INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Le premier inconvénient est celui du bruit, la haute vitesse de la fraise tournante entraînant en ef- fet l'émission de bruits et de sifflements très aigus qui sont particulièrement pénibles pour le personnel environnant, lequel porte en général des casques de protection sonore, excluant de facto la présence sur le site d'autres personnes en raison de la gêne occasion- née.
Le deuxième inconvénient réside dans la génération de poussières relativement fines résultant des passes de fraisage, et l'évacuation de telles poussières pose des problèmes pratiques inhérents à la fois à la taille des particules, mais aussi à la charge électrostatique desdites particules qui collent plus ou moins aux équipements environnants, et en particulier au bras articulé du robot de fraisage. Ces poussières sont donc difficiles à évacuer, et il est en particulier exclu d'imaginer utiliser des techniques d'aspiration que l'on rencontre traditionnellement dans les installations de sciage du bois, avec une aspiration qui est nécessairement latérale du fait de la présence de l'arbre de sortie coaxial du moteur d'entraînement.
Enfin, outre les deux inconvénients majeurs précités, il convient de noter que le dispositif d'usinage équipant le robot de fraisage utilise un moteur d'entraînement adapté aux conditions de vitesses deman-dées, et par suite reste un composant à la fois onéreux et fragile. Enfin, une telle motorisation implique également la consommation d'une puissance électrique non négligeable pour l'installation.
OBJET DE L'INVENTION La présente invention vise à concevoir un dispositif d'usinage permettant de réaliser aisément des pièces mécaniques tridimensionnelles, sans présenter les inconvénients précités, en particulier évitant la créa- tion de bruits aigus et la génération de poussières d'usinage particulièrement collantes.
L'invention a également pour but de concevoir un dispositif d'usinage convenant tout particulièrement au travail de pièces mécaniques massives en polystyrène, notamment pour réaliser des modèles tridimensionnels de composants de véhicules automobiles.
DEFINITION GENERALE DE L'INVENTION Le problème précité est résolu conformément à l'invention grâce à un dispositif d'usinage de pièces mécaniques au moyen d'un outil cylindrique creux pré-sentant une extrémité distale dont le bord libre est conformé pour réaliser un usinage lorsque ledit outil est entraîné en rotation autour de son axe, caractérisé en ce que l'outil cylindrique creux est fixé axialement en bout d'une extrémité distale d'une broche cylindrique creuse, ladite broche cylindrique creuse étant montée pour tourner autour de son axe sur une platine de support, en étant attaquée extérieurement par des moyens motorisés d'entraînement en rotation montés sur ladite platine de support, et ladite broche cylindrique creuse ayant une extrémité proximale qui est en regard et au voisinage direct d'un embout cylindrique creux fixé sur ladite platine de support et relié à une tubu- lure d'aspiration, de sorte que les copeaux d'usinage peuvent être évacués intérieurement en passant successivement dans l'outil cylindrique creux, la broche cylindrique creuse, l'embout cylindrique creux et la tu- bulure d'aspiration.
Ainsi, grâce à un tel agencement, on peut réaliser un usinage de pièces tridimensionnelles, en particulier des pièces massives en polystyrène, avec une génération de déchets qui ne sont plus constitués par des particu- les de poussières fines, mais par des copeaux dont le dimensionnement est de l'ordre de celui d'un petit pois. Ces gros copeaux sont alors facilement évacués par la conduite formée par l'outil, la broche, l'embout, et la tubulure d'aspiration. On parvient alors à un résultat tout à fait spectaculaire d'évacuation des copeaux d'usinage, avec une absence quasi totale de copeaux dans l'environnement extérieur du dispositif d'usinage. En outre, la présence de copeaux qui sont dimensionnellement beaucoup plus gros que les poussières émises avec les techniques d'usinage traditionnelles, permet de diminuer considérablement les effets néfastes dus à l'électricité statique des particules de polystyrène.
