FR 2705792 A1 19941202 FR 9306229 A 19930525 COMPOSANT D'OPTIOUE INTEGREE, ET PROCEDE D'ELABORATION D'UN TEL COMPOSANT La présente invention concerne un composant d'optique intégrée, ainsi qu'un procédé d'élaboration d'un tel composant. Elle concerne plus particulièrement un composant d'optique intégrée plan constitué de plusieurs revêtements superposés. De tels composants optiques sont en général obtenus de la manière suivante - on dépose sur un substrat plan, en silicium par exemple, un premier revêtement à base de silice ayant un indice de réfraction n1, - on dépose sur ce premier revêtement un deuxième revêtement de silice d'indice de réfraction n2 supérieur à n1 ; c'est au sein de ce deuxième revêtement que s'effectuent la propagation et le guidage des ondes lumineuses, - on réalise, par exemple par des techniques connues de masquage et de gravure du second revêtement, un ou plusieurs guides d'ondes optiques, ces guides d'ondes formant un réseau qui débouche sur deux faces latérales opposées du composant (on appelle face latérale du composant une face joignant entre eux le plan du substrat sur lequel sont déposés les revêtements, et le plan qui lui est opposé), - on dépose sur le premier revêtement découvert par la gravure et sur les guides d'ondes un troisième revêtement à base de silice ayant un indice de réfraction n3 inférieur à n2 et en général égal à n1. De tels composants optiques sont utilisés principalement dans le domaine des télécommunications, par exemple comme coupleurs, diviseurs, multiplexeurs, etc... En pratique, les premier et troisième revêtements jouent un rôle semblable à celui de la gaine optique d'une fibre optique, et le deuxième revêtement, à partir duquel sont réalisés les guides d'ondes, constitue la partie guidante du composant et joue donc un rôle semblable à celui du coeur d'une fibre optique. Les dépôts successifs des revêtements du composant optique peuvent être effectués par exemple selon le procédé bien connu de l'hydrolyse dans la flamme d'un chalumeau des précurseurs gazeux de la silice à déposer. Ce procédé est décrit par exemple dans le brevet FR-2 178 176 de la Société CORNING. Les procédés dits de dépôt multicouche et gravure, du type de celui décrit dans ce brevet, conduisent nécessairement à l'obtention de guides d'ondes dont la section transversale, c'est-à-dire perpendiculaire à la direction de propagation des ondes lumineuses, est rectangulaire (on utilise ici le qualificatif rectangulaire dans un sens très large, c'est-à-dire qu'une section rectangulaire peut être une section carrée ou rectangulaire). La surface de cette section est en général de l'ordre de 6x6 à 8x8 gmZ lorsque les guides d'ondes sont monomodes. Or les applications de ces composants d'optique intégrée conduisent à les utiliser la plupart du temps en relation avec des fibres optiques. Dans ces applications, on raccorde une fibre optique à l'une des extrémités d'un guide d'ondes, au niveau d'une face latérale du composant. Pour assurer un guidage correct des ondes lumineuses, et limiter les pertes dues au couplage des deux éléments, il est bien entendu nécessaire de mettre dans le prolongement l'un de l'autre le coeur de la fibre optique, dont le diamètre est compris en général entre 8 et 10 Am pour une fibre monomode, et le guide d'ondes. Etant donné que la section du coeur de la fibre est circulaire et que celle du guide d'ondes est rectangulaire, on comprend bien que les pertes par couplage sont élevées, le centrage et l'alignement de la fibre étant délicats à réaliser. En pratique, les pertes par couplage dues au raccordement sont de l'ordre de 0,5 dB. On connaît par ailleurs un autre procédé d'élaboration de composants d'optique intégrée, appelé procédé de bain fondu et consistant, de manière simplifiée, à réaliser les guides d'ondes par échange ionique entre un revêtement déposé sur un substrat plan et masqué et un bain fondu dans lequel est plongé le substrat. Ce procédé permet d'obtenir des composants optiques ayant des guides d'ondes de section sensiblement elliptique, ce qui facilite le centrage et l'alignement de la fibre. Les pertes par couplage sont dans ce cas de l'ordre de 0,1 dB. Toutefois, le raccordement d'un tel composant d'optique