FR 2896789 A1 20070803 FR 0752955 A 20070130 Domaine de l'invention La présente invention concerne un composant micromécanique et son procédé de fabrication. Les problèmes des composants micromécaniques sont à l'origine de l'invention qui propose un composant micromécanique et son procédé de fabrication. Etat de la technique Actuellement les micro-électrets (micro ECM) à base de graphite sont très largement développés. Ils sont fabriqués en quantité de l'ordre du milliard et sont par exemple intégrés dans les téléphones sans fil. De tels micros ECM sont toutefois très sensibles à la température et ne sont pas compatibles avec les procédés de construction et d'assemblage actuels tels que le soudage SMD (SMD = dispositif monté en surface). Ils nécessitent des étapes de montage supplémentaires, coûteuses. C'est pourquoi des recherches très poussées sont faites pour réaliser des micros en microtechnique à partir de silicium. De telles réalisations d'un micro à base de semi-conducteurs offrent toutefois l'option d'un traitement intégré du signal sur la même plaquette. Du fait des avantages de la puissance prise, la plupart des développements concernent des microphones en silicium en micro-mécanique utilisant le principe du convertisseur capacitif. Les solutions connues reposent pratiquement toutes sur deux membranes superposées au-dessus d'une ouverture du substrat comme cela est par exemple décrit dans les documents WO 03/098969, WO 03/068668, WO 03/055271. Les deux membranes de ce type de construction sont suspendues par leur périphérie. L'une des membranes est rigide et perforée et l'autre est souple et n'a pas de perforation ou en nombre très réduit. Le document EP 1 012 547 B1 décrit un micro à semi- conducteurs et condensateurs, miniaturisés, reposant sur une poutre plate travaillant en flexion et installée au-dessus d'une ouverture du substrat. Le document EP 1 443 017 Al décrit comme proposition un microphone capacitif différentiel sans orifice dans le substrat sous les membranes et un microphone réalisé à partir d'une disposition par- ticulière d'une poutre de flexion. Les membranes ou poutres de flexion sont réalisées par au moins une couche de métal respective. Selon le document DE 10 2004 050764, on connaît un composant micromécanique avec un substrat, une cavité prévue dans le substrat et une membrane à la surface du substrat au-dessus de la cavité. La membrane a une modulation de hauteur au-dessus de la cavité par rapport à la face supérieure du substrat qui l'entoure. Exposé et avantages de l'invention La présente invention concerne un composant micromécanique du type défini ci-dessus ayant : - un substrat, - un premier dispositif d'électrodes rigides, installé sur ou dans le substrat, - un second dispositif d'électrodes suspendu au substrat, 15 - un espace intermédiaire entre le premier dispositif d'électrodes et le second dispositif d'électrodes, caractérisé en ce que le second dispositif d'électrodes est installé de manière à fléchir élastiquement par rapport au premier dispositif d'électrodes sur le substrat pour que la capacité du condensateur formé par le premier dispositif 20 d'électrodes, le second dispositif d'électrodes et l'espace intermédiaire soit variable. L'invention concerne également une procédé de fabrication d'un composant micromécanique, caractérisé par les étapes suivantes : 25 - on réalise un substrat, - on établit un premier dispositif d'électrodes dans ou sur le substrat à partir d'une première couche conductrice, - on réalise une seconde couche d'isolation sur le premier dispositif d'électrodes, fixe, 30 - on réalise dans une couche conductrice, un second dispositif d'électrodes accroché au substrat, - on réalise un espace intermédiaire entre le premier dispositif d'électrodes et le second dispositif d'électrodes par la gravure partielle d'une couche sacrificielle de la seconde couche d'isolation, de 35 façon à permettre au second dispositif d'électrodes, de fléchir élasti- quement par rapport au premier dispositif d'électrodes tenu au poteau de suspension pour que la capacité d'un condensateur formé par le premier dispositif d'électrodes, le second dispositif d'électrodes et l'espace intermédiaire soit variable. Le composant selon l'invention à l'avantage de pouvoir saisir d'une manière très précise les variations de pression brèves notamment les ondes sonores et le procédé permet un montage simple et certain. Un poteau de suspension central ou un cadre sert à fixer