INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Une dimension d'un organe de réglage (La) est l’épaisseur axiale de l’organe de réglage (20), plus précisément la distance entre la première et la deuxième face latérale (20a, 20b) et elle doit être choisie en fonction de la première, de la deuxième et de la troisième dimension (L1, L2, L3). En résumé, l’épaisseur (La) de l’organe de réglage est choisie en fonction des première, deuxième et troisième dimensions (L1, L2, L3).
La différence entre la première dimension (L1) et la valeur totale de la deuxième et de la troisième dimension, donne l’épaisseur (La) dite dimension d'ajustement qui vient compenser la distance entre la surface de connexion (Cs) du volant (F) et les section périphériques (13) du couvercle (20), sans exiger de tolérances de fabrication.
La dimension de l’organe de réglage (La) peut être fournie par un seul organe de réglage (20), mais peut également être fournie par plusieurs organes de réglage (20). Par exemple, deux organes de réglage ayant une hauteur axiale de 2,5 mm peuvent être utilisés pour compenser une distance de 5 mm entre la surface de connexion (Cs) et le fond des section périphériques (13). Les organes de réglage (20) peuvent avoir des hauteurs axiales différentes, comme on peut le voir sur la . Par exemple, l’organe de réglage (20) ayant une hauteur axiale de 1,5 mm et un autre organe de réglage (20) ayant une hauteur axiale de 0,5 mm peuvent être utilisés pour compenser une distance de 3 mm. Lesdits organes de réglage (20) peuvent être reliés les uns aux autres par collage ou soudage.
La plage de hauteur axiale des organes de réglage (30) est comprise entre 0,5 et 8 mm.
Après avoir sélectionné l’organe de réglage (20) ou les organes de réglage (20) ayant la bonne dimension de réglage (La), le couvercle (10) et l’organe de réglage (20) sont placés l'un sur l'autre dans une première position angulaire. Ensuite, le couvercle (10) ou l’organe de réglage (20) est déplacé angulairement vers une seconde position angulaire de sorte que la première surface latérale (20a) entre en contact avec les section périphériques (13) de sorte que l’orifice (22) et l’orifice de fixation et/ou de centrage (14, 15) sont alignés et le couvercle (10) et l’organe de réglage (20) sont fixés l'un à l'autre dans la seconde position angulaire par soudage ou collage.
Le terme "première position angulaire" définit les positions du couvercle (10) et de l’organe de réglage (20) l'un par rapport à l'autre et, dans cette position, l’orifice (22) et l’orifice de fixation et/ou de centrage (14, 15) ne sont généralement pas alignés. Le terme "deuxième position angulaire" définit la position dans laquelle l’orifice (22) et l’orifice de fixation et/ou de centrage (14, 15) sont alignés.
Si le corps (21) comporte la saillie de soudage (211) représentée sur la .D, après avoir fourni la deuxième position angulaire, l'opération de soudage peut être effectuée directement. Dans ce cas, la saillie de soudage (211) fond pendant le processus de soudage, c'est-à-dire le soudage par points, et relie le couvercle (10) et l’organe de réglage l'un à l'autre.
Dans un autre mode de réalisation du procédé, après avoir fourni la deuxième position angulaire, l’organe de réglage (20) est éloigné du couvercle (10) et un matériau de fixation, tel que le soudage ou le collage, est appliqué, si le soudage direct n'est pas utilisé. Le matériau de fixation peut être appliqué à la fois sur la surface plane de l’organe de réglage (20) et sur le fond des section périphériques (13).
Le matériau de fixation peut être à la fois un matériau de soudage ou de collage. Si le matériau de soudage est sélectionné, l’organe de réglage (20) et le couvercle (10) se rapprochent l'un de l'autre et le soudage est effectué. Si le matériau de collage est sélectionné, l’organe de réglage (20) et le couvercle (10) entrent en contact l'un avec l'autre et attendent que le matériau de collage durcisse.
