INPI-France/Brevets-Francais-2024-Chunked huggingface dataset:
Quand le potentiel d'intervalle est inférieur à une valeur préfixée qu'on peut établir par la position du frotte@r reglable de la résistance d'intervalle Rg. le transistor Tr1 est sensi@le- ment non conducteur et le transistor Fr2 est mis hors circuit, de sorte que l'enroulement La est desexcite. Le potentiel élevé de collecteur du transistor Tr2 rend alors conducteur le transistor Tr3, provoquant ainsi la saturation du transis@or Tr4, de sorte que le servo-enroulement Lb est excité et amène l'électrode à son déplacement de recul. Ceci représente la premiere condition digitale. La seconde condition digitale est présente quand le tran sistor Tr2 est saturé en réponse à une élévation du potentiel d'intervalle détectée par le transistor d'entrée Tr1, et le servoenroulement La d'avancement est alors excité.Comme le potentiel de collecteur du transistor Tr2 tombe à zéro, le transistor Tr) devient non conducteur et le transistor Tr4 est mis hors circuitS ce qui désexcite le servo-enroulement Lb de recul. En réglant convenablement les résistances de ces transistors, il est possible de rendre la transition antre ces deux états instantanée quand le potentiel variable d'intervalle passe par la valeur de seuil.
Le système de la figure 7 peut également comprendre un oscil lateur. constitué ici par un multivibrateur MV fonctionnant librement, dont la sortie es- @eliée aur électrodes de commande du transistor Tr2 pour lui appliqu@r un train d'impulsions de commande. Bien que ce pulseur soit destiné à fonctionner constamment, on comprendra que a sortie nuait sur la servo-vanne que ] lorsque la commande d'alimentation ascendante de l'électrode est engendrée à travers l'enroulement Lb.Quand la servo-vanne est soumise à la commande d'alimentation descendante le transistor Tr2 est maintenu saturé et l'entrée se rendant du pulseur MV à ce transistor ne . modifie pas r ét@t de mise hors circuit du transistor Tr4 Mais quand la servo-vanne est soumise à la commande d'alimentation ascendante le transistor Tr2 est maintenu hors circuit, et un train d'impulsions provenant du multivibrateur MV a alors pour effet de rendre ce transistor conducteur par intermittence, en excitant ainsi par intermittence l'enroulement La d'alimentation descendante, avec pour résultat que la commande d'alimentation ascendante appliquée par l'enroulement Lb est annulée par intermittence. On a trouvé qu'une telle commende est avantageuse en ce qu'elle élimine une course ascendante excessive possible après l'apparition d'un court-circuit et élimine par suite une course excessive d'alimentation descendante quand l'électrode est accélérée du fait qu'elle parcourt une longue distance à partir d'une position reculée à l'excès.
La figure 1b montre schématiquement un système incorporant certains des principes de la présente invention dans une disposition d'ensemble pour l'usinage par décharges électriques. Dans cette forme d'exécution. l'électrode-outil E est creuse et reçoit une alimentation de réfrigérant (par exemple un diélectrique tel que du kérosène ou de l'huile de transformateur) à partir d'une pompe P et d'un réservoir R.Le fluide traversant l'intervalle d'usinage est recueilli et renvoyé au réservoir R à travers le filtre B. Une alimentation EDMPS en énergie d'usinage est reliée à l'électrode E et à la pièce de travail W et peut être munie d'un dispositif M de surveillance de l'intervalle tout en étant sensiblement du type décrit en référence à la figure 4, c'est-à-dire du type à adaptation avec réponse automatique aux conditions de l'intervalle.
Le mouvement d'avancement (descendant) de l'électrode E ou le mouvement de recul (ascendant) est commandé par un servo-moteur SM accouplé à l'électrode E au moyen d'un dispositif à crémaillère et pignon ER et SMP et reçoit de l'énergie à travers l'amplificateur ou commande bidirectionnel SMC.
