FR 2935178 A1 20100226 FR 0904022 A 20090821 1 Description La présente invention concerne des substrats pour supports de miroirs de poids réduit ainsi que des miroirs avec supports de miroirs de poids réduit. Des substrats pour supports de miroirs de poids réduit ainsi que des miroirs avec supports de miroirs de poids réduit sont souvent utilisés dans des applications spatiales, par exemple en astronautique, afin d'éviter les distorsions et les déformations de tavelure atmosphérique depuis des points d'observation distants de la terre ainsi que pour s'affranchir de la pollution sans cesse croissante due à la lumière terrestre qui a un effet de réduction du contraste sur les résultats d'observation en tant que source de lumière d'arrière-plan en astronomie terrestre. Par ailleurs, en astronomie terrestre, il est avantageux de disposer de systèmes de faible masse, car lorsque le miroir est ajusté ou lorsque des objets en mouvement sont suivis, par exemple lors de l'observation de corps stellaires sur leurs trajectoires, la force exigée pour effectuer une régulation et un repositionnement est d'autant plus faible que le poids de la masse déplacée est faible. Cependant, en plus de la réduction de poids, la rigidité du support de miroir ou son affaissement provoqué par le miroir placé sur celui-ci devient très important. Si une simple réduction du poids obtenue par élimination de masse peut à premier vue sembler être une mesure simple et évidente, il apparaît cependant immédiatement que des exigences très importantes concernant la résistance et la rigidité sont imposées à la structure obtenue après élimination de masse. Si l'on obtient des régions dont le poids est inférieur à la moitié du poids d'origine ou, plus précisément, des régions dont le poids est inférieur à deux tiers du poids initial, des défis très importants doivent alors être relevés lors du traitement du substrat du 2 support de miroir. Cette situation est encore plus délicate si des matériaux tels que du verre et des vitrocéramiques doivent être soumis à une finition de haute précision. Divers essais ont été effectués pour obtenir des supports de miroir dont la masse et la rigidité seraient réduites mais qui pourraient néanmoins être utilisés. On a produit une structure d'un support de miroir de poids réduit, dans laquelle des sphères ont été assemblées avec des plaques afin d'obtenir ainsi une structure fermée rigide. Toutefois, l'inconvénient de cette solution est que ces sphères ont généralement un comportement en dilatation thermique différent de celui de la structure de base du support de miroir et, par conséquent, du fait des fluctuations de température qui sont inévitables dans de nombreux types d'applications, des déformations supplémentaires peuvent se produire. De plus, une précision de façonnage élevée ne peut pas être obtenue de façon certaine par le processus de formage à chaud que l'on utilise dans ce cas. Le but de l'invention est de fournir un substrat, notamment pour support de miroir, conservant encore une rigidité élevée malgré la réduction du poids ; cela implique qu'il ne subsiste qu'un léger affaissement après mise en place de celui-ci dans un dispositif de maintien prévu à cet effet. Ce but est atteint d'une manière étonnamment simple par un substrat, notamment pour support de miroir, dont le poids est réduit, dans lequel des évidements sont ménagés dans une surface, de préférence sur la face arrière du substrat, cela ayant notamment pour résultat de définir des entretoises entre les évidements, et qui est caractérisé par le fait qu'au moins une première partie des entretoises a une largeur qui est différente de celle d'une seconde partie des entretoises. Ce but est également atteint par un substrat pour un support de miroir de poids réduit, dans lequel des 3 premiers évidements et des seconds évidements sont ménagés dans une surface du substrat, cela ayant pour résultat de définir des entretoises entre les premiers évidements et/ou entre les premiers évidements et les seconds évidements, les seconds évidements définissant notamment des pièces d'appui ou des supports destinés à des dispositifs de maintien. Le substrat est caractérisé par le fait qu'au moins une première partie des entretoises qui définissent les premiers évidements ont une largeur qui diffère de celle d'une seconde partie des entretoises qui définissent les seconds évidements. Le miroir est de préférence constitué par le substrat pour support de miroir, dans lequel la face supérieure du substrat est au moins partiellement dotée d'une surface réfléchissante ou dans lequel une surface réfléchissante est au moins partiellement formée sur la face supérieure. Un substrat de poids réduit est défini, aux fins de la présente description de l'invention, comme étant une forme structurelle du substrat dont le poids est inférieur à celui d'une forme de réalisation constituée d'un matériau plein, du fait de l'élimination de matériau ayant été plus particulièrement réalisée au moyen des évidements ménagés dans le substrat. Sans cette élimination de matériau, en d'autres termes, le matériau plein comprend principalement de préférence des formes structurelles du substrat du type disque ou colonne qui sont cylindriques, elliptiques, rectangulaires, hexagonales et/ou octogonales. Le pourcentage de réduction du poids d'un disque est défini sous forme d'une norme par l'Agence Spatiale Nationale de la République Fédérale d'Allemagne, conformément à laquelle, à titre d'exemple, l'influence d'une surface convexe intervient également dans le pourcentage de réduction du poids, cela étant également en 4 accord avec la définition donnée plus haut de la réduction de poids. Dans un mode de réalisation de l'invention, les évidements, notamment les premiers évidements et/ou les seconds évidements, sont ménagés dans une face arrière du substrat. Dans un autre mode de réalisation de l'invention, la première partie des entretoises qui définissent les premiers évidements ont une largeur qui est inférieure à celle de la seconde partie des entretoises qui définissent les seconds évidements et par conséquent les points d'appui. Dans un mode de réalisation, la première partie des entretoises qui sont adjacentes à la seconde partie des entretoises (définissant les points d'appui) a une largeur qui est supérieure à la largeur de la première partie des entretoises qui ne sont pas adjacentes à la seconde partie des entretoises. Dans un autre mode de réalisation préféré, au moins une partie des entretoises a une largeur variable suivant l'étendue de leur longueur et peut être formée très efficacement, avec ces largeurs variables, en certaines positions nécessitant certaines résistances locales, par exemple au voisinage des points d'appui destiné à un dispositif de maintien prévu pour le substrat ou même au voisinage de régions de bord du substrat. Plus particulièrement, les premières parties des entretoises qui sont adjacentes à la seconde partie des