FR 2900768 A1 20071109 FR 0651640 A 20060505 UTILISATION DU B2O3 DANS UNE CERAMIQUE SEMICONDUCTRICE POUR EN DIMINUER LE COURANT DE FUITE ET EVENTUELLEMENT POUR EN STABILISER LES PROPRIETES ELECTRIQUES DESCRIPTION DOMAINE TECHNIQUE L'invention concerne l'utilisation de l'oxyde de bore B203 dans des céramiques semiconductrices pour en diminuer le courant de fuite et éventuellement pour en stabiliser les propriétés électriques. Plus précisément, l'invention concerne de manière générale l'utilisation de l'oxyde de bore B203 dans une céramique semiconductrice pour diminuer le courant de fuite de ladite céramique semiconductrice. L'invention concerne plus particulièrement l'utilisation de l'oxyde de base B203 dans une céramique semiconductrice comprenant de l'oxyde d'étain en tant que métal de base pour stabiliser les propriétés électriques et diminuer le courant de fuite de ladite céramique. Le domaine technique de l'invention peut, de manière générale, être défini comme celui des céramiques semiconductrices constituées d'oxydes de métaux, plus précisément des céramiques semiconductrices constituées d'un ou de plusieurs métaux de base tels que l'oxyde de zinc ZnO ou l'oxyde d'étain Sn02 et d'un ou plusieurs oxydes de métaux dopants. De telles céramiques semiconductrices, qu'elles soient massives ou bien sous la forme de couches minces, sont utilisées en particulier pour fabriquer des résistances non linéaires en fonction de la tension, et notamment des varistances ou varistors qui sont utilisés par exemple dans les parafoudres à basse, moyenne et haute tension ou des éléments limiteurs de tension associés par exemple à un appareillage électrique ou électronique. Des résistances non linéaires en fonction de la tension, telles que des varistances, à base de carbure de silicium, des redresseurs au sélénium et des diodes à jonction p-n en silicium ou en germanium ont été largement utilisées pour la stabilisation de tension de circuits électriques ou la suppression de surtensions normalement élevées, induites dans des circuits électriques. Les caractéristiques électriques d'une telle résistance non linéaire sont notamment : - le coefficient de non-linéarité a ; plus a est élevé plus le matériau est performant ; - le champ électrique admissible maximum avant disruption du champ de seuil ES (en V/mm) ; plus il est élevé plus le matériau est performant. Ce champ ES correspond à une tension avant disruption VS ; - le courant de fuite If (en A). A l'heure actuelle, l'essentiel des résistances non linéaires est constitué par des masses frittées d'oxyde de zinc ZnO comprenant éventuellement un ou plusieurs additifs ou dopants choisis par exemple parmi les oxydes de métaux tels que Bi2O3r Sb2O3 ou 30 Co3O4r mais le dioxyde d'étain SnO2 qui trouvait des applications industrielles dans le domaine des éléments 25 chauffants (par exemple les électrodes dans les fours à verre), des résistances électriques (couches minces polycristallines) dans la production des transistors, des revêtements antistatiques transparents (dépôts sur plaque de verre), est de plus en plus utilisé comme oxyde de métal de base des varistances pour parafoudre moyenne et haute tension. En effet, le SnO2 présente des couples coefficient de non linéarité/champ de seuil qui sont comparables voire supérieurs au monoxyde de zinc. Quel que soit l'oxyde de métal de base de la céramique semiconductrice, la varistance : ZnO, SnO2 ou autre, il a été constaté que les valeurs du courant de fuite des varistances existantes, étaient encore beaucoup trop élevées par exemple de 0,5 à quelques pA pour une varistance de 10 mm de diamètre. Une valeur élevée du courant de fuite a comme conséquence directe une consommation d'énergie électrique en permanence, et des échauffements des résistances conduisant à un accroissement du courant de fuite avec possibilité d'emballement thermique. Il existe donc un besoin pour des céramiques semiconductrices comprenant au moins un oxyde de métal de base et au moins un oxyde de métal dopant qui présentent un courant de fuite plus faible. En outre, pour que ces varistances soient industrialisables, il faut qu'elles soient stables dans le temps. Or, certaines des céramiques semiconductrices connues mises en oeuvre comme varistances et notamment celles à base de SnO2 ne sont pas stables dans le temps notamment quant à leurs propriétés électriques qui présentent une dérive au cours du temps. La