FR 2971851 A1 20120824 FR 1100521 A 20110222 L'invention concerne un procédé de fabrication d'un biocapteur. La plupart des capteurs chimiques basés sur les cantilevers ou micropoutres utilisent la technologie bien connue du silicium. Ces capteurs chimiques sont fonctionnalisés par des molécules qui peuvent avoir une interaction spécifique avec la matière biologique. On parle alors de biocapteurs. Les applications de ces capteurs hautement sensibles concernent le domaine de la protéomique, de l'hybridation de brins d'ADN ou d'ADN et de la culture et du criblage cellulaire. La détection de l'interaction spécifique est liée aux changements de poids ou de force appliqués sur un cantilever, ou micropoutre, autrement appelé microlevier. Ce changement mécanique est détecté par un capteur externe ou interne au cantilever. Les cantilevers, ou micropoutres, à base de silicium peuvent être mis en série sous forme d'une matrice de capteurs pour améliorer la statistique de mesure et ainsi le rapport signal-sur-bruit, mais également pour avoir différentes interactions chimiques spécifiques en même temps. Cependant, les schémas de détection externe de la déflection de la micropoutre en silicium utilisent principalement la détection optique par réflexion d'un laser connue de l'Homme du métier. Cette méthode n'est pas très bien adaptée pour une détection en déflection d'une matrice de cantilevers pour des difficultés de mise en place d'un ou plusieurs lasers et/ou de lentille pour la lecture sérielle ou parallèle d'une matrice entière de micropoutres. Cela sera d'autant plus le cas si la matrice contient un très grand nombre (plus d'une dizaine) de microleviers fonctionnant en simultané. De plus, les interfaces air/liquide mal contrôlées peuvent induire des artefacts de mesures empêchant une détection stable de la déflection de la micropoutre en solution biologique. Donc, pour lever ces verrous techniques de détection massive de matrice de capteurs, une détection interne telle qu'avec un capteur piezorésistif, piezoélectrique, ou à magnéto-impédance a été mise en oeuvre à l'intérieur de la micropoutre. Chaque capteur encastré est adressé par des électrodes métalliques. La détection du changement mécanique, lorsque la biomolécule fonctionnalisant le biocapteur est mise en contact avec la biomolécule ou l'analyte à détecter et/ou quantifier peut être effectuée a) en mode dynamique lorsque le cantilever est mis en résonance à une fréquence proche de sa fréquence de résonance pour augmenter la sensibilité de la détection, b) en mode statique par détection de la déflexion de la micropoutre due à la modification de la contrainte de surface de la micropoutre lors de la captation des biomolécules. La technologie au silicium est très coûteuse pour la mise en oeuvre de tels capteurs internes intégrés dans des cantilevers de quelques micromètres ou même millimètres avec des électrodes. De plus, les électrodes acheminant le signal électrique issu du capteur interne du microlevier sont en contact direct avec la solution biologique où opère le microlevier. Etant donné le caractère hautement conducteur et ionique de la solution biologique et pour des raisons évidentes de problèmes de court-circuit et/ou de corrosion du métal composant les électrodes, ce dispositif ne pourra pas fonctionner dans ce cas. L'invention vise à lever le verrou de détection massive de matrice de microleviers à capteur intégré fonctionnant en solution biologique en proposant un nouveau procédé de fabrication de biocapteurs basé sur des matériaux fluoropolymère, en particulier piezoélectriques, pour fabriquer des biocapteurs équivalents aux biocapteurs basés sur la technologie du silicium mais moins coûteux en comparaison à ceux-ci. Dans la description qui suit, les termes suivants ont la signification suivante : « rayonnement VUV » : rayonnement ultraviolet (Vacuum Ultra Violet) de 200 à 100 nm de longueur d'onde, dans la catégorie des UV-C , « rayonnement UV » : rayonnement émettant à une longueur d'onde de 400 20 à 280 nm, dans la catégorie des UV-A et UV-B, « résine photosensible positive ou de type positif » : résine photosensible pour laquelle la partie exposée à un rayonnement UV ou VUV devient soluble dans un révélateur et/ou la portion de résine photosensible non exposée reste insoluble, « résine photosensible négative ou de type négatif » : résine photosensible 25 pour laquelle la partie exposée au rayonnement UV ou VUV devient insoluble à un révélateur et/ou la portion de résine photosensible non exposée reste soluble. Des exemples de résines photosensibles positives utilisables dans l'invention sont les résines POSITIV 20° (KONTAKT CHEMIE) ou résines AZ 9260®, S 1818® et SJR 5740° de la société MicroChem Corp. (Newton, USA), 30 Pour éliminer les zones de résine irradiées on peut utiliser les révélateurs suivants : une solution KOH.H2O ou NaOH.H2O à 0.25 mol/l. Pour une élimination totale de la résine (irradiée ou non-irradiée) on utilisera un solvant type acétone ou DMSO (Diméthylsulfoxide). Les résines photosensibles négatives ou de type négatif utilisables dans l'invention sont les résines suivantes : série des résines AZ de MicroChemicals GmbH (Ulm, Germany) telle que la résine AZ5214E®, ou la SU8-2000® ou SU8-3000° de MicroChem Corp. (Newton, USA). Pour éliminer les zones de résine non irradiées, on peut utiliser les révélateurs suivants : du PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate) pour la résine SU8®, ou le révélateur AZ 351B® ou AZ 726® pour la résine AZ5214E®. Pour une élimination totale de la résine (irradiée ou non-irradiée) on utilisera un solvant du type Negative resist remover I 651761® (Sigma-Aldrich). « propriété mécanique de la micropoutre » : changement de masse, de la fréquence de résonance, du facteur de qualité, de la contrainte mécanique surfacique ou de la constante de raideur de la micropoutre. Les biocapteurs de l'invention comprennent, dans leur plus simple expression : - une micropoutre, appelée aussi cantilever, qui est la partie mobile du biocapteur, reliée à un support, - au moins une électrode dont au moins une partie est encastrée sur la micropoutre, - au moins une molécule biologique A greffée sur la micropoutre dans une 20 zone différente de la zone d'encastrement de la(des) électrode(s), - un transducteur mécano-électrique de conversion en signal électrique des variations des propriétés mécaniques de la micropoutre, lorsque la molécule biologique A est mise en contact avec une molécule biologique B à détecter et/ou quantifier, Le transducteur mécano-électrique utilise une détection des propriétés 25 mécaniques de la micropoutre différente selon le type de biocapteurs utilisés. Lorsque le biocapteur comprend une électrode seulement, on détecte une déflexion de poutre induisant une variation de la résistance électrique de l'électrode formée sur le cantilever : la détection est dite de type piezorésistif. Lorsque le biocapteur comprend une seule électrode mais également un plot 30 en un matériau ferromagnétique sur la partie de l'électrode encastrée dans la micropoutre, on mesure la variation de l'impédance du matériau ferromagnétique lorsque la molécule A est mise en contact avec la molécule B à détecter et/ou quantifier. 10 15 Les métaux ferromagnétiques préférés utilisés dans l'invention pour former le plot métallique sont choisis parmi les métaux ferromagnétiques à champ coercitif faible, c'est-à-dire inférieur ou égal à 2 Oersted. Les métaux préférés sont, le nickel, le fer, le cobalt ou un alliage ou 5 mélange de deux au moins de ceux-ci. La détection est effectuée par magnéto-impédance. Lorsque le biocapteur comprend deux électrodes sur la même face du biocapteur, on détecte un changement de la fréquence de résonance de la micropoutre par changement de masse lorsque la biomolécule A est mise en contact avec la molécule B à 10 détecter et/ou quantifier. La détection est de type piézoélectrique. Lorsque le biocapteur comprend deux électrodes l'une sur une face du biocapteur et l'autre sur l'autre face, on mesure la variation de la fréquence de résonance de la micropoutre par changement de masse lorsque la biomolécule A est mise en contact avec la 15 molécule B à détecter et/ou quantifier. La détection est de type piézoélectrique. Lorsque le biocapteur comprend trois électrodes, deux électrodes sur une première face du biocapteur et l'autre sur l'autre face en vis-à-vis avec les deux électrodes de la première face, on détecte le changement de fréquence de résonnance lorsque la molécule A 20 est mise en contact avec la molécule B à détecter et/ou quantifier. La détection est du type piezoélectrique. La caractéristique essentielle du biocapteur de l'invention est que la micropoutre reliée à un support est en un matériau fluoropolymère, éventuellement ayant des propriétés piezoélectriques, ces propriétés étant indispensables dans le cas où le type de 25 détection est une détection piezoélectrique. La micropoutre est intégrale avec le support qui est donc également constitué du même matériau fluoropolymère. Les matériaux fluoropolymères préférés utilisés dans l'invention sont, lorsque le biocapteur n'est pas un biocapteur à détection de type piezoélectrique, le 30 polyvinylidène fluorure (PVDF), ou un copolymère de polyvinylidène fluorure et de trifluoroéthylène P(VDF-TrFe), ou un polymère de tétrafluoroéthylène (PTFE). Lorsque le biocapteur selon l'invention est un biocapteur à détection piezoélectrique, il est nécessaire que le matériau fluoropolymère utilisé soit un matériau fluoropolymère ayant des propriétés piezoélectriques. Les exemples de tels matériaux sont le PVDF et le P(VDF-TrFe) ayant des propriétés piezoélectriques. Ainsi, le procédé de l'invention permet de fabriquer un biocapteur comprenant : - une micropoutre, qui est la partie mobile du biocapteur, reliée à un support, - au moins une électrode dont une partie au moins est encastrée sur la micro poutre, - au moins une molécule biologique A greffée sur la micro poutre dans une zone différente de la zone d'encastrement de la(des) électrode(s), - un transducteur mécano-électrique de conversion en signal électrique des variations des propriétés mécaniques de la micropoutre, lorsque la molécule biologique A est mise en contact avec une molécule biologique B à détecter et/ou quantifier, Des exemples, non limitatifs, de couples molécule A- molécule B sont les suivants : - molécule A : anticorps-molécule B : antigène. Une détection d'un antigène particulier par un anticorps particulier permet de savoir, par exemple, si un milieu contient ou pas un antigène particulier, par exemple pour déterminer si le milieu est contaminé ou pas par l'antigène du contaminant. molécule A : ADN ou ARN - molécule B : brin complémentaire. - molécule A : sucre - molécule B : protéine. molécule A : protéine - Molécule B : Acide nucléique (ADN, ARN) - molécule A : Acide nucléique (ADN, ARN) - Molécule B : Protéine - molécule A : protéine - molécule B : protéine - molécule A : antigène - molécule B : anticorps. La détection d'un anticorps particulier permet par exemple, de déterminer si un sujet humain ou animal a déjà eu 1a maladie dont l'antigène est le marqueur. - molécule A protéine - molécule B anticorps ou une autre protéine. La détection par une protéine particulière d'un anticorps particulier permet 30 par exemple de détecter certains marqueurs du cancer, de la maladie d'Alzheimer etc... Dans ce contexte, on peut également se servir du biocapteur pour cribler des médicaments lorsque la molécule A est une enzyme spécifique d'une maladie et que la molécule B est par exemple un inhibiteur de cette enzyme. 