FR 2907699 A1 20080502 FR 0757264 A 20070830 La présente invention se rapporte d'une manière générale au domaine du polissage chimique-mécanique (CMP). En particulier, la présente invention se rapporte à un patin CMP ayant des rainures espacées de manière irrégulière. Dans la fabrication de circuits intégrés et d'autres dispositifs électroniques sur une rondelle (ou wafer) de semi-conducteur, de multiples couches de matière conductrice, semi-conductrice et diélectrique sont déposées sur et gravées dans la rondelle. Des couches minces de ces matières peuvent être déposées par plusieurs techniques de dépôt. Des techniques de dépôt courantes dans le traitement de rondelle moderne comprennent le dépôt physique en phase vapeur (PVD) (également connu sous le nom de projection), le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) et le plaquage électrochimique. Des techniques de gravure courantes comprennent la gravure isotrope et anisotrope humide et à sec, entre autres. Lorsque des couches de matières sont déposées et gravées de manière séquentielle, la surface de la rondelle devient non plane. Du fait qu'un traitement de semi-conducteur consécutif (par exemple une photolithographie) exige que la rondelle ait une surface plate, la rondelle doit être aplanie de manière périodique. L'aplanissement est utile afin d'enlever une topographie de surface indésirable ainsi que des défauts de surface, tels que des surfaces rugueuses, des matières agglomérées, un endommagement de réseau cristallin, des rayures et des couches ou des matières contaminées. L'aplanissement chimique-mécanique, ou polissage chimique-mécanique (CMP), est une technique couramment utilisée pour aplanir des rondelles de semi-conducteur et d'autres pièces. Dans le patin CMP conventionnel utilisant 2907699 2 un dispositif de polissage rotatif à axe double, un support de rondelle, ou tête de polissage, est monté sur un ensemble de support. La tête de polissage maintient la rondelle et la positionne en contact avec une couche de 5 polissage d'un patin de polissage à l'intérieur du dispositif de polissage. Le patin de polissage a un diamètre plus grand que le double du diamètre de la rondelle qui est aplanie. Pendant le polissage, le patin de polissage et la rondelle sont entraînés en rotation autour 10 de leurs centres concentriques respectifs alors que la rondelle est engagée avec la couche de polissage. L'axe de rotation de la rondelle est décalé par rapport à l'axe de rotation du patin de polissage d'une distance plus grande que le rayon de la rondelle de telle sorte que la rotation 15 du patin balaye une piste de rondelle annulaire sur la couche de polissage du patin. Lorsque le seul mouvement de la rondelle est de rotation, la largeur de la piste de rondelle est égale au rayon de la rondelle. Toutefois, dans certains dispositifs de polissage à axe double, la rondelle 20 est amenée à osciller dans un plan perpendiculaire à son axe de rotation. Dans ce cas, la largeur de la piste de rondelle est plus grande que le rayon de la rondelle d'une valeur qui tient compte du déplacement dû à l'oscillation. L'ensemble de support procure une pression pouvant être 25 commandée entre la rondelle et le patin de polissage. Pendant le polissage, une pâte, ou un autre agent de polissage, s'écoule sur le patin de polissage et dans l'espace entre la rondelle et la couche de polissage. La surface de rondelle est polie et rendue plane par action 30 chimique et mécanique de la couche de polissage et de l'agent de polissage sur la surface. L'interaction entre les couches de polissage, les agents de polissage et les surfaces de rondelle pendant polissage chimique-mécanique est de plus en plus étudiée, 2907699 3 dans un effort d'optimisation des conceptions de patin de polissage. La plupart des développements de patin de polissage des dernières années ont été d'une nature empirique. Une majeure partie de la conception des surfaces 5 de polissage, ou des couches, s'est focalisée sur le fait de pourvoir ces couches de différents dessins de vides et d'agencements de rainures qui sont censés améliorer l'utilisation de la pâte et l'uniformité du polissage. Avec les années, assez peu de dessins et agencements de rainure 10 et de vide différents ont été mis