INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Dans le polymère filmogène selon l'invention, la proportion de la première unité monomère dans le polymère n'est pas particulièrement limité à condition que le polymère lui même présente une solidité en milieu alcalin appropriée, mais pour obtenir une vitesse de dissolution en milieu alcalin (VDA) appropriée (mesurée avec une solution aqueuse d'hydroxyde de tétraméthyl ammonium à 2,38 %, 100-10 000 x 10-i m (Â)/s) pour le résist négatif selon l'invention, par exemple quand le polymère contient un acide carboxylique comme groupe soluble en milieu alcalin dans un copolymère de deux ou plusieurs composants, la proportion est de préférence située dans le domaine 10-90 mol % et de préférence encore dans le domaine de 30-70 mol %. Si la teneur de la première unité monomère est inférieure à 10 mol %, la solubilité en milieu alcalin devient insuffisante de sorte que la formation d'un motif satisfaisant est impossible. Inversement, si la teneur de la première unité monomère est supérieure à 90 mol %, la solubilité en milieu alcalin devient trop élevée, ce qui conduit à une vitesse de dissolution excessive dans les solutions aqueuses basiques de sorte qu'il est impossible de former un motif sur la base de changements de polarité. De préférence encore, la teneur de la première unite monomère est située dans le domaine de 30-50 mol %.
Quand la première unité monomère du polymère filmogène contient un groupe hydroxyle phénolique comme groupe soluble en milieu alcalin, teneur de ce groupe monomère est de préférence située dans le domaine de 30 % et de préférence encore dans le domaine de 50-95 mol %. Si la teneur la première unité monomère est inférieure à 30 mol %, la solubilité en milieu alcalin devient insuffisante de sorte qu'il est impossible de former un motif satisfaisant.
même, il devient impossible de former un motif satisfaisant si la teneur de la première unité monomère est supérieure à 99 mol %. La teneur que l'on préfère pour la première unité monomère est donc située dans le domaine de 80- mol %.
La seconde unité monomère du polymère filmogène doit avoir sur sa chaine latérale une structure d'alcool capable de réagir avec le groupe soluble en milieu alcalin de la première unité monomère. La structure d'alcool qui doit être introduite peut varier largement en fonction de l'effet voulu, mais d'après l'expérience de la demanderesse, une structure d'alcool tertiaire est particuliè rement utile. Une structure d'alcool tertiaire subit une réaction de déshydratation plus aisément qu'une structure d'alcool secondaire.
Les structures d'alcool tertiaire appropriées pour la mise en oeuvre de présente invention comprennent celles qui sont représentées par l'une quelconque des formules (1) à (IV) suivantes.
Structure d'alcool tertiaire préférée (1) ou R est lié à la chaîne principale de l'unité monomère et représente un groupe liant quelconque qui est polymérisable avec le premier monomère. Le groupe liant R est donc copolymérisable avec l'unité monomère comportant le groupe soluble en milieu alcalin, et sa structure n'est pas particulièrement limitée à condition qu'elle n'ait pas d'influence néfaste sur l'effet envisagé selon la présente invention. R peut être par exemple un groupe hydrocarboné linéaire ou ramifié de 1 ' 6 atomes de carbone tel qu'un groupe méthyle ou éthyle, ou un groupe -0-.
R, et R2 sont identiques ou différents et représentent chacun un groupe hydrocarboné linéaire, ramifié ou cyclique, par exemple un groupe alkyle de à 8 atomes de carbone tel qu'un groupe méthyle ou éthyle, ou un groupe hydrocarboné alicyclique ou aromatique tel qu'un groupe phényle. Ou bien encore, comme expliqué ci-dessous, les deux substituants R, et R, peuvent être liés à l'autre pour former un système cyclique, tel qu'un groupe hydrocarboné alicyclique ou aromatique ou un groupe hétérocyclique.
Structure d'alcool tertiaire préférée (II) où est tel que défini ci-dessus.
