FR 2545818 A1 19841116 FR 8407183 A 19840507 l 2545818 La présente invention concerne un procédé de forma- tion d'un revêtement de composé métallique sur un substrat chaud en matière vitreuse se déplacant à travers un poste de revêtement dans lequel de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé est pulvérisée en direction du substrat par des moyens qui traversent le parcours du substrat de façon répétée de manière que la matière à par- tir de laquelle le revêtement est formé se décompose par pyrolyse et forme le dit revêtement in situ sur le dit substrat, et un dispositif pour la mise en oeuvre d'un tel procédé. Nombreux sont ces procédés qui sont bien connus et utilisés entre autres pour conférer des propriétés d'absorption et/ou de réflexion à du verre destiné à être utilisé en tant que vitrage On notera qu'il est souhaitable que de tels revêtements adhèrent fortement à la matière vitreuse et qu'ils présentent de bonnes propriétés optiques. De tels procédés sont aussi utilisés pour déposer des revêtements conducteurs de l'électricité destinés à divers usages. Un des objets de la présente invention est de fournir un procédé qui permet la formation d'un tel revêtement dont la structure soit plus uniforr ae qu'il n'a été possible jusqu'à ce jour. La présente invention fournit un procédé de formation d'un revêtement de compos é métallique sur un substrat chaud en matière vitreuse se déplaçant à travers un poste de revêtement dans lequel de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé est pulvérisée en direction du substrat par des moyens qui traversent le parcours du subs- trat de façon répétée de manière que la matière à partir de laquelle le revêtement est formé se décompose par pyrolyse et forme le dit revêtement in situ sur le dit substrat, caractérisé en ce que de l'énergie thermique radiante provenant de dispositifs de chauffage radiant disposés du côté du substrat que l'on revêt 1 est dirigée vers la région transversale balayée par la zone de contact de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé avec le substrat. Un procédé selon l'invention permet la formation d'un revêtement plus uniforme que cela n'a été possible jusqu'à ce jour, et donne un meilleur rendement d'utilisation de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé. En l'absence d'un tel chauffage, il se produirait une 2 25 45818 chute de température du substrat chaud, sur une longueur correspondant à la région transversale balayée par la zone o la matière à partir de laquelle le revêtement est formé atteint le substrat Cette chute de température peut être due à une ou plusieurs causes, par exemple, le chauffage et l'évaporation de solvant utilisé pour pulvériser la matière à partir de laquelle le revêtement est formé, le chauffage de cette matière elle-même, ou l'absorption de chaleur par toute réaction endothermique de formation du revêtement qui se produirait En l'ab- sence d'un tel chauffage, l'énergie thermique nécessaire pour une ou plusieurs de ces raisons provient du substrat Les réactions de formation du revêtement qui se produisent ont une vitesse qui dépend de la tem- pérature Dans un exemple selon une technique antérieure, un revête- ment d'oxyde d'étain de 950 nm d'épaisseur est déposé sur un ruban de verre chaud par pulvérisation d'une solution aqueuse de dichlorure d'étain, la vitesse de balayage du jet pulvérisé, la longueur de la zone atteinte par le jet et la vitesse d'avancement du ruban étant telles que chaque incrément de surface du ruban est traversé sept fois par le jet pour former le revêtement On a remarqué que l'épaisseur du revêtement attribuable au premier passage du jet est 180 nm, tandis que celle due au dernier passage est seulement de 100 nm et ceci malgré un débit de pulvérisation constant Il y a également une chute de température de 30 'C à 40 'C sur la surface à revêtir, qui résulte de l'opération de revêtement On a en outre calculé que moins de 10 % de l'étain pulvérisé est incorporé dans le revêtement. Dès lors, en l'absence de chauffage selon la présente invention, la vitesse des réactions de formation du revêtement décrort lorsque l'épaisseur du revêtement augmente, et une proportion impor- tante de réactif ne sera pas convertie en le rev 8 tementovoulu. Le chauffage du substrat, du dessus, pendant I' opé- ration de revêtement fournit de l'énergie pour évaporer le solvant pulvé- risé et pour réduire la chute de température à la surface du substrat pendant l'opération de revêtement, de sorte que la vitesse des réactions de formation du revêtement n'est pas réduite ou n'est pas aussi réduite et le rendement de