INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
De plus, dans le cas de la polarisation TM, il convient de réaliser avec précision l'épaisseur de chaque élément alors que ce n'est pas le cas pour les dimensions transversales de chaque élément et des électrodes. Brève description des dessins La présente invention sera mieux comprise à la lecture de la description d'exemples de réalisation donnés ci-après, à titre purement indicatif et nullement limitatif, en faisant référence aux dessins annexés sur lesquels - la figure 1 est une vue en perspective schématique et partielle d'un dispositif conforme à l'invention, - les figures 2 et 3 sont des vues en coupe schématiques et partielles d'autres dispositifs conformes à l'invention, - la figure 4 montre les variations du taux de réflexion en fonction de l'angle d'incidence de la lumière à détecter, pour deux valeurs différentes de la hauteur du réseau formé par les éléments et les électrodes d'un dispositif conforme à l'invention, - la figure 5 montre les variations du taux de réflexion en fonction de cette hauteur, dans un dispositif conforme à l'invention, - les figures 6A à 6E illustrent schématiquement des étapes d'un procédé de fabrication d'un dispositif conforme à l'invention, - les figures 6F à 6H illustrent schématiquement des variantes de ce procédé, et - la figure 7 est une vue en perspective schématique d'un autre dispositif conforme à l'invention. Exposé détaillé de modes de réalisation particuliers Un dispositif conforme à l'invention est vu en perspective schématique et partielle sur la figure 1. I1 s'agit d'une structure formant un réseau de détecteurs métal-semiconducteur-métal, également noté MSM, qui est disposé sur une couche électriquement isolante 2. Ce réseau est un ensemble d'électrodes métalliques 4 qui alternent avec des éléments semiconducteurs 6.
Ces électrodes et ces éléments ont une forme approximativement parallélépipédique et s'étendent suivant une même direction D sur la couche 2.
Dans l'exemple de la figure 1, il y a plusieurs éléments semiconducteurs. Dans une variante non représentée, on utilise un seul élément semiconducteur 6 compris entre deux électrodes 4.
Un autre dispositif conforme à l'invention est vu en coupe transversale schématique et partielle sur la figure 2. Ce dispositif de la figure 2 est identique à celui de la figure 1 à ceci près qu'il comprend en outre un miroir multicouche 8 également appelé miroir de Bragg.
Ce miroir multicouche est un empilement alterné de couches de matériaux n'absorbant pas la lumière, d'indices de réfraction différents nA et n$. Les épaisseurs respectives hA et h$ de ces couches sont calculées en fonction de la gamme de longueurs d'onde à réfléchir.
On voit aussi que le dispositif de la figure 2 est formé sur un substrat 9. Le miroir 8 est compris entre ce substrat et la couche 2.
On peut décomposer le dispositif de la figure 2 (et donc le dispositif de la figure 1) en trois zones I, II et III.
Dans ce qui suit, on suppose que l'onde lumineuse incidente 10 que l'on veut détecter avec le dispositif arrive sur ce dernier par la zone I constituée par de l'air.
Préalablement au mélange avec la solution organique de polymère, on ajoute à la suspension organique de particules minérales, notamment dans le cas de particules de silice de précipitation, au moins un produit organique permettant d'apporter une fonctionnalité auxdites particules minérales ; on peut en particulier ajouter un agent de couplage, un agent de recouvrement et/ou un agent oxydant ; de préférence, on ajoute au moins l'agent de couplage.
De manière avantageuse, la suspension organique de particules minérales est préparée à partir d'une dispersion ou suspension aqueuse desdites particules minérales, par transfert desdites particules minérales de la phase aqueuse vers la phase organique à l'aide d'au moins un agent de transfert.
Plus particulièrement, la suspension de particules minérales dans un solvant organique est préparée comme suit : a) on mélange, à une dispersion ou suspension aqueuse de particules minérales, un solvant organique non-miscible à l'eau et un agent de transfert, soluble partiellement ou de préférence totalement dans ledit solvant organique, ledit agent de transfert étant ajouté de manière à diminuer l'hydrophilie desdites particules minérales et à provoquer ainsi leur transfert (passage) dans ledit solvant organique, b) on sépare le solvant organique contenant lesdites particules minérales, de la phase aqueuse De manière très avantageuse, le transfert est direct, c'est-à-dire qu'il n'est pas fait appel à une étape de séchage.
