INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
La pergola 100 tel que représenté sur la montre le poteau 111 selon une position partiellement ouverte. Au cours d’une utilisation normale, le poteau 111 peut être obturé par exemple à l’aide d’un cache (non visible sur la ). Un régulateur/chargeur 131, des batteries 132 et, de manière optionnelle, un onduleur 133 sont installés à l’intérieur du poteau 111. L’utilisation d’un onduleur 133 est nécessaire si l’énergie obtenue à l’aide d’un panneau photovoltaïque 130 est utilisée pour faire fonctionner le moteur électrique d’un store vertical de protection solaire. Dans ce cas précis, l’onduleur 133 transforme le courant de 24 volts en un courant de 220 volts.
Les dispositifs 131, 132, 133 sont connectés aux capteurs photovoltaïques 130 afin de permettre la production et le stockage d’une quantité déterminée d’énergie électrique dans les batteries 132. Le poteau 111 peut également être connecté à un réseau électrique pour permettre l’utilisation de l’énergie emmagasinée dans les batteries 132 ou encore l’utilisation de l’énergie fournie par le réseau électrique. Dans le cas où le poteau est connecté à un réseau électrique, la présence des dispositifs 131, 132, 133 est facultative.
La pergola 100 peut être pourvue d’une ou de plusieurs prises, installée(s) à l’intérieur du poteau 111, afin de permettre l’utilisation de l’énergie électrique produite par les capteurs photovoltaïques 130. La prise électrique installée au sein de la pergola 100 peut être une prise de type USB, permettant de recharger un dispositif annexe tel qu’un téléphone portable. La pergola 100 peut être pourvue d’une prise de type 220 volts permettant la connexion de ladite pergola 100 au réseau électrique. Ce raccordement permet l’utilisation soit du réseau électrique soit de l’énergie stockée dans les batteries 132 de la pergola 100 pour alimenter, par exemple, une source lumineuse telle qu’une lumière intégrale du type LED, ou encore pour l’utilisation d’un moteur électrique permettant le déplacement des lames 120. Plus particulièrement dans le cas où la batterie 132 montre des signes de faiblesse. L’option permettant de connecter la pergola 100 au réseau électrique représente un intérêt tout particulier, surtout dans le cas où ladite pergola 100 est utilisée comme une entité indépendante ou encore dans le cas où l’utilisateur souhaite avoir recours à l’énergie électrique pour faire fonctionner des éléments de ladite pergola 100.
La pergola 100 telle que représentée sur la est spécifiquement adaptée pour protéger un espace situé au-dessous du cadre 110 de ladite pergola 100. Les lames 120 sont fixées à l’intérieur du cadre 110 afin de permettre leur rotation autour de leur axe transversal. Ainsi les lames peuvent se déplacer, d’une position ouverte, telle que montré dans la , vers une position fermée telle que représentée sur la . Selon cette position fermée, les différentes lames 120 forment un élément unique obturant l’intérieur du cadre 110. En d’autres termes, les lames 120 forment ensemble un toit fermé adapté pour protéger l’espace au-dessous dudit cadre 110 contre les aléas climatiques, notamment la pluie, le vent et le soleil.
Les lames 120 peuvent pivoter de la position fermée, telle que représentée sur la , autour de leurs axes de rotation respectives, vers une position ouverte à l’aide des moyens de déplacement comprenant un moteur électrique. Cette rotation des lames 120 permet de créer une ouverture entre les différentes lames 120. Cette ouverture permet de déterminer la quantité de lumière qui peut passer entre les lames 120 et permet d’adapter ainsi le niveau de luminosité souhaité au sein de l’espace protégé situé sous le cadre 110.
La représente une vue en coupe d’un profilé 10 utilisé pour former les poutres 101, 102, 103, 104 du cadre 110 de la pergola 100. Le profilé 10, ayant essentiellement la forme d’un « L », est pourvu d’une première jambe 1 destinée à former la paroi extérieure du cadre 110. Les termes « paroi extérieure » font référence à la paroi formant la circonférence extérieure du cadre 110. La deuxième jambe 2 du profilé 10 est adaptée pour former la paroi inférieure du cadre 110 après assemblage.
