FR 3157226 A1 20250627 FR 2314831 A 20231221 La présente invention porte sur un dispositif (1) de préparation d’un pré-mélange gazeux (15) comprenant de l’oxygène et au moins un précurseur organométallique, sous forme gazeuse. L’invention porte également sur une unité de flammage (100) comprenant un tel dispositif (1) et sur un procédé de traitement de surface utilisant un tel dispositif (1) et/ou une telle unité de flammage (100). Figure 1 Dispositif de préparation d’un pré-mélange gazeux, unité de flammage et procédé utilisant ce dispositif La présente invention se rapporte à un dispositif de préparation d’un pré-mélange gazeux comprenant de l’oxygène et au moins un précurseur organométallique, sous forme gazeuse, utilisable dans une unité de flammage. L’invention porte également sur une unité de flammage comprenant un tel dispositif et sur un procédé de traitement de la surface d’une première couche d’un support, comprenant une étape de flammage mise en œuvre au moyen d’un tel dispositif ou d’une telle unité de flammage, en vue de déposer sur ladite surface une deuxième couche comprenant au moins un composé silicé et/ou au moins un composé titané. Dans le domaine du traitement de surface de supports, plusieurs procédés sont à la disposition de l’homme du métier. En fonction de l’application envisagée pour le support traité d’une part, et du matériau constituant le support d’autre part, un ou plusieurs procédés spécifiques peuvent être préférés, car plus particulièrement adaptés, soit au matériau du support, soit à l’application souhaitée. Par exemple, une application bien connue pour laquelle on souhaite traiter la surface d’un support est la création d’une surface possédant des propriétés d’adhérence et des propriétés de résistance à la corrosion. Les propriétés d’adhérence permettent de favoriser l’accroche entre le matériau du support et un revêtement que l’on souhaite appliquer au support, comme par exemple une peinture industrielle ou encore une colle, dans le domaine de l’industrie automobile, aéronautique ou même de la construction. Les propriétés de résistance à la corrosion permettent de protéger en particulier les supports en matériaux métalliques ferreux et non ferreux contre la corrosion. Pour une telle application, à ce jour, lorsque le support est en aluminium, on utilise de façon bien connue l’anodisation. Lorsque le support est en acier, on utilisera plutôt la cataphorèse. Lorsque le support est un alliage métallique, on utilisera conventionnellement des procédés de conversion chimique, en général à base de Chrome VI, de Chrome III ou de Zinc. Lorsque le support est en plastique, on utilisera un procédé de flammage standard. Une autre application pour laquelle on peut vouloir traiter la surface d’un support est la création d’une surface anti-goutte et anti-calcaire. Pour ce faire, il convient de rendre la surface traitée la plus hydrophile possible. Une telle application est généralement souhaitée lorsque le support est en verre, par exemple pour les vitrages intérieurs, comme les parois de douche ou les miroirs, en vue de conserver à ces supports leurs propriétés de transparence ainsi qu’une apparence nette. Une autre application pouvant nécessiter de traiter la surface d’un support est la création d’une surface possédant des propriétés autonettoyantes. Pour ce faire, il convient de traiter la surface afin de la rendre capable d’activité photocatalytique. L’activité photocatalytique permet de réaliser des réactions chimiques en présence de rayonnement UV. Ces réactions chimiques permettent la formation de radicaux libres qui vont réagir avec des composés présents sur la surface, de types salissures organiques, afin de dégrader ces composés. Un rinçage du support par le biais de la pluie ou d’une pulvérisation d’eau permet ensuite d’éliminer ces salissures organiques dégradées. Une telle application est souhaitée pour les supports rigides extérieurs, comme les baies vitrées ou encore le verre solaire, en vue de conserver leur propreté aux surfaces de ces supports sans avoir à appliquer un traitement effectif et régulier de nettoyage à ces supports. Pour l’ensemble des applications mentionnées ci-dessus, on peut également mettre en œuvre des traitements de surface comme le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma, aussi désigné par l’acronyme PECVD (pour Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition en anglais) ou le Plasma froid. Le plasma est un gaz dans lequel un pourcentage important d’atomes ou de molécules sont ionisés. Le PECVD est réalisé sous vide, soit à une pression généralement comprise entre 1 10 -4 et 1 10 -6 bar, alors que le Plasma froid est réalisé à l’intérieur d’une torche à pression atmosphérique. Dans ces deux techniques, toutes les surfaces exposées au plasma reçoivent un bombardement d’ions à haute énergie. Ces deux techniques permettent ainsi de déposer sur la surface du support à traiter différentes couches minces créées à partir de précurseurs chimiques organométalliques. Il apparaît des paragraphes ci-dessus qu’il existe une multitude de procédés pour traiter les surfaces de supports, ces procédés mettant en œuvre des technologies et des moyens techniques différents en fonction de l’application souhaitée et du matériau constituant le support à traiter. En particulier, il apparaît que chaque application et/ou chaque matériau implique un procédé préféré différent et qu’un procédé recommandé pour une application particulière ou pour un matériau spécifique est difficilement transposable à une autre application et/ou à un autre matériau. Par ailleurs, certains de ces procédés, comme l’anodisation ou les conversions chimiques, nécessitent de mettre en œuvre des composés chimiques tels que le Chrome VI reconnus comme étant potentiellement nocifs pour l’homme et dont l’utilisation n’est pas recommandée selon le règlement européen REACH (Règlement (CE) n° 1907/2006 sur l'enregistrement, l'évaluation, l'autorisation et la restriction des substances chimiques). Il serait donc souhaitable de disposer d’un procédé de traitement de surface de supports permettant de s’affranchir de l’utilisation de tels composés. Certains de ces procédés présentent des limitations techniques ou de coût dans leur mise en œuvre. C’est par exemple le cas lorsque des supports de grande dimension (par exemple au-delà de 2 m 2 ) doivent être traités. Ainsi, le Plasma froid ne génère pas suffisamment d’énergie pour réaliser les transformations chimiques nécessaires aux dépôts de certains précurseurs chimiques. D’autre part, le Plasma froid met généralement en œuvre des buses de diamètre allant de 5 mm à 5 cm pour les plus grandes, ce