INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
les figures 101à 104 illustrent quatre configurations possibles de transition de liens, les figures 105 à 107 illustrent des créations de liens concernant l'archivage d'éléments et leur restauration, la figure 108 illustre un principe de collecte de Profils sous forme d'un ensemble de fichiers communs, la figure 109 est un diagramme de classe mettant en #uvre le principe de la figure 108, la figure 110 illustre une construction d'arborescence dans le cadre du principe de la figure 108, la figure 111 est un diagramme de classe reprenant l'ensemble des principes des figures 85 à 110, la figure 112 illustre une structure arborescente de classeurs selon la présente invention, la figure 113est un diagramme de classe intégrant cette notion de classeurs, la figure 114 illustre la structure d'une base de données SQL associée à l'organisation en classeurs, la figure 115 illustre une table de classeurs, la figure 116 illustre une table d'éléments propres à l'utilisateur dans un classeur, la figure 117 illustre une table de liens,
la figure 118 illustre la création d'un élément Dérivé , la figure 119 illustre la suppression d'un sous-élément propre non Dérivé, les figures 120a à 120c illustrent la suppression d'un sous-élément propre Dérivé, la figure 121 illustre une table de liens lors de la restauration d'un sous-élément, la figure 122 illustre le comportement de sous-éléments implicites , la figure 123 illustre une table de liens correspondante, la figure 124 illustre l'acceptation de sous-éléments implicites, la figure 125 illustre une table de liens correspondante, la figure 126 illustre le refus d'un sous-classeur implicite, la figure 127 illustre la table de liens correspondante, la figure 127a illustre un exemple possible d'interface utilisateur, la figure 128 illustre une mesure de proximité entre deux Profils, la figure 129 illustre une autre mesure de proximité possible, la figure 130 illustre les contenus respectifs de deux pages de classeurs d'utilisateurs, organisées selon deux critères communs, la figure 131illustre des suggestions par Recommandation Collaborative,
Bien entendu, la présente invention n'est pas limitée aux exemples modes de réalisation décrits et représentés, mais elle est susceptible de nombreuses variantes accessibles à l'homme de l'art. Elle s'applique à d'autres types de réseaux inscrits que ceux i ont été décrits à titre d'exemple.
PROCEDE DE MANIPULATION D'OBJETS INCLUS DANS UN ARBRE DE CONTENANCE ET SYSTEME ASSOCIE La présente invention a pour objet, dans un système informatique, un procédé de manipulation d'objets inclus dans un arbre de contenance et le système associé.
Un système distribué est un environnement de système informatique qui fonctionne au moyen d'au moins deux systèmes d'exploitation identiques ou différents.
Une machine est associée à un système d'exploitation. Une machine comprend au moins une ressource physique (par exemple des réseaux, des concentrateurs, des segments, etc) ou logique (par exemple une base de données, etc.).
Un système informatique hétérogène contient en général, une variété de protocoles de gestion. Dans ce système, chaque machine est associée à au moins un protocole de gestion.
Dans ce système informatique, au moins un agent est, en général situé sur une machine du système informatique. Un agent est une entité réactive qui attend et traite des requêtes qui lui sont adressées. Un agent logiciel gère et met à jour des données sur la machine sur laquelle il est situé. Chaque agent supporte un protocole tel que le protocole SNMP (Simple Network Management Protocol), le protocole CMIP (Common Management Information Protocol), le protocole DSAC (Distributed Systems Administration and Control) ou d'autres protocoles Le système de gestion commande les agents, et l'agent répond et notifie des événements en utilisant un protocole de gestion identique SNMP, CMIS/CMIP ou DSAC/AEP (DSAC Administrative Exchange Protocol). Le système de gestion comprend plusieurs agents dits agents
intégrateurs en ce sens qu'ils sont intégrés au système de gestion. Les agents et les agents intégrateurs du (des) système (s) gestion coexistent et communiquent pour masquer l'hétérogénéité du réseau.