En se référant à la , un ensemble de couvercle mentionné (1) est utilisé pour un mécanisme d'embrayage (100).
Le mécanisme d'embrayage (100), pour sélectivement interrompre et transmettre le couple entre le moteur du véhicule et le système de transmission du véhicule comprend, un ensemble de couverture (1) comprenant un couvercle (10) pour couvrir au moins partiellement un embrayage à friction et une section périphérique (13) sur le couvercle (10) et un orifice de fixation et/ou de centrage (14, 15) prévu sur la section périphérique (13) qui permet une connexion entre le couvercle (10) et un volant d'inertie (F) par rivetage ou vissage pour transférer un couple entre le volant d'inertie (F) et l'embrayage à friction, au moins un organe de réglage (20) étendu axialement, soudé ou collé de manière fixe à la partie inférieure de la section périphérique (13) pour régler une distance axiale entre la section périphérique (13) et le volant (F) et un corps (21) et un orifice s'étendant axialement (22) prévu sur le corps (21), dans lequel l’orifice (22) est positionné sous l’orifice de fixation ou de centrage (14, 15), le sous-ensemble d'embrayage à friction comprenant un plateau de pression (30) et un diaphragme (40) disposés coaxialement entre le couvercle (10) et le volant moteur et le diaphragme (40) est adapté pour être en contact avec le couvercle d'embrayage (10), et un plateau de friction (60) sous le plateau de pression (30) adapté pour être sélectivement en contact avec le volant d'inertie (F) en fonction du mouvement d'appui du plateau de pression (30), et présentant une première face (60A) adaptée pour être en contact avec le plateau de pression (30), et une seconde face (60B) opposée au volant d'inertie (F) relié à la section périphérique (13) par le moyen de liaison du volant d'inertie (FC) qui traverse d'abord l'un des orifices de fixation et de centrage (14, 15) puis l’orifice (22) du régleur (20).
Pour ce mécanisme d'embrayage (100), n'importe lequel des ensembles de couvertures (1) décrits dans les revendications et la description détaillée peut être utilisé.
Le mode de réalisation préféré du mécanisme d'embrayage (100) est illustré à la . Le mécanisme d'embrayage (100) comprend le couvercle (10). Entre la section périphérique (13) et le volant (F), les organes de réglage (20) sont positionnés de manière à ce que l’orifice (22) de l’organe de réglage (22) et l’orifice de fixation et/ou de centrage (14) du couvercle (10) soient alignés. Le moyen de connexion du volant d'inertie (FC) est positionné sur lesdits orifices pour connecter le couvercle (10) et une surface de connexion (Cs) du volant d'inertie (F) l'un à l'autre.
Le couvercle (10) définit un volume intérieur comme indiqué précédemment dans cette section périphérique de description détaillée. Dans le volume intérieur du couvercle (10), un diaphragme (40) est positionné et les doigts (41) du diaphragme (40) s'étendent radialement vers l'ouverture centrale (11) formée au centre du couvercle (10). Un organe de retenue de ressort (17), qui est intégré au couvercle (10), est formé sur le bord de l'ouverture centrale (11) et s'étend entre les doigts (10) pour retenir le ressort de diaphragme (40). De préférence, l’organe de retenue du ressort (17) a une forme en "L". Sous le diaphragme (40), une plateau de pression (30) est placée de telle sorte que le diaphragme (40) est configuré pour permettre le contact entre la plaque de friction (60) et le volant (F) à l'état normal. Le plateau de pression (30) a une ouverture au centre et un amortisseur de vibrations ayant des ressorts (S) pour amortir les vibrations et le moyeu (H) configuré pour être connecté à l'arbre du moteur du véhicule est placé sur ladite ouverture. L'amortisseur de vibrations est relié à un disque de friction (62) de la plaque de friction (60). La plaque de friction (60) comprend deux garnitures de friction (61) et l'une d'entre elles est positionnée sur la surface supérieure du disque de friction (62) et l'autre est positionnée sur la surface inférieure du disque de friction (62). La garniture de friction supérieure (61) est configurée pour être en contact avec le plateau de pression (30) et la garniture de friction inférieure (61) est configurée pour être en contact avec le volant (F).
