INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
La sortie n 1 n de la bascule 31 est en liaison avec l'entrée de commande d'un redresseur 32 dont la seconde entrée est reliée a la sortie du redresseur 2, sa sortie étant couplée à l'entrée "0" de la bascule 31 et, par un circuit "OU" 33 et un circuit à retard 34, aux entrées de redresseurs 35 dont les secondes entrées sont réunies aux sorties "1" des bascules du compteur d'ordonnées 3 (pour simplifier, le dessin montre un seul redresseur 35). Les sorties des redresseurs 35 sont raccordées aux conducteurs de code de la mémoire tampon 5.
La borne 36 du commutateur 19 est reliée à la sortie "1" d'u ne bascule de démarrage 37 dont l'entrée n l " est raccordée à la sortie d'un circuit "OU" 38 dont l'entrée est raccordée aux conducteurs 39 et 40 de démarrage du dispositif lecteur d'oscillogrammes multicourbes, respectivement, à partir d'un pupitre de commande et d'une calculatrice qui reçoit l'information lue. L'entrée "0" de la bascule 37 est reliée à la sortie d'un circuit "OU" 1 dont les entrées sont raccordées aux conducteurs 42 et 43 d'arrêt du lecteur respectivement, à partir du pupitre de commande et de la calculatrice. La sortie du circuit "OU" 41 est aussi raccordée à l'entrée d'un circuit "OU" 44.La seconde entre du circuit "OU" 44 est raccordée à la sortie d'un circuit "OU" 45, à l'entrée d'un circuit "OU" 46 et à l'entrée d'un redresseur 47 de disponibilité en ordonnées. L'entrée du circuit "OU" 45 est reliée à la sortie du redresseur 16. La sortie du circuit "OU" 46 est reliée à l'entrée "O" de la bascule 10; la seconde entrée du redresseur 47 est raccordée à la sortie "1" d'une bascule 48, la sortie du redresseur 47 étant couplée à un conducteur 49 de la calculatrice qui reçoit le signal de disponibilité en ordonnées. A l'entrée "0" de la bascule 48 est connectée la sortie du circuit "OU,' 44 et à son entrée "1", est. connectée la sortie du redresseur 21.
Selon l'invention, le lecteur comporte un régulateur automatique de sensibilité de l'amplificateur 9 de courant de la cellule photo-électrique 8 d'enregistrement des lignes d'écriture qui comprend des redresseurs 50, 51 et 52 délivrant des tensions de polarisation prédéterminées à l'amplificateur 9, un compteur d'erreurs de mesure 53 avec un décodeur, un circuit 54 de mise en forme d'impulsions et une bascule de défauts 55. Les conducteurs de sortie du compteur 53 sont connectées aux entrées de commande des redresseurs 50 à 52, son entrée de comptage étant réunie par un commutateur 56 au point commun 57 d'un commutateur 58.
La bascule 55 commande le redresseur 59 dont la sortie est connectée à la borne 60 du commutateur 58 et à l'entrée "0" de la bascule 55. La seconde entrée du redresseur 59 est reliée à la borne 61 du commutateur 58 et à la sortie d'un redresseur 62 raccordé à travers un inverseur 63 au point commun 64 d'un sélecteur 65 du nombre de courbes Le même point 64 du sélecteur 65 est relié à l'entrée du circuit 54 de mise en forme d'impulsions dont la sortie est couplée à l'entrée "1" de la bascule 55.
La seconde entrée du redresseur 62 est reliée à la sortie du circuit "OU" 45 5 et à l'entrée d'un circuit "OU" 66 dont la sortie est réunie à l'entrée "0" du compteur d'ordonnées 3.
Le dispositif lecteur suivant l'invention possède aussi un circuit de formation de zone de rapprochement critique des courbes utilisant une bascule 67 de rapprochement des courbes, des redresseurs 68 et 69 et une bascule 70 d'extrapolation des courbes.