Dans l'étape a), on peut éventuellement ajouter d'abord le solvant organique à ladite dispersion ou suspension aqueuse, puis introduire l'agent de transfert.
Cependant, dans l'étape a), on préfère mélanger plutôt la dispersion ou suspension aqueuse de particules minérales avec le solvant organique nonmiscible à l'eau dans lequel a été préalablement introduit l'agent de transfert ; ainsi, préalablement au mélange, l'agent de transfert est solubilisé partiellement ou de préférence totalement dans le solvant organique.
L'opération de mélange de l'étape a) s'effectue en général sous agitation.
Le passage des particules minérales de la phase aqueuse vers la phase organique se fait à l'aide de l'agent de transfert qui se fixe en surface des particules minérales.
La force ionique de la dispersion ou suspension aqueuse de particules minérales peut varier par exemple entre 0 et 3.
Le solvant organique présente plutôt une polarité faible ; il possède ainsi, dans le système de C.M. Hansen, un paramètre de polarité #p habituellement inférieur à 10 (J/cm3)1/2, par exemple inférieur à 7 (J/cm3)1/2.
La dispersion ou suspension aqueuse de particules minérales présente généralement un pH correspondant à un taux de recouvrement des particules minérales en agent de transfert optimal. Le pH est ainsi de préférence compris entre 3 et 11. Il peut être compris, notamment lorsque les particules minérales sont des particules de silice de précipitation, entre 7,5 et 10,5, par exemple entre 8 et 10. Le pH peut être compris entre 3 et 5 notamment lorsque les particules minérales, par exemple des particules de silice de précipitation, ont préalablement subi une cationisation.
De préférence, l'agent de transfert doit être plus soluble dans la phase organique que dans la phase aqueuse.
L'agent de transfert utilisé est habituellement un tensioactif, notamment un tensioactif ionique ou non ionique, comprenant préférentiellement au moins deux chaînes hydrophobes.
On peut employer un tensioactif cationique, par exemple lorsque les particules minérales sont anioniques ou, dans le cas où elles ont été rendues globalement cationiques par un traitement spécifique, lorsqu'elles possèdent encore suffisamment de sites anioniques. L'agent de transfert peut ainsi être une amine quaternaire ou un sel d'amine quaternaire A titre d'exemples de tensioactifs cationiques, on peut citer les sels d'alkylammonium de formule R1R2R3R4N+X- dans laquelle : . X- représente un ion halogène, CH2S04 ou C2H5SO4-, R1 et R2sont identiques ou différents et représentent un radical alkyle en C1-C20, un radical aryle ou benzyle, . R3 et R4sont identiques ou différents et représentent un radical alkyle en C1-C20, un radical aryle ou benzyle, ou un condensat oxyde d'éthylène et/ou de propylène (CH2CH20)x-(CH2CHCH30)y-H, où x et y sont compris entre 0 et 30 et ne sont jamais nuls ensemble.
On peut citer notamment le chlorure de méthyl trioctyl ammonium.
