FR 2748495 A1 19971114 FR 9605916 A 19960513 ANODE A t.ONG2VITt BELIORtE ET SON PROCèDE DE FABRICATION La présente invention a pour objet une anode å longévité améliorée pour une utilisation dans des procédés électrochimiques. Elle a également pour objet le procédé de fabrication de cette anode. Les procédés électrochimiques connaissent de nombreuses applications dans des secteurs d'activité très variés tels que l'électrosynthèse minérale et organique, l'électrométallurgie, la dépollution, l'électrodialyse, la protection cathodique, le traitement des sols pollués. Ces procédés mettent en oeuvre des processus d'électrolyse qui utilisent des électrodes plongées dans un électrolyte souvent acide et dont l'anode dégage, lors de la réaction électrochimique, un gaz corrosif tel que l'oxygène ou le chlore. Les anodes couramment utilisées pour de telles applications se caractérisent par une géométrie stable résultant d'une inertie chimique et électrochimique élevée et par un potentiel constant pendant des périodes d'utilisés tions très longues atteignant, voire dépassant, deux à trois ans. Ces électrodes connues sous le nom de DSA (Dimensionally Stable Anodes) ont déjà montré leurs bonnes performances électrochimiques comme anode pour le dégagement de chlore st/ou d'oxygène. Ces anodes consistent en un substrat de type métal "valve" tel que Ti, Ta, Nb, Zr, Sn et leurs alliages, recouvert d'une couche d'un matériau électrocatalytique composé d'oxydes de métaux précieux tels que IrO2, PtOX, RuO2, éventuellement mélangés à des oxydes de métaux valve tels que SnO2, TiO2 ou Ta205. Par métal "valve", on entend un métal qui se recouvre d'une fine couche d'oxyde protecteur lorsqu'il est oxydé (passivation) et qui ne laisse passer le courant que sous un potentiel cathodique. Plus particulièrement, les électrodes à chlore utilises dans les procédés industriels sont constituées d'un substrat de titane recouvert d'un mélange d'oxydes métalliques parmi lesquels RuO2 qui confère au matériau ses propretés électrocatalytiques. A ltheure actuelle, satin de ces lectrodes est généralisée à l'Fchelle industrielle en raison de leurs performances énergétiques et de leur durée de vie satisfaisantes. Les anodes recouvertes de RuO2 spécifiques pour la production industrielle de chlore ont une mauvaise tenue comme anode pour le dégagement d'oxygène en milieu acide. Les anodes destinées au dégagement d'oxygène, en particulier en milieu électrolytique acide, actuellement commercialisées consistent quant à elles en un substrat de titane recouvert d'une couche d'au moins un oxyde métallique, par exemple l'oxyde d'iridium. Néanmoins ces anodes ne possèdent pas une durée de vie suffisante pour certaines des conditions d'exploitation rencontrées dans l'industrie, comme ceci ressortira des exemples comparatifs décrits ci-après. Dans la fabrication actuelle de ces anodes, le revêtement électrocatalytique est déposé sur la surface du métal "valve" sous la forme d'un précurseur de l'oxyde, par exemple TaCl5 pour Ta2O5, IrCl3 ou H2IrCl6 pour IrO2. Des mélanges de ces précurseurs sont également utilisés lorsque l'on souhaite déposer des couches d'oxydes catalytiques mixtes. Le précurseur ou le mélange de précurseurs est appliqué sous la forme d'une solution dans un solvant alcoolique, de préférence dans un mélange d'éthanol et dtisopropanol. La solution de précurseur est déposée sur la surface du métal valve, par exemple au pinceau, par pulvérisation, par nébulisation ou par tout autre procédé connu dans la technique. Le solvant est ensuite évaporé par étuvage et l'électrode subit un traitement thermique dans l'air å la température de décomposition du