REVENDICATIONS 1. Nouveaux composés organosiliciques qui comprennent des POS multifonctionnels, caractérisés en ce que lesdits POS multifonctionnels contiennent des notifs semblables ou différents de formule : dans laquelle : (1) les symboles R2, identiques ou différents, représentent chacun un groupe hydrocarboné monovalent choisi parmi un radical alkyle, linéaire ou ramifié, ayant de 1 à 6 atomes de carbones, un radical cycloalkyle ayant de 5 à 8 atomes de carbone, et un radical phényle ; (2) les symboles Y, identiques ou différents, représentent chacun une fonction hydroxyle ou alkoxyle R1O où R1 représente un radical alkyle, linéaire ou ramifié, ayant de 1 à 15 atomes de carbone ; (3) les symboles X, identiques ou différents, représentent chacun une fonction portant une double liaison éthylénique activée, choisie parmi les radicaux ayant les formules (11/1), (II/2), (11/3) suivantes, et leurs mélanges : avec les conditions selon lesquelles : - au moins une des fonctions X répond à la formule (11/1), - quand, le cas échéant, on a un mélange de fonction (s) de formule (11/1) avec des fonctions X de formules (11/2) et/ou (II/3), la fraction molaire de fonctions X de formules (II/2) et/ou (11/3) dans l'ensemble des fonctions X est en moyenne égale ou inférieure à 12 % en mole, formules dans lesquelles : R3 est un radical divalent alkylène, linéaire ou ramifié, comprenant de 1 à 15 atomes de carbone dont la valence libre est portée par un atome de carbone et est reliée à un atome de silicium, ledit radical R3pouvant être interrompu au sein de la chaîne alkylène par au moins un hétéroatome et en particulier par au moins un reste divalent choisi parmi -0-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -COO- cyclohexylène (éventuellement substitué par un radical OH)-, -O-alkylène (linéaire ou ramifié en C2- Ce, éventuellement substitué par un radical OH ou COOH)-, -O-CO-alkylène (linéaire ou ramifié en C2-C6, éventuellement substitué par un radical OH ou COOH)-, -CO-NH, -NH-CO-, -O-CO-NH-, -NH-alkylène (linéaire ou ramifié en C2-Cs)-CO-NH-; R3représente encore un radical divalent du type -phénylène(ortho, méta ou para)- alkylène (linéaire ou ramifié en C2-C6)- ou du type -phénylène(ortho, méta ou para)- -O-alkylène (linéaire ou ramifié en C2-Ce)-; + les symboles R4et R5, identiques ou différents, représentent chacun un atome d'hydrogène, un atome d'halogène, un radical cyano ou un radical alkyle, linéaire ou ramifié, ayant de 1 à 6 atomes de carbone ; (4) les symboles a, b et c représentent chacun des nombres entiers ou fractionnaires choisis parmi : + a:0,1,2ou3; + b: 0, 1, 2 ou 3; + c : 0 ou 1 ; + la somme a + b + c étant différente de zéro et 5 3 ; (5) le taux de motifs R6SiO3/2 (motifs "T") où R6 est choisi parmi les radicaux répondant aux définitions de R2, Y et X, ce taux étant exprimé par le nombre, par molécule, de ces motifs pour 100 atomes de silicium, est égal ou inférieur à 30 % ; (6) le taux de fonctions Y, exprimé par le nombre,* par molécule, de fonctions Y pour 100 atomes de silicium, est au moins de 0,8 % ; (7) le taux de fonctions X, exprimé par le nombre, par molécule, de fonctions X pour 100 atomes de silicium, est au moins de 0,4 %. 2. Composés selon la revendication 1, caractérisés en ce que dans la formule 1: (1) les symboles R2 sont choisis parmi les radicaux : méthyle, éthyle, n-propyle, isopropyle, n-butyle, n-pentyle, cyclohexyle et phényle ; (2) les symboles Y sont choisis parmi un radical hydroxyle et un radical alkoxyle, linéaire ou ramifié, ayant de 1 à 6 atomes de carbone ; (3) les fonctions représentées par le symbole X sont choisies parmi les fonctions de formules (11/1), (11/2), (11/3) et leurs mélanges dans lesquelles : - quand, le cas échéant, on a un mélange de fonction (s) de formule (11/1) avec des fonctions X de formules (11/2 et/ou II/3), la fraction molaire de fonctions X de formule (11/2) et/ou (II/3) dans l'ensemble des fonctions X est en moyenne égale ou inférieure à 5 % en mole ; - le symbole R3 représente un radical alkylène qui répond aux formules suivantes : -(CH2)2-, -(CH2)3-, - (CH2)4-, -CH2-CH(CH3)-, -(CH2)2-CH(CH3)-CH2-. -(CH2)3-O-(CH2)3-, -(CH2)3-O-CH2-CH(CH3)-CH2-,-(CH2)3-O-CH2CH(OH)-CH2-; - les symboles R4 et R5sont choisis parmi un atome d'hydrogène, un atome de chlore, et les radicaux méthyle, éthyle, n-propyle, n-butyle (5) le taux de motifs "T" est égal ou inférieur à 20 % ; (6) le taux de fonctions Y se situe dans l'intervalle allant de 1 à 100 % ; (7) le taux de fonctions X se situe dans l'intervalle allant de 0,8 à 100 %. 