INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Le dispositif supraconducteur 8 peut alors agir comme une boîte de répartition. A titre d’exemple nullement limitatif, le dispositif supraconducteur 8 peut être un dispositif de commutation qui permet de transmettre l’énergie uniquement d’un point A à un point B, mais en offrant la possibilité de commuter partiellement ou exclusivement l’énergie vers un point C, D, E ou F.
Le nombre d’entrées du dispositif supraconducteur 8 peut être inférieur ou supérieur à celui qui est illustré sur la et décrit ci-dessus.
PROCEDE DE GRAVURE SELECTIVE ISOTROPE DE SILICIUM L’invention concerne le domaine de la micro-électronique, et plus particulièrement celui de la réalisation de dispositifs impliquant la mise en œuvre d’une gravure isotrope sélective de silicium lorsque celui-ci se trouve en présence de SiGe et de SiN. L’invention concerne également un procédé de réalisation d’une mémoire impliquant la mise en œuvre d’une telle gravure.
État de la technique antérieure Lors de la réalisation de dispositifs micro-électroniques, il est généralement nécessaire de mettre en œuvre une ou plusieurs étapes de gravure d’un premier matériau qui soient isotropes et sélectives vis-à-vis d’un ou plusieurs autres matériaux se trouvant à proximité du premier matériau.
Lorsque le premier matériau à graver correspond à du silicium et que les autres matériaux correspondent à du SiGe et du SiN, il est possible de mettre en œuvre soit une gravure humide, soit une gravure par plasma.
Une gravure humide de silicium peut être mise en œuvre en utilisant une solution alcaline comprenant par exemple du TMAH (Hydroxyde de Tétra Méthyl Ammonium), de l’ammoniaque, ou encore du KOH (Hydroxyde de potassium). Ce type de gravure est intéressant car la sélectivité obtenue est importante (avec par exemple un rapport de la vitesse de gravure du silicium par rapport à la vitesse de gravure du SiGe ou du SiN supérieur à 40 dans le cas d’une gravure de substrats plans). Néanmoins, une telle gravure humide n’est pas isotrope car elle présente une certaine anisotropie par rapport au plan cristallin (111) du silicium. De plus, une telle gravure n’est pas adaptée pour libérer des structures de dimension critique supérieure à 10 nm.
Contrairement à la gravure humide, la gravure par voie sèche, par exemple par un plasma fluoré, a pour avantage d’être isotrope et adaptée pour libérer des structures de dimension critique allant jusqu’à environ 60 nm. Une bonne sélectivité de gravure du silicium par rapport au SiGe (avec par exemple un rapport de la vitesse de gravure du silicium par rapport à la vitesse de gravure du SiGe égale à 20) peut être obtenue, sous réserve toutefois de réaliser une pré-oxydation du silicium. Sans cette pré-oxydation du silicium, la sélectivité de gravure du silicium par rapport au SiGe est inférieure à 3. De plus, lorsqu’une telle gravure par plasma est mise en œuvre pour graver une couche trop fine, un phénomène d’arrêt de gravure est observé. Enfin, un problème majeur rencontré avec ce type de gravure est que la sélectivité de gravure du silicium par rapport au SiN est très faible voire inexistante.
Ainsi, lorsque le silicium se trouve en présence de SiGe et de SiN, aucun des procédés de gravure actuels n’est bien adapté pour graver de manière isotrope et sélectivement le silicium vis-à-vis du SiGe et du SiN.
De préférence la ligne de prédécoupe 11 est réalisée sur le film 12 à plat, avant l’étape de préchauffage. Lorsque la prédécoupe est réalisée sur le film 12 à plat, il est tenu compte du futur amincissement du film 12 dû à l’étirement réalisé lors du thermoformage des coques 2, 3. Cela permet d’éviter le risque de rupture du film 12 aminci au niveau de la ligne de prédécoupe 11, avant la manipulation de l’emballage 1 par l’utilisateur pour l’ouverture.