la poutre de flexion ou les segments de poutre de flexion du dispositif d'électrodes supérieures de préférence par un ou plusieurs éléments de ressort de flexion. Les éléments de ressort entre les poutres de flexion et le poteau de suspension ou le cadre assurent une grande souplesse pour les mouvements verticaux de la poutre de flexion. Les orifices de structures servent de préférence en même temps à l'amortissement fluidique du système. Entre la face supérieure et la face inférieure de la poutre de flexion, il s'établit une pression dynamique nécessaire à la mesure. La forme extérieure, la segmentation, la perforation et l'épaisseur de la couche de la poutre de flexion ou des segments de poutre de flexion déterminent les propriétés essentielles du composant micromécanique telles que notamment la sensibilité, la réponse en fréquence, la sensibilité directionnelle etc.. La poutre de flexion ou les segments de poutre de flexion peuvent être plans. Les structures non planaires par exemple une structure en méandre offrent en principe la possibilité de réduire la rigidité du ressort. Pour éviter le fléchissement par les tensions des couches ou les gradients de tension de couche, on peut prévoir des mesures particulières telles qu'une corrugation ou ondulation. L'épaisseur de la couche sacrificielle d'isolation et ainsi la distance entre le dispositif d'électrodes supérieures et inférieures dé-termine la capacité de mesure. La distance doit être aussi faible que possible et la capacité aussi grande que possible. Grâce à l'épaisseur d'une autre couche d'isolation en option, notamment d'une couche d'oxyde sous le dispositif d'électrodes inférieures, rigides, on règle la ca- pacité parasite du système qui doit être choisie aussi grande que possi- ble. En variante, on peut au moins partiellement graver en contre-dépouille les contre-électrodes du dispositif d'électrodes inférieures rigides. Entre les contre-électrodes du dispositif d'électrodes infé- rieures et la poutre de flexion du dispositif d'électrodes supérieures on peut appliquer une tension électrique ce qui permet de diminuer la distance respective et d'augmenter de façon correspondante la sensibilité. On peut prévoir une structure en peigne dans le bord extérieur des segments de poutre de flexion et dans le bord intérieur d'un troisième dispositif d'électrode périphérique, fixe, prévu en option. Cela permet une mesure capacitive différentielle de la flexion de la poutre de flexion dans seulement deux plans. En plus, grâce à ce troisième dispositif d'électrode, on peut appliquer une tension électrique pour in- fluencer les principales caractéristiques du microphone (lissage de la poutre de flexion, réglage de la sensibilité, etc..). Il est particulièrement avantageux de reconnaître la di-rection par une segmentation azimutale possible des dispositifs d'électrodes, une forte sensibilité de la poutre de flexion par sa suspen- Sion par l'intermédiaire d'éléments à ressort à un nombre réduit de points et à supprimer les ouvertures traversant le substrat ce qui est important pour une fabrication économique et un montage simplifié. Selon un développement préférentiel, le premier dispositif d'électrodes comporte plusieurs électrodes en forme de segments d'anneau de cercle découplés électriquement et installés symétrique-ment autour du poteau de suspension. Selon un autre développement préférentiel, le second dis-positif d'électrodes comporte un ensemble d'électrodes en forme de segments d'anneau de cercle couplés électriquement, symétriques et qui coïncident pour l'essentiel avec les électrodes en forme de segments d'anneau de cercle correspondants du premier dispositif d'électrodes suspendu autour du poteau de suspension. Selon un autre développement, le premier dispositif d'électrode et le second dispositif d'électrodes sont réalisés par la mise en structure respective d'une première et d'une seconde couche conductrice. Selon un autre développement préférentiel, on a une plaque de couverture au-dessus du second dispositif d'électrodes qui fixe l'accès au fluide de l'espace intermédiaire. Cela permet de diriger efficacement les ondes de densité ou ondes sonores dans l'espace intermédiaire. Dessins La présente invention sera décrite ci-après de manière plus détaillée à l'aide d'exemples de réalisation représentés à l'aide des dessins annexés dans lesquels : - les figures la,b sont des sections horizontales schématiques d'un composant micromécanique selon