FR 2762524 A1 19981030 FR 9705145 A 19970425 PROCéDA DE TRAITEMENT D'EFFLUENTS GAZEUX CHARGES EN COMPOSÉS POLLUANTS VOLATILS PAR REACTION DESDITS COMPOSÉS POLLUANTS AVEC UN PLASMA HORS ÉQUILIBRE THERMODYNAMIQUE, ET RÉACTEUR DANS LEQUEL EST MIS EN OEUVRE LEDIT PROCÉDÉ. La présente invention concerne un procédé de traitement d'effluents gazeux chargés en composés polluants volatils, par réaction desdits polluants avec un plasma hors équilibre thermodynamique. Elle concerne également un réacteur de traitement d'effluents gazeux dans lequel est mis en oeuvre ledit procédé. Pour une meilleure protection de l'environnement, les normes relatives aux émissions de composés volatils sont et vont devenir plus sévères. Les mesures nécessaires doivent donc être prises par de nombreuses industries afin de traiter les polluants volatils qu'elles rejettent. A titre d'exemple d'industries rejetant des gaz polluants, on peut citer les raffineries, les industries de dégraissage des métaux, de nettoyage à sec, de fabrication de caoutchouc, d'extraction de l'huile, de fabrication et application de peinture, de résines, de colles et adhésifs, de fabrication de parfums, produits pharmaceutiques et phytosanitaires, de fabrication de l'encre ou de l'imprimerie. Toutes ces industries mettent en oeuvre des solvants responsables de la pollution qui sont notamment les composés aliphatiques tels que le white spirit, la paraffine, le pétrole, les composés aromatiques tels que le benzène, le toluène ou le xylène, les composés chlorés tels que le trichloroéthylène, les composés alcooliques tels que le méthanol, méthanol, le propanol, le butanol, les cétones telles que l'acétone, la méthyl-éthyl cétone, les acétates d'alkyle tels que l'acétate d'éthyle ou l'acétate de butyle, les alkyl glycols tels que le méthyl glycol, l'éthyl glycol, le butyl glycol. Ces composés polluants proviennent également des transports terrestres et aériens. Comme autres composés volatils nuisibles, on peut également citer les chlorofluorocarbones, et les halocarbones qui ont été largement utilisés pour les systèmes à air conditionné, les systèmes réfrigérants et la production d'aérosols et qui sont présents dans les fumées rejetées par la combustion du gazole, dans les peintures et les agents dégraissants, et qui sont également utilisés dans l'industrie de l'électronique en tant qu'agent nettoyant et dans l'industrie chimique dans la fabrication des mousses. I1 existe bien entendu d'autres composés volatils polluants tels que notamment les vapeurs de mercure, les composés soufrés tels que H2S et SO2, etc. Actuellement, comme procédés de traitement de ces composés volatils, notamment des composés organiques volatils, on utilise des procédés de traitement par oxydation thermique, par oxydation catalytique, par condensation, par absorption, par adsorption sur carbone, ou par utilisation de plasma thermique généré par des torches à plasma haute fréquence et des torches à plasma d'arc. Cependant, ces traitements entrainent tous des coûts élevés qui sont un obstacle à une généralisation de leur utilisation. Par ailleurs, des traitements par plasma hors équilibre thermodynamique dont le coût est plus compétitif mais encore trop élevé, ont été mis au point. Par exemple, T. YAMAMOTO et al. dans "Decomposition of Volatile Organic Compounds by a Packed-Bed Reactor and a Pulsed-Corona Plasma Reactor" (Décompositions des Composés Organiques Volatils par un Réacteur à Lit Compact et un Réacteur de Plasma à Décharge Couronne Pulsée) (NATO ASI Series 1993 Vol. G34 Part B), ont décrit deux réacteurs de traitement d'effluents gazeux par plasma hors équilibre thermodynamique. Le premier est dit réacteur à lit compact et le second est dit réacteur de plasma à décharge couronne pulsée. Le réacteur dit à lit compact contient des granules de BaTiO3 retenus par des grilles à mailles serrées. Ces grilles constituent les électrodes du système et sont alimentées en haute tension alternative de fréquence 60 Hz. Des décharges partielles, multiples, sont générées entre les granules, l'ef fluent gazeux à traiter traverse la zone du réacteur contenant les granules pour être traité. Le deuxième réacteur est un réacteur à décharges pulsées (impulsion de l'ordre de la