FR 2757880 A1 19980703 FR 9616252 A 19961231 Procédé de revêtement sous vide et en continu. L'invention concerne le traitement par plasma froid sous vide d'une surface, notamment d'une surface d'acier, en vue d'un revêtement en continu sous vide de ladite surface traitée. On connaît des procédés de revêtement du type en continu et sous vide. D'une manière connue en elle-même, on adapte les conditions de revêtement en fonction du dépôt (par exemple nature, épaisseur, morphologie) qu'on souhaite obtenir sur ladite surface. Avant d'effectuer ce dépôt sous vide, il est courant de traiter au préalable la surface à revêtir sous plasma froid dans le but, d'une part, de la nettoyer voire de la décaper, c'est à dire de la débarrasser au moins des polluants qui peuvent l'encombrer, d'autre part, de l'activer pour faciliter ensuite l'adhérence du revêtement sur cette surface. On connaît des procédés de traitement de surface par plasma froid, appelé aussi plasma différé, pour le nettoyage superficiel de certains objets, notamment des objets en acier, céramique ou verre. Le plasma est obtenu dans des décharges réalisées dans un gaz sous faible pression, inférieure à 100 mbar, par exemple dans des décharges électriques, des décharges micro-onde ou haute fréquence. Le plasma ainsi obtenu peut être étendu en dehors de la zone de décharge dans des enceintes sous vide où sont placés les objets à traiter. On sait que les matières polluantes, du type huiles, graisses, matières organiques, présentes à la surface desdits objets, sont dégradées lorsqu'on les soumet à l'action d'un plasma pendant un temps donné. Le temps nécessaire au traitement sous plasma est notamment fonction de la pression régnant dans l'enceinte de traitement, de la nature du ou des gaz dans ladite enceinte, de la puissance électrique injectée au plasma et de l'état de surface de l'objet à traiter. Ces plasmas de traitement de surface font intervenir des gaz plasmagènes comme l'argon, I'azote, l'oxygène, I'air, voire des composés chlorés ou fluorés, purs ou en mélange. Avant de procéder au dépôt d'un revêtement sous vide en continu dans des conditions prédéterminées, il convient donc de déterminer aussi les conditions de traitement préalable de la surface sous plasma. Ces conditions de traitement préalable portent par exemple sur la durée de traitement sous plasma, sur l'intensité du courant ionique du générateur de plasma ou sur l'intensité de la décharge électrique, sur la fréquence d'excitation du plasma etlou sur l'énergie des ions ou du bombardement ionique. Pour déterminer ces conditions de traitement préalable, on effectue par exemple des tests sur des échantillons représentatifs du substrat à revêtir en continu. Ces échantillons sont soumis à des traitements préalables dans différentes conditions puis sont revêtus sous vide dans lesdites conditions prédéterminées. On effectue ensuite, sur les échantillons revêtus, des tests de qualification du revêtement, portant notamment sur son adhérence au substrat. Le classement des résultats des tests permet de sélectionner les conditions de traitement préalables qui correspondent aux résultats souhaités puis de retenir, parmi ces conditions, les conditions minimales de traitement qui garantissent une bonne qualité de dépôt. Ces conditions minimales forment les conditions prédéterminées de traitement préalable. A ce stade, on peut alors procéder au revêtement en continu du substrat en le traitant au préalable dans les conditions ainsi prédéterminées. Ce procédé pour fixer les conditions de traitement préalable au dépôt présente des inconvénients: - il suppose de disposer d'échantillons représentatifs du susbtrat, ce qui n'est pas toujours facile, par exemple si le substrat présente de fortes hétérogénéités de surface, ou hétérogénéités de pollution. - il conduit à retenir, comme conditions prédéterminées de traitement préalable, des conditions de nature à décaper et à activer une bonne partie de la surface à revêtir plus qu'il n'est nécessaire pour obtenir une bonne qualité de dépôt ; ce risque de sur-décapage ou de sur-activation est d'autant prononcé qu'on prend en pratique une marge de sécurité importante, à partir des résultats de tests sur les échantillons représentatifs de la surface. - le sur-décapage ou la sur-activation