INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Comme cela ressortira plus en détail de la description qui suit, le dispositif arrière de protection anti-encastrement 1 est un dispositif repliable ou relevable qui est plus précisément destiné à équiper un véhicule V routier tout-terrain ou tout chemin, ou encore et surtout un véhicule équipé d'une benne B, en particulier d'une benne basculante, ledit véhicule V pouvant être motorisé (camion par exemple) ou non (remorque par exemple).
Avantageusement, le dispositif arrière de protection anti-encastrement 1 est destiné à être fixé à un châssis 2 dudit véhicule V qu'il équipe. Plus précisément, le dispositif arrière de protection anti-encastrement 1 est conçu pour être fixé au niveau de l'extrémité arrière du châssis 2, comme illustré aux figures. Le châssis 2 comprend par exemple un longeron droit 2A et un longeron gauche 2B, disposés de façon symétrique par rapport à un plan vertical médian de symétrie du châssis 2. Les longerons droit et gauche 2A, 2B sont par exemple formés par des poutres métalliques, lesquelles sont avantageusement reliées entre elles par des traverses métalliques. La section des longerons est par exemple une section en « C », en « I » ou toute autre forme appropriée.
Comme illustré aux figures, le dispositif arrière de protection anti-encastrement 1 présente lui aussi un caractère symétrique par rapport audit plan vertical médian du châssis 2.
Le dispositif arrière de protection anti-encastrement 1 comprend au moins une première platine 3 conçue pour être attachée au châssis 2, et plus précisément pour être fixée de façon permanente (mais avantageusement démontable) au châssis 2, de façon à être immobilisée par rapport à ce dernier.
Avantageusement, le dispositif arrière de protection anti-encastrement 1 comprend au moins un premier bras 5 relié d'une part à une barre anti-encastrement 6 et d'autre part à ladite première platine 3. La barre anti-encastrement 6, qui fait avantageusement partie du dispositif arrière de protection anti-encastrement 1, se présente sous la forme d'une pièce allongée métallique, par exemple de section ronde comme illustré aux figures, mais qui peut être également de section polygonale. La barre anti-encastrement 6 est destinée à former un obstacle empêchant, en cas de choc par l'arrière, un véhicule de tourisme de venir s'encastrer par l'arrière dans le véhicule routier (de type camion ou remorque) équipé du dispositif arrière de protection anti-encastrement 1.
La barre anti-encastrement 6 comporte un corps tubulaire 8 orienté selon un axe longitudinal X8 entre deux extrémités 80 qui présentent des faces ouvertes 82. Le corps tubulaire 8 de la barre d’encastrement 6 présente une surface périphérique externe S8, qui est dans cet exemple de forme cylindrique à base circulaire centrée sur l’axe X8. Le corps tubulaire 8 est inséré et fixé, notamment par soudage, dans deux pièces d’interface 7 en forme de fourreau comportant des pattes fixées aux bras 5, par exemple par boulonnage.
Conformément à l’invention, vers chacune des extrémités 80 du corps tubulaire 8, la barre anti-encastrement 6 comporte des organes d’attache, distincts dudit corps tubulaire 8, et fixés à demeure sur les extrémités 80 du corps tubulaire 8, permettant de solidariser à la barre anti-encastrement 6 un ou plusieurs équipements auxiliaires du dispositif arrière de protection anti-encastrement 1. Ces organes d’attache comprennent de préférence des formes femelles destinées à coopérer avec des formes mâles des équipements auxiliaires.
Selon un premier mode de réalisation, lesdits organes d’attache incluent des premiers organes d’attache formés par exemple par des flans métalliques 12 fermant les faces ouvertes 82 du corps tubulaire 8, ces flans métalliques 12 étant avantageusement pourvus de formes femelles pour éventuellement fixer à la barre anti-encastrement 6 au moins un équipement auxiliaire 13. Lesdits flans métalliques 12 sont par exemple percés d’au moins un orifice 120 de fixation dudit équipement auxiliaire 13. Les flans métalliques 12 sont par exemple des pièces métalliques ayant la forme d’un disque dans l’exemple décrit, et sont fixés au corps tubulaire 8 de préférence de façon non démontable, par exemple par soudage.
