INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Quant au réservoir 1, la paroi périphérique externe de son col 12 forme une zone inférieure 17 qui vient en contact radial étanche avec l’élément d’étanchéité 26. Cette zone inférieure 17 est formée par le sommet radial d’une nervure de contact annulaire qui fait saillie radialement vers l’extérieur. On peut dire que la zone inférieure 17 de la paroi périphérique externe 15 est située entre le filet 16 et l’épaulement 11 du réservoir 1.
Ainsi, lors du vissage de la jupe 23 autour du col 12, la zone inférieure 17 va venir en contact radial étanche avec la paroi interne de l’élément d’étanchéité 26 et maintenir ce contact radial étanche par un mouvement de coulissement étanche jusqu’à la position finale de vissage. L’élément d’étanchéité 26 offre une plage d’étanchéité axiale qui correspond à au moins une partie de la course axiale de vissage. De ce fait, l’étanchéité est assurée sur cette plage d’étanchéité axiale indépendamment de la position axiale de la jupe 23 par rapport au col 12. On peut dire que la fixation par vissage est décorrélée de l’étanchéité, contrairement avec un joint plat classique dont la compression optimale détermine la fin du vissage. Avec l’élément d’étanchéité de l’invention, la fin du vissage est avantageusement déterminée par le contact axial appuyé du bord inférieur 31 de la frette d’habillage 3 contre l’épaulement 11 du réservoir 1. On peut aussi remarquer que le plateau 22 reste en éloignement du bord supérieur 14 du col 12, de sorte que seul le contact de la frette 3 sur le réservoir 1 définit la position finale de vissage.
Il faut noter que la position finale de vissage n’est pas obligatoirement dictée par l’appui de la frette 3 sur le réservoir 1. On peut très bien déterminer la position finale de vissage avec un autre paramètre, puisque l’élément d’étanchéité 26 garantit une étanchéité radiale sur une plage axiale étendue.
Avec cet élément d’étanchéité radial de l’invention, on peut procéder à un nombre important de cycles de vissage/revissage sans affecter la qualité de l’étanchéité. Ceci n’est pas le cas avec un joint plat classique à compression axiale, qui va perdre de son élasticité après avoir été fortement comprimé.
En se référant à la , on voit une variante de la qui ne diffère qu’au niveau de la zone inférieure du col. Alors que la zone inférieure 17 de la se présente sous la forme d’une nervure annulaire saillante, la zone inférieure 17’ de la se présente sous la forme d’une embase cylindrique épaissie qui s’étend jusqu’à l’épaulement 11 du réservoir 1’. Tout comme dans le mode de réalisation de la , la zone inférieure 17’ vient en contact radial de coulissement avec la paroi interne de l’élément d’étanchéité 26, qui est identique à celui de la . L’élément d’étanchéité 26 est de préférence solidaire de la couronne 25, mais il est également envisageable de la rendre solidaire de la zone inférieure 17’. Dans ce cas, c’est la couronne 25 qui viendrait en contact coulissante autour de la paroi externe de l’élément d’étanchéité 26.
Dans le mode de réalisation de la , le réservoir 1 peut être similaire ou identique à celui de la . Sa paroi périphérique externe 15 forme une zone supérieure 17 ‘’entre le bord supérieur 14 du col 12 et le filet externe 16. Cette zone supérieure 17’’ est cylindrique. La bague de fixation 2’ est pourvue d’un élément d’étanchéité 26’ qui est reçu dans un logement 25’ formé au niveau de la paroi interne de la jupe 23, juste en-dessous du plateau 22. L’élément d’étanchéité 26’ se présente sous la forme d’un joint torique à section carrée. L’étanchéité radiale est assurée par le coulissement étanche de l’élément d’étanchéité 26’ autour de la zone supérieure 17’’. La position finale étanche de vissage est déterminée par l’appui de la frette 3 sur l’épaulement 11 du réservoir 1. Le plateau 22 est en éloignement du col 12.
Dans le mode de réalisation de la , la bague de fixation 2 peut être similaire ou identique à celle de la . Elle est dépourvue d’élément d’étanchéité : sa couronne 25 reste nue. Quant au réservoir 1’’, sa paroi périphérique externe 15 forme une rainure ou gorge annulaire 17’’’ dans laquelle est reçu un élément d’étanchéité 18, qui peut se présenter sous la forme d’un joint torique, avantageusement à section circulaire. Cette rainure annulaire 17’’ est située axialement en-dessous du filet 16, par exemple au niveau d’une embase épaissie, comme celle 17’ de la . L’étanchéité radiale est assurée par le coulissement étanche de l’élément d’étanchéité 18 à l’intérieur de la couronne 25. La position finale étanche de vissage est déterminée par l’appui de la frette 3 sur l’épaulement 11 du réservoir 1. Le plateau 22 est en éloignement du col 12.
