FR 2842648 A1 20040123 FR 0209118 A 20020718 PROCEDE DE TRANSFERT D'UNE COUCHE MINCE ELECTRIQUEMENT ACTIVE DESCRIPTION DOMAINE TECHNIQUE L'invention concerne un procédé de transfert d'une couche mince électriquement active depuis un substrat initial vers un substrat cible. Elle s'applique, en particulier, au transfert d'une couche mince de matériau semiconducteur et notamment au transfert d'une couche mince de carbure de silicium. ETAT DE LA TECHNIQUE ANTERIEURE Le document FR-A-2 681 472 (correspondant au brevet américain nO5 374 564) divulgue un procédé de fabrication de films minces de matériau semiconducteur. Le film mince est d'abord délimité dans un substrat initial par implantation ionique. Une face du substrat est bombardée par des ions (généralement des ions hydrogène) selon une dose et une énergie déterminées pour créer une couche enterrée fragilisée à une profondeur, par rapport à la face bombardée, voisine de la profondeur moyenne de pénétration des ions dans le substrat. La face bombardée du substrat est ensuite solidarisée avec une face d'un substrat de réception ou raidisseur. Un recuit permet alors d'obtenir une séparation du film mince d'avec le reste du substrat initial. On obtient alors un film mince adhérant au raidisseur. Cette technique est maintenant bien connue et bien maîtrisée. Elle permet l'obtention de substrats SOI de qualité électronique. Ce procédé a été appliqué après plusieurs adaptations au semi-conducteur carbure de silicium pour obtenir un empilement de couches appelé SiCOI et constitué d'un substrat de silicium recouvert successivement d'une couche d'oxyde de silicium et d'une couche de carbure de silicium. On peut se reporter à ce sujet à l'article "Silicon carbide on insulator formation by the Smart-Cut process" de L. Di Cioccio et al., Materials Science and Engineering B46 (1997), pages 349 à 356. Dans le cadre de ces développements réalisés sur le substrat SiCOI, le problème de la résistivité électrique de la couche mince de SiC transférée a été étudié. Les premières couches de SiC transférées sur du silicium oxydé avaient complètement perdu leur caractère conducteur électrique, induit initialement par un dopage approprié, et étaient devenues complètement isolantes. Il a été mis en évidence que la compensation électrique introduite dans les films transférés et responsable de ce caractère isolant acquis, est liée aux défauts d'implantation créés dans le matériau par le passage des protons utilisés pour réaliser l'implantation. On peut se reporter à ce sujet aux articles suivants: - "Defect Studies in Epitaxial SiC-6H Layers on Insulator (SiCOI)" de E. Hugonnard-Bruyère et al., Microelectronic Engineering 48 (1999), pages 277 à 280; - "High-resistance layers in n-type 4Hsilicon carbide by hydrogen ion implantation" de R.K. Nadella et al., Appl. Phys. Lett. 70(7), 17 février 1997, pages 886 à 888; - "Electrical isolation of GaN by ion implantation damage: Experiment and model"I de C. UzanSaguy et ai., Applied Physics Letters, Vol. 74, N017, 26 avril 1999, pages 2441 à 2443. La forte dose de protons nécessaires pour obtenir le transfert d'une couche mince de SiC crée, sur tout le parcours de ces ions entre la surface d'implantation et la profondeur moyenne d'implantation des ions, une concentration de défauts d'implantation qui se comportent d'un point de vue électrique comme des centres accepteurs. Le dopage initial, de type n obtenu, par exemple, par le dopant azote ou de type p obtenu, par exemple, par le dopant aluminium, des couches minces de SiC étudiées varie entre 1019 atomes/cm3 t 1015 atomes/cm3. Les couches minces dopées provenaient soit d'une épitaxie, soit du substrat massif lui-même. Un raisonnement simple montre que si la concentration de centres compensateurs résiduels dans la couche mince transférée, introduite par le procédé mis en oeuvre, est supérieure au dopage initial (concentration de centres donneurs), la couche mince transférée présente un comportement fortement résistif (voir l'article de E. Hugonnard-Bruyère cité ci-dessus). Cette concentration de défauts