FR 2924591 A1 20090612 FR 0858427 A 20081210 PROCEDE POUR COMMANDER UN LAVE-VAISSELLE La présente invention concerne un procédé pour commander un lave-vaisselle et, plus particulièrement, un procédé de commande d'un lave-vaisselle qui peut réaliser une amélioration de la performance de lavage par le biais d'une fourniture de vapeur. En général un lave-vaisselle est un dispositif dans lequel de l'eau de lavage à haute pression est projetée sur de la vaisselle contenue dans le lave-vaisselle, de manière à laver la vaisselle salie par exemple par des déchets alimentaires adhérant à des surfaces de la vaisselle. Un tel lave-vaisselle comprend un dispositif d'alimentation en eau recevant de 0 l'eau de lavage depuis une source externe et un dispositif d'évacuation par lequel l'eau de lavage usée est évacuée à l'extérieur. Le lave-vaisselle contient une cuve définissant un espace dans lequel la vaisselle est logée et lavée. La cuve est munie de buses de projection capables de projeter l'eau de lavage à haute pression. Pour collecter l'eau de lavage projetée, un puisard ou collecteur est prévu sous 15 la cuve. Le collecteur comporte des éléments pour filtrer et broyer les déchets qui sont mélangés à l'eau de lavage pendant le lavage de la vaisselle. Ensuite, par le fonctionnement d'une unité de commande, l'eau de lavage est pompée vers le haut de manière à être à nouveau projetée dans la cuve via un bras de projection. De cette manière, la vaisselle contenue dans la cuve est lavée par circulation d'eau de lavage. 20 Récemment, plusieurs mesures ont été proposées pour améliorer la performance de lavage du lave-vaisselle décrit ci-dessus. En particulier, les cycles du lave-vaisselle peuvent être classés en un cycle de lavage préliminaire et un cycle de lavage principal. Dans le cycle de lavage préliminaire, de l'eau de lavage est projetée sur de la vaisselle, pour hydrater des déchets alimentaires adhérant sur la vaisselle 25 pour un lavage facile de la vaisselle. Le cycle de lavage préliminaire est suivi par un cycle de lavage principal dans lequel la vaisselle est lavée pour de bon. Pour améliorer encore la performance de lavage du lave-vaisselle, un détergent est mélangé dans l'eau de lavage, de manière à faciliter la séparation efficace des déchets alimentaires de la vaisselle. Certains lave-vaisselle traditionnels peuvent également avoir une fonction pour irradier la vaisselle lavée avec de la lumière ultraviolette, pour la stérilisation de la vaisselle. Toutefois, les lave-vaisselle traditionnels ont un problème en ce que, quand de la vaisselle utilisée est laissée pendant un temps prolongé et que les déchets alimentaires sont donc séchés et adhèrent fermement à la vaisselle, il est difficile d'enlever les déchets alimentaires de la vaisselle uniquement par projection d'eau de lavage à haute pression. Pour résoudre le problème décrit ci-dessus, bien qu'il soit possible de considérer de mettre en oeuvre le cycle de lavage préliminaire avec une fonction d'hydratation, il a été constaté que le cycle de lavage préliminaire ne peut pas résoudre complètement le problème décrit ci-dessus. Par ailleurs, la mise en oeuvre de la fonction d'hydratation nécessite un temps plus long et a donc pour désavantageuse d'allonger l'ensemble du cycle de lavage. Par ailleurs, même si la propagation de bactéries se produit lorsque de la vaisselle usagée est laissée pendant un temps prolongé, des lave-vaisselle traditionnels ont une difficulté pour éliminer les bactéries. Bien que certains lave-vaisselle aient une fonction de stérilisation par ultraviolets, ils n'exercent des effets stérilisants que sur une zone localisée sur laquelle la lumière ultraviolette est rayonnée et ne peuvent pas résoudre complètement n'importe quel problème, tel que la propagation de bactéries, etc. En conséquence, la présente invention concerne un procédé pour commander un lave-vaisselle qui remédie sensiblement à un ou plusieurs problèmes dus aux limitations et désavantages rencontrés dans la technique. D'autres avantages, buts et caractéristiques de l'invention seront exposés en partie dans la description qui suit et ressortiront en partie pour l'homme du métier lors de l'examen de ce qui suit ou peuvent appris d'après la mise en oeuvre de l'invention. Les objectifs et autres avantages de l'invention peuvent être réalisés et obtenus par la structure particulièrement mise en évidence dans la description et les revendications de celle-ci ainsi que les dessins annexés. Pour atteindre ces buts et d'autres avantages et conformément à l'invention, telle qu'introduite et décrite dans les grandes lignes ici, un procédé pour commander un lave-vaisselle comprend : un cycle de lavage préliminaire pour projeter de l'eau de lavage nécessaire pour hydrater des déchets adhérant à de la vaisselle ; un cycle de lavage principal mis en oeuvre plusieurs fois pour laver la vaisselle salie par les déchets ; un cycle de rinçage mis en oeuvre après le cycle de lavage préliminaire et également après le cycle de lavage principal pour rincer la vaisselle d'où les déchets ont été enlevés ; et un cycle de séchage pour sécher la vaisselle après la fin des cycles de lavage et de rinçage. Le procédé comprend en outre un cycle d'admission de vapeur mise en oeuvre au moins une fois avant, après ou pendant le cycle de lavage principal pour amener de la vapeur sur la vaisselle. Le cycle d'admission de