INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans les exemples représentés sur les et , le dispositif d’analyse microscopique 120 comprend une monture 121 comprenant généralement au moins une partie des éléments opto-électroniques de la voie de détection du dispositif d’analyse microscopique et peut comprendre au moins une partie des éléments opto-électroniques de la voie d’éclairage. Dans certains exemples de réalisation, les éléments opto-électroniques peuvent comprendre de façon non limitative l’un et ou l’autre des éléments suivants : une source d’éclairage, un montage interférométrique, un détecteur et une unité de traitement associée, un ou plusieurs systèmes optiques permettant d’assurer des conjugaisons optiques entre plans images ou plans pupillaires, un ou plusieurs miroirs de renvoi, un ou plusieurs systèmes de balayage, etc. L’agencement de tels éléments optiques est connu par l’homme du métier et dépend de l’analyse microscopique que l’on cherche à réaliser.
Dans certains exemples de réalisation, une partie desdits éléments opto-électroniques peuvent se situer à l’extérieur de la monture 121, comme par exemple une source d’éclairage 124, par exemple une source laser, un détecteur 128, par exemple une caméra, associé à une unité de traitement (non représentée), permettant de générer à partir d’un signal de détection l’information d’analyse microscopique et, optionnellement, un ou plusieurs contrôleurs 122 pour le contrôle des éléments opto-électroniques agencés dans la monture 121. Le ou les contrôleurs sont par exemple des cartes électroniques configurées pour contrôler un déplacement axial de l’objectif de microscope 125 le cas échéant, ou des miroirs d’un système de balayage, une source lumineuse etc. Le ou les contrôleurs, ainsi que la source 124, peuvent être commandés par une unité de contrôle (non représentée).
Lorsque le dispositif d’analyse microscopique 120 est configuré pour l’imagerie confocale et/ou l’imagerie tomographique par cohérence optique, ladite information d’analyse microscopique comprend au moins une image du tissu biologique. Lorsque le dispositif d’analyse microscopique 120 est configuré pour l’analyse spectroscopique, ladite information d’analyse microscopique comprend au moins un spectre dudit faisceau lumineux émis par le tissu biologique éclairé.
A noter que dans d’autres exemples de réalisation, la source d’éclairage de la voie d’éclairage et/ou le détecteur de la voie de détection peuvent être intégrés dans la monture 121.
Dans les exemples illustrés sur les et , des montures distinctes 115 et 121 sont représentées. Bien entendu, en pratique, dans des exemples de réalisation, une monture unique peut être prévue pour l’agencement des éléments du dispositif de visée et du dispositif d’analyse microscopique.
Dans des exemples de réalisation, comme cela est illustré par exemple sur la , une monture additionnelle (non représentée sur les et ) peut également être prévue pour assurer la solidarité mécanique entre les axes optiques en solidarisant les montures 121, 115, l’objectif de microscope 125 et le dispositif d’imagerie plein champ du dispositif de visée.
Les systèmes de caractérisation 101, 102 comprennent en outre un premier module de traitement 130 et un deuxième module de traitement 140. Le premier module de traitement 130 est configuré pour déterminer à partir de ladite information d’analyse microscopique au moins un premier paramètre de caractérisation du tissu biologique en un nombre de points donné dudit motif de détection. Le deuxième module de traitement 140 est configuré pour combiner par mosaïquage une pluralité d’images de surface élémentaires acquises successivement par déplacement du dispositif d’imagerie plein champ de la voie de visée et présentant un recouvrement partiel, pour produire une image de surface de l’ensemble de la région d’intérêt. Le deuxième module de traitement 140 est également configuré pour produire au moins un premier élément de cartographie dudit au moins un premier paramètre de caractérisation, à partir de la détermination dudit au moins un premier paramètre de caractérisation pour chaque image de surface élémentaire de ladite pluralité d’images de surface élémentaires.
