INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
En particulier, on observe qu'il est souhaitable d'éviter, outre la situation a(x)=x7'.g(x), a*(x) =x 7j. g(x), mentionnée ci-dessus, toute situation du type a(x)=(x'+x'+x').g(x) et a*(x)=(x'*+x'*+xk*).g(x) car le poids de la séquence codée correspondante est égal à 30, et donc strictement inférieur à 34, qui est la distance minimale souhaitée.
Une permutation des sous-colonnes de A* qui évite la première des situations défavorables qui viennent d'être évoquées est représentée à la figure 6. La présence dans la figure 6 de la paire (il, l2) dans la position occupée à la
figure 5 par la paire (k1, k2) veut dire que la sous-colonne (A*)k1k2 est déplacée dans la position préalablement occupée par la sous-colonne (A*)l1l2. En particulier, dans l'exemple donné, la sous-colonne (A*)01 est déplacée dans la position initiale de (A *)5', la sous-colonne (A *) 2 est déplacée dans la position initiale de (A*)32, la sous-colonne (A*)03 est déplacée dans la position initiale de (A*)3', ..., , la sous-colonne (A*)10 reste où elle est, ..., , la sous-colonne (A*)66 est déplacée dans la position initiale de (A*)16.
Cette permutation a toutefois le défaut de ne pas éviter la seconde situation défavorable mentionnée ci-dessus. En effet, avec q=rll, g(x), fi(x), et f2(x) comme ci-dessus, la séquence a(x=(x3l+'+xs'+j+xGl).g(x) produit a*(x)=(>?+yr+2+x6r).g(X), et on vérifie que la séquence codée correspondante à un poids de 30.
Considérons, au contraire, la permutation des sous-colonnes de A* entre elles qui est donnée à la figure 7. Dans ce cas la seconde situation défavorable mentionnée ci-dessus est également évitée. En conséquence l'entrelaceur global induit par la figure 7 élimine du code beaucoup de séquences de poids # 30 et les remplace par des séquences de poids #34.
Voici quelques détails sur la façon de trouver des permutations ayant cet effet. Dans ce but nous simplifions et généralisons les représentations des figures 5,6 et 7. Comme simplification nous omettons le second nombre l2 dans chaque paire l1,l2, car la valeur de l2 n'est pas modifiée par les permutations que nous considérons. Comme généralisation, nous acceptons que q puisse être strictement supérieur au nombre de colonnes. Avec ces deux conventions et q=8, une permutation des sous-colonnes entre elles qui a l'effet souhaité est donnée à la figure 8.
On peut alors démontrer la propriété suivante : La deuxième situation défavorable mentionnée ci-dessus est évitée si il est impossible de trouver 9 paires (it, jt), (ir, lr+2) (lr jt+3) pour t compris entre 1 et 3, où les ir et les jr, sont des nombres entiers satisfaisant 0 S it s q-1 et 0 s h s 6 et où les additions se font modulo 7, telles que lorsque ces paires sont considérées comme les indices de ligne et de colonne des éléments de la matrice donnée à la figure 8, il y a exactement trois entiers différents
apparaissant chacun dans trois des neuf positions ainsi obtenues. La matrice représentée à la figure 8 évite bien cette situation défavorable ainsi qu'on peut le vérifier par un programme en langage MATLAB fourni en appendice.
De manière à améliorer encore le turbocode, on choisit d'utiliser un entrelaceur verrou différent pour chaque colonne de A.
Considérons le cas où chaque sous-colonne Al1l2 contient 49 éléments, où A contient 7 colonnes et où chaque colonne contient 7 sous-colonnes. La longueur de la séquence a(x) correspondante est donc égale à 49 x 7 x 7 = 2401.
On choisit de construire la matrice A* en permutant entre elles les souscolonnes de chaque colonne suivant la règle représentée par la figure 7.
