FR 2742878 A1 19970627 FR 9515162 A 19951220 DETECTEUR DE RAYONNEMENTS IONISANTS ULTRA-MINCE ET PROCEDES DE REALISATION D D'VN TEL DETECTEUR DESCRIPTION DOMAINE TECHNIQUE La présente invention concerne un détecteur ultra-mince de rayonnements ionisants tels que, par exemple, des photons UV, des photons X et des particules a ou ss, et des procédés de réalisation d'un tel détecteur. Des détecteurs conformes à 11 invention, trouvent de nombreuses applications dans la détection de particules chargées ou de neutrons dans des milieux à fort bruit de fond gamma, dans la mesure de temps de vol d'ions lourds ou encore dans la mesure en ligne de flux tels que des flux de rayonnements X, ou de protons. L'invention trouve aussi des applications pour la réalisation de détecteurs dits "intelligents" formés par un empilement de plusieurs détecteurs dont l'épaisseur est ajustée à divers types de rayonnements à détecter simultanément. ETAT DE LA TECHNIQUE ANTERIEURE Les détecteurs de radiation à semi-conducteurs fonctionnent sur le principe de collection de charges, formées par des paires électrons-trous, et générées par l'interaction de rayonnements ionisants avec la matière. Ces rayonnements, lorsqu'ils traversent le matériau semi-conducteur, y transfèrent tout ou partie de leur énergie en provoquant la génération des paires électrons-trous. A titre d'exemple une énergie de tordre de 3,6 eV est nécessaire pour générer une paire électron-trou dans le silicium. Le schéma de la figure 1 illustre le fonctionnement d'un détecteur au silicium. Lorsqu'un rayonnement ionisant représenté par une flèche 10 traverse un bloc de silicium 12, des paires électronstrous 14 y sont générées. Des électrodes 16 et 18, recouvrant respectivement des faces opposées du bloc de silicium, sont reliées respectivement à une source de tension 20 et à la masse pour créer au sein du bloc de silicium 12 un champ électrique E. Sous l'effet de ce champ, les charges, c'est-à-dire les électrons et les trous, migrent vers les électrodes 16 et 18 et peuvent être collectés sur les bornes du détecteur, par exemple la borne 22, pour produire un signal électrique qui peut être enregistré. Idéalement, pour chaque photon ou chaque particule incidente 10, il est possible d'enregistrer aux bornes du détecteur une impulsion électrique proportionnelle à l'énergie que le photon ou la particule ont cédé au silicium. Toutefois, les paires électrons-trous ont naturellement tendance à se recombiner, et le signal n'est représentatif de l'énergie cédée que si la distance de libre parcours des électrons et des trous avant leur recombinaison est supérieure à l'épaisseur du détecteur. Le transfert de l'énergie du rayonnement à la matière dépend du type et de l'énergie des radiations incidentes. Ce transfert a lieu suivant différents processus et avec des pertes en énergie différentes. A titre d'illustration, le tableau I ci-après donne des épaisseurs approximatives de silicium (e) nécessaires à l'absorption de 90% de l'énergie des radiations incidents et pour divers types de rayonnements et de particules chargées. TABLEAU I Radiation vivible UV X X X Gamma alpha alpha 5 électron 600 nm 200 nm 1 keV 10 keV 100 keV 1 MeV 1 MeV 1 MeV 50 keV e( m) 2 0,02 7 300 2.3.105 3,6.105 3 25 20 Les pertes en énergie des radiations ont toutefois un caractère statistique et les valeurs citées dans le tableau I correspondent aux épaisseurs moyennes nécessaires à l'absorption de 90% de 11 énergie des radiations. Par exemple, un photon gamma de 500 keV traversant un détecteur silicium de 300 um d'épaisseur (détecteur standard), a une probabilité égale à 7x10-4 de réaction dans le détecteur entraînant le transfert d'une énergie de 150 à 200 keV au silicium. Dans le cas d'un fort flux de photons gamma de l'ordre de 105 photons par seconde, on enregistre, aux bornes du détecteur, 70 impulsions électriques par seconde correspondant à une perte en énergie des photons dans le détecteur de 150 à 200 keV. On enregistre en fait toute une série d'impulsions correspondant à des pertes en énergie comprises entre 0 et 500 keV. Dans un certain nombre d'applications des détecteurs à semi-conducteurs il serait souhaitable de disposer de tels détecteurs avec une épaisseur comprise entre 0,1 um et quelques dizaines de micromètres. A titre d'exemple lorsqu'un rayonnement comporte plusieurs types de radiations correspondant à des épaisseurs d'absorption très différentes dans le silicium, et que l'on souhaite ne mesurer qu'un seul type de radiation, par exemple celui qui correspond à l'épaisseur d'absorption