vapeur peut être mis en oeuvre pour amener de la vapeur par le biais du fonctionnement d'un dispositif de chauffage ayant une capacité de chauffage réglable dépendant de la quantité d'eau de lavage. Un cycle d'admission d'eau chaude pour chauffer et amener de l'eau de lavage peut être mis en oeuvre sélectivement pendant le cycle de lavage principal à l'arrêt de l'admission de vapeur. Une valeur de chauffage du dispositif de chauffage dans le cycle d'admission de vapeur peut être commandée pour être supérieure à une valeur de chauffage du 20 dispositif de chauffage dans le cycle d'admission d'eau chaude. Un niveau d'eau de lavage dans le cycle d'admission de vapeur peut être commandé pour être inférieur à un niveau d'eau de lavage dans le cycle de lavage principal. Un niveau minimum d'eau de lavage dans le cycle d'admission de vapeur peut 25 être commandé pour être supérieur à une position d'installation du dispositif de chauffage. Le cycle d'admission de vapeur peut être mis en oeuvre pour amener de la vapeur en réglant la quantité d'eau de lavage quand un dispositif de chauffage avec une valeur de chauffage constante est utilisé. Un cycle d'admission d'eau chaude pour chauffer et amener de l'eau chaude peut être mis en oeuvre sélectivement pendant le cycle de lavage principal à l'arrêt de l'admission de vapeur. Un niveau d'eau de lavage dans le cycle d'admission de vapeur peut être 5 commandé pour être inférieur à un niveau d'eau de lavage dans le cycle d'admission d'eau chaude. Un niveau minimum d'eau de lavage dans le cycle d'admission de vapeur peut être commandé pour être supérieur à une position d'installation du dispositif de chauffage. 10 Le cycle d'admission de vapeur peut être contrôlé pour évacuer l'eau résiduelle et amener de la nouvelle eau, avant la mise en oeuvre du cycle d'admission de vapeur. Il doit être compris qu'à la fois la description générale ci-dessus et la description détaillée ci-dessous de la présente invention sont fournies à titre 15 d'exemples et d'explication et sont destinées à fournir plus d'explications sur l'invention telle que revendiquée. Les dessins annexés, qui sont inclus pour fournir une meilleure compréhension de l'invention, illustrent un ou des modes de réalisation de l'invention et, conjointement à la description, servent à expliquer le principe de l'invention. Sur 20 les dessins : - la figure 1 est une vue schématique illustrant la configuration d'un lave-vaisselle selon un mode de réalisation de la présente invention ; - la figure 2 est une vue en perspective éclatée illustrant des composants d'une unité de commande représentée sur la figure 1 ; 25 - la figure 3 est une vue en coupe de l'unité de commande représentée sur la figure 1; - la figure 4 est un schéma de principe de commande d'une unité de commande ; et a figure 5 est un organigramme illustrant schématiquement un procédé pour commander le lave-vaisselle représenté sur la figure 1. Il sera maintenant fait référence en détail aux modes de réalisation de la présente invention, dont des exemples sont illustrés sur les dessins annexés. Chaque fois que possible, les mêmes numéros de référence seront utilisés sur tous les dessins pour indiquer des éléments identiques ou similaires. Ci-après, un mode de réalisation préféré de la présente invention sera décrit en référence aux dessins annexés. La figure 1 est une vue schématique illustrant la configuration d'un lave-vaisselle selon un mode de réalisation de la présente invention. Comme représenté sur la figure 1, le lave-vaisselle comprend une enceinte définissant un aspect extérieur du lave-vaisselle, une cuve 10 définissant un espace dans lequel de la vaisselle est lavée, et une unité d'entraînement 20 pour pomper l'eau de lavage, utilisée pour laver la vaisselle, à l'intérieur de la cuve 10. La cuve 10 est pourvue intérieurement d'au moins un casier 11 dans lequel de 5 la vaisselle est reçue, et d'au moins un bras de projection 12 pour projeter l'eau de lavage pompée sur la vaisselle. Dans ce cas, le bras de projection 12 a plusieurs trous de projection pour projeter l'eau de lavage. De préférence, le bras de projection 12 est installé de manière rotative dans une position correspondant au casier 11, pour projeter uniformément l'eau de lavage sur la vaisselle. 20 L'unité d'entraînement 20 est couplée à un dispositif d'alimentation en eau 55, à travers lequel l'eau de lavage est alimentée à partir d'une source d'eau du robinet. De plus, un dispositif d'évacuation 50 est couplé à un puisard ou collecteur 30 et est utilisé pour évacuer l'eau de lavage reçue dans le collecteur 30. L'unité d'entraînement 20 est installée au-dessous de la cuve 10 et est 25 configurée de façn que l'eau de lavage, projetée et versée par le bras de projection 12, soit reçue dans l'unité d'entraînement 20. De préférence, pour pomper l'eau de lavage vers le haut à partir de l'unité d'entraînement 20, un tuyau de connexion 13 est couplé en outre à l'unité d'entraînement 20 tout en étant raccordé au bras de projection 12. La figure 2 est une vue en perspective éclatée illustrant des composants d'une unité d'entraînement représentée sur la figure 1 et la figure 3 est une vue en coupe de l'unité d'entraînement représentée sur la figure 1. Comme représenté sur les figures 1 à 3, l'unité d'entraînement 20 comprend le collecteur 30 dans lequel l'eau de lavage est reçue, le dispositif d'alimentation en eau 