peut même conduire à détériorer la surface à revêtir. Par ailleurs, si l'on choisit les conditions de prétraitement avec une marge de sécurité trop importante, c'est évidemment aux dépens de la productivité, voire de la fiabilité, des installations de traitement préalable. L'invention a pour but d'éviter ces inconvénients en adaptant en continu les conditions de traitement préalable au niveau de pollution de la surface et au niveau d'activation requis pour un dépôt sous vide de bonne qualité. A cet effet, I'invention a pour objet un procédé de revêtement sous vide et en continu de la surface d'un substrat dans lequel on traite au préalable ladite surface sous plasma froid sous vide puis on procède à un dépôt sous vide sur ladite surface traitée dans des conditions prédéterminées, caractérisé en ce qu'on adapte en continu les conditions de traitement préalable en fonction de l'intensité de luminescence d'au moins un élément traceur de ladite surface soumis à l'excitation dudit plasma. L'invention peut également présenter une ou plusieurs des caractéristiques suivantes: - ledit élément traceur est un polluant essentiel de ladite surface; - si ledit substrat est en acier nu, ledit élément traceur est le sodium, ou, si ledit substrat est en acier zingué, ledit élément traceur est l'hydrogène; - ledit élément traceur étant un polluant de ladite surface à revêtir, on détermine au préalable une valeur critique d'intensité de luminescence dudit élément traceur mesurée en fin de traitement, au delà de laquelle des tests de qualification effectués sur ledit substrat revêtu ne sont pas satisfaisants, et on adapte en continu lesdites conditions de traitement de manière à ce que l'intensité de luminescence dudit élément traceur mesurée en continu en fin de traitement reste inférieure à ladite valeur critique; - ledit élément traceur est un élément atomique constituant ladite surface sur laquelle faire adhérer ledit revêtement; - si ledit substrat est en acier nu, ledit élément atomique est le fer, ou, si ledit substrat est en acier zingué, ledit élément atomique est le zinc; - ledit élément traceur étant un élément atomique constituant ladite surface à revêtir, on détermine au préalable une valeur critique d'intensité de luminescence dudit élément traceur mesurée en fin de traitement, en deçà de laquelle des tests de qualification effectués sur ledit substrat revêtu ne sont pas satisfaisants, et on adapte en continu lesdites conditions de traitement de manière à ce que l'intensité de luminescence dudit élément traceur mesurée en continu en fin de traitement reste supérieure à ladite valeur critique. L'invention sera mieux comprise à la lecture de la description qui va suivre, donnée à titre d'exemple non limitatif, et en référence aux figures annexées sur lesquelles: - la figure 1 représente l'intensité de luminescence d'un plasma au voisinage d'une surface d'acier nue et brute en cours de traitement, en fonction de la longueur d'onde de luminescence d'une part et en fonction du temps de traitement par ledit plasma d'autre part (les longueurs d'onde sont en abscisse et exprimées en nanomètres, I'intensité de luminescence est en ordonnées exprimée en unité arbitraire en milliers de coups par seconde - et la durée de traitement est dans la troisième dimension - exprimée en unité arbitraire). - les figures 2 et 3 représentent l'intensité de luminescence du même plasma au voisinage d'une surface d'acier zinguée en cours de traitement, en fonction de la longueur d'onde de luminescence d'une part et en fonction du temps de traitement d'autre part dans le même repère de représentation et les mêmes unités qu'à la figure 1, la figure 3 étant une vue agrandie d'une partie de la figure 2. L'installation de revêtement sous vide et en continu de la surface d'un substrat en forme de bande comprend: - des moyens de traitement préalable de surface de bande sous plasma froid dans une enceinte de traitement sous vide, - des moyens de dépôt d'un revêtement sur la surface d'une bande dans une enceinte de dépôt sous vide, les deux enceintes sous vide communiquant l'une avec l'autre par un passage de bande, - et des moyens pour faire défiler en continu une bande à revêtir, successivement dans lesdites enceintes au travers dudit passage de bande. Les