précurseur pour former l'oxyde de métal correspondant. I1 a été montré dans la littérature que le choix du substrat joue un rôle très important quant à la durée de vie de ces anodes. Les anodes fabriquées sur des substrats présentant des vitesses de corrosion très importantes ont des durées de vie limitées. Le brevet américain n" 3 878 083 décrit par exemple une électrode comprenant une base en métal "valve", notamment en titane, sur laquelle est déposé un revêtement constitué d'oxyde de tantale et d'oxyde d'iridium. Ce revêtement est appliqué par décomposition thermique, à une température comprise entre 350" et 600" C, d'un précurseur de l'oxyde de tantale et d'un précurseur de l'oxyde d'iridium, tels que respectivement TaCl5 et IrCl3. Cependant, sous polarisation anodique de cette électrode, une couche de TiO2 se forme sur le substrat de titane qui est protégé par un oxyde électrocatalytique tel qu'un oxyde d'iridium et/ou un oxyde de tantale, conduisant ainsi à une passivation de l'anode. La durée de vie d'une telle anode n'est donc pas satisfaisante. L'utilisation d'un substrat de tantale résout ce problème en raison de son excellente résistance à la corrosion chimique et de sa stabilité électrochimique. Cependant, bien que le substrat de tantale ait été déjà décrit, aucun procédé ne permet de réaliser de dépôts électrocatalytiques satisfaisants d'oxyde d'iridium sur du tantale. En effet, les températures de dissociation de IrCl3 et H2IrCl6, qui sont des précurseurs usuels de IrO2, sont supérieures à la température d'oxydation du tantale. De ce fait, la formation de l'oxyde de tantale sur le substrat de tantale apparaît avant la formation de l'oxyde catalytique IrO2, ce qui diminue les performances de ces électrodes. Compte tenu des problèmes décrits ci-dessus, il était nécessaire de mettre à la disposition des industries électrochimiques des anodes comprenant un substrat de tantale recouvert d'oxyde d'iridium présentant une durée de vie prolongée. A l'issue de longues recherches, la Société Demanderesse a eu le mérite de trouver qu'il était possible de mettre à la disposition des industries électrochimiques des anodes consistant en un substrat en au moins un composé métallique, présentant une surface externe en tantale, cette surface externe étant recouverte d'un revêtement électrocatalytique d'oxyde d'iridium, ces anodes présentent une durée de vie normalisée mesurée par un test A décrit ci-après supérieure à 14 h.m2.g~l, de préférence supérieure à 20 h.m2.g~l et plus préférentiellement encore supérieure à 25 h.m2.g~l. De telles durées de vie sont au minimum 30 % supérieures aux durées de vie qui peuvent être obtenues en utilisant les anodes de la technique antérieure. Le test A, qui est un test accéléré de mesure de la durée de vie des anodes, consiste à réaliser l'électrolyse d'une solution d'acide sulfurique concentrée à l'aide de l'anode à tester, sous une densité de courant supérieure de 25 à 50 fois à la densité de courant appliquée dans les procédés industriels. Les durées de vie des anodes dans ces conditions sont par conséquent plus courtes que les durées de vie dans les conditions normales d'exploitation, ce qui facilite l'étude comparative en vue d'optimiser les conditions de préparation des anodes. Ce test A est réalisé de la façon suivante. Dans une cellule cylindrique de verre à double enveloppe d'une contenance de 200 ml, on réalise l'électro- lyse d'une solution d'acide sulfurique à 30 % en masse, dont la température est régulée à 80" C, et qui est agitée de façon continue par un agitateur magnétique. L'électrode testée ou électrode de travail, qui est l'anode conforme à la présente invention