INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Exemple 10 Le (1-benzhydryl-azétidin-3-yl)-phényl-méthanone O-méthyl oxime, mélange des 2 isomères Z et E, peut être préparé en opérant de la façon suivante : A une suspension de 0,80 g de 1-benzhydryl 3-benzoyl azétidine dans 30 cm3 d'éthanol, on ajoute 0,286 g de chlorhydrate de O-méthylhydroxylamine, et 0,32 g d'acétate de sodium. Après 24 heures d'agitation à la température du reflux, le mélange réactionnel est laissé refroidir à température ordinaire, et filtré. Le filtrat est concentré à sec à 50 C sous pression réduite (2,7 kPa). Le résidu est repris par 100 cm3 de dichlorométhane, et la solution est additionnée de 20 cm3 d'eau et d'acide chlorhydrique 1 N en agitant jusqu'à pH acide. La phase organique est décantée, séchée sur sulfate de magnésium, puis filtrée et concentrée à sec sous pression réduite (2,7 kPa).
Le résidu est chromatographié sur une colonne de gel de silice (granulométrie 0,063-0,200 mm, hauteur 36 cm, diamètre 3,8 cm), en éluant sous une pression de 0,5 bar d'argon avec un mélange de cyclohexane et d'acétate d'éthyle (95/5,92/8 puis 80/20 en volumes) et en recueillant des fractions de 30 cm3. Les fractions 8 à 14 sont réunies et concentrées à sec sous pression réduite (2,7 kPa). On obtient 0,20 g de (1-benzhydryl-azétidin- 3-yl)-phényl-méthanone O-méthyl oxime, mélange des 2 isomères Z et E, sous la forme d'un solide blanc [Spectre de R.M.N. 'H (250 MHz, (CD3)2S0 d6, d en ppm). On observe un mélange d' isomère 65/35, * 2,68-3,02 et de 3,25 à 3,90 (mts : 5H en totalité); 3,76 et 3,80 (2s : 3H en totalité); 4,26 et 4,38 (2s : 1 H en totalité); de 7,10 à 7,50 (mt : 15H) ].
La 1-benzhydryl 3-benzoyl azétidine peut être préparée en opérant de la façon suivante: A une solution refroidie à 0 C de 11,5 g d'acide (1benzhydryl-azétidin-3-yl)carboxylique-N-méthoxy-N-méthylamide dans 350 cm3 de tétrahydrofuranne, on coule goutte à goutte sous argon 112 cm3 d'une solution 1 M de bromure de phénylmagnésien dans le tétrahydrofuranne, puis laisse revenir le mélange à température ordinaire. Après 20 heures d'agitation à 20 C, le mélange réactionnel est additionné de 400 cm3 d'une solution aqueuse saturée de chlorure d'ammonium, puis de 250 cm3 d'acétate d'éthyle. Après agitation, le mélange est décanté, la phase aqueuse réextraite avec 250 cm3 d'acétate d'éthyle, et les deux phases organiques réunies sont lavées par 2 fois 250 cm3 d'eau, séchées sur sulfate de magnésium, puis filtrées et concentrées à sec à 50 C sous pression réduite (2,7 kPa). Le résidu est agité avec 50 cm3 d'oxyde de diisopropyle, la suspension est filtrée, le solide essoré, puis séché sous pression réduite (2,7 kPa). On obtient 9,76 g de 1-benzhydryl 3-benzoyl azétidine, sous la forme d'un solide crème.
L'acide (1-benzhydryl-azétidin-3-yl)carboxylique-N-méthoxy-N-méthylamide peut être préparé en opérant de la façon suivante : A une suspension de
4,0 g de chlorhydrate de N,O-diméthylhydroxylamine dans 250 cm3 de dichlorométhane, on ajoute en agitant 13,35 g d'acide (1-benzhydryl-azétidin- 3-yl)carboxylique, et 1,0 g d'hydrate d'hydroxybenzotriazole. A ce mélange mis sous argon et refroidi à +5 C, on ajoute 6,92 g de chlorhydrate de 1-(3diméthylaminopropyl) 3-éthylcarbodiimide et 8,8 cm3 de N,Ndiisopropyléthylamine. Après 3 heures d'agitation à +5 C puis 20 heures à 20 C, le mélange réactionnel est additionné de 200 cm3d'eau, puis décanté.
