INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Le câblage des diodes est matriciel. Les diodes d'une même ligne 290 ont leur anode reliée ensemble et les cathodes des diodes d'une colonne 291 sont reliées ensemble. L'allumage d'une diode se fait en mettant un niveau de tension haut sur la ligne désirée et un niveau bas sur la colonne désirée.
L'extinction de l'ensemble de la matrice ne peut être obtenue que par demande d'allumage d'une diode inexistante qui aura pour effet d'éteindre la diode précédemment allumée. Il est possible de régler l'intensité lumineuse par contrôle du générateur de courant, ce contrôle pouvant être accessible par l'utilisateur.
Deux décodeurs d'adresses 293 et 294 servant à sélectionner respectivement la ligne et la colonne et qui ne peuvent laisser passer le courant nécessaire nécessitent l'utilisation de transistors 295a à 2951 et 296a à 296p comme commutateurs.
Les adresses lignes 297a à 297d et les adresses colonnes 298a à 298d (il a été supposé que l'écran comportait 12 lignes et 16 colonnes) seront fournies par le circuit logique programmable 101.
La figure 4 représente l'interface 34 des liaisons MIDI 32. Celle-ci comporte trois prises, l'une l'entrée IN 320 reçoit les données de l'extérieur et permet d'asservir le dispositif à d'autres dispositifs analogues, à un ordinateur, à un séquenceur ou bien plus simplement de charger sa mémoire vive 102. Une autre prise est la sortie DUT 321 qui permet de synchroniser un élément extérieur avec le dispositif, il peut s'agir d'un dispositif analogue, mais aussi un ordinateur ou un séquenceur. Cette sortie peut également. servir pour sauvegarder la mémoire du dispositif. Enfin, une dernière prise, la sortie THRU 322, est une prise de "passage" qui est une recopie de l'entrée IN 320 par le dispositif qu'elle peut alors diriger vers un appareil extérieur.
Il faut signaler que le réseau MIDI étant un réseau monté en boucle de courant, il est important d'isoler galvaniquement l'entrée IN 320 du dispositif, une sortie 323 de l'unité de traitement à microprocesseur 100, par un optocoupleur 324. Les sorties OUT et THRU émettent un signal 325 pris en sortie du microprocesseur et réamplifié chacun par deux inverseurs, respectivement 326 et 327.
La présente invention est relative à un procédé et à un système de création, à partir d'une image source, d'une image définitive sur la surface d'un objet embouti.
La création d'une image définitive sur la surface gauche ou sensiblement plane d'un objet embouti, à partir d'une image source nécessite le plus souvent la mise en oeuvre de techniques très particulières, en vue de conserver à l'image définitive, malgré le processus d'emboutissage, une perspective comparable à celle de l'image source.
Parmi les procédés actuellement utilisés on peut rappeler le procédé décrit dans la demande de brevet internationale PCT/WO-89/12 801 publiée sous le numéro GB 2 233 196 au Royaume-Uni.
Dans le proccédé précité mis en oeuvre, un rectangle d'origine est soumis à dimininution en hauteur, puis, simultanément ou ultérieurement, développement du rectangle réduit, selon un anneau plan de même surface pour former une plaque d'impression, laquelle, après impression sur une plaque métallique, permet, par emboutissage de cette dernière, la réalisation d'un objet embouti muni d'une image définitive.
Le procédé précité donne satisfaction à condition, toutefois, de connaître avec grande précision la loi mathématique de déformation de-llimage sourceselon l'anneau plan de même surface.
En conséquence, le procédé précité apparaît-il limité à des lois mathématiques de déformation connues de l'image source, et, pratiquement, à des objets emboutis dont la surface latérale est sensiblement cylindrique de révolution.
La présente invenion a pour objet de s'affranchir des limitations précitées et, en conséquence, la mise en oeuvre d'un procédé et d'un système de création, à parir d'une image source, d'une image définitive sur la surface d'un objet embouti a priori quelconque.
