FR 2895564 A1 20070629 FR 0605127 A 20060609 APPAREIL POUR LA FABRICATION D'UN DISPOSITIF D'AFFICHAGE A ÉCRAN PLAT ET PROCEDE POUR LA FABRICATION DE CE DERNIER La présente invention concerne un dispositif d'affichage à écran plat, et plus particulièrement, un procédé et un appareil pour la fabrication d'un dispositif d'affichage à écran plat qui soit adaptatif afin d'effectuer un processus de modelage des contours sans utilisation d'un processus photographique. Récemment, dans la société d'information, le dispositif d'affichage s'est vu octroyer plus d'importance qu'il n'en a jamais eu auparavant en tant qu'un support de communication d'information visuelle. Le tube à rayons cathodiques qui prédomine actuellement, présente un problème en ce que son poids et sa taille sont grands. Un dispositif d'affichage à écran plat comporte un afficheur à cristaux liquides LCD, un afficheur à émission de champ (FED), un dispositif d'affichage à plasma PDP, une électro- luminescence EL, etc., et pour la plupart, une utilisation pratique a été découverte et mise sur le marché. Le dispositif d'affichage à cristaux liquides peut satisfaire une tendance des produits électroniques rendus légers, minces, courts et petits, et sa productivité est améliorée, ainsi, il a rapidement remplacé le tube à rayons cathodiques dans de nombreux champs d'application. En particulier, un dispositif d'affichage à cristaux liquides de type à matrice active, qui entraîne une cellule de cristaux liquides par utilisation d'un transistor en couche mince (ciûaprès, dénommé "TFT"), présente un avantage en ce qu'une qualité d'image est excellente et une consommation de puissance est basse, et a rapidement été développé afin de parvenir à une grande taille et une résolution élevée grâce à l'établissement d'une technologie de production de masse et au résultat de recherches et développement. Le dispositif d'affichage à cristaux liquides de type à matrice active, tel que représenté sur la figure 1, a un substrat 22 de filtre chromatique et un substrat 23 en réseau de TFT liés avec une couche 15 de cristaux liquides entre ces derniers. Le substrat 22 de filtre chromatique comporte un filtre chromatique 13 et une électrode commune 14 formée sur la surface arrière d'un substrat de verre supérieur 12. Un polarisateur I 1 est collé sur la surface arrière du substrat de verre supérieur 12. Le filtre chromatique 13 a des couches de filtre chromatique rouge R, vert G et bleu B agencés afin de transmettre une lumière d'une plage de longueur d'onde spécifique, permettant ainsi un affichage en couleur. Une matrice noire est formée entre des filtres chromatiques 13 adjacents. Dans le substrat 23 en réseau de TFT, des lignes de données 19 et des lignes de grille 18 se croisent mutuellement sur la surface avant d'un substrat inférieur 16, et un TFT 20 est formé au niveau d'une intersection de ces dernières. Une électrode 21 de pixel est formée au R \Brevets\25400\25430--060606-tradTXT doc - 8 juin 2006 - 1112 niveau d'une zone de cellule entre la ligne de données 19 et la ligne de grille 18 dans la surface avant du substrat inférieur 16. Le TFT 20 commute une voie de transmission de données entre la ligne de données 19 et l'électrode 21 de pixel en réponse à un signal de balayage provenant de la ligne de grille 18, entraînant ainsi l'électrode 21 de pixel. Le polari- sateur 17 est collé sur la surface arrière du substrat 23 en réseau de TFT. Une couche 15 de cristaux liquides commande la quantité de lumière transmise qui est incidente au travers du substrat 23 en réseau de TFT grâce à un champ électrique qui lui est appliqué. Les polarisateurs 11, 17, collés sur le substrat 22 de filtre chromatique et le substrat 23 de TFT, transmettent une lumière polarisée dans une direction quelconque, et lorsque le cristal liquide 15 est dans un mode TN (nématique en hélice) à 90 , leurs directions de polarisation se croisent perpendiculairement. Un film d'alignement (non représenté) est formé dans des surfaces opposées de cristaux liquides du substrat 22 de filtre chromatique et du substrat 23 de TFT en réseau. Un processus de fabrication du dispositif d'affichage à cristaux liquides de type à matrice active est divisé en un processus de nettoyage du substrat, un processus de modelage des contours du substrat, un processus de formation d'un film d'alignement/polissage, un processus de