FR 3119619 A1 20220812 FR 2101265 A 20210210 L’invention concerne un substrat transparent revêtu d’un empilement de couches minces comprenant, à partir du substrat, un revêtement diélectrique inférieur comportant une couche de mouillage, de préférence à base de ZnO, une couche métallique fonctionnelle à base d’argent et un revêtement diélectrique supérieur, chaque revêtement diélectrique comportant plusieurs couches diélectriques, caractérisé en ce que : - le revêtement diélectrique inférieur comprend une succession d’au moins trois couches diélectriques ayant des indices de réfraction croissants, la différence d’indice entre les trois couches étant au moins de 0,15 ; - le revêtement diélectrique supérieur comprenant une succession d’au moins deux couches ayant des indices de réfraction décroissants. Le coefficient Ug est maintenu à des valeurs faibles (de 0,22 à 0,31 Btu/hft²F) alors que le facteur solaire SHGC est maximisé (de 0,720 à 0,757). Fig 1 SUBSTRAT TRANSPARENT REVETU D’UN EMPILEMENT DE COUCHES MINCES L’invention concerne un substrat transparent revêtu d’un empilement de couches minces comprenant une couche fonctionnelle à base d’argent ainsi qu’un vitrage comprenant un tel substrat. L'invention concerne plus particulièrement l'utilisation de tels substrats pour fabriquer des vitrages d'isolation thermique renforcée présentant un facteur solaire élevé. De tels vitrages sont par exemple destinés aux climats froids pour équiper les bâtiments, en vue notamment de diminuer l'effort de chauffage en hiver (vitrages dits « bas-émissifs») et de maximiser l'apport solaire gratuit. Le facteur solaire SHGC est défini comme le rapport entre le gain en énergie solaire entrant dans le local par le vitrage et l'énergie solaire incidente. Selon la norme NFRC 200-2017, le gain en énergie solaire est la somme du flux énergétique transmis directement à travers le vitrage et du flux énergétique absorbé puis réémis vers l'intérieur par le vitrage. Un type d'empilement de couches minces connu pour conférer de telles propriétés d'isolation thermique est constitué d'une couche fonctionnelle à base d’argent (ou couche d’argent). Les couches fonctionnelles à base d’argent sont utiles à plusieurs titres : en réfléchissant le rayonnement infrarouge, thermique ou solaire, elles impartissent au matériau des fonctions de basse émissivité ou de contrôle solaire. Conductrices de l’électricité, elles permettent également d’obtenir des matériaux conducteurs, par exemple des vitrages chauffants ou des électrodes. Les couches fonctionnelles à base d’argent sont déposées entre des revêtements à base de matériaux diélectriques (ci-après revêtement diélectrique) qui comprennent généralement plusieurs couches diélectriques permettant d’ajuster les propriétés optiques de l’empilement et de conserver une transmission élevée dans le domaine visible. Ces couches diélectriques permettent en outre de protéger les couches d’argent des agressions chimiques ou mécaniques. La demande WO 2012/127162, appartenant à la déposante, divulgue un substrat transparent muni d'un empilement de couches minces comprenant une couche d’argent disposée entre deux revêtements diélectriques non métalliques particuliers permettant d'augmenter le facteur solaire d'un vitrage équipé d’un tel substrat et d'obtenir une coloration acceptable, notamment en transmission. A cette fin, l’empilement comprend de préférence : - un revêtement diélectrique inférieur, situé en dessous de la couche d’argent, comprenant au moins une couche à haut indice de réfraction, en matériau d'indice de réfraction supérieur ou égal à 2,20, - un revêtement diélectrique supérieur, situé au-dessus de la couche d’argent comprenant au moins la séquence de couches minces haut et bas indices déposées dans l'ordre suivant au-dessus de la couche à base d’argent : - au moins une couche à haut indice de réfraction, en matériau d'indice de réfraction supérieur ou égal à 2,20, - au moins une couche à bas indice de réfraction, en matériau d'indice de réfraction inférieur ou égal à 1,70. La demande WO2017/42463 appartenant également à la déposante, vise également des substrats transparents revêtus permettant d'augmenter le facteur solaire du vitrage. L’enpilement