La phase organique est lavée par 300 cm3 d'eau, séchée sur sulfate de magnésium, filtrée, puis concentrée à sec sous pression réduite (2,7 kPa). Le résidu est agité avec 100 cm3 d'oxyde de diisopropyle, la suspension filtrée, et le solide est essoré, puis séché sous pression réduite (2,7 kPa). On obtient 10,76 g d'acide (1-benzhydryl-azétidin-3-yl)carboxylique-N-méthoxy-N-méthyl amide, sous la forme d'un solide crème.
L'acide (1-benzhydryl-azétidin-3-yl)carboxylique peut être préparé en opérant de la façon suivante : A une suspension refroidie à +5 C de 14 g de (1benzhydryl-azétidin-3-yl)carbonitrile dans 140 cm3 de 2-éthoxyéthanol on coule goutte à goutte une solution de 11g d'hydroxyde de potassium dans 9 cm3 d'eau, puis chauffe le mélange à 95 C. Après 16 heures d'agitation à cette température, le mélange réactionnel est versé lentement en agitant sur de la glace, et laissé à 0 C pendant 68 heures puis concentré à sec à sec à 50 C sous pression réduite (2,7 kPa). Le résidu est repris par 400 cm3 d'eau, la solution est acidifiée jusqu'à pH 4 avec de l'acide chlorhydrique 6N, puis additionnée de 400 cm3 d'acétate d'éthyle. La suspension résultante est filtrée, le solide essoré, puis séché à 50 C sous pression réduite (2,7 kPa).
On obtient 13,55 g d'acide (1-benzhydryl-azétidin-3-yl)carboxylique, sous la forme d'un solide crème.
Le (1-benzhydryl-azétidin-3-yl)carbonitrile peut être préparé en opérant de la façon suivante : A une solution de 40 g de méthylsulfonate de 1-benzhydrylazétidin-3-yle dans 350 cm3 de N,N-diméthylformamide, on ajoute goutte à
goutte une solution de 18,54 g de cyanure de sodium dans 25 cm3 d'eau puis chauffe le mélange à 65 C. Après 24 heures d'agitation à 65 C, le mélange réactionnel, laissé revenir à température ordinaire, est versé ensuite en agitant dans un mélange de 550 cm3 d'eau et de 300 g de glace. La suspension obtenue est filtrée, le solide est lavé par 3 fois 110 cm3 d'eau, puis dissous dans 350 cm3 de dichlorométhane. La solution est séchée sur sulfate de magnésium, filtrée, et concentrée à sec sous pression réduite (2,7 kPa). Le résidu est agité avec 200 cm3 d'oxyde de diisopropyle, la suspension filtrée, le solide essoré puis séché sous pression réduite (2,7 kPa). On obtient 28,4 g de (1-benzhydryl-azétidin-3-yl)carbonitrile, sous la forme d'un solide rose crème.
Le méthylsulfonate de 1-benzhydryl-azétidin-3-yle peut être préparé en opérant à partir de 100 g de 1-benzhydryl-azétidin-3-ol, de 800 cm3 de dichlorométhane, de 31 cm3 de chlorure de méthylsulfonyle et de 35 cm3 de pyridine. Le produit brut obtenu est chromatographié sur une colonne de gel de silice (granulométrie 0,063-0,200 mm, hauteur 50 cm, diamètre 11cm), en éluant sous une pression de 0,5 bar d'argon avec un mélange de cyclohexane et d'acétate d'éthyle (80/20,75/25, puis 70/30 et 60/40 en volumes) et en recueillant des fractions de 1 litre. Les fractions 12 à 31 sont réunies et concentrées à sec sous pression réduite (2,7 Kpa). On obtient 66 g de méthylsulfonate de 1-benzhydryl-azétidin-3-yle, sous la forme d'un solide blanc jaune.
Le 1-benzhydryl-azétidin-3-ol peut être préparé en opérant comme il est décrit par Alan R. KATRITZKY et coll, dans J. Heterocyclic Chem.; 31,271 (1994).
Plus précisément, l'invention a pour objet un procède de contrôle de l'uniformité de traitement de surface d'un substrat par faisceau de particules, dans lequel une mesure instantanée du nombre de photons émis par l'interaction du faisceau de particules sur la surface est effectuée en liaison avec une détection par imagerie de l'émission photonique en chaque zone élémentaire de la surface définie à partir de la résolution de l'image formée, pendant toute la durée du traitement, une variation de cette mesure étant ensuite déterminée en fonction de la position des zones d'émission, afin de déterminer une moyenne de la distribution spatiale d'intensité d'émission et de mesurer un défaut d'uniformité de traitement proportionnellement à l'écart à cette moyenne.