R,, représente un groupe hydrocarboné ayant 1 à 8 atomes de carbone, par exemple groupe hydrocarboné linéaire, ramifié ou cyclique tel qu'un groupe méthyle, éthyle phényle, et p est un nombre entier de 2 à 9.
Structure d'alcool tertiaire préférée (III) où R a la même signification que ci-dessus.
Y représente un atome d'hydrogène ou un substituant facultatif choisi dans le groupe consistant en les groupes alkyle, alcoxycarbonyle, cétone, hydroxyle et cyano. Le site de liaison du substituant Y avec le groupe hydrocarboné alicyclique suivant n'est pas limité particulièrement.
Une structure d'alcool allylique et une structure d'alcool secondaire tertiaire sont des exemples de structures d'alcools qui peuvent être utilisées. celles-ci, on préfère une structure d'alcool tertiaire. Le composé ayant cette structure est particulièrement efficace car il peut réagir avec le groupe soluble milieu alcalin et contribuer largement à la formation d'un motif négatif.
Du fait que le composé ayant une structure d'alcool doit avoir un point d'ébullition suffisant pour ne pas s'évaporer pendant le traitement normal du résist et perdre ainsi sa fonction, son point d'ébullition est de préférence d'au moins 130 C.
Dans ce résist négatif, le composé ayant une structure d'alcool contient de préférence une structure alicyclique ou une structure alicyclique polynucléaire, ce qui permet d'améliorer aussi la résistance à la gravure lors de la gravure.
Dans cette composition de résist négatif, le composé ayant une structure d'alcool contient de préférence au moins un groupe hydroxyle, un groupe cétone ou un groupe alkyloxycarbonyle.
De plus, dans cette composition de résist négatif, le premier polymère peut contenir en outre un groupe soluble en milieu alcalin choisi parmi un cycle lactone, un cycle imide et un anhydride d'acide. Quand le premier polymère contient ce groupe soluble en milieu alcalin faible en tant que seconde unité monomère, la vitesse de dissolution en milieu alcalin peut être contrôlée aisément.
Dans la composition de résist négatif selon la présente invention, la masse moléculaire du premier polymère est de manière appropriée de 2 000 à 1000 Dans la composition de résist négatif selon la présente invention, la teneur photogénérateur d'acide (PGA) dépend de la force de l'acide produit après exposition de la composition à une source lumineuse d'exposition, mais, habituellement, la teneur est de manière appropriée de 0,1 à 50 % en masse (par rapport à la masse totale des premier et second polymères), de préférence de 1 à 15 % en masse. La masse moléculaire (masse moléculaire moyenne en poids) de la résine de base est de manière appropriée de 2 000 â 1000 000, de préférence de 5 000 à 100 000, de préférence encore de 3 000 à 50 000. La masse moléculaire (masse moléculaire moyenne en poids) du second polymère ayant sur la chaîne latérale une structure d'alcool capable de réagir avec un groupe soluble en milieu alcalin est de manière appropriée de 300 à 1000 000, de préférence de 500 à 100 000, de préférence encore de 1000 à 10 000.
La composition de résist de la présente invention est de préférence fournie sous forme d'une solution obtenue par dissolution dans un solvant choisi dans groupe consistant en le lactate d'éthyle, la méthylamylcétone, 3- méthoxypropionate de méthyle, le 3-éthoxypropionate d'éthyle, l'acétate de méthyléther de propylèneglycol et leurs mélanges. Si on le souhaite, la composi tion résist peut contenir en outre un solvant choisi dans le groupe consistant en l'acétate de butyle, la y-butyrolactone, le méthyléther de propylèneglycol et leurs mélanges, en tant que solvant auxiliaire.
La présente invention concerne également un procédé pour former un motif résist comprenant une série d'étapes pour appliquer en revêtement la composition de résist négatif sur un substrat traité, c'est-à-dire un substrat cible qui sera défini dans la suite, pour former un film de résist, pour exposer sélective ment film de résist à un rayonnement pour former une image, pour accélérer la décomposition dudit photogénérateur d'acide et pour développer le film de resist exposé avec une solution aqueuse basique.
