FR 2960177 A1 20111125 FR 1058416 A 20101015 1 DISPOSITIF DE NANOIMPRESSION ET SYSTEME DE MESURE DYNAMIQUE D'ECOULEMENT EN LITHOGRAPHIE PAR NANOIMPRESSION COMPORTANT UN TEL DISPOSITIF DESCRIPTION DOMAINE TECHNIQUE ET ART ANTÉRIEUR La présente invention se rapporte à un dispositif nanoimpression et à un système de mesure dynamique d'écoulement en lithographie par nanoimpression mettant en oeuvre un tel dispositif. La lithographie par nanoimpression (NIL pour Nanolmprint Lithography en anglais) est une technique de lithographie utilisée par exemple en microélectronique pour fabriquer des masques de résines sur un substrat, tel qu'un substrat en silicium, en alternative à la photolithographie. Cette technique consiste à fabriquer un masque de résine de faible épaisseur à la surface d'un substrat par déformation mécanique d'une couche de résine au moyen d'un moule comportant les motifs à reproduire, le moule étant pressé contre la couche de résine de sorte à pénétrer dans celle-ci. Il existe deux types de lithographie par nanoimpression, dont le choix dépend de la résine utilisée : - la nanoimpression thermique qui utilise en général comme résine un polymère thermoplastique qui est déformé à une température au-delà de sa température de transition vitreuse, - la nanoimpression UV utilisant un moule transparent aux rayons ultra-violets, la résine 2 utilisée est pressée à température ambiante, la résine étant liquide à cette température, puis photopolymérisée à travers le moule par exposition à un rayonnement UV. En outre, il existe deux types de presse pour effectuer de la nanoimpression : - le premier type de presse est désigné « step-and-repeat » dans lequel un moule de petites dimensions est successivement imprimé plusieurs fois à la surface d'un même substrat. Les moules et les substrats sont rigides, présentent une excellente planéité, et sont mis en contact à basse pression. Les avantages de ces outils sont la possibilité de fabriquer des moules avec des zones actives réduites et de mettre en oeuvre plus facilement un système d'alignement de grande précision. - Le deuxième type de presse utilise des pistons souples et des moules et s'applique sur des substrats entiers. Les pistons sont par exemple formés par des membranes souples et une pression de fluide déplace les membranes souples appliquant une pression d'impression isotrope. La non-planéité des substrats et des moules est moins critique et on peut atteindre un débit de production plus élevé puisqu'on imprime des substrats entiers. En revanche, l'alignement est plus problématique en raison de la taille plus importante des moules et de l'architecture des pistons souples utilisés. La technique de fabrication de nanoimpression offre une très haute résolution qui est celle du moule et son coût est raisonnable. Cependant 3 une couche résiduelle de résine, au fond des motifs, subsiste après le pressage. Or l'uniformité et l'épaisseur de cette couche résiduelle est déterminante pour la suite du procédé. Cette technique est particulièrement adaptée au milieu industriel, en particulier à celui de la microélectronique, puisque les masques ont la résolution souhaitée, l'inspection de ceux-ci, leur alignement et la cadence de production sont également proches des exigences de cette industrie. En revanche, les substrats imprimés sont trop souvent défectueux, ils comportent en particulier des défauts provenant du procédé d'impression et de l'encrassement du moule. Afin de pouvoir réduire, voire éliminer ces défauts, il est souhaitable d'avoir une meilleure compréhension de l'écoulement de la résine à des échelles nanométriques et un meilleur contrôle de celui-ci. Or aucun des dispositifs de nanoimpression de l'état de la technique ne permet de suivre l'écoulement de la résine dans les motifs du moule lors de la phase de nanoimpression, i.e. lorsque les motifs du moule pénètrent dans la résine, et ceci plus particulièrement lorsque ces motifs ont des dimensions sub-microniques. Les presses décrites ci-dessus sont d'une grande