INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Par contre, selon la variante de réalisation représentée sur la figure 8, le renfort 8F forme un "US s'étendant d'une part à l'intérieur du plan d'appui 4, et d'autre part à l'intérieur des flasques latéraux 2F par leurs branches parallèles, I'extrémité de celles-ci s'étendant au delà des parties d'extrémité des flasques 2F qui sont percés de trous 6 et taraudés pour assurer la fixation des organes de glisse.
Cette demière solution offre l'avantage de créer des renforcements au niveau des trous 6.
Selon l'exemple de la figure 9, le châssis 1G est constitué en deux parties, la première partie intégrant un renfort 8G surmoulé dans une portion de surface d'appui 4 et un flasque 2G globalement perpendiculaire à ladite portion de surface d'appui 4, la deuxième partie comprenant une portion de surface d'appui 4 complémentaire et un second flasque 2G' exempt de renfort, des moyens de raccordement des deux parties 2G, 2G', de châssis 1G étant disposés au niveau de la surface d'appui 4.
Les moyens de raccordement de ces deux parties de châssis sont constitués par un prolongement 8Ga du renfort 8G de la première partie de châssis s'étendant au delà de sa partie de surface d'appui 4 de manière à en déboucher librement en vue de coopérer avec un logement correspondant 4b ménagé dans l'autre partie de surface d'appui 4 de la deuxième partie de châssis 1 G L'immobilisation de la partie de renfort 8Ga dans le logement 4b s'effectue par tout moyen, en l'occurrence par une vis 11. L'avantage d'un tel mode de réalisation est que le châssis peut être réalisé de façon plus simple en deux parties et que l'assemblage de ces deux parties peut être obtenu facilement par l'insert de l'une des parties.
Dans le châssis 1H, selon l'exemple de la figure 10, le renfort 8H forme un "U" s'étendant de manière apparente sur les faces intemes du "U" formé par les branches parallèles des flasques 2H et par le plan d'appui 4 qui les relie.
Selon ce même exemple, au moins l'un des flasques latéraux 2H comporte une fenêtre longitudinale 10 de visualisation du renfort 8H.
Ces objets, caractéristiques et avantages, ainsi que d'autres de la présente invention seront exposés en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faite à titre non-limitatif en relation avec les figures jointes parmi lesquelles la figure 1 décrite précédemment est destinée à exposer l'état de la technique et le problème posé ; et la figure 2 représente un mode de réalisation dlun amplificateur de puissance selon la présente invention.
Pour des raisons de clarté, seules les composants de l'amplificateur qui sont nécessaires à la compréhension de l'invention ont été représentés à la figure 2.
Une caractéristique de la présente invention est de proposer un amplificateur de puissance en technologie BIOMOS comportant un étage de sortie en technologie MOS et un étage de commande en technologie bipolaire.
Une autre caractéristique de la présente invention est de prévoir un étage de sortie comportant deux transistors MOS montés en série (rail to rail) dont chacun fait partie d'un montage en miroir de courant.
La figure 2 représente un mode de réalisation d'un amplificateur de puissance en technologie BIOMOS selon 1 'inven- tion. L'étage de sortie 2 est constitué d'un demi-étage supérieur 3 et d'un demi-étage inférieur 4, chaque demi-étage comportant deux transistors MOS montés en miroir de courant.
Chaque demi-étage, respectivement 3 et 4, comporte un transistor MOS de puissance, respectivement, M10 à canal P et M11 à canal N qui sont montés en série entre deux lignes d'alimentation, respectivement V+ et V- (par exemple, la masse). Les drains communs des transistors M10 et M11 constituent une borne S de sortie de l'amplificateur de puissance. Le transistor M10 est monté en miroir de courant avec un transistor MOS M12 à canal P dont le drain constitue une borne El de commande en courant du demi-étage 3. Le transistor M11 est monté en miroir de courant avec un transistor MOS M13 à canal N dont le drain constitue une borne E2 de commande en courant du demi-étage 4.
Selon l'invention, la commande de l'étage de sortie 2 s'effectue en modifiant les courants qui circulent dans les transistors M12 et M13. En augmentant le courant du transistor M12, on augmente le courant délivré à la charge (non représentée) raccordée à la borne S. En augmentant le courant du transistor M13, on augmente le courant prélevé dans la charge.
