FR 2935809 A1 20100312 FR 0856103 A 20080911 FILTRE SPECTRAL NANOSTRUCTURE ET CAPTEUR D'IMAGES DESCRIPTION DOMAINE TECHNIQUE L'invention concerne un filtre spectral, une matrice de filtres spectraux et un capteur d'images comportant une telle matrice de filtres, pouvant fonctionner dans le domaine du visible ou dans d'autres gammes de longueurs d'ondes, par exemple dans le domaine des infrarouges. ÉTAT DE LA TECHNIQUE ANTÉRIEURE Les capteurs d'images, que l'on trouve notamment dans les téléphones portables ou les appareils photo numériques, sont constitués principalement d'une matrice de photodétecteurs et d'une optique de focalisation. Cette optique permet de former l'image d'un objet sur la matrice de photodétecteurs. Pour obtenir des images en couleurs, il est connu d'aligner un réseau 20 de filtres colorés (représenté sur la figure 1A) sur les pixels du capteur. Le matriçage de ce réseau 20 se fait suivant un schéma dit de � Bayer � et est formé par un filtre rouge 2, deux filtres verts 4 et 6, et un filtre bleu 8 disposés les uns à côté des autres sous la forme d'une matrice carrée. Les quatre photodétecteurs disposés sous ces quatre filtres 2, 4, 6 et 8 forment quatre sous-pixels d'un pixel 10 de la matrice de photodétecteurs. La couleur de l'image est reconstruite numériquement à partir des signaux � mono couleurs � 2 reçus par l'ensemble des pixels de la matrice de photodétecteurs. Ces filtres sont habituellement positionnés à quelques micromètres au-dessus des photodétecteurs 12, d'interconnexions électriques 14 et de couches de passivation diélectriques 16, comme représenté sur la figure 1B. Dans le domaine des capteurs d'images grand public, un tel capteur est placé au foyer d'une lentille de forte ouverture : l'angle moyen d'incidence des faisceaux lumineux sur le capteur peut varier de -25° à +25° entre les deux coins du capteur et l'ouverture angulaire sur chaque pixel du capteur est typiquement de l'ordre de +/- 10°. Chaque filtre est illuminé sous de multiples incidences et polarisations optiques. Pour réaliser le filtrage des couleurs, il est préférable que les propriétés des filtres (longueur d'onde de transmission, niveau de transmission, largeur spectrale) soient constantes quelque soit l'angle incidence de la lumière. Le document US 2003/0103150 Al décrit un réseau unidimensionnel de fentes débouchantes dans une couche métallique réalisant la fonction de filtrage des couleurs. Avec cette géométrie, les calculs montrent que ce sont les fentes qui assurent également la transmission des faisceaux lumineux filtrés à travers la couche métallique. Ils montrent aussi que le filtrage est plus sélectif lorsque les fentes ont une largeur inférieure aux longueurs d'ondes de la lumière visible Ce type de réseau a notamment pour inconvénient de ne filtrer que la polarisation 3 transverse magnétique de la lumière. De plus, les fentes utilisées dans ce réseau ne permettent pas d'accorder correctement le filtre dans la gamme des longueurs d'ondes visibles compte tenu de la faible largeur spectrale de filtrage pouvant être obtenue avec un tel filtre. Une autre limitation est liée à l'existence de modes électromagnétiques à la surface de la couche métallique formant le réseau de fentes, appelés plasmons de surface. Ces modes électromagnétiques peuvent être excités lors de la diffraction de la lumière incidente sur les fentes de la couche métallique. Cette excitation, sélective en longueur d'onde et en angle, dégrade la fonction de filtre passe bande réalisée par les fentes. Le document US 2003/0103150 Al décrit également un réseau de trous carrés réalisé dans une couche métallique. Un tel réseau permet de réaliser un filtrage dans la gamme des longueurs d'ondes visibles. Toutefois, les longueurs d'ondes filtrées sont ici déterminées en fonction de la période des motifs, ce qui rend ce filtrage très dépendant de l'angle d'incidence par lequel arrive la lumière à filtrer. EXPOSÉ DE L'INVENTION Un but de la présente invention est de proposer un filtre spectral dont les propriétés de transmission soient constantes quelque soit l'angle d'incidence de la lumière reçue et présentant un rendement photométrique élevé. 