L'étendue de la protection de l'invention a été mentionnée dans les revendications qui sont jointes et l'invention ne peut être limitée aux modes de réalisation décrits dans cette description détaillée. Il est clair qu'un homme du métier peut fournir des réalisations similaires dans le cadre des descriptions susmentionnées sans s'écarter du thème principal de l'invention.
Dans la description, certains éléments peuvent être indexés, tels que : le premier et le deuxième organes de réglage, la première et la deuxième face (latérale) ; la première, la deuxième et la troisième dimension. Il s'agit d'une simple indexation pour différencier et nommer des éléments similaires mais non identiques. Cette indexation n'implique pas une priorité d'un élément par rapport à un autre, et de tels noms peuvent facilement être interchangés sans sortir du cadre de la présente description.
L’élément optique transparent de l’invention peut être du type élément de carrosserie, et faire partie par exemple d’un système de télédétection. Le système de détection peut être un dispositif radar ou un dispositif lidar. Le dispositif radar est configuré pour émettre des ondes radar. Le dispositif lidar est configuré pour émettre de la lumière du spectre visible, infrarouge ou ultraviolet, la lumière étant issue d’un laser.
Le système de télédétection est ainsi généralement intégré dans un élément de carrosserie et l’élément optique transparent présentent un aspect extérieur semblable aux éléments de carrosserie l’entourant. L’élément optique transparent peut donc être opaque au rayonnement lumineux visible et être transparent aux rayonnements électromagnétiques émis par le système de télédétection, comme par exemple des ondes radar ou des infrarouges ou encore des ultraviolets.
Un plasma atmosphérique à décharge à barrière diélectrique volumique aussi appelé Dielectric Barrier Diffusion atmospheric plasma en anglais est un type de plasma dont l’énergie est comprise entre l’énergie de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma l’énergie et d’un plasma d’arc. Ainsi, un plasma atmosphérique à décharge à barrière diélectrique volumique permet de polymériser un ou plusieurs monomères organiques afin d’obtenir un polymère organique présentant un degré de polymérisation voulu. En outre un plasma atmosphérique à décharge à barrière diélectrique volumique e permet de réticuler le polymère en présence ou non d’au moins un agent de réticulation pour obtenir un degré de réticulation désiré. Par conséquent, il est aisé de contrôler les propriétés du polymère ainsi obtenu et donc les propriétés de l’élément optique transparent.
Selon un mode de réalisation, la deuxième couche présente une épaisseur d’au plus 1 micromètre, préférentiellement d’au plus 100 nm, plus préférentiellement d’au plus 30 nm.
Selon un mode de réalisation, la deuxième couche est une couche hydrophile.
Selon un mode de réalisation, la deuxième couche est une couche hydrophobe.
Selon un mode de réalisation, la deuxième couche est une couche anti-corrosion.
Selon un mode de réalisation, la deuxième couche est directement en contact physique avec la première couche.
Selon un mode de réalisation, le composé précurseur se présente sous forme liquide, et/ou est dissous dans un solvant, et/ou est dilué dans solvant.
Selon un mode de réalisation, le débit volumique du composé précurseur est compris entre 0,5 ls/ min et 1,5 ls/min, préférentiellement égale à 1 ls/min.
Selon un mode de réalisation, le composé précurseur est choisi parmi un monomère organique, un monomère organométallique, un prépolymère organique et un de leurs mélanges.