un premier mode de réalisation de l'invention à savoir, - la figure la est une section plane de la zone inférieure des électro- des, - la figure lb montre une section plane de la zone supérieure des électrodes, - les figures 2a,b,c sont des sections verticales schématiques du com- posant micromécanique du premier mode de réalisation de la pré-sente invention à savoir, - la figure 2a est une coupe selon les lignes A-A' ou B-B' des figures l a,b, - la figure 2b est une coupe selon les lignes C-C' ou Cl-Cl' des figures 1 a,b, - la figure 2c est une coupe selon les lignes Al-Al' ou Bl-Bl' des figures la,b. - les figures 3a-e montrent les étapes successives du procédé de fabrication du composant micromécanique correspondant à un premier mode de réalisation de l'invention selon des sections verticales schématiques suivant les lignes A-A', B-B' et les lignes C-C' et Cl-Cl' des figures la,b. - la figure 4 est une vue de dessus schématique d'un second mode de réalisation d'un composant micromécanique selon l'invention, - la figure 5 est une section verticale schématique du composant micromécanique selon le second mode de réalisation de l'invention correspondant à la ligne de coupe D-D' de la figure 4, - les figures 6a-d sont les étapes successives du procédé de fabrication d'un composant micromécanique selon un second mode de réalisa-tion de l'invention montrant des sections verticales schématiques suivant les lignes D-D' de la figure 4, - la figure 7 est une vue de dessus schématique coupée d'un troisième mode de réalisation d'un composant micromécanique selon l'invention, - la figure 8 est une vue de dessus schématique supérieure d'un quatrième mode de réalisation d'un composant micromécanique selon l'invention, - la figure 9 est une vue de dessus schématique d'un cinquième mode de réalisation d'un composant micromécanique selon l'invention, - la figure 10 est une coupe verticale schématique d'un cinquième mode de réalisation d'un composant micromécanique selon l'invention couplé suivant la ligne B2-B2' de la figure 12, - la figure 11 est une coupe verticale schématique du cinquième mode de réalisation du composant micromécanique de l'invention suivant la ligne B3-B3' de la figure 12, - la figure 12 est une coupe horizontale schématique du cinquième mode de réalisation d'un composant micromécanique selon l'invention, la coupe étant faite à travers la zone d'électrodes mobiles. Description des modes de réalisation Dans les différentes figures, on a utilisé les mêmes références pour désigner les mêmes composants ou des composants ayant la même fonction. Les figures 1 a,b sont des sections horizontales schémati- ques d'un premier mode de réalisation d'un composant micromécanique selon l'invention à savoir : la figure la est une section plane de la zone inférieure des électrodes. La figure lb est une section plane de la zone supérieure des électrodes. Les figures 2a,b,c sont des sections verticales schématiques correspondantes du premier mode de réalisation du corn- posant micromécanique selon l'invention à savoir : la figure 2a est une coupe selon les lignes A-A' ou B-B' des figures la,b ; la figure 2b est une coupe selon les lignes C-C' ou Cl-Cl' des figures la,b ; la figure 2c est une coupe selon les lignes Al-Al' et Bi-Bi' des figures la,b. La vue en coupe plane de la figure la montre un premier dispositif d'électrodes inférieures à quatre électrodes inférieures 3b1, 3b2, 3b3, 3b4, rigides en forme de segments de cercle avec chaque fois des branches d'alimentation 3d1, 3d2, 3d3, 3d4. La figure la montre également la branche inférieure du poteau de suspension central 10 avec la branche d'alimentation 3c l ayant une section centrale rectangulaire se terminant par une extrémité au niveau du segment circulaire inférieur d'un bouchon de contact 20 et à l'autre extrémité dans le montant de suspension central 10 à section ronde. Les références 3a1, 3a2, 3a3, 3a4, 3a5 désignent des segments de cadre entourant les électrodes 3b1, 3b2, 3b3, 3b4 du dispositif d'électrodes inférieures et ces segments sont seulement inter-rompus au niveau des branches d'alimentation 3d1, 3d2, 3d3, 3d4. Tous les éléments représentés à la figure la sont réalisés dans un plan dans une unique couche conductrice 3 (voir figure 3a) en polysilicium. La figure lb est une section plane d'un second dispositif 20 d'électrodes supérieures. Le dispositif d'électrodes supérieures comporte quatre électrodes 5b1, 5b2, 5b3, 5b4, en forme de segments