FR 2732126 A1 19960927 FR 9503193 A 19950320 La présente invention concerne l'imprimerie et a plus particulièrement pour objet des plaques destiites à l'impression cn offset sec et Icur procédé de préparation. On sait que l'imprimerie consiste à reproduire des textes et/ou des images en déposant de l'encre sur un matériau, tel le papier. On sait par ailleurs que, pour assurer le transfert de ladite encre, les techniques d'impression en offset humide ou en offset sec (on parle également d'offset sans eau : "waterless") utilisent des supports ou plaqucs qui comportent des surfaces pour prendre l'encre, dites surfaces encrophiles et des sucs pour refuser ladite encre, dites non encrophiles ou encrophobes. En offset humide, l'encre est refusée parr un très mince film d'eau qui adhère aux surfaces hydrophiles. En offset sec, les surfaces encrophobes sont à base d'un revêtement en silicones (sur lequel l'encre n'adhère pas).Lesdites surfaces encrophiles et encrophobes sont générées sur lesdites plaques par des techniques d'insolation qui font intervenir des films positifs ou négatifs ou directement à partir de logiciels. Plus précisément, en offset sec, on utilise des plaques, à basc d'un support en alunnnimn, acier, laiton, polyester ou autre, lesdites plaques présentant après insolation et développement des surfaces encrophobes en relief - relief d'environ 1,8 à 3 3 m - à base de silicones ct des surfaces encrophiles, en creux par rapport auxdites surfaces encrophobes, à base de résines encrophiles. Les caractéristiques intrinsèques et le mode de préparation de ces plaques, destines à l'impression en offset sec sont rappelés plus avant dans le présent texte. Ledit mode de préparation est notamment décrit en référence aux figures la à id annexées. Le procédé d'impression en offset sec a ses avantages. Il permet notamment d'obtenir très rapidement les premières bonnes feuilles et offre une grande qualité d'impression. Il présente toutefois des inconvénients. La couche encrophobe à base de silicones est relativement fragile: elle se raye et s'use, d'autant plus qu'elle est fortement sollicitée. En effet, pour mettre en oeuvre un bon encrage en offset sec, il convient d'une part de générer sur les rouleaux encreurs un film d'encre assez épais (pour assurer l'encrage des surfaces encrophiles en creux) et d'autre part d'assurer un contact étroit entre lesdits rouleaux encreurs et la plaque offset.Un tel contact étroit nécessite un réglage pointu, sollicite la couche ercrophobe et implique l'utilisation de batteries de refroidissement pour refroidir ladite couche encrophobe qui s'échauffe... Selon l'invention, on propose une modification de structure aux plaques offset sec traditionnelles; modification qui rend plus aisée leur utilisation, qui permet de remédier à certains des inconvénients de la technique offset sec, rappelés ci-dessus. on connaît par ailleurs, l'utilisation en imprimerie, plus partiasslicre- ment en offset sec et en offset humide, d'encres réticulables sous l'action des rayons ultraviolets ("UV radiation-curable inks"). Ces encres, plus onéreuses que les encres traditionnelles, sèchent plus vite et micux. n s'agit, en fait de résines liquides qui renferment des monomères et/ou oligomères, susceptibles de réticuler sous l'action des rayons ultraviolets. Lesdites résines liquides renferment également des pigments, des liants et généralement un photoinititeur. L'utilisation de telles encres, en lieu et place des encres traditionmelles, a notamment été décrite, en offset sec, dans les demandes de brevet JP-A-03039373 et JP-A-03207770. L'utilisation, originale, de telles encres, en offset humide, a été décrite dans la demande DE-A-2 514 864. Selon ce document, on préconise d'augmenter la résistance des couches encrophiles en relief en les rehaussant avec un revêtement en lesdites encres réticulées. Des surfaces encrophiles ainsi rehaussées se sont révélées fragiles ct le procédé préconisé n'a jamais été développé. Dans le cadre