FR 3157944 A1 20250704 FR 2315493 A 20231229 L'invention concerne un procédé de génération holographique d’un réseau de points de focalisation disposés selon plusieurs positions du champ d’un système optique comprenant (S10) la détection d’images formées par le système optique en une pluralité de points de calibration disposés selon plusieurs positions du champ du système optique ; (S20) l’estimation des aberrations introduites par le système optique sur le champ optique à partir des images détectées ; (S30) l’application d’un masque de phase au faisceau optique, afin de générer une pluralité de points de focalisation disposés selon plusieurs positions dans le champ du système optique ; dans lequel le masque de phase est calculé, à partir des aberrations estimées, afin de compenser simultanément les aberrations au niveau de chaque point de focalisation. L’invention concerne également un système de génération holographique mettant en œuvre ledit procédé. Figure pour l’abrégé : Fig. 2 Procédé de génération holographique d’un réseau de points de focalisation Arrière-plan de l'invention La présente description concerne un procédé de génération holographique de points de focalisation. De plus, la présente description concerne un système de génération holographique de points de focalisation mettant en œuvre ledit procédé. Les systèmes de génération holographique de points de focalisation consistent généralement en la génération d’un réseau de points de focalisation à partir d’un faisceau optique au moyen d’un système optique et d’une modulation de phase du front d’onde composant le faisceau optique généralement appliquée au moyen d’un modulateur spatial de lumière. Cependant, les systèmes optiques utilisés sont en général imparfaits et introduisent des aberrations dans le faisceau optique qui dégradent la qualité des points de focalisation. En particulier, l’homogénéité d’intensité des différents points de focalisation peut être réduite. De plus, la fidélité de la forme des points de focalisation par rapport à une forme souhaitée peut aussi être réduite. Typiquement, il a été constaté que, lors d’application de ces systèmes à la génération de pinces optiques, les aberrations du système optique conduisent à des déformations des pinces optiques qui réduisent les performances desdites pinces pour diverses applications comme la manipulation de tableaux d’atomes. Des solutions ont été proposées afin de réduire l’impact des aberrations des systèmes optiques sur la qualité des points de focalisation. Par exemple, il a été proposé de mesurer les distorsions du front d’onde introduites par le système optique puis de compenser ces distorsion en appliquant un masque de phase corrigé au faisceau optique, voir [REF 1], [REF 2], [REF 3]. Toutefois, dans ces méthodes, les aberrations du système optique ne sont évaluées qu’en un point, généralement un point localisé sur l’axe optique, et la caractérisation des aberrations ne prend pas en compte le fait que les aberrations introduites par les systèmes optiques en un point du champ optique dépendent de la position de ce point dans ledit champ. Ainsi, les méthodes existantes ne permettent pas de corriger toutes les aberrations introduites par le système optique pour tous les points de focalisation générés. Il existe donc un besoin d’une méthode résolvant les problèmes de l’état de l’art. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront de la description suivante de modes de réalisation de l'invention, donnés à titre d'exemples non limitatifs, en référence aux figures annexées, sur lesquelles : FIG. 1 La FIG. 1 est une vue schématique d’un système de génération holographique selon la présente description ; FIG. 2 la FIG. 2 est un diagramme en bloc d’un exemple de procédé de correction des aberrations selon la présente description ; FIG. 3 la FIG. 3 est un ensemble d’images illustrant des avantages du procédé selon la présente description, sur la base de résultats expérimentaux obtenus pour des points de focalisation gaussiens ; FIG. 4 la FIG. 4 est un ensemble d’images illustrant des avantages du procédé selon la présente description, sur la base de résultats expérimentaux obtenus pour des points de focalisation de type bouteille. Description détaillée de l’invention La FIG. 1 représente un système de génération holographique pour mettre en œuvre le procédé selon la présente description. Le système de génération holographique comprend une source optique 101, un modulateur spatial de lumière (SLM) 102, un système optique convergent 103, un système d’imagerie 104 et une unité de