liaison des substrats/injection des cristaux liquides, un processus de montage, un processus d'inspection, un processus de réparation et ainsi de suite. Le processus de nettoyage du substrat élimine des impuretés qui contaminent une surface de substrat du dispositif d'affichage à cristaux liquides, à l'aide d'une solution de nettoyage. Le processus de modelage des contours du substrat est effectué selon une division du processus en un processus de modelage des contours du substrat de filtres chromatiques et un processus de modelage des contours du substrat en réseau de TFT. Le processus de formation du film d'aligne- ment/polissage étale un film d'alignement sur chacun parmi le substrat de filtres chromatiques et le substrat en réseau de TFT, et polit le film d'alignement à l'aide d'un tissu de polissage. Le processus de liaison des substrats/injection des cristaux liquides lie le substrat de filtres chromatiques au substrat en réseau de TFT par utilisation d'un produit d'étanchéité et injecte un cristal liquide et des entretoises au travers d'un trou d'injection de cristaux liquides, et ferme ensuite de manière étanche le trou d'injection de cristaux liquides. Le processus de montage raccorde un boîtier de montage de circuits intégrés (ciûaprès : "TCP : tape carrier package") sur une partie de plots de connexion du substrat, dans laquelle le TCP a un circuit intégré CI tel qu'un CI de pilotage de grille et un CI de pilotage de données qui y est monté. Le CI de pilotage peut être directement monté sur le substrat grâce à un procédé puceûsur verre (ciûaprès, dénommé "COG") au côté d'un procédé TAB (transfert automatique sur bande). Le processus d'inspection comporte une inspection électrique qui est effectuée après formation de l'électrode de pixel et de la ligne de signaux telle que la ligne de données et la R ~Brecetsl25400'125430--060606-tradTXT. doc - 8 juin 2006 - 2/12 ligne de grille sur le substrat en réseau de TFT, et une inspection électrique et une macrographie qui sont effectuées après le processus de liaison de substrats/injection des cristaux liquides. Le processus de réparation effectue une restauration du substrat qui est évaluée comme pouvant être réparée par le processus d'inspection. Les substrats qui sont évalués comme ne pouvant être réparés au cours du processus d'inspection sont rejetés en tant que déchets. Dans le procédé de fabrication de la plupart des afficheurs à écran plat, y compris de ce dispositif d'affichage à cristaux liquides, un matériau en couche mince déposé sur le substrat est modelé grâce à un processus photolithographique. Le processus photolithographique est une série de processus photographiques qui comportent généralement un étalement d'une réserve photosensible, un alignement de masque, une exposition, un développement et un nettoyage. Mais, le processus photolithographique présente des problèmes en ce que la durée requise pour le processus est longue, un matériau de réserve photosensible et une solution de décapage sont en grande partie gaspillés, et des équipements coûteux, comme un équipement d'exposition, sont requis. Par conséquent, un objet de la présente invention est de fournir un appareil et un procédé pour la fabrication d'un dispositif d'affichage à écran plat qui soit adaptatif afin de simplifier le processus de fabrication en effectuant un processus de modelage des contours sans utilisation d'un processus photographique. Afin de parvenir à ces objets et d'autres de la présente invention, un appareil pour la fabrication d'un dispositif d'affichage à écran plat selon un aspect de la présente invention comporte un appareil pour la fabrication d'un dispositif d'affichage à écran plat, comprenant : un dispositif pour la formation en séquences d'un film en couche mince et d'une réserve sur un substrat ; un moule de dureté destiné à mouler à la presse la réserve d'attaque chimique dans une surface opposée à la réserve d'attaque chimique, ledit moule de dureté comportant une plaque arrière formée à partir d'un parmi un matériau ayant une dureté importante et du verre ; et un motif de moulage se formant sur la plaque arrière afin de presser la réserve d'attaque chimique. Dans un mode de réalisation de l'appareil pour la fabrication du dispositif d'affichage à 3o écran plat, ledit moule de dureté comporte un matériau adhésif positionné entre le motif de moulage et