de la présente invention, on propose une utilisation originale de telles encres, réticulables sous l'action des rayons ultraviolets, en offset sec. On fait avantageusement intervenir de telles encres ou des moyens équivalents sur des surfaces aaa philes en creux... Selon son prcmicr objet, l'invention concerne des plaques destinées à l'impression en offset sec. Lesdites plaques présentent, une fois insolées et développées, des volumes de matière encrophobe sur une surface (solidement ancrés à ladite surface). En cela, elles sont du type des plaques offset sec de l'art antérieur. Toutefois, de façon s~ on trouve, sur les plaques offset de l'invention, entre lesdits volumes de matière encrophobe, des volumes d'un matériau encrophile rapporté ; volumes parfaitement stabilisés (solidarisés de façon stable à ladite surface). Ledit matériau encrophile, rapporté, intervient, de façon caractéristique, dans la structure des plaques offset sec de l'invention, pour diminuer la profondeur des creux entre les volumes de matière encophobe. Selon des variantes de l'invention, il pcut combler partiellement lesdits creux, remplir totalement ceux-ci, voire générer des surfaces encrophiles en relief... Les plaques de l'invention peuvent être obtenues directement à partir de plaques offset sec de l'art antérieur. Dans cette hypothèse, elles présentent, une fois insolées ct développées, lesdits volumes de matière encrophobe sur une couche de matière encrophile, solidarisée à un support, avantageusement métallique. De façon caractéristique, on trouve, solidarisés de façon stable à la face supérieure de ladite couche de matière encrophile, les volumes de matériau encrophile rapporté. On a ainsi selon l'invention surélevé les surfaces encrophiles des plaques offset sec de l'art antérieur. Lesdites surfaces encrophiles ont été rehaussées du niveau de la face supérieure de la couche encrophile au niveau de la face supérieure de volumes d'un matériau encrophile (rapporté), solidarisé à ladite couche encrophile.En d'autres termes, on a, selon l'invention, diminué la profondeur des creux, au fond desquels on trouve les surfaces encrophiles sur les plaques offset sec de l'art antérieur. Généralement, dans la structure desdites plaques, la couche encrophile constitue la couche photosensible. On trouvera dent, dans la stnucturc des plaques de l'invention préparées à partir de telles plaques de l'art antérieur, les volumes de matériau encrophile rapporté sur ladite couche photosensible. Il a été récemment proposé, notamment par la société japonaise TORAY dans ses demandes JP-A-04 301640 et JP-A-04 301641, des plaques (frt sec dans la structure desquelles on trouve les couches encrophiles et encro- phobes (à base de silicones), toutes deux photosensibles. A partir de telles plaques, on pout également obtenir des plaques de l'invention. on nc saurait exclure, dans un avenir plus ou moins proche, la mise au point de plaques offset sec ne comportant plus de couche encrophile photosensible, voire à l'issue de leur développement plus de couche encrophile. Le développe- malt de telles plaques serait mis en oeuvre à partir seulement de leur couche encrophobe photosensible. On trouverait, dans la structure de telles plaques, les surfaces encrophiles directement sur le support ou on générerait celles-ci a posteriori, notamment dans le cadre de l'invention. Selon la première hypothèse, les plaques présenteraient les volumes de matière encrophobe, en relief, solidarisés au support et les surfaces encrophiles sur ledit support De telles plaques seraient également avantageusement modifiées pour constituer des plaques de l'invention On pounait fixer sur lesdites encrophiles les volumes de matériau encrophile rapporté... Selon la seconde hypothèse, les plaques présenteraient les volumes de matière encrophobe, en relief, sur une surface non ou peu encrophile. il serait alors particulièrement judicieux de faire intervenir, entre lesdits volumes, les volumes de matériau encrophile