INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Le fait de déposer directement du siliciure de vanadium sur la couche de silicium est avantageux par rapport au procédé qui dépose seulement du vanadium sur la couche de silicium puis qui transforme ensuite ce vanadium déposé en siliciure de vanadium à l'aide d'un traitement thermique. En particulier, le procédé de réalisation décrit ici empêche ou limite très fortement l'apparition de VSi 2 à l'interface entre le silicium et le siliciure de vanadium. Le procédé décrit ici permet aussi de déposer le vanadium et le silicium dans les proportions stœchiométriques souhaitées pour obtenir le siliciure de vanadium. Il y a donc moins de gaspillage de matière comme, par exemple, un dépôt trop important de vanadium. De plus, le dépôt de siliciure de vanadium est plus simple à mettre en œuvre que le dépôt de vanadium pur car le siliciure de vanadium est moins sensible à l’oxydation et à la nitruration dans le cas où l’on souhaiterait l’encapsuler avec un nitrure. Le traitement thermique appliqué lors de l’étape 100 du procédé décrit ici pour augmenter la température critique du siliciure de vanadium se déroule à une température généralement moins élevée que celle nécessaire pour faire réagir le vanadium pur déposée sur la couche de silicium afin d’obtenir du siliciure de vanadium. De plus, la durée de ce traitement thermique est plus courte. Enfin, il est plus facile de maîtriser l’épaisseur de siliciure de vanadium déposé en mettant en œuvre le procédé décrit ici que dans le cas où le siliciure de vanadium est obtenu par une réaction chimique entre du vanadium pur et une couche de silicium. En effet, cette réaction chimique consomme une partie de la couche de silicium et modifie donc l’épaisseur de la couche de vanadium.
L’utilisation d’un plasma d’argon permet, en une seule opération, de nettoyer la face supérieure de la couche 14 en silicium pour la préparer au dépôt de siliciure de vanadium et, en même temps, d’incorporer les atomes d’argon en surface de cette couche de silicium.
Le dépôt du siliciure de vanadium par le procédé PVD est simple à mettre en œuvre.
PROCEDE DE PROTECTION D’UN CALCULATEUR DE GESTION D’UNE BATTERIE HAUTE-TENSION L'invention a pour objet la protection du fonctionnement d’un calculateur de gestion d’une batterie haute tension contre une sous-tension d’un réseau de bord basse tension, par exemple 12V, 24V ou 48V d’un véhicule automobile électrique ou hybride.
Chaque couche de convolution 204 comporte un ensemble de neurones artificiels chacun connectés à au moins un neurone artificiel d’une couche de neurones artificiels précédente via une synapse affectée d’un poids synaptique. Le sous-ensemble de paramètres compris dans la matrice circulante correspondant à une couche de convolution 101 comporte par exemple chaque poids synaptique affecté à une synapse connectant un neurone artificiel de la couche de convolution 204.
Par exemple, une couche de convolution 204 comprenant trois neurones artificiels chacun connecté à un unique neurone artificiel d’une couche précédente est associée à un sous-ensemble de paramètres comprenant trois poids synaptiques, notés respectivement w 1 , w 2 et w 3 . La matrice circulante correspondant à ladite couche de convolution 204 est alors :
La première étape 101 du procédé 100 comprend, pour chaque séquence d'images supra-résolue de la base de données, une sous-étape 1011 consistant à mettre à jour l’ensemble de paramètres du réseau de neurones artificiels 200 en minimisant une fonction de coût.
La sous-étape 1011 consiste tout d’abord à fournir successivement en entrée du réseau de neurones artificiels 200, chaque sous-séquence d’images supra-résolues de la séquence d'images supra-résolue par ordre croissant, pour obtenir une séquence d’images super-résolues comprenant chaque image super-résolue Y t fournie par le réseau de neurones artificiels 200 à l’issue de son traitement de la sous-séquence d’images supra-résolues correspondante.