Dans ce système informatique, un système de gestion de machines d'un système informatique de type OPENMASTER (marque déposée par la société BULL S. A.), connue de l'homme du métier, est particulièrement bien adapté. Ce système de gestion utilise des services CMIS (Common Management Information Services) normalisés, connus de l'homme du métier. Ce système de gestion est une entité qui analyse et agit sur l'environnement à gérer, il répond aux requêtes des utilisateurs en les envoyant à la machine gérée. Ce système de gestion peut être assimilé à un ensemble de services qui interagissent entre eux pour donner une représentation virtuelle du monde réel qu'est le système informatique. C'est une représentation virtuelle qu'un administrateur manipule (surveillance, action) pour gérer le monde réel.
La représentation virtuelle porte sur des objets virtuels du monde réel et constitue un modèle objet. Le modèle de données implémenté est de type "objet", où l'on retrouve les principales caractéristiques propres à ce modèle à savoir : classes, objets, héritage, encapsulation, méthodes (ici actions) évènements, L'organisation des classes est ici hiérarchique, et on distingue : - l'arbre des classes, où une classe est définie subordonnée à une ou plusieurs classes pères, et - l'arbre des instances, où une instance est attachée à une ou plusieurs instances pères.
Cette représentation virtuelle est concrétisée par l'intermédiaire d'un arbre de contenance et d'un arbre de classe. Dans la figure 2, par exemple, les classes INVENTAIRE et RESEAU sont subordonnées à la classe RACINE; les instances DEV5 et DEV6sont subordonnées à l'instance NET2.
Un arbre de contenance est un arbre constitué d'instances de classes. Par définition, l'arbre de contenance est strictement hiérarchique. Le service CMIS (Common Management Information Services) est bien adapté à la structure hiérarchique de l'arbre de contenance. Cet arbre comprend en ses noeuds l'ensemble des objets gérés par le système de gestion. Par définition, un objet géré que l'on peut aussi appeler instance d'une classe est une vue abstraite, définie pour les besoins de gestion, d'une ressource logique ou physique d'un système. Une classe d'objets gérés est un ensemble nommé d'objets gérés partageant les mêmes propriétés définies par cette classe. Un attribut est une caractéristique d'un objet géré qui a un type nommé et
une valeur. La valeur d'un attribut d'un objet peut être consultée ou modifiée par une requête adressée à l'objet.
Nommer un objet d'une classe donnée, c'est choisir, conformément aux liens de nommage possibles, ce que l'homme du métier appelle le plus souvent son Full Distinguished Name FDN, c'est-à-dire choisir son supéneur dans l'arbre de nommage et choisir un nom que l'homme du métier appelle le plus souvent Distinguished Name DN vis-à-vis de ce supérieur. Le nommage des objets fait appel à un arbre de nommage. Chaque objet se situe dans l'arbre de nommage par rapport à un supérieur dont il est le subordonné. Cette relation entre subordonné et supérieur est spécifiée au niveau des classes par un lien de nommage (name binding en anglais).
Lors de la création d'un objet, il faut choisir un seul lien de nommage parmi les liens de nommage possibles pour les objets de cette classe. Plusieurs liens de nommage peuvent être définis pour une même classe, mais un objet ne peut avoir qu'un seul supérieur immédiat.
Selon un premier mode de réalisation particulier de la source objet de l'invention, les moyens de support comprennent une ouverture en regard de chaque cible, cette ouverture étant délimitée par deux parois sensiblement parallèles l'une à l'autre et perpendiculaires à cette cible.
Selon un deuxième mode de réalisation particulier, les moyens de support comprennent une ouverture en regard de chaque cible, cette ouverture étant délimitée par deux parois qui vont vers la cible en s'écartant l'une de l'autre.
Selon un mode de réalisation particulier de l'invention, la source comprend en outre des moyens auxiliaires fixes qui sont aptes à laisser passer le faisceau laser en direction de la cible, à absorber des rayonnements émis par la première face de cette cible et à réémettre ces rayonnements vers cette cible.
