FR 2536873 A1 19840601 FR 8318835 A 19831125 L'invention concerne un appareil d'exposition, et plus particulièrement un appareil d'exposition dé par dé ou vuepar vue pour la fabrication de circuits semi- conducteurs, et elle a trait à un appareil permettant de réduire le temps demandé entre l'alignement et l'exposi- tion de chaque vue. On connaît d'une façon générale des dispositifs d'exposition pour la fabrication de semiconducteurs dans lesquels le dessin d'un masque ou réticule (appelé globa- lement ci-après-"masque"), utilisé comme original, est imprimé sur une tranche Récemment, on a porté une plus grande attention à un dispositif d'exposition du type dé par dé (dit échelonneur). Dans un tel échelonneur, le dessin d'un -masque est projeté et imprimé sur une tranche à une échelle réduite à travers un système optique de projection dont l'agrandissement est inférieur à l'unité Pour éviter tout chevauchement des zones exposées à chaque vue, le masque et la tranche sont déplacés l'un par rapport à l'autre de manière que le dessin soit imprimé par plusieurs vues sur toutes les surfaces utiles de la tranche. Dans une exposition dé par dé utilisant la pro- jection ci-dessus à échelle réduite, le dessin du masque peut être réalisé à des dimensions supérieures à celles auxquelles il est imprimé sur la tranche, la différence de dimensions étant d'un facteur égal à l'inverse de l'agran- dissement d'un dispositif de formation d'image Par con- séquent, les difficultés posées par la fabrication des masques peuvent être atténuées, de sorte que des dessins plus fins peuvent être imprimés sur les tranches. L'échelonneur est généralement classé dans l'une ou l'autre de deux catégories, à savoir ( 1)-du type à alignement hors-axe et ( 2) du type à alignement sur-axe (à travers l'objectif). Dans le dispositif à alignement hors-axe, le dessin est aligné sur une tranche à l'aide d'un système optique d'alignement placé à l'extérieur d'un système opti- que de projection, sans traverser ce dernier Ensuite, la tranche est amenée avec précision au-dessous du système optique de projection de façon que le dessin soit aligné sur cette tranche indirectement sur le dessin d'un masque photographique. Dans le dispositif d'alignement sur- axe, à tra- vers l'objectif, les dessins d'un masque photographique et d'une tranche sont observés simultanément afin d'être alignés directement l'un sur l'autre La précision d'ali- gnement de l'échelonneur doit être de l'ordre de 0,1 à 0,2 gm Le dispositif d'alignement hors-axe présente un plus grand nombre de causes d'erreurs en raison du fait que le dessin de la tranche est aligné indirectement -sur le dessin du masque photographique et, dé plus, ne peut être traité avec une distorsion dans le plan de la tranche. Par conséquent, pour améliorer la précision de l'aligne- ment, il est très souhaitable de développer le dispositif d'alignement sur-axe, à travers l'objectif. Les échelonneurs antérieurs du type à alignement sur-axe, à travers l'objectif, utilisent le procédé d'ali- gnement suivant: ( 1)-Décalage, c'est-à-dire que le défaut d'ali- gnement entre le masque et la tranche est mesuré à travers un microscope binoculaire qui est placé sur un trajet opti- que d'éclairage Par exemple, comme décrit dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique No 4 167 677, des repères d'ali- gnement de forme particulière, situés sur le masque et la tranche, sont balayés par un faisceau laser de manière que le degré de défaut d'alignement puisse être mesuré automa- tiquement de façon photo-électrique. ( 2) Le degré de défaut d'alignement mesuré dans l'étape ( 1) ci-dessus est corrigé par déplacement d'une platine sur laquelle le masque ou la tranche est placé. ( 3) L'utilisation du microscope binoculaire, placé sur le trajet optique d'éclairement, permet de véri- fier si la correction est convenablement effectuée ou non. ( 4) Le microscope binoculaire est retiré du trajet optique. 