INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Exemple 5 - Effet de la protéine C-mbpl sur la coopération oncogénique entre la protéine H175 et la protéine Ras-Vall2 Cet exemple décrit les effets de la protéine C-mbplsur une propriété du mutant oncogénique H175, sa capacité à coopérer avec la forme mutée du proto- oncogène Ras (Ras-Va112) dans la transformation oncogénique de fibroblastes embryonnaires de rat Les fibroblastes embryonnaires de rat (REF) ont été préparés à partir de rats OFA (IFA-CREDO) selon la méthode décrite par C. Finlay (Methods in Enzymology 255 (1995) 389). Après décongélation, les cellules (1,5.106) sont ensemencées dans des boites de Pétri de 10 cm de diamètre contenant 8 ml de milieu DMEM (Gibco BRL) additioné de 10% de sérum de veau foetal et cultivées sur la nuit dans un incubateur à CO, (5%) à 37 C, puis sont transfectées par les différents mélanges de plasmides (21 g d'ADN) en utilisant le réactif CellPhect (Pharmacia) suivant les recommandations du fournisseur. 24 h après la fin de la transfection, les cellules
contenues dans chacune des boites sont grattées puis réensemencées sur trois boites de Pétri de 10 cm et cultivées pendant 15jours avant d'être colorées au cristal violet suivant le protocole décrit par C. Finlay (Methods in Enzymology 255 (1995) 389).
Les foyers de transformation sont alors visualisés et comptés.
Les plasmides utilisés au cours de cette série d'expériences sont les suivants: - plasmide tampon : pSG5 (Stratagene) - plasmide d'expression de la protéine Ras-Va112: pEJ-Ras (Shih & Weinberg, Cell 29 (1982) 161) - plasmide d'expression de la protéine c-myc entière: pSVc-mycl(Land et al, Nature 304 (1983) 596) - plasmide d'expression de la protéine H175: pSV2-H175 (exemple 4-a (iii)) - plasmide d'expression de la protéine C-mbpl: pBFA107-C-MBP1(exemple 4-a (ii)) Chaque point de transfection contient un mélange de trois plasmides à raison de 7 g de chaque plasmide. Les résultats de deux expériences indépendantes sont reportés dans le Tableau 3.
Tableau 3. Effet de la protéine C-mbpl sur la coopération oncogénique entre la protéine H 175 et la protéine Ras-Val12 Expérience 1 Expérience 2
contrôle 0 0 Ras-Val 12 0 0 c-myc 0 NT H175 0 NT C-mbp 0 NT Ras-Vall2 + c-myc 111 16 Ras-Val 12 + c-myc + C-mbp 1 113 12 * Ras-Val12 + H175 0 16 Ras-Val 12 + C-mbpl 0 3 Ras-Val 12 + H 175 + C-mbp 1 13 30 NT : non testé * : effectuée avec 3 g de plasmide pSVc-myc 1 Les résultats de ces expériences montrent que : - C-mbplpeut coopérer avec la forme activée de Ras pour la transformation des REF - il existe une synergie entre les protéines H 175 et C-mbpl dans la coopération oncogénique avec Ras qui est spécifique de cette association car C-mbplne présente aucun effet sur la coopération oncogénique Ras/ c-myc.
Exemple 6 - Effet des protéines C-mbpl et C-fibuline2 et relation avec les effets des différentes formes de la protéine p53 sur la croissance cellulaire des cellules tumorales
Cet exemple décrit les effets des protéines C-mbpl et C-fibuline2 sur la croissance cellulaire des cellules tumorales et leur relation avec les effets des différentes formes de la protéine p53 sur cette même croissance cellulaire.
Ces effets des protéines C-mbpl et C-fibuline2 sur la croissance cellulaire ont été testés sur la lignée cellulaire H 1299 dans une expérience de formation de colonies résistantes à la néomycine suite à la transfection par des plasmides exprimant ces protéines.
Ces expériences de transfection ont été effectuées selon le protocole décrit dans l'exemple 4-b en utilisant 105cellules par point et 1,5 g d'ADN total.
Les plasmides utilisés au cours de cette série d'expériences sont les suivants: - plasmides d'expression des protéines p53 et H175: pSV2-p53 et pSV2-H175.