On peut employer un tensioactif anionique, par exemple lorsque les particules minérales ont été rendues globalement cationiques par un traitement spécifique (cationisation), de préférence par un dopage à l'aluminium. A titre d'exemples de tensioactifs anioniques, on peut citer :
.les alkylesters sulfonates de formule R-CH(S03M)-COOR', où R représente en radical alkyle en C8-C20, en particulier en C10-C16, R' un radical alkyle en Ci-Ce, en particulier en C1-C3 et M un cation alcalin (notamment sodium, potassium, lithium), ammonium substitué ou non (méthyl-, diméthyl-, triméthyl-, tétraméthylammonium, diméthylpipéridinium ... ) ou dérivé d'une alcanolamine (monoéthanolamine, diéthanolamine, triéthanolamine ...), lesdits alkylesters sulfonates étant de préférence des méthyl ester sulfonates dont les radicaux R sont en C14-C16 ; . les alkylsulfates de formule ROS03M, où R représente un radical alkyle ou hydroxyalkyle en C5-C24, en particulier en C10-C18, M représentant un atome d'hydrogène ou un cation tel que défini ci-dessus, ainsi que leurs dérivés éthoxylénés (OE) et/ou propoxylénés (OP), possédant en moyenne entre 0,5 et 30, en particulier entre 0,5 et 10, motifs OE et/ou OP ; . les alkylamides sulfatés de formule RCONHR'OS03M où R représente un radical alkyle en C2-C22, en particulier en C6-C20, R' un radical alkyle en C2-C3, M un atome d'hydrogène ou un cation tel que défini ci-dessus, ainsi que leurs dérivés éthoxylénés (OE) et/ou propoxylénés (OP), possédant en moyenne entre 0,5 et 60 motifs OE et/ou OP ; . les sels d'acides gras saturés ou insaturés en C8-C24, en particulier en C14- C20, les alkylbenzènesulfonates en C9-C20, les alkylsulfonates primaires ou secondaires en C8-C22, les alkylglycérol sulfonates, des acides polycarboxyliques sulfonés, les sulfonates de paraffine, les N-acyl N-alkyltaurates, les alkylphophates, les iséthionates, les alkylsuccinamates, les alkylsulfosuccinates, les monoesters ou diesters de sulfosuccinates, les N-acyl sarcosinates, les sulfates d'alkylglycosides, les polyéthoxycarboxylates, le cation étant un métal alcalin (notamment sodium, potassium, lithium), un reste ammonium substitué ou non (méthyl-, diméthyl-, triméthyl-, tétraméthylammonium, diméthylpipéridinium) ou dérivé d'une alcanolamine (monoéthanolamine, diéthanolamine, triéthanolamine ..).
On peut aussi, dans les cas appropriés, copolymériser les monomères ayant un groupe labile en milieu acide avec d'autres monomères ne portant pas de groupes labiles en milieu acide et polymérisables par voie radicalaire comme, par exemple, le styrène, l'acrylonitrile, le (méth) acrylate de méthyle, l'acide (méth) acrylique, le 4-hydroxystyrène, le 4-acétoxystyrène, le 4-méthoxystyrène, le 4vinylcyclohexanol, le norbornène, l'éthylnorbornène et l'anhydride maléique, pour établir des propriétés de solubilité et des procédés adhésives spécifiques. On peut aussi n'introduire qu'ultérieurement les groupes labiles en milieu acide dans une réaction de préparation d'analogues de polymères. L'homme de l'art sait aussi que l'on peut modifier le prépolymère de la manière désirée avant une telle réaction de préparation d'analogues de polymères, par exemple par hydrogénation partielle, alkylation partielle, acétylation partielle. Cela signifie qu'il n'est pas nécessaire dans tous les cas de synthétiser le polymère ayant des groupes labiles en milieu acide par copolymérisation à partir de monomères.
On peut aussi introduire une réticulation labile en milieu acide, de la manière décrite par exemple dans H. -T. Schacht, P. Falcigno, N. Muenzel, R. Schulz et A. Medina, ACS Symp. Ser. 706 (Micro and Nanopatterning Polymers), pp. 78-84, 1997 ; H. -T. Schacht, N. Muenzel, P. Falcigno, H. Holzwarth et J. Schneider, J.
Photopolymer Science and Technology, 9 (1996), 573-586. Ces systèmes réticulés labiles en milieu acide sont préférés dans des applications comme résists pour des raisons de stabilité thermique. Cette réticulation labile en milieu acide peut aussi être obtenue par réaction de polymères contenant des groupes phénol comme, par exemple, des copolymères de 4-hydroxystyrène, avec des éthers vinyliques di- et polyfonctionnels.
