FR 2552564 A1 19850329 FR 8415010 A 19840928 La présente invention se rapporte d'une façon générale à un dispositif de développement d'une image latente1 comme d'une image électrostatique latente par application d'une mince pellicule de révélateur dans des machines de traitement d'image, comme des machines de reprographie électrophotographique , des machines de facsimilé et des imprimantes. En particulier, l'invention concerne un support de révélateur destiné à un dispositif de développement de ce genre pour entrainer le révélateur, en général un colorant qu'il supporte dans un poste de développement dans lequel 1 image latente est développée; l'invention concerne également un procédé de fabrication de ce support.Plus particulièrement, l'invention concerne un support de révélateur qui convient pour un dispositif de développement utilisant un colorant isolant de l'électricité, attiré magnétiquement comme révélateur, et un procédé de fabrication de ce support de révélateur. Dans des machines d'enregistrement électrostatique comme des machines de reprographie électrophotographique des machines de fac-similé et des imprimantes, les caractéristiques de développement nécessaires pour les dispositifs de développement diffèrent entre le cas où une image à développer consiste principalement en une image de traits et le cas dans lequel une image à développer consiste principalement en une image d'aplats.Les caractéristiques idéales de développement sont présentées graphiquement sur la figure 1, sur laquelle la densité d'image originale est portée en abscisse et la densité d'image de copie est portée en ordonnée. Comte le montre la figure 1, la caractéristique idéale de développement nécessaire pour développer une image en aplat est indiquée par le trait pointillé B. I1 apparaît que la pente croissante est plus forte dans le cas de l'image de trait (traits pointillés B) comparativement au cas de l'image en aplat (traits pleins A).La raison en est que dans le cas d'une image en aplat, étant donné que la netteté d'une image développée se détériore si la densité d'image originale est plus basse, il est nécessaire de compenser ce fait en augmentant la densité de l'image reproduite tandis que dans le cas d'une image de trait, une netteté suffisante peut être obtenue si la densité d'image développée est proportionnelle à la densité de l'image originale. Il est de pratique courante d'utiliser l'effet dit de bord pour atteindre une plus grande densité d'image reproduite à partir d'un original consistant principalement en une image aux traits de densité relativement basse. Autrement dit, avec cet effet de bord, l'intensité du champ magnétique à la périphérie d'une image électrostatique latente est augmentée localement comparativement à la densité du champ électrique dans la région centrale de cette image de sorte qu'une plus grande quantité de colorant est déposée sur la partie périphérique de l'image latente. Ainsi, dans le cas où l'image latente est une image en traits avec des aplats petits ou étroits, les aplats de l'image latente sont constitués substantiellement par la partie périphérique qui est soumise à l'effet de bord, permettant ainsi d'augmenter la densité de l'image développée résultante. L'effet de bord est produit suffisamment dans le cas d'utilisation d'un révélateur à deux constituants contenant un colorant et de la poudre de fer, mais l'effet de bord ne peut être produit de façon efficace dans le cas d'utilisation d'un révélateur d'un seul constituant contenant du colorant magnétique et non de la poudre de fer. Dans ces conditions, un nouveau dispositif de développement a été proposé, comprenant un support de révélateur avec une structure unique capable de produire les caractéristiques idéales de développement décrites cidessus, même dans le cas d'utilisation d'un révélateur à un seul constituant comme cela est décrit dans la demande de brevet japonais nO 55-185726.Le support de révélateur décrit dans cette demande de brevet est représenté schématiquement sur la figure 2 et il consiste en un support cylindrique 1 de matière conductrice de l'électricité et en une couche d'électrode 2 formée à la surface latérale extérieure du support cylindrique 1 en une matière isolante de l'électricité dans laquelle des fines particules d'électrodes 2a, de forme hémisphérique sont disposées à la surface de la couche d'électrode 2, en étant dispersées uniformément aussi bien axialement que circonférentiellement, ces particules individuelles d'électrode 2a étant isolées les unes des autres et maintenues électriquement flottantes. Quand le support de révélateur représenté sur la figure 2 est incorporé dans un dispositif de développepent utilisant un révélateur à un seul constituant ou un colorant magnétique, un rouleau magnétique (non représenté) est généralement disposé dans l'espace intérieur 3 du support cylindrique 1. Avec cette disposition, le champ magnétique produit par le rouleau magnétique entraine que le colorant magnétique soit attiré sur la surface extérieure de la couche d'électrode 2. Les figures 3a et 3b montrent schématiquement comment le support de révélateur de la figure 2 est efficace pour que l'effet de bord augmente la densité d'une image au. trait développée. Les figures 3a et 3b montrent une partie du support de révélateur 32 qui correspond par sa structure au support de révélateur de la figure 2, disposé en face d'une partie d'élément photosensible 31 sur lequel une image latente (image de traits L1 sur la figure 3a et image en aplats L2 sur la figure 3b) est définie par une charge positive. L'élément photosensible 31 comporte un substrat 31a conducteur de l'électricité sur lequel est formée une couche photoconductrice 31b ; les éléments du support de révélateur 32 sont identifiés par les mêmes références numériques que les éléments du support de révélateur de la figure 2.Il faut noter qu'en fait, une couche de colorant magnétique chargée négativement est formée sur la couche d'électrode 2 du support de révélateur 32 mais qu'elle a été éliminée des figures pour un but de simplification. Comme cela a déjà été indiqué, des images latentes de traits et d'aplats L1 et L2 sont définies à la surface extérieure de la couche photoconductrice 31b, par exemple par une charge positive, comme le montrent respectivement les figures 3a et 3b. Il apparat facilement qu'une couche de colorant magnétique (non représentée) supportée par le support de révélateur 32 est transféréesélectivement à la pièce photosensible selon la distribution des charges définies par l'image latente L11 L2 de sorte que cette dernière est développée en une image visible. Dans ce cas, la quantité de colorant déposée sur l'image latente dépend de l'intensité du champ magnétique présent au voisinage de la surface de la couche photoconductrice 31b de sorte que la quantité de colorant déposée sur l'image latente est d'autant plus grande que l'intensité du champ électrique est plus élevée, ce qui donne une plus grande densité de l'image développée. Dans ces conditions, dans le cas où l'image électrostatique latente est une image de traits comme le montre la figure 3a, l'intensité du champ électrique à la surface de l'élément photosensible 31, où est formée l'image latente de traits L1 est accrue de sorte que la quantité de colorant déposée sur l'image latente L1 est augmentée, ce qui accroit la densité de l'image développée comparativement aux cas où les particules d'électrodes 2a sont absentes. La raison en est que les particules d'électrodes 2a entraine que l'épaisseur diélectrique effective entre l'image latente aux traits L1 et le fond qui l'entoure est plus mince, ce qui augmente le nombre des lignes de force électrique dirigées depuis l'image latente L1 vers le fond environnant. Par ailleurs, dans le cas où l'image électrosta tique latente est une image en aplats comme le montre la figure 3b, l'intensité globale du champ électrique à la surface où est formée l'image latente L2 n'est pas augmentée de façon appréciable de sorte qu'aucun changement significatif des caractéristiques de développement n'est produit en raison de la présence des particules d'électrodes 2a. Dans ce cas, les lignes de force électrique dirigées depuis l'image latente L2 vers le support conducteur 1 restent pratiquement inchangées par la présence des particules d'électrodes 2a, à l'exception de la partie périphérique de l'image latente-L2 car l'épaisseur diélectrique effective est plus grande entre la partie centrale de l'image latente L2 et le fond environnant qu'entre l'image latente L2 et le support conducteur 1.Il apparait ainsi que les caractéristiques idéales de développement représentées sur la figure 1 peuvent etre obtenues en utilisant le support de révélateur représenté sur la figure 2. Cependant, des difficultés sont apparues au cours de la fabrication du support de révélateur représenté sur la figure 2, particulièrement pour la disposition des particules d'électrodes 2a à la surface extérieure de la couche d'électrodes 2. Cela a donc conduit à développer de nouvelles structures et des procédés pour les fabriquer avec facilité et une haute précision. Un objet essentiel de l'invention est donc de proposer un nouveau support de révélateur destiné à un dispositif de développement, et un procédé pour fabriquer un support de révélateur. Un autre objet de l'invention est de proposer un procédé de fabrication d'un support de révélateur permettant d'obtenir des caractéristiques idéales de développement suivant que l'image latente à développer soit une image aux traits ou une image en aplats. Un autre objet de l'invention est de proposer un procédé de fabrication d'un support de révélateur permettant de développer des images électrostatiques latentes avec une haute efficacité à tout moment en utilisant un colorant attiré magnétiquement comme révélateur. Un autre objet encore de l'invention est de proposer un procédé de fabrication d'un support de révélateur comprenant des petites particules d'électrodes correctement disposées à la surface exposée du support de révélateur. Un autre objet encore de l'invention est de proposer un procédé de fabrication d'un support de révélateur destiné à être utilisé avec un colorant isolant de l'électricité et attiré magnétiquement. Un autre objet enfin de l'invention est de proposer un procédé de fabrication d'un support de révélateur comportant une couche diélectrique d'épaisseur suffisante pour produire un effet de bord à un niveau voulu. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention seront mieux compris à la lecture de la description qui va suivre de plusieurs exemples de réalisation et en se référant aux dessins annexés sur lesquels : La figure 1 est un graphe montrant les caractéristiques idéales de développement d'une image latente, La figure 2 est une coupe montrant schématiquement la structure d'un support de révélateur antérieur permettant d'obtenir les caractéristiques idéales de développement représentées graphiquement sur la figure 1, Les figures 3a et 3b sont des vues schématiques qui permettent d'expliquer le développement d'images latentes aux traits et en aplats respectivement en utilisant le support de révélateur de la figure 2, La figure 4 est une coupe partielle montrant la structure d'un support de révélateur selon un mode de réalisation de l'invention, La figure 5 est une vue en perspective illustrant la structure d'ensembles d'un dispositif d'applications d'une poudre diélectrique pour former la couche diélectrique 4' sur un substrat sylindrique 1, comme l'une de la séquence d'opérations dans un mode de réalisation de l'invention, La figure 6a est une coupe longitudinale illustrant une phase de durcissement de la couche diélectrique 4' formée à la phase de la figure 5, La figure 6b est une coupe transversale montrant une variante de la phase de la figure 6a, La figure 7 est une coupe longitudinale illustrant une phase d'insertion de pièces de centrage aux deux extrémités du substrat cylindrique 1, La figure 8 est une coupe longitudinale illustrant une phase de coupe de la surface périphérique extérieure de la couche diélectrique 4 supportée par deux mandrins, M,M, La figure 9 représente schématiquement une phase d'application de l'agent adhésif 2b sur la surface latérale extérieure traitée de la couche diélectrique 4, La figure 10 est une coupe longitudinale montrant la structure après l'application de l'agent adhésif sur la surface latérale extérieure de la couche diélectrique 4, La figure 11 représente schématiquement une phase d'application de particules d'électrodes 2a sur l'agent adhésif 2b, La figure 12 est une coupe longitudinale montrant la structure après l'application des particules d'électrodes 2a sur l'agent adhésif 2b, La figure 13 illustre schématiquement une phase d'application d'un agent adhésif pour couvrir les particules d'électrodes 2a, La figure 14 est une coupe longitudinale illustrant une phase de coupe de la surface latérale extérieure de la structure dans laquelle sont encastrées les particules d'électrodes 2a, partiellement exposées à la surface latérale traitée, La figure 15 est une coupe longitudinale illustrant une phase d'enlèvement des pièces de centrage et montrant la structure résultante du présent support de révélateur, La figure 16-est un graphe montrant la relation entre la profondeur d'encastrement des particules dtélec- trodes 2a dans la couche 2b et le rapport de surface entre les surfaces totales exposées des particules dtélectrodes 2a et la surface latérale extérieure totale de la couche d'électrodes 2, La figure 17a représente