entretoises (définissant les points d'appui) ont une largeur décroissant à partir des points d'appui. Il est préférable que la largeur des premières parties des entretoises décroisse continûment dans cette zone. Le substrat est renforcé dans les zones où seront positionnés les points d'appui ou les supports destinés aux dispositifs de maintien. De façon plus détaillée, on renforce les entretoises qui sont positionnées au voisinage des supports ou qui sont affectées aux points d'appui. Dans cette région, les supports d'entretoise possèdent une plus grande largeur. En premier lieu, les entretoises qui définissent les seconds évidements et par conséquent, les supports destinés aux dispositifs de maintien, ont une plus 5 grande largeur que les dispositifs d'entretoise qui définissent les premiers évidements. En second lieu, les entretoises qui partent des points d'appui en tant que centres et vont vers l'extérieur, ont une largeur décroissant vers l'extérieur. Plus particulièrement, ces entretoises s'étendent radialement. Il est très avantageux de faire en sorte que les évidements, notamment les premiers évidements, définissent des poches hexagonales ou triangulaires, étant donné que cela permet d'obtenir des résistances ou des rigidités très élevées. Dans un premier mode de réalisation de l'invention, une partie principale des évidements, notamment des premiers évidements, est principalement définie par des poches en nid d'abeilles. Toutefois, dans ce cas, la partie principale des évidements, ne comprend pas tous les évidements du bord du substrat et ne comprend pas non plus tous les évidements délimitant les structures de support, étant donné que la régularité de ces évidements est défavorablement affectée par des structures géométriques prédéterminées en ces emplacements. Du fait des mesures décrites ci-dessus, ainsi que notamment des étapes de traitement décrites plus loin, il est apparu de façon inattendue qu'il était possible de faire en sorte que la réduction de poids du substrat soit supérieure à 85 %, et de préférence à 88 %, par comparaison au matériau plein, tout en n'obtenant néanmoins qu'un très faible affaissement du substrat. Il serait très avantageux, dans le cas des verres et des vitrocéramiques, d'utiliser un agent d'attaque contenant de l'acide fluorhydrique, contenant de préférence plus de 10 % en volume d'acide fluorhydrique, pour la 6 formation des poches, au moins lors de l'une des dernières étapes de traitement. Cela permet d'obtenir des surfaces des entretoises et par conséquent, du substrat, qui sont très résistantes à la rupture. Toutefois, il serait généralement très avantageux, dans le cas des verres et des vitrocéramiques de produire les évidements, notamment les premiers et/ou les seconds évidements, au moins en partie, par un processus d'élimination chimique, notamment par attaque à l'aide d'agents d'attaque contenant de l'acide fluorhydrique. Le taux d'élimination peut ainsi être ajusté de façon très précise. De plus, les évidements, notamment les premiers et/ou les seconds évidements pourraient également être avantageusement produits, au moins en partie, par meulage à l'aide d'un abrasif collé et par attaque ou par rodage à l'aide d'un abrasif libre, et attaque. Dans un mode de réalisation préféré, pour une hauteur de l'entretoise d'environ 90 mm et pour un diamètre 20 du substrat d'environ 700 mm, la largeur des entretoises est inférieure ou égale à 2,5 mm et de préférence, inférieure à 2 mm. Dans un autre mode de réalisation préféré, pour une hauteur de l'entretoise de 140 à 150 mm et pour un 25 diamètre du substrat d'environ 1200 mm, la largeur des entretoises est inférieure ou égale à 2,5 mm et de préférence, inférieure à 2 mm. Un affaissement étonnamment faible d'une poche individuelle peut être observé si, dans le cas d'évidements 30 de forme hexagonale ou en nid d'abeilles, notamment en ce qui concerne les premiers évidements, au moins une poche, mais de préférence plusieurs poches, présente ou présentent une largeur dans l'intervalle de 70 à 120 mm, et de préférence, de 80 à 110 mm, et de façon particulièrement 35 préférable, d'environ 95 mm. 7 Dans le cas d'évidements triangulaires, notamment des premiers évidements, un comportement semblable et étonnamment satisfaisant peut être observé lorsqu'au moins une poche individuelle, mais de préférence plusieurs poches, présente ou présentent une longueur latérale de 70 à 210 mm, et de préférence, de 120 à 180 mm, et de façon particulièrement préférable, d'environ 140 mm. Cet affaissement réduit de la poche individuelle correspondante [hexagonale] optimise le comportement du point de vue du polissage, du moins dans la région de cette poche individuelle, étant donné qu'il se produit dans ce cas un plus faible écart à la forme théorique du miroir soumis à une contrainte mécanique ou à la gravitation. Des épaisseurs typiques de plaque de miroir de 6 à 8 mm ne produisent alors, de façon surprenante, qu'un faible affaissement de seulement environ 12 nm. Dans le cas de poches triangulaires, des résultats semblables étonnamment satisfaisants sont obtenus, à savoir que l'affaissement de la poche individuelle reste également inférieur à environ 12 nm avec une épaisseur de la plaque du miroir de 6 à 8 mm. On peut obtenir une autre amélioration notable des propriétés mécaniques, lorsque les entretoises présentent des formations surélevées arrière, notamment des pièces arrière surélevées et meulées qui définissent, au moins en partie, une section transversale en forme de T. Il est également avantageux que l'épaisseur de matériau à l'arrière de la surface prévue pour la surface réfléchissante du miroir soit sensiblement constante dans les régions situées entre les entretoises étant donné qu'ainsi, avec un poids minimal, la résistance nécessaire peut encore être obtenue sur toute l'étendue plane du substrat. Dans ce cas, un écart d'épaisseur du matériau inférieur à +/-20 % du matériau peut être considéré comme étant sensiblement constant. 