intégrée est complexe et long à réaliser. Le but de la présente invention est donc de réaliser un composant d'optique intégrée dont les guides d'ondes peuvent être raccordés simplement et rapidement à des fibres optiques de sorte que les pertes par couplage résultantes sont de l'ordre de celles obtenues avec les composants réalisés selon le procédé de bain fondu. La présente invention propose à cet effet un composant d'optique intégrée comportant un substrat de base sensiblement parallélépipédique, dont une face supérieure porte un ou plusieurs guides d'ondes destinés à guider les ondes lumineuses selon une direction dite de propagation et formant un réseau qui débouche sur deux faces latérales opposées et orthogonales à ladite face supérieure dudit composant, lesdits guides d'ondes étant disposés entre deux revêtements, un premier revêtement, dit inférieur, situé en-dessous desdits guides d'ondes, et un deuxième revêtement, dit supérieur, recouvrant lesdits guides d'ondes, caractérisé en ce que chacun desdits guides d'ondes comporte au moins deux zones distinctes situées dans le prolongement l'une de l'autre selon ladite direction de propagation - une première zone, dite zone d'extrémité1 située au voisinage de l'une desdites faces latérales, et s'étendant sur une longueur déterminée en arrière de ladite face latérale, - une deuxième zone, dite zone intermédiaire, prolongeant ladite zone d'extrémité, la section transversale dudit guide d'ondes étant rectangulaire au niveau de la transition entre ladite zone d'extrémité et ladite zone intermédiaire et sensiblement circulaire au niveau de ladite face latérale, la transformation entre ladite section rectangulaire et ladite section circulaire étant progressive le long de ladite zone d' extrémité, et en ce que l'indice de réfraction dudit guide d'ondes et la différence entre ce dernier et l'indice de réfraction de l'un ou de l'autre desdits revêtements diminuent au fur et à mesure de ladite transformation. Du fait de la section sensiblement circulaire des guides d'ondes à leur extrémité, il est possible de raccorder avec des pertes par couplage réduites le composant optique selon l'invention à des fibres optiques dont le diamètre du coeur est sensiblement égal à celui des guides d'ondes à leur extrémité. De manière additionnelle, les guides d'ondes peuvent comporter en outre une troisième zone, dite deuxième zone d'extrémité et prolongeant la zone intermédiaire jusqu'à la face latérale opposée à celle située au voisinage de la première zone d'extrémité, les transformations de section et d'indices de réfraction étant identiques au niveau des deux zones d'extrémité. De manière avantageuse, la section des guides d'ondes au sein de la zone intermédiaire peut être carrée et le demi-angle au sommet du tronc de cône dont la petite base est le cercle circonscrit à la section carrée de l'un des guide au niveau de la transition, et de grande base la section circulaire du guide au niveau de ladite face latérale est inférieur à 1". Un procédé d'élaboration d'un composant d'optique intégrée selon l'invention comporte les opérations suivantes - dépôt sur ledit substrat dudit revêtement inférieur, - dépôt sur ledit revêtement inférieur d'un second revêtement constitué d'un matériau à base de silice contenant au moins un additif de dopage, dit premier additif de dopage, capable de diffuser sous l'effet de la chaleur et tel que l'augmentation de sa concentration provoque une augmentation de l'indice de réfraction de la silice dans laquelle il est incorporé, le dépôt dudit second revêtement étant effectué de sorte que la concentration en premier additif de dopage augmente progressivement le long de ladite zone d'extrémité depuis la transition entre ladite zone d'extrémité et ladite zone intermédiaire jusqu'à l'approche de ladite face latérale, - frittage à haute température dudit composant, - réalisation desdits guides d'ondes par masquage et gravure dudit second revêtement, - dépôt dudit revêtement supérieur sur lesdits guides d'ondes et sur les parties découvertes par gravure dudit revêtement inférieur, - traitement thermique à haute température dudit composant optique de manière à provoquer la diffusion transversale dudit premier additif