Un autre objet de la présente invetion est la mise en oeuvre d'un procédé et d'un système de création, à partir d'une image source, d'une image définitive sur la surface d'un objet embouti dans lequel toute correction de déformation d'image, nécessitée en raison de la déformation d'étirement e la paroi de l'objet au cours du processus d'emboutissage, est supprimée.
Un autre objet de la présente invention est également un système de création, à partir d'une image source, d'une image définitive sur la surface d'un objet embouti, permettant une automatisation totale du processus de création.
Le procédé de création, à partir d'une image source, d'une image définitive, sur la surface latérale d'un objet embouti, venu d'une plaque plane, objet de la présente invention, est remarquable en ce qu'il consiste à imprimer, sur une plaque témoin, une gille de référence repérée en coordonnées cartésiennes (x, y) puis à emboutir cette plaque témoin, munie de sa grille imprimée, pour réaliser une ébauche repérée de l'objet muni de sa grille imprimée déformée pour réaliser une ébauche de l'objet embouti munie d'une grille de référence déformée (x', y'). Une mire graduée selon une grille repérée en coordonnées cartésiennes (X, Y) est placée sur la surface latérale obtenue par déformation de l'ébauche repérée et une correspondance biunivoque est établie entre des points remarquables de la grille de référence déformée (X, Y) de la grille de la mire, de façon à repérer sur la grille de référence déformée (x', y') la position correspondante des points remarquables de la grille de la mire. Une projection de l'image source, repérée par rapport à la grille de la mire (X, Y) est effectuée sur la grille de référence (x, y) par l'intermédiaire de la grille de référence déformée (x', y'), pour réaliser, sous forme de fonction de points, une image plane anamorphosée de départ. L'image plane anamorphosée de départ est imprimée sur une plaque plane, semblable à la plaque plane témoin, pour former une plaque imprimée et la plaque imprimée est soumise à l'emboutissage pour réaliser l'objet embouti muni de l'image définitive, similaire à l'image source.
Le système de projection d'un repère cartésien formé par une grille graduée sur la surface d'un objet embouti pour la mise en oeuvre du procédé objet de l'invention est remarquable en ce qu'il comprend un dispositif de lecture optique de la grille de référence déformée et un dispositif de lecture optique de la mire. Un dispositif calculateur permet de calculer, par interpolation, la coïncidence des graduations de la grille de référence déformée et de la grille de la mire.
Le procéé et le système objets de la présente invention trouve application à la reproduction d'images sources sur des objets, à la création d'images sur les parois gauches d'objet obtenus par emboutissage et, d'une manière plus générale, à la cartographie.
Ils seront mieux compris à la lecture de la description ci-après et l'observation des dessins dans lequesl - la figure la représente, de manière illustrative, l'ensemble des étapes de mise en oeuvre du procédé objet de la présente invention, - la figure lb représente, de manière schématique, une mire permettant la mise en oeuvre du procédé objet de l'invention telnque représenté en figure la, - la figure lc représente un détail de mise en oeuvre d'une étape remarquable du procédé selon l'invenion tel que représenté en figure la, - la figure ld représente également un dtail de mise en oeuvre d'une autre étape remarquable du procédé selon l'invention tel que présenté en figure la, - la figure le représente de manière illustrative un processus de déformation, par calcul appliqué à l'image d'origine, ou image source, pour obtenir une image anamor phosée, permettant ensuite, par impression sur une plaque plane puis emboutissage de celle-ci, de réaliser un objet embouti muni de l'image source.
Une description plus détaillée du procédé de création, à partir d'une image source, d'une image définitive sur la surface d'un objet embouti sera donnée en liaison avec la figure la.
