INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
On connaît déjà de telles machines et elles sont généralement prévues pour être montées sur un véhicule. Elles comprennent généralement une benne ou trémie dont la partie inférieure est pourvue d'une ouverture qui débouche sur un diffuseur prévu pour guider ledit matériau vers le sol.
Plusieurs granulométries de gravillons peuvent être épandues sur le sol, dépendant des caractéristiques du revêtement à confectionner.
Afin que l'homogénéité du matériau sur le sol soit la meilleure possible, on prévoit généralement deux types de diffuseurs, l'un prévu pour une granulométrie fine, l'autre pour une granulométrie plus grossière. Le principal problème de cette technique, c'est que, lorsqu'on change de granulométrie, il est nécessaire d'interchanger les diffuseurs, ce qui oblige à rentrer à l'atelier parfois distant.
Il en résulte un perte de temps relativement importante.
Le but de l'invention est de proposer une solution à ce problème.
Pour ce faire, une machine d'épandage selon l'invention comporte en outre un second diffuseur prévu pour guider ledit matériau vers le sol et des moyens prévus de manière à sélectivement défléchir le flux de matériau à la sortie de ladite benne ou trémie, soit vers ledit premier diffuseur, soit vers ledit second diffuseur. Avantageusement, ledit second diffuseur est monté symétriquement audit premier diffuseur par rapport à un plan vertical.
Il est d'autres machines d'épandage qui possèdent, comme la machine déjà citée, des conditions d'épandage différentes et auxquelles le concept inventif de l'invention pourrait d'appliquer.
On peut en effet citer une machine pour épandre sur une chaussée, d'une part, un liant et d'autre part, un matériau, tel que des gravillons, du sable, des filaires, des graves mélangés à base de ciment ou de chaux. Un tel matériau peut également être enrobé d'un liant tel que du bitume chaud ou de l'eau. Une telle machine est généralement destinée à être utilisée pour la réfection ou la réalisation de chaussées, de terrains de sport, etc.
De telles machines sont par exemple décrites dans les documents de brevet FR-A-2 576 336 et FR-A-2 671 567. On notera que ces machines sont généralement appelées dans le domaine de la technique des "répandeurs mixtes".
Ces machines sont constituées d'un panneau prévu pour être monté à l'arrière d'une benne basculante d'un véhicule porteur, d'un dispositif d'épandage dudit matériau et, d'une rampe transversale de distribution d'un liant reliée à une citerne à liant via une pompe volumétrique.
Le dispositif d'épandage est généralement constitué d'un extracteur, par exemple un rouleau transversal, disposé en partie sous la sortie de la benne de stockage dudit matériau à épandre et d'un diffuseur dirigé vers le sol. Ainsi, le matériau, tel que des gravillons, du sable, des filaires, des graves mélangés à base de ciment ou de chaux, etc. qui est contenu dans la benne se déverse sur l'extracteur où il est entraîné vers le diffuseur avant d'être répandu sur le sol. Un ensemble de vannes contiguës entre la benne et l'extracteur est prévu pour permettre de sélectionner la zone et la largeur d'épandage.
Quant à la rampe, elle porte une série de têtes de diffusion tournées vers le bas. Lesdites têtes sont en nombre égal ou multiple du nombre desdites vannes, chaque tête étant commandée en même temps que la vanne de même numéro d'ordre qu'elle dans la série de vannes.
La matière active représente une teneur pondérale, par rapport au poids de granulé, comprise entre 5 et 70%. Selon un mode de réalisation de l'invention, la teneur en matière active est comprise entre 20 et 60% en poids.
Le second élément constitutif des granulés selon l'invention est constitué par au moins un composé de formule (I): -
Dans cette formule, R2 et R3, identiques ou différents, représentent l'hydrogène ou un radical alkyle ou alcényle, linéaire, ramifié ou cyclique, en C1-C22, et de préférence l'hydrogène ou un radical alkyle, linéaire, ramifié ou cyclique, en C1-C22.
Plus particulièrement, R2 et R3, identiques ou différents, représentent l'hydrogène ou un radical alkyle C1-C6.
