INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Le dispositif de gestion thermique comporte également un module de refroidissement C étant destiné à être traversé par un flux d’air externe 500. Le module de refroidissement C comporte notamment au moins un premier échangeur de chaleur 62, 42’ (voir ) également destiné à être traversé par le flux d’air externe 500. Ce module de refroidissement C est destiné à être intégré au sein de la plateforme modulaire A, de préférence dans la partie avant de la plateforme modulaire.
Un exemple d’un tel module de refroidissement C est notamment illustré à la . Le module de refroidissement C peut ainsi comporter un échangeur de chaleur 62, 42’ et un premier boîtier collecteur C41 accolé audit échangeur de chaleur 62, 42’. Le premier boîtier collecteur C41 forme de préférence une volute avec une première extrémité ouverte C41a disposée en regard de l’échangeur de chaleur 62, 42’ et une deuxième extrémité ouverte C41b à l’extrémité opposée de la volute.
Tampon de polissage en polyurée non réticulée compressible Arrière-plan de l'invention La planarisation mécano-chimique (CMP) est une variante d'un procédé de polissage qui est largement utilisée pour aplatir, ou aplanir, les couches de construction d'un circuit intégré afin de construire avec précision un circuit tridimensionnel multicouche. La couche devant être polie est typiquement un film mince (moins de 10 000 Angströms) qui a été déposé sur un substrat sous-jacent. Les objectifs de la CMP sont le retrait du matériau en excès sur la surface d'une galette pour produire une couche extrêmement plate et d'épaisseur uniforme, l'uniformité s'étendant sur toute la superficie de la galette. Le contrôle du taux de retrait et l'uniformité de retrait ont une importance considérable.
La CMP utilise un liquide, souvent appelé suspension (« slurry » de l’anglais), qui contient des particules de taille nanométrique. Il est délivré sur la surface d'une feuille ou d'un tampon en polymère multicouche en rotation, qui est monté sur une platine rotative. Les galettes sont montées dans une monture, ou un support, séparé, qui a des moyens de rotation séparés, et pressées contre la surface du tampon sous une charge contrôlée. Ceci conduit à un taux élevé de mouvement relatif entre la galette et le tampon de polissage (c'est-à-dire que le taux de cisaillement est élevé au niveau tant du substrat que de la surface du tampon). Les particules de suspension piégées à la jonction tampon/galette abrasent la surface de la galette, conduisant à un retrait. Afin de contrôler le taux, prévenir un aquaplanage, et convoyer efficacement la suspension sous la galette, divers types de texture sont incorporés dans la surface supérieure du tampon de polissage. Une texture à petite échelle est produite par abrasion du tampon avec un réseau de diamants fins. Ceci a pour but de contrôler et d'augmenter le taux de retrait, et est couramment appelé conditionnement. Des rainures à plus grande échelle de divers motifs et dimensions (par exemple en XY, circulaires, radiaux) sont également incorporées pour l'hydrodynamisme et pour une régulation du transport de la suspension.
Il est largement observé que le taux de retrait durant une CMP suit l'équation de Preston, taux = K p *P*V, où P est la pression, V est la vitesse, et K p est ce que l'on appelle le coefficient de Preston. Le coefficient de Preston est une constante globale qui est caractéristique de l'ensemble consommable utilisé. Plusieurs des effets les plus importants contribuant au K p sont les suivants : (a) la superficie de contact du tampon (dérivant largement de la texture et des propriétés mécaniques en surface du tampon) ; (b) la concentration des particules de suspension sur la superficie de contact disponibles pour faire le travail ; et (c) le taux de réaction entre les particules en surface et la surface de la couche devant être polie. L'effet (a) est largement déterminé par les propriétés du tampon et le procédé de conditionnement. L'effet (b) est déterminé tant par le tampon que par la suspension, tandis que l'effet (c) est largement déterminé par les propriétés de la suspension.
