FR 2732608 A1 19961011 FR 9504424 A 19950407 PIOCEDE ET DISPOSITIF DE DETOflCA'flON D'APPAREILS ELECTRIQUES, NOTAMMENT DE DISJONCTEURS A L'HEXAELVORVRE DE SOUFRE. L'invention concerne un procdc de détoxication d'appareils électriques 9 hexafluonire de soufre et un dispositif pour sa mise en oeuvre. L'extension rapide de l'emploi de l'hexafluonire de soufre dans le domaine de la construction électrique, notamment dans les disjoncteurs électriques, pose des problèmes de polhtion et de toxicité notamment en fin de vie des appareillages lors du déclassement des appareils et de leur destruction. Dans ces appareils, ce gaz est utilisé pour ses propriétés diélectriques et/ou ses caractéristiques d'extinction de l'arc. Or, sous l'action d'un arc électrique, une fraction de l'bexafluorure de soufre est décomposée par suite de réaction de dissociation et d'ionisation et il se forme des produits de décomposition dont certains sont gazeux et d'autres solides.Ainsi, un certain nombre de ces produits peuvent être présents dans le gaz ou absorbés dans les tamis moléculaires généralement utilisés ou se retrouver sous forme de poudres dispereees dans l'appareillage. Parmi les produits de décomposition g us fréquemment rencontrés présentant une certaine toxicité et assez stables chimiguement, il convient de noter le fluorure de thionyle (SOF2), le fluorure de sulfuryle (S02F2) et le dioxyde de soufre.La présence de tamis moléculaires dans les appareils notamment dans les disjoncteurs moyenne tension permet de limiter la teneur en produit de décomposition, mais il est clair que le gaz doit être traité avant d'être rejeté dans l'atmosphère. Les produits de décomposition solides sont essentiellement des fluorures mêtalliqes, notamment de cuivre, d'aluminium, de tungstène etc, et ils se présentent sous forme de poudres distribués de façon relativement aléatoires dans l'enveloppe ou se déposant sur les parois de l'enveloppe. Les risques d'intoxication sont moindres mais un minimum de précaution est indispensable et ces produits doivent être neutralisés avant d'ôtoerejetés. Avant toute destruction d'un appareil électrique à l'hexafluorure de soufre, notamment des plus d'appareils de coupure tels que des contacteurs ou disjoncteurs, il est donc indispensable de traiter ces pôles pour éliminer toute toxicité. On connut des procédés et dispositifs de détoxication d'appareils électriques tels que décrit dans les brevets FR-2.616.688 et FR-2.618.081 de la demanderesse. Le premier de ces deux documents décrit un procédé de détoxication dans lequel l'appareil est raccordé à un circuit à débit limité de traitement du gaz pollué contenu dans l'appareil, ledit circuit comprenant une cartouche absorbante. Dans une première phrase, le gaz évacué de l'appareil est neutralisé par le passage à travers la cartouche absorbante et dans une seconde phase, l'appareil est rempli d'une solution basique maintenue dans l'appareil pendant une durée prédéterminée (environ deux jours) de neutralisation des produits solides contenus dans l'appareil.Or ce procédé présente un certain nombre d'inconvénients qui tiennent principalement en ce que la durée de traitement notamment des produits de décomposition solides est très longue et qu'il nécessite un traitement supplémentaire de la cartouche afin de neutraliser les produits toxiques présents dans cette cartouche après utilisation. Cette carte est de préférence conçue pour le traitement d'un appareil et jetée après utilisation et neutralisation. Ia présente invention résout ces problèmes et propose un procédé de détoxication d'appareils électriques et un dispositif pour sa mise en oeuvre, permettant d'optimiser l'opération de détoxication en traitant un maximum d'éléments à savoir, le gaz, les enveloppes, le tamis moléculaire, avec une même solution en un temps particulièrement réduit. A cet effet la présente invention a pour objet un procédé de détoxication d'appareils électriques tels des disjoncteurs comportant une enceinte remplie d'hexafluorure de soufre, destiné notamment à neutraliser les produits de décomposition du gaz sous l'action d'un arc électrique, comprenant au moins une première phase de traitement du gaz pollué contenu dans l'appareil, après évacuation de l'appareil, et une deuxième phase dans laquelle I'enveloppe de l'appareil est remplie d'une solution réactive de neutralisation des produits solides contenus dans l'appareil, ce dispositif étant caractérisé