FR 2555738 A1 19850531 FR 8319155 A 19831130 La présente invention concerne les instruments optiques et a notamment pour objet un système optique matriciel à réflexions multiples. L'invention peut outre utilisée en particulier pour déterminer la composition de l'atmosphère et les microconcentrations des polluants dans celle-ci. D'autre part, l'invention peut s'appliquer à l'étude de la transparence atmosphérique sur des tracés non masqués, longs de plusieurs kilomètres. L'invention s'avère essentielle dans son application à la spectroscopie de haute et de très haute résolution. La présente invention peut aussi être utilisée comme ligne à retard optique variable sans bruit tutie, par exemple, pour analyser séparément les processus élé- mentaires à évolution rapide ou bien pour étalonner et synchroniser les enregistreurs rapides à processus a évolution rapide). D'autre part, la présente invention est avantageusement applicable dans la technique des explorations spatiales pour dépouiller les spectres des atmosphères des planètes lointaines. Tous les spectrophotomètres infrarouges modernes sont équipés de systèmes optiques à réflexions multiples à grande longueur du chemin optique. Cependant, l'essor rapide, ces dernieres années, de la technique laser, rendant accessibles des sources lasers de grande luminosité énergétique et des spectromètres lasers à semi-conducteur de très haute résolution, a fait naître une spectroscopie nouvelle. Or, dans ces conditions, les systèmes à réflexions multiples existants, basés sur le système classique de White, sont devenus obsolescents par suite de leur incompatibité avec un très grand nombre de trajets optiques. Les plus interessants, à l'heure actuelle, sont les systèmes optiques a réflexions multiples à disposition d'images en matrice. Cependant, les systèmes matriciels existants sont d'une technologie compliquée et peu fiables en utilisation. Il existe un système optique matriciel à réflexions multiples (cf. "Journal of the Optical Society sf America", V. 66, NO 5, Mai 1976, John V.White, "Very long optical paths in air",pp. 411-416) comportant trois objectifs à miroir disposés à l'entrée et à la sortie du rayonnement laser, deux miroirs collectifs principaux ayant le même rayon de courbure que les objectifs à miroir et distants du rayon de courbure de ces derniers, et deux miroirs collectifs en diagonale dont le rayon de courbure total est égal au rayon de courbure d'un miroir collectif individuel, disposés à peu près à angle droit l'un par rapport à l'autre et adjacents à l'un des miroirs collectifs principaux.Dans ce système, chacun des objectifs à miroir est monté individuellement avec possibilité de déplacement angulaire. Toutefois, le fait que, dans ledit système, tous les miroirs, y compris les objectifs, sont montés individuellement avec possibilité de déplacements angulaires, entrai- ne l'accumulation d'erreurs en cas de variations du nombre de trajets optiques. La stabilité du système s'en trouve dégrade surtout lorsque le nombre de trajets optiques est très élevé. En outre, dans un tel système, la présence de miroirs collectifs en diagonale fonctionnant avec de grands angles d'incidence, introduit un astigmatisme accru tendant à agrandir l'image. Un autre inconvénient dudit système est que les miroirs collectifs en diagonale créent des surfaces réfléchissantes supplémentaires responsables d'un certain abaissement de sa transmission optique. De plus, ce système est de construction très complexe et sa mise au point est délicate, ce qui compromet ses performances. Enfin, le domaine d'application dudit système est sensiblement réduit par le fait qu'il ne peut être utilisé qu'avec une source de rayonnement cohérente à faible divergence angulaire. Il existe également un système optique matriciel à réflexions multiples (cf. P.L. Hanst, "Advances in Environmental Science and Technology", vol. II, édité par J.N. Pitts et R.L. Metcalf (Willy, New York, 