INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Pour des micropoteaux de 10 microns de diamètre et un écart e Z de 1 micron, on obtient, pour chaque couple de micropoteaux 110’’, 210’’, une capacité électrique élémentaire de 2,4 fF environ (avec, à tire d’exemple, du polyimide comme matériau de remplissage). Il faut alors vingt micropoteaux ou plus sur chaque armature (pour obtenir vingt couples 110’’/210’’, ou plus) pour obtenir une capacité électrique totale supérieure ou égale à 50fF, pour le condensateur de couplage C’’. En supposant que les micropoteaux sont disposés selon un réseau carré, avec un pas de 20 microns, on obtient alors une capacité par unité de surface de 6 pF/mm 2 environ, ce qui est dans la gamme souhaitée. On constate donc là aussi que ce type de structure de condensateur permet d’obtenir une capacité par unité de surface adaptée à l’application visée (typiquement supérieure à 5 pF/mm 2 ) pour des dimensions réalistes en termes de fabrication, d’autant que l’écart e Z pourrait avoir une valeur inférieure à 1 micron, en pratique.
Le système d’inversion de poussée 30 comprend au moins une partie mobile 32 permettant de générer au moins une ouverture latérale 34 (visible sur les figures 2 et 3) vers laquelle est orienté le flux d’air dévié.
Selon un mode de réalisation, la partie mobile 32 correspond à la section arrière 28 qui se translate selon la direction longitudinale entre une position fermée dans laquelle la section arrière 28 est en contact avec la section avant 26 lorsque le système d’inversion de poussée 30 est à l’état inactivé et une position ouverte (visible sur les figures 2 et 3) dans laquelle la section arrière 28 est écartée de la section avant 26 de manière à générer la (ou les) ouverture(s) latérale(s) 34 lorsque le système d’inversion de poussée 30 est à l’état activé.
Le système d’inversion de poussée 30 comprend également des portes 36 configurées pour dévier au moins une partie du flux d’air 22 circulant dans le conduit annulaire 24 en direction d’une ouverture latérale 34 ainsi qu’une pluralité de cascades 38 positionnées au niveau de l’ouverture latérale 34. Ces cascades 38 sont configurées pour contrôler l’orientation du flux dévié par les portes 36.
Chaque porte 36 est mobile entre une position rabattue lorsque le système d’inversion de poussée 30 est à l’état inactivé et que la partie mobile 32 est en position fermée, dans laquelle la porte 36 est plaquée contre la partie mobile 32, ainsi qu’une position déployée, visible sur la , lorsque le système d’inversion de poussée 30 est à l’état activé et que la partie mobile 32 est en position ouverte, dans laquelle la porte 36 s’étend en travers du conduit annulaire 24 pour dévier au moins une partie du flux d’air 22 y circulant en direction de l’ouverture latérale 34.
Selon une configuration, chaque porte 36 est montée pivotante autour d’un axe de rotation A36 sensiblement perpendiculaire à l’axe de rotation A18 et à une direction radiale.
Selon un premier mode de réalisation visible sur la , la porte 36 est métallique et présente une plaque renforcée sur l’une de ses faces par un réseau de nervures 40. Ce dernier intègre deux pattes de liaison 42 qui présentent chacune un orifice 44 configuré pour loger l’axe de rotation A36 de la porte 36. Cette porte 36 est réalisée à partir d’une plaque dans laquelle sont usinés le réseau de nervures 40 et les pattes de liaison 42.
Ce premier mode de réalisation n’est pas satisfaisant car la réalisation du réseau de nervures 40 et des pattes de liaison 42 génère un volume important de copeaux.
A cet effet, l’invention a pour objet un procédé de fabrication d’une porte d’un système d’inversion de poussée d’un aéronef, ladite porte comprenant : au moins une première paroi comportant une première face configurée pour être en contact avec un flux d’air à dévier et une deuxième face, un réseau de nervures positionné sur la deuxième face de la première paroi.