Avantageusement, l'outil cylindrique creux, la broche cylindrique creuse, l'embout cylindrique creux et la tubulure d'aspiration présentent sensiblement un même diamètre intérieur, de façon à former un conduit d'évacuation essentiellement continu pour les copeaux d'usinage. La continuité du conduit d'évacuation ainsi formé permet une aspiration régulière de la totalité de copeaux d'usinage générés lors de l'usinage, et ce sans requérir une puissance d'alimentation électrique importante pour les moyens d'entraînement motorisés.
où les symboles ont la signification indiquée pour les formules (XI) et (XII) et R8 représente un groupe NYY1, -0(RO)xH ou -O(R40)x-C(O)-CHR-CHR'- C (O)NYY1.
' de formule (XIV), décrits dans WO 96/25384 : où les symboles ont la signification indiquée pour les formules (XI) à (XIII) et t représente un nombre entier allant de 1 à 100, de préférence de 1 à 4.
Parmi les agents tensioactifs dimères ci-dessus, on préfère en particulier les tensioactifs anioniques, et en particulier ceux correspondant à la formule (I) cidessus. Dans cette famille d'agent tensioactifs, on préfère en particulier ceux dans lesquels R1 et R3 sont identiques et représentent chacun un groupe alkyle linéaire en C8-16, R2 représente un groupe alkylène en C2-8, X et Y représentent chacun un groupe -(C2H4O)x-RF avec x = 10 - 15 et RF = -S03M, où M est un atome de métal alcalin.
Un agent tensioactif géminé préféré de cette famille est un composé anionique de formule :
nom INCI : sodium dicocoylethylenediamine PEG-15 sulfate.
On peut utiliser par exemple cet agent tensioactif géminé commercialisé par la société SASOL sous la dénomination CERALUTION , et notamment les produits suivants : ' Ceralution H : Behenyl Alcohol, Glyceryl Stearate, Glyceryl Stearate Citrate et Sodium Dicocoylethylenediamine PEG-15 Sulfate, # Ceralution F : Sodium Lauroyl Lactylate et Sodium Dicocoylethylènediamine PEG-15 Sulfate.
' Ceralution# C : Aqua, Capric/Caprylic triglycéride, Glycerin, Ceteareth- 25, Sodium Dicocoylethylenediamine PEG-15 Sulfate, Sodium Lauroyl Lactylate, Behenyl Alcohol, Glyceryl Stearate, Glyceryl Stearate Citrate, Gum Arabie, Xanthan Gum, Phenoxyethanol, Methylparaben, Ethylparaben, Butylparaben, Isobutylparaben (dénominations INCI) La concentration du ou des agents tensioactifs géminés utilisés dans la présente invention est de préférence comprise entre 0,001 et 8 %, de préférence entre 0,01 et 4 % et en particulier entre 0,05 et 3 %, rapporté au poids total de la composition photoprotectrice.
Les polymères associatifs utilisés dans la présente invention peuvent être de type anionique, cationique, amphotère ou non ionique. Les polymères associatifs sont de préférence non-ioniques ou anioniques.
Leur concentration en poids dans la composition photoprotectrice selon l'invention peut varier d'environ 0,01 à 10 % du poids total de la composition. Plus préférentiellement, cette concentration est comprise entre 0,1 à 5 % du poids total de la composition.
On peut citer à titre d'exemples de polymères associatifs anioniques les polymères suivants : (I) Les polymères comportant au moins un motif hydrophile, et au moins un motif éther d'allyle à chaîne grasse, plus particulièrement ceux dont le motif hydrophile est constitué par un monomère anionique insaturé éthylénique, plus particulièrement encore par un acide carboxylique vinylique et tout particulièrement par un acide acrylique ou un acide méthacrylique ou les mélanges de ceux ci, et dont
le motif hydrophobe est un éther allylique d'alcool gras en C8-30 de formule (I) suivante : CH2 = CR'-CH2-OBn-R (I) dans laquelle R' désigne H ou CH3, B désigne le radical éthylèneoxy, n est nul ou désigne un entier allant de 1 à 100, R désigne un radical hydrocarboné choisi parmi les radicaux alkyle, arylalkyle, aryle, alkylaryle, cycloalkyle, comprenant de 8 à 30 atomes de carbone, de préférence 10 à 24, et plus particulièrement encore de 12 à 18 atomes de carbone. Un motif de formule (I) plus particulièrement préféré est un motif dans lequel R' désigne H, n est égal à 10, et R désigne un radical stéaryle (Cis).