est polarisée positivement par rapport à la contre électrode ou cathode qui est constituée d'une tige de zirconium (diamètre = 2mm ; pureté : 97 % m/m) présentant une grande surface (20 cm2) par rapport à l'anode afin d'éviter des fluctuations de son potentiel. L'anode a une forme rectangulaire (100 mm x 10 mm x 1 mm) et est insérée dans de la gaine thermorétractable. Une fois la gaine en place, une petite ouverture circulaire de 0,20 cm2 est découpée à l'emporte pièce dans la gaine. Ceci afin de définir d'une manière précise et reproductible l'aire de la surface active de l'anode. La distance entre les deux électrodes est de 3 cm (+ 0,2 cm). Les gaz dégagés par l'électrolyse de l'eau sont canalisés séparément vers des tubes réfrigérants pour limiter l'entraînement vésiculaire d'acide sulfurique et éviter les risques d'explosion. Le courant appliqué à l'état stationnaire est I = 1A et la densité de courant anodique j 2 = 50 kA.m'2. Cependant, afin d'éviter une trop brutale mise en régime, l'anode est initialement soumise à une rampe de courant de pente t = + 5 kA.m-2.min-' depuis la valeur initiale 3a,i = 0 jusqu'à la valeur constante j a, 2 = 50 kA.m-l. La densité de courant est ensuite maintenue constante à cette valeur et la différence de potentiel entre l'anode et la cathode est enregistrée. La durée de vie de l'anode est définie par le temps au bout duquel la différence de potentiel entre l'anode et la cathode atteint la valeur Uf définie par Uf(V) = UO(V) + 2(v), UO étant la différence de potentiel à l'instant t0 où la densité de courant atteint la valeur de 50 kA.m'2 (voir Figure 1). En pratique, pour comparer valablement les anodes préparées avec des masses surfaciques d'oxyde électrocatalytique différentes, on définit la durée de vie normalisée t par l'équation suivante Durée de vie #= Masse surfacique d'IrO2 La masse surfacique d'IrO2 est définie comme étant la masse d'oxyde électrocatalytique IrO2 déposé en revêtement par unité de surface de substrat. La durée de vie normalisée t est ainsi exprimée en h.m2.g1. Une représentation graphique de la différence de potentiel U entre l'anode et la cathode mesurée au cours du test décrit ci-dessus en fonction du temps est donnée sur la Figure 1. Sur celle-ci, on voit que la différence de potentiel U augmente progressivement du temps 0 au temps t,, t0 indiquant le moment où la densité de courant anodique de travail atteint la valeur constante souhaitée de 50 kA.m'2. La différence de potentiel est alors constante jusqu'au temps tl, l'anode connaît ainsi un fonctionnement normal entre t0 et tl, puis après le temps t1, la différence de potentiel augmente indiquant une détérioration de l'anode. La valeur de la différence de potentiel Uf = UO + 2(V) est atteinte au temps tf. La durée de vie de l'anode déduite à partir de cette courbe est donc égale à t,-t,. Les anodes objet de la présente invention ont une durée de vie normalisée telle que mesurée par ce test nettement supérieure à celle des anodes actuellement utilisées, comme ceci ressortira des exemples donnés ciaprès. La présente invention a pour objet une anode à longévité améliorée caractérisée par le fait qu'elle présente une durée de vie normalisée d'au moins 14 h.m2.g~l, de préférence supérieure à 20 h.m2.g~l, et plus préférentiellement encore supérieure à 25 h.m2.g~, telle que mesurée par le test A ci-dessus et qu'elle consiste en un substrat en au moins un composé métallique présentant une surface externe en tantale, la surface externe étant recouverte d'un revêtement électrocatalytique d'oxyde d'iridium. Le substrat utilisé pour l'anode selon l'invention peut être constitué uniquement de