FR 2968774 A1 20120615 FR 1060394 A 20101210 La présente invention concerne un article d'optique comportant sur sa face arrière, et éventuellement sur sa face avant, un revêtement antireflet diminuant fortement la réflexion dans le domaine des UVA, des UVB, et dans le domaine visible. L'article d'optique peut notamment être une lentille ophtalmique, en particulier un verre solaire teinté. Le spectre solaire se compose de radiations électromagnétiques de différentes longueurs d'onde, notamment le rayonnement ultraviolet (UV). Le spectre UV comporte plusieurs bandes, en particulier les bandes UVA, UVB et UVC. Parmi les bandes UV parvenant à la surface de la terre, la bande UVA, comprise entre 315 nm et 380, et la bande UVB, comprise entre 280 nm et 315 nm, sont particulièrement nocives pour la rétine. Les revêtements antireflet conventionnels sont conçus et optimisés pour réduire la réflexion à la surface du verre dans le domaine visible, typiquement dans la gamme spectrale allant de 380 à 780 nm. En général, la réflexion dans le domaine UV (280-380 nm) n'est pas optimisée, et est souvent accrue par le revêtement antireflet conventionnel lui-même. C'est ce que souligne l'article "Anti-reflective coatings reflect ultraviolet radiation", Citek, K. Optometry 2008, 79, 143-148. La réflexion moyenne dans l'UVA et dans l'UVB peut ainsi atteindre des niveaux importants (jusqu'à 60%) pour les verres antireflet conventionnels. Par exemple, en ce qui concerne les produits antireflet non solaires commercialisés par la plupart des fabricants au cours des dernières années, la réflexion moyenne dans l'UV est comprise entre 10 et 25 %, pour un angle d'incidence de 30 à 45°. Cela ne pose pas de problème sur la face avant du verre, puisque généralement, la grande majorité du rayonnement UV venant de l'avant du porteur et susceptible d'atteindre 1'oeil du porteur (incidence normale, de 0 à 15°) est absorbée par le substrat des lentilles ophtalmiques. Une meilleure protection contre la transmission du rayonnement UV peut être obtenue grâce à des verres ophtalmiques solaires, qui sont étudiés et conçus pour diminuer la luminosité du spectre visible, absorber totalement les UVB et totalement ou partiellement les UVA. En revanche, le rayonnement UV provenant de sources lumineuses venant de l'arrière du porteur peut se réfléchir sur la face arrière du verre et atteindre l'oeil du porteur si le verre n'est pas équipé d'un revêtement antireflet performant dans le domaine UV, ce qui représente un risque pour la santé du porteur. Ce phénomène est amplifié par la mode des verres solaires à grand diamètre, qui augmentent les risques de voir des réflexions parasites arriver sur l'oeil. On considère que les rayons lumineux pouvant se réfléchir sur la face arrière des verres et atteindre l'oeil du porteur ont une plage d'angle d'incidence réduite, allant de 30 à 45°(incidence oblique). Il n'existe actuellement aucune norme concernant la réflexion par la face arrière du rayonnement UV. Un certain nombre de brevets se sont intéressés à la préparation de revêtements antireflet performants dans le domaine UV, qui transmettent et/ou absorbent le rayonnement UV au lieu de le réfléchir. Cependant, l'optimisation des performances antireflet sur l'ensemble du domaine UV se fait généralement au détriment des performances antireflet dans le domaine visible. Inversement, l'optimisation des seules performances antireflet dans le domaine visible ne garantit pas l'obtention de propriétés antireflet satisfaisantes dans le domaine UV. La demande EP 1174734 décrit un verre de lunettes comportant sur sa face arrière un revêtement antireflet multicouche conçu de telle façon que la réflexion à la surface du revêtement antireflet soit inférieure à celle à la surface de l'article d'optique nu sur la gamme de longueurs d'onde 280-700 nm. L'objectif de ce revêtement antireflet est de minimiser la réflexion du rayonnement UV, en provenance de l'arrière du porteur ou réfléchi par le visage du porteur, sur la face arrière du verre, afin d'éviter qu'il n'atteigne l'oeil du porteur. Les revêtements antireflet décrits dans cette demande sont très performants dans le domaine UV. Toutefois, il serait souhaitable d'améliorer leurs facteurs moyens de réflexion dans le domaine visible. En outre, les empilements réalisés sont parfois relativement complexes, puisqu'ils peuvent comprendre 10 couches. La multiplication du nombre de couches facilite largement l'obtention d'un revêtement antireflet performant sur une vaste gamme de longueur d'onde. La préparation de tels revêtements antireflet complexes est cependant peu intéressante sur le plan économique, puisqu'elle consomme une plus grande quantité de matériaux et allonge la durée totale du procédé industriel. La demande WO 97/28467 décrit un article photochrome transparent comprenant un substrat photochrome revêtu d'un empilement antireflet tétracouche HI/BI/HI/BI, HI désignant une couche de haut indice de réfraction et BI une couche de bas indice de réfraction. Ce revêtement est conçu pour ne pas interférer avec le fonctionnement des composés photochromes présents dans ou sur le substrat, en minimisant la réflexion entre 350 et 400 nm, qui est la gamme de longueur d'onde permettant leur activation. Les revêtements antireflet préparés sont performants dans le domaine UVA, mais ceci s'accompagne d'une diminution significative des performances antireflet dans le domaine visible. Le brevet US 4,852,974 décrit un article d'optique comportant un substrat photochrome et un revêtement antireflet multicouche dont le facteur moyen de réflexion entre 290 nm et 330 nm est supérieur à 15 % et dont le facteur moyen de réflexion entre 330 nm et 380 nm est inférieur à 4 % pour un angle d'incidence non précisé. Ce revêtement antireflet permet de prolonger la durée de vie des composés photochromes contenus dans le substrat, mais est relativement peu performant dans une gamme dans laquelle l'efficacité relative du rayonnement UV est maximale (290-300 nm). En outre, il serait souhaitable d'améliorer ses performances dans le domaine visible. La demande WO 2010/125667 divulgue un verre de lunettes équipé sur sa face arrière d'un revêtement antireflet permettant de réduire la réflexion sur la face arrière du verre du rayonnement UV en provenance de l'arrière du porteur, afin d'éviter qu'il n'atteigne son oeil. La présente invention a donc pour objectif de fournir un article d'optique transparent, notamment une lentille ophtalmique, comprenant un substrat en verre minéral ou organique comportant sur sa face arrière un revêtement antireflet anti-UV possédant de très bonnes performances antireflet dans le domaine visible, capable en même temps de réduire significativement la réflexion du rayonnement UV, en particulier les UVA et UVB, comparativement à un substrat nu ou un substrat comportant un revêtement antireflet classique, et dont la préparation est industriellement aisée. La présente invention propose un revêtement antireflet à la conception améliorée, comportant un empilement de couches minces dont les épaisseurs et les matériaux ont été choisis de façon à réaliser un compromis entre les performances antireflet dans le domaine visible et dans le domaine UV. Cette optimisation des performances antireflet a été réalisée en prenant en compte la fonction de pondération W(?) définie dans la norme ISO 13666:1998, qui exprime la répartition du rayonnement solaire UV modérée par l'efficacité spectrale relative de ce rayonnement pour le porteur. Les inventeurs ont mis à profit le fait que la répartition du rayonnement solaire UV modérée par l'efficacité spectrale relative de ce