4 Pour cela, la présente invention propose un filtre spectral comportant au moins une couche métallique structurée par au moins un trou, ou une pluralité de trous, traversant deux faces principales opposées de la couche métallique et comportant, dans un plan parallèle à un plan de l'une des deux faces principales, une section rectangulaire dont un premier côté a une dimension comprise entre environ 40 nm et 100 nm, et dont un second côté, perpendiculaire au premier côté, a une dimension comprise entre environ 150 nm et 1000 nm. On obtient ainsi un filtre polarisant se basant sur la réponse électromagnétique individuelle du ou des trous formés dans la couche métallique du filtre. Contrairement aux solutions de l'art antérieur, et grâce à la forme particulière du trou de section rectangulaire dont un premier côté a une dimension comprise entre environ 40 nm et 100 nm, et dont un second côté, perpendiculaire au premier côté, a une dimension comprise entre environ 150 nm et 1000 nm, ou entre environ 150 nm et 700 nm, ou encore entre environ 150 nm et 600 nm, le filtre peut être formé par un motif unique, c'est-à-dire un seul trou, réalisé dans la couche métallique. La taille minimum du pixel destiné à coopérer avec le filtre est donc fixée par la taille du motif. De plus, tous les filtres d'une matrice de filtres peuvent être jointifs les uns avec les autres. De plus, l'invention permet d'éviter les 30 interactions entre les modes de filtrage et les plasmons de surface en dimensionnant la taille du trou ou, lorsque le filtre comporte un réseau de trous, la taille des trous, de telle sorte que cette interaction n'apparaisse pas pour les angles d'incidences formés par la lumière qui entre dans le filtre. 5 De plus, la réalisation d'un tel trou rectangulaire est simplifiée par rapport à la réalisation d'une matrice de trous carrés. Le premier côté du trou peut avoir une dimension comprise entre environ 40 nm et 60 nm, le second côté du trou pouvant avoir une dimension comprise entre environ 150 nm et 250 nm. Ainsi, le filtre est adapté pour réaliser un filtrage dans la gamme des longueurs d'ondes visibles, c'est-à-dire comprises entre environ 400 nm et 700 nm. Dans une variante, le premier côté du trou peut avoir une dimension comprise entre environ 60 nm et 100 nm, le second côté du trou pouvant avoir une dimension comprise entre environ 250 nm et 1000 nm, ou entre 250 nm et 700 nm, ou entre 250 nm et 600 nm. Ainsi, le filtre est adapté pour réaliser un filtrage dans la gamme des longueurs d'ondes infrarouges, supérieures à environ 700 nm, et notamment celles comprises entre environ 700 nm et 2000 nm correspondant à un filtrage en proche infrarouges. La couche métallique structurée peut être à base d'aluminium et/ou d'argent et/ou d'or, et/ou avoir une épaisseur comprise entre environ 30 nm et 500 nm. L'épaisseur de la couche métallique peut être comprise entre environ 30 nm et 100 nm lorsque le filtre est adapté pour réaliser un filtrage des longueurs d'ondes visibles, ou être comprise entre environ 100 nm et 6 500 nm lorsque le filtre est adapté pour réaliser un filtrage des longueurs d'ondes infrarouges. Lorsque le filtre comporte une pluralité de trous traversant la couche métallique, lesdits trous peuvent être régulièrement espacés les uns des autres, pouvant ainsi former un réseau périodique. Ainsi, il est possible de réaliser une surface filtrante de taille supérieure à celle pouvant être obtenue par un filtre comportant un unique trou. Les trous peuvent être espacés les uns des autres au moins d'une distance comprise entre environ 20 nm et 40 nm. La période de répétition des trous, correspondant à la somme de la dimension du second côté d'un trou (correspondant à la plus grande dimension du trou) et l'espace formé entre deux trous, peut donc être comprise entre environ 170 nm et 1040 nm, ou comprise entre environ 170 nm et 290 nm pour un filtrage dans la gamme des longueurs d'ondes visibles, et entre 270 nm et 1040 nm pour un filtrage dans la gamme des longueurs d'ondes infrarouges. Une telle période de répétition permet d'obtenir une stabilité angulaire compatible avec les exigences des imageurs fonctionnant dans la gamme des longueurs