L'apparition de dispositifs de mémoire multicouches haute capacité (par exemple mémoire flash 3D NAND) a conduit à la nécessité d'augmentations plus importantes du taux de retrait. La partie critique du procédé de fabrication de 3D NAND consiste à accumuler des empilements multicouches de films de SiO 2 et de Si 3 N 4 de façon alternée à la manière d'un escalier pyramidal. Une fois terminé, l'empilement est coiffé d'une surcouche épaisse de SiO 2 , qui doit être aplanie avant l'achèvement de la structure du dispositif. Ce film épais est couramment appelé diélectrique de pré-métallisation (PMD, de l’anglais « Pre-Metal Dielectric »). La capacité du dispositif est proportionnelle au nombre de couches dans l'empilement stratifié. Les dispositifs du commerce actuels utilisent 32 et 64 couches, et l'industrie est en train de passer rapidement à 128 couches. L'épaisseur de chaque paire d'oxyde/nitrure dans l'empilement est d'environ 125 nm. Ainsi, l'épaisseur de l'empilement augmente directement avec le nombre de couches (32 = 4 000 nm, 64 = 8 000 nm, 128 = 16 000 nm). Pour l'étape PMD, la quantité totale de diélectrique de coiffage à retirer est approximativement égale à environ 1,5 fois l'épaisseur de l'empilement, étant supposée une déposition du PMD en enrobage.
Les suspensions de CMP diélectriques conventionnelles ont des taux de retrait d'environ 250 nm/min. Ceci engendre des temps de traitement CMP longs non souhaités pour l'étape PMD, qui est maintenant le goulet d'étranglement principal dans le procédé de fabrication de 3D NAND. Par conséquent, il y a eu beaucoup de travaux concernant le développement de procédés CMP plus rapides. La plupart des améliorations se sont focalisées sur les conditions de procédé (P et V plus élevées), un changement du procédé de conditionnement du tampon, et des améliorations de la conception de la suspension, en particulier des suspensions à base de CeO 2 . S'il était possible de développer un tampon amélioré pouvant être associé aux procédés et suspensions de CeO 2 existants pour atteindre un taux de retrait plus élevé sans introduction de quelconques effets négatifs, ceci constituerait une amélioration significative de la technologie CMP.
La couche de tampon supérieure la plus couramment utilisée dans une CMP diélectrique est le tampon de polissage en polyuréthane IC1000™. Ce tampon a de nombreuses propriétés souhaitables, y compris sa charge de surface dans l'eau. Comme le montre un article de Sokolov et al. (J. Colloid Interface Sci, 300 (2), pages 475-81, 2006), la charge de surface des tampons de polissage IC1000™ devient de plus en plus négative pour des valeurs de pH dépassant 2. Comme les tampons de polissage sont en mouvement durant le polissage, les propriétés physiques des aspérités du tampon sous cisaillement ont une importance critique.
Les procédés principaux utilisés pour la réalisation d'un taux accru dans les tampons de CMP sont les suivants : i) une optimisation de la conception des rainures sans changement de la composition de la couche de tampon supérieure ; ii) une altération du procédé de conditionnement sans changement de la composition de la couche de tampon supérieure ; iii) la fourniture de tampons ayant une réponse de conditionnement plus souhaitable par changement de la réponse de conditionnement de la couche de tampon supérieure ; et iv) la fourniture de tampons avec des couches de tampon supérieures ayant une dureté plus élevée ou des propriétés élastiques modifiées.