En reprenant l’exemple de la séquence d’images supra-résolues {X 1 , X 2, X 3 , X 4 , X 5, X 6 }, la sous-étape 1011 consiste à fournir au réseau de neurones artificiels 200, la première sous-séquence d’images supra-résolues {X 1 , X 2, X 3 } pour obtenir une première image super-résolue Y 1 , puis la deuxième sous-séquence d’images supra-résolues {X 2, X 3 , X 4 } pour obtenir une deuxième image super-résolue Y 2 , puis la troisième sous-séquence d’images supra-résolues {X 3 , X 4 , X 5 } pour obtenir une troisième image super-résolue Y 3 , puis la quatrième sous-séquence d’images supra-résolues {X 4 , X 5, X 6 } pour obtenir une quatrième image super-résolue Y 4 , et ainsi obtenir une séquence d’images super-résolues {Y 1 , Y 2 , Y 3 , Y 4 }.
La sous-étape 1011 consiste ensuite à minimiser une fonction de coût correspondant à l’erreur entre la séquence d’images super-résolues précédemment obtenue pour la séquence d’images supra-résolues et la séquence d’images super-résolues associée à la séquence d'images supra-résolues dans la base de données.
La fonction de coût est par exemple une erreur quadratique moyenne.
La minimisation de la fonction coût est réalisée en appliquant une contrainte dite contrainte de Lipschitz, sur la valeur de la norme spectrale de chaque matrice circulante correspondant à une couche de convolution 204 de la deuxième partie 202 du réseau de neurones artificiels 200, c’est-à-dire en imposant une valeur α à la norme spectrale de chaque matrice circulante correspondant à une couche de convolution 204 de la deuxième partie 202 du réseau de neurones artificiels 200, α étant un entier supérieur à 0.
La norme spectrale d'une matrice A est la racine carrée de la plus grande valeur propre de la matrice symétrique A*A, A* étant la matrice adjointe de la matrice A.
α est de préférence égale à 1, et la contrainte de Lipschitz est alors dite stricte.
La minimisation de la fonction coût peut également être réalisée en appliquant en sus de la contrainte sur la valeur de la norme spectrale, une contrainte sur le rang de chaque matrice circulante correspondant à une couche de convolution 204 de la deuxième partie 202 du réseau de neurones artificiels 200, c’est-à-dire en contrôlant le rang de chaque matrice circulante correspondant à une couche de convolution 204 de la deuxième partie 202 du réseau de neurones artificiels 200, via un hyper paramètre β qui est un entier supérieur à 0.
Quand il s’agit d’imposer la contrainte de Lipschitz stricte, β est de préférence égale à 1.
La contrainte de Lipschitz stricte est par exemple imposée en utilisant l’algorithme SNRL.
La minimisation de la fonction coût sous contrainte est par exemple réalisée par l’algorithme de rétropropagation du gradient dans le temps (« Back-Propagation Through Time » en anglais ou BPTT).
Une deuxième étape 102 du procédé 100 selon l’invention consiste à utiliser sur chaque sous-séquence d'images supra-résolues de la séquence d'images supra-résolues à super-résoudre dans l’ordre croissant, le réseau de neurones artificiels 200 entraîné à la première étape 101, pour obtenir au moins une séquence d’images super-résolues comprenant chaque image super-résolue Y t fournie par le réseau de neurones artificiels 200 à partir d’une sous-séquence d’images supra-résolues de la séquence d'images supra-résolues à super-résoudre.
Procédé, programme d’ordinateur et dispositif de traitement d’images par extraction de composante(s) principale(s) d’une représentation d’images La présente invention concerne un procédé de traitement d’images par extraction d’au moins une composante principale d’une représentation d’images à N dimensions, où N ≥ 3. Elle concerne également un programme d’ordinateur et un dispositif correspondants.
Ainsi le système illustré sur cette figure comporte plusieurs embases de connecteurs.
Sur cette figure, une embase est par exemple désignée par la référence générale 1, tandis qu’un connecteur correspondant est désigné par la référence générale 2.
Dans l’exemple illustré le système comporte sept embases de connecteur mais il va de soi qu’un nombre différent peut être envisagé.