Dans le procédé pour former un motif de résist selon la présente invention, le film de résist formé sur un substrat traité est de préférence soumis à un traitement thermique avant et après l'étape de mise en oeuvre de son exposition sélective. Plus spécifiquement, selon la présente invention, le film de résist de préférence soumis à un traitement de pré-cuisson avant son exposition et à un trai tement de post-cuisson appelé ci-dessus cuisson après exposition (CAE) après l'exposition mais avant le développement. Ces traitements thermiques peuvent être réalisés avantageusement au moyen d'un procédé courant.
Bien que la composition de résist de la présente invention ait de préférence une absorbance de 1,75/pm ou moins à la longueur d'onde de la source lumineuse d'exposition (250 à 300 nm) pour obtenir des caractéristiques de forma tion motif satisfaisantes, dans le cas où l'on utilise un faisceau électronique comme source lumineuse, l'absorbance n'est pas limitée particulièrement.
La solution aqueuse basique utilisée comme agent de développement peut etre par exemple une solution aqueuse d'un hydroxyde d'un métal appartenant au groupe 1 ou II de la Classification Périodique des Eléments, par exemple l'hydroxyde de potassium, ou une solution aqueuse d'une base organique qui ne contient pas d'ions métalliques, comme un hydroxyde de tétraalkylammonium. préfère une solution aqueuse d'hydroxyde de tétraméthylammonium. Pour améliorer l'effet de développement, il est possible aussi d'ajouter des additifs comme un tensioactif.
Le quatrième aspect de la présente invention concerne une composi tion résist négatif dans laquelle la distribution de masse moléculaire des parties rendues insolubles par exposition à la lumière est de 1 à 2.
Comme les parties rendues insolubles sont formées principalement du fait d'une réaction basée sur des changements de polarité, il est possible d'obtenir une composition de résist ayant une sensibilité et une résolution très améliorées sans gonflement du motif.
La distribution de masse moléculaire ou indice de polydispersité est la valeur obtenue en divisant la masse moléculaire moyenne en poids par la masse moleculaire moyenne en nombre. Avec les résists conventionnels, la masse moléculaire varie considérablement en fonction de la réaction de réticulation et cette variation diffère largement pour une molécule particulière. La distribution de masse moléculaire des parties rendues insolubles est donc habituellement d'une valeur de 3 à 4 ou plus tandis que, pour la composition de résist selon l'invention elle est située dans le domaine de 1 à 2 inclus, de sorte que le polymère utilisé plus uniforme. Comme ce type de résist ne subit pas de gélification par augmen tation de la masse moléculaire, il présente l'avantage de pouvoir être éliminé aisé ment avec un solvant organique après transfert du motif voulu.
La composition de résist négatif peut aussi présenter une structure contenant une résine de base qui comprend un polymère soluble en milieu alcalin, un photogénérateur d'acide capable de se décomposer par absorption d'un rayonne ment formateur d'image pour produire un acide, et un alcool alicyclique ayant un site réactif pouvant subir une réaction de liaison par déshydratation avec le groupe soluble en milieu alcalin de la résine de base en présence de l'acide produit par le photogénérateur d'acide.
Selon la présente invention, il est prévu d'inclure un alcool alicyclique ayant un site réactif qui peut subir une réaction de liaison par déshydratation avec le groupe soluble en milieu alcalin de la résine de base, de sorte que le change ment polarité est accru quand il est ajouté à un polymère soluble en milieu alcalin tandis que la résistance à la gravure peut être améliorée également. De plus, comme la distribution de masse moléculaire au niveau des parties rendues insolubles par exposition à la lumière est dans le domaine de 1 à 2 inclus il est possible d'obtenir une composition de résist négatif à sensibilité et résolution accrues.
En revenant à l'étape S508, lorsque le programme vient à cette étape, le drapeau Filest mis sur 1 . Cette branche de programme est préparée pour un virage à droite du véhicule.
A l'étape S524, les valeurs de Grrmin et de Grro décrites ci-dessus sont égale- ment remises à zéro, respectivement. Ensuite,l'étape S526, le nombre de comptages nr est incrémenté de 1 .