25 Ainsi, les possibilités d'utilisation du biocapteur selon l'invention sont très L'invention propose un procédé de fabrication d'un biocapteur comprenant : - une micropoutre, qui est la partie mobile du biocapteur, reliée à un - au moins une électrode dont une partie au moins est encastrée sur la micropoutre, 1a(les) électrode(s) comprenant, optionnellement, un plot en un matériau ferromagnétique, - au moins une molécule biologique A greffée sur la micropoutre, dans une 10 zone différente de la zone d'encastrement de la(des) électrode(s), - un transducteur mécano-électrique de conversion en signal électrique des variations des propriétés mécaniques de la micropoutre, lorsque la molécule biologique A est mise en contact avec une molécule biologique B à détecter et/ou quantifier, caractérisé en ce que : 15 - la micropoutre et son support sont en un matériau fluoropolymère et forment une pièce intégrale, et en ce qu'il comprend les étapes suivantes : a) formation sur une feuille en un matériau fluoropolymère d'au moins une électrode, dont l'interface entre le fluoropolymère et l'électrode est préférentiellement de 20 nature covalente, b) optionnellement, formation d'un plot en un matériau ferromagnétique, sur une zone de la(des) électrode(s), c) passivation de la(des) électrode(s), d) création, dans la feuille en un matériau fluoropolymère, de la forme 25 désirée finale du biocapteur et séparation de cette forme de la feuille, e) optionnellement, préfonctionnalisation d'une zone de la micropoutre, cette zone étant différente de la zone d'encastrement de la(des) électrode(s), f) fonctionnalisation, soit de la zone préfonctionnalisée à l'étape e), lorsque cette étape est mise en oeuvre, soit d'une zone de la micropoutre, cette zone étant différente de 30 la zone d'encastrement de la(des) électrode(s), g) greffage d'au moins une molécule biologique A sur la zone fonctionnalisée obtenue à l'étape f). Cette combinaison d'étapes où les liaisons entre les électrodes et le matériau fluoropolymère, les liaisons entre la zone fonctionnalisée et le matériau fluoropolymère et les larges. support, liaisons entre la zone fonctionnalisée et la molécule A sont de nature covalente permet d'obtenir un biocapteur qui a une durée de vie et une sensibilité améliorée par rapport aux biocapteurs, de taille de l'ordre de quelques dizaines de microns, de l'art antérieur, dans lesquels les électrodes et la fonctionnalisation de la micropoutre sont effectuées respectivement par dépôt physique et par liaisons chimiques faibles, créant des interactions de type physisorption caractérisées par une faible adhérence des matériaux. Les méthodes connues de création d'interfaces covalentes en un matériau polymère n'étaient, jusqu'à présent, utilisées que pour les dispositifs d'une taille de quelques dizaines de centimètres ou millimètres. De plus, on ne connaissait pas de méthode de formation de la structure du biocapteur et de libération de la feuille en un matériau fluoropolymère. L'électrode peut être en tout matériau conducteur qui apparaîtra à l'homme de l'art. De préférence dans l'invention, elle sera en cuivre ou en or. L'étape d) de création, dans la feuille en un matériau fluoropolymère, de la forme désirée finale du biocapteur et de séparation de cette forme de la feuille, peut être effectuée : - soit, après l'étape c) de passivation des électrodes, - soit, après l'étape e) de préfonctionnalisation lorsqu'une telle étape e) est 20 mise en oeuvre, - soit, après l'étape f) de fonctionnalisation - soit après l'étape g) de greffage de la biomolécule A. Les modes de mise en oeuvre préférés dans l'invention sont ceux dans lesquels l'étape d) est mise en oeuvre avant l'étape g) de greffage de la biomolécule A car ils 25 permettent de ne pas endommager ou autrement affecter la molécule biologique A lors de cette étape d). Dans ce cas, plusieurs méthodes peuvent être mise en oeuvre pour réaliser l'étape d). Une première de ces méthodes comprend les étapes suivantes : 30 dl) fabrication d'un moule de découpe creux ou à la forme de la structure du capteur final voulu, d2) compression du moule fabriqué à l'étape dl) sur la feuille en un matériau fluoropolymère, d3) découpe autour du moule de la structure voulue par emboutissage avec chauffage et/ou excitation acoustique par ultrasons du moule de découpe. Une deuxième méthode pour mettre en oeuvre l'étape d) comprend une étape d4) de découpe de la forme voulue dans la feuille en un matériau fluoropolymère, par un laser Excimère émettant dans le domaine des longueurs d'onde des VUV. On pourra s'inspirer de la technique par ablation de fluoropolymère par source laser VUV de D. Riedel et al., Appl. Phys. A 69, 375-380 (1999). Une troisième méthode pour mettre en oeuvre l'étape d) comprend les étapes suivantes : d5) dépôt d'un masque ou d'un pochoir comprenant une ouverture détourant la forme finale voulue du capteur sur la feuille en un matériau fluoropolymère, et d6) découpe par attaque profonde réactive ionique sèche, plus connue sous l'anglicisme DRIE (Deep Reactive-Ion Etching), des contours de l'ouverture du masque ou du pochoir. Pour l'étape d6) on pourra s'inspirer des protocoles établis par E. Edqvist et al., J. Micromech. Microeng. 18, 015007 (2008) et Frank D. Egitto, Pure & Appl. Chem. 62(9), 1699-1708 (1990). Mais, dans le procédé de l'invention, l'étape d) peut être également mise en oeuvre seulement après les étapes f) de fonctionnalisation et g) de greffage de la biomolécule. Dans ce cas, deux méthodes particulières devront être appliquées. Ces deux méthodes particulières peuvent être également appliquées bien entendu, dans le cas où l'étape d) est mise en oeuvre avant l'étape e), après l'étape e), ou après l'étape f). Ainsi, une quatrième méthode pour mettre en oeuvre l'étape d) comprend les 25 étapes suivantes: d7) fabrication d'un moule de découpe creux ou à la forme de la structure du capteur final voulu, d8) compression du moule fabriqué à l'étape d7) sur la feuille en un matériau fluoropolymère, 30 d9) découpe, autour du moule, de la structure voulue, par emboutissage du moule à température ambiante. Une cinquième méthode pour mettre en oeuvre l'étape d) comprend une étape d10) de découpe manuelle, de préférence avec un scalpel, sous microscope, de la forme voulue du capteur final. 15 20 Le moule, dans les première et quatrième méthodes pourra être en tout matériau ayant une dureté supérieure à celle du matériau fluoropolymère. Il sera plus particulièrement en cuivre ou en silicium ou en nickel. Différentes méthodes de formation des électrodes peuvent être utilisées. Une première méthode de fabrication des électrodes comprend les étapes suivantes : al) dépôt ou greffage d'un masque en un matériau non transparent à un rayonnement VUV, comprenant au moins une ouverture ou une zone en un matériau transparent au rayonnement VUV, sur la feuille en matériau fluoropolymère, cette ouverture ou cette zone ayant la forme voulue de la(des) électrode(s), a2) irradiation par ledit rayonnement VUV, sous gaz inerte, de préférence l'azote, de la feuille obtenue à l'étape al), a3) retrait du masque, a4) greffage, par chimie conventionnelle, de molécules d'acide acrylique, 15 pour former un polymère d'acide polyacrylique (PAA), dans les zones irradiées obtenues à l'étape a2), a5) fixation d'ions Cul'-, par chélation, sur le PAA greffé à l'étape a4), et aô) réduction des ions Cul+ en micro- ou nano-particules de cuivre, de préférence en présence de NaBH4, a7) croissance, sur les zones où se trouvent les micro- ou nano-particules de cuivre, d'une couche de cuivre ou d'or, par un bain de métallisation. A l'étape a2), l'irradiation par le rayonnement VUV se fait sous gaz inerte. En tant que gaz inerte on peut utiliser l'argon ou l'azote. On préférera l'azote pour des questions de coûts. L'étape a4), tout comme dans la suite du texte, toutes les étapes de greffage de molécules d'acide acrylique, par chimie conventionnelle, sur des zones irradiées par rayonnement VUV peut être effectuée avec les composants suivants et le mode opératoire suivant : Après irradiation VUV, les zones irradiées sont mises en contact avec une 30 solution contenant de l'acide acrylique qui est ensuite polymérisée. Cette solution pourra voir le pourcentage d'acide acrylique varier de 0,5% à 100%0. Les solutions seront alors réalisées en diluant l'acide acrylique dans de l'eau ultrapure ou de l'acétate d'éthyle par exemple. De préférence, il faudra prendre un solvant solubilisant l'acide acrylique afin d'obtenir une seule 20 25 phase. L'homme de l'art pourra se référer à la demande de brevet français FR 0 955 859 pour plus d'informations. Lorsque les dilutions seront réalisées dans l'eau, du sel de Mohr ((NH4)2Fe(SO4)2.6H2O) sera ajouté à la hauteur de 0,25% en poids. Ce dernier permet d'inhiber l'homopolymérisation de l'acide acrylique en solution et donc de favoriser le greffage sur/dans le matériau irradié. L'étape a5), tout comme dans la suite du texte, toutes les étapes de fixation d'ions Cul+ par chélation, sur le PAA, ainsi que l'étape a6) de réduction de ces ions Cul+, sont décrites de façon complète dans la demande de brevet US 2010/0310800 déposée le 30 avril 2010. L'étape a5), tout comme dans la suite du texte, toutes les étapes de fixation d'ions Cul+ par chélation, peut être effectuée des composés suivants et suivant le mode opératoire suivant : L'étape de fixation d'ions Cul+ du procédé selon la présente invention consiste à mettre le composé de type polymère apte à chélater (ou complexer) les ions métalliques en présence de tels ions métalliques. Ici, le polymère de l'acide acrylique, c'est-à-dire le poly(acide acrylique) ou PAA est utilisé préférentiellement en tant que composé de type polymère. Cette étape est donc une étape de chélation avec complexation. Par « ion métallique », on entend, dans le cadre de la présente invention un ion de type M°+, avec M représentant un métal et n un nombre entier compris entre 1 et 7, et généralement entre 1 et 4. Typiquement il s'agit d'un ion d'un métal alcalin, d'un métal alcalino-terreux, d'un métal pauvre (notamment Al, Ga, In, Sn, Pb, Tl, Bi) ou d'un métal de transition. La présente invention concerne plus particulièrement les ions d'un métal de transition. Avantageusement, un ion métallique selon l'invention est choisi dans le groupe constitué par Ag+, Ag2+, Aga+, Au+, Au3+, Cd2+, Col+, Cr2+, Cu+, Cul+, Fe2+ Hg2+, Mn2+, Nie+, Pd+, Pt+, Ti4+ et Zn2+. Lors de cette étape l'ion privilégié est le Cul+. Lors de cette étape du procédé selon l'invention, l'ion métallique se trouve dans une solution saline SI, avantageusement dans une solution saline aqueuse, en présence d'un contre-ion anionique. A titre de contre-ions anioniques utilisables, on peut citer un chlorure (Cl-) un bromure (Bi), un fluorure (FI un iodure (I-), un sulfate (SO42-), un nitrate (NO3') ou un phosphate (PO43-) Il peut être nécessaire de contrôler le pH de la solution saline utilisée lors de l'étape (a5) notamment pour que les groupements (ou structures) aptes à chélater les ions métalliques portés par le composé de type polymère soient sous une forme adéquate pour cette chélation, par exemple, sous une forme ionisée. L'homme du métier saura en fonction des groupements chélateurs portés par le composé de type polymère et de la solution SI, s'il est nécessaire ou non de modifier le pH de cette solution. Dans l'affirmative, l'homme