Des polymères associatifs anioniques de ce type et leur préparation par polymérisation en émulsion sont décrits dans la demande EP-0 216 479.
Parmi ces polymères associatifs anioniques, on préfère en particulier les polymères formés à partir de 20 à 60% en poids d'acide acrylique et/ou d'acide méthacrylique, de 5 à 60 % en poids de (méth)acrylates d'alkyle inférieur, de 2 à 50 % en poids d'éther d'allylique à chaîne grasse de formule (I), et de 0 à 1 % en poids d'un agent réticulant qui est un monomère insaturé polyéthylénique copolymérisable, tel que le phtalate de diallyle, le (méth) acrylate d'allyle, le divinylbenzène, le diméthacrylate de (poly)éthylèneglycol et le méthylène-bisacrylamide.
Parmi ces derniers polymères, on préfère tout particulièrement les terpolymères réticulés d'acide méthacrylique, d'acrylate d'éthyle, de polyéthylèneglycol (10 OE) éther d'alcool stéarylique (Steareth 10), notamment ceux vendus par la société ALLIED COLLOIDS sous les dénominations SALCARE SC 80# et SALCARE SC90 qui sont des émulsions aqueuses à 30 % d'un terpolymère réticulé d'acide méthacrylique, d'acrylate d'éthyle et de steareth-10-allyléther (40/50/10).
(II) Les polymères comportant au moins un motif hydrophile de type acide carboxylique à insaturation oléfiniqe, et au moins un motif hydrophobe de type carboxylate insaturé d'alkyle en CIO-C30.
De préférence, ces polymères sont choisis parmi ceux dont le motif hydrophile de type acide carboxylique insaturé correspond au monomère de formule (II) :
Au polymère issu de la première étape, maintenu à 70 C, sont ajoutés 2,13 g d'azobisisobutyronitrile. Ensuite, un mélange contenant 173,3 g d'acide acrylique, 404,7 g d' acrylate de 2-diméthylaminoéthyl quaternisé, 335 g d'eau et 335 g d'éthanol est additionné pendant 4 heures. Au bout de 2 heures d'introduction, 3,2 g d'AIBN sont introduits. A la fin des 4 heures d'introduction de la solution de monomères, 3,2 g
d'AIBN sont à nouveau introduits dans le réacteur. Le réaction est ensuite maintenue à cette température pendant 2 heures supplémentaires.
Une analyse RMN 1 H confirme que la composition du copolymère final correspond à celle attendue.
PROCEDE ET DISPOSITIF D'EGALISATION ET DE DECODAGE ITERATIF POUR COMMUNICATIONS HAUT-DEBIT SUR CANAUX A ANTENNES MULTIPLES EN EMISSION ET EN RECEPTION La présente invention est relative au domaine des communications numériques.
Elle concerne plus particulièrement un procédé et un dispositif d'égalisation et de décodage itératif pour communications haut-débit sur canaux à antennes multiples en émission et plus particulièrement sur canaux sélectifs en fréquence à antennes multiples en émission et réception.
