FR 2732161 A1 19960927 FR 9603148 A 19960313 L'invention concerne de façon générale des procédés de traitement de circuits intégrés, et plus parti- culièrement un procédé de fabrication de substrats métallisés en formant une couche d'arrêt d'attaque. Des matières classiques pour couches d'arrêt d'attaque, telles que des photoréserves, par exemple, sont habituellement éliminées après une attaque chimique. Le cessionnaire de la présente invention a développé précédem- ment un procédé d'utilisation d'une couche organique d'arrêt d'attaque et, ensuite, un processus d'attaque par voie humide qui laisse la couche d'arrêt d'attaque en place. Cette invention est décrite dans la demande de brevet des Etats- Unis d'Amérique NO 08/119 925, déposée le 10 septembre 1993 sous le titre "Phase Mask Laser Fabrication of Electronic Interconnect Structures". L'invention divulguée dans cette demande de brevet utilise un usinage par laser d'un masque de phase pour fabriquer une structure d'interconnexion électrique à motifs fins, à haute densité, telle que des tranches de semi- conducteurs, des modules multipuces et des dispositifs micro- électromécaniques. Les processus d'usinage par laser d'un masque de phase réalisent la délinéation de motifs conduc- teurs métalliques. Les motifs conducteurs sont fabriqués au moyen d'une couche d'un diélectrique sur laquelle un motif a été réalisé par laser à l'aide d'un masque de phase, en tant que couche de masquage pour l'attaque en milieu liquide pour la réalisation de conducteurs, ou par l'élimination sous- tractive de métal au moyen d'un micro-usinage par laser d'un masque de phase holographique. En utilisant l'invention, on forme une première couche d'une matière diélectrique sur un substrat, on forme une couche métallique sur la première couche de matière diélectrique, et on forme une seconde couche de matière diélectrique sur la couche métallique. Un masque de phase est disposé au-dessus de la seconde couche de matière diélectri- que qui renferme un motif de phase prédéfini, définissant un motif conducteur métallique qui correspond à une structure d'interconnexion. La seconde couche de matière diélectrique est ensuite traitée au moyen du masque de phase pour former la structure d'interconnexion. Il n'est pas nécessaire que le masque d'attaque formé par la seconde couche de matière diélectrique soit enlevé après l'attaque chimique du métal, et ce masque d'attaque est réalisé de façon à être assez mince pour ne pas perturber l'agencement global en épaisseur de la couche diélectrique intercouche (une couche diélectri- que additionnelle déposée), grâce à quoi la capacité du diélectrique intercouche est maintenue à sa valeur souhaitée. Cependant, un rebord en surplomb est formé au- dessus de la couche métallique et il est possible que ceci puisse provoquer un emprisonnement d'air et la formation de cloques pouvant entraîner des détériorations lorsque la couche diélectrique intercouche est déposée. Un objet de la présente invention est donc de procurer un procédé perfec- tionné pour former une couche d'arrêt d'attaque à utiliser dans la fabrication de substrats métallisés pour circuits intégrés, et analogues, qui élimine ces problèmes potentiels. Pour réaliser les objets ci-dessus et autres, conformément au principe de l'invention, une couche de métal est déposée sur un substrat, et une couche relativement mince d'une matière diélectrique organique est déposée sur la couche de métal. La couche mince de matière diélectrique organique est déposée à une épaisseur qui est assez faible pour résister à une attaque chimique lorsqu'elle agit en tant que couche d'arrêt d'attaque pendant la formation, ensuite, d'un motif par attaque dans la couche de métal sous-jacente, mais assez forte pour ne pas présenter de défauts par piqûres. La couche mince de matière diélectrique organique est habituellement déposée à une épaisseur de l'ordre d'un micromètre, par exemple. La couche mince déposée de matière diélectrique organique est ensuite séchée ou partiellement durcie. Le degré de durcissement dépend du milieu ambiant et des paramètres chimiques d'attaque pour la formation du motif. La couche sous-jacente de métal est ensuite attaquée par un processus d'attaque chimique ionique réactive par voie humide ou voie sèche, la matière diélectrique organique mince constituant une couche d'arrêt. Etant donné que la couche mince de matière diélectrique organique est séchée ou n'est que partiellement durcie, elle épouse la forme de la couche sous-jacente de métal attaquée lors, ensuite, d'un revêtement par une matière diélectrique organique formant une couche supplémentaire relativement épaisse, et d'un durcissement