FR 3098609 A1 20210115 FR 1907814 A 20190711 Description Titre de l'invention : procede de fabrication d'un transformateur de mode adiabatique entre deux guides d'onde Domaine technique [0001] Le domaine de l'invention est celui du couplage adiabatique entre des guides d'onde superposés l'un à l'autre d'un transformateur de mode. Les guides d'onde peuvent notamment être un premier guide d'onde contenant un matériau à gain d'une source laser, couplé à un deuxième guide d'onde d'un circuit photonique intégré. Technique antérieure [0002] D'une manière générale, une puce photonique comporte au moins un composant op- toélectronique, par exemple une source laser, qui repose sur un substrat support contenant un circuit photonique intégré. Un tel circuit photonique intégré comporte un guide d'onde, couplé à la source laser, ainsi que des composants optiques actifs (modulateurs...) et/ou passifs (multiplexeurs...). Dans le cas des technologies de la photonique sur silicium, la source laser est réalisée à base d'un composé semi- conducteur, par exemple un composé tel que de l'InP, et le substrat support peut être de type SOI (Silicon On Insulator, en anglais) intégrant des guides d'onde en silicium. [0003] La source laser est dite hybride lorsque la cavité optique de la source laser est définie par des réflecteurs situés dans le substrat support. Plus précisément, la source laser est formée d'un plot semiconducteur en un composé III-V qui comporte le matériau à gain. Le matériau à gain est situé dans un guide d'onde dit actif. Dans le cas d'un laser DBR (Distributed Bragg Reflector, en anglais), la cavité optique est délimitée par deux réseaux de Bragg situés dans le guide d'onde intégré, qui forment des miroirs sélectifs en longueur d'onde. Dans le cas d'un laser DFB (Distributed FeedBack, en anglais), un même réseau de Bragg s'étend dans le guide d'onde intégré sur toute la longueur de la cavité optique. [0004] Les figures lA et 1B sont des vues en coupe d'un exemple de source laser hybride 4 décrit notamment dans l'article de Duan et al. intitulé Hybrid HI-17 on Silicon Lasers for Photonic Integrated Circuits on Silicon, IEEE J Sel. Topics Quantum Electron., Vol.20, No.4, 2014. La source laser 4 comporte des transformateurs de mode 3, situés aux extrémités longitudinales du guide d'onde actif 1, qui assurent un couplage adiabatique entre le guide (l'onde actif 1 et. le guide d'onde intégré 2 superposés l'un à l'autre. La source laser 4 est formée d'un plot semiconducteur 10 contenant des puits quantiques 11 disposés dans le guide d'onde actif I. Le substrat support. 20 comporte le guide (l'onde intégré 2, ici un guide en arête formé d'une base 21 (slab, en anglais) sur 2 laquelle repose une arête 22 (1-119, en anglais). Chaque transformateur de mode 3 est formé d'un coupleur le du guide d'onde actif 1 et d'un coupleur 2e du guide d'onde intégré 2, les coupleurs le, 2e présentant une variation monotone, ici linéaire, de leurs largeurs W1 et W2 sur une longueur L suivant l'axe longitudinal Z. Les coupleurs le, 2e sont ici des pointes inversées (inversed tapers, en anglais). [0005] La figure 2 est une vue schématique, en coupe longitudinale, d'un transformateur de mode adiabatique 3 de la source laser 4 illustrée sur les fig.lA et 1B. Pour un guide d'onde isolé noté i, c'est-à-dire pour un guide d'onde non couplé à un autre guide d'onde, on définit une constante de propagation [31_12 telle que 13i=21rneffIX, associée au mode fondamental de longueur d'onde X et d'indice effectif nefc, se propageant suivant l'axe longitudinal Z. Ainsi, le mode fondamental se propageant dans le guide d'onde actif 1 isolé, i.e. non couplé au guide d'onde intégré 2, présente une constante de propagation pl, et le mode fondamental se propageant dans le guide d'onde intégré 2 isolé (non couplé au guide d'onde actif 1) présente une constante de propagation 132. On peut définir un paramètre à représentatif de l'écart entre les deux constantes de propagation, tel que à,(132-[3,)/2. Notons que le paramètre b, dans le cas du transformateur de mode illustré sur les fig.lA et 1B, varie suivant l'axe longitudinal Z: à(z)=( r32[W2(z)I - pl[W ,(z)] )/2, dans la mesure où la variation longitudinale des largeurs W1, W, induisent une variation longitudinale des indices effectifs nacl, neff,2, et donc des constantes de propagation PI, 132. [0006] Dans le transformateur (le mode 3, les deux coupleurs le, 2e sont suffisamment proches l'un de l'autre pour être couplés optiquement. Ils forment ainsi un système couplé dans lequel l'amplitude du champ électrique El, E2 de chaque mode fondamental isolé présente une distribution spatiale qui s'étend sur chacun des deux coupleurs le, 2e. Autrement dit, le système couplé supporte des supermodes, pair E. ( even, en anglais) ou impair En (odd, en anglais), lesquels sont définis comme étant des combinaisons linéaires des modes fondamentaux E,, E2 du guide d'onde actif 1 isolé et du guide d'onde intégré 2 isolé. Comme pour les modes fondamentaux E1, E2, on définit des constantes de propagation P' p, pour les supermodes pair E. et impair En en fonction des indices effectifs nff0, neff,n. Le système couplé est alors défini par les constantes de propagation 13, 132 des modes fondamentaux isolés, par les constantes de propagation P. PO des supermodes pair et impair, et par un paramètre de couplage K qui représente la force de couplage entre les deux coupleurs le, 2e. Comme le décrit Duan et al 2014 et comme l'illustre schématiquement la fig.1C, la variation longitudinale des largeurs W1, W2 permet de modifier l'indice effectif neff.i, neff,, des modes fondamentaux El, E2 des guides d'onde isolés, et donc les indices effectifs n,ff,' nem° des supermodes E' E0, de manière à assurer le transfert dit adiabatique du mode optique d'un guide d'onde à l'autre. L'efficacité de couplage, c'est-à-dire le rapport entre la 3 puissance optique Pou, dans le guide d'oncle de sortie sur la puissance optique Pli, dans le guide d'oncle d'entrée, dépend de la longueur L du transformateur de mode. Notons que le couplage n'est pas adiabatique lorsque l'efficacité de couplage montre de fortes