de cercle, qui peuvent se déformer ; ces électrodes sont des poutres travaillant en flexion reliées par un segment d'anneau de cercle 5b0. Le segment d'anneau de cercle 5b0 est relié au poteau de suspension 10 par des 25 ressorts de flexion 5a1, 5a2, 5a3, 5a4, la liaison étant faite au niveau du segment supérieur du poteau 10. Le poteau de suspension 10 est formé par un bouchon conducteur 5c reposant sur le segment rond inférieur de la branche d'alimentation 3c l du poteau central de suspension 10. Les quatre électrodes 5b1, 5b2, 5b3, 5b4, en forme de 30 segments de cercle qui peuvent être fléchis, se situent à l'état non fléchi pratiquement au-dessus des électrodes 3b1, 3b2, 3b3, 3b4 en position homologue du dispositif d'électrodes inférieures en étant séparées par un intervalle 15 (voir figures 2a,b). Comme le montre également la figure lb, le bouchon de 35 contact 20 est formé par le bouchon conducteur 5d reposant sur le segment rond inférieur de la branche d'alimentation 3c l du poteau central de suspension 10. Un troisième dispositif périphérique rigide d'électrodes, sous la forme d'un anneau de cercle 5a, est prévu au-dessus des seg- ments de cadre 3a1, 3a2, 3a3, 3a4, 3a5, en étant séparés par une zone de couche d'isolation 4a, annulaire (voir figures 5a,b). Les éléments 5a, 5b1, 5b2, 5b3, 5b4, 5c, 5d sont égale-ment structurés dans une unique couche conductrice par exemple en polysilicium (voir figure 3d). Comme le montre la vue en coupe verticale de la figure 2a, entre les quatres électrodes 5b1, 5b2, 5b3, 5b4, en forme de segments flexibles et les quatres électrodes 3b1, 3b2, 3b3, 3b4, rigides en forme de segments de cercle, on a l'espace intermédiaire 15 rempli d'un fluide par exemple l'air ambiant. Entre le troisième dispositif d'électrodes en forme d'anneau de cercle 5a et les segments de cadre 3a1, 3a2, 3a3, 3a4, 3a5, on a la zone d'isolation annulaire 4a par exemple en oxyde de silicium. La figure 2a montre en outre une couche d'isolation continue 2 au-dessus du substrat 1 et en dessous du dispositif d'électrodes inférieures ; dans le présent exemple, cette couche est également en oxyde de silicium. La section verticale selon la figure 2b montre la suspension du segment d'électrode en anneau de cercle 5bO, sur le poteau central de suspension 10 par l'intermédiaire des minces ressorts de flexion 5a2, 5a4. Cette suspension permet aux électrodes 5bl, 5b2, 5b3, 5b4 du dispositif d'électrodes supérieures, de fléchir légèrement sous l'effet d'ondes sonores SW. Le contact électrique des quatres électrodes 5bl, 5b2, 5b3, 5b4 en forme de segments de cercle, flexibles est réalisé par le bouchon de contact 20 et la branche d'alimentation 3c1, le poteau cen- tral de suspension 10, les ressorts de flexion 5al, 5a2, 5a3, 5a4 et le segment d'électrodes en forme d'anneau de cercle 5bO. En subdivisant électriquement de manière azimutale les électrodes 3b1, 3b2, 3b3, 3b4 du dispositif d'électrodes inférieures on détecte les ondes sonores incidentes SW de manière directionnelle sen- sitive. Les doubles flèches des figures 2a, 2b montrent les directions de débattement du dispositif d'électrodes supérieures. Les figures 3a-e montrent les étapes successives d'un procédé de fabrication du composant micromécanique correspondant au premier mode de réalisation de la présente invention sous la forme de sections verticales schématiques faites le long des lignes A-A' et B-B' ainsi que le long des lignes C-C' et Cl-Cl' selon les figures la,b. Les zones gauche et droites respectives des figures 3a-e correspondent aux vues de la figure 2a (zone gauche) et la figure 2b (zone droite). Comme la représentation de la figure 2c est claire, la réalisation selon la coupe de la figure 2c n'a pas été reprise aux figures 3a-e. Selon la figure 3a, sur le substrat 1 en silicium on applique d'abord une couche d'isolation 2 en oxyde de silicium et/ ou en nitrure de silicium ou une combinaison des deux. Puis, on dépose une première couche conductrice 3 en polysilicium. Selon la figure 3b, on structure la première couche conductrice 3 en polysilicium pour former les électrodes 3b1, 3b2, 3b3, 3b4 avec les branches d'alimentation 3d1, 3d2, 3d3, 3d4, les éléments de cadre 3a1, 3a2, 3a3, 3a4, 3a5 et la branche d'alimentation 3c1 du po- teau central de suspension 10. Cette mise en structure se fait en appliquant des procédés connus de photolithographie qui ne seront pas décrits ici de manière détaillée. La mise en structure donne l'état