INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
La illustre la structure obtenue à l'issue d'une étape de report et de fixation de l'empilement actif de diode photosensible 103 sur le circuit intégré de contrôle 151, puis de retrait du substrat 101. Lors de cette étape, l'empilement actif de diode photosensible 103 est reporté sur le circuit intégré 151, en utilisant le substrat 101 comme poignée de support. Sur la , la structure comportant le substrat 101 et l'empilement 103 est retournée par rapport à l'orientation de la . L'empilement 103 est ensuite fixé sur le circuit intégré de contrôle 151. Dans cet exemple, l'empilement 103 est fixé par collage direct ou collage moléculaire de la face inférieure (dans l'orientation de la , correspondant à la face supérieure dans l'orientation de la ) de la couche 105, sur la face supérieure de la couche 155. Le substrat 101 est ensuite retiré, par exemple par meulage et/ou gravure chimique, de façon à libérer l'accès à la face supérieure de la couche 103a. A ce stade, chacune des couches de l'empilement actif de diode photosensible 103 s'étend par exemple de façon continue et avec une épaisseur sensiblement uniforme, sur toute la surface du circuit intégré de contrôle 151. On notera que dans cet exemple, l'empilements actifs 103 est non structuré et n'a subi aucune étape de traitement localisé avant l'étape de report. Ainsi, l'étape de report ne requière pas d'alignement précis.
La illustre la structure obtenue à l'issue des étapes successives suivantes : i) dépôt d'une couche diélectrique 111, par exemple en nitrure de silicium ou en oxyde de silicium, sur la face supérieure de la couche 103a, par exemple en contact avec la face supérieure de la couche 103a ; ii) formation d'ouvertures traversantes localisées dans la couche diélectrique 111, en vis-à-vis de futures zones de reprise de contact de type P correspondant à des régions d'anode des diodes photosensibles du dispositif ; iii) dopage de type P de régions localisées 113 de la couche 103a, situées en vis-à-vis desdites ouvertures traversantes ; iv) formation de métallisations de reprise de contact 115 dans les ouvertures traversantes, chaque métallisation 115 venant contacter individuellement la région dopée de type P 113 sous-jacente, à travers l'ouverture correspondante.
A l'étape i), la couche diélectrique 111 est par exemple déposée par un procédé de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD).
A l'étape ii), les ouvertures traversantes formées dans la couche diélectrique 111 sont par exemple formées par photolithographie et gravure.
A l'étape iii), le dopage des régions 113 peut être réalisé par diffusion ou implantation d'éléments dopants de type P, par exemple du zinc (Zn) ou du béryllium (Be), en vis-à-vis des ouvertures formées à l'étape ii). Un recuit d'activation des éléments dopants peut ensuite être mis en oeuvre. A titre d'exemple, le recuit d'activation peut être un recuit laser superficiel, ce qui permet de ne pas altérer le circuit intégré 151 ni la qualité du collage entre le circuit intégré 151 et l'empilement actif de diode photosensible 103. Les régions dopées de type P 113 forment des régions d'anode des diodes photosensibles du dispositif. Dans cet exemple, les régions 113 s'étendent sur toute l'épaisseur de la couche 103a, et viennent en contact, par leur face inférieure, avec la face supérieure de la couche d'absorption 103b.
A l'étape iv), à titre d'exemple, une couche métallique est d'abord déposée de façon continue sur toute la surface supérieure de la structure, c'est-à-dire sur et en contact avec la face supérieure de la couche diélectrique 111 et dans les ouvertures formées à l'étape ii), puis retirée par photolithographie et gravure en conservant les métallisations 115. Dans cet exemple, chaque métallisation 115 constitue une électrode d'anode d'une diode photosensible D1 du dispositif.
La illustre la structure obtenue à l'issue d'une étape de formation, à partir de la face supérieure de la structure, de premières ouvertures ou vias de reprise de contact 121 traversant l'empilement actif de diode photosensible 103 et débouchant sur des plots de connexion 153 du circuit intégré de contrôle. Les ouvertures 121 s'étendent verticalement depuis la face supérieure de la couche diélectrique 111 jusqu'à la face supérieure des plots 153, à travers les couches 111, 103a, 103b, 103c, 105 et 155. Les ouvertures 121 ont par exemple une forme circulaire. Dans cet exemple, on vient former à cette étape, pour chacune des diodes photosensibles D1, une ouverture 121(a) spécifique formant une ouverture de reprise de contact d'anode de la diode. On vient en outre former, pour chacune des LED L1, L2, L3, une ouverture 121(b) spécifique formant une ouverture de reprise de contact d'anode de la LED. De plus, dans cet exemple, on vient former à cette étape, par exemple dans une région périphérique du dispositif, une ouverture 121(c) commune aux LED L1, L2, L3, formant une ouverture de reprise de contact de cathode desdites LED. Les ouvertures 121(a), 121(b), 121(c) sont par exemple identiques aux dispersions de fabrication près. Dans cet exemple, les ouvertures 121(a), 121(b), 121(c) sont formées simultanément lors d'une même étape de gravure localisée. Les ouvertures 121(a), 121(b), 121(c) débouchent respectivement sur des plots métalliques 153 distincts du circuit intégré de contrôle 151, de façon à permettre la commande individuelle des diodes D1, L1, L2, L3 par le circuit 151.
