INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Lorsque CIIV et CIIX sont terminés, le processus de recombinaison est poursuivi selon le schéma-blocs de la figure 114.
On décrira maintenant la mise en oeuvre de l'ERA722 (FIG.
116). L'ensemble de recombinaison d'action ERA722 exécute le classement intervariables CIIV de façon identique à celle déjà décrite à propos de l'ERA711 (page ( 110) ).
classement interaction (CIIA) se fait selon les phases Il, 12, 15, 14, 15, 16 et 17 qui ne sont pas enchaînées de la e façon que dans ERA711.
na phase Il: elle est identique à la phase Il de ERA711.
Si MAXI = MAX0 (même circuit logique lD) on effectue la phase 17.
La phase 17 examine si l'ambiguîté MAX1 = MAX0 révélée par le circuit 116 est entraînée par une seule variable de fort coût et qui risque à elle seule de masquer Te lever d'ambiguïté permettant d'atteindre la solution optimale.
De telles variables seront dénommées variables impliquées (par l'égalité EAX1 = MAX0). Au cours de cette phase on détecte au niveau du CPVA les variables impliquées et un circuit logique 141 teste s'il n'y en a qu'une seule une réponse positive conduit à la phase 15; une réponse négative conduit à la phase LT.
En phase 15: pour toutes les variables on calcule la valeur MIN (MAXI1, MAXI0) et un circuit logique 142 teste si tous les MIN (MAX) sont égaux. Une réponse positive indique que c'est la variable impliquée de plus fort coût qui à elle seule masque tous les coûts des autres en comparaison dans le CPVA et on a intérêt à. privilégier (circuit 143) l'action 1 des variabiles qui ne sont pas au voisinage de contrainte de manière à favoriser la variable Ta mieux classée en CIV.
Une réponse négative conduit à la phase 12. Cela indique que la variable impliquée ne mascue pas les possibilités de Lever d'ambiguïté.
La phase 12 est identique à la phase 12 d'ERA711. S'il y a égalité on est conduit aux phases 13 et 14 comme en ERA711.
En phase 16a lorsqu'il y a plusieurs variables impliquées, cette phase classe les actions selon la somme des coûts considérés avec ces variables impliquées et données par # NEQI1 et # NEQI0.On verra qu'une autre version (en ERA729) au contraire néglige les coûts de ces variables impliquées. Chaque ERA ayant ses performances sur des classes de problème différents, cela illustre bien la caractéristique heuristique de chaque méthode, l'objectif étant avant tout d'obtenir en moyenne des solutions intéressantes, c'est à dire optimales ou très voisines de l'opti nate, Si le circuit logique 144 montre que la phase 16 ne permet pas. de lever l'ambiguïté ou est conduit aux phases 13 et 14, qui sont identiques aux phases 13 et 14 d'ERA711 déjà décrites, On décrira maintenant la mise en oeuvre de l'ERA723 (FIG 117). Le classement intervariable ClIV est identique à celui décrit ct propos de 1'ERA711 page ( 110 ) o Le classement i3:lteraction C1IA se fait selon des phases 18, 19, 11, 20, 21, 22, 16, 12, 13 et 14.
La phase 18: opère un classement sur les variables, qui n'ont pas encore progressées depuis le début du problème, qui est différent de celui pour celles qui sont déjà parties. Ceci est particulièrement valable pour les problèmes dit dlordonnan- cement au départ (contraintes immédiatement voisines de SD) et de type voyageur de commerce et affectation . Des circuits logiques 151, 152,.. sélectionnent les variables 1, 2,... qui n'ont pas subi une action 1 en Si-l , et parmi celles-ci à des circuits logiques 153,.. sélectionnent celles qui n'ont pas subi une action 1 sur contrainte.Pour ces variables bien classées en CIV et qui n'ont pas encore progressé un circuit logique 154 détecte les variables impliquées par leur llIAL, et on passe à la phase 19.