en ce que pendant la première phase de traitement du gaz, celuici est évacué dans un réacteur dans lequel on pulvérise une solution réactive de neutralisation des produits de décomposition contenus danslegaz. Selon une caractérisdque particulière de l'invention, pendant la seconde phase, après le remplissage de l'enveloppe avec la solution réactive, celleci est immergée dans un bec rempli de la même solution réactive dans lequel on crée des turbulences de manière à accélérer le nettoyage des enveloppes. Selon une autre caractérisdque, après le remplissage de l'enveloppe et avant son immersion, l'enveloppe est ouverte dans un bac intermédiaire. Avantageusement, il comporte en outre une étape de rinçage de l'enveloppe, après net6ayrrge. Selon une autre cawtérisdque, il comporte en outre une étape de nettoyage sparé du tamis moléctilaire interne à l'enveloppe basé sur le principe de la neutralisation des produits de décomposition adsoréés par ledit tamis. Avantageusement, lors de l'opération de nettoyage du tamis, celuici est introduit dans un récipient contenant la solution réactive et des galets de concassage, ledit récipient étant entrnlné en rotation par un ou plusieurs tambours rotatifs. L'invention a également pour objet un dispositif pour la mise en oeuvre du procédé comportant les caractéristiques précédemment mentionnées prises seules ou en combinaison. Selon une réalisation particulière de l'invention, ce dispositif comporte un récipient de prhparadon d'une solution réactive, un réacteur relié audit récipient par l'intermédiaire d'un circuit d'introduction de la solution dans le réacteur par pulvérisation, ledit réacteur comportant un orifice d'introduction du gaz pollué relié à l'enveloppe de l'appareil et un orifice d'évacuation du gaz propre relié à un réservoir de stockage, et un circuit de remplissage de l'enveloppe relié audit récipient de préparation. Selon une caractérisdque particulière, ce dispositif comporte en outre un bac d'immersion relié audit récipient par l'intermédiaire d'un circuit d'introduction de la solution dans le bac, ledit circuit comportant des moyens pour créer des turbulences à l'intérieur de l'enveloppe. Selon une autre caactéristique, ce dispositif comporte en outre un bac intermédiaire d'ouverture de l'enveloppe raccordé au circuit d'introduction de la solution dans le bac d'immersion. Selon une autre caractéristique, ce dispositif comporte en outre un bac de rinçage de l'enveloppe. Avantageusement, il comporte en outre un système de traitement du tamis comportant un récipient contenant la solution de chaux et un ou plusieurs galets ou analogues de concassage, un ou plusieurs tambours rotatifs destinés à entraîner en rotation le récipient. Selon une caractéristique particulière, le circuit d'introduction du liquide dans le réacteur comporte une pompe, de préférence à impulsions, reliée en amont d'une part, à un orifice d'évacuation prévu à la partie inférieure du réacteur, et d'autre part, au récipient de prparadon et en aval, å un système de buses prevu à la partie supérieure du ré-acteur . Selon une caracoErisdque particulière, le circuit d'introduction de la solution dans le bac d'immersion comporte une pompe de préférence péristaltique, reliée en amont d'une part, àun orifice d'évacuation du bac d'immersion, et d'autre part, au récipient de préparation, et en aval, à un tuyau de refoulement débouchant à la partie supérieure du bac d'immersion Avantageusement, le circuit de remplissage de l'enveloppe est raccordé au circuit d'introduction de la solution dans le bac d'immersion, entre l'orifice d'évacuation du bac d'immersion et l'entrée de la pompe à impulsion De préférence, la solution réactive est une solution de chaux. Mais d'autres avantages et caracténstiques de l'invention apparaîtront mieux dans la dercription détaillée qui suit et se réfère aux dessins annexés donnés uniquement à titre d'remplie et dans lesquels: Les figures 1 à 5 illustrent schématiquement un dispositif de traitement pour la mise en oeuvre d'un procédé de détoxication d'appareils électriques, conformément à une réalisation particulière de l'invention. La figure 1 illustre plus pardculièrement la phase de traitement du gaz et le début de la phase de traitement de l'enveloppe au cours de laquelle l'enveloppe est remplie d'une solution réactive. La figure 2 illustre une étape ultérieure de vidange de l'enveloppe. La figure 3 illustre une étape