INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
CETTE PARTIE DOIT ETRE HERMETIQUEMENT RECOUVERTE PAR UN SYSTEME DE DALLES AMOVIBLES LEGERES AVEC JOINTS EN CAOUTCHOUC AUTOUR DE LA POCHE (1) ET DES PAROIS ET COINS DE LA TRANCHEE (5) AFIN D'ASSURER UNE PARFAITE ETANCHEITE AU NIVEAU DE LA JONCTION POCHE ET COUVERTURE LE DISPOSITIF COMPREND EN FIGURE 3 : -LA TRANCHEE (5) AVEC LES MEMES CARACTERISTIQUES QUE CELLES DECRITES EN FIGURE (2); -LA PARTIE INFERIEURE (6) DE LA TRANCHEE (5) EST PREVUE POUR BETONNER LE PIED DES CROCHETS-SOL (8).
-LA PARTIE SUPERIEURE (7) DE LA TRANCHEE (5) HEBERGE LA TETE DES CROCHETS-SOL (8) QUI COMBINERONT AVEC LES OEILLETS-SOL (3). CETTE COMBINAISON ENTRAINE LE RANGEMENT DE LA POCHE (1) VERS LE HAUT DANS UN COFFRE- FAUX-PLAFOND SOUS LE TOIT OU GRACE A UN SYSTEME DE CACHE-CIRCULAIRE CONCU DE MANIERE ARTISTIQUE POUR LES MAISONS PLUS HAUTES OU IMMEUBLES. LA PARTIE SUPERIEURE (7) DE LA TRANCHEE (5) DOIT ETRE, RECOUVERTE DE FACON HERMETIQUE PAR UN SYTEME DE DALLES AMOVIBLES LEGERES, ET RECOUVERTE SUR LES BORDS D'UN JOINT EN CAOUTCHOUC OU EQUIVALENT QUI ASSURE PROTECTION POUR LA PARTIE DE LA POCHE EN CONTACT AVEC LA COUVERTURE, ET RENFORCE L'ETANCHEITE DE LA TRANCHEE (5).
L'ETANCHEITE DE LA POCHE (1) EST ASSUREE PAR LE COINCAGE DE CETTE DERNIERE AVEC UNE PROTECTION EN CAOUTCHOUC AUTOUR DES PAROIS DE LA TRANCHEE (5) ET DE LA POCHE (1) LORS DE LA COUVERTURE DE LA TRANCHEE (5). CE DISPOSITIF DE PROTECTION S'APPLIQUE SEPAREMENT AUX VERANDAS QUI SERONT ENTIEREMENT MOBILES SUR RAILS PAR EXEMPLE AVEC UN POINT D'ANCRAGE SUR LE MUR DE LA MAISON HORS SAISON, ET, EN PERIODE D'INONDATION AVEC DES POINTS D'ANCRAGE AU SOL. LES ESCALIERS ET LES TERRASSES SERONT REPENSES AVEC LA POSSIBILITE DE LES RENDRE EN PARTIE MOBILES AU NIVEAU DU PASSAGE DE LA TRANCHEE.
A L'APPROCHE DU NOUVEAU MILLENAIRE, DES MAISONS, DES FVIIV#UBLES, DES PATES DE MAISONS OU D'IMMEUBLES SITUES DANS LES ZONES INONDABLES, RESISTANTS A L'ASSAUT PUISSANT DES EAUX LORS DES CRUES, RESTENT POURTANT VULNERABLES A L'INFILTRATION DE L'EAU PAR LES PORTES, LES FENETRES LES FISSURES MURALES AINSI QUE LES INFILTRATIONS PAR CAPILLARITE (SOUS-SOL).
LES DEGATS SUBIS SONT ALORS IMMENSES LES RISQUES AUSSI. C'EST AINSI QUE LES VIES HUMAINES SONT ENVORTEES. LES INTERIEURS SONT SACCAGES, SALIS, DETRUITS, HUMIDIFIES ET ENVASES.