accepteurs dépend d'une part, de la concentration de défauts d'implantation créée par l'implantation de protons et d'autre part de la capacité des étapes technologiques appliquées à la couche mince transférée à s'affranchir de ces défauts et diminuer ainsi le plus possible leur concentration. D'un point de vue électronique, une couche mince semi-conductrice comportant des défauts compensateurs ne va pas avoir des propriétés de transport (concentration de porteurs) compatibles avec la fabrication d'un dispositif électronique. Aussi, il est impératif qu'après la réalisation d'une structure SiCOI par le procédé divulgué par le document FR-A-2 681 472, la couche transférée puisse être utilisée pour fabriquer un dispositif électronique. De nombreuses équipes ont étudié la génération de défauts d'implantation ainsi que les conditions de leur annihilation. Il ressort de ces études que pour le SiC certains défauts d'implantation créés par des ions légers comme l'hydrogène peuvent être stables pour des températures de recuit allant jusqu'à 15000C même si, pour des dopages supérieurs à 2.1018 atomes/ cm3, des recuits de l'ordre de 13000C suffisent pour récupérer la résistivité initiale (voir l'article de E. Hugonnard-Bruyère cité plus haut). Néanmoins, dans ces conditions de fabrication, la compensation électrique résiduelle reste importante. L'article "The effects of damage on hydrogen-implantinduced thin-film séparation from bulk silicon carbide" de R.B. Gregory et al., Mat. Res. Soc. Symp. Proc. Vol. 572, 1999, Materials Research Society, pages 33 à 38, divulgue qu'une implantation à haute température permet de guérir une partie des défauts sans pour autant s'en affranchir complètement. Il est bien évident que le fait de transférer par cette technique une couche mince de SiC sur un substrat en silicium ne permet pas d'appliquer des traitements thermiques aussi poussés puisque le silicium fond à 14130C. Enfin, de façon générale, même si la couche de collage (voire l'absence de couche de collage) et l'utilisation d'un support autre que le silicium (du SiC polycristallin par exemple) permettaient un tel apport thermique, cela ne suffirait pas à récupérer une résistivité correcte, compte tenu de la forte concentration de défauts introduits et de leur stabilité thermique, et ne serait pas souhaitable puisque de telles températures sont peu courantes dans l'industrie microélectronique. Enfin, l'implantation à haute température est difficile à mettre en oeuvre de façon industrielle et ne permet pas de récupérer entièrement la conduction électrique correspondant au dopage initial. EXPOS DE L'INVENTION Pour remédier aux inconvénients de l'art antérieur, il est ici proposé un procédé de fabrication permettant d'obtenir une couche de matériau semiconducteur sur un support avec une compensation électrique résiduelle, due à l'implantation ionique, négligeable. L'invention a donc pour objet un procédé de transfert d'une couche mince électriquement active depuis un substrat initial vers un substrat cible, comprenant les étapes suivantes implantation ionique au travers d'une face du substrat initial pour créer une couche enterrée fragilisée à une profondeur déterminée par rapport à la face implantée du substrat initial, une couche mince étant ainsi délimitée entre la face implantée et la couche enterrée, - solidarisation de la face implantée du substrat initial sur une face du substrat cible, séparation de la couche mince d'avec le reste du substrat initial au niveau de la couche enterrée, - amincissement de la couche mince transférée sur le substrat cible, caractérisé en ce que la dose, l'énergie et le courant d'implantation sont choisis, lors de l'étape d'implantation ionique, pour que la concentration en défauts d'implantation soit inférieure à un seuil déterminé conduisant à obtenir dans la couche mince amincie un nombre de défauts accepteurs compatible avec les propriétés électriques désirées pour la couche mince. L'étape d'implantation ionique peut consister à implanter des ions choisis parmi l'hydrogène et les gaz rares. L'étape de