FR 2685011 A1 19930618 FR 9115537 A 19911213 L'invention a trait à un procédé de préparation d'un élément de cible pour pulvérisation cathodique. Elle se rapporte encore à la réalisation de cibles, notamment cibles de grande surface, à partir de cet élément. Le revêtement de matériaux divers par des couches minces à propriétés particulières connaît actuellement un développement considérable. On peut citer notamment le dépôt de couches anticorrosion sur les métaux, de couches antireflet sur les verres d'optique ou encore le dépôt de matériaux ultradurs sur des pièces mécaniques. De nombreuses méthodes ont été proposées pour la réalisation de telles couches, lesdites méthodes dépendant, entre autres, de la nature du ou des composés générateurs de la couche de revêtement. Ainsi, lorsque lesdits composés générateurs sont gazeux, on peut faire appel aux diverses méthodes de dépôt chimique en phase vapeur assisté ou non par plasma. Avec des composés générateurs liquides ou susceptibles d'être mis en solution, on peut employer des méthodes électrochimiques, s'il s'agit de déposer une couche d'un métal, ou encore utiliser des méthodes telles que celles dites de dépôt à la tournette (en anglais "spin coating") ou de dépôt par pulvérisation d'un brouillard chaud (en anglais "hot spray"). Dans le cas ou la source génératrice du revêtement est un matériau solide, la méthode la plus utilisée pour réaliser le revêtement est la pulvérisation cathodique. Dans une telle méthode, le matériau solide générateur du revêtement, que l'on désigne généralement par le vocable "matériau cible" ou "cible" et qui peut être constitué par un métal ou un alliage métallique ou bien encore consister en un composé chimique inorganique à point de fusion très élevé, par exemple une céramique ou un oxyde réfractaire, est bombardé par des ions ayant une énergie suffisante pour arracher des particules du matériau cible, lesdites particules se déposant sur l'objet à revêtir en formant sur ce dernier le revêtement recherché. Pour des raisons d'homogénéité et de vitesse de croissance du dépôt formé des particules arrachées au matériau cible, il est nécessaire que la surface dudit matériau cible à déposer sur l'objet soit de taille suffisante. Dans le cas du revêtement d'objets de grande surface, vitrages par exemple, on est ainsi conduit à utiliser des cibles de grande surface, dont la surface est avantageusement plus grande que celle de l'objet à revêtir. Si la fabrication de cibles de grande surface à partir de métaux ou d'alliages métalliques ne pose pas de problèmes, il n'en est plus de même lorsqu'il s'agit de matériaux du type des composés chimiques inorganiques à point de fusion élevé. En effet, pour de tels matériaux, la fabrication de la cible passe par la réalisation d'une céramique ou d'un produit fritté constitué desdits matériaux. La réalisation d'une céramique ou d'un produit fritté de grande surface nécessite la mise au point, au coup par coup, du procédé le plus approprié, une telle mise au point étant le plus souvent longue, difficile et par conséquent onéreuse et de plus elle doit être faite impérativement par un spécialiste. L'invention propose un procédé simple, rapide et peu onéreux pour la préparation d'un élément de cible pour pulvérisation cathodique en un matériau inorganique du type céramique ayant un point de fusion supérieur à 300 C. Un tel procédé peut être mis en oeuvre par des personnes n'ayant pas de compétences particulières dans l'art de la céramique ou du frittage et il conduit aisément à l'obtention d'éléments de cible permettant de réaliser facilement des cibles de grande surface. Le procédé selon l'invention pour la préparation d'un élément de cible pour pulvérisation cathodique en un matériau inorganique du type céramique ayant un point de fusion supérieur à 300 C, se caractérise en ce que l'on constitue un système précurseur du matériau inorganique susceptible de donner naissance audit matériau à des températures e comprises entre 300"C et 1600"C et inférieures au point de fusion de ce matériau, ledit système précurseur renfermant au moins 20% molaire d'un adjuvant inorganique consistant en au moins un composé inorganique ayant un point de fusion inférieur ou égal à la température e choisie pour la production du matériau inorganique, on forme une couche dudit système précurseur sur un support, qui est sensiblement inerte vis à vis du système précurseur et du matériau inorganique céramique à produire et qui est thermiquement et mécaniquement stable jusqu'à des températures supérieures à e, à l'exclusion d'un support en mousse ou en feutre métallique, on porte l'ensemble support/système précurseur à la température e choisie pour produire le matériau inorganique, avec une vitesse de montée en température propre à éviter la formation de dendrites, puis l'on maintient ledit ensemble à cette température e pendant une durée suffisante pour transformer le système précurseur en ledit matériau inorganique céramique, et l'on refroidit ensuite l'ensemble support/matériau inorganique pour le ramener à la température ambiante en réalisant ce refroidissement de manière à éviter tout phénomène de trempe. Le matériau inorganique du type céramique constituant l'élément de cible peut être notamment un oxyde, un sulfure, un halogénure ou un oxyhalogénure métallique dont le point de fusion est supérieur à 300"C, ledit matériau inorganique dérivant d'un ou plusieurs métaux, qui peuvent être ou non des