moyens de traitement préalable de surface comprennent, outre l'enceinte de traitement, un générateur de plasma avec ses moyens réglables d'alimentation électrique, une zone de production du plasma, des moyens d'alimentation en gaz plasmagène, un dispositif de pompe à vide et, selon l'invention, des moyens pour mesurer, dans une zone de traitement soumise à plasma, I'intensité de luminescence d'au moins un élément traceur de la surface à traiter. On entend par élément traceur de la surface, un élément chimique ou atomique présent sur cette surface et considéré comme polluant (comme le sodium ou l'hydrogène sur des surfaces d'acier ou de zinc) ou un élément chimique ou atomique affleurant cette surface juste en dessous d'éventuels éléments polluants (comme le fer pour une surface d'acier ou le zinc pour une surface de zinc), ces éléments chimiques ou atomiques étant susceptibles de luminescer sous excitation plasma. Le générateur de plasma est par exemple un générateur micro-onde, fonctionnant à une fréquence de 2450 MHz ; ses moyens d'alimentation électrique permettent de régler le courant ionique etlou la puissance débitée. La zone de production de plasma est reliée à une extrémité aux moyens d'alimentation en gaz plasmagène et débouche à l'autre extrémité dans l'enceinte de traitement sous vide. L'enceinte de traitement sous vide est également reliée (directement ou indirectement via l'enceinte de dépôt) à un dispositif de pompe à vide adapté pour maintenir l'enceinte de traitement sous vide à une pression prédéterminée qui peut être également réglée. Lorsque le générateur de plasma est en marche et qu'on fait défiler une bande à traiter dans l'enceinte de traitement, à partir de son entrée vers sa sortie en direction de l'enceinte de dépôt, la surface de bande sur laquelle le plasma s'applique alors s'appelle "zone de traitement". Cette zone de traitement peut être subdivisée successivement dans le sens de défilement de la bande, en une zone de début de traitement, une zone centrale de traitement et une zone de fin de traitement. Les moyens pour mesurer l'intensité de luminescence d'au moins un élément traceur de la surface à traiter sont adaptés au spectre d'émission de luminescence dudit au moins un élément, lorsqu'il est soumis à une excitation plasma. Le positionnement de ces moyens de mesure de luminescence est adapté pour mesurer l'intensité de luminescence du plasma dans la zone de fin de traitement etlou dans la zone de début de traitement, en fonction du mode de réalisation retenu (cf. ci-dessous). Ces moyens pour mesurer l'intensité de luminescence sont par exemple constitués par une chaîne classique de mesure optique comprenant, à partir de la source d'émission de luminescence : un objectif optique, une fibre optique, un monochromateur, et un détecteur optique comme un photomultiplicateur avec ses moyens d'alimentation et de mesure de courant. Le monochromateur est réglable dans une gamme prédéterminée de longueurs d'onde correspondant à celles de la luminescence dudit au moins un élément traceur et, de préférence, également à celles de la luminescence d'un gaz du plasma, comme par exemple l'argon. Dans le cas où le spectre d'émission de luminescence dudit au moins un élément traceur présente plusieurs raies spectrales dans la gamme de longueurs d'onde du monochromateur, on choisit de régler le monochromateur sur la longueur d'onde correspondant à la raie d'émission de luminescence la plus intense qui n'interfère pas avec la luminescence d'autres éléments présents dans la décharge plasma. Les moyens de dépôt d'un revêtement et les moyens pour faire défiler en continu la bande à revêtir sont connus en eux-mêmes et ne seront pas décrits ici en détail. On va maintenant décrire le procédé selon l'invention dans deux cas particuliers de dépôt sous vide d'une couche métallique de chrome, d'une part sur une bande d'acier nu, d'autre part sur une bande d'acier zingué. On prédétermine d'une manière connue en elle-même les conditions de dépôt de chrome à l'aide des moyens de dépôt sous vide précédemment cités. Le premier mode de réalisation de l'invention concerne donc une tôle d'acier nu, brute de laminage, qui comporte donc en surface, entre autres polluants, des composés sodiques caractéristiques de la chimie de