formation du revêtement est également favorablement influencé En opérant de cette façon, il est théoriquement possible de réaliser une économie pouvant aller jusqu'à 25 % sur la quantité de 3 2545818 réactif utilisée La structure du revêtement résultant de réactions qui se produisent à une vitesse plus uniforme est bénéfique aux propriétés optiques et autres de celui-ci. Un autre avantage important est également obtenu lorsque le substrat est chauffé du dessus conformément à l'invention. Un tel chauffage implique que la température dans l'atmosphère sur- montant le substrat est plus élevée qu'elle ne le serait en l'absence d'un tel chauffage; il en résulte que le solvant et les réactifs ont moins tendance à condenser à l'intérieur du poste de revêtement, par exemple sur les aspirateurs disposés à l'extrémité aval du poste de revêtement et utilisés pour extraire des produits de réaction Dès lors, le risque que des gouttelettes de condensation tombent sur le revêternent fraf- chement formé et le souillent est également réduit. De préférence, la matière à partir de laquelle le revêtement est formé est pulvérisée obliquement vers le parcours du substrat dans une direction suivant ce parcours Une telle disposition tend à donner une plus grande zone d'impact du jet pulvérisé et à diriger le rayonnement thermique vers cette zone plus facilement que lorsqu'on pulvérise normalement au substrat. Avantageusement, la matière à partir de laquelle le revêtement est formé est pulvérisée obliquement vers le parcours du substrat dans la direction aval de ce parcours. Avantageusement, les dispositifs de chauffage radiant ont une température de corps noir comprise entre 9000 C et l 600 'C Z 5 Le rayonnement de longueurs d'ondes émises par un tel dispositif radiant est fortement absorbé par la matière vitreuse portant le revêtement. De cette manière, l'action du chauffage est confinée entièrement ou substantiellement entièrement à une couche superficielle de la face de la matière vitreuse portant le revêtement On a trouvé que ce chauffage sélectif d'une face du substrat facilite l'opération de recuisson du substrat après son revêtement, lorsqu'on passe d'une production de verre à couche à une production de verre sans couche, et vice-versa, et ceci est spécialement appréciable lorsque le substrat est constitué d'un ruban de verre fraîchement formé. Lorsqu'on recuit un ruban ayant un gradient de température significatif dans son épaisseur lorsqu'il quitte le poste de a 4 2545818 revêtement, le programme de refroidissement suivant l'étape de revê- tement doit être ajusté de manière appropriée pour tenir compte de ce gradient de température, si l'on veut que la recuisson soit effectuée de manière entièrement satisfaisante Si, dans une installation de production dans laquelle le ruban est chauffé de part en part de son épaisseur, avant ou pendant l'opération de revêtement, on désire à un moment donné com- muter la production vers celle de verre sans couche, il n'est pas suffi- sant de désactiver le chauffage et le dispositif de revêtement L'ajustement de l'installation de recuisson est également requise et cet ajustement né- cessite un délai très long De même, un tel ajustement est également requis lorsqu'on retourne à la production de verre à couche et il peut même être requis lorsqu'on passe d'un type ou d'une épaisseur de couche à un autre puisque ceci implique soivent un changement de la quantité de chaleur enlevée de la surface du ruban pendant le revêtement Un procédé adoptant cette caractéristique préférée de la présente inventionpeut être mis enoeuvre de manière que 1 ' ajustementdes conditions de recuissonne soitpas requis ou qu'il ne le soit que très faiblemrnent même lorsqu'onpasse de la pro- duction de verre à couche à laproduction de verre sans couche, et viceversa. De préférence, une pluralité de dispositifs de chauf- fage est disposée le long du parcours du substrat Cela est particulière- rnent avantageux puisqu'on peut ajuster le chauffage suivant la longueur de la zone ou le jet pulvérisé atteint le substrat. Avantageusement, l'intensité du rayonnement dirigé vers la région transversale c la matière atteint le substrat est réglée Z 5 par ajustement de la hauteur des dispositifs de chauffage radiant au-dessus du parcours du substrat Ceci constitue une façon très simple de contrôler le chauffage du substrat En variante ou en complément, un tel contrôle peut être effectué par variation de l'alimentation en combustible ou en courant des dispositifs de chauffage radiant. Dans des formes préférées de réalisation de l'in- vention, le chauffage est règlé de manière