L’ajustement des prédécoupes sur l’aspect continu ou interrompu ainsi que sur la profondeur est défini par la programmation des outils de prédécoupe. On peut donc ajuster l’endroit où on prédécoupe, sur quelle longueur et profondeur. Pour cela on pourra prendre un repère sur la forme des coques ou sur le graphisme porté par le film.
En fonction de la profondeur de prédécoupe on obtient des zones plus ou moins fragiles, donc ayant tendance à rompre plus ou moins facilement, ou simplement tendance à plier. Plus la profondeur est importante, plus le tronçon rompra facilement.
Pour obtenir le tronçon de pliage 11b, soit on effectue une prédécoupe de faible profondeur, soit on réalise une discontinuité dans la ligne de prédécoupe.
Comme illustré en , la ligne de prédécoupe 11 comporte deux zones profondes latérales correspondant aux tronçons de rupture 11a, 11c, et une zone moins profonde centrale correspondant au tronçon de pliage 11b.
Comme illustré en , les tronçons de rupture 11a, 11c peuvent comprendre une zone très profonde au niveau des rebords périphériques 5, 6 (où l’épaisseur est plus importante une fois les coques formées), suivie d'une zone moins profonde au niveau de la partie bombée de la coque 2, 3 (où l’épaisseur est plus fine une fois les coques formées). Et le tronçon central de pliage 11b est intact, et ne présente pas de prédécoupe. Il y a donc une discontinuité dans prédécoupe au niveau du tronçon central 11b.
Lorsque l’utilisateur ouvre les coques, la zone très profonde est d’abord rompue, et la cassure se propage facilement à la zone moins profonde.
La ligne de prédécoupe 11 peut également être réalisée en deux fois, avec la création des zones très profondes en amont de l’étape de préchauffage, et la création des zones moins profondes après l’étape de formage ou l’étape de dosage.
Pour former la coque inférieure 3 et la coque supérieure 2, le procédé peut utiliser deux films 12 issus de deux bobines différentes superposées par la suite ou une seule bobine repliée sur elle-même ce qui amène un niveau de repérage très précis entre les deux faces imprimées. Le centrage des coques est assuré au poste de formage où les deux parties sont obtenues simultanément et centrées, avant l’étape de scellage. De préférence, les films 12 sont préchauffés avant l’étape de scellage.
Le scellage sert à fermer hermétiquement l’emballage 1. Le scellage permet une ouverture maîtrisée et réglable dont on peut mesurer la force (Peel Force).
Le soudage du col de dosage 15, ou d’autres parties de l’emballage 1, peut être réalisé par thermosoudage. La soudure donne un assemblage définitif et impossible à séparer donc à ouvrir, sauf à le détruire.
Emballage alimentaire d’une portion de produit végétal ou laitier et son procédé de fabrication Domaine technique de l'invention L'invention concerne un emballage alimentaire d’un produit végétal ou laitier, tel qu’une portion individuelle de fromage, et un procédé de fabrication de cet emballage alimentaire.
Arrière-plan technique Il est connu d’emballer des portions de produit fromager à l’aide de film aluminium. Il est aussi connu de prévoir des emballages rigides, ou semi-rigides, en plastique ou bien en cire.
Dans le cas des emballages connus, l’utilisateur doit souvent utiliser un couvert (couteau, cuillère) pour consommer le produit fromager une fois l’emballage ouvert. Dans le cas des produits fromagers suffisamment consistants pour ne pas se répandre une fois sortis de leur emballage, il est aussi connu que l’utilisateur utilise ses doigts pour se servir, notamment dans le cadre de mini portions de produits fromagers. En effet le produit peut éventuellement adhérer aux parois et il faut pouvoir le décoller. Les enfants ne sont généralement pas dérangés par une telle utilisation avec leurs doigts. Ce n’est pas le cas des adultes.