oscillations (battements) en fonction de la longueur L du transformateur de mode 3, ces oscillations correspondant à des interférences constructives et destructives entre les supermodes pair et impair (les deux étant excités). [0007] Cependant, il existe un besoin de disposer d'un procédé de fabrication d'un trans- formateur de mode qui présente des performances améliorées. Exposé de l'invention [0008] L'invention a pour objectif de remédier au moins en partie aux inconvénients de l'art antérieur, et plus particulièrement de proposer un procédé de fabrication d'un transformateur de mode aux performances améliorées, que ce soit par exemple en termes d'efficacité de couplage ou de longueur du transformateur de mode. [0009] Pour cela, un objet de l'invention est un procédé de fabrication d'un transformateur de mode assurant le couplage adiabatique entre un premier guide d'onde et un deuxième guide d'onde, le transformateur de mode étant formé d'un premier coupleur du premier guide d'onde et d'un deuxième coupleur du deuxième guide d'onde, les premier et deuxième coupleurs étant superposés l'un à l'autre et présentant une largeur variable, respectivement W1 et W2, sur une longueur L suivant un axe longitudinal, le procédé comportant les étapes suivantes : définition d'une part d'une variation longitudinale W1=f1(z) de la largeur W1 du premier coupleur, entre des positions zo et zf suivant l'axe longitudinal telles que zf=zo+L, allant d'une valeur maximale Wi,',', en 7,0 à une valeur minimale W,' en Z. et d'autre part de valeurs dites provisoires minimale W 2,prnin et maximale W).prria, de la largeur W2 du deuxième coupleur ; détermination de constantes de propagation pe et pu associées respectivement à des supermodes pair et impair supportés par les deux coupleurs, pour chaque position z entre zr, et zr, en fonction : de la valeur locale W1(z) en z de la largeur W, du premier coupleur, et d'une valeur localeIîi (z) en z de la largeur W2 du deuxième " 2 coupleur, pour laquelle il y a égalité entre des constantes de pro- pagation Pi(Wi(z)) et13,ty`j, (z)) associés respectivement aux modes " 2 fondamentaux supportés par le premier coupleur de largeur locale W1 (z) et par le deuxième coupleur de largeur locale f'7(z), les deux coupleurs étant alors isolés l'un de l'autre ; - - détermination d'une variation longitudinale x-,h(z) entre z0 et z, d'un paramètre de couplage ic entre les deux coupleurs, à partir des constantes de propagation rie et po déterminées ; détermination d'une variation longitudinale W2=f2(z) entre zo et z, de la largeur W, du deuxième coupleur de telle sorte qu'un critère d'adiabaticité est vérifié à chaque position z, ce critère d'adiabaticité reliant la position z considérée, la longueur L prédéfinie, le paramètre de couplage K(z) prédéterminé, ladite constante de propagation pi(W,(z)), et une constante de propagation f32(W2(7)) associée à une valeur locale W2(z) à déterminer ; fabrication du transformateur de mode, dans lequel le premier coupleur présente la variation longitudinale W1=f1(z) définie, et le deuxième coupleur présente la variation longitudinale Wn=f,(z) déterminée. [0010] Certains aspects préférés mais non limitatifs de cc procédé de fabrication sont les suivants. [0011] Le procédé de fabrication peut comporter : à la suite de l'étape de détermination de la variation longitudinale W2=f2(z), une étape de détermination d'une efficacité de couplage définie comme le rapport P',',/Pin entre un paramètre représentatif d'une puissance optique Pou, d'un mode fondamental en sortie du transformateur de mode et un paramètre représentatif d'une puissance optique Pi, d'un mode fondamental en entrée du transformateur de mode, réitération des étapes allant de l'étape de définition à l'étape de détermination de l'efficacité de couplage, pour différentes valeurs de la longueur L; détermination cl' une valeur minimale de la longueur L pour laquelle la variation de l'efficacité de couplage en fonction de la longueur L est inférieure ou égale à un seuil prédéfini. [0012] Le procédé de fabrication peut comporter les étapes suivantes : détermination de la constante de propagation 13,(W,) associée au mode fondamental supporté par le premier coupleur isolé du deuxième coupleur, en fonction de la largeur W, allant de W1.111, à Wijnax; et détermination de la constante de propagation 132(W2) associée au mode fondamental supporté par le deuxième coupleur isolé du premier coupleur, en fonction de la largeur Wn allant de W2.pinin à; détermination de la variation longitudinale .;-`,/- (z) entre les positions zo et v 2 I 2 z, d'une largeur dite provisoire ?fi; du deuxième coupleur, pour laquelle " 2 l'écart entre les constantes de propagation pl(wo ct13,,(W,) déterminées est nul ; détermination de la variation longitudinale des constantes de propagation 13,.. et .130 à partir de la variation longitudinale Wi=fi(z) définie préalablement et de la variation longitudinale iitfir 4.' (z) déterminée préalablement. "2 12 [0013] Le procédé de fabrication peut comporter les étapes suivantes : détermination des constantes de propagation [3(W1 ;W,) et 130(W1 ;W2) en fonction de la largeur W1 allant de W1,"'à WI.,'a, et de la largeur W, allant de W,,pinin à W,,pmax ; détermination de la variation longitudinale ic=h(z) entre zo et zf en fonction des constantes de propagation ;W2) et po(w, ;W2) déterminées préa- lablement, pour laquelle, en chaque position z, l'écart entre [3,(Wi(z) ;W2) et [30 (wi(z) ;W0) est minimal. [0014] La variation longitudinale W1=f1(z) définie de la largeur W1 peut être une fonction monotone, et la variation longitudinale W2=f2(z) déterminée de la largeur Wi peut être une fonction non-monotone. po] 5] L'invention porte également sur un procédé de fabrication d'une source laser hybride comportant deux transformateurs de mode fabriqués par le procédé selon l'une quelconque des caractéristiques précédentes, dans lequel la source laser hybride comporte : un substrat support, comportant un guide d'onde dit intégré de largeur W2; un plot semiconducteur, reposant sur le substrat support, comportant des puits quantiques situées dans un guide d'onde