Un mode de réalisation de l'invention concerne un tampon de polissage convenant pour polir au moins l'un parmi les substrats semi-conducteurs, optiques, magnétiques et électromécaniques, incluant : une couche de polissage en polyurée, la couche de polissage en polyurée contenant une matrice en polyurée, la polyurée ayant un segment dur et un segment mou, le segment mou étant un copolymère de groupes polymères aliphatiques exempts fluor et d'un fluorocarbone ayant une longueur d'au moins six carbones, la matrice en polyurée étant durcie avec un agent durcisseur et contenant des microéléments polymères chargés de gaz ou de liquide, la matrice en polyurée ayant une région massive, une région de transition adjacente à la région massive qui s'étend jusqu'à la couche de polissage, les microéléments polymères ayant un certain diamètre et étant sphériques dans la région massive de la matrice en polyurée, l'épaisseur des microéléments polymères dans la région de transition diminuant quand ils se rapprochent de la couche de polissage, l'épaisseur des microéléments compressés adjacents à la couche de polissage étant inférieure à 50 % du diamètre des microéléments polymères dans la région massive, et les microsphères polymères étant fracturées au niveau de la couche de polissage durant le polissage, dans lequel la couche de polissage reste hydrophile durant un polissage dans des conditions de cisaillement.
Un autre mode de réalisation de l'invention met à disposition un tampon de polissage convenant pour polir au moins l'un parmi les substrats semi-conducteurs, optiques, magnétiques et électromécaniques, comprenant : une couche de polissage en polyurée, la couche de polissage en polyurée contenant une matrice en polyurée, la polyurée ayant un segment dur et un segment mou, le segment mou étant un copolymère de groupes polymères aliphatiques exempts fluor et d'un fluorocarbone ayant une longueur d'au moins six carbones, la matrice en polyurée étant durcie avec un agent durcisseur et contenant des microéléments polymères chargés de gaz ou de liquide, la matrice en polyurée ayant une région massive, une région de transition adjacente à la région massive qui s'étend jusqu'à la couche de polissage, les microéléments polymères ayant un certain diamètre et étant sphériques dans la région massive de la matrice en polyurée, l'épaisseur des microéléments polymères dans la région de transition diminuant quand ils se rapprochent de la couche de polissage, l'épaisseur des microéléments compressés adjacents à la couche de polissage étant inférieure à 50 % du diamètre des microéléments polymères dans la région massive, dans lequel au moins une partie des microéléments polymères adjacents à la couche de polissage forme des canaux réalisant une interconnexion avec les microéléments polymères adjacents qui sont fracturés au niveau de la couche de polissage durant le polissage, dans lequel la couche de polissage reste hydrophile durant un polissage dans des conditions de cisaillement.
représente le diffuseur lumineux seul du dispositif de la .
Dans la description, les directions et orientations sont données en référence à un repère orthonormé direct classiquement utilisé en conception automobile, dans lequel X désigne la direction longitudinale avant – arrière du véhicule, pointant vers l’arrière du véhicule, Y est la direction transversale au véhicule pointant vers la droite du véhicule, et Z est la direction verticale, pointant vers le haut.
On a représenté à la une vue partielle de la partie centrale d’une planche de bord 1 d’un véhicule automobile. La planche de bord 1 comprend un prolongement vers l’arrière du véhicule qui comporte typiquement un logement de réception 2 d’un appareil multimédia 3 ( ), tel qu’un téléphone portable ou une tablette. Ce logement est délimité par un boitier 4 comprenant une paroi de fond 5 et une paroi supérieure 6 s’étendant au-dessus de la paroi de fond 5. La paroi de fond 5 constitue une zone de dépose 7 d’un appareil, en se présentant de façon sensiblement plane et horizontale. Ses dimensions sont compatibles avec différents formats de téléphones ou de petites tablettes. Elle recouvre ici un chargeur inductif sans fil permettant de recharger la batterie d’un appareil multimédia compatible.
Dans l’exemple illustré sur les figures 2 à 5 la paroi supérieure 6 du boitier 4 est inclinée par rapport à la paroi de fond 5, d’un angle compris entre 40 et 60°. Le boitier 4 est également fermé sur ses flancs par deux parois latérales 8, 9 sensiblement verticales.