surface d'une tôle brute de laminage. Dans une étape préalable du procédé selon l'invention, on soumet un échantillon de ladite surface à un traitement de surface sous plasma dans l'enceinte de traitement sous vide dans des conditions prédéterminées, c'est à dire en utilisant un générateur de courant continu et en fixant une valeur de courant ionique du générateur de plasma. Ces conditions de traitement correspondent au fonctionnement optimal de la source de plasma et aux conditions standards de fonctionnement au défilé. Tout en maintenant l'échantillon sous traitement plasma, on mesure l'intensité de luminescence du plasma au voisinage de la surface dudit échantillon, en fonction de la longueur d'onde de luminescence d'une part et en fonction du temps de traitement d'autre part. Les résultats obtenus sont représentés à la figure 1 et peuvent s'interpréter de la manière suivante: - on repère une raie d'émission de luminescence à 589 nm (repérée par Na sur la figure 1) dont l'intensité décroît avec la durée de traitement ; on identifie cette raie d'émission à l'élément traceur Sodium présent parmi les composés polluant la surface à revêtir; on mesure l'intensité de luminescence de cette raie 10nua en début de traitement. - on repère une raie d'émission de luminescence à 510 nm (repérée par Fe sur la figure 1) dont l'intensité croit avec la durée de traitement; on identifie cette raie d'émission à l'élément traceur Fer prépondérant sur la surface à revêtir, d'autant plus apparent que ladite surface est débarrassée de ses composés polluants ; on mesure l'intensité de luminescence de cette raie l Fe en début de traitement. - de préférence, on repère également une raie de luminescence dite "de référence" d'un gaz de l'enceinte (comme l'argon) et on mesure l'intensité 1 Ar de cette raie. On prépare ensuite d'autres échantillons de ladite surface à revêtir, puis, dans les mêmes conditions prédéterminées de traitement propre à cette étape préalable; on soumet chaque échantillon à une durée spécifique de traitement plasma. Les durées de traitement de chaque échantillon sont choisies pour correspondre à des valeurs différentes d'intensité de luminescence de l'élément traceur (sodium etlou fer) mesurées en fin de traitement et repérables sur les spectres des figures 1, 2 ou 3. On revêt ensuite les échantillons traités d'une couche de chrome sous vide dans les conditions prédéterminées. On effectue ensuite des tests de qualification du revêtement de chrome sur les échantillons revêtus. Comme test de qualification, on retient par exemple un test d'adhérence. On ordonne ensuite les résultats des tests d'adhérence de chaque échantillon selon la durée de traitement propre à chaque échantillon, ou, ce qui revient au même, selon la valeur de l'intensité de luminescence mesurée en fin de traitement. Pour la luminescence de l'élément traceur sodium, on détermine alors une valeur critique d'intensité de luminescence ICNa du sodium au delà de laquelle les résultats des tests d'adhérence ne sont pas considérés comme satisfaisants. Pour la luminescence de l'élément traceur fer, on détermine alors une valeur critique d'intensité de luminescence ICFe du fer en deçà de laquelle les résultats des tests d'adhérence ne sont pas considérés comme satisfaisants. A partir de la différence (ION, - ICNa) ou (ICFe 10Fe) , on peut évaluer la dose critique d'ions plasmagène juste nécessaire pour nettoyer et activer la surface de ladite tôle d'acier nu de manière à obtenir ensuite, dans les conditions prédéterminées de dépôt, un revêtement de chrome satisfaisant les tests de qualification. L'étape préalable du procédé selon l'invention étant terminée, on peut alors procéder au revêtement en continu de la bande d'acier nu dans l'installation de revêtement sous vide. A l'aide des moyens de défilement de la bande, on fait défiler la bande d'acier nu à revêtir successivement dans les moyens de traitement préalable de la surface et dans les moyens de dépôt. Dans les moyens de traitement préalable, on traite donc la bande par plasma pour nettoyer et activer sa surface, puis, dans les moyens de dépôt, on revêt la bande traitée d'une couche de chrome dans les conditions prédéterminées. Selon un premier exemple de mise en oeuvre de l'invention dans le cas où le sodium