FR 3089299 A1 20200605 FR 1872097 A 20181129 Description Titre de l'invention : METHODE D'ANALYSE DE FUMEES D'EVAPORATION, PRODUIT PROGRAMME D'ORDINATEUR, SYSTEME D'ANALYSE ET INSTALLATION DE FA- BRICATION ADDITIVE ASSOCIES Domaine technique [0001] La présente invention concerne une méthode d'analyse de fumées d'évaporation émises durant la mise en oeuvre d'un procédé de fabrication additive employant au moins une espèce chimique en tant que matière fusible. L' invention concerne également un produit programme d'ordinateur, un dispositif de traitement, un système d'analyse et une installation de fabrication additive. [0002] L'invention s'applique au domaine de la fabrication additive, et plus particulièrement à la caractérisation de fumées générées au cours de procédés de fabrication additive. Technique antérieure [0003] Les procédés de fabrication additive consistent, classiquement, en la fabrication d'objets solides par la mise en forme de matière en phase liquide, la matière ayant été portée à une température supérieure à sa température de fusion. De tels procédés sont classiquement mis en oeuvre au moyen d'un système de fabrication additive. [0004] De façon connue, de tels procédés de fabrication additive comprennent, par exemple, les procédés dits de fusion sur lit de poudres (ou encore PBF, acronyme de l'expression anglaise « Powder Bed Fusion ») et les procédés dits de dépôt de matière sous énergie concentrée (ou encore DED, acronyme de l'expression anglaise « Directe(' Energy Deposilion »). [0005] La mise en oeuvre de tels procédés de fabrication additive est susceptible de conduire à une évaporation de matière sous forme de fumées. [0006] Un tel phénomène est problématique. [0007] En effet, un tel phénomène conduit à une perte de masse au niveau de la matière solide obtenue au cours du procédé de fabrication additive, ce qui est susceptible de conférer à la pièce fabriquée des propriétés différentes de celles qui sont attendues, par exemple des propriétés mécaniques différentes de celles qui sont attendues. [0008] En outre, dans le cas où la matière utilisée est un mélange de composants destiné à former un alliage après fusion puis solidification, il est possible que lesdits composants s'évaporent dans des proportions différentes, ce qui est susceptible de conférer localement à l'alliage une composition différente de celle souhaitée, et donc potentiellement des propriétés différentes de celles visées, par exemple des propriétés 2 physico-chimiques différentes de celles visées. [0009] Enfin, de telles fumées polluent l'intérieur du système de fabrication additive et sont susceptibles d'en perturber le fonctionnement, par exemple en générant des dépôts dans le système de fabrication additive, par exemple des dépôts sur des miroirs et des optiques d'émission de source(s) laser utilisées pour provoquer la fusion de la matière. [0010] Pour évaluer les proportions relatives des différents composants évaporés sous forme de fumée, il est connu de prélever un échantillon de gaz présents dans le système de fabrication additive, de tirer l'échantillon au vide et de réaliser une ionisation de la matière résiduelle, de façon à déterminer la composition de l'échantillon par spectrométrie de masse. [0011] Néanmoins, une telle méthode d'analyse ne donne pas entière satisfaction. [0012] En effet, une telle méthode d'analyse est coûteuse. En outre, du fait des différentes étapes requises pour la mise en oeuvre de l'analyse par spectrométrie de masse, notamment le transport de l'échantillon et le tirage au vide qui sont susceptibles de modifier la composition dudit échantillon analysé, les résultats obtenus par la mise en oeuvre d'une telle analyse sont susceptibles de différer des valeurs réelles de composition dans les fumées. En outre, une telle méthode ne convient pas pour fournir une analyse en temps réel de la composition des fumées d'évaporation. [0013] Un but de l'invention est donc de proposer une méthode d'analyse des fumées d'évaporation émises durant la mise en oeuvre d'un procédé de fabrication additive qui fournisse des résultats plus fiables que ceux obtenus par le recours à un