INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Chaque cellule-mémoire a un premier état, par exemple un état effacé, dans lequel elle stocke un bit ayant une première valeur logique, par exemple la valeur logique 1, et un deuxième état, par exemple un état programmé, dans lequel elle stocke un bit ayant une deuxième valeur logique, par exemple la valeur logique 0, et le bit de référence (qui remplace un bit déjà lu pour permette la lecture du bit suivant, a avantageusement la deuxième valeur logique.
Une façon simple d’obtenir un tel transistor d’état est de prévoir un transistor d’état du type à appauvrissement.
Par ailleurs, selon un mode de réalisation, le transistor d’état a, dans le premier état de la cellule-mémoire, une tension de seuil négative et inférieure à la tension de seuil du transistor d’état de la cellule-mémoire à l’état vierge tandis que dans le deuxième état de la cellule-mémoire, la tension de seuil du transistor d’état est positive et supérieure à la tension de seuil du transistor d’état de la cellule-mémoire à l’état vierge.
Bien que cela ne soit pas indispensable, il est particulièrement intéressant que le canal du transistor d’état de chaque cellule-mémoire comprenne un canal implanté en surface dans le substrat et configuré pour que la cellule-mémoire fonctionne dans un mode d’appauvrissement (« depletion » en langue anglaise).
En effet, cela va permettre par exemple d’appliquer une tension nulle sur la grille de commande en lecture.
En effet, le transistor d’état étant du type à appauvrissement, le caractère passant (« normally on ») du transistor d’état lorsque la cellule-mémoire est dans un état vierge et qu’une tension nulle est appliquée sur la grille de commande, est lié à la valeur de sa tension de seuil dans l’état vierge de la cellule-mémoire qui peut par exemple être choisie négative ou sensiblement nulle.
Et les tensions de seuil du transistor d’état dans les deux états (effacé et programmé) de la cellule-mémoire se situent de part et d’autre de la tension de seuil du transistor d’état de la cellule-mémoire à l’état vierge.
Il devient donc possible de configurer les moyens de traitement pour qu’ils appliquent une tension de lecture nulle sur la grille de commande du transistor d’état d’une cellule-mémoire lors d’une opération de lecture de cette cellule-mémoire.
En effet, avec une telle tension de lecture nulle, il est possible de différencier l’état de la cellule-mémoire puisque le transistor d’état d’une cellule-mémoire dans son premier état (cellule effacée par exemple) sera passant puisque sa tension de seuil sera inférieure à celle d’une cellule vierge et il sera bloqué en présence d’une cellule-mémoire dans son deuxième état (cellule programmée par exemple) puisque la tension de seuil sera cette fois-ci positive.
Lorsque le premier état d’une cellule-mémoire correspond à un état effacé de la cellule et la première valeur logique est un 1, et que le deuxième état d’une cellule-mémoire correspond à un état programmé de la cellule et la deuxième valeur logique est un 0, et les moyens de traitement sont configurés pour, afin de remplacer un bit déjà lu, programmer les deux cellules-mémoires contenant ce bit déjà lu.
Il est particulièrement avantageux que préalablement au stockage de l’information dans la zone mémoire, toutes les cellules-mémoires de la zone mémoire soient dans un état effacé.
En effet dans ce cas il suffit simplement de programmer les cellules-mémoires devant stocker un zéro logique.
Selon un autre aspect, il est proposé un procédé comprenant un stockage d’une information comportant une succession de N bits dans un dispositif de mémoire non volatile.
Le dispositif comprend un plan mémoire comportant au moins une zone mémoire incluant une matrice de cellules mémoires ayant deux rangées et N colonnes, chaque cellule-mémoire comprenant un transistor d’état ayant une grille de commande et une grille flottante, sélectionnable par un transistor de sélection vertical enterré dans un substrat et comportant une grille de sélection enterrée, chaque colonne de cellules-mémoires incluant une paire de cellules-mémoires jumelles, les deux transistors de sélection d’une paire de cellules-mémoires jumelles ayant une grille de sélection commune.
