REVENDICATIONS 1. Composition sensible à un rayonnement, comprenant (al) un composé polymérisable ou réticulable par voie cationique ou par catalyse acide, ou (a2) un composé dont la solubilité augmente dans un révélateur sous l'effet d'un acide ; et (b) au moins un sel de diaryliodonium de formule I: X est un groupe alkyle ramifié en C3-C20 ou cycloalkyle en C3-Cg; X1 est un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle linéaire en C1-C20, alkyle ramifié en C3-C20 ou cycloalkyle en C3-C8; à condition que la somme des atomes de carbone de X et X, soit d'au moins 4; Y est un groupe alkyle linéaire en C1-C10, alkyle ramifié en C3-C10 ou cycloalkyle en C3-C8; A- est un anion non nucléophile choisi dans le groupe constitué par (BF4)-, (SbF6)-, (PF6)-, (B(C6F5)4)-, alkylsulfonate en C1-C20, halogénoalkylsulfonate en C2-C20' arylsulfonate en C6-C10 non substitué, camphosulfonate, (perfluoroalkyl en C,- C2o)sulfonylméthylure, (perfluoroalkyl en CCsuIfonylimide et arylsulfonate en C6-C10 substitué par halogène, NO2, alkyle en C1-C12, halogénoalkyle en C,- C12, alcoxy en C1-C12 ou COOR,; et R, est un groupe alkyle en C1-C20, phényle, benzyle ; phényle substitué une ou plusieurs fois par des groupes alkyle en C1-C12, alcoxy en C1-C12 ou halogène; à condition que les deux cycles phényle situés sur l'atome d'iode n'aient pas les mêmes substituants. 2. Composition sensible à un rayonnement selon la revendication 1, dans laquelle, dans les composés de formule I, X est un groupe alkyle ramifié en C4-C12 ou cyclohexyle. 3. Composition sensible à un rayonnement selon la revendication 1, dans laquelle, dans les composés de formule I, X est un groupe alkyle linéaire en C,-C6 ou cyclohexyle. 4. Composition sensible à un rayonnement selon la revendication 1, dans laquelle, dans les composés de formule I, A- est un anion non nucléophile choisi dans le groupe constitué par (PF6)-, (B(C6F5)4)-, alkylsulfonate en C1-C12, halogénoalkylsulfonate en C2-C12, phénylsulfonate non substitué, camphosulfonate, (perfluoroalkyl en C,-C21,)sulfonylinéthylure, (perfluoroalkyl en CI-C2o)sulfonylimide et phénylsulfonate substitué par halogène, N02, alkyle en C1-C12, halogénoalkyle en C,-C12, alcoxy en C1-C12 ou COOR,. 5. Composition sensible à un rayonnement selon la revendication 1, dans laquelle, dans les composés de formule 1 X est un groupe alkyle ramifié en C4-C6 ou cyclohexyle; X, est un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle ramifié en C4-C6; Y est un groupe alkyle linéaire en C,-C, alkyle ramifié en C3-C4 ou cyclohexyle ; A- est un anion non nucléophile choisi dans le groupe constitué par les anions (PF6)-, camphosulfonate et phénylsulfonate substitué par alkyle en C,-C. 6. Composition sensible à un rayonnement selon la revendication 1, dans laquelle le constituant (al) est au moins un composé choisi dans le groupe constitué par des composés époxy cycloaliphatiques, des éthers de glycidyle, des composés d'oxétane, des éthers de vinyle, des résines mélamine réticulables en milieu acide, des composés d'hydroxyméthylène réticulables en milieu acide et des composés d'alcoxyméthylène réticulables en milieu acide. 7. Composition sensible à un rayonnement selon la revendication 1, dans laquelle le constituant (a2) est au moins un composé choisi dans le groupe constitué par des copolymères cycloaliphatiques, des copolymères contenant le groupe 4hydroxyphényle, des copolymères contenant de l'anhydride maléique et des copolymères contenant de l'acide acrylique, un ester de l'acide acrylique et un ester de l'acide méthacrylique, à condition que ces copolymères portent des groupes fonctionnels augmentant la solubilité du polymère dans un révélateur basique après la réaction avec un acide. 8. Composition sensible à un rayonnement selon la revendication 1, contenant, en plus des constituants (al) ou (a2) et (b), au moins un composé sensibilisant (d), en particulier la benzophénone, la thioxanthone, l'anthracène ou leurs dérivés. 9. Utilisation d'un composé de formule 1 selon la revendication 1 comme donneur d'acide photolatent dans la polymérisation ou la réticulation de composés polymérisables ou réticulables par voie cationique ou par catalyse acide ou pour augmenter la solubilité de composés dont la solubilité augmente dans un révélateur sous l'effet d'un acide. 10. Procédé de photopolymérisation ou de réticulation de composés polymérisables ou réticulables par voie cationique ou par catalyse acide sous l'action d'un rayonnement électromagnétique ou d'un faisceau électronique, ce procédé utilisant un composé de formule 1 selon la revendication 1 comme donneur d'acide photolatent. 11. Substrat revêtu, qui est revêtu sur au moins une surface par une composition selon la revendication 1. 12. Procédé de production d'images en relief, selon lequel on applique une composition selon la revendication 1 sur un substrat, puis on l'expose en formant une image. 13. Photorésist comprenant un composé de formule 1 comme donneur d'acide sensible à un rayonnement. 14. Photorésist selon la revendication 13, le photorésist étant un résist négatif. 15. Photorésist selon la revendication 13, le photorésist étant un résist positif. 16. Photorésist selon la revendication 13, le photorésist étant un résist chimiquement renforcé. 17. Utilisation d'un composé de formule 1 comme donneur d'acide sensible à un rayonnement dans la fabrication de compositions de revêtement de surfaces, de compositions de revêtement en poudre, d'encres d'imprimerie, de plaques d'impression, de compositions dentaires, de résines de stéréolithographie, d'adhésifs, de revêtements antiadhésifs, de filtres couleurs, de matériaux de résist ou de matériaux d'enregistrement d'images. 18. Procédé selon la revendication 10, pour la fabrication de compositions de revêtement de surfaces, de compositions de revêtement en poudre, d'encres d'imprimerie, de plaques d'impression, de compositions dentaires, de résines de stéréolithographie, d'adhésifs, de revêtements antiadhésifs, de filtres couleurs, de matériaux de résist ou de matériaux d'enregistrement d'images. 19. Composé de formule I selon la revendication 1.