FR 2889087 A1 20070202 FR 0552356 A 20050728 SUPPORT DE CUISSON POUR CERAMIQUES ET PROCEDE D'OBTENTION La présente invention se rapporte à un support pour la cuisson de pièces en céramique, notamment en carbure de silicium. Elle concerne plus particulièrement un support en carbone revêtu par du carbure de silicium ainsi que le procédé d'obtention d'un tel support. Lors du frittage, les pièces en céramiques doivent en général subir des io étapes de cuisson à très haute température, notamment à plus de 1500 C, voire plus de 2000 C. Des supports adaptés à ces températures élevées sont employés et choisis parmi les matériaux les plus réfractaires. Une résistance au choc thermique élevée est également une propriété indispensable pour l'application d'un matériau en tant que support de cuisson. Le carbone, en particulier sous sa forme graphite, est ainsi employé du fait de sa température de fusion extrêmement élevée, à plus de 3000 C. Les propriétés autolubrifiantes du graphite, dues à la faiblesse des liaisons entre les atomes de carbone de deux couches successives sont également appréciées dans ce type d'application car elles permettent généralement d'éviter ou au moins de limiter le collage avec le matériau à fritter. Des phénomènes de collage à haute température entre le graphite et certains matériaux céramiques tels que le carbure de silicium (SiC) ont toutefois été observés, en particulier pour des températures de cuisson dépassant 1800 C, conduisant à une diminution du rendement, le décollement, outre le temps utilisé à cette manoeuvre, étant susceptible d'endommager la pièce en céramique et/ou le support en graphite. L'invention a pour but d'obvier à ces inconvénients en proposant un nouveau type de support de cuisson pour céramiques. L'invention a pour objet un support de cuisson pour céramiques formé d'un substrat en carbone au moins partiellement recouvert d'un revêtement à base de carbure de silicium (SiC), ledit revêtement étant en outre adhérent audit substrat. Il est en effet apparu aux inventeurs que le contact entre les pièces céramiques à cuire, en particulier en carbure de silicium, et un support présentant une surface elle-même en carbure de silicium ne générait aucun collage, même à des températures aussi élevées que 1800 C. Ce résultat est particulièrement surprenant, car il était plutôt attendu que la similitude chimique entre le support et la pièce à cuire ait pour conséquence, lors de la cuisson, un frittage entraînant un collage irrémédiable entre ces deux éléments. Par revêtement il faut entendre au sens de la présente invention une couche déposée sur le substrat et formant donc une surépaisseur par rapport io audit substrat. Le carbure de silicium du revêtement du support selon l'invention est de préférence majoritairement cristallisé sous la forme alpha (a-SiC), cette forme présentant les plus fortes résistances chimiques. Pour éviter tout collage, le revêtement à base de carbure de silicium contient avantageusement au moins 90% en masse de carbure de silicium. Il est même de préférence constitué de carbure de silicium pur ou presque pur, sauf impuretés inévitables. La couche de SiC peut toutefois contenir d'autres carbures, tels que par exemple le carbure de bore B4C, à des teneurs ne dépassant pas 10%, voire 5%. Le revêtement à base de carbure de silicium présente de préférence une porosité comprise entre 10 et 65%, de préférence entre 30 et 50%. Les inventeurs ont en effet observé que cette plage de porosité permettait d'obtenir une résistance au choc thermique élevée, particulièrement appréciable pour l'application en tant que support de cuisson, tout en n'amoindrissant pas les performances en terme de collage avec la pièce céramique à cuire. L'épaisseur du revêtement à base de carbure de silicium est de préférence supérieure ou égale à 500 micromètres, notamment à 1 millimètre, afin de conférer au revêtement une bonne stabilité dimensionnelle. Le substrat en carbone est avantageusement sous la forme graphite, 30 notamment du type isotrope. L'invention a également pour objet un procédé de fabrication d'un tel support, et en particulier un procédé de dépôt d'un revêtement à base de SiC sur un substrat en carbone, de préférence sous la forme graphite, comprenant au moins une étape de dépôt de particules de carbure de silicium (SiC) comme précurseur majoritaire de silicium suivie d'au moins une étape de cuisson à une température comprise entre 2100 C et 2450 C sous atmosphère