1971), pp. 160-165, comportant au moins quatre objectifs à miroir, au moins quatre miroirs collectifs ayant les mêmes rayons de courbure que les objectifs à miroir et disposés, par rapport à ces dernières, à une distance correspondant à leur rayon de courbure du côté du trou d'entrée et du côté du trou de sortie, et un dispositif de sortie du rayonnement émis par les images intermédiaires. Dans ledit système, tous les objectifs à miroirs possèdent des supports individuels, l'un de ces objectifs étant susceptible de déplacements angulaires. Or, dans ledit système, la présence de supports individuels des objectifs à miroir et la possibilité de déplacements angulaires de l'un d'eux en vue de modifications partielles du nombre de trajets optiques, entraînent l'accumulation d'erreurs. Aussi le système se caractérise-t-il par une mauvaise tenue aux vibrations. La recommandation, faite par l'auteur de l'étude précitée,de de bloquer les supports des miroirs avec du ciment époxy ne constitue qu'un palliatif qui s'oppose au réglage du système. Un autre inconvénient de ce système réside dans le fait qu'il ne se forme sur chacun de ses miroirs collectifs qu'une seule rangée limages intermédiaires, ce qui limite la plage de mesure. L'extension de la plage de mesure du système à un plus grand nombre de trajets optiques impose l'utilisation d'objectifs à miroir et de miroirs collectifs supplémentaires, le nombre total des objectifs à miroir et des miroirs collectifs devant être un multiple de quatre. Ainsi, un système à 220 trajets optiques dont la matrice à 10 lignes possède en tout 20 objectifs à miroir et miroirs collectifs, ce qui non seulement accroit l'encombrement du système, mais complique en outre son fonctionnement et le rend moins fiable. Il existe encore un système optique matriciel à réflexions multiples (cf. brevet USA NO 3726 598, cl.int. G01 n, 10.04.73), dans lequel le flux de rayonnement issu d'un illuminateur arrive par le trou d'entrée du boîtier sur l'un des deux objectifs à miroir principaux, rigidement solidaires entre eux, ayant un même rayon de courbure et mécaniquement liés à un support auquel est relié un moyen de rotation autour d'un axe perpendiculaire à la ligne de la matrice d'images, et de là sur un miroir collectif principal ayant le même rayon de courbure que les objectifs à miroir principaux, disposé le long de l'axe longitudinal du système, à une distance correspondant au rayon de courbure des objectifs à miroir principaux; celui-ci dirige le flux de rayonnement vers un autre objectif à miroir principal, qui le renvoie sur le miroir collectif principal qui le dirige de nouveau vers le premier objectif à miroir principal; dans le dernier cycle de circulation, le flux de rayonnement quitte le système par le trou de sortie du boîtier. Cependant, dans un tel système, la matrice d'images qui se forme sur le miroir collectif principal ne comporte que deux lignes, ce qui interdit l'emploi d'un grand nombre de trajets optiques et, partant, limite la longueur du trajet optique. L'invention vise donc un système optique matriciel à réflexions multiples qui serait doté d'éléments supplémentaires permettant de multiplier les images intermédiaires sur le miroir collectif. Le but ainsi posé est atteint du fait que le système optique matriciel à réflexions multiples, du type dans lequel le flux de rayonnement émis par l'illuminateur arrive par le trou d'entrée du boîtier sur l'un de deux objectifs à miroir principaux rigidement solidaires entre eux, ayant un même rayon de courbure et mécaniquement liés à un support auquel est relié un moyen de rotation autour d-'un axe perpendiculaire à la ligne de la matrice d'images, et de là sur le miroir collectif principal ayant le même rayon de courbure que les objectifs à miroir principaux et disposé le long de l'axe longitudinal du système, à une distance correspondant au rayon de courbure des objectifs à miroir principaux, qui le dirige