contrôle 105. La source optique 101 émet un faisceau optique en direction du SLM 102. Le faisceau optique est modulé par le SLM 102 et pénètre dans le système optique 103 qui le fait converger au niveau du plan focal image 106 du système optique 103. Selon la modulation appliquée par le SLM 102, le faisceau optique est focalisé selon différentes distributions de lumière dans le plan focal du système optique 103. En particulier, il est possible des choisir une modulation de phase permettant la focalisation du faisceau optique en un ou plusieurs points de focalisation au moyen de techniques connues, voir par exemple [REF 5]. L’intensité lumineuse du champ optique dans le plan focal 106 du système optique 103 est détectée par le système d’imagerie 104. L’unité de contrôle 105 acquière et traite les données d’imagerie issues de l’image détectée par le système d’imagerie 104. De plus, l’unité de contrôle 105 commande la modulation appliqué par le SLM 102. La source optique 101 peut comprendre différents types de sources optiques, par exemple une source laser ou toute autre source cohérente spatialement sur l’étendue du SLM et de longueur de cohérence compatible avec la génération holographique des points de focalisation. Par exemple, une lampe spectrale (filtrée ou non) ou une lampe à incandescence filtrée dont le spectre est filtré par un filtre à bandé étroite peuvent être utilisées. Le SLM 102 peut comprendre tout type de modulateur spatial de lumière permettant au moins la modulation de la phase d’un faisceau optique émis par la source optique 101. En particulier, bien que le SLM 102 représenté dans la FIG. 1 soit utilisé en réflexion, d’autres SLM conviennent à la mise en œuvre du procédé selon la présente description, comme par exemple des modulateurs spatiaux de lumière en transmission. Il est aussi possible d’ajouter des éléments diffractant non-modulables, ou des modulateurs à micro miroirs (DMD) effectuant du codage de Lohman pour moduler la phase. Dans certains exemples, le SLM 102 est agencé au niveau de la pupille d’entrée du système optique ou d’un plan conjugué avec le plan de la pupille d’entrée du système optique. Le système optique 103 est généralement un système optique centré. Le système optique 103 peut être constitué d’une unique lentille convergente. Dans d’autres exemples, le système optique 103 peut être plus complexe et être constitué de plusieurs éléments optiques, tels que plusieurs lentilles convergentes ou un ensemble de lentilles convergentes et divergentes ou tout autre assemblage de plusieurs éléments optiques. Le système optique peut également comprendre des éléments tels que des diaphragmes, des polariseurs, des miroirs, et/ou des lames semi-réfléchissantes ou tout autre élément optique classiquement utilisés dans des montages optiques. Comme illustré dans la FIG. 1 , dans certains exemples envisagés dans la présente description, le système optique 103 peut être un télescope afocal 132, 133 faisant l’image du SLM 102 sur une lentille asphérique 131, par exemple une lentille asphérique de focal centimétrique ou millimétrique. Le système d’imagerie 104 comprend un détecteur 141, comme une caméra, comprenant une surface d’acquisition configurée pour convertir le signal lumineux du faisceau optique transmis par le système optique 103 en signal électrique. Le système d’imagerie 104 peut également comprendre ou plusieurs éléments optiques supplémentaires 142, 143. Dans certains exemples, le détecteur 141 est agencé de sorte que son plan focal objet soit confondu avec le plan focal image 106 du système optique 103. Comme illustré dans la FIG. 1 , le détecteur peut comprendre un dispositif optique 143 grossissant dépourvu d’aberrations entre le plan focal 106 du système optique 103 et la surface d’acquisition du détecteur. Cet agencement est particulièrement avantageux dans le cas où les images (i.e. les taches optiques) générées dans le plan focal image 106 du système optique 103 comportent des détails inférieurs à la taille d’un pixel du détecteur 141. La FIG. 2 illustre des étapes d’un exemple de procédé selon la présente description. Le procédé selon la présente description comprend en particulier les étapes suivantes : S10 la détection d’images formées par le système optique en une pluralité de points de calibration disposés selon plusieurs positions du champ du système optique ; S20 l’estimation des aberrations introduites par le système optique sur tout le champ du système optique à partir des images détectées ; et S30 l’application d’un masque de phase afin de générer une pluralité de