FR 3107363 A1 20210820 FR 2001613 A 20200218 Structure d'un filtre angulaire sur un capteur CMOS La présente description concerne un dispositif (1) comprenant un empilement comportant, dans l'ordre, au moins : un capteur d'images (17) en technologie MOS adapté à détecter un rayonnement (27) ; un premier réseau de lentilles (19) ; une structure (21) composée au moins d'une première matrice d'ouvertures délimitées par des murs opaques audit rayonnement ; et un deuxième réseau de lentilles (23). Figure pour l'abrégé : Fig. 2 Structure d'un filtre angulaire sur un capteur CMOS La présente description concerne de façon générale un dispositif d'acquisition d'images. Un dispositif d'acquisition d'images comprend généralement un capteur d'images et un système optique. Le système optique peut être un filtre angulaire, ou un jeu de lentilles, interposé entre la partie sensible du capteur et l'objet à imager. Le capteur d'images comprend généralement une matrice de photodétecteurs capables de générer un signal proportionnel à l'intensité de lumière reçue. Un filtre angulaire est un dispositif permettant de filtrer un rayonnement incident en fonction de l'incidence de ce rayonnement et ainsi bloquer les rayons dont l'incidence est supérieure à un angle souhaité, dit d'incidence maximale, ce qui permet de former une image nette de l'objet à imager sur la partie sensible du capteur d'images. Il existe un besoin d'amélioration des dispositifs d'acquisition d'images. Un mode de réalisation pallie tout ou partie des inconvénients des dispositifs d'acquisition d'images connus. Un mode de réalisation prévoit un dispositif comprenant un empilement comportant, dans l'ordre, au moins : un capteur d'images en technologie MOS adapté à détecter un rayonnement ; un premier réseau de lentilles ; une structure composée au moins d'une première matrice d'ouvertures délimitées par des murs opaques audit rayonnement ; et un deuxième réseau de lentilles. Selon un mode de réalisation, le nombre de lentilles du deuxième réseau est supérieur au nombre de lentilles du premier réseau Selon un mode de réalisation, le nombre de lentilles du deuxième réseau est deux à dix fois supérieur au nombre de lentilles du premier réseau, de préférence, deux fois supérieur. Selon un mode de réalisation, le dispositif comprend une couche adhésive entre ladite structure et le premier réseau de lentilles. Selon un mode de réalisation, le dispositif comprend une couche d'adaptation d'indice de réfraction entre ladite structure et le premier réseau de lentilles. Selon un mode de réalisation : chaque ouverture de la première matrice est associée à une seule lentille du deuxième réseau ; et l'axe optique de chaque lentille du deuxième réseau est aligné avec le centre d'une ouverture de la première matrice. Selon un mode de réalisation, la structure comprend, sous la première matrice d'ouvertures, une deuxième matrice d'ouvertures, délimitées par des murs opaques audit rayonnement. Le nombre d'ouvertures de la première matrice est identique au nombre d'ouvertures de la deuxième matrice. Le centre de chaque ouverture de la première matrice est aligné avec le centre d'une ouverture de la deuxième matrice. Selon un mode de réalisation, les lentilles du deuxième réseau et les lentilles du premier réseau sont plan-convexes. Les faces planes des lentilles du premier réseau et du deuxième réseau sont coté capteur. Selon un mode de réalisation, les ouvertures sont remplies d'un matériau au moins partiellement transparent audit rayonnement. Selon un mode de réalisation, les lentilles du premier réseau ont un diamètre supérieur au diamètre des lentilles du deuxième réseau. Selon un mode de réalisation, la structure comprend, un troisième réseau de lentilles plan-convexes, les faces planes des lentilles du deuxième réseau de lentilles et du troisième réseau de lentilles se faisant face. Le troisième réseau de lentilles est situé entre la première matrice d'ouvertures et le premier réseau de lentilles ou entre la première matrice d'ouvertures et le deuxième réseau de lentilles. Selon un mode de réalisation, l'axe optique de chaque lentille du deuxième réseau est aligné avec l'axe optique d'une lentille du troisième réseau. Selon un mode de réalisation, les plans focaux images des lentilles du deuxième réseau sont confondus avec les plans focaux objets des lentilles du troisième réseau. Selon un mode de réalisation, le nombre de lentilles du troisième réseau est supérieur au nombre de lentilles du deuxième réseau. Selon un mode de réalisation, les lentilles du deuxième réseau ont un diamètre supérieur à celui des lentilles du troisième réseau. Ces caractéristiques et avantages, ainsi que d'autres, seront exposés en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faite à titre non limitatif en relation avec les figures jointes parmi lesquelles: la figure 1 représentepar un schéma blocs, partiel et schématique, un exemple de système d'acquisition d'images ; la figure 2 représente par une vue en coupe, partielle et schématique, un exemple de dispositif d'acquisition d'images ; la figure 3 représente par une vue en coupe, partielle et schématique, un mode de réalisation du dispositif d'acquisition d'images illustré en figure 2 ; la figure 4 représente par une vue en coupe, partielle et schématique, un autre mode de réalisation du dispositif d'acquisition d'images illustré en figure 2 ; la figure 5 représente par une vue en coupe, partielle et schématique, encore un autre mode de réalisation du