FR 2901033 A1 20071116 FR 0611523 A 20061229 DISPOSITIF D'AFFICHAGE A CRISTAUX LIQUIDES ET SON PROCEDE DE FABRICATION La présente invention concerne un dispositif d'affichage à cristaux liquides. Jusqu'à récemment, des dispositifs d'affichage ont habituellement utilisé des tubes à rayons cathodiques (CRT). Actuellement, beaucoup d'efforts ont été consentis pour développer divers types d'affichages à panneau plat, tels que des dispositifs d'affichage à cristaux liquides (LCD), des panneaux d'affichage à plasma (PDP), des affichages à émission de champ, et des affichages à électroluminescence (ELD), en tant que remplaçants des dispositifs CRT. Parmi ces différents types d'affichages à panneau plat, les dispositifs LCD présentent de nombreux avantages, tels qu'une résolution élevée, un poids léger, un profil mince, une taille compacte et de faibles exigences en puissance. En général, un dispositif LCD comporte deux substrats qui sont écartés et se font face entre eux, une couche de cristaux liquides étant intercalée entre les deux substrats. Les deux substrats comportent des électrodes qui se font face entre elles de telle manière qu'une tension appliquée entre les électrodes induise un champ électrique d'un côté à l'autre de la couche de cristaux liquides. Un alignement des molécu- les de cristal liquide dans la couche de cristaux liquides change conformément à l'intensité du champ électrique induit afin de les aligner avec la direction du champ électrique induit, ce qui change de ce fait la transmissivité lumineuse du dispositif LCD. Ainsi, le dispositif LCD affiche des images en faisant varier l'intensité du champ électrique induit dans des régions de pixels respectives qui comportent le dispositif LCD. Actuellement, on a besoin d'un large angle de visionnement pour des dispositifs LCD. Un dispositif LCD à mode à alignement vertical (VA) dispose de ces caractéristiques. Le dispositif LCD à mode VA utilise des molécules de cristal liquide ayant une anisotropie diélectrique négative et une couche d'alignement frottée verticalement. La figure 1 est une vue en coupe transversale illustrant un dispositif LCD à mode VA selon la technique apparentée et la figure 2 est une vue en coupe transversale illustrant un alignement de molécules de cristal liquide de la figure 1. En se référant à la figure 1, un dispositif LCD à mode VA 60 comporte un substrat de réseau 131, un substrat de filtres chromatiques B2 et une couche de cristaux liquides 14 entre les deux substrats. Le substrat de réseau BI comporte des lignes de grille et de données (non représentées) qui se croisent entre elles afin de définir une région de pixels P et un transistor en couches minces T qui est raccordé aux lignes de grille et de données, sur 11HIRS(H6 BRE\"ETS'Brevets'61001,'61 7 5-061 226-tradDEPOTFR duc-'8 décembre 200e -114 un premier substrat 32. Le transistor en couches minces T comporte une électrode de grille 30, une couche semiùconductrice 34 et des électrodes source et drain 36 et 38. Une électrode de pixel 46 est disposée dans la région de pixels P et raccordée à l'électrode drain 38. Une couche d'isolation de grille 32 est disposée sur l'électrode de grille 30. Une couche de passivation 40 est disposée sur les électrodes source et drain 36 et 38. Le substrat de filtre chromatique B2 comporte une matrice noire 52 et une couche de filtres chromatiques sur un second substrat 50. La couche de filtres chromatiques comporte des motifs de filtres colorés rouge (R), vert (G) et bleu (B) 54a, 54b et 54c dans Ies régions de pixels P correspondantes. Une électrode commune 56 est disposée sur la couche de filtres chromatiques. Une nervure 58 est disposée sur l'électrode commune 56. L'angle de visionnement large est obtenu au moyen de la nervure 58. En se référant à la figure 2, lorsqu'un champ électrique est induit par les tensions appliquées aux électrodes de pixel 46 et commune 56, le champ électrique près de la nervure 58 est déformé à cause de la nervure 58. Le champ électrique déformé est symétrique par rapport à la nervure 58. Les molécules de cristal liquide 70 sont également agencées symétriquement par rapport à la nervure 58, et les premier et second domaines Dl et D2 sont formés symétriquement par rapport à la nervure 58. Par conséquent, une lumière traversant les premier et second domaines Dl et D2 est compensée, ainsi un décalage de couleurs est réduit et un angle de visionnement est élargi. Les figures 3A et 3B