suivant est par exemple décrit à l’exemple 1 : Sub/ Si 3 N 4 / TiOx / SiZrN / ZnO / Ag / NiCr / ZnO / TiOx / SiO2 Le facteur solaire est cependant insuffisant. On connait également le document WO 2018/165357 (Guardian) qui divulgue un article revêtu d’un empilement à basse émissivité, et notamment l’empilement suivant : Sub / SiN / ZrSiN / TiO2 / ZnAlO / Ag / barrière TiO2 / ZrSiN / SiN / SiO2. La couche ZrSiN doit comporter plus de Zr que de Si et a dès lors un indice proche de celui de la couche de TiO2. La demande WO 2007/101964 divulgue, dans le cas où le revêtement diélectrique situé en dessous de la couche d’argent comprend au moins une couche diélectrique à base de nitrure, notamment de nitrure de silicium et/ou d'aluminium, des revêtements diélectriques comprenant : - des couches de mouillage destinées à favoriser le mouillage et la nucléation de la couche d’argent, par exemple une couche à base d’oxyde de zinc cristallisé, - des couches de lissage en un oxyde mixte situé sous la couche de mouillage contribuant à la croissance adéquate de la couche d’argent au-dessus de la couche de mouillage. Dans ce document, toutes les couches minces du revêtement diélectrique supérieur, présentant une épaisseur supérieure à 5 nm, ont des indices de réfraction sensiblement égaux. De ce fait, les revêtements diélectriques constitués de telles couches minces forment un milieu d’indice de réfraction sensiblement homogène bien que les matériaux qui les constituent soient différents. Selon l’invention, on considère que des couches ont des indices de réfraction différents lorsque la valeur absolue de la différence entre les indices de réfraction mesurés à 550 nm des deux matériaux les constituant est supérieure ou égale à 0,15. Il existe toujours un besoin de développer un matériau présentant à la fois : - une faible émissivité, et - un facteur solaire plus élevé. Le demandeur a découvert, de manière surprenante, que lorsque le revêtement diélectrique sous la couche fonctionnelle est formé de couches qui forment un gradient d’indice croissant en partant du substrat et que le revêtement diélectrique au dessus de la couche fonctionnelle est formé de couches qui forment un gradient d’indice décroissant, il est possible d’augmenter le facteur solaire tout en conservant une faible émissivité. Il est alors également envisageable de diminuer l’épaisseur de la couche fonctionnelle. L’invention concerne un substrat transparent revêtu d’un empilement de couches minces comprenant, à partir du substrat, un revêtement diélectrique inférieur comportant une couche de mouillage, de préférence à base de ZnO, une couche de lissage, une couche métallique fonctionnelle à base d’argent et un revêtement diélectrique supérieur, chaque revêtement diélectrique comportant plusieurs couches diélectriques, caractérisé en ce que : - le revêtement diélectrique inférieur comprend une succession d’au moins trois couches diélectriques ayant des indices de réfraction croissants, la différence d’indice entre les trois couches étant au moins de 0,15, - le revêtement diélectrique supérieur comprennant une succession d’au moins deux couches ayant des indices de réfraction décroissants. Selon un mode de réalisation avantageux, le revêtement diélectrique supérieur comprend au moins la séquence de couches minces déposées dans l'ordre suivant au-dessus de la couche fonctionnelle: - au moins une couche à haut indice de réfraction, en matériau d'indice de réfraction supérieur ou égal à 2,20, l'épaisseur physique de la couche à haut indice de réfraction étant comprise entre 10 et 40 nm, - au moins une couche à bas indice de réfraction, en matériau d'indice de réfraction inférieur ou égal à 2,00, l'épaisseur physique de la couche à bas indice de réfraction étant comprise entre 15 et 100 nm. En particulier, le revêtement diélectrique supérieur comprend une succession d’au moins trois couches d’indices décroissants, chacune d’épaisseur supérieure à 5 nm, dont la différence d’indice est de préférence supérieure à 0,20. Selon un mode de réalisation avantageux, le revêtement diélectrique supérieur, situé au-dessus de la couche métallique fonctionnelle à base d’argent, comprend : - une couche à base d’oxyde de zinc, - une couche