de dopage depuis lesdits guides d'ondes vers lesdits revêtements inférieur et supérieur le long de ladite zone d'extrémité, ladite diffusion tendant à conférer audit guide d'ondes une section sensiblement circulaire. Le procédé selon l'invention n'entraîne pas de modifications complexes des procédés multicouches existants. D'autre part, le traitement thermique est appliqué au composant tout entier, de sorte qu'il n'est pas complexe à mettre en oeuvre et peut être effectué en ligne lors de la fabrication du composant souhaité. Selon un perfectionnement possible, le matériau constituant les guides d'ondes contient un deuxième additif de dopage tel que l'augmentation de sa concentration provoque une augmentation de l'indice de réfraction de la silice dans laquelle il est incorporé, le deuxième additif de dopage subissant une diffusion limitée et négligeable lors du traitement thermique ; le dépôt du second revêtement est effectué de sorte que la concentration en deuxième additif de dopage diminue progressivement le long de la zone d'extrémité depuis la transition entre la zone d'extrémité et la zone intermédiaire jusqu'à l'approche de la face latérale. Le second additif de dopage permet d'assurer un confinement des ondes lumineuses dans les guides d'ondes au sein de la zone intermédiaire. Selon un autre perfectionnement possible, les revêtements inférieur et supérieur sont constitués du même matériau à base de silice contenant au moins un additif de dopage capable de diffuser sous l'effet de la chaleur et tel que l'augmentation de sa concentration provoque une diminution de l'indice de réfraction de la silice dans laquelle il est incorporé ; le dépôt des revêtements inférieur et supérieur est effectué de sorte que la concentration en additif de dopage dans les revêtements inférieur et supérieur augmente progressivement le long de la zone d'extrémité depuis la transition entre la zone d'extrémité et la zone intermédiaire jusqu'à l'approche de la face latérale. D'autres caractéristiques et avantages de la présente invention apparaîtront dans la description suivante d'un composant d'optique intégrée selon l'invention à travers un procédé d'élaboration possible, cette description étant donnée à titre illustratif et nullement limitatif. Dans les figures suivantes - les figures 1A à 1E représentent, en perspective, un composant d'optique intégrée selon l'invention aux différentes étapes de son élaboration, - la figure 2 représente en perspective un grossissement de l'extrémité d'un guide d'ondes du composant selon l'invention à l'étape de la figure 1E, - la figure 3 est une coupe selon la ligne III-III de la figure 1E, - la figure 4 représente les variations des concentrations en divers dopants le long de l'axe X du composant selon l'invention à l'étape de la figure 1B, - les figures 5A à 5C représentent la différence entre l'indice de réfraction d'un guide d'ondes du composant selon l'invention et celui des revêtements qui l'entourent, en différentes sections le long de l'axe X du composant à l'étape de la figure 1D, - les figures 6A à 6C représentent la différence entre l'indice de réfraction d'un guide d'ondes du composant selon l'invention et celui des revêtements qui l'entourent, en différentes sections le long de l'axe X du composant à l'étape de la figure lE, - les figures 7A à 7C représentent schématiquement le profil de champ de mode en différentes sections le long de l'axe X du composant selon l'invention à l'étape de la figure 1E. Dans toutes ces figures, les éléments communs portent les mêmes numéros de référence. La figure 1A montre un composant d'optique intégrée 100 selon l'invention tel qu'il est lors de la première étape de sa fabrication. Le composant 100 comporte alors un substrat de silicium 10 plan et sensiblement parallélépipédique, de dimensions planaires de l'ordre du centimètre, sur lequel est déposé un premier revêtement 11 à base de silice d'indice de réfraction noté n1. On a représenté le dépôt du premier revêtement 11 au moyen d'un chalumeau 20 (oxhydrique par exemple) d'hydrolyse à la flamme. Le chalumeau 20 émet une flamme 21 dans laquelle on hydrolyse un mélange de gaz réactifs précurseurs de la silice à déposer, comme notamment le chlorure de