d'ondes visibles ou infrarouges. L'utilisation d'une période de répétition des trous dont la valeur est comprise dans cette gamme permet d'éviter l'excitation résonante de plasmons de surface très sensible angulairement. La période de répétition des trous peut également être comprise entre environ 1,2 et 2 fois la plus grande dimension d'un des trous. Dans une variante, lorsque le filtre comporte une pluralité de trous traversant la couche métallique, lesdits trous peuvent être irrégulièrement espacés les uns des autres, pouvant ainsi former un réseau apériodique. Le trou, ou au moins une partie des trous lorsque le filtre comporte une pluralité de trous traversant la couche métallique, peut comporter, dans un plan parallèle à un plan de l'une des deux faces principales de la couche métallique, une seconde section rectangulaire centrée par rapport à la section rectangulaire, appelée première section, un premier côté de la seconde section étant parallèle au second côté de la première section et ayant une dimension comprise entre environ 40 nm et 100 nm, et un second côté de la seconde section étant perpendiculaire au second côté de la première section et ayant une dimension comprise entre environ 150 nm et 1000 nm, ou entre environ 150 nm et 700 nm, ou entre environ 150 nm et 600 nm. Lorsque le filtre est adapté pour réaliser un filtrage dans la gamme des longueurs d'ondes visibles, le premier côté de la seconde section du trou peut avoir une dimension comprise entre environ 40 nm et 60 nm, le second côté de la seconde section du trou pouvant avoir une dimension comprise entre environ 150 nm et 250 nm. Dans une variante, lorsque le filtre est adapté pour réaliser un filtrage dans la gamme des longueurs d'ondes infrarouges, le premier côté de la seconde section du trou peut avoir une dimension 8 comprise entre environ 60 nm et 100 nm, le second côté de la seconde section du trou pouvant avoir une dimension comprise entre environ 250 nm et 1000 nm, ou entre environ 250 nm et 700 nm, ou entre environ 250 nm et 600 nm. Les deux sections rectangulaires du trou sont centrées l'une par rapport à l'autre, c'est-à-dire que la première et la seconde sections rectangulaires ont un centre commun. Ainsi, la première et la seconde sections du trou forment un motif en forme de croix. En plus des avantages apportés par le filtre spectral dont le ou les trous comportent une seule section de forme rectangulaire, un tel filtre est non polarisant et permet donc de filtrer et transmettre les modes polarisés transverse magnétique et transverse électrique. On améliore ainsi le rendement photométrique du filtre spectral. Les premiers côtés de la première et de la seconde sections peuvent avoir des dimensions sensiblement similaires et/ou les seconds côtés de la première et de la seconde sections peuvent avoir des dimensions sensiblement similaires. Ainsi, ce trou permet de réaliser le filtrage d'une seule longueur d'onde, correspondant par exemple à une couleur dans la gamme des longueurs d'ondes visibles, pour les deux polarisations (transverse magnétique et transverse électrique). Dans une variante, la seconde section du trou peut avoir des dimensions différentes de celles de la première section du trou. Ainsi, il est par exemple possible de réaliser, avec un seul trou, le filtrage 9 d'une première couleur dans une polarisation, et le filtrage d'une seconde couleur dans l'autre polarisation. Le ou les trous peuvent être remplis au moins en partie par un materiau diélectrique transparent ou au moins partiellement transparent. L'invention concerne également une matrice de filtres spectraux comportant au moins une pluralité de filtres spectraux tels que décrits précédemment, au moins deux des filtres spectraux étant aptes à réaliser un filtrage selon des longueurs d'ondes, ou des gammes de longueurs d'ondes, différentes, les dimensions des premiers côtés de la ou des sections d'au moins un trou d'un premier des deux filtres étant sensiblement similaires ou différentes des dimensions des premiers côtés de la ou des sections d'un trou d'un second des deux filtres, les dimensions des seconds côtés de la ou des sections du premier des deux filtres étant différentes