Quand on désire une alimentation par impulsions dans le sens du recul et/ou de l'avancement, on peut disposer un ou plusieurs oscillateurs SWG dont la fréquence, la hauteur de pulsation, la largeur de pulsation et l'intervalle entre les pulsations sont variables pour les appliquer à la servo-commande à travers par exemple des portes de coincidence U et D répondant respectivement aux états d'un circuit de seuil du type du déclencheur de Schmitt ou du multivibrateur bistable représenté en GCD. les seuils Thi et Th2 déterminent les états digitaux qui sont appliqués aux portes comme signaux de libération Une condition nulle ou de point mort dans laquelle aucun signal n'est appliqué pour déplacer l'électrode est représenté en 1-4. Pour la coB nde d'adaptation, on peut relier le dispositif de surveillance iG au circuit de déclenchement GCD ou à l'oscillateur SWG comme précédemment décrit On a montré sur les figures 3A et 8B comment des conditIons différentes de caracteristiques apparaissent effectivement dans l'usinage par décharges électriques ainsi que leur relation avec des potentiels détectables et mis en évidence d'intervalle, qui conduit au présent concept de commande Sur la figure 83 : la courbe À représente une variation type de potentiel à l'intérieur d'une impulsion unique d'une décharge en phase liquide pour une colonne de décharge à haute énergie complètement pincée par le liquide ambiant ; la courbe B représente le changement de potentiel d'une décharge gazeuse, la colonne de décharge étant sensiblement dilatée à cause de la présence d'une quuuuntité accrue de vapeurs et de gaz métalliques ; la courbe C représente une décharge en phase mixte liquide-gaz, décharge en phase liquide qu'on rencontre dans certains types d'opérations, d'usinage et qui est la forme optimale de la décharge ; la courbe Dreprésente le court circuitS et la courbe E représente le changement de potentiel pendant un quasi court-circuit qui résulte de débris de produits décomposés et/ou de copeaux usinés.
Comme l'indiquent ces courbes, on a trouvé qu on obtient une discrimination claire entre les conditions en surveillant 1'in- tervalle entre les électrodes pendant l'intervalle de temps entre t1 et t2, par exemple entre un dixième et un cinquième de la largeur totale de l'impulsion ou pendant l'intervalle de temps entre t3 et t4 c'est-à-dire un intervalle semblable de temps après environ une moitié de la largeur totale de l'impulsion. Ainsi, en établissant par exemple trois niveaux de seuil, il est possible de distinguer l'une de l'autre trois conditions de décharge dif- férentes l'une de autre à un instant donné.
Ona par conséquent représenté sur la figure 9 un surveilleur 35 d'-intervalle constitué par trois discriminateurs de seuil 35a, 35b et 35c pour inspecter les caractéristiques de l'intervalle pendant une période donnée de temps à l'intérieur de chaque impulsion d'usinage A cet effet, on installe un dispositif de retard 56 qui permet à l'un de ces discriminateurs de répondre sélectivement à un signal d'intervalle pendant une telle période de temps. le dispositif de retard comprend une capacité 36a capable de-commencer à se charger à travers une résistance 36b, en réponse au début de chaque décharge, par une chute de potentiel engendrée à une résistance de détection 37 reliée en série avec l'intervalle d'usinage et une borne dgune source énergie d'usinage.
La borne positive de la capacité 36a est reliée à l'émetteur du transistor PNP 38 et sa borne négative est reliée à la base de ce transistorO L'émetteur et le collecteur du transistor 38 sont reliés en série avec une résistance 39 de surveillance de l'intervalle, la connexion en serie étant disposée en parallèle avec 1 'in- tervalle d'usinage. On voit ainsi qu'un certain temps après le début dune impulsion d'usinage la capacité 36a se décharge et que le transistor est rendu conducteur et réunit la résistance 39 renseignant sur l'intervalle à l'intervalle et permet qu'il s' forme un signal proportionnel au potentiel existant d'intervalle pendant seulement une durée donnée par le moment de la décharge de la capacité 36a.
Chacun des discriminateurs de seuil 35a, 35b et 35c peut être constitué, comme représenté, par un circuit de Schmitt accouplé à une diode de Zener @da, Zdb, Zdc disposée à l'entrée du circuit, le potentiel préfixé de transition de Schmitt ainsi que le potentiel respectif de non ionctionnement (rupture) de la diode de Zener déterminant une valeur particulière de seuil à établir.