dispositif d'acquisition d'images illustré en figure 2; la figure 6 représente par une vue en coupe, partielle et schématique, encore un autre mode de réalisation du dispositif d'acquisition d'images illustré en figure 2 ; la figure 7 représente par une vue en coupe, partielle et schématique, encore un autre mode de réalisation du dispositif d'acquisition d'images illustré en figure 2 ; et la figure 8 représente par une vue en coupe, partielle et schématique, encore un autre mode de réalisation du dispositif d'acquisition d'images illustré en figure 2. De mêmes éléments ont été désignés par de mêmes références dans les différentes figures. En particulier, les éléments structurels et/ou fonctionnels communs aux différents modes de réalisation peuvent présenter les mêmes références et peuvent disposer de propriétés structurelles, dimensionnelles et matérielles identiques. Par souci de clarté, seuls les étapes et éléments utiles à la compréhension des modes de réalisation décrits ont été représentés et sont détaillés. En particulier, la structure du capteur d'images ne sera pas détaillée précisément dans la présente description. Sauf précision contraire, lorsque l'on fait référence à deux éléments connectés entre eux, cela signifie directement connectés sans éléments intermédiaires autres que des conducteurs, et lorsque l'on fait référence à deux éléments reliés (en anglais "coupled") entre eux, cela signifie que ces deux éléments peuvent être connectés ou être reliés par l'intermédiaire d'un ou plusieurs autres éléments. Dans la description qui suit, lorsque l'on fait référence à des qualificatifs de position absolue, tels que les termes "avant", "arrière", "haut", "bas", "gauche", "droite", etc., ou relative, tels que les termes "dessus", "dessous", "supérieur", "inférieur", etc., ou à des qualificatifs d'orientation, tels que les termes "horizontal", "vertical", etc., il est fait référence sauf précision contraire à l'orientation des figures. Sauf précision contraire, les expressions "environ", "approximativement", "sensiblement", et "de l'ordre de" signifient à 10% près, de préférence à 5% près. Dans la suite de la description, sauf précision contraire, une couche ou un film est dit opaque à un rayonnement lorsque la transmittance du rayonnement au travers de la couche ou du film est inférieure à 10%. Dans la suite de la description, une couche ou un film est dit transparent à un rayonnement lorsque la transmittance du rayonnement au travers de la couche ou du film est supérieure à 10%, de préférence, supérieure à 50 %. Selon un mode de réalisation, pour un même système optique, tous les éléments du système optique qui sont opaques à un rayonnement ont une transmittance qui est inférieure à la moitié, de préférence inférieure au cinquième, plus préférentiellement inférieure au dixième, de la transmittance la plus faible des éléments du système optique transparents audit rayonnement. Dans la suite de la description, on appelle "rayonnement utile" le rayonnement électromagnétique traversant le système optique en fonctionnement. Dans la suite de la description, on appelle "élément optique de taille micrométrique" un élément optique formé sur une face d'un support dont la dimension maximale, mesurée parallèlement à ladite face, est supérieure à 1µm et inférieure à 1mm. Des modes de réalisation de systèmes optiques vont maintenant être décrits pour des systèmes optiques comprenant une matrice d'éléments optiques de taille micrométrique dans le cas où chaque élément optique de taille micrométrique correspond à une lentille de taille micrométrique, ou microlentille, composée de deux dioptres. Toutefois, il est clair que ces modes de réalisation peuvent également être mis en oeuvre avec d'autres types d'éléments optiques de taille micrométrique, chaque élément optique de taille micrométrique pouvant correspondre, par exemple, à une lentille de Fresnel de taille micrométrique, à une lentille à gradient d'indice de taille micrométrique ou à un réseau de diffraction de taille micrométrique. Dans la suite de la description, on appelle lumière visible un rayonnement électromagnétique dont la longueur d'onde est comprise entre 400nm et 700nm et on appelle rayonnement infrarouge un rayonnement électromagnétique dont la longueur d'onde est comprise entre 700nm et 1mm. Dans le rayonnement infrarouge, on distingue notamment le rayonnement infrarouge proche dont la longueur d'onde est comprise entre 700nm et 1,7µm. Dans la suite de la description, l'indice de réfraction d'un matériau correspond à l'indice de réfraction du matériau pour la plage de longueurs d'onde du rayonnement capté par le capteur d'images. Sauf indication contraire, l'indice de réfraction est considéré sensiblement constant sur la plage de longueurs d'onde du rayonnement utile, par exemple égal à la moyenne de l'indice de réfraction sur la plage de longueurs d'onde du rayonnement capté par le capteur d'images. La figure 1 représentepar un schéma blocs, partiel et schématique, un exemple de système d'acquisition d'images. Le système d'acquisition d'images, illustré en figure 1, comprend : un dispositif d'acquisition d'images 1 (DEVICE) ; et une unité de traitement 13 (PU). L'unité de traitement 13 comprend, de préférence, des moyens de traitement des signaux fournis par le dispositif 1, non représentés en figure 1. L'unité de traitement 13 comprend, par exemple, un microprocesseur. Le dispositif 1 et l'unité de traitement 13 sont, de préférence, reliés par une liaison 15. Le