INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
URL Commande FTP Fichier GET ChaÎne de caractères avec : - URL = adresse Internet du serveur domestique, - commande = GET (protocole FTP), - fichier = nom du (ou des) fichier (s) du serveur domestique comportant l'état des différents équipements communicants du réseau domestique.
Selon l'invention, la configuration consiste à envoyer selon le protocole FTP un ou plusieurs nouveaux fichiers de configuration, dont le format est le suivant :
URL Commande FTP Fichier PUT Chaîne de caractères avec : - URL = adresse Internet du serveur domestique, - commande = PUT (protocole FTP), - fichier = nom du (ou des) fichier (s) de configuration du serveur domestique, intégrant en particulier les fonctions suivantes : configuration TCP/IP,
configuration PPP, configuration des équipements du réseau domestique, configuration des scénarios, a configuration SMTP.
Selon l'invention, dans le sens serveur domestique-serveur réseau central, les demandes portent sur deux types d'actions : e la notification d'évènements relatifs au réseau domestique, l'accusé de réception.
Selon l'invention, la notification consiste à envoyer par le protocole SMTP une séquence permettant de désigner un équipement domestique ainsi que le descriptif de la notification associée, le format de ladite séquence étant le suivant :
ornait sujet date heure paramètre NO de mot de information destinataire lié au sujet téléphone passe du réseau domestique jj/mm/aaa hh/mm/ss avec : - sujet = sujet du message a Alarme (20 caractères) e Notification (20 caractères) - paramètre = Chaîne de 20 caractères, - numéro de téléphone du réseau domestique = numéro de téléphone relatif au serveur domestique, 10 chiffres, - mot de passe = chaîne de 8 caractères, - numéro = numéro d'ordre de déclaration de l'élément
La figure 2 est une illustration schématique d'un exemple de réalisation d'une salle vasculaire 100 comprenant une salle d'examen par rayons X 102, une salle de commande 104 adjacente à la salle d'examen 102, et une salle d'équipement 106. Dans l'exemple de réalisation, un système Advantx LC+ couplé à un sous-système d'imagerie numérique Advantx DLX, tous deux étant disponibles dans le commerce auprès de la filiale GE Medical Systems de General Elecric Company, à Milwaukee, dans le Wisconsin, sont utilisés. De façon caractéristique, le système Advantx LC+ et le sous-système Advantx DLX comprennent des premier et deuxième écrans vidéo 108,110 et des commandes manuelles 112, qui sont disposés dans la salle d'examen 102. Le système d'imagerie comprend également un écran vidéo 114, des commandes de générateur de rayons X 116 et des commandes de contrôle d'image 118 disposés dans la salle de commande 104, et un équipement de traitement et d'affichage vidéo 120 disposé dans la salle d'équipement 106.
Le sous-système Advantx DLX comprend, de façon caractéristique, une commande à distance à infrarouges, et l'émetteur pour la commande à distance peut être utilisé n'importe où à l'intérieur de la salle d'examen 102. La commande à distance à infrarouges communique avec un récepteur d'infrarouges dans la salle d'examen 102, disposé, de façon caractéristique, au voisinage des écrans vidéo de salle d'examen 108 et 110. Le récepteur d'infrarouges com-
munique lui-même avec le sous-système d'imagerie numérique DLX à l'aide d'une liaison de communication série (RS232). Un patient 121 est montré dans la salle d'examen 102 pour illustrer un exemple de réalisation de positionnement d'équipement dans la salle 102.
Dans l'exemple de réalisation, un sous-système de reconnaissance vocale comprend un microphone"canon"hautement directionnel 122, tel qu'un microphone modèle ME66/K6, disponible dans le commerce auprès de Sennheiser Electronic GmbH & Co., Am Labor 1, 30900 Wedemark, Postfach 10 02 64,30892 Wedemark, couplé à un mélangeur/amplificateur audio 124 tel que le modèle SCM26S, disponible dans le commerce auprès de Shure Incorporated, 222, Hartrey Avenue, à Evanston, dans l'Illinois. Le soussystème de reconnaissance vocale comprend de plus un hautparleur de retour/confirmation audio 126 couplé à un amplificateur audio 128 tel que le modèle A100A, disponible dans le commerce auprès de Yamaha Pro Audio, à Buena Park, en Californie.