La illustre en outre une étape de dépôt d'une couche électriquement isolante 123, par exemple en oxyde de silicium, sur les parois latérales des ouvertures 121(a), 121(b), 121(c). La couche 123 est par exemple d'abord déposée de façon continue sur toute la surface supérieure de la structure après la formation des ouvertures 121. Les portions horizontales de la couche 123 sont ensuite retirées par gravure anisotrope verticale de façon que seules subsistent les portions verticales revêtant les parois latérales des ouvertures 121.
La illustre la structure obtenue à l'issue d'une étape ultérieure de formation, à partir de la face supérieure de la structure de la , d'au moins une deuxième ouverture de reprise de contact 125 traversant l'empilement actif de diode photosensible 103 et débouchant sur un plot de connexion 153 du circuit intégré de contrôle. De même que les ouvertures 121, l'ouverture 125 s'étend verticalement depuis la face supérieure de la couche diélectrique 111 jusqu'à la face supérieure du plot 153 sous-jacent, à travers les couches 111, 103a, 103b, 103c, 105 et 155. L'ouverture 125 a par exemple la même forme que les ouvertures 121. Dans cet exemple, on vient former à cette étape, par exemple dans une région périphérique du dispositif, une ouverture 125 commune aux diodes photosensibles D1 du dispositif, formant une ouverture de reprise de contact de cathode desdites diodes.
A la différence des ouvertures 121, les parois latérales de l'ouverture 125 ne sont pas revêtues par une couche électriquement isolante.
La illustre une étape ultérieure de remplissage des ouvertures 121(a), 121(b), 121(c) et 125 par du métal, de façon à former des vias conducteurs 127(a), respectivement 127(b), respectivement 127(c), respectivement 127(d). A l'issue de cette étape, une étape de planarisation de la face supérieure de la structure, par exemple une planarisation mécano-chimique (CMP), peut être mise en oeuvre, de sorte que les métallisation 115, 127(a), 127(b), 127(c), 127(d) affleurent au niveau de la face supérieure de la couche diélectrique 111.
Dans cet exemple, les vias 127(a) de reprise de contact d'anode des diodes D1, 127(b) de reprise de contact d'anode des LED L1, L2, L3 et 127(c) de reprise de contact de cathode des LED L1, L2, L3, sont isolés des couches de l'empilement 103 par la couche d'isolation latérale 123. Le via 127(d) de reprise de contact de cathode des diodes D1 est en revanche en contact, par ses flancs, avec les couches semiconductrices de l'empilement 103.
Le via 127(d) connecte électriquement la couche de cathode 103c de l'empilement de diode photosensible à un plot 153 de connexion de cathode des diodes photosensibles D1. On notera que dans la mesure les couches 103b et 103a de l'empilement 103 sont peu ou pas dopées, le contact latéral entre le via 127(d) et lesdites couches 103b, 103c n'entraine pas de court-circuit des diodes D1. La couche dopée 103c assure l'équipotentielle sur toute la surface du dispositif.
Suivant d’autres modes de réalisation conformes à l’invention, il est prévu deux pions radiaux ou trois pions radiaux (voire éventuellement plus) suivant le format du capot et de l’adaptateur associé.
L’adaptateur 5 a pour fonction de maintenir le capot sur le col du flacon 1.
Les ailettes 55 comportent, à leur extrémité libre, un bourrelet 90 orienté vers la cheminée 50.
Dans le cadre de cet exemple, le maintien se fait par serrage radial.
Pour permettre ce serrage, l’adaptateur doit rester ne place sur le capot également par serrage radial. Pour ce faire, l’adaptateur 5 doit être associé à la frette 6 évoquée ci-avant et visible notamment en .
La frette 6 comporte un anneau cylindrique présentant une surface extérieure 60 et une surface intérieure 61.