des dimensions des seconds côtés de la ou des sections du second des deux filtres. La matrice de filtres peut comporter au moins quatre filtres spectraux formant un filtre de Bayer. L'invention concerne également un capteur d'images comportant au moins une matrice de filtres spectraux telle que décrite précédemment, et une matrice de photodétecteurs, chaque photodétecteur étant disposé en regard d'un des filtres spectraux. La matrice de photodétecteurs peut être 30 disposée contre un substrat, par exemple à base de semi-conducteur tel que du silicium, comprenant des 10 circuits de lecture et de traitement numérique, et/ou ayant une épaisseur comprise entre environ 100 nm (localement autour de la zone de détection) et 500 nm dans le cas d'un substrat aminci, ou d'une épaisseur égale à environ 500 pm lorsque le substrat n'est pas aminci (donc une épaisseur comprise entre environ 100 nm et 500 pm). Le capteur peut comporter en outre une couche à base d'au moins un matériau diélectrique disposée entre la matrice de filtres spectraux et la matrice de photodétecteurs, ou entre la matrice de photodétecteurs et un second substrat. Dans ce cas, la couche à base du matériau diélectrique peut comporter une pluralité de contacts électriques reliés aux photodétecteurs et/ou aux circuits de lecture du substrat et/ou étant à base de nitrure de silicium et/ou d'oxyde de silicium et/ou de silicium poreux. Le capteur d'images peut comporter en outre une couche de protection à base d'au moins un matériau diélectrique, par exemple à base de polymère, disposée contre la matrice de filtres. Dans une variante, la matrice de filtres spectraux peut être disposée entre deux couches d'épaisseur comprise entre environ 10 nm et 500 nm, d'indice optique n dans la gamme des longueurs d'ondes visibles, ou comprise entre environ 250 nm et 1000 nm dans le cas d'un capteur d'images 1000 fonctionnant dans la gamme des longueurs d'ondes infrarouges. Les trous 200.1 à 200.4 sont ici remplis par un matériau diélectrique, par exemple du SiO2, et/ou du SiOC, et/ou du SiOC nanoporeux et/ou de la silice nanoporeuse et/ou un polymère. Ce matériau diélectrique est transparent aux longueurs d'ondes qui sont destinées à être transmises par les filtres 100.1 à 100.4. L'indice de réfraction du matériau diélectrique peut de préférence être inférieur à 1,6, participant ainsi à garantir la stabilité angulaire des filtres 100.1 à 100.4, en évitant l'excitation résonante de plasmons de surface sur la couche métallique 101. La matrice de photodétecteurs 102 est réalisée sur un substrat 104, par exemple à base de semi-conducteur tel que du silicium, et/ou du GaS, et/ou du CdHgTe, qui peut intégrer des circuits de lecture et de traitements numériques des signaux de sortie des photodétecteurs 102. La matrice de filtres 100.1 à 100.4 est séparée de la matrice de photodétecteurs 102 par une couche � support � 106, par exemple à base d'au moins un diélectrique tel que du nitrure de silicium et/ou de l'oxyde de silicium poreux ou non. Cette couche support 106 permet de supporter mécaniquement la matrice de filtres 100.1 à 100.4, mais peut également réaliser une concentration des faisceaux incidents sur les photodétecteurs 102 et/ou la prise de contacts électriques sur les photodétecteurs 102 et/ou 18 l'isolation et la passivation de la matrice de photodétecteurs 102. La matrice de filtres 100.1 à 100.4 est recouverte d'une couche de � protection � 108, par exemple à base de matériaux polymères, et/ou d'oxyde de silicium, et/ou de silice, et/ou de SiOX, et/ou de SiXNy, et/ou de silicium, servant de protection chimique et mécanique de la matrice de filtres 100.1 à 100.4 et/ou réalisant une concentration des faisceaux lumineux sur les photodétecteurs 102. Dans ce premier mode de réalisation, la lumière à détecter passe tout d'abord au travers de la couche de protection 108, puis est filtrée par la matrice de filtres 100.1 à 100.4, traverse ensuite la couche support 106 pour arriver enfin sur la matrice de photodétecteurs 102. Les matériaux de ces éléments du capteur 1000 traversés par la lumière à détecter sont donc choisis au moins partiellement transparents ou totalement transparents