LA RESTAURATION DES LIEUX APRES LA DECRUE COUTE ASSEZ CHER EN TEMPS ET EN ARGENT.
LE NOUVEAU PAYSAGE IMMOBILIER DOIT INTEGRER LA NOTION DE CATASTROPHES NATURELLES DANS SA CONCEPTION. AUSSI, LE PRESENT DISPOSITIF EMPECHE L'INFILTRATION DES EAUX, PAR LES DIFFERENTES OUVERTURES DE LA MAISON ET PAR CAPILLARITE.
LE DISPOSITIF COMPREND 4 PARTIES: UNE POCHE SANS FOND, EN MATIERE IMPUTRESCIBLE, IMPERMEABLE, INDECHIRABLE, DE FORUM QUELCONQUE, SOUPLE, ETIRABLE, LARGEMENT EVASEE VERS LE BAS AFIN D'EVITER TOUTE PRESSION D'EAU ET, AISEMENT ENROULABLE OU DEROULABLE VERS LE HAUT OU VERS LE BAS. ELLE EST PLUS LARGE QUE LE PERIMETRE DE L'OUVRAGE A PROTEGER, LA POCHE DOIT RECOUVRIR TOTALEMENT LA HAUTEUR DES MURS LES PLUS SENSIBLES A SAVOIR CELLE DES CAVES ET OU REZ-DE-CHAUSSEE.
DANS SA PARTIE BASSE, LA POCHE A DES GRANDS OEILLETS. (LIRE OEILLET-SOL). DANS SA PARTIE HAUTE, LA POCHE A SUR UNE RANGEE DES PETITS OEILLETS EQUIDISTANTS. (LIRE OEILLETS-MUR).
ENTRE LA PARTIE BASSE ET LA PARTIE HAUTE, LA POCHE DISPOSE D'UN SYSTEME D'ELASTIQUES (TOUT AUTOUR DE LA POCHE).
il -UNE TRANCHEE CREUSEE LE LONG DES FONDATIONS AUTOUR DE LA MAISON ET LE PLUS PRES POSSIBLE DE CES DERNIERES. CETTE TRANCHEE EST EN 2 PARTIES SUPERPOSEES: LA PARTIE INFERIEURE PUIS LA PARTIE SUPERIEURE DONT LA PROFONDEUR TOTALE EST COMPRISE ENTRE LE NIVEAU DU SOL ET LE FOND DES FONDATIONS IH -DES CROCF#TS-MUR DONT LE NOMBRE EST EGAL A CELUI DES OEILLETS-MUR SONT ANCRES DANS LES MURS SUR 1 RANGEE SITUEE A UNE BONNE DISTANCE DU NIVEAU DU SOL.
-DES CROCHETS-SOUS-SOL AU FOND DE LA TRANCHEE QUI ACCROCHENT LES GROS-OEILLETS.
IV -UNI- PIF-CE FAITE DE LA MEME MATIERE QUE LA POCHE, ET DONT LA TAILLE CORRESPOND A LA SURFACE AU SOL DE L'OUVRAGE SERT A PARER A L'INFILTRATION DES EAUX PAR CAPILLARITE.
Les lumières du rotor ou du stator peuvent prendre des formes diverses, ovoïde, circulaire, carré ou rectangulaire par exemple.
Les données relatives à la charge à traiter au tamis et au désorbant sont identiques pour les deux exemples La charge à traiter est constituée de 0,5 .é de non aromatiques (paraffines et naphtènes), de 4,8% de d'éthylbenzène, de 24% de paraxylène, de 47,2% de méta xylène, de 23,25% d'orthoxylène et de 0,25% d'aromatiques à 9 atomes de carbone.
