une portion de retenue 51 du ressort de patin 5 correspondant.
L’étrier 2 comprend un corps d’étrier 20 qui forme une voûte qui chevauche le disque 9. L’étrier 2 loge le piston 11 et il est raccordé mécaniquement à l’actionneur 12. L’étrier 2 est mobile relativement à la chape 3 selon la direction axiale A entre une position active de freinage et une position inactive d’absence de freinage.
Le corps d’étrier 20 est raccordé de manière coulissante à la chape 3 par deux colonnettes de guidage 22 qui s’étendent axialement chacune au moins partiellement dans un des logements 31 de la chape. Les colonnettes de guidage 22 et les logements 31 des colonnettes sont des moyens de guidage de l’étrier 2 relativement à la chape 3.
Le piston 11 est mobile axialement en translation par rapport au corps 20 d’étrier, sous l’effet de l’actionneur 12. Le déplacement du piston 11 selon la direction axiale A permet de rapprocher les patins 7 l’un de l’autre pour freiner la roue.
L’actionneur 12 est configuré pour déplacer le piston en translation selon la direction axiale. L’actionneur 12 est hydraulique et/ou électromécanique. Il sert au freinage de service et/ou au freinage de stationnement du véhicule motorisé.
Le frein 1 à disque comprend un ressort de glissement axial 4 et un ressort de patin 5. Le ressort de glissement axial 4 et le ressort de patin 5 forment conjointement un moyen de montage, de guidage axial et de rappel du patin 7 relativement à la chape 3.
En référence conjointe aux figures 3 à 6, le ressort de glissement axial 4 comprend une branche verticale inférieure 41 d’appui, une branche horizontale inférieure 42 d’appui, une branche verticale intermédiaire 44 d’appui, une branche horizontale supérieure 46 d’appui et un organe de retenue 48. Le ressort de glissement axial 4 est une glissière axiale pour l’oreille 72 de patin et le ressort de patin 5.
La branche verticale inférieure 41 est configurée pour être en appui contre la face verticale inférieure 30a d’un des bras 30 de la chape 3. La branche horizontale inférieure 42 est configurée pour être en appui contre la face inférieure 33a du logement de l’oreille 72 de patin. La branche verticale intermédiaire 44 est configurée pour être en appui contre la face de fond 33b du logement. La branche horizontale supérieure 46 est configurée pour être en appui contre la face supérieure 33c du logement.
L’organe de retenue 48 comporte une plaque de retenue 47 et deux crochets 49. La plaque de retenue 47 est configurée pour être en appui contre la face verticale supérieure 30b du bras 30 de la chape. Les crochets 49 sont situés latéralement de part et d’autre de la plaque de retenue 47. Ils sont configurés pour engager mécaniquement la chape 3 de part et d’autre de la face verticale supérieure 30b. L’organe de retenue 48 est configuré pour immobiliser axialement le ressort de glissement axial 4 relativement à la chape 3.
En référence conjointe aux figures 3 à 7, le ressort de patin 5 comprend une portion 6 de montage et de guidage du patin, une portion 66 de fixation, une portion 50 déformable plastiquement et une portion 51 de retenue. Le ressort de patin 5 est formé par une bande métallique coudée. Le ressort de patin 5 est un ressort pour le rappel du patin 7, le montage et le guidage du patin 7.
Le ressort de patin 5 est configuré pour solliciter élastiquement l’oreille 72 de patin dans son logement 33. Le ressort de patin 5 est configuré pour guider l’oreille 72 de patin relativement à la chape 3 en glissant sur le ressort de glissement axial 4. Le ressort de patin 5 est ainsi un ressort de montage et de guidage axial de patin et il joue un rôle similaire à un ressort escargot de structure connue.
Le ressort de patin 5 est aussi configuré pour solliciter élastiquement axialement le patin 7 vers la position de retrait. Le ressort de patin 5 est configuré pour être déformé plastiquement pour rappeler le patin 7 vers la position de freinage lorsqu’un jeu d’usure de la garniture de freinage 71 est supérieur à un jeu déterminé. Ainsi, la force élastique de rappel des patins est sensiblement constante, ou plus précisément appartient à un intervalle de valeurs limité, indépendamment de l’usure des patins et du disque. Le ressort de patin 5 est aussi un ressort de rappel de patin.
La portion 6 de montage et de guidage du patin comporte une branche de glissement 62, un premier pli indéformable 61 et une branche intermédiaire 64. Elle est configurée pour solliciter élastiquement verticalement l’oreille 72 de patin contre la face horizontale supérieure 33c du logement de l’oreille 72 de patin. Elle est configurée pour guider axialement l’oreille 72 de patin dans son logement 33 relativement au disque 9.
Le réflecteur peut présenter une bordure latérale située à une distance maximale r max d’un axe optique de l’élément optique de collection, et être dimensionné de sorte que la distance maximale r max est inférieure à √(cz sc /B) lorsque le réflecteur est rétroréfléchissant, où c est la vitesse de la lumière dans le vide, et B est une variation de la fréquence du signal primaire S p sur une période T de la modulation, et de sorte que la distance maximale r max est inférieure à √(cz sc /3B) lorsque le réflecteur est non rétroréfléchissant.
