INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
qui n'ont pas de liens ajoutés avec des pages externes à l'ensemble déplacé (les autres pages de l'ensemble sont copiés) ; figure 47 ; 3. soit ceci entraîne le déplacement ou la copie des liens vers ces pages, avec tous les liens ajoutés entre elles ou avec d'autres pages du même répertoire ; voir figure 48 ; En poursuivant le même exemple, l'utilisateur déplace la page coca du répertoire Buffer vers le répertoire Drinks ; si l'on se trouve dans le premier ou deuxième cas de commande au système, la page coca se trouvant déjà dans Drinks, cette opération n'a aucun effet. Ceci est illustré par la figure 47.
Les déodorants cosmétiques agissent contre les odeurs corporelles, en les recouvrant ou les éliminant Les odeurs corporelles se produisent par l'action de bactéries de la peau sur la sueur apocrine, des produits de décomposition d'odeur désagréable se formant alors. Par conséquent, les substances déodorantes comprennent des substances qui agissent en tant qu'agents inhibiteurs de germe, inhibiteurs d'enzymes, agents d'absorption des odeurs ou de recouvrement des odeurs.
Sont fondamentalement appropriées en tant qu'agents inhibiteurs de germes toutes les substances efficaces contre les bactéries à gram positif, comme par exemple l'acide 4-hydroxybenzoïque et ses sels et esters, la N-(4-chlorophényl)-N'-(3,4-dichlorophényl)urée, le 2,4,4'-trichloro-2'-hydroxydiphényléther (triclosan), le 4-chloro-3,5diméthylphénol, le 2,2'-méthylène-bis(6-bromo-4-chlorophénol), le 3-méthyl-4-(1-méthyléthyl)phénol, le 2-benzyl-4-chlorophénol, le 3-(4-
chlorophénoxy)-1,2-propanediol, le 3-iodo-2-propinylbutylcarbamate, la chlorhexidine, le 3,4,4'-trichlorocarbanilide (TTC), les matières odorantes antibactériennes, le thymol, l'essence de thym, l'eugénol, l'essence de girofles, le menthol, l'essence de menthe, le farnésol, le phénoxyéthanol, le monolaurate de glycérine (GML), le monocaprinate de diglycérine (DMC), le N-alkylamide d'acide salicylique, comme par exemple le n-octylamide d'acide salicylique ou le n-décylamide d'acide salicylique.
Sont par exemple appropriés en tant qu'inhibiteurs d'enzymes des inhibiteurs d'estérase. Il s'agit alors de préférence de citrate de trialkyle comme le citrate de triméthyle, le citrate de tripropyle, le citrate de triisopropyle, le citrate de tributyle et particulièrement le citrate de triéthyle (Hydagen CAT, Henkel KGaA, Düsseldorf/FRG). Les substances inhibent l'activité enzymatique et réduisent de ce fait la formation d'odeurs. D'autres substances entrant en ligne de compte en tant qu'inhibiteurs d'estérase sont les sulfates ou les phosphates de stérol, comme par exemple le sulfate ou le phosphate de lanostérine, de cholestérine, de campestérine, de stigmastérine et de sitostérine, les acides dicarboxyliques et leurs esters, comme par exemple l'acide glutarique, le monoéthylester d'acide glutarique, le diéthylester d'acide glutanque, l'acide adipique, le monoéthylester d'acide adipique, le diéthylester d'acide adipique, l'acide malonique et le diéthylester d'acide malonique, les acides hydroxycarboxyliques et leurs esters comme par exemple l'acide citrique, l'acide malique, l'acide tartrique ou le diéthylester d'acide tartrique, ainsi que le glycinate de zinc.