En outre, R4 et R5, identiques ou différents, représentent l'hydrogène ou un radical alkyle ou alcényle, linéaire, ramifié ou cyclique, en C1-C22 Selon un mode de réalisation particulier de l'invention, R4 et R5, identiques ou différents, représentent l'hydrogène ou un radical alkyle en C1-C6 et de préférence, l'hydrogène ou le radical méthyle. Avantageusement, au moins l'un des radicaux R4 ou R5, de préférence le radical R4 correspond à l'hydrogène.
R6 représente l'hydrogène, un radical alkyle en C1-C6, de préférence le radical méthyle ou éthyle, ou un groupement choisi parmi : -SO3M, -OP03(M)2, -(CH2)a-COOM -(CH2)b-S03M, avec a et b compris entre 1 et 6, M représentant H, Na, K, Li ou N(R7)4+ où R7, identiques ou différents, représentent l'hydrogène, un radical alkyle, linéaire, ramifié ou cyclique en C1-C22, éventuellement hydroxylé. De préférence, les radicaux R7, identiques ou différents, représentent l'hydrogène, un radical alkyle en C1-C6 éventuellement hydroxylé, comme notamment le radical méthyle ou encore le radical hydroxyéthyle.
Dans la formule (I), m vaut 0 ou 1.
Par ailleurs, la somme de p et q est comprise entre 1 et 15, avec p ou q pouvant être nul. Plus particulièrement, la somme de p et q est comprise entre 1 et 10 et de préférence entre 1 et 5, avec l'un ou l'autre de ces coefficients pouvant être nul.
Ainsi, les composés selon l'invention peuvent comprendre uniquement des motifs du type oxyéthylénés, ou oxypropylénés, ou bien encore un mélange de ces deux types de motifs, régulièrement ou aléatoirement répartis.
Le radical Z de la formule (I) représente un radical bicyclo[a, b, c]heptényle ou bicyclo[a, b, c]heptyle, avec a, b, c vérifiant les conditions suivantes: a+b+c=5 a = 2, 3 ou 4 b=2ou 1 c=Oou 1.
Ce radical Z est éventuellement substitué par au moins un radical alkyle en C1 C6, qui est de préférence le radical méthyle.
Par ailleurs, ledit radical présente un squelette heptényle, dont une liste a été donnée préalablement, ou leurs correspondants heptyle, exempts de double liaison, qui n'ont pas été indiqués mais qui se déduisent de la précédente liste.
Le radical Z est de préférence rattaché à la chaine -CH2-C(R2)(R3)-O- par l'intermédiaire de l'un quelconque des atomes de carbone numérotés 1 à 6, de préférence, par l'intermédiaire des atomes de carbone numérotés 1, 5 et 6.
Selon un mode de réalisation particulièrement avantageux de la présente invention, le radical Z est substitué sur au moins l'un de ses atomes de carbone, par deux radicaux alkyle, identiques ou différents, linéaires, ramifiés ou cycliques en C1-C22. De préférence, au moins l'un des atomes de carbone du radical Z porte deux groupements méthyle.
Une première famille particulièrement intéressante dans le cadre de l'invention, est constituée par des composés de formule (I) dans laquelle le radical Z est choisi parmi les squelettes heptényle Z3 à Z7, définis auparavant. Par ailleurs, le radical Z porte sur l'atome de carbone numéroté 7, deux groupements méthyle.
Selon un mode aprticulier de réalisation de l'invention, les composés entrant dans la composition des granulés, sont des composés de formule (I) dans laquelle le radical Z est choisi parmi les radicaux heptényle Z4 à Zg, définis ci-dessus, et portant sur l'atome de carbone numéroté 7, deux groupements méthyle.
Figure 3a: illustration du cas d'un clone inclu totalement dans le gène recherché.
(bl ) délétion(s) d'une partie du gène. Une autre situation n'a pas été représentée, où la partie délétée est incluse entièrement dans le clone (cf cas correspondant du schéma 1 a).
(b2) délétion de la totalité du gène.
(c1 ) et (c2) translocation(s) d'une partie du gène. Une autre situation, correspondant au cas (c2) du schéma la n'a pas été représentée, où la partie transloquée est entièrement comprise dans le clone.
(c3) translocation(s) de la totalité du gène.
