INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Selon un troisième mode de réalisation, le dispositif de refroidissement comprend des circuits de refroidissement principaux comportant une seule entrée d’air principale équipée d’un volet d’admission principal et une seule sortie d’air principale équipée d’un volet d’échappement principal ainsi que deux circuits de refroidissement secondaires droit et gauche comportant chacun une entrée d’air secondaire droite ou gauche équipée d’un volet d’admission secondaire droit ou gauche et une sortie d’air secondaire droite ou gauche, un unique volet d’échappement secondaire étant prévu pour obturer simultanément en position fermée les sorties d’air secondaires droite et gauche. En complément, le dispositif de refroidissement comprend un premier actionneur accouplé au couple de volets d’admission et d’échappement principaux et contrôlant leurs mouvements, un deuxième actionneur accouplé au volet d’admission secondaire droit et contrôlant ses mouvements, un troisième actionneur accouplé au volet d’admission secondaire gauche et contrôlant ses mouvements ainsi qu’un quatrième actionneur accouplé au volet d’échappement secondaire et contrôlant ses mouvements.
Selon un quatrième mode de réalisation, le dispositif de refroidissement comprend des circuits de refroidissement principaux comportant une seule entrée d’air principale équipée d’un volet d’admission principal et une seule sortie d’air principale équipée d’un volet d’échappement principal ainsi que deux circuits de refroidissement secondaires droit et gauche comportant chacun une entrée d’air secondaire droite ou gauche équipée d’un volet d’admission secondaire droit ou gauche et une sortie d’air secondaire droite ou gauche, un unique volet d’échappement secondaire étant prévu pour obturer simultanément en position fermée les sorties d’air secondaires droite et gauche. En complément, le dispositif de refroidissement comprend un premier actionneur accouplé au couple de volets d’admission et d’échappement principaux et contrôlant leurs mouvements ainsi qu’un deuxième actionneur accouplé aux volets d’admission secondaires droit et gauche comme au volet d’échappement secondaire et contrôlant leurs mouvements.
Selon une autre caractéristique, le dispositif de refroidissement comprend une commande configurée pour commander les actionneurs et contrôler les mouvements des différents volets d’admission et d’échappement.
L’invention a également pour objet un ensemble propulseur d’aéronef comprenant au moins un dispositif de refroidissement selon l’une des caractéristiques précédentes.
Enfin, l’invention a également pour objet un aéronef comprenant des ensembles propulseurs comportant chacun au moins un dispositif de refroidissement selon l’une des caractéristiques précédentes.
Dans des modes de réalisation comme montrés aux figures 1 à 4, lorsque la poutre de pare-chocs 12 comprend au moins deux rainures de rigidification 16, la plaque d’absorption latérale peut comprendre au moins deux rainures de positionnement 20 engagées dans les rainures de rigidification 16 de la poutre de pare-chocs par complémentarité de forme.
La plaque d’absorption latérale 18 peut comprendre en outre un repli 24 supérieur, montré aux figures 2 et 3, en appui contre la paroi supérieure de la poutre de pare-chocs 12. Le repli permettant un positionnement vertical de la plaque d’absorption latérale 18.
Dans des modes de réalisation comme montrés aux figures 5 et 6, la plaque d’absorption latérale 18 peut comprendre deux replis 24, avec un repli supérieur et un repli inférieur. Le repli inférieur peut être en appui contre une paroi inférieure, non montrée, de la poutre de pare-chocs.
Avantageusement, les deux replis 24 sont identiques et disposés de manière symétrique de part et d’autre de la plaque d’absorption latérale 18. La plaque d’absorption latérale 18 peut alors avoir une configuration symétrique suivant un plan médian s’étendant dans la direction longitudinale de la poutre de pare-chocs, i.e. suivant un plan horizontal médian de la poutre de pare-chocs. La même plaque d’absorption latérale peut ainsi être montée aussi bien d’un côté que de l’autre de la poutre de pare-chocs, en la tournant d’un angle de 180°, comme montré à la .