dit actif de largeur W1, couplé adiabatiquement à un guide d'onde intégré par les transformateurs de mode ; chaque transformateur de mode étant formé d'un coupleur dit actif du guide d'onde actif, et un coupleur dit intégré du guide d'onde intégré. po] 6] le plot semiconducteur peut être réalisé en au moins un composé semiconducteur 111- v, et le substrat support peut être réalisé à base de silicium. po] 7] la longueur L du transformateur de mode peut être inférieure à 104tm. po] 8] Le coupleur du guide d'onde intégré peut présenter une épaisseur inférieure ou égale à 300nm. Brève description des dessins 100191 D'autres aspects, buts, avantages et caractéristiques de l'invention apparaîtront mieux à la lecture de la description détaillée suivante de formes de réalisation préférées de celle-ci, donnée à titre d'exemple non limitatif, et faite en référence aux dessins annexés sur lesquels : Ifi2.1A] la figure 1A, déjà décrite, est une vue schématique et partielle, en vue de dessus, d'une source laser hybride selon un exemple de l'art antérieur, dans laquelle les coupleurs des transformateurs de mode présentent des variations longitudinales 6 monotones et linéaires de leurs largeurs ; [fig.1B] la figure 1B, déjà décrite, est une vue schématique et partielle, en coupe transversale, d'une source laser hybride selon un exemple de l'art antérieur, dans laquelle les coupleurs des transformateurs de mode présentent des variations longitudinales monotones et linéaires de leurs largeurs ; [fig.2] la figure 2, déjà décrite, est une vue schématique et partielle, en coupe longitudinale, d'un transformateur de mode similaire à ceux illustrés sur les fig.lA et 1B, illustrant le transfert optique par couplage adiabatique d'un guide d'onde à l'autre ; [fig.3] la figure 3 est une vue schématique et partielle, de dessus, d'un transformateur de mode obtenu selon un procédé de fabrication selon un mode de réalisation ; [fig.4] la figure 4 est un organigramme d'un procédé de fabrication selon un premier mode de réalisation ; [fig.5] la figure 5 est un organigramme d'un procédé de fabrication selon un deuxième mode de réalisation. EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS [0020] Sur les figures et dans la suite de la description, les mêmes références représentent les éléments identiques ou similaires. De plus, les différents éléments ne sont pas représentés à l'échelle de manière à privilégier la clarté des figures. Par ailleurs, les différents modes de réalisation et variantes ne sont pas exclusifs les uns des autres et peuvent être combinés entre eux. Sauf indication contraire, les ternies « sensiblement », « environ », « de l'ordre de » signifient à 10% près, et de préférence à 5% près. Par ailleurs, les termes « compris entre ... et ... » et équivalents signifient que les bornes sont incluses, sauf mention contraire. [0021] L'invention porte sur un procédé de fabrication d'un transformateur de mode adiabatique, c'est-à-dire d'un transformateur de mode assurant le couplage adiabatique entre un premier guide d'onde et un deuxième guide d'onde. Pour cela, le transformateur de mode est formé d'un coupleur du premier guide d'onde et d'un coupleur du deuxième guide d'onde, les deux coupleurs étant superposés l'un à l'autre suivant un axe d'épaisseur orthogonal à un axe longitudinal. Le couplage adiabatique est obtenu par une variation longitudinale de la largeur de chacun des deux coupleurs du transformateur de mode, et donc par une variation longitudinale des constantes de propagation des modes fondamentaux de chacun des coupleurs isolés, de manière à transférer la puissance optique d'un guide d'onde d'entrée au guide d'onde de sortie. [0022] La figure 3 est une vue schématique en coupe longitudinale d'un transformateur de mode 3 obtenu par le procédé de fabrication selon un mode de réalisation. Dans cet exemple, le transformateur de mode 3 est un transformateur de mode d'une source laser hybride similaire à celle décrite en référence aux fig.lA et 1B et à la fig.2. [0023] On définit ici et pour la suite de la description un repère direct tridimensionnel or- 7 thogonal XYZ, où le plan XZ est un plan parallèle au plan du substrat support 20, l'axe Z étant orienté suivant l'axe longitudinal des coupleurs lc, 2c du transformateur de mode 3, l'axe X étant orienté suivant la largeur des coupleurs lc, 2c, et où l'axe Y est orienté du substrat support 20 vers le plot semiconducteur 10 de la source laser 4 (cf fig.lA et 1B). [0024] La source laser 4 est ici de type DBR (Distributed Bragg Reflector, en anglais), mais l'invention s'applique également à une source laser de type DFB, voire à d'autres types de source laser (cavité en anneau par ex.). La source laser 4 comporte un plot semiconducteur 10 réalisé en au moins un composé semiconducteur de type III-V et disposé sur un substrat support 20 ici de type SOI. La cavité optique est délimitée par deux réflecteurs optiques 24, ici des miroirs de Bragg, situés dans le guide d'onde intégré 2 disposé dans le substrat support 20. [0025] Le plot semiconducteur 10 contient le milieu à gain 11, lequel est situé dans un premier guide d'onde dit actif 1. Il comporte une couche 11 contenant de multiples puits quantiques, par exemple réalisés en InGaAsP avec un maximum de gain par exemple centré sur la longueur d'onde "A. égale à 1310nm. La couche 11 de puits quantiques est encadrée suivant l'axe Y par des couches semiconducteurs 12.1, 12.2 dopées n et p, par exemple réalisées en InP. Aussi, le plot semiconducteur 10 comporte une jonction PIN qui s'étend dans le plan XZ. Le guide d'onde actif 1 comporte en chacune de ses extrémités longitudinales un coupleur lc dit actif dont la largeur W, varie suivant l'axe longitudinal Z suivant une fonction fl prédéfinie, de préférence monotone. [0026] Le substrat support 20 comporte un deuxième guide d'onde 2, dit intégré, ap- partenant à un circuit photonique intégré. Le substrat support 20 est de type SOI ( Silicon On Insulator, en anglais), de sorte que le deuxième guide d'onde 2 comporte un coeur réalisé en silicium et une gaine réalisée en un oxyde de silicium. Dans cet exemple, le guide d'onde