vers l'autre objectif à miroir principal qui le renvoie sur le miroir collectif principal qui le dirige de nouveau vers le premier objectif a miroir principal, tandis que dans le dernier cycle de circulation le flux de rayonnement quitte système par le trou de sortie du boîtier, est caractérisé,selon l'invention, en ce qu'il comporte un objectif à miroir supplémentaire de meme rayon de courbure, mécaniquement lié à un support, un moyen de rotation autour d'un axe parallèle a la ligne de la matrice d'images, lié au support, et un miroir collectif auxiliaire de même rayon de courbure, placé a côté du miroir collectif principal. Il est utile que, dans le système conforme à l'invention, le support soit en deux parties et que l'une desdites parties portant deux objectifs à miroir principaux soit en liaison avec un moyen de rotation autour d'un axe parallèle a la ligne de la matrice d'images, l'autre partie du support servant à porter un objectif à miroir supplémentaire. Il est souhaitable que le système conforme l'invention comporte encore un objectif à miroir supplémentaire de même rayon de courbure, mécaniquement lié a un support et rigidement solidaire de l'objectif à miroir supplémentaire, que le centre de courbure du miroir collectif principal se situe au centre de symétrie des objectifs à miroir principaux et supplémentaires, le centre de courbure du miroir collectif auxiliaire se trouvant au centre de symétrie, entre le premier objectif à miroir principal et l'objectif à miroir supplémentaire correspondant. Il est préférable que, dans le système conforme à l'invention, le support se présente comme une platine supportant les objectifs à miroir principaux et supplémentaires. La présente invention permet d'augmenter d'une façon appréciable le nombre de lignes de la matrice d'images, ce qui permet d'accroître de plusieurs fois le chemin optique Un autre avantage de la présente invention réside dans le fait qu'il donne la possibilité d'une double superposition des images de la matrice, ce qui permet d'accroître encore plus le chemin optique. L'invention sera mieux comprise et d'autres buts, détails et avantages de celle-ci apparaîtront mieux à la lumière de la description explicative qui va suivre de différents modes de réalisation donnés uniquement à titre d'exemples non limitatifs, avec références aux dessins non limitatifs annexés dans lesquels - la figure 1 représente une vue générale (conventionnelle)du système optique matriciel à réflexions multiples avec trois objectifs à miroir (projection axonométrique), selon l'invention; - la figure 2 est une vue générale de la cuve renfermant le système optique matriciel à réflexions multiples de la figure 1 (coupe longitudinale), selon l'invention; - la figure 3 est une vue en coupe suivant III-III de la figure 2 (tournée de 1800), selon l'invention; - la figure 4 est une vue en coupe suivant IV-IV de la figure 2, selon l'invention;; - la figure 5 est une vue générale de la cuve renfermant le système optique matriciel à réflexions multiples avec quatre objectifs à miroir, selon l'invention; - la figure 6 est une vue en coupe suivant VI-VI de la figure 5 (tournée de 1800), selon llinvention; - la figure 7 est une vue suivant la flèche A de la figure 5 (les miroirs collectifs principal et auxiliaire sont montrés à une plus grande échelle), selon l'invention; - la figure 8 est une vue générale (conventionnelle) du support avec trois objectifs à miroir carrés disposés en une rangée, selon l'invention, - la figure 9 est une vue générale (conventionnelle) du support avec quatre objectifs à miroir carrés disposés en une rangée, selon l'invention. Dans le système optique matriciel à réflexions multiples, le flux de rayonnement 1 (figure 1) issu d'une source de rayonnement (non représentée)arrive par le trou d'entrée 2 du couvercle 3 du boîtier 4 (figure 2) de la cuve 5 sur l'objectif à miroir principal 6 (figure 1, 2, 3). L'objectif 6 porté par la platine 