métaux de transition. En particulier, le matériau inorganique formant l'élément de cible peut répondre à l'une ou l'autre des formules E k zpP et Mxq Trn zzP, dans lesquelles E représente au moins un métal des groupes I à VIII du Tableau Périodique des Eléments, par exemple Fe, Cu, Co, Ni, Ti, Cr, Mo, Sn, W et In, M et T désignent au moins deux métaux différents des groupes I à VIII dudit Tableau Périodique, par exemple Li, Na, K, Ag, Cu et Tl pour M et Ni, Co, W, Mn, Fe, Cr, V et Ti pour T, Z est au moins un élément choisi parmi oxygène, soufre, fluor et chlore, les symboles k, q, n et p désignent les degrés d'oxydation moyens des éléments E, M, T et Z respectivement, a et ss désignent des nombres entiers positifs tels que ak+ssp=o et x, y et z désignent des nombres entiers positifs tels que qx+ny+pz=o. Le terme degré d'oxydation moyen, appliqué à chaque élément, traduit le fait que l'élément concerné peut avoir plusieurs degres d'oxydation dans le composé considéré. Le matériau inorganique peut être tout spécialement un oxyde et notamment un oxyde ayant l'une ou l'autre des formules Ek n2- et M9 n n 2-, dans lesquelles E est au moins a xY7 x un métal des groupes I à VIII du Tableau Périodique des Eléments, par exemple Fe, Cu, Co, Ni, W, Mo, Ti, Cr, Sn et In, M et T désignent au moins deux metaux différents dudit Tableau Périodique, par exemple Li, Na, K, Ag, Cu et Tl pour M et Ni, Co, W, Mn, Cr, Fe, V et Ti pour T, les symboles k, q et n désignant les degrés d'oxydation moyens de E, M et T respectivement, a et B sont des nombres entiers positifs tels que ak - 2ss = O et x, y et z désignent des nombres entiers positifs tels que qx + ny - 2z = O.Comme exemples de tels oxydes on peut citer à titre non limitatif W03, Moto3, Cr203, TiO2, Fe203, LiZ-v NiO2 avec O LiFe02 LiWO3 et Li2Wo4. L'adjuvant inorganique présent dans le mélange précurseur du matériau inorganique peut être choisi notamment parmi les halogénures, en particulier fluorures et chlorures, et les carbonates des métaux alcalins, notamment sodium, lithium et potassium. Par exemple, l'adjuvant inorganique peut consister en un ou plusieurs composés tels que fluorure de lithium, chlorure de lithium, carbonate de lithium, carbonate de sodium et carbonate de potassium. Avantageusement, le système précurseur du matériau inorganique renferme entre 20% et 80% molaire de l'adjuvant inorganique. Le système précurseur du matériau inorganique peut consister en le matériau inorganique lui même, comme c'est le cas notamment pour les matériaux inorganiques précités de formule E kZB et notamment pour les oxydes de formule Ep2 tels que ceux mentionnés précédemment. Le système précurseur du matériau inorganique peut être également formé d'un mélange d'ingrédients conduisant, par réaction chimique à des températures inférieures ou égales à e, au matériau inorganique envisagé.Ainsi, lorsque le matériau inorganique consiste en un composé de formule MxqTynZzp et notamment en un oxyde de formule MxqTynOz2-, le système précurseur du matériau inorganique peut consister en un mélange, en proportions appropriées, d'au moins un composé de métal M et d'au moins un composé de métal T, qui sont susceptibles de former le composé MxqTynZzp ou le composé MxqTynOz2- à la température e. Par exemple, lorsque le matériau inorganique est un oxyde de formule MxqTynOz2-, c'est-à-dire une céramique du type oxyde mixte, le mélange précurseur d'un tel oxyde peut consister avantageusement en un mélange d'au moins un carbonate de métal M de formule M9 (O03)4x et d'au moins un oxyde de métal T de formule TnO2- Ainsi, à partir d'un système r précurseur renfermant des quantités équimoléculaires de Li2CO3 et NiO, de Li2CO3 et Cr203, de Li2CO3 et Fe203 ou de Li2CO3 et W03 on forme respectivement les matériaux inorganiques céramiques de formules Li2NiO2, LiOrO2, LiFeO2 et Li2WO4. Lorsque le système précurseur renferme un mélange d'ingrédients réagissant chimiquement à la température e pour former le matériau inorganique envisagé et que l'un desdits ingrédients a une température de fusion inférieure ou égale à e, cet ingrédient peut constituer l'adjuvant inorganique qui doit être présent dans le système précurseur du matériau inorganique.Ainsi, lorsque l'on produit un matériau inorganique du type oxyde mixte de formule dans laquelle M désigne un métal alcalin, notamment Li, Na ou K, à partir d'un système précurseur renfermant au moins un carbonate de métal M de formule Mxq(CO3)qx et au moins un 2 oxyde de métal T de formule TynOny/2'2- en opérant à une température e comprise entre le point de fusion du carbonate de métal M et 1600O, ledit carbonate peut jouer le rôle d'adjuvant inorganique sans utilisation d'un tiers adjuvant. Par exemple, lorsque l'on produit un matériau inorganique du type oxyde mixte de formule LixTynOz2-, à partir d'un système précurseur renfermant Li2CO3 et au moins un oxyde de métal T de formule TynOny/2'2- en opérant à une température e comprise entre 723 C et 1600 C, le carbonate de lithium du système précurseur peut jouer le rôle d'adjuvant inorganique sans addition d'un tiers adjuvant. Pour son application sur le support, le système précurseur du matériau inorganique peut se presenter sous la forme d'une poudre de granulométrie appropriée, par exemple comprise entre 5 m et 200pm et de préférence entre 1011m et 100clam. Dans ce cas, l'application du système précurseur du matériau inorganique sur le support est effectuée par saupoudrage dudit