FR 2603506 A1 19880311 FR 8706326 A 19870505 La présente invention concerne les installations pour la refusion de la couche superficielle de lingots métalliques et a notamment pour objet des installations pour la refusion au plasma de la couche superficielle de ces lingots. La présente invention peut être utilisée pour le traitement de la surface de lingots et d'ébauches du type corps de révolution. On sait que la surface des lingots métalliques obtenus par voie métallurgique, en particulier, par fusion à l'arc sous vide, est endommagée par de nombreux défauts tels que, par exemple, repliures de la croOte, inclusions de nitrures et de carbonitrures de titane, fissures, etc. Aussi, avant d'aborder l'opération technologique suivante (par exemple, forgeage), doit-on soumettre les lingots métalliques à un usinage mécanique afin d'enlever la couche superficielle défectueuse. En règle générale, l'usinage mécanique est réalisé à l'aide des machines-outils de dégrossissage et d'ébauchage telles que tours, meuleuses, machines de nettoyage au feu, etc. L'emploi des machines indiquées pour enlever la couche superficielle défectueuse des lingots métalliques aboutit à des pertes notables du métal, les déchets pouvant alors atteindre 10%. La transformation de ces déchets, par exemple des copeaux, par voie de pressage suivie de refusion, nécessite du temps et des moyens supplémentaires. Toutefois, les pertes du métal restent suffisamment élevées et cela se fait sentir surtout à l'usinage des lingots de métaux précieux. De plus, l'usinage des lingots en alliages durs a pour résultat l'usure rapide de l'outil de coupe, ce qui aboutit à une consommation élevée des outils et, par conséquent, à une baisse de la productivité du travail. Il est à signaler que l'emploi d'un équipement de dégrossissage et d'ébauchage pour l'usinage mécanique des lingots métalliques augmente le temps d'usinage -et diminue le rendement. Il convient également de noter que l'emploi de l'équipement de dégrossissage et d'ébauchage dans une usine métallurgique impose de prévoir, en vue de son implantation, des aires productives considérables. Les installations pour la refusion au plasma de la couche superficielle des lingots métalliques s'avèrent plus efficaces en comparaison aux machines-outils servant à l'usinage mécanique de la surface défectueuse des lingots métalliques. Ces installations permettent d'enlever complètement la surface défectueuse des lingots métalliques en évitant pratiquement les pertes du métal sous forme de déchets. On connaît une installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle des lingots (US, A, 3 231 430) comportant une chambre étanche, dont une des faces d'about porte un couvercle principal, un portelingots comprenant deux cylindres principaux en liaison mécanique avec la chambre étanche et deux paires de paliers principaux, recevant, chacune, un cyclindre principal corespondant, un dispositif portant des plasmotrons et assurant leur introduction, qui est disposé au-dessus du porte-lingots et comporte, liées entre elles, une source de courant continu couplée électriquement aux plasmotrons, et liée à un moyen d'amenée du courant continu en liaison électromécanique avec les cylindres principaux du portelingots, une commande de mouvement de rotation, liée mécaniquement aux cylindres principaux du prote-lingots et une commande principale de mouvement rectiligne alternatif, se trouvant hors de la chambre étanche, pour assurer le déplacement relatif d'un lingot et des plasmotrons. Dans cette installation, la chambre étanche a une forme carrée, et le porte-plasmotrons est constituté par une tige liée mécaniquement à la commande de mouvement rectiligne alternatif et placée dans la chambre étanche carrée. Toutefois, la forme carrée de la chambre étanche de l'installation donnée pose des difficultés au nettoyage des faces intérieures de la chambre, surtout dans les coins, ce qui nuit au rendement et à la fiabilité de l'installation. De plus, du fait que dans l'installation donnée, les plasmotrons sont disposés dans la chambre étanche carrée, il est difficile d'accéder à ceux-ci, ce qui augmente sensiblement la durée des opérations de réparation et de préparation, ne permet pas de corriger le réglage des plasmotrons pendant la marche de l'installation et nuit également au rendement de l'installation. Il est à noter également que la disposition des plasmotrons dans la chambre étanche carrée de l'installation donnée provoque une augmentation des temps morts au remplacement des plasmotrons, impose d'arrêter l'installation si au moins l'un des plasmotrons est en panne, ce qui augmente les temps morts et nuit à la fiabilité de fonctionnement et au rendement de l'installation. Il convient de noter que l'installation donnée n'utilise qu'un seul porte-plasmotrons pour l'ensemble des plasmotrons ce qui ne permet pas, même si la nécessité s'impose, de réaliser le réglage individuel des plasmotrons pendant que l'installation est en fonctionnement. De plus, dans l'installation donnée, les canalisations (de gaz, d'eau et d'énergie) sont disposées à l'intérieur de la chambre étanche carrée et, par conséquent, sont soumises à l'action thermique du plasma. La disposition de ces canalisations à l'intérieur de la chambre étanche carrée impose des exigences sévères quant à leur protection et à l'organisation des raccords, et de ce fait il est difficile d'accéder à ceux-ci pendant le fonctionnement de l'installation, ce qui diminue la fiabilité et le rendement de l'installation et nuit à la commodité de son entretien. On s'est donc proposé de créer une installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, dans laquelle la conception de la chambre étanche et la disposition des plasmatrons permettraient de simplifier l'opération de nettoyage de la chambre étanche et de réaliser le réglage individuel des plasmotrons, en assurant ainsi l'augmentation du rendement et de la fiabilité de l'installation, son entretien aise et la reduction des temps morts. Le problème ainsi posé est résolu à l'aide d'une installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques comportant une chambre étanche avec un couvercle principal, monté sur l'une de ses faces en bout, un porte-lingot ayant deux cylindres principaux, liés mécaniquement à la chambre étanche, deux paires de paliers principaux, un cylindre principal étant disposé dans chacunedesdites paires, un moyen d'introduction des plasmotrons, disposé au-dessus du porte-lingot et renfermant des plasmotrons, montés dans celui-ci, qui comporte, liés entre eux, une source de courant continu, liée électriquement aux plasmotrons et un moyen d'amenée de courant continu lié électriquement et mécaniquement aux cyclindres principaux du porte-lingot , une commande de rotation liée mécaniquement aux cylindres principaux du porte-lingot et une commande principale de déplacement rectiligne alternatif pour effectuer le déplacement mutuel du lingot et des plasmotrons, commande disposée en dehors de la chambre étanche, caractérisé, selon l'invention, en ce que la chambre étanche est cylindrique avec des orifices sur sa surface latérale en un nombre égal au nombre de plasmotrons, en ce que le moyen d'introduction des plasmotrons comporte un groupe de porte-plasmotrons indi viduels, ayant, chacun, un boîtier, entourant un plasmotron correspondant et ayant un orifice à travers lequel est engagée une extrémité du plasmotron, son autre extrémité étant engagée à travers un orifice correspondant pratiqué dans la paroi latérale de la chambre étanche cylindrique et également un moyen de déplacement vertical et un moyen de balayage, liés mécaniquement à ce plasmotron et en ce que le porte-lingot est muni supplémentairement d'une plate-forme avec les cylindres porteurs liée mécaniquement à ses paliers principaux et au couvercle principal de la chambre cylindrique étanche, et en ce que le déplacement mutuel du lingot et des plasmotrons est effectué au moyen de la liaison mécanique entre la commande principale de déplacement rectiligne alternatif et le porte-lingot. Il est avantageux que dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, la chambre cylindrique étanche comporte un couvercle complémentaire monté sur son autre face en bout. Il est également avantageux que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, la plate-forme du porte-lingot soit montée hors de la chambre cylindrique étanche et porte la commande principale du mouvement alternatif, liée mécaniquement aux cylindres principaux du portelingot, et la commande de mouvement de rotation. Il est souhaitable que l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques comporte une commande supplémentaire de mouvement alternatif liée mécaniquement à la plate-forme du porte-lingot. Il est aussi souhaitable que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, le