tantale. Toutefois, afin de limiter les coûts de fabrication, ce substrat peut consister en au moins un composé métallique autre que le tantale recouvert d'une couche de tantale. Les composés métalliques autres que le tantale couramment utilisés sont choisis parmi le cuivre, le nickel, le titane, leurs alliages, l'acier ou l'acier inoxydable. Lorsque le substrat n'est pas constitué uniquement de tantale, il comporte une couche externe de tantale. Cette couche de tantale peut être appliquée par tout procédé connu tel que par dépôt sous vide, pulvérisation cathodique, dépôt ionique, dépôt à partir d'une atmosphère réactive, par colaminage ou par voie électrochimique comme décrit dans la demande de brevet français n" 95 07158 non encore publiée au nom de la Société Demanderesse. Cette couche de tantale a une épaisseur comprise entre 10 pm et 500 pm, de préférence entre 20 pm et 200 pm, plus préférentiellement entre 20 pm et 100 pm. Le substrat utilisé peut se présenter sous la forme d'une plaque, d'un cylindre creux, d'une particule sphérique ou similaire, selon les applications envisagées pour l'anode. Le revêtement d'oxyde d'iridium recouvrant le substrat est tel que la masse surfacique d'oxyde d'iridium est supérieure à 4 g.m-2, de préférence inférieure à 30 g.m2 et plus préférentiellement encore comprise entre 5 et 20 g.m~2. La présente invention vise également un procédé de fabrication d'une anode telle que définie ci-dessus, caractérisé par le fait que le revêtement électrocatalytique d'oxyde d'iridium est réalisé par la décomposition thermique de tétrachlorure d'iridium IrCl4 préalablement appliqué en revêtement sur le substrat. La Société Demanderesse a eu le mérite de trouver qu'en utilisant un tel mode de formation du revêtement électrocatalytique, l'anode ne subit pas de désactivation. Cette décomposition thermique est effectuée à une température inférieure à 500 C, de préférence inférieure à 475" C et plus préférentiellement encore, à une température comprise entre 350 et 450" C. Le précurseur IrCl4 est déposé sur le substrat sous la forme d'une solution dans un solvant organique, de préférence dans un solvant alcoolique, et plus préférentiellement encore dans un mélange d'éthanol et d'isopropanol. Le solvant est évaporé avant d'effectuer le traitement thermique dans l'air. De façon plus détaillée, le procédé de la présente invention comprend les étapes successives de (a) préparation du substrat consistant notamment en un lavage, un sablage et un décapage chimique (b) dépôt de la couche d'oxyde d'iridium par application sur le substrat de la solution d'IrCl4 dans un solvant organique, évaporation du solvant et décomposition thermique d'IrCl4 ; (c) traitement thermique final, l'étape (b) étant répétée autant de fois qu'il est nécessaire pour obtenir la masse surfacique d'oxyde d'iridium désirée. Dans l'étape (a) ci-dessus de préparation du substrat, le nettoyage est de préférence réalisé en utilisant un tensioactif. Le sablage permet d'augmenter la surface spécifique du substrat et le décapage chimique permet d'éliminer la couche d'oxyde isolante qui se serait formée sur la surface de tantale de l'électrode. L'étape (b) comprenant les opérations successives d'application de la solution d'IrCl4, d'évaporation du solvant et de décomposition thermique est répétée autant de fois qu'il est nécessaire pour obtenir la masse surfacique désirée d'oxyde d'iridium. De façon avantageuse, comme indiqué ci-dessus, la masse surfacique d'oxyde d'iridium est préférentiellement de 5 à 20 g/m2, bien entendu, elle peut être supérieure, mais ceci est désavantageux d'un point de vue économique. Dans cette étape (b), l'application