Tampon de polissage convenant pour polir au moins l'un parmi les substrats semi-conducteurs, optiques, magnétiques et électromécaniques, comprenant : une couche de polissage contenant une polyurée, la couche de polissage contenant une polyurée comprenant une matrice contenant une polyurée, la matrice contenant une polyurée comprenant : une phase molle, la phase molle étant formée à partir de segments mous ayant deux ou plus de deux groupes polymères aliphatiques exempts de fluor coiffant deux d'extrémités d'au moins un groupe polymère aliphatique fluoré, les groupes polymères aliphatiques étant liés par des liaisons azotées aux deux extrémités de l'au moins un groupe polymère aliphatique fluoré, les groupes polymères aliphatiques exempts de fluor ayant au moins une extrémité rattachée à l'au moins un groupe polymère aliphatique fluoré et un groupe isocyanate coiffant des extrémités extérieures des groupes polymères aliphatiques exempts de fluor, les segments mous formant une phase molle à l'intérieur de la matrice contenant une polyurée ; une phase dure, la phase dure contenant des segments durs, les segments durs contenant un groupe urée formé à partir du groupe isocyanate coiffant des extrémités extérieures des groupes polymères aliphatiques exempts de fluor ayant réagi avec un agent durcisseur contenant une amine ; des groupes de réticulation de type biuret connectant certains des segments mous aux segments durs, le biuret ayant la formule R 2 NC(O)NR'C(O)NHR" où R 2 est le segment mou, R' comprend un cycle aromatique et R" comprend un cycle aromatique ; et dans lequel la couche de polissage est hydrophile durant un polissage dans des conditions de cisaillement. Tampon de polissage selon la revendication 1, dans lequel les segments durs et les segments mous forment un prépolymère avant réaction du prépolymère avec l'agent durcisseur contenant une amine pour former la matrice contenant une polyurée. Tampon de polissage selon la revendication 1, dans lequel le groupe polymère aliphatique sans fluor a une masse moléculaire moyenne en nombre comprise entre 200 et 7 500. Tampon de polissage selon la revendication 1, dans lequel la phase dure est précipitée à l'intérieur de la phase molle. Tampon de polissage selon la revendication 4, dans lequel l'au moins un groupe polymère aliphatique fluoré a une concentration de 8 à 30 % en poids de la teneur totale en segments mous. Tampon de polissage selon la revendication 4, dans lequel les groupes polymères aliphatiques sans fluor ont une masse moléculaire moyenne en nombre comprise entre 200 et 7 500 et le segment dur et le segment mou forment un prépolymère avant réaction du prépolymère avant l'agent durcisseur contenant une amine pour former la matrice contenant une polyurée. Tampon de polissage selon la revendication 1 ou 4, dans lequel le groupe polymère aliphatique sans fluor est un polytétraméthylène-éther. Tampon de polissage selon la revendication 1 ou 4, dans lequel l'espèce fluorée a une structure contenant de l'oxyde d'éthylène fluoré, de l'oxyméthylène fluoré et de l'oxyde d'éthylène et le rapport atomique de l'oxyde d'éthylène fluoré plus l'oxyméthylène fluoré à l'oxyde d'éthylène est inférieur à 3.