REVENDICATIONS 1. Composition de résist négatif pouvant être développée avec des solutions basiques, caractérisée en ce qu'elle comprend (1) un polymère filmogène qui est lui même soluble dans les solutions aqueuses basiques et qui contient une première unité monomère ayant un groupe soluble en milieu alcalin et une seconde unité monomère à structure d'alcool capable de réagir avec ledit groupe soluble en milieu alcalin, et (2) un photogénérateur d'acide qui, quand il est décomposé par absorption d'un rayonnement formateur d'image, est capable de produire un acide qui peut provoquer une réaction entre la structure d'alcool ladite seconde unité monomère et le groupe soluble en milieu alcalin de ladite première unité monomère, ou une réaction pour protéger le groupe soluble en milieu alcalin de ladite première unité monomère, et en ce qu'elle est elle-meme soluble dans les solutions aqueuses basiques mais, par exposition audit rayonnement formateur d'image, est rendue insoluble dans les solutions aqueuses basiques au niveau de ses parties exposées par suite de l'action dudit photogénérateur d'acide. 2. Composition selon la revendication 1, caractérisée en ce que la structure d'alcool de ladite seconde unité monomère est structure d'alcool tertiaire représentée par l'une des formules (I) à (IV) suivantes où R est lié à la chaine principale de ladite unité monomère et représente un groupe liant qui est copolymérisable avec ladite première unité monomère, et R, et R2, qui peuvent être identiques ou différents, représentent chacun un groupe hydrocarboné linéaire, ramifié ou cyclique ; où R défini comme ci-dessus, R,, représente un groupe hydrocarboné de 1 à 8 atomes de carbone et p est entier de 2 à 9 ; où R est défini comme ci-dessus, Y représente un atome d'hydrogène ou un substituant facultatif choisi dans le groupe consistant en les groupes alkyle, alcoxycarbonyle, cétone, hydroxyle et cyano, et Z représente les atomes nécessaires pour former un groupe hydrocarboné alicyclique ; ou où R et Y sont définis comme ci-dessus et BA représente les atomes nécessaires pour former un cycle bicyclo- alcane. 3. Composition selon la revendication 2, caractérisée en ce que la proportion de ladite seconde unité monomère est située dans le domaine de 0, à 70 mol % par rapport à la quantité totale dudit copolymère. 4. Composition selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisée en ce que lesdites première et seconde unités monomères peuvent etre identiques ou différentes et représentent chacune un membre choisi dans le groupe consistant en les unités monomères à base d'acide (méth)acrylique, les unités monomères à base d'acide itaconique, les unités monomères à base de vinylphénol, les unités monomères à base d'acide vinylbenzoïque, les unités monomères à base de styrène, les unités monomères à base d'acide bicyclo[2.2.1]hept-5-ène-2-carboxylique, les unités monomères à base maléimide N-substitué et les unités monomères avec un groupe ester contenant une partie hydrocarbonée alicyclique multiple ou polycyclique. 5. Composition selon l'une quelconque des revendications 1 à caractérisée en ce que, quand elle est utilisée pour former un film d'une épaisseur de 1 pm par application sur un substrat en quartz, elle a une absorbance d'au plus 1,75 pm-1 à la longueur d'onde de la source lumineuse d'exposition utilisée. 6. Composition selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que l'une ou l'autre des première et seconde unités monomères, ou les deux, ont en outre un groupe soluble en milieu alcalin faible choisi dans le groupe consistant en les cycles lactone, les cycles imide et les anhydrides d'acide, lié à leurs chaines latérales. 7. Composition selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce qu'elle comprend en outre un composé comportant une structure d'alcool dans sa molécule. 8. Composition selon la revendication 7, caractérisée en ce que la structure d'alcool du composé est une structure d'alcool tertiaire. 9. Composition selon l'une quelconque des revendications 7 et 8, caractérisée en ce que le composé contenant une structure d'alcool présente un point d'ébullition d'au moins 130 C. Composition selon l'une quelconque des revendications précédentes caractérisée en ce qu'elle comprend un solvant choisi dans le groupe consistant le lactate d'éthyle, la méthylamylcétone, le 3-méthoxypropionate de méthyle, le 3-éthoxypropionate d'éthyle, l'acétate de méthyléther propylène- glycol et leurs mélanges. 