INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Symétriquement, des trames de transport délivrées par le démodulateur 12 du récepteur sont adressées à un démultiplexeur 16 qui sépare les bits relevant des différentes classes de protection, et les fournit à des modules respectifs 14. Ces modules 14 effectuent les opérations de décodage canal et extraient les bits des différentes classes appartenant aux trames de parole successives. Pour cela, chaque module 14 reçoit les horloges CKv et CKv, ainsi que l'index i des trames de transport, fourni par un compteur modulo M 15 cadencé par l'horloge CKr. Pour chaque trame de parole, les modules d'extraction 14 fournissent les bits des différentes classes, qu'un multiplexeur 13 (optionnel) assemble pour former les trames de parole codée adressées au vocodeur 11.
La figure 3 illustre une organisation possible du module de distribution 4 pour une classe de protection k (1 < _ k < _ K), pour laquelle on utilise d'une part un code de détection d'erreurs, ou CRC ( Cyclic Redundancy Checksum ), et d'autre part un codage correcteur d'erreurs, basé sur un code convolutif dans l'exemple représenté.
On considère que chaque trame de parole codée comporte un ensemble de pk bits au titre de la classe k Ces pk bits sont écrits dans une mémoire 20 de type premier entré - premier sorti (FIFO) recevant une commande d'écriture correspondante de la part d'une unité 21 commandée par l'horloge CKv. Chaque ensemble de pk bits est subdivisé en un ou plusieurs sous- ensembles de qij,k bits lus successivement dans la mémoire FIFO 20 sous la commande d'une unité 22. L'index i est celui délivré par le compteur 5 et fait référence aux trames de transport, tandis que l'index j fait référence aux trames de signal codé successives desquelles sont issus des bits relevant de la classe k et insérés dans la trame de transport i. Si ri,k désigne le nombre de bits de la classe k placés dans la trame de transport i, sans compter les bits de redondance (soit ri,k = pk.N/M lorsque pk est divisible par M), alors l'index j varie de 0 à Ji,k, les nombres entiers Ji,k étant tels que soit l'entier immédiatement inférieur à (i+1).ri,k/Pk, et Chaque sous-ensemble de qi,j,k bits fait l'objet d'un calcul de CRC par une unité 23 fournissant un code de détection d'erreurs de Li,j,k bits. L'unité 23 peut consister classiquement en un registre à décalage recevant séquentiellement les bits lus dans la mémoire 20, associé à des opérateurs agencés conformément au polynôme générateur du code employé pour délivrer séquentiellement les bits du CRC après avoir reçu le sous-ensemble de qi,j,k bits. Lorsque le nombre Li,j,k de bits du CRC est variable (en fonction des index i et j), l'unité de calcul 23 comporte en outre des commutateurs commandés par un signal indiquant le nombre Li,j,k de bits du code et permettant de sélectionner les opérateurs actifs. Les qi,j,k bits lus dans la mémoire FIFO 20, suivis par les Li,j,k bits du CRC calculés par l'unité 23, sont écrits dans une autre mémoire 24 de type FIFO recevant une commande d'écriture correspondante de la part d'une unité 25. La lecture dans la mémoire FIFO 24 est commandée par une unité 26 au rythme de l'horloge CKr. Le bloc de bits extrait de la mémoire FIFO 24 à chaque lecture correspond aux Ji,k sous-ensembles de bits et aux CRC qui leur sont respectivement associés. Ce bloc est adressé au circuit de codage 27 du module de distribution 4. Le circuit 27 a une structure classique (registre à décalage et opérateurs associés). Le rendement p du codage convolutif est choisi en fonction du nombre si,k de bits du bloc et du nombre de bits disponibles pour la classe k dans la i-ième trame radio de nr bits. Pour ajuster ce rendement, le circuit 27 peut utiliser une méthode classique de poinçonnement de codes convolutifs, en tenant compte éventuellement d'une courte séquence de bits connue adjointe au bloc de si,k bits à coder et servant à initialiser le treillis employé par le décodeur. A chaque cycle de l'horloge CKr, le circuit 27 adresse au multiplexeur 6 les bits des trames de transport relevant de la classe k.
