INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
imagina le potentiel commercial de leurs découvertes, obtint une subvention gouvernementale et fonda DTM Corp, à laquelle il associa l'université. Ce procédé - {Sélective Laser Sintering Process) permet de réaliser rapidement des maquettes en trois dimensions. Un ordinateur, tel que le CPU scanographique du dispositif d'invention, découpe l'objet à construire en tranches successives, dont il mémorise les contours. Un rayon laser couplé à l'ordinateur balaie la surface d'une résine qui se polymérise au point de contact, reproduisant l'objet. Ces informations numérisées peuvent être transmises à tout ordinateur compatible qui, sur place, peut commander une machine construite par TDM et reproduire l'objet. En 1996, la firme américaine 3D Systems a proposé une machine qui fabrique une maquette en plastique exactement conforme à l'objet final. Ce dernier peut servir à concevoir un moulage thermoformé de contention et d'immobilisation d'une région donnée.
5.4.4.4. - Un casque-écran (1965) sur le serveur dosimétrique, dit console dosimétrique.
De préférence, si Wa est la largeur de ladite barre d'allumage mesurée le long de l'axe Oy, on a : - si La 2 We-p0- La - si La >~ 2 We~pp , La > 0,2 La Dans un tel panneau à plasma, ces caractéristiques géométriques permettent de réduire la tension d'allumage sans augmenter significativement la dissipation d'énergie dans la gaine cathodique au démarrage des décharges, notamment parce que le déplacement de cette gaine au moment de l'expansion doit être déporté latéralement, en dehors de la zone de l'ergot, au niveau de chacun des éléments conducteurs latéraux ; l'augmentation de la charge mémoire au centre de la barre transversale d'allumage au niveau de cet argot n'aura pas d'incidence défavorable sur l'énergie de la gaine cathodique.
diélectrique telle que précédemment définie et une dalle dite d'adressage comprenant : - un réseau d'électrodes d'adressage revêtues d'une couche diélectrique qui sont orientées et positionnées de manière à croiser chacune une paire d'électrodes de la dalle coplanaire au niveau d'une desdites zones de décharges, - un réseau de barrières parallèles, chacune étant disposée entre deux électrodes d'adressage adjacentes, ... ces dalles délimitant entre elles lesdites zones de décharges et étant distantes d'une hauteur Hc, caractérisé en ce que ladite couche diélectrique est de composition homogène et d'épaisseur constante au dessus dudit élément d'électrode (4) au moins pour tout x tel que xab < x < xbc, et en ce que, si Wc est la distance entre deux barrières adjacentes, pour chaque zone de décharge dudit panneau et pour chaque élément d'électrode de cette zone, ledit élément d'électrode se subdivise en deux éléments conducteurs latéraux de largeur constante We-po dont la distance de-po entre les bords tournés l'un vers l'autre est constante et supérieure à Wcqui sont symétriques par rapport à l'axe Ox et disjoints dans la zone où x est compris dans l'intervalle [xab, xbc], et en ce que ledit élément d'électrode comprend : - une barre transversale dite d'allumage dont la largeur est supérieure ou égale à Wc, dont la longueur mesurée selon l'axe Ox est La, dont un bord correspond audit bord d'allumage, - une barre transversale dite de stabilisation de décharge dont la largeur est supérieure ou égale à Wc, dont la longueur mesurée selon l'axe Ox est Ls, dont un bord correspond audit bord de fin de décharge, - au moins une barre transversale intermédiaire dont la largeur est supérieure ou égale à Wc, dont la position sur l'axe Ox est intégralement comprise dans l'intervalle [xab, xbc] sur toute sa longueur Lb, et en ce que Lb# La < Lc .
Il s'agit là du quatrième mode général de réalisation de l'invention.
Comme Ls > La, la capacité de la couche diélectrique située au niveau de la zone de fin de décharge est supérieure à la capacité spécifique de la couche diélectrique située au niveau de la zone d'allumage de la décharge, de manière à établir une différence de potentiel positive entre la zone d'allumage et la zone de fin de décharge.
