FR 2593587 A1 19870731 FR 8601243 A 19860129 La présente invention concerne un procédé pour la cuisson a la pression atmosphérique des aliments dans une enceinte de cuisson. Invention vise egalement un appareil pour la cuisson des aliments, comprenant une enceinte de cuisson et au moins une résistance électrique de chauffage. On connait déja des appareils de cuisson, en particulier des fours électriques dans lesquels on injecte de à vapeur dweau produite dans un générateur de vapeur etétieur au four. Cette vapeur est introduite dans l'enceinte de cuisson, sensiblement à 100 C. On sait que cette vapeur augmente la conductivité thermique de l'atmosphère intérieure de 1 enceinte de cuisson et améliore ainsi les échanges thermiques entre la résistance electrique de chauffage et les aliments a cuire. On peut ainsi réduire les temps de cuisson. Le but de la présente invention est de proposer un procédé cour la cuisson des aliments dans une enceinte de cuisson, dans laquelle on injecte de la vapeur d'eau dans des conditions qui permettent de réduire d'une manière surprenante les temps de cuisson. Suivant l'invention, ce procédé est caractérisé en ce qu'on forme de la vapeur surchaffée en amenant la vapeur en contact avec une résistance chauffante électrique, ce contact étant suffisant pour que sensiblement toute la vapeur injectée dans l'enceinte de cuisson soit surchauffée. Etant donne que le contact intime réalisé entre la resistance électrique de chauffage et la vapeur permet de surchauffer la totalité de la vapeur qui est injectée dans 'enceinte de cuisson, on réduit d'une manière surprenante les temps de cuisson. Cette réduction des temps de cuisson peut atteindre 40 e 50%. Suivant les conditions dans lesquelles on réalise ie contact entre la vapeur et la résistance chauffante, la vapeur est surchauffée a une température comprise entre 150 et 2 et davantage Si nécessaire. La résistance chauffante électrique utilisée dans ie procédé conforme a l'invention peut autre celle servant normalement a chauffer l'enceinte de cuisson, comme par exemple celle servant normalement a chauffer l'intérieur d'un four. Selon une version avantageuse du procédé conforme a l'invention, la vapeur est amenée au contact de la résistance chauffante par pompage thermique a partir d'un réservoir d'eau pouvant entre contenu a l'intérieur de l'enceinte de cuisson ou à l'extérieur de celle-ci. La vapeur peut également entre amenée au contact de ia résistance chauffante a partir d'un générateur de vapeur placé a l'extérieur de l'enceinte de cuisson. Suivant un autre aspect de l'invention, l'appareil pour la cuisson des aliments comprenant une enceinte de cuisson, au moins une résistance électrique de chauffage un réservoir d'eau et des moyens pour vaporiser cette eau est caractérisé en ce qu'il comprend des moyens pour amener la vapeur créée par les moyens pour vaporiser l'eau, en contact avec la résistance chauffanteS afin de surchauffer sensiblement toute la vapeur. De préférence, lesdits moyens créent entre la résistance rhauffante et la vapeur, une zone de contact suffisante pour surchautfer la vapeur a ne température au moins égaie a 150 C. Selon une version avantageuse de l'invention, l'appareil comprend une pompe thermique reliant le réservoir d'eau a la résistance chauffante, ment chauffant de cette pompe thermique étant constitué par cette résistance chauffante. Selon une version préférée de l'invention, l'appareil ccmprend des moyens pour créer un espace capillaire qui est en contact avec l'eau du réservoir et débouche a proximité de la résistance chauffante. Dans cette version, i~eau du réservoir monte dans cet espace capillaire et est surchauffee lorsqu'elle atteint la zone de contact avec la résistance. Dans une réalisation avantageuse de l'invention, une seconde resistance