INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Si le polymère vinylaromatique obtenu selon l'invention est mélangé avec au moins un autre polymère, de préférence un polymère vinylaromatique ou polymère vinylaromatique choc, le taux en poids du polymère vinylaromatique obtenu selon l'invention est généralement compris entre 5 et 95%, et de manière préférée entre 10 et 90% en poids par rapport au mélange final.
Lorsque le polymère vinylaromatique obtenu selon l'invention est un polystyrène cristal, il peut être avantageusement mélangé avec des copolymères vinylaromatique-diènique, tels que les styrène-butadiène (dits "SB") ou styrène-butadiène-styrène (dits "SBS"), communément appelées CLIPS (de l'anglais CLear Impact PolyStyrène), puis extrudés et thermoformés afin de fabriquer des articles associant de bonnes propriétés mécaniques (telles que l'allongement et/ou la résistance à la déchirure) et optiques (bonne transparence).
Du fait de ses propriétés mécaniques améliorées et de sa bonne facilité à être mis en #uvre, le polymère vinylaromatique obtenu selon l'invention peut être avantageusement utilisé seul ou en mélange avec un autre polymère, dans au moins une couche d'une feuille obtenue par coextrusion. A titre d'exemple, les autres polymères pouvant intervenir dans la composition de la feuille coextrudée peuvent être du polystyrène, polystyrène choc, polypropylène, polyéthylène, EVOH, copolymère éthylène- vinylacétate (EVA), polyéthylène téréphthalate (PET).
Dans les exemples qui suivent, des prélèvements sont effectués toutes les heures lors des essais afin de suivre le taux de conversion en fonction du temps ainsi que l'évolution de la masse moléculaire moyenne en nombre, de la masse moléculaire moyenne en poids et l'indice de polymolécularité La conversion est déterminée par évaporation sous vide du monomère non réagit Les masses moléculaires moyenne en nombre (Mn) et en poids (Mw) sont déterminées par chromatographie à perméation de gel (GPC) en utilisant des étalons standards de polystyrène.
Pour cette analyse GPC, les échantillons sont mis en solution dans le tétrahydrofuranne (THF) à température ambiante durant 24 heures ( agitation manuelle de temps en temps) à une concentration de 2g/l. L'analyse est ensuite effectuée sur une installation comprenant en "chaîne":
* 1 pompe WATERS Modèle 510 * 1 injecteur WATERS WISP 710B * 2 COLONNES PL-GEL MIXED B de 30cm (Polymer Laboratories) * 1 Réfractomètre différentiel WATERS 410 L'analyse est effectuée dans le THF à 1 ml/min. Le temps d'analyse est de 28 min.
L'étalonnage se fait à l'aide de polystyrènes monodisperses de masse de 500 à 4 48.106g/mole ( Etalons TSK et polymer Laboratories).
A partir des courbes obtenues, l'homme du métier spécialiste des analyses GPC sait déterminer le pourcentage relatif des deux groupes de molécules Chaque pic est traité indépendamment en intégrant sa surface compte tenu de l'étalonnage.
EXEMPLE 1 (COMPARATIF) : Synthèse de polystyrène par polymérisation radicalaire contrôlée en présence de radicaux stables et en l'absence d'agent de couplage.
Dans un réacteur en verre de 1 litre chauffé par circulation d'huile au sein d'une double enveloppe, sont introduits à température ambiante 210 g d'éthylbenzène, 490 g de styrène, 0,6615 g de peroxyde de dicumyle et 0,843 g de 4 hydroxy-(2,2',6,6' tetraméthyl)pipéridinyloxy. La température de la double enveloppe est portée à 130 C afin d'avoir une température matière de 125 C Le mélange réactionnel, sous balayage d'azote, est agité par l'intermédiaire d'une ancre tournant avec une vitesse de rotation de 200 révolutions par minute.
Les résultats pour l'exemple 1 sont donnés dans le tableau suivant
Cette technique est connue en électrophorèse et décrite par exemple dans les documents WO 84/02001 et US 5 084 157 auxquels on pourra se reporter pour davantage de précisions.