Le système comporte également au moins un système de presse-étoupe désigné par la référence générale 3, associé à au moins un câble de regroupement des signaux issus des connecteurs.
Enfin des moyens de raccordement des embases des connecteurs au système de presse-étoupe sont également prévus entre ceux-ci.
Enfin et comme cela est illustré également le système comporte des moyens de fixation sur un support quelconque, ces moyens comprenant par exemple des pattes dont l’une est désignée par la référence générale 5 sur cette figure.
Ces moyens de fixation peuvent également comporter une zone 6 adaptée à l’insertion d’un collier de serrage autobloquant.
Des systèmes de joints entre éléments démontables permettent d’assurer l’étanchéité de l’ensemble assemblé.
Les éléments démontables constituant ce système sont alors munis de systèmes garantissant l’étanchéité de l’ensemble assemblé à une pression extérieure de gaz, de liquide ou de vapeur.
Ainsi ce système permet grâce au système de presse-étoupe 3, associé à au moins un câble de regroupement désigné par la référence générale 7, de regrouper des signaux issus de câbles dont l’un est désigné par la référence générale 8, ces derniers étant reliés aux embases de connecteurs via des fiches mobiles correspondantes.
Un tel système peut par exemple être réalisé par fabrication additive, à base de matériaux organiques ou métalliques.
On conçoit alors qu’un tel système présente un certain nombre d’avantages, au niveau de son coût, de son étanchéité, de sa facilité d’intégration, de sa compacité et de la fiabilité de raccordement.
Système de concentration de signaux électriques par connecteur et plusieurs systèmes de presse-étoupe La présente invention concerne un système de concentration de signaux électriques par connecteur et plusieurs systèmes de presse-étoupe.
Il existe déjà dans l’état de la technique des systèmes de concentration de signaux de ce type.
Les alcools polyhydriques sont utiles. Le terme « polyol « doit être compris comme signifiant, au sens de la présente divulgation, une molécule organique comprenant au moins deux groupes hydroxyle libres. Les polyols de la composition cosmétique peuvent être des glycols ou des composés comportant de nombreux groupes hydroxyle. Dans certains cas, le ou les polyols sont choisis dans le groupe consistant en des polyols en C2-C32. Le ou les polyols peuvent être liquides à température ambiante (25°C). Le ou les polyols peuvent avoir de 2 à 32 atomes de carbone, de 3 à 16 atomes de carbone, ou de 3 à 12 atomes de carbone.
Des exemples non limitatifs de polyols qui peuvent, facultativement, être inclus dans la composition cosmétique incluent et/ou peuvent être choisis parmi les alcanediols tels que glycérine, 1,2,6-hexanetriol, triméthylolpropane, éthylène glycol, propylène glycol, butylène glycol, pentylène glycol, hexylène glycol, diéthylène glycol, triéthylène glycol, tétraéthylène glycol, pentaéthylène glycol, dipropylène glycol, 2-butène-1,4-diol, 2-éthyl-1,3-hexanediol, 2-méthyl-2,4-pentanediol, caprylyl glycol, 1,2-hexanediol, 1,2-pentanediol et 4-méthyl-1,2-pentanediol ; les éthers de glycol tels que éther monométhylique d’éthylène glycol, éther monoéthylique d’éthylène glycol, éther monobutylique d’éthylène glycol, acétate d’éther monométhylique d’éthylène glycol, éther monométhylique de diéthylène glycol, éther monoéthylique de diéthylène glycol, éther mono-n-propylique de diéthylène glycol, éther mono-iso-propylique d’éthylène glycol, éther mono-iso-propylique de diéthylène glycol, éther mono-n-butylique d’éthylène glycol, éther mono-t-butylique d’éthylène glycol, éther mono-t-butylique du diéthylèneglycol, 1-méthyl-1-méthoxybutanol, éther monométhylique du propylèneglycol, éther monoéthylique du propylèneglycol, éther mono-t-butylique du propylèneglycol, éther mono-n-propylique du propylèneglycol, éther mono-iso-propylique du propylène glycol, éther monométhylique du dipropylène glycol, éther monoéthylique du dipropylène glycol, éther mono-n-propylique du dipropylène glycol, éther mono-iso-propylique du dipropylène glycol, sorbitol, sorbitan, triacétine, et un mélange de ceux-ci. Le ou les polyols peuvent facultativement être des glycols ou des éthers de glycol tels que, par exemple, les éthers monométhyliques, monoéthyliques et monobutyliques d’éthylène glycol, de propylène glycol ou leurs éthers tels que, par exemple, éther monométhylique de propylène glycol, butylène glycol, hexylène glycol, dipropylène glycol ainsi que les éthers alkyliques de diéthylène glycol, par exemple, l’éther monoéthylique ou l’éther monobutylique deu diéthylène glycol.
