INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
A titre d'exemple, dissoudre 0,98g (14,8mmol) de potasse dans 7,5ml d'H20, refroidir le milieu réactionnel à 0 C. Ajouter 3,1g (14,8mmol) de composé Al (R1 isopropyle) par fractions, et laisser agiter 30 min à 0 C.
Ajouter 1,94g (14,8mmol) d'hydrazine sulfate puis laisser agiter 45 min à 0 C. Après filtration le précipité est rincé avec un peu d'eau puis séché, pour obtenir 0,93g (13%) d'une poudre blanche (composé A2).
RMN 1H (DMSO, 400MHz) l,2ppm (6H, d); 2,95ppm (lH,m); 6,45ppm (lH,s); 12,3ppm (lH,m) Etape 3a L'étape 3a est une étape alternative à l'étape 9 décrite ci-dessous. Elle permet l'introduction d'un atome de soufre à la position du substituant X dès les premières
étapes de la synthèse. Cette thionation est donc effectuée directement sur le composé A2 pour obtenir le composé A2a.
Etapes 3 et 3b : Une nitration du noyau pyrazole du composé A2a ou A2 est ensuite effectuée, par exemple en faisant réagir un de ces derniers avec un nitrate tel le nitrate de sodium. Le composé A3 est ainsi obtenu.
Par exemple, dans un ballon, introduire 100ml d'H2S04 concentré. Refroidir à 0 C, ajouter 10,09g(0,065mol) du composé A2 (R1 = isopropyle) (0,065mol) , puis ajouter 16, 5g (0,195mol) de NaN03. Ramener à TA et laisser agiter 24 h.
Le milieu réactionnel est versé doucement sur 200ml d'H20 glacée en refroidissant le ballon si nécessaire, laisser agiter 30 min. Filtrer le précipité, rincer avec H20. Après séchage on obtient 4,25g (33%) d'une poudre blanche (composé A3 dans lequel R1 = isopropyle).
MS (ES-) m/z = 198 RMN 1H (DMSO, 400MHz) l,3ppm (6H,d); 3,5ppm (lH,m); 13,9ppm (2H, m) Etape 4 : Dans cette étape, l'estérification du composé A3 est effectuée. Ceci peut être obtenu en faisant réagir le composé A3 avec l'éthanol en milieu acide. Le composé A4 est ainsi obtenu.
L'exemple 9 décrit la construction d'une banque d'ADN génomique à partir d'une souche de Streptomyces alboniger et son clonage respectivement dans les cosmides navettes pOS7001 et pOS700R. Il a été montré selon l'invention que dans la banque d'ADN réalisée dans le vecteur intégratif pOS7001 neuf clones contiennent des séquences nucléotidiques appartenant à l'opéron responsable de la voie de biosynthèse de la puromycine. De même, il a pu être identifié au sein de la banque d'ADN réalisée dans le vecteur réplicatif pOS 700R douze clones contenant des séquences nucléotidiques de l'opéron responsable de la voie de biosynthèse de la puromycine.
En particulier, certains cosmides intégratifs et replicatifs des banques réalisées présentent, après digestion par les endonucléases de restriction ClaI et EcoRV, un fragment d'une taille de 12 kb susceptible de contenir la totalité des séquences de l'opéron responsable de la voie de biosynthèse de la puromycine.
Ainsi, selon un autre aspect, un acide nucléique selon l'invention contient, au moins en partie, des séquences nucléotidiques de l'opéron responsable de la voie de biosynthèse de la puromicyne.
L'exemple 2 ci-après décrit la construction d'une banque d'ADN selon un procédé conforme à la présente invention dans un vecteur pBluescript SK- à partir d'un sol contaminé par du lindane.
Les vecteurs recombinants ont été transfectés dans des cellules d'Escherichia coli DH10B puis les cellules transformées ont été cultivées dans un milieu de culture approprié en présence de lindane. Un criblage des clones de cellules transformées de la banque a permis de montrer que, sur 10.000 clones criblés, 35 d'entre eux présentaient un phénotype de dégradation du lindane . La présence du gène linA chez ces clones a pu être confirmée par amplification PCR grâce à des amorces spécifiques de ce gène.