Conformément à la figure précitée, le procédé selon 1 invention consiste tout d'abord à imprimer sur une plaque témoin Pt une grille de référence repérée en coordonnées cartésiennes (x, y). La grille de référence est notée Gr et, de préférence, la plaque témoin Pt est constituée par une plaque plane présentant des caractérstiques mécaniques sensiblement identiques à toute plaque plane à partir de laquelle l'objet embouti muni de l'image définitive sera réalisé, conformément au procédé de la présente invention.
La plaque témoin Pt, telle que représentée au point a) de la figure la, est ensuite soumise à un processus d'emboutissage noté Emb représenté par une flèche de façon à réaliser une ébauche repérée de l'objet, cette ébauche telle que représentée au point b) étant munie de sa grille imprimée déformée, notée Grd. Ainsi l'ébauche de l'objet embouti est munie d'une grille de référence déformée de coodonnées cartésiennes (x', y'). A titre d'exemple non limitatif, l'ébauche de l'objet est représentée sous forme d'un pot sensiblemement cylindrique, la grille déformée Grd ayant été obtenue à partir de la grille Gr de référence par le seul phénomène d'emboutissage. On notera en particulier que la grille déformée Grd est obtenue pour un phénomène d'emboutissage quelconque, c'est-à-dire lorsque l'ébauche de l'objet embouti, présentant une forme identique à ce dernier, est constituée par un volume de révolution comprenant une surface latérale sensiblement cylindrique, ou une surface latérale sensiblement conique ou, le cas échéant, une surface latérale gauche.
Si on le souhaite, le tuyau 10 guide d'onde optique représenté à la figure 7 peut être pourvu d'un revêtement 13
pour sa protection, comme représenté dans les figures 8 à 12.
Le revêtement 13 peut être fait de plastique, d'élastomère, de métal, de verre ou d'une matière minérale Citons par
exemple le poly(alcool vinylique), les copolymères éthylè-
ne/alcool vinylique, le poly(chlorure de vinylidène), le
poly(fluorure de vinyle), les polyesters, le poly(chlorotri-
fluoréthylène), les résines phénoliques, les polyamides, les résines époxydes, le poly(acrylonitrile), le poly(chlorure de
vinyle), la cellulose, les résines acétal, les polycarbona-
tes, les résines acryliques, le polystyrène, les résines fluorées, le caoutchouc butyl, le caoutchouc butyl halogéné, le polyéthylene, le polypropylene, le polyuréthanne, le poly(acétate de vinyle), les copolymères éthylène/acétate de vinyle, le caoutchouc hydrochloré, le caoutchouc naturel, le polyisoprène, le caoutchouc polybutadiène, les copolymères styrène/butadiène, le caoutchouc chloroprène, le caoutchouc acryle, l'EPDM, les copolymères acrylonitrile/butadiène et le caoutchouc fluoré qui peuvent être appliqués sur le gainage par revêtement, extrusion ou moulage, enroulement de bande ou rétrécissement à la chaleur Selon une autre possibilité, on peut utiliser des matériaux métalliques comme l'acier inoxydable SUS, l'aluminium, le cuivre, le fer, le zinc,
l'étain, le laiton, le bronze, l'argent, l'or ou des maté-
riaux polymères tels que mentionnés ci-dessus pour former un tuyau, un tube à soufflet ou un film métallique à spirale dans lequel on peut introduire le tuyau souple formant guide d'onde optique On peut aussi déposer le matériau métallique sur la surface externe du gainage tubulaire 1 pour former un revêtement métallique par plaquage, et par évaporation sous vide ou pulvérisation Les matériaux de revêtement peuvent
être utilisés seuls ou en association avec d'autres maté-
riaux Quand le matériau de revêtement est un matériau formant barrière au gaz comme précédemment décrit pour la seconde forme de l'invention, le tuyau souple formant guide d'onde optique qui en résulte est celui de la seconde forme
Le revêtement 13 peut servir non seulement à protéger lé tuyau 10 formant guide d'onde optique mais aussi à faire écran à la lumière, c'est-à-dire à n'autoriser l'émission lumineuse qu'en des endroits présélectionnés Pour ce dernier but mentionné, le revêtement 13 est pourvu d'une
série d'orifices en des sites présélectionnés, comme repré-
Le degré d'acétylation déterminé par dosage de la soude résiduelle après saponification de l'échantillon est de 5,8. L'analyse du spectre r.m.n. proton permet d'estimer le degré d'acétylation à une valeur moyenne de 5,7 r.m.n. 1H: 6(ppm)/T.N.S., CDCî3 : 5,8 - 3,2, 14 protons (squelette du saccharose); 2,3-1,7, 17 protons (COCH3).