D'autres exemples du constituant (a2) dont la solubilité augmente dans un révélateur basique par réaction avec un acide sont des composés monomères comme, par exemple, des acides carboxyliques et des composés contenant des groupes phénol
dans lesquels les groupes respectifs acide carboxylique ou OH phénolique ont été bloqués par des groupes protecteurs labiles en milieu acide. Un tel blocage labile en milieu acide peut s'effectuer par exemple par transformation du groupe carboxyle en un groupe ester de tert-butyle, un groupe ester de 2-méthyl-2-adamantyle, un groupe ester de 8-éthyl-8-tricyclodécanyle, un groupe ester de tétrahydropyranyle ou quelque autre groupe ester dissociable en milieu acide. On peut bloquer les groupes OH phénoliques par des procédés connus, par exemple en les transformant en groupes tert-butylcarbonate, en éthers de silyle, en groupes acétals et en groupes cétals, se dissociant en milieu acide.
L'invention concerne aussi une composition sensible à un rayonnement dans laquelle le constituant (a2) est au moins un composé choisi dans le groupe constitué par des copolymères cycloaliphatiques, des copolymères contenant des groupes 4-hydroxyphényle, des copolymères contenant des groupes anhydride maléique et des copolymères contenant de l'acide acrylique, des esters d'acide acrylique et des esters d'acide méthacrylique, à condition que ces copolymères portent des groupes fonctionnels qui augmentent la solubilité du polymère dans un révélateur basique après réaction avec un acide.
Dans les compositions selon l'invention, on utilise avantageusement le photoamorceur (b) en une quantité de 0,05 à 15 %, par exemple de 0,5 à 10 %, de préférence de 0,1à 5 %, par rapport à la composition.
On peut utiliser les compositions selon l'invention dans de nombreuses applications, par exemple dans des encres d'imprimerie durcissables sous l'effet d'un rayonnement par voie cationique, dans des produits de revêtement pouvant être pigmentés ou non, durcissables sous l'effet d'un rayonnement par voie cationique, dans des adhésifs, des revêtements et des moulages durcissables sous l'effet d'un rayonnement par voie cationique, y compris des composites renforcés aux fibres de verre et renforcés aux fibres de carbone, et des couches internes et externes de cartes de circuits imprimés.
Les compositions selon l'invention comprennent aussi des adhésifs comme ceux utilisés par exemple pour le doublage par adhésif (doublage de DVD) dans la fabrication de disques DVD, qui sont décrits par exemple dans les documents de brevet WO 99/66506, WO 99/63017, JP 11241055 A2 Heisei, JP 11181391 A2 Heisei, WO 98/31765, ainsi que des adhésifs de stratification durcissables sous l'effet d'un rayonnement pour des emballages flexibles (voir par exemple le document de brevet US 5 328 940), des adhésifs optiques (voir par exemple la demande de brevet allemand DD 225985) et des adhésifs de contact (voir par exemple les documents de brevet US 4 988741 et EP 115 870).
On utilise avantageusement les compositions selon l'invention dans les cas où on a besoin de revêtements durs, de joints collés, ou de moulages en trois dimensions photopolymérisés dimensionnellement stables (par exemple pour un prototypage rapide) ayant une bonne adhérence à des substrats constitués de papier, de verre, de métaux, de silicium, de polycarbonate, de polymères de type acrylate et d'autres polymères, et qui ne présentent qu'un léger retrait au durcissement.
On préfère aussi une composition telle que décrite ci-dessus, qui comprend, en plus des constituants (al) ou (a2) et (b), d'autres additifs (c) et/ou des composés sensibilisants (d) et éventuellement d'autres photoamorceurs (e).
Les mélanges photopolymérisables peuvent comprendre différents additifs (c) en plus du photoamorceur. Des exemples comprennent des inhibiteurs thermiques, des stabilisants à la lumière, des azurants optiques, des charges et des pigments, ainsi que des pigments blancs et colorés, des colorants, des agents antistatiques, des agents favorisant l'adhésion, des agents mouillants, des agents favorisant l'écoulement, des lubrifiants, des cires, des agents antiadhésifs, des dispersants, des émulsionnants, des antioxydants, des charges, par exemple du talc, du gypse, de l'acide silicique, du rutile, du noir de carbone, de l'oxyde de zinc, des oxydes de fer, des accélérateurs de réaction, des épaississants, des agents de matité, des antimousses, et d'autres adjuvants ordinaires, par exemple, dans la technologie des peintures et des revêtements.