support au moyen de la poudre. On peut également realiser une pâte d'enduction en mélangeant la poudre du système précurseur avec un ou plusieurs liquides tels que l'eau ou un liquide organique ou bien encore préparer un gel à partir du système précurseur pulvérulent suivant l'une quelconque des techniques conventionnelles sol/gel, puis enduire le support au moyen de ladite pâte ou dudit gel. Comme indiqué précédemment, le support sur lequel on applique la couche du système précurseur du matériau inorganique doit être sensiblement inerte vis à vis dudit matériau et de son système précurseur et en outre il doit être stable thermiquement et mécaniquement, c'est-à-dire conserver sa forme sans se détériorer, jusqu'à des températures supérieures, par exemple d'au moins 50 C, à la température e choisie pour produire le matériau inorganique. Le support peut être notamment un support en un métal ou alliage métallique tel que, par exemple, platine, laiton, titane, nickel, cuivre ou acier inoxydable, à l'exclusion de tout support en mousse ou feutre métallique, ou bien encore un support en une matière céramique telle que, par exemple, l'alumine ou l'oxyde de titane. L'utilisation d'un support lisse, par exemple support métallique lisse, permet, à l'issue du refroidissement de l'ensemble matériau inorganique/support, de séparer le matériau inorganique constituant l'élément de cible d'avec le support. Par contre, en employant un support plus ou moins rugueux, le matériau inorganique reste solidaire du support. Si l'on utilise un support non lisse en une matière facilement usinable, par exemple matière céramique friable, on peut cependant isoler le matériau inorganique formant l'élément de cible en séparant mécaniquement ledit matériau inorganique d'avec le support, puis en soumettant à un usinage, par exemple meulage, la face dudit matériau inorganique constituant l'élément de cible, qui était en contact avec le support. La température e comprise entre 300"C et 1600O et inférieure à la température de fusion du matériau inorganique, que l'on choisit pour produire ledit matériau inorganique à partir du système précurseur renfermant l'adjuvant inorganique, correspond à une température à laquelle le système précurseur se transforme en le matériau inorganique par frittage ou/et céramisation. De préférence, ladite température e est choisie entre 600"C et 1200 C. Lorsque l'application du système précurseur du matériau inorganique sur le support est réalisée par enduction au moyen de produits humides du type pâte ou gel, l'ensemble issu de l'enduction du support par la pâte ou le gel est avantageusement soumis à une étape de séchage jusqu'à l'obtention d'un produit sensiblement sec, avant la phase de montée en température pour atteindre la température e de production du matériau inorganique. Lorsque l'ensemble système précurseur/support est porté à la température e, la vitesse de montée en température est avantageusement comprise entre 0,05"C et 20"C par minute et elle se situe de préférence entre 0,1"C et 10 C. De même, lors du refroidissement de l'ensemble matériau inorganique/support depuis la température e jusqu'à l'ambiante, on opère avantageusement avec des vitesses de refroidissement allant de 0,05"C à 20"C par minute et plus particulièrement de 0,1"C à 10 C par minute. Le maintien de l'ensemble système précurseur/support à la température e doit avoir lieu pendant une durée suffisante pour produire un matériau inorganique fritté ou/et céramisé à partir du système précurseur. Ladite durée peut être avantageusement comprise entre 30 minutes et 20 heures. Lorsqu'il est produit sur un support non lisse difficilement usinable, l'élément de cible en le matériau inorganique fritte ou/et céramiste reste adhérant au support et l'ensemble matériau inorganique/support obtenu peut être utilisé directement comme cible dans un dispositif de pulvérisation cathodique. Lorsqu'il est produit sur un support non lisse friable (facilement usinable) ou bien sur un support lisse, l'élément de cible en le matériau inorganique fritté ou/et céramise est séparé d'avec le support, puis collé sur un substrat métallique, par exemple un substrat en laiton, titane, aluminium, cuivre, tungstène ou acier inoxydable, au moyen d'un adhésif conducteur de la chaleur et de l'électricité, pour constituer une cible pouvant être montée dans un dispositif de pulvérisation cathodique. Selon l'invention, on peut produire directement un élément de cible de grande surface, par exemple de l'ordre de 100cm2 à 1m2, sur un support non lisse difficilement usinable et utiliser l'ensemble obtenu comme cible de grande surface. On peut encore produire un élément de cible de grande surface sur un support lisse ou sur un support non lisse friable, puis, après avoir séparé l'élément de cible d'avec le support, coller ledit élément, comme indiqué plus haut, sur un substrat métallique de surface correspondante pour produire une cible de grande surface. On peut encore réaliser une cible de grande surface en produisant des éléments de cible, ayant une surface plus petite que celle de la cible de grande surface à réaliser, en faisant appel à un support non lisse friable ou à un support lisse, puis, après avoir séparé les éléments de cible d'avec leurs supports, en collant, comme indique cidessus, une pluralité desdits éléments de cible sur un substrat métallique de surface correspondant à celle de la cible de grande surface à produire, lesdits éléments de