Dans le projet Jetcopter (marque déposée), l’air comprimé par des compresseurs centrifuges non coaxiaux est dirigé vers des tuyères orientables qui sont les causes de la poussée (vectorielle). Il n’est pas envisagé de superposer des rotors et, comme la surface d’éjection des tuyères est très petite par rapport à la surface totale du propulseur, il faut s’attendre à une efficacité médiocre.
Le fluide aspiré dans un propulseur Schottel, dit « Schottel pump-jet », est éjecté transversalement pour créer une poussée presque perpendiculaire à l’axe de rotation du rotor dans une seule direction (brevet EP 0612657). Selon cet ancien brevet, la compression est nécessairement semi-axiale donc non centrifuge, l’écoulement est guidé dans des conduits de formes complexes entre le rotor de compression et la ou les buses de sortie, le fond n’engendre aucune poussée et la volute de guidage non plus. La direction de la poussée ne peut être modifiée que par rotation de l’ensemble du propulseur.
La est une section de propulseur mono-étage dans un plan contenant l’axe de rotation. La est un schéma simplifié montrant la disposition des pales d’un rotor et de son stator dans un plan orthogonal à l’axe de rotation. La est un schéma de la chambre d’admission dans un plan orthogonal à l’axe de rotation. La est une vue de l’appareil depuis l’aval. La est une vue de côté montrant la disposition des baies d’admission et des tuyères d’éjection. La est semblable à la mais un dispositif de poussée transversale a été ajouté. La représente un montage en parallèle, sur le même axe, de deux modules de propulsion identiques. La représente un montage en série de deux modules où le flux de sortie du module amont constitue le flux d’entrée du module aval. La est une variante de la où le fluide n’a pas à traverser le moyeu du rotor aval. La est une variante de la montrant la base de la chambre d’admission du module aval d’un montage en parallèle. La est une variante de la montrant un dispositif inverseur de poussée. La est semblable à la mais représente un module où l’injection du fluide se fait à la fois par l’amont et par l’aval. La est une variante de la où l’entrée de fluide amont est axiale. La représente une option de montage en culot.
Un mode de réalisation de l'invention, avec des valeurs numériques correspondant à une poussée d'environ 4 Newton (N), va maintenant être décrit en détail avec référence aux figures. Ces valeurs numériques sont celles du premier modèle de recherche non optimisé de l'inventeur, à un seul étage de rotor, qui fonctionne dans l’air. Tous les chiffres donnés correspondent donc à un exemple cohérent de réalisation mais l'invention reste valable pour des chiffres différents et d’autres fluides que l’air.
Le propulseur est constitué d’une enceinte, constituant la structure du propulseur, dans laquelle tourne le rotor (2). Ce rotor (2) est muni de douze pales radiales (3) et est mis en rotation par son axe (1) au moyen d’un moteur non représenté sur la . L’enceinte est constituée, d’amont en aval, par :
– Une surface de fermeture (11), munie d’un palier (22) laissant passer l’axe (1) d’entrainement du rotor (2), et qui peut être, comme sur la , un plan circulaire.
– Une paroi périphérique (12), de préférence cylindrique, qui contient le rotor (2) et le redresseur (4), la chambre de compression (5) et la chambre d’admission (8) séparées entre elles par la surface (10). Cette paroi périphérique (12) est percée, au niveau de la chambre d’admission (8) par les entrées latérales de fluide (7) qui sont situées entre les tuyères d’éjection (6), comme le montre la .
– Une surface de fermeture (9) qui peut être un plan circulaire.