Comme représenté sur la , le profilé 10 est un corps creux pourvu, en son intérieur, de plusieurs chambres ouvertes ou fermées. Le profilé 10 peut être réalisé, par exemple, en aluminium obtenu à l’aide d’un processus d’extrusion.
La première jambe 1 du profilé 10 comprend une première chambre fermée 4. La chambre 4 offre plusieurs fonctions. Tout d’abord, grâce à sa forme rectangulaire, ladite première chambre 4 peut fournir une certaine rigidité déterminée au profilé 10 qui peut ainsi assurer une fonction de poutre entre deux supports respectifs. Par ailleurs, la première chambre 4 fournit également une connexion relativement rigide entre la première jambe 1 et la deuxième jambe 2 du profilé 10. De plus, la première chambre 4 est adaptée pour recevoir en son sein des moyens de fixation permettant de fixer l’extrémité d’une première poutre à l’extrémité d’une deuxième poutre adjacente.
La première jambe 1 est pourvue d’une deuxième chambre fermée 9, ladite deuxième chambre 9 étant positionnée de manière adjacente à la première chambre 4, augmentant ainsi la rigidité de la première jambe 1, optimisant les fonctions du profilé 10, notamment la fonction de poutre et de pont efficace entre les supports respectifs. La paroi intérieure 6 de la deuxième chambre 9, c'est-à-dire la paroi qui, dans sa position assemblée, est dirigée vers l’intérieur du cadre 110, est adaptée pour une fixation amovible des différents axes de rotation des lames 120 sur le cadre 110. Ladite connexion est représentée plus en détail sur les figures 3 et 4. La deuxième chambre 9 présente également la fonction de loger un vérin de manœuvre (non montré sur les figures) utilisé pour le déplacement des lames 120 de leur position fermée vers leur position ouverte.
Le pH de la composition (A) du maquillage selon l’invention est de préférence inférieur à 6, plus préférentiellement allant de 2 à 6, et plus particulièrement allant de 2 à 5.
Le pH peut être obtenu et/ou ajusté classiquement par ajout d’agents alcalins, tels que l’ammoniaque, le monoéthanolamine, la diéthanolamine, la triéthanolamine, l’isopropanolamine, le 2-amino 2-méthyl 1 propanol, la propanediamine-1,3, un carbonate ou un bicarbonate alcalin ou d’ammonium, par exemple la bicarbonate de sodium, un carbonate organique tel que le carbonate de guanidine, ou bien encore un hydroxyde alcalin comme la soude ou la potasse, tous ces composés pouvant bien entendu être pris seuls ou en mélange.
On peut également utiliser pour l’obtention et/ou l’ajustement des agents acidifiants tels que l’acide chlorhydrique, l’acide acétique, l’acide lactique, l’acide citrique et de l’acide phosphorique.
On utilisera de préférence l’acide citrique.
Colorant direct acide Une composition (A) selon l’invention comporte au moins un colorant hydrosoluble, en particulier un colorant direct acide.
Par « colorant direct acide », on entend un colorant acide qui est présent sous forme libre dans la composition. En particulier, il n’est pas supporté par un support, tel que l’alumine. Ainsi, de préférence, le colorant direct acide est solubilisé dans la phase aqueuse.
En outre, il est compatible avec une application autour/sur les sourcils.
Le colorant direct acide est présent à une concentration inférieure à 5 % en poids, de préférence inférieure à 3 % en poids, et plus particulièrement comprise entre 0,01 % et 3 % en poids, par rapport au poids total de la composition.
Il est choisi parmi les colorants présentant un noyau anthraquinone, azine, azoïque, polyméthine, triarylméthane ou xanthène, et les colorants comprenant au moins un groupe –NO 2 .
