FR 2909223 A1 20080530 FR 0610291 A 20061124 1 ELECTRODE DE DISPOSITIF EMISSIF LUMINEUX DE TYPE OLED DESCRIPTION DOMAINE TECHNIQUE ET ART ANTÉRIEUR L'invention concerne une électrode structurée d'un dispositif émissif lumineux de type OLED ( Organic Light Emitting Diode en anclais, ou diode électroluminescente organique) et un dispositif OLED comportant une telle électrode. L'invention sera particulièrement adaptée à la réalisation d'un dispositif émettant de la lumière sur plusieurs longueurs d'ondes, c'est-à-dire un dispositif d'affichage multicolore, à base de couches organiques électroluminescentes utilisé dans un afficheur ou un écran de type OLED, et notamment dans un micro-afficheur de type OLED de dimensions centimétriques. Ces micro-afficheurs sont de petits écrans facilement transportables et dont la visualisation peut se faire à l'aide d'une optique d'agrandissement. Ces dispositifs sont particulièrement adaptés pour la réalisation d'optiques de visée, par exemple pour des appareils photos ou caméscopes numériques. Ces micro-afficheurs sont également adaptés pour un fonctionnement dans des lunettes de visualisation connectées par exemple à un lecteur vidéo nomade. Un micro-afficheur doit être peu cher et avoir une faible consommation électrique. Un micro-afficheur classique de type OLED 30 comporte un empilement de couches organiques 2909223 2 électroluminescentes émettant une lumière de couleur blanche. Cet empilement est disposé entre une matrice d'anodes et une cathode commune à tout le micro-afficheur. L'émission lumineuse est réalisée à 5 travers la cathode, qui est transparente. Les couches organiques sont déposées de manière homogène sur la matrice d'anodes. Du côté opposé à l'empilement de couches organiques, la matrice d'anodes est également en contact avec une matrice active de transistors, ou 10 matrice TFT ( Thin-Film Transistor en anglais, ou transistor à couches minces). Chaque transistor permet de piloter individuellement l'émission de lumière depuis chaque anode, représentant un pixel du micro-afficheur, en faisant circuler un courant entre 15 l'anode et la cathode à travers les couches organiques. Pour réaliser des pixels de différentes couleurs (rouge, vert et bleu par exemple), une matrice de filtres à base de polymères pigmentés est réalisée sur un substrat hôte transparent puis reportée sur la 20 cathode de manière homogène. Cette matrice de filtres est réalisée sur le substrat hôte par photolithographie de polymères pigmentés photosensibles. Un tel micro-afficheur de type OLED a une faible consommation électrique. Mais compte -:enu des 25 dimensions des pixels de ces écrans (quelques microns), les dimensions de marges d'alignement prises pour l'étape de report de la matrice de filtres sur la cathode sont équivalentes aux dimensions des pixels eux-mêmes, réduisant la surface utile et augmentant notablement le coût du micro-afficheur. 2909223 3 Une telle matrice de filtres peut également être réalisée par photolithographie directement sur la cathode. Mais dans ce cas également, un alignement durant les étapes de photolithographie sur les anodes 5 et les transistors de la matrice active situés sous les couches organiques est nécessaire, complexifiant la réalisation de cette matrice de filtres. De plus, cette solution est particulièrement agressive pour les couches organiques qui peuvent se détériorer. 10 Ces électrodes, c'est-à-dire les anodes et la cathode, lorsqu'elles sont suffisamment réfléchissantes, forment des cavités optiques qui filtrent la lumière blanche émise par les couches organiques, cette lumière filtrée étant ensuite émise à 15 travers la cathode qui forme un miroir semi-transparent. On entend par cavité optique, ici et dans tout le reste du document, un espace géométrique limité par au moins deux surfaces au moins partiellement réfléchissantes dont l'alignement permet 20 à des rayons lumineux d'y subir de multiples réflexions. La couleur émise par le pixel à travers la cathode dépend alors de l'épaisseur des couches organiques et de l'indice de réfraction optique de ces couches organiques. Ce type de structure ne récessite 25 donc pas de matrice de filtres à base de polymères pigmentés. Les documents Organic Light Emitting Devices de J. Shinar, 2003, page 103, et Colour tunability of polymeric light-emitting diodes with top emission architecture de X.T. Hao et al., 30 Semiconductor Science and Technology, vol. 21, n l, janvier 2006, pages 19 à 24, décrivent de telles 2909223 4 structures mises en oeuvre dans des diodes électroluminescentes organiques et inorganiques, améliorant la directivité, le rendement optique, et déterminant la couleur émise par les pixels. 