La présente invention a également pour objet un dispositif de lithographie comprenant -un support d'un échantillon qui est destiné à être insolé suivant un motif déterminé, - une source de rayonnement extrême ultraviolet conforme à l'invention, - un masque comprenant le motif déterminé sous une forme agrandie, - des moyens optiques de collection et de transmission, au masque, de la partie du rayonnement extrême ultraviolet provenant de la deuxième face de la cible de la source, le masque étant ainsi apte à fournir une image du motif sous forme agrandie, et - des moyens optiques de réduction de cette image et de projection de l'image réduite sur l'échantillon. L'échantillon peut comprendre un substrat semiconducteur sur lequel est déposée une couche de résine photosensible qui est destinée à être insolée suivant le motif déterminé. BRÈVE DESCRIPTION DES DESSINS La présente invention sera mieux comprise à la lecture de la description d'exemples de réalisation donnés ci-après, à titre purement indicatif et nullement limitatif, en faisant référence aux dessins annexés sur lesquels # la figure 1 est une vue schématique d'une source connue de rayonnement EUV et a déjà été décrite, # la figure 2 est une vue schématique d'un mode de réalisation particulier du dispositif de lithographie objet de l'invention qui utilise une source de rayonnement EUV conforme à l'invention, # la figure 3 est une vue en perspective schématique d'un ruban formant un ensemble de cibles qui sont utilisables dans l'invention, # les figures 4 et 5 sont des vues en perspectives schématiques et partielles de sources de rayonnement EUV conformes à l'invention, et # la figure 6 est une vue en perspective schématique et partielle d'une autre source de rayonnement EUV conforme à l'invention. EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS Un plasma créé par interaction d'une cible solide et d'un faisceau laser comporte plusieurs zones. Il y a certes la zone d'interaction que l'on appelle la couronne mais il y a aussi, de façon successive et simplifiée - une zone appelée zone de conduction où le faisceau laser ne pénètre pas et dont l'évolution est commandée par les conductions thermique, électronique et radiative, une partie des photons émis par les ions de la couronne étant émise en direction de la partie froide et dense de la cible, et la zone d'absorption et de ré-émission où les photons d'énergies élevées, qui arrivent de la couronne ou de la zone de conduction, sont absorbés par la matière dense et froide et contribuent ainsi au chauffage de cette matière et donc à l'émission de photons d'énergies inférieures.
Ces derniers forment une onde radiative qui possède, dans le milieu, une direction privilégiée de propagation le long du gradient de température et qui peut, lorsque la cible n'est pas trop épaisse, sortir de la cible par la face arrière de celle-ci, face qui est géométriquement opposée à celle ou le laser a interagi. L'efficacité de conversion en la face arrière (rapport entre l'énergie radiative, toutes longueurs d'onde comprises, à l'énergie laser incidente) peut être voisine de 30%. Cette émission à partir de la face arrière de la cible se caractérise par une distribution spectrale très différente de celle de la face avant car les conditions de température et de densité des zones responsables de l'émission de photons sont très différentes. Le rayonnement émis possède naturellement une distribution angulaire, même avec une cible parfaitement plane : ce rayonnement n'est pas isotrope.
Ainsi utilise-t-on, dans la présente invention, le rayonnement EUV émis par la face arrière d'une cible solide d'épaisseur appropriée, sur la face avant de laquelle on focalise le faisceau laser. On obtient de cette façon un rayonnement EUV anisotrope et l'on réduit au minimum les débris de matière. Pour engendrer le rayonnement EUV, la cible contient, de préférence, un matériau dont le numéro atomique Z est tel que 13 < _ Z < _ 92. On peut mélanger ou associer à ce matériau d'autres matériaux également aptes à engendrer, par interaction avec le faisceau laser, un rayonnement EUV possédant les bonnes caractéristiques spectrales.