Lesdits orifices de fixation 120 sont de préférence des trous traversants et font communiquer l’intérieur du corps tubulaire 8 avec l’extérieur. Les orifices de fixation 12A forment avantageusement des pré-perçages qui facilitent l’accouplement ultérieur d’un équipement auxiliaire à la barre anti-encastrement 6. Les orifices de fixation 120 sont au nombre de cinq dans l’exemple illustré mais peuvent être en nombre inférieur ou supérieur, et leur disposition sur le flan 12 peut être différente de celle illustrée.
Le capot 20 comporte au moins une ouverture fluidique 26, débouchant dans la gorge supérieure 23. L’ouverture fluidique 26 est destinée à l’admission d’un liquide nettoyant 34 dans la gorge supérieure 23 ou au retrait du liquide nettoyant de la gorge supérieure 23. La est une vue en coupe du capot 20, dans un plan parallèle au deuxième axe central Z 2 et passant par l’ouverture fluidique 26.
L’ouverture fluidique 26 peut être circulaire, comme représenté sur la , ou s’étendre selon une portion d’un anneau, comme décrit par la suite.
La montre une vue en coupe du dispositif 1 formé par l’assemblage du capot 20 sur le support 10. Dans cet exemple, la plaque n’a pas été placée sur le support 10. Après l’assemblage :
le premier axe central Z 1 et le deuxième axe central Z 2 sont coaxiaux et forment un même axe central Z. La bordure supérieure 21 du capot 20 vient au contact de la bordure inférieure 11 du support 10, de manière à former une bordure annulaire 31 ; La zone de contact 22 du capot 20 s’étend face à la zone d’appui 12 du support 10. L’espacement entre la zone de contact 22 et la zone d’appui 12 correspond sensiblement à l’épaisseur ε de la plaque 2. Par sensiblement, on entend que l’espacement est supérieur ou égal à l’épaisseur de la plaque, de manière à permettre un maintien de la plaque entre la zone de contact 22 et la zone d’appui 12. La zone d’appui 12 et la zone de contact 22 délimitent alors une fente annulaire 32, dans laquelle la plaque peut être insérée. La fente annulaire 32 s’étend radialement entre l’axe central Z et la bordure annulaire 31. La fente annulaire 32 s’étend de préférence radialement parallèlement à un axe perpendiculaire à l’axe transversal, entre la zone d’appui 12 et la zone de contact 22. La gorge supérieure 23 s’étend en regard de la portion de confinement 13 de la face inférieure 10 i du support 10. L’espace entre la face inférieure 10 i et la face supérieure 20 s forme un logement 30, dans lequel la plaque peut, au moins en partie, s’étendre.
La montre une vue en coupe du dispositif 1 formé par l’assemblage du capot 20 sur le support 10. Dans cet exemple, la plaque a été placée sur le support 10. Un aspect important de l’invention est que lorsque la plaque est disposée sur le support 10, après l’assemblage du capot 20 sur le support 10, la gorge supérieure 23 et la portion de confinement 13, délimitées, radialement d’une part par la zone de contact 22 et la zone d’appui 12, et d’autre part par les bordures inférieure et supérieure, forment une cavité annulaire 33. La fente 32 est de préférence dimensionnée pour que, suite à l’insertion de la plaque dans la fente, la cavité annulaire 33 soit étanche.
L’ouverture fluidique 26 débouche dans la cavité annulaire 33 et permet à cette dernière d’être remplie par un liquide, en particulier un liquide nettoyant 34. La montre le dispositif 1 dans lequel la cavité annulaire 33 est remplie de liquide nettoyant 34, ce dernier étant matérialisé en grisé.
Le liquide nettoyant 34 peut être une solution à base d’acide chlorhydrique, ou d’acide nitrique ou d’acide fluorhydrique, ou d’eau oxygénée ou eau. Le liquide nettoyant 34 est maintenu, durant une période prédéterminée, dans la cavité 33, au contact de la plaque 2, et plus précisément au contact de la partie de plaque s’étendant dans la cavité 33. Le liquide nettoyant 34 est ensuite évacué de la cavité 33 par un moyen d’aspiration, puis analysé par une méthode d’analyse telle que décrite dans l’art antérieur. Le dispositif 1 est ensuite désassemblé et la plaque 2 peut être retirée.