Le procédé selon l'invention diffère des techniques connues d'électrophorèse essentiellement en ce que l'électrophorèse résultant de l'application d'un champ électrique périodique à un mélange de composés, a lieu en milieu réactif et en ce que le champ électrique varie périodiquement autour d'une valeur moyenne nulle.
Pour cela, on utilise un milieu 10 qui contient une concentration déterminée d'un composant P qui réagit avec les composés contenus dans un mélange injecté en un point du milieu 10, les composés Ci de ce mélange réagissant avec le composant P pour former des produits Qi qui se décomposent eux-mêmes en produits initiaux Ci et P, comme indiqué ci-dessous où kl,i et k2,i sont les constantes cinétiques des réactions dans un sens et dans le sens inverse et varient d'un composé Ci à l'autre, kl,i étant un nombre de réactions par unité de concentration et par unité de temps, k2,i étant un nombre de réactions par unité de temps.
Dans ce qui suit, on se place dans le cas le plus difficile où les composés Ci formant le mélange injecté dans le milieu 10 sont supposés avoir la même masse m, la même charge électrique z, le même coefficient de frottement y dans le milieu et le même coefficient de diffusion D dans ce milieu. Le composant P présent dans le milieu 10 et les composés Qi sont supposés insensibles au champ électrique et immobiles ou pouvant diffuser faiblement dans le milieu 10, soit parce qu'ils sont fixés par covalence, soit parce que leur dimension leur interdit tout déplacement dans le milieu 10.
on suppose également que la concentration du composant P est sensiblement uniforme dans le milieu 10 et est maintenue sensiblement constante dans ce milieu pendant toute la séparation.
Lorsque le champ électrique appliqué au milieu 10 est à variation sinusoïdale dans le temps et est par exemple de la forme E(t) acos(cot), on peut calculer la valeur moyenne xc (t) et la variance o-,2 (t) de la position x du composé C le long d'un axe e parallèle au champ électrique appliqué au milieu 10. on obtient alors la formule suivante : et de même : où est une amplitude recalibrée du champ électrique, cl kl p, p étant la concentration de P dans le milieu 10 C2 cl et C2 étant exprimés en s Bien que le champ électrique appliqué soit nul en moyenne, la position moyenne des composés Ci et Qi oscille autour d'une valeur différente de l'origine en raison de l'asymétrie des conditions initiales, le système gardant partiellement en mémoire la première excursion du champ électrique. Si on néglige les termes constants et les termes oscillants, la variance de position associée aux distributions Cj(x,t) et Qi(x,t) se réduit après un régime transitoire très court à : Da étant le coefficient de diffusion apparent d'un couple Ci, Qi et D étant le coefficient de diffusion intrinsèque du composé Ci.
Lorsque l'amplitude du champ électrique est suffisante pour que la relation ci-dessous soit satisfaite : la diffusion apparente ne dépend pas de D et est commandée uniquement par les réactions chimiques et le champ électrique, le coefficient de diffusion apparent étant donné par la relation ci-dessous : Ce coefficient de diffusion apparent peut prendre une valeur arbitrairement grande définie par la valeur de l'amplitude recalibrée A du champ électrique. Ce coefficient de diffusion apparent est une fonction de cl et C2 et comprend un seul maximum (quand le champ électrique a une amplitude suffisante) qui est obtenu pour :
c R c R ùù/2 1 2 R R ou, de façon équivalente, : ki . p = k2 = 7r/T où l'exposant R exprime une condition de résonance et T est la période du champ électrique.
En figure 2, la courbe en traits pleins indique la variation du rapport Da/D en fonction de A à la résonance, la courbe en tirets longs indique la variation de ce rapport en fonction de A pour des R R1lO# constantes cinétiques k, et k2 la courbe en tirets courts indique la variation de ce rapport en R fonction de A pour des constantes cinétiques lokl R lOk2 et la courbe en pointillés indique la variation de ce rapport pour des constantes ci nétiques égales à lok R et k R 1 2- La figure 3 représente la variation du rapport Da/D en fonction des logarithmes à base 10 de cl et C2, le maximum de la variation correspondant aux conditions de résonance précitées.
