INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Conformément à la figure 5, le nuage de carburant est conduit vers la bougie d'allumage à travers une paroi de renvoi 9e, la paroi de délimitation 9c sensiblement circulaire de la cavité du piston permettant d'obtenir un renvoi précis dans la première partie 9a.
Selon une autre forme de réalisation conformément à la figure 6, la cavité du piston présente une contre-dépouille 99, qui conformément à la figure 2 est prévue dans la région d'une partie 9j de la cavité du piston. La partie de la cavité du piston 9j est la partie de la cavité du piston 9 qui par rapport au centre du jet de carburant 11 est disposée à droite (selon la figure 2) de la bougie d'allumage 2. La contre-dépouille 99 est conçue sous forme de croissant, dans la vue en plan depuis le dessus (selon la figure 2).
Conformément aux figures 2 et 6, le fond du piston 8 est limité sur le côté gauche par deux rayons R3 et R4 et sur le côté droit par le bourrelet 21 et par l'entrée hélicoïdale 13a, placée à l'arrière de celui-ci. Un passage permanent qui englobe avec la surface du fond de piston 8b ou avec le plan horizontal un angle ss compris entre 1500 et 1600 est prévu entre le bourrelet 21 et l'entrée hélicoïdale 13a.
A partir du bourrelet 21, la cavité du piston 9 est délimitée sur le côté gauche par un rayon R5. A partir de ce rayon, à partir de la cavité du piston 9, une surface latérale de la cavité du piston 9 s'étend à l'intérieur du piston jusqu'à l'oil de la tête de bielle 6. Par l'intermédiaire de deux rayons du fond de piston 9h, le fond de la cavité 9c quasiment horizontal ou parallèle au fond du piston 8 est formé à partir de ces surfaces
latérales. Il en résulte une section pratiquement ovale de la cavité du piston 9.
La contre-dépouille 99 est disposée sur le côté gauche, vis à vis de R5, de manière à éviter que le mélange de carburant qui se trouve dans la cavité du piston 9 ne s'en échappe. A cet effet, la région de la cavité située à proximité de la bougie d'allumage 2 n'est pas munie d'une contredépouille, pour permettre un renvoi si possible sans obstacle du nuage de charge stratifiée vers la bougie d'allumage, par l'intermédiaire des contours du piston. En outre, conformément à la figure 6, la contredépouille 9g de la cavité du piston 9 forme avec un plan 9k perpendiculaire, à la surface du fond du piston 8b, un angle y situé entre 100 et 200, en particulier entre 130 et 170.
Un autre segment de la partie horizontale 8 b du fond de piston 8 est adjacent à la conte-dépouille 9g ou relie la contre dépouille 9g avec le rayon précité R4.
La figure 7 montre une vue agrandie de la première ouverture hélicoïdale 13 et de la surface de compression 14. La première ouverture hélicoïdale 13 forme un renfoncement conçu dans la culasse, qui s'incline vers l'injecteur, en direction du courant rotatif situé dans la chambre de combustion, de manière à ce que la surface se rattache à fleur du bord de l'injecteur, tout autour de ce dernier. Une petite surface de compression 14 est conçue à proximité de l'injecteur, dans le sens du mouvement de rotation de la charge, de manière à ce que les résidus de carburant retirés de l'injecteur soient transportés du plafond de la chambre de combustion vers le centre de la chambre de combustion.
Les soupapes d'admission 4 et 4a sont disposées dans la culasse 12, en direction du bord de la chambre de combustion 15, de manière à ce qu'une plus petite distance 16 entre les périphéries des deux soupapes d'admission correspondent au moins à 9 mm.
La figure 8 représente le sens du mouvement de charge dans la chambre de combustion du moteur à allumage par étincelles (Otto) selon l'invention. La masse d'air frais introduite dans la chambre de combustion présente un sens de rotation 22 dans un sens contraire aux aiguilles d'une montre, le carburant étant injecté de manière à ce que le jet de carburant 10, considéré à partir de l'injecteur 3, c'est à dire dans le sens d'injection présente un sens de rotation 23 dans le sens contraire aux aiguilles d'une montre. Ce phénomène peut être inversé, c'est à dire que la masse d'air introduite par l'intermédiaire de la première soupape d'admission présente un sens de rotation 22 dans le sens des aiguilles d'une montre, la quantité de carburant étant injectée de manière à ce que le jet de carburant 10 présente dans le sens d'injection un mouvement de rotation dans le sens 23 des aiguilles d'une montre.
