FR 2825150 A1 20021129 FR 0106917 A 20010528 L'invention concerne un dispositif optique de caractérisation de réseaux de diffraction et un procédé de fabrication de tels réseaux avec une fréquence spatiale prédéfinie. En particulier, la caractérisation concerne la cohérence spatiale de réseaux de diffraction de la lumière et la régularité ou la précision dans la fabrication de tels réseaux. Le dispositif de l'invention est prévu notamment comme dispositif de contrôle ou de test de réseaux de diffraction fabriqués ou comme une unité fonctionnelle d'un système de fabrication de réseaux de diffraction dans lequel cette unité assure une régulation des moyens d'écriture de ces réseaux pour ajuster précisément leur fréquence spatiale. Il est connu des techniques de mesure de déformation d'un réseau qui font la saisie de l'interférogramme produit par un réseau illuminé par deux sources de lumières, tel que proposé notamment par M. Kujawinska et L. Salbut de l'université technologique de Varsovie en Pologne. On prévoit généralement de coller le réseau à caractériser sur une surface plane subissant des déformations. L'interférogramme est produit par deux ordres de diffraction se propageant sensiblement dans la même direction et qui sont projetés sur une matrice de détecteurs. Cette technique présente plusieurs inconvénients, en particulier elle nécessite une optique d'imagerie vulnérable aux vibrations et présentant généralement des aberrations optiques. Ensuite, la détection étant effectuée par des matrices de détecteurs ou CCD, les dimensions de ces détecteurs sont difficilement définies de manière très précise et sont notamment sensibles à la température. De plus, l'interférogramme dépend de la distance au réseau. Finalement on notera que cette technique ne mesure la fréquence spatiale d'un réseau de diffraction que de manière indirecte. Concernant ces techniques de mesure, voir en particulier l'article des deux auteurs susmentionnées intitulé"Grating interferometer for local in-plane displacement/strain field analyses", PROC. SPIE 3407, pp. 490-494,1998. On distinguera par la suite principalement deux procédés de fabrication de réseaux de diffraction. Le premier procédé considéré utilise une technologie propre à la micro-électronique dans laquelle on utilise une caméra"step and repeat"servant à un procédé photolithographique dans lequel on projette un masque définissant un réseau ou un champ de réseau sur un substrat via un système optique. Ce procédé présente au moins deux inconvénients. Premièrement, des décalages entre plusieurs champs formant un même réseau peuvent intervenir. Deuxièmement, le système optique de projection d'une image du masque sur une couche photosensible, disposée en surface d'un substrat où le réseau est formé, est caractérisée par des aberrations optiques de sorte que l'image projetée et définissant le réseau fabriqué présente des déformations relativement au réseau défini par le masque lui-même. Le deuxième procédé de fabrication de réseau est un procédé à l'aide de moyens de formation en continu ou en ligne d'un réseau de diffraction sur un substrat. On entend par une formation en continu du réseau le fait que ledit substrat subit un déplacement continu ou quasi continu relativement aux moyens de formation du réseau, c'est à dire aux moyens d'écriture prévus. Ce deuxième procédé présente certains inconvénients notamment liés à la difficulté d'assurer un défilement à vitesse constante du substrat relativement aux moyens d'écriture. Il résulte des variations de cette vitesse de déplacement des variations de la fréquence spatiale relativement à la fréquence spatiale prédéfinie pour le réseau en formation. Concernant le premier procédé de fabrication de réseaux, on connaît diverses méthodes pour mesurer les aberrations du système de lentilles d'une caméra"step and repeat", notamment décrites ou mentionnées dans les documents US 6,130, 747 ; US 6,091, 486 ; US 5,767, 959. Ces documents utilisent des réseaux placés dans le champ image du masque définissant le réseau objet et comparent la projection du réseau objet avec le réseau placé dans le champ image. En particulier, le document US 5,767, 959 utilise un effet de moiré entre deux réseaux de périodes légèrement différentes lu par une matrice de détecteurs. Ce dernier document mentionne une résolution concernant la distorsion de l'image du réseau d'environ 1 nm. Ces techniques sont donc de résolution limitée et n'effectuent pas de test sur l'objet fabriqué lui-même. Les exigences concernant la distorsion augmentent avec la diminution des dimensions caractéristiques en microélectronique et également dans d'autres domaines comme celui de l'optique diffractante où la fréquence spatiale de motifs ou réseaux périodiques doit être contrôlée avec une résolution supérieure à ce que l'art antérieur permet actuellement. Par exemple, il est connu de l'homme du métier que les réseaux de diffraction destinés à la compression d'impulsions temporelles de laser doivent avoir une très bonne cohérence spatiale correspondant à environ J20, où est la longueur d'onde utilisée. Ceci se traduit par une exigence sur la planéité du substrat du réseau et également sur la régularité de la période de ce réseau. Par exemple, un réseau de diffraction de période nominale Ao = 1 lit et ayant une longueur de 20 mm avec une longueur d'onde Â = Illm ne doit pas présenter un écart de période supérieur à 0.05 Angström entre la première et la dernière période avec l'hypothèse d'une variation monotone de la période sur la longueur du réseau. On constate ainsi que certaines applications nécessitent de pouvoir contrôler la variation spatiale d'un réseau avec une résolution au moins 100 fois supérieure à la résolution de mesure actuelle de cette variation. A titre d'exemple supplémentaire concernant la nécessité d'avoir des dispositifs de caractérisation de réseaux de haute résolution permettant la mise en oeuvre de procédés de fabrication très précis, on mentionnera les réseaux de Bragg sur fibre optique fabriqués au moyen de réseaux de phase de période double, légèrement supérieure à 1 f.. Lm pour des applications WDM pour les télécommunications optiques. Ces réseaux de phase ont une longueur typique de quelques centimètres le long desquels le contrôle de la cohérence spatiale est essentiel pour la réponse en longueur d'onde et en phase optique. L'effet des aberrations d'un système de lentilles utilisé dans le procédé de fabrication ou un contrôle insuffisant du déplacement d'une bande de réseau ou d'une fibre optique relativement aux moyens d'écriture dans le cas d'un procédé de fabrication en continu permettent difficilement d'obtenir des réseaux satisfaisant aux spécifications de telles applications. Concernant le deuxième procédé de fabrication de réseaux mentionné ciavant, on connaît des techniques où