FR 3129030 A1 20230512 FR 2111964 A 20211110 Dispositif et procédé de génération de masques photolithographiques La présente description concerne un procédé comprenant : - la compression (800), par un processeur, d’une image (906) comprenant des premiers motifs, en faisant la transformation de l’image vers une première représentation composée d’éléments à deux points ; - l’exécution, par réseau de neurones (712), d’une opération d’inférence sur la première représentation afin de générer une deuxième représentation composée d’éléments à deux points ; et - la génération d’un masque lithographique (914) sur la base de la décompression (802) de la deuxième représentation. Figure pour l'abrégé : Fig. 8 Dispositif et procédé de génération de masques photolithographiques La présente description concerne de façon générale le domaine de la photolithographie et plus particulièrement la génération de masques photolithographiques. La photolithographie est une technique utilisée dans le domaine de la microélectronique afin d’imprimer des motifs d’un masque vers la surface d’une structure. La photolithographie comprend en général le dépôt d’une couche de résine photosensible sur la surface d’un substrat. Les motifs à reproduire sont définis par un masque formé de zones opaques et de zones transparentes. Ces motifs sont transférés vers la résine photosensible en appliquant une radiation lumineuse à travers le masque. Dues aux effets optiques, en particulier aux effets de la diffraction, les motifs obtenus sur la résine ne sont pas identiques aux motifs présents sur le masque photolithographique. Une difficulté est alors d’estimer et de compenser ces effets optiques. Il existe des outils permettant de générer des masques photolithographiques prenant en compte ces effets. Toutefois, ces outils sont peu efficaces et précis, ou sont lourds et couteux en temps et en ressources de traitement. Il existe un besoin récurrent d’améliorer les techniques de conception de masques lithographiques. En particulier, il existe un besoin de générer des masques photolithographiques efficaces tout en rendant le processus de génération moins couteux en temps et en ressources de traitement. Un mode de réalisation pallie tout ou partie des inconvénients des techniques de conception de masques lithographiques connues. Un mode de réalisation prévoit l’utilisation d’un réseau de neurones pour générer des modifications de données de motifs représentant un circuit. Ce réseau de neurones traite une représentation mathématique choisie de manière à compresser les données décrivant le circuit. Un mode de réalisation prévoit un procédé comprenant : - la compression, par un processeur, d’une image comprenant des premiers motifs, en faisant la transformation de l’image vers une première représentation composée d’éléments à deux points ; - l’exécution, par réseau de neurones, d’une opération d’inférence sur la première représentation afin de générer une deuxième représentation composée d’éléments à deux points ; et - la génération d’un masque lithographique sur la base de la décompression de la deuxième représentation. Selon un mode de réalisation, le procédé comprend l’utilisation du masque lithographique afin d’obtenir par lithographie des motifs sur une résine photosensible. Selon un mode de réalisation, l’image est représentée sous format vectoriel. Selon un mode de réalisation, l’image couvre une surface contenue dans un plan et la compression de ladite image comprend : - la projection d’un sommet d’un premier polygone de l’image vers un premier point d’une première courbe parcourant une première surface du plan ; et - la projection du sommet vers un deuxième point d’une deuxième courbe parcourant une deuxième surface autour du premier point, la deuxième surface ayant une aire inférieure à l'aire de la première surface. Selon un mode de réalisation, la première et/ou la deuxième surface est un rectangle. Selon un mode de réalisation, la première et/ou la deuxième surface est un triangle rectangle. Selon un mode de réalisation, la première et/ou la deuxième surface comprend un premier et un deuxième triangle rectangle agencés en rectangle, et la première représentation comprend un bit indiquant dans lequel entre le premier et le deuxième triangle le premier et/ou le deuxième point est localisé. Selon un mode de réalisation, la première surface est un rectangle et la deuxième surface comprend au moins un triangle rectangle. Selon un mode de réalisation, l’image est formée d’une pluralité de polygones, la compression en deux points comprenant la compression en deux points de chaque sommet de chaque polygone et la compression en deux points d’au moins certains points périmétriques de chaque polygone