Selon l’invention, le procédé de fabrication comprend une étape d’obtention de la première paroi réalisée en au moins un matériau composite comportant des fibres longues noyées dans une matrice de résine thermoplastique et une étape de surmoulage du réseau de nervures sur la deuxième face de la première paroi en injectant au moins une résine.
Ce procédé de fabrication permet de réaliser des portes d’un système d’inversion de poussée de manière simple et économique tout en limitant les déchets.
Selon une autre caractéristique, le réseau de nervures comprend une première face en contact avec la première paroi, une deuxième face opposée à la première face ainsi que des cellules délimitées par les nervures du réseau de nervures et débouchant au niveau des première et deuxième faces. En complément, lors de l’étape de surmoulage, la première paroi est positionnée dans un moule comportant une première surface de contact contre laquelle est plaquée la première face de la première paroi ainsi qu’une deuxième surface de contact espacée de la deuxième face de la première paroi et conformée comme la deuxième face du réseau de nervures à obtenir, le moule comportant, pour chaque cellule, une empreinte en saillie par rapport à la deuxième surface de contact et configurée pour venir en contact avec la première paroi lors de l’injection de résine.
Selon une autre caractéristique, la première paroi et/ou le moule sont préchauffés ou chauffés pour favoriser l’injection de résine entre les empreintes et l’adhérence du réseau de nervures sur la première paroi.
Selon une autre caractéristique, le procédé de fabrication comprend une étape de mise en place d’au moins un insert dans le moule préalablement à l’étape de surmoulage, le moule étant configuré pour maintenir immobile(s) le (ou les) insert(s).
Selon une autre caractéristique, le procédé de fabrication comprend une étape de thermoformage de la première paroi avant l’étape de surmoulage.
Selon une autre caractéristique, le procédé de fabrication comprend une étape de réalisation d’au moins un orifice traversant la première paroi préalablement à l’étape de surmoulage.
Le rotor peut être de différents types. Les turbines à profils d’ailes d’avions ont généralement peu de pales. Elles sont performantes et sont destinées avec des vitesses d’écoulement rapides afin d’avoir une vitesse de rotation importante. Les vitesses d’écoulement des cours d’eau sont généralement faibles et il est préférable d’utiliser une turbine avec beaucoup d’aubes. La vitesse de rotation est faible et le couple est important en raison du grand nombre d’aubes.
La est un schéma représentant la section des aubes du rotor. Les aubes (6) (7) sont verticales. Les aubes tournantes sont repérées (6) tandis que les aubes fixes sont repérées (7). Les aubes fixes (7) améliorent la performance du rotor (5) et elles ne sont pas indispensables.
Le rotor (5) peut entraîner par exemple une pompe ou une génératrice électrique. La vitesse de rotation du rotor (5) étant faible, il est nécessaire de prévoir un multiplicateur de vitesse. Le multiplicateur de vitesse et la génératrice électrique peut être positionnés hors de l’eau.
La est un schéma représentant le caisson avec sa génératrice électrique. Le rotor (5) entraîne un multiplicateur de vitesse (9) par l’intermédiaire d’un arbre (8). Le multiplicateur de vitesse (9) entraîne une ou des génératrice(s) électrique(s) (10) pour produire de l’électricité.
Il est possible de prévoir plusieurs caissons hydro-générateurs dans un cours d’eau. Il est possible de les mettre cote à cote. On peut aussi les superposer. Dans le cas de superposition de caisson, on relie les turbines de chaque caisson par un même arbre. Cet arbre moteur entraînera par exemple une génératrice électrique.
La est un schéma représentant deux caissons hydro-générateurs superposés. Les rotors (5) entraînent un multiplicateur de vitesse (9) par l’intermédiaire d’un arbre (8). Il est possible de prévoir le long de l’arbre de transmission (8) des accouplements élastiques.