2536873- Cependant, le dispositif d'alic:re,-ent Suez:e, à travers l'objectif, pose un problème en raison du temps supérieur de manipulation demandé entre le cor=rencerment de l'alignement et l'exposition, à chaque vue. En-outre, pour l'ensemble de'l'opération d'expo- sition, les deux repères d'alignement devant être observés à travers le microscope binoculaire à chaque vue doivent être maintenus dans un état tel qu'ils puissent être utilisés De plus, si le repère d'alignement situé sur le bord extérieur de la zone exposée sur la tranche est partiellement détruit, aucune opération d'alignement ne peut être effectuée. L'invention a pour objet principal un appareil d'exposition qui peut être mis en oeuvre à une vitesse plus élevée L'invention a plus particulièrement pour objet un appareil permettant de détecter un défaut d'alignement entre un original et un élément sensible à un rayonnement lorsque cet original et cet élément sont superposés l'un à l'autre, cet appareil demandant un temps réduit entre le commencement de la détection du défaut d'alignement et la fin de l'exposition. L'invention a également pour objet un appareil conçu pour réduire le temps au bout duquel un microscope binoculaire, destiné à détecter l'élément sensible à un rayonnement à travers l'original, est rétracté du trajet optique après qu'il a été vérifié par ce microscope que le défaut d'alignement est corrigé. L'invention a également pour objet un microscope d'alignement qui peut être utilisé pour un alignement en mode binoculaire ou monoculaire. Dans la forme préférée de réalisation de l'in- -vention, conçue pour réaliser les objets indiqués ci-dessus, l'un de deux microscopes binoculaires d'alignement est placé sur un trajet optique d'éclairage et l'autre microscope est- placé hors du trajet optique Le premier microscope est utilisé pour détecter un défaut d'alignement entre le mas- que et la tranche Sur la base du défaut d'alignement détecté, le masque et la tranche sont déplacés l'un par 4 2536873 rapport à l'autre pour corriger le défaut d'alignement en même temps que ce microscope est retiré du trajet opti- que A ce moment, le changement de position absolue du masque est-vérifié par l'autre microscope. L'invention sera décrite plus en détail en regard des dessins annexés à titre d'exemple nullement limitatif et sur lesquels: la figure 1 est une vue en perspective d'une forme de réalisation de l'appareil selon l'invention; la figure 2 est une vue montrant le champ de visée d'un microscope placé sur un trajet optique d'expo- sition; la figure 3 est une vue montrant le champ de visée d'un autre microscope placé hors du trajet optique; et la figure 4 est un schéma montrant une modifica- tion apportée à la forme de réalisation de l'invention représentée sur la figure 1. En référence à la figure 1, l'appareil selon l'invention comprend deux microscopes (microscopes d'ali- gnement) comportant chacun un objectif 1 ou 1 ' et-un miroir ou prisme 2 ou 2 ' de réflexion Chacun des microscopes d'alignement comporte en outre un corps principal-AS ou AS' qui contient une source de lumiè re, un dispositif de balayage optique, un dispositif de réception de lumière, un viseur et autres Les microscopes d'alignement ne-seront pas décrits endétail plus plus de clarté, car ils sont décrits en détail dans le brevet N 4 167 677 précité. L'appareil comprend également un système opti- que 3 de réduction-projection qui sert à positionner une tranche 4, qui présente une surface sensible'à un rayonne- ment (par exemple une surface photosensible), et un masque S en conjugaison optique mutuelle Un dispositif d'éclai- rage IA est placé au-dessus du masque 5 pour éclairer la zone d'un dessin de circuit porté par ce masque Le bâti de l'appareil présente des repères 6 ' et 6 de référence du masque -(le dernier repère-n'étant pas représenté) utilisés pour détecter-la position absolue du masque, et des repères -2536873 d'alignement 7 et 7 ' situés sur le masque et utilisés pour détecter la position de ce dernier par rapport aux repères 6 et 6 ' de référence Les repères 6, 7 et 6 ', 7 r sont mutuellement alignés grossièrement à l'aide des oscilloscopes d'alignement respectifs AS et AS' Cette opération constitue le "préréglage du masque" Le masque présente en outre des repères d Valignement 8 et 8 ' pro- ches de son dessin de circuit, utilisés pour aligner mutuellement le masque et la tranche La tranche 4 pré- sente des repères 9 et 9 ' d'alignement Bien que la figure 1 ne représente qu'une paire de repères 9 et 9 ' d'aligne- ment, le nombre réel de ces repères d'alignement est égal à celui des vues réalisées par l'appareil. L'appareil comporte en outre une platine Y 10 destinée à déplacer la tranche dans la direction Y, une échelle 11 de haute précision portée par la platine Y 10; une platine X 12 destinée à déplacer la tranche dans la direction X, une échelle 13 de haute précision montée sur la platine X, et des lecteurs d'échelle R et R' fixés au bâti de l'appareil (non représenté) Les platines 10 et-12 -sont utilisées pour déplacer par échelons la tranche 4 L'appareil comporte en-outre une ptatine 14 destinée à déplacer le masque 5 par mouvements de faible amplitude dans les directions