qui implique un diamètre de surface de traitement très réduit, rendant ainsi le traitement d’une grande surface presque impossible car beaucoup trop long et trop coûteux. De même, dans la technique du PECVD, le support à traiter doit l’être en une seule fois. La taille du support va ainsi déterminer les dimensions de la machine. Plus le support sera long, plus la machine mettant en œuvre le traitement PECVD devra être complexe et coûteuse. Dans certains cas, en fonction du dépôt souhaité, un recuit à haute température (par exemple 600 °C) de plusieurs heures (par exemple 5h) sera nécessaire pour obtenir la structure adéquate des molécules créées, par exemple une structure anatase et/ou rutile de TiO 2 lorsqu’on cherche à conférer à la surface traitée des propriétés photocatalytiques. Ainsi, le procédé PECVD est difficilement adaptable au traitement de supports de grandes dimensions. Ce procédé peut également être très coûteux en fonction de l’application envisagée. Certains de ces procédés ne sont pas totalement efficaces pour les applications souhaitées. Par exemple, il serait intéressant de disposer d’un procédé permettant d’améliorer les propriétés d’adhérence et les propriétés de résistance à la corrosion des matériaux ferreux et non ferreux. Par ailleurs, il est connu de recouvrir la surface d’un support d’une couche comprenant un composé silicé et/ou un composé titané, afin de conférer à ladite surface des propriétés hydrophiles et autonettoyantes. La couche comprenant un composé silicé et/ou un composé titané est généralement déposée sur la surface à traiter au moyen d’un procédé de flammage. Un tel procédé consiste à exposer la surface à traiter à une flamme oxydante qui est le résultat du mélange d’un gaz combustible, d’air et d’un pré-mélange comprenant i) un gaz porteur, qui peut être de l’air, de l’azote ou encore de l’oxygène, et ii) un précurseur de l’oxyde de silicium et/ou un précurseur de l’oxyde de titane, sous forme gazeuse. Dans les procédés de dépôt de couches minces connus, comme par exemple dans les procédés de flammage, pour réaliser le pré-mélange de gaz porteur et des précurseurs de l’oxyde de silicium et/ou de l’oxyde de titane, sous forme gazeuse, on utilise conventionnellement un système d’évaporateur comprenant un bain à température régulée des précurseurs de l’oxyde de silicium et/ou de l’oxyde de titane, sous forme liquide, dans lequel on injecte le gaz porteur. On réalise un bullage du gaz porteur au sein de ce bain et on récupère en sortie le pré-mélange gazeux du gaz porteur et des précurseurs de l’oxyde de silicium et/ou de l’oxyde de titane, sous forme gazeuse. La combustion de ce pré-mélange dans la flamme va créer des molécules de SiO 2 et/ou des molécules de TiO 2 , qui vont se déposer sur la surface du support soumise à la flamme, conférant ainsi à cette surface une couche possédant des propriétés particulières, comme par exemple des propriétés d’adhérence et de résistance à la corrosion dans le cas où l’on a déposé du SiO 2 seulement, ou des propriétés hydrophiles ou autonettoyantes dans le cas où l’on a déposé une combinaison de SiO 2 et de TiO 2 . Comme il apparaît de la description du système d’évaporateur décrit ci-dessus, dans ces procédés de dépôt de couches minces connus, le débit des précurseurs de l’oxyde de silicium, et/ou de l’oxyde de titane, sous forme gazeuse, est identique au débit du gaz porteur et il n’y a donc pas de moyen de faire varier le débit des précurseurs de l’oxyde de silicium et/ou de l’oxyde de titane sous forme gazeuse, par rapport au débit du gaz porteur. Il n’y a ainsi pas de possibilité dans ces procédés de dépôt de couches minces connus de faire varier la possible réaction entre le gaz porteur et les précurseurs de l’oxyde de silicium et/ou de l’oxyde de titane, sous forme gazeuse. Il est ainsi difficile dans ces procédés de dépôt de couches minces connus de contrôler l’épaisseur de la couche formée sur la surface à traiter, l’épaisseur de cette couche dépendant directement de la quantité de molécules déposées, cette dernière dépendant du débit de gaz porteur, qui est fixe. Ainsi, les propriétés d’adhérence, de résistance à la corrosion, d’hydrophilie ou d’autonettoyage conférées à la surface par les procédés de dépôt de couches minces connus ne sont pas optimisées. Il subsiste donc le besoin de disposer d’un dispositif qui permettrait de contrôler l’épaisseur et la structure de la couche formée sur la surface à traiter. Il subsiste également le besoin d’un procédé de traitement de la surface d’un support, qui comprendrait une étape de dépôt par flammage sur ladite surface d’au moins un composé silicé et/ou d’au moins un composé titané, qui serait capable d’être utilisé pour n’importe quelle application et quel que soit le matériau constituant le support, qui serait facile à mettre en œuvre et peu coûteux, et qui permettrait de conférer à ladite surface des propriétés optimisées, par exemple des propriétés d’adhérence, de résistance à la corrosion, d’hydrophilie ou d’autonettoyage optimisées. La présente invention vise à remédier à ce besoin. La Demanderesse a mis au point un dispositif permettant de faire varier le débit de précurseurs organométalliques sous forme gazeuse, par rapport au débit du gaz porteur dans la préparation d’un pré-mélange utilisable dans un procédé de flammage. La demanderesse a également mis au point un procédé de flammage utilisant un tel dispositif et permettant de déposer sur la surface à traiter une couche comprenant au moins un composé silicé et/ou au moins un composé titané, tout en contrôlant l’épaisseur de la couche déposée ainsi que la structure du composé silicé et/ou du composé titané, et ce, quel que soit le matériau constituant le support. Un premier objet de l’invention porte sur un dispositif de préparation d’un pré-mélange gazeux comprenant de l’oxygène et au moins un précurseur organométallique, sous forme gazeuse, ledit dispositif comprenant : au moins un réservoir dudit précurseur organométallique sous forme liquide, ledit réservoir étant apte à délivrer un débit DP dudit précurseur organométallique, au moins une alimentation en oxygène gazeux, au moins un mixeur apte à recevoir un débit DP dudit précurseur organométallique sous forme liquide et un débit DO dudit oxygène gazeux, et à mélanger ledit précurseur organométallique et l’oxygène pour obtenir un mélange dudit précurseur organométallique et de l’oxygène, à la température dudit précurseur organométallique à l’état liquide, présentant un débit DM, au moins un système chauffant apte à recevoir ledit mélange dudit précurseur organométallique et de l’oxygène, à la température dudit précurseur