INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Toutefois, la relation entre valeur d'intensité lumineuse et concentration d'endotoxines varie au cours du temps, en raison des cinétiques des réactions impliquées dans l'obtention de la fluorescence. La montre des exemples d'évolution temporelle des valeurs d'intensité en RFU, de l'anglais "Relative Fluorescence Unit" pour Unité de Fluorescence Relative pour des chambres de référence 6 associées aux concentrations d'endotoxines 5 EU/mL (courbe 30), 0,5 EU/mL (courbe 32), et 0,05 EU/mL (courbe 34), et 0 EU/mL (i.e. les chambres témoins 6a, courbe 36). La RFU est fonction de l'intensité (quantité de photons collectés par l'imageur 12) par rapport à une référence, la RFU augmentant avec l'intensité. Il est possible que les valeurs d'intensité lumineuse des chambres témoins 6a soient non nulles, et reflètent donc des fluctuations dues à des perturbations (faibles et donc non visibles sur la figure). Il est donc possible de soustraire les valeurs d'intensité lumineuse des chambres témoins 6a de celles associées aux différentes concentrations d'endotoxines. Les autres courbes 30, 32, 34 montrent clairement que les évolutions temporelles des valeurs d'intensité lumineuse, si elles sont toutes croissantes, présentent des cinétiques très différentes en fonction de leurs concentrations en endotoxines respectives. Une relation d'étalonnage liant valeur d'intensité lumineuse et concentration d'endotoxines n'est donc valable qu'à l'instant de mesure des données à partir desquelles cette relation est établie.
C'est donc afin de prendre en compte ces différences cinétiques qu'une relation d'étalonnage liant valeur d'intensité lumineuse et concentration est déterminée (S04) pour chacun instant d'une pluralité d'instants de mesure, à partir des valeurs d'intensité lumineuse des chambres de référence 6 à ces instants de mesure, pour pouvoir être exploitable pour les données de cet instant de mesure ou les instants de mesure qui suivent. Lors d'un instant de mesure, sont ainsi connues les valeurs d'intensité lumineuse pour chaque concentration d'endotoxine de référence (par exemple 5 EU/mL, 0,5 EU/mL, 0,05 EU/mL). Il est donc possible d'établir une telle relation, typiquement par approximation d'une fonction. Par exemple, une régression linéaire peut être utilisée, ou bien encore une interpolation. De préférence, la relation d'étalonnage lie plus précisément un logarithme de valeur d'intensité lumineuse et un logarithme de concentration d'endotoxines. Par exemple, la relation d'étalonnage peut lier le logarithme de valeur d'intensité lumineuse et le logarithme de concentration d'endotoxines en une fonction linéaire affine.
La montre trois droites 40, 42, 44 illustrant des fonctions affines reliant le logarithme des valeurs d'intensité lumineuse (axe y) au logarithme de la concentration C en endotoxines (axe x). Ces droites 40, 42, 44 ont été obtenues par régression linéaire pour trois instants de mesure (20 minutes, 30 minutes, 40 minutes) avec les valeurs connues de concentration d'endotoxines des chambres de référence 6 (C=5 EU/mL, C=0,5 EU/mL, et C=0,05 EU/mL). La première droite 40 (en pointillés) correspond à la relation à 20 minutes, la deuxième droite 42 (en trait plein) correspond à la relation à 30 minutes, et la troisième droite 44 (en tirets) correspond à la relation à 40 minutes. Dans cet exemple, l'approximation par régression linéaire fait que la relation d'étalonnage est de la forme ln(Val RFU )=a(t)×ln(c)+b(t), avec Val RFU la valeur d'intensité lumineuse, a(t) le coefficient directeur à l'instant t et b(t) une constante réelle à l'instant t. Par exemple, la première droite 40 (à t=20 minutes) a pour équation y=1,0176 x + 7,5409, pour un coefficient de détermination de 0,9998. Il apparaît ici clairement que la relation d'étalonnage n'est pas la même selon l'instant de mesure. On constate non seulement un décalage global vers des valeurs d'intensité lumineuse plus élevées au cours du temps (décalage de la constante b(t) au cours du temps), mais également une variation du coefficient directeur a(t) des droites.
