INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans cet exemple, la gamma caméra 1 comporte un collimateur 10 à masque codé. Ce type de collimateur est connu de de l’homme du métier. Avec ce type de collimateur, l'image acquise par l'imageur ne permet pas une représentation directe des sources irradiantes dans le champ d'observation. L'image gamma subit un traitement, prenant en compte une fonction de réponse de la caméra, de façon à permettre d'obtenir une image du champ d’observation, représentative de la position des sources dans le champ d’observation Ω. Le passage de l’image gamma, représentative d’une quantité d’interactions détectée par chaque pixel virtuel, après application de la fonction de sensibilité spatiale, à l’image du champ d’observation Ω est décrite ci-après. L’image est discrétisée en différentes coordonnées ( , ).
Comme illustré sur cette , les informations de fiabilité sont générées en prenant en compte une valeur de marge sur les lectures différentielles RDM0 et RDM1 des tensions de seuil effectives des transistors d’état des paires de cellules-mémoire.
Plus précisément, les premiers moyens de génération MGEN1 comportent les deuxièmes moyens de lecture LECT2 configurés pour effectuer pour chaque paire de cellules-mémoire du deuxième ensemble 1 une première lecture, par exemple la lecture RDM0, de la différence entre d’une part le courant écoulé par une première cellule-mémoire de ladite paire augmenté du courant de référence représentatif de ladite valeur de marge et d’autre part le courant écoulé par la deuxième cellule-mémoire de ladite paire de façon à obtenir une première donnée binaire.
Les deuxièmes moyens de lecture LECT2 sont également configurés pour effectuer une deuxième lecture par exemple la lecture RDM1, de la différence entre d’une part le courant écoulé par la deuxième cellule-mémoire augmenté du courant de référence et d’autre part le courant écoulé par la première cellule-mémoire de façon à obtenir une deuxième donnée binaire.
Dans l’exemple décrit ici, on a représenté à des fins de simplification, un groupe de 16 premières données binaires DB1, par exemple [0000 0111 1111 1111], obtenues à l’issue de la première lecture RDM0 et un groupe correspondant de 16 deuxièmes données binaires DB2, par exemple [0000 0000 0000 1111], obtenues à l’issue de la lecture RDM1.
Les moyens de génération MGEN1 comportent également un module, référencé globalement par la référence 222, configuré pour générer et écrire le masque MSK dans le troisième ensemble 3 de cellules-mémoire.
Ce module 222 comporte un inverseur IV permettant d’inverser l’un des groupes de données binaires, par exemple le groupe de premières données binaires DB1 issu de la lecture RDM0, de façon à obtenir, dans le cas illustré, le groupe [1111 1000 0000 0000].
Puis, des moyens de comparaison, par exemple une porte OU référencée PL, permettent de comparer bit à bit le groupe de deuxièmes données binaires DB2 issues de la lecture RDM1 avec l’inverse du groupe de premières données binaires DB1 issues de la lecture RDM0.
Si un bit inversé a effectivement une valeur logique opposée à celle du bit correspondant non-inversé, alors on peut considérer que la donnée est fiable et affecter un 1 à l’information de fiabilité correspondante, ce qui est obtenu par la porte logique OU.
Par contre, si la valeur logique du bit inversé est égale à la valeur logique du bit non-inversé correspondant, alors la donnée est considérée comme non fiable et l’information de fiabilité correspondante aura la valeur logique 0.
On obtient donc un masque MSK comportant autant de bits qu’il y a de paires de cellules-mémoire dans le deuxième ensemble 2. Dans le cas illustré, le masque MSK est égal à [1111 1000 0000 1111].
Bien entendu il serait possible de remplacer l’inverseur et la porte OU par une porte logique du type OU EXCLUSIF (XOR).
Le module 222 comporte également des moyens d’écriture PROG, de structure classique et connue, permettant d’écrire les informations de fiabilité (bits) du masque MSK dans les cellules-mémoire correspondantes du troisième ensemble 3.