sont des vues en coupe transversale illustrant un procédé de fabrication du substrat de filtres chromatiques de la figure 1. En se référant à la figure 3A, une matrice noire 52 est formée sur un substrat 50 à l'aide d'un processus de masquage. La matrice noire 52 a une ouverture correspondant à une région de pixels P. Des motifs de filtres chromatiques rouge, vert et bleu 54a, 54b et 54c sont formés dans les régions de pixels P correspondantes à l'aide des processus de masquage correspondants. En se référant à la figure 3B, une électrode commune 56 est formée sur les motifs de filtres chromatiques 54a, 54b et 54c. Une nervure 58 est formée sur l'électrode commune 56 à l'aide d'un processus de masquage. Par l'intermédiaire des processus ci--dessus, le substrat de filtres chromatiques est fabriqué au moyen de cinq masques pour la matrice noire, les motifs de filtres 35 chromatiques rouge, vert et bleu et la nervure. Dans la mesure où l'électrode commune est formée directement sur les motifs de filtres chromatiques, l'électrode commune a des portions étagées réfléchissant des portions étagées des motifs de filtres chromatiques. Par conséquent, lorsqu'une I1IRSCHti,6RFVETS`Brece1s,26100,2617 ±061226-tradDEPOTFR duc - decemhre 2_00 214 3 couche d'alignement (non représentée) est formée sur l'électrode commune et frottée, cela provoque l'apparition de défauts près des portions étagées. En outre, un écart de cellule entre le substrat de réseau et le substrat de filtres chromatiques n'est pas uni-forme à cause des portions étagées, et ainsi, une marge de remplissage du cristal liquide entre les deux substrats est difficile à garantir. En outre, l'électrode commune est faite d'oxyde d'indium et d'étain ayant un état amorphe et a une épaisseur de l'ordre de quelques angstrôms. Par conséquent, des pigments des motifs de filtres chromatiques peuvent s'écouler à l'extérieur à travers l'électrode commune 56 et, ainsi, le cristal liquide est contaminé par les pigments qui s'écoulent à l'extérieur. Par conséquent, la présente invention propose un dispositif d'affichage à cristaux liquides qui pare sensiblement à un ou plusieurs des problèmes dus à des limitations et désavantages de la technique apparentée. Un avantage de la présente invention est qu'elle prévoit le remplissage appro- prié d'un dispositif d'affichage à cristaux liquides avec un cristal liquide. Pour parvenir à ces avantages et d'autres et conformément au but de la présente invention, un dispositif d'affichage à cristaux liquides comporte un premier substrat et un second substrat se faisant face entre eux disposant d'une région de pixels ; une couche de filtres chromatiques sur le premier substrat correspondant à la région de pixels ; une couche d'aplanissement sur la couche de filtres chromatiques ayant une rainure ; une électrode commune sur la couche d'aplanissement ; une électrode de pixel sur le second substrat ; et une couche de cristaux liquides entre l'électrode commune et l'électrode de pixel. Selon un mode de réalisation, la couche d'aplanissement est directement au 25 contact de la couche de filtres chromatiques. Selon un autre mode de réalisation, la rainure a une forme circulaire dans un plan horizontal. Selon un autre mode de réalisation, la rainure a une forme semiùcirculaire dans une coupe transversale verticale. 30 De préférence, le dispositif comporte en outre une matrice noire entre des régions de pixels adjacentes. Selon un mode de réalisation, la couche de filtres chromatiques chevauche la matrice noire et a une portion étagée au niveau d'une position de chevauchement. De préférence, une surface supérieure de la couche d'aplanissement est sensi-35 blement régulière à l'exception d'une zone où la rainure est disposée. De préférence. le dispositif comporte en outre des lignes de grille et de données se croisant entre elles et un transistor en couches minces raccordé aux lignes de grille et de données et l'électrode de pixel sur le second substrat. HIRSCH6 BREVETS Rrecers 26100 _6I'S-061226-Ir dDEPOTFR doc- 28 décembre 2006 - 3.14 Dans un autre aspect de l'invention, un procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage à cristaux liquides comprend les étapes consistant à former une couche de filtres chromatiques sur un premier substrat correspondant à une région de pixels ; former une couche d'aplanissement sur la couche de filtres chromatiques ayant une rainure ; former une électrode commune sur la couche d'aplanissement ; former une électrode de pixel sur un second substrat ; et attacher les premier et second substrats, dans lesquels une couche de cristaux liquides est intercalée entre l'électrode commune et l'électrode de pixel. Selon un mode de réalisation, la couche d'aplanissement est directement au 10 contact de la couche de filtres chromatiques. Selon un autre mode de réalisation, la rainure a une forme circulaire dans un plan horizontal. Selon un autre mode de réalisation du procédé, la rainure a une forme semiûcirculaire dans une coupe transversale verticale. 