A charge partielle, le moteur à allumage par étincelles (Otto) selon l'invention est exploité par charge stratifiée, ce qui génère dans la conduite d'admission un courant rotatif qui peut être réglé de manière variable, par un clapet de rotation, de ce fait, le gaz frais pénètre partiellement ou totalement dans la chambre de combustion, par l'intermédiaire de la première conduite d'admission. Si le moteur sous charge partielle ou sous charge pleine fonctionne en exploitation homogène, le gaz frais est introduit dans la chambre de combustion par l'intermédiaire des deux conduites d'admission, le système générateur de rotation étant commandé en fonction de la charge ou de la vitesse de rotation, de manière à créer une turbulence suffisante ou un mouvement de charge suffisant dans la chambre de combustion. De ce fait, un mélange propre à !'allumage ( == 1) est présent dans la région d'allumage, dans toutes les étendues de charge, aussi bien en régime par charge stratifiée qu'en régime homogène et dans les meilleures conditions de charge, permettant de garantir un allumage en toute sécurité, tout en évitant la formation de suie sur la bougie d'allumage 2.
Liste des références 1. Axe médian du cylindre 2. Bougie d'allumage 3. Injecteur 3a Orifice d'évacuation du carburant 4. Soupape d'admission 4a. Soupape d'admission 5. Soupape d'échappement Sa. Soupape d'échappement 6. CEil de la tête de bielle 7. Piston 8. Fond du piston 8b. Surface du fond de piston 9. Cavité du piston 9a. Plus grande partie de la cavité du piston 9b. Plus petite partie de la cavité du piston 9c. Paroi de délimitation 9d. Fond de la cavité du piston 9e. Paroi de renvoi 9f. Bord de la cavité 9g. Contre-dépouille 9h. Rayon du fond de la cavité 9j. Partie de la cavité du piston, vis à vis de la bougie d'allumage 9k. Plan vertical, par rapport à la surface du fond de la cavité 10. Jet de carburant 11. Centre du jet de carburant 12. Culasse 13. Première entrée hélicoïdale 13a. Seconde entrée hélicoïdale
14. Surface de compression 15. Bord de la chambre de combustion 16. Plus petite distance 17. Surface de séparation de la culasse 18. Direction résultante du jet de carburant 18a. Direction géométrique du jet de carburant 19. Poche de la soupape d'échappement 20. Rainure périphérique 21. Bourrelet 22. Sens de rotation de l'air frais 23. Sens de rotation du carburant
DESCRIPTION DU PROCEDE L'invention décrite se rapporte à un procédé de remplacement d'une canalisation (1) sans ouverture de tranchée, particulièrement adapté au remplacement des branchements en plomb.
Les méthodes actuelles de tirage de canalisation fonctionnent sur un même principe, à savoir insérer dans ladite canalisation (1) un dispositif permettant un ancrage réparti sur tout le linéaire de la canalisation (1) à tirer. Ce principe présente l'inconvénient majeur de devoir insérer dans la canalisation (1) un dispositif difficile à faire passer, nécessitant généralement une opération préalable de recalibrage de la canalisation (1).
Le procédé selon l'invention s'affranchit de cette difficulté en ne nécessitant plus le passage d'un organe de tirage à l'intérieur de la canalisation (1).
Ces lampes ont l'avantage majeur de fonctionner à faible puissance relativement aux lampes à Arc ou Xénon. Les ampoules de lampes à vapeur de Mercure ou de composés Mercuriel ont des dimensions réduites et existent avec des culots compatibles sur les douilles E40, suivant le standard européen très répandu qui accepte aussi les lampes au Sodium et les lampes à incandescence classiques.
Les avantages essentiels des sources lumineuses constituées de lampe à arc au mercure ou d'halogénure métallique est d'avoir un rendement très élevé, un spectre bien reparti avec un équilibre entre les U. V. A. et les U. V. B., très peu d'émission d'Infrarouges et par suite peu de dégagement de chaleur.
Ces propriétés particulièrement intéressantes en font des lampes idéales pour des appareillages de test de vieillissement accéléré. Un avantage essentiel est que leur faible dégagement de chaleur autorise de les employer nues, contrairement aux sources de l'art antérieur.
