Procédé de fabrication d’un écran de sérigraphie (100) pour l’obtention de vitrages munis de motifs électroconducteurs, comprenant les étapes suivantes : a) l’enduction d’un tamis (101) par une émulsion photoréticulable, puis b) le séchage du tamis (101) ainsi enduit, puis c) l’application d’un film autosupporté photoréticulable sur au moins une zone, dite zone de film (102, 104, 106), d’une face du tamis (101) enduit, puis d) l’insolation du tamis (101) enduit afin de réticuler l’émulsion photoréticulable et le ou chaque film autosupporté photoréticulable dans des zones prédéterminées appelées zones de réticulation, les zones de réticulation dans au moins une partie de la ou de chaque zone de film se présentant sous la forme d’un réseau de points (108) ou de lignes, puis e) le lavage du tamis enduit afin d’éliminer l’émulsion et le ou chaque film autosupporté dans les zones autres que les zones de réticulation. Procédé selon la revendication précédente, dans lequel des zones de film sont situées au moins dans les parties latérales de l’écran, et de préférence également dans la partie centrale. Procédé selon l’une des revendications précédentes, dans lequel les points (108) du réseau de points présentent une dimension latérale maximale allant de 0,10 à 0,30 mm, ou les lignes du réseau de ligne présentent une largeur allant de 0,10 à 0,40 mm. Procédé selon la revendication précédente, dans lequel le rapport R1 entre la distance séparant les centres des points (108) du réseau de points et la dimension latérale maximale des points (108) est comprise entre 1 et 3. Ecran de sérigraphie (100) pour l’obtention de vitrages munis de motifs électroconducteurs obtenu par le procédé selon l’une des revendications précédentes, ledit écran (100) comprenant un tamis (101) dont une partie des mailles sont obturées par de la matière photoréticulée dans des zones dites zones de réticulation, ledit tamis (101) comprenant au moins une zone (102, 104, 106) dite zone de film telle que les zones de réticulation situées dans la ou chaque zone de film se présentent sous la forme d’un réseau de points (108) ou de lignes, et l’épaisseur de matière photoréticulée obturant les mailles du tamis est plus élevée dans les zones de réticulation situées dans la ou chaque zone de film que dans les zones de réticulation situées en dehors des zones de film. Procédé d’obtention d’un vitrage (1) comprenant une feuille de verre (2) revêtue sur une de ses faces de motifs électroconducteurs (4, 6, 8, 10) présentant dans au moins une zone (10A, 12A), dite zone de surépaisseur, une épaisseur plus élevée que dans les autres zones, ledit procédé comprenant l’impression par sérigraphie desdits motifs électroconducteurs en une seule passe, selon les étapes suivantes : - le positionnement d’un écran de sérigraphie (100) selon la revendication précédente en regard d’une feuille de verre (2), de façon à ce que la ou chaque zone de film (102, 104, 106) dudit écran de sérigraphie soit en regard d’une zone de la feuille de verre (2) destinée à devenir une zone de surépaisseur (10A, 12A), puis - le dépôt, notamment à l’aide d’un racle, sur l’écran de sérigraphie (100), d’une pâte électroconductrice, puis - un traitement thermique de cuisson. Procédé selon la revendication précédente, tel que les motifs électroconducteurs (4, 6, 8, 10) comprennent des pistes électroconductrices (4, 6, 8) situées dans au moins une partie latérale (C) et dans une partie centrale du vitrage (A), les zones de surépaisseur (10A, 12A) étant situées dans ladite partie centrale (A) et/ou dans au moins une partie latérale (C), de préférence les zones de surépaisseur (10A, 12A) étant situées dans la partie centrale (A) et dans les parties latérales (C). Procédé selon l’une des revendications 6 ou 7, comprenant, avant le dépôt des motifs électroconducteurs, une étape préalable de dépôt par sérigraphie d’un revêtement d’émail noir à la périphérie de la feuille de verre (2), sur lequel une partie des motifs électroconducteurs (6, 8, 10) est déposée. Procédé selon l’une des revendications 6 à 8, dans lequel les motifs électroconducteurs (4, 6, 8, 10) sont formés d’une pâte à l’argent, notamment comprenant à l’état humide au plus 88% en poids d’argent. Procédé selon l’une des revendications 6 à 9, tel que l’épaisseur des motifs électroconducteurs (8, 10) dans la ou chaque zone de surépaisseur (10A, 12A) est d’au moins 8 µm, notamment comprise entre 10 et 20 µm, et l’épaisseur des motifs (4, 6, 8) dans les zones autres que les zones de surépaisseur est d’au plus 8 µm, notamment comprise entre 3 et 7 µm, après l’étape de traitement thermique de cuisson. Procédé selon l’une des revendications 6 à 10, dans lequel les zones de surépaisseur (10A, 12A) englobent ou correspondent à des zones de soudure (10, 12), et le procédé comprend en outre une étape supplémentaire de soudure d’au moins un connecteur sur au moins une partie d’une zone de surépaisseur (10A, 12A), notamment sur les zones de soudure (10, 12). Procédé selon la revendication précédente, dans lequel le connecteur est métallique, notamment en acier contenant du chrome, et la soudure est réalisée à l’aide d’un alliage de soudure sans plomb, à base d’étain, d’argent et de cuivre. Procédé selon l’une des revendications 6 à 12, dans lequel le vitrage obtenu est une lunette arrière de véhicule automobile, un vitrage latéral de véhicule automobile ou un pare-brise de véhicule automobile, les motifs électroconducteurs étant notamment des antennes (6), des bandes collectrices (8), des fils d’alarme et/ou des fils chauffants (4), et la ou chaque zone de surépaisseur (10A, 12A) englobant ou étant une zone de soudure pour connexion d’antenne (10A) et/ou de réseau chauffant (12A) et/ou d’alarme. Vitrage (1) obtenu par le procédé de l’une des revendications 6 à 13, ledit vitrage comprenant une feuille de verre (2) revêtue sur une de ses faces de motifs électroconducteurs (4, 6, 8, 10) présentant dans au moins une zone (10A, 12A), dite zone de surépaisseur, une épaisseur plus élevée que dans les autres zones.