la plus faible, il convient d'utiliser un détecteur dont l'épaisseur est justement égale ou voisine de cette épaisseur d'absorption. Par exemple, pour la détection de particules alpha de 1 MeV dans un milieu avec un fort signal parasite de rayonnement gamma, le rapport signal alpha sur signal gamma est optimum pour un détecteur en silicium de l'ordre de 4 um d'épaisseur, correspondant à l'épaisseur d'absorption des particules alpha. Pour un tel détecteur, toutes les particules alpha perdent la totalité de leur énergie dans le détecteur. Une très faible proportion des photons gamma ( Une autre application où il est utile de disposer des détecteurs minces est la mesure de rayonnements X, de rayonnements gamma et/ou de particules en ligne, lorsque la radiation perd de façon quasi-uniforme son énergie dans le silicium. Par exemple pour la mesure en ligne du flux de particules alpha de 5.5 MeV, on souhaite avoir un détecteur tel que les pertes en énergie soient de l'ordre de 100 keV, pour que le comptage des particules soit possible sans une perte en énergie trop importante des particules. En particulier, dans le cas de cet exemple, un détecteur au silicium avec une épaisseur d'environ 0,5 um conviendrait. A l'heure actuelle, les détecteurs au silicium à barrière de surface disponibles dans le commerce présentent des épaisseurs supérieures ou égales à environ 10 um. Ces détecteurs sont généralement obtenus par amincissement mécanique de plaquettes de silicium de plusieurs centaines de micromètres d'épaisseur. Pour des raisons de tenue mécanique et de contrôle de l'épaisseur restante il est très difficile de réaliser par amincissement mécanique des détecteurs avec une épaisseur inférieure à 10 um De plus, l'épaisseur des plaquettes n' est contrôlée qu'avec une précisions de l'ordre de +1,5 um Ces détecteurs ne sont ainsi pas adaptés aux applications évoquées ci-dessus. Le document (1) référencé à la fin de la présente description concerne un détecteur de rayonnements avec une diode de détection réalisée dans une couche épaisse de silicium. Ce détecteur est associé à un circuit électronique réalisé dans une couche superficielle de silicium isolée de la couche épaisse de silicium par une couche isolante d'oxyde. L'épaisseur de la couche (100 um) écarte ce type de détecteur du champ d'application envisagé, qui concerne les détecteurs minces. Le document (2) également référencé à la fin de la description est un détecteur de radiation avec une isolation thermique, utilisant une diode à structure de type MESA. La technique décrite dans ce document ne permet pas non plus de fabriquer des détecteurs minces. Finalement, un but de la présente invention est de proposer un détecteur mince avec une épaisseur comprise préférentiellement entre 0,1 et 10 um Un autre but est de proposer un détecteur dont l'épaisseur peut être contrôlée avec une grande précision. L'invention a aussi pour but de proposer des procédés simples de réalisation de tels détecteurs. EXPOSÉ DE L'INVENTION Pour atteindre ces buts, l'invention a plus précisément pour objet un détecteur de rayonnements ionisants avec une diode de détection équipée de bornes de polarisation et de sortie d'un signal de détection, caractérisé en ce que la diode de détection comporte au moins une portion d'une couche mince superficielle d'une structure de type SOI formée d'un empilement d'un substrat de silicium, d'une couche isolante d'oxyde de silicium et la couche mince superficielle de silicium. Au sens de la présente invention, on entend par rayonnement ionisant tout rayonnement susceptible de créer des paires électrons-trous. Le rayonnement peut donc être un rayonnement visible, ultraviolet, X, gamma ou encore de particules chargées telles que des particules alpha ou béta, ou enfin de neutrons après conversion de ces derniers en particules alpha (bore 10) ou béta (gadolinium). Selon une première réalisation de l'invention la diode comporte en outre une couche d'un premier métal disposée en contact avec une face libre de la portion de couche superficielle et formant avec cette portion de couche une jonction de type Schottky. Le silicium utilisé pour réaliser la couche mince superficielle est de préférence en silicium de haute résistivité. Pour détecter les rayonnements traversant la couche mince superficielle, la diode est polarisée en inverse. L'épaisseur de la couche mince superficielle peut être choisie avantageusement en fonction du type et de l'énergie des rayonnements que l'on souhaite détecter. Cette couche mince n' est pas obtenue par amincissement d'une