FR 2920046 A1 20090220 FR 0757049 A 20070813 Procédé de post-traitement d'un support de transport pour le convoyage et le stockage atmosphérique de substrats semi-conducteurs, et station de post-traitement pour la mise en oeuvre d'un tel procédé La présente invention se rapporte à un procédé de post-traitement d'un support de transport pour le convoyage et le stockage atmosphérique de substrats semi-conducteurs, telle qu'une enceinte de transport de plaquettes ou de photomasques, le support de transport ayant subi au préalable un nettoyage par un liquide, tel qu'un lavage à l'eau pure. La présente invention s'étend en outre à une station de post-traitement de mise en oeuvre d'un tel procédé. Les enceintes de transport et de stockage déterminent un espace confiné sous pression atmosphérique, séparé de l'environnement d'utilisation et de transport du substrat, pour le transport et le stockage d'un ou de plusieurs substrats. Dans l'industrie de fabrication de semi-conducteurs, ces enceintes permettent de transporter les substrats tels que des plaquettes semi-conductrices ou des photomasques d'un équipement à l'autre ou de stocker les substrats entre deux étapes de fabrication. On distingue notamment les enceintes standardisées de transport et de stockage de plaquettes à ouverture latérale de type FOUP ( Front Opening Unified Pod en anglais), ou à ouverture par le fond de type SMIF Pod ( Standard Mechanical Interface Pod en anglais), les enceintes dites open cassette en anglais, et les enceintes standardisées de transport et de stockage de photomasques de type RSP ( Reticle SMIF Pod en anglais). Ces enceintes de transport sont formées de matériaux tels que le 25 polycarbonate, qui peuvent dans certains cas, concentrer les contaminants et en particulier des contaminants organiques, aminés ou acides. En effet, au cours de la fabrication des semi-conducteurs, les enceintes de transport sont manipulées, ce qui conduit à la formation de particules polluantes qui se logent dans les parois des enceintes de transport et les contaminent. 30 Les particules collées sur les parois des enceintes de transport peuvent ensuite se décoller, retomber sur les substrats stockés dans ces enceintes et les détériorer. On prévoit donc le nettoyage régulier de ces enceintes par leur lavage avec un liquide tel que de l'eau pure. Cette étape de lavage est suivie d'une étape de séchage comportant par exemple une phase dans laquelle les enceintes de transport sont chauffées par rayonnement infrarouge et centrifugées, suivie d'une phase dans laquelle l'enceinte de transport est mise en attente à l'air libre. En effet, les résidus de fluide nettoyant et plus particulièrement de vapeur 5 d'eau sont des contaminants importants qu'il est nécessaire de supprimer. L'inconvénient de l'étape de séchage est qu'elle n'est pas suffisamment efficace. En effet, la température de chauffage par rayonnement infrarouge est limitée à 50 C pour ne pas endommager le matériau constitutif de l'enceinte de transport et, 10 est donc trop basse pour éliminer tout le liquide résiduel. De même, la vitesse de rotation des enceintes de transport centrifugées est limitée pour ne pas créer de nouvelles particules contaminantes. Des résidus d'eau restent alors accrochés dans les parois des enceintes. On constate d'autre part que le séchage est inhomogéne. 15 En effet, les enceintes de transport possèdent une géométrie complexe comportant de nombreuses zones mortes difficiles d'accès et qui donc restent humides. Par ailleurs, les enceintes de transport ne proviennent pas toutes du même processus de fabrication et il peut arriver que certaines enceintes nécessitent des 20 durées de séchage à l'air libre plus longues que d'autres. Par ailleurs, certaines parois d'enceintes sont comme neuves tandis que d'autres ont déjà été beaucoup manipulées et présentent un état de surface avec plus de porosité. Même après une longue période d'attente à l'air libre, certaines enceintes de transport restent encore humides. 