cible etant disposés sur le substrat de manière jointive pour couvrir sur ce substrat une surface correspondant à celle désirée pour la cible de grande surface. Avantageusement, pour les cibles de petite, moyenne ou grande surface obtenues par collage, réalise comme indiqué précédemment, d'un ou plusieurs éléments de cible sur un substrat métallique de surface appropriée, le substrat métallique présente une surface dont le contour entoure le contour de l'élément de cible unique ou de l'élément de cible résultant de la juxtaposition jointive d'éléments de cible de petite surface, lesdits contours étant de préférence parallèles entre eux, de manière à définir, sur la face du substrat métallique sur laquelle le ou les éléments de cible sont collés, un zone marginale entourant l'élément de cible.Dans cette zone marginale peuvent déboucher des orifices traversant le substrat métallique et destinés au passage d'organes de fixation, par exemple vis ou autres, permettant de fixer la cible sur un organe support appartenant au dispositif de pulvérisation cathodique. Sur le dessin annexé, les figures la et lb montrent schématiquement une vue de dessus (figure la) et une coupe longitudinale (figure lb) d'une cible de grande surface obtenue à partir d'un seul élément de cible ayant une grande surface et les figures 2a et 2b représentent schématiquement une vue de dessus (figure 2a) et une coupe longitudinale (figure 2b) d'une cible de grande surface obtenue à partir d'une pluralité d'éléments de cible de surface plus petite. En se référant aux figures la et lb, une cible 1 de grande surface comporte un élément de cible 2 de grande surface constitue d'un matériau inorganique obtenu par le procédé de l'invention. L'élément de cible 2 a la forme d'un rectangle ayant, par exemple, une longueur de 15cm et une largeur de 10cm. L'élément 2 est solidarisé par une couche 3 d'un adhésif conducteur de la chaleur et de l'électricité, par exemple une colle conductrice époxy bicomposante renfermant de l'argent, à un substrat métallique 4 ayant des dimensions légèrement supérieures à celles de l'élément rectangulaire 2 de telle sorte que le contour formé des bords 5 à 8 du substrat métallique rectangulaire 4 entoure le contour formé des bords 9 à 12 de l'élément rectangulaire de cible 2 et lui soit parallèle, de manière à définir sur la face 13 du substrat métallique sur laquelle l'élément 2 est collé, une zone marginale 14 entourant ledit élément 2.Dans cette zone marginale débouchent des orifices tels que 15 traversant le substrat métallique et destinés au passage d'organes de fixation, par exemple vis ou autres, permettant de monter la cible 1 sur un organe support appartenant au dispositif de pulvérisation cathodique. En se référant aux figures 2a et 2b, une cible 21 de grande surface comporte un élément de cible 22 de grande surface, qui a la forme d'un rectangle, par exemple rectangle de 15cm de longueur et de 10cm de largeur, et résulte de la juxtaposition jointive de six éléments de cible 36 à 41 ayant chacun la forme d'un carré, par exemple de 5cm de côté.Les éléments de cible 36 à 41 qui constituent l'élément de cible 22 sont solidarisés par une couche 23 d'un adhésif conducteur de la chaleur et de l'électricité, par exemple une colle conductrice époxy bicomposante renfermant de l'argent, à un substrat métallique 24 ayant des dimensions légèrement supérieures à celles de l'élément rectangulaire 22 de telle sorte que le contour formé des bords 25 à 28 du substrat métallique 24 rectangulaire entoure le contour formé des bords 29 à 32 de l'élément rectangulaire 22 et lui soit parallèle, de manière à definir sur la face 33 du substrat métallique sur laquelle les éléments de cible 36 à 41 formant l'élément 22 sont collés, une zone marginale 34 entourant ledit élément 22. Dans cette zone marginale débouchent des orifices tels que 35 traversant le substrat métallique et destinés au passage d'organes de fixation, par exemple vis ou autres, permettant de monter la cible 21 sur un organe support appartenant à un dispositif de pulvérisation cathodique. Les éléments de cible 36 à 41, dont l'assemblage jointif conduit à l'élément 22 de grande surface, sont des éléments constitués chacun d'un matériau inorganique obtenu par le procédé de l'invention en faisant appel à un support métallique lisse ou à un support non lisse en une matière facilement usinable. L'invention est illustrée par les exemples suivants, donnés à titre non limitatif. EXEMPLE 1 élément de cible d'oxvde mixte de lithium et de nickel de composition LiNiO2 et cible correspondante On formait un système précurseur du matériau inorganique céramique LiNiO2 en plaçant dans un mortier 7,4g de carbonate de lithium Li20O3 et 15,2g d'oxyde de nickel Nio, lesdits carbonate et oxyde se présentant sous la forme de poudres de granulométrie comprise entre 1011m et 100pu, et en broyant le tout jusqu'à obtenir un produit homogène. Sur un support consistant en une plaque de céramique friable constituée d'une alumine à gros grains, ladite plaque ayant la forme d'un carre de 7cm de côté et une épaisseur de 5mm, on épandait au gabarit une quantité du système précurseur pulvérulent propre à former une couche de poudre ayant la forme d'un carré de 5cm de côté et présentant une épaisseur de 5mm. L'ensemble système précurseur/support était amené depuis la température ambiante jusqu'à une température e égale à 750 C, dans l'air atmosphérique, avec une vitesse de montée