Le dispositif selon l’invention comprend une source lumineuse 10 (figures 3 et 5) et un diffuseur 11 lumineux disposés au-dessus de la zone de dépose 7. La source lumineuse 10 et le diffuseur 11 sont adaptés à projeter une image ou un message sur la face supérieure de la zone de dépose 7 et/ou la face supérieure de l’appareil multimédia 3. Lorsqu’un appareil est rangé dans la zone de dépose, sa surface supérieure projette l’image ou le message. Dans une variante de réalisation, on peut prévoir que l’image ou le message soient également projetés sur la paroi de fond 5.
La source lumineuse 10 est typiquement constituée d’une ou plusieurs LED. Dans des variantes de réalisation, d’autres technologies de sources lumineuses peuvent être utilisées.
Le diffuseur lumineux 11 est un élément laissant passer la lumière et conditionne la forme et la mise au point de l’image ou du message projeté (texte, logo etc.). Ce diffuseur 11 est par exemple un masque, un filtre, un prisme ou tout moyen réfléchissant apte à projeter une image ou un message lumineux avec une mise au point adaptée sur la surface supérieure de la zone de dépose 7 ou sur la surface supérieure de l’appareil multimédia 3. Dans la mesure où l’épaisseur de l’appareil multimédia est variable, on admet que la mise au point de l’image ou du message projeté est adéquate jusqu’à une distance de l’ordre de 10 mm au-dessus de la surface de la zone de dépose 7.
Comme on le voit sur les figures 3 et 5, la source lumineuse 10 et le diffuseur 11 lumineux sont montés sur un support 12 lui-même monté sur une face de la paroi supérieure 6. Cette face est située à l’opposé de la paroi de fond 5. La paroi supérieure 6 comporte une ouverture ou fenêtre permettant la projection lumineuse de la source lumineuse 10 au travers du diffuseur 11, en direction de la zone de dépose 7. Le support 12 peut être vissé ou clippé sur la paroi supérieure 6.
En référence aux figures 6 et 7, le diffuseur 11 est clippé sur le support 12 et maintenu en position dans son logement.
Selon une variante de réalisation de l’invention, le dispositif peut comprendre des moyens de détection de la présence de l’appareil multimédia 3 sur la zone de dépose 7. Ces moyens pourraient être adaptés pour activer la source lumineuse 10 lumineuse uniquement lorsque l’appareil multimédia 3 est présent. Dans une variante, cette source lumineuse peut également être conditionnée à la luminosité ambiante. On peut prévoir la possibilité d’un changement de couleur associé à l’ambiance lumineuse dans le véhicule. Il est également possible d’ajuster l’intensité du signal depuis une commande sur l’écran central ou encore en fonction de l’allumage des feux du véhicule.
Dans une autre variante de réalisation de l’invention, le diffuseur comprend des moyens d’interchangeabilité permettant de personnaliser l’image ou le message lumineux projeté.
Bien entendu, l’invention n’est pas limitée aux modes ou variantes de réalisation décrits précédemment et comprends tous les équivalents techniques de ces moyens.
L’invention pourrait être appliquée à tout autre moyen qui permet d’entreposer un objet avec une surface lisse sur laquelle le fabricant souhaite projeter une image ou un message lumineux (mobilier urbain, meuble de maison, zone de rangement dans un avion, train ou autre moyen de transport…).
Références des moyens de l’invention :
planche de bord 1 logement de réception 2 appareil multimédia 3 boitier 4 paroi de fond 5 paroi supérieure 6 zone de dépose 7 parois latérales 8, 9 source lumineuse 10 diffuseur 11 support 12
Dispositif adaptateur de milieu d’essuyage et essuie-glace ainsi équipé et procédé de réalisation du dispositif DOMAINE DE L’INVENTION La présente invention se rapporte à un dispositif adaptateur de milieu d’essuyage pour un essuie-glace comportant un corps de base délimitant deux zones pour conduire le milieu d’essuyage d’un canal de milieu d’essuyage respectif de l’essuie-glace dans un adaptateur côté balai d'essuie-glace ou côté bras d’essuie-glace et un élément chauffant pour chauffer le milieu d’essuyage ; le corps de base délimite un passage d’une des deux zones de liaison vers l’autre des deux zones de liaison prévues pour guider l’élément chauffant de l’une des zones de liaison à l’autre.
