FR 2897718 A1 20070824 FR 0650601 A 20060222 STRUCTURE DE CATHODE A NANOTUBES POUR ECRAN EMISSIF DESCRIPTION DOMAINE TECHNIQUE L'invention concerne une structure de cathode à nanotubes utilisable dans un écran plat à émission de champ. ÉTAT DE LA TECHNIQUE ANTÉRIEURE Un dispositif de visualisation par cathodo- luminescence excité par émission de champ comprend une cathode ou structure émettrice d'électrons et une anode en regard recouverte d'une couche luminescente. L'anode et la cathode sont séparées par un espace où le vide a été fait. La cathode est soit une source à base de micro-pointes, soit une source à base d'une couche émissive à faible champ seuil. La couche émissive peut être une couche de nanotubes de carbone ou d'autres structures à base de carbone ou encore à base d'autres matériaux ou de multicouches (AIN, BN). La structure de la cathode peut être de type diode ou de type triode. Le document FR-A-2 593 953 (correspondant au brevet américain N 4 857 161) divulgue un procédé de fabrication d'un dispositif de visualisation par cathodoluminescence excité par émission de champ. La structure de la cathode est du type triode. Le matériau émetteur d'électrons est déposé sur une couche conductrice apparente au fond de trous réalisés dans une couche isolante qui supporte une grille d'extraction des électrons. Le document FR-A-2 836 279 divulgue une structure de cathode de type triode pour écran émissif. La structure de cathode comprend, en superposition sur un support, une électrode formant cathode électriquement connectée à un matériau émetteur d'électrons, une couche d'isolant électrique et une cathode de grille. Une ouverture pratiquée dans l'électrode de grille et une ouverture pratiquée dans la couche d'isolant électrique exposent le matériau émetteur d'électrons qui est situé dans la partie centrale de l'ouverture de l'électrode de grille. Les ouvertures sont en forme de fente et le matériau émetteur d'électrons, exposé par les fentes, est constitué d'éléments alignés selon l'axe longitudinal des fentes. Le matériau émetteur d'électrons peut être constitué de nanotubes, par exemple des nanotubes de 20 carbone. La figure 1 représente, vue en coupe et de façon schématique, une structure de cathode de type triode, telle que divulguée par le document FR-A-2 836 279. Un seul élément d'émission est représenté 25 sur cette figure. La structure de cathode est formée sur un support 1. Elle comprend, en superposition sur le support 1, une cathode 2 supportant une couche résistive 3, une couche isolante 4 et une couche métallique 5 formant grille d'extraction des électrons. 30 Une fente 6 expose la couche résistive 3. En partie centrale de la fente 6, et selon l'axe longitudinal de la fente, des plots de croissance 7 reposent sur la couche résistive 3. Un seul plot de croissance est visible sur la figure. Les plots de croissance 7 sont en matériau électriquement conducteur recouvert d'un catalyseur. Ils permettent la croissance de nanotubes 8, par exemple en carbone. Typiquement, un élément d'image ou pixel comporte quelques dizaines ou centaines de plots arrangés dans des fentes parallèles. Compte tenu du mode de croissance utilisé, les nanotubes ont des longueurs et des orientations, par rapport à la cathode, qui fluctuent. Il en résulte que quelques nanotubes très longs peuvent exister et venir toucher la grille de façon aléatoire. C'est ce que montre la figure 2 où le nanotube 8' est en contact électrique avec la grille 5. Un tel contact produit plusieurs effets défavorables. Lors de l'adressage du pixel la grille est portée à un potentiel de l'ordre de 80 V à 100 V par rapport à l'anode pour créer le champ électrique à l'extrémité du nanotube, ce champ permet l'extraction des électrons. Les nanotubes étant électriquement bon conducteurs, si l'un d'entre eux touche la grille, le plot supportant les nanotubes est porté au potentiel de la grille (à cause de la couche résistive entre la cathode et le plot), il n'y a plus d'émission. Le nombre de plots en court-circuit avec la grille varie aléatoirement d'un pixel à l'autre produisant une variation de luminance pixel à pixel qui n'est pas négligeable compte