Procédé de réalisation d’un micro-bolomètre aveugle d’imagerie infrarouge (10a-10d), ledit micro-bolomètre aveugle (10a-10d) comprenant : – une membrane (14), comportant au moins deux électrodes et un élément thermo-résistif, ladite membrane étant montée en suspension au-dessus d’un substrat (11) par des clous d’ancrage (15), et – un écran d’occultation (19) monté en suspension au-dessus de la membrane (14) et du substrat (11) au moyen d’une structure porteuse (30a-30d) fixée sur le substrat (11), le procédé comprenant les étapes suivantes : – réalisation de la membrane (14) sur une première couche sacrificielle (12) déposée sur le substrat (11) ; – dépôt d’une seconde couche sacrificielle (17) réalisée en oxyde de silicium sur la membrane (14) et sur la première couche sacrificielle (12) ; – réalisation d’ouvertures (18) de part et d’autre de la membrane (14) au sein d’au moins ladite seconde couche sacrificielle (17) ; – dépôt chimique en phase vapeur de titane ou de nitrure de titane de sorte à former les parois externes (41a-41d) de pieds (20a-20b) d’une structure porteuse (30a-30d), reposant directement ou indirectement sur le substrat (11) ; – dépôt chimique en phase vapeur de tungstène ou de siliciure de tungstène de sorte à former l’âme interne (42a-42d) des pieds (20a-20b) ; – dépôt et structuration d’un écran d’occultation (19) sur les pieds et sur ladite seconde couche sacrificielle (17) ou sur les pieds et sur une plaque de support (46) de la structure porteuse (30a-30d) ; et – retrait des première et seconde couches sacrificielles (12, 17) au moyen d’un fluide de gravure. Procédé de réalisation d’un micro-bolomètre aveugle d’imagerie infrarouge selon la revendication 1, dans lequel les couches sacrificielles (12, 17) sont réalisées en oxyde de silicium. Procédé de réalisation d’un micro-bolomètre aveugle d’imagerie infrarouge selon la revendication 1 ou 2, dans lequel l’étape de dépôt chimique en phase vapeur de titane ou en nitrure de titane de sorte à former les parois externes (41a-41d) forme également une couche à base de titane (47) d’une plaque de support (46) sur la seconde couche sacrificielle (17). Procédé de réalisation d’un micro-bolomètre aveugle d’imagerie infrarouge selon l’une des revendications 1 à 3, dans lequel l’étape de dépôt chimique en phase vapeur de tungstène ou de siliciure de tungstène destiné à former l’âme interne (42a-42d) des pieds (20a-20b) forme également une couche à base de tungstène (48) d’une plaque de support (46) sur la seconde couche sacrificielle (17). Procédé de réalisation d’un micro-bolomètre aveugle d’imagerie infrarouge selon la revendication 4, dans lequel , lorsque la couche à base de tungstène (48) est réalisée en siliciure de tungstène, le procédé comprend également une étape de gravure du siliciure de tungstène déposé de sorte à supprimer la couche à base de tungstène (48) de la plaque de support (46). Procédé de réalisation d’un micro-bolomètre aveugle d’imagerie infrarouge selon la revendication 5, dans lequel le procédé comprend également une étape de dépôt chimique en phase vapeur de silicium de sorte à former une troisième couche (49) de la plaque de support (46) sur la couche à base de tungstène (48) ou alternativement sur la couche à base de titane (47) ou sous la couche à base de titane (47) en cas de suppression de la couche à base de tungstène (48). Procédé de réalisation d’un micro-bolomètre aveugle d’imagerie infrarouge selon la revendication 6, dans lequel l’étape de dépôt chimique en phase vapeur de silicium apte à former la troisième couche (49) forme également un insert (50) dans les pieds (20a-20b). Procédé de réalisation d’un micro-bolomètre aveugle d’imagerie infrarouge selon l’une des revendications 1 à 7, dans lequel l’étape de réalisation d’ouvertures (18) de part et d’autre de la membrane (14) au sein d’au moins ladite seconde couche sacrificielle (17) est configurée pour former