Le désorbant est constitué de 98 -o de paradiethylbenzène et de 2% d'autres composés aromatiques à dix atomes de carbone, parmi lesquels le métadiéthylbenzène est largement majoritaire, en outre on injecte de l'eau dans le désorbant de manière à ce que la teneur en eau de ce mélange soit environ 180 ppm.
L'adsorbant solide est de la zéolithe X chagée au baryum, de granulométrie comprise entre 0,3 et l mm. La température opératoire est de 175 C et la pression la plus faible est 0,85 MPa absolus.
Un total de 630 m3 d'adsorbant est disposé dans deux colonnes chacune divisée en douze lits. Exemple 1 - utilisation de la vanne rotative selon l'art antérieur (figures 1, 2, 3 et 8 La vanne rotative suivant l'art antérieur comporte 7 rainures concentriques à la partie supérieure du stator. Vingt-quatre lignes 60 de 15 cm de diamètre intérieur et de 8m de longueur relient la vanne rotative V à la bride d'entrée 61 de chacun des 24 lits. A l'intérieur de chacun des lits intermédiaires, on trouve une tubulure 62 ayant un diamètre intérieur de 15 cm reliant la bride extérieure 61 à un distributeur central 63 disposé autour d'un mat 64 central non perforé de 60 cm de diamètre. Cette pièce présente une largeur interne de 5 cm et haute de 20 cm. Douze lignes 65 ayant une longueur de 1,80 m et un diamètre interne de 6,3 cm relient le distributeur central 63 aux vingt-quatre panneaux distributeurs radiaux 66, les lignes étant distribuées tous les 30 . L'extrémité de chacune de ces lignes 65 se divise en 2 lignes 65a, 65b, ayant un diamètre intérieur de 5 cm et une longueur de 0,8 m, permettant ainsi la liaison aux brides d'entrée de la boîte de distribution de deux panneaux distributeurs contigus. Le volume total des lignes de liaison vers le distributeur central, du distributeur central, de la ligne interne vers la bride extérieure , et de la ligne de la bride extérieure vers la vanne rotative est de 305 litres environ.
Les débits externes qui transitent vers ou hors de l'unité sont les suivants # désorbant 346 m3 /h, # rinçage sortant 27 m3 /h, # extrait 181 m3 /h, # rinçage secondaire (constitué de désorbant) 27 m3 /h, # rinçage entrant (recyclage du rinçage sortant) 27 m3/h, # charge 257 m3 /h, # raffinat 449 m3 /h.
Les débits internes de l'unité sont # zone 1A, 1 lit (entre le désorbant et le rinçage sortant) 1103 m3 /h, # zone 1 B, 3 lits (entre le rinçage sortant et l'extrait) 1076 m3 /h, # zone 2A, 1 lit (entre l'extrait et le rinçage secondaire) 895 m3 /h, # zone 2B, 7 lits (entre le rinçage secondaire et le rinçage entrant) 922m31h, # zone 2C, 1 lit (entre le rinçage entrant et la charge) 949 m3 /h, # zone 3 , 7 lits ( entre la charge et le raffinat) 1206 m3 /h, # zone 4, 4 lits (entre le raffinat et le désorbant) 757 m3/h. Pour une période de permutation de la vanne rotative de 69 secondes, la pureté mesurée du paraxylène est de 99,74 % et le rendement de 98,1%.
Exemple 2 = unité de séparation équipée d'une vanne rotative selon l'invention (figures 4 à 8) La vanne ne comporte plus que 4 rainures circulaires concentriques sur la face supérieure du stator. Les vingt-quatre lignes de 15 cm de diamètre intérieur, ainsi que les pieuvres de distribution ont été laissées en place, par contre vingt-quatre lignes de diamètre intérieur 8,7cm ont été rajoutées entre la vanne rotative et chacun des lits conformément à la figure 4.