3. Composés selon la revendication 1 ou 2, caractérisés en ce qu'ils comprennent des POS multifonctionnels choisis parmi : # les POS qui sont essentiellement linéaires et possèdent la formule moyenne suivante : dans laquelle : (1') les symboles T1 sont choisis parmi les motifs HO1/2 et R1O1/2, où le radical R1 est tel que défini ci-avant ; (2') les symboles T2, identiques ou différents des symboles T1, sont choisis parmi les motifs HO1/2, R'01,2 et le motif (RZ)3SiO,n , où les radical R1 et RZ sont tels que définis ci-avant aux points (2) et (1) concernant la formule (I) ; (3') les symboles R2, X et Y sont tels que définis ci-avant aux points (1), (3) et (2) concernant la formule (1) ; (4') les symboles R6 sont choisis parmi les radicaux répondant aux définitions de R2, X et Y; (5') les symboles m, n, p, q, r, s et t représentent chacun des nombres entiers ou fractionnaires qui répondent aux conditions cumulatives suivantes : # m et t sont l'un et l'autre des nombres toujours différents de zéro dont la somme est égale à 2 + s, # n se situe dans l'intervalle allant de 0 à 100, # p se situe dans l'intervalle allant de 0 à 100, # q se situe dans l'intervalle allant de 0 à 100, # r se situe dans l'intervalle allant de 0 à 100, # s se situe dans l'intervalle allant de 0 à 75, # quand n = 0, p est toujours un nombre différent de zéro et quand p = 0, n est toujours un nombre différent de zéro, # la somme n + p + q + r + s + t donnant le nombre total d'atomes de silicium se situe dans l'intervalle allant de 2 à 250, # le rapport 100 s / (n + p + q + r + s + t) donnant le taux de motifs 'T' est à 30, Ierapport100(m+p+r+s[quandRe=Y]+t)/(n+p+q+r+s+t)donnantle taux de fonctions Y est > 1, # le rapport 100 (n + p + s [quand R6 = X]) / (n + p + q + r + s + t) donnant le taux de fonctions X est 1 ; # les POS qui sont cycliques et possèdent la formule moyenne suivante : lans laquelle : 3'") les symboles R2, X et Y sont tels que définis ci-avant aux points (1), (3) et (2) concernant la formule (I) ; 5"') les symboles n', p', q' et r' représentent chacun des nombres entiers ou fractionnaires qui répondent aux conditions cumulatives suivantes : # n' se situe dans l'intervalle allant de 0 à 9, # p' se situe dans l'intervalle allant de 0 à 9, # quand n' = 0, p' est au moins égal à 1, # quand p'= 0, n' est au moins égal à 1 et r' est aussi au moins égal à 1, # q' se situe dans l'intervalle allant de 0 à 9, # r' se situe dans l'intervalle allant de 0 à 2, # la somme n' + p' + q' + r' se situe dans l'intervalle allant de 3 à 10, # le rapport 100 (p' + r') (n' + p' + q' + r') donnant le taux de fonction Y va de 4 à 100, # le rapport 100 (n' + p') (n' + p' + q' + r') donnant le taux de fonction X va de 10 à 100. et les mélanges des POS de formule (III) et (III'). 4. Composés selon la revendication 3, caractérisés en ce qu'il comprennent des POS multifonctionnels choisis parmi les oligomères et les polymères POS/1 essentiellement linéaires qui répondent à la formule (III) dans laquelle : (1") les symboles T1 sont définis comme indiqué ci-avant au point (1') ; (2") les symboles T2, sont définis comme indiqué ci-avant au point (2') ; (3") les symboles R2 , X et Y sont définis comme indiqué ci-avant aux points (3') ; (4") les symboles R6 sont définis comme indiqué ci-avant au point (4') : (5") les symboles m, n, p, q, r, s et t répondent aux conditions cumulatives suivantes : # m+t=2+s, # n se situe dans l'intervalle allant de 0 à 50, # p se situe dans l'intervalle allant de 0 à 20, # quand n = 0, p est au moins égale à 1 et quand p = 0, n est au moins égal à 1, # q se situe dans l'intervalle allant de 0 à 48, # r se situe dans l'intervalle allant de 0 à 10, # s se situe dans l'intervalle allant de 0 à 1, # la somme n + p + q + r + s + t donnant le nombre total d'atomes de silicium se situe dans l'intervalle allant de 2 à 50, # le rapport 100 s / (n + p + q + r + s + t) donnant le taux de motifs "T" est à 10, le rapport 100(m + p + r + s [quand R8 = Y] + t) / (n + p + q + r + s + t) donnant le taux de fonctions Y va de 4 à 100, # le rapport 100 (n + p + s [quand R6 = X]) / (n + p + q + r + s + t) donnant le taux de fonctions X va de 10 à 100. 