Dans certains cas, le polyol comprend glycérine, éthylène glycol, diéthylène glycol, triéthylène glycol, propylène glycol, dipropylène glycol, tripropylène glycol, 1,3-butanediol, 2,3-butanediol, 1, 4-butanediol, 3-méthyl-1,3-butanediol, 1,5-pentanediol, tétraéthylène glycol, 1,6-hexanediol, 2-méthyl-2,4-pentanediol, polyéthylène glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,2,6-hexanetriol, et un mélange de ceux-ci. Des composés de polyol peuvent également être utilisés. Des exemples non limitatifs incluent les diols aliphatiques, tels que 2-éthyl-2-méthyl-1,3-propanediol, 3,3-diméthyl-1,2-butanediol, 2,2-diéthyl-1,3-propanediol, 2-méthyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2,4-diméthyl-2,4-pentanediol, 2,5-diméthyl-2,5-hexanediol, 5-hexène-1,2-diol et 2-éthyl-1,3-hexanediol, et un mélange de ceux-ci.
Dans certains cas, la composition cosmétique permet d’améliorer la pénétration des agents actifs pour la peau dans la peau humaine adulte. Par exemple, les compositions cosmétiques peuvent réaliser la pénétration de l’agent actif pour la peau dans l’épiderme et le derme de la peau. Dans certains cas, la composition cosmétique peut obtenir environ 2 µg/cm 2 ou plus, 2,1 µg/cm 2 ou plus, 2,2 µg/cm 2 ou plus, 2,3 µg/cm 2 ou plus, 2,4 µg/cm 2 ou plus, 2,5 µg/cm 2 ou plus, 2,6 µg/cm 2 ou plus, 2,7 µg/cm 2 ou plus, 2,8 µg/cm 2 ou plus, 2,9 µg/cm 2 ou plus, 3 µg/cm 2 ou plus d’agent actif pour la peau dans l’épiderme et le derme de la peau humaine. Dans certains modes de réalisation, les compositions cosmétiques obtiennent la pénétration améliorée des agents actifs pour la peau sans utiliser d’amplificateurs de pénétration.
Certaines compositions thérapeutiques ou cosmétiques atteignent la pénétration épidermique en utilisant un vecteur ou véhicule amplifiant la pénétration de la peau. Ces vecteurs ou véhicules (qui sont des composés ou des mélanges de composés) sont souvent décrits comme des « amplificateurs de pénétration » ou des « amplificateurs de la peau ». Les amplificateurs de pénétration typiques, qui peuvent être facultativement exclus de la composition cosmétique, incluent les sulfoxydes (tels que le diméthylsulfoxyde, DMSO), azones (par exemple, laurocaprame), pyrrolidones (par exemple, 2-pyrrolidone, 2P), alcools et alcanols (éthanol ou décanol), tensioactifs (également courants dans les formes galéniques) et terpènes. Certains amplificateurs de pénétration sont capables de s’insérer entre les queues hydrophobes de la bicouche, perturbant ainsi leur compacité, augmentant leur fluidité et, par la suite, conduisant à une diffusion plus facile des pénétrants de type lipide. Les inventeurs ont découvert de manière étonnante que certaines compositions cosmétiques selon la divulgation permettaient une meilleure pénétration des agents actifs pour la peau dans la peau humaine adulte sans nécessiter l’utilisation de certains amplificateurs de pénétration. Néanmoins, dans certains cas, il peut être souhaitable d’inclure des amplificateurs de pénétration, tels que ceux évoqués ici.
