INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
L’invention trouve des applications dans le domaine de l’aéronautique et, en particulier, dans le domaine des rotors de turbomachines pour augmenter la durée de vie desdits rotors.
ARRIERE-PLAN TECHNOLOGIQUE DE L’INVENTION Il est connu, en aéronautique, qu’une aube de rotor 10, dont un exemple est représenté sur la , comprend une pale 12 munie, en partie inférieure, d’une plateforme 11 prolongée radialement par un pied 20 destiné à être inséré dans une cavité ménagée dans la périphérie externe d’un disque du rotor. Le pied 20 de l’aube de rotor 10 – appelée aussi aube mobile - est retenu radialement dans la cavité du disque par coopération de formes entre ledit pied, généralement en forme de queue d’aronde, et la cavité, généralement en forme d’alvéole. En partie supérieure, la pale 12 est munie d’un talon 13 destiné à être disposé bord à bord avec le talon des aubes mobiles adjacentes de manière à former une couronne circonférentielle rotative délimitant une surface de révolution autour de l'axe de rotation X du disque.
Lors du fonctionnement du rotor, le contact entre les pieds d’aubes, par exemple en aluminure de titane, et le disque, par exemple en alliage à base de nickel, entraine une usure prématurée des pieds d’aubes.
Afin de limiter l’usure des pieds d’aubes et des cavités du disque, il est connu de placer une pièce de contact, appelée clinquant et référencée 30, au niveau des interfaces de contact, communément dénommées portées, entre les pieds d’aubes et les cavités du disque. Le clinquant 30, solidaire du pied 20 de l’aube mobile et en contact avec le disque, reprend une majeure partie de l’énergie dissipée par frottement dans le contact entre ledit pied d’aube et le disque, ce qui permet de limiter l’usure du pied d’aube.
La représente, de façon agrandie, le pied 20 de l’aube mobile 10 de la , autour duquel est monté un clinquant classique 30. Un exemple de ce clinquant classique 30 est représenté en perspective sur la .
Comme on peut le voir sur les figures 2 et 3, le clinquant 30 comporte une section de forme globale en U, formée par deux branches latérales 32, ou surfaces latérales, destinées à recouvrir les flancs latéraux 22 du pied 20 de l’aube mobile 10 et à maintenir le clinquant 30 sur le pied 20. Le clinquant 30 comporte également une base 31, appelée aussi surface inférieure du clinquant, qui relie les surfaces latérales 32 entre elles et recouvre la face inférieure 21 du pied 20.
Afin d’éviter que le clinquant 30 ne se désengage du pied 20, la surface inférieure 31 du clinquant comprend généralement des languettes radiales 33, 34 en appui contre les faces amont 23 et aval 24 du pied 20 de l’aube. Les languettes radiales 33, 34 sont des lamelles découpées à l’extrémité de la surface inférieure 31 et rabattues radialement le long des faces amont et aval 23, 24 du pied 20. Ces languettes radiales 33, 34 s’étendent sur une largeur plus ou moins grande, entre les branches latérales 32 du clinquant, et forment des butées qui permettent d’empêcher les mouvements axiaux relatifs entre le pied 20 et le clinquant 30.
Toutefois, malgré la présence de ces languettes radiales, les opérateurs de maintenance des turbomachines ont remarqué que les clinquants ont tendance à se déplacer axialement, ce qui endommage les languettes radiales et même les sectionne. En effet, du fait de leur pliage radial lors de la phase de fabrication et/ou de leur dépliage lors de la phase de montage, les languettes radiales sont fragilisées et les frottements, générés par le déplacement axial répété des clinquants, ont pour effet de les sectionner. Une fois les languettes radiales cassées, les clinquants peuvent se désengager partiellement ou même totalement des pieds d’aubes, ce qui nécessite de déposer le rotor pour le réparer. La dépose et la réparation du rotor occasionnent des coûts non négligeables de réparation (pièces et main d’œuvre) et d’immobilisation de la turbomachine.