Le dispositif d'imprégnation comporte deux carters étanches 321 et 322 enfermant des poulies de transport du fil. La poulie 323 du carter 321 est motrice. Le carter 322 communique avec l'enceinte 31 par une tubulure 324 reliée par une tubulure 325 à des moyens de vide. Des tubes en verre 326 font communiquer la partie inférieure des carters 321 et 322 avec un bac 327 comportant aussi des poulies de transport 323 et, en outre, une tubulure 328 débouchant dans un réservoir de résine non représenté et que l'on peut obturer par un robinet 329.
Enfin le carter 321 comporte, pour permettre la sortie du fil,une buse 330 analogue à la buse d'entrée 314.
On peut éventuellement interposer sur le trajet du fil, entre l'enceinte 31 et la tubulure 324, une buse 331 à lèvres souples permettant d'établir des vides de valeurs différentes dans l'enceinte 31 et le dispositif de désorption 32 L'installation comporte en outre, à la manière connue, des regards en verre pour contrôler le défilement du fil et éventuellement des dispositifs d'arrêt automatique intervenant lorsque le fil se rompt.
Pour alimenter le dispositif d'imprégnation en résineson ouvre le robinet 329 et la résine est pompée dans le bac 327 par le jeu de la dépression.
Lorsque la résine atteint le niveau convenable, par exemple la section médiane des tubes en verre 326, on ferme le robinet 329.
Ainsi le fil, débité par exemple par une bobine de stockage, est avalé par la buse 314, est désorbé pendant son parcours dans l'enceinte de vide et de chauffage 31, se refroidit dans le conduit 324, pénètre dans le dispositif d'imprégnation 32 où il barbotte dans la résine,et sort enfin par la buse 330, qui assure non seulement l'étanchéité mais aussi l'essorage, pour être enfin stocké sur une bobine ou enroulé selon la forme désirée. Le tube 324 est prévu suffisamment long, compte tenu de la vitesse de défilement, pour que le roving se refroidisse par rayonnement à une température inférieure à la température de polymérisation de la résine choisie.
A titre d'exemple, on peut indiquer que, dans une réalisation, l'enceinte 31 contient 20 m de fil défilant à la vitesse de 1 m par minute.
Dans une autre forme de réalisation du dispositif d'imprégnation en continu selon l'invention, selon la figure 4 les moyens de défilement, de désorption et d'imprégnation sont contenus dans une même enceinte de vide 34 dont les conduits 311, 312 et 325 communiquent avec une même pompe à vide. La désorption est réalisée dans le volume 341 de l'enceinte, dans lequel le chauffage est obtenu à l'aide de projecteurs de rayonnement infrarouge non représentés. L'imprégnation est réalisée dans le volume 342 de l'enceinte. La résine liquide 327 est contenue dans un bac 35 à double paroi refroidie par une circulation de réfrigérant, par exemple de l'eau, pour refroidir la mèche ou fil et éviter l'échauffement de la résine.
Les moyens de vide permettent de maintenir dans l'enceinte 34 une basse pression au plus égale à 10 1 torr.
On va donner maintenant des résultats d'essais obtenus sur des échantillons de produits stratifiés dont l'armature est, selon les cas, en fibres de verre ou de carbone et dont le liant est une résine époxyde, l'armature des uns ayant été imprégnée au pinceau, c'est-à-dire par un procédé du genre connu,et l'armature des autres imprégnée par le procédé de l'invention à l'aide du dispositif de la figure 1.
Le procédé est évidemment applicable à toutes les résines, mais il Bon- vient d'une façon particulièrement avantageuse aux résines à résistance mécanique intrinsèque élevée telles que les résines époxydes. C'est pourquoi les exemples donnés ci-après mettent en oeuvre une époxyde.
Exemple 1 : Armature : fil de verre E (selon la classification " CORNlNG GLASS " et " Société du Verre Textile) Nature du liant : résine époxyde ÂRÂLPITE 740 de la Société CIBA polyméri- sée avec le catalyseur 905 de la même Société.
Nature des essais : traction dans le sens d'orientation du fil.