solidarisation peut mettre en oeuvre un collage choisi parmi le collage par adhésion moléculaire via des couches intermédiaires ou sans couches intermédiaires, le collage par réaction, le collage métallique, la brasure et le collage par diffusion d'espèces. Avantageusement, un recuit de guérison des défauts d'implantation est réalisé sur la couche mince. Ce recuit de guérison peut être réalisé avant ou après d'amincissement de la couche mince. Le procédé selon l'invention s'applique notamment à l'obtention d'une couche mince de SiC, de GaAs, de GaN, de diamant ou d'InP sur un substrat cible. BREVE DESCRIPTION DES DESSINS L'invention sera mieux comprise et d'autres avantages et particularités apparaîtront à la lecture de la description qui va suivre, donnée à titre d'exemple non limitatif, accompagnée des dessins annexés parmi lesquels: la figure 1 est un diagramme représentant le profil de défauts accepteurs dans un substrat initial implanté, - la figure 2 est un diagramme représentant la concentration de lacunes créées en fonction de la profondeur du substrat initial implanté. EXPOS D TAILL DE MODES DE REALISATION PARTICULIERS Le nombre de défauts accepteurs dans la couche mince transférée et amincie selon la présente invention dépend du profil de défauts qui est créé dans le couche mince transférée (distribution des défauts selon l'épaisseur de la couche mince). Ce profil de défauts dépend de l'énergie d'implantation. Le choix des conditions d'implantation (énergie d'implantation, épaisseur du masque d'implantation) est crucial et permet de définir l'épaisseur de la future couche active. Les inventeurs sont arrivés à la conclusion que le profil des défauts électriques compensateurs est proportionnel au profil des défauts d'implantation. Il est donc nécessaire de générer, par le choix des conditions d'implantation, une couche mince qui contient, après implantation, au moins une zone avec un profil de défauts suffisamment plat pour que la concentration finale résiduelle de défauts soit répartie de manière homogène dans la couche devant subsister. Le reste de la couche transférée, dont le profil de défauts n'est plus plat, est éliminé par amincissement. Le nombre de défauts accepteurs dans la couche mince transférée et amincie selon la présente invention dépend aussi de la concentration de défauts d'implantation créée par l'irradiation de protons. Le paramètre jouant sur la concentration de défauts est la dose d'implantation et le courant d'implantation. Les inventeurs de la présente invention ont constaté que le courant d'implantation permet de jouer sur l'efficacité de création de défauts. Ainsi, implanter à faible densité de courant permet de diminuer la concentration de défauts. L'autre paramètre est la dose d'ions implantés. Il est possible de diminuer de manière significative la dose d'ions implantés dans le substrat initial en réalisant l'implantation à haute température ou en jouant sur l'effet canalisation. Le nombre de défauts accepteurs dans la couche mince transférée et amincie selon la présente invention dépend enfin de traitements postérieurs (ou de guérison) du type recuits. Pour le carbure de silicium notamment, certains défauts d'implantation créés par des ions légers comme l'hydrogène peuvent être stables pour des températures de recuit allant jusqu'à 15000C. Suivant cette approche, le point critique qui apparaît est la définition de la future couche active (c'est-à-dire la couche obtenue après amincissement). Cette couche est entièrement définie par le profil des défauts crées par le passage des ions implantés ainsi que par la capacité guérissante des étapes technologiques postérieures à la fracture du substrat initial. La figure 1 est un diagramme représentant le profil de défauts accepteurs dans un substrat initial implanté. L'axe des ordonnées représente le nombre N de défauts accepteurs. L'axe des abscisses représente la profondeur z du substrat à partir de la face implantée (abscisse 0). L'abscisse z1 donne l'épaisseur de la couche mince après amincissement permettant l'obtention d'une couche