chauffante est placée à proximité de l'espace capillaire et en amont de la première résistance chauffante relativement au sens de la circulation de la vapeur. Cette disposition permet de régler efficacement la température de surchauffe de la vapeur. D'autres particularités et avantages de l'invention apparaîtront encore dans la description ci-après. Aux dessins annexés, donnes a titre d'exemples non limitatifs - la figure i est une vue en coupe longitudinale d'un four de cuisson a usage domestique équipé de moyens pour produire de la vapeur d'eau surchauffée, - la figure 2 est une vue en perspective a échelle agrandie et en coupe suivant le plan II-II de la figure 1, montrant les moyens pour produire de la vapeur d'eau surchauffée, - la figure 3 est une vue en perspective et en oupe d'une première variante de réalisation desdits moyens de production de vapeur surchauffée, - les figures 4 å 7 montrent en perspective et en coupe longitudinale, avec arrachements, d'autres variantes de réalisation présentant en commun avec les précédentes, le tait au un espace capillaire est créé entre le réservoir d'eau et la résistance chauffante, - la figure B est une vue en coupe d'un tube en quartz entourant une résistance chauffante et servant a amener la vapeur en contact avec cette résistance pour surchauffer cette vapeur - la ligure 9 est une vue en coupe longitudinale a un générateur de vapeur d'eau surchauffée prévu pour être oisposé à l'extérieur de l'enceinte de cuisson, - les figures 10, 11 et 12 sont des vues en coupe montrant la résistance chauffante adjacente a un conduit dans lequel est formée la vapeur surchauffée. - la figure 13 est une vue en coupe transversale d'un conduit d eau placé à proximité d'une résistance chauffante, selon une disposition qui permet de surchauffer la vapeur - la figure 14 est une vue en coupe longitudinale partielie d'un appareil de cuisson comportant latéralement des moyens de production et d'injection de vapeur surchauffée a l'intérieur de l'enceinte de cuisson. - la figure 15 montre en coupe une variante de réalisation des moyens de production et de surchauffe de la vapeur. Dans la réalisation de la figure 1, le four de cuisson 1 à usage domestique comporte une enceinte de cuisson 2 près du fond 3 de laquelle s'étend une résistance chauffante électrique 4 composée de deux tubes blindés 4a, 4b (voir figure 2) parallèles. Entre le fond 3 et cette résistance chauffante 4, est disposé un générateur 5 de vapeur d'eau surchauffée qui est représenté en détail sur 1 figure 2. Ce générateur 5 comporte un réservoir 6 en t81e métallique, par exemple en acier renfermant de "eau 7. Ce réservoir 6 présente deux rebords Sa, 8b qui longent extérieurement les deux tubes 4a, 4b de la résistance chauffante 4 en passant très près (au maximum quelques millimètres) de ces dernières. A l'intérieur du réservoir 6, deux parois 9a, 9b également en tôle sont disposées très près de la tafe extérieure du réservoir 6 en définissant avec celle-ci un espace capillaire 10 de quelques dixièmes de millimètres d'épaisseur qui s'étand entre l'eau 7 contenue dans le réservoir 6 et une z3ne lia, lib adjacente aux tubes 4a, 4b de la résistance chauffante. Dans ces zones lia, iib, les parois 9a, 9b se terminent par des bordures 12a, 12b qui enveloppent de très près les tubes 4a, 4b de la résistance chauffante. Les extrémités des parois du réservoir 6 et des parois intérieures 9a et 9b définissent entre elles deux fentes 13a. 13b de faible largeur (quelques dixièmes de millimètres a un ou deux millimètres: parallèles aux tubes 4a. 4b de la résistance. Le réservoir 6 comporte une partie supérieure qui est évasée. Le fonctionnement du générateur de vapeur d'eau surchauffée que l'on vient de décrire est le suivant L'eau 7 contenue dans le réservoir 6 a tendance à