REVENDICATIONS 1/ - Dispositif d'excitation d'un plasma comprenant une pluralité d'antennes (2) d'application de micro-ondes, caractérisé - en ce qu'il comporte une pluralité de sources de micro-ondes (20), chaque antenne (2) d'application étant alimentée à partir d'une source de micro-ondes (20) qui lui est propre et à laquelle elle est reliée, - en ce que chacune des sources de microondes (20) comprend essentiellement un générateur (21) de micro-ondes comportant un émetteur (22), et un guide d'ondes (23) comprenant - une première extrémité (24) associée rigidement au générateur (21) de micro-ondes, de façon que l'émetteur (22) du générateur (21) s'étende dans le guide d'ondes (23), - une seconde extrémité (25), - et une antenne de transmisslon (26) comprenant un conducteur plongeant dans le guide d'ondes (23) entre L'émetteur (22) du générateur (21) et la seconde extrémité (25), cette antenne de transmission (26) débouchant à l'extérieur du guide d'ondes (23) et étant connectée coaxialement avec une antenne (2) d'application et:ou prolongée coaxialement pour former une antenne (2) d'application, - et en ce que, pour chaque source de micro-ondes (20), les dimensions du guide d'ondes (23) et les positions relatives de l'émetteur (22) et de l'antenne (26) de transmission dans le guide d'ondes (23) sont fixes et prédéterminees de façon à assurer le fonctionnement de la source de m;cro-ondes (20), notamment en évitant la présence d'ondes réfléchies sur l'émetteur (22). 2,' - Dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce chaque source de micro-ondes (20) est constituée d'un générateur (21) et d'un guide d'ondes (23) associé. 3/ - Dispositif selon l'une des revendications 1 et 2, comprenant une ou plusieurs parois d'enceinte délimitant une enceinte (1) étanche, des moyens (7) pour entretenir une basse pression de gaz dans l'enceinte et des moyens aptes à exciter un plasma dans l'enceinte (1) à partir des micro-ondes appliquées par les antennes d'application (2) s'étendant à l'intérieur de l'enceinte (1), caractérisé en ce qu'il comprend, pour l'alimentation de chaque antenne d'application (2), un dispositif (40) étanche de transmission d'énergie électromagnétique hyperfréquences à travers une ouverture (41) ménagée à travers une paroi (14) d'enceinte, comprenant - des moyens (47, 48, 49) de connexion électrique à travers ladite ouverture, qui comprennent une partie conductrice (47) s'étendant dans l'enceinte, une partie conductrice (48) s'étendant à l'extérieur de l'enceinte, et des moyens (49) établissant une liaison électrique entre ces parties conductrices (47, 48), - un raccord (42) interposé entre les moyens (47, 48, 49) de connexion électrique et la paroi (14) d'enceinte pour réaliser une étanchéité entre l'extérieur et l'intérieur de l'enceinte (1), et une isolation électrique entre les parties conductrices (47, 48) et la paroi d'enceinte (14), - des moyens (43 à 46) de montage et de fixation du raccord (42) dans l'ouverture (41) de la paroi d'enceinte (14). 4 - Dispositif selon la revendication 3, caractérisé en ce que le raccord (42) comporte une gaine de matériau isolant s'étendant au contact des parties conductrices (47, 48) sur au moins s une portion de leur Longueur en les entourant, le raccord (42) étant adapté pour, lorsqu'il est monté dans l'ouverture (41), s'étendre vers l'intérieur de l'enceinte (2) en débordant de la face interne (50) de la paroi (14) d'enceinte. - - Dispositif selon la revendication 4, caractérisé en ce que le matériau isolant est choisi pour résister aux hyperfréquences et à une température supérieure à 500 oC, pour être étanche aux gaz, et pour présenter une constante diélectrique inférieure à 10 et une rigidité diélectrique supérieure à 2 000 kV/m. 6/ - Dispositif selon la revendication 5, caractérisé en ce que le matériau isolant est choisi parmi le Téflon (marque déposée), l'alumine, le silicone, ou un mélange ou une juxtaposition de ces matières. 7/ - Dispositif selon l'une des revendications 3 à 6, caractérisé en ce que chaque dispositif (40) étanche de transmission d'énergie électromagnétique hyperfréquences est adapté pour que le raccord (42) présente une impédance adaptée à celle de l'antenne (3) d'application. 