couvercle principal de la chambre cylindrique étanche présente deux orifices dans chacun desquels est engagé l'un des paliers principaux de chaque paire de paliers principaux du porte-lingot et est monté sur sa plate-forme. Il est rationnel que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, chacun des paliers principaux du porte-lingot soit constitué par une douille. Il est aussi rationnel que, dans l'installatìon pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, le porte-lingot comporte en plus une traverse liée mécaniquement à l'autre palier principal de chaque paire de paliers principaux, et un galet lié mécaniquement à la traverse et mis en coopération avec la surface latérale de la chambre cylindrique étanche. Il est avantageux que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, le porte-lingot comprenne supplémentairement un cadre disposé au-dessous des cylindres principaux et lié mécaniquement par une face en bout à la traverse, un guide dont l'une des extrémité est liée mécaniquement à l'autre face en bout du cadre, des sabots disposés par paires sur le cadre le long de l'axe longitudinal de la chambre cylindrique étanche, deux barres à chacune desquelles est couplé électriquement le sabot correspondant de chaque paire de sabots, et des éléments de contact dont le nombre est égal à celui des sabots, engagés à travers les orifices, disposés par paires sur la surface latérale de la chambre cylindrique étanche et couplés électriquement à la source de courant continu. Il est rationnel, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, que des gorges soient réalisées sur la surface de chacun des cylindres principaux du porte-lingot, présentes en nombre conforme à celui de paires de sabots et entrant, chacune, en contact avec le sabot correspondant de la paire de sabots correspondante. Il est avantageux que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, une extrémité du guide du porte-lingot soit liée mécaniquement au cadre de façon à permettre le déplacement de ce dernier le long du guide et que l'autre extrémité du guide soit fixée rigidement au couvercle principal de la chambre cylindrique étanche. Il est également avantageux que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, l'autre extrémité du guide du portelingot soit engagée à travers l'orifice pratiqué dans le couvercle principal de la chambre cylindrique étanche. Il est utile que l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques comporte supplémentairement un moyen de levage du lingot se trouvant, au moment de pose ou de dépose d'un lingot par rapport aux cylindres principaux du porte-lingot qui se trouvent hors de la chambre cylindrique étanche, entre la plate-forme du porte-lingot et la chambre cylindrique étanche, au dessous et entre les cylindres principaux. Il est également utile que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, le moyen de levage du lingot comporte un chariot avec des galets porteurs, des guides disposés sur le chariot, des montants dont le nombre est égal au nombre de guides et liés, chacun, au guide correspondant de façon à pouvoir se déplacer le long de ce dernier, et deux commandes de mouvement rectiligne alternatif, dont l'une est liée mécaniquement au chariot et l'autre, aux montants. Il est possible que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, la plate-forme du porte-lingot soit montée dans la chambre cylindrique étanche et qu'elle soit liée mécaniquement avec la commande principale de mouvement alternatif. Il est utile que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, le porte-lingot comprenne deux paires de paliers supplémentaires liés mécaniquement à la plate-forme, et deux cylindres supplémentaires montés, chacun, dans une paire de paliers auxiliaires-coaxialement par rapport au cylindre principal. Il est possible que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, le porte-lingot comporte un plateau, monté sur la plate-forme de façon à pouvoir tourner sur cette dernière et portant la commande de mouvement de rotation et les paliers principaux et auxiliaires. Il est rationnel que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, la rotation du plateau sur la plate-forme du porte-lingot soit assurée au moyen d'une articulation associant le plateau à la plate-forme. Il est avantageux que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, le porte-lingot soit équipé supplémentairement d'un dispositif de régulation de l'angle de rotation, lié mécaniquement au plateau et à la plate-forme. Il est utile que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, le dispositif de régulation de l'angle de rotation du portelingot soit constitué par un ensemble vis - écrou dont la vis est fixée sur la plate-forme et l'écrou, se déplaçant sur la vis, est lié mécaniquement au plateau. Il est avantageux que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, le porte-lingot comporte un butoir pour le blocage du lingot disposé sur le plateau. Il est souhaitable que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques utilisant un plasmotron en L inversé, l'orifice que porte le porte-plasmotron individuel soit pratiqué dans sa paroi, que l'extrémité courbée du plasmotron soit engagée à travers cetori.fice et que le porte-plasmotron individuel comporte de plus une douille emboîtant l'extrémité courbée du plasmotron et mise en liaison mécanique avec le boîtier, et un moyen de déplacement horizontal monté sur la douille et lié mécaniquement à l'extrémité courbée du plasmotron. Il est avantageux que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, la douille soit fixée rigidement à la paroi du boîtier. Il est rationnel que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, chaque porte-plasmotron comporte de plus un soufflet enveloppant l'extrémité du plasmotron et lié mécaniquement à la paroi du boîtier et à la douille, le diamètre de l'orifice du boîtier étant plus grand que le diamètre de l'extrémité courbée du plasmotron et la douille étant articulée avec le boîtier. Il est rationnel, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, que chaque porte-plasmotron comprenne supplémentairement un moyen de régulation de l'angle de rotation du plasmotron, lié mécaniquement au plasmotron. Au point de vue technologique, il est utile que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, le moyen de déplacement vertical du porte-plasmotron individuel comporte un ensemble vis-écrou, une rainure annulaire étant pratiquée à une extrémité de la vis ou de l'écrou et une rondelle démontable étant logée dans ladite rainure. Il est préférable que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, l'écrou de l'ensemble vis - écrou du moyen de déplacement vertical soit monté sur le boîtier du porteplasmotron individuel, qu'une rainure circulaire soit pratiquée dans la vis et que la rondelle démontable soit fixée à la chambre cylindrique étanche. Il est possible que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficelle de lingots métalliques, la vis de l'ensemble vis - écrou soit creuse, entoure le plasmotron correspondant et porte, à son extrémité hors de la chambre cylindrique étanche, , le boîtier du porte-plasmotron individuel, qu'une rainure annulaire soit menagée dans l'écrou et qu'une rondelle démontable soit liée mécaniquement au moyen de balayage du porte-plasmotron individuel. Il est avantageux que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, le dispositif de balayage du porte-plasmotron individuel possède une commande de mouvement rectiligne alternatif, liée mécaniquement à un organe de transformation du mouvement, lui-même lié mécaniquement au plasmotron. Il est également avantageux que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, l'organe de transformation du mouvement du moyen de balayage du porte-plasmotron individuel soit lié mécaniquement au moyen de déplacement horizontal. Il est désirable, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, que l'organe de transformation du mouvement du moyen de balayage comporte un entraîneur, dont la surface orientée vers le plasmotron présente une rainure et qui est lié mécaniquement à la commande de mouvement alternatif, et un toc d'entraînement dont l'une des extrémités est logée dans la rainure de l'entraîneur et l'autre extrémité est liée mécaniquement à l'extrémité courbée du plasmotron de façon que l'axe du toc d'entraînement soit parallèle à l'axe de l'extrémité courbée du plasmotron. Il est également utile que, dans l'in-stallation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, l'autre extrémité du toc d'entraînement de l'organe de transformation du mouvement du moyen de balayage soit fixée rigidement à la face en bout de l'extrémité courbée du plasmotron. Il est rationnel que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, l'autre extrémité du toc