On se réfère maintenant plus particulièrement à la pour décrire un exemple de structure des deuxièmes moyens de génération MGEN2 configurés pour générer le code HUK1 à partir des lectures différentielles des tensions de seuil effectives des transistors d’état des paires de cellules-mémoire et des informations de fiabilité associées à ces paires de cellules-mémoire.
Plus précisément, les deuxièmes moyens de lecture LECT2 procèdent à une lecture différentielle RD classique des paires de cellules-mémoire homologues respectivement situées dans les deux sous-ensembles 20L et 20R de façon à obtenir un premier jeu de données de sortie JS1, par exemple [0000 0000 0111 1111], comportant dans cet exemple simplifié 16 données binaires de sortie.
Cette lecture est avantageusement effectuée avec les grilles de commande des transistors d’état connectées à la masse.
Des moyens de lecture classiques MLCT comportant également des amplificateurs de lecture tels que les amplificateurs de lecture 5, effectuent une lecture classique RDMSK des informations de fiabilité MSK correspondant aux paires de cellules lues et contenues dans les cellules-mémoire CELM du troisième ensemble 3, par exemple [1111 1000 0000 1111].
De préférence, le cadre de montage 2 est configuré pour être fixé de manière rigide au connecteur électrique, signifiant qu'une fois que le cadre de montage 2 est fixé au connecteur électrique, un déplacement relatif entre le connecteur électrique et le cadre de montage 2 est empêché. Pour empêcher un mouvement de pivotement du cadre de montage 2 par rapport au connecteur électrique, le collier 20 peut former des parties de blocage 24 qui s'étendent au moins partiellement le long des petits côtés de l'ouverture de réception 6. Lorsque le connecteur électrique est reçu dans l'ouverture de réception 6, les parties de blocage 24 viennent en butée avec le connecteur électrique de chaque côté, en bloquant un mouvement de pivotement du cadre de montage 2 par rapport au connecteur électrique dans toute direction.
Le collier 20 peut également comprendre une entaille au niveau du même emplacement que la bride de support 4, de sorte que le collier 20 ne fournit pas un bord le long duquel le faisceau de câbles peut s’abraser.
Pour verrouiller le cadre de montage au couvercle de dispositif électrique, le cadre de montage comprend au moins une saillie de verrouillage 26. Dans ce mode de réalisation en exemple, un total de quatre saillies de verrouillage 26 faisant saillie latéralement à partir des côtés long 14 du collier 20 sont fournies. Sur les figures, seules deux saillies de verrouillage 26 sont visibles. Les autres saillies de verrouillage invisibles sont agencées opposées aux saillies de verrouillage visibles 26. Les saillies de verrouillage comprennent une surface supérieure plate 28 faisant face à la surface d'appui 8 de telle sorte qu’une fente 30 est formée entre la bride de support 4 et les saillies de verrouillage 26. La surface supérieure plate 28 peut en particulier être agencée essentiellement parallèle à la surface d'appui 8, de sorte que la fente 30 forme un guide linéaire permettant un déplacement fluide du cadre de montage 2 par rapport au couvercle de dispositif électrique.
Le cadre de montage 2 peut comprendre en outre deux butoirs 32 formés sous la forme d'un loquet élastique 34. Les butoirs 32 sont agencés parallèles l'un et l'autre et sont agencés sur la bride de support 4 au niveau du côté étroit 16 opposé à l’entaille 10. Les butoirs 32 sont formés sous la forme de loquets élastiques en porte-à-faux 34 présentant des extrémités libres 36 qui sont orientées à l'opposé de l'ouverture de réception 6 et qui font saillie au-delà de la surface d'appui dans la direction verticale Z. Avantageusement, les butoirs 32 sont agencés dans des fenêtres 38 formées sur la bride de support 4 qui pénètrent la bride de support 4 dans la direction verticale Z. L'interaction des butoirs 32 avec le couvercle de dispositif électrique est en outre expliquée ultérieurement en se reportant aux figures 3A et 3B.
