INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Selon ce mode de réalisation de l’invention, on dépose, sur et à l’intérieur des pores de la couche d’électrode poreuse, un revêtement d’un matériau conducteur électronique. Ce matériau conducteur électronique peut être déposé par la technique de dépôt de couches atomiques (abrégé ALD, Atomic Layer Deposition) ou à partir d’un précurseur liquide. Ledit matériau conducteur électronique peut être du carbone. Son épaisseur est typiquement de l’ordre de 0,5 nm à 20 nm, et de manière préférére comprise entre 0,5 nm et 10 nm. Ce revêtement recouvre sensible toute la surface des pores.
Pour déposer une couche de carbone à partir d’un précurseur liquide, la couche mésoporeuse peut être immergée dans une solution riche d’un précurseur de carbone (par exemple une solution d’un glucide, tel que le saccharose). Ensuite la couche est séchée et soumise à un traitement thermique sous azote à une température suffisante pour pyroliser le précurseur de carbone. Ainsi se forme un revêtement très mince de carbone sur toute la surface interne de la couche poreuse, parfaitement répartie. Ce revêtement confère à l’électrode une bonne conduction électronique, quelle que soit son épaisseur. On note que ce traitement est possible après frittage car électrode est entièrement solide, sans résidus organiques, et résiste aux cycles thermiques imposés par les différents traitements thermiques.
Cette couche conductrice électronique réduit la résistance série de la batterie, ce qui est très avantageux pour des électrodes relativement épaisses, qui montreraient autrement une résistance trop élevée. Cela accroît aussi la possibilité de délivrer avec une telle batterie une forte puissance impulsionnelle.
Cette couche conductrice électronique peut également protéger la surface de l’anode à haute température contre d’éventuelles réactions parasites de l’anode avec l’électrolyte.
De manière optionnelle, on peut déposer au-dessus de cette couche conductrice électronique une couche qui est électroniquement isolante et qui présente une bonne conductivité ionique ; son l’épaisseur est typiquement de l’ordre de 1 nm à 20 nm.
Ladite couche conductrice ionique et isolante électronique peut être de nature inorganique ou organique. Plus particulièrement, parmi les couches inorganiques on peut utiliser par exemple un oxyde, un phosphate ou un borate conducteur d’ions de lithium, et parmi les couches organiques on peut utiliser des polymères (par exemple du PEO contenant éventuellement des sels de lithium, ou un copolymère tétrafluoroéthylène sulfonaté tel que le Nafion™, n° CAS 31175-20-9).
Cette couche, ou cet ensemble de couches, a différentes fonctions. Une première fonction est d’améliorer la conductivité électrique de l’électrode, sachant que la conductivité intrinsèque des électrodes en LiMn 2 O 4 ou LiFePO 4 n’est pas très elevée. Une deuxième fonction est de limiter la dissolution d’ions issus de l’électrode et leur migration vers l’électrolyte, sachant que dans les électrodes en LiMn 2 O 4 le manganèse risque de se dissoudre dans certains électrolytes liquides, notamment à température élevée. Et enfin, du fait du procédé utilisé dans la présente invention, le dépôt de ladite couche conductrice ionique et isolante électronique s’étend à la surface métallique du collecteur et protège ce dernier contre la corrosion. Si seule la couche conductrice électronique est présente, elle assurera la fonction d’améliorer la conductivité électrique de l’électrode et celle de limiter la dissolution de d’électrode. Si la couche conductrice électronqiue est recouverte d’une couche conductrice ionique, c’est cette dernière qui assurera principalement les fonctions de protection, comme décrit ci-dessus.
Pour résumer, avec ces revêtements déposés sur et à l’intérieur des pores de la couche d’électrode poreuse, on cherche à obtenir deux effets : l’accroissement de la conductivité electronique et la protection contre la dissolution dans l’électrolyte à haute température. Soit ces deux effets sont obtenus avec un seul revêtement, à savoir une couche conductrice électronique, soit un seul revêtement ne suffit pas à obtenir les deux effets dans quel cas on peut déposer deux couches, par exemple, une première couche pour obtenir la conduction électronique et une seconde couche, conductrice ionique et isolante électronique ; pour obtenir la protection à haute température.
