FR 2935057 A1 20100219 FR 0855541 A 20080812 B8829 1 PROCÉDÉ DE SUIVI EN TEMPS RÉEL DE L'ÉVOLUTION D'UN MOTIF DIFFRACTANT Domaine de l'invention La présente invention concerne un dispositif et un pro-cédé de détection de la forme d'un motif diffractant et, plus particulièrement, un dispositif et un procédé permettant le suivi en temps réel de paramètres géométriques et/ou physiques d'un motif diffractant subissant un traitement physique et/ou chimique. Exposé de l'art antérieur Diverses techniques permettent de déterminer la forme d'un motif diffractant. L'une d'entre elles, appelée scattéro- métrie, tire profit de la corrélation entre les propriétés optiques d'un faisceau diffracté par le motif et les paramètres géométriques et/ou physiques du motif. Un procédé de scattérométrie peut mettre en oeuvre différentes techniques de mesures dont notamment la réflectométrie, ou encore l'ellipsométrie spectroscopique qui permet de déterminer, en fonction de la longueur d'onde, les changements de polarisation entre un faisceau éclairant le motif et le faisceau diffracté par le motif. De tels changements de polarisation sont corrélés aux paramètres géométriques et/ou physiques du motif. Par la suite, on appellera "motif" tout motif diffractant dont les dimensions caractéristiques sont de l'ordre de B8829 2 quelques nanomètres à quelques micromètres. Il s'agit, par exemple, de réseaux de diffraction formés en surface d'un support semiconducteur. La figure 1 représente un support 1 comprenant une face 2 sur laquelle est formé un motif 3, par exemple un réseau de diffraction comprenant une succession périodique de traits 13. Un polariseur 5, placé dans une direction oblique par rapport à la face 2, transmet un faisceau lumineux 7 de polarisation connue en direction du motif 3. Le faisceau 7 est diffracté par le motif 3 pour former un faisceau lumineux 9 qui est reçu par un analyseur 11. L'analyseur 11 permet de tracer des courbes représentatives du changement de polarisation entre les faisceaux 7 et 9, en fonction de la longueur d'onde du faisceau 7. De telles courbes sont appelées signature scattérométrique de l'élément diffractant. La figure 2 représente un exemple de motif en créneau 13 d'un trait d'un réseau de diffraction formé sur le support 1. Sur cet exemple, la forme du créneau est définie par trois para- mètres : la hauteur h du créneau, la largeur à mi-hauteur CD du créneau, et l'angle 0 que forme chacune des parois latérales du créneau avec la perpendiculaire à la face 2 du support 1. La figure 3 représente la signature scattérométrique d'un réseau de diffraction constitué d'une succession de traits ayant chacun la forme du trait 13 de la figure 2, la signature étant obtenue par ellipsométrie spectroscopique. La signature scattérométrique comprend deux courbes 15 et 17 d'évolution de deux grandeurs représentatives des changements de norme et de phase des deux projections orthogonales de la polarisation du faisceau lumineux incident 7 (scattéro-ellipsométrie). On s'intéresse ici à des procédés de détermination des paramètres géométriques et/ou physiques d'un motif à partir de sa signature scattérométrique. Pour faire cette détermination, une première méthode 35 consiste à modéliser théoriquement la forme du motif et son B8829 3 comportement en diffraction à l'aide d'inconnues puis à déterminer les inconnues de la modélisation par comparaison avec la signature scattérométrique acquise. Cependant, la modélisation de la diffraction d'un motif et les méthodes d'obtention des inconnues par comparaison avec des courbes sont relativement compliquées. On peut également comparer une signature scattérométrique acquise à des signatures préalablement mémorisées dans une bibliothèque, chaque signature de la bibliothèque étant associée à un motif particulier. On choisit alors la signature de la bibliothèque la plus proche de celle acquise et les para-mètres géométriques et/ou physiques associés à la signature choisie sont considérés comme étant les paramètres du motif. Plus la bibliothèque de signatures est importante, plus la pré- cision de la détermination est grande. Cependant, si on veut réaliser une détermination précise de paramètres géométriques et/ou physiques, la bibliothèque doit comprendre un grand nombre de signatures et la recherche dans la bibliothèque devient longue. La durée nécessaire à la mise en oeuvre des procédés ci-dessus est notamment incompatible avec le suivi en temps réel de l'évolution de la forme d'un motif qui varie dans le temps, par exemple lorsque le motif subit un traitement chimique et/ou physique. Résumé Il existe donc un besoin d'un dispositif et d'un pro-cédé de suivi en temps réel de l'évolution de la forme d'un motif soumis à un traitement chimique et/ou physique. Ainsi, un mode de réalisation de la présente invention prévoit un procédé de suivi en temps réel de l'évolution de paramètres géométriques et/ou physiques d'un motif diffractant au cours d'un traitement physique et/ou chimique, comprenant : avant le début du traitement : mémoriser, dans une mémoire vectorielle associée à un 35 processeur vectoriel, une bibliothèque de vecteurs signature, B8829 4 les coordonnées de chaque vecteur signature correspondant à des signaux de mesure associés à un motif de référence parmi des motifs de référence ; mémoriser, dans une mémoire scalaire associée à un processeur scalaire, des vecteurs