- plasmide d'expression de la protéine C-mbp 1: pBFA107-C-MBP (exemple 4-a (ii)) - plasmide d'expression de la protéine C-fibuline2: pBFAI07-C-FIB2 (exemple 4-a (ii)) - plasmide conférant la résistance à la néomycine : pSV2-Neo pour une quantité totale de 0,4 g Protocole de formation de colonies résistantes à la néomycine : 48h après transfection, les cellules sont grattées et transférées dans 2 boites de Pétri de 10 cm de diamètre et remises en culture avec 10 ml de milieu DMEM additionné de 10% de sérum de veau foetal inactivé à la chaleur et contenant 400 g/ml de généticine (G418). Après une sélection de 15 jours en présence de G418, le nombre de colonies NeoR est déterminé par comptage après coloration à la fuchsine.
Les résultat de ces expériences sont reportés dans les Tableaux 4 et 5.
EXEMPLES : Dans les exemples qui suivent on décrit l'obtention de formulations directement exploitables pour la réalisation de vernis UV pour "Air-bags".
Exemples 1 à 14 On réalise des formulations de vernis photoréticulables à partir des polymères suivants : A1 / SILCOLEASE # UV POLY200 : x=CH3 ; a =70 ; b=7 A2 S]ILCOLEASE(<VPOLY201,x=CH3;a=444;b=35 D1/
Photoamorceur SILCOLEASEoo UV CATA 211 G2/ Silice Aérosil de surface spécifique 300 m2/g de DEGUSSA traité à l'octaméthylcyclotétrasiloxane Red 22 / pigment rouge commercialisé par SUN CHEMICAL.
Ces compositions sont ensuite appliquées à l'aide de barres d'enduction numérotées différemment de 0 à 6 pour déposer de 1 à 20g/m2 sur un rectangle de tissu polyamide comprenant un élastomère silicone à la surface du type RTV polyaddition réticulé (140g/m2).
Dans un mélangeur à bras de 100 1 on introduit 40 kg d'une huile de silicone [alpha],# divinylée de viscosité 1,5 Pa. s qui titre 0,1 meq de vinyle (Vi) par gramme d'huile, 0,24 kg d'eau potable et 0,24 kg d'hexaméthyldisilazane. Après homogénéisation on rajoute par portions en a peu près 2 heures 13,9 kg d'une silice de combustion caractérisée par sa surface spécifique de 200 m2/g. Après environ 1 heure de mélangeage, on rajoute en à peu près 1 heure 2,27 kg d'hexaméthyldisilazane. 2 heures plus tard on commence une phase de chauffage au cours de laquelle le mélange est placé sous courant d'azote (30 m3/h) ; le chauffage continue jusqu'à atteindre environ 140 C, température palier qui est maintenue pendant 2 heures afin d'évacuer les matières volatiles de la composition. La suspension est alors laissée à refroidir.
Partant de cette suspension, on formule une partie A et une partie B dans des réacteurs appropriés.
La partie A contient : - 320 g de la suspension - 111 g d'une huile [alpha],# divinylée de viscosité 100 Pa.squi titre 0,03 meq
Vi par gramme d'huile - 35 g de quartz broyé de granulométrie moyenne (d50) proche de 2,5 m - 12 g d'une huile polyhydrogéno de viscosité 0,3 Pa. s qui titre 1,6 meq SiH par gramme d'huile - 12 g d'une huile [alpha],# dihydrogéno qui titre 1,9 meq SiH par gramme d'huile - 5 g de triméthoxysilane de y méthacryloxypropyle - 5 g de triméthoxysilane de y glycidoxypropyle - 0,7 g d'éthynylcyclohexanol La partie B contient : - 480 g de la suspension - 20 g d'orthotitanate de butyle - 1,1 g d'un catalyseur de Karstedt dosé à 10 % de platine On mélange ensuite 100 parties en poids de A et 10 parties en poids de B.
La réticulation s'effectue sur un convoyeur de laboratoire par exposition à une vitesse définie sous deux lampes à électrodes de 200W/cm .
Selon les conditions expérimentales une ou deux lampes sont en fonctionnement.
Les lampes sont des lampes traditionnelles à spectre d'émission du mercure ou de mercure dopé par exemple au fer ou au gallium ou au plomb ...
On mesure les coefficients de friction après exposition à l'aide d'un patin de 200g relié à un dynamomètre pouvant exercer une force de ION pour déplacer le patin.
Pour faire la mesure on installe le bout de tissu sur le patin face recouverte de vernis silicone côté vitre . Un blanc est réalisé avec un tissu enduit de RTV réticulé sans vernis . L'ensemble des résultats obtenus pour les exemples de 1 à 14 sont rassemblés dans le tableau suivant.