monter par effet de capillarité dans les espaces 10 de faible épaisseur crées entre la tole extérieure du réservoir 6 et les paroi intérieures 9a 9ib. Lorsque la température des tubes 4a. 4b de la résistance atteint une certaine valeur, l'eau monte dans l'espace 10, atteint les zones lia, 11b adjacentes aux tubes 4a, 4b et se transforme en vapeur.Cette vapeur est surchauffée à une température nettement supérieure a 100 C en longeant les deux espaces de faible épaisseur qui entourent les tubes 4a, 4b et s'échappe a l'intérieur de l'enceinte de cuisson 2 par les fentes 13a, 13b (voir flèches de la figure 2). Cette réalisation permet ainsi d'injecter à l'intérieur de l'enceinte de cuisson 2 de la vapeur qui est surchauffée dans sa totalité grâce au contact intime qui est réalisé entre cette vapeur et la résistance chauffante. Les paramètres qui déterminent la température de surchauffe de la vapeur sont les suivants : température de la resistance de chauffage! distance entre cette dernière et l'eau du réservoir 6, épaisseur de l'espace capillaire 10, distance comprise entre les rebords 8a, 12a; 8b, 12b des tôles et la résistance. Tous ces paramètres peuvent être ajustés en fonction de la température de surchauffe que l n veut obtenir.Ainsi, le générateur de vapeur représenté sur la figure 2 permet d'obtenir de la vapeur surchauffée à une température comprise entre 150 et 200 C, ce qui permet de -eduire de prés de 50% la durée de cuisson des aliments à intérieur de l'enceinte de cuisson Grâce à l'évasement supérieur du réservoir d'eau 6, le deoit de la vapeur est maximal au début de la cuisson, période ou l'on a besoin effectivement d'un grand debit de vapeur puis ce debit diminue progressivement tout au long de la cuisson, en même temps que descend le niveau d'eau dans le réservoir 6 Dans les réalisations selon les figures s a 7, comme dans la réalisation précédente, le générateur de vapeur d'eau comprend deux tôles 14, 15; 16, 17; 18, 19; 20, 21 22, 23 définissant entre elles un espace capillaire qui permet d'amener par effet de capillarité et de pompage thermique l'eau contenue dans un réservoir 24, 15, 26 27, 27a au contact d'une résistance de chauffage 28. Dans le cas de la réalisation selon la figure 3 les deux tôles 14, 15 entourent complètement la résistance chauffante 28 en créant autour de celle-ci un espace annulaire 29 qui est ouvert sur ses deux côtés opposés dans l'axe de la résistance. Lorsque l'eau arrive par pompage thermique et effet de capillarité dans l'espace annulaire 29, l'eau est vaporisée et la vapeur est surchauffée dans sa totalité en se déplaçant dans cet espace annulaire le long de la résistance 28. La réalisation représentée sur la figure 4 est analogue à celle de la figure 2. La résistance de chauffage 30 sur laquelle repose le rebord 25a du réservoir d'eau 25 sert normalement a chauffer l'enceinte de cuisson et a faire monter l'eau par pompage thermique et effet de capillarité entre les tales 16 et 17, puis à faire vaporiser cette eau lorsqu'elle arrive dans la zone 31 adjacente a cette résistance 30. A partir de cette zone 31, la vapeur est conduite dans la zone sensiblement annulaire 32 qui entoure une résistance électrique additionnelle 28 qui permet de surchauffer la vapeur à une température qui est encore plus élevée que dans le cas des réalisations précédentes. La vapeur ainsi surchauffée s'échappe à l'intérieur de l'enceinte de cuisson, par la fente 33 située au-dessus de la résistance 28. Dans le cas de la réalisation de la figure 5, la résistance 28 est celle qui est normalement prévue à la partie superieure de l'enceinte de cuisson. La vapeur surchauffée dans l'espace annulaire 34 créé autour de 1a résistance 2, s'échappe à l'intérieur de enceinte de cuisson 2 par une fente latérale 35. Far ailleurs, dans cette