dérive des propriétés électriques s'apprécie, pour une température donnée, par l'évolution du courant de fuite dans le temps à la moitié de la tension de seuil (correspondant au champ de seuil Es). On définit aussi Ifo qui représente la première mesure de l'intensité du courant de fuite mesurée au temps initial t=0, et Ift qui représente l'intensité mesurée au temps t postérieur, à température constante. Certaines céramiques semiconductrices telles que celles dont l'oxyde de métal de base est le SnO2 présentent ainsi une dérive croissante à savoir une augmentation du courant de fuite dans le temps qui dénote ainsi, plus généralement, la dérive et l'instabilité de leurs propriétés électriques dans le temps sous contraintes thermiques et électriques. Il existe donc un besoin pour améliorer la stabilité dans le temps sous contraintes thermique et électrique des céramiques semiconductrices notamment celles à base de dioxyde d'étain SnO2. Il existe en particulier un besoin pour stabiliser dans le temps les propriétés électriques de ces céramiques semiconductrices, diminuer la dérive de ces propriétés et notamment diminuer la dérive du courant de fuite dans le temps. Un premier but de la présente invention est de répondre au besoin de diminuer le courant de fuite des céramiques semiconductrices. Ce but est atteint, conformément à l'invention, en utilisant l'oxyde de bore B2O3 dans une céramique semiconductrice comprenant au moins un oxyde de métal de base et au moins un oxyde de métal dopant, pour diminuer le courant de fuite de ladite céramique semiconductrice. Il a été constaté de manière totalement étonnante que l'incorporation du B2O3 dans une céramique semiconductrice comprenant au moins un oxyde de métal de base, tel que le SnO2r et au moins un oxyde de métal dopant, conduisait à une diminution, à un abaissement du courant de fuite de ladite céramique semiconductrice. Cette diminution est observée quel que soit l'oxyde de base mis en oeuvre. Ainsi, la valeur du courant de fuite Ifo passe-t-elle par exemple, dans le cas de varistances à base de SnO2r d'une valeur de 3 x 10-8 A sans addition de B2O3 à une valeur de 3 x 10-9 A avec addition de B2O3. L'incorporation du B2O3 dans des céramiques semiconductrices pour des varistances est connue dans le cas où l'oxyde de métal de base est ZnO. Cependant, l'incorporation de B2O3 dans les céramiques à base de SnO2 n'est pas connue. Ainsi, le document JP-A-89-0277646 décrit- il des varistances dont l'oxyde de base est le ZnO et qui comprennent ZnO : 80 à 97,5 mole % ; Bi2O3 0,3-3,0 mole % ; Sb2O3 : 0,3-3 mole % ; CoO 0,3-3,0 mole % ; MgO : 1,0-5,0 mole % ; MnO 0,3-3,0 mole % ; et NiO : 0,3-3,0 mole %, 0,01 à 1% en poids de B2O3 et 0,002 à 0,008 % en poids de Al2O3. Cette composition permet d'obtenir des varistances qui ont une excellente capacité de decharge des surtensions, un coefficient non linéaire de tension supérieur, et de meilleurs caractéristiques de vie en charge (à savoir une stabilité dans le temps du courant de fuite). Toutefois, aucun effet particulier, intrinsèquement lié à B2O3r n'est mentionné dans ce document. Le document JP-A-89-0254696 décrit des varistances présentant une non linéarité de tension améliorée qui sont préparées en ajoutant du Pr6O11, Co3O4r K2O, Cr2O2, MgO, C2O, Al2O3 et B2O3 dans des pourcentages respectifs de 0,5 ; 2,0 ; 0,1 ; 0,1 ; 0,1 ; 0,01 mole % à du ZnO. Du PbO est en outre ajouté dans une proportion de 0,3 à 200 mol/ppm. De nouveau, aucun effet particulier intrinsèquement lié à B2O3 n'est mentionné dans ce document. Le document JP-A-77-0159544 indique que le taux de décroissance dans le temps par rapport à l'état initial, c'est-à-dire la dérive du courant de fuite pour une tension appliquée normale peut être diminué considérablement en ajoutant des microquantités de B2O3 et de WO3 dans des varistances à base de ZnO. Précisons que le terme "dérive" est ici à comprendre comme la variation par rapport à un état initial (à t=0), et non comme une dérivée mathématique. Ainsi, dans ce document, on ajoute 0,002 à 0,5 mole % de B2O3 et de WO3 à une composition contenant du ZnO et de 0,1 à 3% de Bi2O3 ; de 0,05 à 3% de Co2O3, de 0,05 à 3% de MnO2, de 0,1 à 5% de Sb2O3, de 0,02 à 3% de Cr2O3r de 0, 05 à 5% de SiO2 et de 0,1 à 5% de NiO. Ce document ne divulgue pas un quelconque effet de diminution du courant de fuite puisse être obtenu du fait de l'addition de B2O3. Selon l'invention, l'effet