En outre, on peut éventuellement lui associer un ou plusieurs autres matériaux de faibles numéros atomiques, destinés à filtrer un rayonnement parasite. L'épaisseur du matériau générateur de rayonnement EUV, ou élément actif, est de préférence comprise entre 0,1 um et 5 pm.
On adapte aussi les caractéristiques du laser (en particulier la durée et la forme temporelle des impulsions lumineuses qu'il fournit, la longueur d'onde et l'intensité) à l'obtention des conditions thermodynamiques requises dans la cible pour une conversion EUV optimale en la face arrière dans la gamme de longueurs d'onde souhaitée qui va par exemple de 10 nanomètres à 20 nanomètres.
Sur la figure 2 on a représenté schématiquement un mode de réalisation particulier de la source de rayonnement EUV objet de l'invention dans une application particulière à la lithographie.
On voit donc sur cette figure 2, de façon schématique, un dispositif de lithographie comprenant un support 16 d'un substrat semiconducteur 18, par exemple un substrat de silicium, sur lequel est déposée une couche 20 de résine photosensible, destinée à être insolée suivant un motif déterminé.
Outre la source 22 de rayonnement EUV conforme à l'invention, le dispositif comprend - un masque 24, comprenant le motif sous une forme agrandie, - des moyens optiques 26 de collection et de transmission, au masque 24, de la partie de rayonnement EUV fournie par la face arrière de la cible solide 28 que comporte la source, le masque 24 fournissant une image de ce motif sous forme agrandie, et - des moyens optiques 29 de réduction de cette image et de projection de l'image réduite sur la couche 20 de résine photosensible.
La cible est par exemple faite d'un matériau tel que l'argent, le cuivre, le samarium ou le rhénium et a une faible épaisseur (par exemple de l'ordre de 1 pm).
Pour engendrer le rayonnement EUV destiné à insoler la couche de résine photosensible, on focalise sur une première face 30 de la cible, appelée face avant , par l'intermédiaire de moyens optiques de focalisation 32, un faisceau pulsé 34 émis par un laser pulsé 35. La cible 28 émet alors un rayonnement EUV anisotrope 36 à partir de sa face arrière 37 qui est opposée à la face avant 30.
On précise que la source 22, le collecteur 26, le masque 24, les moyens optiques 29 et le support 16 portant le substrat 20 sont placés dans une enceinte (non représentée) où l'on établit une basse pression. Le faisceau laser est envoyé dans cette enceinte à travers un hublot approprié (non représenté).
Un algorithme d'utilisation du masque 1110 pour détecter des défauts est le suivant : ALGORITHME DE DÉTECTION DE DÉFAUTS EN UTILISANT UN MASQUE (cl) Pour tous les pixels d'une image de test et d'une image de référence, lire les niveaux correspondants de gris tgns et rgris, respectivement.
(c2) Si l'emplacement (tgns, rgris) du tracé Mdispersion 1100 est un 0 logique, ceci indique que l'emplacement est intérieur au masque et qu'il n'existe donc aucun événement de défaut. Continuer au pixel suivant des images de test et de référence.
(c3) Si l'emplacement (tgns , rgris) du tracé Mdispersion 1100 est un 1 logique, l'emplacement est extérieur au masque et il existe un défaut. Rendre compte d'un événement de défaut.
(c4) Continuer pour toutes les paires de pixels et les images de test et de référence.
En dernière position dans la description, on fournit des exemples additionnels de modes de mise en application de la présente invention. On liste dans cette dernière partie le code source d'une fonction de langage de programmation "C" selon la présente invention. Le code serait exécuté par un ordinateur ou un processeur qui est couplé classiquement à un système d'inspection de défauts ou qui en fait partie. Évidemment, un tel système mémoriserait typiquement ce code source et les tracés, masques, etc., résultants, dans un support lisible par informatique, qui est une mémoire.
La Table 4 représente la correspondance entre les étapes de l'invention et le code source listé dans l'Annexe A.
