INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans ce cas, la ligne de transmission LT1 alimente en série les éléments rayonnants ERi avec des signaux de polarisation P1 horizontale.
Deux variantes de réalisation de ce dernier mode de réalisation sont illustrées sur les figures 8 et 9. Elles permettent à l'antenne A de fonctionner selon deux modes de polarisation différents.
La première variante de sous-réseau SR, illustrée sur la figure 8, diffère du sous-réseau de la figure 7 par l'utilisation de modules de commutation MCT sur les ramifications de la ligne de transmission LT1 et sur
la ligne de transmission LT2. Plus précisément, dans la configuration illustrée, les modules de commutation MCT (qui sont partout doublés pour permettre un fonctionnement dans les deux sens) sont placés dans une première position qui permet l'application de la loi de phase associée à la direction de pointage de l'antenne DPA. On collecte alors en parallèle les signaux présentant une première polarisation verticale P1 et on distribue en série des signaux sommés et déphasés devant être émis avec une seconde polarisation horizontale P2. En revanche, lorsque tous les modules de commutation MCT sont dans une seconde position, on peut appliquer la loi de phase associée à la direction de pointage de la source DPS. Cela permet d'adapter la polarisation à celle de la source S. Les signaux présentant une première polarisation horizontale sont alors collectés en série, tandis que l'on distribue en parallèle des signaux sommés et déphasés devant être émis avec une seconde polarisation verticale.
Comme on peut le voir sur la figure 8, les deux voies qui relient les entrées (ou sorties) des modules de commutation MCT aux ramifications Ri ou bien à la ligne de transmission LT2 ne présentent pas les mêmes configurations du fait qu'elles sont associées à des lois de phase différentes.
La seconde variante de sous-réseau SR, illustrée sur la figure 9, diffère du sous-réseau de la figure 7 par l'alimentation des pavés des éléments rayonnants ERi non plus sur leurs côtés, mais dans leurs coins, de manière à exciter simultanément les deux polarisations, et par l'utilisation de modules de commutation MCT dans les éléments rayonnants ERi afin de sélectionner l'une des deux polarisations excitées, tant en collection qu'en émission.
Il est important de noter que la double polarisation n'est pas obligatoirement de type linéaire. Elle peut en effet être de type circulaire. Dans ce cas, comme illustré sur la figure 10, les éléments rayonnants ERi peuvent être, par exemple, des résonateurs microruban tronqués selon leur diagonale ou des résonateurs microruban légèrement rectangulaires. Dans la variante de la figure 10 les commutateurs MCT permettant le fonctionnement en double polarisation n'ont pas été représentés. Mais, en réalité, ils sont placés à l'entrée et à la sortie des éléments rayonnants ERi, comme c'est le cas
dans le mode de réalisation de la figure 8.
Bien que cela n'ait pas encore été mentionné, la constitution de bandes de sous-réseaux SR suivant une direction choisie permet de faire varier la direction de pointage de l'antenne DPA, ou en d'autres termes de rendre l'antenne reconfigurable.
Une telle bande B est schématiquement illustrée sur la figure 11dans le cas de sous-réseaux SR linéaires. Dans ce cas, comme illustré, les sousréseaux SR d'une bande B sont placés les uns contre les autres parallèlement à leur direction d'extension (ici OX). L'antenne A est alors reconfigurable suivant la direction OY (ou élévation), c'est-à-dire dans le plan perpendiculaire à la direction OX.
Par ailleurs, comme illustré sur la figure 12, l'antenne A peut comporter plusieurs bandes B parallèles de sous-réseaux planaires afin qu'elle soit reconfigurable à la fois suivant la direction OY (ou élévation), c'est- à-dire dans le plan perpendiculaire à la direction OX, et suivant la direction OX, c'est-à-dire dans le plan perpendiculaire à la direction OY.