plaque épaisse mais son épaisseur est fixée par la structure SOI utilisée au départ. Or on sait réaliser, et on trouve dans le commerce, des substrats SOI dont les couches minces superficielles présentent une épaisseur comprise entre 0,1 um et 100 um et contrôlée avec une précision de l'ordre de 10%. Selon une deuxième réalisation du détecteur de l'invention, la portion de couche superficielle comporte une région dite de détection d'un premier type de conductivité et une région dite intermédiaire du deuxième type de conductivité, et qui forme avec la région de détection une jonction de type pn. Le premier type de conductivité est par exemple le type de conductivité n et le deuxième type de conductivité le type p. La région intermédiaire de la couche mince superficielle est ainsi dopée avec des impuretés acceptrices et la conduction se fait par trous libres. La région de détection est alors en silicium dopé avec des impuretés donneuses de type n. La jonction formée est donc une jonction de type pn. Quelle que soit la réalisation du détecteur, celui-ci peut être équipé d'une prise de contact reliée à la face profonde de la couche mince superficielle et accessible par l'une des faces de la couche superficielle de la structure SOI. Selon une première variante de l'une ou l'autre des réalisations du détecteur de l'invention, la diode comporte en outre, pour la prise de contact, une couche d'un deuxième métal disposée en contact avec une face de la couche mince superficielle tournée vers la couche d'oxyde de silicium, et formant avec la portion de couche superficielle un contact ohmique. La couche de deuxième métal et la portion de couche superficielle forment également une hétérojonction. Il s'agit cependant d'une hétérojonction non-redresseuse désignée dans la présente description par "contact ohmique". Selon une deuxième variante de l'une ou l'autre des réalisations du détecteur de l'invention, la diode comporte en outre, pour la prise de contact, une région, dite de contact, présentant une concentration d'impuretés de dopage supérieure à celle de la couche adjacente. Dans le cas de la jonction de type pn, la diode comporte, pour la prise de contact, une région, dite de contact, d'un deuxième type de conductivité opposé au premier type de conductivité, et une région intermédiaire présentant une concentration d'impureté de dopage inférieure à la région de contact et séparant la région de détection de la région de contact. Dans la réalisation du détecteur avec une jonction de type Schottky la couche superficielle peut comporter une région non intentionnellement dopée en contact avec la couche de premier métal et une région, dite de contact dopée. La région de contact, fortement dopée permet de former une prise de contact conducteur sur la région non intentionnellement dopée. Elle a alors la même fonction que la couche de deuxième métal. Ainsi le détecteur peut comporter une connexion, accessible par l'une des faces externes de la structure SOI pour la prise de contact, cette connexion traversant la couche mince superficielle ou traversant la couche d'oxyde de silicium et le substrat de silicium. L'invention a également pour objet un procédé de fabrication d'un détecteur tel que décrit ci-dessus. Selon la première réalisation dans laquelle la diode présente une jonction de type Schottky, le procédé peut comporter les étapes suivantes dans lesquelles on forme une couche de matériau isolant électrique sur une face libre d'une couche mince superficielle de silicium d'une structure de type silicium sur isolant (SOI), la structure comprenant un empilement d'un substrat de silicium, d'une couche d'oxyde de silicium et de la couche mince superficielle, on pratique dans la couche de matériau isolant électrique une ouverture délimitant une zone de détection, on forme une couche de matériau conducteur électrique, en contact avec ladite face libre de la couche superficielle dans l'ouverture, et formant avec la couche superficielle une jonction de type Schottky, on grave localement le substrat de silicium et la couche d'oxyde de silicium pour former une ouverture arrière d'accès à la couche superficielle, dans la zone de détection, on forme une couche de matériau conducteur électrique en contact avec la couche superficielle dans ladite ouverture arrière d'accès, et formant avec la couche superficielle un contact ohmique. Selon une autre réalisation, dans laquelle la diode comporte une jonction pn, le procédé peut comporter les étapes suivantes a) formation d'une couche de matériau isolant sur une face libre d'une