des ouvertures discontinues de sorte à obtenir, après l’étape de retrait des couches sacrificielles (12, 17), au moins un évent de libération (32a-32c) ménagé dans une paroi latérale (31a-31c) de la structure porteuse (30a-30d). Procédé de réalisation d’un micro-bolomètre aveugle d’imagerie infrarouge selon la revendication 8, dans lequel l’étape de structuration de l’écran d’occultation (19) et éventuellement de la plaque de support (46) forme un surplomb (22) s’étendant dans le plan de l’écran d’occultation (19) et dans la direction opposée à la membrane (14). Procédé de réalisation d’un micro-bolomètre aveugle d’imagerie infrarouge selon l’une des revendications 1 à 9, dans lequel , avant l’étape de dépôt chimique en phase vapeur du tungstène ou du siliciure de tungstène destiné à former l’âme interne (42a-42d) des pieds (20a-20b), le procédé comprend une étape de dépôt d’une couche d’aluminium (55) par dépôt physique en phase vapeur sur la couche de titane ou de nitrure de titane formant les parois externes (41a-41d) de pieds (20a-20b) de la structure porteuse (30a-30d). Micro-bolomètre aveugle d’imagerie infrarouge (10a-10d) comprenant : – un substrat (11) ; – une membrane (14), comportant au moins deux électrodes et un élément thermo-résistif, montée en suspension au-dessus dudit substrat (11) par des clous d’ancrage (15) ; et – un écran d’occultation (19) disposé au-dessus de la membrane (14) de sorte à bloquer les rayonnements infrarouges incidents ; ledit écran d’occultation (19) étant monté en suspension au-dessus de la membrane (14) et du substrat (11) au moyen d’une structure porteuse (30a-30d) fixée sur le substrat (11) ; caractérisé en ce que la structure porteuse (30a-30d) comprend des pieds (20a-20b) reposants directement ou indirectement sur le substrat (11) et comportant des parois externes (41a-41d), réalisées en titane ou en nitrure de titane, et une âme interne (42a-42d), réalisée en tungstène ou en siliciure de tungstène. Micro-bolomètre aveugle selon la revendication 11, dans lequel l’épaisseur des parois externes (41a-41d) est comprise entre 5 et 20 nanomètres et l’épaisseur de l’âme interne (42a-42d) est comprise entre 0,1 et 1 micromètre. Micro-bolomètre aveugle selon la revendication 11 ou 12, dans lequel la structure porteuse (30a-30d) comprend une plaque de support (46) s’étendant au-dessus de la membrane (14), ledit écran d’occultation (19) étant fixé sur ladite plaque de support (46). Micro-bolomètre aveugle d’imagerie infrarouge selon l’une des revendications 11 à 13, dans lequel la structure porteuse (30a-30b) comprend au moins deux pieds (20a) s’étendant de part et d’autre de la membrane (14) depuis l’écran d’occultation (19) jusqu’au substrat (11). Micro-bolomètre aveugle d’imagerie infrarouge selon l’une des revendications 11 à 13, dans lequel la structure porteuse (30c-30d) comprend : – un ensemble de plots (25a-25b) juxtaposés sur le substrat (11) de part de d’autre des clous d’ancrage (15) de la membrane (14) ; et – au moins deux pieds (20b) s’étendant de part et d’autre de ladite membrane (14) depuis l’écran d’occultation (19) jusqu’auxdits plots (25a-25b). Micro-bolomètre aveugle selon l’une des revendications 11 à 13, dans lequel les pieds (20a-20b) comprennent au moins une paroi latérale (31a-31c), et dans lequel au moins un évent de libération (32a-32c) est ménagé dans ladite au moins une paroi latérale (31a-31c). Détecteur infrarouge comprenant : – des micro-bolomètres de détection (50) agencés sous forme matricielle sur un substrat (11) ; – des micro-bolomètre aveugles (10a-10d) montés sur le substrat (11) selon l’une des revendications 11 à 16 ; – un cordon de support (51) formé sur le substrat (11) et entourant les micro-bolomètres de détection (50) et les micro-bolomètre aveugles (10a-10d) ; et – une fenêtre optique (52) scellée hermétiquement sur le cordon de support (51) aux moyens de métallisations (53, 54).