organométallique à l’état liquide, et à chauffer ledit mélange à une température supérieure ou égale à la température du point initial d’ébullition dudit précurseur organométallique, afin d’obtenir un pré-mélange gazeux comprenant l’oxygène et le précurseur organométallique, sous forme gazeuse, présentant un débit DM. Un deuxième objet de l’invention porte sur une unité de flammage comprenant au moins une alimentation en air, au moins une alimentation en gaz combustible et au moins une tête d’application de flamme, caractérisée en ce qu’elle comporte en outre au moins un dispositif tel que décrit ci-dessus. Un troisième objet de l’invention porte sur un procédé de traitement de la surface d’une première couche d’un support, comprenant une étape de dépôt par flammage sur ladite surface d’une deuxième couche comprenant au moins un composé silicé et/ou au moins un composé titané, ledit procédé étant caractérisé en ce qu’il est mis en œuvre au moyen d’un dispositif tel que décrit ci-dessus et/ou au moyen d’une unité de flammage telle que décrite ci-dessus. Un quatrième objet de l’invention porte sur un support comprenant une première couche sur la surface de laquelle a été déposée une deuxième couche comprenant au moins un composé silicé et/ou au moins un composé titané, susceptible d’être obtenu selon le procédé ci-dessus. Par précurseur organométallique, on entend, au sens de la présente invention, tout composé ou mélange de composés capables de produire des oxydes de silicium et/ou des oxydes de titane sous l’action d’une flamme oxydante. Parmi les précurseurs organométalliques capables de produire des oxydes de silicium sous l’action d’une flamme oxydante et convenant à la présente invention, on peut citer les silanes hydrocarbonés, les fluorosilanes, les silicates, les organo-silicates, les monomères de siloxane, les monomères de silazane, et leurs mélanges. Parmi les silanes hydocarbonés, on peut citer le tétraméthylsilane (TMS). Parmi les fluorosilanes, on peut citer le triéthoxyfluorosilane (TEOF). Parmi les silicates, on peut citer le SiO 4 . Parmi les organo-silicates, on peut citer le tétraéthoxysilane (TEOS), le tétraméthoxysilane (TMOS) et leurs mélanges. Parmi les monomères de siloxane, on peut citer l’hexaméthyldisiloxane (HMDSO), le tétraméthyldisiloxane (TMDS), l’octaméthylcyclotétrasiloxane (OMCTS), et leurs mélanges. Parmi les monomères de silazane, on peut citer l’hexaméthyldisilazane (HMDS). Parmi les précurseurs organométalliques capables de produire des oxydes de titane sous l’action d’une flamme oxydante et convenant à la présente invention, on peut citer les fluorotitanes, comme par exemple le tétrafluorure de titane (TiF 4 ), les chlorotitanes, comme par exemple le tétrachlorure de titane (TiCl 4 ) ou le trichlorure de titane (TiCl 3 ), le sulfate de titane (Ti(SO 4 ) 2 ), les alcoxydes de titane, et leurs mélanges. Parmi les alcoxydes de titane, on peut citer l’éthoxyde de titanate (Ti 4 (OCH 2 CH) 16 , le butoxyde de titane (Ti(OBu) 4 ) avec Bu = CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 , le tétraéthyle orthotitanate (TEOT), le Titanium tétraisopropoxide (TTIP) et leurs mélanges. Par « point initial d’ébullition » d’un précurseur organométallique, on entend au sens de la présente invention la température à laquelle le précurseur organométallique passe de l’état liquide à l’état gazeux. Par composé silicé, on entend, au sens de la présente invention, tout composé obtenu par oxydation par flamme oxydante d’un précurseur organométallique comprenant du silicium : par exemple, le composé silicé peut répondre à formule SiOx, avec x allant de 2 à 4. Par composé titané, on entend, au sens de la présente invention, tout composé obtenu par oxydation par flamme oxydante d’un précurseur organométallique comprenant du titane : par exemple, le composé titané peut répondre à la formule TiOy, avec y allant de 2 à 4. Dans une forme de réalisation, le précurseur organométallique est le HMDSO. Le HMDSO permet de déposer des oxydes de silicium (SiOx, comme défini ci-dessus) rendant la surface traitée superhydrophile (angle de goutte proche de 0 degré), et donc très adhérente aux couches successives éventuellement déposées. Les oxydes de silicium jouent également le rôle de couche barrière à l’oxygène et protègent ainsi les matériaux des départs de corrosion. Dans une autre forme de réalisation, le précurseur organométallique est un mélange d’hexaméthyldisiloxane (HMDSO) et de Titanium tétraisopropoxide (TTIP). Le mélange de HMDSO et de TTIP permet de déposer des oxydes de silicium et des oxydes de titane, principalement du TiO 2 cristallin sous forme anatase/rutile, de préférence anatase, pour obtenir une couche présentant des propriétés photocatalytiques. Dans une forme de réalisation, le réservoir de précurseur organométallique sous forme liquide comprend un système permettant de contrôler et/ou de faire varier le débit DP. Un tel système peut être programmable. Comme il apparaîtra de la description qui suit, un tel système permet la régulation du débit DP par rapport au débit DO de l’oxygène. En particulier, un tel système permet d’agir sur le débit DP sans agir sur le débit d’oxygène DO. Le système permettant de contrôler et/ou de faire varier le débit DP peut comprendre une pompe intégrée. Ainsi, le réservoir de précurseur organométallique sous forme liquide peut par exemple être un pousse seringue. Alternativement, le réservoir de précurseur organométallique sous forme liquide peut être sous la forme d’un pot étanche dans lequel le précurseur organométallique est maintenu sous pression d’azote, auquel est reliée une pompe microdoseuse. Dans une telle forme de réalisation, la pompe microdoseuse permet de contrôler et/ou de faire varier le débit DP. L’utilisation d’une pompe microdoseuse permet de limiter les changements de seringue engendrant possiblement des arrêts du dispositif. La pompe microdoseuse permet également de réaliser les remplissages en temps masqué. Dans une forme de réalisation, le débit DP peut aller de 1 à 100 g/heure. Un tel débit permet d’injecter de faibles quantités de précurseur organométallique de manière très précise. Comme il apparaîtra de la description détaillée ci-après, cela permet de contrôler l’épaisseur et la structure de la couche déposée par flammage. Dans une forme de réalisation, le dispositif comprend en outre un système permettant de contrôler et/ou de faire varier le débit d’oxygène DO. Par exemple, le débit d’oxygène DO peut aller de 0,3 à 10 L/min. La possibilité de faire varier le débit d’oxygène DO indépendamment du débit DP de précurseur organométallique permet de contrôler la réaction entre le