FR 2724768 A1 19960322 FR 9411338 A 19940916 / GROUPEMENT EN SERIE DE THYRISTOIRS PIOSENSIBLES La présente invention conoerne le domaine des thyris- tors photosensibles. Elle s'applique plus particulièrement aux thyristors en technologie planar. Les figures lA et lB représentent respectiment une vue de dessus et une vue en coupe schmatique d'un thyristor photosensible de type planar. Celui-ci oomprend ome tout thy- ristor classique un substrat 1 d'un premier type de oonductivité faiblement dopé, par exemple de type N. Sur la face supérieure du substrat sont successivement formées une première région 2 de type P et, à l'intérieur de la région 2, une région 3 de type N. La face inférieure comporte une couche 4 de type P. La struc- ture est de type planar car les régions P et N de la face supé- rieure sont formées par diffusion à l'intérieur d'un masque et que leurs j onctions ne débouchent pas à la périphérie du thy- ristor mais sur la faoe supérieure de celui-ci. De telles struc- tures sont particulièrement simples à réaliser et présentent une bonne tenue en tension. La région supérieure 3 de type N est revêtue d'une métallisation 6 et constitue une électrode de cathode K. La face inférieure est revêtue d'une métallisation 7 et constitue une électrode d'anode A. Contrairement à un thyristor classique, un thyristor photosensible ne omprend pas de métallisation de gâchette mais est déclenché par irradiation de la jonction bloquante en direct, c'est-à-dire la jonction entre la région 2 et le subs- trat 1. Cette jonction sera appelée ci-après "jonction photosen- sible". L'irradiation est illustrée en figure lB par des flèches et agit essentiellement dans la région 9 illustrée en pointillés au voisinage de l'affleurement de la jonction photosensible. Classiquement, la source de lumière est une diode électrolumi- nescente de longueur d'onde adaptée et convenablement position- née par rapport à la région sensible du thyristor. Cette région est carnme on l'a indiqué la région voisine de l'affleurement de la jonction entre la région 2 et le substrat 1 dans laquelle se développe le champ électrique en régime de blocage direct. Les photons captés génèrent des paires électrons-trous qui, par 1 'énergie acquise dans le champ électrique, vont se multiplier et entraîner 1 'amorçage du thyristor. Il est clair que ces pho- tons accèdent seulement à la partie superficielle du cmposant. En effet, ils sont absorbés dès qu'ils atteignent la surface du composant et voient leur densité (et donc leur efficscité) décroître au fur et à mesure que l'on s'1éloigne de la surface. Il est donc nécessaire d'éclairer la faoe supérieure du compo- sant et principalement la zone d'affleurnement de la jonction photosensible. Un éclairement latéral ne pourrait atteindre la région de jonction et provoquer le déclnc ent du thyristor. Pour certaines applications, par exemple si 1l'on veut provoquer un déclenchesent alors que le thyristor supporte des tensions directes de l'ordre de plusieurs kilovolts, il est souhaitable d'utiliser plusieurs thyristors ohtosensibles en série. On est alors amené à disposer les thyristors côte & côte pour pouvoir éclairer leurs faces avant. Il en résulte un montage d'enconbrement important. La présente invention vise à réaliser un groupet en série de thyristors photosensibles de type planar à faible erncmbrement. Pour atteindre cet objet, la présente invention pré- voit un groupement en série de coposants photosensibles de type planar ayant une première face principale sur laquelle affleure une jonction photosensible et une deuxième face principale, dans lequel les composants sont empilés de sorte que la deuxiê face principale d'un composant soit au contact avec la première face principale du composant adjacent, et la deuxième face principale de chaque composant comporte une encodhe sur sa périphérie sur une étendue latérale correspondant au ooins à la distance entre la jonction photosensible et la périphérie. Selon un ode de réalisation de la présente invention, l'encoche est recouverte d'une métallisation recouvrant aussi la deuxième face principale de chaque composant. Selon un mode de réalisation de la présente invention, 1 'erncoche est de forme concave. Selon un mode de réalisation de la présente invention, l'encoche résulte d'une gravure