complexité, du fait des systèmes de bridage du moule/des pistons souples/des dispositifs d'alignement. Elles sont aussi très encombrantes. L'équipement de 4 telles presses avec des moyens de caractérisations optiques est alors difficilement envisageable. En outre, ces presses ne sont pas adaptées à une utilisation dans des laboratoires de recherche, et plus particulièrement dans les laboratoires ne travaillant pas dans le milieu de la microélectronique, comme par exemple les laboratoires d'optique, de biotechnologie ou dans des petites et moyennes entreprises. Le document US 20050037143 décrit un procédé pour mesurer le temps mis par la résine pour remplir les structures du moule, mais ce procédé ne permet pas de connaître l'évolution exacte du remplissage de ces motifs. Par conséquent, il ne permet pas de connaître le déroulement réel de la nanoimpression. En outre, ce document ne décrit aucune structure de presse. C'est par conséquent un but de la présente invention d'offrir une presse adaptée à la mesure en temps réel pour comprendre plus précisément les phénomènes d'écoulement de la résine dans les motifs du moule. C'est également un but de la présente invention d'offrir une presse de réalisation simple et d'encombrement réduit. EXPOSÉ DE L'INVENTION Les buts précédemment énoncés sont atteints par une presse de lithographie par nanoimpression permettant la mise en oeuvre de techniques optiques pointue de caractérisation de l'écoulement de résines dans des motifs nanométriques, ceci en temps réel. Pour cela, la presse met en oeuvre un moule transparent aux rayons optiques et le support de moule est ajouré pour permettre le passage des rayons optiques, ainsi il n'y a que le moule entre le dispositif d'observation 5 et la résine observée. En outre, le moule est fixe lors de l'impression, c'est le substrat qui est mobile et qui se rapproche du moule, il n'est pas nécessaire d'effectuer des réglages du système d'observation lors de la phase d'impression. En outre, le substrat est déplacé par un fluide pneumatique via une membrane souple, on réduit l'encombrement de la presse tout en assurant une pression d'impression uniforme. La présente invention a alors pour objet un dispositif de nanoimpression comportant un premier élément support destiné à supporter un substrat recouvert sur une face d'une résine à imprimer, un deuxième élément support destiné à supporter un moule de nanoimpression et à être fixé sur le premier élément support, ledit moule comportant une face avec des motifs, ladite face étant disposée en face de la face du substrat recouverte de résine, ledit moule étant en un matériau transparent à un faisceau optique, et ledit deuxième élément support comportant une fenêtre obturée par le moule permettant au faisceau optique de traverser le moule, ledit moule étant maintenu immobile dans le dispositif et le premier élément support comportant des moyens aptes à déplacer le substrat pour appliquer la face du substrat recouverte de résine contre la face du moule comportant les motifs, lesdits moyens comportant une membrane souple délimitant une 6 chambre de pression connectée sur commande à une source de fluide sous pression. Le moule est par exemple maintenu dans le deuxième élément support par deux brides exerçant sur lui des efforts latéraux. La pression de la source de pression peut être comprise entre 5 bars et 8 bars. Le dispositif selon l'invention peut comporter des moyens pour réaliser le vide entre la membrane souple et le deuxième élément support. De préférence, la planéité du moule est inférieure à 100 nm sur une surface de 20x20 mm2. Par exemple, le moule est en quartz ou en silice. Avantageusement, on utilise une résine dont la viscosité est inférieure à 0,1 Pa.s. Dans un mode de réalisation, le dispositif de nanoimpression selon l'invention comporte une source UV pointée sur la fenêtre du premier élément support, la résine mise en oeuvre étant photosensible. Dans un autre mode de réalisation, le dispositif de nanoimpression selon l'invention comporte des moyens