l'avance d'une bande ou d'une fibre optique dans un champ d'interférence, produit par deux faisceaux interférant ou par un masque de phase, modulé en intensité à une fréquence Q est contrôlée par la vitesse instantanée de la bande ou de la fibre, comme dans le document US 5,912, 999. Cette technique permet d'obtenir une précision relativement faible. On connaît également du document US 5,822, 479 une technique où le réseau fabriqué en continu est lu en aval des moyens d'écriture par un capteur optique de déplacement qui contrôle l'illumination, cette dernière étant modulée en amplitude à une fréquence Q en fonction d'un signal de contrôle fourni par le capteur optique. Cette technique permet un meilleur contrôle de la régularité du réseau fabriqué, mais n'empêche pas une dérive de la période. En effet, si la période dérive, par exemple du fait d'un glissement de la bande ou de la fibre lors de son entraînement, le capteur ne s'en aperçoit que lorsque l'erreur est déjà trop grande. On constate donc la nécessité actuelle de disposer de dispositifs de caractérisation de réseaux optiques qui permettent de détecter des variations très faibles de période. De plus, l'évolution de la technologie nécessite également de disposer de procédés de fabrication de réseaux optiques présentant une très bonne cohérence spatiale, c'est-à-dire ayant une fréquence spatiale correspondant très précisément à la distribution de fréquence spatiale prédéfinie. Un but de l'invention est donc de fournir un dispositif de caractérisation de réseaux de diffraction permettant de détecter de très faibles variations de leur fréquence spatiale. Un autre but de l'invention est de fournir un dispositif permettant de déterminer très précisément la fréquence spatiale d'un réseau. Un autre but de l'invention est de proposer des procédés de fabrication de réseaux de diffraction permettant d'obtenir des réseaux avec une fréquence spatiale très précisément définie. A cet effet, l'invention concerne premièrement un dispositif optique de caractérisation de réseaux de diffraction, ce dispositif étant formé de premier et deuxième capteurs diffractifs interférométriques, solidaires, espacés l'un de l'autre d'une distance déterminée et comprenant chacun un réseau de lecture et au moins un détecteur d'intensité lumineuse, ces premier et deuxième capteurs fournissant respectivement des premier et deuxième signaux électriques qui sont fonction de la fréquence spatiale dudit réseau de diffraction dans des première et deuxième régions non confondues de ce réseau lors d'une déplacement relatif du dispositif par rapport au dit réseau de diffraction. En particulier, les premier et deuxième signaux électriques peuvent servir à mesurer respectivement des première et deuxième phases instantanées ou accumulées respectivement par les premier et deuxième capteurs lors d'un déplacement du dispositif le long du réseau testé selon une direction non parallèle à ses lignes. Dans un mode de réalisation préféré, le dispositif comprend en outre des moyens pour mesurer la différence entre les première et deuxième phases accumulées, ou pour accumuler la différence des première et deuxième phases instantanées, cette mesure fournissant une indication relative à la variation de la fréquence spatiale du réseau de diffraction entre les deux régions de mesure des deux capteurs et permettant de déterminer une variation desdits phases accumulées en fonction desdits déplacements. Le dispositif selon l'invention décrit ci-dessus permet de déterminer très précisément des variations de la fréquence spatiale d'un réseau de diffraction. L'invention a aussi pour objet un dispositif optique de détermination de la fréquence spatiale d'un réseau de diffraction caractérisé par le fait que ce dispositif est associé à un réseau de référence et qu'il comprend des premier et deuxième capteurs diffractifs interférométriques solidaires et comprenant respectivement des premier et deuxième réseaux de lecture décalés relativement à une direction parallèle à leurs lignes de manière à ce qu'ils puissent être respectivement situés en face dudit réseau de diffraction et dudit réseau de référence, ces premier et deuxième capteurs fournissant respectivement des premier et deuxième signaux électriques qui, lors d'un déplacement relatif entre le dispositif et ledit réseau de diffraction, sont respectivement fonction de la fréquence spatiale dudit réseau de diffraction et de la fréquence spatiale dudit réseau de référence. L'invention a également pour objet un procédé de fabrication de réseaux optiques à l'aide d'un procédé photolithographique dans lequel on projette un masque, définissant un réseau objet ou un champ de celui-ci, sur un substrat via un système optique présentant des aberrations, caractérisé par le fait qu'il est prévu les étapes successives suivantes : - une étape préliminaire dans laquelle on projette un premier masque, définissant un réseau avec une fréquence spatiale déterminée précisément, sur un substrat de test ; - une étape de caractérisation d'un premier réseau de test formé sur ledit substrat de test lors de l'étape préliminaire à l'aide d'un dispositif optique tel que défini précédemment ; - la fabrication d'un deuxième masque pré-distordu en fonction de la caractérisation dudit premier réseau de test de manière à compenser lesdites aberrations ; - la fabrication desdits réseaux optiques sur un ou plusieurs substrats avec l'utilisation dudit deuxième masque pré-distordu de sorte que ces réseaux optiques présentent précisément une distribution de fréquence spatiale prédéfinie. Finalement l'invention a encore comme objet un autre procédé de fabrication de réseaux de diffraction sur un substrat, notamment une bande de réseau comme une fibre optique, à l'aide de moyens d'écriture en continu de ce réseau, ce dernier subissant un déplacement contrôlé relativement à ces moyens d'écriture, caractérisé par le fait qu'il est prévu d'agencer en aval desdits moyens d'écriture un dispositif optique tel que défini précédemment, et en ce que ce dispositif optique est agencé pour fournir un signal de réglage auxdits moyens d'écriture ou à des moyens de contrôle dudit déplacement, ce signal de réglage étant fonction desdits premier et deuxième signaux électriques. La présente invention sera décrite plus en détail ci-après à l'aide des dessins annexés, donnés à titre d'exemples nullement limitatifs, dans lesquels : - la figure 1 représente schématiquement un dispositif de caractérisation de réseaux de diffraction selon l'invention ; - la figure 2 représente un réseau de diffraction fabriqué à l'aide d'une caméra "step and repeat"conventionnelle ; - la figure 3 représente un signal de déphasage obtenu par le dispositif de la figure 1 lors d'un déplacement le long du réseau de la figure 2 ; - les figures 4a et 4b représentent des déphasages