INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
A cet effet, la présente invention a pour objet un dispositif du genre précédemment mentionné, ce dispositif étant caractérisé en ce que l'armature précitée est montée mobile en rotation entre deux butées ménagées dans le support, lesdites butées délimitant respectivement les deux positions précitées. Selon une réalisation particulière de l'invention, l'armature comprend une pièce de forme allongée présentant deux extrémités opposées de forme arquée, ladite pièce étant montée en rotation autour d'un axe s'étendant perpendiculairement à la direction longitudinale de l'armature.
Selon une caractéristique particulière, le dispositif comporte deux enroulements aptes à générer respectivement lorsqu'excités, deux champs magnétiques de sens opposé, de manière à entraîner en rotation l'armature respectivement dans un sens pour réaliser la manoeuvre d'ouverture des contacts, et dans un sens opposé pour réaliser une manoeuvre de fermeture des contacts.
- trois traverses horizontales fig. 1 rep. 8 d'un poids de 12 kgs environ et d'une longueur de 4 m. Elles sont fixées à l'aide de supports eux-mêmes fixés au màt par des étriers. Ces traverses servent de support aux panneaux métalliques.
- cinq panneaux métalliques verticaux, clipsés sur les traverses. Ils servent de support à l'affiche collée ou sont peints quand il s'agit d'une enseigne permanente.
- un jeu de moulures encadre le panneau. Il protège le pourtour de l'affiche collée et participe sur le plan esthétique à une bonne finition de l'ensemble.
Le panneau mural de surface identique a les mêmes composants avec cette différence: les supports de traverses sont directement vissés dans le mur porteur.
Le montage de l'ensemble nécessite, au niveau des traverses, une par-faite horizontalité ainsi qu'un espacement très précis des traverses entre eiles. Un défaut quelconque entraînerait un mauvais clipsage des tôles préjudiciable à la résistance de la structure ainsi qu'un désalignement des raccords dans le cas d'une publicité peinte, préjudiciable sur le plan esthétique.
Lors du montage, il n'est pas toujours facile d'ajuster au mieux, suivant l'environnement, la position de la nacelle ; si le site n'est pas accessible par un véhicule, tout le travail devra se faire à l'aide d'échelle et, chacun sait, qu#iI n'est pas facile de caler une échelle de façon parfaite et sûre à 1001/o sur des sois irréguliers et qu'il est toujours un peu risqué de hisser à 5rn de haut une barre de 12 kg mesurant près de 4 m.
Mon invention consiste en un système de poulies et d'un treuil permettant le levage simultané, sans risque et sans effort, des trois traverses équipées de leur support. COMPOSMON ET DESCIUPTION DETAILLES DU DISPOSrrff
Deux poulies folles fig. 1 et 2 rep. 4 sont montées chacune sur un support, lui-même constitué de deux parties distinctes fig. 2 rep. 5 et 10. La partie supérieure reçoit la poulie fig. 2 rep. 4, le système de sécurité fig. 2 rep. 1 empêchant le câble de sortir de la poulie et le point d'ancrage fig. 2 rep. 9 du brin libre du câble sortant du treuil. Cette partie-là est commune à tous les montages. La partie inférieure fig. 2 rep. 10., boulonnée sous le support de poulie, permet la mise en place, par emboîtement et le verrouillage par vis papillon fig. 2 rep. 2, de l'ensemble à l'extrémité de chacun des deux mas. La forme et les dimensions de la pièce d'emboîtement étant adaptées à la forme et aux dimensions de la section des mâts sur lesquels se fera le montage.
En ce qui concerne le montage de panneaux muraux, les pièces fig. 6 reproduiront l'extrémité du mât le plus couramment utilisé, à savoir de section rectangulaire de dimension l40x8O. Un tronçon de ce mât sera soudé sur une pièce en équerre fig. 6 qui permettra la fixation par boulonnage du support sur le mur porteur par l'intermédiaire de chevilles métalliques extensibles. Une fois boulonnées sur le mur porteur, ces pièces permettront l'utilisation de l'outillage comme pour un montage sur mâts. Elles seront ensuite déposées en fin d'installation, leurs fixations dans le mur restant disponibles pour une dépose du panneau.