55 pour amener de l'eau de lavage dans le collecteur 30, le dispositif d'évacuation 50 couplé au collecteur 30, à partir duquel l'eau de lavage est évacuée, une pompe de lavage logée dans le collecteur 30 et utilisée pour pomper l'eau de lavage reçue dans le collecteur 30 et un dispositif de filtrage pour filtrer l'eau de lavage pompée restant dans le collecteur 30 après avoir guidé une partie de l'eau de lavage pompée dans le bras de projection 12. Le collecteur 30 définit un espace dans lequel l'eau de lavage est reçue et est pourvu, dans une portion de celui-ci, d'une chambre d'évacuation 32 qui communique avec le dispositif d'évacuation 50. De préférence, un dispositif de commande de parcours d'écoulement 35 est prévu à l'extérieur du collecteur 30 et, à son tour, une valve de commande de parcours d'écoulement 36 est couplée axialement au dispositif de commande de parcours d'écoulement 35 par l'intermédiaire d'un arbre. Le dispositif d'alimentation en eau 55 est raccordé à une source externe d'eau du robinet et sert à alimenter l'eau de lavage dans la cuve 30. De préférence, le dispositif d'alimentation en eau 55 est raccordé à une position spécifique du collecteur 30. Bien entendu, on notera que cette installation du dispositif d'alimentation en eau 55 est fournie uniquement à titre d'exemple et l'eau de lavage peut être amenée directement dans la cuve 10. Dans le présent mode de réalisation, le dispositif d'alimentation en eau 55 comprend un tuyau d'alimentation en eau 56 pour amener l'eau de lavage et une vanne d'alimentation en eau 57 pour ouvrir ou fermer sélectivement le tuyau d'alimentation en eau 56. Le dispositif d'évacuation 50 peut comprendre une pompe d'évacuation 53 disposée dans la chambre d'évacuation 32. La pompe d'évacuation 53 comprend un 30 moteur d'évacuation 51 et une turbine 52. La pompe de lavage comprend un moteur de lavage 41 disposé au-dessous du collecteur 30 et utilisé pour générer une force d'entraînement et une turbine 42 couplée au dispositif de filtrage et utilisée pour pomper l'eau de lavage. De plus, un éliminateur 43 est couplé axialement à un arbre de la pompe de lavage et fonctionne pour broyer des déchets alimentaires par rotation de celui-ci. De préférence, un tamis 44 ayant une dimension de maille adapte pour filtrer des déchets alimentaires relativement gros est disposé au-dessus de l'éliminateur 43. Le dispositif de filtrage comprend un boîtier de pompe 60 définissant un espace pour l'installation de la turbine 42, un boîtier de filtre 70 disposé pour couvrir 10 le dessus du boîtier de pompe 60 et un couvercle 80 accouplé sur le dessus du boîtier de filtre 70 et du collecteur 30. De préférence, le boîtier de pompe 60 est disposé au niveau d'une surface inférieure du boîtier de filtre 70 et le couvercle 80 est disposé au niveau d'une surface supérieure du boîtier de filtre 70. Le boîtier de filtre 70 peut contenir, par exemple, une chambre de collecte de 15 déchets 71 et la chambre de collecte de déchets 71 peut être couplée au tuyau d'évacuation 72 qui communique avec la chambre d'évacuation 32. Pour cela, de préférence, le tuyau d'évacuation 72 est configuré pour faire saillie vers le bas d'une longueur prédéterminée à partir de la surface inférieure du boîtier de filtre 70. Le couvercle 80 est muni de préférence d'un filtre 81 de manière que le filtre 20 81 corresponde à la chambre de collecte de déchets 71 du boîtier de filtre 70. De préférence encore, le couvercle 80 est pourvu de plusieurs trous de récupération 82 agencés autour du filtre 81 et les trous de récupération 82 communiquent avec le collecteur 30. boîtier de filtre 70 est pourvu en outre d'au moins un parcours 25 d'écoulement principal relié au bras de projection 12 et il est également pourvu d'un parcours d'écoulement d'échantillonnage pénétrant à travers la chambre de collecte de déchets 71. La valve de commande de parcours d'écoulement 36, qui est couplée axialement au dispositif de commande de parcours d'écoulement 35, est disposée dans le boîtier de filtre 70 et est utilisée pour ouvrir ou fermer le ou les parcours 30 d'écoulement à l'intérieur du boîtier de filtre 70. De préférence, indépendamment d'un quelconque parcours d'écoulement principal qui est ouvert ou fermé par la valve de commande de parcours d'écoulement 36, une certaine quantité d'eau de lavage est toujours introduite dans le parcours d'écoulement d'échantillonnage. Ceci sert à garantir un filtrage continu de l'eau de lavage contenant des déchets. Une fois que l'eau de lavage est introduite dans la chambre de collecte de déchets 71 à travers le parcours d'écoulement d'échantillonnage, l'eau de lavage s'écoule à travers le filtre 81 qui est situé au-dessus de la chambre de collecte de déchets 71. Lorsque l'eau de lavage, qui est filtrée via le processus de débordement décrit ci-dessus, et l'eau de lavage, qui est projetée à partir du bras de projection 12 pour tomber ainsi dans le couvercle 80, sont introduites dans le collecteur 30 à travers les trous de récupération 82, la circulation de lavage de l'eau de lavage est réalisée. Ci-après, un dispositif de chauffage 100 disposé au niveau de l'unité 15 d'entraînement 20 sera décrit en détail en référence aux figures 2 et 3. Dans le présent mode de réalisation, le dispositif de chauffage 100 est disposé de préférence pour amener de la vapeur dans la cuve 10. La vapeur est amenée parce qu'une