Les colorants présentant un noyau anthraquinone sont de préférence ceux de formules suivantes :
CI61570 (Acid Green 25)
CI61585 (Acid Blue 80)
Le colorant présentant un noyau azine est de préférence celui de formule suivante :
CI50325 (Acid Violet 50)
Les colorants présentant un noyau azoïque sont de préférence ceux de formules suivantes :
Hattori et al. (Proc. ISET07, pages 953-4 (2007)) divulguent des tracés comparatifs de potentiel zêta en fonction du pH pour diverses dispersions de particules de lanthanide, y compris CeO 2 . Le pH de charge zéro ou de point isoélectrique a été mesuré comme étant d'environ 6,6. Au dessous de ce pH, la particule a un potentiel positif ; au-dessus de ce pH, la particule a un potentiel négatif. Le point isoélectrique peut être décalé pour différentes particules d'oxyde de cérium ou par une modification de la suspension contenant de l'oxyde de cérium.
Avec le développement des 3D NAND, il existe un besoin accru de tampons de polissage ayant un taux plus élevé de polissage de l'oxyde de cérium.
Un mode de réalisation de l'invention concerne un tampon de polissage convenant pour polir au moins l'un parmi les substrats semi-conducteurs, optiques, magnétiques et électromécaniques, incluant : une couche de polissage en polyurée, la couche de polissage en polyurée contenant une matrice en polyurée, la matrice en polyurée ayant une phase molle et une phase dure, la phase molle étant formée à partir de segments mous et la phase dure étant formée à partir de segments durs de type diisocyanate et d'un agent durcisseur, le segment mou étant un copolymère de groupes polymères aliphatiques exempts de fluor et d'un fluorocarbone ayant une longueur d'au moins six carbones, la matrice en polyurée étant durcie avec l'agent durcisseur et contenant des microéléments polymères chargés de gaz ou de liquide, les segments mous formant une phase riche en fluor qui se concentre de manière adjacente aux microéléments polymères et au niveau de la couche de polissage durant un polissage, dans lequel la couche de polissage reste hydrophile durant un polissage dans des conditions de cisaillement.
Un autre mode de réalisation de l'invention met à disposition un tampon de polissage convenant pour polir au moins l'un parmi les substrats semi-conducteurs, optiques, magnétiques et électromécaniques, incluant : une couche de polissage en polyurée, la couche de polissage en polyurée contenant une matrice en polyurée, la matrice en polyurée ayant une phase molle et une phase dure, la phase molle étant formée à partir de segments mous et la phase dure étant formée à partir de segments durs de type diisocyanate et d'un agent durcisseur, et dans lequel la phase dure est précipitée à l'intérieur de la phase molle, le segment mou étant un copolymère de groupes polymères aliphatiques exempts de fluor et d'un fluorocarbone ayant une longueur d'au moins six carbones, la matrice en polyurée étant durcie avec l'agent durcisseur et incluant des microéléments polymères chargés de gaz ou de liquide, les segments mous formant une phase riche en fluor qui se concentre de manière adjacente aux microéléments polymères et au niveau de la couche de polissage durant un polissage, dans lequel la couche de polissage reste hydrophile durant un polissage dans des conditions de cisaillement.
La est une représentation schématique d'une compilation SIMS TOF de régions riches en fluor d'un tampon de polissage de l'invention, convertie en noir et blanc, la région complètement noire représentant un arrière-plan ne contenant pas le tampon de polissage.
La est une MEB en coupe transversale d'un tampon de polissage usé de l'invention illustrant l'affaissement de microéléments polymères adjacents à la surface de polissage sans perforation par des conditionneurs en diamant.
La est une MEB en coupe transversale à un plus fort grossissement d'un tampon de polissage usé de l'invention illustrant l'affaissement de microéléments polymères adjacents à la surface de polissage sans perforation par des conditionneurs en diamant.
La est une MEB en coupe transversale d'un tampon de polissage usé illustrant la formation d'une surface de polissage en forme de denticule.