Le rendement en polyacétate de saccharose obtenu est de 93 % par rapport au saccharose initialement engagé.
Exemole 2 Les conditions opératoires sont semblables à celles décrites dans l'Exemple 1, mais l'élimination du solvant est réalisée par atomisation de la phase organique dans un appareil de type BUCHI 190. Les conditions utilisées, qui n'ont pas été optimisées, sont les suivantes . Concentration en produit : 100 g/l Température d'entrée d'air : 740C . Température de sortie d'air : 600C .Débit liquide : 225 ml/h . Débit d'air pour la formation du spray : 500 l/h Débit d'aspiration d'air : 30 m3/h . Diamètre du gicleur : 0,5 mm Température du gicleur : 60 C Exemple 3 Dans un réacteur agité de 20 1 sont dissous 1,5 kg de saccharose dans 6 1 d'eau auxquels on ajoute après dissolution complète du saccharose 6 litres de dichlorométhane. L'anhydride acétique (3,4 litres) est ajouté en 30 minutes et le pH maintenu constant autour d'une valeur de 8 t 0,5 à l'aide d'une addition automatique de soude à 50 % . La température est fixée entre 15 et 350 C. Après stabilisation du pH les deux phases sont décantées et la phase organique évaporée sous vide.Le produit séché et broyé (2,5 kg, Rdt. 95 X) présente les mêmes caractéristiques que celui obtenu dans l'Exemple 1.
Exemple 4 Cet Exemple illustre la possibilité d'obtention d'un degré de substitution moyen différent en fonction de la nature de la phase organique utilisée.
Les conditions d'opération sont équivalentes à celles décrites dans le cas de l'Exemple 1, mais le dichlorométhane est ici remplacé par un volume équivalent de toluène.
Après évaporation de la phase organique,on obtient un produit de réaction dont le degré d'acétylation moyen est de 7,1 d'après les résultats du dosage de soude résiduelle après saponification et de ceux fournis par la r.m.n. du proton.
Le rendement est de 46 % par rapport au saccharose de départ.
Exemple 5 : Acétvlation partielle du sorbitol 2,25 g de sorbitol sont dissous dans 20 ml d'eau. On ajoute ensuite 25 ml de dichlorométhane. L'addition de 7 ml d'anhydride acétique se fait goutte à goutte tout en maintenant le pH constant à une valeur de 8 t 0,5 grâce à l'addition automatique de soude 7,4 N.
Après décantation des deux phases, la solution organique est évaporée sous vide pour conduire à un sirop (4,1 g, Rdt = 85 X) de sorbitol partiellement acétylé dont le degré de substitution moyen déterminé par r.m.m. et par dosage des groupements acétiques est de l'ordre de 5.
Exemple 6 : Acétvlation partielle de glucose Le même mode opératoire décrit dans l'Exemple 5 est appliqué dans le cas de glucose (2,7 g) et conduit à un dérivé (2,25 g) dont le degré d'acétylation moyen est de l'ordre de 4, avec un rendement de 45 X.
Exemple 7 : Acétvlation partielle du a MéthvlElucoside Dans le cas de l'a-méthylglucoside (3,6 g) et selon la procédure décrite dans l'Exemple 5, le degré d'acétylation moyen obtenu est de l'ordre de 2,6.
Le solide blanc préparé avec un rendement de 55 % représente une masse de 3,1 g.