5 Toutefois, la réalisation d'un tel empilement de couches, permettant d'accorder les cavités optiques sur différentes couleurs d'un pixel à l'autre, en conservant le même empilement de couches organiques pour tous les pixels et en modulant 10 l'épaisseur de ces couches d'un pixel à l'autre, est complexe. Dans le document US 7,023,013 B2, la réalisation de pixels de couleurs différentes n'est pas obtenue en modulant l'épaisseur des couches organiques, 15 mais en intégrant des plots d'ITO ( Indium-Tin Oxide en anglais, ou oxyde d'indium-étain) de hauteurs variables entre les couches organiques et les anodes. Une telle structure nécessite de nombreuses étapes de photolithogravure pour définir sur chaque pixel une 20 couche d'ITO d'une épaisseur correspondant à la couleur désirée. Cette approche reste donc coûteuse, notamment pour la réalisation de micro-afficheurs. EXPOSÉ DE L'INVENTION Un but de la présente invention est de 25 proposer une solution permettant la réalisation d'un dispositif émissif lumineux de type OLED pouvant émettre de la lumière sur différentes longueurs d'onde d'un pixel à l'autre, sans complexifier la réalisation d'un tel dispositif, et à un coût inférieur aux 30 procédés de l'art antérieur. 2909223 5 Pour cela, la présente invention propose une électrode de dispositif émissif lumineux de type OLED adaptée pour former, avec une seconde électrode, une cavité optique, comportant au moins une couche à 5 base d'un matériau d'indice de réfraction ni dont une face structurée, destinée à être disposée du côté de la cavité optique, comprend une pluralité de creux remplis d'un matériau d'indice de réfraction n2 différent de n1. Ainsi, on réalise une modulation planaire, 10 c'est-à-dire dans le plan de la couche formant l'électrode, sans faire varier la hauteur de cette couche, de l'indice de réfraction optique effectif de l'électrode d'une cavité optique. Il est donc possible de modifier cet indice de réfraction effectif en jouant 15 sur les indices de réfraction ni et n2 des matériaux utilisés et/ou en modifiant la forme et les dimensions des creux, et ainsi d'obtenir une cavité optique dont la fréquence de résonance peut être accordée sur une quelconque longueur d'onde, permettant par exemple de 20 choisir la couleur de la lumière émise par la cavité optique, sans complexifier, ni augmenter le coût de réalisation du dispositif émissif lumineux. Les creux peuvent être répartis régulièrement sur la face structurée et/ou être de 25 dimensions sensiblement similaires, permet=ant de définir précisément la longueur d'onde de la lumière émise en sortie de la cavité optique. Le matériau d'indice de réfraction ni et/ou le matériau d'indice de réfraction n2 peut être 30 électriquement conducteur, par exemple un matériau à base de métal. 2909223 6 L'électrode peut également comporter au moins une couche inférieure à base d'au moins un matériau électriquement conducteur, par exemple à base de métal, disposée contre la face opposée à la face 5 structurée de la couche d'indice de réfraction ni, c'est-à-dire sous la couche d'indice de réfraction n1. Le matériau de la couche d'indice de réfraction ni peut dans ce cas être par exemple un matériau diélectrique. Il est donc possible de choisir un matériau dont 10 l'indice de réfraction ni peut ne pas exister pour un matériau électriquement conducteur. Cette configuration permet également de profiter de gravure sélective. Dans ce cas, lorsque le matériau d'indice de réfraction ni et/ou le matériau d'indice de 15 réfraction n2 est électriquement conducteur, on maintient un lien de conduction électrique entre la couche inférieure et la face structurée comportant les creux. Ce lien de conduction électrique entre la 20 couche inférieure et la face structurée comportant les creux peut également être obtenu par une portion de matériau électriquement conducteur reliant la couche inférieure à la face structurée, par exemple lorsque ni le matériau d'indice de réfraction n1, ni le matériau 25 d'indice de réfraction n2, est électriquement conducteur. Ainsi, aucune contrainte de conduction électrique ne s'applique à l'un des matériaux d'indice de réfraction ni ou n2. Cette portion de matériau électriquement conducteur peut traverser la couche 30 d'indice de réfraction ni et éventuellement le matériau d'indice de réfraction n2. 2909223 7 L'électrode peut comporter en outre une couche supérieure à base d'au moins un matériau électriquement conducteur, disposée contre la face structurée de la couche d'indice de réfraction n1, 5 c'est-à-dire sur la couche d'indice de réfraction n1. Cette couche supérieure peut être optiquement transparente ou partiellement transparente, et par exemple à base d'ITO. Cette couche peut également être une très fine couche métallique, par exemple 10 d'épaisseur inférieure ou égale à environ 10 rim. Cette couche supérieure permet d'homogénéiser la circulation du courant électrique entre les électrodes, à travers les couches organiques. Le matériau d'indice de réfraction n2 15 remplissant les creux. de la face structurée peut être transparent ou partiellement