Ce résultat constitue un avantage majeur de l'invention, car les normes de test de photovieillissement préconisent d'effectuer les essais polymères en les portant à des températures d'environ 630C ou de 830C ou encore entre 800C et 100 C pour se replacer dans des conditions proches de celles régnant dans l'habitacle d'un véhicule automobile exposé au soleil.
Il faut noter que le dispositif met en oeuvre des lampes de faible puissance de l'ordre de plusieurs dizaines à plusieurs centaines de Watts, typiquement 250W ou 400W, si bien que la quantité d'énergie calorique à évacuer est relativement faible et que la température reste stable.
Comparativement les dispositifs de l'état de la technique utilisant des lampes à arc au Xénon ou des torches à arc au Carbone ont un faible rendement, ce qui nécessite une puissance électrique élevée et d'imposants équipements de refroidissement qui provoquent immanquablement une instabilité et de fortes variations de température d'échantillons au cours de test.
L'adoption de lampes à arc faible puissance, comme les lampes à vapeur de Mercure moyenne pression, permet avantageusement d'effectuer un refroidissement par air de la lampe et de
réutiliser directement ce flux d'air réchauffé pour amener et maintenir les échantillons à la température de test.
Il est prévu que le flux d'air s'évacue alors par les sorties d'air à la périphérie de l'enceinte 30. En s'échappant, le flux d'air vient frapper les échantillons E orthogonalement ou avec un angle d'incidence par rapport à leur plan, comme illustré figure 1B.
Les figures lA, lB, 1C représentent, en coupe transversale, plusieurs exemples de tranchées d'isolement profondes conformes à l'invention.
Les figures 2A à 2H illustrent le déroulement des étapes d'un procédé de réalisation d'une tranchée d'isolement profonde conforme à l'invention.
La figure 3 représente une coupe transversale d'une tranchée d'isolement profonde selon l'invention qui coopère avec une tranchée d'isolement peu profonde.
Les figures 4A à 4E illustrent le déroulement des étapes d'un procédé de réalisation d'une tranchée d'isolement profonde conforme à l'invention, cette tranchée d'isolement profonde coopérant avec une tranchée d'isolement peu profonde réalisée en même temps.
La figure 5 montre schématiquement un appareillage électronique ou électrique selon l'invention.
EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS Des exemples de tranchées profondes selon l'invention sont illustrés aux figures 1A à 1C. On a représenté schématiquement un circuit intégré avec un substrat 1 en matériau semi-conducteur d'un type dans lequel une tranchée d'isolement profonde a été creusée.
La tranchée d'isolement profonde comporte un fond 10, des flancs 11 et une ouverture 9. Selon l'invention, le fond 10 et les flancs 11 creusés dans le matériau semi-conducteur, sont recouverts d'un matériau électriquement isolant 12 qui délimite une cavité vide 13 fermée en profondeur par un bouchon 14, les flancs 11 comportant un col 15 qui définit la position du bouchon 14 et une première portion 16 qui s'évase depuis le col 15 vers l'ouverture 9 en s'éloignant du fond 10. La pente de cette première portion 16 est dite positive.
La plus grande largeur de la première portion 16 pourra être égale à environ deux fois la largeur du col 15.
Par cavité vide 13, on entend une cavité qui est vide de matériau solide. Dans la partie vide se trouve de l'air et/ou des gaz résiduels qui se forment lors du remplissage de la tranchée avec le matériau électriquement isolant 12.
Entre le col 15 et le fond 10, sur une seconde portion 17 les flancs peuvent être sensiblement parallèles comme sur la figure 1A.
Mais généralement on cherche, pour une largeur de tranchée donnée, à augmenter le volume de la cavité vide 13 pour réduire la capacité d'isolement en
minimisant l'épaisseur du matériau électriquement isolant 12 qui délimite la cavité vide 13. En effet, la permittivité relative de l'air ou des gaz résiduels se trouvant dans la cavité 13 est bien inférieure à celle du matériau électriquement isolant 12. Dans ce cas, il est préférable que les flancs 11 comportent une seconde portion 18 évasée depuis le col 15 vers le fond 10. Le profil des flancs 11 ressemble à celui d'une bouteille.
Le fond 10 peut être arrondi. Cette variante est illustrée à la figure 1B.