La détection instantanée de défauts présente, dans certaines situations, un avantage décisif du fait qu'il n'est pas toujours possible de détecter une anomalie avant que la puce ne soit terminée. Or il peut s'écouler plusieurs mois entre l'étape de fabrication défectueuse et la sortie du produit. Cela signifie qu'en l'absence de mesures in situ, plusieurs mois de production peuvent être perdus avant que le système de traitement de surface soit réparé.
Un tel contrôle permet de rendre compte de l'uniformité spatiale un traitement particulaire qui intervient en tout point de la surface du substrat, par exemple l'épaisseur couche d'oxyde formée ou de diélectrique gravé, la densité des nano-points ou l'insolation du réticule.
Selon un mode de réalisation particulier, le procédé comporte une etape de réglage ou d'arrêt du traitement lorsque le defaut d'uniformité est supérieur à une valeur critique prédéterminée. Dans un autre mode de réalisation, le procédé comporte une étape de mesure de l'énergie photons détectés localement et, en option, du nombre photons émis ' au moins un niveau d'énergie donné, afin suivre l'état d'avancement du traitement, et d'ajuster ou arrêter le traitement lorsque cette énergie ou nombre varie au-delà d'un écart prédéterminé sur une période de temps donnée. Une telle variation traduit en effet un changement d'état de la surface, par exemple la fin de la gravure d'une couche superficielle de diélectrique dans le de la formation de micromotifs.
Par exemple, dans la gravure d'une couche de Si0-? sur un substrat de silicium, les photons émis lors de l'interaction des ions avec le SiO2 n'ont pas la même énergie que les photons émis lors de l'interaction avec le silicium. I1 est donc possible de décider de n'arrêter la gravure que lorsqu'il n'y a plus aucun photon détecté dont 'énergie correspond à une interaction avec le SiO>, soit lorsque tout le Si0z a été enlevé. Cela évite de piloter la gravure "en aveugle".
Selon d'autres modes de réalisation particuliers - la mesure de l'uniformité du traitement du substrat est enregistrée pour tracer l'historique des parametres des applications successives subis par chaque tranche passant sur la ligne de production ; un tel enregistrement permet de contrôler la qualité de la production ; - une analyse de la distribution spatiale de l'intensité émise détermine un défaut d'uniformité local et une modulation de balayage correspondante du faisceau de particules afin de corriger ce défaut ; cette analyse
s'applique plus particulièrement dans le cas de gravure ou d'insolation de réticule ; - des moyens de sélection de particules asservis à l'analyse précédente permet corriger également défaut d'uniformité ; une sélection fine des particules vitesse et en direction peut effet être réalisée par des moyens de filtrage ; les moyens de collimation sont constitués préférentiellement par une série de caches réglables, par exemple des diaphragmes, pour ajuster localement le flux de particules afin de compenser défaut d'uniformité. Lorsque 1e traitement par les particules a été rendu uniforme, le résultat obtenu par le traitement a la même uniformité. On dispose ainsi d'un paramètre significatif, qui est une mesure physique, alors qu'habituellement les paramètres enregistrés sont des paramètres "machine" (temps d'exposition, courant électrique, pression dans l'enceinte, pression partielle de certains contaminants, ...) . invention se rapporte également à un équipement de contrôle pour mettre en aeuvre ce procédé. Un tel équipement peut comporter comme detecteur de photons au moins une caméra numérique appareil photonumérique, en particulier une caméra à capteurs à couplage charges de type CCD ( charge coupled device terminologie anglo-saxonne), couplée à une unité de traitement du signal et de gestion des données. D'autres détecteurs de photons peuvent être utilisés, tels que les intensificateurs d'image pour vision nocturne, par exemple par décharge électronique (à chaneltron).