(iii) Tensioactif(s) amphotère(s) ou zwittérionique(s) : Les agents tensioactifs amphotères ou zwitterioniques, dont la nature ne revet pas dans le cadre de la présente invention de caractère critique, peuvent être notamment (liste non limitative) des dérivés d'amines secondaires ou tertiaires aliphatiques, dans lesquels le radical aliphatique est une chaîne linéaire ou ramifiée comportant 8 à 18 atomes de carbone et contenant au moins un groupe anionique hydrosolubilisant (par exemple carboxylate, sulfonate, sulfate, phosphate ou phosphonate) ; peut citer encore les alkyl (C8-C20) bétaïnes, les sulfobétaïnes, les alkyl (C8-C20) amidoalkyl (C1-C6) betaïnes ou les alkyl (C8C20) amidoalkyl (C1-C6) sulfobétaïnes.
Parmi les dérivés d'amines, on peut citer les produits vendus sous la dénomination MIRANOL, tels que décrits dans les brevets US-2 528 378 et US-2 781 354 et classés dans le dictionnaire CTFA, 3ème édition, 1982, sous les dénominations Amphocarboxyglycinates et Amphocarboxypropionates de structures respectives : R34-CONHCH2CH2 -N(R35)(R36)(CH2COO-) dans laquelle : R34 désigne un radical alkyle d'un acide R34-COOH présent dans l'huile de coprah hydrolysée, un radical heptyle, nonyle ou undécyle, R35 désigne un groupement bêta-hydroxyéthyle et R36 un groupement carboxyméthyle ; et
R34'-CONHCH2CH2-N(B)(C) dans laquelle : B représente -CH2CH20X', C représente -(CH2)z -Y', avec z = 1 ou 2, X' désigne le groupement-CH2CH2-COOH ou un atome d'hydrogène Y' désigne -COOH ou le radical -CH2 - CHOH - S03H R34' désigne un radical alkyle d'un acide R37 -COOH présent dans l'huile de coprah ou dans l'huile de lin hydrolysée, un radical alkyle, notamment en C7, Cg, Ci ou C13, un radical alkyle en C17 et sa forme iso, un radical C17 insaturé.
Les quantités d'agents tensioactifs présents dans la composition prête à l'emploi selon l'invention peuvent varier de 0,01 à 40% et de préférence de 0,1à 30% du poids total de la composition.
Parmi les agents alcalinisants on peut citer, à titre d'exemple, l'ammoniaque, le chlorure d'ammonium, les carbonates alcalins ou alcalino-terreux, les silicates alcalins ou alcalino-terreux, les phosphates alcalins ou alcalino-terreux, les alcanolamines telles que les mono-, di- et triéthanolamines ainsi que leurs dérivés, les hydroxydes de sodium ou de potassium et les composés de formule (XIX) suivante : dans laquelle R est un reste propylène éventuellement substitué par un groupement hydroxyle ou un radical alkyle en C1-C4 ; R38, R39, R40 et R41, identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène, un radical alkyle en C1-C4 ou hydroxyalkyle en C1-C4.
La carie dentaire est une maladie infectieuse très répandue dans l'espèce humaine. Elle est due à la présence dans la cavité buccale de micro-organismes bactériens, les streptococcus mutans principalement, qui vont coloniser les surfaces dentaires pour former la plaque dentaire.
L'épaississement de la plaque dentaire par les bactéries est fonction de l'apport alimentaire en sucre (saccharose principalement), car les bactéries possèdent toutes les enzymes de la glycolyse.
Ainsi, l'analyse de la plaque épaissie fait apparaître des polysaccharides issus du métabolisme bactérien du saccharose et qui forment l'essentiel de la matrice.
On distingue Polysaccharides extra cellulaires A. Solubles - Dextranes polymères du glucose formant des chaînes linéaires a-1,6 et des branchements multiples a-1,3 et parfois a-1,2.
- Levanes polymères linéaires et parfois ramifiés du fructose. La liaison osidique est de type P-2,6 et P-2,4.
- Glucanes : homopolymères du glucose. B. Insolubles - Mutanes : polymères du glucose a-1,3 et parfois a-1,6 Polysaccharides intrabactériens - Amylopectine :polymères linéaires du glucose formant des chaînes a-1,4 et des branchements en a-1,6.
La plaque dentaire La plaque dentaire débute par la formation d'un film organique a cellulaire composé d'acides aminés et de glycoprotéines d'origine salivaire et bactérienne. Cette pellicule permanente et non pathogène n@évolue pas si l'alimentation est pauvre en saccharose. Par contre, elle évolue en épaisseur par agglutination et formation de plusieurs couches de glycoprotéines solubles et insolubles à cause drun régime alimentaire riche en sucre.