Les trous de poing 67 présents sur chaque lit d'adsorbant ont été modifiés de manière à être équipés d'une bride traversante. La longueur de chacune de ces lignes de bypass est également de 8 m. Une crépine 68 prenant appui en partie supérieure sur le fond du distributeur central 63 existant et en partie inférieure sur le tube central non perforé a été installé à chaque étage, sur chaque lit également une ligne de 2,4 m de long et 8,7 cm de diamètre a été installée entre la crépine et la bride traversant le trou de point. Le volume compris entre la vanne rotative et le point d'entrée dans la crépine est d'environ 46 litres pour chaque étage.
Le flux circulant dans la ligne de by-pass doit être synchrone avec le flux circulant dans le lit : deux gouttes de liquide de même composition l'une circulant à l'intérieur du lit et l'autre à travers la ligne de by-pass doivent se retrouver au même moment au niveau de la crépine: c'est à dire après avoir parcouru 90 ô du volume de l'ensemble panneau distributeur plus lit pour le fluide qui reste dans la colonne. Dans ce cas particulier le débit qui circule dans les lignes de by-pass doit être de 21,3 m3/h en moyenne.
La perte de charge moyenne par lit est de 0,035 MPa. En fait la perte de charge à travers chacun des lits dépend du débit D sur le lit considéré par une loi du type Ergun connue du spécialiste du domaine.
( Delta P = kt'D +k2"D"2, où k, est largement supérieur à k2). II en résulte que le dispositif est autorégulant : lorsque le débit interne croit, la perte de charge croit également, et le débit de by-pass augmente. Chaque ligne de by-pass est équipée d'un débitmètre de type tube de Prandtl et d'une vanne de réglage de type papillon de manière à pouvoir ajuster manuellement chacun des débits au moment du démarrage de l'unité (de manière à s'assurer que tous les bypass délivrent un débit sensiblement identique pour un débit interne donné). Le choix de ce débitmètre et de cette vanne est dicté par leur coût raisonnable et surtout par le fait qu'ils ne provoquent qu'une très faible perte de charge dans les circuits de by-pass.
Les débits de consigne envoyés sur la pompe de recyclage sont de 1145 m3 /h en zone 1 (5 lits), 964 m3 /h en zone 2 (9 lits), 1221 m3 /h en zone 3 (7 lits) et 772 m3 /h en zone 4 (31its). Les débits internes des lits sont environ 21,3 m3/h plus faibles. Les débits d'extrait, de charge et de raffinat ont été maintenus identiques, le débit total de désorbant est également maintenu identique à 373 m3 /h, mais les rinçages ont été totalement supprimés: le rinçage secondaire à ainsi été rajouté au désorbant. La pureté et le rendement obtenus sont maintenant respectivement de 99,81 % et 98,75%.
La vanne présentant l'une des caractéristiques explicitées aux figures 5 à 7 présentent notamment comme avantage de comporter moins de rainures et d'utiliser moins de jumpover. Elle donne aussi la possibilité de réaliser les courants de bypass sur tous les lits d'une colonne de séparation comportant une araignée de distribution en évitant les circulations parasites.
La présente invention concerne un procédé d'estimation de la valeur instantanée d'une variable caractéristique du fonctionnement d'un moteur à combustion interne, telle que la pression dans un cylindre du moteur ou le couple sur l'arbre du moteur, du type comportant la mesure d'une grandeur représentative du mouvement de l'arbre du moteur à chaque instant, telle que la position angulaire ou la vitesse angulaire, et le calcul de l'estimation de ladite valeur instantanée en fonction de la grandeur représentative mesurée, Actuellement, de telles estimations de la pression et du couple se font à partir des mesures de la vitesse du vilebrequin, c'est-à-dire de la vitesse de l'arbre du moteur. Ces estimations sont calculées en utilisant des modèles dynamiques du moteur. De telles méthodes nécessitent des calculs très importants ainsi que de nombreuses informations sur les caractéristiques géométriques du moteur. Ainsi, elles ne permettent pas des applications de contrôle moteur en temps réel.