* RMN 1H (200 MHz, Acétone D6) : 2,22-2,25 (m, 2H) ; 3,25 (s, 9H) ; 3,60-3,75 (m, 2H) ; 4,15 (t, 2H, J = 6,0 Hz) ; 5,80 (dd, 1H, J1 = 1,92 Hz ; J2 = 10,68 Hz) ; 6,05 (dd, 1H, Ji = 17,2 ; J2 = 10,7) ; 6,15 (dd, 1H, J1 = 1,9 Hz ; J2 = 17,2 Hz) RMN 13C (50 MHz, Acétone D6): 29,17 ; 54,16 (t, J = 4,0) ; 65,16 ; 65,23 ; 121,05 (q, JCF = 374,2 Hz) ; 129,40 ; 132,15 ; 165,61 RMN 19F (282 MHz, Acétone D6) : - 79,8 Spectrométrie de masse (FAB) pour C9H18NO2 Masse Théorique calculée pour (C+) 172,1338 Masse Trouvée 172,1346
* 5e : Huile incolore Rdt = 77% RMN 1H (200 MHz, Acétone D6) : 1,7-1,9 (m, 2H) ; (m, 2H) ; 3,40 (s, 9H) ; 3,58-3,72 (m, 2H) ; 4,25 (t, 2H, J = 6,0 Hz) ; 5,80 (dd, 1H, J1 = 1,92 Hz ; J2 = 10,68 Hz) ; (dd, 1H, J1 = 17,2 ; J2 == 10,7) ; 6,15 (dd, 1H, Ji = 1,9 Hz ; J2 = 17,2 Hz) RMN 13C (50 MHz, Acétone D6) : 20,86 ; 26,44 ; 53,99 ; 64,52 ; 67,37 ; 122,19 (q, JCF = 374,2 Hz) ; 129,69 ; 131,83 ; 166,99 * 5f: Huile incolore Rdt = 77% RMN 1H (200 MHz, Acétone D6) : 1 (t, 9H, J = 7,2 Hz) ; 1,45-1,85 (m, 12H) ; 2,10-2,28 (m, 2H) ; 2,48-2,7 (m, 8H) ; 4,3 (t, 2H, J = 6,27 Hz) ; 5,58 (dd, 1H, J1 = 0,3 Hz ; J2 = 1,96 Hz) ; 6,18 (dd, 1H, J1 = 17,16 Hz ; J2 = 0,3 Hz) ; 6,4 (dd, 1H, J1 = 17,16 Hz ; J2 = 1,97 Hz) RMN 13C (50 MHz, Acétone D6) : 13,09 ; 15,10 ; 16,09 ; 17,84 ; 18,80 ; 21,15 ; 21,22 ; 23,38 ; 23,47 ; 23,86 ; 24,18 ; 63,77 ; 64,11 ; 121,05 (q, JCF = 374,2 Hz); 128,63 ; 131,12; 165,74 * 5g : Huile incolore Rdt = 80% RMN 1H (200 MHz, Acétone D6) : 2,15-2,27 (m, 2H) ; 3,8 (t, J = 6,1 Hz, 2H) ; 4,96 (t, J= 6,8 Hz, 2H) ; (dd, 1H, JI = 0,5 Hz ; J2 = 2 Hz) ; 6,18 (dd, 1H, J1 = 17,2 Hz ; J2 = 0,3 Hz) ; (dd, 1H, J1 = 17,2 Hz ; J2 = 2 Hz) ; 8,1 (t, J = 7 Hz, 2H) ; (t, J = 9,8 Hz, 1H) ; 8,98 (d, J = 6,2 Hz, 2H) RMN 13C (50 MHz, Acétone D6) : 30,39 ; 59,98 ; 61,42 ; 121,05 (q, JCF = 374,2 Hz) ; 128,75 ; 128,98 ; 131,38 ; 145,48 ; 146,50 ; 165,78 * 5h: Huile incolore Rdt = 85 % RMN 1H (200 MHz, Acétone D6) : 2,3-2,5 (m, 2H ) ; 4,15 (s, 3H) ; 4,28 (t, 2H, J = 6,03 Hz) ; 4,63 (t, 2H, J = 6,99 Hz) ; (dd, 1H, JI = 1,92 ; J2 = 10,68 ) ; 6,18 (dd, 1H, J1 = 17,2 Hz ; J2 = 10,7 Hz) ; 6,4 (dd, 1H, J1 = 1,9 Hz ; J2 = 17,2 Hz) ; 7,8 (t apparent, 1H, J = 1,70 Hz) ; (t apparent, 1H, J = 1,82 Hz) ; 9,2 (s, 1H)