Les études réalisées en hygiène bucco-dentaire ont permis de mettre en évidence 1a présence de plusieurs souches bactériennes dont le métabolisme glucidique est en grande partie responsable de 1a formation de la plaque dentaire.
L'alimentation sucrée et la flore bucco-pharyngée constituée principalement par des streptococcus mutans, sanguis et viscosiis, vont hydrolyser les polysaccharides extra cellulaires en fructose et glucose, éléments monomères assemblés par les enzymes bactériennes pour former des chafnes solubles dans un premier temps, et des dextranes insolubles ou mutanes dans un second temps. Des glucanes et levanes contribuent également à la formation de la matrice Glucose : dextranes, mutanes et glucanes Fructose : Ievanes.
La plaque molle devient mature par accumulation de dextranes visqueuses colonisées par les bactéries (1o8 bactéries / mg). Métabolisme de la plaque La plaque vit en aérobiose dans un premier temps, pour rapidement être en anaérobiose à l'état mature.
Les levanes sont utilisées comme réserves hydrocarbonées par les bactéries, le saccharose apporté par l'alimentation diffuse à travers la matrice ainsi formée, et fournit le substrat énergétique nécessaire à la survie bactérienne.
Ce métabolisme glucidique de la plaque (glycolyse) aboutit à la formation diacide lactique dans les conditions anaérobie et provoque une baisse de pH, qui a une incidence directe sur le potentiel cariogène de la plaque dentaire.
La Glycolyse On désigne par glycolyse, la dégradation des sucres par les bactéries de 1a plaque dentaire, phénomène déterminant dans la pathogénicité de la carie dentaire.
A partir des sucres, les bactéries synthétisent des polysaccharides extracellulaires (dextranes), du glycogène intracellulaire pour satisfaire leur besoin énergétique, et de l'acide lactique. C'est l'acide lactique qui détruit les cristaux d'hydroxyapatite.
On désigne par antiglycolyse l'inhibition de la formation d'acide lactique à partir de sucres introduits dans la cavité buccale.
Les mécanismes de défense Les tissus buccaux sont constamment soumis à l'invasion bactérienne provenant de l'alimentation. C'est un environnement chaud et humide qui semble optimal pour assurer la croissance des germes.
Envoyer des informations au serveur, à l'aide d'une méthode du type clientCommunicationManager.send(methodName,argList) Où methodName est le nom de la méthode à appeler. argList est la liste des arguments de cette méthode.
# D'envoyer des informations au client, à l'aide du même type de méthode serverCommunicationManager.send(methodName,argList) Etablissement d'une connexion En référence maintenant à la figure 207, on observe que chaque serveur possède un composant Listener qui écoute les éventuelles demandes de connexion des postes clients. Lorsqu'une de ces demandes arrive, il provoque la création sur le serveur d'un composant réseau (ServerCommunicationManager) qui va dialoguer avec son correspondant sur le poste client (ici Clientl ou Client2). Il est constitué d'un routine qui écoute les différents messages pouvant provenir du poste client distant
A la connexion d'un client, le composant ServerCommunicationManager appelle la méthode newClient (connexionRef) l'objet Document du serveur. Cette méthode crée une instance de l'objet GbxClient, qui va être le représentant du poste client au sein du serveur. Au moment cette instance est créée, l'objet Document passe une référence sur lui-même à GbxClient. La référence de ce GbxClient va être retournée au composant réseau du serveur qui a commandé son instanciation.
On peut aussi utiliser des solutions ou dispersions de ces polymères notamment dans l'eau ou en milieu hydroalcoolique. A titre d'exemple, de tels polymères on peut citer, le SER-AD FX1010 et le SER-AD 1035 vendus par la société HULS, le Rhéolate 255, le Rhéolate 278 et le Rhéolate 244 vendus par la société RHEOX.
On peut aussi utiliser le produit DW 1206F et le DW 1206J.