paramètre, les coordonnées de chaque vecteur paramètre correspondant à des paramètres géométriques et/ou physiques d'un motif de référence, chaque vecteur paramètre étant associé à un vecteur signature, et au cours du traitement, déterminer de façon itérative un vecteur paramètre courant en répétant les étapes suivantes : déterminer un vecteur signature courant à partir de mesures réalisées sur le motif ; amener le processeur vectoriel à déterminer, dans la bibliothèque, les K vecteurs signature les plus proches du vec- teur signature courant, K étant un entier supérieur ou égal à 2 ; amener le processeur scalaire à sélectionner, parmi les K vecteurs signature, le vecteur signature qui minimise la somme pondérée d'une distance entre le vecteur signature courant et ledit vecteur signature et d'un critère mettant en oeuvre le vecteur paramètre associé audit vecteur signature et au moins le vecteur paramètre associé à au moins l'un des vecteurs signature sélectionnés à au moins une itération précédente ; et déterminer le vecteur paramètre courant à partir du vecteur paramètre associé au vecteur signature sélectionné. Selon un mode de réalisation de la présente invention, le vecteur paramètre courant est déterminé à partir du vecteur paramètre associé au vecteur signature sélectionné et d'au moins un vecteur paramètre courant déterminé à une itération précé- dente. Selon un mode de réalisation de la présente invention, le vecteur paramètre courant est déterminé, en outre, à partir d'au moins un vecteur paramètre associé à un vecteur signature sélectionné à une itération suivante. B8829 Selon un mode de réalisation de la présente invention, le procédé comprend en outre une étape initiale consistant à déterminer, avant le début du traitement, un vecteur paramètre initial du motif diffractant. 5 Selon un mode de réalisation de la présente invention, le procédé consiste, en outre, à décider de l'arrêt ou de la modification du traitement appliqué au motif à partir du vecteur paramètre courant. Selon un mode de réalisation de la présente invention, 10 la détermination du vecteur signature courant est réalisée par ellipsométrie spectroscopique. Il est également prévu un dispositif de suivi en temps réel de l'évolution de paramètres géométriques et/ou physiques d'un motif diffractant au cours d'un traitement physique et/ou 15 chimique, comprenant les éléments suivants : une mémoire vectorielle contenant une bibliothèque de vecteurs signature, les coordonnées de chaque vecteur signature correspondant à des signaux de mesure associés à un motif de référence parmi des motifs de référence ; 20 une mémoire scalaire contenant un ensemble de vecteurs paramètre, les coordonnées de chaque vecteur paramètre correspondant à des paramètres géométriques et/ou physiques d'un motif de référence, chaque vecteur paramètre étant associé à un vecteur signature ; 25 un moyen de détermination, de façon itérative, d'un vecteur signature courant à partir de mesures réalisées sur le motif ; un processeur vectoriel associé à la mémoire vectorielle et adapté à déterminer, de façon itérative, dans la 30 bibliothèque, les K vecteurs signature les plus proches du vecteur signature courant, K étant un entier supérieur ou égal à 2 ; et un processeur scalaire associé à la mémoire scalaire et adapté à sélectionner, de façon itérative, parmi les K 35 vecteurs signature, le vecteur signature qui minimise la somme B8829 6 pondérée d'une distance entre le vecteur signature courant et ledit vecteur signature et d'un critère mettant en oeuvre le vecteur paramètre associé audit vecteur signature et au moins le vecteur paramètre associé à au moins l'un des vecteurs signature sélectionnés à au moins une itération précédente, et à déterminer un vecteur paramètre courant à partir du vecteur paramètre associé au vecteur signature sélectionné. Selon un mode de réalisation de la présente invention, le moyen de détermination du vecteur signature courant est adapté à réaliser des mesures d'ellipsométrie spectroscopique. Selon un mode de réalisation de la présente invention, le processeur vectoriel est un processeur graphique. Il est également prévu l'utilisation du dispositif ci-dessus pour le suivi de paramètres géométriques et/ou physiques 15 d'un réseau de diffraction. Brève description des dessins Ces objets, caractéristiques et avantages, ainsi que d'autres seront exposés en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faite à titre non-limitatif 20 en relation avec les figures jointes parmi lesquelles : la figure 1, précédemment décrite, illustre un dispositif d'acquisition d'une signature scattérométrique ; la figure 2, précédemment décrite, illustre un exemple de motif ; 25 la figure 3, précédemment décrite, illustre un exemple de signature scattérométrique ; la figure 4 est un schéma-blocs d'un dispositif de suivi en temps réel selon un mode de réalisation ; la figure 5 illustre la formation d'un vecteur associé 30 à une signature scattérométrique ; la figure 6 est un organigramme d'un procédé de suivi en temps réel selon un mode de réalisation ; les figures 7A à 7C illustrent une bibliothèque de signatures scattérométriques selon un mode de réalisation ; B8829 7 les figures 8, 9 et 10A à 10D illustrent des étapes de recherche de K vecteurs les plus proches d'un vecteur dans la bibliothèque des figures 7A à 7C ; et les figures 11A à 11D illustrent