en œuvre. Les dessins de rainure de l'art antérieur comprennent des dessins radiaux, circulaires concentriques, à grille cartésienne et en spirale, entre autres. Les configurations de rainure de l'art antérieur comprennent des configurations dans 15 lesquelles la largeur et la profondeur de toutes les rainures sont uniformes parmi toutes les rainures et des configurations dans lesquelles la largeur ou la profondeur des rainures varie d'une rainure à l'autre. Plus particulièrement, plusieurs dessins de 20 rainure de l'art antérieur pour des patins de polissage rotatifs impliquent des rainures qui s'étendent depuis un emplacement proche de ou au niveau des centres concentriques des patins jusqu'à un emplacement proche de ou au niveau de la périphérie extérieure du patin. Des 25 exemples de ces dessins dans le contexte des rainures radiales et des rainures en spirale apparaissent dans le brevet U.S. numéro 6 783 436 au nom de Muldowney. Tous les dessins de rainures radiales et en spirale décrits dans le brevet Muldowney ont un pas angulaire constant en direction 30 autour des patins respectifs, comme cela est typique de ces dessins de rainure. Le brevet Muldowney montre également des patins de polissage ayant des dessins de rainure à grille cartésienne à cercle concentrique. Les rainures dans ces deux dessins ont un pas constant, c'est-à-dire que 2907699 4 l'espacement des rainures adjacentes est le même. Le brevet US numéro 5 984 769 au nom de Bennett et al. décrit dans un cas un patin de polissage ayant des rainures circulaires concentriques disposées de telle sorte que le pas des 5 rainures est modifié en fonction de l'endroit où les rainures se trouvent sur le patin. Dans un autre cas, le brevet Bennett et al. décrit un patin de polissage dans lequel le pas entre des segments adjacents d'une unique rainure en spirale varie en fonction de l'endroit où les 10 rainures se trouvent sur le patin. Alors que l'art antérieur comprend des patins de polissage ayant une grande variété de dessins de rainure, l'efficacité de ces dessins de rainure varie d'un dessin à l'autre, ainsi que d'un processus de polissage à l'autre. 15 Les concepteurs de patin de polissage recherchent en permanence des dessins de rainure qui rendent les patins de polissage plus efficaces et utiles par rapport aux patins de l'art antérieur. Dans un aspect de l'invention, un patin de 20 polissage comprend une couche de polissage configurée afin de polir au moins un substrat magnétique, optique ou à semi-conducteur en présence d'un agent de polissage, la couche de polissage comprenant une surface de polissage ayant un centre concentrique, une piste de rondelle définie 25 dessus pendant le polissage d'une rondelle et une périphérie extérieure, la piste de rondelle ayant une limite intérieure et une limite extérieure espacée de la limite intérieure; une pluralité de rainures disposées dans la surface de polissage, chaque rainure de la pluralité de rainures s'étendant à travers la piste de rondelle de façon à croiser chacune des limites intérieure et extérieure, la pluralité de rainures ayant un pas angulaire qui varie d'une manière prédéterminée là où le pas radial entre les rainures mesuré dans une direction radiale depuis le centre 2907699 5 concentrique jusqu'à la périphérie extérieure est inégal pour toutes les rainures adjacentes à l'intérieur de la piste de rainure; et une pluralité d'ensembles de rainures dans la piste de rondelle, chaque ensemble de la pluralité 5 d'ensembles de rainures étant formé par la pluralité de rainures. De plus, chaque ensemble de la pluralité d'ensembles de rainures peut être formé par au moins trois rainures, et la piste de rondelle peut comprendre au moins 10 trois ensembles de rainures. La figure 1 est une vue en plan d'un patin de polissage fabriqué selon la présente invention. La figure 2 est une vue en coupe agrandie du 15 patin de polissage de la figure 1 le long de la ligne 2-2 de la figure 1. La figure 3 est une vue en plan agrandie du patin de polissage de la figure 1 montrant une partie centrale patin. 20 La figure 4 est une vue en plan d'une variante de patin de polissage fabriquée selon la présente invention. La figure 5 est une vue en plan agrandie du patin de polissage de la figure 4 montrant une partie centrale du patin. 