FR 2930629 A1 20091030 FR 0852727 A 20080423 2930629 La présente invention s'applique à un appareil et à un procédé de séparation d'air par distillation cryogénique et en particulier à un procédé de séparation des gaz de l'air à compression interne (dans lequel l'oxygène gazeux est produit par vaporisation sous pression dans la ligne d'échange) où l'on extrait un mélange krypton/xénon. Dans une unité de séparation des gaz de l'air comprenant une double colonne et où l'oxygène gazeux est produit par vaporisation sous pression dans la ligne d'échange (appareil à compression interne) dans lequel il est prévu io d'extraire un mélange krypton/xénon, il est constaté que le rendement de cette extraction décroît de façon significative du fait que l'oxygène pompé extrait de la colonne de distillation basse pression entraîne avec lui un partie non négligeable des composés à valoriser tel que le krypton et le xénon. Pour ce type d'appareil à compression interne, dans le cas de la 15 production de krypton/xénon associé à une production d'argon plusieurs procédés permettant de remédier à cette problématique ont été imaginés. L'invention se résume en deux étapes essentielles : 1. Appauvrissement de l'air gazeux entrant dans la colonne de séparation en composés à valoriser (krypton, xénon) par transfert de matière 20 avec une portion réduite du liquide riche. Cette étape donne un liquide riche inférieur riche en krypton et xénon, de préférence 100 % du xénon contenu ainsi dans l'alimentation d'air gazeux étant extrait ainsi que plus de 80 % du krypton. 2. Concentration du liquide riche inférieur riche en krypton et en xénon, 25 par vaporisation partielle dans un vaporiseur/condenseur. La source de chaleur utilisée pour vaporiser le liquide riche inférieur est de préférence un fluide de la colonne d'où provient le dit liquide riche inférieur, fluide provenant d'étage de distillation supérieure qui, en cédant sa chaleur, se condense dans le vaporiseur/condenseur. Le liquide ainsi produit alimente à un étage de 30 distillation approprié la colonne basse pression. Le liquide riche inférieur produit, quant à lui, une phase vaporisée qui alimente la colonne basse pression à un étage de distillation approprié, et une purge où de préférence 2 2930629 quasiment 100 % du xénon contenu dans l'alimentation y est extraite, par contre seulement 50 % environ du krypton y est présent Selon une variante, la colonne basse pression est alimentée par la purge riche en krypton et en xénon produite par concentration. La purge riche en 5 krypton et en xénon produite ci-dessus va alimenter la colonne basse pression, à un étage de distillation inférieur au soutirage de l'oxygène liquide destiné à être pompé pour être ensuite vaporisé dans l'échangeur principal. Le mélange final riche en krypton et en xénon est extraite du fond de la colonne basse pression afin d'y être traité ultérieurement. io Optionnellement, dans le cas où le mélange krypton xénon est sous forme liquide, ce retour est injecté à l'aspiration de la pompe pour minimiser le soutirage OL de la colonne, et ainsi augmenter le rendement d'extraction du krypton et xénon Un tel procédé permet d'extraire de l'ordre de 90 % du xénon présent 15 dans l'air où un procédé conventionnel ne permet qu'un rendement de l'ordre 70 % au mieux. Quant au rendement d'extraction du krypton, celui-ci atteint environ 75 % alors que le rendement d'un appareil conventionnel ne permet au mieux qu'un rendement de l'ordre de 60 %. Selon un objet de l'invention, il est prévu un procédé de séparation d'air 20 par distillation cryogénique dans une double colonne comprenant une colonne moyenne pression et une colonne basse pression dans lequel : i) on envoie de l'air gazeux comprimé, refroidi et épuré à un premier niveau de la colonne moyenne pression ii) on envoie de l'air liquide comprimé, refroidi et épuré à un deuxième 25 niveau de la colonne moyenne pression iii) on soutire un liquide enrichi en oxygène, en krypton et en xénon de la cuve de la colonne moyenne pression iv) on soutire un liquide de la colonne moyenne pression à un niveau entre les premier et deuxième niveaux et on l'envoie à la colonne basse 30 pression v) on vaporise partiellement le liquide enrichi en oxygène, en krypton et en xénon pour former un gaz intermédiaire et un liquide intermédiaire 3 2930629 vi) on soutire un premier débit liquide riche en oxygène à un troisième niveau de la colonne basse pression vii) on envoie le liquide intermédiaire du vaporiseur à la colonne basse pression à un niveau intermédiaire de la colonne basse pression inférieur au 5 troisième niveau ou on le mélange à un deuxième débit liquide riche en oxygène. viii) on soutire le deuxième débit liquide riche en oxygène de la colonne basse pression à un quatrième niveau inférieur au troisième niveau et, le cas échéant, au niveau intermédiaire. i0 Selon des caractéristiques facultatives : - on envoie le gaz intermédiaire du vaporiseur