FR 3095721 A1 20201106 FR 1904614 A 20190502 Description Titre de l'invention : Dispositif de stockage et procédé de fabrication Domaine technique [0001] La présente invention concerne les dispositifs microélectroniques disposant d'électrodes, dans le domaine du stockage d'énergie par voie électrochimique, en particulier sous forme de micro-batterie (réalisant ainsi un composant de rnicrostockagc électrochimique). L' invention trouve pour application la fabrication de dispositifs microélectroniques offrant un tel stockage. Par dispositif microélectronique, on entend tout type de dispositif réalisé avec les moyens de la microélectronique. Ces dispositifs englobent notamment en plus des dispositifs à finalité purement électronique, des dispositifs micromécaniques ou électromécaniques (MEMS, NEMS...) ainsi que des dispositifs optiques ou optoélectroniques (MOEMS...).Cela inclut des applications du type composants de microstockage par voie électrochimique (microbattcries, microsupercapacités, composant ioniques solides de tout type). [0002] Un intérêt spécifique de l'invention est donc la réalisation de dispositifs de stockage d'énergie électrochimique. Cela inclut notamment les dispositifs du type batteries, et en particulier celles à l'échelle de la micro-électronique, dites micro-batteries, accumulateurs ou condensateurs utilisant un électrolyte, de préférence solide. Technique antérieure [0003] Les systèmes de stockage d'énergie électrochimique sont de manière générale réalisés par des dépôts successifs sur un substrat d'un premier collecteur de courant, d'une première électrode, d'un électrolyte ou conducteur ionique, d'une deuxième électrode, et d'un deuxième collecteur de courant. Une encapsulation, par le biais de dépôt de couches supplémentaires, ou par report de capot, est souvent nécessaire pour protéger le système dc la réactivité chimique avec l'oxygène et la vapeur d'eau. [0004] La miniaturisation des dispositifs implique de pouvoir produire des sources d'énergie de petite taille, notamment dc quelques millimètres carrés, capables de stocker une quantité d'énergie suffisante pour l'application. La capacité d'une micro-batterie est directement proportionnelle au volume des deux électrodes, et notamment dc l'électrode positive. La surface active de cette dernière est fortement limitée par la taille finale de la micro-batterie afin qu'elle puisse être intégrée au dispositif final sans encombrement trop pénalisant. Ainsi, une voie utilisable pour accroître la capacité d'une batterie tout en minimisant sa taille est d'augmenter l'épaisseur de l'électrode, et en particulier de l'électrode positive. On cherche typiquement à dépasser une épaisseur de 10 mm. [0005] Cependant, augmenter cette épaisseur entraîne des défauts de surface liés au procédé 2 de dépôt, pouvant entraîner la mise en court-circuit du dispositif de stockage d'énergie. Notamment, les matériaux d'électrodes comme le LiCo0, sont habituellement déposés par des procédés de pulvérisation cathodique qui sont contraints à des faibles épaisseurs, généralement inférieures à la dizaine de microns. D'autre part, un accroissement d'épaisseur d'électrodes induit des défauts de volume, tels des fissures ou des délaminations. La structure d'une couche épaisse d'électrodes est elle-même peu maîtrisée (taille de grain, orientation cristalline) si bien que la performance électrochimique est réduite. [0006] Une tentative de solution au problème précédemment évoqué est proposée dans la publication US 9899661 B2 qui présente la formation d'une électrode par des dépôts successifs. En particulier, sont alternés des dépôts de LiCoO2 sous argon et des dépôts de LiCo0, sous un mélange argon/oxygène. L'ensemble multicouche en résultant induit une rupture de nucléation de croissance puis une renucléation. Une diminution de la température de recuit du matériau, nécessaire afin d'obtenir la bonne phase cristalline d'un point de vue électrochimique, est aussi appliquée. Cette publication affirme qu'il est possible d'obtenir des épaisseurs de films de LiCoO2de plus de 10 pm par ce procédé. Cependant, ce dépôt multicouche induit une hétérogénéité d'électrodes aussi bien en compositions qu'en structure cristalline et donc une hétérogénéité des performances entre les différentes couches. [0007] Un