d'autres étapes du 5 procédé de la figure 6. Par souci de clarté, de mêmes éléments ont été désignés par de mêmes références dans les différentes figures. Description détaillée Dans la suite de la description, on appelle signature 10 un ensemble de valeurs mesurées par un dispositif d'acquisition. En outre, on appelle signature courante la dernière signature fournie par le dispositif d'acquisition de signatures. Pour réaliser le suivi en temps réel de l'évolution de paramètres géométriques et/ou physiques d'un motif, la demande- 15 resse a défini un procédé et un dispositif permettant une recherche rapide, dans une bibliothèque de signatures, de la signature la plus proche d'une signature courante. Pour ce faire, la demanderesse a tiré profit des propriétés de traitement en parallèle des processeurs vectoriels tels que les processeurs graphiques 20 (GPU pour Graphics Processing Unit), par exemple les processeurs graphiques commercialisés par Nvidia, ATI ou Intel, en association avec des processeurs scalaires classiques (par exemple tout processeur habituel d'un ordinateur). De plus, pour suivre l'évolution des paramètres géomé- 25 triques et/ou physiques du motif, la demanderesse propose de réaliser des mesures de signature le plus souvent possible mais avec une résolution réduite pour diminuer la durée d'acquisition de chaque signature. Par exemple, dans le cas d'acquisitions réalisées par ellipsométrie spectroscopique, la demanderesse 30 prévoit de faire des mesures pour un nombre réduit de longueurs d'onde. Les valeurs mesurées aux différentes longueurs d'onde sont assemblées sous la forme d'un vecteur que l'on appelle par la suite vecteur signature. A titre d'exemple, dans le cas de la signature de la figure 3, on pourra prendre 4, 8, 16 ou 32 35 points de mesure correspondant à 2, 4, 8 ou 16 longueurs d'onde B8829 8 pour former un vecteur signature ayant 4, 8, 16 ou 32 coordonnées. La faible résolution de chaque acquisition est compensée par une fréquence d'acquisition élevée. A chaque vecteur signature de la bibliothèque, on associe un vecteur paramètre dont les coordonnées correspondent aux différents paramètres géométriques et/ou physiques du motif considéré. Pour réaliser les différentes mesures en temps réel, on utilise un système de mesure tel que celui de la figure 1. On peut utiliser un seul couple polariseur/analyseur et balayer une plage de longueurs d'onde ou prévoir plusieurs couples polariseurs/analyseurs, chaque couple étant dédié à l'une des longueurs d'onde sélectionnées pour l'acquisition. De préférence, on utilise un unique couple polariseur/analyseur associé à plu- sieurs photomultiplicateurs placés en parallèle. La figure 4 est un schéma-blocs d'un dispositif 20 de détermination de paramètres géométriques et/ou physiques d'un motif 21. La forme et/ou la structure du motif 21 est susceptible d'évoluer dans le temps. Par exemple, l'indice optique du matériau formant le motif pourra être l'un des paramètres physiques que l'on surveille. L'évolution du motif peut être due à des traitements physiques et/ou chimiques appliqués au motif, par exemple une opération de chauffage, une gravure, etc. Le dispositif 20 comprend un dispositif d'acquisition 23 tel que le dispositif de la figure 1 qui mesure le changement de l'état de polarisation d'un faisceau réfléchi par le motif et qui fournit les coordonnées du vecteur signature associé au motif. Le dispositif d'acquisition 23 communique avec un processeur scalaire 25. Le dispositif 20 comprend également un processeur vectoriel 27 qui communique avec le processeur scalaire 25. Le processeur scalaire 25 est associé à une mémoire scalaire 29 et le processeur vectoriel 27 est associé à une mémoire vectorielle 31. B8829 9 Dans la mémoire vectorielle 31, on stocke une bibliothèque de vecteurs signature Xi correspondant à différents motifs j, j étant un entier compris entre 1 et N, N étant un entier correspondant au nombre de vecteurs signature de la bibliothèque. Les N vecteurs signature de la bibliothèque correspondent à différentes valeurs de différents paramètres géométriques et/ou physiques de motifs connus. Dans la mémoire scalaire 29, des paramètres géométriques et/ou physiques de motifs connus (par exemple les paramè- tres h, CD, et 0) sont mémorisés. On appelle Ti l'ensemble des paramètres géométriques et/ou physiques associés à un motif j. Par la suite, un ensemble de paramètres Ti sera appelé vecteur paramètre. Par exemple, le processeur scalaire peut mémoriser des données de la façon suivante : j = 1, T1 = (h1, CD1, 01) j = 2, T2 = (h2, CD2, 02) j = N, TN = (hN, CDN, 0N) . Ainsi, dans la mémoire scalaire 29, on stocke des vecteurs paramètre Ti tandis que, dans la mémoire vectorielle, on forme une bibliothèque de vecteurs signature Xi correspondants. L'indice j associé aux vecteurs signature et paramètre permet le lien entre les deux ensembles de vecteurs. La figure 5 illustre un exemple de vecteur signature 25 mémorisé dans la mémoire vectorielle 31. La figure 5 illustre une signature scattérométrique constituée de deux courbes 15 et 17. Le vecteur signature Xi associé à la signature de la figure 5 comprend M coordonnées x1'7, i variant entre 1 et M. A titre d'exemple, en figure 5, on 30 prend M = 8. Dans l'exemple représenté, les coordonnées du vecteur signature Xi sont associées à 4 longueurs d'onde d'acqui- sition X1, X2, X3 et X4. Pour