représenté à la figure 1. Ensuite, selon la figure 3c, on dépose une seconde cou- che d'isolation 4 d'oxyde de silicium sur la couche conductrice 3 mise en structure, en polysilicium et la première couche d'isolation 2. En-suite, on enlève par photolithogravure les zones de la couche d'isolation 4 qui dépassent des zones rondes (voir figure 1) de la branche d'alimentation 3c l puis, on prévoit le poteau central de suspension 10 ou le bouchon de contact 20. Selon la figure 3d, on dépose ensuite une seconde couche conductrice 5 en polysilicium sur la structure. Ensuite, on effectue le polissage de la seconde couche conductrice 5, la face supérieure de la seconde couche d'isolation 4 en oxyde de silicium servant de barrière au polissage. Grâce à ce polissage, on complète les branches de raccordement en forme de bouchons 5c, 5d du poteau central de suspension 10 ou du bouchon de contact 20 dans la couche d'isolation 4. Ensuite, on dépose de nouveau la seconde couche conductrice 5 sur la face supérieure de la structure ce qui donne l'état représenté à la figure 3d. Le cas échéant, on peut même renoncer au polissage et dans ce cas il n'y a pas de nouveau dépôt d'une couche. Selon la figure 3d, on réalise une structure par photolithogravure dans la seconde couche conductrice 5 pour former les électrodes 5b1, 5b2, 5b3, 5b4, le segment d'électrode annulaire 5b0 ainsi que les ressorts de flexion 5a1, 5a2, 5a3, 5a4 et le segment supérieur du poteau central de suspension 10 ou du bouchon de contact 20 ainsi que le troisième dispositif d'électrode annulaire 5a comme cela apparaît à la figure lb. 15 Il convient de remarquer que l'épaisseur des ressorts de flexion 5al, 5a2, 5a3, 5a4 est inférieure à l'épaisseur des électrodes 5b 1, 5b2, 5b3, 5b4 et le segment d'électrode de forme annulaire 5bO ce qui peut être influencé notamment par les perforations géométriques et les potentiels électriques par la gravure sacrificielle. Si on donne aux 20 ressorts de flexion une forme de méandre, l'épaisseur des ressorts de flexion peut être égale à celle des électrodes. Ensuite, on enlève partiellement par gravure, la couche d'isolation 4 pour former l'espace intermédiaire 15. Pour définir précisément l'endroit où il faut enlever la couche d'isolation 4, on utilise une 25 perforation (non représentée) du dispositif d'électrodes supérieures. Cela permet d'obtenir notamment les arêtes verticales de la zone d'isolation 4a au-dessus des segments de cadre 3a1, 3a2, 3a3, 3a4, 3a5. L'état du procédé selon la figure 3e correspond finale- 30 ment à l'état représenté aux figures 2a, b. La figure 4 est une vue de dessus schématique d'un composant micromécanique selon un second mode de réalisation de l'invention ; la figure 5 est une section verticale schématique du second mode de réalisation du composant micromécanique selon l'invention, la 35 coupe étant faite selon la ligne D-D' de la figure 4. Il Dans le second mode de réalisation selon les figures 4 et 5, au-dessus du dispositif d'électrodes supérieures, au-dessus des segments de cadre ou du troisième dispositif d'électrode 5a, on a une plaque de couverture 30 munie d'orifices traversant 35 pour les ondes notamment les ondes sonores. La plaque de couverture 30 est constituée par une couche non conductrice (voir figure 6d) dans laquelle on a dégagé par mise en structure, les orifices traversant 35 ainsi qu'un orifice traversant central 40. La plaque de couverture 30 est séparée des segments de cadre ou du troisième dispositif d'électrode 5a, par une io autre couche d'isolation 14a. La plaque de couverture 30 peut être une couche isolante ou une couche non isolante et servir alors d'autres électrodes (voir figures 9 à 13). Les figures 6a-d montrent des étapes successives du pro-cédé de fabrication du second mode de réalisation du composant mi- 15 cromécanique selon l'invention représenté par des sections verticales schématiques faites le long des lignes D-D' de la figure 4. L'état du procédé selon la figure 6a correspond à celui de la figure 3d et la coupe correspond à la figure 2a. Après l'état de la figure 6a, selon la figure 6b, on réalise par mise en structure les électro- 20 des 5bl, 5b2, 5b3, 5b4 ainsi que les ressorts de flexion 5al, 5a2, 5a3, 5a4 et le segment de bouchon 5c du poteau de suspension 10 et le segment 5d du bouchon de contact 20 dans la seconde couche conductrice 5. Ensuite, on dépose la troisième couche d'isolation 14 en 25 oxyde de silicium au-dessus de la structure