couche superficielle d'une plaque présentant une structure de type SOI et comportant un empilement d'un substrat de silicium, d'une couche d'oxyde de silicium et de la couche mince superficielle de silicium, la couche mince superficielle comportant une première région dopée, d'un premier type de conductivité et ayant une première concentration d'impuretés et une deuxième région dopée du même type de conductivité et avec une deuxième concentration d'impuretés supérieure à la première concentration, la deuxième région étant en contact avec la couche d'oxyde de silicium et enterrée dans la première région, b) réalisation dans la couche de matériau isolant électrique d'une ouverture délimitant une zone de détection, c) dopage de la couche mince superficielle dans la zone de détection pour former une troisième région avec des impuretés d'un deuxième type de conductivité opposé au premier type de conductivité. d) recuit thermique de la plaque, e) les première, deuxième et troisième régions dopées forment respectivement la région intermédiaire, la région de contact et la région de détection, le procédé comporte en outre la formation de prises de contact électrique sur les deuxième et troisième régions dopées. Selon un aspect de l'invention, lors de la réalisation de la structure SOI on peut former une couche mince superficielle comportant deux sous-couches empilées qui constituent respectivement les première et seconde régions dopées. D'autres caractéristiques et avantages de la présente invention ressortiront de la description qui va suivre, en référence aux figures des dessins annexés, donnée à titre purement illustratif et non limitatif. BRÈVE DESCRIPTION DES FIGURES - la figure 1, déjà décrite, est une représentation schématique simplifiée d'un détecteur de rayonnements, expliquant son principe de fonctionnement. - les figures 2A à 2F sont des coupes, à plus petite échelle, de structures pour la fabrication d'un détecteur de rayonnements conforme à l'invention. Elles illustrent les étapes d'un premier mode de fabrication d'un tel détecteur. - les figures 3A à 3F sont des coupes de structures pour la fabrication d'un détecteur de rayonnements, conforme à l'invention. Elles illustrent les étapes d'un second mode de fabrication d'un tel détecteur. EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS Un procédé de fabrication d'un détecteur conforme à l'invention est illustré par les figures 2A à 2F. Il s'agit en particulier d'un détecteur dans lequel les couches de jonction et de contact sont des couches de métal. Comme le montre la figure 2A, on part d'un substrat de type silicium sur isolant, ou SOI (silicon on insulator) qui comporte un empilement d'un substrat de silicium 200, d'une couche isolante d'oxyde de silicium 202 et d'une couche mince superficielle 204. Les épaisseurs de ces couches 200, 202, 204 sont, dans l'exemple décrit, respectivement de 300 um, 0,1 um et 5 wn. De façon générale, la couche d'oxyde de silicium 202 présente une épaisseur comprise de préférence entre environ 0,1 et 5 um. La couche superficielle mince 204, qui est la couche active du détecteur, présente une épaisseur préférentiellement comprise entre 0,1 um et 100 um. L'épaisseur de la couche mince 204 est choisie en particulier en fonction du type et de l'énergie du rayonnement que l'on souhaite détecter. De telles structures SOI peuvent être réalisées selon des techniques connues. Elles sont par exemple réalisées par implantation d'ions d'oxygène selon un procédé dit SIMOX (Separation by Implanted Oxygen), ou par report direct, selon un procédé dit SDB (Silicon Direct Bonding). De tels structures sont aussi commercialisées sous forme de plaquettes de 4 pouces de diamètre. Dans le cas de l'exemple décrit la couche superficielle 204 est une couche de silicium de type n de haute résistivité. Sa résistivité est de l'ordre de 103 fl.cm. Dans une première étape illustrée à la figure 2B, on dépose sur la couche superficielle 204 une couche 230 de nitrure de silicium d'une épaisseur de l'ordre de 0,2 um. Cette couche a une fonction d'isolant électrique. Elle est déposée sur la face libre 222 de la couche 204. On pratique ensuite dans la couche 230 une ouverture 232 pour mettre à nu une portion de la couche mince superficielle. L'ouverture 232 est obtenue en mettant en oeuvre des procédés connus de lithographie qui comportent pour l'essentiel le dépôt d'une couche de résine photosensible, la formation d'un masque dans cette résine, avec une ouverture de masque correspondant à l'ouverture que l'on souhaite pratiquer dans la