Deux préhenseurs de traverse fig. 3, équipés chacun d'une poulie folle rep. 11 et d'un système de sécurité fig. 3 rep. 14 empêchant le câble de sortir de la poulie. Ces préhenseurs assurent la prise, le verrouillage et le blocage de la traverse qui sera positionnée en haut du dispositif - le verrouillage étant assuré par une broche fig. 3 rep. 12 et le blocage par une vis p ap ilion f ig. 3 rep. 13. Ces préhenseurs sont aussi équipés d'un point 1 d'ancrage fig. 3 rep.15
pour gabarit d'espacement.
Quatre préhenseurs simples fig. 5 assurent la prise, le verrouillage et le blocage des traverses suivantes - le verrouillage étant assuré par une broche fig. 5 rep. 16 et le blocage par une vis papillon fig. 5 rep. 17. Ces quatre préhenseurs sont aussi équipés de deux points d'ancrage chacun fig. 5 rep. 19 et 18 pour gabarit d'espacement. Ces points d'ancrage servant à relier les différents préhenseurs entre eux à l'aide des gabarits d'espacement.
Quatre gabarits d'espacement fig. 4 munis chacun à leur extrémité d'une chape réglable fig. 4 rep. 20 pour la fixation aux différents points d'ancrage des préhenseurs, par l'intermédiaire d'une broche auto-verrouillante fig. 4 rep. 21. Ces gabarits permettent le levage simultané des trois traverses tout en respectant l'espacement - L'extrémité filetée de la chape autorisant un réglage très précis de la distance entre les traverses. Un treuil à manivelle fig. 1 rep. 22 boulonné sur un support en équerre complète le dispositif Son support fig. 1 rep. 23 permet sa fixation sur un mât par l'intermédiaire d'étriers en U, ou son boulonnage sur le mur porteur par l'intermédiaire de chevilles métalliques extensibles. Le positionnement du trewil par rapport au reste du dispositif, choix du mât, hauteur de positionnement ou emplacement sur le mur porteur, sera déterminé par l'opérateur afin d'obtenir une mise en #uvre la moins contraignante possible. Le treuil sera équipé d'une sécurité pour la monte et d'une sécurité pour la descente, afin d'assurer un maximum de sécurité aussi bien pour le montage que pour le démontage des panneaux. Le câble sortant du tambour passera sur la poulie fig. 1 rep. 4 B pour redescendre sous les poulies des préhenseurs équipés fig. 1, puis remontera sur la poulie fig 1 rep. 4 A avant de se verrouiller au point d'ancrage fig. 1 rep. 9 de la dernière poulie. L'utilisation d'un treuil électrique muni d'une commande à distance peut être envisagée, alimenté par batterie ou groupe électrogène ; cela ne changerait rien à la mise en #uvre et à l'utilisation de l'outillage. :::> Mise en #uvre de l'outillage - montage sur mât.
i--> Fixation du treuil sur le mât choisi - mise au neutre des sécun'tés du treuil - dérouler environ l0m de câble.
=> Passer le câble sur l'une des poulies d'extrémité en vérifiant bien le positionnement du dispositif de sécurité empêchant le câble de sortir de la poulie, puis à l'échelle la mettre en place et la verrouiller à l'extrémité du même mas que le treuil. => Matérialiser la position de la traverse haute.
=> Déplacer l'échelle sur l'autre mât.
La carte de circuit imprimé CI peut également comprendre une capacité C réalisée selon le procédé de l'invention.
La figure 9 illustre l'application du procédé selon l'invention à la réalisation d'une capacité.
Une couche en matériau conducteur M peut être déposée par jet de gouttes de matière conductrice, sur laquelle on superpose une couche de matière isolante déposée par jet de gouttes de matière isolante, une deuxième couche en matériau conducteur M déposée de selon le même procédé terminant la capacité C.