8 Toutefois, au niveau et dans la région du dispositif de maintien mécanique destiné au substrat, l'épaisseur du matériau est de préférence plus élevée, pour pouvoir absorber les forces qui s'exercent principalement en l'absence d'affaissement. Cependant, entre les entretoises, la partie inférieure peut également avoir une forme de paraboloïde selon une variante de configuration. Dans un mode de réalisation de l'invention, le substrat est caractérisé par le fait que sa face arrière est formée de façon à être sensiblement plane. Lorsque la face arrière du substrat est formée de façon à être sensiblement plane, cette configuration offre certains avantages, car elle peut jouer le rôle de support pendant le polissage ultérieur et en raison du fait que le support n'introduit pas de moments de flexion supplémentaires, ce qui pourrait affecter défavorablement la forme ultérieure du miroir. Dans un mode de réalisation de l'invention, le substrat est en outre caractérisé par le fait que son bord extérieur est formé de façon sensiblement fermée. Lorsque le bord extérieur du substrat est formé de façon principalement fermée, cette configuration contribue également à augmenter considérablement la résistance. Il est avantageux que ce bord extérieur soit dans ce cas formé par une entretoise circulaire. La largeur de l'entretoise circulaire définissant le bord représente de préférence environ 3 à 8 mm et sa hauteur est d'environ 70 à 120 mm dans un premier mode de réalisation, pour un diamètre d'environ 700 mm, alors que sa hauteur est d'environ 120 à 180 mm dans un second mode de réalisation pour un diamètre d'environ 1200 mm. Le rapport de l'épaisseur au diamètre du substrat est de préférence dans la gamme de 1:3 à 1:10 et se situe de préférence dans la gamme de 1:5 à 1:8 et de façon particulièrement préférable, à environ 1:6 +/-15 9 Dans le cas des étapes de traitement mentionnées ci-dessus et des caractéristiques expliquées pour le substrat, il a été fait en sorte que le substrat, et par conséquent également, le miroir qui est ultérieurement placé sur celui-ci, subissent un affaissement maximal sous son propre poids de seulement environ 0,5 à 3 �m. Par conséquent, le substrat est en outre caractérisé en ce que le miroir présente un affaissement maximal sous son propre poids d'environ 0,5 à 3 �m. Dans ce cas, le substrat est monté de façon que sa surface la plus grande ou principale soit approximativement horizontale et donc parallèle à la partie inférieure en trois points, qui ont été ménagés à un tiers +/-15 % du bord et par conséquent à environ 2/3 du rayon, soit la moitié du diamètre du substrat. On obtient des avantages particuliers du point de vue des propriétés mécaniques en produisant le substrat à partir d'un bloc de matériau monolithique unique, même pour des applications spatiales. On obtient en outre des avantages considérables lorsque le substrat comprend un matériau de faible dilatation thermique ou lorsqu'il est en fait constitué de ce matériau. Le coefficient de dilatation thermique de ce matériau à la température ambiante et plus particulièrement, dans une gamme de températures de 0 à 50°C, se situe de préférence à moins de 4 fois 10-6 par Kelvin, comme cela est par exemple le cas de verres de borosilicate. Dans un autre mode de réalisation particulièrement préférable, le coefficient de dilatation thermique à la température ambiante, notamment dans une gamme de températures de 0 à 50°C, est inférieur à 1 fois 10-6 par Kelvin, comme cela est par exemple le cas de verres de quartz. De façon plus particulièrement préférable, le coefficient de dilatation thermique à la température 10 ambiante et particulièrement, dans une gamme de températures de 0 à 50°C, est inférieure à 0,1 fois 10-6 par Kelvin, et des vitrocéramiques sont utilisées en tant que matériau du substrat. Comme vitrocéramiques préférées, on citera de façon générale des vitrocéramiques de Li-Al-Si, et, comme vitrocéramiques particulièrement préférées ayant une dilatation thermique particulièrement faible à la température ambiante, on utilise des vitrocéramiques de Li-Al-Si commercialisées par Schott AG, Mainz, sous le nom Zerodur. L'étendue de la présente invention couvre également un miroir comportant un substrat pour support de miroir selon l'invention. Aux fins de la description qui suit des propriétés du support de miroir sur lequel est placé un miroir, la définition de "surface réfléchissante" ou de "miroir" peut comprendre la mise en place d'un matériau réfléchissant, tel qu'un métal ou que plusieurs métaux ou alliages, ou peut en variante ou en outre comprendre la mise en place d'un système à interférences qui ne présente un effet réfléchissant que dans une partie ou que pour une partie du spectre électromagnétique. Dans un premier mode de réalisation du miroir, une couche réfléchissante métallique est mise en place sur au moins une partie d'une surface du substrat. Dans un second mode de réalisation du miroir, en variante ou en plus du premier mode de réalisation, une couche réfléchissante diélectrique ou un système multicouche diélectrique réfléchissant est mis en place sur au moins une partie de la surface du substrat. Dans un mode de réalisation, au moins une partie de la surface réfléchissante présente une forme plane. Dans un mode de réalisation préféré, au moins une partie de la surface réfléchissante est non plane et présente notamment une forme sphérique ou asphérique, et/ou peut dans ce cas avoir une forme non plane et plus particulièrement une forme convexe ou concave, de 11 préférence au moins dans une autre partie ou dans une même partie de sa surface réfléchissante. Dans une autre configuration de l'invention, au moins une partie de sa surface, de préférence une surface 5 réfléchissante, peut être formée de façon à être non plane, et plus particulièrement de façon à avoir une forme quelconque. Dans une configuration supplémentaire ou en variante, sa surface réfléchissante peut notamment 10 également comprendre une structure de surface diffractante. Par conséquent, le miroir est en outre caractérisé en ce qu'au moins une partie de sa surface, notamment de sa surface réfléchissante, comprend une structure de surface diffractante. 15 Cette structure diffractante peut comprendre une structure de réseau et/ou peut également dans ce cas avoir une structure holographique, notamment une structure définie produisant une expansion du front de phase. Cette structure diffractante peut par exemple 20 être produite par des procédés d'attaque lithographique après le meulage et/ou le polissage. De plus, il entre dans le cadre de l'invention, conformément à un mode de réalisation, qu'au moins une partie de la surface du substrat ou du miroir, notamment 25 une partie de sa surface réfléchissante, comprenne une structure de Fresnel. Le substrat peut être entièrement fermé au niveau de sa surface recevant la couche réfléchissante. Une résistance mécanique considérable peut être obtenue. 