de chauffage de la résine, la résine mise en oeuvre étant polymérisable thermiquement, ladite résine thermosensible étant une résine monomère. La présente invention a également pour objet un système comportant un dispositif de nanoimpression selon la présente invention et des moyens de mesure de l'écoulement de la résine dans les motifs du moule lors de l'impression. Ces moyens de mesure peuvent être des moyens de mesure par 7 scatterométrie. Par exemple, mes moyens de mesure par scatterométrie comportent un ellipsomètre, ledit ellipsomètre comportant un émetteur de rayons lumineux pointé sur la fenêtre du deuxième élément support et focalisé sur la surface du moule comportant les motifs et un détecteur d'un faisceau réfléchi. La présente invention a également pour objet un procédé de nanoimpression mettant en oeuvre le dispositif de nanoimpression selon la présente invention comportant les étapes de : - mise en place du substrat et du moule dans le premier et deuxième élément support respectivement, - dépôt de la résine sur le substrat, - fixation du deuxième élément support sur le premier élément support, - vidange de l'espace entre la membrane souple et le deuxième élément support, - application d'une pression dans la chambre de pression, - polymérisation de la résine. Le dispositif de nanoimpression est avantageusement associé à des moyens de mesure par scatterométrie, dans lequel les mesures par scatterométrie ont lieu simultanément au pressage, ledit procédé comportant une étape d'analyse de mesures et de compréhension du comportement de la résine. 8 BRÈVE DESCRIPTION DES DESSINS La présente invention sera comprise à l'aide de la description qui va suivre et des dessins en annexes sur lesquels : - la figure 1 est une vue en coupe longitudinale d'un exemple de réalisation d'un dispositif de nanoimpression selon la présente invention avant une étape de nano-impression, - la figure 2 représente le dispositif de la figure 1 lors de l'étape de nano-impression, - la figure 3 est une vue de dessus du dispositif de la figure 1 dans un état démonté, - la figure 4 est une représentation schématique d'un exemple d'un système de nanoimpression selon la présente invention permettant l'observation en temps réel de l'écoulement de la résine dans les motifs du moule lors d'une étape de nanoimpression. EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS Sur les figures 1 et 2, on peut voir représenté schématiquement une vue en coupe d'un dispositif de nanoimpression D selon la présente invention sur un substrat 6 au moyen d'un moule 4. Le dispositif D comporte un premier élément support 10 destiné à supporter un substrat 6 sur lequel l'impression va avoir lieu et un deuxième élément support 12 destiné à supporter un moule 4. Le deuxième élément support 12 est destiné à être monté sur le premier élément support 10, comme cela est représenté sur les figures 1 et 2, de sorte que le moule 4 soit situé au dessus du substrat 6. L'ensemble ainsi réalisé 9 forme un boîtier dont le deuxième élément support 12 forme le couvercle. Des moyens de fixation du deuxième élément support 12 sur le premier élément support 10 sont prévus de sorte à immobiliser les deux éléments 10, 12 l'un par rapport à l'autre. Ces moyens sont par exemple formés par des vis introduites dans des alésages 13 réalisés sur le pourtour des éléments supports 10, 12, les alésages 13 étant visibles sur la figure 3. On peut envisager des moyens de serrage par brides ou tout autre moyen. Dans l'exemple représenté, le dispositif présente une forme de cylindre de révolution, mais cette forme n'est en aucun cas limitative. Le premier élément support 10 comporte des moyens 14 aptes à déplacer verticalement le substrat 6. Ces moyens 14 comportent une cavité connectée par un piquage 17 à une source de fluide sous pression ou à un moyen d'aspiration, et une membrane souple 18 fermant la cavité 16. Le substrat 6 est destiné à reposer sur la membrane à l'extérieur de la cavité 16. Lors d'une injection d'un fluide sous pression dans