Les polyuréthanes utilisables dans l'invention sont en particulier ceux décrits dans l'article de G. Fonnum, J. Bakke et Fk. Hansen - Colloid Polym. Sci 271,380.389 (1993; (4) les copolymères de vinyl pyrrolidone et de monomères hydrophobes à chaîne grasse ; on peut citer à titre d'exemple : - les produits ANTARON V216 ou GANEX V216 (copolymère vinylpyrrolidone / hexadécène) vendu par la société I.S P.
Dans les compositions selon l'invention, la concentration en polymères nonioniques comportant au moins une séquence hydrophobe et au moins une séquence hydrophile est généralement comprise entre 0,01 et 10% et de préférence entre 0,1 et 5% en poids par rapport au poids total de la composition.
Les nanoémulsions selon la présente invention comprennent de préférence au moins un lipide amphiphile non ionique et/ou au moins un lipide amphiphile anionique.
Les lipides amphiphiles non-ioniques de l'invention sont préférentiellement choisis parmi : 1/- les tensioactifs siliconés, 2/- les lipides amphiphiles fluides à température inférieure ou égale à 45 C choisis parmi les esters d'au moins un polyol choisi dans le groupe formé par le polyéthylèneglycol comportant de 1 à 60 unités d'oxyde d'éthylène, le sorbitane, le glycérol comportant de 2 à 30 unités d'oxyde d'éthylène, les polyglycérols comportant de 2 à 15 unités de glycérol et d'au moins un acide gras comportant au moins une chaîne alkyle en C8-C22. saturée ou non saturée, linéaire ou ramifiée,
3/- les esters mixtes d'acide gras ou d'alcool gras, d'acide carboxylique et de glycérol 4/- les esters d'acide gras et de sucre et les éthers d'alcool gras et de sucre 5/- les tensioactifs solides à une température inférieure ou égale à 45 C, choisis parmi les esters gras de glycérol, les esters gras de sorbitan et les esters gras de sorbitan oxyéthylénés, les éthers gras éthoxylés et les esters gras éthoxylés 6/- Les copolymères blocs d'oxyde d'éthylène (A) et d'oxyde de propylène (B), 1/ Les tensioactifs siliconés utilisables selon l'invention sont des composés siliconés comportant au moins une chaîne oxyéthylénée -OCH2CH2- et/ou oxypropylénée -OCH2CH2CH2 . Comme tensioactifs siliconés pouvant être utilisés selon la présente invention, on peut citer ceux décrits dans les documents US-A- 5364633 et US-A-5411744.
De préférence, le tensioactif siliconé utilisé selon la présente invention est un composé de formule (1) : dans laquelle : R1, R2, R3, indépendamment les uns des autres, représentent un radical alkyle en C1-CS ou un radical -(chez - (OCH2CH2)y - (OCH2CH2CH2), - OR4, au moins un radical R1, R2 ou R3 n'étant pas un radical alkyle ; R4 étant un hydrogène, un radical alkyle ou un radical acyle ; A est un nombre entier allant de 0 à 200 ; B est un nombre entier allant de 0 à 50 ; à la condition que A et B ne soient pas égaux à zéro en même temps ; x est un nombre entier allant de 1 à 6 ; y est un nombre entier allant de 1 à 30 ; z est un nombre entier allant de 0 à 5.
Selon un mode de réalisation préféré de l'invention, dans le composé de formule (I), le radical alkyle est un radical méthyle, x est un nombre entier allant de 2 à 6 et y est un nombre entier allant de 4 à 30.
On peut citer, à titre d'exemple de tensioactifs siliconés de formule (1), les composés de formule (II) : dans laquelle A est un nombre entier allant de 20 à 105, B est un nombre entier allant de 2 à 10 et y est un nombre entier allant de 10 à 20.
On peut également citer à titre d'exemple de tensioactifs siliconés de formule (1), les composés de formule (III) : H - (OCH2CH2)y-(CH2)3 - [(GH3)2SiO]A' - (CHJ3 - (OCH2CH2)y - OH (III) dans laquelle A' et y sont des nombres entiers allant de 10 à 20.
On peut utiliser comme composés de l'invention ceux commercialisés par la société Dow Corning sous les dénominations DC 5329, DC 7439-146, DC 2-5695 et Q4-3667. Les composés DC 5329, DC 7439-146, DC 2-5695 sont des composés de formule (II) où respectivement A est 22, B est 2 et y est 12 ; est 103, B est 10 et y est 12 ; A est 27, B est 3 et y est 12.