Résultats : a) imprégnation au pinceau (proportion de résine : 25 ffi du poids total de l'échantillon): R ( charge unitaire de rupture) : 111 à 117 hectobars selon les échantil lons.
E (module d'élasticité longitudinale) : 2 800 à 3 000 hectobars.
b) imprégnation par le procédé de l'invention (proportion de résine : 15 % du poids total de l'échantillon): R 143 à 158 hectobars E 5 100 à 5 400 hectobars.
La figure 15 est une coupe partielle à échelle agrandie, dont certaines parties sont enlevées et qui est effectuée à peu près suivant les lignes 15-15 de la figure 14; et La figure 16 est une coupe partielle à échelle agrandie, et représente en-détail les bords d'un appareil d'affichage du modèle représenté sur la figure 14, avec éclairage autonome.
Les figures 1 et 2 représentent une plaque de verre 20 qui peut avoir des dimensions quelconques,par exemple 10,2 x 10,2 x 0,64 cm, et dont la surface inférieure est dépolie; par exemple à l'acide, de manière à former des irrégularités de surface d'en viron 0,38 à un micron de profondeur. Par conséquent, cette plaque, éclairée par la lumière incidente et vue sous des angles très divers, doit avoir une surface blanche ou gris clair.
Selon l'invention, la diffusion de la lumière incidente 1 par la surface diffusante 21 est empêchée en mettant un film compressible noir 22, supporté par l'organe de commande 23 en contact intime avec 'la surface 21 (figure 2). Le film 22 vient en contact intime avec la surface dépolie 21 et absorbe de la lumière qui sinon serait réfléchie ou diffusée en 2, en direction de l'oeil de l'observateur 3.
On a obtenu des résultats satisfaisants en utilisant des films de caoutchouc aux silicones, d'environ 50 microns d'épaisseur au-dessus d'un organe piézo-électrique 23 qui peut être excité de manière à le déplacer entre les positions des figures 1 et 2.
Un intervalle entre la surface de caoutchouc 22 et la surface 21 d'environ une longueur d'onde de la lumière visible a été jugé suf- fisant pour rétablir la réflexion ou la diffusion par la surface 21 , la tache créée par le film 22 de caoutchouc est sombre ou claire, lorsqu'elle est éclairée, et peut être vue dans un angle de champ très étendu.
Une faible augmentation de la pression appliquée par le film 22 à la surface 21 conduit à une teinte grise plus foncée faisant ainsi varier le contraste de l'image.
On obtient un résultat semblable en appliquant sur la surface 21 une surface de caoutchouc transparente qui est au contact de la-surface lisse plus foncée d'un élément 23.
Selon l'invention, des régions déterminées d'une surface d'affichage plane sont associées à de petits organes de commande mobiles , par exemple les organes 22 , 23, qui se déplacent par rapport à une surface diffusante. En choisissant et déplaçant de manière appropriée ces organes par rapport à la surface diffusante, il est clair qu'on peut agir sur la diffusion de la lumière par ces régions. En variante, une matrice d'éléments peut être placée de manière à empêcher normalement la diffusion, tandis que ces éléments individuels peuvent se déplacer jusqu 'à une position permettant la diffusion.
La figure 3 représente schématiquement une disposition typique d'organes suppresseurs de réflexion ou diffusion. Plus précisément, la figure 3 représente un support 40 sur lequel est fixé un groupe d'organes magnétostrictifs 41 à 46.
Les organes 41 à 46 sont en une matière magnétostrictive appropriée et sont caractérisés en ce qu'ils se raccourcissent en réponse à un champ magnétique dirigé axialement. Les surfaces supérieures et libres des organes 41 à 46 supportent des films de caoutchouc noir 41a à 46a dont lés extrémités sont dans un même plan et sont placées contre une face diffusante d'une plaque qui est placée au-dessus des organes 41 à 46.
Les surfaces supérieures des organes 41a à 46a sont écartées d'environ une longueur d'onde de la lumière verte de l'inter.surface diffusante. Dans ces conditions, l'intersurface diffusante est parfaitement diffusante et a un aspect uniformément blanc. Un circuit approprié est mis en place pour provoquer un allongement sélectif des organes 41 à 46, pour amener sélectivement les films 41a à 46a au contact de la surface diffusante, de manière que les éléments de cette surface en contact avec ceux-ci deviennent foncés.