L'invention a pour but d'estimer la pression dans les cylindres et/ou le couple sur l'arbre d'un moteur par des calculs très limités, afin de permettre des applications en temps réel, le couple étant déduit de la pression à partir de la relation physique connue qui relie ces deux grandeurs.
On notera en particulier la simplicité du procédé par le fait qu'il ne nécessite pas d'étapes ultérieures après transformation du polyuréthanne thermoplastique pour obtenir la réticulation du produit fini.
PROCEDE POUR LA FABRICATION D'UN ENSEMBLE DE BRAS ARTICULE POUR STORES OU SIMILAIRES ET ENSEMBLE DE BRAS ARTICULE OBTENU AVEC CE PROCEDE. Cette invention se réfère à un procédé pour la fabrication d'un ensemble de bras articulé pour stores ou similaires.
L'invention se réfère également à un ensemble de bras articulé obtenu par procédé. ANTECEDENTS DE L'INVENTION.
Les stores avec toile enroulable sont composés par une première barre autour de laquelle tourne un élément tubulaire ou s'entoure la toile, un ensemble de bras articulés associé à cet élément tubulaire et à une barre de charge montée à l'extrémité de ces bras articulés et qui soutient l'extrémité de la toile du store.
L'ensemble des bras est normalement constitué par une paire de bras, chaque bras est conçu avec une branche supérieure ou de charge et une branche inférieure. Chaque bras est conçu avec un profilé tubulaire aluminium extrudé et des pièces détachées réalisées en fonderie d'aluminium par gravité ou par injection aluminium. Les branches de bras de charge présentent habituellement une section transversale plus importante que les branches de bras inférieures pour des raisons de rigidité de l'ensemble.
L'ensemble de bras pour store avec toile enroulable de la technique précédente, comprend aussi des éléments d'articulation de liaison du bras et des éléments élastiques destinées à maintenir chaque bras en position déployée afin que la toile soit tendue lorsque le store se trouve en position ouverte. Ces éléments élastiques sont au moins composés par un ressort monté à l'intérieur de la branche supérieure de charge de chaque bras et un câble relié à l'extrémité de ce ressort, celui-ci passant à l'intérieur des profilés tubulaires.
Le principal inconvénient présent dans les stores décrits ci-dessus est dû au procédé de fabrication. La technique d'obtention des éléments d'articulation par fonte d'aluminium, demande, des opérations additionnelles de mécanisation. En conséquence de ceux-ci, les coûts sont élevés et les outillages sont rapidement usés étant donné que la fabrication se fait pièce par pièce. Par ailleurs les tolérances des éléments de pièces composant le bras obtenues ne présentent pas une grande constante de précision nécessaire a une bonne finition des pièces.
Un autre inconvénient présent dans ce type de store est que normalement la branche de charge supérieure, doit présenter une coupe transversale supérieure à celle de la branche inférieure étant donné que celle-ci doit supporter plus d'efforts. En conséquence du besoin de fabriquer des bras avec des branches de section distinctes pour chaque ensemble de bras, la production revient particulièrement coûteuse.
Un premier objectif de l'invention est d'obtenir un procédé de fabrication d'un ensemble de bras pour stores enrouleurs qui permettront une fabrication simple et économique.
Un autre objectif de la présente invention est d'obtenir un ensemble de bras articulé ayant une grande rigidité et pouvant se monter facilement.
Ces objectifs et d'autres sont obtenus par un procédé de fabrication d'un ensemble de bras articulés pour stores ou similaires en accord avec l'invention et avec un ensemble de bras articulé obtenu par ce procédé, lequel présente de nombreux avantages relatifs aux ensembles de bras articulés fabriqués jusqu'à présent dans le même but.
Le procédé de la présente invention est destiné à la fabrication d'un ensemble de bras articulé pour stores ou similaires, du type de ceux qui sont composés de deux bras articulés entre eux, composés de profilés tubulaires et d'éléments intermédiaires d'articulation des bras.