25 En outre, le séchage à l'air libre nécessite l'immobilisation des enceintes de transport pendant plusieurs heures. En moyenne, cinq à huit heures sont nécessaires pour que le flux de désorption des parois des enceintes ait atteint un niveau suffisamment bas et acceptable. Les industriels prévoient donc la mise en place de grandes salles de séchage 30 dans lesquelles les enceintes sont stockées en attendant d'être totalement séchées. De même, d'importants parcs d'enceintes de transport doivent être prévus. La mise en place et la gestion de la logistique de ces salles blanches dont l'atmosphère doit parfois être régulée en propreté, température, humidité et pression, constitue un investissement lourd et coûteux. Par ailleurs, les critères de contamination de plus en plus exigeants 5 contraignent les industriels à augmenter la fréquence de nettoyage des enceintes et donc, d'agrandir encore l'espace nécessaire pour leur stockage en attendant la fin de l'étape de séchage. Le but de la présente invention est donc de proposer un procédé et une station de post-traitement d'un support de transport ayant subi un nettoyage par un liquide, qui 10 accélèrent de façon significative le séchage des enceintes de transports après lavage, permettant de réduire leur temps d'immobilisation et d'assurer la déshumidification complète des parois d'enceintes de transport. A cet effet, l'invention a pour objet un procédé de post-traitement d'un support 15 de transport pour le convoyage et le stockage atmosphérique de substrats semi conducteurs, ledit support ayant subi au préalable un nettoyage par un liquide. Selon l'invention, le procédé comporte une étape de déshumidification dans laquelle on place le support de transport dans une chambre étanche raccordée à une pompe à vide et on soumet ledit support à une pression sub-atmosphérique par l'intermédiaire de ladite 20 pompe pour favoriser l'évaporation des liquides sur les parois du support de transport et accélérer la désorption. L'invention a aussi pour objet un procédé de post-traitement d'un support de transport dans lequel, avant de placer le support de transport dans la chambre, on chauffe le support de transport à une température prédéfinie ou on chauffe le support 25 de transport pendant que l'on soumet le support de transport à une pression subatmosphérique. Dans une première variante du procédé, on contrôle un paramètre caractéristique de l'avancement de la déshumidification du support de transport le paramètre étant choisi parmi le poids mesuré du support de transport, la pression dans 30 la chambre ou une durée prédéfinie, et on compare l'évolution de ce paramètre avec une référence qui tient compte du type de support de transport. On peut soumettre ledit support à un vide primaire pour lequel la pression sub-atmosphérique est inférieure à 100 mbar, et de préférence de l'ordre de 10 mbar ou de l'ordre de 1 mbar, puis éventuellement à un vide secondaire pour lequel la pression sub-atmosphérique est inférieure à 0.1 mbar, et de préférence de l'ordre de 0.001 mbar. La durée pendant laquelle on soumet le support de transport à une pression 5 sub-atmosphérique peut être inférieure à une heure, et de préférence de l'ordre d'une demi-heure. L'invention prévoit en outre une station de post-traitement d'un support de transport pour le convoyage et le stockage atmosphérique de substrats semi-conducteurs, ledit support ayant subi au préalable un nettoyage par un liquide pour la 10 mise en oeuvre d'un procédé de post-traitement tel que décrit précédemment, caractérisée en ce qu'elle comprend une chambre étanche destinée à être raccordée à une pompe à vide et destinée à recevoir au moins un support de transport de substrats, tel qu'une enceinte de transport, et en ce qu'elle comporte une unité centrale pour d'une part la gestion de mise à une pression sub-atmosphérique de la chambre 15 par l'intermédiaire de la pompe à vide et d'autre part, pour le contrôle d'un paramètre caractéristique de l'avancement de la déshumidification du support de transport. L'unité centrale peut en outre être apte à mémoriser une référence et comporter en outre des moyens de comparaison du paramètre caractéristique avec le référentiel et peut en outre être apte à mémoriser au moins une référence par type de support de 20 transport pour le comparer avec le paramètre caractéristique et/ou comporter des moyens d'identification du type de support de transport. Selon un mode de réalisation particulier de l'invention, la station de post-traitement comporte au moins une balance électronique agencée pour être apte à mesurer l'évolution du poids d'au moins un support de transport. 25 La balance peut comporter un circuit électrique de rétroaction comportant au moins une bobine de compensation placée dans un champ magnétique d'aimants permanents de manière à pouvoir générer une compensation électromagnétique lorsqu'un support de transport applique une force sur ladite balance. La station peut comporter d'autres caractéristiques qui peuvent être prises 30 séparément ou en combinaison, et notamment : un joint disposé sur la périphérie d'une ouverture de la chambre, face à un capot de fermeture de la chambre, et comporter au moins un vérin apte à comprimer le joint dans la position fermée de la chambre, - un moyen d'amortissement des vibrations placé entre une face inférieure du châssis de ladite station et le sol, un dispositif de contrôle des espèces gazeuses comportant une cellule d'excitation dérivée en communication avec la chambre et comportant 5 une antenne d'excitation électromagnétique apte à former un plasma à l'intérieur de ladite cellule. La station de post-traitement peut en outre être raccordée à un équipement de nettoyage par un liquide d'un support de transport, comportant un moyen de convoyage du support de transport dudit équipement vers ladite station. 