schématiquement l'état dans lequel les particules d'électrodes 2a sont encastrées et positionnées correctement dans la couche d'électrodes 2, La figure 17b montre schématiquement la structure résultant de la-coupe de la surface latérale extérieure de la couche d'électrodes représentée sur la figure 17a pour que les particules d'électrodes 2a soient partiellement exposées à -la surface de coupe, La figure 18a montre schématiquement l'état dans lequel les particules d'électrodes 2a sont encastrées et positionnées irrégulièrement dans la couche d'électrodes 2, La figure 18b montre schématiquement la structure résultant de la coupe de la surface latérale extérieure de la couche d'électrodes de la figure 18a, La figure 19 illustre schématiquement une phase modifiée pour l'application des particules d'électrodes 2a sur la couche d'agents adhésifs 2b, Les figures 20a et 20b montrent schématiquement comment les particules d'électrodes 2a sont disposées lorsqu'elles sont appliquées sur le substrat cylindrique maintenu respectivement incliné et horizontal, La figure 21 est une coupe longitudinale illustrant une phase de durcissement du premier agent adhésif par l'application de chaleur, après l'application des particules drélectrodes 2a, La figure 22 est une coupe longitudinale iilu-'--s- trant une phase de; durciss-emt du second agent adhésif par application de chaleur après la formation de la couche de recouvrement du second agent adhésif qui couvre les particules d'électrodes2 a ; Les figures 23a et 2'::3Ù montrent schématiquement des structures modifiées dix substrat cyIinrique 1 qui peut être utilisé avec avantages selon l'invention, La figure 24 illustre schématiquement une phase modifiée d'application d'une poudre diélectrique sur plusieurs substrats cylindriques i, l'uns après l'autre et de façon continue, La figure 25 montre schématiquement une autre phase modifiée d' application d'une poudre diélectrique sur le substrat cylindrique 1, La figure 26 illustre schématiquement un disposé sitif de revêtement des particules d'électrodes de matière conductrice sur une matière isolante de l'électricité, La figure 27 est un graphe montrant l'adhérence de la matière de revêtement lorsqu'elle est traitée par différents procédés, Les figures 28 à 37 sont des représentations schématiques de la structure à différentes phases d'un procédé de fabrication d'un support de révélateur selon un autre mode de réalisation de l'invention, La figure 38 représente schématiquement une phase de traitement de la surface latérale extérieure de la structure selon le procédé de super-finition, Les figures 39a et 39b sont respectivement une coupe transversale et une coupe longitudinale d'un support de révélateur fabriqué selon la séquence des opérations illustrées par les figures 28 à 37, Les figures 40a et 40b illustrent schématiquement l'opération de traitement de la couche d'électrodes selon le procédé de super-finition, La figure 41 est une coupe transversale d'un autre support de révélateur fabriqué selon la séquence des opérations illustrées par les figures 28 à 37, La figure 42 illustre schématiquement une phase modifiée de traitement de la surface latérale extérieure de la couche d'électrodes en utilisant une meule cylindrique, Les figures 43a à 43c illustrent schématiquement une phase modifiée du traitement de la surface latérale extérieure de la couche d'électrodes, Les figures -44a et 44b sont des représentations schématiques qui conviennent pour expliquer l'opération représentée sur les figures 43a à 43c, Les figures 45 et 46 sont des coupes longitudinales montrant des supports de révélateur selon d'autres modes de réalisation de l'invention, et Les figures 47 à 60 illustrent schématiquement différentes phases d'un procédé de fabrication du support de révélateur de la figure 45 selon un autre mode encore de réalisation de l'invention. Quelques modes spécifiques de réalisation de l'invention seront donc maintenant décrits en regard des dessins annexés. La figure 4 montre la structure d'un support de révélateur réalisé selon l'invention, et comprenant un substrat ou support 1, généralement de forme cylindrique, en une matière conductrice de l'électricité, une couche diélectrique 4, d'une épaisseur prédéterminée formée sur le support 1 et une couche d'électrodes 2 formée sur la couche diélectrique, avec plusieurs particules d'électrodes disposées sur la surface extérieure, isolées les unes des autres dans un état électrique flottant. il faut noter que le support de révélateur de la figure 4 se caractérise par une couche diélectrique spécifique 4 comme une couche intermédiaire ayant une épaisseur prédéterminée entre le support 1 et la couche d'électrodes 2. Tout d'abord, et comme le montre la figure 5, un support cylindrique de matière conductrice de l'électricité est préparé. Si le support de révélateur à fabriquer peut être utilisé dans un dispositif de développement utilisant un colorant magnétique comme révélateur et un aimant pour que le colorant magnétique soit attiré sur le support de révélateur, le support cylindrique 1 est fait d'une matière non magnétique, comme en acier inoxydable pour que son épaisseur soit relativement faible. Ensuite, après avoir soumis la surface latérale extérieure du support cylindrique 1 à un traitement de dégraissage, une couche de matière diélectrique est formée uniformément sur toute la surface latérale extérieure du support cylindrique 1, de préférence selon le procédé de projection électrostatique. Un dispositif de projection de poudre diélectrique pour former une couche diélectrique sur le support cylindrique 1, représenté sur la figure 1, comporte un élément chauffant sous gaine 6 constitué par une gaine de matière conductrice de l'électricité, et connectée à la masse, et un élément chauffant 6a en spirale enfermé dans la gaine, supporté pour tourner par une paroi latérale H d'une cabine de projection, et disposé horizontalement dans la cabine.L'élément chauffant sous gaine 6 est accouplé avec un arbre tournant 6b sur lequel est fixée une poulie 7a qui, à son tour, est accouplée avec un moteur d'entrainement (non représenté) par une courroie 7b, de sorte que l'élément chauffant sous gaine 6 est mis en rotation à vitesse constante dans le sens voulu.Sur l'arbre tournant 6b sont également prévues deux bagues de contact sur le côté de la poulie 7a opposé à celui où se trouve l'élément chauffant sous gaine 6 et ces deux bagues de contact sont connectées aux extrémités de l'élément chauffant hélicoldal 6a et sont en contact coulissant avec deux balais de contact 8 connectés à une unité 9 de commande d'alimentation prévue avec un moniteur de température (non représenté), un bouton 9a de réglage de température et un commutateur de marche-arrêt 9b; Ainsi, quand un courant circule à la commande dans l'élément chauffant 9a, le support cylindrique 1 disposé sur l'élément chauffant sous gaine 6 peut être chauffé à une température prédéterminée, ou 1800C dans le présent mode de réalisation de l'invention. Un pistolet de projection 10 est également prévu, dirigé pour projeter une poudre diélectrique 4' sur le support cylindrique 1 monté sur l'élément chauffant 6 selon le procédé de projection électrostatique, et il est monté sur un support qui peut se déplacer d'un mouvement alternatif, parallèlement à l'élément chauffant 6. Le support 11 est solidaire d'un chariot îîa que traversent deux arbres 12, dont l'un est un arbre de guidage 12a ayant une surface lisse et dont l'autre est un arbre d'entrainement 12b portant un filetage vissé dans un taraudage formé dans un trou du chariot îîa. Les deux arbres 12 sont supportés par deux blocs aux extrémités et l'arbre d'entrainement 12b est supporté pour pouvoir tourner, l'une de ses extrémités étant accouplée avec un moteur réversible 14. Ainsi, le pistolet de projection 10 peut être entrainé pour se déplacer vers la droite ou vers la gauche en fonction du sens de rotation du moteur d'entrainement 14. En outre, le pistolet 10 est connecté électriquement à un générateur 15 de haute tension par des conducteurs et il est relié de façon dynamique pour des fluides à un système 16 de suspension de poudre, au moyen d'un tube. Dans-le système 16 de suspension de poudre, la poudre diélectrique 4' à projeter est suspendue dans de l'air comprimé et amenée au pistolet 10. Avec le dispositif de projection représenté sur la figure 5, le support cylindrique 1 est d'abord monté sur l'élément chauffant sous gaine 6 pour être placé dans une position prédéterminée, et ensuite, l'élément chauffant 6 est mis en rotation à un vitesse prédéterminée par un moteur (non représenté) au moyen de la courroie d'entrainement 7b tandis qu'en même temps, le bouton 9a de réglage de température est placé sur une température voulue, par exemple 1800C dans le présent mode de réalisation de l'invention et le commutateur 9b est fermé. Après confirmation que le support cylindrique 1 a été chauffé à une température prédéterminée, une projection électrostatique de poudre diélectrique 4' par le pistolet 10 est déclenchée. Dans l'exemple présent, la poudre diélectrique 41 est fournie au pistolet 10 comme une suspension dans de l'air comprimé et la circulation d'air avec une suspension en poudre diélectrique 4' est dirigée vers le support cylindrique 1 sur l'élément chauffant sous gaine 6. Etant donné que le générateur 15 à haute tension est connecté à une électrode (non représentée) prévue dans le pistolet au voisinage d'une buse 1Oa, la poudre diélectrique 4' est chargée lorsqu'elle est projetée par le pistolet 10.La poudre diélectrique 4' ainsi chargée et projetée suit un champ électrostatique défini entre le pistolet 10 et l'élément chauffant 6 pour se déposer sur la surface latérale extérieure du support cylindrique 1, en formant ainsi une couche diélectrique uniforme sur toute sa longueur. Pour décrire cet aspect plus en détail, dans ce mode de réalisation de l'invention, pendant que le pistolet 10 est entrainé pour se déplacer le long des arbres 12 à vitesse constante et d'un mouvement alternatif, par ltentrainement réversible du moteur 14, la poudre diélectrique 4', à savoir une résine d'époxyde, chargée à une polarité prédéterminée, est projetée vers le support cylindrique 1 en rotation. La poudre diélectrique 4' ainsi projetée se dépose sur le support cylindrique 1, en y étant attiréepar effet électrostatique et, étant donné que le support cylindrique 1 se trouve à une température élevée, par exemple à 1800C, la poudre diélectrique 4' fond dès qu'elle s'y dépose.Pendant cette opération, le support cylindrique 1 tourne autour de son axe longitudinal maintenu horizontal, de sorte qu'une couche diélectrique d'environ 0,5 mm d'épaisseur peut etre formée de façon uniforme sur toute la longueur du support cylindrique 1 quand la poudre diélectrique 4' est appliquée répétitivement sur le support sur lequel elle adhère par fusion. Quand l'épaisseur de la couche diélectrique formée sur la surface latérale extérieure du support cylindrique 1 a atteint un niveau prédéterminé, la projection de poudre diélectrique 4' est interrompue, mais l'élément chauffant sous gaine 6 est maintenu en fonctionnement et en rotation continue pendant une période appropriée pour que la couche diélectrique formée sur le support cylindrique 1 durcisse suffisamment. Cela permet d'assurer la formation d'une couche diélectrique d'épaisseur uniforme aussi bien suivant la circonférence que dans la direction longitudinale car la matière diélectrique fondue ne peut couler vers le bas sur la surface du support cylindrique 1, sous l'effet de son propre poids. Comme le montre la figure 6b, dans ce mode de réalisation de l'invention, le diamètre extérieur d1 de l'élément chauffant sous gaine 6 est inférieur au diamètre intérieur d2 du support cylindrique 1 dans la mesure où ce support cylindrique 1 ne tourne pas en synchronisme avec l'élément chauffant 6. Autrement dit, avec cette structure, le support cylindrique 1 est en contact linéaire avec l'élément chauffant 6 et la partie du support cylindrique 1 qui est en contact linéaire avec l'élément chauffant 6 se déplace progressivement suivant la circonférence du support 1, en raison d'une différence de vitesse angulaire entre le support cylindrique 1 et l'élément chauffant 6.Cette structure est avantageuse en ce que le support cylindrique 1 peut être chauffé de façon plus uniforme sur toute sa surface, assurant ainsi la formation d'une couche diélectrique plus uniforme en épaisseur et en propriété sur le support cylindrique 1. il faut noter en outre que dans cette structure, il est plus facile de monter et de démonter le support cylindrique 1 sur l'élément chauffant 6; Ensuite, la surface latérale extérieure de la couche diélectrique 4' formée sur le support cylindrique 1 est traitée pour définir une couche diélectrique ayant une épaisseur prédéterminée, soit 0,4 mm dans le présent mode de l'invention et pour obtenir une surface latérale extérieure lisseDans le présent mode de réalisation, et comme le montre la figure 7, deux pièces de centrage 5, 5 sont utilisées, comprenant chacune un trou central conique 5a.Ces pièces de centrage 5,5 sont emmanchées à force dans le support cylindrique 1, aux deux extrémités. Ensuite, et comme le montre la figure 8, le support cylindrique 1 avec les deux pièces de centrage 5,5 emmanchées aux deux extrémités est maintenu pour pouvoir tourner entre deux mandrins M,M, par exemple d'un tour. Dans ces conditions, le support cylindrique 1 est mis en rotation autour d'un axe C'-C' et la surface extérieure de la couche