X et Y La platine 14 du masque présente une ouverture (non représentée) par -laquelle passe -l'image -du masque 5 La platine 14 du masque est entraînée par une commande D dans les directions X et Y jusqu'à ce qu'un défaut d'alignement, détecté par le microscope d'alignement AS, devienne égal à une mesure relevée dans le microscope d'alignement AS' Le repère 8 d'alignement du masque et le repère 9 ' d'alignement de la tranche, qui doivent être observés à travers l'objectif i du microscope d'alignement, sont- placés sur le trajet optique d'éclairage pour l'exposi- tion Par ailleurs, le repère 6 ' de référence du masque et le repère 7 ' d'alignement du masque, qui doivent être observés à travers l'objectif 1 ' du microscope d'aligne- ment, sont placés hors du trajet optique précité Les champs de visée observés à travers les objec- tifs 1 et 1 ' sont montrés sur les figures 2 et 3, respec- tivement. En référence à la figure 2, le repère 8 d'ali- gnement du masque comprend deux jeux de lignes parallèles Sa, 8 b et 8 c, 8 d, ces jeux étant inclinés dans des sens opposés l'un par rapport à l'autre Le repère 91 d'aligne- ment de la tranche comprend deux'lignes 9 a et 9 b qui sont observées comme étant chacune placée entre les lignes parallèles du jeu correspondant du repère 8 d'alignement du masque. En référence à la figure 3, le repère 7 ' d'ali- gnement du masque comprend deux jeux de lignes parallèles N 71 a, 7 'b et 7 'c, 7 'd, tandis que le repère 6 ' de référence -is du masque comprend deux lignes 6 'a et 6 'b Ces lignes sont agencées de la même manière que celles montrées sur la figure 2. Les lignes des repères sont balayées, respecti- vement, par des faisceaux lasers Ll et L 2 de balayage per- 2 U mettant une détection photo-électrique du degré de défaut d'alignement de la manière suivante. S'il existe un défaut d'alignement relatif entre le masque et la tranche, l'écartement des lignes de repère 8 a et 9 a devient inégal à celui des lignes de repère 9 a et 8 b Simultanément, l'écartement des lignes de repère Bc et 9 b devient inégal à celui des lignes de repère 9 b et Bd Ceci est utilisé pour détecter le degré de défaut d'alignement entre le masque et la tranche dans les deux directions X et Y Si le défaut d'alignement relatif A entre le masque 5 et la tranche 4 est détecté à travers l'objectif 1 du microscope d'alignement AS, la platine 14 du masque est déplacée en exécutant des mouvements de faible amplitude dans les directions X et Y pour corriger ce défaut d'alignement A A ce moment, toute variation de la position relative entre le masque 5 et la tranche 4 est vérifiée à travers l'objectif 1 ' du microscope d'ali- gnemnent AS' placé à l'extérieur-du trajet optique d'éclai- rage Si la platine 14 du masque est déplacée sur une distance -A pour corriger le défaut d'alignement A entre le masque 5 et la tranche 4, ceci peut être vérifié sui- vant que les écartements entre-les lignes de repère 7 'a, 6 'a; 6 'a, 7 'b; 7 'c, 6 'b et 6 'b_ 7 'd viennent en coincidence ou non avec la distance -A, comme montré sur la figure 3. En même temps que la platine 14 du masque est déplacée, le prisme 2 de réflexion ou l'objectif l Cet le prisme 2 de réflexion du-microscope d'alignement AS sont retirés du trajet optique d'éclairage Par conséquent, lorsque la correction du défaut d'alignement relatif entre le masque et la tranche est vérifiée à travers l'objectif 1 ' du microscope d'alignement AS', le prisme 2 de réflexion est déjà rétracté du trajet optique d'éclai- rage On peut passer immédiatement à Ilétape d'exposition, sans temps d'attente comme c'est le cas dans l'art anté- rieur Par conséquent, le temps de travail demandé entre l'alignement et l'exposition à chaque vue peut être réduit pour améliorer le rendement. Bien que l'objectif 1 ? du microscope-d'aligne- ment AS' puisse être fixe, il est préférable qu'il soit mobile, car ce microscope d'alignement AS' peut être, utilisé comme microscope placé sur le trajet optique d'éclairage, comme décrit ci-dessous. Autrement dit, bien que la figure 1 représente le microscope gauche placé sur lé trajet optique d'éclai- rage et le microscope droit placé hors du trajet optique, il est souhaitable que le microscope droit AS' puisse être déplacé dans les directions X et Y afin de pouvoir être placé sur le trajet optique d'éclairage Grâce à cette mobilité, il est possible d'effectuer l'alignement pour la première vue en plaçant les deux micros- copes AS et AS' sur le trajet optique-d'éclairage, puis les alignements pour les vues suivantes sont effectués conformément à l'invention et comme décrit ci- dessus, c'est-à-dire avec le microscope AS' dans la position montrée sur la figure 1. 