Ce mode de réalisation est préféré lorsque la quantité de polluant est faible. Il n’est alors pas nécessaire de purifier le liquide d’absorption trop fréquemment, car celui-ci se charge peu en polluant, et la séparation reste donc suffisamment efficace pendant tout le passage du gaz effluent.
Dans ce mode de réalisation, il est possible de récupérer le liquide d’absorption chargé en polluant une fois la séparation terminée et de le purifier, par exemple dans un purificateur semblable à celui décrit plus haut.
Dans une variante non illustrée, le liquide d’absorption et le liquide d’étanchéité peuvent être identiques et le séparateur peut être un filtre imperméable au liquide d’étanchéité, disposé directement à la sortie du compresseur. Le séparateur n’est donc pas nécessairement une colonne d’absorption.
Dans ce mode de réalisation, le liquide d’étanchéité est au contact du gaz effluent pollué dès l’entrée du gaz effluent pollué dans le compresseur et se charge en polluant tout au long de la compression. Le filtre disposé à la sortie du compresseur assure que le polluant ayant migré dans le liquide d’étanchéité soit retenu par le filtre dans le liquide d’étanchéité dans le compresseur.
Dans ce mode de réalisation, le liquide d’étanchéité peut également être purifié en continu, par exemple en adaptant un purificateur sur le circuit de refroidissement habituellement présent pour le liquide d’étanchéité du compresseur.
Dans ce mode de réalisation, le liquide d’étanchéité peut également ne pas être purifié en continu mais être purifié seulement une fois la séparation terminée. Ce mode de réalisation est particulièrement préféré lorsque le gaz effluent pollué contient une faible quantité de polluant, et que le liquide d’étanchéité n’est que peu chargé en polluant, même à la fin de la séparation.
Le mode de réalisation décrit en exemple n’est qu’un mode de réalisation possible et ne doit pas être interprété de manière limitative. En particulier, les valeurs numériques qui suivent ne sont données que pour illustrer un exemple de réalisation particulier et l’invention n’est pas limitée à ces seules valeurs.
Le gaz effluent pollué 1 en amont du compresseur 101 est à 1 bar et à 20°C. Le gaz effluent pollué comprimé quitte le compresseur 101 à 3 bar et à 20°C.
Le compresseur 101 est alimenté par un liquide d’étanchéité 4 à une température de 10°C. Ce dernier quitte le compresseur à 20°C, comme le gaz effluent pollué comprimé.
Avant d’être réintroduit dans le compresseur 101, le liquide d’étanchéité réchauffé 3 est refroidi au moyen d’un échangeur de chaleur 110, dans lequel sa température passe de 20°C à 10°C. Ensuite, le liquide d’étanchéité refroidi 4 est réintroduit dans le compresseur 101.
Le gaz effluent pollué comprimé entre dans une colonne d’absorption 103. Il y est mis en contact d’un liquide d’absorption 17 à 10°C et 3 bars. Le gaz effluent comprimé traité quitte la colonne d’absorption à une température de 10°C et à une pression absolue de 3 bars.
Le liquide d’absorption chargé en polluant 8 quitte la colonne d’absorption 103 à une température de 13°C et à 3 bars et passe ensuite dans un dispositif de conditionnement comprenant un échangeur de chaleur 104 un organe de chauffage additionnel et une vanne 106.
Dans le dispositif de conditionnement, le liquide d’absorption chargé en polluant 8 passe d’abord dans l’échangeur de chaleur 104 dans lequel sa température passe de 13°C à 68°C. Le liquide d’absorption chargé en polluant 8 passe ensuite dans l’organe de chauffage additionnel, non représenté sur la , dans lequel sa température augmente jusqu’à 80°C. Le liquide d’absorption passe ensuite dans la vanne 106 qu’il quitte à une pression absolue de 1 bar, et une température de 80°C.