Le composé Q4-3667 est un composé de formule (III) où A est 15 et y est 13.
Dans les grilles de guidage 40 et 50 peuvent donc être insérés des supports d'aliments avec les aliments se trouvant sur ceux-ci, aussi plusieurs supports d'aliments en même temps, à plusieurs niveaux par une ouverture d'alimentation 33 prévue au côté frontal du moufle de four 1, dans l'enceinte de cuisson 21.
Pour détecter la présence des grilles de guidage 40 et 50 dans l'enceinte de cuisson 21, il est prévu maintenant une installation de détection, qui comprend un détecteur 48 associé à l'ouverture 18' dans la paroi latérale 41 pour la grille de guidage 40 et un détecteur 58 associé à l'ouverture 191 dans la paroi latérale 5' pour la grille de guidage 50. Chacun des détecteurs 48 et 58 produit un signal de détection qui occupe un premier état (valeur) lors de la présence de l'extrémité supérieure 81 ou 9' de la tige de liaison associée 21, donc lorsque la grille de guidage 40 respectivement 50 est accrochée, et lors de l'absence de celle-ci, un deuxième état différent du premier état. Les signaux de détection des deux détecteurs 48 et 58 sont évalués par une installation de commande 66 qui commande la pyrolyse. L'installation de commande 66 établit une opération logique des deux signaux des détecteurs 48 et 58 de telle manière que la pyrolyse est déclenchée seulement lorsque les deux signaux de détecteur se trouvent dans leur deuxième état, donc lorsque les deux grilles de guidage 40 et 50 ne se trouvent pas à leurs positions associées dans l'enceinte de cuisson 21. De plus, l'installation de commande 66 peut également commander une installation d'indication, par exemple l'installation d'affichage 2 selon les figures 1 à 8 de la manière décrite ou bien les installations d'indication 27 et 28 selon la figure 9, pour l'information de l'opérateur.
Pour les détecteurs 48 et 58 associés aux ouvertures 181 ou 191 pour les grilles de guidage 40 ou 50 dans les parois latérales associées 4' ou 5' du moufle de four 1 peuvent être utilisés notamment des capteurs de position ou de présence sans contact (capteurs d'approche, détecteurs de proximité), par exemple des capteurs optiques, capacitifs et/ou inductifs ou aussi des capteurs de champ magnétique (capteurs magnétorésistifs ou Hall), ou également des capteurs à contact, par exemple des capteurs de pression comme des capteurs piézo-électriques ou piézorésistifs.
Les figures 12 et 13 représentent une installation de détection avec un levier détecteur 48 utilisable notamment dans le mode de réalisation selon la figure 9, qui actionne un micro-commutateur 47. Le micro- commutateur 47 est fixé sur une plaque de support 57 disposée derrière la paroi arrière 49 de l'enceinte de cuisson. Le levier détecteur 48 est actionnable par un élément d'actionnement disposé dans des guidages ou grilles de guidage non représentés, de préférence dans une direction s'étendant parallèlement à la paroi arrière 49. Dans la position extérieure du levier détecteur 48, le micro-commutateur accouplé 47 se trouve en une position de commutation qui correspond à la présence des guidages, et dans la position intérieure du levier détecteur 48 d'une manière correspondante dans une position de commutation qui signale l'absence des guidages.
PROCÉDÉ D'OBTENTION ET SOURCE DE RAYONNEMENT EXTRÊME ULTRAVIOLET, APPLICATION EN LITHOGRAPHIE DESCRIPTION DOMAINE TECHNIQUE La présente invention concerne un procédé d'obtention et une source de rayonnement extrême ultraviolet que l'on appelle également rayonnement EUV . Il s'agit d'un rayonnement dont la longueur d'onde est comprise dans le domaine allant de 8 nanomètres à 25 nanomètres.
La présente invention a de nombreuses applications notamment en science des matériaux, en microscopie et tout particulièrement en lithographie.
La présente invention concerne aussi un dispositif de lithographie utilisant la source de rayonnement EUV objet de l'invention.