chimique d'une plaque de sili- cium à partir de laquelle ont été formés les ants. selon un mode de réalisation de la préente invention, au moins une source lumineuse est dispose & la périphérie de l 'empilement. Selon un mode de réalisation de la présente invention, les composants sont des thyristors. Ces objets, caractéristiques et avantages ainsi que d'autres de la présente invention seront exposés plus en détail dans la description suivante de modes de réalisation particu- liers faite, à titre non-limitatif, en relation avec les figures jointes parmi lesquelles: les figures 1A et lB, décrites préêdemment, repré- sentent une vue de dessus et une vue en coupe schématique d'un thyristor planar photosensible; la figure 2 représente une vue en coupe d'un assmblage de thyristors photosensibles selon la présente invention; la figure 3 représente une vue de côté, avec une indication de dimensions, d'un exemple pratique de thyristor photosensible selon la présente invention. La figure 2 représente deux thyristors photosensibles de type planar 20 et 30 respectivement similaires à celui des figures 1A et lB. Ces deux thyristors photosensibles 20 et 30 comprennent respectivement un substrat 21, 31, une région de type P 22, 32, une région de type N 23, 33, et une couche infé- rieure de type P 24, 34, similaires aux éléments 1, 2, 3, 4 des figures 1A et lB. Ils comprennent également des métallisaticons supérieures de cathodes respectives 26, 36 similaires à la métallisation 6. Les thyristors 20 et 30 diffèrent du thyristor de la figure lB par leur face inférieure. La périphérie de cette face inférieure est largement rainurée pour former une enoc laté- rale 28, 38. Cette encoche a une étendue latérale supérieure à la distanoe, du côté de la face supérieure, entre la périphérie de chaque thyristor et la zone d'affleurement de jonction des régions 22, 32. L'encoche latérale 28, 38 est métallisée en même temps que la face inférieure par des métallisations respectives 29, 39. Les deux thyristors 20, 30, ainsi que d'autres non représentés, sont empilés et soudés ensemble, éventuellement par interposition d'une préforme de soudure 40. Ainsi, un faisceau lumineux 41, 42 arrivant sur la périphérie des thyristors une fois ceux-ci assemblés sera réfléchi par le miroir constitué par la métallisation 29 de l'encoche 28 vers l'affleurement de Jonc- tion du thyristor immédiatement inférieur. ls métallisations habituellement utilisées pour former des métallisations d'anode et/ou de cathode constituent généralement des réflecteurs satis- faisants. Il s'agira par exemple de métallisations foimées & partir d'aluminium, d'or, de titane, de nickel, isolément ou en superposition ou en alliage, éventuellement avec du silicium, etc. L'encoche 28, 38 a de préférence une forme concave. Ainsi, non seulement les rayons lumineux sont réfléchis vers la face inférieure mais en plus ils se concentrent vers la zone photosensible à condition que le rayon de courbure des euncoches soit convenablement choisi. Dans le domaine des semiconducteurs dans lequel des composants individuels sont forés à partir d'une plaque de silicium de grarnde surface qui est ensuite sciée en composants individuels, des encoches concaves paourront être réalisées d'une façon classique par sillonnage: avant sciage dans les zones correspondant aux limites des thyristors, on forme par gravure chimique des sillons qui constitueront ensuite lesdites encoches. On notera que, si les encoches sont relativement larges et profondes, la métallisation 29, 39 sera en contact non seulement avec les couches 24, 34 de type P mais aussi avec les substrats 21, 31, respectivement. En pratique, ceci ne présente pas d'inconvénient. D'une part, il faut rappeler que la qualité de la jonction entre le substrat N et la région P inférieure influe essentiellement sur la tenue en tension inverse d'un thyristor. Or, cette tenue en tension inverse n'est gânéralement pas un paramètre important dans les utilisations classiques des thyristors photosensibles. D'autre part, la mise en contact de la métallisation de face arrière avec le substrat ne constitue pas un court-circuit à faible impédance. En effet, la résisti- vité du substrat de type N est élevée (couramment de l'ordre de ohm-cm ou 1014 atomes/cm3). A de telles ccnentrations, il