objet est donc de proposer un procédé de fabrication d'électrode autorisant des épaisseurs importantes sans que cela soit très préjudiciable, voire pas préjudiciable, aux performances de l'électrode, voire avantageux, surtout d'un point de vue électrique. [0008] Les autres objets, caractéristiques et avantages apparaîtront à l'examen de la des- cription suivante et des dessins d'accompagnement. Il est entendu que d'autres avantages peuvent être incorporés. [0009] RÉSUMÉ [0010] Pour atteindre cet objectif, un mode de réalisation prévoit un procédé de réalisation d'une électrode, notamment pour un dispositif de stockage d'énergie par voie électrochimique, dans lequel l'électrode est obtenue par formation de plusieurs couches. Avantageusement, ce procédé comprend : une réalisation d'une première couche d'électrode par dépôt physique en phase vapeur ; une formation d'une couche de masquage sur la première couche d'électrode, configurée pour recouvrir une première portion de la surface exposée de la première couche d'électrode sans recouvrir une deuxième portion, non masquée, de la surface exposée de la première couche d'électrode, la deuxième portion comportant des reliefs ayant une extension, suivant une 3 dimension en épaisseur de l'électrode, supérieure à une extension maximale, suivant la dimension en épaisseur de l'électrode, de la première portion ; iii. un enlèvement de matière de la première couche d'électrode par application d'une solution de gravure sur la première couche d'électrode à partir de la deuxième portion ; iv. une suppression de la couche de masquage ; v. une réalisation d'une deuxième couche d'électrode immédiatement au-dessus de la surface exposée de la première couche d'électrode. [0011] Grâce à l'invention, on peut employer la technique du dépôt physique en phase vapeur pour réaliser tout ou partie des couches de l'électrode à réaliser alors que cette technique induit généralement des défauts très pénalisants, limitant l'épaisseur de l'électrode réalisable. Le procédé de l'invention permet d'obtenir des épaisseurs élevées, donc favorables à un bon stockage d'énergie, avec une bonne qualité de couches et un procédé de fabrication en lui-même bien maîtrisé qui est le dépôt physique en phase vapeur. [0012] Avantageusement, on utilise du LiCoO2 pour au moins une des couches de l'électrode fabriquée. [0013] Est visé également un procédé de fabrication d'un dispositif de stockage d'énergie par voie électrochimique comprenant la réalisation d'au moins une première électrode par le biais du procédé indiqué ci-dessus. Avantageusement, on forme un premier collecteur sur un support puis on réalise la première électrode sur le premier collecteur. De préférence, le procédé comprend la formation d'autres éléments, en empilement sur les précédents ; il peut en particulier s'agir d'un électrolyte, de préférence sous forme solide, puis d'une deuxième électrode et d'un deuxième collecteur. [0014] Un autre aspect concerne un dispositif de stockage d'énergie par voie électro- chimique obtenu par le procédé de l'invention. [0015] Un autre aspect concerne une électrode pour un dispositif de stockage d'énergie par voie électrochimique, comprenant une pluralité de couches empilées, caractérisée en ce qu'une première couche d'électrode de la pluralité de couches empilées comprend au moins une cavité formée en creux dans son épaisseur et en ce qu'une deuxième couche d'électrode de la pluralité de couches empilées, située immédiatement au-dessus de la première couche d'électrode, recouvre au moins en partie la surface exposée de la première couche d'électrode et remplit l'au moins une cavité. [0016] Éventuellement, l'au moins une cavité comprend une cavité s'étendant suivant l'intégralité de l'épaisseur de la première couche. Ainsi, le remplissage par le matériau de la deuxième couche peut dans ce cas atteindre et venir au contact du matériau de la couche sous-jacente à la première couche, qui peut-être la surface d'un support ou la surface de toute autre couche située immédiatement en dessous de la couche comprenant la cavité. [0017] Un autre aspect est relatif à un dispositif de stockage d'énergie par voie électro- chimique, comprenant en empilement sur un support, un premier collecteur, une première électrode, un électrolyte, une