diélectrique 4' est attaquée par un outil de coupe B qui se déplace le long de l'axe de rotation C'-C'. il faut noter que l'axe C du support cylindrique 1 peut être facilement et correctement aligné avec l'axe de rotation C'-C' défini par les deux mandrins M,M par l'engagement entre le mandrin M et la pièce de centrage 5 à chaque extrémité du support cylindrique 1. Ainsi, la couche diélectrique 4' peut être traitée avec précision en une couche diélectrique 4 ayant l'épaisseur t4 de 0,4 mm. Ce traitement peut également être effectué par d'autres procédés appropriés comme cela sera décrit par la suite. Après le traitement de la couche diélectrique 4 par l'outil de coupe B, la surface extérieure de la couche diélectrique 4 est nettoyée et ensuite, comme le montre la figure 9, un agent adhésif 2b d'une matière diélectrique qui durcit à une température relativement basse, par exemple la température ambiante, comme de l'uréthanne acrylique, est appliquée uniformément sur la surface extérieure de la couche électrique 4, par exemple au moyen d'un dispositif d'application 17 du type à pulvérisation.Ainsi, une pellicule 2b d'un agent adhésif 2b est formée sur la couche diélectrique 4 comme le montre la figure 10 et l'épaisseur moyenne t' 2 de cette pellicule adhésive 2b est contrôlée de manière que toutes les particules d'électrodes ayant un diamètre compris entre 74 et 104 microns, qui sont appliqués au cours de la phase suivante, puissent venir en contact avec la surface latérale extérieure de la couche diélectrique 4 lorsqu'elles sont appliquée sur la pellicule d'agent adhésif 2b. Dans le présent mode de réalisation, cette épaisseur t'2 est de préférence comprise entre 4 et 5 microns. il est bien entendu préférable d'appliquer répétitivement l'agent adhésif 2b sur la couche diélectrique 4 tout en maintenant le support cylindrique 1 en rotation, pendant qu'il est maintenu horizontalement, le dispositif d'application 17 se déplaçant suivant l'axe longitudinal du support cylindrique 1. Dès que la pellicule d'agent adhésif 2b a été formée et avant qu'elle ne durcisse, des particules d'électrodes 2a sont appliquées uniformément sur cette pellicule d'agent adhésif 2b comme le montre la figure 11 jusqu'à ce que ces particules d'électrodes 2a soient déposées uniformément sur toute la surface, en contact avec la couche diélectrique 4, comme le montre la figure 12.Dans le présent mode de réalisation, les particules d'électrodes 2a en cuivre ayant un diamètre d'environ 74 à 104 microns sont emmagasinés dans un conteneur 18 avec une ouverture d'alimentation 18a et le conteneur 18 est déplacé en étant incliné par rapport à l'axe longitudinal du support cylindrique 1, en un mouvement alternatif pendant que le support cylindrique 1 tourne autour de son axe longitudinal ; de cette manière, les particules d'électrodes 2a peuvent être distribuées uniformément sur toute la surface.Comme cela sera décrit plus en détail par la suite, chaque particule d'électrodes 2a est préalablement revêtue d'une matière de revêtement diélectrique, comme d'une laque acrylique, de sorte que même si les particules d'électrodes 2a sont déposées de façon aléatoire sur la couche d'agent adhésif 2b en tombant sous l'effet de leur propre poids, elles peuvent rester isolées électriquement les unes des autres. En outre, étant donné que l'épaisseur de la pellicule d'agent adhésif 2b est relativement réduite, comprise entre 4 et 5 microns, les particules d'électrodes 2a en cuivre ayant un diamètre de 74 à 104 microns ne restent pas sur la pellicule d'agent adhésif 2b mais viennent en contact avec la couche diélectrique 4 en raison de leur propre poids.Bien que dans le présent mode de réalisation, du cuivre soit utilisé, toute autre matière conductrice de l'électricité comme du bronze, du bronze phosphoreux et un acier inoxydable peuvent aussi convenir pour former les particules d'électrodes. Ensuite, après le séchage et un durcissement suffisant de la pellicule d'agent adhésif 2b, ce dernier est nouveau appliqué par le dispositif d'application sur les particules d'électrodes 2a maintenant fixées par la pellicule durcie d'agent adhésif sur la pellicule diélectrique 4. Dans le présent mode de réalisation, l'agent adhésif appliqué pour la seconde fois à la phase de la figure 13 est le même agent adhésif que celui utilisé pour former une pellicule sous-jacente à la phase de la figure 9. Mais des agents d'adhésifs différents peuvent aussi être utilisés, à volonté, dans la mesure où il existe une compatibilité entre les deux agents utilisés, ce qui permet de maintenir fermement les particules d'électrodes 2a qui y sont encastrées.Avec cette structure en deux phases de l'application de l'agent adhésif, toutes les particules d'électrodes 2a peuvent être positionnées correctement, c'est-à-dire en contact avec la surface extérieure de la couche diélectrique 4, et peuvent être maintenues fermement, encastrées dans une couche résultante 2' d'agent adhésif. Après l'application de l'agent adhésif 2b pour la seconde fois jusqu'à une épaisseur voulue,, cet agent adhésif est durci suffisamment et ensuite, toute la structure W est à nouveau supportée entre les mandrins M,M par exemple d'un tour pour éliminer la partie superficielle de la couche 2' contenant les particules d'électrodes 2a au moyen de l'outil de coupe B. Comme cela a déjà été expliqué, étant donné que les pièces de centrage 5,5 ont été ajustées dans le support cylindrique 1 aux deux extrémités, toute la structure W peut être facilement positionnée avec son axe aligné avec l'axe de rotation défini par les mandrins M,M.La couche 2' est taillée par l'outil de coupe B répétitivement, jusqu'à ce qu'elle atteigne une épaisseur prédéterminée t2 et dans ces conditions, les particules d'électrodes 2a encastrées dans la couche 2' sont disposées à la surface extérieure fraichement coupée pour former des points, de sorte que la couche d'électrode 2 est formée. il est bien entendu que les parties qui restent des particules d'électrodes 2a dans la couche d'électrodes 2 sont à peu près hémisphériques. De cette manière, l'épaisseur t2 de la couche d'électrodes 2 peut être rendue uniforme sur toute sa surface et les particules d'électrodes 2a peuvent être maintenues fermement dans la couche d'électrodes 2. Autrement dit, et comme cela sera décrit plus en détail par la suite, il est nécessaire que le rapport de surface entre la surface totale des particules d'électrodes exposées 2a et la surface latérale totale de la couche d'électrodes 2 soit de 45% ou davantage pour atteindre l'effet de bord voulu et il est également nécessaire que moins d'une moitié supérieure de chacune des particules d'électrodes 2a encastrées soit coupée pour éviter la séparation entre les particules d'électrodes 2a et la couche d'électrodes 2. Dans ces conditions, si des particules d'électrodes 2a ayant un diamètre de 74 à 104 microns sont utilisées, l'épaisseur t2 de la couche d'électrodes 2 doit se situer entre 52 et 62 microns. Par conséquent, avec le processus décrit ci-dessus, selon l'invention, étant donné que toutes les particules d'électrodes 2a sont déposées pour être en contact avec la surface extérieure de la couche diélectric1ue 4, la profondeur d'encastrement de chacune des particules 2a est égale à l'épaisseur t2 de la couche d'électrodes résultante 2. Ainsi, tant que la couche d'électrodes 2 est formée sous contrôle pour avoir l'épaisseur t2 comprise entre 52 et 62 microns, toutes les particules d'électrodes 2a de la couche 2 peuvent répondre aux conditions ci-dessus. Cela peut se faire facilement même avec l'attaque par un tour, en utilisant les pièces de centrage 5,5 mentionnées ci-dessus.Mais il faut noter que le traitement de la couche 2' pour former la couche d'électrodes 2 peut se faire par des moyens appropriés autres qu'un tour, par exemple, une rectifieuse cylindrique. Après la formation de la couche d'électrode 2 de la manière décrite ci-dessus, toute la structure W est nettoyée, et les pièces d'extrémité ou de centrage 5,5 sont séparées du support cylindrique 1 de sorte qu'un support de révélateur 19 est formé, comme un produit final. Dans le mode de réalisation décrit ci-dessus, l'application d'un agent adhésif a été effectuée en deux phases séparées, mais elle peut se faire à volonté en plus de deux phases. il faut également noter que la couche diélectrique 4 et l'agent adhésif 2b peuvent être d'une matière identique ou de même type. En outre, si cela est souhaité, les pièces de centrage 5,5 peuvent être enlevées momentanément du support cylindrique 1 pendant le traitement. Comme cela a été indiqué ci-dessus, chacune des particules d'électrodes 2a ayant à peu près la forme d'une sphère, encastrée dans la couche d'électrodes 2 doit avoir une profondeur d'encastrement de 52 à 62 microns. Cet aspect sera maintenant décrit en détail en regard de la figure 16. Sur cette figure, la profondeur d'encastrement t 2a en microns des particules d'électrodes 2a est portée en abscisse et le rapport de surface en pourcentage de surface totale des particules d'électrodes 2a partiellement encastrées dans la couche d'électrodes 2 et la surface latérale totale de la couche d'électrodes 2 portée en ordonnées. Trois courbes sont représentées sur le graphe de la figure 16, la courbe alpha concernant les particules d'électrodes 2a ayant un diamètre maximal de 104 microns, la courbe béta concernant les particules d'électrodes 2a de diamètre moyen et la courbe gamma concernant les particules d'électrodes 2a de plus petit diamètre de 74 microns. Etant donné que le rapport de surface A R doit être de 45% ou davantage pour obtenir la caractéristique de développement voulu en utilisant l'effet de bord, la profondeur d'encastrement maximal est déterminé par l'intersection entre la courbe gamma pour le plus petit diamètre et la ligne de rapport de surface de 45%, c'est-à-dire 62 microns. Par ailleurs, pour éviter la séparation des particules d'électrodes 2a de la couche d'électrodes 2, les particules de plus grandes dimensions, d'un diamètre de 104 microns doivent entre encastrées de plus de leur moitié. Autrement dit, la profondeur d'encastrement de chacune des particules d'électrodes 2a doit être de 52 microns ou davantage pour que toutes ces particules d'électrodes 2a soient suffisamment ancrées dans la couche d'électrodes 2.Par conséquent, la profondeur d'encastrement de chacune des particules d'électrodes 2a dans la couche d'électrodes 2 doit se situer dans une plage entre 52 et 62 microns dans les conditions décrites ci-dessus. Pour former la couche d'électrodes 2 qui répond aux conditions précitées, il est nécessaire que les particules d'électrodes 2a soient situées à la même hauteur H par rapport à la surface périphérique extérieure du support cylindrique 1 comme le montre la figure 17a-. Si les particules d'électrodes 2a peuvent ainsi être positionnées dans la matière adhésive 2, il suffit de tailler la surface extérieure jusqu'à ce que la profondeur d'encastrement t2a atteigne une plage prédéterminée tout en maintenant une tolérance d'usinage R dans cette plage. Ainsi, la couche d'électrodes voulue 2 peut être facilement formée quand les particules d'électrodes 2a ont été positionnées correctement. Mais ce positionnement correct des particules d'électrodes 2a ne peut se faire sans difficultés. En réalité, les particules d'électrodes 2a viennent se placer à des hauteurs différentes par rapport à la surface extérieure du support cylindrique 1 lorsqu'elles sont déposées dans une couche de matière adhésive comme le montre la figure 18a.Si la surface extérieure est taillée dans les conditions représentées sur la figure 18a pour former la couche d'électrodes 2 représentée sur la figure 18b tout en maintenant les tolérances d'usinage est au-dessous de 10 microns, il apparaît qu'une particule 2a2 qui n'est pas exposée suffisamment à la surface extérieure et une particule 2a1 qui a été trop taillée, et qui peut ainsi se séparer facilement de la couche électrode 2. A partir de ces considérations, il est entendu que le procédé décrit cidessus selon l'invention permet de fabriquer un support de révélateur capable de répondre aux conditions précitées avec facilité aussi bien que sécurité. La figure 19 illustre une phase modifiée d'application de particules d'électrodes 2a sur la pellicule d'agent adhésif 2b, sur la couche diélectrique 4. Dans cette phase modifiée, le support cylindrique 1 est maintenu incliné plutôt que d'être maintenu horizontalement comme le montre la figure 11. Cette phase modifiée est avantageuse en ce qu'elle entraîne que les particules d'électrodes 2a déposées soient groupées de façon plus dense. Autrement dit, si les particules 2a sont appliquées avec le support cylindrique 1 maintenu horizontalement comme le montre la figure 11, un jeu S formé entre deux particules 2a voisines peut être appréciable.Par contre, si les particules d'électrodes 2a sont appliquées avec le support cylindrique 1 maintenu incliné comme le montre la figure 19, les particules d'électrodes 2a peuvent être déposées de façon plus dense sans former de jeu entre les particules voisines 2a' comme le montre le figure 20a. Dans ce cas, les particules voisines 2a' sont en contact entre elles mais cela ne soulève aucun problème car chacune des particules 2a est revêtue d'une matière isolante de l'électricité ce qui permet d'isoler les particules 2a' les unes des autres. La figure 21 illustre une phase modifiée pour le durcissement de l'agent adhésif 2b correspondant à la phase illustrée sur la figure 12 dans le procédé décrit ci-dessus. Bien