Idéalement, une relation d'étalonnage liant la valeur d'intensité lumineuse et concentration d'endotoxines spécifique est déterminée à chaque instant de mesure, c'est-à-dire à chaque fois qu'une image du support d'analyse est acquise (étape S02). Il est toutefois possible de ne déterminer la relation d'étalonnage que pour certains instants de mesure de la durée de mesure, et pas pour d'autres instants de mesure de la durée de mesure. Par exemple, la relation d'étalonnage peut n'être déterminée que tous les deux ou trois instants de mesure, ou avec une fréquence variant avec l'avancement de la durée de mesure, et en particulier avec une fréquence plus élevée au début de la durée de mesure qu'à la fin de la durée de mesure. La détermination d'une relation d'étalonnage peut par exemple être effectuée au moins pour des instants de mesure au début de la durée de mesure, puis ne plus être effectuée si un critère de stabilité est rempli.
Par exemple, un tel critère de stabilité peut être une linéarité suffisante de la relation d'étalonnage (par exemple entre des logarithmes), typiquement en comparant un terme d'erreur de linéarisation avec un seuil. D'autres critères peuvent être utilisés, notamment en fonction du type de relation d'étalonnage, comme par exemple des limites pour des coefficients de corrélation ou d'autres paramètres.
Une relation d'étalonnage spécifique est déterminée pour au moins 3 instants de mesure, de préférence pour au moins 5 instants de mesure, et de préférence encore pour au moins 8 instants de mesure parmi les instants de la durée de mesure. Une relation d'étalonnage spécifique est déterminée au moins pour des instants de mesure répartis sur une durée d'au moins 3 minutes, de préférence d'au moins 5 minutes, et de préférence encore d'au moins 8 minutes. De préférence, une relation d'étalonnage spécifique est déterminée pour au moins le quart des instants de mesure, et de préférence pour au moins la moitié des instants de mesure.
Lorsqu'une relation d'étalonnage spécifique est déterminée à un instant de mesure, et en particulier lorsque ladite relation d'étalonnage a rempli un critère de stabilité prédéfini, il est possible d'utiliser cette même relation d'étalonnage pour d'autres instants de mesure subséquents. Dans tous les cas, une relation d'étalonnage est disponible pour chaque instant de mesure, qu'elle soit spécifiquement déterminée pour cet instant de mesure où qu'elle soit héritée d'une détermination en lien avec un instant de mesure précédent. Et tous les instants de mesure de la durée de mesure n'ont pas la même relation d'étalonnage.
Pour chaque instant de mesure, la relation d'étalonnage permet déterminer au moins une mesure de concentration d'endotoxines dans l'échantillon biologique à partir de la valeur d'intensité associée aux chambres d'analyse audit instant de mesure (étape S05). En effet, la relation d'étalonnage relie valeur d'intensité lumineuse et concentration d'endotoxines, de sorte qu'en mesurant une valeur d'intensité lumineuse, on retrouve une mesure de concentration d'endotoxines correspondant pour cet instant. Par exemple, en reprenant une relation d'étalonnage de la forme ln(Val RFU )=a(t)×ln(c)+b(t), celle-ci peut s'écrire:
et la concentration d'endotoxines c de l'échantillon recherchée à l'instant t est donc
Bien entendu, l'expression de la concentration d'endotoxines en fonction de la valeur d'intensité lumineuse dépend directement de l'expression de la relation d'étalonnage, et peut donc prendre une tout autre forme.
Cette détermination de la concentration d'endotoxines dans l'échantillon étant réalisée pour plusieurs instants de mesure au cours de la durée de la mesure, la concentration d'endotoxines est précisément connue à chacun de ces instants de mesure.