Pour améliorer la sensibilité du détecteur de photons, celui-ci peut être refroidi par divers moyens tels qu'un dispositif à effet Peltier, c'est-à-dire thermoélectronique, ou une enceinte refroidie par fluide cryogénique, par exemple de l'azote liquide tout fluide de refroidissement. Un tel détecteur mesure l'intensité et longueur d'onde de la lumière émise en chaque zone de la surface traitée correspondant à chacun de ses pixels, lorsqu'il est de type couleur. Une caméra en noir et blanc permet de mesurer que l'intensité lumineuse mais peut presenter, à coût égal, une sensibilité supérieure. Le calibrage du détecteur permet de déterminer le rapport entre l'intensité lumineuse détectée et le nombre de photons reçus. Ce rapport permet de déduire nombre de photons émis dans chaque zone correspondante la surface traitée. L'unité de traitement des données détermine l'évolution de l'intensité des couleurs dominantes, qui permet de suivre l'évolution du traitement d'ajuster ou arrêter ce traitement lorsque ce rapport varie sensiblement. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaîtront ci-après à la lecture d'un mode de réalisation détaillé qui suit, en liaison avec les figures annexées qui représentent, respectivement - la figure 1, un schéma d'un exemple d'équipement de mise en #uvre du procédé de contrôle selon l'invention ; et - la figure 2, un diagramme de la courbe de variation 3D de l'intensité d'émission photonique,
obtenue lors de la gravure d'un substrat, en fonction de la position de la zone d'émission. Comme illustré en figure 1, un faisceau F d'ions est dirigé à l'aide d'un système de balayage (non representé) sur un substrat semi-conducteur formé d'une tranche 100 de silicium, comportant une couche superficielle de matériau diélectrique 101 à graver, en Si02 dans l'exemple de réalisation, sur un substrat de silicium pour réaliser des micromotifs de circuits intégrés. ions Ar8+, générés par une source d'ions ECR (non représentée), sont d'abord sélectionnés en direction, densité et charge, par des moyens électromagnétiques adaptés et connus de l'homme de l' pour former un faisceau homogène et parallèle. faisceau est ensuite filtré à travers un masque réticule pour ne conserver que les ions aptes à former la gravure selon les micromotifs. Le faisceau F ainsi filtré est ralenti par un champ électrique avant d'interagir avec 1a couche superficielle 101. Lorsqu'un ion Ar8+ interagit avec la couche 101, c'est-à-dire pénètre dans une zone dite de capture électronique située à environ 2 nm au-dessus la couche, cet ion commence à capturer les électrons du substrat. I1 y a émission de photons 1 dans cette zone de capture, provenant soit de la couche superficielle, soit de l'ion, soit du système quasi moléculaire formé par l'ion et les atomes de la couche, soit des particules arrachées à la surface. Dans l'exemple illustre, l'interaction d'ions Ar8+ avec 1a couche de SiO, produit des photons bleus. Une caméra à capteurs CCD 103 est placée à dizaine de centimètres du substrat 100 et mesure, au
travers d'une optique adaptée qui embrasse toute la surface du substrat, l'intensité lumineuse proportionnellement au nombre de photons 1 émis dans bande de fréquences donnée, allant du visible au proche infrarouge. C'est une mesure in situ, qui a lieu lors l'interaction du faisceau d'ions avec 1e substrat. Le nombre de photons ainsi produit est mesuré, à un coefficient multiplicateur près, par le niveau de signal S obtenu en sortie de la caméra 103. La caméra fournit successivement le niveau de signal d'intensité lumineuse de chaque capteur photosensible formant pixel d'image, et correspondant à une zone élémentaire la surface visualisée localisée par ses coordonnées (X, La dimension des zones élémentaires est déterminée par la résolution de la caméra. Le signal est traité par une unité de traitement et de gestion 104 qui commande la caméra, mémorise successivement le niveau du signal S en fonction de localisation, et calcule le nombre de photons correspondant. L'unité de gestion est programmée par logiciels adaptés afin d'automatiser l'ensemble mesures et des commandes. Comme illustré dans 1e repère X-Y-Z de figure 2, les mesures d'intensité permettent d'obtenir courbe représentative C du défaut d'uniformité en portant, sur l'axe Z, la variation du nombre de photons émis en fonction de la position de la zone élémentaire d'émission, repérée dans le plan X-Y. L'unité de gestion calcule la moyenne de la distribution spatiale d'intensité obtenue, l'écart - type 6 à cette moyenne, et le défaut d'uniformité à 2, 3 ou 5