De préférence, un des bords de la barre transversale intermédiaire étant distant de dl de ladite barre de stabilisation de décharge, et l'autre bord étant distant de d2 de ladite barre d'allumage, on a d2/2 < d1< d2.
De préférence, on a : x max(La, Lb) Outre les caractéristiques déjà mentionnées de l'un ou de l'autre panneau à plasma selon l'invention, ce panneau comprend une dalle d'adressage délimitant avec la dalle coplanaire des zones de décharge, et , pour chaque zone de décharge et pour chaque élément d'électrode, si We-ab est la largeur dudit élément d'électrode, mesurée selon l'axe Ox à la position x=xab au début dudit intervalle de valeurs de x, ledit élément d'électrode comprend de préférence une barre transversale dite d'allumage dont un bord correspond audit bord d'allumage, dont la longueur, mesurée selon l'axe Ox, est telle que : We-ab La # 80 m. En toute rigueur, on a La < xab car la position x=xab correspond au début de la zone d'expansion juste après la fin de la zone d'allumage.
Cette caractéristique permet de conserver avantageusement un potentiel de surface de la couche diélectrique dans la zone d'allumage identique au potentiel de surface au niveau du début de la zone d'expansion.
De préférence, ce panneau comprend un réseau de barrières parallèles disposées entre lesdites dalles à une distance Wc les unes des autres perpendiculairement à la direction générale desdites électrodes coplanaires, caractérisé en ce que, si Oy est un axe transversal à l'axe Ox qui s'étend le long du bord d'allumage et si Wa est la largeur de ladite barre transversale d'allumage mesurée selon l'axe Oy , on a : Wc-60 m < Wa# Wc-100 m.
De préférence, le panneau à plasma comprend un réseau de barrières parallèles disposées entre lesdites dalles à une distance Wc les unes des autres perpendiculairement à la direction générale desdites électrodes
coplanaires, caractérisé en ce que, si Oy est un axe transversal à l'axe Ox qui s'étend le long du bord d'allumage, si Wa est la largeur de ladite barre transversale d'allumage mesurée selon l'axe Oy , si Wa-min correspond à la largeur au delà de laquelle lesdites barrières provoquent une réduction importante de potentiel de surface de la couche diélectrique au dessus dudit élément, ladite barre transversale d'allumage comprend : - une zone centrale Za~ pour laquelle, en tout point lyl : Wa-min/2, la distance, le long de l'axe Ox, entre les bords d'allumage des deux éléments d'électrodes de ladite zone de décharge est constante est égale à gc.
- et deux zones latérales Za-p1, Za-p2 de part et d'autre de la zone centrale Raz pour lesquelles, en tout point |y| > Wa-min/2 la distance, le long de l'axe Ox, entre les bords d'allumage des deux éléments d'électrodes de ladite zone de décharge décroît de manière continue à partir de la valeur gc.
La réduction du gap séparant les deux éléments d'électrodes au niveau des zones latérales Za-p1, Za-p2 proches des barrières permet d'augmenter le champ électrique dans cette zone et de compenser la réduction de particules primaires résultant de l'effet de paroi en adaptant localement les conditions de Pashen. On obtient ainsi une réduction du potentiel d'allumage, à surface de zone d'allumage constante, ou une réduction de la surface de zone d'allumage à potentiel d'allumage constant.
De préférence, l'un ou l'autre des panneaux à plasma selon l'invention comprend des moyens d'alimentation adaptés pour générer entre les électrodes coplanaires des différentes paires des séries d'impulsions de tension dite d'entretien à paliers constants. En effet, l'invention permet avantageusement d'augmenter sensiblement le rendement lumineux et la durée de vie des panneaux à plasma en utilisant ce type classique et économique de générateur d'entretien.