selon l'invention. On générerait ainsi des surfaces encrophiles à un nivcau opportun... En conclusion, il cst ciair que le cadre de la présente invention - intervention d'un matériau encrophile pour réduire le volume des creux entre les volumes de matière encrophobe sur une plaque offset sec - dépasse celui des plaques offset sec classiques de l'art antérieur, plaques dans la structure desquelles on trouve, avant développement, cn couches successives: - le support, - la couche encrophile, photosensible, - la couche encrophobe. Las plaques de l'invention avec leurs volumes rapportés de matériau encrophile, présentent généralement les autres caractéristiques ci-après: - les volumes de matière encrophobe ont une hauteur comprise entre 1,8 et 3 m, avantageusement entre 1,8 et 2 m et ladite matière encrophobe est à base de silicones; - lesdits volumes de matériau encrophile rapporté ont une hauteur comprise entre 0,1 et 3 m. Ainsi donc: - selon une première variante, les plaques de l'invention conservent leurs surfaces cncrophilcs en creux (en d'autres termes, leurs en relief); le volume de matière encrophile intervenant sur une hauteur (h) inférieure à celles des motifs ou volumes qui présentent des surfaces (généralement h - selon une seconde variant, les plaques de l'invention ont leurs surfaces encrophiles quasiment au niveau de leurs surfaces encrophobes, le volume de matière encrophile intervenant compensant les creux (généralement h - 1,83 m). - selon une troisième variante, les plaques de l'invention ont leurs surfaces encrophiles à un niveau supérieur à celui de leurs surfaces encrophobes; le volume de matière encrophile intervenant sur une hauteur (h) supérieure à celles des motifs ou volumes qui présentent les surfaces encrophobes (généralement h > 1,8-3 m). On notera toutefois que, dans le cadre de cette troisième variante, il n'est guère intéressant de positionner les surfaces encrophiles à un niveau très supérieur à celui des surfaces encrophobes. On limite avantageusement, dans ce contexte, le dénivellement à 1 m, voire à 0,5 m. De façon caractéristique, il intervient donc dans la structure des plaques offset sec de l'invention un matériau encrophile qui rehausse les surfaces encrophiles (situées au niveau de la surface de la couche encrophile, généralement photosensible dans la structure des plaques offset sec de l'art antérieur). Par matériau encrophile, utilisable aux fms de l'invention, on entend tout matériau susceptible d'accepter et de transférer l'encre en technique d'impression offset sec. Ledit matériau peut présenter les propriétés requises en son état d'origine ou après un traitement spécifique. En tout état de cause, ledit matériau doit pouvoir être introduit dans les creux à la surface des plaques offset sec, insolées et développées, y être maintenu de façon stable et y générer des surfaces encrophiles. Selon une varante préférée de l'invention, ledit matériau consiste en une encre (ou un mélange d'encres) réticulable(s) sous l'action des rayons ultraviolets. Selon cette variante, les surfaces encrophiles des plaqucs de l'invention insolées et développées consistent en la face supérieure de volumes d'une encre réticulée sous l'action de rayons ultraviolets. Comme précisé cidessus, lesdits volumes présentent généralement une hauteur comprise entre 0,1 et 3 m. Lesdites encres, comme indiqué dans le préambule du présent texte, sont familières à l'homme du métier. Elles peuvent intervenir selon l'invention en l'état ou renfermant en leur sein des additifs susceptibles notamment d'améliorer leur pouvoir encrophile après séchage. Dans le cadre de la présente invention, on propose une utilisation originale desdites encres qui differe de celle préconisée son rart antérieur dans le cadre de la technique d'impression offset humide. ladite encre cst utilisée différemment à des fins différentes. n nc s'agit pas de renforcer mécaniquement des parties encrophiles en relief mais de rehausser des surfaces encrophiles en