silicium SiCl4, et de vapeur pour former une suie 22. Le mélange des précurseurs gazeux de la silice peut également contenir des précurseurs gazeux d'additifs de dopage servant à doper la silice déposée, notamment pour en modifier l'indice de réfraction. La réaction conduit au dépôt sur le substrat 10 du premier revêtement 11, comme on le voit en figure 1A. A l'aide d'un chalumeau tel que le chalumeau 20, la zone de dépôt peut être concentrée sur une surface de l'ordre de 10 mm2. Pour garantir l'homogénéité du revêtement en épaisseur, on peut par exemple appliquer au chalumeau 20 des mouvements de translation suivant les directions respectives X et Y (X et Y sont les axes du plan du substrat 10). Il est également possible de déplacer le substrat 10 au lieu de déplacer le chalumeau 20. Ainsi, il est aisé, en contrôlant par exemple les débitmètres (non représentés) des gaz réactifs introduits dans la flamme 21 du chalumeau 20, de faire varier au fur et à mesure de la translation de ce dernier le long de l'axe X la concentration de ces gaz réactifs dans le mélange, ce qui permet de modifier la composition de la silice déposée. La courbe 40 de la figure 4 représente les variations de la concentration (en pourcentage massique) en fluor contenu dans la silice constituant le premier revêtement 11 le long de l'axe X (l'abscisse O se trouve à l'une des extrémités du plan du substrat 10). Ainsi, selon l'invention, on fait varier, lors du dépôt du premier revêtement 11, la concentration en difluorochlorocarbone CCl2F2 dans le mélange des précuseurs gazeux réactifs, de sorte que la concentration résultante en fluor dans le premier revêtement 11 est plus élevée au voisinage des faces latérales opposées 14 et 15 du substrat 10 (les faces 14 et 15 sont orthogonales à l'axe X). Il est bien connu qu'une augmentation de la concentration en fluor provoque une diminution de l'indice de réfraction de la silice déposée. D'autre part, le fluor est capable de diffuser sous l'effet de la chaleur. Par conséquent, l'indice de la silice constituant le premier revêtement l1 au sein de zones 104 et 105 du composant s'étendant le long de l'axe X sur une longueur de 5 mm environ respectivement à partir de la face 14 et de la face 15, est plus faible que son indice au sein d'une zone dite intermédiaire 106 située entre les zones 104 et 105. Un second revêtement 12 (voir figure 1B) est déposé sur le premier revêtement 11, par exemple de la même manière que pour le dépôt de ce dernier sur le substrat 10. Le composant selon l'invention obtenu après le dépôt du revêtement 12 est référencé 200. Selon l'invention, on a fait varier, au cours du dépôt du second revêtement 12, la concentration en tétrachlorure de germanium GeCl4 et en tétrachlorure de titane TiCl4 dans le mélange des précurseurs gazeux réactifs, de sorte que - la concentration (en pourcentage massique) en oxyde de titane TiO2 dans le second revêtement 12 est quasiment nulle ou nulle au sein des zones 104 et 105, et égale à 2% au sein de la zone 106 (voir courbe 41, figure 4), - la concentration (en pourcentage massique) en oxyde de germanium GeO2 dans le second revêtement 12 est plus élevée au sein des zones 104 et 105 qu'au sein de la zone 106 (voir courbe 42, figure 4). Il est bien connu qu'une augmentation de la concentration en oxyde de titane ou en oxyde de germanium entraîne une augmentation de l'indice de réfraction de la silice dans laquelle ils sont incorporés. D'autre part, on sait que l'oxyde de germanium GeO2 a des propriétés diffusantes meilleures que celles de l'oxyde de titane TiO2 sous l'effet de la chaleur. Une fois le dépôt des revêtements 11 et 12 effectué, on procède au frittage de ces deux revêtements, de manière à obtenir un dépôt uniforme et dense. Après le frittage, on effectue la réalisation des éléments guidants du composant d'optique selon l'invention. Ces éléments guidants prennent par exemple la forme d'un réseau de guides d'ondes optiques 16, tel que représenté en figure 1C. La figure 1C montre le composant selon l'invention, référencé 300, après la réalisation des guides d'ondes 16 la structure du réseau de guides d'ondes optiques 16 est par exemple celle d'un diviseur monomode 1x8. Dans l'exemple choisi, les guides