(dl) duplication(s) d'une partie du gène repérée par une double flèche (la partie dupliquée est entièrement incluse dans le clone). (d2) duplication(s) d'une partie du gène avec inversion. (d3) duplication(s) d'une partie du gène (la partie dupliquée est partiellement incluse dans le clone).
(d4) duplication(s) de la totalité du gène (sans inversion).
(d5) répétition(s) d'une partie du gène dans une autre partie du génome.
(e) insertion(s) dans le gène d'une partie différente du gène (et du génome clôné).
Figure 3b: histogrammes idéaux des longueurs de clones hybridés correspondant aux situations précédentes. Dans tous les cas (un ou deux pics), la situation est clairement distinguable de celle du clone entier (a).
Figure 4: Histogrammes des longueurs du modèle en escalier. Etude de l'influence de la taille caractéristique.
Figure 5: Histogrammes des longueurs du modèle en escalier. Etude de l'influence du taux de cassure.
Figure 6: Histogrammes des longueurs du modèle gaussien. Etude de l'influence de la taille caractéristique.
Figure 7: Histogrammes des longueurs du modèle gaussien. Etude de l'influence du taux de cassure.
Figure 8: Simulation d'histogrammes dans le cas de l'hybridation d'un BAC (125 kb) sur un point de cassure: (a) fragments de 35 et 90 kb, (b) fragments de 50 et 75 kb, (c) fragments de 60 et 65 kb, (d) situation témoin.
L'exemple de réalisation représenté sur la figure 3, diffère essentiellement du précédent en ce que les moyens d'amortissement sont constitués par des tampons viscoélastiques 21 interposés entre des extensions 22 de la semelle 3 et des zones internes correspondantes de la coque 4, elle-même solidarisée fixement au châssis 5. Les moyens d'amortissement 21 sont donc placés directement à l'intérieur de l'élément chaussant du patin.
Dans ce cas, le logement 16 en forme de coin, est délimité par un plan inférieur 3a de la semelle 3 et par le plan incliné 16a obtenu par moulage à l'intérieur de la coque 4.
En fait, comme on le voit sur la figure, les extensions 22 de la semelle 3 forment avec cette demière une sorte de pont fermant le logement 16 ainsi défini.
Selon l'exemple de la figure 4, le dispositif de verrouillage est constitué par un élément pendulaire 30 comprenant à l'une de ses extrémités libres une masselotte 31 réagissant à l'inclinaison interne ou externe du patin 1, son autre extrémité formant un support 32 monté pivotant sur une partie du châssis 5 par l'intermédiaire d'un axe d'articulation 33.
Ledit support 32 comporte deux pions 34 et 35, diamétralement opposés par rapport à l'axe d'articulation 33 et disposés dans l'axe longitudinal X, X', de l'élément pendulaire 30.
Ces pions sont interposés entre deux plans d'appui 36 et 37, disposés en vis-à-vis de deux verrous coulissants 38 et 39 montés en opposition et aptes à être entraînés en déplacement transversal coulissant par lesdits pions 34 et 35, dans des logements guides correspondants 40 et 41, ménagés dans le châssis 5. Chaque verrou 38 et 39 peut donc s'opposer au débattement de deux vis de fixation respectivement 43 et 42 de la coque 4 sur le châssis 5, entre lesquels sont interposés les moyens d'amortissement 44, 45, lors d'une inclinaison du patin, en maintenant ainsi une distance constante entre le châssis 5 et la coque 4 de façon à désactiver lesdits moyens d'amortissement 44 et 45.
Selon une autre caractéristique de l'invention, les verrous 38 et 39 montés en opposition dans les logements correspondants 40, 41, du châssis 5 sont reliés entre eux par l'intermédiaire d'un organe de rappel élastique 46 les rappelant automatiquement l'un vers l'autre pour une position de réactivation des moyens d'amortissement 44, 45, correspondant à un retour en position sensiblement verticale, de l'élément pendulaire de commande 30.
Dans cette dernière position, on comprend aisément que la coque 4 pourra de nouveau comprimer les amortisseurs 44 et 45, si besoin en est.
