FR 2591318 A1 19870612 FR 8617286 A 19861210 FOUR A MICRO-ONDESPRE5ENTANT UNE CONSTRUCTION DESTINEE A OBTENIR UN CHAMP ELECTRIOUE PLUS UNIFORME SUR UNE PLAQUE TOURNANTE La présente invention se rapporte à un four à micro-ondes, plus particuliérement à un agencement grâce auquel on peut améliorer l'efficacité des micro-ondes dans une cavité de four et obtenir une répartition uniforme des micro-ondes. Avec les fours à micro-ondes de l'art antérieur comportant un ventilateur de brassage, il a été possible de parvenir à une répartition uniforme des micro-ondes en modifiant de façon appropriée la forme du ventilateur de brassage. Toutefois, dans les fours à micro-ondes de type récent à plaque tournante, il s'est avéré difficile d'obtenir une répartition uniforme des micro-ondes sans procéder au réglage adéquat des points chauds et des points froids des micro-ondes sur la plaque tournante. De plus, étant donné qu'une adaptation précise d'impédance entre une cavité de four et un guide d'ondes n'est pas prévue, une transmission favorable des microondes depuis un magnétron vers la cavité de four peut ne pas être réalisée, nuisant ainsi sérieusement à la longévité du magnétron. Un objectif de la présente invention consiste par conséquent à fournir un agencement grâce auquel on puisse parvenir à une adaptation d'impédance plus exacte entre une cavité de four et un guide d'ondes, ainsi qu'à une cuisson plus uniforme des aliments. Dans ce but, la présente invention est munie d'une plate-forme présentant de façon générale une forme rectangulaire sur une saillie circulaire d'une plaque de fond. Les objectifs, avantages, caractéristiques et utilisations ci-dessus et autres découlent de la description suivante en référence aux dessins ci-annexés, dans lesquels - la figure 1 est une vue en coupe schématique du four à micro-ondes de l'art antérieur, auquel la présente invention se rapporte - la figure 2 est une vue en coupe partielle de la présente invention - la figure 3 est une vue schématique en perspective de la présente invention - la figure 4A illustre schématiquement la répartition du champ électrique sur une plaque tournante de l'art antérieur, lorsque celle-ci est au repos - la figure 4B illustre schématiquement la répartition du champ électrique sur une plaque tournante de l'art antérieur, lorsque celle-ci est en rotation - la figure 5A illustre schématiquement la répartition du champ électrique sur une plaque tournante de la présente invention, lorsque celle-ci est au repos ; et - la figure 5B illustre schématiquement la répartition du champ électrique sur une plaque tournante de la présente invention, lorsque celle-ci est en rotation. Les figures 2 et 3 illustrent un mode de réalisation préféré de la présente invention Une plaque tournante 12 présentant un axe 14 est fixée de façon rotative sur la surface de fond de la cavité 10 du four. Sur la surface de fond 15 de la cavité 10 du four, est formé un évidement annulaire 16 dans lequel sont positionnés trois rouleaux porteurs 18 destinés à supporter la plaque tournante 12 et présentant le même intervalle entre-eux. Une saillie circulaire 20 est formée sur l'intérieur de l'évidement annulaire 16. Une plate-forme 22 de façon générale sensiblement rectangulaire comportant une portion circulaire centrale 21 et constituant la partie caractéristique de la présente invention, est fixée de façon solidaire sur la saillie circulaire 20. Si la distance entre le rouleau porteur 18 et la plate-forme 22 est, de conception, inférieure à une longueur prédéterminée, une étincelle peut se produire entre ceux-ci en raison d'une concentration de champ électrique. Pour éviter cette étincelle, la distance entre le rouleau porteur 18 et la plate-forme 22 doit être maintenue au-dessus de 20-mm. Conformément à cette limitation, la largeur de la plate-forme 22 doit être de l'ordre de 160 mm, c'est-à-dire que la distance depuis l'axe 14 jusqu'à un bord de la-plate-forme 22 dans la direction de la