de diminution du courant de fuite peut être observé, en particulier dans les céramiques dont l'oxyde de métal de base est le SnO2r même pour des quantités très faibles de B2O3 dans la céramique ; de préférence, la céramique semiconductrice comprend de 0,001 à 0,30% en masse, de préférence encore de 0,08 à 0,15% en masse de B2O3. L'effet de diminution du courant de fuite causé par l'incorporation de B2O3 peut être obtenu avec de nombreux oxydes de métaux de base. Le ou les oxydes de métaux de base peuvent être ainsi choisi parmi les oxydes de zinc, étain, titane, strontium, et les oxydes mixtes de ceux-ci tels que l'oxyde de titane et de strontium TiSrO3. Un oxyde de métal de base préféré est l'étain pour lequel l'effet de diminution du courant de fuite dû au B2O3 a été particulièrement mis en évidence. L'oxyde de métal dopant peut être tout oxyde de métal dopant connu de l'homme du métier dans le domaine des céramiques semiconductrices. La céramique contient généralement en tant qu'oxyde(s) de métal (métaux) dopant(s) un ou plusieurs oxyde(s) choisi(s) parmi les oxydes de cobalt ; manganèse ; niobium ; métaux de transition, tels que le zinc si l'oxyde de métal de base n'est pas l'oxyde de zinc ; tantale ; métaux de la famille des lanthanides. De préférence, le ou les oxyde(s) de métal (métaux) dopant(s) sont choisis parmi les oxydes de cobalt, manganèse, niobium, chrome et tantale. De préférence encore, la céramique contient en tant qu'oxydes de métal (métaux) dopant(s) simultanément, à la fois, de l'oxyde de cobalt, de l'oxyde de manganèse, de l'oxyde de niobium et de l'oxyde de tantale Les proportions massiques du ou des oxyde(s) de métaux de base, du ou des oxydes de métaux dopants et du B2O3r sont telles que la céramique comprenne une proportion d'oxyde(s) de métal de base supérieure ou égale à 90% en masse, de préférence supérieure ou égale à 95% en masse, de préférence encore supérieure ou égale à 99% en masse. Le pourcentage d'oxyde(s) de métal (métaux) de base dans la céramique étant respecté, la proportion du ou des métaux dopants dans la céramique est telle que la céramique comprenne en complément à(aux) oxyde(s) de métal de base et au B2O3r pour atteindre 100%, un ou plusieurs parmi les oxydes suivants dans les proportions en masse suivantes : • 0,1 à 3% d'oxyde de cobalt, • 0,01 à 3% d'oxyde de chrome, • 0,01 à 3% d'oxyde de manganèse, • 0,01 à 0,5% d'oxyde de niobium, • 0,01% à 0,5% d'oxyde de tantale, • 0,01 à 0,5% d'un ou plusieurs oxydes de métal de transition, • 0,01 à 0,5% d'un ou plusieurs oxydes de métal de la famille des lanthanides tel que l'oxyde de lanthane. L'invention concerne en outre l'utilisation de B2O3 dans une céramique semiconductrice comprenant de l'oxyde d'étain, en tant qu'oxyde de métal de base, et au moins un oxyde de métal dopant pour stabiliser les propriétés électriques et diminuer le courant de fuite de ladite céramique. Il a été mis en évidence de manière totalement surprenante, inattendue, selon l'invention, que l'addition de B2O3 dans une céramique semiconductrice à base d'oxyde d'étain SnO2, c'est-à-dire comprenant en tant que métal de base du SnO2r conduisait non seulement à une diminution du courant de fuite de ladite céramique, généralement dans les proportions déjà mentionnées plus haut, mais aussi à une stabilisation dans le temps des propriétés électriques de cette céramique semiconductrice sous contraintes thermique et électrique. Cette stabilisation des propriétés électriques dans le temps, est notamment dénotée par une diminution notable du courant de fuite dans les premières minutes, par exemple dans les premières 2-3 minutes, sous tension constante et température ambiante, puis par une stabilisation de ce courant de fuite à une valeur très faible (cette stabilisation est observée aussi dans le cas où l'on effectue une mise sous tension à température élevée (correspondant au vieillissement accéléré)) ; alors que ces céramiques à base de SnO2 présentent, en l'absence de B2O3 une augmentation du courant de fuite dans le temps pendant plusieurs minutes par rapport à Ifo (voir figures). Précisons que la stabilisation est une stabilisation du courant de fuite dans le temps, c'est- à-dire en vieillissement sous tension de service. Généralement, ce vieillissement est représenté par des essais normatifs de vieillissement accélérés (Cf Norme CEI 60099-4), qui peuvent aller jusqu'à 1000 heures sous tension