Dans la réalisation représentée sur la figure 3, l'index j est fourni par un compteur 28 remis à 0 au début de chaque cycle de l'horloge CKr et incrémenté par un signal délivré par l'unité 25 lorsque l'écriture d'un sous- ensemble de qi,j,k bits et des Li,j,k bits de CRC correspondants a été effectuée dans la mémoire FIFO 24. Les index i, j délivrés par les compteurs 5, 28 servent à l'adressage dans une table 29 mémorisée dans le module de distribution 4. Cette table 29 contient les nombres entiers prédéfinis qij,k et Lij,k, fournis aux unités 22, 23, 25 pour régler les transferts entre les mémoires FIFO 20, 24 et les calculs de CRC. Elle contient également les nombres entiers si,k fournis à l'unité 26 pour régler des transferts de la mémoire FIFO 24 vers le codeur 27.
La figure 4 illustre une organisation possible du module d'extraction 14 correspondant au module de distribution 4 de la figure 3.
Les bits relevant de la classe k sont reçus du démultiplexeur 16 par le décodeur 37, qui exploite la redondance introduite dans chaque trame de transport par le codeur 27 pour corriger d'éventuelles erreurs de transmission. Le décodeur 37 a une structure classique, et fonctionne par exemple selon l'algorithme de Viterbi. Pour chaque trame de transport, il délivre un bloc de si,k bits décodés écrits dans une mémoire 34 de type FIFO sous la commande d'une unité 36 cadencée par l'horloge CKr. Une unité 35 commande successivement les lectures de groupes de qi,j,k+Li,j,k bits dans la mémoire FIFO 34. Les qi,j,k bits du sous-ensemble sont transférés à une autre mémoire FIFO 30, et d'autre part adressés à une unité 33 de calcul de CRC fonctionnant de la même manière que l'unité 23 de la figure 3.
L'unité 33 recalcule le CRC de Lij,k bits associé aux qi,j,k bits du sous- ensemble. Un comparateur 40 reçoit ce code recalculé ainsi que les Lij,k bits de CRC lus dans la mémoire FIFO 34 après les qi,j,k bits du sous-ensemble. Le comparateur 40 délivre un bit à 0 si les deux CRC coïncident, et à 1 sinon. Ce bit est adressé à une entrée d'une porte OU 41 dont l'autre entrée reçoit un autre bit d'erreur issu du décodeur correcteur 37. Ce bit d'erreur est placé à 1 au cours du cycle de l'horloge CKr lorsque le décodeur 37 a estimé que la trame reçue était de trop mauvaise qualité pour que le décodage soit fiable. La porte OU 41 délivre ainsi un bit BFI indiquant pour chaque sous-ensemble de qi,j,k bits si une erreur de transmission a été détectée ou non. Ces bits BFI sont fournis au vocodeur 11 du récepteur, qui peut alors prendre des mesures appropriées pour tenir compte de l'erreur détectée, par exemple une interpolation de paramètres.
Dans le film à valve de spin, il est préférable de disposer une couche intermédiaire non magnétique entre la couche magnétique libre et la couche magnétique à pinning qui sera décrite ci-dessous. Comme couche intermédiaire non magnétique on peut utiliser généralement un métal non magnétique comme le cuivre. La couche intermédiaire de cuivre peut être formée au moyen d'un procédé conventionnel comme la pulvérisation cathodique.
Comme dans la formation de la couche magnétique libre, la couche magnétique â pinning peut être formée à partir de tout matériau magnétique mou. Autrement dit, il est possible d'utiliser un alliage CoFe dans la formation de la couche magnétique à pinning mais on préfère utiliser un alliage (CoyFello_y)l < o_x ZX ayant une structure de réseau cubique à faces centrées où Z représente un élément quelconque différent de Co et Fe, de préférence le bore ou le carbone, et x et représentent chacun un pourcentage atomique, car il est possible de produire têtes ayant une grandeur de sortie importante, une grande sensibilité au champ magnétique une grande résistance à la chaleur. La couche magnétique à pinning peut être formée généralement au moyen de procédés conventionnels comme pulvérisation cathodique.
couche anti-ferromagnétique régulière est formée sur la couche magnétique ` pinning. La couche anti-ferromagnétique est généralement formée a partir de FeMn, NiMn, PtMn, PdMn, PdPtMn, CrMn ou IrMn. Comme dans couches mentionnées ci-dessus, la couche anti-ferromagnétique peut être formée généralement au moyen de procédés conventionnels comme la pulvérisation.