d'ondes 16 ont une section carrée de 6x6 gm2. Pour obtenir les guides d'ondes 16, on peut utiliser des techniques bien connues de masquage et de gravure, comprenant par exemple une opération de photolithographie suivie d'une opération de gravure ionique réactive (Reactive Ion Etching en anglais). Compte tenu des variations des concentrations de certains des constituants de la silice déposée selon l'axe X, il est clair que la composition des guides d'ondes 16 n'est pas constante selon l'axe X. Après réalisation des guides d'ondes 16, on procède enfin au dépôt sur ces derniers, ainsi que sur les parties du premier revêtement 11 découvertes par la gravure, d'un troisième revêtement 13 de composition identique à celle du revêtement 11, c'est-à-dire comportant du fluor en concentration variable selon l'axe X. La réalisation de ce dépôt est représentée en figure 1D, et le composant optique obtenu après dépôt est référencé 400. On voit bien en figure 1D que la section transversale des guides d'ondes 16 au niveau de la face 14 du composant 400 est carrée. A ce stade du procédé, les guides d'ondes 16 ont une section carrée sur toute leur longueur. On a représenté en figure 5A les variations le long de l'axe Y (ou de l'axe Z de manière identique puisque les guides d'ondes 16 ont une section carrée) de la différence An entre l'indice de réfraction n2 de l'un des guides d'ondes 16 et l'indice de réfraction n1 des premier et troisième revêtements 11 et 13 au niveau de la face 14 du composant optique 400 de la figure 1D. De même, on a représenté en figure 5B les variations de An le long de l'axe Y (ou de l'axe Z) au niveau d'une section du composant 400 de la figure 1D située à peu près à la transition entre les zones 104 et 106 Enfin, on a représenté en figure 5C les variations de An le long de l'axe Y (ou de l'axe Z) au niveau d'une section de la zone intermédiaire 106. On observe bien que, du fait des divers dopants utilisés et des variations de leurs concentrations le long de l'axe X, le profil d'indice n'est pas constant le long du composant 400. Selon l'invention, le composant 400 de la figure 1D subit un traitement thermique à 13500C pendant 5 ou 6 heures. Ce traitement thermique a notamment pour effet de - provoquer la diffusion de l'oxyde de germanium GeO2 contenu dans les guides d'ondes 16 autour de ces derniers dans les revêtements 11 et 13, au sein des zones 104 et 105 principalement, et de manière limitée au sein de la zone 106 qui contient moins d'oxyde de germanium GeO2 que les zones 104 et 105, - provoquer la diffusion du fluor contenu dans les revêtements 11 et 13 dans les guides d'ondes 16 au sein des zones 104 et 105. Ces phénomènes de diffusion modifient à la fois le profil d'indice et la forme des guides d'ondes 16. En effet, du fait des variations progressives des concentrations des différents dopants (voir figure 4), il se produit peu à peu le long de l'axe X, depuis la transition entre les zones 104 et 106 (respectivement 105 et 106) jusqu'à la face 14 (respectivement 15), une homogénéisation transversale de l'indice de réfraction due à la diffusion au voisinage des guides 16, de sorte que l'on obtient finalement, au niveau de la face 14 (respectivement 15) des guides d'ondes 16' ayant une section sensiblement circulaire de diamètre environ égal à 8 ym (voir figures 1E et 2). Le composant selon l'invention au stade de la figure 1E est référencé 500. En pratique, une modification de la section des guides d'ondes 16 est obtenue par modification du profil d'indice au voisinage des guides d'ondes 16. C'est pourquoi l'on utilise pour modifier la section des guides d'ondes différents additifs de dopage, et notamment des additifs de dopage permettant d'accroître l'indice des guides et capables de diffuser sous l'action de la chaleur, de sorte que, lors de la diffusion, on obient une homogénéisation de l'indice dans une zone prédéterminée, cette zone etant sensiblement circulaire. On verra plus loin pouquoi il est préférable que l'indice au niveau de cette zone soit inférieur à l'indice du guide d'ondes non dopé. Ainsi, pour parvenir au résultat de l'invention, il est uniquement nécessaire d'utiliser un additif de dopage permettant une augmentation d'indice et