8/ - Dispositif selon la revendication 7, caractérisé en ce que le dispositif (40) étanche de transmission d'énergie électromagnétique hyperfréquences est adapté pour que le raccord (42) présente une impédance similaire à celle de l'antenne (2) d'application. 9/ - Dispositif selon l'une des revendications 7 et 8, caractérisé en ce que le dispositif (40) étanche de transmission d'énergie électromagnétique hyperfréquences est adapté pour que le raccord (42) présente une impédance de l'ordre de 145 ohms. 10/ - Dispositif selon l'une des revendications 3 à 9, caractérisé en ce que chaque antenne d'application (2) comprend un conducteur d'émission, et en ce que ce conducteur d'émission traverse le raccord (42) de façon à former lesdits moyens (47, 48, 49) de connexion électrique. 11/ - Dispositif selon l'une des revendications a à 10, comprenant une ou plusieurs parois d'enceinte délimitant une enceinte (1) étanche, des moyens (7) pour entretenir une basse pression de gaz dans l'enceinte et ces moyens aptes à exciter un plasma dans l'enceinte (1) à partir des micro-ondes appliquées par les antennes d'application (2) s'étendant à l'intérieur de l'enceinte (1), caractérisé en ce que ledit conducteur plongeant de chaque antenne de transmission (26) plongeant dans le guide d'ondes (23) correspondant est prolongé à l'extérieur du guide d'ondes (23) de façon à être abouté et relié électriquement à un conducteur d'émission d'une antenne (2) d'application. 12/ - Dispositif selon la revendication 11, caractérisé en ce qu'il comporte, à la traversée d'une paroi d'enceinte (14) par chaque conducteur, un dispositif (40) étanche de transmission d'énergie électromagnétique hyperfréquences à travers une ouverture (41) ménagée à travers la paroi d'enceinte (14). 13/ - Dispositif selon la revendication 12, caractérisé en ce que le guide d'ondes (23) de la source de micro-ondes (20) correspondante est associé à et porté par la paroi d'enceinte (14) et/ou par ledit dispositif (40) étanche de transmission. 14/ - Dispositif selon l'une des revendications 12 et 13, caractérisé en ce que le guide d'ondes (23) comprend un tube (61) creux rigide externe s'étendant à partir et autour d'une ouverture (62) ménagée à travers une paroi du guide d'ondes (23) pour le passage dudit conducteur plongeant, de façon à former une structure externe coaxiale autour dudit conducteur, et en ce que ce tube (61) creux est porté à son extrémité libre (63) par la paroi d'enceinte (14) et/ou par le dispositif (40) étanche de transmission. 5, - Dispositif selon la revendication 14, caractérisé en ce que le tube creux (61) est reçu et porté par une portion cylindrique (64) du dispositif (42) étanche de transmission s'étendant en saillie vers l'extérieur de la paroi d'enceinte (14) et emmanchée à l'intérieur du tube creux (61). lj - Dispositif selon la revendication 15, caractérisé en ce que le tube creux (61 ) repose sur un collet (59) du dispositif (40) étanche de transmission. 17/ - Dispositif selon l'une des revendications 3 à 16, caractérisé en ce que chaque source de micro-ondes (20) est portée par la paroi d'enceinte (14) et/ou par un dispositif (40) étanche de transmission en reposant librement et en étant maintenue par rapport à l'enceinte (1) uniquement sous l'effet de son poids. 18/ - Dispositif selon l'une des revendications 3 à 17, caractérisé en ce que toutes les antennes d'application (2) sont portées par la même paroi d'enceinte (14), et ont chacune une portion d'extrémité (39) traversant cette paroi d'enceinte (14) par l'intermédiaire d'un dispositif (40) étanche de transmission d'énergie électromagnétique hyperfréquences pour l'alimentation en micro-ondes de l'antenne d'application (2) à travers la paroi d'enceinte (14). 19/ - Dispositif selon l'une des revendications 1 à 18, caractérisé en ce que chaque antenne d'application (2) s'étend dans l'enceinte (1) en étant recourbée au moins une fois pour présenter au moins deux branches (2a, 2b) parallèles. 