Avantageusement, le bras d’entraînement 18 est configuré pour être relié, autrement dit est relié, à l’élément flexible 9 par l’intermédiaire du dispositif de commande de verrouillage 26.
Ici, la fente du coffre 30 est ménagée dans une face inférieure du coffre 30, en particulier dans la configuration assemblée de la fenêtre 2 par rapport au bâtiment.
Le but d’une technique d’augmentation de données est d’améliorer les performances et la robustesse d’un algorithme d’apprentissage statistique supervisé.
La technique d’augmentation de données consiste à rajouter à l’ensemble d’apprentissage initial des échantillons de la forme , pour distribué selon la distribution associée à la mesure .
Dans ce contexte, la phase d’apprentissage correspondant à une fonction de prédiction vise à minimiser un risque empirique prenant en compte une pondération par la mesure de probabilité et permet le calcul d’un estimateur qui est une solution au problème de minimisation suivant :
En pratique, la technique d’augmentation de données peut être implémentée différemment et en particulier intégrée dans une descente de gradient stochastique.
Plus précisément, la règle de mise à jour du paramètre est dans ce cas donnée par la formule suivante,
où est le taux d’apprentissage (learning rate), l’ensemble des indices considéré pour l’estimation du gradient (minibatch) et où les correspondent à des réalisations de la variable aléatoire .
En considérant il vient alors que les deux implémentations envisagées visent à minimiser la fonctionnelle suivante:
avec l’opérateur d’espérance sous la mesure .
DESCRIPTION D’UN EXEMPLE DE PROCEDE D’APPRENTISSAGE
Dans le présent exemple, le procédé d’apprentissage comporte une première étape de réception, une deuxième étape de réception, une étape de détermination, une étape de génération et une étape de mise en œuvre d’un apprentissage.
Lors de la première étape de réception, le système 10 reçoit un jeu de données d’apprentissage courant.
Comme cela sera illustré ultérieurement, ce jeu de données d’apprentissage courant dépend de la manière dont est effectivement réalisée l’étape de mise en œuvre d’un apprentissage.
Lors de la deuxième étape de réception, le système 10 reçoit au moins une propriété d’invariance de la prédiction de l’algorithme de prédiction à apprendre par rapport aux entrées que l’algorithme de prédiction peut prendre en entrée selon un groupe de symétrie .
Un tel groupe de symétrie est appelé groupe de symétrie initial .
A titre d’exemple, le groupe de symétrie initial est un groupe de Lie, notamment le groupe de symétrie initial est le groupe des roto-translations du plan.
Le groupe de symétrie initial est muni d’une loi de probabilité , la loi de probabilité est appelée loi de probabilité initiale .
Cependant, l’utilisation d’huiles ou de graisses dans des compositions lubrifiantes pour travail des métaux présentent plusieurs désavantages. En particulier, les lubrifiants à base huileuse présentent généralement une faible résistance aux attaques microbiennes, de faibles propriétés de refroidissement ou encore un impact négatif sur l’environnement de travail, la santé ou encore la sécurité.
Dans le but de résoudre les problèmes liés à la mise en œuvre de formulations lubrifiantes à base d’huile dans des applications pour travail des métaux, des compositions à base d’eau ont montré un certain intérêt. Ces formulations comprennent généralement de l’eau, supplémentée par divers additifs afin de garantir les propriétés tribologiques requises pour les lubrifiants, en particulier en termes de réduction du frottement et de protection des pièces contre l’usure.
Malheureusement, la mise en œuvre de lubrifiants aqueux pour une application dans le travail des métaux présente un désavantage majeur lié à la formation de ce que l’on nomme des « résidus gommeux ».