Sont appropriées en tant qu'agents d'absorption des odeurs des substances qui peuvent capter et largement retenir les composés formant des odeurs. Ils diminuent la pression partielle des différents composants et diminuent de ce fait également leur vitesse de propagation. Il est important à cet égard que des parfums restent sans préjudice. Les agents d'absorption des odeurs n'ont aucune efficacité contre les bactéries. Ils comportent par exemple en tant que composant
principal un sel complexe de zinc de l'acide ricinolique ou des substances odorantes spéciales largement d'odeur neutre, que l'homme du métier connaît sous l'appellation de "fixateurs", comme par exemple des extraits de labdanum ou de styrax, ou des dérivés particuliers de l'acide abiétique On utilise en tant que substances de recouvrement des odeurs, les matières odorantes ou essences de parfum, qui, outre leur fonction en tant qu'agent de recouvrement des odeurs, confèrent aux déodorants leur note parfumée respective. On nomme par exemple en tant qu'essences de parfum des mélanges de matières odorantes naturelles et synthétiques. Les matières odorantes naturelles sont des extraits de fleurs, de tiges et de feuilles, de fruits, d'écorces de fruits, de racines, de bois, d'herbes et de fines herbes, d'aiguilles et de branches, ainsi que des résines et baumes On peut de plus envisager des produits de départ d'origine animale, comme par exemple de civette et castoréum Des composés odorants synthétiques type sont des produits de type esters, éthers, aldéhydes, cétones, alcools et composés hydrocarbonés Les composés odorants du type des esters sont par exemple l'acétate de benzyle, l'acétate de p-tert. butylcyclohexyle, l'acétate de linalyle, l'acétate de phényléthyle, le benzoate de linalyle, le formiate de benzyle, le propionate d'allylcyclohexyle, le propionate de styrallyle et le salicylate de benzyle. On compte parmi les éthers par exemple l'éther de benzyléthyle, parmi les aldéhydes par exemple les alcanals linéaires comportant 8 à 18 atomes de carbone, le citral, le citronellal, le citronellyloxyacétaldéhyde, le cyclamenaldéhyde, l'hydroxycitronellal, le lilial et le bourgeonal, parmi les cétones par exemple la ionone et la méthylcédrylcétone, parmi les alcools l'anéthol, le citronellol, l'eugénol, l'isoeugénol, le géraniol, le linalol, l'alcool de phényléthyle et le terpinéol, parmi les composés hydrocarbonés essentiellement les terpènes et les baumes. On préfère cependant utiliser des mélanges de différentes matières odorantes, qui génèrent conjointement une note parfumée agréable. Sont aussi appropriées en tant qu'essences de parfum des
essences de faible volatilité, qui sont le plus souvent utilisées en tant que composants d'arôme, par exemple l'essence de sauge, l'essence de camomille, l'essence de girofles, l'essence de mélisse, l'essence de menthe, l'essence de feuilles du cannelier, l'essence de fleurs de tilleuls, l'essence de baies de genièvre, l'essence de vétiver, l'essence d'oliban, l'essence de galbanum, l'essence de labdanum et l'essence de lavandin. On utilise de préférence l'essence de bergamote, le dihydromyrcénol, le lilial, le lyral, le citronellol, l'alcool de phényléthyle, l'aldéhyde cinnamique d'a-hexyle ; le géraniol, l'acétone de benzyle, le cyclamenaldéhyde, le linalol, le Boisambrene Forte, l'ambroxane, l'indol, l'hédione, l'essence de santal, l'essence de citron, l'essence de mandarine, l'essence d'orange, le glycolate d'allylamyle, le cyclovertal, l'essence de lavandin, l'essence de sauge muscat, le p-damascone, l'essence de géranium Bourbon, le salicylate de cyclohexyle, le Vertofix C#ur, l'Iso-E-super, le Fixolide NP, l'évernyle, l'iraldéine gamma, l'acide phényl-acétique, l'acétate de géranyle, l'acétate de benzyle, l'oxyde de rose, le romilate, l'irotyle et le floramate, seuls ou en mélanges.
Les antiperspirants réduisent, par influence de l'activité des glandes sudoripares eccrines, la formation de sueur, et agissent par conséquent contre l'humidité des aisselles et les odeurs corporelles. Des formulations aqueuses ou anhydres d'antiperspirants comprennent de façon type les ingrédients suivants .
* substances actives astringentes ; * composants d'huile ; * émulsifiants non ioniques ; * co-émulsifiants ; * agents d'onctuosité ou de consistance ; * agents auxiliaires comme par exemple épaississants ou agents complexants et/ou * solvants non aqueux comme par exemple l'éthanol, le propylèneglycol et/ou la glycérine.