creux... L'homme du métier aura déjà saisi tout l'intérêt des nouvelles plaques de l'invention. Leur modification de structure avec une encre, réticulée aux rayons ultiaviolets ou tout autre matériau équivalent, va entraîner, lors de la mise en oeuvre, de l'impression: - une grande économie d'encre: un bon encrage pourra etre obtenu sans intervention d'un film épais d'encre; - une relative souplesse: le réglage des rouleaux pourra être moins pointu; - une moindre usure et un moindre échauffement des surfaces encrophobes: dans la mesure où, pour un bon transfert de l'encre, un contact moindre sera exigé entre les rouleaux... Selon son deuxième objet, l'invention conceme un procédé pour la préparation des nouvelles plaques offset sec décrites ci-dessus. Ledit procédé comprend l'ii.oiation et le développement de plaques vierges qui incluent dans leur structure un support et au moins une couche photosensible. Lesdites plaques vierges une fois insolées et développées présentent à leur surface des volumes de matière encrophobe.De façon caractéristique, selon le procédé de l'invention, on dépose entre lesdits volumes de matière encrophobe un matériau encrophile, en une quantité telle qu'il remplisse au moins partiellement les creux entre lesdits volumes de matière encrophobe et, si nécessaire, on traite les plaques ainsi modifiées pour solidariser à la surface des plaques insolées et développées ledit matériau encrophile. Ce procédé peut notamment être mis en oeuvre à partir des plaques offset sec de l'art antérieur, qui incluent dans leur structure avant développement un support (type plaque métallique ou plaque en polyester), sur ledit support une couche de matière encrophile (à base de résine), avantageusement photosensible, et sur ladite couche de matière encrophile, une couche de matière encrophobe.Les dites plaques vierges, une fois insolées et développées présentent des surfaces cI-nobes en relief par rapport à ladite couche encrophile et des surfaces encrophiles au niveau de ladite couche encrophile (sur la face supérieure de ladite couche encrophile). n s'agit de plaques offset sec selon l'art antérieur, prêtes à arc places sur la machine à imprimer.De façon originale, on dépose selon l'invention sur lesdites plaques vierges insolées et développées, plus précisément sur leurs surfaces encrophiles en creux (dans la mesure où les surfaces encrophobes repoussent tout matériau encrophile) un matériau encrophile, en une quantité telle qu'il remplisse au moins partiellement les volumes en creux, les volumes entre les volumes encrophobes en relief. Si nécessaire, après un tel dépôt, on soumet les plaques à un traitement pour stabiliser ledit matériau encrophile dans leur structure, pour solidarisa celui-ci à la couchc photosensible (qui constitue le fond desdits volumes au moins partiellement remplis en ledit matériau encrophile). On a vu précédemment que, généralement, la couche en le matériau encrophobe présente une épaisseur comprise entre environ 1,8 et 3 m et est à base de silicones. Dans un tel contexte, on dépose généralement une épaisseur de 41 à 3 m du matériau encrophile dans les creux. Ledit matériau bouche au moins partiellement (voire totalement) lesdits creux. Il constitue une matière de remplissage. Il peut même générer des surfaces encrophiles en relief... Selon la variante préférée de l'invention, on utilise, à titre de matériau encrophile une encre réticulable aux rayons ultraviolets. Ladite encre est déposée air les plaques offset sec vierges insolées et développées. En Itit, on introduit sur les surfaces encrophiles desdites plaques un certain volume de ladite encre. Ensuite, an soumet les plaques à un rayonnement ultraviolet. Sous l'action dudit rayonnement, ladite encre déposée réticule et se trouve solidarisée, ancrée à la sur sur laquelle elle a été déposée. La mis en oeuvre d'un tel procédé - incluant une ou dcux étapes supplémentaires par rapport au procédé de l'art antérieur - ne soulève ancune difficulté particulière. On