Les tuyères (6), représentées au nombre de 4 sur les figures 1, 3, 4 et 5, mais au nombre de 8 dans le modèle de recherche, sont de préférence convergentes pour accélérer le fluide éjecté. Leur entrée se situe dans la chambre de compression (5), à l’intérieur de la paroi périphérique (12). Leur sortie est de préférence située dans le plan de la paroi séparatrice (9), ou un peu en aval, et à l’extérieur de la paroi périphérique (12) en vue de pouvoir monter d’autres modules propulseurs semblables sur le même axe de rotation. Le rapport de leur section d’entrée sur leur section de sortie est de 2 sur le modèle de recherche. Noter que les tuyères (6) pourraient commencer à sortir de la paroi périphérique (12) avant de traverser la paroi séparatrice (10).
Les autres dimensions de ce modèle sont :
– 420 mm pour le diamètre de la paroi périphérique (12) ;
- 100 mm entre les surfaces (11) et (10) ;
– 90 mm entre les surfaces (10) et (9) ;
– 340 mm pour le diamètre extérieur des 12 pales (3) du rotor (2).
Le propulseur fonctionne de la manière suivante. Le fluide pénètre (voir les [Fig 3 et 5]) dans la chambre d’admission (8) par les ouïes latérales (7) qui sont percées dans la paroi périphérique (12) et qui sont de préférence grillagées pour éviter d’absorber des corps étrangers. Le trajet du fluide est représenté par des flèches épaisses en grisé sur les figures. Sur la la paroi (10) est hachurée pour la clarté du schéma bien qu’il ne s’agisse pas d’une coupe. Le fluide passe ensuite à travers l’ouverture circulaire (13) qui est ménagée au centre de la paroi séparatrice (10). Puis il passe (voir ) entre les pales (3). Les canaux entre les pales (3) peuvent de préférence avoir une section de passage fermée à la base par le moyeu du rotor (2) et, du côté de la chambre de compression (5), par la paroi (14). A la sortie de ces canaux radiaux, la vitesse de rotation du fluide est récupérée en pression par les aubes de redresseur (4), ce qui apparait bien sur la . Le fluide se trouve alors dans la chambre de compression (5). Puis il entre dans les tuyères convergentes (6), où sa pression décroit et sa vitesse augmente, et il en sort avec la vitesse V. La montre que toute la section de sortie des tuyères (6) se trouve à l’extérieur de la paroi périphérique (12) de façon à pouvoir monter sur le même axe de rotation un module de propulsion aval identique. Si S o est la section totale de sortie des tuyères (6), la poussée F est égale à ρ S o V 2 . Pour un fonctionnement dans l’air avec ρ = 1,3 kg/m 3 et S o = 0,70 dm 2 , V = 21 m/s pour une poussée F de 4 N. La vitesse de rotation est alors de 1895 tours/mn et la puissance délivrée par le moteur de 300 W. La poussée surfacique (pour la surface totale du propulseur de 420 mm de diamètre) est donc 0,3 N/dm 2 et l’efficacité 13 N/kW.
En première option, le propulseur est muni d’un dispositif permettant d’obtenir une composante de poussée dans une direction radiale. Ce dispositif est constitué d’une petite tuyère (17) placée dans la chambre de compression (5) et débouchant à l’extérieur par un orifice (15) percé dans la paroi périphérique (12). Cet orifice (15) est muni d’un volet (16) permettant son obturation totale ou partielle. Un seul dispositif est représenté sur les [Fig 5 et 6]. Comme représenté sur cette cet orifice (15) se trouve, de préférence, à l’aplomb d’une tuyère (6) pour perturber le moins possible l’écoulement de fluide entrant dans le propulseur par les ouïes (7). Il est clair qu’un deuxième dispositif semblable, situé à l’autre extrémité du diamètre qui porte le premier, permet d’obtenir une composante de poussée dans le sens radial inverse. Il est clair également que deux autres dispositifs semblables, situés aux extrémités d’un diamètre orthogonal à celui sur lequel se trouvent les deux premiers, permettent d’obtenir une composante de poussée dans les deux sens dans une direction radiale perpendiculaire à celle des deux premiers dispositifs. Ainsi un avion ou un sous-marin équipé d’un tel ensemble de propulsion peut avoir sa direction contrôlée dans un plan horizontal et dans un plan vertical sans avoir aucun plan de gouverne.