couche de nitrure de silicium, la gravure de la couche de nitrure de silicium à travers l'ouverture de masque, et l'élimination de la résine restante. L'ouverture 232, visible à la figure 2C, délimite une portion de la couche mince superficielle dans laquelle est réalisée la diode de détection et, par conséquent, une zone de détection du détecteur. Dans une étape suivante une couche d'or 220 avec une densité de l'ordre de 40 ug/cm2 est formée par évaporation sur la surface de la couche 230 de nitrure de silicium et dans l'ouverture 232. La couche d'or 220 est en contact avec la portion de la couche mince superficielle 204 dans l'ouverture 232. Elle forme avec la portion de couche mince superficielle une jonction de type Schottky. La couche d'or 220 constitue également une première borne de polarisation de la diode de détection du détecteur. Comme le montrent les figures 2D et 2E on grave ensuite localement le substrat 200 et la couche isolante 202 afin d'y former une ouverture d'accès 240 à la face 226 de la couche mince superficielle, opposée à la face libre. La gravure de l'ouverture 240 est effectuée dans la zone de détection pour atteindre la portion de la couche mince superficielle dont la face libre est en contact avec la couche d'or 220. A titre d'indication, le silicium du substrat 200 est gravé à 85"C dans une solution de potasse (KOH) comportant 130g de KOH et 300 ml d'eau. Le nitrure de silicium de la couche 202 est gravé à 20"C avec une solution d'acide fluorhydrique (HF) comportant 10% de HF et 90E d'eau. Lors des gravures, les portions du substrat et de la couche isolante qui entourent la zone de détection sont protégées par un masque non représenté. Une dernière étape, correspondant à la figure 2F, comporte la formation d'une couche d'aluminium 224. Cette couche recouvre les flancs 242 de l'ouverture 240, la surface libre 244 du substrat 200 et, en particulier, la face 226 de la portion de la couche mince 204 qui correspond à la zone de détection. La couche d'aluminium 224 présente également une densité de l'ordre de 40 ug/cm2 et est déposée par évaporation. La couche 224 forme avec la couche 204 un contact ohmique et constitue une seconde borne de la diode de détection. Lors du fonctionnement du détecteur une tension de polarisation convenable est donc appliquée entre les couches 220 et 224. La tension appliquée sur la couche d'aluminium 224 est positive par rapport à la tension appliquée à la couche d'or 220 de façon à polariser la jonction en "inverse", ctest-à- dire selon un montage redresseur. C'est aussi sur ces couches 220 et 224 que sont collectées les charges pour la formation d'un signal de détection. Les détecteurs obtenus selon ce procédé peuvent avoir une couche superficielle suffisamment mince pour ne pas atténuer de façon significative le flux à l'énergie des radiations à détecter. Ils peuvent être appliqués par exemple au contrôle de flux en ligne. Les détecteurs peuvent aussi être utilisée pour le mesure de temps de vol. A titre d'exemple pour des mesures de temps de vol de particules alpha de 5,5 MeV, l'épaisseur de la couche mince superficielle est choisie égale à 0,5 um, ce qui correspond à une perte en énergie de 100 keV dans chaque détecteur d'une paire de détecteurs. Les détecteurs peuvent enfin être segmentés en une pluralité de pixels de détection, pour déterminer la direction des particules détectées. Les figures 3A à 3F illustrent un autre procédé de réalisation d'un détecteur conforme à l'invention. Ce procédé concerne plus particulièrement la réalisation d'un détecteur dans lequel les couches "de jonction" et "de contact" sont en silicium dopé. Des références identiques auxquelles on ajoute 100 sont attribuées à des parties des figures 3A à 3F qui correspondent à des parties identiques ou similaires des figures 2A à 2F. Comme le montre la figure 3A, on part d'une plaque avec une structure de type SOI qui comprend un substrat de silicium 300, une couche isolante d'oxyde de silicium 302 et une couche mince superficielle 304 de silicium de type p. La couche 304 comporte une première sous-couche 304a qui forme une première région dopée (de type p) de résistivité élevée, et une deuxième sous-couche 304b qui relie la première souscouche 304a à la couche d'oxyde 302. La deuxième sous-couche 304b, enterrée sous la sous-couche 304a, forme une deuxième région dopée, également du type p, mais avec une plus forte concentration d'impuretés. Elle présente une plus faible résistivité. Les sous-couches 304a et 304b correspondent respectivement à une région dite intermédiaire