dispositif 1 et l'unité de traitement sont, par exemple, intégrés dans un même circuit. La figure 2 représente par une vue en coupe, partielle et schématique, un exemple de dispositif d'acquisition d'images 1. Plus particulièrement, la figure 2 représente le dispositif d'acquisition d'images 1, et une source 25 émettant un rayonnement 27. Le dispositif d'acquisition d'images 1, illustré en figure 2, comprend de bas en haut : un capteur d'images 17 (SENSOR) en technologie semiconducteur d'oxyde de métal complémentaire (CMOS, Complementary Metal Oxide Semiconductor) qui peut être couplé à des photodétecteurs ou photodiodes inorganiques (silicium cristallin) ou organiques adaptées à détecter le rayonnement 27 ; un premier réseau de lentilles 19 (LENS1) ; une structure matricielle 21 (LAYER(S)) ; un deuxième réseau de lentilles 23 (LENS2) ; et un objet 24. La structure 21 et le deuxième réseau de lentilles 23 forment, de préférence, un filtre optique 2 ou filtre angulaire. Le capteur d'images 17 et le premier réseau de lentilles 19 forment, de préférence, un imageur CMOS 3. Le rayonnement 27 est, par exemple, dans le domaine du visible et/ou dans le domaine de l'infrarouge. Il peut s'agir d'un rayonnement d'une unique longueur d'onde ou d'un rayonnement de plusieurs longueurs d'onde (ou plage de longueurs d'onde). La source lumineuse 25 est illustrée, en figure 2, au dessus de l'objet 24. Elle peut toutefois, en variante, être située entre l'objet 24 et le filtre 2. Dans le cas d'une application à la détermination d'empreintes digitales, l'objet 24 correspond au doigt d'un utilisateur. La figure 3 représente par une vue en coupe, partielle et schématique, un mode de réalisation du dispositif d'acquisition d'images illustré en figure 2. Plus particulièrement, la figure 3 représente un dispositif d'acquisition d'images 101 dans lequel la structure matricielle 21 est composée d'une couche 211 comprenant une première matrice d'ouvertures 41 délimitant des murs 39 opaques audit rayonnement. Le dispositif d'acquisition d'images 101, illustré en figure 3, comprend de bas en haut : l'imageur CMOS 3 composé : du capteur d'images 17 (non détaillé aux figures) constitué, de préférence, d'un substrat, de circuits de lecture, de pistes conductrices et de photodiodes, d'une première couche 29 de passivation (isolante) sur et en contact avec le capteur d'images 17, d'une deuxième couche 31 jouant le rôle d'un filtre couleur recouvrant pleine plaque la première couche 29, et du premier réseau de lentilles 19 plan-convexe, dont les faces planes sont coté capteur 17, recouvert par une troisième couche 33 de passivation ; une quatrième couche 35 d'adaptation d'indice optique recouvrant la couche 33 ; une cinquième couche 37 ou adhésif sur et en contact avec la couche 35 ; et le filtre angulaire 2 constitué : de la structure 21 comprenant la couche 211 d'ouvertures 41 et dont les murs 39 sont sur et en contact avec la cinquième couche 37, d'un substrat 43 recouvrant la structure 21, et du deuxième réseau de lentilles 23 plan-convexe, dont les faces planes sont coté capteur, recouvert par une sixième couche 45. Le premier réseau de lentilles 19 permet, par exemple, de focaliser les rayons incidents aux lentilles 19 sur les photodétecteurs présents dans le capteur d'images 17. Selon un mode de réalisation, le réseau de lentilles 19 au sein de l'imageur 3 forme une matrice de pixels dans laquelle un pixel correspond, par exemple, sensiblement au carré dans lequel est inscrit le cercle correspondant à la surface d'une lentille 19. Chaque pixel comprend ainsi une lentille 19 sensiblement centré sur le pixel. Par exemple, toutes les lentilles 19 ont sensiblement le même diamètre. Le diamètre des lentilles 19 est, de préférence, sensiblement identique à la longueur des cotés des pixels. Selon un mode de réalisation, les pixels de l'imageur CMOS 3 sont sensiblement carrés. La longueur des cotés des pixels est, de préférence, comprise entre 0,7 µm et 50 µm, et est plus préférentiellement de l'ordre de 30 µm. Selon un mode de réalisation, l'imageur 3 est sensiblement carré. La longueur des cotés de l'imageur 3 est, de préférence comprise entre 5 mm et 50 mm, et est plus préférentiellement de l'ordre de 10 mm. La couche 31 est, de préférence, en un matériau absorbant les longueurs d'onde comprises entre environ 400 nm et 600 nm (cyan), de préférence entre 470 nm et 600 nm (vert). La couche 29 peut être en un matériau inorganique, par exemple en oxyde de silicium (SiO 2 ), en nitrure de silicium (SiN), ou en une combinaison de ces deux matériaux (par exemple un empilement multicouche). La couche isolante 29 peut être réalisée en polymère fluoré, notamment le polymère fluoré connu sous la dénomination commerciale «Cytop» de la société Bellex, en polyvinylpyrrolidone (PVP), en polyméthacrylate de méthyle (PMMA), en polystyrène (PS), en parylène, en polyimide (PI), en acrylonitrile butadiène styrène (ABS), en poly(téréphtalate d'éthylène) (polyethylene terephthalate - PET), en poly(naphtalate d'éthylène) (Polyethylene naphthalate - PEN), en polymères d'oléfine cyclique (Cyclo Olefin Polymer - COP), en polydiméthylsiloxane (PDMS), en une résine de photolithographie, en résine époxy, en résine acrylate ou en un mélange d'au moins deux de ces composés. A titre de variante, la couche 29 peut être réalisée en un diélectrique inorganique, notamment en nitrure de silicium, en oxyde de silicium ou en oxyde d'aluminium (Al 2 O 3 ). La couche 33 est, de préférence, une