haut-indice, - une couche présentant un indice de réfraction intermédiaire, et - une couche présentant un indice de réfraction inférieur à 2,0. De préférence toutes les couches diélectriques du revêtement diélectrique supérieur, déposée au dessus de la couche d’oxyde de zinc, forment un gradient d’indice décroissant. En particulier, chaque couche du revêtement diélectrique inférieur ayant une épaisseur supérieure à 3 nm, forment un gradient d’indice croissant. On entend par couche de mouillage, une couche en un matériau apte à stabiliser l'interface avec la couche fonctionnelle. Les couches de mouillage sont à base d’oxyde de zinc, éventuellement dopé à l’aide d’au moins un autre élément, comme l’aluminium. L’oxyde de zinc est cristallisé. La couche à base d’oxyde de zinc comprend, par ordre de préférence croissant au moins 90,0 %, au moins 92 %, au moins 95 %, au moins 98,0 % en masse de zinc par rapport à la masse d’éléments autres que de l’oxygène dans la couche à base d’oxyde de zinc. Les couches de mouillage ont par ordre de préférence croissant, une épaisseur : - d'au moins 3,0 nm, d'au moins 5,0 nm, et/ou - d’au plus 25 nm, d’au plus 10 nm, d’au plus 8,0 nm. La couche de mouillage peut se trouver directement au contact de la couche métallique fonctionnelle à base d’argent. On entend par couche de lissage, une couche dont la fonction est de favoriser la croissance de la couche de mouillage selon une orientation cristallographique préférentielle, laquelle favorise la cristallisation de la couche d’argent par des phénomènes d’épitaxie. La couche de lissage est située en-dessous et de préférence au-contact d’une couche de mouillage. La couche de lissage à base d’oxyde mixte peut être qualifiée de « non cristallisée » dans le sens où elle peut être complètement amorphe ou partiellement amorphe et ainsi partiellement cristallisée, mais qu'elle ne peut pas être complètement cristallisée, sur toute son épaisseur. Elle ne peut être de nature métallique car elle est à base d'oxyde mixte (un oxyde mixte est un oxyde d'au moins deux éléments). L'intérêt d'une telle couche de lissage est de permettre d'obtenir une interface avec la couche de mouillage qui est peu rugueuse. Cette faible rugosité est observable au microscope électronique à transmission. Par ailleurs, la couche de mouillage se texture mieux et présente en outre une orientation cristallographique préférentielle plus marquée. Chaque couche de lissage est ainsi en un matériau différent, tant du point de vue cristallographique que stœchiométrique, de celui de la couche de mouillage sous laquelle elle est directement disposée. De préférence, la couche de lissage, est une couche à base d'oxyde mixte d’au moins deux métaux choisis parmi Sn, Zn, In, Ga. Un oxyde mixte préféré est l’oxyde de zinc et d’étain. La couche de lissage est de préférence une couche d’oxyde mixte de zinc et d’étain éventuellement dopée. L'indice de la couche de lissage est, de préférence, inférieur à 2,2. Par ailleurs, la couche de lissage présente de préférence une épaisseur entre 0,1 et 30 nm et de préférence encore comprise entre 0,2 et 10 nm. Les couches de lissage ont par ordre de préférence croissant, une épaisseur : - d'au moins 0,5 nm, d'au moins 1,0 nm, et/ou - d’au plus 25 nm, d’au plus 15 nm, d’au plus 8 nm. La couche de mouillage est avantageusement directement au-contact de la couche métallique à base d’argent. Cela signifie que, dans ce cas, l’empilement ne comprend pas de couche de blocage sous la couche fonctionnelle à base d’argent. Selon certains modes de réalisation, le revêtement diélectique supérieur comporte, en outre, une couche à base de ZnO disposée entre la couche métallique fonctionnelle à base d’argent et la succession d’au moins deux couches à indices décroissants. L’empilement peut comporter, en outre, une couche de protection supérieure, par exemple à base de TiOx L’empilement peut encore comporter, en outre, une couche de blocage déposée directement sur la couche métallique fonctionnelle à base d’argent, Selon ce mode de réalisation, la couche de blocage est choisie parmi les couches métalliques, les couches de nitrure métallique, les couches d’oxyde métallique et les couches d’oxynitrure métallique à base