Un procédé de fabrication d’un ensemble 10 comme décrit plus haut peut comprendre les étapes suivantes :
engager la rainure de positionnement 20 de la plaque d’absorption latérale 18 avec la rainure de rigidification 16 la poutre de pare-chocs 12 par complémentarité de forme ;
fixer la plaque d’absorption latérale 18 sur la poutre de pare-chocs par soudage.
Dispositif d’absorption d’énergie pour un système d’absorption de chocs pour véhicule automobile Domaine technique auquel se rapporte l'invention La présente invention concerne un dispositif d’absorption d’énergie pour un système d’absorption de chocs pour véhicule automobile, destiné à être placé entre le châssis d'un véhicule automobile et un pare-chocs, de manière à absorber une partie de l’énergie engendrée lors d’une collision.
Arrière-plan technologique Il est connu de l’état de la technique l’emploi de système d'absorption de chocs pour absorber l’énergie mécanique générée lors d’un accident mineur, afin de préserver l’intégrité du châssis du véhicule automobile ainsi que de ses occupants.
De façon avantageuse, lors d’une collision à faible vitesse, les systèmes d'absorption de chocs permettent de réduire les coûts de réparations du véhicule, les réparations se limitant au remplacement du pare-chocs et du système d'absorption de chocs endommagés.
De façon connue, un système d’absorption de chocs se compose d’une traverse de poutre, destinée à supporter un parechoc, et de deux dispositifs d’absorption d’énergie liés à la traverse de poutre. Chaque dispositif d’absorption d’énergie comprend un corps creux s’étendant le long d’un axe longitudinal, perpendiculaire ou sensiblement perpendiculaire à la traverse de poutre. Le corps creux est délimité par une extrémité proximale destinée à être fixée au châssis d’un véhicule automobile, et une extrémité distale liée à la traverse de poutre.
Le corps creux se compose d’une section supérieure et d’une section inférieure. Les sections supérieure et inférieure sont de forme identique et s’étendent entre les deux extrémités du corps creux.
Dans un plan transverse à la direction d’allongement du corps creux, les sections ont un profil en forme en « U ». Les extrémités des branches des sections délimitant la forme en « U » sont soudées entre elles, afin que les parois adjacentes des sections supérieure et inférieure soient parfaitement alignées. Ainsi, le corps creux a un profil rectangulaire dans un plan transverse à sa direction d’allongement.
Pour permettre une absorption optimale de l'énergie, les dispositifs d'absorption d'énergie sont positionnés pour que la force générée lors d’une collision, s’exerce selon une direction parallèle à la direction d’allongement des corps creux. C’est la raison pour laquelle les dispositifs d’absorption d’énergie sont intercalés entre le châssis d’un véhicule automobile et la traverse de poutre supportant un parechoc.
Cet agencement favorise également une déformation du corps creux le long d’une unique direction. L’absorbeur de choc peut alors être réparé aisément, en exerçant une force contraire à l’impact, afin d’allonger l’absorbeur de choc jusqu’à ce qu’il retrouve sa longueur et sa forme initiale.
Toutefois, lors d’une collision à faible vitesse, il a été constaté que le corps creux de l’absorbeur de choc peut également pivoter autour de son axe longitudinal. Il est alors plus complexe et donc plus onéreux, de redresser l’absorbeur de choc afin qu’il retrouve sa forme initiale. Dans ce cas, l’absorbeur d’énergie est le plus souvent remplacé par un nouvel absorbeur d’énergie.
Le moment d’inertie de la pièce projectile étant faible, le déséquilibre d’effort dans la phase W3 impartit une rotation significative. De plus dans les phases W3 et W4 , la poussée du pouce étant décalée du centre de gravité, on accroit la rotation par le bras de levier naturel (distance G – sommet 25 ).
Comme déjà évoqué, le centre de masse G de la pièce projectile est situé à proximité de l’extrémité proximale P1 de la zone d’appui intermédiaire ZAI , un peu à l’intérieur de l’orifice traversant, c’est-à-dire entre le sommet 25 et le point P1 . Comme visible sur la , le sommet de la portion avant 20 et le centre de masse G sont séparés d’une distance L5 . Dans la pratique L5 se trouve dans un intervalle entre 4 mm et 10 mm.