Selon l'invention, les courants respectifs des transistors M12 et M13 sont fixés par un étage de commande 5 en technologie bipolaire dont une entrée de commande E reçoit une tension de commande Ve, par exemple, un signal en dents de scie.
La borne E est reliée aux bases respectives de deux transistors T1 et T2, respectivement PNP et NPN. Le collecteur du transistor T1 est connecté à la ligne V-. L'émetteur du transistor T1 est relié, le cas échéant par l'intermédiaire d'une résistance R1, à l'émetteur d'un transistor NPN T3 dont le collecteur est relié à la borne El. L'émetteur du transistor T2 est connecté, le cas échéant par l'intermédiaire d'une résistance R2, à la ligne V-. Le collecteur du transistor T2 est relié au drain d'un transistor MOS M14 à canal P d'un miroir de courant 6 dont le rôle est de permettre la commande du demi-étage 4 alors que les sens des courants dans les transistors M13 et T2 sont les mêmes. Pour que l'étage 4 fonctionne, il faut que le courant de collecteur du transistor T2 soit reproduit sur le drain du transistor M13.
Le miroir 6 est constitué du transistor M14 et d'un transistor MOS M15 à canal P dont les grilles respectives sont reliées au drain du transistor M14. Les sources des transistors M14 et M15 sont reliées à une tension d'alimentation Vcc dont le potentiel est supérieur au potentiel de la ligne V-. Le drain du transistor M15 est relié à la borne E2. De préférence, les rapports des surfaces des transistors M14 et M15 sont identiques de sorte que le rapport du miroir 6 est unitaire. Le miroir 6 pourra, à titre de variante, être réalisé en technologie bipolaire.
L'amplificateur doit, comme précédemment, éviter l'apparition d'une distorsion de recouvrement entre les plages négative et positive du courant de sortie. Pour ce faire, l'étage de commande 5 comporte des moyens pour fixer un courant de conduction simultanée des demi-étages 3 et 4 lorsque l'amplificateur est au repos, c'est-à-dire lorsque la tension Ve est égale à une valeur nominale VgsO déterminée par un bouclage classique de l'amplificateur sur sa charge et que l'étage 2 ne doit absorber ni délivrer aucun courant sur la borne S.
Selon l'invention, la base du transistor T3 est reliée à la base d'un transistor NPN T4 dont le collecteur reçoit un courant de référence I d'une source 7. De préférence, le collecteur du transistor T4 est relié à la base d'un transistor NPN T7 dont le collecteur est relié à la ligne V+ et dont l'émetteur est relié aux bases communes des transistors T3 et T4. Le rôle du transistor T7 est d'amplifier le courant de base du transistor T3 dans la mesure où le courant I est généralement faible. Le cas échéant, le transistor T7 pourra être supprimé et le transistor T3 sera alors monté en miroir de courant sur le transistor T4.
L'émetteur du transistor T4 est relié, le cas échéant par l'intermédiaire d'une résistance R3, à l'émetteur d'un transistor PNP T5 dont le collecteur est connecté à la ligne V-. La base du transistor T5 est reliée à la base d'un transistor NPN T6, monté en diode entre une source 8 de courant de référence I et la ligne V-. Le cas échéant, une résistance R4 est intercalée entre l'émetteur du transistor T6 et la ligne V-.
On suppose que l'amplificateur est au repos, c'est à dire que potentiel Ve est tel que les courants de drain des transistors M10 et M11 sont égaux (Ve = VgsO). Les relations suivantes sont alors respectées pour le potentiel au point A de liaison des grilles des transistors T3 et T4 VA = VBE(T4) + R3I + VBE (T5) + VBE (T6) + R4I ; et VA = VBE(T3) + Rîli + VBE(Tl) + VBE(T2) + R2I2, où I1 et I2 représentent les courants de collecteurs des transistors respectifs T3 et T2, c'est-à-dire les courants de commande des demi-étages 3 et 4.
Si R1 = R3 et R2 = R4, et en supposant que les transistors bipolaires ont une même chute de tension base-êmetteur (VBE), on obtient I2 = I1 = I.
Les miroirs de courant constituant les demi-étages 3 et 4 présentent, de préférence, le même rapport K. Ainsi, on obtient bien, au repos, un même courant KI dans les transistors M10 et M11.
