INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
L'invention a donc en outre pour objet des séquences nucléotidiques codant pour de nouvelles polykétides synthases de type # choisies parmi les polynucléotides comprenant l'une des séquences nucléotidiques SEQ ID N 30 à SEQ ID N 32.
Toujours sur cette figure 6, on remarque la présence d'un joint intermédiaire 30 disposé sur le dormant 1 et en particulier entre les profils 3 et 4 dudit dormant au niveau des barrettes 5 qui réalisent la rupture de pont thermique. Ce joint 30 à une section en forme, d'équerre -, il est réalisé en matériau plastique ou caoutchouc ; il prend appui sur la paroi 31 du profil 9' laquelle paroi se situe dans un plan qui est parallèle au plan du vitrage ou panneau selon cas. Cette paroi 31 se situe à mi-largeur du profil 9' et s'etend sur presque la moitié de la largeur du tenon 16.
Le joint 30 permet d'améliorer l'isolation-, il divise l'espace entre le dormant 1 et l'ouvrant 2 en deux chambres : une chambre interne 32 et une chambre externe 33.
La chambre 25 du profil aluminium 7 représenté figure 6, est plus réduite que dans les exemples précédents. Elle comporte cependant la même rainure 26 qui accueille le mécanisme de fermeture ou de manoeuvre et dans le cas représenté, une partie de la paumelle 34.
L'organisation du profil structurel 2 reste identique à celle qui était détaillée précédemment en liaison avec les figures 1 à 5. On retrouve autour de la chambre 25, le caisson 23 du côté de la contrefeuillure 22, la feuillure 11, la zone d'assemblage du profil plastique 9' et la rainure 26.
Les variations de la largeur du vitrage 10 sont absorbées, comme précédemment, par un simple déplacement de la contrefeuillure 22 et une modification du volume du caisson 23. La figure 7 montre un profil structurel 6 qui correspond à celui qui était détaillé figures 1 et 5, c'est-à-dire un profil structurel constitue pour partie d'un profil 7 en aluminium et pour partie d'un profil 9 en matériau plastique, lequel profil 9 est aménagé pour accueillir une pareclose 12.
Dans l'exemple de réalisation de la figure 7, comme précédemment figure 6, on retrouve le joint intermédiaire 30 qui divise l'espace entre le dormant et l'ouvrant 2, en deux chambres : une chambre interne 32 et une chambre externe 33.
Le joint intermédiaire 30 est solidaire du dormant 1 il est en contact avec la paroi 31 du profil plastique 9. La rainure 13 qui accueille une branche de la pareclose 12 s'étend vers l'extérieur en porte-à-faux à partir de cette paroi 31.
La figure 8 montre une variante de réalisation du profil plastique 9.
profil plastique 9 a une section dont la forme générale correspond à un L. L'une des branches de ce L comporte le tenon d'assemblage 16 alors que l'autre branche comporte sur son dos, la rainure 13 qui permet d'accueillir et de verrouiller la pareclose 12 laquelle rainure est définie par la paroi 15 qui se situe sensiblement dans le plan médian du tenon 16 et la paroi 14 qui forme le fond de feuillure.
La branche du profil 9 qui constitue le tenon 16, offre également une surface 31' qui peut coopérer avec un joint non représenté qui s'apparente au joint 30 de la figure 7 par exemple, pour former une étanchéité intermédiaire dans l'espace entre le dormant 1 et l'ouvrant 2.
La figure 9 représente une variante de la figure 8 c'est-à-dire une section horizontale d'une fenêtre ou porte-fenêtre avec un système de fiche platine 34. Cette variante montre un autre profil plastique 9. Ce profil plastique qui est toujours assemblé à l'extrémité du profil aluminium 7, a une section telle qu'on peut loger les branches des équerres d'assemblage d'angles. On remarque une branche 40 logée dans la cavité interne 41 du profil 9, laquelle cavité comporte au moins une section appropriée correspondant à la section de la branche 40, carrée ou rectangulaire ou autre.
La section générale de ce profil plastique 9 est rectangulaire. On retrouve le tenon 16 d'un côté et la rainure 13 sur le côté externe. La paroi d'extrémite 42 du profil 9 se situe dans le plan du dos de la pareclose 12 et, du côté dormant, on trouve une paroi 43 parallèle à la paroi 14 qui forme une partie fond de feuillure.