du métier connaît différents couples acide/base aptes à modifier le pH tels que CH30OOH/NH3 ou CH30OOH/NaOH. Enfin, l'étape de chélation peut être effectuée sous agitation notamment en utilisant un agitateur, un barreau magnétique, un bain à ultrasons ou un homogénéisateur et à une température inférieure à 60°C, notamment comprise entre 5 et 50°C et, en particulier, comprise entre 10 et 40°C. L'étape a5) selon l'invention est réalisée, dans une forme de mise en oeuvre plus particulière, à température ambiante. Par « température ambiante », on entend une température de 20°C ± 5°C. L'étape a6), de réduction des ions Cul+ en micro- nano-particules de cuivre est bien connue de l'homme de l'art. Cette étape a6), comme toutes les étapes dans la suite de ce texte, dans la suite du texte, sont des étapes de réduction chimique ou photochimique d'ions métalliques, peut être mise en oeuvre de la façon suivante : L'étape de réduction chimique ou photochimique du procédé selon l'invention consiste à réduire les ions métalliques chélatés (ou complexés) par le composé de type polymère. Toute technique de réduction connue de l'homme du métier est utilisable lors de cette étape. Avantageusement, cette étape de réduction est une réduction chimique ou une photoréduction . Lorsque cette étape est une étape de réduction chimique, cette dernière met en oeuvre une solution réductrice S2. Avantageusement, la solution réductrice S2 est basique. La solution réductrice S2 comprend un agent réducteur, notamment choisi dans le groupe constitué par le borohydrure de sodium (NaBH4), le diméthylamineborane (DMAB - H(CH3)2NBH3 et l'hydrazine (N2H4). Lorsque l'agent réducteur est NaBH4, le pH de la solution réductrice S2 est neutre ou basique, alors que, pour du DMAB, le pH de la solution S2 est basique. L'agent réducteur est présent dans la solution réductrice S2 à une concentration comprise entre 10-4 et 5 M, notamment entre 0,01 et 1 M et, en particulier, de l'ordre de 0,1 M (i.e. 0,1 M + 0,01 M). L'étape de réduction chimique peut être effectuée à une température comprise entre 30 et 90°C, notamment, entre 40 et 80°C et, en particulier, entre 50 et 80°C. De plus, l'étape a6) réduction chimique peut durer entre 30 sec et 1 h, notamment entre 1 et 30 min et, en particulier, entre 2 et 20 min. Cette étape peut être une étape de photoréduction. Typiquement des ions Ag+, Pt+, Pd+, et Au+ peuvent être réduits par irradiation UV (Redjala T et al., New Journal Of Chemistry, Vol. 32, Issue 8, 2008. ; Eda Ozkaraoglu, Ilknur Tunc and Sefik Suzer, Polymer, Vo1.50, Issue 2, 2009). Généralement, cette réduction fait intervenir un intermédiaire qui peut être typiquement un contre-ion ou une molécule organique qui, soumis à une irradiation UV, fournit les électrons nécessaires à la réduction des ions métalliques. De plus, ce type de procédé peut faire intervenir des phénomènes d'optique linéaire et d'optique non linéaire (typiquement un processus multiphotonique). L'utilisation de laser peut permettre d'obtenir une nano ou microstructuration du dépôt métallique (Tanaka T, Ishikawa A, Kawata S, Applied Physics Letters, vol 88, Issue 8, 2006. ; Kaneko K, Sun HB, Duan XM, Kawata S, Applied physics Letters, Vol. 83, Issue 7, 2003). Cette photoréduction est avantageusement effectuée dans une solution S3. Les différentes caractéristiques et propriétés de la solution S2 telle que précédemment définie s'appliquent également à la solution S3. Il convient de remarquer que la mise en oeuvre d'une seule étape de fixation d'ions Cul+ et d'une seule étape de réduction de ces ions peut ne pas suffire pour atteindre la métallisation souhaitée. Dans ce cas, au moins un nouveau cycle avec une nouvelle étape a5) et une nouvelle étape a6), doit être réalisé. On peut envisager de réaliser, après le 1" cycle de chélation/réduction, de 1 à 20 cycles supplémentaires, notamment de 1 à 15 cycles supplémentaires et, en particulier de 1 à 10 cycles supplémentaires. Par « cycle supplémentaire », on entend une étape a5) suivie d'une étape a6). Il convient également de souligner que, malgré plusieurs cycles de chélation/réduction, il est possible qu'il n'y ait pas formation d'un métal mais seulement d'une forme plus réduite que celle de l'ion métallique à savoir un oxyde métallique. Cette variante est fonction du métal considéré, des conditions lors des étapes de réduction et de l'environnement notamment de la présence d'oxygène. Un choix adapté des conditions (potentiel d'oxydoréduction du réducteur dans le cadre de la réduction chimique par exemple) permet d'obtenir le type d'entité métallique désiré. En modulant les conditions expérimentales, il est ainsi possible d'obtenir des substrats métallisés comportant différentes entités métalliques : métal ou oxyde métallique et également des ions métalliques. Le procédé pour mettre en oeuvre les étapes a5) et a6), ainsi que toutes les étapes qui, dans la suite du texte se rapportent à une étape de fixation d'ions Cul+ par chélation sur le PAA et leur réduction chimique, est décrit plus complètement dans la demande brevet FR 0 952 891. L'étape a7), tout comme toutes les étapes qui, dans la suite du texte, sont des étapes de croissance ou formation d'une couche de cuivre ou d'or peut être effectuée selon le mode opératoire suivant : Cette étape met en oeuvre un bain de métallisation dans lequel les polymères activés sont immergés. Dans ce bain, la croissance métallique est catalysée par les particules métalliques déposées à l'étape a6). Le bain de métallisation est une solution stable contenant au moins un cation métallique et son complexant, un réducteur et un stabilisateur, généralement en milieu alcalin. Les précurseurs du matériau métallique réduits à l'étape a6) du procédé selon l'invention présentent majoritairement un degré d'oxydation de O. Ainsi, la métallisation peut alors avoir lieu par immersion dans un bain de métallisation et croissance sur les particules de précurseurs à un degré d'oxydation de 0. Pour la métallisation pour former une couche de cuivre, les échantillons sont immergés dans la solution décrite dans le Tableau 1 ci-après, chauffée à 40°C dans un bain-marie : Bain de métallisation Réactifs m(g) pour 100 mL C (g/1) CuSO4, 7H2O 0,5 5 Tartrate de dissodium 2,96 25 C4H4Na2O6 NaOH 0,5 7 Formaldehyde 2,94 10 mL/L HCHO (37°/O dans H2O) Réactifs m(g) pour 100 mL C (g/1) Tableau 1 : Composition du bain de métallisation de cuivre Après 15 min, les échantillons ont été rincés à l'eau ultrapure, par exemple fournie la société Millipore, sous ultrasons pendant 10 min avant d'être séchés. 20 L'analyse infrarouge révèle la disparition des pics des différents polymères. L'analyse XPS confirme la présence d'une couche de cuivre métallique (sous sa forme réduite, Cu°). La couche de cuivre est également visible à l'oeil nu. La présence de carbone, azote et oxygène après métallisation est due à la présence d'impuretés organiques à l'extrême surface du substrat métallisé. L'oxygène peut également provenir de l'oxydation à 25 l'air de la couche de cuivre avant l'analyse.15 Dans cette méthode, on utilise un masque en un matériau non transparent au rayonnement VUV comportant soit une ou des ouvertures, soit une ou des zones en un matériau transparent au rayonnement VUV. En tant que matériau non transparent au rayonnement VUV, on peut citer le cuivre et le silicium et en tant que matériau transparent au rayonnement VUV, on peut citer la silice fondue, le quartz, le CaF2 et le MgF2. Les électrodes peuvent également être fabriquées selon la méthode comprenant les étapes suivantes : a8) dépôt d'une couche de résine sensible à un rayonnement UV, de type positif, sur la feuille en un matériau fluoropolymère, a9) irradiation, avec ledit rayonnement UV de la couche formée à l'étape a8) au travers d'un masque en un matériau non transparent audit rayonnement UV comportant au moins une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou cette zone ayant la forme voulue(des) électrode(s), a10) élimination de la résine irradiée et du masque, al l) formation d'un polymère PAA, dans les zones où la résine a été éliminée, par la technologie au sel de diazonium, a12) fixation d'ions Cul+, par chélation, sur le PAA formé à l'étape al l), al3) réduction des ions Cul+ chélatés dans le PAA pour former des micro- ou nano-particules de cuivre permettant d'autocatalyser le bain de métallisation de l'étape a14), a14) croissance, par bain de métallisation, d'une couche de cuivre ou d'or sur les zones comprenant les micro- ou nano-particules de cuivre. al5) élimination de la résine photosensible restante. Dans cette méthode, on utilise une résine sensible à un rayonnement UV, de type positif, et on élimine alors et après l'irradiation, les zones de résine irradiées. Cependant, on pourrait également utiliser une couche de résine photosensible de type négatif, mais dans ce cas les zones en un matériau transparent au rayonnement UV, ou les ouvertures du masque, devront détourer la forme voulue pour la(les) électrodes et ce sont les zones de résine non irradiées qui seront éliminées à l'étape a10). Le masque utilisé est un masque en un matériau non transparent au rayonnement UV comprenant soit des ouvertures (absence de matériau dans cette ouverture) soit des zones en un matériau transparent aux UV. Des exemples de matériaux non transparents aux UV sont le cuivre, le silicium, certaines encres, certains matériaux polymères tels que par exemple, le polyéthylène téréphtalate (PET) ou le polypropylène (PP). Des exemples de matériaux transparents aux UV sont la silice fondue, le quartz, le fluorure de calcium (CaF2), le fluorure de magnésium (MgF2), le verre ou la silice. L'étape al l) est une étape de formation d'un polymère PAA par la technologie au sel de diazonium. La technologie au sel de diazonium est également connue, dans l'art, comme la technologie GraftFaste. Cette étape, comme toutes les étapes qui, dans la suite du texte se réfèrent 10 au greffage de molécules d'acide acrylique sur la feuille en un matériau fluoropolymère, par la technologie au sel de diazonium, s'effectue de la façon suivante Une solution d'un sel de diazonium est tout d'abord préparée à partir de 10 ml d'une solution de 1-4 phenyldiamine à cm m dans HCl (0,5 M), à laquelle ont été ajoutés 10 ml d'une solution de NaN42 à 0,1 M dans de l'eau. A cette solution de sel de 15 diazonium, sont ajoutés 200 mg de limaille de fer, puis, après 5 min, 10 mL d'AA. L'échantillon est ensuite introduit dans le milieu réactionnel pendant 2 h, avant d'être rincé à l'eau et introduit dans une solution de soude à pH de 9,5 en présence d'ultrasons de façon à solubiliser l'acide polyacrylique (PAA) non greffé. On trouvera plus de détails sur cette méthode dans le brevet français FR 2 910 006. 