Il est alors possible de déterminer une évolution temporelle d'une mesure de concentration d'endotoxines dans l'échantillon biologique au cours de la durée de mesure (étape S06). La montre un exemple d'évolution temporelle de la mesure de concentration d'endotoxines dans l'échantillon (en Eu/mL), en fonction du temps (en minutes), obtenu en utilisant, pour chaque instant de mesure (représentés par des points), une relation d'étalonnage spécifique de cet instant de mesure. Il est notamment possible de constater une stabilisation de la concentration d'endotoxines au bout de 15 minutes. Plus précisément, les premières minutes correspondent à un régime transitoire dans lequel se produit des effets de re-suspension et d'homogénéisation des réactifs dans l'échantillon liquide présent dans les chambres d'analyse 2, tandis qu'ensuite s'organisent les réactions enzymes-substrat, aboutissant un régime stabilisé de ces réactions, se traduisant par la stabilisation constatée de la valeur mesurée de concentration d'endotoxines.
A titre de comparaison, la montre l'évolution temporelle des valeurs d'intensité lumineuse pour l'exemple de la . Plus précisément, la courbe de la illustre l'évolution temporelle, au cours de la durée de mesure, du logarithme de la moyenne de valeurs d'intensité lumineuse de sept chambres d'analyse 2 accueillant l'échantillon biologique. Contrairement à l'évolution temporelle de la mesure de concentration d'endotoxines de la , les valeurs d'intensité lumineuse présentent une croissance continue au cours du temps. Or, l'intensité de la fluorescence n'est pas directement représentative de la concentration d'endotoxines. C'est plutôt la cinétique respective d'augmentation d'intensité lumineuse qui est liée à la concentration d'endotoxines. La stabilisation de la valeur mesurée de concentration d'endotoxines est reflétée par la stabilisation de la pente sur la courbe de la , par rapport à la relation d'étalonnage.
Les seules valeurs des valeurs d'intensité lumineuse ne reflètent donc pas la stabilisation constatée au bout des 15 minutes. Seul le procédé proposé, avec une relation d'étalonnage évoluant avec les instants de mesure et donc le temps, permet de rendre compte de cette stabilisation.
L’utilisation de via permet de réaliser une piste conductrice sur plusieurs niveaux de routage. De plus, il est possible d’obtenir une piste conductrice ayant une forte densité d’interface de désadaptation acoustique puisqu’il est possible de réaliser deux interfaces par via.
Dans un mode de réalisation, le dispositif comporte une alternance de deux types de couche : une première couche d’un premier matériau diélectrique ayant un premier module de Young, dite couche molle, et une deuxième couche d’un deuxième matériau diélectrique ayant un deuxième module de Young supérieur au premier module de Young, dite couche dure, chaque niveau de routage étant réalisé dans une couche dure et chaque via étant réalisé, au moins en partie, dans une couche molle. De préférence, le premier matériau diélectrique est le SiO 2 et le deuxième matériau diélectrique est le SiN.
Comme mentionné précédemment, il est ainsi possible de confiner les phonons dans chaque section de la piste conductrice, limitant ainsi la fuite thermique par le substrat sur/dans lequel est formée la piste conductrice.
Dans un mode de réalisation, l’extrémité de chaque via s’étend dans une couche dure de sorte que l’interface entre chaque via et les deux niveaux de routage qu’il relie est formée dans une couche dure.
Dans un mode de réalisation, chaque via est réalisé entièrement dans une couche molle et s’étend sur toute l’épaisseur de ladite couche molle.
Dans un mode de réalisation, les matériaux supraconducteurs ont une température critique supérieure à 2K, de préférence supérieure à 4K.
Dans un mode de réalisation, les matériaux supraconducteurs formant les interfaces de désadaptation acoustique sont choisis de sorte que le ratio de la vitesse du son dans les matériaux respectifs est supérieur à 1.5, de préférence supérieur à 2. Un tel choix permet d’optimiser la qualité de l’interface de désadaptation acoustique, en réfléchissant de manière efficace les phonons de faible incidence.