à la colonne basse pression à un niveau supérieur au niveau intermédiaire. - on vaporise le liquide enrichi en oxygène, en krypton et en xénon par échange 15 de chaleur avec un gaz soutiré de la colonne moyenne pression. - le gaz soutiré de la colonne moyenne pression est soutiré au-dessus du premier niveau. Selon un autre objet de l'invention, il est prévu un appareil de séparation d'air par distillation cryogénique comprenant une double colonne constituée par 20 une colonne moyenne pression et une colonne basse pression et un vaporiseur comprenant : i) des moyens pour envoyer de l'air gazeux comprimé, refroidi et épuré à un premier niveau de la colonne moyenne pression ii) des moyens pour envoyer de l'air liquide comprimé, refroidi et épuré 25 à un deuxième niveau de la colonne moyenne pression iii) des moyens pour soutirer un liquide enrichi en oxygène, en krypton et en xénon de la cuve de la colonne moyenne pression iv) des moyens pour soutirer un liquide de la colonne moyenne pression à un niveau entre les premier et deuxième niveaux et on l'envoie à la colonne 30 basse pression v) des moyens pour envoyer au moins une partie du liquide enrichi en oxygène, en krypton et en xénon au vaporiseur où il se vaporise partiellement pour former un gaz intermédiaire et un liquide intermédiaire 4 2930629 vi) des moyens pour soutirer un premier débit liquide riche en oxygène à un troisième niveau de la colonne basse pression vii) des moyens pour envoyer du liquide intermédiaire du vaporiseur à la colonne basse pression à un niveau intermédiaire de la colonne basse pression 5 ou pour le mélanger à un deuxième débit liquide riche en oxygène et viii) des moyens pour soutirer le deuxième débit liquide riche en oxygène de la colonne basse pression à un quatrième niveau inférieur au troisième niveau et, le cas échéant, au niveau intermédiaire. Eventuellement, l'appareil comprend : io - des moyens pour envoyer le gaz intermédiaire du vaporiseur à la colonne basse pression à un niveau supérieur au niveau intermédiaire. - des moyens pour envoyer un gaz soutiré de la colonne moyenne pression au vaporiseur. - des moyens pour soutirer le gaz de la colonne moyenne pression est soutiré 15 au-dessus du premier niveau. - des moyens pour pressuriser et vaporiser le premier débit riche en oxygène, de préférence par échange de chaleur avec l'air à distiller. L'invention sera décrite en plus de détail en se référant à la figure. Un débit d'air gazeux moyenne pression 1 est envoyé à la colonne 20 moyenne pression 20 d'une double colonne de séparation d'air. La double colonne comprend aussi une colonne basse pression 21 couplée thermiquement avec la colonne moyenne pression 20 au moyen d'un vaporiseur 24, qui vaporise le liquide de cuve de la colonne basse pression par échange de chaleur avec l'azote gazeux de tête de la colonne moyenne 25 pression. Un débit d'air liquide à haute pression est détendu dans une vanne puis divisé en deux. Le débit 3 ainsi formé est envoyé à la colonne moyenne pression 20 quelques plateaux théoriques au dessus du point d'entrée du débit 1. Le reste de l'air liquide 4 est refroidi dans le sous-refroidisseur 26, détendu 30 puis envoyé à la colonne basse pression 21. Un débit de liquide riche inférieur 5 enrichi en oxygène, en krypton et en xénon est soutiré en cuve de la colonne moyenne pression 20, refroidi dans le sous-refroidisseur 26, puis détendu et envoyé à un vaporiseur 22 où il se 5 2930629 vaporise partiellement par échange de chaleur avec de l'air gazeux enrichi en azote 8 provenant de la colonne moyenne pression 20. L'air gazeux est condensé pour former un débit 9 qui est ensuite envoyé à la colonne basse pression 21. Le liquide riche vaporisé 16 est détendu comme gaz intermédiaire 5 et envoyé à la colonne basse pression alors que le liquide intermédiaire restant 7 est envoyé à la colonne basse pression 21 quelques plateaux au-dessus de la cuve. Un débit de liquide riche supérieur 6 est soutiré entre l'arrivée de l'air 1 et l'arrivée d'air 3 et/ou le soutirage du débit 8. Ce débit 6 est refroidi dans le sous-refroidisseur 26, mélangé avec le liquide riche vaporisé 16 et envoyé à la io colonne basse pression 21. Du liquide pauvre enrichi en azote 15 est soutiré en tête de la colonne moyenne pression 20 et envoyé en tête de la colonne basse pression 21 après refroidissement et détente. De l'oxygène liquide 10 est soutiré de la colonne basse pression 21 quelques plateaux au-dessus de la cuve et de préférence au-dessus de 15 l'arrivée du liquide 7. Ce liquide est pompé par la pompe 23 pour servir de produit riche en oxygène. De l'oxygène liquide 11 enrichi en krypton et xénon est soutiré en cuve de la colonne basse pression 21 et peut être épuré ultérieurement pour produire un mélange de krypton et xénon. Le liquide intermédiaire 7 peut être mélangé 20 directement avec ce débit au lieu d'être envoyé à la colonne basse pression 21. De l'azote basse pression 13 est