est retenu comme élément traceur, pendant le défilement de la bande dans l'enceinte de traitement, on adapte en continu les conditions de traitement, notamment dans la zone centrale de traitement, de manière à ce que, en mesurant, dans la zone de fin de traitement, I'intensité IfNa de ladite raie de luminescence de l'élément traceur sodium et l'intensité IfAr de ladite raie de référence, on vérifie que le terme IfNa x(1 A,JlfAr) est inférieur ou égal à ICNa I c'est à dire qu'on a bien appliqué sur la surface à traiter au moins ladite dose critique d'ions plasmagène. Le facteur (IOAr/ldAr) est un facteur normatif permettant de comparer les intensités de luminescence indépendamment du niveau d'excitation plasma, qui peut être différent dans l'étape préalable ou lors du revêtement en continu. Pour adapter en continu les conditions de traitement de surface, on peut par exemple modifier un ou plusieurs des paramètres de réglage suivants : le courant ionique du générateur de plasma, la pression de gaz dans l'enceinte de prétraitement, la longueur de la zone de traitement etlou la vitesse de défilement de bande ; c'est notamment lorsqu'on intervient sur le courant ionique ou sur la pression de gaz que le facteur normatif (lOArildAr) prend toute son importance. Selon l'invention, on adapte en continu lesdites conditions de traitement de surface de manière à ce que le terme IfNa x(1 Ar/lfA,) mesuré en sortie reste proche de ICNa, par exemple de manière à ce que (l ICNa - IfNax(I Ar/IfAr) | / ICNa ) Selon un deuxième exemple de mise en oeuvre de l'invention dans le cas également où le sodium est retenu comme élément traceur, toujours pendant le défilement de la bande dans l'installation de traitement, on mesure, dans la zone de début de traitement, I'intensité IdNa de la raie de luminescence de l'élément traceur sodium et l'intensité IdAr de la raie de référence et on adapte en continu lesdites conditions de traitement de surface en fonction de la différence dite "écart d'entrée" [IdNa X(lOArIldAr) - lCNai, de manière à augmenter la dose d'ions plasmagène par rapport à celle des conditions prédéterminées de l'étape préalable si [IdNa x(1 A,/ldAr) - ICNa] > [1 Na - lCNa], ou au contraire à la diminuer si [IdNa x(l Ar/ldAr) - ICNa] A partir de cet "écart d'entrée", on peut déterminer la dose critique d'ions plasmagènes juste nécessaire pour nettoyer et activer la surface rentrant dans l'enceinte de traitement et piloter les moyens de traitement de manière à appliquer à la surface de la bande ladite dose critique d'ions plasmagènes requise. Ce deuxième mode de réalisation est avantageux lorsque le degré de pollution de la surface rentrante varie significativement sur une distance plus courte que la longueur de zone de traitement: on obtient en effet un temps de réponse plus court. De préférence, on combine le premier et le deuxième mode de réalisation décrits ci-dessus. Selon une variante de l'invention, si les conditions de traitement dans la zone de début de traitement etlou dans la zone de fin de traitement sont constantes, il n'est pas nécessaire de mesurer en continu les intensités IdAr et IfAr de ladite raie de référence, mais par exemple uniquement au début ou à la fin des opérations puisque ces intensités sont constantes. Selon une variante de l'invention, on peut se baser, non plus sur ladite raie d'émission du sodium, mais sur ladite raie d'émission de l'élément traceur fer. Si l'on décrit alors la mise en oeuvre de l'invention dans le cas préféré où l'on combine le premier et le second mode de réalisation décrits ci-dessus et dans le cas où, pour simplifier l'exposé, on considère que 10 Ar = Id Ar = - on mesure l'intensité IdFe de ladite raie de luminescence de l'élément traceur fer dans ladite zone de début de traitement; - on calcule ensuite "l'écart d'entrée" [ICFe - IdFe ] , ce qui permet de déterminer comme précédemment la dose critique d'ions plasmagènes juste nécessaire pour nettoyer et activer la surface rentrant dans l'enceinte de traitement; - on adapte ensuite en continu, notamment dans la zone centrale de traitement, les conditions de traitement d'une part en fonction dudit "écart d'entrée", d'autre part de manière à ce que, dans la zone de fin de traitement, en mesurant l'intensité IfFe de ladite raie de