5 La figure 6 est une vue en plan d'une autre variante de patin de polissage fabriquée selon la présente invention. La figure 7 est une vue en plan agrandie patin de polissage de la figure 6 montrant une partie centrale du 30 patin. La figure 8 est une vue en plan d'encore une autre variante de patin de polissage fabriquée selon la présente invention. 2907699 6 La figure 9 est une vue en plan agrandie du patin de polissage de la figure 8 montrant une partie centrale patin. La figure 10 est un dessin schématique d'un 5 système de polissage selon la présente invention. Si l'on se réfère aux dessins, les figures 1 à 3 illustrent un patin de polissage 100 fabriqué selon la présente invention qui, comme cela est décrit plus en 10 détail ci-dessous, peut être utilisé avec une machine de polissage CMP. Comme cela est représenté dans la figure 2, un patin de polissage 100 comprend une couche de polissage 104 ayant une surface de polissage 108. La couche de polissage 104 peut être supportée par une couche de support 15 112, qui peut être formée intégralement avec la couche de polissage ou bien peut être formée séparément de la couche de polissage. La couche de polissage 104 peut être fabriquée dans n'importe quelle matière appropriée pour le polissage de l'article qui est poli, tel qu'une rondelle de 20 semi-conducteur 114 (représentée sous la forme d'un cercle sur la figure 1), un article de support magnétique, par exemple un disque d'un disque dur d'ordinateur ou une optique, par exemple une lentille de réfraction, une lentille de réflexion, un réflecteur plan ou un article 25 plan transparent, entre autres. Des exemples de matières pour la couche de polissage 104 comprennent, par souci d'illustration et non pas de limitation, différentes matières plastiques polymères, telles que du polyuréthanne, du polybutadiène, du polycarbonate et du 30 polyméthylacrylate, parmi de nombreux autres. Comme cela se voit dans la figure 1, un patin de polissage 100 présente de manière typique une forme de disque circulaire de telle sorte qu'une surface de polissage 108 a un centre concentrique 116 et une 2907699 7 périphérie extérieure circulaire 120. Pendant l'utilisation, l'article qui est poli (ici une rondelle comme cela est indiqué par le contour 114), qui est de manière typique, mais pas nécessairement, une rondelle ou 5 wafer de semi-conducteur, balaye une piste de polissage (rondelle) circulaire 124 sur la surface de polissage 108. La piste de polissage 124 est la partie de la surface de polissage face à l'article poli pendant le polissage. La piste de polissage 124 est définie d'une manière générale 10 par une limite intérieure 124A et une limite extérieure 124B. Comme les gens du métier l'apprécieront facilement, les limites intérieure et extérieure 124A et B de la piste de rondelle 124 sont principalement circulaires, mais peuvent être considérées comme étant ondulées dans le cas 15 d'un dispositif de polissage qui applique un mouvement orbital ou oscillant à l'article poli et/ou au patin de polissage 100. Si l'on se réfère aux figures 1 à 3, le patin de polissage 100 comprend une pluralité de rainures 128 20 formées dans la couche de polissage 104 de façon à définir un dessin de rainure 132. Chaque rainure 128 peut avoir virtuellement n'importe quelle forme en coupe et n'importe quelle taille en coupe souhaitées afin de s'adapter à tout ensemble particulier de spécifications de conception. 25 Ainsi, la forme en coupe rectangulaire des rainures 128, comme cela est illustré en particulier dans la figure 2, la taille en coupe relative représentée sont simplement des illustrations. Les gens du métier comprendront la large plage de formes et de tailles des rainures 128 qu'un concepteur peut prévoir pour un patin de polissage de la présente invention, tel que le patin de polissage 100. Les gens du métier comprendront également facilement que les formes en coupe et les tailles des rainures 128 peuvent 2907699 8 varier sur la longueur de chaque rainure ou d'une rainure à l'autre, ou bien les deux. Chaque rainure 128 s'étend à travers la piste de polissage 124, en croisant à la fois la limite intérieure 5 124A et la limite extérieure 124B. Dans la forme de réalisation