que pour tout incrément de la surface du substrat, la température de la surface à revêtir varie, pour autant qu'elle varie, de moins de 15 C entre le moment o cet incrément de surface coihcide pour la première fois avec la zone de contact de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé avec le substrat et le moment o il coïnicide avec cette zone pour la dernière 2545818 fois, et de préférence cette température varie de moins de 10 'C. Ceci favorise l'uniformité des réactions pendant la période o le revêtement est formé. Avantageusement, une pluralité de dispositifs de chauffage est disposée au travers du parcours du substrat, de sorte que des quantités de chaleur dirigées vers différents incréments de largeur du substrat sont ajustables individuellement Il est connu que des portions marginales du substrat chauffé tendent à perdre de la chaleur plus rapidement que ne le fait le centre, de sorte que l'adop- tion de cette caractéristique préférée permet la régularisation de la température du substrat à travers sa largeur et favorise ainsi l'unifor- mité du revêtement à travers le substrat A cette fin, il est particuliè- rement préféré que le chauffage soit règlé de manière que, pour tout incrément de longueur du substrat, la température de la surface à re- vêtir varie, pour autant qu'elle varie, de moins de 15 'C à travers la largeur du substrat pendant l'opération de revêtement. L'invention fournit également un dispositif de for- mation d'un revêtement de composé métallique sur un substrat chaud en matière vitreuse, comprenant un convoyeur pour déplacer le substrat à revêtir le long d'un parcours à travers un poste de revêtement pourvu de moyens de revêtement qui traversent le parcours du substrat de façon répétée pour pulvériser de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé de manière que celle-ci se décompose par pyro- lyse et forme in situ le revêtement sur le dit substrat, caractérisé en ce qu'il comprend des dispositifs de chauffage radiant disposés du même côté du parcours du substrat que les moyens de revêtement, ces dispositifs étant placés de manière à diriger de l'énergie thermique radiante vers la région transversale balayée par la zone o la matière à partir de laquelle le revêtement est formé atteint le parcours du substrat. Un tel dispositif comprend de préférence une ou plusieurs des caractéristiques facultatives suivantes (i) les moyens de revêtement sont disposés de manière à pulvériser obliquement de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé vers le parcours du substrat et dans une di- rection suivant ce parcours 6 25 45818 (ii) les moyens de revêtement sont disposés de manière à pulvériser obliquement de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé vers le parcours du substrat dans la direction aval de ce parcours (iii) les moyens de chauffage comprennent une plu- ralité de dispositifs de chauffage disposée le long du parcours du substrat (iv) les moyens de chauffage sont ajustables en hauteur au-dessus du parcours du substrat (v) les moyens de chauffage comprennent une plu- ralité de dispositifs de chauffage ajustables individuellement disposée au travers du parcours du substrat. L'invention sera maintenant décrite plus en détails à titre d'exemple en se référant aux figures 1 et 2 des dessins annexés *qui sont des sections transversales de deux formes de réalisation de dispositifs pour la mise en oeuvre de la présente invention. Dans la figure 1, un substrat chaud de matière vitreuse est acheminé le long d'un parcours 1 par des rouleaux de convoyeur Z dans une direction aval 3 le long d'un tunnel 4 contenant un ZO poste de revêtement 5. Dans le poste de revêtement, une tête de pulvérisa- tion 6 est montée sur un chariot 7 se déplaçant sur une piste 8 de ma- nière à traverser de façon répétée le parcours 1 du substrat chaud en verre La tete de pulvérisation émet un c 6 ne 9, de matière à partir de laquelle le revêtement est formé, obliquement vers le substrat dans la direction aval 3 le long du parcours du substrat 1 de manière qu'il atteigne le substrat à une zone 10 qui se déplace à travers le parcours du substrat 1 en délimitant une région d'impact transversale En accord avec l'invention, de la chaleur radiante est dirigée vers cette région d'impact, à partir de moyens de chauffage radiant ll disposés du même côté du parcours du substrat 1 que la tête de pulvérisation 6. Dans le dispositif représenté à la figure 1, les moyens de chauffage ll comprennent une pluralité d'éléments chauffants 12 traversant le parcours 1 du substrat et disposés le long de ce par- cours, portés par un support