spectromètre de masse, tout en présentant un coût raisonnable et en autorisant une analyse en temps réel. Exposé de l'invention [0014] A cet effet, l'invention a pour objet une méthode d'analyse du type précité, comprenant les étapes suivantes : [0015] - émission d'au moins un faisceau de rayons X pour irradier au moins une partie des fumées d'évaporation émises au cours de la mise en oeuvre du procédé de fabrication additive ; [0016] - détection, par un détecteur, de photons de fluorescence émis par l'au moins une partie des fumées d'évaporation irradiée par l'au moins un faisceau de rayons X, et génération d'un signal de détection représentatif de l'énergie déposée par les photons de fluorescence dans le détecteur ; et [0017] - identification, à partir du signal de détection, de tout ou partie des espèces chimiques présente dans les fumées d'évaporation. [0018] En effet, une telle méthode conduit à une analyse in situ des fumées émises durant la fabrication additive. Le prélèvement et le traitement d'un échantillon des fumées ne 3 sont donc plus requis. Tl en résulte une détermination de la composition des fumées d'évaporation plus fiable que celle obtenue par la mise en oeuvre des méthodes d'analyse connues mettant en oeuvre un spectromètre de masse. [0019] Une telle méthode d'analyse autorise également un suivi en temps réel de la com- position des fumées d'évaporation, selon la durée pendant laquelle le signal de détection est analysé. [0020] En outre, le recours à la fluorescence X autorise une mise en oeuvre plus aisée et moins coûteuse que le recours à un tel spectromètre de masse. [0021] Suivant d'autres aspects avantageux de l'invention, la méthode d'analyse comporte une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prise(s) isolément ou suivant toutes les combinaisons techniquement possibles : [0022] - l'étape d'identification comprend la prise en compte d'une absorption des photons de fluorescence causée par au moins un gaz formant une atmosphère de travail lors de la mise en oeuvre du procédé de fabrication additive ; [0023] - la méthode d'analyse comporte, en outre, une étape de détermination de la proportion relative de chaque espèce chimique identifiée dans les fumée d'évaporation ; [0024] - la méthode d'analyse comporte, en outre, le calcul, à partir du signal de détection et de caractéristiques prédéterminées du procédé de fabrication additive, d'une quantité de matière de chaque espèce chimique qui s'est évaporée sous forme de fumée au cours d'un intervalle de temps donné durant la mise en oeuvre du procédé de fabrication additive ; [0025] - la méthode d'analyse comporte, en outre, l'association du résultat de l'étape l'identification, de l'étape de détermination et/ou de l'étape de calcul à une position d'une partie d'une pièce fabriquée au cours de la mise en oeuvre du procédé de fabrication additive, dans un repère prédéterminé. [0026] L'invention a également pour objet un produit programme d'ordinateur comportant des instructions de code de programme qui, lorsqu'elles sont exécutées par un ordinateur, mettent en oeuvre les étapes de la méthode d'analyse tel que définie ci-dessus, en dehors des étapes d'émission et de détection. [0027] L'invention a également pour objet un dispositif de traitement configuré pour mettre en oeuvre les étapes de la méthode d'analyse tel que définie ci-dessus, en dehors des étapes d'émission et de détection. [0028] En outre, l'invention a pour objet un système d'analyse pour l'analyse de fumées d'évaporation émises durant la mise en oeuvre d'un procédé de fabrication additive employant au moins une espèce chimique, le système d'analyse comprenant : [0029] - au moins une source de rayons X configurée pour émettre un faisceau de rayons X destiné à irradier au moins une partie des fumées d'évaporation émises au cours de la mise en oeuvre du procédé de fabrication additive ; [0030] - au moins un détecteur configuré pour détecter des photons de fluorescence émis par l'au moins une partie des fumées d'évaporation irradiée par l'au moins un faisceau de rayons X, et pour générer un signal de détection représentatif de l'énergie déposée par