Compte tenu des dimensions de la cavité annulaire 33, en fonction du diamètre de la plaque 2, le volume de liquide nettoyant 34 pour remplir la cavité 33 est typiquement de quelques dizaines de mL.
Un avantage de l’invention est de maîtriser la surface de la plaque mouillée par le liquide nettoyant 34. Il s’agit de la surface de la plaque débouchant dans la cavité 33. De préférence, le dispositif est dimensionné pour analyser une surface de plaque qui s’étend de quelques millimètres à partir de l’extrémité radiale 2 e de la plaque. La partie de la plaque au contact du liquide nettoyant 34 comporte la partie périphérique biseautée 2 p (bevel) ainsi que, partiellement ou en totalité, la bordure 2 b .
L’invention permet également de maîtriser le volume de liquide nettoyant 34 agissant sur la plaque, ce dernier étant inférieur ou égal au volume de la cavité 33. La mise en œuvre de l’invention n’est pas dépendante de propriétés de mouillage du matériau formant la plaque 2 à l’égard du liquide nettoyant 34. Ainsi, il n’est pas nécessaire d’effectuer un prétraitement visant à modifier la mouillabilité du matériau formant la plaque.
La représente un mode de réalisation dans lequel le capot 20 comporte une ouverture fluidique 26 formant une partie d’un anneau. Dans cet exemple, le capot comporte trois ouvertures fluidiques annulaires 26 séparées les unes des autres. Une telle forme facilite l’admission ou l’évacuation du liquide nettoyant 34.
La illustre un mode de réalisation dans lequel la portion de confinement 13 de la face inférieure 10 i forme une gorge inférieure 13, dont les dimensions sont comparables à la gorge supérieure 23 ménagée au niveau de la face supérieure 20 s du capot 20. Les gorges 23 et 13 délimitent la cavité annulaire 33. La gorge inférieure 13 s’étend entre la zone d’appui 12 et la bordure inférieure 11. Dans l’exemple représenté, la zone d’appui 12 est annulaire, autour de l’axe central Z, en vis-à-vis de la zone de contact 22, cette dernière étant également annulaire. Un tel mode de réalisation permet un meilleur accès du liquide nettoyant 34 sur la surface arrière 2 r de la plaque, et en particulier sur la partie périphérique arrière biseautée 2 p,r .
Ainsi, le dispositif comporte une cavité annulaire 33, s’étendant entre la fente annulaire 32, délimitée par la zone d’appui 12 et la zone de contact 22. La cavité annulaire 33 peut être formée par la gorge supérieure 23, s’étendant entre la zone de contact 22 et la bordure annulaire 31 et/ou la gorge inférieure 13, s’étendant entre la zone d’appui 12 et la bordure annulaire 31.
La représente un mode de réalisation dans lequel le capot 20 est annulaire, autour du deuxième axe central Z 2 . Le capot 20 est creux entre l’axe central Z et la zone de contact 22. Un tel mode de réalisation permet une meilleure visibilité de la surface avant de la plaque lorsque cette dernière est insérée dans le dispositif 1. Cela permet également d’appliquer un autre traitement nettoyant sur la surface supérieure 2 s de la plaque 2. La représente une vue tridimensionnelle du capot annulaire 20. Selon ce mode de réalisation, la gorge supérieure 23 est traversante et débouche sur la face externe 20 e du capot 20. La gorge supérieure 23 fait alors office d’ouverture fluidique 26.
La montre un mode de réalisation dans lequel le support 10 et le capot 20 sont annulaires. Le support est creux entre l’axe central Z et la zone d’appui 12. Le logement 30, destiné à recevoir la plaque est ainsi annulaire. Un tel mode de réalisation est représenté sur la . Sur la , les moyens d’assemblage sont des vis 35, traversant les ouvertures d’assemblage 25 et 15 respectivement ménagées dans le capot 20 et le support 10. Sur la , la face inférieure 10 i du support 10 comporte une gorge annulaire inférieure 13 telle que décrite en lien avec la . La zone d’appui 12 forme une protubérance annulaire sur la face inférieure 10 i . Cela permet de limiter la zone de contact entre la face arrière de la plaque et la zone d’appui 12.