aux longueurs d'ondes destinées à être transmises. On se réfère maintenant aux figures 3A et 3B qui représentent respectivement une vue en coupe de dessus et une vue en coupe latérale d'une partie d'un capteur d'images 1050 selon un second mode de réalisation. Comme dans le premier mode de réalisation, le capteur 1050 comporte une pluralité de pixels, chaque pixel comportant une matrice de quatre filtres 150.1 à 150.4 formant un filtre de Bayer et réalisée dans une couche métallique 101, par exemple de nature 19 similaire à celle utilisée dans le premier mode de réalisation. Chacun des filtres 150.1 à 150.4 comporte une pluralité de trous 250.1 à 250.4 traversant la couche métallique 101 et régulièrement répartis sur dans cette couche métallique 101. Chacun des trous 250.1 à 250.4 a, dans un plan parallèle au plan (x,y) correspondant au plan de l'une des faces principales de la couche métallique 101, une premiere section rectangulaire dont un premier côté (dimension selon l'axe x) a une dimension comprise entre environ 40 nm et 60 nm, ou comprise entre 60 nm et 100 nm dans le cas d'un capteur infrarouge, et un second côté (dimension selon l'axe y), perpendiculaire au premier côté, a une dimension comprise entre environ 150 nm et 250 nm, ou comprise entre environ 250 nm et 1000 nm dans le cas d'un capteur infrarouge. Chacun des trous 250.1 à 250.4 comporte également dans ce même plan une seconde section rectangulaire centrée par rapport à la première section rectangulaire. Un premier côté de la seconde section, parallèle au second côté de la première section (c'est-à-dire parallèle à l'axe y), a une dimension comprise entre environ 40 nm et 60 nm, ou entre environ 60 nm et 100 nm, et un second côté de la seconde section, perpendiculaire au second côté de la première section (c'est-à-dire parallèle à l'axe x), a une dimension comprise entre environ 150 nm et 250 nm, ou entre environ 250 nm et 1000 nm. Chacun des trous 250.1 à 250.4 comporte donc dans ledit plan une section en forme de croix, chaque croix étant formée par le 20 croisement d'une première section rectangulaire et d'une seconde section rectangulaire. Dans ce second mode de réalisation, les dimensions des premiers et seconds côtés des premières et secondes sections des trous formant les croix diffèrent d'un filtre à l'autre. Dans une variante, il est possible que les dimensions des premiers côtés des première et seconde sections soient similaires pour les quatre filtres 150.1 à 150.4. Dans ce cas, le choix des gammes de longueurs d'ondes filtrées dépend donc du choix des dimensions des seconds côtés des première et seconde sections, qui sont alors différentes d'un filtre à l'autre. Ces dimensions des seconds côtés des première et seconde sections peuvent par exemple être similaires à celles des seconds côtés précédemment décrites dans le premier mode de réalisation. Comme dans le premier mode de réalisation, les trous 250.1 à 250.4 sont remplis par un matériau diélectrique, par exemple similaire à celui précédemment décrit en liaison avec le premier mode de réalisation. La matrice de photodétecteurs 102 du capteur 1050 est ici réalisée sur un substrat 104, par exemple à base de silicium, et recouverte par une couche support 106 par exemple similaire à celle précédemment décrite en liaison avec le premier mode de réalisation. Cet empilement est alors reporté sur un second substrat 110, permettant ainsi de réaliser un amincissement du premier substrat 104, par exemple par un polissage mécano-chimique. Les filtres 150.1 à 150.4 21 sont ensuite réalisés dans la couche métallique 101 qui est disposée contre le substrat aminci 104. Dans ce second mode de réalisation, la lumière à détecter est donc tout d'abord filtrée par la matrice de filtres 150.1 à 150.4, traverse ensuite le substrat 104 pour arriver enfin sur la matrice de photodétecteurs 102. La planarisation du substrat 104 permet de limiter l'absorption de la lumière incidente par le matériau constituant le substrat 104. Dans une variante des deux modes de réalisation précédemment décrits, la couche métallique 101 comportant les filtres peut être avantageusement disposée entre deux couches diélectriques, par exemple