peut mentionner ici que, selon son troisième objet, la présente invention conceme, de façon générale, l'utilisation d'un matériau encrophile pour rehausser le niveau des surfaces encrophiles de plaques d'impression destinées à l'impression en offset sec. De façon plus particulière, la présente invention concerne une utilisation originale, en offset sec, d'encres réticulables sous l'action des rayons ultraviolets. Lesdites encres sont utilisées pour générer des surfaces encrophiles à un niveau supérieur à celui de la couche ou surface encrophile. L'invention est maintenant décrite en référence aux figures la à le La considération successive desdites figures illustre la préparation de plaques de l'invention et leur structure intrinsèque. L'homme du métier aura compris que les figures la à id illustrent la préparation classique de plaques oriet sec selon l'art antérieur; la figureld montrant une telle plaque de l'art antérieur développée, prête à être installée sur machine. La figure le montrc ne plaque de l'invention. Sur la figure la on a schématisé une plaque vierge 10 destinée à arc utilisée en technique d'impression offset sec; ne plaquc vierge 10 telle qu'on en trouve dans le commerce. Ladite plaque 10 comp-: - un support 1, telle une plaquc d'aluminium; - une couche d'apprêt 2; - une couche encrophile photosensible 3, à base de résines encro philes; - une couche de silicones 4; - un film protecteur 5, transparent. Sur la figure lb, on a schématisé l'insolation de ladite plaque vierge 10 au travers d'un film poitif 6, plaqué sur le film protecteur 5. Ladite insolation au travers du film protecteur 5 transparent permet à la couche photosensible 3 d'adhérer fermement à la couche de silicones 4. Sur la figure lc, on a schématisé le développement de la plaque 10 insolée. On a ôté le film protecteur 5 et appliqué un révélateur. La couche de silicones 4 est amsi décollée, dans les zones 4" cil aux zones non exposées de la couche photosensible 3. Dans les zones exposées, ladite couche de silicones 4 est solidarisée à ladite oouchc photosensible 3. Dans lesdites zones on a en fait généré les volumes de matière encrophobe 4' (voir figure 1d). Sur la figure 1d, on montre, comme indiqué ci-dessus, ne plaque offset sec insolée et développée 20 telle qu'obtenue selon l'art antérieur. Ladite plaque 20 présente des volumes encrophobes 4' en relief et des surfaces encrophiles 3' (en creux) au niveau de la face supérieure de la couche photosensible 3. A partir de ladite plaque 20, on a préparé une plaque 30 selon l'invention (figure 1e). De façon caractéristique, ladite plaque 30 présente des surfaces encrophiles rehaussées par rapport aux surfaces encrophiles 3'. Le niveau desdites nouvelles surfaces encrophiles demeure, sur la variante représentée, inférieure au niveau des surfaces encrophobes. Lesdites surfaces encrophiles réhaussées consistent en la face supérieure de volumes d'un matériau encrophile 3" disposé, de façon stable, entre les volumes de matière encrophobe 4'. L'invention cst enfin illustrée par les deux exemples ci-après. Exemple 1 On sc procure une plaquc offset "waterless" vendue par la firme TORAY et on exécute les opérations classiques de copie (voir les figures 1a à 1d). On obtient alors une plaquc 20 présentant des volumes encrophobes 4' en relief et des surfaccs encrophiles 3'. Le relief cst d'environ 1,8 m. Avant de placer ladite plaque 20 sur la machine à imprimcr, on l'encre avec un rouleau encreur en utilisant une encre à séchage U.V. pour plaques "waterless" commercialisée par la firme TOKA. On dépose ainsi, dans les creux, un film d'environ 1 m d'épaisseur. Sur les reliefs, l'encre n'a pas adhéré. Elle a glissé. La plaque ainsi encrée est alors soumise aux rayons ultraviolets. Sous leur action, le film déposé sèche et durcit. En fait, rcncrc réticule. La plaque obtenue est mise sur machine. L'impression se révèle plus facile à réaliser. Exemple 2 On procède comme dans l'exemple 1 mais on dépose un film d'encre