les photons de fluorescence dans le détecteur correspondant ; et [0031] - un dispositif de traitement tel que défini ci-dessus. [0032] Suivant d'autres aspects avantageux de l'invention, le système d'analyse comporte une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prise(s) isolément ou suivant toutes les combinaisons techniquement possibles : [0033] - au moins une source de rayons X est configurée pour émettre un faisceau de rayons X collimaté, présentant, de préférence, une section circulaire dans un plan orthogonal à sa direction de propagation, et présentant, par exemple, un diamètre compris entre 5 mm et 3 cm, préférentiellement entre 1 cm et 2 cm ; [0034] - au moins une source de rayons X est configurée pour émettre un faisceau de rayons X collimaté dans un premier plan contenant l'axe de propagation du faisceau de rayons X, et divergent dans un deuxième plan orthogonal au premier plan et contenant ledit axe de propagation, et présentant, de préférence, une épaisseur, dans le premier plan, comprise entre 5 mm et 5 cm, préférentiellement entre 1 cm et 3 cm. [0035] En outre, l'invention a pour objet une installation de fabrication additive comprenant un système de fabrication additive et un système d'analyse tel que défini ci-dessus, chaque source de rayons X étant configurée pour émettre un faisceau de rayons X dans le système de fabrication additive, chaque détecteur de photons étant configuré pour collecter des photons présents dans le système de fabrication additive. [0036] Suivant d'autres aspects avantageux de l'invention, l'installation de fabrication additive comporte une ou plusieurs des caractéristiques suivantes, prise(s) isolément ou suivant toutes les combinaisons techniquement possibles : [0037] - chaque source de rayons X est configurée de sorte que le faisceau de rayons X cor- respondant se propage à une distance comprise entre 2 cm et 10 cm, de préférence entre 3 cm et 5 cm, au-dessus d'une surface libre d'un bain de fusion généré, au sein du système de fabrication additive, par le fonctionnement du système de fabrication additive ; [0038] - chaque détecteur est agencé pour se trouver à une distance comprise entre 2 cm et 40 cm, de préférence entre 5 cm et 15 cm, au-dessus d'une surface libre d'un bain de fusion généré, au sein du système de fabrication additive, par le fonctionnement du système de fabrication additive. Brève description des dessins [0039] L'invention sera mieux comprise à l'aide de la description qui va suivre, donnée uniquement à titre d'exemple non limitatif et faite en se référant aux dessins annexés sur lesquels : [0040] [fig.1] la figure 1 est une représentation schématique d'une installation de fabrication additive mettant en oeuvre un procédé de fabrication additive PBF, et comprenant un système d'analyse selon l'invention ; et [0041] [fig.2] la figure 2 est une représentation schématique d'une installation de fabrication additive mettant en oeuvre un procédé de fabrication additive DED, et comprenant un système d'analyse selon l'invention. DESCRIPTION DÉTAILLÉE DES MODES DE RÉALISATION [0042] Une installation 2 de fabrication additive selon l'invention est schématiquement illustrée par la figure 1. L'installation 2 est destinée à la mise en oeuvre d'un procédé de fabrication additive PBF. [0043] Une description de l'installation 2 destinée à la mise en oeuvre d'un procédé de fa- brication additive DED sera fournie ultérieurement, en référence à la figure 2. [0044] Comme cela apparaît sur la figure 1, l'installation 2 comprend un système de fa- brication 4 et un système d'analyse 6. [0045] Lc système de fabrication 4 est destiné à la mise en oeuvre d'un procédé de fa- brication additive. En outre, le système d'analyse 6 est destiné à la mise en oeuvre d'une méthode d'analyse in situ de fumées d'évaporation 7 émises durant la mise en oeuvre du procédé de fabrication additive. [0046] De façon classique, le système de fabrication 4 comprend un substrat, ici un plateau support 8, destiné à supporter une pièce 9 lors de sa fabrication par le procédé de fabrication additive. Lc système de fabrication 4 comporte également un plafond 10 