La figure 9 montre une pareclose 12 en matériau plastique en particulier en matériau thermoplastique du genre PVC munie d'un joint de vitrage et d'un joint de battue obtenus par coextrusion.
La figure 10 montre une pareclose 12 en aluminium de forme équivalente à celle représentée figure 9. Cette pareclose 12 est munie d'un joint monobloc de vitrage de battue, réalisée en matériau approprié du genre caoutchouc.
La figure 11 montre une variante de la figure 9 au niveau de laquelle le profil 9 est en forme de caisson et il est aménagé avec une rainure 44 orientée vers le vitrage ou panneau 10 de façon à accueillir une pareclose 12' dont la section est en forme de baïonnette. 4 La figure 12 montre l'utilisation d'une pareclose 12' dont la section est en forme de baïonnette, réalisée en aluminium, laquelle pareclose coopère avec un joint en matériau approprié du genre caoutchouc qui fait office de joint de vitrage et de joint de battue.
La figure 13 represente une variante de réalisation des figures précédentes dans laquelle le profil plastique 9 est en forme de caisson et il est muni d'une paroi 49 qui s'étend vers le dormant 1 et forme paroi de battue pour le joint 30 qui est associé audit dormant 1.
(6) Les polyaminoamides solubles dans l'eau préparés en particulier par polycondensation d'un composé acide avec une polyamine ; ces polyaminoamides peuvent être réticulés par une épihalohydrine, un diépoxyde, un
dianhydride, un dianhydride non saturé, un dérivé bis-insaturé, une bishalohydrine, un bis-azétidinium, une bis-haloacyldiamine, un bis-halogénure d'alkyle ou encore par un oligomère résultant de la réaction d'un composé bifonctionnel réactif vis-à-vis d'une bis-halohydrine, d'un bis-azétidinium, d'une bis-haloacyldiamine, d'un bis-halogénure d'alkyle, d'une épilhalohydrine, d'un diépoxyde ou d'un dérivé bis-insaturé ; l'agent réticulant étant utilisé dans des proportions allant de 0,025 à 0,35 mole par groupement amine du polyaminoamide ; ces polyaminoamides peuvent être alcoylés ou s'ils comportent une ou plusieurs fonctions amines tertiaires, quaternisées. De tels polymères sont notamment décrits dans les brevets français 2. 252.840 et 2. 368.508 .
(7) Les dérivés de polyaminoamides résultant de la condensation de polyalcoylènes polyamines avec des acides polycarboxyliques suivie d'une alcoylation par des agents bifonctionnels. On peut citer par exemple les polymères acide adipique-diacoylaminohydroxyalcoyldialoylène triamine dans lesquels le radical alcoyle comporte de 1 à 4 atomes de carbone et désigne de préférence méthyle, éthyle, propyle. De tels polymères sont notamment décrits dans le brevet français 1.583.363.
(8) Les polymères obtenus par réaction d'une polyalkylène polyamine comportant deux groupements amine primaire et au moins un groupement amine secondaire avec un acide dicarboxylique choisi parmi l'acide diglycolique et les acides dicarboxyliques aliphatiques saturés ayant de 3 à 8 atomes de carbone. Le rapport molaire entre le polyalkylène polylamine et l'acide dicarboxylique étant compris entre 0,8 : et 1,4 : 1; le polyaminoamide en résultant étant amené à réagir avec l'épichlorhydrine dans un rapport molaire d'épichlorhydrine par rapport au groupement amine secondaire du polyaminoamide compris entre 0,5 : et 1,8 : 1. De tels polymères sont notamment décrits dans les brevets américains 3. 227.615 et 2.961.347.