d'entraînement de l'organe de transformation du mouvement du moyen de balayage soit logée dans la rainure menagée dans la face en bout de l'extrémité courbée du plasmotron, avec la possibilité de s'y déplacer. Il est parfois préférable que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, l'organe de transformation du mouvement du moyen de balayage comprenne un boîtier enveloppant la vis de l'ensemble vis-écrou du moyen de déplacement vertical, deux tourillons montés sur le boîtier et couplés mécaniquement à la commande de mouvement alternatif, une membrane enveloppant le boîtier et fixée à la chambre cylindrique étanche, et une articulation universelle de Hook, dont le croisillon présente un orifice à travers lequel est engagé le boîtier, et les tourillons d'une paire de tourillons étant placés dans l'orifice du croisillon, orientés l'un vers l'autre et couplés mécaniquement au boîtier, les tourillons de l'autre paire étant liés mécaniquement à la chambre cylindrique étanche. Il est parfois avantageux que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, l'organe de transformation du mouvement du moyen de balayage du porte-plasmotron individuel soit constitué par une transmission par vis sans fin dont la vis est liée mécaniquement à la commande de mouvement rectiligne alternatif et au moyen de déplacement horizontal du porte-plasmotron individuel, et dont le secteur est fixé à l'extrémité courbée du plasmotron. De plus, il est avantageux que, dans l'installation pour la refus ion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, le moyen de déplacement horizontal du porte-plasmotron individuel comporte un ensemble vis écrou, dont la vis est liée mécaniquement au porte-plasmotron individuel et dont l'écrou est liée mécaniquement à l'extrémité courbée du plasmotron, et une commande de mouvement de rotation montée dans la douille et liée mécaniquement à la vis de l'ensemble vis - écrou. Il est avantageux que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, la vis sans fin de la transmission soit montée sur l'écrou de l'ensemble vis - écrou du moyen de déplacement horizontal. Il est également avantageux, que dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, le dispositif de réglage de l'angle de rotation du plasmotron du porte-plasmotron individuel comporte au moins deux ensembles vis - écrou dont les vis traversent des orifices correspondants pratiqués dans la douille, et sont fixées à la paroi du boîtier du porte-plasmotron individuel, et au moins deux rondelles ayant, chacune, une surface d'appui sphérique qui vient en contact avec la douille. Il est rationnel que, dans l'installation pour la réfusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, le dispositif de réglage de l'angle de rotation du plasmotron du porte-plasmotron individuel comprenne un support, monté sur l'un des tourillons de la paire de tourillons de l'articulation universelle de Hook, et au moins deux boulons, chacun étant engagé à travers un orifice correspondant pratiqué dans le support, et venant au contact avec la chambre cylindrique étanche. De plus, il est rationnel que, dans l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, l'organe de transformation du mouvement du dispositif de balayage comporte des tocs d'entraînement en un nombre égal au nombre de plasmotrons, la surface de l'entraîneur orientée vers les plasmotrons présentant des rainures dont le nombre est égal au nombre de plasmotrons et recevant, chacune, un toc d'entraînement correspondant. La présente invention permet d'effectuer simultanément le réglage de la position des plasmotrons par rapport à la surface des lingots métalliques et l'accord individuel de chaque plasmotron pendant le fonctionnement de l'installation, ce qui permet de choisir le régime optimal de chauffage de la couche superficielle des lingots métalliques et contribue, à son tour, à élever le rendement de l'installation, à améliorer la qualité de la couche superficielle des lingots métalliques et à élargir la gamme des lingots à traiter, tant en ce qui concerne les dimensions que les alliages utilisés. De plus, la présente invention permet de supprimer l'action thermique du rayonnement de plasma sur les canalisations (d'eau, de gaz et d'énergie) de l'installation, ce qui contribue à augmenter la fiabilité et le rendement de l'installation. La présente invention permet un agencement tel qu'à l'intérieur de l'installation ne passent que de petites portions de circuits électriques, ce qui contribue à augmenter la fiabilité de l'installation. La présente invention assure le fonctionnement stable des plasmotrons, ce qui contribue également à l'augmentation de la fiabilité et du rendement de l'installation ainsi qu'à l'amélioration de la qualité de refusion de la couche superficielle du lingot métallique. La présente invention permet également de simplifier les opérations de chargement et de déchargement des lingots métalliques, ce qui diminue le temps requis pour ces opérations et réduit, par conséquent, le temps mort de l'installation. La présente invention offre aussi la possibilité de simplifier l'accès aux organes principaux de l'installa- tion, ce qui améliore la commodité de son entretien. L'invention sera mieux comprise et d'autres buts, détails et avantages de celle-ci apparaîtront mieux à la lumière de la description explicative qui va suivre de différents modes de sa réalisation donnés uniquement à titre d'exemple non limitatifs avec références aux dessins non limitatifs annexés, dans lesquels - la figure 1 représente une vue d'ensemble, en coupe longitudinale, d'une installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, selon l'invention ;; - la figure 2 est une vue d'ensemble, en coupe transversale, de l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques d'après la figure 1, avec un lingot déposé, selon l'invention - la figure 3représente une vue d'ensemble de l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle d'un lingot, d'après la figure 1, au moment où le porte-lingot est sorti de la chambre cylindrique étanche (coupe transversale avec le lingot métallique déposé), selon l'invention ;; - la figure 4 représente une vue d'ensemble de l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, dans le cas où le lingot est d'un grand poids ou d'une grande longueur (coupe longitudinale), selon l'invention - la figure 5 est une coupe suivant la ligne V-V de la figure 4 - la figure 6 représente un ensemble "A" sur la figure 4, à échelle agrandie - la figure 7 représente une vue d'ensemble de l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques d'après la figure 4, au moment de la sortie du porte-lingot de la chambre cylindrique étanche (coupe transversale avec le lingot métallique déposé), selon l'invention ;; - la figure 8 représente une vue d'ensemble de l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques d'après la figure 4, dans le cas où l'extrémité libre du guide du porte-lingot est engagée à travers l'orifice pratiqué dans le couvercle principal de la chambre cylindrique étanche (coupe longitudinale), selon l'invention ; - la figure 9 représente un ensemble B sur la figure 8 - la figure 10 représente une vue d'ensemble de l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, avec des moyens de levage d'un lingot (vue de haut avec une coupe partielle), selon l'invention ;; - la figure 11 est une coupe suivant la ligne XI-XI de la figure 10 (le moyen de levage d'un lingot est représenté d'une manière simplifiée), selon l'invention - la figure 12 représente un moyen de levage d'un lingot conforme à la figure 11, au moment où ce moyen se trouvant sous les cylindres principaux est reculé, selon l'invention ;; - la figure 13 représente une vue d'ensemble de l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques comportant une plate-forme disposée à l'intérieur de la chambre cylindrique étanche (coupe longitudinale), selon l'invention - la figure 14 est une coupe suivant la ligne XIV-XIV de la figure 13 (le lingot est déposé) - la figure 15 représente une vue d'ensemble, en coupe longitudinale, de l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, conforme à la figure 13 avec un plateau, monté sur la plate-forme, selon l'invention - la figure 16 est une coupe suivant la ligne XVI-XVI de la figure 15 (le lingot est déposé) - la figure 17 représente une vue d'ensemble d'un porte-plasmotron individuel avec une douille dans le cas où est utilisé un plasmotron en L inversé (coupe longitudinale avec une coupe transversale de la chambre cylindrique étanche avec les cylindres principaux du porte-lingot et du lingot), selon l'invention ; - la figure 18 est une vue suivant la flèche C sur la figure 17 - la figure 19 représente une vue d'ensemble du porte-plasmotron individuel de la figure 17, avec une rainure pratiquée sur la face en bout de