10 L'invention s'applique également à un équipement de post-traitement caractérisé en ce qu'il comporte une pompe à vide et au moins une station de post-traitement telle que précédemment décrite. D'autres avantages et caractéristiques apparaîtront à la lecture de la description 15 de l'invention, ainsi que des dessins annexés sur lesquels : - la figure 1 est un organigramme montrant les différentes étapes du procédé selon l'invention, - la figure 2 est une vue en perspective de côté d'une station de post-traitement en position ouverte, 20 la figure 3 représente un schéma synoptique de la station de figure 2 et - la figure 4 représente un graphique de l'évolution du poids mesuré d'un support de transport en fonction du temps lors d'une mise sous vide. Sur ces figures, les éléments identiques portent les mêmes numéros de référence. 25 Par souci de clarté, les étapes du procédé sont numérotées à partir de 100 et les éléments de la station sont numérotés de 1 à 46. La figure 1 illustre un diagramme d'un procédé de post-traitement (à l'intérieur du rectangle 100 en pointillé) d'un support de transport pour le convoyage et le stockage 30 atmosphérique de substrats semi-conducteurs. Ce procédé s'applique à un support 1, tel que représenté sur la figure 2, ayant subi au préalable un nettoyage par un liquide, tel qu'un lavage à l'eau pure selon l'étape 101 représentée en figure 1. Le support de transport 1 est un moyen de convoyage et de stockage atmosphérique des substrats tels que les plaquettes et les photomasques de semi-conducteurs. Par exemple, le support 1 est une enveloppe périphérique 2 d'enceinte de transport, une porte d'enceinte 3 et/ou l'enceinte de transport elle-même, l'enceinte de transport pouvant notamment être une enceinte de transport standardisée de type FOUP, SMIF Pod, RSP ou Open Cassette . Le procédé selon l'invention se caractérise en ce qu'il comporte une étape de déshumidification dans laquelle on place le support de transport 1 dans une chambre étanche 4 raccordée à une pompe à vide 5 (étape 102) et on soumet le support 1 à une pression sub-atmosphérique par l'intermédiaire de la pompe 5 (étape 103) pour favoriser l'évaporation des liquides sur les parois du support de transport 1 et accélérer la désorption. En effet, la mise sous vide des parois permet d'optimiser le dégazage des parois 15 et d'obtenir un séchage de niveau satisfaisant après quelques dizaines de minutes seulement. La déshumidification du support de substrat 1 est l'opération visant à éliminer par séchage et désorption les résidus liquides et sous forme de vapeur, et parfois même certains résidus solides, notamment des agents nettoyants tels que l'eau. 20 Par ailleurs, on observe que le procédé permet d'obtenir des supports de substrat dont le niveau de flux désorbé, et donc de séchage, est complètement reproductible d'un support à l'autre, à la différence des procédés de l'art antérieur. En effet, dans les procédés de séchage de l'art antérieur d'une part, des résidus de vapeur d'eau pouvaient restés logés dans des zones mortes des supports de 25 substrats 1 et d'autre part, le niveau de dégazage peut dépendre des conditions de l'environnement (température, taux d'humidité) de la salle de stockage. La reproductibilité du procédé permet donc de s'assurer qu'après un même procédé de post-traitement au nettoyage liquide, les supports de substrats 1 ont le même niveau de propreté. 30 Pour cela, on soumet par exemple, le support 1 à un vide primaire pour lequel la pression sub-atmosphérique est inférieure à 1000 mbar, et de préférence de l'ordre de 100 mbar ou de l'ordre de 10 mbar. Pour évacuer plus rapidement et à un niveau encore inférieur le flux de dégazage des parois des supports de substrats 1, on peut soumettre le support 1 à un vide secondaire pour lequel la pression sub-atmosphérique est inférieure à 0.1 mbar, et de préférence de l'ordre de 0.001 mbar. On peut ainsi prévoir par exemple, de commencer à soumettre le support 1 à un pompage primaire, puis alors que le niveau souhaité de séchage n'est pas encore obtenu, de basculer en pompage secondaire. La durée pendant laquelle on soumet le support de transport 1 à une pression sub-atmosphérique est préférentiellement inférieure à une heure, et de préférence de 10 l'ordre d'une demi-heure. Par ailleurs on peut prévoir que le procédé comporte une étape de chauffage du support de substrat 1. En effet le chauffage du support de substrat 1 favorise son dégazage, et donc permet d'accélérer encore le séchage. 