REVEND I CAT IONS 10) procédé pour revêtir, en continu, des substrats, en verre ou en céramique, par pulvérisation cathodique, sous vide, avec des couches ou des systèmes de couches métalliques ou-non métalliques, les substrats9 étant mis sous vide dans une chambre de sas, amenés à partir de là dans la chambre de pulvérisation, parcourent cette chambre et sont. après revétement, ramenés à l'extérieur par l'intermédiaire d'une chambre de sas, procédé caractérisé en ce qu'on introduit dans la chambre de sas (1), les substrats (26) en plusieurs pièces stockées dans des magasins (25), ces substrats étant disposés parallèlement avec un intervalle entre eux, on les amène, après mise sous vide, avec les magasins dans la chambre de pulvérisation (2) en ce qu'on prélève individuellement, dans la chambre de pulvérisation, les substrats dans l'ordre dans les magasins et on les dépose sur un dispositif de transport (10), en ce que les substrats parcourent la chambre de pulvérisation le long d'une bande en circulation sans fin, en ce qu'après pulvérisation, on stocke à nouveau les substrats individuellement et dans l'ordre dans un magasin, et en de qu'on sort par sas les magasins contenant les substrats revêtus de la chambre de pulvérisation par l'intermédiaire de la chambre de sas. 20) Procédé, suivant la revendication 1, caractérisé en ce que lorsqu'on traite des substrats (26) en forme de plaques, on introduit ceux-ci dans les magasins (25) en les alignant suivant leurs grandes faces. 30) Procédé, suivant l'une ou l'autre des revendications 1 et 2, caractérisé en ce qu'on garnit la chambre de sas (1) avec au moins un magasin (25) contenant des substrats (26) non revêtus, en ce qu'on introduit, après mise sous vide, un magasin dans la chambre de pulvérisation (2) et on envoie à cet emplacement son contenu au revetement au moyen de pulvérisation cathodique, en ce qu'on stocke les substrats revetus dans un autre magasin initialement vide, en ce que, pendant cette opération, on amène un second magasin mis sous vide de la chambre de sas sur une place vide dans la chambre de pulvérisation, en ce qu'après vidage du premier magasin, celui-ci prend la place du magasin d'abord vide le second magasin prenant la place du premier tandis que le magasin maintenant rempli de substrats revètus est ramené dans la chambre de sas et sorti par celle-ci, en ce qu'on garnit la chambre de sas avec au moins un autre magasin contenant des substrats non revêtus et on la met sous vide, en ce qu'on amène ce magasin dans la chambre de pulvérisation sur la place libérée par le premier magasin. 40) Procédé, suivant l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce qu'on fait passer les substrats (26) devant des cathodes différentes (8, 9) au cours de leur parcours dans la chambre de pulvérisation (2) 50) Procédé, suivant l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce qu'on fait parcourir plusieurs fois la chambre de pulvérisation (2) par les substrats (26) 60) Procédé, suivant la revendication 5, caractérisé en ce qu'on met en circuit des cathodes différentes (8, 9) pour les divers parcours des substrats. 70) Procédé, suivant l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce-qu'on fait parcourir par les substrats (26) un trajet de refroidissement par rayonnement (11, 12) dans la chambre de pulvérisation (2) avant leur stockage en retour dans le magasin initialement vide (25). 80) Procédé, suivant l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisé en ce qu'on réchauffe les substrats (26) à une température de 700C à 1000C, environ lors de leur mise sous vide dans la chambre de sas (1). 90) Procédé, suivant l'une quelconque des revendications 1 à 8, caractérisé en ce qu'on refroidit les substrats (26) à une température inférieure à 600Co lors de leur sortie dans la chambre de sas. 100) Procédé, suivant la revendication 9, caractérisé en ce qu on effectue le refroidissement par introduction d'un gaz inerte. 110) Procédé, suivant la revendication 10, caractérisé en ce qu'on introduit de l'argon ou de l'azote en tant que gaz inerte. 120) Installation pour la mise en application du procédé suivant l'une quelconque des revendications 1 à 11, comportant, pour l'introduction, par sas des substrats, une chambre de sas pouvant être mise sous vide et pouvant etre fermée de façon étanche au vide vis-à-vis de l'extérieur par une porte ou un élément similaire, une chambre de pulvérisation pouvant etre mise sous vide et reliée à la chambre de sas par une ouverture pouvant ëtre fermée de façon étanche au vide, les substrats parcourant cette chambre de pulvérisation, essentiellement dans sa direction longitudinale, à l'aide d'un moyen de transport muni de supports pour ces subs tratsî des électrodes disposées le long du parcours des substrats dans la chambre de pulvérisation et pouvant etre remplacées de l'extérieur par des portes pouvant ëtre fermées de façon étanche au vide et une chambre pouvant ëtre mise sous vide par la sortie par sas des substrats, installation caractérisée en ce que la chambre de sas (1) servant à l'introduction et à la sortie par sas des substrats (26) est disposée latéralement et perpendiculairement à la direction longitudinale de la chambre de pulvérisation (2), à l'une des extrémités de cette chambre: en ce que la chambre de sas comporte un dispositif (13) pour recevoir des magasins (25) contenant plusieurs substrats pl.acés à intervalles, en ce que les maga- sins sont disposés dans ce dispositif perpendiculairement à la direction longitudinale de la chambre de pulvérisation et peuvent être amenés par ce dispositif devant l'ouverture (3) qui relie la