INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Plus précisément, la synthèse des ferrates de métaux alcalins ou alcalino- terreux, selon le procédé proposé, consiste à une mise en contact de trois substances à la fois à savoir: deux phases solides, respectivement un sel de fer et un hydroxyde des métaux alcalins ou alcalino-terreux, et une phase gazeuse, en l'occurrence du chlore.
A titre d'exemple, l'équation (B) décrit la synthèse du sulfato-ferrate de potassium de la présente invention en utilisant FeS04,xH20, KOH et C12. Le sulfate ferreux (FeS04,7H20) a été choisi comme sel de fer pour la présente invention. Ce sel est un sous produit de l'industrie de Ti02 et de la surface de traitement des aciers. II est bon marché et de haute pureté.
Le calculateur 3 est également adapté pour corriger le couple du moteur en fonction du chargement filtre à particules et ce, de façon à fournir les mêmes performances du moteur quel que soit le niveau en chargement filtre.
Cette correction est avantageusement intégrée aux stratégies de contrôle de la quantité de carburant injectée et/ou du phasage de cette quantité injectée dans cycle.
De façon classique la quantité carburant injectée (Qinj) est déterminée, à partir de cartographies adaptées (f), de la demande conducteur, c'est-a-dire de la position de la pédale d'accélérateur, et des conditions de fonctionnement du moteur (débit d'air, régime, température...). On a ainsi Qinj=f(demande conducteur, conditions moteur) Selon l'invention, la quantité de carburant injectée déterminée de façon "classique" est augmentée par un terme correctif corr destiné à compenser la perte de couple due au filtre à particules Qinj=f(demande conducteur, conditions moteur) + corr déchéance de couple lié au filtre) Le terme correctif corr est dans l'exemple illustré un terme additif, il peut bien évidemment prendre une forme multiplicative.
Le terme correctif destiné à compenser la perte de couple liée au filtre est par exemple cartographié en fonction de la perte de charge aux bornes du filtre et du point de fonctionnement considéré. En effet, la perte de couple due au filtre, peut être déduit en première approximation du travail nécessaire pour forcer les gaz d'échappement au travers du filtre. travail estimé comme le produit du débit des gaz par perte de charge aux bornes du filtre Travail = OP x Déch avec différence entre la pression amont et aval prises aux bornes du filtre, Dech : débit des gaz d'échappement.
Dech peut être donné par la formule suivante Déch = (Dair + Dcarburant) * R * Téch/Péch avec Dair : débit massique d'air d'admission, Dcarburant : débit massique de carburant, R : constante massique des gaz d'échappement, Tech : température des gaz d'échappement en amont du filtre, Pech : pression des gaz d'échappement en amont filtre.
On pourrait également utiliser le débit volumique des gaz d'échappement en divisant ce dernier par le régime de rotation du moteur.
a ainsi, le terme correctif qui peut être cartographie en fonction de la OP, des débits volumiques du régime ou bien en fonction de la OP, des débits massiques de la température et de la pression des d'échappement en amont du filtre. De même puisque le chargement du filtre est déduit de la AP et du débit des gaz, le terme correctif peut être exprimé non pas en fonction de la AP mais du chargement.
Bien entendu, l'invention est nullement limitée au mode de réalisation décrit et illustré qui n'a été donné qu'à titre d'exemple.
Ainsi la correction destinée à compenser la perte de couple peut affecter également le phasage de l'injection de carburant et/ou la pression de suralimentation dans le cas d'un moteur suralimenté et/ou le taux de recirculation des gaz d'échappement dans le cas ou le moteur est équipé d'un tel circuit de recirculation des gaz d'échappement (circuit EGR)..., c'est-à-dire tout paramètre agissant sur le couple du moteur.
DETECTEUR D'INFRAROUGE THERMIQUE DESCRIPTION ARRIERE-PLAN DE L'INVENTION 1. Domaine de l'invention La présente invention se rapporte à un détecteur d'infrarouge thermique ayant une structure d'isolation thermique pour une discrimination minimale de la température.
