FR 2756971 A1 19980612 FR 9714239 A 19971113 Structure de masque perforé our tube à rayons cathodiaues plat La présente invention concerne un tube à rayons cathodiques couleur (ci-après appelé "CRT") plat. Elle concerne plus particulièrement un masque perforé pour un CRT plat, doté d'une structure permettant d'éviter un mauvais "atterrissage" ou un mauvais impact d'un faisceau d'électrons lorsqu'une énergie cinétique des électrons est convertie en une énergie thermique au moment où ceux-ci entrent en collision avec le masque perforé, ce qui provoque ensuite une dilatation du masque sous l'effet de la chaleur pendant le fonctionnement du CRT. Comme le montrent les figures 1 et 2, un CRT plat conventionnel comprend une lentille en verre de sécurité 1 collée à la partie avant d'un panneau plan 2 à l'aide d'une résine afin d'assurer une protection contre les explosions un tube en entonnoir 3 fixé au panneau 2 par une fritte de verre ; un canon à électrons 5 encastré dans le col 3a du tube en entonnoir 3 pour émettre des faisceaux d'électrons R, V, et B4 ; un masque perforé 7 placé derrière le panneau 2 et comportant d'innombrables ouvertures en forme de fentes pour sélectionner la couleur du faisceau d'électrons ; et un cadre de support 6 prévu pour maintenir une distance constante entre le masque perforé 7 et le panneau 2. Comme cela est visible sur la figure 3, le masque perforé 7 comporte une face active 10 qui constitue la zone d'atterrissage ou d'impact des faisceaux d'électrons ; une zone 11 sans ouverture ; et une face inactive 12 qui n'est pas utilisée dans la pratique. La ligne 13 indique la position au niveau de laquelle le cadre 6 est fixé. Les faisceaux d'électrons 4 émis par le canon à électrons 5 passent à travers des ouvertures de passage de faisceaux d'électrons 7' formées dans le masque perforé 7, avant d'entrer en collision avec un écran de luminophores (non représenté) appliqué sur la surface intérieure du panneau 2. Une énergie cinétique des faisceaux d'électrons 4 oblige de multiples luminophores à émettre une lumière pour permettre l'affichage d'une image sur le panneau 2. 20 % seulement des électrons passent à travers les ouvertures de passage de faisceaux d'électrons 7' du masque perforé 7, le reste entrant en collision avec le masque perforé 7, puis étant converti en chaleur de sorte que le masque perforé 7 se dilate sous l'effet de cette chaleur. Ce phénomène est appelé "bombage". La position au niveau de laquelle les faisceaux d'électrons atterrissent sur l'écran de luminophores est modifiée par le phénomène de bombage, ce qui provoque une dégradation de la pureté des couleurs. Pour remédier à ce problème, on a utilisé un masque en Invar (marque déposée) qui possède un faible coefficient de dilatation thermique. Une autre approche consiste à utiliser un élément bimétallique, tel qu'un ressort, pour fixer le masque perforé au panneau. Toutefois, les coûts de fabrication sont supérieurs et le rendement moins bon. Au cours des dernières années, un masque tendu en feuille plat (ci-après appelé "masque tendu") a été conçu pour améliorer la définition. La tension appliquée au masque tendu compense la dilatation due à la chaleur engendrée par l'impact des électrons contre le masque. Par conséquent, la position au niveau de laquelle les ouvertures sont formées dans le masque ne varie pas à température élevée. Le masque tendu est monté à l'intérieur de la partie avant du CRT, à proximité du panneau plat, et est fixé à un support de fixation du masque afin que les électrons atterrissent sur leurs pastilles de luminophores géométriquement correspondantes sur la surface intérieure du panneau. Le masque tendu qui a une épaisseur de 0,025 mm est disposé à une distance régulière par rapport à la surface intérieure du panneau et constitue un dispositif de sélection de couleurs servant à sélectionner les faisceaux d'électrons et à obliger l'écran revêtu de luminophores rouges, verts et bleus à émettre une lumière en fonction du signal correspondant. Ce masque tendu comporte des ouvertures de passage de faisceaux d'électrons en forme de points et il existe une différence faible entre les modules de Young dans les directions horizontale et verticale. En conséquence, la face active peut être uniforme et une tension importante peut être appliquée. Un masque comportant des ouvertures en forme de fentes à été utilisé récemment pour améliorer des caractéristiques de l'écran, telles que définition, ondulations sur l'écran, et redondance de pureté. Cependant, il existe une différence importante entre les modules de Young dans les directions horizontale et verticale et, la face active n'étant pas uniforme, une tension moindre peut être appliquée. Si un effort de tension faible est appliqué, les électrons atterrissent mal