en température égale à 5"C par minute, puis il était maintenu à ladite température e pendant une durée de 8 heures pour produire l'oxyde mixte LiNio2 à partir du système précurseur.La fusion du carbonate de lithium à la température de 732"C provoque la prise en masse du système précurseur, ce qui conduit à l'obtention d'un matériau inorganique céramique Lino2 de haute densité. A l'issue de la durée de huit heures précitée, l'ensemble matériau inorganique/support était refroidi depuis la température e jusqu'à la température ambiante avec une vitesse de refroidissement d'environ 5"C par minute. Le matériau inorganique céramique LiNiO2 obtenu adhérait au support. I1 en était décollé mécaniquement pour former une plaquette sur l'une des faces de laquelle restaient fixés des grains du support friable. Après usinage à la meule de la face de la plaquette portant les grains de support, on obtenait une plaquette du matériau inorganique ceramique LiNiO2 formant l'élément de cible, ladite plaquette ayant la forme d'un carré de 5cm de côté et présentant une épaisseur de 4mm. L'élément de cible, obtenu comme décrit ci-dessus, était collé sur un substrat consistant en une plaque de laiton ayant la forme d'un carré de 7cm de côté et présentant une épaisseur de lmm, à l'aide d'une colle conductrice époxy bicomposante à l'argent, de manière à laisser apparente, sur la face du substrat portant l'élément cible, une bande marginale de lcm de largeur, dans laquelle on perçait des orifices pour le passage d'organes de fixation tels que des vis. On obtenait alors une cible ayant une structure comparable à celle schématisée sur les figures la et lb, ladite cible ayant une surface utile (surface de l'élément de cible) de 25 cm2. La cible ainsi réalisée a été utilisée en pulvérisation cathodique à courant continu pour la production, avec des résultats satisfaisants, d'un dépôt mince d'oxyde de lithium et de nickel sur un substrat. EXEMPLE 2 Eléments de cible d'oxyde mixte de lithium et de nickel de composition Lino2 et cible correspondante de brande surface En opérant comme décrit dans l'exemple 1, on préparait des éléments de cible d'oxyde mixte de lithium et de nickel de composition LiNiO2 ayant chacun une surface de 25cm2, lesdits éléments se présentant chacun sous la forme d'une plaquette du matériau inorganique LiNiO2 ayant la forme d'un carré de 5cm de côté et présentant une épaissseur de 4mm. Six éléments de cible obtenus étaient collés jointivement sur un substrat consistant en une plaque d'aluminium ayant la forme d'un rectangle de 17 cm de longueur et 12 cm de largeur et présentant une épaisseur de lmm, à l'aide d'une colle conductrice époxy bicomposante renfermant de l'argent, de manière à occuper sur le substrat une surface en forme de rectangle de 15 cm de longueur et 10cm de largeur et à laisser apparente, sur la face du substrat portant les éléments de cible, une bande marginale de lcm de largeur, dans laquelle on perçait des orifices pour le passage d'organes de fixation tels que des vis.On obtenait alors une cible de grande surface ayant une structure comparable à celle schématisée sur les figures 2a et 2b, ladite cible ayant une surface utile (surface occupée par l'ensemble des éléments de cible) égale à 150cm2. La cible ainsi réalisée a été utilisée en pulvérisation cathodique à courant continu pour produire, avec des résultats satisfaisants, un dépôt mince d'oxyde mixte de lithium et de nickel de composition LiNio2 sur un substrat. EXEMPLE 3 Elément de cible de grande surface consistant en oxvde mixte de lithium et de nickel de composition Lino92 et cible correspondante On formait un système précurseur du matériau inorganique LiNiO2 en plaçant dans un mortier 7,4 parties en poids de Li2Co3 et 15,2 parties en poids d'oxyde de nickel Nio, lesdits carbonate et oxyde se présentant sous la forme de poudres de granulométrie comprise entre 10pm et 100pu, et en broyant le tout jusqu'à l'obtention d'un produit homogène. Sur un support consistant en une plaque de laiton ayant des faces lisses, ladite plaque ayant la forme d'un rectangle de 18cm de longueur et 12cm de largeur et présentant une épaisseur de lmm, on épandait au gabarit une quantité du système précurseur pulvérulent propre à former une couche de poudre ayant la forme d'un rectangle de 15cm de longueur et 10cm de largeur et présentant une épaisseur de 5mm. L'ensemble système précurseur/ support etait porté depuis la température ambiante jusqu'à une température e egale à 750 C, dans l'air atmospherique, avec une vitesse de montée en température égale à 5"C par minute, puis il était maintenu à la dite température e pendant une durée de 5 heures pour produire l'oxyde mixte Lino2 à partir du système précurseur.La fusion du carbonate de lithium à la température de 732"C provoquait la prise en masse du système précurseur, ce qui conduisait à l'obtention d'un matériau inorganique céramique Lino2 de haute densité. A l'issue de la durée de 5 heures précitée, l'ensemble matériau inorganique/support etait refroidi depuis la température e jusqu'à la température ambiante avec une vitesse de refroidissement d'environ 5"C par minute. Le matériau inorganique céramique LiNiO2 se décollait facilement du support lisse et l'on obtenait une plaque rectangulaire du matériau inorganique céramique Lino2 formant l'élément de cible de grande surface, ladite plaque ayant la forme d'un rectangle de 15 cm de longueur et 10 cm de largeur et présentant une