FR 2581248 A1 19861031 FR 8506442 A 19850426 --) 2581248 PROCEDE DE FABRICATION DE TRANSISTORS A EFFET DE CHAMP ET TRANSISTORS BIPOLAIRES LATERAUX SUR UN MEME SUBSTRAT L'invention concerne la fabrication des circuits intégrés. Pour bénéficier simultanément de la rapidité de fonction- nement des transistors bipolaires, de la haute densité d'intégration des circuits à transistors à effet de champ, et de la faible consommation des circuits utilisant judicieusement des transistors à effet de champ complémentaires à canal N et à canal P, on cherche de plus en plus à réaliser des procédés technologiques de fabrication qui permettent de réaliser sur un même substrat de circuit intégré à la fois des transistors bipolaires et des transistors à effet de champ à canal N et à canal P. Malheureusement, la technologie de fabrication de transistors à effet de champ est très différente de la technologie de fabrication des transistors bipolaires; cela ne rend pas du tout impossible la juxtaposition de ces deux types de transistors sur le même substrat, mais cela tend à augmenter considérablement le nombre d'étapes technologiques nécessaires à la fabrication de ces circuits mixtes: si on part d'une technologie CMOS (transistors à effet de champ complémentaires), cette technologie ne permet pas de faire des transistors bipolaires. On intercale alors plusieurs étapes techno- logiques spécifiques à certains stades du processus de fabrication et cela permet de réaliser les circuits mixtes désirés. Or les étapes de fabrication sont déjà nombreuses et chaque étape supplémentaire tend à réduire d'une part le rendement de fabrication et d'autre part la possibilité de conserver des règles de dessin topologiques correspondant à une haute densité d'intégration. Enfin, certaines étapes spécifiques habituelles dans les techno- logies bipolaires (épitaxie N sur substrat P, formation de couches enterrées localisées) sont des étapes longues et délicates dont les technologies CMOS n'ont heureusement pas besoin et qu'on est pourtant obligé d'introduire lorsqu'on veut combiner technologies CMOS et bipolaires sur le même substrat. On comprend par conséquent que ce problème d'intégration de deux technologies très différentes soit difficile à résoudre et que des circuits mixtes CMOS/bipolaires n'aient pu voir le jour que dans la mesure o la maitrise technologique permet quand même de garder un rendement de fabrication acceptable malgré le grand nombre d'étapes de fabrication nécessaire. A titre d'exemple, les technologies mixtes CMOS/bipolaire qui ont pu être proposées jusqu'à ce jour comportent au moins 12 niveaux de masquage différents dans leurs versions les plus simples. La présente invention propose une technologie mixte CMOS/bipolaire qui, dans sa version la plus simple, ne comporte que 9 niveaux de masquage et qui de plus n'utilise pas d'étape d'épitaxie et pas de formation de couche enterrée localisée. Le procédé de fabrication selon l'invention comporte les étapes principales suivantes: a) on part d'un substrat de silicium monocristallin de type N dans lequel on forme des caissons de type P pour des transistors MOS à canal N et pour des transistors bipolaires NPN latéraux; b) on forme dans le substrat des zones actives séparées par de l'oxyde de silicium épais; c) on forme dans les zones actives une couche isolante mince servant d'oxyde de grille pour les transistors MOS; d) on grave cet oxyde pour dénuder le silicium des zones actives dans des régions o seront formés les transistors bipolaires; e) on dépose une couche de silicium polycristallin dopée avec une impureté de type N et susceptible de servir de source de diffusion de cette impureté vers le silicium monocristallin; f) on grave la couche de silicium polycristallin pour définir un motif de grilles de transistors MOS, des contacts d'émetteur et de collecteur des transistors bipolaires, et des interconnexions; g) on masque les transistors bipolaires et les transistors MOS à 258 1248 canal P et on implante une impureté de type N dans les régions de source et drain des transistors à canal N; - h) on forme des remblais isolants contre les bords latéraux des portions gravées de la couche de silicium et on dénude le silicium monocristallin à la surface des régions de drain et de source des transistors