2. Description de la technique concernée Les détecteurs d'infrarouge thermique sont disponibles en différents types comprenant le type à bolomètre, le type pyroélectrique, et le type à thermocouple. Ces détecteurs d'infrarouge thermique possèdent une structure d'isolation thermique, c' -à- dire ce qu'on appelle une structure à diaphragme, pour une sensibilité de détection augmentée. Dans la structure d'isolation thermique, un diaphragme comporte un bord extérieur supporté selon une relation espacée sur un substrat par une pluralité de montants.
Dans la suite du document, on va décrire plusieurs structures d'isolation thermique de détecteurs d'infrarouge thermique classiques en se référant aux dessins annexés. La figure 1 des dessins annexés représente, de manière schématique, dans une vue en plan, un élément d'image (pixel) d'un détecteur d'infrarouge type à bolomètre à résistance thermosensible de 0 x 240 éléments d'image développé par Santa Barbara Research Center (voir W. Radford et al., SPIE, Vol. 2746, 1996, page 82). Les éléments d'image du détecteur d'infrarouge représenté sont espacés d'un pas de 48 Mm. Chacun des éléments d'image comprend un substrat 101 sur lequel un circuit de mesure est formé, et un diaphragme 102 (zone photosensible) supporte sur le substrat 101 et espacé de ce dernier par deux montants 103. La totalité de la puce du détecteur d'infrarouge, qui comprend une matrice de ces éléments d'image, est mise dans un boîtier sous vide. Le diaphragme 102 comprend un film mince de matière de bolomètre à résistance thermosensible et un film protecteur entourant le film mince de matière de bolomètre à résistance thermosensible. Chacun des montants 103 comprend une interconnexion qui relie électriquement le circuit de mesure au film mince de matière de bolomètre à résistance thermosensible par l'intermédiaire d'un contact 105, et un film protecteur entourant l'interconnexion.
Quand un rayonnement infrarouge est appliqué au diaphragme 102, le rayonnement infrarouge appliqué est absorbé par le diaphragme 102, produisant de chaleur qui augmente la température du diaphragme 102. La montée en température du diaphragme 102 modifie la résistance du film mince de la matière de bolomètre à résistance thermosensible, et la résistance modifiée transformée par le circuit de mesure dans la puce un signal électrique qui est transformé en une image représentative du rayonnement infrarouge détecté.
Afin d'augmenter la sensibilité du detecteur d'infrarouge, il est important que la chaleur absorbée par le diaphragme 102 et transférée vers le substrat 101 soit minimisée, c'est-à-dire que la conductivité thermique du diaphragme 102 soit réduite. Dans de nombreux détecteurs d'infrarouge thermique, la puce est mise dans le boîtier sous vide et les montants 03 sont amincis pour réduire la conductivité thermique du diaphragme 102.
La figure 2 des dessins annexés représente, de manière schématique, dans une vue en plan, un élément 'image d'un détecteur d'infrarouge du type à bolomètre a résistance thermosensible de 320 x 240 eléments d'image développé par Loral Infrared & Imaging Systems (voir C. Marshall et al., SPIE, Vol. 2746, 1996, page 23). Les éléments d'image du détecteur d'infrarouge représenté sont espacés d'un pas de 46 25 Mm. Chacun des éléments d'image comprend un substrat 111, et un diaphragme 112 supporté sur le substrat 111 et espacé de ce dernier par deux montants 1 , et des contacts 115. Le détecteur d'infrarouge représenté à la figure 2 détecte un rayonnement infrarouge selon le même principe que le détecteur d'infrarouge représenté à la figure 1. Le détecteur d'infrarouge représenté à la figure diffère du détecteur d'infrarouge représenté â la figure 1 en ce que les montants 113 sont coudés autour d'un bord périphérique extérieur du diaphragme 112 et les montants 113 sont plus longs que les montants 103 représentés à la figure 1. Le diaphragme 112 ainsi construit a une faible conductivité thermique pour une sensibilité de détection augmentée.
Des rates ovarectomisées sont maintenues en pseudo-oestrus par injection sous-cutanée de 0,5 mg de benzoate d'oestradiol tous les 2 jours pendant toute la durée des expériences.