Pour obtenir une information sur les dimensions, il faut étalonner l’espace référent et reporter ces informations de dimensions dans le repère de l’espace virtualisé.
L’étalonnage se fait à partir du repère (Xr, Yr, Zr) de l’espace référent réel et permet d’étalonner l’espace virtualisé vide doté de son repère (Xv, Yv, Zv).
Un moyen d’étalonner l’espace référent et in fine de répliquer ces dimensions étalonnées dans l’espace virtualisé est de recourir à une mire de dimensions connues et angles connus. La mire est placée dans le champ de moyens optiques et est donc comprise dans les acquisitions optiques obtenues. A partir des dimensions connues et des angles connus de la mire, il est possible de déduire toutes les dimensions de l’espace référent dans le repère (Xr, Yr, Zr). Or, puisque les espaces référent et virtualisé sont homothétiques entre eux, les dimensions de l’espace virtualisé sont renseignées.
Le module informatisé dispose alors d’un espace virtualisé vide ( ), doté d’un repère cartésien (Xv, Yv, Zv), modélisant la géométrie et les dimensions de l’espace référent ou la répliquant à partir de simples images ou scans. Cette capacité est un avantage pour l’utilisateur qui n’a pas besoin de reconstruire soi-même son intérieur et envoie seulement des images ou des scans au module informatisé.
De manière préférentielle, une fois l’espace virtualisé vide crée ( ), les éléments le constituant (murs, plafond, sol, poutre etc.) peuvent être défini comme formant l’ensemble des éléments de structure de l’espace virtualisé.
Choix d u ou des éléments issue d’un espace source
En parallèle, en amont ou en aval de la création de l’espace virtualisé, l’utilisateur du procédé choisi ou sélection un ou plusieurs éléments dans un espace source (étape 3). Généralement, ce choix se fait à partir d’une page web mais il est possible de choisir un ou plusieurs éléments dans un espace source à partir d’un catalogue papier.
Pour rappel, on se place dans le cas où ce ou ces éléments forment ou scénarisent ensemble une décoration de l’espace source.
L’utilisateur transmet alors ce ou ces éléments et son espace source au module informatisé via une interface de téléchargement accessible immédiatement après le choix du contenu (dans le cas d’une page web) ou via un QR code imprimé ou tout autre technique similaire permettant l’ouverture d’une page web de téléchargement (dans le cas d’un catalogue papier)..
Ce ou ces éléments peuvent être dans un état finalisé ou partiellement finalisé ou incomplet. Par exemple, il peut s’agir de croquis ou de plans.
Réplication ou intégration d u ou des éléments dans l’espace virtualisé vide
Le module informatisé réplique ou modélise ensuite la décoration de l’espace source (étape 4).
Dimensions de l’espace source
Pour ce faire, il faut tout d’abord obtenir les dimensions de l’espace source, sa géométrie et les dimensions et formes des éléments de la décoration.
Le recours à une mire est un moyen préféré pour étalonner l’espace source.
Idéalement, l’espace source doté de la décoration dispose d’une mire aux dimensions connues et aux angles connus dans le repère (Xs, Ys, Zs). C’est par exemple le cas lorsque la décoration a été sélectionnée sur un site internet marchant ou un catalogue papier : la réplication de la décoration a été anticipée et une mire est donc présente.
Dans un mode de réalisation de l’invention, la composition lubrifiante selon l’invention comprend au moins une huile du Groupe II et/ou au moins une huile du Groupe III.
Typiquement, la ou les huiles de base représentent au moins 50% en poids, de préférence au moins 60% en poids, de préférence encore au moins 70% en poids, encore plus préférentiellement au moins 75% en poids, du poids total de la composition lubrifiante.