Dans tous les modes de réalisation, que l’élément d’étanchéité soit solidaire de la bague de fixation ou du col, un contact radial coulissant est établi lors du vissage avant et jusque dans la position finale de vissage, qui peut avantageusement être définie par l’appui de la frette sur le réservoir.
EQUIPEMENT DE COLLECTE ET D’EMBALLAGE D’ARTICLES DANS UN SAC REALISE A PARTIR D’UN ROULEAU DE GAINE FORMEE DE DEUX FILMS PLASTIQUES DOMAINE TECHNIQUE DE L’INVENTION La présente invention concerne le domaine de la collecte et l’emballage d’articles.
Chaque circuit de refroidissement principal ou secondaire 50.1 à 50.4 est configuré pour canaliser de l’air et comprend, dans le sens d’écoulement de l’air, au moins une entrée d’air 52.1, 52.3 et 52.4 configurée pour prélever l’air à l’extérieur du carénage 42, au moins un conduit d’admission 54.1 à 54.4, au moins un échangeur thermique 56.1 à 56.4, au moins un conduit d’échappement 58.1 à 58.4 ainsi qu’au moins une sortie d’air 60.1, 60.3 et 60.4 configurée pour refouler l’air à l’extérieur du carénage 42. Selon une configuration, au moins un des circuits de refroidissement 50.1 à 50.4 comprend un ventilateur 62 positionné dans le conduit d’échappement 58.1 à 58.4.
Selon un agencement, les circuits de refroidissement principaux 50.1, 50.2 comprennent une unique entrée d’air principale 52.1, commune aux deux circuits de refroidissement principaux 50.1, 50.2, qui alimente un premier tronçon d’admission commun qui se divise en deux conduits d’admission 54.1, 54.2. Cette entrée d’air principale 52.1 débouche au niveau de la face inférieure 46.1 du carénage 42, approximativement à 6h. Elle est symétrique par rapport au plan médian vertical PM. Selon un mode de réalisation, l’entrée d’air principale 52.1 des circuits de refroidissement principaux 50.1, 50.2 est de type affleurant.
Bien entendu, l’invention n’est pas limitée à cet agencement. Les entrées d’air des circuits de refroidissement principaux 50.1, 50.2 pourraient être distinctes.
Selon un agencement, les circuits de refroidissement principaux 50.1, 50.2 comprennent une unique sortie d’air principale 60.1, commune aux deux circuits de refroidissement principaux 50.1, 50.2, alimentée par les deux conduits d’échappement 58.1, 58.2. Cette sortie d’air principale 60.1 débouche en partie inférieure de la pointe arrière 48 du carénage 42, approximativement à 6h. Elle est symétrique par rapport au plan médian vertical PM.
Bien entendu, l’invention n’est pas limitée à cet agencement. Les sorties d’air des circuits de refroidissement principaux 50.1, 50.2 pourraient être distinctes et positionnées respectivement dans le quart inférieur droit et le quart inférieur gauche de la pointe arrière 48 du carénage 42.
Selon un agencement, les entrées d’air secondaires 52.3 et 52.4 des circuits de refroidissement secondaires 50.3, 50.4 sont positionnées respectivement sur les faces latérales droite et gauche 46.2, 46.3 du carénage 42. Les sorties d’air secondaires 60.3, 60.4 des circuits de refroidissement secondaires 50.3, 50.4 sont distinctes et positionnées respectivement dans le quart supérieur droit et le quart supérieur gauche de la pointe arrière 48 du carénage 42.
Bien entendu, l’invention n’est pas limitée à cet agencement. Ainsi, les circuits de refroidissement secondaires 50.3 et 50.4 pourraient avoir une unique sortie d’air.
Pour limiter les perturbations aérodynamiques, au moins une entrée d’air 52.1, 52.3, 52.4 comprend un volet d’admission 64 mobile entre une position ouverte dans laquelle le volet d’admission 64 dégage au moins partiellement l’entrée d’air 52.1, 52.3, 52.4 et permet à l’air de pénétrer dans le conduit d’admission 54.1 à 54.4 ainsi qu’une position fermée dans laquelle le volet d’admission 64 obture l’entrée d’air 52.1, 52.3, 52.4 et empêche l’air de pénétrer dans le conduit d’admission 54.1 à 54.4. Selon une configuration, le volet d’admission 64 est configuré pour être affleurant au carénage 42 en position fermée.