Comme le potentiel de court-circuit est sensiblement nul, que le potentiel de décharge gazeuse est deenviran 30 volts, que le potentiel de décharge dans un mélange de liquide et de gaz est d'environ 40 volts et que le potentiel de décharge en phase liqui- de avoisine 50 volts pendant une période comprise entre t1 et t2 dans une situation type, il est clair que trois niveaux de seuil pour les discriminateurs 35a, 35b et 35c, si on les fixe par exem- ple respectivement à 20, 35 et 45 volts, procurent des démarcatios- claires entre ces décharges caractéristiques.
A la sortie de chaque discriminateur est disposée une source lumineuse (lampe) Lpa, Lpb, Lpc excitable par une source S, et on voit que le signal d'intervalle, quand il dépasse la limite respective de seuil, permet leur éclairement. Ainsi, pendant la pe- riode t1-t2, quand l'intervalle est court-circuité, aucune des lam- pes Lpa, Lpb et Lpc n'éclaire; quand amène décharge gazeuse a lieu seule la lampe Ipa peut éclairer ; quand la décnarge est du type d'un mélange de gaz et de liquide, la seconde lampe lpb éclaire également, et quand la décharge est du type en phase liquide, toutes les lampes son@allumées. Les signaux lumineux peuvent être appliqués à un servo-circuit comme décrit co-dessus pour changer ainsi les seuils pour la commande de l'intervalle et/ou les vitesses d'alimentation, de sorte que l'électrode peut être commandée d'une façon s'adaptant à une condition particulière existante d'une caractéristique d'intervalle. Par exemple, une partie de la résistance Rg' qui sur la figure 7 forme avec al résistance Rg le diviseur de potentiel de l'intervalle, peut être constituée par un dispositif photo-conducteur auquel on peut appliquer les signaux lumineux provenant des lampes Lpa, Lpb et Lpc. Dans le système de la figure 1, un tel dispositif photoconducteur peut former la résistance 10a. On peut également rendre adaptif le système de la figure 2 en disposant un dispositif photoconducteur en parallèle avec la résistance de Schmitt 112r et en le rendant capaple de répondre à des signaux provenant du système adaptif 35. En apportant de telles modifications, on obtient un mode perfectionné de servo-fonctionnement et atteint des résultats optimauz et stabilisés d'usinage, qu'on ne peut pas.atteindre avec les servo-systèmes usuels avec référence ou seuil unique.
Sur la figure 10, on a-montré encore un autre système per Sectionné de positionnement de l'électrode qui convient particu- lièrement pour 12 usinage par décharges électriques et comprend un dispositif de saut de. l'électrode capable de fonctionner en conjonction avec un servo-ensemole comme décrit précédemment. Le servo-circuit comprend ici deux circuits de Schmitt 312A et 312B capables de produire un signal préfixé de descente et un signal préfixé de montée respectivement au moyen des servo-enroulements La et Lb quand il y a discrimination du potentiel d'intervalle relativement à une valeur supérieure préfixée de seuil et à une valeur inférieure préfixée de seuil.Dans ce cas, lorsque le potentiel d'intervalle est compris entre ces valeurs de seuil; aucun signal n'apparaît ni à l'enroulement La ni à l'enroulement lb et la servo-pièce est maintenue au point zéro. Ainsi, le servosystème fonctionne dans trois états digitaux bien définis suivant la valeur du potentiel d'intervalle L'ensemble 40 de saut de l'électrode comprend le transforma- teur 40a dont l'enroulement primaire est relié aux enroulements La et Lb pour détecter le signal de montée et le signal de descente qui leur sont appliqués et dont l'enroulement secondaire est connecté comme représenté à travers des redresseurs à un réseau in tégrateur 40b dont le potentiel aux bornes indique donc l'apparition de signaux de montée et de signaux de descente pendant un temps unité. La sortie de cet intégrateur est reliée à un déclencheur de Schmitt 40c dont la sortie est à son tour reliée à travers un réseau différentiateur 40d à un multivibrateur 40e à im pulsion unique (monostable). Ces trois derniers réseaux reçoivent en commun leur énergie d'une source 40f.A la sortie du multi vibrateur 40e est disposé un transistor 40g dont les électrodes primaires sont reliées en série avec la source 40f et l'électrode de commande du transistor 40h. dont les électrodes primaires sont reliées aux extrémités de l'intervalle d'usinage.