microseconde) de géométrie fil-cylindre, dans lequel le fil placé au centre du cylindre est alimenté par un générateur d'impulsions positives haute-tension, le cylindre étant relié à la terre. Dans "Treatment of Hazardous Organic Wastes Using Silent Discharge Plasmas" (Traitement de Déchets Organiques Dangereux à l'aide de Plasmas de Décharge Silencieuse), NATO ASI Series 1993, pp 281-308, L.A. ROSOCHA et al. ont décrit un réacteur basé sur le principe de la décharge silencieuse qui est largement utilisé dans la fabrication de l'ozone. Ce réacteur peut présenter deux géométries différentes, l'une fil-cylindre et l'autre plan-plan. La géométrie plan-plan a été utilisée dès 1857 par la Société SIEMENS pour la production d'ozone et est appliquée à la dépollution. Un diélectrique est déposé sur un des plans ou les deux et des microdécharges de type "streamers" sont générées dans l'espace interélectrode. Un autre réacteur à géométrie fil-cylindre alimenté en haute tension alternative de 60 Hz a été décrit par KRASNOPEROV dans "Study of Volatile Organic Compounds Destruction by Dielectric Barrier Corona Discharge" (Etude de la Destruction de Composés Organiques Volatils par Décharge Couronne à Barrière Diélectrique), IEEE-1994, pp. 583-595. Ce réacteur comprend un tube de quartz qui constitue le diélectrique, dont la face externe est recouverte d'une feuille d'aluminium connectée à la masse. L'électrode active est un fil de cuivre ou d'alliage nickel-chrome connecté au générateur haute tension. La décharge est établie uniformément sur toute la longueur du réacteur entre le fil et la paroi interne du tube. Ce réacteur a été utilisé pour traiter le méthane, le chlorure de méthyle, le chlorobenzène, le toluène, la méthyl éthyl cétone, le 1pentène et le l-cyclohexène à des concentrations variant de 5 à 100000 ppm dans l'air sec, l'azote ou l'hélium. W. NEELY et al. dans "Decomposition of Complex Molecules using Silent Discharge Plasma Processing" (Etude de la Destruction de Composés Organiques Volatils par Décharge Couronne à Barrière Diélectrique), NATO ASI Series 1993, ont décrit un réacteur de type à décharge silencieuse dans lequel des microdécharges de courte durée mais de courant instantané élevé sont générées dans l'espace interélectrode, l'électrode active étant un solénoïde et le diélectrique étant constitué d'un manchon de verre sur lequel est bobinée une électrode passive. Le mélange gazeux introduit dans ce réacteur est constitué d'oxygène pur et de polluants à une concentration comprise entre 100 et 5000 ppm. Les composés traités à l'aide de ce réacteur sont le formaldéhyde, le benzène et HCN. Dans "Destruction of gazeous pollutants and air toxics by surface discharge induced plasma chemical process (SPCP) and pulse corona induced plasma chemical process (PPCP) (Destruction de polluants gazeux et de composés toxiques de l'air par un procédé plasmochimique induit par décharge de surface et un procédé plasmochimique induit par décharge couronne pulsée), NATO ASI Series, Vol. G34, part B, pp 199-209 (1992), S. MASUDA a décrit deux réacteurs, l'un mettant en jeu des décharges rampantes et l'autre de géométrie pointe - plan. Le premier réacteur est un réacteur cylindrique en céramique à décharges rampantes, dans lequel l'électrode active est une grille disposée en surface de la céramique. Le réacteur est alimenté en haute tension alternative. La décharge a lieu aux abords de l'électrode active et se propage sur la céramique. Le second réacteur est un réacteur à décharge couronne à tension pulsée. Le système est constitué d'un générateur de tension pulsée, d'un réacteur couronne et d'une chambre de réaction. Le temps de latence entre deux impulsions varie entre 100 et 500 ns et le réacteur est alimenté avec des tensions impulsionnelles de 100 à 200 kV en positif ou en négatif et avec des fréquences de 20 à 200Hz. Ces deux réacteurs ont été utilisés pour décomposer des effluents gazeux chargés en trichloroéthylène, acétone, chlorofluorocarbone, tétrachlorométhane, trichloréthane, dichloroéthane, et en vapeur de mercure. Tous ces dispositifs permettent une dépollution des effluents gazeux avec un rendement chimique correct. Cependant, leur rendement énergétique n'est pas très satisfaisant. Il