n’étant pas des sommets. Selon un mode de réalisation, le procédé comprend la comparaison entre la longueur de chaque arête de chaque polygone avec une longueur seuil et, si la longueur d’une arête dépasse la longueur seuil, la compression d’au moins un point périmétrique sur cette arête. Selon un mode de réalisation, la longueur seuil est inférieure à la distance minimale séparant n’importe quels deux polygones parmi la pluralité de polygones. Selon un mode de réalisation, le procédé comprend en outre la segmentation de l’image en une pluralité de sous-images, lesdites étapes de compression et de génération de masque étant appliquées à chacune des sous-images. Un mode de réalisation prévoit un procédé d’entrainement d’un réseau de neurones pour générer des masques lithographiques, le procédé comprenant : - la génération, au moins partiellement par le réseau de neurones, d’une image représentant un masque lithographique ; - l’estimation, en utilisant un outil de simulation lithographique, d’un motif résultant de l’utilisation du masque ; - la comparaison entre le motif résultant et un motif de référence ; et - la modification d’un ou plusieurs paramètres du réseau de neurones sur la base de la comparaison. Selon un mode de réalisation, la génération de l’image comprend : - la compression, par un algorithme mis en œuvre par un dispositif de traitement de données, d’une première image contenant des premiers motifs, en faisant la transformation de l’image en une première représentation composée d’éléments à deux points ; - l’application de la première représentation au réseau de neurones, afin de générer une deuxième représentation composée d’éléments à deux points ; et - la génération de l’image sur la base d’une décompression de la deuxième représentation. Selon un mode de réalisation, le réseau de neurones est un réseau antagoniste génératif comprenant un réseau génératif étant un premier auto-encodeur et un réseau discriminateur étant un deuxième auto-encodeur. Selon un mode de réalisation, le premier auto-encodeur et/ou le deuxième auto-encodeur est de type U-net. Selon un mode de réalisation, l’entrainement du réseau de neurones est effectué de façon itérative, et, à chaque itération : - une perte est calculée, en utilisant une fonction de perte, sur la base de la comparaison entre le motif résultant et un motif de référence ; et - la modification d’un ou plusieurs paramètres du réseau comprend la mise à jour de poids synaptiques du réseau de neurones sur la base de la perte calculée. Ces caractéristiques et avantages, ainsi que d'autres, seront exposés en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faite à titre non limitatif en relation avec les figures jointes parmi lesquelles : La illustre un exemple d’une image contenant des motifs, et des masques permettant l’obtention des motifs lors d’une opération de photolithographie ; la est un exemple d’une image comportant des motifs et une fenêtre pour laquelle un masque est généré ; la est un organigramme représentant des opérations de génération d’un masque selon un exemple de réalisation de la présente description ; la est un organigramme représentant des opérations de compression d’une image en une représentation composée d’éléments décrits par deux points ; la illustre une opération d’un procédé de compression d’image selon un exemple de réalisation de la présente description ; la illustre un exemple de compression en deux points d’un point périmétrique d’un polygone ; la illustre plus en détail un exemple de la génération d’un deuxième point de la compression en deux points de la ; la est un organigramme illustrant des opérations d’un procédé d’entrainement d’un réseau de neurones selon un exemple de réalisation de la présente description ; la illustre un procédé d’entrainement d’un réseau de neurones selon un exemple de réalisation de la présente description ; la illustre un procédé d’entrainement d’un réseau de neurones selon un autre exemple de réalisation de la présente description ; et la est un exemple d’implémentation d’un réseau de neurones. Procédé comprenant : - la compression, par un processeur, d’une image (100, 200, 500, 906) comprenant des premiers motifs (201), en faisant la transformation de l’image vers une première représentation composée d’éléments à deux points ; - l’exécution, par réseau de neurones (712), d’une opération d’inférence (302) sur la première représentation afin de générer une deuxième représentation composée d’éléments à deux points ; et - la génération d’un masque lithographique (914) sur la base de la décompression de la deuxième représentation. Procédé selon la revendication 1, comprenant l’utilisation du masque lithographique (102, 102’, 914) afin d’obtenir par lithographie des motifs sur une résine photosensible. Procédé selon la revendication 1 ou 2, dans lequel l’image (100, 200, 500, 906) est représentée sous format vectoriel. