Procédé de réalisation d’un dispositif mémoire résistive (1) comprenant au moins une première électrode (10) et une deuxième électrode (20) à base d’un matériau d’électrodes, et une couche d’oxyde métallique (30) intercalée entre lesdites première et deuxième électrodes (10, 20) selon une direction dite verticale (z), ledit dispositif présentant au moins une largeur L selon une direction dite horizontale d’un plan (xy) perpendiculaire à la direction verticale (z), le procédé étant caractérisé en ce que l’une au moins parmi les première et deuxième électrodes (10, 20) est formée de façon à comprendre une couche intercalaire d’électrode (40) à base d’un matériau dit intercalaire présentant une sélectivité à la gravure supérieure ou égale à 2:1, et de préférence supérieure ou égale à 3:1, vis-à-vis du matériau d’électrodes, le procédé comprenant en outre, après formation de ladite une au moins parmi les première et deuxième électrodes (10, 20) comprenant la couche intercalaire d’électrode (40) : une surgravure configurée pour consommer latéralement, selon la direction horizontale, le matériau intercalaire de sorte que la couche intercalaire d’électrode (40) présente un retrait latéral (41) strictement supérieur à 5 nm, et de préférence supérieur ou égal à 10 nm, vis-à-vis de l’au moins une dimension en largeur L. Procédé selon la revendication précédente dans lequel la formation de ladite une au moins parmi les première et deuxième électrodes (10, 20) comprenant la couche intercalaire d’électrode (40) est configurée de sorte que la couche intercalaire d’électrode (40) soit directement au contact de la couche d’oxyde métallique (30). Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel la surgravure est réalisée par plasma à base d’une chimie chlorée. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel les matériaux d’électrode sont à base d’un métal de transition, et le matériau intercalaire est à base d’un alliage d’aluminium et dudit métal de transition ou d’un autre métal de transition. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel la surgravure est isotrope, de sorte que le retrait latéral (41) se forme sur tout un pourtour de la couche intercalaire d’électrode (40) en projection dans le plan (xy). Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel la couche intercalaire d’électrode (40) présente une épaisseur comprise entre 5 nm et 50 nm, de préférence entre 5 nm et 15 nm. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes dans lequel la couche d’oxyde métallique (30) est à base de HfO2, les matériaux d’électrode sont à base de Ti ou de TiN, le matériau intercalaire est à base de TixAly, avec x, y > 0. Dispositif mémoire résistive (1) comprenant au moins une première électrode (10) et une deuxième électrode (20) à base de matériaux d’électrodes, et une couche d’oxyde métallique (30) disposée entre lesdites première et deuxième électrodes (10, 20) selon une direction dite verticale (z), ledit dispositif présentant au moins une largeur L selon une direction dite horizontale d’un plan (xy) perpendiculaire à la direction verticale (z), ledit dispositif (1) étant caractérisé en ce que au moins l’une parmi les première et deuxième électrodes (10, 20) comprend une couche intercalaire d’électrode (40) à base d’un matériau intercalaire présentant une sélectivité à la gravure supérieure ou égale à 2:1, et de préférence supérieure ou égale à 3:1, vis-à-vis des matériaux d’électrodes, et en ce que la couche intercalaire d’électrode (40) présente un retrait latéral (41) strictement supérieur à 5 nm, et de préférence supérieur ou égal à 10 nm, vis-à-vis de l’au moins une direction en largeur L. Dispositif (1) selon la revendication précédente dans lequel le retrait latéral (41) s’étend sur tout un pourtour de la couche intercalaire d’électrode (40), de sorte que ladite couche intercalaire d’électrode (40) soit sensiblement centrée vis-à-vis du dispositif (1), en projection dans le plan (xy). Dispositif (1) selon l’une quelconque des revendications 8 à 9, dans lequel les matériaux d’électrode sont à base d’un métal de transition, et le matériau intercalaire est à base d’un alliage d’aluminium et dudit métal de transition, ou d’un autre métal de transition. Dispositif (1) selon l’une quelconque des revendications 8 à 10, dans lequel la couche intercalaire d’électrode (40) est directement au contact de la couche d’oxyde métallique (30). Dispositif (1) selon l’une quelconque des revendications 8 à 11 dans lequel la couche d’oxyde métallique (30) s’étend en saillie par rapport à la couche intercalaire d’électrode (40), selon une direction du plan (xy). Dispositif selon l’une quelconque des revendications 8 à 12 dans lequel la deuxième électrode (20) comprend une couche de piégeage d’oxygène (21) à base de Ti. Dispositif selon l’une quelconque des revendications 8 à 13 dans lequel les matériaux d’électrode sont à base de TiN, la couche d’oxyde métallique (30) est à base de HfO2, le matériau intercalaire est à base de TixAly, avec x, y > 0. Dispositif selon l’une quelconque des revendications 8 à 14 dans lequel l’au moins une électrode (10, 20) parmi les première et deuxième électrodes (10, 20) est uniquement constituée de la couche intercalaire d’électrode (40).