intégré 2 est de préférence un guide en arête formé d'une arête 22 (rit', en anglais) reposant suivant l'axe Y sur une base 21 (slot), en anglais). La largeur W2 du guide d'onde intégré 2 est ici la largeur de l'arête 22 suivant l'axe X. Le guide d'onde intégré 2 est espacé du plot semiconducteur 10 par une couche 23 d'oxyde de silicium d'une épaisseur locale eg',, de préférence constante (cf. fig.1B). Le guide d'onde intégré 2 comporte un coupleur 2c dit intégré disposé en regard (c'est-à-dire à la perpendiculaire) du coupleur actif Ic suivant l'axe d'épaisseur Y. La largeur W, du coupleur 2c varie suivant l'axe longitudinal Z. [0027] Bien entendu, le guide d'onde intégré 2 peut en variante être un guide d'onde droit, c'est-à-dire un guide d'onde dont le coeur présente une largeur Wn constante suivant l'axe d'épaisseur Y entre les couches d'oxyde de silicium inférieure et supérieure. Autrement dit, un guide d'onde droit ne comporte pas d'arête de largeur étroite W, en 8 saillie vis-à-vis d'une hase de plus grande largeur. [0028] Le transformateur de mode 3 est ainsi formé d'un coupleur actif le et un coupleur intégré 2e, les deux coupleurs lc, 2c étant superposés l'un à l'autre suivant l'axe Y. Ils sont orientés suivant le même axe longitudinal Z. [0029] Le guide d'onde actif 1 comporte une portion principale 1.1 à largeur constante suivant l'axe longitudinal, non couplée au guide d'onde intégrée 2, et située entre les transformateurs de mode 3 (cf. fig.1A). Il comporte ici une portion intercalaire 1.2, non couplée au guide d'onde intégré 2, et située entre la portion principale 1.1 et le coupleur actif le, dont la largeur varie ici de manière monotone et linéaire suivant l'axe longitudinal Z. Il comporte enfin le coupleur actif lc, dont la largeur W1 varie ici suivant une fonction f1 définie, ici monotone et linéaire, entre une valeur maximale W en la position z0 et une valeur minimale W1,1',' en la position zf. La longueur entre les positions z' et zf définit la longueur L du transformateur de mode 3. Cette longueur est choisie de manière à maximiser l'efficacité de couplage entre les deux guides d'onde 1, 2. Comme décrit plus loin, elle sera avantageusement optimisée. A titre d'exemple, la portion principale 1.1 peut présenter une largeur constante de 4pm environ, la portion intercalaire 1.2 une largeur passant de 4pm à lpm environ sur une longueur de 45pm environ, et le coupleur actif le peut présenter une valeur maximale WI',', égale à lm environ, une valeur minimale Wi. de 0.5pm environ et une longueur L égale à 65pm environ. [0030] Le guide d'onde intégré 2 présente une portion principale 2.1 à largeur constante, non couplée au guide d'onde actif 1, et située ici à distance du guide d'onde actif 1, et un coupleur intégré 2c dont la largeur W2 présente une variation longitudinale f2(z) déterminée par le procédé de fabrication décrit plus loin. La largeur W2 du coupleur intégré 2e varie ici de manière non monotone entre une valeur maximale W2','', en la position zf et une valeur minimale W2.,'in en la position zo. Dans cet exemple, le guide d'onde intégré 2 comporte une portion intercalaire 2.2 à largeur constante égale ici à W 2.',in qui s'étend longitudinalement de manière à relier continûment les deux coupleurs intégrés 2e de la source laser 4. La valeur minimale W21111, est ici égale à 0.75pm environ et la valeur maximale W2,,m,' est égale à 2.5pm environ. La base 21 peut présenter une largeur constante de lOpm environ et une épaisseur de 150nm à 200nm environ. L'arête 22 peut présenter une épaisseur de 100nm à 150nm environ (par ex. 150 nm pour la base et 150nm pour l'arête, ou 200nm pour la base et 100nm pour l'arête). L'espacement eg', en oxyde de silicium entre l'arête 22 et le plot semiconducteur 10 peut être égal à 100nm environ. [0031] Comme décrit plus loin, il apparaît que la non-monotonie de la variation longi- tudinale d'au moins l'un des deux coupleurs le, 2e du transformateur de mode 3 (ici celle du coupleur intégré 2c), lorsqu'elle tient compte de la variation longitudinale de 9 la largeur de l'autre coupleur pour vérifier un critère d'adiabaticité décrit plus loin, permet d'améliorer les performances optiques du transformateur de mode 3. En effet, comme décrit en détail plus loin, il apparaît que la longueur L d'un tel transformateur de mode 3 permettant d'obtenir une efficacité de couplage donné (par exemple 80%, voire 90%) est réduite, ce qui permet de faciliter l'obtention d'une source laser monomode (FSR plus élevé). Il apparaît également qu'un tel transformateur de mode présente une sensibilité réduite de l'efficacité de couplage aux variations de la longueur d'onde autour de la longueur d'onde d'intérêt K. Un tel transformateur de mode présente de plus une efficacité de couplage dont la sensibilité est réduite aux variations d'espacement egap entre le guide d'onde intégré et le plot semiconducteur. Un tel transformateur de mode permet de coupler un guide d'onde actif à un guide d'onde intégré qui présente une épaisseur de 300nm environ (épaisseur de 150nm environ pour la base et de 150nm environ pour l'arête). Un tel transformateur de mode 3 se distingue ainsi structurellement de ceux décrits dans l'article de Duan et al. 2014 mentionné précédemment, dans lesquels les coupleurs actif et intégré présentent une variation monotone et linéaire de leur largeur. Il n'est de plus pas nécessaire de réaliser un guide d'onde intégré de 500nm environ, comme dans Duan et al. 2014, pour assurer le couplage optique au guide d'onde actif Dans Duan et al. 2014, en partant d'un substrat SOI de 300nm de silicium, il est nécessaire de réaliser une arête d'une épaisseur de 200nm environ sur la base de 300nm d'épaisseur. Il se distingue également de celui décrit dans l'article de Sun et al. intitulé Adiabaticitv criterion and the shortest adiabatic mode transfbrmer in a coupled-waveguide system Opt. Lett., 34, 280 (2009), dans lequel le transformateur de mode comporte un premier coupleur de largeur constante et un deuxième coupleur dont la largeur varie longitudinalement. [0032] Le figure 4 est un organigramme illustrant certaines étapes