Ces résidus gommeux apparaissent postérieurement aux opérations d’usinage. Une fois l’appareillage d’usinage à l’arrêt, le lubrifiant, soumis à une déshydratation ambiante, est susceptible de conduire à la formation de sels qui, combinés aux polymères présents au niveau du lubrifiant, peuvent former des résidus relativement visqueux et insolubles en phase aqueuse, désignés sous la dénomination « résidus gommeux »
Les résidus gommeux adhèrent sur les parois de l’outillage, et sont susceptibles d’engendrer un blocage de l’outil d’usinage, nécessitant généralement des opérations indésirables de maintenance sur la machine.
Ainsi, il demeure un besoin de disposer d’une composition lubrifiante aqueuse, pour le travail des métaux, engendrant peu ou pas de résidus gommeux, tout en maintenant, voire en améliorant, les propriétés tribologiques du lubrifiant, notamment en termes de propriétés anti-usure et extrême-pression.
La présente invention propose ainsi une nouvelle composition lubrifiante aqueuse présentant des propriétés tribologiques, en particulier extrême-pression et anti-usure, adaptées à sa mise en œuvre pour le travail des métaux, et conduisant à une faible formation, voire à l’absence de résidus gommeux après son utilisation au niveau de l’appareillage d’usinage.
Plus particulièrement, elle concerne, selon un premier de ses aspects, une composition lubrifiante aqueuse, en particulier pour le travail des métaux, comprenant au moins : - de l’eau, de préférence de l’eau osmosée ; - de 0,001 à 80 % massique d’au moins un polyalkylène glycol ; et - de 0,001 à 50 % massique d’au moins un polysaccharide à galactomannane, les pourcentages étant exprimés par rapport à la masse totale de la composition.
Dans la description et les exemples, sauf indication contraire, les pourcentages sont des pourcentages pondéraux. Les pourcentages sont donc exprimés en masse par rapport à la masse totale de la composition. La température est exprimée en degré Celsius sauf indication contraire, et la pression est la pression atmosphérique, sauf indication contraire.
Description détaillée COMPOSITION AQUEUSE Comme évoqué précédemment, une composition lubrifiante aqueuse selon l’invention, dite encore lubrifiant aqueux, est une formulation comprenant de l’eau à titre de solvant majoritaire.
Au sens de l’invention, par « solvant majoritaire » on entend signifier que l’eau est présente en plus grande quantité que tout autre solvant éventuellement présent dans la composition. De préférence, une composition lubrifiante aqueuse selon l’invention comprend au moins 50 % massique d’eau, en particulier d’eau osmosée, de préférence entre 50 % et 90 % massique, plus préférentiellement entre 60 % et 75 % massique, par rapport à la masse totale de la composition.
Par son rôle de solvant, l’eau permet de solubiliser le ou les polyalkylènes glycols et le ou lesdits polysaccharides à galactomannane mis en œuvre selon l’invention, ainsi que tout additif optionnellement présent dans la composition, en particulier choisi parmi ceux détaillés dans la suite du texte.
De manière avantageuse, outre son rôle de solvant, l’eau permet d’accéder à une composition lubrifiante présentant de bonnes propriétés de refroidissement, utiles dans le domaine de l’usinage des métaux .
Selon un mode de réalisation particulier, l’eau mise en œuvre dans une composition lubrifiante aqueuse selon l’invention est de l’eau déionisée.
Avantageusement, une eau déionisée ne comprend pas d’ions, tels que les ions Ca 2+ et HCO 3 - généralement présents dans l’eau, qui sont responsables de la conduction de l’électricité dans l’eau.
La mise en œuvre d’une eau déionisée est donc particulièrement avantageuse dans le cadre de l’utilisation du lubrifiant aqueux selon l’invention pour des applications requérant un fluide conduisant peu, voire pas du tout, l’électricité.
Une composition lubrifiante aqueuse selon l’invention se différencie des lubrifiants hydrocarbonés, qui comprennent une proportion majoritaire d’une ou plusieurs huiles de base non solubles dans l’eau.
Par « huile non soluble dans l’eau », on entend notamment désigner une huile qui ne se dissout substantiellement pas dans l’eau à température ambiante (à environ 25 °C). En particulier, une huile non soluble dans l’eau présente une solubilité dans l’eau inférieure à 0,2 g/L, à température ambiante.