s'étendant en regard du plateau support 8, le plafond 10 et le plateau support 8 étant séparés l'un de l'autre par une paroi latérale 12. Le plateau support 8, le plafond 10 et la paroi latérale 12 définissent entre eux une cavité 14. [0047] Le système de fabrication 4 comporte également un émetteur 16 configuré pour émettre un faisceau de particules 17, par exemple des photons ou des électrons, destinées à mettre en fusion localement un lit de poudres 18 agencé sur le plateau support 8. [0048] La partie du lit de poudres 18 mise en fusion par le faisceau de particules 17 est encore appelée « bain de fusion ». [0049] De façon connue, le système de fabrication 4 comporte également un organe de déflexion 20 configuré pour défléchir le faisceau de particules 17 issu de l'émetteur 16 afin de modifier la zone du lit de poudres 18 qui est irradiée par ledit faisceau de particules 17 issu de l'émetteur 16. Par exemple, dans le cas où l'émetteur 16 est un laser, l'organe de déflexion 20 est un miroir, comme représenté sur la figure 1. [0050] Par exemple, dans le cas où le système de fabrication 4 est destiné à la mise en oeuvre 6 d'un procédé de fabrication additive PBF, l'émetteur 16 est configuré de sorte que la puissance déposée dans la zone du lit de poudres 18 par le faisceau de particules 17 issu de l'émetteur 16 soit comprise entre 50 W (watt) et 2000 W. En outre, la durée durant laquelle chaque zone du lit de poudres 18 est irradiée par le faisceau de particules 17 issu de l'émetteur 16 est, par exemple, comprise entre 10 ps (microseconde) et 1000 ps, préférentiellement entre 50 ps et 300 ps. En outre, l'organe de déflexion 20 est, par exemple, configuré de sorte que la zone du lit de poudres 18 irradiée par le faisceau de particules 17 issu de l'émetteur 16 se déplace à une vitesse comprise entre 0,2 m/s (mètre par seconde) et 10 m/s. [0051] Le système d'analyse 6 comporte au moins une source 22 de rayons X, dite « source X », au moins un détecteur 24, et un dispositif de traitement 26 connecté en sortie de chaque détecteur 24. [0052] Chaque source X 22 est configuree pour émettre un faisceau 23 de rayons X dans la cavité 14. En particulier, chaque source X 22 est configurée pour émettre un faisceau 23 de rayons X destiné à irradier au moins une partie des fumées d'évaporation 7 générées dans le système de fabrication 4, plus précisément dans la cavité 14, lors de la mise en oeuvre du procédé de fabrication additive. [0053] Chaque détecteur 24 est configuré pour collecter des photons de fluorescence émis par les fumées d'évaporation 7 qui ont été irradiées par le faisceau 23 de rayons X émis par la source X 22, et pour convertir l'énergie déposée par les photons collectés en signal électrique, dit « signal de détection ». [0054] Par la suite, l'expression « signal de fluorescence » sera employée pour désigner les photons de fluorescence émis par les fumées d'évaporation 7 qui ont été irradiées par le faisceau 23 de rayons X émis par la source X 22. Le signal de fluorescence est désigné par la référence 25. [0055] Le dispositif de traitement 26 est configuré pour recevoir en entrée le signal de détection issu de chaque détecteur 24, et pour déterminer des caractéristiques des fumées d'évaporation 7 à partir de chaque signal de détection. [0056] Le dispositif de traitement 26 est, par exemple, un ordinateur, ou encore un circuit de type ASIC (de l'anglais « application-specific integrated circuit », signifiant circuit intégré propre à une application) ou un circuit logique programmable (en anglais, programmable logic device »), tel qu'un circuit FPGA (de l'anglais «field programmable gare array », signifiant réseau de portes programmables in situ). [0057] De préférence, chaque source X 22 est montée dans la cavité 14, sur la paroi latérale 12. De préférence également, chaque détecteur 24 est monté dans la cavité 14, sur la paroi latérale 12. En outre, le dispositif de traitement 26 est déporté en dehors du système de fabrication 4. De cette façon, un contrôle plus aisé de sa température, notamment de la température des détecteurs 24, est autorisé. En outre, de cette façon, 7 l'encombrement