Sont appropriés comme substances astringentes antiperspirantes essentiellement des sels de l'aluminium, du zirconium ou du zinc. De telles substances efficaces appropriées comme antihydrotiques sont par exemple le chlorure d'aluminium, le chlorhydrate d'aluminium, le dichlorhydrate d'aluminium, le sesquichlorhydrate d'aluminium et leurs composés complexes, par exemple avec le propylèneglycol-1,2 aluminiumhydroxyallantoïnate, le tartrate de chlorure d'aluminium, le trichlorohydrate d'aluminium-zirconium, le tétrachlorhydrate d'aluminium-zirconium, le pentachlorhydrate d'aluminium-zirconium et leurs composés complexes, par exemple avec des amino-acides comme la glycine.
Peuvent en outre être compris dans les antiperspirants des agents auxiliaires usuels solubles dans l'huile ou hydrosolubles, dans de faibles quantités. De tels agents auxiliaires solubles dans l'huile peuvent par exemple être : * des huiles éthérées d'odeur agréable, anti-inflammatoires, protégeant la peau, *des substances synthétiques de protection de la peau et/ou * des essences de parfum solubles dans l'huile Les additifs hydrosolubles usuels sont par exemples des agents de conservation, des substances odorantes hydrosolubles, des agents de régulation du pH, par exemple des mélanges tampon, des épaississants hydrosolubles, par exemple des polymères naturels ou synthétiques hydrosolubles comme par exemple la gomme de xanthane, l'hydroxyéthylcellulose, la polyvinylpyrrolidone ou des oxydes de polyéthylène de masse moléculaire élevée.
On peut utiliser comme agents antipelliculaires Octopirox ( 1-hydroxy-4-méthyl-6-(2,4,4-triméthylpentyl)-2-( 1 H)-pyridone - sel de monoéthanolamine), Baypival, Pirocton Olamin, Ketoconazol, (4-acétyl- 1-{-4-[2-(2.4-dichlorophényl)r-2-(1 H-imidazol-1-ylméthyl)-1,3-dioxylane-c- 4-ylméthoxyphényl}pipérazine, le disulfure de sélénium, le souffre
colloïdal, le monooléate de sulfo-polyéthylèneglycolsorbitane, le polyéthoxylate de sulforicinol, un distillat de goudron sulfuré, l'acide salicylique (par exemple en combinaison avec de l'hexachlorophène), un sel de Na de sulfosuccinate de monoéthanolamide d'acide undécylénique, Lampeon UD (condensat de protéine et d'acide undécylénique, pyrithione de zinc, pyrithione d'aluminium et pyrithione de magnésium / sulfate de magnésium de dipyrithione.
On peut utiliser en tant qu'agent gonflant pour les phases aqueuses la montmorillonite, les matières minérales d'argile, le pemulène et des types de carbopol modifiés par un alkyle (Goodnch). D'autres polymères ou agents gonflants appropriés peuvent être tirés du récapitulatif de R Lochhead dans Cosm. Toil. 108, 95 (1993) On entend sous le terme de facteurs de protection anti-UV par exemple des substances organiques se présentant à température ambiante sous forme liquide ou cristalline (filtre photo-protecteur) qui sont en mesure d'absorber les rayons ultraviolets et de restituer l'énergie absorbée sous forme d'un rayonnement de longueur d'onde plus grande, par exemple de chaleur. Les filtres UV peuvent être solubles dans l'eau ou solubles dans l'huile. On nomme par exemple comme substances solubles dans l'huile : * le camphre de 3-benzylidène ou le norcamphre de 3-benzylidène et ses dérivés, par exemple le 3-(4-méthylbenzylidène)camphre, tel que décrit dans EP 0693471 B1 , * les dérivés d'acide 4-aminobenzoïque, de préférence l'ester 2- éthylhexylique de l'acide 4-(diméthylamino)benzoïque, l'ester 2-octylique
Enfin on reproduit, pour l'échantillon de ainsi recouvert de silicium, la série de recuits décrite précédemment : cet échantillon est chauffé à 00 C pendant 3 minutes puis à 1100 C pendant 1 minute puis à 1200 C pendant 1 minute.