L'amplificateur audio 128 et le mélangeur/amplificateur audio 124 sont couplés à un ordinateur 130 comprenant un processeur, tel qu'un Dell Lattitude Notebook avec un processeur Pentium III/mémoire principale 512 MB, disponible dans le commerce auprès de Dell Computer Corporation, One Dell Way, à Round Rock, dans le Texas. Bien qu'il soit illustré et décrit sous la forme de l'ordinateur 130, il n'est pas nécessaire que le traitement soit effectué par un ordinateur, et il peut être effectué par n'importe quel dispositif de traitement susceptible d'effectuer les fonctions de traitement décrites cidessous. Le terme d'ordinateur, tel qu'il est utilisé ici, comprend par conséquent non seulement les ordinateurs personnels et les ordinateurs portables, mais également tout processeur/dispositif de traitement susceptible d'effectuer le traitement décrit. De plus, le traitement effectué
par l'ordinateur 130 et l'ordinateur 62 pourrait être effectué par un ordinateur ou processeur unique, et il n'est pas nécessaire qu'il soit effectué par des ordinateurs/processeurs séparés.
L'ordinateur 130 fonctionne sous la commande d'un logiciel de reconnaissance vocale, tel que le logiciel Dragon Naturally Speaking, disponible dans le commerce auprès de Lernout & Hauspie Speech Products USA, Inc., 52 Third Avenue, à Burlington, dans le Massachusetts, ou le logiciel Fonix FAAST, disponible dans le commerce auprès de Fonix Corporation, 1225 Eagle Gate Tower, 60 East South Temple, à Salt Lake City, dans l'Utah. L'ordinateur 130 est couplé, par l'intermédiaire d'une interface série RS232, à un équipement de traitement et d'affichage vidéo 120. Une interface de programme d'exploitation de la parole standard, telle que l'interface de programme d'exploitation de la parole définie par Microsoft Corporation, One Microsoft Way, à Redmond, dans l'état de Washington, est utilisée comme interface entre le logiciel de commande et le logiciel de reconnaissance vocale. L'interface de programme d'exploitation de la parole facilite l'utilisation des logiciels disponibles dans le commerce qui se conforment à la norme SAPI (Speech Application Program Interface ou interface de programme d'exploitation de la parole).
Le microphone canon 122 permet à un utilisateur principal 132 de se trouver à une distance considérable (par exemple, 1,22 m), tandis qu'un utilisateur secondaire 134 dans la salle d'examen 102 mais non situé dans une zone de sensibilité de microphone 136, n'interférera pas avec le fonctionnement du système. De façon caractéristique, le microphone canon 122 est insensible aux sons et aux voix qui ne sont pas directement devant le microphone 122, ou, autrement dit, pas dans la zone de sensibilité 136. Par contre, toute personne à l'intérieur de la"zone de sensi-
bilié"136 peut délivrer un ordre vocal.
De plus, le microphone canon 122 procure à l'utilisateur une liberté considérable pour se déplacer et rester non gêné par des fils, des câbles, ou des systèmes de microphone sans fil"du type casque". Selon les préférences de l'opérateur, la zone de sensibilité de microphone 136 peut être déplacée en repositionnant le microphone 122.
Durant l'utilisation caractéristique du système, l'opérateur principal reste aux côtés du patient 121 à l'intérieur d'une zone relativement petite. A partir de cette position, l'opérateur peut voir des images qui apparaissent sur des écrans vidéo 108,110, tout en commandant simultanément le traitement et la lecture de l'image à l'aide d'ordre vocaux.
