INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Une structure de la est approximativement la même que la structure montrée à la . À la , les directions de longueur des premiers évidements TR1a et TR1b sont parallèles ou perpendiculaires à une limite entre les premières sous-régions A1a et A1b.
À la , en revanche, les directions de longueur des premiers évidements TR1a et TR1b sont inclinées par rapport à la limite entre les premières sous-régions A1a et A1b. Ensuite, un ensemble d’extrémités des premiers évidements TR1a prévus dans la première sous-région A1a et un ensemble d’extrémités des premiers évidements TR1b prévus dans la première sous-région A1b adjacente à celle-ci sont reliés entre eux. C’est-à-dire qu’un ensemble d’extrémités des premières projections W M 1a prévues dans la première sous-région A1a et un ensemble d’extrémités des premières projections W M 1b prévues dans la première sous-région A1b adjacente à celle-ci sont reliées entre elles. Dans la quatrième modification, un tel agencement est adopté.
L’une des premières projections W M 1a et W M 1b, dont les extrémités sont reliées l’une à l’autre, sert à éviter un affaissement de l’autre. De plus, lorsque l’agencement de la est adopté, il est possible d’atteindre une capacité électrique plus grande que dans le cas où l’agencement de la est adopté.
Ainsi, le condensateur selon la quatrième modification ne produira probablement pas un gauchissement ou un affaissement des premières projections de la même manière que le condensateur 1 selon le premier mode de réalisation. De plus, il est possible que le condensateur selon la quatrième modification puisse atteindre une capacité électrique plus grande que le condensateur 1 selon le premier mode de réalisation.
La montre un condensateur selon un second mode de réalisation.
Le condensateur 1 montré à la est le même que le condensateur 1 selon le premier mode de réalisation, sauf que la configuration qui suit est adoptée.
C’est-à-dire que la seconde surface principale S2 inclut une pluralité de secondes sous-régions. Chacune des secondes sous-régions est dotée d’une pluralité de seconds évidements présentant chacun une forme s’étendant dans une direction et agencés dans la direction de largeur. Une ou plusieurs secondes sous-régions et une ou plusieurs autres secondes sous-régions sont différentes dans la direction de longueur des seconds évidements.
Ici, la seconde surface principale S2 inclut une pluralité de secondes sous-régions A2a et A2b montrées aux et 13. Les secondes sous-régions A2a et A2b sont agencées selon un motif de damier. C’est-à-dire que les secondes sous-régions A2a et A2b sont agencées en alternance dans la direction X. Chacune des secondes sous-régions A2a est adjacente à l’une des secondes sous-régions A2b dans la direction Y, comme le montre la . Spécifiquement, les secondes sous-régions A2a et A2b forment un réseau de deux rangées et trois colonnes en une section centrale de la seconde surface principale S2.
De plus, ici, les secondes sous-régions A2a et A2b sont agencées en des emplacements correspondant aux premières sous-régions A1a et A1b, respectivement. C’est-à-dire que des projections orthogonales des secondes sous-régions A2a et A2b jusque sur un plan perpendiculaire à la direction Z sont égales en emplacement à celles des premières sous-régions A1a et A1b jusque sur ce plan, respectivement.
Chacune des secondes sous-régions A2a est dotée d’une pluralité de seconds évidements TR2a. Dans chacune des secondes sous-régions A2a, les seconds évidements TR2a présentent chacun une forme s’étendant dans la direction X et sont agencés dans la direction Y. C’est-à-dire que, dans chacune des secondes sous-régions A2a, une pluralité de tranchées présentant chacune une forme s’étendant dans la direction X et agencées dans la direction Y sont prévues en tant que seconds évidements TR2a.
Les bornes de connexion 27, 28 de la bobine primaire 22 et les bornes de connexion 30, 31 des bobines secondaires 23, 24 sont reliées à la deuxième unité de traitement 32 par l’intermédiaire des interfaces de connexion et de fils de connexion.