chacune de ces longueurs d'onde, on détermine le point d'intersection avec les courbes 15 et 17. Par exemple, les coordonnées x1 7, x2,j, x3' et x4,7 du vecteur 35 Xi peuvent être égales aux valeurs sur la courbe 15, respec- B8829 10 tivement, pour les longueurs d'onde X1, X2, X3 et X4 et les coordonnées x5j, x67, x7,7 et x8,j peuvent être égales aux valeurs sur la courbe 17, respectivement, pour les longueurs d'onde X1, X2, X3 et X4. On notera que les coordonnées des vecteurs signature Xi pourront être définies dans un ordre différent de celui présenté ici. La figure 6 est un organigramme illustrant un procédé mis en oeuvre ici. L'étape initiale 41 du procédé consiste à former une bibliothèque de vecteurs signature dans la mémoire vectorielle 31, chaque vecteur signature de la bibliothèque étant associé à un motif j, et à stocker des vecteurs paramètre Ti associés aux différents motifs j dans la mémoire scalaire. L'étape suivante 43 consiste à réaliser une acquisi- tion initiale, avant le début du traitement modifiant le motif, permettant de déterminer les paramètres géométriques et/ou physiques initiaux du motif statique. L'acquisition initiale est réalisée par tout procédé connu, par exemple en traçant la signature scattérométrique complète du motif puis en comparant cette signature à des signatures complètes mémorisées dans une bibliothèque pour obtenir la signature la plus proche de celle du motif et les paramètres géométriques et/ou physiques qui lui sont associés. L'acquisition initiale peut également être réa- lisée par une mesure par AFM (Atomic Force Microscope - microscope à force atomique) qui est lente mais précise. Cette étape permet de connaître, avec précision, les paramètres géomé- triques et/ou physiques du motif initial, par exemple h, CD et e. A l'étape 45, le traitement modifiant la forme et/ou la structure du motif commence. Ce traitement peut être une gravure, une opération de chauffage entraînant le fluage du motif, ou tout autre traitement chimique et/ou physique que l'on veut suivre en temps réel. A l'étape 47, on réalise une acquisition du vecteur 35 signature courant. Le vecteur signature courant comprend le même B8829 11 nombre de coordonnées que les vecteurs signature de la bibliothèque 31, ces coordonnées étant obtenues, par exemple, de la façon décrite en relation avec la figure 5. A l'étape 49, on effectue une recherche, dans la bibliothèque de vecteurs signature 31, des K vecteurs signature les plus proches du vecteur signature courant. Cette recherche est réalisée par le processeur vectoriel 27, comme nous le verrons par la suite en relation avec les figures 9 et 10A à 10D. A l'étape 51, on réalise une ou plusieurs opérations de filtrage temporel permettant de choisir, parmi les K vecteurs signature, le vecteur signature le plus proche du vecteur signature courant. Au moins une de ces opérations de filtrage est réalisée en prenant en compte, d'une part, la proximité des K vecteurs signature et du vecteur courant et, d'autre part, l'évolution des paramètres dans le temps. A l'étape 53, on décide de poursuivre, d'arrêter ou de modifier le traitement appliqué au motif en fonction des résultats obtenus à l'étape précédente. Si le traitement doit conti- nuer, on retourne à l'étape 47 où une nouvelle acquisition d'un vecteur courant est réalisée. Si on décide d'arrêter ou de modifier le traitement appliqué au motif, le procédé se poursuit à l'étape 53 dans laquelle le traitement est arrêté ou modifié. Si on décide, à l'étape 53, de modifier le traitement, on peut ensuite retourner à l'étape 47 pour continuer la surveillance de l'évolution du motif. Les différentes étapes du procédé de la figure 6 sont décrites plus en détail ci-après, l'étape 41 en relation avec les figures 7A à 7C, l'étape 49 en relation avec les figures 8, 9 et 10A à 10D et l'étape 51 en relation avec les figures 11A à 11D. Les figures 7A à 7C illustrent le stockage d'une bibliothèque de vecteurs signature dans la mémoire vectorielle 31 et, plus précisément, dans une mémoire vectorielle associée à un processeur graphique. B8829 12 Les données stockées dans une mémoire vectorielle associée à un processeur graphique sont réparties en textures. Chaque texture comporte quatre couches, une couche rouge R, une couche verte G, une couche bleue B et une couche de transparence oc. Chaque couche comprend une matrice de cellules mémoire. Les couches R, G, B et î sont représentées, dans les figures, les unes au-dessus des autres. On associe, à chaque cellule mémoire d'une texture, des coordonnées p,q,r, p et q étant, respective-ment, le numéro de la ligne et de la colonne de la cellule mémoire sur une couche de la texture et r étant le numéro de la couche de la cellule mémoire, r variant entre 1 et 4. Par exemple, on prendra r = 1 pour la couche R, r = 2 pour la couche G, r = 3 pour la couche B et r = 4 pour la couche oc. Ainsi, un élément dont l'indice est p,q,r est stocké dans la cellule mémoire de la p-ième ligne, q-ième colonne et r-ième couche. Dans la suite de cette description, une couche R, G, B, a d'une texture donnée sera désignée en ajoutant, en indice de cette couche, le nom de la texture associée (par exemple RIND pour la couche R d'une texture appelée IND). De plus, l'association des quatre cellules formées dans des lignes et colonnes identiques des quatre couches est appelée "texel" (abréviation de l'expression