De façon générale, les modules de traitement, unité de traitement ou unité de contrôle auxquels il est fait référence dans la présente description peuvent comprendre une ou plusieurs entités physiques, et se trouver rassembler dans un ou plusieurs ordinateurs. Lorsque dans la présente description, il est fait référence à des étapes de calcul ou traitement pour la mise en œuvre notamment d’étapes de procédés, il est entendu que chaque étape de calcul ou traitement peut être mis en œuvre par logiciel, hardware, firmware, microcode ou toute combinaison appropriée de ces technologies. Lorsqu’un logiciel est utilisé, chaque étape de calcul ou traitement peut être mise en œuvre par des instructions de programme d’ordinateur ou du code logiciel. Ces instructions peuvent être stockées ou transmises vers un support de stockage lisible par l’unité de contrôle et/ou être exécutées par l’unité de contrôle afin de mettre en œuvre ces étapes de calcul ou traitement.
Les systèmes de caractérisation 101, 102 comprennent par ailleurs un module d’affichage 150 configuré pour afficher une cartographie du tissu comprenant au moins ledit premier élément de cartographie, ladite cartographie étant repérée par rapport à ladite image de surface, comme cela sera expliqué plus en détails par la suite.
Dans l’exemple de la , le premier axe optique et le deuxième axe optique étant confondus, le repérage de la cartographie dudit au moins un paramètre de caractérisation sur l’image de surface est simplifié. Cependant, dans l’exemple de la , la solidarité mécanique du premier axe optique et du deuxième axe optique permet de repérer le motif de détection dans l’image de visée et ainsi de repérer la cartographie dudit au moins un paramètre de caractérisation sur l’image de surface de l’ensemble de la région d’intérêt.
Selon une autre caractéristique, chaque élément de liaison comprend au moins un tronçon légèrement tronconique entre les première et deuxième extrémités présentant un diamètre qui diminue en direction de la deuxième extrémité.
est une vue en perspective selon un premier angle de vue d’un embout d’aspiration selon un mode de réalisation de l’invention,
est une vue en perspective selon un deuxième angle de vue de l’embout d’aspiration visible sur la ,
est une coupe selon le plan P1 de l’embout d’aspiration visible sur la ,
est une vue en perspective d’un embout d’aspiration en cours de fixation sur un support illustrant un mode de réalisation de l’invention,
est une vue latérale d’un embout d’aspiration fixé sur un support illustrant un mode de réalisation de l’invention, et
est une coupe selon le plan P2 de l’embout d’aspiration visible sur la .
Selon un mode de réalisation visible sur la , un dispositif d’aspiration de particules 10 comprend un générateur d’aspiration 12, un embout d’aspiration 14 ainsi qu’un tuyau 16 reliant l’embout d’aspiration 14 et le générateur d’aspiration 12. Selon un agencement, l’embout d’aspiration 14 est relié au tuyau 16 par un système de raccordement 18 démontable. Le générateur d’aspiration 12, le tuyau 16 et le système de raccordement 18 ne sont pas plus décrits car ils sont connus de l’homme du métier.
Selon une application, ce dispositif d’aspiration de particules 10 est notamment utilisé pour aspirer des particules produites lors d’une opération d’enlèvement de matière, comme une opération d’usinage ou d’ajustage par exemple, sur un panneau lors de l’assemblage d’un aéronef.
Selon cette application, l’embout d’aspiration 14 est fixé sur un support 20 sur lequel un outil 22 doit réaliser au moins une opération d’enlèvement de matière. L’outil 22 comprend une partie active 22.1, comme un foret par exemple, pour réaliser l’opération d’enlèvement de matière comme la réalisation d’au moins un trou 20.1 par exemple. Le support 20 comprend une cornière en L 24 présentant une première aile 24.1 ainsi qu’une deuxième aile 24.2, le (ou les) trou(s) 20.1 étant positionné(s) sur la première aile 24.1. Selon une configuration, le support 20 comprend, en plus de la cornière en L 24, une paroi 26 contre laquelle est plaquée la deuxième aile 24.2. La cornière en L 24 est maintenue sur la paroi 26 par au moins un élément de liaison 28 comme un rivet ou une épingle d’assemblage par exemple.