théoriques obtenus avec le dispositif de la figure 1 respectivement pour deux valeurs de la variation maximale d'un réseau du type représenté à la figure 2 lors d'un déplacement de ce dispositif le long du réseau ; - la figure 5 représente la courbe théorique fournie par le dispositif de la figure 1 pour un réseau du type de la figure 2 présentant des décalages dans la projection de la succession des champs du réseau ; - la figure 6 représente schématiquement un procédé de fabrication en continu d'un réseau de diffraction ; - la figure 7 représente schématiquement un dispositif de détermination de la fréquence spatiale d'un réseau d'un type apparenté au dispositif de la figure 1 ; et - la figure 8 représente un autre dispositif de détermination de la fréquence spatiale d'un réseau également d'un type apparenté au dispositif de la figure 1. On décrira ci-après à l'aide de la figure 1 un mode de réalisation préféré d'un dispositif de caractérisation selon l'invention. Ce dispositif est basé sur le principe connu des codeurs diffractifs interférométriques. Ce dispositif 2 comprend deux capteurs diffractifs interférométriques 4 et 6 formés chacun d'une source de lumière 8a, 8b, d'un réseau de lecture 10a, 10b et de deux détecteurs d'intensité lumineuse 11 a, 12a, 11 b, 12b. Les signaux électriques fournis par les détecteurs 11 a, 12a, respectivement 11 b, 12b sont fournis à un soustracteur qui élimine la composante DC du signal électrique résultant de la variation d'intensité lumineuse reçue par chaque capteur. On notera que chacun des capteurs 4 et 6 correspond sensiblement à un codeur de déplacement décrit dans le document EP 0 741 282 qui est inclus à la présente demande par référence. Ce type de capteur requiert que la fréquence spatiale du réseau de lecture 10a, 10b soit approximativement égale au double de la fréquence spatiale du réseau de diffraction 14 à caractériser. Ensuite, lors d'un déplacement relatif entre le dispositif 2 et le réseau 14, les deux détecteurs de chaque capteur fournissent des signaux électriques variant de manière sinusoïdale avec un déphase de sensiblement it, raison pour laquelle les soustracteurs 16a, 16b permettent d'enlever la composante continue DC du signal électrique fourni par les détecteurs en réponse à l'intensité lumineuse qui leur est fournie par les faisceaux interférant 18 et 19, respectivement 20 et 21. On remarquera ici que le dispositif décrit dans le document EP 0 741 282 montre dans ses figures un capteur de déplacement dans lequel la lumière est diffractée en transmission par le réseau de lecture et le réseau de mesure. Cependant l'homme du métier comprendra aisément que le principe de mesure décrit dans ce document s'applique également lors de diffraction en réflexion par l'un ou l'autre de ces deux réseaux, comme cela est le cas pour le réseau 14 pour le dispositif représenté à la figure 1. On notera également que chaque capteur 4,6 peut également comporter un second réseau de lecture translaté d'une fraction de période relativement au premier réseau de lecture représenté à la figure 1. Ceci peut permettre d'augmenter encore la précision de la caractérisation du réseau 14 et être utile à d'autres mesures, notamment à la mesure non ambiguë de la phase pour une position relative donnée entre le dispositif 2 et le réseau 14. Les capteurs 4 et 6 sont solidaires l'un de l'autre et espacés d'une distance déterminée L. De préférence, les réseaux de lecture 10a, 10b sont agencés sur un même substrat monolithique ayant un coefficient d'expansion thermique très faible comme de la silice ou du zérodur. Les faisceaux incidents collimatés provenant des sources de lumière 8a et 8b sont sensiblement parallèles. Un phasemètre 24 mesure la différence de phase entre les signaux alternatifs 26 et 28 fournis respectivement par les capteurs 4 et 6, la variation de ces signaux résultant de la variation de l'intensité lumineuse reçue par les détecteurs lors d'un mouvement relatif entre le dispositif 2 et le réseau testé 14 agencé sur le substrat 30. Dans un autre mode de réalisation du dispositif selon l'invention, il est prévu d'utiliser deux capteurs de déplacement du type décrit notamment dans le document EP 0 590 163. Ce mode de réalisation ne sera pas décrit plus en détail ici étant donné que l'homme du métier saura utiliser l'enseignement du mode de réalisation de la figure 1 pour le réaliser. Selon l'invention, les deux signaux électriques 26 et 28 sont fonction, lors d'un déplacement relatif entre le dispositif 2 et le réseau 14, de la fréquence spatiale du réseau 14 dans des première et deuxième régions de celui-ci situées respectivement en face des deux réseaux de lecture et recevant chacune de la lumière fournie par au moins une source de lumière. La dépendance longitudinale selon l'axe x de la fréquence spatiale du réseau 14 est définie par K (x) = 2n/A (x) où A (x) est la période spatiale au point x de ce réseau 14. On notera que A (x) correspond de fait à la période moyenne sur une petite distance correspondant à une région de mesure du premier capteur, respectivement deuxième capteur du dispositif selon l'invention. Soit (pi (x) et (p2 (x) les phases respectives des signaux électriques périodiques fournis respectivement par les premier et deuxième capteurs 4 et 6 au phasemètre 24, la phase accumulée par chacun des deux capteurs lors d'un déplacement Ax entre X1 et X2 du dispositif 2 relativement au réseau 14 est défini par #1 (Ax), respectivement C2 (Ax) qui s'écrivent : Ainsi, la différence des phases accumulées entre les deux capteurs 6 et 4 s'écrit : En prenant X1 comme l'origine et X2 comme variable x, on a donc Ainsi, en dérivant IF (x) on obtient On voit donc que la dérivée de la différence de phases accumulées depuis une position d'origine ? (x) donne exactement deux fois la différence des fréquences spatiales K (x) mesurées aux points x+L et x. L est défini comme la distance entre les centres des deux réseaux de lecture 1 Oa et 1 Ob. En partant du fait que K (x) varie faiblement autour d'une valeur Ko = 2n/Ao, Ao étant le double de la période des réseaux de lecture 10a et 10b dans le mode de réalisation décrit dans le document EP 0741282, condition nécessaire à l'obtention d'un contraste d'interférence suffisant pour permettre une mesure, on a Sous cette hypothèse on obtient De manière générale, en partant de l'hypothèse que la variation de la période du réseau testé est définie par une fonction F (x), on peut formuler où Mm est la variation maximale de la période relativement à Ao. On obtient ainsi Si f (x) est connue, on peut en l'intégrant déterminer directement AAm du graphe IF (x) mesuré, notamment par"curve fitting". Si l'intégration de f (x) pose un problème, on peut aussi dériver le graphe de Y (x) obtenu. On remarquera que, comme défini, IF (x) est égal à 41t fois le nombre