anglaise "texture element"). Par la suite, on identifiera un texel par l'ajout, en indice, de ses ligne et colonne associées, p et q. Selon un mode de réalisation, chaque coordonnée x1'7 d'un vecteur signature Xi de la bibliothèque est mémorisée dans une texture différente mais dans des cellules de coordonnées p,q,r identiques. Ainsi, une première texture reçoit les premières coordonnées x1 7 de chaque vecteur Xi, une deuxième texture reçoit les deuxièmes coordonnées x2,7 de chaque vecteur Xj, et ainsi de suite. La figure 7A illustre la mémorisation de la première coordonnée de chaque vecteur signature de la bibliothèque dans une première texture appelée Cl et la figure 7B illustre, à titre d'exemple, la mémorisation d'une M-ième et dernière coor- B8829 13 donnée de chaque vecteur de la bibliothèque dans une M-ième texture appelée CM. Dans l'exemple représenté, une coordonnée xlpq, est la i-ième coordonnée du vecteur Xi, mémorisée dans la cellule mémoire de coordonnées p,q,r. Ainsi, la texture de la figure 7A comprend toutes les coordonnées xpq,,, des vecteurs Xi et la texture de la figure 7B comprend toutes les coordonnées x P,q,,, des vecteurs Xi. La figure 7C illustre une texture supplémentaire d'indices IND formée dans la mémoire graphique 31, cette texture comportant les indices j associés à chaque vecteur signature Xi. Cette texture permet de faire le lien entre les vecteurs signature de la mémoire vectorielle et les vecteurs paramètre de la mémoire scalaire 29. La texture d'indice comprend, dans la cellule mémoire associée au vecteur Xi, l'indice j. Ainsi, les coordonnées de chaque vecteur signature Xi sont placées dans une même cellule mémoire des textures Cl à CM et l'indice j associé au vecteur signature Xi est placé dans la même cellule mémoire de la texture d'indices IND. A titre d'exemple, dans les textures, les vecteurs Xi ont été répartis d'abord le long d'un même texel, puis de ligne en ligne et de colonne en colonne dans les couches. On notera que l'ordre de placement des vecteurs signature dans les textures importe peu. La figure 8 illustre le résultat d'une étape préliminaire à la recherche de K vecteurs les plus proches d'un vecteur courant dans une bibliothèque telle que celle des figures 7A à 7C, K étant un entier positif supérieur à 1. Un vecteur signature courant Y est obtenu à l'aide du dispositif d'acquisition 23 et est mémorisé dans la mémoire scalaire 29 du processeur scalaire 25. A l'aide de deux textures de travail initialement vides, on réalise des calculs permettant d'obtenir une texture DIS comprenant les distances entre chacun des vecteurs Xi de la bibliothèque et le vecteur courant Y. On note ici y', i variant de 1 à m, les coordonnées du vecteur B8829 14 signature courant Y. A titre d'exemple, dans le cas où la distance considérée est associée à la norme 1 (distance de Manhattan), on a, dans la cellule de coordonnées p,q,r de la texture DIS (figure 8), le terme : ap,9,r = xp 1j 2,j ,9,r Y1 + xp,9,r Y2 + ...+ xB,J r _Y8 Pour obtenir le terme ap,q,r, on peut travailler alternativement sur les deux textures de travail initialement vides. En effet, un processeur graphique ne peut réaliser, en un cycle d'horloge, que des opérations sur un nombre limité d'élé- 10 ments de cellules mémoire. Ainsi, pour obtenir les termes ap,q,r, un certain nombre d'étapes intermédiaires peuvent être nécessaires, en fonction du nombre de coordonnées M des vecteurs signature. Les étapes intermédiaires ne seront pas décrites plus en détail ici. Dans les figures, on a représenté les textures 15 obtenues lors des différentes étapes et non pas les textures de travail intermédiaires obtenues lors des étapes intermédiaires. On comprendra que la norme utilisée pour former les éléments de la texture DIS pourra être toute autre norme connue adaptée à l'application visée, par exemple la norme 2 (norme 20 euclidienne). Ainsi, comme cela est illustré en figure 8, on obtient une texture DIS comprenant, à chaque emplacement p,q,r, la distance ap,q,r entre le vecteur signature Xi associé à l'emplacement p,q,r et le vecteur signature courant Y. L'utilisation 25 d'un processeur vectoriel pour réaliser cette étape permet le calcul de toutes les distances ap,q,r de la texture quasi-simultanément. Une fois la texture DIS obtenue, la recherche des K vecteurs les plus proches du vecteur courant Y est équivalente à 30 la recherche des K distances les plus petites stockées dans la texture DIS. Pour obtenir les K distances les plus petites de la texture DIS, on réalise une première étape qui permet de former une texture MIN dans laquelle des distances issues d'une première sélection sont stockées dans les couches RMIN et GMIN5 B8829 15 et dans laquelle les indices associés à ces distances sont stockés dans les couches BMIN et îMIN• Dans le cas où l'on veut obtenir K vecteurs les plus proches du vecteur courant, cette première étape de recherche de minima permettant de passer de la texture DIS à la texture MIN est réalisée sur des groupes comprenant A texels. Sur les distances contenues dans ces A texels de la texture DIS, les K plus petites sont stockées dans des cellules choisies des couches RMIN et GMIN des A texels correspondants de la texture MIN. Les indices associés à ces distances sont stockés dans les cellules correspondantes des couches BMIN et îMIN• En travaillant sur A texels initiaux de la texture DIS, on