L’embout d’aspiration 14 comprend un corps 30 qui présente une première face 32 et une cavité 34 débouchant au droit de la première face 32 ainsi qu’un tube de raccordement 36 qui présente une première extrémité cylindrique 36.1 et une deuxième extrémité 36.2 communiquant avec la cavité 34.
Pour la suite de la description, une direction longitudinale est une direction perpendiculaire à la première face 32. Une direction transversale est une direction perpendiculaire à la direction longitudinale. Un plan transversal est un plan perpendiculaire à la direction longitudinale.
La première extrémité cylindrique 36.1 est configurée pour raccorder le tuyau 16 par emmanchement, par vissage ou autres. Cette première extrémité cylindrique 36.1 présente un axe A36.1.
Selon un agencement, le tube de raccordement 36 est situé dans le prolongement de la cavité 34 selon la direction longitudinale.
Selon un mode de réalisation, le corps 30 présente une deuxième face 32’ parallèle à la première face 32 ainsi qu’une face périphérique 38 reliant les première et deuxième faces 32, 32’.
Il faut noter que l’étape de réticulation R1, R2 permet de réaliser le contact électrique et mécanique du ruban 6 sur la cellule photovoltaïque 4 et de réaliser la réticulation de la pâte de métallisation. Il est donc possible de réaliser deux étapes du procédé de fabrication en une seule tout en économisant sur l’équipement nécessaire. De plus, la réticulation de la colle ECA, d’une durée très courte inférieure à 30 secondes, peut être réalisée simultanément à celle des pâtes de métallisation, d’une durée plus longue d’environ 10 minutes, ce qui peut permettre d’ouvrir le choix des matériaux utilisés. La haute température utilisée est alors plus élevée que la température qui serait nécessaire pour la seule réticulation de la colle ECA.
Le produit final obtenu n’est donc plus une simple cellule photovoltaïque 4 « nue » mais un assemblage 1 comprenant la cellule 4 et les rubans 6, ce qui peut permettre de faciliter et d’améliorer la précision de la mesure des performances des cellules photovoltaïques 4.
Avantageusement, l’invention permet ainsi notamment de faciliter la caractérisation des cellules photovoltaïques 4, de limiter la manipulation des cellules et notamment des chaînes de cellules photovoltaïques 4 de sorte à réduire le risque de casse, de permettre le remplacement d’une cellule défaillante sans nécessiter le remplacement de toute la chaîne de cellules fabriquée, entre autres.
Il faut noter que les étapes de séchage S1 et S2 correspondent au séchage de la métallisation qui doit permettre de manipuler la cellule et de la poser sur des supports sans que la pâte de métallisation salisse le socle. En général, ces étapes peuvent être réalisées à une température comprise entre 170°C et 200°C, pendant 30 secondes. Les températures peuvent aussi être plus faibles, par exemple entre 120°C et 130°C pendant 5 à 10 minutes pour des cellules PV plus sensibles à la température, telles que celles comprenant des pérovskites par exemple.
De plus, les étapes de réticulation R1 et R2 permettent à la fois la réticulation de la métallisation et de la colle ECA. Comme ces deux étapes sont avantageusement combinées ou simultanées, la gamme de température applicable est la plus élevée et donc celle de la réticulation de la métallisation, en générale comprise entre 200°C et 250°C pendant 10 à 15 minutes mais cette gamme peut aussi être amenée à baisser dans le futur avec des types de cellules plus sensibles à la température telles que celles comprenant des pérovskites par exemple.
Par ailleurs, la illustre, selon une vue en coupe, un exemple d’utilisation de plusieurs assemblages 1 obtenus par un tel procédé de fabrication conforme à l’invention de sorte à obtenir une chaîne S de cellules photovoltaïques 4 selon une architecture d’interconnexion monolithique.