de périodes du réseau 14 entre deux points de mesure x+L et x. Expérimentalement, le dispositif selon l'invention mesure IF (x)-o, la constante o pouvant être déterminée par une mesure préliminaire. Toutefois, dans l'équation différentielle (6) donnée ciavant, la constante To disparaît. Ce dispositif mesure ainsi deux fois la variation du nombre de périodes du réseau testé sur une distance L fixe entre une position initiale et une autre quelconque position x du dispositif relativement à ce réseau par un déplacement de ce dispositif entre ces deux positions. Le phasemètre 24 comprend des moyens pour mesurer une différence entre les phases (pi et (pz desdits premier et deuxième signaux ainsi que des moyens pour mesurer l'accumulation de cette différence lors d'un déplacement Ax du dispositif relativement au réseau 14 selon une direction non parallèle à ses lignes. Dans une autre variante, le phasemètre 24 comprend des moyens d'accumulation des phases (pi et (P2 et des moyens pour effectuer la différence de ces deux phases accumulées. Afin de permettre d'analyser ou d'effectuer notamment la dérivée du graphe T (x), le dispositif selon l'invention comprend de préférence des moyens de mémorisation de la différence susmentionnée et/ou d'une fonction de celle-ci en fonction du déplacement entre le réseau 14 et le dispositif 2. Pour analyser et/ou traiter la différence susmentionnée en fonction de la position relative entre le dispositif 2 et le réseau 14 ou en fonction d'un déplacement relatif entre ceux-ci comme décrit ci-avant, le dispositif selon l'invention comprend ou est associé à des moyens d'analyse et/ou de traitement du signal T (x) fourni par le phasemètre 24 à une constante près. Une méthode générale de résolution de l'équation (6) consiste à utiliser la transformée de Fourier connue de l'homme du métier. La transformée de Fourier de K (x) peut être exprimée explicitement en termes de la transformée de Fourier de IF (x) mesuré et de coefficients connus. On trouve alors la fonction K (x) par une transformée de Fourier inverse. Il existe également d'autres méthodes de résolution de cette équation (6), notamment à l'aide de programmes d'ordinateur permettant d'ajuster une fonction à une courbe expérimentale obtenue, en particulier la courbe T (x) ou sa dérivée. Ces méthodes générales permettent facilement de prendre en considération notamment les décalages ou"stitching errors"entre les champs projetés par une caméra"step and repeat". Dans le cas où K (x) est une fonction sensiblement périodique, comme c'est le cas notamment lorsqu'un réseau est fabriqué par un procédé"step and repeat", la résolution de l'équation (6) peut être traitée par un développement en série de Fourier des membres de gauche et de droite de l'égalité. Un des procédés de fabrication de réseaux de diffraction consiste à utiliser une caméra"step and repeat"qui projette l'image d'un réseau objet défini par un masque sur une couche photosensible déposée en surface d'un substrat. Pour des réseaux d'une certaine longueur, la caméra projette une partie du réseau, nommée par la suite un champ du réseau, puis effectue un déplacement avant d'illuminer à nouveau la couche photosensible pour former un champ adjacent au champ précédemment formé. On obtient ainsi des réseaux d'une certaine longueur formés d'une succession de champs à l'intérieur desquels est située une partie du réseau image du masque projeté. Comme mentionné dans le préambule à la présente description, les caméras "step and repeat"comprennent un système de lentilles présentant des aberrations et en particulier des aberrations sphériques. Ces dernières engendrent une variation de la période du réseau selon une direction longitudinale sensiblement parabolique pour un masque définissant un réseau de période constante. Le réseau ainsi obtenu est représenté schématiquement à la figure 2. La distribution de la variation de la période du réseau 34 peut être exprimée par la formule (10), donnée ci-avant dans laquelle f (x) est donnée par la fonction analytique suivante : La constante C correspond sensiblement à la longueur du champ 36. En supposant par exemple que la période Ao = 1 go et que la longueur d'un champ projeté soit égale à 16 mm la distribution de A sur un champ donné par les formules (10) et (12), une telle aberration peut conduire à une erreur de mesure de déplacement au bord de chaque champ d'une valeur d'environ 50 nm sur les 8 mm de déplacement depuis la position milieu Xo de ce champ pour une caméra présentant un système optique de qualité usuelle. Ainsi, pour un réseau formé de N champs, l'utilisation d'un tel réseau dans un codeur de déplacement conduit à une erreur de mesure de 0. 1 N jlm, ce qui n'est pas acceptable pour plusieurs applications. On notera que le réseau représenté à la figure 2 est simplifié par le fait qu'il représente de fait l'effet des aberrations sphériques seulement dans un plan longitudinal de ce réseau. En effet, du fait des aberrations sphériques, les lignes 38 du réseau sont légèrement incurvées. D'autres types d'aberrations sont en outre présents qui ne peuvent pas être représentées par la fonction f (x) donnée comme exemple par la formule (12). Il faudra donc tenir compte de ces deux caractéristiques dans le procédé de fabrication qui sera décrit ci-après. Pour un réseau similaire au réseau de diffraction 34, T (x) fourni par le dispositif 2 correspond au graphe 40 tel que représenté à la figure 3. On remarque que la courbe 40 présente un comportement du type sensiblement sinusoïdal. Aux figures 4a et 4b sont représentées les courbes théoriques 42 et 44 pour IF (x) avec l'hypothèse de la distribution parabolique de la variation de la période donnée par la formule (12). Les courbes 42 et 44 correspondent respectivement à des i1Am = 0.4 A, 0.2 A. On notera que dans le présent cas Ao correspond à la période minimum située au centre du champ. En prenant Ao comme la valeur moyenne entre les deux valeurs extrêmes du champ, on obtient alors une variation sur A correspondant à la moitié des valeurs mentionnées aux figures 4a et 4b. La variation maximale de la période sur un champ est directement proportionnelle à la différence d'amplitude mesurée sur le graphe de T (courbe 40). On notera que la dérive de la courbe 40 et de la figure 3 vers des valeurs négatives lorsque x augmente provient du fait que la distance entre le réseau testé et le dispositif selon l'invention varie en fonction du déplacement et que les deux faisceaux collimatés incidents dans les deux capteurs 4 et 6 ne sont pas strictement parallèles. Comme une résolution sur IF (x) de l'ordre du degré peut être aisément obtenue, on peut envisager de détecter des variations sur la période d'un réseau de l'ordre du centième d'Angström. Ceci démontre à quel point le dispositif de caractérisation selon l'invention