représentée, chaque rainure 128 s'étend depuis un point à proximité du centre concentrique 116 jusqu'à la périphérie extérieure 120 de la surface de polissage 108. Bien sûr, les gens du métier apprécieront que l'étendue des 10 rainures 128 par rapport au centre concentrique 116 et à la périphérie extérieure 120 représentés est simplement un exemple et pas une limitation. Par exemple, certaines ou bien la totalité des rainures 128 peuvent s'étendre totalement jusqu'au centre concentrique 116 et certaines ou 15 la totalité des rainures peuvent s'arrêter près de la périphérie extérieure 120, lorsque la conception particulière peut l'accepter. Le dessin de rainure 132 est unique parmi les dessins de rainure en ce que le pas angulaire des rainures 20 128 varie dans une direction qui circonscrit de manière circulaire le centre concentrique 116 de la surface de polissage 108 d'une manière prédéterminée. Le pas angulaire tel qu'utilisé ici est défini comme la distance entre des points équivalents, tels que les points 136A et 25 B, sur une paire de rainures 128 immédiatement adjacentes qui coupent un cercle 140 (figure 3) concentrique par rapport au centre concentrique 116 comme cela est mesuré par l'angle de pas a entre deux lignes droites 144A et B qui relient de manière respective les points 136A et B au 30 centre concentrique 116. Par d'une manière prédéterminée , on entend que variation de pas est le résultat d'un choix de conception conscient et non pas un artéfact par exemple d'une fabrication imprécise ou d'un défaut de placement d'une ou plusieurs rainures 128 pendant 2907699 9 la mise en place ou la fabrication du patin de polissage 100. De plus, le pas radial est inégal entre toutes les rainures 128 adjacentes à l'intérieur de la piste de rondelle 124. Le pas radial représente l'espacement 5 entre des caractéristiques équivalentes d'une rainure 128, tel que d'une paroi latérale avant à une paroi latérale avant, mesuré dans une direction radiale depuis le centre concentrique 116 jusqu'à la périphérie extérieure 120. Alors que ce concept est très large et comprend les dessins 10 de rainure tels que des dessins dans lesquels le pas angulaire paraît varier de manière aléatoire dans le dessin ou varie de telle sorte qu'il n'y a pas deux variations identiques, le concept est de manière typique, bien que pas nécessairement, mis en œuvre de telle sorte que la 15 variation de pas angulaire est répétitive. Par exemple, comme cela se voit mieux dans les figures 1 et 3, le dessin de rainure 132 est défini par quinze rainures 128 ayant une forme en spirale et un pas angulaire qui varient de manière cyclique à la suite en 20 passant par trois angles de pas différents a, P, y sur le balayage à 360 du patin de polissage 100 autour du centre concentrique 116. La forme en spirale de chaque rainure 128 peut être disposée comme cela est décrit dans le brevet Muldowney discuté ci-dessus en introduction. Bien que les 25 rainures 128 soient représentées comme ayant une forme en spirale, les rainures peuvent avoir d'autres formes, telles que la forme partiellement radiale - courbe radiale représentée dans les figures 6 et 7 et la forme partiellement radiale - courbe représentée dans les figures 30 8 et 9. Dans la forme de réalisation représentée et pour le diamètre du cercle 140 illustrée, a = 13 , f3 = 26 et = 39 . Puisque y est significativement plus grand que a et f3, la perception humaine tend à grouper les quinze rainures 2907699 10 128 en cinq ensembles 148 de trois rainures chacun. Lorsqu'elles sont groupées en ensembles 148 de cette manière, c'est-à-dire dans lesquelles l'angle de pas le plus grand de tous les angles de pas répétitifs (ou l'angle 5 de pas plus grand lorsque seuls deux angles de pas sont en question) sépare les ensembles, le pas angulaire variable comprend un ou plusieurs angles de pas intra-ensemble (dans ce cas deux angles de pas a et (3) et l'angle de pas inter-ensemble (dans ce cas l'angle de pas y). Dans la forme de 10 réalisation représentée, les angles de pas intra-ensemble équivalents a, (3 des cinq ensembles 148 sont identiques les uns aux autres, et les cinq apparitions d'angle de pas inter-ensemble y sont d'une manière similaire identiques l'une à l'autre. Il est à noter