que le durcissement de l'agent adhésif 2b puisse être accéléré par l'application de chaleur en utilisant l'élémént chauffant, comme un radiateur à infra-rouges éloigné, depuis l'extérieur tout en maintenant l'ensemble de la structure W en rotation, toute cette structure W peut être à nouveau montée sur l'élément chauffant sans gaine 6 pour appliquer de la chaleur qui durcit l'agent adhésif 2b comme le montre la figure 21. il faut noter que si un agent adhésif est utilisé, ayant la propriété de durcir rapidement, l'application de chaleur à cette phase peut être supprimée et il est possible que l'agent adhésif soit laissé seul à se durcir ou un courant d'air peut être dirigé vers lui. La figure 22 illustre une phase d'application de chaleur à la couche supérieure d'agent adhésif 2b' pour la durcir de façon sûre, cette face pouvant être exécutée en outre après la phase de la figure 13 dans le procédé de l'invention décrit ci-dessus. Autrement dit, après avoir formé la couche supérieure d'agents adhésif 2b' pour que les particules d'électrodes 2a soient encastrées, toute la structure W est supportée sur un arbre tournant 22. Ensuite, tout en maintenant l'ensemble de la structure W en rotation, de la chaleur est appliquée à la couche supérieure 2b' par un radiateur 21 à infra-rouges éloignés de sorte que l'agent adhésif 2b' formant la couche supérieure peut être durci avec sécurité et de façon complète.Mais il faut noter que cette phase d'application de chaleur peut être supprimée en fonction des propriétés de l'agent adhésif utilisé et--des conditions du processus d'ensemble de fabrication. Les 23a et 23b illustrent deux autres modes de réalisation du support cylindrique 1. Si le support cylindrique 1 doit être fait en une matière non magnétique, comme en acier inoxydable, il doit être aussi mince que possible en pratique pour permettre d'obtenir une force magnétique maximale possible à la surface extérieure du support de révélateur. Dans le mode de réalisation représenté sur la figure 23a, une section conique lb s'élargissant vers l'intérieur est prévue. à chaque extrémité du support cylindrique 1. Dans ce cas; la pièce de centrage 5 est formée de préférence pour comporter une section d'encastrement épaulée ayant une partie supérieure de plus petit diamètre et une partie de base de plus grand diamètre, cette dernière étant emmanchée. à force dans la section conique lb lorsqu'elle est en position. Avec cette structure, le montage et le démontage de la pièce de centrage 5 peuvent se faire facilement et de façon régulière. Il faut également noter que les tolérances de fabrication du support cylindrique 1 et de la pièce de centrage 5 peuvent être relâchées de façon notable. La figure 23b montre un mode de réalisation dans lequel le support cylindrique 1 ne comporte pas une section conique à chaque extrémité. Dans ce cas, le support cylindrique 1 doit avoir des tolérances de fabrication plus serrées afin d'obtenir l'épaisseur t1 voulue. La figure 24 illustre un autre procédé pour appliquer une poudre diélectrique sur le support cylindrique 1 afin de former une couche diélectrique 2' sousjacente et cette phase correspond à la phase de la figure 5 dans le procédé décrit ci-dessus. il faut noter que la poudre diélectrique 2' correspond ici à la poudre diélectrique 4' de la figure 5. Comme le montre la figure 24, un dispositif de convoyage 7 est réalisé pour transporter plusieurs supports cylindriques 1 en rotation le long d'un trajet prédéterminé dans la direction indiquée par la flèche. Ce dispositif de convoyage 7 peut être réalisé d'une manière bien connue du spécialiste en la matière. Par exemple, le dispositif de convoyage 7 peut comporter deux chaines sans fin disposées parallèlement et espacées l'une de l'autre et. plusieurs unités de maintien montées sur les chaines à des intervalles pour maintenir en rotation les supports cylindriques 1 comme le montre la figure 24. Le long de ce trajet de transport du dispositif de convoyage 7, trois régions sont définies comprenant une région de préchauffage S1, une région d'application de poudre diélectrique S2 et une région de durcissement S3. Dans les régions S1 et S3 de préchauffage et de durcissement, plusieurs radiàteurs 23, des radiateurs à infra-rouge éloignés dans le présent mode de réalisation, sont disposés à des intervalles au-dessus du trajet de transport.Dans la région d'application S2 est disposé un dispositif d'application 24 qui applique la poudre diélectrique 2' sur le support cylindrique 1 en laissant tomber cette poudre 2' par son propre poids en une quantité réglée. Mais dans ce mode de réalisation, le procédé de projection électrostatique est appliqué, auquel cas, un champ électrostatique est créé entre le dispositif d'application et chacun des supports cylindriques 1 de manière que la poudre diélectrique 2' chargée à une polarité prédéterminée soit attirée électrostatiquement par chacun des supports cylindriques 1.La disposition est telle que le dispositif d'application 24 se déplace dans une direction perpendiculaire à la direction de transport du dispositif de convoyage 7 et ce dispositif d'application 24 se déplace beaucoup plus vite que l'entrainement par ie dispositif de convoyage 7. Avec cette disposition; la formation d'une couche diélectrique sous-jacente 2' qui correspond à la couche 4' des figures 5 à 7 peut être assurée d'une façon continue. il faut également noter qu'il est possible d'utiliser un four électrique plutôt qu'un radiateur à infra-rouges 23. La figure 25 illustre une autre modification de la formation d'une couche diélectrique sous-jacente sur le support cylindrique 1. Dans cet exemple, le support cylindrique 1 reste monté sur l'élément chauffant sous gaine 6 et il est maintenu en rotation. Le support cylindrique 1 est maintenu dans un courant d'air contenant une suspension de poudre diélectrique 25 qui correspond à la poudre 21 de la figure 24 et à la poudre 4' des figures 5 à 7. Avec cette structure, la poudre diélectrique 25 en suspension dans le courant d'air vient se coller par fusion sur le support cylindrique 1 dès qu'elle rencontre la surface chauffée de ce support. Les matières préférées pour cette poudre diélectrique comprennent la résine d'epoxyde, les résines de polyester, les résines de polyimide et les résines ABS. La figure 26 illustre un dispositif pour préparer des particules d'électrodes 2a revêtues qui sont constituées par des particules conductrices de l'élec- tricité, revêtues d'une matière isolante de l'électricité devant être appliquées sur la couche d'agent adhésif 2b à l'opération représentée sur la figure 11. Comme le montre la figure 26, le dispositif comporte une chambre de revêtement 26a qui contient une quantité de particules de cuivre 27a dont le diamètre se situe entre 74 et 104 microns et un courant d'air est amenée dans cette chambre 26a à la fois par le haut et par le bas, faisant ainsi flotter les particules de cuivre 26a dans l'air. Un pistolet de projection 26b est monté sur une paroi de chambre de revêtement 26a pour décharger une matière isolante de l'électricité, comme du styrène butyl acrylate, atomisé dans la chambre 26a.Etant donné que les particules de cuivre 27a flottent autour de la chambre de revêtement 26a, elles sont revêtues avec la matière isolante de l'électricité déchargée dans la chambre 26a. L'appareil peut être réalisé de manière que le temps de résidence des particules 27a dans la chambre 26a soit suffisamment long pour former un revêtement d'environ 2 microns sur chacune des particules 27a avant qu'elles ne sortent de la chambre 26a. Une conduite de sortie 26c est disposée entre le fond de la chambre de revêtement 26a et un plateau 26d de manière que les particules de cuivre 27a maintenant revêtues avec la matière isolante, sous une épaisseur prédéterminée, soient transportées sur le plateau 26d. Les particules de cuivre revêtues, maintenant recueillies dans le plateau 27d sont alors transférées à un tamis oscillant 26e d'une grosseur d'émail de 0,075 à 0,1 mm qui permet d'obtenir des particules de cuivre revêtues dans des plages de dimensions choisies. Les particules de cuivre revêtues ainsi obtenues peuvent maintenant être utilisées, par exemple dans l'opération représentée sur la figure 11. Mais il faut noter qu'il est possible d'utiliser d'autres matières de revêtements comme du méthylméthacrylate. il faut en outre remarquer que l'adhérence entre les particules d'électrodes 2a et l'agent adhésif 2b peut être augmentée grâce à la présence de styrène butyl acrylate entre elles, déposé sur les particules 2a comme le montre graphiquement la figure 27. Autrement dit, comparativement au cas où il n'y a pas de revêtement, le revêtement de styrène butylacrylate sur les particules 2a permet d'augmenter leur adhérence sur l'agent adhésif 2b. Selon des résultats expérimentaux illustrés par la figure 27, une plus forte adhérence est obtenue quand les particules sont traitées préalablement avec un lavage acide, parmi les 4 procédés de traitment préalable qui ont été contrôlés. Un autre procédé de fabrication d'un support de révélateur comportant des électrqdes flottantes selon l'invention sera maintenant décrit en regard des figures 28 à 37. il faut noter que dans la description qui va suivre, les mêmes références numériques sont utilisées pour indiquer des éléments semblables à ceux déjà décrites. Comme le montre la figure 28, le support cylindrique 1 en acier inoxydable ou autre matière conductrice de l'électricité est préparé et après avoir soumis la surface latérale extérieure du support 1 à un traitement de dégraissage, ce support cylindrique 1 est ajusté en coulissant sous l'élément chauffant sous gaine 6 contenant l'élément chauffant en spirale 6a. Tout en chauffant le support cylindriquel à une température prédéterminée, de préférence 1800C dans l'exemple présent, la poudre diélectrique 4', de préférence une résine thermodurcissable comme de la résine d'epoxyde, est appliquée sur le support cylindrique 1 par le pistolet de projection électrostatique 10 qui est déplacé dans un sens et dans l'autre parallèlement au support cylindrique 1.L'application de poudre diélectrique 4' se poursuit jusqu'à ce qu'elle soit déposée sur le support cylindrique 1 en formant une couche d'une épaisseur d'environ 500 microns. Même après la fin de l'application de la poudre 4', le chauffage est maintenu pendant une période prolongée, permettant ainsi à la couche de poudre diélectrique 4' de durcir complètement, comme le montre la figure 29. Ensuite, la surface extérieure de la couche de poudre diélectrique 4' est éliminée, par exemple au moyen d'un tour ou d'une rectifieuse cylindrique, formant ainsi la couche diélectrique sous-jacente 4 ayant une épaisseur t4, de préférence de l'ordre de 400 microns, comme le montre la figure 30. Ensuite, appris le nettoyage de la surface extérieure traitée de la couche diélectrique 4, l'agent adhésif 2b, d'une matière diélectrique et qui durcit à une température relativement basse comme de l'acrylicuréthanne, est appliqué uniformément. sur la surface latérale extérieure de la couche diélectrique 4 à nouveau en utilisant un dispositif d'application 17 du type à projection par air comprimé.Ainsi, une pellicule d'agent adhésif 2b est formée sur la couche diélectrique 4 sous jacente jusqu'à une épaisseur t'2 qui se situe de préférence de 3 à 15 microns dans le cas où les particules d'électrodes 2a qui seront appliquées à la phase suivante ont un diamètre compris entre 74 et 104 microns. Dès que l'agent adhésif 2b a été appliqué avant qu'il ne durcisse, des particules d'électrodes 2a sont déposées sur cet agent adhésif 2b au-dessus de la couche diélectrique 4 comme le montre la figure 33. La structure résultante W est représentée sur la figure 34 selon laquelle les particules d'électrodes 2a sont partiellement encastrées dans la pellicule d'agent adhésif 2b et positionnées correctement en contact avec la surface latérale extérieure de la couche électrique 4. Comme cela a été décrit précédemment, les particules d'électrodes 2a sont revêtues d'une matière isolante de sorte qu'elles peuvent être maintenues isolées électriquement les unes des autres même si elles sont appliquées de façon aléatoire.En outre, étant donné que l'application des particules d'électrodes 2a se fait avant que l'agent adhésif 2b soit durci et que la pellicule-d'agent adhésif 2b est relativement mince, comparativement à la grosseur moyenne des particules d'électrodes 2a, ces dernières ne peuvent flotter sur la pellicule d'agent adhésif 2b, ce qui assure que toutes ces particules viennent en contact avec la surface latérale extérieure de la couche diélectrique sous-jacente 4. D'une façon similaire à celle du procédé déjà décrit, les particules d'électrodes 2a peuvent être constituées de toute matière conductrice de l'électricité voulue, mais les matières préférées comprennent le cuivre, le bronze, le bronze phosphoreux et l'acier inoxydable. Après l'application des particules d'électrodes 2a de la manière décrite ci-dessus, l'agent adhésif 2b est complètement durci. A cet effet, l'une quelconque des techniques décrites ci-dessus, comme l'application de chaleur, peut convenir pour accélérer le séchage et le durcissement de l'agent adhésif 2b. Ensuite, comme le montre la figure 35, en utilisant à nouveau le dispositif d'application 17, un autre agent adhésif 2b' est appliqué sur la pellicule durcie d'agent adhésif 2b avec les électrodes 2a. Dans le mode préféré de réalisation, le second agent adhésif 2b' est identique au premier 2b mais ces agents peuvent