Compositions photoréticulables pour le vernissage des Air-Bags
~~~~~ T 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 A1 parts 0 100 90 0 0 0 0 0 0 0 50 70 0 20 20 A2 parts 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 50 0 0 D1 parts 0 0 0 100 90 0 0 0 45 45 50 30 50 72 72 D2 parts 0 0 0 0 0 100 100 90 45 45 0 0 0 0 0 C2 parts 0 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 2.5 G2 parts 0 0 10 0 10 0 0 10 10 10 0 0 0 8 8 Red22 parts 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0.4
bunpe He 200W/mt 0 1 1 1 1 1 1 1 0 0 1 1 1 2 1 bunpHctGa 200W/cm 0 1 1 1 1 0 0 0 0 0 1 1 1 0 0
On décrira ci-après, à titre d'exemples non limitatifs, diverses formes d'exécution de la présente invention en référence aux dessins annexés sur lesquels La figure 1 est une vue en perspective d'un dispositif de fixation ancré dans le sol pour assurer le maintien d'un poteau d'une clôture, La figure 2 est une vue de profil du dispositif de fixation représenté sur la figure 1, La figure 3 est une vue en coupe horizontale faite suivant la ligne III-III de la figure 2 La figure 4 est une vue de profil d'un outil utilisé pour l'enfoncement d'un support piquet du dispositif de fixation, avant engagement dans le sol, La figure 5 est une vue en élévation d'une variante d'exécution d'un support piquet du dispositif de fixation, La figure 6 est une vue en élévation d'un autre support piquet conçu pour le maintien d'une cornière, La figure 7 est une vue en coupe horizontale faite suivante la ligne VII-VII de la figure 6, après engagement de la cornière dans le support piquet.
Le dispositif de fixation représenté sur les figures 1 à 3 est destiné à maintenir vertical un poteau 1 engagé dans le sol et faisant partie d'une clôture de fils, comme il est représenté, ou bien d'une autre construction appropriée. Le poteau 1 est constitué par un profilé métallique ou plastique, ayant deux ailes perpendiculaires entre elles. Dans la forme d'exécution représentée sur les figures 1 à 3, le profilé 1 a une section transversale en forme de T et il comprend une âme la et une aile lb perpendiculaire à l'âme la.
Le dispositif de fixation suivant l'invention comprend un support piquet 2 qui est enfoncé dans le sol et qui maintient le poteau 1 vertical. Le support piquet 2 est constitué par une plaque plane portant, sur l'une de ses faces verticales, au moins une glissière de section transversale complémentaire de celle du poteau 1 et dans laquelle est engagée longitudinalement, à coulissement, la partie inférieure du poteau 1. Dans la forme d'exécution représentée sur les figures 1 à 3, le support piquet comprend deux glissières 3 et 4 fixées l'une au-dessus de l'autre, et à distance l'une de l'autre, sur une même face 2a du support piquet 2. Chacune des glissières 3,4 étant réalisée de la même façon, on ne décrira en détail que l'une d'entre elles, à savoir la glissière supérieure 3. Cette glissière 3 est constituée de deux tronçons de cornière identiques soudés à la face 2a du support piquet 2, systématiquement par rapport à un plan longitudinal P. Plus particulièrement, la glissière 3 comprend un premier tronçon de cornière formé d'une petite aile 3a soudée perpendiculairement à la face 2a du support piquet 2 et une aile 3b s'étendant parallèlement à la face 2a, en direction du plan de symétrie P, et un second tronçon de cornière comportant, une petite aile 3c soudée perpendiculairement à la face 2a du support piquet 2 et une aile 3d s'étendant parallèlement à la face 2a en direction du plan de symétrie P. Les deux ailes 3b, 3d parallèles à la face 2a qui s'étendent l'une vers l'autre, en direction du plan P, laissent entre elles un intervalle juste suffisant pour permettre le passage de l'aile ld du profilé 1. Par ailleurs, la distance entre les ailes 3b,3d et la face 2a du support piquet 2 est sensiblement égale à l'épaisseur de l'âme la du profilé 1. De ce fait, le profilé 1 peut coulisser longitudinalement dans la glissière 3 en étant maintenu étroitement par suite du frottement relatif entre eux.
D'après la description qui précède, on peut voir que la fixation du poteau vertical 1 s'effectue très aisément.