l'extrémité coudée en L inversé (en coupe longitudinale, avec une coupe transversale de la chambre cylindrique étanche et des cylindres principaux du porte-lingot et du lingot), selon l'invention ; ; - la figure 20 représente une vue d'ensemble du porte-plasmotron individuel avec un soufflet, dans le cas où on utilise un plasmotron en L inversé (en coupe longitudinale, avec la coupe transversale de la chambre cylindrique étanche abritant les cylindres principaux du porte-lingot et du lingot), selon l'invention ; - la figure 21 représente une vue d'ensemble du porteplasmotron individuel dans le cas où est utilisé un plasmotron droit (en coupe longitudinale avec une coupe transversale partielle de la chambre cylindrique étanche), selon l'invention ; - la figure 22 représente un ensemble D de la figure 21, à échelle agrandie - la figure 23 est une coupe suivant la ligne XXIII-XXIII de la figure 21 ; et - la figure 24 représente une vue d'ensemble d'une installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, dans le cas où on a prévu un entraîneur commun pour tous les porte-plasmotrons individuels (vue de haut), selon l'invention. L'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques comporte une chambre cylindrique étanche 1 (figure 1) avec un couvercle principal 2 et un couvercle supplémentaire 3, montés à ses faces en bout correspondantes 4, 5. Des dispositifs de blocage 6 (figure 2) sont montés sur les faces en bout 4, 5 de la chambre 1. Le support 7 (figure 1) du lingot 8 (porte-lingot) est constitué par deux paires de paliers principaux réalisés sous forme de douilles 9, 10, 11, 12 (figures 1, 2). Les douilles 9, 11 sont disposées dans des orifices 13, 14 respectivement réalisés dans le couvercles 2 alors que les douilles 10, 12 sont liées mécaniquement à un arbre 15, monté dans des paliers 16, 17 de la commande principale 18 de déplacement rectiligne alternatif.La commande 18, les paliers 16, 17 et le couvercle 2 sont installés sur une plate-forme 19 ayant des galets porteurs 20. Le porte-lingot 7 possède aussi des cylindres principaux 21, 22. Une extrémité de chacun de ces cylindres est engagée à travers les douilles correspondantes 9, 11 à l'intérieur de la chambre 1. Le lingot 8 est placé sur ces cylindres. Les autres extrémités des cylindres 21, 22 sont logées dans les douilles 10, 12 respectivement et liées mécaniquement à une commande de rotation 23 montée sur la plate-forme 19. La plate-forme 19 est liée mécaniquement à la commande auxiliaire 24 de déplacement rectiligne alternatif fixée à ladite plate-forme entre les galets 20. L'installation est pourvue d'un moyen 25 pour l'introduction des plasmotrons, qui comporte trois plasmotrons 26 et des porteplasmotrons individuels 27 conformément à leur nombre. Chaque support 27 comprend un boîtier 28 engagé à travers. un orifice correspondant 29, ménagé dans la surface latérale de la chambre 1, et disposé de sorte que le plasmotron 26, engagé à travers celui-ci, soit disposé au-dessus d'un lingot 8. Chaque porte-plasmotron 27 est pourvu d'un moyen 30 de déplacement vertical et d'un moyen 31 de balayage,liés mécaniquement à un plasmotron correspondant 26. Le moyen 25 comporte une source 32 de courant continu à laquelle sont liés électriquement un élément de contact 33 (nommé dans la description qui va suivre tige 33), des moyens 34 d'amenée de courant continu et les plasmotrons 26. La tige 33 est engagée à travers l'orifice pratiqué dans la surface latérale de la chambre 1 et un sabot de prise de courant 35 est monté sur la face en bout de la tige 33. La figure 3 représente une vue d'ensemble de l'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, illustrée sur la figure 1, au moment de la sortie des cylindres principaux 21, 22 du porte-lingot 7, de la chambre 1. Selon l'autre mode de réalisation de l'installation de la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques dans le cas d'un lingot 8 d'un grand poids et d'une grande longueur, les faces en bout des cylindres 21, 22 du porte-lingot 7, se trouvant dans la chambre 1, sont liés entre elles par une traverse 36 (figure 4) comprenant un galet 37, disposé au-dessous des cylindres 21, 22 et s'appuyant sur la surface latérale de la chambre 1. Le porte-lingot 7 est pourvu supplémentairement d'un cadre 38 (figures4, 5)dont une extrémité est liée à la traverse 36 et l'autre extrémité est liée mécaniquement à un guide 39. Quant à l'autre extrémité libre du guide 39 (figures4, 6), elle est fixée sur le couvercle 2. Le moyen 34 d'amenée de courant continu comporte des tiges 40 (figures 4, 5, 7).Le nombre de paires de ces tiges est égal au nombre de plasmotrons 26, engagés, chacun, de la manière analogue au cas décrit ci-dessus, à travers un orifice prévu dans la paroi latérale de la chambre 1 et liés, chacun, électriquement, à la source 32. Deux barres 41, 42 disposées le long de l'axe longitudinal 43 de la chambre 1 viennent en contact avec les tiges 40. Des sabots 44, liés électriquement aux barres 41, 42, sont installés par paires sur le cadre 38 suivant l'axe 43. Des gorges 45 sont. pratiquées sur la surface des cylindres 21, 22 conformément au nombre de paires de sabots 44. Un sabot 44 correspondant d'une paire correspondante vient en contact avec chacune desdites gorges. La figure 7 représente les cylindres 21, 22 du porte-lingot 7 au moment de la sortie de la chambre 1. Selon l'autre mode de réalisation de l'installation de la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, l'extrémité libre du guide 39 (figures 8, 9) est engagée à travers l'orifice pratiqué dans le couvercle 2. Selon le mode suivant de réalisation, l'installation de refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques comporte un moyen 46 de levage d'un lingot (figures 10) . Ce moyen 46 possède un chariot 47 (figure 10, 11) avec des galets porteurs 48 roulant sur des rails 49 disposés perpendiculairement à l'axe 43 de la chambre 1, entre la plate-forme 19 et la chambre 1 audessous des cylindres 21, 22 au moment où les cylindres 21, 22 (figure 7) du porte-lingot 7 sont en dehors de la chambre 1. Des guides 50 avec des montants 51 (figure 11) et des commandes 52, 53 effectuant un déplacement rectiligne alternatif, liés mécaniquement au chariot 47 et aux montants 51, sont installés sur le chariot 47. La figure 12 représente un moyen de levage 46 d'un lingot au moment où il est dégagé des cylindres 21, 22. Selon un autre mode de réalisation de l'installation de refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, la plate-forme 19 (figure 13) est disposée à l'intérieur de la chambre 1 et ses galets 20 s'appuient sur des rails 54. La plate-forme 19 est liée mécaniquement à la commande principale 28 de déplacement rectiligne alternatif à l'aide d'une barre 55 engagée à travers l'orifice pratiqué dans le couvercle 2. Le porte-lingot 7 comprend deux paires de paliers complémentaires 56, 57 et 58, 59 (.figures 13, 14) montés sur la plate-forme 19 et deux cylindres complémentaires 60, 61 disposés respectivement sur ces paliers 56, 57 et 58, 59, coaxialement aux cylindres principaux correspondants 21, 22. Le moyen 34 d'amenée de courant continu et la source 32 de courant continu ne sont pas représentés sur le dessin. Selon le dernier mode de réalisation de l'installation de refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques, le porte-lingot 7 est pourvu supplémentairement d'un plateau 62 (figure 15), monté sur la plate-forme 19 avec la possibilité d'effectuer une rotation grâce à une articulation 63 et portant une commande 23 de rotation (figure 15, 16), les paliers principaux 9, 10 et 11, 12 et les paliers complémentaires 56, 57 et 58, 59 . Le porte-lingot 7 comporte également des moyens de réglage de l'angle de rotation sous forme d'un ensemble 64 vis - écrou, dont la vis 65 est fixée sur la plate-forme 19 et l'écrou 66, effectuant le déplacement suivant la vis 65, est lié mécaniquement au plateau 62. Un montant 67 dans lequel est logé un butoir 68 pour la fixation d'un lingot est monté sur la plateau-forme 62. Le butoir 68 comporte un galet 69 entrant en contact avec la face en bout du lingot 8 et un axe 70 monté dans une fourchette 71, fixée dans le montant 67. On donne ci-dessous des exemples d'un mode concret de réalisation des porte-plasmotrons individuels 27 du moyen 25 d'introduction des plasmotrons, utilisés dans les variantes susmentionnées de réalisation de l'installation de refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques conforme aux figures 1, 4, 13, 15 dans le cas de l'utilisation de plasmotrons 26 drune forme droite et d'une forme en L inversé. Dans le cas où l'on utilise le plasmotron 26 en L inversé (selon la forme d'un lingot métallique 8,) un orifice 72 (figure 17) est pratiqué dans la paroi du boîtier 28 et l'extrémité coudée 73 du plasmotron 26 est engagée à travers cet