A l'étape S528, on détermine si il'r17GI'1-17-1 est positif. Lorsque Grrn Grrn-1 est positif, on peut supposer que le virage du véhicule reste un virage à droite, alors que lorsque Grrn Grrn-1 est négatif, on peut supposer que le sens du virage a été
11 I) modifié d'un virage à droite à un virage à gauche en passant par une position neutre. Lorsque la réponse est oui. le programme passe à l'étape S530. tandis que lorsque la réponse est non, le programme passe à l'étape S 436.
A l'étape S530. on détermine si Grrn est inférieur il irl'll-1 . Lorsque la réponse est oui, le programme passe à l'étape S532 et Grrmin est transforme pour devenir Grrn, tandis que lorsque la réponse est non, le programme passe à l'étape S534. et Grrmin est modifié pour devenir Grrn-1. En conséquence, on notera qu'au cours des étapes S530. S532 et S534. la plus petite valeur parmi la série de Grrn. Grrn-1. Grrn- 2.... est sélectionnée pour Grrmin.
F.n revenant il nouveau à l'étape S522. lorsque la réponse est oui. le programme passe à l'étape S536. dans laquelle le nombre de comptages nr est remis à zéro, elles drapeaux F10 et FI sont également est remis à zéro. Lorsque la réponse de l'étape S522 est non. le programme court-circuite l'étape S536 pour venir à l'étape S538. Par ailleurs. comme décrit ci-dessus, l'étape S536 est également atteinte à partir des étapes SSI4 ou S528, lorsque Grrn.Grrn-1 est négatif, c'est-à-dire lorsque la direction du virage a été modifiée pour passer d'un virage à gauche à un virage à droite ou d'un virage à droite à un virage à gauche en passant chaque fois par la position neutre, En conséquence, on notera que lorsque une conduite en slalom est synchronisée avec une fréquence de roulis harmonique de la caisse du véhicule, le nombre de comptage de seuil ne est compté en même temps que la détection de la valeur la plus élevée de l'accélération de roulis Grf au cours d'un virage à gauche ou de la valeur la plus faible de l'accélération de roulis Grf (la plus importante en valeur absolue) au cours d'un virage à droite pendant la conduite en slalom.
A ['étape S538, on détermine si la valeur absolue de l'accélération de roulis Grr est plus importante qu'une valeur de seuil Grrt prédéterminée à cet effet, afin de déterminer s'il est nécessaire de réaliser ou non la modification de Cgr et de Car pour s'opposer au roulis de la partie arrière de la caisse du véhicule harmonique au cours d'une conduite en slalom. Lorsque la réponse est oui, le programme passe à l'étape S540, tandis que si la réponse est non, le programme passe à l'étape S552 qui est décrite ci-dessus.
A l'étape S540, on calcule la somme des valeurs absolues de Grrmax et Grrmin sous la forme de Uc4. tel que Uc4=Grrmax-Grrmin. Ensuite à l'étape S542, on détermine si llc4 est supérieur à une valeur de seuil Uc4t prédéterminée à cet effet, afin de déterminer encore s'il est nécessaire ou non de réaliser la modification de Cgr pour s'opposer au roulis de la partie arrière de la caisse du véhicule qui est harmonique à une conduite en slalom. Lorsque la réponse est oui, le programme passe à l'étape S544, tandis que lorsque la réponse est non, le programme passe à l'étape S552.