la cavité 16, la membrane souple 18 se tend et déplace le substrat verticalement vers le haut en direction du deuxième élément support. Le fluide sous pression peut être un gaz, type air comprimé ou azote comprimé ou un fluide hydraulique. La membrane souple 18 est par exemple réalisée en polydiméthylsiloxane (PDMS). Ce matériau offre en outre l'avantage de présenter une forte 10 adhérence assurant ainsi une immobilisation du substrat par rapport à la membrane. On peut prévoir des moyens adhésifs sur la membrane pour immobiliser le substrat, par exemple dans le cas où celle-ci n'offrirait pas naturellement une adhérence suffisante. Le deuxième élément support 12 comporte un emplacement P de fixation du moule 4, des moyens de fixation 22 du moule 4 à l'emplacement P et une fenêtre 24 à l'aplomb de l'emplacement P du moule 4. Les moyens de fixation 22 du moule 4 dans le deuxième élément support 12 sont par exemple formés par deux brides 26 délimitant entre elles un logement pour recevoir le moule 4. Le brides 26 sont alors en appui plan sur les bords du moule 4, et exercent un effort de serrage latéral sur le moule 4. Les brides 26 sont elles-mêmes solidarisées au deuxième élément support 12 par des vis traversant des alésages 27 visibles sur la figure 3. Le moule 4 est en appui sur les bords de la fenêtre 24. Il n'est pas nécessaire d'assurer un maintien important du moule 4 selon un axe perpendiculaire au moule puisque, lors de l'impression, l'effort appliqué par la pression dans la cavité plaque le moule 4 contre les bords de la fenêtre 24 , et puisque le moule ne subit pas d'effort tendant le faire sortir du deuxième élément support 12. Dans l'exemple représenté, les brides forment, lorsqu'elles sont montées dans le deuxième élément support 12, un disque, ce qui facilite l'usinage de l'emplacement P. 11 Dans l'exemple représenté le moule 4 est de forme carrée, mais cette forme n'est en aucun cas limitative, le moule pourrait avoir la forme d'un parallélogramme quelconque ou la forme d'un disque. Dans l'exemple représenté, la surface de brides est inférieure à celle de la membrane, facilitant la réalisation des étanchéités des cavités 16, 32. La fenêtre 24 est destinée à permettre le passage d'un faisceau optique émis par un émetteur d'un dispositif d'observation et du faisceau réfléchi. Elle permet également d'exposer la résine à des rayons UV pour la polymériser à la fin du pressage dans le cas de l'utilisation de cette presse selon le mode UV décrit précédemment. La membrane souple 18 portée par le premier élément support 10 et le deuxième élément support 12 délimitent une chambre de pressage 32. Un piquage 30 est également prévu dans le deuxième élément support 12 pour permettre une vidange de la chambre de pressage 32 préalablement à l'impression Un moyen d'étanchéité 33 représenté sur la figure 3 est prévu entre le premier élément support 10 et la membrane pour assurer l'étanchéité de la cavité 16. Dans l'exemple représenté, il s'agit d'un joint torique monté dans une gorge du premier élément support 10 et entourant la cavité 16. Un moyen d'étanchéité 34 représenté sur la figure 3 est prévu entre la membrane et le deuxième élément support 12 pour assurer l'étanchéité de la chambre de pressage 32. Dans 12 l'exemple représenté, il s'agit d'un joint torique monté dans une gorge du deuxième élément support 12 et entourant l'emplacement P. Un moyen d'étanchéité 35 visible sur la figure 3, type joint torique, est prévu entre le moule 4 et le contour de la fenêtre 24. Celui-ci est visible par transparence à travers le moule. Il est avantageusement prévu que l'ensemble formé par le moule 4 et les brides de serrage 26 offre une planéité suffisante, de préférence inférieure à 200 }gym sur toute sa surface, pour permettre de presser des substrats dont les bords dépassent du moule 4 et/ou pour que la membrane souple qui presse le substrat contre le moule ne se déchire pas. Dans le cas où par exemple les brides 26 comportent des alésages ou des trous comme dans l'exemple