FR 2586199 A1 19870220 FR 8512550 A 19850813 La présente invention concerne un dispositif du type écaille pro agressive disposé en saillie du ski, dont la configuration géométrique et l'implantation technique lui confèrent des avantages appréciables dans la pratique du ski de fond ou nordique, et de randonnée. Dans les dispositifs connus de ce genre, outre les traditionnelles peaux de phoque, existent divers dispositifs connus sous le terme générique d'écailles. La plupart de ces dispositifs sont dits, en tuile, et connaissent généralement une implantation en creux dans la semelle inférieure du ski, ce qui ne favorise pas les progressions amont. Quel que soit le type d'implantation choisi, droit ou en chevron, la géométrie de tels dispositifs ne permet pas la pratique aisée du pas de patineur, ainsi qu'une trajectoire satisfaisante basée sur un effet de carre. Le dispositif selon l'invention permet de remédier à ces inconvénients. I1 comporte en effet, en nombre suffisant, des écailles totalement positives, soit en relief, avantageusement disposées en chevron constant, et dont les espacements font de chacune des écailles un élément micro-carre directionnel et anti-recul. Toute écaille est une entité indissociable de l'ensemble, et ses particularités résident dans son relief profilé favorisant la glisse, ses bords longitudinaux progressifs décalés et sa disposition en chevron constant assurant le maintien directionnel, quelle que soit la pente, tout en apportant un réel confort et une totale sécurité dans la pratique du pas dit du patineur; le talon, supprimant pour sa part tout effet de bourrage préjudiciable à la glisse,et dans les montées accentuées, à la retenue, constitue avec son homologue selon l'axe de symétrie longitudinal un anti-recul efficace. Selon une forme de réalisation préférentielle, le dispositif comporte des écailles avantageusement disposées en chevron, et en nombre suffisant de part et d'autre de l'axe longitudinal médian de chacun des skis. Chacune des écailles est, toujours selon le même axe, espacée régulièrement et suffisamment de ses voisines dans le sens transversal. L'espacement longitudinal sera de préférence progressif, ou tout au moins par séries de rangées de N chevrons espacées différemment, ceci afin d'éviter tout phénomène de résonance dû à une régularité d'implantation. Afin d'obtenir un rendement optimal, le nombre d'écailles par brache du chevron sera avantageusement compris entre trois et cinq. Etant à préciser qu'afin de rendre encore plus performante chaque écaille, il est solhaitable que chacune de celles-ci soit décalée longitudinalement par rapport à l'écaille précédente et suivante. Selon une variante, le décalage en chevron des écailles peut être accentué par une disposition intercalaire d'une écaille sur deux dépiacée en avant ou en arrière. Une telle disposition des écailles augmente le rôle fonctionnel de chacune des écailles. La figure 1 représente, en perspective, le détail d'une écaille, en vue agrandie. La figure 2 représente, de profil, un ski de fond équipé du dispositif. La figure 3 représente une disposition possible des écailles selon l'invention. La figure 4 représente une variante de cette disposition. La figure 5 représente la disposition préférentielle des écailles du dispositif. L'écaille représentée sur la figure 1 est celle d'une partie droite de ski, identifiable lorsqu'on regarde la semelle inférieure (1), celle comportant le dispositif. Chaque écaille se compose d'un plan profilé (2) situé dans le prolongement (3) de la semelle inférieure et apportant le relief indispensable et en saillie dont le talon (4) est l'expression. Chacun des flans (5) et (6) constitue une carre à échelle réduite et a son bord avantageusement parallèle à l'axe longitudinal du ski. Les angles (7) et (8) sont complémentaires et positionnent l'arête de talon (9) sur la ligne ou la parallèle des écailles voisines juxtaposées en décalage. Cette disposition caractéristique ayant pour effet, à travers les chevrons constants qui en résultent, d'apporter, outre la stabilité et la précision, le forçage de chacun des skis vers l'amont. Etant à préciser que le talon (4) comporte un léger angle de dépouille (10) indispensable à la fabrication et avantageux pour éviter tout effet de bourrage de la neige. Le dispositif de la figure 2 met en évidence l'implantation des écailles, en relief de la semelle inférieure (1). Afin de ne pas fausser l'interprétation du dessin, une seule rangée longitudinale d'écailles est représentée. L'implantation progressive peut, comme ici, être réalisée par groupe de rangées (11 ), (12), (13) et (14) dont l'espace (15) au sein du groupe est identique, mais différent de l'espace (16) des écailles d'un autre groupe. Etant entendu que le dispositif est