INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Le commutateur 2 comprend un transistor T1. Le transistor T1 est un transistor MOS à canal P, ou PMOS. Le transistor T1 couple la borne 202 à la borne 204. Le commutateur 2 comprend un seul transistor, à savoir le transistor T1, entre ses bornes 202 et 204. Par exemple, le transistor T1 a sa source S1 connectée à la borne 202 et son drain D1 connecté à la borne 204. La source S1 du transistor T1 est connectée à la région de corps ("body" en anglais), ou région de formation de canal, du transistor T1. La diode intrinsèque Di1 du transistor T1 a donc son anode du côté de la borne 204, et sa cathode du côté de la borne 202.
Le commutateur 2 comprend un transistor T2 et un transistor T3 en série entre les bornes 202 et 200. Les transistors T2 et T3 sont des transistors MOS à canal P, ou PMOS. Les transistors T2 et T3 couplent la borne 202 à la borne 200. Entre les bornes 202 et 200, le commutateur 2 comprend seulement deux transistors, à savoir les transistors T2 et T3. Par exemple, le transistor T2 a sa source S2 connectée à la borne 202. La source S2 du transistor T2 est connectée à la région de corps du transistor T2. La diode intrinsèque Di2 du transistor T2 a donc son anode du côté de la borne 200, et sa cathode du côté de la borne 202. Par exemple, le transistor T3 a sa source S3 connectée à la borne 200 et son drain D3 connecté au drain D2 du transistor T2. La source S3 du transistor T3 est connectée à la région de corps du transistor T3. La diode intrinsèque Di3 du transistor T3 a donc son anode du côté de la borne 202, et sa cathode du côté de la borne 200.
Le commutateur 2 est commandé par l'intermédiaire de signaux cmd1, cmd2 et cmd3 appliqués respectivement sur la grille G1 du transistor T1, la grille G2 du transistor T2 et la grille G3 du transistor T3. Par exemple, en fonction des signaux de commande cmd1, cmd2 et cmd3, le potentiel Vsw sur la borne 202 du commutateur 2 est dérivé sélectivement du potentiel Vbat ou du potentiel Vdd. Dit autrement, en fonction des signaux de commande cmd1, cmd2 et cmd3, le potentiel Vsw est égal au potentiel Vbat (en négligeant les chutes de tension dans les transistors T2 et T3) ou au potentiel Vdd (en négligeant la chute de tension dans le transistor T1).
Par rapport aux commutateurs d'alimentation connus, le commutateur 2 ne comprend qu'un seul transistor PMOS entre ses bornes 202 et 204, à savoir le transistor T1, d'où il résulte que le commutateur 2 est moins encombrant que les commutateurs connus.
De préférence, le transistor T1 est deux fois plus petit que chacun des transistors T2 et T3, de sorte que l'impédance vue sur la borne 202 lorsque les transistors T2 et T3 sont bloqués et le transistor T1 passant soit la même que lorsque les transistors T2 et T3 sont passants et le transistor T1 bloqué.
A titre d'exemple, le commutateur 2 permet d'alimenter des circuits avec le potentiel Vsw dérivé du potentiel Vdd lorsque le potentiel Vdd est supérieur à un seuil Vth, et avec le potentiel Vsw dérivé du potentiel Vbat lorsque le potentiel Vdd est inférieur au seuil Vth, par exemple lorsque le potentiel Vdd est nul.
Par exemple, la source 5 délivre un potentiel Vdd supérieur au seuil Vth si le dispositif 1 est relié à une alimentation principale et un potentiel Vdd inférieur au seuil Vth, voire nul, sinon. Par exemple, la source 4 est une batterie du dispositif 1. Le commutateur 2 permet alors de conserver un potentiel d'alimentation Vsw non nul lorsque le dispositif 1 est déconnecté de l'alimentation principale 5 et que le potentiel Vdd devient nul, en couplant les bornes 200 et 202 (alimentation sur batterie 4), et, à l'inverse, d'économiser la batterie 4 lorsque le dispositif 1 est couplé à l'alimentation principale et que le potentiel Vdd est supérieur au seuil Vth, en couplant les bornes 204 et 202 (alimentation sur l'alimentation principale 5).