et à une région dite de contact du détecteur. A titre d'indication, les sous-couches 304a et 304b, présentent respectivement une résistivité supérieure à 100 Q.cm et une résistivité inférieure à 0,1 Q.cm. Les sous-couches 304a et 304b peuvent être formées par exemple par implantation d'impuretés de bore dans un substrat SOI dans les étapes de fabrication de substrat par technique SDB (Silicon Direct Bonding). Les plaques des structures SOI munies des sous-couches 304a et 304b sont disponibles dans le commerce. Une deuxième étape consiste, comme le montre la figure 3B, à former une couche isolante 329 de nitrure de silicium sur la face libre 322 de la couche mince superficielle, en contact avec la sous-couche 304a. La figure 3C montre la réalisation d'une prise de contact sur la sous-couche 304b qui, dans le présent exemple, constitue la région de contact telle que décrite précédemment. Une ouverture 331 est pratiquée dans la couche isolante 329 pour mettre à nu une région de la couche mince superficielle 304. L'ouverture est réalisée selon des procédés de lithographie mentionnés ci-dessus, et connus en soi. Elle présente, par exemple, une surface de 500 um x 500 um. Une implantation d'ions de bore avec une énergie croissante de O à 2 MeV et à une dose de 1.101t ions/cm3 permet de former un canal 350 de type p+ d'une longueur de l'ordre de 5 um qui traverse la sous-couche 304a. Le canal 350, visible à la figure 3C, forme une prise de contact sur la sous-couche 304b qui correspond à la zone de contact.La concentration d'impuretés dans le canal est finalement de l'ordre de 1019 ions/cm3. La couche de nitrure de silicium 329 est ensuite éliminée par gravure chimique avec une solution d'acide fluorhydrique. Comme le montre la figure 3D, une étape suivante consiste à former sur la face libre de la couche 304 une nouvelle couche isolante de nitrure de silicium 330, d'une épaisseur de l'ordre de 1 um On pratique dans cette couche une ouverture 332 pour mettre a nu une portion de la face libre de la couche superficielle 304, qui correspond à la région de détection. L'ouverture 332 est réalisée selon des procédés connus de lithographie. Une implantation ionique de phosphore dans l'ouverture 332, avec une énergie de 150 keV et une dose de 1.1015 ions/cm3 permet de former, comme le montre la figure 3E une région 304c de type n+ et d'une épaisseur de l'ordre de 0,2 um. Cette région constitue la région de détection au sens de la présente invention. Elle forme avec la couche mince superficielle une jonction redresseuse. Un recuit de la structure à 11000C pendant 20 secondes est effectué pour activer les impuretés dopantes et guérir les défauts d'implantation. La figure 3E montre enfin l'ouverture d'une fenêtre dans la couche 330 au-dessus du canal 350, et la figure 3F montre la réalisation de plots de contact 352, 354 respectivement sur la région 304c et sur le canal 350. Les plots de contact sont réalisés par évaporation d'aluminium. Ils présentent une densité de l'ordre de 100 ug/cm2. Le plot de contact 352 d'une part, et le plot 354, associé au canal conducteur 350 décrit précédemment, d'autre part, forment des prises de contact sur les bornes de la diode. Dans cette réalisation les régions 304c et la sous-couche 304b correspondent respectivement aux couches de jonction et de contact ; la première forme avec la sous-couche 304a la diode de détection. Elles sont polarisées par l'intermédiaire des prises de contact 352, 354, 350 sur lesquels on applique une tension convenable pour polariser la jonction np en inverse. On applique sur la sous-couche 322 une tension négative par l'intermédiaire du canal 350. Comme indiqué en trait discontinu sur la figure 3F, la prise de contact sur la sous-couche 304b peut être réalisée également par la face arrière selon un procédé semblable au procédé, déjà décrit, de fabrication de contact ohmique du dispositif de la figure 2F. Dans ce cas ou grave localement le substrat de silicium 300 et la couche d'oxyde de silicium 302 pour former une ouverture arrière d'accès 340 à la région de contact, c'est-à-dire la sous-couche 304b. On forme ensuite une couche de matériau conducteur électrique 324, par exemple d'aluminium, dans l'ouverture arrière, en contact avec la souscouche 304b. Cette couche de matériau conducteur constitue alors également une prise de contact sur la région de contact de la diode. Le détecteur obtenu selon ce deuxième procédé présente une bonne tenue mécanique en particulier dans sa version à prise de contact par régions dopées. Il peut être, par exemple, associé