Sur la , un agencement de connecteurs 40 est représenté dans une vue en perspective. L'agencement de connecteurs 40 comprend un ensemble 42, l'ensemble 42 présentant un connecteur électrique 44 qui est reçu dans l'ouverture de réception 6 du cadre de montage 2 et fixé à un couvercle de dispositif électrique 46. L’ensemble 42 forme une unité structurelle 48 qui peut être montée sur ou démontée à partir du dispositif électrique 50. Sur la , l’unité structurelle 48 est montée sur le dispositif électrique, et sur la , l’unité structurelle 48 est démontée à partir du dispositif électrique 50.
Comme il est possible de le voir sur la , un connecteur d’appariement 52 peut être monté sur le dispositif électrique 50. Le connecteur d’appariement 52 peut comprendre un réceptacle 54 adapté pour recevoir le connecteur électrique 44.
Le kit de rééquipement 1 peut comprendre en outre un cadre d’alignement 56 qui est agencé entre le connecteur électrique 44 et le connecteur d’appariement 52. Dans ce mode de réalisation en exemple, le cadre d'alignement 56 peut être fixé de manière rigide au connecteur d'appariement 52. Pour cela, le cadre d’alignement 56 peut comprendre des loquets 58 qui se verrouillent sur un extérieur du connecteur d'appariement 52, de telle sorte le cadre d’alignement 56 s’étend autour du réceptacle et forme un guide d'entrée.
Le cadre d'alignement 56 présente une forme essentiellement rectangulaire, où les loquets 58 font saillie dans la direction verticale Z à partir des côtés longs du cadre d'alignement 56. Sur le côté étroit, le cadre d'alignement 56 peut être muni d'une saillie de guidage 60 qui fait saillie dans la direction verticale Z. La saillie de guidage 60 glisse le long de l'extérieur du connecteur d'appariement 52, et garantit que la position relative du cadre d'alignement 56 et du connecteur d'appariement 52 est correcte lors d'un montage du cadre d'alignement 56 sur le connecteur d'appariement 52.
Le cadre d'alignement 56 peut être fixé à l'extérieur du connecteur d’appariement 52 de telle sorte que le cadre d’alignement 56 ne réduit pas la taille du réceptacle. Un côté intérieur 62 du cadre d'alignement 56, en particulier tous les côtés intérieurs 62 du cadre d’alignement 56 peuvent être munis d'un biseau 64. Lorsque le connecteur électrique 44 vient en butée contre le côté intérieur 62 du cadre d'alignement 56, le connecteur électrique 44 glisse le long du biseau et coulisse en alignement avec le connecteur d’appariement 52. Le biseau 64 peut être de préférence un biseau à 35°, permettant un déplacement du connecteur électrique d'environ 2 mm.
Le biseau 64 peut faire saillie radialement vers l'intérieur de telle sorte que le cadre d’alignement 56 peut appuyer sur le dessus du connecteur d'appariement 52, en particulier sur un rebord du connecteur d’appariement 52 qui, sur la , n'est pas visible comme il est couvert par le cadre d'alignement 56. Le cadre d'alignement 56 est ainsi supporté par le connecteur d'appariement 52 dans une direction d'insertion essentiellement parallèle à la direction verticale Z.
Le dispositif électrique 50 comprend une partie de fixation 66 pour fixer le couvercle de dispositif électrique 46 au dispositif électrique 50. La partie de fixation 66 entoure le connecteur d’appariement 52 et une bague d'étanchéité 68 présentant des lèvres d’étanchéité faisant saillie radialement vers l'extérieur peut être fournie sur la partie de fixation 66. Par conséquent, lorsque le couvercle de dispositif électrique 46 est fixé au dispositif électrique 50, la bague d'étanchéité 68 est comprimée radialement entre le couvercle de dispositif électrique 46 et la partie de fixation 66.