et sous une température par exemple de 115 C ou 130 C, représentant 30 ans de service. Donc, dans le cas de céramiques à base de SnO2 un double effet, lié fondamentalement à la présence de B2O3 est obtenu : à savoir l'obtention d'un courant de fuite plus faible, mais aussi une stabilisation très rapide des propriétés électriques de la céramique au cours du temps, ce qui permet un test de validation en usine très rapide sur les varistances produites. A titre indicatif, un dispositif actuel de test en fabrication a rejeté tous les échantillons de SnO2 sans bore, car instables dans la fenêtre de mesure. Par exemple, il a pu être montré que l'accroissement de courant de fuite atteint +200% en quelques minutes en l'absence de B2O3r et qu'à l'inverse, ce courant de fuite est réduit de quelques dizaines de pourcent, par exemple jusqu'à jusqu'à -90% (cf figures), lorsque la même céramique contient de l'oxyde de bore. Encore, un autre effet inattendu causé par l'addition de B2O3 dans une céramique dont l'oxyde de métal de base est le SnO2 est l'amélioration, l'augmentation de valeur de non linéarité a. Par exemple, il a pu être montré que a qui a une valeur moyenne de 23, pour une céramique à base de SnO2r sans addition de B2O3, pouvait s'élever jusqu'à une valeur moyenne de 42 pour la même céramique à base de SnO2 mais à laquelle est ajouté du B2O3. L'effet de stabilisation des propriétés électriques dans le temps, et en particulier l'effet de stabilisation du courant de fuite dans le temps par addition de B2O3 dans les céramiques semiconductrices est connu pour les céramiques à base de ZnO. 15 Il n'existe aucune mention dans l'art antérieur de l'incorporation de B2O3 dans des céramiques semiconductrices à base d'oxyde d'étain (SnO2) et il n'existe aucune mention ni aucune suggestion dans l'art antérieur qu'un effet de stabilisation des propriétés 20 électriques dans le temps, et en particulier du courant de fuite puisse être obtenu, dans les céramiques à base du SnO2r en y incorporant du B2O3. Rien ne pouvait laisser prévoir qu'un effet de stabilisation des propriétés électriques dans le 25 temps, et en particulier du courant de fuite déjà observé pour les céramiques semiconductrices à base de ZnO, pourrait être obtenu aussi avec les céramiques semiconductrices à base d'oxyde d'étain (SnO2). En effet, les enseignements que l'on peut 30 déduire des effets de stabilisation obtenus par la mise en oeuvre de B2O3 dans de l'oxyde de zinc (ZnO) ne 10 peuvent en aucun cas être appliqués au dioxyde d'étain (SnO2) car des différences très importantes de comportement existent entre ces oxydes, ce qui rend en fait totalement imprévisible et aléatoire le passage d'un oxyde à l'autre ; l'oxyde de zinc présente par exemple un rapport métal/oxygène de 1 alors que pour l'étain ce rapport est égal à 2. En outre, on sait que les mécanismes de réduction pour le SnO2 sont fondamentalement différents de ceux du ZnO. Le fait que des effets avantageux de stabilisation aient été obtenus par addition de B2O3 dans des céramiques à base d'oxyde de zinc, ne signifiait en rien que de tels effets pourraient être obtenus avec des céramiques à base d'oxyde d'étain. En d'autres termes, tous les effets de stabilisation obtenus avec le B2O3 dans une céramique au SnO2 étaient imprévisibles et absolument incertains, car l'homme du métier sait que la chimie de l'étain est bien différente de celle du zinc. L'effet de stabilisation des propriétés électriques dans les céramiques à base de SnO2 peut être observé même pour des quantités très faibles de B2O3 dans la céramique. De préférence, la céramique semiconductrice comprend de 0,001 à 0,30% en masse, de préférence encore de 0,08 à 0,15%, en masse de B2O3. On observe ainsi l'effet de stabilisation et l'effet de diminution du courant de fuite déjà mentionné plus haut. La céramique contient généralement en tant qu'oxyde(s) de métal (métaux) dopant(s) un ou plusieurs oxyde(s) choisi(s) parmi les oxydes de cobalt ; manganèse ; niobium ; métaux de transition, tels que le zinc si l'oxyde de métal de base n'est pas l'oxyde de zinc ; tantale ; métaux de la famille des lanthanides. De préférence, le ou les oxydes de métal (métaux) dopant (s) est (sont) choisi(s) parmi les oxydes de cobalt ; niobium, chrome et tantale. De préférence encore, la céramique contient en tant qu'oxydes de métaux dopants, simultanément, à la fois, de l'oxyde de cobalt, de l'oxyde de niobium, de