Il existe donc un réel besoin d’un clinquant plus robuste et plus résistant aux frottements qui ne risque pas de se désengager du pied d’aube.
Pour répondre aux problèmes évoqués ci-dessus de désengagement des clinquants, le demandeur propose un clinquant pour aube mobile équipé d’une ailette formant, à l’aval du clinquant, une surface radiale adaptée pour se loger entre le pied de l’aube mobile et la paroi de la cavité du disque lorsque le clinquant est monté dans le rotor.
Lorsque le dispositif 10 comprend un module 22 d’acquisition d’une information d’axe pupillaire, le module 18 de génération visuelle est de préférence configuré pour générer une représentation de l’axe pupillaire. Comme illustré par une flèche sur la , l’utilisateur du dispositif 10 est par exemple apte à commander le déplacement du verre correcteur définitif 12 par rapport à la monture 28 sur la visualisation tridimensionnelle à l’aide du module 24 de commande, de sorte à aligner l’axe pupillaire 52 au centre optique 36. Le module 26 de mise à jour met par exemple à jour le contour externe 34 du verre pour permettre un maintien du verre correcteur définitif 12 dans la monture 28 tout en permettant l’alignement de l’axe pupillaire 52 avec le centre optique 36. Le module 20 de détermination de paramètres d’usinage détermine alors par exemple les paramètres d’usinage conformément au contour externe 34 de verre définitif 12 mis à jour, le module 20 de détermination de paramètre d’usinage déterminant ainsi les paramètres d’usinage en fonction de l’information d’axe pupillaire 52 et de l’information de centre optique 36. Dans une variante particulière, le module 20 de détermination de paramètre d’usinage détermine les paramètres d’usinage directement en en fonction de l’information d’axe pupillaire 52 et de l’information de centre optique, de sorte à ce que le verre correcteur définitif 12 soit directement usiné pour que l’axe pupillaire 52 traverse le centre optique 36 lorsque le verre correcteur définitif 12 est installé dans la monture 28. Dans une variante particulière, le module de commande 24 est par exemple propre à permettre à un utilisateur de commander le déplacement de la position du contour du verre correcteur définitif 12 par rapport à la monture 28 sur la visualisation tridimensionnelle tout en maintenant le centre optique du verre 36 aligné à l’axe pupillaire 52.
Le module 27 d’acquisition faciale est configuré pour acquérir les données tridimensionnelles de la face d’un sujet. Le module 27 d’acquisition faciale est par exemple configuré pour recevoir des données photographiques et/ou de forme tridimensionnelle de la face du sujet, par exemple depuis un organe d’acquisition faciale tel une caméra vidéo et/ou un scanner tridimensionnel.
Lorsque le dispositif 10 comprend un module 27 d’acquisition faciale, le module de génération visuelle 18 est de préférence configuré pour générer une visualisation tridimensionnelle de la face du sujet portant la monture 28, ladite monture 28 maintenant le verre correcteur définitif 12.
Dans un mode de réalisation particulier, tel que présenté sur la , le dispositif d’assistance 10 comprend une unité de traitement d’informations 60, formée par exemple d’une mémoire 62 associée à un processeur 64.
Le module 14 d’acquisition de monture, le module 16 d’acquisition de verre correcteur, le module 18 de génération visuelle, et de préférence, le module 20 de détermination de paramètres d’usinage, le module 22 d’acquisition d’axe pupillaire, le module 24 de commande, le module 26 de mise à jour et le module 27 d’acquisition faciale, sont réalisés chacun sous la forme d’un logiciel exécutable par le processeur 64. La mémoire 62 est alors apte à stocker un logiciel d’acquisition de monture, un logiciel d’acquisition de verre correcteur, un logiciel de génération visuelle, et de préférence, un logiciel de détermination de paramètres d’usinage, un logiciel d’acquisition d’axe pupillaire, un logiciel de commande, un logiciel de mise à jour et un logiciel d’acquisition faciale.
