Procédé de dépôt avec assistance ionique d’un matériau (M) à base de carbone depuis une cible sur un substrat métallique (S), par pulvérisation cathodique, caractérisé en ce qu’ on ajuste le rapport entre le flux d’ions (φi) dirigé vers le substrat (S) et le flux (φn) d’atomes neutres de carbone dirigé vers le substrat (S) entre 1,7 et 3,5, et on applique une tension de polarisation comprise entre -35V et -100V au substrat (S). Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le rapport entre le flux (φi) d’ions gazeux et le flux (φn) d’atomes neutres de carbone est compris entre 2 et 3,1. Procédé selon la revendication 1 ou la revendication 2, caractérisé en ce que le matériau (M) déposé sur le substrat (S) forme une couche dite couche mince, présentant une épaisseur supérieure ou égale à 20 nm, de préférence comprise entre 20 nm et 500 nm, plus préférentiellement entre 50 nm et 250 nm, encore plus préférentiellement entre 80 nm et 150 nm, et de manière davantage préférée entre 80 nm et 120 nm. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le substrat (S) comprend un acier inoxydable, du titane, un alliage de titane, ou un alliage à base de nickel, de chrome et de fer. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le flux d’ions est généré par une cathode magnétron. Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que le flux d’ions est généré par un système complémentaire à la cathode magnétron, de préférence par plasma micro-ondes. Procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce que le substrat (S) défile au sein d’une installation devant un poste de pulvérisation cathodique magnétron puis devant un poste de génération du plasma (P), de préférence de manière cyclique. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le substrat (S) est une plaque d’épaisseur comprise entre 10 µm et 1000 µm. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu’ il comprend une étape préalable de dépôt sur le substrat (S) d’une sous-couche (SC) à base de carbone destinée à se trouver entre le substrat (S) et le matériau (M) à base de carbone, au contact dudit matériau (M) à base de carbone, et qu’on ajuste pendant cette étape le rapport entre le flux d’ions (φi) dirigé vers le substrat (S) et le flux (φn) d’atomes neutres de carbone dirigé vers le substrat à une valeur inférieure à 1, de préférence inférieure à 0,5, le flux d’ions étant non nul. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que l’épaisseur de la sous-couche (SC) à base de carbone est comprise entre 2 et 40 nm, de préférence entre 10 nm et 30 nm. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu’ il comprend une étape préalable de dépôt sur le substrat (S) d’une sous-couche (SC) métallique destinée à se trouver entre le substrat (S) et le matériau (M) à base de carbone, au contact dudit substrat (S), le matériau de la sous-couche (SC) métallique étant choisi parmi un ou plusieurs des matériaux suivants : chrome, titane, zirconium, tantale, ou leurs alliages ainsi que leurs nitrures et carbures. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce que l’épaisseur de la sous-couche (SC) métallique est comprise entre 5 et 100 nm, de préférence entre 20 nm et 40 nm. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la tension de polarisation est comprise entre – 50 V et – 75 V. Procédé de fabrication d’une plaque monopolaire ou bipolaire comprenant un substrat métallique (S) recouvert d’une couche comprenant un matériau (M) à base de carbone, caractérisé en ce qu’ il comprend une étape de dépôt dudit matériau (M) à base de carbone depuis une cible sur ledit substrat métallique (S), par pulvérisation cathodique magnétron, par la mise en œuvre d’un procédé de dépôt selon l’une quelconque des revendications précédentes. Pièce susceptible d’être obtenue par un procédé de dépôt d’un matériau (M) à base de carbone depuis une cible sur un substrat métallique (S), par pulvérisation cathodique en présence d’une assistance ionique, selon l’une quelconque des revendications 1 à 13, ladite pièce présentant une surface externe comprenant ledit substrat métallique (S) revêtue d’une couche du matériau (M) à base de carbone, et dans laquelle la couche de matériau (M) à base de carbone comprend moins de 1 %at d’oxygène, calculé en nombre d’atomes d’oxygène par rapport au nombre d’atomes de carbone au sein de la couche de matériau (M) à base de carbone.