MOS et de la région de base des transistors bipolaires; i) on masque les transistors à canal N et on implante une impureté de type P dans les régions de source et drain des transistors à canal P et dans la région de base, entre les contacts d'émetteur et de collecteur, des transistors bipolaires; j) on dépose uniformément une couche métallique susceptible de former avec le silicium un siliciure conducteur notamment là o elle vient en contact avec le silicium mais non là o elle vient en contact avec les remblais isolants et les murs d'isolation; k) on forme par recuit un-siliciure conducteur. Les étapes suivantes du procédé sont classiques. Par ailleurs certaines étapes au début du procédé n'ont pas été indiquées car elles peuvent être traitées de plusieurs manières: implantations de couche anti-inversion de type P, implantation d'ajustement de seuil, recuits. Enfin, certaines étapes telles que l'implantation de type N et l'implantation de type P pourraient éventuellement être inversées. La diffusion de l'impureté N du silicium polycristallin dans le silicium monocristallin se fait après l'étape f par soit un recuit spécifique soit le recuit classique des implantations ioniques de sources et drains. Le transistor bipolaire réalisé est un transistor bipolaire latéral dans un caisson P. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention appa- raîtront à la lecture de la description détaillée qui suit et qui est faite en référence aux dessins annexés dans lesquels: - les figures I à 12 représentent des étapes intermédiaires successives du procédé de fabrication selon l'invention. On part d'un substrat semiconducteur de silicium 10 de type N dans lequel seront formés les composants actifs du circuit intégré. La première étape consiste à déposer une couche de nitrure de silicium 12 sur un oxyde fin 13 et à la photograver selon un motif définissant les différentes zones actives du circuit (masque n l). Les zones actives sont celles sur lesquelles subsiste le nitrure; elles seront séparées ultérieurement par de l'oxyde épais localisé. Sur la figure 1, on a délimité trois zones actives A, B, C, la première correspondant à la réalisation d'une transistor MOS à canal N, la deuxième correspondant à la réalisation d'un transistor MOS à canal P et la troisième correspondant à la réalisation d'un transistor bipolaire NPN. La deuxième étape (figure 2) consiste à former des caissons de type P dans le substrat N. Pour cela on dépose une couche de résine -15 14 de masquage-contre une--implantation ionique à haute énergie. On phetogravela résine pour la laisser subsister là o on ne doit pas former de caissons (masque n 2). On effectue une implantation ionique à haute énergie (1-20 kev à 2 Mev) d'une impureté de type P, par exemple une implantation de bore à une dose de 2xl01 at/cm2, pour former un caisson 16 de type P englobant et entourant complètement la zone A (caisson pour le transistor MOS N) et un caisson 1E de type P englobant et entourant complètement la zone C (caisson pour le transistor bipolaire). L'implantation se fait à travers le nitrure 12 et Pl'oxyde 13. On notera que la résine 14 protège complètement et largement la zone active-B, c'est-à-dire que la surface de masque délimitant la résine 14 au-dessus de la zone B est plus large de tous les c6tés que la zone B. L'étape suivante est une nouvelle implantation ionique (figure 3) d'une impureté de type P. Cette implantation se fait à travers le même masque n 2, c'est- à-dire pratiquement alors que le motif de résine 14 est encore en place. Mais c'est maintenant une implan- tation à faible énergie (30 kev) qui ne traverse pas le nitrure et qui se localise là o le substrat de silicium n'est protégé ni par le nitrure ni par la résine. On forme ainsi une zone superficielle annulaire 20 de type P+ tout autour de la région active A et une zone super- ficielle annulaire 22 tout autour de la région active C. En variante, si l'implantation du caisson n'est pas faite à très forte énergie et nécessite un recuit avant l'implantation des régions 20 et 22, la résine 14 est enlevée avant la deuxième implantation, un recuit est effectué et une résine est remise en place selon le même motif (masque n 2). On élimine alors la résine 14, mais pas le nitrure 12. On effectue une oxydation épaisse