couche de passivation qui épouse la forme des microlentilles 19 et qui permet d'isoler et planariser la surface de l'imageur 3. La couche 33 peut être en un matériau inorganique, par exemple en oxyde de silicium (SiO 2 ) ou en nitrure de silicium (SiN), ou en une combinaison de ces deux matériaux (par exemple un empilement multicouche). Selon le mode de réalisation illustré en figure 3, le filtre optique 2, par l'association du deuxième réseau de lentilles 23 et de la couche 211, est adapté à filtrer le rayonnement incident en fonction de son angle d'incidence par rapport aux axes optiques des lentilles 23 du deuxième réseau. Selon le mode de réalisation illustré en figure 3, le filtre angulaire 2 est adapté à ce que les photodétecteurs du capteur d'images 17 reçoivent seulement les rayons dont les incidences respectives, par rapport aux axes optiques des lentilles 23, sont inférieures à un angle d'incidence maximale inférieur à 45°, de préférence inférieur à 20°, plus préférentiellement inférieur à 5°, encore plus préférentiellement inférieur à 3°. Le filtre optique 2 est adapté à bloquer les rayons du rayonnement incident dont les incidences respectives par rapport aux axes optiques des lentilles 23 du filtre 2 sont supérieures à l'angle d'incidence maximale. Selon le mode de réalisation illustré en figure 3, chaque ouverture 41 de la couche 211 est associée à une seule lentille 23 du deuxième réseau et chaque lentilles 23 est associée à une seule ouverture 41. Les lentilles 23 sont, de préférence jointives. Les axes optiques des lentilles 23 sont, de préférence, alignés avec les centres des ouvertures 41. Le diamètre des lentilles 23 du deuxième réseau est, de préférence, supérieur à la section maximale (mesurée perpendiculairement aux axes optiques des lentilles 23) des ouvertures 41. Les murs 39 sont, par exemple, opaques au rayonnement 27, par exemple absorbants et/ou réfléchissants par rapport au rayonnement 27. Les murs 39 sont, de préférence, opaques pour des longueurs d'onde comprises entre 400 nm et 600 nm (cyan et vert), utilisées pour l'imagerie (biométrie et imagerie d'empreintes digitales). On appelle "h" la hauteur des murs 39 (mesurée dans un plan parallèle aux axe optiques des lentilles 23). Selon un mode de réalisation, les ouvertures 41 sont disposés en rangées et en colonnes. Les ouvertures 41 peuvent avoir sensiblement les mêmes dimensions. On appelle "w1" le diamètre des ouvertures 41 (mesuré à la base des ouvertures, c'est-à-dire à l'interface avec le substrat 43). Le diamètre de chaque lentille 23 est, de préférence, supérieur au diamètre w1 de l'ouverture 41 à laquelle la lentille 23 est associée. Selon un mode de réalisation, les ouvertures 41 sont disposées régulièrement selon les rangées et selon les colonnes. On appelle "p" le pas de répétition des ouvertures 41, c'est-à-dire la distance en vue de dessus entre des centres de deux ouvertures 41 successives d'une rangée ou d'une colonne. En figure 3, les ouvertures 41 sont représentées avec une section droite trapézoïdale. De façon générale, les ouvertures 41 peuvent être carrées, triangulaires, rectangulaires de la forme d'un entonnoir. Dans l'exemple représenté, la largeur (ou diamètre) des ouvertures 41, au niveau de la face supérieure de la couche 211, est supérieure à la largeur (ou diamètre) des ouvertures 41, au niveau de la face inférieure de la couche 211. Les ouvertures 41, vues de dessus, peuvent être circulaires, ovales ou polygonales, par exemple triangulaires, carrées, rectangulaires ou trapézoïdales. Les ouvertures 41, vues de dessus, sont de préférence circulaire. La résolution du filtre optique 2, en section (plan XZ ou YZ), est, de préférence, supérieure à la résolution du capteur d'images 17, de préférence, deux à dix fois supérieure. En d'autres termes, il y a, en section (plan XZ ou YZ), deux à dix fois plus d'ouvertures 41 que de lentilles 19 du premier réseau. Ainsi, une lentille 19 est associée à au moins quatre ouvertures 41 (deux ouvertures dans le plan YZ et deux ouvertures dans le plan XZ). Un avantage est que la différence entre la résolution de l'imageur 3 et celle du filtre angulaire 2 permet de diminuer les contraintes en alignement du filtre 2 sur l'imageur 3. Par exemple, les lentilles 23 ont sensiblement le même diamètre. Le diamètre des lentilles 19 du premier réseau est, ainsi, supérieur au diamètre des lentilles 23 du deuxième réseau. La largeur w1 est, en pratique et de préférence, inférieure au diamètre des lentilles 23 afin que la couche 39 ait une accroche suffisante sur le substrat 43. La largeur w1 est, préférentiellement, comprise entre 0,5µm et 25µm, par exemple égale à environ 10µm. Le pas p peut être compris entre 1µm et 25µm, de préférence, compris entre 12 µm et 20 µm. La hauteur h est, par exemple, comprise entre 1µm et 1mm, de préférence, comprise entre 12µm et 15 µm. Selon ce mode de réalisation, les microlentilles 23 et le substrat 43 sont, de préférence, réalisés dans des matériaux transparents ou partiellement transparents, c'est-à-dire transparent dans une partie du spectre considéré pour le domaine visé, par exemple, l'imagerie, sur la plage de longueurs d'onde correspondant aux longueurs d'onde utilisées lors de l'exposition. Le substrat 43 peut être en un polymère transparent qui n’absorbe pas au moins les longueurs d’onde considérées, ici dans le domaine du visible et de l’infrarouge. Ce polymère peut notamment être en poly(téréphtalate d’éthylène) PET, poly(métacrylate de méthyle) PMMA, polymère