La surface intérieure 61 s’étend suivant un profil à symétrie de révolution autour de l’axe de la frette 6 : en effet, la surface intérieure 61 est cylindrique.
La surface extérieure 60 est, dans le cadre du présent exemple, également cylindrique. Elle pourrait toutefois présenter une forme différente, par exemple la frette pourrait présenter une forme extérieur quelconque, à facettes, de section polygonale etc. sans sortir du cadre de l’invention.
Seule la forme intérieure de la frette est nécessairement à symétrie de révolution autour de son axe pour autoriser la rotation de la frette autour des ailettes de l’adaptateur.
Dans le cadre de l’exemple illustré, non limitatif, le diamètre de l’anneau cylindrique est sensiblement identique au diamètre extérieur de la paroi cylindrique 10 du flacon 1. De cette façon, la frette 6 se place dans le prolongement de la paroi 10 du flacon pour donner à l’ensemble un design élégant.
Pour fixer la frette 6 autour de l’adaptateur 5, la surface intérieure 61 de l’anneau présente un ergot saillant 62.
Une encoche 56, présentant une forme coudée (en forme de L dans cet exemple de réalisation), est ménagée dans une ailette remontante 55 et est réalisée pour recevoir l’ergot saillant 62 solidaire de la frette 6.
L’encoche 56 présente ainsi deux parties d’encoche réalisant la forme coudée : une première partie d’encoche 57 est réalisée à travers l’ailette 55 et s’étend suivant une direction axiale (c’est-à-dire une direction parallèle à celle de l’axe de la cheminée 50), et une seconde partie d’encoche 58 est réalisée à travers l’ailette 55 et s’étend suivant une direction radiale (la seconde partie d’encoche forme un logement qui s’étend suivant un arc de cercle ayant pour centre celui de la cheminée 50).
La première partie d’encoche 57 présente une ouverture d’entrée 59 située en partie basse de l’ailette remontante 55, à proximité du fond de la forme en U formée entre l’ailette 55 et la partie inférieure de la cheminée 50.
Pour permettre la fixation de la frette 6 sur l’adaptateur 5, l’ergot saillant 62 est inséré dans l’ouverture d’entrée 59 de la première partie d’encoche 57 en déplaçant la frette 6 suivant une direction axiale, dans un sens allant du bas vers le haut.
Puis, la frette est maintenue en position sur l’adaptateur par rotation de la frette autour de l’adaptateur : grâce au mouvement de rotation, l’ergot saillant 62 se place dans la seconde partie d’encoche 58.
Selon une option alternative, l’orifice traversant (2) peut présenter une forme elliptique. Une forme ovale, ovoïde voire circulaire est aussi considérée.
Selon une option, la portion avant de l’orifice peut être formée en arc de cercle avec un premier rayon de courbure (R1) et la portion arrière (24) de l‘orifice traversant (2) peut présenter un second rayon de courbure (R2), et le premier rayon de courbure (R1) est plus grand que le second rayon de courbure.
Selon une option, la portion avant de l’orifice peut être concave et formée en arc de cercle avec un premier rayon de courbure (R1) et la portion arrière (24) de l‘orifice traversant (2) peut être concave, avec un second rayon de courbure (R2), et le premier rayon de courbure (R1) est plus grand que le second rayon de courbure.
Selon une option, le premier rayon de courbure peut être supérieur à 14 mm, le bord pouvant être concave ou convexe.
Selon une option, le second rayon de courbure (R2) peut être compris entre 6 mm et 14 mm.
Selon une option, le contour d’orifice est un contour fermé . Ceci procure solidité et aspect esthétique valorisant, à l’inverse d’un contour interrompu par une échancrure.
Selon une option, la zone d’appui distal (ZAD) peut comprendre une protubérance distale (32) formant appui sur une phalange distale du support digital. Ceci forme un repère tactile ; cela permet une maitrise du dosage d’effort plus facile côté distal.
Selon une option, la zone d’appui proximal (ZAP) peut comprendre au moins une protubérance proximale avant (33). Ceci forme un repère tactile ; on peut facilement installer la pièce projectile dans une posture à cheval sur la pulpe du doigt.
Selon une option, la zone d’appui proximal peut être telle que la tranche de la pièce à cet endroit est généralement concave entre la protubérance proximale arrière et la protubérance proximale avant. Une telle forme épouse naturellement la pulpe du doigt, les deux protubérances peuvent être placées à cheval sur un doigt.
Selon une option, la zone d’appui proximal peut être de préférence en arc de cercle. Simple à fabriquer, agréable à l’œil, pratique à l’usage, durable, forme naturelle. On choisit une forme qui épouse naturellement la pulpe du doigt.