La représente un mode de réalisation analogue à celui de la , la zone d’appui 12 étant plane. Selon ce mode de réalisation, la portion de confinement 13 est plane, et s’étend entre la zone d’appui 12 et la bordure inférieure 11. Un tel mode de réalisation permet principalement un nettoyage de la partie supérieure du bevel 2 p,f et de la bordure 2 b de la plaque.
Pour résoudre ces problèmes, on utilise dans la sonde d’incidence selon l’invention un ou des déflecteurs.
On a en effet illustré sur les figures 3 et 4, une sonde d’incidence selon l’invention.
Celle-ci est désignée par la référence générale 10 sur ces figures et comporte un corps de sonde 11 et une girouette 12 avec son embase 12a.
Comme cela est illustré cette girouette comporte au moins un déflecteur s’étendant à partir du bord d’attaque de cette girouette sur au moins une partie de l’intrados et/ou de l’extrados de celle-ci.
Sur ces figures 3 et 4, ces déflecteurs sont désignés par les références générales 13 et 14.
En effet et comme cela est illustré, la girouette 12 peut alors comporter au moins un déflecteur sur son intrados et son extrados.
Ce ou ces déflecteurs s’étendent alors sur tout ou partie de la corde de cette girouette.
Comme cela est illustré également sur la ces déflecteurs jouent alors le rôle de redresseurs de flux et empêchent le décrochage brutal de l’ensemble de la voilure de la sonde.
Dans le cas d’une voilure présentant une double flèche, des déflecteurs doivent être placés de façon à protéger chaque tronçon de flèche différent.
Par ailleurs cette sonde peut également être associée à des moyens de réchauffage d’au moins un de ce ou de ces déflecteurs.
En fait ces moyens de réchauffage de déflecteur sont associés aux moyens de réchauffage de la sonde de façon générale, ces moyens de réchauffage de sonde et de déflecteur étant alors associés par exemple par conduction thermique.
Ceci permet d’éviter toute accrétion lors de la traversée de conditions givrantes par exemple.
Ainsi l’utilisation d’un ou de déflecteurs réchauffés permet de retarder le décrochage sur un profil de girouette n’ayant pas assez de flèche en redressant localement l’écoulement.
Bien entendu d’autres modes de réalisation encore de cette sonde peuvent être envisagés.
CONTRÔLE DE LA RECHARGE D’UNE BATTERIE DE VÉHICULE EN PRÉSENCE DE VARIATIONS DE TENSION Domaine technique de l’invention L’invention concerne les véhicules comprenant une batterie rechargeable via un chargeur de batterie, et plus précisément le contrôle de la recharge de cette batterie rechargeable par ce chargeur de batterie.
Etat de la technique Certains véhicules, éventuellement de type automobile, comprennent une batterie dite « principale » chargée d’alimenter en courant électrique au moins une machine motrice électrique de leur groupe motopropulseur (ou GMP). Cette batterie principale peut être rechargée par un chargeur de batterie embarqué lorsque ce dernier a été couplé à une source d’alimentation en courant alternatif, comme par exemple une borne de recharge, un boîtier mural (ou « wallbox ») ou une prise de courant murale, via un câble de recharge. Le chargeur de batterie est plus précisément agencé, pendant une phase de recharge, de manière à convertir le courant alternatif, qui est fourni par la source d’alimentation en courant alternatif sous une tension d’entrée, en un courant continu sous une tension de sortie pour la batterie. Par exemple, dans le cas des recharges dites de mode 2 ou 3 la tension d’entrée nominale (c’est-à-dire normale) est d’environ 220 V et la tension de sortie est d’environ 450 V.
Le quatrième composé précurseur CP4 est le glutaraldéhyde (GU) (CAS n°111-30-8) commercialisé par la société Sigma Aldrich sous la référence 340855. Pour son utilisation dans le dispositif de dépôt, une solution aqueuse comprenant 50% en poids de glutaraldéhyde.