l'oxyde de chrome et de l'oxyde de tantale. Les proportions massiques de l'oxyde d'étain, du ou des oxydes de métaux dopants et du B2O3r sont telles que la céramique comprenne une proportion d'oxyde(s) de métal de base supérieure ou égale à 90% en masse, de préférence supérieure ou égale à 95% en masse, de préférence encore supérieure ou égale à 99% en masse. Le pourcentage d'oxyde d'étain de base étant respecté dans la céramique, la proportion du ou des métaux dopants dans la céramique est telle que la céramique comprenne en complément à l'oxyde d'étain et au B2O3r pour atteindre 100%, un ou plusieurs parmi les oxydes suivants dans les proportions en masse suivantes . • 0,1 à 3% d'oxyde de cobalt, • 0,01 à 3% d'oxyde de chrome, • 0,01 à 3% d'oxyde de manganèse, • 0,01 à 0,5% d'oxyde de niobium, • 0,01% à 0,5% d'oxyde de tantale, • 0,01 à 0,5% d'un ou plusieurs oxydes de métal de transition, • 0,01 à 0,5% d'un ou plusieurs oxydes de métal de la famille des lanthanides tel que l'oxyde de lanthane. L'incorporation de B2O3 dans une céramique dont l'oxyde de métal de base est le SnO2 est nouvelle et procure les effets inattendus mentionnés ci-dessus. En conséquence, l'invention concerne également une céramique semiconductrice comprenant de l'oxyde d'étain SnO2 en tant qu'oxyde de métal de base, au moins un oxyde de métal dopant, et du B2O3. Cette céramique à base d'oxyde d'étain est telle que déjà définie ci-dessus. Les céramiques semiconductrices selon l'invention peuvent être préparées par tout procédé connu pour la préparation de telles céramiques. L'homme du métier peut facilement procéder aux légères adaptations de ces procédés nécessaires pour réaliser l'incorporation de B2O3. Rappelons que les matériaux céramiques semiconducteurs pour les varistances ou pastilles céramiques semiconductrices utilisées pour la protection contre les surtensions sont généralement préparées à partir des oxydes qui les constituent, sous forme pulvérulente. Ainsi, les matériaux céramiques semiconducteurs les plus largement utilisés actuellement, qui sont à base de ZnO, sont-ils préparés à partir d'oxydes pulvérulents constitués de l'oxyde majoritaire qui est ZnO et des oxydes dopants tels que les oxydes de nickel, chrome, manganèse, magnésium, bismuth, antimoine, silicium, cobalt, etc. De manière générale, les procédés chimiques classiques de préparation des matériaux céramiques consistent donc à peser les oxydes constitutifs, à les mélanger et à les broyer, puis à constituer un mélange en milieu aqueux pour obtenir une barbotine. Cette barbotine est atomisée et séchée (technique dite de spray drying ) pour former des agglomérats de quelques centaines de microns qui sont ensuite mis en forme par pressage puis frittés à haute température. Des électrodes métalliques sont enfin déposées, et l'élément est revêtu, sur ses autres surfaces, d'un matériau assurant l'isolation électrique ainsi que d'une protection physico-chimique et mécanique. Une amélioration de ces procédés traditionnels de préparation de céramiques, notamment de céramiques semiconductrices pour varistances qui permet d'obtenir une poudre homogène au niveau moléculaire d'oxydes de métaux alliés, est le procédé dénommé ODAP ou Oxydation Direction d'un Alliage Précurseur . Le procédé ODAP est décrit dans le document FR-A-2 674 157 et avec certaines variations par rapport au document FR-A-2 674 157, dans le document EP-A1-0 580 912, ainsi que dans le document US-A-5,322,642. Dans le procédé ODAP, les éléments de base ou matières premières pour l'obtention de la poudre 30 destinée à donner la céramique semiconductrice ne sont plus des oxydes de métaux mais des alliages ou mélanges de métaux qui sont seulement ensuite oxydés soit en phase solide, soit en phase liquide, soit en phase vapeur. Tout autre procédé de préparation de céramiques semiconductrices notamment à base de SnO2 peut être utilisé selon l'invention, qu'il s'agisse d'une variante, d'une amélioration, du procédé ODAP ou d'un procédé dérivé de celui-ci. L'invention va maintenant être décrite en référence à la description qui suit, d'exemples de réalisation de celle-ci, donnés à titre illustratif et non limitatif en référence aux dessins joints, dans lesquels : - la figure 1 présente des graphiques qui donnent la dérive du courant de fuite [ ((If-Ifo) /Ifo] (en %), en fonction du temps t (en minutes), pour la céramique de l'exemple 1 ne contenant pas de