différer dans la mesure où ils peuvent adhérer fortement entre eux.Comme cela a déjà été décrit, une application en deux phases de l'agent adhésif a une importance particulière pour le positionnement des particules d'électrodes 2a, correctement encastrées dans la couche résultante d'agent adhésif. Ensuite, toute la structure W est à nouveau enfilée sur l'élément chauffant sous gaine 6 tournant et la couche 2' d'agent adhésif est complètement durcie par l'application de chaleur. Avec cette structure, la couche 2' d'agent adhésif peut être durcie complètement sous une épaisseur uniforme t'2, de préférence de l'ordre de 150 microns. Ensuite, comme le montre la figure 37, la surface extérieure de la couche d'agent adhésif 2' est traitée pour éliminer la partie superficielle et une partie des particules d'électrodes 2a encastrées, de manière que ces dernieres soient exposées à la surface extérieure traitée pour définir la couche d'électrodes 2 ayant une épaisseur t2 égale à la profondeur d'encastrement t2a de chacune des particules 2a car toutes ces dernières sont disposées en contact avec la surface latérale extérieure de la couche diélectrique 4 sous-jacente.Comme cela a été expliqué en détail ci-dessus, si l'épaisseur t2 de la couche d'électrodes 2 résultante est contrôlée entre 52 et 62 microns, le rapport de surface exposée AR peut être établi automatiquement à 458 ou davantage et toutes les particules d'électrodes 2a peuvent être encastrées dans la couche d'électrodes 2 de plus d'une moitié, assurant ainsi un effet d'ancrage suffisant pour éviter une séparation facile entre les particules d'électrodes et la couche d'électrodes 2. Comme le montre la figure 37, le traitement de la surface latérale extérieure de la couche 2' pour définir la couche d'électrodes 2 selon le présent procédé se fait en utilisant un procédé de traitement de surface, avec la surface latérale extérieure S utilisée comme référence. Une des techniques de traitement de surface qui convient selon l'invention est le procédé de superfinition. Cet aspect du présent procédé sera maintenant décrit en détail en se référant particulièrement aux figures 38 à 41. La figure 38 représente une unité 30 de superfinition montée sur un chariot B d'un tour. Comme représentée, la pièce à usiner W ayant la structure représentée sur la figure 36 est supportée entre deux broches A de manière qu'elles puissent tourner autour de son axe longitudinal. Avec la pièce W en rotation, une pierre abrasive 30a est déplacée le long des cette pièce W tout en étant serrée contre elle et en maintenant une oscillation dans la direction longitudinale de la pièce afin d'en éliminer la surface. Comme le montre la figure, la pierre abrasive 30a est fixée à l'extrémité inférieure d'un guide de pierre 30b comprenant un vérin pneumatique 30c qui permet de monter et descendre la pierre abrasive 30a. De plus, le vérin pneumatique 30c sert d'amortisseur pour absorber des fluctuations pouvant résulter d'irrégularités de la surface traitée pendant le fonctionnement.Le guide de pierre 30b est monté sur une tête 30d de super-finition qui comporte un dispositif d'excitation (non-représenté) produisant une oscillation de la pierre abrasive 30a dans la direction longitudinale de la pièce W, de sorte que la pierre abrasive 30a oscille par exemple à une fréquence de 1900 à 3200 Hz avec une amplitude de 1 à 6 mm grace au guide 30b. Comme cela a été décrit ci-dessus, la tête 30d est montée sur le chariot B qui exécute un mouvement d'aller et retour le long de l'axe défini par les broches A. Ainsi, la tête de super-finition 30d, le guide de pierre 30b et la pierre abrasive 30a se déplacent ensemble avec le chariot B, d'un mouvement alternatif le long de la pièce W, à vitesse constante.La pierre abrasive 30a consiste généralement en de la poudre de carbure de silicium noir, de carbure de silicium vert, d'oxyde d'alumine brun ou d'oxyde d'alumine blanc avec un liant d'alcool de polyvinyle et une résine thermodurcissable. Pendant le traitement de la surface latérale extérieure de la couche d'électrodes 2' à former avec cette unité 30 de super-finition, la pièce à usiner W est d'abord mise en position avec ses deux extrémités supportées par les broches A. Dans ce cas, une pièce d'extrémité T appropriée peut être ajustée à chaque extrémité de la pièce W, permettant ainsi de régler facilement la pièce W et de protéger ces parties d'extrémité contre tout dommage. Ensuite, le vérin pneumatique 30b est actionné pour que la pierre abrasive 30a soit poussée contre la surface latérale de la pièce W avec une pression relativement légère, par exemple 105Pa. Ensuite, les broches A sont mises en rotation puis l'oscillation de la pierre abrasibe 30a est déclenchée ainsi que le mouvement d'avance du chariot B, en effectuant ainsi l'opération de super-finition. Si la surface latérale extérieure de la couche d'électrode 2' à former est traitée de cette manière, il est possible d'obtenir une couche d'électrodes 2 d'une épaisseur de t2 se situant dans la plage voulue de 52 à 62 microns, indépendamment de la précision de positionnement de l'axe de la pièce W soumis aux conditions de support des broches A comme le montrent les figures 39a et 39b. Une description plus détaillée de cet aspect sera faite en regard des figures 40a et 40b montrant que dans le cas où la pièce W est supportée avec son axe C W excentré par rapport à l'axe support CA défini par les broches A pour supporter la pièce Wt d'une valeur delta d, la ligne de contact H entre la pierre abrasive 30a et la pièce W se déplace dans un sens et dans l'autre d'une distance déterminée par 2 delta d guand la pièce W tourne autour de l'axe support CA Mais ce mouvement vertical peut être absorbé par le vérin pneumatique 30b de sorte que la pression de contact entre la pierre abrasive 30a et la pièce W peut être maintenue pratiquement inchangée dans les conditions illustrées par la figure 40a, sur laquelle le point de contact H est situé au point le plus bas, et dans les conditions illustrées par la figure 40b sur laquelle le point de contact H est situé au point le plus haut. Par conséquent, en utilisant la surface latérale extérieure initiale S représentée sur la figure 37 comme référence, l'épaisseur de la partie de surface éliminée par l'opération de super-finition est définie par- une épaisseur t2R mesurée à partir de la surface extérieure initiale S vers l'intérieur et cette épaisseur peut être maintenue uniforme sur toute la surface. Dans le présent mode de réalisation, étant donné que la couche d'électrode 2' à former a été réalisée sous une épaisseur pratiquement uniforme de 150 microns, l'opération de superfinition doit être exécutée pour éliminer la partie superficielle avec l'épaisseur t2R située entre 88 et 98 microns. Avec ce traitement selon cette technique de super-finition utilisant une pierre abrasive 30a ayant une grosseur de grain nO 5000, il est possible d'obtenir une surface finie avec une rugosité de l'ordre de 0,05 micron RZ au minimum, de sorte que si la plage de fluctuation d'épaisseur t'2 d'électrodes 2' est contrôlée à 10 microns ou moins, cette couche d'électrodes 2 dont l'épaisseur t2 se situe entre 52 et 62 microns est obtenue facilement.Comme le montre la figure 41, même si la couche diélectrique 4 sous-jacente est formée légèrement excentrée par rapport à l'axe CO du support cylindrique 1 en raison d'une discordance entre l'axe support C4 et l'axe CO au moment du traitement de la couche diélectrique 4, la couche d'électrodes 2, dont l'épaisseur t2 est uniforme sur toute la surface peut être obtenue de façon stable et avec précision grâce à l'opération de super-finition. La figure 42 illustre un principe de rectification cylindrique sans axe qui peut s'appliquer comme une variante à l'opération de super-finition décrite ci-dessus pour définir la couche d'électrodes 2 en utilisant la surface latérale extérieure initiale comme référence. Dans cette variante, la pièce à usiner W est placée entre une meule 32 et un disque de régulation 33, supporté sur une lame d'appui 34 et ainsi, la pièce W est traitée de manière que sa surface soit enlevée en utilisant la surface latérale extérieure initiale de préférence. Cette disposition est particulièrement avantageuse pour le traitement de la surface latérale extérieure d'une pièce dont le diamètre est relativement réduit. Les figures 43a à 43c, 44a et 44b illustrent une autre variante du procédé pour exécuter l'opération d'élimination de surface en utilisant la surface latérale extérieure initiale S comme référence, comme le montre la figure 37. Comme le montre la figure 43a, la présente unité 40 de finition ou de traitement de surface comporte une colonne centrale 40a à une extrémité de laquelle une barre support 40c portant une pierre de meulage 40d est articulée sur un pivot 40b. Comme le montre la figure 43b, la pierre 40d a la forme d'une coupelle et elle est montée en position inversée à une extrémité de la barre support 40c pour pouvoir tourner autour d'un axe de rotation CB perpendiculaire à l'axe de rotation CW de la pièce W.Dans ces conditions, une surface d'extrémité de bord 40d1 de la meule 40d en forme de coupelle est amenée en contact avec la surface latérale extérieure de la pièce W pour la traiter et en éliminer la partie extérieure. La meule 40d est accouplée avec un moteur 40f par une courroie d'entrainement 40e. En outre, la barre support 40c comporte un poids 40g à l'extrémité opposée à celle où se trouve la meule 40d et un poids 40h de réglage d'équilibre est également prévu en position réglable suivant la longueur de la barre support 40c. En réglant la position du poids 40h sur la barre support 40c, la pression de contact entre la meule 40d et la pièce W peut être réglée de façon appropriée.En outre, la structure est telle que l'unité 40 de finition de surface se déplace parallèlement à la pièce W, d'un mouvement alternatif de sorte que la meule 40d se déplace le long de la pièce W en contact avec elle. En pratique, et comme le montre la figure 43c, l'unité 40 de finition de surface est montée sur le chariot d'un tour et la pièce W est supportée par des broches A pour tourner autour de son axe longitudinal. Dans ces conditions, la meule entrainée pour tourner autour de l'axe C B se déplace le long de la pièce W en rotation en étant appuyée contre elle, afin que la surface latérale extérieure de la pièce W soit meulée uniformément. Avec le traitement décrit ci-dessus, une couche d'électrodes 2 est formée à l'épaisseur voulue t2, entre 52 et 62 microns comme le montrent les figures 39a et 39b indépendamment de l'axe de rotation de la pièce W, déterminée par les conditions de support par les broches A. Cet aspect sera décrit plus en détail en regard des figures 44a et 44b dans le cas où l'axe support CA défini par les broches A supportant la pièce W est excentré par rapport à l'axe CW de la pièce W (plus exactement, l'axe Cw correspond à l'axe support de la pièce W quand la surface extérieure de la couche diélectrique 4est traitée) d'une valeur delta d et la ligne de contact H entre la meule 40d et la pièce W monte et descend d'une distance de delta d.Mais étant donné que la barre support 40c peut pivoter sur le pivot 40b et qu'elle est équilibrée par les poids 40g et 40h, cette barre support 40c pivote en suivant les fluctuations- de sorte que la pression de contact entre la meule 40d et la pièce W peut être maintenue pratiquement constante même si la ligne de contact H se déplace entre le niveau le plus bas représenté sur la figure 44a et le niveau le plus haut représenté sur la figure 44b. il en résulte comme le montre la figure 37, que la partie superficielle de la couche d'électrodes 2' à former est éliminée sur une épaisseur t 2R mesurée à partir de la surface latérale extérieure initiale S et uniformément sur toute la surface. Dans le mode de réalisation illustré, étant donné que la couche d'électrode 2' à former a une épaisseur uniforme t'2 d'environ 150 microns, il suffit d'effectuer une opération d'élimination de surface telle que l'épaisseur enlevée t2R se situe entre 88 et 98 microns. Il faut noter que cette technique de traitement de surface permet d'obtenir tous les avantages qui ont été décrits en regard de la figure 41 dans le cas de la technique précédente du traitement de surface. La figure 45 représente un support de révélateur comprenant des électrodes flottantes réalisées selon un autre mode de réalisation de l'invention. Comme cela est représenté, le support de révélateur de ce mode de réalisation comporte un support 44 en forme de colonne, d'une matière conductrice de l'électricité, comme en aluminium ou en acier inoxydable et un arbre tournant d'extrémité 44a est fixé à chaque extrémité du support 44. Autour de la surface latérale extérieure du support 44 est prévue une couche magnétique élastique 45 qui est formée en déposant d'abord une matière composite contenant un élastomère, comme du polyéthylène chloré et une matière magnétique, comme une ferrite, et en aimantant ensuite la matière composite déposée. Dans cette aimantation, des pôles N et S sont formées alternativement suivant la direction circonférentielle avec un pas prédéterminé. Grâce à cette couche magnétique élastique 45 faite d'un élastomère, une élasticité excellente est obtenue et les qualités de fabrication sont améliorées avec une réduction possible du nombre des opérations dans le processus de fabrication. En particulier, en utilisant du polyéthylène chloré comme dans le présent mode de réalisation, étant donné qu'il s'agit d'un polymère