Exemple 8 : Acétvlation partielle du lactose 3,1 g de lactose sont dissous dans 20 ml d'eau et traités selon la procédure de l'Exemple 5, L'indice de substitution moyen obtenu est mesuré par r.m.m. et dosage des résidus acétiques est dans le cas de 5,8. Le rendement obtenu est de 77 X (4,2 g de lactose partiellement acétylé).
CARTOUCHE, DISPOSITIF ET PROCEDE D'EXTRACTION D'ACIDES NUCLEIOUES, TELS OUE L'ADN A PARTIR D'UN ECHANTILLON DE SANG OU DE CELLULES DE TISSUS.
L'invention concerne une cartouche pour l'extraction d'acides nucléiques, notamment d'ADN génomique à partir d'un échantillon de sang ou de cellules de tissus, ainsi qu'un dispositif et un procédé d'extraction utilisant cette cartouche.
Les procédés classiques d'extraction d'ADN à partir de sang ou de cellules de tissus comprennent en général une lyse des cellules, une séparation des noyaux des cellules par centrifugation, une lyse des noyaux avec une dégradation des protéines, une agglomération de 1'ADN génomique au moyen de phénol et de chloroforme et une précipitation de 1'ADN au moyen d'éthanol, puis une remise en suspension de 1'ADN extrait.
Ainsi 355 mg (0,450 mmol.) du diester 17 conduisent à 310 mg (58%) de triester 20.
20 SM (FAB positif, NBA) : 1197 (M+H)+, 273 (MTr) RMN1H (DMSO-d6) : ô = 1,44 et 1,46 (s et s, 3H, CH3 dT) 1,65-1,74 (m, 1H, H-3' ddU) ; 1,75-2,05 (m, 2H, H-2',3" ddU) ; 2,17-2,34 (m, 1H, H-2' ddU) ; 2,40-2,57 (m, H-2',2" dT) ; 2,81 (m, 2H, SCH2CH2OP) ; 2,89 (m, 2H, SCH2CH2OMTr) ; 3,15-3,42 (m, 4H, H-5',5'' dT, SCH2CH2OMTr) ; 4,02-4,22 (m, 6H, H-4',5',5'' ddU, H-4' dT, SCH2CH2OP) ; 5,03 (m, 1H, H-3' dT), 5,53 et 5,54 (d et d, 1H, H-5 ddU, J = 8,1 et 8,1 Hz) ; 5,93 (m, 1H, H-1' ddU) ; 6,21 (t, 1H, H-1' dT, J = 7,0 Hz) ; 6,82-7,43 (m, 14H, Tr) ; 7,47 (s, 1H, H-6 dT) ; 7,58 et 7,59 (d et d, 1H, H-6 ddU, J = 8,1 et 8,1 Hz) ; 11,3 (sl, 2H, 2NHCO dT ddU) ppm RMN31P (DMSO-d6) : 6 = -1,689 et -1,748 ppm.
O- (5 '-O- ( 4-Méthoxytrityl) 2'-désoxythymidin-3'-yl) O-(2',3'-didésoxyuridin-5'-yl) (H(S-pivaloyl 2-thioéthyl) phosphate 21.
La réaction de 266 mg (0,377 mmol.) du diester 17 avec 274 mg (1,69 mmol.) de S-pivaloyl 2-thioéthanol selon le mode opératoire décrit lors de la synthèse de 19 conduit à 124 mg (55%) du triester 21.