On explique dans ce qui suit la formation une couche mince de Si en structure de surface 4x3 (maille carrée) sur la surface propre de carbure de silicium 6H-SiC (0001) qui peut par exemple être reconstruite 3x3.
On effectue pendant 13 minutes un dépôt uniforme de silicium dans des conditions identiques à celles qui ont été décrites pour la préparation de la surface propre : pendant 10 minutes, à l'aide d'une évaporation sous vide effectuée au moyen de l'échantillon de silicium chauffé à 1150 C, l'échantillon de SiC étant porté à 650 C.
Puis on effectue une série de recuits de l'échantillon de carbure de silicium : 1 minute à 750 C puis 1 minute à 700 C puis 5 minutes à 650 C. On refroidit ensuite lentement cet échantillon 'usqu'à la température ambiante, par exemple à une vitesse de 50 C par minute.
surface de 6H-SiC (0001) ainsi obtenue comporte de vastes domaines reconstruits 4x3 (maille carrée) coexistent avec d'autres domaines reconstruits 3x3 (maille hexagonale).
Les zones reconstruites 4x3 ont des dimensions de l'ordre de 550 nm x 450 nm, sont quasiment exemptes de marches et possèdent quelques îlots formant des bandes ayant une longueur de plusieurs centaines de nanomètres, une largeur de quelques dizaines de nanomètres et une hauteur d'environ 0,3 La figure unique annexée illustre très schématiquement la fabrication de cette couche 2 de silicium de structure 4x3 sur la surface propre du substrat 4 de SiC (0001) reconstruit 3x3.
On voit aussi l'enceinte 6 dans laquelle a lieu la préparation du substrat 4 et la formation de la couche 2.
Les moyens de pompage permettant l'obtention de l'utra-vide sont symbolisés par la flèche 8.
Le substrat 4 est monté sur un support approprié 10 les moyens de chauffage du substrat par effet Joule sont symbolisés par les flèches 12.
voit aussi des moyens de chauffage par effet Joule de l'échantillon de silicium 14, ces moyens étant symbolisés par des flèches 16. La couche de silicium conforme à l'invention ainsi obtenue a une structure et des propriétés sans précédent.
Elle est très sensible à l'oxygène, ce qui permet de faire des oxydations douces (comparées processus généralement utilisés), à de faibles températures c'est-à-dire inférieures égales à C, et d'obtenir des interfaces Si02/SiC abruptes et sans carbone dans la couche de Si02.
I1 convient de noter que le silicium peut etre déposé d'autres façons, par exemple par chimisorption de silane ou évaporation par bombardement électronique.
La présente invention n'est pas limitée à la formation d'une couche de Si reconstruite 4x3 sur une surface 6H-SiC (0001) reconstruite 3x3.
D'autres reconstructions de 6H-SiC (1000), par exemple ou d'autres faces de 6H-SiC, par exemple 0001 ou d'autres faces, d'autres polytypes, par exemple 3C-SiC ou 4H-SiC, sont également utilisables pour y former une couche de Si reconstruite 4x3 conformément à l'invention.
Des substrats d'autres matériaux, par exemple le silicium, sont également utilisables pour y former une telle couche.
La présente invention est très utile pour la fabrication de dispositifs MOS et en particulier de dispositifs MOSFET (transistors à effet de champ de type MOS).
Sa sensibilité à ce gaz est exceptionnelle : elle réagit à une exposition d'oxygène inférieure ' 1 langmuir c'est-à-dire inférieure à 10-6 torr.seconde (environ 10-4 Pa.s) alors que les surfaces correspondantes de SiC hexagonal, de SiC cubique, de Si(100) ou Si(111) sont beaucoup moins réactives et même presque inertes à une exposition aussi faible.
On donne maintenant un exemple de préparation 'une couche de silicium conforme à l'invention.
Dans cet exemple, on utilise un échantillon de carbure silicium monocristallin 6H-SiC qui est commercialement disponible auprès de la société Epitronics.
La face utilisée de cet échantillon est la face (0001), de type silicium.