du système d'analyse 6 dans la cavité 14 est limité ; en particulier, les risques d'interférence avec le faisceau de particules 17 issu de l'émetteur 16 sont réduits. [0058] Avantageusement, chaque source X 22 est configurée de façon à ce que le faisceau 23 de rayons X correspondant n'interagisse pas avec le lit de poudres 18 ou avec la pièce 9 en cours de fabrication. [0059] Par exemple, chaque source X 22 est configure° de façon à émettre un faisceau 23 de rayons X collimaté, présentant, dans un plan orthogonal à sa direction de propagation, une section circulaire. Dans ce cas, le diamètre du faisceau 23 de rayons X est, par exemple, compris entre 5 mm (millimètre) et 3 cm (centimètre), préférentiellement entre 1 cm et 2 cm. [0060] Par « faisceau collimaté », il est entendu, au sens de la présente invention, un faisceau présentant une étendue contrôlée, par exemple constante, le long de son axe de propagation. Un tel faisceau collimaté est, par exemple, obtenu grâce à l'utilisation d'un élément en plomb doté d'une ouverture présentant les dimensions souhaitées pour l'étendue du faisceau. [0061] En variante, chaque source X 22 est configurée de sorte à émettre un faisceau 23 de rayons X « en éventail », c'est-à-dire un faisceau 23 de rayons X collimaté dans un premier plan contenant l'axe de propagation du faisceau 23 de rayons X, et divergent dans un deuxième plan orthogonal au premier plan et contenant ledit axe de propagation. De préférence, le deuxième plan est parallèle au plateau support 8, c'est-à-dire parallèle au lit de poudres 18. Dans ce cas, l'épaisseur du faisceau en éventail est, par exemple, comprise entre 5 mm et 5 cm, préférentiellement entre 1 cm et 3 cm. [0062] De façon avantageuse, chaque source X 22 est configurée de façon à émettre un faisceau 23 de rayons X se propageant à une distance comprise entre 2 cm et 10 cm au-dessus du lit de poudres 18, préférentiellement entre 3 cm et 5 cm au-dessus du lit de poudres 18. Une telle distance est avantageuse, dans la mesure où l'écoulement des fumées est généralement turbulent à des distances supérieures du lit de poudres 18. Un tel choix de valeurs est également avantageux dans la mesure où l'altitude de gouttes liquides éjectées depuis la zone du lit de poudres 18 qui est irradiée par le faisceau issu de l'émetteur 16 (également appelées « éjectas ») reste généralement inférieure à de telles valeurs. [0063] De tels dimensionnements de chaque source X 22 visent à maximiser le volume de fumées irradiées par le faisceau 23 de rayons X, tout en limitant les risques d'interactions avec des éléments autres que les fumées d'évaporation 7, interactions qui seraient susceptibles de nuire à la mise en oeuvre de la méthode d'analyse selon l'invention. 8 [0064] Avantageusement, chaque détecteur 24 est agencé à une distance comprise entre 2 cm et 30 cm au-dessus du lit dc poudres 18, préférentiellement entre 5 cm et 15 cm au-dessus du lit de poudres 18. [0065] Chaque détecteur 24 comporte un organe de collecte de photons et un organe de conversion (non représentés). L'organe de collecte est configuré pour collecter le signal de fluorescence. L'organe de conversion est configuré pour convertir l'énergie déposée par les photons collectés en le signal de détection. [0066] De préférence, le détecteur 24 est colli maté et blindé, c'est-à-dire qu'il est à la fois orienté pour détecter des photons d'une zone préalablement définie et également protégé de sorte à recevoir le moins possible de photons ne provenant pas de ladite zone. Une telle protection de chaque détecteur 24 vise à limiter les risques dc détection de photons émis par des éléments autres que les fumées d'évaporation 7, interactions qui seraient susceptibles de nuire à la mise en oeuvre de la méthode d'analyse selon l'invention, notamment en réduisant le rapport signal sur bruit du signal de détection. [0067] Avantageusement, le système d'analyse 6 comporte une pluralité de sources X 22 et/ ou une pluralité de détecteurs 24, afin d'accroître le nombre de photons émis par fluorescence par les fumées et d'accroître le nombre de photons de fluorescence collectés respectivement, en