réfractaire 13 qui est monté en pivote- ment (en 14) sur la voûte 15 du tunnel 4 de manière qu'ils puissent être 7 2545818 élevés ou abaissés au moyen de tiges filetées telles que 16, la char- nière 14 servant de pivot, afin de varier l'intensité de la chaleur dirigée vers un substrat se déplacant le long du parcours 1. Un conduit d'évacuation 17 est prévu pour évacuer des produits de réaction et du réactif non utilisé. Les éléments chauffants 12 fournissent de la chaleur à la surface du substrat à revêtir et à l'atmosphère qui le surmonte, fournissant ainsi de la chaleur complémentaire pour l'évaporation du solvant contenu dans la matière pulvérisée à partir de laquelle le re- vêtement est formé et pour que se produise la réaction de revêtement. La chaleur radiante est donc dirigée vers la zone 10 o le cône de pulvérisation atteint le substrat, et elle est également dirigée vers le c 8 ne de pulvérisation 9 avant qu'il n'atteigne le substrat, ainsi que vers le substrat en aval de cette zone 10 o la réaction se produit sur la surface portant le revêtement. L'effet de chauffage des éléments chauffants 12 peut être et, de préférence, est règlé de manière que la température de chaque incrément de surface du substrat portant le revêtement est maintenue de manière aussi constante que possible pendant l'opération de revêtement de sorte que la matière à partir de laquelle le revête- ment est formé, déposée par les passages successifs de la tête de pul- vérisation 6, soit appliquée dans des conditions de température aussi identiques que possible et que les réactions amenant la formation du revêtement se produisent à vitesse uniforme pendant la durée du dépôt. L'emploi de moyens de chauffage 11 élève également la température du poste de revêtement lui-même et ainsi empêche la condensation de réactif ou de solvant par exemple sur la vouite 15 ou sur le conduit d'évacuation 17 Il en résulte un moindre risque que des gouttelettes de condensation tombent sur la surface supérieure du verre et ne détèriorent le revêtement. Dans une disposition facultative préférée, les éléments chauffants 12 ne sont pas continus sur la largeur du parcours du substrat, mais comprennent plutôt une pluralité de sections de façon que différents incréments de largeur du parcours du substrat 1 puissent être chauffés de façon différentielle Avec une telle disposition, 8 2545818 il est possible de compenser les pertes calorifiques vers le tunnel 4 ou ses parois latérales. La forme de réalisation de l'invention illustrée à la figure 1 est spécifiquement destinée à rev 8 tir des feuilles de verre. Exemple 1 Dans un exemple spécifique, des feuilles de verre sont acheminées le long du parcours 1 à une vitesse de 60 cm/min. pour déposer un revêtement de Sn O 2 dopé au fluor de 250 nm d'épais- seur par pulvérisation d'une solution de Sn C 14 5 Hz O et d'acide trifluor- acétique dans de la diméthylformamide La tête de pulvérisation 6 est disposée à 15 cm au-dessus du verre et aménagée de manière a traverser en va-et-vient le verre à raison de 16 cycles/minute pour pulvériser la matière à partir de laquelle le revêtement se forme sous un angle de 30 sur l'horizontale Les éléments chauffants 12 commen- cent à environ 20 cm en aval de la t 8 te de pulvérisation 6 et s'étendent sur une section de la voate du tunnel longue d'environ 60 cm Le support réfractaire 13 formant cette section de la voûte du tunnel est montée à pivotement vers le bas de manière que l'élément chauffant amont soit à 25 cm au-dessus du parcours du substrat et que l'élément chauffant aval soit à 10 cm au-dessus de ce parcours Les éléments chauffants ont une température de corps noir ajustable entre 900 'C et 1 6000 C, et ont une puissance de sortie ajustable jusqu'à un maximum compris entre 60 et 100 k W Les éléments chauffants sont règlés de manière à maintenir à 460 C la température dans l'atmosphère surmontant le Z 5 parcours du substrat, tandis que le verre pénètre dans le poste de rev 8 tement à une température de 580 C. Un tel procédé donne un revêtement ayant une structure très uniforme et qui est substantiellement dépourvu de défauts dus à la chute de gouttelettes de condensation. La figure 2 illustre une variante de forme de réa- lisation de l'invention dans laquelle un ruban de verre chaud frafchement formé est acheminé dans une direction aval 18 le long d'un parcours 19 au moyen de rouleaux de convoyeur 20 à travers un tunnel 21 situé entre une machine de formage de ruban telle qu'une cuve de flottage (non représentée) etunegalerie horizontale de recuisson (non repré- sentée) Le tunnel 21 comprend un poste de rev 8 tement 