Afin de protéger le caisson hydro-générateur des objets pouvant circuler dans le cours d’eau, il peut être mis des barres de protection devant l’ouverture du caisson (1). Il est possible de donner une inclinaison à ces barres de protection pour éviter que les objets circulant dans l’eau soient bloqués au niveau du caisson, il est possible de rajouter une casquette en partie haute de l’ouverture. Cette casquette favorise la surpression. Un grillage peut aussi être mis en place pour éviter que les poissons pénètrent dans le caisson. La mise en place d’un grillage nécessite un nettoyage régulier.
La est une vue générale du caisson hydro-générateurs sans la partie génératrice. Le repère (2) est la plaque permettant de créer la surpression et une dépression. Le repère (5) est le rotor (version avec beaucoup d’aubes). Le repère (1) est l’ouverture du caisson. Le repère (11) sont les barres de protection. Le grillage n’est pas représenté dans cette figure. Le repère (12) est la casquette permettant de d’améliorer la surpression et de donner une inclinaison aux barres de protection. Le repère (8) est un trait symbolisant l’axe d’entraînement de l’ensemble génératrice qui n’est pas représenté dans cette figure
p ompe volumétrique à lobes Domaine de l’invention L'invention concerne une pompe volumétrique à lobes.
Au sens de l'invention, une « pompe volumétrique » est une pompe dans laquelle le pompage d’un fluide résulte de la variation d'un volume occupé par le fluide à l’intérieur de la pompe, dit volume de pompage. Les « pompes volumétriques à lobes » regroupent les pompes pour lesquels plusieurs lobes permettent de définir ce volume de pompage à l’intérieur de la pompe.
L'invention peut être utilisée pour pomper un fluide liquide ou pâteux incorporant des éléments solides. L’invention montre une application particulièrement avantageuse pour pomper les produits de la vendange pour la fabrication du vin.
état de la technique Le fonctionnement d'une pompe volumétrique à lobes est notamment décrit dans les documents FR 2°645°915, FR 2°622°935 et FR 3°053 743.
Les pompes volumétriques à lobes comportent un stator présentant une entrée de fluide et une sortie de fluide, également appelée cheminée d'extraction. Le stator présente une chambre cylindrique interne formant un volume statorique en communication hydraulique avec l'entrée de fluide et la cheminée d'extraction. Pour pomper un fluide depuis dans l'entrée de fluide jusqu'à la cheminée d'extraction, un rotor à lobes est disposé à l'intérieur du volume statorique.
Chaque lobe présente typiquement une forme cylindrique de section ovoïde avec une extrémité radiale destinée à racler la paroi interne de la chambre cylindrique interne du stator. Ainsi, lors des déplacements des lobes du rotor entre l’entrée de fluide et la cheminée d'extraction, le volume entre deux lobes est tout d’abord positionné en regard de l’entrée de fluide de sorte à injecter les fluides dans le volume statorique, par exemple au moyen d’une vis d’Archimède.
Le mouvement de rotation du rotor déplace ensuite le volume ente deux lobes en regard de la paroi interne du stator, délimitant ainsi le volume de pompage. Le volume entre deux lobes est continuellement déplacé jusqu’à arriver en regard de la cheminée d’extraction. Dans cette position, un clapet vient frotter contre le lobe disposé en regard de la cheminée d’extraction de sorte que le mouvement de rotation du rotor déplace les fluides du volume de pompage dans la cheminée d’extraction.
Cependant, lors de la mise en communication hydraulique du volume de pompage avec la cheminée d'extraction, une contre-pression intervient dans le volume de pompage puisque la tuyauterie fixée sur la cheminée d'extraction est classiquement soumise à une pression bien plus importante que celle imposée dans le volume de pompage par la rotation du rotor.
Le masque d’implantation 12 peut être à base ou fait d’une résine de lithographie. Le masque d’implantation peut comprendre une sous-couche à l’interface entre la résine et la face supérieure 110, dit masque de transmission partielle à base ou faite de nitrure de titane de formule TiN ou de nitrure de silicium de formule Si 3 N 4 . Le masque de gravure 13 peut être à base ou fait des mêmes matériaux que le masque d’implantation 12.
Exemples particuliers de réalisation du procédé
Des exemples particuliers de réalisation du procédé sont maintenant décrits.