luminescence de l'élément traceur fer, on vérifie que le terme IfFe est bien supérieur ou égal à lCFc , ce qui signifie qu'on a bien appliqué sur la surface à traiter au moins ladite dose critique d'ions plasmagènes. Comme précédemment, de préférence, ce terme IfFe doit rester proche de lCFe pour ne pas "surexposer" la surface à traiter . on adapte ainsi les conditions de traitement au moins dans ladite zone centrale de manière à ce que par exemple ( I If Fe - lCFe I I lCFe) Bien entendu, on peut également mettre en oeuvre l'invention en se basant à la fois sur plusieurs éléments traceurs différents (par exemple le sodium et le fer), etlou sur plusieurs raies d'émission de luminescence d'un même élément traceur. Après le traitement préalable dans l'enceinte de traitement dans les conditions qui viennent d'être définies, on fait défiler la bande traitée dans l'enceinte de dépôt et on procède au dépôt en continu de la couche de chrome sur la surface traitée dans les conditions prédéterminées. On obtient une bande d'acier revêtue d'une couche de chrome satisfaisant les tests de qualification, c'est à dire présentant notamment une bonne adhérence au substrat. Avantageusement, le mode de pilotage de l'installation de revêtement consistant, selon l'invention, à régler en continu les conditions du traitement préalable de surface, permet d'obtenir une préparation et une activation de surface beaucoup plus homogène, apte à favoriser une bonne adhérence du dépôt à effectuer et ne risquant en rien de détériorer cette surface. Grâce à ce réglage en continu, il n'est plus nécessaire de prendre une marge de sécurité aussi importante sur les conditions de traitement, ce qui permet d'améliorer la productivité et la fiabilité des moyens de traitement de surface par plasma sous vide. De préférence, le pilotage de l'installation de revêtement est automatisé. Le deuxième mode de réalisation de l'invention concerne le revêtement d'une tôle d'acier zingué qui comporte en surface, entre autres polluants, des composés hydrogénés caractéristiques de sa chimie de surface. Comme précédemment, dans une étape préalable du procédé selon l'invention, on soumet un échantillon de ladite surface à un traitement de surface sous plasma dans l'enceinte de traitement sous vide dans des conditions prédéterminées et on mesure l'intensité de luminescence du plasma au voisinage de ladite surface en fonction de la longueur d'onde de luminescence d'une part et en fonction du temps de traitement d'autre part. On obtient les courbes de la figure 2, où les longueurs d'onde sont en abscisse et exprimées en nanomètres, où l'intensité de luminescence est en ordonnées (exprimée en unité arbitraire en milliers de coups par seconde) et où la troisième dimension exprime la durée de traitement. Les résultats obtenus sont représentés aux figures 2 et 3 qui peuvent s'interpréter alors de la manière suivante: - la raie d'émission de luminescence à 656 nm (repérée par H sur les figures) décroît avec la durée de traitement et correspond à celle de l'élément traceur Hydrogène, présent parmi les composés polluant la surface à revêtir; on mesure l'intensité de luminescence de cette raie l H en début de traitement. - la raie d'émission de luminescence à 308 nm (repérée par Zn sur les figures) croit avec la durée de traitement et correspond à celle de l'élément traceur Zinc prépondérant sur la surface à revêtir, d'autant plus apparent que ladite surface est débarrassée de ses composés polluants , on mesure l'intensité de luminescence de cette raie I Zn en début de traitement. - de préférence, on repère également une raie de luminescence dite "de référence" d'un gaz de l'enceinte (comme l'argon) et on mesure l'intensité 1 Ar de cette raie. Comme décrit dans le mode de réalisation précédent, on détermine: - une valeur critique d'intensité de luminescence ICH de l'hydrogène au delà de laquelle les résultats de tests de qualification d'échantillons revêtus ne sont pas considérés comme satisfaisants. - une valeur critique d'intensité de luminescence lCZn du zinc en deçà de laquelle les résultats des tests de qualification d'échantillons revêtus ne sont pas considérés comme satisfaisants. On peut alors procéder au revêtement en continu de la bande d'acier zingué dans l'installation de revêtement