Selon un mode de réalisation, le composé précurseur est choisi parmi l’acide acrylique, l’alcool polyvinylique, l’acétate d’éthyle, le perfluorodécyltriéthylsilane, le fluorométhacrylate, le bis(triéthoxysilyl)éthane, l’hexaméthyldisilazane (HMDSN), l’hexaméthyldisiloxane (HMDSO), l’Octaméthylcyclotétrasiloxane (OMCTSO), le polydiméthylsiloxane (PDMS), le tétraéthylorthosilicate (TEOS), l’isopropoxyde de titane (TTIP), l’aminopropyltriéthoxysilane (APTES), l’acéthylène, le méthane, le tétraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), l’aminopropyltriéthoxysilane, l’hydroxyéthylméthacrylate, le polyéthylène glycol.
Selon un mode réalisation, la polymérisation du composé précurseur (CP1) est effectuée en présence d’un deuxième composé précurseur (CP2).
Selon un mode de réalisation, le deuxième composé précurseur (CP2) est un agent de réticulation.
Selon un mode de réalisation, l’agent de réticulation est choisi parmi le glutaraldéhyde, le diméthacrylate d'éthylène glycol et un de leurs mélanges.
Selon un mode de réalisation, l’élément optique transparent comprend une pluralité de deuxièmes couches transparentes, chaque deuxième couche étant formée par la polymérisation d’au moins un composé précurseur, la polymérisation étant assistée par plasma atmosphérique à décharge à barrière diélectrique volumique. Ainsi les deuxièmes couches sont superposées les unes aux autres, une des deuxièmes couches étant en contact physique avec la première couche. Le composé précurseur peut être le même pour chaque couche ou différent pour chaque couche.
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REFROIDISSEMENT LIQUIDE D’UNE BANDE EN DEFILEMENT DANS UNE LIGNE CONTINUE Désignation du domaine technique concerné L’invention se rapporte aux lignes continues de recuit ou de galvanisation de bandes métalliques équipée d’une section de refroidissement rapide liquide, qu’il s’agisse d’un refroidissement à l’eau, un mélange d’eau et d’un autre liquide, ou de tout autre liquide.
Elle se rapporte notamment aux lignes équipées d’un « NOWFC », NOWFC étant l’abréviation de l’anglais « Non Oxydizing Wet Flash Cooling », ou refroidissement humide ultra-rapide non oxydant en français. Un NOWFC est ainsi un procédé et un dispositif de refroidissement ultra-rapide d’une bande métallique avec un liquide, composé principalement d’eau, mais sans oxyder sa surface.
L’invention se rapporte plus particulièrement aux chambres de refroidissement liquide disposées sur un brin de bande vertical, la bande pouvant circuler verticalement ou horizontalement en amont ou en aval de ladite chambre.
Par galvanisation, la présente description vise tous les revêtements au trempé, qu’il s’agisse de revêtements de zinc, d’aluminium, d’alliages de zinc et d’aluminium, ou de tout autre type de revêtements.
Problèmes techniques auxquels répond l’invention Dans une ligne continue de recuit ou de galvanisation de bandes métalliques, une bande défile dans différentes sections à l’intérieur desquelles elle subit un traitement thermique comportant notamment des phases de chauffage, de maintien en température et de refroidissement.
L’élaboration de nouveaux aciers à très haute limite élastique, typiquement supérieure à 500 Mpa, nécessite des traitements thermiques avec des vitesses de refroidissement élevées, typiquement supérieures à 200 °C/s, pour établir des structures complexes avec une répartition variable de différentes phases métallurgiques parmi lesquelles les phases austénitique, ferritique, perlitique, bainitique, et martensitique.
En particulier, les aciers à très hautes limites élastiques AHSS et UHSS peuvent être produits en contrôlant les vitesses de refroidissement, à partir d’une structure métallurgique totalement austénitique ou mixte ferritique et austénitique.