implanté selon le sens d'avancement du ski, figuré par la flèche. En figure 3 les rangées d'écailles (17) ou (18) sont implantées régulièrement de manière équidistante du bord du ski (19) ou de son axe médian longitudinal (20). Cette figure met en évidence la ligne de talon (9) de chacune des écailles, ainsi que l'asymétrie de toute écaille selon l'axe longitudinal (21). L'ensemble des lignes de talon forme de chaque côté de l'axe médian longitudinal les branches du chevron (22). L'espacement (23) entre chaque écaille d'une même rangée transversale étant suffisant pour conserver les caractéristiques spécifiques de chacune d'elles, et tel que décrit en figure 1. La figure 4 représente une variante comportant un décalage régulier et accentué (24) des écailles dans le sens longitudinal. Chacun des flans (5) et (6) étant éloigné de celui de l'écaille la plus proche, il s'en. suit une meilleure prise de carre. Le dispositif représenté sur la figure 5 sera avantageusement retenu de manière préférentielle. I1 comporte en effet une implantation rationnelle des écailles du dispositif selon l'invention. Chacune des écailles (25) est décalée par rapport à son homologue (26) de la rangée suivante ou précédente, ce qui entraine, soit un rapprochement (27) des écailles centrales (28) et (29), soit un éloignement (30) des écailles (31) et (32) situées de part et d'autre de l'axe longitudinal (20). Cette figure met en évidence l'implantation progressive des rangées d'écailles (17) et (18), ainsi que l'espacement (15) ou (16) au sein de chaque groupe. Afin d'éviter tout phénomène de résonance, les groupes de rangées, lorsque ce mode d'implantation sera retenu pour la progression des espacements, seront d'un nombre avantageusement différent d'un groupe succédant ou précédant un autre. Le dispositif selon l'invention est particulièrement destiné à la fabrication ou à la réfection des semelles inférieures des skis dits de fond ou de randonnée, pour autant que le matériau de revêtement puisse être moulable, surmoulable, ou plus simplement remplaçable, tels certaines matières plastiques dites thermoplastiques. REVENDICATIONS 1) Dispositif à écailles à espacement progressif caractérisé en ce que chaque écaille est située en saillie de la semelle inférieure (1) du ski et se compose d'un plan profilé (2) et de flans (5) et (6) terminés par un talon (4) dont l'arête (9) est située sur la ligne ou la parallèle des écailles voisines juxtaposées mais décalées et formant ainsi un chevron (22) de part l'implantation des écailles de part et d'autre de l'axe longitudinal (20). 2) Dispositif selon la revendication 1 caractérisé en ce que le plan profilé (2) est situé dans le prolongement (3) de la semelle inférieure (1) amenant en cela l'écaille en saillie du plan de la semelle. 3) Dispositif selon les revendications 1 et 2 caractérisé en ce que chacune des écailles (28) et (29) ou (31) et (32) proche de l'axe médian longitudinal (20) est séparée de ses voisines (28) pour (29) ou (32) pour (31) par un espace suffisant (27) ou (30). 4) Dispositif selon les revendications 1 et 2 caractérisé en ce que la ligne des talons (9) forme les branches de chacun des chevrons constants (22). 5) Dispositif selon les revendications 1 et 4 caractérisé en ce que l'implantation progressive des écailles peut être réalisé par groupe de rangées (11), (12), (13) et (14) dont l'espace (15) au sein du groupe est identique mais différent de l'espace (16) des écailles diun autre groupe. 6) Dispositif selon les revendications 1, 2 et 4 caractérisé en ce que les flans (5) et (6) forment avec la ligne de talon (9) des angles (7) et (8) complémentaires de part et d'autre de l'axe d'asymétrie (21). 7) Dispositif selon les revendications 1, 2, 3, 4 et 5 caractérisé en ce que chacune des écailles (25) est décalée par rapport à ses homologues (26) de la rangée suivante ou précédente ce qui entraine soit un rapt prochement (27) des écailles centrales (28) et (29) soit un éloignement (2C) des écailles (31) et (32) situées de part et d'autre de l'axe longitudinal (20). 8) Dispositif selon la revendication précédente caractérisé en ce que l'espace (23) entre deux écailles d'une même rangée transversale est suffisant pour conserver les caractéristiques spécifiques de chacune d'elles. 9) Dispositif selon les revendications précédentes prises dans leur ensemble caractérisé en ce que chacun des talons (4) comporte un angle de dépuoille (10) facilitant la fabrication de la semelle inférieure (1) tout en évitant l'effet de bourrage par la neige. 10) Dispositif selon les revendications précédentes prises dans leur ensemble caractérisé en ce que chacun des flans (5) et (6) constitue une carre à échelle réduite dont le bord est avantageusement parallèle à l'axe longitudinal du ski (20).