Dans un mode de réalisation, chaque piste conductrice comprend au moins 100 interfaces de désadaptation acoustique, de préférence 1000 interfaces de désadaptation acoustique.
Un deuxième aspect de l’invention concerne un procédé de fabrication d’un dispositif électronique à partir d’un substrat, le procédé comprenant : une première étape de dépôt d’une couche d’un premier matériau supraconducteur sur le substrat ; une première étape de lithographie de la couche de premier matériau supraconducteur de sorte à définir des motifs sur ladite couche ; une première étape de gravure des motifs définis lors de la première étape de lithographie sur toute l’épaisseur de la couche de premier matériau supraconducteur ; une deuxième étape de dépôt d’une couche d’un deuxième matériau supraconducteur sur la couche de premier matériau supraconducteur et dans les motifs gravés lors de la première étape de gravure ; une deuxième étape de lithographie de la couche de deuxième matériau supraconducteur de sorte à définir des motifs sur la partie de la couche de deuxième matériau supraconducteur située sur la couche de premier matériau supraconducteur ; une deuxième étape de gravure des motifs définis lors de la deuxième étape de lithographie sur toute l’épaisseur de la couche de deuxième matériau supraconducteur de sorte à définir une pluralité de sections disposées les unes à la suite des autres pour former au moins une piste conductrice, deux sections successives étant dans un matériau supraconducteur différent et choisi parmi le premier matériau supraconducteur et le deuxième matériau supraconducteur de sorte à former une interface de désadaptation acoustique entre chaque section.
Outre les caractéristiques qui viennent d’être évoquées dans le paragraphe précédent, le procédé selon un deuxième aspect de l’invention peut présenter une ou plusieurs caractéristiques complémentaires parmi les suivantes, considérées individuellement ou selon toutes les combinaisons techniquement possibles.
Dans un mode de réalisation, le procédé comprend en outre, après la deuxième étape de gravure, une étape de dépôt d’une couche d’encapsulation.
Dans un mode de réalisation, le procédé comprend en outre, après la deuxième étape de gravure et avant l’étape de dépôt d’une couche d’encapsulation si cette étape est mise en œuvre, une étape de polissage mécano-chimique.
Un troisième aspect de l’invention concerne un procédé de fabrication d’un dispositif électronique à partir d’un substrat, le procédé comprenant : une première étape de dépôt d’une couche d’un premier matériau supraconducteur sur le substrat ; une première étape de lithographie de la couche de premier matériau supraconducteur de sorte à définir des motifs sur ladite couche ; une première étape de gravure des motifs définis lors de la première étape de lithographie sur toute l’épaisseur de la couche de premier matériau supraconducteur ; une deuxième étape de dépôt d’une couche de passivation sur la couche de premier matériau supraconducteur et sur le substrat encore exposé ; une deuxième étape de lithographie de la couche de passivation de sorte à définir des motifs sur ladite couche au-dessus de la couche de premier matériau supraconducteur ; une deuxième étape de gravure des motifs définis lors de la deuxième étape de lithographie sur toute l’épaisseur de la couche de passivation de sorte à exposer une partie de la couche d’un premier matériau supraconducteur ; une troisième étape de dépôt d’une couche d’un deuxième matériau supraconducteur différent du premier matériau supraconducteur sur la couche de passivation et dans les motifs gravés lors de la deuxième étape de gravure ; une étape de polissage mécano-chimique de sorte à ne conserver que la couche d’un deuxième matériau conducteur déposée dans les motifs gravés précédemment et ainsi former des vias dans le deuxième matériau supraconducteur ; une quatrième étape de dépôt d’une couche du premier matériau supraconducteur ; une troisième étape de lithographie de la couche de premier matériau supraconducteur de sorte à définir des motifs sur ladite couche ; une troisième étape de gravure des motifs définis lors de la troisième étape de lithographie sur toute l’épaisseur de la couche de premier matériau supraconducteur.
