FR 2863063 A1 20050603 FR 0412567 A 20041126 SUBSTRAT A MATRICE DE FILTRES CHROMATIQUES ET PROCEDE DE FABRICATION DE CELUI-CI La présente invention concerne un dispositif d'affichage à cristaux liquides, et plus particulièrement, un substrat à matrice de filtres chromatiques et un procédé de fabrication de celui-ci. En général, les dispositifs d'affichage à cristaux liquides (LCD) utilisent les propriétés de polarisation et d'anisotropie optique des molécules de cristaux liquides pour générer une image souhaitée. En particulier, les molécules de cristaux liquides peuvent être alignées selon une orientation spécifique, qui peut être contrôlée en appliquant un champ électrique à travers les molécules de cristaux liquides. L'affichage à cristaux liquides comprend généralement un panneau d'affichage à cristaux liquides ayant des cellules de cristaux liquides agencées sous forme de matrice et un circuit de commande pour piloter le panneau d'affichage à cristaux liquides. En outre, le panneau d'affichage à cristaux liquides comprend des électrodes de pixel pour appliquer un champ électrique à chacune des cellules de cristaux liquides et une électrode de référence, à savoir, une électrode commune. Généralement, l'électrode de pixel est formée sur un substrat à matrice de transistor à couches minces (TFT) dans les cellules à cristaux]liquides, et l'électrode commune est formée sur un autre substrat, à savoir, un substrat à matrice de filtres chromatiques. Chacune des électrodes de pixels est connectée à un TFT. Ainsi, les électrodes de pixels conjointement avec l'électrode commune pilotent les cellules de cristaux liquides pour transmettre la lumière selon un signal de données fourni par le biais des TFT. La figure 1 est une vue en perspective illustrant un panneau d'affichage à cristaux liquides selon l'art connexe. Sur la figure 1, un panneau d'affichage à cristaux liquides comprend un substrat à matrice de filtres chromatiques 10 et un substrat à matrice TFT 20 avec une couche de cristaux liquides 8 formée entre eux. La matrice à filtres chromatiques 10 comprend une matrice noire 2, un filtre couleur 4 et une électrode commune 6. Le filtre couleur 4 comprend des filtres chromatiques de couleur rouge R, verte G et bleue B pour transmettre la lumière de gammes de longueurs d'onde spécifiques, affichant ainsi des lumières colorées. Une matrice noire 2 est formée entre des filtres chromatiques 4 adjacents pour absorber la lumière incidente à partir des cellules adjacentes, empêchant ainsi la détérioration d'un contraste de couleur. Le substrat à matrice TFT 20 comprend des lignes de données 18 et des lignes de grille 12 se coupant les unes les autres, définissant ainsi une pluralité de zones de cellules. Un film isolant de grille (non représenté) est formé entre les lignes de données 19 et les lignes de grille 12. Un TFT 16 est formé à chaque intersection entre les lignes de données 19 et les lignes de grille 12. En particulier, le TFT 16 comprend une électrode de gain connectée à une ligne respective des lignes de grille 12, une électrode de source connectée à une ligne respective des lignes de données 18, et une électrode de drain faisant face à l'électrode de source avec une partie de canal qui comprend une couche active et une couche de contact ohmique. Le TFT 16 est connecté électriquement à l'électrode de pixel 14, de telle sorte que le TFT 16 réponde à un signal de grille à partir de la ligne de grille 12 respective pour fournir de manière sélective le signal de données provenant de la ligne de données 18 respective à l'électrode de pixel 14. L'électrode de pixel 14 est située au niveau de chacune des zones de cellules et comprend un matériau conducteur transparent ayant une forte transmissivité de la lumière. L'électrode de pixel 14 génère une différence de potentiel avec l'électrode commune 6 par le signal de données fourni par le biais de l'électrode de drain du TFT 16. La différence de potentiel fait tourner la couche de cristaux liquides 8 par anisotropie constante diélectrique. Par conséquent, la lumière incidente sur le panneau à cristaux liquides à partir d'une source lumineuse est transmise selon le signal de données. Chaque pixel comprend trois sous pixels réalisant la couleur rouge R, la couleur verte G et la couleur bleue B. Cependant, une faible luminosité est générée par ces sous-pixels R, G et B étant donné que la quantité de lumière étant transmise au substrat supérieure 1 par le biais du filtre couleur 4 est généralement d'environ 27 - 33 % uniquement de la quantité de lumière générée par un rétroéclairage. Afin de résoudre ce problème, on a proposé un sulbstrat à matrice de filtres chromatiques d'un panneau d'affichage à cristaux liquides représenté sur la figure 2. La figure 2 est une vue en coupe illustrant un substrat à matrice de filtres chromatiques ayant un filtre de couleur blanche selon l'art connexe. Comme représenté sur la figure 2, un substrat à matrice de filtres chromatiques comprend un pixel ayant quatre sous-pixels réalisant la couleur rouge R, la couleur verte G, la couleur bleue B et la couleur blanche W. En particulier, la quantité de lumière étant transmise à travers le sous-pixel W n'est généralement pas inférieure à 85 % de la quantité de lumière générée par l'unité de rétroéclairage. Par conséquent, la quantité globale de lumière étant transmis par le biais des souspixels R, G, B, W est supérieure, améliorant ainsi la luminosité du panneau d'affichage à cristaux liquides. Les figures 3A à 3G sont des vues en coupe illustrant un procédé de fabrication du substrat à matrice de filtres chromatiques représenté sur la figure 2. Comme représenté sur la figure 3A, un matériau opaque est déposé sur l'ensemble de la surface du substrat supérieur 1. Le matériau opaque comprend un métal opaque ou une résine opaque, par exemple, du chrome (Cr). Le matériau opaque est ensuite imprimé par un processus de photolithographie et un processus de gravure utilisant un premier masque (non