8 2536873 Dans la forme préférée de réalisation de l'inven- tion, les repères de référence 6 et 6 ' du masque sont proches du masque 5 Cependant, les repères 6 et 6 ' de référence du masque peuvent être intégrés-au système opti- que 3 de projection, par exemple sur le corps du miroir du système optique 3 de projection, au sommet de ce der- nier, afin de n'entraîner aucun décalage relatif entre les repères de référence du masque et le système optique 3 de projection. -10 Les positions des repères 6 et 6 ' de référence du masque et les positions des repères 7 et 7 ' d'aligne- ment du masque par rapport aux repères de référence du masque ne sont pas limitées à celles montrées sur la figure 1. La configuration des repères d'alignement n'est pas limitée à celle montrée sur les dessins dans la mesure o ces repères permettent de détecter tout défaut d'ali- gnement dans la direction X ou dans la direction Y. Bien qu'il ait été décrit-que, dans la forme de réalisation représentée, le défaut d'alignement entre le masque et la tranche est mesuré à travers l'un des objec- tifs et la platine du masque est déplacée pour réaliser l'alignement, enmême temps que la relation de position entre le repère d'alignement du masque et le repère de référence du masque est contrôlée au moyen de l'autre objectif, il est possible de déplacer la platine de la tranche plutôt que la platine du masque, par mouvements de faible amplitude. Si les platines de la tranche portent des échelles de haute précision, on peut considérer que, après que le défaut d'alignement relatif entre le masque et la tranche a été mesuré à l'aide du microscope (monoculaire ou binoculaire) placé sur le trajet optique d'éclairage, les platines 10 et 12 de la tranche sont déplacées pour corriger le défaut d'alignement relatif entre-le masque et la tranche, par utilisation des échelles à haute pré- cision, sur les distances lues par les lecteurs R et R', sans aucune vérification du défaut d'alignement, corrigé en position, à travers les microscopes Dans le rê-me temps, le microscope est rétracté du trajet optique d'éclairage pour l'exposition Si le défaut d'alignement relatif est mesuré à l'aide du microscope binoculaire, le défaut d'alignement en rotation entre le masque et la tranche peut être corrigé. Chacune des platines de la tranche peut compor- ter un interféromètre à laser à haute précision à la place de l'échelle à haute précision Si les platines de la tranche comportant des échelles-à haute précision sont incorporées dans l'appareil, la correction d'alignement peut être effectuée sur une ou plusieurs vues, alors que l'alignement est effectué sur la base de la méthode à travers l'objectif à chaque vue et, pour les vues restantes, la platine de la tranche est déplacée par échelons sur une distance prédéterminée, sans opération d'alignement, la précision de l'échelle étant alors utilisée, puis la tranche est exposée. De plus, le microscope binoculaire peut être positionné librement dans l'appareil et, en particulier, il peut être rétracté vers toute position convenable hors du trajet optique d'éclairage Par conséquent, comme- montré sur la figure 4, le défaut d'alignement relatif entre le masque et la tranche, pour une certaine vue, peut être mesuré lors d'une vue immé- diatement précédente Dans ce cas, en même temps que la fin de l'exposition est déterminée, la tranche peut être déplacée par échelon en tenant compte de-l'amplitude de la correction ainsi déterminée au préalable. Il est évident que si deux microscopes sont mobiles, l'alignement peut être effectué sur le trajet - optique d'éclairage de la manière binoculaire de l'art antérieur Par contre, l'alignement peut être effectué sur le trajet optique d'éclairage par voie monoculaire conformément à l'invention. En résumé ( 1) Un décalage entre le masque et la tranche est mesuré à travers le microscope d'alignement monoculaire Z 536873 placé sur le trajet optique d'éclairage; en même temps, la position absolue du masque est détectée à travers l'autre microscope monoculaire placé hors du trajet opti- que d'exposition. ( 2) La platine du masque est déplacée suivant le décalage détecté et, en même temps, la correction de ce décalage est confirmée ou vérifiée à travers le micros- cope monoculaire d'alignement placé hors du trajet optique d'exposition Simultanément, le microscope d'alignement placé sur le trajet optique d'exposition est rétracté de ce trajet Ensuite, l'opération d'exposition est effectuée. Par