Ce procédé se caractérise par le fait qu'il comprend des étapes d'extrusion, à partir d'une seule barre, des profilés tubulaires cités, des bras et des éléments d'articulation, la coupe des dits profilés à la longueur souhaitée et la coupe des dits éléments d'articulation à une grosseur telle que ces derniers éléments d'articulation puissent correctement s'emboîter dans les profilés tubulaires cités.
La fabrication des éléments cités en utilisant la technique d'extrusion présente de nombreux avantages. Tout d'abord, ce procédé ne demande pas des opérations postérieures de mécanisation, puisque les pièces obtenues ont les dimensions souhaitées avec des tolérances très précises.
L'élimination des opérations de mécanisation conduit à une réduction des coûts considérable, ce qui se répercute positivement sur le coût final du store. Avec le procédé de fabrication suivant l'invention, un meilleur rendement de production est obtenu par rapport aux procédés conventionnels utilisés pour la fabrication d'ensembles de bras articulés pour stores ou similaires. L'ensemble de bras articulé pour stores ou similaires de la présente invention comprend, comme cité antérieurement, au moins une paire de bras composés de profilés tubulaires et articulés entre eux, comprenant chacun une branche supérieure ou de charge et une branche inférieure. L'ensemble comprend aussi des éléments d'articulation des bras entre eux destinés à permettre l'ouverture et la fermeture du store.
Bien entendu, l'homme de l'art semble imaginer, à partir du dispositif et du procédé dont la description vient d'être donnée à titre purement indicatif et nullement limitatif, diverses variantes et modifications ne sortant pas du cadre de l'invention.
La présente invention concerne une composition de résist et plus spécifiquement une composition de résist à amplification chimique qui peut être développée une solution aqueuse basique après avoir été exposée. La présente invention concerne également un procédé de formation d'un motif de résist négatif qui utilise cette composition de résist. La composition de résist selon l'invention peut être utilisée pour former des motifs de résist négatif compliqués qui une sensibilité utilisable, sans gonfler. Par ailleurs, la présente invention concerne également procédé de production de dispositifs électroniques y compris des dispositifs à semi-conducteurs tels que des circuits intégrés de type LSI et et des têtes d'enregistrement magnétique telles que des têtes MR.
L'intégration croissante des circuits intégrés à semi-conducteurs a abouti à la situation actuelle dans laquelle des circuits intégrés LSI et VLSI sont réalisables et les largeurs minimales de câblage des motifs de câblage ont atteint le domaine de 0,2 Nm et moins. Cette situation a rendu essentiel l'établissement de techniques de microtraitement et, dans le domaine de la lithographie, la demande a été largement satisfaite par le déplacement des longueurs d'onde ultraviolettes des sources d'exposition à la lumière vers des longueurs d'onde plus courtes situées dans le domaine des ultraviolets lointains. On prévoit que des techniques d'exposi tion à la lumière employant des sources lumineuses ayant des longueurs d'onde situées dans le domaine des ultraviolets moyens seront bientôt mises en oeuvre dans les procédés de production en masse. En même temps, on a observé le déve loppement rapide de matériaux pour résists présentant une plus faible absorption de lumière pour les plus courtes longueurs d'onde mentionnées ci-dessus, ayant une sensibilité satisfaisante et présentant également une grande résistance à la gravure à sec.