peut stocker jusqu'à K = 2A plus petites distances dans la texture MIN. On peut également prévoir de stocker un nombre K 2, des calculs similaires à ceux présentés ci-après en relation avec les figures 10A à 10D (où K = 2) sont effectués sur les distances des couches RMIN et GMIN• La figure 9 illustre le résultat d'une telle première étape dans le cas où l'on souhaite trouver K = 2 vecteurs les plus proches du vecteur courant Y. Cette première étape de la recherche consiste à travailler texel par texel (A = 1) sur la texture DIS. Sur les quatre distances mémorisées dans chaque texel p,q de la texture DIS, on cherche les deux plus petites que l'on va mémoriser dans les couches RMIN et GMIN du texel p,q. Ainsi, on divise par deux le nombre de distances en passant de la texture DIS à la texture MIN. Plus précisément, dans chaque texel p,q de la texture MIN, la couche RMIN reçoit la distance la plus petite du texel p,q correspondant de la texture DIS, la couche GMIN reçoit la deuxième distance la plus petite du texel correspondant de la texture DIS, la couche BMIN reçoit l'indice (texture IND) associé à la première distance la plus petite et la couche aMIN reçoit B8829 16 l'indice (texture IND) associé à la deuxième distance la plus petite du texel considéré. Ainsi, on obtient, sur la couche RMIN, une matrice de premiers minima correspondant aux premiers minima de chaque texel de la texture DIS. Les premiers minima sont appelés (3p (couche RMIN), p et q étant, respectivement, la ligne et la colonne du texel considéré. La couche GMIN reçoit les deuxièmes minima de chaque texel, appelés yp,q. Les indices associés aux premiers minima (3p,q sont appelés ip,q (couche BMIN) et les indices associés aux deuxièmes minima yp,q sont appelés i'p,q (couche OEMIN) Les figures 10A à 10D illustrent des étapes de recherche des deux distances les plus petites de la texture MIN. La figure 10A reprend les cellules mémoire de la couche RMIN qui contiennent les distances 13p,q et les cellules mémoires de la couche GMIN qui contiennent les distances yp,q, p et q étant, respectivement, les numéros de ligne et de colonne des cellules considérées, p et q variant de 1 à s = 2s, s étant un entier positif. Dans l'exemple représenté, p et q varient de 1 à 8 (s = 3). Le procédé proposé de recherche des deux plus petits minima dans les couches RMIN et GMIN consiste à réduire le nombre de distances mémorisées dans ces couches d'un facteur 4 à chaque itération puis à répéter cette opération autant de fois que nécessaire. Dans l'exemple de la figure 10A, pour diviser le nombre de minima d'un facteur 4, on découpe virtuellement les couches RMIN et GMIN en quatre quartiers QI à Q4, le quartier QI correspondant aux cellules 13p,q et yp,q avec 1 18 Y p,9 = min2 j R p,4 ' R p4 ' R p,4+/ ' 13'p 'y p,4 'y p+~,4 y p,9'y p et, en figure 10D, les cellules 13 p,q d'une couche RMIN4 d'une couche GMIN4 sont définies par : et Yp,q p,q" ' p,q" ' R" p,q " ' R p,4 + 8 'Y"p,Q ' p,q p,q, 7 + Dans l'exemple représenté, où s = 3 et donc S = 8, on a, dans les couches RMIN4 et GMIN4 des éléments uniques qui sont, respectivement : P1,1 = Min 1 "1,1 ' "1,2 , "2,1 ' "2,21f et yl,l = min 2 "1,1 , R "1,2 , R "2,1 , R "2,2 . La distance (311 est donc la plus petite distance mémorisee dans les couches RMIN et GMIN de la texture MIN et la distance yll est la deuxième plus petite distance mémorisée dans les couches RMIN et GMIN de la texture MIN. Les indices i et i' associés aux distances (311 et yll sont mémorisés dans le premier texel (première ligne et première colonne) de la texture finale, respectivement, dans les couches BMIN4 et GMIN4• Ainsi, en réalisant les opérations définies en relation avec les figures 10A à 10D sur les couches RMIN et GMIN de la texture MIN, on obtient, dans le texel de la première ligne et de la première colonne, deux vecteurs les plus proches du vecteur courant Y et les indices associés à ces deux vecteurs les plus proches. L'utilisation du processeur graphique pour ces étapes permet d'obtenir les deux vecteurs les plus proches rapidement. On notera que des opérations similaires sur la texture MIN peuvent être réalisées pour obtenir plus de deux plus petites distances. Les figures 11A à 11D illustrent, plus en détail, des résultats obtenus lors des étapes 49 et 51 du procédé de la figure 6 dans le cas où K = 4 (recherche de 4 vecteurs les plus proches de chaque vecteur courant Y). En figures 11A à 11D, on a représenté des courbes ayant pour ordonnée l'une des coordonnées des vecteurs paramètre Ti associés aux vecteurs Xi, c'est-à-dire B8829 19 un paramètre géométrique et/ou physique que l'on souhaite suivre en temps réel, et ayant pour abscisse le temps. A titre d'exemple, le paramètre représenté correspond à la largeur à mi-hauteur CD du motif 13 de la figure 2. La figure 11A illustre le résultat obtenu après la recherche de 4 vecteurs signature Xi les plus proches du vecteur signature courant dans la bibliothèque, en fonction du temps. Les 4 valeurs du paramètre CD, dont certaines sont éventuelle-ment égales, sont obtenues à chaque instant d'acquisition d'un vecteur courant Y en associant les 4 vecteurs Xi les plus proches du vecteur Y aux vecteurs paramètre Ti associés stockés dans la mémoire 29, via les indices j correspondants. Dans cette figure, on constate que la recherche des 4 vecteurs les plus proches comporte des variations aberrantes. A