d’oléfinecyclique (COP), polyimide (PI) ou en polycarbonate (PC). Le substrat 43 est, de préférence, en PET. L’épaisseur du substrat 43 peut, par exemple, varier de 1 à 100 µm, de préférence entre 10 et 50 µm. Le substrat 43 peut correspondre à un filtre coloré, à un polariseur, à une lame demi-onde ou à une lame quart d’onde. Selon un mode de réalisation, les microlentilles 23 et 19, sont réalisées dans des matériaux dont l'indice de réfraction est compris entre 1,4 et 1,7, et est, de préférence de l'ordre de 1,6. Les microlentilles 23 et 19 peuvent être réalisées en silice, en PMMA, en une résine photosensible positive, en PET, en poly(naphtalate d'éthylène) (PEN), en COP, en polydiméthylsiloxane (PDMS)/silicone, en résine époxy ou en résine acrylate. Les microlentilles 23 et 19 peuvent être formées par fluage de blocs d'une résine photosensible. Les microlentilles 19 et 23 peuvent, en outre, être formées par moulage sur une couche de PET, PEN, COP, PDMS/silicone, de résine époxy ou de résine acrylate. Les microlentilles 19 et 23 peuvent enfin être réalisées par nano impression (nano-imprint). À titre de variante, chaque microlentille est remplacée par un autre type d'élément optique de taille micrométrique, notamment une lentille de Fresnel de taille micrométrique, une lentille à gradient d'indice de taille micrométrique ou un réseau de diffraction de taille micrométrique. Les microlentilles sont des lentilles convergentes ayant chacune une distance focale f comprise entre 1µm et100 µm, de préférence entre 1µm et 50µm. Selon un mode de réalisation, toutes les microlentilles 19 sont sensiblement identiques et toutes les microlentilles 23 sont sensiblement identiques. Selon un mode de réalisation, la couche 45 est une couche de remplissage qui épouse la forme des microlentilles 23. La couche 45 peut être obtenue à partir d’un adhésif optiquement transparent (Optically Clear Adhesive - OCA), notamment un adhésif optiquement transparent liquide (Liquid Optically Clear Adhesive - LOCA), ou d’un matériau à bas indice de réfraction, ou d’une colle epoxy/acrylate, ou d’un film d'un gaz ou d'un mélange gazeux, par exemple de l'air. De préférence, la couche 45 est en un matériau ayant un bas indice de réfraction, inférieur à celui du matériau des microlentilles 23. Par exemple, la différence entre l'indice de réfraction du matériau des lentilles 23 et l'indice de réfraction du matériau de la couche 45 est de préférence comprise entre 0,5 et 0,1. La différence entre l'indice de réfraction du matériau des lentilles 23 et l'indice de réfraction du matériau de la couche 45 est plus préférentiellement de l'ordre de 0,15. La couche 45 peut être en un matériau de remplissage qui est un matériau transparent non adhésif. Selon un autre mode de réalisation, la couche 45 correspond à un film qui est appliqué contre le réseau de microlentilles 23, par exemple un film OCA. Dans ce cas, la zone de contact entre la couche 45 et les microlentilles 23 peut être réduite, par exemple limitée aux sommets des microlentilles 23. Selon un mode de réalisation, les ouvertures 41 sont comblées d'air ou d'un matériau de remplissage au moins partiellement transparent au rayonnement détecté par les photodétecteurs, par exemple du PDMS, une résine époxy ou acrylate ou une résine connue sous la dénomination commerciale SU8. A titre de variante, les ouvertures 41 peuvent être remplies d'un matériau partiellement absorbant, c'est-à-dire absorbant dans une partie du spectre considéré pour le domaine visé, par exemple l'imagerie, afin de filtrer chromatiquement les rayons filtrés angulairement par le filtre 2. A titre de variante, le matériau de remplissage des ouvertures 41 est opaques au rayonnement dans le proche infrarouge. Dans le cas où les ouvertures 41 sont remplies d'un matériau, ledit matériaux peut, par exemple, former une couche entre les murs 39 et la couche 37 sous-jacente de sorte que les murs 39, ne soient pas en contact avec la couche 37. Le filtre angulaire 2 a, de préférence, une épaisseur de l'ordre de 50 µm. Le filtre angulaire 2 et l'imageur 3 sont, par exemple, assemblés par une couche 37 adhésive. La couche 37 est, par exemple, en un matériau choisi parmi une colle acrylate, une colle époxy ou un OCA. La couche 37 est, de préférence, en une colle acrylate. La couche 35 est une couche d'adaptation d'indice de réfraction, c'est à dire qu'elle permet de réduire les pertes de rayons lumineux par réflexion à l'interface entre le filtre angulaire (le matériau de remplissage des ouvertures 41) et la couche 33 de passivation. La couche 35 est, de préférence, en un matériau dont l'indice de réfraction est situé entre l'indice de réfraction de la couche 33 et l'indice de réfraction du matériau de remplissage des ouvertures 41. Selon un mode de mise en oeuvre, la couche 35 est déposée sur la face avant de l'imageur 3 (la face supérieure dans l'orientation de la figure 3) par impression, par report d'un film (laminage) ou par évaporation, en fin de fabrication de l'imageur 3. Selon un mode de mise en oeuvre, la couche 37 est déposée sur la face arrière du filtre angulaire 2 (la face inférieure dans l'orientation de la figure 3) par impression ou par report d'un film (laminage). En variante, la couche 37 est déposée sur la face avant de la couche 35 de l'imageur 3. L'assemblage du filtre 2 et de l'imageur 3 est, par exemple, réalisé après le dépôt de la couche 37 par laminage du filtre 2 à la surface de l'imageur 3 (plus particulièrement sur la