Selon un exemple illustré par les figures 2A à 5C, le procédé peut comprendre la réalisation d’un masque d’implantation 12 sur au moins une portion 110a de la face supérieure 110 de la couche 11. Comme illustré par exemple par les figures 2A et 2B, la réalisation du masque d’implantation 12 peut être configurée de sorte que le masque d’implantation 12 présente un gradient d’épaisseur entre au moins une première épaisseur E 1 et une deuxième épaisseur E 2 , avec E 1 strictement supérieure à E 2 et E 2 nulle ou strictement supérieure à 0. Le masque d’implantation 12 crée ainsi un différentiel d’épaisseur au-dessus de la couche 11. Dans les figures 2A et 2B, on illustre à titre non limitatif l’exemple selon lequel l’épaisseur E 2 est non-nulle.
L’implantation ionique peut être réalisée à travers le masque d’implantation 12. Grâce au différentiel d’épaisseur du masque d’implantation 12, la première portion implantée 111 peut présenter une première profondeur d’implantation P 1 et la deuxième portion implantée 112 peut présenter une deuxième profondeur d’implantation P 2 , avec P 2 strictement supérieure à P 1 et P 1 nulle ou supérieure à 0. On considère le trajet des ions selon une direction privilégiée perpendiculaire au plan d’extension principale de la face supérieure 110 de la couche 11.
Selon l’exemple illustré par les figures 3A et 3B, on a P 2 > P 1 > 0. Ainsi, la première portion 111 est implantée jusqu’à la première profondeur P 1 , et la deuxième portion 112 est implantée jusqu’à la deuxième profondeur P 2 . La troisième portion 113 peut s’étendre depuis la première profondeur P 1 , et de préférence depuis les première et deuxième profondeurs P 1 , P 2 , jusqu’à la face inférieure 150 de la couche 11. Selon un exemple toute la face supérieure 110 de la couche 11 est implantée, à des profondeurs différentes.
Pour cela, l’implantation ionique peut être configurée pour implanter la couche 11 à travers le masque d’implantation 12 de sorte que les ions implantés traversent le masque d’implantation 12 et pénètrent dans la couche 11, sur une distance supérieure à E 1 et E 2 prise perpendiculairement à la face supérieure 110 de la couche 11.
L’implantation ionique peut pour cela être configurée de sorte qu’au moins une, et de préférence chacune, parmi les première P 1 et deuxième P 2 profondeurs d’implantation est supérieure à 30 nm, et de préférence inférieure à 1 µm. La distance parcourue par les ions suite à leur pénétration dans le masque d’implantation 12 peut être supérieure à 30 nm, et de préférence inférieure à 1 µm. L’implantation ionique peut plus particulièrement être réalisée par un dispositif implanteur, de façon connue par la personne du métier.
Selon l’exemple illustré par la , on a P 2 > P 1 et P 1 = 0 par rapport au niveau de la face supérieure 110 de la couche 11. Ainsi, la première portion 111 présente une profondeur d’implantation P 1 nulle au niveau de la couche 11. La première portion 111 n’est donc pas implantée dans la couche 11 et peut être confondue avec la troisième portion 113 non implantée. La deuxième portion 112 est implantée jusqu’à la deuxième profondeur P 2 non nulle, dans la couche 11. La troisième portion 113 peut s’étendre depuis la deuxième profondeur P 2 , jusqu’à la face inférieure 150 de la couche 11. Ainsi, une fraction de la face supérieure 110 n’est pas implantée.
Pour cela, l’implantation ionique peut être configurée pour implanter la couche 11 à travers le masque d’implantation 12 de sorte que les ions implantés traversent le masque d’implantation 12 sur une distance inférieure à E 1 et ne pénètrent pas dans la couche 11 au niveau de la première portion 111. Selon cet exemple, les ions implantés traversent le masque d’implantation 12 sur une distance supérieure à E 2 et pénètrent dans la couche 11 au niveau de la deuxième portion 112.