(9) Les cyclopolymères d'alkyl diallyl amine ou de dialkyl diallyl ammonium tels que les homopolymères ou copolymères comportant comme constituant principal de la chaîne des motifs répondant aux formules (V) ou (VI) : formules dans lesquelles k et t sont égaux à 0 ou 1, la somme k + t étant égale à 1 ; Rg désigne un atome d'hydrogène ou un radical méthyle ; R7 et R8, indépendamment l'un de l'autre, désignent un groupement alkyle ayant de 1 à 22 atomes de carbone, un groupement hydroxyalkyle dans lequel le groupement alkyle a de préférence 1 à 5 atomes de carbone, un groupement amidoalkyle inférieur (C1-C4), ou R7 et R8 peuvent désigner conjointement avec l'atome d'azote auquel ils sont rattachés, des groupement hétérocycliques, tels que pipéridinyle ou morpholinyle ; R7 et R8 indépendamment l'un de l'autre désignent de préférence un groupement alkyle ayant de 1 à 4 atomes de carbone ; Y- est un anion tel que bromure, chlorure, acétate, borate, citrate, tartrate, bisulfate, bisulfite, sulfate, phosphate. Ces polymères sont notamment décrits dans le brevet français 2. 080.759 et dans son certificat d'addition 2.190.406.
Parmi les polymères définis ci-dessus, on peut citer plus particulièrement l'homopolymère de chlorure de diméthyldiallylammonium vendu sous la dénomination "Merquat 100" par la société Calgon (et ses homologues de faible masse moléculaire moyenne en poids) et les copolymères de chlorure de diallyldiméthylammonium et d'acrylamide commercialisés sous la dénomination "MERQUAT 550".
(10) Le polymère de diammonium quaternaire contenant des motifs récurrents répondant à la formule : formule (VII) dans laquelle : R10, R11, R12 et R13, identiques ou différents, représentent des radicaux aliphatiques, alicycliques, ou arylaliphatiques contenant de 1 à 20 atomes de carbone ou des radicaux hydroxyalkylaliphatiques inférieurs, ou bien R10, R11, R12 et R13, ensemble ou séparément, constituent avec les atomes d'azote auxquels ils sont rattachés des hétérocycles contenant éventuellement un second hétéroatome autre que l'azote ou bien R10, R11, R12 et R13 représentent un radical alkyle en Ci-Ce linéaire ou ramifié substitué par un groupement nitrile, ester, acyle, amide ou -CO-O- R14-D ou -CO-NH- R14-D où R14 est un alkylène et D un groupement ammonium quaternaire ; A1 et B1 représentent des groupements polyméthyléniques contenant de 2 à 20 atomes de carbone pouvant être linéaires ou ramifiés, saturés ou insaturés, et pouvant contenir, liés à ou intercalés dans la chaîne principale, un ou plusieurs cycles aromatiques, ou un ou plusieurs atomes d'oxygène, de soufre ou des groupements sulfoxyde, sulfone, disulfure, amino, alkylamino, hydroxyle, ammonium quaternaire, uréido, amide ou ester, et X- désigne un anion dérivé d'un acide minéral ou organique; A1, R10 et R12 peuvent former avec les deux atomes d'azote auxquels ils sont rattachés un cycle pipérazinique ; en outre si A1 désigne un radical alkylène ou
hydroxyalkylène linéaire ou ramifié, saturé ou insaturé, B1 peut également désigner un groupement-(CH2)n-CO-D-OC-(CH2)n- dans lequel D désigne : a) un reste de glycol de formule : -O-Z-O-, où Z désigne un radical hydrocarboné linéaire ou ramifié ou un groupement répondant à l'une des formules suivantes : -(CH2-CH2-O)x-CH2-CH2- -[CH2-CH(CH3)-O]y-CH2-CH(CH3)- où x et y désignent un nombre entier de 1 à 4, représentant un degré de polymérisation défini et unique ou un nombre quelconque de 1 à 4 représentant un degré de polymérisation moyen ; b) un reste de diamine bis-secondaire tel qu'un dérivé de pipérazine ; c) un reste de diamine bis-primaire de formule : -NH-Y-NH-, où Y désigne un radical hydrocarboné linéaire ou ramifié, ou bien le radical bivalent -CH2-CH2-S-S-CH2-CH2- ; d) un groupement uréylène de formule : -NH-CO-NH- .
Des polymères de ce type sont notamment décrits dans les brevets français 2. 320.330, 2. 270.846, 2. 316.271, 2. 336.434 et 2. 413.907 et les brevets US 2. 273.780, 2. 375.853, 2.388.614, 2. 454.547, 3. 206.462, 2. 261.002, 2. 271.378, 3. 874.870, 4. 001.432, 3. 929.990, 3. 966.904, 4. 005.193, 4. 025.617, 4. 025.627, 4.025.653, 4. 026.945 et 4.027.020.