que, dans des variantes de 15 formes de réalisation, ceci n'est pas nécessaire. C'est-à-dire que l'un quelconque ou bien plusieurs des angles de pas a, (3, y peuvent varier parmi les ensembles 148 et entre deux ensembles adjacents quelconques. D'une manière générale, tout ce qui est exigé pour maintenir les 20 ensembles visuellement distincts 148 de trois rainures 128 est que l'angle de pas y soit suffisamment plus grand que chacun des angles de pas a et (3 de telle sorte que les trois rainures dans chaque ensemble apparaissent être groupées l'une avec l'autre. L'augmentation des angles de pas y 25 augmente également le pas radial ou l'espacement entre des rainures 128 adjacentes. Cette augmentation de pas radial ou d'espacement sert également à séparer des ensembles 148. Les figures 4 à 9 illustrent des variantes de patins de polissage 200, 300, 400 fabriqués selon les 30 principes généraux discutés ci-dessus par rapport au patin de polissage 100 des figures 1 à 3. Plus particulièrement, les figures 4 et 5 illustrent un patin de polissage 200 comprenant une surface de polissage 204 ayant vingt rainures 208 ayant un pas angulaire qui alterne entre un 2907699 11 angle de pas a' = 14 et un angle de pas P' = 22 . Ce pas variable donne l'impression visuelle de dix ensembles 212 de rainures 208 contenant deux rainures chacun espacées d'un angle de pas intra-ensemble y'. D'une manière 5 correspondante, chaque ensemble 212 de deux rainures 208 est espacé d'un angle de pas inter-ensemble f3'. Tout comme les rainures 128 des figures 1 à 3, chaque rainure 208 des figures 4 et 5 a une forme en spirale. Bien que pas particulièrement représenté, chaque rainure 208 peut 10 également être comme les rainures 128 des figures 1 à 3 en termes de forme en coupe et de taille. Par rapport au patin de polissage 200 illustré dans les figures 4 et 5, il est à noter qu'un échantillon réel de ce patin a présenté une amélioration de 14% dans le taux d'enlèvement et une 15 réduction de défaut de 54% comparé à un patin de polissage conventionnel IC1010TM (disponible auprès de Rohm and Haas Electronic Materials CMP Technologies, Phoenix, Arizona) fabriqué dans la même matière mais ayant un dessin de rainure avec un pas angulaire et radial constant. 20 Alors que les patins de polissage 100, 200 des figures 1 à 5 comprennent des rainures 128, 208 ayant des formes en spirale, comme cela a été mentionné ci-dessus, un patin de polissage de la présente invention ne doit pas nécessairement avoir des rainures en spirale. Bien que 25 chacune des rainures 128, 208 ait un pas angulaire constant à travers la piste de rondelle, il est possible que le pas angulaire puisse varier à l'intérieur de la piste de rondelle. Les figures 6 à 9 illustrent deux des nombreuses variantes des rainures en spirale. En particulier, les 30 figures 6 et 7 montrent un patin de polissage 300 ayant vingt paires (ensembles) 304 de rainures 308 réparties de manière régulière autour de la surface de polissage 312. A l'emplacement du cercle 316, qui est concentrique au centre de patin de polissage 318, l'angle de pas intra-ensemble 2907699 12 a" entre des rainures 308 à l'intérieur de chaque ensemble 304 est d'environ 5,3 et l'angle de pas inter-ensemble [3" entre des rainures immédiatement adjacentes de paires immédiatement adjacentes est d'environ 12,7 . Chacun 5 de ces angles de pas a", f3" est répété vingt fois autour du cercle 316 de façon à procurer l'espacement égal à l'intérieur de et entre les vingt paires 304 de rainures 308. Dans cet exemple, comme cela se voit dans la 10 figure 6, chaque rainure 308 comprend un premier segment radial droit 308A, un deuxième segment radial droit 308C et un segment en spirale 308E relié à chacun des premier et deuxième segments radiaux par l'intermédiaire d'une transition correspondante 308D et E. Chaque rainure 308 15 s'étend sur la piste de rondelle 320 et croise chacune des limites intérieure et extérieure 320A et B de la piste de rondelle. Les figures 8 et 9 illustrent encore un autre patin de polissage 400 fabriqué selon la présente 20 divulgation. Le patin de polissage 400 est globalement similaire au patin de polissage 300 des figures 6 et 7 en ce que les rainures 404 sont séparées de manière alternée par