deuxième électrode et un deuxième collecteur, au moins l'une parmi la première électrode et la deuxième électrode. Brève description des dessins [0018] Les buts, objets, ainsi que les caractéristiques et avantages (le l'invention ressortiront mieux de la description détaillée d'un mode de réalisation de cette dernière qui est illustré par les dessins d'accompagnement suivants dans lesquels : [0019] 1-fie.11 La figure 1 représente schématiquement un empilement de couches destinées à former une micro-batterie. [0020] [fig.2] La figure 2 représente un exemple d'étape de réalisation d'une première couche d'électrode de micro-batterie. [0021] [fig.3] La figure 3 représente un exemple d'étape de réalisation d'une électrode de micro-batterie suivant celle de la figure 2. [0022] [fig.4] La figure 4 montre une étape suivante de celle de la figure 3. [0023] [fig.5] La figure 5 schématise la formation deuxième couche d'électrode. [0024] [fig.6] La figure 6 procure un exemple d'intégration d'une électrode positive mul- ticouches dans une micro-batterie. [0025] [fig.7] La figure 7 est une courbe révélant le résultat avantageux de l'invention en termes de capacité obtenue. [0026] Les dessins sont donnés à titre d'exemples et ne sont pas limitatifs de l'invention. Ils constituent dos représentations schématiques de principe destinées à faciliter la compréhension de l'invention et ne sont pas nécessairement à l'échelle des applications pratiques. Description des modes de réalisation 100271 Avant d'entamer une revue détaillée de modes de réalisation de l'invention, sont énoncées ci-après des caractéristiques optionnelles qui peuvent éventuellement être utilisées en association ou alternativement : On procède à un recuit de la première couche après suppression de la couche de masquage et avant réalisation de la deuxième couche d'électrode ; On procède à un recuit de la deuxième couche après sa réalisation, ou si au moins une troisième couche est ensuite formée, avantageusement après suppression de la couche de masquage sur ladite deuxième couche. la deuxième couche d'électrode 122 est réalisée par dépôt physique en phase vapeur ; l'enlèvement de matière est réalisé par application d'une solution de gravure sur la première couche d'électrode 121 à partir de la deuxième portion ; on utilise du LiCoO2 pour réaliser au moins l'une parmi la première couche d'électrode 121 et la deuxième couche d'électrode 122 ; une réalisation d'au moins une troisième couche d'électrode au-dessus de la deuxième couche d'électrode 122 en réitérant les étapes ii) à y) est comprise ; on peut procéder à un recuit de chaque couche d'électrode avant la réalisation de toute autre couche au-dessus ; l'épaisseur d'une dernière couche d'électrode de l'électrode 12, la plus éloignée de la première couche d'électrode 121, est inférieure à celles des autres couches d'électrode ; la formation d'une couche de masquage 16 comprend la formation d'au moins un motif 1212 traversant toute l'épaisseur de la couche de masquage 16 de sorte à exposer une troisième portion de la première couche d'électrode 121, l'enlèvement étant configure pour produire un enlèvement de matière additionnelle à partir de la troisième portion ; les couches d'électrode ont une épaisseur supérieure ou égale à 1 pm et/ou inférieure ou égale à 10 pm ; au moins deux couches immédiatement successives parmi les couches d'électrode présentent une même épaisseur ; la formation de la couche de masquage 16 peut être faite avec une étape de dépôt de résine, de préférence par enduction centrifuge. [0028] Il est précisé que, dans le cadre de la présente invention, le terme « sur » ou au-dessus » ne signifie pas obligatoirement « au contact de ». Ainsi, par exemple, le dépôt d'une couche sur une autre couche, ne signifie pas obligatoirement que les deux couches sont directement au contact l'une de l'autre mais cela signifie que l'une des couches recouvre au moins partiellement l'autre en étant, soit directement à son contact, soit en étant séparée d'elle par un film, ou encore une autre couche ou un autre élément. Une couche peut par ailleurs être composée de plusieurs sous-couches d'un même matériau ou de matériaux différents ; c'est particulièrement le cas pour la couche d'électrode décrite plus loin. [0029] Il est