complet des deux couches. Plus particulièrement, la couche diélectrique organique très mince, séchée ou partiellement durcie, est laissée en place après l'attaque de la couche métallique sous-jacente, et forme un rebord en surplomb. Le rebord en surplomb risque d'emprisonner de l'air lors du revêtement, ensuite, par une matière diélectrique organique addition- nelle, à moins qu'il ne se déforme et ne s'applique en conformité étroite sur le bord de la couche métallique attaquée. En déposant la couche mince de matière organique à une épaisseur très minime (environ un micromètre) et en ne la faisant pas totalement durcir (polymériser) à dessein, on rend la couche mince de matière diélectrique organique plus plastique et, ainsi, elle se déforme de façon à se conformer au bord de la couche métallique attaquée sous-jacente lors du durcissement complet. Ceci empêche l'emprisonnement d'air et la formation de cloques lorsque la couche épaisse de matière diélectrique organique est déposée sur la couche d'arrêt d'attaque et que les deux couches sont totalement durcies. L'invention peut être utilisée dans la fabrica- tion de substrats d'interconnexion multicouches à haute densité (HDMI ) pour grand panneau, à modules multipuces du type à déposition (MCM-D) et analogues. L'invention sera décrite plus en détail en regard des dessins annexés à titre d'exemple nullement limitatif et sur lesquels, les mêmes références numériques désignant les mêmes éléments de structure sur les différentes figures: les figures 1-4 illustrent en coupe transversale des étapes de traitement d'un procédé de formation d'une couche d'arrêt d'attaque selon les principes de l'invention; et la figure 5 est un organigramme détaillant le processus du présent procédé. En référence aux figures des dessins, les figures 1 à 4 montrent les étapes de traitement d'un procédé 10 de fabrication d'un substrat métallisé 21 utilisant une couche d'arrêt d'attaque diélectrique organique 23 selon les principes de l'invention. On se réfère aussi à la figure 5 qui est un organigramme illustrant le processus du procédé 10. En référence à présent à la figure 1, on utilise un substrat 21 (étape 11), et on dépose une couche métallique 22 (étape 12) sur le substrat 21. Le substrat 21 comprend habituellement une couche de base, qui peut être formée d'un métal sur lequel une couche diélectrique est disposée, du silicium, un polyimide ou une matière flexible pour substrat, par exemple. La couche métallique sous-jacente 22 comprend habituellement de l'aluminium, par exemple. Une couche relativement mince d'une matière diélectrique organique 23 est déposée (étape 13) sur la couche métallique sous-jacente 22 déposée précédemment. La couche relativement mince de matière diélectrique organique 23 est déposée à une épaisseur de l'ordre d'un micromètre, par exemple. La couche relative- ment mince de matière diélectrique organique 23 est séchée (étape 14), mais n'est pas totalement durcie. Le degré de durcissement dépend des conditions ambiantes et des para- mètres chimiques utilisés pour l'attaque pour la formation d'un motif. A titre d'exemple, la couche mince de matière diélectrique organique 23 est durcie à un point tel qu'elle est insoluble dans le liquide d'attaque utilisé. Ceci peut être obtenu en chauffant la structure pendant 0,5 heure à une température de 250 C, par exemple. En référence à la figure 2, un motif (étape 15) est formé de manière classique dans la couche relativement mince de matière diélectrique organique 23, par exemple par l'utilisation d'un processus d'ablation directe par laser à excimère, ou d'un processus photolithographique, par exemple. L'étape 15 de formation d'un motif enlève des parties de la couche relativement mince de matière diélectrique organique 23 et laisse la matière diélectrique organique 23 o un métal est souhaité. La couche métallique sous-jacente 22 est ensuite attaquée (étape 16) à travers la couche mince de matière diélectrique organique 23, présentant un motif, habituellement par l'utilisation d'un processus d'attaque au mouillé ou d'un processus d'attaque ionique réactive à sec. En référence à la figure 3, l'étape 16 d'attaque laisse la couche relativement mince de matière diélectrique organique 23 en place au-dessus de la couche métallique sous- jacente 22. La couche mince de matière diélectrique organique 23 est soumise à une attaque latérale par l'étape d'attaque 16. En référence à la figure 4, la couche mince attaquée de matière diélectrique organique 23 et la couche métallique sous-jacente 22 sont ensuite revêtues d'une couche relativement épaisse de matière diélectrique organique 24, à une épaisseur souhaitée (étape 