ultérieure de nettoyage de l'enveloppe, La figure 4 illustre une étape ultérieure de rinçage de l'enveloppe, et, La figure 5 illustre une étape ultérieure de nettoyage du tamis moléculaire interne à l'enveloppe, et La figure 6 illustre une réalisation particulière de l'embout d'obturation de l'orifice de l'appareil. Sur la figure 1, on voit un appareil électrique 1, notamment un pôle d'un disjoncteur électrique moyenne tension dont l'enveloppe 2 est remplie d'hexafluorure de soufre. Cette enveloppe 2 comporte un capot 3 pourvu à sa partie inférieure d'un orifice 4 auquel est raccordé le dispositif de traitement de l'invention D. On notera que cet orifice 4 peut être l'orifice de remplissage du pôle 1 ou tout autre orifice prévu spécialement pour l'opération de traitement. Le dispositif de traitement représenté D, conformément à une réalisation particulière de l'invention, comprend principalement un récipient 5 destiné à la préparation d'une solution réactive 6, un dispositif de traitement du gaz pollué 7, un dispositif de traitement des enveloppes 8, et un dispositif de traitement 9 du tamis moléculaire 10 interne à l'appareil 1. Le principe de base utilisé est la neutralisation des fluorures hydrolysables par un réactif liquide. On notera que la solution réactive 6 préparée dans le récipient intermédiaire 5 sera de préférence une solution de chaux (Ca (OH) 2), mais que toute autre solution basique (par exemple preparéc à partir de Na2C03 ou NaH C03 pourrait être utilisée. Le dispositif de traitement du gaz pollué 7 comprend principalement un réacteur 11 relié à un circuit d'injection 12 d'une solution de chaux par pulvérisation. Ce réacteur 11 comporte à sa partie supérieure, un orifice d'admission 13 du gaz pollué et un orifice d'évacuation 14 du gaz propre et à sa partie inférieure, un orifice de vidange 15 du réacteur 11 et un orifice d'évacuation 16 de la solution de chaux. Ce circuit d'injection 12 comporte une pompe à impulsions 17 reliée en amont, par l'intermédiaire de vannes 18,18a d'une part, au récipient de prépartion 5 de la solution de chus 6, et d'autre part, à l'orifice d'évacuation 16 du réacteur 11, et en aval, à un système de bu de pulvérisation 14a prévues à la partie supérieure du réacteur 11. Pour réguler le débit dans les buses, on pourra prévoir un système d'amortissement hydraulique à piston ou à membrane. L'orifice d'admission 13 du facteur 11 est relié par l'intermédiaire d'un compresseur 20 ct de vannes 21 à un récipient intermédiaire 22 relié par l'intermédiaire d'autres pompes 19, 23 et vannes 24, à un embout 25 traversant l'orifice précité 4 de l'enveloppe 2.Cet embout 25 comporte avantageusement, de manière connue en soi, deux canalisations indépendantes (non représentées) débouchant à l'intérieur de l'enveloppe 2, dont l'une permet l'évacuation du gaz précité et dont l'autre permet le remplissage d'une solution de chaux à l'intérieur de l'enveloppe 2. On pourra prévoir à cette occasion, un dispositif ( non représenté), à deux positions, dont l'une permet la perforation de l'orifice de remplissage permettant l'introduction de l'embout, et dont l'autre permet l'évacuation du gaz et le remplissage de la chaux sous étanchéité.Selon une autre réalisation de l'embout telle que représentée sur la figure 6, celui-ci comprend principalement un forêt de perçage 50 et deux canalisations 51,52 situées de part et d'autre du forêt 50 et destinées à l'introduction de deux tubes respectivement fixe de sortie des gaz, et mobile, d'introduction de la solution de chaux, le gaz étant chassé lors de l'introduction de la chaux. Comme ceci est également visible sur les figures 2 et 3, le dispositif de traitement des envelpes 8 comporte un premier bac 26 rempli d'une solution de chaux 27 par un circuit 28 comprenant une pompe 29 reliée en amont d'une part, au récipient de stockage 5 de la solution de chaux 6 et d'autre part, à un orifice d'évacuation 26a ménagé à la partie infrieure du bac 26, et en aval, à un tuyau de refoulement 30 dans la solution 27, la pompe 29 fonctionnant de manière à créer des turbulences à l'intérieur de l'enveloppe 2. Entre l'orifice 26a d'évacuation du premier bac 26 et la pompe 29 est également raccordé un conduit 31 relié à son autre extrémité à la seconde canalisation de l'embout précité 25, à savoir celle autorisant l'introduction de la chaux 27. Ce dispositif de traitement D comporte également un second bac 32 dans lequel l'enveloppe 