L cause des débris d'usinage, le seivo-déplacement de l'élec- trode peut provoquer un pompage, et alors la fréquence de l'apparition d'un signal de montée et d'un signal de descente augmente.
En conséquence, quand le potentiel aux bornes de l'intégrateur 40b s'élève au-dessus d'un niveau préfixé de transition du déclencheur de Schmitt 40c, le multivibrateur 40e à impulsion unique est activé et engendre une impulsion d'une durée donnée et rend le conduc teur le transistor 40g et par suite le transistor 40h, shuntant ainsi l'intervalle d'usinage pendant cette durée d'impulsion.
Tant que l'intervalle est shunté, la résistance d'intervalle Rg présente seulement le signal de court-circuit pour les servodétecteurs 312A et 312B, peu importe la chute de potentiel qui existe réellement et l'intervalle d'usinage, et seul un signal d'alimentation montante (déplacement ascendant) peut être produit par le déclencheur de Schmitt à travers l'enroulement Lb, en obligeant ainsi l'électrode d'usinage à sauter, c'est-à-dire à se déplacer nécessairement vers le haut;Quand l'impulsion provenant du générateur d'impulsion unique est terminée, l'impulsion dont on peut naturellement régler la durée pour déterminer convenablement la longueur du saut en conjonction avec l'intensité du signal de montée, le potentiel de l'intervalle d'usinage deviendra un potentiel élevé ou de circuit ouvert, et le circuit de Schmitt 312A procurera instantanément une commande d'alimentation descendante à travers l'enroulement La pour la reprise de l'opération d'usinage. le procédé de sauts rapides crée une sorte d'effet de pompage.Pendant le mouvement ascendant abrupt, du liquide frais d'usinage est aspiré dans l'intervalle, et pendant le mouvement abrupt descendant qui suit alors, un tel liquide est pompé vers l'extérieur en entrainant senszelement tous débris ou tout goudron accumulés, en éclaircissant ainsi la zone d'usinage ; le procédé convient en particulier pour forer un trou profond et/ou étroit ou quand on ne fait pas circuler un liquide d'usinage dans le but d'un fonctionnement sans usure, bien qu'il ne soit pas limité à un tel usage.Quand on fait circuler un liquide dtusinajge, on peut avantageusement augmenter sa vitesse d'écoulement ou sa pres- sion en même temps qu'on exécute le saut rapide décrit (par exem ple au moyen de la pompe P1 à piston, figure lb, actionnée par intermittence), ce qui augmente davantage l'effet de ltenlèvement des débris ou de l'éclaircissement de l'intervalle. le court-circuitage de la source d'énergie d'usinage par le shunt 40h décrit est également avantageux parce qu'il a pour effet d'éliminer instantanément toute condition indésirable pouvant causer du pompage.
La figure 10 montre également un enroulement 40i accouplé à la servo-pièce et excitable par la sortie du multivibrateur 40c à impulsion unique pour remplacer ou de préférence s'ajouter au transistor 40h pour produire le signal de saut rapide pour la servovanne.
158 passant par le centre du filament 54 et qui est parallèle et dans le même plan que la première droite, soit r „ = 2P pour la fa-
ex cette 1M. —
En se référant à la Fig. 11, la facette 4HM comprend une droi-
15 te 160 constituant la surface cylindrique de la facette dans le plan horizontal central. Une seconde droite 162 passe par le centre
164 du filament 54 et est parallèle et dans le même plan que la droite 160. Cet écartement fixe une valeur D ou distance entre les droites 160 et 162 qui est égale à la moitié du rayon de courbu
20 re r „ de la facette 4RM. Les valeurs D des facettes restantes H de cl la rangée du milieu sont déterminées d'une manière similaire. Dans les rangées supérieures U et les rangées inférieures D, les facettes sont des cylindres circulaires qui se rapprochent des cylindres paraboliques de la manière décrite ci-dessus. La distance focale P 25 du cylindre initialement parabolique est la "valeur D" de la facette du milieu de la colonne correspondante. Toutefois, comme mention né plus haut, lorsque le cylindre parabolique est établi, le foyer et le centre de courbure des cylindres circulaires obtenus ne sont pas nécessairement dans le plan horizontal.