Ce décalage de position permet une augmentation de la rotation même après libération du bord proximal, (cf phase W4, ).
Il faut remarquer que la présence des protubérances mentionnées plus haut est favorable pour la mise en œuvre du procédé de lancer.
Les figures 7A et 7B illustrent un exemple de mise en place de la pièce projectile sur le support digital. La figure 7C illustre la situation avec le pouce en place avant le lancer proprement dit.
Les figures 7D, 7E et 7F illustrent des phases du lancer, la figure 7F montrant plusieurs positions successives de la pièce projectile.
On note que la pièce projectile telle que définie géométriquement ci-dessus est compatible avec une force de propulsion appliquée sur un bord de l’orifice traversant par un doigt quelconque de l’utilisateur, i.e. pas exclusivement le pouce.
Dans certaines réalisations, la pièce projectile n’a qu’un seul orifice de la taille décrite ci-dessus. Il n’est pas exclu qu’il y ait d’autres trous de taille plus petite.
Dans certaines réalisations, la pièce projectile n’a qu’un seul orifice.
DISPOSITIF ET PROCÉDÉ D’EXTRACTION DE FLUIDE VÉGÉTAL DOMAINE TECHNIQUE DE L’INVENTION La présente invention vise un dispositif et un procédé d’extraction de fluide végétal. Elle s’applique, notamment, à l’industrie agroalimentaire, pharmaceutique et à la parfumerie.
ÉTAT DE LA TECHNIQUE Pour l’extraction de fluide végétal, des solutions existantes dans l’art antérieur consistent à utiliser des solvants aqueux ou organiques afin d’extraire des huiles essentielles végétales, par exemple lors de l’utilisation d’un dispositif d’hydrodistillation. Cependant, le végétal dont un fluide doit être extrait est mis en solution dans le solvant. Ce type d’extraction présente de nombreux inconvénients. En particulier, le végétal ne peut donc plus être utilisé ou consommé après cette extraction.
D’autres solutions sont enseignées dans l’art antérieur impliquant des dispositifs de distillation sèche d’huiles essentielles. Cependant, ces dispositifs impliquent un chauffage continu et important des végétaux, ce qui entraîne leur destruction. Cette technique entraîne également un surchauffage des fluides extraits pouvant les altérer.
D’autres solutions connues de l’homme du métier consistent à utiliser des dispositifs d’expression à froid permettant l’extraction d’essence végétale. Cependant, ces dispositifs sont utilisés uniquement pour les écorces d’agrumes et impliquent également leur destruction.
D’autres solutions sont enseignées dans l’art antérieur faisant intervenir l’utilisation de composés soufrés préalablement appliqués sur le végétal à sécher. Cependant, l’utilisation de tels composés soufrés entraîne une altération des propriétés organoleptiques et des apports nutritionnels des végétaux partiellement desséchés. Ces composés peuvent également présenter un risque pour la santé.
La présente invention vise à remédier à tout ou partie de ces inconvénients. Notamment, l’invention permet de récupérer, d’une part, au moins un fluide et, d’autre part, les végétaux partiellement desséchés sans altérations.
À cet effet, selon un premier aspect, la présente invention vise un dispositif d’extraction de fluide végétal depuis des végétaux, qui comporte : - un support de ces végétaux, - au moins une enceinte, - au moins une antenne émettrice de micro-ondes orientée pour transmettre les micro-ondes dans l’enceinte et configurée pour chauffer au moins un fluide contenu dans les végétaux et - un moyen de séparation du fluide et des végétaux dont a été extrait ce fluide.
servent à illustrer un exemple de procédé de fabrication d’un dispositif quantique mis en œuvre suivant l‘invention.
servent à illustrer un exemple de dispositif quantique mis en œuvre suivant l‘invention.