B2O3 (A), et pour la même céramique contenant respectivement 0,07% en masse de B2O3 (B), 0,1% en masse de B2O3 (C) et 0,15% en masse de B2O3 (D) ; - la figure 2 est un graphique qui donne la valeur du courant de fuite à t=0 (Ifo pour U=Us/2) pour différents pourcentages massiques en B2O3 (voir Tableau 3) ; - la figure 3 présente des graphiques qui donnent la dérive du courant de fuite [ (If-Ifo) /Ifo] (en %), en fonction du temps t (en minutes), pour une céramique ayant la composition donnée dans le tableau 1, Exemple 1, ne contenant pas de B2O3 (courbe du haut) et pour une céramique ayant la composition donnée dans le tableau 2, ligne 2, contenant du B203 (courbe du bas) ; la figure 4 présente un graphique qui concerne les résultats d'un test de stabilité en vieillissement accéléré de la céramique contenant du B203 ayant la composition donnée dans le tableau 2, ligne 2. En ordonnée est portée l'intensité (en A) et en abscisse est porté le temps (en heures). Exemple 1 On a préparé une céramique de référence sans B203 qui a la composition suivante donnée dans le Tableau 1 : Tableau 1 Composés SnO2 CoO Nb2O5 Cr2O3 B2O3 Ta2O5 % massique théorique 98,5 0,5000 0,5000 0,2500 / 0,2500 La céramique est préparée par la voie classique de mélange et broyage des differents oxydes de la formulation, soit à sec ou dans une barbotine aqueuse ou non-aqueuse. La barbotine est transformée en poudre céramique par un procédé de sechage traditionnel. La poudre céramique est mise en forme par pressage uniaxial dans un moule cylindrique. Les céramiques sont frittées dans un four électrique. Les céramiques déjà frittées sont métallisées sur leurs faces planes et leur surface cylindrique sont passivées diélectriquement. On a ensuite préparé de la même manière des céramiques contenant différentes teneurs massiques en B203 : 0,07% en masse ; 0,1% en masse et 0,15% en masse. Les compositions de ces céramiques sont données dans le tableau 2 ci-dessous. Tableau 2 Composés SnO2 CoO Nb2O5 Cr2O3 B2O3 Ta205 % massique théorique 98,43 0,5000 0,5000 0,2500 0,07 0,2500 - 98,40 0,5000 0,5000 0,2500 0,10 0,2500 - 98,35 0,5000 0,5000 0,2500 0,15 0,2500 Pour chacune de ces céramiques, on apprécie à 25 C, l'évolution du courant de fuite dans le temps à la moitié de la tension de seuil US (correspondant au 15 champ de seuil Es). On définit ainsi Ifo qui représente l'intensité (en A) du courant de fuite mesurée au temps t=0 et If qui est l'intensité (en A) mesurée au temps t. Le courant de fuite est mesuré avec un 20 ampèremètre connecté en serie avec la varistance. Les résultats des mesures effectuées sur les diverses céramiques avec ou sans B203 sont portés sur les graphiques de la figure 1 (A, B, C, D). L'analyse des graphiques de cette figure 25 montre que la dérive du courant de fuite à US/2 (Us/2 étant respectivement de 670 V pour la figure 1A, 520 V pour la figure 1B, 550 V pour la figure 1C et 510 V pour la figure 1D) est très importante et atteint +200% en quelques minutes en l'absence de B203 et qu'à10 l'inverse elle décroît, elle est négative dès les premières minutes lorsque la céramique contient de l'oxyde de bore. Les Ifo et Iffinal (à 20 min) pour les 4 céramiques à 0 ; 0,07 ; 0,1 et 0,15% de B2O3 sont respectivement (en A) : 1.10-8 et 1.10-7 ; 7.10-9 et 4.10-9 ; 5.10-9 et 1.10-9 ; 1.10-8 et 5.10-9. La figure 3 donne les courbes de vieillissement accéléré (dérive en % en fonction du temps (heures)) sur 55 heures à 130 C pour les céramiques ayant la formulation du tableau 1 (sans B2O3 : courbe du haut) et du tableau 2, ligne 2 (avec B2O3 : courbe du bas). La figure 4 est un graphique qui concerne les résultats d'un test de stabilité en vieillissement accéléré de la céramique ayant la composition donnée dans le tableau 2, ligne 2. Le test de stabilité en vieillissement accéléré est réalisé à 130 C dans un milieu d'environnement qui est de l'air : • Lv = 1000 x 2 cTi1O avec T = 115-Tv • 130 C-Us/2=500 V, et à 130 C Lv = 353 h. On note qu'à t = 0 Ifo = 6, 52.10-7A et à t = 366 heures If366 = 8, 15.10-7A. Le tableau 3 suivant montre l'évolution des propriétés électriques des différentes céramiques préparées ci-dessus en fonction de la teneur en bore de B2O3.30 Tableau 3 B203 (% 0% 0,07% 0,10% 0,15% massique) a moyen (+15) 92 66 73 46 Es (V/mm) 890 740 746 675 moyen (+25) Ifo (A) 1,00E-08 7,00E-09 5,00-09 1,00E-08 Jfo (A.cm 2) 2,00E-08 1,40E-08 1,00E-08 2,00E08 Us/2 (V) 670 520 550 510 Tableau 