15 Le procédé peut comprendre en outre l'étape consistant à former une matrice noire entre des régions de pixels adjacentes. Selon un autre mode de réalisation du procédé, la couche de filtres chromatiques chevauche la matrice noire et a une portion étagée au niveau d'une position de chevauchement. 20 De préférence, une surface supérieure de la couche d'aplanissement est sensiblement régulière à l'exception d'une zone où la rainure est disposée. Le procédé comprend de préférence les étapes consistant à former des lignes de grille et de données se croisant entre elles et un transistor en couches minces raccordé aux lignes de grille et de données et l'électrode de pixel sur le second 25 substrat . Dans un autre aspect, de l'invention, un dispositif d'affichage à cristaux liquides comporte un premier substrat et un second substrat se faisant face entre eux et ayant une région de pixels ; une couche de filtres chromatiques sur le premier substrat et correspondant à la région de pixels, la couche de filtres chromatiques ayant une 30 portion étagée ; une couche d'aplanissement directement sur la couche de filtres chromatiques ayant une rainure ; une électrode commune sur la couche d'aplanissement ; une électrode de pixel sur le second substrat ; et une couche de cristaux liquides entre l'électrode commune et l'électrode de pixel. De préférence, une surface supérieure de la couche d'aplanissement est sensi- 35 blement régulière à l'exception d'une position où la rainure est disposée. Selon un mode de réalisation, la rainure a une forme circulaire dans un plan horizontal. MRSCI 6 BREVETS Bresets 76100261'5-061226-tradDEPOTFR dec - 28 décembre 2006 - 4:14 Selon un autre mode de réalisation, la rainure a une forme semiûcirculaire dans une coupe transversale verticale. On comprendra qu'à la fois la description générale précédente et la description détaillée qui suit d'un ou plusieurs modes de réalisation de la présente invention sont 5 exemplaires et explicatives de l'invention. La description qui suit d'un ou plusieurs modes de réalisation donnés à titre d'exemples non limitatifs, est faite en référence aux dessins annexés dans lesquels : la figure 1 est une vue en coupe transversale illustrant un dispositif LCD à mode VA selon la technique apparentée ; 10 la figure 2 est une vue en coupe transversale illustrant un alignement de molécules de cristal liquide de la figure 1 ; les figures 3A et 3B sont des vues en coupe transversale illustrant un procédé de fabrication du substrat de filtres chromatiques de la figure 1 ; la figure 4 est une vue en plan illustrant un dispositif LCD à mode VA selon un 15 mode de réalisation exemplaire de la présente invention ; les figures 5 et 6 sont des vues en coupe transversale réalisées respectivement le long de lignes V à v et VI à VI de la figure 4. La figure 7 est une vue en coupe transversale illustrant un alignement de molécules de cristal liquide selon le mode de réalisation exemplaire de la présente inven-20 tion ; les figures 8A à 8D sont des vues en coupe transversale illustrant un procédé de fabrication d'un substrat de filtres chromatiques selon le mode de réalisation exemplaire de la présente invention ; et les figures 9A à 9E et IOA à 10E sont des vues en coupe transversale, réalisées 25 le long de lignes V à v et VI à VI de la figure 4, illustrant un procédé de fabrication d'un substrat de réseau selon le mode de réalisation exemplaire de la présente invention. Il va maintenant être décrit en détail un ou plusieurs modes de réalisation préférés de la présente invention, dont des exemples sont illustrés sur les dessins 30 joints. La figure 4 est une vue en plan illustrant un dispositif LCD à mode VA selon un mode de réalisation exemplaire de la présente invention. Comme illustré sur la figure 4, un substrat de réseau BI du dispositif LCD à mode VA comporte une ligne de grille 104 