21 RMN H (DMSO-d6) : 6 = 1,13 et 1,14 (s et s, 9H, (CH3)3C) 1,46 et 1,44 (s et s, 3H, CH3 dT) ; 1,65-1,85 (m, 1H, H-3' ddU) ; 1,85-2,08 (m, 2H, H-2',3'' ddU) ; 2,18-2,40 (m, 1H, H-2'' ddU) ; 2,42-2,60 (m, H-2',2'' dT) ; 3,05 (m, 2H, SCH2CH2) ; 3,17-3,45 (m, 2H, H-5',5'' dT), 3,73 (s, 3H, CH30 Tr) ; 3,92-4,25 (m, 6H, H-4' dT, H-4',5',5'' ddU, SCH2CH2OP) ; 5,04 (m, 1H, H-3' dT) ; 5,54 et 5,55 (d et d, 1H, H-5 ddU, J = 8,1 Hz et 8,1 Hz) ; 5,94 (m, 1H, H-1' ddU) ; 6,21 (t, 1H, H-1' dT, J = 7,0 Hz) ; 6,85-7,45 (m, 14H, Tr) ; 7,49 (s, 1H, H-6 dT) ; 7,598 et 7,602 (d et d, 1H, H-6 ddU, J = 8,1 et 8,1 Hz) ; 11,4 (sl, 2H, 2NHCO) ppm RMN31P (DMSO-d6) : 6 = -1,749 et -1,854 ppm.
O-(3'-O-(4-Méthoxytrityl) 2'-désoxythymidin-5'-yl) 0-(2',3'-didésoxyuridin-5'-yl) O-(S-(O-(4 méthoxytrityl) 2-oxyéthylsulfidyl) 2-(thioéthyl) phosphate 22 Le même mode opératoire que celui décrit lors de la synthèse de 19 a été employé. Ainsi, 400 mg (0,449 mmol.) de diester 12 conduisent à 348 mg (65%) du triester 22.
22 UV (EtOH) : A max 263 nm (E 22000) À min 250 nm (E 19700) À max 232 nm (E 34400) À min 227 nm (E 33500) + SM (FAB positif, NBA) : 1197 (M+H)+, 273 (MTr) RMNH (DMSO-d6) : 6=1,55-2,07 (m, 5H, H-2',2" dT, H-2',3',3" ddU) ; 1,69 (s, 3H, CH3 dT) ; 2,78 (t, 2H, MTrOCH2CH2, J = 6,3 Hz) ; 2,88 (t, 2H, POCH2CH2, J = 5,8 Hz) ; 3,21 (t, 2H, MTrOCH2CH2, J = 5,7 Hz) ; 3,67-4,17 (m, 8H, H-4',5',5" dT, H-4',5',5'' ddU, POCH2CH2) ; 3,72 (s, 6H, 2CH30 Tr) ; 4,20 (m, 1H, H-3' dT) ; 5,53 (d, 1H, H-5 ddU, J = 8,1 Hz) ; 5,95 (dd, 1H, H-1' ddU, J = 3,8 et 6,7 Hz) ; 6,19 (dd, 1H, H-1' dT, J = 6,4 et 8,7 Hz) ; 6,85-6,43 (m, 28H, 2Tr) ; 6,44 (s, 1H, H-6 dT) ; 5,57 et 5,59 (d et d, 1H, H-6 ddU, J = 8,1 et 8,1 Hz) ; 11,3 (sl, 2H, 2NHCO) ppm RMN P (DMSO-d6) : ô = -0,662 et - 0,722 ppm.
O-(2'-désoxythymidin-3'-yl) 0-(2',3'-didésoxyuridin-5'-yl) phosphate 23 (Composé 10) Le composé protégé 11 (200 mg ; 0,254 mmol.) est traité par 30 ml/mmol. d'un mélange acide acétique, eau (8:2) pendant 3 h. Le solvant est évaporé. Après coévaporation avec de l'eau, le brut obtenu est dissous dans l'eau, lavé avec du CH2Cl2 et concentré sous pression réduite. La purification est réalisée par chromatographie semi-préparative sur couche mince de silice (éluant isopropanol, ammoniac, eau (8:1:1).
Le produit est extrait de la silice avec du MeOH et la solution filtrée sur filtre Millipore. Une lyophilisation dans l'eau donne 47 mg (35%) de 23.