en raison de la dilatation du masque. Si un effort de tension important est appliqué, les contraintes sont concentrées sur une zone fixe du masque, de sorte qu'une déformation plastique a lieu, ce qui entraîne une déformation du masque ou une rupture de celui-ci. Pour remédier à ces problèmes, les ouvertures sont formées autour de la circonférence de la face active du masque. Comme le montre la figure 4, les ouvertures de passage de faisceaux d'électrons sont formées dans la face inactive A afin de créer une élasticité anisotrope. Cependant, si un effort de tension important est appliqué, les contraintes sont concentrées dans le coin B de la face inactive, ce qui diminue l'importance de la tension qui peut être appliquée. La présente invention concerne précisément une structure de masque perforé pour un CRT plat, qui permette de remédier sensiblement à certains au moins des problèmes, inconvénients et limites de l'art antérieur. Elle a précisément pour but de proposer un masque perforé à contraintes réduites dans lequel les contraintes concentrées sur une zone fixe puissent être dispersées lorsque l'effort de tension appliqué au masque augmente, afin de répartir d'une manière uniforme une force d'étirage sur la totalité de la surface. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention seront définis dans la description suivante ou ressortiront de celle-ci ou de la mise en oeuvre de l'invention. Les buts et autres avantages de l'invention peuvent être atteints et obtenus grâce à la structure particulièrement détaillée dans la description qui suit ainsi que dans les revendications et dessins annexés à celle-ci. Pour atteindre le but fixé ci-dessus, il est proposé selon la présente invention, un masque perforé pour un CRT plat comprenant un écran de luminophores formé sur la surface intérieure d'un panneau ; des canons à électrons ; un tube en entonnoir auquel le panneau est fixé et comportant un col dans lequel les canons à électrons sont disposés pour émettre des faisceaux d'électrons ; et un collier de déviation destiné à focaliser les faisceaux émis par les canons à électrons sur l'écran de luminophores, après leur passage à travers le masque perforé relié à un cadre de support, pour obliger l'écran de luminophores à émettre une lumière ; le masque perforé étant caractérisé en ce que des ouvertures à travers lesquelles passent les faisceaux d'électrons émis par les canons à électrons sont formées sur une face active qui constitue le centre du masque, en ce qu'un cadre est fixé à la périphérie de la face active à intervalles réguliers, l'extérieur de la partie de fixation du cadre formant une face inactive primaire sur laquelle les faisceaux d'électrons n'atterrissent pas, et en ce qu'une face inactive secondaire est formée par une extension de la zone du masque comportant les ouvertures à la partie de fixation du cadre. Dans une variante du masque perforé de l'invention, les ouvertures de passage des faisceaux d'électrons situées au niveau des coins de la face inactive secondaire formée par l'extension sont réalisées pour présenter une gradation d'une barre d'interconnexion dans la direction radiale. Dans une autre variante du masque perforé de l'invention, une première zone de suppression de faisceau sans ouverture est formée entre les faces inactives primaire et secondaire, une seconde zone de suppression de faisceau est formée à l'extérieur de la face inactive primaire, et une troisième zone de suppression de faisceau sans ouverture est formée au niveau des coins de la face inactive primaire. Dans une variante supplémentaire du masque perforé de l'invention, une première zone de suppression de faisceau est formée dans la partie adjacente à la face active, une seconde zone de suppression de faisceau sans ouverture est formée à l'extérieur de la face inactive, et une troisième zone de suppression de faisceau sans ouverture est formée au niveau des coins entre les première et seconde zones de suppression de faisceau. Ce qui précède ressortira plus clairement de la description détaillée suivante de modes de réalisation donnée à titre d'exemple nullement limitatif en référence aux dessins annexés dans lesquels la figure 1 est une vue en coupe transversale d'un CRT plat conventionnel la figure 2 est une vue en perspective éclatée d'une partie panneau du CRT plat conventionnel la figure 3 représente la structure d'un masque tendu en feuille plat conventionnel les figures 4 et 5 représentent la structure d'un masque tendu conventionnel comportant des ouvertures de passage de faisceaux d'électrons formées dans une face inactive la figure 6 représente la structure et des détails d'un masque tendu selon un premier mode de réalisation préféré de la présente invention la figure 7 représente la structure et un détail