rayonnement est nulle ou quasi nulle dans la gamme 280-295 nm (qui appartient au domaine des UVB) pour proposer un revêtement antireflet dont les performances sont plus faibles dans ce domaine de longueurs d'ondes, ce qui a permis de façon surprenante d'aboutir à un revêtement antireflet très performant dans le domaine visible et dans la partie du domaine UV dans laquelle la répartition du rayonnement solaire modérée par l'efficacité spectrale relative de ce rayonnement est élevée pour le porteur (300-320 nm). Les revêtements antireflet selon l'invention tolèrent donc une réflexion spectrale plus importante entre 280 et 295 nm, sans conséquence pour le porteur, pour parvenir au meilleur compromis entre les performances antireflet dans le domaine visible et le domaine UV. L'invention concerne donc un article d'optique, préférentiellement une lentille ophtalmique, comprenant un substrat ayant une face principale avant et une face principale arrière, ladite face principale arrière étant revêtue d'un revêtement antireflet multicouche comprenant un empilement d'au moins une couche ayant un indice de réfraction supérieur à 1,6 et d'au moins une couche ayant un indice de réfraction inférieur à 1,5, telle que : - le facteur moyen de réflexion sur ladite face arrière dans le domaine visible Rm est inférieur ou égal à1,15%, - le facteur moyen de réflexion lumineuse sur ladite face arrière dans le domaine visible R' est inférieur ou égal à 1 %, - le facteur moyen de réflexion Ruv sur ladite face arrière entre 280 nm et 380 nm pondéré par la fonction W(?) définie dans la norme ISO 13666:1998 est inférieur à 5 %, pour un angle d'incidence de 30° et pour un angle d'incidence de 45°, - le revêtement antireflet multicouche comprend un nombre de couches supérieur ou égal à 3 et inférieur ou égal à 7, de préférence inférieur ou égal à 6, mieux inférieur ou égal à 5, - le revêtement antireflet multicouche ne comprend pas de couche électriquement conductrice d'épaisseur supérieure ou égale à 20 nm à base d'oxyde d'indium, - la couche externe du revêtement antireflet est une couche à base de silice. L'invention sera décrite plus en détail en référence aux dessins annexés, dans lesquels les figures 1 à 4 présentent la variation en fonction de la longueur d'onde de la réflexion à la surface de la face arrière de certains des verres préparés dans les exemples de la présente demande, pour un angle d'incidence de 15 °, 30 ° et 45°. Dans la présente demande, lorsqu'un article d'optique comprend un ou plusieurs revêtements à sa surface, l'expression "déposer une couche ou un revêtement sur l'article" signifie qu'une couche ou un revêtement est déposé sur la surface à découvert (exposée) du revêtement externe de l'article, c'est-à-dire son revêtement le plus éloigné du substrat. Un revêtement qui est "sur" un substrat ou qui a été déposé "sur" un substrat est défini comme un revêtement qui (i) est positionné au-dessus du substrat, (ii) n'est pas nécessairement en contact avec le substrat, c'est-à-dire qu'un ou plusieurs revêtements intermédiaires peuvent être disposés entre le substrat et le revêtement en question, et (iii) ne recouvre pas nécessairement le substrat complètement. Dans un mode de réalisation préféré, le revêtement sur un substrat ou déposé sur un substrat est en contact direct avec ce substrat. Lorsque "une couche 1 est localisée sous une couche 2", on comprendra que la couche 2 est plus éloignée du substrat que la couche 1. Par face arrière (ou interne) du substrat, on entend la face qui, lors de l'utilisation de l'article d'optique, est la plus proche de l'oeil de l'utilisateur. Il s'agit généralement d'une face concave. Inversement, par face avant du substrat, on entend la face qui, lors de l'utilisation de l'article d'optique, est la plus éloignée de l'oeil de l'utilisateur. Il s'agit généralement d'une face convexe. De manière générale, le revêtement antireflet de l'article d'optique selon l'invention, qui sera nommé "revêtement antireflet anti-UV", peut être déposé sur tout substrat, et de préférence sur des substrats en verre organique, par exemple une matière plastique thermoplastique ou thermodurcissable. Parmi les matériaux thermoplastiques convenant pour les substrats, on peut citer les (co)polymères (méth)acryliques, en particulier le poly(méthacrylate de méthyle) (PMMA), les (co)polymères thio(méth)acryliques, le polyvinylbutyral (PVB), les polycarbonates (PC), les polyuréthanes (PU), les poly(thiouréthanes), les (co)polymères d'allylcarbonates de polyols, les copolymères thermoplastiques éthylène/acétate de vinyle, les polyesters tels que le poly(téréphtalate d'éthylène) (PET) ou le poly(téréphtalate de butylène) (PBT), les polyépisulfures, les polyépoxydes, les copolymères polycarbonates/polyesters, les copolymères de cyclo-oléfines tels que les copolymères éthylène/norbornène ou éthylène/cyclopentadiène et leurs combinaisons. Par (co)polymère, on entend un copolymère ou un polymère. Par (méth)acrylate, on entend un acrylate ou un méthacrylate. Par polycarbonate (PC), on entend au sens de la présente invention aussi bien les homopolycarbonates que les copolycarbonates et les copolycarbonates séquencés. Les substrats particulièrement recommandés sont les substrats obtenus par (co)polymérisation du bis allyl carbonate du diéthylèneglycol, vendu, par exemple, sous la dénomination commerciale CR-39® par la société PPG Industries (lentilles ORMA® ESSILOR), ou par polymérisation des monomères thio(méth)acryliques, tels que ceux décrits dans la demande de brevet français FR 2734827. Les substrats peuvent être obtenus par polymérisation de mélanges des monomères ci-dessus, ou peuvent encore comprendre des mélanges de ces polymères et (co)polymères. Avant le dépôt du revêtement antireflet sur le substrat éventuellement revêtu, par exemple d'une couche anti-abrasion et/ou anti-rayures ou d'une sous-couche, il est courant de soumettre la surface dudit substrat, éventuellement revêtue, à un traitement d'activation physique ou chimique, destiné à augmenter l'adhésion du revêtement antireflet. Ce pré-traitement est généralement conduit sous vide. Il peut s'agir d'un bombardement avec des espèces énergétiques, par exemple un faisceau d'ions ("Ion Pre-Cleaning" ou "IPC") ou un faisceau d'électrons, d'un traitement par décharge corona, par effluvage, d'un traitement UV, ou d'un traitement par plasma sous vide, généralement un plasma d'oxygène ou d'argon. Il peut également s'agir d'un traitement de surface acide ou basique et/ou par solvants (eau ou solvant organique). Dans la présente demande, le "facteur moyen de réflexion," noté Rm, est tel que défini dans la norme ISO 13666:1998, et mesuré conformément à la norme ISO 8980-4 (à un angle d'incidence inférieur à 17°, typiquement de 15°), c'est-à-dire qu'il s'agit de la moyenne (non pondérée) de la réflexion spectrale sur l'ensemble du spectre visible entre 400 et 700 nm. Le "facteur moyen de réflexion lumineuse," noté R,,, est tel que défini dans la norme ISO 13666:1998, et mesuré conformément à la norme ISO 8980-4 (à un angle d'incidence inférieur à 17°, typiquement de 15°), c'est-à-dire qu'il s'agit de la moyenne pondérée de la réflexion spectrale sur l'ensemble du spectre visible entre 380 et 780 nm. Par analogie, on définit le facteur moyen de réflexion entre 290 et 330 nm, noté Rm_uv,, qui correspond à la moyenne de la réflexion spectrale entre 290 et 330 nm. Selon l'invention, ce facteur peut être mesuré à un angle d'incidence pouvant aller de 30 à 45°. On définit de façon analogue les facteurs moyens de réflexion dans l'UVA et l'UVB, Rm_uvA et Rm-uVB, dont la somme est égale au facteur moyen de