à un film en isotope 10 du bore, formé à la surface de l'empilement, pour constituer un détecteur de neutrons. Le film en isotope 10 du bore assure alors la conversion des neutrons en particules alpha. On obtient ainsi un détecteur de neutrons peu sensible au bruit de rayonnement gamma. La juxtaposition d'une pluralité de tels détecteurs équipés d'un film superficiel de bore permet la réalisation de dosimètres sélectifs des neutrons par rapport aux particules gamma. Documents cités dans la description (1) "Integration of CMOS electronics and particle detector diodes in high-resistivity silicon-on insulator wafers" de B. Dierickx et al., IEEE Transactions On Nuclear Science, vol.40, n"4, août 1993, pages 753-758 (2) DE-A-3 333 410 (abrégé) REVENDICATIONS 1. Détecteur de rayonnements ionisants avec une diode de détection équipée de bornes (220, 224, 304b, 304c) de polarisation et de sortie d'un signal de détection, caractérisé en ce que la diode de détection comporte au moins une portion (204, 304) d'une couche mince superficielle d'une structure de type SOI formée d'un empilement d'un substrat (200, 300) de silicium, d'une couche isolante d'oxyde de silicium (202, 302) et la couche mince superficielle de silicium (204, 304). 2. Détecteur selon la revendication 1, caractérisé en ce que la diode comporte en outre une couche (220) d'un premier métal disposée en contact avec une face libre de la portion de couche superficielle (204) et formant avec cette portion de couche une jonction de type Schottky. 3. Détecteur selon la revendication 1, caractérisé en ce que la portion de couche superficielle (304) comporte une région (304c), dite de détection, d'un premier type de conductivité, et une région (304a), dite intermédiaire, du deuxième type de conductivité, et qui forme avec la région de détection (304c) une jonction de type pn. 4. Détecteur selon l'une des revendications 2 ou 3, caractérisé en ce qu'il comporte en outre une couche d'un deuxième métal (224) disposée en contact avec une face (226) de la couche mince superficielle tournée vers la couche d'oxyde de silicium (202), et formant avec la portion de couche superficielle (204) un contact ohmique. 5. Détecteur selon l'une des revendications 2 ou 3, caractérisé en ce que la diode comporte en outre, pour prise de contact, une région dite de contact présentant une concentration d'impuretés de dopage supérieure à celle de la couche adjacente. 6. Détecteur selon la revendication 3, caractérisé en ce que la portion de couche superficielle comporte en outre une région (304b), dite de contact, d'un deuxième type de conductivité opposé au premier type de conductivité, et une région intermédiaire (304a) présentant une concentration d'impureté de dopage inférieure à la région de contact et séparant la région de détection (304c) de la région de contact (304b). 7. Détecteur selon l'une des revendications 2 ou 5, caractérisé en ce que la portion de couche superficielle comporte une région non intentionnellement dopée en contact avec la couche de premier métal et une région dopée, dite de contact. 8. Détecteur selon les revendications 2 et 4, caractérisé en ce que la couche superficielle (204) présente une résistivité supérieure à 103 Q.cm. 9. Détecteur selon les revendications 2 et 4, caractérisé en ce que le premier et le deuxième métal sont respectivement de l'or et de l'aluminium. 10. Détecteur selon les revendication 2 et 4, caractérisé en ce que les couches de premier et de deuxième métal présentent une densité de surface de l'ordre de 40 ug/cm2. 11. Détecteur selon l'une au moins des revendications 3 et 6, caractérisé en ce que le premier type de conductivité est le type de conductivité n, et le deuxième type de conductivité est le type de conductivité p. 12. Détecteur selon l'une des revendications 1 à 11, caractérisé en ce qu'il comporte une prise de contact reliée électriquement à la zone de contact, et traversant la zone intermédiaire. 