Les électrodes El et E2 peuvent également être réalisée selon le procédé de jet de matière de la présente invention.
La figure 10 illustre l'application du procédé selon linvention à la réalisation d'un empilement de puces de circuit intégré.
Une puce 10 de circuit intégré est reportée sur un support 15 muni de points de connexion 18. Une isolation des tranches de la puce 10 peut être réalisée selon le procédé de l'invention par jet de matière isolante 61, puis la puce 10 est connectée aux points de connexion 18 par jet de matière conductrice 51. Une protection peut alors être réalisée par jet de matière isolante 71. Une seconde puce 10' , de dimensions inférieures à celle de la précédente, peut être reportée sur la première 10 et connectée aux pistes conductrices 51 de la première puce 10.
On peut ainsi réaliser, avec le procédé selon l'invention, un empilement de puces de circuit intégré, connectées entre elles par jet de matière conductrice et protégées par enrobage dans de la matière isolante déposée par jet de matière.
La pile de puces de circuit intégré ainsi obtenu est compacte et facile à connecter.
La figure 11 illustre l'application du procédé selon l'invention à la réalisation d'une antenne.
Les spires de l'antenne A sont réalisées par jet de matière conductrice sur un support diélectrique quelconque. L'utilisation du jet de matière permet de maîtriser parfaitement la forme de l'antenne A ainsi que l'espacement entre les spires qui peut être minimisé.
Des points de connexion 8 sont réalisés, également par jet de matière conductrice, afin de permettre la connexion de l'antenne A à un autre composant électronique.
Selon le motif choisi, un pond isolant 80 est réalisé, par jet de matière isolante, par dessus les spires de l'antenne A afin d'amener les points de connexion 8 à un emplacement donné.
Les figures 12a et 12b illustrent l'application du procédé selon l'invention à la réalisation d'un module biface 300 avec des amenées de courant.
La figure l2a illustre la face arrière 305 du module et la figure 12b la face avant sur laquelle se trouve les contacts 306. Des perforations 310 sont réalisées dans le support du module 300 afin de permettre à des amenées de courant de connecter la face arrière 305 avec les plots de contact 11 de la face avant 306.
Selon l'invention, ces amenées de courant sont réalisées par jet de matière conductrice à travers les perforations 310.
CERTIFICAT DU FABRICANT DE MODULE D'IDENTITE DE PROTOCOLE D'APPLICATION SANS FIL La présente invention se rapporte à un procédé de sécurité utilisant la cryptographie à clef asymétrique, particulièrement, bien que non exclusivement, pour utilisation avec un module d'identité de protocole d'application sans fil.
De préférence, la composition de résist selon l'invention comprend une résine de base qui est un polymère à base de phénol, un polymère à base de (méth)acrylate ou un mélange de ceux-ci.
Dans le troisième aspect de la présente invention, pour la composition de résist à amplification chimique, il est important d'utiliser comme résine de base un premier polymère filmogène ayant un groupe soluble en milieu alcalin et qui est soluble dans une solution aqueuse basique et d'utiliser en même temps un second polymère ayant une structure d'alcool sur la chaîne latérale.
Plus spécifiquement, la présente invention concerne une composition de résist négatif comprenant un premier polymère ayant un groupe soluble en milieu alcalin, un second polymère ayant sur la chaîne latérale une structure d'alcool capable de réagir avec le groupe soluble en milieu alcalin, et photo- générateur d'acide capable de produire, par décomposition par absorption d'un rayonnement pour former une image, un aide qui provoque une réaction entre le groupe soluble en milieu alcalin du premier polymère et l'alcool second polymère, la composition elle-même étant soluble dans une solution aqueuse basique et, par exposition à un rayonnement pour former une image la partie exposee devient insoluble dans la solution aqueuse basique sous l'action du photogénérateur d'acide.