Les animaux sont inoculés avec 0,1 mL d'une solution à 107 levures. La cinétique de l'infection est suivie en déterminat le nombre de levures présentes dans les sécrétions vaginales. 1 L de sécrétions sont prélevées à l'aide d'une anse en plastique calibrée, étalés sur boite de sabouraud gélosé plus antibiotiques, les unités formant colonies sont numérées après 48h d'incubation à 28 C.
Le graphe de la figure 10 rapporte les résultats observés sur 4 séries de 5 rates chacune. 1 : le (3-1,2 mamnotétraose (lOOug) a été administré 1 heure avant inoculation. 2 : 1 heure après inoculation.3 :lh, 24h et 48h après inoculation.
FRAGMENTS DE PROTEINES DE LA FAMILLE WASP, ET LEURS UTILISATIONS La présente invention a pour objet des fragments peptidiques de protéines de la famille WASP, ou les peptides dérivés de ces fragments, ainsi que leurs utilisations notamment dans le cadre de procédés de détection de molécules ayant un effet sur la mobilité cellulaire.
Les cellules de notre corps sont capables de se déplacer et, parfois, elles s'arrondissent et se divisent en deux cellules s#ur. Tous ces mouvements sont basés sur le cytosquelette d'actine. A un stade multicellulaire, le cytosquelette joue un rôle essentiel pour l'organisation du corps et pour l'homéostasie. Par exemple, la migration cellulaire est essentielle dans l'embryogenèse et la réponse immunitaire ainsi que lors de la réparation de blessures où les cellules migrent vers les régions endommagées. Ces mouvements sont dépendants du fonctionnement normal du cytosquelette d'actine. Les conséquences de la perturbation du fonctionnement du cytosquelette peuvent être désastreuses pour l'organisme. Dans les processus métastatiques, par exemple, l'absence de contrôle du cytosquelette des cellules tumorales peut provoquer leur migration en dehors de leur localisation normale, leur permettant de proliférer dans d'autres parties du corps, ce qui rend le traitement du cancer extrêmement difficile.
La caractérisation des protéines capables de polymériser l'actine, et la compréhension du mécanisme par lequel cette polymérisation génère une force, représentent les éléments clés pour comprendre le fonctionnement du cytosquelette dans la cellule. Toutefois, les propriétés dynamiques du cytosquelette rendent son étude extrêmement difficile. De plus, les approches actuellement disponibles pour analyser le cytosquelette sont compliquées ou fastidieuses.
La première étape de tous les processus dépendants du cytosquelette, tel que le mouvement, est la production de filaments d'actine, ou F-actine. Le mécanisme de la formation de ces polymères biologiques dans la cellule n'est toujours pas connu, malgré l'identification de nombreuses protéines liant l'actine et l'étude extensive de la polymérisation de l'actine in vitro.
Le syndrome de Wiskott-Aldrich est une maladie du cytosquelette. La protéine WASP humaine, exprimée à partir du gène WAS qui est muté chez les patients affectés par ce
syndrome, de même que le protéine N-WASP d'origine bovine (qui a environ 45% d'identité de séquence avec la protéine WASP humaine), ont donc fait l'objet d'études dans le but d'éclaircir le mécanisme du fonctionnement du cytosquelette dans la cellule (Yarar et al., Current Biology, 9 : 558 (1999) ; Rohatgi et al., Cell, 97 : 231 (1999); Miki et al., The EMBO Journal, 15(19) : 5326 - 5335 (1996)).
Ces protéines WASP et N-WASP sont composées de domaines peptidiques ayant des propriétés fonctionnelles identifiables dans des essais biochimiques. Ainsi, ces deux protéines possèdent principalement les domaines suivants : - un domaine d'homologie avec la plekstrine qui se lie au phosphatidylinositol (4,5) biphosphate, ce dernier se liant lui même à des protéines intervenant dans la formation de filaments d'actine, - un domaine de liaison à Cdc42, une protéine à activité GTPase induisant la polymérisation de l'actine, et par conséquent régulant le cytosquelette, - une région riche en proline, - un domaine d'homologie avec la verproline, une protéine se liant également à des protéines intervenant dans la formation de filaments d'actine, ce domaine comprenant une séquence homologue à la verproline dans le cas de la WASP humaine, et deux séquences homologues à la verproline dans le cas de la N-WASP, - un domaine d'homologie avec la cofiline, une protéine de liaison à l'actine ayant une activité de dépolymérisation de l'actine dépendante du pH, - un segment acide C-terminal.