capable de diffuser sous l'effet de la chaleur, cet additif étant incorporé dans le guide d'ondes. Dans l'exemple choisi, on a utilisé de oxyde de germanium GeO2. On a représenté aux figures 6A, 6B et 6C les variations de An le long de l'axe Y (ou de l'axe Z), les courbes des figures 6A, 6B et 6C correspondant respectivement à celles des figures 5A, 5B et 5C après le traitement thermique selon l'invention. De manière générale, la distribution transversale activée thermiquement le long des axes Y ou Z des dopants contenus dans les revêtements 11 et 13 et dans les guides d'ondes 16 suit une courbe ayant sensiblement la forme d'une gaussienne, ce qui explique les courbes des figures 6A, 6B et 6C. En outre, la diffusion des dopants des guides d'ondes 16 dans les revêtements 11 et 13 a tendance à conférer aux guides d'ondes une symétrie circulaire, ce qui explique la section des guides obtenue. La figure 3 est une coupe selon la ligne III-III de la figure 1E dans laquelle on voit la section des guides d'ondes 16 au niveau de la zone 106 : cette section est toujours carrée, de sorte que la lumière reste bien confinée dans les guides d'ondes 16 au niveau de la zone intermédiaire 106. Ceci permet avantageusement de conserver pour le composant selon l'invention une longueur limitée, du même ordre de grandeur que dans les composants antérieurs. L'oxyde de titane utilisé pour le dopage des guides d'ondes dans la zone intermédiaire sert simplement à assurer, de manière classique, un bon confinement des ondes lumineuses à l'intérieur des guides d'ondes. Il est en outre important que la transition entre la section carrée (ou rectangulaire) du guide d'ondes et la section circulaire au niveau de la face 14 (respectivement 15) soit progressive pour conserver un guidage monomode. Si l'on considère le tronc de cône ayant pour petite base le cercle circonscrit au carré formant la section, notée Si, du guide d'ondes 16 au niveau par exemple de la limite entre les zones 104 et 106, et pour grande base la section, notée Sf, du guide d'ondes 16' au niveau de la face 14 par exemple, il est important que le demi-angle a au sommet du cône dont est issu ce tronc de cône soit faible (en général inférieur à 1"). Ceci permet d'une part de conserver un guidage monomode, et d'autre part de limiter les pertes optiques dues à l'élargissement du guide d'ondes. Pour obtenir un angle a peu élevé, on fait varier progressivement lors du dépôt, les concentrations en dopants, ainsi que cela a été décrit précédemment. Par ailleurs, plus l'angle a est petit, plus la longueur du tronc de cône (appelé cône de diffusion) doit être grande. Par exemple, pour un angle a de 0,06 , la longueur du cône de diffusion doit être de 1 mm lorsque Si est un carré de côté 6 m et Sf a un diamètre de 8 ttm. Pour un angle a de 0,38 , la longueur est de 302 uT1 dans les mêmes conditions. Une grande longueur des cônes de diffusion dans le composant selon l'invention ne pose pas de problème, car ces derniers sont supportés par un substrat rigide et sont donc peu sensibles aux courbures ou aux conditions extérieures de température. De ce fait, les pertes de propagation dues à l'existence du cône, et donc à l'élargissement des guides d'ondes, sont peu importantes, puisque l'angle a est facilement ramené à des valeurs faibles. Pour conserver un guidage monomode, il est en outre nécessaire de maintenir la fréquence normalisée v au-dessous de la fréquence de coupure monomode vc, égale à 2,405 lorsqu'il y a saut d'indice entre le guide d'ondes et les revêtements qui l'entourent. On rappelle que la fréquence normalisée est définie par le formule suivante V X a dans laquelle - X est la longueur d'onde de l'onde lumineuse transportée par le guide, par exemple 1,3 ou 1,55 ym, - a est le rayon du guide d'ondes, - An est égal à n2-nl, - n est la demi-somme des indices n1 et n2. I1 faut donc prendre soin, lorsque l'on élargit le guide d'ondes, de diminuer simultanément la valeur de An, de manière à conserver un guidage monomode. C'est ce qui explique les variations choisies des concentrations des différents dopants ajoutés (figure 4), caractérisées par les courbes des figures 6A à 6C. Notamment, ceci explique l'utilisation, pour le dopage des