La couche intermédiaire (8) dite de liaison appui plan est illustrée . Les couches intermédiaires (8) de liaison appui plan (3) des éléments longitudinaux centraux (1b, 2b) sont entaillées latéralement avec des lumières oblongues (13) de sorte à ne pas venir buter lors du mouvement de rapprochement ou d’éloignement des deux éléments longitudinaux centraux (1b, 2b), avec les agencements (5) permettant la fixation amovible de la couche de surface (6).
Les éléments longitudinaux latéraux (1a, 2a) du joint sont fixées de toute manière appropriée aux dalles de béton, par exemple par des tiges d’ancrage noyées dans le béton, ou bien par des chevilles mécaniques du type goujons d’ancrage, par exemple à expansion, insérés dans des orifices traversants (14).
Il ressort de ce qui précède que l’invention fournit bien un joint de dilatation (1) et d’absorption des mouvements horizontaux et verticaux, qui, par la combinaison des liaisons pivot (4) et appui plan (3), peut résister et suivre les mouvements relatifs entre deux dalles adjacentes, aussi bien dans le plan des dalles, que des mouvements d’inclinaison entre les dalles, ou bien des mouvements verticaux créant des différences de hauteur entre les deux dalles, tout en gardant la continuité du joint, notamment par l’intermédiaire de la réalisation d’une pente douce entre les dalles du fait de la liaison pivot (4).
Balayeuse industrielle pourvue d’un dispositif de décolmatage perfectionné de son filtre à air La présente invention concerne une balayeuse industrielle destinée à nettoyer les sols sur de relativement grandes étendues.
Dans la demande de brevet publiée sous le n° FR3087798, est présentée une balayeuse industrielle au fonctionnement autonome, c'est-à-dire qui est conçue pour fonctionner par simple roulage sur un sol à nettoyer, en la poussant ou en la tractant.
La balayeuse industrielle comprend :
une brosse à axe horizontal en considérant la position d’utilisation de la balayeuse sur un sol horizontal,
un bac de collecte destiné à collecter les poussières balayées par la brosse pendant le fonctionnement de la balayeuse,
une turbine d’aspiration située en aval du bac de collecte pour favoriser, par aspiration, l’introduction des saletés dans ledit bac de collecte,
au moins une roue destinée à prendre appui sur le sol à nettoyer pour entraîner pendant le déplacement de la balayeuse sur le sol ladite brosse et ladite turbine,
un cadre porte-filtre interposé entre le bac de collecte et ladite turbine et destiné à réceptionner un filtre à air, un dispositif de décolmatage conçu pour agir sur le cadre porte-filtre, comprenant, au moins un poussoir porté par le cadre porte-filtre, au moins un percuteur relié mécaniquement au bac de collecte et agencé pour frapper de manière séquentielle ledit poussoir, pendant le mouvement d’ouverture du bac de collecte.
Ainsi, quand un filtre à air est monté dans le porte-filtre, il est nettoyé par percussion à chaque vidange du bac de collecte de la balayeuse.
Bien que le fonctionnement du dispositif de décolmatage soit correct, il faut cependant noter les inconvénients suivants :
Pendant le mouvement d'ouverture du bac de collecte qui provoque le frappement répété du percuteur sur le filtre à air, de la poussière se repend autour de la balayeuse. Cette poussière peut aussi pénétrer dans la chambre d'aspiration de la turbine. De la poussière se dépose également sur le joint d'étanchéité entre le filtre à air et le cadre porte-filtre. Le dispositif de décolmatage est assez compliqué à fabriquer, notamment par la présence, d'une crémaillère, d'un pignon.
Partant de ce constat, le demandeur a cherché à concevoir une balayeuse industrielle incluant un dispositif de décolmatage et qui puisse être plus simple et plus efficace.
A cet effet, est proposée une balayeuse industrielle conçue pour fonctionner par roulage sur un sol à nettoyer, en la poussant ou en la tractant, comprenant :
Les éléments conducteurs imprimés lors de cette troisième étape de dépôt définissent le deuxième niveau conducteur M2 du substrat de report.