d'un masque tendu selon un deuxième mode de réalisation préféré de l'invention ; la figure 8 représente la structure d'un coin d'une zone d'extension d'une face active du masque de la présente invention la figure 9 représente une gradation d'une barre d'interconnexion d'une face inactive du masque de l'invention ; la figure 10 représente une forme de réalisation préférée de la gradation de la barre d'interconnexion de la face inactive ; et la figure 11 représente un troisième mode de réalisation préféré du masque de l'invention. En référence aux figures et plus particulièrement à la figure 6 qui représente le premier mode de réalisation préféré de l'invention, le masque tendu se compose d'une face iactive secondaire 101 qui constitue une extension d'une face active 100 située en son centre et qui comporte des ouvertures de passage de faisceaux d'électrons 101', et d'une barre d'interconnexion a qui correspond à une distance entre les ouvertures 101' et qui présente une gradation dans le sens des flèches. Les coins C de la zone d'extension 101 sont réalisés pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion a dans la direction radiale et sont arrondis, comme illustré sur la figure 8. Comme cela est visible sur les figures 6 à 11, une face inactive primaire 102 est formée à l'extérieur d'une zone de fixation d'un cadre 105 dans toutes les directions, à l'exception des coins du masque. Des zones situées à l'extérieur de la face inactive primaire 102 sont réalisées pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion dans la direction des flèches de la figure 10, et les coins de la face inactive primaire 102 sont arrondis et réalisés pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion dans la direction radiale, comme illustré sur la figure 7. Sur la figure 7, qui représente le deuxième mode de réalisation préféré de l'invention, on peut voir que trois trous repères 104 qui constituent la référence d'un effort d'étirage ou de tension sont formés de chaque côté de la face inactive secondaire 101 qui constitue la zone d'extension de la face active 100. Un effort de tension appliqué au masque constitue le facteur le plus important pour empêcher le phénomène de bombage, et les contraintes en dépendent directement. Plus l'effort de tension appliqué au masque est important, mieux ctest. Mais des contraintes excessives peuvent provoquer une rupture du masque. Le choix de la valeur de l'effort de tension spécifique dans la direction X et dans la direction Y du masque est une étape technique importante. La face active constitue un élément important de l'extension du masque, qui crée une corrélation entre effort de tension et bombage. I1 est essentiel pour le CRT que l'effort de tension soit appliqué de manière uniforme et, par conséquent, l'écartement des ouvertures respectives doit être uniforme dans le sens de la direction horizontale. Le masque de la présente invention possède une structure dans laquelle l'écartement des ouvertures respectives dans le sens de la direction horizontale est uniforme, tandis qu'un effort de tension considérable est appliqué, et la concentration des contraintes dans la zone fixe est supprimée, moyennant quoi les contraintes peuvent être réparties uniformément. Un pas horizontal est déterminé par un atterrissage groupé ou non en fonction de l'orbite des faisceaux d'électrons due à un collier de déviation, un pas vertical est déterminé pour éviter un effet de moiré, et d'autres spécifications sont déterminées du point de vue de la définition et de la redondance, pour ainsi configurer la face active 100 du masque. Toutefois, la zone située à l'extérieur de la face active est conçue pour fonctionner de manière stable avec des valeurs plus importantes lorsqu'une tension est appliquée au masque, quelles que soient les caractéristiques de l'écran, et la conception de cette zone, en dehors de la face active, est appelée une "conception mécanique du masque". Les modules de Young dans les directions horizontale et verticale sont différents. Ces valeurs varient, entre autres, en fonction du pas vertical, du pas horizontal, de la largeur des fentes, et de la barre d'interconnexion du masque. Le module de Young d'un masque haute définition réalisé à partir d'une plaque ayant une épaisseur de 0,025 mm en acier AK (calmé à l'aluminium), dont le pas horizontal est de 0,24 mm et le pas vertical de 0,339 mm est donné par Ex - 0,3 x 105 (MPa) Ey - 0,15 x 106 (MPa) Le module de Young de la direction Y, qui représente environ cinq fois celui de la direction X a une influence importante sur la conception de la machine utilisée pour étirer le masque, ou sur l'étude d'autres caractéristiques du masque. Dans un masque à points ou à fentes, en particulier dans un masque à fentes, la zone qui comporte