un angle de pas intra-ensemble a''' (figure 9) et un angle de pas inter-ensemble f3" ' qui sont répétés chacun 25 quinze fois autour du patin de polissage 400 de façon à définir visuellement quinze paires (ensembles) 408 de rainures 404. Dans cette forme de réalisation, chaque rainure 404 comprend un segment radial droit 404A et un segment en spirale 404B reliés ensemble par un segment de 30 transition 404C et l'angle de pas intra-ensemble a"' est d'environ 9 et l'angle de pas inter-ensemble 13"' est d'environ 0 figure 10 illustre un dispositif de polissage 500 adapté à une utilisation avec un patin de polissage 2907699 13 504, qui peut être l'un des patins de polissage 100, 200, 300, 400 des figures 1 à 9, ou un autre patin de polissage de la présente invention, afin de polir un article, tel qu'une rondelle 508. Le dispositif de polissage 500 peut 5 comprendre un plateau 512 sur lequel est monté le patin de polissage 504. Le plateau 512 peut tourner autour d'un axe de rotation Al grâce à un dispositif d'entraînement de plateau (non représenté). Le dispositif de polissage 500 peut en outre comprendre un support de rondelle 520 qui 10 peut tourner autour d'un axe de rotation A2 parallèle à, et espacé de, l'axe de rotation Al du plateau 512 et supporte la rondelle 508 pendant le polissage. Le support de rondelle 520 peut présenter une liaison articulée (non représentée) qui permet à la rondelle 508 de prendre un 15 aspect très légèrement non parallèle à la surface de polissage 524 du patin de polissage 504, auquel cas les axes de rotation Al, A2 peuvent être légèrement décalés l'un par rapport à l'autre. La rondelle 508 comprend une surface polie 528 qui fait face à la surface de polissage 20 524 et est aplanie pendant le polissage. Le support de rondelle 520 peut être supporté par un ensemble de support (non représenté) prévu pour entraîner en rotation la rondelle 508 et procurer une force vers le bas F afin de pousser la surface polie 528 contre le patin de polissage 25 504 de telle sorte qu'une pression souhaitée existe entre la surface polie et le patin pendant le polissage. Le dispositif de polissage 500 peut également comprendre une entrée d'agent de polissage 532 destinée à délivrer un agent de polissage 536 à la surface de polissage 524. 30 Comme les gens du métier l'apprécieront, le dispositif de polissage 500 peut comprendre d'autres composants (non représentés) tels qu'un dispositif de commande d'un système, un système de stockage et de distribution d'agent de polissage, un système de chauffage, 2907699 14 un système de rinçage et différentes commandes destinées à commander différents aspects du processus de polissage tels que : (1) des dispositifs de commande de vitesse et des sélecteurs pour une ou bien les deux vitesses de rotation 5 de la rondelle 508 ou du patin de polissage 504; 2 des dispositifs de commande et des sélecteurs destinés à modifier la vitesse et l'emplacement de sortie de l'agent de polissage 536 sur le patin; (3) des dispositifs de commande et des sélecteurs destinés à commander l'amplitude 10 de la force F appliquée entre la rondelle et le patin de polissage, et (4) des dispositifs de commande, des dispositifs d'actionnement et des sélecteurs destinés à commander l'emplacement de l'axe de rotation A2 de la rondelle par rapport à l'axe de rotation Al du patin, entre 15 autres. Les gens du métier comprendront comment ces composants sont construits et mis en œuvre de telle sorte qu'une explication détaillée de ceux-ci n'est pas nécessaire pour que les gens du métier comprennent et mettent en œuvre la présente invention. 20 Pendant le polissage, le patin de polissage 504 et la rondelle 508 sont entraînés en rotation autour de leurs axes de rotation Al, A2 respectifs et l'agent de polissage 536 est distribué depuis l'entrée d'agent de polissage 532 sur le patin de polissage en rotation. 25 L'agent de polissage 536 s'étale sur la surface de polissage 524, y compris l'espace entre la rondelle 508 et le patin de polissage 504. Le patin de polissage 504 et la rondelle 508 sont de manière typique, mais pas nécessairement, entraînés en rotation à des vitesses 30 sélectionnées de 0,1 tour par minute à 150 tours par minute. La force vers le bas F est de manière typique, mais pas nécessairement, d'une amplitude choisie afin d'induire une pression souhaitée de 6,9 à 103 kPa entre la rondelle 508 et le patin de polissage 504. 