orifice. L'extrémité droite 74 du plasmotron 26 est disposée d'une manière analogue au cas décrit à l'intérieur du boîtier 28, sous un angle par rapport à son axe longitudinal 75. L'extrémité 73 du plasmotron 26 est entourée de la douille 76, dont une face en bout est fixée sur la paroi du boîtier 28, sous l'orifice 72. Une garniture d'étanchéité à vide 77 est engagée à l'intérieur de la douille 76 du côté de l'autre face en bout. Une rondelle de pression 78 entourant l'extrémité 73 du plasmotron 26 coopère avec la garniture d'étanchéité 77. Le porte-plasmotron 27 possède supplémentairement un moyen 79 du déplacement horizontal comprenant une commande de rotation 80 et un ensemble vis - écrou 81, dont la vis 82 est engagée à travers l'orifice pratiqué dans la douille 76 et est liée mécaniquement à la commande 80. L'écrou 83 de lten- semble 81 est fixé sur l'extrémité 73 du plasmotron 26. Le moyen de balayage 31 comporte une commande 84 (figure 18) effectuant un déplacement rectiligne alternatif et un organe 85 de transformation du mouvement (figures 17 et 18), ayant un entraîneur 86, lié mécaniquement à la commande 84. Une rainure 89 est prévue sur la surface 88 de l'entraîneur 86 qui est orientée vers la face en bout 87 du plasmotron 26. Une extrémité d'un toc d'entraînement 90 est placée dans ladite rainure 89. L'autre extrémité dudit toc d'entraînement 90 est fixée sur la face en bout 87 du plasmotron 26 de façon que l'axe 91 du toc d'entraînement 90 soit parallèle à l'axe 92 de l'extrémité coudée 73 du plasmotron 26.Le moyen de déplacement vertical 30 comporte une rondelle démontable 93, fixée sur la chambre 1 et un ensemble 94 vis - écrou, dont la vis 95 est montée sur la chambre 1 et sur l'extrémité de laquelle est ménagée une gorge annulaire 96 dans laquelle est logée la rondelle 93. L'écrou 97 de l'ensemble 94 est fixé sur le boîtier 28. Selon l'autre mode de réalisation du porte-plasmotron individuel 27, une rainure 98 (figure 19) est ménagée sur la face en bout 87 de l'extrémité 73 du plasmotron 26 pour recevoir l'extrémité du toc d'entraînement 90 de manière à pouvoir se déplacer dans celui-ci. Pour le reste, la conception du porte-pasmotron 27 est analogue à celle que l'on vient de décrire. Selon la variante suivante de réalisation, le porteplasmotron individuel 27 est muni supplémentairement d'un soufflet 99 (figure 20)entourant l'extrémité courbée 73 du plasmotron 26 et dont une face en bout 100 est fixée sur la paroi du boîtier 28 au-dessus de l'orifice 72 tandis que ) 'autre face en bout 101 est fixée sur la douille 76. Dans ce cas, le diamètre de l'orifice 72 est supérieur au diamètre de l'extrémité 73 du plasmotron 26. La douille 76 est accouplée au boîtier 28 au moyen d'une articulation 102. Le porte-plasmotron 27 comporte supplémentairement un moyen 103 pour le réglage de l'angle de rotation du plasmotron, comprenant deux ensembles.vis écrou 104, 105, dont les vis 106, 107, respectivement, sont engagées à travers des orifices correspondants pratiqués sur la face en bout de la douille 76 et sont fixées sur la paroi du boîtier 28. Des rondelles 110, 111 correspondantes sont disposées sous les écrous 108, 109 respectivement et coopèrent par leurs surfaces sphériques d'appui 112, 113 avec la face en bout de la douille 76.Comme organe de transformation du déplacement, on utilise une transmission 114 par vis sans fin, dont la vis sans fin 115 est liée mécaniquement à la commande 84 (non représentée sur le dessin) et est logée dans l'écrou 83 de l'ensemble 81 vis - écrou. Un secteur 116 de la transmission 114 est fixé sur l'extrémité courbée 73 du plasmotron 26. Pour le reste, la conception du porteplasmotron 27 est analogue à celle décrite dans le cas précédent. Selon le dernier mode de réalisation du porteplasmotron individuel 27, dans le cas où l'on utilise un plasmotron 26 droit (en fonction de la forme d'un lingot métallique 8), la vis 117 (figure 21) de l'ensemble 118 vis-écrou du moyen 30 de déplacement vertical est creuse. Elle emboîte le plasmotron 26 correspondant et est engagée à travers un orifice correspondant 29 de la chambre 1. Le boîtier 28 est monté sur la face en bout 119 de la vis 117. Une gorge annulaire 120 est pratiquée sur la surface de l'écrou 121. Cette gorge 120 reçoit la rondelle 93, montée sur la rondelle de pression 80, emboîtant 'écrou 121. La rondelle 80 est logée à l'intérieur du boîtier 122 et est engagée à travers l'orifice 123 pratiqué dans son fond. Une garniture d'étanchéité à vide 124 est disposée sous la rondelle 80 dans le boîtier 122. L'extrémité de la vis 117 logée à l'intérieur de la chambre 1 est emboîtée dans la douille 125 placée à l'intérieur du boîtier 122 sous la garniture d'étanchéité 124. Deux tourillons 126, liés mécaniquement à la commande 84 (non représentée sur le dessin) sont montés sur le boîtier 122. Une membrane 127 est fixée à la chambre 1 et est montée sur le boîtier 122.Un croisillon 128, ayant un orifice 129 dans lequel est engagé le boîtier 122, est disposé sous la membrane 127 à l'intérieur de la chambre 1. Les tourillons 130, 131 (figure 22) d'une paire de tourillons du croisil lon 128 sont logés à l'intérieur de l'orifice 129 et orientés l'un à la rencontre de l'autre et sont fixés dans le corps du boîtier 122. Les tourillons 132, 133 d'une autre paire sont montés dans la chambre 1 avec une possibilité de rotation. Le boîtier 122 (figures 21, 22), le croisillon 128 avec les deux paires de tourillons 130, 131 et 132, 133 et la chambre 1 constituent une articulation 134 de Hook. Le tourillon 132 est entouré d'une ganiture d'étanchéité à vide 135 et de la douille 136. Un support 137 (figures 21, 23) du moyen 103 de régulation de l'angle de rotation du plasmotron est monté à l'extrémité du tourillon 132.Des boulons 138, 139 qui viennent en contact avec la chambre 1 sont engagés à travers les orifices pratiqués dans le support 137. La figure 24 représente une installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques dans laquelle l'organe 85 du moyen 31 comporte un nombre de tocs d'entraînement 90 (trois tocs d'entraînement) égal au nombre de plasmotrons 26 (trois plasmotrons) et des rainures 89, en un nombre conforme au nombre de plasmotrons 26 (trois rainures 89), sont pratiquées sur la surface 88 de l'entraîneur 86 orientée vers les faces en bout 87 du plasmotron 26. Les tocs d'entraînement 90 sont montés dans chaque rainure 89 de l'entraîneur 86. Un toc d'entraînement 90 correspondant est monté dans chaque rainure 89 de l'entraînement 86. L'installation de refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques conforme aux figures 1, 2, 3 fonctionne de la manière suivante. On déplace la plate-forme 19 dans la position extrême gauche par rapport à la chambre cylindrique étanche 1 (en position "chargement-déchargement") . Dans ce cas, les cylindres pr:ncipaux de trouvent en dehors de la chambre 1. Ensuite, on pose un lingot métallique 8 sur les cylindres principaux 21, 22 du porte-lingot 7. On met la commande auxiliaire 24 de déplacement rectiligne alternatif en action et on déplace la plate-forme 19 en position extrême gauche. A ce moment, les cylindres principaux 21, 22 s'engagent conjointement avec la lingot 8 dans la chambre 1 et le lingot 8 se place au-dessous du moyen 25 d'introduction des plasmotrons. A l'aide du moyen de déplacement vertical de chaque porte-plasmotron individuel 27, on règle la distance entre chaque plasmotron 26 et la surface du lingot 8. Le couvercle principal 2 ferme la chambre 1 de sa face en bout 4.A l'aide des dispositifs de blocage 6, on serre le couvercle 2 contre la face en bout 4. Ceci fait, on vidange la chambre 1 et on la remplit d'un gaz de plasma par un procédé connu. On enclenche la commande de rotation 23 des cylindres principaux 21, 22 qui mettent le lingot 8 en rotation. Ensuite, on met le dispositif de balayage 31 du porte-plasmotron 27 en action et on applique le courant continu de la source 32 de courant continu aux plasmotrons 26 et de la tige 35 du moyen d'amenée 34 de courant continu. En conséquence, des arcs de plasma sont engendrés entre les plasmotrons 26 et la surface du lingot 8. On enclenche la commande principale 18 de déplacement rectiligne alternatif et les cylindres principaux 21, 22 commencent à se déplacer conjointement avec le lingot 8 suivant les plasmotrons 26.Après avoir terminé le traitement (refusion) de la surface du lingot 8, on débranche la source 32, la commande 23 et le moyen 31. Ensuite, on met la commande principale 18 en action et les cylindres porteurs 21, 22 se déplacent en position gauche. Après cela, la commande 18 est mise au repos. La pression dans la chambre 1 s'égalise avec celle de l'atmophère, les dispositifs de blocage 6 libèrent le couvercle 2. La chambre 1 se désétanchéifie. On met la commande auxiliaire 24 de déplacement rectiligne alternatif en