De plus, il a été montré que ces protéines WASP et N-WASP interagissent avec le complexe Arp2/3 (complexe protéique impliqué dans la polymérisation de l'actine), et induisent ainsi la polymérisation de l'actine.
A ce titre, il a été démontré que la protéine WASP est suffisante pour agir sur la motilité cellulaire basée sur l'actine, et que cette fonction est sous la dépendance du complexe Arp2/3 (Yarar et al. 1999 susmentionné). Pour effectuer cette démonstration, les auteurs de cet article ont préparé des microsphères recouvertes de protéine WASP et ont démontré que ces microsphères polymérisent l'actine, forment des queues d'actine, et sont douées d'une motilité basée sur l'actine dans des extraits cellulaires. Dans les extraits cellulaires dans lesquels le complexe Arp2/3 a été supprimé, les microsphères recouvertes de protéine WASP n'ont plus de motilité et possèdent seulement une activité résiduelle de polymérisation de l'actine.
S'agissant de la protéine N-WASP, il a été démontré que la partie C-terminale de N- WASP, à savoir le fragment C-terminal de 114 acides aminés comprenant le domaine d'homologie avec la verproline (région V contenant les deux séquences homologues à la verproline), le domaine d'homologie avec la cofiline (région C), et le segment acide C- terminal (région A), ou fragment VCA, se lie au complexe Arp2/3 et stimule fortement la capacité de ce dernier de nucléer la polymérisation de l'actine (Rohatgi et al. 1999 susmentionné).
Selon des études récentes, les protéines WASP et N-WASP entières seraient requises pour la motilité cellulaire dépendante de l'actine, dans la mesure où non seulement la partie C-terminale de ces protéines interagit avec l'actine, mais également la partie N-terminale qui maintient le filament d'actine en cours de formation à proximité de la surface cellulaire (Loisel et al., Nature, 401 : 613-616 (1999) ; Egile et al., The Journal of Cell Biology, 145 : 1319-1332 (1999)).
La présente invention découle de la mise en évidence par les Inventeurs du fait que, contrairement à ce que pouvait le laisser supposer l'état de la technique décrit ci-dessus, les fragments de ces protéines WASP et N-WASP sont suffisants pour induire une polymérisation de l'actine telle qu'elle permette le déplacement de supports auxquels sont liés lesdits fragments dans des extraits cellulaires.
La présente invention a pour but de fournir de nouveaux fragments, ou polypeptides dérivés, des protéines WASP et N-WASP, ainsi que les séquences nucléotidiques codant pour ces fragments.
L'encre d'imprimerie n'est pas solide à l'essuyage jusqu'à une vitesse de durcissement de 30 m/mn et résiste à 2 essais de doubles frottements avec la méthyléthylcétone.
Exemple 28 Photorésist positif On prépare une composition en dissolvant 37,5 parties de poly(4tétrahydropyranyloxystyrène)-co-(4-hydroxystyrène) avec une proportion de 31% en mol de 4-tétrahydropyranyloxystyrène et une proportion de 69 % en mol de 4hydroxystyrène dans 120 parties d'acétate d'éther méthylique du propylèneglycol (PGMEA), et en dissolvant ensuite l'un des sels d'iodonium cités ci-dessous, dans chaque cas à une concentration de 2,0 % par rapport à la quantité de polymère présent, et on l'applique, de façon analogue à l'exemple 17, en une épaisseur de couche de 1 m, sur une feuille d'aluminium par revêtement par centrifugation à 2 000 tours/mn. Après un séchage de 60 secondes sur une plaque chauffante à 110 C, on effectue de façon analogue à l'exemple 17 une exposition à travers un masque de chrome multidensité à l'aide du procédé par contact avec une lampe à mercure haute pression et un appareil d'exposition aux UV pénétrants Oriel Type 7800 pendant 120 secondes. L'intensité du rayonnement, mesurée avec une sonde de mesure OAI 220, est de 1,4 mW/cm2, et de 2,3 mW/cm2 avec une sonde de mesure OAI 400. Avant le développement, on effectue une cuisson de post-exposition à 100 C sur une plaque chauffante pendant 60 secondes. On développe la couche pendant 60 secondes dans une solution aqueuse d'hydroxyde de tétraméthylammonium à 2,38 %, on rince dans l'eau pendant 10 secondes et on sèche par soufflage d'air comprimé. On effectue la détermination de la dose d'exposition relative minimale de la manière décrite dans l'exemple 17, mais, dans ce cas, on a déterminé la première zone de transmission à
laquelle le résist positif était totalement éliminé dans le révélateur.