et le procédé de fabrication de réseau qui lui est associé sont résolvants. On remarquera encore que la courbe 40 obtenue par le dispositif de l'invention présente en certains endroits de légères bosses ou creux. Ceux-ci sont dus notamment à des erreurs de raccordement de deux champs adjacents provenant d'erreurs de positionnement de la table sur laquelle est posé le substrat du réseau fabriqué. A la figure 5 est représentée la courbe théorique 46 de T (x) obtenue pour une distribution parabolique avec une même variation maximale de la période qu'à la figure 4b, mais avec un décalage D = 0.01 um entre deux champs 36 (voir figure 2) au-dessus duquel passe le dispositif de la figure 1. Selon l'invention, il est prévu un premier procédé de fabrication de réseaux optiques à l'aide d'un procédé photolithographique, utilisant notamment une caméra du type"step and repeat", dans lequel on projette un masque, définissant un réseau objet sur un substrat via un système optique présentant des aberrations. Ce procédé se caractérise par les étapes successives suivantes : - une étape préliminaire dans laquelle on projette un premier masque, définissant un réseau de référence avec une distribution de fréquence spatiale déterminée précisément, sur un substrat de test ; - une étape de caractérisation d'un premier réseau de test formé sur le substrat de test lors de l'étape préliminaire à l'aide d'un dispositif optique selon l'invention, la caractérisation permettant de définir la distribution de la période du réseau de test avec une très grande résolution, notamment selon la méthode exposée ci-avant dans le cas d'aberrations sphériques ; - la fabrication d'un deuxième masque pré-distordu en fonction de la caractérisation du premier réseau de test de manière à compenser les aberrations ; - la fabrication des réseaux optiques sur un ou plusieurs substrat (s) avec l'utilisation du deuxième masque pré-distordu de sorte que ces réseaux présentent précisément une fréquence spatiale prédéfinie. Etant donné la très grande précision dans la détermination de la cohérence spatiale et en particulier de la fréquence spatiale du réseau de test par le dispositif selon l'invention, il est alors possible pour l'homme du métier, par des moyens analytiques ou à l'aide de programmes d'ordinateurs spécifiques connus de lui de définir avec une même précision la distribution spatiale du réseau de travail défini par le masque pré-distordu pour obtenir dans le champ d'image de ce masque prédistordu un réseau présentant parfaitement la distribution de fréquence spatiale prédéfinie. La seule limitation à la précision de réalisation du masque de travail prédistordu tient à la résolution d'écriture du réseau modifié de ce masque. A ce sujet, on mentionnera que l'évolution des systèmes d'écriture ou de formation de tels réseaux dans un masque permet de contrôler de manière toujours plus fine la position du faisceau d'écriture. Tel est le cas notamment pour la nouvelle génération de système Leica permettant un contrôle de la position d'écriture à 0.05 nanomètre (voir DE 10011202.1). Etant donné que le réseau objet défini par le masque est projeté dans le plan image avec une réduction d'un facteur 5 environ, la résolution de la période spatiale du réseau de diffraction fabriquée est d'environ 0.1 A. Un exemple est donné ci-après de la correction qui est actuellement possible avec les caméras"step and repeat"disponibles dans les fonderies de la microélectronique. Après que la dépendance longitudinale K (x) ou A (x) a été déterminée, le masque pré-distordu corrigeant les aberrations peut être fabriqué. Par exemple, dans le cas d'un réseau fabriqué par caméra"step and repeat", l'effet des aberrations est de donner d'un réseau strictement périodique une image aberrée où la dépendance longitudinale est mesurée dans un champ photorépété par exemple comme Le masque corrigé dont la projection donnera un réseau de période constante aura une dépendance longitudinale de la période donnée par où A', A, AAm', c', x'et x'sont) es paramètres géométriques du réseau corrigé dans le plan du masque, ces paramètres étant ceux du réseau aberré multipliés par un facteur de grossissement M qui est, dans les"steppers"usuels, un facteur 4 ou 5. La dépendance parabolique de A (x) mesurée donne une valeur de AAm typique de 0.02 nm, donc AAm'= o. 1 nmsiM=5. Unmasqueur électronique ou laser devrait donc pouvoir résoudre un certain nombre de valeurs à l'intérieur du domaine Axa'= 0. 1 nm pour l'obtention d'une période A 1 (x 1) graduellement décroissante du centre vers les bords du champ. Si une telle exigence peut être satisfaite techniquement par déflexion du faisceau électronique ou laser d'écriture, elle n'est pas encore disponible dans les masqueurs usuels dans lesquels la grille d'adressage est fixe et a un pas p aussi petit que 0.1 nm pour le LION L V1 de Leica avec l'enseignement du brevet DE 10011202.1, ou qui est de l'ordre de 1 nanomètre dans les masqueurs laser. Une prédistortion est cependant déjà possible avec les masqueurs existants lorsque le mode continu d'écriture n'est pas disponible : au lieu d'écrire les lignes du réseau corrigé avec une variation continue de la période, on écrira les lignes par groupes de lignes attachées à la grille d'adressage par arrondi de la position longitudinale des lignes de réseau du masque. Supposant que la période nominale Ao correspond exactement à la grille d'adressage, la ligne de numéro d'ordre m du réseau du masque corrigé doit se trouver à une distance xm' de xo' Le numéro d'ordre m de la ligne de réseau dont la position m'correspond à un 1 nombre entier i d'incréments de grille p par rapport à sa position mAo 1 dans un réseau strictement périodique est donné par 4AAm'A/C '2 (m (2m2+3m+l)/6) =-ip qu'on peut écrire Soit m = n-1/2. L'équation devient : 3 n3 - n/4 + Ti = o dont la solution est connue et conduit à Dans le cas d'un réseau fabriqué par camera"step & repeat"avec M = 5, c = 16 mm, AAm = 2 io s m, A = i ; j. m et un pas de grille d'écriture du 9 masque p = 1 nm, Ti = 1.92 10 i où i est le numéro d'ordre de l'incrément p. Ti est 1/3 donc très grand si bien que m est sensiblement égal à Ti. Dans l'exemple donné ci-dessus d'un masque de réseau corrigé, on écrira de part et d'autre du centre du champ 1243 périodes Ao'de 5. 