Ainsi, les contours du site d’assemblage et les bords (c’est-à-dire les emplacements et les dimensions) des plots conducteurs sont définis lors de cette étape de photolithographie, c’est-à-dire avec un même niveau de photolithographie.
On dispose ensuite sur la structure : - une couche complémentaire d’arrêt de gravure 67’, par exemple en nitrure de silicium (Si x N y ), formée sur les plots conducteurs 64, sur la zone périphérique 604B de la couche métallique, et dans les tranchées 606 ; et - une couche barrière 602 formée sur la couche complémentaire d’arrêt de gravure 67’.
La couche barrière 602 comprend un matériau adapté pour bloquer la diffusion du matériau métallique dans le matériau diélectrique qui va être déposé ensuite. Elle est par exemple en nitrure de titane (TiN), éventuellement en bicouche avec du titane (TiN/Ti) ou en une bicouche de nitrure de tantale et de tantale (TaN/Ta).
La illustre la formation d’une couche en matériau diélectrique 68 (couche isolante) sur la couche barrière 602, afin notamment de remplir les tranchées 606. Le matériau diélectrique est par exemple en dioxyde de silicium (SiO2). La couche isolante peut être déposée par un dépôt chimique en phase vapeur, notamment par PECVD. Son épaisseur doit être plus élevée que la profondeur des tranchées 606 afin de les combler, elle est par exemple comprise entre environ 50 et 3 µm, par exemple égale à environ 1 µm.
La illustre la structure obtenue à l’issue d’une étape ultérieure de polissage permettant d’enlever une partie excédentaire de la couche isolante 68 de manière à définir une surface plane dans laquelle le matériau diélectrique 68 dans les tranchées 606 affleure au même niveau que les plots conducteurs 64. L’étape de polissage consiste par exemple en un polissage mécanochimique (CMP).
A l’issue de l’étape de polissage, la structure obtenue comprend une alternance de plots conducteurs 64 et de poteaux isolants 680, définissant le site d’assemblage 61 du circuit électronique 60, les plots conducteurs 64 et les poteaux isolants 680 pouvant présenter respectivement entre eux des dimensions égales ou différentes.
Comme illustré à la , on procède ensuite à la suppression de la zone périphérique 604B de la couche métallique située de part et d’autre du site d’assemblage 61 ainsi qu’à la portion résiduelle 67B de la première couche d’arrêt de gravure 67 localisée sous cette zone périphérique 604B. Cette suppression est réalisée par gravure au travers un motif complémentaire 605 en résine photosensible formé sur la surface supérieure 61S du site d’assemblage 61 par photolithographie.
Comme décrit précédemment, le motif complémentaire 605 peut déborder légèrement au-delà de la surface supérieure 61S du site d’assemblage 61.
La gravure de la zone périphérique 604B de la couche métallique est de préférence une gravure humide, par exemple mettant en œuvre une solution chimique composée d’acide phosphorique H 3 PO 4 , acide acétique, acide nitrique (HNO 3 ) et d’eau (H 2 O) .
La gravure de la partie résiduelle 67B de la première couche d’arrêt de gravure 67 peut être une gravure humide, notamment à l'aide de d’une solution chimique à base d’acide phosphorique H 3 PO 4 .
Le procédé de fabrication peut comprendre des variantes décrites en liens avec les autres procédés (réalisation d’une couche hydrophobe et/ou de poteaux complémentaires dans la zone périphérique, site d’assemblage à plusieurs niveaux …).