conséquent, le temps compris entre l'alignement et l'exposition peut être notablement réduit. L'art antérieur utilise deux jeux de repères d'alignement, au minimum, à chaque vue Cepen- dant, si un seul jeu de repères d'alignement est effecti- vement présent sur la tranche pour une raison quelconque, aucun alignement ne peut être réalisé pour cette vue Conformément à l'invention, l'alignement peut être réalisé si un seul jeu de repères d'alignement, au moins, est présent Quand bien même un seul jeu de repères d'alignement sur le masque et sur la tranche s'étend sur le bord extérieur de la tranche, l'alignement peut être réalisé conformément à l'invention Ceci est particulière- ment efficace dans le cas o plusieurs puces sont imprimées en une seule exposition. Ainsi qu'il ressort de la description précédente, l'appareil selon l'invention peut assumer sa fonction propre dans laquelle l'avantage du dispositif d'alignement à tra- vers l'objectif est utilisé pour exécuter l'alignement à chaque exposition, par détection binoculaire de haute précision et, de plus, il permet d'améliorer la productivité tout en maintenant un alignement de haute précision, cet alignement étant effectué à travers l'objectif à chaque exposition, avec détection monoculaire et combinaison des opérations qui suivent. Il va de soi que de nombreuses modifications peuvent être apportées à l'appareil décrit et représenté sans sortir du cadre de l'invention - REVENDICATIONS 1 Appareil d'exposition pouvant être utilisé avec un original ( 5) et un élément ( 4) sernsible à un- rayonnement, destiné à recevoir l'image de l'original, l'appareil étant caractérisé en ce Qu'il' cc mporte des premiers moyens de détection comprenant un capteur (AS) placé de façon rétractable surile trajet optique passant par l'original, le capteur étant conçu pour détecter l'original et l'élément sensible au rayonnement afin de déceler un décalage relatif entre cet original et cet élément lorsque le capteur est placé sur le trajet opti que, des seconds moyens de détection comprenant un capteur (AS') placé hors du trajet optique et destiné à détecter la position de l'original ou de l'élément sensible au rayonnement par rapport à des coordonnées absolues établies dans ledit appareil, et des moyens destinés à produire un mouvement relatif entre l'original et l'élé- ment sensible au rayonnement en réponse au signal de sortie des seconds moyens de détection afin de rattraper le-décalage relatif. 2 Appareil d'exposition selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comporte en outre des moyens destinés à déplacer par échelons l'élément sensible au rayonnement. 3 Appareil d'exposition selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'il comporte en outre des moyens destinés à déplacer par échelons l'élément sensible au rayonnement, et un système optique de projection ( 3) des- tiné à projeter l'image de l'original sur l'élément sen- sible au rayonnement. 4 Appareil d'exposition selon la revendication 3, caractérisé en ce que le système optique de projection est conçu pour projeter l'image de l'original sur l'élé- ment sensible au rayonnement, à échelle réduite. 5 Appareil d'exposition selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'original et l'élément sensible au rayonnement comprennent chacun au moins un repère d'alignement ( 8, 9) destiné à être capté par les p remiers -, 12 2536873 moyens de détection 6 Appareil d'exposition selon la revendication 1, caractérisé en ce que les 'seconds moyens de détection sont conçus pour mesurer le décalage entre un repère ( 7, 7 ') de positionnement de l'original par rapport à un repère de référence ( 6, 6 ') situé sur l'appareil. 7 Appareil d'exposition selon la revendication 1, caractérisé en ce que les moyens de déplacement com- prennent une platine mobile ( 10 ou 12) destinée à main- tenir lélément sensible au rayonnement et en ce que les seconds moyens de détection sont conçus pour mesurer la position de la platine par rapport à l'appareil. 8 Appareil d'exposition selon la revendication 7, caractérisé en ce que les seconds moyens de détection comprennent une échelle ( 11 ou 13). 9 Appareil drexposition selon la revendication 7, caractérisé en ce que les seconds moyens de 'détection comprennent un interféromètre à laser. Procédé, caractérisé en ce qu'il Consiste à détecter, au moins d'un objectif ( 1 ou 1 '), un décalage relatif entre un original ( 5) et un élément ( 4) sensible à un rayonnement traversant l'original, à rétracter l'objec- tif du trajet optique passant à travers l'original après que le décalage relatif a été détecté, à détecter la posi- tion d'au moins l'un de l'original et de l'élément sensible au rayonnement par rapport à des coordonnées absolues, à déplacer l'original et l'élément sensible au rayonnement l'un par rapport à l'autre pour les aligner jusqu'à ce que la valeur détectée rattrape le décalage relatif, et -30 à exposer l'élément sensible au rayonnement à une image de l'original. 