sous vide comme précédemment, en adaptant en continu les conditions de traitement de surface préalable au dépôt et si l'on se base sur l'élément traceur hydrogène: - de manière à ce que, en mesurant, dans la zone de fin de traitement, I'intensité î de la raie de luminescence de l'élément traceur hydrogène et l'intensité IfAr de la raie de référence, on vérifie la relation: 0,1 x 1H > [ ICH - IfH X(l Ar/lfAr) ] > 0 , ce qui signifie qu'on a bien appliqué une dose critique d'ions plasmagènes sans surexposer la surface à traiter - etlou de manière à ce que, en mesurant, dans la zone de début de traitement, l'intensité IdH de la raie de luminescence de l'élément traceur hydrogène et l'intensité IdAr de la raie de référence, on augmente la dose d'ions plasmagènes par rapport à celle des conditions prédéterminées de l'étape préalable si IdH X(l Ar/ldAr) > I H , OU au contraire on diminue ladite dose Si IdH X(IOArIIdAr) On peut procéder de la même façon en se basant sur l'élément traceur zinc ; on adapte alors en continu les conditions de traitement préalable de traitement de surface: - de manière à ce que, en mesurant, dans la zone de fin de traitement, I'intensité IfZn de la raie de luminescence de l'élément traceur zinc et l'intensité Ar de la raie de référence, on vérifie la relation: 0,1 x lCZn > [IfZn X(I Ar/lfAr) - lcZn] > 0 , ce qui signifie qu'on a bien appliqué une dose critique d'ions plasmagènes sans surexposer la surface à traiter - et/ou de manière à ce que, en mesurant, dans la zone de début de traitement, I'intensité IdZn de la raie de lum et l'intensité IdAr de la raie de référence, on augmente la dose d'ions plasmagènes par rapport à celle des conditions prédéterminées de l'étape préalable si IdZn x(I Ar/IdAr) 10Zn On obtient une bande d'acier zinguée et chromée, dont le revêtement de chrome adhère bien à la couche de zinc, avec les mêmes avantages que précédemment. REVENDICATIONS 1.- Procédé de revêtement sous vide et en continu de la surface d'un substrat dans lequel on traite au préalable ladite surface sous plasma froid sous vide puis on procède à un dépôt sous vide sur ladite surface traitée dans des conditions prédéterminées, caractérisé en ce qu'on adapte en continu les conditions de traitement préalable en fonction de l'intensité de luminescence d'au moins un élément traceur de ladite surface soumis à l'excitation dudit plasma. 2.- Procédé selon la revendication 1 caractérisé en ce que ledit élément traceur est un polluant essentiel de ladite surface. 3.- Procédé selon la revendication 2 caractérisé en ce que, ledit substrat étant en acier nu, ledit élément traceur est le sodium. 4.- Procédé selon la revendication 2 caractérisé en ce que, ledit substrat étant en acier zingué, ledit élément traceur est l'hydrogène. 5.- Procédé selon l'une quelconque des revendications 2 à 4 caractérisé en ce qu'on détermine au préalable une valeur critique d'intensité de luminescence dudit élément traceur mesurée en fin de'traitement, au delà de laquelle des test de qualification effectués sur ledit substrat revêtu ne sont pas satisfaisants, et en ce qu'on adapte en continu lesdites conditions de traitement de manière à ce que l'intensité de luminescence dudit élément traceur mesurée en continu en fin de traitement reste inférieure à ladite valeur critique. 6.- Procédé selon la revendication 1 caractérisé en ce que ledit élément traceur est un élément atomique constituant ladite surface sur laquelle faire adhérer ledit revêtement. 7.- Procédé selon la revendication 6 caractérisé en ce que, ledit substrat étant en acier nu, ledit élément atomique est le fer. 8. - Procédé selon la revendication 6 caractérisé en ce que, ledit substrat étant en acier zingué, ledit élément atomique est le zinc. 9. - Procédé selon rune quelconque des revendications 6 à 8 caractérisé en ce qu'on détermine au préalable une valeur critique d'intensité de luminescence dudit élément traceur mesurée en fin de traitement, en deçà de laquelle des test de qualification effectués sur ledit substrat revêtu ne sont pas satisfaisants, et en ce qu'on adapte en continu lesdites conditions de traitement de manière à ce que l'intensité de luminescence dudit élément traceur mesurée en continu en fin de traitement reste supérieure à ladite valeur critique.