particulier si les sources X 22 ou les détecteurs 24 sont colli matés. [0068] Le dispositif de traitement 26 est configuré pour recevoir le signal de détection généré par chaque détecteur 24. [0069] Le dispositif de traitement 26 est également configuré pour identifier, à partir du signal de détection reçu depuis chaque détecteur 24, tout ou partie des espèces chimiques présentes dans les fumées d'évaporation 7. Plus précisément, le dispositif de traitement 26 est configuré pour identifier toute ou une partie des espèces chimiques présentes dans les fumées d'évaporation 7 à partir du signal de détection reçu par au moins un détecteur 24 et à l'aide d'un étalonnage. Cet étalonnage correspond, par exemple, à une conversion entre une mesure du signal de fluorescence 25 dans une configuration de référence en termes de réglages et de poudres d'une part, et la composition réelle desdites poudres d'autre part. Le dispositif de traitement 26 est également configuré pour mettre en oeuvre une analyse du signal de fluorescence, par exemple une étude spectrométrique du signal de fluorescence. [0070] Le dispositif de traitement 26 est également configuré pour détecter, à partir du signal de détection reçu depuis chaque détecteur 24, les proportions relatives, dans les fumées d'évaporation 7, de chaque espèce chimique identifiée. Plus précisément, le dispositif de traitement 26 est configuré pour estimer, à partir du signal de détection reçu depuis chaque détecteur 24, les proportions relatives, dans les fumées d'évaporation 7, de chaque espèce chimique identifiée. Un tel résultat est, par un exemple, tiré du signal de fluorescence 25 émis au cours de l'étalonnage. 9 [0071] Avantageusement, le dispositif de traitement 26 est également configuré pour dé- terminer, pour chaque espèce chimique identifiée, et à partir du signal de détection reçu depuis chaque détecteur 24, la quantité de matière de ladite espèce chimique qui s'est évaporée sous forme de fumée, par exemple au cours d'un intervalle de temps donné durant la mise en oeuvre du procédé de fabrication additive. Plus précisément, le dispositif de traitement 26 est configuré selon les résultats de la procédure d'étalonnage pour déterminer, pour chaque espèce chimique identifiée, et à partir du signal de détection reçu depuis chaque détecteur 24, la quantité de matière de ladite espèce chimique qui s'est évaporée sous forme de fumée. [0072] Par exemple, pour chaque espèce chimique détectée, le dispositif de traitement 26 est configuré pour déterminer la quantité de matière qui s'est évaporée sous forme de fumée en multipliant la proportion de ladite espèce chimique dans les fumées d'évaporation 7 par un coefficient prédéterminé. Un tel coefficient est, par exemple, déterminé au cours de l'étalonnage de l'installation 2, le signal de fluorescence 25 émis au cours d'un tel étalonnage permettant l'obtention dudit coefficient. [0073] Avantageusement, dans le cas où le système de fabrication 4 est configure pour la mise en oeuvre d'un procédé de fabrication additive non pas sous vide mais dans une atmosphère gazeuse, le dispositif de traitement 26 est configuré pour tenir compte de l'atténuation du ou des gaz constituant l'atmosphère. De tels gaz sont, par exemple, des gaz inertes tels que l'argon ou l'hélium. [0074] Un tel traitement est avantageux, dans la mesure où l'atténuation d'un gaz est sus- ceptible de varier avec sa pression, ainsi qu'avec l'énergie des photons qui le traversent. Par exemple, un tel traitement est avantageux pour la mesure des proportions en espèces chimiques légères, qui émettent généralement des photons de fluorescence plus fortement atténués par l'atmosphère ambiante que les photons de fluorescence émis par des espèces chimiques plus lourdes. [0075] Avantageusement, le dispositif de traitement 26 est configuré pour fonctionner selon un premier mode d'analyse, un deuxième mode d'analyse, ou encore une combinaison du premier mode d'analyse et du deuxième mode d'analyse. [0076] Dans le premier mode d'analyse, le dispositif de traitement 26 est configuré pour dé- terminer la composition des fumées d'évaporation 7 à partir