simple projection d'eau de lavage à haute pression sur la vaisselle peut souvent ne pas être en mesure d'enlever complètement 20 des déchets alimentaires adhérant à des surfaces de la vaisselle. Bien qu'on puisse considérer de prévoir un cycle de lavage avec une fonction pour hydrater des déchets alimentaires adhérant à des surfaces de la vaisselle, il est encore difficile pour celui-ci d'enlever complètement des déchets alimentaires séchés adhérant fermement à la vaisselle. Par conséquent, il existe un risque qu'il faille un temps excessivement long 25 pour hydrater suffisamment des déchets alimentaires adhérant à des surfaces de la vaisselle. Comme cela sera apprécié, du fait que la vapeur a une température considérablement supérieure à l'eau de lavage et est en mesure d'être facilement absorbée dans les déchets alimentaires adhérant à la vaisselle, l'utilisation de vapeur peut accomplir une hydratation suffisante de déchets alimentaires en un temps réduit. En conséquence, quand la vapeur est amenée dans la cuve 10 comme proposé dans le présent mode de réalisation, des déchets alimentaires adhérant à la vaisselle peuvent être facilement enlevés par l'eau de lavage, en entraînant une amélioration notable dans la performance de lavage de la vaisselle. La vapeur a en outre des effets stérilisants du fait que la vapeur est un gaz ayant une haute température jusqu'à 100°C et procure donc le même effet que soumettre la vaisselle à de l'eau en ébullition. En comparaison avec un dispositif de stérilisation traditionnel utilisant de la lumière ultraviolette, qui est très coûteuse et 10 exerce des effets stérilisants seulement sur une zone localisée où la lumière ultraviolette est rayonnée, selon le présent mode de réalisation, la vapeur est délivrée sur la totalité de la surface intérieure de la cuve 10 et des surfaces de la vaisselle, en permettant la stérilisation de tout le lave-vaisselle à un coût réduit. De préférence, la vapeur est amenée avant ou après un cycle de lavage 15 principal. Ceci est avantageux pour hydrater des déchets alimentaires adhérant à la vaisselle avant le cycle de lavage principal, ou pour stériliser finalement la vaisselle et la cuve après l'achèvement du cycle de lavage principal. Bien entendu, il sera apprécié que cette admission de vapeur est donnée seulement à titre d'exemple et, dans le cas où le cycle de lavage principal serait mis en oeuvre plusieurs fois, de la 20 vapeur peut être amenée entre les cycles de lavage principal mis en oeuvre à plusieurs reprises ou peut être amenée pendant le cycle de lavage principal De préférence, le dispositif de chauffage 100 est installé pour chauffer l'eau de lavage reçue dans le collecteur 30 pour la fourniture de vapeur. Bien entendu, il serait possible de considérer la génération de vapeur en utilisant de l'eau amenée de 25 manière additionnelle à partir du dispositif d'alimentation en eau 55, au lieu d'utiliser l'eau de lavage reçue dans le collecteur 30. Toutefois, si on génère la vapeur en utilisant de l'eau amenée de manière additionnelle, il faut prévoir en outre, par exemple, un parcours d'écoulement et une valve reliés au dispositif d'alimentation en eau 55, un générateur de vapeur dans lequel un espace de réception pour stocker et 30 chauffer l'eau est défini, et une buse pour délivrer la vapeur dans la cuve, ce qui comporte le risque de rendre la configuration complexe. Par conséquent, dans le présent mode de réalisation, le dispositif de chauffage 100 est installé dans une région inférieure du collecteur 30 et est utilisé pour chauffer l'eau de lavage reçue dans le collecteur 30 de manière à générer de la vapeur. Dans ce cas, la vapeur est amenée dans la cuve 10 à travers un parcours de collecte d'eau, à 5 travers lequel l'eau de lavage utilisée pour laver la vaisselle est recueillie. De manière spécifique, l'eau de lavage, projetée dans la cuve 10, descend en étant recueillie dans le collecteur 30. Pour cette raison, la plupart des lave-vaisselle ont un parcours de collecte d'eau qui est relié au sommet du collecteur 30 tout en communiquant avec la cuve 10 (ici, le parcours de collecte d'eau n'est pas une ligne 10 supplémentaire, mais un parcours de mouvement le long duquel l'eau de lavage descend). La vapeur monte car elle est moins dense que l'air et, par conséquent, elle tend à être délivrée dans la cuve 10 à travers le parcours de collecte d'eau. En conséquence, dans le présent mode de réalisation, la vapeur est délivrée dans la cuve 10 à travers, par exemple, les trous de récupération 82 percés dans le couvercle 80. 15 L'admission de vapeur à travers les trous de récupération 82 du couvercle 80 élimine la nécessité d'une buse supplémentaire servant à amener la vapeur. Si on utilise une buse d'admission de vapeur, il existe un risque que la vapeur se condense au niveau d'une surface de la buse. En comparaison avec l'utilisation d'une buse de fourniture de vapeur, le présent mode de réalisation peut minimiser la condensation 20 de vapeur pendant le cycle d'admission de vapeur, en permettant d'amener une plus grande quantité de vapeur dans la cuve 10. Une partie de la vapeur générée par le dispositif de chauffage 100 peut être amenée en utilisant un parcours à travers lequel l'eau de lavage est amenée du collecteur 30 vers la cuve 10. De manière spécifique, la vapeur générée dans le 25 collecteur 30 a des caractéristiques de diffusion et, par