On doit donc s'efforcer de réduire la dépense nécessaire pour l'introduction et la sortie des substrats par sas ainsi que le risque concomitant d'entralnement d'impuretés dans la chambre de pulvérisation On doit également chercher à élargir les possibilités de traitement des substrats rapportées â une grandeur déterminée de la chambre de pulvérisation, afin dévirer la nécessité d ' opéra tions multiples d'introduction et de sortie par sas et pour augmenter le débit en substratstevetUsv Tout cela doit avoir lieu simultanément avec une réduction des dépenses de mise en oeuvre d'appareillage et par suite avec une simplification et une réduction du prix de lQinstallationç L'invention concerne à cet effet un procédé du type cidessus caractérisé en ce qu'on introduit dans la chambre de sas les substrats en plusieurs pièces stockées dans des magasins, ces substrats étant disposés parallèlement avec un intervalle entre eux2 on les amène. après mise sous vide, avec les magasins dans la chambre de pulvérisation, en ce qu'on prélève individuellement, dans la chambre de pulvérisation les substrats dans tordre dans les magasins et on l,es dépose sur un dispositif de transport, en ce que les substrats parcourent la chambre de pulvérisation le long d'une bande en circulation sans fin, en ce qu après pulvérisation, on stocke à nouveau les substrats individuellement et dans l'ordre dans un magasin, et en ce qu on sort par sas les magasins contenant les substrats revêtus de la chambre de pulvérisation par l'interméw diaire de la chambre de sas L'invention s'étend à une installation pour la mise en application de ce procédé, caractérisée en ce que la chambre de sas servant à l'introduction et à la sortie par sas des substrats est disposée latéralement et perpendiculairement à la direction longi- tudinale de la chambre de pulvérisation, à lune des extrémités de cette chambre en ce que la chambre de sas comporte un dispositif pour recevoir des magasins contenant plusieurs substrats placés à intervalles, en ce que les magasins sont disposés dans ce dispose tif perpendiculairement à la direction longitudinale de la chambre de pulvérisation et peuvent etre amenés par ce dispositif devant l'ouverture qui relie la chambre de sas et la chambre de pulvérisation en ce que la chambre de pulvérisation comporte un autre dispositif aligné avec le premier pour recevoir les magasins contenant les substrats au-dessus du moyen de transport circulant -sans fin dans la chambre de pulvérisation. dans un plan horizontal suivant la direction longitudinale de cette chambre. en ce que se second dispositif présente un emplacement de magasin pour la prise des substrats dans le magasin et leur dépôt sur les supports du moyen de transport à l'aide d'un manipulateur et un second emplacement de magasin disposé devant le premier dans le sens de déplacement du moyen de transport pour la prise des substrats traités sur les supports du-moyen de transport et la réintroduction de ces substrats dans un magasin à l'aide d'un second manipulateur, ainsi qu'un troisième emplacement de magasin. par l'intermédiaire duquel, au moyen d'un poussoir d'échange des magasins contenant des substrats non traités peuvent etre pris dans la chambre de sas et des magasins contenant des substrats traités peuvent être ramenés dans la chambre de sas9 et en ce que ces emplacements de magasins peuvent être permutés dans le sens allant du premier au second, au troisième et au premier Avec le procédé9 conforme à l'invention et en faisant appel aux caractéristiques de l2installation, on fait principalement en sorte, que les substrats, stockés dans des magasins, soient introduit s en grand nombre dans les chambres de sas et arrivent ainsi pour être traités dans la chambre de pulvérisation Ainsi, pendant qu'un ou- plusieurs magasins contenant des substrats se trouvent en traitement dans la chambre de pulvérisation, on dispose d'un temps suffisant9 sans interrompre le déroulement continu du travail, pour dégazer dans la plus large mesure, dans la chambre de sase d'autres magasins contenant des substrats non traités en créant un vide poussé I1 en résulte qu'en se référant à un substrat individuel, on n'entralne pratiquement pas d'impuretés dans la chambre de pulvérisation Etant donné que la chambre de sas mentionnée sert aussi bien à l'introduction qu'à la sortie des substrats, il est possible, avec le vide réalisé pour l'introduction d'un grand nombre de substrats d'effectuer en même temps l'introduction des magasins contenant des substrats non traités dans la chambre de pulvérisation et la sortie des magasins contenant des substrats traités à partir de cette chambre de pulvérisation On évite ainsi également une nouvelle introduction d'impuretés D'autre partn l installation est considérablement simplifiée et réduite en ce qui concerner l'appareillage mis en oeuvre pour la technique du videg ainsi que pour la construction et 1 encombrement Etant donné que les substrats sont introduits par magasins dans la chambre de pulvérisation et sont à partir de là envoyés individuellement par le premier manipulateur au traitement de pulvérisation; ces substrats étant remis en magasin par le second manipulateur après le traitement, on obtient en outre un déroulement continu du travail de traitement des substrats dans un système fermé de la technique du vide. On dispose pourtant d'un temps suffisant, soit pour effectuera entre la chambre de sas et la chambre de pulvérisation, le remplacement des magasins contenant des substrats non traités par des magasins contenant des substrats traités9 soit lorsque la liaison entre la chambre de sas et la chambre de pulvérisation est interrompue- pour amener la chambre de sas à la session atmosphérique afin de sortir les magasins contenant des substrats traités et d'introduire et mettre sous vide des magasins contenant des substrats non traités.