Si l'on considère les réactions chimiques comme des événements aléatoires, les transitions entre Ci et Qi sont des événements stochastiques et le maximum de la valeur de D. est obtenu pour des conditions qui correspondent à une résonance stochastique entre les réactions chimiques et le champ électrique appliqué au milieu 10.
C'est cette résonance, qui se traduit par une valeur maximale du coefficient de diffusion apparent d'un composé C, qui permet de séparer ce composé C des autres composants Ci présents dans le mélange. on peut calculer en particulier que, si l'une des constantes cinétiques d'un composé Ci est égale à la constante cinétique du composé C pour lequel il y a résonance et que l'autre constante cinétique du composé Ci diffère d'un facteur 10 de l'autre constante cinétique du composé C, le coefficient de diffusion apparent du composé Ci sera 3,5 fois plus faible environ que celui du composant C.
Cette différence de diffusion permet de bien séparer le composé C des composants Ci similaires, ces derniers étant des composants qui ont soit sensiblement la même charge électrique, la même masse et le même coefficient de frottement que C, soit sensiblement le même rapport z/m.y que C (la valeur de A étant sensiblement la même pour tous ces composants).
Les composants diffèrent les uns des autres par la valeur d'au moins une constante cinétique de réaction avec le composant (P).
Le champ électrique appliqué au milieu 10 peut varier périodiquement dans le temps d'une façon quelconque : la variation peut être sinusoïdale, en créneau, ou autre.
La plus grande diffusion du composé C correspondant aux conditions de résonance permet de le séparer des autres composés Ci du mélange et de le récupérer, en partie, aux extrémités du profil de distribution dans le milieu 10. On peut dans le cas de la diffusion pure d'un mélange de deux composes (Cl, C2) ayant la même concentration et des coefficients de diffusion intrinsèques différents, calculer une pureté et un rendement de la récupération du composé Cl par les formules suivantes où : N est la quantité du composé Cl injectée dans le milieu 10 au temps t au point x I est l'intégrale de la concentration Cl(x, t) entre x et l'infini, on a représenté en figure 4 la variation de la pureté S et du rendement R en fonction de (x. On voit sur cette figure qu'en choisissant une pureté désirée, on peut déterminer la valeur de a et donc celle de x à partir de laquelle on pourra récolter le composé C, et le rendement que l'on obtiendra. Lorsque les coefficients de diffusion des deux composés Cl et C2 diffèrent dans un rapport de 3,5, on peut recueillir 25 % du composé Cl, avec une pureté de 90 %, pour a, = 0,85.
on va maintenant décrire brièvement un exemple d'application de l'invention, permettant de fixer les idées. Cet exemple concerne la réaction chimique d'hybridation d'échantillons d'ADN sur de l'ARN en solution. Dans le cas d'échantillons d'oligodéoxyribonucléotides sur une cible ARN comprenant un site de liaison primaire de la transcriptase inverse HIV-1, le processus de liaison est caractérisé par les valeurs suivantes : 3 X 10 4 m- 1 s- 1 10 6 m- 1 s- 1 10- 3 s- i - k2 :9 2,5.10- 2 S- 1 D = 3.10- 10 m 2 s -1 2,7.10- 18 C :9 z :É 5,9.10- 18 C. La première condition de résonance kj-p donne des concentrations dIARN dans le milieu 10 comprises entre 10- 9 M et 10- 6 M, que l'on peut obtenir sans difficultés.
ci-dessus. De tels anticorps peuvent être générés par des méthodes connues de l'homme du métier. En particulier, ces anticorps peuvent être préparés par immunisation d'un animal contre un peptide de l'invention, par prélèvement du sang, et isolement des anticorps. Ces anticorps peuvent également être générés par préparation d'hybridomes selon les techniques connues de l'homme de l'art.