Selon la présente invention, quand la composition de résist négatif est exposee à un rayonnement pour former une image, le photogénérateur d'acide produit un acide capable de provoquer une réaction entre le groupe soluble en milieu alcalin du premier polymère et l'alcool du second polymère de sorte qu'il se produit une réaction à catalyse acide par laquelle la zone exposée peut être rendue insoluble dans une solution aqueuse basique.
Par ailleurs, dans la composition de résist négatif selon l'invention, la réaction provoquée par le photogénérateur d'acide peut être une reaction de protection du groupe soluble en milieu alcalin et/ou une réaction favorisant l'insolubilisation du groupe soluble en milieu alcalin dans une solution aqueuse basique.
Lors de la réaction de l'alcool avec le groupe soluble en milieu alcalin du premier polymère, le site réactionnel de l'alcool forme une liaison éther, une liaison ester ou analogue pour protéger le groupe soluble en milieu alcalin du premier polymère et pour rendre ainsi le groupe soluble en milieu alcalin insoluble dans solution aqueuse basique. Il en résulte une grande différence de polarité entre partie non exposée et la partie exposée. De ce fait, la partie exposée ne gonfle pas et la composition de résist négatif présente une grande sensibilité, un grand contraste et une grande résolution.
Une réaction favorisant l'insolubilité en milieu alcalin du groupe soluble en milieu alcalin dans le premier polymère peut se dérouler en même temps que la réaction de protection décrite ci-dessus. Dans ce cas, la différence de solubilité entre la partie non exposée et la partie exposée augmente de sorte qu'il est possible de former un motif de résist négatif fin.
En outre, dans la composition de résist négatif selon la présente invention, la structure d'alcool est de préférence une structure d'alcool tertiaire. Quand le second polymère contient une structure d'alcool tertiaire sur la chaîne latérale, réaction de déshydratation a lieu aisément avec groupe soluble en milieu alcalin du premier polymère, et la réaction entre le premier polymère et le second polymère peut être accélérée.
plus, dans la composition de résist négatif selon la présente invention, la structure d'alcool tertiaire peut être une structure représentée par l'une quelconque des formules (1) à (4) suivantes où R représente un groupe d'atomes relié à la chaîne principale du second polymère et R, et R2 représentent chacun un groupe alkyle quelconque ayant de 1 à 8 atomes de carbone, contenant une structure linéaire ramifiée ou une structure cyclique ; où R a la signification définie ci-dessus, n est un nombre de 2 à 9 et Ra est un groupe ayant de 1 à 8 atomes de carbone contenant une structure linéaire ou ramifiée ou une structure cyclique ; où R a la signification définie ci-dessus, Y représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle quelconque ayant de 1 à 6 atomes de carbone, un groupe alcoxy- carbonyle, un groupe cétone, un groupe hydroxyle ou un groupe cyano ; où et Y ont chacun la signification définie ci-dessus.
L'alcool tertiaire ayant la structure représentée ci-dessus peut participer à la réaction d'insolubilisation du groupe soluble en milieu alcalin du premier polymère en présence d'un acide produit par le photogénérateur d'acide et donc insolubiliser plus sûrement la partie exposée dans une solution aqueuse basique.
II suffit que le second polymère soit compatible avec le premier polymère, et les premier et second polymères ne sont pas limités particulièrement en qui concerne leur chaîne principale. Toutefois, dans la composition de résist négatif selon la présente invention, le premier polymère et le second polymère peuvent comprendre chacun au moins une unité monomère choisie dans le groupe consistant en les composés de type acide acrylique, acide méthacrylique, acide itaconique, acide vinylbenzoïque, vinylphénol, acide bicyclo[2.2.1 ]hept ène-2- carboxylique et maléimide N-substitué, et leurs dérivés. L'unité monomère du premier polymère et l'unité monomère du second polymère peuvent être identiques ou différentes. Chaque polymère peut être constitué d'un seul monomère peut être sous forme d'un copolymère.