Sur la , l’unité structurelle 48 est séparée en le couvercle de dispositif électrique 46 et l'agencement du connecteur électrique 44 étant fixé au cadre de montage 2. Comme il est possible de le voir sur la , le couvercle de dispositif électrique 46 comprend une ouverture 70 qui est essentiellement rectangulaire. La largeur et la longueur de l’ouverture 70 sont plus grandes que la longueur et la largeur du connecteur électrique 44 et/ou du collier 20, mais plus petites que la longueur et la largeur de la bride de support 4. Par conséquent, le connecteur électrique 44 et le collier 20 peuvent facilement être insérés dans l'ouverture 70, tandis que la bride de support 4 couvre l'ouverture 70, comme représenté sur les figures 2A et 2B. Ainsi, dans l'unité structurelle 48, la bride de support 4 peut être agencée sur un côté du couvercle de dispositif électrique et le collier et/ou le connecteur électrique peut pénétrer dans l'ouverture 70 et être agencé sur le côté opposé du couvercle de dispositif électrique 46.
La bride de support 4 peut en particulier appuyer avec sa surface d'appui 8 sur une surface supérieure 72 du couvercle de dispositif électrique 46 lorsque le cadre de montage 2 est monté sur le couvercle de dispositif électrique 46.
Sur le couvercle de dispositif électrique 46, plusieurs encoches 74 sont fournies, correspondant aux saillies de verrouillage 26 du cadre de montage 2, de telle sorte que dans une position d'assemblage, les saillies de verrouillage 26 chevauchent les encoches 74. Les encoches 74 peuvent s’étendre dans l’ouverture 70. La position des encoches 74 peut définir la position d'assemblage dans laquelle le cadre de montage 2 peut être monté sur ou démonté à partir du couvercle de dispositif électrique 46. La position des encoches 74 est choisie de préférence de telle sorte que dans la position d'assemblage, les butoirs 32 appuient sur la surface supérieure 72. Pour cela, une distance entre l’extrémité horizontale de l'ouverture et la première paire d'encoches 74 peut être inférieure à la distance entre les saillies de verrouillage correspondantes et les extrémités libres 36 des butoirs 32.
Sur les figures 3A et 3B, l’unité structurelle 48 est représentée dans des vues en section transversale schématiques. Sur ces figures, une position de fonctionnement 76 est représentée, dans laquelle les saillies de verrouillage 26 sont agencées de manière décalée par rapport aux encoches 74 dans la direction horizontale X. Sur la , le plan de coupe est couvert par la direction latérale Y et la direction verticale Z.
Comme illustré sur la , un rebord 78 de l’ouverture 70 est reçu de manière ajustée dans la fente 30 formée entre la bride de support 4 et la surface supérieure 72. Cependant, la largeur de l'ouverture 70 peut être dimensionnée pour être un peu plus grande que la largeur extérieure du collier 20. Par conséquent, un jeu latéral 80 dans la direction latérale Y est fourni entre le rebord 78 et le cadre de montage 2, permettant un déplacement relatif entre le connecteur électrique 44 et le couvercle de dispositif électrique 46 dans la direction latérale Y via le cadre de montage 2. Ce déplacement peut par exemple être induit par le biseau 64 du cadre d'alignement 56.
En outre, pendant la déformation plastique des pièces forgées du disque vierge due à la pré-rotation, elles passent de la déformation élastique à la déformation plastique, de sorte que la déformation des pièces forgées subit des changements continus jusqu'à ce qu'elle soit stable. Afin de surveiller avec précision la déformation, de préférence, lors de la surveillance de la déformation desdites pièces forgées du disque vierge, une valeur stable est utilisée comme déformation surveillée desdites pièces forgées du disque vierge. Dans ce cas, on considère qu'une valeur stable est atteinte lorsque la déformation surveillée fluctue dans les limites de ±0,01 mm pendant un temps prédéterminé de 15s.