précurseur organométallique et l’oxygène au sein du système chauffant. Contrôler cette réaction permet de contrôler l’épaisseur, la structure et le taux de cristallinité de la couche déposée par flammage. Dans une forme de réalisation, le système chauffant est configuré pour transporter ledit pré-mélange gazeux jusqu’à une tête d’application d’une unité de flammage. Par exemple, le système chauffant comprend un tuyau muni d’un système de chauffage. Par exemple, une extrémité dudit tuyau est reliée à une sortie dudit mixeur, l’autre extrémité dudit tuyau étant apte à être reliée à une tête d’application d’une unité de flammage. La longueur du tuyau peut varier en fonction du résultat que l’on souhaite obtenir pour la couche déposée par flammage, qui peut dépendre de la durée de la réaction entre l’oxygène et le précurseur organométallique au sein du tuyau. En effet, le précurseur organométallique passe de la phase liquide à la phase gazeuse au sein du système chauffant, par exemple au sein du tuyau. La réaction entre l’oxygène gazeux et le précurseur organique sous forme gazeuse a donc lieu au sein de ce système chauffant, par exemple au sein du tuyau. L’oxygène permet d’accroître la structure inorganique de la couche déposée par flammage. L’accroissement de cette structure inorganique permet de limiter l’apparition de défauts liés à la présence de carbone. Grâce au dispositif selon l’invention, il est donc possible de faire varier le débit d’oxygène DO au sein du pré-mélange gazeux présent dans le système chauffant, et donc de contrôler la structure inorganique de la couche déposée, autrement dit accroître ou au contraire réduire cette structure inorganique, et ainsi de jouer sur la qualité de cette couche vis-à-vis de propriétés que l’on souhaite conférer à cette couche. En particulier, selon le débit DO d’oxygène qui sera choisi, on pourra oxyder plus ou moins de molécules de précurseur organométallique. On pourra donc faire varier le nombre de molécules de précurseur organométallique qui seront oxydées par l’oxygène. On pourra donc ainsi contrôler le rapport entre les liaisons inorganiques créées (par exemple les liaisons SiOx ou TiOy comme défini ci-dessus) et les liaisons organiques créées (autrement dit les liaisons SiCHx 1 et TiCHy 1 où x 1 va de 1 à 3, et y 1 va de 1 à 3). En particulier, on pourra augmenter le nombre de liaisons inorganiques, ce qui aura pour conséquence de limiter le nombre de liaisons organiques, et donc de limiter la présence de carbone. La qualité de la deuxième couche est ainsi améliorée vis-à-vis des propriétés que l’on souhaite conférer au support traité, comme par exemple l’adhérence, l’anti-corrosion, les propriétés photocatalytiques. Le dispositif selon l’invention est destiné à être utilisé avec un système d’apport d’énergie, comme par exemple une unité de flammage ou un générateur de plasma atmosphérique. En particulier, le dispositif selon l’invention est destiné à être utilisé au sein d’une unité de flammage en vue de déposer une couche comprenant au moins un composé silicé et/ou au moins un composé titané, sur une surface à traiter. Ainsi, l’invention porte également sur une unité de flammage comprenant au moins une alimentation en air, au moins une alimentation en gaz combustible, au moins une tête d’application de flamme, et un dispositif tel que décrit ci-dessus. De préférence, le système chauffant du dispositif est relié à la tête d’application de flamme. Par exemple, une sortie du système chauffant rejoint l’alimentation en air et en gaz combustible au niveau de la tête d’application de flamme. En fonctionnement de l’unité de flammage, une flamme est créée par mélange d’air et de gaz combustible, par exemple de propane. La flamme apporte une forte source d’énergie. Par exemple, la flamme peut brûler à environ 1800 °C. Ainsi, la réaction entre l’oxygène gazeux et le précurseur organométallique sous forme gazeuse, qui a été initiée au sein de ce système chauffant, continue au niveau de la tête d’application de flamme. Grâce à l’apport de la chaleur de la flamme, des oxydes du précurseur organométallique se créent et se greffent sur la surface de la première couche du support à traiter, formant ainsi une deuxième couche, déposée par flammage. Dans une forme de réalisation, la tête d’application de flamme et le système chauffant sont montés sur un bras de robot mobile. Une telle forme de réalisation de l’unité de flammage permet de traiter tous types de supports, quels que soient leurs dimensions et leurs complexités. Par exemple, des supports présentant des formes concaves et/ou convexes peuvent être traités aisément. Le dispositif selon l’invention et/ou l’unité de flammage selon l’invention sont destinés à être utilisés pour la mise en oeuvre d’un procédé selon l’invention relatif au traitement de la surface d’une première couche d’un support, visant à déposer par flammage une deuxième couche sur la surface de cette première couche, la deuxième couche comprenant au moins un composé silicé et/ou au moins un composé titané. De préférence, le procédé selon l’invention comprend les étapes suivantes : A) on prépare un pré-mélange gazeux comprenant de l’oxygène et au moins un précurseur organométallique, sous forme gazeuse, au moyen d’un dispositif tel que décrit ci-dessus, B) on expose ladite surface à une flamme oxydante qui est le résultat du mélange d’un gaz combustible, d’air et dudit pré-mélange gazeux afin de déposer ladite deuxième couche sur la surface de la première couche. Lors de l’étape de flammage proprement dite, autrement dit lors de l’exposition de la surface à la flamme oxydante, la réaction entre l’oxygène et le précurseur organométallique sous forme gazeuse, initiée au sein du système chauffant du dispositif selon l’invention, se poursuit. Sous l’effet de la chaleur de la flamme oxydante, des oxydes du précurseur organométallique se créent et se greffent directement sur la surface exposée à la flamme. On obtient ainsi une deuxième couche, cette deuxième couche comprenant des oxydes du précurseur métallique, par exemple des composés silicés comme les oxydes de silicium et/ou des composés titanés comme les oxydes de titane. Dans le procédé selon l’invention, le dépôt de la deuxième couche sur la surface de la première couche peut se faire en plusieurs passages de flamme sur la surface de la première couche. La deuxième couche peut présenter une épaisseur pouvant par exemple aller de 100 nm à 800 nm. Le gaz combustible peut par exemple être le propane. Alternativement, le gaz combustible peut être du butane. Il est également possible d’utiliser comme gaz combustible le gaz naturel distribué à l’usager dans les