Ces circuits sont représentés en partie sur la figure 3 par des conducteurs 50 à 53 qui forment un système type adressable pour choisir l'un quelconque des organes magnétostrictifs de l'en- semble. Par exemple, si les conducteurs 50 et 52 sont excités,les champs magnétiques de ces conducteurs s'ajoutent dans l'organe 41 et provoquent l'allongement de cet organe et par conséquent déplacent le film 41a à sa surface supérieure en direction de l'intersurface réfléchissante. L'organe 42 ne s'allonge pas beaucoup, étant donné que le champ magnétique engendré uniquement par le conducteur 50 est trop faible.
les diverses tiges 41 à 46 peuvent être en nickel, qui s'allonge par magnétostriction d'environ 30 ppm. Une tige longue d'environ 25 mm est suffisante pour obtenir un déplacement de l'extré- mité dé la tige d'environ une longueur d'onde d'une lumière visible.
Alors que la figure 3 représente des organes magnétostrictifs séparés, la figure 4 représente un ensemble comportant une plaque unique 60 de matière magnétostrictive dont une face est recouverte d'un film de caoutchouc et qui est utilisée comme matrice plane sous-jacente. Les conducteurs commandant l'utilisation d'une région séparée d'une plaque 60 sont les conducteurs 61 à 65 sur la face supérieure de la plaque 60 et qui sont déposés sur celleci par un procédé de dépôt approprié. La figure 5 représente en coupe transversale la partie de la plaque 60 qui supporte le conducteur 61.
Un second groupe de conducteurs peut être déposé sur la face inférieure de la feuille 60 et comprend les conducteurs 66 à 70 (figure 6). Les courants injectés dans les conducteurs alignés de la figure 6 sont de même sens, si bien que leurs champs magnétiqueg/s'ajoutent. L'emploi du dispositif à deux courants de circulation de la figure 6 fait passer des lignes de force magnétiques dans toute la feuille 60 et non juste à travers une surface de celle-ci, comme l'indique la figure 5.
En service , les lignes de force magnétiques traversant la feuille 60 et en particulier là où les lignes et colonnes se croisent tendent à provoquer des creux ou des bosses dans la pellicule superficielle de caoutchouc. Ceci peut évidemment être utilisé pour régler la diffusion par une intersurface diffusante placée à proximité. Comme pour la figure 3 , on peut réaliser la feuille 60 en une matière magnétostrictive non linéaire, afin de supprimer toute action le long des lignes et colonnes excitées, en provoquant un changement appréciable des dimensions seulement à l'intersection d'une ligne et d'une colonne choisies. En ce qui concerne les systèmes de sélection pour matrices, si les déformations de la matière des suppresseurs sont entachées d'hystérésis, l'affichage serà à mémoire.
Le démarrage du dispositif centrifugeur montré à la figure 1, peut se produire, par exemple de la façon suivante : le tambour centrifuge 1 est chauffé à la température nécessaire, et après réglage du nombre de train voulu, muni de la quantité nécessaire de bain métallique sous forme de couche liquide annulaire 2 qui pour des raisons de commodité, doit être chauffée d'avance à la température voulue. Puis, par le dispositif d'extraction 22 un tube dit de démarrage est introduit dans le tambour centrifuge 1 jusqu'à une faible distance devant le diaphragme d'entrée 8. Puis l'admission de matière 9 est ouverte.
La matière à former 3 coule dans le tambour centrifuge o où une partie de la matière 3 adhère au tube de démarrage. Avec une vitesse de traction réglée, le tube de démarrage est ramené hors du tambour centrifuge 1 à travers le dispositif d'extraction 22, où le corps creux 23, produit de façon continue, qui est encore relié au tube de démarrage, est extrait en même temps en tournant. Derrière le dispositif d'extraction 22, le tube de démarrage est séparé, après quoi la suite de la fabrication du corps creux 23 reprend sa marche sans obstacle.