De plus, dans le procédé selon un troisième aspect de l’invention, le premier matériau supraconducteur et le deuxième matériau supraconducteur sont choisis de sorte à former, lorsqu’ils sont en contact l’un de l’autre, une interface de désadaptation acoustique.
Outre les caractéristiques qui viennent d’être évoquées dans le paragraphe précédent, le procédé selon un troisième aspect de l’invention peut présenter une ou plusieurs caractéristiques complémentaires parmi les suivantes, considérées individuellement ou selon toutes les combinaisons techniquement possibles.
Dans un mode de réalisation, les première, deuxième et troisième étapes de dépôt, les première et deuxième étapes de lithographie, les première et deuxième étapes de gravure et l’étape de polissage mécano chimique sont répétées une pluralité de fois de sorte à obtenir une pluralité de niveaux de routage dans le premier matériau supraconducteur connectés entre eux par des vias dans le deuxième matériau supraconducteur.
Bien entendu, ont été éliminés de cette base de données ou corrigées, toutes les informations inadéquates, non-représentatives ou erronées, notamment :
Les données provenant de patients ayant eu un suivi de moins de 15 jours entre le premier jour et le dernier jour de mesures valides. Les patients avec moins de 7 mesures valides sur 15 jours de suivi. Les mesures manquantes de poids d’une journée sont remplacées par les mesures précédentes. Les mesures manquantes des symptômes ou autres signes vitaux éventuels sont remplacées par des valeurs issues d’interpolations linéaires.
Afin de constituer les sous-modèles, le processeur 7 utilise des échantillons différents de plusieurs dizaines de patients pris dans le groupe total de patients.
Plus précisément, chaque sous-modèle est configuré pour déterminer un score de risque (entre 0 et 1) par :
extraction et priorisation de plusieurs caractéristiques statistiques obtenues à partir des données historiques de poids et des évènements de décompensation, et de leur fréquence de survenance, détermination d’au moins un niveau de seuil d’alerte pour chacune des caractéristiques statistiques, et définition d’un score de risque en se basant sur les fréquences de survenance des évènements de décompensation pour les caractéristiques statistiques considérées et les niveaux de seuil d’alerte ayant été déterminés.
Les caractéristiques statistiques obtenues à partir des données historiques de poids et des évènements de décompensation sont typiquement : déviation (en %), écart-type, variance, tendance, écart entre valeur minimale et maximale de poids sur plusieurs jours (2 à 5 jours), déviation moyenne absolue, coefficient d’aplatissement (kurtosis), symétrie, activité, mobilité et complexité.
Plus précisément, les caractéristiques statistiques sont telles que :
la déviation (en %) en poids correspond à :
Où : P est la déviation (en %) en poids, x(t) est le poids mesuré au jour t, j est le nombre de jours suivant le jour t pour le calcul de la déviation.
l'écart-type est calculé comme suit :
Où : Sigma est l’écart type, x(t) est le poids mesuré au jour t, mu est la moyenne des poids x(t) sur N jours.
la variance correspond à :
Où : Var est la variance, sigma est l’écart type.
la tendance correspond à :
Où : â est la tendance estimée, b^ est l'origine estimée, x(t) est le poids mesuré au jour t.
l’écart entre valeur minimale et maximale de poids sur plusieurs jours (2 à 5 jours) correspond à :
Quatrièmement, il est connu de procéder à l’évaluation du dépôt par technique de trempage (en anglais « dip-coating ») : cette méthode consiste à tremper un substrat, de type aiguille ou lamelle de verre, dans un grand volume de formule de mascara puis de le ressortir et de mesurer la quantité déposée. La seule sollicitation de la formule est donc le passage du substrat dans la formule.
Cependant, cette quatrième méthode comporte plusieurs inconvénients :
- le mouvement du substrat dans le volume de formule de mascara diffère de la gestuelle de maquillage des cils car il se compose d’un aller-retour : le substrat commence par rentrer dans la formule de mascara, ce qui provoque un déplacement, puis il en ressort. Dans le cas du maquillage des cils, une seule translation est effectuée.