et une ligne de données 116 se croisant entre elles afin de définir une région de pixels P et un transistor en couches minces T raccordés aux lignes de grille et de données 104 et 116 sur un substrat 100. IIIRSCH6BRFVETS`Rreret,26100.26I25-061226-tradDFPOTFR dcc - 28 décembre 2006 - 5.14 Le transistor en couches minces T comporte une électrode de grille 102, une couche semiûconductrice 108 et des électrodes source et drain 112 et 114. Une électrode de pixel 122 est raccordée à l'électrode drain 114. Un substrat de filtres chromatiques faisant face au substrat de réseau BI comporte au moins une rainure 208 dans la région de pixels P. La rainure 208 est formée dans une couche d'aplanissement. En formant la rainure 208, on agence symétriquement des molécules de cristal liquide par rapport à la rainure 208. La rainure 208 peut avoir une forme circulaire dans un plan horizontal. Les figures 5 et 6 sont des vues en coupe transversale réalisées respectivement 10 le long de lignes V à v et VI à VI de la figure 4. En se référant aux figures 5 et 6, un substrat de réseau BI et un substrat de filtres chromatiques 132 se font face entre eux et une couche de cristaux liquides 250 est intercalée entre le substrat de réseau BI et le substrat de filtres chromatiques B2. Une ligne de données 116 croise une ligne de grille (104 sur la figure 4) afin de 15 définir une région de pixels P sur un premier substrat 100. Un transistor en couches minces T est dans une région de commutation S. Une électrode de pixel 122 est dans la région de pixels P. Une matrice noire 202 est sur un second substrat 200. La matrice noire 202 a une ouverture correspondant à la région de pixels P. La matrice noire 202 correspond 20 à la ligne de grille, la ligne de données 116 et le transistor en couches minces T. Une couche de filtres chromatiques comporte des motifs de filtres chromatiques rouge, vert et bleu 204a, 204b et 204e, correspondant aux régions de pixels P respectives. Une couche d'aplanissement 206 est sur la couche de filtres chromatiques afin d'aplanir le substrat de filtres chromatiques B2 ayant la couche de filtres chromati- 25 ques. La couche d'aplanissement 206 comporte une rainure 208. Une surface supérieure de la couche d'aplanissement 206 est sensiblement plate à l'exception de portions où la rainure 208 est formée. Une électrode commune 210 est sur la couche d'aplanissement 206. Dans la mesure où la couche d'aplanissement 206 est formée sur la couche de filtres chroma- 30 tiques, l'électrode commune 210 est sensiblement régulière à l'exception de portions où la rainure 208 est formée. Lorsqu'un champ électrique est induit entre les électrodes de pixel 122 et commune 210, le champ électrique près de la rainure 208 est déformé par rapport à la rainure 208. Par conséquent, le champ électrique est produit symétriquement par 35 rapport à la rainure 208. La figure 7 est une vue en coupe transversale illustrant un alignement de molécules de cristal liquide selon le mode de réalisation exemplaire de la présente inven- ,HJRSCH641RE VETS Brevets 26100201 -061220tradDEPOTFR doc - 28 décembre 2006 - 6 14 tion. Sur la figure 7, une couche d'aplanissement 206 est représentée sur un substrat 200. En se référant à la figure 7, lorsqu'un champ électrique est induit, le champ électrique près de la rainure 208 est déformé à cause de la rainure 208. Le champ électrique est symétrique par rapport à la rainure 208. Les molécules de cristal liquide 300 sont également agencées symétriquement par rapport à la rainure 208 et des premier et second domaines D1 et D2 symétriques sont formés par rapport à la rainure 208. Par conséquent, une lumière traversant les premier et second domaines Dl et D2 est compensée, ainsi, un décalage de couleurs peut être réduit et un angle de visionnement peut être élargi, de manière similaire à la technique apparentée utili- sant la nervure. En outre, dans la mesure où la couche d'aplanissement 206 ayant la rainure 208 est formée sur la couche de filtres chromatiques, un écoulement de pigments à l'extérieur de la couche de filtres chromatiques peut être empêché. En outre, dans la mesure où le substrat de filtres chromatiques a sensiblement une surface régulière, un écart de cellule est sensiblement uniforme, et une marge de remplissage du cristal liquide entre les deux substrats peut être garantie. En outre, lorsqu'une couche d'alignement est formée sur l'électrode commune et frottée, l'apparition de