représenté, ceux-ci ont de préférence un diamètre inférieur à 3 mm pour éviter que la membrane ne se déchire dans ces trous. De même au niveau de la zone de raccordement entre les brides et le couvercle, il est préférable que la marche ait une hauteur inférieure à 200 }gym afin d'éviter un déchirement de la membrane lors de l'impression. La cavité 16 située dans le premier élément support 10 présente une profondeur suffisante pour que, au repos, le substrat 6 recouvert de résine n'entre pas en contact avec le moule 4. La profondeur de la cavité 16 est cependant choisie suffisamment faible pour que la course de la membrane 18 ne soit pas trop importante, ce qui permet d'obtenir un pressage uniforme et un positionnement précis du substrat 6. 13 Le moule est réalisé en un matériau transparent optiquement. Par exemple, celui-ci est réalisé en silice. De manière particulièrement avantageuse le moule présente une épaisseur suffisante afin de présenter une certaine rigidité et assurer une planéité suffisante lors de l'impression, par exemple meilleure que à 100 nm sur une surface de 20x20 mm2. Associé à une force d'impression suffisamment uniforme obtenue grâce à l'utilisation d'une membrane souple et d'un fluide sous pression, il est possible d'utiliser des résines offrant une très faible viscosité par exemple inférieure à 0,1 Pa.s permettant d'obtenir un pressage uniforme avec des structures de densité de motifs différentes sur le moule. Par exemple des résines monomères offrent de telles viscosités. Par ailleurs, en utilisant des résines de faible viscosité, il est possible de réduire la pression du fluide nécessaire pour effectuer l'impression, par exemple 6 bars sont suffisants. On peut alors utiliser le circuit d'air comprimé ou d'azote comprimé disponible couramment dans les laboratoires ou les salles blanches de micro- électronique. En général ces circuits délivrent une pression comprise entre 5 bars et 8 bars. Le dispositif selon la présente invention est donc particulièrement adapté à l'utilisation dans un laboratoire. De manière alternative le volume de la cavité étant très faible, par exemple quelques cm3, il est possible d'utiliser une pompe manuelle ou une bouteille d'air comprimé, le dispositif de nanoimpression devient alors autonome. 14 Le dispositif de nanoimpression selon la présente invention peut fonctionner en mode UV en utilisant alors une résine photosensible. Le dispositif de nanoimpression est alors équipé d'une source de lumière UV. La section du faisceau émis par la source UV est de préférence au moins égal à celle de la fenêtre pour illuminer toute surface de la résine simultanément. En variante, le dispositif de nanoimpression selon la présente invention peut fonctionner selon un mode thermique en utilisant des résines polymérisables thermiquement. De préférence, on choisit des résines monomères sensibles thermiquement qui présentent une très faible viscosité. Par exemple le dispositif peut être déposé sur une plaque chauffante. En variante, le premier élément support 10 et/ou le deuxième élément support 12 peuvent être équipés de moyens de chauffage intégrés. Le dispositif de nanoimpression selon la présente invention est de conception très simple et très compact. En outre, il est très robuste. Il peut alors équiper aisément les laboratoires ou les petites entreprises. En outre, comme expliqué ci-dessus, le niveau de pression n'étant que de l'ordre de 6 bars, il peut être alimenté par un réseau d'air comprimé classique, voire alimenté par un dispositif manuel type pompe à main ou par une source autonome. De plus, son fonctionnement est très simple et l'étape de pressage ne demande aucune surveillance particulière. Ce dispositif est donc particulièrement adapté pour être équipé de moyens de mesure du 15 comportement de la résine lors du pressage, d'autant plus qu'il comporte une fenêtre de mesure et que le moule transparent est fixe, la zone à observer est donc elle-même fixe. Il ne se pose alors pas de problème de netteté et de réglage lors de l'observation