Le sous-système de commande par la voix reconnaît un jeu de mots clés. Chaque mot clé correspond à un ordre ou à un jeu d'ordres déclenché, sinon, par des commandes manuelles traditionnelles. Lors de la reconnaissance d'un mot clé, le sous-système répète (s'il est validé) le mot détecté à l'utilisateur et exécute l'ordre. La restriction du vocabulaire à un nombre limité de mots clés permet l'utilisation d'un système de reconnaissance indépendant du locuteur, ce qui fait qu'aucun apprentissage du logiciel de reconnaissance de la parole n'est nécessaire.
Par exemple, le sous-système de reconnaissance vocale peut être configuré pour reconnaître les ordres suivants.
1. Effacer 2. Menu 3. Mémoriser 4. Zoom 5. Rappeler 6. Masquer 7. Vite 8. Lentement 9. Sous-fluo
10. Sélection de plan 11. Entrée 12. Séquence Plus 13. Séquence Moins 14. Avant 15. Lecture 16. Pause 17. Suivant 18. En arrière 19. En avant 20. Luminosité 21. Contraste 22. Nord 23. En haut 24. Sud 25. En bas 26. Est 27. A droite 28. Ouest 29. A gauche 30. Nord-est 31. Nord-ouest 32. Sud-est 33. Sud-ouest 34. Panoramique en haut 35. Panoramique en bas 36. Panoramique à droite 37. Panoramique à gauche 38. Etalonner Certain de ces ordres ont une correspondance individuelle avec des boutons-poussoirs sur la commande à distance à infrarouges. Dans certains cas, des ordres multiples sont utilisés pour la même fonction (par exemple,"en bas"et"sud"exécutent la même fonction, tout en comme"à droite"et"est"). D'autres ordres sont encore des fonc-
tions ou des expressions composites qui correspondent à l'enfoncement de touches multiples sur la commande à distance à infrarouges en une séquence spécifique (par exemple, panoramique en haut exécute la fonction"en haut" plusieurs fois de suite).
Pour structurer la relation entre l'utilisateur, le modérateur et/ou l'opérateur d'indexation et le prestataire de service, le procédé comprend en outre l'étape (b) de constituer une architecture comportant trois échelons entre le poste utilisateur, la station modérateur et la ferme de serveurs.
Les trois échelons sont respectivement les suivants : - un échelon au niveau du poste utilisateur, ci-après désigné l'échelon de niveau 1, - un échelon au niveau de la station modérateur, ciaprès désignée l'échelon de niveau 2,
- un échelon au niveau de la ferme des serveurs, ciaprès désigné l'échelon de niveau 3.
Le procédé comprend en outre l'étape (c), au niveau 1 du poste utilisateur, de gérer des requêtes, montantes et descendantes, émises par les postes utilisateurs vers la ferme des serveurs ou réciproquement. Cette gestion des requêtes est réalisée au moyen d'une interface personnalisable. Les requêtes activent des scripts standards. Les requêtes ont pour objet de mettre à jour et/ou de consulter des données stockées dans le système de gestion de bases de données (SGDB) relationnelles de la ferme de serveurs. Le procédé comprend en outre l'étape (d), au niveau 1, d'afficher, en réponse auxdites requêtes, sur les postes utilisateurs, des flux audio/vidéo et les flux de données enrichies. Cette opération est réalisée au moyen de l'interface, en mettant en oeuvre des standards d'affichage des flux audio/vidéo. Le procédé comprend en outre l'étape (e), au niveau 2, d'organiser, de gérer et de contrôler l'enchaînement des échanges avec la ferme de serveurs qui aboutissent à la création et à la publication des flux de données enrichies. Le procédé comprend en outre l'étape (f), au niveau 3 de la ferme de serveurs, de gérer : - des serveurs de diffusion des flux de données enrichies, notamment en mettant en oeuvre des standards, - des serveurs de bases de données, - des serveurs d'interprétation des scripts pour la génération dynamique de pages.
Les scripts sont activés par les requêtes.
Grâce à cette combinaison de moyens, sans devoir renoncer aux standards du marché dont il a l'usage et sans devoir recourir à des solutions propriétaires, l'utilisateur dispose d'une information "intelligente" associant aux flux audio/vidéo, de manière synchrone, des données dynamiques prenant en compte le contexte (contexte de l'expérience quotidienne des services en ligne, contexte du lieu de travail, etc. ) dans lequel il a adressé, via le réseau de communication
informatique, une requête visant à obtenir des informations sur un sujet déterminé.