En phase 19: on entreprend une séquence d'optimisation différente selon que les variables impliquées sont des variables sur contrainte ou non, ce que détermine un circuit logique 155.
Une réponse positive de 155 conduit aux phases 12 , 13 et 14 identiques à celles d'ERA711 décrites page (112.). Une réponse négative de 155 conduit à la phase, 11 identique à, celle d'ERA7ll, puis si la réponse du circuit 136 est affirmative, aux phases 20, 21, 22.
En phase 20, un circuit logique 156 teste si une seule variable est impliquée, Si oui, on entre dans la phase 21: sinon on entreprend la phase 16 identique à celle déjà décrite à propos d'ERA722 page (113 ).
Ces- produits sont également nouveaux et peuvent entre représentés par les formules suivantes où A, B, R, R' et X sont tels que définis ci-dessus, Y' est un groupe acyloxycarbonique contenant jusqu'à 12 atomes de carbone, un groupe amfr,o disubstitué contenant 2à 20 atomes de carbone, ou un groupe sulfonyle aromatique cu aliphatique contenant 1 à 20 atomes de carbone.
Des groupes préférables pour ABN- sont le groupe phtali mido, -phénoxyacétamido et phény-lacêtamido; pour X, ce sont les groupes méthyle, benzyle, p-nitrobenzyle, benzhydryle et 2,2,2trichloroéthyle; pour R, ce sont les groupes t-butoxycarbonyle, - cyclopropylméthoxycarbonyle, carbobenzoxy, méthoxyméthyle, o-nitrophénylthio et benzothiazol-2-ylthio; pour Y', ce sont les groupes cyclopropylméthoxycarboxy, carbobenzoxy, méthoxycarboxy, alkylèneamino contenant 4 à 8 atomes de carbone, morpholin-4-yle dialkylami- no contenant 2 à 6 atomes de carbone, alcanesulfonyloxy contenant L 12 atomes de carbone, QU arylsulfonyloxy contenant 4 à 20 ato- mes de carbone, et, pour R', ce sont les groupes benzyle et phénoxyméthyle.
LB composé (9) au (10), où Y est le groupe amino disubs- titué, peut gtre préparé par les réactions suivantes selon des modes opératoires classiques, tel que présente dans - les préparations citées précédemment où A, B, R, X et la ligne brisée sont tels que définis ci-dessus, à environ 300C à 0 C.
Ie procédé peut être réalisé dans un seul récipient, c'est-à-dire qu'il-n'est pas nécessaire a'isoler les produits intermédiaires et de retirer les solvants de réaction dans n'importe quelle étape pour donner le composé d'énamine.
la préparation des énamines par le procédé indiqué ci-dessus et l'halogénation 1), la suppression de protection du thiol 2) et la cyclisation 3) peuvent être aussi réalisées dans un seul récipient, à savoir sans isoler n'importe quel intermédiaire, ou même sans retirer tout solvant durant la réaction, en donnant jusqu'à 80 g (ou plus) du composé de céphem (4) à partir du composé (9) ou (10) où Y est un groupe hydroxy. En d'autres termes, la réaction peut-etre réalisée aussi simplement qu'une seule réaction. Dans ce cas, le solvant est choisi parmi un solvant convenable pour toutes les réactions.Des exemples typiques sont des solvants formés d'éthers (par exemple le tétrahydrofurane, le tétrahydropyrane et -le dioxane), des solvants formés d'amides (par exemple la di- méthylformamide, la diméthylacétamide et l'hexaméthylphosphorotria mide) et des solvants formés d'hydrocarbures halogénés (par exemple le chloroforme, le chlorure de méthylène et le dichloroéthane).
Un autre aspect de la présente invention est la coupure par oxydation de la liaison insaturée, représentée par le schéma de réaction suivant où A, B, R et X sont tels que définis ci-dessus.
le procédé est réalisé en sounnttant les matières de départ, à l'emplacement de l'insaturation dans le substituant en position a, à 12 coupure par oxydation pour donner les composés recherchés.