la plaque arrière, et ledit motif de moulage est fixé sur la plaque arrière grâce au matériau adhésif. Selon un mode de réalisation, le motif de moulage comporte un hexane à environ 2030 %, un polydiméthylsiloxane PDMS à environ 6580 %, et un agent de réticulation à 35 environ 5-15 %. R. \Brevets\25400\25430--060606-tradTXT doc - 8 juin 2006 - 3/12 Le dispositif d'affichage à écran plat peut être l'un quelconque parmi un afficheur à cristaux liquides LCD, un afficheur à émission de champ FED, un écran d'affichage à plasma PDP, et un dispositif d'affichage à électroluminescence EL. L'invention propose également un procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage à écran plat comprenant les étapes consistant à : former un substrat dont la surface a été traitée afin d'être hydrophile ; former un motif organique hydrophobe sur le substrat ; former un matériau de moulage sur le motif organique hydrophobe ; préparer une plaque arrière à partir de l'un quelconque parmi un matériau ayant une dureté importante et du verre ; former un matériau adhésif au niveau de l'un quelconque parmi la plaque arrière et le matériau de moulage ; lier le matériau de moulage à la plaque arrière à l'aide du matériau adhésif ; et séparer la plaque arrière et le matériau de moulage du motif organique hydrophobe et du substrat afin de former un moule de dureté comprenant la plaque arrière et le matériau de moulage. Dans le procédé, ledit matériau de moulage est de préférence hydrophobe Dans le procédé, ledit motif de moulage comporte de préférence un hexane à environ 2030 %, un (polydiméthylsiloxane: PDMS) à environ 6580 %, un agent de réticulation à environ 5--15 %. Dans le procédé, ladite étape consistant à former ledit motif hydrophobe comporte de préférence la formation de monocouches autoùassemblées (SAMS) sur le substrat; et un traitement hydrophobe d'une surface des SAMS à l'aide d'un rayonnement ultraviolet. Dans le procédé, lesdites SAMS comportent l'un parmi un alkyltrichlorosilane et un alcanethiol. Dans le procédé, l'étape consistant à former les SAMS sur le substrat peut comporter les étapes consistant à : préparer un moule souple ayant une surface de référence et une rainure gravée depuis la surface de référence ; absorber les SAMS de la surface de référence du moule souple ; et imprimer les SAMS absorbées dans la surface de référence du moule souple sur le substrat. Ces objets et d'autres de l'invention apparaîtront de manière évidente grâce à la description détaillée suivante des modes de réalisation de la présente invention en se référant 30 aux dessins annexés, dans lesquels : la figure 1 est une vue en perspective représentant un dispositif d'affichage à cristaux liquides de type à matrice active ; la figure 2 est un schéma destiné à expliquer un procédé et un appareil pour la fabrication d'un dispositif d'affichage à écran plat à l'aide d'un moule souple ; 35 la figure 3 est un schéma représentant le fait que si un moule souple représenté sur la figure est appliqué sur une solution de réserve d'attaque chimique, alors la solution de réserve d'attaque chimique se déplace ; R:\Brevets\25400\25430--060606-tradTXT doc - 8 juin 2006 - 4/12 la figure 4 est un schéma représentant un processus de fabrication du moule souple représenté sur la figure 2 et la figure 3 ; la figure 5 est un schéma représentant un phénomène de fléchissement provoqué dans le moule souple ; la figure 6 est un schéma représentant un moule de dureté selon un mode de réalisation de la présente invention ; et les figures 7a à 7b sont des schémas représentant séquentiellement un procédé de fabrication du moule de dureté représenté sur la figure 7. Ciùaprès, les modes de réalisation préférés de la présente invention seront décrits en détail en se référant aux figures 2 à 7d. Tout d'abord, une description en référence à un procédé et un appareil pour la fabrication d'un dispositif d'affichage à écran plat, objet d'une demande antérieure par un demandeur de la présente invention, seront décrits avant un mode de réalisation de la présente invention. En se référant aux figures 2 et 3, un procédé et un appareil pour la fabrication d'un dispositif d'affichage à écran plat selon un mode de réalisation de la présente invention peuvent former un motif en couche mince, qui est souhaité par un concepteur, par l'utilisation d'un moule souple 134 plutôt que par