conséquent, elle peut être introduite dans le boîtier de filtre 70 à travers une ouverture percée dans le fond du boîtier de pompe 60. Ensuite, la vapeur peut être amenée dans la cuve 10 via le fonctionnement du bras de projection 12 après être passée à travers le parcours d'écoulement principal du boîtier de filtre 70. Ceci a pour avantage de stériliser le 30 parcours d'écoulement suivant lequel l'eau de lavage est pompée du collecteur 30 vers la cuve 10. Pendant la circulation de l'eau de lavage servant à laver la vaisselle, le dispositif de chauffage 100 peut chauffer l'eau de lavage à une haute température suffisante pour permettre le lavage de la vaisselle en utilisant de l'eau de lavage à haute température. Plus la température de l'eau de lavage est élevée, plus il est facile d'hydrater et d'enlever des déchets alimentaires adhérant à la vaisselle, et on peut obtenir une performance de lavage du lave-vaisselle encore améliorée lors de la circulation de lavage de l'eau de lavage à haute température. Pour cette raison, dans le présent mode de réalisation, le dispositif de chauffage 100 chauffe l'eau de lavage reçue dans le collecteur 30 suivant des modes de fonctionnement du lave-vaisselle, de manière à amener de la vapeur dans la cuve 10 ou à délivrer de l'eau de lavage à haute température pendant le cycle de lavage principal. Par exemple, le dispositif de chauffage 100 peut chauffer l'eau de lavage à plus de 100 °C, de manière à générer de la vapeur. Autrement, pendant le cycle de lavage principal, le dispositif de chauffage 100 peut chauffer l'eau de lavage à moins de 100 °C, de manière à générer de l'eau de lavage à haute température. Dans ce cas, on peut choisir divers procédés afin d'ajuster la température de l'eau de lavage chauffée par le dispositif de chauffage 100. Comme arrière-plan de la génération de vapeur ci-dessus, le dispositif de chauffage 100 peut être un dispositif de chauffage variable dans lequel une capacité de chauffage est réglable pour régler la température de l'eau de lavage. Dans ce cas, quand on souhaite amener de la vapeur dans la cuve 10, il est préférable que le dispositif de chauffage 100 chauffe l'eau avec une valeur de chauffage augmentée suffisante pour générer de la vapeur. De plus, pendant la circulation de lavage de l'eau de lavage, est préférable que le dispositif de chauffage 100 chauffe l'eau de lavage avec une valeur de chauffage inférieure à celle nécessaire pour l'admission de vapeur, de manière à procurer une température d'eau chaude prédéterminée. Si le dispositif de chauffage 100 n'a pas de fonction de réglage d'une valeur de chauffage de celui-ci, la température de l'eau de lavage peut être ajustée en réglant la quantité d'eau de lavage chauffée par le dispositif de chauffage 100. La raison en est que, en supposant que le dispositif de chauffage à une valeur de chauffage constante, plus la quantité d'eau de lavage est faible, plus la température de l'eau de lavage est élevée. En conséquence, il est préférable que la quantité d'eau de lavage pendant la fourniture de vapeur soit maintenue à une valeur inférieure à la quantité d'eau de lavage pendant la circulation de lavage, pour permettre à l'eau de lavage d'être chauffée à une haute température suffisante pour générer de la vapeur. Dans le présent mode de réalisation, en plus du dispositif de chauffage 100 ayant une capacité de chauffage réglable en fonction du mode de fonctionnement du lave-vaisselle, une unité de commande 110 est de préférence prévue pour régler la quantité d'eau de lavage reçue dans le collecteur 30. Comme décrit ci-dessus, il est préférable que le dispositif de chauffage 100 5 chauffe l'eau de lavage pendant l'admission de vapeur avec une valeur de chauffage supérieure à la valeur de chauffage nécessaire pendant la circulation de lavage de l'eau de lavage. De plus, l'unité de commande 110 peut commander la quantité d'eau de lavage de manière que le niveau d'eau pendant l'admission de vapeur soit supérieur 20 au niveau d'eau pendant la circulation de lavage de l'eau de lavage. Ceci parce qu'un temps de génération de vapeur peut être réduit en fonction de la quantité d'eau de lavage même si on utilise un dispositif de chauffage 100 ayant une valeur de chauffage réglable. La figure 4 est un schéma de principe de commande d'une unité de 25 commande. Comme représenté sur la figure 4, dans le présent mode de réalisation, le dispositif d'alimentation en eau 55 et le dispositif d'évacuation 50 sont commandés de préférence, respectivement, par l'unité de commande 110. En conséquence, l'unité de commande 110 est en mesure de commander le dispositif d'alimentation en eau 55 de manière à amener efficacement Peau de lavage ou de commander le dispositif d'évacuation 50 de manière à régler la quantité d'eau de lavage devant être reçue dans le collecteur 30. Dans le présent mode de réalisation, une unité de capteur 120 peut être en outre prévue pour mesurer un niveau d'eau de lavage reçue dans le collecteur 30. Dans ce cas, de préférence, l'unité de commande 110 agit pour régler la quantité d'eau de lavage reçue dans le collecteur 30 en réponse à un signal correspondant à un niveau détecté d'eau de lavage provenant de l'unité de capteur 120. L'unité de capteur 120 peut comprendre un capteur de niveau haut d'eau 121 et un capteur de niveau bas d'eau 122 (figure 3 û ces capteurs seront décrits ci-après). Par exemple, si