6 selon le degré d'uniformité que l'on souhaite atteindre. Avec un capteur CCD de plusieurs millions de pixels situé ' une dizaine de centimètres du substrat, il est possible d'obtenir une résolution, donc un contrôle de qualité de gravure, de l'ordre quelques micromètres. Dans l'exemple, les résultats ont fourni un défaut d'uniformité de 5 %. Dans un système de production micro électronique tel qu'une machine de gravure, cet équipement permet de détecter instantanément l'apparition d'une anomalie dans le fonctionnement de la machine, la mesure se faisant in situ, en cours de traitement. Lorsque le défaut d'uniformité instantanée supérieur à un seuil fixé, par exemple à 5 ., l'unite de gestion intervient automatiquement sur le système de balayage du faisceau d'ions F pour corriger l'intensité du balayage de manière asservie à la valeur de ce défaut. Les logiciels d'asservissement sont connus de l'homme de l'art. L'invention n'est pas limitée exemples décrits et représentés. Le procédé et l'équipement selon l'invention peuvent être appliqués au contrôle de l'uniformité de tout traitement de surface ou matériau par des particules chargées, que ce soient des ions monochargés, multichargés, ou des électrons. Afin d'augmenter la résolution de la détection, pour atteindre des valeurs micrométriques, la caméra peut focaliser en zoom sur une partie de la surface à traiter. Le balayage de cette surface par la caméra peut alors être synchronisé sur le balayage du faisceau de particules. Par exemple, dans le cas d'une insolation de substrat par unité de gravure, la caméra peut être montée sur un plateau motorisé et asservi aux zones successivement irradiées. Il également possible d'utiliser plusieurs caméras monochromatiques, équipées par exemple de filtres, et combinées à un prisme ou une lame séparatrice en longueurs d'onde L' éa_uipement peut être utilisé avec tout type de substrat, car la majorité des interactions particules - surfaces produisent de la lumière Le traitement de matériaux autres que Si02 peut également être contrôlé par le procédé selon l'invention, exemple tous les matériaux semi-conducteurs, tels que Si, Ge, AsGa, SiC, SiGe, ou d'autres matériaux conducteurs tels que Cu, C, Al, Ti, etc., ou des diélectriques tels que Ti02, Ta205, Zr02, Hf02, etc., dans le domaine de microélectronique, mais aussi la silice (le verre) les polymères (les plastiques) pour les prochaines genérations de circuits intégrés, ainsi que pour la biologie.
PROCEDE D'EGALISATION DANS DES RECEPTEURS UTILISANT UNE COMBINAISON DES TECHNIQUES DE MODULATIONS A PORTEUSES MULTIPLES ET A ACCES MULTIPLE PAR REPARTITION DE CODES. 1. Domaine genéral de l'invention Le domaine de l'invention est celui de la transmission, et plus précisément de la réception, de signaux numériques multiporteuses. L'invention concerne - sentiellement l'égalisation, ou la détection, dans des récepteurs de signaux repo sant sur une combinaison des techniques de modulation à porteuses multiples et accès multiple répartition de codes.
Le développement et la mise au point de techniques permettant le transfert de données multimédia à haut débit pour un grand nombre d'utilisateurs simul tanés est primordiale pour les générations futures de communications hertziennes. Le but recherché est de développer de nouvelles techniques de transmissions hert ziennes permettant de satisfaire toujours mieux aux contraintes d'efficacité spec trale liées à la pénurie du spectre et au nombre croissant d'utilisateurs.
Une approche connue consiste à rechercher une combinaison optimale des techniques de modulations à porteuses multiples à grande efficacité spectrale type OFDM) et des techniques d'Accès Multiples par Répartition de Codes (de type AMRC). nouvelles techniques pourront s'appliquer aussi bien aux syst èmes de radiocommunications mobiles (de type UMTS et post UMTS) qu'aux systèmes de communications à l'intérieur des bâtiments pour en augmenter la ro bustesse et la capacité de transmission.
2. Etat de l'art 2.1 Contexte scientifique Depuis 1993, quelques contributions proposant une combinaison des techni ques de modulations à porteuses multiples et à étalement de spectre ont été pu bliées par quelques équipes internationales [1]. Ainsi, il existe trois familles de systèmes de transmission connues à ce jour combinant les techniques OFDM et AMRC : l'AMRC multiporteuses ou MC-CDMA (Multi-Carrier CDMA), l'AMRC multipilotes ou MT-CDMA (Multi-Tone CDMA) et l'AMRC multipor- teuses à séquence directe ou MC-DS-CDMA (Multi-Carrier Direct-Sequence CDMA). Elles se distinguent par la manière dont elles combinent fonctions OFDM et AMRC, par leur technique d'étalement ou d'accès multiples et par leur répartition fréquentielle.