d’un ou plusieurs éléments choisis parmi le niobium Nb, le tantale Ta, le titane Ti, le chrome Cr ou le nickel Ni ou à base d'un alliage obtenu à partir d'au moins deux de ces métaux. Lorsque ces couches de blocage sont déposées sous forme métallique, nitrurée, oxynitrurée ou sous oxydée, ces couches peuvent subir une oxydation partielle ou totale selon leur épaisseur et la nature des couches qui les entourent, par exemple, au moment du dépôt de la couche suivante. De préférence, les couches de blocage sont à base de titane et sont des couches métalliques ou des couches d’oxyde métallique, de préférence, sous stœchiométrique en oxygène. Selon un mode de réalisation avantageux, l’empilement ne comprend pas de couche de blocage située en-dessous et au contact de la couche fonctionnelle métallique à base d’argent. L’épaisseur de la couche de blocage est en général comprise entre 0,1 et 5,0 nm, de préférence : - d’au moins 0,1 nm ou d’au moins 0,5 nm et/ou - d’au plus 5,0 nm ou d’au plus 2,0 nm, d’au plus 1,0 nm. De manière particulière, la couche métallique fonctionnelle à base d’argent a une épaisseur comprise entre 5 et 20 nm, de préférence entre 6 et 10 nm, de manière encore préférée entre 7 et 8,5 nm. La couche fonctionnelle métallique à base d’argent comprend au moins 95,0 %, de préférence au moins 96,5 % et mieux au moins 98,0 % en masse d’argent par rapport à la masse de la couche fonctionnelle. De préférence, la couche métallique fonctionnelle à base d’argent comprend moins de 1,0 % en masse de métaux autres que de l’argent par rapport à la masse de la couche métallique fonctionnelle à base d’argent. De manière particulière chaque revêtement diélectrique comprend au moins une couche haut-indice à base d’un oxyde ou nitrure, présentant un indice de réfraction supérieur à 2,20 , de préférence supérieur à 2,25 et présentant de préférence une épaisseur supérieure à 5 nm. La couche haut-indice à base d’oxyde métallique est choisie parmi les couches à base d’oxyde ou nitrure de titane, de zirconium, de niobium ou d'un alliage de métaux choisis dans le groupe constitué par Ti, Zn, Zr , Sn, Si et Al. L’épaisseur de la couche haut-indice est par ordre de préférence croissant comprise entre 5 et 100 nm, entre 8 et 40 nm, entre 10 et 30 nm entre 15 et 25 nm. De manière particulière, chaque revêtement diélectrique comprend au moins une couche diélectrique à base d’oxyde ou de nitrure et présentant un indice de réfraction inférieur à 2,15, de préférence inférieure à 2,05 et présentant une épaisseur supérieure à 3 nm. Selon un mode de réalisation avantageux, le revêtement diélectrique supérieur comporte trois couches de diélectrique, successivement de haut indice, d’indice intermédiaire et de bas indice ; la couche d’indice intermédiaire ayant une épaisseur : - supérieure à l’épaisseur de la couche de haut indice, et - supérieure à l’épaisseur de la couche de bas indice. Les indices de réfraction sont tous mesurés, comme usuellement, à une longueur d'onde de 550 nm. Par « épaisseur » sans qualificatif, on entend au sens de l'invention l'épaisseur physique, géométrique ou réelle de la couche avec son indice de réfraction mesuré à 550 nm. Par « épaisseur optique », on entend au sens de l'invention, comme habituellement, le produit de l'épaisseur physique (ou réelle) de la couche avec son indice de réfraction mesuré à 550 nm. Par « épaisseur optique totale » on entend au sens de l'invention la somme de toutes les épaisseurs optiques des couches considérées, chaque épaisseur optique étant, comme expliqué ci-avant, le produit de l'épaisseur physique (ou réelle) de la couche avec son indice de réfraction mesuré à 550 nm. Ainsi, l'épaisseur optique totale du revêtement antireflet est constituée de la somme de toutes les épaisseurs optiques des couches diélectriques constituant ce revêtement. L’empilement est déposé par pulvérisation cathodique assistée par un champ magnétique (procédé magnétron). Selon ce mode de réalisation avantageux, toutes les couches de l’empilement sont déposées par pulvérisation cathodique assistée par un champ magnétique. Sauf mention contraire, les épaisseurs évoquées dans le présent document sont des épaisseurs physiques et les couches sont des couches