Selon une option, ledit rayon de courbure (R3) peut être compris entre 0,5 cm et 25 cm.
Selon une option, la zone d’appui intermédiaire (ZAI) est interposée entre la zone d’appui proximal (ZAP) et la zone d’appui distal (ZAD) selon une disposition sensiblement en ligne droite. Moyennant quoi l’orifice traversant est agencé du côté arrière de la pièce projectile et la course utile de propulsion impartie par le pouce peut être la plus longue possible.
Selon une option, on repère le point milieu BP des sommets des protubérances proximales, et la forme de la pièce est telle que l’axe longitudinal X1, qui passe par le point de référence proximal (PrZp) de la zone d’appui proximal et le point de référence distal (PrZd) de la zone d’appui distal, passe aussi sensiblement par le point milieu BP des sommets des protubérances proximales.
Selon une autre perspective inversée, on peut définir le point de référence proximal (PrZp) comme l’intersection du bord proximal avec la droite qui relie le point milieu BP des sommets des protubérances proximale et le point de référence distal (PrZd) ou même le sommet de la zone d’appui distal (ZAD) lorsqu’une protubérance distale existe.
Selon une option, la pièce projectile est telle que au moins 70% de la surface de l’orifice traversant (2) est situé en arrière de l’axe longitudinal. Moyennant quoi l’orifice traversant est agencé du côté arrière de la pièce projectile et la course utile de propulsion impartie par le pouce peut être la plus longue possible.
Selon une option, le centre de masse (G) de la pièce projectile est situé à proximité de l’extrémité proximale de la zone d’appui intermédiaire (ZAI). Ainsi, l’orifice traversant se trouve globalement entre le centre de masse et la zone d’appui distal, l’orifice est éloigné du bord proximal et décalé du centre de masse pour pouvoir impartir la rotation sur elle-même de la pièce projectile. On obtient avantageusement une augmentation de la rotation même après libération de la ZAP, (cf phase W4, ).
La porte 4 se présente sous la forme d'une structure tridimensionnelle qui possède une section décroissante depuis une première extrémité jusqu’à une deuxième extrémité. La deuxième extrémité est opposée à la première extrémité selon le deuxième sens de déplacement B. La porte 4 se présente sous la forme d'une structure conique et plus préférentiellement de forme tronconique comme cela est illustré aux figures 1 à 12. La première extrémité correspond à l’ouverture de la gueule du cône, c’est-à-dire l’entrée de la porte 4 alors que la deuxième extrémité correspond au fond du cône.
La structure conique ou tronconique est à section décroissante selon le deuxième sens de déplacement B. Lorsque le fluide se déplace dans la canalisation 3 selon le deuxième sens de déplacement B, le fluide s'introduit à l'intérieur de la porte 4, c’est-à-dire à l’intérieur du cône, ce qui a pour effet de générer une force sur la paroi interne de la membrane. Cette force appuie la paroi du cône en direction de la paroi latérale interne de la canalisation ou du système de fixation 2 ce qui rend plus difficile un passage de liquide à travers le clapet anti-retour 1.
Au contraire, lorsque le fluide se déplace selon le premier sens de déplacement A, il rencontre la paroi externe de la porte 4. Le fluide applique une force dirigée vers l’intérieur du cône et qui a pour effet de déformer l’entrée de la porte 4 et définir un passage pour le fluide. Le fluide exerce une force sur la portion mobile 4b qui se déforme pour générer un passage.
Il est particulièrement intéressant de fournir une porte 4 ayant une forme particulière de manière à assurer un blocage efficace du fluide lorsque ce dernier circule selon le deuxième sens de déplacement B et de présenter la capacité de se déformer facilement lorsque le fluide circule selon le premier sens de déplacement A. Plus la porte 4 se déforme facilement et plus la porte 4 peut laisser passer un débit faible de fluide ce qui empêche une stagnation du fluide. Cela réduit les pertes de charges générées par le clapet anti-retour 1.
L'utilisation d'un cône correspondant à sa définition mathématique, c'est-à-dire avec une pluralité de sections circulaires qui décroissent de manière linéaire n'offre pas un résultat satisfaisant. Le cône est en mesure de bloquer efficacement le flux de fluide selon le deuxième sens déplacement B, mais il est nécessaire d'appliquer un effort conséquent selon le premier sens de déplacement A pour obtenir une déformation suffisante du cône qui permet le passage d'un fluide à faible débit. En d'autres termes, le cône ne se déforme que si une hauteur suffisante de fluide est présente dans la canalisation 3.