n'y a pas de contact ohmique entre la métallisation et le substrat, c'est-à-dire que, sous une tension de 1 volt, la résistance de contact sera de plusieurs kilohms. Donc, en fait, la métallisation ne court-circuite pas la jonction arrière et ne dégrade pratiquement pas la sensibilité du thyristor. A titre d'exemple numérique, la présente invention peut s'appliquer à un thyristor photosensible carré ayant les dimensions représentées en figure 3, susoeptible de supoter une tension directe de l'ordre de 600 V et de laisser passer un courant moyen de l'ordre de 1 'ampère (des pointes de courant de l'ordre de 50 A). Les caractéristiques des régions semiconductrices sont par exemple les suivantes: substrat 21: concentration en dopants = 1014 at./cm3, régions P 22 et 24: xs = 16 pm, Cs = 1017 at./cm3, région N 23: xs = 8 pm, Cs = 2.1019 at./cm3. o xs désigne la profondeur de pénétration des dopants et Cs la concentration des dopants en surface. Un empilement de jusqu'à dix thyristors photosensibles du type de celui de la figure 3 pourra être réalisé pour attein- dre une tenue en tension de 1 'ordre de 6000 V. Classiquement l'empilement de thyristors sera déclen- ché par une photodiode unique bien que des montages plus com- plexes puissent être imaginés. En fait, il n'est pas nécessaire que tous les photothyristors se déclenchent optiquement puisque, dès qu'un certain xombre de thyristors photosensibles aura été déclenché, les autres s'amorceront par retournement. Par ailleurs, on a décrit précdemment une métallisa- tion unique 29 de face arrière. En pratique, on pourra procéder à une première métallisation 40, par exemple en aluminium, sur l 'ensemble de la face arrière puis à une ou plusieurs métallisa- tions sur la partie plane de la face arrière, par exH le une deuxième métallisation de nickel 41 et une troisième métallisa- tion d'or 42. Ainsi, une soudure tendre, par exemple à 1'étain- plomb mouillera l'or et pas l'aluminium, c'est-à-dire qu'elle n'aura pas tendanoe à remplir 1'enooche. Ceci peut être réalisé en effectuant d'abord un dépôt d'aluminium 40, en recouvrant de résine les sillons, en déposant des métallisations supplmen- taires, puis en dissolvant la résine, ce qui élimine du même fait les métallisations recouvrant la résine. Bien entendu, la présente invention est susceptible de nombreuses variantes et modifications qui apparaîtront & l'homme de 1 'art. Par exemple, tous les types de conductivité pourront être inversés et 1' invention s'applique de façon similaire à des diodes, triacs et autres composants photosensibles de type planar. REVENDICATIONS 1. Groupement en série de composants photosensibles de type planar ayant une première face principale sur laquelle affleure une jonction photosensible et une deuxième face princi- pale, caractérisé en ce que: lesdits composants (20, 30) sont empilés de sarte que la deuxième face principale d'un composant soit au ontact avec la première face principale du composant adjacent, et la deuxième face principale de chaque composant comnporte une encoche (28, 38) sur sa périphérie sur une étndue latérale correspondant au moins à la distance entre ladite Jonc- tion photosensible et ladite périphérie. 2. Groupement en série de composants photosensibles selon la revendication 1, caractérisé en ce que 1'ecoche est recouverte d'une métallisation recouvrant aussi la deuxième face principale de chaque composant. 3. Groupement en série de composants photosensibles selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'encoche est de forne concave. 4. Groupement en série de composants photosensibles selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'enôoohe résulte d'une gravure chimique d'une plaque de silicium à partir de laquelle ont été formés les composants. 5. Groupement en série de composants photosensibles selon les revendications 2 et 4, caractérisé en ce que la partie plane de la face inférieure est revêtue de métallisations supplémentaires (41, 42). 6. Groupement en série de composants photosensibles selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il est associé à au moins une source lumineuse (70) disposée à la périphérie de l'empilement. 7. Groupement en série de composants photosensibles selon la revendication 1, caractérisé en ce que les composants sont des thyristors.