En variante, le module 14 d’acquisition de monture, le module 16 d’acquisition de verre correcteur, le module 18 de génération visuelle, et par exemple, le module 20 de détermination de paramètres d’usinage, le module 22 d’acquisition d’axe pupillaire, le module 24 de commande, le module 26 de mise à jour et le module 27 d’acquisition faciale sont réalisés chacun sous forme d’un composant logique programmable, tel qu’un FPGA (de l’anglais Field Programmable Gate Array ), ou encore sous forme d’un circuit intégré dédié, tel qu’un ASIC (de l’anglais Application Specific Integrated Circuit ).
Lorsque le module 14 d’acquisition de monture, le module 16 d’acquisition de verre correcteur, le module 18 de génération visuelle, et par exemple, le module 20 de détermination de paramètres d’usinage, le module 22 d’acquisition d’axe pupillaire, le module 24 de commande, le module 26 de mise à jour et le module 27 d’acquisition faciale sont réalisés sous forme d’un ou plusieurs logiciels, c’est-à-dire sous forme d’un programme d’ordinateur, il sont en outre apte à être enregistré sur un support, non représenté, lisible par ordinateur. Le support lisible par ordinateur est par exemple, un médium apte à mémoriser des instructions électroniques et à être couplé à un bus d’un système informatique. A titre d’exemple, le support lisible est un disque optique, un disque magnéto-optique, une mémoire ROM, une mémoire RAM, tout type de mémoire non volatile (par exemple EPROM, EEPROM, FLASH, NVRAM), une carte magnétique ou une carte optique. Sur le support lisible est alors mémorisé un programme d’ordinateur comprenant des instructions logicielles.
En référence à la , un procédé 100 d’assistance à l’élaboration d’un verre correcteur définitif 12, destiné à être mis en œuvre par un disposition 10 tel que précédemment décrit, va maintenant être présenté.
Le procédé 100 comprend une étape 110 d’acquisition de données tridimensionnelles d’une monture 28, une étape 120 d’acquisition de données tridimensionnelles d’un verre correcteur brut 32 et d’obtention de données tridimensionnelles d’un verre correcteur définitif 12 et une étape 130 de génération d’une visualisation du verre correcteur maintenu sur la monture par la coopération du contour de monture 28 avec le contour externe 34 du verre correcteur définitif 12.
Dans des variantes qui seront décrites plus bas, le procédé 100 comprend en outre optionnellement une étape 140 d’acquisition d’axe pupillaire, une étape 150 d’acquisition faciale, une étape 160 de commande, une étape 170 de mise à jour et une étape 180 de détermination de paramètres d’usinage.
Lors de l’étape 110 d’acquisition de données tridimensionnelles d’une monture, le module 14 d’acquisition de monture acquiert des données tridimensionnelles de monture 28, par exemple depuis une unité de mesure de monture 40 ou depuis un module de génération de données de monture 42.
Lors de l’étape 120 d’acquisition de données tridimensionnelles, le module 16 d’acquisition de verre correcteur acquiert des données tridimensionnelles de verre correcteur brut 32, par exemple depuis une unité de mesure de verres 44 ou depuis un module de génération de données de verre 46.
Lors de l’étape 120 d’acquisition de données tridimensionnelles, le module 16 d’acquisition de verre correcteur obtient des données tridimensionnelles d’un verre correcteur définitif 12 en fonction de la surface 38 de la monture 28 destinée à maintenir le verre correcteur définitif 12 sur la monture 28 acquise et des données tridimensionnelles du verre correcteur brut 32 acquises.
L’étape 120 d’acquisition de données tridimensionnelles comprend par exemple l’acquisition d’une position désirée du verre correcteur définitif 12 par rapport à la monture 28, l’obtention des données tridimensionnelles d’un verre correcteur définitif 12 dépendant alors de la position désirée du verre correcteur définitif 12 par rapport à la monture 28.