Selon une configuration, chaque entrée d’air 52.1, 52.3, 52.4 est équipée d’un volet d’admission 64 mobile entre des positions ouverte et fermée.
En complément, au moins une sortie d’air 60.1, 60.3, 60.4 comprend un volet d’échappement 66 mobile entre une position ouverte dans laquelle le volet d’échappement 66 dégage au moins partiellement la sortie d’air 60.1, 60.3, 60.4 et permet à l’air de sortir du conduit d’échappement 58.1 à 58.4 ainsi qu’une position fermée dans laquelle le volet d’échappement 66 obture la sortie d’air 60.1, 60.3, 60.4 et empêche l’air de sortir du conduit d’échappement 58.1 à 58.4. Selon une configuration, le volet d’échappement 66 est configuré pour être affleurant au carénage 42 en position fermée.
Par position ouverte, on entend une position totalement ouverte ou partiellement ouverte et, dans tous les cas, une position différente de la position fermée.
Selon une configuration visible sur la , le dispositif de refroidissement 44 comprend quatre sorties d’air, une pour chaque circuit de refroidissement 50.1, 50.4, et quatre volets d’échappement 66, 66’, 66’’, 66’’’’, un pour chaque sortie d’air.
Selon une autre configuration visible sur la , le dispositif de refroidissement 44 comprend une seule sortie d’air principale 60.1 pour les deux circuits de refroidissement principaux 50.1, 50.2 ; un volet d’échappement principal 66 pour cette sortie d’air principale 60.1 ; deux sorties d’air secondaires 60.3, 60.4, une pour chaque circuit de refroidissement secondaire 50.3, 50.4 ; ainsi que deux volets d’échappement secondaires 66’, 66’’, un pour chaque sortie d’air secondaire 60.3, 60.4. Selon ce mode de réalisation, le dispositif de refroidissement 44 comprend trois volets d’échappement 66, 66’, 66’’.
Selon une autre configuration, le dispositif comprend deux sorties d’air principales, deux sorties d’air secondaires, un volet d’échappement principal 66 configuré pour obturer simultanément les deux sorties d’air principales en position fermée ainsi que deux volets d’échappement secondaires 66’, 66’’, un pour chaque sortie d’air secondaire. Selon ce mode de réalisation, le dispositif de refroidissement 44 comprend trois volets d’échappement 66, 66’, 66’’.
Selon une autre configuration visible sur la , le dispositif de refroidissement 44 comprend une seule sortie d’air principale pour les deux circuits de refroidissement principaux 50.1, 50.2, un volet d’échappement principal 66 pour cette sortie d’air principale, une seule sortie d’air secondaire pour les deux circuits de refroidissement secondaires 50.3, 50.4 ainsi qu’un volet d’échappement secondaire 66’ pour cette sortie d’air secondaire. Selon ce mode de réalisation, le dispositif de refroidissement 44 comprend deux volets d’échappement 66, 66’.
Selon une autre configuration, le dispositif comprend deux sorties d’air principales, deux sorties d’air secondaires, un volet d’échappement principal 66 configuré pour obturer simultanément les deux sorties d’air principales en position fermée ainsi qu’un volet d’échappement secondaire 66’ configuré pour obturer simultanément les deux sorties d’air secondaires en position fermée. Selon ce mode de réalisation, le dispositif de refroidissement 44 comprend deux volets d’échappement 66, 66’.
Les largeurs l2 des tranchées 419 sont de préférence supérieures ou égales à environ 2 µm de manière à pouvoir insérer la couche de protection comme décrit plus après.
La gravure de la couche isolante 416 est de préférence sélective, de manière à ne pas graver le cuivre. La gravure de la couche isolante peut être une gravure sèche, par exemple mettant en oeuvre un plasma à base de fluor. Selon un exemple, le temps de gravure peuvent être ajustés pour graver sur une profondeur donnée.
Ensuite, une étape de retrait du motif en résine est réalisée, de manière similaire à ce qui est décrit en relation avec la .
La illustre la structure d’interconnexion 410 passivée obtenue à l’issue d’une étape de formation d’une couche de protection 420 représentée comme une structure multicouches comprenant : - une troisième couche de nitrure 422 disposée dans les tranchées 419 et sur les parties non gravées de la deuxième couche de nitrure 415 ; - une couche d’oxyde 424 disposée sur la troisième couche de nitrure 422 ; - une quatrième couche de nitrure 426 disposée sur la couche d’oxyde 424.
Similairement à ce qui a été décrit en relation avec la , les différentes couches de la couche de protection peuvent être formées par CVD, notamment par PECVD.