qui contribuerait à complexifier le système. Sur la figure 4, on peut voir représenté schématiquement un tel système de nanoimpression selon la présente invention permettant la mesure de l'écoulement de la résine lors de l'impression. Le système comporte un dispositif de nanoimpression D selon la présente invention et tel que représenté sur les figures 1 à 3 et des moyens de mesure, par exemple on effectue des mesures par scatterométrie (aussi parfois appelée diffractométrie optique en français, qui est une technique optique générale basée sur l'analyse de la lumière diffractée par une structure périodique), par exemple au moyen d'un ellipsomètre 38 afin de faire des mesures optiques de l'écoulement de la résine dans les motifs du moule et avec une résolution sub-micronique). En variante, on peut utiliser un réflectomètre pour réaliser les mesures par scatterométrie. En outre, les mesures ne sont pas limitées à des mesures sur des structures périodiques, mais peuvent être effectuées sur d'autres structures pour pouvoir déduire des informations suffisamment résolues sur l'écoulement. Il est également possible de faire d'autres mesures optiques pour pouvoir faire une mesure rapide et/ou en temps réel, pour chercher à caractériser 16 l'écoulement de la résine, comme par exemple de la réflectométrie, et ceci sur des structures périodiques et des structures non périodiques. Dans l'exemple particulier représenté, l'ellipsomètre 38 comporte un émetteur 42 d'un faisceau optique pointé sur les motifs du moule 4 est focalisé sur ceux-ci et un détecteur 40 du faisceau réfléchi sur la surface du moule. Le principe repose sur la mesure du changement de l'état de polarisation du faisceau lumineux après réflexion sur la surface du moule. On fait alors de la scatterométrie en mesurant la signature ellipsométrique d'une structure périodique. Puis, des informations, à l'échelle sub-micronique, sur la forme des motifs sont obtenues en cherchant à décrire cette signature ellipsométrique par un modèle électromagnétique. Sur la figure 4, on peut voir également une caméra d'observation 36, ainsi qu'une source de fluide pneumatique sous pression 44 équipé d'un manomètre 46 afin de permettre le réglage de la pression dans la cavité et d'une vanne trois voies 47. Par ailleurs le système comporte des moyens de support 48 du dispositif de nanoimpression, ces moyens de support 48 étant réglables verticalement, horizontalement selon deux directions, et en rotation autour de l'axe horizontal et de l'axe vertical dans le plan vertical perpendiculaire au plan de la mesure, afin de disposer la presse précisément sous l'ellipsomètre et sous la source de rayons UV. 17 A titre d'exemple non limitatifs, nous allons donner des dimensions des éléments du dispositif selon la présente invention. Le moule 4, qui est par exemple en silice peut avoir une longueur et une largeur égales à 65 mm et une épaisseur égale à 6,35 mm. De préférence, les dimensions du moule seront choisies de sorte à limiter la flèche de celui-ci à quelques centaines de nm par cm. La cavité 16 présente par exemple une profondeur supérieure de 1 mm par rapport à l'épaisseur du substrat recouvert de résine. Dans le domaine de la microélectronique où les substrats peuvent avoir une épaisseur de 760 pm, la cavité peut par exemple avoir une profondeur de l'ordre de 2 mm. Les substrats ont par exemple un diamètre de l'ordre de 100 mm. Mais des impressions sur des substrats plus grands ou plus petits est réalisable avec le dispositif selon la présente invention. Dans le cas particulier d'impression sur des substrats de grandes dimensions, les épaisseurs et/ou la forme du moule et des éléments supports et/ou les matériaux mis en oeuvre seront adaptées pour conserver une bonne planéité. Nous allons maintenant décrire le fonctionnement du dispositif de nanoimpression. Le moule 4 comportant les motifs que l'on souhaite reproduire sur le substrat 6 est monté à l'emplacement P entre les deux brides 26, le joint d'étanchéité 35 étant préalablement disposé