de la solution de précurseur est effectuée par exemple au pinceau, ou par immersion, ou par tout autre procédé connu dans la technique, notamment par pulvérisation, nébulisation, etc. L'évaporation du solvant peut être réalisée notamment par étuvage à la température d'évaporation du solvant utilisé et enfin la décomposition thermique du précurseur est réalisée dans un four, dans l'air, à la température indiquée cidessus, à savoir à une température inférieure à 500 C, de préférence inférieure à 475" C, plus préférentiellement encore comprise entre 350 et 450" C. L'étape de traitement thermique finale (c) est conduite à une température inférieure à 550" C, de préférence inférieure à 525" C et plus préférentiellement encore comprise entre 450 et 500 C. La présente invention va maintenant être décrite plus en détail à l'aide des exemples et exemples comparatifs suivants dans lesquels les différentes dénominations et abrévations utilisées sont définies ci-dessous - ASTM grade 4 (UNS R50700) : titane contenant 500 ppm de fer et 400 ppm d'oxygène - ASTM grade 7 (UNS R52400) : alliage de titane et de palladium de formule TiO,2Pd % m/m - NF T40 (UNS R50100) : titane contenant 100 ppm de fer et 100 ppm d'oxygène - NF TD12ZE (UNS R58030) : alliage de titane de formule Til2Mo6Zr4,5Sn - NF TA6V4 (UNS R56320) : alliage de titane de formule Ti6Al4V ; - AISI 316L (UNS S31603) : acier inoxydable de nuance NF Z2 CND 17-12. Exemple 1 : Mode opératoire général Une plaque de métal support de 100 mm X 10 mm X 1 mm est utilisée comme substrat pour l'anode. Cette plaque est dégraissée au chloroforme puis soumise à un sablage sous une pression de 5 bar à l'aide de corindon (granulométrie : 125 pm). La plaque est alors rincée dans une cuve d'eau osmosée sous ultrasons durant 10 minutes, soumise à un décapage chimique à l'aide d'acide chlorhydrique ou fluorhydrique puis est rincée... Sur cette plaque une solution de précurseur est appliquée par immersion ou au pinceau. La plaque ainsi revêtue est étuvée à 80" C pendant 5 minutes puis calcinée dans l'air dans un four à une température T1 pendant 5 minutes. Les étapes d'application de la solution de précurseur, d'étuvage et de calcination sont répétées n fois, n étant le nombre de couches de la solution de précurseur qui doivent être appliquées pour obtenir la masse surfacique d'IrO2 désirée. Finalement, la plaque est calcinée dans l'air durant deux heures à une température T2. Les anodes ainsi préparées sont soumises au test A tel que décrit ci-dessus, ce par quoi leur durée de vie et leur durée de vie normalisée sont déterminées. Exemple comParatif 1 Fabrication d'anodes Ti/Ta205-IrO2 (substrat : ASTM grade 4 (UNS R50700)] Des anodes ayant un substrat de titane ASTM grade 4 recouvert d'un oxyde mixte Ta205-IrO2, ont été fabriquées conformément au mode opératoire général de l'exemple 1, avec les spécificités suivantes - décapage chimique : pendant 30 minutes avec de l'acide chlorhydrique à 32 %, à ébullition - T1 = 532" C - T2 = 550" C - solution de précurseur : 250 mg de Tact5, 430 mg de H2IrCl6.6H20 dans un mélange formé de 5 ml d'iso propanol et de 5 ml d'éthanol. Le nombre n de couches de la solution de précurseur appliqué ainsi que la masse surfacique d'IrO2 correspondante sont indiqués dans le Tableau I suivant, lequel rapporte également les résultats du test A Exemple comparatif 2 Fabrication d'anodes Ti/Ta205-IrO2 [substrat : ASTM grade 4 (UNS R50700)1 On a répété l'exemple comparatif 1, excepté que le substrat utilisé était du titane NFT4O et que l'étape de décapage chimique a été conduite à l'aide d'acide chlorhydrique à 37 % à ébullition. Le nombre de couches n, la masse