résultante. Au-dessus de la troisième couche d'isolation 14, on dépose la couche non conductrice par exemple en nitrure de silicium constituant la plaque de couverture 30 et on structure cette couche. Ensuite, on réalise la gravure sacrificielle selon laquelle on enlève la seconde couche d'isolation 4 et la troi- 30 sième couche d'isolation 14 dans les zones correspondant à l'intervalle 15 pour la détection du son entre le dispositif d'électrodes inférieures et le dispositif d'électrodes supérieures. On aboutit finalement à l'état du procédé représenté à la figure 6d. La figure 7 montre une vue de dessus schématique partielle d'un troisième mode de réalisation d'un composant micromécanique selon la présente invention. Dans ce troisième mode de réalisation selon la figure 7, on a prévu une ondulation sur les électrodes flexibles supérieures 5b1, 5b2, 5b3, 5b4 ; dans le cas présent, cette réalisation se présente sous la forme d'un bossage W ondulé. Il est également possible de prévoir une ondulation des ressorts de flexion 5a1, 5a2, 5a3, 5a4 pour la relaxation des gradients de contrainte et des contraintes dans le plan ; cette ondulation se compose alors d'une superposition d'ondes radiales concentriques et d'ondes azimutales particulièrement intéressantes. Grâce aux différences des perforations et ondulations dans les segments de poutre de flexion on obtient différentes propriétés mécaniques et des propriétés fluidiques. 15 La figure 8 montre une partie schématique en vue de dessus d'un quatrième mode de réalisation d'un composant micromécanique selon l'invention. Dans ce quatrième mode de réalisation selon la figure 8, le troisième dispositif d'électrode périphérique 5a' comporte en plus une 20 structure en peigne avec des dents 52 et des dégagements 53 en prise avec une structure en peigne correspondante comportant des dents 50 et des dégagements 51 des électrodes 5b l' ou des dispositifs d'électrodes supérieures. La figure 9 est une vue de dessus schématique d'un cornposant micromécanique correspondant à un cinquième mode de réalisation de l'invention ; les figures 10 et 11 sont des sections verticales schématiques du composant micromécanique correspondant au cinquième mode de réalisation de l'invention, la coupe étant faite selon les lignes B2-B2' ou B3-B3' de la figure 12. La figure 12 est une section horizontale schématique du cinquième mode de réalisation du composant micromécanique de la présente invention, la coupe étant faite à travers la zone d'électrodes mobiles. Dans le cinquième mode de réalisation selon les figures 9 à 12, une plaque de couverture conductrice 30' munie d'orifices de pas- 35 sage 35 pour les ondes notamment les ondes sonores est prévue au- dessus du dispositif d'électrodes supérieures, au-dessus des segments de cadre. La plaque de couverture 30' est une couche conductrice de silicium dont on a dégagé par mise en structure les orifices traversant 35 ainsi qu'un orifice traversant central 40. La plaque de couverture 30' est séparée des segments de cadre par l'autre couche d'isolation 14a. Dans ce mode de réalisation elle forme une autre électrode formant un dispositif de condensateur différentiel avec les électrodes mobiles 5b 1', 5b2', 5b3', 5b4' et les électrodes inférieures rigides 3b1, 3b2, 3b3, 3b4. Selon les figures 10 à 12, dans ce mode de réalisation il n'y a pas de poteau central de suspension mais les électrode mobiles 5b l', 5b2', 5b3', 5b4' sont suspendues à une zone d'électrode centrale 5b0', circulaire et celle-ci est elle-même suspendue par des ressorts de flexion 5a1', 5a2', 5a3', 5a4' à un élément de cadre 5a' réalisé dans la même couche. L'élément de cadre 5a' est accroché par la couche d'isolation 4a et les éléments 4a, 3a1-3a5 ainsi que la couche d'isolation 2 au substrat 1. La présente invention décrite pour des exemples préférentiels n'est pas limitée à ceux-ci. En particulier, on peut choisir de manière quelconque la géométrie des électrodes et des matières d'une façon non limitée aux exemples présentés. La matière des deux couches conductrices n'est pas limitée au polysilicium mais peut également être en métal.25 NOMENCLATURE 3a1 - 3a5 3d 1 - 3d5 3b 1 - 3b4 10 20 5b 1 - 5b4 5b l' - 5b4' 5b0 5b0' 5a1 - 5a4 5a1' - 5a4' 5c 5d 3c1 5a 5a' 15 1 2 4, 4a 14, 14a 30, 30' 35 40 W 51-53 Segments de cadre Branches d'alimentation Zone d'électrodes inférieures Poteau de suspension Bouchon de contact Branches d'électrodes supérieures Branches d'électrodes supérieures