Le liquide d’absorption chargé en polluant 8 entre ensuite dans une colonne de désorption 107, où il est mis en contact d’une phase gazeuse 13. La phase gazeuse 13 entre dans la colonne de désorption 107 à une température de 15 °C et une pression absolue de 1,03 bar. La phase gazeuse quitte la colonne chargée en polluant 14. La phase gazeuse chargée en polluant 14 sort de la colonne de désorption 107 à une température de 80°C.
Le liquide d’absorption purifié 12 quitte la colonne de désorption à une température de 75°C et une pression absolue de 1 bar.
Le liquide d’absorption purifié 12 entre ensuite dans un dispositif de d’introduction comprenant une pompe 108, un échangeur de chaleur 104 identique à l’échangeur de chaleur 104 du dispositif de conditionnement et un élément de refroidissement additionnel.
la fonction niveau () est l’arrondi vers le nombre entier inférieur le plus proche.
L’information de qualité primaire Q p peut s’utiliser pour effectuer une première sélection parmi les quatre vecteurs de flux distordus (P TL , P TR , P BL ) les plus proches de la position de l’origine P, c’est-à-dire de ne tenir compte que de l’évaluation actuellement la plus robuste pour ces quatre vecteurs de flux distordus pour les prendre en compte et rejeter les autres.
Puis on calcul une valeur maximale de l’information de qualité primaire Q p_max de ces vecteurs de flux distordus et on sélectionne parmi ceux-ci les vecteurs de flux distordus ayant la même valeur maximale Q p_max . Les autres vecteurs de flux distordus concernés peuvent être rejetés. Une information de qualité Q p qui peut être associée au vecteur de flux corrigé sera fixée sur cette valeur Q p_max .
Pour déterminer les informations de qualité secondaire, on utilise les vecteurs de flux distordus qui ont le Q p_max décrit ci-dessus. Pour déterminer l’extrémité du vecteur de flux distordu correspondant respectivement déterminé, on sélectionne parmi ces vecteurs de flux distordus, qui ont l’information de qualité Q p_max , le voisin le plus proche de la position de l’origine P correspondante. Cela permet de déterminer le voisin le plus proche en ce que son intervalle Manhattan est le plus faible, c’est-à-dire la plus petite somme des différences de coordonnées absolues horizontales et verticales pour les positions des origines transformées P.
Les valeurs d’interpolation des informations de qualité secondaires Q s peuvent alors être associées à ce voisin situé le plus près des positions de l’origine P transformées, utilisées avec la plus grande qualité primaire.
De façon avantageuse, en déterminant le vecteur de flux distordu correspondant, en tenant compte des informations de qualité, on améliore le procédé de correction d’un champ de vecteurs de flux, optique, distordu.
La esquisse schématiquement la détermination d’un vecteur de flux corrigé pour une position de l’origine correspondante avec la communication des composants. Lors de la sélection des vecteurs de flux les plus proches, on tient compte de ce que les composants de vecteur de flux des candidats qui subsistent après le dernier procédé de sélection, peuvent avoir de grandes différences entre eux. On peut interpréter cela en ce que ces vecteurs de flux font partie de différents objets réels ayant des mouvements apparents indépendants. Pour éviter de générer des vecteurs de flux distordus, qui, du fait du décalage intermédiaire (déplacement intermédiaire sur les images) peuvent appartenir à un objet inexistant, généré par un déplacement intermédiaire dans les images, le procédé est développé comme suit :
éviter de faire les moyennes de vecteurs de flux n’appartenant pas au même objet. En effet, le vecteur de flux qui en résulterait ainsi n’aurait pas de contrepartie physique. Un tel vecteur de flux est à rejeter. En variante, on renonce à diviser les candidats et on peut sélectionner un candidat, notamment de préférence celui le plus proche.