DOMAINE TECHNIQUE GENERAL Avec le développement des technologies antennaires, les modèles de communications reposant sur le TDMA, le CDMA, l'OFDM et leurs éventuelles combinaisons sont systématiquement revisités et étendus au cas de canaux MIMO. Deux grandes classes de codage espace-temps sont envisagées, qui diffèrent dans leurs philosophies : - Les transmissions en couches BLAST développées par les Bell Labs ont pour but d'utiliser le multiplexage spatial pour augmenter le débit transmissible sur le canal. Il existe deux manières de coupler codage correcteur d'erreurs de canal et BLAST, conduisant à deux modèles de codage espace-temps en couches distinctes. Dans le premier modèle (type ST BICM), un codage unique liant les différentes couches est appliqué sur les données avant entrelacement spatio-temporel et démultiplexage spatial [1, LST-I, p.
1350]. Dans le second modèle (type MAC), les données sont démultiplexées spatialement puis codées en entrelacées indépendamment sur chaque couche [1, LST-I I, p. 1350];
Les schémas de diversité utilisent la diversité spatiale pour mieux combattre les effets des évanouissements du canal, et améliorer les performances. On distingue les STTC, qui amènent un gain de codage, et les STBC (et leurs généralisations OD, LDC...), qui n'amènent pas de gain de codage et qui sont souvent couplés avec les meilleures modulations codées en treillis connues pour le canal gaussien.
De récentes contributions théoriques prouvent que les gains de multiplexage spatial et de diversité spatiale sont liés au travers d'une relation de compromis. Par exemple, les deux approches précitées ne permettent pas d'augmenter la capacité dans les mêmes proportions pour un nombre arbitrairement élevé d'antennes d'émission M et d'antennes de réception N. On peut vérifier que les schémas de diversité à l'émission ne sont optimaux du point de vue de la théorie de l'information que dans la configuration MISO {M, N} = {2,1}, ce qui remet sérieusement en cause leur pertinence pour les communications haut-débit sur des canaux MIMO à grand nombre d'antennes.
Seule l'approche ST-BICM garantit une augmentation linéaire de la capacité avec min {M, N}.
C'est la raison pour laquelle il convient de privilégier ce type d'émission et de concentrer les efforts sur la conception d'un récepteur adapté garantissant une performance aussi proche que possible des limites fondamentales. A la différence des STBC, les ST-BICM n'assurent pas l'orthogonalité entre les flux de données émis par les différentes antennes.
Dans le contexte d'une transmission sur canal MIMO sélectif en fréquence, cette stratégie de codage appelle donc, en réception, une détection conjointe des données pour supprimer à la fois l'interférence spatiale entre antennes (MAI) et l'interférence temporelle entre symboles (ISI).
La fonction de détection conjointe des données constitue le point délicat et complexe du récepteur, et ce d'autant plus que les ST-BICM nécessitent, par
essence, un traitement itératif entre détection et décodage de canal pour capturer toute la diversité spatiale.
PRESENTATION GENERALE DE L'ART ANTERIEUR Décodage itératif sur canaux MIMO non sélectifs en féquence Le décodage itératif des ST-BICM sur canaux MIMO non sélectifs en fréquence constitue un cas particulier du problème à résoudre sous la double hypothèse d'une élimination parfaite de l'ISI et d'une récupération de toute l'énergie disponible sur chaque symbole.
Le problème se reformule alors en ces termes : suppression de la MAI sur un canal MIMO plat en présence de bruit coloré spatialement . Il nécessite le calcul des APP sur les bits des symboles des vecteurs transmis à chaque instant (statistique sur les données à transmettre au décodeur).
Un tel maintien en position de fermeture au travers du seul moyen d'entraînement manuel ou motorisé, n'apporte, souvent, 10 qu'une sécurité relative.
Ainsi, par exemple, le bras de compas, par l'intermédiaire duquel un moteur entraîne un volet battant, n'est capable d'assurer qu'un maintien localisé de ce volet, par exemple en partie basse ou en partie haute.
En agissant sur ce volet à l'opposé de l'action de ce bras, en particulier lors d'une tentative d'effraction, on dispose habituellement d'un bras de levier suffisant pour écarter ce volet de son encadrement et permettre l'introduction d'un outil en vue de forcer l'ouverture.