était donc nécessaire de mettre au point un procédé de traitement d'effluents gazeux chargés en composés polluants volatils présentant à la fois un rendement énergétique et un rendement chimique satisfaisants. I1 est du mérite des présents inventeurs que d'avoir mis au point un tel procédé, dans lequel le contact entre le plasma hors équilibre thermodynamique et le polluant volatil à décomposer ainsi que la température du plasma, et la teneur en vapeur d'eau du gaz plasmogène sont optimisés, améliorant ainsi considérablement les rendements énergétique et chimique. Les inventeurs ont également eu le mérite de concevoir un réacteur pour la mise en oeuvre dudit procédé, Ce réacteur est représenté sur les dessins annexés, sur lesquels la Figure 1 représente une coupe longitudinale d'un réacteur de dépollution conforme à un premier mode de réalisation de l'invention La Figure 2 représente une coupe transversale selon II-II du réacteur de dépollution de la Figure 1 La Figure 3 représente une coupe transversale d'un réacteur de dépollution conforme à un second mode de réalisation de l'invention La Figure 4 représente une coupe transversale d'un réacteur de dépollution conforme à un troisième mode de réalisation de l'invention. Dans le procédé conforme à l'invention, les effluents gazeux chargés en composés polluants volatils sont soumis à un traitement de dépollution par réaction desdits composés polluants volatils avec un plasma hors équilibre thermodynamique. Dans ce procédé, lesdits composés polluants volatils sont introduits entre au moins deux électrodes alimentées en haute tension alternative et sont amenés à traverser des rideaux de plasma générés entre chacune desdites électrodes, et au moins une contre-électrode reliée à la terre. Le plasma étant généré entre les électrodes et la contre-électrode, un "rideau" de plasma est formé entre l'extrémité de chacune des électrodes et la contre-électrode, rideau de plasma qui se prolonge à la surface de la contre-électrode. Les effluents à traiter sont introduits entre les électrodes et s'écoulent donc des électrodes vers la contre-électrode dans les volumes définis entre les rideaux de plasma puis ils s'écoulent à la surface de la contre-électrode. Ainsi, les gaz à traiter entrent en contact et réagissent avec le plasma lorsqu'ils traversent chacun des rideaux de plasma entre l'extrémité de l'élec- trode et la contre-électrode. Ce contact est dit "contact volumique". Puis, ils entrent en contact et réagissent avec le plasma qui s'écoule à la surface de la contre-électrode. Ce contact est dit "contact surfacique. Conformément au procédé de l'invention, les composés polluants volatils sont amenés en contact surfacique ou en contact surfacique et volumique avec les rideaux de plasma. Le contact entre le plasma et les polluants est donc maximal, favorisant ainsi les réactions plasmochimiques. Par ailleurs, le procédé permet un gain énergétique étant donné que la température du plasma peut être déterminée en fonction des effluents gazeux à traiter. Ainsi, la température du plasma peut être choisie en fonction de l'efficacité de dépollution souhaitée tout en limitant la production d'espèces indésirables. La température du plasma est contrôlée en faisant varier la forme et/ou l'amplitude et/ou la fréquence du signal alternatif d'alimentation des électrodes. De façon générale, la fréquence d'alimentation est comprise entre environ 50 Hz et environ 100 kHz, de préférence entre environ 5 kHz et environ 80 kHz et plus préférentiellement encore entre environ 20 kHz et environ 60 kHz. Par exemple, pour le traitement d'effluents gazeux chargés en toluène à 2000 ppm, avec un taux d'humidité relative de 11 % et une tension d'alimentation quasi-sinusoïdale, l'utilisation d'une fréquence d'alimentation de 56 kHz donne de bons résultats. On peut en outre améliorer le rendement chimique de ce procédé en mettant en oeuvre, en plus des réactions plasmochimiques, des réactions catalytiques. Pour ce faire, on peut, par exemple, inclure des composés catalytiques, en particulier des composés catalyseurs d'oxydation, dans les matériaux constituant ou recouvrant les électrodes et/ou la ou les contre-électrodes. Le procédé conforme à l'invention peut être réalisé