Le traitement thermique à appliquer à la bande dépend de la composition chimique de l’acier, de son état en entrée de ligne, et des propriétés mécaniques attendues en fin de traitement. Il comprend par exemple une étape de chauffage jusqu’à une température comprise entre 750°C et 950°C, un temps de maintien à cette température suivi d’un refroidissement lent, par exemple de 50°C, puis une trempe ultra rapide jusqu’à la température ambiante ou une température intermédiaire, par exemple de 300°C, avec une vitesse de refroidissement spécifique pour chaque grade métallurgique. Pour les lignes de galvanisation, une remontée à température, par exemple avec un chauffage à induction, peut être réalisée après le refroidissement rapide pour porter la bande à une température proche de celle du bain de galvanisation avant son immersion.
Par exemple, l’obtention d’un acier donné peut nécessiter une température de recuit supérieure à sa température d’austénitisation, puis un temps de maintien à cette température, suivi d’un refroidissement lent pour une transformation partielle de l’austénite en ferrite et enfin un refroidissement rapide pour une transformation de l’austénite en martensite.
Le refroidissement peut être suivi d’une étape de revenu, par exemple à une température de 200°C, de vieillissement, ou « d’overaging » en anglais, par exemple à une température de 500°C, ou encore d’un second recuit pour des nuances dites de 3 ème génération, par exemple à une température de 750°C.
Pour éviter l’oxydation de la bande, les chambres disposées en amont et en aval de la chambre de refroidissement rapide contiennent une atmosphère réductrice exempte d’oxygène et composée d’azote hydrogéné, typiquement à 5% d’hydrogène.
La présence d’oxygène aurait pour effet de créer des oxydes de fer à la surface de la bande qui nuiraient à la qualité de la bande et au bon revêtement de celle-ci. Un effet similaire est obtenu en présence d’eau. En effet, l’eau sous forme vapeur, combinée à la température, oxyde le fer et des éléments d’addition présents dans la bande. Pour cette raison, les niveaux d’humidité doivent être maintenus extrêmement bas, typiquement correspondant à un point de rosée compris entre -30°C et -40°C, soit quelques dixièmes de grammes d’eau par kilogramme de gaz.
, , , et , , , , et ] représentent de manière partielle et schématique des variantes du circuit intégré de la ,
, Fig [14] et illustrent de manière partielle et schématique une variante du circuit intégré de la dans lesquelles le circuit est autonome, et,
représente de manière partielle et schématique un autre exemple de réalisation d’un circuit intégré selon l’invention.
Description détaillée On a illustré à la un exemple de circuit intégré programmable 1 selon l’invention, réalisé par exemple entièrement sur une seule puce 3, par exemple selon une technologie de type CMOS.
Le circuit 1 comporte un composant chrono évolutif 5 évoluant de manière autonome, en fonction du temps écoulé depuis une phase d’initialisation du circuit intégré, et un circuit 2 de contrôle qui permet une mesure du temps écoulé et le déclenchement d’une action en fonction de cette mesure.
L’évolution du composant 5 est dite « autonome » car elle se fait ici grâce à la décroissance naturelle d’une source radioactive R interne au circuit intégré, et ne nécessite pas d’apport d’énergie extérieure. Cette source radioactive est par exemple du 63 Ni.
Le composant 5 comporte un détecteur à semi-conducteur, par exemple une diode 10, sur laquelle est déposée le matériau de la source radioactive R, comme détaillé plus loin.
Dans l’exemple considéré, le circuit intégré 1 est agencé pour mémoriser un secret S et un délai programmable D, et le circuit de contrôle 2 bloque la lecture du secret S tant que le délai D ne s’est pas écoulé depuis une phase d’initialisation du circuit intégré 1.
Le secret S est mémorisé lors de la phase d’initialisation ou avant celle-ci dans une mémoire non volatile 60 du circuit intégré 1. Le secret S peut ensuite être protégé des observations extérieures par tout moyen adapté, par exemple à l’aide d’un fusible 4 qui est grillé pour empêcher la réécriture de la mémoire après sa programmation et par un blindage éventuel, connu de l’homme du métier.