20 L'étape a) de fabrication des électrodes peut encore être mise en oeuvre selon une méthode qui comprend les étapes suivantes : a16) formation d'un polymère PAA sur la feuille en un matériau fluoropolymère, par la technologie au sel de diazonium. a17) fixation d'ions Cul+, par chélation, sur le PAA formé à l'étape a16), 25 a18) réduction des ions chélatés pour la formation de micro- ou de nano particules de cuivre pour activer le bain de métallisation de l'étape a19) a19) croissance, par bain de métallisation, d'une couche de cuivre ou d'or sur les zones comprenant les micro- ou nano-particules de cuivre. a20) dépôt d'une couche de résine sensible à un rayonnement UV, de type 30 positif, sur la surface de la feuille en matériau fluoropolymère et métallisée obtenue à l'étape a19), a21) irradiation, avec ledit rayonnement UV, de la couche formée à l'étape a20), au travers d'un masque en un matériau transparent audit rayonnement UV comportant au moins une ouverture ou une zone en un matériau non transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou cette zone détourant la forme voulue de la(des) électrode(s), a22) élimination de la résine irradiée, a23) élimination du cuivre ou de l'or, par gravure chimique, de préférence avec FeC13 lorsque la couche formée à l'étape a19) est en cuivre, ou avec un mélange HNO3/HC1 (eau régale), lorsque la couche formée à l'étape a19) est de l'or, dans les zones où la résine a été éliminée, a24) élimination de la résine photosensible restante. L'étape a17), de fixation d'ions Cul+, par chélation, sur le PAA et de 10 réduction de ces ions Cul+, est décrite de façon complète dans la demande de brevet US 2010/0310800 déposée le 30 avril 2010. Quant à l'étape a23), tout comme les étapes qui, dans la suite du texte, sont des étapes d'élimination par gravure chimique, de la couche de cuivre ou d'or formée, elle s'effectue par trempage de la feuille en un matériau fluoropolymère soit dans une solution de 15 FeC13, lorsque la couche est en cuivre, soit dans l'eau régale, qui est un mélange d'acide chlorhydrique et d'acide nitrique concentré contenant deux ou trois volumes d'acide chlorhydrique pour un volume d'acide nitrique, lorsque la couche est en or. L'étape a) de formation des électrodes peut encore comprendre les étapes suivantes : a25) irradiation d'une feuille en un matériau fluoropolymère avec un rayonnement VUV, sous gaz inerte, de préférence l'azote, a26) greffage sur la feuille obtenue à l'étape a25) de molécules d'acide acrylique, par chimie conventionnelle, pour former un polymère d'acide acrylique PAA, a27) fixation d'ions Cul+, par chélation, sur le PAA greffé à l'étape a26), a28) réduction des ions Cul+ en micro- ou nano-particules de cuivre, de préférence avec NaBH4, a29) croissance, sur les zones comprenant les micro- ou nano-particules de cuivre, d'une couche de cuivre ou d'or, par un bain de métallisation, a30) dépôt d'une couche de résine, de type positif, sensible à un 30 rayonnement UV, sur la feuille en un matériau fluoropolymère métallisé obtenue à l'étape a29), a31) irradiation, avec ledit rayonnement UV de la couche formée à l'étape a30), au travers d'un masque en un matériau transparent audit rayonnement UV, comprenant 20 25 une ouverture ou une zone en un matériau transparent aux UV, cette ouverture ou cette zone détourant la forme voulue de la(des) électrodes, a32) élimination de la résine irradiée et du masque, a33) élimination, par gravure chimique, dans les zones où la résine a été irradiée, de la couche de cuivre si formée à l'étape a29), de préférence avec FeC13, ou de la couche d'or, si formée à l'étape a29), de préférence avec un mélange HNO3/HC1(eau régale), a34) élimination de la résine restante. Enfin, une dernière méthode pour mettre en oeuvre l'étape a) de formation des électrodes, dans le procédé de l'invention, est une étape qui comprend les étapes suivantes : a35) dépôt d'une couche de résine sensible à un rayonnement UV, de type positif, sur la surface de la feuille en matériau fluoropolymère, a36) irradiation, avec ledit rayonnement UV, de la couche formée à l'étape a35), au travers d'un masque en un matériau non transparent aux UV, comportant au moins une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou zone ayant la forme voulue des électrodes, a37) élimination des zones de résine irradiée et du masque, a38) dépôt, d'or dans les zones dans lesquelles la résine a été éliminée, par évaporation physique sous vide, de préférence par plasma ou chauffage, ou pulvérisation a39) élimination de la résine photosensible restante. Une fois l'électrode formée, et lorsque l'on veut former un plot en matériau ferromagnétique sur cette électrode, on procédera ensuite à l'étape b) de formation d'un plot en un matériau ferromagnétique. Lorsqu'un plot en matériau ferromagnétique sur les électrodes n'est pas nécessaire, on passera directement à l'étape c) de passivation des électrodes. L'étape b) de formation d'un plot en un matériau ferromagnétique peut être mise en ceuvre par une méthode qui comprend les étapes suivantes : bl) dépôt d'une couche de résine sensible à un rayonnement UV, de type positif, sur la feuille en un matériau fluoropolymère comportant les électrodes, b2) dépôt ou greffage d'un masque en un matériau non transparent audit rayonnement UV, comprenant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou cette zone ayant la forme et la localisation, sur la feuille obtenue à l'étape bl) du plot voulu sur une zone de l'électrode préalablement obtenue par les étapes a), b3) irradiation par audit rayonnement UV, de la feuille obtenue à l'étape b2), b4) élimination de la résine photosensible irradiée et du masque, b5) formation d'un polymère PAA dans les zones où la résine irradiée a été éliminée, par la technologie au sel de diazonium, b6) fixation, par chélation, d'ions métalliques choisis parmi Ni+, Fe2+, Fei+ Col+ ou d'un mélange de deux au moins de ceux-ci, sur le PAA greffé à l'étape b5), b7) réduction des ions métalliques fixés à l'étape b6), b8) optionnellement, croissance de la couche de métal ainsi obtenue, b9) élimination de la résine photosensible restante. L'étape b5) de formation d'un polymère PAA dans les zones où la résine irradiée a été éliminée, par la technologie au sel de diazonium correspond à la mise en oeuvre de la technologie GraftFaste qui est décrite de façon complète dans la demande de brevet FR 0 758 660 et également ci-dessus. Quant à l'étape b7) de réduction chimique des ions métalliques fixés à l'étape f6), elle s'effectue comme précédemment. L'étape b8), tout comme toutes les étapes qui, dans ce texte se réfèrent à une étape de croissance de la couche métallique, peut s'effectuer à partir des composés suivants et de la façon suivante : bain de galvanoplastie contenant pour un dépôt contrôlé de permalloy (NiFe) : NiSO4.6H2O à 0,7mo1/1 FeSO4.7H2O à 0,03mo1/1 NiC12.6H2O à 0,02mo1/1 H3BO3 à 0,4mo1/1 Saccharine à 0,016mo1/1. avec un pH 2,3 et une température 40°C. L'électrode de la feuille en fluoropolymère, immergée dans ce bain, étant reliée à une source de courant avec une contre-électrode en carbone dans le même bain pour une densité de courant de 14,5mA/cm2. Ce dépôt galvanique se fera préférentiellement sous un champ magnétique externe (de l'ordre de 0,2 milliTesla) appliqué pour améliorer les propriétés magnétiques du plot ferromagnétique pour le capteur à magnéto-impédance. 30 Cette étape est mise en oeuvre lorsque l'épaisseur de la couche métallique obtenue après réduction des ions métalliques n'est pas d'une épaisseur suffisante, c'est-à-dire a une épaisseur inférieure a' 1 micromètre. L'étape c) de passivation des électrodes, selon un premier mode de mise en 5 oeuvre, comprend les étapes suivantes cl) dépôt à la tournette de résine époxy Ste, de type négatif, sur la feuille en un matériau fluoropolymère comportant les électrodes, c2) dépôt ou greffage, sur la couche de résine obtenue à l'étape cl), d'un masque en un matériau non transparent à un rayonnement UV comprenant une ouverture ou 10 une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou cette zone ayant la forme de la(des) électrode(s), c3) irradiation avec ledit rayonnement UV de la couche de résine SU8au travers du masque, c4) élimination du masque et de la résine non irradiée, 15 c5) durcissement sous recuit, entre 70°C et 120°C pendant 1 minute de la résine restante. Les zones de résine SU8e, commercialisée par la société MicroChem Corp. (Newton, USA), non irradiées s'éliminent avec le révélateur PGMEA (propylene glycolmonomethyl ether acetate ). 20 L'étape c) de passivation des électrodes peut être également mise en oeuvre par une méthode qui comprend les étapes suivantes c6) dépôt d'une couche de résine sensible à un rayonnement UV, de type positif, sur la feuille en un matériau fluoropolymère comportant les électrodes, c7) irradiation avec ledit rayonnement UV de la couche de résine sensible 25 au travers d'un masque en un matériau non transparent audit rayonnement UV comportant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou zone ayant la forme de la(des) électrode(s), c8) enlèvement du masque et élimination de la résine irradiée, c9) dépôt pyrolytique d'une couche de parylène de type N 30 ([2,2]paracyclophane) ou C (Chloro[2,2]paracyclophane) dans les zones où la résine a été éliminée, c10) élimination de la résine sensible au rayonnement UV restante. Mais cette étape c) de passivation des électrodes peut également être mise en oeuvre selon une méthode qui comprend les étapes suivantes : et l) électrogreffage d'un matériau polymère électrophorétique sur les électrodes, c12) durcissement du matériau polymère électrophorétique par chauffage. Le matériau polymère électrophorétique qui est électrogreffé à l'étape c 11) 5 est, par exemple, une peinture électrophorétique cathodique GLASSOPHOR° (BASF, Germany). L'électrogreffage s'effectue de la façon suivante : L'électrode à passiver avec un film de peinture électrophorétique est connectée au pôle négatif d'une source de tension, et immergé dans un bain de 10 GLASSOPHORe.H20 à 40% avec une contre-électrode en platine connectée au pôle positif de la source de tension. Une tension de 17 volts est ensuite appliquée entre les deux électrodes jusqu'à ce que le courant détecté dans le circuit devienne nul. L'électrode recouverte du film passivant est ensuite retirée du bain et rincée à l'eau ultrapure Millipore ° . Le chauffage de l'étape c12) est effectué à une température comprise entre 15 70°C et 130°C pendant environ 30 minutes. L'étape f) de fonctionnalisation a pour but de doter une zone de la micropoutre de fonctions aptes à réagir avec des fonctions de la biomolécule A, pour permettre le greffage de la biomolécule A. Lorsque la fonction apte à réagir avec une fonction de la biomolécule A est 20 une fonction acide carboxylique (COOH), l'étape f) est, dans l'invention, une étape de formation d'une couche de polymère poly(acide acrylique) PAA. Dans ce cas, le procédé de l'invention ne comprend pas d'étape e) de préfonctionnalisation et, deux méthodes de fonctionnalisation (formation d'une couche de polymère PAA) sont possibles. 