non-oxydante. Ce procédé permet d'obtenir un revêtement à base de carbure de silicium dont la porosité est comprise entre 10 et 65%, notamment entre 30 et 50%, particulièrement adhérent au substrat en carbone et présentant de bonnes propriétés de résistance chimique et à l'abrasion. Afin d'améliorer les propriétés de résistance à l'abrasion de pièces en io mouvement, il est connu de déposer des couches minces de carbure de silicium sur des pièces en graphite de forme complexe, tels que des tubes, par le procédé CVD (dépôt chimique en phase vapeur ou Chemical Vapor Deposition ). Ce procédé ne permet toutefois pas d'obtenir une adhésion satisfaisante entre le substrat de carbone et le carbure de silicium. La résistance aux chocs thermiques de tels matériaux est en outre trop faible, en tout état de cause insuffisante pour une application en tant que support de cuisson pour céramiques. Les inventeurs ont mis en évidence le fait que cette faible résistance au choc thermique pouvait être attribuée à la forte densité (faible porosité) des revêtements formés par CVD. Il existe également des procédés dans lesquels une barbotine à base de silicium (Si), utilisé comme précurseur de silicium, est déposée sur un substrat en graphite puis cuite vers 1600 C. Le silicium se liquéfiant pénètre dans les pores du graphite, une couche superficielle de la pièce en graphite étant enrichie en carbure de silicium, et possédant par conséquent une résistance à l'abrasion plus élevée que celle du graphite. Le matériau obtenu par ce type de procédés est un composite dans lequel la couche supérieure du graphite est convertie en graphite contenant des particules de carbure de silicium. Il ne s'agit donc pas d'un matériau en carbone présentant un revêtement à base de carbure de silicium, au sens où le mot revêtement est compris dans le cadre de la présente invention. Le procédé selon l'invention se distingue donc des procédés connus en ce qu'il permet d'obtenir un revêtement adhérent à base de carbure de silicium dont la porosité est comprise entre 10 et 65%, le précurseur majoritaire du silicium étant lui-même du carbure de silicium. Aux températures supérieures ou égales à 2100 C, les particules de carbure de silicium recristallisent pour former une couche à base de SiC sous forme alpha (a-SiC), présentant une porosité adéquate, homogène et adhérente au substrat de graphite sous-jacent. L'atmosphère non-oxydante (neutre ou réductrice) est impérative afin d'éviter toute oxydation du carbure de silicium. La cuisson est de préférence réalisée sous atmosphère neutre, notamment sous argon. Selon un mode de réalisation préféré conduisant à une amélioration de io l'adhésion entre le revêtement et le substrat, les composés Si et/ou SiO2 sont en outre employés comme précurseurs de silicium, le précurseur majoritaire étant toujours SiC. Il est en particulier préféré que les uniques précurseurs de silicium soient les éléments ci-après dans les proportions massiques suivantes, 15 rapportées à la masse totale de précurseurs de silicium: SiC 70 à 100% Si 0à25% SiO2 0 à 10% Cette famille de composition présente en effet un optimum d'adhésion entre le revêtement à base de carbure de silicium et le substrat en carbone. Une porosité particulièrement appropriée est obtenue lorsque 40 à 80% en masse des particules de SiC présentent un diamètre supérieur ou égal à 10 micromètres, le diamètre médian de cette fraction granulométrique étant de moins de 300 micromètres. Une trop forte proportion de fines particules a en outre pour conséquence une baisse de la résistance mécanique, notamment l'apparition de fissures à la cuisson. Les précurseurs de silicium, sous forme pulvérulente, peuvent être directement déposés sur le substrat de carbone sous forme de lits de poudres. Pour des facilités de mise en forme, ils sont toutefois avantageusement apportés par le biais d'une barbotine ou d'une pâte, le solvant étant alors de préférence de l'eau. La quantité d'eau est à ajuster en fonction de la viscosité de la pâte ou de la barbotine. Une barbotine contenant entre 10 et 20% de la masse totale de précurseurs de silicium est préférée pour des raisons de facilité de mise en oeuvre. La barbotine ou la pâte contient avantageusement et en outre un ou plusieurs composés choisis parmi des agents défloculants tels que des silicates alcalins (notamment les silicates de sodium), des liants tels que le polyvinylalcool (PVA), des plastifiants tels que polyéthylène glycol (PEG), la