Fonction C Page Etape Commentaire d'Ann A hist2D8 A/3 330 Tracé 2D de dispersion hist2D8 open A/3 340 Filtre Morphologique
hist~2D8~1 Dprofi le A/4 350 Extraits profil iD et appliquer une moyenne mobile hist 2D8~fitbound A/5 360, Marge de sensibilité et
370 remplissage de masque
hist~2D8~thresh A/6 380 Contrôler quant à défauts
(effet de seuil)
Les Figures 13 à 15 démontrent de façon plus détaillée l'efficacité du présent procédé. Utiliser le tracé Mdispersion 1100 pour détecter des défauts sur le tracé de dispersion 800 en utilisant les étapes (cl) à (c4) fournit une carte 1300 de défauts représentée à la Figure 13. On notera que la carte 1300 de défauts identifie correctement le défaut 601 de l'image de test 600 de la Figure 6.
La Figure 14 représente sous forme de graphique l'application, sur le tracé de dispersion 800, d'un seuil prédéterminé, défini par des lignes 1401 et 1402. Des points qui ne sont pas entre les lignes 1401 et 1402 sont déclarés comme événements de défauts. La Figure 15 représente une carte de défauts qui résulte d'une application du seuil prédéterminé, sur le tracé de dispersion 800. On notera que de nombreux défauts de nuisance ont été détectés alors que le défaut 601 ne l'a pas été.
Il faut comprendre que la description donnée ci-dessus ne l'est qu'à titre d'illustration et ne doit pas être comprise comme limitative. De nombreuses variantes sont possibles sans s'écarter de l'esprit et du cadre de l'invention. La présente invention est exposée par les revendications qui suivent.
/ * # ### * ##*##* Returns : 0 for success -1 for functional failure -2 if algorithm fails to find acceptable threshold ........................................................, #include #include #include #include #include #include #include #include #include #include #define SQRT2 1.414213562373 /*sqrt(2)*/ #define MIN DIST 1 /*min image difference used as the beginning of 1D profiles*/ #define MVA~SIZE 21 /*size of moving average window*/ #define HvA~RATIO 0.9 /-allowable shrinkage in ld profile wrt its =va*/ #define MIN DATA SIZE so /*min @ of data points to use curve fitting*/ #define MX SIZE (3 GRAY~SCALE BITS) /*size of the data matrix for curve fitting*/ #define HIST~MORPH~PASSES 1 /*no. of passes for open/close opérations*/ #define SIGMA~MAX 5 /*enable removal of outliers if sigma of fit is bigger than this*/ /*#define KIN THR 10 /*min thr below which no différence is called a defect*/ #define EPSILON 0.1 /*min value for det(AtA}*/ #define ALG~FITMASK 1 / détection alg using cleaned 20 hist as a mask*/ static void hist2D8(unsigned char *a. unsigned long tcols~a. unsigned char *b, unsigned long tcols~b. unsigned long ncols, unsigaed long nrows, unsigned char *table); static void hist2De open(unsigned char 'table, - unsigned char *hist2DBitKap, long Passes): static void hist2D8 lDprofile(unsigned char *hist, OneD~dist~profile distmax, oned-dist~profile *distmin, int alg type); static void hi6t2D8~fitbound<OneD~dist~profile *distmax.
Généralement, un mur M (contre lequel sera placé le radiateur R) constitue un bord de la réservation 5. L'axe de la gaine 3, à sa sortie de la dalle, n'est pas nécessairement perpendiculaire au mur M. Dans l'exemple de Fig.2, l'angle I entre l'axe A et le plan du mur M est de l'ordre de 45 .
Un dispositif de raccordement J s'adaptant la sortie de la gaine 3, est prévu pour le guidage des canalisations flexibles 1, 2 vers le radiateur R.
Le dispositif de raccordement J comporte un coude 6 avec une emboîture circulaire femelle 7 à une extrémité pour 'adapter sur la sortie de la gaine 3 et une deuxième emboîture 8 à son autre extrémité. L' emboîture 8 est circulaire, mâle, avec un diamètre extérieur inférieur à celui de l'emboîture 7.