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 3, dans lequel l’image (100, 200, 500, 906) couvre une surface contenue dans un plan et la compression de ladite image comprend : - la projection d’un sommet d’un premier polygone (502, 504) de l’image (100, 200, 500, 906) vers un premier point (614) d’une première courbe (600) parcourant une première surface (601) du plan ; et - la projection du sommet vers un deuxième point (621) d’une deuxième courbe (615) parcourant une deuxième surface (616) autour du premier point, la deuxième surface ayant une aire inférieure à l'aire de la première surface. Procédé selon la revendication 4, dans lequel la première et/ou la deuxième surface (601, 616) est un rectangle. Procédé selon la revendication 4 ou 5, dans lequel la première et/ou la deuxième surface (601, 616) est un triangle rectangle. Procédé selon la revendication 4, dans lequel la première et/ou la deuxième surface (601, 616) comprend un premier et un deuxième triangle rectangle agencés en rectangle, et la première représentation comprend un bit indiquant dans lequel entre le premier et le deuxième triangle le premier et/ou le deuxième point est localisé. Procédé selon l’une quelconque des revendications 4 à 7, dans lequel la première surface (601) est un rectangle et la deuxième surface (616) comprend au moins un triangle rectangle. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 8, dans lequel l’image est formée d’une pluralité de polygones (201, 502, 504), la compression en deux points comprenant la compression en deux points de chaque sommet (506, 508, 514) de chaque polygone et la compression en deux points d’au moins certains points périmétriques (510, 512, 516) de chaque polygone n’étant pas des sommets. Procédé selon la revendication 9, comprenant la comparaison entre la longueur de chaque arête de chaque polygone avec une longueur seuil et, si la longueur d’une arête dépasse la longueur seuil, la compression d’au moins un point périmétrique (510, 512, 516) sur cette arête. Procédé selon la revendication 10, dans lequel la longueur seuil est inférieure à la distance minimale (d) séparant n’importe quels deux polygones (201, 502, 504) parmi la pluralité de polygones. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 11, comprenant en outre la segmentation de l’image en une pluralité de sous-images (202), lesdites étapes de compression et de génération de masque étant appliquées à chacune des sous-images. Procédé d’entrainement d’un réseau de neurones (712) pour générer des masques lithographiques, le procédé comprenant : - la génération, au moins partiellement par le réseau de neurones, d’une image (914) représentant un masque lithographique ; - l’estimation, en utilisant un outil de simulation lithographique (714), d’un motif résultant (918) de l’utilisation du masque ; - la comparaison entre le motif résultant et un motif de référence ; et - la modification d’un ou plusieurs paramètres du réseau de neurones sur la base de la comparaison. Procédé d’entrainement selon la revendication 13, dans lequel la génération de l’image (914) comprend : - la compression, par un algorithme mis en œuvre par un dispositif de traitement de données, d’une première image (906) contenant des premiers motifs, en faisant la transformation de l’image en une première représentation composée d’éléments à deux points ; - l’application de la première représentation au réseau de neurones (712), afin de générer une deuxième représentation composée d’éléments à deux points ; et - la génération de l’image sur la base d’une décompression de la deuxième représentation. Procédé d’entrainement selon la revendication 13 ou 14, dans lequel le réseau de neurones (712) est un réseau antagoniste génératif comprenant un réseau génératif (1000) étant un premier auto-encodeur (1100) et un réseau discriminateur (1002) étant un deuxième auto-encodeur (1100). Procédé d’entrainement selon la revendication 15, dans lequel le premier auto-encodeur et/ou le deuxième auto-encodeur (1100) est de type U-net. Procédé d’entrainement selon l’une quelconque des revendications 13 à 16, dans lequel l’entrainement du réseau de neurones (712) est effectué de façon itérative, et, à chaque itération : - une perte est calculée, en utilisant une fonction de perte (920), sur la base de la comparaison entre le motif résultant (918) et un motif de référence (906) ; et - la modification d’un ou plusieurs paramètres du réseau comprend la mise à jour de poids synaptiques du réseau de neurones sur la base de la perte calculée.