mince possédant les propriétés électriques désirées. Une loi empirique liant le profil de défauts électriques persistant dans la couche mince avec le profil de défauts créés lors de l'implantation a pu être établie. Ce profil post-implantation peut être donné, avec une bonne précision, par le logiciel TRIM permettant de simuler la création de défauts cristallins élémentaires (lacunes de C et de Si dans le cas du carbure de silicium) lors d'une étape d'implantation ionique. La figure 2 est un diagramme représentant la concentration C de lacunes créées (en atomes/cm3) en fonction de la profondeur z du substrat à partir de la face implantée (abscisse 0). Ce diagramme a été obtenu par simulation à partir du logiciel TRIM pour du carbure de silicium implanté par des ions H' (énergie d'implantation 180 keV, dose d'implantation 6,5. 1016 ions/cm2). Pour une énergie d'implantation de 180 keV, la profondeur moyenne d'implantation Rp est supérieure à 1100 nm. Des mesures par effet Hall ont été effectuées pour un substrat initial en SiC et pour ces conditions d'implantation. Elles donnent une concentration résiduelle moyenne de défauts accepteurs de 4. 1016 atomes/cm3 pour un film de SiC de 0,5 gm d'épaisseur. La simulation TRIM indique que la concentration de défauts présents dans les 0,5 premiers am du film implanté est toujours inférieure à 9.1020 atomes/cm3. La concentration de défauts dans cette couche est inférieure, en tout point, à la concentration maximale de 9.1020 atomes/cm3. Cela signifie qu'à l'issue du procédé selon l'invention la concentration finale de défauts résiduels sera toujours inférieure à 9.1020 K. Grâce à la mesure électrique donnant une concentration moyenne dans tout le film, on peut estimer le coefficient K liant les défauts physiques créés et les défauts électriques résiduels: K = 4.1016/9.1020 = 4,5.10-5 avec la relation Cf = K.Ci Ci est la concentration moyenne de défauts primaires d'implantation et dépend de la façon dont est réalisée l'implantation dans le matériau (c'est-à-dire son profil d'implantation). Cf est la concentration moyenne de défauts finaux électriques dans la couche mince après transfert et recuit. K est un coefficient de proportionnalité lié aux étapes de recuit (guérison des défauts). Pour une implantation d'hydrogène réalisée sans chauffage intentionnel dans du SiC à travers une couche de SiO2 inférieure à 50 nm, pour une énergie de keV, une dose de 6,5.1016 atomes/cm2 et un budget thermique maximal à la couche mince transférée de 13500C pendant 48 heures, le coefficient K est égal à environ 4,5.10-5. Ceci signifie que le procédé mis en oeuvre permet de diminuer d'un facteur 2,25.104 la concentration de défauts créés. On va maintenant détailler un exemple de mise en oeuvre du procédé selon l'invention et permettant d'obtenir une couche mince de SiC transférée d'épaisseur finale inférieure ou égale à 0,5 nm. Une surface plane d'un substrat initial de SiC monocristallin est polie mécaniquement et mécano25 chimiquement. On fait croître par épitaxie une couche mince de SiC au dopage désiré (par exemple 10"7 atomes d'impuretés/cm3) sur la face polie du substrat. Cette étape n'est nécessaire que si l'on souhaite transférer une couche mince avec un dopage inférieur au dopage résiduel d'un substrat ou possédant une meilleure qualité cristalline. La couche épitaxiée peut recevoir un polissage mécanique ou mécanochimique pour obtenir une surface permettant l'adhésion moléculaire. On procède ensuite à une oxydation thermique pour obtenir une couche d'oxyde de 50 nm d'épaisseur. Une variante consiste à déposer un oxyde sur une épaisseur ne dépassant par 50 nm. La face oxydée du substrat initial est soumise à une implantation d'hydrogène pour une énergie de 180 keV et une dose de 6,5.1015 atomes/cm2 afin de créer une couche fragilisée délimitant la couche mince à transférer. Il est possible de diminuer de manière significative cette dose limite en implantant l'hydrogène à haute température. Par exemple, à une température d'implantation de l'ordre de 6500C, la dose critique passe de 6,5.10 s à