- les lamelles de verre sont un modèle de substrat très éloigné des cils, notamment en ce qui concerne leur forme plate, leur rigidité, leur dimension ou leur chimie de surface.
- les aiguilles ont une forme plus proche des cils, cependant leur rigidité est largement supérieure à celle des cils.
Ainsi, aucune de ces quatre méthodes d’évaluation n’est donc satisfaisant.
Un but de l’invention est donc de fournir une méthode permettant de caractériser de manière satisfaisante les capacités d’enduction de compositions cosmétiques de mascara, dans des conditions proches de celles utilisées par les consommatrices.
À cet effet, l’invention a pour objet une méthode de caractérisation d’un paramètre représentatif d’une capacité d’enduction intrinsèque d’une composition cosmétique, la composition cosmétique étant destinée à être appliquée sur des fibres kératiniques d’un utilisateur,
la méthode comprenant les étapes suivantes :
- fourniture d’au moins une éprouvette, la ou chaque éprouvette comprenant un corps de base et un nombre prédéterminé de fibres fixées au corps de base ;
- fourniture d’un système robotisé d’application de la composition cosmétique, le système comprenant un réservoir de la composition cosmétique, un organe d’application de la composition, et au moins un bras mécanique motorisé portant l’organe d’application;
- pour la ou chaque éprouvette, application de la composition provenant du réservoir sur les fibres de l’éprouvette, l’application comprenant au moins un passage de l’organe d’application sur les fibres, au cours duquel le déplacement de l’organe d’application est mis en œuvre par le bras mécanique ;
- détermination d’une valeur du paramètre de capacité d’enduction intrinsèque, à partir de mesures effectuées sur la ou chaque éprouvette, après application ;
caractérisée en ce que l’organe d’application comprend une tige présentant un nombre prédéterminé de gorges, les fibres de la ou chaque éprouvette étant individuellement maintenues espacées les unes des autres sur toutes leurs longueurs respectives par le corps de base, de sorte qu’une seule fibre soit reçue par gorge de l’organe d’application lors de l’étape d’application.
La méthode selon l’invention peut comprendre l’une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prise(s) isolément ou suivant toute combinaison techniquement possible :
- chaque fibre fait saillie par rapport au corps de base, la longueur faisant saillie étant supérieure à 5 mm, et avantageusement inférieure à 15 mm ;
La composition cosmétique pour les cheveux peut être formulée de telle sorte que la viscosité augmente lorsque la composition cosmétique pour les cheveux est diluée avec de l’eau selon un rapport pondéral d’environ 1:0,5 à environ 1:10. Par exemple, la viscosité de la composition peut augmenter lorsqu’elle est diluée avec de l’eau à un rapport pondéral d’environ 1:0,75 à environ 1:1,5. Dans certains cas, la composition cosmétique pour les cheveux présente une fluidification par cisaillement non newtonienne. La composition cosmétique pour les cheveux peut être formulée pour être une émulsion eau dans l’huile.
La composition cosmétique pour les cheveux comprend de préférence un glycol choisi parmi éthylène glycol, propylène glycol, butylène glycol, hexylène glycol, pentylène glycol, diéthylène glycol, dipropylène glycol, 1,3 propanediol, éthylhexylglycérine, et un mélange de ceux-ci. Dans certains cas, le rapport pondéral du glycol sur la glycérine est d’environ 0,1:1 à environ 1,5:1.
Des tensioactifs non ioniques appropriés pour la composition cosmétique pour les cheveux comprennent distéarate de saccharose, isostéarate de polyglycéryle-4 (et) diméthicone cétyl PEG/PPG 10/1 (et) laurate d’hexyle, stéarate de sorbitan, octyldodécyl xyloside, stéarate de glycéryle, dipolyhydroxystéarate de PEG-30, ou un mélange de ceux-ci.