action et la plate-forme 19 se déplace en position extrême gauche. On évacue le lingot 8 des cylindres principaux 21, 22 et on pose le lingot 8 suivant, le procédé recommence et s'effectue suivant la même succession. L'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques représentée sur les figures 4, 5, 6 et 7 fonctionne de la manière suivante. Dans le cas du traitement de lingots 8 d'un grand poids et d'une longueur importante, les cylindres principaux 21, 22 s'appuient sur la surface latérale de la chambre 1 par l'intermédiaire du rouleau 37. En outre, pendant le déplacement des cylindres 21, 22 suivant les plasmotrons 26, le cadre 38 se déplace conjointement avec eux, les barres 41, 42 viennent en contact avec les tiges 40 et les sabots 44 glissent suivant les gorges 45 des cylindres 21, 22. A ce moment, le cadre 38 se déplace suivant le guide 39. Pour le reste, l'installation fonctionne d'une manière anal#ogue au cas d'écrit ci-dessus. L'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle des lingots métalliques suivant les figures 8, 9, 10, 11, 12 fonctionne de la manière suivante. Lorsque la plate-forme 19 se trouve en position extrême gauche par rapport à la chambre cylindrique étanche 1 (position "chargement-déchargement") , on enclenche la commande 53 de déplacement rectiligne alternatif du moyen 46 de levage d'un lingot. Son chariot 47 se déplace suivant les rails 49 alors que les montants 51 se placent au-dessous et entre les cylindres 21, 22. Ensuite, on met la commande 53 au repos. On met la commande 52 de déplacement rectiligne alternatif en action, qui déplace les montants 51 suivant les guides correspondants 50. Après cela, on arrête la commande 52. On pose le lingot 8 sur les montants 51.On remet la commande 52 en marche et les montants 51, en descendant, posent doucement le lingot 8 sur les cylindres 21, 22 On remet la commande 53 en marche et le chariot 47 se trouvant sous les cylindres 21, 22 se déplace de dessous des cylindres 21, 22 en position de départ. Après cela, on arrête la commande 53. A ce moment, l'installation fonctionne d'une manière analogue au cas décrit ci-dessus. Pendant le déplacement des cylindres 21, 22 à l'intérieur de la chambre 1 suivant les plasmotrons 26, le guide 39 se déplace dans l'orifice du couvercle principal 2 de la chambre 1. Après avoir déplacé la plateforme 19 en position extrême gauche par rapport à la chambre 1 après la fin du traitement du lingot 8, on enclenche de nouveau la commande 53 et on déplace le moyen 46 sous les cylindres 21, 22. Après cela, on arrête la commande 53 et on met la commande 52 en action.En conséquence, les montants 51, en montant entre les cylindres 21, 22, soulèvent le lingot traité 8. Ensuite, on arrête la commande 52 et on évacue le lingot 8 des montants 51 et on pose un lingot suivant 8 pour traitement ultérieur. Après cela, l'installation fonctionne d'une manière analogue au cas décrit ci-dessus et tout le processus recommence et s'effectue pour le lingot suivant 8. L'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques représentée sur les figures 13 et 14 fonctionne de la manière suivante. On met la plate-forme 19 en position extrême droite par rapport à la chambre étanche cylindrique 1 (position "chargement-déchargement"). On pose le lingot 8 sur les cylindres 21, 22 et les cylindres auxiliaires 60, 61 du porte-lingot 7. On enclenche la commande 18 et on déplace la plate-forme 19 vers la chambre 1, en disposant le lingot 8 sous le moyen 25 d'introduction des plasmotrons. Ensuite, on arrête la commande 18. En se servant du dispositif 30 de déplacement vertical de chaque porteplasmotron individuel 27, on règle la distance entre chaque plasmotron 26 et la surface du lingot 8. Le couvercle complémentaire 3 ferme la chambre 1 de sa face en bout 5. Par les dispositifs de blocage 6, on applique le couvercle 3 contre la face en bout 5. On vidange la chambre 1 et on la remplit du gaz de plasma. On met la commande 23 de rotation en marche, qui entraîne le lingot 8 en rotation On enclenche la commande 18 qui déplace la plate-forme 19 conjointement avec le lingot 8 suivant les porteplasmotrons 27. Après l'achèvement du traitement de la surface du lingot 8, les dispositifs 6 libèrent le couvercle 3 qui s'ouvre. On met la commande 18 en action qui déplace la plate-forme 19 en position extrême droite par rapport à la chambre 1. Pour le reste, l'installation fonctionne d'une manière analogue à l'installation prédécrite. L'installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques représentée sur les figures 15, 16 fonctionne de la manière suivante. Dans le cas de l'usinage des lingots coniques 8, au moment où la plate-forme 19 se trouve en position extrême droite (position "ch'argement-déchargement") , on tourne le plateau 62 autour de l'articulation 63 à l'aide de l'ensemble vis-écrou 64 en faisant se déplacer l'écrou 66 suivant la vis 65 jusqu'à ce que la génératrice du lingot conique 8 (le repère n'est pas indiqué sur le dessin) se trouvant dans la zone de l'usinage se place horizontalement. A ce moment, le lingot 8 s'appuie contre le galet 69 du butoir 68 pour le blocage du lingot. Pour le reste, l'installation fonctionne d'une manière analogue au cas décrit ci-dessus. Ci-après, on va décrire le fonctionnement du porteplasmotron individuel 27 du moyen 25 d'introduction des plasmotrons, réalisé selon différentes conceptions en fonction de la forme du plasmotron 26. Le porte-plasmotron individuel 27 représenté sur les figures 17, 18 fonctionne de la manière suivante. En utilisant le moyen 30 de déplacement vertical et en tournant la vis 95 de l'ensemble vis-écrou 94, on déplace l'écrou 97 conjointement avec le boîtier 28 et le plasmotron 26, obtenant la distance requise entre l'extrémité droite 74 du plasmotron 26 et la surface du lingot 8. On enclenche la commande 80 du dispositif 79 de déplacement horizontal du porte-plasmotron 27. A ce moment, la vis 82 tourne et déplace l'écrou 83 conjointement avec le plasmotron 26 suivant l'axe 92, mettant l'extrémité 74 du plasmotron 26 en position nécessaire. On met la commande 84 du moyen 31 de balayage en action qui, en déplaçant l'entraîneur 86 et le toc d'entraînement 90, tourne l'extrémité courbée 73 du plasmotron 26 autour de l'axe 92, c'est-à-dire que l'extrémité 74 du plasmotron 26 effectue un déplacement oscillatoire suivant l'axe longitudinal du lingot 8. Dans ce cas, l'installation fonctionne d'une manière analogue à l'installation prédécrite. Le porte-plasmotron individuel 27, représenté sur la figure 19, fonctionne de la manière suivante. Pour régler l'amplitude d'oscillation de l'extrémité 74 du plasmotron 26, on change la distance entre les axes 92 et 91 en déplaçant le toc d'entraînement 90 dans la rainure 98. Pour le reste, le porte-plasmotron 27 et l'installation fonctionnent en général d'une manière analogue à l'installation précédemment décrite. Le porte-plasmotron individuel 27 représenté sur la figure 20 fonctionne de la manière suivante. A l'aide du moyen 103 de réglage de l'angle de rotation du plasmotron, on met l'extrémité 74 du plasmotron 26 en position requise Pour cela, on opère de la manière suivante. En tournant les écrous 108, 109 des ensembles vis-écrous 104, 105, on tourne la douille 76 conjointement avec l'extrémité 73 du plasmotron 26 autour de l'articulation 102. Dans ce cas, le soufflet 99 se déforme dans les limites du travail alors que les surfaces sphériques 112, 113 permettent aux ensembles 104, 105 de se positionner automatiquement.Pour communiquer au plasmotron 26 les mouvements oscillatoires, on met la commande 84 en marche qui, en faisant tourner la vis sans fin 115 de la transmission 114 par vis sans fin qui coopère avec son secteur 116, fait tourner l'extrémité 73 du plasmotron 26 autour de l'axe 92. Pour le reste, le porte-plasmotron individuel 27 et l'installation fonctionnent, en général, d'une manière analogue à l'installation prédécrite. Le porte-plasmotron individuel 27 représenté sur figures 21, 22, 23 fonctionne de la manière suivante. La distance entre le plasmotron 26 et la surface du lingot 8 est réglée par le moyen de déplacement vertical 30 à l'aide de l'ensemble vis-écrou 118 dans lequel l'écrou 121, en tournant, déplace la vis 117 conjointement avec le plasmotron 26. A l'aide du moyen de réglage 103 de l'angle de rotation du plasmotron, on met le plasmotron 26 en position requise. A cet effet, on opère de la façon suivante. En changeant la longueur des boulons 138, 139, on tourne le tourillon 133 autour de son axe. En conséquence, le croisillon 128 et le boîtier 122 tournent conjointement avec la vis 117 où est fixé le plasmotron 26 et la membrane 127 se déforme dans les limites de la traction élastique. On met la commande de balayage 84 en marche qui, en agissant sur les tourillons 126, met le boîtier 122 en mouvement