un processus de modelage par réserve photosensible de l'art antérieur. Le processus de modelage en couche mince à l'aide du moule souple 134 comporte un processus d'étalement d'une solution de réserve d'attaque chimique 133a sur un substrat 131 pourvu d'une couche mince 132a, un processus de modelage des contours d'un film de réserve d'attaque chimique 133 à l'aide d'un moule souple 134, un processus d'attaque chimique destiné à modeler une couche mince 132, un processus de décapage d'un motif de réserve d'attaque chimique résiduelle, et un processus d'inspection. La couche mince 132a formée sur le substrat 131 est formée à partir d'un matériau de base, qui est utilisé, tel qu'un motif métallique, un motif organique et un motif inorganique qui existe dans un réseau du dispositif d'affichage à cristaux liquides, sur le substrat 131 grâce à un processus d'étalement ou un processus de dépôt connus. La solution de réserve d'attaque chimique 133a comporte une résine principale qui est 30 au moins l'un quelconque parmi un précurseur polymère liquide ou un monomère liquide, un activateur, un initiateur, un dérivé à flux thermique, etc. La solution de réserve d'attaque chimique 133a comprenant un tel matériau est étalée sur la couche mince 132a par le processus d'étalement tel qu'une pulvérisation par buses, un dépôt à la tournette, etc. 35 Le moule souple 134 est fait d'un matériau de caoutchouc doté d'une élasticité élevée tel qu'un polydiméthylsiloxane PDMS etc. Le moule souple 134 comporte une surface de référence 134b raccordée d'abord à la réserve d'attaque chimique et une rainure 134a gravée R-\Brevets\25400\25430--060606-tradTNT doc - 8 juin 2006 - 5/12 depuis la surface de référence 134b. ici, une rainure 134a correspond à un motif qui est fait afin de rester sur le substrat 131. De plus, la rainure 134a et une surface de référence 134b sont traitées en surface afin d'être hydrophobe ou hydrophile. Ciûaprès, une explication sera faite en supposant que le moule souple 134 est hydrophobe dans la présente invention. Le moule souple 134 est aligné sur la solution de réserve d'attaque chimique 133a, et ensuite, une pression avec laquelle le moule souple peut uniquement être en contact avec la couche mince 132a, c'estûàûdire, une pression d'uniquement environ son propre poids, est appliquée sur la solution de réserve d'attaque chimique 133a. Par exemple, la solution de réserve d'attaque chimique 133a, telle que représentée sur la figure 3, se déplace dans la rainure 134a du moule souple 134 grâce à une force capillaire qui est générée par une pression entre le moule souple 134 et un substrat de verre 131, et une force de répulsion entre le moule souple 134 et la solution de réserve d'attaque chimique 132a. En conséquence, le motif de réserve d'attaque chimique 133b est formé sur la couche mince 132a en une forme de modelage transférée de manière inverse sur la forme de moulage de la rainure 134a du moule souple 134. Et ensuite, après que le moule souple 134 a été séparé du substrat 131, un processus d'attaque chimique humide ou un processus d'attaque chimique sèche est effectué. Dans ce cas, un motif de réserve d'attaque chimique 133b agit en tant qu'un masque, ainsi uniquement la couche mince 132a positionnée dans une partie inférieure du motif de réserve d'attaque chimique 133b reste sur le substrat 131 et l'autre couche mince 132a est éliminée. Ultérieurement, le motif de réserve d'attaque chimique 134b est éliminé par le processus de décapage, et le motif 132b de couche mince est inspecté par inspection électrique et optique à la recherche d'un courtûcircuit ou d'un film brisé. Après que le moule souple 134 a été séparé du substrat 131, le moule souple 134 est nettoyé par rayonnement ultraviolet et ozone 03, et ensuite, il est réintégré au processus de modelage d'une autre couche mince 132a. Ciûaprès, en se référant à la figure 4, un procédé de fabrication du moule souple représenté sur la figure 2 et la figure 3 est expliqué comme suit : en se référant à la figure 4, le matériau de moulage 135 comportant un polydiméthylsiloxane PDMS et une petite quantité d'un agent de réticulation est enduit sur un moule primaire 184 prévu avec au moins un motif 182 d'un motif de réserve photosensible et un motif inorganique sur le substrat 180. Ici, le matériau de moulage 135 est un précurseur polymère : après que le matériau