points de focalisation disposés selon plusieurs positions dans le champ du système optique, le masque de phase compensant simultanément les aberrations au niveau de chaque point de focalisation. Dans l’étape S10 du présent procédé, une pluralité de points de calibration est générée à l’aide de plusieurs modulations de phase du faisceau optique traversant le système optique dont les aberrations doivent être estimées, par exemple via un masque de phase connu calculé à cet effet, voir par exemple [REF 5]. A titre d’exemple, le système de génération holographique illustré dans la FIG. 1 peut être utilisé. Les points de mesure sont choisis de sorte à sonder plusieurs points du champ optique, c’est-à-dire correspondant à plusieurs inclinaisons du faisceau optique entrant dans le système optique et plusieurs profondeurs champ, c’est-à-dire correspondant à plusieurs décalages de part et d’autre du plan focal du système optique. Avantageusement, un nombre de points de mesures compris entre 20 et 30 est suffisant pour le présent procédé. Il est important de noter que les positions des points de calibration sont indépendantes des positions des points de focalisation dont la génération est souhaitée. En particulier, les positions des points de mesure ne sont pas nécessairement différentes ou identiques aux positions des points de focalisation. Selon certains exemples, les positions des points de calibration peuvent être caractérisées par des coordonnées, , où est la coordonnée longitudinale sur l’axe optique du système optique 103, dont la référence est prise par rapport au plan focal 106 du système optique 103 pour lequel , et où est le vecteur position transverse caractérisant la position du point de calibration dans le plan transverse à l’axe optique se trouvant en . Il est possible de focaliser le faisceau optique aux points de calibration, , en appliquant des masques de phase du type où F est un masque de phase correspondant à une lentille de Fresnel faisant converger le faisceau à une certaine distance sur l’axe longitudinal, et où R est un masque de phase correspondant à une rampe de phase faisant converger le faisceau en une position transverse définie par le vecteur . Le vecteur est le vecteur caractérisant les cordonnées d’un élément sur la pupille du système optique 103. Ainsi, pour obtenir un point de calibration de position donnée, , les masques de phase appliqués sont des fonctions qui varient avec la coordonnée pupillaire, , donc avec la position dans le plan du SLM utilisé. Selon certains exemples, le détecteur acquiert une image pour chaque point de calibration, au voisinage du plan focal image du système optique. Le système d’imagerie reste fixe au niveau du plan focal image du système optique pendant l’acquisition. Dans l’étape S20 du procédé, les aberrations induites par le système optique au niveau de la pupille du système optique sont calculées par l’unité de contrôle à partir des données d’imagerie obtenues avec le détecteur. Pour une coordonnée de champ donnée, , l’ensemble des images obtenues pour des points de calibrations positionnés à différentes profondeurs, , est traité pour reconstruire les déformations de front d’onde, , existantes dans le plan du SLM 102 (c’est-à-dire les déformations du front d’onde dans le plan pupille qui amènent aux différentes taches optiques aberrantes). Cette reconstruction peut être effectuée, par exemple, à l’aide de la méthode décrite dans [REF 4]. En particulier, dans certains exemples, la déformation de front d’onde au niveau de la pupille est décomposée sur la base des polynômes de Zernike, , où est l’indice du polynôme de Zernike. La déformation de front d’onde peut donc être exprimée selon l’expression suivante. Ainsi, pour un point de calibration de position donnée, le calcul de la déformation de front d’onde revient à trouver les coefficients de Zernike, , vérifiant l’expression [Math 1]. Les coefficients de Zernike se comprennent dans le sens où le système optique dégrade le faisceau optique le traversant en produisant radian(s) d’aberration de type caractérisé par l’indice du polynôme. Chaque coefficient de Zernike d’indice donné correspond à un type d’aberrations. Les types d’aberrations sont par exemple, la coma horizontale, la coma verticale, l’astigmatisme droit, l’astigmatisme oblique, le défocus, et ainsi de suite. La relation entre l’indice et le type d’aberrations dépend de la convention utilisée, par exemple la convention de Noll ou la convention de la société américaine d’optique. Dans d’autres exemples, la déformation de front d’onde en chaque point