23 CLHP : TR 412s (98,1%) (8% CH3CN/AcONH4 0,1 M) UV (H2O) : A max 263 nm (E 18700) À min 232 nm (E 4200) SM (FAB négatif GT) : 515 M RMNiH (DMSO-d6) : 6 = 1,72-2,04 (m, 3H, H-2',3',3'' ddU) ; 1,76 (s, 3H, CH3 dT) ; 2,04-2,18 (m, 1H, H-2', dT) 2,18-2,33 (m, 2H, H-2ll ddU, H-2ll dT) ; 3,56 (m, 2H, H-5',5'' dT) ; 3,78 (m, 2H, H-5',5'' ddU) ; 3,92 (dl, 1H, H-4' dT, J = 2,8 Hz) ; 4,11 (m, 1H, H-4' ddU) ; 4,58 (m, 1H, H-3' dT) ; 5,48 (sl, 1H, OH, dT) ; 5,55 (d, 1H, H-5 ddU, J = 8,1 Hz) ; 5,94 (dd, 1H, H-1' ddU, J = 7,0 et 3,8 Hz) ; 6,12 (dd, 1H, H-11 dT, J = 6,1 et 7,7 Hz) ; 7,66 (s, 1H, H-6 dT) ; 7,95 (d, 1H, H-6 ddU, J = 8,1 Hz) ; 9,4 (sl, 2NHCO, NH) ppm RMN31P (DMSO-d6) : 6 = -1,346 ppm.
O,O'-bis(2',3'-didésoxyuridin-5'-yl) O-(S-(2-hydroxyéthylsulfidyl) 2-thioéthyl) phosphate 24 (Composé 7) La déprotection de 150 mg (0,168 mmol.) de 19 par l'acide acétique a été réalisée de manière analogue à celle décrite lors de la synthèse de 23. Une chromatographie sur colonne de silice (éluant : MeOH (0-10%) dans CH2Cl2) suivie d'une purification par CLHP semi-préparative (colonne Nucléosil C78 éluant : 20% CH3CN/H2O) conduit à 45 mg (43%) de 24 après lyophilisation dans le mélange eau/dioxanne.
24 CLHP : TR = 372s (99,1%) (20% CH3CN/AcONH4 0,1 M) UV (H2O) : X max 262 nm (E 18500) À min 231 nm (E 4400) SM (FAB positif, GT ou NBA) : 623 (M+H) + RMNH (DMSO-d6) : # = 1,70-2,12 (m, 6H, 2H-2';7,3',3'') 2,18-2,40 (m, 2H, 2H-2ll) ; 2,79 (t, 2H, CHzCH2OH, J = 6,3 Hz), ; 2,98 (t, 2H, CH2CH20P, J = 6,3 Hz) ; 3,60 (m, 2H, CH2CH2OH) ; 4,05-4,20 (m, 8H, 2H-4l,5',5'', CH2CH2OP) ; 4,91 (t, 1H, OH, J = 5,4 Hz) ; 5,59 (d, 2H, 2H-5, J = 8,0 Hz) ; 6,01 (m, 2H, H-1') ; 7,65 (d, 2H, 2H-6, J = 8,1 Hz), 11,3 (sl, 2H, 2NHCO) ppm.
RMN31P (DMSO-d6) : 6 = -0,582 ppm O-(2'-désoxythymidin-3'-yl) O-(2',3'-didésoxyuridin-5'-yl) o-(s-(2-hydroxyéthylsulfidyl) 2-thioéthyl) phosphate 25 (Composé 73) Le traitement de 290 mg (0,240 mmol.) de 20 par l'acide acétique selon le mode opératoire décrit précédemment lors de la synthèse de 23 conduit, après purification par chromatographie sur colonne de gel de silice (éluant : MeOH (0-10%) dans CH2Cl2) et lyophilisation dans le mélange eau/dioxanne, à 80 mg (51%) de 25.