de moulage 135 a durci grâce à un processus de durcisse-ment par rayonnement ultraviolet ou de durcissement thermique, il est ensuite séparé du moule primaire 184 afin de fournir ainsi le moule souple 134 ayant la surface de référence 134b et la rainure 134a gravée depuis la surface de référence 134b. R \Brevets\25400\25430--060(;06-tradt•XT doc - 8 juin 2006 - 6/ 12 Le motif en couche mince est formé en utilisant le moule souple mentionné ciùdessus, de sorte qu'il devient possible de simplifier le processus de fabrication du dispositif d'affichage à écran plat en comparaison du processus photographique de l'art antérieur. D'un autre côté, étant donné que le moule souple 134 formé grâce à un tel processus a une souplesse importante, si une zone de la rainure 134a gravée depuis la surface de référence 134b est large, alors une zone centrale de la rainure 134a est un fléchissement. Par conséquent, il existe un problème en ce que le motif de réserve d'attaque chimique n'est pas formé de manière uniforme. En d'autres termes, tel que représenté sur la figure 5, si une zone d2 de la rainure 134a est relativement plus large qu'une zone dl de la surface de référence 134b, alors la zone centrale de la rainure 134a est en fléchissement dans la direction de la verticale, de sorte que le motif de réserve d'attaque chimique qui est souhaité par un concepteur n'est pas formé. De cette façon, l'appareil et le procédé pour la fabrication du dispositif d'affichage à écran plat selon la présente invention forment un motif en couche mince sans utilisation du processus photographique et ne peuvent être affectés par la pesanteur. Un appareil pour la fabrication d'un dispositif d'affichage à écran plat selon un autre aspect de la présente invention comporte un dispositif destiné à former séquentiellement un film en couche mince et une réserve d'attaque chimique sur un substrat, un moule de dureté destiné à mouler par pression la réserve d'attaque chimique dans une surface opposée de la réserve d'attaque chimique, un dispositif destiné à appliquer le moule de dureté sur la réserve d'attaque chimique, un dispositif destiné à séparer le moule de dureté de la réserve d'attaque chimique. La figure 6 est un schéma représentant le moule de dureté du dispositif d'affichage à écran plat selon le mode de réalisation de la présente invention. Un moule de dureté 255 représenté sur la figure 6 à la différence du moule souple 134 représenté sur la figure 2 à la figure 5, est composé d'une plaque arrière 256 ayant une dureté importante, un motif de moulage 254 formé dans la largeur de zone et de ligne plus petite que la plaque arrière 256 sur la plaque arrière 256, un matériau adhésif 259 positionné entre le motif de moulage 254 et la plaque arrière 256. La plaque arrière 256 est formée à partir d'un matériau ayant une dureté très importante tel qu'un métal ou du verre, de sorte qu'elle a une résistance importante face à la force à la différence du moule souple 134. Le motif de moulage 254 est formé à partir d'un matériau de PDMS, le côté opposé d'un côté en contact avec la plaque arrière 256 correspond à la surface de référence du moule souple 134. Le motif de moulage 254 comporte un hexane à environ 2030 %, un polydiméthylsiloxane PDMS à environ 6580 %, un agent de réticulation à environ 5ù15 %, une hauteur du motif de moulage 254 est plus élevée que celle de la réserve d'attaque chimique 244. R.\Brevets\25400'25430--060606-tradTXT.doc - 8 juin 200e,- 7/12 Le motif de réserve d'attaque chimique normal est fourni en moulant par pression un tel moule de dureté 255 qui presse un substrat 240 prévu avec un matériau 242 en couche mince et la réserve d'attaque chimique 244, etc. Un tel moule de dureté 255 ne fléchit pas dans la direction verticale à la différence du moule souple 134. En d'autres termes, la plaque arrière 256 du moule de dureté 255 est formée à partir d'un métal ayant une dureté importante ou un verre, de sorte que le phénomène de fléchissement n'apparaît pas. Par conséquent, le problème qui apparaissait dans le moule souple 134 peut être résolu. En d'autres termes, le procédé et l'appareil de fabrication de l'affichage à écran plat selon la présente invention forment le motif en couche mince par l'utilisation du moule de dureté 255, non par le processus photographique, simplifiant ainsi le processus de fabrication. Dans le même