réflexion dans le domaine UV (280-380 nm), Rm_uv- On définit enfin le facteur moyen de réflexion entre 280 nm et 380 nm pondéré par la fonction W(?) définie dans la norme ISO 13666:1998 et noté Ruv, par : 380 JW (2).R(2).d2 280 R17V - 380 JW (2).d2 280 où R(À) désigne le facteur de réflexion spectrale du verre à la longueur d'onde considérée, et W(À) désigne une fonction de pondération égale au produit de l'éclairement énergétique spectral solaire Es(À) et de la fonction spectrale relative d'efficacité S(À). La fonction spectrale W(À), qui permet de calculer les facteurs de transmission des rayonnements UV est définie dans la norme ISO 13666:1998. Elle permet d'exprimer la répartition du rayonnement solaire UV modérée par l'efficacité spectrale relative de ce rayonnement pour le porteur, puisqu'elle tient compte en même temps de l'énergie spectrale du soleil Es(À), qui globalement émet peu d'UVB par rapport aux UVA, et de l'efficacité spectrale S(À), les UVB étant plus nocifs que les UVA. Les valeurs de ces trois fonctions dans le domaine UV sont indiquées dans le tableau suivant : Longueur d'onde Eclairement énergétique Fonction spectrale Fonction de A spectral solaire relative d'efficacité pondération (nm) Es(A) S(A) W(A)= Es(A).S(A) (mW/m2.nm) 280 0 0.88 0 285 0 0.77 0 290 0 0.64 0 295 2.09x10.4 0.54 0.00011 300 8.10x10.2 0.30 0.0243 305 1.91 0.060 0.115 310 11.0 0.015 0.165 315 30.0 0.003 0.09 320 54.0 0.0010 0.054 325 79.2 0.00050 0.04 330 101 0.00041 0.041 335 128 0.00034 0.044 340 151 0.00028 0.042 345 170 0.00024 0.041 350 188 0.00020 0.038 355 210 0.00016 0.034 360 233 0.00013 0.03 --------------------------------------------- --------------------------------------------------------------- ----------------------------------------------- ----------------------------------------------------- 365 253 0.00011 0.028 --------------------------------------------- --------------------------------------------------------------- ----------------------------------------------- ----------------------------------------------------- 370 279 0.000093 0.026 375 306 0.000077 0.024 380 336 0.000064 0.022 Il convient de remarquer que la fonction de pondération W(À) est nulle ou quasi nulle entre 280 nm et 295 nm, ce qui signifie que le facteur moyen de réflexion pondéré est également nul dans cette gamme de longueur d'onde. Ceci signifie que même si le niveau de réflexion est élevé sur cette plage spectrale, il n'y aura pas de conséquence sur la valeur du facteur moyen de réflexion pondéré Ruv calculé entre 280 et 380 nm. Conformément à l'invention, le revêtement antireflet déposé sur la face arrière du substrat est tel que : - le facteur moyen de réflexion Ruv sur ladite face arrière entre 280 nm et 380 nm pondéré par la fonction W(?) définie dans la norme ISO 13666:1998 est inférieur à 5 %, pour un angle d'incidence de 30° et pour un angle d'incidence de 45°. Pour ces angles d'incidence, il est de préférence inférieur ou égal à l'une des valeurs suivantes : 4,5 %, 4 %, 3,5 %, 3 %, 2,5 %, 2 %, 1,5 %. - le facteur moyen de réflexion sur ladite face arrière dans le domaine visible Rm de l'article d'optique est inférieur ou égal à 1,15 %, de préférence Préférentiellement, le facteur moyen de réflexion Rm_uv2 sur ladite face arrière entre 300 nm et 320 nm est inférieur à 4 %, mieux inférieur à 3 %, pour un angle d'incidence de 15° et/ou 30° et/ou 45°. Ceci est particulièrement intéressant pour le porteur des verres, car la fonction de pondération W(?) définie dans la norme ISO 13666:1998 est très élevée dans cette gamme de longueur d'onde du domaine UV, et atteint un maximum à 310 nm. Préférentiellement, le facteur moyen de réflexion Rm-uv3 sur ladite face arrière entre 300 nm et 380 nm est inférieur à 5 %, mieux inférieur à 4,5 %, pour un angle d'incidence de 15°. L'homme du métier, grâce à ses connaissances générales, est tout à fait à même de concevoir les matériaux et les épaisseurs des couches du revêtement antireflet possédant l'ensemble des paramètres Rm-uvi, Rm-uv2, Rm-uv3, Ruv, Rm et R' désirés. Le revêtement antireflet multicouche de l'invention comprend un empilement d'au moins une couche de haut indice de réfraction et d'au moins une couche de bas indice de réfraction. Mieux, il comprend au moins deux couches de bas indice de réfraction (BI) et au moins deux couches de haut indice de réfraction (HI). Il s'agit d'un empilement simple, car le nombre total de couches du revêtement antireflet est supérieur ou égal à 3, préférentiellement supérieur ou égal à 4, et inférieur ou égal à 7, mieux inférieur ou égal à 6, encore mieux inférieur ou égal à 5, et idéalement égal à 5 couches. Une couche du revêtement antireflet est définie comme ayant une épaisseur supérieure ou égale à 1 nm. Ainsi, toute couche ayant une épaisseur inférieure à 1 nm ne sera pas comptabilisée dans le nombre de couches du revêtement antireflet. La sous-couche n'est pas non plus comptabilisée dans le nombre de couches du revêtement antireflet. Sauf indication contraire, toutes les épaisseurs divulguées dans la présente demande sont des épaisseurs physiques. Il n'est pas nécessaire que les couches HI et BI soient alternées dans l'empilement, bien qu'elles puissent l'être selon un mode de réalisation de l'invention. Deux couches HI (ou plus) peuvent être déposées l'une sur l'autre, tout comme deux couches BI (ou plus) peuvent être déposées l'une sur l'autre. Dans la présente demande, une couche du revêtement antireflet est dite couche de haut indice de réfraction (HI) lorsque son indice de réfraction est supérieur à 1,6, de préférence supérieur ou égal à 1,65, de préférence encore supérieur ou égal à 1,7, mieux supérieur ou égal à 1,8 et encore mieux supérieur ou égal à 1,9. Une couche du revêtement antireflet est dite couche de bas indice de réfraction (BI) lorsque son indice de réfraction est inférieur à 1,50, de préférence inférieur ou égal à 1,48, mieux inférieur ou égal à 1,47. Sauf indication contraire, les indices de réfraction auxquels il est fait référence dans la présente demande sont exprimés à 25 ce pour une longueur d'onde de 550 nm. La couche HI est une couche de haut indice de réfraction classique, bien connue dans la technique. Elle comprend généralement un ou plusieurs oxydes minéraux tels que, sans limitation, la zircone (ZrO2), l'oxyde de titane (TiO2), l'alumine (AI2O3), le pentoxyde de tantale (Ta2O5), l'oxyde de néodyme (Nd2O5), l'oxyde de praséodyme (Pr2O3), le titanate de praséodyme (PrTiO3), La2O3i Nb2O5i Y2O3. Eventuellement, les couches haut indice peuvent contenir également de la silice ou d'autres matériaux de bas indice de réfraction, pourvu que leur indice de réfraction soit supérieur à 1,6 comme indiqué ci-dessus. Les matériaux préférés sont TiO2, PrTiO3, ZrO2, AI2O3, Y2O3 et leurs mélanges. La couche BI est également bien connue et peut comprendre, sans limitation, SiO2, ou bien un mélange de silice et d'alumine, en particulier de la silice dopée avec de l'alumine, cette dernière contribuant à augmenter la résistance thermique du revêtement antireflet. La couche BI est de préférence une couche comprenant au moins 80 % en masse de silice, mieux au moins 90 % en masse de silice, par rapport à la masse totale de la couche, et encore mieux consiste en une couche de silice. De préférence, les couches BI du revêtement antireflet ne sont pas des couches de MgF2. Eventuellement, les couches bas indice peuvent contenir également des matériaux de haut indice de réfraction, pourvu que l'indice de réfraction de la couche résultante soit inférieur à 1,5. Lorsqu'une couche BI comprenant un mélange de SiO2 et d'AI2O3 est utilisée, elle comprend