Pour la coupure par oxydation, on utilise l'oxydation par l'ozone, le tétroxyde d'osmium, l'hydrogène, un peroxyde-tétroxyde d'osmium, le chlorate de sodium-tétroxyde d'osmium, des permanganates, afin de réaliser le groupement glycol, suivie de la coupure de glycol; et- d'autres coupures par oxydation, dans des conditions où l'autre partie de la molécule ne subit pas de réac- tisons défavorables, selon des procédés ~classiques .
Spécialement, l'oxydation par l'ozone s'accompagne de moins de réactions secondaires, et elle est préférable par le fait qui on agit dans des conditions réactionnelles douces. L'oxyda- tion par l'ozone peut être réalisée en introduisant de l'ozone en quantité suffisante pour former un ozonide dans une-solution des matières de départ, suivi de l'action d'un réducteur capable de couper par réduction l'ozonide formé.Des solvants spécialement préférables sont un alcane, un haloalcane, un éther, un ester formé d'alcanoate, un acide alcanoïque, un alcool, un hydrocarbure aromatique, particuîièrement un mélange de solvants formés de cnlo roalcane et d'alcool, par exemple le méthanol et l'éthanol. les produits réagissants réducteurs peuvent être un métal et un acides (le zinc et l'acide acétique, le fer et l'acide chlorhydrique, etc...), l'anhydride sulfureux ou un sulrite (le sulfite de sodium, le sulfi- te acide de potassium,etc...), des composés de phosphore trilralent, (un phosphite ester, un phosphite salin, etc. ..)-, un ferrocyanure, un sulfure (un sulfure de dialkyle, par exemple le sulfure de dimé- thyle, un sulfure aromatique, par exemple le sulfure de diphényle, le sulfure de dibenzyle), l'hydrogène (en présence de nickel de Raney, de platine, de palladium, etc....), des borohydrures ou leurs complexes (le borohydrure de sodium, etc...), un complexe d'hydrure d'aluminium (hydrure d'aluminium et de lithium, etc...), l'ht;dra- zine et d'autres produits réagissants réducteurs. la formation d'ozo- nide se déroule à une température inférieure à -800C ou supérieure à la température ambiante, mais cependant, à une température inférieure, l'efficacité de l'ozone est élevée et les réactions secon- daires peuvent gtre supprimées.L'excès d'ozone peut être retiré du milieu réactionnel par introduction d'oxygène, d'azote, d'air, etc... dans le milieu réactionnel. Les produits réagissants réducteurs peuvent être ajoutés au mélange-réactionnel contenant l'ozoni- de tel qu'il est ou après concentration convenable du mélange. La réaction avec le produit réagissant réducteur peut être réali- suée dans des conditions classiques convenables pour les produits réagissants utilisés.
L'ozonisation indiquée ci-dessus peut être remplacée en soumettant l'ozonide à l'hydrolyse, à l'oxydation, à la décomposi- tion thermique, et'c';.. pour fournir les composés reche'rchés.
Les exemples suivants illustrent des réalisations dola la présente invention simplement données à titre d'illustration'et non de limitation. Les descriptions de la double liaison liée à la position 3 impliquent la présence de l'isomère de position par rapport à la double liaison liée à la position 3.