Généralement, le film à valve de spin a une couche de couverture a titre de couche supérieure. La couche de couverture peut être formée à partir revêtement Ta, par exemple. Comme dans les couches mentionnées précédemment, la couche de couverture peut être formée généralement au moyen d'un procédé de dépôt conventionnel.
Les têtes à valve de spin peuvent être produites selon des procédés conventionnels quelconques. En particulier, selon la présente invention, il possible de produire les couches d'éléments fonctionnels mentionnées ci-dessus selon un motif exact et fin ayant le profil voulu , quand le processus de formation résist utilisant la composition de résist négatif de la présente invention est introduit dans une étape ou des étapes voulues quelconques du procédé de production d'une tête magnétique. On donne dans la suite exemple de production d'une tête à valve de spin selon la présente invention.
Tout d'abord, du tantale (Ta) est déposé par pulvérisation cathodique un substrat alutique pour former une sous-couche de Ta. , les couches suivantes sont déposées successivement au moyen d'un procédé d'enlèvement, d'un procédé de meulage ionique ou de tout autre procédé conventionnel, par le biais d'une électrode (par exemple Au) sur la sous-couche de Ta a l'exclusion de la partie magnétosensible de la zone de détection de signal de la tête qui doit être produite sous-couche, par exemple alliage à base de Ta/NiFe ou alliage à base de NiFe comme NiFe, NiFeCr, NiFeNf et NiFeMo ; couche d'application de champ magnétique de polarisation longitudinale, par exemple matériau anti-ferromagnétique comme PtMn, PdPtMn, NiMn, CrMn et CrPtMn ; et sous-couche, par exemple alliage à base de NiFe.
Puis, pour retirer complètement toutes les substances contaminantes (appelées "couche de contamination") d'une surface de la tête résultante, une surface supérieure de la sous-couche de Ta et de la sous-couche de NiFe est soumise à un processus de nettoyage par gravure-pulvérisation, meulage ionique ou d'autres procédés.
Après la fin du processus de nettoyage ci-dessus, une couche magnétique libre, une couche intermédiaire non magnétique, une couche magnétique à pinning et une couche anti-ferromagnétique régulière sont déposées dans cet ordre pour former un film à valve de spin. On peut former chaque couche par pulvérisation cathodique, dépôt en phase gazeuse ou CVD, par exemple.
Puis, pour obtenir un film à valve de spin ayant le motif voulu, on dépose la couche de valve de spin sur toute la surface de la couche d'application de champ magnétique de polarisation longitudinale, puis on forme une couche de résist munie d'un motif à partir de la composition de résist négatif de la présente invention, après quoi on retire le film à valve de spin indésirable par meulage ionique, par exemple.
Après la formation du film à valve de spin muni d'un motif, on forme deux électrodes sur le film à valve de spin à l'exclusion de la partie magnétosensible de la zone de détection de signal de la tête. On peut former les électrodes de préférence lors de la production de la couche de Au par enlèvement. Bien entendu, on peut utiliser tout autre matériau d'électrode à la place de Au, si on le souhaite. On obtient ainsi une tête à valve de spin.
La présente invention sera mieux comprise à la lecture détaillée suivante d'exemples non limitatifs concernant la préparation de compositions de résist, la formation de motifs de résist et la production de dispositifs électroniques tels que des dispositifs à semi-conducteurs et des têtes d'enregistrement magnétique.