22 pourvu 9 2545818 d'une tête de pulvérisation 23 aménagée pour traverser de façon répé- tée le parcours 19 du ruban de verre chaud en pulvérisant un c 6 ne 24 de matière à partir de laquelle le revêtement est formé, obliquement vers le parcours du substrat dans la direction aval 18 de manière que la matière atteigne le substrat dans une zone 25 qui balaye une région transversale o la matière atteint le substrat De la chaleur radiante est dirigée vers le bas sur cette région à partir d'un dispositif -de chauffage radiant 26 suspendu à la voûte 27 du tunnel 21 de telle manière que sa hauteur au-dessus du parcours du substrat soit variable. Le dispositif de chauffage est constitué d'une pluralité de sections qui sont réglables, de manière à permettre la variation de la chaleur dissipée le long du tunnel et à travers sa largeur. Un conduit d'évacuation 28 est prévu pour aspirer des produits de réaction et du réactif non utilisé. Le dispositif de chauffage 26 a de préférence une température de corps noir comprise entre 900 'C et 1 6000 C de sorte que le rayonnement émis par lui ne pénétrera pas plus profondément que dans une couche superficielle du substrat à revêtir De cette manière, le chauffage du substrat peut être règlé de manière que le chauffage complémentaire fourni compense la chaleur absorbée du substrat par les réactions de revêtement de façon que le substrat ait substantiellement le même gradient de température dans son épaisseur avant et après le revêtement Ceci est spécialement important lorsque le substrat est un ruban continu de verre fratchement formé sur lequel on dépose un revêtement entre une machine de formage de verre, par exemple une cuve de flottage, et une galerie de recuisson (non repré- sentées). L'adoption de cette caractéristique permet le passage de la production de verre à couche à la production de verre sans couche sans perturber le gradient de température à travers l'épais- seur du ruban de verre Ceci signifie que, l'on peut-obtenir les mêmes conditions de recuisson pour le verre à couche et le verre sans couche, de sorte que les passages d'une production à l'autre peuvent être effec- tuées beaucoup plus rapidement Ici aussi, l'utilisation d'un dispositif de chauffage évite la condensation de réactif ou de solvant, de sorte que le risque que des gouttelettes de ces matières tombent sur le verre 2545818 est réduit. Exemple 2 Dans un exemple spécifique, un ruban de verre plat fraîchement formé pénètre au poste de revêtement à une tempéra- ture de 600 C et à une vitesse de 4,5 m/min Une solution aqueuse de Sn C 1 et NH 4 F HF est pulvérisée selon un cône dont l'axe est à 30 Q sur 2 4 l'horizontale et qui atteint le ruban sur une région transversale de cmdelong Le cône est émis à partir d'une tête de pulvérisation placée à 60 cm au-dessus du ruban et qui traverse le parcours du ruban à raison de 25 cycles/minute afin de former un revêtement de 750 nm d'épaisseur de Sn OZ dopé au fluor Le dispositif de chauffage 26 est placé à 50 cm au- dessus du parcours du ruban et est ajustable en hauteur jusqu'à 20 cm au- dessus de ce parcours Le dispositif de chauffage occupe une longueur de 90 cm du tunnel, son extrémité aval étant située à la verticale de l'extrémité aval de la région transversale atteinte par le cône de pulvérisation Z 4 sur le ruban de verre Le dis- positif de chauffage comprend une pluralité de bruleurs à gaz ajusta- bles indépendamment suivant la longueur et la largeur du tunnel 21. Les brûleurs à gaz ont une température de corps noir ajustable entre 900 C et 1 600 C. L'atmosphère surmontant le ruban à la zone de pulvérisation est maintenue à environ 450 CG de sorte que du chlorure d'étain non utilisé dans la réaction de revêtement a une tension de vapeur élevée et est aspiré Il en résulte que tout risque que du chlorure d'étain se condense dans le tunnel 21, par exemple sur le conduit d'évacuation 28, et tombe sur le ruban pour contaminer le revêtement franchement formé, est substantiellement éliminé. On a trouvé que le revêtement formé à une struc- ture substantiellement uniforme à travers son épaisseur. 11 2545818 REVENDICATIONS 1 Procédé de formation d'un revêtement de composé métallique sur un substrat chaud en matière vitreuse se déplaçant à travers un poste de revêtement dans lequel de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé est pulvérisée en direction du substrat par des moyens qui traversent le parcours du substrat de façon répétée de manière que la matière à partir de laquelle le revê- tement est formé se décompose par pyrolyse et forme le dit revête- ment in situ sur le dit substrat, caractérisé en ce que de l'énergie ther- mique radiante provenant de dispositifs de chauffage radiant disposés du côté du substrat que l'on revêt, est dirigée vers la région transversale balayée par la zone de contact de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé avec le substrat. 