d'un procédé de fa- brication d'un transformateur de mode 3, similaire à celui illustré sur la fig.3, selon un premier mode de réalisation. [0033] Lors d'une première étape 100, on définit des caractéristiques du transformateur de mode pour lequel la variation longitudinale W2=f4z) du coupleur intégré 2c du guide d'onde intégré 2 est à déterminer. [0034] Concernant le guide d'onde actif 1, on définit ainsi l'indice de réfraction des matériaux qui le composent ainsi que les dimensions du coupleur actif 1c. Ainsi, le coeur (couche de puits quantiques) peut être réalisé en InGaAsP, et la gaine (couches inférieure et supérieure encadrant la couche de puits quantiques) peut être réalisée en InP. On définit également l'épaisseur du coeur et de la gaine. Enfin, on définit la variation longitudinale Wi=fi(z) de la largeur W1 du coupleur actif lc, entre la valeur maximale Wi,'' à la position zo et la valeur minimale Wiain à la position zf. On définit également la longueur L du coupleur actif lc, qui correspond alors à celle du trans- formateur de mode 3. A titre d'exemple, la valeur minimale WI'' peut être choisie en fonction des contraintes de réalisation des pointes des guides d'onde, et peut être égale à 0.5pm environ. La valeur maximale W,''', peut être égale par exemple à lpm environ. La longueur L peut être égale à 65m environ. [0035] Concernant le guide d'onde intégré 2, on définit les indices de réfraction des matériaux qui le compose (silicium, oxyde de silicium), l'épaisseur du guide d'onde intégré 2 ou au moins du coupleur 2c, et des valeurs provisoires minimale W,'''' et maximale Wn,'',. Ces valeurs sont dites provisoires dans la mesure où elles ne correspondent pas nécessairement aux valeurs effectives minimale W,''' en z' et maximale W2.rfjax en zr de la largeur W, lorsque sa variation longitudinale W2=f2(z) sera déterminée. Il s'agit ici des valeurs définissant le domaine sur lequel seront calculées les différentes constantes de propagation, ici les constantes de propagation Fi, et fin des modes fondamentaux des coupleurs isolés le, 2e. A titre d'exemple, la valeur minimale W2.1,,111, peut être égale à 0.5pm, et la valeur maximale W2,,'', peut être par exemple supérieure ou égale à par exemple égale à 1.5pm. La valeur W23, peut être comprise entre 0.2pm et 3pm environ. [0036] Rappelons ici que les guides d'onde isolés 1,2, c'est-à-dire non couplés l'un à l'autre, se caractérisent notamment par les constantes de propagation 131, 132 associés respectivement aux modes fondamentaux supportés par les deux guides d'onde isolés 1, 2. On peut donc calculer le paramètre t') de désaccord de phase (phase tnistnatch parameter, en anglais) tel que b=(131-132)/2. Par ailleurs, le système couplé formé des deux guides d'onde 1, 2 couplés l'un à l'autre se caractérise également par les constantes de propagation 13,, pr, associés respectivement aux supennodes pair E, et impair En, ainsi que par le paramètre de couplage K. Ce paramètre ic représente la force de couplage entre les deux guides d'onde 1, 2. Autrement dit, il correspond d'une certaine manière au taux de recouvrement, dans le système couplé, de la distribution spatiale de l'amplitude des champs électriques El, En des modes fondamentaux des guides d'onde isolés 1, 2. Comme l'indique notamment l'article de Sun & Yariv intitulé Engineering supermocle silicon/III-V hvbrid waveguides Ihr laser oscillation, J. Opt. Soc. Am. B, Vol. 25, No. 6, 923 (2008), le paramètre de couplage x dépend de la distribution spatiale dans le plan XY des indices de réfraction des guides d'onde isolés 1, 2 et de celui du système couplé, ainsi que de la distribution spatiale de l'amplitude des champs électriques E,, E, des modes fondamentaux supportés par les deux guides d'onde isolés 1, 2. Par ailleurs, comme défini dans l'article de Sun et al. 2009 mentionné précédemment, lorsque seul le supermode pair E. est excité, le paramètre S relie les constantes de propagation 13, et 13', et les paramètres ô et x par la relation ,-130)/2=(62-FK2)"2. [0037] Lors d'une étape 200 suivante, on détermine la variation longitudinale -K=h(z) du 11 paramètre de couplage 1C entre la position 7.0 et la position zr. Dans ce premier mode de réalisation, on détermine pour cela la variation longitudinale .67= (z) d'une largeur "2 12 provisoire tZT du coupleur intégré 2c pour laquelle l'écart r3,rw,(,)113,[4, (z)] est lo- "' 2 2 calcinent nul entre les constantes de propagation pi, [32 des modes isolés. Cette largeur est dite provisoire dans la mesure où elle est différente de la largeur effective W "2 2=f2(z) du coupleur 2e du guide d'onde intégré 2 lorsque le critère d' adiabaticité sera vérifié (étape 300 détaillée plus loin). Dans cette étape 200, la constante de propagation (32 du mode fondamental supporté par le coupleur intégré isolé 2c est calculée sur la base de cette largeur provisoire (Z). ti V 2 100381 Pour cela, dans une sous-étape 211, on calcule la constante de propagation .131 en fonction de la largeur W1 dans le domaine de calcul I ; Par constante de propagation, on entend la constante de propagation P, proprement dite ou un paramètre équivalent tel que l'indice effectif nem, du mode fondamental dans le guide d'onde isolé. On calcule également la valeur de la constante de propagation .132 en fonction de la largeur W2 dans le domaine de calcul IWn,plim, Wo.pni.J. Cette étape peut être effectuée par un solveur de mode de type à éléments finis (FEM mode solver, en anglais). 