11. Composition selon la revendication 10, caractérisée ce qu'elle comprend en outre, à titre de co-solvant, un solvant choisi dans le groupe consistant en l'acétate de butyle, la y butyrolactone, le méthyléther de propylène- glycol leurs mélanges. 12. Composition selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce qu'elle est utilisée pour former motifs de câblage ayant une largeur de ligne de 0,15 pm ou moins. 13. Procédé pour former un motif de résist négatif, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à appliquer en revêtement une composition de résist negatif selon l'une quelconque des revendications précédentes sur un substrat cible, exposer sélectivement le film de résist formé à rayonnement formateur d'image capable de provoquer la décomposition du photogénérateur d'acide ladite composition de résist, et développer le film de résist exposé avec une solution aqueuse basique. 14. Procédé de production d'un dispositif électronique, caractérisé en ce qu'il comprend l'utilisation comme moyen de masquage d'un motif de résist formé à partir de la composition de résist négatif selon l'une quelconque des revendications 1 à 12 pour retirer sélectivement le substrat cible sous-jacent et pour former ainsi une couche d'élément fonctionnel prédéterminée. 15. Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à appliquer en revêtement ladite composition de résist négatif sur le substrat cible, exposer sélectivement le film de résist formé à un rayonnement formateur d'image capable de provoquer la décomposition du photogénérateur d'acide de ladite composition de résist, développer le film de résist exposé avec une solution aqueuse basique pour former un motif de résist, et graver ledit substrat cible en présence dudit motif de résist en tant que moyen de masquage pour former ladite couche d'élément fonctionnel. 16. Composition de résist négatif, caractérisée en ce qu'elle comprend une combinaison des composants réactionnels suivants (1) une résine de base composée d'un polymère soluble en milieu alcalin, (2) un photogénérateur d'acide capable de se décomposer par absorption d'un rayonnement formateur d'image pour produire un acide, et (3) un alcool alicyclique ayant un site réactif pouvant subir une réaction de liaison par déshydratation avec le polymère de ladite résine base en présence de l'acide produit par ledit photogénérateur d'acide. 17. Composition selon la revendication 16, caractérisée en que ledit alcool alicyclique contient un ou plusieurs groupes hydroxyle alcooliques. 18. Composition selon l'une quelconque des revendications et 17, caracterisée en ce que 1 à 6 atomes de carbone sont présents entre squelette alicyclique et le groupe hydroxyle dans ledit alcool alicyclique. 19. Composition selon l'une quelconque des revendications à 18, caracterisée en ce que ledit alcool alicyclique est un composé monocyclique de 4 atomes de carbone ou plus, un composé polycyclique de 6 atomes de carbone ou plus un mélange de ceux-ci. 20. Composition selon la revendication 16, caractérisée en ledit alcool alicyclique est un alcool comportant une structure d'adamantane dans sa molécule. 21. Composition selon l'une quelconque des revendications à 20, caractérisée en ce que ledit alcool alicyclique est un alcool tertiaire ayant une structure fixée du point de vue stéréochimique. 22. Procédé de formation d'un motif de résist négatif, caracterisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à appliquer en revêtement sur substrat cible une composition de résist négatif comprenant une combinaison des composants réactionnels suivants (1) une résine de base composée d'un polymère soluble milieu alcalin, (2) un photogénérateur d'acide capable de se décomposer par absorption d'un rayonnement formateur d'image pour produire un acide, (3) un alcool alicyclique ayant un site réactif qui peut subir une réaction de liaison par déshydratation avec le polymère de ladite résine base en présence de l'acide produit par ledit photogénérateur d'acide, exposer sélectivement le film de résist formé à un rayonnement formateur d'image capable de provoquer la décomposition du photogénérateur d'acide de ladite composition de résist, et développer ledit film de résist avec une solution aqueuse basique à la suite d'une cuisson après exposition. 23. Procédé de production d'un dispositif électronique, caractérisé en ce qu'il comprend l'utilisation en tant que moyen de masquage d'un motif résist formé à partir de la composition de résist négatif selon l'une quelconque des revendications 16 à 21 pour retirer sélectivement le substrat cible sous-jacent et pour former ainsi une couche d'élément fonctionnel prédéterminée. 