RMN 13C (50 MHz, Acétone D6) : 29,32 ; 36,17 ; 47,38 ; 61,36 ; 121,05 (q, JCF = 374,2 Hz) ; 122,97; 124,30 ; 128,44 ;131,31 ; 136,948 ;166,07 2/ Esters 4-iodobenzoïques 6 : 0 6 -N/ Jn O I 6a X = 6b X = NTf2 6c X = PF6 6d X = BF4 6e X = OTf * 6a: A une solution de 4g (10,96 mmole) de para-iodobenzoate de 3-diméthyl- aminopropyle dans 10 ml d'acétonitrile, on ajoute goutte à goutte à 0 C 1,1 ml (13,15 mmole) d'iodure de méthyle. Le solide blanc ainsi formé est filtré puis lavé par 3 x 10 ml d'éther.
Solide blanc Rdt = 99% Pf = 248-250 C RMN1H (200 MHz, Acétone D6) : 1,9-2,05 (m, 4H) ; 3,20 (s, 9H) ; 3,42-3,55 (m, 2H) ; 4,45 (t, 2H, J = 6,05 Hz) ; (d, 2H, J = 8,73 Hz) ; (d, 2H, J1 = 8,76 Hz) RMN13C (50 MHz, Acétone D6) : 19,89 ; 25,45 ; 53,37 (t, JC-N = 4,1 Hz) ; 65,13 ; 66,42 ; 101,57 ; 131,19 ; 131,45 ; 138,38 ; 166,78 Spectrométrie de masse (FAB) pour C28H42N204I3 Masse Théorique calculée pour (2C+, I-)+ 851,03 Masse Trouvée 851,10
* 6b : A une solution de 1 g (2,04 mmol) de 6a dans 30 ml du mélange eau/acétone, on ajoute 2,65 mmol de LiNTf2 en solution dans l'eau. Après 2 heures d'agitation à température ambiante, on évapore le solvant et on extrait le sel par 3 x 10 ml de chlorure de méthylène. Après évaporation de ce dernier, on obtient un solide blanc.
Solide blanc Rdt = 90% Tf = 48-50 C RMN IH (200 MHz, Acétone D6) : 1,82-2 (m, 2H) ; 2,1-2,22 (m, 2H) ; 3,38 (s, 9H) ; 3,6-3,72 (m, 2H) ; (t, 2H, J = 6,24 Hz) ; (d, 2H, J = 8,73 Hz) ; (d, 2H, J1 = 8,36 Hz) RMN 13C (50 MHz, Acétone D6) : 26,66 ; 29,12 ; 54,12 (t, JC-N = 4,1 Hz) ; 65,28 ; 67,40 ; 101,59 ; 121,17 (q, JC-F = 320,9 Hz) ; 132,28 ; 166,74 Spectrométrie de masse (FAB) pour C30H42N308F612S2 Masse Théorique calculée pour (2C+, NTf2)+ 1004,0407 Masse Trouvée 1004,0427 * 6c: A une solution de 1 g (2,04 mmol) de l'ammonium 6a dans 30 ml du mélange eau/acétone on ajoute 2,65 mmol de HPf6 en solution (60%) dans l'eau. Après 2h d'agitation à température ambiante le solvant est évaporé et le solide obtenu est lavé à l'éther (3 x 10ml).