25 CtHP : TR = 584s (52,4%) et 640s (46,1%) (18% CH3CN/AcONH4 0,1 M) UV (H2O) : À max 263 nm (E 18300) À min 232 nm (E 4300) SM : (FAB positif, GT) : 653 (M+H)+, 577 (M-SCH2CH2O + (FAB positif NBA) 653 (M+H) + RMN H (DMSO-d6) : ô = 1,73-1,91 (m, 1H, H-3' ddU) ; 1,77 (s, 3H, CH3 dT) ; 1,91-2,12 (m, 2H, H-2',3'' ddU) 2,22-2,47 (m, 3H, H-2' ddU, H-2',2" dT) ; 2,801 et 2,807 (t et t, 2H, SCH2CH2OH, J = 6,38 et 6,37 Hz) ; 3,00 (t, 2H, SCH2CH2OP, J = 6,2 Hz) ; 3,55-3,70 (m, 4H, H-5',5" dT, OCH2CH2OH) ; 4,07 (m, 1H, H-4' dT) ; 4,11-4,34 (m, 5H, H-4';5';5'' ddU, SCH2COP) ; 4,88 (sl, 1H, OH) ; 4,96 (tl, 1H, H-3' dT, J = 5,8 Hz) ; 5,61 (d, 1H, H-5 ddU, J = 8,1 Hz) ; 6,01 (dd, 1H, H-1' ddU, J = 6,8 et 4,2 Hz) 6,19 (dd, 1H, H-1 dT, J = 6,3 et 8,0 Hz) ; 7,65 (d, 1H, H-6 ddU, J = 8,1 Hz) ; 7,68 (s, 1H, H-6 dT) ; 11,3 (sl, 2H, 2HNCO) ppm RMN31P (DMSO-d6) : 6 = -1,658 et -1,687 ppm.
O- (2 '-désoxythymidin-3 '-yl) O-(2',3'-didesoxyuridin-5'-yl) O-(S-pivaloyl 2-thioéthyl) phosphate 26 (Composé 12) La déprotection de 21 (164 mg ; 0,176 mmol.) selon le mode opératoire décrit lors de la synthèse de 23 conduit à 50 mg (43%) de 26 après chromatographie sur colonne de gel de silice (éluant : MeOH (0-6%) dans CH2Cl2) et lyophilisation dans le mélange eau/dioxanne.
26 CtHP : TR = 520s (59,9%) et 612s (40,1%) (30% CH3CN/AcONH4 0,1 M) UV (H2O) : A max 262 nm (E 18300) À min 233 nm (E 7200) SM (FAB positif, GT) : 661 (M+H) , 577 (M-(CH3)3CCO+H) 127 (TH2)+, 113 (UH2)+ RMN1H (DMSO-d6) : 1,18 (s, 9H, (CH3)3C) ; 1,72-1,93 (m, 1H, H-3' ddU) ; 1,79 (s, 3H, CH3 dT) ; 1,93-2,15 (m, 2H, H-2',3'' ddU) ; 2,22-2,48 (m, 3H, H-2'' ddU, H-2',2'' dT) ; 3,14 (t, 2H, CH2S, J = 6,3 Hz) ; 3,62 (m, 2H, H-5',5'' dT) ; 4,03-4,18 (m, 3H, H-4' dT, SCH2CH2) ; 4,18-4,32 (m, 3H, H-4',5',5'' ddU) ; 4,97 (m, 1H, H-3' dT) ; 5,26 (sl, 1H, OH dT) ; 5,62 (d, 1H, H-5 ddU, J = 8,1 Hz) ; 6,02 (dd, 1H, H-1' ddU, J = 6,8 et 6,1 Hz) 6,20 (dd, 1H, H-1' dT, H = 6,3 et 8,0 Hz) ; 7,67 (d, 1H, H-6 ddU, J = 8,1 Hz) ; 7,70 (s, 1H, H-6 dT) ; 11,4 (sl, 2H, 2NHCO) ppm RMN37P (DMSO-d6) : 6 = -1,817 et -1,764 ppm.