préférentiellement de 1 à 10 %, mieux de 1 à 8 % et encore mieux de 1 à 5 % en masse d'AI2O3 par rapport à la masse totale de SiO2 + Al2O3 dans cette couche. Par exemple, SiO2 dopé avec 4 % ou moins d'AI2O3 en masse, ou SiO2 dopé avec 8 0/0 d'Al2O3 peuvent être employés. Des mélanges SiO2/AI2O3 disponibles dans le commerce peuvent être utilisés, tels que le LIMA® commercialisé par Umicore Materials AG (indice de réfraction n = 1,48-1,50 à 550 nm), ou la substance L5® commercialisée par Merck KGaA (indice de réfraction n = 1,48 à 500 nm). La couche externe du revêtement antireflet est nécessairement une couche à base de silice, comprenant de préférence au moins 80 % en masse de silice, mieux au moins 90 % en masse de silice (par exemple une couche de silice dopée avec de l'alumine), par rapport à la masse totale de la couche, et encore mieux consiste en une couche de silice. Généralement, les couches HI ont une épaisseur physique variant de 10 à 120 nm, et les couches BI ont une épaisseur physique variant de 10 à 100 nm. Généralement, l'épaisseur totale du revêtement antireflet est inférieure à 1 micromètre, de préférence inférieure ou égale à 800 nm, mieux inférieure ou égale à 500 nm et encore mieux inférieure ou égale à 250 nm. L'épaisseur totale du revêtement antireflet est généralement supérieure à 100 nm, de préférence supérieure à 150 nm. De préférence, le revêtement antireflet ne comprend pas de couche comprenant de l'oxyde de titane d'épaisseur supérieure à 90 nm, de préférence supérieure à 70 nm. Lorsque plusieurs couches comprenant de l'oxyde de titane sont présentes dans le revêtement antireflet, leur épaisseur totale est de préférence inférieure à 90 nm, mieux inférieure à 70 nm. Idéalement, le revêtement antireflet ne comprend pas de couche comprenant de l'oxyde de titane. Les couches d'oxyde de titane sont effectivement sensibles à la photo-dégradation. Par oxyde de titane, on entend le dioxyde de titane ou un oxyde de titane sous-stoechiométrique (TiOx, avec x Selon un mode de réalisation de l'invention, le revêtement antireflet est déposé sur une sous-couche. Il est considéré que cette sous-couche du revêtement antireflet ne fait pas partie du revêtement antireflet. Par sous-couche du revêtement antireflet, ou couche d'adhésion, on entend un revêtement d'épaisseur relativement importante, utilisé dans le but d'améliorer les propriétés mécaniques telles que la résistance à l'abrasion et/ou à la rayure dudit revêtement et/ou de promouvoir son adhésion au substrat ou au revêtement sous-jacent. Compte tenu de son épaisseur relativement importante, la sous-couche ne participe généralement pas à l'activité optique anti-réfléchissante, en particulier dans le cas où elle possède un indice de réfraction proche de celui du revêtement sous-jacent (qui est généralement le revêtement anti-abrasion et anti-rayures) ou de celui du substrat, lorsque la sous-couche est directement déposée sur le substrat. La sous-couche doit avoir une épaisseur suffisante pour promouvoir la résistance à l'abrasion du revêtement antireflet, mais de préférence pas trop importante pour ne pas provoquer une absorption lumineuse qui, selon la nature de la sous-couche, pourrait réduire significativement le facteur relatif de transmission tiv. Son épaisseur est généralement inférieure à 300 nm, mieux 200 nm, et est généralement supérieure à 90 nm, mieux 100 nm. La sous-couche comprend de préférence une couche à base de SiO2, cette couche comprenant de préférence au moins 80 % en masse de silice, mieux au moins 90 % en masse de silice, par rapport à la masse totale de la couche, et encore mieux consiste en une couche de silice. L'épaisseur de cette couche à base de silice est généralement inférieure à 300 nm, mieux 200 nm, et est généralement supérieure à 90 nm, mieux 100 nm. Selon un autre mode de réalisation, cette couche à base de SiO2 est une couche de silice dopée avec de l'alumine, dans des proportions telles que définies ci-dessus, de préférence consiste en une couche de silice dopée avec de l'alumine. Selon un mode de réalisation particulier, la sous-couche consiste en une couche de SiO2. Il est préférable d'utiliser une sous-couche de type monocouche. Toutefois, la sous-couche peut être laminée (multicouche), en particulier lorsque la sous-couche et le revêtement sous-jacent (ou le substrat, si la sous-couche est déposée directement sur le substrat) présentent une différence d'indice de réfraction non négligeable. C'est notamment le cas lorsque le revêtement sous-jacent, qui est généralement un revêtement anti-abrasion et/ou anti-rayure, ou le substrat, possèdent un indice de réfraction élevé, terme par lequel on entend un indice de réfraction supérieur ou égal à 1,55, de préférence supérieur ou égal à 1,57. Dans ce cas, la sous-couche peut comporter, outre une couche d'épaisseur 90-300 nm, dite couche principale, de préférence au plus trois autres couches, mieux au plus deux autres couches, intercalées entre le substrat éventuellement revêtu et cette couche d'épaisseur 90-300 nm, qui est généralement une couche à base de silice. Ces couches additionnelles sont de préférence de fines couches, dont la fonction est de limiter les réflexions à l'interface sous-couche / revêtement sous-jacent ou sous-couche / substrat, selon le cas. Une sous-couche multicouche comprend préférentiellement, outre la couche principale, une couche d'indice de réfraction élevé et d'épaisseur inférieure ou égale à 80 nm, mieux inférieure ou égale à 50 nm et mieux encore inférieure ou égale à 30 nm. Cette couche d'indice de réfraction élevé est directement en contact avec le substrat d'indice de réfraction élevé ou le revêtement sous-jacent d'indice de réfraction élevé, selon le cas. Bien entendu, ce mode de réalisation peut être utilisé même si le substrat (ou le revêtement sous-jacent) possède un indice de réfraction inférieur à 1,55. En alternative, la sous-couche comprend, outre la couche principale et la couche d'indice de réfraction élevé précitée, une couche de matériau d'indice de réfraction inférieur ou égal à 1,55, de préférence inférieur ou égal à 1,52, mieux inférieur ou égal à 1,50 à base de SiO2 (c'est-à-dire comprenant de préférence au moins 80 % en masse de silice) d'épaisseur inférieure ou égale à 80 nm, mieux inférieure ou égale à 50 nm et mieux encore inférieure ou égale à 30 nm, sur laquelle est déposée ladite couche d'indice de réfraction élevé. Typiquement, dans ce cas, la sous-couche comprend, déposées dans cet ordre sur le substrat éventuellement revêtu, une couche de 25 nm de SiO2, une couche de 10 nm de ZrO2 ou de Ta2O5 et la couche principale de la sous-couche. L'article d'optique de l'invention peut être rendu antistatique, c'est-à-dire ne pas retenir et/ou développer une charge électrostatique appréciable, grâce à l'incorporation d'au moins une couche électriquement conductrice dans l'empilement présent à la surface de l'article. La capacité d'un verre à évacuer une charge statique obtenue après frottement par un tissu ou par tout autre procédé de génération d'une charge électrostatique (charge appliquée par corona...) peut être quantifiée par une mesure du temps de dissipation de ladite charge. Ainsi, les verres antistatiques possèdent un temps de décharge de l'ordre de quelques centaines de millisecondes, préférentiellement 500 ms ou moins, alors qu'il est de l'ordre de plusieurs dizaines de secondes pour un verre statique. Dans la présente demande, les temps de décharge sont mesurés selon la méthode exposée dans la demande FR 2943798. Par "couche électriquement conductrice" ou "couche antistatique", on entend une couche qui, en raison de sa présence à la