Ainsi, selon un autre aspect, l'invention concerne également un acide nucléique contenant une séquence nucléotidique de la voie métabolique provoquant la biodégradation du lindane.
Il est donc clairement démontré, comme décrit plus haut, qu'un procédé de préparation d'une collection d'acides nucléiques à partir d'un échantillon de sol contenant des organismes selon l'invention ainsi qu'un procédé de préparation d'une collection de vecteurs recombinants contenant les acides nucléiques constitutifs de la collection d'acides nucléiques précités était tout à fait apte à l'isolement et à la caractérisation de séquences nucléotidiques incluses dans un opéron.
Une démonstration supplémentaire de l'aptitude d'un procédé selon l'invention à l'identification de séquences nucléotidiques codantes impliquées dans une voie de biosynthèse régulée sous la forme d'un opéron est en outre décrite plus loin: il s'agit du clonage et de la caractérisation de séquences codant pour des polykétides synthases impliquées dans la voie de biosynthèse des polykétides, qui appartiennent à une famille de molécules dont certains représentants sont d'un intérêt thérapeutique majeur, en particulier antibiotique.
La présente invention a donc en outre pour objet un acide nucléique constitutif d'une collection d'acides nucléiques selon l'invention, caractérisé en ce qu'il comprend la totalité d'une séquence nucléotidique codant pour un polypeptide.
Selon un premier aspect, un acide nucléique constitutif d'une collection d'acides nucléiques selon l'invention est d'origine procaryote.
Selon un second aspect, un acide nucléique constitutif d'une collection d'acides nucléiques selon l'invention provient d'une bactérie ou d'un virus.
Selon un troisième aspect, un acide nucléique constitutif d'une collection d'acides nucléiques selon l'invention est d'origine eucaryote.
En particulier, un tel acide nucléique est caractérisé en ce qu'il provient d'un champignon, d'une levure, d'une plante ou d'un animal.
CARACTERISATION MOLECULAIRE DE LA COLLECTION D'ACIDES NUCLEIQUES EXTRAITS DU SOL.
Afin de surmonter les nombreux inconvénients techniques des méthodes de caractérisation des banques d'ADN extraits et purifiés à partir d'un échantillon de l'environnement qui ont été décrits dans la partie de la description relative à l'état de la technique, le demandeur a mis au point un procédé simple et fiable permettant de caractériser qualitativement et semi-quantitativement les acides nucléiques obtenus à l'issue du procédé décrit ci-dessus.
Le procédé selon l'invention consiste ainsi à amplifier universellement un fragment de 700 pb localisé à l'intérieur d'une séquence d'ADN ribosomal de type 16 S, puis d'hybrider l'ADN amplifié avec une sonde oligonucléotidique de spécificité variable et enfin de comparer l'intensité d'hybridation de l'échantillon par rapport à une gamme étalon externe d'ADN de séquence ou d'origine connue.
Après l'exposition et, si appliqué le traitement thermique, on élimine les zones non exposées du revêtement photosensible avec un révélateur de façon connue en soi.
Comme nous l'avons déjà dit plus haut, on peut développer les nouvelles compositions dans des solutions
aqueuses-alcalines ou des solvants organiques. En tant que solutions aqueuses-alcalines de révélateur, particulièrement appropriés sont des solutions aqueuses d'hydroxydes de tétraalkylammonium ou de silicates, de phosphates, d'hydroxydes et de carbonates de métaux alcalins. On peut aussi ajouter à ces solutions de faibles quantités d'agents mouillants et/ou de solvants organiques, selon le souhait. Des exemples de solvants typiques que l'on peut ajouter en petites quantités au révélateur sont la cyclohexanone, le 2-éthoxyéthanol, le toluène, l'acétone et des mélanges de tels solvants. En focntion du substrat, on peut aussi utiliser des solvants, par exemple, des solvants organiques en tant que révélateur ou, comme il a été dit plus haut, des mélanges d'alcalis aqueux avec de tels solvants. Des solvants particulièrement appropriés pour un solvant de développement comprennent le méthanol, l'éthanol, le 2- propanol, le 1-propanol, le butanol, l'alcool diacétonique, l'éther monométhylique de l'éthylène- glycol, l'éther monoéthylique de l'éthylène-glycol, l'éther mono-n-butylique de l'éthylène glycol, l'éther diméthylique du diéthylène-glycol, le monométhyléther- acétate du propylène-glycol, le 3-éthoxypropionate d'éthyle, le 3-méthoxypropionate de méthyle, l'acétate de n-butyle, l'alcool benzylique, l'acétone, la méthyléthyl- cétone, la cyclopentanone, la cyclohexanone, la 2- heptanone, la 2-pentanone, l'epsilon-caprolactone, la gamma-butylolactone, le diméthylformamide, le diméthyl- acétamide, l'amide de l'acide hexaméthylphosphorique, le lactate d'éthyle, le lactate de méthyle, l'epsilon- caprolactame et la N-méthyl-pyrrolidinone.