Plus préférentiellement, les anticorps ou fragments d'anticorps de l'invention présentent la capacité de moduler au moins partiellement l'interaction des composés peptidiques définis ci-avant ou des protéines hnRNPL et/ou FEBP1avec le domaine PTB de FE65, et peuvent être utilisés pour moduler l'activité de FE65.
Par ailleurs, ces anticorps peuvent également être utilisés pour détecter et/ou doser l'expression des peptides revendiqués dans des échantillons biologiques, et de ce fait, pour renseigner sur leur état d'activation.
Les fragments ou dérivés d'anticorps sont par exemple des fragments Fab, Fab'2, des anticorps simple-chaîne (ScFv), etc. Il s'agit notamment de tout fragment ou dérivé conservant la spécificité antigénique des anticorps dont ils sont issus.
Les anticorps selon l'invention sont plus préférentiellement capables de lier les protéines hnRNPL et/ou FEBP comprenant respectivement la séquence SEQ ID N : 7 ou 9, notamment la région de ces protéines impliquée dans l'interaction avec FE65. Ces anticorps (ou fragments ou dérivés) sont plus préférentiellement capables de lier un épitope présent dans la séquence comprise entre les résidus 1 et 349 de SEQ ID N : 7 ou entre les résidus 1 et 337 de SEQ ID N 6.
L'invention concerne également des composés non peptidiques ou non exclusivement peptidiques, capable d'interférer au niveau de l'interaction précitée, et leur utilisation comme agent pharmaceutique. Il est en effet possible, à partir des motifs protéiques actifs décrits dans la présente demande, de réaliser des molécules modulatrices de l'activité des protéines hnRNPL et/ou FEBP1 non exclusivement peptidiques et compatibles avec une utilisation pharmaceutique, en particulier en dupliquant les motifs actifs des peptides avec une structure non peptidique ou de nature non exclusivement peptidique.
La présente invention a également pour objet tout acide nucléique codant pour un composé peptidique selon l'invention. Il peut s'agir en particulier d'une séquence comprenant tout ou partie des séquences présentées en SEQ ID N : 6 et en SEQ ID N : 8 ou de leurs dérivés. Par séquence dérivée, on entend au sens de la présente invention toute séquence hybridant avec les séquences présentées en SEQ ID N : 6 et en SEQ ID N : 8, ou avec un fragment de celles-ci, codant pour un peptide selon l'invention, ainsi que les séquences résultant de ces dernières par dégénérescence du code génétique. Les différentes séquences nucléotidiques de l'invention peuvent être d'origine artificielle ou non. Il peut s'agir de séquences génomiques, d'ADNc, d'ARN, de séquences hybrides ou de séquences synthétiques ou semi-synthétiques. Ces séquences peuvent être obtenues soit par criblage de banques d'ADN (banque d'ADNc, banque d'ADN génomique), soit par synthèse chimique, soit par des méthodes mixtes incluant la modification chimique ou enzymatique de séquences obtenues par criblage de banques. L'hybridation mentionnée ci-dessus est préférentiellement réalisée en condition de stringence élevée, et notamment à une température de 50 C pendant 1 heure dans une solution contenant 8,823g/1 de trisodium citrate-2H20, 17,532g/1 de chlorure de sodium et 1% de dodecyl sulfate de sodium, ou encore dans les conditions décrites par Sambrook et al (1989, pages 9.52- 9. 55).
Un acide nucléique particulier au sens de l'invention code pour un polypeptide comprenant la séquence SEQ ID N : 9 ou un fragment ou dérivé de celle-ci, notamment pour la protéine FEBP1humaine. Il s'agit avantageusement d'un acide nucléique comprenant la séquence nucléique SEQ ID N : 8.
Les acides nucléiques selon l'invention peuvent être utilisés pour la production des composés peptidiques de l'invention. La présente demande concerne donc également un procédé de préparation d'un composé peptidique selon lequel on cultive une cellule contenant un acide nucléique selon l'invention, dans des conditions d'expression dudit acide nucléique et on récupère le composé peptidique produit.