7 du support 8 se situe sur le trajet du flux 1. A côté de l'objectif 6, sur la platine 7, se trouve l'objectif principal à miroir 9. La platine 7 est liée à une réglette façonnée 10 au moyen d'un pivot (tige 11) du moyen 12 de rotation autour de l'axe 13. Le moyen 12 comporte également une vis 14 avec une molette 15. La vis 14 qui passe par le couvercle 16 du boltier 4 est en butée sur la platine 7. La réglette 10 est fixée à la traverse 17 du support 8. La traverse 17 est inclinable par rapport à l'axe horizontal 18 à l'aide d'un axe d'appui (rouleau d'appui 19) du moyen 20 de rotation autour de l'axe 18 passant par la base de la traverse 17 et par les trous du boîtier 4. Le moyen 20 comporte galement une molette 21 calée sur le rouleau 19. La traverse 17 porte un objectif à miroir supplémentaire 22. Entre la platine 7 et le couvercle 16 il y a un ressort 23. Le trajet du flux 1 réfléchi sur l'objectif 6 comporte le miroir collectif principal 24 (figures1, 2, 4). A côté du miroir collectif 24, au-dessous du trou d'entrée 2, se trouve un miroir collectif auxiliaire 25.Tous les objectifs 6, 9 et 22 et les miroirs collectifs 24 et 25 ont un même rayon de courbure. Les miroirs collectifs 24 et 25 portent les chiffres (1 à 14) symbolisant l'ordre de succession de formation des images qui constituent une matrice rectangulaire de 26 images dont la ligne est perpendiculaire à l'axe 13 et parallèle à l'axe 18. Le couvercle 3 comporte un trou de sortie 27, disposé au-dessus du miroir collectif 25 et alligné verticalement sur le trou d'entrée 2, par lequel, dans le dernier cycle de circulation, le flux 1 sort du système. Les trous 2 et 27 sont munis de fenêtres 28 transparentes au flux de rayonnement donné 1. Les centres de courbure des objectifs 6 et 9 sont marqués de points 29 et 30 sur le miroir collectif 24 et celui de l'objectif 22, du point 31 sur le miroir collectif 25.Le centre de courbure du miroir collectif 24 coïncidant avec le centre de symétrie des objectifs 6 et 9 est marqué du point 32, et celui du miroir collectif 25, du point 33. Suivant un autre mode de réalisation du système optique matriciel à réflexions multiples, le support 34 (figure 5) comporte une platine 35 (figures 5 et 6) et un anneau 36 coaxiaux et liés entre eux par un pivot (doigts 37) du moyen 12. L'anneau 36 est solidaire d'un axe d'appui (doigts 38) du moyen 20. Les doigts 38 passent par des trous du boltier 4. La platine 35 porte deux objectifs à miroir principaux 39 et 40 et deux objectifs à miroir supplémentaires 41 et 42. Entre la platine 35 et le couvercle 16 il y a un ressort à lame 43. Le centre de courbure du miroir collectif principal 24 qui se trouve au centre de symétrie des objectifs 39, 40, 41, et 42 est marqué du point 44. Le centre de courbure du miroir collectif auxiliaire 25, situé entre les objectifs 39 et 41, à leur centre de symétrie, est marqué du point 45. Les objectifs 39, 40, 41, 42 et les miroirs collectifs 24 et 25 ont un même rayon de courbure. La figure 7 représente une matrice rectangulaire d'images 46 à 90 trajets du flux de rayonnement 1, marquée avec des chiffres de 1 à 44 symbolisant l'ordre de succes- sion de formation des images. Les lignes de la matrice sont perpendiculaires et parallèles respectivement aux axes 13 et 18. Les centres de courbure des couples d'ob objectifs 39, 40 et 41, 42, situés sur la surface du miroir collectif 24, sont marqués respectivement de points 47, 48, 49 et 50. Suivant encore un autre mode de réalisation du système optique matriciel à réflexions multiples, le support 51 (figure 8) comporte un étrier 52 entourant la platine 53. Le moyen 54 de rotation autour de l'axe 13 comprend une douille 55 et une tige 56 passant par un trou dans l'étrier 52 et la douille 55. La platine 53 est porté par la tige 56. La platine 53 porte les objectifs à miroir carrés principaux 57 et 58. La face del'étrier 52 est solidaire d'un flasque 59 supportant un objectif à