A l'étape S544. les grandeurs de modification ACgc3r et ACac3r pourCgr et Car pour s'opposer au roulis de la partie arrière de la caisse du véhicule harmonique à une conduite en slalom sont transformées pour devenir Egc3r et Eac3r qui sont déterminées de manière appropriée cet effet. i1 l'étape S546. on détermine si un drapeau F12 est sur 1. le drapeau F 12 est initialement remis à zéro à chaque départ du programme. Lorsque la réponse est non. le programme passe à l'étape S548 et un temporisateur est déclenché. Ensuite, à !'étape S550. le drapeau Bzz est placé sur 1. Ensuite. le programme revient ll l'étape S400. Lorsque la réponse à l'étape S446 est oui. c'est-à-dire après que le temporisateur a été une fois encore déclenché, le programme court-circuite les étapes S548 et S450. z l'étape S552. on détermine si le temporisateur qui a été démarré à l'étape S548 a compté une durée prédéterminée à cet effet. Lorsque la réponse est oui, le programme revient à l'étape S400. Lorsque la réponse est non, le programme passe à l'étape S554 et les grandeurs de modification ACgc3r et ACac3r sont remises à zéro. Ensuite, à l'étape S556, le temporisateur est réactivé, et ensuite, à l'étape S558, le drapeau F12 est remis à zéro. Le programme revient ensuite à l'étape S400.
On appréciera ainsi que dans ce mode de réalisation, les grandeurs de modification Cc3f et ACac3fpour Cgf et Caf et ACgc3r et ACac3r pour Cgr et Car pour s'opposer au roulis de la caisse du véhicule harmonique du cas d'une conduite en slalom sont obtenues séparément pour les parties avant et arrière de la caisse du véhicule afin d'obtenir des grandeurs importantes telles que Fgc3i "et Fac3f et Egc3r et Eac3r. respectivement, lorsque les valeurs absolues de l'accélération de roulis des parties avant et arrière du véhicule sont supérieures à une valeur de seuil prédéterminée à cet effet, et en outre l'accélération de roulis est modifiée alternativement vers la gauche et vers la droite un tel nombre de fois en passant par le neutre et à la façon d'un slalom à une fréquence qui est voisine des fréquences de roulis harmoniques des parties avant et arrière de la caisse du véhicule, respectivement, qu'une somme des valeurs absolues de la plus importante parmi l'accélération de roulis dans le sens des aiguilles d'une montre et de la plus importante parmi j'accélération de roulis dans le sens opposé à celui des aiguilles d'une montre de la caisse du véhicule, vu depuis l'arrière du véhicule, dépasse une valeur de seuil prédéterminée cet effet, ACgc3fet ACac3f et ACgc3r et ACac3r étant respectivement fixées (-les valeurs telles que Tbc3f et Eac3f et Egc3r et ce qu'un tel braquage en slalom provoquant de la résonance ou harmonique cesse ou au moins jusqu'àce qu'une durée prédéterminée se soit écoulée lorsqu'on a fixé une telle durée.
Les valeurs de Egc3f et Eac3f et Egc3r et Eac3r peuvent également être modifiées en correspondance avec l'amplitude de la somme des valeurs absolues de la
:0 plus grande des accélérations de roulis dans le sens des aiguilles d'une montre et de la plus grande accélération de roulis dans le sens opposé à celui des aiguilles d'une montre, en examinant une carte appropriée qui n'a pas été représentée.
Bien que la présente invention ait été décrite en détail et en correspondance à un mode de réalisation de base préféré, et que diverses modifications de ce mode de réalisation aient été explicitées, il est évident que diverses modincations sont possi- bles pour l'homme de fart, en restant dans la portée de la présente invention. Ainsi le dispositif de contrôle de coefficient d'amortissement a été décrit pour un véhicule à quatre roues, mais il pourrait aussi bien être appliqué il un véhicule à deux ou à trois roues ou à plus de quatre roues, le terme "paire de roues" étant le cas échéant rem- placé par le terme "roue individuelle".
PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE [1,4] DIAZÉPINO [6,7,1-hZ INDOL-4-ONES SUBSTITUÉES DOMAINE DE L'INVENTION La présente invention est relative à une nouvelle méthode de préparation de [1,4]diazépino[6,7,1-hi']indol-4-ones chirales, utiles pour la préparation de médicaments permettant de traiter des affections relevant d'une thérapie par un inhibiteur de phosphodiestérases 4 (PDE4). Ces médicaments sont utiles notamment comme antiinflammatoires, anti-allergiques, bronchodilatateurs, ou anti-asthmatiques.