3 : évolution des propriétés électriques en fonction de la teneur en bore. Dans le Tableau 3, rappelons que a est le coefficient de non linéarité ; Es est le champ de seuil, Ifo est l'intensité du courant de fuite à t=0 ; Jfo est la densité du courant de fuite à t=0 ; US/2 est la contrainte électrique pour la mesure du courant de fuite à 25 C. On remarque sur ce tableau l'effet de diminution du courant de fuite à t=0 lié à l'incorporation du B203 dans la céramique. On a reporté les résultats obtenus sur la figure 2, où Ifo est porté en fonction du pourcentage massique de B203. Le graphique met bien en évidence l'abaissement du courant de fuite à t=0 par addition d'oxyde de bore B203 à la formulation de céramique. Il existe une teneur optimale (voisine de 0,10%) en B203 pour laquelle l'effet de diminution du courant de fuite à t=0 est le plusimportant et aussi la stabilité électrique.25 Exemple 2 On a préparé la composition de céramique suivante de la même manière que cela a été décrit ci-dessus dans l'exemple 1 sans addition de B203. Tableau 4 Composés SnO2 CoO Nb2O5 Cr2O3 B2O3 Ta2O5 % massique théorique 99,36 0,5 0,09 0,05 / 0,25 Les propriétés électriques de cette 10 céramique sont les suivantes : Tableau 5 a moyen (+15) 23 Es (V/mm) moyen ( 25) 392 If moyen (A) 6E- 08 15 On a préparé ensuite, comme décrit plus haut, une céramique ayant une composition analogue à celle décrite ci-dessus mais dans laquelle on a ajouté 0,1% en masse de B203 : 20 Tableau 6 Composés SnO2 CoO Nb2O5 Cr2O3 B2O3 T a205 % massique théorique 99,26 0,5 0,09 0,05 0,1 0,25 Les propriétés électriques de cette céramique sont les suivantes . 21 25 Tableau 7 a moyen (+15) 42 Es (V/mm) moyen ( 25) 394 If moyen (A) 8E-09 L'oxyde de bore diminue le courant de fuite et améliore la valeur de a. Ces effets sont clairement liés à l'addition du B2O3. REVENDICATIONS 1.Utilisation de B203 dans une céramique semiconductrice comprenant au moins un oxyde de métal de base et au moins un oxyde de métal dopant pour diminuer le courant de fuite de ladite céramique semiconductrice. 2.Utilisation selon la revendication 1, dans laquelle la céramique semiconductrice comprend de 0,001 à 0,30% en masse, de préférence de 0,08 à 0,15% en masse, de B203. 3. Utilisation selon l'une quelconque des revendications précédentes dans laquelle le ou les oxyde(s) de métaux de base sont choisis parmi les oxydes de zinc, étain, titane, strontium, et les oxydes mixtes de ceux-ci tels que l'oxyde de titane et de strontium TiSrO3. 4. Utilisation selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans laquelle le métal de base est l'étain. 5. Utilisation selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans laquelle la céramique contient en tant qu'oxyde(s) de métaux dopants un ou plusieurs oxyde(s) choisi(s) parmi les oxydes de cobalt ; manganèse ; niobium ; métaux de transition, tels que le zinc si l'oxyde de métal de base n'est pasl'oxyde de zinc ; tantale ; métaux de la famille des lanthanides. 6. Utilisation selon la revendication 5, dans laquelle le ou les oxyde(s) de métal(métaux) dopant(s) est(sont) choisi(s) parmi les oxydes de cobalt, manganèse, niobium, chrome et tantale. 7. Utilisation selon la revendication 5, dans laquelle la céramique contient en tant qu'oxydes de métaux dopants, de l'oxyde de cobalt, de l'oxyde de chrome, de l'oxyde de niobium et de l'oxyde de tantale. 8. Utilisation selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans laquelle les proportions massiques du ou des oxydes de métaux de base, du ou des oxydes de métaux dopants et du B2O3r sont telles que la céramique comprenne une proportion d'oxyde(s) de métal de base supérieure ou égale à 90% en masse, de préférence supérieure ou égale à 95% en masse, de préférence encore supérieure ou égale à 99% en masse. 9. Utilisation selon la revendication 8, dans laquelle les proportions massiques du ou des oxyde(s) de métaux de base, du ou des oxyde(s) de métaux dopants, sont telles qu'elles permettent d'obtenir une céramique comprenant en complément à(aux) oxyde(s) de métal de base et au B2O3r pour atteindre 100%, un ou plusieurs parmi les oxydes suivants dans les proportions en masse suivantes : • 0,1 à 3% d'oxyde de cobalt, • 0,01 à 3% d'oxyde de chrome, • 0,01 à 3% d'oxyde de manganèse, • 0,01 à 0,5% d'oxyde de niobium, • 0,01% à 0,5% d'oxyde de tantale, • 0,01 à 0,5% d'un ou plusieurs oxydes de métal de transition, • 0,01 à 0,5% d'un ou plusieurs oxydes de métal de la famille des lanthanides tel que l'oxyde de 10 lanthane. 