25 La première de ces méthodes comprend les étapes suivantes : fl) dépôt ou greffage d'un masque en un matériau non transparent à un rayonnement VUV, comprenant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement VUV, cette ouverture ou cette zone ayant la forme de la zone de la feuille en un matériau fluoropolymère à fonctionnaliser, cette ouverture ou cette zone étant située dans la 30 partie du masque correspondant à la micropoutre à former, et en dehors de la zone de la micropoutre sur laquelle la ou les électrodes sont encastrées ou sont à encastrer, f2) irradiation, par ledit rayonnement VUV, sous gaz inerte, de préférence l'azote, de la feuille obtenue à l'étape fi), f3) enlèvement du masque, f4) formation, par chimie conventionnelle, d'un polymère d'acide polyacrylique PAA, dans les zones irradiées. L'étape fl) de greffage d'un masque sur la feuille en fluoropolymère peut s'effectuer en appliquant un masque en un matériau non transparent au rayonnement VUV comportant soit une ou des ouvertures, soit une ou des zones en un matériau transparent au rayonnement VUV. En tant que matériau non transparent au rayonnement VUV, on peut citer le cuivre et le silicium et en tant que matériau transparent au rayonnement VUV, on peut citer la silice fondue, le quartz, le CaF2 et le MgF2. La seconde méthode pour mettre en oeuvre l'étape f) comprend les étapes suivantes : f5) dépôt d'une couche de résine, de type positif, sensible à un rayonnement UV, sur la feuille en un matériau fluoropolymère, fô) irradiation par ledit rayonnement UV de la couche de résine sensible au travers d'un masque en un matériau non transparent audit rayonnement UV comportant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou cette zone ayant la forme de la zone à fonctionnaliser et étant située dans la partie du masque correspondant à la partie micropoutre à former et en dehors de la zone de la micropoutre sur laquelle la(les) électrode(s) est(sont) encastrée(s) ou à encastrer, f7) élimination de la résine irradiée et du masque, f8) formation d'un polymère d'acide acrylique (PAA), dans les zones où la résine a été éliminée, par la technologie au sel de diazonium, D) élimination de la résine restante. Lorsque pour greffer la biomolécule A, il est nécessaire qu'une zone de la micropoutre soit munie de fonctions différentes d'une fonction acide carboxylique, c'est-à- dire lorsque pour greffer la biomolécule A il faut que des fonctions telles que des fonctions amine (NH2), des fonctions thiol (SH), des fonctions azoture (N3), des fonctions alcool (hydroxyle) (OH), des fonctions alcène ou des groupes maléimide, ou des groupes ester activés, de préférence des groupes ester de succinimide, le procédé de l'invention comprend une étape e) de préfonctionnalisation d'une zone de la micropoutre, cette zone préfonctionnalisée étant ensuite modifiée par greffage d'une molécule organique qui portera alors la fonction ou le groupe nécessaire pour réagir avec un groupe de la molécule biologique. Dans ce cas, une première méthode pour mettre en oeuvre l'étape de préfonctionnalisation e) comprend les étapes suivantes : el) dépôt ou greffage d'un masque en un matériau non transparent à un rayonnement VUV, comprenant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement VUV, cette ouverture ou cette zone ayant la forme de la zone de la feuille en un matériau fluoropolymère à fonctionnaliser, cette ouverture ou cette zone étant située dans la partie du masque correspondant à la micropoutre à former, et en dehors de la zone de la micropoutre sur laquelle la(les) électrode(s) est(sont) encastrée(s) ou à encastrer, e2) irradiation, par ledit rayonnement VUV, sous gaz inerte, de préférence l'azote, de la feuille obtenue à l'étape el), e3) enlèvement du masque, e4) formation d'un polymère d'acide polyacrylique PAA, par chimie conventionnelle, dans les zones irradiées. Une seconde méthode pour mettre en oeuvre l'étape e) de préfonctionnalisation comprend les étapes suivantes : e5) dépôt d'une couche de résine de type positif, sensible à un rayonnement 15 UV sur la feuille en un matériau fluoropolymère, e6) irradiation par ledit rayonnement UV de la couche de résine sensible au travers d'un masque en un matériau non transparent audit rayonnement UV comportant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou cette zone ayant la forme de la zone à fonctionnaliser et étant située dans la partie du masque 20 correspondant à la partie micropoutre à former et en dehors de la zone de la micropoutre sur laquelle la(les) électrode(s) est(sont) encastrée(s) ou à encastrer, e7) élimination de la résine irradiée et du masque, e8) formation d'un polymère d'acide acrylique (PAA), dans les zones où la résine a été éliminée, par la technologie au sel de diazonium, et 25 e9) élimination de la résine restante. L'étape f) de fonctionnalisation des zones préfonctionnalisées par la première et la seconde méthode de préfonctionnalisation décrite ci-dessus est alors une étape notée f10), de modification du polymère PAA formé à l'étape e4) ou a l'étape e8) avec une molécule organique, comprenant, à son extrémité non liée au PAA, des fonctions NH2, ou SH, 30 ou N3, ou OH, ou alcène, ou des groupes maléimide, ou des groupes ester activés, de préférence des groupes ester de succinimide, par chimie conventionnelle, dans la zone irradiée à l'étape e6). Comme précédemment, cette modification du PAA est effectuée par chimie conventionnelle ; le PAA est modifié par une molécule organique soit par création d'une liaison amide par exemple entre une fonction acide carboxylique du PAA et une fonction amine primaire ou secondaire de la molécule organique soit par la création par exemple d'une liaison ester entre une fonction acide carboxylique du PAA et un alcool de la molécule organique. La molécule organique ainsi greffée pourra présenter alors une autre fonction ou un groupe pouvant être fonctionnalisé ou réagir avec une molécule biologique. Cette fonction ou ce groupe pourront être une fonction amine NH2, une fonction thiol SH, une fonction azoture N3, une fonction alcool (hydroxyle), une fonction alcène terminal, un groupe maléimide, un groupe ester activé du type ester de succinimide. L'homme de l'art sera capable modifier en conséquence le PAA afin de pouvoir le fonctionnaliser avec une telle molécule organique. Lorsque l'étape g) de greffage de la biomolécule A s'effectue par réaction des fonctions réactives de la biomolécule A avec des fonctions diazonium présentes sur la zone de la micropoutre, l'étape e) de préfonctionnalisation comprend les étapes suivantes : e10) dépôt d'une couche de résine, de type positif, sensible à un rayonnement UV, sur la feuille en un matériau fluoropolymère, et l) irradiation par ledit rayonnement UV de la couche de résine sensible au travers d'un masque en un matériau non transparent audit rayonnement UV comportant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou cette zone ayant la forme de la zone à fonctionnaliser, et étant située dans la partie du masque correspondant à la micropoutre à former, mais en dehors de la zone de la micropoutre dans laquelle la(les) électrode(s) est(sont) encastrée(s) ou à encastrer, e12) élimination de la résine irradiée, e13) enlèvement du masque, e14) greffage d'une couche de polymère poly(aminophénylène), sur la zone où la résine a été éliminée. Dans ce cas, l'étape f) de fonctionnalisation est une étape fll) d'activation de la couche de polymère poly(aminophénylène) formée à l'étape e14) en couche de poly(diazonium phénylène). Pour mettre en oeuvre l'étape e14), on pourra utiliser les composés de départ suivants et le protocole suivant : L'apprêt à été préparé d'après le protocole qui a été illustré dans [Chem. Mater. 2007, 19, 6323-6330]. Des échantillons ont été plongées durant 40 min dans un mélange comportant 2 ml d'une solution aqueuse de NH2-Ph-NH2 (5.10-3 M dans HCl 0,5 M), 2 ml de solution aqueuse de NaNO2 (5.10-3 M) et 80 mg de limaille de fer. A la différence du protocole Chem. Mater. 2007, 19,6323-6330, la réaction est faite ici à 35 °C afin d'obtenir des films plus épais. Des bandes de membranes de Polyfluorure de vinylidène (PVDF)(3 (1 cm x 4 cm et 25 µm d'épaisseur) ont été plongées durant 120 min dans un mélange comportant 2 ml d'une solution aqueuse de NH2-Ph-NH2 (5.10-3 M dans HCl 0,5 M), 2 ml de solution aqueuse de NaNO2 (5.10-3 M) et 80 mg de limaille de fer. A la différence du protocole Chem. Mater. 2007, 19,6323-6330, la réaction est faite ici à 35 °C afin d'obtenir des films plus épais. L'étape fll), tout comme toutes étapes qui, dans la suite du texte est une étape de modification d'une couche de polymère du type poly(aminophénylène) en poly(diazonium phénylène), est décrite dans la demande de brevet FR 0 857 260. Pour la mettre en oeuvre, on pourra utiliser les composés de départ suivants et le protocole suivant : Les surfaces revêtues de l'apprêt ont été plongées dans une solution aqueuse de HC1 0,5 M et de NaNO2 5.10"2 M. Durant cette étape, la concentration de NaNO2 n'a pas besoin d'être précise, il y a toujours un excès par rapport aux fonctions amines présentes à la surface. La formation des sels de diazonium a pu être suivie par spectrométrie IR : un pic à 2270 cm-1 correspondant au diazonium. La réaction mise en oeuvre ici peut être 20 schématisée de la façon suivante : NH2 + NaNO2 + HC1 N-N,CI-+ 25 En milieu aqueux Pour plus d'information, l'homme de l'art pourra se référer à la demande de brevet français n°0 857 269. Lorsque la surface est recouverte avec une couche active de poly(diazonium 30 phénylène) le protocole de greffage de la molécule A est le suivant : De l'ADN de faible poids moléculaire de sperme de Saumon (Fluka) a été dissous dans de l'eau ultrapure, par exemple fournie la société Millipore; (1 mg dans 3 mL). 200 µL de cette solution ont été déposés sur l'échantillon préalablement recouvert d'une couche de poly(diazonium phénylène). Le dépôt à été réalisé sans précaution particulière et à température ambiante. Après 10 min de réaction, le support est rincé avec de l'eau ultrapure millipore puis soumis à des lavages sous sonication : ultrapure millipore 2 min/éthanol 2 min/ ultrapure millipore® 2 min. L'apparition de bandes à 1226 cm-I et à 1080 cm-1 sur le support comportant la couche auto-adhésive activée confirme la présence et le greffage covalent d'ADN à la surface. De la glucose oxydase (Sigma Aldrich) a été dissoute dans de l'eau ultrapure (1 mg dans 3 mL). 200 µL de cette solution a été déposés sur l'échantillon préalablement recouvert d'une couche de poly(diazonium phénylène). Le dépôt à été réalisé sans précaution particulière et à température ambiante. Après 10 min de réaction, le support est rincé avec de l'eau ultrapure puis soumis à des lavages sous sonication : eau ultrapure 2 min/éthanol 2 min/eau ultrapure 2 min. L'apparition de bandes à 1659 cm-i (Amide I), à 1546 cm"i (Amide II) et 1255 cm-1 (Amide III) sur le support comportant la couche auto-adhésive activée confirme la présence et le greffage covalent de la glucose oxydase à la surface. Mais une quatrième méthode et une cinquième méthode de préfonctionnalisation d'une zone de la micropoutre peuvent être également utilisées lorsque, pour greffer la biomolécule A sur la micropoutre, il est nécessaire que cette zone de la micropoutre soit munie de fonctions différentes de fonctions acide carboxylique. Ainsi, une quatrième méthode pour mettre en oeuvre l'étape e) de préfonctionnalisation comprend les étapes suivantes : el5) dépôt ou greffage, sur la feuille en un matériau fluoropolymère, d'un masque, en un matériau non transparent à un rayonnement VUV, comportant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement VUV, cette ouverture ou cette zone ayant la forme voulue de la zone à fonctionnaliser, et étant située dans la zone du masque correspondant à la micropoutre à former mais différente de celle dans laquelle la(les) électrode(s) est(sont) encastrée(s) ou à encastrer, e16) irradiation par ledit rayonnement VUV, sous gaz inerte, de la feuille obtenue à l'étape el5), e17) retrait du masque, e18) formation, par chimie conventionnelle, d'une couche d'un polymère d'acide acrylique (PAA) dans les zones irradiées obtenues à l'étape e16), el9) fixation d'ions Cul+, par chélation, sur le PAA greffé à l'étape e18), e20) croissance, dans la zone où les ions Cul+ ont été fixés, d'une couche en un métal choisi parmi le cuivre, l'or, le platine ou l'argent, par réduction des ions Cul+ lorsque la couche à former doit être en cuivre, ou dans un bain métallique, lorsque la couche à former doit être en un métal différent du