Le problème est bien entendu le même en cas d'usage d'un vérin de quelque nature que ce soit.
Il est d'ores et déjà usuel d'équiper des portes basculantes, de type porte de garage, de dispositifs de verrouillage additionnels qui, en complément des moyens d'entraînement assurant la commande d'ouverture et de fermeture de telles portes, sont en mesure de garantir leur sécurité à l'égard de tentatives d'effraction.
De tels dispositifs de verrouillage additionnels se présentent, très souvent, sous forme de systèmes électromécaniques et consistent, par exemple, en un pêne de verrouillage, de type pêne demi-tour à rappel élastique en position de verrouillage, sachant qu'une bobine électromagnétique ou similaire est susceptible, lorsqu'elle est alimentée en courant, de commander le recul de ce pêne contre ces moyens de rappel élastiques.
Le pêne de verrouillage équipe, fréquemment, l'ouvrant tandis qu'une gâche aménagée sur le dormant de la porte est conçue apte à coopérer avec ce pêne.
Ainsi, lors de la commande d'ouverture de l'ouvrant, au travers du moyen d'entraînement motorisé dont il est équipé, une unité de gestion de fonctionnement de ce moyen d'entraînement commande, dans l'ordre, le déverrouillage du ou des dispositifs de verrouillage additionnels avant d'activer, proprement dit, ce moyen d'entraînement.
l0 L'on comprend, évidemment, que des systèmes de fermeture comportant de tels dispositifs de verrouillage additionnels sont sujets à un risque de dysfonctionnement aggravé.
La présente invention se veut, par conséquent, à même de répondre au problème précité, ceci au travers d'un dispositif d'entraînement pour système de fermeture de type volet, portail ou similaire, comportant un moyen d'entraînement manuel ou motorisé qui soit capable, non seulement, de commander l'ouverture et la fermeture de ce système, mais, en outre, d'assurer le verrouillage et le déverrouillage d'un dispositif de verrouillage de type crémone, verrou ou similaire dont vient à être équipé ce dernier.
Ainsi, selon l'invention, le dispositif d'entraînement comportant un moyen d'entraînement manuel ou motorisé, conçu apte à commander, au travers d'une transmission adaptée, l'ouverture et la fermeture d'un système de fermeture, de type volet battant, portail, porte ou analogue, comportant au moins un battant, est caractérisé par le fait qu'en phase initiale d'ouverture et en fin de course de fermeture, ledit moyen d'entraînement est conçu apte à exécuter une course additionnelle pour la commande de déverrouillage et de verrouillage d'un dispositif de verrouillage, tel qu'une crémone, verrou ou similaire, équipant ledit système de fermeture.
De manière avantageuse, la transmission est conçue de type 35 débrayable pour autoriser en fin de course de fermeture du battant la course à vide additionnelle du moyen d'entraînement manuel ou motorisé.
Dans la mesure où c'est le même moyen d'entraînement qui assure, à la fois, l'ouverture et la fermeture du ou des battants d'un système de fermeture, ainsi que les commandes de verrouillage et de déverrouillage d'un dispositif de verrouillage, en l'occurrence une crémone, il est très facile de détecter, non seulement, un défaut de fermeture, mais également de verrouillage de ce ou ces battants.
Tout particulièrement, en étant capable de manoeuvrer, par exemple, une crémone, le dispositif d'entraînement selon l'invention est en mesure de procurer un verrouillage multipoints du battant commandé.
Dans le cas, notamment, de volets, ce dispositif 15 d'entraînement renforce, de manière considérable, leur tenue à une tentative d'effraction.
D'autres buts et avantages de la présente invention apparaîtront au cours de la description qui va suivre se rapportant à un mode de réalisation donné à titre indicatif et non limitatif.
Charge : 0,1-15N.