PARTIE I. Halogénation EXEMPT 1.-I On dissout de l'α-[3-phénoxyméthyl-7-oxo-4-thia-2,6-diaza- bicyclo[3,2,0]hept-2-én-6-yl]-α-(1-hydroxyéthylidène)acétate de pnitrobenzyle (939 mg) dans du tétrahydrofurane (14 ml), on refroidit jusqu'à-40 C, on ajoute de la triéthylamine (0,67 ml) et du chlorure de métnanesulfonyle (0,187 ml), on agite pendant 30 minutes à -40 C et pendant 30 minutes à 0 C. Dans cette solution, on ajoute de la morpholine (O, 209 ml), on agite pendant 2 heures à 0 C, on ajoute de la N-bromosuccinimide (39) mg), on agite pendant I heure et demie à OOC, on dilue avec de l'eau (100 ml) et on extrait à l'acétate d'éthyle.L'extrait obtenu est lavé à l'eau, séché sur du sulfate de sodium, et évaporé pour donner une mousse (1,)49 g) qui est purifiée par chromatographie sur du gel de silice contenant 10 % d'eau pour donner de l'α-[3-phénoxyméthyl-7-oxo-α-4-thia-2,6- diazabicyclo[3,2,0]hept-2-én-6-yl]-α-méthanesulfonyl-α-acétylacé tate de p-nitrobenzyle (81,7 mg; rendement- : 7,5 ), de 1'a-rD~ phénoxyméthyl-7-oxo-4-thia-2,6-diazabicyclo[3,2,0]hept-2-én-6-yl] α-(1-morpholino-2-bromoéthylidène)acétate de p-nitrobenzyle (956,8 mg; 77,5 %) et de l'α-[3-phénoxyméthyl-7-oxo-4-thia-2,6-diazabicyclo[3,2,0]hept-2-én-6-yl]-α-(1-morpholinoéthylidène)acétate de p-nitrobenzyle (120,5 mg; rendement : 11,2 ).
EXEMPLE 2.-I On dissout de l'α-[3-phénoxyméthyl-7-oxo-4-thia-2,6-dia zabicyclo[3,2,0]hept-2-én-6-yl]-α-(1-hydroxyéthylidène)acétate de p-nitrobenzyle (278 mg) dans du chlorure de méthylène, on refroi- dit jusqu'a -200C, on agite et on ajoute du chlorure de méthanol sulfonyle (0,05 ml) et de la triéthylamine (0,20 ml), puis on agité.
pendant 10 minutes sous une atmosphère d'argon. Dans cette solution, on ajoute de la morpholine 10,062 ml; en refroidissant, on agite pendant 15 minutes, on ajoute de la N-chlorosuccinimide (97 mg), on agite pendant 2 heures à -200C, on lave à l'eau, on sèche et on éva- pore. la purification du résidu obtenu (368 mg) par chromatographie sur du gel de silice contenant 10 % d'eau (18,4 g), en utilisant un mélange de benzène et d'acétate d'éthyle (1 : 1), donne de l'α-[3- phénoxyméthyl-7-oxo-4-thia-2,6-diazabicyclo[3,2,0]-hept-2-én-6-yl] α-(1-morpholino-2-chloroéthylidène)acétate de p-nitrobenzyle (1Cs mg; rendement : 31,2 %), de l'α-[3-phénoxyméthyl-7-oxo-4-thia-2,6 diazabicyclo[3,2,0]hept-2-én-6-yl]-α-(1-morpholino-2-chloroéthyli dène)acétate de p-nltrobenzène (106 mg, rendement : 31,2 %) et de l'α-[3-phénoxyméthyl-7-oxo-4-thia-2,6-diazabicyclo[3,2,0]hept-2-én- 6-yl]-α-(1-morpholinoéthylidène)acétate de p-nitrobenzyle (134 mg, rendement : 42,0 %).