temps, la plaque arrière 256 du moule de dureté 255 est formée à partir d'un matériau ayant une dureté élevée, de sorte que le phénomène de fléchissement n'apparaît pas par pesanteur. Par conséquent, le motif de réserve d'attaque chimique normal peut être formé. Ciûaprès, un procédé de fabrication du moule de dureté sera décrit en détail en se référant aux figures 7a à 7d. Premièrement, en se référant à la figure 7a, un motif organique hydrophobe 252 est formé au niveau d'un substrat 250 traité de façon à être hydrophile en utilisant un traitement au plasma 02, etc. Ici, le motif organique hydrophobe 252 est un type de SAMS (mono- couches autoûassemblées) et est formé d'un matériau tel qu'un alkyltrichlorosilane, un alcanethiol, etc. Un procédé de fabrication du motif organique hydrophobe 252 est utilisé tel qu'une impression à microcontact. L'impression à microcontact est un système tel que, après qu'un matériau de SAMS liquéfié a été absorbé dans la surface de référence du moule souple représenté sur la figure 2 et la figure 3, la surface de référence du moule souple est ensuite mise en contact avec le substrat 250 traité afin d'être hydrophile, pour ainsi imprimer le matériau SAMS liquéfié absorbé dans la surface de référence au niveau du substrat 250. Après que l'une quelconque des SAMS d'alkyltrichlorosilane et d'alcanethiol a été imprimée par le système d'impression à microcontact, alors une SAMS est traitée en surface à l'aide d'un rayonnement ultraviolet pour ainsi fournir le motif organique hydrophobe 252 sur le substrat 250 représenté sur la figure 7A. Ici, une zone autre qu'une zone formée du motif organique hydrophobe 252 est hydrophile PI. Ensuite, en se référant à la figure 7b, le matériau de moulage comportant un hexane à environ 20û30 %, un PDMS à environ 65û80 %, un agent de réticulation à environ 5û15 %, c'estûàûdire, un précurseur polymère liquide 254a est enduit sur le substrat 250 prévu avec le motif organique hydrophobe 252. Ici, le matériau de moulage 254a est hydrophobe, de sorte qu'il présente une force de répulsion avec le matériau hydrophile. Par conséquent, le matériau de moulage 254a fonctionne par force de répulsion avec la zone hydrophile PI et force R:\Brevets\25400\25430--060606-tradTXT. doc - 8 juin 2006 - 8/12 d'attraction avec le motif organique hydrophobe 252, permettant ainsi au matériau de moulage 254a de se concentrer au niveau du périmètre du motif organique hydrophobe 252. Après cela le matériau adhésif tel qu'une amorce est projeté ou enduit au niveau de la surface du matériau de moulage 254a positionné sur le motif organique hydrophobe 252 ou la surface de la plaque arrière 256. Ensuite, tel que représenté sur la figure 7C, après que la plaque amère 256 formée à partir d'un métal ou de verre est mise en contact avec le matériau de moulage 254a positionné sur le motif organique hydrophobe 252, alors, le matériau de moulage 254a est durci à l'aide d'un rayonnement thermique ou ultraviolet. Et ensuite, la plaque arrière 256 est séparée du substrat 250 pourvu du motif organique hydrophobe 252. A ce moment, le matériau de moulage 254a positionné sur le motif organique hydrophobe 252 est attaché sur la plaque arrière 256 grâce au matériau 259 tel que l'amorce, etc. Par conséquent, tel que représenté sur la figure 7D, un moule de dureté 155 composé de la plaque amère 256 et du motif de moulage 254 est formé. Le procédé et l'appareil de fabrication de l'afficheur à écran plat selon la présente invention peut être appliqué à un processus de modelage du film d'électrode, du film organique et du film inorganique de l'afficheur à écran plat tel que l'afficheur à cristaux liquides LCD, l'afficheur à émission de champ FED, le écran d'affichage à plasma PDP et à électroluminescence EL, etc. Tel que décrit ciûdessus, le procédé et l'appareil de fabrication du dispositif d'affichage à écran plat selon la présente invention forme le motif en couche mince par utilisation du moule souple et de la réserve d'attaque chimique, et non grâce au processus photographique, simplifiant ainsi le processus de fabrication. Au même moment, le moule de dureté est formé à partir d'un métal ayant une dureté très importante, de sorte que le phénomène de fléchisse-ment n'apparaît pas. En conséquence, si la réserve d'attaque chimique est moulée à la presse, un motif de réserve d'attaque chimique normale peut