revêtements 11 et 13, de fluor, dont les propriétés ont été mentionnées plus haut. Enfin, on a représenté aux figures 7A, 7B et 7C la distribution selon l'axe Y (ou l'axe Z) du champ de mode le long de l'axe X, noté E(x), et ce respectivement au niveau de la zone 104, au niveau de la transition entre les zones 104 et 106 et au niveau de la zone 106. On observe bien que le diamètre du champ de mode WO (défini comme la largeur du pic de E(x) à 1/e du maximum de E(x) normalisé à 1, e étant l'exponentielle de 1) s'élargit au fur et à mesure que l'on approche de la face 14 (il en est bien évidemment de meme à l'approche de la face 15). Dans une application possible du composant 500 de la figure lE, chacun des guides d'ondes 16 peut être raccordé à une fibre optique monomode ayant un diamètre de coeur égal à 8 gm, un diamètre de mode de 9,5 gm, un diamètre extérieur sur gaine de 125 gm et un écart d'indice entre coeur et gaine optique de 5.10-3. Ainsi, lorsque le diamètre du coeur des fibres optiques à connecter est de 8 gm, les guides d'ondes sont adaptés, à leur extrémité, au raccordement avec ces dernières, ce qui permet de réduire de manière significative les pertes par couplage. Bien entendu, l'invention n'est pas limitée au mode de réalisation qui vient d'être décrit. En particulier, il est possible que la section des guides d'ondes ne soit modifiée qu'à l'une des extrémités du composant. Ceal dépendra des applications de ce dernier. Par ailleurs, les additifs de dopage mentionnés le sont uniquement à titre indicatif, et l'on pourra les remplacer par d'autres ayant des propriétés équivalentes et permettant de parvenir au résultat souhaité. Enfin, on pourra remplacer tout moyen par un moyen équivalent sans sortir du cadre de l'invention. REVENDICATIONS 1/ Composant d'optique intégrée comportant un substrat de base (10) sensiblement parallélépipédique, dont une face supérieure porte un ou plusieurs guides d'ondes (16) destinés à guider les ondes lumineuses selon une direction dite de propagation et formant un réseau qui débouche sur deux faces latérales (14, 15) opposées et orthogonales à ladite face supérieure dudit composant (500), lesdits guides d'ondes (16) étant disposés entre deux revêtements, un premier revêtement (11), dit inférieur, situé en-dessous desdits guides d'ondes (16), et un deuxième revêtement (13), dit supérieur, recouvrant lesdits guides d'ondes (16), caractérisé en ce que chacun desdits guides d'ondes (16) comporte au moins deux zones distinctes situées dans le prolongement l'une de l'autre selon ladite direction de propagation - une première zone (104), dite zone d'extrémité, située au voisinage de l'une desdites faces latérales (14), et s'étendant sur une longueur déterminée en arrière de ladite face latérale (14), - une deuxième zone (106), dite zone intermédiaire, prolongeant ladite zone d'extrémité (104), la section transversale dudit guide d'ondes (16, 16') étant rectangulaire au niveau de la transition entre ladite zone d'extrémité (104) et ladite zone intermédiaire (106) et sensiblement circulaire (16') au niveau de ladite face latérale (14), la transformation entre ladite section rectangulaire et ladite section circulaire étant progressive le long de ladite zone d'extrémité (104), et en ce que l'indice de réfraction dudit guide d'ondes (16, 16') et la différence entre ce dernier et l'indice de réfraction de l'un ou de l'autre desdits revêtements (11, 13) diminuent au fur et à mesure de ladite transformation. 2/ Composant selon la revendication 1 caractérisé en ce que lesdits guides d'ondes (16, 16') comportent en outre une troisième zone (105), dite deuxième zone d'extrémité et prolongeant ladite zone intermédiaire (106) jusqu'à la face latérale (15) opposée à celle (14) située au voisinage de ladite première zone d'extrémité (104), les transformations de section et d'indices de réfraction étant identiques au niveau des deux zones d'extrémité (104, 105). 3/ Composant selon l'une des revendications 1 ou 2 caractérisé en ce que la section desdits guides d'ondes (16, 16') au sein de ladite zone intermédiaire (106) est carrée et en ce que le demi-angle au sommet du tronc de cône dont la petite base est le cercle circonscrit à la section carrée de l'un desdits guides (16) au niveau de ladite transition, et de grande base la section circulaire dudit guide (16') au niveau de ladite face latérale (14) est inférieur à 1 . 