REVENDICATIONS 1. Procédé de dépôt d'un revêtement sur un objet, en particulier un objet d'habillage d'un mouvement horloger, qui comprend les étapes suivantes A) décapage ionique de la surface dudit objet destinée à recevoir ledit revêtement, B) dépôt intermédiaire d'un métal par une technique de dépôt en phase gazeuse (PVD); C) dépôt d'une couche d'un matériau dur par une technique de dépôt en phase gazeuse (PVD), ledit métal déposé préalablement formant un interface entre cette couche et ladite surface dudit objet; D) dépôt d'une couche métallique d'accrochage par une technique de dépôt en phase gazeuse (PVD); ce procédé étant caractérisé en ce qu'il comporte ensuite les étapes suivantes E) traitement thermique de relaxation sous une atmosphère d'azote hydrogénée; F) activation de la couche métallique d'accrochage par immersion dudit objet dans une solution acide; G) dépôt d'un plaquage or supérieur à 23 carats dans un bain galvanique. 2. Procédé de dépôt selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit objet est dégraissé dans une solution alcaline lors d'une étape initiale. 3. Procédé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que ledit objet est chauffé à une température comprise environ entre 200 et 240 degrés celsius avant ladite étape B) ou avant ladite étape A). 4. Procédé de dépôt selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que ledit décapage ionique est effectué pendant environ 5 à 8 minutes avec une tension de polarisation d'un plasma d'argon d'environ 1'100 volts. 5. Procédé de dépôt selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que ladite couche métallique de transition est formée par du titane ou du zirconium sensiblement pur, cette couche étant déposée par pulvérisation cathodique, une tension de polarisation comprise environ entre 100 et 130 volts étang appliquée audit objet. 6. Procédé de dépôt selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que ledit matériau dur est du carbonitrure de titane ou de zirconium, ce matériau dur étant déposé par pulvérisation cathodique avec une tension de polarisation dudit objet comprise environ entre 120 et 150 volts. 7. Procédé de dépôt selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que ladite couche d'accrochage est à base d'or et présente une épaisseur comprise environ entre 0.1 et 0.2 Am, une tension de polarisation comprise environ entre 20 et 50 volts étant appliquée audit objet lors du dépôt de cette couche d'accrochage. 8. Procédé de dépôt selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que ledit traitement thermique est effectué sur une durée d'au moins une heure avec une température de l'enceinte de traitement thermique située environ entre 510 et 550 degrés celsius. 9. Procédé de dépôt selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il est prévu un dégraissage chimique et/ou électrolytique entre les étapes E) et F). 10. Procédé de dépôt selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que ledit plaquage or est constitué d'or sensiblement pur et présente une épaisseur d'au moins 3cul. 11. Procédé de dépôt selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en ce que ladite étape G) est suivie par l'étape H) dépôt d'une couche superficielle de mise en couleur et formée d'un alliage comprenant en majeur partie de l'or. 12. Procédé de dépôt selon la revendication 11, caractérisé en ce que ladite couche superficielle est en or à environ 22 ou 23 carats, l'épaisseur de cette couche superficielle étant inférieure ou sensiblement égale à 1 m.