D’autres moyens de protection anti-intrusion ou anti-attaque, connus de l’homme du métier, peuvent être ajoutés au circuit 1. On peut par exemple ajouter un blindage au circuit 1, telle qu’une grille ou grille active, et/ou un blindage en plomb contre d’éventuelles sources extérieures de radioactivité, comme décrit plus bas. On peut encore utiliser un dispositif additionnel permettant de détecter certaines conditions anormales, telles qu’une variation de température ou de tension. On peut encore brouiller les informations contenues dans le circuit 1 grâce à des méthodes classiques.
Le circuit de contrôle 2 peut comporter, comme illustré, un circuit 20 de lecture du niveau de radioactivité NL de la source R, un circuit 30 de calcul d’un niveau cible NC, et une mémoire 70 sur laquelle le niveau cible NC ainsi calculé est enregistré.
Les mémoires 60 et 70 peuvent être deux mémoires séparées ou deux blocs d’une même mémoire.
Le niveau cible NC n’est pas nécessairement secret mais il est non modifiable depuis l’extérieur une fois enregistré dans la mémoire 70. On peut notamment prévoir au sein du circuit intégré des moyens pour en protéger la modification, par exemple un fusible qui est activé après enregistrement du niveau cible NC. Ce fusible peut être le même ou non que celui qui sert à interdire l’accès à la mémoire 60.
Le circuit de contrôle 2 comporte un comparateur 40 afin de comparer le niveau de radioactivité NL lu avec le niveau cible NC, et présente une sortie interne protégée 50 qui ne change d’état que lorsque le résultat de cette comparaison change, c’est-à-dire qu’après que la durée prédéfinie D se soit écoulée et que le niveau de radioactivité NL lu est en deçà du niveau cible NC.
Dans l’exemple considéré, ce changement d’état est traité par un circuit de traitement 55 qui déclenche comme action la lecture du bloc mémoire 60 et donc, la révélation du secret S, mais dans des variantes d’autres actions peuvent être déclenchées, telles que l’exécution d’un code par exemple.
On va maintenir décrire, en se référant plus particulièrement aux figures 2 et 3, le composant chrono évolutif 5.
Dans la forme de réalisation des figures 4 et 5, les zones planes 19 s’étendent dans un plan radial.
Selon une autre forme de réalisation illustrée à la , lesdites zones planes 19 peuvent s’étendre dans un même plan oblique par rapport au plan radial.
La illustre une autre forme de réalisation dans laquelle les deux zones planes 19 sont réalisées au niveau de zones en creux 21 de la léchette 17, par exemple au niveau de la zone de raccordement de la léchette 17 avec la plate-forme externe 10.
Dans chacune de ces formes de réalisation, les deux zones planes 19 forment deux zones de contrôle permettant l’utilisation d’outillages de mesure lors d’opération de fabrication, de maintenance ou de réparation, en vue de contrôler de manière simple et fiable la position et/ou l’orientation du talon 9 par rapport à au moins une autre zone de référence de l’aube. Une telle mesure peut être réalisée par différents procédés, tels par exemple qu’une mesure par points à l’aide d’une machine de mesure tridimensionnelle ou MMT, ou qu’une mesure de surface par exemple sans contact à l’aide d’un laser.
Comme indiqué précédemment, une méthode de contrôle peut alors consister à mesurer l’écart entre chaque zone plane 19 avec une valeur nominale de référence afin de calculer un écart de position réel qui peut être directement causé par la rotation du talon 9. Cet écart peut ensuite être comparé à des tolérances qui peuvent être fonction notamment du procédé choisi pour la réalisation des zones planes.
Clinquant pour aube mobile de turbomachine, ensemble pour rotor comportant un tel clinquant et rotor comportant plusieurs de ces ensembles DOMAINE TECHNIQUE DE L’INVENTION La présente invention concerne un clinquant pour une aube de rotor de turbomachine. Elle concerne de plus un ensemble pour rotor comportant un tel clinquant monté sur un pied d’aube ainsi qu’un rotor formé de plusieurs de ces ensembles. Elle concerne en outre une turbomachine équipée d’un tel rotor.