Procédé de réalisation d’au moins une fenêtre optique (24a, 24b) pour détecteur infrarouge (10a, 10b), comprenant les étapes suivantes : – utilisation d’un substrat (11, 12) constitué d’une couche de silicium ou de germanium (25), au moins une face (16, 17) du substrat (11, 12) étant revêtue d’un film d’oxyde (13), lui-même revêtu d’un film de silicium ou de germanium (14) ; – gravure ionique réactive du film de silicium ou de germanium (14) avec arrêt sur le film d’oxyde (13) de sorte à former les motifs d’au moins un réseau périodique de diffraction (21) ; et – gravure du film d’oxyde (13) de sorte à supprimer le film d’oxyde (13) présent au niveau des motifs de l’au moins un réseau périodique de diffraction (21). Procédé de réalisation d’au moins une fenêtre optique pour détecteur infrarouge selon la revendication 1, dans lequel la gravure du film d’oxyde (13) est de nature isotropique et partielle. Procédé de réalisation d’au moins une fenêtre optique pour détecteur infrarouge selon la revendication 1 ou 2, dans lequel plusieurs motifs de plusieurs réseaux périodiques de diffraction (21) de plusieurs fenêtres optiques (24a, 24b) sont réalisés simultanément, le procédé comprenant une étape de séparation des fenêtres optiques. Procédé de réalisation d’au moins une fenêtre optique pour détecteur infrarouge selon l’une des revendications 1 à 3, dans lequel le film d’oxyde (13) présente une épaisseur comprise entre 10 et 100 nanomètres. Procédé de réalisation d’au moins une fenêtre optique pour détecteur infrarouge selon l’une des revendications 1 à 4, dans lequel le film de silicium ou de germanium (14) présente une épaisseur comprise entre 1 et 3 micromètres. Procédé de réalisation d’au moins une fenêtre optique pour détecteur infrarouge selon l’une des revendications 1 à 5, dans lequel le procédé comprend une étape d’épitaxie du film de silicium ou de germanium (14), réalisée avant la réalisation des motifs du réseau périodique de diffraction (21). Procédé de réalisation d’au moins une fenêtre optique pour détecteur infrarouge selon l’une des revendications 1 à 6, dans lequel les gaz réactifs mis en œuvre lors de la gravure ionique réactive sont sélectionnés de sorte que le procédé de gravure présente une sélectivité d’au moins cinq vis-à-vis du film de silicium ou de germanium (14). Procédé de réalisation d’au moins une fenêtre optique pour détecteur infrarouge selon l’une des revendications 1 à 7, dans lequel le film d’oxyde (13) est constitué de dioxyde de silicium. Procédé de réalisation d’au moins une fenêtre optique pour détecteur infrarouge selon l’une des revendications 1 à 8, dans lequel , chaque face (16, 17) du substrat (12) est pourvue d’un film de silicium ou de germanium (14) fixé sur un film d’oxyde (13), le procédé comprenant les étapes suivantes : – gravure ionique réactive du film de silicium ou de germanium (14) avec arrêt sur le film d’oxyde (13) de sorte à former les motifs d’un premier réseau périodique de diffraction (21) sur une première face (16, 17) du substrat (12) ; – gravure ionique réactive du film de silicium ou de germanium (14) avec arrêt sur le film d’oxyde (13) de sorte à former les motifs d’un second réseau périodique de diffraction (21) sur une seconde face (16, 17) du substrat (12) ; – gravure du film d’oxyde (13) de sorte à supprimer le film d’oxyde (13) présent au niveau des motifs du premier réseau périodique de diffraction (21) de la première face (16, 17) du substrat (12) ; et – gravure du film d’oxyde (13) de sorte à supprimer le film d’oxyde (13) présent au niveau des motifs du second réseau périodique de diffraction (21) de la seconde face (16, 17) du substrat (12). Procédé de réalisation d’au moins une fenêtre optique pour détecteur infrarouge selon la revendication 9, dans lequel les deux gravures du film d’oxyde (13) sont de nature isotropique et partielle. Procédé de réalisation d’au moins une fenêtre optique pour détecteur infrarouge selon la revendication 9 ou 10, dans lequel les deux gravures ioniques réactives sont réalisées simultanément de sorte à former les motifs du premier et du second réseaux périodiques de diffraction (21). Procédé de réalisation d’au moins une fenêtre optique pour détecteur infrarouge selon la revendication 10, dans lequel les deux gravures isotropiques sont réalisées simultanément de sorte à supprimer le film d’oxyde (13) présent au niveau des motifs du premier et du second réseaux périodiques de diffraction (21). Fenêtre optique pour détecteur infrarouge comprenant : – un substrat (11, 12) constitué d’une couche de silicium ou de germanium ; – un réseau périodique de diffraction (21) disposé sur une première face (16, 17) du substrat (11, 12) et présentant des motifs en silicium ou en germanium ; et – un filtre multicouche interférentiel (20) ou un réseau périodique de diffraction (21) disposé sur une seconde face (16, 17) du substrat (11, 12) ; caractérisé en ce que le ou les réseau(x) périodique(s) de diffraction (21) est (sont) fixé(s) sur le substrat (11, 12) au moyen d’un film d’oxyde (13), ledit film d’oxyde (13) étant absent à l’aplomb des ouvertures formant les motifs du ou des réseau(x) périodique(s) de diffraction (21). Détecteur infrarouge 10a, 10b) comprenant : – un substrat d’embase (18) sur lequel au moins un micro-bolomètre (19) est monté en suspension ; – des parois latérales (27) s’étendant sensiblement perpendiculairement par rapport au substrat d’embase (18) ; et – une fenêtre optique (24a, 24b), selon la revendication 13, fixée sur une extrémité supérieure des parois latérales (27).