L'exemple de réalisation représenté à la figure 2 se rapporte à une variante pour la fusion et le formage continu dune matière peu fusible, par exemple silice, en un tube de diamètre extérieur d'environ 300 mm et d'épaisseur environ 20 mm.
La matière de départ, en vrac, non fondue 34, par exemple sable, est introduite par l'arrivée refroidie 33 pour matière en vrac non fondue, un tube d'admission à refroidissement par eau, dans le tambour centrifuge 1 et centrifugé annulairement. Par le dispositif de chauffage intérieur réglable 38, dans le présent exemple, un élément de chauffage en graphite, servant au chauffage indirect par résistance électrique de la matière fondue à former 3, le sable est fondu et raffiné par l'effet de la force centrifuge. La zone de chauffage est entourée d'une couche d'isolant thermique 19. Le tambour centrifugeur 1 présente du cté intérieur, une couche liquide annulaire en étain 2.L'admission 13 du métal liquide vers la couche liquide annulaire 2 se fait périodiquement, soit par une conduite tubulaire passant à l'intérieur de l'admission de matière refroidie 33, soit par une conduite posée séparément. La fabrication du corps creux 23 et la mise en train de l'installation, se font de façon analogue avec le système décrit dans le premier exemple de réalisation, à une vitesse d'environ 620 tr/mn, une avance de 0,2 m/mn et une épaisseur de la couche liquide annulaire 2 d environ 30 mm. A la mise en route de l'installation, la couche liquide annulaire 2 est protégée en supplément par un bain NaCl-SCl.
La forme de réalisation d'une installation de centrifugation horizontale représentée à la figure 3, sert à la fabrication continue d'un tube de verre à plusieurs couches, par exemple un tube en verre cellulaire, à pellicule extérieure épaisse. Le dispositif centrifuge se distingue de ceux des figures 1 et 2 par l'admission de matière 9 sépare, déplaçable axialement, pour la matière fondue destinée à la pellicule extérieure épaisse, l'admission refroidie par l'eau 33, également dépla çable axialement, pour la matière en vrac non fondue 34, par exemple une fritte de verre cellulaire, les cloisons annulaires 10 pour empêcher une condition thermique excessive à l'intérieur de la couche liquide annulaire 2, les collecteurs annulaires 40 tournants reliés de façon fixe avec le tambour centrifugeur 1, qui présentent une couche protectrice de recouvrement 16 en bain NaCl-ECl pour protéger de l'oxydation la couche liquide annulaire 2, en alliage étainargent (94 % Sn, 6 % Ag), et le dispositif de chauffage réglable 38, déplaçable axialement, pénétrant profondément dans le tambour centrifugeur 1, dont le support 41 et l'arrivée de courant sont refroidis par l'eau. La Zo- ne de chauffage est entourée d'une couche d'isolant thermique 19 et de diaphragmes intérieurs d'isolement thermique 37. L'épaisseur de la couche liquide annulaire 2 fluctue dans les diverses zones du tambour centrifugeur 1 entre 50 et 100 mm.
Sur le tube formé au voisinage du diaphragme d'entrée 21 muni de canaux 54, lequel tube a été centrifugé à lar- tir du verre 3 fondu, introduit avec une viscosité d'environ poises, on applique continuellement une fritte de verre cellulaire comme matière en vrac non fondue 34 et on la fait fondre et gonfler dans la région du dispositif de chauffage réglable 38.
Le corps creux formé 23 d'un diamètre extérieur d'environ 1000nom et une épaisseur de paroi d'environ 100mmg est extrait du tambour centrifugeur continuellement avec une avance d'environ 0,5 m/mn en tournant à la vitesse de rotation d'environ 150 tr/mn.
Dans la fabrication d'un tube en verre cellulaire sans couche extérieure épaisse, le même dispositif centrifugeur peut être employé sans 1' amenée de matière 9 pour le produit fondu.