30 En variante, le substrat peut également présenter une ouverture, de préférence une ouverture centrale, au niveau de sa surface recevant la couche réfléchissante. Pour augmenter la résistance mécanique, cette ouverture centrale peut de préférence avoir un bord 35 intérieur qui est ensuite formé de façon à être sensiblement fermé. Dans un mode de réalisation avantageux, 12 le bord intérieur est formé par une entretoise circulaire. Il est préférable que sa largeur soit d'environ 3 à 8 mm et que sa hauteur soit d'environ 10 à 50 mm et, de préférence, de 20 à 40 mm, et de façon particulièrement préférable, d'environ 30 mm. Du fait de la résistance mécanique élevée, ainsi que de son aptitude à être utilisé dans des environnements agressifs, des modes de réalisation utilisant des substrats faits de vitrocéramiques sont également très bien adaptés à des applications spatiales, comme par exemple dans le domaine de l'astronautique et/ou de l'astronomie spatiale. Plus particulièrement, ces formes structurelles peuvent présenter un très bon comportement face à des variations des forces d'accélération qui peuvent par exemple se produire au lancement d'un véhicule spatial et exercer des secousses qui peuvent notamment également conduire à des vibrations, comme par exemple des vibrations de flexion, ainsi qu'à des oscillations d'auto-résonance. Cependant, les miroirs de l'invention présentent également une excellente stabilité dans le cas d'applications terrestres, notamment dans le domaine de l'astronomie terrestre, étant donné que leur faible poids s'accompagne également de réductions du poids de la structure de leur dispositif de maintien mécanique, ainsi que d'une réduction des forces utilisées lors de leur ajustement. L'invention est détaillée ci-après en détail en référence à des modes de réalisation préférés et aux dessins annexés, dans lesquels : la figure 1 est une vue en coupe transversale, partiellement éclatée, d'un premier mode de réalisation, conforme à l'invention, d'un substrat pour support de miroir de poids réduit pourvu d'évidements hexagonaux définissant des poches, partant de sa face inférieure, lorsqu'on l'observe obliquement vers le bas ; 13 la figure 2 représente l'affaissement se produisant dans le substrat illustré figure 1 sous son propre poids, lorsqu'il est soutenu par trois dispositifs de maintien qui viennent au contact du substrat approximativement aux deux tiers du rayon, c'est-à-dire à la moitié du diamètre du substrat, d'une part lorsqu'on l'observe obliquement vers le bas depuis sa face supérieure, comme illustré dans une vue en coupe transversale partiellement éclatée, et d'autre part lorsqu'on l'observe dans une vue de dessus de la face supérieure [de la surface du miroir] ; la figure 3 représente une poche hexagonale individuelle du substrat représenté sur la figure 1 dans une vue en coupe transversale partiellement éclatée, lorsqu'on l'observe obliquement par le côté ; la figure 4 représente l'affaissement de la plaque du miroir dans la région de la poche individuelle représentée sur la figure 3 dans une vue en coupe transversale partiellement éclatée, lorsqu'on l'observe obliquement par le côté, la figure 5 représente une vue en coupe transversale partiellement éclatée conforme à l'invention d'un substrat pour support de miroir de poids réduit comportant des évidements triangulaires définissant des poches, lorsqu'on l'observe obliquement depuis sa face inférieure, la figure 6 représente l'affaissement se produisant dans le substrat illustré figure 5 sous son propre poids, lorsqu'il est soutenu par trois dispositifs de maintien qui viennent au contact du substrat approximativement aux deux tiers du rayon, c'est-à-dire à la moitié du diamètre du substrat, d'une part, lorsqu'on l'observe obliquement vers le bas depuis sa face supérieure, comme illustré dans une vue en coupe transversale partiellement éclatée, et d'autre part 14 lorsqu'on l'observe dans une vue de dessus de la face supérieure [de la surface du miroir] ; la figure 7 représente l'affaissement de la plaque du miroir dans la région d'une poche triangulaire individuelle du substrat du second mode de réalisation de l'invention, dans une vue en coupe transversale partiellement éclatée, lorsqu'on l'observe obliquement par le côté ; et la figure 8 représente les étapes de traitement appliquées à un substrat pour supports de miroir de poids réduit, dans lequel des évidements sont fournis dans la face arrière du substrat, ceux-ci définissant des entretoises entre les poches qui présentent des formations arrière surélevées sous la forme de pièces arrière surélevées meulées qui définissent, au moins en partie, une section transversale en T. Description détaillée des modes de réalisation préférés Dans la description détaillée présentée ci-après, on se référera aux dessins qui ne sont pas représentés à l'échelle, mais qui sont proposés pour plus de clarté. On se référera tout d'abord à la figure 1 qui représente une vue en coupe transversale partiellement éclatée d'un premier mode de réalisation d'un substrat pour support de miroir de poids réduit, qui est désigné globalement par la référence numérique 1. Dans ce mode de réalisation, le substrat 1 est produit à partir d'un disque unique de matériau plein, ayant été fourni sous la forme d'une seule pièce et par conséquent, monolithique, sous la forme d'un disque sensiblement rond. Dans les modes de réalisation préférés de l'invention, le substrat 1 ne sera en aucun point dans le temps séparé en deux parties, mais restera toujours en une seule pièce même pendant les étapes de traitement individuelles. 15 Le substrat 1, qui est présenté sur la figure 1 vu depuis la face inférieure, présente une pluralité de premiers évidements 2, 3, 4 sur sa face arrière, qui définissent des poches hexagonales ou en nid d'abeilles. Des entretoises 5, 6 sont formées entre ces premiers évidements 2, 3, 4, également appelés poches 2, 3, 4, ces entretoises séparant les poches 2, 3, 4 les unes des autres. En plus des poches hexagonales 5, 6, des seconds évidements 7, 8 qui sont également appelés poches 7, 8 et qui présentent, conformément à ce mode de réalisation, une section transversale sensiblement circulaire, sont également formés sur la face arrière du substrat 1 et sont prévus pour recevoir les dispositifs de maintien sur lesquels le support de miroir défini par le substrat 1 peut être mis en place en vue d'une utilisation ultérieure. Les seconds évidements 7, 8 sont entourés de pièces 9, 10 ou d'entretoises 9, 10 ayant principalement une configuration dont la forme est analogue à celle d'une gaine cylindrique, et ces pièces ont une largeur dst1 d'environ 3 à 6 mm. Par ailleurs, les entretoises ayant principalement une forme d'étoile, faisant saillie par rapport aux pièces présentant la forme d'une gaine cylindrique, ont une largeur d'environ 3 à 6 mm. Les entretoises faisant saillie en forme d'étoile, du moins entre les pièces ayant la forme d'une gaine cylindrique jusqu'à l'extrémité du premier évidement en forme de poche, présentent cette largeur d'environ 3 à 6 mm. Contrairement à cette mesure de largeur, les entretoises 5 et 6 définies entre les poches en forme de nid d'abeilles 2, 3 et 4 ont une largeur tHS inférieure ou égale à 2,5 mm et de préférence, inférieure ou égale à 2 mm. Ces dimensions sont avantageusement utilisées pour des substrats ayant une hauteur hs d'environ 90 mm pour les pièces transversales et pour un diamètre total du substrat d'environ 700 mm. Par conséquent, on utilise dans le substrat 1 de l'invention des entretoises de largeurs différentes dans un support de miroir, la première partie des entretoises qui définissent les poches en forme de nid d'abeilles 2, 3, 4 ayant une largeur différente de celle des pièces 9, 10 définissant les évidements cylindriques 7, 8. Les exigences de résistance peuvent ainsi être satisfaites pour un poids considérablement réduit par comparaison au matériau