Ainsi, selon un mode de réalisation, la composition lubrifiante comprend de 50% à 99,89% en poids, de préférence de 70% à 99,5% en poids, de préférence encore de 80% à 99% en poids d’huile(s) de base, incluant de préférence, au moins une huile du Groupe II et/ou au moins une huile du Groupe III et/ou au moins une huile du Groupe IV et/ou au moins une huile du Groupe V.
Selon un mode de réalisation particulier, la composition lubrifiante comprend en outre un ou plusieurs autres additifs.
Les autres additifs préférés pour la composition lubrifiante selon l’invention sont choisis parmi les additifs détergents, les additifs anti-usure, les additifs modificateurs de frottement à l’exception des modificateurs de frottement à base de molybdène, les additifs extrême pression, les dispersants distincts des dispersants borés définis ci-dessus, les améliorants du point d’écoulement, les améliorants de l’indice de viscosité, les agents anti-mousse, les épaississants et leurs mélanges.
De préférence, lorsqu’ils sont présents, les additifs choisis parmi les additifs détergents, les additifs anti-usure, les additifs modificateurs de frottement à l’exception des modificateurs de frottement à base de molybdène, les additifs extrême pression, les dispersants distincts des dispersants borés définis ci-dessus, les améliorants du point d’écoulement, les améliorants de l’indice de viscosité, les agents anti-mousse, les épaississants et leurs mélanges, représentent jusqu’à 20% en poids, de préférence de 0,1% à 15% en poids, de préférence encore de 1% à 10% en poids, du poids total de la composition lubrifiante.
Selon un mode de réalisation, la composition lubrifiante comprend en outre au moins un détergent. Les additifs détergents permettent généralement de réduire la formation de dépôts à la surface des pièces métalliques par dissolution des produits secondaires d’oxydation et de combustion. Les additifs détergents utilisables dans la composition lubrifiante selon l’invention sont généralement connus de l’homme de métier. Les additifs détergents peuvent être des composés anioniques comprenant une longue chaîne hydrocarbonée lipophile et une tête hydrophile. Le cation associé peut être un cation métallique d’un métal alcalin ou alcalino-terreux. Les additifs détergents sont préférentiellement choisis parmi les sels de métaux alcalins ou de métaux alcalino-terreux d’acides carboxyliques, les sulfonates, les salicylates, les naphténates, ainsi que les sels de phénates. Les métaux alcalins et alcalino-terreux sont préférentiellement le calcium, le magnésium, le sodium ou le baryum. Ces sels métalliques comprennent généralement le métal en quantité stœchiométrique ou bien en excès, donc en quantité supérieure à la quantité stœchiométrique. Il s’agit alors d’additifs détergents surbasés ; le métal en excès apportant le caractère surbasé à l’additif détergent est alors généralement sous la forme d’un sel métallique insoluble dans l’huile, par exemple un carbonate, un hydroxyde, un oxalate, un acétate, un glutamate, préférentiellement un carbonate.
Selon un mode de réalisation particulier, la composition lubrifiante comprenant au moins un détergent choisi parmi les détergents à base de calcium, les détergents à base de magnésium, et leur mélange. Selon un mode de réalisation particulier, la composition lubrifiante selon l’invention comprend au moins un détergent à base de calcium et au moins un détergent à base de magnésium.
De manière avantageuse, la composition lubrifiante selon l’invention peut comprendre de 2 à 4 % en poids d’additif détergent(s) par rapport à la masse totale de la composition lubrifiante.
De manière avantageuse, la composition lubrifiante selon l’invention peut également comprendre en outre au moins un agent dispersant non-boré. L’agent dispersant non-boré peut être choisis parmi les bases de Mannich, les succinimides et leurs dérivés. Selon un mode de réalisation, le ou les dispersants non-borés peuvent être choisis parmi les polyisobutène succinimide non-borés, et leurs mélanges.
De manière également avantageuse, la composition lubrifiante selon l’invention peut comprendre de 0,2% à 10% en masse d’agent dispersant non-borés, par rapport à la masse totale de la composition lubrifiante.