Il s’agit notamment des huiles de bases lubrifiantes appartenant aux groupes I à V selon les classes définies dans la classification API (ou leurs équivalents selon la classification ATIEL) et leurs mélanges.
De préférence, une composition lubrifiante aqueuse selon la présente invention comprend moins de 20 % massique d’huile(s) de base non soluble(s) dans l’eau, de préférence moins de 10 % massique, en particulier moins de 5 % massique, par rapport à la masse totale de la composition.
Le point de divergence 53 est agencé en aval de l’unique échangeur de chaleur 21. C’est donc la section principale 56 de la ligne de retour 14 qui traverse l’unique échangeur de chaleur 21. A ce titre, l’unique échangeur de chaleur 21 comprend donc une première passe 24 au sein de laquelle circule le gaz à l’état liquide du premier circuit d’alimentation 2, une deuxième passe 28 au sein de laquelle circule le gaz à l’état vapeur de la ligne de retour 14 et une troisième passe 29 au sein de laquelle circule le fluide caloporteur évaporant le gaz à l’état liquide circulant dans la première passe 24.
En sortie de l’unique échangeur de chaleur 21, le gaz à l’état vapeur circule jusqu’au point de divergence 53 et peut par la suite circuler au sein de la première section 51 ou de la deuxième section 52. La première section 51 traverse le premier échangeur de chaleur 6 tandis que la deuxième section 52 s’étend jusqu’à la cuve 8 en contournant le premier échangeur de chaleur 6. Autrement dit le gaz à l’état vapeur peut circuler au sein de la première section 51 et être condensé grâce à l’échange de calories se produisant au niveau du premier échangeur de chaleur 6, ou peut circuler au sein de la deuxième section 52 et retourner dans la cuve 8 à l’état gazeux.
Le choix de la section au sein de laquelle circule le gaz à l’état vapeur est notamment dépendant d’un débit de gaz à l’état liquide circulant dans le premier circuit d’alimentation 2, ledit débit devant être suffisant pour condenser intégralement le gaz à l’état vapeur circulant dans la ligne de retour 14. Ainsi, lorsque la quantité de gaz à l’état liquide circulant dans le premier circuit d’alimentation est supérieure ou égale à six fois la quantité de gaz à l’état vapeur circulant dans la ligne de retour, le gaz à l’état vapeur peut être dirigée vers la première section 51 afin que la condensation de celui-ci puisse être mise en œuvre.
Si la quantité de gaz à l’état liquide circulant dans le premier circuit d’alimentation est inférieure à six fois la quantité de gaz à l’état vapeur circulant dans la ligne de retour, alors une première fraction du gaz à l’état vapeur circule au sein de la première section 51 en quantité telle que la première fraction est intégralement condensée au sein du premier échangeur 6, tandis qu’une deuxième fraction du gaz à l’état vapeur, correspondant à la quantité de gaz à l’état vapeur ne circulant pas dans la première section 51, circule au sein de la deuxième section 52 afin de retourner directement au sein de la cuve 8. Dans le cas où il n’y a pas ou trop peu de circulation de gaz à l’état liquide circulant dans le premier circuit d’alimentation 2, l’intégralité du gaz à l’état vapeur circule alors dans la deuxième section 52 pour retourner directement dans la cuve 8, afin d’éviter une perte de charge résultant de la traversée du premier échangeur de chaleur 6. Dans cette condition, le retour du gaz dans la cuve 8 se fait à l’état vapeur. Une telle situation survient lorsque le gaz à l’état liquide est peu utilisé pour alimenter l’appareil consommateur de gaz à haute pression 4.
Afin de réguler la circulation au sein de la ligne de retour 14, la première section 51 et le deuxième section 52 comprennent respectivement un organe de détente 15 et un organe de régulation de débit 54. L’organe de détente 15 et l’organe de régulation de débit peuvent également assurer une fonction de détente du gaz circulant dans l’une ou l’autre des sections.