Exemple 1 On a dissous un copolymère méthacrylate de 3-hydroxyadaman- tyle/méthacrylate de y butyrolacton-2-yle/acide méthacrylique (rapport : 6 : 1 : 3) dans de l'acétate de méthyléther de propylèneglycol (PGMEA) pour obtenir une solution 15 % en masse. A cette solution de copolymère on a ajoute de la y butyrolactone à titre de co-solvant à raison de 9 % en masse par rapport au copolymère. On a ajouté à la solution du trifluorométhanesulfonate de triphénylsulfonium à raison de 2 % en masse par rapport au copolymère, et on l'a soigneusement dissous dans celle-ci. Après avoir filtré la solution résist résultante sur un filtre à membrane en TéflonTm de 0,2 pm, on l'a appliquée en revêtement par application centrifuge à 2 000 tours par minute sur un substrat en silicium traité avec HMDS et on l'a précuite à 110 C pendant 60 secondes pour obtenir un film de résist d'une épaisseur de 0,5 pm. Après avoir exposé film de résist avec un appareil d'exposition à laser excimère à KrF ("stepper") (NA = 0,45) on l'a soumis à une cuisson après exposition (CAE) à 120 C pendant 60 secondes, on l'a développé avec une solution aqueuse d'hydroxyde de tétraméthylammonium (TMAH) à 2,38 % et on l'a rincé à l'eau désionisée pendant 60 secondes. La mesure de la résolution du motif de résist négatif résultant a confirmé qu'une dose d'exposition de 14,0 mJ/cm2 permet la résolution d'un motif lignes et espaces (L!E) de 0,25 pm. En outre on n'a constaté aucun gonflement dans le motif de résist.
Pour évaluer la résistance à la gravure sèche du résist, on a placé le substrat de silicium revêtu du résist en une épaisseur de 1 pm dans un appareil de RIE gravure à ions réactifs à plaques parallèles pour la gravure par pulvérisation à CF4 dans les conditions suivantes : Pp = 200 W, pression = 2,6 Pa (0,02 torr), gaz CF4 = 100 Ncm3/minute pendant une durée de 5 minutes. Comme le montre le tableau ci-dessous, la vitesse de gravure était égale à 689x10-' m(Â)/min. A titre de comparaison, on a évalué de la même manière que ci-dessus la résistance la gravure sèche avec le résist à base de résine novolaque du commerce Nagase Positive Resist NPR-820 (produit par Nagase Industries) et le poly(méthacrylate de méthyle) (PMMA) pour obtenir les résultats suivants
Résist testé Vitesse de gravure (Â/min) Rapport de vitesses NPR-820 530 1,00 PMMA 805 1,52 Exem ple 1 689 1 ,30 Comme on le voit d'après ces résultats, la résistance la gravure sèche de la composition de résist selon l'invention était proche de celle du résist à base de résine novolaque et bien supérieure à celle du PMMA.
Exemple 2 On a répété le protocole décrit dans l'exemple 1, mais pour cet exemple on a utilisé un appareil d'exposition à laser excimère à ArF (NA = 0,55) à la place de l'appareil d'exposition à laser excimère à KrF, comme appareil d'exposition. Dans cet exemple, une dose d'exposition de 6,2 mJ/cmz autorisait la résolution d'un motif L!E de 0,20 pm. Les autres propriétés du motif de résist négatif obtenu étaient comparables de manière satisfaisante aux propriétés de l'exemple 1.
Exemple 3 On a répété le protocole décrit dans l'exemple 1 mais, pour cet exemple, on a utilisé un appareil d'exposition à faisceau électronique (grandeur de sortie = 50 kV) à la place de l'appareil d'exposition à laser excimère à KrF, comme appareil d'exposition. Dans cet exemple, une dose d'exposition de 10 PC/cm z autorisait la résolution d'un motif L/E de 0,15 p m. Les autres propriétés du motif de résist négatif obtenu étaient comparables de manière satisfaisante aux propriétés de l'exemple 1.
II en résulte que ce nombre réduit de surfaces orientables internes 15 peut être commandé par nombre réduit d'actionneurs de dynamique lente, donc simples et économiques. De plus, la structure des surfaces orientables internes 15 peut être simplifiée, et leur nombre peut même être réduit à une surface 15 par aile 5, la nécessité d'un braquage négatif (orientation vers le haut) disparaissant de même celle d'un braquage dissymétrique entre les deux ailes 5. Dans cette variante dans ces conditions, une liaison mécanique entre les deux surfaces orientables 15 permet de couvrir simplement le risque d'un embarquement en roulis de l'aéronef 1 lié à un braquage dissymétrique des surfaces orientables 15, fonctionnant simplement comme des volets, mais pouvant également, d'une manière plus générale, fonctionner comme des éle vons.