Facultativement, on peut ajouter à ces solvants de l'eau jusqu'à une quantité telle que la solution demeure encore claire et qu'une solubilité suffisante des zones non exposées à la lumière de la compositions photosensible soit maintenue.
Par conséquent, l'invention fournit également un
procédé de photopolymérisation de composés à doubles liaisons à insaturation éthylénique, c'est-à-dire des composés monomères, oligomères ou polymères contenant au moins une double liaison à insaturation éthylénique, procédé comprenant l'ajout à ces composés au moins d'un photoamorceur de formule I, II, III, IV ou V comme décrit ci-dessus et irradiation de la composition résultante par un rayonnement électromagnétique, en particulier par une lumière d'une longueur d'onde de in 150 à 600 nm, en particulier de 190 à 600 nm, par un faisceau d'électrons ou des rayons X.
De plus, l'invention fournit un substrat revêtu lequel substrat est revêtu sur au moins une surface d'une composition comme décrit ci-dessus et décrit un procédé pour la production photographique d'images en relief, dans lequel un substrat revêtu est soumis à exposition selon modèle et ensuite les portions non exposées sont éliminées à l'aide d'un révélateur. On peut réaliser l'exposition selon modèle par irradiation à travers un masque ou au moyen d'un faisceau électronique ou laser comme il a déjà été décrit ci-dessus. Dans ce contexte, un avantage particulier est représenté par exposition à un faisceau laser, comme il a déjà été dit ci-dessus.
Les composés de la présente invention possèdent une bonne stabilité thermique et une faible volatilité et sont appropriés également à la photopolymérisation en présence de l'air (oxygène). De plus, ils ne provoquent qu'un faible degré de jaunissement dans les compositions après la photopolymérisation.
Les exemples ci-après illustrent l'invention plus en détail. Des parties et des pourcentages sont relatifs au poids, tout comme dans le reste de la description et les revendications, sauf si autrement indiqué. Lorsqu'on se réfère aux radicaux alkyle possédant plus de trois atomes de carbone sans mentionner des isomères spécifiques, on entend dans tous les cas des n-isomères.
Exemple 1:
Synthèse de l'O-acétate de 4-phénylsulfanylbenzaldoxime Dans la formule (I): Arl = On ajoute à une solution (30 ml) de diméthyl- formamide (DMF) de 11,0 g (100 mmoles) de benzènethiol, progressivement, 14,0 g (132 mmoles) de Na2CO3 anhydre, à 85 C. Puis on ajoute du 4-chlorobenzaldéhyde (11,3 g, 80,0 moles) pendant 20 minutes à une température de 85 C.
On agite la solution réactionnelle à cette température pendant 3 heures. Après avoir ajouté H20 au mélange réactionnel, on extrait le produit brut avec de l'acétate d'éthyle. On lave la couche organique à deux reprises avec H20 et de la saumure, on sèche sur MgS04 anhydre et on condense. On place le résidu sur une colonne chromatographique garnie de gel de silice et on l'élue avec un mélange acétone-hexane (de 1 :30 1 :10) commeéluant. On obtient 6,05 g d'une huile jaune pâle (35 %).