épaisseur de 4 mm. L'élément de cible obtenu était collé sur un substrat consistant en une plaque d'aluminium ayant la forme d'un rectangle de 17cm de longueur et 12 cm de largeur et présentant une épaisseur de lmm, à l'aide d'une colle conductrice époxy bicomposante renfermant de l'argent, de manière à occuper sur le substrat une surface en forme de rectangle de 15cm de longueur et 10cm de largeur et à laisser apparente, sur la face du substrat portant l'élément de cible, une bande marginale de lcm de largeur, dans laquelle on perçait des orifices pour le passage d'organes de fixation tels que des vis. On obtenait ainsi une cible de grande surface ayant une structure comparable à celle schématisée sur les figures la et lb, ladite cible ayant une surface utile (surface occupée par l'élément de cible) égale à 150cm2. La cible ainsi réalisée a été utilisée en pulvérisation cathodique à courant continu pour produire, avec des résultats satisfaisants, un dépôt mince d'oxyde mixte de Lino02 sur un substrat. EXEMPLE 4 Eléments de cible d'oxvde mixte de lithium et de tungstène et cible corresDondante de brande surface On préparait des éléments de cible d'oxyde mixte de lithium et de tungstène en opérant comme décrit dans l'exemple 1 avec toutefois remplacement de l'oxyde de nickel Nio par la même quantité molaire d'oxyde de tungstène WO3. A la fin des opérations, après séparation d'avec le support et usinage à la meule, on obtenait des plaquettes de matériau inorganique céramique consistant en oxyde mixte de lithium et de tungstène et formant des éléments de cible selon l'invention, chaque plaquette ayant la forme d'un carré de 5cm de côté et présentant une épaisseur de 4mm. Six éléments de cible ainsi obtenus étaient collés comme indiqué dans l'exemple 2 sur un substrat consistant en une plaque d'aluminium ayant la forme d'un rectangle de 17cm de longueur et 12cm de largeur et présentant une épaisseur de lmm pour former une cible de grande surface ayant une structure comparable à celle schématisée sur les figures 2a et 2b, ladite cible ayant une surface utile (surface occupée par l'ensemble des éléments de cible) égale à 150cm2. La cible réalisée a été utilisée en pulvérisation cathodique pour produire, avec des résultats satisfaisants, un dépôt mince d'oxyde mixte de lithium et de tungstène sur un substrat. EXEMPLE 5 Element de cible de grande surface consistant en oxvde mixte de lithium et de tungstène et cible correspondante On préparait un élément de cible de grande surface consistant en oxyde mixte de lithium et de tungstène en opérant comme décrit dans l'exemple 3 avec toutefois remplacement de l'oxyde de nickel Nio par la même quantité molaire d'oxyde de tungstène WO3 A la fin des opérations, après séparation d'avec le support, on obtenait une plaque de matériau inorganique céramique consistant en oxyde mixte de lithium et de tungstène, ladite plaque formant un élément de cible de grande surface selon l'invention. Cette plaque avait une longueur de 15cm et une largeur de 10cm et présentait une épaisseur de 4mm. L'élément de cible de grande surface obtenu était collé comme décrit dans l'exemple 3 sur un substrat consistant en une plaque d'aluminium ayant la forme d'un rectangle de 17cm de longueur et 12cm de largeur et présentant une épaisseur de lmm pour former une cible de grande surface ayant une structure comparable à celle schématisée sur les figures la et lb, ladite cible ayant une surface utile (surface occupée par l'élément de cible) égale à 150cm2. La cible ainsi réalisée a été utilisée en pulvérisation cathodique pour produire, avec des résultats satisfaisants, un dépôt mince d'oxyde mixte de lithium et de tungstène sur un substrat. REVENDICATIONS 1 - Procédé pour la préparation d'un élément de cible pour pulvérisation cathodique en un matériau inorganique du type céramique ayant un point de fusion supérieur à 300 cl, caractérisé en ce que l'on constitue un système précurseur du matériau inorganique susceptible de donner naissance audit matériau à des températures e comprises entre 300 CC et 1600 CC et inférieures au point de fusion de ce matériau, ledit système précurseur renfermant au moins 20% molaire d'un adjuvant inorganique consistant en au moins un composé inorganique ayant un point de fusion inférieur ou égal à la température e choisie pour la production du matériau inorganique, on forme une couche dudit système précurseur sur un support, qui est sensiblement inerte vis à vis du système précurseur et du matériau inorganique céramique à produire et qui est thermiquement et mécaniquement stable jusqu'à des températures supérieures à e, à l'exclusion d'un support en mousse ou feutre métallique, on porte l'ensemble support/système précurseur à la température e choisie pour produire le matériau inorganique, avec une vitesse de montée en température propre à éviter la formation de dendrites, puis l'on maintient ledit ensemble à cette température e pendant une durée suffisante pour transformer le système précurseur en ledit matériau inorganique céramique, et l'on refroidit ensuite l'ensemble support/matériau inorganique pour le ramener à température ambiante en réalisant ce refroidissement de manière à éviter tout phénomène de trempe. 2 - Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le matériau inorganique du type céramique à produire est un oxyde, un sulfure, un halogénure ou un oxyhalogénure métallique dont le point de fusion est supérieur à 300 cl, ledit matériau inorganique dérivant d'un ou plusieurs métaux, qui peuvent être ou non des métaux de transition. 