En plus du contrôle du roulis de l'aéronef 1 en mode avion, les surfaces orientables externes 13 élevons externes 13) peuvent être utilisées comme des volets aérodynamiques actifs, pour faire du contrôle actif du phénomène dit de whirl-flutter , qui essentiellement une instabilité aéroélastique prove nant du couplage entre rotors 9 et les ailes 5 à haute vitesse en mode avion. Ce contrôle actif, plus précisément décrit ci-dessous en référence aux figures 4 et 5, consiste ' développer des forces aérodynamiques sur les éle vons 13 pour contrer les excitations provoquées par les rotors 9 notamment, le vérin de manoeuvre de chaque élevon 13 pilotant en permanence les oscilla tions d'incidence de ce dernier, génératrices d'efforts aérodynamiques, en re cevant les ordres du calculateur asservissant le vérin en déplacement et cal culant ces ordres de commande à partir, par exemple, de signaux provenant de capteurs accélérométriques et de capteurs d'efforts situés en des points dé terminés dans le fuselage 2 et/ou sur les rotors 9. Chaque élevon externe 13 peut être piloté en incidence autour de son axe d'articulation Y-Y, à l'encontre de moyens élastiques, rappellent l'élevon 13 en position neutre, en l'absence de sollicitation de part du vérin de manoeuvre, ces moyens élasti- ques ayant en outre deux fonctions, qui sont de reprendre les efforts statiques l'élevon 13, de façon à soulager le vérin de manosuvre correspondant, et 'en dynamique la raideur des moyens élastiques, couplée à l'inertie des piè ces en mouvement (essentiellement l'élevon 13 et son vérin de manoeuvre) créé un système résonant du deuxième ordre, la fréquence de résonance des pieces en mouvement étant ajustée sur la fréquence d'excitation, ce qui permet réduire considérablement les efforts de commande et donc la taille du vérin man#uvre.
On réalise ainsi un système anti-vibratoire actif, et auto-adaptatif, basé l'injection d'efforts aérodynamiques supplémentaires, introduits la commande des élevons externes 13, pour minimiser les vibrations dans fu selage 2.
L'utilisation des élevons externes 13 en contrôle actif de K whiri-flutter permet donc de réduire la raideur, et donc la masse, des ailes 5 pour vi tesse maximale donnée, et/ou d'augmenter cette vitesse maximale de l'aéronef 1.
Les élevons externes 13 permettent également, lorsqu'ils sont pilotés comme des volets, et en cas de panne des deux moteurs, de réduire les taux de descente de l'aéronef, en autorotation des deux rotors 9, en participant à la portance de l'aéronef 1 en mode avion, si les élevons 13 sont orientés dans le lit du vent.
Enfin, par leur présence sensiblement en bout des ailes 5, les élevons 13 augmentent l'allongement aérodynamique de la voilure, ce qui réduit la traî née induite et améliore donc les performances en mode avion en montee en croisière et en finesse (de sorte que le taux de descente est réduit en sans puissance).
Comme représenté sur la figure 2, les portions externes de voilure 13 présentent un léger dièdre négatif (vers le bas), qui est accentué au niveau de leur saumon 14, donc dans le sens opposé du dièdre des ailes 5, pour penser les éventuels effets de ce dièdre positif des ailes 5.
On comprend également que l'utilisation de nacelles 6 partiellement basculantes (à moteur et partie arrière de transmission logés dans la partie ar- riere fixe 7 de nacelle et rotor 9 basculant avec la partie avant de transmission la partie avant 8 de la nacelle 6), permet une intégration structurale simple portions externes 13 de voilure sur les nacelles 6.
En variante, les portions externes de voilure 13 peuvent présenter un dièdre nul (être sensiblement horizontales) ou également un dièdre positif, sensiblement dans le prolongement de celui des ailes 5, mais de préférence on donne à ces surfaces externes 13 de voilure un léger dièdre négatif (voir figure donnant à la voilure principale l'aspect d'ailes de mouette.