Tout d’abord, parmi les candidats qui subsistent des vecteurs de flux distordus respectifs, on détermine cette différence. Par exemple, en coordonnées cartésiennes, on détermine la différence respective entre la composante maximale et minimale horizontale et/ou verticale en application de la formule 3 ci-après :
U Différence = max (U candidat ) – min(U candidat )
V Différence = max (V candidat ) – min(V candidat ) Formule 3
Ces différences : U Différence ou V Différence peuvent être comparées à un seuil pour qu’en cas de dépassement du seuil, caractériser le vecteur de flux corrigé, résultant, comme étant non validé.
Les vecteurs de flux distordus correspondant respectifs peuvent être passés tous par les procédés de sélection décrits ci-dessus.
Si, à partir des procédés de sélection décrits ci-dessus pour l’identification de vecteurs de flux distordus, validés, il y a plus d’un candidat comme, par exemple, pour les vecteurs de flux distordus 710, 720, 740, on peut déterminer le vecteur de flux distordu correspondant respectif pour la transformation en un vecteur de flux corrigé à l’aide des composants moyennés des vecteurs de flux distordus validés correspondant à la comme suit :
U Valeur moyenne = Valeur moyenne(U candidat )
V Valeur moyenne = Valeur moyenne(V candidat ) Formule 4
En particulier, le champ de vecteurs de flux, distordu peut comporter pour toutes les positions de pixels, les données qui représentent des composants de vecteur de flux optique dans la direction horizontale et dans la direction verticale, c’est-à-dire, notamment des informations quantitatives ainsi que des informations qualitatives spécifiques utilisées par des algorithmes de traitement a posteriori du champ de vecteurs de flux optique, pour exploiter, par exemple, la robustesse d’une détermination des vecteurs de flux respectifs et pour en tenir compte. La robustesse signifie, par exemple, la précision ou la fiabilité ou encore la garantie que le résultat n’est pas aléatoire, par exemple, engendré par le bruit.
En d’autres termes, selon une première séquence d’étapes du procédé, on détermine des origines à l’aide des positions de pixel respectives, qui aboutissent par une imagerie inverse, c’est-à-dire la loi de transformation inversée à des origines correspondantes pour déterminer des origines des vecteurs de flux, distordus, correspondants respectifs du champ de vecteurs de flux optique, distordus, c’est-à-dire les coordonnées d’origine du vecteur de flux optique distordu, respectif. En particulier, dans une seconde séquence d’étapes de procédé qui suit la première séquence d’étapes de procédé, on transforme les extrémités des vecteurs de flux non distordus du champ de vecteurs de flux non distordu à l’aide des origines transformées de vecteurs de flux distordus, identifiés, avec la loi de transformation pour déterminer les extrémités, c’est-à-dire notamment les composantes cartésiennes x et y des vecteurs de flux non distordus du champ de vecteurs de flux optiques non distordu dans une image en amont.
En d’autres termes, cela signifie que pour chaque origine du vecteur de flux non distordu, respectif, du champ de vecteurs de flux optique non distordu, à l’aide de l’origine transformée, qui se détermine par une imagerie inverse avec la loi de transformation inverse, on détermine un vecteur de flux distordu du champ de vecteurs de flux optiques distordu correspondants. L’extrémité du vecteur de flux distordu correspondant peut alors être transformée pour déterminer l’extrémité du vecteur de flux non distordu respectif.
De façon avantageuse, par cette transformation inverse des origines respectives des vecteurs de flux non distordus respectifs, on peut réduire au moins les artéfices de dispersion ou de spécifications économes des vecteurs de flux non distordus car pour chaque transformation inverse pour chaque position du champ de vecteurs de flux optiques non distordu, comme résultat en sortie du procédé, on détermine un vecteur de flux distordu du champ de vecteurs de flux distordu pour la transformation.
