REVENDICATIONS 1. Matériau polymérique inorganique, caractérisé en ce que ledit matériau est un matériau à base d'oxyde de tantale densifié ou réticulé. 2. Matériau polymérique selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit matériau comprend un polymère inorganique d'oxy-hydroxyde de tantale densifié ou réticulé. 3. Matériau polymérique selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comporte en outre des ions halogénure résiduels. 4. Matériau selon la revendication 3, caractérisé en ce que lesdits ions halogénure sont des ions chlorure. 5. Matériau selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend, outre l'oxyde de tantale, au moins un autre oxyde métallique ou de métalloïde choisi parmi l'oxyde de titane, l'oxyde d'yttrium, l'oxyde de scandium, l'oxyde de zirconium, l'oxyde de hafnium, l'oxyde de thorium, l'oxyde de niobium, l'oxyde de lanthane, l'oxyde d'aluminium, l'oxyde de magnésium ou l'oxyde de silicium. 6. Matériau selon la revendication 5, caractérisé en ce que l'oxyde métallique ou de métalloïde est présent dans une proportion de 1 à 99 % en masse, par rapport à la masse totale des oxydes métalliques ou de métalloïdes. 7. Matériau selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il a été densifié, ou réticulé, par un traitement thermique à température modérée, ou par une insolation aux rayons ultraviolets. 8. Matériau selon l'une quelconque des revendications 1 à 7 caractérisé en ce que ledit matériau polymérique inorganique est un matériau à indice de réfraction élevé. 9. Procédé de préparation et de dépôt du matériau polymérique inorganique selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à - préparer une solution (1) dans un solvant (3) comprenant un composé moléculaire précurseur à base de tantale - mélanger, éventuellement, ladite solution (1) avec une solution dans un solvant de même nature, comprenant un composé de métal ou de métalloïde autre que le tantale, ou ajouter ledit composé de métal ou de métalloïde à ladite solution (1) ; moyennant quoi, on obtient une solution (2) - déposer la solution (1) ou (2) obtenue sur un support pour former une couche uniforme de matériau polymérique ; et - réticuler-densifier cette couche polymérique à base d'oxyde de tantale. 10. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que ladite couche polymérique à base d'oxyde de tantale est réticulée, ou densifiée, par un traitement thermique à température modérée, ou par une insolation aux rayons ultraviolets, éventuellement suivie d'une étape de recuit, ou de post-traitement thermique. 11. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que ledit traitement thermique est réalisé à une température de 100 à 200"C pendant une durée de 2 à 150 minutes. 12. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que ladite insolation aux rayons ultraviolets est réalisé avec une énergie de 5 à 10 J/cm2 pendant une durée de 10 secondes à 10 minutes. 13. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que le solvant est choisi parmi les alcools aliphatiques saturés de formule ROH, où R représente un groupe alkyle de 1 à 5 atomes de carbone. 14. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que l'étape de recuit, ou de post-traitement thermique, est réalisée à une température de 80 à 200"C pendant 10 à 60 minutes. 15. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que ledit composé moléculaire, précurseur à base de tantale, est choisi parmi les pentahalogénures de tantale TaX5, avec X = F, Br, I ou Cl. 16. Procédé selon la revendication 15 caractérisé en ce que les ions halogénures en excès dans la solution (1) sont éliminés de celle-ci. 17. Procédé selon la revendication 16 caractérisé en ce que les ions halogénures en excès dans la solution (1) sont éliminés par évaporation sous pression réduite, puis redissolution. 18. Procédé selon la revendication 16 caractérisé en ce que les ions halogénures en excès dans la solution (1) sont éliminés par neutralisation chimique. 19. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que la solution (1) est une solution dans l'éthanol, éventuellement neutralisée par NH3, d'un composé moléculaire précurseur à base de tantale, choisi parmi le pentachlorure de tantale et le chloroéthoxyde de tantale TaCl2(OEt)3. 20. Matériau optique, caractérisé en ce qu'il comprend un substrat de nature organique, ou inorganique, recouvert par au moins une couche du matériau polymérique inorganique à base d'oxyde de tantale selon l'une quelconque des revendications 1 à 7. 21. Matériau optique, caractérisé en ce qu'il comprend un substrat de nature organique, ou inorganique, recouvert par au moins une couche du matériau polymérique inorganique à base d'oxyde de tantale selon la revendication 8. 22. Matériau optique selon la revendication 21, caractérisé en ce qu'il comprend, en outre, au moins une couche choisie parmi - une couche à faible indice de réfraction à base de colloides d'oxyde de silicium, de fluorure de calcium, ou de fluorure de magnésium, enrobés ou non d'un liant siloxane, ou d'oxyde de silicium ou de magnésium sous forme polymérique - une couche à indice de réfraction moyen formée d'un matériau polymérique à base d'oxyde de tantale et d'un autre oxyde de métal - une couche antiabrasive à base de silane fluoré. 