Dans ce demier exemple de réalisation selon la figure 4, les moyens d'amortissement 44 et 45 sont constitués par des tampons viscoélastiques interposés entre le plan inférieur 18 de la coque 4 et un plan supérieur 17a du châssis 5, de part et d'autre de l'élément pendulaire 30, lesquels tampons 44 et 45 sont traversés par des vis de fixation correspondantes 42, 43, issues du châssis 5 et coopérant en blocage avec des trous filetés 50, 51, de la coque 4 en ménageant un espace entre châssis 5 et coque 4 d'une hauteur h au plus égale à celle des tampons 44, 45, lesdites vis comportant une tête 52, 53, susceptible de coulisser dans des logements guides 54, 55, correspondants, du châssis 5 duquel elles sont issues, lorsque le patin 1 est en position droite et que la fonction d'amortissement est recherchée, ce coulissement des têtes 52, 53, pouvant être interrompu par les verrous 38, 39, en cas d'inclinaison du patin.
Bien entendu, la présente invention n'est pas limitée à un patin à roues en lignes mais peut s'appliquer pour moduler l'amortissement de tout autre article de sport ou de glisse.
MACHINE-OUTIL D'USINAGE A GRANDE VITESSE A DISPOSITION ERGONOMIQUE DES PARTIES FONCTIONNELLES La présente invention a trait au domaine des machines-outils et concerne plus particulièrement la disposition des parties fonctionnelles d'une machine-outil d'usinage à grande vitesse afin d'en assurer la manutention et l'entretien dans les meilleures conditions.
L'usinage à grande vitesse s'opère en général à partir d'un outil entraîné en rotation par l'axe moteur d'une électro-broche installée dans un coulant lui-même monté mobile en translation selon trois axes X, Y et Z.
Une machine-outil d'usinage comporte classiquement quatre postes de travail principaux, à savoir - un poste d'usinage proprement dit comportant l'outil entraîné en rotation par l'axe moteur de l'électro-broche et façonnant la pièce à usiner, - un poste d'entraînement situé en amont du poste d'usinage et constitué d'un ensemble d'organes assurant notamment les déplacements en translation suivant X, Y et Z du coulant de l'électro-broche ainsi que l'alimentation de l'électro-broche pour la rotation de son axe porte-outil, - un poste de commande collaborant avec le poste d'entraînement et en fonction d'un programme d'instructions préétablies pour assumer les différentes phases d'usinage de ladite pièce, - et un magasin de rangement des outils permettant de garder à proximité de la zone d'usinage les outils utilisés lors des différentes phases d'usinage de la pièce.
Le poste d'usinage comporte l'outil ou broche usinant la pièce qui est entraîné par l'axe moteur de l'électro-broche alimentée en électricité par des câbles venant du poste de commande. Cette électro-broche est logée dans un coulant mobile suivant les trois axes X, Y, Z.
Le poste d'entraînement comporte tous les éléménts moteurs assurant les mouvements du coulant suivant les trois axes X, Y ,Z.
Le poste de commande est en liaison avec un groupe électrique ayant pour fonction de distribuer l'énergie électrique et d'assurer la commande des éléments se servant de ladite énergie Ces machines-outils ont pour fonction l'usinage dans un minimum de temps et un maximum de précision de pièces dont les formes sont de plus en plus complexes et qui demandent la présence de plusieurs outils (disponibles grâce au magasin situé à proximité) ou même de plusieurs machines-outils pour assurer leur usinage complet. Une configuration comportant plusieurs de ces machines-outils participant à l'usinage d'une même pièce s'appelle une machine transfert qui peut devenir un atelier flexible assurant l'usinage complet de plusieurs pièces différentes. Une machine transfert est un ensemble de machines-outils qui sont disposées perpendiculairement à la ligne d'avancée de la pièce afin de réaliser toutes les phases d'usinage de celle-ci. Une telle installation se fait en respectant des contraintes de dimension des machines et surtout de leur surface au sol.
- tRCD = 3 - TCAS = 3 - Retard interne = 2 horloges - Latence mémoire = 8 cycles (8x12,5 = 100 ns) - Les Données du système de la mémoire seront retardées de deux cycles pour l'arbitrage (donnée de lecture).