l'effort de tension dans les directions respectives devient la zone fixe et cette zone subit la majeure partie de l'effort de tension. De ce point de vue, il peut y avoir une déformation plastique dans la zone de contrôle de l'effort de tension lorsqu'une contrainte trop importante est appliquée. Si le masque est soumis à une contrainte dans la limite de la zone plastique, une contrainte appliquée avec une force faible est largement transformée de sorte qu'un écartement uniforme nécessaire des ouvertures du masque n'est pas facile à réaliser. Par conséquent, le masque ne doit pas être soumis à des contraintes au-delà de la zone élastique, de sorte que l'effort de tension maximal pouvant être appliqué est déterminé par la configuration des ouvertures de la face active, qui détermine les caractéristiques de l'écran. La conception d'une zone située autour de la circonférence de la face active du masque est nécessaire pour permettre d'appliquer l'effort de tension maximal à la face active. Pendant le processus de fabrication du CRT à l'aide d'un masque tendu en feuille plat, il est important que le masque soit étiré par l'application d'un effort de tension, avant d'être fixé au cadre. A cet effet, le masque est étiré pour être plan sous l'effet de la force générée par un moteur, en ayant son bord maintenu par des pinces. L'effort de tension est concentré au niveau des coins de la face active du masque et, dans la présente invention, les ouvertures de passage de faisceaux d'électrons 101' sont formées dans la zone 101 qui s'étend à partir de la face active 100. Même si la face active 100 s'étend sur environ 5 à 8 mm et si les ouvertures de passage de faisceaux d'électrons 101' sont formées, l'effort de tension reste concentré au niveau des coins. Les coins C peuvent être arrondis pour supprimer l'effort de tension concentré à l'endroit où un angle est formé. Dans la pratique, les coins peuvent être arrondis et la barre d'interconnexion a augmentée dans la direction diamétrale. Etant donné que l'extension de la face active 100 est insuffisante pour appliquer la tension maximale, la face inactive 102 comportant des ouvertures de passage de faisceaux d'électrons est également formée autour de la circonférence de la face active 100 afin d'améliorer l'uniformité du module de Young et de permettre une déformation stable. Précisément, l'uniformité de l'effort de tension est améliorée pour supprimer des concentrations d'effort de tension lors de l'application de contraintes importantes. Les coins de la face inactive 102 sont arrondis pour réduire les concentrations d'effort de tension dans la zone située à l'extérieur de la face active 100. Comme le montre la figure 7, une zone ayant une largeur de bord appropriée est sélectionnée et réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion afin que la valeur des modules de Young de la zone comportant des ouvertures et de la zone sans ouverture soit exempte de concentration de contraintes. Un changement de la valeur du module de Young signifie que, comme les ouvertures de passage de faisceaux d'électrons se présentent sous la forme d'une fente, un effort de tension important est appliqué autour de la barre d'interconnexion située au niveau de la limite entre les zones avec ouvertures et sans ouverture. Si la taille des ouvertures à cet endroit est réduite, la force appliquée a la même valeur. Ceci s'explique par le fait que la zone soumise à la force est augmentée pour diminuer l'effort de tension. Par conséquent, si la taille des ouvertures augmente progressivement, le module de Young varie lui aussi progressivement. Naturellement, la zone dans laquelle la gradation de la barre d'interconnexion est réalisée compense de manière stable l'effort de tension. De même, la gradation de la barre d'interconnexion est réalisée de telle façon que les coins restent exposés aux contraintes. Toutefois, ils sont arrondis pour résoudre ce problème. Le masque à fentes fonctionne d'une manière unique telle que les contraintes dues à un effort de tension dans les directions verticale et horizontale se comportent de manière indépendante. Le comportement du masque a été décrit dans la partie qui précède, et le masque proprement dit, sa structure ainsi qu'un dispositif de fixation destiné à permettre son montage vont maintenant être décrits. Lorsque le masque de la figure 7 est étiré à l'aide d'une machine ou d'un appareil approprié, la zone soumise aux contraintes maximales est celle où la force est appliquée. Par conséquent, étant donné que pendant l'étirage du masque, les contraintes sont appliquées par le bord de celuici, le module de Young de la zone dépourvue d'ouverture, entre la face active et la zone munie d'ouvertures située autour de la circonférence de celle-ci, est relativement important