L'invention sera mieux comprise à la lecture de la description qui va suivre, donnée à titre d'exemple non limitatif et en comparaison avec l'art antérieur, et en référence aux figures annexées sur lesquelles : - la figure 1A et 1B représentent respectivement en vue de dessus et en coupe une première structure d'une cellule de l'art antérieur ;
- la figure 2A représente l'état d'une décharge au temps T1 et au temps T2 dans une cellule du type de la figure 1A et 1B, et la figure 2B représente l'évolution du courant de décharge en fonction du temps T ; - la figure 3A représente, en vue de dessus, une deuxième structure d'une cellule de l'art antérieur et la figure 3B représente l'évolution du courant de décharge en fonction du temps T dans cette structure ; - la figure 4A représente, en vue de dessus, une troisième structure d'une cellule de l'art antérieur et la figure 4B représente l'évolution du courant de décharge en fonction du temps T dans cette structure ; - La figure 5 représente la distribution du potentiel de surface de la couche diélectrique le long des éléments d'électrodes des structures de l'art antérieur des figures 1 à 4 ; - La figure 6 représente une vue générale en perspective d'une cellule de panneau à plasma à dalle coplanaire ; - La figure 7 représente la distribution du potentiel de surface selon l'invention de la couche diélectrique le long des éléments d'électrodes de structures selon l'invention décrites aux figures suivantes ; - La figure 8 illustre un premier mode général de réalisation de l'invention basé sur une structure où l'épaisseur de la couche diélectrique est variable ; - La figure 9 représente la variation du potentiel normé de surface de la couche diélectrique en fonction de la largeur, en unité arbitraires, de l'élément d'électrode dans une cellule d'un panneau à plasma ; - Les figures 10A à 10D, 11A à 11 D illustrent des variantes d'un deuxième mode général de réalisation de l'invention basé sur une structure où l'élément d'électrode présente une largeur variable ; - La figure 12 représente la variation du potentiel d'allumage normé à appliquer entre les éléments d'électrode d'un cellule pour obtenir l'allumage de décharges, en fonction de la largeur de l'élément d'électrode dans la zone d'allumage ; - Les figures 13 et 14 représentent deux configurations possibles de bord d'allumage d'éléments d'électrodes selon l'invention ;
Selon un premier mode de réalisation, ledit substrat de matériau diélectrique sera choisi parmi le groupe composé de Si02, Si02 comprenant une forte densité de groupes Si-OH à sa surface, Si3N4, A1203 et Hf02.
Avantageusement, l'étape de formation de germes stables d'un premier matériau semi-conducteur est réalisée pendant un temps d'exposition choisi en fonction de la densité de germes souhaitée ; plus le temps d'exposition sera long, plus la densité de germes sera élevée.
L'étape de formation de nano-structures d'un deuxième matériau semi-conducteur à partir des germes stables du premier matériau semi-conducteur est quant à elle réalisée pendant un temps d'exposition choisi avantageusement en fonction de la taille des nano-structures voulue ; plus le temps d'exposition sera long, plus la taille des nano-structures sera grande.
Avantageusement, les étapes de CVD sont réalisées pour une pression partielle de précurseur faible. En effet, si la pression partielle des précurseurs est faible, la vitesse de croissance des germes sera lente et on pourra ainsi plus facilement contrôler la taille des nano-structures.
Selon un cas particulier de l' invention, le précurseur du premier matériau semi-conducteur sera le silane.
Dans ce cas, la formation des germes du premier matériau semi-conducteur se fera à une température comprise entre 550 C et 700 C et pour une pression partielle du silane inférieure à environ 133 Pa (1 Torr). L'intervalle de température de dépôt est choisi de manière à ce que la température soit suffisamment élevée pour que le précurseur puisse se dissocier et engendrer la formation d'un germe cristallin, et également la plus basse possible afin de limiter la vitesse de croissance des germes.
Dans un cas particulier dans lequel l'étape de formation de germes stables d'un premier matériau semi-conducteur se faisant à des pressions partielles inférieures à environ 1,33 Pa (10 mTorr), le temps d'exposition du substrat au précurseur du premier matériau semi-conducteur est inférieur à 15 minutes.