On a obtenu les résultats suivants: a) hexafluorophosphate de (4-isobutylphényl)-p-tolyliodonium, composé de l'exemple 1, comme sel d'iodonium: La valeur de transmission minimale à laquelle le résist est complètement développé est de 16 %, correspondant à une énergie d'exposition de 26,9 mJ/cm2 lorsque l'on utilise une sonde OAI 220. b) hexafluorophosphate de (4-isobutylphényl) -m-tolyliodonium, composé de l'exemple 6, comme sel d'iodonium: La valeur de transmission minimale à laquelle le résist est complètement développé est aussi de 16 %, correspondant à une énergie d'exposition de 26,9 mJ/cm2 lorsque l'on utilise une sonde OAI 220. c) p-tosylate de (4-isobutylphényl)-p-tolyliodonium, composé de l'exemple 11, comme sel d'iodonium: La valeur de transmission minimale à laquelle le résist est complètement développé est aussi de 16 %, correspondant à une énergie d'exposition de 26,9 mJ/cm2 lorsque l'on utilise une sonde OAI 220.
Exemple 29 Photorésist positif chimiquement amplifié On prépare une formulation de photorésist positif chimiquement amplifié en mélangeant les constituants suivants: 100,00 parties d'un liant résine (copolymère de 22 % en mol de styrène, 69 % en mol de p-hydroxystyrène et 9 % en mol d'acrylate de t-butyle, ayant une masse molaire de 9850; Maruzen MARUKA LYNCUR PHS/STY/TBA, fourni par Maruzen Oil Company, Japon) 0,48 partie d'un agent nivelant (FC-430, fourni par 3M) 475,00 parties d'acétate de l'éther méthylique de propylèneglycol (PGMEA) (fourni par Tokyo Kasei, Japon) 4,0 parties du photogénérateur d'acide de l'exemple 14.
On applique la formulation de résist par revêtement par centrifugation sur une pastille de silicium traitée avec de l'hexaméthyldiméthylsilane à 3 000 tours/mn pendant 45 secondes et on la cuit doucement pendant 90 secondes à 140 C sur une plaque chaude pour obtenir une épaisseur de film de 800 nm. On expose ensuite le film de résist à un rayonnement UV d'une longueur d'onde de 254 nm à travers un filtre d'interférences à bande étroite et un masque de quartz multidensité en utilisant une lampe à mercure haute pression d'Ushio, UXM-501MD, et un aligneur de
masque Canon PLA-521. Après l'exposition, on cuit les échantillons pendant 90 secondes à 140 C sur une plaque chaude et on les développe. On mesure l'intensité de l'exposition avec un appareil Unimeter UIT-150 d'Ushio. On détermine la dose d'élimination (Eo), qui est la dose juste suffisante pour éliminer complètement le film de résist avec un développement par immersion pendant 60 secondes dans un révélateur aqueux contenant 1,79 % d'hydroxyde de tétraméthylammonium, à partir de la courbe de contraste mesurée. La dose d'élimination (Eo) est de 0,68 mJ/cm2.