de calibration est obtenue par d’autres méthodes, par exemple au moyen d’interférences, ou d’un analyseur de front d’onde de type Shack-Hartman. Une fois la déformation de front d’onde dans le plan pupille obtenue en termes de coefficients de Zernike pour tous les points de calibration, la dépendance en champ optique (c’est-à-dire selon la coordonnée de position transverse ) des coefficients de Zernike, , est estimée à partir des valeurs des coefficients de Zernike obtenues pour plusieurs points de calibration de différentes coordonnées dans le champ optique, . Plus précisément, pour un indice j donné, l’ensemble de coefficients correspondant à plusieurs positions, , dans le champ du système optique est ajusté par une fonction polynomiale définie selon l’expression suivante. La variation de chaque coefficient, , avec la position dans le champ du système optique est donc ajustée en déterminant les paramètres, et . Le paramètre, , est un coefficient de pondération de la fonction polynomiale, , dans la décomposition. Le paramètre, , est un paramètre de centrage de la fonction polynomiale, . Le paramètre de centrage peut par exemple être égal à 0 dans le cas d’un système optique centré, et différent de 0 dans le cas d’un système optique qui n’est pas rigoureusement centré. Les fonctions sont des fonctions polynomiales ayant pour argument le vecteur de cordonnées dans le plan focal image 106 du système optique 103. Selon certains exemples, les fonctions polynomiales, , sont des fonctions de deux variables, x et y, dans lequel x et y sont les coordonnées cartésiennes correspondant au vecteur, , dans le plan focal image 106 du système optique 103. En particulier, les fonctions peuvent être exprimées comme suit. Les inventeurs ont observé qu’il est suffisant de se limiter à une décomposition allant jusqu’à un indice inférieur à cinq (j≤5), c’est-à-dire comprenant cinq coefficients de Zernike ajustés avec cinq fonctions polynomiales d’ajustement, pour que la méthode produise des résultats satisfaisants. Une fois l’ajustement fait, il est possible de ré-exprimer les aberrations en une déformation de front d’onde dépendant à la fois de la position dans le champ du système optique, , et des coordonnées dans la pupille du système optique, , comme dans l’expression suivante. L’idée générale du présent procédé est d’utiliser la caractérisation des aberrations d’un système optique sous la forme d’une décomposition de Seidel à partir des déformations de front d’onde obtenues pour plusieurs points de calibration dans le champ optique (voir par exemple [REF 6]). Selon la décomposition de Seidel, la déformation de front d’onde produite en un point quelconque du plan focal image 106 du système optique 103 par un élément de pupille de coordonnée peut s’écrire sous la forme d’un développement de Seidel comme défini dans l’expression suivante. Dans l’expression [Math 5], les coefficients T, C, K sont des coefficients de Seidel nommés généralement coma, astigmatisme, et courbure de champ, respectivement. Ces coefficients sont donc associés à des types d’aberrations introduites par le système optique. Pour éviter toute confusion, il convient de noter que, bien que certains coefficients de Seidel portent le même nom que certains coefficients de Zernike, l’information qu’ils véhiculent est différente. Les coefficients de Zernike caractérisent un front d’onde quelconque tandis que les coefficients de Seidel caractérisent un système optique centré en renseignant la quantité d’aberration produite lorsqu’on s’écarte de l’axe optique (c’est-à-dire en particulier une information sur la dépendance an champ des aberrations). La quantité d’aberrations indiquée par le développement de Seidel s’exprime couramment en radian par mètre ou radian par mètre carré. Le développement de Seidel souligne en particulier la dépendance simple (polynomiale) des aberrations par rapport à la coordonnée radiale pupillaire, r . Avec le procédé selon la présente description, les ajustements définis dans [Math 2] permettent de faire apparaître les polynômes de Zernike, dépendant des coordonnées de pupilles dans une décomposition proche de la décomposition de Seidel. Les coefficients d’ajustement, , sont donc reliés à des coefficients de Seidel. Ainsi, dans la présente description, les coefficients, , sont appelés coefficients modifiés de Seidel. En particulier, avec le procédé selon la présente description, une fois obtenus les coefficients modifiés de Seidel, les aberrations introduites par le système optique sont complètement caractérisées, y compris les aberrations