transparent. La présente invention concerne également un dispositif émissif lumineux de type OLED comportant au moins une cavité optique, chaque cavité optique étant 20 formée par au moins une partie d'une couche à base d'un matériau organique électroluminescent disposée entre deux électrodes, au moins l'une des deux électrodes étant une électrode, également objet de la présente invention, telle que décrite précédemment, chaque 25 cavité optique formant un pixel du dispositif émissif lumineux. Ce dispositif permet d'obtenir une émission lumineuse spécifique en sortie de la cavité optique grâce à l'électrode structurée. On peut donc définir, 30 grâce à l'électrode structurée, la couleur émise par le pixel formé par la cavité optique en réalisant une 2909223 8 structuration spécifique de cette électrode, soit par les dimensions et formes des creux réalisés et/ou soit par leur arrangement sur la face structurée de l'électrode. 5 Le matériau d'indice de réfraction n2 remplissant les creux de la face structurée de l'électrode peut être le matériau organique électroluminescent de la couche disposée entre les deux électrodes. 10 Dans une variante, le matériau d'indice de réfraction n2 remplissant les creux de la face structurée de l'électrode peut être un matériau distinct du matériau organique électroluminescent de la couche disposée entre les deux électrodes. 15 Le dispositif émissif lumineux peut comporter en outre un substrat sur lequel est disposée une des électrodes de chaque cavité optique, cette électrode formant une anode du pixel défini par cette cavité optique. Cette électrode peut notamment être une 20 électrode structurée, objet de la présente invention, telle que décrite précédemment. Le dispositif émissif lumineux peut comporter en outre une pluralité de cavités optiques, formant une pluralité de pixels du dispositif émissif 25 lumineux de type OLED. Dans ce cas, une des électrodes, par exemple l'électrode structurée, de chaque cavité optique peut être disposée sur le substrat, formant une anode d'un pixel du dispositif émissif lumineux. 30 Les dimensions et/ou la période des creux des électrodes structurées peuvent donc différer d'un 2909223 9 pixel à l'autre, afin d'obtenir des pixels de différentes couleurs. On peut ainsi facilement réaliser, par le biais d'une seule photolithogravure, un écran couleur. 5 Les anodes des différents pixels peuvent être électriquement isolées les unes des autres. Les électrodes de chaque cavité optique qui ne sont pas disposées sur le substrat peuvent être formées par une seule électrode commune à toutes les 10 cavités optiques, cette électrode commune étant la cathode des pixels du dispositif émissif lumineux. Le substrat peut comporter une matrice de transistors en contact avec les anodes, chacun des pixels étant piloté par un transistor de cette matrice. . 15 Il est particulièrement avantageux que l'électrode structurée soit l'électrode qui est en contact avec la matrice active de transistors. On peut ainsi réaliser des éléments de filtrage, c'est-à-dire les électrodes structurées, objets de la présente invention, avant un 20 dépôt des couches organiques sur ces électrodes, et profiter ainsi de moyens d'alignement sub-microniques des technologiques microélectroniques. Ceci permet notamment de réduire les marges d'alignement nécessaires et donc de diminuer le coût surfacique du 25 dispositif. Une telle électrode permet d'éviter des dépôts de couches organiques électroluminescentes sur des électrodes de hauteurs différentes et d'éviter de multiples étapes de photolithogravure pour spécifier la 30 couleur de chaque pixel. Dans l'invention, une seule étape de photolithogravure permet en effet d'a.boutir à 2909223 10 des modulations d'indice différent sur chaque pixel d'une matrice comportant plusieurs électrodes structurées, objets de la présente invention. La présente invention concerne également un 5 procédé de réalisation d'un dispositif émissif lumineux de type OLED, comportant au moins les étapes de : a) dépôt d'une couche à base d'un matériau d'indice de réfraction ni sur un substrat, b) gravure d'une pluralité de creux dans 10 une face de la couche opposée à la face en contact avec le substrat, c) dépôt d'un matériau d'indice de réfraction n2, différent de n1, dans les creux. Le procédé peut comporter en outre, avant 15 l'étape a), une étape de dépôt d'une couche inférieure à base d'au moins un matériau électriquement conducteur, la couche à base du matériau d'indice de réfraction ni n'étant pas, à l'étape a), déposée directement sur le substrat mais sur la couche 20 inférieure. Le procédé peut comporter en outre, après l'étape c), une étape de réalisation d'une portion de matériau électriquement conducteur reliant la couche inférieure à la face comportant la pluralité de creux. Le procédé peut comporter en outre, après l'étape c), une étape de dépôt d'une couche supérieure à base d'un matériau électriquement conducteur sur la face de la couche de matériau d'indice de réfraction ni comportant les creux. L'étape c) peut être une étape de dépôt d'au moins une couche organique électroluminescente sur 25 30 2909223 11 la face de la couche de matériau d'indice de réfraction ni comportant les creux, cette couche organique électroluminescente étant à base du matériau d'indice de réfraction n2. 