des deux côtés, si bien qu'il n'y a pas de concentration de contraintes au niveau du cadre 105. Ceci est dû au fait que les deux côtés dont le module de Young est relativement faible sont susceptibles d'être soumis à un effort de tension exclusivement. Ceci est limité à la direction X. La variation du module de Young dans la direction Y est relativement régulière. Lorsque le masque est fixé à son cadre 105, la zone dans laquelle les contraintes sont appliquées au masque se situe entre la face active dépourvue d'ouverture et la face inactive, l'effort de tension partiel étant alors appliqué à cette partie. Ceci inclut également la direction Y. Lorsque l'effort de tension initial est appliqué à cette partie, les problèmes mentionnés ci-dessus peuvent être légèrement atténués. La variation régulière des modules de Young dans les directions respectives est destinée à résoudre ces problèmes. Comme le montrent les figures 9 et 10, les deux côtés des ouvertures formées dans la zone 102 autour de la circonférence de la face active sont réalisés pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion afin de rendre les variations du module de Young progressives. La face active du masque est arrondie au niveau de ses coins pour y supprimer des concentrations de contraintes. Comme le montre la figure 7, les trous repères 104 qui constituent la référence de l'effort d'étirage appliqué au masque sont circulaires et situés dans la zone comportant des ouvertures de la zone d'extension 101 au-delà de la face active. L'effort d'étirage est déterminé et appliqué au masque en fonction de ces trous 104. Pour un résultat efficace, la force est appliquée dans toutes les directions au cours de l'étirage du masque. Même si l'écartement est fixé pour que les deux côtés soient perpendiculaires à la direction d'application de l'effort de tension, comme les trous repères bougent, ceux-ci doivent être formés partout pour permettre d'identifier la valeur correcte. Par conséquent, les trous 104 sont formés trois par trois sur les côtés respectifs, ceci constituant le nombre minimum de trous repères. Comme cela a été mentionné précédemment, la présente invention propose un masque perforé à contraintes réduites dans lequel des concentrations de contraintes au niveau d'une zone fixe peuvent être dispersées lorsqu'une contrainte appliquée au masque tendu en feuille plat augmente, afin de répartir d'une manière uniforme une force de déformation sur la totalité de la surface, pour ainsi éviter un mauvais atterrissage des faisceaux d'électrons. Bien que la description précédente ait porté sur des modes de réalisation préférés de l'invention, celle-ci n'est bien entendu pas limitée aux exemples particuliers décrits et illustrés ici et l'homme de l'art comprendra aisément qu'il est possible d'y apporter d'autres variantes et modifications sans pour autant sortir du cadre de l'invention. REVENDICATIONS 1. Masque perforé pour un CRT plat comprenant un écran de luminophores formé sur la surface intérieure d'un panneau ; des canons à électrons ; un tube en entonnoir auquel le panneau est fixé et qui comporte un col dans lequel les canons à électrons sont disposés pour émettre des faisceaux d'électrons ; et un collier de déviation destiné à focaliser les faisceaux d'électrons émis par les canons à électrons sur l'écran de luminophores, après leur passage à travers le masque perforé relié à un cadre de support, ce qui oblige l'écran de luminophores à émettre une lumière caractérisé en ce que des ouvertures (101') à travers lesquelles passent les faisceaux d'électrons émis par les canons à électrons sont formées sur une face active (100) qui constitue le centre du masque, en ce qu'un cadre (105) est fixé à la périphérie de la face active à intervalles réguliers, l'extérieur de la partie de fixation du cadre (105) formant une face inactive primaire (102) sur laquelle les faisceaux d'électrons n'atterrissent pas, et en ce qu'une face inactive secondaire (101) est formée par une extension de la zone du masque comportant des ouvertures à la partie de fixation du cadre. 2. Masque perforé selon la revendication 1, caractérisé en ce que les ouvertures (101') sont formées dans les zones autres que les coins de la face inactive primaire (102) du masque. 3. Masque perforé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la face inactive secondaire (101) formée par l'extension est réalisée pour présenter une gradation d'une barre d'interconnexion (a) à l'intérieur ou à l'extérieur. 4. Masque perforé selon la revendication 2, caractérisé en ce que la barre d'interconnexion (a) située au centre de la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) est uniforme, et en ce que sa partie extérieure est réalisée pour présenter une gradation. 