La illustre un test comparatif de polissage avec la suspension d'oxyde de cérium entre un tampon de la présente invention et un tampon fait à partir d'une formulation parente sans polymère fluoré.
La illustre un test comparatif de polissage avec la suspension de silice entre un tampon de la présente invention et un tampon fait à partir d'une formulation parente sans polymère fluoré.
Description détaillée de l'invention Le tampon de polissage de l'invention convient pour polir au moins l'un parmi les substrats semi-conducteurs, optiques, magnétiques et électromécaniques. L'élément clé de la présente invention est la modification des propriétés de surface supérieure du tampon pour faciliter la suspension d'oxyde de cérium ou d'autres particules au-delà de leur point isoélectrique pour un polissage avec la surface supérieure ou la couche de polissage. En particulier, l'invention permet une augmentation de l'efficacité ou du rendement des particules de suspension d'oxyde de cérium sur la surface supérieure, qui augmente le taux de polissage. Un effet nouveau et inattendu dans les tampons de la présente invention est que l'addition de copolymères contenant du fluor à une concentration relativement faible (environ 1 à 20 % en masse de la concentration totale de segments mous) dans le segment mou d'un copolymère à blocs d'uréthane engendre un meilleur taux de retrait. Pour les besoins de cette demande, toutes les quantités sont en pourcentages en masse, sauf indication contraire spécifique. De préférence, l’espèce fluorée a une concentration de 8 à 30 % en masse de l'espèce fluorée totale plus la teneur en groupes polymères aliphatiques exempts de fluor dans le segment mou. En outre, le tampon de polissage doit permettre une meilleure performance avec un tampon de polissage qui est hydrophile durant le polissage. L'obtention d'un tampon de polissage hydrophile durant le polissage facilite l'obtention d'un espace tampon-galette mince et efficace pour un polissage efficace. De plus, un effet imprévu de l'addition de copolymères contenant du fluor est un abaissement de l'électronégativité ou du potentiel zêta du tampon, qui rend la surface du tampon très hydrophile durant le polissage.
Étant donné ce qui précède, une découverte inattendue de la présente invention est qu'un meilleur potentiel zêta dans l'eau, et de meilleurs taux de retrait pour des suspensions avec des particules cationiques, telles que CeO 2 , peuvent être obtenus dans un tampon à très faible énergie de surface par addition sélective d'un petit pourcentage d'un segment polymère fluoré au segment mou du copolymère à blocs d'uréthane. De façon plus spécifique, comme le montre la , l'addition des composants segments mous fluorés produit une séparation de phases significative en domaines enrichis en fluor (gris foncé) et appauvris en fluor (gris clair et blanc). La montre les régions riches en fluor ayant des concentrations de fluor plus élevées et plus faibles entourant les microéléments polymères. Les zones riches en fluor pixélisées en gris foncé sont toutefois presque exclusivement concentrées de façon adjacentes aux microsphères polymères contenant du chlore pixélisées en noir. Cette migration de la phase riche en fluor vers les microéléments forme la microstructure en mélange hétérogène de l'invention. La phase riche en fluor adjacente aux microsphères a une épaisseur inférieure à 50 % du diamètre moyen des microéléments polymères. Est également inattendue l'accumulation de phase molle riche en fluor au niveau de la surface de polissage. Cette phase molle apparaît maculer et revêtir une grande partie de la surface de polissage. La masse de la polyurée pixélisée en gris clair et blanc illustre une matrice de polyurée contenant un fluorocarbone.
Dans le copolymère à blocs d'uréthane, les segments durs rigides confèrent une raideur, et ont une température de transition vitreuse (Tg) élevée. Les segments mous ont généralement une Tg faible et sont davantage flexibles à la température ambiante. Il se produit une séparation de phases du fait de l'immiscibilité entre les segments durs et mous. De plus, des groupes de réticulation de type biuret connectent certains des segments mous aux segments durs. Le biuret répond à la formule R 2 NC(O)NR'C(O)NHR" où R 2 est le segment mou, R' inclut un cycle aromatique et R" inclut un cycle aromatique.