dépendantes du champ optique. Ainsi, il est possible de prendre en compte ces aberrations pour générer un réseau de point de focalisation qui n’est pas dégradé par ces aberrations. De plus, il n’est pas nécessaire que les positions de ces points de focalisations dans le champ optique coïncident avec les positions des points de calibration. Dans l’étape S30 du présent procédé, un masque de phase est appliqué au faisceau optique de sorte à générer un réseau de points de focalisation qui n’est pas dégradé par les aberrations qui seraient normalement introduites en ces points par le système optique. Ceci est rendu possible en prenant en compte, dans l’expression du masque de phase, les aberrations du système optique grâce à la caractérisation des aberrations précédemment effectuée. Pour calculer la modulation de phase nécessaire à la génération holographique de l’ensemble de point, une version augmentée de l’algorithme itératif de Gerchberg-Saxton est utilisée, comme décrit par exemple dans la [REF 5]. Avec l’algorithme itératif de base, un masque de phase est calculé pour générer un réseau de ponts de focalisation dont les intensités sont homogènes, cependant les aberrations du système optique ne sont pas prises en compte. Ainsi, avec l’algorithme selon la présente description, on calcule un masque de phase égal à une somme d’ondes planes pondérées par des amplitudes, , et des phases, , de sorte qu’après passage après le système optique, en chaque point de coordonnées, , dans le plan focal image du système optique, l’amplitude lumineuse forme un point de focalisation voulu (ou plus généralement une distribution d’intensité voulue) tout en s’affranchissant des aberrations induites par le système optique en ce point. L’algorithme de calcul du masque de phase utilisé dans le procédé selon la présente description peut être exprimé avec les expressions qui suivent. Dans les expressions [Math 6], [Math 7] et [Math 8], est la longueur d’onde de la lumière émise par la source optique (par exemple la longueur d’onde moyenne ou maximum du spectre optique de la lumière émise par la source optique), et est la longueur focale du système optique traversé par le faisceau optique. Dans le cas de l’exemple illustré dans la figure 1, étant donné que le télescope précédant la lentille asphérique est de grandissement égal à 1, est la focale de la lentille asphérique. Avec le présent procédé, un terme de phase particulier faisant apparaître les polynômes de Zernike et les coefficients modifiés de Seidel est donc introduit dans le masque de phase pour chaque onde plane. Ce terme de phase peut être défini selon l’expression suivante. L’ajout du terme précité permet de compenser simultanément les aberrations introduites par le système optique en tous les points de focalisation souhaités. L’itération est réalisée de la même manière qu’avec l’algorithme décrit dans la [REF 5]. Ainsi, les coefficients de pondération sont modifiés au fil des itérations en améliorant la distribution d’intensité. En particulier, selon certains exemples, les coefficients de pondération d’amplitude sont initialisés à et les coefficients de pondération de phase sont initialisés de façon aléatoire telle que, . De plus à chaque itération, les coefficients de pondération sont mis à jour selon l’expression suivante. Dans l’expression [Math 10], est la valeur cible pour l’amplitude du site p. Dans certains exemples, tous les valent 1 mais cela est optionnel. De plus, est une valeur moyenne de la distribution d’intensité au point de focalisation d’indice p. Selon certains exemples, ces itérations successives peuvent éventuellement inclure un affichage du masque de phase sur le SLM et une mesure de la puissance de chaque spot avec la caméra (voir par exemple la [REF 5]). Selon certains exemples, les itérations successives peuvent comprendre une mise à jour des valeurs cibles de la puissance optique en chaque point focalisation telle que décrite dans la [REF 7]. Les inventeurs ont validé l’apport du présent procédé en obtenant des résultats expérimentaux illustrés dans les figures 3 et 4. Les résultats précités sont obtenus dans le contexte d’une application à la correction des aberrations du champ d’une lentille asphérique de focale =16,3mm et d’ouverture numérique NA=0.35. Dans cette application, un système de génération holographique tel que représenté à la FIG. 1 est utilisé pour générer un réseau bidimensionnel de 10 x 10 points de focalisation gaussiens au niveau du plan focal image du système optique répartis sur un champ de 500 micromètres par 500 micromètres dans le