sous pression ou bien de préférence à la pression atmosphérique. Le gaz plasmogène utilisé peut être le gaz d'entrainement des polluants volatils, c'est-à-dire l'effluent gazeux à traiter, ou bien on peut utiliser un gaz plasmogène inerte. On peut citer à titre d'exemple de gaz plasmogène inerte l'azote, l'argon ou l'hélium. Cependant on préfère utiliser, comme gaz plasmogène, le gaz d'entrainement qui peut être de l'air reconstitué sec ou humide ou de l'air ambiant. On préfère utiliser l'air humide plutôt que l'air sec. Et, pour des raisons évidentes d'économie, l'utilisation de l'air ambiant avec ajustement éventuel de sa teneur en vapeur d'eau est tout à fait avantageuse. Le procédé conforme à l'invention permet le traitement de polluants volatils qui peuvent être des composés organiques volatils tels que les chlorofluorocarbones, les halocarbones tels que le trichloroéthylène, les composés aromatiques tels que le benzène, le toluène ou le xylène, les alcools tels que le méthanol, l'éthanol, le propanol, le butanol, les cétones telles que l'acétone, le méthyl-éthyl cétone, les acétates d'alkyle tels que l'acétate d'éthyle ou l'acétate de butyle, les alkyl glycols tels que le méthyl glycol, l'éthyl glycol ou le butyl glycol ou des solvants aliphatiques tels que le white spirit, la paraffine, le pétrole, ou encore des vapeurs de mercure ou bien des composés soufrés tels que SO2, H2S. La concentration en polluants volatils des effluents gazeux à traiter est comprise entre environ 1 ppm et environ 100000 ppm, de préférence entre environ 10 ppm et environ 50000 ppm, et plus préférentiellement encore entre environ 100 ppm et environ 5000 ppm. Compte tenu des plages de concentration en composés polluants qu'il est possible de traiter par le procédé conforme à l'invention, ce procédé peut être utilisé directement à la sortie des usines produisant les produits volatils polluants ou bien après un premier traitement en sortie d'usine, tel qu'un traitement thermique. Afin de mettre en oeuvre un tel procédé, les présents inventeurs ont conçu un réacteur de traitement d'effluents gazeux chargés en composés polluants volatils, caractérisé par le fait qu'il comprend une enceinte fermée dans laquelle sont disposés au moins deux électrodes alimentées en haute tension alternative, une contre-électrode reliée à la terre et un système d'alimentation en effluents gazeux à traiter disposé entre lesdites électrodes, une ouverture de sortie permettant aux effluents gazeux traités de s'échapper de l'enceinte. Dans ce réacteur, un rideau de plasma est donc généré entre chacune des électrodes et une contre-électrode. Dans le réacteur selon l'invention, les électrodes sont alimentées en haute tension alternative à une fréquence comprise entre environ 50 Hz et environ 100 kHz, de préférence entre environ 5 kHz et environ 80 kHz et plus préférentiellement encore entre environ 20 kHz et environ 60kHz. La fréquence et/ou l'amplitude et/ou la forme du signal d'alimentation haute tension des électrodes sont choisies en fonction de la température souhaitée de plasma, c'est-à-dire notamment en fonction de la température optimale de dissociation des polluants volatils à traiter. Le traitement pourra être optimisé en fonction du temps de séjour des polluants volatils dans le réacteur. Le temps de séjour dépendra notamment du mode d'injection des effluents gazeux parallèlement ou perpendiculairement aux rideaux de plasma, du débit d'alimentation en effluents gazeux et de la distance interélectrode. Dans le réacteur selon l'invention, la distance interélectrode, c'est-à-dire la distance entre les électrodes et la contre-électrode, est comprise entre 0 et environ 20 mm, de préférence entre environ 1 et environ 10 mm, et plus préférentiellement encore entre environ 1 et environ 5 mm. Lorsque la distance interélectrode est nulle ou quasi nulle, le contact entre les polluants à traiter et le plasma sera un contact presque uniquement surfacique, alors que lorsque la distance interélectrode est non nulle, le contact sera à la fois surfacique et volumique. Dans le réacteur conforme à l'invention, au moins l'une des électrodes ou l'une des contre-électrodes est constituée d'une partie en matière électriquement conductrice, au