5. Procédé de préparation des composés organosiliciques selonl'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce qu'il fait intervenir notamment : - une réaction d'hydrolyse et de condensation d'un dihalogénosilane ou d'un dialkoxysilane porteurs d'une fonction X, en présence éventuellement d'un dihalogénosilane ou d'un dialkoxysilane, - une réaction de condensation entre un organosilane porteur d'une fonction X et d'au moins deux fonctions Y, et un POS linéaire [alpha],#-dihydroxylé, - une réaction de redistribution et d'équilibration entre un organosilane porteur d'une fonction X et d'au moins deux fonctions Y et/ou halogéno, et un organocyclosiloxane pouvant éventuellement porté une ou plusieurs fonctions Y dans la chaîne, - une réaction de couplage entre un organosilane porteur d'une fonction X de formule (11/2) et d'au moins deux fonctions Y, et un polysilazane, - une réaction de couplage entre un POS précurseur, linéaire ou cyclique, porteur d'au moins une fonction Y et fonctionnalisé avec au moins un motif attaché à un atome de silicium notamment de type -alkylène (linéaire ou ramifié en C2 -Ce)-OH, -alkylène (linéaire ou ramifié en C2 -C6)-NR6H ou -alkylène (linaire ou ramifié en C2 -Ce)- COOH, et un composé réactif capable de réagir avec le (ou les) motif (s) précité (s) pour donner naissance à la fonction X souhaitée. 6. Procédé de préparation selon la revendication 5, permettant de préparer des composés organosiliciques selon la revendication 4 et comprenant les polymères POS/1 dans la formule (III) desquels le symbole q est égal à zéro, caractérisé en ce qu'il consiste à réaliser les étapes (d1) et (d2) suivantes : (d1) on fait réagir : - un organosilane de formule (VI) où le symbole X représente la fonction de formule (11/2), c'est-à-dire un organosilane de formule : - avec un disilazane de formule : (R2)3Si-NH-Si(R2)3 (XI) formules dans lesquelles les symboles R1, R2, R3, R4et R5 sont des radicaux répondant aux définitions données aux points (1) à (3) concernant la formule (I) selon la revendication 1, et d est un nombre choisi parmi 2 ou 3, - cette réaction étant effectuée en présence d'un catalyseur, supporté ou non sur une matière minérale, à base d'au moins un acide de Lewis, en opérant à la pression atmosphérique et à une température se situant dans l'intervalle allant de la température ambiante (23 C) à 150 C ; (d2) on procède à la stabilisation du milieu réactionnel obtenu par traitement de ce dernier avec au moins un halogénosilane de formule (R2)3 Si-halogéno, en opérant en présence d'au moins une base organique non nucléophile et non réactive vis-à-vis de la fonction imide formée in situ au cours de l'étape (d1). 7. Procédé de préparation selon la revendication 5, permettant de préparer des composés organosiliciques selon la revendication 4 et comprenant les polymères POS/1 dans la formule (III) desquels le symbole q est différent de zéro, caractérisé en ce qu'il consiste à faire réagir : - un organosilane de formule (VI) où le symbole X représente la fonction de formule (11/2), c'est-à-dire un organosilane de formule : - avec un polysilazane de formule: formules dans lesquelles les symboles R1, R2, R3, R4 et R5 sont des radicaux répondant aux définitions données aux points (1) à (3) concernant la formule (I) selon la revendication 1, et h est un nombre allant de 3 à 8, - cette réaction étant effectuée en présence d'un catalyseur, supporté ou non sur une matière minérale, à base d'au moins un acide de Lewis, en opérant à la pression atmosphérique et à une température se situant dans l'intervalle allant de la température ambiante (23 C) à 150 C. 8. Procédé de préparation selon la revendication 6, caractérisé en ce que l'on fait appel aux conditions opératoires suivantes : - le disilazane (XI) est utilisé en quantité au moins égale à 0,5 mole pour 1 mole d'organosilane (X) de départ ; - l'acide de Lewis est utilisé en quantité au moins égale à 0,5 mole pour 1 mole d'organosilane (X) de départ ; - le (ou les) halogénosilane(s) de l'étape de stabilisation est (sont) utilisé(s) en quantité au moins égale à 0,5 mole pour 1 mole d'organosilane (X) de départ ; - la (les) base(s) organique(s) de l'étape de stabilisation est (sont) utilisée(s) en quantité au moins égale à 0,5 mole pour 1 mole d'organosilane (X) de départ. 9. Procédé de préparation selon la revendication 7, caractérisé en ce que l'on fait appel aux conditions opératoires suivantes : - le polysilazane (XII) est utilisé en quantité au moins égale à 0,5/h mole pour 1 mole d'organosilane (X) de départ, h étant le nombre de motifs silazane dans le polysilazane de formule (XII) ; - l'acide de Lewis est utilisé en quantité au moins égale à 0,5 mole pour 1 mole d'organosilane (X) de départ.