La structure est confirmée par le spectre de la 1H-NMR (CDC13) . 8 [ppm]: 7,24 (d, 2H) , 7,42-7,44 (m, 3H) , 7,53 (dd, 2H) , 7,71 (d, 2H) , 9,96 (s, 1H) l.b 4-Phénylsulfanylbenzaldoxime On ajoute à 4,20 g (19,6 mmoles) of 4-phényl- sulfanylbenzaldéhyde, 1,50 g (21,6 mmoles) de H2NOH-HCl et 2,71 g (33,1 mmoles) d'acétate de sodium, 6,5 ml de H20 et 19,5 ml d'éthanol. On chauffe ce mélange réactionnel au reflux pendant 2 heures. Après avoir ajouté H20 en vue de dissoudre le sel inorganique précipité, on élimine l'éthanol par évaporation sous vide. On extrait le produit brut à deux reprises avec CH2C12. On sèche la couche de CH2C12 sur MgS04 anhydre, puis on condense. On place le résidu sur une colonne chromatographique garnie de gel de silice et on élue avec un mélange CH2C12 et CH2Cl2-acétone (10:1) en tant qu'éluant. On obtient 3,86 g d'une matière solide blanche en tant que première fraction (86 %). On détermine que c'est un (E) oxime d'après le spectre de 1H-NMR (CDC13).
8 [ppm] : 7, 25 (d, 2H) , 7, 32-7, 35 (m, 3H) , 7, 42 (d, 2H) , 7,47 (d, 2H), 7,77 (s, 1H), 8,09 (s, 1H). On obtient 0,29 g de matière solide blanche en tant que seconde fraction (6,6 %). On détermine que ce produit est un (Z) oxime d'après le spectre de 1H-NMR (CDC13) . 8 [ppm] : 7,25 (d, 2H), 7,32-7,38 (m, 4H), 7,45 (d, 2H), 7,84 (d, 2H), 9,55 (large s, 1H) l.c O-acétate de 4-phénylsulfanylbenzaldoxime On dissout 1,57 g (6,86 mmoles) de 4-phényl- sulfanylbenzaldoxime et 617 mg (7,90 mmoles) de chlorure d'acétyle dans 35 ml de tétrahydrofuranne (THF). On ajoute à cette solution, progressivement, 1,2 ml (8,61 mmoles) de triéthylamine à température ambiante. On agite le mélange réactionnel à la température ambiante pendant 6h, puis on ajoute H20 en vue de dissoudre la matière solide blanche obtenue. On extrait le produit brut avec de l'acétate d'éthyle. On lave cette couche organique à deux reprises avec une solution aqueuse saturée de NaHC03 et avec de la saumure, suivi par séchage sur MgS04 anhydre. On place le résidu sur une colonne chromatographique garnie de gel de silice et on élue avec un mélange acétone-hexane (de 1:20 à 1:5) en tant qu'éluant. On obtient 980 mg (53 %) d'une matière solide blanche ayant un point de fusion 74 à 76 C. La structure est confirmée par le spectre de la 1H-NMR (CDC13) . # [ppm]: 2, 22 (s, 3H) , 7, 23 (d, 2H) , 7, 37 (d, 2H) , 7,38 (t, 1H) , 7,45 (d, 2H) , 7,62 (d, 2H) , 8,29 (s, 1H) .
Exemple 2: Synthèse de l'O-benzoate de 2,4-diméthyl-6-méthyl- sulfanyl-benzaldoxime Dans la formule I: Ari = 2,4-diméthyl-6-méthyl- thiophényle, R1 = benzoyle 2.a 1,3-Diméthyl-5-méthylsulfanylbenzène On suspend 10,0 g (0,072 mole) de 3,5-diméthyl- benzène-thiol, 9,95 g (0,072 mole) de carbonate de potassium et 0,46 g (1,4 mmol) de bromure de tétrabutyl-
ammonium dans 20 ml de diméthylsulfoxide sous une atmosphère d'argon. On ajoute, goutte à goutte, de l'iodométhane (10,2 g, 0,072 mole) et on agite le mélange pendant 16 h à température ambiante. Après avoir versé le mélange sur l'eau, on extrait le produit avec de l'éther, on lave à l'eau, on sèche sur du sulfate de sodium et on concentre sous vide. On obtient 9,6 g (0,063 mole ; 88 %) de produit brut sous forme d'huile légèrement jaune et on l'utilise dans l'étape ultérieure sans purification.