être formé. Bien que la présente invention ait été expliquée grâce aux modes de réalisation représentés sur les dessins décrits ciûdessus, l'homme du métier comprendra que l'invention n'est pas limitée aux modes de réalisation, mais plutôt, que divers changements ou modifications de cette dernière sont possibles sans s'écarter de l'esprit de l'invention. Par conséquent, la portée de l'invention sera déterminée uniquement par les revendications annexées et leurs équivalents. R:\Brevets\25400\25430--060606-tradTXT doc - 8 juin 2006 - 9/12 REVENDICATIONS 1. Appareil pour la fabrication d'un dispositif d'affichage à écran plat, compre- nant : - un dispositif pour la formation en séquences d'un film en couche mince et d'une réserve sur un substrat ; - un moule de dureté (255) destiné à mouler à la presse la réserve d'attaque chimique dans une surface opposée à la réserve d'attaque chimique, - ledit moule de dureté (255) comportant une plaque arrière (256) formée à partir d'un 10 parmi un matériau ayant une dureté importante et du verre ; et - un motif de moulage (254) se formant sur la plaque arrière afin de presser la réserve d'attaque chimique. 2. Appareil pour la fabrication du dispositif d'affichage à écran plat selon la 15 revendication 1, dans lequel ledit moule de dureté (255) comporte un matériau adhésif (259) positionné entre le motif de moulage (254) et la plaque arrière (256), et ledit motif de moulage (254) est fixé sur la plaque arrière (256) grâce au matériau adhé-sif. 20 3. Appareil pour la fabrication du dispositif d'affichage à écran plat selon la revendication 1 ou 2, dans lequel ledit motif de moulage (254) comporte un hexane à environ 2030 %, un polydiméthylsiloxane PDMS à environ 65û80 %, et un agent de réticulation à environ 5-15 %. 25 4. Appareil pour la fabrication du dispositif d'affichage à écran plat selon la revendication 1, 2 ou 3, dans lequel ledit dispositif d'affichage à écran plat est l'un quelconque parmi un afficheur à cristaux liquides LCD, un afficheur à émission de champ FED, un écran d'affichage à plasma PDP, et un dispositif d'affichage à électroluminescence EL. 30 5. Procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage à écran plat comprenant les étapes consistant à : - former un substrat (250) dont la surface a été traitée afin d'être hydrophile ; - former un motif organique hydrophobe (252) sur le substrat (250) ; 35 - former un matériau de moulage (254a) sur le motif organique hydrophobe (252) ; - préparer une plaque arrière (256) à partir de l'un quelconque parmi un matériau ayant une dureté importante et du verre ; R: \Brevets \25400\25430--060606-tradTXT doc - 8 juin 2006 - 10112- former un matériau adhésif (259) au niveau de l'un quelconque parmi la plaque arrière (256) et le matériau de moulage (254a) ; - lier le matériau de moulage (254a) à la plaque arrière (256) à l'aide du matériau adhésif ; et - séparer la plaque arrière (256) et le matériau de moulage (254a) du motif organique hydrophobe (252) et du substrat (250) afin de former un moule de dureté (255) comprenant la plaque arrière (256) et le matériau de moulage(254a). 6. Procédé selon la revendication 5, dans lequel ledit matériau de moulage (254a) est hydrophobe. 7. Procédé selon la revendication 5 ou 6, dans lequel ledit motif de moulage (254) comporte un hexane à environ 2030 %, un polydiméthylsiloxane PDMS à environ 6580 %, un agent de réticulation à environ 5.15 %. 8. Procédé selon la revendication 5, 6 ou 7 dans lequel ladite étape consistant à former ledit motif hydrophobe (254) comporte les étapes consistant à : former des monocouches autoùassemblées SAMS sur le substrat (250) ; et traiter de façon hydrophobe une surface des SAMS en utilisant un rayonnement ultra- violet. 9. Procédé selon la revendication 8, dans lequel lesdites SAMS comportent l'un quelconque parmi un alkyltrichlorosilane et un alcanethiol. 10. Procédé selon la revendication 8 ou 9, dans lequel ladite étape consistant à former les SAMS sur le substrat (250) comporte les étapes consistant à : - préparer un moule souple ayant une surface de référence et une rainure gravée depuis la surface de référence ; - absorber les SAMS de la surface de référence du moule souple ; et - imprimer les SAMS absorbées dans la surface de référence du moule souple sur le substrat (250). R\Brevets\25400\25430--060606-tradTXT doc - 8 juin 2006 - Ili 12