représenté) pour former une matrice noire 2. Comme représenté sur la FIG. 3B, une résine rouge est déposée sur l'ensemble de la surface du substrat supérieur 1 au-dessus de la matrice noire 2. La résine rouge est ensuite modelée par un processus de photolithographie en utilisant un second masque (non représenté) pour former un filtre de couleur rouge 4R. En outre, comme représenté sur la figure 3C, une résine verte est déposée sur l'ensemble de la surface du substrat supérieur 1 au-dessus de la matrice noire 2 et du filtre de couleur rouge 4R. La résine verte est ensuite modelée par le processus de photolithographie en utilisant un troisième masque (non représenté) pour former un filtre de couleur verte 4G. En outre, comme représenté sur la figure 3D, une résine bleue est déposée sur l'ensemble de la surface du substrat 1 au-dessus de la matrice noire 2, du filtre de couleur rouge 4R et du filtre de couleur verte 4G. La résine bleue est ensuite modelée par le processus de photolithographie en utilisant un quatrième masque (non représenté) pour former un filtre de couleur bleue 4B. Ensuite, comme représenté sur la figure 3E, une résine blanche est déposée sur l'ensemble de la surface du substrat supérieur 1 au-dessus de la matrice noire 2, du filtre de couleur rouge 4R, du filtre de couleur verte 4G et du filtre de couleur bleue 4B. La résine blanche comprend de la résine acrylique. La résine blanche est ensuite modelée par photolithographie en utilisant un cinquième masque (non représenté) pour former un filtre de couleur blanche 4W. En outre, comme représenté sur la figure 3F,un matériau isolant organique comprenant le même matériau que la résine blanche est déposé sur l'ensemble de la surface du substrat supérieur 1 au-dessus de la matrice noire 2, du filtre de couleur rouge 4R, du filtre de couleur verte 4G, du filtre de couleur bleue 4B et du filtre de couleur blanche 4W. Le matériau isolant organique est ensuite modelé par le processus de photolithographie en utilisant un sixième masque (non représenté) pour former une couche de revêtement 22. De plus, un matériau isolant organique comprenant le même matériau que la couche de revêtement 22 est déposé sur l'ensemble de la surface du substrat supérieur 1 au-dessus de la matrice noire 2, du filtre de couleur rouge 4R, du filtre de couleur verte 4G, du filtre de couleur bleue 4B, du filtre de couleur blanche 4W et de la couche de revêtement 22. Le matériau isolant organique est ensuite modelé par le processus de photolithographie en utilisant un septième masque (non représenté) pour former un élément d'espacement 24 comme représenté sur la figure 3G. Ainsi, le procédé de fabrication du substrat à filtres chromatiques pour le dispositif LCD selon l'art connexe requiert au moins sept processus de masquage ou processus de photolithographie pour former le substrat à filtres chromatiques comprenant la matrice noire, les filtres de couleur rouge, vert, bleu et blanc, la couche de revêtement et l'élément d'espacement modelé. Etant donné qu'un masque utilisé dans chacun des processus de masquage est très coûteux, un coût de production est accru et un processus de fabrication est compliqué, réduisant ainsi l'efficacité de production. En conséquence, la présente invention concerne un substrat à matrice de filtres chromatiques et le procédé de fabrication de celui-ci qui permet de supprimer sensiblement un ou plusieurs des problèmes dus aux limitations et aux inconvénients de l'art connexe. Un objet de la présente invention consiste à proposer un substrat à matrice de filtres chromatiques et un procédé de fabrication de celui-ci qui a un processus 15 simplifié. Selon la présente invention, un substrat à matrice de filtres chromatiques comprend une matrice noire sur un substrat, une pluralité de filtres chromatiques au niveau d'une zone séparée par la matrice noire, les filtres chromatiques comprenant des filtres de couleur rouge, verte, bleue et blanche, une hauteur du filtre de couleur blanche étant différente d'une hauteur des filtres de couleur rouge, verte et bleue, et un élément d'espacement au niveau d'une zone qui chevauche la matrice noire. Selon un mode de réalisation du substrat, la hauteur du filtre de couleur blanche est supérieure à la hauteur des filtres de couleur rouge, verte et bleue. Selon un autre mode de réalisation du substrat, la hauteur du filtre de couleur blanche est identique à une hauteur de l'élément d'espacement. Selon un autre mode de réalisation du substrat, le filtre de couleur blanche et l'élément d'espacement comprennent le même matériau. Le substrat peut comprendre en outre une couche de revêtement sur le substrat où sont formés les filtres rouge, vert, bleu et blanc et l'élément d'espacement. Le substrat peut comprendre en outre une couche de revêtement intégralement formée avec le filtre de couleur blanche en utilisant le même matériau. Le substrat peut comprendre en outre une couche de revêtement sur le substrat au-dessus des filtres chromatiques excepté le filtre de couleur blanche. Selon un autre mode de réalisation du substrat, le filtre de couleur blanche 35 comprend un matériau isolant organique ayant une résine acrylique. Le substrat peut comprendre en outre un revêtement sur le substrat, et une électrode commune sur le substrat sur lequel est formée la couche de revêtement. Dans un autre aspect, un procédé de fabrication d'un substrat à matrice de filtres chromatiques comprend la formation d'une matrice noire sur un substrat, et la formation de filtres de couleur rouge, verte, bleue et blanche au niveau d'une zone séparée par la matrice noire, une hauteur du filtre de couleur blanche étant différente d'une hauteur des filtres de couleur rouge, verte et bleue. De préférence, le procédé comprend en outre la formation d'un élément d'espacement au niveau d'une zone qui chevauche la matrice noire. Selon un mode de réalisation du procédé, le filtre de couleur blanche a la même hauteur que l'élément d'espacement. to Selon un autre mode de