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RvantageusementJ on dirigera ou pointera la lumière réfractée sur une surface adjacente substantiellement parallèle au guide > ou surface de pointage.
Rvantageusements le guide optique comprendra au moins une face plane. Avantageusement encore, on utilisera un guide limité par au moins deux faces planes parallelesJ ou en ruban.
Dans la suite du présent mémoire, on conviendra de nommer la couche de matériau secondaire "couche d'enveloppe" et son matériau constitutif "matériau d'enveloppe".
Suivant l'invention, la structure active est constituée par une couche de matériau secondaire ou couche d'enveloppe en un matériau électrooptique pouvant présenter au moins deux états distincts, caractérisés par des indices de réfraction différents vis à vis de la lumière couplée, ou d'une composante polarisée de celle ci > le premier de ces états assurant la conduction de la lumière guidée par réflexion totale sur ladite couche, un autre de ces états provoquant une refraction totale ou partielle de celle ci dans ladite couche.
Suivant une voie privilégiée de réalisation de l'invention ! on arrangera les moyens électriques permettant de modifier l'indice de réfraction des couches de manière à délimiter des zones individualisées commondables séparément sur la surface d'un guide plan.
On peut ainsi diviser la couche d'enveloppe en pixels commandables ou adressables individuellement par multiplexage par exemple, pouvant présenter un état à bas indice assurant la réflexion de la lumière guidée, et un état à haut indice assurant la refraction de cette lumière au travers de la couche d'enveloppe.
Avantageusement pour la mise en oeuvre de cette voie de réalisation, la lumière réfractée sous l'effet de l'application de ce champ électrique est transmise à un élément récepteur ou à une optique en contact optique avec le dos de la couche d'enveloppe de manière à faire office de source de lumière vis à vis de cet élément.
Cet élément peut etre une simple feuille d'un diffusant, une série de miroirs, prismes ou lentilles, ou tout élément récepteur actif vis à vis de la lumière réfractée.
De préférence, un tel dispositif utilisant le principe de l'optique guidée fonctionnera en balayage. En effet, suivant une caractéristique essentielle du système! la lumière circulant dans le guide est réfractée par la couche d'enveloppe pour créer un effet d'illumination en certaines zones. L'aval de ces zones vis à vis du flux lumineux recevra un flux lumineux nul ou modifiez rendant très difficile ou impossible l'obtention d'un signal uniforme avec une couche activée en chacun de ses points.
De préférence, on arrangera les moyens de commande de la couche d'enveloppe de façon à délimiter des éléments constitutifs de petite taille, ou pixels, disposés par exemple suivant une ligne ou suivant un quadrillage lignes-colonnes.
Les lignes seront de préférence disposées perpendiculairement au sens de propagation de la lumière dans la couche. La couche sera adressée lignes par lignes successivement ou groupes de lignes par groupes de lignes tous les pixels d'une ligne étant activés puis désactivés en moins d'un temps d'adressage ligne.
Le contre du niveau de luminance de chaque élément ou pixel sera avantageusement obtenu par une modulation temporelle de son état refractif, d l'intérieur du temps d'adressage ligne > ou par une modulation de la puissance lumineuse couplée au guide.
RvantageusementJ on utilisera pour réaliser un tel adressage deux jeux d'électrodes transparentes, un premier jeu arrangé en lignes un second jeu arrangé en colonnes disposés de manière à enserrer la couche d'enveloppe de matériau électrooptique et en adressant les pixels définis par les intersections ligne-colonne ligne par ligne successivement et ensemble de colonnes simultanément par un multiplexage simple.
Avantageusement pour certains modes de réalisation du dispositif on pourra également adresser les pixels par des matrices de transistors déposées sur film minces ou matrices actives.
Suivant une voie de mise en oeuvre de i'inventions on utilisera des couches électrooptiques constituees de cristaux liquides. Suivant l'invention, la configuration de cette couche de cristal liquide et l'effet utilisé sont tels que la perturbation créée par le champ électrique permet à au moins une partie de la lumière conduite par le guide d'être réfractée dans ladite couche.