La bobine primaire 22 et les première et deuxième bobines secondaires 27, 28 sont disposées dans une enveloppe cylindrique 38 du capteur 36 d’axe central (A2) ( ).
La bobine primaire 22 s’étend à l’intérieur de l’enveloppe cylindrique 38 sur la totalité de la longueur de l’enveloppe 38 selon l’axe central (A2). Les bobines secondaires 23, 24 sont superposées sur la bobine primaire 22 et séparées de la bobine primaire 22 par un isolant électrique 39 de sorte que la longueur cumulée des première et deuxième bobines secondaires 23, 24 selon l’axe central (A2) est égale à la longueur de la bobine primaire 22 selon l’axe central (A2).
Le capteur linéaire 36 comprend en outre un noyau magnétique 37 comportant une tige.
Le noyau magnétique 37 est disposé au centre des bobines 22, 23, 24, et translate linéairement selon l’axe central (A2) par rapport aux bobines 22, 23, 24.
Le noyau 37 est relié à la partie mobile 35 de la servo valve 33 ( ).
Comme décrit précédemment et en référence à la , les bobines secondaires 23, 24 sont reliées par le point commun 29, lui-même relié à la première borne 27 de la bobine primaire 22 de sorte que le capteur linéaire 36 comprend quatre interfaces de connexion contrairement à un capteur de l’état de la technique comprenant cinq interfaces de connexion.
En référence à la , la deuxième unité de traitement 32 alimente la bobine primaire 22 par un signal variable, par exemple un courant sinusoïdal, de sorte que la bobine primaire 22 génère un champ magnétique variable.
Les caractéristiques des signaux induits dans les bobines secondaires 23, 24 sont indicatives de la position du noyau magnétique 37 relativement aux dites bobines 22, 23, 24.
La deuxième unité de traitement 32 détermine la position de la partie mobile 35 reliée au noyau 37 par rapport à la partie fixe 34 de la servo valve 33 en analysant les signaux induits par les première et deuxième bobines secondaires 23, 24.
Bien entendu, les capteurs 21 de déplacement inductif variable rotatif et de déplacement inductif variable linéaire 36 peuvent être implémentés dans d’autres applications.
DISPOSITIF DE REGLAGE D’UN CŒUR OPTIQUE A PHOTODETECTEURS ET PROCEDE DE REGLAGE La présente invention concerne un dispositif de réglage d’un codeur optique à photodétecteurs ainsi qu’un procédé de réglage.
Un codeur optique est un appareil de détermination de la position angulaire d’un objet en mouvement par rapport à un autre objet. Pour cela, un disque comportant des zones opaques et transparentes est entrainé en rotation par l’arbre du codeur. Un faisceau optique émis par des diodes infrarouges traverse les zones transparentes du disque en rotation et frappe des photodétecteurs en créant un signal analogique qui est amplifié et transformé en signal numérique, ce dernier étant transmis à un moyen de traitement de données qui permet de fournir la position angulaire. Un photodétecteur est un composant électronique réagissant à la lumière. Il génère un courant en fonction de la quantité de lumière reçue. Du fait de la dispersion optique des composants optoélectroniques, il est nécessaire d’effectuer un réglage des phototdétecteurs afin que les signaux reçus et émis aient une amplitude voisine. De plus, les conditions d’utilisation de tels codeurs sont souvent à des températures dites extrêmes, soit positives soit négatives, ce qui affecte l’amplitude du signal du codeur. De même le procédé en lui-même d’utilisation du codeur est susceptible d’affecter la stabilité de ce dernier. En d‘autres termes, il s’agit de corriger les écarts d’amplitude entre les photodétecteurs.