Elle est terminée par du silicium avec une faible densité de marches.
A titre purement indicatif et nullement limitatif, cet échantillon a une longueur de 13 mm, une largeur de 5 mm et une épaisseur de 300 um environ.
On commence par préparer une surface propre 6H-SiC (0001) reconstruite 3x3. On effectue d'abord un rinçage de 1 échantillon à l'éthanol.
Ensuite, l'échantillon de carbure de silicium est introduit dans une enceinte à ultra vide ou l'on établit une pression de l'ordre de 3x10 Pa et où cet échantillon est chauffé par effet Joule direct grâce au passage d'un courant électrique à travers l'échantillon.
La température de ce dernier est mesurée à l'aide d'un pyromètre à infra rouge.
Dans l'exemple considéré, la longueur d'onde de travail 1 du pyromètre vaut 0, um et 1 émissivité de l'échantillon en carbure de silicium vaut 0,53.
Tout d'abord, on dégaze l'échantillon en le laissant pendant 24 heures à 650 C sous ultra vide.
On fait ensuite subir une série de recuits à l'échantillon jusqu'à ce qu'aucun contaminant ne soit detecté On chauffe par exemple l'échantillon à 00 C pendant 3 minutes puis à 1100 C pendant minute puis à 1200 C pendant 1 minute.
On refroidit ensuite lentement (par exemple a une vitesse de 100 C par minute) l'échantillon jusqu'à la température ambiante (environ 20 C).
Ensuite, pendant 10 minutes, à l'aide d'une évaporation sous vide effectuée au moyen d'un échantillon de silicium propre (dont, titre d'exemple, la longueur vaut 20 mm et la largeur 10 mm) que l'on chauffe à 1150 C, on dépose uniformément du silicium sur la surface de l'échantillon de carbure de silicium porté à 650 C.
Pendant ce dépôt, l'échantillon de carbure de silicium et l'échantillon de silicium se font face et se trouvent à une distance D de 2 cm 1 de 'autre.
La plus grande surface de l'échantillon de silicium permet l'homogénéité, c'est-a-dire 'uniformité, du dépôt de silicium sur l'échantillon de carbure de silicium.
ou 1x1 par exemple.
La présente invention concerne aussi un procédé d'obtention de la couche objet de l'invention. Selon ce procédé, on dépose de façon sensiblement uniforme du silicium sur une surface substrat.
Selon un mode de mise en ceuvre préféré procédé objet de l'invention, on prépare une surface du substrat à recevoir la couche de silicium, on chauffe le substrat à haute température, au moins 1000 C, on dépose de façon sensiblement uniforme le silicium sur la surface du substrat ainsi chauffé, on effectue au moins recuit du substrat, sur lequel on a déposé le silicium, à au moins 1000 C, le temps total de recuit étant d'au moins 5 minutes, et l'on refroidit le substrat à une vitesse d'au moins 100 C/minute.
De préférence, dans le cas où le substrat fait d'un carbure de silicium monocristallin, le silicium est déposé sur ce substrat chauffé autour de C, le substrat est ensuite recuit à au moins 65 , le temps total de recuit étant d'au moins 7 minutes, puis refroidi à une vitesse d'au moins 50 C/minute.
De préférence, en particulier dans le où le substrat est fait d'un carbure de silicium monocristallin, la préparation de la surface substrat à recevoir le silicium monocristallin et/ou promouvoir sa formation comprend un chauffage auxiliaire du substrat à au moins 1000 C, un dépôt auxiliaire sensiblement uniforme de silicium monocristallin sur la surface du substrat ainsi chauffé et au moins un recuit auxiliaire du substrat après ce dépôt auxiliaire, à au moins 650 C, le temps total recuit auxiliaire étant d'au moins 7 minutes.
Avant le chauffage auxiliaire, préparation de la surface du substrat comprend de préférence un dégazage du substrat sous ultravide puis au moins un recuit de ce substrat puis refroidissement du substrat.
Dans la présente invention, le silicium de préférence déposé par évaporation sous vide ( vacuum évaporation ).
Selon un mode de mise en ceuvre préféré de l'invention, le silicium est déposé à partir d'une surface d'un échantillon de silicium, cette surface de l'échantillon étant supérieure à la surface du substrat.