Solide blanc Rdt = 96% Tf = 204-206 C RMN IH (200 MHz, Acétone D6) : 2,05-2,2 (m, 2H) ; (m, 2H) ; (s, 9H) ; 3,8-3,97 (m, 2H) ; (t, 2H, J = 6,3 Hz) ; 8 (d, 2H, J = 8,58 Hz) ; (d, 2H, JI = 8,58 Hz ) RMN 13C (50 MHz, Acétone D6) : 20,97 ; 26,65 ; 54,06 (t ; J = 4,03 Hz) ; 65,31 ; 67,4 (t ; J = 3,17 Hz) ; 101,57 ; 131,19 ; 132,32 ; 139,23 ; 166,75 Spectrométrie de masse (FAB) pour C28H42N2O4F6I2P Masse Théorique calculée pour (2C+, PF6-)+ 869,0876 Masse Trouvée 869,0879
* 6d : A une solution de 1 g (2,04 mmol) de 6a dans 3 ml d'eau on ajoute 2,65 mmol de HBF4 en solution dans l'eau à 40 %. Après l'ajout de ce dernier, on observe la formation d'un solide blanc. Le mélange réactionnel est laissé agité deux heures à température ambiante. Le solide blanc obtenu après filtration est lavé par l'eau (pour éliminer l'excès de HBF4) puis deux fois par 30 ml d'éther et enfin séché sous vide.
Solide blanc Rdt = 86% Tf = 184-186 C RMN 1H (200 MHz, Acétone D6) : 1,90-2,00 (m, 2H) ; 2,15-2,28 (m, 2H) ; 3,4 (s, 9H) ; 3,65-3,80 (m, 2H) ; 4,42 (t, 2H, J = 6,3 Hz) ; 7,85 (d, 2H, J = 8,58 Hz) ; 8,15 (d, 2H, J1 = 8,58 Hz) RMN 13C (50 MHz, Acétone D6) : 20,96 ; 26,62 ; 53,97 (t ; J = 4,03 Hz) ; 65,34 ; 101,53 ; 131,22 ; 132,34 ; 139,23 ; 166,73 Spectrométrie de masse (FAB) pour C28H42N2O4F4I2B Masse Théorique calculée pour (2C+, BF4-)+ 811,1263 Masse Trouvée 811,1259 * 6e : A une solution de 1 g (10,96 mmol) de para-iodobenzoate de 3-diméthylamino- propyle dans 10 ml d'acétonitrile, on ajoute goutte à goutte à 0 C 1,lml (13,15 mmol) de triflate de méthyle. Le solide blanc ainsi formé est filtré puis lavé par 3 x 10 ml d'éther.
Solide blanc Rdt= 96% Pf = 176-178 C RMN IH (200 MHz, CD3CN) : 1,8-2,1 (m, 4H) ; 3,06 (s, 9H) ; 3,35-3,45(m, 2H) ; 4,4 (t, 2H, J = 6,05 Hz) ; 7,85 (d, 2H, J = 8,58 Hz) ; 8 (d, 2H, J1 = 8,58 Hz) RMN 13C (50 MHz, CD3CN) : 19,16 ; 24,66 ; 52,50 (t ; J = 4,03 Hz) ; 63,66 ; 65,62 (t ; J = 3,17 Hz) ; 99,89 ; 121,17 (q, JC-F = 320,9 Hz) ; 129,58 ; 130,59 ; 137,57 ; 165,39 Spectrométrie de masse (FAB) pour C29H42N207F3I2S Masse Théorique calculée pour (2C+, OTf)+ 873,1 Masse Trouvée 873,1
3/ Esters 4-bromobenzoïques 7 : 0 Dans un ballon de 250 ml on introduit 2 g (13,1 mmol) de chlorure de N,N',N"- triméthyl-3-hydroxypropylammonium, 25 ml d'acétonitrile, 20 g de K2C03 en poudre et 4 g (17,5 mmol) du chlorure d'acide du 4-bromobenzoïque. Après une nuit d'agitation à température ambiante, on filtre et on lave K2C03 par 3 fois 15 ml de chlorure de méthylène et enfin on évapore à sec. On reprend à l'eau et on élimine l'excès de l'acide 4-bromobenzoïque qui cristallise par filtration. Le produit est ensuite cristallisé dans l'acétone après évaporation d'eau.