l'unité de capteur 120 détecte, pendant un cycle de lavage de vaisselle utilisant de l'eau de lavage, qu'un niveau d'eau de lavage a baissé, rendant ainsi impossible pour l'unité d'entraînement 20 de pomper l'eau de lavage, l'unité de commande 110 commande le dispositif d'alimentation en eau 55 de manière à commander l'admission d'eau de lavage. Autrement, si l'unité de capteur 120 détecte, pendant un cycle d'admission de vapeur, que la quantité d'eau de lavage a augmenté excessivement en rendant difficile la génération de vapeur avec une valeur de chauffage du dispositif de chauffage 100, l'unité de commande 110 commande le dispositif d'évacuation 50 de manière à commander l'évacuation d'une quantité prédéterminée d'eau de lavage. Le capteur 120 peut comprendre le capteur de niveau haut d'eau 121 pour maintenir une quantité appropriée d'eau de lavage pendant la génération de vapeur. Ici, le capteur de niveau haut d'eau 121 est installé de préférence à une hauteur correspondant à une position de l'ouverture inférieure du boîtier de pompe 60. De préférence, l'unité de commande 110 maintient un niveau d'eau de lavage reçue dans le collecteur 30 au-dessus d'une position d'installation du dispositif de chauffage 100 pendant le fonctionnement du dispositif de chauffage 100. Généralement, le dispositif de chauffage 100 utilisé dans le lave-vaisselle est adapté pour chauffer l'eau de lavage en transmettant de la chaleur, générée par un élément chauffant à l'intérieur du dispositif de chauffage 100, à l'eau de lavage en contact avec une surface extérieure du dispositif de chauffage 100. Par conséquent, quand le niveau d'eau de lavage n'est pas maintenu au-dessus de la position d'installation du dispositif de chauffage 100, il existe un risque de détérioration de la surface du dispositif de chauffage 100 à cause d'une surchauffe. De plus, ceci peut entraîner une détérioration notable du rendement de chauffage du dispositif de chauffage 100. Pour cette raison, dans le présent mode de réalisation tel que représenté sur le dessin, le dispositif de chauffage 100 est disposé dans la région du fond du collecteur 30 et par l'opération de commande de l'unité de commande 110, le niveau d'eau de lavage est toujours maintenu au-dessus de la position d'installation du dispositif de chauffage 100. Dans ce cas, l'unité de commande 110 peut détecter le niveau d'eau de lavage en utilisant l'unité de capteur 120. De plus, l'unité de capteur 120 peut comprendre en outre le capteur de niveau bas d'eau 122 disposé au niveau de la position d'installation du dispositif de chauffage 100 pour détecter un niveau minimum d'eau de lavage. L'unité de commande 110 est en mesure de commander l'alimentation d'eau de lavage de telle manière que l'eau de lavage restant dans le collecteur 30 soit évacuée et que de la nouvelle eau soit délivrée, avant de générer de la vapeur par l'intermédiaire de l'opération de chauffage du dispositif de chauffage 100. Dans le cas où l'eau de lavage contiendrait des déchets alimentaires détachés de la vaisselle pendant le lavage, le chauffage de l'eau de lavage contenant des déchets comporte un risque de génération de fortes odeurs nauséabondes. En particulier, si la vapeur résultante est délivrée pour la stérilisation de vaisselle dans une étape finale, de telles odeurs nauséabondes peuvent entraîner une gêne pour l'utilisateur. Par conséquent, dans le présent mode de réalisation, l'unité de commande 110 commande de préférence le dispositif d'alimentation en eau 55 et le dispositif d'évacuation 50 pour évacuer sélectivement l'eau de lavage restant dans le collecteur 30 et amener de la vapeur en utilisant de l'eau de lavage nouvellement amenée, avant de générer la vapeur. La figure 5 est un organigramme illustrant schématiquement un procédé pour commander le lave-vaisselle représenté sur la figure 1. Ci-après, un procédé de commande préféré du lave-vaisselle selon la présente invention sera décrit en référence à la figure 5. Le lave-vaisselle peut être commandé de manière que le lavage de vaisselle soit mis en oeuvre en utilisant de l'eau de lavage à haute température chauffée par le dispositif de chauffage 100. De plus, le lave-vaisselle peut être commandé pour amener de la vapeur dans la cuve 10 par le chauffage d'eau de lavage. Précisément, le lave-vaisselle peut être commandé pour amener de l'eau de lavage à haute température ou pour amener de la vapeur dans la cuve 10 à un moment prédéterminé quand aucun lavage de vaisselle n'est mis en oeuvre, avec le fonctionnement du seul dispositif de chauffage 100. Comme représenté sur la figure 5, le lave-vaisselle selon le présent mode de réalisation est essentiellement commandé par l'unité de commande 110 pour mettre en oeuvre un cycle de lavage préliminaire, un cycle de lavage principal, un cycle de rinçage et un cycle de séchage dans cet ordre. De plus, avant, après ou pendant le cycle de lavage principal, un cycle d'admission de vapeur est mis en oeuvre au moins une fois. Pendant le cycle de lavage principal, un cycle d'admission d'eau chaude pour chauffer et amener de l'eau de lavage peut être mis en oeuvre sélectivement quand il n'est pas nécessaire d'amener de la vapeur. Avantageusement, avant de mettre en oeuvre le cycle d'admission de vapeur, l'eau de lavage restant dans le collecteur 30 est évacuée et de la nouvelle eau de lavage est amenée dans le collecteur 30. Le cycle