précisé que dans le cadre de la présente invention, l'épaisseur d'une couche ou du substrat se mesure selon une direction perpendiculaire à la surface selon laquelle cette couche ou ce substrat présente son extension maximale. Si une couche n'est pas totalement plane, notamment parce qu'elle présente des défauts qui sont susceptibles d'être en relief sur la face exposée de ladite couche, l'épaisseur s'entend de la dimension de cette couche en dehors de ses défauts. [0030] Certaines parties du dispositif de l'invention peuvent avoir une fonction électrique. Certaines sont employées pour des propriétés de conduction électrique et on entend par 6 électrode, collecteur ou équivalent, des éléments formés d'au moins un matériau ayant une conductivité électrique suffisante, dans l'application, pour réaliser la fonction souhaitée. À l'inverse, on entend par isolant électrique ou diélectrique un matériau qui, dans l'application, assure une fonction d'isolation électrique. [0031] On entend par dispositif de stockage d'énergie par voie électrochimique, un dispositif fonctionnant avec une couche d'électrolyte, de préférence sous forme solide et permettant, en conjonction avec une partie fonctionnelle électriquement conductrice inférieure et une partie fonctionnelle électriquement conductrice supérieure, encadrant la couche d'électrolyte, le stockage d'énergie sous forme d'augmentation de différence de potentiel ou le déstockage d'énergie sous forme de réduction de différence de potentiel. Dans le domaine de la micro-électronique, il peut s'agir de micro-batteries, qui s'entendent de tels dispositifs avec des dimensions à l'échelle de la micro-électronique, notamment avec une épaisseur globale de quelques dizaines de microns, par exemple moins de 100 microns. [0032] D'une façon générale, un dispositif de stockage d'énergie par voie électrochimique comprend deux électrodes séparées par un électrolyte. Durant la décharge, l'anode (électrode négative) est le siège d'une oxydation, des ions traversent l'électrolyte et vont à la cathode (électrode positive) subir une réduction en venant s'intercaler dans un matériau spécifique (matériau hôte) ; les électrons ainsi produits alimentent en énergie le circuit extérieur. Durant la charge, les ions font le trajet inverse, les électrons étant fournis par le circuit extérieur. [0033] La figure 1 donne une représentation purement schématique d'un empilement de diverses couches permettant de former une micro-batterie. Dans ce contexte, un support 10 peut recevoir le reste de l'empilement et est par exemple formé avec une plaque d'un matériau semi-conducteur tel du silicium ou de tout autre matériau organique ou inorganique, par exemple du verre. Si le support 10 est électriquement conducteur, il peut comprendre au moins une couche électriquement isolante superficielle. Cette disposition n'est pas représentée sur le schéma de la figure 1. Le repère 11 correspond à un premier collecteur de courant. Au sens de la présente demande, le terme collecteur s'entend d'une partie du dispositif ayant pour fonction de raccorder une électrode à un élément extérieur au dispositif, c'est-à-dire situé à l'extérieur de l'empilement de couches du dispositif, généralement encapsulées. On peut utiliser des métaux aux bonnes propriétés de conduction d'électricité pour cette partie. C'est le cas du platine ; des matériaux moins onéreux, comme le titane, sont aussi possibles. [0034] L'électrode en question dans l'exemple est ici une première électrode 12 disposée au- dessus et au contact du premier collecteur. Le terme électrode s'entend quant à lui d'une partie du dispositif en continuité électrique avec une couche active (en particulier un électrolyte, de préférence solide, pour le cas du stockage électrochimique). 