Pour cela, on connait une méthode dite manuelle où on utilise des boîtes de substitution à décades. Il s’agit d’instruments de test qui utilisent, dans le cas présent, une série de résistances, de condensateurs ou d'inductances pour répliquer différentes valeurs électriques. L’utilisation de telles boites nécessite un câblage physique avec les photodétecteurs, donc une opération longue et difficilement modifiable par un opérateur non qualifié. On connait par US-A-2020292360 une méthode de calibrage d’un codeur rotatif d’une position angulaire d’un arbre de machine. Le procédé utilise un point de départ d‘une mesure puis, après un temps donné avec une minuterie, un point de mesure intermédiaire et un point de mesure finale. En calculant l’écart entre la position d’angle de rotation réelle mesurée et celle calculée selon le temps de mesure, on peut corriger et calibrer le codeur. Un tel procédé est adapté à un type de capteur.
L’invention propose un dispositif et un procédé de réglage d’un capteur optique rapide, fiable et aisé à mettre en place et à utiliser.
Le levier actif (3) relie le flotteur à un plateau orientable (4) solidaire d’un socle (5) situé au fond de la mer. A sa partie inférieure, le levier comporte deux points d’attache (6) sur le plateau orientable (4) et, au-dessus à une distance déterminée, il porte les fixations des tiges des pompes hydrauliques alternatives (7) à haute pression. Le levier est constitué par un tube métallique ou composite, et se termine à chaque extrémité par une forme en U .
Des tuyauteries hydrauliques, haute et basse pression, ( non représentées ) relient les pompes (7) soit à un local énergie situé à terre, soit à un compartiment énergie spécifique situé dans un flotteur proche qui rassemble la production d’énergie hydraulique d’un groupe de flotteurs. L’énergie hydraulique haute pression, produite par les flotteurs est transformée de façon classique en énergie électrique.
En variante 1, le levier est constitué de deux tubes reliés par des entretoises.
En variante 2, pour des grandes longueurs de leviers, le tube constituant la partie droite du levier actif (3) peut être télescopique, avec à l’intérieur un mécanisme de rappel.
Le plateau orientable (4), libre en rotation dans un plan horizontal, est tenu par un axe (9) fixé au socle (5) implanté au fond de la mer. Ce plateau orientable comporte les chapes (6) de fixation du levier (3), celles des pieds des pompes hydrauliques (7) ainsi qu’une butée (10).
Le socle (5), implanté au fond de la mer est fixé solidement pour tenir les efforts et contraintes exercées par les mouvements du levier, la poussée des vagues, du vent et des courants sur le flotteur. Ce socle porte le plateau orientable (4).
Remarque importante Il doit être entendu que les descriptions qui précèdent sont données à titre d’exemple et qu’elles ne limitent nullement le domaine de l’invention dont on ne sortirait pas en remplacent les ensembles et équipements décrits par d’autres équivalents.
Applications industrielles
La présente invention permet une utilisation simple de l’énergie de la houle pour des sites maritimes caractérisés par de grands marnages . Ce dispositif présente également l’avantage de se situer proche de la côte pour toutes les liaisons et raccordements ; de tels dispositifs peuvent être installés en nombre, sans nuire à l’environnement côtier et marin, de plus ils contribuent à la protection des rivages.
Enoncé des figures
La est un schéma montrant les débattements du flotteur (1) et du levier actif (3) dans le cas d’un marnage maximal de hauteur ∑M .
La représente une vue latérale par rapport à la houle de l’ensemble du dispositif ; les tuyauteries hydrauliques ne sont pas représentées.
DISPOSITIF DE PROPULSION A INVERSION DU SENS DE DIRECTION PAR MOUVEMENT TRANSLATIF BIDIRECTIONNEL Le dispositif de propulsion à inversion du sens de direction par mouvement translatif bidirectionnel, destiné à produire une propulsion vers un sens de direction, et d’inverser cette propulsion vers le sens de direction opposé. Ce dispositif est formé par un moteur d’entrainement, un mécanisme magnétique d’inversion et un système au sein d’un cadre hermétique.
(Moteur d’entraînement (M), et mécanisme magnétique d’inversion ne rentrent pas dans l’objet de la présente invention).