réalisation du procédé, le filtre de couleur blanche est formée environ en même temps que l'élément d'espacement. Selon un autre mode de réalisation du procédé, le filtre de couleur blanche et l'élément d'espacement sont formée à partir du même matériau. Le procédé de fabrication peut comprendre en outre la formation d'une couche de revêtement sur le substrat où sont formés les filtres de couleur rouge, verte, bleue et blanche et l'élément d'espacement. Le procédé de fabrication peut comprendre en outre la formation d'une couche de revêtement sur les filtres chromatiques à l'exception du filtre de couleur blanche Selon un autre mode de réalisation du procédé, le filtre de couleur blanche est formé d'un matériau isolant organique ayant une résine acrylique. Le procédé de fabrication peut comprendre en outre la formation d'un revêtement sur le substrat, et la formation d'une électrode commune sur le substrat où est formée la couche de revêtement. Dans encore un autre aspect, un procédé de fabrication d'un substrat à matrice de filtres chromatiques comprend la formation d'une matrice noire sur un substrat, la formation de filtres de couleur rouge, verte, bleue et blanche au niveau d'une zone séparée par la matrice noire, et la formation d'une couche de revêtement sur au moins les filtres de couleur rouge, verte et bleue, la couche de revêtement étant formée en même temps que la formation du filtre de couleur blanche ou avant la formation du filtre de couleur blanche. De préférence, le filtre de couleur blanche est simultanément formé lorsqu'un élément d'espacement est formée sur la couche de revêtement avant la formation du filtre de couleur blanche. Il doit être entendu que la description générale précédente tout comme la description détaillée suivante sont exemplaires et explicatives et sont sensées fournir une autre explication de l'invention telle que revendiquée. Les dessins joints, qui sont inclus pour permettre une meilleure compréhension de l'invention et sont incorporés dans le présent mémoire et en font partie intégrante, illustrent des modes de réalisation de l'invention et conjointement avec la description servent à expliquer les principes de l'invention. Dans les dessins: la figure 1 est une vue en perspective illustrant un panneau d'affichage à cristaux liquides selon l'art connexe; la figure 2 est une vue en coupe illustrant un substrat à matrice de filtres chromatiques ayant un filtre de couleur blanche selon l'art connexe; les figures 3A à 3G sont des vues en coupe illustrant un procédé de fabrication du substrat à matrice de filtres chromatiques représenté sur la figure 2; la figure 4 est une vue en plan illustrant un substrat à matrice de filtres 10 chromatiques pour un panneau d'affichage à cristaux liquides selon un mode de réalisation de la présente invention; la figure 5 est une vue en coupe illustrant un substrat à matrice de filtres chromatiques pour un panneau d'affichage à cristaux liquides selon un autre mode de réalisation de la présente invention; les figures 6A et 6B sont respectivement une vue en plan et une vue en coupe illustrant un premier processus de masquage d'un procédé de fabrication d'un substrat de matrice coloré selon un mode de réalisation de la présente invention; les figures 7A et 7B sont respectivement une vue en plan et une vue en coupe illustrant un deuxième processus de masquage suivant le procédé de fabrication du substrat de matrice coloré représenté sur les figures 6A et 6B les figures 8A et 8B sont respectivement une vue en plan et une vue en coupe illustrant un troisième processus de masquage suivant le procédé de fabrication du substrat de matrice coloré représenté sur les figures 7A et 7B les figures 9A et 9B sont respectivement une vue en plan et une vue en coupe 25 illustrant un quatrième processus de masquage suivant le procédé de fabrication du substrat de matrice coloré représenté sur les figures 8A et 8B les figures l0A et 10B sont respectivement une vue en plan et une vue en coupe illustrant un cinquième processus de masquage suivant le procédé de fabrication du substrat de matrice coloré représenté sur les figures 9A et 9B; la figure 11 est une vue en plan qui illustre un substrat à matrice de filtres chromatiques pour un panneau d'affichage à cristaux liquides selon un autre mode de réalisation de la présente invention; les figures 12A à 12C sont des vues en coupe illustrant un procédé de fabrication d'un substrat de matrice coloré selon un autre mode de réalisation de la 35 présente invention; la figure 13 est une vue en coupe illustrant un substrat de matrice coloré pour un panneau d'affichage à cristaux liquides selon un autre mode de réalisation de la présente invention; la figure 14 est une vue en plan illustrant une couche de revêtement du substrat à matrice de filtres chromatiques représenté sur la figure 13; et les figures 15A à 15C sont des vues en coupe illustrant un procédé de fabrication d'un substrat de matrice coloré selon un autre mode de réalisation de la présente invention. Nous allons maintenant nous référer en détail aux modes de réalisation préférés, dont des exemples seront illustrés dans les dessins joints. La figure 4 est une vue en plan illustrant un substrat à matrice de filtres chromatiques pour un panneau d'affichage à cristaux liquides selon un mode de réalisation de la présente invention, et la figure 5 est un schéma en coupe illustrant un substrat à matrice de filtres chromatiques pour un panneau à cristaux liquides selon un autre mode de réalisation de la présente invention. Sur la figure 4, un substrat à matrice de filtres chromatiques pour un panneau d'affichage à cristaux liquides comprend une matrice noire 102, une pluralité de filtres chromatiques 104R, 104G, 104B et 104W, et un élément d'espacement 124 formée sur un substrat 101. Les filtres chromatiques 104R, 104G, 104B et 104W sont formés dans une matrice correspondant à une pluralité de zones de cellules du panneau d'affichage à cristaux liquides. Les filtres