miroir carré supplémentaire 60. Les objectifs 57, 58 et 60 sont alignés l'un à côté de l'autre sur l'axe horizontal 18. Le moyen 61 de rotation autour de l'axe 18 comporte des doigts 62 et 63 fixés à l'étrier 52 et disposés respectivement dans des douilles 64 et 65. Le centre de courbure du miroir collectif 24 (figure 1), disposé au centre de symétrie des objectifs 57 et 58, est marqué du point 66 (figure 8). Le centre de courbure du miroir collectif 25 (figure 1), situé entre les objectifs 57 et 60 (figure 8), est marqué du point 67. Suivant encore un autre mode de réalisation du système optique matriciel à réflexions multiples, un support 68 (figure 9) comporte un étrier 69 avec des douilles 70 et 71 formant un tout mécanique. L'étrier 69 entoure une platine 72 sur laquelle sont disposés, en une rangée, le long de l'axe horizontal 18, deux objectifs à miroir carrés principaux 73 et 74 et deux objectifs à miroir carrés supplemen mentaires 75 et 76. La tige 56 avec la douille 55 du moyen 54 est fixée à l'étrier 69. Les doigts 62 et 63 sont placés respectivement dans les douilles 70 et 71. Le centre de courbure du miroir collectif 24 (figure 7), disposé au centre de symétrie des objectifs 73, 74 et 75, 76 (figure 9), est marqué du point 77. Le centre de courbure du miroir collectif 25 (figure 1), situé au centre de symétrie des objectifs 73 et 75, est marqué du point 78. Le système optique matriciel à réflexions multiples des figures 1, 2, 3 et 4 fonctionne de la façon suivante. Le flux de rayonnement 1 pénètre par le trou d'entrée 2 dans l'objectif à miroir principal 6, qui crée la première image intermédiaire du trou d'entrée 2 sur la surface du miroir collectif 24 (chiffre 1 encerclé par un pointillé). Par le jeu des molettes 15 et 21, respectivement, du moyen 12 de rotation autour de l'axe 13 perpendiculaire à la ligne de la matrice d'images 26 et du moyen 20 de rotation autour de l'axe 18 parallèle à la ligne de la matrice d'images 26, on fait tourner la platine 7 du support 8 et, de ce fait, les objectifs 6 et 9. L'angle de rotation détermine la distance entre le trou d'entrée 2 et sa première image sur l'horizontale apparaissant sur le miroir collectif principal 24, dans la ligne de la matrice d'images 26 (chiffre 1 encerclé par un pointillé). Le décalage vertical vers le bas de ladite image est fonction de l'inclinaison du support 8 avec les objectifs 6, 9 et 22. La première image formée, le flux 1 est réfléchi par le miroir collectif 24 vers l'objectif 9 formant une deuxième image (chiffre 2 encerclé par un pointillé).Les objectifs à miroir principaux 6 et 9 focalisent à tour de rôle, avec un certain décalage, les images du trou d'entrée 2 sur le miroir collectif 24 tant que la formation de deux lignes d'images n'est pas terminée (chiffres 6, 4 et 2 encerclés par un pointillé, la premier ligne; chiffres 1, 3 et 5 encerclés par un pointillé, l'autre ligne) et que la dernière image n'est pas tombée sur le miroir collectif 25 (chiffre 7 encerclé par un pointillé). Le flux 1 réfléchi sur le miroir collectif 25 est reçu par l'objectif à miroir 22 qui le renvoie sur le miroir collectif 25 avec un certain décalage en hauteur. Ensuite, le flux 1 est dirigé vers l'objectif 6 et, de la même manière que précédemment, on forme la paire suivante de lignes de la matrice d'images 26 et ainsi de suite jusqu'au moment oA la dernière image tombe sur le trou de sortie 27. Lors de la rotation simultanée des objectifs 6 et 9, leurs centres de courbure (points 29 et 30) glissent sur la surface du miroir collectif 24 (la distance entre les points reste inchangée). L'inclinaison du support 8 provoque leur décalage en hauteur. L'intervalle suivant la verticale entre la ligne ot sont situés les centres de courbure (points 29 et 30), respectivement,des objectifs 6 et 9 et le centre de courbure (point 31) de l'objectif 22, reste, lui aussi, constant. C'est grâce à cela qu'on peut faire varier le nombre de