Solide blanc Rdt = 60% Pf = 164-166 C RMN2H(200MHz, Dz4) : 2,21-2,34 (m, 2H) ; 3,12 (s, 9H) ; 3,30-3,58 (m, 2H) ; 4,35 (t, 2H, J = 6,8 Hz) ; 7,57 (d, 2H, J = 7,4 Hz) ; 7,80 (d, 2H, JI = 7,4 Hz) RMN r3C (50 MHz, Dz4) : 22,55 ; 30,61 ; 53,34 (t, Jc-N = 4,2 Hz) ; 62,69 ; 64,41 (t, Jc-N = 4,09 Hz) ; 128,34 ; 128,66 ; 131,37 ; 132,20 ; 167,84 Spectrométrie de masse (FAB) pour C13H19NO2Br Masse Théorique calculée pour (C+) 300,0599 Masse Trouvée 302,0607 * 7b: Dans ce cas, la synthèse de substrat a été envisagée selon deux approches :par estérification directe du bis-trifluorométhanesulfonamidure de N,N,N-trimethyl-3- hydroxypropylammonium ou par métathèse à partir du chlorure correspondant.
Estérification : Dans un ballon de 250 ml, on introduit 4 g (10,5 mmol) de l'alcool, 20 ml d'acétonitrile, 2 ml d'une solution saturée de Na2C03 dans l'eau et 4 g (17,5 mmol) de chlorure de l'acide 4-bromobenzoïque. Le mélange réactionnel est chauffé à 60 C durant une nuit. On évapore ensuite à sec, et on solubilise le résidu obtenu dans le chlorure de méthylène. On lave cette solution successivement par 2 x 20ml d'eau, 2 x 20 ml d'une solution de soude (1 N) et enfin par 2 x 20ml d'eau. On sèche la solution sur le sulfate de magnésium et on évapore à sec le solvant. On reprend dans l'acétone et on élimine les traces d'acides qui restent par précipitation à 4 C. Après évaporation de ce dernier, on obtient un solide blanc pur.
Rdt = 90 %.
Métathèse Dans un ballon de 100 ml on solubilise 1 g (2,98 mmol) de 1b dans 5 ml d'eau. A cette solution on ajoute 1,1 g (3,19 mmol) de bis-trifluorométhanesulfonamidure de lithium (LiNTf2) en solution dans 3 ml d'eau. Le mélange réactionnel est agité 2 heures à température ambiante avant d'extraire notre produit par 20 ml de chlorure de méthylène. Après évaporation de ce dernier, on obtient un solide blanc qui est séché sous vide.
Solide blanc Rdt = 90% Tf = 86-88 C RMN 1H (200 MHz, Acétone D6) : 2,64-2,83 (m, 2H) ; 3,59 (s, 9H) ; 3,96-4,06(m, 2H) ; 4,71 (t, 2H, J = 6,76 Hz) ; (d, 2H, J = 8,9 Hz) ; (d, 2H, J = 8,9 Hz) RMN 13C (50 MHz, Acétone D6) : 23,96 ; 54,24 (t, JC-N = 4,2 Hz) ; 63,09 ; 65,35 (t, JC-N = 4,0 Hz) ; 121,46 (q, JC-F = 322,0 Hz) ; 128,95 ; 130,42 ; 132,58 ; 133,12 ; 166,34 Spectrométrie de masse (FAB) pour C28H38F6N3O8S2Br2 Masse Théorique calculée pour (2C+, NTf2-) 880,0371 Masse Trouvée 880,0375 * 7c : A une solution de 1 g (2,98 mmol) de lb dans 3 ml d'eau on ajoute 0,5 ml (5,7 mmol) de HPF6 à 60% dans l'eau. Le mélange réactionnel est laissé agité deux heures à température ambiante pour que l'échange soit total. Le solide blanc obtenu après filtration est lavé à l'eau puis deux fois par 30 ml d'éther et enfin séché sous vide.