000 ! lm après quoi l'ensemble des périodes Ao'jusqu'au numéro d'ordre 1566 seront écrites avec un décalage de p = 1 nm vers le centre du champ, et ainsi de suite, à chaque numéro 1/3 d'ordre i de période m = PE (Tj) les périodes de l'ensemble de périodes Ao 1 suivant sont décalées de p vers le centre jusqu'à m = 266 pour le cas présent, ce qui correspond sensiblement aux extrémités du champ de 5 x 16 mm de longueur. Dans cet exemple, la cohérence spatiale dans un champ du réseau n'est pas parfaitement corrigée mais elle l'est suffisamment pour plusieurs applications, notamment pour la fabrication de réseaux de mesure pour capteurs de déplacement. Cet exemple de pré-distortion pour un réseau de période constante n'est nullement limitatif. Par exemple, une distribution de fréquence spatiale présentant une croissance ou décroissance monotone prédéterminée, comme dans un réseau de phase pour la fabrication de compensateurs de dispersion par réseau de Bragg dans une fibre optique, peut être inscrite sur un masque pré-distordu d'une façon similaire. En outre, les erreurs et aberrations d'un autre type que celui qui est donné par les expressions (10) et (12) peuvent être corrigés de façon similaire. L'homme du métier saura choisir le masqueur et la méthode d'écriture du masque les mieux appropriés pour définir le masque corrigé au plus près de ce qui est spécifié. On remarquera que le dispositif selon l'invention et le procédé de fabrication décrit ici s'applique également à des réseaux bidirectionnels (réseau croisé) ou le dispositif de l'invention est utilisé pour caractériser la cohérence spatiale selon les axes X et Y orthogonaux d'un tel réseau. Un deuxième procédé de fabrication de réseaux optiques en continu selon l'invention est schématisé à la figure 6. Un dispositif selon l'invention 2 est agencé en aval d'un système d'écriture ou de formation du réseau 14. Le phasemètre 24 fournit un signal de réglage 50, à savoir le signal T (x) défini précédemment ou une fonction de celui-ci, à un interface 52 associé au moyen d'écriture 48. L'interface 52 fournit par exemple un signal de commande d'une fréquence Q servant à moduler l'amplitude de deux faisceaux interférant pour définir les lignes du réseau au formation dans un film photosensible agencé sur le substrat 30. Le dispositif 2 selon l'invention permettant de mesurer très précisément une variation du nombre de périodes ou de lignes du réseau 14 en formation sur la distance L, le signal de réglage 50 est utilisé pour définir très précisément cette fréquence de modulation Q et pour varier cette dernière de manière à obtenir en particulier un réseau présentant une période constante. Selon un autre mode de mise en oeuvre, il est également possible d'agir sur les moyens d'entraînement et de fournir le signal de réglage 50 à des moyens de contrôle de la vitesse de déplacement du substrat 30, tout en conservant la fréquence de modulation constante. Un système de fabrication de réseaux similaire peut être prévu avec des moyens d'écriture 48 fournissant des faisceaux UV pour polymériser une couche de polymère agencée en surface du substrat 30. Un système similaire peut également être utilisé dans le cas de la formation de réseau par pressage à chaud à l'aide d'un cylindre présentant sur sa surface de roulement un réseau usiné à transférer sur le substrat 30. Pour obtenir une période constante correspondant à celle définie par le cylindre d'écriture, il est nécessaire que les vitesses de rotation du cylindre et la vitesse de défilement du substrat 30 dans la région de formation du réseau soient identiques. Le dispositif 2 fournit alors un signal de réglage soit de la vitesse de rotation du cylindre, soit de la vitesse de défilement du substrat 30. Un système similaire peut être également utilisé dans d'autres installations de formation de réseaux en continu utilisant d'autres techniques connues de l'homme du métier, notamment à l'aide de faisceaux laser ou de faisceaux électroniques ou encore de faisceaux ioniques. On notera que dans le cas où le signal de réglage sert à contrôler les moyens d'écriture dans le but d'assurer par exemple une fréquence spatiale constante, une augmentation du nombre de périodes détectées sur la longueur L par le dispositif 2 à vitesse sensiblement constante conduira à diminuer la fréquence d'écriture alors qu'une diminution du nombre de périodes conduira à augmenter cette fréquence. Le dispositif 2 du contrôle en ligne permet ainsi d'établir une boucle de réglage rétroactive pour contrôler l'écriture du réseau en continu. Dans le cas où le dispositif 2 fournit un signal de réglage au moyen de contrôle du déplacement du substrat 30, la détection d'une augmentation du nombre de périodes sur la distance L par ce dispositif entraînera une augmentation de la vitesse de déplacement de ce substrat 30, alors qu'une diminution de ce nombre de périodes entraînera une diminution de la vitesse de déplacement. En partant de l'hypothèse raisonnable que les variations de la fréquence spatiale du réseau 14 en formation sont sensiblement continues avec une faible pente relativement à la variable temporelle, un simple calcul montre que ce deuxième procédé permet de contrôler la période spatiale du réseau fabriqué avec une précision supérieure au centième de nanomètre. A l'aide de la figure 7, on décrira ci-après un premier dispositif optique de détermination de la fréquence spatiale d'un réseau de diffraction selon l'invention. La figure 7 est une vue schématique de dessus. Le dispositif 54 comprend un premier capteur 4 et un deuxième capteur 6 similaires à ceux décrits à l'aide de la figure 1. Ces deux capteurs sont également reliés à un phasemètre (24) comme pour le dispositif de la figure 1. Ainsi, le dispositif 54 se distingue de celui de la figure 1 essentiellement par le fait que les capteurs 4 et 6 sont décalés relativement à une direction parallèle aux lignes des réseaux. Dans le mode de réalisation préféré de la figure 7, les capteurs 4 et 6 sont situés l'un à côté de l'autre relativement à une direction x de déplacement, c'est-à-dire que la distance L est nulle. Les capteurs 4 et 6 sont agencés de manière à ce qu'ils soient respectivement situés en face d'un réseau 34 dont il est prévu de déterminer la période absolue et d'un réseau de référence 56 ayant une fréquence spatiale définie, de préférence une période Ao constante et précisément déterminée. On notera ici que la détermination précise de la période Ao du réseau 54 peut être déterminée à l'aide d'un deuxième dispositif représenté à la figure 8 qui sera décrit par la suite. Le dispositif 54 permet la mesure de la valeur absolue A de la fréquence spatiale du réseau 34 pour autant que cette période soit sensiblement constante, c'est-à-dire qu'elle ne varie que faiblement autour d'une valeur moyenne à déterminer, ceci essentiellement pour des raisons de contraste d'interférence suffisant à la détection de signaux AC pour les capteurs 4 et 6. Si A s'écarte de Ao de moins de 0.1 % environ les réseaux de lecture des capteurs 4 et 6 peuvent avoir une même période Ao/2. Par contre, si A s'écarte de Ao de plus de 0.1 % environ, il est nécessaire de prévoir deux réseaux de lecture avec des périodes différentes et égales sensiblement à la moitié de A et de Ao. Ainsi, il est nécessaire de connaître de manière approximative la valeur de A pour pouvoir la