surfacique d'IrO2 ainsi que les résultats du test accéléré A sont indiqués dans le Tableau I. ExemPles comparatifs 3 et 4 Fabrication d'anodes Ti/Ta205-IrO2 (substrat : alliages de titane (UNS R58030 et UNS R56320)] On a répété l'exemple comparatif 1 excepté que les substrats utilisés étaient les alliages de titane tels qu'indiqués dans le Tableau I suivant. Le décapage chimique a été effectué à l'aide d'acide chlorhydrique de concentration respectivement 37 % et 36 %. Le nombre de couches n, la masse surfacique d'IrO2 ainsi que les résultats du test A sont indiqués dans le Tableau I suivant. TABLEAU 1: Anodes de type Ti/Ta2O5-IrO2. Exemples Nature du Nombre Masse Durée Durée de vie substrat de surfacique de vie normalisée couches d'pro (h) (h.m2.gkO2-1) n (gSm2) T Exemple 1 ASTM 8 8,46 8,3 1,0 comparatif grade 4 12 12,69 13,4 1,1 (UNS R50700) 16 16,92 17,0 1,0 28 29,60 40,2 1,4 56 59,21 30,5 0,5 Exemple 2 NF T40 10 8,43 62,0 7,4 comparatif (UNS R50100) 15 12,08 48,0 4,1 20 17,96 127,0 7,1 25 24,38 105,0 4,3 28 31,02 103,0 3,3 Exemple 3 NF TD12ZE 10 7,09 14,5 2,0 comparatif (UNS R58030) 15 10,61 24,2 2,3 20 14,70 100,0 6,7 Exemple 4 NF TA6V4 15 9,60 7,5 2,2 comparatif (UNS R56320) 5 3,41 15,0 1,6 10 5,98 22,0 3,6 15 9,56 42,5 3,3 20 12,87 82,5 6,3 Exemple 5 selon 1 invention : Fabrication d'anodes Ta/IrO2 Des anodes ayant un substrat de tantale recouvert dtIrO2, ont été fabriquées en utilisant des plaques de tantale de pureté supérieure à 99,9 %, conformément au mode opératoire général de l'exemple 1 avec les spécificités suivantes - l'étape de décapage chimique a été conduite à l'aide d'acide fluorhydrique à 40 %, à 25 C, pendant une minute - T1 = 430" C - T2 - 450" C - solution de précurseur : 750 mg d'IrCl4 dans un mé lange de 5 ml d'éthanol et de 5 ml d'isopropanol. Le nombre de couches d'IrO2, la masse surfacique correspondante ainsi que les résultats du test A sont reportés dans le Tableau Il suivant. ExemPle 6 selon l'invention : Fabrication d'anodes Ta/IrO2 substrat : AISI 316 L (UNS S31603) recouvert de Ta, précurseur : IrCl4]. L'exemple 5 est répété, excepté que l'on utilise une plaque d'acier inoxydable (316 L) recouverte d'une couche de tantale dont l'épaisseur est indiquée entre parenthèses dans le Tableau II suivant. Toutes les anodes fabriquées dans cet exemple comprennent 10 couches de solution de précurseur. La masse surfacique d'IrO2 ainsi que les résultats du test A sont reportés dans le Tableau II ci-dessous. Exemples comparatifs 7 à 10 Fabrication d'anodes Ti/IrOz (substrat : Ti ou alliages de Ti, précurseur : IrCl4) En suivant le mode opératoire général de l'exemple 1 et en utilisant la solution de précurseur de l'exemple 5, on a préparé différentes anodes avec le substrat de titane ou d'alliage de titane tel qu'indiqué dans le Tableau II ci-dessous. Le nombre de couches n, la masse surfacique d'IrO2 ainsi que les résultats du test A sont reportés dans le Tableau Il ci-dessous. TABLEAU Il Comparaison anodes de type Ta/IrO, conformes à l'invention avec anodes de tvpe Ti/IrOD IrO2 étant déposé à partir d'IrCl. Exemples Nature du Nombre Masse Durée Durée de vie substrat de surfacique de vie normalisée T couches d'lrO2 (h) (h.m2.gkO2-1) n (g/m) Exemple 5 Ta massif 5 4,54 115,0 25,31 10 10,77 274,2 25,46 selon 10 12,40 343,3 27,68 l'invention 15 13.81 450,0 32,59 20 20,31 528,0 25 24,08 972,0 40,36 30 31,72 473,3 14,92 Exemple 6 *316L/Ta (23 m) 10 9,39 363,0 38,64 *316L/Ta (91 m) 10 9,84 345,0 35,05 selon *316L/Ta (93 m) 10 9,07 273,0 30,08 l'invention *316L/Ta (97 m) 10 9,27 250,0 26,98 *316L/Ta (9Wm 10 10,03 275,0 27,41 *316L/Ta (99 m) 10 9,27 253,0 27,30 Exemple 7 NF T40 10 9,86 93,3 9,47 