Dans le premier polymère constituant la résine de base, la proportion de l'unité monomère ayant un groupe soluble en milieu alcalin n'est pas limitée à condition que la résine elle-même présente une solubilité en milieu alcalin appropriée. Toutefois, il est nécessaire de tenir compte de l'obtention d'une vitesse de dissolution en milieu alcalin appropriée qui est considérée comme utilisable en pratique pour le résist négatif (c'est-à-dire une vitesse de dissolution d'approxima tivement 100 à 30 000 10-1 m (Â)/s dans un agent de développement TMAH à 2,38 %). Si une telle vitesse de dissolution en milieu alcalin est atteinte est possible d'utiliser un homopolymère comprenant une unité monomère à com posant comme résine de base soluble en milieu alcalin, et on préfère cette compo sition. Le polyvinylphénol, le polyacide vinylbenzoïque), le polyacide métha crylique) et le polyacide acrylique) sont des exemples de telles résines. Dans le cas où le polymère comprend une unité monomère consistant en deux ou plusieurs composants et où le groupe soluble en milieu alcalin est un groupe carboxyle, la teneur en unité monomère est de préférence de 10 ` 90 mol%, de préférence encore de 30 à 70 mol%. Si la teneur en unité monomère est inférieure à 1 mol%, la solubilité en milieu alcalin est insuffisante et la forma tion d'un motif ne peut pas être réalisée de manière satisfaisante, tandis que si elle dépasse 90 mol%, la solubilité en milieu alcalin est trop élevée et la dissolution dans une solution aqueuse basique se déroule à une vitesse excessive de sorte que la formation d'un motif par changement de polarité ne peut pas être obtenue. De préférence encore, la teneur en unité monomère est de 30 à 50 mol%.
Dans le cas où le groupe soluble en milieu alcalin est un groupe hydroxyle phenolique, la teneur en unité monomère est de préférence de 20 à 99 mol%, de préférence encore de 50 à 95 mol%. Si la teneur en unité monomère est inférieure à 30 mol%, la solubilité en milieu alcalin est insuffisante et la formation motif ne peut pas être réalisée de manière satisfaisante. préférence encore, la teneur en unité monomère est de 80 à 95 mol%.
Dans cette composition de résist négatif, la teneur en le second polymère est pas limitée particulièrement, et il peut être suffisant, compte tenu de la relation avec le premier polymère, que la teneur soit suffisante pour maintenir la solubilité en milieu alcalin de la composition et pour insolubiliser même temps le groupe soluble en milieu alcalin du premier polymère. Dans cette composition de résist négatif, la teneur en le second polymère est de préférence de 0,1 à 80 % en masse par rapport à la masse totale du premier polymère et du second polymère.
plus, dans cette composition de résist négatif, la masse moléculaire du second polymère n'est pas limitée particulièrement et elle peut être suffisante si, compte tenu de la relation avec le premier polymère, la solubilité en milieu alcalin de composition dans son ensemble peut être maintenue. Dans cette composition de résist négatif, la masse moléculaire du second polymère est de préférence de 500 à 100 000.
Dans la composition de résist négatif de la présente invention, il est possible d'ajouter en outre un composé ayant une structure d'alcool. Dans le cas où la structure d'alcool du second polymère est absente, il est possible, en ajoutant un autre composant ayant une structure d'alcool, d'accélérer l'insolubilisation de la zone exposée de ce résist négatif dans une solution aqueuse basique. De préférence, le composé ayant une structure d'alcool contient structure d'alcool tertiaire. De même que le second polymère ayant une structure d'alcool, ce composé réagit avec le groupe soluble en milieu alcalin du premier polymère de sorte que l'insolubilisation du groupe soluble en milieu alcalin premier polymère dans une solution aqueuse basique peut être accélérée dans zone exposée.