Lors de l’étape 130 de génération d’une visualisation du verre correcteur définitif 12 maintenu sur la monture 28 par la coopération du contour de monture 28 avec le contour externe 34 du verre correcteur définitif 12, le module de génération visuelle 18 génère une visualisation du verre correcteur définitif 12 maintenu sur la monture par la coopération du contour de monture 28 avec le contour externe 34 du verre correcteur définitif 12.
Lors de l’étape 130 de génération d’une visualisation, le module de génération visuelle 18 génère avantageusement une représentation sur la monture 28 des contraintes appliquées par le contour externe 34 du verre correcteur sur le contour interne 38 de la monture.
Des variantes avantageuses du procédé 100 vont désormais être présentées.
L’étape 130 de génération d’une visualisation du verre correcteur définitif 12 maintenu sur la monture 28 est, dans une variante, précédée d’une étape 140 d’acquisition d’axe pupillaire.
Lors d’une telle étape 140 d’acquisition d’axe pupillaire, le module 22 d’acquisition d’axe pupillaire acquiert les axes pupillaires d’un sujet. Lorsque l’étape 140 d’acquisition d’axe pupillaire est effectuée, l’étape 130 de génération d’une visualisation comprend par exemple la génération d’une visualisation de l’axe pupillaire.
L’étape 130 de génération d’une visualisation du verre correcteur définitif 12 maintenu sur la monture 28 est par ailleurs, et encore en variante, précédée d’une étape 150 d’acquisition faciale.
Lors d’une telle étape 150 d’acquisition faciale, le module d’acquisition faciale 27 acquiert des données tridimensionnelles de la face d’un sujet. Lorsque l’étape 150 d’acquisition faciale est effectuée, l’étape 130 de génération d’une visualisation comprend par exemple la génération d’une visualisation de la face du sujet portant la monture 28, ladite monture maintenant le verre correcteur définitif 12.
Lors d’une variante particulière dans le procédé comprend une étape 160 de commande. Lors de l’étape 160 de commande, qui est facultative, l’utilisateur du dispositif 10 commande le déplacement du verre correcteur définitif 12 par rapport à la monture 28 sur la visualisation tridimensionnelle du verre correcteur définitif 12 maintenu sur la monture 28, par l’intermédiaire du module de commande 24.
Lors de l’étape 170 de mise à jour, qui est facultative et qui suit l’étape 160 de commande, le module 26 de mise à jour met à jour les données tridimensionnelles du verre correcteur définitif 12 en remplaçant les données tridimensionnelles de verre correcteur définitif 12 acquises préalablement à l’étape 160 de commande par des données de verre correcteur définitif 12 permettant le maintien du verre correcteur définitif 12 sur la monture 28 conformément à la visualisation tridimensionnelle générée suite au déplacement du verre correcteur définitif 12 par rapport à la monture 28 découlant de l’étape de commande 160.
Lors d’une variante particulière, le procédé comprend une étape 180 de détermination de paramètres d’usinage. Lors d’une telle étape, le module 20 de détermination de paramètres d’usinage détermine des paramètres d’usinage d’un contour du verre correcteur brut 32 pour l’obtention du verre correcteur définitif 12, en fonction des données tridimensionnelles du contour de la monture 28 destinée à maintenir le verre correcteur définitif 12 sur la monture 28. Les paramètres d’usinage correspondent par exemple au contour de verre correcteur définitif 12 mis à jour suite à l’étape de mise à jour 170.
Comme vu plus haut, et dans une variante non représentée, le dispositif 10 comprend un module d’acquisition de lunettes 30 et un module de vérification de montage.
Le module d’acquisition de lunettes 30 est configuré pour acquérir des données tridimensionnelles de lunettes 30 comprenant un verre correcteur définitif 12 et une monture 28 accueillant le verre correcteur définitif 12.