minces. On entend par couche mince, une couche présentant une épaisseur comprise entre 0,1 nm et 100 micromètres. Dans toute la description le substrat selon l'invention est considéré posé horizontalement. L’empilement de couches minces est déposé au-dessus du substrat. Le sens des expressions « au-dessus » et « en-dessous » et « inférieur » et « supérieur » est à considérer par rapport à cette orientation. A défaut de stipulation spécifique, les expressions « au-dessus » et « en-dessous » ne signifient pas nécessairement que deux couches et/ou revêtements sont disposés au contact l'un de l'autre. Lorsqu’il est précisé qu’une couche est déposée « au contact » d’une autre couche ou d’un revêtement, cela signifie qu’il ne peut y avoir une ou plusieurs couches intercalées entre ces deux couches. L’empilement de couches minces peut comprendre une seule couche fonctionnelle. Un exemple d’empilement convenant selon l’invention comprend à partir du substrat les caractéristiques suivantes, seules ou en combinaison : - un revêtement diélectrique inférieur comportant : - trois couches d’indice croissant avec une différence d’indice entre chaque couche sucessive d’au moins 0,15, de préférence d’au moins 0,20 ; - 2 à 15 nm, de préférence de 3 à 10 nm d’une couche présentant un indice compris entre 1,45 et 2,00 ; - 5 à 30 nm, de préférence de 10 à 20 nm d’une couche présentant un indice compris entre 1,80 et 2,30 ; - 5 à 30 nm, de préférence de 10 à 20 nm d’une couche présentant un indice compris entre 2,20 et 2,50 ; - une couche de lissage de 2 à 10 nm, de préférence de 3 à 8 nm ; - une couche de mouillage de 2 à 10 nm, de préférence de 3 à 8 nm ; - une couche métallique fonctionnelle à base d’argent de 6 à 10 nm, de préférence de 7 à 8,5 nm ; - une couche de blocage de 0,2 à 3 nm, de préférence de 0,5 à 2,5 nm ; - un revêtement diélectrique supérieur, comportant : - une couche de ZnO de 4 à 15 nm, de préférence de 5 à 10 nm ; - trois couches d’indice décroissant avec une différence d’indice entre chaque couche sucessive d’au moins 0,15, de préférence d’au moins 0,20 : - 5 à 20 nm, de préférence de 10 à 15 nm d’une couche présentant un indice compris entre 2,20 et 2,50 ; - 5 à 50 nm, de préférence de 10 à 40 nm d’une couche présentant un indice compris entre 1,80 et 2,30 ; - 10 à 100 nm, de préférence de 15 à 80 nm d’une couche présentant un indice compris entre 1,45 et 2,00 ; - éventuellement une couche de protection, par exemple à base de 0,2 à 5 nm, de préférence de 0,5 à 3 nm de TiOx ou de SnZnO. Les couches diélectriques des revêtements diélectriques présentent les caractéristiques suivantes seules ou en combinaison : - elles sont déposées par pulvérisation cathodique assistée par champ magnétique, - elles sont choisies parmi les oxydes, les nitrures ou les oxynitrures d’un ou plusieurs éléments choisi(s) parmi le titane, le silicium, l’aluminium, le zirconium, l’étain et le zinc, - elles ont une épaisseur supérieure ou égale à 1 nm, de préférence comprise entre 5 et 100 nm. Avantageusement : - la couche métallique fonctionnelle à base d’argent est située au-dessus et au contact de la couche de mouillage, et/ou - la couche de mouillage est située au-dessus et au contact de la couche de lissage, et/ou - la couche de lissage est située au-dessus et au contact d’une couche haut indice Les couches à bas indice de réfraction sont préférentiellement des couches d'oxyde de silicium, c'est-à-dire qu'elles sont constituées à plus de 80% en poids d'oxyde de silicium sur la base de la formulation de l'oxyde simple SiO 2 , et éventuellement d'au moins un autre élément de préférence choisi dans le groupe constitué par Al, C, N, B, Sn, Zn et de manière très préférée parmi Al, B ou C. De préférence lesdites couches constituées essentiellement d'oxyde de silicium sont constituées à plus de 90% en poids d'oxyde de silicium, sur la base de la formulation de l'oxyde simple SiO 2 . L’empilement de couches minces peut éventuellement comprendre une couche de protection. La couche de protection est de préférence la dernière couche de l’empilement, c’est-à-dire la couche la plus éloignée du substrat revêtu de l’empilement (avant traitement thermique). Ces couches ont en général une épaisseur comprise