De manière à améliorer la capacité à déformer la porte 4 pour de faibles débits de fluide selon le premier sens de déplacement A, c’est-à-dire à un faible débit, il est proposé de fournir une porte 4 qui est dépourvue de section circulaire selon des plans de coupe qui sont perpendiculaires au premier sens de déplacement A, c’est-à-dire à la direction longitudinale de la porte 4 et de la canalisation 3.
De manière préférentielle illustrée à la , la première extrémité de la porte 4 est formée avec une portion mobile 4b qui possède une lèvre 4b’ et deux charnières 4b’’. La lèvre 4b’ possède un rayon de courbure qui est supérieur aux rayons de courbure des deux charnières 4b’’. Les deux charnières 4b’’ sont séparées par la lèvre 4b’ et chacune des charnières 4b’’ sépare la lèvre 4b’ et la portion fixe 4a. Cette configuration permet de former une lèvre 4b’ qui se déforme plus facilement lorsqu’une force est appliquée sur la paroi externe de la lèvre 4b’ en direction de l’intérieur du cône. La lèvre 4b’ se déforme entre une position de contact où la lèvre 4b’ ferme la porte 4 et une position déformée où la lèvre 4b’ définit un canal pour le passage d’un fluide.
Il est également intéressant de prévoir que la zone d’entrée de la porte 4 définisse deux renforts 5 qui séparent la portion fixe 4a et la portion mobile 4b. Les deux renforts 5 forment un rétrécissement de la largeur de l’entrée de la porte 4. La largeur est mesurée selon une direction longitudinale perpendiculaire à l’axe de la canalisation 3 lorsque le clapet anti-retour 1 est monté dans la canalisation 3. De manière préférentielle, chaque renfort 5 définit une inflexion du rayon de courbure de l’entrée de la porte 4. Préférentiellement, chacun des renforts 5 définit une inversion de courbure par rapport à la courbure qui est présente dans la portion mobile 4b. Les zones de renfort 5 séparent la portion fixe 4a et la portion mobile 4b. Selon les configurations, les zones de renfort 5 sont montées fixes ou mobiles par rapport au système de fixation 2.
En changeant l’orientation du rayon de courbure, les zones de renfort 5 sont en mesure de concentrer les efforts du liquide sur la portion mobile 4b pour faciliter la déformation de la portion mobile 4b à faible débit.
De manière avantageuse, le rayon de courbure des zones de renfort 5 possède une valeur qui est supérieure à la valeur du rayon de courbure des charnières 4b’’ en valeur absolue.
Lorsque la canalisation 3 est à section circulaire, il est avantageux d’utiliser un système de fixation 2 qui est également à section externe circulaire. Préférentiellement, le centre de la section externe circulaire correspond au centre du rayon de courbure de la lèvre 4b’.
Avantageusement, la portion mobile 4b s’étend depuis l’entrée, c’est-à-dire la première extrémité, en direction de la deuxième extrémité en conservant la lèvre 4b’, les charnières 4b’’ et les renforts 5 sur moins de 30% de la longueur de la porte 4, de préférence moins de 20% de la longueur de la porte 4. Le rayon de courbure peut être maintenu constant sur toute la longueur de la portion mobile 4b, mais il est également possible de prévoir une diminution du rayon de courbure tant que ce dernier reste inférieur à celui des charnières 4b’’.
Afin de faciliter l’ouverture de la porte 4 à un faible débit appliqué sur la paroi externe de la portion mobile 4b, il est avantageux que la portion mobile 4b possède un rayon de courbure constant sur au moins 5% de préférence au moins 10% de la longueur de la porte 4. La longueur est mesurée sur le périmètre de la membrane. Le maintien du rayon de courbure permet de réduire l’effort à appliquer pour déformer la partie mobile 4b et former le canal qui permet un passage du fluide selon le premier sens de déplacement A.
Dans un mode de réalisation particulier, la partie mobile 4b est réalisée en matériau polymère, de préférence en élastomère. Avantageusement, la porte 4 est intégralement réalisée dans un matériau polymère, par exemple en élastomère. La partie mobile 4b se déforme de manière élastique entre sa première position et sa deuxième position. Selon les configurations, l'épaisseur du matériau formant la portion fixe 4a peut-être supérieure ou égale à l'épaisseur du matériau formant la portion mobile 4b. Il est également possible de prévoir que l'épaisseur du matériau formant les deux charnières 4b’’ soit supérieure ou égale à l'épaisseur de la lèvre 4b’. Il est encore possible de prévoir que l'épaisseur du matériau formant la portion fixe 4a soit supérieure ou égale à l'épaisseur du matériau formant les deux zones de renfort 5.