Modulateur (1) de phase thermo-optique comprenant un empilement (10) selon une première direction (z), ledit empilement (10) comprenant un guide d’onde (11) configuré pour guider un faisceau lumineux de longueur d’onde λ selon une deuxième direction (x), une couche d’encapsulation (12) surmontant le guide d’onde (11) et un élément (13) dit chauffant configuré pour chauffer le guide d’onde (11), ledit élément chauffant (13) surmontant la couche d’encapsulation (12), ledit modulateur (1) comprenant en outre des première et deuxième tranchées (21, 22) s’étendant de part et d’autre de l’empilement (10), le modulateur (1) étant caractérisé en ce que le guide d’onde (11), la couche d’encapsulation (12) et l’élément chauffant (13) présentent chacun des premiers et deuxièmes flancs (111, 112, 121, 122, 131, 132) tels que les premiers flancs (111, 121, 131) du guide d’onde, de la couche d’encapsulation et de l’élément chauffant forment au moins en partie un flanc (210) de la première tranchée (21), et les deuxièmes flancs (112, 122, 132) du guide d’onde, de la couche d’encapsulation et de l’élément chauffant forment au moins en partie un flanc (220) de la deuxième tranchée (22). Modulateur (1) selon la revendication précédente dans lequel les premiers flancs (111, 121, 131) du guide d’onde (11), de la couche d’encapsulation (12) et de l’élément chauffant (13) débouchent directement dans la première tranchée (21) et dans lequel les deuxièmes flancs (112, 122, 132) du guide d’onde (11), de la couche d’encapsulation (12) et de l’élément chauffant (13) débouchent directement dans la deuxième tranchée (22). Modulateur (1) selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel les premiers flancs (111, 121, 131) du guide d’onde (11), de la couche d’encapsulation (12) et de l’élément chauffant (13) sont sensiblement compris dans un même premier plan (P1), et dans lequel les deuxièmes flancs (112, 122, 132) du guide d’onde (11), de la couche d’encapsulation (12) et de l’élément chauffant (13) sont sensiblement compris dans un même deuxième plan (P2). Modulateur (1) selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel l’élément chauffant (13) s’étend au-delà des tranchées (21, 22) selon la deuxième direction (x). Modulateur (1) selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel le guide d’onde (11) comprend une zone de modulation et au moins une zone de transition (Z2, Z2’), et dans lequel les tranchées (21, 22) s’étendent tout le long de la zone de modulation et au-delà de l’au moins une zone de transition (Z2, Z2’), selon la deuxième direction (x). Modulateur (1) selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel le guide d’onde (11) est à base de SiN ou de Si. Réseau (2) d’antennes optiques phasées comprenant une pluralité de modulateurs (1) de phase thermo-optiques selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel deux modulateurs (1) adjacents sont séparés par une tranchée (22) prise parmi les première et deuxième tranchées (21, 22), lesdits modulateurs (1) étant disposés selon une troisième direction (y) selon un pas du réseau pr sensiblement égal à la longueur d’onde λ du faisceau lumineux. Réseau (2) d’antennes optiques phasées selon la revendication précédente dans lequel la longueur d’onde λ et le pas du réseau pr sont inférieurs à 1 µm. Procédé de réalisation d’au moins un modulateur (1) de phase thermo-optique comprenant un empilement (10) selon une première direction (z), ledit empilement (10) comprenant un guide d’onde (11) configuré pour guider un faisceau lumineux de longueur d’onde λ selon une deuxième direction (x), une couche d’encapsulation (12) surmontant le guide d’onde (11), un élément (13) dit chauffant configuré pour chauffer le guide d’onde et surmontant la couche d’encapsulation (12), ledit modulateur (1) comprenant en outre des première et deuxième tranchées (21, 22) s’étendant de part et d’autre de l’empilement (10), le procédé comprenant : Une formation d’un empilement de base (10a) comprenant, selon la première direction (z), un motif (110) de guide