surface d'un substrat non antistatique (présentant un temps de décharge supérieur à 500 ms), lui permet de présenter un temps de décharge de 500 ms ou moins après application à sa surface d'une charge électrostatique. La couche électriquement conductrice peut être localisée à différents endroits de l'empilement, généralement dans ou au contact du revêtement antireflet, pourvu que ses propriétés anti-réfléchissantes ne soient pas perturbées. Elle est de préférence localisée entre deux couches du revêtement antireflet, et/ou est adjacente à une couche de haut indice de réfraction de ce revêtement antireflet. De préférence, la couche électriquement conductrice est localisée immédiatement sous une couche de bas indice de réfraction du revêtement antireflet, idéalement constitue l'avant dernière couche du revêtement antireflet en étant localisée immédiatement sous la couche externe à base de silice du revêtement antireflet. La couche électriquement conductrice doit être suffisamment fine pour ne pas altérer la transparence du revêtement antireflet. La couche électriquement conductrice est de préférence fabriquée à partir d'un matériau électriquement conducteur et hautement transparent, généralement un oxyde métallique éventuellement dopé. Dans ce cas, son épaisseur varie de préférence de 1 à 15 nm, mieux de 1 à 10 nm. La couche électriquement conductrice comprend de préférence un oxyde métallique, éventuellement dopé, choisi parmi les oxydes d'indium, d'étain, de zinc et leurs mélanges. L'oxyde d'étain-indium (In2O3:Sn, oxyde d'indium dopé à l'étain), l'oxyde de zinc dopé à l'aluminium (ZnO:AI), l'oxyde d'indium (In2O3) et l'oxyde d'étain (SnO2) sont préférés. Selon un mode de réalisation optimal, la couche électriquement conductrice et optiquement transparente est une couche d'oxyde d'étain-indium, notée couche d'ITO ou une couche d'oxyde d'étain. Généralement, la couche électriquement conductrice contribue, au sein de l'empilement, mais de façon limitée, en raison de sa faible épaisseur, à l'obtention de propriétés antiréfléchissantes et constitue une couche de haut indice de réfraction dans le revêtement antireflet. C'est le cas de couches fabriquées à partir d'un matériau électriquement conducteur et hautement transparent telles que les couches d'ITO. Le revêtement antireflet ne comprend pas de couche d'épaisseur supérieure ou égale à 20 nm, de préférence supérieure à 15 nm, à base d'oxyde d'indium. Lorsque plusieurs couches à base d'oxyde d'indium sont présentes dans le revêtement antireflet, leur épaisseur totale est de préférence inférieure à 20 nm, mieux inférieure à 15 nm. Par couche à base d'oxyde d'indium, on entend une couche comprenant au moins 50 % en masse d'oxyde d'indium par rapport à la masse totale de la couche. Selon un mode de réalisation préféré, le revêtement antireflet ne comprend pas de couche d'épaisseur supérieure ou égale à 20 nm, de préférence supérieure à 15 nm, comprenant de l'oxyde d'indium, de l'oxyde d'étain ou de l'oxyde de zinc. Lorsque plusieurs couches comprenant de l'oxyde d'indium, de l'oxyde d'étain ou de l'oxyde de zinc sont présentes dans le revêtement antireflet, leur épaisseur totale est de préférence inférieure à 20 nm, mieux inférieure à 15 nm. Les différentes couches du revêtement antireflet et l'éventuelle sous-couche sont préférentiellement déposées par dépôt sous vide selon l'une des techniques suivantes : i) par évaporation, éventuellement assistée par faisceau ionique ; ii) par pulvérisation par faisceau d'ion ; iii) par pulvérisation cathodique ; iv) par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma. Ces différentes techniques sont décrites dans les ouvrages "Thin Film Processes" and "Thin Film Processes II," Vossen & Kern, Ed., Academic Press, 1978 et 1991 respectivement. Une technique particulièrement recommandée est la technique d'évaporation sous vide. De préférence, le dépôt de chacune des couches du revêtement antireflet et de l'éventuelle sous-couche est réalisé par évaporation sous vide. De préférence, le revêtement antireflet de l'invention comprend une 1 ère couche ou superposition de couches consistant en 1, 2 ou 3 couches ayant un indice de réfraction supérieur à 1,6 revêtue d'une 2ème couche ou superposition de couches consistant en 1 ou 2 couches ayant un indice de réfraction inférieur à 1,5. Optionnellement, cette 2ème couche ou superposition de couches est revêtue d'une 3ème couche ou superposition de couches consistant en 1 ou 2 couches ayant un indice de réfraction supérieur à 1,6, elle-même revêtue d'une 4ème couche ou superposition de couches consistant en 1 ou 2 couches ayant un indice de réfraction inférieur à 1,5. Selon un mode de réalisation particulièrement préféré, le revêtement antireflet anti-UV comprend, en partant de la surface du substrat éventuellement revêtu d'un ou plusieurs revêtements fonctionnels et revêtu d'une sous-couche de 100 à 200 nm d'épaisseur, de préférence de silice, une couche de haut indice de réfraction de 8 à 25 nm d'épaisseur, de préférence de 8 à 20 nm, de préférence de zircone, une couche de bas indice de réfraction de 10 à 35 nm d'épaisseur, de préférence de 15 à 25 nm, de préférence de silice, une couche de haut indice de réfraction de 75 à 100 nm d'épaisseur, de préférence de 85 à 100 nm, mieux de 90 à 100 nm, de préférence de zircone, optionnellement une couche électriquement conductrice de 3 à 10 nm d'épaisseur, de préférence de 4 à 8 nm et une couche de bas indice de réfraction de 60 à 95 nm d'épaisseur, de préférence de 65 à 90 nm, mieux de 70 à 95 nm, de préférence de silice. Selon un autre mode de réalisation, le revêtement antireflet anti-UV comprend, en partant de la surface du substrat éventuellement revêtu d'un ou plusieurs revêtements fonctionnels et revêtu d'une sous-couche de 100 à 200 nm d'épaisseur, de préférence de silice, une couche de haut indice de réfraction de 20 à 65 nm d'épaisseur, de préférence de zircone, une couche de bas indice de réfraction de 10 à 30 nm d'épaisseur, de préférence de silice, une couche de haut indice de réfraction de 5 à 75 nm d'épaisseur, de préférence de zircone, une couche de haut indice de réfraction de 20 à 75 nm d'épaisseur, de préférence de titane, optionnellement une couche électriquement conductrice de 3 à 10 nm d'épaisseur, de préférence de 4 à 8 nm et une couche de bas indice de réfraction de 60 à 85 nm d'épaisseur, de préférence de silice. Selon un mode de réalisation préféré de l'invention, la face avant de l'article d'optique de l'invention est également revêtue d'un revêtement antireflet conventionnel, différent de celui se trouvant sur sa face arrière. Dans ce cas, il est possible que la face avant de l'article d'optique soit revêtue d'un revêtement antireflet plus performant dans le domaine visible que celui de la face arrière du substrat. Ainsi, selon un mode de réalisation préféré, la face avant de l'article d'optique est revêtue d'un revêtement antireflet tel que le facteur moyen de réflexion dans le domaine visible Rm sur cette face avant est inférieur à 0,8 %, mieux inférieur à 0,5 %. De préférence, le facteur moyen de réflexion lumineuse R' sur cette face avant est inférieur à 0,8 %, mieux inférieur à 0,5 %. De préférence encore, le facteur moyen de réflexion Ruv entre 280 nm et 380 nm pondéré par la fonction W(?) définie dans la norme ISO 13666:1998 est plus élevé sur sur la face avant (de préférence > 5 %) que sur la face arrière de l'article d'optique. Le revêtement antireflet de la face avant comprend de préférence un empilement d'au moins une couche de haut indice de réfraction et d'au moins une couche de bas indice de réfraction. Il est toutefois