surface de la couche 35). Selon un mode de mise en oeuvre, une étape de recuit, de réticulation sous ultraviolets ou de mise sous pression dans un autoclave, suit l'assemblage afin d'optimiser les propriétés d'adhésion mécanique. Selon un mode de réalisation non représenté en figure 3, le dispositif 101 comprend une couche additionnelle, par exemple, entre le filtre 2 et l'imageur 3. Cette couche correspond à un filtre infrarouge permettant de filtrer les rayonnements dont les longueurs d'onde sont supérieures à 600 nm. La transmittance de ce filtre infrarouge est, de préférence, inférieure à 0,1 % (Densité optique de 3 ou OD3 (Optical Density)). Selon les matériaux considérés, le procédé de formation d'au moins certaines couches peut correspondre à un procédé dit additif, par exemple par impression directe du matériau composant les couches aux emplacements souhaités notamment sous forme de sol-gel, par exemple par impression par jet d'encre, héliographie, sérigraphie, flexographie, revêtement par pulvérisation (spray coating) ou dépôt de gouttes (drop-casting). Selon les matériaux considérés, le procédé de formation d'au moins certaines couches peut correspondre à un procédé dit soustractif, dans lequel le matériau composant les couches est déposé sur la totalité de la structure et dans lequel les portions non utilisées sont ensuite retirées, par exemple par photolithographie ou ablation laser. Selon le matériau considéré, le dépôt sur la totalité de la structure peut être réalisé par exemple par voie liquide, par pulvérisation cathodique ou par évaporation. Il peut s'agir notamment de procédés du type dépôt à la tournette, revêtement par pulvérisation, héliographie, revêtement par filière (slot-die coating), revêtement à la lame (blade-coating), flexographie ou sérigraphie. Lorsque les couches sont métalliques, le métal est, par exemple, déposé par évaporation ou par pulvérisation cathodique sur l'ensemble du support et les couches métalliques sont délimitées par gravure. De façon avantageuse, au moins certaines des couches peuvent être réalisées par des techniques d'impression. Les matériaux de ces couches décrites précédemment peuvent être déposés sous forme liquide, par exemple sous forme d'encres conductrices et semiconductrices à l'aide d'imprimantes à jet d'encre. Par matériaux sous forme liquide, on entend ici également des matériaux en gel déposables par des techniques d'impression. Des étapes de recuit sont éventuellement prévues entre les dépôts des différentes couches, mais les températures de recuit peuvent ne pas dépasser 150°C, et le dépôt et les éventuels recuits peuvent être réalisés à la pression atmosphérique. La figure 4 représente par une vue en coupe, partielle et schématique, un autre mode de réalisation du dispositif d'acquisition d'images illustré en figure 2. Plus particulièrement, la figure 4 représente un dispositif d'acquisition d'images 102 similaire au dispositif d'acquisition d'images 101 illustré en figure 3 à la différence près que le réseau de deuxièmes lentilles comprend des lentilles 23' plus petites que les lentilles 23 (figure 3). Le nombre de lentilles 23' dans le dispositif 102 est, de préférence, supérieur au nombre d'ouvertures 41 (dans le plan XY). A titre d'exemple, le nombre de lentilles 23' est quatre fois plus important que le nombre d'ouvertures 41. Les lentilles 23' ont, selon le mode de réalisation illustré en figure 4, un diamètre inférieur au diamètre w1 des ouvertures 41. Un avantage du mode de réalisation illustré en figure 4 est qu'il ne nécessite pas d'alignement du deuxième réseau de lentilles 23' sur la matrice d'ouvertures 41. La figure 5 représente par une vue en coupe, partielle et schématique, encore un autre mode de réalisation de l'exemple du dispositif d'acquisition d'images illustré en figure 2. Plus particulièrement, le figure 5 représente un dispositif d'acquisition d'images 103 similaire au dispositif d'acquisition d'images 101 illustré en figure 3 à la différence près que la structure matricielle 21 comprend un troisième réseau de lentilles 47. Le troisième réseau de lentilles 47 plan-convexes sert à la collimation de la lumière transmise par la matrice d'ouvertures 41 couplée au deuxième réseau de lentilles 23. Les faces planes des lentilles 47 font face aux faces planes des lentilles 23. Le troisième réseau est situé entre la couche 211 et l'imageur 3. Dans le mode de réalisation représenté en figure 5, le nombre de lentilles 47 du troisième réseau est égal au nombre de lentilles 23 du deuxième réseau. Les lentilles 47 du troisième réseau et les lentilles 23 du deuxième réseau sont alignées par leurs axes optiques. En variante, le nombre de lentilles 47 du troisième réseau est plus important que le nombre de lentilles 23 du deuxième réseau. Les lentilles 47 sont jointives ou non jointives. Les rayons émergent des lentilles 23 et de la couche 211 avec un angle α par rapport à la direction respective des rayons incidents aux lentilles 23. L'angle α est propre à une lentille 23 et dépend du diamètre de celle-ci et la distance focale de cette même lentille 23. En sortie de la couche 211, les rayons rencontrent les lentilles 47 du troisième réseau. Les rayons sont ainsi déviés, en sortie des lentilles 47, d'un angle β par rapport aux directions respectives des rayons incidents aux lentilles 47. L'angle β est propre à une lentille 47 et dépend du diamètre de celle-ci et la distance focale de cette même lentille 47. Un angle de divergence total correspond aux