FR 2649910 A1 19910125 FR 8909775 A 19890720 DISPOSITIF D'ENDUCTION SANS FROTTEMENT, A ZONE COURTE DE MOUILLAGE,AVEC REGLAGE DES BORDS ET VIDANGE RAPIDE. De tres nombreux systèmes d'enduction sont utilisés pour le couchage de papiers ou de films. Dans certains cas,notemment pour le coulage de plusieurs couches superposées à base d'eau,il convient d'eviter le frottement à l'é- tat humide d'une couche liquide sur une couche inférieure déjà sechée. Il convient souvent,également,d'utiliser une zone d'enduction très courtepour.. éviter la pénétration de la couche superieure dans la couche inferieure. Il faut enfin dans certain cas,sècher très rapidement la couche. déposée,c.à.d. disposer d'un systême d'enduction compact pouvant être placé juste à l'entrée du séchoir. Un but de l'invention est de proposer un dispositif permettant l'enduction d'un support sans frottement à l'état mouille. Un autre but de l'invention est la réalisation d'un dispositif dans lequel la zone mouillee est egalisée aussitôt apres le mouillage par un moyen connu,tel qu'une lame d'air par exemple. Un autre but de l'invention est la disposition du systême d'enduction de façon telle que le support enduit entre dans le séchoir aussitôt après la dite égalisation,la distance entre l'égalisation et l'entrée du séchoir ne dépassant pas 20cm. Un autre but de l'invention est la réalisation d'un enducteur creux permettant le réglage des marges non enduites au bord du support enduit. Un autre but de l'invention est de permettre l'arrêt instantané de ltenduction sans arrêt du recyclage de la solution. Fig.1: le support arrive en 1,passe le rouleau 2,1 seche le cylin dre 3,qui est immobile,le liquide à enduire étant alimenté en 7. Le support enduit passe devant le systême d'égalisation ( par ex. la lame d'air 4 ),par dessus le cylindre 5 avant d'entrer dans le séchoir 6. Fig. 2: Systême d'enduction vu de 1 'arrière.Le cylindre 1 est im mobile.Le support à enduire le touche en 3.Le liquide arrive par la tubulure 4 et crée le ménisque 5 entre le cylindre et le sup port.Comme le support 2 défile,la zone 3 n'est pas mouillée:il n'y a pas de "frottement humide" sur la couche précédemment en duite,et séchée se trouvant déjà sur le support. Des deux côtés du cylindre sont disposees deux fentes 6,d'envi ron IOmm de large,inclinées à environ 45" et communiquant avec l'intérieur du cylindre. L'excédent de solution du ménisque 5 sera éliminé par ces fentes, passera à l'intérieur du cylindre,sortira par un des trous laté- raux 7 du cylindre lisera recueilli par la goulotte 8 et en sor tira selon 9 pour retourner au stock. On comprendra qu'en faisant légèrement tourner le cylindre 1 dans le sens de la flèche 10,le ménisque 5 s'élargira,car l'élimination de la solution se fera à un endroit plus large entre les fentes 6, l'inverse s'appliquant évidemment. Cette rotation peut se faire par un moyen quelconque,non représen té.Un secteur à index peut être monte pour repérer les positions correspondant aux laizes usuelles. On dispose ainsi d'un moyen simple de régularisation de la largeur d'enduction et partant,des marges non enduites à droite et à gau che du support. L'égalisation des marges droite et gauche est tout aussi simple: suffit de faire coulisser le cylindre 1 vers la droite ou la gauche jusqu'à avoir cette égalisation. Pour l'arrêt de ltenduction,une fente supplémentaire 11 est prévue:on fait tourner le cylindre 1 dans le sens inverse de la flêche 10 jusqu'à ce que la fente il arrive au-dessus du point de contact du support 2 et du cylindre 1.Dans ce cas le ménisque 5 disparaît,tout le liquide se deversant dans la fente il. Le diamêtre du cylindre 1 est quelconque et peut varier de 5 à 30cm par exemple. La zone d'enduction est représentée (Fig. 1) par le point 8 de contact du support I et du cylindre 3,jusqu'au systême metreur ( ici la lame d'air 4 ). Avec le système d'enduction,objet de 1 'invention,cette distance peut être reduite à moins de lOcm si nécessaire. De même,gràce à sa compacité,l'ensemble du systême,peut être localise très près du sechoir,comme visible sur la Fig. 1. La réunion de ces conditions fait qu'il devient possible d'enduire et de sécher en un temps tres court,de l'ordre de la seconde, ce qui est un avantage evident pour la réalisation de systèmes comportant des couches aqueuses superposées ne devant pas s'interpénétrer. I1 est possible bien entendu,pour permettre le nettoyage de l'ensemble sans démonter le support,de monter le cylindre 3 ( Fig.l ) sur un systême mobile dans le sen-s de la flèche 9,ce qui le dégage du support 1. REVENDICATIONS 1)Dispositif d'enduction de solutions ou de dispersions sur un support,caractérisé par un cylindre creux,fixe,en contact tan gentiel à peu près vertical avec ledit support,l'apport de li quide se faisant sur le dessus dudit cylindre et créant un mé nisque entre le cylindre et le support,le liquide en exces étant éliminé latéralement par deux fentes,une troisième fente,parra lèle à une génératrice du cylindre permettant l'arrêt de l'en duction. 2)Dispositif selon 1 dans lequel les deux fentes latérales sont inclinées à environ 45" et permettent de régler la dimension du ménisque,donc la largeur d'enduction,les dites fentes élimi nant le liquide d'enduction vers l'intérieur du cylindre,ce li quide sortant ensuite par des trous lateraux dudit cylindre. 3) Dispositif d'enduction selon I) ou 2) dans lequel la rotation partielle du cylindre permet de régler la largeur d'enduction par suite de la modification du positionnement des fentes par -rapport au support. 4)Dispositif d'enduction selon I) à 3),dans lequel une fente pa rallèle à une genératrice du cylindre,permet l'élimination du liquide d'enduction et donc l'arrêt du couchage. 5)Dispositif d'enduction selon 1) à 4),dans lequel'le cylindre est mobile vers l'avant pour le dégager du support à enduire et permettre ainsi le nettoyage,sans démonter ledit support.