Le tampon de polissage a une couche de polissage en polyurée. La couche de polissage en polyurée inclut une matrice de polyurée, qui comprend une phase molle et une phase dure. La phase molle est formée à partir d'un segment mou ayant deux ou plus de deux groupes polymères aliphatiques exempts de fluor et au moins une espèce fluorée ayant deux groupes terminaux. Typiquement, l'espèce fluorée a une longueur d'au moins six atomes de carbone. De préférence, la longueur de l'espèce fluorée est d'au moins huit atomes de carbone. De préférence encore, l'espèce fluorée a une longueur d'au moins dix atomes de carbone. Les groupes polymères aliphatiques exempts de fluor sont liés aux deux groupes terminaux de l'au moins une espèce fluorée avec une liaison contenant de l’azote. Des exemples de liaisons azotées incluent les groupes urée et uréthane. Les groupes polymères aliphatiques exempts de fluor ont une extrémité rattachée à l'au moins une espèce fluorée avec une liaison azotée. Typiquement, les groupes polymères aliphatiques exempts de fluor ont une masse moléculaire moyenne en nombre comprise entre 200 et 7 500. Dans un but de clarté, les groupes polymères aliphatiques exempts de fluor se terminent avant les groupes terminaux isocyanate, tels que le diisocyanate de toluène, et n'englobent pas les groupes terminaux isocyanate, les liaisons contenant de l’azote ou le durcisseur de type amine. De préférence encore, les groupes polymères aliphatiques exempts de fluor ont une masse moléculaire moyenne en nombre comprise entre 250 et 5 000, telle que mesurée après réaction avec le durcisseur de type amine. Un groupe isocyanate coiffe les extrémités réactives des groupes polymères aliphatiques exempts de fluor. Le segment mou forme une phase molle à l'intérieur de la matrice de polyurée. Tout spécialement, le groupe polymère aliphatique exempt de fluor est un polytétraméthylène-éther qui se lie avec l'espèce fluorée. L'espèce fluorée peut contenir au moins un éther fluoré. De préférence, l'espèce fluorée contient de l'oxyde d'éthylène fluoré, de l'oxyméthylène fluoré et de l'oxyde d'éthylène. Tout spécialement, le rapport atomique des groupes éther fluorés tels que l'oxyde d'éthylène fluoré et l'oxyméthylène fluoré à l'oxyde d'éthylène est inférieur à 3.
La phase dure est formée à partir d'un segment dur contenant un diisocyanate qui ne contient pas de groupe fluor et d'un agent durcisseur contenant une amine. Le segment dur contient un groupe urée formé à partir du groupe isocyanate coiffant des extrémités extérieures des groupes polymères aliphatiques exempts de fluor ayant réagi avec un agent durcisseur contenant une amine. De préférence, les segments durs précipitent sous la forme d'une phase dure à l'intérieur de la phase molle. Cette morphologie donne une phase riche en fluor pour améliorer les interactions avec l'oxyde de cérium et une phase dure pour renforcer la phase molle afin d'améliorer l'intégrité des aspérités de polissage pour une meilleure stabilité et une plus longue durée de vie du tampon lors du polissage de multiples galettes. De préférence, le segment dur et le segment mou forment un prépolymère avant de faire réagir le prépolymère avec l'agent durcisseur contenant une amine pour former la matrice de polyurée. La présence de fragments fluorure dans le segment mou augmente la température de transition vitreuse, ou Tg, du segment mou de la phase molle. Cette augmentation inattendue de la température de transition vitreuse améliore la stabilité thermique du polymère. A la surface la plus supérieure du polymère dans l'air, un enrichissement en les composants segments mous fluorés se produit durant le polissage. Cette génération in situ et continue de phase riche en fluor à la surface amplifie encore l'impact bénéfique d'une quantité mineure de polymère fluoré. A des concentrations relativement faibles de segments mous fluorés (par exemple inférieures à 20 % en masse de la teneur totale en segments mous), la teneur des espèces fluorées est insuffisante pour empêcher un réarrangement des dipôles moléculaires de l'eau quand le polymère est ensuite exposé à l'eau, en particulier sous cisaillement. Ceci a pour résultat un comportement de mouillage complexe quand une gouttelette est exposée à un cisaillement. Plus spécifiquement, on pense que la surface de l'eau se réarrange en conduisant à une interaction accrue de l'eau avec les portions hydrophiles du polymère. Ceci a pour résultat une réduction de l'angle de contact sortant de la gouttelette et une augmentation correspondante de l'énergie de surface durant le polissage. Le résultat est que, sous cisaillement, le tampon de polissage de l'invention peut être encore plus hydrophile que son analogue exempt de fluor.