5. Masque perforé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que les coins de la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire ou secondaire (102, 101) sont arrondis. 6. Masque perforé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire ou secondaire (102, 101) est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) vers le haut ou vers le bas. 7. Masque perforé selon la revendication 2, caractérisé en ce que la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) dans la direction radiale. 8. Masque perforé selon la revendication 2, caractérisé en ce que la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) à partir du centre dans une direction radiale. 9. Masque perforé selon la revendication 2, caractérisé en ce que la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) en direction de la face active (100). 10. Masque perforé selon la revendication 2, caractérisé en ce que l'extérieur du masque est réalisé pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) dans la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102). 11. Masque perforé selon la revendication 2, caractérisé en ce que la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) à l'intérieur ou à l'extérieur. 12. Masque perforé selon la revendication 2, caractérisé en ce que la gradation de la barre d'interconnexion (a) de la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) diminue, puis augmente de l'intérieur vers l'extérieur. 13. Masque perforé selon la revendication 2, caractérisé en ce que la gradation de la barre d'interconnexion (a) de la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) augmente, puis diminue de l'intérieur vers l'extérieur. 14. Masque perforé selon la revendication 1, caractérisé en ce que des trous repères (104) représentant la référence d'étirage sont formés dans la face inactive secondaire (101) qui s'étend à partir de la face active (100) du masque. 15. Masque perforé pour un CRT plat comprenant un écran de luminophores formé sur la surface intérieure d'un panneau ; un tube en entonnoir auquel le panneau est fixé et qui comporte un col dans lequel sont disposés un canon à électrons destiné à émettre des faisceaux d'électrons et un collier de déviation destiné à dévier les faisceaux d'électrons émis par le canon à électrons, les faisceaux d'électrons passant à travers le masque perforé relié à un cadre de support, pour ainsi obliger l'écran de luminophores à émettre une lumière, caractérisé en ce que des ouvertures (101') à travers lesquelles passent les faisceaux d'électrons émis par le canon à électrons sont formées sur une face active (100) qui constitue le centre du masque, en ce qu'un cadre (105) est fixé à la périphérie de la face active à intervalles réguliers, la zone située à l'extérieur du cadre (105) formant une face inactive primaire (102) sur laquelle les faisceaux d'électrons n'atterrissent pas, en ce qu'une face inactive secondaire (101) est formée par une extension au cadre (105) de la zone du masque comportant des ouvertures, et en ce que les ouvertures de passage de faisceaux d'électrons (101') situées au niveau des coins (C) de la face inactive secondaire (101) formée par l'extension sont réalisées pour présenter une gradation d'une barre d'interconnexion (a) dans la direction radiale. 16. Masque perforé selon la revendication 15, caractérisé en ce que la face inactive secondaire (101) formée par l'extension est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) à l'intérieur ou à l'extérieur. 17. Masque perforé selon la revendication 15, caractérisé en ce que les ouvertures (101') sont formées dans toutes les zones à l'exception des coins de la face inactive primaire (102). 18. Masque perforé selon la revendication 17, caractérisé en ce que la barre d'interconnexion (a) située au centre de la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) est uniforme, et en ce que sa partie extérieure est réalisée pour présenter une gradation. 19. Masque perforé selon la revendication 15 ou 17, caractérisé en ce que les coins de la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire ou secondaire (102, 101) sont arrondis. 20. Masque perforé selon la revendication 17, caractérisé en ce que la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) dans la direction radiale. 21. Masque perforé selon la revendication 17, caractérisé en ce que la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) à partir du centre dans une direction radiale. 22. Masque perforé selon la revendication 17, caractérisé en ce que la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) en direction de la face active (100). 23. Masque perforé selon la revendication 17, caractérisé en ce que l'extérieur du masque est réalisé pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) dans la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102). 