3 - Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que le matériau inorganique répond à l'une ou l'autre des formules EkZ; et M9TnZP, dans lesquelles E represente au moins un métal des groupes I à VIII du Tableau Périodique des Eléments, par exemple Fe, Cu, Co, Ni, Ti, Cr, Mo, W, Sn et In, M et T désignent au moins deux métaux différents des groupes I à VIII dudit Tableau Périodique, par exemple Li, Na, K, Ag, Cu et T1 pour M et Ni, Co, W, Mn, Fe, Cr, V et Ti pour T, Z est au moins un élément choisi parmi oxygène, soufre, fluor et chlore, les symboles k, q, n et p désignent les degrés d'oxydation moyens des éléments E, M, T et Z respectivement, a et ss designent des nombres entiers positifs tels que ak+ssp=O et x, y et z désignent des nombres entiers positifs tels que qx+ny+pz=O. 4 - Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que le matériau inorganique est un oxyde et notamment un oxyde répondant à l'une ou l'autre des formules EkOss- et MxqTynOz2-, dans lesquelles E est au moins un métal des groupes I à VIII du Tableau Périodique des Eléments, par exemple Fe, Cu, Co, Ni, W, Mo, Ti, Cr, Sn et In, M et T désignent au moins deux métaux différents dudit Tableau Périodique, par exemple Li, Na, K, Ag, Cu et Tl pour M et Ni, Co, W, Mn, Cr, Fe, V et Ti pour T, les symboles k, q et n désignent les degrés d'oxydation moyens de E, M et T respectivement, a et ss sont des nombres entiers positifs tels que ak-2ss=O et x, y et z désignent des nombres entiers positifs tels que qx+ny-2z=O. 5 - Procédé selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que le système précurseur du matériau inorganique renferme le matériau inorganique lui-même. 6 - Procédé selon la revendication 3, caractérisé en ce que le matériau inorganique répond à la formule EdkZP et en ce que le système précurseur du matériau inorganique renferme ledit matériau lui-même. 7 - Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que le matériau inorganique répond à la formule EkOp- et en ce que le système précurseur du matériau inorganique renferme ledit matériau lui-même. 8 - Procédé selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que le système précurseur du matériau inorganique est formé d'un mélange d'ingrédients conduisant, par réaction chimique à des températures inférieures ou égales à e, au matériau inorganique envisagé. 9 - Procédé selon la revendication 3, caractérisé en ce que le matériau inorganique répond à la formule MTtZPz et en ce que le système précurseur du matériau inorganique consiste en un mélange renfermant, en proportions appropriées, au moins un composé de métal M et au moins un composé de métal T, qui sont susceptibles de former le matériau inorganique MXqTrnZzP à la température e. 10- Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que le matériau inorganique répond à la formule MxqTynOz2- et xyz en ce que le système précurseur du matériau inorganique consiste en un mélange renfermant, en proportions appropriées, au moins un composé de métal M et au moins un composé de métal T, qui sont susceptibles de former le matériau inorganique MxqTyo2- à la température e. 11- Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que le système précurseur du matériau inorganique consiste en un mélange renfermant au moins un carbonate de métal M de formule Mxq (CO3)qx et au moins un oxyde de métal T de formule TPO2-#n. 12- Procédé selon l'une des revendications 1 à 11, caractérisé en ce que l'adjuvant inorganique est choisi parmi les halogénures , en particulier fluorures et chlorures, et les carbonates des métaux alcalins, notamment lithium, sodium et potassium. 13- Procédé selon l'une des revendications 8 à 11, caractérisé en ce que dans le système précurseur renfermant un mélange d'ingrédients réagissant chimiquement à la température e pour former le matériau inorganique, l'un desdits ingrédients a une température de fusion inférieure ou égale à e, ledit ingrédient constituant alors l'adjuvant inorganique présent dans le système précurseur. 14- Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce que le système précurseur du matériau inorganique consiste en un melange constitué d'au moins un carbonate de métal M de formule MXq(CO3) s avec M représentant un métal alcalin, notamment Li, Na ou K, et d'au moins un oxyde de métal T de formule TnO2- ledit carbonate constituant r nY' l'adjuvant inorganique présent dans le système précurseur et en ce que la température e est comprise entre le point de fusion du carbonate de métal M et 1600 C. 15- Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que le carbonate du système précurseur est le carbonate de lithium Li2CO3 et en ce que la température e est comprise entre 723"C et 1600 C. 16- Procédé selon l'une des revendications 1 à 15, caractérisé en ce que le système précurseur du matériau inorganique renferme entre 20% et 80% molaire de 1 'adjuvant inorganique. 17- Procédé selon l'une des revendications 1 à 16, caractérisé en ce que le système précurseur du matériau inorganique se présente sous la forme d'une poudre de granulométrie appropriée et en ce que l'application dudit système précurseur sur le support est effectuée par saupoudrage dudit support au moyen de cette poudre. 