Le réflecteur peut comporter une surface centrale traversée par l’axe optique de collection, dans laquelle il est formé de surfaces réfléchissantes ou rétroréfléchissantes séparées les unes des autres et entourées par une surface transparente, et une surface périphérique qui entoure la surface centrale, dans laquelle les surfaces réfléchissantes ou rétroréfléchissantes sont accolées les unes aux autres.
Le système imageur peut être adapté à n’éclairer qu’un point de la scène. En variante, il peut être adapté à éclairer simultanément une pluralité de points de la scène et comporter alors un dispositif optique de projection du signal primaire S p sur la scène pour éclairer simultanément la pluralité de points de la scène et un dispositif optique d’imagerie adapté à former une image de la scène éclairée dans le plan du photodétecteur.
Le système imageur peut présenter une configuration dite mono-statique où un axe optique d’illumination de la scène par le signal primaire S p est identique à un axe optique de collection de l’élément optique de collection, et comporter une lame semi-réfléchissante ou un cube séparateur transmettant le signal primaire S p vers la scène et réfléchissant le signal rétrodiffusé S ret vers le photodétecteur.
Le système imageur peut présenter une configuration dite bi-statique où un axe optique d’illumination de la scène par le signal primaire S p est différent d’un axe optique de collection de l’élément optique de collection.
D'autres aspects, buts, avantages et caractéristiques de l’invention apparaîtront mieux à la lecture de la description détaillée suivante de formes de réalisation préférées de celle-ci, donnée à titre d'exemple non limitatif, et faite en référence aux dessins annexés sur lesquels : la , déjà décrite, est une vue schématique et partielle d’un système imageur de type flash selon un exemple de l’art antérieur ; les figures 2A et 2B sont des vues schématiques et partielles de systèmes imageurs selon des modes de réalisation, l’un étant de type mono-point ( ) et l’autre de type flash ( ) ; la est une vue schématique et partielle d’un système imageur selon un mode de réalisation similaire à celui de la , où les différents signaux optiques sont mis en évidence, en particulier les faisceaux lumineux S ret,c(1) qui forment un premier écho, et les faisceaux lumineux S ret,c(2) qui forment un deuxième écho ; les figures 3B et 3C illustrent une évolution de la fréquence optique de différents signaux mettant ainsi en évidence la fréquence de battement f b du signal hétérodyne S h , dans le cas d’un système imageur selon un exemple de l’art antérieur ( ) et dans le cas d’un système imageur selon un mode de réalisation de l’invention ( ) ; les figures 4A à 4C illustrent un exemple numérique de détermination de la fréquence de battement f b du signal hétérodyne S h , dans le cas d’un système imageur selon un exemple de l’art antérieur ( ), dans le cas d’un système imageur selon un mode de réalisation ( ), où la représente la densité spectrale de puissance mettant en évidence la fréquence de battement f b dans ces deux cas ; les figures 5A à 5D sont des vues schématiques d’exemples du réflecteur d’un système imageur selon un mode de réalisation, où le réflecteur est un anneau entourant l’élément optique de collection ( ) ; est un carré accolé ou distant de l’élément optique de collection ( ) ; est situé au niveau du photodétecteur ( ) ; est formé de surfaces rétroréfléchissantes séparées les unes des autres par une surface transparente ( ) ; la est une vue schématique et partielle d’un système imageur selon un mode de réalisation, de type mono-point et où le réflecteur est rétroréfléchissant ; et la est une vue détaillée de la mettant en évidence le signal rétrodiffusé et non collecté S ret,nc , le signal réfléchi S ret,r , et le deuxième écho S ret,c(2) ; la est une vue schématique et partielle d’un système imageur selon un mode de réalisation, de type mono-point et où le réflecteur est non rétroréfléchissant ; et la est une vue détaillée de la mettant en évidence le signal rétrodiffusé et non collecté S ret,nc , le signal réfléchi S ret,r , et le deuxième écho S ret,c(2) ; les figures 8A et 8B sont des vues schématiques et partielles d’un système imageur selon des modes de réalisation, où le réflecteur est situé en amont de l’élément optique de collection et est traversé par l’axe optique de ce dernier, en configuration mono-statique ( ) et en configuration bi-statique ( ). EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS
L’invention porte sur un système imageur LIDAR à détection hétérodyne de type à signal continu modulé en fréquence (FMCW, pour Frequency-Modulated Continuous-Wave , en anglais), permettant de déterminer une distance z sc d’une scène, voire une cartographie de distance z sc(i,j) (image de distance), présentant un encombrement réduit dans la mesure où il ne comporte pas de dispositif optique de séparation/recombinaison tel que celui de l’art antérieur.
Comme décrit en détail plus loin, le système imageur est alors adapté à diriger entièrement le signal primaire S p jusqu’à la scène pour l’éclairer. De plus, il comporte un réflecteur permettant de collecter, outre des faisceaux lumineux S ret,c(1) n’ayant pas été réfléchis par le réflecteur et que l’on appelle premier écho, des deuxièmes faisceaux lumineux S ret,c(2) ayant été réfléchis par le réflecteur et que l’on appelle deuxième écho. La distance z sc de la scène est alors déterminée à partir d’une fréquence de battement f b du signal hétérodyne S h , celui-ci étant formé par l’interférence du premier écho S ret,c(1) et du deuxième écho S ret,c(2) , et non plus par interférence entre le signal de référence S r d’un oscillateur local et du signal objet rétrodiffusé S or .