entre le 18 moule 4 et les bords de la fenêtre 24. Les brides 26 sont alors fixées sur le deuxième élément support 12. Le moule 4 est alors maintenu dans le deuxième élément support 12, de sorte que les motifs soient orientés vers l'intérieur de la presse. Une couche de résine thermosensible ou photosensible est déposée sur le substrat par exemple par centrifugation et sur une épaisseur de 200 nm. Le substrat 6 est ensuite disposé sur la membrane souple 18, la cavité 16 n'étant pas sous pression. Le deuxième élément support 12 est alors fixé sur le premier élément support 10, les joints 33 et 34 sont montés entre les deux éléments supports 10, 12 et la membrane. Le moule est alors disposé au dessus et en face du substrat et à distance de celui-ci. Le vide est réalisé dans la chambre d'impression 32 pour éviter la présence de bulles d'air entre le moule et le substrat et dans la cavité 16, ceci pour éviter au substrat de venir au contact du moule déjà lors de cette étape. La cavité 16 est ensuite mise sous pression, provoquant le déplacement vertical de la membrane souple 18 en direction du deuxième élément support 12, le rapprochement du substrat 6 du moule 4 et enfin la pénétration des motifs du moule 4 dans la couche de résine. La résine s'écoule alors dans les motifs. La durée de cette étape d'impression dépend en grande partie de la viscosité de la résine utilisée et de la forme et la disposition des motifs sur le moule. Cette durée peut aller de quelques millisecondes à plusieurs jours. Dans la pratique, avec une résine 19 monomère de faible viscosité et un moule approprié, cette étape de pressage dure de 5 à 60 secondes. On peut prévoir de maintenir le vide dans la chambre d'impression de manière active pendant le pressage, la pression d'impression en sera augmentée d'autant, donc environ de la pression atmosphérique, soit environ 1 bar. Dans le cas d'une résine photosensible, la source UV est activée pour réticuler la résine à travers la fenêtre 24 et le moule 4. Dans le cas d'une résine thermosensible, les moyens de chauffage sont activés pour polymériser la résine. L'étape de polymérisation dure de quelques secondes à quelques minutes selon la réactivité de la résine et la puissance de la lampe UV / température de chauffage. Dans le cas de la polymérisation thermique, le temps de chauffe nécessaire pour atteindre la température de polymérisation choisie est à prendre en compte, celle-ci étant généralement comprise entre 80 et 150 °C. Lorsque la résine a durci, la pression dans la cavité 16 est relâchée ainsi que, s'il est actif, le vide dans la chambre d'impression. On peut alors ouvrir la presse. Le substrat est ensuite retiré de la surface du moule sur lequel il est collé, par exemple manuellement. Simultanément au pressage, l'émetteur 42 envoie le faisceau optique sur la résine lors de l'impression, ce faisceau traverse le moule transparent 4 après avoir traversé la fenêtre 24, le faisceau réfléchi par l'interface moule-résine est collecté par le détecteur 40. 20 Les informations obtenues permettent de suivre en temps réel l'écoulement de la résine dans les motifs du moule 4 au fur et à mesure que le moule pénètre dans la résine, et d'analyser le comportement de la résine et l'influence des différents paramètres sur la nanoimpression. Ainsi on obtient une connaissance du comportement de la résine lors de la nanoimpression. Il est alors possible d'améliorer les paramètres de nanoimpression, par exemple la vitesse de déplacement relatif entre le moule et le substrat et/ou la viscosité de la résine et/ou la pression dans la cavité afin d'obtenir une impression dépourvue de défaut et/ou d'avoir des informations rhéologiques sur l'écoulement de la résine à une résolution exceptionnelle (sub-micronique). Le dispositif et le système de nanoimpression selon la présente invention trouvent leur application, par exemple dans le domaine de la micro et nanotechnologie, mais également dans les domaines de l'optique, de biotechnologie, du stockage d'information.... REVENDICATIONS1. Dispositif