réseaux urbains, comme le gaz de ville, dans les lieux où de tels réseaux existent. Dans une forme de réalisation, le procédé selon l’invention comprend l’étape C) suivante : C) on fait varier le débit DO de l’oxygène gazeux par rapport au débit DP dudit précurseur organométallique, dans ledit pré-mélange gazeux, afin de contrôler la réaction d’oxydation entre l’oxygène et ledit précurseur organométallique sous forme gazeuse, et ainsi contrôler l’épaisseur et/ou la structure inorganique de la deuxième couche. Le procédé selon l’invention présente de multiples avantages. Le procédé selon l’invention permet de traiter des supports dont la première couche peut être de toute nature. Par exemple, cette première couche peut être en verre, en plastique, en métaux ferreux et non ferreux, comme l’inox, l’aluminium, l’acier, le magnésium, etc…Le dispositif selon l’invention, l’unité de flammage selon l’invention et le procédé selon l’invention permettent de réunir dans un seul système la possibilité de remplacer différents traitements de surface. Comme vu plus haut, en général, dans l’art antérieur, un type de support est associé à un traitement de surface. Par exemple, pour traiter les aciers, il est généralement nécessaire d’installer une cataphorèse; pour les aluminiums, on met en œuvre une anodisation, pour les plastiques on utilisera un flammage standard. Le dispositif et le procédé selon l’invention permettent de mettre en œuvre un ensemble de différents traitements de surface ayant pour but de créer de l’adhérence entre les couches et d’apporter une résistance à la corrosion. Le procédé selon l’invention constitue ainsi un traitement de surface multi-supports permettant de limiter la complexité d’installation, d’utilisation, de maintenance de chacun des procédés et ainsi de réduire le coût global. Cela permet le cas échéant une standardisation du procédé pour limiter ainsi les complexifications individuelles d’installation, d’utilisation, de suivi et de maintenance. Le procédé selon l’invention ne nécessite pas d’étape de recuit. En effet, dans le procédé selon l’invention, l’apport de chaleur de la flamme se fait simultanément à la réaction entre l’oxygène et le précurseur organométallique. Par ailleurs, avec le procédé selon l’invention, la consommation des précurseurs organométalliques est comprise entre 1 g/h et 100 g/h, ce qui est très faible comparativement aux procédés conventionnels de conversions chimiques qui utilisent des centaines voire des milliers de litres de produits chimiques et d’eau, dont les proportions sont à vérifier et à ajuster quotidiennement. Le procédé selon l’invention est réalisé en voie sèche contrairement à la majorité des traitements de surface connus, dont beaucoup sont mis en œuvre en voie humide et sont donc par définition très consommateurs d’eau et d’énergie. Dans ces procédés de l’art antérieur, les bains sont généralement maintenus à température et dans les bonnes proportions quotidiennement, même en cas de non utilisation de la ligne de traitement. Leur fonctionnement nécessite une utilisation en continue. Le procédé selon l’invention ne nécessite pas une utilisation en continu, il peut être mis en œuvre uniquement en cas de besoin, de façon ponctuelle, avec la possibilité d’être arrêté puis redémarré. Ainsi, dans le procédé selon l’invention, la consommation des produits chimiques, d’énergie et d’eau est très largement inférieure à celle des procédés de l’art antérieur. Par ailleurs, dans le procédé selon l’invention, les manipulations de produits chimiques potentiellement dangereux sont très limitées, du fait des faibles consommations de précurseurs organométalliques. Le procédé selon l’invention permet de s’affranchir de l’utilisation de Chrome VI ou Chrome III. Le procédé selon l’invention constitue donc un procédé économique et écologique par rapport aux procédés de l’art antérieur tels que les procédés PECVD. Par ailleurs, dans le procédé selon l’invention, on peut adapter la tête d’application de flamme en fonction des surfaces à traiter. Le temps de cycle est ainsi adaptable. Généralement, ce temps de cycle sera bien plus court que dans les procédés de greffage chimique de l’art antérieur. Par exemple, lorsque le dispositif selon l’invention est monté sur un bras robot, l’étape d’application de la deuxième couche par flammage peut être mise en ligne avec une ligne de production. Le temps de cycle est mené par la vitesse du robot et le nombre de passes et de couches à déposer. Il est ainsi possible de diminuer le temps de traitement en multipliant les têtes d’applications de l’unité de flammage. Dans un tel cas, les vitesses d’application par couche peuvent avoisiner les 200 mm/s. Le dispositif et le procédé selon l’invention permettent également un gain ergonomique non négligeable. Lorsque le dispositif selon l’invention est monté sur un robot d’application, une cellule d’une douzaine de m² est suffisante pour accueillir l’ensemble des infrastructures permettant de mettre en œuvre le traitement de surface. Cela n’est généralement pas le cas dans les procédés de l’art antérieur. L’anodisation nécessite une succession de bains chimiques occupant au minimum des centaines de m². La place nécessaire pour mettre en œuvre le PECVD dépend de la dimension des supports à traiter mais elle peut très vite représenter un volume significatif dans un atelier. Le procédé selon l’invention constitue ainsi un traitement de surface multi-supports, particulièrement simple à mettre en œuvre et efficace. Les domaines d’application du procédé selon l’invention sont également multiples. Lorsque la deuxième couche déposée par le procédé selon l’invention comprend essentiellement des composés silicés, cette deuxième couche présente les propriétés suivantes : Propriétés d’adhérence et d’anticorrosion : les applications du procédé selon l’invention peuvent ainsi concerner l’industrie en général comme les secteurs automobile ou aéronautique. Les lignes de peintures et de collages peuvent être précédées d’un traitement de surface selon le procédé selon l’invention, qui joue alors le rôle de pré-traitement en apportant les propriétés d’accroche et de résistance à la corrosion selon les cahiers des charges respectifs des utilisateurs ; Propriétés anti-gouttes, anti-calcaire et anti-buée : les applications du procédé selon l’invention peuvent ainsi concerner tous types de vitrages intérieurs comme les parois de douche pour les conserver propres et les miroirs pour les rendre anti-buées. Lorsque la deuxième couche déposée par le procédé selon l’invention comprend un mélange de composés silicés et de composés titanés, cette deuxième couche présente des