Les formulations peuvent aussi contenir des colorants et/ou des pigments blancs ou colorés comme additifs supplémentaires (c). Selon l'utilisation désirée, on peut utiliser aussi bien des pigments inorganiques que des pigments organiques. Ces additifs sont connus de l'homme de l'art. Quelques exemples sont les pigments dioxyde de titane, par exemple de type rutile ou anatase, le noir de carbone, l'oxyde de zinc comme le blanc de zinc, les oxydes de fer comme l'oxyde de fer jaune ou l'oxyde de fer rouge, le jaune de chrome, le vert de chrome, le jaune de nickel et titane, le bleu outremer, le bleu de cobalt, le vanadate de bismuth, le jaune de cadmium et le rouge de cadmium. Des exemples de pigments organiques sont des pigments mono- ou bis-azoïques et leurs complexes métalliques, des pigments de type phtalocyanine, des pigments polycycliques comme, par exemple, les pigments de type pérylène, anthraquinone, thioindigo, quinacridone et triphénylméthane, et des pigments de type dicétopyrrolopyrrole, isoindolinone, par exemple tétrachloroisoindolinone, isoindoline, dioxazine, benzimidazolone et quinophtalone.
Les pigments peuvent être utilisés individuellement ou sous forme de mélanges dans les formulations. Selon l'utilisation envisagée, on ajoute les pigments
aux formulations en les quantités habituelles dans la technique, par exemple en une quantité de 1 à 60 % en masse, ou de 10 à 30 % en masse, par rapport à la masse totale.
Les formulations peuvent comprendre aussi, par exemple, des colorants organiques de toute une série de classes. Des exemples comprennent les colorants azoïques, les colorants méthine, les colorants anthraquinoniques et les colorants de type complexe métallique. Les concentrations habituelles sont par exemple de 0,1 à 20 %, en particulier de 1 à 5 % par rapport à la masse totale.
Si cette approche présente l'indéniable avantage de la simplicité, elle ne permet cependant pas la persistance des traitements. A partir du moment où aucun client ne travaille, les objets de l'application sont inertes puisqu'ils n'ont aucune vie sur le serveur. La persistance des traitements est surtout utile dans le cas d'applications de simulation où l'on ne voufrait pas nécessairement laisser le poste client allumé pour permettre la poursuite de la simulation.
Section 3 - Mécanisme de réplication Comme nous l'avons vu, des utilisateurs d'une application peuvent partager certaines instances d'objets permanents partagés. Les utilisateurs peuvent interagir avec ces objets, mais chacun à leur tour grâce à un mécanisme d'exclusion mutuelle explicité plus loin. Quand un utilisateur modifie un objet, étant donné que la même instance peut être partagée avec certains autres utilisateurs, ces derniers doivent être notifiés de cette modification. Ainsi la figure 198 illustre le cas où deux utilisateurs User et User2 manipulent différents objets (objets noirs pour Userl, objets blancs pour User2).
La résistance électrique superficielle du film isolant se situe, de préférence, dans une plage de 1, 0 x 106 @2/C à 1, 0 x 1016 S210. La résistance électrique superficielle du film isolant est maintenue, de préférence, dans la plage de 1,0 x 106 S2/0 à 1,0 x 1016 S2/0 même après l'opération de chauffage à 550 C pendant une heure, c'est-à-dire les conditions de chauffage du procédé de fabrication habituel des panneaux d'affichage ou écrans à plasma.
Le substrat en verre pour un écran de la présente invention comprend un substrat en verre contenant un alcali, une sous-couche pour empêcher la diffusion des ions alcalins formés sur une surface du substrat en verre contenant un alcali, un film barrière consistant principalement en un oxyde d'indium et/ou un oxyde d'étain pour empêcher la diffusion des ions métalliques, un film isolant et un film d'électrode. La résistance électrique superficielle du film isolant se situe dans une plage de 1, 0 x 106 S2/[] à 1, 0 x 1016 52/E] même après l'opération de chauffage à 550 C pendant une heure. Le substrat en verre pour un écran ne présente aucune coloration due aux colloïdes métalliques grâce à l'excellente efficacité à empêcher la diffusion des ions métalliques du film barrière, de sorte qu'une qualité significativement élevée est obtenue.