Il est largement observé que les polymères fluorés tels que le polytétrafluoroéthylène (PTFE) ont des potentiels zêta fortement négatifs dans l'eau, typiquement supérieurs à -20 mV, et sont très résistants à un mouillage en surface avec des solutions aqueuses en l'absence d'un agent mouillant convenable. [Pour les besoins de cette demande, le potentiel zêta est un terme général qui représente le potentiel adjacent à une surface chargée. Les mesures de potentiel zêta peuvent varier fortement en fonction de l'équipement, des réglages de l'équipement et de multiples autres facteurs.] Toutefois, une explication potentielle au potentiel zêta fortement négatif du PTFE est simplement qu'il est dû au degré élevé d'orientation du dipôle d'eau à la surface du polymère conjointement avec la faible polarité en surface.
De même, le circuit tampon côté courant alternatif 21 comporte le condensateur tampon côté courant alternatif C5, qui est prévu entre le circuit en pont 22 et le condensateur côté courant alternatif C4. Avec cette configuration, lorsque le courant IL2 d’inductance côté courant alternatif est supérieur au courant Is d’enroulement côté courant alternatif, le condensateur tampon côté courant alternatif C5 peut être chargé en utilisant la différence de courant. Lorsque le courant IL2 d’inductance côté courant alternatif est inférieur au courant Is d’enroulement côté courant alternatif, la puissance peut être fournie par le condensateur tampon côté courant alternatif C5 à l’enroulement côté courant alternatif W2. En conséquence, la différence entre le courant IL2 d’inductance côté courant alternatif et le courant Is d’enroulement côté courant alternatif est absorbée par le condensateur tampon côté courant alternatif C5. Cela garantit l’adaptation des courants dans les diverses sections du circuit côté courant alternatif.
En outre, l’élément de commutation de redressement Q11 et les éléments de commutation Q13 à Q16 comportent chacun un condensateur connecté en parallèle entre le drain et la source. Ces condensateurs commencent à être chargés immédiatement après que l’élément de commutation de redressement Q11 et les éléments de commutation Q13 à Q16 ont été mis à l’état non conducteur, et la tension entre les extrémités opposées augmente progressivement. Ainsi, la tension drain–source de chacun parmi l’élément de commutation de redressement Q11 et les éléments de commutation Q13 à Q16 augmente progressivement après que l’élément de commutation a été mis à l’état non conducteur et entre dans le mode ZVS. Cela réduit la perte de commutation de l’élément de commutation de redressement Q11 et des éléments de commutation Q13 à Q16.
Lorsque les diodes de corps sont dans l’état conducteur et que la tension drain–source est sensiblement égale à 0 V, les éléments de commutation Q7 et Q11 à Q16 sont mis à l’état conducteur depuis l’état non conducteur et entrent ainsi en mode ZVS. Les éléments de commutation Q7 et Q11 à Q16 réduisent ainsi la perte de commutation.
En outre, comme dans le cas du convertisseur de puissance 1, le convertisseur de puissance 2 augmente le rendement d’utilisation du transformateur TR.