Segment d'électrode en forme d'anneau de cercle Segment d'électrode en forme d'anneau de cercle Ressorts de flexion Ressorts de flexion Bouchon de contact du poteau 10 Bouchon de contact de 20 Branche d'alimentation Troisième dispositif d'électrode annulaire Elément de cadre Espace intermédiaire Substrat Première couche d'isolation Seconde couche d'isolation Troisième couche d'isolation Plaque de recouvrement Orifice traversant Orifice traversant central Ondulations Structure en forme de peigne REVENDICATIONS 1 ) Composant micromécanique ayant: - un substrat (1), - un premier dispositif d'électrodes rigides (3b, 3b2, 3b3, 3b4), installé sur ou dans le substrat (1), - un second dispositif d'électrodes (5b0, 5b1, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5b0', 5b l', 5b2', 5b3', 5b4') suspendu au substrat (1), - un espace intermédiaire (15) entre le premier dispositif d'électrodes (3b1, 3b2, 3b3, 3b4) et le second dispositif d'électrodes (5b0, 5b1, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5b0', 5b 1', 5b2', 5b3', 5b4'), caractérisé en ce que le second dispositif d'électrodes (5b0, 5b 1, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5b0', 5b l', 5b2', 5b3', 5b4') est installé de manière à fléchir élastiquement par rapport au premier dispositif d'électrodes (3b1, 3b2, 3b3, 3b4) sur le subs- trat (1) pour que la capacité du condensateur formé par le premier dispositif d'électrodes (3b1, 3b2, 3b3, 3b4), le second dispositif d'électrodes (5b0, 5b 1, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5b0', 5b l', 5b2', 5b3', 5b4') et l'espace intermédiaire (15) soit variable. 2 ) Composant micromécanique selon la revendication 1, caractérisé par un poteau de suspension (10) prévu sur le substrat (1) par lequel le second dispositif d'électrodes (5b0, 5b 1, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5b0', 5b l', 5b2', 5b3', 5b4') est suspendu au substrat (1). 3 ) Composant micromécanique selon la revendication 1, caractérisé par une installation de cadre (3a1, 3a2, 3a3, 3a4, 3a5 ; 4a ; 5a') sur le substrat (1) pour suspendre le second dispositif d'électrodes (5bO, 5b l , 5b2, 5b3, 5b4 ; 5bO', 5b l', 5b2', 5b3', 5b4') au substrat (1). 4 ) Composant micromécanique selon la revendication 2, caractérisé en ce quele premier dispositif d'électrodes (3b1, 3b2, 3b3, 3b4) comporte un en-semble d'électrodes découplées électriquement (3b1, 3b2, 3b3, 3b4) installé symétriquement autour du poteau de suspension (10). 5 ) Composant micromécanique selon la revendication 4, caractérisé en ce que le second dispositif d'électrodes (5b0, 5bl, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5b0', 5bl', d'électrodes en étant suspendues autour du poteau (10). 6 ) Composant micromécanique selon la revendication 1, caractérisé en ce que le second dispositif d'électrodes (5b0, 5bl, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5b0', 5bl', 5b2', 5b3', 5b4') est suspendu au poteau de suspension (10) ou à l'installation de cadre (3a1, 3a2, 3a3, 3a4, 3a5 ; 4a, 5a') par un ensemble de ressort de flexion (5al, 5a2, 5a3, 5a4, 5al', 5a2', 5a3', 5a4') 7 ) Composant micromécanique selon la revendication 1, caractérisé par une installation de cadre (3a1, 3a2, 3a3, 3a4, 3a5 ; 4a) autour du premier dispositif d'électrode (3b1, 3b2, 3b3, 3b4) et du second dispositif d'électrodes (5bO, 5bl, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5bO', 5bl', 5b2', 5b3', 5b4') avec un troisième dispositif d'électrode (5a). 8 ) Composant micromécanique selon la revendication 7, caractérisé en ce que le troisième dispositif d'électrode (5a) entoure le second dispositif 30 d'électrodes (5bO, 5bl, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5bO', 5bl', 5b2', 5b3', 5b4'). 9 ) Composant micromécanique selon l'une quelconque des revendications 7 ou 8, caractérisé en ce que 5b2', 5b3', 5b4') comporte plusieurs électrodes couplées électriquement (5b1, 5b2, 5b3, 5b4) qui sont symétriques et coïncident pratiquement avec les électrodes (3b1, 3b2, 3b3, 3b4) du premier dispositifle troisième dispositif d'électrode (5a) et le seconde dispositif d'électrodes (5b0, 5b 1, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5b0', 5b l', 5b2', 5b3', 5b4') s'interpénètrent au moins par zone à la manière de peignes. 10 ) Composant micromécanique selon la revendication 1, caractérisé en ce que le premier dispositif d'électrodes (3b1, 3b2, 3b3, 3b4) et le second dis-positif d'électrode (5b0, 5b 1, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5b0', 5b l', 5b2', 5b3', 5b4') sont structurés chacun à partir d'une première et d'une seconde couche conductrice (3, 5). 