En outre, de manière avantageuse, avec ce procédé on économise des ressources pour déterminer un champ de vecteurs de flux optiques corrigés car l’augmentation décrite ci-dessus de la masse de données par la détermination du champ de flux optique corrigés, qui est fondé sur la correction du champ de vecteurs de flux optiques distordu peut au moins se réduire car, le procédé ainsi proposé, ne corrige pas seulement les images d’une séquence d’images prévue pour déterminer le champ de vecteurs de flux optique corrigés mais permet de corriger un champ de vecteurs de flux optique dense, distordu, en procédant en temps réel.
Une correction précise d’un champ de vecteurs de flux optiques dense, distordu, en temps réel est particulièrement important pour un système d’assistance de conduite et/ou une conduite au moins partiellement automatisée s’il est utilisé pour un mouvement fondé sur un mécanisme de reconnaissance d’objets de l’environnement du véhicule.
Le procédé décrit ci-dessus pour corriger le champ de vecteurs de flux optique distordu peut être appliqué par un ordinateur et/ou un procédé implémenté par un ordinateur.
Selon une caractéristique, on fournit une séquence d’images optique déformées et on génère le champ de vecteur de flux optique distordu en s’appuyant sur au moins deux images successives de la séquence d’images.
De façon avantageuse, il est proposé de générer une séquence d’images optiques déformées dans l’environnement d’un système de caméras à l’aide du système de caméras et de les fournir.
Selon un développement, la règle de transformation est fondée sur la caractérisation d’un système optique utilisé pour générer le champ de vecteurs de flux optique distordu et/ou un modèle de caméra virtuelle pour générer le champ de vecteurs de flux optique distordu. Ainsi, le modèle de caméra virtuelle ou modèle de projection de caméra, par exemple un modèle sténopé, par exemple, un modèle de caméra à chambre noire et/ou un modèle à projection équidistance et/ou un modèle à projection stéréographique.
Selon un développement, le champ de vecteurs de flux optique non distordu est subdivisé à l’aide d’une première grille de coordonnées et le champ de vecteurs de flux optique distordu est subdivisé avec une seconde grille de coordonnées, la seconde grille de coordonnées étant définie à l’aide de la première grille de coordonnées et de la règle de transformation inverse. L’ensemble des origines correspondantes pour le champ de vecteurs de flux optique distordu peut se déterminer à l’aide de l’ensemble des positions de pixels du champ de vecteurs de flux optique corrigés et d’un premier procédé par interpolation fondé sur le premier réseau de coordonnées et sur le second réseau de coordonnées.
Cela signifie que chaque origine et/ou un point d’extrémité des vecteurs de flux correspondants sont déterminés par la position des coins ou des points d’intersection du réseau ou de la grille de coordonnées respective et par une interpolation à l’aide de la maille résultante qui est défini par la grille respective de coordonnées. Pour la description de la position respective, on peut identifier la maille de grille à l’aide des coordonnées de la position respective et ensuite faire une interpolation dans la maille de grille.
En d’autres termes, le procédé peut s’effectuer par des transformations des origines respectives et des extrémités des vecteurs de flux comme cela a été décrit ci-dessus. En plus ou en variante, selon un développement, le procédé peut s’appliquer à la transformation de points isolés, notamment de points qui se trouvent sur la première grille de coordonnées et/ou la seconde grille de coordonnées et ensuite on fait une interpolation dans la grille de coordonnées respectives.
En plus ou en variante, le procédé peut consister à transformer des points isolés, notamment des points qui se trouvent sur la première grille de coordonnées et/ou la seconde grille de coordonnées et faire une interpolation à l’intérieur de la grille de coordonnées respective. Cela signifie qu’une position quelconque d’une origine et/ou d’une extrémité des vecteurs de flux correspondant seront définis avec les positions des coins ou des points d’intersection de la grille de coordonnées respective et une interpolation dans une maille de grille, résultante, qui est définie par la grille de coordonnées respective. Pour décrire la position respective, on peut tout d’abord identifier la maille correspondante avec les coordonnées de la position respective et ensuite appliquer une interpolation dans cette maille.
Selon un développement, la première grille de coordonnées est rectangulaire et/ou à angles droits.