Vitesse de charge : 89 N/min Longueur de la rayure : 10 mm Au delà d'une certaine charge, des fissures régulières commencent à apparaître au niveau de la rayure. Cette charge est définie comme la charge critique d'endommagement, appelée par la suite charge critique.
Au-delà de cette charge critique, la rayure devient très nettement visible à l'#il nu, à cause de l'effet optique des fissures. Le substrat revêtu est alors endommagé depuis la surface du revêtement jusqu'au c#ur du substrat.
L'apparition de fissures régulières, et donc la détermination de la charge critique, est visualisée par observation de la rayure sous microscope optique, à un grossissement x500.
Le système de mesure utilisé permet une correspondance directe entre la position le long de la rayure et la charge appliquée.
Les résultats obtenus sont consignés dans le tableau ci-après et reportés sur la figure 3.
Nanoparticules Charge Critique (en N) Exemple comparatif 1 4,6 Aluminasol-200 4,6 Exemple comparatif 2 5,9 Aluminasol-200 greffé Revêtement de l'exemple 2 9,6 Boehmite (F=30, f=10) Revêtement de l' exemple 1 12.6 Boehmite (F=25, f=25)
PROCEDE DE REALISATION DE MOTIFS À FLANCS INCLINES PAR PHOTOLITHOGRAPHIE DESCRIPTION DOMAINE TECHNIQUE La présente invention concerne un procédé de photolithographie sous incidence contrôlée pour la fabrication de micro-composants ou micro-systèmes et un dispositif permettant de mettre en #uvre le procédé.
La photolithographie est utilisée dans la fabrication des circuits intégrés, elle est aussi la technique de base permettant la fabrication de microstructures comme des MEMS (abréviation anglo-saxonne de "Micro Electro Mechanical Systems" soit micro-systèmes electro-mécaniques). Elle consiste à fabriquer des motifs prédéfinis sur un substrat approprié (par exemple une tranche de silicium) pour pouvoir modifier localement les propriétés de ce substrat (ce qui permet par exemple de réaliser des transistors) ou déposer du métal à certains endroits sur le substrat pour réaliser par exemple des micro-machines.
ETAT DE LA TECHNIQUE ANTERIEURE Classiquement, un procédé de photolithographie se fait sous incidence normale (c'est à dire qu'une couche de résine à photo-structurer est habituellement perpendiculaire à la direction principale d'un faisceau de rayons lumineux par lequel on l'insole). On dépose lors d'une première étape, une
couche de résine photosensible 101 (par exemple d'une centaine de micromètres de polyimide) sur un substrat 100 (par exemple en silicium) (figure 1A). On expose ensuite cette couche de résine photosensible 101 pour y réaliser des motifs, à l'aide d'un faisceau de rayons lumineux 102 (généralement de longueur d'onde située dans le domaine de l'ultra-violet) orthogonal au plan principal de la couche de résine 101 à travers un masque 103 comportant des parties opaques 104 (par exemple en métal) au faisceau de rayon lumineux 102 et des parties transparentes 105 (par exemple en silice) au faisceau de rayons lumineux 102, les parties transparentes 105 pouvant être des trous. Les parties transparentes 105 sont disposées selon les motifs que l'on souhaite réaliser. L'image du masque 103 est alors projetée sur la couche de résine photosensible 101.
Certaines parties de la couche de résine 101 subissent à ce moment l'exposition aux rayons ultra-violets alors que d'autres restent intactes. La couche de résine 101 comprend donc des zones insolées 106 et des zones noninsolées 107 correspondant aux parties de la couche de résine 101 protégées par le masque 103 (figure 1B).
Enfin, on retire le masque 103, puis la couche de résine 101 est développée avec des produits chimiques tels que par exemple une base forte, qui enlèvent les zones insolées 106 de la couche de résine 101 et laissent les zones non-insolées 107 dans le cas où la résine de la couche de résine 101 est un résine de type "positive" (figure 1C).
Aujourd'hui avec l'avènement des microtechniques, on cherche à obtenir des micro-structures