On sait que les cristaux liquides présentent vis à vis de la lumière visible une diffusivité non négligeable. Afin d'assurer le bon fonctionnement d'un guide optique fonctionnant avec une couche de cristal liquide comme matériau d'enveloppe, on choisira de préférence des phases presentant la diffusivité la plus faible possible, et donc d'un ordre, ou cristallinite élevé. De préférence on utilisera des phases ferroéîectriques smectiques chirales en géometrie "Bookshelf" en cellule mince.
Cependant, l'utilisation d'une planche à voile nécessite une période d'apprentissage plus ou moins longue. On peut également citer les matelas pneumatiques. Malheureusement, les matelas pneumatiques procurent un degré d'insécurité supplémentaire étant donné qu'ils sont sujets à des crevaison. En outre, on peut dire que le surf n'a qu'une utilisation sportive et que la manutention du canoë kayak est peu aisée, de plus ce flotteur est rarement insubmersible.
La présente invention permet d'apporter une solution à ces problèmes en ayant pour objet un flotteur ne présentant pas les inconvénients des flotteurs connus.
La présente invention a plus particulièrement pour objet un flotteur comprenant une coque munie d'un fond principalement caractérisé en ce que le fond a une forme extérieure concave formant un tunnel dans le sens longitudinal de la coque.
Selon une autre caractéristique de l'invention la coque est à bouchain vifs assurant une bonne stabilité au flotteur.
Selon une autre caractéristique, la forme concave du fond se présente comme un V renversé.
Le moyen principal de propulsion de ce flotteur peut être constitué par une pagaie double, comme le canoë, mais il peut aussi être constitué uniquement par l'énergie des vagues, comme un surf.
Le flotteur selon l'invention permet le bronzage comme un matelas pneumatique, sans être sujet à crevaison, et est moins lourd qu'un pédalo. Le flotteur est particulièrement adapté pour une utilisation en solitaire telle que la planche à voile, tout en ayant la même sécurité et solidité qu'un planche à voile, mais sans nécessité d'apprentissage.
D'autres particularités et avantages de l'invention apparattront mieux à la lecture de la description qui est faite ci-après et qui est donnée à tire d'exemple illustratif et non limitatif en regard des dessins sur lesquels - La figure 1, représente une vue de dessous du flotteur, objet de l'invention - La figure 2, représente une vue en coupe transversale du flotteur, selon la figure 1 ; - La figure 3 est une vue de profil du flotteur (sens longitudinal).
La figure 1 permet d'illustrer la coque 50 vue de dessous. La coque a une forme en ogive dont l'avant est relevé, comme on peut le voir sur la vue de profil représenté sur la figure 3.
L'axe longitudinal 9 correspond à l'axe du tunnel 20 formé sous la coque. Ce tunnel est visible sur la coupe transversale de la coque prise selon la ligne 5a et représentée sur la figure 2. Les nervures 2 représentent le bord de la partie concave du tunnel 20.
Les nervures 1 représentent les bouchains vifs de la coque. La référence 3 représente l'emplacement possible d'une dérive.
En effet, comme on peut le voir sur la figure 2, le fond de la coque comporte une partie concave formant un tunnel. Selon une réalisation préférée, la partie concave est en forme de V renversé légèrement aplati dont les pans s'étendent et s'aplatissent vers l'extérieur de manière à former deux parties planes 8.
Les limites de ces parties planes sont définies par les nervures 2 et les bouchains vifs 1. Cette forme confère au fond de la coque une fonction de ventouse qui rend le flotteur très stable à l'arrêt.
La partie supérieure de la coque comporte une partie plate 6, s'étendant vers les bords extérieurs de la coque. Ces bords ont une forme arrondie 10 afin de faciliter l'utilisation d'une pagaie. Ainsi, aucun frottement ne se produit sur les bords du flotteur lorsque l'utilisateur pagaie.
Un siège 30 est fixé (par collage ou toute autre moyen équivalent) au-dessus de la coque pour permettre à un utilisateur de s'installer sur le flotteur et de s'y allonger en toute quiétude.
De façon préférentielle, le flotteur est réalisé en peau remplie de mousse rigide 7 (cette mousse pourra par exemple être en polyuréthanne).
Selon des modes particuliers de réalisation, le support peut dans ses dimensions être modifié à la demande en fonction des différents filtres utilisables, en fonction du collecteur et voir même en fonction du réservoir.