30 Les facottes supérieure ou inférieure dans une colonne donnée dépendent dans une grande mesure de la dimension et de la position de la facette du milieu . Plus précisément, étant donné que la rangée du milieu de facette et la hauteur totale du phare sont symétri ques par rapport à l'axe horizontal du phare, la hauteur des facet-35 tes supérieures, par exemple, est la distance entre le bord supérieur de la facette 2RM et le bord vertical supérieur du réflecteur La largeur ainsi que l'angle e par rapport à l'axe du filament 54 sont les mêmes que pour la facette du milieu pour réduire à une valeur minimale les intervalles de limite. Ce procédé est applicable 40 à toutes les rangées et colonnes de facettes pour achever la synthè
se initiale du diagramme désiré. Le diagramme ainsi obtenu permet dans beaucoup de cas un comportement optique acceptable du réflecteur. Toutefois, une précision plus élevée et un meilleur fonctionnement de la surface réfléchissante de base peuvent être obtenus en 5 réorientant sélectivement les facettes séparées.
Bien que l'on puisse utiliser un grand nombre de techniques de remise en place pour améliorer le rendement optique du réflecteur, les deux procédés décrits ci-dessous améliorent de façon significative le diagramme d1éclairement tout en réduisant à une valeur mi-10 nimale le déplacement nécessaire des facettes. Dans un procédé comme celui représenté à la Fig. 14, une facette représentative 170 rapportée au centre géométrique de la surface réfléchissante 172 est articulée de façon universelle sur l'axe focal 174. Selon une variante, la facette 170 tourne autour d'un axe horizontal 176 (Fig. 15 13) passant par le centre 177 de sa surface réfléchissante 178 pour produire un décalage vertical de l'image, et autour d'un axe vertical 179 passant par le centre 177 pour produire un décalage horizontal de l'image. Etant donné que ce dernier procédé nécessite généralement une rectification de position moins importante des facettes 20 individuelles pour obtenir une amélioration donnée du diagramme global d'éclairement, ce procédé est décrit ci-après.
La rotation indiquée ci-dessus de l'élément 170 autour de son axe géométrique fait reculer la distance focale de la surface par rapport à une droite passant par le centre du filament 54, ce qui 25 déforme l'image réfléchie. L'image projetée par la surface réfléchissante est déformée de façon croissante pour chaque incrément de décalage. Ainsi, en un certain point, qui a été déterminé à 4 environ de la distance focale, il est produit une image déformée de façon inacceptable. En conséquence, si le décalage de l'image est 30 supérieur à cette valeur, il faut déterminer un nouvel angle ©■ de . facette et un nouveau rayon de courbure r^ de façon que l'image réfléchie soit de nouveau dans les limites prescrites de déformation et soit dirigée vers la position envisagée dans le diagramme d'é-clairement.
35 Par exemple, comme représenté à la Fig. 17, une facette 180
présente un angle de facette initial ©■ par rapport à l'axe 182 du filament 54 et une "valeur D", établie entre une droite 184
passant par le centre du filament 54 et une droite parallèle située le long de la facette réfléchissante 180. Lorsque la surface 180 40 tourne autour de son axe 188 d'un angle «/"le jusqu'à une position 190-,
Agrocybe arvaris (Fr.) 42,57 5,81 Fayod var Tuberigena (Quel.) Konr. et Maubl,
Agrocybe cylindraceae 40,42 6,88 (Fr.> Maire
Naematoloma gracile Hongo 38,39 5,94
Pholiota spumosa (Fr.) 42,94 6,83 Sing.
