Substrat revêtu d’un empilement de couches comprenant la succession des couches suivantes à partir de la surface dudit substrat : - une couche de carbone de type diamant DLC, - une couche à base de germanium ou à base d’oxyde de germanium présentant une épaisseur comprise entre 2 et 40 nm, de préférence entre 2 et 20 nm, ladite couche à base de germanium ou à base d’oxyde de germanium comprenant une quantité d’étain inférieure à 20%, et - éventuellement une couche barrière à l’oxygène. Substrat revêtu selon la revendication 1, caractérisé en ce que ladite couche à base de germanium ou à base d’oxyde de germanium est exempte d’étain. Substrat revêtu selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que l’empilement de couches ne comprend pas de couche à base d’Ag, Au, Cu et Ni. Substrat revêtu selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel la couche de carbone de type diamant DLC présente une épaisseur comprise entre 1 et 20 nm, de préférence entre 2 et 10 nm, et plus préférentiellement entre 3 et 8 nm. Substrat revêtu selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel la couche de carbone de type diamant DLC est formée par pulvérisation par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma PECVD. Substrat revêtu selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel la couche barrière à l’oxygène comprend au moins un matériau choisi dans le groupe constitué par le carbure de silicium, l'oxyde de silicium, le nitrure de silicium, l'oxynitrure de silicium, l'oxyde métallique, le nitrure métallique, le carbure métallique, ou un mélange de ceux-ci, de préférence le Si 3 N 4 et/ou le Si 3 N 4 dopé, et plus préférentiellement le Si 3 N 4 dopé par Al, Zr, Ti, Hf et/ou B. Substrat revêtu selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel la couche barrière à l’oxygène présente une épaisseur comprise entre 2 et 100 nm, de préférence entre 20 et 80 nm, et plus préférentiellement entre 30 et 80 nm. Substrat revêtu selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel l’empilement de couches comprend en outre au moins une couche barrière de diffusion ionique entre le substrat et la couche de carbone de type diamant DLC, ladite couche barrière de diffusion ionique étant de préférence essentiellement constituée de carbure de silicium, d'oxyde de silicium, de nitrure de silicium, d'oxynitrure de silicium, d'oxyde métallique, de nitrure métallique, de carbure métallique, ou d'un mélange de ceux-ci, et plus préférentiellement de Si 3 N 4 et/ou de Si 3 N 4 dopé, et encore plus préférentiellement de Si 3 N 4 dopé par Al, Zr, Ti, Hf et/ou B. Substrat revêtu selon la revendication 8, dans lequel la couche barrière de diffusion ionique présente une épaisseur comprise entre 1 et 100 nm, de préférence entre 5 et 50 nm. Substrat revêtu selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel le substrat est en céramique, en vitrocéramique, ou en verre, de préférence en verre. Substrat revêtu selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel la couche à base de germanium ou à base d’oxyde de germanium est essentiellement constituée de germanium ou d’oxyde de germanium. Substrat revêtu selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel la couche à base de germanium ou à base d’oxyde de germanium est formée par pulvérisation cathodique assistée par magnétron. Substrat selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel chacune desdites couches de l’empilement est au contact direct de la précédente. Substrat revêtu selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que l’empilement de couches est essentiellement constitué de ladite couche de carbone de type diamant DLC et de ladite couche à base de germanium ou à base d’oxyde de germanium, dans cet ordre, à partir de la surface dudit substrat. Procédé de fabrication d’un substrat traité thermiquement revêtu d’un empilement de couches comprenant au moins une couche de carbone de type diamant DLC caractérisé en ce qu’il comprend les étapes suivantes : - traitement thermique d’un substrat revêtu d’un empilement de couches selon l’une quelconque des revendications 1 à 14, de préférence à une température comprise entre 300°C et 800°C pour une durée comprise entre 1 min et 20 min à une pression de 1 atm, - élimination de la couche à base de germanium ou à base d’oxyde de germanium et de la couche barrière à l’oxygène éventuelle par un lavage à l’eau dudit substrat revêtu traité thermiquement. Procédé de fabrication d’un substrat selon la revendication 15 caractérisé en ce que le traitement thermique est choisi parmi les traitements de trempe, de recuit et de bombage.