Il est possible d'augmenter encore le volume de la cavité vide 13 en configurant les flancs 11 de manière à ce qu'ils comportent une seconde portion 19 évasée et bombée entre le col 15 et le fond 10. Le profil des flancs avec une telle concavité s'apparente à celui d'une bonbonne. Cette variante est illustrée à la figure 1C. Le fond 10 est représenté arrondi, mais il aurait pu être sensiblement plat. Un fond arrondi est préférable pour éviter les contraintes dues aux accidents de forme risquant de survenir avec un fond plat.
Les pentes des secondes portions 18 ou 19 sont dites négatives et l'intérêt de flancs à pente négative est de minimiser l'épaisseur du matériau électriquement isolant 12.
L'invention a enfin pour objet le produit coloré susceptible d'être obtenu par réaction d'une base de formule (1) telle que définie précédemment et d'un coupleur de formule (111) telle que définie précédemment. Ce produit coloré peut être utilisé dans des produits cosmétiques par exemple de maquillage.
EXEMPLES DE TEINTURE Exemple 1. Coloration à pH basique On prépare la composition tinctoriale suivante :
Pyrazolo[1,5-a]pyridin-3-ylaminomonochlorhydratée 0. 508 g 4, 6-diméthyl-2H-pyrazolo [3, 2-c] [1, 2, 4]triazole 0, 408 g Alcool benzylique 2g Polyéthylène glycol 8 OE 3 g Ethanol 18g Alkyl (C8-C10) polyglucoside en solution aqueuse à 60% de matière 5 g en l'état active tamponné par du citrate d'ammonium vendu sous la dénomination ORAMIX CG110 par SEPPIC Ammoniaque à 20% de NH310g Métabisulfite de sodium 0, 205 g Séquestrant q. s.
Eau déminéralisée q. s. p. 100 g
La composition colorante est mélangée, poids pour poids, au moment de l'emploi avec de l'eau oxygénée à 20 V. Le mélange est appliqué sur des cheveux gris à 90% de blancs, permanentés ou non, à raison de 10g pour 1g de cheveux. Après 30 min. de pose, les cheveux sont rincés, lavés avec un shampooing standard, rincés et séchés. Les cheveux sont colorés avec un reflet doré légèrement cuivré.
Exemple 2. Coloration à pH=7 On prépare la composition tinctoriale suivante :
Pyrazolo[1,5-a]pyridin-3-ylaminomonochlorhydratée 0. 0,508 g 4,6-diméthyl-2H-pyrazolo[3,2-c][1,2,4]triazole 0,408 g Alcool benzylique 2g Polyéthylène glycol 8 OE 3 9 Ethanol 18 g Alkyl (C8-C1o) polyglucoside en solution aqueuse à 60% de matière 5 g en l'état active tamponné par du citrate d'ammonium vendu sous la dénomination ORAMIX CG110 par SEPPIC Tampon phosphate (K2HP04 1. 5M/KH2PO4 1M) 10 Métabisulfite de sodium 0, 205 g Séquestrant q. s.
Après mélange avec l'agent oxydant et application sur les mèches selon le mode opératoire de l'exemple 1, les cheveux sont teintés avec un reflet doré légèrement cuivré.
Exemple 3. Coloration à pH 7 avec le système de révélation 02/laccase On prépare la composition tinctoriale suivante :
hydroxyéthyl cellulose (PM : 1 300 000) 1, 5 g carboxyméthyl chitosane 2 g monooléate de polyglycérol 1 g N-acétyl-L-cystéine 0, 05 g Agent de pH q. s. p. pH 7 Pyrazolo [1, 5-a] pyridin-3-ylamine monochlorhydratée 0,509 g 4, 6-diméthyl-2H-pyrazolo[3, 2-c][1, 2, 4] triazole0, 408 laccase 5g eau distillée ée q. s. p. 100g
Après 30 minutes, les cheveux sont rincés, lavés au shampooing, rincés à nouveau et séchés. Les cheveux sont teints avec un reflet doré.
COMPOSITION POUR LA TEINTURE D'OXYDATION CONTENANT AU MOINS UNE BASE D'OXYDATION 3-AMINO PYRAZOLO- [1, 5-A]-PYRIDINE ET AU MOINS UN COUPLEUR PYRIDINIQUE PARTICULIER.