Cas d'une conférence type I Selon une première variante de réalisation, le procédé est plus particulièrement destiné à permettre à un utilisateur de participer en direct à une conférence bi-directionnelle diffusée, via le réseau de communication informatique.
Le procédé est tel que l'étape (e), au niveau 2, comporte, avant le début de la conférence, l'étape de préparer la personnalisation de l'interface du niveau 1.
Le procédé est tel que l'étape (c), au niveau 1, ayant pour objet de gérer des requêtes vers la ferme de serveurs comporte, avant le début de la conférence, l'étape de poser des questions et/ou de consulter des enregistrements audio/vidéo passés, archivés et indexés sur la ferme de serveurs.
Le procédé est tel que l'étape (e), au niveau 2, comporte, avant le début de la conférence, l'étape de recevoir les questions et de les trier.
De préférence, selon l'invention, le procédé est tel que l'étape (c), au niveau 1, ayant pour objet de gérer des requêtes vers la ferme de serveurs comporte, pendant la conférence, l'étape de visualiser des flux audio/vidéo diffusés en direct, de poser des questions et de consulter des enregistrements audio/vidéo passés, archivés et indexés sur la ferme de serveurs. Le procédé est tel que l'étape (e), au niveau 2, comporte, pendant la conférence : - l'étape de trier et/ou de classer et/ou de modifier les questions des postes utilisateurs émises avant ou pendant la conférence, - l'étape de sélectionner parmi les questions celles devant être publiées,
- l'étape d'autoriser la publication des questions sur la ferme de serveurs, pour affichage sur les postes utilisateurs.
Le procédé comprend en outre l'étape, pour les postes utilisateurs, d'adresser périodiquement une requête à la ferme de serveurs afin de recevoir en retour les questions autorisées et d'écouter des réponses.
Le substrat comporte une couche 10 de silicium massif, servant de support, et une couche superficielle de silicium monocristallin 12, dont l'épaisseur est de l'ordre de 1 à 200 nm. La couche superficielle 12 est reliée à la couche massive 10 par l'intermédiaire d'une couche enterrée d'isolant 14. La couche enterrée 14 est par exemple, une couche d'oxyde de silicium, et son épaisseur est de l'ordre de 10 à 400 nm.
La figure 2, qui est une vue de dessus du substrat de la figure 1 montre une première opération de gravure de la couche superficielle pour la délimiter et former ainsi une source du futur transistor. Dans la suite du texte la référence 12 est réservée à cette partie de la couche superficielle qui est désignée par couche de source .
Comme le montre la figure 3, le procédé est poursuivi par la formation sur la couche de source 12 d'une couche mince d'isolant tunnel 20, d'un empilement alterné 22 de couches minces conductrices 22c, de couches minces isolantes 22i et d'une couche 24 dite de gabarit, également isolante. La couche de gabarit 24, dans cet exemple est une couche de nitrure de silicium.
Les couches minces 22c et 22i présentent, de même que la couche d'isolant tunnel 20 des épaisseurs de l'ordre du nanomètre. Il s'agit, par exemple, de couche de silicium, sous forme continue ou granulaire, alternant avec des couches d'oxyde de silicium. Le choix des matériaux et l'épaisseur des couches de l'empilement sont adaptés pour la formation ultérieure de boîtes quantiques. Ils sont suffisamment fins pour autoriser le passage d'électrons par effet tunnel lorsque le transistor est correctement polarisé.
Il convient de préciser que la figure 3, qui est une coupe selon un plan III-III indiqué sur la figure 2, ne représente pas l'ensemble du substrat de la figure 2, mais seulement une partie centrale qui se trouve être la partie coïncidant avec les limites de la couche de source 12.