environ 4,5.1016 atomes/cm2. Cette implantation est réalisée afin de générer sur les 500 premiers nm de la couche de SiC une concentration de défauts simulée inférieure à 9.1020 atomes/cm3. La surface de l'oxyde implanté est nettoyée, de même que la surface de l'oxyde présent sur le substrat cible. Ces surfaces sont alors activées spécifiquement, par exemple par polissage mécanochimique. Les surfaces ainsi traitées sont alors collées par adhésion moléculaire. On réalise ensuite le transfert de la couche mince délimitée en provoquant une fracture au sein du substrat initial, au niveau de la zone fragilisée. La fracture peut être obtenue par un traitement thermique adapté. La couche mince transférée sur le substrat cible est recuite à très haute température (1350WC). Un recuit oxydant permet de consommer par oxydation, de manière contrôlée, la couche mince de SiC, d'éxodiffuser l'hydrogène présent dans la couche mince et de guérir les défauts d'implantation. La durée du recuit est prévue pour guérir les défauts d'implantation. Elle peut être de 48 heures. On procède ensuite à la désoxydation de la couche mince de SiC. La couche mince est alors amincie par gravure ionique ou par oxydation thermique pour ajuster la couche mince à l'épaisseur voulue (inférieure à 0,5 gm). Cette étape peut être réalisée avant l'étape de recuit à très haute température. Le procédé selon l'invention peut s'appliquer à tout matériau que l'on veut transférer par le procédé Smart-Cute mais dont la résistivité électrique par la suite pose problème (SiC, GaAs, InP, GaN, diamant par exemple). D'autres collages que l'adhésion moléculaire via des couches intermédiaires d'oxyde peuvent être utilisés: adhésion moléculaire sans couches intermédiaires, collage par réaction, collage métallique, brasure, collage par diffusion d'espèces. L'implantation ionique peut être réalisée avec d'autres espèces ioniques que l'hydrogène, par exemple l'hélium. REVENDICATIONS 1. Procédé de transfert d'une couche mince électriquement active depuis un substrat initial vers un substrat cible, comprenant les étapes suivantes implantation ionique au travers d'une face du substrat initial pour créer une couche enterrée fragilisée à une profondeur déterminée par rapport à la face implantée du substrat initial, une couche mince étant ainsi délimitée entre la face implantée et la couche enterrée, - solidarisation de la face implantée du substrat initial sur une face du substrat cible, séparation de la couche mince d'avec le reste du substrat initial au niveau de la couche enterrée, - amincissement de la couche mince transférée sur le substrat cible, caractérisé en ce que la dose, l'énergie et le courant d'implantation sont choisis, lors de l'étape d'implantation ionique, pour que la concentration en défauts d'implantation soit inférieure à un seuil déterminé conduisant à obtenir dans la couche mince amincie un nombre de défauts accepteurs compatible avec les propriétés électriques désirées pour la couche mince. 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'étape d'implantation ionique consiste à implanter des ions choisis parmi les espèces suivantes: hydrogène et gaz rares. 3. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'étape de solidarisation met en òuvre un collage choisi parmi le collage par adhésion moléculaire via des couches intermédiaires ou sans couches intermédiaires, le collage par réaction, le collage métallique, la brasure et le collage par diffusion d'espèces. 4. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'un recuit de guérison des défauts d'implantation est réalisé sur la couche mince. 5. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que le recuit de guérison est réalisé avant l'étape d'amincissement de la couche mince. 6. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que le recuit de guérison est réalisé après l'étape d'amincissement de la couche mince. 7. Application du procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes à l'obtention d'une couche mince de SiC, de GaAs de GaN, de diamant ou d'InP sur un substrat cible.