teneur massique totale en ces composés ne dépassant pas 5%, notamment 2% de la masse totale de précurseurs de silicium. Divers procédés de dépôt de la barbotine ou de la pâte sur le substrat io de carbone sont envisageables, tels le dépôt à la raclette, à la truelle, au pinceau ou encore par pulvérisation. La masse de barbotine déposée, ajustée en fonction de l'épaisseur de revêtement souhaitée est de préférence comprise entre 10 et 200mg de matière sèche par cm2 de substrat. Des quantités de 20 à 80mg/cm2 sont préférées. Le procédé selon l'invention comprend de préférence une étape de séchage préalable à la cuisson. Cette étape de séchage permet avantageusement de diminuer la quantité d'eau liée à moins de 1% de la masse du revêtement. Le séchage comprend de préférence deux étapes, l'une à température ambiante et sous air pendant une durée allant de 2 heures à 24 heures, la seconde en étuve à une température allant de 100 C à 200 C pendant une durée de 2 heures à 12 heures. Un séchage ou un étuvage par micro-ondes est également possible. L'épaisseur du revêtement est ajustée grâce à la quantité de barbotine déposée, ou alternativement à l'aide de plusieurs cycles de dépôt et de recuit. L'étape de cuisson comprend de préférence une montée en température selon une rampe de 5 à 50 C/minute, puis un palier d'une durée pouvant aller de 5 minutes à 5 heures à la température maximale, comprise entre 2100 C et 2450 C. L'invention a également pour objet un support de cuisson pour céramiques susceptible d'être obtenu par le procédé selon l'invention. L'invention a enfin pour objet l'utilisation d'un support de cuisson selon l'invention pour la cuisson de pièces en carbure de silicium (SiC) à plus de 1800 C. L'invention sera mieux comprise à la lecture des exemples de réalisation suivants, illustrant l'invention sans pour autant la limiter. EXEMPLE 1: Un support de cuisson en carbone de type graphite isotrope, de densité 1, 74 et présentant une porosité de 12% est revêtu par du carbure de silicium io selon le procédé décrit ci-après. - Préparation de la barbotine à base de SiC Des particules de carbure de silicium de pureté supérieure à 98% et présentant une granulométrie telle que 70% en masse des particules présente un diamètre supérieur à 10 micromètres, le diamètre médian de cette fraction granulométrique étant inférieur à 300 micromètres sont malaxées pendant 15 minutes avec de l'eau distillée, du silicate de sodium et de la fumée de silice (SiO2) de diamètre médian inférieur à 1 micromètre. Au mélange obtenu sont ajoutées une solution aqueuse à 15% de polyvinylalcool (PVA) et une solution aqueuse à 10% de polyéthylèneglycol (PEG). Un malaxage de 10 minutes environ permet d'obtenir une barbotine homogène dont le pH est d'environ 9 et le taux d'humidité de 18%. La barbotine contient comme précurseurs de silicium à la fois du carbure de silicium (SiC) pour 90% en masse et de la silice (SiO2) pour 10% en masse, ces pourcentages étant relatifs à la quantité totale de précurseurs de silicium dans le revêtement. A ces précurseurs, la quantité d'eau ajoutée est de 15% en masse, le silicate de sodium étant ajouté à hauteur de 0,8%, la solution de PVA à hauteur de 0,5% et la solution de PEG également à hauteur de 0,5%. Tous les pourcentages indiqués sont relatifs à la quantité massique totale de précurseurs du silicium. - Dépôt et cuisson de la barbotine La barbotine est déposée sur le substrat en graphite à l'aide d'une raclette, en une quantité d'environ 40mg de matière sèche par cm2. Un séchage d'une durée de 12 heures est effectué à température ambiante et sous air, suivi d'une étape de séchage en étuve à 120 C pendant 6 heures environ. La cuisson de la barbotine a ensuite lieu dans un four sous atmosphère d'argon à une température supérieure à 2100 C. L'étape de cuisson comprend une étape de montée en température à une vitesse de 10 C/minute suivie d'une étape de palier à la température maximale pendant 2 heures. Le revêtement obtenu présente une épaisseur d'environ 500 micromètres et une parfaite adhésion au substrat en graphite. Le SiC est cristallisé sous la forme alpha. EXEMPLE 2: Cet exemple de réalisation ne se distingue du précédent que par la composition des précurseurs de silicium utilisés pour la formation du revêtement, les particules de SiC représentant 75% en masse des précurseurs, l'autre précurseur étant de la poudre de silicium (Si) dont le diamètre médian est de 4 micromètres et dont la pureté