L'invention a pour objet de nouvelles compositions pour la teinture d'oxydation des fibres kératiniques comprenant au moins une 3-amino pyrazolo-[1, 5-a]- pyridine à titre de base d'oxydation et au moins un coupleur pyridinique particulier, un procédé de teinture ainsi qu'un dispositif de teinture mettant en oeuvre cette composition.
On va maintenant décrire un procédé de réalisation d'une tranchée d'isolement profonde conforme à l'invention dans un substrat semi-conducteur 1. On se réfère aux figures 2A à 2H.
Cette tranchée va être réalisée en début de procédé de fabrication avant que des transistors
n'aient été réalisés. Toutefois, la tranchée d'isolement profonde devant isoler un transistor (non représenté) du substrat, on a déjà réservé dans le substrat semi-conducteur 1, que l'on suppose en silicium, des zones actives dopées enterrées 2,3 de types opposés N+ et P+ respectivement. On suppose également que le substrat 1 a été épitaxié en surface après réservation des zones enterrées. Le substrat semi-conducteur 1 est de préférence recouvert d'isolant qui servira ultérieurement notamment lors de la réalisation des transistors, on trouve d'abord une mince couche d'oxyde 4, dans l'exemple de l'oxyde de silicium, qui recouvre le substrat semi-conducteur 1 puis une couche de nitrure sacrificiel 5, dans l'exemple du nitrure de silicium, qui recouvre l'oxyde.
La couche de nitrure peut avoir une épaisseur comprise, par exemple, entre 5 et 20 nanomètres (figure 2A).
On commence par un dépôt de matériau électriquement isolant 6 qui va servir de masque dur pour la gravure de la tranchée d'isolement profonde. Dans l'exemple, le matériau électriquement isolant est par exemple de l'oxyde de silicium déposé par réactions chimiques en phase vapeur et plus précisément par décomposition de tétraéthylorthosilicate connu sous l'abréviation TEOS. L'épaisseur d'oxyde est comprise par exemple entre 200 et 400 nanomètres. A cause de la profondeur à graver une résine photosensible seule ne conviendrait pas.
L'étape suivante est un dépôt de résine photosensible 7 sur la couche d'oxyde 6 précédente (figure 2B).
On va ensuite déterminer le motif de la tranchée profonde en transférant le motif approprié, qui correspond à l'ouverture 9 de la tranchée, sur la résine 7 et en la développant.
Une première étape de gravure intervient pour former une ouverture dans le masque dur 6, cette ouverture correspondant à celle 9 de la tranchée. En ouvrant le masque dur 6, on en profite pour mettre à nu le silicium du substrat 1 et donc pour graver le nitrure 5 et l'oxyde fin 4. Cette gravure peut être une gravure par plasma en utilisant un gaz qui attaque le nitrure et l'oxyde et qui est sélectif vis à vis du silicium (figure 2C).
L'étape suivante est une étape de retrait de la résine 7 (figure 2D).
Il va falloir ensuite graver les flancs 11 et le fond 10 de la tranchée profonde. La gravure est une gravure sèche assistée par plasma par exemple de type réactive RIE. Cette gravure va se faire en deux temps pour pouvoir obtenir le profil requis avec le col 15 et les deux portions 16 et 17 ou 18, ou 19 de part et d'autre du col 15. On commence par graver la première portion 16 qui est évasée depuis le col 15 en s'éloignant du fond 10 ou à l'inverse qui se rétrécit depuis l'ouverture 9 en allant vers le col 15 puisque c'est dans cette direction que s'effectue la gravure.
La profondeur de cette première portion 16 est comprise par exemple entre 0,2 et 1 micromètre à partir de la surface du substrat semi-conducteur.
L'inclinaison des flancs de la première portion 16 évasée peut être comprise entre environ 50 et 85 degrés
par rapport à la surface du substrat 1 qui est recouverte du masque 6. La pente a une grande importance pour être sûr de bien obtenir la cavité vide lorsqu'on remplira la tranchée. Dans l'art antérieur, on cherchait au contraire à remplir totalement la tranchée d'isolement en évitant de former des vides et les flancs étaient parallèles sur toute la profondeur de la tranchée.