de la famille des halogènes ne comprenant pas de double liaison dans la chaîne principale; des avantages tels que la résistance aux intempéries, la résistance à l'ozone, la résistance chimique, la résistance à l'huile, la résistance à la chaleur et les caractéristiques anti-déflagrants ne peuvent être obtenus de sorte que cette matière convient particulièrement pour former différents éléments d'une machine de reprographie électrophotographique. Sur la couche magnétique élastique 5 est formée une couche d'électrodes 4 constituée par des particules d'électrodes hémisphériaues 2a partiellement encastrées et isolées électriquement les unes des autres dans un agent adhésif diélectrique 2b. Comme cela est représenté, les particules d'électrodes 2a sont exposées à la surface latérale extérieure de la couche d'électrodes 2 à l'état électrique flottant. Dans le présent mode de réalisation, de même que dans les cas précédents, les particules d'électrodes 2a sont en cuivre et l'agent adhésif 2b est de l'acrylicuréthanne. Il faut noter que toutes les particules d'électrodes 2a sont en contact avec la surface latérale extérieure de la couche magnétique élastique sous-jacente 45 de sorte que l'épaisseur t2 de la couche d'électrodes 2 est égale à la profondeur d'encastrement t 2a de chacune des particules 2a.Comme cela a été décrit en détail ci-dessus, si les particules 2a ont un diamètre entre 74 et 104 microns, l'épaisseur t2 doit être contrôlée entre 52 et 62 microns. Pour le support de révélateur ainsi fabriqué, il faut noter qu'un dispositif de production d'un champ magnétique, ou de pôles magnétiques dans le cas présent, est formé solidairement dans la couche sous-jacente 45, de sorte que l'incorporation de ce support de révélateur dans un dispositif de développement peut se faire facilement et régulièrement car il n'est pas besoin de prévoir un rouleau magnétique séparé. En outre, l'utilisation d'une matière composte contenant un élastomère et de la poudre magnétique pour former la couche sous-jacente 45 permet d'obtenir une élasticité suffisante, ce qui est avantageux lorsque plusieurs éléments sont amenés en contact sous pression avec le présent support de révélateur en utilisation et pour que la structure d'ensemble soit légère. La figure 46 montre une structure modifiée qui comporte une couche intermédiaire 47 de matière diélectrique intercalée entre la couche magnétique élastique 45 et la couche d'électrodes 2. Comme autre variante, la couche 47 peut être formée sur le support en colonne 44, la couche magnétique élastique 45 étant intercalée entre la couche 47 sur le support 44 et la couche d'électrodes 2. Un procédé de fabrication du support de révélateur représenté sur la figure 46, selon un autre mode de réalisation de l'invention, sera maintenant décrit. Tout d'abord, et comme le montre la figure 47, un support 44 en forme de colonne est préparé, en une matière conductrice de l'électricité, sous la forme d'un rouleau et comprenant deux arbres d'extrémité tournant 44a aux extrémités. Ensuite, après le nettoyage de la surface latérale extérieure du support 44, la couche magnétique élastique 45 est formée. Les figures 48a oo 48C illustrent une opération de formation de la couche magnétique élastique 45 sur le support 44. Comme le montrent ces figures, une matière composite 45' est préparée, consistant en un mélange d'un élastomère, comme du polyéthylène chloré, avec une matière magnétique, comme de ferrite, avec un additif, comme un agent de vulcanisation si cela est souhaité. Après le mélange, la matière composite 45' passe entre deux rouleaux de mélange 48, 48, disposés côte à côte comme le montre la figure 48a. Après le passage entre les deux rouleaux mélangeurs 48, 48, une feuille de matière composite 45' est obtenue, bien mélangée et de composition uniforme.Cette feuille de matière composite 45' est ensuite placée autour du support 44 comme le montre la figure 48b et ensuite, le support 44 enveloppé par la feuille de matière composite 45' est placé dans une empreinte de moule 49a formée entre une moitié de moule supérieure et inférieure 49 d'une presse. Dans ces conditions, pendant le serrage des moitiés de moule 49 pour appliquer une force de pression sur la feuille de matière composite 45', de la chaleur est également fournie pour recuire la matière composite 45'. il en résulte une couche magnétique élastique 45' d'uné épaisseur t'5 pratiquement uniforme sur toute la surface latérale du support 44, comme le montre la figure 49b. Ensuite, tout procédé connu peut être utilisé pour magnétiser la couche magnétique élastique 45' dans la configuration voulue.Dans le mode préféré de réalisation, la couche 45' est aimantée alternativement avec des polarités opposées, sous un pas prédéterminé dans la direction circonférentielle comme le montre la figure 49a. Ensuite, la couche 45' est soumise à un traitement de surface, par exemple en utilisant une rectifieuse cylindrique comme le montre la figure 50, en éliminant ainsi la partie de surface pour définir la couche magnétique élastique 45 d'épaisseur t5 par exemple entre 3 et 5 mm. Dans l'exemple présent, les arbres d'extrémité tournants 44b, 44a sont supportés par deux supports 50,50 d'une rectifieuse cylindrique pour définir la couche magnétique élastique voulue 45. Après la formation de la couche magnétique élastique 45, sa surface latérale extérieure est nettoyée et ensuite, un premier agent adhésif 46b d'une matière diélectrique, comme de l'acrylicuréthanne, est projeté uniformément sur la surface latérale extérieure de la couche magnétique élastique 45 au moyen d'un dispositif d'application 17 du type à projection par air comprimé comme le montre la figure 51. Une pellicule d'un premier agent adhésif 46b est ainsi formée, couvrant la couche magnétique élastique 45 comme le montre la figure 52 jusqu a une épaisseur prédéterminée t6b qui, de préférence, se situe dans une plage entre 3 et 15 microns dans le cas où les particules d'électrodes 2a qui sont appliquées pendant la phase suivante d'un diamètre entre 74 et 104 microns. Dans l'exécution de cette opération, la pièce à usiner W est supportée horizontalement et pour pouvoir tourner et elle est mise en rotation à une vitesse prédéterminée tout en déplaçant le dispositif d'application 17 dans la direction longitudinale de cette pièce W, d'un mouvement alternatif, pour appliquer le premier agent adhésif 46b, ce qui permet de former une pellicule du premier agent adhésif 46b sur la surface latérale extérieure de la couche magnétique élastique 45, de façon uniforme sur toute la-surface. Dès que la pellicule du premier agent adhésif 46b a été formée, des particules d'électrodes 2a, qui consistent chacune de préférence en une particule sphérique de matière conductrice de l'électricité comme du cuivre, revêtue d'une matière isolante de l'électricité comme du styrène butylacrylate ou du méthylmétaacrylate, comme cela a déjà été expliqué, sont appliquées sur la pellicule du premier agent adhésif 46b avant qu'il ne durcisse, comme le montre la figure 53.D'une manière similaire à celle décrite en regard des précédents modes de réalisation, des particules d'électrodes 2a ayant un diamètre compris entre 74 et 104 microns sont emmagasinés dans un conteneur 18, comprenant une. entrée 18a, et ce conteneur 18 est déplacé en étant incliné le long de la pièce à usiner W, d'un mouvement alternatif, tout en maintenant la pièce W en rotation de sorte que les particules de l'électrode 2a peuvent tomber par leur propre poids pour se déposer uniformément sur la pellicule du premier agent adhésif 46b. Etant donné que la pellicule du premier agent adhésif 46b est relativement mince, c'est-à-dire de 3 à 15 microns dans l'exemple présent, toutes les particules d'électrodes 2a déposées viennent en contact avec la surface latérale extérieure de la couche magnétique élastique 47 comme le montre la figure 54.Bien que du cuivre soit utilisé pour former les particules d'électrodes 2a dans le présent mode de réalisation, il est possible aussi d'utiliser d'autres matières appropriées comme le bronze, le bronze phosphoreux et l'acier inoxydable. Il faut cependant noter que l'épaisseur de la pellicule du premier agent adhésif 46b doit être déter mine de façon appropriée en fonction de la grosseur et du poids spécifique de la matière utilisée pour former les particules d'électrodes 2a afin qu'elles viennent correctement en contact avec la surface latérale extérieure de la couche magnétique élastique 45 lorsqu'elles sont déposées sur la pellicule du premier agent adhésif 46b. La figure 55 illustre un autre procédé pour appliquer les particules d'électrodes 2a sur la pièce à usiner W après la formation de la pellicule du premier agent adhésif 46b. Dans ce cas, la pièce W est maintenue inclinée sous un angle prédéterminé par rapport à l'horizontale, plutôt que son orientation horizontale représentée sur la figure 53. Si les particules d'électrodes 2a sont appliquées en tombant du conteneur sous l'influence de leur propre poids, avec la pièce à usiner W maintenue en rotation et sous un certain angle par rapport à l'horizontale, les particules d'électrodes 2a peuvent être déposées sur la pièce W avec une plus grande densité.Comme cela a été indiqué précédemment, même si des particules d'électrodes 2a voisines ainsi déposées sont en contact entre elles, cela ne pose aucun problème particulier car elles sont revêtues d'une matière isolante de l'électricité, leur permettant ainsi de rester isolées électriquement les unes des autres. Après le dépôt de particules d'électrodes 2a, la pellicule du premier agent adhésif 46b est durcie complètement. Dans le but d'accélérer cette opération de séchage ou de durcissage, il est préférable d'appliquer de la chaleur à la pièce W, par exemple en utilisant un élément chauffant aux infra-rouges, en dirigeant un courant d'air chaud ou en la plaçant dans un four électrique. il faut noter qu'un durcissement n'est pas toujours nécessaire dans le présent procédé. Par exemple, dans le cas d'utilisation d'un agent adhésif du type à séchage rapide, ce dernier peut être durci suffisamment vite en le laissant seul ou en le soumettant à un courant d'air. Après le durcissement pratiquement complet de la pellicule du premier agent adhésif 46b, un second agent adhésif 46b' d'une matière diélectrique est appliqué sur la pièce W d'une manière similaire à l'opération précédente d'application du premier agent adhésif 46b, en formant ainsi une pellicule supérieure du second agent adhésif 46b' couvrant la pellicule du premier agent adhésif 46b et les particules d'électrodes 2a partiellement encastrées dans la pellicule du premier agent adhésif 46b. De préférence, le premier et le second agents adhésifs sont identiques, mais ils peuvent être différents dans la mesure où ils adhèrent fermement entre eux.Comme cela a déjà été indiqué, cette structure d'application en deux phases d'un agent adhésif peut assurer que toutes les particules d'électrodes 2a sont correctement positionnées en contact avec la surface latérale extérieure de la couche magnétique élastique 45. Quand la pellicule du second agent adhésif 46b' est formée, elle est séchée et durcie complètement. Egalement, dans cette phase, la pièce W est maintenue de préférence en rotation au moins jusqu a ce que le second agent adhésif 46b' soit pratiquement durci. Eventuellement tout procédé d'accélération de durcissement, comme un chauffage et un soufflage peut aussi convenir. il en résulte que sur la couche magnétique élastique 45, est formée une couche d'électrodes 2' comprenant la pellicule du premier agent adhésif 46b, les particules d'électrodes 2a et la pellicule du second agent adhésif.46b', jusqu'à une épaisseur t'2, de préférence de l'ordre de 150 microns dans le présent mode de réalisation. Ensuite, et comme le montre la figure 58, la partie superficielle de la couche d'électrodes 2' à former est éliminée en soumettant la pièce W à une opération de traitement de surface, en formant ainsi une couche d'électrodes 2 qui définit une surface latérale extérieure finale dans laquelle des particules d'électrodes 2a sont encastrées dans la couche d'électrodes 2' et sont exposées partiellement pour former des points isolés. Comme cela a déjà été expliqué, l'épaisseur t2 de la couche d'électrodes 2 doit se situer dans une plage prédéterminée de 52 à 62 microns et cette condition peut être facilement respectée dans ce mode de réalisation car la pièce W comporte deux arbres d'extrémité tournants 44a, 44a qui en sont solidaires et qui peuvent être maintenus par des supports 50', 50', comme des mandrins d'un tour, comme le montre la figure 58.Mais il faut également noter que tout autre procédé de traitement de surface, comme un procédé de super-finition et un procédé de rectification sans axe peuvent aussi convenir pour éliminer la partie de surface de la couche d'électrodes.2', afin de former la couche d'électrodes 2. Après la fin du traitement de surface illustré par la figure 58, un produit final de support de révélateur est obtenu après nettoyage, pour éliminer les copeaux et l'huile de coupe. Dans le mode de réalisation décrit ci-dessus, l'opération d'aimantation de la couche composite 45' est effectuée immédiatement après la formation de cette couche. Mais il faut noter que cette opération d'aimantation peut aussi être effectuée après le traitement de surface de la couche composite 45', ou après le durcissement du second agent adhésif 46b' ou après le traitement de surface de la couche d'électrodes 2' à former. Mais, en considérant le fait que