Dans ce cas, la partie codant pour ledit polypeptide est généralement placée sous le
contrôle de signaux permettant son expression dans un hôte cellulaire. Le choix de ces signaux (promoteurs, terminateurs, séquence "leader" de sécrétion, etc. ) peut varier en fonction de l'hôte cellulaire utilisé. Par ailleurs, les acides nucléiques de l'invention peuvent faire partie d'un vecteur qui peut être à réplication autonome ou intégratif.
Plus particulièrement, des vecteurs à réplication autonome peuvent être préparés en utilisant des séquences à réplication autonome chez l'hôte choisi. S'agissant des vecteurs intégratifs, ceux-ci peuvent être préparés par exemple en utilisant des séquences homologues à certaines régions du génome de l'hôte, permettant, par recombinaison homologue, l'intégration du vecteur. Il peut s'agir d'un vecteur de type plasmidique, épisomique, chromosomique, viral, etc.
S'agissant de cellules animales, on peut citer les cellules COS, CHO, C127, PC12 etc.
Parmi les champignons, on peut citer plus particulièrement Aspergillus ssp. ou Trichoderma ssp. Comme hôtes procaryotes, on préfère utiliser les bactéries suivantes E. coli, Bacillus, ou Streptomyces.
Les acides nucléiques selon l'invention peuvent également servir à la réalisation d'oligonucléotides antisens ou d'antisens génétiques utilisables comme agents pharmaceutiques ou diagnostiques. Les séquences antisens sont des oligonucléotides de petite taille, complémentaires du brin codant d'un gène donné, et de ce fait sont capables d'hybrider spécifiquement avec l'ARNm transcrit, inhibant sa traduction en protéine. L'invention a ainsi pour objet les séquences antisens capables d'inhiber au moins partiellement l'interaction des protéines hnRNPL et/ou FEBP sur le domaine PTB de FE65. De telles séquences peuvent être constituées par tout ou partie des séquences nucléotidiques définies ci-dessus. Il s'agit généralement de séquences ou de fragments de séquences complémentaires de séquences codant pour
Les compositions photodurcissables selon l'invention conviennent, par exemple, comme matériaux de revêtement pour toutes sortes de substrats, par exemple de la laine, des textiles, du papier, des céramiques, du verre, du marbre, des matières plastiques comme du polyester, du poly(téréphtalate d'éthylène), des polyoléfines ou de l'acétate de cellulose, en particulier sous forme de films, et de métaux comme Al, Cu, Ni, Fe, Zn, Mg ou Co et GaAs, Si ou SiO2, sur lesquels on veut appliquer un revêtement ou une image par exposition formant une image, ou sur lesquels on veut appliquer une couche de résist structurée.
* Le revêtement des substrats peut s'effectuer par application d'une composition liquide, d'une solution ou d'une suspension sur le substrat. Le choix du solvant et la concentration dépendent principalement de la nature de la composition et du procédé de revêtement. Le solvant devrait être inerte, c'est-à-dire qu'il ne devrait participer à aucune réaction chimique avec les constituants et qu'il devrait pouvoir être éliminé par séchage après l'opération de revêtement.
Des exemples de solvants appropriés sont des cétones, des éthers et des esters comme la méthyléthylcétone, l'isobutylméthylcétone, la cyclopentanone, la cyclohexanone, la 2-heptanone, la méthylamylcétone, la N-méthylpyrrolidone, la ybutyrolactone, le dioxane, le tétrahydrofurane, le 2-méthoxyéthanol, le 2- éthoxyéthanol, le l-méthoxy-2-propanol, le 1,2-diméthoxyéthane, l'acétate d'éthyle, l'acétate de n-butyle, l'acétate de l'éther monométhylique du propylèneglycol, le lactate d'éthyle, le carbonate de propylène et le 3-éthoxypropionate d'éthyle.
Après avoir revêtu le substrat, on élimine en général le solvant par séchage.