On peut utiliser plus particulièrement les polymères qui sont constitués de motifs récurrents répondant à la formule (VIII) suivante : dans laquelle R10, R11, R12 et R13, identiques ou différents, désignent un radical alkyle ou hydroxyalkyle ayant de 1 à 4 atomes de carbone environ, n et p
sont des nombres entiers variant de 2 à 20 environ et, X- est un anion dérivé d'un acide minéral ou organique.
(11) Les polymères de polyammonium quaternaire constitués de motifs de formule (IX) : formule dans laquelle : R15, R16, R17 et R18, identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène ou un radical méthyle, éthyle, propyle, ss-hydroxyéthyle, sshydroxypropyle ou -CH2CH2 (OCH2CH2)pOH, où p est égal à 0 ou à un nombre entier compris entre 1 et 6, sous réserve que R15, R16, R17 et R18 ne représentent pas simultanément un atome d'hydrogène, r et s, identiques ou différents, sont des nombres entiers compris entre 1 et 6, q est égal à 0 ou à un nombre entier compris entre 1 et 34, X désigne un atome d'halogène, A désigne un radical d'un dihalogénure ou représente de préférence -CH2-CH2O-CH2-CH2-.
les résines phénoliques et les résines époxy sont particulièrement appropriées. Les résines durcissables en milieu acide de ce type sont généralement connues et sont décrites par exemple dans "Ullmann's Encyclopâdie der technischen Chemie" 4ème édition, vol. 15 (1978), pp. 613-628. Les constituants réticulants devraient avantageusement être présents à une concentration d'environ 2 à 40 % en masse, de préférence de 5 à 30 % en masse, par rapport à la teneur en matières solides de la formulation de résist négatif.
L'invention comprend donc aussi un photorésist négatif chimiquement renforcé pouvant être développé dans un milieu basique, ce photorésist négatif comprenant : (a6) une résine soluble en milieu basique comme constituant réticulant, (a7) un constituant qui subit une réaction de réticulation avec lui-même et/ou avec le constituant réticulant sous l'effet d'un acide, et (b) un composé de formule 1 comme donneur d'acide photosensible.
En plus du constituant (b), la composition peut comprendre d'autres donneurs d'acides photosensibles et/ou d'autres additifs (c), et des photosensibilisants (d). Des constituants (c) et (d) appropriés ont été décrits ci-dessus.
Comme constituant (a7), on prend en considération les composés indiqués ci-dessus dans la description du constituant (al).
Des résines durcissables en milieu acide (a7) particulièrement préférées sont des résines amino comme des résines mélamine, urée, guanidine ou biuret non éthérifiées ou éthérifiées, en particulier des résines mélamine méthylées ou des résines mélamine butylées, des glycoluriles appropriés (tétrahydroimidazo[4,5- d]imidazole-2,5-(lH,3H)-diones) et des urones. Dans ce contexte, le terme "résine" désigne à la fois des mélanges techniques courants qui comprennent en général aussi des oligomères, et des composés purs et de haute pureté.
La N-hexa(méthoxyméthyl)mélamine et le tétraméthoxyméthylglucorile, et la N,N-diméthoxyméthylurone sont les résines durcissables en milieu acide préférées.
La concentration du composé de formule 1 dans le résist négatif est avantageusement d'environ 0,1 à 30 % en masse, en particulier jusqu'à 20 % en masse, de préférence de 1 à 15 % en masse par rapport à la teneur totale en matières solides de la composition.
Les compositions de résist négatif peuvent éventuellement comprendre un agent réticulant polymère filmogène (liant) (a6). Ce sera de préférence une résine phénolique soluble en milieu basique. Des produits très appropriés à cet effet sont,
par exemple, des novolaques dérivées d'un aldéhyde, par exemple de l'acétaldéhyde ou du furfuraldéhyde, en particulier du formaldéhyde, et d'un phénol, par exemple du phénol non substitué, d'un phénol mono- ou disubstitué par le chlore, comme le pchlorophénol, d'un phénol mono- ou disubstitué par des groupes alkyle en C,-C9, par exemple l'o-, le m- ou le p-crésol, les différents xylénols, le p-tert-butylphénol, ou le p-nonylphénol, du p-phénylphénol, du résorcinol, du bis(4-hydroxyphényl)méthane ou du 2,2-bis(4-hydroxyphényl)propane. Des homo- et copolymères à base de phénols à insaturation éthylénique, par exemple des homopolymères de phénols substitués par des groupes vinyle et 1-propényle comme le p-vinylphénol ou le p-(1propényl) phénol ou des copolymères de ces phénols avec un ou plusieurs composés à insaturation éthylénique, par exemple des styrènes, conviennent aussi. La proportion d'agent réticulant est en général comprise entre environ 30 et 95 % en masse, en particulier entre 40 et 80 % en masse.