- le dispositif optique comprend une plaque optique principale portant ladite lentille et une plaque auxiliaire de convergence située en amont de la plaque principale.
- la plaque optique unique ou la plaque optique principale possède sur sa face interne des éléments d'étalement horizontal de la lumière. - le dispositif optique est apte à répartir la lumiere dans un intervalle angulaire vertical dissymétrique par rapport à un plan horizontal contenant l' principal du feu.
D'autres aspects, buts et avantages de la présente invention apparaîtront mieux à la lecture de description détaillée suivante de formes de réalisation préferées de celle-ci, donnée à titre d'exemple limitatif et faite en référence aux dessins annexés, sur lesquels la figure 1, décrite plus haut, est une vue schématique en coupe verticale d'un feu stop surélevé selon la technique antérieure, la figure 2 est une vue schématique en coupe verticale d'un feu stop surélevé à diodes électroluminescentes selon l'invention, la figure 3 est une vue schématique en coupe verticale à échelle agrandie d'un détail du feu de signalisation de la figure 2, et la figure 4 est une vue schématique en coupe verticale d'un feu stop surélevé à lampes incandescentes selon l'invention.
En référence aux figures 2 et 3, on a représente schématiquement un feu stop surélevé qui comprend rangee horizontale de diodes électroluminescentes (DELs 10 montées sur un support, et notamment soudées sur circuit imprimé 12. En avant de la rangée de DELs 10 sont prévues deux plaques optiques essentiellement verticales et parallèles 22 et 24, dont le comportement optique est illustré plus en détail sur la figure 3. La plaque interne 22 comporte une face externe lisse et une face interne pourvue d'échelons de Fresnel 221 destinés à redresser le rayonnement issu des DELs vers la direction génerale d'émission ou axe principal x-x du feu. s sources 10 tout en la laissant sensiblement intacte quant à étalement vertical. La plaque externe 24 comporte une face interne laquelle sont formées une série de stries verticales , par exemple cylindriques, destinées à réaliser étalement horizontal de la lumière issue de la plaque 22 et une face externe qui définit en l'espèce une unique strie horizontale convergente 242 dont le profil convexe est illustré en détail sur la figure 3.
Ce profil est de préférence non circulaire, mais est basé sur une loi déterminée de l'évolution des rayons de courbure qui le définissent. Dans le présent exemple, on trouve en partie centrale du profil de la strie 242 une région plus fortement convergente que ses parties supérieure et inférieure, l'objectif étant de remplir de façon essentiellement homogène la plage angulaire recherchée en direction verticale.
Le profil est dans tous les cas choisi de manière à remplir à l'infini l'intervalle angulaire compris en l'espèce entre +10 et -5 au-dessus et au-dessous de l'axe horizontal x-x, sans toutefois envoyer une quantité de lumière significative au-dessus ni au-dessous de ces limites. On observe sur les figures 2 et 3 qu'une telle démarche permet d'aboutir à un ou plusieurs n#uds de lumière (ici N1 et N2). Ces n#uds s'étendent de façon essentiellement linéaire, horizontalement et transversalement à l'axe x-x, tout en étant situés sensiblement au niveau dudit axe, à distance substantielle en avant des plaques 22, 24 (vers la droite sur les figures). Ceci permet de reporter la divergence du rayonnement à une distance significative dans direction d'émission. Ceci permet à son tour de recourir à un socle feu dont la partie formant visière pelle n'a pas à épouser la divergence du rayonnement vers le bas (comme illustré en tiretés sur figure 2, qui correspond à la situation de la partie de l'art antérieur illustré sur la figure 1), et qui peut par exemple s'étendre généralement horizontalement, voire même remonter légèrement en partant de la région des lampes et des plaques optiques. On limite ainsi l'encombrement du feu en hauteur.