PROCEDE DE PREPARATION DE POLYORGANOSILOXANES PAR POLYMERISATION CATALYSEE PAR UN SYSTEME CATALYTIQUE A BASE D'ACIDE TRIFLIQUE OU DE DERIVES DE L'ACIDE TRIFLIQUE Le domaine de l'invention est celui de l'élaboration de silicones ou polyorganosiloxanes, ci-après désignés par POS. L'élaboration de silicones peut se faire notamment via la polymérisation par ouverture de cycles d'oligosiloxanes cycliques (polymérisation par redistribution) ou bien encore par polycondensation de motifs silanols SiOH portés par des silanes, des oligoorganosiloxanes ou des polyorganosiloxanes. Les motifs SiOH impliqués dans la polycondensation peuvent être issus de l'hydrolyse de motifs alcoxy SiOR avec R = alkyle.
Les réactions de polymérisation par polycondensation auxquelles on s'intéresse dans le cadre de l'invention sont plus spécialement celles dont la catalyse est assurée par des systèmes catalytiques acides. Ainsi, selon un autre de ses aspects, l'invention vise également des systèmes catalytiques acides comprenant des dérivés de l'acide triflique.
On connaît déjà depuis longtemps de nombreux procédés de fabrication d'huiles ou de gommes polydiorganosiloxanes, par catalyse acide ou basique, hétérogène ou homogène, à partir d'oligomères cycliques ou acycliques dénommés oligoorganosiloxanes (OOS). (voir l'ouvrage de WALTER NOLL, Chemistry and Technology of silicons ; Editions 1968 en langue anglaise ACADEMIC PRESS, pages 209 à 218).
Ces procédés conduisent à des huiles ou à des gommes qui sont, en particulier, les constituants de base de compositions polydiorganosiloxanes mono-ou bicomposantes, durcissant en élastomères en présence d'un trop large catalyseur, à chaud ou à température ambiante.
Les produits de départ de ces polymérisations peuvent comprendre : des silanols R2Si (OH)2 ou des OOS à extrémités silanol issus de l'hydrolyse des chlorosilanes (R2SiCI2) ; des silanes hydroxylés ou des OOS hydroxylés issus de l'hydrolyse de silanes alcoxylés ou d'OOS alcoxylés ; des polyorganosiloxanes à extrémités silanol ; bien encore des cyclosiloxanes qui subissent une ouverture de cycle, puis une redistribution et une polymérisation.
S'agissant des monomères cycliques, la polymérisation anionique (catalyse basique) a été largement utilisée pour la préparation de POS. Même si cette polymérisation anionique produit parfois de bons rendements, la polymérisation cationique de cyclosiloxanes s'est avérée plus avantageuse et s'est imposée. La catalyse acide permet ainsi d'avoir des réactions à température ambiante. De plus, la polymérisation cationique peut être réalisée sur des monomères cyclosiloxanes porteurs de groupements fonctionnels, par exemple SiH ou SiCH2Cl, qui ne sont pas compatibles avec les conditions des procédés anioniques.
En tout état de cause, la polymérisation par ouverture de cycles de cyclosiloxanes à l'aide de systèmes catalytiques acides est très courante dans les laboratoires et dans l'industrie. Il n'en demeure pas moins que les mécanismes qui régissent ce type de polymérisation restent complexes et ne sont pas toujours totalement maîtrisés.
La littérature comporte de nombreuses études dans lesquelles les produits de départ ou monomères de polymérisation sont l'hexaméthylcyclotrisiloxane (D3) ou l'octaméthylcyclotétrasiloxane (D4). Ces polymérisations sont initiées par des acides protoniques forts tels que H2S04, HCI04 ou par des acides de LEWIS. Parmi ces derniers, l'acide trifluorométhane sulfonique (ou acide triflique, représenté par l'abréviation TFOH) a été largement étudié.
C'est ainsi que le brevet américain US-A-2 961245 décrit la polymérisation en masse par ouverture de cycles de cyclotrisiloxane à radicaux hydrocarbonés fluorés, en présence d'acide perfluoroalcanesulfonique (par exemple TFOH ou ses dérivés), et d'organosiloxanes linéaires à extrémités triorganosilyle (essentiellement l'hexaméthyldisiloxane M2) utilisés comme agent bloqueur de chaîne. On obtient ainsi, après dévolatilisation, une huile silicone fluorée dont la viscosité est essentiellement réglée par le rapport de M2/D3. Le catalyseur est éventuellement éliminé par distillation ou lavage.