2907699 15 La pluralité de rainures ayant un pas angulaire variable et un espacement inégal dans une direction radiale peut servir à augmenter un taux d'enlèvement de polissage comparé à des patins de polissage avec une taille 5 équivalente, mais des rainures espacées de manière égale. Par ailleurs, la répétition de ces rainures comme une série d'ensembles de rainures qui se répètent à l'intérieur de la piste de rondelle sert à faciliter l'uniformité de polissage à l'intérieur de la rondelle. De préférence, la 10 piste de rondelle comprend au moins trois ensembles de rainures avec les rainures qui ont un pas radial variable à l'intérieur de l'ensemble de rainures. REVENDICATIONS 1. Patin de polissage, caractérisé en ce qu'il comprend : a) une couche de polissage (104) configurée afin de polir au moins un substrat magnétique, optique ou à semi-conducteur en présence d'un agent de polissage, la couche de polissage (104) comprenant une surface de polissage (108) ayant un centre concentrique (116), une piste de rondelle (124) définie dessus pendant le polissage d'une rondelle (114) et une périphérie extérieure (120), la piste de rondelle (124) ayant une limite intérieure (124A) et une limite extérieure (124B) espacée de la limite intérieure (124A); b) une pluralité de rainures (128) disposées dans la surface de polissage (108), chaque rainure de la pluralité de rainures (128) s'étendant à travers la piste de rondelle (124) de façon à croiser chacune des limites intérieure et extérieure, la pluralité de rainures (128) ayant un pas angulaire qui varie d'une manière prédéterminée là où le pas radial entre les rainures mesuré dans une direction radiale depuis le centre concentrique (116) jusqu'à la périphérie extérieure (120) est inégal pour toutes les rainures adjacentes à l'intérieur de la piste de rainure; et c) une pluralité d'ensembles de rainures {148 dans la piste de rondelle {124), chaque ensemble de la pluralité d'ensembles de rainures (148) étant formé par la pluralité de rainures {128). 2907699 17 2. Patin de polissage selon la revendication 1, caractérisé en ce que la pluralité d'ensembles de rainures {148) a au moins un angle de pas intra-ensemble (a, [3), la pluralité d'ensembles de rainures (148) ayant des angles de 5 pas inter-ensemble adjacents, au moins certains des angles de pas inter-ensemble (y) étant différents du au moins un pas intra-ensemble (a, f3) d'au moins certains ensembles de la pluralité d'ensembles de rainures (148). 10 3. Patin de polissage selon la revendication 2, caractérisé en ce que le au moins un angle de pas intraensemble (a, [3) est sensiblement le même dans la pluralité d'ensembles. 15 4. Patin de polissage selon la revendication 2 ou 3, caractérisé en ce que les angles de pas inter-ensemble (y) sont sensiblement identiques les uns aux autres. Patin de polissage selon l'une quelconque des 20 revendications 1 à 3, caractérisé en ce que la pluralité de rainures (128) est agencée en une pluralité d'ensembles de rainures (148) ayant chacun une pluralité d'angles de pas intra-ensemble (a, [3) qui diffèrent les un des autres. 25 6. Patin de polissage selon la revendication 5, caractérisé en ce que la pluralité d'angles de pas intraensemble (a, [3) est répétée parmi la pluralité d'ensembles de rainures (148). 7. Patin de polissage selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que chaque ensemble de la pluralité d'ensembles de rainures (148) est formé par au moins trois rainures (128) et la piste de rondelle (124) comprend au moins trois ensembles de rainures (148). 2907699 18 8. Patin de polissage selon la revendication 2 et l'une quelconque des revendications 2, 3, 4 ou 7, caractérisé en ce que le au moins un angle de pas intra- 5 ensemble (a, (3) a une valeur qui est répétée pour chaque ensemble de la pluralité d'ensembles de rainures (148). 9. Patin de polissage selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, caractérisé en ce que chaque rainure 10 de la pluralité de rainures (128) définit une courbe en spirale avec un pas angulaire constant à l'intérieur de la piste de rondelle (124).