moins partiellement recouverte d'au moins une couche de matériau diélectrique. Le choix du matériau conducteur est de toute évidence fait compte tenu des conditions de températures auxquelles les électrodes et contre-électrodes seront soumises. Notamment, ce matériau doit présenter une bonne résistance à la température et doit être aussi peu corrosif que possible. On utilise, par exemple, des métaux conducteurs tels que le molybdène, le tungstène, ou leurs alliages. Le matériau diélectrique peut être un matériau céramique tel que le silicate d'alumine ou le nitrure de bore. Ce matériau doit présenter une bonne résistance électrique et une bonne conductivité thermique et doit conserver ses propriétés diélectriques à la température élevée régnant dans le réacteur qui peut atteindre jusqu'à 2000 K. Dans un mode de réalisation préféré du réacteur de l'invention, les électrodes sont en métal conducteur et la contre-électrode est constituée par un support métallique dont la partie en regard des électrodes est au moins partiellement recouverte d'au moins une couche de matériau diélectrique. L'épaisseur de la couche de matériau diélectrique doit être telle que cette couche présente une résistance mécanique suffisante. Cette épaisseur peut être constante. Cependant, on peut également envisager que la couche de matériau diélectrique soit concave ou convexe afin de favoriser la circulation du mélange gazeux à l'intérieur du réacteur et/ou de favoriser le contact du plasma avec les effluents à traiter. L'extrémité libre des électrodes à partir de laquelle est généré le rideau de plasma a une forme effilée et/ou dentelée. La forme dentelée est tout particulièrement préférée car elle permet d'obtenir un rideau de plasma homogène. Les électrodes sont positionnées sensiblement perpendiculairement à une contre-électrode. Deux électrodes voisines sont sensiblement inclinées l'une vers l'autre en leur partie la plus proche de la contre-électrode. La matière diélectrique qui recouvre au moins une des électrodes ou des contre-électrodes peut être une matière poreuse. De façon tout à fait avantageuse, à la surface et/ou éventuellement dans les pores de la matière diélectrique lorsque celle-ci est poreuse, sont disposées des particules de matière catalytique. Comme matière catalytique, on peut citer, par exemple, des métaux qui sont des catalyseurs d'oxydation. Ainsi, les résidus de dissociation des composés polluants obtenus après passage des gaz polluants à travers le plasma généré dans le réacteur peuvent par exemple être oxydés catalytiquement. Un premier mode de réalisation du réacteur selon l'invention est représenté sur les Figures 1 et 2. Le réacteur 1 est constitué d'une enceinte 2 cylindrique en verre dont chaque extrémité est munie d'un embout cylindrique, respectivement 3, 4. Ledit embout 3,4 est en matière isolante, par exemple en polychlorure de vinyle. L'embout 3 est traversé par le dispositif 5 d'amenée des effluents gazeux et l'embout opposé 4 comporte une ouverture centrale 16 de libération des effluents traités. A l'intérieur de l'enceinte 2 sont disposés - un dispositif 5 d'amenée des effluents gazeux, - deux électrodes 6 et 7 alimentées en haute tension alternative, - une contre-électrode 8 recouverte d'une couche 9 de matériau diélectrique. Les électrodes 6 et 7 sont des électrodes de type couteau, dont l'extrémité libre est effilée et dentelée. Elles sont placées chacune longitudinalement dans l'enceinte 2. Les deux électrodes 6 et 7 sont reliées entre elles par un câble conducteur 12 connecté à un générateur alternatif haute tension. Les deux électrodes 6 et 7 sont orientées avec leurs extrémités libres dirigées l'une vers l'autre afin de forcer le flux d'effluents gazeux à traverser les deux rideaux de plasma formés à l'extrémité de chacune desdites électrodes 6 et 7. La position relative de chacune des électrodes peut être modifiée en fonction par exemple du débit gazeux utilisé ou du temps de séjour dans le réacteur souhaité. La contre-électrode 8 est une plaque rectangulaire disposée longitudinalement dans l'enceinte 2, sensiblement perpendiculairement aux électrodes 6 et 7. Elle est connec tée à la terre. Sur la surface de cette contre-électrode 8 tournée vers les électrodes 