déterminer ensuite très précisément à l'aide du dispositif 54. Par exemple, pour des périodes de réseaux de l'ordre du micron, il est nécessaire de connaître au préalable la valeur de A à mieux que 1 nm près, ce qui est en général le cas. En déplaçant le dispositif 54 situé en x d'une distance Ax, la valeur de A (x) est donnée par la formule analytique suivante : où IF (AX) est la différence des phases mesurées par les deux capteurs 4 et 6 lors du déplacement Ax et A (pr (Ax) est la phase accumulée mesurée par le capteur de référence 6 agencé au-dessus du réseau de référence 56 lors du déplacement Ax. On notera qu'il n'est pas nécessaire de déterminer Ax, mais la précision de mesure augmente avec l'augmentation de Ax ; cependant, on obtient une valeur absolue de la période A (x) qui est une moyenne définie sur un domaine Ax plus grand. Le dispositif 54 permet de mesurer de manière très précise, c'est-à-dire avec une précision de mieux qu'un centième de nanomètre, la période A (x) du réseau 34 lorsque cette période présente des variations sensiblement continues et lentes. Le principe de mesure de la période absolue par le dispositif 54 repose donc essentiellement sur le fait que les premier et deuxième capteurs 4 et 6 fournissent respectivement des premier et deuxième signaux électriques qui sont respectivement fonction de la fréquence spatiale du réseau à mesurer 34 et de la fréquence spatiale du réseau de référence 56 lors d'un déplacement relatif le long de x. De plus, le fait que les capteurs 4 et 6 sont solidaires l'un de l'autre et subissent un même déplacement le long des réseaux permet de déterminer très précisément une différence de phase accumulée lors d'un déplacement Ax. A l'aide de la figure 8, on décrira ci-après un deuxième dispositif optique de détermination de la fréquence spatiale absolue d'un réseau de diffraction 56. Le dispositif 60 se distingue essentiellement de celui décrit à l'aide de la figure 1 en ce qu'il est prévu un troisième capteur diffractif interférométrique situé à une distance L2 du premier capteur 4 alors que ce dernier est situé à une distance L1 du deuxième capteur 6. Le troisième capteur 62 est de préférence situé à côté du capteur 6, les capteurs 6 et 62 étant agencés de manière à ce qu'ils soient tous deux situés en face du réseau 56 lors d'un déplacement le long de celui-ci. Les distances L1 et L2, qui sont définies entre centres des réseaux de lecture, sont proches mais différentes. A la figure 8, les capteurs ont été représentés schématiquement seulement par leur réseau de lecture. Toutefois, le troisième capteur 62 est similaire aux capteurs 4 et 6 et comprend également au moins un détecteur d'intensité lumineuse en plus de son réseau de lecture 64. Le capteur 62 fournit également un signal électrique qui est fonction de la fréquence spatiale du réseau de diffraction 56 dans une région utile de ce dernier située en face du réseau de lecture 64. Le dispositif 60 comprend également des moyens pour mesurer une différence entre les phases des signaux électriques fournis respectivement par les capteurs 4 et 62 et des moyens pour mesurer une accumulation de cette différence ou des moyens pour mesurer l'accumulation de chacune des deux phases et des moyens pour mesurer ensuite leur différence. Le dispositif 60 est associé à ou comprend en outre des moyens d'analyse des première et deuxième différences mesurées entre le capteur 4 et respectivement les deuxième et troisième capteurs 6 et 62. Ces moyens d'analyse sont agencés pour fournir un signal correspondant à la valeur de la fréquence spatiale ou de la période du réseau 56. De manière générale, le dispositif 60 comprend deux paires de détecteurs séparés par des distances déterminées. De préférence, dans le mode décrit ici, un capteur de chacune de ces paires est formé par un seul et même capteur 4. Comme déjà mentionné précédemment, lorsque la période A du réseau à mesurer s'écarte trop du double de la période des réseaux de lecture qui est ici identique pour les trois capteurs, il se forme des franges sur les détecteurs qui ne mesurent plus dès lors qu'un signal DC ne donnant aucune information utile. Selon le mode de réalisation décrit par le document EP 0 741 282, et dans le cas où l'espace entre les réseaux de lecture et le réseau 14 de la figure 1 ou 30 de la figure 6 ou 34 et 56 des figures 7 et 8 est très faible, par exemple entre 50 et 150 Lm, et où les réseaux de lecture de longueur L'dans la direction perpendiculaire aux lignes de réseau sont complètement et sensiblement uniformément illuminés par les faisceaux incidents colimatés provenant des sources de lumière, l'écart dA autour de Ao pour lequel le contraste d'interférence s'annule est de sensiblement dA=±Ao 2/ (2L') où Ao est le double de la période des réseaux de lecture. On voit en particulier que le domaine 2dA autour de Ao dans lequel l'amplitude des signaux électriques AC est mesurable peut être élargi par l'utilisation de réseaux de lecture plus courts. Pour une longueur de réseau de lecture L'de 1 mm et une période Ao = 1 um pour un contraste maximum, la période A du réseau 56 doit être différente de Ao de de moins de dA=0.5 nm pour l'obtention d'un signal AC mesurable. A étant ainsi déterminé à l'intérieur d'un domaine de largeur A02/L'autour de Ao, le dispositif 60 permet de déterminer plus précisément la valeur de A à l'aide d'au moins deux mesures i (Ax) et (Ax) entre les deux paires de capteurs. Avec L2 Ce qui donne : Ainsi, par exemple, si Ao = 1 lit, dA = 0. 5 nm, H-Lz doit être inférieur à 500 jum. Comme mentionné précédemment, la résolution dans la détermination de la valeur absolue de A peut être obtenue à mieux que le centième de nanomètre. La détermination absolue d'une période A=Ao+AA inconnue peut être effectuée selon le mode préféré suivant. La phase électrique (A) et Y 2 (A) correspondant au nombre entier ou non entier N1 et N2 de périodes inconnues A sur les distances L1 et L2 entre centres de réseaux de lecture, est donnée par 'Pl (A) =4?tN et (A) =4nN2. L1 et L2 sont choisis de façon à contenir exactement un nombre demi-entier v/2 et vu2/2 de périodes A 1 V et v étant des nombres entiers. Ceci est possible car les réseaux de lecture sont écrits sur un même substrat au moyen d'un masqueur électronique contrôlé par interféromètre tel que le LION LV1 de Leica. La différence de phase électrique L1'Pl = (A)- (A) entre la phase pour la période Ao et la phase pour la période A sur L1 est et Or, les premier et deuxième capteurs mesurent ##1 et ##2 modulo 2#, c'est à dire ##1m et ##2m avec avec PE (x) définissant partie entière de x. Or, par la condition L-L Du fait que le terme 41t (L-L)/A est un nombre entier de fois 2 ? t, OÙ i1'Ylm et Atom sont les phases effectivement mesurées par les deux capteurs. Donc A = A +M est déterminée. La résolution avec laquelle la