24. Procédé selon la revendication 23, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à appliquer en revêtement ladite composition de résist négatif sur le substrat cible exposer sélectivement le film de résist formé à un rayonnement formateur d'image capable d'entraîner la décomposition du photogénérateur d'acide de ladite composition de résist, developper le film de résist exposé avec une solution aqueuse basique pour former un motif de résist, et graver ledit substrat cible en présence dudit motif de résist tant que moyen de masquage pour former ladite couche d'élément fonctionnel. 25. Composition de résist négatif, caractérisée en ce qu'elle comprend un premier polymère ayant un groupe soluble en milieu alcalin, second polymère ayant sur sa chaîne latérale une structure d'alcool capable de réagir avec ledit groupe soluble en milieu alcalin, et un photogénérateur d'acide capable de produire un acide, qui se décompose par absorption d'un rayonnement pour former une image et qui provoque une réaction entre le groupe soluble en milieu alcalin dudit premier polymère et l'alcool dudit second polymère, la composition étant elle même soluble dans une solution aqueuse basique et, par exposition audit rayonnement pour former une image, la partie exposée devenant insoluble dans ladite solution aqueuse basique sous l'action dudit photogénérateur d'acide. 26. Composition selon la revendication 25, caractérisée en ce que la réaction provoquée par ledit photogénérateur d'acide est une réaction de protection dudit groupe soluble en milieu alcalin ou une réaction favorisant l'insolubilisation dudit groupe soluble en milieu alcalin dans une solution aqueuse basique. 27. Composition selon l'une quelconque des revendications 25 et 26, caractérisée en ce que ladite structure d'alcool est une structure d'alcool tertiaire. 28. Composition selon la revendication 27, caractérisée en ce que ladite structure d'alcool tertiaire est représentée par l'une quelconque des formules (1) à (4) suivantes où R représente un groupe d'atomes relié à la chaîne principale du second polymère et R, et Ri- représentent chacun un groupe alkyle quelconque ayant de 1 à 8 atomes de carbone, contenant une structure linéaire ou ramifiée ou structure cyclique ; où R a la signification définie ci-dessus, n est un nombre de 2 à 9 et RX un groupe ayant de 1 à 8 atomes de carbone contenant une structure linéaire ramifiée ou une structure cyclique ; où R a la signification définie ci-dessus, Y représente un atome d'hydrogène ou groupe alkyle quelconque ayant de 1 à 6 atomes de carbone, un groupe alcoxy- carbonyle, un groupe cétone, un groupe hydroxyle ou un groupe cyano ; où R et Y ont chacun la signification définie ci-dessus. 29. Composition selon l'une quelconque des revendications 25 à 28, caractérisee en ce que ledit premier polymère et ledit second polymère comprennent chacun au moins une unité monomère choisie dans le groupe consistant en les composés de type acide acrylique, de type acide méthacrylique, de type acide itaconique, de type acide vinylbenzoïque, de type vinylphénol, de type acide bicyclo[2.2.1]hept-5-ène-2-carboxylique et de type maléimide N- substitué leurs dérivés. 30. Composition selon l'une quelconque des revendications à 29, caractérisée en ce qu'elle comprend en outre un composé ayant une structure d'alcool. 31. Composition selon la revendication 30, caractérisée en ce ledit composé ayant une structure d'alcool contient au moins un groupe hydroxyle, un groupe cétone ou un groupe alkyloxycarbonyle. 32. Composition selon l'une quelconque des revendications à 31, caractérisée en ce que ledit premier polymère contient en outre un groupe soluble en milieu alcalin choisi parmi un cycle lactone, un cycle imide et un anhydride d'acide. 33. Procédé pour former un motif de résist, caractérisé en ce qu'il comprend une série d'étapes pour appliquer en revêtement la composition résist négatif selon l'une quelconque des revendications 25 à 32 sur un substrat cible afin de former un film de résist, pour exposer sélectivement le film de résist à un rayonnement formateur d'image afin d'accélérer la décomposition dudit photogénérateur d'acide, et pour développer le film de résist exposé avec une solution aqueuse basique. 34. Procédé de production d'un dispositif électronique, caracterisé en ce qu'il comprend l'utilisation comme moyen de masquage d'un motif résist formé à partir de la composition de résist négatif selon l'une quelconque des revendications 25 à 32 pour retirer sélectivement le substrat cible sous 'acent et pour former ainsi une couche d'élément fonctionnel prédéterminé. 