entre 0,5 et 10 nm, de préférence 1 et 5 nm. Cette couche de protection peut être choisie parmi une couche de titane, de zirconium, d’hafnium, de zinc et/ou d’étain, ce ou ces métaux étant sous forme métallique, oxydée ou nitrurée. Selon un mode de réalisation, la couche de protection est à base d’oxyde de zirconium et/ou de titane, de préférence à base d’oxyde de zirconium ou d’oxyde de titane et de zirconium. Les substrats transparents selon l’invention sont de préférence en un matériau rigide minéral, comme en verre, ou organiques à base de polymères (ou en polymère). Les substrats transparents organiques selon l’invention peuvent également être en polymère, rigides ou flexibles. Des exemples de polymères convenant selon l’invention comprennent, notamment : - le polyéthylène, - les polyesters tels que le polyéthylène téréphtalate (PET), le polybutylène téréphtalate (PBT), le polyéthylène naphtalate (PEN) ; - les polyacrylates tels que le polyméthacrylate de méthyle (PMMA) ; - les polycarbonates ; - les polyuréthanes ; - les polyamides ; - les polyimides ; - les polymères fluorés comme les fluoroesters tels que l’éthylène tétrafluoroéthylène (ETFE), le polyfluorure de vinylidène (PVDF), le polychlorotrifluorethylène (PCTFE), l’éthylène de chlorotrifluorethylène (ECTFE), les copolymères éthylène-propylène fluorés (FEP) ; - les résines photoréticulables et/ou photopolymérisables, telles que les résines thiolène, polyuréthane, uréthane-acrylate, polyester-acrylate et - les polythiouréthanes. Le substrat est de préférence une feuille de verre ou de vitrocéramique. Le substrat est de préférence transparent, incolore (il s’agit alors d’un verre clair ou extra-clair) ou coloré, par exemple en bleu, gris ou bronze. Le verre est de préférence de type silico-sodo-calcique, mais il peut également être en verre de type borosilicate ou alumino-borosilicate. Le substrat possède avantageusement au moins une dimension supérieure ou égale à 1 m, voire 2 m et même 3 m. L’épaisseur du substrat varie généralement entre 0,5 mm et 19 mm, de préférence entre 0,7 et 9 mm, notamment entre 2 et 8 mm,. Le substrat peut être plan ou bombé.. En double vitrage (DGU), en utilisant un second substrat (contre-verre) à faible teneur en fer, avec le même empilement, le facteur solaire peut encore être légèrement augmenté. De même avec un substrat en verre de type extra-clair, le facteur solaire est encore plus augmenté. L’invention concerne également un vitrage multiple, notamment un vitrage feuilleté, ou double-vitrage ou triple vitrage, comportant au moins deux substrats transparents dont au moins un est selon la description ci-dessus. Dans un vitrage multiple, on compte les faces en partant de l’extérieur du batiment vers l’intérieur du batiment. Dans un double vitrage, les faces 2 et 3 sibt à l'intérieur du double vitrage. De préférence, le vitrage multiple présente, dans une configuration 3/12/3 ; avec l’espace intercallaire rempli d’un mélange 90% argon et 10% air et la couche en face 3, un facteur solaire (SHGC) supérieur à 0,65, de préférence supérieur à 0,70, et de manière encore préférée supérieur à 0,72. Dans cette même configuration, le vitrage présente de préférence un coeficient Ug inférieur à 0,36, de préférence inférieur à 0,34 et de manière encore préférée inférieur à 0,32. En particulier au moins un des substrats est en verre, notamment silico-sodo-calcique comportant un taux de fer réduit. Ces matériaux peuvent par ailleurs être intégrés dans des vitrages présentant en outre des fonctionnalités particulières, comme par exemple des vitrages chauffants. L’invention concerne également un procédé d’obtention d’un matériau comprenant un substrat transparent revêtu d’un empilement de couches minces selon l’invention. Le substrat revêtu de l’invention convient dans toutes applications nécessitant l’utilisation d’un empilement bas-émissif comprenant des couches d’argent pour lesquelles un facteur solaire élevé, une faible émissivité et bonne transmission lumineuse sont des paramètres clés. Les exemples qui suivent illustrent l’invention sans toutefois la limiter. Exemples I. Nature des couches et revêtements déposés Plusieurs types d’empilements de couches minces définis ci-après