possible d'appliquer un revêtement antireflet anti-UV tel que décrit dans la présente demande sur la face avant de l'article d'optique. Les revêtements antireflet anti-UV de la face avant et de la face arrière peuvent alors être identiques ou différents. Selon un mode de réalisation de l'invention, la face avant de l'article d'optique n'est pas revêtue d'un revêtement antireflet anti-UV selon l'invention. Le revêtement antireflet anti-UV peut être déposé directement sur un substrat nu. Dans certaines applications, il est préférable que la face principale du substrat soit revêtue d'un ou plusieurs revêtements fonctionnels préalablement au dépôt du revêtement antireflet de l'invention. Ces revêtements fonctionnels classiquement utilisés en optique peuvent être, sans limitation, une couche de primaire antichoc, un revêtement anti-abrasion et/ou anti-rayures, un revêtement polarisé, un revêtement photochrome ou un revêtement coloré. Préférentiellement, la lentille ophtalmique ne comprend pas de revêtement photochrome et/ou ne comprend pas de substrat photochrome. Généralement, la face principale avant et/ou arrière du substrat sur laquelle sera déposé un revêtement antireflet est revêtue d'une couche de primaire antichoc, d'un revêtement anti-abrasion et/ou anti-rayures, ou d'une couche de primaire antichoc revêtue d'un revêtement anti-abrasion et/ou anti-rayures. Le revêtement antireflet anti-UV de l'invention est de préférence déposé sur un revêtement anti-abrasion et/ou anti-rayures. Le revêtement anti-abrasion et/ou anti-rayures peut être toute couche classiquement utilisée comme revêtement anti-abrasion et/ou anti-rayure dans le domaine des lentilles ophtalmiques. Les revêtements résistant à l'abrasion et/ou à la rayure sont de préférence des revêtement durs à base de poly(méth)acrylates ou de silanes comprenant généralement une ou plusieurs charges minérales destinées à augmenter la dureté et/ou l'indice de réfraction du revêtement une fois durci. Les revêtements durs anti-abrasion et/ou anti-rayure sont de préférence élaborés à partir de compositions comprenant au moins un alcoxysilane et/ou un hydrolysat de celui-ci, obtenu par exemple par hydrolyse avec une solution d'acide chlorhydrique et optionnellement des catalyseurs de condensation et/ou de durcissement. Parmi les revêtements recommandés dans la présente invention, on peut citer les revêtements à base d'hydrolysats d'époxysilanes tels que ceux décrits dans les brevets FR 2702486 (EP 0614957), US 4,211,823 et US 5,015,523. Une composition pour revêtement anti-abrasion et/ou anti-rayures préférée est celle divulguée dans le brevet FR 2702486, au nom du déposant. Elle comprend un hydrolysat d'époxy trialcoxysilane et de dialkyl dialcoxysilane, de la silice colloïdale et une quantité catalytique de catalyseur de durcissement à base d'aluminium tel que l'acétylacétonate d'aluminium, le reste étant essentiellement constitué par des solvants classiquement utilisés pour la formulation de telles compositions. Préférentiellement, l'hydrolysat utilisé est un hydrolysat de y- glycidoxypropyltriméthoxysilane (GLYMO) et de diméthyldiéthoxysilane (DMDES). La composition de revêtement anti-abrasion et/ou anti-rayures peut être déposée sur la face principale du substrat par trempage ou centrifugation. Elle est ensuite durcie par la voie appropriée (de préférence thermique, ou UV). L'épaisseur du revêtement anti-abrasion et/ou anti-rayures varie généralement de 2 à 10 µm, préférentiellement de 3 à 5 µm. Préalablement au dépôt du revêtement anti-abrasion et/ou anti-rayures, il est possible de déposer sur le substrat un revêtement de primaire améliorant la résistance aux chocs et/ou l'adhésion des couches ultérieures dans le produit final. Ce revêtement peut être toute couche de primaire antichoc classiquement utilisée pour les articles en matériau polymère transparent, tels que des lentilles ophtalmiques. Parmi les compositions de primaire préférées, on peut citer les compositions à base de polyuréthanes thermoplastiques, telles que celles décrites dans les brevets japonais JP 63-141001 et JP 63-87223, les compositions de primaire poly(méth)acryliques, telles que celles décrites dans le brevet US 5,015,523, les compositions à base de polyuréthanes thermodurcissables, telles que celles décrites dans le brevet EP 0404111 et les compositions à base de latex poly(méth)acryliques ou de latex de type polyuréthane, telles que celles décrites dans les brevets US 5,316,791 et EP 0680492. Les compositions de primaire préférées sont les compositions à base de polyuréthanes et les compositions à base de latex, en particulier les latex de polyuréthane contenant optionnellement des motifs polyesters. Parmi les compositions de primaire commerciales convenant pour l'invention, on peut citer les compositions Witcobond® 232, Witcobond® 234, Witcobond® 240, Witcobond® 242, Neorez® R- 962, Neorez® R-972, Neorez® R-986 et Neorez® R-9603. On peut également utiliser dans les compositions de primaire des mélanges de ces latex, en particulier de latex polyuréthane et de latex poly(méth)acrylique. Ces compositions de primaire peuvent être déposées sur les faces de l'article par trempage ou centrifugation puis séchées à une température d'au moins 70 °C et pouvant aller jusqu'à 100 °C, de préférence de l'ordre de 90 °C, pendant une durée de 2 minutes à 2 heures, généralement de l'ordre de 15 minutes, pour former des couches de primaire ayant des épaisseurs, après cuisson, de 0,2 à 2,5 µm, de préférence de 0,5 à 1,5 µm. L'article d'optique selon l'invention peut également comporter des revêtements formés sur le revêtement antireflet et capables de modifier ses propriétés de surface, tels que des revêtements hydrophobes et/ou oléophobes (top coat anti-salissure). Ces revêtements sont de préférence déposés sur la couche externe du revêtement antireflet. Leur épaisseur est en général inférieure ou égale à 10 nm, de préférence de 1 à 10 nm, mieux de 1 à 5 nm. Il s'agit généralement de revêtements de type fluorosilane ou fluorosilazane. Ils peuvent être obtenus par dépôt d'un fluorosilane ou fluorosilazane précurseur, comprenant de préférence au moins deux groupes hydrolysables par molécule. Les fluorosilanes précurseurs contiennent préférentiellement des groupements fluoropolyéthers et mieux des groupements perfluoropolyéthers. Ces fluorosilanes sont bien connus et sont décrits, entre autres, dans les brevets US 5,081,192, US 5,763,061, US 6,183, 872, US 5,739, 639, US 5,922,787, US 6,337,235, US 6,277,485 et EP 0933377. Une composition de revêtement hydrophobe et/ou oléophobe préférée est commercialisée par Shin-Etsu Chemical sous la dénomination KP 801 M®. Une autre composition de revêtement hydrophobe et/ou oléophobe préférée est commercialisée par Daikin Industries sous la dénomination OPTOOL DSX®. Il s'agit d'une résine fluorée comprenant des groupes perfluoropropylène. Typiquement, une lentille ophtalmique selon l'invention comprend un substrat successivement revêtu sur sa face arrière d'une couche de primaire antichoc, d'une couche antiabrasion et/ou antirayure, d'un revêtement antireflet anti-UV selon l'invention, et d'un revêtement hydrophobe et/ou oléophobe. La lentille ophtalmique selon l'invention est de préférence une lentille ophtalmique pour lunettes (verre de lunettes), ou une ébauche de lentille ophtalmique. La lentille peut être une lentille polarisée, une lentille photochrome ou une lentille solaire, teintée, avec ou sans correction. La face avant du substrat de l'article d'optique peut être revêtue successivement d'une couche de primaire antichoc, d'une couche anti-abrasion et/ou anti-rayures, d'un revêtement