La figure 4, est une vue de dessus du dispositif. Elle montre le résultat d'une première étape de lithographie et de gravure ultime. La gravure ultime, est prévue pour former dans l'empilement une languette filiforme 30. La languette 30 présente une largeur l dans un plan parallèle à la surface du substrat, qui est inférieure à 50 nm et de préférence de l'ordre de 5nm. Des largeurs aussi faibles peuvent être obtenues justement avec des motifs de gravure filiformes. Le motif est dicté par un masque de gravure, non représenté, mis en forme, de façon classique, par lithographie. La partie filiforme de l'empilement est délimitée par parties terminales élargies 32 dont la fonction est décrite ultérieurement.
La gravure ultime, anisotrope, est réalisée, dans cet exemple, avec arrêt sur la couche d'isolant tunnel 20. Il peut s'agir d'une gravure unique ou d'une gravure en plusieurs étapes, de façon à adapter les agents de gravure aux différentes couches à éliminer.
L'arrêt de gravure peut avoir lieu soit par un choix d'agents de gravure sélectifs c'est-à-dire des agents qui attaquent les matériaux des différentes couches avec des vitesses de réaction différentes, soit en ajustant les épaisseurs des couches. Ainsi une couche plus épaisse peut servir de couche d'arrêt de gravure d'une couche plus mince même si la sélectivité des agents de gravure n'est pas très bonne.
Dans le présent exemple, la couche d'isolant tunnel 20 n'est pas bien épaisse et ne constitue donc pas une très bonne couche d'arrêt de gravure.
Toutefois, comme cela apparaît dans la suite du texte, le perçage de cette couche lors de la gravure n'est pas préjudiciable au bon fonctionnement du transistor.
La figure 5 montre la formation d'une couche d'enrobage électriquement isolante 40. Il s'agit, par exemple, d'une couche de verre ou d'oxyde de silicium, déposée sur l'ensemble du substrat. Elle enrobe et recouvre de façon conforme la languette 30 qui vient d'être gravée dans l'empilement.
La couche d'enrobage est soumise à un planage, par exemple par polissage, avec arrêt sur la couche 24 de gabarit. Le planage permet d'obtenir une face supérieure plane à laquelle affleure la couche de gabarit, au sommet de l'empilement.
Une ligne en trait discontinu indique les limites de la couche de source 12.
Sur la face supérieure du dispositif, on forme ensuite, comme le montre également la figure 5, un second masque de gravure filiforme 42. Le masque 42, tout comme le masque qui a servi à graver précédemment la languette, est un masque filiforme, par exemple en résine, avec une largeur ne dépassant pas 50 nm. Le second masque de gravure est disposé de façon à croiser la languette filiforme 30 de l'empilement et, de préférence, de façon à la croiser en étant sensiblement perpendiculaire à celle-ci.
Après la formation du masque, le substrat est soumis à une seconde gravure ultime. La seconde gravure est également une gravure anisotrope sélective qui permet d'éliminer l'empilement en dehors de la petite région protégée par le second masque 42. L'empilement est encore gravé avec arrêt sur la couche d'isolant tunnel 20. La figure 6 montre le dispositif obtenu après le retrait du second masque de gravure.
De l'empilement de couches il ne reste qu'une colonnette 50. La colonnette 50 est disposée au milieu d'une gorge 52 dont les parois latérales sont formées par des flancs de la couche d'enrobage 40, mis a nu lors de la seconde gravure. Les gorges débouchent dans des puits 54, appelés encore puits de grille, dont l'emplacement correspond aux parties d'extrémité élargies de l'empilement La figure 7 est une coupe du dispositif de la figure 6 le long de la gorge 52, et montre la formation de grilles isolées 60 dans la gorge. Pour des raisons
Selon l'invention, l'élément à propriétés optiques, de par ta présence du ou des éléments absorbants (b) voit son absorption lumineuse AL augmenter d'au moins 5% et/ou voit sa réflexion lumineuse RL diminuer d'au moins 5%, notamment d'au moins 8%.