de nanoimpression comportant un premier élément support (10) destiné à supporter un substrat (6) recouvert sur une face d'une résine à imprimer, un deuxième élément support (12) destiné à supporter un moule (4) de nanoimpression et à être fixé sur le premier élément support (10), ledit moule (4) comportant une face avec des motifs, ladite face étant disposée en face de la face du substrat (6) recouverte de résine, ledit moule (4) étant en un matériau transparent à un faisceau optique, et ledit deuxième élément support (12) comportant une fenêtre (24) obturée par le moule (4) permettant au faisceau optique de traverser le moule (4), ledit moule (4) étant maintenu immobile dans le dispositif et le premier élément support (10) comportant des moyens aptes à déplacer le substrat (6) pour appliquer la face du substrat (6) recouverte de résine contre la face du moule (4) comportant les motifs, lesdits moyens comportant une membrane souple (18) délimitant une chambre de pression connectée sur commande à une source de fluide sous pression. 2. Dispositif de nanoimpression selon la revendication 1, dans lequel le moule (4) est maintenu dans le deuxième élément support (12) par deux brides (26) exerçant sur lui des efforts latéraux. 3. Dispositif de nanoimpression selon la revendication 1 ou 2, dans lequel la pression de la source de pression est comprise entre 5 bars et 8 bars. 22 4. Dispositif de nanoimpression selon l'une des revendications 1 à 3, comportant des moyens pour réaliser le vide entre la membrane souple (18) et le deuxième élément support (12). 5. Dispositif de nanoimpression selon l'une des revendications 1 à 4, dans lequel la planéité du moule (4) est inférieure à 100 nm sur une surface de 20x20 mm2. 6. Dispositif de nanoimpression selon l'une des revendications 1 à 5, dans lequel le moule (4) est en quartz ou en silice. 7. Dispositif de nanoimpression selon l'une des revendications 1 à 6, dans lequel la résine utilisée à une viscosité inférieure à 0,1 Pa.s. 8. Dispositif de nanoimpression selon 20 l'une des revendications 1 à 7, comportant une source UV pointée sur la fenêtre (24) du premier élément support (10), la résine mise en oeuvre étant photosensible. 25 9. Dispositif de nanoimpression selon l'une des revendications 1 à 8, comportant des moyens de chauffage de la résine, la résine mise en oeuvre étant polymérisable thermiquement, ladite résine thermosensible étant une résine monomère. 10 15 30 10. Système comportant un dispositif de nanoimpression selon l'une des revendications 1 à 9 et des moyens de mesure de l'écoulement de la résine dans les motifs du moule lors de l'impression 11. système selon la revendication 10, dans lequel les moyens de mesure sont des moyens de mesure par scatterométrie. 10 12. Système selon la revendication 11, dans lequel les moyens de mesure par scatterométrie comportent un ellipsomètre (38), ledit ellipsomètre (38) comportant un émetteur (42) de rayons lumineux pointé sur la fenêtre (24) du deuxième élément support 15 (12) et focalisé sur la surface du moule (4) comportant les motifs et un détecteur (42) d'un faisceau réfléchi. 13. Procédé de nanoimpression mettant en oeuvre le dispositif de nanoimpression selon l'une des 20 revendications 1 à 9 comportant les étapes de : - mise en place du substrat (6) et du moule (4) dans le premier (10) et deuxième (12) élément support respectivement, - dépôt de la résine sur le substrat (6), 25 - fixation du deuxième élément support (12) sur le premier élément support (10), - vidange de l'espace entre la membrane souple (18) et le deuxième élément support (12), - application d'une pression dans la 30 chambre de pression, - polymérisation de la résine.5 24 14 Procédé selon la revendication précédente, dans lequel le dispositif de nanoimpression est associé à des moyens de mesure par scatterométrie, dans lequel les mesures par scatterométrie ont lieu simultanément au pressage, ledit procédé comportant une étape d'analyse de mesures et de compréhension du comportement de la résine.10