L’implantation ionique peut pour cela être configurée de sorte les première P 1 et deuxième P 2 profondeurs d’implantation sont inférieures à 30 nm, de préférence inférieure à 10 nm. La distance parcourue par les ions suite à leur pénétration dans le masque d’implantation 12 peut être sont inférieures à 30 nm, de préférence inférieure à 10 nm. L’implantation ionique peut plus particulièrement être réalisée par un plasma, et notamment par immersion du substrat 10 dans un plasma, de façon connue par la personne du métier.
Selon un exemple, la première épaisseur E 1 est sensiblement comprise entre 50 nm et 100 µm. Selon un exemple, la deuxième épaisseur E 2 est sensiblement comprise entre 0 nm et E1. Ces dimensions sont notamment choisies en fonction du design du moule et de l’application visée. Selon un exemple, le gradient d’épaisseur du masque est sensiblement égal à la différence de profondeur entre P 1 et P 2 .
Le masque d’implantation 12, pour présenter ce gradient d’épaisseur, peut par exemple être réalisé par lithographie à niveaux de gris, ou des méthodes alternatives comme la lithographie par champ proche, par exemple par l’équipement NanoFrazor™ et le procédé associé. Le choix de la technologie adaptée dépendra des tolérances sur la distance L 0 qui sépare des ensembles de motifs de hauteurs différentes, selon une direction parallèle au plan d’extension principale de la face supérieure 110.
Selon un exemple, le masque d’implantation 12 est configuré de sorte que les première 111 et deuxième 112 portions sont espacées, selon une direction parallèle au plan d’extension principale de la face supérieure 110, d’une distance L 0 inférieure à la plus petite distance L 1 séparant deux motifs 114a, 114b adjacents de différentes hauteurs, et plus particulièrement séparant un premier ensemble de motifs 114a et un deuxième ensemble de motifs 114b, comme l’illustrent les figures 3A à 3C en comparaison avec les figures 4C et 5C.
Comme illustré par la , le masque d’implantation 12 peut présenter un gradient d’épaisseur progressif entre E 1 et E 2 , sur la longueur L 0 . Notons que E 2 peut être nulle, le masque d’implantation 12 ne recouvrant qu’une fraction 110a de la face supérieure 110, ou être supérieure strictement à 0. Suite à l’implantation ionique, les première 111 et deuxième 112 portions peuvent ainsi être séparées par une portion intermédiaire 116, selon une direction parallèle au plan d’extension principale de la face supérieure 110. Dans cette portion intermédiaire 116, la profondeur d’implantation peut varier entre P 1 et P 2 pour former un gradient de profondeur progressif. Notons qu’on peut prévoir que P 1 soit nulle, ou strictement supérieure à 0 comme illustré, selon les exemples décrit précédemment. De préférence L 0 est sensiblement inférieure ou égale à la plus petite distance séparant les première et deuxième portions. Comme illustré par les figures 3A et 3C, le masque d’implantation 12 peut présenter un gradient d’épaisseur abrupte entre E 1 et E 2 , sur une longueur L 0 par exemple sensiblement inférieure ou égale à la plus petite distance séparant les première et deuxième portions. Notons que, ici encore, E 2 peut être nulle ou être supérieure strictement à 0. Suite à l’implantation ionique, les première 111 et deuxième 112 portions peuvent ainsi être directement adjacentes selon une direction parallèle au plan d’extension principale de la face supérieure 110.
Selon un exemple, le procédé comprend un retrait du masque d’implantation 12 après l’implantation et avant l’étape de gravure, de préférence avant la réalisation du masque de gravure 13.