EXEMPLE 3.-I On dissout de l'α-[3-phénoxyméthyl-7-oxo-4-thia-2,6-diaza- bicyclo[3,2,0]hept-2-én-6-yl]-(1-hydroxyéthylidène)acétate de pnitrobenzyle (940 mg) dans du dichlorométhane (14 ml), on refroidit Jusqu'à -250C, on ajoute de la triéthylamine (0,97 ml) et du cnlorure de sulfonyle (0,187 ml), puis on laisse réagir pendant 1 heure re et demie.Dans cette solution, on ajoute de la morpholine (0,209 ml), an maintient à -25QC pendant I heure et on ajoute une- solution de brome dans du tétrachlorure de carbone (3,2 mmoles de brome) Après 30 minutes, le mélange réactionnel est lavé avec un solution aqueuse à-5 % de bicarbonate de sodium et de l'eau, séché et évapo- ré. la purification du résidu obtenu (1.457 mg) par chromatographie sur du gel de silice contenant 10 , d'eau (100 g), en utilisant un mélange de benzène et d'acétate d'éthyle (2 :: 1), donne de I' a- [3-phénoxyméthyl-7-oxo-4-thia-2,6-diazabicyclo [3,2,0]-hept-2-én 6-yl]-α-méthanesulfonyl-α-(dibromoacétyl) acétate de p-nitr obenzy- le (132,8 mg, 8,8 %) et de l'α-(3-phénoxyméthyl-7-oxo-4-thia-2,6- diazabicyclo[3,2,0]hept-2-én-6-yl)-α-(1-morpholino-2-bromoéthyli- dène)acétate de p-nitrobenzyle (1.033,5 mg; 83,7 %).
En conséquence, grâce à la présence du dispositif de mesure d'épaisseur, il ne peut pas se produire que, du fait de l'augmentation de l'humidité des copeaux, la quantité débitée par le poste de distribution soit trop réduite et que la densité brute nécessaire des panneaux ne soit plus atteinte.
La construction de ce dispositif est relativement simple, notamment dans le cas de la fabrication de panneaux à plusieurs couches, il est très facile de maintenir constante l'épaisseur de chaque couche. Les conditions d'un déroulement automatique du contrôle de qualité au cours de la production peuvent être remplies étant donné que la masse et le volume de la nappe dis persée peuvent être indiqués de façon continue. Ainsi, il est possible de maintenir aussi bien la densité brute exigée des panneaux de copeaux aussi bien que le facteur de compacité nécessaire à ltoperation de pressage, ce facteur étant caractérisé par le rapport entre l'épaisseur de la nappe de copeaux avant le pressage et sa densité brute après le pressage.C'est ainsi que, par exemple, lorsqu'on déverse des copeaux très denses, la masse de la nappe n'est maintenue constante que tant qu'une limite inférieure de l'épaisseur de la nappe ne tombe pas au-dessous de la valeur prescrite, sinon il faut s'attendre à l'obtention d'une couche médiane poreuse du panneau de copeaux et d'une mauvaise résistance à la traction dans le sens transver sal. Inversement, lorsqu'on déverse des copeaux peu denses, on n'augmentera pas davantage la masse dosée après qu'une épaisseur de nappe suffisante a té atteinte, c'est-àdire après qu'a été atteint le facteur de compacité nécessaire, car dans ce cas, les valeurs de solidité prescrites sont obtenues même lorsque le panneau est de faible densité brute.
Selon les procédés connus jusqu'à présent, la masse, mais non pas le volume, des copeaux déversés ou l'épaisseur de la nappe peut être indiquée de façon continue avec une précision suffisante. Avec les procédés de mesure par absorption, les variations d'humidité des copeaux entrent dans une trop forte proportion dans le résultat de la mesure de la densité de de versement ou de la densité brute.
Suivant un mode de réalisation particulièrement avantageux de l'invention, le dispositif mesurant l'épaisseur comporte un patin glissant sur la nappe de copeaux parallèlement à laquelle il est guidé, dont les modifications de hauteur ou les mouve- ments ascensionnels sont transformés par un capteur en signaux électriques. Ce dispositif est mecaniquement simple et par conséquent peu sujet à des dérangements et l'épaisseur de la nappe peut être déterminée sans laisser de traces gênantes sur la nappe.