On enfonce tout d'abord dans le sol, à l'endroit approprié, le support piquet 2, sans avoir à creuser un trou préalable, jusqu'à ce que son chant supérieur soit sensiblement au niveau du sol. Une fois le support piquet 2 ainsi enfoncé en position verticale, il suffit d'engager verticalement le poteau 1 d'abord dans la glissière supérieure 3 puis dans la glissière inférieure 4, jusqu'à ce que l'on atteigne la hauteur désirée du poteau 1 par rapport au sol. Le poteau 1 demeure, comme il a été indiqué précédemment, dans sa position d'enfoncement, par suite de son frottement dans les glissières 3,4.
Pour faciliter l'enfoncement du support piquet 2 dans le sol, sa partie inférieure est avantageusement effilée.
Notamment la plaque du support piquet 2 peut comprendre, comme il est représenté sur la figure 1, une partie supérieure rectangulaire, à grands côtés verticaux, et une partie inférieure convergeant vers le bas, par exemple de forme trapézoïdale ou triangulaire.
Pour accroître la résistance de la plaque d'ancrage que constitue le support piquet 2, à l'encontre de sollicitations s'exerçant parallèlement au plan de la plaque, on peut prévoir, le long des grands côtés verticaux de celle-ci, des rebords 2b ou 2c repliés à 90 , respectivement d'un côté et/ou de l'autre de la plaque d'ancrage, comme il est indiqué en traits mixtes sur la figure 3 ; selon une autre variante venant seule ou en combinaison avec les précédentes (26 et 2c) on peut rapporter par soudure une plaque 2d de largeur avantageusement égale à la moitié de celle du support, s'étendant dans l'axe vertical du support, perpendiculairement à la face 2a de la plaque d'ancrage. I1 est évident que ces éléments anti-pivotement du support s'étendent sur une hauteur suffisante avantageusement égale à la hauteur du support.
La longueur ou hauteur du support piquet 2 peut varier en fonction de la nature du terrain dans lequel il doit être enfoncé. Cette longueur peut être, par exemple, de 400 mm pour un sol dur ou de 600 mm pour un sol sablonneux.
Pour enfoncer le support piquet 2 dans le sol, on peut utiliser un outil de frappe courant tel qu'un marteau ou une masse tapant directement sur le chant supérieur de la plaque 2. On peut également employer un outil intermédiaire 5 spécialement adapté au support piquet 2, comme il est représenté sur la figure 4. En fait, l'outil d'enfoncement intermédiaire 5 est constitué par un tronçon du même profilé que celui constituant le poteau 1 devant être mis en place. En l'occurrence, dans cette forme d'exécution, l'outil d'enfoncement intermédiaire 5 est constitué par un tronçon de profilé à section transversale en T et il comporte, sur la face externe de son âme, une butée rapportée par soudage 6 qui est destiné à venir en contact avec le chant supérieur du support piquet 2.
La figure 4 représente l'outil 5 engagé verticalement dans les glissières 3,4 du support piquet 2 jusqu'à ce que sa butée 6 soit en appui contre le chant supérieur du support piquet 2. I1 suffit alors de frapper sur l'extrémité supérieure de l'outil 5 pour pouvoir enfoncer aisément dans le sol à la fois le support piquet 2 et l'outil 5. Une fois le support piquet 2 totalement enfoncé dans le sol, on retire vers le haut l'outil d'enfoncement intermédiaire 5 et de ce fait, les glissières 3,4 du support piquet 2 se trouvent être dégagées et exemptes de terre ou de cailloux, ce qui permet ensuite un coulissement aisé du poteau 1 dans les glissières 3,4.
La figure 5 représente une variante d'exécution dans laquelle le support piquet 2 a la forme d'un triangle isocèle à pointe dirigée vers le bas, et porte une seule glissière continue 3, s'étendant verticalement sur une grande longueur.
Les figures 6 et 7 représentent une variante d'exécution d'un support piquet 2 conçu pour le maintien vertical d'un poteau 7 constitué par un profilé du type cornière, c'est-à-dire à section transversale en forme de L. Le poteau 7 comprend deux ailes 7a et 7b perpendiculaires entre elles. Le support piquet 2 comporte deux glissières 3 et 4 alignées verticalement, comme dans le cas de la forme d'exécution représentée sur les figures 1 à 3, mais chacune des glissières est modifiée par rapport à celles décrites précédemment. Plus particulièrement, la glissière 3 est constituée par le tronçon de cornière formée par les ailes 3a et 3b, mais le second tronçon de cornière 3c, 3d est remplacé par une seule barrette 3e soudée perpendiculairement à la face 2a du support piquet 2. La barrette 3e s'étend longitudinalement, c'est-à-dire parallèlement au tronçon de cornière 3a,3b et à distance de l'extrémité de l'aile 3b parallèle à la surface 2a, de manière à délimiter entre elles un passage de largeur correspondant sensiblement à l'épaisseur de l'aile 7b du profilé 7 du type cornière devant s'engager dans ce passage. L'autre aile 7a du profilé 7 est engagée et coulisse, comme précédemment, entre la surface 2a et l'aile 3b parallèle à cette surface.