11 ) Composant micromécanique selon la revendication 1, caractérisé par une plaque de couverture (30 ; 30') au-dessus du second dispositif d'électrodes (5b0, 5b 1, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5b0', 5b 1', 5b2', 5b3', 5b4') qui assure un accès (35, 40) du fluide au volume intermédiaire (15). 12 ) Composant micromécanique selon la revendication 11, caractérisé en ce que la plaque de couverture (30, 30') constitue un autre dispositif d'électrode. 13 ) Composant micromécanique selon la revendication 1, caractérisé en ce que le second dispositif d'électrodes (5b0, 5b 1, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5b0', 5b l', 5b2', 5b3', 5b4') et/ou les ressorts de flexion (5a1, 5a2, 5a3, 5a4 ; 5a1', 5a2', 5a3', 5a4') ont une structure ondulée (W). 14 ) Composant micromécanique selon la revendication 1, caractérisé en ce que le premier dispositif d'électrodes (3b1, 3b2, 3b3, 3b4) est séparé du substrat par une première couche d'isolation. 15 ) Procédé de fabrication d'un composant micromécanique, caractérisé parles étapes suivantes : - on réalise un substrat (1), - on établit un premier dispositif d'électrodes (3b1, 3b2, 3b3, 3b4) dans ou sur le substrat (1) à partir d'une première couche conduc- trice (3), - on réalise une seconde couche d'isolation (4) sur le premier dispositif d'électrodes, fixe (3b1, 3b2, 3b3, 3b4), - on réalise dans une couche conductrice (5), un second dispositif d'électrodes (5b0, 5b 1, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5b0', 5b l', 5b2', 5b3', 5b4') accroché au substrat (1), - on réalise un espace intermédiaire (15) entre le premier dispositif d'électrodes (3b1, 3b2, 3b3, 3b4) et le second dispositif d'électrodes (5b0, 5b 1, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5b0', 5b l', 5b2', 5b3', 5b4') par la gravure partielle d'une couche sacrificielle de la seconde couche d'isolation (4), de façon à permettre au second dispositif d'électrodes (5b0, 5b1, 5b2, 5b3, 5b4, 5b0', 5b l', 5b2', 5b3', 5b4') de fléchir élastiquement par rapport au premier dispositif d'électrodes (3b1, 3b2, 3b3, 3b4) tenu au poteau de suspension (10) pour que la capacité d'un condensateur formé par le premier dispositif d'électrodes (3b1, 3b2, 3b3, 3b4), le second dispositif d'électrodes (5b0, 5b 1, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5b0', 5b l', 5b2', 5b3', 5b4') et l'espace intermédiaire (15) soit variable. 16 ) Procédé selon la revendication 15, caractérisé par un poteau de suspension (10) par lequel le second dispsositif d'électrode (5b0, 5b 1, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5b0', 5b l', 5b2', 5b3', 5b4') est suspendu au substrat (1). 17 ) Procédé selon la revendication 15, caractérisé par une installation de cadre (3a1, 3a2, 3a3, 3a4, 3a5 ; 4a ; 5a') autour du premier dispositif d'électrodes (3b1, 3b2, 3b3, 3b4) et du second dispositif d'électrodes (5bO, 5b l , 5b2, 5b3, 5b4 ; 5bO', 5b l', 5b2', 5b3', 5b4')par lequel le second dispositif d'électrodes (5b0, 5b1, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5b0', 5b l', 5b2', 5b3', 5b4') est suspendu au substrat (1). 18 ) Procédé selon la revendication 15, caractérisé par un troisième dispositif d'électrode (5a) réalisé dans la seconde couche conductrice (5) sur l'installation de cadre (3a1, 3a2, 3a3, 3a4, 3a5 ; 4a ; 5a'). 19 ) Procédé selon la revendication 18, caractérisé par une plaque de couverture (30 ; 30') conductrice ou isolante au-dessus du second dispositif d'électrodes (5b0, 5b 1, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5b0', 5b l', 5b2', 5b3', 5b4') constitue l'accès du fluide (35, 40) à l'espace intermé-diaire (15). 20 ) Procédé selon la revendication 17, caractérisé en qu' avant la gravure de la couche sacrificielle de la seconde couche d'isolation (4), on réalise une troisième couche d'isolation (14) sur le second dispositif d'électrodes (5b0, 5b 1, 5b2, 5b3, 5b4 ; 5b0', 5b l', 5b2', 5b3', 5b4') et ensuite, on réalise la plaque de couverture (30 ; 30') sur la troisième couche d'isolation (14) et finalement on réalise l'espace intermédiaire (15) par gravure partielle de la couche sacrificielle de la se- conde couche d'isolation (4) et la troisième couche sacrificielle (14). 21 ) Application d'un composant micromécanique selon l'une quelconque des revendications 1 à 14 comme micro.30