déviations engendrées successivement par les lentilles 23 et par les lentilles 47. Les lentilles 47 du troisième réseau sont choisies de sorte que l'angle de divergence total soit, par exemple, inférieur ou égal à environ 5°. Le mode de réalisation représenté en figure 5, illustre une configuration idéale dans laquelle les plans focaux images des lentilles 23 du deuxième réseau sont confondus avec les plans focaux objets des lentilles 47 du troisième réseau. Les rayons représentés, arrivant parallèlement à l'axe optique, sont focalisés au foyer image de la lentille 23 ou foyer objet de la lentille 47. Les rayons qui émergent de la lentille 47 se propagent ainsi parallèlement à l'axe optique de celle-ci. L'angle de divergence total est, dans ce cas, nul. Le troisième réseau de lentilles 47 est, en figure 5, situé sous et en contact avec une septième couche 40. La septième couche 40, issue du remplissage des ouvertures 41, recouvre les faces arrière des murs 39. En variante, le troisième réseau de lentilles 47 est situé sur et en contact avec la face arrière des murs 39. Les ouvertures 41 sont, alors, remplies d'air ou d'un matériau de remplissage. Les lentilles 47 et les lentilles 23 sont de même composition ou de compositions différentes. Selon le mode de réalisation de la figure 5, la face arrière des lentilles 47 est recouverte par une huitième couche 49 de remplissage. La couche 49 et la couche 45 peuvent être de même composition ou de compositions différentes. La couche 49 a, de préférence, un indice de réfraction inférieur à l'indice de réfraction du matériau des lentilles 47. En l'absence d'un troisième réseau de lentilles 47, si l'angle de divergence est trop grand, les rayons émergeants d'une lentille 23 risquent d'éclairer plusieurs photodétecteurs ou pixels. Cela engendre une perte de résolution dans la qualité de l'image résultante. Un avantage qui apparaît est que la présence d'un troisième réseau de lentilles 47 engendre une diminution de l'angle de divergence en sortie du filtre angulaire 2. La diminution de l'angle de divergence permet de diminuer les risques de recoupement des rayons émergeant au niveau de l'imageur 3. La figure 6 représente par une vue en coupe, partielle et schématique, encore un autre mode de réalisation de l'exemple du dispositif d'acquisition d'images illustré en figure 2. Plus particulièrement, la figure 6 représente un dispositif d'acquisition d'images 104 similaire au dispositif d'acquisition d'images 103 illustré en figure 5 à la différence près qu'il comprend des lentilles 47' plus petites que les lentilles 47 (figure 5). Le nombre de lentilles 47' dans le dispositif 104 est, de préférence, supérieur au nombre d'ouvertures 41. A titre d'exemple, le nombre de lentilles 47' est quatre fois plus important que le nombre d'ouvertures 41 (dans le plan XY). Un avantage du mode de réalisation illustré en figure 6 est qu'il ne nécessite pas d'alignement du troisième réseau de lentilles 47' sur la matrice d'ouvertures 41. La figure 7 représente par une vue en coupe, partielle et schématique, encore un autre mode de réalisation de l'exemple du dispositif d'acquisition illustré en figure 2. Plus particulièrement, la figure 7 représente un dispositif d'acquisition d'images 105 similaire au dispositif d'acquisition d'images 103 illustré en figure 5 à la différence près que le troisième réseau de lentilles 47" est situé entre le deuxième réseau de lentilles 23 et la couche 211 d'ouvertures 41. Dans l'exemple représenté, le dispositif 105 comprend une couche 51 de remplissage recouvrant la face arrière des lentilles 47. La couche 51 est similaire à la couche 49 du dispositif 103 illustré en figure 5 à la différence près qu'elle repose sur la face supérieure de la couche 211. La figure 8 représente par une vue en coupe, partielle et schématique, encore un autre mode de réalisation de l'exemple du dispositif d'acquisition illustré en figure 2. Plus particulièrement, la figure 8 représente un dispositif d'acquisition d'images 106 similaire au dispositif d'acquisition d'images 101 illustré en figure 3 à la différence près que la structure matricielle 21 comprend une neuvième couche 213 constituée d'une deuxième matrice d'ouvertures 53 délimitant des murs 55 opaques au rayonnement 27 (figure 2). Selon le mode de réalisation illustrée en figure 8, la couche 213 est située sous et en contact avec la septième couche 40 issue du remplissage des ouvertures 41 par le matériau de remplissage. La septième couche 40 recouvre les faces arrières des murs 39. En variante, la couche 213 est située sur et en contact avec la face arrière des murs 39. Les ouvertures 41 sont, alors, remplies d'air ou d'un matériau de remplissage. Les ouvertures 53 ont, par exemple, sensiblement la même forme que les ouvertures 41 à la différence près que les dimensions des ouvertures 41 et 53 peuvent être différentes. Les murs 55 ont, par exemple, sensiblement la même forme et la même composition que les murs 39 à la différence près que les dimensions des murs 39 et 55 peuvent être différentes. Selon le mode de réalisation illustré en figure 8, la couche 213 comprend un nombre d'ouvertures 53 sensiblement identique au nombre d'ouvertures 41 présentes dans la matrice de la couche 211. De préférence, le nombre d'ouvertures 41 est identique au nombre d'ouvertures 53. Chaque ouverture 41 est, de préférence, alignée avec une ouverture 53, par exemple le centre de chaque ouverture 41 est aligné avec le centre d'une ouverture 53. Selon un mode