largeur doit être de l'ordre de 80 mm De préférence, l'angle incliné d'une surface inclinée 24 de la plate-forme 22 est maintenu à 45 afin d'obtenir un effet réfléchissant favorable.Pour déterminer les correlations entre la hauteur de la plate-forme 22 et par rapport au niveau supérieur de la portion centrale circulaire 21 et l'écart de température, un essai a été effectue dont les résultats sont indiqués dans le tableau suivant. TABLEAU 1 Hauteur de la plate-forme Ecart de température prise à partir du niveau de la portion centralecirculaire ('c) (mm) -3 6 - 2 6,5 0 6,5 + 1 4,2 +2 4,0 +3 2,5 +4 2,0 +5 2,2 Les résultats indiqués dans le tableau 1 ci-dessus montrent que le niveau en hauteur de la plate-forme 22 prise à partir du niveau de la portion circulaire centrale 21 doit etre supérieure à 2,5 mm pour obtenir un écart de température préférable.Cependant, pour éviter l'interférence entre la surface inférieure de la plaque tournante 12 et de plate-forme 22, il est préférable que la différence de niveau entre la plate-forme 22 et la portion circulaire centrale 2t reste de l'ordre de 3-4 mm. - - De plus, la plate-forme 22 de la présente invention est munie d'un moyen d'écoulement sur sa portion centrale. Les figures 5A et 5B montrent la répartition du champ électrique sur la plaque tournante, respectivement lorsque celle-ci est au repos et lorsqu'elle est en rotation, selon la présente invention. Il ressort de ces figures que grâce à la présente invention, il est possible d'obtenir une répartition plus uniforme du champ électrique sur la plaque tournante par rapport à l'agencement de l'art antérieur montré aux figures 4A et B. De même, un essai a été effectué pour déterminer la corrélation entre la longueur de la plate-forme 22 et l'écart de température, dont les résultats sont indiqués dans le tableau.suivant. TABLEAU 2 Longueur de la plate-forme Ecart de température (mm) ( C) 130 4,2 140 4,5 150 3,9 160 4,2 170 4,0 180 3,0 190 2,0 200 2,3 210 2,3 220 3,4 Les résultats du tableau 2 ci-dessus montrent qu'il est préférable que la longueur de la plate-forme soit de l'ordre de 190-200 mm afin d'obtenir un écart de température plus favorable. La plate-forme 22 est de préférence symétrique à l'axe centrale 14. Les repères numériques 26 et 28 représentent respectivement un guide d'ondes et un magnétron. Comme cela a été décrit précédemment, la présente invention permet d'obtenir une répartition plus uniforme du champ électrique sur une plaque tournante grâce à la plate-forme selon la présente invention. L'invention ayant maintenant été décrite en référence au mode de réalisation montré dans le dessin ci-annexé, notre intention n'est pas de limiter l'invention à l'un quelconque des détails de la description, sauf indication contraire, mais que celle-ci soit interprétée au sens large dans l'esprit et dans les limites définies dans les revendications ci-annexées. REVENDICATIONS 1. Four à micro-ondes comprenant une cavité de four (10), une plaque tournante (12) comportant un axe (14), un évidement annulaire (16) formé sur la surface de fond (15) de la cavité de four (10), trois rouleaux porteurs (18) sur l'évidement destinés à supporter la plaque tournante (12), et une saillie circulaire (20) formée à l'intérieur de l'évidement (16), caractérisé en ce qu'il comporte une plate-forme (22) présentant une forme sensiblement rectangulaire, et fixée solidairement sur la saillie circulaire (20). 2. Four à microcondes selon la revendication 1, caractérisé en ce que ladite plate-forme (22) comporte une portion circulaire centrale (21) ayant un trou d'axe central destiné à laisser passer l'axe (14) de la plaque tournante (12), et en ce que ladite plate-forme étant sensiblement symétrique par rapport au dit trou d'axe central, elle présente une largeur sensiblement égale a 160 mm, une hauteur prise par rapport au niveau supérieur de la portion circulaire centrale (21) de l'ordre de 3 à 4 mm et une longueur de l'ordre de 190 a 200 mm