7 La première électrode 12 (ou électrode positive utilisée dans un accumulateur au lithium ou sodium conventionnel) peut employer divers matériaux, comme : LiCo0), V205, TiS,, LiMn,04, NaMn0,, NaCoO2. Elle peut comprendre un matériau de composition ABX, A étant un métal alcalin et de préférence Li, B étant un métal de transition et de préférence Co, X étant de l'oxygène (0) ou du phosphate (PO4). D'une manière générale, des matériaux à hase de lithium-Cobalt et/ou de lithium-manganèse sont utilisables dans l'invention. Comme indiqué précédemment, on cherche généralement à ce que la première électrode (ici la cathode) soit assez épaisse, pour autoriser un stockage d'une quantité d'énergie suffisante sur une surface limitée. On peut ici mettre en oeuvre des épaisseurs supérieures ou égales à lOpm et de préférence supérieures ou égales à 20prn. [0035] À l'opposé de son contact avec le premier collecteur 11, la première électrode 12 est au contact d'un électrolyte 13. Les verres conducteurs ioniques et les chalcogénures d'alcalins sont parmi les électrolytes solides inorganiques applicables à une batterie tout-solide. Le matériau correspondant peut être choisi parmi des sulfures et des systèmes vitreux d'électrolyte d'oxysulfure, ainsi qu'une série de verre-céramique super-ionique de sulfure LinS-PS,, dont la conductivité d'ion de Li* est comparable à celle des électrolytes liquides. En ce qui concerne l'électrolyte pour les batteries au sodium, il existe la même famille de verre, par exemple Na3PS4. [0036] La figure 1 montre ensuite une deuxième électrode, ici formant l'anode, sur l'autre face de l'électrolyte 13. Par exemple, il peut s'agir de silicium. Un deuxième collecteur 15 la surmonte. Comme précédemment, du titane peut être employé ou un autre métal aux propriétés conductrices. [0037] D'une manière générale, dans un contexte habituel d'une première électrode 12, en référence à la figure 1, on atteint difficilement une épaisseur de 10 pm sans un impact rédhibitoire sur la qualité de cette électrode, notamment au niveau du rendement électrique après fabrication. En effet l'augmentation de l'épaisseur d'électrode engendre une forte défectivité morphologique se traduisant souvent par une rugosité et une tortuosité prononcée à la surface de la dite électrode, et parfois par une délamination entre l'électrode et la couche de collecteur de courant du niveau précédent ; il en résulte une dégradation de la réponse électrique du composant, souvent sous forme de court-circuit et/ou d'importants courants de fuite. [0038] Le procédé de l'invention offre une solution à ce problème et présente, en référence à la figure 2, une étape durant laquelle on forme une première couche d'électrode 121 au-dessus du collecteur 11. Préférentiellement, on utilise un dépôt physique en phase vapeur, communément connu sous l'acronyme PVD (de l'anglais Physical Vapor De-position). Les conditions de ce dépôt peuvent être classiques. Elles occasionnent des défauts comme le révèlent les portions 1210 et 1211. Il peut s'agir de défauts de 8 croissance se présentant sous la forme d'incrustation avec une structure cristalline mal maîtrisée. Certains défauts sont tels qu'ils peuvent s'étendre sur l'intégralité de l'épaisseur de la couche 121, comme le représente le défaut 1210. D'autres défauts sont plus surfaciques, comme celui portant le repère 1211. Ces défauts forment des reliefs au-delà d'une surface moyenne de la couche 121, sensiblement orientée perpendiculairement à une dimension en épaisseur des différentes couches. Notamment, des reliefs allant au-delà de 1 pin, voire de 2 pin, voire encore de 3 pin sont possibles. Cela peut représenter par exemple aussi plus de 30%, voire être de l'ordre de grandeur de l'épaisseur de la couche déposée lors d'une seule étape de dépôt; par exemple de 2 à 3 microns pour une couche de 3 microns et de 10 à 15 microns pour une couche de 20 microns. [0039] À la figure 3, une couche de masquage 16 a été formée au-dessus de la première couche 121. Ccttc formation est configurée pour recouvrir des portions de la couche 121 non affectées par les défauts en relief 1210, 1211. Ainsi, une portion des défauts est ici exposée malgré la présence de la couche de masquage 16. On comprend que l'épaisseur de la couche de masquage 16 est configurée pour être suffisamment fine de sorte à ne pas recouvrir totalement les reliefs des défauts. Typiquement, l'épaisseur de la couche de masquage 16 peut-être au moins égale à 1 pm, et/ou de préférence inférieure à 4 pin, et plus préférentiellement au moins égale à 1,5 pm et/ou inférieure à 2,5 pm. Par exemple, la couche de masquage 16 peut mesurer, en épaisseur, 2 pm avec une marge de +1-0,2 pin. [0040] La technique de l'enduction centrifuge (en anglais « spin coating ») convient par- faitement pour réaliser