En outre, dans la description ci-après, des termes qui dépendent de l'orientation de la structure tels que « au-dessus », « au-dessous », « arrière », « avant », « périphérique » s'appliquent en considérant que la structure est orientée de la façon illustrée sur les figures.
On se réfère tout d’abord à la qui représente un matériau de départ possible pour la réalisation d’un dispositif quantique à qubits de spin et qui se trouve sous forme d’un substrat 10 de type semi-conducteur sur isolant.
Le substrat comporte ainsi une couche support 11 en matériau semi-conducteur, une couche isolante enterrée 12 disposée sur la couche support 11 et une couche superficielle 13 semi-conductrice disposée sur la couche isolante.
Le substrat est typiquement un substrat SOI dont la couche superficielle 13 est en silicium, en particulier du 28 Si lorsque cette couche est amenée à accueillir des qubits de spin d’électrons. D’autres matériaux semi-conducteurs peuvent être envisagés pour la couche semi-conductrice superficielle 13. En particulier, lorsque cette couche est amenée à accueillir des qubits de spin de trous, la couche superficielle peut être formée de Si 1-x Ge x avec x variant de préférence entre 0% à 70%.
Dans ce cas, la couche isolante 12 et la couche de support 11 sont typiquement, respectivement, une couche en oxyde de silicium communément appelée de « BOX » (pour « Burried Oxide » ou « oxyde enterré ») et une couche à base de silicium.
L’épaisseur de la couche superficielle 13, est par exemple comprise entre environ 5 nm et 50 nm, typiquement de l’ordre de 10 nm. L’épaisseur de la couche isolante enterrée 12 est par exemple comprise entre 15nm et 150nm. Dans cette gamme on choisit de préférence une épaisseur proche de 15nm typiquement de l’ordre de 25nm, dans la mesure où cette couche est susceptible de devoir être gravée ultérieurement. L’épaisseur de la couche support 11 (les épaisseurs étant des dimensions mesurées selon l’axe z du repère orthogonal [O ;x ;y ;z] donné sur la ) peut être quant à elle comprise par exemple de l’ordre de 775µm dans le cas où l’on utilise une plaque (« wafer » selon la terminologie anglo-saxonne) de type 300 mm.
Ensuite ( ), on peut définir dans la couche superficielle 13 au moins un motif de zone active 14. Cela peut être réalisé par photolithographie et gravure de la couche superficielle 13, en particulier une gravure plasma avec arrêt sur la couche isolante 12.
Puis, on réalise un empilement de grille recouvrant la zone active 14. Cet empilement est typiquement formé ( ) d’une couche de diélectrique 17 de grille et d’une ou plusieurs couches 18, 20 de matériau(x) de grille semi-conducteur(s) tel que du polysilicium dopé et/ou métallique(s) tel que du TiN, de l’Al, ou du W.
Le diélectrique 17 de grille peut être un oxyde, en particulier un oxyde de silicium obtenu par dépôt ou par oxydation d’une épaisseur superficielle de la zone active 14. Par exemple, l’épaisseur de la couche de diélectrique 17 de grille peut être de l’ordre de 2 nm. Dans ce cas, selon un exemple de réalisation particulier, l’empilement de grille, peut, quant à lui, être formé d’une couche métal de TiN d’épaisseur par exemple de l’ordre de 6 nm et d’une couche de polysilicium par exemple de l’ordre de 30 nm.
L’empilement de grille peut être revêtu d’au moins une couche de masquage, en particulier d’une ou plusieurs couches 21, 21’ de masque dur formées typiquement des couches isolantes, par exemple en SiN et/ou SiO 2 . Dans l’exemple de réalisation illustré, un empilement est réalisé pour former ce masquage, en particulier un empilement bi-couches, avec une couche 21 de SiN d’épaisseur comprise par exemple entre 20 nm et 30 nm revêtue d’une couche 21’ d’oxyde de silicium d’épaisseur comprise par exemple entre 20 nm et 30 nm.