Une formulation de résist négatif particulièrement préférée comprend de 0,5 à 15 % en masse d'un composé de formule 1 (constituant (b)), de 40 à 99 % en masse d'une résine phénolique comme agent réticulant (constituant (a6)), et de 0,5 à 30 % en masse d'une résine mélamine (constituant (a7)), les pourcentages étant relatifs à la teneur totale en matières solides de la formulation.
On peut aussi utiliser les composés de formule 1 comme donneurs d'acides pouvant être activés par voie photochimique pour la réticulation par exemple de (méth)acrylates de poly (glycidyle) des systèmes de résists négatifs. De telles réactions de réticulation sont décrites par exemple par Chae et coll. dans Pollimo 1993; 17(3), 292.
Les formulations de photorésists positifs et négatifs peuvent comprendre, en plus du constituant (b), d'autres donneurs d'acides photosensibles (bl), d'autres additifs (c), des sensibilisants (d) et/ou d'autres photoamorceurs (e).
L'invention concerne donc aussi des compositions de résists chimiquement renforcés, telles que décrites ci-dessus, qui comprennent, en plus des constituants (al) ou (a2) et (b), ou des constituants (a3), (a4), (a5) et (b), ou des constituants (a6), (a7) et (b), d'autres additifs (c), d'autres donneurs d'acides photosensibles (bl), d'autres photoamorceurs (e) et/ou des photosensibilisants (d).
Les composés de formule 1 peuvent être utilisés dans les compositions selon l'invention en combinaison avec d'autres donneurs d'acides photolatents connus (bl) comme, par exemple, d'autres sels d'onium, des 6-nitrobenzylsulfonates, des composés de bis-sulfonyldiazométhane, des sulfonates d'oximes, etc. On trouvera des exemples d'acides photolatents connus pour des photorésists chimiquement renforcés
par exemple dans les documents de brevet US 5 731 364, US 5 800 964, EP 704 762, US 5 468 589, US 5 558 971, US 5 558 976 et en particulier EP 794 457 et EP 795 786.
Lorsque l'on utilise des mélanges de composés de formule 1 (b) avec d'autres acides photolatents (bl), le rapport de (b) à (bl) est par exemple de 1:99 à 99 :1.
Le pas 2A22 règle les valeurs de commande de tension finales V** et W** sur -1. Le pas 2A22 calcule la valeur de commande de tension finale U** à partir des valeurs de commande de tension base U* et W* conformément à l'équation suivante: U** = U* - W* - 1 A la suite du pas 2A22, le programme avance au pas 2A9.
Le pas 2A23 règle la valeur de commande de tension finale W** sur -1. Le pas 2A23 calcule la valeur de commande de tension finale U** à partir des valeurs de commande de tension de base U* et W* conformément à l'équa tion suivante: U** = U* - W* - 1 Le pas 2A23 calcule la valeur de commande de tension finale V** à partir des valeurs de commande de tension de base V* et W* conformément à l'équation suivante.
U** = U* - W* - 1 A la suite du pas 2A23, le programme avance au pas 2A9.
Le pas 2A24 soustrait la valeur de commande de tension de base V* de la valeur de commande de tension de base U*. Le pas 2A24 détermine si le résultat de la soustraction est positif ou non, c'est à-dire si l'on a ou non U*-V*>0. Lorsque le résultat de la soustraction est positif, le programme avance du pas 2A24 à un pas 2A25. Sinon le programme avance du pas 2A24 à un pas 2A28.
Le pas 2A25 détermine si le premier signal d'horloge 2ckl est ou non "1" (l'état à niveau haut). Lorsque le premier signal d'horloge ckl est "i", le programme avance du pas 2A25 à un pas 2A26. Sinon le programme avance du pas 2A25 à un pas 2A27.