15 Selon une première variante du procédé, on chauffe le support de transport 1 pendant que l'on soumet le support de transport 1 à une pression sub-atmosphérique. Selon une variante alternative du procédé, on chauffe le support de transport 1 à une température prédéfinie, avant de placer le support de transport 1 dans la chambre 4. 20 En effet on peut supposer que les pertes thermiques à l'intérieur sous vide sont négligeables du fait de l'absence de convection sous vide, et qu'il est par conséquent plus simple de chauffer le support de substrat 1 avant sa mise sous vide. De préférence le support 1 est chauffé par rayonnement, et de préférence par rayonnement infrarouge ou par microondes. Pour un chauffage par microondes, on 25 utilise avantageusement un mode pulsé pour favoriser la désorption sans atteindre la limite de température du matériau à chauffer. La puissance émise du rayonnement est contrôlée en mesurant la température du matériau, par exemple avec un pyromètre, pour éviter de dépasser la limite de température du matériau du support 1. 30 Par ailleurs, on choisit la longueur d'onde du rayonnement de manière que le chauffage s'effectue en surface et dans les premières couches à l'intérieur du matériau du support 1. La température prédéfinie est avantageusement supérieure à la température ambiante, et de préférence de l'ordre de 50 C. De préférence le retour à la température ambiante s'effectue en maintenant le support 1 à l'intérieur de la chambre étanche 4 car le refroidissement favorise l'adsorption du gaz neutre, utilisé pour remettre la chambre à pression atmosphérique, qui passive la surface. Selon une variante avantageuse représentée sur l'organigramme de la figure 1, on contrôle un paramètre caractéristique de l'avancement du séchage du support de transport 1 (étape 104), et on compare l'évolution de ce paramètre avec une référence (étape 105), c'est à dire une valeur de référence ou une courbe de référence, qui tient compte du type de transport. La référence est caractéristique d'un niveau satisfaisant de désorption du support de substrat 1 et donc du séchage. Par type de support de transport 1, on entend l'ensemble de paramètres physiques d'une enceinte de transport, comme la taille, le matériau, sa structure et géométrie. On cite en particulier des types d'enceintes standardisées, tel qu'une enceinte de type FOUP, une enceinte de type SMIF Pod, une enceinte de type RSP ou de type open Cassette. En effet, on suppose que le temps nécessaire à la déshumidification sera sensiblement équivalent pour des enceintes de même type ayant subi de préférence la 20 même étape préalable de lavage. On peut en outre prévoir de remonter la pression dans la chambre 4 à la pression atmosphérique au plus tôt lorsque le paramètre mesuré est égal ou inférieur à la référence. La pression atmosphérique est la pression qu'ont les supports de substrats 1 25 dans leur environnement d'utilisation, tel que la pression atmosphérique de la salle blanche. Lorsque le paramètre mesuré est égal ou inférieur à la référence alors le niveau de flux de désorption a atteint un niveau suffisamment faible. Dans ce cas, on peut choisir soit de remonter la pression dans la chambre 4 et 30 de disposer à nouveau du support de substrat 1 (étape 106), soit de stocker le support de substrat 1 sous vide pour qu'il continue à désorber ses parois en attendant soit d'être réutilisé, soit de libérer la place dans la chambre 4 (étape 107). Selon une première variante, le paramètre caractéristique est une durée prédéfinie caractéristique du type du support de transport 1, depuis laquelle on soumet le support de transport 1 à une pression sub-atmosphérique. Selon une deuxième variante, le paramètre caractéristique est la pression totale 5 ou partielle du gaz dans la chambre 4. En effet, la mesure de la pression totale en régime de vide limite du pompage est un indicateur du flux désorbé dans la chambre 4, provenant en majorité du dégazage du support de transport 1 à sécher. Cette méthode de mesure est très efficace pour de forts flux de gaz (de l'ordre de 10 quelque sccm). Toutefois, les flux de désorption sont relativement faibles (inférieurs à quelques sccm) et il peut arriver que cette technique de mesure manque de