On définit ensuite par gravure une pluralité de blocs 24a, 24c, 24d, 24e de masquage afin de réaliser une pluralité de blocs de grilles 22a, 22b, 22c, 22d, 22e distincts. Des gravures anisotropes et en particulier à l’aide d’un plasma sont effectuées pour réaliser les blocs 24a, 24b, 24c, 24d, 24e de masquage, puis les de blocs de grilles 22a, …, 22e distincts sous ces derniers et reproduisant les motifs de ces derniers.
Par exemple, le bras de support comprend un segment fixe et trois segments articulés reliés l’un après l’autre.
De préférence selon n’importe quel mode de réalisation, chaque cadre comprend au moins un rouleau monté libre en rotation.
Par exemple, chaque côté de cadre comprend un rouleau monté libre en rotation. selon un autre exemple, chaque cadre comprend quatre rouleaux montés libres en rotation.
Le système de distribution d’eau permet de distribuer l’eau aux cultures, par exemple par aspersion au-dessus des feuilles des cultures, et/ou par distribution au niveau du sol du terrain agricole.
Selon un mode de réalisation, le système de distribution d’eau est une armature de distribution d’eau s’étendant de chaque côté latéral du châssis, l’armature présentant deux extrémités distales d’armature de manière que chaque extrémité distale de l’armature se situent à une distance non-nulle, dite distance d’armature, du châssis. L’élément de déport fait saillie du châssis et s’étend latéralement d’un côté du châssis de manière que l’extrémité distale dudit élément de déport se situe à une distance supérieure ou égale par rapport à la distance d’armature.
Selon un autre mode de réalisation, le système de distribution d’eau est une armature de distribution d’eau s’étendant de chaque côté latéral du châssis, l’armature comprenant deux sections d’armature, une première section et une deuxième section, chaque section présentant une extrémité distale d’armature située à une distance non-nulle du châssis. La distance de l’extrémité distale de la première section par rapport au châssis, dite distance de première section, est inférieure à la distance de l’extrémité distale de la deuxième section par rapport au châssis. L’élément de déport fait saillie du châssis et s’étend latéralement d’un côté du châssis présentant la première section de l’armature et de manière que l’extrémité distale dudit élément de déport se situe à une distance supérieure ou égale par rapport à la distance de première section. Ce mode de réalisation permet notamment de favoriser l’équilibrage du dispositif.
Selon les deux précédents modes de réalisation, l’armature de distribution d’eau s’étend de part et d’autre du châssis et en porte-à-faux du châssis et/ou des moyens de déplacement.
Selon les deux précédents modes de réalisation, l’élément de déport présente respectivement une longueur au moins égale à la distance d’armature ou la distance de première section d’armature.
Selon un autre mode de réalisation, le système de distribution d’eau est une armature de distribution d’eau s’étendant au moins d’un côté latéral du châssis, l’armature présentant une extrémité distale d’armature se situant à une distance non-nulle du châssis. Par exemple, l’armature de distribution peut comprendre une seule section d’armature s’étendant d’un seul côté latéral du châssis de support. Le bras de déport peut s’étendre du même côté que celui de l’armature de distribution, ou peut s’étendre du côté opposé à celui de l’armature de distribution.
De préférence, l’armature de distribution d’eau comprend au moins un conduit de distribution d’eau et s’étend le long de ladite armature. Ledit au moins un conduit est raccordé au tuyau d’alimentation.
Selon un exemple de réalisation, l’armature de distribution comprend des trous d’aspersion espacés les uns des autres.
Selon un mode de réalisation, l’armature de distribution d’eau comprend des extensions verticales espacées les unes des autres, lesdites extensions étant agencées pour déposer l’eau à quelques centimètres du sol ou directement sur le sol. Par exemple, les extensions verticales présentent une longueur inférieure ou égale à la hauteur de l’armature par rapport au sol. De préférence, les extensions verticales sont espacées les unes des autres d’une longueur égale à l’écartement des sillons du terrain agricole. Les extensions verticales peuvent en outre être fixes ou mobiles par rapport à l’armature de distribution. Selon une variante de réalisation, les extrémités des extensions verticales peuvent comprendre des roulettes agencées pour être en contact avec le sol de manière à soutenir l’armature de distribution.