10. Utilisation de B2O3 dans une céramique semiconductrice comprenant de l'oxyde d'étain, en tant qu'oxyde de métal de base, et au moins un oxyde de 15 métal dopant pour stabiliser les propriétés électriques, et diminuer le courant de fuite de ladite céramique. 11. Utilisation selon la revendication 10, 20 dans laquelle la céramique semiconductrice comprend de 0,001 à 0,30% en masse, de préférence de 0,08 à 0,15% en masse, de B2O3. 12. Utilisation selon l'une quelconque des 25 revendications 10 et 11, dans laquelle la céramique contient en tant qu'oxyde(s) de métaux dopants un ou plusieurs oxyde(s) choisi(s) parmi les oxydes de cobalt ; manganèse ; niobium ; métaux de transition, tels que le zinc ; tantale ; et métaux de la famille 30 des lanthanides. 13. Utilisation selon la revendication 12, dans laquelle le ou les oxyde(s) de métal(métaux) dopant(s) est(sont) choisi(s) parmi les oxydes de cobalt, niobium, chrome, tantale et manganèse. 14. Utilisation selon l'une quelconque des revendications 10 à 13, dans laquelle la céramique contient en tant qu'oxydes de métaux dopants, de l'oxyde de cobalt, de l'oxyde de chrome, de l'oxyde de niobium et de l'oxyde de tantale. 15. Utilisation selon l'une quelconque des revendications 10 à 14, dans laquelle les proportions massiques de l'oxyde d'étain, du ou des oxydes de métaux dopants et du B2O3r sont telles que la céramique comprenne une proportion d'oxyde(s) d'étain supérieure ou égale à 90% en masse, de préférence supérieure ou égale à 95% en masse, de préférence encore supérieure ou égale à 99% en masse. 16. Utilisation selon la revendication 15, dans laquelle les proportions massiques de l'oxyde d'étain et du ou des oxyde(s) de métaux dopants, sont telles que la céramique comprenne en complément à l'oxyde d'étain et au B2O3r pour atteindre 100%, un ou plusieurs parmi les oxydes suivants dans les proportions en masse suivantes . • 0,1 à 3% d'oxyde de cobalt, • 0,01 à 3% d'oxyde de chrome, • 0,01 à 3% d'oxyde de manganèse, • 0,01 à 0,5% d'oxyde de niobium, • 0,01% à 0,5% d'oxyde de tantale, • 0,01 à 0,5% d'un ou plusieurs oxydes de métal de transition, • 0,01 à 0,5% d'un ou plusieurs oxydes de métal de la famille des lanthanides tel que l'oxyde de lanthane. 17. Céramique semiconductrice comprenant de l'oxyde d'étain SnO2 en tant qu'oxyde de métal de base, au moins un oxyde de métal dopant, et du B2O3. 18. Céramique semiconductrice selon la revendication 17, dans laquelle le B2O3 représente de 0,001 en 0,30% en masse, de préférence de 0,08 à 0,15 % en masse de la céramique. 19. Céramique selon l'une quelconque des revendications 17 et 18, dans laquelle la céramique contient en tant qu'oxyde(s) de métaux dopants un ou plusieurs oxyde(s) choisi(s) parmi les oxydes de cobalt ; manganèse ; niobium ; métaux de transition, tels que le zinc ; tantale ; métaux de la famille des lanthanides. 20. Céramique selon la revendication 19, dans laquelle le ou les oxyde(s) de métal(métaux) dopants est(sont) choisi(s) parmi les oxydes de cobalt, niobium, chrome, tantale et manganèse.30 21. Céramique selon la revendication 20, dans laquelle la céramique contient en tant qu'oxydes de métaux dopants, de l'oxyde de cobalt, de l'oxyde de chrome, de l'oxyde de niobium et de l'oxyde de tantale. 22. Céramique selon l'une quelconque des revendications 17 à 21, dans laquelle les proportions massiques de l'oxyde d'étain, du ou des oxydes de métaux dopants et du B2O3r sont telles que la une céramique comprenne une proportion d'oxyde(s) d'étain supérieure ou égale à 90% en masse, de préférence supérieure ou égale à 95% en masse, de préférence encore supérieure ou égale à 99% en masse. 23. Céramique selon la revendication 22, dans laquelle les proportions massiques de l'oxyde d'étain, du ou des oxyde(s) de métaux dopants, sont telles qu'elles permettent d'obtenir une céramique comprenant en complément à l'oxyde d'étain, et au B2O3r pour atteindre 100%, un ou plusieurs parmi les oxydes suivants dans les proportions en masse suivantes : • 0,1 à 3% d'oxyde de cobalt, • 0,01 à 3% d'oxyde de chrome, • 0,01 à 3% d'oxyde de manganèse, 25 • 0, 01 à 0,5% d'oxyde de niobium, • 0,01% à 0,5% d'oxyde de tantale, • 0,01 à 0,5% d'un ou plusieurs oxydes de métal de transition,• 0,01 à 0,5% d'un ou plusieurs oxydes de métal de la famille des lanthanides tel que l'oxyde de lanthane.