précision. Par ailleurs lorsqu'une purge est injectée dans la chambre 4, le signal du flux de désorption peut se retrouver noyé avec celui du flux de la purge. En effet on peut aussi prévoir que le procédé comporte une étape 15 supplémentaire de purge comprenant une opération de remplissage en gaz de purge durant laquelle on introduit un gaz de purge dans la chambre 4, et une opération de pompage du gaz de purge durant laquelle on extrait le mélange du gaz de purge et du gaz initial de la chambre 4 par pompage. Selon une troisième variante, le paramètre caractéristique est le poids mesuré du 20 support de transport 1. En effet, la mesure du poids varie avec le flux dégazé des parois du support de substrat 1. De préférence, on commence la mesure à partir du régime permanent de la pompe à vide 5 pour éviter les perturbations de la mesure dues par exemple, à la 25 poussée d'Archimède subit par le support 1 et aux mouvements de flux dans la chambre 4. La figure 4 montre un graphique, le poids P en grammes est donné en ordonnée, et en abscisse le temps T en heures, minutes et secondes. La courbe 150 représente le poids mesuré du support de transport 1 en fonction du temps lors d'une mise sous 30 vide de la chambre 4. On constate que le poids du support 1 diminue avec l'augmentation du temps. En effet les parois du support de substrat 1 dégazent sous vide. La mesure du poids est donc un bon indicateur du niveau de séchage du support de substrat 1. Avantageusement, la référence est une variation prédéfinie du paramètre caractéristique. Ainsi, lorsque la variation de la pression ou du poids mesuré devient trop faible, le flux désorbé en fonction du temps peut ne plus être suffisamment important pour 5 justifier le maintien sous vide du support de transport 1. Alternativement, la référence est une valeur seuil prédéfinie. Selon l'invention, et comme illustré par la figure 2, on prévoit également une station de post-traitement 10 d'un support de transport 1 pour le convoyage et le stockage atmosphérique de substrats semi-conducteurs, le support 1 ayant subi au 10 préalable un nettoyage par un liquide, pour la mise en oeuvre d'un procédé de post- traitement tel que précédemment décrit. La station 10 comprend une chambre 4 étanche, de préférence montée sur un châssis 7. La chambre 4 de la station 10 est destinée à être raccordée à une pompe à vide 15 5 (voir figure 3) et, est destinée à recevoir au moins un support de transport de substrats 1, tel qu'une enceinte de transport. Sur la figure 2, on a représenté une station 10 recevant quatre enceintes de transport de type FOUP. Selon une première variante, la pompe à vide 5 est une pompe à vide primaire. 20 Alternativement, la pompe à vide 5 comporte une canalisation destinée à être reliée à une pompe à vide primaire et une dérivation de la canalisation en amont de la pompe à vide primaire, destinée à être reliée à une pompe secondaire, de manière à pouvoir basculer d'un pompage primaire en pompage secondaire lors de la mise en oeuvre du procédé de post-traitement. 25 La chambre 4 est de préférence de forme cylindrique et en inox pour résister à une mise sous vide. Elle comporte en outre une ouverture 9 pouvant être obturée par un capot de fermeture 11 avantageusement monté sur une charnière 13 (figure 2). Le capot 11 comporte avantageusement en face avant 14 au moins un hublot 15, en verre par exemple, permettant à un opérateur de vérifier la présence ou non d'un 30 support de substrat 1 à l'intérieur. On prévoit avantageusement un hublot 15 à hauteur de chaque support de substrat 1. En outre, la face avant 14 du capot 11 comporte avantageusement une tourelle de signalisation 16 de l'état de fonctionnement de la station 10 et un écran d'affichage (non visible) relié à une unité centrale 17 (figure 3) de la station 10. Comme visible sur le schéma de la figure 2, la chambre 4 comporte des moyens d'introduction de gaz neutre 18, tel que des moyens d'introduction d'azote sec, pour remettre la chambre 4 à pression atmosphérique après traitement du support de substrat 1. Lorsque le support de substrat 1 est une enceinte de transport, on peut prévoir avantageusement de la placer ouverte dans la chambre 4, de manière à ne pas 10 déformer la paroi de l'enceinte lors de sa mise sous vide. Pour cela, la station 10 comporte par exemple des étagères 23, 25 destinées à soutenir chaque support de substrat 1. Comme visible sur la figure 2, la station 10 comporte de préférence une première série d'étagères 23 sur lesquelles sont posées les enveloppes 2 d'enceintes ainsi 15 qu'une deuxième série d'étagères 25 sur lesquelles sont posées les portes 3 correspondantes. Avantageusement, la deuxième série d'étagères 25 soutient les portes 3 en position verticale dans un renforcement interne 27 du capot 11. La deuxième série d'étagères 25 comportent en outre une languette de 20 verrouillage 29 pour retenir la porte 3 de l'enceinte placée en-dessous d'elle. Pour limiter l'encombrement et pour simplifier l'accès aux supports de substrats 1, on prévoit que la station 10 soit apte à recevoir la partie des supports 1 la plus encombrante dans la partie fixe de la chambre 4 et la seconde partie dans le renforcement 27 du capot 11. 