Dans certains cas, la composition cosmétique contient 5 % en poids ou moins, 4 % en poids ou moins, 3 % en poids ou moins, 2 % en poids ou moins, ou 1 % en poids ou moins de l’un quelconque des amplificateurs de pénétration précédents. Dans au moins un cas, la composition cosmétique est exempte ou essentiellement exempte de l’un quelconque des amplificateurs de pénétration précédents. En outre ou alternativement, la composition cosmétique peut contenir environ 5 % en poids ou moins, 4 % en poids ou moins, 3 % en poids ou moins, 2 % en poids ou moins, ou 1 % en poids ou moins d’une quantité totale d’amplificateurs de pénétration. Par exemple, la composition cosmétique peut être exempte ou essentiellement exempte d’amplificateurs de pénétration.
Les compositions cosmétiques sont généralement formulées sous forme d’émulsion. Typiquement, les compositions cosmétiques sont formulées pour être des émulsions huile dans l’eau, la phase grasse étant émulsionnée dans la phase hydrophile. Cependant, dans certains cas, les compositions cosmétiques peuvent être formulées pour avoir une phase hydrophile (par exemple, des alcools, des glycols, des polyols, etc.) émulsionnée dans la phase grasse. La composition cosmétique peut être formulée, dans certains cas, sous forme de lotions, sérums, crèmes, pulvérisateurs ou toute autre forme de produit convenable.
En outre, la présente divulgation concerne des procédés de traitement de la peau comprenant l’application de la composition cosmétique de la présente divulgation sur la peau. Les compositions cosmétiques sont en outre utiles dans des procédés de traitement et/ou de réparation des lésions cutanées dues au photovieillissement, et de diminution de l’aspect des rides, des taches sombres et d’une texture inégale de la peau. Les procédés susmentionnés peuvent être non thérapeutiques.
Des composants convenables, tels que ceux énumérés ci-dessous, peuvent être inclus ou exclus des formulations des compositions cosmétiques en fonction de la combinaison spécifique d’autres composants, de la forme des compositions cosmétiques et/ou de l’utilisation de la formulation (par exemple, une lotion, un sérum, un gel, une crème, un pulvérisateur, etc.)
Agents épaississants En plus des polymères du mélange de polymères modificateur et stabilisateur de rhéologie, des agents épaississants supplémentaires peuvent facultativement être inclus dans la composition cosmétique afin d’ajuster et/ou d’obtenir une viscosité souhaitée. Cependant, les agents épaississants supplémentaires ne sont pas nécessaires et peuvent être exclus des compositions. Des exemples non limitatifs d’agents épaississants qui peuvent être inclus dans les compositions cosmétiques sont présentés ci-dessous.
Agents épaississants minéraux Les agents épaississants minéraux sont des composés à base minérale qui épaississent ou modifient la viscosité des compositions de raffermissement de la peau. Des exemples non limitatifs d’agents épaississants minéraux incluent silylate de silice, silice sublimée, zéolite, argile naturelle, argile synthétique, kaolin, hectorite, hectorite organiquement modifiée (par ex, INCI : pentaerythrityl tetraisostearate (et) disteardimonium hectorite (et) propylene carbonate), une argile activée (par exemple, hectorite de distéardimonium, hectorite de stéaralconium, bentonite de quaternium-18, hectorite de quaternium-18, et bentonite de benzalconium), et un mélange de ceux-ci.
Dans certains cas, les compositions de raffermissement de la peau peuvent inclure un ou plusieurs agents épaississants minéraux choisis parmi les silices facultativement modifiées, les argiles facultativement modifiées, et un mélange de ceux-ci. Les agents épaississants minéraux peuvent être choisis parmi les silices facultativement modifiées, les argiles facultativement modifiées et un mélange de celles-ci. Dans certains cas, les agents épaississants minéraux sont choisis parmi les argiles lipophiles (organophiles), en particulier les hectorites modifiées ; la silice sublimée traitée hydrophobe ; les aérogels de silice hydrophobe, et leurs mélanges (par exemple, hectorite de disteardimonium, silylate de silice, ou un mélange de ceux-ci).