BREVE DESCRIPTION DES DESSINS La figure 1 est une vue en coupe montrant un mode de réalisation de l'article en verre de la présente invention ; la figure 2 est une vue en coupe montrant un autre mode de réalisation de l'article en verre de la présente invention ; la figure 3 est une vue en coupe montrant encore un autre mode de réalisation de l'article en verre de la présente invention ; et la figure 4 est une vue en coupe montrant encore un autre mode de réalisation de l'article en verre de la présente invention.
DESCRIPTION DETAILLEE DES MODES DE REALISATION PREFERES Ci-après, des modes de réalisation préférés de la présente invention vont être décrits en référence aux dessins joints.
Les figures 1 à 4 sont des vues en coupe montrant chacune un article en verre selon chaque mode de réalisation de la présente invention, dans lequel un film barrière 2 est formé sur un substrat en verre 1 et un film d'électrode métallique 4 est formé sur le film barrière 2 directement (figure 1) ou, si nécessaire, par l'intermédiaire d'un film isolant 3 (figure 2). En variante, le film barrière 2 est formé sur le substrat en verre 1 par l'intermédiaire d'une sous-couche 5 et le film d'électrode métallique 4 est formé sur le film barrière 2 directement (figure 3) ou, si nécessaire, par l'intermédiaire du film isolant 3 (figure 4).
Le substrat en verre 1 est réalisé en un verre contenant un alcali. Les composants principaux du verre contenant un alcali sont les suivants .
Si02 50 à 73 % en masse A1203 0 à 15 % en masse R20 6 à 24 % en masse R'0 6 à 27 % en masse R20 est la somme du Li20, du Na20 et du K20, et R' O est la somme du CaO, du MgO, du SrO et du BaO.
Le film barrière 2 consiste principalement en du m203 et/ou du Sn02.
Un film constitué principalement de m203 ou de Sn02 est généralement utilisé en tant que film conducteur transparent. En particulier, un film de In203 contenant du Sn (ITO) à raison de 5 % en masse et un film de Sn02 dopé avec du fluor ou de l'antimoine sont utilisés de préférence à cause de leur faible résistance électrique superficielle. Selon la présente invention, il n'existe aucune limitation particulière sur la concentration des impuretés dans le film barrière 2 parce que la diffusion des ions métalliques peut être empêchée indépendamment de la valeur de la résistance électrique superficielle. Cependant, lorsque le film barrière 2 est utilisé également en tant qu'électrode, la composition mentionnée précédemment présentant une faible résistance électrique superficielle est utilisée de préférence en tant que film barrière 2. Dans le cas d'une application nécessitant une résistance électrique superficielle élevée telle qu'une vitre arrière d'une automobile et un substrat pour un écran, le film isolant 3 est, de préférence, formé sur le film barrière 2 consistant principalement en m203 et/ou Sn02 comme montré sur la figure 2.
Le film barrière 2 n'a pas de limitation particulière quant au rapport entre la teneur en In203 et la teneur en Sn02.
Le film barrière 2 peut contenir principalement du Sn02 et peut contenir en plus du Sb203, où le rapport préférable entre ces deux constituants est Sn02 : Sb203 = 99,9 - 99,99 : 0,01 - 0,1 (% en masse).
Comme pour le film barrière 2 destiné à empêcher la diffusion des ions métalliques, l'épaisseur la plus importante est préférable du point de vue de l'efficacité de la barrière de diffusion des ions métalliques. Cependant, une épaisseur trop importante ne peut pas offrir l'effet correspondant et, inversement, augmente le coût. Par conséquent, l'épaisseur du film barrière 2 est, de préférence, dans une plage de 5 nm à 200 nm, plus particulièrement dans une plage de 50 nm à 200 nm.