chromatiques 104R, 104G, 104B et 104W peuvent correspondre respectivement aux filtres de couleur rouge, verte, bleue et blanche. En outre, la matrice noire 102 est autour des filtres chromatiques 104R, 104G, 104B et 104W pour empêcher qu'une interférence lumineuse ne se produise entre des cellules adjacentes. En particulier, comme représenté sur la figure 5, une partie des filtres chromatiques 104R, 104G, 104B et 104W peut chevaucher la matrice noire 102 et les filtres chromatiques 104R, 104G, 104B et 104W peuvent entrer en contact l'un avec l'autre. Bien que non représentée, la matrice noire 102 peut chevaucher une zone à l'exception d'une électrode de pixel d'un substrat à matrice TFT correspondant. Par exemple, la matrice noire 102 peut chevaucher une ligne de grille, une ligne de données et un transistor à couches minces du substrat à matrice TFT. En outre, comme représenté sur la figure 5, un élément d'espacement 124 et une couche de revêtement 122 sont formées sur le substrat 101. En particulier, l'élément d'espacement 124 peut être formé simultanément avec le filtre de couleur blanche 104W, et une couche de revêtement 122 formée sur le substrat 101 couvrant l'élément d'espacement 124 et les filtres chromatiques 104R, 104G, 104B et 104W. En outre, le filtre de couleur blanche 104W peut avoir une hauteur supérieure à la hauteur des filtres de couleur rouge, verte et bleue 104R, 104G et 104B. Par conséquent, le filtre de couleur blanche 104W et l'élément d'espacement 124 peuvent avoir la même hauteur et peuvent inclure le même matériau qui n'affecte pas la transmissivité du filtre de couleur blanche 104W. L'élément d'espacement 124 sert à maintenir un espacement de cellule entre le substrat à matrice de filtres chromatiques et le substrat à matrice TFT correspondant. L'élément d'espacement 124 est formé de sorte à chevaucher la matrice noire 102. L'élément d'espacement 124 peut avoir différentes formes en coupe, par exemple, circulaire, rectangulaire et triangulaire ou similaire. En outre, l'élément d'espacement 124 peut être colonnaire, concave, trapézoïdale ou similaire. La couche de revêtement 122 comprend un matériau isolant organique et peut proposer une surface plus plane pour le substrat 101. En particulier, étant donné que le filtre de couleur blanche 104W occupe environ 1/4 de l'ensemble de la zone de substrat et que les filtres de couleur rouge, verte et bleue 104R, 104G et 104B occupent environ 3/4 de la zone de substrat, il est facile de remplir une zone où sont formés les filtres de couleur rouge, verte et bleue 104R, 104G, 104B, à savoir, une zone ayant une faible hauteur, lorsque le matériau isolant organique est enduit sous la forme de la couche de revêtement 122. Par conséquent, le substrat à matrice de filtres chromatiques du panneau d'affichage à cristaux liquides selon un mode de réalisation de la présente invention comprend le filtre de couleur blanche 104W et l'élément d'espacement 124 formé simultanément du même matériau. En conséquence, le nombre de, processus de masquage est réduit sans détériorer la transmissivité du filtre de couleur blanche 104W. Les figures 6A et 6B sont respectivement une vue en plan et une vue en coupe illustrant un premier processus de masquage d'un procédé de fabrication d'un substrat de matrice coloré selon un mode de réalisation de la présente invention. Sur les figures 6A et 6B, un matériau opaque peut être déposé sur l'ensemble de la surface du substrat 101. Le matériau opaque peut comprendre une résine opaque ou un métal opaque, par exemple, du chrome (Cr). Ensuite, le matériau opaque est modelé par un processus de photolithographie en utilisant un premier masque (non représenté) pour former une matrice noire 102. Un procédé de gravure peut être nécessaire si le matériau opaque comprend un métal opaque. Les figures 7A et 7B sont respectivement une vue en plan et une vue en coupe illustrant un second processus de masquage suivant le procédé de fabrication du substrat de matrice coloré représenté sur les figures 6A et 6B. Comme représenté sur les figures 7A et 7B, une résine rouge peut être déposée sur l'ensemble de la surface du substrat 101 au-dessus de la matrice noire 102. La résine rouge est ensuite modelée par le processus de photolithographie en utilisant un deuxième masque (non représenté) pour former un filtre de couleur rouge 104R. Les figures 8A et 8B sont respectivement une vue en plan et une vue en coupe illustrant un troisième processus de masquage suivant le procédé de fabrication du substrat de matrice coloré représenté sur les figures 7A et 7B. Sur les figures 8A et 8B, une résine verte peut être déposée sur l'ensemble de la surface du substrat 101 au-dessus de la matrice noire 102 et du filtre de couleur rouge 104R. La résine verte est modelée par le processus de photolithographie en utilisant un troisième masque (non représenté) pour former un filtre de couleur verte 104G. Les figures 9A et 9B sont respectivement une vue en plan et une vue en coupe illustrant un quatrième processus de masquage suivant le procédé de fabrication du substrat de matrice coloré représenté sur les figures 8A et 8B. Comme représenté sur les figures 9A et 9B, une résine bleue peut être déposée sur l'ensemble de la surface du substrat 101 au-dessus de la matrice noire 102, du filtre de couleur rouge 104R et du filtre de couleur verte 104G. La résine bleue est ensuite modelée par le processus de photolithographie en utilisant un quatrième masque (non représenté) pour former un filtre de couleur bleue 104B. Les figures 10A et 10B sont respectivement une vue en plan et une vue en coupe illustrant un cinquième processus de masquage suivant le procédé de fabrication du substrat de matrice coloré représenté sur les figures 9A et 9B. Sur les figures 10A et 10B, une résine blanche peut être déposée sur l'ensemble de la surface du substrat 101 au-dessus de la matrice noire 102, du filtre de couleur rouge 104R, du filtre de couleur verte 104G et du filtre de couleur bleue 