Le circuit électronique 60 obtenu présente un support 62 et un site d’assemblage 61 sur le support, le site d’assemblage 61 comportant des plots conducteurs 64 s’étendant sensiblement verticalement dans le site d’assemblage, deux plots conducteurs adjacents étant isolés par deux poteaux isolants 680. Le site d’assemblage 61 est adapté pour être assemblé à un autre circuit électronique par un procédé d'auto-assemblage incluant une étape de fixation hybride. La zone périphérique 69 du support 62 entourant le site d'assemblage 61 du circuit électronique 60 peut être revêtue d’une couche de matériau hydrophobe et/ou comprendre des poteaux complémentaires.
Pour l’ensemble des exemples de réalisation, et de manière plus générale pour un circuit électronique obtenu par un procédé de fabrication selon un mode de réalisation, les dimensions suivantes peuvent être comprises dans les plages suivantes : - hauteurs des poteaux isolants (ou hauteurs des plots conducteurs) : 50 nm à 2 µm ; - largeurs des poteaux isolants : 10 nm à 100 µm ; - largeurs des plots conducteurs : 10 nm à 100 µm ; - épaisseur de la couche en matériau hydrophobe : 1 nm à 2 µm.
Pour l’ensemble des exemples de réalisation: - l’étape (ou les étapes) de formation de la (ou des) couche(s) d’arrêt de gravure peut (peuvent) être omise(s) ; ou - la (première) couche d’arrêt de gravure peut être formée entre le substrat et la couche initiale isolante ; ou - la (première) couche d’arrêt peut être formée sur un niveau du substrat, par exemple entre deux couches de substrat.
Plus généralement, une couche d’arrêt de gravure peut être disposée à un niveau correspondant à la profondeur de gravure souhaitée.
Dans certains cas, la couche initiale isolante peut être omise et/ou la couche initiale isolante et la (première) couche isolante peuvent être une seule couche isolante (monocouche ou structure multicouches).
- ladite étape de priorisation est mise en œuvre en tenant compte également de données de navigation et/ou d’au moins un élément d’information externe audit au moins un radar, l’élément d’information externe appartenant au groupe comprenant au moins :
- un élément d’information fourni par un système d’identification automatique,
- un élément d’information météorologique,
- un élément d’état de mer,
- un élément d’information fourni par un système de liaison de données ;
- la détermination d’une valeur d’utilité, par secteur radar à couvrir, représentative de l’utilité pour chaque objectif de ladite mission associée à chacun desdits modes fournis par l’étape de détermination de modes radar repose sur un système à logique floue ;
- le système à logique floue est entrainable par apprentissage par renforcement ;
- au moins une caractéristique prédéterminée de chaque mode est utilisée comme entrée d’un arbre dudit système à logique floue, ladite au moins une caractéristique appartenant au groupe comprenant, pour chaque mode :
- la probabilité de détection estimée,
- la surface équivalente radar minimale détectable estimée en fonction de la distance, de l’élévation et du gisement associés à chaque secteur ;
- une information représentative de l’utilisation effective ou de l’absence d’utilisation des lobes principaux à 3dB du maximum de la puissance émise dudit au moins un radar ;
- les besoins de couverture de la mission ;
- les facteurs de forme de chaque mode ;
- un couple de distances minimale et maximale instrumentée ;
- une empreinte de détection au sol associée audit mode en fonction de l’altitude dudit radar ;
- une capacité de couverture associée audit mode, par type de cible dudit radar,
Support pour machine de projection de cibles La présente invention concerne le domaine des supports de machine. Elle trouve pour application particulièrement avantageuse le domaine des supports de machine de projection de cibles, communément appelée machine de ball-trap.
ETAT DE LA TECHNIQUE Les machines de projection de cibles actuelles adoptent des inclinaisons extrêmes dans le but d’offrir un large panel de nouvelles trajectoires de cibles. Les points de pivot associés aux basculements droit, gauche et arrière se situent à la base de la machine. Il en découle un porte-à-faux important qui oblige à utiliser des supports dédiés à cette application.
Les supports actuellement commercialisés sont statiques et requièrent de s’assurer que le basculement de la machine soit toujours orienté dans le sens de la longueur du support. Autrement dit, la stabilité de l’ensemble constitué par le support et la machine n’est garantie que dans l’axe dirigé selon la longueur du support. Il est donc exclu d’appliquer à la machine un basculement trop important selon un axe déviant de façon significative de l’axe selon la longueur du support, faute de quoi l’ensemble pourrait se renverser.