4/ Procédé d'élaboration d'un composant d'optique intégrée selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce qu'il comporte les opérations suivantes - dépôt sur ledit substrat (10) dudit revêtement inférieur (11), - dépôt sur ledit revêtement inférieur (11) d'un second revêtement (12) constitué d'un matériau à base de silice contenant au moins un additif de dopage, dit premier additif de dopage, capable de diffuser sous l'effet de la chaleur et tel que l'augmentation de sa concentration provoque une augmentation de l'indice de réfraction de la silice dans laquelle il est incorporé, le dépôt dudit second revêtement (12) étant effectué de sorte que la concentration en premier additif de dopage augmente progressivement le long de ladite zone d'extrémité (104, 105) depuis la transition entre ladite zone d'extrémité (104, 105) et ladite zone intermédiaire (106) jusqu'à l'approche de ladite face latérale (14, 15), - frittage à haute température dudit composant (200), - réalisation desdits guides d'ondes (16) par masquage et gravure dudit second revêtement (12), - dépôt dudit revêtement supérieur (13) sur lesdits guides d'ondes (16) et sur les parties découvertes par gravure dudit revêtement inférieur (11), - traitement thermique à haute température dudit composant optique (400) de manière à provoquer la diffusion transversale dudit premier additif de dopage depuis lesdits guides d'ondes (16) vers lesdits revêtements inférieur (11) et supérieur (13) le long de ladite zone d'extrémité (104, 105), ladite diffusion tendant à conférer audit guide d'ondes (16') une section sensiblement circulaire. 5/ Procédé selon la revendication 4 caractérisé en ce que ledit premier additif de dopage est de l'oxyde de germanium. 6/ Procédé selon l'une des revendications 4 ou 5 caractérisé en ce que le matériau constituant lesdits guides d'ondes (16, 16') contient un deuxième additif de dopage tel que l'augmentation de sa concentration provoque une augmentation de l'indice de réfraction de la silice dans laquelle il est incorporé, ledit deuxième additif de dopage subissant une diffusion limitée et négligeable lors dudit traitement thermique, et en ce que le dépôt dudit second revêtement (12) est effectué de sorte que la concentration en deuxième additif de dopage diminue progressivement le long de ladite zone d'extrémité (104, 105) depuis la transition entre ladite zone d'extrémité (104, 105) et ladite zone intermédiaire (106) jusqu'à l'approche de ladite face latérale (14, 15). 7/ Procédé selon la revendication 6 caractérisé en ce que ledit deuxième additif de dopage est de l'oxyde de titane. 8/ Procédé selon l'une des revendications 4 à 7 caractérisé en ce que lesdits revêtements inférieur (11) et supérieur (13) sont constitués du même matériau à base de silice contenant au moins un additif de dopage capable de diffuser sous l'effet de la chaleur et tel que l'augmentation de sa concentration provoque une diminution de l'indice de réfraction de la silice dans laquelle il est incorporé, et en ce que le dépôt desdits revêtements inférieur (11) et supérieur (13) est effectué de sorte que la concentration en additif de dopage dans lesdits revêtements inférieur (11) et supérieur (13) augmente progressivement le long de ladite zone d'extrémité (104, 105) depuis la transition entre ladite zone d'extrémité (104, 105) et ladite zone intermédiaire (106) jusqu'à l'approche de ladite face latérale (14, 15). 9/ Procédé selon la revendication 8 caractérisé en ce que ledit additif de dopage desdits revêtements inférieur (11) et supérieur (13) est du fluor. 10/ Procédé selon l'une des revendications 4 à 9 caractérisé en ce que le dépôt desdits revêtements (11, 12, 13) est effectué par hydrolyse dans la flamme (21) d'un chalumeau oxhydrique (20) des précurseurs gazeux des matériaux à déposer. 11/ Procédé selon l'une des revendications 4 à 10 caractérisé en ce que lesdits guides d'ondes (16) sont obtenus à partir dudit second revêtement (12) par des opérations successives de masquage photolithographique et de gravure ionique réactive.