6 et 7, est disposée une couche 9 de matériau diélectrique, par exemple de céramique. Dans le mode de réalisation de la Figure 1, cette couche de diélectrique est d'épaisseur constante. La largeur de la contre-électrode 8 est supérieure à la distance séparant les extrémités libres des électrodes 6 et 7. La distance entre les électrodes 6 et 7 et la contre-électrode 8 peut être modifiée par un dispositif 10 de réglage de la distance interélectrode. Ce dispositif 10 est actionnable par une manette 11 disposée à l'extérieur du manchon 3. Dans le volume défini entre le cable 12 et les électrodes 6 et 7, est placée longitudinalement une rampe 13 de distribution des effluents à traiter. Cette rampe 13 est cylindrique. La partie inférieure de la paroi longitudinale de cette rampe 13, en regard de la contre-électrode 8 est perforée. Les effluents gazeux à traiter sont ainsi libérés par les ouvertures 14 et sont donc amenés à s'écouler depuis l'espace compris entre les deux extrémités libres des électrodes 6 et 7 vers la contre-électrode 8. Cette rampe 13 de distribution de gaz est alimentée par ses deux extrémités par l'intermédiaire d'une amenée de gaz 15. Ladite amenée de gaz 15 traverse l'embout 3 d'entrée du réacteur 1. Ladite amenée de gaz 15 et la rampe de distribution 13 constituent le circuit 5 d'alimentation en gaz dudit réacteur 1. Sur la Figure 3, on a représenté un deuxième mode de réalisation du réacteur selon l'invention. Le réacteur cylindrique 21 est constitué d'une enceinte cylindrique 22 en verre dont chaque extrémité est dotée d'un embout cylindrique en matière plastique. Seul l'embout d'entrée 23 du réacteur 21 est représenté ici. Dans ce mode de réalisation, le réacteur ne comporte plus deux électrodes et une contre-électrode associée mais quatre paires d'électrodes 26 et 27. A chaque paire d'élec trodes est associée une contre-électrode 28 recouverte d'une couche 29 de matériau diélectrique. Les électrodes 26 et 27 et la contre-électrode 28 ont la même structure que dans le premier mode de réalisation illustré sur les figures 1 et 2. Les différentes électrodes 26 et 27 sont reliées entre elles par des câbles conducteurs 32 connectés à un générateur alternatif haute tension. Les contre-électrodes 28 sont reliées entre elles par un conducteur 17, lui-même connecté à la terre. Dans chacun des quatre volumes définis entre les électrodes 26 et 27, et le câble 32 est disposée une rampe 33 de distribution de gaz dont la paroi inférieure longitudinale disposée en regard de la contre-électrode 28 est dotée d'ouvertures 34 permettant le passage des effluents gazeux à traiter depuis l'espace compris entre les extrémités libres des électrodes 26 et 27 vers la contre-électrode. Sur la Figure 4, on a représenté un troisième mode de réalisation du réacteur de dépollution selon l'invention. Ce réacteur de dépollution 41, comporte une enceinte cylindrique 42 en matière isolante dont les deux extrémités sont dotées chacune d'un embout 43 également en matière isolante. Comme dans le deuxième mode de réalisation illustré sur la figure 3, le réacteur comprend quatre paires d'électrodes 46 et 47 reliées entre elles par des câbles conducteurs 52 connectés à un générateur alternatif haute tension. En regard des électrodes 46-47, est disposée la contre-électrode 48 recouverte d'une couche de matériau diélectrique 49. Dans ce mode de réalisation particulier, la couche de matériau diélectrique 49 est un cylindre de céramique dont la surface externe est revêtue d'une couche conductrice constituant la contre-électrode 48 reliée à la terre. Dans chaque volume défini entre le câble 52 et les électrodes 46 et 47 est disposée une rampe 53 de distribution de gaz dotée d'ouvertures 54 permettant le passage des effluents gazeux à traiter depuis l'espace compris entre les extrémités libres des deux électrodes 46 et 47 vers la contre-électrode. Bien entendu, on pourrait multiplier le nombre de paires d'électrodes dans le réacteur. La conception du réacteur conforme à l'invention permet de forcer le passage des gaz polluants dans des zones du réacteur où le contact surfacique et volumique des gaz polluants avec le plasma est optimum, d'optimiser le fonctionnement relatif des électrodes, et de choisir la