cuivre. La cinquième méthode pour mettre en oeuvre l'étape e) de préfonctionnalisation comprend les étapes suivantes : e21) dépôt d'une couche de résine, de type positif, sensible à un rayonnement UV, sur la feuille en un matériau fluoropolymère, e22) irradiation, avec ledit rayonnement UV, de la couche formée à l'étape e21), au travers d'un masque en un matériau non transparent audit rayonnement UV comportant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou cette zone ayant la forme voulue de la zone à fonctionnaliser, et étant située dans la zone du masque correspondant à la micropoutre à créer mais différente de celle dans laquelle la(les) électrode(s) est(sont) encastrée(s) ou à encastrer, e23) élimination de la résine irradiée et enlèvement du masque, e24) greffage d'une couche en un polymère PAA, par la technologie au sel de diazonium, dans les zones où la résine a été éliminée, e25) fixation d'ions Cul+, par chélation, sur le PAA greffé à l'étape e24), dans les zones où la résine a été éliminée, e26) croissance, dans la zone où les ions Cul+ ont été fixés, d'une couche en un métal choisi parmi le cuivre, l'or, le platine ou l'argent, par réduction des ions Cu'+, lorsque la couche est en cuivre, ou dans un bain métallique lorsque la couche est un métal différent du cuivre, e27) élimination de la résine restante. L'étape f) de fonctionnalisation de la zone de la micropoutre fonctionnalisée par les quatrième et cinquième méthodes de préfonctionnalisation dépend, là encore, de la fonction qu'il est nécessaire de greffer sur la zone préfonctionnalisée pour qu'elle réagisse avec une fonction réactive de la biomolécule A. Ainsi, lorsque la biomolécule A est greffée par l'intermédiaire d'une fonction réactive réagissant avec une fonction diazonium de la zone voulue de la micropoutre, l'étape f) de fonctionnalisation comprend les étapes suivantes : fl2) dépôt d'une résine, de type positif, sensible à un rayonnement UV, sur la feuille comprenant la zone métallisée obtenue à l'étape e20) ou sur la feuille comprenant la zone métallisée obtenue à l'étape e26), fl3) irradiation de la feuille obtenue à l'étape fl2), au travers d'un masque en un matériau non transparent audit rayonnement UV, comportant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou cette zone correspondant à la zone métallisée de la feuille autre que l'(les) électrode(s) définie(s) dans les protocoles a), fl 4) élimination de la résine irradiée et du masque, fl5) greffage d'une couche de polymère poly(aminophénylène) sur la zone où la résine a été éliminée, fl6) élimination de la résine restante, 10 fl7) activation de la couche de poly(aminophénylène) en couche de poly(diazonium phénylène). Cette méthode de fonctionnalisation est applicable quelque soit la nature de la couche métallique qui a été mise à croître à l'étape e20) ou à l'étape e26), respectivement. Une méthode spécifique de préfonctionnalisation des zones 15 préfonetionnalisées (métallisées), en employant les quatrième et cinquième méthodes de préfonctionnalisation de l'invention, lorsque ces zones sont en or, est une méthode qui comprend les étapes suivantes fl8) création d'une couche auto-assemblée alcane thiol/Au sur une zone métallisée de la feuille, différente de celle(s) où l'(les) électrode(s) a (ont) été formée(s) par 20 les étapes a), fl9) liaison de la partie libre de la molécule correspondant à l'alcane thiol de la couche mono-assemblée obtenue à l'étape fl8) avec une molécule organique comprenant des fonctions terminales libres réactives NH2, ou SH, ou N3, ou OH, ou alcène, ou des groupes terminaux libres maléimide, ou esters activés, de préférence esters de 25 succinimide. La biomolécule A est greffée sur les fonctions et groupes terminaux libres réactifs de la molécule liée à l'étape fl 9). Enfin, une méthode de fonctionnalisation f) particulière lorsque les zones fonctionnalisées (métallisées) obtenues par les méthodes de préfonctionnalisation e), selon 30 l'invention, sont en un métal différent de l'or, est une méthode qui comprend les étapes suivantes f20) dépôt d'une résine, de type positif, sensible à un rayonnement UV, sur la feuille comprenant la zone métallisée obtenue à l'étape e20) ou sur la feuille comprenant la zone métallisée obtenue à l'étape e26), f21) irradiation de la feuille obtenue à l'étape f20), au travers d'un masque en un matériau non transparent audit rayonnement UV, comportant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou cette zone correspondant à la zone métallisée de la feuille autre que l'(les) électrode(s) définie(s) dans les protocoles a), f22) élimination de la résine irradiée et du masque, f23) formation, par la technologie au sel de diazonium, dans la zone irradiée à l'étape f21), d'un polymère obtenu par polymérisation de monomères comprenant des fonctions vinyliques ou acrylates, 10 f24) élimination de la résine restante, f25) modification, par chimie conventionnelle, du polymère formé à l'étape f23) par réaction des groupes réactifs du polymère avec les groupes réactifs d'une molécule organique comprenant des fonctions terminales libres NH2, ou SH, ou N3, ou OH, ou alcène, ou des groupes terminaux libres maléimide, ou esters activés, de préférence esters de 15 succinimide. La biomolécule A est alors greffée sur ces fonctions ou groupes réactifs libres de la biomolécule organique fixée à l'étape f25). D'une manière générale, la zone de la micropoutre fonctionnalisée, la molécule à l'étape g) de greffage de la biomolécule A est une étape de réaction des fonctions 20 réactives de la biomolécule A avec les fonctions réactives libres présentes sur la zone fonctionnalisée de la micropoutre. REVENDICATIONS1. Procédé de fabrication d'un biocapteur comprenant : - une micropoutre, qui est la partie mobile du biocapteur, reliée à un support, - au moins une électrode dont une partie au moins est encastrée sur la micropoutre, la(les) électrode(s) comprenant, optionnellement, un plot en un matériau ferromagnétique, - au moins une molécule biologique A greffée sur la micropoutre, dans une zone différente de la zone d'encastrement de la(des) électrode(s), - un transducteur mécano-électrique de conversion en signal électrique des variations des propriétés mécaniques de la micropoutre, lorsque la molécule biologique A est mise en contact avec une molécule biologique B à détecter et/ou quantifier, caractérisé en ce que : - la micropoutre et son support sont en un matériau fluoropolymère et forment une pièce intégrale, et en ce qu'il comprend les étapes suivantes : a) formation sur une feuille en un matériau fluoropolymère d'au moins une électrode, dont l'interface entre le fluoropolymère et l'électrode est préférentiellement de nature covalente, b) optionnellement, formation d'un plot en un matériau ferromagnétique, sur une zone de la(des) électrode(s), c) passivation de la(des) électrode(s), d) création, dans la feuille en un matériau fluoropolymère, de la forme désirée finale du biocapteur et séparation de cette forme de la feuille, e) optionnellement, préfonctionnalisation d'une zone de la micropoutre, cette zone étant différente de la zone d'encastrement de la(des) électrode(s), f) fonctionnalisation soit de la zone préfonctionnalisée à l'étape e), lorsque l'étape e) est mise en oeuvre, soit d'une zone de la micropoutre, cette zone étant différente de la zone d'encastrement de la(des) électrode(s), g) greffage d'au moins une molécule biologique A sur la zone fonctionnalisée obtenue à l'étape f). 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'étape d) de création, dans la feuille en un matériau fluoropolymère, de la forme désirée finale duJ 30 biocapteur, et séparation de cette forme de la feuille, est mise en oeuvre entre l'étape f) de fonctionnalisation et l'étape g) de greffage d'au moins une molécule biologique A. 3. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'étape d) de création, dans la feuille en un matériau fluoropolymère, de la forme désirée finale du biocapteur et séparation de cette forme de la feuille, est mise en oeuvre après l'étape g) de greffage d'au moins une molécule biologique A. 4. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comprend l'étape e) de préfonctionnalisation d'une zone de la micropoutre, et en ce que l'étape d) de création, dans la feuille en un matériau fluoropolymère, de la forme désirée finale du biocapteur et séparation de cette forme de la feuille, est mise en oeuvre après l'étape e) de préfonctionnalisation et avant l'étape f) de fonctionnalisation de cette même zone. 5. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que l'étape a) de fabrication des électrodes comprend les étapes suivantes : al) dépôt ou greffage d'un masque en un matériau non transparent à un rayonnement VUV, comprenant au moins une ouverture ou zone en un matériau transparent au rayonnement VUV, sur la feuille en matériau fluoropolymère, cette ouverture ou zone ayant la forme voulue de la(des) électrode(s), a2) irradiation par ledit rayonnement VUV, sous gaz inerte, de préférence l'azote, de la feuille obtenue à l'étape al), a3) retrait du masque, a4) greffage, par chimie conventionnelle, de molécules d'acide acrylique, pour former un polymère d'acide polyacrylique (PAA), dans les zones irradiées obtenues à l'étape a2), a5) fixation d'ions Cul+, par chélation, sur le PAA greffé à l'étape a4), aô) réduction des ions Cul+ en micro- ou nano-particules de cuivre, de préférence en présence de NaBH4, a7) croissance, sur les zones où se trouvent les micro- ou nano-particules de cuivre, d'une couche de cuivre ou d'or, par un bain de métallisation. 6. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que l'étape a) de fabrication des électrodes comprend les étapes suivantes : a8) dépôt d'une couche de résine sensible à un rayonnement UV, de type positif, sur la feuille en un matériau fluoropolymère, a9) irradiation, avec ledit rayonnement UV de la couche formée à l'étape a8) au travers d'un masque, en un matériau non transparent au rayonnement UV, comportantau moins une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou cette zone ayant la forme voulue de la(des) électrodes, a10) élimination de la résine irradiée et du masque, al l) formation d'un polymère PAA, dans les zones où la résine a été 5 éliminée, par la technologie au sel de diazonium, a12) fixation d'ions Cul+, par chélation, sur le PAA formé à l'étape al 1), al3) réduction des ions Cul+ chélatés pour former des micro- ou nano- particules de cuivre permettant d'autocatalyser le bain de métallisation de l'étape a14), a14) croissance, par bain de métallisation, d'une couche de cuivre ou d'or 10 sur les zones comprenant les micro- ou nano-particules de cuivre, a15) élimination de la résine photosensible restante. 7. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que l'étape a) de fabrication des électrodes comprend les étapes suivantes : a16) formation d'un polymère PAA sur la feuille en un matériau 15 fluoropolymère, par la technologie au sel de diazonium, a17) fixation d'ions Cul+, par chélation, sur le PAA formé à l'étape a16), a18) réduction des ions Cul+ chélatés en micro- ou nano-particules de cuivre pour activer le bain de métallisation de l'étape a19) al9) croissance, par bain de métallisation, d'une couche de cuivre ou d'or 20 sur les zones comprenant les micro- ou nano-particules de cuivre, a20) dépôt d'une couche de résine sensible à un rayonnement UV, de type positif, sur la surface de la feuille en matériau fluoropolymère et métallisée obtenue à l'étape a l9), a21) irradiation, avec ledit rayonnement UV, de la couche formée à l'étape 25 a20), au travers d'un masque en un matériau transparent audit rayonnement UV comportant au moins une ouverture ou une zone en un matériau non transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou cette zone détourant la forme voulue de la(des) électrode(s), a22) élimination de la résine irradiée et du masque, a23) élimination du cuivre ou de l'or, par gravure chimique, de préférence 30 avec FeC13 lorsque la couche formée à l'étape a19) est en cuivre, ou avec un mélange HNO3/HC1 (eau régale), lorsque la couche formée à l'étape a19) est de l'or, dans les zones où la résine a été éliminée, a24) élimination de la résine photosensible restante. 8. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en 35 ce que l'étape a) de formation des électrodes comprend les étapes suivantes :a25) irradiation d'une feuille en un matériau fluoropolymère avec un rayonnement VUV, sous gaz inerte, de préférence l'azote, a26) greffage sur la feuille obtenue à l'étape a25) de molécules d'acide acrylique, par chimie conventionnelle, pour former un polymère d'acide acrylique PAA, a27) fixation d'ions Cul+, par chélation, sur le PAA greffé à l'étape a26), a28) réduction des ions Cul+ en micro- ou nano-particules de cuivre, de préférence avec NaBH4, an) croissance, sur les zones comprenant les micro- ou nano-particules de cuivre, d'une couche de cuivre ou d'or, par un bain de métallisation, 10 a30) dépôt d'une couche de résine, de type positif, sensible à un rayonnement UV, sur la feuille en un matériau fluoropolymère métallisé obtenue à l'étape a29), a31) irradiation, avec ledit rayonnement UV de la couche formée à l'étape 00), au travers d'un masque en un matériau transparent audit rayonnement UV, comprenant 15 une ouverture ou une zone en un matériau non transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou cette zone détourant la forme voulue de la(des) électrodes, a32) élimination de la résine irradiée et du masque, a33) élimination, par gravure chimique, dans les zones où la résine a été irradiée soit de la couche de cuivre si formée à l'étape a29), de préférence avec FeC13, soit de 20 la couche d'or, si formée à l'étape a29), de préférence avec un mélange HNO3/HC1 (eau régale), a34) élimination de la résine restante. 9. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que l'étape a) de fabrication des électrodes comprend les étapes suivantes : 25 a35) dépôt d'une couche de résine sensible à un rayonnement UV, de type positif, sur la surface de la feuille en matériau fluoropolymère, a36) irradiation, avec ledit rayonnement UV, de la couche formée à l'étape a35), au travers d'un masque en un matériau non transparent audit rayonnement UV, comportant au moins une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit 30 rayonnement UV, cette ouverture ou cette zone ayant la forme voulue des électrodes, a37) élimination des zones de résine irradiée et du masque, a38) dépôt d'or dans les zones dans lesquelles la résine a été éliminée, par évaporation physique sous vide, de préférence par plasma ou chauffage, ou pulvérisation, 35 a39) élimination de la résine photosensible restante. 10. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il comprend l'étape b) de formation d'un plot en un matériau ferromagnétique sur la(les) électrode(s) et en ce que ladite étape b) comprend les étapes suivantes : b 1) dépôt d'une couche de résine sensible à un rayonnement UV, de type positif, sur la feuille en un matériau fluoropolymère comportant les électrodes, b2) dépôt ou greffage d'un masque en un matériau non transparent audit rayonnement UV, comprenant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou zone ayant la forme et la localisation, sur la feuille obtenue à l'étape bl) du plot voulu sur une zone de l'électrode préalablement obtenue à l'étape a), b3) irradiation par ledit rayonnement UV, de la feuille obtenue à l'étape b2), b4) élimination de la résine photosensible irradiée et du masque, b5) formation d'un polymère PAA dans les zones où la résine irradiée a été éliminée, par la technologie au sel de diazonium, b6) fixation, par chélation, d'ions métalliques choisis parmi Ni+, Fe2+, Fei+, Col+ ou d'un mélange de deux au moins de ceux-ci, sur le PAA greffé à l'étape b5), b7) réduction des ions métalliques fixés à l'étape b6), en micro- ou nanoparticules, b8) optionnellement, croissance de la couche de métal ainsi obtenue, b9) élimination de la résine photosensible restante. 11. Procédé selon l'une quelconque des revendications 5 à 10, caractérisé en ce que l'étape c) de passivation des électrodes comprend les étapes suivantes : cl) dépôt à la tournette de résine époxy SU8e, de type négatif, sur la feuille en un matériau fluoropolymère comportant les électrodes, c2) dépôt ou greffage sur la couche de résine obtenue à l'étape cl) d'un masque en un matériau non transparent audit rayonnement UV comprenant une ouverture ou une zone en un matériau transparent au rayonnement UV, cette ouverture ou zone ayant la forme de la(des) électrode(s), c3) irradiation avec ledit rayonnement UV de la couche de résine SU8® au travers du masque, c4) élimination du masque et de la résine non irradiée, c5) durcissement sous recuit, entre 70°C et 120°C pendant 1 minute de la résine restante. 12. Procédé selon l'une quelconque des revendications 5 à 10, caractérisé en ce que l'étape c) de passivation des électrodes comprend les étapes suivantes : c6) dépôt d'une résine sensible à un rayonnement UV, de type positif, sur la feuille en un matériau fluoropolymère comportant les électrodes, c7) irradiation avec ledit rayonnement UV de la couche de résine sensible, au travers d'un masque en un matériau non transparent audit rayonnement UV comportant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou zone ayant la forme de la(des) électrode(s), c8) enlèvement du masque et élimination de la résine irradiée, 10 c9) dépôt pyrolytique d'une couche de parylène de type N ([2,2]paracyclophane) ou C (Chloro[2,2]paracyclophane) dans les zones où la résine a été éliminée, cl 0) élimination de la résine sensible restante. 13. Procédé selon l'une quelconque des revendications 5 à 10, caractérisé en 15 ce que l'étape c) de passivation des électrodes comprend les étapes suivantes : et l) électrogreffage d'un matériau polymère électrophorétique sur les électrodes, c12) durcissement du matériau polymère électrophorétique par chauffage. 14. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 3 et 5 à 13, 20 caractérisé en ce que : - l'étape g) de greffage de la biomolécule A est une étape de greffage de fonctions réactives de la biomolécule A avec une zone de la micropoutre fonctionnalisée avec des fonctions acide carboxylique (COOH), - ledit procédé ne comprend pas d'étape e) de préfonctionnalisation, et 25 - l'étape f) de fonctionnalisation comprend les étapes suivantes fl) dépôt ou greffage d'un masque en un matériau non transparent à un rayonnement VUV, comprenant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement VUV, cette ouverture ou cette zone ayant la forme de la zone de la feuille en un matériau fluoropolymère à fonctionnaliser, cette ouverture ou cette zone étant située dans la 30 partie du masque correspondant à la micropoutre à former, et en dehors de la zone de la micropoutre sur laquelle la (ou les) électrodes est (sont) encastrée(s) ou à encastrer, f2) irradiation, par ledit rayonnement VUV, sous gaz inerte, de préférence l'azote, de la feuille obtenue à l'étape fi), f3) enlèvement du masque,f4) formation, par chimie conventionnelle, d'un polymère d'acide polyacrylique PAA, dans les zones irradiées. 15. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 3 et 5 à 13, caractérisé en ce que - l'étape g) de greffage de la biomolécule A est une étape de réaction de fonctions réactives de la biomolécule A avec une zone de la micropoutre fonctionnalisée avec des fonctions acide carboxylique, - ledit procédé ne comprend pas d'étape e) de préfonctionnalisation, et - l'étape f) de fonctionnalisation comprend les étapes suivantes : f5) dépôt d'une couche de résine, de type positif, sensible à un rayonnement UV, sur la feuille en un matériau fluoropolymère, fô) irradiation par ledit rayonnement UV de la couche de résine sensible au travers d'un masque en un matériau non transparent audit rayonnement UV comportant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou cette zone ayant la forme de la zone à fonctionnaliser et étant située dans la partie du masque correspondant à la partie micropoutre à former et en dehors de la zone de la micropoutre sur laquelle la(les) électrodes est(sont) encastrée(s) ou à encastrer, f7) élimination de la résine irradiée et du masque, fii) formation d'un polymère d'acide acrylique (PAA), dans les zones où la 20 résine a été éliminée, par la technologie au sel de diazonium, D) élimination de la résine restante. 16. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 13, caractérisé en ce que : - l'étape g) de greffage de la biomolécule A est une étape de réaction de 25 fonctions réactives de la biomolécule A avec des fonctions de la micropoutre différentes de fonctions acide carboxylique, de préférence avec des fonctions amine (NH2), thiol (SH), azoture (N3), alcool (OH), alcène, ou des groupes maléimide, ou avec des groupes esters activés, de préférence esters de succinimide, - ledit procédé comprend l'étape e) de préfonctionnalisation, et 30 - l'étape e) de préfonctionnalisation comprend les étapes suivantes : el) dépôt ou greffage d'un masque en un matériau non transparent à un rayonnement VUV, comprenant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement VUV, cette ouverture ou cette zone ayant la forme de la zone de la feuille en un matériau fluoropolymère à fonctionnaliser, cette ouverture ou cette zone étant située dans la 35partie du masque correspondant à la micropoutre à former, et en dehors de la zone de la micropoutre sur laquelle la ou les électrodes sont encastrées ou sont à encastrer, e2) irradiation, par ledit rayonnement VUV, sous gaz inerte, de préférence l'azote, de la feuille obtenue à l'étape el), e3) enlèvement du masque, e4) formation d'un polymère d'acide polyacrylique PAA, par chimie conventionnelle, dans les zones irradiées. 17. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 13, caractérisé en ce que : - l'étape g) de greffage de la biomolécule A est une étape de réaction de fonctions réactives de la biomolécule A avec des fonctions de la micropoutre différentes de fonctions acide carboxylique, de préférence avec des fonctions NH2, ou SH, ou N3, ou OH, ou alcène, ou un groupe maléimide, ou avec un groupe ester activé, de préférence ester de succinimide, et 15 - l'étape e) de préfonctionnalisation comprend les étapes suivantes : e5) dépôt d'une couche de résine, de type positif, sensible à un rayonnement UV, sur la feuille en un matériau fluoropolymère, e6) irradiation par ledit rayonnement UV de la couche de résine sensible, au travers d'un masque en un matériau non transparent audit rayonnement UV comportant une 20 ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou cette zone ayant la forme de la zone à fonctionnaliser et étant située dans la partie du masque correspondant à la partie micropoutre à former et en dehors de la zone de la micropoutre sur laquelle la (ou les) électrodes est (sont) encastrée(s) ou à encastrer, e7) élimination de la résine irradiée et du masque, 25 e8) formation d'un polymère d'acide acrylique (PAA), dans les zones où la résine a été éliminée, par la technologie au sel de diazonium, et e9) élimination de la résine restante. 