2 est devinée à être ouverte, ledit bac 32 comportant à sa partie inférieure un orifice d'hracuation 33 relié par l'intermédiaire d'un conduit 34 à la conduite 35 reliant l'orifice d'évacuation du bac 26 et la pompe précitée 29. Le dispositif comporte enfin un troisième bac de rinçage 36 de l'enveloppe 2 (figure 4) et un quatrième bac ou récipient 39 entrainé en rotation par un tambour 37, et contenant la solution réactive, le tamis 10 et des galets 38. On notera que les pompes seront de préférence des pompes péristaltiques. Le procédé de détoxication selon une réalisation de l'invention va être décrit brièvement ciaprès en référence aux figures. L'appareil ou le pôle 1 à traiter est tout d'abord acheminé à proximité de l'installation de traitent qui pourra se trouver soit en usine, soit sur un camion. On procède alors au raccordement de l'embout 25 d'une part, au circuit de traitement du gaz 7, et d'autre part, au circuit de remplissage 31 de l'enveloppe 2. La mise en route des pompes 19, 23 entraîne l'aspiraton du gaz pollué qui remplit le réservoir intermédiaire 22, puis est aspiré par le compresseur 20 qui règle le débit d'introduction du gaz dans le réacteur 11. Le gaz est mis sous pression à l'intérieur du réacteur 11 de manière à empêcher l'introduction d'air dans le réacteur 11. Simultanément, le circuit de traitement du gaz 7 est activé par la mise en route de la pompe 17 entraînant la pulvérisation de la solution de chaux 6 prparée dans le récipient 5, à travers les buses 14a prévues à la partie supérieure du réacteur 11. Cette pulvérisation engendre la création d'écoulements fortement turbulents à l'intérieur du réacteur 11 permettant d'augmenter les surfaces d'interaction entre les particules de gaz et de liquide et d'homogénéiser le gaz du réacteur. Cette augmentation des surfaces d'interaction permet de traiter le gaz pollué G en un temps relativement court (environ une demi heure). On notera que la présence du réservoir intermédiaire précité 22 permettra de différer l'opération de traitement du gaz.On pourra ainsi dès la vidange de l'enveloppe dans le réservoir 22, procéder au remplissage de l'enveloppe 2 sans attendre la fin du traitent du gaz. Pendant le traitement, il se forme à la base ila du réacteur 11 un mélange d'eau et de chaux destiné à être réintroduit dans le réacteur 11 par l'intermédiaire de la pompe 17. Certains produits réagissent très vite, tels que les gaz acides mais aussi le C02 et le SO2, puis viennent le S0F2 et enfin le So2F2 pour lequel la durée de traitement peut atteindre la demi-heure dans le cas d'une pollution extrême.Le gaz propre 40 est ensuite évacué à travers l'orifice supérieur d'évacuation 14 vers un réservoir de gaz propre 41 pour une évenelle réutilisation. On notera qu'on pourra prévoir de disposer, entre l'orifice 14 du réacteur 11 et le réservoir prôcité 41, des systèmes à filtre etion assécheurs (non représentés) destinés notamment à traiter les C02 pouvant être libérés par la solution sous certaines conditions (PH trop faible) et surtout destinés à réduire l'humidité du gaz traité. A une échelle plus industrielle, un barbouze dans de l'acide sulfurique concentrée peut être une solution plus intéressante. Le gaz récupéré 40 sera conforme aux normes en vigueur excepté la présence de certains composés qui sont l'air et le CF4. On pourra également prévoir un traitement supplémentaire (non représenté) du gaz récupéré dans le réservoir 41 afin de le rendre conforme aux normes en vigueur de façon à assurer sa totale recyclabilité. Cette phase de purification pourra être réalisée au moyen de divers procédés de sZaradon bien connus. Le traitement de l'air ou du CF4 pourra etre réalisé par parution à travers des membranes ou par distillation, le CF4 étant ensuite dirigé vers des induvies chimiques ou détruit. Le gaz SF6 ainsi purifié pourra être liquéfié et stocké dans des containers normalisés. Ainsi, au cours de l'opération précédemment décrite, on a traité le gaz SF6 avec ses produits de décomposition et contenant en suspension des poudres. Après la vidange de l'enveloppe 2, c'est à dire lorsqu'il reste environ 2% de la masse de gaz à l'intérieur, on procède à son remplissage 31 avec la solution de chaux préparée 6. Cette solution 6 est aspirée dans l'enveloppe grâce au vide crée après évacuation du gaz. Après remplissage, l'enveloppe 2 est placée dans le bac 32 (figure 2) dans lequel elle est ouverte. Pendant