réalisation, le réservoir d'eau 6 est disposé a l'extérieur de l'enceinte de cuisson 2 et les deux tôles 18, 19 définissant l'espace capillaire relié à l'eau contenue dans le réservoir 26 traversent la paroi latérale 36 de l'enceinte de cuisson. Dans le cas des réalisations selon les figures 6 et 7, les résistances 28 sont disposées près du +ond 37, 38 de l'enceinte de cuisson et le réservoir d'eau 27, 27a est situé sous ce fond 37, 38. Dans le cas de la figure 6, les deux tales 20, 21 présentent à leur extrémité supérieure une partie incurvée 39 qui s'étend au-dessus de la résistance 28 et qui débouche a l'extérieur par une fente 40 située au droit de la résistance 28 et très près de celle-ci. Ainsi, la totalité de l'eau pompée par l'espace capillaire formé par les tales 20 et 21 est amenée au contact des résistances 28 pour entre surchauffée. La présence du fond 37 à proximité de la résistance 28 contribue à éviter qu'une partie de la vapeur s'échappant de la fente 40 située au-dessus de la résistance 28 ne toit pas surchauffée par cette dernière. En effet, ce fond 37 délimite avec la tôle 20 adjacente a la résistance, une zone de surchauffe qui entoure partiellement la résistance 28. Dans la réalisation de la figure 7, l'espace capillaire +ormê par les tales 22, 23 débouche a l'extérieur par une fente 41 située latéralement très près de la résistance 28. Le fond 38 comporte sous la résistance 28 une cavité 42 qui définit un espace qui entoure partiellement la résistance 28 et constitue une zone de surchauffe de la vapeur. Ce fond 28 peut être réalisé en verre ou autre matériau résistant A la chaleur. tans toutes les réalisations qui viennent d'être décrites les résistances électriques utilisées pour surchauffer la vapeur sont celles qui servent normalement -a chauffer l'enceinte de cuisson. Dans la cas de la réalisation de la figure 8, la résistance de chauffage 28 peut entre ou non l'une des résistances servant à chauffer l'intérieur d'une enfreinte de cuisson. Cette résistance 28 est entourée par un tube en quartz 43. L'espace annulaire 44 ayant quelques millimètres d'épaisseur est parcouru par de la vapeur qui est surchauffée durant son trajet a l'intérieur du tube 43. Le rayonnement de la résistance 28 sert en partie pour surchauffer la vapeur. La partie de la vapeur rayonnée en excédant qui traverse le tube en quartz 43 peut servir a chauffer l'intérieur d'une enceinte de cuisson. Dans la réalisation de la figure 9, cn a représenté un générateur 45 de vapeur surchauffée pouvant entre placé ou non à l'extérieur d'une enceinte de cuisson équipée ou non d'une résistance chauffante. Le générateur 45 comprend un réservoir tubulaire 46 en forme de U dans lequel s'étend une résistance de chauffage 47. Ce réservoir est rempli partiellement d'eau 48, des moyens non représentés étant prévus pour maintenir le niveau d'eau constant. La partie supérieure 49 du réservoir 46, non remplie d'eau débouche à l'extérieur, par des ouvertures 50 de sortie de la vapeur. Le fonctionnement de ce générateur est le suivant La résistance 47 porte l'eau 48 à ébullition la vapeur formée est surchauffée au contact de la résistance 47 dans la partie supérieure 49 du réservoir 46 ; la vapeur surchauffée s'échappe par les ouvertures 50 qui débouchent directement ou par l'intermédiaire d'une tubulure a l'intérieur d'une enceinte de cuisson. Lorsque enceinte de cuisson est dbpourvue de résistance chauffantes la cuisson des aliments en particulier des légumes ou autres aliments qui ne doivent pas être exposés directement au rayonnement direct d'une résistance chauffante, est réalisé uniquement par la chaleur emmagasinée dans la vapeur surchauffée. La figure 10 montre en coupe transversale comment la résistance 47 peut être tixée au réservoir 46 pour assurer un excellent contact thermique