18- Procédé selon l'une des revendications 1 à 16, caractérisé en ce que le système précurseur du matériau inorganique se présente sous la forme d'une pâte d'enduction, obtenue en mélangeant le système précurseur en poudre avec un ou plusieurs liquides tels que l'eau ou un liquide organique, ou bien sous la forme d'un gel, obtenu à partir du système précurseur pulvérulent par une technique sol/gel, et en ce que l'application du système précurseur sur le support est effectuée par enduction au moyen de ladite pâte ou dudit gel. 19- Procédé selon la revendication 18, caractérisé en ce que l'ensemble issu de l'enduction du support par la pâte ou le gel est soumis à une étape de séchage avant la phase de montée en température pour atteindre la température e. 20- Procédé selon l'une des revendications 1 à 19, caractérisé en ce que la température e comprise entre 300"C et 160000 et inférieure à la température de fusion du matériau inorganique, que l'on choisit pour produire ledit matériau inorganique à partir du système précurseur renfermant l'adjuvant inorganique, correspond à une température à laquelle le système précurseur se transforme en le matériau inorganique par frittage ou/et ceramisation, ladite température e étant en particulier choisie entre 600"C et 1200 O. 21- Procédé selon l'une des revendications 1 à 20, caractérisé en ce que la vitesse de montée en température pour atteindre la température e est comprise entre 0,05"C et 20"C par minute et de préférence entre 0,1"C et 10 C par minute. 22- Procédé selon l'une des revendications 1 à 21, caractérisé en ce que la durée de maintien de l'ensemble système précurseur/support à la température e est comprise entre 30 minutes et 20 heures. 23- Procédé selon l'une des revendications 1 à 22, caractérisé en ce que le refroidissement de l'ensemble matériau inorganique/support depuis la température e jusqu'à l'ambiante est réalisé avec des vitesses de refroidissement allant de 0,05 c à 20"C par minute et plus particulièrement de 0,1"C à 10 C par minute. 24- Procédé selon l'une des revendications 1 à 23, caractérisé en ce que le support utilisé est un support en un metal ou alliage métallique, par exemple support en platine, laiton, titane, nickel, cuivre ou acier inoxydable, à l'exclusion de tout support en mousse ou feutre métallique, ou bien encore un support en une matière céramique. 25- Procédé selon l'une des revendications 1 à 24, caractérisé en ce que l'on utilise un support lisse, par exemple un support métallique lisse, et l'on sépare le matériau inorganique constituant l'élément de cible d'avec le support. 26- Procédé selon l'une des revendications 1 à 24, caractérisé en ce que l'on utilise un support non lisse en un matériau facilement usinable, par exemple céramique friable, et l'on sépare mécaniquement le matériau inorganique constituant l'élément de cible d'avec le support et soumet à un usinage, par exemple meulage, la face dudit élément de cible qui était en contact avec le support. 27- Procédé selon l'une des revendications 1 à 24, caractérisé en ce que l'on utilise un support plus ou moins rugueux, le matériau inorganique restant solidaire du support. 28- Cible pour pulvérisation cathodique consistant en au moins un élément de cible (2,22) obtenu par le procédé selon l'une des revendications 25 à 27 et associé à un substrat (4,24). 29- Cible selon la revendication 28, caractérisée en ce qu'elle consiste en au moins un élément de cible (2,22) obtenu par le procédé selon la revendication 25 ou 26 et collé sur un substrat métallique (4,24), par exemple substrat en laiton, aluminium, cuivre, titane, tungstène ou acier inoxydable, au moyen d'un adhésif (3,23) conducteur de la chaleur et de l'électricité, notamment un adhésif consistant en une colle conductrice époxy bicomposante renfermant de l'argent. 30- Cible selon la revendication 29, caractérisée en ce qu'elle consiste en un élément de cible (2) de grande surface obtenu par le procédé selon la revendication 25 et collé sur un substrat métallique (4) de surface correspondante. 31- Cible selon la revendication 29, caractérisée en ce qu'elle se présente sous la forme d'une cible de grande surface consistant en une pluralité d'éléments de cible (36,37,38) de surface inférieure à celle de ladite cible, qui sont obtenus par le procédé selon la revendication 25 ou 26 et qui sont collés sur un substrat métallique (24) de surface correspondant à celle de la cible de grande surface en étant disposés sur ledit substrat de manière jointive pour couvrir sur ce substrat une surface correspondant à la surface désirée pour la cible de grande surface. 32- Cible selon l'une des revendications 29 à 31, caractérisée en ce que le substrat métallique (4,24) présente une surface dont le contour entoure le contour de l'élément de cible unique (2) ou de l'élément de cible (22) résultant de la juxtaposition jointive d'éléments de cible (36,37,38) de petite surface, lesdits contours étant de préférence parallèles entre eux, de manière à definir, sur la face du substrat métallique sur laquelle le ou les éléments de cible sont collés, une zone marginale (14,34) entourant l'élément de cible (2,22). 33- Cible selon la revendication 32, caractérisée en ce que dans ladite zone marginale (14,34) débouchent des orifices (15,35) traversant le substrat métallique et destinés au passage d'organes de fixation permettant de fixer la cible à un organe support appartenant à un dispositif de pulvérisation cathodique. 34- Cible selon la revendication 28, caractérisée en ce qu'elle consiste en l'élément de cible supporté obtenu par le procédé selon la revendication 27.