l'étape illustrée en figure 11B, on a réalisé un premier filtrage temporel qui permet de choisir, parmi les 4 vecteurs Xi les plus proches du vecteur Y courant, le vecteur le plus proche du vecteur courant au sens d'un critère qui prend en compte la distance entre les vecteurs (par exemple associée à la norme 1) mais également un paramètre temporel. Ainsi, par exemple, on choisi, parmi les 4 vecteurs Xi, le vecteur qui minimise, pour le vecteur courant Y acquis à l'instant t, le critère C donné par la formule suivante : (t)ûT(tû0t) P étant un paramètre de pondération choisi de façon adaptée, At étant le temps séparant deux acquisitions, Ti étant le vecteur paramètre associé au vecteur signature Xi et T(t-At) étant le vecteur paramètre associé au vecteur signature le plus proche du vecteur courant de l'acquisition précédente, à t-At. Ainsi, on détermine le vecteur le plus proche du vecteur courant Y acquis à l'instant t en minimisant la somme d'un premier terme qui prend en compte la proximité entre les vecteurs Xi et Y et d'un second terme qui prend en compte l'évolution des paramètres dans le temps. Cette étape est réalisée par le processeur scalaire B8829 20 25. Ainsi, on obtient la courbe 61 représentée en trait plein en figure 11B. La mesure initiale de l'étape 43, qui permet de définir complètement la structure initiale du motif, permet de connaître une valeur exacte des paramètres géométriques et/ou physiques du motif initial pour débuter correctement le procédé itératif. La figure 11C illustre le résultat obtenu (courbe 63) après avoir effectué un lissage de la courbe de la figure 11B. Contrairement au filtrage temporel permettant d'obtenir la courbe 61, le lissage permettant d'obtenir la courbe 63 est réalisé non pas sur les vecteurs mais sur chacun des paramètres géométriques et/ou physiques des vecteurs paramètre, par exemple sur les paramètres h, CD et O. Par exemple, la courbe 63 peut être obtenue à partir de la courbe 61 de la figure 11D en travaillant sur les dérivées première ou seconde de la courbe 61. Ainsi, le lissage pourra être décalé dans le temps de quelques itérations. A titre d'exemple, le lissage pourra être obtenu par la méthode de Tikhonov. La figure 11D représente une comparaison entre la courbe 63 (en traits pleins) et une courbe 65 (en pointillés) théorique d'évolution du paramètre CD. On note que les différences entre les courbes 63 et 65 sont minimes. Ainsi, les approximations faites lors de la recherche des K vecteurs les plus proches et lors des filtrages successifs n'impliquent que peu de différence par rapport à la théorie. Ainsi, le dispositif et le procédé présentés ici prévoient d'utiliser un processeur vectoriel et un processeur scalaire dans le but de combiner les capacités de ces proces- Beurs en vue d'une reconstruction rapide et améliorée des variations de paramètres géométriques et/ou physiques d'un motif lors d'un processus itératif de surveillance de l'évolution du motif en temps réel. Le processeur vectoriel permet de trouver rapidement les K vecteurs les plus proches du vecteur courant dans la bibliothèque de vecteurs signature puisqu'il réalise des B8829 21 calculs (recherche de distances) simultanément sur les N vecteurs signature de la bibliothèque. Le processeur scalaire est ensuite utilisé pour traiter un nombre limité de vecteurs, K dans le cas présent, notamment lors des filtrages temporels. Ainsi, la recherche des K vecteurs les plus proches et les filtrages successifs peuvent être réalisés en temps réel. Le procédé et le dispositif selon un mode de réalisation permettent le suivi en temps réel de l'évolution d'un motif soumis à un traitement et, si besoin, la modification ou l'arrêt du traite- ment. A titre d'exemple, les inventeurs ont montré que l'utilisation d'un processeur graphique pour la recherche de K vecteurs les plus proches d'un vecteur courant est 15 fois plus rapide qu'une même recherche réalisée par un processeur scalaire classique pour des bibliothèques de vecteurs importantes (mémoire vectorielle de capacité de 400 à 600 mégaoctets par exemple). Des modes de réalisation particuliers de la présente invention ont été présentés. Plusieurs variantes et modifications apparaîtront à l'homme de l'art. En particulier, les motifs considérés pourront avoir toute forme périodique pouvant être définie à l'aide d'un nombre fini de paramètres géométriques et/ou physiques. On pourra également suivre l'évolution de motifs comprenant une forme unique isolée en surface d'un support. A titre d'exemple, le procédé selon un mode de réalisation pourra être utilisé dans la fabrication de capteurs d'image pour suivre en temps réel le fluage de motifs en résine formant des lentilles au-dessus des éléments des capteurs d'image. Il pourra également être utilisé pour surveiller la fabrication de réseaux de diffraction nanométriques. Le procédé décrit ici pourra également être utilisé pour surveiller la fabrication de circuits ayant une structure périodique, le faisceau 7 pointant alors directement sur le circuit. Il peut égale-ment être utilisé pour surveiller une zone témoin en bord du circuit (ligne de découpe) qui contient un motif périodique dont B8829 22 la variation permet de suivre le procédé de fabrication de la puce. De plus, chaque vecteur signature pourra avoir une forme différente de celle présentée ici et les signatures scattérométriques pourront