Ensuite, le masque 103 est ôté de la couche de résine photosensible 101. Puis, la couche de résine photosensible 101 est développée par exemple à l'aide d'une base forte. Après développement, on obtient des motifs de résine 200 à flancs inclinés 201 (figure 2B).
Les flancs inclinés 201 des motifs 200 forment un angle # avec une normale n au plan principal du substrat 100, environ égal à l'angle résultant d'insolation R2.
Avec ce procédé de réalisation de motifs de résine 200 à flancs inclinés 201, l'angle # des flancs 201 des motifs 200 est fortement limité. En effet, lors de l'étape d'insolation, le faisceau de rayons lumineux 102 traverse tout d'abord inévitablement une couche d'air d'indice No, puis un masque d'indice Ni environ égal à 1,45 par exemple pour un masque en
silice, puis une couche de résine photosensible 101 d'indice de réfraction environ égal à 1,6 (1,67 pour une couche de résine 101 de type SU-8). L'importante différence d'indice de réfraction entre la couche d'air et le masque 103 et la différence d'indice de réfraction entre le masque 103 et la couche de résine photosensible 101, entraînent un écart important entre l'angle d'incidence #1 sur le masque 103 et l'angle résultant d'insolation #2. Même lorsqu'on insole la couche de résine photosensible 101 avec un angle d'incidence #1 sur le masque 103 élevé, l'angle résultant d'insolation #2 reste faible. Par ailleurs, à partir d'une certaine valeur de #1, on se heurte en plus à des problèmes de réflexion du faisceau 102 sur le masque 103.
Après développement de la couche de résine photosensible 101, l'angle # des flancs 201 de motifs 200 (environ égal à #2) que réalisent les flancs inclinés 201 des motifs de résine 200 avec la normale n est donc lui aussi limité.
La limitation de l'angle # des motifs de résine 200, est très pénalisante. Elle empêche de pouvoir fabriquer de nombreuses micro-structures. La réalisation par exemple de micro-prismes à angles de 45 est impossible avec un tel procédé.
En plus de la limitation de l'angle # des motifs de résine 200, d'autres problèmes apparaissent avec le procédé illustré à la figure 2A. Tout d'abord celui des réflexions de Fresnel entre le masque 103 et la couche de résine photosensible 101. Les réflexions
de Fresnel sont dues à une fine couche d'air se trouvant inévitablement entre le masque 103 et la couche de résine photosensible 101. Elles peuvent entraîner notamment une mauvaise définition des motifs de résine 200 après l'étape de développement de la couche de résine photosensible.
Une solution permettant de diminuer les réflexions de Fresnel est décrite dans le document [ 1] référencé à la fin de la présente description.