tenu du nombre relativement faible de plots par pixel. Ce court-circuit grille cathode est limité par la présence de la couche résistive. Néanmoins, si le nombre de plots en court-circuit n'est pas très faible, il circule un courant de fuite entre la grille et la cathode qui augmente la consommation du dispositif jusqu'à empêcher son fonctionnement s'il est trop important. Il est par ailleurs souhaitable d'augmenter l'épaisseur de l'isolant entre la cathode et la grille pour diminuer la capacité ligne colonne et diminuer la consommation de l'écran. Le mode de dépôt du catalyseur par pulvérisation cathodique ou évaporation, compte tenu de sa divergence intrinsèque, a tendance à induire un élargissement du plot de catalyseur lorsque l'épaisseur de l'isolant augmente. Les figures 3A et 3B illustrent le mode de dépôt du catalyseur sur les plots de croissance lorsque l'épaisseur de l'isolant entre la cathode et la grille augmente. Sur ces figures, les mêmes références que sur la figure 1 représentent les mêmes éléments. Sur la figure 3A, la couche d'isolant 4 a la même épaisseur que sur la figure 1. Sur la figure 3B, la couche d'isolant, référencée 4' a une épaisseur plus grande que sur la figure 1. Le catalyseur est déposé sur le plot 7 au travers d'une ouverture 11 prévue dans une couche de résine de lift-off 10 déposée sur la structure de cathode, l'ouverture 11 étant en vis-à-vis du plot 7. Sur la figure 3A, le catalyseur est déposé sur le plot 7 selon le cône d'évaporation du catalyseur 12. Sur la figure 3B, le catalyseur est déposé sur le plot 7' selon le cône d'évaporation 12'. La base du cône 12' étant plus large que la base du cône 12, il résulte de ceci que le plot du catalyseur 7' est plus large que le plot du catalyseur 7. Il s'ensuit, pour la structure de cathode de la figure 3B, un rapprochement des nanotubes, déposés par la suite, du bord de la grille et de ce fait, les courants de fuite augmentent de façon importante. Cette structure de cathode selon l'art connu n'est donc pas optimisée pour les courants de fuite. EXPOSÉ DE L'INVENTION L'invention propose une structure de cathode permettant d'optimiser les courants de fuite. L'invention a donc pour objet une structure de cathode de type triode comprenant, en superposition sur un support, un conducteur de cathode, une couche d'isolant électrique et une électrode de grille, la couche d'isolant électrique et l'électrode de grille présentant des ouvertures révélant au moins un élément émetteur d'électrons, relié électriquement au conducteur de cathode et comprenant des nanotubes en matériau émetteur d'électrons, caractérisée en ce que les ouvertures dans la couche d'isolant électrique et dans l'électrode de grille sont dimensionnées pour laisser subsister au moins une zone de la couche d'isolant électrique non recouverte par l'électrode de grille. La largeur d'ouverture dans la couche d'isolant électrique peut présenter une dimension suffisamment restreinte pour guider les nanotubes dans une direction perpendiculaire au support. Une couche résistive peut recouvrir au moins partiellement la partie de la couche d'isolant électrique non recouverte par l'électrode de grille. Une couche résistive peut recouvrir au moins une partie de l'électrode de grille. Ladite couche résistive peut s'étendre au moins à l'aplomb de l'ouverture de l'électrode de grille. La couche résistive peut recouvrir de façon continue au moins une partie de l'électrode de grille et la partie de la couche d'isolant électrique non recouverte par l'électrode de grille jusqu'à l'aplomb de l'ouverture de la couche d'isolant électrique. Selon un mode de réalisation, l'épaisseur de la couche d'isolant électrique est sensiblement égale à la longueur moyenne des nanotubes. Selon un autre mode de réalisation, la couche d'isolant électrique présente, près de son ouverture, un bord d'épaisseur plus importante que l'épaisseur du reste de ladite couche. Le bord de la couche d'isolant électrique peut être compris entre l'ouverture de la couche d'isolant électrique et l'ouverture de l'électrode de grille. Avantageusement, ledit élément émetteur d'électrons est relié électriquement au conducteur de