entre cette résistance et la paroi du réservoir. La réalisation de la figure 11 représente schematiquement et en coupe transversale, un générateur 51 de vapeur placé à l'intérieur d'une enceinte de cuisson et comprenant une résistance chauffante 52 contre laquelle est fiée par soudage ou autre-moyen de fixation un tube 53 présentant un diamètre comparable a celui de la résistance et dans lequel circule de la vapeur. Cette vapeur est surchauffée par échange thermique avec la résistance 52 tout au long de son trajet à l'intérieur du tube 53. Ce tube 53 comporte une ouverture 54 d'évacuation de la vapeur surchauffée qui débouche dans l'enceinte de cuisson pourvue ou non de résistance électrique de chiiauffaige. Dans la réalisation selon la figure 12, le tube 53 dans lequel circule la vapeur est légèrement espace de la résistance chauffante 52 et comporte au regard de celle-ci un ou plusieurs orifices 55 de sortie de la vapeur. Cette vapeur est ainsi amenée en contact direct avec la résistance chauffante 52 et débouche a l'intérieur de l'enceinte par les espaces très étroits compris entre le tube 53 et la résistance 52 (voir flèches sur la figure 12). Dans la réalisation de la figure 13, on a représenté un générateur 56 de vapeur d'eau surchauffée destiné a tce placé a la partie supérieure d'une enceinte de cuisson et comprenant une résistance de chauffage 57 normalement prévue à la partie supérieure de cette enceins de cul son. Ce générateur 56 comprend un conduit de vapeur 55 par exemple en aluminium, s'étendant au-dessus de la résistance chauffante 57. Le fond 59 de ce conduit 58 présente une forme concave adaptée pour réfléchir le rayonnement de la résistance vers le bas de l'enceinte de cuisson. Cette forme or ave permet également de stocker de l'eau 60. Le tond 59 du conduit 58 comporte une ouverture 61 qui débouche au droit de la résistance 57. Cette résistance 57 chauffe l'intérieur de l'enceinte de cuisson et porte l'eau 60 contenue a l'intérieur du conduit 58 à ébullition. La vapeur formée s'échappe par l'ouverture 61 et est surchauffée au contact de la résistance chauffante 57. Dans une variante de réalisation, le conduit 58 contient de la vapeur d'eau formée dans un générateur de vapeur placé à l'extérieur de l'enceinte de cuisson. Dans la réalisation de ia figure 14, on a représenté un appareil de cuisson, dont l'enceinte de cuisson 62 ne contient pas de résistance de chauffage et dans laquelle la cuisson des aliments est réalisée uniquement par de la vapeur surchauffée. L'enceinte de cuisson 62 renferme un panier 63 servant a recevoir les aliments å cuire. Sur le côté de l'appareil est disposé, de fagon amovible, un générateur de vapeur 64 formant réservoir d'eau 65, dont la sortie de vapeur 66 débouche a la partie supérieure de l'enceinte de cuisson 62 au-dessus du panier 63. Ce générateur de vapeur 64 repose sur un support 67 formant bac de récupération des condensats de la cuisson. Le générateur de vapeur 64 renferme une résistance de chauffage 68 reliée å l'eau contenue dans le réservoir 65 par un dispositif 69 de pompage et à effet de capillarité identique a celui représente notamment sur les figures 2 et 5! permettant d'amener l'eau et la vapeur en contact direct avec la résistance chauffante 68 pour la surchauffer. La vapeur surchauffée au contact de la résistance 68 passe ensuite dans l'espace capillaire compris entre deux tales 70, 71 qui relie la résistance 68 a l'orifice 66 de sortie de la vapeur qui débouche a l'intérieur de l'enceinte de cuisson. L'appareil de cuisson représenté sur la figure 14 peut avoir une forme cylindrique ou ovale et le générateur d'eau 64 peut s'étendre tout autour de l'enceinte de cuisson 62. De même l'orifice 66 de sortie de la vapeur peut s'étendre ur tout le pourtour de l'enceinte de cuisson 62. Le