Lors de l'étape d'insolation illustrée par la figure 3A, on incline tout d'abord d'un angle a, un substrat 100 recouvert d'une couche de résine photosensible 101, sous un faisceau de rayons lumineux 102 ultra-violet de direction principale #1 à l'aide d'un plateau 300 inclinable sur lequel repose le substrat 100. La couche de résine photosensible 101 est insolée au travers de deux masques 301,302 intégrés directement à la couche de résine photosensible 101. La couche de résine photosensible est composée d'une souscouche de base 303a d'indice de réfraction N2 qui repose sur le substrat 100 et d'une sous couche intermédiaire 303b située au dessus de la sous-couche de base 303a et d'indice de réfraction N1 égal à N2. Les masques 301,302 sont composés chacun d'une couche métallique en titane ou en aluminium séparées entre elles par la sous-couche de résine photosensible intermédiaire 303b. Le masque 301 comprend des ouvertures 304. Le masque 302 comprend des ouvertures 305 identiques mais décalées latéralement légèrement par rapport aux ouvertures 304. La direction principale #1 du faisceau 102 réalise un angle d'incidence #1 sur
le masque 301 avec une normale n au plan principal du substrat 100 égal à l'angle d'inclinaison a, avant de pénétrer à travers la couche de résine photosensible 101. Lorsque le faisceau 102 traverse la couche de résine photosensible 101, il est réfracté et sa direction principale #1 réalise un angle résultant d'insolation #2 avec la normale n au plan principal du substrat 100. La couche de résine photosensible 101 est donc exposée selon un angle résultant d'insolation #2.
Dans cet exemple, les masques 301,302 étant intégrés à la couche de résine photosensible 101, les réflexions parasites, par exemple de type réflexions de Fresnel, sont supprimées puisqu'il n'y a plus de couche d'air entre masque et résine.
Le fait d'intégrer les masques 302,303 directement à la couche de résine photosensible 101 permet donc d'obtenir des motifs de meilleure résolution qu'avec l'exemple de procédé décrit par la figure 2A.
Le procédé de réalisation de motifs à flancs inclinés illustré par la figure 3A présente encore plusieurs inconvénients.
Tout d'abord, le mode de réalisation des masques 302,303 implique que ce procédé n'est valable que pour réaliser des motifs simples et de taille relativement élevés (de l'ordre de la dizaine de micromètres), d'autre part il nécessite des étapes supplémentaires de photolithographie pour réaliser les masques 302,303 intégrés à la couche de résine 101 par rapport à celui illustré à la figure 2A.
De plus, la technique de réalisation de motifs à flancs inclinés par photolithographie illustrée par la figure 3A présente en toujours l'inconvénient que l'angle d'inclinaison # des flancs inclinés des motifs de résine reste limité.
(9) Les cyclopolymères d'alkyl diallyl amine ou de dialkyl diallyl ammonium tels que les homopolymères ou copolymères comportant comme constituant principal de la chaîne des motifs répondant aux formules (X) ou (XI) : formules dans lesquelles k et t sont égaux à 0 ou 1, la somme k + t étant égale à 1 ; R9 désigne un atome d'hydrogène ou un radical méthyle ; R7 et Rg, indépendamment l'un de l'autre, désignent un groupement alkyle ayant de 1 à 6 atomes de carbone, un groupement hydroxyalkyle dans lequel le groupement alkyle a de préférence 1 à 5 atomes de carbone, un groupement amidoalkyle inférieur (C1-C4), ou R7
(10) Le polymère de diammonium quaternaire contenant des motifs récurrents répondant à la formule : formule (XII) dans laquelle : Rio, R11, R12 et R13, identiques ou différents, représentent des radicaux aliphatiques, alicycliques, ou arylaliphatiques contenant de 1 à 20 atomes de carbone ou des radicaux hydroxyalkylaliphatiques inférieurs, ou bien Rio, R11, R12 et R13, ensemble ou séparément, constituent avec les atomes d'azote auxquels ils sont rattachés des hétérocycles contenant éventuellement un second hétéroatome autre que