2 Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que la matière à partir de laquelle le revêtement est formé est pulvérisée obliquement vers le parcours du substrat dans une direction suivant ce parcours. 3 Procédé selon la revendication 2, caractérisé en ce que la matière à partir de laquelle le revêtement est formé est pulvérisée obliquement vers le parcours du substrat dans la direction aval de ce parcours. 4 Procédé selon l'une des revendications 1 à 32 caractérisé en ce que les dispositifs de chauffage radiant ont une température de corps noir comprise entre 900 'C et 1 6000 C. Procédé selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce qu'une pluralité de dispositifs de chauffage est dis- posée le long du parcours du substrat. 6 Procédé selon l'une des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que l'intensité du rayonnement dirigé vers la région transversale o la matière atteint le substrat est règlée par ajuste- ment de la hauteur des dispositifs de chauffage radiant au-dessus du parcours du substrat. 7 Procédé selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que le chauffage est règle de manière que pour tout incrément de la surface du substrat, la température de la surface à revêtir varie, pour autant qu'elle varie, de moins de 15 'C entre 1 Z 2545818 le moment o cet incrément de surface coihcide pour la première fois avec la zone de contact de la matière à partir de laquelle le revête- ment est formé avec le substrat et le moment-o il colhcide avec cette zone pour la dernière fois. 8 Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que la dite température varie de la sorte de moins de 100 C. 9 Procédé selon l'une des revendications 1 à 8, caractérisé en ce qu'une pluralité de dispositifs de chauffage est dis- posée au travers du parcours du substrat, de sorte que des quantités de chaleur dirigées vers différents incréments de largeur du substrat sont ajustables individuellement. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que le chauffage est règlé de manière que, pour tout incrément de longueur du substrat, la température de la surface à revêtir varie, pour autant qu'elle varie, de moins de 15 'C à travers la largeur du substrat pendant l'opération de revêtement. 11 Dispositif de formation d'un revêtement de composé métallique sur un substrat chaud en matière vitreuse, com- prenant un convoyeur pour déplacer le substrat à revêtir le long d'un parcours à travers un poste de revêtement pourvu de moyens de reve- tement qui traversent le parcours du substrat de façon répétée pour pulvériser de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé de manière que celle-ci se décompose par pyrolyse et forme in situ le revêtement sur le dit substrat, caractérisé en ce qu'il comprend des dispositifs de chauffage radiant disposés du même côté du parcours du substrat que les moyens de revêtement, ces dispositifs étant placés de manière à diriger de l'énergie thermique radiante vers la région transversale balayée par la zone o la matière à partir de laquelle le revêtement est formé atteint le parcours du substrat. 12 Dispositif selon la revendication 11, caracté- risé en ce que les moyens de revêtement sont disposés de manière à pulvériser obliquement de la matière à partir de laquelle le revêtement est formé vers le parcours du substrat et dans une direction suivant ce parcours. 13 Dispositif selon la revendication 12, caracté- risé en ce que les moyens de revêtement sont disposés de manière à 13 2545818 pulvériser obliquement de la matière à partir de laquelle le revête- ment est formé vers le parcours du substrat dans la direction aval de ce parcours. 14 Dispositif selon l'une des revendications 11 à 13, caractérisé en ce que les moyens de chauffage comprennent une pluralité de dispositifs de chauffage disposée le long du parcours du substrat. Dispositif selon l'une des revendications I 1 à 14, caractérisé en ce que les moyens de chauffage sont ajustables en hauteur au-dessus du parcours du substrat. 16 Dispositif selon l'une des revendications Il à , caractérisé en ce que les moyens de chauffage comprennent une pluralité de dispositifs de chauffage ajustables individuellement dispo- sée au travers du parcours du substrat. 17 Matière vitreuse portant un revêtement dépo- sé par un procédé selon l'une des revendications 1 à 10.