des couches minces d'épaisseur comprise entre environ 10 nm à 500 nm, d'indice optique faible, par exemple inférieur à 2 ou inférieur à 1,6, et à base de SiO2, et/ou de SiOC, et/ou de SiOC nanoporeux et/ou de silice nanoporeuse et/ou de polymère. Ainsi, ces deux couches diélectriques sont transparentes ou au moins partiellement transparentes dans le domaine des longueurs d'onde à détecter et permettent de garantir une certaine stabilité angulaire du filtre en évitant une excitation de plasmons en surface de la couche métallique 101. Ces deux couches diélectriques peuvent également présenter des structurations, permettant notamment de diminuer leur indice de transmission moyen. Ces structurations peuvent être similaires ou non à celles de la couche métallique 101, c'est-à-dire aux trous rectangulaires ou en forme de croix réalisés dans la couche métallique 101. Ces structurations 22 réalisées dans les couches diélectriques peuvent être débouchantes, c'est-à-dire réalisées à travers toute l'épaisseur de l'une ou les deux couches diélectriques, ou non. Ces structurations peuvent également être par exemple des trous de section rectangulaire ou en forme de croix, dont les dimensions et/ou l'espacement diffèrent par rapport aux trous réalisés dans la couche métallique 101. Enfin, ces structurations de ces deux couches diélectriques peuvent être différentes d'un photodétecteur à l'autre. Chacun des filtres spectraux 100.1 à 100.4 et 150.1 à 150.4 des deux modes de réalisation précédemment décrits comportent une pluralité de trous régulièrement espacés les uns des autres, c'est-à-dire disposés en réseau. Toutefois, chacun de ces filtres spectraux peut ne comporter qu'un seul trou étant donné que le phénomène de filtrage est basé sur une réponse individuelle des trous. Dans un autre mode de réalisation, chacun des filtres peut comporter une pluralité de trous disposés en réseau apériodique, c'est-à-dire espacés de manière non régulière les uns des autres. La figure 4 représente la transmission réalisée par trois filtres spectraux comportant chacun un unique trou en forme de croix réalisé dans une couche d'aluminium d'épaisseur égale à environ 40 nm. Les courbes 302, 304 et 306 représentent la valeur normalisée de la transmission en fonction de la longueur d'onde pour chacun des trois filtres. Les dimensions des premiers côtés des première et seconde sections des trous des trois filtres sont égales à 23 60 nm. Les dimensions des seconds côtés des première et seconde sections des trous sont égales à 150 nm, 200 nm et 240 nm pour les filtres correspondant respectivement aux courbes 302, 304 et 306. On voit donc que le choix des dimensions des seconds côtés des première et seconde sections des trous permet de sélectionner la gamme de longueurs d'onde à filtrer, correspondant ici aux couleurs rouge, vert et bleu. Contrairement à un trou rectangulaire, les transmissions obtenues en polarisation TE et TM pour un trou en croix sont identiques à incidence normale. Ainsi, pour réaliser le filtrage d'un faisceau de lumière non polarisé, un filtre comportant un trou en forme de croix permet d'obtenir un meilleur gain en transmission. Comme dans les deux modes de réalisation précédemment décrits, chaque filtre peut comporter plusieurs trous disposés en réseaux. Les courbes 308 et 310 représentées sur la figure 5 illustrent une simulation de la transmission d'un filtre réalisé dans une couche d'aluminium de 40 nm d'épaisseur, respectivement traversée par un trou unique en forme de croix et par un réseau de trous en forme de croix, la dimension des premiers côtés des sections des trous étant égale à environ 60 nm et la dimension des seconds côtés des sections des trous étant égale à environ 200 nm. Le réseau de trous est de forme carré, comme par exemple pour les filtres représentés sur les figures 2A et 3A, et que la période de ce réseau est égale à environ 250 nm. En comparant les courbes 308 et 310, on voit que l'utilisation d'un réseau de trous plutôt qu'un trou unique entraîne un léger décalage de 24 la transmission vers de plus grandes longueurs d'ondes ainsi qu'un élargissement spectral de la résonance. Une légère variation des dimensions des