sont déposés sur des substrats en verre sodo-calcique clair d’une épaisseur de 2,9 mm, de manière connue, sur une ligne de pulvérisation cathodique (procédé magnétron) dans laquelle le substrat vient défiler sous différentes cibles. Pour ces exemples, les conditions de dépôt des couches déposées par pulvérisation (pulvérisation dite « cathodique magnétron ») sont résumées dans le tableau 1 ci-dessous. Tableau 1 Cibles employées Pression dépôt Gaz Indice Si 3 N 4 Si:Al (92:8 % en pds) 2-15*10 -3 mbar Ar 47 % - N 2 53 % 1,98 SiZrAlN Si:Al:Zr (70:8:22% at.) 2 à 4.10 -3 mbar Ar 40-55 % - N 2 45-60 % 2,26 SnZnOx Sn:Zn (60:40% en pds) 1,5*10 -3 mbar Ar 40-60 % - O 2 40-60 % 2,09 ZnO Zn :Al (98:2 % en pds) 1,5*10 -3 mbar Ar 60 % - O 2 40 % 2,04 Ag Ag 5 à 8*10 -3 mbar Ar à 100 % - Ti Ti 3*10 -3 mbar Ar à 100 % - SiO 2 Si:Al (92:8 % en pds) 2-5*10 -3 mbar Ar 100 % - O 2 45-60% 1,50 TiO 2 TiOx 1,5.10-3 mbar Ar 88 % - O2 12% 2,45 at. : atomique ; pds : poids ; Indice : à 550 nm. Le tableau 2 indique pour chaque substrat revêtu l’épaisseur physique des couches de l’empilement, exprimée en nm (sauf autres indications). La première ligne correspond à la couche la plus éloignée du substrat, en contact avec l’air libre. Tableau 2 Ex 1 Ex 2 Ex 3) Ex 4 Ex 5 Ex 6 Couche protectrice TiO x 1 1 1 1 1 1 Couche bas indice SiO 2 / 7 15 46 15 15 Couche indice interm. SiN x 29 27 22 15 22 22 Couche haut indice SiZrN x 14 14 14 14 14 14 ZnO 8 8 8 8 8 8 Couche de blocage TiO x 1 1 1 1 1 1 Couche fonctionnelle Ag 8 8 8 8 8 8 Couche de mouillage ZnO 5 5 5 5 5 5 Couche de lissage SnZnO 5 5 5 5 2 5 Couche haut indice TiO x 13 13 13 13 13 13 Couche indice interm. SiZrN x 14 14 14 14 14 10 Couche bas indice SiN x 4 4 4 4 4 12 substrat SHGC (%) 72,7 72,8 72,9 73,6 72,7 72,5 Rsq (ohm/carré) 7,04 7,04 7,04 7,15 7,21 Dans le revêtement diélectrique inférieur, les couches SiN x , SiZrN x , TiO x ont des indices respectifs de 1,98, 2,26 et 2,45 soit croissants. Dans le revêtement diélectrique supérieur, les couches SiZrN x , SiN x , SiO 2 ont des indices respectifs de 2,26, 1,98 et 1,50 soit décroissants. II. Configuration des doubles vitrages Les substrats revêtus de l’empilement ont été assemblés en double vitrage, dans une configuration 3/12/3, avec un deuxième substrat (appelé contre-verre) en verre sodo-calcique clair, disposé côté extérieur du bâtiment ; le substrat revêtu étant disposé côté intérieur du bâtiment avec la couche en face 3. L’espace intercallaire est rempli d’un mélange 90% argon et 10% air. III. Performances optiques Les caractéristiques suivantes ont été mesurées : - le facteur solaire: SHGC (Solar Heat Gain Coefficient) selon la norme NFRI 200-2017, et - la résistance par carré (Rsq) (en Ω/carré). Cette valeur est liée de manière linéaire à la valeur d’émissivité. Le coefficient Ug est déduit de l’émissivité La représente la relation entre le facteur solaire SHGC et le coefficient d’isolation thermique Ug pour les différentes simulations selon l’invention. Le coefficient Ug varie de 0,22 à 0,31 Btu/hft²F lorsque le facteur solaire SHGC varie de 0,720 à 0,757. Dans la même configuration de double vitrage, avec l’empilement selon l’exemple 3 en face 3, si le contre-verre en verre sodo-calcique clair est remplacé par un un verre à faible teneur en Fer, le facteur solaire passe de 72,9 à 74,2, et si le contre-verre est remplacé par un verre extra clair, le facteur solaire passe à 75,7. Dans la même configuration de double vitrage, avec l’empilement selon l’exemple 3 en face 3, avec le mélange Argon-air 90-10, le coefficient Ug est à 0,263. Si l’on remplace le mélange par - 100% air, le coefficient Ug passe à 0,311, - 100% Argon, le coefficient Ug passe à 0,258, - 100% Krypton, le coefficient Ug passe à 0,242, - 100% Xénon, le coefficient Ug passe à 0,226. Il est donc démontré que le coefficient Ug dépend fortement de la composition du gaz remplissant la cavité du double vitrage. Substrat transparent revêtu d’un empilement de couches minces comprenant, à partir du substrat, un revêtement diélectrique inférieur comportant une couche de mouillage, de préférence à base de ZnO, une couche de lissage, une couche métallique fonctionnelle à base d’argent et un revêtement diélectrique supérieur, chaque