5 Dans une variante, le procédé peut comporter, après l'étape c), une étape de dépôt d'au moins une couche organique électroluminescente sur la face de la couche de matériau d'indice de réfraction ni comportant les creux et sur le matériau d'indice de 10 réfraction n2. Le procédé peut comporter, après l'étape de dépôt de la couche organique électroluminescente, une étape de réalisation d'une couche à base d'un matériau électriquement conducteur et semi-transparent sur la 15 couche organique électroluminescente. BRÈVE DESCRIPTION DES DESSINS La présente invention sera mieux comprise à la lecture de la description d'exemples de réalisation donnés à titre purement indicatif et nullement 20 limitatif en faisant référence aux dessins annexés sur lesquels : - la figure 1 représente un dispositif émissif lumineux de type OLED, objet de la présente invention, selon un premier mode de réalisation ; 25 - les figures 2A et 2B représentent des exemples de réalisation d'une électrode de dispositif émissif lumineux de type OLED, également objet de la présente invention ; - la figure 3 représente des résultats de 30 simulation d'émission lumineuse par un dispositif 2909223 12 émissif lumineux de type OLED, objet de la présente invention ; - la figure 4 représente un dispositif émissif lumineux de type OLED, objet de la présente 5 invention, selon un second mode de réalisation. Des parties identiques, similaires ou équivalentes des différentes figures décrites ci-après portent les mêmes références numériques de façon à faciliter le passage d'une figure à l'autre. 10 Les différentes parties représentées sur les figures ne le sont pas nécessairement selon une échelle uniforme, pour rendre les figures plus lisibles. Les différentes possibilités (variantes et 15 modes de réalisation) doivent être comprises comme n'étant pas exclusives les unes des autres et peuvent se combiner entre elles. EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS On se réfère tout d'abord à la figure 1 qui 20 représente un dispositif émissif lumineux de type OLED 100 selon un premier mode de réalisation. Le dispositif 100 comporte un empilement de couches organiques électroluminescentes 102, disposé entre une matrice d'électrodes 104, appelées anodes, et 25 une électrode 106, appelée cathode, commune à tout le dispositif 100. Sur la figure 1, seules deux anodes 104a, 104b, sont représentées. Le dispositif 100 comporte également un substrat 108, par exemple à base de silicium, comprenant une matrice active de 30 transistors 107, ou matrice TFT, en contact avec la 2909223 13 matrice d'anodes 104. Chaque transistor 107 permet de piloter individuellement l'émission de lumière de chaque pixel du dispositif 100 formé par une anode 104 et une portion de la cathode 104 et de l'empilement de 5 couches organiques 102 se trouvant au niveau de l'anode 104 en faisant circuler un courant entre l'anode 104 et la cathode 106 à travers les couches organiques 102. Dans ce premier mode de réalisation, la lumière est émise du dispositif 100 depuis la cathode 106. 10 Cette cathode 106 est part:_ellement réfléchissante. Par exemple, la cathode 106 peut avoir un taux de réflexion compris entre environ quelques % et quelques dizaines de par exemple égal à environ 10 Les anodes 104 sont réfléchissantes, par exemple 15 avec un taux de réflexion supérieur à environ 50 avantageusement supérieur à 80 voir supérieur à 90 et ainsi chacune des anodes 104 forme, avec une portion de l'empilement des couches organiques électroluminescentes 102 et de la cathode 106 se 20 trouvant au-dessus de l'anode 104, une cavité optique 105 correspondant à un pixel du dispositif 100. Sur la figure 1, seules deux cavités optiques 105a et 105b, formées par l'empilement de couches organiques 102, la cathode 106 et les anodes 104a et 104b sont 25 représentées. Les anodes 104 et la cathode 106 sont réalisées à base d'un matériau métallique, par exemple à base d'aluminium, et/ou d'argent, et/ou d'or, et/ou de chrome, et/ou de titane et/ou d'un alliage réalisé à partir de ces métaux. 