Les modes de réalisation préférés de la présente invention seront mieux compris à la lecture de la description détaillée qui suit et se réfère aux dessins annexés, donnés uniquement à titre d'exemple, et dans lesquels les figures IA à 1F représentent le procédé de production d'un transistor MOS ("métal oxyde semiconductor") selon la présente invention, et les figures 2A à 21 représentent le procédé de production d'une tête d'enregistrement magnétique à couche mince selon la présente invention.
La composition de résist négatif selon le premier aspect de présente invention comprend, à titre d'élément constitutif essentiel, un polymère filmogéne qui soluble lui-même dans les solutions aqueuses basiques et qui comprend une première unité monomère ayant un groupe soluble en milieu alcalin et une seconde unité monomère à structure d'alcool qui peut réagir avec le groupe soluble en milieu alcalin, qui sert de résine de base. Dans le présent contexte, le terme "polymère" est utilisé dans un sens large qui sera expliqué de manière plus détaillée ci-dessous, et il englobe non seulement les copolymères binaires et les terpolymères mais aussi les polymères simples (homopolymères). Dans le d'un homopolymère, la première unité monomère et la seconde unité monomère sont identiques, le groupe soluble en milieu alcalin et la structure d'alcool pouvant réagir avec le groupe soluble en milieu alcalin coexistant dans une unité monomère. Ce type de polymère filmogène peut avoir une structure quelconque à condition qu'il puisse conserver une solubilité en milieu alcalin appropriée dans la solution aqueuse basique utilisée comme agent de développement. Même les copolymères d'ordre plus élevé comme les terpolymères peuvent avoir une structure quelconque à condition de pouvoir conserver une solubilité en milieu alcalin appropriée.
Le copolymère filmogène utilisé comme résine de base peut comprendre différentes entités à titre de chaîne principale du polymère, et les première et seconde unités monomères que l'on préfère sont les unités monomères à base d'acide (méth)acrylique, les unités monomères à base d'acide itaconique, les unités monomères à base de vinylphénol, les unités monomères à base d'acide vinylbenzoïque, les unités monomères à base de styrène, les unités monomères à base d'acide bicyclo[2.2.1]hept-5-ène-2-carboxylique, les unités monomères à base de maléimide N-substitué et les unités monomères ayant un groupe ester contenant une partie hydrocarbonée alicyclique multiple ou polycyclique. Ces unités monomères sont utiles du fait qu'elles confèrent une résistance à la gravure sec comparable à celle des résists à base de résines novolaques. Les première et seconde unités monomères peuvent être identiques ou différentes. Quand elles sont identiques, elles peuvent être l'une quelconque de celles mentionnées dessus.
Parmi les unités monomères mentionnées ci-dessus, les unités monomères à base d'acide (méth)acrylique sont particulièrement importantes pour obtenir une faible absorption d'une lumière ayant une longueur d'onde située dans région des ultraviolets moyens, quand des rayons ultraviolets moyens sont utilisés comme source lumineuse d'exposition. Autrement dit, dans ce , on préfère généralement utiliser un copolymère dont la structure ne contient de cycles aromatiques qui absorbent la lumière dans la région des ultraviolets moyens de groupes chromophores ayant un grand coefficient d'absorption molaire, comme les doubles liaisons conjuguées.
La première unité monomère du polymère filmogène doit avoir un groupe soluble en milieu alcalin dans sa structure. Les groupes solubles en milieu alcalin qui peuvent être introduits comprennent les différents groupes qui sont introduits communément dans des polymères constituant les résines de base dans domaine des résists à amplification chimique, mais les groupes que l'on préfère sont habituellement les groupes acide carboxylique, les groupes acide sulfonique, les groupes amido, les groupes imido, les groupes phénoliques, les groupes anhydride d'acide, les groupes thiol, les groupes ester d'acide lactonique, les groupes azalactone, les groupes hydroxyamide, les groupe oxazone, les groupes pyrrolidone et les groupes hydroxy-oxime, les groupes acide carboxylique, les groupes acide sulfonique, les groupes amido, les groupes imido et les groupes hydroxyamide étant préférés.