100391 Ensuite, dans une sous-étape 212, on détermine la variation longitudinale7 =(è (Z) "2 I 2 de la largeur provisoire pour laquelle l'écart [31[Wl(z)1132[7 (z)] est localement 2 'r 9 nul en chaque position z entre 40 et zr. Pour cela, une approche consiste à déterminer, pour chaque valeur de la largeur W1 entre Wimill et Wimax et donc pour chaque position z entre zo et zf, la valeur de la largeur dite alors provisoire (z) pour laquelle l'écart 13 z est localement nul (par interpolation). On obtient ainsi la variation 2 loneitudinale" (z) entre zo et zt. En d'autres termes, cela revient à déterminer la 2 12 valeur de la largeur provisoire r du coupleur intégré 2e, en chaque position z 2 comprise entre zo et zf, pour laquelle il y a localement anti-croisement (am i-erossing, en anglais) entre les modes fondamentaux supportés par les coupleurs actif le et intégré 2e isolés. [0040] Ensuite, dans une sous-étape 221, on calcule la variation longitudinale rie=go(z), entre zo et zf, de la constante de propagation rie du supermode pair E, ainsi que la variation longitudinale130=go(z) entre 7.0 et zf de la constante de propagation rio du supermode impair Eo, en fonction de la variation longitudinale Wi=fi(z) de la largeur W1 du coupleur actif le et de la variation longitudinale \IÀ7 (z) de la largeur provisoire "2 12 'Y 2 12 du guide intégré 2c. Autrement dit, la constante de propagation É. du supermode pair est fonction, en chaque position z, des largeurs correspondantes Wi(z) et t;'; (z) dé- " 2 terminées :13e=ge(z)=g1W1(z) ; (z)]. De manière similaire, on a : " 2 (z);11,^T (z)]. Les constantes de propagation [3' [30 peuvent être calculées par un solvcur vv de mode de type à éléments finis. [0041] Enfin, dans une sous-étape 231, on calcule la variation longitudinale tc=h(z), entre z0 et zr, du paramètre de couplage ic à partir des variations longitudinales déterminées [3. =g(z) et [30=g0(z) des constantes de propagation [3,, [3,. D'une manière connue, le paramètre de couplage K est relié aux constantes de propagation [3e, [3' par le paramètre S : S = ([3430)/2=(2+K2)2. Le paramètre là\ est défini comme correspondant à l'écart entre les constantes de propagation 1311Wi(z)1 et 132lite (z)1 déterminées à partir de la vv largeur locale Wi(z) et de la largeur provisoire locale sr (z). Or, ce paramètre â est localement nul pour toute position z entre zo et zr du fait du choix de la largeur provisoire locale ifjr (z). Aussi, le paramètre de couplage K se calcule aisément en toute position z " 2 entre z0 et zf par la relation : w(z)=1[3,(z) -130(z)1/2. On obtient ainsi la variation longitudinale ic=b(z) du paramètre de couplage ic pour laquelle il y a localement, en toute position de z suivant l'axe longitudinal, égalité entre les constantes de propagation 131, 132 des modes fondamentaux supportés par les deux coupleurs isolés lc, 2c. 100421 Lors d'une étape 300 suivante, on détermine la variation longitudinale W2=f2(Z) de la largeur W2 pour laquelle le critère d'adiabaticité est vérifié. Ce critère est identique ou similaire à celui décrit dans l'article de Sun et al. 2009 mentionné précédemment. Il relie ici l'écart de la position z considérée à la position de référence zo, adimensionné par la longueur L du transformateur de mode 3, aux valeurs locales des paramètres ô(z) et K(z). Ici, le paramètre b(z) dépend notamment de la largeur W2(z) à déterminer du coupleur intégré. Le critère d'adiabaticité s'écrit ici : YZE[Zo ; Z], z - zo \ 6(z) 01( Wi(z)) P2 ( (z)) tan ( asin ( 2 x L K(z) - 2 x K(z) [0043] La résolution de cette équation paramétrique permet ainsi d'obtenir la variation lon- gitudinale W2=f2(z) de la largeur W, pour laquelle le critère d'adiabaticité est vérifié. Comme le décrit l'article de Sun et al. 2009, ce critère revient à exciter principalement le supermode pair E. et non pas le supermode impair E0. Aussi, le supermode pair E. assure le transfert de la puissance optique d'un guide d'onde à l'autre par couplage adiabatique (comme l'illustre la fig.2). Cependant., ce critère d' adiabaticité diffère de celui exprimé par Sun et al. 2009 en ce que le paramètre de couplage K(z) a été 13 déterminé préalablement de sorte qu'il y ait anti-croisement en toute position z entre zo et zr. Aussi, la variation longitudinale W2=f0(z) du coupleur intégré 2e tient compte de celle du coupleur actif lc. On note ici que cette variation longitudinale W,=L(z) est différente de la variation longitudinale7 I(z) déterminée préalablement, pour 2 2 laquelle l'anti-croisement entre les modes isolés est localement vérifié. [0044] Lors d'une étape 400 suivante, on réalise ensuite le transformateur de mode 3 entre le guide d'onde actif 1 et le guide d'onde intégré 2 à partir de la variation longitudinale W1=f1(z) de la largeur W, du coupleur actif Ic et de la variation longitudinale W,=f,(z) de la largeur W, du coupleur intégré 2c. Il apparaît que la variation longitudinale Wn=f, (z) déterminée est non-monotone entre zo et zf. Cette non-monotonie de la fonction'', qui tient compte de la variation longitudinale'', de la largeur W, du coupleur actif 1c permet d'améliorer les performances du transformateur de mode 3. [0045] Ainsi, le procédé selon l'invention permet d'obtenir une longueur L réduite du trans- formateur de mode 3 pour une même efficacité de couplage comparé à un transformateur de mode tel que décrit par Sun et al. 2009 où l'un des coupleurs est un guide d'onde droit (pas de variation longitudinale de sa largeur). A titre d'exemple, pour une longueur de 100pm d'un transformateur de mode décrit par Sun et al. 2009 permettant d'obtenir une efficacité de couplage de 95%, le procédé selon l'invention permet d'obtenir une même efficacité de couplage pour une longueur L réduite de transformateur de mode 3, par exemple 75pm. La réduction de la longueur du transformateur de mode 3 permet d'obtenir un paramètre FSR (Free Spedrai Range, en anglais) plus élevé, ce qui facilite l'obtention du caractère monomodc de la source laser. [0046] Par ailleurs, il apparaît que le procédé selon l'invention permet d'obtenir un trans- formateur de mode 3 présentant une sensibilité réduite aux variations de la longueur d'onde autour de la longueur d'onde d'intérêt ),' par exemple 1310nm. En effet, un transformateur de mode tel que décrit par Sun et al. 2009 présente une forte diminution de l'efficacité de couplage à mesure que l'on s'écarte de la longueur d'onde d'intérêt par exemple entre 1260nm et 1340nm, alors que le transformateur de mode 3 obtenu par le procédé selon l'invention présente une efficacité de couplage sensiblement constante sur une telle plaque de longueur d'onde centrée autour de 1310nm. [0047] Il apparaît également que, comparé à un transformateur de mode tel que décrit par Sun et al. 2009, le transformateur de mode 3 obtenu par le procédé