Naturellement, la glissière inférieure 4 est réalisée de la même façon que la glissière supérieure 3.
ARRIÈRE-PLAN DE L'INVENTION a) Domaine de l'invention La présente invention concerne un dispositif de mémoire ferroélectrique et plus particulièrement, un dispositif de mémoire ferroélectrique qui convient pour une mémoire du type 1T-1C qui forme une cellule de mémoire en utilisant un transistor et un condensateur ferroélectrique, ainsi qu'un procédé de pilotage d'une mémoire du type 1T-1C. b) Description de l'art antérieur Un condensateur ferroélectrique réalisé en un matériau ferroélectrique interposé entre deux électrodes produit une polarisation dont la valeur correspond à celle d'une tension appliquée. La caractéristique d'une valeur de polarisation par rapport à une tension appliquée présente une hystérésis et même si la tension appliquée est coupée, une polarisation résiduelle subsiste. Si la polarisation résiduelle qui est formée correspond du point de vue de la valeur à une donnée d'entrée, une mémoire non volatile peut être formée en utilisant le condensateur ferroélectrique. Par exemple, un transistor à effet de champ à grille isolée peut être rendu passant/activé ou bloqué/désactivé en fonction de la polarisation d'un condensateur ferroélectrique dont une électrode est connectée à la grille isolée du transistor.
Des mémoires vives ferroélectriques (FeRAM) du type 2T-2C qui utilisent deux transistors et deux condensateurs pour une cellule de mémoire sont maintenant disponibles jusqu'à 64 kilobits. Cependant, une FeRAM du type 1T-1C qui utilise un transistor et un condensateur pour une cellule de mémoire est encore à l'état de développement pour une application pratique.
La RMN 29Si permet d'identifier et de quantifier les motifs.
La référence est du tétraméthylsilane.
Me3SiO1/2 ô=7ppm soit-deux motifs Me2SiO2/2 et MeRSiO 8=22ppm soit 13 motifs R'Si (OEt)3 8=-45/-46ppm soit deux motifs La RMN' H complète l'analyse du produit et confirme la structure attendue du polymère B2 .
Exemple 17 : ' Exemple de formulation permettant de réaliser les formules décrites exemple là 14 Exemple 17.1 : On réalise la formule décrite exemple 1.
Dans un flacon en polyéthylène haute densité étanche à la lumière on mélange sous agitation mécanique vigoureuse pendant un quart d'heure à température ambiante (Agitateur IKA20 muni d'une tige tripale) 100 parts de A1 Silcolease UV# POLY200 de viscosité 350 mPa.s avec 2,5 parties de C2 soit une dilution dans l'isopropanol à 18% de photoinitiateur Rhodorsil Photoinitiator 2074 .
Exemple 17.2 : On réalise la formule décrite exemple 2.
90 parts de Silcolease UV POLY200 AI de viscosité 350 mPa.s avec 10 parties de silice G2. Lorsque le mélange est bien homogène et que la silice est incorporée on rajoute alors 2,5 parties de C2 soit une dilution dans l'isopropanol à 18% de photoinitiateur Rhodorsil# Photoinitiator 2074 et on agite vigoureusement quinze minutes supplémentaires.
Exemple 17.3 : On réalise la formule décrite exemple 3 Dans un flacon en polyéthylène haute densité étanche à la lumière on mélange sous
agitation mécanique vigoureuse pendant un quart d'heure à température ambiante (Agitateur IKA20 muni d'une tige tripale).
100 parts de silane triéthoxysilyle à fonctionnalité époxycyclohexyle B1 de viscosité 10 mPa.s avec 2,5 parties de C2 soit une dilution dans l'isopropanol à 18% de photoinitiateur Rhodorsil Photoinitiator 2074.
Exemple 17.4 : On réalise la formule décrite exemple 4 Dans un flacon en polyéthylène haute densité étanche à la lumière on mélange sous agitation mécanique vigoureuse pendant une demi heure à température ambiante (Agitateur IKA20 muni d'une tige tripale).