du silicium, localisée par le nitrure qui empêche l'oxydation là o il est présent. On réalise ainsi une couche épaisse d'oxyde de silicium localisée tout autour des zones actives. Pendant cette oxydation, les impuretés de type P des régions 20 et 22 sont repoussées vers le bas par la croissance de l'oxyde; les impuretés de type P se répartissent par diffusion dans le volume des caissons. Les régions 20 et 22 constituent alors des couches anti-inversion empêchant la formation de canaux conduc- teurs parasites entre zones actives adjacentes. Après l'oxydation épaisse, on-retire le nitrure (figure 4). On effectue alors une oxydation superficielle de la surface dénudée de silicium des zones actives. Il en résulte une couche isolante mince 26 de quelques centaines d'angstrôms servant d'iso- lant de grille pour les transistors MOS (figure 5). A cette étape on peut, si on le désire, faire une implantation d'impuretés non localisée, sur toute la surface des zones actives, pour l'ajustage des tensions de seuil des transistors MOS. Ensuite, par une couche de résine photosensible 28 gravée selon un masque n 3, on masque la surface des zones actives A et B en découvrant la zone active C. On élimine alors l'oxyde de silicium mince 26 de la zone active C en conservant l'oxyde mince dans les zones A et B (figure 6). Après retrait de la résine 28, on dépose uniformément une couche de silicium polycristallin fortement dopé de type N (dopage pendant le dépôt) . Cette couche repose sur le silicium monocristallin dans la zone C, sur l'oxyde mince 26 dans les zones A et B, et enfin sur l'oxyde épais en dehors des zones actives. Cette couche est suffisamment dopée pour pouvoir elle-même servir de source de dopant lors d'une étape de recuit thermique, là o elle est en contact avec le silicium monocristallin. Par une étape de photo- gravure (masque n 4) on grave le silicium polycristallin selon un motif définissant les grilles 30 de transistors MOS à canal N, (zone A), les grilles 32 de transistors MOS à canal P (zone B) des contact d'émetteur et de collecteur 34 et 36 de transistors bipolaires (zone C), et des interconnexions 38 (principalement en dehors des zones actives); la figure 7 représente la structure de circuit intégré à ce stade de fabrication. On dépose une couche de résine photosensible 40 susceptible de servir de masque d'implantation, et on la grave selon un motif (masque n 5) tel que la résine protège les zones actives B (MOS P) et C (bipolaires), et découvre les zones A (MOS N). On effectue une implantation d'impuretés de type N pour réaliser la source 42 et le drain 44 des transistors MOS à canal N. La résine 40 ainsi que la grille 30 masquent le substrat contre cette implantation et les régions de source et de drain sont ainsi autoalignées par rapport à la grille 30 (figure 8). L'implantation est de préférence une implan- tation d'arsenic à faible profondeur. On élimine alors la résine 40. A ce stade, il serait possible de faire immédiatement une implantation des régions de source et de drain des transistors à canal P ainsi que de la base des transistors bipolaires en répétant un processus analogue à l'implantation de source et drain des transistors à canal N. Ces deux implantations pourraient d'ailleurs être inversées. On préfère cependant procéder à une formation de remblais isolants le long des bords verticaux des motifs de silicium poly- cristallin (figure 9). Le mode le plus simple consiste à recouvrir toute la surface de la structure d'une couche isolante à fort pouvoir couvrant, c'est-à-dire d'une couche qui vient s'appliquer aussi bien contre les surfaces horizofitales que contre les sufaces verticales et qui épouse donc complètement le relief de la surface tel qu'on le 2 5 8 1 2 4 8 voit sur les figures. L'épaisseur du dépôt est choisie égale à la largeur désirée pour les remblais isolants (à leur base}. Cette épaisseur est sensiblement constante aussi bien dans le sens, vertical sur les surfaces horizontales que dans le sens horizontal sur les surfaces verticales. La couche déposée est de préférence une couche d'oxyde de silicium déposée par décomposition chimique en phase gazeuse à basse pression. Ce dépôt est suivi d'un recuit qui d'une part améliore l'homogénéité du dépôt et d'autre part assure une diffusion des