antireflet qui peut être, ou non, un revêtement antireflet anti-UV selon l'invention, et d'un revêtement hydrophobe et/ou oléophobe. Selon un mode de réalisation, l'article d'optique selon l'invention n'absorbe pas dans le visible ou absorbe peu dans le visible, ce qui signifie, au sens de la présente demande, que son facteur de transmission dans le visible tiv, encore nommé facteur relatif de transmission dans le visible, est supérieur à 90 %, mieux supérieur à 95 %, mieux encore supérieur à 96 % et de façon optimale supérieur à 97 %. Le facteur w répond à une définition internationale normalisée (norme ISO 13666:1998) et est mesuré conformément à la norme ISO 8980-3. Il est défini dans la gamme de longueur d'onde allant de 380 à 780 nm. De préférence, l'absorption lumineuse de l'article revêtu selon l'invention est inférieure ou égale à 1 %. Les coefficients colorimétriques de l'article d'optique de l'invention dans le système colorimétrique CIE L*a*b* sont calculés entre 380 et 780 nm en tenant compte de l'illuminant D 65 et de l'observateur (angle d'incidence : 15°). Il est possible de préparer des revêtements antireflet sans limitation quant à leur angle de teinte. Cependant, l'angle de teinte h varie de préférence de 120 à 150, ce qui produit un revêtement ayant un reflet vert, et la chroma C* est de préférence inférieure à 15, mieux inférieure à 10. Il est beaucoup plus difficile de parvenir à un revêtement antireflet dont les performances ont été optimisées dans le domaine visible et dans le domaine UV lorsque l'angle de teinte appartient à la gamme 120-150°(vert) par rapport à la gamme 235-265° (bleu). Selon un mode de réalisation, la chroma C* est supérieure à 9. Les inventeurs ont constaté que dans ce cas de figure, la lentille ophtalmique témoignait d'une grande robustesse colorimétrique, c'est à dire que l'angle de teinte h et la chroma C* étaient particulièrement stables dans le temps. Les exemples suivants illustrent l'invention de façon plus détaillée mais non limitative. 25 EXEMPLES 1. Procédures générales Les articles d'optique employés dans les exemples comprennent un substrat de lentille 30 ORMA® ESSILOR de 65 mm de diamètre, d'indice de réfraction 1,50, de puissance -2,00 dioptries et d'épaisseur 1,2 mm, revêtu sur sa face arrière du revêtement anti-abrasion et anti-rayures (hard coat) divulgué dans l'exemple 3 du brevet EP 0614957 (d'indice de réfraction égal à 1,47 et d'épaisseur 3,5 µm), à base d'un hydrolysat de GLYMO et DMDES, de silice colloïdale et d'acétylacétonate d'aluminium, puis d'un revêtement antireflet conforme à l'invention. Ledit revêtement anti-abrasion et anti-rayures a été obtenu par dépôt et durcissement d'une composition comprenant en masse, 224 parties de GLYMO, 80,5 parties de HCI 0,1 N, 120 parties de DMDES, 718 parties de silice colloïdale à 30 % massique dans le méthanol, 15 parties d'acétylacétonate d'aluminium et 44 parties d'éthylcellosolve. La composition comporte également 0,1 % de tensioactif FLUORADTM FC-430® de 3M en masse par rapport à la masse totale de la composition. Les couches du revêtement antireflet ont été déposées sans chauffage des substrats par évaporation sous vide (source d'évaporation : canon à électrons). Le bâti de dépôt est une machine Leybold 1104 équipé d'un canon à électrons ESV14 (8kV) pour l'évaporation des oxydes, et d'un canon à ions (Commonwealth Mark Il) pour la phase préliminaire de préparation de la surface du substrat par des ions argon (IPC). L'épaisseur des couches est contrôlée au moyen d'une microbalance à quartz. Les mesures spectrales ont été effectuées sur un spectrophotomètre à incidence variable Perkin-Elmer Lambda 850 avec un accessoire URA (Universal Reflectance Accessory). 2. Mode opératoire Le procédé de préparation des articles d'optique comprend l'introduction du substrat revêtu sur sa face arrière du revêtement anti-abrasion et anti-rayure dans une enceinte de dépôt sous vide, une étape de pompage jusqu'à l'obtention d'un vide secondaire, une étape d'activation de la surface du substrat par un faisceau d'ions argon (courant d'anode : 1 A, tension d'anode : 100 V, courant de neutralisation : 130 mA), l'arrêt de l'irradiation ionique, la formation sur le revêtement anti-abrasion et anti-rayure de la sous-couche puis des différentes couches du revêtement antireflet par évaporations successives et enfin une étape de ventilation. 3. Résultats Les caractéristiques structurelles et performances optiques des lentilles ophtalmiques obtenues selon les exemples 1 à 26 sont détaillées ci-dessous. La sous-couche apparaît en grisé. Les graphes de réflexion entre 280 et 780 nm de certains des articles préparés sont représentés sur les figures 1-4, à divers angles d'incidence. Les valeurs des facteurs moyens de réflexion sont celles de la face arrière. Les facteurs Rm et R' sont indiqués pour un angle d'incidence de 15°. Example 119 Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 19 n m SiO2 23 nm ZrO2 93 n m ITO 6,5 nm SiO2 82 nm Example 2Example 3 Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 17 nm SiO2 23 nm ZrO2 96 nm ITO 6,5 nm SiO2 75 nm Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 13 nm SiO2 14 nm ZrO2 95 nm ITO 6,5 nm SiO2 76 nm Air Air Air Ruv (°/O) 2,59 (30°) Ruv (°/O) 1,28 (30 °) Ruv (°/O) 3,68 (30°) 3,10 (45°) 1,64 (45 °) 3,10 (45°) h (°) 135 h (°) 135 h (°) 250 C~ 7 C~ 6,9 C* 12 Rm (%) 0,58 Rm (%) 1,02 Rm (%) 1,04 R" (°/O) 0,59 R" (°/O) 0,85 R" (°/O) 0,68 Example 4 Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 14 n m SiO2 25 nm ZrO2 93 n m ITO 6,5 nm SiO2 88 nm Example 5 Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 13 nm SiO2 31 nm ZrO2 87 nm ITO 6,5 nm SiO2 86 nm Example 6 Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 11 nm SiO2 33 nm ZrO2 90 nm ITO 6,5 nm SiO2 84 nm Air Air Air Ruv (°/O) 4,26 (30 °) Ruv (°/O) 2,92 (30°) Ruv (°/O) 2,62 (30°) 3,91 (45°) 3,15 (45°) 2,30 (45°) h (°) 250 h (°) 300 h (°) 300 C~ 8,5 C~ 12 C* 15 Rm (%) 0,62 Rm (%) 0,73 Rm (%) 0,84 R" (°/O) 0,40 R" (°/O) 0,23 R" (°/O) 0,26 Example 7 Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 10 nm SiO2 24 nm ZrO2 93 nm ITO 6,5 nm SiO2 78 nm Example 8 Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 9 nm SiO2 22 nm ZrO2 94 nm ITO 6,5 nm SiO2 76 nm Example 9 Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 16 nm SiO2 28 nm ZrO2 87 nm ITO 6,5 nm SiO2 77 nm Air Air Air Ruv (°/O) 2,32 (30 °) Ruv (°/O) 2,54 (30°) Ruv (°/O) 1,85 (30°) 1,90 (45°) 2,00 (45°) 2,53 (45°) h (°) 300 h (°) 300 h (°) 45 C~ 12 C~ 15 C* 7 Rm (%) 0,98 Rm (%) 1,13 Rm (%) 0,87 R" (°/O) 0,40 R" (°/O) 0,45 R" (°/O) 0,55 Example 10 Example 11 Example 12 Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 14 n m SiO2 30 nm ZrO2 93 n m ITO 6,5 nm SiO2 75 nm Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 14 nm SiO2 32 nm ZrO2 93 nm ITO 6,5 nm SiO2 74 nm Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 14 nm AI2O3 33 nm ZrO2 87 nm ITO 6,5 nm SiO2 81 nm Air Air Air Ruv (%) 0,89 (30°) 1,35 (45 °) Ruv (%) 1,31 (30 °) 0,82 (45°) Ruv (%) 2,72 (30°) 3,22 (45°) h (°) 45 h (°) 45 h (°) 135 C~ 7 C~ 9 C* 7 Rm (°/o) 0,96 Rm (°/o) 1,06 Rm (°/o) 0,61 0,65 R' (%) 0,74 R' (%) 0,60 Example 13 Example 14 Example 15 Substrat + hard coat SiO2 150 nm Y203 39 nm AI2O3 16 nm ZrO2 85 n m ITO 6,5 nm SiO2 81 nm Substrat + hard coat SiO2 150 nm PrTiO3 20 nm SiO2 21 nm PrTiO3 88 nm ITO 6,5 nm SiO2 78 nm Substrat + hard coat SiO2 150 nm Y203 42 nm SiO2 10 nm Y203 90 nm ITO 6,5 nm SiO2 82 nm Air Air Air Ruv (%) 3,13 (30 °) 3,44 (45 °) Ruv (%) 2,63 (30°) 3,06 (45°) Ruv (%) 2,86 (30°) 3,10 (45°) h (°) 135 h (°) 135 h (°) 135 C~ 7 C~ 7 C* 7 Rm (°/o) 0,61 Rm (°/o) 0,73 