Le brevet d’invention intitulé « Propulseur à impulsions séquentielles » est déposé par ma personne (Monsieur HICHAM TAOUFIK) auprès de l’office marocain de la propriété industrielle et commerciale (O.M.P.I.C) le 3 Décembre 2019 sous No. 47560 et auprès de l’OMPI-Genève le 20 Octobre 2020 sous No. PCT/MA2020/000009. Toutefois, la présente invention propose un nouveau système à mouvement translatif bidirectionnel, permettant non seulement une propulsion mais aussi une rétropropulsion et l’inversion du sens de direction.
De nos jours, la technologie n’a pas présenté un système composé d’un disque denté, perforé de trous, et intercalé entre deux disques translatifs d’impulsions, fixés à un axe fileté de rotation, dont le mouvement translatif bidirectionnel au sein d’un cadre hermétique à air comprimé, permet de produire une propulsion vers un sens de direction et d’inverser cette propulsion vers le sens de direction opposé, et ce dans un espace atmosphérique et/ou hors atmosphère terrestre.
Ensuite, la couche conductrice 20a montrée à la est formée sur le substrat 10 pour obtenir le substrat conducteur CS. La couche conductrice 20a peut être formée, par exemple, par dopage de la région superficielle du substrat 10 avec des impuretés à une concentration élevée. La couche conductrice 20a en polysilicium peut être formée, par exemple, par LPCVD ( low pressure chemical vapor deposition , dépôt chimique en phase vapeur sous pression réduite). La couche conductrice 20a en métal peut être formée, par exemple, par placage électrolytique, placage par réduction ou placage par déplacement.
Une solution de placage est un liquide contenant un sel d’un métal à plaquer. En tant que solution de placage, il est possible d’utiliser une solution de placage générale telles une solution de placage au sulfate de cuivre contenant du sulfate de cuivre pentahydraté et de l’acide sulfurique, une solution de placage au pyrophosphate de cuivre contenant du pyrophosphate de cuivre et du pyrophosphate de potassium, et une solution de placage au sulfamate de nickel contenant du sulfamate de nickel et du bore.
La couche conductrice 20a est de préférence formée par un procédé de placage utilisant une solution de placage contenant un sel d’un métal à plaquer, un agent de surface et du dioxyde de carbone à l’état surcritique ou sous-critique. Dans ce procédé de placage, l’agent de surface est intercalé entre des particules de dioxyde de carbone surcritique et une phase continue d’une solution contenant un sel d’un métal à plaquer. C’est-à-dire qu’on laisse l’agent de surface former des micelles dans la solution de placage, et le dioxyde de carbone surcritique est incorporé dans ces micelles.
Dans un procédé de placage normal, la fourniture de métal à plaquer peut être insuffisante dans le voisinage des sections inférieures des évidements. Cela est particulièrement manifeste lorsqu’un rapport D/W de la profondeur D à une largeur ou un diamètre W des évidements est grand.
Les micelles incorporant du dioxyde de carbone surcritique peuvent facilement pénétrer des passages étroits. Lorsque les micelles se déplacent, la solution contenant un sel d’un métal à plaquer fait de même. Voilà pourquoi, selon un procédé de placage utilisant une solution de placage contenant un sel d’un métal à plaquer, un agent de surface et du dioxyde de carbone à l’état surcritique ou sous-critique, la couche conductrice 20a présentant une épaisseur uniforme peut être facilement formée.
Ensuite, la couche diélectrique 30 est formée sur la couche conductrice 20a. La couche diélectrique 30 peut être formée, par exemple, par CVD ( chemical vapor deposition , dépôt chimique en phase vapeur). Alternativement, la couche diélectrique 30 peut être formée par oxydation, nitruration ou oxynitruration de la surface de la couche conductrice 20a.
Ensuite, la couche conductrice 20b est formée sur la couche diélectrique 30. En tant que couche conductrice 20b, par exemple, une couche conductrice en polysilicium ou en métal est formée. Une telle couche conductrice 20b peut être formée, par exemple, par le même procédé que celui décrit ci-dessus pour la couche conductrice 20a.