cathode au moyen d'une couche résistive de protection. Selon un mode particulier de réalisation, la couche d'isolant électrique comprend au moins une ouverture en forme de fente sensiblement parallèle à une ouverture correspondante de l'électrode de grille en forme de fente. Selon un autre mode particulier de réalisation, l'ouverture de l'électrode de grille est en forme de fente et révèle au moins une rangée d'éléments émetteurs d'électrons alignés dans la direction de la fente. Une ouverture de l'électrode de grille peut révéler une pluralité d'ouvertures dans la couche d'isolant électrique, alignées en au moins une rangée sensiblement parallèle à l'ouverture de l'électrode de grille en forme de fente. Chaque ouverture dans la couche d'isolant électrique peut révéler au moins un élément émetteur d'électrons. L'invention a aussi pour objet un écran plat à émission de champ, comportant une pluralité de structures de cathode telles que définies ci-dessus. BRÈVE DESCRIPTION DES DESSINS L'invention sera mieux comprise et d'autres avantages et particularités apparaîtront à la lecture de la description qui va suivre, donnée à titre 20 d'exemple non limitatif, accompagnée des dessins annexés parmi lesquels : - la figure 1 représente, vue en coupe, une structure de cathode de type triode utilisant des nanotubes comme matériau émetteur d'électrons, selon 25 l'art antérieur, - la figure 2 représente la structure de cathode de la figure 1 dans laquelle un nanotube est en court-circuit avec la grille, -les figures 3A et 3B sont des 30 illustrations du mode de dépôt d'un catalyseur sur des15 plots de croissance pour une structure de cathode du type de la figure 1, - la figure 4 est une vue en coupe illustrant une première structure de cathode à nanotubes selon la présente invention, -la figure 5 est une vue en coupe illustrant une deuxième structure de cathode à nanotubes selon la présente invention, - la figure 6 est une vue en coupe illustrant une troisième structure de cathode à nanotubes selon la présente invention, - la figure 7 est une vue en coupe illustrant une quatrième structure de cathode à nanotubes selon la présente invention, -la figure 8 est une vue en coupe illustrant une cinquième structure de cathode à nanotubes selon la présente invention, - les figures 9 à 11 sont des vues de dessus de structures de cathodes à nanotubes selon l'invention, montrant différents motifs de grilles pouvant être utilisés, - les figures 12A à 12G sont des vues en coupe illustrant un procédé de réalisation d'une structure de cathode à nanotubes selon l'invention. EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS Les exemples de réalisation qui vont maintenant être décrits concernent, à titre d'exemple, une structure de cathode à nanotubes comprenant une ouverture pratiquée dans l'électrode et une ouverture correspondante pratiquée dans la couche d'isolant électrique exposant les éléments émetteurs d'électrons. Les ouvertures sont en forme de fente, d'axe longitudinal confondu, et les éléments émetteurs d'électrons sont alignés le long de cet axe. Cette disposition correspond à l'enseignement du document FRA-2 836 279, tel qu'illustré par les figures 1 et 2 décrites plus haut. La figure 4 est une vue en coupe illustrant une première structure de cathode à nanotubes selon la présente invention. Un seul élément émetteur d'électrons a été représenté. La structure de cathode est formée sur un support 21. Elle comprend, en superposition sur le support 21, une cathode 22 supportant une couche résistive 23, une couche isolante 24 et une grille d'extraction des électrons 25. Des ouvertures ont été pratiquées dans la couche métallique fournissant la grille 25 et dans la couche d'isolant électrique 24. Il en résulte une fente 26 exposant la couche résistive 23 sur laquelle un plot de croissance conducteur 27 a été formé. La référence 28 représente les nanotubes, par exemple en carbone, qui ont été développés sur le plot de croissance 27. La probabilité de contact entre les nanotubes 28 et la grille 25 a été minimisée en rapprochant l'isolant électrique 24 des plots de croissance 27. Ce rapprochement a pour effet de guider les nanotubes