trajets du flux de rayonnement 1. Le nombre variable de trajets du flux 1 par le système à trois objectifs 6, 9 et 22 fournit des séries de nombres correspondant à certains rapports en fonction du nombre de lignes et de colonnes de la matrice d'images 26. Le nombre de trajets du flux 1 s'obtint par la relation: N = 2mn - 2, ou N est le nombre de trajets; m est le nombre de lignes formant une série de nombres pairs: 2, 4, 6, 8, 10...; n est le nombre de colonnes formant une série de nombres naturels: 1, 2, 3, 4, 5... Le système optique matriciel à réflexions multiples des figures 4, 5 et 7 fonctionne de la manière suivante. Comme décrit plus haut, le flux 1 arrive par le trou d'entrée 2 sur l'objectif à miroir principal 39, qui crée la première image intermédiaire du trou d'entrée 2 sur la surface du miroir collectif 24 (chiffre 1 encerclé par le pointillé). Avec la molette 15 du moyen 12, on fait tourner la platine 35 du support 34 avec les objectifs à miroir principaux 39 et 40 et les objectifs à miroir supplémentaires 41 et 42. La rotation de la platine 35 autour de l'axe 18 parallèle à la ligne de la matrice d'images 46 s'effectue par la molette 21 du moyen 20. La rotation de la platine 35 détermine la distance entre le trou d'entrée 2 et sa première image suivant l'horizontale sur le miroir collectif 24 de la matrice d'images 46. Le décalage de ladite image vers le bas suivant la verticale est fonction de l'inclinaison fixée de la platine 35.La première image formée, le flux 1 est réfléchi par le miroir collectif 24 sur l'objectif 40 qui fournit la deuxième image (chiffre 2 encerclé par un pointillé). Les objectifs à miroir 39 et 40 focalisent un par un,avec un certain décalage,l'image du trou d'entrée 2 sur le miroir collectif 24 tant que les deux lignes d'images ne sont pas formées (chiffres 8, 6, 4 et 2 encerclés par des pointillés), la première ligne; chiffres 1, 3, 5 et 7 encerclés par des pointillés, l'autre ligne) et que la dernière image n'est pas tombée sur le miroir collectif auxiliaire 25 (chiffre 9 encerclé par un pointillé). Le flux 1 réfléchi sur le miroir collectif 25 se dirige vers l'objectif 41. Ensuite, on focalise un par un les objectifs à miroir 41 et 42 de façon à former deux nouvelles lignes d'images sur le miroir collectif 24 jusqu'au moment od la dernière image tombe de nouveau sur le miroir collectif 25 (chiffre 18 encerclé par un pointillé). Les objectifs 39 et 40 interviennent de nouveau et ainsi de suite, tant que la dernière image n'est pas tombée sur le trou de sortie 27. Lors de la rotation de la platine 35, les centres de courbure (points 47, 48, 49 et 50) des objectifs 39, 40, 41 et 42 glissent sur la surface du miroir collectif 24, la distance entre eux étant inchangée. L'inclinaison de la platine 35 provoque leur décalage en hauteur et leur disposition mutuelle reste constante. Etant donné l'espacement en hauteur, avec un certain décalage, des centres de courbure (points 47, 48, 49 et 50) des objectifs 39, 40, 41 et 42, la matrice 46 est, comme il en ressort de ce qui précède, le siège d'une double superposition des images, l'ordre de superposition étant préservé. Le nombre de trajets du flux 1 dans un système à quatre objectifs 39, 40, 41 et 42 est donné par la relation: N = (4n - 2) (m - 1). La double supperposition des images dans la matrice 46 s'effectue pour m 4 et n a 2. Le système conforme à l'invention permet pratiquement de doubler le nombre de trajets du flux 1 sans avoir pour autant à accroitre les dimensions des miroirs collectifs 24 et 25. Le système optique matriciel à réflexions multiples des figures 1, 4 et 8 fonctionne de la façon suivante. De même que précédemment, le flux 1 tombe d'abord sur l'objectif 57. Les objectifs 57 et 58 forment deux lignes d'images sur le miroir collectif 25. Réfléchi sur le miroir collectif 25, le flux 1 pénètre dans l'objectif à miroir 60, qui le renvoie avec un certain décalage en hauteur. Ensuite se forme