propriétés photocatalytiques, et donc autonettoyantes. Les applications du procédé selon l’invention peuvent ainsi concerner tous types de surfaces rigides extérieures afin de les conserver propres dans le temps et de les rendre dépolluantes (destruction des matières organiques environnantes par photocatalyse), par exemple les vitrages extérieurs des maisons individuelles, des buildings, les panneaux photovoltaïques afin d’éviter leur encrassement qui peut leur faire perdre jusqu’à 40% de leur efficacité, les tuiles pour empêcher l’apparition de mousses et éviter de devoir traiter annuellement un toit. La présente invention et ses avantages ressortiront de la description détaillée qui suit et des figures dans lesquelles : FIG. 1 est un schéma représentant une première forme de réalisation du dispositif selon l’invention et de l’unité de flammage selon l’invention, FIG. 2 est un schéma représentant une deuxième forme de réalisation du dispositif selon l’invention et de l’unité de flammage selon l’invention. En référence à la FIG. 1 est montré un dispositif 1 de préparation d’un mélange pré-gazeux selon l’invention, ainsi qu’une unité de flammage 100 selon l’invention, comprenant le dispositif 1. Le dispositif 1 comprend un pousse seringue 2 comprenant une seringue 3 remplie d’un précurseur organométallique sous forme liquide 4. Le pousse seringue 2 est configuré pour délivrer un débit DP du précurseur organométallique à la sortie 3a de la seringue 3. De préférence, le débit DP va de 1 à 100 g/heure. Le pousse seringue 2 permet à l’utilisateur de faire varier le débit DP à la demande. Sur l’exemple représenté, le pousse seringue 2 est situé au sein d’une platine 5 dont la température est régulée, par exemple à l’aide d’un boîtier (non montré) de régulation de la température, à une température permettant de maintenir le précurseur organométallique sous sa forme liquide. Par exemple, la température de régulation de la platine 5 est d’environ 40°C. La sortie 3a de la seringue 3 est munie d’un conduit 6 apte à transporter le précurseur organométallique 4, selon le débit DP, jusqu’à un mixeur 7. Le dispositif 1 comprend en outre une alimentation en oxygène gazeux 8 munie d’un conduit 9 permettant d’amener l’oxygène gazeux jusqu’au mixeur 7. Par exemple, l’oxygène gazeux peut être initialement sous une pression de 0 à 3,5 bars. Le conduit 9 transportant l’oxygène gazeux est pourvu d’un régulateur de débit 10 permettant de délivrer l’oxygène gazeux avec un débit DO. Le débit DO va par exemple de 0,3 à 10 L/min. Le mixeur 7 est muni d’une entrée 7a et d’une sortie 7b. L’entrée 7a du mixeur 7 reçoit le précurseur organométallique sous forme liquide 4, selon un débit DP, en provenance du pousse seringue 2, et l’oxygène gazeux, selon un débit DO, en provenance de l’alimentation en oxygène gazeux 8. Le mixeur 7 intègre ces composés pour réaliser un mélange 11 du précurseur organométallique sous forme liquide et de l’oxygène gazeux, le mélange 11 étant à la température du précurseur organométallique sous forme liquide, par exemple environ 40°C. Le mélange 11 présente un débit DM. Le dispositif 1 comprend en outre un système chauffant 12 comprenant un conduit 13 et un tuyau 14 formant une gaine pour le conduit 13. Le conduit 13 est configuré pour recevoir et transporter le mélange 11 sortant par la sortie 7b du mixeur 7 jusqu’à la tête d’application 101 de l’unité de flammage 100. Le système chauffant 12 est pourvu d’un système de chauffage apte à porter le conduit 13 à la température du point initial d’ébullition du précurseur organométallique. Par exemple, le système de chauffage est sous la forme d’une résistance localisée entre le conduit 13 et le tuyau 14, ladite résistance étant reliée à une alimentation électrique, par exemple de tension 230 V, pour chauffer le conduit 13. La résistance peut par exemple être sous la forme d’un faisceau de fils de cuivre qui entourent le conduit 13. Ainsi, de façon générale, le conduit 13 peut présenter une température allant de 0 à 240°C. Le système chauffant 12 permet ainsi de chauffer le mélange 11 à la température du point initial d’ébullition du précurseur organométallique de façon à former au sein du conduit 13 un pré-mélange 15 comprenant l’oxygène et le précurseur organométallique, sous forme gazeuse. Le système chauffant 12 présente de préférence une longueur suffisante pour autoriser et assurer la transformation du mélange 11 comprenant le précurseur organométallique sous forme liquide en le pré-mélange gazeux 15. Par exemple, le système chauffant peut présenter une longueur allant de 1 à plusieurs mètres. Le conduit 13 peut par exemple être en polytétrafluoroéthylène (PTFE), et le tuyau 14 peut par exemple être une gaine tressée en polyamide formant isolant et permettant de manipuler le système chauffant 12 sans danger de brûlure pour l’utilisateur. A la sortie 12b du système chauffant 12, le pré-mélange gazeux 15 présente un débit DM. Toujours en référence à la FIG. 1 , est maintenant décrite l’unité de flammage 100. L’unité de flammage 100 comprend le dispositif 1 décrit ci-dessus ainsi qu’une tête d’application 101 reliée à la sortie 12b du système chauffant 12. L’unité de flammage 100 comprend également une alimentation en air 102 et une alimentation en gaz combustible 103. L’air sortant de l’alimentation en air 102 peut par exemple être à une pression allant de 0 à 7 bars. Le gaz combustible sortant de l’alimentation en gaz combustible 103 peut par exemple être le propane. Il peut être à une pression allant de 0 à 70 mBars. Sur l’exemple représenté, l’unité de flammage 101 comprend une platine 104 comprenant un système de réglage du débit et de la pression de l’air 105 ainsi qu’un système de réglage du débit et de la pression du gaz combustible 106. L’unité de flammage 100 comprend également des conduits d’amenée de l’air 107, du gaz combustible 108 et du mélange air + gaz combustible 109 jusqu’à la tête d’application 101. Le conduit d’amenée du mélange air + gaz combustible 109 rejoint la sortie 12b du système chauffant 12 au niveau de la tête d’application 101. En fonctionnement de l’unité de flammage 100, une flamme 110 est produite par le mélange d’air et de gaz combustible à la sortie de la tête d’application 101. Le pré-mélange gazeux 15 est injecté dans le mélange air + gaz combustible. La platine 104 de l’unité de flammage 100 comprend également un système de mesure de l’ionisation, qui peut être sous la forme d’un microampèremètre 111, par exemple un microampèremètre de dénomination commerciale Weigel Meβgerate Gmbh Type PQ48K MB/range 0-40µA DC. La mesure de l’ionisation permet de vérifier le bon fonctionnement de