Les agents épaississants minéraux peuvent être choisis parmi silylate de silice, silice sublimée, zéolite, argile naturelle, argile synthétique, kaolin, hectorite, l’hectorite organiquement modifiée (par ex, 30 tétraisostéarate de pentaérythrityle (et) disteardimonium hectorite (et) carbonate de propylène), une argile activée (par exemple, hectorite de distéardimonium, hectorite de stéaralconium, bentonite de quaternium-18, hectorite de quaternium-18 et bentonite de benzalconium).
Silices facultativement modifiées
Les silices facultativement modifiées incluent la silice sublimée facultativement soumise à un traitement de surface hydrophobe, dont la taille des particules peut être inférieure à 1 µm. Plus précisément, il est possible de modifier chimiquement la surface de la silice, par réaction chimique générant un nombre réduit de groupes silanol présents à la surface de la silice. Les groupes silanol peuvent notamment être remplacés par des groupes hydrophobes : on obtient alors une silice hydrophobe. Les groupes hydrophobes peuvent être :
- des groupes triméthylsiloxyle, qui sont obtenus notamment par traitement de la silice sublimée en présence d’hexaméthyldisilazane. Les silices ainsi traitées sont connues sous le nom « silica silylate » selon la CTFA (6ème édition, 1995). Elles sont vendues, par exemple, sous les références Aerosil R812 par la société Degussa, et Cab-O-Sil TS-53 par la société Cabot ;
Des exemples non limitatifs de polymères synthétiques solubles dans l’eau incluent polyalcool vinylique, polyacrylate de sodium, polyméthacrylate de sodium, ester glycérique d’acide polyacrylique, polymère carboxyvinylique, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyvinylméthyléther, polyvinylsulfone, copolymère acide maléique, polyoxyde d’éthylène, polydiallylamine, polyéthylèneimine, dérivés de cellulose solubles dans l’eau (par exemple, carboxyméthylcellulose, méthylcellulose, méthylhydroxypropylcellulose, hydroxyéthylcellulose, hydroxypropylcellulose, sel sodique de sulfate de cellulose), et dérivés d’amidon (par exemple, oxyde d’amidon, dialdéhyde amidon, dextrine, achroodextrine, acétylamidon, phosphate d’amidon, carboxyméthylamidon, hydroxyéthylamidon, hydroxypropylamidon).
La quantité d’agent(s) épaississant(s) dans les compositions de la présente divulgation, autre que les polymères du mélange de polymères, peut varier. Dans certains cas, les compositions n’incluent pas d’agent(s) épaississant(s) autre(s) que les polymères du mélange de polymères, c’est-à-dire que les compositions peuvent être exemptes ou essentiellement exemptes d’agent(s) épaississant(s) autre(s) que les polymères du mélange de polymères. Cependant, dans certains cas, les compositions peuvent inclure environ 0,01 à environ 10 % en poids d’agent(s) épaississant(s) autre(s) que les polymères du mélange de polymères. De même, dans certains cas, la composition peut inclure environ 0,01 à environ 6 % en poids, environ 0,01 à environ 5 % en poids, environ 0,01 à environ 4 % en poids, environ 0,01 à environ 2 % en poids, environ 0,01 à environ 1 % en poids, environ 0,1 à environ 10 % en poids, environ 0,1 à environ 6 % en poids, environ 0,1 à environ 5 % en poids, environ 0,1 à environ 4 % en poids, environ 0,1 à environ 2 % en poids, ou 5 % en poids ou moins, 4 % en poids ou moins, 3 % en poids ou moins, 2 % en poids, 1 % en poids ou moins, 0,5 % en poids ou moins, ou 0,1 % en poids ou moins d’agent(s) épaississant(s) autre(s) que les polymères du mélange de polymères.
Agent(s) matifiant(s )