est une vue en perspective d’une partie d’un ensemble de propulsion d’un aéronef équipé d’un système d’inversion de poussée illustrant un mode de réalisation de l’invention,
est une coupe longitudinale d’une partie d’un ensemble de propulsion équipé d’un système d’inversion de poussée illustrant un mode de réalisation de l’invention,
est une vue en perspective selon un premier angle de vue d’une porte d’un système d’inversion de poussée illustrant un premier mode de réalisation de l’invention,
est une vue en perspective selon un deuxième angle de vue de la porte visible sur la ,
est une vue latérale de la porte visible sur la ,
est une vue de dessus de plusieurs réseaux de nervures illustrant différents modes de réalisation de l’invention,
est une vue en perspective des différentes parties d’une porte illustrant le premier mode de réalisation,
est une coupe d’une moule pour réaliser une étape de surmoulage d’un réseau de nervures illustrant un mode de réalisation de l’invention, avant l’injection de résine,
est une coupe du moule visible sur la lors d’une étape de démoulage,
est une vue en perspective d’une porte d’un système d’inversion de poussée illustrant un deuxième mode de réalisation de l’invention,
est une vue en perspective des différentes parties d’une porte illustrant le deuxième mode de réalisation.
Selon un mode de réalisation visible sur les figures 5 et 6, un ensemble de propulsion 50 d’un aéronef comprend un turboréacteur 52 positionné à l’intérieur d’une nacelle 54. Le turboréacteur 52 présente un axe de rotation A52. La nacelle 54 a une forme approximativement tubulaire et délimite avec le turboréacteur 52 un conduit annulaire 56. La nacelle 54 comprend une partie avant 54.1 via laquelle pénètre un flux d’air 58 circulant dans le conduit annulaire 56 et une partie arrière 54.2 via laquelle sort le flux d’air 58.
Cet ensemble de propulsion 50 comprend au moins un système d’inversion de poussée 60 configuré pour occuper un état activé (visible sur les figures 5 et 6) dans lequel il dévie au moins une partie du flux d’air 58 circulant dans le conduit annulaire 56 vers l’extérieur et l’avant de la nacelle 54 ainsi qu’un état inactivé dans lequel il ne dévie pas le flux d’air 58 circulant dans le conduit annulaire 56.
Le système d’inversion de poussée 60 comprend au moins une partie mobile 60.1 permettant de générer au moins une ouverture latérale 60.2 vers laquelle est orienté le flux d’air dévié.
Selon un mode de réalisation, la partie mobile 60.1 correspond à la partie arrière 54.2 de la nacelle 54 qui se translate selon la direction longitudinale entre une position fermée dans laquelle la partie arrière 54.2 est en contact avec la partie avant 54.1 lorsque le système d’inversion de poussée 60 est à l’état inactivé et une position ouverte dans laquelle la partie arrière 54.2 est écartée de la partie avant 54.1 de manière à générer la (ou les) ouverture(s) latérale(s) 60.2 lorsque le système d’inversion de poussée 60 est à l’état activé.
Le système d’inversion de poussée 60 peut comprendre au moins une cascade 60.3 positionnée au niveau de l’ouverture latérale 60.2 et configurée pour contrôler l’orientation du flux d’air dévié.
Une fois que le dispositif de positionnement est fixé dans cette position initiale, le chirurgien peut ajuster les réglages du dispositif de positionnement, afin de changer la position de la portion inférieure 51 des os maxillaires, qui est mobile, par rapport aux portions supérieures 52 et 53 des os maxillaires fixes. Pour ce faire, le chirurgien peut régler cette position avec précision par divers mouvements qui sont rendus possibles par les liaisons pivot-glissant du dispositif de positionnement. d. Déplacements antéro-postérieurs et rotation
Le chirurgien peut notamment effectuer des déplacements antéro-postérieurs de la portion inférieure 51 des os maxillaires par rapport à la portion supérieure droite 52, dans un plan théorique transversal sensiblement normal au plan sagittal. Le chirurgien peut réaliser ces déplacements antéro-postérieurs par une translation pas-à-pas, selon les axes 440 et 450, des tiges cylindriques de liaison 481 et 491 par rapport, respectivement, aux supports de tige latérale 44 et 45.
Une fois la position souhaitée obtenue, le chirurgien peut alors fixer cette position en verrouillant, par le serrage de vis, la position des tiges cylindriques de liaison 481 et 491 par rapport, respectivement, aux supports de tige latérale 44 et 45.