Suivant une autre particularité encore de l'invention, le dispositif mesurant l'épaisseur peut être également constitué par un dispositif effectuant la mesure sansontact, de telle sorte que, même dans le cas de nappes très tâches, il soit absolument exclu que le dispositif mesurant Ilépaisseur détériorp la surface de la nappe. La tête de mesure du dispositif-iaesu- rant l'épaisseur peut être déplacée perpendiculairement au sens dans lequel se déplace la nappe produite, de sorte que l'épais- seur ou le profil de la nappe peut être indiqué-sur-toute-sa largeur.
Rationnellement, au dispositif mesurant l'épaisseur peut être associé un capteur photo-électrique dont 1' axe -estincliné- par rapport à la surface de la nappe, ainsi qu'une source lumineuse envoyant un faisceau de lumière serré se déplaçant sur la surface de la nappe, un rapporteur indiquant l'angle de pivotement du rayon lumineux et un circuit d'évaluation étant relié au capteur photo-electrique et aii rapporteur.Ce dispositif permet moyennant une coastruction très simple d' effectuer un palpage suffisamment précis de de l'épaisseur de la nappe à in- tervalles si courts gue la meure eet pratiquement effectue de façon continue Selon une autre particularité avantageuse de l'objet de l'invention, les signaux émis par le dispositif de mesure de l'épaisseur sont sont enregistrés et (on) utilisés pour regler ha quantité de matières déversée.. C'est ainsi que, dans le circuit évaluateur, le quotient résultant de la valeur mesure par la balance indiquant le poids spécifique par unité de surface et la valeur indiquée par le dispositif mesurant l'épais- seur est formé et utilisé pour le réglage de la quantité de matières déversée et dans le circuit évaluateur la valeur probable de la densité brute des panneaux peut être donnas pa-r le facteur de compacité gt par une teneur moyenne en hu midité des copeaux déversés.
Les dessins scheatiques annelés montrent, à titre d'exem- ples non limitatifs, plusieurs modes de réalisation de l'objet de l'invention.
La fig. 1 montre, simplifi, un dispositif utilisable la fabrication d'une nappe de copeaux déversés, avec le poste de distribution, un dispositif de mesure de l'épaisseur de la nappe et une balance indiquant le pnids- spécifique par unité de surface.
La fig. 2 montre un dispositif de mesure de l'épaisseur comportant un patin palpeur glissant sur la nappe de copeaux déversés.
La fig. 3 montre un dispositif de mesure de l'epaisseur fonctionnant sans contact.
Sur une bande conformatrice 1 se déplaçant de gaucho a droite (en regardant la fig. 1), est déversée une nappe de copeaux 2 constituant la pièce moulée utilisable pour la fabrication de panneaux de copeaux de bois. Un poste de distribution 3 dépose sur la bande con formatrice 1 une quantite de copeaux sensiblement constante. Un dispositif 4 mesurant l'épaisseur de la nappe (qui est représenté plus en détail sur la fig. 2) palpe, au moyen d'un patin 5 glissant sur la surface de la nappe, l'épaisseur de cette nappe et émet un signal correspondant a l'épaisseur de la nappe à un circuit évaluateur 6 qui règle le débit du poste de distribution 3, de telle sorte que, lorsque la nappe est peu épaisse, une plus grande quantité de copeaux soit déversée par le poste de distribution.Les valeurs de la masse de la nappe déterminées par la balance 7 sont transmises au circuit évaluateur 6 comme seconde grandeur de mesure. Lors du réglage ultérieur du poste de distribution, la priorité peut être alors donnée soit a la masse, soit a l'épaisseur de la nappe, selon le sens dans lequel se produit l'écart de réglage. De même, le quotient résultant des deux valeurs de mesure, c'est- -dire la densité avec laquelle la nappe est déversée, peut servir de grandeur de réglage. Enfin, il est également possible d'utiliser comme valeur de réglage la valeur probable de la densité brute des panneaux de copeaux en se basant sur la densité des copeaux déverses et sur le facteur de compacité, en tenant compte d'une teneur moyenne en humidité.