des poussières et des débris peuvent facilement s'accrocher après l'aimantation, pouvant provoquer des rayures sur la surface latérale extérieure, il est préférable d'effectuer cette opération d'aimantation après le durcissement du second agent adhésif 46b'. Un procédé de fabrication d'un support de révélateur comprenant une couche diélectrique intermédiaire représenté sur la figure 6, selon un mode de réalisation de L'invention, sera maintenant décrit. Ce procédé est très similaire au procédé décrit ci-dessus de fabrication d'un support de révélateur représenté sur la figure 45 sous de nombreux aspects, à l'exception près que ce procédé comporte en outre une opération de formation de couche diélectrique 47, après la formation de la couche composite 45, aimantée ou non, en fonction du mode de réalisation choisi. A la formation de la couche diélectrique 47, la pièce W comportant la couche composite 45 est mise en rotation en étant maintenue horizontalement et elle est chauffée, par exemple par un radiateur à infra-rouges 53 comme le montre la figure 59. Dans ces conditions, de la poudre diélectrique 47', par exemple une résine d'epoxyde est appliquée par un pistolet de projection 54 sur la pièce W pour se déposer sur la couche composite 45, par exemple en utilisant un procédé de projection électrostatique ou de peinture. Dans ce cas, la pièce W doit être maintenue à une température qui est le point de fusion de la poudre diélectrique 47', ou au-dessus et cette température peut être réglée de préférence à 800C dans le présent mode de réalisation car la poudre utilisée est une poudre de résine d'époxyde.Comme le montre la figure 59, il est préférable que le pistolet de projection 54 se déplace dans la direction longitudinale de la pièce W, d'un mouvement alternatif, auquel cas, la poudre diélectrique 47' peut être appliquée sur la pièce répétitivement, permettant de former une couche de poudre diélectrique déposée d'épaisseur et de composition uniformes. Quand la poudre diélectrique 47' a été déposée en quantité suffisante, son dépôt est interrompu mais la pièce est maintenue continuellement en rotation ainsi qu'en chauffage pendant une période prédéterminée, au moins jusqu'à ce que la matière diélectrique déposée soit suffisamment durcie. De cette manière, une couche diélectrique 47' est formée avec une épaisseur uniforme, non seulement dans la direction longitudinale mais également dans la direction circonférentielle. Ensuite, d'une façon similaire au traitement de surface de la couche composite 45, la partie de surface de la couche diélectrique 47' est éliminée par un procédé connu de traitement de surface, comme en utilisant un tour ou une rectifieuse cylindrique, en formant ainsi la couche diélectrique voulue 47 à une épaisseur prédéterminée t7 uniforme sur toute la région. Ensuite, de même que dans le précédent mode de réalisation, la couche d'électrodes 2 est formée sur la couche diélectrique 47 pour obtenir la structure représentée sur la figure 46. Il faut noter que le traitement de surface de la couche composite 45 peut être supprimé dans le présent mode de réalisation si sa surface latérale extérieure est suffisamment lisse quand cette couche 45 a été formée par moulage sous presse. Bien entendu, diverses modifications peuvent être apportées par l'homme de l'art aux modes de réalisation décrits et illustrés à titre d'exemples nullement limitatifs sans sortir du cadre de l'invention. REVENDICATIONS 1. Procédé de fabrication d'un support de révélateur destiné à un dispositif de développement, procédé caractérisé en ce qu'il consiste essentiellement à préparer un support cylindrique (1) d'une matière conductrice de l'électricité pour qu'il tourne autour de son axe longitudinal en étant connecté électriquement à un premier potentiel de référence, à appliquer une poudre (4') d'une première matière diélectrique chargée à une polarité prédéterminée sur une surface latérale extérieure dudit support cylindrique tout en maintenant ledit support cylindrique en rotation et en chauffant (6) ledit support cylindrique au moins à une température prédéterminée, au moyen d'un dispositif d'application (10) qui applique ladite poudre en formant une couche sousjacente (4) de ladite première matière diélectrique, jusqu'à une épaisseur--prédéterminée sur ladite surface latérale extérieure dudit support cylindrique, ledit dispositif d'application de poudre étant connecté électriquement à un second potentiel de référence (15) de manière à former un champ électrostatique entre ledit support cylindrique et ledit dispositif d'application de poudre, à durcir ladite couche sous jacente (4) de matière diélectrique en maintenant ledit chauffage au moins jusqu a ce que ladite couche sous-jacente soit pratiquement durcie et à former une couche d'électrodes (2) sur ladite couche sous-jacente, ladite couche d'électrodes comprenant une couche diélectrique supérieure formée sous ladite couche sous-jacente et des particules d'électrodes (2a) encastrées dans ladite couche supérieure, isolées électriquement les unes des autres et partiellement exposées à la surface latérale extérieure de ladite couche supérieure. 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que ladite première matière diélectrique est une matière thermodurcissable. 3. Procédé selon la revendication 2, carac térise en ce que ladite matière thermodurcissable est une résine d'époxyde. 4. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit chauffage est effectué par le fait que ledit support cylindrique (1) est emfilé sur un élement chauffant sous gaine (6) qui est disposé horizontalement et entrainé pour tourner, ledit élément chauffant sous gaine comprenant une gaine de forme générale cylindrique et un élément chauffant logé dans ladite gaine produisant de la chaleur quand un courant électrique y circule. 5. Procédé selon la revendication 4, caractérisé en ce que le diamètre extérieur de ladite gaine est inférieur au diamètre intérieur dudit support cylindrique de manière que ledit élément chauffant sous gaine et ledit support cylindrique soient empilés avec jeu sur ledit élément chauffant sous gaine, et tourne avec des vitesses angulaires différentes. 6. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit dispositif d'application de poudre comporte un pistolet de projection (10), un dispositif d'entrainement (11) qui déplace ledit pistolet de projection parallèlement et dans la direction longitudinale dudit support cylindrique dans un mouvement alternatif, un dispositif d'alimentation (16) qui fournit de l'air comprimé avec une suspension de ladite poudre audit pistolet de projection et une source de tension (15) qui fournit ledit second potentiel audit pistolet de projection, de manière que ledit pistolet de projection applique ladite poudre suspendue en l'air et chargée à une polarité prédéterminée audit support cylindrique, tout en se déplaçant parallèlement audit support cylindrique dans un mouvement alternatif. 7. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la formation de ladite couche d'électrodes consiste à appliquer (17) un premier agent adhésif (2b) d'une seconde matière diélectrique sur ladite couche sous-jacente pour former une première couche d'agent adhésif sur ladite couche sous-jacente, à appliquer (18) des particules d'électrodes (2a) sur ladite première couche d'agent adhésif avant qu'elle ne durcisse, permettant ainsi auxdites particules d'électrodes de venir en contact avec la surface latérale extérieure de ladite couche sous-jacente, en étant partiellement encastrées dans ladite première couche, et à appliquer (17) un second agent adhésif d'une troisième matière diélectrique, déposée sur ladite prelière couche et sur lesdites particules d'électrodes. 8. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que ledit support cylindrique (1) est maintenu horizontal et en rotation pendant que lesdites particules (2a) sont appliquées sur ladite première couche (4), un dispositif (18) appliquant lesdites particules d'électrodes se déplaçant parallèlement audit support cylindrique dans un mouvement aloternatif de manière que lesdites particules d'électrodes tombent sur ladite première couche par leur propre poids, sous l'influence de la pensateur, progressivement, suivant la longueur. 9. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que ledit support cylindrique est maintenu incliné dans un certain angle par rapport à l'horizontale et en rotation pendant que lesdites particules sont appliquées sur ladite première couche. 10. Procédé de fabrication d'un support de révélateur destiné à un dispositif de développement, ledit support de révélateur comprenantun support (1) conducteur de l'électricité, une couche diélectrique sous-jacente (4) formée sur ledit support, une couche diélectrique supérieure (2b) formée sur ladite couche sous-jacente et des particules d'électrodes (2a) encastrées dans ladite couche supérieure, isolées électriquement les unes des autres et partiellement exposées à la surface extérieure de ladite couche supérieure, procédé caractérisé en ce qu'il consiste essentiellement à former (10) ladite couche sous-jacente (4) sur ledit support (1) en une première matière diélectrique jusqu'à une première épaisseur prédéterminée, à former (17) une première couche (2b) d'un premier agent adhésif diélectrique sur ladite couche sous-jacente jusqu'd une seconde épaisseur prédéterminée, à appliquer (18) lesdites particules d'électrodes (2a) sur ladite première couche avant que ladite première couche soit durcie, de manière que lesdites particules d'électrodes viennent en contact avec ladite couche sous-jacente, à durcir ladite première couche et à former (17) une seconde couche d'un second agent adhésif diélectrique sur ladite première couche et lesdites particules d'électrodes partiellement encastrées dans ladite première couche, jusqu'à une troisième épaisseur prédéterminée. 11. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que ledites particules d'électrodes (2a) ont une forme pratiquement sphérique, avec un diamètre situé entre 74 et 104 microns, ladite seconde épaisseur prédéterminée de ladite première couche adhésive diélectrique se situant entre 4 et 5 microns. 12. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce que ledit premier et ledit second agents adhésifs électriques consistent en la même matière. 13. Procédé selon la revendication 52 caractérisé en ce que ladite matière formant ledit premier et ledit second agents adhésifs diélectriques contient de l'acrylicuréthanne. 14. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que ledit support (1) est chauffé à une température prédéterminée qui est au moins le point de fusion de ladite première matière diélectrique, en formant sur elle ladite couche sous-jacente. 15. Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce que ladite première matière électrique est une résine d'epoxyde sous forme d'une poudre et ladite température prédéterminée est environ 1800C. 16. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que ledit support est maintenu incliné d'un angle prédéterminé pendant l'application desdites partidules d'électrodes. 17. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que ledit support a une forme cylindrique et ledit support cylindrique est mis en rotation au moins pendant l'application desdites particules d'électrodes. 18. Procédé de fabrication d'un support de révélateur destiné à un dispositif de développement, ledit support de révélateur comportant un support cylindrique (1) de matière conductrice de l'électricité, une couche diélectrique sous-jacente (4) formée sur ledit support, une couche diélectrique supérieure (2) formée sur ladite couche sous-jacente et des particules d'électrodes (2a) encastrées dans ladite couche supérieure, isolées électriquement les unes des autres et partiellement exposées à une surface latérale extérieure de ladite couche supérieure, procédé caractérisé en ce qu'il consiste essentiellement à appliquer (10) une première matière diélectrique sur ledit support cylindrique pour l'y déposer sous une première épaisseur prédéterminée, à éliminer une partie de surface de ladite première matière diélectrique déposée sur ledit support cylindrique après qu'elle a été durcie, en utilisant un premier outil de coupe (B) tout en maintenant ledit support cylindrique en rotation, avec deux pièces de centrage.(5,7) fixées aux deux extrémités du support cylindrique en formant ainsi ladite couche diélectrique sous-jacente de ladite première épaisseur voulue, à former (17) une première pellicule (2b) d'un premier agent adhésif diélectrique sur ladite couche diélectrique sous-jacente, sous une seconde épaisseur prédéterminée, à appliquer (18) lesdites particules d'électrodes (2a) sur ladite première pellicule de manière que lesdites particules d'électrodes viennent en contact avec ladite couche sous-jacente en étant partiellement encastrées dans ladite première pellicule avant le durcissement dudit premier agent adhésif diélectrique, à former (17) une seconde pellicule d'un second agent adhésif diélectrique sur ladite première pellicule et lesdites particules d'électrodes, et à éliminer une partie de surface de ladite seconde pellicule et une partie de chacune desdites particules d'électrodes après que ladite seconde pellicule a été suffisamment durcie, en utilisant un second outil de coupe (B) tout en maintenant ledit support cylindrique en rotation avec lesdites deux pièces de centrage (5,5) fixées aux deux extrémités dudit support sylindrique, en formant ainsi ladite couche diélectrique supérieure de ladite seconde épaisseur voulue. 