impuretés des contacts d'émetteur 34 et de collecteur 36 (silicium polycristallin fortement dopé de type N) vers le silicium monocristallin avec lequel ils sont en contact. On forme ainsi les régions d'émetteur 46 et de collecteur 48 des transistors bipolaires des zones C. Puis, par une gravure anisotrope verticale (gravure ionique réactive), on attaque uniformément l'oxyde de silicium déposé, l'attaque se poursuivant sur une épaisseur sensiblement égale-à celle - qui a été déposée; l'attaque est effectuée jusqu'à mise à nu du silicium monocristallin dans les régions de source et drain des transistors MOS et les régions de base des transistors bipolaires, et également jusqu'à mise à nu de la surface supérieure du silicium polycristallin partout o il est présent. L'attaque verticale est interrompue immédiatement après cette mise à nu, de sorte qu'il subsiste des remblais isolants d'oxyde de silicium le long des bords verticaux de tous les motifs de silicium - polycristallin, c'est-à-dire essentiellement des remblais 50 le long des grilles 30 (zones A), des remblais 52 le long des grilles 3Z (zones B), des remblais 54 à la frontière entre lémetteur et la base des transistors bipolaires et des remblais.56 à la frontière entre le collecteur et la base des transistors bipolaires (zone C). On dépose alors une nouvelle résine 58 de masquage contre une implantation ionique et on la grave (masque n 6) pour dénuder les zones actives B et C en protégeant les zones actives A (figure 10). On implante des impuretés de type P (bore) pour réaliser les régions de source 60 et drain 62 des transistors MOS à canal P, autoalignées par rapport à la grille 32 qui sert également de masque; on réalise en même temps une implantation dans la portion de zone active C qui sépare le contact d'émetteur 34 du contact de collecteur 36 ou plus précisément qui sépare le remblai isolant 54 du remblai isolant 56 car ces remblais servent également de masque. Cette portion de zone active C implantée de bore constitue alors une région de base 64 pour le transistor bipolaire (NPN latéral). La largeur de base peut être réduite à environ 0,6 microns (environ 1 à 1,2 microns d'espacement entre les contacts d'émetteur et col- lecteur, diminué de la distance latérale de diffusion des régions N+ 46 et 48 à partir des bords du silicium polycristallin servant-de source de dopant. Apres un recuit permettant notamment une légère diffusion latérale des impuretés de- type P implantées dans l'étape précédente, on effectue éventuellement une désoxydation superficielle du substrat pour- mettre à nu- le silicium uniquement dans les régions de source, drain et base des transistors (régions actives non recouvertes de silicium polycristallin), ainsi que la surface du silicium poly- cristallin. Puis on-dépose une couche d'un métal susceptible de former un composé homogène conducteur (siliciure) ou un alliage conducteur avec le silicium, par exemple le platine, le tantale ou d'autres métaux. Ce métal va s'allier avec le silicium et-doit pouvoir être éliminé sans problème là o il ne s'allie pas. Comme on le voit sur la figure il, la couche de métal 66 déposée uniformément vient en contact avec l'oxyde épais des murs isolants, avec les remblais-isolants 50, 52, 54, 56, avec le-silicium monocristallin des régions de source et de drain (42, 44, 60, 62) et de base (64), et enfin avec le silicium polycristallin des grilles (30, 32), des contacts d'émetteur et collecteur (34, 36) et des interconnexions (38). Une manière commode de faire un siliciure consiste à utiliser du platine comme métal de la couche 66, et à recuire le substrat. Le siliciure de platine ne se forme que là o le platine est en contact 258 1248 direct avec le silicium monocristallin ou polycristallin. Après ce recuit on enlève à l'eau régale le platine qui ne s'est pas transformé en siliciure, c'est-à-dire celui qui reposait sur l'oxyde de silicium, et on aboutit à la structure de la figure 12 o les contacts de source et de drain 68 des transistors MOS à canal N et P sont en siliciure de platine et sont bien séparés des grilles 30 et 32, grilles qui sont elles-mêmes surmontées de siliciure de platine 70 plus conducteur que le silicium monocristallin. De même le contact de base 72 est en siliciure de platine bien séparé par