selon l'invention présente une sensibilité réduite à l'espacement eg',p défini par la couche de gaine (couche d'oxyde 23 ici) entre le plot semiconducteur 10 et le guide d'onde intégré 2. A titre d'exemple, pour un guide d'onde intégré 2 en arête de 500nm d'épaisseur (base de 300nm d'épaisseur et arête de 200nm d'épaisseur), l'efficacité de couplage présente 14 une valeur maximale de 95% environ pour e',p égal à 100nm environ. Or, l'efficacité de couplage chute entre 88% et 80% environ lorsque eg est égal respectivement à 80nm environ et à 120nm environ. En revanche, un transformateur de mode 3 obtenu par le procédé selon l'invention permet d'obtenir une efficacité de couplage sensiblement constante pour eg,p compris entre 80nm et 120nm, par exemple supérieure ou égale à 90% pour un guide d'onde intégré en arête de 300nm (par ex. base de 150nm d'épaisseur et arête de 150nm d'épaisseur). lien ressort donc également qu'un guide d'onde intégré 2 d'épaisseur plus fine permet d'obtenir une efficacité de couplage élevée. Il n'est en effet pas nécessaire de réaliser un guide d'onde intégré en arête de 500nm environ comme dans les exemples de l'art antérieur mentionnés précédemment (Duan et al. 2014 ; Sun & Yariv 2008). On simplifie ainsi le procédé de fabrication du transformateur de mode. [0048] La longueur L du transformateur de mode 3 peut être avantageusement optimisée. Pour cela, on cherche à déterminer la longueur L minimale permettant d'obtenir une efficacité de couplage donnée, par exemple 80% ou 90%, voire davantage. Le procédé de fabrication comporte une sous-étape 310, effectuée à la suite de l'étape 300, dans laquelle on calcule l'efficacité de couplage pour la longueur L du transformateur de mode 3. Comme mentionné précédemment, l'efficacité de couplage correspond au rapport Pour/Pin entre la puissance optique Polir du mode fondamental du faisceau de sortie sur celle Pin du faisceau incident. L'optimisation comporte la réitération des étapes 100 à 310 pour différentes valeurs de la longueur L. Lorsque le taux de variation de l'efficacité de couplage en fonction de L est inférieure ou égale à un seuil prédéfini, on choisit la longueur L correspondante. Il s'agit ainsi de la plus petite longueur L pour laquelle l'efficacité de couplage ne varie sensiblement plus. Comme mentionné précédemment, il apparaît que la longueur L optimisée présente une valeur réduite comparée à celle d'un transformateur de mode adiabatique tel que décrit par Sun et al. 2009. [0049] La figure 5 est un organigramme d'un procédé de fabrication d'une source laser hybride 4 selon un deuxième mode de réalisation. Ce procédé se distingue de celui décrit en référence à la fig.4 essentiellement par la manière de déterminer la variation longitudinale w=h(z) du paramètre de couplage K. Plus précisément, la variation longitudinale K=h(z) est ici déterminée sans passer par un calcul explicite de la variation longitudinalel'Àf ,(è (z) de la largeur provisoire irtij pour laquelle il y a égalité entre "y 2 2 2 les constantes de propagation [31[W,(z)] et 2 [0050] La première étape 100 consiste à définir certaines caractéristiques du transformateur de mode, en particulier sa longueur L, la variation longitudinale W1=f1(z) de la largeur W1 du coupleur actif le entre les positions zo et zf, et les valeurs provisoires W2,pmin, W 2,,''a, relatives au coupleur intégré 2e. Cette étape est identique ou similaire à celle décrite en référence à la fig.4 et n'est pas détaillée à nouveau. [0051] Dans une étape 200 suivante, on détermine la variation longitudinale w=h(z) du paramètre de couplage K entre les positions z0 et zr. Dans ce deuxième mode de réa- lisation, on ne calcule pas de manière explicite la variation longitudinale '`,.-T =/II; (z) du 2 2 coupleur intégré 2e, mais celle-ci est obtenue de manière implicite. [0052] Pour cela, dans une sous-étape 222, on calcule les constantes de propagation I. et flo en fonction d'une part de la largeur W1 du coupleur actif ic et d'autre part. de la largeur W, du coupleur intégré 2e. Autrement dit, on calcule 13e(w1;W7) et 130(WI;W7) dans le domaine de calcul défini par les valeurs minimales et maximales définies dans l'étape 100, c'est-à-dire dans le domaine de calcul : WIE[Wi,min ;Wi,inaxl et W7E[W2.proin ; W 2.proaxl - [0053] Ensuite, dans une sous-étape 232, on calcule, pour chaque valeur de la largeur W1 entre Whmin e1WI.max, donc pour chaque position z entre zo et z2 (via la fonction Wi=fi (z)), la valeur i(k7 (z) de W, pour laquelle l'écart Arieo=pe-po est minimal. Autrement la valeur tib (z) est telle que, pour Wi(z) considéré, on a fle(Wi(z); ) - Y! 2 v v 2 1/k) = min[P,(TVI(z);W2) - P0(W1(z);W2)]. On obtient ainsi la variation longitudinale vv K=h(z) du paramètre de couplage K entre les positions zo et zr, par la relation : ic=h(z)= rietWi(z); \",72 r30(z)) - (Wi(z); *2(z)) ]/2. [0054]Lors d'une étape 300 suivante, on détermine la variation longitudinale W,=f,(z) de la largeur W., pour laquelle le critère d'adiabaticité est vérifié. Cette étape est ici identique ou similaire à celle décrite précédemment en référence à la fig.4 et n'est donc pas détaillée à nouveau. [0055] Lors d'une étape 400 suivante, on réalise ensuite le transformateur de mode 3 entre le guide d'onde actif et le guide d'onde intégré à partir de la variation longitudinale Wi=f 1(z) de la largeur W1 du coupleur actif le et de la variation longitudinale W2=f1(z) de la largeur W, du coupleur intégré 2e. Le procédé selon ce deuxième mode de réalisation présente les mêmes avantages que ceux du procédé selon le premier mode de réalisation. [0056] Des modes de réalisation particuliers viennent d'être décrits. Différentes variantes et modifications apparaîtront à l'homme du métier. 