d'une partie du signal de détection présentant une durée longue, c'est-à-dire plusieurs fois supérieure à une durée d'interaction du faisceau de particules 17 issu de l'émetteur 16 avec le lit de poudres 18. Une telle durée d'interaction est définie comme le résultat de la division, par la vitesse à laquelle le faisceau de particules 17 issu de l'émetteur 16 balaye la surface du lit de poudres 18, de l'étendue spatiale de la zone du lit de poudres 18 qui est irradiée par ledit faisceau de particules 17. [0077] Par « déterminer la composition des fumées d'évaporation », il est entendu, au sens de la présente invention, identifier tout ou partie des espèces chimiques présentes dans les fumées d'évaporation 7, voire encore détecter les proportions relatives, dans les fumées d'évaporation 7, de chaque espèce chimique identifiée, ou encore déterminer la quantité de matière qui s'est évaporée sous forme de fumée pour chaque espèce identifiée. [0078] Dans le deuxième mode d'analyse, le dispositif de traitement 26 est configure pour déterminer la composition des fumées d'évaporation 7 à partir d'une partie du signal de détection présentant une durée courte, c'est-à-dire du même ordre de grandeur ou inférieure à la durée d'interaction du faisceau de particules 17 issu de l'émetteur 16 avec le lit de poudres 18. [0079] Le premier mode d'analyse est avantageux, dans la mesure où le recours à des durées longues accroît le rapport signal sur hruit du signal de détection, le hruit comprenant, dans ce cas, les photons qui ne sont pas des photons de fluorescence émis par les fumées d'évaporation. Toutefois, un tel mode d'analyse ne permet généralement pas d'associer une composition de fumées à une position précise du lit de poudres ou de la pièce 9 en cours de réalisation. [0080] Le deuxième mode d'analyse est avantageux, dans la mesure où le recours à des durées courtes autorise une bonne résolution spatiale, c'est-à-dire qu'il autorise généralement d'associer une composition de fumées à une position précise du lit de poudres ou de la pièce 9 en cours de réalisation. Toutefois, avec un tel mode d'analyse, le rapport signal sur bruit du signal de détection est généralement inférieur à celui qui aurait été obtenu avec le premier mode d'analyse. [0081] Comme énoncé précédemment, le dispositif de traitement 26 est configuré pour fonctionner selon une combinaison du premier mode d'analyse et du deuxième mode d'analyse, c'est-à-dire que le dispositif de traitement 26 est susceptible de déterminer successivement la composition des fumées d'évaporation 7 à partir de parties (notamment des parties successives) du signal de détection présentant une durée courte, et, simultanément, déterminer la composition des fumées d'évaporation 7 à partir d'une partie du signal de détection présentant une durée longue (notamment formée d'une pluralité de parties présentant une durée courte). [0082] De préférence, le dispositif de traitement 26 est également configuré pour associer les résultats des différents traitements opérés sur le signal de détection à une position dans l'espace dans un repère prédéterminé, par exemple un repère attaché au système de fabrication 4. [0083] Le fonctionnement de l'installation de fabrication additive 2 va maintenant être décrit, en référence à la figure 1. [0084] Le procédé de fabrication additive est mis en oeuvre dans le système de fabrication 4, sur le plateau support 8 duquel un lit de poudres 18 est agencé. L'émetteur 16 émet un 11 faisceau de particules 17 pour mettre en fusion localement le lit de poudres 18. En outre, l'organe de déflexion 20 défléchit le faisceau de particules 17 issu de l'émetteur 16 afin de modifier, au cours du temps, la zone du lit de poudres 18 qui est irradiée par ledit faisceau de particules 17 issu de l'émetteur 16. La fusion du lit de poudres 18 conduit généralement à la formation de fumées d'évaporation 7. [0085] En outre, chaque source X 22 émet un faisceau 23 de rayons X qui irradie au moins une partie des fumées d'évaporation 7. [0086] Les espèces chimiques présentes dans la partie des fumées d'évaporation 7 qui est irradiée par le faisceau 23 de rayons