17). L'épaisseur souhaitée de la couche relativement épaisse de matière diélectrique organique 24 est habituellement de l'ordre de 9 à 10 micro- mètres, par exemple. La couche mince attaquée de matière diélectrique organique 23 et la couche relativement épaisse de matière diélectrique organique 24 sont ensuite durcies complètement, ensemble (étape 18), pour amener la couche mince de matière diélectrique organique 23 à épouser étroite- ment la forme de la couche métallique sous-jacente 22 présentant un motif. Cette étape de durcissement 18 élimine la formation de bulles d'air ou de cloques. On a donc décrit un procédé nouveau et perfec- tionné de formation d'un motif dans un substrat métallisé en utilisant une couche diélectrique organique d'arrêt d'atta- que. Il va de soi que de nombreuses modifications peuvent être apportées au procédé décrit et représenté sans sortir du cadre de l'invention. REVENDICATIONS 1. Procédé (10) de fabrication d'un substrat métallisé (21), caractérisé par les étapes dans lesquelles: on utilise (11) un substrat (21), on dépose (12) une couche métallique (22) sur le substrat (21), on dépose (13) une couche relativement mince d'une matière diélectrique organi- que (23) sur la couche métallique (22), on fait durcir partiellement (14) la couche relativement mince de matière diélectrique organique (23), on forme un motif (15) dans la couche relativement mince et partiellement durcie de matière diélectrique organique (23), on attaque (16) la couche métallique sous-jacente (22) à travers la couche à motif de matière diélectrique organique (23) pour laisser la couche relativement mince de matière diélectrique organique (23) disposée au- dessus de la couche métallique sous-jacente (22) présentant un motif, on revêt (17) la couche attaquée de matière diélectrique organique (23) et la couche métallique sous-jacente (22) d'une couche relativement épaisse de matière diélectrique organique (24), à une épaisseur souhaitée, et on fait ensuite durcir complètement et ensemble (18) la couche attaquée de matière diélectrique organique (23) et la couche relativement épaisse de matière diélectri- que organique (24) pour amener la couche de matière diélec- trique organique (23) à épouser la forme de la couche métallique sous-jacente (22) présentant un motif. 2. Procédé (10) selon la revendication 1, dans lequel l'étape de dépôt d'une couche métallique (22) sur le substrat (21) est caractérisée par le dépôt d'une couche d'aluminium sur le substrat (21). 3. Procédé (10) selon la revendication 1, dans lequel l'étape de dépôt d'une couche relativement mince de matière diélectrique organique (23) est caractérisée par le dépôt de la couche de matière diélectrique organique (23) à une épaisseur d'environ un micromètre. 4. Procédé (10) selon la revendication 1, dans lequel l'étape de formation d'un motif dans la couche relativement mince, partiellement durcie, de matière diélec- trique organique (23) est caractérisée par l'étape de formation d'un motif dans la couche (23) en utilisant un processus photolithographique. 5. Procédé (10) selon la revendication 1, dans lequel l'étape de formation d'un motif dans la couche relativement mince, partiellement durcie, de matière diélec- trique organique (23) est caractérisée par l'étape de formation d'un motif dans la couche (23) en utilisant un processus d'ablation directe par laser à excimère. 6. Procédé (10) selon la revendication 1, dans lequel l'étape d'attaque de la couche métallique sous-jacente (22) à travers la couche de matière diélectrique organique (23) présentant un motif est caractérisée par l'utilisation d'un processus d'attaque au mouillé. 7. Procédé (10) selon la revendication 6, caractérisé en ce que l'étape d'attaque de la couche métalli- que sous-jacente (22) à travers la couche de matière diélec- trique organique (23) présentant un motif soumet à une attaque latérale la mince couche de matière diélectrique organique (23). 8. Procédé (10) selon la revendication 1, dans lequel l'étape d'attaque de la couche métallique sous-jacente (22) à travers la couche de matière diélectrique organique (23) présentant un motif est caractérisée par l'utilisation d'un processus d'attaque ionique réactive. 9. Procédé (10) selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'épaisseur souhaitée de la couche relativement épaisse de matière diélectrique organique (24) est d'environ 9 à 10 micromètres. 10. Procédé (10) selon la revendication 6, dans lequel l'étape de durcissement partiel (14) de la couche relativement mince de matière diélectrique organique (23) est caractérisée par un chauffage de la matière (23) pendant environ 0,5 heure à une température d'environ 250 C.