plein, mais ces exigences pourraient ne pas être satisfaites si l'on utilisait des entretoises de largeur constante sur tout le substrat 1. Il est globalement possible d'obtenir une réduction de poids de plus de 85 % par comparaison à un disque de matériau plein ayant un diamètre d'environ 700 mm, une hauteur hdisque sensiblement comprise entre 90 et 120 mm, et une épaisseur hbas de la plaque de support de miroir restante d'environ 4 à 6 mm et de préférence, de 5 mm. Dans un cas particulier où de plus grands diamètres sont utilisés, par exemple de 1200 mm, on a pu obtenir des réductions de poids de plus de 88 %, allant jusqu'à 88,5 %, par comparaison au matériau plein. Pour la définition de la réduction de poids, on se référera à la partie d'introduction de la présente description. De plus, dans le cadre de la présente invention, on peut également utiliser des entretoises dont la largeur varie dans le sens de la longueur. Il est préférable que les entretoises faisant saillie en étoile par rapport aux pièces 9, 10 ayant la forme de gaines cylindriques, aient une largeur variant dans le sens de la longueur, pour ainsi mieux se conformer aux exigences locales respectives de stabilité. A titre d'exemple, les pièces 9, 10 présentant la forme de gaines cylindriques peuvent être conçues de façon à s'élargir jusqu'au point de contact où les entretoises des poches hexagonales adjacentes les rejoignent, et les 17 entretoises de ces poches hexagonales peuvent également s'élargir dans la région de ces points de contact, pour ainsi pouvoir par exemple mieux introduire les forces de maintien dans le substrat 1. Dans un autre mode de réalisation dont la forme correspond sensiblement à celle illustrée sur la figure 1, le diamètre cps du substrat est d'environ 1200 mm et la hauteur des entretoises 4, 6, ainsi que celles des pièces 9, 10 et d'autres pièces transversales hs, est d'environ 140 à 150 mm. Par ailleurs, dans ce mode de réalisation, la largeur des entretoises respectives des poches en forme de nid d'abeilles est inférieure ou égale à 2,5 mm et de préférence inférieure ou égale à 2 mm, et la largeur des pièces 9, 10 présentant la forme de gaines cylindriques et des entretoises en forme d'étoile faisant saillie par rapport à celles-ci, est d'environ 3 à 5 mm. Les poches respectives en forme de nid d'abeilles de la plupart des premiers évidements ont une largeur transversale ou une largeur hors tout SW de 70 à 120 mm, et de préférence, de 80 à 110 mm, et de façon particulièrement préférable, d'environ 95 mm. Pour une meilleure compréhension de la définition de la largeur hors tout, on se référera à la figure 3 qui illustre, dans une vue oblique depuis le côté, une poche hexagonale individuelle du substrat 1 indiqué sur la figure 1 par la référence numérique 3 dans une vue en coupe transversale partiellement éclatée. Étant donné que la partie complémentaire correspondant à chacune des entretoises 5, 6 fait partie de chaque poche en forme de nid d'abeilles 2, 3 et 4, seule la moitié de la largeur des entretoises 5, 6 fait donc partie de chaque évidement en forme de poche individuelle, les nids d'abeilles 2, 3 et 4 qui sont disposés les uns à côté des autres par paires définissent donc tout d'abord la largeur totale des entretoises 5 et 6. 18 Par conséquent, dans la définition de la valeur de la largeur hors tout SW, dans chaque cas, seule la moitié de la largeur des entretoises 5, 6 est utilisée comme base pour la poche en forme de nid d'abeilles individuelle 3. Les pièces arrière surélevées 11, 12 qui sont agencées sur les extrémités arrière ouvertes de la poche 3 apparaissent aussi clairement dans la représentation de la figure 3, et ces pièces arrière surélevées ont une section transversale ayant sensiblement la forme d'un T, lorsque les poches en forme de nid d'abeilles 2, 3 et 4 sont disposées [par paires] les unes à côté des autres, et contribuent donc notablement à la stabilité du support de miroir fini obtenu à partir du substrat 1. On peut également clairement voir sur la figure 3 que l'épaisseur de matériau se trouvant à l'arrière de la surface 13 qui est prévue pour la surface réfléchissante du miroir, et donc que l'épaisseur de la plaque de support de miroir ou que l'épaisseur de la plaque du miroir (hbas) sont sensiblement constantes, du moins dans les régions situées entre les entretoises 5 et 6. Dans une variante de configuration, cette région de la plaque de support de miroir 13, située entre les entretoises, peut toutefois également avoir une étendue présentant une épaisseur paraboloïdale ou s'épaississant vers les entretoises respectives, cela permettant d'appliquer encore mieux les forces aux entretoises respectives. Le bord extérieur 14 est principalement conçu de façon à être fermé sous la forme d'une gaine cylindrique et est formé par une entretoise circulaire 15. La largeur de l'entretoise circulaire 15 définissant le bord 14 est d'environ 3 à 8 mm dans le premier mode de réalisation, pour un diamètre 9s d'environ 700 mm, de sorte que la hauteur hs de ce bord se situe 35 alors entre environ 70 et 120 mm. La hauteur hs de ce bord, en association avec l'épaisseur de la plaque de miroir (hbas) , définit l'épaisseur hdisque du support de miroir monolithique en forme de disque, dans la mesure où ce support présente une plaque de support de miroir plane ou concave ou partiellement concave 13. Dans la version la plus grande de ce mode de réalisation, qui présente un diamètre cps d'environ 1200 mm, la hauteur du bord circulaire 15 est d'environ 120 à 180 mm et la largeur de la pièce définissant le bord 14 est également d'environ 3 à 8 mm. Le rapport de l'épaisseur hdisque du support de miroir en forme de disque 1 au diamètre cps du substrat 1 se situe dans la gamme de 1-3 à 1-10, et de préférence, dans la gamme de 1-5 à 1-8. De façon particulièrement préférable, le rapport de l'épaisseur hdisque au diamètre cp,, du substrat se situe approximativement dans la gamme de 1 à 6, avec un écart pouvant aller jusqu'à +/-15 % et conduit à des valeurs étonnamment élevées de la rigidité ou à un affaissement extrêmement faible du substrat 1 sous son propre poids. Lorsque le support de miroir représenté sur la figure 1 est reçu dans les dispositifs de maintien qui lui sont destinés, qui ne sont toutefois pas représentés sur les figures, et qui s'engagent dans les évidements 7, 8 de section transversale circulaire, cela conduit alors à un affaissement maximal de seulement environ 1 à 3 �m du substrat sous son propre poids. Les seconds évidements 7, 8 sont disposés à une 30 distance du bord 14 d'environ un tiers du rayon du substrat et à une distance par rapport au point central MS du substrat de deux tiers du rayon. Dans le cas des substrats en forme de disque ou en forme de colonne non cylindriques qui sont mentionnés 35 ci-dessus et plus loin, la distance entre le centre de masse du substrat et la position moyenne du bord est alors 20 considérée comme étant le