sur une partie de leur longueur et de rendre plus difficile un contact avec l'électrode de grille dont la dimension de l'ouverture n'a pas varié. Cependant, la présence d'une surface isolante, comme la surface 30, en regard d'une anode peut s'avérer une source de non-fiabilité importante à cause de l'accumulation de charges électriques sur l'isolant. Cette accumulation de charges peut conduire à des arcs électriques destructeurs entre la cathode et l'anode. On peut remédier à ce problème en recouvrant l'isolant électrique d'une couche d'un matériau résistif, référencée 31 sur la figure 5. La couche de matériau résistif 31 permet en outre, si la couche 31 se prolonge sur la grille 25, de supprimer l'effet de court-circuit des nanotubes qui seraient encore capables de toucher la grille 25. Avantageusement, la résistance de la couche résistive 31 est telle, qu'en cas de contact d'un nanotube, le pont diviseur créé par la mise en série des couches résistives 31 et 23 conduit à un potentiel sur le plot 27 proche du potentiel de la cathode 22. Cela signifie que la résistance de la couche 31 est typiquement entre 10 et 100 fois supérieure à la résistance de la couche résistive ballast 23, soit de l'ordre de 109 à 101 ohms par carré contre 108 ohms par carré pour la couche résistive ballast 23. La distance entre le bord de la grille 25 et l'ouverture pratiquée dans la couche isolante 24 est ajustable de quelques dizaines de nm à (W-p)/2, où W est la largeur de l'ouverture de grille et p la largeur du plot de croissance 27 (voir la figure 5). Typiquement, W = 10 }gym et p = 5 }gym. Selon une autre variante de réalisation, l'épaisseur de la couche d'isolant électrique peut être augmentée de façon que la longueur moyenne des nanotubes soit par exemple égale à l'épaisseur de la couche isolante. C'est ce que représente la figure 6 où les mêmes éléments que sur la figure 5 sont référencés à l'identique, à l'exception de la couche isolante 24' qui est plus épaisse que la couche isolante 24 de la figure 5. Dans une structure de cathode, l'épaisseur de la couche d'isolant électrique peut être choisie de manière à diminuer la capacité du dispositif incorporant la structure de cathode, indépendamment d'une considération sur la longueur des nanotubes. L'invention résout bien le problème du rapprochement des nanotubes de la grille lorsque l'épaisseur de la couche d'isolant électrique augmente. En effet, le catalyseur peut éventuellement recouvrir partiellement les flancs de l'ouverture pratiquée dans la couche d'isolant sans induire de problème de court-circuit. Selon une autre variante de réalisation, l'épaisseur de la couche d'isolant électrique peut n'être augmentée qu'à proximité des nanotubes. C'est ce que représente la figure 7 qui reprend les mêmes références pour les éléments identiques à ceux de la figure 5. La référence 29 désigne la partie de la couche d'isolant électrique d'épaisseur augmentée. Sur la figure 7, la partie 29 est comprise entre l'ouverture de la grille et l'ouverture de l'isolant électrique. La couche résistive 31 peut ne recouvrir que partiellement la couche d'isolant électrique. Elle peut aussi être supprimée comme cela est visible sur la figure 8 où les mêmes références qu'à la figure 7 représentent les mêmes éléments. Parmi les avantages apportés par l'invention, outre la résolution du problème de courant de fuite, on peut mentionner une plus grande efficacité de la structure au niveau du champ électrique créé au sommet des nanotubes. En effet, le potentiel de grille est rapproché des nanotubes grâce à la couche résistive 31 présente sur la grille 25, donc le champ induit est plus fort à tension donnée. Les figures 9, 10 et 11 sont des vues de dessus des structures de cathodes à nanotubes selon l'invention, montrant différents motifs de grilles pouvant être utilisés. La figure 9 est une vue de dessus correspondant à la variante de réalisation représentée à la figure 5. Cette figure montre des plots 27 de croissance des nanotubes, disposés en alignement selon l'axe longitudinal des fentes 26. On reconnaît également les conducteurs de grille 25 sous les couches de matériau résistif 31. Les ouvertures