104B. La résine blanche est ensuite modelée par le processus de photolithographie en utilisant un cinquième masque (non représenté) pour former un filtre de couleur blanche 104W et un élément d'espacement 124 en même temps. La résine blanche peut comprendre la résine acrylique. En outre, un matériau isolant organique peut être déposé sur l'ensemble de la surface du substrat 101 au-dessus de la matrice noire 102, du filtre de couleur rouge 104R, du filtre de couleur verte 104G, du filtre de couleur bleue 104B, du filtre de couleur blanche 104W et de l'élément d'espacement 124. En particulier, le matériau isolant organique peut comprendre le même matériau que la résine blanche 104W. Le matériau isolant organique est ensuite modelé par le processus de photolithographie utilisant un sixième masque (non représenté) pour former une couche de revêtement 122. Plus particulièrement, la couche de revêtement 122 est formée au niveau d'une zone d'affichage d'image du substrat 101 qui est à l'intérieur d'une matière d'étanchéité et d'une zone de non affichage. En variante, le matériau isolant organique peut être sélectivement enduit sur le substrat 101 au niveau de la zone d'affichage d'image sans utiliser le processus de photolithographie et un sixième masque, permettant ainsi de réduire le nombre de processus de masquage. Les figures 6B, 7B, 8B, 9B et 10B ne sont pas représentées comme des vues en coupe exactes des figures 6A, 7A, 8A, 9.A et 10A. Les figures 6A, 7A, 8A, 9A et 10A illustrent plus précisément le substrat à matrice de filtres chromatiques sur la figure 4 et les figures 6B, 7B, 8B, 9B et 10B illustrent plus précisément le substrat à matrice de filtres chromatiques représenté sur la figure 5. En outre, bien que les figures 7A à 9B illustrent la formation du filtre de couleur rouge 104R en premier, ensuite, la formation du filtre de couleur verte 104G et la formation du filtre de couleur bleue 104B, l'homme du métier comprendra aisément que les filtres de couleur rouge, verte et bleue 104R, 104G et 104B peuvent être formés dans des ordres différents. Par conséquent, le procédé de fabrication d'un substrat à matrice de filtres chromatiques du panneau d'affichage à cristaux liquides selon un mode de réalisation de la présente invention forme le filtre de couleur blanche 104W et l'élément d'espacement 124 dans un processus de photolithographie en utilisant un masque identique. Ainsi, le nombre de processus de masquage est réduit et un coût de fabrication est abaissé sans altérer la transmissivité du filtre de couleur blanche 104W. La figure 11 est une vue en plan qui illustre un substrat à matrice de filtres chromatiques pour un panneau d'affichage à cristaux liquides selon un autre mode de réalisation de la présente invention. Sur la figure 11, un substrat à matrice de filtres chromatiques pour un panneau d'affichage à cristaux liquides comprend une matrice noire 102, une pluralité de filtres chromatiques 104, une couche de revêtement 122 et un élément d'espacement 124 formée sur un substrat 101. Les filtres chromatiques 104 sont formés en correspondance avec une pluralité de zones de cellule du panneau d'affichage à cristaux liquides. Chacun des filtres chromatiques 104 peut être l'un des filtres de couleur rouge, verte, bleue et blanche R, G, B et W. En outre, la matrice noire 102 est autour des filtres chromatiques 104 pour empêcher qu'une interférence lumineuse rie seproduise entre des cellules adjacentes. En particulier, une partie des filtres chromatiques 104 peut chevaucher la matrice noire 102, les filtres chromatiques 104 peuvent être en contact les uns avec les autres, et la hauteur des filtres chromatiques 104 correspondant aux filtres de couleur rouge, verte et bleue peut être identique. Bien que non représenté, la matrice noire 102 peut chevaucher une zone à l'exception d'une électrode de pixel d'un substrat à matrice TFT correspondant. Par exemple, la matrice noire 102 peut chevaucher une ligne de grille, une ligne de données et un transistor à couches minces du substrat à matrice TFT. En outre, la couche de revêtement 122 peut comprendre un matériau isolant organique transparent. En particulier, le filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W peut faire partie de la couche de revêtement 122. Plus particulièrement, le filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W et la couche de revêtement peuvent être formés en même temps et peuvent avoir la même hauteur sans affecter la transmissivité du filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W. Par conséquent, la couche de revêtement 122 présente une surface plane sur le substrat 101 au-dessus des filtres chromatiques 104 correspondant aux filtres de couleur rouge, verte, bleue et blanche R, G, B et W. En outre, l'élément d'espacement 124 est sur la couche de revêtement 122. L'élément d'espacement 124 sert à maintenir un espacement de cellule entre le substrat à matrice de filtres chromatiques et le substrat à matrice TFT correspondant. L'élément d'espacement 124 est formée de sorte à chevaucher la matrice noire 102. L'élément d'espacement 124 peut avoir plusieurs formes en coupe, par exemple, circulaire, rectangulaire et triangulaire ou similaire. En outre, l'élément d'espacement 124 peut être colonnaire, concave, trapézoïdale ou similaire. Par conséquent, le substrat à matrice de filtres chromatiques du panneau d'affichage à cristaux liquides selon un mode de réalisation de la présente invention comprend le filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W fait partie de la couche de revêtement 122. Le filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W et la couche de revêtement 122 sont formés simultanément à partir du même matériau. Par conséquent, le nombre de processus de masquage est réduit sans altérer la transmissivité du filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W. Les figures 12A à 12C sont des vues en coupe illustrant un procédé de fabrication d'un substrat de matrice coloré selon