dispositif contenu dans le générateur 64 permettant de produire de la vapeur surchauffée, qui comprend la résistance 68 et l'espace capillaire 69 peut etre remplacé par le dispositif représenté sur la figure 15 qui comprend en amont de la résistance 68 une seconde résistance 68a, ces deux résistances étant reliées par un espace capillaire intermédiaire 72. Cette disposition permet d'augmenter la température de surchauffe de la vapeur. La puissance de chauffe de la première résistance peut être constante, tandis que l'autre peut tre variable en fonction de la température de surchauffe désirée pour la vapeur. Bien entendu, l'invention n'est pas limitée aux exemples de réalisation que l'on vient de décrire et on peut apporter à ceux-ci de nombreuses modifications sans sortir du cadre de l'invention. Ainsi, d'autres moyens que ceux décrits et permettant d'amener de la vapeur en contact direct et intime avec une résistance de chauffage, de façon a surchauffer la totalité de la vapeur qui est injectée dans l'enceinte de cuisson, peuvent être envisagés. REVENDICATIONS t. Procédé pour la cuisson des aliments dans une enceinte de cuisson (, 62), en présence de vapeur d'eau et à la pression atmosphérique dans lequel on réalise la cuisson en présence de vapeur surchauffée injectée à l'intérieur de l'enceinte de cuisson, caractérisé en ce qu'on forme la vapeur surchauffée en amenant de la vapeur en contact avec une résistance chauffante électrique (4a, 4b * 28 . 47 ; 52, 57; 68), ce contact étant suffisant pour que sensiblement toute la vapeur injectée dans l'enceinte de cuisson soit surchauffée 2.Procédé conforme à la revendication 1, caractérisé en ce que la résistance chauffante électrique (4a, 4b ; 28) est celle servant normalement a chauffer l'enceinte de cuisson. 3. Procédé conforme a l'une des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que la vapeur est amenée au contact de la résistance chauffante (4a, 4b ; 28 ; b8) par pompage thermique à partir d'un réservoir d'eau (6 ; 24 ; 25 ; 26 ; 27-; 27a 65). 4. Procédé conforme à l'une des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que la vapeur est amenée au contact de la résistance chauffante (28 ; 47 ; 68) a partir d'un générateur de vapeur placé a l'extérieur de l'enceinte de cuisson. 5. Procédé conforme à la revendication 4, caractérisé en ce qu'on règle la température de la vapeur surchauffée au moyen d'une résistance électrique (47) de chauffage comprise dans le générateur. 6. Appareil pour la cuisson des aliments comprenant une enceinte de cuisson (2, 62) u moins une résistance électrique de chauffage (4a, 4b i 28 ; 47 ; ; 52 ; 57 i 68), un réservoir d'eau (6 ; 24, 25 5 26 ; 27 5 27a ; 65), et des moyens pour vaporiser cette eau, caractérisé en ce qu'il comprend des moyens pour amener la vapeur créée par les moyens pour vaporiser l'eau, en contact avec la résistance chauffante, afin de surchauffer sensiblement toute la vapeur 7. appareil conforme a la revendication 6, caractérisé en ce que lesdits moyens créent entre la résistance chauffante (4a, 4b 28 ; 47 47 et la vapeur, une zone de contact (11a, 11b ; 29 ; 34 ; 44 ; 49) suffisante pour surchauffer la vapeur a une température au moins égale à 150 C. 8. Appareil conforme a une des revendications 6 ou 7, caractérisé en ce qu'il est constitué par un four électrique. 9. Appareil conforme à l'une des revendications 6 a 8 caractérisé en re qu'il comprend une pompe thermique (6, 9a, 9b ; 14, 15 ; 16, 17 ; 18, 19 ; 20, 21 ; 22, 23 ; 69) reliant le réservoir d'eau a la résistance chauffante, 1-élément chauffant de cette pompe thermique étant constitué par ladite résistance chauffante. 