20/ - Dispositif selon la revendication 19, caractérisé en ce que chaque antenne d'application (2) est recourbée une fois et à une forme générale de U, et en ce que la longueur de chaque antenne d'application (2) estiin- multiple de 0,95 A/4 ou A est la longueur d'ondes des micro-ondes. 21/ - Dispositif selon l'une des revendications 18 à 20, caractérisé en ce que chaque antenne d'application (2) comprend un tuyau (65) interne concentrique du conducteur d'émission formant l'antenne (2), et un raccord (67) d'alimentation et d'extraction d'un fluide de refroidissement à une extrémité (66) de l'antenne (2) fixée à la paroi d'enceinte (14) pour la circulation de ce fluide dans ce tuyau (65) et entre ce tuyau (65) et le conducteur d'émission en vue du refroidissement de l'antenne (2). 22/ - Dispositif selon l'une des revendications 3 à 21, caractérisé en ce qu'il comprend une pluralité d'aimants (6) permanents répartis en périphérie de l'enceinte et adaptés pour réaliser un confinement magnétique interne multipolaire du plasma dans l'enceinte (1), et en ce que chaque aimant (6) est éloigné de chaque dispositif (40) étanche de transmission d'énergie électromagnétique hyperfréquences de façon à éviter la formation de plasma au voisinage de ces dispositifs (40). 23/ - Réacteur pour la réalisation de dépôts de revêtements minces sur des substrats par voie chimique en phase vapeur assistée par un plasma obtenu par excitation à la résonnance cyclotronique électronique, comprenant un dispositif d'excitation selon l'une des revendications 1 à 22. 24/ - Réacteur selon la revendication 23, caractérisé en ce que la paroi d'enceinte (14) portant les antennes d'application (2) est une paroi (14) amovible pouvant être démontée du reste du réacteur. 25/ - Procédé de fabrication d'un dispositif d'excitation d'un plasma comprenant une pluralité d'antennes d'application (2) de micro-ondes alimentées chacune à partir d'une source de micro-ondes (20) qui lui est propre, caractérisé en ce que - on fabrique au moins une source de microondes d'étalonnage (27) comprenant un générateur (28) de micro-ondes comportant un émetteur (29), et un guide d'ondes (30) comprenant - une première extrémité associée rigidement au générateur (28) de micro-ondes de façon que l'émetteur (29) du générateur (28) s'étende dans le guide d'ondes (30), - une seconde extrémité, - une antenne de transmission 31) ) comprenant un conducteur plongeant dans le guide d'ondes (30) entre l'émetteur (29) et la seconde extrémité, cette antenne de transmission (31) débouchant à l'extérieur du guide d'ondes (30) de façon à être en connexion avec une antenne d'application (2), - et des moyens (32 à 37) de réglage des dimensions du guide d'ondes (30) et des positions relatives de l'émetteur (29) et de l'antenne de transmission (31) dans le guide d'ondes (30), - on met la source de micro-ondes d'étalonnage (27) en fonctionnement dans des conditions d'excitation de plasma similaires à celles qui doivent être mises en oeuvre dans le dispositif au cours de son utilisation, - on agit sur les moyens (32 à 37) de réglage de la source de micro-ondes d'étalonnage (27) de façon à déterminer expérimentalement une position de ces moyens (32 à 37) de réglage pour laquelle on assure le fonctionnement normal de la source de micro-ondes d'étalonnage (27) en évitant notamment la présence d'ondes réfléchies sur l'émetteur (29), - on fabrique au moins une source de microondes (20) du dispositif selon les dimensions et positions relatives correspondant aux valeurs déterminées expérimentalement avec la source de miro-ondes d'étalonnage (27). 26/ - Procédé pour réaliser des dépôts métalliques ou d'oxydes sur des substrats métalliques,-par voie chimique en phase vapeur assistée par un plasma excité à la résonnance cyclotronique électronique, dans lequel on utilise un dispositif d'excitation selon l'une des revendications 1 à 22. 27/ - Utilisation d'un dispositif d'excitation selon l'une des revendications 1 à 22, pour réaliser des dépôts métalliques ou d'oxydes sur des substrats métalliques, par voie chimique en phase vapeur assistée par un plasma excité à la résonnance cyclotronique électronique. 2S - Dépôt exemPt de chlore ou d'autre drive halogéné obtenu par uFilisation d'un dispositif d'excitation selon l'une des revendications 1 à 22.