distance interélectrode optimale. En outre, l'utilisation du signal d'alimentation le plus adapté et l'introduction de matière catalytique sur et/ou dans le matériau diélectrique sont des facteurs importants qui permettent une optimisation maximale des conditions de traitement. Le rendement chimique et le rendement énergétique de traitement des polluants gazeux à l'aide du procédé et du réacteur de l'invention sont donc très satisfaisants. La présente invention va maintenant être illustrée plus particulièrement à l'aide de l'exemple suivant. Exemple On a utilisé le réacteur de dépollution tel qu'illustré sur les Figures 1 et 2. Le réacteur 1 est constitué d'une enceinte 2 de verre de 30 cm de longueur et de 8 cm de diamètre interne. Les deux électrodes 6 et 7 de type couteau ont une longueur de 15 cm. Leur extrémité libre est dentelée. L'angle formé entre les extrémités libres des deux électrodes 6 et 7 est égal à 600. La contre-électrode 8 est recouverte d'une couche 9 de matériau diélectrique. Cette couche a une épaisseur de 4mm. Le matériau électrique est une céramique naturelle distribuée par la société STUMAT sous la marque Stumatite2. Sa rigidité diélectrique à 50 Hz est comprise entre 6 et 17 kV/mm. Sa température limite d'emploi est d'environ 13500C. La distance interélectrode, c'est-à-dire la distance séparant les extrémités libres des électrodes 6 et 7 de la couche diélectrique 9 recouvrant la contre-électrode 8 est de 2,5 mm. La tension inter crête d'alimentation du réacteur est de 4 à 15 kV à une fréquence de 53,5 kHz. On a réalisé le traitement d'un gaz contenant environ 2000 ppm de toluène comme polluant, avec un gaz reconstitué sec (80 % N2 et 20 % 0,) puis avec le même gaz contenant de l'humidité (HR=72,5 %). Les gaz résiduels sortants ont été analysés par spectroscopie d'absorption UV et IR. On n'a trouvé aucune trace mesurable dans le gaz de sortie, de toluène, benzène, dérivé oxydé du toluène (phénol, crésol, alcool benzylique, benzaldéhyde, acide benzoïque) ou dérivé de condensation de toluène (biphényle, diphényl-éther). Le toluène a donc été totalement dégradé. On a alors calculé pour chacun des traitements (air humide et air sec) le rendement chimique, le taux de destruction horaire, le rendement énergétique et la consommation énergétique du toluène, de la façon suivante: Rendement chimique X du réacteur X = [toluène] initiale - [toluène i finale [toluène] initiale Taux de destruction horaire du toluène D,l : C.D.M. 60 D, = ~~~~~~~~~~~~~~~~ 22,4.106 avec : C = concentration de toluène détruit en ppm D = débit gazeux en 1/min M = masse molaire du toluène (92 g/mol) Rendement énergétique de destruction du toluène Re Dh Re = ~ x 1000 P avec : P = puissance injectée dans la décharge en W. Consommation énergétique de destruction de toluène Ce = 1000 Ce = ~~~~~~~~~~~~~~ Re Les résultats obtenus lors du traitement dans l'air sec et dans l'air humide sont rassemblés dans le tableau suivant Concentration Puissance Rendement Consommation initiale en Débit consommée chimique énergétique toluène 2000 ppm l/mm W % kWh/kg dans air sec 330 38 93,4 13.5 dans REVENDICATIONS 1. Procédé de traitement d'effluents gazeux chargés en composés polluants volatils par réaction entre lesdits composés polluants volatils et un plasma hors équilibre thermodynamique, caractérisé par le fait que les composés polluants volatils sont introduits entre au moins deux électrodes (6,7 ; 26,27 ; 46,47) alimentées en haute tension alternative et qu'ils sont amenés à traverser des rideaux de plasma générés entre chacune de ces électrodes et au moins une contre-électrode (8,9 ; 28,29 ; 48,49) reliée à la terre. 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé par le fait que les composés polluants volatils sont amenés en contact surfacique ou en contact surfacique et volumique avec lesdits rideaux de plasma. 3. Procédé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé par le fait que la température du plasma est déterminée en fonction des effluents gazeux à traiter. 4. Procédé selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé par le fait que la température du plasma est optimisée par contrôle de la forme, de la fréquence et/ou de l'amplitude du signal d'alimentation haute tension des électrodes, ladite fréquence du signal étant comprise entre environ 50 Hz et environ 100 kHz, de préférence entre environ 5 kHz et environ 80 kHz, et plus préférentiellement encore entre environ 20 kHz et environ 60 kHz. 5. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé par le fait que le traitement est réalisé à la pression atmosphérique et en utilisant comme gaz plasmogène un gaz choisi parmi l'argon, l'azote, l'hélium, l'air reconstitué sec ou humide, ou de préférence l'air ambiant à humidité éventuellement contrôlée. 6. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé par le fait que le traitement peut comprendre en plus des réactions plasmochimiques, des réactions catalytiques. 7. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé par le fait que les composés polluants volatils sont des composés organiques volatils tels que les chlorofluorocarbones, les halocarbones, les composés aromatiques, les alcools, les cétones, les acétates d'alkyle, les alkylglycols ou des solvants aliphatiques tels que le white spirits, la paraffine, le pétrole ; des vapeurs de mercure ou des composés soufrés tels que SQ ou H2S. 8. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisé par le fait que la concentration en composés polluants volatils dans les effluents gazeux à traiter est comprise entre environ 1 ppm et environ 100000 ppm, de préférence entre environ 10 ppm et environ 50000 ppm et plus préférentiellement encore entre environ 100 ppm et environ 5000 ppm. 9. Réacteur de traitement d'effluents gazeux chargés en composés polluants volatils comprenant une enceinte fermée (2) dans laquelle sont disposés deux électrodes (6,7) ou plus, alimentées en haute tension alternative, au moins une contre-électrode (8,9) reliée à la terre, un rideau de plasma étant ainsi créé entre chacune des électrodes (6,7) et une contre-électrode (8,9), et un système d'alimentation (5) en effluents gazeux disposé entre lesdites électrodes, une ouverture de sortie (16) permettant aux effluents gazeux traités de s'échapper de l'enceinte. 10. Réacteur selon la revendication 9, caractérisé par le fait que les électrodes sont alimentées en haute tension alternative à une fréquence choisie comprise entre environ 50 Hz et environ 100 kHz, de préférence entre environ 5 kHz et environ 80 kHz et plus préférentiellement encore entre environ 20 kHz et environ 60 kHz, le choix de la fréquence optimale permettant l'optimisation de la température du plasma. 11. Réacteur selon la revendication 9 ou 10, caractérisé par le fait que la distance entre les électrodes et la contre-électrode est comprise entre environ 0 et environ 20 mm, de préférence entre environ 1 et environ 10 mm, et plus préférentiellement encore entre environ 1 et environ 5 mm. 12. Réacteur selon l'une quelconque des revendications 9 à 11, caractérisé par le fait qu'au moins une électrode ou au moins une contre-électrode est constituée d'une partie électriquement conductrice recouverte au moins partiellement d'au moins une couche de matière diélectrique. 13. Réacteur selon l'une quelconque des revendications 9 à 12, caractérisée par le fait que la contreélectrode est constituée d'une plaque conductrice (8) dont la surface en contact avec le plasma est recouverte d'une couche (9) de matière diélectrique, ladite couche de matière diélectrique étant d'épaisseur constante, ou bien de forme concave ou convexe. 14. Réacteur selon l'une quelconque des revendications 9 à 12, caractérisé par le fait que l'extrémité desdites électrodes à partir de laquelle est généré le plasma est de forme effilée et/ou dentelée. 15. Réacteur selon l'une quelconque des revendications 12 à 14, caractérisé par le fait qu'à la surface de ladite couche de matière diélectrique et/ou que dans les pores de ladite couche de matière diélectrique lorsque celle-ci est poreuse, sont disposées des particules de matière catalytique, notamment des particules de catalyseurs d'oxydation. 16. Réacteur selon l'une quelconque des revendications 9 à 15, caractérisé par le fait que lesdites électrodes sont positionnées sensiblement perpendiculairement à une contre-électrode et que deux électrodes voisines sont sensiblement inclinées l'une vers l'autre en leur partie proche de la contre-électrode.