90 parts de Silane B1 de viscosité 10 mPa.s avec 10 parties de silice G2. Lorsque le mélange est bien homogène et que la silice est incorporée on rajoute alors 2,5 parties de C2 soit une dilution dans l'isopropanol à 18% de photoinitiateur Rhodorsil Photoinitiator 2074 et on agite vigoureusement quinze minutes supplémentaires.
Exemple 17.5 et 17.6 : On réalise la formule décrite exemples 5 et 6 Dans un flacon en polyéthylène haute densité étanche à la lumière on mélange sous agitation mécanique vigoureuse pendant un quart d'heure à température ambiante (Agitateur IKA20 muni d'une tige tripale).
100 parts de polymère B2 de viscosité 55 mPa.s dont on vient de décrire la synthèse exp : 17 avec 2,5 parties de C2 soit une dilution dans l'isopropanol à 18% de photoinitiateur Rhodorsil* Photoinitiator 2074.
Exemple 17. 7 : On réalise la formule décrite exemple 7 Dans un flacon en polyéthylène haute densité étanche à la lumière on mélange sous agitation mécanique vigoureuse pendant une demi heure à température ambiante (Agitateur IKA20 muni d'une tige tripale).
La surface intérieure du flan est recouverte d'un matériau thermofusible, par exemple une pellicule de polyéthylène d'une épaisseur de 9 microns.
Lors du pliage, il est possible de superposer des surfaces destinées à tre raccord6, et d'assurer le collage dans le poste de soudure (20) comportant par exemple des fers chauffés dont la forme correspond à la forme des surfaces à coller.
Il présente des premières découpes à 35) à mi-chair représentée par des traits portant des croix. Ces découpes définissent les faces latérales (40,41) et les pattes latérales (36 à 39) dont la face arrière, opposée aux découpes à mi-chair, sera encollée.
lampHg/Ga 80W/cm 0 0 0 0 0 0 0 0 1 1 0 0 0 0 0 Vitesse m/min 0 15 15 15 15 5 5 5 5 5 5 15 15 10 5 dépôt g/m2 0 4 9 5 7. 8 1 6. 9 8 4.5 1.8 9 6. 4 5. 6 6. 4 5
Coef. fric. Ks 3 .2 4 4 2 0.6 2 6 1.5 0.3 0.3 0. 1.1 4. 5 0. S 0.
les meilleures performances sont obtenues avec les polymères de type B2/ en présence d'une charge à base de silice. Les résultats varient selon les conditions d'irradiation ; En particulier les valeurs obtenues à faible puissance exemples 8 et 9 sont très intéressantes. On peut rajouter du polymère de type A/ sans trop affecter les résultats de Ks.
Exemple 15 : Des essais d'application en continu de la formule décrite exemple 13 sont réalisés sur une machine représentative d'un équipement industriel (pilote ROTOMEC) à 25m/min sur une laize de tissu recouvert de RTV de 30cm.
Les conditions d'irradiation sont obtenues avec une lampe de la société Fusion avec un bulbe de type H+ de puissance 80W/cm.
3 dépôts sont réalisés.
Les coefficients de friction sont ensuite mesurés sur verre.
On obtient : 3,5 g/m2 de vernis correspond à un Ks = 1,4 6,0 g/m2 de vernis correspond à un Ks = 0,8 9,0 g/m2 de vernis correspond à un Ks = 0,5 On retrouve bien les performances attendues pour cette formulation à dépôt comparable.
Exemple 16 : Préparation de B2 La synthèse s'effectue en deux étapes à partir d'une huile polyméthylhydrogénodiméthylsiloxane [alpha]-# triméthylsilyle.
La synthèse s'effectue selon le schéma réactionnel décrit ci-après.
Dans un réacteur tricol muni d'une pale d'agitation centrale et de capacité 1 litre on charge 50 g de toluène et 28,8 mg d'un complexe du platine au degré d'oxydation zéro complexé par du divinyltétraméthyldisiloxane à 11,5 % en platine soit 3,31 mg de platine. On coule alors en 120 minutes 200g du polymère siloxane hydrogéné à 0,374% soit 0,748 moles H mélangé à 70,97g de vinyltriéthoxysilane (soit 0,372 moles) à 25 C puis on chauffe à 60 C la masse réactionnelle pendant deux heures. Le taux de conversion des motifs SiH est de 50% soit 0,372 moles.