chambre de sas et la chambre de pulvérisation en ce que la chambre de pulvérisation comporte un autre dispositif (14), aligné avec le premier9 pour recevoir les magasins contenant les substrats audessus du moyen de transport (10) circulant sans fin dans la chambre de pulvérisation9 dans un plan horizontal suivant la direction longitudinale de cette chambre, en ce que se cond dispositif présente un emplacement de magasin (22) pour la prise des substrats dans le magasin et leur dépit sur les supports (32) du moyen de transport (10) à l'aide d'un manipulateur (33) et un second emplacement de magasin (24) disposé devant le premier dans le sens de déplacement du moyen de transport pour la prise des substrats traités sur les supports du moyen de transport et la réintroduction de ces substrats dans un magasin à l'aide d'un second manipulateur (39), ainsi qu'un troisième emplacement de magasin (21), par l'intermédiaire duquel, au moyen d'un poussoir d'échange (29), des magasins contenant des substrats non traités peuvent etre pris dans la chambre de sas et des magasins contenant des substrats traités peuvent être ramenés dans la chambre de sas, et en ce que ces emplacements de-magasins peuvent être permutés dans le sens allant du premier (22) au second (24), au troisième (21) et au premier (22) 130) Installation, suivant la revendication 12, caractérisée en ce que la chambre de sas (1) et la chambre de pulvérisation (2) comportent respectivement quatre emplacements de magasins (17 à 20 ; 21 à 24), en ce que ces emplacements sont décalés de 900 comme dans un barillet, qu'ils sont tous rotatifs et disposés chaque fois autour d'un axe de rotation commun (15, 16), ces axes communs étant situés dans un plan horizontal perpendiculaire à la direction longitudinale de la chambre de pulvérisation et étant alignés, et en ce que les emplacements de magasins de la chambre de pulvérisation présentent une longueur au moins deux fois plus grande que celle d'un magasin; de telle sorte que le magasin (25) contenant les substrats non traités puisseêtre déplacé hors de la chambre de sas, lors de la prise de ces substrats, et que le magasin destiné aux substrats traités puisse être déplacé. dans cette chambre de sas, lors de la réintroduction de ces substrats. 140) Installation suivant l'une ou l'autre des revendications 12 et 13, caractérisé en ce que le déplacement du moyen de transport (10) muni des supports (32) de substrats a lieu pas à pas, le dépit des substrats non traités et la prise des substrats traités par les manipulateurs ayant lieu suivant la cadence du déplacement du transporteur, de même que l'avance des magasins. 150) Installation, suivant l'une quelconque des revendications 12 à 14 caractérisée en ce que les emplacements de magasins (17 à 20 ; 21 à 24) sont, lors de la rotation de leur ensemble en barillet (13, 14) autour de l'axe commun (15, 16), tournés autour de leur propre axe pour que ces emplacements conservent leur position verticale donnée lors de leur introduction dans la chambre de sas. 160) Installation, suivant l'une quelconque des revendications 12 à 15, caractérisée en ce que, dans le cas de substrats (26) dépassant les magasins.(25) vers le haut, les manipulateurs (33, 39) sont réalisés sous forme de pinces de prise (44, 45), mobiles horizontalement et verticalement, suivant des coordonnées, avec des branches de pinces agissant dans la direction longitudinale de la chambre de pulvérisation (2), et en ce que le plan du mouvement des pinces de'brise est essentiellement constitué par le plan vertical pris par les supports de substrats (32) du moyen de transport (10) dans le domaine du poste de dépit et de prise des substrats. 170) Installation, suivant la revendication 12, caractérisée en ce que les supports de substrats (32) du moyen de transport (10) sont constitués par des plaques porteuses articulées pour pivoter autour d'un axe horizontal (46) en haut de leur face arrière sur une chalne en circulation l'axe s'étendant dans la direction d'avance de la chaîne1 en ce que ces plaques porteuses s'appuient par le bas de leur face arrière contre une seconde chaîne circulant conjointement1 en ce que la chaîne inférieure circule avec un décalage en avant en direction de la face avant des plaques porteuses par rapport à la chalne supérieure, et en ce que les plaques porteuses comportent sur le bas de leur face avant des tiges d'appui (38) des substrats en saillie perpendiculairement 180) Installation9 suivant la revendication 17, caractérisée en ce que le décalage mentionné des chaînes entraine une inclinaison de 100 des plaques porteuses 190) Installation, suivant l'une ou l'autre des revendications 17 et 18, caractérisée en ce qu'au poste de prise des substrats traités (26 > sur les plaques porteuses (32), la chaine inférieure est déviée à l'écart de ces plaques, en ce que le bord inférieur des plaques porteuses est saisi par une fourchette (47) pivotant lors du fonctionnement du manipulateur correspondant (39), et en ce que les plaques peuvent être pivotées par la fourchette d'un angle de 200 environ sur leur face inférieure vers la chaîne inférieure déviée et ramenées en sens inverse 200) Installation, suivant la revendication 19, caractérisée en ce que les substrats (26) basculant à l'écart des plaques porteuses (32) par leur face supérieure, lors du pivotement de ces plaques, sont saisis à cet emplacement par une griffe (53, 57) et sont maintenus également, lors du pivotement de retour des plaques porteuses, de telle sorte que ces substrats sont alors verticaux et se trouvent dans le plan de travail de la pince de prise (45) du manipulateur associé (39)