un autre mode de réalisation de la présente invention. Comme représenté sur la figure 12A, un matériau opaque peut être déposé sur un substrat 101 et peut être modelé par un processus de photolithographie en utilisant un premier masque (non représenté) pour former une matrice noire 102. Ensuite des résines colorées peuvent être déposées sur le substrat au-dessus de la matrice noire 102 et peuvent être modelées par des processus de photolithographie en utilisant des deuxième à quatrième masques (non représentés) pour former les filtres chromatiques 104 correspondant aux filtres de couleur rouge, verte et bleue R, G et B. En outre, comme représenté sur la figure 12B, une résine blanche peut être déposée sur le substrat 101 au-dessus de la matrice noire 102 et des filtres chromatiques 104 correspondant aux filtres de couleur rouge, verte et bleue R, G et B pour former un filtre couleur 104 correspondant à un filtre de couleur blanche W et une couche de revêtement 122. Ainsi, la partie de la résine blanche au niveau d'une zone de sous-pixels blancs sert de filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W. La résine blanche peut être modelée par le processus de photolithographie en utilisant un cinquième masque (non représenté), de telle sorte que la couche de revêtement 122 soit formée au niveau d'une zone d'affichage d'image du substrat 101 qui est à l'intérieur d'une matière d'étanchéité et d'une zone de non affichage. En variante, la résine blanche peut être enduite de façon sélective sur le substrat 101 au niveau de la zone d'affichage d'image sans utiliser le processus de photolithographie et un cinquième masque, permettant ainsi de réduire encore le nombre de processus de masquage. En outre, comme représenté sur la figure 12C, un matériau isolant organique peut être déposé sur le substrat 101 au-dessus de la matrice noire 102, des filtres chromatiques 104 correspondant aux filtres de couleur rouge, verte, bleue et blanche R, G, B et W et de la couche de revêtement 122. Le matériau isolant organique peut ensuite être modelé par le processus de photolithographie en utilisant un sixième masque (non représenté) pour former un élément d'espacement 124. En conséquence, le procédé de fabrication d'un substrat à matrice de filtres chromatiques du panneau d'affichage à cristaux liquides selon un mode de réalisation de la présente invention forme le filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W et à la couche de revêtement 122 en un seul processus de photolithographie en utilisant le même masque. Ainsi, le nombre de processus de masquage est réduit et un coût de fabrication est abaissé sans altérer la transmissivité du filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W. En outre, la couche de revêtement 122 fournit une surface de substrat plus plane pour le substrat à matrice de filtres chromatiques. La figure 13 est une vue en coupe illustrant un substrat à matrice de filtres chromatiques pour un panneau d'affichage à cristaux liquides selon un autre mode de réalisation de la présente invention, et la figure 14 est une vue en plan illustrant une couche de revêtement du substrat à matrice de filtres chromatiques représenté sur la figure 13. Sur la figure 13, un substrat à matrice de filtres chromatiques pour un panneau d'affichage à cristaux liquides comprend une matrice noire 102, une pluralité de filtres chromatiques 104, une couche de revêtement 122 et un élément d'espacement 124 formés sur un substrat 101. Les filtres chromatiques 104 sont formés en correspondance avec une pluralité de zones de cellule du panneau d'affichage à cristaux liquides. Chacun des filtres chromatiques 104 peut être l'un des filtres de couleur rouge, verte, bleue et blanche R, G, B et W. En outre, la matrice noire 102 est autour des filtres chromatiques 104 pour empêcher qu'une interférence lumineuse ne se produise entre des cellules adjacentes. En particulier, une partie des filtres chromatiques 104 peut chevaucher la matrice. noire 102, et la hauteur des filtres chromatiques 104 correspondant aux filtres de couleur rouge, verte et bleue R, G et B peuvent être identiques. Les filtres chromatiques 104 correspondant aux filtres de couleur rouge, verte et bleue R, G et B peuvent être en contact les uns avec les autres. Bien que non représenté, la matrice noire 102 peut chevaucher une zone à ]. 'exception d'une électrode de pixel d'un substrat à matrice TFT correspondant. Par exemple, la matrice noire 102 peut chevaucher une ligne de grille, une ligne de données et un transistor à couches minces du substrat à matrice TFT. En outre, la couche de revêtement 122 peut comprendre un matériau isolant organique transparent. En particulier, comme représenté sur la figure 14, la couche de revêtement 122 est formée au niveau d'une zone d'affichage d'image à l'exception d'une zone où se trouve le filtre de couleur blanche 104W. Par exemple, la couche de revêtement 122 peut être formée à l'intérieur d'une matière d'étanchéité et d'une zone de non affichage et peut ne pas chevaucher une zone de sous-pixels blanche du substrat 101. En outre, comme représenté sur lafigure 13, l'élément d'espacement 124 peut être formée simultanément avec le filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W. Par conséquent, le filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W et l'élément d'espacement 124 peuvent avoir la même hauteur et peuvent comprendre le même matériau qui n'altère pas la transmissivité du filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W. Le filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W peut chevaucher une partie de la couche de revêtement 122 et de la matrice noire 102. Le filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W peut avoir une hauteur supérieure à la hauteur des filtres chromatiques 104 correspondant aux filtres de couleur rouge, verte et bleue R, G et B, mais est sensiblement de niveau avec la couche de revêtement 122. Par exemple, la hauteur du filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W peut être supérieure à la hauteur du filtre de couleur correspondant au filtre de couleur bleue d'une différence de hauteur de d. La différence de hauteur d est de préférence inférieure à 0.2 m. De ce fait, la couche de revêtement 122 compense la différence de hauteur entre zones de pixels. Par exemple, la hauteur du filtre couleur 104 correspondant aux filtres de couleur rouge, verte et bleue R, G et B peut être d'environ 2.x m (2 2.x En outre, l'élément d'espacement 124 est formé sur la couche de revêtement 122 au-dessus de la matrice noire 102. L'élément d'espacement 124 sert à maintenir un espacement de cellule entre le substrat à matrice de filtres chromatiques et le substrat à matrice TFT correspondant. L'élément d'espacement 124 peut avoir différentes formes en coupe, par exemple, circulaire, rectangulaire et triangulaire ou similaire. En outre, l'élément d'espacement 124 peut être colonnaire, concave, trapézoïdale ou similaire. Par conséquent, le substrat à matrice de filtres chromatiques du panneau d'affichage à cristaux liquides selon un mode de réalisation de la présente invention comprend le filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W et à l'élément d'espacement 124 formé simultanément à partir du même matériau. En conséquence, le nombre de processus de masquage est réduit sans altérer la transmissivité du filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W. En outre, la couche de revêtement 122 est formée au niveau d'une zone d'affichage à l'exception d'une zone où doit être formé le filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W, permettant ainsi de compenser la différence de hauteur entre les zones de pixels. Les figures 15A à 15C sont des vues en coupe illustrant un procédé de fabrication d'un substrat de matrice coloré selon un autre mode de réalisation de la présente invention. Comme représenté sur la figure 15A, un matériau opaque peut être déposé sur un substrat 101 et peut être modelé par un processus de photolithographie en utilisant un premier masque (non représenté) pour former une matrice noire 102. Ensuite, des résines colorées peuvent être déposées sur le substrat au-dessus de la matrice noire 102 et peuvent être modelées par un processus de photolithographie en utilisant des deuxième à quatrième masques (non représentés) pour former des filtres chromatiques 104 correspondant aux filtres de couleur rouge, verte et bleue R, G et B. En outre, comme représenté sur la figure 15B, un matériau isolant organique qui est photosensible, par exemple, une résine acrylique, peut être déposé sur le substrat 101 au-dessus de la matrice noire 102 et des filtres chromatiques 104 correspondant aux filtres de couleur rouge, verte et bleue R, G et B. Le matériau isolant organique peut ensuite être modelé par le processus de photolithographie en utilisant un cinquième masque (non représenté) pour former une couche de revêtement 122. En particulier, la couche de revêtement 122 est modelée pour être au niveau d'une zone d'affichage d'image clu substrat 101 qui est à l'intérieur d'une matière d'étanchéité et ne chevauche pas une zone de sous-pixels blanche du substrat 101 En outre, comme représenté sur la figure 15C, une résine blanche peut être déposée sur le substrat 101 au-dessus d'une matrice noire 102, des filtres de couleur 104 correspondant aux filtres de couleur rouge, verte et bleue R, G et B et de la couche de revêtement 122. La résine blanche peut ensuite être modelé par le processus de photolithographie en utilisant un sixième masque (non représenté) pour former un filtre couleur 104 correspondant à un filtre de couleur blanche W et un élément d'espacement 124. Ainsi, le filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W et l'élément d'espacement 124 peuvent avoir la même hauteur et peuvent inclure le même matériau qui n'altère pas la transmissivité du filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W. Le filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W peut chevaucher une partie de la couche de revêtement 122 et de la matrice noire 102. En conséquence, le procédé de fabrication d'un substrat à matrice de filtres chromatiques du panneau d'affichage à cristaux liquides selon un mode de réalisation de la présente invention forme la couche de revêtement 122 avant de former le filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W. En outre, le filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W et la couche de revêtement 122 peuvent être formés en un seul processus de photolithographie en utilisant le même masque. Ainsi, le nombre de processus de masquage est réduit et un coût de fabrication est abaissé sans altérer la transmissivité du filtre de couleur blanche. En outre, la hauteur du filtre couleur 104 correspondant au filtre de couleur blanche W peut être contrôlée pour être de niveau avec la couche de revêtement 122, permettant ainsi d'obtenir une surface de substrat davantage plane pour le substrat à matrice de filtres chromatiques. Les figures 4 à 15C illustrent les modes de réalisation pour un panneau d'affichage à cristaux liquides de mode IPS ayant une électrode commune et l'électrode de pixel formée sur un substrat à matrice TFT correspondant pour appliquer un champ électrique horizontal. Bien que non représentés, les modes de réalisation susmentionnés de la présente invention peuvent être modifiés pour un panneau d'affichage à cristaux liquides de mode TN ayant une électrode commune formée sur le substrat à matrice de filtres chromatiques pour appliquer un champ électrique vertical avec une électrode de pixel formée sur un substrat à matrice TFT correspondant. Le substrat à matrice de filtres chromatiques et un procédé de fabrication de celui-ci selon les modes de réalisation susmentionnés de la présente invention forme le filtre de couleur blanche en même temps que l'élément d'espacement ou que la couche de revêtement. Par conséquent, le substrat à matrice de filtres chromatiques peut être formé