A l’issue de l’étape de formation de la couche de protection avec structuration, la surface supérieure 420A de la couche de protection 420 présente une topologie structurée en créneaux 427 (crêtes) séparés par des tranchées 429 (dépressions). Cette structuration de la face supérieure passivée de la structure d’interconnexion permet d’accrocher la résine d’encapsulation 460, telle que représentée en , réduisant, voire annulant, l’effet de délaminage décrit plus avant, tout en permettant de se passer d’une étape de recuit.
Bien que cela ne soit pas représenté, la structure d’interconnexion peut comprendre un plot conducteur et une couche de métallisation sur plot, similairement à ce qui est décrit en relation avec la .
Les figures 6A à 6D illustrent un autre exemple de procédé de fabrication d’une structure d’interconnexion selon un mode de réalisation, ainsi que la structure d’interconnexion obtenue. Cet autre exemple de procédé se distingue de l’exemple de procédé décrit en relation avec les figures 5A à 5D principalement en ce qu’il ne comprend pas d’étape de photolithographie. Par exemple, il n’est pas nécessaire de déposer une couche de nitrure sur la face supérieure de la structure d’interconnexion.
La illustre une structure de départ, qui comprend un niveau supérieur 5101 d’une structure d’interconnexion 510, ledit niveau supérieur comportant des vias conducteurs 512 et un plot conducteur 514 (visible dans la ) traversant une couche isolante 516 et une première couche de nitrure 518. Les vias conducteurs 512 affleurent à la surface supérieure 510A de la structure d’interconnexion 510 et s’étendent en profondeur dans la couche isolante 516, par exemple au moins jusqu’à la face inférieure de la première couche de nitrure 518, comme représenté.
La illustre la structure obtenue à l’issue d’une étape ultérieure de gravure de la couche isolante 516 autour des vias conducteurs 512 et du plot conducteur 514 (visible dans la ) sur une profondeur h3. La couche isolante est gravée de préférence partiellement, c’est-à-dire sur une profondeur inférieure à l’épaisseur de ladite couche isolante. La gravure permet de creuser la couche isolante tout autour des vias conducteurs 512 et du plot conducteur 514, formant ainsi des protubérances de cuivre 517 et des tranchées 519 entre les protubérances.
La hauteur des tranchées est définie par la profondeur de gravure. La hauteur h3 des tranchées 519 peut être comprise entre environ 20 nm et 100 nm, de préférence comprise entre environ 25 et 75 nm, par exemple égale à environ 50 nm.
Les largeurs l3 des tranchées 519 sont définies par les distances entre les vias 512 ou entre un via 512 et un plot 514.
La gravure de la couche isolante 516 est de préférence sélective, de manière à ne pas graver le cuivre. La gravure de la couche isolante peut être une gravure sèche, par exemple mettant en oeuvre un plasma à base de fluor, ou une gravure humide, notamment à l'aide d'une solution d’acide fluoré, par exemple de l’acide fluorhydrique. Selon un exemple, la concentration de l’acide dans la solution et/ou le temps de gravure peuvent être ajustés pour graver sur une profondeur donnée.
La illustre la structure d’interconnexion 510 passivée obtenue à l’issue d’une étape de formation d’une couche de protection 520 représentée comme une structure multicouches comprenant : - une deuxième couche de nitrure 522 disposée sur les protubérances de cuivre 517 et dans les tranchées 519 ; - une couche d’oxyde 524 disposée sur la deuxième couche de nitrure 522 ; - une troisième couche de nitrure 526 disposée sur la couche d’oxyde 524.
Similairement à ce qui a été décrit en relation avec la ou la , les différentes couches de la couche de protection peuvent être formées par CVD, notamment par PECVD.
A l’issue de l’étape de formation de la couche de protection avec structuration, la surface supérieure 520A de la couche de protection 520 présente une topologie structurée en créneaux 527 (crêtes) séparés par des tranchées 529 (dépressions). Cette structuration de la face supérieure passivée de la structure d’interconnexion permet d’accrocher la résine d’encapsulation 560, comme représentée dans la , réduisant, voire annulant, l’effet de délaminage décrit plus avant, tout en permettant de se passer d’une étape de recuit. Cet autre exemple de procédé de fabrication présente en outre l’avantage de la simplicité, notamment de se passer d’une étape de photolithographie, mais également de se passer d’une étape de retrait chimique d’une résine.
Dans ce qui suit, le terme « granulat frais » désigne un granulat neuf, généralement humide et froid et qui n’a pas encore été utilisé dans la production d’enrobés, et par conséquent qui n’a jamais été séché, chauffé ni malaxé à un liant.