Un objet de la présente invention est donc de proposer un support pour machine de projection de cibles offrant une stabilité de l’ensemble quelques soient l’inclinaison et l’orientation de la machine de projection de cibles. Un autre objet de l’invention est de proposer un support pour machine de projection mobile et facilement tractable.
RESUME Pour atteindre cet objectif, un premier aspect de l’invention concerne un support pour machine de projection de cibles, comprenant un châssis présentant un premier pied et une interface de montage selon un plan d’interface apte à recevoir la base d’une machine de projection, caractérisé par le fait qu’il comporte un bras s’étendant latéralement au-delà du châssis, le bras étant monté relativement au châssis, de sorte que, dans une position d’appui, le bras soit réglable en position angulaire selon un plan parallèle au plan d’interface.
Ainsi, le bras permet de créer un deuxième point d’appui dont la position peut être choisie par l’utilisateur en fonction de l’inclinaison et l’orientation de la machine. La stabilité de l’ensemble est donc garantie par le bras, quelle que soit la configuration de tir choisie.
Selon un mode particulier de réalisation avantageux, le bras peut alternativement être utilisé dans la position d’appui précédemment mentionnée, ou être utilisé dans une position de timon servant à tracter le support et une machine de projection de cibles.
Un autre aspect concerne un ensemble constitué d’une machine de projection de cibles et d’un support selon l’un des modes de réalisation décrit dans la présente demande.
La représente une vue de profil d’une machine de projection de cibles et de son support selon l'art antérieur.
La représente une vue de 3/4 face d’une machine de projection de cibles et de son support selon l'art antérieur.
La représente une vue de 3/4 face d’une machine de projection de cibles et de son support, le support correspondant à l’un des modes de réalisation de la présente invention. Est notamment représentée la position de timon du bras.
La représente le support selon l’un des modes de réalisation de la présente invention. Sont notamment représentés le châssis, le premier pied, l’essieu reliant les deux roues, le premier organe de fixation et le deuxième organe de fixation ainsi que le bras en position de timon, c’est-à-dire fixé au châssis par l’intermédiaire du premier organe de fixation.
La représente les mêmes éléments que la et illustre l’amovibilité du bras.
De préférence, la pièce de support PS est réalisée en métal (par exemple en acier). Dans ce cas, elle peut, par exemple, être réalisée par découpe et emboutissage. Mais elle pourrait aussi être réalisée par moulage d’un matériau plastique ou synthétique, rigide et résistant.
En , on a décrit schématiquement un mode de réalisation préférentiel du système de batterie selon l’invention pour un véhicule électrifié. Le système de batterie 1 comporte un module 3 comprenant des éléments 9 de stockage d’énergie électrique comprenant une pluralité de cellules électrochimiques, dans cet exemple non limitatif de technologie de type Lithium-ion. Une cellule électrochimique comporte une paroi et des éléments internes comportant une électrode positive, un séparateur et une électrode négative. Les éléments internes d’une cellule doivent être maintenus en contact dans une plage de force positive. La paroi d’une cellule peut être de forme cylindrique, prismatique ou être de la forme d’un film (technologie dite « Pouch Cell »). Le système de batterie 1 comporte en outre un moyen de contrôle 2 de la recharge. Le moyen de contrôle 2 est prévu pour au moins élaborer une consigne de recharge des éléments 9 de stockage d’énergie conformément au procédé selon l’invention.