la paire suivante de lignes d'images, et ainsi de suite jusqu'au moment ot la dernière image sort du système. Le système optique matriciel à réflexions multiples des figures 1, 7 et 9 fonctionne de la maniere suivante. De même que précédemment, le flux 1 tombe d'abord sur objectif 73. Les objectifs 73 et 74 forment deux lignes d'images sur le miroir collectif 24. Le flux 1 réfléchi sur le miroir collectif 25 se dirige vers les objectifs 75 et 76 qui forment la paire suivante de lignes d'images, et ainsi de suite jusqu'! l'instant où la dernier image quitte le système. Selon l'invention, l'alignement des objectifs 60, 57 et 58 (figure 8) et des objectifs 75, 73, 74 et 76 (figure 9) permet une organisation simple et facile des systèmes. Le système optique de la présente invention est de conception simple, ce qui favorise la fiabilité du système. De plus, la présente invention assure une bonne reproductibilité des résultats, tout en ne présentant que de faibles aberrations. REVENDICATIONS 1. Système optique matriciel à réflexions multiples, du type dans lequel le flux de rayonnement (1) issu d'un illuminateur arrive par un trou d'entrée (2) du boîtier (4) sur l'un (6, 39, 57, 73) de deux objectifs à miroir principaux (6,9; 39, 40; 57, 58; 73, 74) rigidement solidaires l'un de l'autre, ayant un même rayon de courbure et mécanicpiement liées à un support (8, 34, 51, 68) auquel est relié un moyen (12, 54) de rotation autour d'un axe perpendiculaire à la ligne de la matrice d'images (26, 46), et de là, sur un miroir collectif principal (24) ayant un rayon de courbure égal à celui des objectifs à miroir principaux (6, 9, 39, 40, 57, 58, 73,74), disposé le long de l'axe longitudinal du système une distance correspondant au rayon de courbure des objectifs à miroir principaux (6, 9, 39, 40, 57, 58, 73, 74), et qui dirige le flux (1) vers l'autre objectif à miroir principal (9, 40, 58, 74) qui le renvoie sur le miroir collectif principal (24) qui le dirige de nouveau vers le premier objectif à miroir principal (6, 39, 57, 73), tandis que dans le dernier cycle de circulation le flux de rayonnement (1) quitte le système par un trou de sortie (27) du boîtier (4), caractérisé en ce qu'il comporte un objectif à miroir supplémentaire (22 , 41 ou 42, 60, 75 ou 76) de même rayon de courbure et en liaison mécanique avec le support (8,34,51,68),un moyen (20 ou 61) de rotation autour d'un axe parallèle à la ligne de la matrice d'images (26, 46), lié audit support (8, 34, 51, 68), et un miroir collectif auxiliaire (25) de même rayon de courbure, placé à côté du miroir collectif principal (24). 2. Système optique selon la revendication 1, caractérisé en ce que le support (8, 51) est constitué de deux parties, dont l'une porte les deux objectifs à miroir principaux (6, 9; 57, 58) et qui est liée à un moyen (20, 61) de-rotation autour d'un axe parallèle à la ligne de la matrice d'images (26, 46), l'autre partie du support (8, 51) portant un objectif à miroir supplémentaire (22, 60). 3. Système optique selon la revendication 1, carac térisé en ce qu'il comporte encore un objectif à miroir supplémentaire (42 ou 41, 60, 76 ou 75) de même rayon de courbure, en liaison mécanique avec le support (34, 68) et rigidement solidaire d'un objectif à miroir supplémentaire (41 ou 42, 76 ou 75), le centre de courbure (points 44, 77) du miroir collectif principal (24) se situant au centre de symétrie des objectifs à miroir principaux (39, 40, 73, 74) et supplémentaires (41, 42, 75, 76), et le centre de courbure (points 45, 78) du miroir collectif auxiliaire (25) étant disposé au centre de symétrie, entre le premier objectif à miroir principal (39, 73) et l'objectif à miroir supplémentaire correspondant (40, 74). 4. Système selon la revendication 3, caractérisé en ce que le support (34, 68) se présente sous forme d'une platine (35, 72) portant les objectifs à miroir principaux (39, 40, 73, 73) et supplémentaires (41, 42, 75, 76).