De préférence, la surface de l'échantillon de silicium et la surface du substrat sont séparées par une distance de l'ordre de 2 à 3 cm.
BRÈVE DESCRIPTION DU DESSIN La présente invention sera mieux comprise la lecture de la description d'exemples de réalisation donnés ci-après, à titre purement indicatif nullement limitatif, en faisant référence à la figure unique annexée qui illustre schématiquement fabrication d'une couche de silicium conformément à l'invention.
EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS Conformément à un exemple de l'invention on -dépose un film mince de silicium (dont l'épaisseur est par exemple d'au moins 0,5 nm (c'est-à dire plusieurs plans atomiques de silicium) sur surface de SiC hexagonal.
L'oxydation de ce dernier est alors considérablement facilitée.
Elle a lieu à basse température (inférieure à 500 C) et conduit à la formation d'une interface abrupte Si02/SiC et d'un film d'oxyde Si02 sans atome carbone.
Les inventeurs ont identifié microscopie à effet tunnel ( scanning tunneling microscopy ) la structure de ce film mince de silicium sur la surface de SiC.
film mince a une structure de surface 4x3 dont la formation n'est pas comprise dans l'état de la technique.
Cette structure a une très grande réactivité ' -à-vis de l'oxygène.
Ces produits sont obtenus par exemple par estérification directe de la triéthanolamine, de la tnisopropanolamine, d'alkyldiéthanolamine ou d'alkyldiisopropanolamine éventuellement oxyalkylénées sur des acides gras ou sur des mélanges d'acides gras d'origine végétale ou animale ou par transestérification de leurs esters méthyliques. Cette estérification est suivie d'une quaternisation à l'aide d'un agent alkylant tel qu'un halogénure d'alkyle (méthyle ou éthyle de préférence), un sulfate de dialkyle (méthyle ou éthyle de préférence), le méthanesulfonate de méthyle, le paratoluènesuifonate de méthyle, la chlorhydrine du glycol ou du glycérol.
De tels composés sont par exemple commercialisés sous les dénominations DEHYQUART par la société HENKEL, STEPANQUAT par la société STEPAN, NOXAMIUM par la société CECA, REWOQUAT WE 18 par la société REWOWITCO.
La composition selon l'invention contient de préférence un mélange de sels de mono, di et triester d'ammonium quaternaire avec une majorité en poids de sels de diester.
Comme mélange de sels d'ammonium, on peut utiliser par exemple le mélange contenant 15 à 30 % en poids de méthylsulfate d'acyloxyéthyl dihydroxyéthyl méthyl ammonium, 45 à 60% de méthylsulfate de diacyloxyéthyl hydroxyéthyl méthyl ammonium et 15 à 30% de méthylsulfate de triacyloxyéthyl méthyl ammonium, les radicaux acyles ayant de 14 à 18 atomes de carbone et provenant d'huile de palme éventuellement partiellement hydrogénée.
Parmi les sels d'ammonium quaternaire de formule (IV) on préfère, d'une part, les chlorures de tétraalkylammonium comme par exemple les chlorures de dialkyldiméthylammonium ou d'alkyltriméthylammonium, dans lesquels le radical alkyl comporte environ de 12 à 22 atomes de carbone, en particulier les chlorures de béhényltriméthylammonium, de distéaryidiméthylammonium, de cétyltriméthylammonium, de benzyl diméthyl stéaryl ammonium ou encore, d'autre part, le chlorure de stéaramidopropyldiméthyl (myristyl acétate) ammonium commercialisé sous la dénomination CERAPHYL 70 par la société VAN DYK.
Selon l'invention, le chlorure de béhényltriméthylammonium est le sel d'ammonium quaternaire le plus particulièrement préféré.
Lorsque la nanoémulsion contient un ou plusieurs lipides amphiphiles additionnels cationiques ou anioniques, ils sont présents dans les nanoémulsions de l'invention, de préférence, dans des concentrations allant de 0,01 à 10% en poids par rapport au poids total de la nanoémulsion et plus particulièrement de 0,2 à 5% en poids.