de réalisation, les ouvertures 53 et les ouvertures 41 ont les mêmes dimensions, c'est-à-dire que les ouvertures 53 ont un diamètre "w2" (mesuré à la base des ouvertures, c'est-à-dire à l'interface avec la couche 40) sensiblement identique au diamètre w1 des ouvertures 41. De préférence, les diamètres w1 et w2 sont identiques. Les murs 55 ont, par exemple, une hauteur h2 sensiblement identique à la hauteur h des murs 39. De préférence, les hauteurs h et h2 sont identiques. En variante, les diamètres w1 et w2 sont différents. Dans ce cas, le diamètre w2 est, de préférence, inférieur au diamètre w1. Selon une autre variante, les hauteurs h et h2 sont différentes. Selon un mode de réalisation, les ouvertures 53 sont comblées d'air ou, de préférence, d'un matériau de remplissage de composition semblable au matériau de remplissage des ouvertures 41. Encore plus préférentiellement, le matériau de remplissage vient combler les ouvertures 53 et former une couche 57 sur la face arrière des murs 55. Divers modes de réalisation et variantes ont été décrits. La personne du métier comprendra que certaines caractéristiques de ces divers modes de réalisation et variantes pourraient être combinés, et d’autres variantes apparaitront à la personne du métier. En particulier, les modes de réalisation illustrés en figures 4 à 8 peuvent être combinés. En outre, les modes de réalisation et de mise en oeuvre décrits ne se limitent pas aux exemples de dimensions et de matériaux mentionnées ci-dessus. Enfin, la mise en oeuvre pratique des modes de réalisation et variantes décrits est à la portée de la personne du métier à partir des indications fonctionnelles données ci-dessus. Dispositif d'acquisition d'images (1 ; 101 ; 102 ; 103 ; 104 ; 105 ; 106) comprenant un empilement comportant, dans l'ordre, au moins : un capteur d'images (17) en technologie MOS adapté à détecter un rayonnement (27) ; un premier réseau de lentilles (19) ; une structure (21) composée au moins d'une première matrice d'ouvertures (41) délimitées par des murs (39) opaques audit rayonnement ; et un deuxième réseau de lentilles (23 ; 23'). Dispositif selon la revendication 1, dans lequel le nombre de lentilles (23 ; 23') du deuxième réseau est supérieur au nombre de lentilles (19) du premier réseau Dispositif selon la revendication 1 ou 2, dans lequel le nombre de lentilles (23 ; 23') du deuxième réseau est deux à dix fois supérieur au nombre de lentilles (19) du premier réseau, de préférence, deux fois supérieur. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, comprenant une couche adhésive (37) entre ladite structure (21) et le premier réseau de lentilles (19). Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, comprenant une couche (35) d'adaptation d'indice de réfraction entre ladite structure (21) et le premier réseau de lentilles (19). Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel : chaque ouverture (41) de la première matrice est associée à une seule lentille (23) du deuxième réseau ; et l'axe optique de chaque lentille du deuxième réseau est aligné avec le centre d'une ouverture (41) de la première matrice. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, dans lequel la structure (21) comprend, sous la première matrice d'ouvertures (41), une deuxième matrice d'ouvertures (53), délimitées par des murs (55) opaques audit rayonnement (27), le nombre d'ouvertures de la première matrice et le nombre d'ouvertures de la deuxième matrice étant identique et le centre de chaque ouverture de la première matrice étant aligné avec le centre d'une ouverture de la deuxième matrice. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, dans lequel les lentilles (23) du deuxième réseau et les lentilles (19) du premier réseau sont plan-convexes, les faces planes des lentilles du premier réseau et du deuxième réseau sont coté capteur (17). Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, dans lequel les ouvertures (41, 53) sont remplies d'un matériau au moins partiellement transparent audit rayonnement (27). Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, dans lequel les lentilles (19) du premier réseau ont un diamètre supérieur au diamètre des lentilles (23 ; 23') du deuxième réseau. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, dans lequel la structure comprend, un troisième réseau de lentilles (47 ; 47' ; 47") plan-convexes, les faces planes des lentilles (23 ; 23') du deuxième réseau de lentilles et du troisième réseau de lentilles se faisant face, le troisième réseau de lentilles étant situé entre la première matrice d'ouvertures (41) et le premier réseau de lentilles (19) ou entre la première matrice d'ouvertures et le deuxième réseau de lentilles. Dispositif selon la revendication 11, dans lequel l'axe optique de chaque lentille (23) du deuxième réseau est aligné avec l'axe optique d'une lentille (47 ; 47") du troisième réseau. Dispositif selon la revendication 11 ou 12, dans lequel les plans focaux images des lentilles (23 ; 23') du deuxième réseau sont confondus avec les plans focaux objets des lentilles (47 ; 47' ; 47") du troisième réseau. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 11 à 13, dans lequel le nombre de lentilles (47 ; 47' ; 47") du troisième réseau est supérieur au nombre de lentilles (23 ; 23') du deuxième réseau. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 11 à 14, dans lequel les lentilles (23 ; 23') du deuxième réseau ont un diamètre supérieur à celui des lentilles (47 ; 47' ; 47") du troisième réseau.