revêtement diélectrique comportant plusieurs couches diélectriques, caractérisé en ce que : - le revêtement diélectrique inférieur comprend une succession d’au moins trois couches diélectriques ayant des indices de réfraction croissants, la différence d’indice entre chaque couche successive étant au moins de 0,15 ; - le revêtement diélectrique supérieur comprennant une succession d’au moins deux couches ayant des indices de réfraction décroissants. Substrat selon la revendication 1 caractérisé en ce que le revêtement diélectrique supérieur comprend une succession d’au moins trois couches d’indices décroissants, chacune d’épaisseur supérieure à 5 nm, dont la différence d’indice est supérieure à 0,20. Substrat selon la revendication 1 ou 2 caractérisé en ce que, toutes les couches du revêtement diélectrique inférieur ayant une épaisseur supérieure à 3 nm, forment un gradient d’indice croissant. Substrat selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la couche de lissage est à base d’un oxyde mixte comprenant au moins deux métaux choisis parmi l’étain Sn, le zinc Zn, le gallium Ga et l’indium In, Substrat selon l’une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que le revêtement diélectique supérieur comporte, en outre, une couche à base de ZnO disposée entre la couche métallique fonctionnelle à base d’argent et la succession d’au moins deux couches à indices décroissants. Substrat selon l’une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que l’empilement comporte, en outre, une couche de protection supérieure. Substrat selon l’une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que l’empilement comporte, en outre, une couche de blocage déposée directement sur la couche métallique fonctionnelle à base d’argent, dont l’épaisseur est de préférence inférieure à 5 nm, de manière encore préférée inférieure à 2 nm. Substrat selon l’une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que la couche métallique fonctionnelle à base d’argent a une épaisseur comprise entre 5 et 20 nm, de préférence entre 6 et 10 nm, de manière encore préférée entre 7 et 8,5 nm. Substrat selon l’une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que la couche de lissage est une couche d'oxyde mixte à base de Sn et de Zn. Substrat selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que chaque revêtement diélectrique comprend au moins une couche haut-indice à base d’un oxyde ou nitrure, présentant un indice de réfraction supérieur à 2,20 , de préférence supérieur à 2,25 et une épaisseur supérieure à 5 nm. Substrat selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que chaque revêtement diélectrique comprend au moins une couche diélectrique à base d’oxyde ou de nitrure et présentant un indice de réfraction inférieur à 2,15, de préférence inférieure à 2,05 et une épaisseur supérieure à 3 nm. Substrat selon l'une quelconque des revendications 2 à 11, caractérisé en ce que le revêtement diélectrique supérieur comporte trois couches de diélectrique, successivement de haut indice, d’indice intermédiaire et de bas indice ; la couche d’indice intermédiaire ayant une épaisseur : - supérieure à l’épaisseur de la couche de haut indice, et - supérieure à l’épaisseur de la couche de bas indice. Vitrage multiple comportant au moins deux substrats transparents dont au moins un est selon l’une quelconque des revendications précédentes. Vitrage selon la revendication précédente, caractérisé en ce qu’il présente, dans une configuration 3/12/3 ; avec l’espace intercallaire rempli d’un mélange 90% argon et 10% air et la couche en face 3, un facteur solaire (SHGC) supérieur à 0,65, de préférence supérieur à 0,70, et de manière encore préférée supérieur à 0,72. Vitrage selon l'une quelconque des revendications 13 et 14, caractérisé en ce qu’il présente, dans une configuration 3/12/3 ; avec l’espace intercallaire rempli d’un mélange 90% argon et 10% air et la couche en face 3, un coeficient Ug inférieur à 0,36, de préférence inférieur à 0,34 et de manière encore préférée inférieur à 0,32. Vitrage selon l’une quelconque des revendications 13 à 15, caractérisé en ce que un au moins des substrats est en verre, notamment silico-sodo-calcique comportant un taux de fer réduit.