->4
Teneur Dose Taux d'inhi- Taux d'inhi- tu en mg/Kg bition de la bition de la °
180 (%) d'Ehrlich (%}
0,84 300
On considère le comportement d'additifs à base de soufre MgSO4 et Na2S > dans le système de réduction. La figure 2 représente les zones de stabilité des systèmes Fe - S - O(B1), Cr - S - O (B2), Mg - S - O (B4) et Na - S O (B5), en fonction des tensions d'oxygène et de soufre. L'équilibre binaire a été calculé à 1100C mais 1' équilibre univariant a été déterminé à 900 C (a), 1100C (b), 12500C (c) et 1400 C (d), de sorte que l'influence de la température sur les plages de stabilité peut être observée.L'influence de l'acide silicique sur les phases oxydes des additifs est également indiquée sur le diagramme Du fait de la structure des chromites, la réduction intervient dans la zone comprise entre les pres sions de dissociation de la magnétite pure et de l'oxyde de chrome pur (1100 C - Fe304(s) : PO2 = 2,60 x 10-12 atm. ou Pco2/Pco = 2,61 et Cr203(s) : PO2 = 4,30 x 10-20 atm., ou Pco2/Pco = 3,j6 x la 4 ; la la pression de dissociation de la phase fer de FeCr2O4(s) - - est, de même : P02 = 2,19 x 10 atm. ou Pco2/Pco = 2,40 x 10-2.
En ce qui concerne les tensions de soufre, l'opération a lieu à des tensions inférieures à la pression de dissociation de la pyrrotite (1100 C - FeS(1) : PS = 1,61 x 10-6 atm et 2 CrS(s) : PS = 2,81 s 10-10 atm), qui sont déterminées suivant 1' activité en 2 soufre des produits de la réduction.
On voit sur le diagramme de stabilité que, dans la zone de réduction du fer et du chrome dans le système Mg - O - S, la phase stable est MgO(s), (en partie aussi en ce qui concerne FeS et CrS), dans la plage de température considérée. Le carbone du mélange en réduction, ou ses composés volatils, provoque la réduction de ltoxygène dans le sulfate, de sorte que le résultat final est MgO et une phase gazeuse. A condition que le fer ne soit pas réduit, la réduction de MgSO4 par le carbone à 900 C fournit, lorsque le produit final est MgO(s) ou MgS(s), les phases gazeuses suivantes (les pourcentages étant en volume) : 77,6 CO, 1,6 C02, 11,0 COS, 8,8 CS2, 1,0 S2, et PO2 = 4,1 x 10-20 atm, ou 97,1 CO, 2,9 CO2 et PO2 = 7,4 x 10-20 atm.A 1150 C, la phase gazeuse correspondante est : 84,0 CO, 0,1 CO2, 2,8 COS, 11,5 CS2, 1,61 S2 et PO = 3,0 x 10-18 atm., ou 99,9 CO, 0,1 C02 et PO - 4,4 x 10-18 atm.
Dans certains cas, la phase gazeuse ou le MgS solide est capable de réduire et de sulfurer les oxydes de fer et la chromite.
Les résultats expérimentaux montrent que la décomposition de MgSO4 dans le système en réduction croit relativement lentement avec la temérature. Lorsque la température du mélange en réduction s'est élevée jusqu'à 950 C à une vitesse donnée, la proportion de soufre sous forme sulfate dans le soufre total est de 68%, et l'abaissement du soufre total est de 6% par rapport à sa valeur initiale, Lorsqu'on atteint la température de 11500C, les valeurs de soufre correspondantes sont de 28% et 11%.Les proportions de fer réduit, mesurées par dissolution dans un acide minéral, par rapport au fer total, aux mêmes températures, sont respectivement de 5% et 23S. La répartition des composants dans le grain de chromite et à son proche voisinage, dans un échantillon en réduction, à la température de 9500C, est visible sur la figure 3, sous forme de clichés radiographiques0 On voit sur cette figure, en (a) et (b), que le chrome et ltoxygène sont répartis relativement uniformément dans le grain. Le soufre, visible sur le cliché (d) a pénétré, dans une zone relativement large, dans les parties de la surface du grain à haute teneur en fer et évidemment dans les micropores.On voit en (b) qu'un léger enrichissement en oxygène se produit à la surface du grain de chromate, ce qui résulte du sulfate non encore décomposé, La ségrégation du fer métallique n'est pas encore visible.