premiers côtés des premières et secondes sections des trous permet toutefois de compenser ces effets dus à l'interaction optique entre les trous et peut être pris en compte lors du dimensionnement des trous. L'utilisation d'un motif en forme de croix permet d'avoir un filtre dont le comportement angulaire est très stable, à la fois pour un filtre comportant un seul trou ou une pluralité de trous disposés en réseau. Les courbes 312, 314 et 316 de la figure 6 représentent la dépendance de la transmission d'un filtre réalisé dans une couche d'aluminium de 40 nm d'épaisseur traversée par un trou unique en forme de croix dont la dimension des premiers côtés des sections est égale à environ 60 nm et la dimension des seconds côtés des sections est égale à environ 200 nm, en fonction de l'angle d'incidence de la lumière. Les courbes 312, 314 et 316 représentent la valeur des coefficients de transmission pour une lumière arrivant sur le filtre avec un angle respectivement égal à 0°, 5° et 15°. Ces courbes permettent d'observer que pour un angle d'incidence égale à 15°, les transmissions TE et TM s'écartent très peu de la transmission calculée à incidence nulle. Les courbes 318, 320 et 322 de la figure 7 représentent cette même dépendance de la transmission du filtre en fonction d'un angle d'incidence respectivement égal à 0°, 5° et 15°, pour un filtre comportant un réseau de trous similaires au trou utilisé pour les simulations représentées sur la 25 figure 6, et dont la période de répétition est égale à environ 250 nm.5 REVENDICATIONS1. Filtre spectral (100.1-100.4, 150.1-150.4) comportant au moins une couche métallique (101) structurée par au moins un trou (200.1-200.4, 250.1-250.4) traversant deux faces principales opposées de la couche métallique (101) et comportant, dans un plan parallèle à un plan de l'une des deux faces principales, une section rectangulaire dont un premier côté a une dimension comprise entre environ 40 nm et 100 nm, et dont un second côté, perpendiculaire au premier côté, a une dimension comprise entre environ 150 nm et 1000 nm. 2. Filtre spectral (100.1-100.4, 150.1-150.4) selon la revendication 1, dans lequel la couche métallique (101) structurée est à base d'aluminium et/ou d'argent et/ou d'or, et/ou a une épaisseur comprise entre environ 30 nm et 500 nm. 3. Filtre spectral (100.1-100.4, 150.1-150.4) selon l'une des revendications précédentes, dans lequel, lorsque le filtre (100.1-100.4, 150.1-150.4) comporte une pluralité de trous (200.1-200.4, 250.1-250.4) traversant la couche métallique (101), lesdits trous (200.1-200.4 ; 250.1-250.4) sont régulièrement espacés les uns des autres. 4. Filtre spectral (100.1-100.4, 150.1-150.4) selon la revendication 3, dans lequel les trous (200.1-200.4, 250.1-250.4) sont espacés les uns 27 des autres selon une période comprise entre environ 170 nm et 1040 nm. 5. Filtre spectral (150.1-150.4) selon l'une des revendications précédentes, dans lequel le trou, ou au moins une partie des trous (250.1-250.4) lorsque le filtre (150.1-150.4) comporte une pluralité de trous (250.1-250.4) traversant la couche métallique (101), comporte, dans un plan parallèle à un plan de l'une des deux faces principales de la couche métallique (101), une seconde section rectangulaire centrée par rapport à la section rectangulaire, appelée première section, un premier côté de la seconde section étant parallèle au second côté de la première section et ayant une dimension comprise entre environ 40 nm et 100 nm, et un second côté de la seconde section étant perpendiculaire au second côté de la première section et ayant une dimension comprise entre environ 150 nm et 1000 nm. 6. Filtre spectral (150.1-150.4) selon la revendication 5, dans lequel les premiers côtés de la première et de la seconde sections ont des dimensions sensiblement similaires et/ou les seconds côtés de la première et de la seconde sections ont des dimensions sensiblement similaires. 7. Filtre spectral (100.1-100.4, 150.1-150.4) selon l'une des revendications précédentes, dans lequel le ou les trous (200.1-200.4, 250.1-250.4) sont remplis au moins en partie par un 28 matériau diélectrique au moins partiellement transparent. 