25 Ainsi, les enveloppes périphériques 2 des enceintes peuvent être reçues dans la chambre 4 de la station 10 et les portes 3 correspondantes dans le capot de fermeture 11. La chambre 4 comporte en outre un joint de porte 31 disposé sur la périphérie de l'ouverture 9 de manière à étanchéifier la chambre 4 lorsque le capot 11 est en position 30 de fermeture (non représenté). On prévoit en outre que la station 10 comporte au moins un vérin 33, de préférence pneumatique, monté sur une articulation de la charnière 13 de la chambre 4 pour pouvoir comprimer le joint de porte 31 dans la position fermée de la chambre 4. Pour améliorer encore le guidage du capot 11 sur l'ouverture 9, on prévoit plusieurs vérins 33 régulièrement répartis sur la longueur de la charnière 13 de la station 10. On prévoit de préférence trois vérins 33 situés aux trois articulations de la 5 charnière 13, comme représenté sur la figure 2. Pour assurer la compression homogène du joint de porte 31, on prévoit en outre au moins un guide 35 formé d'une part par une goupille 37, de préférence solidaire du capot 11. Le guide 35 est d'autre part formé par un trou 39 correspondant, ménagé dans la 10 périphérie de l'ouverture 9 de la chambre 4, à l'extérieur du joint de porte 31. On dispose de préférence autant de guides 35 que d'articulations charnière, régulièrement répartis sur le côté de l'ouverture 9 de la chambre 4 opposé à celui comportant la charnière 13, et sensiblement à même hauteur que les vérins 33. Ainsi, lors de la fermeture de la chambre 4, le capot de fermeture 11 est dans un 15 premier temps guidé et centré par les goupilles 37 sur l'ouverture 9 de la chambre 4. Une fois mis en place, l'actionnement du vérin 33 permet dans un deuxième temps, de plaquer le capot 11 contre l'ouverture 9 et ainsi de comprimer le joint de porte 31, rendant la chambre étanche 4. Cet agencement permet de limiter les contraintes en cisaillement sur le joint de 20 porte 31 à l'endroit de la charnière 13. Alternativement, on prévoit d'une part, au moins deux guides 35 du capot de fermeture 11 disposés de façon sensiblement symétrique sur le pourtour de l'ouverture 9 de la chambre 4 pour centrer le capot 11 sur l'ouverture 9 de la chambre 4. Dans ce mode de réalisation alternatif, on prévoit d'autre part, une pompe 5 25 dimensionnée pour pouvoir comprimer le joint de porte 31 par la seule mise sous vide de la chambre 4. La station 10 comporte en outre une unité centrale 17 pour d'une part, la gestion de mise à une pression sub-atmosphérique de la chambre 4 par l'intermédiaire de la pompe à vide 5 et d'autre part, pour le contrôle d'un paramètre caractéristique de 30 l'avancement du séchage du support de transport 1. Ainsi, l'unité centrale 17 est en outre apte à mémoriser une référence du support de transport 1 et comporte en outre des moyens de comparaison du paramètre caractéristique avec la référence. Par ailleurs, l'unité centrale 17 peut être reliée à des capteurs permettant le contrôle de l'évolution du séchage, tels que des jauges de pression 45 de la chambre 4 et/ou la balance 41. Alternativement ou de façon complémentaire pour la mesure de pression, on peut en outre prévoir d'utiliser un dispositif de contrôle (non représenté) des espèces gazeuses comportant une cellule d'excitation dérivée pouvant être connectée, via une vanne, à une canalisation de la pompe à vide 5 ou directement sur la chambre 4, pour être en communication avec les gaz de la chambre 4. Le dispositif de contrôle comporte en outre une antenne d'excitation 10 électromagnétique alimentée par un générateur de puissance, disposée autour de la cellule de manière à former un plasma à l'intérieur de celle-ci. La radiation lumineuse émise par le plasma est ensuite captée ettransmise jusqu'à un spectromètre optique. La transmission peut être assurée par une fibre optique, ou par un connecteur adapté. Le spectromètre optique génère des images du 15 spectre optique détecté, et les transmettant par exemple, à l'unité centrale 17. L'unité centrale 17 peut en outre être reliée à un dispositif de commande de la pompe à vide 5 pour notamment piloter des vannes 46 en amont du pompage pour la mise sous vide de la chambre 4 (figure 3). Elle est également apte à injecter ou à couper l'injection d'un gaz dans la 20 chambre 4 par le pilotage de vannes du moyen d'injection 18. Avantageusement, et pour permettre à la station 10 de fonctionner de façon complètement automatique, l'unité centrale 17 peut comporter des moyens d'identification du support de substrat 1, tels que des codes barres, une antenne RFID (transducteur) ou un émetteur. 