6.8 Modèle de Programmation Les registres de contrôle en rapport avec le contrôleur de mémoire, tels que vus par la programmateur sont 6.8.1 Registre Mise à l'Etat Initial SDRAM (R/W) Ce registre doit être remis à l'état initial après chaque remise à l'état initial du système. C'est un registre à un bit qui porte le signal reset~sdram qui débute la séquence d'alimentation de la SDRAM. A la remise à l'état initial du système, ce registre est mis à un. Le logiciel DOIT vider ce registre pour mettre la SDRAM en marche.
Bit 0 est établi avec une remise à l'état initial du système et est effacé en un point ultérieur pour mettre la SDRAM en marche.
Adresse de Programmation Faddr [31:20] = 12'h010 Faddr[3:0] = 4'b1011 6.8.2 Registre TYPE SALVE SDRAM (L/E) Ce registre programme le Type de Salve de la SDRAM.
C'est un registre à 1 bit qui devra être programmé à ZERO pour le type de salve SEQUENTIELLE.
Adresse de Programmation Faddr [31:20] = 12'h010 Faddr [3:0] = 4'b1010 Bit 0 est remis à l'état initial avec la remise à l'état initial et est établi en un point ultérieur pour mettre la SDRAM en marche.
6.8.3 Registre REGENERATION SDRAM (L/E) Ce registre programme la VALEUR de la REGENERATION de la SDRAM. C'est un registre à 12 bits qui devra être programmé via Fbus également.
Adresse de programmation Faddr [31:20] = 12'hO10 Faddr[3:0] = 4'b1001 Bit 11-0 est remis à l'état initial avec la remise à l'état initial du système et est programmé à une valeur de régénération de 4EO 6.8.4 Registre (L/E) PRECHARGE RAS de SDRAM (tRP) Ce registre programme la VALEUR DE PRECHARGE DE RAS DE SDRAM. C'est un registre à 3 bits qui devra être programmé via Fbus également.
Adresse de programmation Faddr [31:20] = 12'h010 Faddr[3:0] = 4'b1000 Bit 2-0 est remis à l'état initial avec la remise à l'état initial du système et est programmé à 1 ou 2 ou 3 6.8.5 Registre (PJW) LATENCE CAS SDRAM (tCAC) Ce registre programme la latence de CAS de SDRAM. C'est un registre à 3 bits qui devra être programmé via Fbus également.
Adresse de programmation Faddr [31:20] = 12'h010 Faddr[3:0] = 4'b0011 Bit 2-0 est remis à l'état avec la remise à l'état initial du système et programmé à 1 ou 2 ou 3.
6.8.6 Registre (L/E) de RETARD de CAS de RAS de SDRAM (tRCD) Ce registre programme la latence de RCD de SDRAM. C'est un registre à 3 bits qui devra être programmé via Fbus également.
Adresse de programmation Faddr [31:20] = 12'h010 Faddr[3:0] = 4'b0010 Bit 2-0 est remis à l'état initial avec la remise à l'état initial du système et est programmé à 1 ou 2 ou 3.
6.8.7 Registre LONGUEUR BOUCLAGE SDRAM (L/E) Ce registre programme la LONGUEUR DE BOUCLAGE de SDRAM pour les DONNEES. C'est un registre à 3 bits qui devra être programmé via Fbus également.
Adresse de programmation Faddr [31:20] = 12'h010 Faddr[3:0] = 4'b0001 Bit 2-0 est remis à l'état initial avec la remise à l'état initial du système et programmé à 1, 2 ,4 ou 8.
6.8.8 Registre TEMPS NOP SDRAM (L/E) Ce registre programme le TEMPS NOP de la SDRAM pour la séquence de mise en circuit. C'est un registre à 16 bits qui devra être programmé également via Fbus.
Adresse de programmation Faddr [31:20] = 12'h010 Faddr[3:0] = 4'b0000 Bit 15-0 est remis à l'état initial avec la remise à l'état initial du système et est programmé à 200vs selon la fréquence d'horloge.