35. Procédé selon la revendication 34, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à appliquer en revêtement ladite composition de résist négatif sur le substrat cible (34), exposer sélectivement le film de résist (36) formé à un rayonnement formateur d'image capable de provoquer la décomposition du photogénérateur d'acide de ladite composition de résist, développer le film de résist exposé avec une solution aqueuse basique pour former motif de résist, et graver ledit substrat cible en présence dudit motif de résist en tant que moyen de masquage pour former ladite couche d'élément fonctionnel (35). Composition de résist négatif, caractérisée en que la distribution de masse moléculaire des parties rendues insolubles par exposition à la lumière est de 1 à 2 inclus. Composition selon la revendication 36, caractérisée en ce qu'elle comprend une résine de base qui comprend un polymère soluble en milieu alcalin, un photogénérateur d'acide qui est capable de se décomposer par absorption d'un rayonnement formateur d'image pour produire un acide, et un alcool alicyclique ayant un site réactif capable de subir une réaction de liaison par déshydratation avec le groupe soluble en milieu alcalin de ladite résine de base en présence de l'acide produit par ledit photogénérateur d'acide. 38. Composition selon la revendication 37, caractérisée en ce que la masse moléculaire moyenne en poids de ladite résine de base est d'au moins 2 000. 39. Composition de résist négatif, caractérisée en ce qu'elle comprend une résine de base qui comprend un polymère soluble en milieu alcalin, un photo- générateur d'acide capable de se décomposer par absorption d'un rayonnement formateur d'image pour produire un acide, et un alcool alicylique ayant un site réactif capable de subir une réaction de liaison par déshydratation avec le groupe soluble en milieu alcalin de ladite résine de base en présence de l'acide produit par ledit photogénérateur d'acide, et en ce que les composants de ladite résine de base qui ont une masse moléculaire inférieure â 2 000 ne représentent pas plus de 10 % en masse. 40. Composition selon l'une quelconque des revendications 37 à 39, caractérisée en ce que ladite résine de base contient un composé à base de phénol. 41. Composition selon l'une quelconque des revendications 37 à 40, caractérisée en ce que ledit alcool alicyclique a une structure d'adamantane. 42. Composition selon l'une quelconque des revendications 37 à 41, caractérisée en que ledit alcool alicyclique a une structure d'alcool tertiaire qui est fixée du point de vue stéréochimique. 43. Composition selon la revendication 42, caractérisée en ce que ledit alcool tertiaire un 1-adamantanol ou un dérivé de celui-ci. 44. Composition selon l'une quelconque des revendications 37 à 43, caractérisée en ce que ledit photogénérateur d'acide est choisi dans le groupe consistant en les sels d'onium, les substances organiques halogénées et les esters d'acides sulfoniques. 45. Procédé pour former un motif résist négatif, caractérisé en ce qu'il comprend une série d'étapes incluant l'application en revêtement d'une composition de résist négatif selon l'une quelconque des revendications 37 à 44 sur un substrat cible, l'exposition sélective film de résist formé à un rayonnement formateur d'image capable de provoquer la décomposition du photogénérateur d'acide de ladite composition de résist, et le développement du film de résist exposé avec une solution aqueuse basique. 46. Procédé de production d'un dispositif électronique, caractérisé en ce qu'il comprend l'utilisation comme moyen de masquage d'un motif de résist formé à partir de la composition de résist negatif selon l'une quelconque des revendications 36 à 44 pour retirer sélectivement le substrat cible sous-jacent et pour former ainsi une couche d'élément fonctionnel prédéterminée. 47. Procédé selon la revendication caractérisé en ce qu'il comprend les étapes consistant à appliquer en revêtement ladite composition de résist négatif sur le substrat cible, exposer sélectivement le film résist formé à un rayonnement formateur d'image capable de provoquer la décomposition du photogénérateur d'acide de ladite composition de résist, développer le film de résist exposé avec une solution aqueuse basique pour former un motif de résist, et graver ledit substrat cible en présence dudit motif de résist en tant que moyen de masquage pour former ladite couche d'élément fonctionnel.