de lavage préliminaire sert à projeter préliminairement de l'eau de lavage sur la vaisselle, de manière à hydrater, par exemple, des déchets alimentaires adhérant à la vaisselle. Le cycle de lavage préliminaire est suivi par le cycle de rinçage et le cycle de lavage principal en séquence. Le cycle de lavage principal est commandé de telle manière que l'eau de lavage soit projetée plusieurs fois pour laver la vaisselle. Il est suivi par le cycle de rinçage. Les cycles de lavage et de rinçage sont répétés sélectivement. Le cycle d'admission de vapeur peut être mis en oeuvre sélectivement au moins une fois avant ou pendant le cycle de lavage principal sous le contrôle de l'unité de commande 110. Dans le cycle d'admission de vapeur, la quantité d'eau de lavage reçue dans le collecteur 30 est réglée avant que l'eau ne soit réchauffée par le dispositif de chauffage 100 de manière à générer la vapeur. Dans ce cas, de préférence encore, le niveau d'eau de lavage reçue dans le collecteur 30 pendant le cycle d'admission de vapeur est maintenu au-dessous du niveau d'eau de lavage reçue dans le collecteur 30 pendant le cycle de lavage principal ou le cycle d'admission d'eau chaude. Le cycle de lavage principal nécessite plus qu'un niveau prédéterminé d'eau de lavage nécessaire pour pomper l'eau de lavage au moyen de l'unité d'entraînement 20. Par ailleurs, dans le but d'une amélioration de l'efficacité de lavage, il est nécessaire de maintenir plus qu'une quantité prédéterminée d'eau de lavage. 5 D'autre part, le cycle d'admission de vapeur ne nécessite pas de pomper l'eau de lavage au moyen de l'unité d'entraînement 20. La raison est que, en supposant que le dispositif de chauffage 100 ait une valeur de chauffage constante, plus la quantité d'eau de lavage est faible, plus il est facile de générer de la vapeur par chauffage de l'eau de lavage. 20 Bien entendu, en supposant que le dispositif de chauffage 100 soit un dispositif de chauffage variable dans lequel la capacité de chauffage est réglable, le cycle d'admission de vapeur peut être commandé pour générer de la vapeur avec une valeur de chauffage accrue du dispositif de chauffage 100. Précisément, une valeur de chauffage du dispositif de chauffage 100 est un 25 dispositif de chauffage pendant le cycle d'admission de vapeur est de préférence supérieure à une valeur de chauffage dans le cycle d'admission d'eau chaude. Dans ce cas, noter que le chauffage d'une quantité réduite d'eau de lavage est avantageux sous l'aspect d'une réduction du temps de génération de vapeur. En conséquence, dans l'utilisation d'un dispositif de chauffage variable, niveau d'eau de lavage reçue dans le collecteur 30 pendant le cycle d'admission de vapeur est maintenu de préférence au-dessous du niveau d'eau de lavage pendant le cycle d'admission d'eau chaude. Précisément, indépendamment du fait que le dispositif de chauffage 100 a une 5 valeur de chauffage constante ou une valeur de chauffage variable, il est préférable que le niveau d'eau de lavage reçue dans le collecteur 30 soit maintenu à un niveau minimum dans le but d'améliorer le rendement de génération de vapeur. Dans le cycle d'admission de vapeur, après que la quantité d'eau de lavage a été réglée, l'eau de lavage est chauffée par le dispositif de chauffage 100 jusqu'à ce 10 que l'eau de lavage atteigne son point d'ébullition, de manière à générer et amener de la vapeur dans la cuve 10. Dans ce cas, l'admission de vapeur se poursuit pendant un temps prédéterminé, de manière à hydrater les déchets adhérant à la vaisselle pour une élimination facile des déchets ou pour stériliser la cuve 10 et la vaisselle. De préférence, pendant la mise en oeuvre du cycle d'admission de vapeur, un 15 niveau d'eau de lavage est maintenu pour être supérieur à la position d'installation du dispositif de chauffage 100, par l'opération de commande. Dans le cas où un temps d'admission de vapeur serait excessivement long, l'eau de lavage reçue dans le collecteur 30 peut s'évaporer, en abaissant le niveau d'eau de lavage à un niveau proche du fond du dispositif de chauffage 100. Ceci peut 20 détériorer la surface du dispositif de chauffage 100 à cause de la surchauffe et peut également entraîner une détérioration notable du rendement de chauffage du dispositif de chauffage 100. Pour cette raison, pendant la mise en oeuvre du cycle d'admission de vapeur, il est préférable de détecter un niveau d'eau de lavage reçue dans le collecteur 30, de manière à maintenir le niveau de l'eau de lavage au-dessus 25 de la position d'installation du dispositif de chauffage 100. Dans le présent mode de réalisation, de préférence, un niveau minimum d'eau de lavage est fixé pour être légèrement supérieur à la position d'installation du dispositif de chauffage 100. Quand le niveau d'eau de lavage reçue dans le collecteur 30 atteint le niveau minimum dans le cycle d'admission de vapeur, le cycle 30 d'admission de vapeur peut être commandé de manière qu'une quantité prédéterminée d'eau de lavage soit nouvellement amenée dans le collecteur 30. Dans ce cas, la quantité nouvellement amenée d'eau de lavage est fixée de préférence en considération de la capacité et du rendement de chauffage du dispositif de chauffage 100. Noter que le niveau d'eau de lavage reçue dans le collecteur 30 pendant le cycle d'admission de vapeur est maintenu de préférence pour être inférieur au niveau d'eau de lavage