Le système de batterie 1 est rechargeable électriquement au moyen de lignes électriques 8 connectées à un dispositif de contrôle de recharge 6 du véhicule électrifié. Le dispositif de contrôle de recharge 6 est connecté électriquement à une source électrique de recharge 7. La source électrique 7 peut être une machine génératrice d’électricité, par exemple la machine électrique de traction du véhicule, ou une borne de recharge externe au véhicule. Par exemple, le dispositif de contrôle de recharge 6 comporte des moyens de recharge coopérant avec une prise électrique de manière à pouvoir à se brancher électriquement à la borne de recharge externe 7 connectée à un réseau d’alimentation électrique, fonctionnant généralement en tension alternative. La borne 7 peut délivrer un courant continu ou alternatif. Il est généralement prévu des contacteurs haute tension qui assurent la déconnexion/connexion de la batterie 1 avec le circuit électrique de puissance du véhicule, le dispositif de contrôle de recharge 6 et la prise électrique.
Le système de batterie 1 comporte en outre un moyen 5 pour enserrer les cellules électrochimiques 9. Dans ce mode de réalisation, le moyen 5 pour enserrer est un cadre rigide métallique externe aux cellules électrochimiques, en matériau de type aluminium par exemple. Le cadre rigide 5 ceinture ou entoure un groupe de plusieurs cellules électrochimiques 9 comme cela est visible en de manière à exercer une pression positive contre la surface des parois des cellules 9. Le cadre 5 est agencé pour appliquer une pression sur une partie seulement de la paroi des cellules, par exemple de chaque côté des cellules latéralement. On n’exclut pas que le cadre 5 puisse encadrer ou enfermer complétement les cellules électrochimiques, par exemple sous forme de boitier. La pression exercée par le cadre 5 s’applique alors dans ce dernier cas sur les faces latérales et les faces supérieures et inférieures d’une cellule.
Le cadre 5 est couramment désigné par les termes anglophones « casing », « side plate » ou « end plate », ou les termes cerclage, boitier, ceinture. Il encadre le module 3 d’un groupe de cellules 9. Dans un autre mode de réalisation, on envisage que chaque cellule d’une batterie puisse être enserrée par un cadre 5. Dans un autre mode de réalisation, le moyen pour enserrer 5 forme la paroi externe d’une cellule électrochimique. La pression appliquée par le moyen pour enserrer 5 est prévue pour maintenir en contact les électrodes contre le séparateur à l’intérieur de chaque cellule.
Dans le cas d’exemple non limitatif, d’une cellule prismatique de dimensions 28mmx7mmx14mm, en début de vie, la force appliquée par le cadre 5 en surface d’une cellule est de 5k.N. Pour un état de vieillissement en fin de vie spécifié par exemple pour un véhicule automobile, la force appliquée par le cadre 5 varie entre 20k.N et 25k.N, avec des fluctuations de l’ordre de 5k.N résultant de la respiration des cellules.
L’état de vieillissement peut être désigné par l’acronyme SOHc pour « State of Health on capacity » et correspond au paramètre de niveau de vieillissement de la batterie exprimé par un rapport entre la quantité d’électricité maximum stockable à un instant donné et quantité d’électricité maximum stockable à l’état neuf de la batterie.
Le niveau d’état de charge peut être désigné par l’acronyme SOC pour « State of Charge » et correspond au niveau d’état de charge de la batterie exprimé par un rapport entre la quantité d’énergie stockée à un instant donné et la quantité d’énergie maximum stockable à un instant donné. Les paramètres SOHc et SOC sont exprimés en pourcents.
Les forces appliquées qui ont pu être mesurées au cours de la vie d’une cellule ou en essai permettent d’établir un seuil de limitation de la recharge visant à stopper une dilatation d’une cellule électrochimique résultant d’un accroissement de l’état de charge.
Le système de batterie 1 comporte en outre un moyen de mesure 4 d’une pression. Le moyen de mesure 4 a pour fonction de mesurer un paramètre représentatif d’une pression qui est exercée par les éléments 9 de stockage d’énergie électrique de la batterie 1 en surface du cadre 5. Dans ce mode préférentiel de l’invention, le moyen de mesure 4 est une jauge de contrainte agencée pour mesurer une élongation du cadre rigide 5 ou l’élongation d’une cellule électrochimique 9 de la batterie 1. La jauge de contrainte est fixée en surface du cadre 5 ou en surface de la paroi d’une cellule. La jauge de contrainte 4 délivre un signal de tension au moyen de contrôle 2 dont la valeur est proportionnelle à l’élongation du cadre 5.