La figure 4 illustre une variante de réalisation dans laquelle les sources de type DEL sont remplacées par des lampes à incandescence miniatures 10, et dans laquelle la plaque optique 22, du fait notamment diagramme d'émission plus favorable des sources a incandescence, a pu être omise. Il est donc prévu une plaque optique unique 24 de préférence identique ou semblable à celle décrite plus haut en référence aux figures 2 et 3. Celle-ci comporte ainsi sur sa face interne une série de stries verticales 241 par exemple cylindriques réalisant l'étalement en largeur, comme précédemment, et sur sa face externe une unique lentille cylindrique horizontale convergente 242, avec de préférence un profil sensiblement identique à celui décrit en référence aux figures 2 et 3 pour donner au feu le même comportement en termes d'étalement vertical.
Dans cette variante, pour encore limiter l'encombrement du feu au niveau de la visière 30, on peut même prévoir un décrochement vers le haut 31 par exemple à son niveau situé juste aval de la plaque optique unique 24. Bien entendu, la présente invention n'est nullement limitée aux formes de réalisation décrites et représentées, mais l'homme du métier saura y apporter de nombreuses variantes et modifications.
En particulier, on peut prévoir pour réaliser l'étalement vertical dans l'intervalle angulaire souhaité deux ou plusieurs lentilles cylindriques horizontales convergentes juxtaposées, ce qui là encore permet d'obtenir des n#uds de lumière à distance de la ou des plaques optiques dans la direction d'émission.
Description DOMAINE DE L'INVENTION La présente invention concerne une innovation de la technologie de traitement de surfaces de substrats pour les applications suivantes et définies à titre non exhaustif comme la fabrication de circuits intégrés, de matériaux semi-conducteurs, de nanostructures, de disques durs, de disques optiques, de dispositifs optiques et magnétiques.
SUPPORT DE L'INVENTION L'évolution des progrès d'intégration des dispositifs électroniques, magnétiques ou optiques et par ailleurs les besoins en élaboration de structures nanométriques conduisent à développer des techniques de préparation des surfaces des substrats avec des spécifications de plus en plus exigeantes prenant en compte entre autre la densité de particules détectables, des états de contamination de type organique et métallique, la deflectivité et la rugosité. Après les étapes nécessaires à l'amélioration des surfaces et à leur préparation, une étape finale dite de séchage ou plus exactement de diminution des couches de liquides présentes à la surface des substrats termine un cycle de traitements chimiques par voie humide. De fait cette étape devient très critique et requiert des évolutions constantes étant donné les besoins en couches minces de plus en plus fines des secteurs industriels concernés. D'autre part l'évolution de la technologie de ce segment précisément conduit à étudier des techniques pour traiter un seul substrat en substitution aux méthodes usitées jusqu'à présent, lesquelles sont basées sur le regroupement par lot de substrats pour des raisons de gestion de production. L'évolution vers un traitement par substrat est lié à l'évolution des spécifications requises pour réussir les progrès d'intégration à venir tout en assurant une meilleure homogénéité par substrat. Par ailleurs l'utilisation progressive de couches minces de différents types de matériau à savoir du cuivre, de l'argent, du nickel, des polymères demande une évolution des techniques de traitement de surface et en particulier de séchage.
La présente invention propose une technique de séchage de la surface d'un substrat selon deux modes de fonctionnement offrant ainsi une flexibilité pour l'utilisateur averti des solutions hybrides lesquelles sont de plus en plus retenues dans la fabrication de circuits intégrés, de matériaux semi-conducteurs., de nanostructures, de disques durs, de disques optiques, dans l'intégration de dispositifs optiques et magnétiques.
Plusieurs méthodes de séchage appliquées pour le retrait de couches de liquides sur un seul substrat sont largement répandues dans ces industries. Cependant des évolutions sont nécessaires pour répondre aux exigences technologiques comme l'utilisation de la métallisation par le cuivre des niveaux de conductions et des interconnexions dans les dispositifs électroniques intégrés, laquelle technique de métallisation par le cuivre requiert des traitements par voie humide et entre autre une série de dispositifs à des fins de maintien du substrat dans le plan horizontal dont une structure damascène est gravée à la surface du substrat lequel tourne autour d'un axe vertical de rotation pour assurer l'uniformité des résultats des processus engendrés dans la méthode utilisée.