l’unité de flammage 100. Par exemple, une valeur d’ionisation inférieure à 5 microampères permet de constater le bon fonctionnement de l’unité de flammage 100. Ainsi, lors de l’injection du pré-mélange gazeux 15 dans le mélange air + gaz combustible, la valeur initiale de l’ionisation du mélange air + gaz combustible seul est perdue. La surveillance d’un changement de couleur de la flamme produite ainsi qu’un retour de la valeur de l’ionisation à une valeur inférieure à 5 microampères permet de d’assurer que la transformation du précurseur organométallique de sa phase liquide à sa phase gazeuse a bien eu lieu et que l’unité de flammage 100 fonctionne correctement. Il est alors possible d’appliquer la flamme 110 sur la surface de la première couche d’un support afin de déposer sur cette surface une deuxième couche, qui comprendra des oxydes du précurseur organométallique. Le dépôt de la deuxième couche peut se faire en plusieurs passages de flamme sur la surface de la première couche. En référence à la FIG. 2 , est montrée une unité de flammage 101 similaire à celle de la FIG. 1 , dans laquelle le pousse seringue a été remplacé par un pot sous pression d’azote et une pompe microdoseuse. Les mêmes références ont été conservées pour les éléments identiques de la FIG. 1 et de la FIG. 2 . En référence à la FIG. 2 , le dispositif 1 comprend un pot étanche 16 comprenant le précurseur organométallique sous forme liquide 4. L’intérieur du pot 16 est sous pression d’azote 17, apporté via un conduit 18 à partir d’une alimentation en azote 19. Le conduit 18 est muni d’un système de régulation de la pression 20 en azote. Un conduit 21 transporte le précurseur organométallique du pot 16 vers l’entrée 7a du mixeur 7. Le conduit 21 est muni d’une pompe microdoseuse 22 permettant de réguler le débit DP du précurseur organométallique. Des exemples de mise en œuvre du procédé selon l’invention au moyen de l’unité de flammage 100 telle que décrite à la FIG. 1 sont donnés ci-après. Exemple 1 Dépôt d’une couche comprenant des composés silicés comme des oxydes de silicium sur la surface d’un support dont la première couche comme défini dans la description ci-dessus est en Aluminium. On utilise une unité de flammage selon la FIG. 1 . Les étapes suivantes sont réalisées. Allumage de l’unité de flammage + réglage des débits d’air et de gaz combustible Allumage du boîtier de régulation de température du pousse seringue pour que le précurseur liquide soit à température 40°C Préparation du précurseur organométallique: ici, le précurseur organométallique est le HMDSO (Hexamethyldisiloxane) Mise en route du chauffage du système chauffant : dans le cas présent, on chauffe le conduit à 140°C, qui représente une température supérieure à la Température d’ébullition du HMDSO qui est de 101°C Ouverture des vannes d’air, de gaz combustible et d’oxygène. Ici, le gaz combustible est le propane, Réglage du débit d’oxygène DO à 1L/min Allumage de la flamme en réglant le mélange air/propane à un ratio de 50/50 en volume Injection du précurseur organométallique à un débit DP de 20 g/h Attente de la bonne montée et transformation du HMDSO de sa phase liquide à sa phase gazeuse notable par le changement de couleur de la flamme et la valeur du retour de l’ionisation lisible sur la machine de flammage inférieure à 5 microampères. On applique la flamme, éventuellement en plusieurs passages, sur la surface de la première couche du support. On dépose ainsi sur cette surface une deuxième couche comprenant des oxydes de silicium. Le choix du débit DO permet de contrôler la réaction de l’oxygène et du HMDSO gazeux au sein du système chauffant et à la sortie de la tête d’application, afin de contrôler l’épaisseur de la couche déposée ainsi que la structure inorganique de cette dernière, comme expliquée dans la description ci-dessus. La couche déposée présente des propriétés d’adhérence et d’anticorrosion ainsi que des propriétés anti-gouttes, anti-calcaire et anti-buée. Exemple 2 Cet exemple est réalisé de façon identique à l’Exemple 1, à l’exception du débit d’oxygène DO, que l’on a fixé cette fois-ci à 2 L/min. Ainsi, la couche déposée dans le présent Exemple 2 présente une épaisseur et une structure inorganique différentes de la couche déposée dans l’Exemple 1. En particulier, la couche déposée dans le présent Exemple 2 présente une épaisseur supérieure et une structure plus inorganique que la couche déposée dans l’Exemple 1. La couche déposée dans le présent Exemple 2 présente des propriétés d’adhérence et d’anticorrosion ainsi que des propriétés anti-gouttes, anti-calcaire et anti-buée. Exemple 3 Dépôt d’une couche comprenant des composés silicés, comme des oxydes de silicium et des composés titanés, comme des oxydes de titane, sur la surface d’un support dont la première couche comme défini dans la description ci-dessus est en verre. On utilise une unité de flammage selon la FIG. 1 . Les étapes suivantes sont réalisées. Allumage de l’unité de flammage + réglage des débits d’air et de gaz combustible Allumage du boîtier de régulation de température du pousse seringue pour que le précurseur liquide soit à température 40°C Préparation du précurseur organométallique : ici, le précurseur organométallique est un mélange de HMDSO (Hexamethyldisiloxane) et de TTIP (Titanium Isopropoxide) à un mélange en volume respectivement de 5/95 Mise en route du chauffage du système chauffant : dans le cas présent, on chauffe le conduit à 240°C, qui représente une température supérieure à la Température d’ébullition du TTIP, qui est de 232°C Ouverture des vannes d’air, de gaz combustible et d’oxygène. Ici, le gaz combustible est le propane, Réglage du débit d’oxygène DO à 5L/min Allumage de la flamme en réglant le mélange air/propane à un ratio de 50/50 Injection du précurseur organométallique à un débit DP de 30 g/h Attente de la bonne montée et transformation du mélange de HMDSO et de TTIP de sa phase liquide à sa phase gazeuse notable par le changement de couleur de la flamme et la valeur du retour de l’ionisation lisible sur la machine de flammage inférieure à 5 microampères. On applique la flamme, éventuellement en plusieurs passages, sur la surface de la première couche du support. On dépose ainsi sur cette surface une deuxième couche comprenant des oxydes de silicium et des oxydes de titane. Le choix du débit DO permet de contrôler la réaction de l’oxygène et du mélange de HMDSO et TTIP gazeux au sein du tuyau chauffant et à la sortie de la tête d’application, afin de contrôler l’épaisseur de la couche déposée ainsi que la structure inorganique de cette dernière, comme expliquée dans la description ci-dessus. La couche déposée