30 Des motifs formant des creux 110 sont gravés dans les anodes 104, au niveau d'une face des 2909223 14 anodes 104 se trouvant du côté des cavités optiques 105. Ces creux 110 sont remplis avec un matériau 112 d'indice de réfraction n2 différent de l'indice de réfraction ni du matériau formant les anodes 104. Ce 5 matériau 112 peut être un matériau diélectrique ou conducteur, transparent ou semi transparent, tel que par exemple à base de résines photo-polymérisables, et/ou de polymère comme le polyethilènedioxyohiophene (PEDOT), et/ou d'ITO, et/ou d'oxyde de silicium et/ou 10 encore de nitrure de silicium. Les figures 2A et 2B représentent deux exemples de creux 110 réalisés dans une anode 104. Sur la figure 2A, les creux 110 réalisés ont une section rectangulaire, alors que les creux 110 représentées sur 15 la figure 2B ont une section circulaire. Les creux 110 peuvent également être réalisés selon un motif différent de ceux représentés sur les figures 2A et 2B. Les dimensions des creux 110 sont ici inférieures à la longueur d'onde d'émission des couches 20 organiques 102 de manière à former une couche homogène vis-à-vis de la lumière émise par les couches organiques 102. Par exemple, les dimensions de la section des creux 110 (le diamètre sur l'exemple de la figure 2B et les côtés sur l'exemple de la figure 2A) 25 peuvent être comprises entre environ 10 nm et 400 nm. La profondeur des creux réalisés est en rapport avec l'écart entre les indices de réfraction ni et n2. Cette profondeur est par exemple comprise entre environ 10 nm et quelques centaines de nanomètres. Par exemple, cette 30 profondeur est proche d'environ 10 nm s'il existe une grande différence entre les indices ni et n2. Cette 2909223 15 profondeur est par contre de l'ordre d'une ou olusieurs centaines de nanomètres si la différence entre les indices de réfraction ni et n2 est faible. Sur une même anode 104, les creux 110 sont par exemple répartis de 5 manière régulière suivant une période inférieure à la longueur d'onde d'émission des couche organiques, c'est à dire comprise entre environ 30 nm et 400 r.m. Cette période représente par exemple la distance séparant les centres de deux creux 110 se trouvant l'un à côté de 10 l'autre. Ainsi, en fonction des caractéristiques des motifs réalisés (dimensions, profondeurs, formes et espacements des creux 110), des indices de réfraction ni et n2 des matériaux formant les anodes 104 et 15 remplissant les creux 110 ainsi que du taux de réflexion de la cathode 106 et des anodes 104, il est possible de définir précisément la fréquence de résonance de chaque cavité optique 105. Sur l'exemple de la figure 1, les cireux 110 20 réalisés dans l'anode 104a n'ont pas les mêmes dimensions que les creux 110 réalisés dans l'anode 104b. De plus, la période de répétition du motif des creux 110 de l'anode 104a est différente de celle de l'anode 104b. Il est également possible que les creux 25 110 aient des profondeurs différentes d'un pixel à l'autre. Pour cela, il n'est pas nécessaire de réaliser plusieurs niveaux de gravure car la vitesse de gravure peut être différente d'un pixel à l'autre en fonction des dimensions des motifs et donc, il est possible 30 d'obtenir des creux de profondeurs différentes d'un pixel à l'autre avec un seul niveau de gravure. Donc, 2909223 16 lorsque les couches organiques 102 émettent de la lumière, le filtrage réalisé dans la cavité optique 105a du dispositif 100 est différent de celui réalisé dans la cavité optique 105b. On obtient alors, au 5 niveau de la cavité optique 105a, une émission lumineuse selon un longueur d'onde différente de l'émission lumineuse réalisée au niveau de la cavité optique 105b, ces deux pixels du dispositif 100 émettant donc une lumière de couleur différente. 10 Dans une variante de ce premier mode de réalisation, il est possible de ne pas remplir les creux 110 par le matériau 112, mais de déposer directement les couches organiques 102 sur les anodes 104 pour que le matériau des couches organiques 102 . 15 remplisse les creux 110. L'indice de réfraction n2 désigne alors l'indice de réfraction du matériau organique des couches 102. Sur la figure 1, les deux anodes 104a, 104b sont isolées électriquement l'une de l'autre par une 20 portion de matériau diélectrique 109, par exemple à base de silice, disposée sur le substrat 108. La figure 3 représente des simulations d'émission lumineuse de trois pixels du dispositif 100. Les anodes 104 de ces pixels comportent des creux 110 25 disposés selon un réseau de période constante et égale à environ 300 nm et de profondeur égale à environ 80 nm, remplis avec un matériau 112 d'indice de réfraction n2 sensiblement similaire à l'indice de réfraction des couches organiques 102, par exemple 1,7. 