l'azote ou bien R10, Ru, R12 et R13 représentent un radical alkyle en CiC6 linéaire ou ramifié substitué par un groupement nitrile, ester, acyle, amide ou -CO-O- R14-D ou-CO-NH- R14-D où R14 est un alkylène et D un groupement ammonium quaternaire ; A1 et B1 représentent des groupements polyméthyléniques contenant de 2 à 20 atomes de carbone pouvant être linéaires ou ramifiés, saturés ou insaturés, et pouvant contenir, liés à ou intercalés dans la chaîne principale, un ou plusieurs cycles aromatiques, ou un ou plusieurs atomes d'oxygène, de soufre ou des groupements sulfoxyde, sulfone, disulfure, amino, alkylamino, hydroxyle, ammonium quaternaire, uréido, amide ou ester, et X- désigne un anion dérivé d'un acide minéral ou organique; Al, Rio et R12 peuvent former avec les deux atomes d'azote auxquels ils sont rattachés un cycle pipérazinique ; en outre si A1 désigne un radical alkylène ou hydroxyalkylène linéaire ou ramifié, saturé ou insaturé, BI peut également désigner un groupement -(CH2)nCO-D-OC-(CH2)n- dans lequel D désigne : a) un reste de glycol de formule : -O-Z-O-, où Z désigne un radical hydrocarboné linéaire ou ramifié ou un groupement répondant à l'une des formules suivantes : - (CH2-CH2-O)x-CH2-CH2- -[CH2-CH(CH3)-O]y-CH2-CH(CH3)- où x et y désignent un nombre entier de 1 à 4, représentant un degré de polymérisation défini et unique ou un nombre quelconque de 1 à 4 représentant un degré de polymérisation moyen ; b) un reste de diamine bis-secondaire tel qu'un dérivé de pipérazine ; c) un reste de diamine bis-primaire de formule : -NH-Y-NH-, où Y désigne un radical hydrocarboné linéaire ou ramifié, ou bien le radical bivalent
(14) Les polymères réticulés de sels de méthacryloyloxyalkyl(Cl-C4) trialkyl(C1-C4)ammonium tels que les polymères obtenus par homopolymérisation du diméthylaminoéthylméthacrylate quaternisé par le chlorure de méthyle, ou par copolymérisation de l'acrylamide avec le diméthylaminoéthyl-
Par groupe carboxyalkyle, on entend, dans ce qui précède et ce qui suit, un groupe alkyle tel que défini précédemment comportant en extrémité un groupe C02H, tel que le groupe carboxyméthyle -CH2-CO2H, le groupe carboxyéthyle -(CH2)2-CO2H.
Selon l'invention, R3 représente un groupe alkyle, un groupe alcényle tels que définis précédemment, ou un groupe cyclique comportant de 5 à 100 atomes de carbone, aromatique ou non, comportant éventuellement un ou plusieurs hétéroatomes et une ou plusieurs insaturations, ledit groupe cyclique pouvant être substitué(s). Lorsque R3 représente un groupe cyclique, il correspond, de préférence, à un groupe aryle comportant de 6 à 18 atomes de carbone, éventuellement substitué par un ou plusieurs substituants choisis parmi les groupes hydroxyle, cyano, halogène, amino, alcoxy ou alkyle comportant de 1 à 4 atomes de carbone.
A titre d'exemple, R3 peut représenter un groupe phényle éventuellement substitué.
Selon l'invention, R6 représente un groupe mono- ou polycyclique comportant de 5 à 100 atomes de carbone et éventuellement un ou plusieurs hétéroatomes et une ou plusieurs insaturations, ledit groupe monoou polycyclique pouvant être substitué. De préférence, R6 représente un groupe aryle comportant de 6 à 18 atomes de carbone, éventuellement substitué par un ou plusieurs substituants choisis parmi les groupes hydroxyle, cyano, halogène, amino, alcoxy ou alkyle comportant de 1 à 4 atomes de carbone. A titre d'exemple, R6 peut représenter un groupe phénol éventuellement substitué ou un groupe aniline, en particulier un groupe aniline éventuellement substitué sur l'atome d'azote et/ou sur le noyau benzénique.
Lorsque le groupe phénol est substitué, il peut l'être, par exemple, par un ou plusieurs groupes choisis parmi les groupes cyano, halogène, amino, aryle, alcoxy ou alkyle comportant de 1 à 4 atomes de carbone.