23. Matériau selon la revendication 22, caractérisé en ce que les couches à faible et à moyen indice de réfraction sont des couches polymériques densifiées-réticulées. 24. Matériau optiquement actif selon la revendication 22, présentant des propriétés antireflets à large bande spectrale, caractérisé en ce qu' il comprend un substrat de nature inorganique, ou organique, recouvert successivement par - une couche à indice de réfraction moyen - une couche à indice de réfraction élevé - une couche à faible indice de réfraction - éventuellement, une couche antiabrasive. 25. Matériau optique selon la revendication 22, présentant des propriétés antireflets à base spectrale étroite, caractérisé en ce qu'il comprend un substrat de nature inorganique, ou organique, recouvert successivement par - une couche à indice de réfraction élevé - une couche à faible indice de réfraction - éventuellement, une couche antiabrasive. 26. Matériau optique selon la revendication 22, présentant des propriétés réfléchissantes, caractérisé en ce qu'il comprend un substrat de nature organique, ou inorganique, recouvert successivement par au moins une séquence de deux couches comprenant - une couche à faible indice de réfraction - une couche à indice de réfraction élevé - éventuellement, une couche antiabrasive. 27. Matériau optique selon la revendication 22, 24, 25, ou 26 caractérisé en ce que le substrat est un substrat organique recouvert d'un vernis. 28. Matériau optique selon la revendication 22, 24, 25 ou 26, caractérisé en ce que la couche à indice de réfraction moyen est formée d'un matériau polymérique à base d'oxyde de tantale et d'oxyde de silicium ou d'oxyde de magnésium, les proportions relatives en équivalent oxyde de tantale et oxyde de silicium ou oxyde de magnésium, Ta2Os/SiO2 ou Ta2O5/MgO, pouvant varier de 0/100 à 100/0, moyennant quoi, on module à volonté l'indice de réfraction de la couche polymérique obtenue. 29. Matériau optique selon la revendication 22, 24, 25 ou 26, caractérisé en ce que la couche à faible indice de réfraction est une couche formée de silice polymérique choisie parmi la silice polymérique préparée en milieu HCl, la silice polymérique préparée en milieu HNO3 et la silice oligomérique. 30. Matériau optique selon la revendication 22, 24, 25 ou 26, caractérisée en ce que la couche antiabrasive est formée à partir de C6F13 - CH2CH2 - Si(OEt)3 ou de C6F13 - CH2CH2 -SiCl3. 31. Procédé de préparation d'un matériau antireflet à large bande spectrale selon la revendication 24, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes - nettoyage-décapage du substrat - dépôt sur le substrat nettoyé de la couche à indice de réfraction moyen - Eventuellement, réticulation-densification thermique de la couche à indice de réfraction moyen déposée - nettoyage-décapage - dépôt de la couche à indice de réfraction élevée à base de Tua205 ; - Eventuellement, réticulation-densification thermique de la couche à indice de réfraction élevé déposée - nettoyage-décapage, comme précédemment - dépôt de la couche à faible indice de réfraction - Eventuellement, réticulation-densification thermique de la couche à faible indice de réfraction déposée - application de la couche antiabrasive sur la couche à faible indice - traitement thermique. 32. Procédé selon la revendication 31, caractérisé en ce que, suite au dépôt de la couche à indice de réfraction élevé, à base de Ta2O5, à la réticulation-densification de cette couche et au nettoyage-décapage de cette couche, on laisse s'écouler une durée de 1 à 24 heures avant d'effectuer un second décapage de la couche à indice de réfraction élevé et de déposer la couche à faible indice de réfraction. 33. Procédé selon la revendication 31, caractérisé en ce que, suite au dépôt de la couche à indice de réfraction élevé à base de Ta2O5, on effectue un traitement de rinçage de la couche déposée avec un mélange d'ammoniaque et d'éthanol, on réalise ensuite un traitement thermique sous pression réduite, puis on refait un rinçage avec le mélange ammoniaque/éthanol et on effectue ensuite la réticulation-densification de la couche à indice de réfraction élevé avant de déposer la couche à faible indice de réfraction. 34. Procédé selon la revendication 33, caractérisé en ce qu'on laisse s'écouler une durée de 1 à 24 heures, suite au dernier rinçage avec le mélange ammoniaque/éthanol, avant d'effectuer le dépôt de la couche à faible indice. 35. Procédé de préparation d'un matériau antireflet à large bande spectrale selon la revendication 24, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes suivantes - nettoyage-décapage du substrat - dépôt sur le substrat nettoyé de la couche à indice de réfraction moyen - Eventuellement, densification-réticulation de la couche à indice de réfraction moyen déposée, par insolation aux rayons ultraviolets - dépôt de la couche à indice de réfraction élevé à base de Ta2O5 - Eventuellement, densification-réticulation de la couche à indice de réfraction élevé déposée, par insolation aux rayons ultraviolets - dépôt de la couche à faible indice de réfraction - densification-réticulation de la couche à faible indice de réfraction déposée, par insolation aux rayons ultraviolets - application de la couche antiabrasive sur la couche à faible indice - traitement thermique de l'ensemble des couches appliquées et du substrat.