cette opération, on pourra utiliser avantageusement un dispositif (non représenté) empêchant les poudres encore présentes dans l'enveloppe 2 de s'échapper de l'enveloppe de manière à protéger l'opéraseur (veine aspirante créant un matelas gazeux s'opposant à l'échappement des poussières).Après ouverture, l'enveloppe 2 est immergée (figure 3) dans le bac 26 contenant la solution de chaux 27 dans lequel elle est nettoyée grâce à l'emploi de la pompe péristaltique 29 permettant d'accélérer le nettoyage des enveloppes 2 par une circulation appropriée de la solution, en créant des turbulences à l'intérieur de l'enveloppe 2 (durée maximale de cette opération inférieure à 1 heure). Les enveloppes 2 sont ensuite rincées à l'eau (avec ou sans circulation), puis séchées dans un autre bac 36. On réalise ainsi le nettoyage des enveloppes 2 sans risque pour l'opérateur, de manière à permettre leur future revalorisation. Le traitement du tamis 10 moléculaire (ou autre matériau adsorbant utilisé), pourra être efttctué à différentes étapes du traitement, en fonction de son accessibilité dans l'enveloppe 2. Ainsi le tamis 10 pourra être extrait de l'enveloppe 2 pour être traité, au moment de son ouverture ou bien après le rinçage et le démontage de ladite enveloppe 2 pour valorisation. Le traitement du tamis 10 consiste à introduire ledit tamis 10 dans un récipient 39 entrainé en rotation par des tambours 37 et contenant la solution réactive. Dans ce récipient 39, le tamis est malaxé ou concassé au moyen de galets 38. Ce traitement imposé au tamis 10 accélère la réaction de neutralisation. A la fin du traitement, les vidanges des différentes solutions de neutralisation se feront de préferce lorsque les composés réactifs auront presque totalement réagis (Ph inférieur à 8,5). La vidange se fera après décantation des parties solides et à travers une filtration dont le but est de s-rer les précipités résiduels. Pour accélérer la filtration, l'utilisation du vide en aval du filtre, ou de la compression en amont du filtre peuvent être envisagées. On remarquera que le traitement de tous les éléments sera réalisé au moyen d'un seul et mme réactif. On notera également que cette unité pourra être installée dans un camion. L'utilisation de la solution de chaux est préférable pour différentes raisons. Tout d'abord, les sels minéraux résultant des réactions de neutralisation sont peu toxiques. De plus, ils sont très peu solubles et facilitent la filtration, ce qui permet lors de la vidange du réacteur un rejet à l'égout conforme aux réglementations en vigueur. La concentration du Ca(OH)2 à la saXration est faible, ce qui autorise une préparation et un rejet aisés avec peu de résidus solides. On a donc réalisé ice à l'invention, un procédé et un dispositif de détoxication d'appareils électriques permettant un traitement particulièrement rapide du gaz, de l'enveloppe et du tamis moléculaire en minimisant les résidus de traitement. Bien entendu l'invention n'est pas limitée au mode de réalisation décrit et illustré qui n'a été donné qu'à titre d'exemple. C'est ainsi par exemple que le gaz au lieu d'être aspiré dans le réacteur aurait pu être évacué de l'enveloppe par l'introduction de la solution de chaux dans l'enveloppe. De plus la configuration du réacteur fermé peut évoluer vers une configuration ouverte comportant des filtres (par exemple de forme cylindrique) fonctionnant en régime continu, contenant chacun plusieurs étages de pulvérisation et pouvant être combinés les uns aux autres en série ou en parallèle suivant la quantité de gaz à traiter et leur degré de décomposition. Au contraire, I'invention comprend tous les équivalents techniques des moyens décrits ainsi que leurs combinaisons, si cellesci sont effectuées suivant son esprit. REVENDICAflONS 1. Procédé de détoxication d'appareils électriques tels des disjoncteurs comportant une enceinte remplie d'hexafluorure de soufre, destiné notamment à neutraliser les produits de décomposition du gaz sous l'action d'un arc électrique, comprenant au moins une première phase de traitement du gaz pollué contenu dans l'appareil, après évacuation de l'appareil, et une deuxième phase dans laquelle l'enveloppe de l'appareil est remplie d'une solution réactive de neutralisation des produits solides contenus dans l'appareil, caactésé en ce que pendant la première phase de traitement du gaz (G), celuici est évacue dans un réacteur (11) dans lequel on pulvérise une solution réactive (6) de neutralisation des produits de d6~idon contenus dans le gaz (G). 