L'élément à propriétés optiques dans son ensemble présente une transmission lumineuse TL notamment comprise entre 10 et 50%, de préférence entre 20 et 40% : cette gamme de TL est adéquate pour obtenir l'effet d'absorption voulu tout en gardant un niveau de transmission lumineuse suffisant, ce dernier point étant tout particulièrement important quand le système à diffusion variable électrocommandable se trouve à l'état ON , c'est-à-dire à l'état sous tension et transparent.
Le mode de réalisation préféré selon l'invention consiste à ce que l'élément à propriétés optiques variables comprenne aussi : (c)-au moins un élément anti-réfléchissant dans le visible (appelé antireflets dans la suite du texte).
L'élément antireflets (c) peut être constitué, selon une première variante, d'une alternance de couches minces d'épaisseur interférentielle à haut et bas indices de réfraction, selon une séquence (couche à haut indice/couche à bas indice) n, avec n > 1. Une séquence haut indice/bas indice, tout particulièrement la première à partir du substrat sur lequel se trouve l'antireflets, peut être remplacée par une couche d'un matériau d'indice intermédiaire. Chaque couche peut être une mono-couche ou une superposition de plusieurs couches respectivement à haut ou bas indice. Les couches peuvent être déposées par pyrolyse ou par pulvérisation cathodique, comme les couches absorbantes mentionnées précédemment.
Les couches à bas indice peuvent être en Si02, Al203 ou mélange. Les couches à haut indice peuvent être en Sn02, SÎ3N4, Ti02, Nb205, AlN, ZnO. Les couches à indice intermédiaire peuvent être un mélange d'oxydes à haut et bas indices ou en SiON. Des exemples d'antireflets appropriés sont décrits dans les brevets EP-728 712, EP-911 302, W097/43224, WO00/72053, FR99/14423. Un exmple est commercialisé sous te nom de Vision Lite par ta société Saint-Gobain Glass Il peut s'agir notamment d'un empilement du type Si3N4 ou Sn02/Si02/ShN4 ou NbOs/SiOz (te Si02 pouvant comprendre un peu de métal du type aluminium ou un peu de bore, notamment s'il est obtenu par pulvérisation cathodique).
Selon un mode de réalisation intéressant, le revêtement anti-reflet peut comprendre une couche absorbante, par exemple en nitrure de type TiN ou ZrN : on a ainsi deux fonctions en même temps, avec un seul empilement de couches que l'on peut déposer les unes après les autres par le même mode de dépôt :
effet anti-reflets et absorption.
Selon une seconde variante, l'élément antireflets est un film antireflets, que l'on peut appliquer par calandrage à la surface d'un substrat du type verre ou plastique. Il peut s'agir par exemple d'un film de polyéthylène téréphtalate PET muni d'un revêtement anti-reflets ou d'un film de triacétate de cellulose.
Dans les deux variantes, te revêtement antireflets est efficace quand il est déposé sur ta face extérieure d'au moins un des substrats extérieurs zu de l'élément à propriétés optiques variables (on entend par substrat extérieur celui qui délimite l'élément, dont une face est accessible et tournée vers l'extérieur).
L'ajout d'un élément antireflets (au moins) est très positif dans te cadre d'une application à un écran de rétro-projection pour transmission. En effet, il va diminuer la réflexion lumineuse, de préférence de la face extérieure de l'élément dans son ensemble qui est destinée à être tourné vers le spectateur.
Il va donc permettre de diminuer la réflexion lumineuse provenant de l'éclairage parasite côté spectateur. Son effet est également bénéfique, mais beaucoup moins marqué, si on le dispose sur la face extérieure qui va se trouver du côté du projecteur.
Selon une troisième variante, on obtient le même type d'effet anti-reflet en modifiant superficiellement la surface extérieure de l'un au moins de ces substrats extérieurs : cette modification peut consister en une texturation de surface, une gravure superficielle laissant des excroissances calibrées, comme cela est décrit dans le brevet FR 00/08842 déposé le 6 juillet 2000 : à profondeur croissante, il y a de moins en moins de matériau et de plus en plus d'air, ce qui crée à la surface du matériau (du verre notamment) une couche d'indice intermédiaire entre le matériau en question et l'air, d'où un effet antireflets.