oscillatoire conjointement avec le plasmotron 26 autour de l'axe des tourillons 130, 131. Pour le reste, le porte-plasmotron individuel 27 et l'installation fonctionnent en général d'une manière analogue au cas décrit précédemment. L'installation de refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques représentée sur la figure 24 fonctionne de la manière suivante. On met la commande 84 en marche qui, en faisant se déplacer l'entraîneur 86 et en actionnant simultanément trois tocs d'entraînement 90, met les trois plasmotrons 26 simultanément en mouvement oscillatoire. Pour le reste, l'installation fonctionne d'une maniereanalogue au cas prédécrit. La présente invention permet de supprimer les pertes du métal dépensées pour le déchets lors de l'usinage de lingots métalliques. En outre, la présente invention permet d'élever la commodité de l'entretien de l'installation. La présente invention permet également de réduire le temps d'usinage des lingots. REVENDICATIONS 1. Installation pour la refusion au plasma de la couche superficielle de lingots métalliques comportant une chambre étanche avec un couvercle principal, monté sur l'une des faces en bout, un porte-lingot ayant deux cylindres principaux liés mécaniquement à la chambre étanche, deux paires de paliers principaux, un cylindre principal correspondant étant disposé dans chacune de ces paires, un moyen d'introduction de plasmotrons, disposé au-dessus du porte-lingot et renfermant des plasmotrons, montés dans celui-ci, qui comporte,liés entre eux, une source de courant continu, liée électriquement aux plasmotrons et un moyen d'amenée de courant continu lié électriquement et mécaniquement aux cylindres principaux du porte-lingot, une commande de rotation liée mécaniquemcnt -aux cylindres principaux du porte-lingot et une commande principale de déplacement rectiligne alternatif pour effectuer le déplacement mutuel du lingot et des plasmotrons, commande disposée en dehors de la chambre étanche carac térisé en ce que la chambre étanche est cylindrique avec les orifice (29) sur sa surface latérale en un nombre conforme au nombre de plasmotrons (26) en ce que les moyens f25) d'introduction des plastrons comporte un groupe de porte-plasmotrons individuels (27) ayant, chacun, un boîtier (28), entourant un piasmotron correspondant (26) et ayant un orifice à travers lequel est engagée une extrémité du plasmotron (26), son autre extrémité étant engagée à travers un orifice correspondant (29) pratiqué dans la paroi latérale de la chambre étanche cylindrique (1) et également un moyen (30) de déplacement vertical et un moyen de balayage (31), liés mécaniquement à ce plasmotron (26)- et en ce que le porte-lingot (7) est muni supplémentairement d'une plate-forme (19) avec les cylindres porteurs (20) liée mécaniquement à ses paliers principaux (9, 10, 11, 12) et au couvercle principal (2) de la chambre cylindrique étanche (1), et en ce que le déplacement mutuel du lingot (8) et des plasmotrons (26) est effectué au moyen de la liaison mécanique entre la commande principale (18) de déplacement rectiligne alternatif et le porte-lingot (7). 2. Installation selon la revendication 1, caractérisée en ce que sa chambre cylindrique étanche (1) comporte un couvercle complémentaire (3) monté sur son autre face en bout (5). 3. Installation selon la revendication 1, caractérisée en ce que la plate-forme (19) du porte-lingot (7) est montée en dehors de la chambre cylindrique étanche (1) et en ce qu'elle abrite une commande principale (18) de déplacement rectiligne alternatif liée mécaniquement aux cylindres principaux (21, 22) du porte-lingot (7) et une commande de rotation (23). 4. Installation selon la revendication 3, caractérisée en ce qu'elle comporte une commande auxiliaire (24) de déplacement rectiligne alternatif liée mécaniquement à la plate-forme (19) du porte-lingot (7). 5. Installation selon la revendication 4, caractérisée en ce que le couvercle principal (2) de la chambre cylindrique étanche (1) présente deux orifices (13, 14) destinés, chacun, à recevoir l'un des paliers principaux (9, 11) de chaque paire de paliers principaux (9, 10 et 11, 12) du porte-lingot (7) et est monté sur sa plateforme (19). 6. Installation selon la revendication 5, caractérisée en ce que chacun des paliers principaux (9, 10, 11, 12) du porte-lingot (7) est réalisé sous forme d'une douille (9, 10, 11, 12). 7. Installation selon la revendication 3, caractérisée en ce que le porte-lingot (7) est pourvu supplémentairement d'une traverse (36) liée mécaniquement à l'autre palier principal (10, 12) de chaque paire de paliers principaux (9, 10 et 11, 12) et un galet (37) lié mécaní- quement à la traverse (36) et entrant en contact avec la surface latérale de la chambre cylindrique étanche (1). 8. Installation selon la revendication 7, caractérisée en ce que le porte-lingot (7) comprend supplémentairement un cadre (38) disposé au-dessous des cylindres principaux (21, 22), une face en bout duquel est liée mécaniquement à la traverse (36), un guide (39) dont une extrémité est liée mécaniquement à l'autre extrémité du cadre (38), des sabots (44) montés par paires sur le cadre (38) suivant l'axe longitudinal (43) de la chambre cylindrique étanche (1), deux barres (41, 4?) liées, chacune, à un sabot corrrespondant (44) de chaque paire de sabots (44) et des éléments de contact (40) en nombre conforme au nombre de sabots (44), engagés à travers les orifices pratiqués par paires sur la surface latérale de la chambre cylindrique étanche (1) et liés électriquement à la source de courant continu (32). 9. Installation selon la revendication 8, caractérisée en ce que des gorges (45) sont pratiquées sur la surface de chacun des cylindres principaux (21, 22) du portelingot (7) en un nombre conforme au nombre de paires de sabots (44), un sabot correspondant (44) d'une paire correspondante de sabots (44) venant alors en contact avec chacune desdites gorges (45). 10. Installation selon la revendication 8, caractérisée en ce qu'une extrémité du guide (39) du porte-lingot (7) est liée mécaniquement au cadre (38) de manière à pouvoir le déplacer suivant le guide (39) tandis que l'autre extrémité du guide (39) est fixée à demeure sur le couvercle principal (2) de la chambre cylindrique étanche (1). 11. Installation selon la revendication 8, caractérisée en ce que l'autre extrémité du guide (39) du porte-lingot (7) est engagée à travers l'orifice pratiqué dans le couvercle principal (2) de la chambre cylindrique étanche (1). 12. Installation selon la revendication 5, caractérisée en ce qu'elle comporte complémentairement un moyen (46) de levage d'un lingot disposé, au moment où un lingot (8) est posé ou enlevé relativement aux cylindres principaux (21, 22) se trouvant en dehors de la chambre cylindrique étanche (1) du porte-lingot (7), entre sa plate-forme (19) et la chambre cylindrique étanche (1) au-dessous et entre les cylindres principaux (21, 22). 13. Installation selon la revendication 12, caractérisée en ce que le moyen (46) de levage d'un lingot comporte un chariot (47) avec les galets porteurs (48), des guides (50) montés sur le chariot (47), des montants (51) en nombre conforme au nombre de guides (50) avec la possibilité de se déplacer suivant celui-ci et deux commandes (52, 53) de déplacement rectiligne alternatif, don-t l'une est liée mécaniquement au chariot (47) et l'autre est raccordée aux montants (51). 14. Installation selon la revendication 1, caractérisée en ce que la plate-forme (19) du portelingot (7) est montée à l'intérieur de la chambre cylindrique étanche (1) et en ce que la commande principale (18) de déplacement rectiligne alternatif est mécaniquement liée à cette plate-forme. 15. Installation selon la revendication 14, caractérisée en ce que le porte-lingot (7) comprend deux paires de paliers auxiliaires (56, 57 et 58, 59) liés mécaniquement à la plate-forme (19) et deux cylindres auxiliaires (60, 61), disposés, chacun, dans une paire correspondante de paliers auxiliaires (56, 57 et 58, 59) coaxialement aux cylindres principaux correspondants (21, 22). 16. Installation selon la revendication 15, caractérisée en ce que le porte-lingot (7) comprend un plateau (62) monté avec la possibilité de tourner sur la plate-forme (19) et portant la commande de rotation (23) et les paliers principaux (9, 10, 11, 12) et les paliers auxiliaires (56, 57, 58, 59). 17. Installation selon la revendication 16, caractérisée en ce que la possibilité de rotation du plateau (62) du porte-lingot (7) sur sa plate-forme (19) est assurée à l'aide d'une articulation (63). 18. Installation selon la revendication 17, caractérisée en ce que le porte-lingot (7) est pourvu supplémentairement d'un moyen de réglage de l'angle de rotation, lié mécaniquement au plateau (62) et à la plate-forme (19). 