soutiré en tête de la colonne basse pression 21, chauffé dans le sous-refroidisseur et chauffé contre les débits d'air 1,2 (chauffage non-illustré). Equipements : 25 20 Colonne moyenne pression, 21 Colonne basse pression, 22 Vaporiseur liquide riche inférieur, 23 Pompe oxygène liquide. Fluides : 1 Air gazeux moyenne pression, 2 Air liquide haute pression, 3 Air liquide détendu alimentant la colonne moyenne pression, 4 Air liquide détendu 30 alimentant la colonne basse pression, 5 Liquide riche inférieur enrichie en krypton xénon, 6 Liquide riche inférieur vaporisé appauvri en krypton xénon, 7 Purge riche en krypton xénon, 8 Air pauvre extrait de la colonne moyenne pression, 9 Air pauvre liquide, 10 Oxygène liquide extrait de la colonne basse 6 2930629 pression, 11 Oxygène liquide extrait de la colonne basse pression riche en krypton xénon. 7 REVENDICATIONS1. Procédé de séparation d'air par distillation cryogénique dans une double colonne comprenant une colonne moyenne pression (20) et une colonne basse pression (21) dans lequel : i) on envoie de l'air gazeux comprimé, refroidi et épuré (1) à un premier niveau de la colonne moyenne pression ii) on envoie de l'air liquide comprimé, refroidi et épuré (3° à un deuxième niveau de la colonne moyenne pression io iii) on soutire un liquide (5) enrichi en oxygène, en krypton et en xénon de la cuve de la colonne moyenne pression iv) on soutire un liquide (6) de la colonne moyenne pression à un niveau entre les premier et deuxième niveaux et on l'envoie à la colonne basse pression 15 v) on vaporise partiellement le liquide enrichi en oxygène, en krypton et en xénon pour former un gaz intermédiaire (6) et un liquide intermédiaire (7) vi) on soutire un premier débit liquide riche en oxygène (10) à un troisième niveau de la colonne basse pression 20 vii) on envoie le liquide intermédiaire du vaporiseur à la colonne basse pression à un niveau intermédiaire de la colonne basse pression inférieur au troisième niveau ou on le mélange à un deuxième débit liquide riche en oxygène et viii) on soutire le deuxième débit liquide riche en oxygène (11) de la 25 colonne basse pression à un quatrième niveau inférieur au troisième niveau et, le cas échéant, au niveau intermédiaire. 2. Procédé selon la revendication 1 dans lequel on envoie le gaz intermédiaire (6) vaporisé à la colonne basse pression (21) à un niveau 30 supérieur au niveau intermédiaire.. Procédé selon la revendication 1 ou 2 dans lequel on vaporise le liquide enrichi en oxygène, en krypton et en xénon (5) par échange de chaleur avec un gaz soutiré de la colonne moyenne pression. 4. Procédé selon la revendication 3 dans lequel le gaz soutiré de la colonne moyenne pression est soutiré au-dessus du premier niveau. 5. Appareil de séparation d'air par distillation cryogénique comprenant une double colonne constituée par une colonne moyenne pression (20) et une io colonne basse pression (21) et un vaporiseur (22) comprenant : i) des moyens pour envoyer de l'air gazeux comprimé, refroidi et épuré à un premier niveau de la colonne moyenne pression ii) des moyens pour envoyer de l'air liquide comprimé, refroidi et épuré à un deuxième niveau de la colonne moyenne pression 15 iii) des moyens pour soutirer un liquide enrichi en oxygène, en krypton et en xénon de la cuve de la colonne moyenne pression iv) des moyens pour soutirer un liquide de la colonne moyenne pression à un niveau entre les premier et deuxième niveaux et on l'envoie à la colonne basse pression 20 v) des moyens pour envoyer au moins une partie du liquide enrichi en oxygène, en krypton et en xénon au vaporiseur où il se vaporise partiellement pour former un gaz intermédiaire et un liquide intermédiaire vi) des moyens pour soutirer un premier débit liquide riche en oxygène à 25 un troisième niveau de la colonne basse pression vii) des moyens pour envoyer du liquide intermédiaire du vaporiseur à la colonne basse pression à un niveau intermédiaire de la colonne basse pression ou pour le mélanger à un deuxième débit liquide riche en oxygène et 30 viii) des moyens pour soutirer le deuxième débit liquide riche en oxygène de la colonne basse pression à un quatrième niveau inférieur au troisième niveau et, le cas échéant, au niveau intermédiaire. 8 9 2930629 6. Appareil selon la revendication 5 comprenant des moyens pour envoyer le gaz intermédiaire du vaporiseur (22) à la colonne basse pression (21) à un niveau supérieur au niveau intermédiaire. 5 7. Appareil selon la revendication 5 ou 6 comprenant des moyens pour envoyer un gaz soutiré de la colonne moyenne pression (20) au vaporiseur (22). 8. Appareil selon la revendication 7 comprenant des moyens pour io soutirer le gaz de la colonne moyenne pression (20) est soutiré au-dessus du premier niveau. 9. Appareil selon la revendication 5 à 8 comprenant des moyens pour pressuriser et vaporiser le premier débit riche en oxygène, de préférence par 15 échange de chaleur avec l'air à distiller.