Tout autre moyen de mesure est envisageable sans sortir du cadre de l’invention. Le moyen de mesure peut être un capteur de pression ou un capteur à technologie piézo-électrique par exemple. Un tel capteur est fixé entre une cellule électrochimique 9 et le cadre 5, ou alternativement entre deux cellules électrochimiques 9.
La surveillance de ce paramètre permet au moyen de contrôle 2 d’élaborer une consigne de recharge CRL selon l’invention, par exemple une commande de fin de recharge lorsque ce paramètre dépasse un seuil choisi. Complémentairement ou en variante alternative le moyen de contrôle 2 est configuré pour élaborer une commande de réduction du courant de charge de manière graduelle en fonction dudit paramètre.
Le moyen de contrôle 2 est destiné à la supervision du système de batterie 1. Il est apte à délivrer à d’autres calculateurs du véhicule des informations d’état de la batterie, telles une valeur représentative du SOC, du SOHc, de la température, le courant de charge circulant à travers la batterie ou la tension à vide notamment, ainsi que des consignes à destination du dispositif de contrôle de la recharge 6 et/ou d’une borne de recharge 7, notamment une puissance de recharge autorisée, un mode de recharge, un courant de recharge maximal, ou une consigne de limitation de courant. Il est prévu un bus de communication, par exemple de type CAN (Controler Area Network en anglais), permettant au moyen de contrôle 2 de communiquer les consignes de recharge à d’autres calculateurs.
Le dispositif de contrôle de recharge 6 a pour fonction de gérer la communication entre les différentes bornes de recharge et de surveiller et contrôler la recharge électrique sur borne. Le dispositif de recharge 6 comporte également un convertisseur électrique de type alternatif/continu AC/DC et continu/continu DC/DC. Dans les situations de recharge sur borne, il réalise la conversion d’une tension alternative vers une tension continue AC/DC, notamment lors de recharge en mode 2 ou mode 3 dans lesquels il est nécessaire de convertir une tension alternative en 220V (de type monophasique ou triphasique) vers une tension continue compatible du système de batterie, jusqu’à 450V ou 1000V par exemple dans ce mode de réalisation. En situation de roulage, une autre fonction est la conversion DC/DC entre la batterie et les systèmes embarqués du véhicule, par exemple le réseau de bord en 14V, la batterie basse tension et la machine électrique de traction du groupe motopropulseur.
Dans le cadre des recharges dites rapides ou de mode 4, la tension de recharge est délivrée directement par la borne 7, c’est-à-dire sans modification de la tension par le convertisseur de tension. La tension délivrée par la borne 7 est de type continu, généralement supérieure à 300V, dans cet exemple comprise entre 400V et 500V, et est directement appliquée aux bornes de la batterie 1 à travers les contacteurs haute tension. Pour ce type de charge, le dispositif de recharge 6 délivre à la borne 7 la consigne de recharge CRL calculée par le moyen de contrôle 2 du système de batterie 1.
Le moyen de contrôle 2 est muni d’un calculateur à circuits intégrés et de mémoires électroniques, le calculateur et les mémoires étant configurés pour exécuter un procédé de contrôle de la recharge selon l’invention. Mais cela n’est pas obligatoire. En effet, le calculateur pourrait être externe au moyen de contrôle 2, tout en étant couplé à ce dernier. Dans ce dernier cas, il peut être lui-même agencé sous la forme d’un calculateur dédié comprenant un éventuel programme dédié, par exemple. Par conséquent, le moyen de contrôle 2, selon l’invention, peut être réalisé sous la forme de modules logiciels (ou informatiques (ou encore « software »)), ou bien de circuits électroniques (ou « hardware »), ou encore d’une combinaison de circuits électroniques et de modules logiciels.