La mise en route du dispositif se fait de la fa çon suivante 0 en analogie avec l'exemple de réalisation de la figure 1 g l'admission de matière fondue étant ouverte, on tire d'abord continuellement un corps creux en verre épais. Après stabilisation du processus de formage, on ouvre l'admission de matière refroidie 33 et on règle la température nécessaire pour le processus de gonflement dans la gamme du dispositif de chauffage réglable 38.
L'exemple de réalisation représenté dans la figure 4, avec axe de rotation vertical de la couche liquide annulaire 2 dans une chambre centrifugeuse non tournante 5, il est prévu un canal relié à la cuve de fusion comme admission de matière 9 pour le produit fondu, ici par exemple un verre de composition (en poids %) 80,8 3in2, 2,0 lui203, 12,8 B203, 3,9 Na20, 0,5 CaO, pénétrant par le fond dans la chambre de centrifugation 5. Dans la région de l'amenée de matière 9, la chambre centrifugeuse 5 est entourée d'une couche d'isolant thermique 19.
La rotation de la couche liquide annulaire 2, un bain d'étain, est obtenue par un dispositif agitateur 6 entrant mécaniquement à vitesse réglable, sur la surface intérieure duquel s 'appuie la couche liquide annulaire 2, et sur celle-ci la matière fondue à former 3. Le dispositif d'agitateur 6 est fixé en dehors de la chambre centrifugeuse 5 par les paliers 18, avec possibilité de déplacement axial de sa position verticale.
Les paliers 18 permettent un déplacement vertical du dispositif d'agitateur 6. La couche liquide annulaire 2 sert, en même temps d'électrode pour le chauffage électrique indirect, par résistance du verre dans l'arrivée de matière 9, tandis qu'une électrode fixe 1 1 plonge dans le verre fondu dans la région de 1 'arrivée de matière 9, et les deux électrodes sont reliées en conduction électrique par un dispositif 20 pour l'application d'un courant réglé continu ou alternatif.
L'étain fondu est protégé de l'oxydation aux points libres entre la chambre centrifuge 5 et le dispositif d' agitateur 6, par une couche protectrice 16 en un bain d'eutectique NaCl-ECl, qui est introduit sous pression par un dispositif d'admission et de délimitation 55, et aut points libres entre le dispositif d'agitateur 6 et le corps creux formé 23 par un dispositif d'admission et de délimitation 39 de gaz réducteur pro testeur. Un système de conduites fermé avec arrivée 13 et retour 15 assure le renouvellement permanent du bain d'étain.Le corps creux formé 23 ayant un diamètre extérieur d'environ 230 mm et une épaisseur de paroi d'environ 15 mm est extrait en tournant vers le haut avec une avance d'environ 0,5 m/mn par le diaphragme de sortie 24 fixé, avec possibilité d'échange, dans la partie supérieure du dispositif d'agitateur 6.
La mise en route avec ce dispositif se fait de la façon suivante : dans la chambre centrifugeuse 5, l'étain fondu pour la couche liquide 2 est introduit par l'admission chauffée 13, jusqu'au voisinage du bord supérieur de l'admission de matière 9, et maintenu liquide par un chauffage supplémentai re. Ensuite, le dispositif d'agitateur 6 plongeant dans la chant bre centrifugeuse 5 jusque dans l'étain liquide, est mis en route et mis en rotation. Après application de l'étain liquide sur les surfaces intérieures de la chambre centrifugeuse 5 et du dispositif d'agitateur 6, on admet encore de l'étain liquide par l'arrivée 13, jusqu'à ce qu'on ait la quantité suffisante.En même temps que par le dispositif d'admission et de délimitation 55, la couche protectrice est admise sous pression, l'admission de matière 9 est ouverte, et, en analogie avec l'exemple exposé à la figure 1, à l'aide d'un tube de démarrage introduit verticalement, le processus de tirage vertical continu est amorcé.
Avant que la matière fondue 3 soit admise, on peut avantageusement protéger de l'oxydation la surface de la couche liquide annulaire 2 par une atmosphère de gaz protecteur, de la poudre de graphite ou un bain de sel.