période A peut être déterminée dans le domaine 2dA dépend de la résolution s donnée sur la phase des signaux électriques par le phasemètre et vaut sensiblement edA/Ti. REVENDICATIONS 1. Dispositif optique (2) de caractérisation d'un réseau de diffraction (14, 34), caractérisé en ce qu'il est formé de premier et deuxième capteurs diffractifs interférométriques (4,6), solidaires, espacés l'un de l'autre d'une première distance déterminée (L ; Lui), et comprenant chacun au moins un réseau de lecture (10a, 10b) et au moins un détecteur d'intensité lumineuse (11 a, 12a, 11 b, 12b), ces premier et deuxième capteurs fournissant respectivement des premier et deuxième signaux électriques qui, lors d'un déplacement relatif (Ax) entre le dispositif et ledit réseau de diffraction, varient en fonction de la fréquence spatiale de ce réseau de diffraction dans des première et deuxième régions de celui-ci situées respectivement en face des deux réseaux de lecture et recevant chacune de la lumière fournie par au moins une source de lumière. 2. Dispositif optique (54) de détermination de la fréquence spatiale d'un réseau de diffraction (34) caractérisé en ce que ce dispositif est associé à un réseau de référence (56) et qu'il comprend des premier et deuxième capteurs diffractifs interférométriques (4,6) solidaires et comprenant respectivement des premier et deuxième réseaux de lecture décalés relativement à une direction parallèle à leurs lignes de manière à ce qu'ils puissent être respectivement situés en face dudit réseau de diffraction et dudit réseau de référence, ces premier et deuxième capteurs fournissant respectivement des premier et deuxième signaux électriques qui, lors d'un déplacement relatif entre le dispositif et ledit réseau de diffraction, sont respectivement fonction de la fréquence spatiale dudit réseau de diffraction et de la fréquence spatiale dudit réseau de référence. 3. Dispositif optique selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que lesdits premier et deuxième signaux définissent des première et deuxième phases des premier et deuxième capteurs diffractifs interférométriques respectivement dans lesdites première et deuxième régions. 4. Dispositif optique selon la revendication 3, caractérisé en ce qu'il comprend en outre soit des moyens (24) pour mesurer une première différence entre les phases respectives des premier et deuxième signaux électriques et des moyens pour mesurer l'accumulation de cette première différence lors d'un déplacement du dispositif relativement audit réseau de diffraction selon une direction non parallèle à ses lignes, soit des moyens pour mesurer les deux accumulations des phases respectives desdits premier et deuxième signaux électriques et des moyens (24) pour mesurer la première différence de ces deux accumulations en fonction dudit déplacement. 5. Dispositif optique selon la revendication 4, caractérisé en ce qu'il comprend en outre des moyens de mémorisation de ladite première différence et/ou d'une fonction de celle-ci en fonction dudit déplacement relatif. 6. Dispositif optique selon la revendication 4 ou 5, caractérisé en ce qu'il comprend ou est associé à des moyens pour analyser et/ou traiter ladite première différence en fonction d'une position relative entre ce dispositif et ledit réseau de diffraction ou en fonction dudit déplacement relatif de manière à déterminer la fréquence spatiale du réseau de diffraction ou à fournir au moins une information relative à une variation de cette fréquence spatiale. 7. Dispositif optique (60) de détermination de la fréquence spatiale d'un réseau de diffraction selon l'une des revendications 4 à 6 avec la revendication 3 dépendant directement de la revendication 1, caractérisé en ce qu'il est prévu un troisième capteur diffractif interférométrique (62) situé respectivement à une deuxième distance (L2) déterminée dudit premier capteur (4), lesdites première et deuxième distances déterminées étant proches mais différentes, ledit troisième capteur comprenant également un réseau de lecture (64) et au moins un détecteur d'intensité lumineuse, ce troisième capteur fournissant lors d'un déplacement relatif entre le dispositif et ledit réseau de diffraction (56) un troisième signal électrique qui est fonction de la fréquence spatiale dudit réseau de diffraction dans une troisième région de ce dernier situé en face du réseau de lecture de ce troisième capteur, ce dispositif comprenant également des moyens pour mesurer une deuxième différence entre les phases desdits premier et troisième signaux électriques, des moyens pour mesurer une accumulation de cette deuxième différence, et des moyens d'analyse desdites première et deuxième différences qui sont agencés pour fournir un signal correspondant à la valeur de la fréquence spatiale ou de la période dudit réseau de diffraction. 8. Dispositif optique selon la revendication 7, caractérisé en ce que ledit troisième signal définit une troisième phase dudit réseau de diffraction dans ladite troisième région. 9. Procédé de fabrication de réseaux optiques à l'aide d'un procédé photolithographique dans lequel on projette un masque, définissant un réseau objet ou un champ de celui-ci, sur un substrat via un système optique présentant des aberrations, caractérisé en ce qu'il est prévu les étapes successives suivantes : - une étape préliminaire dans laquelle on projette un premier masque, définissant un réseau avec une fréquence spatiale déterminée précisément, sur un substrat de test ; - une étape de caractérisation d'un premier réseau de test formé sur ledit substrat de test lors de l'étape préliminaire à l'aide d'un dispositif optique selon l'une des revendications 1 à 6 avec la revendication 3 dépendant directement de la revendication 1 ; - la fabrication d'un deuxième masque pré-distordu en fonction de la caractérisation dudit premier réseau de test de manière à compenser lesdites aberrations ; - la fabrication desdits réseaux optiques sur un ou plusieurs substrat (s) avec l'utilisation dudit deuxième masque pré-distordu de sorte que ces réseaux optiques présentent précisément une distribution de fréquence spatiale prédéfinie. 10. Procédé de fabrication d'un réseau optique sur un substrat, notamment une bande de réseau comme une fibre optique, à l'aide de moyens d'écriture en continu de ce réseau, ce dernier subissant un déplacement contrôlé relativement à ces moyens d'écriture, caractérisé en ce qu'il est prévu d'agencer en aval desdits moyens d'écriture un dispositif optique selon l'une des revendications 1 à 6 avec la revendication 3 dépendant directement de la revendication 1, et en ce que ce dispositif optique est agencé pour fournir un signal de réglage auxdits moyens d'écriture ou à des moyens de contrôle dudit déplacement, ce signal de réglage étant fonction desdits premier et deuxième signaux électriques.