défauts provoquée par des portions étagées peut être empêchée. Les figures 8A à 8C sont des vues en coupe transversale illustrant un procédé de fabrication d'un substrat de filtres chromatiques selon le mode de réalisation exemplaire de la présente invention. En se référant à la figure 8A, une matrice noire 202 est formée sur un substrat 200 à l'aide d'un processus de masquage. La matrice noire 202 peut comporter du chrome/de l'oxyde de chrome (Cr/CrO2). La matrice noire 202 correspond à une ligne de grille (104 sur la figure 4), une ligne de données (116 sur la figure 4) et un transistor en couches minces (T sur la figure 4). Des motifs de filtres chromatiques rouge, vert et bleu 204a, 204b et 204c sont formés séquentiellement sur le substrat 200 ayant la matrice noire 202 au moyen des processus de masquage. Par exemple, une résine de couleur rouge est enduite sur le substrat 200 et formée par reproduction de motifs afin de former le motif de filtre chromatique 204a dans une région de pixels P correspondante. De manière similaire, les motifs de filtres chromatiques vert et bleu 204b et 204c sont formés dans les régions de pixels P correspondantes. Les motifs de filtres chromatiques 204a, 204b et 204c peuvent chevaucher la matrice noire 202. En se référant à la figure 8B, une couche d'aplanissement 206 est formée sur les motifs de filtres chromatiques 204a, 204b et 204e. La couche d'aplanissement 206 peut comporter un matériau organique photosensible tel qu'une résine photoù HIRSCH6 BREVETS Brevts'b100',]6175-061226-tradDEPOTPR don - 28 décembre 2006 - 2 14 acrylique. Par exemple, un matériau organique photosensible de type négatif peut être utilisé. Un masque M est disposé auûdessus de la couche d'aplanissement 206. Le masque M a une portion de transmission BI et une portion de blocage B2. La portion de blocage B2 est disposée à l'endroit où une rainure doit être formée. La portion de blocage B2 peut avoir une forme circulaire dans un plan horizontal. Un processus d'exposition à une lumière est effectué à l'aide du masque M, ainsi, des portions de la couche d'aplanissement 206 correspondant à la portion de transmission BI sont exposées à une lumière et les autres portions correspondant à la portion de blocage B2 ne sont pas exposées à une lumière. Lorsque la couche d'aplanissement 206 est faite d'un matériau organique photosensible de type négatif, les portions exposées à une lumière restent et les autres portions non exposées à une lumière sont développées et éliminées. Par conséquent, les autres portions non exposées à une lumière sont éliminées par un processus de développement. La quantité (épaisseur) développée peut être ajustée selon la durée de développement. Par exem- pie, en ajustant la durée de développement, on élimine partiellement les autres portions correspondant à la portion de blocage B2. Par conséquent. en se référant à la figure 8C, une rainure 208 est formée. La rainure 208 peut avoir une forme semiùcirculaire dans une coupe transversale verticale. En se référant à la figure 8D, une électrode commune 210 est formée sur la couche d'aplanissement 206. L'électrode commune 210 peut comporter un matériau conducteur transparent tel que de l'oxyde d'indium et d'étain (ITO), de l'oxyde d'indium et de zinc (IZO) et de l'oxyde d'indium et d'étain et de zinc (ITZO). Bien que non représentée sur les dessins, une couche d'alignement est formée sur l'électrode commune 210 et frottée. Par l'intermédiaire des processus ciûdessus, le substrat de filtres chromatiques est fabriqué au moyen de cinq masques pour la matrice noire, les motifs de filtres chromatiques rouge, vert et bleu et la rainure. Même lorsque le substrat de filtres chromatiques est fabriqué au moyen des mêmes masques que ceux de la technique apparentée, des avantages, tels qu'expliqués ciùdessus, peuvent être obtenus. Les figures 9A à 9E et l0A à 10E sont des vues en coupe transversale réalisées le long de lignes V à v et VI à VI de la figure 4, illustrant un procédé de fabrication d'un substrat de réseau selon le mode de réalisation exemplaire de la présente invention. En se référant aux figures 9A et 10A, un matériau conducteur est déposé sur un substrat 100 et formé par reproduction de motifs à l'aide d'un masque afin de former une électrode de grille 102 et une ligne de grille (104 sur la figure 4). Le matériau conducteur peut comporter du chrome (Cr), du molybdène (Mo), du tungstène (W), de l'aluminium (Al), un