Ensuite, une ouverture est formée sur la couche diélectrique 30. L’ouverture est formée en un emplacement d’une région périphérique de la première surface principale S1 qui entoure le réseau des premières sous-régions A1a et A1b. Ici, une section de la couche diélectrique 30 qui est située sur la première surface principale S1 est ouverte en forme de cadre. Cette ouverture peut être formée, par exemple, par formation d’un masque par photolithographie et structuration par décapage.
Ensuite, une couche métallique est formée et structurée pour obtenir la première électrode interne 70a et la seconde électrode interne 70b. La première électrode interne 70a et la seconde électrode interne 70b peuvent être formées, par exemple, par une combinaison de formation d’un film par pulvérisation cathodique ou placage, et de photolithographie.
Par la suite, la couche isolante 60 est formée. La couche isolante 60 est ouverte aux emplacements correspondant à une partie de la première électrode interne 70a et une partie de la seconde électrode interne 70b. La couche isolante 60 peut être formée, par exemple, par une combinaison de formation de film par CVD et de photolithographie.
Ensuite, la première électrode externe 70c et la seconde électrode externe 70d sont formées sur la couche isolante 60. Spécifiquement, les premières couches métalliques 70c1 et 70d1 sont formées en premier. Ensuite, les secondes couches métalliques 70c2 et 70d2 sont formées. Les premières couches métalliques 70c1 et 70d1 et les secondes couches métalliques 70c2 et 70d2 peuvent être formées, par exemple, par une combinaison de formation de film par pulvérisation cathodique ou placage, et de photolithographie.
Par la suite, la structure ainsi obtenue est coupée en dés. De la manière décrite ci-dessus, on obtient le condensateur 1 montré aux et 2.
Dans le procédé décrit ci-dessus, les premiers évidements TR1a et TR1b sont formés à l’aide de MacEtch, mais au moins l’un des premiers évidements TR1a et TR1b peut être formé par d’autres procédés. Par exemple, lorsqu’il s’agit de former des évidements de faible profondeur ou de former des évidements de grand(e) largeur ou diamètre qui soient suffisamment éloignés les uns des autres, un procédé de décapage autre que MacEtch, tel un décapage par ions réactifs (RIE, reactive ion etching ) peut être utilisé.
Dans ce condensateur 1, les premiers évidements TR1a et TR1b sont prévus sur la première surface principale S1, et la structure empilée incluant la couche diélectrique 30 et la couche conductrice 20b est prévue non seulement sur la première surface principale S1 mais aussi dans ces premiers évidements TR1a et TR1b. Voilà pourquoi ce condensateur 1 peut atteindre une grande capacité électrique.
De plus, dans le cas où tous les premiers évidements prévus sur la première surface principale S1 présentent la même direction de longueur, le substrat conducteur CS est facile à gauchir dans la direction de largeur des premiers évidements. En revanche, dans ce condensateur 1, une pluralité de premières sous-régions A1a et A1b sont agencées sur la première surface principale S1, et les directions de longueur des premiers évidements TR1a et TR1b prévus dans les premières sous-régions A1a et A1b, respectivement, sont rendues différentes. C’est-à-dire que la direction dans laquelle le substrat conducteur CS est facile à gauchir est différente entre les sections correspondant aux premières sous-régions A1a et les sections correspondant aux premières sous-régions A1b. Voilà pourquoi ce condensateur 1 est difficile à gauchir, et le substrat conducteur CS est également difficile à gauchir dans le processus de fabrication du condensateur 1.
C’est-à-dire que ce condensateur 1 peut atteindre une grande capacité électrique et est difficile à gauchir.
dans laquelle, c2 est un coefficient constant représentant la résistance thermique interne susmentionnée.
De manière simplifiée, en négligeant la corrélation entre un coefficient de transfert de chaleur c3 du module de batterie MP et le débit de fluide caloporteur DE, le transfert de la chaleur du module de batterie MP vers le refroidisseur de batterie RE est régi par l’égalité suivante :
Q trans = c3.DE.(TL-TF),
dans laquelle, Q trans est la chaleur transférée, DE est le débit de fluide caloporteur, TF est la température susmentionnée du fluide caloporteur en entrée du refroidisseur de batterie RE et c3 est le coefficient de transfert de chaleur susmentionné considéré ici comme étant constant.