Les deux emboîtures 7, 8 sont orientées à 90 l'une de l'autre, de sorte que lorsque l'axe de l'emboîture 7 est horizontal, celui de l'emboîture 8 peut être placé verticalement.
La section transversale 9 (Fig.8) du coude est aplatie dans la zone comprise entre les deux emboîtures. La section aplatie 9 présente de préférence une grande dimension intérieure au moins égale au double de la petite dimension intérieure. La surface convexe extérieure 10 de la zone aplatie du tube se raccorde sensiblement tangentiellement à la surface radiale extérieure des emboîtures 7 et 8. Par contre, la surface concave 11 du coude 6 est déportée radialement vers l'extérieur relativement aux bords des emboitures 7 et 8 situes du même côté.
En général, l'emboîture 8 se trouve dans la réservation 5, au-dessous du niveau supérieur de la dalle 4 comme illustré sur Fig.3.
Le dispositif J comporte en outre une allonge 12 droite, dont la majeure partie 13 présente une section transversale aplatie (Fig.10). La section aplatie de la partie 13 présente de préférence une grande dimension intérieure au moins égale au double la petite dimension intérieure. Une extrémité 14 de l'allonge 12 est agencée pour être assemblée de manière orientable avec la deuxième emboîture 8 du coude.
Cette extrémité 14 est réalisée sous la forme d' emboîture circulaire 15 conjuguée de l'emboîture 8 du coude. L'emboîture 8 étant une emboîture mâle, l'emboîture circulaire 15 est une emboîture femelle dont le diamètre intérieur est avantageusement égal à celui de l'emboîture 7. La combinaison des emboîtures circulaires 8 et 15 permet d'orienter l'allonge 12 et sa section aplatie à volonté. En particulier, comme visible sur Fig.2, le grand axe de la partie aplatie 13 de l'allonge 12 peut être placé parallèlement au mur M, bien que l'axe A de la gaine 3 ne soit pas perpendiculaire à ce mur.
L'emboîture 15 de l'allonge 12 est excentrée d'une distance e (Fig.9) par rapport à la ligne moyenne de la partie aplatie 13. Une face de cette partie 13 est sensiblement dans le prolongement d'une zone de la surface extérieure de l'emboîture 15. Le coude 6 et l'allonge 12 peuvent être thermoformés et réalisés en PVC, en particulier en PVC blanc. La courbure du coude 6 et les sections intérieures du coude et de l'allonge 12 sont prévues pour permettre le tirage et le remplacement des canalisations 1, 2 dans le dispositif en place sur la gaine Dans la plupart des cas, le dispositif de raccordement contient deux canalisations flexibles . La distance entre les faces internes de la partie aplatie du coude 6 ou de l'allonge 12 est suffisante pour permettre l'échange des tubes lorsque l'on tire ceux-ci, et insuffisante pour que les deux tubes puissent se chevaucher ou se bloquer lorsque l'un des tubes est tiré pour être extrait.
La coopération de l'emboîture 15 de 1 allonge et de l'emboîture conjuguée 8 du coude est prévue pour assurer une étanchéité, au moins à la laitance de béton, tout en permettant une rotation pour l'orientation convenable de l'allonge. L'emboîture 7 est prévue pour recevoir de manière étanche l'extrémité de la gaine 3.
Pour la réalisation de l'intallation, les canalisations 1 et 2 sont tirées à travers la gaine 3 avec une longueur suffisante pour le raccordement du radiateur R.
Le dispositif de raccordement J est mis en place en étant enfilé sur les canalisations et en étant raccordé sur l'extrémité de la gaine 3. L'allonge 12 est orientée avec le grand axe de la section aplatie parallèle au mur. La réservation 5 est ensuite bouchée par du mortier. Le coude 6 et la jonction entre les emboîtures 8 et 15 se trouvent alors noyés dans la matière fermant la réservation 5. Seul le haut de la partie 13 section aplatie de l'allonge 12 t saillie au-dessus de la surface supérieure de la dalle 4.