être obtenues par des procédés de scattérométrie autres que l'ellipsométrie spectroscopique. On notera également que l'on a considéré ici, à titre d'exemple, que le processeur vectoriel était un processeur graphique. A titre de variante, ce processeur pourra être tout autre type de processeur vectoriel associé à une mémoire adaptée. Par exemple, on pourra utiliser un processeur Cell de STI (Sony Computer Entertainment, Toshiba et IBM), ou encore un FPGA dédié (field-programmable gate array). REVENDICATIONS1. Procédé de suivi en temps réel de l'évolution de paramètres géométriques et/ou physiques d'un motif diffractant (21) au cours d'un traitement physique et/ou chimique, comprenant : avant le début du traitement : mémoriser, dans une mémoire vectorielle (31) associée à un processeur vectoriel (27), une bibliothèque de vecteurs signature (Xi), les coordonnées de chaque vecteur signature correspondant à des signaux de mesure associés à un motif de référence parmi des motifs de référence ; mémoriser, dans une mémoire scalaire (29) associée à un processeur scalaire (25), des vecteurs paramètre (Ti), les coordonnées de chaque vecteur paramètre correspondant à des paramètres géométriques et/ou physiques d'un motif de référence, chaque vecteur paramètre étant associé à un vecteur signature, et au cours du traitement, déterminer de façon itérative un vecteur paramètre courant en répétant les étapes suivantes : déterminer un vecteur signature courant à partir de mesures réalisées sur le motif (21) ; amener le processeur vectoriel à déterminer, dans la bibliothèque, les K vecteurs signature les plus proches du vecteur signature courant, K étant un entier supérieur ou égal à 2 ; amener le processeur scalaire à sélectionner, parmi les K vecteurs signature, le vecteur signature qui minimise la somme pondérée d'une distance entre le vecteur signature courant et ledit vecteur signature et d'un critère mettant en oeuvre le vecteur paramètre associé audit vecteur signature et au moins le vecteur paramètre associé à au moins l'un des vecteurs signature sélectionnés à au moins une itération précédente ; et déterminer le vecteur paramètre courant à partir du vecteur paramètre associé au vecteur signature sélectionné.B8829 24 2. Procédé selon la revendication 1, dans lequel le vecteur paramètre courant est déterminé à partir du vecteur paramètre associé au vecteur signature sélectionné et d'au moins un vecteur paramètre courant déterminé à une itération précé- dente. 3. Procédé selon la revendication 2, dans lequel le vecteur paramètre courant est déterminé, en outre, à partir d'au moins un vecteur paramètre associé à un vecteur signature sélectionné à une itération suivante. 4. Procédé selon l'une quelconque des revendication 1 à 3, comprenant en outre une étape initiale consistant à déterminer, avant le début du traitement, un vecteur paramètre initial du motif diffractant. 5. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, consistant, en outre, à décider de l'arrêt ou de la modification du traitement appliqué au motif à partir du vecteur paramètre courant. 6. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel la détermination du vecteur signature courant 20 est réalisée par ellipsométrie spectroscopique. 7. Dispositif de suivi en temps réel de l'évolution de paramètres géométriques et/ou physiques d'un motif diffractant (21) au cours d'un traitement physique et/ou chimique, comprenant les éléments suivants : 25 une mémoire vectorielle (31) contenant une bibliothèque de vecteurs signature (Xi), les coordonnées de chaque vecteur signature correspondant à des signaux de mesure associés à un motif de référence parmi des motifs de référence ; une mémoire (23) scalaire contenant un ensemble de 30 vecteurs paramètre (Ti), les coordonnées de chaque vecteur para-mètre correspondant à des paramètres géométriques et/ou physiques d'un motif de référence, chaque vecteur paramètre étant associé à un vecteur signature ;B8829 25 un moyen de détermination, de façon itérative, d'un vecteur signature courant (23) à partir de mesures réalisées sur le motif ; un processeur vectoriel (27) associé à la mémoire vectorielle (31) et adapté à déterminer, de façon itérative, dans la bibliothèque, les K vecteurs signature les plus proches du vecteur signature courant, K étant un entier supérieur ou égal à 2 ; et un processeur scalaire (25) associé à la mémoire scalaire (29) et adapté à sélectionner, de façon itérative, parmi les K vecteurs signature, le vecteur signature qui minimise la somme pondérée d'une distance entre le vecteur signature courant et ledit vecteur signature et d'un critère mettant en oeuvre le vecteur paramètre associé audit vecteur signature et au moins le vecteur paramètre associé à au moins l'un des vecteurs signature sélectionnés à au moins une itération précédente, et à déterminer un vecteur paramètre courant à partir du vecteur paramètre associé au vecteur signature sélectionné. 8. Dispositif selon la revendication 7, dans lequel le moyen de détermination du vecteur signature courant est adapté à réaliser des mesures d'ellipsométrie spectroscopique. 9. Dispositif selon la revendication 7 ou 8, dans lequel le processeur vectoriel est un processeur graphique. 10. Utilisation du dispositif selon l'une quelconque des revendications 7 à 9 pour le suivi de paramètres géométriques et/ou physiques d'un réseau de diffraction.