en utilisant six ou cinq processus de masquage, simplifiant ainsi sa structure et son processus de fabrication. Ainsi, un rendement de production est amélioré et un coût de production est réduit. En outre, les hauteurs du filtre de couleur blanche, de la couche de revêtement et de l'élément d'espacement peuvent être contrôlées pour fournir une surface de substrat plus plane pour le substrat à matrice de filtres chromatiques et pour ajusté un espacement de cellule, permettant ainsi d'améliorer la qualité de l'image du panneau d'affichage à cristaux liquides résultant. L'homme du métier comprendra aisément que diverses modifications et variations peuvent être apportées au substrat à matrice de filtres chromatiques et au procédé de fabrication de la présente invention sans s'écarter de l'esprit ni de la portée de l'invention. Ainsi, la présente invention est sensée couvrir les modifications et variations de l'invention à condition qu'elles se trouvent dans la portée des revendications annexées et de leurs équivalents. REVENDICATIONS 1. Substrat à matrice de filtres chromatiques, comprenant: une matrice noire (102) sur un substrat; une pluralité de filtres chromatiques (104) au niveau d'une zone séparée par la matrice noire (102), les filtres chromatiques (104) comprenant des filtres rouge, vert, bleu et blanc, une hauteur du filtre de couleur blanche étant différente d'une hauteur des filtres de couleur rouge, verte et bleue; et un élément d'espacement (124) au niveau d'une zone qui chevauche la matrice 10 noire (102). 2. Substrat à matrice de filtres chromatiques selon la revendication 1, dans lequel la hauteur du filtre de couleur blanche est supérieure à la hauteur des filtres de couleur rouge, verte et bleue. 3. Substrat à matrice de filtres chromatiques selon l'une quelconques des revendications 1 ou 2, dans lequel la hauteur du filtre de couleur blanche est identique à une hauteur de l'élément d'espacement (124). 4. Substrat à matrice de filtres chromatiques selon l'une quelconques des revendications 1 à 3, dans lequel le filtre de couleur blanche et l'élément d'espacement (124) comprennent le même matériau. 5. Substrat à matrice de filtres chromatiques selon l'une quelconques des revendications 1 à 4, comprenant en outre: une couche de revêtement (122) sur le substrat où sont formés les filtres rouge, vert, bleu et blanc et l'élément d'espacement (124). 6. Substrat à matrice de filtres chromatiques selon l'une quelconques des revendications 1 à 5, comprenant en outre: une couche de revêtement (122) intégralement formée avec le filtre de couleur blanche en utilisant le même matériau. 7. Substrat à matrice de filtres chromatiques selon l'une quelconques des revendications 1 à 6, comprenant en outre: une couche de revêtement (122) sur le substrat au-dessus des filtres chromatiques (104) excepté le filtre de couleur blanche. 8. Substrat à matrice de filtres chromatiques selon l'une quelconques des revendications 1 à 7, dans lequel le filtre de couleur blanche comprend un matériau isolant organique ayant une résine acrylique. 9. Substrat à matrice de filtres chromatiques selon l'une quelconques des revendications 1 à 8, comprenant en outre: un revêtement sur le substrat, et une électrode commune sur le substrat sur lequel est formée la couche de revêtement (122). 10. Procédé de fabrication d'un substrat à matrice de filtres chromatiques, comprenant: la formation d'une matrice noire sur un substrat; et la formation de filtres de couleur rouge, verte, bleue et blanche au niveau d'une zone séparée par la matrice noire, une hauteur du filtre de couleur blanche étant différente d'une hauteur des filtres de couleur rouge, verte et bleue. 11. Procédé de fabrication selon la revendication 10, comprenant en outre: la formation d'un élément d'espacement au niveau d'une zone qui chevauche la matrice noire. 12. Procédé de fabrication selon la revendication 11, dans lequel le filtre de couleur blanche a la même hauteur que l'élément d'espacement. 13. Procédé de fabrication selon l'une quelconques des revendications 11 ou 12, dans lequel le filtre de couleur blanche est formée environ en même temps que l'élément d'espacement. 14. Procédé de fabrication selon l'une quelconques des revendications 11 à 13, dans lequel le filtre de couleur blanche et l'élément d'espacement sont formée à partir du même matériau. 15. Procédé de fabrication selon l'une quelconques des revendications 11 à 14, comprenant en outre: la formation d'une couche de revêtement sur le substrat où sont formés les filtres de couleur rouge, verte, bleue et blanche et l'élément d'espacement. 16. Procédé de fabrication selon l'une quelconques des revendications 10 à 15, comprenant en outre: la formation d'une couche de revêtement sur les filtres chromatiques à l'exception du filtre de couleur blanche 17. Procédé de fabrication selon l'une quelconques des revendications 10 à 16, dans lequel le filtre de couleur blanche est formé d'un matériau isolant organique ayant une résine acrylique. 18. Procédé de fabrication selon l'une quelconques des revendications 10 à 17, comprenant en outre: la formation d'un revêtement sur le substrat, et la formation d'une électrode commune sur le substrat où est formée la couche de revêtement. 19. Procédé de fabrication d'un substrat à matrice de filtres chromatiques, comprenant: la formation d'une matrice noire sur un substrat; la formation de filtres de couleur rouge, verte, bleue et blanche au niveau d'une 20 zone séparée par la matrice noire; et la formation d'une couche de revêtement au-dessus d'au moins les filtres de couleur rouge, vert et bleue, la couche de revêtement étant formée en même temps que la formation du filtre de couleur blanche ou avant la formation du filtre de couleur blanche. 20. Procédé de fabrication selon la revendication 19, dans lequel le filtre de couleur blanche est simultanément formé lorsqu'un élément d'espacement est formée sur la couche de revêtement avant la formation du filtre de couleur blanche.