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que pendant la seconde phase, après le remplissage de l'enveloppe (2) avec la solution réactive (6), celle-ci est immergée dans un bac (26) rempli de la même solution réactive (6) dans lequel on crée des turbulences de manière à accélérer le nettoyage des enveloppes. 3. Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce qu'après le remplissage de l'enveloppe (2) et avant son immersion, I'enveloppe (2) est ouverte dans un bac intermédiaire (32). 4. Procédé selon l'une des revendications 2 ou 3, caractérisé en ce qu'il comporte en outre une étape de rinçage de l'enveloppe (2), après nettoyage. S. Précédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il comporte en outre une étape de nettoyage séparé du tamis moléculaire (10) interne à l'enveloppe (2). 6. Procédé selon la revendication 5, caractrisé en ce que lors de l'opération de nettoyage du tamis (10), celui est introduit dans un récipient (39) contenant la solution réactive et de. galets de concassage (38), ledit récipient (39) étant entraîné en rotation par un ou plusieurs tambours rotatif (37). 7. Dispositif pour la mise en oeuvre du procédé selon l'une quelconque des revendications précdentes, caractérisé en ce qu'il comporte un récipient (5) de préparation d'une solution réactive (6), un réacteur (11) relié audit récipient (5) par l'intermédiaire d'un circuit (12) d'introduction de la solution (6) dans le réacteur (11) par pulvérisation, ledit réacteur (11) comportant un orifice (13) d'introduction du gaz pollué (G) relié à l'enveloppe (2) de l';parell (1) et un orifice (14) d'évacuation du gaz propre relié à un réservoir de stockage (41), et un circuit (31) de remplissage de l'enveloppe (2) relié audit récipient de p-ration (5). 8. Dispositif selon la revendication 7, caractérisé en ce qu'il comporte en outre un bac d'immersion (26) relié audit récipient (5) par l'intermédiaire d'un circuit (28) d'introduction de la solution (6) dans le bac d'immersion (26), ledit circuit (28) comportant des moyens (29) pour créer des turbulences à l'intérieur de l'enveloppe (2). 9. Dispositif selon la revendication 7 ou 8, caractérisé en ce qu'il comporte en outre un bac intermédiaire (32) d'ouverture de l'enveloppe (2) raccordé au circuit d'introduction (28) de la solution (6) dans le bac d'immersion (26). 10. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 7 à 9, caractérisé en ce qu'il comporte en outre un bac de rinçage (36) de l'enveloppe (2). 11. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 7 à 10, caractérisé en ce qu'il comporte en outre un dispositif de traitement (9) du tamis (10) comportant un récipient (39) contenant la solution réactive et des galets de concassage (38), et un ou plusieurs tambours rotatifs (37) destinés à entraîner le récipient en rotation. 12. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 7 à 11, caractérisé en ce que le circuit d'introduction (12) de la solution dans le réacteur (11) comporte une pompe (17) reliée en amont d'une part, à un orifice d'évacation (16) prévu à la partie inférieure du réacteur (11), et d'autre part, au récipient (5) de préparation, et en aval, à un système de bues (14a) prévu à la partie supérieure du réacteur (11). 13. Dispositif selon la revendication 12, caractérisé en ce que la pompe précitée (17) est une pompe à impulsions. 14. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 7 à 12, caractérisé en ce que le circuit d'introduction (28) de la solution (6) dans le bac d'immersion (26) comporte une pompe (29) reliée en amont d'une part, à un orifice d'évacuation (26a) du bac d'immersion (26), et d'autre part, au récipient de préparation (5), et en aval, à un tuyau de refoulement (30) ("bouchant à la partie supérieure du bac d'immersion (26). 15. Dispositif selon la revendication 14, caractérisé en ce que la pompe est une pompe périsialtique. 1C. Dispositif selon l'une quelconque des revendications 7 à 13, caractérisé en ce que le circuit de remplissage (31) de l'enveloppe (2) est raccordé au circuit d'introduction (28) de la solution (6) dans le bac d'immersion (26), entre l'orifice d'évacuation (26a) du bac d'immersion (26) et l'entrée de la pompe à impulsion (29). 17. Dispositif selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la solution réactive (6) est une solution de chaux.