présente des propriétés photocatalytiques. Exemple 4 Cet exemple est réalisé de façon identique à l’Exemple 3, à l’exception du débit d’oxygène DO, que l’on a fixé cette fois-ci à 7 L/min. Ainsi, la couche déposée dans le présent Exemple 4 présente une épaisseur et une structure inorganique différentes de la couche déposée dans l’Exemple 3. En particulier, la couche déposée dans le présent Exemple 4 présente une épaisseur supérieure et une structure plus inorganique que la couche déposée dans l’Exemple 3. La couche déposée dans le présent Exemple 4 présente des propriétés d’adhérence et d’anticorrosion ainsi que des propriétés photocatalytiques. Dispositif (1) de préparation d’un pré-mélange gazeux (15) comprenant de l’oxygène et au moins un précurseur organométallique, sous forme gazeuse, ledit dispositif (1) comprenant : au moins un réservoir (2 ; 16) dudit précurseur organométallique sous forme liquide (4), ledit réservoir (2 ; 16) étant apte à délivrer un débit DP dudit précurseur organométallique, au moins une alimentation en oxygène gazeux (8), au moins un mixeur (7) apte à recevoir le débit DP dudit précurseur organométallique sous forme liquide (4) et un débit DO dudit oxygène gazeux, et à mélanger ledit précurseur organométallique et l’oxygène pour obtenir un mélange (11) dudit précurseur organométallique et de l’oxygène, à la température dudit précurseur organométallique à l’état liquide, ledit mélange présentant un débit DM, au moins un système chauffant (12) apte à recevoir ledit mélange (11) dudit précurseur organométallique et de l’oxygène, à la température dudit précurseur organométallique à l’état liquide (4), et à chauffer ledit mélange à une température supérieure ou égale à la température du point initial d’ébullition dudit précurseur organométallique, afin d’obtenir un pré-mélange gazeux (15) comprenant l’oxygène et le précurseur organométallique, sous forme gazeuse, présentant un débit DM. Dispositif (1) selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit réservoir (2 ; 16) de précurseur organométallique sous forme liquide (4) comprend un système permettant de contrôler et/ou de faire varier le débit DP (2 ; 22). Dispositif (1) selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que le réservoir de précurseur organométallique sous forme liquide (4) est un pousse seringue (2). Dispositif (1) selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que le réservoir de précurseur organométallique sous forme liquide (4) est sous la forme d’un pot étanche (16) dans lequel le précurseur organométallique est maintenu sous pression d’azote, auquel est reliée une pompe microdoseuse (22). Dispositif (1) selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le débit DP va de 1 à 100 g/heure. Dispositif (1) selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu’il comprend en outre un système permettant de contrôler et/ou de faire varier le débit d’oxygène DO (10). Dispositif (1) selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le débit DO va de 0,3 à 10 L/min. Dispositif (1) selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le système chauffant (12) est configuré pour transporter ledit pré-mélange gazeux (15) jusqu’à une tête d’application d’une unité de flammage. Dispositif (1) selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le système chauffant (12) comprend un tuyau (14) muni d’un système de chauffage. Dispositif (1) selon la revendication 9, caractérisé en ce qu’une extrémité dudit tuyau (14) est reliée à une sortie (7b) dudit mixeur (7), l’autre extrémité dudit tuyau (14) étant apte à être reliée à une tête d’application d’une unité de flammage. Dispositif (1) selon l’une quelconque des revendications 1 à 10, caractérisé en ce que le précurseur organométallique est l’hexaméthyldisiloxane (HMDSO). Dispositif (1) selon l’une quelconque des revendications 1 à 10, caractérisé en ce que le précurseur organométallique est un mélange d’hexaméthyldisiloxane (HMDSO) et d’isopropylate de titane (TTIP). Unité de flammage (100) comprenant au moins une alimentation en air (102), au moins une alimentation en gaz combustible (103) et au moins une tête d’application de flamme (101), caractérisée en ce qu’elle comporte en outre au moins un dispositif (1) selon l’une quelconque des revendications 1 à 12. Unité de flammage (100) selon la revendication 13, caractérisée en ce que le système chauffant (12) est relié à ladite tête d’application de flamme (101). Unité de flammage (100) selon la revendication 13 ou 14, caractérisée en ce que la tête d’application de flamme (101) et le système chauffant (12) sont montés sur un bras de robot mobile. Procédé de traitement de la surface d’une première couche d’un support, comprenant une étape de dépôt par flammage sur ladite surface d’une deuxième couche comprenant au moins un composé silicé et/ou au moins un composé titané, ledit procédé étant caractérisé en ce qu’il est mis en œuvre au moyen d’un dispositif (1) selon l’une quelconque des revendications 1 à 12 et/ou au moyen d’une unité de flammage (100) selon l’une quelconque des revendications 13 à 15. Procédé selon la revendication 16, caractérisé en ce qu’il comprend les étapes suivantes : A) on prépare un pré-mélange gazeux (15) comprenant de l’oxygène et au moins un précurseur organométallique, sous forme gazeuse, au moyen d’un dispositif (1) selon l’une quelconque des revendications 1 à 12, B) on expose ladite surface à une flamme oxydante qui est le résultat du mélange d’un gaz combustible, d’air et dudit pré-mélange gazeux (15) afin de déposer ladite deuxième couche sur la surface de la première couche. Procédé selon la revendication 17, caractérisé en ce qu’il comprend l’étape C) suivante : C) on fait varier le débit DO de l’oxygène gazeux par rapport au débit DP dudit précurseur organométallique, dans ledit pré-mélange gazeux (15), afin de contrôler la réaction d’oxydation entre l’oxygène et ledit précurseur organométallique sous forme gazeuse, et ainsi contrôler l’épaisseur et/ou la structure inorganique de la deuxième couche. Procédé selon l’une quelconque des revendications 17 à 18, caractérisé en ce que le gaz combustible est le propane. Procédé selon l’une quelconque des revendications 17 à 19, caractérisé en ce que lors de l’étape B), le dépôt de la deuxième couche sur la surface de la première couche se fait en plusieurs passages de la flamme sur la surface de la première couche. Support comprenant une première couche sur la surface de laquelle a été déposée une deuxième couche comprenant au moins un composé silicé et/ou au moins un composé titané, obtenu selon le procédé selon l’une quelconque des revendications 16 à 20.