X absorbent au moins partiellement les photons X reçus en provenance de la source X 22, ce qui conduit à leur excitation. Les espèces chimiques excitées se désexcitent ensuite en émettant des photons de fluorescence, qui constituent le signal de fluorescence. [0087] Chaque détecteur 24 détecte au moins une partie du signal de fluorescence 25 et génère, en réponse, un signal électrique correspondant, dit « signal de détection », dont la valeur, à un instant donné, est proportionnelle à l'énergie déposée par ladite partie du signal de fluorescence 25 dans le détecteur 24 lors dudit instant. [0088] Le dispositif de traitement 26 reçoit chaque signal de détection et détermine la com- position des fumées d'évaporation 7 à partir dudit signal de détection, en fonctionnant selon le premier mode d'analyse et/ou le deuxième mode d'analyse (par exemple, en fonction de réglages définis par un opérateur). De préférence, le dispositif de traitement 26 met en oeuvre une correction indicative de la transmission d'un ou plusieurs gaz éventuellement présents dans le système de fabrication 4. [0089] Par exemple, à partir du signal de détection, le dispositif de traitement 26 identifie les espèces chimiques présentes dans les fumées d'évaporation 7. Le dispositif de traitement 26 calcule également la proportion relative de chaque espèce chimique identifiée dans les fumées d'évaporation 7. [0090] En outre, le dispositif de traitement 26 calcule, pour chaque espèce chimique détectée, la quantité de matière qui s'est évaporée sous forme de fumée au cours d'un intervalle de temps donné durant la mise en oeuvre du procédé de fabrication additive. [0091] Sur la figure 2, est illustré un deuxième mode de réalisation d'une installation 2 de fabrication additive selon l'invention. L'installation 2 de la figure 2 se distingue de l'installation 2 de la figure 1 en ce que son système de fabrication 4 est destiné à la mise en oeuvre d'un procédé de fabrication additive DED. Dans ce cas, le plafond 10 et la paroi latérale 12 sont optionnels. [0092] Dans un tel mode de réalisation, il n'est pas fait recours à un lit de poudres. Au contraire, la matière fusible est apportée, sous forme de poudre ou d'un fil par un bras 28 mobile dans la cavité 14, plus précisément au niveau d'une partie terminale 30 du bras 28. Par « partie terminale du bras », il est entendu la partie du bras 28 qui est la 12 plus proche du substrat. Dans un procédé de fabrication additive DED, un tel substrat est un plateau, ou encore la pièce 9 en cours de fabrication elle-même (cas d'une réparation ou d'un ajout de fonction, notamment). [0093] En outre, dans ce mode de réalisation, l'émetteur 16 prend la forme d'une source d'énergie intégrée au bras 28. L'émetteur 16 est une source de particules, ou encore une source de chaleur, agencée pour mettre en fusion la matière fusible au niveau de la partie terminale 30 du bras 28. Par exemple, l'émetteur 16 est configure pour fournir une puissance thermique comprise entre 0,5 kW (kilowatt) et 10 kW, avec des vitesses de déplacement comprises entre 0.05 m/s et 0.5 m/s. [0094] Dans ce cas, le bain de fusion correspond à la partie de la matière fusible qui est mise en fusion du fait du fonctionnement de l'émetteur 16. [0095] En outre, dans ce mode de réalisation, les sources X 22 et/ou les détecteurs 24 sont susceptibles d'être portées par le bras 28. De préférence, et comme cela a été évoqué en relation avec le mode de réalisation de la figure 1, le dispositif de traitement 26 est agencé à distance du système de fabrication 4. [0096] De façon générale, chaque source X 22 est, avantageusement, configurée de sorte que le faisceau 23 de rayons X correspondant se propage à une distance comprise entre 2 cm et 10 cm, de préférence entre 3 cm et 5 cm, au-dessus d'une surface libre du bain de fusion. [0097] En outre, chaque détecteur 24 est, avantageusement, agencé pour se trouver à une distance comprise entre 2 cm et 40 cm, de préférence entre 5 cm et 15 cm, au-dessus d'une surface libre du bain de fusion. 13 [Revendication 1] [Revendication 2] [Revendication 3] [Revendication 4] [Revendication 5] [Revendication 6]