30 La cathode 106 a par exemple une épaisseur égale à environ 20 nm, l'ensemble des couches organiques 102 2909223 17 une épaisseur égale à environ 100 nm, et les anodes 104 une épaisseur égale à environ 300 nm. L'électroluminescence obtenue peut être modélisée par l'oscillation d'un dipôle électrique au milieu de 5 chaque cavité optique. Ce dipôle est orienté suivant le plan des couches organiques 102 et son spectre d'émission, lorsqu'il n'est pas dans une cavité optique, est très large et quasiment homogène sur la plage de longueur d'onde d'environ 400 nm à 800 nm. 10 La courbe 10 représente le spectre d'émission obtenu en sortie du dispositif 100 par la cathode 106 pour des creux 110, de section carrée, dont la dimension d des côtés est égale à environ 50 nm. On voit que ce spectre d'émission est centré autour d'une 15 longueur d'onde proche de 450 nm, c'est-à--dire de couleur bleu. La courbe 12 représente le spectre d'émission obtenu pour une dimension d des côtés de la section carrée des creux 110 égale à environ 150 nm. Ce spectre d'émission est centré autour d'une longueur 20 d'onde proche d'environ 525 nm, c'est-à-dire de couleur verte. Enfin, la courbe 14 représente le spectre d'émission obtenu pour une dimension d des côtés de la section carrée des creux 110 égale à environ 250 nm. Ce spectre d'émission est centré autour d'une longueur 25 d'onde proche d'environ 600 nm, c'est-à-dire de couleur rouge. Les coordonnées CIE (norme 1964) de ces courbes 10, 12 et 14 sont respectivement (0,16 ; 0,074), (0,27 ; 0,64) et (0,58 ; 0,39). On voit donc qu'en modifiant simplement les dimensions des creux, on 30 obtient une émission lumineuse pouvant couvrir la gamme des longueurs d'ondes du spectre visible. 2909223 18 Le dispositif 100 peut être obtenu en réalisant la matrice d'anodes 104 par pulvérisation ou évaporation sur le substrat 108 comportant la matrice active de transistors 107. Les creux 110 sont. ensuite 5 réalisés par exemple par photolithogravure. Pour déposer le matériau 112 d'indice de réfraction n2 dans les creux 110, des techniques de dépôt par centrifugation (ou spin coating en anglais) peuvent être mises en oeuvre si ce matériau 112 est à base de 10 résine ou de PEDOT. Si ce matériau 112 est à base d'ITO, d'oxyde de silicium ou de nitrure de silicium, on peut mettre en oeuvre des techniques de dépôt CVD ou de pulvérisation. Après le dépôt du matériau 112, on réalise une planarisation mécano-chimique afin 15 d'obtenir une couche de matériau 112 ne dépassant pas des creux 110. D'autres techniques peuvent être utilisées pour déposer le matériau 112 dans les creux 110. On peut réaliser l'isolation électrique 20 entre les anodes 104 par une gravure de tranchées entre les différents pixels, puis un dépôt de silice, par exemple par dépôt CVD, puis d'une étape de planarisation mécano-chimique afin de former la portion de silice 109 telle que celle-ci soit environ à la même 25 hauteur que les anodes 104. Les couches organiques électroluminescentes 102 peuvent être déposées par des techniques d'évaporation sous vide ou spin coating . La cathode 106 est finalement déposée sur 30 les couches organiques 102 par évaporation sous vide. 2909223 19 On se réfère maintenant à la figure 4 qui représente un dispositif émissif lumineux de type OLED 200 selon un seconde mode de réalisation. Le dispositif 200 comporte le substrat 108 5 comprenant la matrice active de transistor 107, l'empilement de couches organiques électroluminescentes 102, le matériau de remplissage d'indice de réfraction n2, la portion isolante 109 et la cathode 106 par exemple similaires aux éléments correspondants du 10 dispositif 100 de la figure 1. Le dispositif 200 comporte également une matrice d'anodes 204 disposéesur le substrat 108. Contrairement aux anodes 104 de la figure 1, les anodes 204 comportent chacune ur.e couche 207, disposée sur le substrat 108, à base d'un matériau 15 électriquement conducteur par exemple similaire . au matériau des anodes 104 de la figure 1. Chaque anode 204 comporte également une couche 208 à base d'un matériau d'indice de réfraction ni disposée sur la couche conductrice 207. Des motifs 20 formant des creux 210 sont gravés dans les couches 208, au niveau d'une face se trouvant du côté de cavités optiques 205 formées par les anodes 204, les couches organiques 102 et la cathode 106. Ces creux 210 sont remplis avec le matériau 112. L'indice de réfraction ni 25 des couches gravées 208 est différent de l'indice de réfraction n2 du matériau 112. Par rapport au premier mode de réalisation, la structure à double couches des anodes 204 permet de combiner le matériau de remplissage 112 d'indice de réfraction n2 avec un choix 30 plus vaste de matériaux, le matériau d'indice de réfraction ni pouvant être conducteur ou non, ainsi que 2909223 20 de profiter de gravure sélective, facilitant le contrôle de gravure. Les couches 208 peuvent être à base de matériaux à changements de phase (présentant un comportement métallique à l'état cristallin et 5 diélectrique à l'état amorphe), par exemple à base de matériaux chalcogénures, tel que de l'antimoniure d'indium. Les couches 208 peuvent également être à base d'un matériau isolant. Une couche 214 électriquement conductrice 10 et optiquement transparente ou partiellement transparente, par exemple à base d'ITO, est disposée entre les couches 208 et l'empilement de couches organiques électroluminescentes 102, sur les