8. Matrice de filtres spectraux comportant au moins une pluralité de filtres spectraux (100.1-100.4, 200.1-200.4) selon l'une des revendications 1 à 7, au moins deux des filtres spectraux (100.1-100 4, 200.1-200.4) étant aptes à réaliser un filtrage selon des longueurs d'ondes, ou des gammes de longueurs d'ondes, différentes, les dimensions des premiers côtés de la ou des sections d'au moins un trou (150.1-150.4, 250.1-250.4) d'un premier des deux filtres (100.1-100.4, 200.1-200.4) étant sensiblement similaires ou différentes des dimensions des premiers côtés de la ou des sections d'un trou (150.1-150.4, 250.1-250.4) d'un second des deux filtres (100.1-100.4, 200.1-200.4), les dimensions des seconds côtés de la ou des sections du premier des deux filtres (100.1-100.4, 200.1-200.4) étant différentes des dimensions des seconds côtés de la ou des sections du second des deux filtres (100.1-100.4, 200.1-200.4). 9. Matrice de filtres spectraux selon la revendication 8, comportant au moins quatre filtres spectraux (100.1-100.4, 200.1-200.4) formant un filtre de Bayer. 10. Capteur d'images (1000, 1050) 30 comportant au moins une matrice de filtres spectraux (100.1-100.4, 200.1-200.4) selon l'une des 29 revendications 8 ou 9, et une matrice de photodétecteurs (102), chaque photodétecteur (102) étant disposé en regard d'un des filtres spectraux (100.1-100.4, 200.1-200.4). 11. Capteur d'images (1000, 1050) selon la revendication 10, dans lequel la matrice de photodétecteurs (102) est disposée contre un substrat (104) comprenant des circuits de lecture et de traitement numérique et/ou ayant une épaisseur comprise entre environ 100 nm et 500 pm. 12. Capteur d'images (1000, 1050) selon l'une des revendications 10 ou 11, comportant en outre une couche (106) à base d'au moins un matériau diélectrique disposée entre la matrice de filtres spectraux (100.1-100.4, 200.1-200.4) et la matrice de photodétecteurs (102), ou entre la matrice de photodétecteurs (102) et un second substrat (110). 13. Capteur d'images (1000, 1050) selon la revendication 12, dans lequel la couche (106) à base du matériau diélectrique comporte une pluralité de contacts électriques reliés aux photodétecteurs (102) et/ou aux circuits de lecture du substrat (104) et/ou est à base de nitrure de silicium et/ou d'oxyde de silicium et/ou de silicium poreux. 14. Capteur d'images (1000, 1050) selon l'une des revendications 10 à 13, comportant en outre une couche de protection (108) à base d'au moins un 30 matériau diélectrique disposée contre la matrice de filtres (100.1-100.4), ou dans lequel la matrice de filtres est disposée entre deux couches à base d'au moins un matériau diélectrique, d'épaisseur comprise entre environ 10 nm et 500 nm, et d'indice optique n 15. Procédé de réalisation d'un filtre spectral (100.1-100.4, 200.1-200.4), comportant au moins les étapes suivantes : - structuration d'une couche diélectrique, formant au moins une portion diélectrique entourée par des zones de vides traversant deux faces principales opposées de la couche diélectrique, la portion diélectrique comportant, dans un plan parallèle à un plan de l'une des deux faces principales, au moins une section rectangulaire dont un premier côté a une dimension comprise entre environ 40 nm et 100 nm, et dont un second côté, perpendiculaire au premier côté, a une dimension comprise entre environ 150 nm et 1000 nm, dépôt d'une couche métallique (101) au moins dans les zones de vide formées dans la couche diélectrique autour de la portion diélectrique, - planarisation de la couche métallique (101), - suppression de la portion diélectrique. 16. Procédé de réalisation d'un filtre spectral (100.1-100.4, 200.1-200.4), comportant au moins une étape de gravure d'une couche métallique (101) selon un motif comportant au moins un trou 31 (150.1-150.4, 250.1-250.4) traversant deux faces principales opposées de la couche métallique (101) et comportant, dans un plan parallèle à un plan de l'une des deux faces principales, une section rectangulaire dont un premier côté a une dimension comprise entre environ 40 nm et 100 nm, et dont un second côté, perpendiculaire au premier côté, a une dimension comprise entre environ 150 nm et 1000 nm.10