La gravure de la première portion 16 évasée se fait avec un mélange gazeux à base d'acide bromhydrique HBr et d'oxygène Os et d'hexafluorure de soufre SFg. Ce mélange gazeux attaque le matériau du substrat de manière anisotrope, cela permet de réaliser la pente souhaitée. A cause de la présence de l'oxygène, il se forme de l'oxyde de silicium qui se dépose sur les flancs 11 et au fond 10. Or l'acide bromhydrique HBr ne grave pas l'oxyde ainsi créé, seul l'hexafluorure de soufre SF6 peut graver cet oxyde. Les proportions des trois gaz sont ajustées pour obtenir le profil souhaité pour la première portion 16 évasée. La gravure de l'oxyde déposé au fond se fait de manière beaucoup plus rapide que celle de l'oxyde déposé sur les flancs.
Lorsqu'on arrive au col 15, on change les proportions des gaz du mélange pour pouvoir graver la seconde portion 17,18 ou 19 de flancs comprise entre le fond 10 et le col 15 et qui possède une pente diffférente de celle de la première portion 16. Le mélange gazeux contient une plus grande quantité d'hexafluorure de soufre SF6 pour pouvoir continuer la gravure en profondeur avec la pente souhaitée. La
seconde portion des flancs aura, de préférence, une profondeur supérieure à environ 3 micromètres. Cette étape est illustrée à la figure 2E.
Dans les complexes principe actif/cyclodextrine obtenus, les rapports molaires des deux entités sont variables : ils sont avantageusement compris entre 1/5 et 5/1, plus précisément entre 1/1 et 1/3 et plus particulièrement entre 1/1 et 1/2.
Le choix de ces deux dernières valeurs est parfaitement illustré dans le tableau ci-après où apparaissent, par exemple, pour des ratio F12511/y-cyclodextrine croissant de 1/1 à 1/2 par incrément de 0,1 pour la y-cyclodextrine : - d'une part, le pourcentage de complexation du F 12511 déterminé par analyse thermique différentielle, - d'autre part, la quantité de F12511 solubilisée dans une solution de laurylsulfate de sodium à 5 % après 2 h d'agitation.
La méthode de préparation du complexe est le malaxage en milieu aqueux.
Ratio molaire % de complexation Quantité de F 12511 solubilisée dans F12511/y-cyclodextrine du F12511 une solution de laurylsulfate de sodium à 5 % après 2 h (en g/ml) 1/ ! 61% 385 1/1, 1 66% 400 1/1,2 70% 409 1/1,3 75% 400 1/1,4 78% 457 1/1, 5 83 % 495 1/1, 6 85% 509 1/1, 7 90% 560 1/1,8 92% 570 1/1,9 94% 583 1/2 100% 560 L'aesroissement de la vitesse de dissolution constaté en milieu aqueux, pour des principes actifs anilides à chaîne polycarbonée appartenant aux classes SUPAC Il et IV de la Food and Dmg
Administration américaine en raison de leur faible solubilité, et plus spécifiquement à la classe IV eu égard à leur faible perméabilité au travers des membranes du tractus gastro-intestinal, laisse présager une meilleure mise à disposition de l'organisme, et par conséquent une meilleure biodisponibilité, tout en réduisant les variations inter et/ou intra patients.
L'ajout d'agents hydrophiles comme, à titre d'exemples non limitatifs, des polymères cellulosiques (ex : hydroxypropylmethyl cellulose ou hydroxyethylcellulose ou encore carboxylllethylccllulosc) des dérivés de la polyvinylpyrrolidone (ex crospovidone) ou des agents surfactifs (ex : polysorbates), capables d'augmenter l'hydrophilie de la préparation, fait partie de l'invention et peut encore améliorer la vitesse de dissolution des complexes formés ou la stabilité de ces complexes.
Ces composés hydrophiles, polymères et/ou surfactifs, sont mis en oeuvre lors de la complexation même des dérivés anilides à chaîne polycarbonée et des cyclodextrines ou leurs dérivés, ou bien inclus comme ingrédients dans la formule excipiendaire des compositions pharmaceutiques correspondantes.
La mise en oeuvre de dérivés anilides à chaîne polycarbonée, plus précisément de dérivés dodecylthio-phenylacetanilides tels le (S) -2', 3', 5'-trimethyl-4'-hydroxy-a-dodecylthio- phenylacetanilide ou ses dérivés apparentés, dont les particules présentent une surface spécifique élevée comprise entre 0,5 et 100 m2/g et plus particulièrement 5 et 50 m2/g, fait également partie de l'invention.