à séchage U.V. plus épais. Son épaisseur est quasi égale à celle de la couche de silicones 4. Préalablement à la mise sur machine de la plaque ainsi obtenue, on modifie les réglages, le contact rouleau encreur-plaque devant être modifié pour assurer un simple dépôt de l'encre sur la plaque (et non plus un transftrt de quantités d'encre dans des creux). A l'issu d'un tel réglage, on met la plaque sur machine et on lande l'impression. Celle-ci se révèle plus facile à réaliser, avec une moindre consommation d'encre et une moindre usure des surfaces siliconées en relief. REVENDICATIONS 1. Plaques (30), destinées à l'impression en offset sec, présentant, une fois insolées et développées, des volumes de matière encrophobe (4') sur une surface (3'), caractérisées en ce que des volumes d'un matériau encrophile (3") rapporté sont solidarisés de façon stable à ladite surface (3') entre lesdits volumes de matière encrophobe (4'). 2. Plaques (30) selon la revendication 1, présentant, une fois insolées et développées, lesdits volumes de matière cncrophobe (4) sur une couche de matière encrophile (3) solidarisée à un support (1), caractérisées en ce que lesdits volumes de matériau encrophile (3") rap- sont solidarisés de façon stablc à la facc supérieure (3') de ladite axwbc de matière encrophile (3). 3. Plaques (30) selon l'une des revendications 1 ou 2, caractérisées en ce que lesdits volumes de matière encrophobe (4) ont une hauteur comprise entre 1,8 et 3 m, avantageusement entre 1,8 et 2 m et en ce que ladite matière encrophobe est à base de silicones. 4. Flaques (30) selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisées en ce que lesdits volumes de matériau encrophile (3") rapporté ont une hauteur comprise entre 0,1 et 3 m. 5. Plaques (30) selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, térisées en ce que lesdits volumes de matériau encrophile (3") rapporté consistent en des volumes d'une encre réticulée sous l'action des rayons ultraviolets. 6. Procédé pour la préparation de plaques (30), destinées à l'impression en offset sec, comprenant l'insolation ct le développement de plaques vierges (10) incluait dans leur structure un support (1) et au moins une couche photosensible (3) pour l'obtention de plaques développées (20) présentant des volumes de matière encrophobe (4) sur une surface (3'), caractérisé en ce qu'il comprend ai outre le dépôt, entre lesdits volumes de matière encrophobe (4'), d'un matériau encrophile (3"), en une quantité telle qu'il remplisse au moins partiellement les creux entre lesdits volumes de matière encrophobe (4') et, si nécessaire, le traitement des plaques ainsi modifiées pour la solidarisation dudit matériau encrophile (3") à ladite surface (3'). 7. Procédé selon la revendication 6, comprenant l'insolation et le développement de plaques vierges (10) incluant dans leur structure un support (1), sur ledit support (1) une couche de matière encrophile (3) et sur ladite coche de matire encrophile (3) une couche de matière encrophobe (4), pour l'obtention de plaques développées (20) présentant des volumes de matière encrophobe (4') sur la face supérieure (3') de ladite couche de matière encrophile (3), caractérisé en ce que ledit matériau encrophile (3") rapporté est solidarisé à ladite face supérieure (3') de ladite couche de matière encrophile (3). 8. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que ladite couche de matière encrophile (3) est photosensible. 9. Procédé selon l'une quelconque des revendications 6 à 8, caractérisé en ce qu'il comprend le dépôt, entre lesdits volumes de matière encrophobe (4'), de volumes d'une encre réticulable sous l'action des rayons ultraviolets et la soumission des plaques ainsi modifiées aux rayons ultraviolets pour la réticulation de ladite encre et la solidarisation desdits volumes d'encre à ladite surface (3'). 10. Utilisation d'un matériau encrophile pour rehausser le niveau des surfaces encrophiles de plaques destinées à l'impression en offset sec.