13. Détecteur selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la couche mince superficielle (204) présente une épaisseur comprise entre 0,1 et 100 um. 14. Détecteur selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la couche d'oxyde de silicium (202) présente une épaisseur comprise entre 0,1 et 5 um. 15. Procédé de fabrication d'un détecteur de rayonnements ionisants conforme aux revendications 1 et 2, caractérisé en ce que on forme une couche de matériau isolant électrique (230) sur une face libre d'une couche mince superficielle (204) de silicium d'une structure de type silicium sur isolant SOI, la structure comprenant un empilement d'un substrat de silicium (200), d'une couche d'oxyde de silicium (202) et de la couche mince superficielle (204), on pratique dans la couche de matériau isolant électrique (230) une ouverture (232) délimitant une zone de détection, on forme une couche (220) de matériau conducteur électrique, en contact avec ladite face libre de la couche superficielle (204) dans l'ouverture (232), et formant avec la couche superficielle une jonction de type Schottky, on grave localement le substrat de silicium (200) et la couche d'oxyde de silicium (202) pour former une ouverture arrière (240) d'accès à la couche superficielle (204), dans la zone de détection, on forme une couche de matériau conducteur électrique (224) en contact avec la couche superficielle dans ladite ouverture arrière d'accès (240), et formant avec la couche superficielle un contact ohmique. 16. Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que le matériau conducteur électrique de la couche (220), en contact avec la couche mince superficielle (204) dans l'ouverture (232) délimitant la zone de détection, et le matériau conducteur électrique en contact avec la couche superficielle (204) dans l'ouverture arrière d'accès (240) sont respectivement de l'or et de l'aluminium. 17. Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que le matériau isolant électrique est du nitrure de silicium. 18. Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que la couche mince superficielle (204) de silicium présente une résistivité de l'ordre de 103 Q.cm. 19. Procédé de fabrication d'un détecteur de rayonnement ionisants conforme à la revendication 1, caractérisé en ce que qu'il comporte les étapes suivantes a) formation d'une couche de matériau isolant (330) sur une face libre d'une couche superficielle (304) d'une plaque présentant une structure de type SOI et comportant un empilement d'un substrat de silicium (300), d'une couche d'oxyde de silicium (302) et de la couche mince superficielle (304) de silicium, la couche mince superficielle comportant une première région dopée (304a), d'un premier type de conductivité et ayant une première concentration d'impuretés, et une deuxième région dopée (304b) du même type de conductivité et avec une deuxième concentration d'impuretés supérieure à la première concentration, la deuxième région (304b), en contact avec la couche d'oxyde de silicium, et étant enterrée dans la première région (304a), b) réalisation dans la couche de matériau isolant électrique (330) d'une ouverture (332) délimitant une zone de détection, c) dopage de la couche mince superficielle dans la zone de détection pour former une troisième région (304c) avec des impuretés d'un deuxième type de conductivité opposé au premier type de conductivité. d) recuit thermique de la plaque, le procédé comportant en outre la formation de prises de contact électrique (352, 354, 350) sur les deuxième et troisième régions dopées. 20. Procédé selon la revendication 19, caractérisé en ce que la formation d'une prise de contact électrique sur la deuxième région comporte la réalisation d'un canal conducteur électrique (350) traversant la première région dopée (304a) de la couche mince superficielle (304), le canal conducteur étant réalisé entre les étapes a) et b) du procédé. 21. Procédé selon la revendication 20, caractérisé en ce que pour réaliser le canal conducteur (350) on forme une couche (329) de matériau électriquement isolant sur une face libre de la couche superficielle (304), on pratique dans la couche (329) de matériau électriquement isolant une ouverture (331) délimitant une zone dite de contact arrière en face de la deuxième région (304b), on effectue un dopage de la couche mince superficielle (304) dans la zone de contact arrière pour former un canal (350) en contact électrique avec la deuxième région (304b). 22. Procédé selon la revendication 19, caractérisé en ce que la formation d'une prise de contact électrique sur la deuxième région comporte - la gravure locale du substrat de silicium (300) et de la couche d'oxyde de silicium (302) pour former une ouverture arrière d'accès (340) à la couche mince superficielle (304) dans la deuxième région dopée (304b) - la formation d'une couche de matériau conducteur électrique (324) en contact avec la deuxième région dopée (304b) dans ladite ouverture arrière d'accès (340) 23. Procédé selon la revendication 19, caractérisé en ce que on réalise les première et deuxième régions dopées avec une conductivité de type p, et la troisième région avec une conductivité de type n.