25 Selon un autre mode de réalisation particulier de l'invention, la station 10 comporte au moins une balance électronique 41 agencée pour pouvoir mesurer l'évolution du poids mesuré d'au moins un support de transport 1. En effet, la mesure du poids peut être corrélée avec le flux de dégazage des parois des supports de substrats 1 permettant ainsi de déterminer l'évolution du 30 séchage de ceux-ci. Pour que la mesure soit significative, la précision de la mesure est avantageusement de l'ordre de un centième de gramme pour une pleine échelle de quelques kilogrammes (environ 4 kg pour une enceinte de transport de type FOUP et environ 700 g pour une enceinte de type RSP). Pour limiter les perturbations dues à l'environnement extérieur, on prévoit aussi que la station 10 comporte un moyen d'amortissement des vibrations (non représenté), placé entre une face inférieure du châssis 7 de la station et le sol, de préférence sous les pieds 44 de la station 10. Dans le cas où la station 10 est apte à contenir plusieurs supports de substrats 1 et pour limiter les coûts, on détermine l'évolution du séchage des supports de substrat 1 par le contrôle d'un seul support de substrat 1. En effet, on peut considérer que l'information issue de la mesure d'un support 1 peut s'appliquer à l'évolution du séchage de tous les supports 1 dans le cas où ceux-ci sont de même type et sont issus d'une même étape précédente de nettoyage. Ainsi, et tel qu'illustré par la figure 2, la station de post-traitement 10 comporte par exemple trois plateaux fixes 23, destinés à recevoir chacun une enveloppe périphérique 2 de boîte de transport de type FOUP et comporte en outre une balance 41 surmontée d'un plateau mobile 43, apte à mesurer le poids d'une quatrième enveloppe périphérique 2 de boîte de transport de type FOUP. Avantageusement, la balance 41 comporte un circuit électrique de rétroaction comportant au moins une bobine de compensation placée dans un champ magnétique d'aimants permanents de manière à pouvoir générer une compensation électromagnétique lorsqu'un support de transport 1 applique une force sur la balance 41. Après lecture du zéro, la force de compensation requise pour l'équilibre de la balance 41 est proportionnelle au poids sur le plateau 43, et l'intensité du courant est 25 ainsi convertie en poids. Selon une variante de réalisation, la station de post-traitement 10 est raccordée à un équipement de lavage d'un support de transport (non représenté). Dans cette variante, on prévoit que la station 10 et/ou l'équipement comporte un moyen de convoyage du support de transport 1 pour le convoyage depuis l'équipement 30 de lavage vers la chambre 4 de la station de post-traitement 10. Par exemple, le moyen de convoyage est un robot de préhension du support de transport 1 ou un tapis roulant. On peut également prévoir une chambre de transfert entre une ou plusieurs stations de post-traitement 10 et un équipement de lavage (non représentée). On peut également prévoir un équipement de post-traitement comportant une pompe à vide 5 et au moins une station de post-traitement, de préférence apte à recevoir un unique support de substrat 1 de type FOUP. Ainsi, en fonctionnement, la station de post-traitement 10 est apte à mettre en oeuvre un procédé de post-traitement faisant suite à une étape de lavage. On commence par placer le support de transport 1 dans la chambre 4 que l'on ferme à l'aide du capot 11. Puis, on évacue le gaz contenu dans la chambre 4 par l'intermédiaire de la pompe 5. L'évacuation du gaz par pompage peut être avantageusement arrêtée selon le résultat de la comparaison de l'évolution du paramètre caractéristique de l'avancement de la déshumidification avec la référence. On remonte ensuite la pression de la chambre 4 à la pression atmosphérique par l'introduction de gaz grâce à des moyens d'introduction de gaz 18, puis on ouvre le capot 11 pour sortir le support de substrat 1 de la chambre 4. Par le procédé de post-traitement selon l'invention d'un support de transport, ayant subi au préalable un nettoyage par un liquide, et par l'utilisation d'une station selon l'invention de mise en oeuvre du