Dans un autre cas particulier dans lequel l'étape de formation de germes stables du premier matériau semi-conducteur se faisant à des pressions partielles inférieures à environ 133 Pa (1 Torr), le temps d'exposition du substrat au précurseur du premier matériau semi-conducteur est inférieur à 1 minute.
Avantageusement, lorsque le premier et le deuxième matériau semi-conducteur déposé sur ledit substrat, pour l'un, et sur lesdits germes, pour l'autre, sont du silicium, le précurseur du deuxième matériau semi-conducteur est le dichlorosilane.
Avantageusement, lorsque le premier matériau semi-conducteur déposé sur ledit substrat est du silicium et que le deuxième matériau semi-conducteur déposé sur lesdits germes est du germanium, le précurseur du deuxième matériau semi-conducteur est le germane.
Ainsi, lorsque le précurseur du deuxième matériau semi-conducteur est le dichlorosilane ou le germane, l'étape de formation de nano-structures est réalisée à une température comprise entre 300 C et 1000 C et pour une pression partielle du précurseur inférieure à environ 133 Pa (1 Torr).
L'invention concerne également les nanostructures réalisées par un des procédés selon l'invention.
Selon un mode de réalisation particulier, ces nano-structures peuvent être dopées par codéposition ou par implantation avec des éléments tels que le bore, le phosphore, l'arsenic ou l'erbium.
Ces nano-structures réalisées par un des procédés selon l'invention peuvent être encapsulées par dépôt d'un diélectrique.
L'invention concerne également des dispositifs présentant des nano-structures obtenues par le biais d'un des procédés selon l'invention.
Selon un cas particulier, ledit dispositif peut être une cellule mémoire possédant une grille flottante qui est composée de nano-structures réalisées par le biais d'un des procédés selon l'invention.
Exemples 1 2 Persulfate de Potassium.......................................... 35,8 35,8 Persulfate de Sodium............................................. 6 6 Disilicate de Sodium.......................................... 15 Métasilicate de sodium.......................................... 3 10,8 Carbonate de magnésium..................................... 7,2 Chlorure d'ammonium............................................. 4,2 4,2 EDTA (séquestrant)............................................... 0,2 0,2 Polymère amphiphile non-ionique à chaîne grasse: Ser-ad FX 1100 vendu par la Société Servo Delden...... 2 2 Polymère épaississant hydrosoluble: Primogel vendu par Avebe.................................. 2 2 Tensio-actif anionique: Lauryl sulfate de sodium....................................... 4 4 Stéarate de sodium............................................... 2 Stéarate de magnésium......................................... 2 2 Silice amorphe...................................................... 1 1 Oxyde de titane..................................................... 1 1 Liquide inerte organique selon l'invention : Huile minérale...................................................... 1 1 Liquide inerte organique selon l'invention : Cire d'abeille........................................................ 1,2 1,2 Liquide inerte organique selon l'invention : Myristate d'isopropyle ............................................. 21,6 21,6 Chacune des pâtes des exemples 1 et 2 a été mélangée au moment de l'emploi avec une composition aqueuse de peroxyde d'hydrogène à 6% (oxydant 20 volumes) à raison de 1 part de pâte pour 1,5 part d'oxydant. Le pH de chaque composition décolorante prête à l'emploi ainsi obtenue a été mesuré : 9,7.
La quantité pondérale des silicates de sodium des 2 exemples a été calculée pour que le taux de Na20 libéré par ces agents alcalins soit équivalent dans chaque exemple.
Avec chacune de ces compositions, on a ensuite procédé à l'éclaircissement de mèches de cheveux de nuance châtain à la température de 27 C, (10g de composition décolorante prête à l'emploi pour 1 g de cheveux). Chacune des compositions décolorantes a été posée 15 minutes et 30 minutes.
Les mèches après traitement ont été ensuite rinçées à l'eau, shampooinées puis séchées.