la couche de masquage 16. De manière habituelle, on commence par appliquer de la résine sur la face exposée de la couche 121 et on produit une rotation du support. La force centrifuge ainsi générée répartit la résine sur la surface. Les conditions de la rotation, en particulier le temps et la vitesse, permettent d'obtenir une couche de l'épaisseur souhaitée. On peut ensuite durcir la résine, par évaporation de son solvant. Le résultat illustré à la figure 3 montre une première portion de la première couche d'électrode 121 qui est revêtue alors qu'une deuxième portion de la couche d'électrode 121 reste exposée, sans être protégée par la couche de masquage 16. Suivant un exemple, l'épaisseur de la couche de masquage 16 représente au moins 20% de l'épaisseur de la première couche d'électrode 121 ; en alternative ou en complément, l'épaisseur de la couche de masquage 16 peut représenter au maximum 70% de l'épaisseur de la première couche électrode 121et de préférence au maximum 30% de cette épaisseur. [0041] On notera que d'autres parties de la première couche d'électrode 121 sont éven- tuellement aussi exposées. Cela peut se faire par création de motifs dans le matériau de la couche de masquage 16, par une phase de photolithographie permettant de définir 9 des zones 161 non protégées de la couche 121. En particulier, on verra à l'étape suivante qu'il est ainsi possible de délimiter latéralement la première électrode, dans sa couche 121. [0042] En effet, la phase suivante, illustrée à la figure 4, est une phase d'enlèvement de matière de la première couche d'électrode 121. Les parties non protégées par la couche de masquage 16 peuvent être le lieu d'une attaque par application d'une solution de gravure. Il peut s'agir d'une gravure humide. La gravure s'effectue par exemple dans un bain de H1SO4, la vitesse de gravure étant notamment de l'ordre de 6 pm/min. Une gravure de l'ordre d'une minute est convenable pour une couche 121 initiale d'épaisseur de 10 pm en dehors des défauts. Dans certains cas, il n'est pas souhaitable que l'enlèvement soit configuré pour atteindre le fond de la couche 121 pour supprimer totalement un motif. En effet, certains d'entre eux ont la forme d'incrustations, avec une interface fragile avec le reste de la couche 121, si bien qu'ils ont une propension à être enlevés sous forme de blocs. Dans ce cas, une gravure même non prolongée peut atteindre l'interface des défauts et détacher les défauts. Bien entendu, dans d'autres cas, l'effet de la gravure est un enlèvement plus progressif. D'une manière générale, la gravure est configurée pour produire un enlèvement de la matière de la première couche d'électrode 121 au moins sur toute la surépaisseur des défauts 1210, 1211, au-delà de la surface moyenne de la couche 121. Plus préférentiellement, la gravure est configure° pour produire un enlèvement complet des défauts. C'est pourquoi le temps de gravure indiqué précédemment est relativement important rapporté à l'épaisseur de la couche 121. [0043] Dans le cas préféré où l'enlèvement est configuré pour aller au-delà de la surface moyenne de la couche 121, cet enlèvement produit, à l'endroit des portions non masquées, une cavité s'étendant en creux dans l'épaisseur de la couche 121. Éventuellement, la cavité s'étend sur toute l'épaisseur de la couche 121. Généralement, plusieurs cavités seront présentes dans une couche. Une pluralité de couches, immédiatement successives ou non, peuvent comporter chacune une ou plusieurs cavités. Les cavités d'une couche peuvent avoir des formes et dimensions différentes, et notamment des profondeurs différentes. [0044] Comme indiqué précédemment, la phase d'enlèvement considérée peut aussi servir à mettre en forme la première électrode 12, dans sa partie constituée par la première couche 121. Dans ce contexte, le repère 1212 de la figure 4 représente la gravure qui a été opérée simultanément à l'enlèvement des dépôts, pour délimiter latéralement le motif de la première électrode. On comprend que l'étape de l'invention permettant de supprimer les reliefs inopportuns de la couche 121 s'opère ainsi dans le contexte d'une autre étape, généralement nécessaire, et non pas dans le contexte d'une étape supplémentaire. On notera par ailleurs que la situation de la figure 4 correspond à