Rm (°/o) 0,59 R"(%) 0,60 R" (%) 0,64 R" (%) 0,60 Example 16 Example 17 Example 18 Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 35 nm SiO2 16 nm TiO2 62 nm ZrO2 23 nm ITO 6,5 nm SiO2 64 nm Substrat + hard coat SiO2 150 nm AI2O3 19 nm ZrO2 15 nm SiO2 20 nm ZrO2 91 nm ITO 6,5 nm SiO2 82 nm Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 24 nm SiO2 27 nm TiO2 9 nm ZrO2 69 nm ITO 6,5 nm SiO2 82 nm Air Air Air Ruv (%) 3,87 (30°) 4,71 (45°) Ruv (%) 3,15 (30 °) 3,63 (45°) Ruv (%) 2,23 (30°) 2,37 (45°) h (°) 45 h (°) 135 h (°) 135 C~ 7 C~ 7 C* 7 Rm (°/o) 1,07 Rm (°/o) 0,57 Rm (%) 0,62 R"(%) 0,60 R" (%) 0,59 R" (%) 0,60 Example 19 Example 20 Example 21 Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 26 n m SiO2 27 nm TiO2 10 nm ZrO2 60 n m ITO 6,5 nm SiO2 81 nm Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 40 nm SiO2 11 nm TiO2 65 nm ZrO2 25 nm ITO 6,5 nm SiO2 66 nm Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 33 nm SiO2 14 nm TiO2 62 nm ZrO2 28 nm ITO 6,5 nm SiO2 72 nm Air Air Air Ruv (°/O) 2,14 (30 °) Ruv (°/O) 2,66 (30°) Ruv (°/O) 2,20 (30°) 2,63 (45°) 4,27 (45°) 3,66 (45°) h (°) 135 h (°) 135 h (°) 250 C~ 5,5 C* 6,9 C* 9 Rm (%) 0,66 Rm (%) 0,80 Rm (%) 0,79 R" (°/O) 0,55 R" (°/O) 0,68 R" (°/O) 0,48 Example 22 Example 23 Example 24 Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 61 nm SiO2 29 nm TiO2 14 nm ZrO2 11 nm ITO 6,5 nm SiO2 72 nm Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 38 nm SiO2 14 nm TiO2 70 nm ZrO2 30 nm ITO 6,5 nm SiO2 75 nm Substrat + hard coat SiO2 150 nm ZrO2 29 nm SiO2 16 nm TiO2 57 nm ZrO2 27 nm ITO 6,5 nm SiO2 70 nm Air Air Air Ruv (°/O) 2,47 (30 °) 2,29 (45 °) Ruv (°/O) 1,71 (30°) 3,07 (45°) Ruv (°/O) 2,68 (30°) 4,05 (45°) h (°) 250 h (°) 300 h (°) 300 C~ 9 C* 15 C* 15 Rm (%) 1,05 Rm (%) 0,94 Rm (%) 1,14 R" (°/O) 0,59 R" (°/O) 0,65 R" (°/O) 0,36 Example 25 Example 26 Substrat + hard coat Substrat + hard coat SiO2 150 nm SiO2 150 nm Y203 62 n m Y2O3 46 nm ZrO2 74 n m ZrO2 84 nm ITO 6,5 nm ITO 6,5 nm SiO2 77 n m SiO2 75 nm Air Air Ruv (°/O) 3,79 (30°) 3,81 (45°) Ruv (°/O) 2,97 (30°) 2,57 (45°) h (°) 135 h (°) 250 C~ 7 C* 8,9 Rm (%) 0,92 Rm (%) 1,07 R" (°/O) 0,86 R" (°/O) 0,74 On constate que les articles d'optique selon l'invention possèdent de très bonnes propriétés antireflet dans le domaine visible (Rv Exemples comparatifs Les performances antireflet sur la face arrière de quatre verres équipés d'un revêtement 15 antireflet actuellement sur le marché et connaissant un succès commercial ont été déterminées et sont consignées dans le tableau suivant : Ex. comparatif R,(%) Ruv (0/0) A ° 26,02 (30°) 0,78 (30) 19,89 (45°) B 0,66 (30°) 10,47 (30°) 8,25 (45°) C 0,39 (30°) 18,15 (30~) 15,35 (45 ) D 0,56 (30°) 6,58 (30°) 5,51 (45°) ORMA® nu 3,94 (15°) 4,46 (30°) 4,08 (30°) 5,35 (45°) On constate que les verres antireflet commerciaux ont été conçus pour minimiser la 20 réflexion dans le domaine visible, sans se préoccuper de la réflexion dans le domaine UV, qui peut atteindre des valeurs très élevées. En outre, tous les revêtements antireflet étudiés provoquent une réflexion plus importante d'un rayonnement UV provenant de l'arrière du porteur (angle d'incidence de 30° à 45°) qu'un verre nu non équipé d'un revêtement antireflet. REVENDICATIONS1. Lentille ophtalmique comprenant un substrat ayant une face principale avant et une face principale arrière, ladite face principale arrière étant revêtue d'un revêtement antireflet multicouche comprenant un empilement d'au moins une couche ayant un indice de réfraction supérieur à 1,6 et d'au moins une couche ayant un indice de réfraction inférieur à 1,5, caractérisé en ce que : - le facteur moyen de réflexion sur ladite face arrière dans le domaine visible Rm est inférieur ou égal à1,15%, - le facteur moyen de réflexion lumineuse sur ladite face arrière dans le domaine visible R' est inférieur ou égal à 1 %, - le facteur moyen de réflexion Ruv sur ladite face arrière entre 280 nm et 380 nm pondéré par la fonction W(?) définie dans la norme ISO 13666:1998 est inférieur à 5 %, pour un angle d'incidence de 30° et pour un angle d'incidence de 45°, - le revêtement antireflet multicouche comprend un nombre de couches supérieur ou égal à 3, de préférence supérieur ou égal à 4, et inférieur ou égal à 7, de préférence inférieur ou égal à 6, mieux inférieur ou égal à 5, - le revêtement antireflet multicouche ne comprend pas de couche d'épaisseur supérieure ou égale à 20 nm à base d'oxyde d'indium, - la couche externe du revêtement antireflet est une couche à base de silice. 2. Lentille selon la revendication 1, caractérisée en ce que le revêtement antireflet comprend au moins deux couches ayant un indice de réfraction supérieur à 1,6 et au moins deux couches ayant un indice de réfraction inférieur à 1,5. 3. Lentille selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que le revêtement antireflet est déposé sur une sous-couche à base de silice ayant une épaisseur de 100 à 300 nm. 4. Lentille selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que le revêtement antireflet comprend au moins une couche électriquement conductrice. 5. Lentille selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que le facteur moyen de réflexion Rm_uv, sur ladite face arrière entre 290 nm et 330 nm est inférieur à 15 %, pour un angle d'incidence de 15°, de préférence inférieur à 10 %. 6. Lentille selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que le facteur moyen de réflexion Rm_uv2 sur ladite face arrière entre 300 nm et 320 nm est inférieur à 4 %, mieux inférieur à 3 %, pour un angle d'incidence de 15° et/ou 30° et/ou 45°. 7. Lentille selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que le facteur moyen de réflexion Rm-uv3 sur ladite face arrière entre 300 nm et 380 nm est inférieur à 5 %, mieux inférieur à 4,5 %, pour un angle d'incidence de 15°. 8. Lentille selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que le facteur moyen de réflexion est supérieur à 5 %, mieux 6 %, sur au moins 20 % de la gamme de longueur d'onde allant de 280 à 295 nm, pour un angle d'incidence de 30° et pour un angle d'incidence de 45°. 9. Lentille selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que le facteur moyen de réflexion sur ladite face arrière dans le domaine visible Rm est inférieur ou égal à 1 %, mieux 10. Lentille selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que le facteur moyen de réflexion lumineuse sur ladite face arrière dans le domaine visible R' est inférieur ou égal à 0,90 %, mieux 11. Lentille selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que le facteur moyen de réflexion Ruv sur ladite face arrière entre 280 nm et 380 nm pondéré par la fonction W(?) définie dans la norme ISO 13666:1998 est inférieur à 4,5 %, pour un angle d'incidence de 30° et pour un angle d'incidence de 45°, de préférence 12. Lentille selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que le revêtement antireflet comprend, dans le sens de l'éloignement du substrat, une couche ayant un indice de réfraction supérieur à 1,6 de 8 à 25 nm d'épaisseur, une couche ayant un indice de réfraction inférieur à 1,5 de 10 à 35 nm d'épaisseur, une couche ayant un indice de réfraction supérieur à 1,6 de 75 à 100 nm d'épaisseur, optionnellement une couche électriquement conductrice de 3 à 10 nm d'épaisseur, et une couche ayant un indice de réfraction inférieur à 1,5 de 60 à 95 nm d'épaisseur. 13. Lentille selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que le revêtement antireflet multicouche ne comprend pas de couche de MgF2. 14. Lentille selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce que la lentille est une lentille solaire teintée.