D’une manière avantageuse, que ce soit pour la première section 51 ou la deuxième section 52, le gaz qui y circule retourne au fond de la cuve 8 ou au moins dans une zone où le gaz est sous forme liquide. Plus particulièrement, le gaz circulant à l’état vapeur dans la deuxième section 52 retourne au fond de la cuve à l’état vapeur. La température et la densité du gaz à l’état liquide présent dans la cuve 8 permet ainsi de condenser le gaz à l’état vapeur sortant de la deuxième section 52. Afin de faciliter cette condensation du gaz à l’état vapeur, la deuxième section 52 peut comprendre un organe d’éjection 55 agencé au niveau d’une extrémité de la deuxième section 52 immergée dans la cuve 8. L’organe d’éjection 55 permet de détendre le gaz à l’état vapeur circulant dans la deuxième section 52 afin de faciliter la condensation de celui-ci au sein de la cuve 8. L’organe d’éjection 55 peut par exemple être un éjecteur ou un dispositif de bullage. Le renvoi du gaz à l’état vapeur dans la cuve 8 via la deuxième section 52 entraîne une hausse de la température du gaz à l’état liquide présent dans la cuve 8.
C’est à l’entrée du premier échangeur de chaleur 6 que le gaz à l’état liquide du premier circuit d’alimentation 2 présente la température la plus basse. De ce fait, c’est donc après avoir traversé le premier échangeur de chaleur 6 que le gaz circulant dans la première section 51 de la ligne de retour 14 est condensé. Le gaz de la ligne de retour 14 est donc à l’état vapeur à l’entrée du premier échangeur de chaleur 6 et sort à l’état liquide suite à l’échange de calories se déroulant au sein du premier échangeur de chaleur 6. Le premier échangeur de chaleur 6 fait donc office de condenseur dans le cas où le gaz à l’état vapeur circule dans la première section 51 de la ligne de retour 14.
L’unique échangeur de chaleur 21 est situé en aval du premier échangeur de chaleur 6 selon le sens de circulation du gaz dans le premier circuit d’alimentation 2, et en amont du premier échangeur de chaleur 6 selon le sens de circulation du gaz dans la première section 51 de la ligne de retour 14. L’unique échangeur de chaleur 21 assure donc un pré-refroidissement du gaz à l’état vapeur circulant dans la ligne de retour 14 avant que celui-ci circule dans la première section 51 ou dans la deuxième section 52. Au niveau du premier circuit d’alimentation 2, le gaz à l’état liquide à l’entrée de l’unique échangeur de chaleur 21 a auparavant traversé le premier échangeur de chaleur 6 et a été pompé par la pompe additionnelle 10, ce qui a donc augmenté sa température et sa pression. Il est ainsi possible que suite à l’échange de calories se produisant au niveau de l’unique échangeur de chaleur 21, le gaz circulant au sein du premier circuit d’alimentation 2 sorte de l’unique échangeur de chaleur 21 dans un état liquide, vapeur, diphasique ou supercritique. La température du gaz circulant dans la ligne de retour 14 est donc abaissée après la traversée de l’unique échangeur de chaleur 21, mettant en œuvre le pré-refroidissement indiqué plus haut.
La pompe additionnelle 10 est avantageusement disposée entre le premier échangeur de chaleur 6 et l’unique échangeur de chaleur 21. La présence de la pompe additionnelle 10 entre le premier échangeur de chaleur 6 et l’unique échangeur de chaleur 21 assure le fait que seul du gaz à l’état liquide circule à travers la pompe additionnelle 10, et non du gaz dans un état diphasique risquant d’endommager cette dernière.
Par ailleurs, la présence de la pompe additionnelle 10 en aval du premier échangeur de chaleur 6 assure la hausse de pression du gaz à l’état liquide, et cela sans perturber l’échange de calories se produisant au sein du premier échangeur de chaleur 6. La condensation du gaz à l’état vapeur circulant dans la première section 51 de ligne de retour 14, si elle a lieu, est ainsi effectuée de manière optimale.