Comme décrit précédemment, ce type d’architecture monolithique consiste à interconnecter dans un même plan la grille de collecte de la face arrière d'une cellule photovoltaïque 4 avec la grille de collecte de la face avant de la cellule photovoltaïque 4 adjacente. Précisément, un élément d’interconnexion 6 de la face avant d’une cellule photovoltaïque 4 est connecté avec un élément d’interconnexion 6 de la face arrière d’une cellule photovoltaïque 4 adjacente, dans un même plan, par superposition et assemblage des éléments d’interconnexion 6 entre eux. La représente les zones de superposition ZS formées au niveau desquelles se fait la connexion entre les éléments d’interconnexion 6. Cette connexion est avantageusement réalisée par soudure, par exemple soudure infrarouge, ultrasons ou induction.
En outre, la illustre, selon une vue en coupe, un exemple d’utilisation de plusieurs assemblages 1 obtenus par un tel procédé de fabrication conforme à l’invention de sorte à obtenir une chaîne S de cellules photovoltaïques 4 selon une architecture d’interconnexion standard.
Comme décrit précédemment, ce type d’architecture standard consiste à connecter les cellules photovoltaïques 4 orientées dans le même sens et placées dans le même plan. Ainsi, un élément d’interconnexion 6 de la face avant d’une cellule photovoltaïque 4 est connecté avec un élément d’interconnexion 6 de la face arrière d’une cellule photovoltaïque 4 adjacente par le biais d’un élément conducteur 8, ou motif conducteur 8, par exemple sous forme de ruban de cuivre, positionné dans l’espace inter-cellules e. Chaque élément d’interconnexion 6 est notamment soudé à l’élément conducteur 8, par exemple par soudure infrarouge, ultrasons ou induction.
Par ailleurs, l’interconnexion peut encore être réalisée par le biais de motifs conducteurs 9 incorporés dans une couche dédiée 3 du module photovoltaïque. Cette couche dédiée peut par exemple être une couche d’encapsulant, notamment située en face arrière, ou une couche arrière (encore appelée « backsheet ») du module photovoltaïque. Alors, l’interconnexion s’opère par coopération entre les éléments d’interconnexion 6 et les motifs conducteurs 9 de la couche dédiée 3, notamment obtenue par soudure, par exemple soudure à induction ou encore durant la lamination.
La représente, selon une vue de face, un exemple de couche dédiée 3, ici une couche d’encapsulant 3 du côté de la face arrière du module, comprenant des motifs conducteurs 9 pour l’interconnexion de plusieurs assemblages 1.
Ces motifs conducteurs 9 peuvent par exemple se présenter sous la forme de rubans conducteurs, par exemple en cuivre, intégrés sur la couche d’encapsulant 3, comme schématisé sur la . Ils peuvent encore se présenter sous la forme de pistes d’encre conductrice, par exemple en argent ou cuivre ou aluminium, intégrées sur la couche d’encapsulant 3, comme schématisé sur la .
Module de puissance à composants semi-conducteurs intégrant un capteur de température et procédé de fabrication associé Domaine technique de l’invention L’invention concerne le domaine des modules de puissance électrique comprenant des composants à semi-conducteurs. De tels modules sont en particulier destinés au domaine aéronautique.
Etat de la technique antérieure La illustre un module de puissance 1 selon l’état de la technique. Le module de puissance 1 comprend un substrat 3 comprenant une face supérieure 5 recevant des composants 7 de puissance à semi-conducteurs.
Les composants 7 sont par exemple des interrupteurs de puissance (notamment des transistors à effet de champs à grille isolée, ou des transistors bipolaires à grille isolée), reliés entre eux par des fils de câblage 9 et reliés à des connecteurs 11 eux-mêmes connectés à une carte de commande (non représentée) configurée pour piloter lesdits composants 7.