les remblais isolants des contacts d'émetteur et de collecteur 34, 36 qui eux-mêmes sont recouverts (comme les interconnexions 38) de siliciure de platine 74 qui améliore leur conductivité. Avec un dépôt de tantale au lieu de platine on pourrait procéder d'une manière différente pour aboutir à une structure analogue: par un recuit en atmosphère oxydant sèche à température modérée (environ 5000C) on peut transformer le tantale en siliciure de tantale là o il est en contact avec le silicium monocristallin ou polycristallin, et en oxyde de tantale (isolant) là o il est en contact avec l'oxyde de silicium. Il n'est même pas nécessaire alors d'éli- miner le tantale non transformé en siliciure. Le procédé de fabrication se poursuit par des opérations classiques: dépôt d'oxyde épais, ouverture de contacts dans l'oxyde (masque n07), dépôt d'aluminium, gravure d'un motif d'inter- connexions en aluminium (masque n08), dépôt d'une couche de passivation, gravure de cette couche pour ouvrir des plages de contact pour la soudure de fils d'accès (masque n 9). REVENDICATIONS 1. Procédé de fabrication d'un circuit intégré incorporant des transistors MOS à canal N et P et des transistors bipolaires, procédé caractérisé par les étapes principales suivantes: a) on part d'un substrat de silicium monocristallin (10) de type N dans lequel on forme des caissons (16, 18) de type P pour des transistors MOS à canal N et pour des transistors bipolaires NPN latéraux; b) on forme dans le substrat des zones actives (A,B,C) séparées par de l'oxyde de silicium épais (24); c) on forme dans les zones actives une couche isolante mince (26) servant d'oxyde de grille pour les transistors MOS; d) on grave cet oxyde pour dénuder le silicium des zones actives dans des régions ou seront formés les transistors bipolaires; e) on dépose une couche de silicium polycristallin dopée avec une impureté de type N et susceptible de servir de source de diffusion de cette impureté vers le silicium monocristallin; f) on grave la couche de silicium polycristallin pour définir un motif de grilles (30, 32) de transistors MOS, des contacts d'émetteur (34) et de collecteur (36) des transistors bipolaires, et des inter- connexions (38); g) on masque les transistors bipolaires et les transistors MOS à canal P et on implante une impureté de type N dans les régions de source (42) et drain (44) des transistors à canal N; h) on forme des remblais isolants (50, 52, 54, 56) contre les bords latéraux des portions gravées de la couche de silicium eton dénude le silicium monocristallin à la surface des régions de drain et de source des transistors MOS et de la région de base des transistors bipolaires; i) on masque les transistors à canal N et on implante une inmpureté de type P dans les régions de source (60) et drain (62) des transistors à canal P et dans la région de base (64), entre les contacts d'émetteur (34) et de collecteur (36), des transistors bipolaires; j)on dépose uniformément une couche métallique (66) suscep- tible de former avec le silicium un siliciure conducteur notamment là o elle vient en contact avec le silicium mais non là o elle vient en contact avec les remblais isolants et les murs d'isolation; - k) on forme par recuit un siliciure conducteur. 2. Procédé de fabrication d'un circuit intégré selon la reven- dication 1, caractérisé en ce que le métal susceptible de former un siliciure est du platine et qu'il est prévu une étape d'enlèvement à l'eau régale du platine non transformé en siliciure. 3. Procédé de fabrication d'un circuit intégré selon la reven- dication 1, caractérisé en ce que le métal susceptible de former un siliciure est du tantale et qu'on effectue la transformation _du métal en siliciure en atmosphère oxydante sèche à température modérée pour transformer en oxyde de tantale le tantale déposé sur de l'oxyde de silicium. 4. Procédé de fabrication d'un circuit intégré selon l'une quelconque des revendications I à 3, caractérisé en ce que la formation de remblais isolants est effectuée par dépôt uniforme couvrant d'oxyde de silicium, suivi d'une gravure anisotropique verticale. 5. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'on effectue unrecuit après l'Pétape f pour faire diffuser l'impureté du silicium polycristallin dans le silicium monocristallin.