Dans la variante schématique et partiellement représentée sur la figure on retrouve chaque aile fixe 5' fixée en position haute et surélevée avec un dièdre positif sur la partie supérieure du fuselage 2, et dans cet exemple forme en plan en trapèze rectangle avec un bord d'attaque 16 à flèche nulle bord de fuite 17 à flèche négative et équipé de deux élevons internes 15, supporte à son extrémité externe une nacelle 6, dont au moins la partie avant 8 bascule avec un rotor 9. Un élevon externe 13', de forme en plan trapèze rectangle dont les bords d'attaque et de fuite prolongent sensiblement respectivement 16 et 17 de l'aile 5', est monté pivotant dans son ensem ble, à l'extérieur de la nacelle 6 autour de son axe d'articulation Y-Y. Dans cette variante, taxe d'articulation Y'-Y des élevons internes 15 est incliné sur le plan transversal à l'aéronef passant par l'axe d'articulation Y-Y de l'élevon ex terne 13', alors que dans l'exemple des figures 1 à 3, les axes d'articulation Y'- Y des élevons internes 15 et ceux Y-Y des élevons externes 13 sont dans des plans transversaux parallèles.
La figure 5 représente schématiquement la commande de l'orientation de chaque élevon externe 13' de la figure 4 autour de son axe d'articulation Y- Y. Pour réaliser un système anti-vibratoire auto-adaptatif basé sur les élevons externes 13', rangle de braquage de chaque élevon externe 13' est piloté un calculateur 18 recevant en 19 des signaux provenant d'accéléromètres de capteurs d'efforts disposés en des endroits déterminés du fuselage 2 et rotors 9 de l'aéronef. Le calculateur 18 pilote un vérin d'excitation 20, qui vérin linéaire, asservi en déplacement, dont le cylindre 21 prend appui point fixe 22 de la partie arrière fixe 7, par exemple, de la nacelle 6 voisine, sur un point fixe 22 de l'aile 5', tandis que le piston et la tige 23 du vérin 20 en trament un petit levier 24 solidaire de l'élevon 13', en rotation autour de l'axe d'articulation Y-Y, et à l'encontre d'un ressort 25 d'accords statique et dynami- sollicitant également le levier 24 par une extrémité et prenant appui par autre extrémité sur un autre point fixe 26 de la structure de la nacelle 6 voisine ou de l'aile 5'. Les déplacements linéaires alternatifs de la tige de vérin schématisés par une double flèche sous le vérin 20, sont ainsi transformés rotations alternatives de l'élevon 13' autour de son axe d'articulation Y-Y, selon la double flèche courbe à l'avant de cet élevon 13' sur la figure 5. Ainsi, le pilotage de l'angle de braquage de l'élevon externe 13', grâce au calculateur 18 et au vérin 20, permet de générer des forces aérodynamiques dirigées contre les forces d'excitation des rotors 9. On peut ainsi minimiser le niveau vibratoire dans le fuselage de l'aéronef en mode avion. Schématiquement, les excitations des rotors 9 sont contrées par la portance sur les élevons externes ou 13 de l'exemple des figures 1 à 3. Comme indiqué ci-dessus, le ressort reprend les efforts statiques de l'élevon 13' de façon à soulager le vérin en dynamique, sa raideur couplée à l'inertie de l'ensemble en déplacement comportant principalement l'élevon 13' avec son levier 24 et le vérin 20 créé système résonant du deuxième ordre, la fréquence de résonance de cet semble en déplacement étant ajustée sur la fréquence dexcitation du vérin ce permet de réduire les efforts de commande délivrés par le vérin 20, donc puissance et l'encombrement de ce dernier.
Ainsi, à titre dexemple, un élevon externe tel que 13 ou 13', mais forme plan sensiblement rectangulaire, d'une corde de 0,56 m et d'une vergure de 0,25 m, et piloté avec une amplitude d'angle de braquage de + 5 , suffit pour agir contre une force dexcitation de 1000 N, à la vitesse maximale de l'aéronef en mode avion denviron 150 mis, la masse estimée par élevon étant denviron 2 kg.