24. Masque perforé selon la revendication 17, caractérisé en ce que la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) à l'intérieur ou à l'extérieur. 25. Masque perforé selon la revendication 15, caractérisé en ce que les coins (C) de la face inactive secondaire (101) du masque, formée par l'extension sont arrondis. 26. Masque perforé selon la revendication 15, caractérisé en ce que des trous repères (104) qui constituent la référence d'étirage sont formés dans la face inactive secondaire (101) qui s'étend à partir de la face active (100) du masque. 27. Masque perforé selon la revendication 15 ou 17, caractérisé en ce que la face inactive primaire ou secondaire (102, 101) est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) vers le haut ou vers le bas. 28. Masque perforé selon la revendication 17, caractérisé en ce que la gradation de la barre d'interconnexion (a) de la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) diminue, puis augmente de l'intérieur vers l'extérieur. 29. Masque perforé selon la revendication 17, caractérisé en ce que la gradation de la barre d'interconnexion (a) de la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) augmente, puis diminue de l'intérieur vers l'extérieur. 30. Masque perforé pour un CRT plat comprenant un écran de luminophores formé sur la surface intérieure d'un panneau ; un tube en entonnoir auquel le panneau est fixé et qui comporte un col dans lequel sont disposés un canon à électrons destiné à émettre des faisceaux d'électrons et un collier de déviation destiné à dévier les faisceaux d'électrons émis par le canon à électrons, les faisceaux d'électrons passant à travers le masque perforé relié à un cadre de support, pour ainsi obliger l'écran de luminophores à émettre une lumière ; caractérisé en ce que des ouvertures (101') à travers lesquelles passent les faisceaux d'électrons émis par le canon à électrons sont formées sur une face active (100) qui constitue le centre du masque, en ce qu'un cadre (105) est fixé à la périphérie de la face active à intervalles réguliers afin que la partie extérieure de la zone de fixation du cadre (105) forme une face inactive primaire (102) sur laquelle les faisceaux d'électrons n'atterrissent pas, en ce qu'une face inactive secondaire (101) à laquelle les ouvertures (101') du masque peuvent s'étendre est formée à la périphérie de la face active (100), et en ce qu'une première zone de suppression de faisceau sans ouverture est formée entre les faces inactives primaire et secondaire (102, 101), une seconde zone de suppression de faisceau est formée à l'extérieur de la face inactive primaire (102), et une troisième zone de suppression de faisceau sans ouvertures est formée au niveau des coins de la face inactive primaire (102). 31. Masque perforé selon la revendication 30, caractérisé en ce que les ouvertures (101') sont formées dans toutes les zones à l'exception de la troisième zone de suppression de faisceau de la face inactive primaire (102). 32. Masque perforé selon la revendication 30 ou 31, caractérisé en ce que la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire ou secondaire (102, 101) est réalisée pour présenter une gradation d'une barre d'interconnexion (a) en direction de la première ou de la seconde zone de suppression de faisceau. 33. Masque perforé selon la revendication 31, caractérisé en ce que la barre d'interconnexion (a) située au centre de la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) est uniforme, et en ce que la seconde zone de suppression de faisceau est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion. 34. Masque perforé selon la revendication 30 ou 31, caractérisé en ce que les coins de la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire ou secondaire (102, 101) sont arrondis. 35. Masque perforé selon la revendication 30 ou 31, caractérisé en ce que la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire ou secondaire (102, 101) est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) vers le haut ou vers le bas. 36. Masque perforé selon la revendication 31, caractérisé en ce que la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) dans la direction radiale. 37. Masque perforé selon la revendication 31, caractérisé en ce que la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) à partir du centre dans une direction radiale. 38. Masque perforé selon la revendication 31, caractérisé en ce que la première zone de suppression de faisceau est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) dans la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102). 39. Masque perforé selon la revendication 31, caractérisé en ce que la seconde zone de suppression de faisceau est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) dans la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102). 