pendant le cycle de lavage principal. Ceci sert à garantir une génération efficace de vapeur comme décrit ci-dessus. Dans le cas où le cycle d'admission de vapeur serait suivi par un cycle de lavage principal, il est préférable de fournir en outre de l'eau de lavage avant de pomper l'eau de lavage reçue dans le collecteur 30 pour la circulation de lavage de l'eau de lavage. Ceci sert à complémenter l'eau de lavage d'une quantité réduite d'eau de lavage reçue dans le collecteur 30 pendant le cycle d'admission de vapeur, dans le but d'une circulation de lavage efficace de l'eau de lavage. Dans le cas où le cycle de lavage principal serait suivi par un cycle d'admission de vapeur, il est préférable de mettre en oeuvre un cycle d'évacuation de l'eau de lavage restant dans le collecteur 30 avant de mettre en oeuvre le cycle d'admission de vapeur. La raison en est que l'eau de lavage contient des déchets détachés de la vaisselle à la fin du cycle de lavage principal. Le chauffage de l'eau de lavage contenant des déchets pour générer de la vapeur peut comporter un risque de provoquer, par exemple, des fortes odeurs nauséabondes. En conséquence, quand le cycle d'admission de vapeur est finalement mis en oeuvre pour les besoins de stérilisation, etc., il est préférable d'évacuer l'eau de lavage restant dans le collecteur 30 et d'alimenter le lave-vaisselle en nouvelle eau de lavage, avant de mettre en oeuvre le cycle d'admission de vapeur. De plus, même dans le cas où le cycle d'admission de vapeur serait mis en oeuvre pendant le cycle de lavage principal, il est préférable d'évacuer l'eau de lavage restant dans le collecteur 30 et d'alimenter en nouvelle eau de lavage, avant de mettre en oeuvre le cycle d'admission de vapeur. Il ressortira pour l'homme du métier que diverses modifications et variations peuvent être effectuées dans la présente invention sans s'écarter la portée de l'invention. Ainsi, il est entendu que la présente invention couvre les variations et modifications dans le cadre des revendications jointes et leurs équivalents. Bien entendu, l'invention n'est pas limitée aux exemples de réalisation ci-dessus décrits et représentés, à partir desquels on pourra prévoir d'autres modes et d'autres formes de réalisation, sans pour autant sortir du cadre de l'invention. REVENDICATIONS 1. Procédé pour commander un lave-vaisselle, comprenant : - un cycle de lavage préliminaire pour projeter de l'eau de lavage nécessaire pour hydrater des déchets adhérant à de la vaisselle ; - un cycle de lavage principal mis en oeuvre plusieurs fois pour laver la vaisselle salie par les déchets ; - un cycle de rinçage mis en oeuvre après le cycle de lavage préliminaire et également après le cycle de lavage principal pour rincer la vaisselle d'où les déchets ont été enlevés ; et - un cycle de séchage pour sécher la vaisselle après la fin des cycles de 0 lavage et de rinçage, le procédé comprenant en outre un cycle d'admission de vapeur mis en oeuvre au moins une fois avant, après ou pendant le cycle de lavage principal pour amener de la vapeur sur la vaisselle. 2. Procédé selon la revendication 1, dans lequel le cycle d'admission de vapeur 15 est mis en oeuvre pour amener de la vapeur par le biais du fonctionnement d'un dispositif de chauffage (100) ayant une capacité de chauffage réglable dépendant de la quantité d'eau de lavage. 3. Procédé selon la revendication 2, dans lequel un cycle d'admission d'eau chaude pour chauffer et amener de l'eau de lavage est mis en oeuvre sélectivement 20 pendant le cycle de lavage principal à l'arrêt de l'admission de vapeur. 4. Procédé selon la revendication 3, dans lequel une valeur de chauffage du dispositif de chauffage (100) dans le cycle d'admission de vapeur est commandée pour être supérieure à une valeur de chauffage du dispositif de chauffage (100) dans le cycle d'admission d'eau chaude. 25 5. Procédé selon la revendication 4, dans lequel un niveau d'eau de lavage dansle cycle d'admission de vapeur est commandé pour être inférieur à un niveau d'eau de lavage dans le cycle de lavage principal. 6. Procédé selon la revendication 5, dans lequel un niveau minimum d'eau de lavage dans le cycle d'admission de vapeur est commandé pour être supérieur à une position d'installation du dispositif de chauffage (100). 7. Procédé selon la revendication 1, dans lequel le cycle d'admission de vapeur est mis en oeuvre pour amener de la vapeur en réglant la quantité d'eau de lavage quand un dispositif de chauffage (100) avec une valeur de chauffage constante est utilisé. 8. Procédé selon la revendication 7, dans lequel un cycle d'admission d'eau chaude pour chauffer et amener de l'eau chaude est mis en oeuvre sélectivement pendant le cycle de lavage principal à l'arrêt de l'admission de vapeur. 9. Procédé selon la revendication 8, dans lequel un niveau d'eau de lavage dans le cycle d'admission de vapeur est commandé pour être inférieur à un niveau d'eau de lavage dans le cycle d'admission d'eau chaude. 10. Procédé selon la revendication 9, dans lequel un niveau minimum d'eau de lavage dans le cycle d'admission de vapeur est commandé pour être supérieur à une position d'installation du dispositif de chauffage (100). 11. Procédé selon la revendication 1, dans lequel le cycle d'admission de vapeur est contrôlé pour évacuer l'eau résiduelle et amener de la nouvelle eau, avant la mise en oeuvre du cycle d'admission de vapeur.