18. Procédé selon la revendication 16 ou 17, caractérisé en ce que l'étape f) de fonctionnalisation comprend les étapes suivantes : 30 f10) modification, du PAA formé à l'étape e4) ou à l'étape e8), avec une molécule organique, comprenant, à son extrémité non liée au PAA, des fonctions NH2, ou SH, ou N3, ou OH, ou alcène, ou des groupes maléimide, ou des groupes esters activés, de préférence des groupes esters de succinimide. 19. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 13, caractérisé en 10 35 ce que :- l'étape g) de greffage de la biomolécule A est une étape de greffage de fonctions réactives de la biomolécule A avec des fonctions diazonium de la micropoutre, - ledit procédé comprend une étape de préfonctionnalisation e), et - l'étape e) de préfonctionnalisation comprend les étapes suivantes : e10) dépôt d'une couche de résine, de type positif, sensible à un rayonnement UV, sur la feuille en un matériau fluoropolymère, et l) irradiation par ledit rayonnement UV de la couche de résine sensible, au travers d'un masque en un matériau non transparent audit rayonnement UV comportant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou cette zone ayant la forme de la zone à fonctionnaliser, et étant située dans la partie du masque correspondant à la micropoutre, mais en dehors de la zone de la micropoutre dans laquelle la(les) électrode(s) sont encastrées ou à encastrer, el2) élimination de la résine irradiée, e13) enlèvement du masque, e14) greffage d'une couche de polymère poly(aminophénylène), sur la zone où la résine a été éliminée, et en ce que l'étape f) de fonctionnalisation est une étape fl l) d'activation de la couche de polymère poly(aminophénylène) formée à l'étape e14) en couche de poly(diazonium phénylène). 20. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 13, caractérisé en ce qu'il comprend une étape e) de préfonctionnalisation et en ce que l'étape e) de préfonctionnalisation comprend les étapes suivantes : e15) dépôt ou greffage, sur la feuille en un matériau fluoropolymère, d'un masque, en un matériau non transparent audit rayonnement VUV, comportant une ouverture ou une zone en un matériau transparent à un rayonnement VUV, cette ouverture ou cette zone ayant la forme voulue de la zone à fonctionnaliser, et étant située dans la zone du masque correspondant à la micropoutre à former, mais en dehors de celle dans laquelle la (ou les) électrodes est (sont) encastrée(s) ou à encastrer, e16) irradiation par ledit rayonnement VUV, sous gaz inerte, de la feuille obtenue à l'étape e15), e17) retrait du masque, e18) formation, par chimie conventionnelle, d'une couche d'un polymère d'acide acrylique (PAA) dans les zones irradiées obtenues à l'étape e16), el9) fixation d'ions Cul+, par chélation, sur le PAA greffé à l'étape e18),e20) croissance, dans les zones où les ions Cul+ ont été fixés, d'une couche en un métal choisi parmi le cuivre, l'or, le platine ou l'argent par réduction des ions Cui+ lorsque la couche à former doit être en cuivre, ou dans un bain du métal voulu, lorsque la couche à former doit être en un métal différent du cuivre. 21. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 13, caractérisé en ce qu'il comprend l'étape e) de préfonctionnalisation et en ce que l'étape e) de préfonctionnalisation comprend les étapes suivantes : e21) dépôt d'une couche de résine, de type positif, sensible à un rayonnement UV, sur la feuille en un matériau fluoropolymère, e22) irradiation, avec ledit rayonnement UV, de la couche formée à l'étape e21) au travers d'un masque en un matériau non transparent audit rayonnement UV comportant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou cette zone ayant la forme voulue de la zone à fonctionnaliser, et étant située dans la zone du masque correspondant à la micropoutre à créer mais différente de celle dans laquelle la (ou les) électrodes est (sont) encastrée(s) ou à encastrer, e23) élimination de la résine irradiée et enlèvement du masque, e24) greffage d'une couche en un polymère PAA, par la technologie au sel de diazonium, dans les zones où la résine a été éliminée, e25) fixation d'ions Cul+, par chélation, sur le PAA greffé à l'étape e24), dans les zones où la résine a été éliminée, e26) croissance, dans les zones où les ions Cul+ ont été fixés, d'une couche de métal choisi parmi le cuivre, l'or, le platine ou l'argent, sur la couche formée à l'étape e25), par réduction des ions Cul+, lorsque la couche doit être en cuivre ou dans un bain du métal voulu lorsque la couche doit être en un métal différent du cuivre, e27) élimination de la résine restante. 22. Procédé selon la revendication 20 ou 21, caractérisé en ce que l'étape g) de greffage de la biomolécule A est une étape de réaction d'une fonction réactive de la biomolécule A avec une fonction diazonium de la micropoutre et en ce que l'étape f) de fonctionnalisation de ladite zone de la micropoutre comprend les étapes suivantes : f12) dépôt d'une résine, de type positif, sensible à un rayonnement UV, sur la feuille comprenant une zone métallisée obtenue à l'étape e20) ou sur la feuille comprenant une zone métallisée obtenue à l'étape e26), fl3) irradiation de la feuille obtenue à l'étape f12), au travers d'un masque en un matériau non transparent audit rayonnement UV, comportant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou cette zonecorrespondant à la zone métallisée de la feuille, autre que l'(les) électrode(s) définie(s) dans les protocoles a), fl4) élimination de la résine irradiée et du masque, fl5) greffage d'une couche de polymère poly(aminophénylène) sur la zone où la résine a été éliminée, fl6) élimination de la résine restante, f17) activation de la couche de poly(aminophénylène) en couche de poly(diazonium phénylène), 23. Procédé selon la revendication 20 ou 21 caractérisé en ce que la couche formée à l'étape e20) ou à l'étape e27) est une couche d'or et en ce que l'étape f) de fonctionnalisation comprend les étapes suivantes : f18) création d'une couche auto-assemblée alcane thiol/Au sur une zone métallisée de la feuille, différente de celle(s) où l'(les) électrode(s) a (ont) été formée(s) par les étapes a), f19) liaison de la partie libre de la molécule correspondant à l'alcane thiol de la couche mono-assemblée obtenue à l'étape fl8) avec une molécule organique comprenant des fonctions terminales libres NH2, ou SH, ou N3, ou OH, ou alcène, ou un groupe terminal libre maléimide ou ester activé, de préférence ester de succinimide, et en ce que la biomolécule A est greffée avec ces fonctions aux groupes terminaux libres réactifs de la molécule organique greffée à l'étape fl9). 24. Procédé selon la revendication 20 ou 21 caractérisé en ce que l'étape g) de greffage de la biomolécule A est une étape de réaction de fonctions réactives de la biomolécule A avec des fonctions NH2, ou SH, ou N3, ou OH, ou alcène, ou les groupes maléimide, ou les groupes esters activés, de préférence esters de succinimide, présents sur une zone de la micropoutre, et en ce que l'étape f) de fonctionnalisation comprend les étapes suivantes : f20) dépôt d'une résine, de type positif, sensible à un rayonnement UV, sur la feuille comprenant une zone métallisée obtenue à l'étape e20) ou sur la feuille comprenant une zone métallisée obtenue à l'étape e26), f121) irradiation de la feuille obtenue à l'étape f20), au travers d'un masque en un matériau non transparent audit rayonnement UV, comportant une ouverture ou une zone en un matériau transparent audit rayonnement UV, cette ouverture ou cette zone correspondant à la zone métallisée de la feuille, autre que l'(les) électrode(s) définie(s) dans les protocoles a), f22) élimination de la résine irradiée et du masque,f23) formation, par la technologie au sel de diazonium, dans la zone irradiée à l'étape f21) d'un polymère obtenu à partir de monomères comprenant des fonctions vinyliques ou acrylates f24) élimination de la résine restante, f25) modification, par chimie conventionnelle, du polymère formé à l'étape f23) par réaction des groupes réactifs du polymère avec les groupes réactifs d'une molécule organique comprenant des fonctions terminales libres NH2, ou SH, ou N3, ou OH, ou alcène, ou des groupes terminaux libres maléimide, ou esters activés, de préférence esters de succinimide, et en ce que la biomolécule A est greffée sur les fonctions aux groupes libres de la molécule organique préférée à l'étape f25). 25. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1, 2, 4-24, caractérisé en ce que l'étape d) de création de la forme et de séparation de la structure finale du biocapteur de la feuille en un matériau fluoropolymère comprend les étapes suivantes : dl) fabrication d'un moule de découpe creux ou à la forme de la structure du capteur final voulu, d2) compression du moule fabriqué à l'étape dl) sur la feuille en un matériau fluoropolymère, d3) découpe autour du moule de la structure voulue emboutissage avec chauffage et/ou excitation acoustique par ultrasons du moule de découpe. 26. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 24, caractérisé en ce que l'étape d) de création de la forme du capteur final et son détachement de la feuille en un matériau fluoropolymère comprend une étape d4) de découpe de la forme voulue dans la feuille en un matériau fluoropolymère, par un laser Excimère émettant dans le domaine des longueurs d'onde des VUV. 27. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1, 2 et 4 à 24, caractérisé en ce que l'étape d) de création de la forme du capteur final et son détachement de la feuille en un matériau fluoropolymère comprend les étapes suivantes : d5) dépôt d'un masque ou d'un pochoir comprenant une ouverture détourant la forme finale voulue du capteur, sur la feuille en un matériau fluoropolymère, d6) découpe par attaque profonde réactive ionique sèche (DRIE) des contours de l'ouverture du masque ou du pochoir. 28. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 24, caractérisé en ce que d'étape d) de création de la forme du capteur final et son détachement de la feuille en un matériau fluoropolymère comprend les étapes suivantes d7) fabrication d'un moule de découpe creux ou à la forme de la structure 5 du capteur final voulu en un matériau ou en alliage ayant une dureté supérieure au matériau fluoropolymère à découper, d8) compression du moule fabriqué à l'étape d7) sur la feuille en un matériau fluoropolymère, d9) découpe autour du moule de la structure voulue par emboutissage, à 10 température ambiante. 29. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 24, caractérisé en ce que l'étape d) de création de la forme du capteur final et son détachement de la feuille en un matériau fluoropolymère comprend une étape d10) de découpe manuelle, de préférence avec un scalpel, sous microscope, de la forme du capteur final. 15 30. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que le biocapteur n'est pas un biocapteur piezoélectrique et en ce que la feuille en un matériau fluoropolymère est en un matériau choisi parmi le PVDF, le PTFE ou le P(VDF-TrFE). 31. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 29, caractérisé en 20 ce que le biocapteur est un biocapteur à détection piezoélectrique et en ce que la feuille en un matériau fluoropolymère a des propriétés piezoélectriques, de préférence choisi parmi le PVDF ou le P(VDF-TrFE) ayant des propriétés piezoélectriques.