Après la troisième étape de dépôt, on vient former, pour chaque pixel, sur des zones conductrices du niveau métallique M2, six plages métalliques P1, P2, P3, P4, P5 et P6 destinées à recevoir respectivement six plages de connexion 131 distinctes de la puce élémentaire 153 du pixel. Les plages P1, P2, P3, P4, P5 et P6 sont connectées respectivement aux pistes conductrices C1, C2, C3, L1, L2 et à l'électrode EL1 du pixel, par des éléments conducteurs formés dans le niveau métallique M2, et, éventuellement, par des vias V (ouverts entre les deuxième et troisième étapes de dépôt) et des éléments conducteurs formés dans le niveau métallique M1.
Les figures 3A à 3E sont des vues en coupe illustrant des étapes successives d'un exemple d'un procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage interactif selon un mode de réalisation.
Les figures 3A et 3B illustrent plus particulièrement une étape de transfert collectif de puces élémentaires de pixel 153 sur le substrat de report 200.
Les puces élémentaires 153 sont initialement fixées à une face du substrat de support temporaire 140. La structure comportant le substrat de support temporaire 140 et les puces élémentaires 153 est par exemple réalisée par un procédé du type décrit en relation avec les figures 1A à 1J. Dans l'exemple représenté, la structure est retournée par rapport à l'orientation de la , c'est-à-dire que les puces élémentaires 153 sont disposées du côté de la face inférieure du substrat de support temporaire 140.
Par soucis de simplification, sur les figures 3A à 3J, les puces élémentaires 153 et le substrat de report 200 ont été représentés de façon schématique, et de nombreux éléments ont été omis par rapport aux représentations des figures 1J et 2.
Les puces élémentaires 153 sont rapportées collectivement en vis-à-vis de la face de connexion du substrat de report 200, à savoir sa face supérieure dans l'orientation des figures 3A et 3B, en utilisant le substrat de support temporaire 140 comme poignée ( ).
Les bornes de connexion 131 de puces élémentaires 153, situées du côté de la face inférieure desdites puces, sont alors mises en contact avec les plages de connexion correspondantes P1, P2, P3, P4, P5, P6 du substrat de report 200, et fixées auxdites plages de connexion P1, P2, P3, P4, P5, P6. La fixation des bornes de connexion 131 des puces élémentaires 153 aux plages de connexion du substrat de report est par exemple réalisée par collage direct, par thermocompression, par brasure, au moyen de microstructures métalliques (par exemple des micro-piliers) préalablement formées sur les bornes 131, ou par toute autre méthode de fixation et de connexion adaptée.
Une fois fixées, par leurs bornes de connexion 131, au substrat de report 200, les puces élémentaires 153 sont détachées du substrat de support temporaire 140 et ce dernier est retiré ( ), libérant l'accès à la face d'émission des LED 123 (non détaillées sur les figures 3A à 3E).
Le pas des puces élémentaires 153 sur le substrat de report 200 peut être supérieur au pas des micropuces élémentaires 153 sur le substrat de support temporaire 140. De préférence, le pas des puces élémentaires 153 sur le substrat de report 200 est un multiple du pas des micropuces élémentaires 153 sur le substrat de support temporaire 140. Dans ce cas, seule une partie des puces 153 est prélevée sur le substrat de support 140 à chaque transfert, comme illustré sur les figures 3A et 3B. Les autres puces 153 restent solidaires du substrat de support temporaire 140 et peuvent être utilisées lors d'une autre étape de report collectif pour peupler une autre partie du substrat de report 200 ou un autre substrat de report.
La illustre le dispositif après fixation de l'ensemble des puces élémentaires 153 sur le substrat de report 200.