Le module de vérification de montage est configuré pour comparer les données tridimensionnelles de lunettes 30 avec les données tridimensionnelles du verre correcteur définitif 12 maintenu sur la monture 28 par la coopération du contour de monture 38 avec le contour du verre correcteur définitif 12.
Dans cette variante non représentée, le module de génération visuelle est alors configuré pour générer une visualisation représentative d’un résultat de la comparaison des données tridimensionnelles de lunettes 30 avec les données tridimensionnelles du verre correcteur définitif 12 maintenu sur la monture par la coopération du contour de monture 38 avec le contour du verre correcteur définitif 12.
Dispositif de commande d’un organe de variation d’énergie mécanique d’un aéronef et procédé associé La présente invention concerne un dispositif de commande d’un organe de variation d’énergie mécanique d’un aéronef, comprenant un support et au moins une manette montée mobile sur le support dans deux sens de déplacement selon une direction de déplacement entre une pluralité de positions situées entre une position extrême avant et une position extrême arrière, la position extrême avant et la position extrême arrière définissant une amplitude de déplacement maximale, la pluralité de positions comprenant une première position stratégique, le dispositif de commande comprenant en outre un système de génération de force sur l’au moins une manette configuré de sorte que, lorsque l’au moins une manette est à proximité de la première position stratégique, le système de génération de force est propre à appliquer une première force de sollicitation de l’au moins une manette vers la première position stratégique dans chaque sens de déplacement.
L’organe de variation d’énergie mécanique est, par exemple, un système motopropulseur de l’aéronef configuré pour modifier la poussée de l’aéronef. Un tel organe présente plusieurs modes d’opération comme, par exemple, un mode nominal et un mode d’inversion de poussée, notamment utilisé pendant les phases de roulage ou d’atterrissage pour ralentir l’aéronef ou le déplacer en marche arrière.
Un tel dispositif de commande permet à un pilote d’ajuster l’énergie mécanique d’un aéronef selon ses besoins en contrôlant l’organe de variation d’énergie mécanique. Lorsque le pilote souhaite changer de mode d’opération, la manette est approchée d’une position stratégique qui correspond à un changement de mode de commande. Cette position de changement de mode de commande correspond par exemple à une initialisation du mode d’opération souhaité. Pour faciliter la manipulation de la manette, dès que celle-ci est à proximité de la position de changement de mode de commande, un système de génération de force sollicite la manette vers ladite position de changement de commande qui constitue alors une position stable de la manette.
Toutefois, lorsque le pilote souhaite effectuer une commande précise de la poussée inverse ou nominale, il est parfois nécessaire de placer la manette dans une position cible très proche de la position de changement de mode de commande. Or, pour vaincre la force de sollicitation appliquée par le système de génération de force qui marque cette position de changement de mode de commande, le personnel navigant doit appliquer une force relativement importante sur la manette, ce qui risque dans certains cas, notamment lorsque le pilote est entrainé par son élan, de conduire à un dépassement de la position cible, nécessitant un ajustement supplémentaire de la position de la manette.
Un autre objet de l’invention est un procédé de fabrication d’un transistor à haute mobilité électronique comprenant les étapes suivantes : fourniture d’un substrat de transistor à haute mobilité d’électrons comprenant un empilement de couches comprenant une couche de passivation et une hétérojonction comprenant une première couche semi-conductrice, une deuxième couche semi-conductrice et un gaz bidimensionnel d’électrons à leur interface ; formation d’une zone dopée n+ par implantation ionique à l’intérieur de l’hétérojonction et recuit d’activation de la zone dopée n+ ; dépôt d’une couche diélectrique au contact de la couche de passivation ; gravure de l’empilement de couches et de la couche diélectrique pour former un évidement à l’aplomb et au contact de la zone dopée n+, ledit évidement étant adapté pour accueillir un contact métallique de source et/ou drain, la face inférieure de l’évidement se situant au-dessous de l’interface entre la première couche semi-conductrice ou couche barrière et la deuxième couche semi-conductrice ou couche canal ; dépôt d’une couche métallique destinée à former le contact métallique de source et/ou le contact métallique de drain ; polissage mécano-chimique de la couche métallique pour obtenir une surface supérieure du contact de source et/ou une surface supérieure du contact de drain planarisée ; définition et dépôt d’une électrode de grille, la zone dopée n+ s'étendant depuis une face latérale du contact métallique de source et/ou depuis une surface latérale du contact métallique de drain vers l'électrode de grille sur une longueur comprise entre 300 et 1000 nm.