19. Procédé selon la revendication 18, caractérisé en ce que chacune desdites pièces de centrage comporte une partie conique convergent vers l'intérieur en son centre, ladite partie conique devant être engagée par une broche (M) d'une machine de traitement telle qu'un tour. 20. Procédé selon la reveridication 19, caractérisé en ce que chacune desdites pièces de centrage comporte un bossage cylindrique qui peut être emmanché à force dans l'extrémité correspondante dudit support cylindrique. 21. Procédé selon la revendication 18, caractérisé en ce que ledit support cylindrique comporte une section conique s'élargissant vers l'intérieur à chacune de ses extrémités pour faciliter ainsi le montage et le démontage de chacune desdites pièces de centrage sur ledit support cylindrique. 22. Procédé de fabrication d'un supporte révélateur destiné à un dispositif de développement, procédé caractérisé en ce qu'il consiste essentiellement à former (10) une couche sous jacente (4) d'une première matière diélectrique sur un support conducteur de l'élec- tricité (1), à durcir ladite couche sous-jacente, à traiter (B) la surface extérieure de ladite couche sous-jacente durcie, en lui donnant ainsi une première épaisseur prédéterminée, à former (17) une première couche d'un premier agent adhésif diélectrique (2b) sur ladite couche sousjacente de ladite première épaisseur prédéterminée, à appliquer (18) des particules d'électrodes (2a) sur ladite première couche, par leur propre poids sur l'influence de la pesanteur, à durcir ladite première couche, à former (17) une seconde couche d'un second agent adhésif diélectrique de ladite première couche et lesdites particules d'électrodes, à durcir ladite seconde couche en formant ainsi une couche d'électrodes à former constituée par ladite première et ladite seconde couches et lesdites particules d'électrodes et à traiter la surface extérieure de ladite couche d'électrodes à former, en définissant ainsi une couche d'électrodes ayant une seconde épaisseur prédéterminée avec les particules d'électrodes partiellement exposées à ladite surface extérieure traitée. 23. Procédé selon la revendication 22, caractérisé en ce que la formation de ladite couche sousjacente est exécutée en utilisant un dispositif de projection (10) qui projette ladite première matière diélectrique sous la forme d'une poudre sur ledit support. 24. Procédé selon la revendication 23, caractérisé en ce que ledit support est connecté à la masse et ledit dispositif de projection est connecté à une source de haute tension (15) de manière que ladite poudre soit chargée à une polarité prédéterminée et que cette poudre chargée soit attirée électrostatiquement par ledit support. 25. Procédé selon la revendication 24, caractérisé en ce que ledit dispositif de projection est en outre relié à une source d'air (16) qui fournit un courant d'air avec en suspension ladite poudre sous pression, au dispositif de projection. 26. Procédé selon la revendication 22, caractérisé en ce que la formation de ladite couche sous-jacente est effectuée avec ledit support chauffé jusqu'au moins une température prédéterminée qui correspond au point de fusion de ladite première matière diélectrique. 27. Procédé selon la revendication 22, caractérisé en ce que ledit support a une forme cylindrique et les opérations de premier et de second traitements sont effectuées en faisant tourner ledit support cylindrique. 28. Procédé selon la revendication 27, caractérisé en ce que deux pièces de centrage (5,5) sont fixées aux deux extrémités dudit support cylindrique au moins pendant lesdites opérations du premier et du second traitements, assurant ainsi que ledit support cylindrique tourne autour d'un axe de rotation prédéterminé. 29. Procédé selon la revendication 22, caractérisé en ce que lesdites particules d'électrodes (2a) ont un diamètre compris entre 74 et 104 microns et ladite première couche est formée uniformément pour avoir une épaisseur comprise entre 3 et 15 microns. 30. Procédé selon la revendication 2-9, caractérisé en ce que chacune desdites particules d'électrodes (2a) est faite de cuivre et ledit premier et ledit second agents adhésifs diélectriques sont de l'acrylicuréthanne. 31. Procédé selon la revendication 30, caractérisé en ce que lesdites particules de cuivre sont revêtues chacune d'une matière isolante de l'électricité. 32. Procédé selon la revendication 31, caractérisé en ce que ladite matière isolante est du styrène butylacrylate. 33. Procédé selon la revendication 31, caractérisé en ce que ladite matière isolante est du méthylmétaacrylate. 34. Procédé de fabrication d'un support de révélateur destiné à un dispositif de développement, procédé caractérisé en ce qu'il consiste essentiellement à préparer un support conducteur de l'électricité (1), à former une couche sous-jacente (4) d'une première matière diélectrique sur ledit support, à former une première couche (2b) d'un premier agent adhésif diélectrique sur ladite couche sous-jacente, à appliquer des particules d'électrodes (2a) sur ladite première couche, de manière que lesdites particules d'électrodes soient en contact avec ladite couche sous-jacente en étant encastrées partiellement au moins dans ladite première couche, à former une seconde couche d'un second agent adhésif diélectrique sur ladite première couche et lesdites particules d'électrodes en définissant ainsi une couche d'électrodes formée constituée par ladite première et ladite seconde couches et lesdites particules d'électrodes intercalées entre elles, et à traiter la surface extérieure de ladite couche d'électrodes à former en utilisant une surface extérieure initiale de cette couche comme une référence, en formant ainsi une couche d'électrodes d'une épaisseur prédéterminée avec lesdites particules d'électrodes exposées au moins partiellement à ladite surface estérieure traitée. 35. Procédé selon la revendication 34, caractérisé en ce que ladite opération de traitement est exécutée selon un procédé de super-finition. 36. Procédé selon la revendication 34, caractérisé en ce que ladite opération de traitement est exécutée selon un procédé de rectification cylindrique sans axe. 37. Procédé selon la revendication 34, caractérisé en ce que ladite opération de traitement est exécutée en utilisant un élément de meulage en forme de coupelle inversée comprenant une surface d'attaque sur une extrémité de bord, ledit élément de meulage étant entrainé pour tourner autour d'un axe central de meulage qui est généralement perpendiculaire à ladite surface extérieure de ladite couche d'électrodes à former et étant mobile le long de ladite surface extérieure. 38. Procédé selon la revendication 37, caractérisé en ce que ledit support (1) a une forme cylindrique et ledit support cylindrique est entrainé pour tourner avec ledit élément de meulage se déplaçant le long de l'axe dudit support cylindrique, d'un mouvement alternatif. 39. Procédé selon la revendication 37, caractérisé en ce que ledit élément de meulage est poussé contre ledit support avec une pression de contact prédéterminée pendant le traitement. 40. Support de révélateur destiné à un dispositif de développement, caractérisé en ce qu'il comporte un support conducteur de l'électricité (44), une première couche (45) de matière composite formée sur ledit support, ladite matière composite contenant au moins une matière élastique et une matière magnétique de manière que ladite première couche soit magnétisée à des polarités alternées, et à un pas prédéterminé et une seconde couche (4Gb) formée sur ladite première couche, ladite seconde couche comprenant une matière diélectrique et des particules d'électrodes (2a) qui sont encastrées dans ladite seconde couche en étant isolées électriquement les unes des autres et partiellement exposées à la surface extérieure de ladite seconde couche. 41. Support de révélateur selon la revendication 40, caractérisé en ce que ledit support (44) a la forme d'une colonne. 42. Support de révélateur selon la revendication 41, caractérisé en ce que ladite matière élastique est un élastomère. 43. Support de révélateur selon la revendication 42, caractérisé en ce que ledit élastomère est un polymère de la famille des halogènes n'ayant aucune double liaison dans sa chaine principale. 44. Support de révélateur selon la revendication 43, caractérisé en ce que ledit polymère de la famille des halogènes est du polyéthylène chloré. 45. Support de révélateur selon la revendication 41, caractérisé en ce que ledit support (44) en forme de colonne est réalisé en une pièce avec un arbre d'extrémité (44a) à chaque bout. 46. Support de révélateur selon la revendication 40, comprenant en outre une couche intermédiaire (47) intercalée entre ladite première et ladite seconde couches. 47. Support de révélateur selon la revendication 46, caractérisé en ce que ladite couche intermédiaire est faite d'une matière élastique et diélectrique. 48. Support de révélateur selon la revendication 47, caractérisé en ce que ladite matière élastique diélectrique est du caoutchouc. 49. Support de révélateur selon la revendication 40, caractérisé en ce que ladite matière magnétique est un ferrite. 50. Procédé de fabrication d'un support de révélateur destiné à un dispositif de développement, procédé caractérisé en ce qu'il consiste essentiellement à préparer un support conducteur de l'électricité (44), à former une couche sous-jacente (45) d'une matière composite contenant un élastomère et une matière magnétique, à magnétiser ladite couche sous-jacente en des polarités alternées avec un pas prédétérminé, à former une première couche (46b) d'un premier agent adhésif diélectrique sur ladite couche sous-jacente, à appliquer des particules d'électrodes (2a) sur ladite première couche, à former une seconde couche d'un second agent adhésif électrique sur ladite première couche et lesdites particules d'électrodes formant ainsi une couche d'électrodes à former par ladite première et ladite seconde couches et lesdites particules d'électrodes et à traiter une surface extérieure de ladite couche d'électrodes formées pour former une couche d'électrodes ayant une épaisseur prédéterminée, avec lesdites particules d'électrodes encastrées dans ladite couche d'électrodes, isolées électriquement les unes des autres et partiellement exposées à ladite surface extérieure traitée. 51. Procédé selon la revendication 50, caractérisé en ce que ledit élastomère est un polymère de la famille des halogènes n'ayant pas de double liaison dans la chaine principale. 52. Procédé selon la revendication 51, caractérisé en ce que ledit polymère est du polyéthylène chloré. 53. Procédé selon la revendication 50, caractérisé en ce que chacune desdites particules d'électrodes est constituée par une particule de matière conductrice de l'électricité revêtue d'une matière isolante de l'élec- tricité. 54. Procédé selon la revendication 50,-caractérisé en ce que ledit support a la forme d'un rouleau formé solidaireùent de deux arbres d'extrémité (44a), un à chaque face d'extrémité. 55. Procédé selon la revendication 50, caractérisé en ce que ladite première couche est formée jusqu'à une épaisseur telle que chacune desdites particules d'électrodes, est en contact avec ladite couche sous-jacente, en étant encastrée dans ladite première couche, au moins partiellement, lorsqu'elles sont déposées sur ladite première couche, pendant l'opération d'application. 56. Procédé de fabrication d'un support de révélateur destiné à un dispositif de développement, procédé caractérisé en ce qu'il consiste essentiellement à préparer un support conducteur de l'électricité (44), à former une couche sous-jacente (45) d'une matière composite contenant un élastomère et une matière magnétique, à magnétiser ladite couche sous-jacente sous des polarités alternées à un pas prédéterminé, à former une couche supérieure (47) d'une matière diélectrique sur ladite couche sous-jacente, à former une première couche (46b) d'un premier agent adhésif diélectrique sur ladite couche supérieure, à appliquer des particules d'électrodes (2a) sur ladite première couche, à former une seconde couche d'une seconde matière adhésive diélectrique sur ladite première couche et lesdites particules d'électrodes de manière à définir une couche d'électrodes à former par ladite première et ladite seconde couches et lesdites particules d'électrodes et à traiter la surface extérieure de ladite couche d'électrodes à former pour former une couche d'électrodes ayant une épaisseur prédéterminée avec lesdites particules d'électrodes encastrées dans ladite couche d'électrodes, isolées électriquement les unes des autres et exposées au moins partiellement à ladite surface extérieure traitée. 57. Procédé selon la revendication 56, caractérisé en ce que ledit élastomère est un polymère de la famille des halogènes n'ayant pas de double liaison dans la chaine principale. 58. Procédé selon la revendication 57, caractérisé en ce que ledit polymère est du polyéthylène chloré. 59. Procédé selon la revendication 56, caractérisé en ce que ladite matière magnétique est une poudre de ferrite mélangée dans ledit élastomère. 60. Procédé selon la revendication 56, caractérisé en ce que ledit support (44) est un rouleau solidaire de deux arbres d'extrémité -(44a), un à chacune des faces d'extrémité. 61. Procédé selon la revendication 56, caractérisé en ce que ladite matière diélectrique est élastique. 62. Procédé selon la revendication 61,lcarac- térisé en ce que ladite matière électrique et élastique est du coautchouc.