Matériau multicouches (1), comprenant : un support solide (2) revêtu au moins partiellement d’une couche tampon (21) de quartz-α texturé (100), dont la direction cristallographique [100] du quartz α est parallèle à la direction cristallographique [100] du silicium (100) ; et sur ladite couche tampon (21) de (100) quartz-α, une couche (3) de micro-cristaux unidimensionnels de (110) ZnO épitaxié, lesdits micro-cristaux étant auto-assemblés. Matériau multicouches (1) selon la revendication 1, selon lequel l’épaisseur des micro-cristaux unidimensionnels de (110) ZnO épitaxié est comprise entre 30 nm et 1,5 µm, et est de préférence de l’ordre de 750 nm. Matériau multicouches (1) selon l’une quelconque des revendications 1 et 2, selon lequel la longueur des micro-cristaux unidimensionnels de (110) ZnO épitaxié est comprise entre 5 nm et 30 µm, et de préférence de l’ordre de 11 µm. Matériau multicouches (1) selon l’une quelconque des revendications 1 à 3, selon lequel ledit support solide (2) est en un matériau choisi parmi le silicium, le quartz massif, le mica, le corindon, le dioxyde de germanium, l'oxyde de magnesium, le titanate de strontium SrTiO 3 , LaAlO 3 , le niobiate de lithium, le tantalate de lithium, l'oxyde de cérium, les oxydes mixtes de gadolinium et de cérium de Ce (1-x) GdxO 2 dans lesquels x est tel que 0 Matériau multicouches (1) selon la revendication 4, selon lequel ledit support solide (2) est en silicium cristallin mono-orienté (100). Matériau multicouches (1) selon l’une quelconque des revendications 1 à 4, selon lequel lesdits micro-cristaux unidimensionnels de (110) ZnO épitaxié recouvrent au moins 40% de la surface de ladite couche tampon de (100) quartz-α dudit support solide (2). Utilisation d'un matériau multicouches (1) tel que défini selon la revendication 5 dans un dispositif électronique choisi parmi les MEMS, les matériaux électro-mécaniques, les composants piezoélectriques les récupérateurs d’énergie, les photodétecteurs, les oscillateurs filtre spécifique des ondes mécaniques, les transducteurs des ondes mécaniques en ondes électromagnétiques, les capteurs d'accélération et de vitesse angulaire, les capteurs de masse, ou les capteurs de gaz . Utilisation d'un matériau multicouches (1) tel que défini à l'une quelconque des revendications 1 à 5 pour la fabrication de guides d’ondes dans le domaine du visible, pour la fabrication de catalyseurs supportés, en présence ou non de métaux nobles ou comme gabarit d'épitaxie. Utilisation d'un matériau multicouches (1) tel que défini à l'une quelconque des revendications 1 à 5, pour la fabrication d’électrodes transparentes et conductrices et la fabrication de dispositifs électroniques utilisant lesdites électrodes transparentes et conductrices. Procédé de fabrication d’un matériau multicouches (1) tel que défini selon l’une quelconque des revendications 1 à 5, comprenant les étapes suivantes : A) une étape de préparation d’une couche tampon (21) de 100) quartz-α texturé recouvrant au moins partiellement un support solide (2), pour former un substrat destiné à la croissance épitaxiale de micro-cristaux de (110) ZnO ; B) une étape de préparation d’une première composition comprenant un solvant, et au moins un précurseur de ZnO ; C) une étape de préparation d’une deuxième composition consistant en une solution aqueuse d’au moins un composé organique hétérocyclique possédant une structure cage de type adamantine. ; D) introduction progressive et sous agitation de ladite deuxième composition dans ladite première composition, puis maintien sous agitation pendant au moins 10 minutes pour obtenir un mélange réactionnel ; E) une étape de préparation de surface de ladite couche tampon (21) à l’aide de ladite deuxième composition préparée à l’étape C) ou ledit mélange réactionnel préparé à l’étape D par introduction dudit substrat dans un réacteur hydrothermal, fermé et à l’intérieur duquel la température est d’au moins 60°C et la pression est d’au moins 1 bar, pendant au moins 15 minutes ; F) une étape de lavage de ladite couche tampon (21) à l’aide d’une solution acide ; puis G) une étape G de traitement thermique pour la croissance épitaxiale de microcristaux de ZnO, par introduction dudit substrat et dudit mélange réactionnel sur ledit substrat à l’intérieur dudit réacteur hydrothermal, fermé et à l’intérieur duquel la température est d’au moins 60°C et la pression est d’au moins 1 bar, pendant au moins 15 minutes ; et une étape H) de lavage post croissance avec successivement de l’eau déminéralisée, puis de l’éthanol pour sécher le matériau multicouches ainsi obtenu. Procédé selon la revendication 12, dans lequel on utilise à l’étape B), à titre de précurseur de ZnO, un nitrate de zinc, et de préférence le Zn(NO 3 ) 2 ·6H 2 O présent à raison de 0.1 M dans ladite première composition. Procédé selon l’une quelconque des revendications 12 et 13, dans lequel on utilise à l’étape C), à titre de composé organique hétérocyclique contenu dans ladite deuxième composition, l’hexamethylènetetramine (HTMA) de formule (CH2) 6 N 4 . Procédé selon l’une quelconque des revendications 12 à 14, dans lequel on ajoute, à l’étape C), dans ladite deuxième composition, un ou plusieurs additifs choisis parmi les agents de contrôle du pH, les agents de contrôle du pH (par exemple HCl), les agents structurants ou modificateurs ou bien encore les agents promoteurs de porosité tels que des polymères, les ammoniums quaternaires et l’urée. Procédé selon l’une quelconque des revendications 12 à 14, dans lequel lesdites étapes G et H sont réitérées une ou plusieurs fois sur le même substrat.