comparatif (UNS R50100) Exemple8 NFTA6V4 10 10.0 19,0 1,90 comparatif (UNS R56320) Exemple 9 NF TD12ZE 10 8,54 31,5 3,69 comparatif (UNS R58030) Exemple ASTM 10 9,77 75,0 7,68 10 grade 7 10 10.91 35,07 3,27 comparatif (UNS R52400) 10 10,54 69,3 6,58 10 8,86 46,2 5,21 *AISI 316L (UNS S31603) Comme il apparaît dans ce Tableau II, les performances obtenues pour l'oxyde d'iridium déposé sur du tantale à partir de tétrachlorure d'iridium, sont les plus intéressantes avec une durée de vie normalisée x comprise entre 14,92 et 40,36 h.m2.g1. Elles dépassent largement celles obtenues de la même façon mais avec un substrat de titane ou d'alliage de titane pour lesquelles la durée de vie normalisée x est comprise entre 1,90 et 9,47 h.m2.g1. REVENDICATIONS 1. Anode à longévité améliorée, caractérisée en ce qu'elle est constituée d'un substrat en au moins un composé métallique, présentant une surface externe en tantale, cette surface externe étant recouverte d'un revêtement électrocatalytique d'oxyde d'iridium, et en ce qu'elle présente une durée de vie normalisée, mesurée dans un test A, supérieure à 14 h.m2.g~1, de préférence supérieure à 20 h.m2.g~l et plus préférentiellement encore supérieure à 25 h.m2 g~l 2. Anode selon la revendication 1, caractérisée en ce que le substrat est en tantale. 3. Anode selon la revendication 1, caractérisée en ce que le composé métallique est choisi parmi le cuivre, le nickel, le titane, leurs alliages, l'acier ou l'acier inoxydable. 4. Anode selon la revendication 3, caractérisée en ce que la couche de tantale a une épaisseur comprise entre 10 ,um et 500 pm, de préférence entre 20 pm et 200 pm, et plus préférentiellement encore entre 20 pm et 100 ,um. 5. Anode selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisée en ce que la masse surfacique d'oxyde d'iridium appliqué en revêtement sur le substrat est supérieure à 4 g.m'2, de préférence inférieure à 30 g.m'2, et plus préférentiellement encore comprise entre 5 et 20 g.m2. 6. Procédé de fabrication d'une anode selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que le revêtement électrocatalytique d'oxyde d'iridium est réalisé par décomposition thermique de tétrachlorure d'iridium, IrCl4, préalablement appliqué en revêtement sur le substrat. 7. Procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce que la décomposition thermique d'IrCl4 est effectuée à une température inférieure à 500 C, de préférence inférieure à 475C C, et plus préférentiellement encore comprise entre 350 et 450" C. 8. Procédé selon l'une ou l'autre des revendications 6 et 7, caractérisé en ce que le précurseur Irai4 est déposé sous la forme d'une solution dans un solvant organique, de préférence dans un solvant alcoolique, et plus préférentiellement encore dans un mélange d'éthanol et dtisopropanol, ledit solvant étant évaporé avant la décomposition thermique. 9. Procédé selon l'une quelconque des revendications 6 à 8, caractérisé en ce qu'il comprend les étapes successives suivantes (a) préparation du substrat consistant notamment en un lavage, un sablage et un décapage chimique (b) dépôt de la couche d'oxyde d'iridium par application sur le substrat de la solution d'IrCl4 dans un solvant organique, évaporation du solvant et décomposition thermique d'IrCl4 ; (c) traitement thermique final, l'étape (b) étant répétée autant de fois qu'il est nécessaire pour obtenir la masse surfacique d'oxyde d'iridium désirée. 10. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que l'étape (c) de traitement thermique final est conduite à une température inférieure à 550" C, de préférence inférieure à 525O C, et plus préférentiellement encore comprise entre 450 et 500 C.