Dans le procédé de la présente invention, afin de former enfin un état de répartition des contraintes en compression interne et en tension externe le long de la direction radiale des pièces forgées du disque vierge qui soit bénéfique aux conditions en service, l'étape S2 comprend : Lorsque ladite déformation desdites pièces forgées du disque vierge atteint ladite déformation cible, les révolutions de ladite pré-rotation sont diminuées progressivement jusqu'à l’arrêt. Plus précisément, les révolutions peuvent être progressivement réduites jusqu'à un arrêt à un taux de décélération de 1 à 200 révolutions par seconde.
La méthode de la présente invention s’applique à différentes pièces forgées du disque vierge du superalliage avec des contraintes résiduelles élevées, dont ledit superalliage est un superalliage déformé, un superalliage en poudre ou un superalliage coulé.
De plus, afin de vérifier l'effet de la méthode de la présente invention, l’étape S3 comprend : Dessiner le diagramme de répartition des contraintes résiduelles desdites pièces forgées du disque vierge après pré-rotation. En dessinant le diagramme de répartition des contraintes résiduelles après pré-rotation, l'effet technique de la présente invention peut être vu de manière plus intuitive. Diverses méthodes appropriées peuvent être utilisées pour dessiner la carte de répartition des contraintes résiduelles après pré-rotation, comme le dessin par simulation Afin d’améliorer l'efficacité, de préférence, l'étape S3 comprend : S31. Simuler la pré-rotation desdites pièces forgées du disque vierge auxdites révolutions cibles pour obtenir la répartition des contraintes résiduelles desdites pièces forgées du disque vierge après la pré-rotation ; S32. En détectant la contrainte résiduelle réelle des parties caractéristiques (par exemple, emplacements avec de petites fluctuations dans la répartition des contraintes sélectionnés en fonction des résultats de la simulation) desdites pièces forgées du disque vierge, utiliser ladite contrainte résiduelle réelle pour corriger le résultat de la simulation après la pré-rotation desdites pièces forgées du disque vierge, afin d’obtenir la répartition des contraintes résiduelles desdites pièces forgées du disque vierge après pré-rotation ;
Dans la présente invention, les contraintes résiduelles réelles dans les parties caractéristiques des pièces forgées du disque vierge peuvent être détectées par des moyens appropriés, par exemple en utilisant la diffraction des rayons X au-dessous pour faire une mesure au-dessous de 0,2 mm de la surface des parties caractéristiques des pièces forgées.
Pour garantir l'effet final, les pièces forgées du disque vierge applicables dans la présente invention sont une structure de disque sans concentration de contrainte évidente avant pré-rotation, comprenant, sans s’y limiter, des pièces forgées de disque vierge annulaire, des pièces forgées de disque vierge de compresseur et des pièces forgées de disque vierge de turbine. En outre, la température de fonctionnement de pré-rotation applicable dans la présente invention est de -50°C à 750°C, en particulier à température ambiante, la température de fonctionnement spécifique étant déterminée principalement par le rapport entre la résistance à la traction et la limite élastique du matériau.
Dans la présente invention, divers équipements rotatifs à grande vitesse appropriés peuvent être utilisés pour la pré-rotation, et ils doivent pouvoir répondre aux conditions telles que les révolutions et la température requis pour la pré-rotation des pièces forgées du disque vierge, et la déformation dans le processus de pré-rotation peut être surveillée par un équipement approprié, tel que la détection de déplacement infrarouge.
La méthode de la présente invention est illustrée par des modes de réalisation suivants.
Mode de réalisation 1
Les pièces forgées du disque vierge de turbine basse pression annulaire en alliage GH4065 sont illustrées à la , dont le diamètre intérieur est de 618 mm, le diamètre extérieur de 829 mm, la hauteur de 85 mm et le poids de 130 kg. La contrainte résiduelle de direction tangentielle est la contrainte dominante après le traitement thermique standard de cette pièce forgée. La contrainte de direction tangentielle est de -384 MPa au niveau du moyeu, de -641 MPa au niveau de la plaque radiale et de -740 MPa au niveau de la jante, ce qui représente un niveau de contrainte élevé, détecté par la méthode de diffraction des rayons X en dessous de 0,2 mm au niveau de la partie caractéristique.