anodes 204, entre les portions isolantes 109, homogénéisant la 15 conduction électrique au niveau de .chaque pixel. On voit sur la figure 4 que la portion de la couche 214 disposée sur l'anode 204a n'est pas en contact avec la portion de la couche 214 disposée sur l'anode 204b, afin d'isoler électriquement les pixel les uns des 20 autres. Le matériau des couches 208 et/ou le matériau de remplissage 112 peut être électriquement conducteur, les anodes 204 étant alors reliées électriquement à la couche conductrice 214. Toutefois, 25 ces matériaux peuvent ne pas être électriquement conducteur. Dans ce cas, le dispositif 200 peut comporter une portion de matériau électriquement conducteur, non représenté sur la figure 4, pouvant traverser les couches 208 d'indice de réfraction ni et 30 éventuellement le matériau d'indice de réfraction 2909223 21 n2 112, et reliant électriquement les anodes 204 à la couche conductrice 214. Dans une variante des premier et second modes de réalisation, il est possible que l'électrode 5 structurée d'une cavité optique ne soit pas disposée contre le substrat, mais soit disposée au-dessus des couches organiques électroluminescentes, c'est-à-dire du côté de la cathode. Dans une autre variante des premier et 10 second modes de réalisation, les deux électrodes, anode et cathode, d'une cavité optique peuve:lt être structurées. Le paramétrage de la résonance des cavités optiques se fait alors au niveau des creux réalisés dans les deux électrodes. 15 Le dispositif émissif lumineux est particulièrement adapté pour la réalisation d'un micro-afficheur de type OLED. Il peut également être utilisé pour d'autres applications, par exemple pour la réalisation d'un imageur multicolore ou d'un 20 spectrophotomètre. L'invention s'applique à toute les technologies d'électroluminescence organique, telle que par exemple les dispositifs émissif lumineux de type PHOLED ( Phosphorescent OLED en anglais) ou PLED 25 ( Polymer Light Emitting Diode en anglais). REVENDICATIONS 1. Electrode (104, 204) de dispositif émissif lumineux de type OLED (100, 200) adaptée pour former, avec une seconde électrode (106), une cavité optique (105, 205), comportant au moins une couche (104, 208) à base d'un matériau d'indice de réfraction ni dont une face structurée, destinée à être disposée du côté de la cavité optique (105, 205), comprend une pluralité de creux (110, 210) remplis d'un matériau (102, 112) d'indice de réfraction n2 différent de n1. 2. Electrode (104, 204) selon la revendication 1, les creux (110, 210) étant répartis régulièrement sur la face structurée e-:/ou de dimensions sensiblement similaires. 3. Electrode (104, 204) selon l'une des revendications précédentes, les creux (110, 210) ayant une profondeur dans la couche (104, 208) d'indice de réfraction ni comprise entre environ 10 nm et quelques centaines de nm. 4. Electrode (104, 204) selon l'une des revendications précédentes, le matériau (104, 208) d'indice de réfraction ni et/ou le matériau (102, 112) d'indice de réfraction n2 étant électriquement conducteur. 5. Electrode (204) selon l'une des revendications précédentes, comportant en outre au 2909223 23 moins une couche inférieure (207), à base d'au moins un matériau électriquement conducteur, tel un matériau métallique, disposée contre la face opposée à la face structurée de la couche (208) d'indice de réfraction 5 n1. 6. Electrode (204) selon la revendication 5, comportant en outre au moins une portion de matériau électriquement conducteur reliant la couche inférieure 10 (207) à la face structurée. 7. Electrode (204) selon l'une des revendications précédentes, comportant en outre une couche supérieure (214) à base d'au moins un matériau . 15 électriquement conducteur et optiquement transparent ou partiellement transparent, tel que l'ITO, disposée contre la face structurée de la couche (208) d'indice de réfraction n1. 8. Electrode (104, 204) selon l'une des revendications précédentes, le matériau (1C2, 112) d'indice de réfraction n2 étant transparent ou partiellement transparent. 9. Dispositif émissif lumineux de type OLED (100, 200) comportant au moins une cavité optique (105, 205), chaque cavité optique (105, 205) étant formée par au moins une partie d'une couche (102) à base d'un matériau organique électroluminescent 30 disposée entre deux électrodes (104, 204, 106), au moins l'une des deux électrodes (104, 204) étant une 20 25 2909223 24 électrode selon l'une des revendications précédentes, chaque cavité optique (105, 205) formant un pixel du dispositif émissif lumineux (100, 200). 5 10. Dispositif (100) selon la revendication 9, le matériau (102) d'indice de réfraction n2 remplissant les creux (110) de la face structurée de l'électrode (104) étant le matériau organique électroluminescent formant la couche (102) disposée 10 entre les deux électrodes (104, 106). 