rayon. La distance moyenne du bord conduit alors à la valeur moyenne de toutes les distances des bords que l'on obtient en effectuant un calcul de moyenne sur un cercle complet qui s'étend perpendiculairement à l'axe de symétrie central. L'affaissement du substrat 1 sous son propre poids est représenté graphiquement sur la figure 2 sous la forme de surfaces présentant sensiblement la même variation de forme. La figure 2 représente l'affaissement qui se produit dans le substrat 1 représenté sur la figure 1 sous son propre poids, d'une part, lorsqu'on l'observe obliquement vers le bas depuis sa face supérieure, dans sa partie supérieure. Cette figure illustre l'affaissement du corps du miroir sous son propre poids. Au bas de la figure 2, on a représenté une vue de dessus de la plaque de support de miroir 13, dans laquelle on peut clairement discerner la façon dont les surfaces de même affaissement sont réparties de façon essentiellement symétrique le long de cette surface du miroir. Cette figure illustre l'affaissement de la surface du miroir. L'affaissement ou la déformation représenté sur la figure 2 est illustré par ce que l'on désigne un "tracé en courbes de niveau". Chaque ligne représente une valeur d'affaissement constante. Par exemple, l'échelle du haut de la figure 2 va d'environ -1,35 �m (cela étant représenté par la lettre majuscule "A") à environ -0,02 �m (cela étant représenté par la lettre majuscule "P"). Pour une meilleure compréhension, les courbes de niveau "B" et "O" sont indiquées dans le graphe supérieur. Le même mode de représentation est choisi pour les figures 4, 6 et 7 décrites ensuite. La symétrie de l'affaissement peut également être clairement constatée dans le cas de la poche individuelle 3 de la figure 4, qui représente l'affaissement de la plaque du miroir dans la région de la poche individuelle 3 21 représentée sur la figure 3, lorsqu'on l'observe obliquement par le côté sur une pluralité de vues en coupe transversale partiellement éclatées. La valeur maximale de cet affaissement, qui se situe sensiblement au centre de la poche en forme de nid d'abeilles 3, sous le poids de la plaque de miroir 13, atteint la valeur maximale étonnamment faible d'environ seulement 12 nm. Ainsi, une précision extrêmement élevée peut également être obtenue lors du dernier traitement, par exemple lors du meulage et du polissage de la plaque du miroir 13, cela conduisant à de très faibles écarts par rapport à la forme théorique de ce miroir. Cette précision de traitement est en outre accrue par le fait que la face arrière 16 du substrat 1 est conçue de façon à être sensiblement plane, de sorte que le substrat 1, lorsqu'il est déposé sur un support sous-jacent sensiblement plan pour le traitement, ne subit que les déformations les plus faibles. Dans une autre configuration, le substrat 1 peut également avoir une ouverture 17 qui, dans tous les modes de réalisation mentionnés dans la présente description, est de préférence disposée approximativement au centre [du substrat] et qui est de préférence dans ce cas définie par un bord interne 18. Dans une autre configuration préférée, ce bord interne 18 est formé par une pièce fermée circulaire 19 ayant sensiblement la forme d'une gaine cylindrique dont la largeur est d'environ 3 à 8 mm et dont la hauteur est d'environ 10 à 50 mm et de préférence, de 20 à 40 mm et de façon particulièrement préférable, d'environ 30 mm, selon la configuration optique de ce miroir. Les modes de réalisation ne comportant pas cette ouverture 17, dans lesquels la face avant 13 du substrat 1 ou de la plaque de support de miroir 13 est fermée sur la totalité de la surface, entrent également dans le cadre de la présente invention. Dans ces modes de réalisation, il est préférable que la pièce 19 soit omise et que des poches en forme de nid d'abeilles soient disposées dans la région centrale du substrat 1 où l'on trouverait normalement l'ouverture 17. On se référera ci-après à la figure 5 qui représente une vue en coupe transversale partiellement éclatée d'un second mode de réalisation de l'invention d'un substrat 1' pour support de miroir de poids réduit, mais avec des évidements triangulaires 2', 3' et 4' définissant des poches, lorsqu'on l'observe obliquement vers le bas depuis sa face inférieure. Dans la description ci-après, ce second mode de réalisation de l'invention utilise les mêmes références numériques que le premier mode de réalisation de l'invention représenté sur les figures 1 à 4, les références numériques du second mode de réalisation de l'invention étant en outre caractérisées par un symbole prime unique. Toutes les informations précédemment fournies en ce qui concerne le premier mode de réalisation de l'invention peuvent également être appliquées au second mode de réalisation et à ses éléments constitutifs respectifs, sauf indication contraire spécifiée ci-après. Par ailleurs, dans ce second mode de réalisation de l'invention, deux paramètres 9s du substrat 1' en forme de disque de 700 mm ou de 1200 mm, sont de préférence utilisés. Au lieu des premiers évidements 2, 3 et 4 en forme de nid d'abeilles hexagonaux ayant une largeur hors tout SW, dans le second mode de réalisation, la taille des poches triangulaires 2', 3' et 4' est définie par une longueur de bord KL pour laquelle, comme le montre également la figure 3, seule la moitié de la largeur des entretoises respectives 5' et 6' définies par l'évidement en forme de poche, est utilisée comme base. Dans ce second mode de réalisation comportant des poches triangulaires, la longueur latérale KL est d'environ 70 à 210 mm, de préférence, de 120 à 180 mm, et de façon particulièrement préférable, d'environ 140 mm. Les pièces arrière surélevées 11' et 12' apparaissent clairement sur la figure 7, sur la face arrière 16' du substrat l', et définissent une section transversale de raccordement ayant sensiblement la forme d'un T dans le substrat 1' pour des poches triangulaires qui sont adjacentes les unes aux autres, par exemple dans le cas des poches 3' et 4'. Fait inattendu, de faibles valeurs de l'affaissement apparaissent également dans le cas de poches triangulaires, du fait de leur propre poids, pour ce mode de réalisation de l'invention. Pour déterminer l'affaissement, ce mode de réalisation a été mis en place de la manière déjà décrite précédemment pour le premier mode de réalisation, en utilisant des poches en forme de nid d'abeilles. La figure 6 représente l'affaissement se produisant dans le substrat 1' représenté sur la figure 5, lorsque celui-ci est maintenu par trois dispositifs de maintien qui viennent au contact du substrat 1' environ aux deux tiers du rayon, d'une part, lorsqu'on l'observe obliquement vers le bas de dessus depuis sa face supérieure, dans une vue en coupe transversale partiellement éclatée. Cette figure illustre l'affaissement du corps de miroir sous son propre poids. Une vue de dessus de la face supérieure 13' du 30 substrat 1' est également illustrée dans la partie inférieure de la figure 6. Cette figure illustre l'affaissement de la surface du miroir. Par ailleurs, dans ce second mode de réalisation, l'affaissement maximal ne représente que 0,5 à 3 �m et on a 35 pu également montrer que ce support de miroir 1' était extrêmement stable mécaniquement. 