La répartition des contraintes résiduelles desdites pièces forgées du disque vierge est obtenue en simulant le traitement thermique desdites pièces forgées, comme le montre la , il est cohérent avec les résultats des tests mentionnés ci-dessus ;
La pré-rotation est alors simulée. Pour un disque de turbine BP avec (Douter-Dinner)/Dinner<<1, la déformation plastique globale des pièces forgées du disque vierge, du diamètre intérieur (Dinner) au diamètre extérieur (Douter), peut être contrôlée dans une petite plage de 0,05% à 0,25%.
Comme le montrent les figures 4a à 4f, simuler la répartition des contraintes-déformations des pièces forgées du disque vierge pendant le traitement de pré-rotation à différentes révolutions en présence de contraintes de traitement thermique, confirmer que la contrainte de traction maximale de direction tangentielle à l'intérieur des pièces forgées du disque vierge est ajustée à moins de 400 Mpa, et que les révolutions prédites correspondantes à la déformation globale de 0,15% à 0,25% est de 9400 rpm.
Effectuer ladite pré-rotation sur les pièces forgées du disque vierge à 9400 révolutions par minute, maintenue pendant 60 secondes, comme le montre la , surveiller la déformation desdites pièces forgées du disque vierge et la déformation résiduelle au niveau du diamètre extérieur est mesurée à 0,75 mm, la déformation globale correspondante des pièces du disque vierge est de 0,18 à 0,24%, la déformation cible est alors atteinte et les révolutions prédites sont les révolutions cibles. Pour un lot de pièces forgées du disque vierge de même spécification, les contraintes résiduelles peuvent être réglées par la pré-rotation de 9400 rpm.
Pour vérifier l'efficacité de l'invention, les contraintes résiduelles ont été mesurées au-dessous de 0,2 mm de la surface des parties caractéristiques des pièces forgées du disque vierge (par exemple, les zones présentant une répartition des contraintes moins fluctuante ont été sélectionnées sur la base des résultats de la simulation) en utilisant la diffraction des rayons X avant et après la pré-rotation. (Les résultats sont présentés à la .) Les résultats des essais sont en accord général avec les résultats de la simulation, et enfin la répartition des contraintes résiduelles après la pré-rotation est tracée pour le processus ultérieur d'usinage du disque.
La détection par ultrasons n'a révélé aucune anomalie dans les pièces forgées du disque vierge pré-tournées, et après dissection des pièces, la microstructure et les propriétés mécaniques des pièces (résultats montrés dans les figures 8a et 8b) n'étaient pas significativement différentes de celles des pièces non pré-tournées.
Dans ces surfaces, ou même lorsque la surface est en béton, il existe le même risque de chute pour les animaux, et ces surfaces ne sont pas mieux adaptées pour évacuer l’eau déversées sur celles-ci.
Il est connu, dans le domaine équestre, d’utiliser des tapis ou dalles en caoutchouc, pour apporter du confort dans les écuries, mais également pour améliorer l’adhérence et éviter le risque de glissade des animaux.
Cependant, ces tapis en caoutchouc, outre le fait qu’ils sont onéreux, présentent une durée de vie limitée, et s’avèrent peu pratiques dans la mise en place, et dans l’utilisation quotidienne. Il est notamment nécessaire de les retirer pour les nettoyer ou pour nettoyer la surface sur laquelle ils sont positionnés, et peuvent parfois, s’ils sont détériorés où s’ils présentent des plis, créer des risques de glissades pour les animaux.
L’un des buts de l’invention est donc de remédier aux problèmes précités, et de fournir un procédé de traitement d’une surface destinée à être foulée par des équidés ou des bovins, afin de réduire le risque de chute des animaux, tout en présentant un confort pour l’animal et en présentant des propriétés drainantes.
A cet effet, il a été mis au point un tel procédé remarquable en ce qu’il consiste à revêtir ladite surface d’une couche d’un mélange de granulats d’éthylène-propylène-diène monomère, dit EPDM, éventuellement recyclés, et de résine polyuréthane.