plan focal du système optique (ceci correspond aux résultats présentés dans la FIG. 3 ). Les inventeurs ont aussi validé le procédé selon la présente description pour la génération d’un réseau bidimensionnel de 20 x 20 points de focalisation de type bouteille (ceci correspond aux résultats expérimentaux illustrés dans la FIG. 4 ). Pour la génération de points de focalisation de type bouteille, un second masque de phase est appliqué en plus du masque de phase obtenu itérativement, tel que décrit dans [REF 5]. Dans le système de génération holographique précité, le système optique utilisé pour faire converger le faisceau optique au plan focal image comprend la lentille asphérique mentionnée précédemment et un télescope afocal contenant deux lentilles convergentes ayant chacune une longueur focale de =500 mm. Les deux lentilles sont agencées de sorte à être dans une configuration 2f-2f, c’est-à-dire quelle sont en particulier espacées de 4 fois leur distance focale . Des tests (non illustrés dans le figures) ont aussi été effectués pour un système optique comprenant une lentille d’ouverture numérique NA=0.48. Dans les exemples précités, la source optique est un laser « DLC pro » de la marque Toptica de longueur d’onde 821 nm et de puissance nominale 2,5 W injecté dans une fibre monomode à maintien de polarisation. Lors des prises d’images, une très faible part de la puissance optique totale disponible est utilisée. Dans les exemples précités, le SLM est un modèle LCOS-SLM X15213-02 de la marque Hamamatsu. La taille de la matrice d’éléments du SLM est de 1272x1024 éléments et la dynamique est de 8 bits. Le télescope afocal fait l’image du plan du SLM sur la lentille asphérique. De plus, le plan focal de la lentille asphérique est imagé sur la caméra à l’aide d’un objectif de microscope d’ouverture numérique NA=0.5 suivi d’une lentille de projection de longueur focale f=300 mm. La FIG. 3 représente des images des points de focalisation générées au plan focal du système optique et conjuguées sur la caméra au moyen de l’ensemble de l’objectif de microscope est de la lentille de projection. Les profils d’intensité des images sont représentés en échelle logarithmique. D’une part, la FIG. 3 présente les images de référence 300 qui sont obtenues en considérant uniquement la méthode telle que décrite dans [REF 5], ces images de référence 300 comprennent l’image totale 301 du tableau de points de focalisation gaussiens et une portion agrandie 302 de l’image montrant correspondant à un champ éloigné de l’axe optique. D’autre part, la FIG. 3 présente les images améliorées 310 obtenues avec le procédé et système selon la présente description. Ces images améliorées 310 comprennent l’image totale 311 du tableau de points de focalisation et une portion agrandie 312 de l’image correspondant à un champ éloigné de l’axe optique. Pour obtenir les images améliorés 310, le procédé selon la présente description est utilisé, c’est-à-dire que les aberrations produites par le système optique sont caractérisées pour plusieurs points de calibration, puis que cette information est utilisée pour modifier le masques de phase du SLM afin de corriger les aberrations. Les images de référence 300 montrent que, dans le cas de la méthode de l’état de l’art, dès que l’on considère des points de focalisation s’éloignant du centre de l’image (c’est-à-dire s’éloignant de l’axe optique du système optique en explorant le champ du système optique) les points de focalisation (taches optiques) se déforment sous l’influence croissante des aberrations introduites par le système optique. Les images améliorées 310, qui sont obtenues avec le procédé selon la présente description, montrent que les points de focalisation ne sont pas déformés quel que soit leur écart par rapport au centre de l’image, c’est-à-dire quel que soit l’exploration du champ optique qu’ils représentent. En particulier, les inventeurs ont observé qu’avec la méthode selon la présente description, les points de focalisation ont un diamètre minimal limité par la diffraction sur l’ensemble du champ observé. Ce champ observé a été calculé avec le logiciel Oslo et a une extension verticale et horizontale de 50 micromètres. Les résultats expérimentaux montrent qu’avec le présent procédé, il est en même possible de corriger les aberrations pour des positions transverses allant jusqu’à plus de 500 micromètres. Les résultats illustrés dans la FIG. 3 montrent donc que le procédé selon la présente description permet de s’affranchir des aberrations induites par le système optique lors de la génération holographique