24 Par ailleurs, pour la poche individuelle 3' représentée sur la figure 3, un affaissement de la plaque de support de miroir 13' sous son propre poids égal à un maximum de seulement environ 12 nm a été observé, cela conduisant à tous les avantages pouvant être obtenus par le système tel qu'il a été décrit ci-dessus. Dans ce second mode de réalisation, on obtient également les rapports avantageux de l'épaisseur au diamètre du substrat 1' qui ont été mentionnés précédemment. Pour une explication de la production des évidements en forme de poches 2, 2', 3, 3', 4 et 4', on se référera à la figure 8 qui aide à comprendre les étapes de traitement utilisées lors de la production du substrat 1, 1' de poids réduit. Des évidements, notamment les premiers évidements 2, 2', 3, 3' et 4, 4', sont tout d'abord ménagés dans la pièce monolithique et par conséquent, dans le corps rond monolithique du substrat 1, l', qui possède de préférence une forme de base de type disque ou de type colonne mais qui peut également avoir un corps de forme elliptique, rectangulaire, hexagonale ou octogonale, en plus des dimensions d'une forme de colonne ou d'une forme de disque, en partant de sa face inférieure 16, 16', en utilisant de préférence un outil tournant 20, qui est illustré sur la figure 8 en plusieurs positions. L'outil tournant 20 comprend une tête 21 qui porte des structures abrasives appropriées pour éliminer du matériau sur ses deux faces extérieures ayant la forme d'une gaine cylindrique ainsi que sur ses surfaces avant et arrière 22 et 23. Ces structures abrasives comprennent par ailleurs des roues de meulage sur lesquelles est collé un abrasif. Ce traitement de surface supplémentaire plus fin peut également consister à effectuer un rodage à l'aide d'un abrasif appliqué de façon lâche. 25 Après que chacune des poches 2, 2', 3, 3', et 4, 4' et que les entretoises 5, 5', et 6, 6' disposées entre elles ont ainsi été préparées principalement à partir de leur forme de base, on peut traiter ces poches à l'aide d'un agent d'attaque pour l'élimination de la surface. Cet agent d'attaque comprend aussi notamment de préférence de l'acide fluorhydrique dans le cas de substrats en verre ou en vitrocéramique 1, l'. De façon plus particulièrement préférable, 10 l'agent d'attaque comprend plus de 10 % en volume d'acide fluorhydrique. Après cette opération, qui est principalement un traitement mécanique destiné à éliminer du matériau à l'aide d'un agent d'attaque de ce type afin d'augmenter la 15 résistance, l'abrasif utilisé lors du meulage ou du rodage permet ensuite d'éliminer du matériau de la surface correspondante de la poche, au moins une fois supplémentaire, jusqu'à son diamètre maximal. Afin de réduire la largeur de l'entretoise, cette 20 élimination supplémentaire de la surface peut également représenter de 0,5 à 4 mm. Il est préférable que tous les verres, ainsi que toutes les vitrocéramiques, qui sont particulièrement préférés, puissent être utilisés en tant que matériaux du 25 substrat 1, l'. Par exemple, on peut utiliser en tant que verres des verres de borosilicate ayant un coefficient de dilatation thermique inférieur à 4 x 10-6 par Kelvin dans une gamme de températures de 0 à 50°C. 30 On préfère plus particulièrement pour une utilisation des verres de quartz (silice fondue) ayant un coefficient de dilatation thermique inférieur à 1 x 10-6 par Kelvin, typiquement, de 0,5 x 10-6 par Kelvin, dans une gamme de 0 à 50°C. 35 Ces types de verres peuvent également comprendre des verres de quartz dopés, par exemple des verres de 26 quartz dopés par du TiO2 à faible coefficient de dilatation thermique, qui sont également désignés sous le nom de verres à ultra-faible dilatation ou ULE (pour Ultra Low Expansion) et qui sont par exemple décrits dans le brevet US 5 970 751. Toutefois, on préfère plus particulièrement utiliser des vitrocéramiques qui ont généralement un coefficient de dilatation thermique inférieur à 0,1 x 10-6 par Kelvin dans une gamme de températures de 0 à 50°C. Comme vitrocéramiques particulièrement préférées, on citera des vitrocéramiques de Li-Al-Si, comme par exemple le Zerodur de Schott AG, Mainz, tels que décrits par exemple dans les documents DE 1 902 432, US 4 851 372 ainsi que DE 10 2004 008 824 Al. Une autre famille préférée de vitrocéramiques comprend celles qui sont fournies par Kabushiki Kaisha Ohara, Japon, commercialisées sous la marque Clear Ceram, qui sont par exemple également décrites dans le brevet US 5 591 682 B1. Une couche réfléchissante peut être appliquée à la surface 13, 13', du moins sur une partie de celle-ci, mais de préférence sur la totalité de la surface du support de miroir 1, 1' qui est ainsi produit, notamment après que la surface 13, 13' a été soumise à des étapes de traitement 25 appropriées et répétées, telles qu'un polissage. Cette couche réfléchissante peut comprendre une couche métallique déposée par dépôt en phase vapeur ou par tout autre processus d'application approprié, cette couche pouvant être appliquée ultérieurement en association avec 30 une autre couche qui est de préférence une couche diélectrique d'oxyde métallique destinée à sa protection. En variante ou en plus de la couche métallique réfléchissante, on peut appliquer une couche diélectrique réfléchissante ou même un système multicouche diélectrique 35 réfléchissant. 27 Selon l'utilisation optique et l'application visée dans chaque cas, une partie de cette surface réfléchissante peut être formée de façon à être plane, ou bien la surface peut être formée de façon à être non plane, notamment sphérique ou asphérique. On peut ainsi produire des géométries de surface convexes, concaves ainsi que partiellement convexes et/ou partiellement concaves. Toutefois, la forme de la surface 13, 13' peut de préférence être transformée à partir du corps de base monolithique du substrat 1, l', après que les évidements ont été formés dans sa face arrière. En plus des formes sphériques et asphériques, on peut aussi utiliser conformément à l'invention des surfaces de formes quelconques, telles que celles qui sont par exemple obtenues par des calculs optiques. Pour exercer une influence supplémentaire sur l'expansion optique du front de phase des ondes électromagnétiques respectives incidentes sur le miroir, la surface réfléchissante 13, 13' peut en outre comprendre une structure superficielle diffractante telle que celle qui est par exemple utilisée pour corriger les aberrations. A cet effet, la structure diffractante peut comprendre une structure réticulaire et/ou une structure holographique, notamment une structure bien définie produisant une expansion du front d'ondes. Pour obtenir un