L'utilisation d'un tel rayonnement permet de diminuer le pas de gravure des circuits intégrés et donc de fabriquer des circuits intégrés à très haut degré d'intégration. ÉTAT DE LA TECHNIQUE ANTÉRIEURE On rappelle qu'un dispositif de lithographie est destiné à insoler un échantillon suivant un motif ( pattern ) déterminé. Cet échantillon comprend en général un substrat semiconducteur sur lequel est déposée une couche de résine photosensible ( photoresist layer ) qui est destinée à être insolée suivant le motif déterminé.
Un dispositif de lithographie comprend - une source de rayonnement d'insolation, - un masque sur lequel est reproduit le motif à insoler avec un facteur de grandissement au moins égal à quatre, - un support d'échantillon, et - des moyens optiques qui permettent le transport du rayonnement d'une part entre la source et le masque et d'autre part entre le masque et l'échantillon.
On connaît principalement deux techniques de production d'un rayonnement EUV intense. Elles reposent toutes deux sur la collection des photons produits, grâce au processus microscopique d'émission spontanée, par un plasma chaud et peu dense qui est engendré au moyen d'un laser.
La première technique utilise un jet de xénon irradié par un laser YAG dont la puissance est voisine de 1 kW. En effet, lorsque la nature du gaz et les conditions de détente dans le vide ( vacuum ) sont bien choisies, il se crée naturellement dans le jet, par interaction à plusieurs corps, des agrégats ( clusters ). Ce sont des macro-particules qui peuvent contenir jusqu'à un million d'atomes et présentent une densité suffisamment élevée (environ un dixième de la densité du solide) pour absorber le faisceau laser et chauffer ainsi les atomes du gaz environnant qui peuvent alors, par fluorescence, émettre des photons. Le rayonnement EUV ou rayonnement X mou ainsi obtenu est collecté par des moyens optiques appropriés, est mis en forme spatialement à l'aide de plusieurs moyens optiques intermédiaires et irradie ensuite le masque. Les moyens optiques intermédiaires utilisés sont des miroirs multicouches qui présentent un pic élevé mais étroit (2 à 5% de bande passante suivant les multicouches considérées) de réflectivité au voisinage de la longueur d'onde EUV recherchée (par exemple 13,4 nm avec une alternance de couches de Mo et de couches de Si et 11,2 nm avec une alternance de couches de Mo et de couches de Be).
La deuxième technique utilise la couronne d'un plasma de numéro atomique élevé, obtenu par interaction d'un faisceau laser, qui provient d'un laser KrF et dont l'intensité est voisine de 1012 W/cm2, et d'une cible solide de forte épaisseur (au moins 2 0 jim) . Ceci est schématiquement illustré par la figure 1 où l'on voit cette cible solide 2 sur une face 4 de laquelle est focalisé le faisceau laser 6 par l'intermédiaire de moyens optiques de focalisation appropriés 8. On voit également sur la figure 1 le rayonnement EUV 10 engendré par interaction du faisceau laser focalisé et du matériau de la cible. Ce rayonnement est émis à partir de la face 4 appelée face avant et récupéré par des moyens optiques de collection appropriés 12.
Dans l'exemple représenté, ces moyens optiques de collection 12 sont disposés en regard de la face avant 4, comportent une ouverture 14 permettant le passage du faisceau laser focalisé et collectent le rayonnement EUV 10 pour l'envoyer vers d'autres moyens optiques (non représentés) afin d'utiliser ce rayonnement EUV. Le matériau le plus adapté à ce genre de source semble être le rhénium pour une émission au voisinage de 13,4 nm. Le taux de conversion obtenu avec ce matériau (rapport entre l'énergie radiative émise et l'énergie incidente) peut même atteindre 0,85% dans une bande passante de 2% autour de cette longueur d'onde de 13,4 nm. Cependant, l'énergie d'une telle source de rayonnement EUV est insuffisante car l'énergie laser, dans le cas des expériences citées, est seulement de l'ordre de 1J à quelques joules.
Mais c'est surtout l'efficacité de collection des photons qui est faible (de l'ordre de 10%) et qui fait que, au total, le rendement (photons utilisables/énergie laser) est trop faible. De plus, la détente de la cible est importante de sorte que des dispositifs spécifiques doivent être conçus pour éloigner des moyens optiques de collection les particules émises lors de l'interaction du faisceau laser et de la cible.