celle après enlèvement de la couche de masquage 16, ultérieurement à l'enlèvement de matière de la première couche d'électrode 121. [0045] L'étape en question peut être une mise en forme de la couche d'électrode, en par- ticulier pour la limiter latéralement et/ou une étape participant à la connexion électrique ou à l'encapsulation. [0046] La figure 5 montre ensuite la réalisation d'une deuxième couche d'électrode 122 au- dessus de la première couche 121 ainsi retraitée. De préférence, on utilise aussi la méthode du PVD pour la formation de cette couche. Les creux laissés par la phase d'enlèvement précédente pourront être atténués parce dépôt. [0047] Suivant une première possibilité, on construit ensuite les couches supérieures de l'empilement, à savoir l'électrolyte, la deuxième électrode et le deuxième collecteur. [0048] Suivant une autre possibilité, on réitère les étapes des figures 3 à 5 de sorte à produire au moins une troisième couche de première électrode au-dessus de la deuxième 122. On remet donc en oeuvre les phases de formation d'une couche de masquage, d'enlèvement de matière (cette fois dans la deuxième couche d'électrode), la suppression de la couche de masquage et le dépôt du matériau de la troisième couche d'électrode. On notera que on peut poursuivre la mise en forme du motif, avec des caractéristiques équivalentes à celles de la zone exposée 161 et du motif gravé 1212 expliquées précédemment. [0049] On peut multiplier le nombre de sous-couches formant la première électrode 12 et la figure 6 donne l'exemple de quatre sous-couches, respectivement 12a, 12b, 12c, 12d. [0050] Suivant un premier mode de réalisation, l'épaisseur des couches est identique. Suivant une autre possibilité, l'épaisseur est décroissante, ou pour le moins la dernière couche (celle qui est destinée à être au contact avec l'électrolyte) est moins épaisse que les autres ou pour le moins est moins épaisse que la couche qui lui est immédiatement sous-jacente. [0051] On pourra notamment mettre en oeuvre des couches qui présentent une épaisseur d'au moins 1 pm et/ou de moins de 10 gn. [0052] Éventuellement, on peut utiliser des matériaux différents pour chacune des couches de la première électrode, ou pour au moins deux d'entre elles. [0053] De manière conventionnelle, la fabrication du dispositif de l'invention, dans le cas d'un dispositif de stockage d'énergie par voie électrochimique, se poursuit par la formation de l'électrolyte 13 puis par celle de la deuxième électrode et du deuxième collecteur respectivement portant le repère 14 et le repère 15 à la figure 6. Éventuellement, la deuxième électrode 14 peut être fabriquée en utilisant le procédé précédemment décrit pour la première. [0054] La figure 7 donne une illustration du progrès technique notable permis par la présente invention. Elle représente deux courbes capacité électrique/tension pour deux 11 micro-batteries par ailleurs équivalentes mais qui se différencient par la constitution de leur première électrode. Dans un premier cas, il s'agit d'une première électrode réalisée par l'invention en trois couches chacune de 3 pm de LiCoO2. Dans l'autre cas, la première électrode est du même matériau niais formée d'un seul tenant, suivant un procédé conventionnel, et une épaisseur de 10 pm. Malgré une épaisseur légèrement supérieure dans ce second cas, le comportement de la micro-batterie est de bien moindre qualité, au vu de l'écart de capacité observé. [0055] L'invention n'est pas limitée aux modes de réalisations précédemment décrits et s'étend à tous les modes de réalisation couverts par les revendications. 12 [Revendication 1] REVENDICATIONSProcédé de réalisation d'une électrode ( 1 2), pour un dispositif de stockage d'énergie par voie électrochimique, dans lequel l'électrode (12) est obtenue par formation de plusieurs couches empilées (121, 122), caractérisé en ce que en ce qu'il comprend : une réalisation d'une première couche d'électrode (121) par dépôt physique en phase vapeur ; ii) une formation d'une couche de masquage(16) sur la première couche d'électrode (121), configurée pour recouvrir une première portion de la surface exposée de la première couche d'électrode (121) sans recouvrir une deuxième portion, non masquée, de la surface exposée de la première couche d'électrode (121), la