L'éclaircissement a été lu au temps de pose 15 minutes et au temps de pose 30 minutes avec un colorimètre MINOLTA CM 2002 dans le système international CIE L*a*b*.
Chaque test d'éclaircissement a été effectué 3 fois pour pouvoir évaluer l'écart moyen de couleur AE et l'écart type par rapport à la mèche témoin châtain non décolorée.
L'écart de couleur AE est calculé en appliquant l'équation suivante : oE = (L*-*)2 + (a* - a *)2 (b- - bo *)2 Dans cette équation, AE représente la différence de couleur entre la mèche décolorée et la mèche témoin, L* , a* , et b* représentent respectivement les mesures de la mèche décolorée, Lo* , ao* et bo* représentant respectivement les mesures de la mèche témoin châtain.
Dans le tableau ci-dessous réunissant les résultats de mesure, plus la valeur de AE est grande, plus la différence de couleur entre les deux mèches est grande, et plus l'éclaircissement est important.
Eclaircissement AE Exemple 1 Exemple 2 Art antérieur Invention Après 15 minutes de pose 21,1 24,2 écart type 1,09 écart type 0,63 Après 30 minutes de pose 33,0 36,5 écart type 1, 13 écart type 0,58 D'après ces résultats, on a constaté que même avec un temps de pose court de 15 minutes, la décoloration obtenue avec la pâte de l'invention a été plus puissante qu'avec celle de l'art antérieur.
EXEMPLES 3 à 6 (quantités exprimées en grammes de Matière Active) :
Exemples 3 4 5 6 Persulfate de Potassium..................................... 35,8 35,8 35,8 35,8 Persulfate de Sodium....................................... 6 6 6 6 Métasilicate de sodium....................................... 10,8 10,8 10,8 10,8 Carbonate de magnésium.................................... 7,2 7,2 7,2 Carbonate de potassium....................................... 7,2 Chlorure d'ammonium ........................................... 4,2 4,2 4,2 4,2 EDTA (séquestrant).............................................. 0,2 0,2 0,2 0,2 Polymère amphiphile non-ionique à chaîne grasse : Ser-ad FX 1100 vendu par la Société Servo Delden... 2 2 2 2 Polymère épaississant hydrosoluble: Primogel vendu par Avebe.................................. 2 2 2 2 Tensio-actif anionique: Lauryl sulfate de sodium..................................... 4 4 4 4 Colorant (ultramarine)......................................... 0,3 0,2 Stéarate de magnésium........................................ 2 2 2 2 Oxyde de titane ................................................... 0,7 1 0,8 1 Liquide inerte organique selon l'invention : Huile minérale................................................... 1 1 Liquide inerte organique selon l'invention : Polydécène vendu sous la dénomination Silkflo 366 NF Polydecene par la société Amoco 23,8 19,3 Chemical.................................,........................
Liquide inerte organique selon l'invention: Myristate d'isopropyle .......................................... 23,3 23,5 Polymère block selon l'invention : vendu sous la dénomination Geahlene 200 par la société Penreco... 5 Silice pyrogénée à caractère hydrophile, 0,5 0,5 0,5 (Aerosil# 300 vendu par la société Degussa Hûls)...
Silice pyrogénée à caractère hydrophobe, (Aerosil# R972 vendu par la société Degussa Hûls)... 0,3 0,5
Les pâtes 3 à 5 ci-dessus, ont été mélangées au moment de l'emploi à une composition aqueuse de peroxyde d'hydrogène à 6% en peroxyde d'hydrogène (20 volumes) à raison d'une part de pâte pour 1,5 part d'oxydant.
Les compositions de décoloration prêtes à l'emploi ainsi obtenues ont été appliquées pendant 15 minutes sur des cheveux de nuance châtain. Les mèches ont ensuite été rincées à l'eau, puis shampooinées et séchées. En 15 minutes de pose, les décolorations ont toutes été homogènes et puissantes.
hémisphérique et concave vers l'avant.