plus faible volume du substrat 1, 1' dans le cas de formes de miroir concaves ou convexes, des sections de la surface 13, 13' peuvent également comprendre des structures de Fresnel, comme cela est bien connu des spécialistes de la technique et n'est par conséquent pas représenté sur les figures. Il entre dans le cadre de l'invention d'utiliser également des structures diffractantes et de Fresnel sur un même substrat 1, 1'. L'invention n'est pas limitée aux modes de réalisation individuels décrits ci-dessus, mais couvre 28 également des modes de réalisation présentant des caractéristiques issues d'autres modes de réalisation particuliers décrits, les exemples de modes de réalisation présentés ci-dessus n'ayant en effet aucun caractère limitatif mais étant seulement fournis à titre d'explication. REVENDICATIONS1. Substrat pour support de miroir de poids réduit, dans lequel des premiers évidements et des seconds évidements sont formés dans une surface du substrat, cela ayant pour résultat que des entretoises sont définies entre les premiers évidements et entre les premiers évidements et les seconds évidements, les seconds évidements définissant des points d'appui destinés à des dispositifs de maintien, caractérisé par le fait qu'au moins une première partie des entretoises qui définissent les premiers évidements ont une largeur différente de celle d'une seconde partie des entretoises qui définissent les seconds évidements. 2. Substrat selon la revendication 1, caractérisé en outre en ce que les premiers évidements et les seconds évidements sont formés dans une face arrière du substrat. 3. Substrat selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en outre en ce que la première partie des entretoises qui définissent les premiers évidements ont une largeur qui est inférieure à celle de la seconde partie des entretoises qui définissent les seconds évidements. 4. Substrat selon la revendication 1, 2 ou 3, caractérisé en outre en ce qu'au moins une partie des entretoises a une largeur variable dans le sens de la longueur. 5. Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en outre en ce que la première partie des entretoises qui sont adjacentes à la seconde partie des entretoises définissant les points d'appui, a une largeur décroissante à partir des points d'appui. 6. Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en outre en ce que les premiers évidements définissent des poches hexagonales ou triangulaires. 7. Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en outre en ce que la majeure 30 partie des premiers évidements est principalement définie par des poches en nid d'abeilles. 8. Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en outre par le fait que sa réduction de poids est de plus de 85 % et de préférence, de plus de 88 %, par comparaison au matériau plein. 9. Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en outre par le fait que la largeur des entretoises est inférieure ou égale à 2,5 mm, et est de préférence inférieure ou égale à 2 mm, pour une hauteur de l'entretoise d'environ 90 mm, et pour un diamètre du substrat d'environ 700 mm. 10. Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en outre par le fait que la largeur des entretoises est inférieure ou égale à 2,5 mm, et est de préférence inférieure ou égale à 2 mm, pour une hauteur des entretoises de 140 à 150 mm, et pour un diamètre du substrat d'environ 1200 mm. 11. Substrat selon l'une des revendications précédentes, notamment selon les revendications 9 et 10, caractérisé en outre en ce que, dans le cas des premiers évidements hexagonaux, et donc en forme nid d'abeilles, au moins une poche, mais de préférence plusieurs poches, définit ou définissent une largeur hors tout de 70 à 120 mm, et de préférence, de 80 à 110 mm, et de façon plus particulièrement préférable, d'environ 95 mm. 12. Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en outre par le fait que dans le cas des premiers évidements triangulaires, au moins une poche, mais de préférence plusieurs poches, définit ou définissent une longueur de côté de 70 à 210 mm, et de préférence, de 120 à 180 mm, et de façon plus particulièrement préférable, d'environ 140 mm. 13. Substrat selon l'une des revendications 35 précédentes, caractérisé en outre par le fait que les entretoises présentent des formations de dos surélevées, 31 notamment des pièces arrière surélevées meulées qui définissent au moins en partie, une section transversale en forme de T. 14. Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en outre par le fait que l'épaisseur du matériau à l'arrière de la surface prévue pour la surface réfléchissante du miroir est pratiquement constante dans les régions situées entre les entretoises. 15. Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en outre en ce que son bord extérieur est formé par une entretoise circulaire. 16. Substrat selon la revendication 15, dans lequel la largeur de l'entretoise circulaire définissant le bord est d'environ 3 à 8 mm, et dans lequel sa hauteur est d'environ 70 à 120 mm dans le cas d'une première forme de réalisation ayant un diamètre d'environ 700 mm, tandis que dans une seconde forme de réalisation ayant un diamètre d'environ 1200 mm, sa hauteur est d'environ 120 à 180 mm. 17. Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en outre par le fait que le rapport de l'épaisseur au diamètre du substrat se situe dans la gamme de 1:3 à 1:10, et de préférence, dans la gamme de 1:5 à 1:8 et qu'il est de façon plus particulièrement préférable d'environ 1:6 +/-15 18. Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en outre par le fait qu'il est principalement produit à partir d'un bloc monolithique unique d'un matériau destiné à des applications spatiales. 19. Substrat selon l'une des revendications précédentes, caractérisé en outre par le fait qu'il comprend un matériau de faible dilatation thermique, dans lequel, à la température ambiante, et de préférence, dans une gamme de températures de 0 à 50°C, le coefficient de dilatation thermique est inférieur à 4 fois 10-6 par Kelvin (verres de borosilicate), dans lequel celui-ci est de préférence inférieur à 1 fois 10-6 par Kelvin (verres de 32 quartz), et de façon plus particulièrement préférable, dans lequel celui-ci est inférieur à 0,1 fois 10-6 par Kelvin (vitrocéramiques). 20. Substrat selon la revendication 20, caractérisé en outre en ce que le matériau de plus faible dilatation thermique comprend un matériau de vitrocéramique, notamment un matériau de vitrocéramique de type Li-Al-Si. 21. Miroir comportant un substrat pour support de miroir selon l'une des revendications précédentes. 22. Utilisation d'un substrat ayant les caractéristiques de l'une des revendications 1 à 20 ou d'un miroir ayant les caractéristiques de la revendication 21 pour des observations terrestres et/ou dans le domaine de l'astronomie terrestre et/ou pour des observations spatiales et/ou dans le domaine astronautique et/ou de l'astronomie spatiale.