10. Appareil conforme à l'une des revendications 6 à 9, caractérisé en ce qu'il comprend des moyens pour créer un espace capillaire (6, 9a, 9b ; 14, t5 ; 16, 17 l 3,, 19 ; 20, 21 22, 23 ; 69) qui est en contact avec l'eau du réservoir et débouche a proximité de la résistance chauffante. il Appareil conforme à la revendication 10, caractérisé en ce qu'il comprend deux tôles (6, 9a, 9b ; 14, 15; 16, 17; 18, 19; 20, 21 ; 22, 23; 69) faiblement espacées lune de l'autre pour définier ledit espace capillaire, disposées en contact avec l'eau du réservoir ces deux tôles entourant respectivement la résistance chauffante de façon à créer un espace sensiblement annulaire (11a, 11b : 29 : 34) autour de cette résistance, cet espace annulaire étant ouvert vers l'intérieur de l'enceinte de cuisson 12, Appareil conforme a la revendication 11, caractérisé en ce que l'espace annulaire est ouvert vers l'intérieur de l'enceinte de cuisson (2) suivant une fente (13a, 13b ; 33 ; 35) sensiblement parallèle à la résistance chauffante. 13. Appareil conforme à la revendication 11, caractérisé en ce que .espace annulaire (29) est ouvert sur ses deux côtés opposés dans l'axe de la résistance (28). 14. Appareil conforme à l'une des revendications 10 à 13, caractérisé en ce qu'une seconde résistance chauffante (10, 68a) est placée a proximité de l'espace capilaire et en amont de la premiére résistance chauffante (28, 68) relativement au sens de la circulation de la vapeur. 15. appareil conforme a l'une des revendications 6 å 14 caractérisé en ce que la résistance chauffante (4a, 4b 28) est celle située près du fond (-3! 37, 38) de l'enceinte de cuisson. 16. Appareil conforme à l'une des revendications 6 å 14. caractérisé en ce que la résistance chauffante (28, 57) est celle située près de la paroi supérieure de l'enceinte de cuisson. 17. appareil conforme à l'une des revendications 6 à 16. caractérisé en ce que le réservoir d'eau (26, 65) est situé à l'extérieur de l'enceinte de cuisson. 18. Apparei conforme à la revendication 10, comprenant une résistance électrique (28) placée près du fond (37, 38) de l'enceinte de cuisson, caractérisé en ce qu'il comprend deux tôles (20, 21 ; 22, 23) faiblement espacées l'une de l autre pour définir ledit espace caillaire, disposées en contact avec 12eau du réservoir (27, 27a) et en ce que cet espace capillaire débouche très près de la résistance chauffante au-dessus du fond de l'enceinte de cuisson. 19. Appareil conforme a la revendication 18, caractérisé en ce que le fond (38) comprend une cavité (42) s'étendant sous la résistance (28) et faiblement espacée de celle-ci et en ce que l'espace capillaire (22, 23) débouche près de la résistance et près de cette cavité. 20. Appareil conforme å la revendication 6, caractérisé en ce qu il comprend un générateur de vapeur (45) comprenant un réservoir tubulaire (46) en forme de U dans lequel s'étend une résistance de chauffage (47), ce réservoir étant partiellement rempli d'eau f48) et comprenant à sa partie supérieure (49) au moins une ouverture (5o) débouchant à l'intérieur de l'enceinte de cuisson. 21. Appareil conforme à la revendication 6, comprenant un conduit (58) s'étendant au-dessus de la résistance (57) et présentant un fond concave (59) formant réflecteur pour le rayonnement issu de la résistance, ce fond (59) présentant au droit de la résistance, une ouverture (61), ce conduit étant partiellement rempil d'eau ou contenant de la vapeur. 22. Appareil conforme à l'une des revendications 6, 7, 9 a 14, caractérisé en ce que son enceinte de cuisson (62) est entourée par un genérateur (64) de vapeur surchauffée comprenant une résistance électrique de chauffage (68) associée à des moyens (69) pour créer un espace capillaire entre . eau (65) du générateur et une zone de contact entourant la résistance (68), cette zone de contact étant reliée à une ouverture (66) débouchant à la partie supérieure de l'enceinte de cuisson (62) qui s'étend tout autour de celleci