de la couche résistive sont des fentes (à l'aplomb des ouvertures de l'isolant), chaque fente comportant une pluralité de plots 27. La figure 10 est une vue de dessus montrant un autre motif pour une structure de cathode selon l'invention. Les plots 127 de croissance des nanotubes sont ici formés dans des puits 126 à raison d'un plot par puits. Les puits correspondent à des ouvertures réalisées dans la couche résistive et la couche d'isolant. Ils sont situés dans cet exemple à égales distances des conducteurs de grille 125 adjacents. La couche résistive recouvre par ailleurs les conducteurs de grille. Cette structure a pour avantage, entre autres, de diminuer la consommation par rapport à la structure de la figure 9. En effet, le potentiel de grille est rapproché des nanotubes grâce à la couche résistive. Pour obtenir un champ équivalent, une tension plus forte peut être appliquée. La figure 11 est une vue de dessus montrant encore un autre motif pour une structure de cathode selon l'invention. Cette fois, deux rangées de plots 227 de croissance de nanotubes sont formés dans des puits à raison d'un plot par puits. Les puits correspondent à des ouvertures réalisées dans la couche résistive et la couche isolante. Deux rangées de plots successives étant comprises entre un premier conducteur de grille 225 et un deuxième conducteur de grille 225. La présence de la couche résistive autour de chaque plot permet l'application de la tension grille autour du plot. Cette variante permet d'obtenir un taux de remplissage de la surface en plots plus grand. Elle permet d'avoir plus de plots par pixel d'où une meilleure uniformité de l'écran et un courant plus important. Les figures 12A à 12G sont des vues en coupe illustrant un procédé de réalisation d'une structure de cathode à nanotubes selon l'invention. La figure 12A montre un support 321, par exemple en verre, sur lequel on a réalisé, par des opérations de dépôt et de gravure, des conducteurs de cathode 322. Ces conducteurs de cathode peuvent être en molybdène ou en alliage de tungstène et de titane. Ils forment par exemple les colonnes d'un écran de visualisation. Sur l'empilement obtenu, on dépose une couche résistive de protection 323 (ou couche ballast), par exemple une couche de silicium amorphe d'épaisseur comprise entre 0,5 } gym et 2 }gym. On dépose ensuite une couche isolante 324, par exemple une couche de silice d'épaisseur comprise entre 1 }gym et 3 }gym. On dépose enfin une couche conductrice de grille 325, par exemple en molybdène ou en cuivre. La couche conductrice de grille 325 est gravée pour former les ouvertures dans les conducteurs de grille et révéler la couche isolante 324 (voir la figure 12B). Une couche résistive 331 est ensuite déposée sur les conducteurs de grille 325 et la partie révélée de la couche isolante 324 (voir la figure 12C). La couche résistive 331 peut être une couche de silicium amorphe très résistive ou une couche de DLC (pour Diamond Like Carbon ). Si cette couche est en silicium amorphe, sa résistivité est au moins 10 fois supérieure à la résistivité de la couche ballast et son épaisseur est de quelques centaines de nm, de façon à présenter une résistance électrique 100 fois plus élevée que la résistance de la couche ballast. Une couche de résine 310 est ensuite déposée sur la structure obtenue. Une ouverture 311 est pratiquée dans la couche de résine, au centre de l'ouverture de grille jusqu'à révéler la couche résistive 331. La dimension de l'ouverture 311 est adaptée à la dimension du plot de croissance à réaliser (voir la figure 12D). Par l'ouverture 311 de la couche de résine 310, la couche résistive 331 et la couche d'isolant électrique 324 sont gravées jusqu'à révéler la couche ballast 323 (voir la figure 12E). Eventuellement, une surgravure latérale de la couche d'isolant 324 et de la couche résistive peut être réalisée comme le montre la figure 12E. Par l'ouverture 311 encore, un plot 327 (métal et catalyseur) est déposé au fond de l'ouverture pratiquée dans la couche d'isolant électrique, sur la couche ballast 323 (voir la figure 12F). Les plots font typiquement 5 }gym X 5 }gym. La couche de résine est ensuite éliminée