alliage d'aluminium (AINd), du cuivre (Cu) et du titane (Ti). HIRSCH6,BREVET S. Brecets`_26100`.26175-061'6-trndFEPOTFR dor - 28 décembre 2006 - 8.'14 Une couche d'isolation de grille 106 est formée sur le substrat 100 ayant l'électrode de grille 102. En se référant aux figures 9B et 10B, une couche de silicium amorphe intrinsèque et une couche de silicium dopée par des impuretés sont formées séquentiellement sur la couche d'isolation de grille 106 et formées par reproduction de motifs à l'aide d'un masque afin de former une couche active 109 et une couche de contact ohmique 110. La couche active 109 et la couche de contact ohmique 110 forment une couche semiùconductrice (108 sur la figure 4). En se référant aux figures 9C et 10C, un matériau conducteur est déposé sur le substrat 100 ayant la couche semiùconductrice et formé par reproduction de motifs à l'aide d'un masque afin de former une ligne de données 116 et des électrodes source et drain 112 et 114. Le matériau conducteur peut comporter du chrome (Cr), du molybdène (Mo), du tungstène (W), de l'aluminium (Al), un alliage d'aluminium (AINd), du cuivre (Cu) et du titane (Ti). La ligne de données 116 croise la ligne de grille afin de définir une région de pixels. En se référant aux figures 9D et 10D, un matériau d'isolation organique est déposé sur le substrat 100 ayant la ligne de données 116 afin de former la couche de passivation 118. Le matériau d'isolation organique peut comporter du benzocyclobutène (BCB) et une résine acrylique. La couche de passivation 118 est formée par reproduction de motifs à l'aide d'un masque afin de former un trou de contact drain 120 exposant l'électrode drain 114. En se référant aux figures 9E et 10E, un matériau conducteur transparent est déposé sur la couche de passivation 118 et formé par reproduction de motifs à l'aide d'un masque afin de former une électrode de pixel 122. Le matériau conducteur transparent peut comporter de l'oxyde d'indium et d'étain (ITO), de l'oxyde d'indium et de zinc (IZO) et de l'oxyde d'indium et d'étain et de zinc (ITZO). L'électrode de pixel 122 est formée dans la région de pixels. Bien que non représentée sur les dessins, une couche d'alignement est formée sur le substrat 100 ayant l'électrode de pixel 122 et frottée. Par l'intermédiaire des processus ciùdessus, le substrat de réseau est fabriqué. Comme expliqué ciùdessus, la couche d'aplanissement est formée sur la couche de filtres chromatiques et la rainure déforme le champ électrique. Par conséquent, un écoulement, vers l'extérieur, des pigments dans la couche de filtres chromatiques peut être empêché. En outre, un écart de cellule est sensiblement uniforme et le volume du cristal liquide entre les deux substrats peut être garanti. En outre, lorsqu'une couche d'alignement est formée sur l'électrode commune et frottée, l'apparition de défauts provoquée par des portions étagées peut être empêchée. rAHIRSCH6BREVETS ' Bleuets 76100. 175-061226 tradDFPOTFR doc - 28 de r, bre 2006 - ü 4 to Bien entendu, l'invention n'est pas limitée aux exemples de réalisation ciùdessus décrits et représentés, à partir desquels on pourra prévoir d'autres modes et d'autres formes de réalisation, sans pour autant sortir du cadre de l'invention. Ainsi, diverses modifications et variations peuvent apparaître à l'homme du métier qui restent comprises dans la portée des revendications. HIRSCH6 BREVEIS Breceis,26100'26175-06126-[mdDEPOTFR doc - 28 décembre 2006- 10/14 REVENDICATIONS 1. Dispositif d'affichage à cristaux liquides comprenant : - un premier substrat (200) et un deuxième substrat (100) se faisant face entre 5 eux et ayant une région de pixels (P) ; - une couche de filtres chromatiques (B2) sur le premier substrat (200) correspondant à la région de pixels (P) ; - une couche d'aplanissement (206) sur la couche de filtres chromatiques (B2) ayant une rainure (208) ; 10 - une électrode commune (210) sur la couche d'aplanissement (206) ; - une électrode de pixel (122) sur le deuxième substrat (100) ; et - une couche de cristaux liquides (250) entre l'électrode commune (210) et l'électrode de pixel (122). 15 2. Dispositif selon la revendication 1, dans lequel la couche d'aplanissement (206) est directement au contact de la couche de filtres chromatiques (B2). 3. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 ou 2, dans 20 lequel la rainure (208) a une forme circulaire dans un plan horizontal. 4. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 ou 2, dans lequel la rainure (208) a une forme semiùcirculaire dans une coupe transversale verticale. 5. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, comportant en outre une matrice noire (202) entre des régions de pixels (P) adjacentes. 6. Dispositif selon la revendication 5, dans lequel la couche de filtres 30 chromatiques (B2) chevauche la matrice noire (202) et a une portion étagée au niveau d'une position de chevauchement. 7. Dispositif selon la revendication 6, dans lequel une surface supérieure de la couche d'aplanissement (206) est sensiblement régulière à l'exception d'une 35 zone où la rainure (208) est disposée. HIRSCH6` BREVETS.Brevets'26100`26175-bbi22b-rradDEPOTFR da. - 28 décembre 2006 -11.14 25 8. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, comportant en outre des lignes de grille et de données (104, 116) se croisant entre elles et un transistor en couches minces (T) raccordé aux lignes de grille et de données (104, 116) et l'électrode de pixel (122) sur le deuxième substrat (100). 9. Procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage à cristaux liquides comprenant les étapes consistant à : - former une couche de filtres chromatiques (B2) sur un premier substrat (200) correspondant à une région de pixels (P) ; lo - former une couche d'aplanissement (206) sur la couche de filtres chromatiques (B2) ayant une rainure (208) ; - former une électrode commune (210) sur la couche d'aplanissement (206) ; - former une électrode de pixel (122) sur un deuxième substrat (100) ; et - attacher les premier et second substrats (100, 200), 15 - la couche de cristaux liquides (250) étant intercalée entre l'électrode commune (210) et l'électrode de pixel (122). 10. Procédé selon la revendication 9, dans lequel la couche d'aplanissement (206) est directement au contact de la couche de filtres chromatiques 20 (B2). ll. Procédé selon l'une quelconque des revendications 9 ou 10, dans lequel la rainure (208) a une forme circulaire dans un plan horizontal. 25 12. Procédé selon l'une quelconque des revendications 9 ou 10, dans lequel la rainure (208) a une forme semiûcirculaire dans une coupe transversale verticale. 13. Procédé selon l'une quelconque des revendications 9 à 12, comprenant 30 en outre l'étape consistant à former une matrice noire (202) entre des régions de pixels (P) adjacentes. 14. Procédé selon la revendication 13, dans lequel la couche de filtres chromatiques (B2) chevauche la matrice noire (202) et a une portion étagée au 35 niveau d'une position de chevauchement. '`.IIIRSCH6 BREVETS Brevets26I0026175-061226-tradDEPOTFR doc- 28 décembre 2006 - 1 2 3015. Procédé selon la revendication 14, dans lequel une surface supérieure de la couche d'aplanissement (206) est sensiblement régulière à l'exception d'une zone où la rainure (208) est disposée. 16. Procédé selon l'une quelconque des revendications 9 à 15, comprenant en outre l'étape consistant à former des lignes de grille et de données (104, 116) se croisant entre elles et un transistor en couches minces (T) raccordé aux lignes de grille et de données (104, 116) et l'électrode de pixel (122) sur le deuxième substrat (100). 17. Dispositif d'affichage à cristaux liquides comprenant : - un premier substrat (200) et un deuxième substrat (100) se faisant face entre eux et ayant une région de pixels (P) ; - une couche de filtres chromatiques (B2) sur le premier substrat (200) et 15 correspondant à la région de pixels (P), la couche de filtres chromatiques (B2) ayant une portion étagée ; - une couche d'aplanissement (206) directement sur la couche de filtres chromatiques (B2) ayant une rainure (208) ; - une électrode commune (210) sur la couche d'aplanissement (206) ; 20 - une électrode de pixel (122) sur le deuxième substrat (100) ; et - une couche de cristaux liquides (250) entre l'électrode commune (210) et l'électrode de pixel (122). 18. Dispositif selon la revendication 17, dans lequel une surface supé- 25 rieure de la couche d'aplanissement (206) est sensiblement régulière à l'exception d'une position où la rainure (208) est disposée. 19. Dispositif selon la revendication 17 ou 18, dans lequel la rainure (208) a une forme circulaire dans un plan horizontal. 20. Dispositif selon la revendication 17 ou 18, dans lequel la rainure (208) a une forme semiûcirculaire dans une coupe transversale verticale. I'HIRSCH6 RREVETS'Brevets.26I001_6175-061226-tradDEPOTFR doc. - 28 décembre 2006 13 I4