Le palpeur 5 du dispositif 4 de mesure de l'épaisseur (Fig. 2) est guidé parallèlement par deux biellettes 8 articulées sur un support 9 solidaire du bâti de la machine, de telle sorte qu'il glisse sur la surface de la nappe 2. Un palpeur il guidé avec un minimum de friction dans un manchon 10 garni de billes est capté par un capteur a induction 12 qui, par l'intermédiaire d'un amplificateur 13 de la mesure de la fréquence porteuse, émet au circuit évaluateur 6 un signal correspondant a l'épaisseur de la nappe. Afin d'obtenir un graphique des variations d'épaisseur de la nappe, l'amplificateur 13 peut être également relié a un appareil enregistreur.
Au lieu du dispositif mesurant l'épaisseur, représenté sur les Fig. 1 et 2, palpant mécaniquement la surface de la nappe, il est également possible d'utiliser un dispositif 14 de mesure de l'épaisseur (Fig. 3) fonctionnant sans contact, placé dans un boitier blindé 15 disposé au-dessus de la nappe 2 et comportant une lampe 16 envoyant a la surface de la nappe un faisceau de rayons serrés et pivotants par l'intermédiaire d'un dispositif optique 17, d'un diaphragme 18 et d'un miroir rotatif 19. Le rayon lumineux produit sur la surface de la nappe un point lumineux qui se déplace rapidement sur cette surface. Un capteur photo-électrique 20 comportant une photodiode 21, un diaphragme 22 et un dispositif optique 23 est également monté dans le boîtier blindé 15, son axe étant incliné par rapport à la surface de la nappe.
Lorsque la tache lumineuse produite par la lampe 15 sur la surface de la nappe apparaît dans l'axe du capteur photo-électrique 20, la photodiode 21 émet un signal a un circuit évaluateur 24. Un capteur d'angle 25 relié à un miroir rotatif 19 envoie également au circuit évaluateur 24 un signal correspondant à la position angulaire du miroir et, par conséquent, à chaque angle du rayon lumineux.
Etant donné qu'en cas de difrérence d'épaisseur de la nappe 2 le signal émis par la photodiode 21 est émis selon des angles de pivotement différents du rayon lumineux, le signal du capteur d'angle 25 émet au moment où est émis le signal de la photodiode 21 une information sur l'épaisseur de la nappe.
Cette information peut être également transformée dans le circuit évaluateur 6 en un signal permettant de commander le déversement produit par le poste de distribution 3.
[α]D26 + 153 (0,3 %, H2O) Spectre de masse : (M + 1)+ m/e 462 galement m/e, 127, 140, 159, 160, 177, 187, 205, 256, 285, 303, 318, 331, 336(w),346, 376, 386.
Exemple 15 l-N-(hydroxyméthyl)sisomicine On dissout 1 g de 2',3,6'-tri-N-t-butoxycarbonyl-3"-N- 4"-0-carbonyl-sisomicine dans du méthanol (30 ml) dans un réacteur de pression en acier inoxydable (capacité 500 ml) qui est relié à un cylindre d'oxydeid'éthylène par l'intermédiaire d'une vanne de fermeture, et qui est équipé d'un réchauffeur et d'une jauge de pression. On remplit avec de l'oxyde d'éthylène jusqu'à ce qu'une pression de 2 atmosphères à l'intérieur du réacteur soit obtenue. On chauffe ce réacteur à 600 tout en le balançant pendant 2A heures. On refroidit le réacteur et on le met en dépression. On enlève le solvant pour obtenir un résidu contenant de la 1-N-(hydroxyéthyl)-2',3,6'- tri-N-t- > utoxyearbonyl-3",N-4"-0-carbonylsisomicine.
On chauffe le résidu avec de l'hydroxyde de potassium aqueux 10 % (20 ml) à 1000 pendant 8 heures et on refroidit.