par une technique de lift-off pour fournir la structure montrée à la figure 12G. On peut alors procéder à la croissance des nanotubes sur le plot 327. REVENDICATIONS 1. Structure de cathode de type triode comprenant, en superposition sur un support (21), un conducteur de cathode (22), une couche d'isolant électrique (24) et une électrode de grille (25), la couche d'isolant électrique et l'électrode de grille présentant des ouvertures (26) révélant au moins un élément émetteur d'électrons, relié électriquement au conducteur de cathode (22) et comprenant des nanotubes (28) en matériau émetteur d'électrons, caractérisée en ce que les ouvertures dans la couche d'isolant électrique et dans l'électrode de grille sont dimensionnées pour laisser subsister au moins une zone de la couche d'isolant électrique non recouverte par l'électrode de grille. 2. Structure de cathode selon la revendication 1, caractérisée en ce que la largeur d'ouverture dans la couche d'isolant électrique (24) présente une dimension suffisamment restreinte pour guider les nanotubes (28) dans une direction perpendiculaire au support (21). 3. Structure de cathode selon l'une des revendications 1 ou 2, caractérisée en ce qu'une couche résistive (31) recouvre au moins une partie de l'électrode de grille (25). 4. Structure de cathode selon la revendication 3, caractérisée en ce que ladite coucherésistive s'étend au moins à l'aplomb de l'ouverture de l'électrode de grille. 5. Structure de cathode selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisée en ce qu'une couche résistive (31) recouvre au moins partiellement la partie de la couche d'isolant électrique (24) non recouverte par l'électrode de grille. 6. Structure de cathode selon l'une quelconque des revendications 3 à 5, caractérisée en ce que la couche résistive recouvre de façon continue au moins une partie de l'électrode de grille et la partie de la couche d'isolant électrique non recouverte par l'électrode de grille jusqu'à l'aplomb de l'ouverture de la couche d'isolant électrique. 7. Structure de cathode selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisée en ce que l'épaisseur de la couche d'isolant électrique (24') est sensiblement égale à la longueur moyenne des nanotubes (28). 8. Structure de cathode selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisée en ce que la couche d'isolant électrique (24) présente, près de son ouverture, un bord (29) d'épaisseur plus importante que l'épaisseur du reste de ladite couche.30 9. Structure de cathode selon la revendication 8, caractérisée en ce que le bord (29) de la couche d'isolant électrique (24) est compris entre l'ouverture de la couche d'isolant électrique (24) et l'ouverture de l'électrode de grille (25). 10. Structure de cathode selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, caractérisée en ce que ledit élément émetteur d'électrons est relié électriquement au conducteur de cathode (22) au moyen d'une couche résistive de protection (23). 11. Structure de cathode selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, caractérisée en ce que la couche d'isolant électrique comprend au moins une ouverture en forme de fente sensiblement parallèle à une ouverture correspondante de l'électrode de grille en forme de fente. 12. Structure de cathode selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, caractérisée en ce que l'ouverture de l'électrode de grille est en forme de fente et révèle au moins une rangée d'éléments émetteurs d'électrons (127, 227) alignés dans la direction de la fente. 13. Structure de cathode selon la revendication 11, caractérisée en ce qu'une ouverture de l'électrode de grille révèle une pluralité d'ouvertures dans la couche d'isolant électrique, alignées en au moins une rangée sensiblement parallèleà l'ouverture de l'électrode de grille en forme de fente. 14. Structure de cathode selon la revendication 13, caractérisée en ce que chaque ouverture dans la couche d'isolant électrique révèle au moins un élément émetteur d'électrons. 15. Ecran plat à émission de champ, caractérisé en ce qu'il comporte une pluralité de structures de cathode selon l'une quelconque des revendications 1 à 14.