19. Installation selon la revendication 18, caractérisée en ce que le moyen de réglage de l'angle de rotation du porte-lingot (7) est réalisé sous la forme d'un ensemble vis-écrou (64), dont la vis (65) est fixée sur la plate-forme (19) et l'écrou (66) se déplace le long de la vis (65) et est lié mécaniquement au plateau (62). 20. Installation selon la revendication 18, caractérisée en ce que le porte-lingot (7) est muni supplémentairement d'un butoir (68) pour le blocage du lingot (8) disposé sur le plateau (62). 21. Installation selon la revendication 1, caractérisée en ce que, dans le cas où le plasmotron (26) a une forme en L inversé, l'orifice (72) du boîtier (28) du porte-plasmotron individuel (27) est. pratiqué dans sa paroi, en ce que l'extrémité courbée (73) du plasmotron (26) est engagée à travers cet orifice et en ce que le porte-plasmotron individuel (27) comporte supplémentairement une douille (76) emboîtant l'extrémité courbée (73) du plasmotron (26) et liée mécaniquement au boîtier (28) et un moyen (79) de déplacement horizontal monté sur la douille (76) et lié mécaniquement à l'extrémité courbée (73) du plasmotron (26). 22. Installation selon la revendication 21, caractérisée en ce que la douille (76) est fixée rigididement sur la paroi du boîtier (28). 23. Installation selon la revendication 21, caractérisée en ce que chaque porte-plasmotron individuel (27) est pourvu supplémentairement d'un soufflet (99) entourant l'extrémité (73) du plasmotron (26) et lié mécaniquement à la paroi du boîtier (28) et à la douille (76), le diamètre de l'orifice (72) du boîtier (28) étant supérieur à celui de l'extrémité courbée (73) du plasmotron (26) et la douille (76) étant liée au boîtier (28) au moyen d'une articulation (102). 24. Installation selon l'une quelconque des revendications 1 ou 23, caractérisée en ce que chaque porteplasmotron individuel (27) comporte supplémentairement un moyen (103) pour le réglage de l'angle de rotation du plasmotron, lié mécaniquement au plasmotron (26). 25. Installation selon l'une quelconque des revendications 1, 22 ou 24, caractérisée en ce que le moyen (30) de déplacement vertical du porte-plasmotron individuel (27) comporte un ensemble vis-écrou (94), une rainure annulaire (96 ou 120) étant pratiquée à une extrémité de la vis (95) ou de l'écrou (97) de cet ensemble, et une rondelle démontable (93) logée dans la rainure annulaire (96 ou 120). 26. Installation selon l'une quelconque des revendications 22 et 25 ou 24 et 25, caractérisée en ce que l'écrou (97) de l'ensemble vis-écrou (94) du moyen (30) de déplacement vertical est monté sur le boîtier (28) du porteplasmotron individuel (27), en ce qu'une rainure annulaire (96) est réalisée dans la vis (95) et la rondelle démontable (93) est fixée à la chambre cylindrique étanche (1). 27. Installation selon l'une quelconque des revendications 1 ou 25, caractérisée en ce que la vis (117) de l'ensemble vis-écrou (118) du moyen (30) de déplacement vertical est creuse, entoure le plasmotron correspondant (26), est engagée à travers un orifice correspondant (29) pratiqué dans la paroi latérale de la chambre cylindrique étanche (1) et en ce que le boîtier (28) du porte-plasmotron individuel (27) est monté sur la face en bout (119) de la vis (117), qui se trouve disposée en dehors de la chambre cylindrique étanche (1), en ce qu'une rainure annulaire (120) est alors pratiquée sur son écrou (121) et la rondelle démontable (93) est liée mécaniquement au moyen (31) de balayage du porte-plasmotron individuel (27). 28. Installation selon l'une quelconque des revendications 1, 22 ou 27, caractérisée en ce que le moyen (31) de balayage du porte-plasmotron individuel (27) comporte, liés mécaniquement entre eux, une commande (84) de déplacement rectiligne alternatif et un organe (85) de transformation du mouvement, lié mécaniquement au plasmotron (26). 29. Installation selon la revendication 28, caractérisée en ce que, dans le porte-plasmotron individuel (27) l'organe (85) de transformation du déplacement du moyen (31) de balayage est lié mécaniquement à son moyen (79) de déplacement horizontal. 30. Installation selon la revendication 28, caractérisée en ce que l'organe (85) du transformation du déplacement dans le moyen (31) de balayage comporte un entraîneur (86), sur la surface (88) orientée vers le plasmotron (26) duquel est pratiquée une rainure (89) et qui est lié mécaniquement à la commande (84) de déplacement rectiligne alternatif, et un toc d'entraînement (90), dont une extrémité est logée dans ladite rainure (89) et l'autre extrémité est liée mécaniquement à l'extrémité courbée (73) du plasmotron (26). 31. Installation selon la revendication 30, caractérisée en ce que dans l'organe (85) de transformation du déplacement,l'autre extrémité du toc d'entraînement (90) est fixée rigidement à la face en bout (87) de l'extrémité courbée (73) du plasmotron (26). 32. Installation selon la revendication 30, caractérisée en ce que l'autre extrémité du toc d'entraînement (90) est logée dans une rainure (98) réalisée sur la face en bout (87) de l'extrémité courbée (73) du plasmotron (26) de manière à pouvoir s'y déplacer. 33. Installation selon la revendication 28, caractérisée en ce que l'organe (85) de transformation du mouvement dans le moyen (31) de balayage comporte un boîtier (122) enveloppant la vis (117) de l'ensemble vis-écrou (118) du moyen (30) de déplacement vertical, deux tourillons (126) montés sur le boîtier (122) et liés mécaniquement à la commande (84) de déplacement rectiligne alternatif, un membrene (127) entourant le boîtier (122) et fixée à la chambre cylindrique étanche (1) et une articulation universelle (134) de Hook, dans le croisillon de laquelle est pratiqué un orifice (129) à travers lequel est engagé le boîtier (122), les tourillons (130 et 131) d'une paire étant disposés à l'intérieur de l'orifice (129) du croisillon (128), étant orientés l'un à la rencontre de l'autre et liés mécaniquement au boîtier (122), les tourillons (132 et 133) de l'autre paire étant liés mécaniquement à la chambre cylindrique étanche (1). 34. Installation selon la revendication 28, caractérisée en ce que dans la porte-plasmotron individuel (27) on utilise, comme organe de transformation du mouvement du moyen (31) de balayage, une transmission (114) par vis sans fin, dont la vis sans fin (115) est liée à la commande (84) de déplacement rectiligne alternatif et au moyen (79) de déplacement horizontal du porte-plasmotron individuel (27) et en ce que son secteur (116) est fixé sur l'extrémité courbée (73) du plasmotron (26). 35. Installation selon l'une quelconque des revendications 22 ou 24, caractérisée en ce que le moyen (79) de déplacement horizontal du porte-plasmotron individuel (27) comporte un ensemble vis-écrou (81), dont la vis (82) est liée mécaniquement à la douille (76) du.porte- plasmotron individuel (27) et dont l'écrou (83) est lié mécaniquement à l'extrémité courbée (73) du plasmotron (26), et une commande de rotation (80), montée dans la douille (76) et liée mécaniquement à la vis (82) de l'ensemble vis-écrou (81). 36. Installation selon l'une quelconque des revendications 34 ou 35, caractérisée' en ce que la vis (115) de la transmission (114) par vis sans fin est montée sur l'écrou (83) de l'ensemble vis-écrou (81) du moyen (79) de déplacement horizontal. 37. Installation selon la revendication 24, caractérisée en ce que le moyen (103) de réglage de l'angle de rotation du plasmotron du porte-plasmotron individuel (27) comporte au moins deux ensemble vis-écrou (104, 105), les vis (106, 107) de chacun d'eux étant engagés à travers un orifice correspondant, pratiqué dans la douille (76) et étant fixées sur la paroi du boîtier (28) du porteplasmotron individuel (27), et au moins deux rondelles (110 111), ayant, chacune, une surface d'appui sphérique (112, 113) venant en contact avec la douille (76). 38. Installation selon la revendication 33, caractérisée en ce que le moyen (103) de réglage de l'angle de rotation du plasmotron du porte-plasmotron individuel (27) comporte un support (137) monté sur l'un des tourillons (133) d'une paire complémentaire de tourillons (132, 133) de l'articulation universelle (134) de Hook et au moins deux boulons (138, 139), chacun étant engagé à travers un orifice correspondant pratiqué dans le support (137) et venant en contact avec la chambre cylindrique étanche (1). 39. Installation selon la revendication 30, caractérisée en ce que, dans l'organe (85) de transformation du mouvement du moyen (31) de balayage, le nombre de tocs d'entraînement (90) est égal au nombre de plasmotrons (26) et en ce que des rainures (89) sont pratiquées sur la surface (88) de l'entraîneur (86) orientée vers les plasmo trons (26), en un nombre conforme avec le nombre de plasmotrons (26) et en ce qu'un toc d'entraînement correspondant est logé dans chacune desdites rainures.