L’installation 1 comprend un tambour sécheur 3, qui comprend une enceinte allongée 30 s’étendant selon un axe central X3, ce tambour sécheur 3 étant monté rotatif autour de l’axe central X3. Le tambour sécheur 3 comporte une première extrémité 5 pour l’introduction de granulats frais et une deuxième extrémité 7 opposée selon l’axe central X3 formant une sortie du tambour sécheur 3. L’axe central X3 est représenté horizontal sur les figures. En pratique, il est courant que l’axe central X3 soit légèrement incliné par rapport à l’horizontale, de manière que les granulats soient entrainés par gravité de la première extrémité 5, qui forme alors une extrémité relevée, à la deuxième extrémité 7, qui forme alors une extrémité basse. Le sens de progression des granulats de la première extrémité 5 vers la deuxième extrémité 7 définit la direction d’avancement des granulats. Dans la suite, en référence à la direction d’avancement, les termes « amont » et « aval » sont respectivement employés pour qualifier des éléments orientés respectivement en direction de la première extrémité 5 et de la deuxième extrémité 7.
L’installation 1 comprend également une chambre de combustion 9 liée en rotation au tambour sécheur 3. En d’autres termes, la chambre de combustion 9 est solidaire du tambour sécheur 3 dans son mouvement rotatif autour de l’axe X3.
L’installation 1 comprend également un brûleur 11 configuré pour générer, dans la chambre de combustion 9, un flux de gaz chaud, représenté par la flèche F1, circulant selon l’axe central X3 dans le tambour sécheur 3 de la première extrémité 5 vers la deuxième extrémité 7. Avantageusement, la circulation des granulats et du flux de gaz chaud F1 est en « co-courant », c’est-à-dire dans le même sens selon l’axe central X3 du tambour sécheur 3. Le tambour-sécheur forme donc avantageusement comme illustré un tambour-sécheur à courants parallèles ou en co-courants. Le brûleur 11 est avantageusement fixe par rapport au tambour sécheur 3, c’est-à-dire que le brûleur 11 n’est pas solidaire du tambour 3 en rotation autour de l’axe X3.
Au voisinage de la première extrémité 5, l’installation 1 comprend un système d’introduction de granulats frais dans le tambour sécheur 3. L’introduction de granulats frais se fait dans la chambre de combustion 9. L’introduction peut se faire selon une direction horizontale, par exemple avec un tapis roulant, selon la flèche F2, ou bien selon une direction inclinée, par exemple avec une goulotte, selon la flèche F3.
L’installation 1 comprend également au moins un premier dispositif d’introduction 13 d’agrégats enrobés à recycler, disposé le long du tambour 3 en aval de la chambre de combustion 9 et configuré pour permettre l’introduction d’agrégats enrobés à recycler au sein du tambour 3. Ce dispositif d’introduction 13 est formé de préférence par une pièce en saillie de l’enceinte 30, présentant des orifices pour l’introduction d’agrégats d’enrobés, et communiquant avec l’intérieur du tambour 3 par des orifices ménagés à travers l’enceinte 30. Le dispositif d’introduction 13 peut présenter la forme d’un anneau entourant le tambour 3, et peut être solidaire ou non solidaire en rotation du tambour 3 autour de l’axe X3. Le dispositif d’introduction 13 définit une première zone de recyclage 15 du tambour 3, c’est-à-dire la partie du tambour 3 s’étendant selon l’axe X3 le long du dispositif d’introduction 13, et dans laquelle les agrégats d’enrobés à recycler peuvent être déversés dans le tambour 3 selon une direction matérialisée par exemple par la flèche F13.
Entre la chambre de combustion 9 et le dispositif d’introduction 13, le tambour 3 comprend une première zone de séchage 12, c’est-à-dire un tronçon du tambour 3 muni par exemple d’aubes de relevage 12a fixées sur une face interne de l’enceinte 30, et conçues spécifiquement pour relever les granulats et les renverser dans le tambour 3 en formant un rideau à travers lequel le flux de gaz chaud F1 circule, de manière à effectuer un échange thermique permettant de sécher et/ou chauffer les granulats.
Le tambour 3 comprend également une deuxième zone de séchage 14 située entre le dispositif d’introduction 13 et la deuxième extrémité 7, laquelle deuxième zone de séchage 14 peut être ou non munie d’aubes de relevage, et être par exemple dépourvue d’aubes de relevage mais munie de pales de mélangeage pour assurer le mélange des granulats frais et des granulats à recycler.
Le passage du flux de gaz chaud F1 dans les deux zones de séchage successives 12 et 14 induit une diminution progressive de la température du flux de gaz chaud F1 vers l’aval du tambour 3.