deuxième portion comportant des reliefs (1210, 1211) ayant une extension, suivant une dimension en épaisseur de l'électrode (12), supérieure à une extension maximale, suivant la dimension en épaisseur de l'électrode (12), de la première portion ; iii) un enlèvement de matière de la première couche d'électrode (121) par application d'une solution de gravure sur la première couche d'électrode (121) à partir de la deuxième portion ; iv) une suppression de la couche de masquage (16) ; y) une réalisation d'une deuxième couche d'électrode (122) immédiatement au-dessus de la surface exposée de la première couche d'électrode (121). [Revendication 2] [Revendication 3] [Revendication 4] Procédé selon la revendication précédente dans lequel la deuxième couche d'électrode (122) est réalisée par dépôt physique en phase vapeur. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes dans lequel l'enlèvement de matière est réalisé par application d'une solution de gravure sur la première couche d'électrode (121) à partir de la deuxième portion. Procédé selon l'une des revendications précédentes, dans lequel on utilise du LiCoa, pour réaliser au moins l'une parmi la première couche 13 [Revendication 5] [Revendication 6] [Revendication 7] [Revendication 8] [Revendication 9] [Revendication 10] [Revendication 11] [Revendication 12] d'électrode (121) et la deuxième couche d'électrode (122). Procédé selon l'une des revendications précédentes, comprenant une réalisation d'au moins une troisième couche d'électrode au-dessus de la deuxième couche d'électrode (122) en réitérant les étapes ii) à y). Procédé selon l'une des revendications précédentes, dans lequel l'épaisseur d'une dernière couche d'électrode de l'électrode (12), la plus éloignée de la première couche d'électrode (121), est inférieure à celles des autres couches d'électrode. Procédé selon l'une des revendications précédentes, dans lequel la formation d'une couche de masquage (16) comprend la formation d'au moins un motif (1212) traversant toute l'épaisseur de la couche de masquage (16) de sorte à exposer une troisième portion de la première couche d'électrode (121), l'enlèvement étant configure pour produire un enlèvement de matière additionnelle à partir de la troisième portion (1212). Procédé de fabrication d'un dispositif de stockage d'énergie par voie électrochimique, comprenant la réalisation d'au moins une première électrode (12) en mettant en oeuvre le procédé selon l'une des revendications précédentes. Procédé selon la revendication précédente, comprenant une formation d'un premier collecteur (11) sur un support (10) puis la réalisation de la première électrode (12) sur le premier collecteur (11). Électrode pour un dispositif de stockage d'énergie par voie électrochimique, comprenant une pluralité de couches empilées (121, 122), caractérisée en ce qu'une première couche d'électrode (121) de la pluralité de couches empilées (121,122) comprend au moins une cavité formée en creux dans son épaisseur et en ce qu'une deuxième couche d'électrode (122) de la pluralité de couches empilées, située immédiatement au-dessus de la première couche d'électrode, recouvre au moins en partie la surface exposée de la première couche d'électrode (121) et remplit l'au moins une cavité. Électrode selon la revendication précédente, dans laquelle l'au moins une cavité comprend une cavité s'étendant suivant l'intégralité de l'épaisseur de la première couche (121). Électrode selon l'une quelconque des deux revendications précédentes, dans laquelle les couches d'électrode de la pluralité de couches empilées (121,122) ont une épaisseur supérieure ou égale à 1 pm et/ou inférieure ou égale à 10 pin. 14 [Revendication 13] Électrode selon l'une quelconque des trois revendications précédentes, dans laquelle au moins deux couches immédiatement successives parmi la pluralité de couches empilées (121,122) présentent une même épaisseur. [Revendication 14] Dispositif de stockage d'énergie par voie électrochimique, comprenant en empilement sur un support (10), un premier collecteur (11), une première électrode (12), un électrolyte (13), une deuxième électrode (14) et un deuxième collecteur (15), au moins l'une parmi la première électrode (12) et la deuxième électrode (14) étant selon l'une des revendications 10 à 13.