De manière préférentielle, l’armature de distribution d’eau s’étend perpendiculairement au châssis et/ou perpendiculairement à la direction de déplacement.
Par exemple, l’armature de distribution est du type flèche et/ou du type formant un treillis.
De manière optionnelle, l’élément de déport comprend un élément de soutien disposé entre les extrémités proximale et distale et prenant appui au sol. Par exemple, l’élément de soutien comprend une roue de soutien dont l’axe de rotation est raccordé au milieu du bras de support via une jambe de soutien. L’élément de soutien n’est pas un moyen de déplacement.
Selon une variante de réalisation, au moins une extrémité distale d’armature comprend une butée d’élément de déport. Par exemple une extrémité distale de la première section comprend une butée d’élément de déport.
Cela permet, dans le cas où le capot 7 est réalisé en matière transparente, de ne pas voir l’intérieur du récipient et que le produit, contenu dans le pot 8, ne vienne pas souiller le fond 73 (paroi sommitale) du capot 7.
La cheminée 50’ présente un bord inférieur 53’ annulaire qui est bordé par une collerette 54’ comprenant des ailettes radiales 55’ remontantes vers l’extérieur de la cheminée.
Les ailettes forment ainsi une forme en U avec la paroi de la cheminée 50’, cette forme en U permettant d’accueillir l’extrémité libre 71 de la jupe 70 du capot 7 quand la cheminée 50’ est insérée dans le capot 7.
Les ailettes 55’ comportent, à leur extrémité libre, un bourrelet 90’ orienté vers la cheminée 50’.
Une des ailettes 55’ comporte une encoche 56’, présentant une forme coudée (en forme de L dans cet exemple de réalisation, comme pour l’autre capot 5), l’encoche 56’ étant réalisée pour recevoir un ergot saillant 62’ solidaire d’une frette 6’ montrée en .
L’encoche 56’ présente ainsi deux parties d’encoche réalisant la forme coudée : une première partie d’encoche 57’ est réalisée à travers l’ailette 55’ (ou est formée dans l’épaisseur de l’ailette 55’) et s’étend suivant une direction axiale (c’est-à-dire une direction parallèle à celle de l’axe de la cheminée 50’), et une seconde partie d’encoche 58’ est réalisée à travers l’ailette 55’ (ou est formée dans l’épaisseur de l’ailette 55’) et forme un logement qui s’étend suivant un arc de cercle ayant pour centre celui de la cheminée 50.
La première partie d’encoche 57’ présente une ouverture d’entrée 59’ située en partie basse de l’ailette remontante 55’, à proximité du fond de la forme en U formée entre l’ailette 55’ et la partie inférieure de la cheminée 50’.
Pour permettre la fixation de la frette 6’ sur l’adaptateur 5’, l’ergot saillant 62’ est inséré dans l’ouverture d’entrée 59’ de la première partie d’encoche 57’ en déplaçant la frette 6’ suivant une direction axiale, dans un sens allant du bas vers le haut.
Puis, la frette est maintenue en position sur l’adaptateur par rotation de la frette autour de l’adaptateur : grâce au mouvement de rotation, l’ergot saillant 62’ se place dans la seconde partie d’encoche 58’.
En position de fixation de la frette 6’ avec l’adaptateur 5’, le bord supérieur de la frette 6’ vient en appui contre l’épaulement 76 de la jupe 70 du capot 7.
De même, quand la frette 6’ est fixée à l’adaptateur 5’, les bourrelets 90’ des extrémités libres des ailettes 55’ sont insérés dans la gorge 78 du capot 7 (voir ).
Une fois que la frette 6’ est associée à l’adaptateur 5’, le capot 7 est équipé de moyens lui permettant de se fixer par vissage sur le bord 82 du pot 8 : en effet, la cheminée de l’adaptateur 5’ forme alors une paroi interne dans le capot 7 équipée d’un filetage pouvant s’associer par vissage au filetage du bord 82.