11. Dispositif (100, 200) selon la revendication 9, le matériau (112) d'indice de réfraction n2 remplissant les creux (110, 210) de la 15 face structurée de l'électrode (104, 204) étant un matériau distinct du matériau organique électroluminescent formant la couche (102) disposée entre les deux électrodes (104, 204, 106). 20 12. Dispositif (100, 200) selon l'une des revendications 9 à 11, les creux (110, 210) de la face structurée, au niveau de chaque cavité optique (105, 205), étant régulièrement répartis selon un motif de répétition de période inférieure à la longueur d'onde 25 d'émission du matériau organique électroluminescent (102). 13. Dispositif (100, 200) selon l'une des revendications 9 à 12, les dimensions des creux (110, 30 210) de la face structurée étant inférieures à la 2909223 25 longueur d'onde d'émission du matériau organique électroluminescent (102). 14. Dispositif (100, 200) selon l'une des 5 revendications 9 à 13, comportant en outre un substrat (108) sur lequel est disposé une des électrodes (104, 204) de chaque cavité optique (105, 205), cette électrode formant une anode (104, 204) du pixel défini par cette cavité optique (105, 205). 10 15. Dispositif (100, 200) selon la revendication 14, ladite électrode (104, 204) disposée sur le substrat (108) étant l'électrode selon ].'une des revendications 1 à 8 du dispositif émissif lumineux de 15 type OLED (100, 200). 16. Dispositif (100, 200) selon l'une des revendications 9 à 15, comportant une pluralité de cavités optiques (105, 205) formant une pluralité de 20 pixels du dispositif émissif lumineux de type OLED (100, 200). 17. Dispositif (100, 200) selon la revendication 16, les creux (110, 210) de chaque 25 électrode (104, 204) ayant des dimensions e-=/ou une période différentes d'un pixel à l'autre. 18. Dispositif (100, 200) selon l'une des revendications 16 ou 17, les anodes (104, 204) des 30 différents pixels étant électriquement isolées les unes des autres. 2909223 26 19. Dispositif (100, 200) selon l'une des revendications 16 à 18, les électrodes (106) de chaque cavité optique (105, 205) qui ne sont pas disposées sur le substrat (108) étant formées par une seule électrode 5 commune à toutes les cavités optiques (105, 205), cette électrode commune étant l.a cathode (106) des pixels du dispositif émissif lumineux (100, 200). 20. Dispositif (100, 200) selon l'une des 10 revendications 16 à 19, le substrat (108) comportant une matrice de transistors (107) en contact avec les anodes (104, 204), chacun des pixel étant piloté par un transistor (107) de cette matrice par l'intermédiaire des anodes (104, 204). 15 21. Procédé de réalisation d'un dispositif émissif lumineux de type OLED (100, 200), comportant au moins les étapes de : a) dépôt d'une couche (104, 208) à base 20 d'un matériau d'indice de réfraction ni sur un substrat (108), b) gravure d'une pluralité de creux (110, 210) dans une face de la couche opposée à la face en contact avec le substrat (108), 25 c) dépôt d'un matériau (102, 112) d'indice de réfraction n2, différent de nl, dans les creux. 22. Procédé selon la revendication 21, comportant en outre, avant l'étape a), une étape de 30 dépôt d'une couche inférieure (207) à base d'au moins un matériau électriquement conducteur, la couche (208) 2909223 27 à base du matériau d'indice de réfraction ni n'étant pas, à l'étape a), déposée directement sur le substrat (108) mais sur la couche inférieure (207). 5 23. Procédé selon l'une des revendications 21 ou 22, comportant en outre, après l'étape c), une étape de réalisation d'une portion de matériau électriquement conducteur reliant la couche inférieure (207) à la face comportant la pluralité de creux (210). 10 24. Procédé selon l'une des revendications 21 à 23, comportant en outre, après l'étape c), une étape de dépôt d'une couche supérieure (214) à base d'un matériau électriquement conducteur sur la face de 15 la couche (208) de matériau d'indice. de réfraction ni comportant les creux (210). 25. Procédé selon l'une des revendications 21 à 24, l'étape c) étant une étape de dépôt d'au moins 20 une couche organique électroluminescente (102 sur la face de la couche (104) de matériau d'indice de réfraction ni comportant les creux (110), cette couche organique électroluminescente (102) étant à base du matériau d'indice de réfraction n2. 25 26. Procédé selon l'une des revendications 21 à 24, comportant, après l'étape c), une étape de dépôt d'au moins une couche organique électroluminescente (102) sur la face de la couche 30 (104, 208) de matériau d'indice de réfraction ni 2909223 28 comportant les creux (110, 210) et sur le matériau d'indice de réfraction n2 (112) 27. Procédé selon la revendication 26, 5 comportant, après l'étape de dépôt de la couche organique électroluminescente (102), une étape de réalisation d'une couche (214) à base d'un matériau électriquement conducteur et semi-transparent sur la couche organique électroluminescente (102).