A titre illustratif, nous allons donner quelques permittivités de polymère à base de PVDF :
Le solvant est un solvant pouvant solubiliser le polymère et pouvant disperser les particules fonctionnalisées.
Les particules piézoélectriques peuvent avoir des tailles et des formes très différentes.
Le diamètre des particules piézoélectriques est par exemple compris entre 1 et 15 µm.
Les particules piézoélectriques sont par exemple sphériques.
Les particules piézoélectriques sont recouvertes par une couche fluorée. La couche fluorée comprend des molécules ayant un groupement fluoré, ce qui améliore la compatibilité entre la particule et la coquille de la particule.
Une approche en immersion et également possible (solution de SAM dilué par exemple dans l’éthanol à 10 -3 ). Pour cela, on plonge les particules de PEDOT-PSS dans la solution de SAM pendant 1 heure. Après séchage dans une étuve à 180°C, les particules sont recouvertes par la SAM.
Apres fonctionnalisation, on obtient des tailles de particules comprise entre 50nm et 500nm.
Parallèlement, il est possible de fabriquer des particules de BaTiO 3 recouvertes d’une couche de PEDOT-PSS selon les étapes suivantes :
- tremper les particules dans une solution diluée de PEDOT-PSS de viscosité inférieure à 1000cP, à 180°C pendant 5h,
- disperser mécaniquement les particules recouvertes de PEDOT-PSS avec soit des ultrasons soit en utilisant des billes dans un équipement nommé Utraturax,
- filtrer ensuite la solution
- sécher les particules.
On obtient des particules de BaTiO 3 recouvertes d’une couche de PEDOT-PSS d’environ 200nm.
On disperse ensuite les particules de PEDOT-PSS dans la matrice polymérique. Cette étape est réalisée par exemple à 80°C sous agitation.
Les matrices polymériques utilisées sont par exemple PVDF-TRFE-CFE, PVDF-TRFE et PVDF-HFP.
On disperse ensuite dans cette solution les particules de BaTiO 3 recouvertes par la couche fluorée, et éventuellement par la couche conductrice.
On utilise notamment moins de 20% en masse de particules de BaTiO 3 , moins de 20% en masse de particules de PEDOT-PSS et entre 10 et 40% en masse de polymère (matrice). Selon un exemple de réalisation, on choisit 80% massique de BaTiO 3 , 17% de PVDF-TRFE et 3% de PEDOT-PSS.
On obtient ainsi un matériau composite avec une conductivité améliorée et de faibles tensions de polarisation.
Plus la permittivité de la matrice polymérique est grande, plus les performances piézoélectriques du composite sont améliorées.
FORMULATION IMPRIMABLE DEPOSABLE PAR SERIGRAPHIE POUR DES APPLICATIONS PIEZOELECTRIQUES La présente invention se rapporte au domaine général des matériaux composites piézoélectriques.
L’invention concerne un matériau composite piézoélectrique et un dispositif piézoélectrique comprenant un tel matériau.
L'image d'apprentissage rendue 708 est ensuite fournie en entrée au codeur graphique inverse 710, qui génère des paramètres de cheveux estimés 712, et éventuellement des paramètres de scène estimés 714. Tout codeur graphique inverse approprié peut être utilisé comme codeur graphique inverse 710, y compris, mais sans s'y limiter, un codeur mis en œuvre à l'aide d'un réseau neuronal entièrement convolutif.
Le codeur graphique inverse 710 est entraîné en utilisant une descente de gradient pour minimiser une fonction de perte sur une pluralité d'images d'apprentissage rendues 708 générées en utilisant une variété de paramètres de cheveux 704 et de paramètres de scène d'apprentissage 702. La fonction de perte compare les paramètres de cheveux estimés 712 aux paramètres de cheveux réels 704 utilisés pour générer l'image d'apprentissage rendue 708. Un exemple non limitatif d'une fonction de perte appropriée est :
où est l'ensemble de paramètres de cheveux 704, est le nombre d’ensembles de paramètres de cheveux 704 utilisés, sont les paramètres aléatoires de scène d'apprentissage 702 pour synthétiser l'image d'apprentissage rendue 708 représentée par , et représente le codeur graphique inverse 710 paramétré par ses poids .