d’onde, une couche d’encapsulation initiale (12a) surmontant le motif (110) de guide d’onde, et l’élément chauffant (13) surmontant la couche d’encapsulation initiale (12a), Une gravure de l’empilement de base selon la première direction (z), configurée pour former les première et deuxième tranchées (21, 22) et l’empilement (10) bordé par lesdites première et deuxième tranchées (21, 22), le guide d’onde (11) étant obtenu à partir du motif de guide d’onde (110), et la couche d’encapsulation (12) étant obtenue à partir de la couche d’encapsulation initiale (12a), Le procédé étant caractérisé en ce que l’élément chauffant (13) forme un masque de gravure lors de la formation par gravure des première et deuxième tranchées (21, 22), de sorte que le guide d’onde (11), la couche d’encapsulation (12) et l’élément chauffant (13) présentent chacun des premiers et deuxièmes flancs (111, 112, 121, 122, 131, 132) tels que les premiers flancs (111, 121, 131) du guide d’onde, de la couche d’encapsulation et de l’élément chauffant forment au moins en partie un flanc (210) de la première tranchée (21), et les deuxièmes flancs (112, 122, 132) du guide d’onde, de la couche d’encapsulation et de l’élément chauffant forment au moins en partie un flanc (220) de la deuxième tranchée (22). Procédé selon la revendication précédente dans lequel, lors de la formation de l’empilement de base (10a), le motif (110) de guide d’onde est défini de sorte à présenter, en projection selon la première direction (z), une zone (Z1) dite élargie destinée à former une zone de modulation du guide d’onde (11) et présentant une largeur L prise selon une troisième direction (y), et l’élément chauffant (13) est défini de sorte à présenter une largeur Lc selon la troisième direction (y), telle que Lc Procédé selon la revendication précédente dans lequel le motif (110) de guide d’onde est défini de sorte à présenter, en projection selon la première direction (z), une zone d’injection (Z3) de largeur l selon la troisième direction (y) telle que l Procédé selon la revendication précédente dans lequel l’élément chauffant (13) recouvre, en projection selon la première direction (z), une partie de la zone de transition (Z2) et une partie de la zone d’injection (Z3), de sorte que les première et deuxième tranchées (21, 22) s’étendent au-delà de la zone de transition (Z2) selon la deuxième direction (x). Procédé selon l’une quelconque des revendications 9 à 12 dans lequel la formation par gravure des première et deuxième tranchées (21, 22) comprend au moins une première gravure configurée pour graver la couche d’encapsulation initiale (12a) et au moins une deuxième gravure configurée pour graver le motif de guide d’onde (110). Procédé selon l’une quelconque des revendications 9 à 13 dans lequel la gravure de l’empilement de base se fait au travers d’une ouverture (31) d’un masque (30) à base de résine au-dessus de l’élément chauffant (13), ladite ouverture (31) présentant une première dimension l31 selon la deuxième direction (x) inférieure à une longueur lc de l’élément chauffant (13) selon ladite deuxième direction (x), et une deuxième dimension L31 selon une troisième direction (y) supérieure à une largeur Lc de l’élément chauffant (13) selon ladite troisième direction (y). Procédé selon l’une quelconque des revendications 9 à 14 dans lequel l’au moins un modulateur (1) comprend un premier modulateur et un deuxième modulateur séparés par une tranchée (22) prise parmi les première et deuxième tranchées (21, 22), le premier modulateur comprenant un premier élément chauffant et le deuxième modulateur comprenant un deuxième élément chauffant (13), lesdits premier et deuxième éléments chauffants (13) étant séparés par un pas de réseau pr inférieur à 1 µm, pris selon une troisième direction (y). Procédé selon la revendication précédente dans lequel la formation de l’empilement de base comprend une définition de premier et deuxième motifs de guide d’onde (110) présentant respectivement des première et deuxième zones élargies (Z1) continues entre elles.