On applique uniformément la formulation sur un substrat par des procédés de revêtement connus, par exemple par revêtement par centrifugation,
application à la racle, application au rideau, application au pinceau ou pulvérisation, en particulier par pulvérisation électrostatique et enduction par rouleau inversé, et par revêtement par électrophorèse. On peut aussi appliquer la couche photosensible sur un support flexible temporaire, puis revêtir le substrat final, par exemple une carte de circuit imprimé à couche de cuivre, en transférant la couche par stratification.
La quantité appliquée (épaisseur de couche) et le type de substrat (support de la couche) dépendent du domaine d'utilisation désiré. L'épaisseur de couche est en général comprise entre environ 0,1 m et plus de 100 m, de préférence entre 0,5 um et 50 um. Dans la fabrication d'articles en trois dimensions, par exemple par stéréolithographie, les dimensions des articles pouvant être obtenues ne sont limitées que par la taille de l'appareil d'exposition.
Les compositions sensibles à un rayonnement selon l'invention sont utilisées par exemple comme résists négatifs ayant une photosensibilité très élevée et pouvant être développés dans un milieu aqueux basique sans gonfler. Elles sont appropriées comme photorésists en électronique, par exemple comme résists de galvanoplastie, résists de gravure, et dans des films liquides et secs, des masques de soudage, comme résists dans la production de filtres couleur pour tout type d'écran, ou pour former des structures dans la fabrication d'écrans à plasma et d'écrans électroluminescents, dans la fabrication de plaques d'impression, par exemple de plaques d'impression offset, dans la fabrication de moules d'impression pour la typographie, l'impression à plat, l'impression en creux ou l'impression flexo, ou de moules de sérigraphie, la production de copies en relief, par exemple pour la production de textes en braille, pour la production de tampons, pour l'utilisation dans la gravure de moulages ou pour l'utilisation comme microrésist dans la fabrication de circuits intégrés. On peut aussi utiliser les compositions comme diélectriques photostructurables, pour encapsuler des matériaux ou comme revêtements isolants dans la fabrication de puces d'ordinateur, de circuits imprimés et d'autres composants électriques ou électroniques. Les supports de couche possibles et les conditions de traitement pour les substrats revêtus varient en conséquence.
On utilise aussi les compositions selon l'invention dans la fabrication de matériaux à une seule couche ou multicouches pour l'enregistrement d'images ou la reproduction d'images (copies, reprographie) qui peuvent être monochromatiques ou polychromatiques. Ils comprennent des matériaux pour la mise en mémoire holographique d'informations, par exemple pour la mise en mémoire d'images holographiques ou de données holographiques en trois dimensions. On peut aussi utiliser ces matériaux dans des systèmes d'essais de couleurs. Dans cette technologie,
on peut aussi utiliser des formulations comprenant des microcapsules et, pour produire l'image, on peut mettre en #uvre une étape thermique après l'étape d'exposition. Ces systèmes et ces technologies et leur utilisation sont décrits par exemple dans le document de brevet US 5 376 459.
Pour des enregistrements photographiques d'informations, on utilise par exemple des films de polyester, de l'acétate de cellulose ou des papiers revêtus de plastique ; pour des moules d'impression offset, on utilise en particulier de l'aluminium traité ; la production de circuits imprimés, on utilise des stratifiés revêtus de cuivre ; pour la production de circuits intégrés, on utilise des pastilles de silicium. Les épaisseurs de couche sont en général d'environ 0,5 m à 10 m pour les matériaux photographiques et les moules d'impression offset, et de 1,0 m à environ 100 m pour les circuits imprimés.
L'invention concerne aussi l'utilisation de composés de formule 1 comme donneurs d'acide sensibles à un rayonnement dans la fabrication de compositions de revêtement de surface, d'encres d'imprimerie, de plaques d'impression, de compositions dentaires, de résines de stéréolithographie, d'adhésifs, de revêtements antiadhésifs, de filtres couleurs, de matériaux de résist ou de matériaux d'enregistrement d'images.
L'invention concerne aussi un substrat revêtu qui est revêtu sur au moins une surface d'une composition selon l'invention, et un procédé de production d'images en relief dans lequel on applique une composition selon l'invention sur un substrat, puis on l'expose en formant une image.