11 Procédé selon la revendication 10, carac- térisé en ce qu'il consiste en outre à produire un mouve- ment relatif échelonné entre l'original et l'élément photo- sensible après que ce dernier a été exposé à l'image de - l'original. 12 Procédé selon la revendication 10, carac- térisé en ce que l'image de l'original est projetée à 13 2536873 1 3 échelle réduite. 13 Procédé selon la revendication 10, carac- térisé en ce que l'étape de détection de position consiste à mesurer le décalage d'un repère ( 7, 7 ') de L'original par rapport à la référence absolue ( 6, 6 '). 14 Procédé selon la revendication 10, carac- térisé en ce que la détection de position consiste mesurer le décalage de l'élément sensible à un rayonne- ment par rapport à la référence absolue. 15 Appareil utilisable avec un masque ( 5) pre- sentant un premier repère ( 7) d'alignement et un repère () d'alignement de masque, et une tranche ( 4) présentant. un second repère ( 9) d'alignement correspondant au premier repère d'alignement, caractérisé en ce qu'il comporte une platine ( 14) destinée à supporter et déplacer le masque, une platine ( 10, 12) destinée à supporter et déplacer une tranche, un système optique ( 3) de projection destiné à projeter une image du masque sur la tranche, à échelle réduite, un dispositif (IA) d'éclairage destiné à définir un trajet optique d'éclairage pour le masque, des moyens destinés à établir un repère ( 6) de référence correspon- dant au repère d'alignement du masque et utilisé comme coordonnées absolues, des moyens de détection comprenant un capteur (AS) pouvant être rétracté du trajet optique d'éclairage et destiné à détecter les premier et second repères d'alignement pour déceler un décalage relatif entre le masque et la tranche, dés moyens -de mesure com- prenant un capteur (AS%) placé hors du trajet optique d'éclairage et destinés à détecter le repère d'alignement du masque et le repère de référence pour mesurer la posi- tion du masque par rapport aux coordonnées absolues, et un dispositif (D) d'entraînement destiné déplacer la platine du masque jusqu'à ce que la valeur absolue détec- tée par les moyens de mesure rattrape le décalage relatif. 16 Appareil selon la revendication 15, carac- térisé en ce que le dispositif d'entraînement est conçu pour déplacer la platine du masque suivant des coordonnées rectangulaires. 17 Appareil selon la revendication 15, carac- térisé en ce que le masque comporte un troisième repère d'alignement ( 7 ') coopérant avec le premier repère d'ali- gnement et en ce que la tranche comporte un quatrième repère d'alignement ( 9 ') correspondant au troisième repère d'alignement, le capteur des moyens de mesure étant conçu pour détecter les troisième et quatrième repères d'aligne- nent et coopérer avec les moyens de détection afin de détecter le décalage relatif entre le masque et la tranche. 18 Appareil, caractérisé en ce qu'il comporte une platine ( 14) destinée à supporter un masque ( 5), une platine ( 10, 12) destinée à supporter et déplacer une tranche ( 4 X, un dispositif d'éclairage (IA) destiné à définir un trajet optique pour éclairer le masque, des moyens de détection comprenant un capteur (AS) pouvant. être rétracté du trajet optique, et destinés à détecter la position de la tranche à travers le masque afin de déceler un décalage relatif entre le masque et la tranche, des moyens destinés à mesurer la position de la platine de la tranche par rapport à l'appareil, et un dispositif (D) d'entraînement destiné à déplacer la platine du masque jusqu'à ce que la valeur mesurée par les moyens de mesure rattrape le décalage relatif. 19 Appareil selon la revendication 18, carac- térisé en ce que le dispositif d'entraînement est conçu pour déplacer la platine de la tranche suivant des coor- données rectangulaires. Appareil selon la revendication 18, carac- térisé en ce que le capteur possède un champ de visée. 21 Appareil selon la revendication 18, carac- térisé en ce que le capteur possède deux champs de visée indépendants. 22 Appareil selon la revendication 18, carac- térisé en ce que les moyens de mesure comprennent une échelle ( 11, 13) et un lecteur (R, R') destiné à lire l'échelle.