16 [Revendication 1] REVENDICATIONSProcédé de fabrication d'un transformateur de mode (3) assurant le couplage adiabatique entre un premier guide d'onde (1) et un deuxième guide d'onde (2), le transformateur de mode (3) étant formé d'un premier coupleur (1c) du premier guide d'onde (1) et d'un deuxième coupleur (2c) du deuxième guide d'onde (2), les premier et deuxième coupleurs (1c, 2e) étant superposés l'un à l'autre et présentant une largeur variable, respectivement W, et W2, sur une longueur L suivant un axe longitudinal, le procédé comportant les étapes suivantes : définition (100) d'une part d'une variation longitudinale Wi=f, (z) de la largeur W, du premier coupleur (1c), entre des positions z,, et zr suivant l'axe longitudinal telles que zr=zo+L, allant d'une valeur maximale W1,',,,' en zo à une valeur minimale Wi,',,,, en zr, et d'autre part de valeurs dites pro- visoires minimale W2.1,' et maximale W24'',,, de la largeur W2 du deuxième coupleur (2c) ; détermination (221 ; 222) de constantes de propagation (3, et (3' associées respectivement à des supermodes pair et impair supportés par les deux coupleurs (1c, 2c), pour chaque position z entre zo et zr, en fonction : - de la valeur locale W1(z) en z de la largeur W, du premier coupleur (1c), et - d'une valeur locale IPA) (z) en z de la largeur Wo du " deuxième coupleur (2c), - pour laquelle il y a égalité entre des constantes de propagation pitwica et [32( (z)) associés respectivement aux modes Y' 2 fondamentaux supportés par le premier coupleur (1c) de largeur locale W1(z) et par le deuxième coupleur (2c) de largeur locale les deux coupleurs (1c, 2c) étant "2 alors isolés l'un de l'autre ; détermination (231 ; 232) d'une variation longitudinale w=h(z) entre zu et zi d'un paramètre de couplage w. entre les deux coupleurs (1c, 2c), à partir des constantes de propagation [3, et 130 déterminées ; 17 détermination (300) d'une variation longitudinale W2=f2(z) entre zo et zr de la largeur W2 du deuxième coupleur (2c) de telle sorte qu'un critère d' adiabaticité est vérifié à chaque position z, ce critère d'adiabaticité reliant la position z considérée, la longueur L prédéfinic, le paramètre dc couplage K(z) prédéterminé, ladite constante de propagation ri,(W,(z)), et une constante dc propagation ri2(W2(z)) associée à une valeur locale W,(z) à déterminer; fabrication (400) du transformateur de mode (3), dans lequel le premier coupleur (1c) présente la variation longitudinale Wi=f 1(z) définie, et le deuxième coupleur (2c) présente la variation longitudinale W2=1;(z) déterminée. [Revendication 2] Procédé de fabrication selon la revendication 1, comportant : à la suite de l'étape de détermination de la variation longitudinale W2=f2(z), une étape de détermination (310) d'une efficacité de couplage définie comme le rapport P,'11/P1' entre un paramètre représentatif d'une puissance optique P',,, d'un mode fondamental en sortie du transformateur de mode (3) et un paramètre représentatif d'une puissance optique P1, d'un mode fondamental en entrée du transformateur de mode (3), réitération des étapes allant de l'étape de définition à l'étape de détermination de l'efficacité de couplage, pour différentes valeurs de la longueur L; détermination d'une valeur minimale de la longueur L pour laquelle la variation de l'efficacité de couplage en fonction de la longueur L est inférieure ou égale à un seuil prédéfini. [Revendication 3] Procédé de fabrication selon la revendication 1 ou 2, comportant les étapes suivantes : détermination (211) de la constante de propagation [31(W1) associée au mode fondamental supporté par le premier coupleur (le) isolé du deuxième coupleur (2c), en fonction de la largeur W1 allant de W1,m11 â Wi.',',; et détermination de la constante de propagation [32(W2) associée au mode fondamental supporté par le deuxième coupleur (2c) isolé du 18 premier coupleur (1c), en fonction de la largeur W, allant de WO.pnin à'V2.pruia ,; détermination (212) de la variation longitudinale -%7 (Z) YI 2 2 entre les positions zo et zf d'une largeur dite provisoire r du - Y 2 deuxième coupleur (2c), pour laquelle l'écart entre les constantes de propagationl31(WI) et I32(W2) déterminées est nul ; détermination (221) de la variation longitudinale des constantes de propagation p. et I30 à partir de la variation longitudinale W1=f1(z) définie préalablement et de la variation lon- gitudinale 11.,7 (z) déterminée préalablement. 2 2 [Revendication 4] Procédé de fabrication selon la revendication 1 ou 2, comportant les étapes suivantes : détermination (222) des constantes de propagation W1 ;W2) et [3( V1;W2) en fonction de la largeur W1 allant de WI,,';' à W et de la largeur W, allant de W21''ir, à W,'''a' ; détermination (232) de la variation longitudinale K=h(z) entre zo et zr en fonction des constantes de propagationi3e(W, ;W2) et 13'(W, ;W2) déterminées préalablement, pour laquelle, en chaque position z, l'écart entre [3,(W1tz) ;W2) et p'Avi(z);m72) est minimal. [Revendication 5] Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans lequel la variation longitudinale W,=f,(z) définie de la largeur W1 est une fonction monotone, et dans lequel la variation longitudinale W2=f2(z) déterminée de la largeur W, est une fonction non-monotone. [Revendication 6] Procédé de fabrication d'une source laser hybride (4) comportant deux transformateurs de mode (3) fabriqués par le procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans lequel la source laser hybride (4) comporte : un substrat support (20), comportant un guide d'onde dit intégré (2) de largeur W2 ; un plot semiconducteur (10), reposant sur le substrat support (20), comportant des puits quantiques (11) situées dans un 19 guide d'onde dit actif (I) de largeur W1, couplé adiabatiquement à un guide d'onde intégré (2) par les transformateurs de mode (3) ; chaque transformateur de mode (3) étant formé d'un coupleur dit actif (I c) du guide d'onde actif (1 ), et un coupleur dit intégré (2c) du guide d'onde intégré (2). [Revendication 7] Procédé dc fabrication selon la revendication 6, dans lequel le plot semi- conducteur est réalisé en au moins un composé semiconducteur III-V, et le substrat support est réalisé à base de silicium. [Revendication 8] Procédé de fabrication selon la revendication 6 ou 7, dans lequel la longueur L du transformateur de mode est inférieure à 10(4.tm. [Revendication 9] Procédé de fabrication selon l'une quelconque des revendications 6 à 8, dans lequel le coupleur (2c) du guide d'onde intégré (3) présente une épaisseur inférieure ou égale à 300nm.