Eventuellement, selon l'utilisation, le support peut comporter une lèvre de butée permettant le blocage définitif du filtre pour un montage stérile de l'ensemble lors de sa fabrication.
Le dispositif selon l'invention est particulièrement destiné au diagnostic de contaminants et/ou d'éléments chimiques et biologiques dans l'industrie agroalimentaire, dans l'environnement et d'une manière générale dans tous les secteurs biologiques.
PROCEDE DE FABRICATION D'UN ARTICLE EN FORME DE PLAQUE ET ARTICLE FABRIQUE L'invention concerne un procédé de fabrication d'un article en plaque et plus précisément d'un article comprenant une matrice hydratée contenant du ciment, du sable et renforcée par des fibres.
L'invention sera plus particulièrement décrite pour la fabrication d'éléments de revêtement de bâtiment tels que des plaques de couverture de bâtiments imitant l'ardoise. Toutefois, l'invention n'est pas limitée à ce type d'articles et doit être interprété de façon non limitative et englobant tout type d'article comprenant une matrice hydratée contenant du ciment, du sable et renforcé par des fibres.
n a déjà été proposé par la demande de brevet européen EP-A-165 388 de réaliser des plaques de couverture de bâtiments imitant l'ardoise. I1 s'avère que les articles obtenus selon l'enseignement de ce document présentent une densité relativement importante (supérieure à 2) et sont fragiles, ce qui empêche leur réalisation avec une faible épaisseur sans risque de rupture ou de fissuration. Les articles ainsi obtenus ne peuvent donc pas convenir pour constituer des plaques de couverture.
En effet, l'invention a pour but un procédé de fabrication conduisant à la réalisation de plaques minces pouvant être commodément utilisées pour le revêtement de bâtiments, notamment en couverture et avec l'aspect de l'ardoise.
La demande de brevet français déposée sous le numéro 9315184 par la demanderesse a déjà proposé un tel procédé de fabrication. Le procédé décrit selon ce document comporte notamment une étape de laminage ayant deux fonctions ; tout d'abord, cette étape permet de conférer l'épaisseur souhaitée aux articles produits. La seconde fonction du laminage est d'améliorer l'orientation des fibres de renforcement dans le but d'obtenir des propriétés mécaniques isotropes. Si le procédé proposé par ce document conduit à des articles plus légers et avec l'épaisseur voulue sans pour autant augmenter leur fragilité ; il nécessite par ailleurs des conditions de travail peu confortables ; en effet, le laminage qui est réalisé par le contact d'une succession de rouleaux peut entraîner des risques de collage de la matrice sur lesdits rouleaux.Mis à part les risques de dégradation de la matrice et donc une augmentation des coûts de production par perte de matière, il est nécessaire de procéder au nettoyage des installations très fréquemment, ce qui conduit également à une augmentation des coûts. En cas de collage de la matrice sur les rouleaux, ceux-ci peuvent en effet emporter de la matière qui durcit et modifie l'aspect de la surface des rouleaux.
Les opérations de laminage sont alors rendues inefficaces. H faut donc prévoir un nettoyage fréquent des installations, ce qui diminue les cadences de production et augmente les coûts.
L'invention a donc pour but un procédé de fabrication de plaques minces pour le revêtement de bâtiment qui ne présente pas les inconvénients précédemment cités, notamment l'encrassement des installations durant l'étape de laminage et le risque de dégradation du produit en cours d'élaboration durant cette même étape.
Ce but est atteint selon l'invention par un procédé de fabrication d'un article en forme de plaque, comprenant une matrice hydratée contenant du ciment, du sable et renforcée par des fibres, ledit procédé comprenant les étapes suivantes: a) On mélange les constituants jusqu'à obtention d'une pâte sensiblement homogène, b) On extrude la pâte sous forme d'une bande d'épaisseur sensiblement égale à celle de l'article, c) On tronçonne la bande aux dimensions de l'article. Le procédé ainsi décrit permet de fabriquer des articles en plaque notamment destinés à la couverture de bâtiment et présentant donc, pour une épaisseur voulue, des caractéristiques mécaniques et une densité convenable. Le procédé selon l'invention a notamment consisté à supprimer l'étape de laminage, à laquelle étaient liés les différents inconvénients évoqués précédemment.