Le profil hémisphérique de la portion centrale 26 de la face d'entrée 24 est tel que la majorité des rayons lumineux reçus, en provenance de la diode 14, se réfracte à l'intérieur du moteur de lumière 22 en étant déviés, de manière que ces rayons lumineux 5 pénètrent dans le moteur de lumière 22 en suivant une direction
sensiblement parallèle à l'axe optique A-A.
La portion hémisphérique périphérique 28 de la face d'entrée 24 est centrée sur la diode 14, de manière que la majorité des rayons lumineux reçus par la portion 28, en 10 provenance de la diode 14, se réfracte à l'intérieur du moteur de
lumière 22 sans être déviés.
Le moteur de lumière 22 comporte une face arrière de
réflexion 30 de forme annulaire parabolique concave.
La face arrière de réflexion 30 est conçue pour réfléchir 1S axialement vers l'avant, selon le principe de la réflexion totale, les rayons lumineux qui entrent dans le moteur de lumière 22 par la portion périphérique 28 de la face d'entrée 24. A cet effet, le foyer Fl de la parabole formant la face arrière de réflexion 30 est
sensiblement confondu avec la source lumineuse 14.
Le moteur de lumière 22 comporte une face avant de
réflexion 32 de forme globalement conique convexe et coaxiale.
La face avant de réflexion 32 est conçue pour réfléchir,
selon le principe de la réflexion totale, les rayons lumineux qui cheminent à l'intérieur du moteur de lumière 22, vers une face de 25 sortie 34.
La face avant de réflexion 32 comporte une portion centrale conique 36 qui est agencée ici axialement en vis-à-vis de la face d'entrée 24 et axialement en vis-à-vis d'une partie de la
face arrière de réflexion 30.
L'angle au sommet ax de la portion conique 36 est ici d'environ quatrevingt-dix degrés, de sorte que les rayons lumineux qui atteignent cette portion 36, et qui sont parallèles à
De préférence, la capacité de la portion de couche diélectrique qui est comprise entre ledit élément et la surface de cette couche et qui est délimitée par ledit bord de fin de décharge où x=xd et la position x=xbc est strictement supérieure à la capacité de la portion de couche diélectrique qui est comprise entre ledit élément et la surface de cette couche et qui est délimitée par ledit bord d'allumage où x=0 et la position x=xab .
Lorsque cette dalle est intégrée à un panneau à plasma et qu'on applique entre les deux réseaux d'électrodes des séries d'impulsions d'entretien à paliers constants, pour chaque zone de décharge, on constate alors que la capacité totale de la couche diélectrique correspondant à ladite zone de stabilisation Zc est supérieure à la capacité totale de la couche diélectrique correspondant à ladite zone d'allumage Za .
Grâce à cette caractéristique, le point de fonctionnement stable de la décharge ne peut pas être la zone d'allumage une fois la décharge amorcée, et, une fois amorcée, la décharge s'étale forcément dans la zone d'expansion le long de la surface de la couche de diélectrique vers le bord de fin de décharge.
De préférence, la capacité longitudinale spécifique de la couche diélectrique dans la zone comprise entre x=xbc et x=xcd est supérieure à la capacité longitudinale spécifique de la couche diélectrique en toute autre position x telle que 0 < x < xbc.
Lorsque cette dalle est intégrée à un panneau à plasma et qu'on applique entre les deux réseaux d'électrodes des séries d'impulsions d'entretien à paliers constants, pour chaque zone de décharge, on constate alors que la capacité longitudinale spécifique de la couche diélectrique dans la zone de stabilisation Zc est supérieure à la capacité longitudinale spécifique de la couche diélectrique en toute autre position x dans la zone d'expansion Zb ou dans la zone d'allumage Za.
On obtient alors avantageusement un maximum de dissipation d'énergie des décharges dans la zone de fin de décharge Zc à haut rendement lumineux.
L'invention a également pour objet un panneau à plasma doté d'une dalle coplanaire à capacité spécifique croissante selon l'invention.