PREPARATION 17 Allyl (2,6-di-benzyl-3-méthyI-a-D-gl ucopyranosyl)-(1 -4)-(2- acétyl-6-O-benzyl-3-O-méthyl-ss-D-glucopyranosyl)-(1-4)-O-(2,6-di-O benzyl-3-O-méthyl-α-D-glucopyranosyl)-(1-4)-2-O-acétyl-6-O-benzyl-3-O- méthyl-ss-D-glucopyranoside (18).
La délevulination de 15 (1,3 g, 0,87 mmol) est traitée selon la METHODE 2 pour donner 18 (1,05 g, 86 %). [a]D + 40 (c = 0,6, dichlorométhane). 1H RMN (CDCl3) # 7,36-7,23 (m, 30H, 6 Ph), 5,83-5,78 (m, 1 H, OCH2(CH.CH2)), 5,50 (d, 1H, J = 3,5Hz, H-1'''), 5,47 (d, 1H, J = 3,5Hz, H-1'), 5,25-5,21 (dd, 1H, J = 1,6Hz, J = 17Hz, OCH2(CH:CH2)), 5,16-5,13 (dd, 1H, J = 1,4Hz, J = 10Hz, OCH2(CH:CH2)), 4,38 (d, 1H, J = 6,5Hz, H-1"), 4,31 (d, 1H, J = 6,5Hz, H-1), 4,08-4,02 (m, 1H, OCH2(CH:CH2)), 3,59 (m, 1H, H-4"'), 3,67, 3,53, 3,39, 3,29 (4s, 12H, 4 OCH3), 2,09, 1,86 (2s, 6H, 2 Ac).
PREPARATION 18 Allyl O-(2,6-di-O-benzyl-4-O-lévulinyl-3-O-méthyl-α-D-glucopyranosyl)-(1- 4)-[O-(2-O-acétyl-6-O-benzyl-3-O-méthyl-ss-D-glucopyranosyl)-(1-4)-O-(2,6 di-O-benzyl-3-O-méthyl-α-D-glucopyranosyl)-(1-4)]3-2-O-acétyl-6-O- benzyl-3-O-méthyl-ss-D-glucopyranoside (19).
On traite un mélange de 18 (842 mg, 0,53 mmol) et de 17 (1,17 g, 0,74 mmol) selon la méthode 1. On purifie sur colonne Toyopearl HW-50 (110 x 3,2 cm ; dichlorométhane/éthanol 1: 1) pour donner 19 (1,44 g, 85 %).
[a]D + 57 (c = 1,01, dichlorométhane). 1H RMN (CDCl3) d 7,35-7,20 (m, 60H, 12 Ph), 5,83-5,78 (m, 1H, OCH2(CH:CH2)), 5,24-5,21 (dd, 1H, OCH2(CH:CH2)), 5,16-5,13 (dd, 1H, OCH2(CH:CH2)), 3,59, 3,56, 3,51, 3,47, 3,33, 3,26 (6s, 24H, 8 OCH3), 2,75-2,35 (m, 4H, O(C:O)CH2CH2(C:O)CH3), 2,15, 2,09, 1,85, 1,84 (4s, 15H, 4 Ac et O(C:O)CH2CH2(C:O)CH3); 6 des principaux protons anomériques: 5,48 ; 4,37; 4,29 ; 4,23 ppm.
Anal. calculée pour C156047H188 (2815,51): C, 66,56; H, 6,73. Trouvé : C, 66,22 ; H, 6,75 SCHEMA 6 : Synthèse du polysaccharide 29
PREPARATION 19 O-(2,6-Di-O-benzyl-4-O-lévulinyl-3-O-méthyl-α-D-glucopyranosyl)-(1-4)- [O-(2-O-acétyl-6-O-benzyl-3-O-méthyl-ss-D-glucopyranosyl)-(1-4)-O-(2,6-di O-benzyl-3-O-méthyl-α-D-glucopyranosyl)-(1-4)]3-2-O-acétyl-6-O-benzyl- 3-(rméthyl-a,P-D-glucopyranose (20).
On traite le composé 19 (720 mg, 0,25 mmol) comme dans la préparation 15. On purifie sur colonne de silice (toluène/acétate d'éthyle 3 : 2 puis 4 : 3) pour obtenir 20 (555 mg, 78 %). [a]D + 70 (c = 0,94, dichlorométhane). CCM, RF 0,43, toluène/acétate d'éthyle 1:1.