Le pas 2A26 règle les valeurs de commande de tension finales U** et V** sur +1. Le pas 2A26 calcule la valeur de commande de tension finale W** à partir des valeurs de commande de tension de base U* et W* conformément à l'équation suivante W** = W* - U* + 1 A la suite du pas 2A26, le programme avance au pas 2A9.
Le pas 2A27 règle la valeur de commande de tension finale sur +1. Le pas 2A27 calcule la valeur de commande de tension finale V** à partir des valeurs de commande de tension de base U* et V* conformément à l'équa tion suivante: V** = 2(V* - U*) + 1 Le pas 2A27 calcule la valeur de commande de tension finale W** à partir des valeurs de commande de tension de base U* et W* conformément à l'équation suivante: W** = W* - U* + 1 A la suite du 2A27, le programme avance au pas 2A9.
Le pas 2A28 détermine si le premier signal d'hor loge 2cki est ou non "1" (l'état à niveau haut). Lorsque le premier signal d'horloge 2ckl est "1", le programme avance du pas 2A28 à un pas 2A29. Sinon le programme avance du pas 2A28 à un pas 2A30.
Le pas 2A29 règle les valeurs de commande de tension finale U** et V** sur +1. Le pas 2A29 calcule la valeur de commande de tension finale W** à partir des valeurs de commande de tension de base V** et W** conformément à l'équation suivante: W** = W* - V* + 1 A la suite du pas 2A29, le programme avance au pas 2A9.
Le pas 2A30 règle la valeur de commande de tension finale V** sur +1. Le pas 2A30 calcule la valeur de commande de tension finale U** à partir des valeurs de commande de tension de base U* et V* conformément à l'équa tion suivante: U** = 2(U* - V*) + 1 Le pas 2A30 calcule la valeur de commande de tension finale W** à partir des valeurs de commande de tension de base W* et V* conformément à l'équation suivante: W** = W* - V* + 1 A la suite du pas 2A30, le programme avance au pas 2A9.
Le pas 2A31 soustrait la valeur de commande de tension de base U* de la valeur de commande de tension de base Le pas 2A31 détermine si le résultat de la soustraction est négatif ou non, c'est-à-dire si l'on a ou non W*-U* < 0. Lorsque le résultat de la soustraction est négatif, le programme avance du pas 2A31 à un pas 2A32. Sinon le programme avance du pas 2A31 à un pas 2A35.
Le pas 2A32 détermine si le second signal d'hor loge 2ck2 est ou non "1" (l'état à niveau haut). Lorsque le second signal d'horloge 2ck2 est "1", le programme avance du pas 2A32 à un pas 2A33. Sinon le programme avance du pas 2A32 à pas 2A34.
Le pas 2A33 règle les valeurs commande de tension finale U** et W** sur -1. Le pas 2A33 calcule la valeur de commande de tension finale U** à partir des valeurs de commande de tension de base V* et W* conformément à l'équation suivante V** = V* - W* - 1 Après l'étape 2A33, le programme avance au pas 2A9.
Le pas 2A34 règle la valeur de commande de tension finale W** sur -1. Le pas 2A34 calcule la valeur de commande de tension finale U** à partir valeurs de commande de tension de base U* et W* conformément à l'équa tion suivante U** = 2(U* - W*) - 1 Le pas 2A34 calcule la valeur de commande de tension finale V* à partir des valeurs de commande de tension de base V* et W* conformément à l'équation suivante: V** = V* - W= - 1 A la suite du pas 2A34, le programme avance au pas 2A9.
Le pas 2A35 détermine si le second signal d'horloge 2ck2 est ou non "1" (l'état à niveau haut). Lorsque le second signal d'horloge 2ck2 est "1", le programme avance du pas 2A35 à un pas 2A36. Sinon le programme avance du pas 2A35 à un pas 2A37.
Le pas 2A36 règle les valeurs de commande de tension finales U** et W** sur -1. Le pas 2A36 calcule la valeur de commande de tension finale V** à partir des valeurs de commande de tension de base U* V* conformément à l'équation suivante V** = V* - U* - 1 la suite du pas 3A36, le programme avance au pas 2A9.
(8) Des polymères amphotères du type-D-X-D-X- choisis parmi: a) les polymères obtenus par action de l'acide chloracétique ou le chloracétatE de sodium sur les composés comportant au moins un motif de formule : -D-X-D-X-D- (XVII) où D désigne un radical