cours des années récentes, de nombreuses recherches ont été réalisées dans domaine de la photolithographie avec des sources lumineuses d'exposition constituées par des lasers excimères au fluorure de krypton (longueur d'onde : en abrégé KrF), à titre de nouvelles techniques d'exposition à la lumière pour la fabrication de dispositifs à semi-conducteurs, et ces sources lumi neuses ont été largement utilisées pour la production de masse. H. Ito et al. d'IBM, U.S.A. ont déjà développé des compositions de résist basées sur le concept de "l'amplification chimique", comme résists à haute sensibilité et haute résolution qui conviennent pour une telle exposition à de la lumière de courte longueur d'onde (Voir par exemple, J.M.J. Frechet et al., Proc. Microcircuit Eng., 260 (1982), H. Ito et al., Digest of Technical Papers of 1982 Symposium on VLSI Technology, 86(l983), H. Ito et al., "Polymers in Electronics", ACS Symposium Series 242 T. Davidson ed., ACS, 11(l984), et le brevet U.S. n 4 491 628). Ainsi que cela ressort aisément de ces documents publiés, le concept fondamental des compositions de résist à amplification chimique est basé sur une plus haute sensibilité à un rendement quantique apparent amélioré qui est obtenu par une réaction catalytique dans le film de résist.
peut citer le type de résist à amplification chimique très largement étudié et utilisé qui comprend du t-butoxycarbonylpolyvinylphenol (t-BOCPVP) et un photogenérateur d'acide (PGA) qui a pour fonction de produire un acide par exposition à la lumière. La "cuisson après exposition" (CAE) parties exposées du résist conduit à une perte des groupes t-BOC(t-butoxycarbonyle), ce qui produit de l'isobutène et du dioxyde de carbone. L'acide protonique produit par la perte de -BOC sert de catalyseur favorisant une réaction en chaîne de déprotection, ce qui modifie largement la polarité des parties exposées. Avec ce type de résist, il est possible de choisir un agent de développement approprié adapté au grand changement de polarité des parties exposees, pour former aisément motif de résist compliqué sans gonflement.
A titre indicatif, l'une des techniques à haute résolution les plus large ment utilisées au cours des années récentes est un procédé employant un masque qui modifie la phase de la lumière, connu comme étant un masque à déphasage ou masque de Levenson, procédé qui est très prometteur comme procédé permettant d'obtenir une résolution à la longueur d'onde de la lumière d'exposition et une distance focale adéquate. Quand on utilise de tels masques, les résists négatifs sont habituellement appropriés du fait des limitations du motif de résist, et ceci a créé une forte demande concernant la mise à disposition de résists négatifs. Quand on utilise comme source lumineuse, on envisage ces masques pour des applica tions dans lesquelles une résolution de moins de 0,20 Nm est nécessaire, et ceci a stimule le développement de résists à hautes performances capables de produire des motifs compliqués sans gonfler, comme mentionné ci-dessus. Des recherches nombreuses ont été faites également dans le domaine de la lithographie à l'aide de lasers excimères au fluorure d'argon (longueur d'onde : 193 nm, en abrégé ArF) et de sources de faisceaux électroniques (FE), avec des longueurs d'onde encore plus courtes que KrF, et c'est une technique essentielle pour la formation de motifs de moins 0,13 pm. Ainsi, le développement d'un résist négatif pouvant être utilisé pour ArF, FE et analogues, dont dépendent les microtraitements plus avancés, procurerait de nombreux avantages industriels. Les résists négatifs développables en milieu alcalin pour KrF et FE comprennent ceux qui sont basés sur une réaction polaire due à une réaction catalysée par un acide (par exemple H. Ito et al., Proc. SPIE, 1466 408(1991), S. Uchino et al., J. Photopolym. Sci. Technol., 11(4), 553-564 (l998), ) et ceux basés une réaction de réticulation catalysée par un acide (par exemple, J.W. Thackeray et al., Proc. SPIE, 1086, 34(1989), M.T. Allen et al., J. Photopolym. Sci. Technol., 7, 4(3), 379-387 (1991), Liu H.I., J. Vac. Sci. Technol., B6, 379 (1988), ). On connaît aussi des types réticulables de résists négatifs pour ArF (par exemple A. Katsuyama et al., Abstracted Papers of Third International Symposium on 193 nm Lithography, 51(1997), K. Maeda et al., J. Photopolym. Sci. Technol., 11(4), 507-512 (1998), etc.