PREPARATION 20 O-(2,6-Di-O-benzyl-4-O-lévulinyl-3-O-méthyl-α-D-glucopyranosyl)-(1-4)- [O-(2-O-acétyl-6-O-benzyl-3-O-méthyl-ss-D-glucopyranosyl)-(1-4)-O-(2,6-di O-benzyl-3-O-méthyl-α-D-glucopyranosyl)-(1-4)]3-2-O-acétyl-6-O-benzyl- 3-O-méthyl-α,ss-D-glucopyranose trichloroacétimidate (21).
On traite le composé 20 (540 mg, 0,195 mmol) comme dans la PREPARATION 16. On purifie sur colonne de silice (toluène/acétate d'éthyle + 1 %o de triéthylamine 3 : 2) pour donner le mélange (oc/p = 27/73) des imidates 21 (455 mg, 80 %).CCM, RF 0,48, toluène/acétate d'éthyle 3 : 2. 1H RMN (CDCl3) 8 8,60, 8,59 (2s, 1H, N:Ha et b ), 7,35-7,21 (m, 60H, 12 Ph), 2,75-2,40 (m, 4H, O(C:O)CH2CH2(C:O)CH3), 2,16, 2,06, 2,04, 1,85, 1,84 (5s, 15H, 4 Ac et O(C:O)CH2CH2(C:O)CH3).
1H RMN (CDCl3) d des principaux protons anomériques : 6,50 ; 5,79 5,51 ;5,48;4,29 ; 4,25 ppm.
SCHEMA 7 : Synthèse du polysaccharide 28
PREPARATION 21 Phényl 2,4,6-tri-Gacétyl-3-méthyl-1-thio-a-D-glucopyranoside (22).
On dissout le 1,2,4,6-tétra-O-acétyl-3-O-méthyl-ss-D-glucopyranose 1 (5,23 g, 14,4 mmol) dans le toluène (45 ml). On ajoute le thiophénol (3,0 ml, 28,8 mmol) et goutte à goutte du diéthyléthérate de trifluoroborane (1,77 ml, 14,4 mmol) puis chauffe à 50 C pendant 0,5 heure. On dilue avec du dichlorométhane, lave avec une solution aqueuse saturée d'hydrogénocarbonate de sodium, à l'eau, sèche, concentre. On purifie sur colonne de silice (cyclohexane/acétate d'éthyle 5 : 2) pour donner 22-a (1,00 s, 17 %) et 22-ss (2,71 g, 46 %).
22-a. RF 0,44, cyclohexane/acétate d'éthyle 3 : 2 . [a]D + 230 (c = 1, dichlorométhane). ESIMS, mode positif : m/z + NaCI, 435 (M+Na)+ ; + KF, 451 (M+K)+.1 H RMN (CDCl3) â 7,46-7,27 (m, 5H, Ph), 5,89 (d, 1H, J = 5,6Hz, H-l), 5,05-4,97 (m, 2H, H-2 et H-4), 4,49-4,42 (m, 1H, H-5), 4,25-4,18 (m, 1H, H-6), 4,05-4,00 (m, 1 H, H-6'), 3,66 (dd, 1 H, J = 9,5Hz, H-3), 3,51 (s, 3H, OCH3), 2,16, 2,12, 2,00 (3s, 9H, 3 Ac).
Anal. Calculée pour C1gH24OgS (412,46): C, 55,33 ; H, 5,87; S, 7,77.
A titre d'illustration, des dessins sont joints qui représentent: - Fig.1: 1 vue de face du couvercle à un seul ergot.
- Fig.2 1 vue de dessous du couvercle à un seul ergot.
- Fig.3: 1 1 vue de face de l'ensemble fermé.
- Fig.4:1 vue de dessus de cet ensemble partiellement ouvert.
- Fig.5:1 vue de dessus du boitier.
- Fig.6: 1 1 vue en coupe selon ligne AA de la fig.5 de l'ensemble fermé.
- Fig.7 à 12: des vues correspondant respectivement aux fig.1 à 6 d'un ensemble de systèmes de fermeture comportant 2 ergots espacés et 2 logements correspondants.