40. Masque perforé selon la revendication 31, caractérisé en ce que la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) en direction de la première ou de la seconde zone de suppression de faisceau. 41. Masque perforé selon la revendication 31, caractérisé en ce que la gradation de la barre d'interconnexion (a) de la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) diminue, puis augmente de la première zone de suppression de faisceau vers la seconde zone de suppression de faisceau. 42. Masque perforé selon la revendication 31, caractérisé en ce que la gradation de la barre d'interconnexion (a) de la zone comportant des ouvertures (101') de la face inactive primaire (102) diminue, puis augmente de la première zone de suppression de faisceau vers la seconde zone de suppression de faisceau. 43. Masque perforé selon la revendication 30, caractérisé en ce que des trous repères (104) qui constituent la référence d'étirage sont formés sur la face inactive secondaire (101). 44. Masque perforé pour un CRT plat comprenant un écran de luminophores formé sur la surface intérieure d'un panneau, un tube en entonnoir comportant le panneau et un col dans lequel sont disposés un canon à électrons destiné à émettre des faisceaux d'électrons et un collier de déviation destiné à dévier les faisceaux d'électrons émis par le canon à électrons, les faisceaux d'électrons traversant le masque perforé relié à un cadre de support, pour ainsi obliger l'écran de luminophores à émettre une lumière, caractérisé en ce que des ouvertures (101') à travers lesquelles passent les faisceaux d'électrons sont formées sur une face active (100) qui constitue le centre du masque, en ce qu'un cadre (105) est fixé à la périphérie de la face active à intervalles réguliers, la partie extérieure du cadre (105) formant une face inactive primaire (102) sur laquelle les faisceaux d'électrons n'atterrissent pas, et en ce qu'une première zone de suppression de faisceau est formée dans la zone adjacente à la face active (100), une seconde zone de suppression de faisceau sans ouverture est formée à l'extérieur de la face inactive, et une troisième zone de suppression de faisceau sans ouverture est formée au niveau des coins entre les première et seconde zones de suppression de faisceau. 45. Masque perforé selon la revendication 44, caractérisé en ce que les ouvertures (101') sont formées dans les zones autres que la troisième zone de suppression de faisceau de la face inactive. 46. Masque perforé selon la revendication 44, caractérisé en ce que la face inactive est réalisée pour présenter une gradation d'une barre d'interconnexion (a) en direction de la première ou de la seconde zone de suppression de faisceau. 47. Masque perforé selon la revendication 45, caractérisé en ce que la barre d'interconnexion (a) située au centre de la zone comportant des ouvertures de la face inactive est uniforme, et en ce que la seconde zone de suppression de faisceau est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion. 48. Masque perforé selon la revendication 45, caractérisé en ce que les coins de la zone comportant des ouvertures de la face inactive sont arrondis. 49. Masque perforé selon la revendication 45, caractérisé en ce que la face inactive est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) en direction de la première ou de la seconde zone de suppression de faisceau. 50. Masque perforé selon la revendication 45, caractérisé en ce que la zone comportant des ouvertures de la face inactive est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) dans la direction radiale. 51. Masque perforé selon la revendication 45, caractérisé en ce que la première zone de suppression de faisceau est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) dans la zone comportant des ouvertures de la face inactive. 52. Masque perforé selon la revendication 45, caractérisé en ce que la seconde zone de suppression de faisceau est réalisée pour présenter une gradation de la barre d'interconnexion (a) dans la zone comportant des ouvertures de la face inactive. 53. Masque perforé selon la revendication 45, caractérisé en ce que la gradation de la barre d'interconnexion (a) de la zone comportant des ouvertures de la face inactive diminue, puis augmente de l'intérieur vers l'extérieur. 54. Masque perforé selon la revendication 45, caractérisé en ce que la gradation de la barre d'interconnexion (a) de la zone comportant des ouvertures de la face inactive augmente, puis diminue de l'intérieur vers l'extérieur. 55. Masque perforé selon la revendication 44, caractérisé en ce que des trous repères (104) qui constituent la référence d'étirage sont formés entre la face active (100) et la partie de fixation du cadre (105).