Le procédé selon l’invention permet d’obtenir une zone dopée n+ assurant un contact électrique très performant qui réduit la résistance d’accès du transistor.
Le procédé selon l’invention est fiable, précis, uniforme, reproductible et réalisable dans une salle blanche compatible CMOS.
Un exemple de substrat de transistor à haute mobilité électronique utilisé dans le procédé selon l’invention comprend un substrat Si à haute résistivité, une couche de nucléation en AlN, une couche de gestion des contraintes, une couche tampon en GaN ou en AlGaN à faible taux d’Al, une couche barrière de confinement, une couche canal en GaN et une couche barrière en AlGaN.
Le procédé selon l’invention peut également comprendre une ou plusieurs des étapes ci-dessous, considérées individuellement ou selon toutes les combinaisons techniquement possibles : l’étape de formation de la zone dopée n+ comprend une implantation mono énergétique de ions Si ou Ge, avec une énergie d’implantation comprise entre 60 keV et 80 keV (pour le Si) ; le recuit d’activation de la zone dopée n+ comprend un traitement thermique à 975°C pendant 10h, 1000 °C pendant trois heure ou à 1050 °C pendant une heure ; le procédé comprend en outre une étape de photolithographie pour définir une zone d’implantation destinée à accueillir la zone dopée n+ ; l’implantation mono énergétique d’ions Si ou Ge comporte la création d’une zone dopée n+ ayant un profil spatial de dopage de type gaussien selon la direction normale au plan des couches. L’utilisation d’implantations à plusieurs énergies ne permet pas d’atteindre la performance visée ; l’étape d’implantation n’est réalisée que pour le contact de source ; l’étape d’implantation est réalisée à la fois pour le contact de source et pour le contact de drain.
BREVE DESCRIPTION DES FIGURES D’autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront clairement de la description qui en est donnée ci-dessous, à titre indicatif et nullement limitatif, en référence aux figures annexées, parmi lesquelles :
La illustre une vue en coupe schématique d’un transistor HEMT selon l’art antérieur ;
La représente une image TEM d’un transistor HEMT selon l’art antérieur et comportant un contact de type « full-recess » avec métal débordant ;
La représente une vue en coupe schématique d’un transistor HEMT selon l’art antérieur et comportant un contact de source ou drain réalisé par gravure et re-épitaxie ;
La représente une vue en coupe schématique d’une partie d’un transistor HEMT selon l’invention ;
La représente une coupe TEM d’un transistor selon l’invention ;
La représente le profil d’implantation d’ions Si selon un mode de réalisation du transistor selon l’invention ;
La illustre schématiquement le procédé selon l’invention ;
Les figures 8a à 8p illustrent les résultats des différentes étapes du procédé selon l’invention de la ;
La illustre la variation de la résistance de contact effective du transistor, R C en fonction de la variation de température de fonctionnement du dispositif selon l’invention ;
La illustre la variation de la résistance de transition R T en fonction de la température de fonctionnement du dispositif selon l’invention ;
De préférence, ladite transmission mécanique est linéaire de type crémaillère, vis à rouleaux ou à billes, ou rotative de type bielle-manivelle.