est supérieure à 98,5%. EXEMPLE 3 (COMPARATIF) : Dans cet exemple comparatif, aucun revêtement n'est formé sur le substrat en graphite. TEST DE COLLAGE Un échantillon en carbure de silicium est déposé sur le support selon l'invention (exemples 1 et 2) ou sur le support en graphite (exemple 3), l'ensemble étant ensuite porté à 1900 C sous atmosphère d'argon. Après cette étape de cuisson, l'observation du collage est à la fois visuelle (observation d'une éventuelle zone de réaction entre le support et la pièce cuite) et tactile (ressenti d'une résistance lors du retrait de la pièce avec la main). Dans le cas de l'exemple 3, une zone de réaction est observée au niveau de la zone de contact entre le support en graphite et la pièce en SiC, et une résistance est perçue lors de la séparation de ces deux éléments. En revanche, aucun commencement de collage n'est observé dans le cas où le support employé est un support selon les exemples 1 et 2. io L'invention présente donc l'avantage d'obtenir un support de cuisson parfaitement stable et inerte vis-à-vis de céramiques telles que le carbure de silicium pour des températures de cuisson de 1800 C ou plus. La description qui précède permet d'illustrer quelques modes possibles de réalisation de l'invention. Il est bien entendu que cette description n'est cependant pas limitative et que l'homme du métier est à même de réaliser d'autres variantes de l'invention sans pour autant sortir de son cadre. REVENDICATIONS 1. Support de cuisson pour céramiques caractérisé en ce qu'il est formé d'un substrat en carbone au moins partiellement recouvert d'un revêtement à base de carbure de silicium (SiC), ledit revêtement étant en outre adhérent audit substrat. 2. Support selon la revendication 1, tel que le carbure de silicium est io majoritairement cristallisé sous forme alpha (a-SiC). 3. Support selon l'une des revendications précédentes, tel que le revêtement à base de carbure de silicium contient au moins 90% de carbure de silicium. 4. Support selon l'une des revendications précédentes, tel que l'épaisseur 15 du revêtement à base de carbure de silicium est supérieure ou égale à 500 micromètres, de préférence à 1 millimètre. 5. Support selon l'une des revendications précédentes, tel que le revêtement à base de carbure de silicium présente une porosité comprise entre 10 et 65%, de préférence entre 30 et 50%. 6. Support selon l'une des revendications précédentes, tel que le substrat en carbone est sous la forme graphite, notamment du type isotrope. 7. Procédé de dépôt d'un revêtement à base de SiC sur un substrat en carbone, comprenant au moins une étape de dépôt de particules de carbure de silicium (SiC) comme précurseur majoritaire de silicium suivie d'au moins une étape de cuisson à une température comprise entre 2100 C et 2450 C sous atmosphère non-oxydante. 8. Procédé selon la revendication précédente, tel que le substrat en carbone est de forme graphite. 9. Procédé selon l'une des revendications de procédé précédentes, tel que l'atmosphère lors de la cuisson est neutre. 10. Procédé selon l'une des revendications de procédé précédentes, tel que Si et/ou SiO2 sont en outre employés comme précurseurs de silicium. i0 11. Procédé selon l'une des revendications de procédé précédentes, tel que les uniques précurseurs de silicium sont les éléments ci-après dans les proportions massiques suivantes, rapportées à la masse totale de précurseurs de silicium: SiC 70 à 100% Si 0à25% SiO2 0 à 10% 12. Procédé selon l'une des revendications de procédé précédentes, tel que 40 à 80% en masse des particules de SiC présentent un diamètre io supérieur ou égal à 10 micromètres, le diamètre médian de cette fraction granulométrique étant inférieur ou égal à 300 micromètres. 13. Procédé selon l'une des revendications de procédé précédentes, tel que les précurseurs de silicium sont apportés par le biais d'une barbotine ou d'une pâte aqueuses. 14. Procédé selon la revendication précédente, tel que la barbotine ou la pâte contient en outre un ou plusieurs composés choisis parmi des agents défloculants tels que des silicates alcalins, des liants tels que le polyvinylalcool (PVA), des plastifiants tels que polyéthylène glycol (PEG) , la teneur massique totale en ces composés ne dépassant pas 5% de la masse totale de précurseurs de silicium. 15. Utilisation d'un support de cuisson selon l'une des revendications de support précédentes pour la cuisson de pièces en carbure de silicium (SiC) à plus de 1800 C.