La demande de brevet internationale publiée sous le n WO 98/49169, dont le contenu est incorporé à la présente demande par référence, décrit des diazépino-indolones, qui sont des composés actifs comme inhibiteurs d'enzymes PDE4, de formule dans laquelle : - A est hydrogène, alkyle inférieur, alcoxy inférieur, nitro ou amino ; - B est hydrogène, ou alkyle inférieur éventuellement fonctionnalisé ; - X1 et X2 , semblables ou différents, peuvent être hydrogène, halogène, alkyle inférieur, alcoxy inférieur, ou encore -CH20H ou -C02H éventuellement substitués.
-Z est CH, alors Z1 et Z2 sont tous deux CH ou N ; Z est N, alors Z1 et Z2 sont CH.
VITRAGE MULTIPLE ISOLANT, EN PARTICULIER HUBLOT D'AVION, À BLINDAGE ÉLECTROMAGNÉTIQUE La présente invention concerne les vitrages multiples isolants à au moins une lame de gaz, en particulier d'air, notamment les hublots d'engins de transport, et plus particulièrement les hublots d'avions.
Le fuselage d'un avion constitue une enveloppe métallique qui assure une fonction de blindage électromagnétique. De la mme façon, le pare-brise d'un avion est métallisé par exemple par l'incorporation d'une couche conductrice et transparente utilisée pour le dégivrage. On isole de cette manière les équipements de l'avion susceptibles d'tre perturbés par un champ électromagnétique.
Toutefois, le blindage électromagnétique du fuselage comporte des"trous électromagnétiques"que constituent les hublots. En effet, les hublots, formés d'une manière générale de double vitrages de poly (méthacrylate de méthyle) avec interposition d'une lame d'air, n'assurent pas de fonction de blindage électromagnétique.
Or, avec l'apparition des téléphones portables et des ordinateurs portables que les passagers utilisent pendant leurs voyages en avion, le besoin se fait sentir d'assurer la continuité du blindage électromagnétique de l'avion. En effet, ces appareils portables peuvent provoquer de perturbations, gnant les liaisons entre les personnels de navigation et la tour de contrôle. Il devient donc maintenant impératif, pour des raisons de sécurité, d'isoler parfaitement l'intérieur des avions en disposant d'un blindage électromagnétique continu.
La présente invention apporte une solution à ce problème. A cet effet, conformément à la présente invention, il est prévu d'incorporer au moins une couche mince électroconductrice dans la partie vitrée proprement dite des hublots et de rendre conducteur les joints d'étanchéité périphériques des hublots.
La présente invention a donc d'abord pour objet un vitrage multiple isolant dont la partie vitrée comporte au moins deux dalles superposées de substrat transparent, mécaniquement résistant, avec interposition d'au moins une lame de gaz, en général d'air, lesdites dalles étant montées, à leur périphérie, dans un joint d'étanchéité par lequel ledit vitrage est apte à venir s'encastrer dans une structure qui est destinée à enfermer un espace contenant des équipements susceptibles d'tre perturbés par un champ électromagnétique et qui a une fonction de blindage électromagnétique, caractérisé par le fait que la partie vitrée comporte au moins une couche mince transparente électroconductrice continue, et que le joint est au moins en partie rendu conducteur pour assurer un raccordement de ladite ou desdites couches minces transparentes électroconductrices à ladite structure, les conductivités de ladite ou desdites couches minces transparentes électroconductrices et dudit joint étant choisies pour assurer la continuité du blindage électromagnétique de ladite structure.
D'une manière générale, les dalles de substrat transparent, mécaniquement résistant, sont constituées par des plaques de verre monolithique (verre sodocalcique), ou par des plaques de polymère, tel que le poly (méthacrylate de méthyle) (PMMA), ou par des plaques de verre feuilleté, du type de celles dans lesquelles une feuille de polyvinylbutyral (PVB) ou de polyuréthanne (PU), d'une épaisseur généralement comprise entre 0,3 et 2 mm, est prise en sandwich entre deux feuilles de PMMA. De façon traditionnelle, ces plaques peuvent tre planes ou bombées ou cintrées. Les vitrages particulièrement préférés car les plus courants sont les double vitrages.