L'invention proposée s'applique notamment, mais non exclusivement, à la pre mière de ces familles, l'AMRC multiporteuses ou MC-CDMA.
*Demande de verrou R L'hypothèse est qu'un objet 0 chez un client C demande le verrou R sur l'objet dont il veut connaître l'état (s'il ne le connaît pas déjà).
Synthèse de polymères Exemple 2-1 Dans un récipient réactionnel, on introduit 26 g de dinorbornènecarboxylate de t- butyle, 19,6 g d'anhydride maléique, 38,8 g de méthacrylate de 2-méthyl-2- norbornyle, 24,6 g de norbornènecarboxylate de 2-méthyl-2-norbornyle, 10,9 g de V-601 (2,2'-azobisisobutyrate de diméthyle) et 190,8 g de THF, et on porte au reflux pendant 10 heures. On verse la solution réactionnelle dans une solution mixte de 1000 ml de n-hexane et de 1000 ml d'isopropanol pour former des précipités. Puis on filtre le mélange réactionnel et on le sèche, ce qui donne 55,8 g d'un copolymère sous la forme d'un solide blanc. La Tg (température de transition vitreuse) du copolymère (résine) est de 155 C (analysée par DSC), la Td (température de décomposition) est de 223 C (analysée par TGA), la masse moléculaire moyenne en masse est de 5260 (analysée par CPG), et le taux de conversion est de 51,18 %.
Exemples 2-2 à 2-10 On emploie les mêmes modes opératoires que ceux décrits dans l'Exemple 2-1, sauf que l'on change les réactifs conformément au Tableau 1. Les résultats sont également présentés dans le Tableau 1.
Tableau 1 Exemple 2-1 2-2 2-3 2-4 2-5 2-6 2-7 2-8 2-9 2-10 Réactifs (g) -72-9 2-10 MA 19,6 19,6 19,6 32,3 32,3 34,3 34,3 19,6 19,6 19,6 NROMA 38,8 -- -- -- 65,9 29,1 38,8 -- 38,8 -NORA -- - - 61,2 - - - 36 36 NONB 24,6 49,6 49,6 81,2 81,2 86,1 86,1 24,6 TBNB -- -- -- -- -- -- -- -- TBMA -- -- 28,4 -- -- -- -- -- -DTBNB 26-- -- -- -- -- 52 52 26 IBMA -- -- -- -- -- 44,4 33,3 -- -- -V-601 10,9 6,92 9,76 17,47 17,9 19,4 19,3 10,7 11,0 10,6 THF 190,8 69,2 97,6 174,7 179,4 194 193 107 110 106 Td( C) 223 226 196 229 247 224 221 227 213 236 Tg( C) 155 166 146 156 174 164 153 181 184 146 Mw 5260 2700 7200 5012 4120 5700 5200 4100 5500 3500
Légendes du Tableau 1 MA Anhydride maléique NORMA Méthacrylate de 2-méthyl-2-norbornyle NORA Acrylate de 2-méthyl-2-norbornyle NONB Norbornènecarboxylate de 2-méthyl-2-norbornyle TBNB Norbornènecarboxylate de t-butyle TBMA Méthacrylate de t-butyle DTBNB Dinorbornènecarboxylate de t-butyle IBMA Méthacrylate d'isobornyle Préparation de réserves Exemple 3-1 On dissout 3 g de la résine obtenue dans l'Exemple 2-1,0,075 g de nonafluorosulfate de triphénylsulfonium (PAG ; générateur de photoacide), 1,71 g de 1-pipéridinyléthanol (base neutralisante), et 0,15 g de cholate de t-butyle . (additif) dans 15,1 g de méthyloxyacétate de propylèneglycol (PGMEA), et on agite pendant 12 heures. On filtre le mélange à travers un filtre de 0,4 m. On applique le filtrat sur une galette de 8 pouces par revêtement centrifuge à 2000 t/min et on cuit doucement à 140 C. On mesure par Nanospec que l'épaisseur de film est de 4850 25 A, indiquant que les propriétés du film sont bonnes.
Exemples 3-2 à 3-15 On emploie les mêmes modes opératoires que ceux décrits dans l'Exemple 3-1, sauf que l'on change la résine utilisée conformément au Tableau 2.