procédé, dans laquelle on met le support de transport sous vide, on favorise l'évaporation des liquides sur les parois du support de transport, et notamment dans les premières couches du matériau du support, et ainsi on accélère le séchage.25 REVENDICATIONS 1. Procédé de post-traitement d'un support de transport (1) pour le convoyage et le stockage atmosphérique de substrats semi-conducteurs, ledit support (1) ayant subi au préalable un nettoyage par un liquide, caractérisé en ce qu'il comporte une étape de déshumidification dans laquelle on place le support de transport (1) dans une chambre étanche (4) raccordée à une pompe à vide (5) et on soumet ledit support (1) à une pression sub-atmosphérique par l'intermédiaire de ladite pompe (5) pour favoriser l'évaporation des liquides sur les parois du support de transport (1) et accélérer la désorption. 2. Procédé selon la revendication 1, dans lequel, avant de placer le support de transport (1) dans la chambre (4), on chauffe le support de transport (1) à une température prédéfinie. 3. Procédé selon la revendication 1, dans lequel on chauffe le support de transport (1) pendant que l'on soumet le support de transport (1) à une pression sub-15 atmosphérique. 4. Procédé selon l'une des revendications précédentes, dans lequel on contrôle un paramètre caractéristique de l'avancement de la déshumidification du support de transport (1), le paramètre étant choisi parmi le poids mesuré du support de transport (1), la pression dans la chambre (4) ou une durée prédéfinie, et en ce qu'on 20 compare l'évolution de ce paramètre avec une référence qui tient compte du type de support de transport (1). 5. Procédé selon l'une des revendications précédentes, dans lequel on soumet ledit support (1) à un vide primaire pour lequel la pression sub-atmosphérique est inférieure à 100 mbar. 25 6. Procédé selon la revendication 5, dans lequel on soumet ledit support (1) à un vide secondaire pour lequel la pression sub- atmosphérique est inférieure à 0.1 mbar, et de préférence de l'ordre de 0.001 mbar. 7. Station de post-traitement d'un support de transport (1) pour le convoyage et le stockage atmosphérique de substrats semi-conducteurs, ledit support (1) ayant subi au préalable un nettoyage par un liquide pour la mise en oeuvre d'un procédé de post-traitement selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisée en ce qu'elle comprend une chambre (4) étanche destinée à être raccordée à une pompe à vide (5) et destinée à recevoir au moins un support de transport de substrats (1), tel qu'une enceinte de transport, et en ce qu'elle comporte une unité centrale (17) pour d'une part la gestion de mise à une pression sub-atmosphérique de la chambre (4) par l'intermédiaire de la pompe à vide (5) et d'autre part, pour le contrôle d'un paramètre caractéristique de l'avancement de la déshumidification du support de transport (1). 8. Station de post-traitement selon la revendication 7, dans laquelle l'unité centrale comporte en outre des moyens de comparaison du paramètre caractéristique avec le référentiel, en ce que l'unité centrale (17) est apte à mémoriser au moins une référence par type de support de transport (1) pour le comparer avec le paramètre caractéristique, et en ce que l'unité centrale (17) comporte des moyens d'identification du type de support de transport (1). 9. Station de post-traitement selon l'une des revendications 7 à 8, comportant au moins une balance électronique (41) agencée pour être apte à mesurer l'évolution du poids d'au moins un support de transport (1), ladite balance (41) présentant un circuit électrique de rétroaction comportant au moins une bobine de compensation placée dans un champ magnétique d'aimants permanents de manière à pouvoir générer une compensation électromagnétique lorsqu'un support de transport (1) applique une force sur ladite balance (41). 10. Station de post-traitement selon l'une des revendications 7 à 9, comportant un joint (31) disposé sur la périphérie d'une ouverture (9) de la chambre (4), face à un capot de fermeture (11) de la chambre (4), et comportant au moins un vérin (33) apte à comprimer le joint (31) dans la position fermée de la chambre (4). 11. Station de post-traitement selon l'une des revendications 7 à 10, comportant un dispositif de contrôle des espèces gazeuses comprenant une celluled'excitation dérivée en communication avec la chambre et comprenant une antenne d'excitation électromagnétique apte à former un plasma à l'intérieur de ladite cellule. 12. Equipement de post-traitement comportant une pompe à vide (5) et au moins une station de post-traitement (10) selon l'une des revendications 7 à 11.