La est un organigramme qui illustre une méthode d'apprentissage d'un codeur pour prédire des paramètres des cheveux selon divers aspects de la présente divulgation. La méthode 800 est un exemple non limitatif d'une mise en œuvre de la technique d'apprentissage illustrée à la .
À partir d'un bloc de départ, le procédé 800 passe au bloc 802, où un moteur d'apprentissage de codeur 516 d'un système informatique de rendu de cheveux 302 génère une pluralité d'ensembles de paramètres de cheveux. Dans certains modes de réalisation, les valeurs des ensembles de paramètres de cheveux peuvent être échantillonnées de manière aléatoire, peuvent être échantillonnées de manière égale parmi une distribution valide de valeurs, ou peuvent être déterminées de toute autre manière.
Au bloc 804, le moteur d'apprentissage de codeur 516 récupère un ensemble de paramètres de scène d'apprentissage à partir d'un magasin de données de scènes 518 du système informatique de rendu de cheveux 302. Dans certains modes de réalisation, l'ensemble de paramètres de scène d'apprentissage spécifie une coiffure/forme de cheveux qui simule les cheveux qui seraient présents dans un échantillon de cheveux, ainsi que des positions de caméra et des conditions d'éclairage similaires à celles fournies par le système de caméra 308. Dans certains modes de réalisation, la coiffure/forme peut simuler un échantillon de cheveux, tandis que la position de la caméra et/ou les conditions d'éclairage peuvent être randomisées en coordonnées polaires afin de générer des données supplémentaires pour l'apprentissage du codeur graphique inverse par rapport aux images rendues à partir d'un emplacement de caméra fixe.
Le procédé 800 passe ensuite à une boucle for définie entre le bloc de départ de boucle for 806 et le bloc de fin de boucle for 816, dans lequel chacun des ensembles de paramètres de cheveux est utilisé pour aider à entraîner le codeur graphique inverse. A partir du bloc de départ de boucle for 806, le procédé 800 passe au bloc 808, où un moteur de rendu d'image 514 du système informatique de rendu de cheveux 302 utilise un moteur de rendu non différentiable pour générer une image d'apprentissage rendue sur la base de l'ensemble de paramètres de cheveux et de l'ensemble de paramètres de scène d'apprentissage.
Au bloc 810, le moteur d'apprentissage de codeur 516 utilise un codeur graphique inverse pour générer des paramètres de cheveux estimés sur la base de l'image d'apprentissage rendue. Au bloc 812, le moteur d'apprentissage de codeur 516 détermine une valeur d'une fonction de perte qui compare les paramètres de cheveux estimés à l'ensemble de paramètres de cheveux. Au bloc 814, le moteur d'apprentissage de codeur 516 met à jour le codeur graphique inverse sur la base d'un gradient de la fonction de perte.
Le procédé 800 passe ensuite au bloc de fin de boucle for 816. Si d'autres ensembles de paramètres de cheveux restent à traiter, le procédé 800 retourne alors au bloc de départ de boucle for 806 pour traiter l'ensemble suivant de paramètres de cheveux. Sinon, si tous les ensembles de paramètres de cheveux ont été traités, le procédé 800 passe alors au bloc 818.
Au bloc 818, le moteur d'apprentissage de codeur 516 stocke le codeur graphique inverse mis à jour en tant que codeur graphique inverse entraîné dans un magasin de données de codeurs 508 du système informatique de rendu de cheveux 302. Le codeur graphique inverse entraîné peut être récupéré ultérieurement pour estimer les paramètres de cheveux sur la base d'images nouvellement capturées, comme décrit ci-dessous en ce qui concerne la .
Le procédé 800 passe ensuite à un bloc de fin et se termine.