Le cinquième composé précurseur CP5 est le tétraéthylorthosilicate (TEOS) (CAS 78-10-4) commercialisé par la société Sigma Aldrich sous la référence 131903.
Les paramètres utilisés pour le dispositif de dépôt sont résumés dans la table 3
Deux tests antibuée ont ensuite été effectués sur chaque échantillon. Le premier test de condensation consiste à placer, pendant 5s, les échantillons à 20 cm au-dessus d’un bain d’eau dont la température est 70°C +/- 10°C. Les échantillons sont inspectés visuellement pour des traces de condensation.
Le deuxième test de condensation consiste à placer les échantillons durant 15 heures à 40°C dans une atmosphère dont l’humidité relative est de 100%. Puis les échantillons sont placés dans des conditions ambiantes et aspergés pendant 30s d’eau de 10°C +/- 2°C. Les échantillons sont ensuite inspectés visuellement pour des traces de condensation.
Les résultats sont regroupés dans le tableau de la .
La illustre la structure de l’élément optique 51 transparent obtenu dans l’essai F qui est considéré comme présentant les meilleurs résultats aux tests antibuée. Une pluralité de deuxièmes couches 55 transparentes ont été déposées sur la première couche 51 transparente. Une première deuxième couche 55, 551 a été déposée directement sur la première couche 51. La première deuxième couche 55, 551 est issue de la polymérisation, par plasma atmosphérique à décharge électrique silencieuse, du composé précurseur CP1.
Une deuxième deuxième couche 55, 552 a été déposée directement sur la première deuxième couche 55, 551. La deuxième deuxième couche 55, 552 est issue de la polymérisation, par plasma atmosphérique à décharge électrique silencieuse, du deuxième composé précurseur CP2.
Une troisième deuxième couche 55, 553 a été déposée directement sur la deuxième deuxième couche 55,552. La troisième deuxième couche 55, 553 est issue de la polymérisation, par plasma atmosphérique à décharge électrique silencieuse, du troisième composé précurseur CP3.
Une quatrième deuxième couche 55, 554 a été déposée directement sur la troisième deuxième couche 55,553. La quatrième deuxième couche 55, 554 est issue de la polymérisation, par plasma atmosphérique à décharge électrique silencieuse, du quatrième composé précurseur CP4.
Les modes de réalisation et les exemples qui viennent d’être décrits pourraient aussi être mis en œuvre en utilisant un plasma atmosphérique à décharge lumineuse homogène.
L’invention, telle qu’elle vient d’être décrite, atteint bien le but qu’elle s’était fixée, et permet de proposer un élément optique transparent présentant au moins une ou plusieurs propriétés comme des propriétés anticorrosion, des propriétés antibuée, des propriétés anti-abrasion, des propriétés antisélection, des propriétés barrière pour compenser les effets de dégazage issu par exemple de la première couche, des propriétés auto-réparatrices et/ou des propriétés auto-nettoyantes grâce à un caractère super-hydrophobe et/ou grâce à de la photocatalyse induite, des propriétés fusibles ou infusibles ces propriétés étant obtenues par au moins une deuxième couche déposée sur une première couche, la deuxième couche comprenant au moins un polymère formé par la polymérisation d’un monomère, la polymérisation étant assistée par plasma atmosphérique à décharge électrique silencieuse.
Des variantes non décrites ici pourraient être mises en œuvre sans sortir du contexte de l’invention, dès lors que, conformément à l’invention, elles comprennent au moins une deuxième couche déposée sur une première couche transparente et formée par la polymérisation d’au moins un composé précurseur, la polymérisation étant due à un plasma atmosphérique à décharge à barrière diélectrique volumique.
Procédé de génération d’hydrogène par électrolyse de l’eau découplée La présente invention concerne un procédé de génération d’hydrogène par électrolyse de l’eau.
Etat de l’art L’électrolyse de l’eau conventionnelle consiste à décomposer celle-ci en hydrogène et oxygène (gaz) sous l’influence d’un potentiel électrique appliqué. Typiquement deux moles d'hydrogène et une mole d'oxygène sont générées par mole d’eau consommée. Au sein de l’électrolyseur, l'hydrogène est produit à la cathode (électrode négative) tandis que l'oxygène est généré simultanément à l’anode (électrode positive). On parle respectivement de la réaction d’évolution d’hydrogène (HER) et de la réaction d’évolution d’oxygène (OER).