La variation transitoire de la température du module de batterie MP est exprimée dans l’équation suivante :
(Q gen -Q trans ).Dt = c4.[(TH tn +TL tn )/2 - (TH t(n-1) +TL t(n-1) )/2],
dans laquelle Dt est le pas de temps de la simulation, les indices tn et t(n-1) affectés aux températures TH et TL indiquent que les valeurs considérées pour ces températures sont respectivement celles du pas de temps n considéré et celles du pas de temps n-1 antérieur, et c4 est un coefficient considéré ici comme étant constant.
Le gradient de température recherché par simulation, désigné GT_S, est :
GT_S = (THt n – TH t(n-1) )/Dt.
Pour obtenir le gradient GT_S, les équations sont résolues de manière itérative par la méthode implicite, en prenant un pas de temps Dt par exemple de 1s , Dt = 1s, et en ajustant les valeurs des coefficients de façon à obtenir des valeurs de température dans la plage de température réelle du module de batterie MP avec son système thermique ST.
Les Figs.5 et 6 montrent l’évolution en fonction du temps des températures internes T_P et T_S obtenues par intégration respectivement des gradients de température GT_P et GT_S prédit par le modèle MOD_NE et calculé par la simulation. Les courbes de la ont été obtenues avec une puissance P fixe de 50 kW et un débit de fluide caloporteur DE variant sinusoïdalement de 0 à 10 litres/minute. Les courbes de la ont été obtenues avec une puissance P variant sinusoïdalement de 0 à 100 kW et un débit de fluide caloporteur DE fixe de 10 litres/minute. La concordance clairement visible des courbes dans les Figs.5 et 6 démontre la justesse de la prédiction fournie par le modèle neuronal MOD_NE.
L’invention ne se limite pas au mode de réalisation particulier qui a été décrit ici à titre d’exemple. L’homme du métier, selon les applications de l’invention, pourra apporter différentes modifications et variantes entrant dans le champ de protection de l’invention.
PROCEDE DE VERIFICATION D’UN DISPOSITIF DE TEST DE BATTERIE AUXILIAIRE Domaine technique de l’invention L'invention concerne un procédé de vérification d’un dispositif de test de la capacité d’une batterie auxiliaire à alimenter en énergie électrique des organes sécuritaires d’un véhicule électrique, un dispositif de vérification du dispositif de test et un véhicule électrique comprenant un tel dispositif de vérification.
Un véhicule électrique comprend une série de batteries principales permettant d’alimenter un moteur électrique en énergie électrique pour déplacer le véhicule électrique et un producteur d’énergie électrique de 12 volts apte à alimenter un réseau de bord en 12 volts. Le producteur d’énergie électrique comprend un convertisseur de tension DCDC.
Lors de manœuvres dites sécuritaire (freinage d’urgence, évitement, par exemple) le producteur d’énergie électrique alimente les organes sécuritaires tels que l’ESP (de l’anglais « Electronic Stability Program ») ou la DAE (Direction Assistée Electrique) par exemple.
Le producteur d’énergie électrique comprend également une batterie auxiliaire de 12 volts communément appelée stockeur 12 volts.
Le couvercle peut comprendre une portion centrale supérieure qui est reliée à l’élément d’appui extérieur via une portion inclinée du couvercle.
L’élément d’appui intérieur peut s’étendre verticalement depuis la portion inclinée et en direction de la surface supérieure du bord supérieur.
L’élément de verrouillage peut comprendre une pince de section verticale en forme de U, ladite pince comprenant une paroi intérieure, une paroi extérieure qui est parallèle à la paroi intérieure, et une paroi inférieure qui est orthogonale à la paroi intérieure et à la paroi extérieure et qui relie la paroi intérieure à la paroi extérieure.