d’un réseau de points de focalisation, en particulier concernant des points de focalisations gaussiens générés dans un champ optique d’au moins 500 micromètres. La FIG. 4 représente des images expérimentales des points de focalisation de type bouteille générés au plan focal du système optique et conjuguées sur la caméra au moyen de l’ensemble de l’objectif de microscope est de la lentille de projection. D’une part, la FIG. 4 présente les images expérimentales de référence 400 qui sont obtenues en considérant uniquement la méthode telle que décrite dans [REF 5]. D’autre part, la FIG. 4 présente les images expérimentales améliorées 410 obtenues avec le procédé selon la présente description. Les images expérimentales de référence 400 comprennent l’image totale 401 du tableau de points de focalisation de type bouteille et deux portions agrandies 402, 403 de l’image 401 correspondant respectivement à un champ éloigné de l’axe optique (portion agrandie 402), et à un champ proche de l’axe optique (portion agrandie 403). Les images expérimentales améliorées 410 comprennent l’image totale 411 du tableau de points de focalisation de type bouteille et deux portions agrandies 412, 413 de l’image 411 correspondant respectivement à un champ éloigné de l’axe optique (portion agrandie 412), et à un champ proche de l’axe optique (portion agrandie 413). Les résultats expérimentaux de la FIG. 4 montrent que lors de la génération de points de focalisation de type bouteille, même les points de focalisation proches du centre de l’axe optique sont déformés lorsque l’on applique uniquement la méthode de l’état de l’art. Au contraire, lorsque l’on applique le procédé selon la présente description, les points ne sont pas déformés quel que soit le champ optique considéré, y compris pour les points de focalisation éloignés de l’axe optique. Les résultats expérimentaux illustrés dans la FIG. 4 montrent donc que le procédé selon la présente description permet de s’affranchir des aberrations induites par le système optique lors de la génération holographique d’un réseau de points de focalisation, en particulier concernant des points de focalisations de type bouteille générés dans un champ optique d’au moins 500 micromètres. On constate en particulier qu’il serait impossible de générer des points de focalisation de type bouteille qui soient homogènes dans tout le champ optique sans utiliser la méthode selon la présente description. Quoique le présent exposé ait été décrit en se référant à un exemple de réalisation spécifique, il est évident que des différentes modifications et changements peuvent être effectués sur ces exemples sans sortir de la portée générale de l'invention telle que définie par les revendications. En outre, des caractéristiques individuelles des différents modes de réalisation évoqués peuvent être combinées dans des modes de réalisation additionnels. Par conséquent, la description et les dessins doivent être considérés dans un sens illustratif plutôt que restrictif. Procédé de génération holographique d’un réseau de points de focalisation disposés selon plusieurs positions dans le champ d’un système optique comprenant : - (S10) la détection d’images formées par le système optique en une pluralité de points de calibration disposés selon plusieurs positions dans le champ du système optique ; - (S20) l’estimation des aberrations introduites par le système optique sur tout le champ du système optique à partir des images détectées ; - (S30) l’application d’un masque de phase à un faisceau optique entrant dans le système optique, afin de générer une pluralité de points de focalisation disposés selon plusieurs positions dans le champ du système optique ; dans lequel le masque de phase est calculé, à partir des aberrations estimées, afin de compenser simultanément les aberrations au niveau de chaque point de focalisation. Procédé selon la revendication 1, dans lequel les images formées par le système optique en une pluralité de points de calibration disposées selon plusieurs positions dans le champ optique sont formées par modulation de phase d’un faisceau optique traversant le système optique, ladite modulation de phase comprenant une superposition de rampes de phase permettant chacune la formation d’un point de calibration à une desdites positions dans le champ du système optique. Procédé selon la revendication 1 ou 2, comprenant en outre la détection d’images formées par le système optique en une pluralité de points de calibration disposés selon plusieurs positions de part et d’autre du plan focal image du système optique, lesdites images étant formées par modulation de phase d’un faisceau optique traversant le système optique, ladite modulation de phase comprenant une superposition de termes de phase correspondant à des lentilles de Fresnel et permettant chacun la formation d’un point de calibration à une desdites positions de part et d’autre du plan focal du système optique. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, dans lequel l’étape (S20) d’estimation des aberrations introduites par le système optique sur tout le champ optique comprend, pour chaque point de calibration à une position dans le champ optique donnée : - le calcul d’une déformation de front d’onde introduite par le système optique au niveau de la pupille du système optique pour ladite position dans le champ optique donnée ; - la décomposition de ladite déformation de front d’onde en une somme de polynômes de Zernike pondérés par des coefficients de Zernike de différents indices, lesdits coefficients de Zernike étant associés à ladite position dans le champ optique donnée. Procédé selon la revendication 4, comprenant en outre : - le calcul, à partir des coefficients de Zernike d’un même indice donné obtenus pour des points de calibration correspondant à différentes positions dans le champ optique, d’une fonction de dépendance d’un coefficient de Zernike d’indice donné avec la position dans le champ du système optique. Procédé selon la revendication 5, dans lequel la fonction de dépendance d’un coefficient de Zernike d’indice donné avec la position dans le champ du système optique est obtenue par régression polynomiale à partir des coefficients de Zernike de même indice obtenus pour des points de calibration correspondant à différentes positions dans le champ optique. Procédé selon l’une quelconque des revendications 5 à 6, dans lequel les aberrations introduites par le système optique sur tout le champ optique sont exprimées selon une décomposition comprenant une somme de polynômes de Zernike de différents indices pondérés par les fonctions de dépendance desdits polynômes de Zernike au champ optique précédemment calculées. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 6, dans lequel les points de focalisation correspondent au moins partiellement à des positions différentes dans le champ optique par rapport aux points de calibration. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 8, dans un nouveau réseau de points de focalisation est généré à des positions différentes du champ optique en appliquant un nouveau masque de phase compensant simultanément les aberrations introduites par le système optique en chacune des positions du nouveau réseau de points de focalisation, dans lequel le nouveau masque de phase est calculée à partir de l’estimation des aberrations déjà effectuée. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 9, dans lequel le masque de phase est calculé itérativement de sorte à maximiser l’intensité de la lumière détectée au niveau des points de focalisation. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 10, le masque de phase est calculé itérativement de sorte à minimiser la différence entre la distribution d’intensité de la lumière détectée au niveau du plan focal image du système optique et la distribution d’intensité de la lumière correspondant au réseau de points de focalisation souhaité. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 11, dans lequel le réseau de points de focalisation est configuré pour générer un réseau de pinces optiques permettant de piéger des particules et/ou des atomes. Système de génération holographique de points de focalisation comprenant : - une source optique (101) configurée pour émettre un faisceau optique ; - un système optique convergent (103) configuré pour faire converger le faisceau optique en un plan focal image (106) ; - un modulateur de phase spatial (102), agencé entre la source optique (101) et le système optique (103), configuré pour moduler la phase du faisceau optique de sorte à générer un réseau de points de focalisation au niveau du plan focal image (106), les points du réseau de points de focalisation correspondant à plusieurs positions dans le champ du système optique ; - un détecteur (104) configuré pour détecter l’intensité de la lumière au niveau de chaque point de focalisation ; - une unité de calcul (105) configurée pour corriger simultanément les aberrations induites par le système optique (103) au niveau des points de focalisation au moyen du modulateur spatial de lumière (102) en utilisant le procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 12.