Comme illustré à la , le procédé 300 comprend ensuite une première étape 3E4 de gravure de la couche d’un premier matériau supraconducteur sur toute son épaisseur selon les motifs définis lors de la première étape 3E3 de lithographie.
Le procédé comprend également une troisième étape 3E5 de dépôt d’une couche CD du deuxième matériau diélectrique de sorte à recouvrir les sections SE1 obtenues à l’issue de la première étape 3E4 de gravure.
Comme illustré à la , cette étape 3E5 est suivie d’une première étape 3E6 de polissage mécano-chimique de la couche CD du deuxième matériau diélectrique déposée lors de la troisième étape 3E5 de dépôt. Dans un mode de réalisation, le polissage mécano-chimique est réalisé de sorte que l’épaisseur de la couche CD du deuxième matériau diélectrique au-dessus des sections SE1 obtenues à l’issue de la première étape 3E4 de gravure est comprise entre 40 nm et 60 nm, de préférence égale à 50 nm.
Comme illustré à la , le procédé 300 comprend en outre une quatrième étape 3E7 de dépôt d’une couche CM de premier matériau diélectrique sur la couche CD de deuxième matériau diélectrique. Dans un mode de réalisation, l’épaisseur déposée est comprise entre 50 nm et 500 nm. Comme illustré à la , cette étape 3E7 est suivie d’une cinquième étape 3E8 de dépôt d’une couche CD de deuxième matériau diélectrique sur la couche CM de premier matériau diélectrique. Dans un mode de réalisation, l’épaisseur déposée est comprise entre 40 nm et 60 nm, de préférence égale à 50 nm.
Le procédé 300 comprend ensuite une deuxième étape 3E9 de lithographie de sorte à définir les motifs d’une ou plusieurs sections SE2 de la piste conductrice PC destinées à former les vias VI de la piste conductrice PC, puis, comme illustré à la , une deuxième étape 3E10 de gravure selon les motifs définis lors de la deuxième étape de lithographie 3E9 jusqu’à découvrir les parties de la couche de matériau supraconducteur SE1 situées sous les motifs.
Le procédé comprend également une sixième étape 3E11 de dépôt d’une couche d’un deuxième matériau supraconducteur SC2 selon une épaisseur suffisante pour combler les motifs gravés lors de la deuxième étape 3E10 de gravure. Comme illustré à la , cette étape 3E11 est suivie une deuxième étape 3E12 de polissage mécano-chimique de sorte à retirer le deuxième matériau supraconducteur en dehors des motifs définis lors de la deuxième étape 3E9 de lithographie et ainsi dégager la couche CD de deuxième matériau diélectrique déposée lors de la cinquième étape de dépôt 3E8.
Le procédé comprend en outre une septième étape 3E13 de dépôt d’une couche du premier matériau supraconducteur sur la structure issue de l’étape 3E12 précédente. Dans un mode de réalisation, l’épaisseur déposée est comprise entre 50 nm et 300 nm. Cette étape 3E13 est suivie d’une troisième étape 3E14 de lithographie de sorte à définir les motifs d’une ou plusieurs sections SE1 de la piste conductrice PC.
Comme illustré à la , le procédé 300 comprend ensuite une troisième étape 3E15 de gravure de la couche SC1 du premier matériau sur toute son épaisseur selon les motifs définis lors de la troisième étape 3E14 de lithographie.
Le procédé 300 comprend également une huitième étape 3E16 de dépôt d’une couche CD du deuxième matériau diélectrique suivie, comme illustré à la , d’une troisième étape 3E17 de polissage mécano-chimique de la couche CD du deuxième matériau diélectrique déposée lors de la huitième étape 3E16 de dépôt. Dans un mode de réalisation, le polissage mécano-chimique est réalisé de sorte que l’épaisseur de la couche CD du deuxième matériau diélectrique au-dessus des sections SE1 obtenues à l’issue de la première étape 3E15 de gravure est comprise entre 40 nm et 60 nm, de préférence égale à 50 nm.