Le système d’alimentation 1 comprend également une ligne d’alimentation auxiliaire 16, s’étendant du premier circuit d’alimentation 2, par un piquage entre la pompe 9 et le premier échangeur de chaleur 6, jusqu’au deuxième circuit d’alimentation 3, en se raccordant à celui-ci entre le compresseur 13 et l’appareil consommateur de gaz à basse pression 5. La ligne d’alimentation auxiliaire 16 permet d’alimenter l’appareil consommateur de gaz à basse pression 5 en cas de débit insuffisant de gaz à l’état vapeur formé au sein du ciel de cuve 12.
Lorsque le gaz à l’état vapeur n’est pas présent en quantité suffisante dans le ciel de cuve 12, le gaz à l’état liquide pompé par la pompe 9 peut alors circuler au sein de cette ligne d’alimentation auxiliaire 16 afin d’alimenter l’appareil consommateur de gaz à basse pression 5. Pour ce faire, la ligne d’alimentation auxiliaire 16 traverse un évaporateur basse pression 17 afin que le gaz à l’état liquide circulant dans la ligne d’alimentation auxiliaire 16 passe à l’état de vapeur. Le fonctionnement de l’évaporateur basse pression 17 peut par exemple être identique à celui de l’évaporateur haute pression 11, c’est-à-dire que le gaz est évaporé par échange de chaleur avec un fluide caloporteur à température suffisamment élevée pour évaporer le gaz à l’état liquide. En sortie de l’évaporateur basse pression 17, le gaz à l’état vapeur circule au sein de la ligne d’alimentation auxiliaire 16, puis rejoint le deuxième circuit d’alimentation 3 afin d’alimenter l’appareil consommateur de gaz à basse pression 5.
On comprend de ce qui précède que la ligne d’alimentation auxiliaire 16 n’est utilisée qu’en l’absence de gaz à l’état vapeur en quantité suffisante au sein du ciel de cuve 12. Ainsi, la ligne d’alimentation auxiliaire 16 comprend une vanne 19 assurant le contrôle de la circulation de gaz au sein de la ligne d’alimentation auxiliaire 16 lorsque l’utilisation de celle-ci n’est pas nécessaire.
La représente un deuxième mode de réalisation du système d’alimentation 1 selon l’invention. Le deuxième mode de réalisation se distingue du premier mode de réalisation en ce que le deuxième échangeur de chaleur 7 et l’évaporateur haute pression 11 sont distincts l’un de l’autre au lieu de former l’unique échangeur de chaleur illustré sur la figure précédente. Le reste du système d’alimentation 1 est identique à ce qui a été décrit précédemment. On se reportera donc à la description de la au sujet des caractéristiques structurelles et fonctionnelles des éléments communs aux deux modes de réalisation.
Le premier échangeur de chaleur 6, le deuxième échangeur de chaleur 7 et l’évaporateur haute pression 11 sont donc des échangeurs de chaleur séparés les uns des autres. Une telle configuration permet de concevoir et de fabriquer chacun des échangeurs de chaleur dans une technologie adaptée à la pression des fluides les parcourant. Dans le cas d’espèce, le premier échangeur de chaleur 6 peut être réalisé selon une technologie moins couteuse que celle servant à la fabrication du deuxième échangeur de chaleur 7, car la pression au sein du premier échangeur de chaleur 6 est significativement inférieure à celle présente au sein du deuxième échangeur de chaleur 7. Il en va de même pour l’évaporateur haute pression 11.
Le gaz à l’état liquide pompé par la pompe circule donc dans l’ordre à travers le premier échangeur de chaleur 6, puis le deuxième échangeur de chaleur 7, et enfin à travers l’évaporateur haute pression 11. Au niveau de la ligne de retour 14, le gaz à l’état vapeur traverse le deuxième échangeur de chaleur 7, puis éventuellement le premier échangeur de chaleur 6 en cas de circulation au sein de la première section 51. Selon le deuxième mode de réalisation, le point de divergence 53 est agencé en aval du deuxième échangeur de chaleur 7.
illustre le montage d’une bague dans une emboiture de l’ensemble de raccordement de la selon un mode de réalisation de l'invention,