La illustre une étape ultérieure de dépôt, dans chaque pixel, d'une portion de couche organique photosensible 203, par exemple sensible dans l'infrarouge ou dans le proche infrarouge, sur et en contact avec la face supérieure de l'électrode EL1 du pixel. Les portions de couche 203 sont par exemple déposées par un procédé d'impression localisée, par exemple par sérigraphie ou par un procédé de revêtement par filière à fente ("slot-die coating" en anglais). Dans chaque pixel, la portion de couche organique 203 s'étend par exemple sur toute la surface supérieure de l'électrode EL1 du pixel.
La illustre une étape de dépôt, dans chaque pixel, d'une électrode supérieure EL2 sur et en contact avec la face supérieure de la portion de couche organique photosensible 203 du pixel. L'électrode EL2 s'étend par exemple sur toute la surface supérieure de la portion de couche organique photosensible 203 du pixel. L'électrode EL2 est transparente aux longueurs d'onde de sensibilité de la couche 203. A titre d'exemple, l'électrode EL2 est en un oxyde conducteur transparent, par exemple en ITO. Dans cet exemple, dans chaque pixel, l'empilement des couches EL1, 203 et EL2 forme un photodétecteur 211. Les électrodes EL1 et EL2 correspondent par exemple respectivement à l'électrode de cathode et à l'électrode d'anode du dispositif.
Les électrodes EL2 peuvent être déposées de façon localisée à travers un pochoir. A titre d'exemple, l'électrode supérieure EL2 est commune à tous les pixels du dispositif. L'électrode EL2 forme par exemple, en vue de dessus, une grille continue recouvrant les portions de couche photosensible 203 de tous les pixels du dispositif. L'électrode commune EL2 peut alors être connectée à un noeud d'application d'un potentiel de polarisation fixe VA en périphérie de la matrice de pixels.
Après le dépôt de l'électrode EL2, une couche isolante transparente de protection, non représentée, peut éventuellement être déposée sur toute la face supérieure de la structure par une méthode de dépôt conforme, afin notamment d'encapsuler la couche organique 203 et les LED des puces élémentaires 153 des pixels. La couche de protection est par exemple en alumine (Al 2 O 3 ) ou en oxyde de silicium.
La est un schéma électrique des circuits d'un exemple d'une puce élémentaire de pixel 153 d'un dispositif d'affichage interactif du type décrit ci-dessus.
17a - extrémité de vis
17b - extrémité libre de vis
18 - billes
19a - élément de guidage radial et/ou tangentiel
19b - élément de guidage radial et/ou tangentiel
20 - roulement
20a - bague externe
20b - ensemble cage - billes
20c - bague interne
21 - bague
ROBINET A ASSEMBLAGE SIMPLIFIE ET PROCEDE D’ASSEMBLAGE ASSOCIE La présente invention concerne le domaine des robinets, et porte en particulier sur un robinet à assemblage simplifié et sur un procédé d’assemblage associé.
Les robinets pour appareil sanitaire, tels que les robinets de lavabo, sont généralement constitués de plusieurs pièces telles qu’une enveloppe externe, un corps interne, un chapeau (comportant facultativement un détecteur de présence), un brise-jet ou aérateur, une clé de mélange (dans le cas d’un robinet mitigeur), etc. Les robinets existants comportent en outre plusieurs composants de fixation pour assembler les différentes pièces du robinet entre elles. Les robinets existants ont ainsi les inconvénients suivants : ils sont généralement compliqués à assembler, ils ne sont pas aisément démontables notamment pour effectuer des opérations de maintenance, et ils sont onéreux à fabriquer étant donné le nombre important de composants qu’ils possèdent.
La présente invention vise à résoudre les inconvénients de l’état antérieur de la technique, en proposant un robinet dont l’assemblage est simplifié par emboîtement des différentes pièces du robinet entre elles, ce qui permet de faciliter l’assemblage et l’installation du robinet, de faciliter le démontage du robinet notamment pour réaliser des opérations de maintenance (par exemple, pour changer une pile dans le cas d’un robinet à commande électronique, ou pour déboucher un filtre dans le robinet), et de réduire le coût du robinet.