FR 2552249 A1 19850322 FR 8413727 A 19840906 La présente invention est relative au traitement d'un ouvrage sous vide localisé et elle concerne plus particulièrement un dispositif pour positionner un ouvrage au voisinage d'une enveloppe de vide localisé de façon à for5 mer un joint à vide sans contact lorsque l'ouvrage est déplacé latéralement en translation par rapport à l'enveloppe de vide. Les systèmes à faisceaux de particules tels que des appareils pour implanter des ions, des systèmes de 10 lithographie à faisceau d'électrons et des systèmes de lithographie à faisceau d'ions, nécessitent le vide dans la région le long du trajet entre la source du faisceau de particules et l'ouvrage à traiter L'ouvrage est introduit dans la chambre à vide soit directement soit à travers un 15 clapet à air De tels systèmes sont très compliqués et coûteux De plus, le temps de pompage pour l'évacuation provoque une diminution de la vitesse globale du traitement, ce qui constitue un facteur de la plus haute importance dans un environnement commercial de traitement des semi20 conducteurs Ces problèmes ont été atténués par le développement d'un traitement sous vide localisé tel que décrit ci-après. Certains traitements par faisceaux de particules nécessitent un déplacement de l'ouvrage pendant le traite25 ment Dans la lithographie par faisceau d'électrons, des motifs micro- miniaturisés d'une très haute précision sont exposés sur un ouvrage Pour obtenir une haute précision, le champ de déviation du faisceau d'électrons est limité à une surface bien plus petite que celle de l'ouvrage. 30 D'une façon caractéristique, un champ de déviation d'un faisceau d'électrons est de quelques millimètres sur un c 8 té, tandis que l'ouvrage, qui est habituellement une pastille de semiconducteur ou une plaque de masquage, peut avoir une dimension de plusieurs centimètres Pour exposer la totalité de l'ouvrage, il est nécessaire de positionner l'ouvrage avec précision par rapport au faisceau d'électrons Jusqu'à présent l'ouvrage a été positionné au moyen d'un système de moteurs d'entrainement, extérieur à la région sous vide; et on a utilisé une tringlerie mécanique pour transmettre le mouvement dans le vide à travers des soufflets ou des joints rotatifs Ces systèmes sont encombrants, compliqués et relativement coûteux. On a décrit dans la demande de brevet des Etats10 Unis N 435 179 du 19 octobre 1982 un appareil pour le traitement sous vide dans une région localisée sur la surface d'un ouvrage L'appareil de traitement sous vide comprend une enveloppe qui délimite une z 8 ne intérieure de traitement sous vide L'extrémité de l'enveloppe est 15 disposée juste au-dessus de la surface de l'ouvrage et est espacée de celui-ci d'un intervalle prédéterminé. L'extrémité de l'enveloppe constitue avec l'ouvrage un joint à vide progressif sans contact entre la zone interne de traitement sous vide et l'environnement L'enveloppe 20 de vide fournit sur la surface de l'ouvrage une z 8 ne de vide qui est petite par comparaison avec la dimension de l'ouvrage. Pour traiter la totalité de la surface de l'ouvrage, celui-ci est monté sur une platine qui est dépla25 gable latéralement par rapport à-l'extrémité de l'enveloppe Pour obtenir un traitement rapide dans des systèmes de lithographie par faisceaux d'électrons, on utilise de façon caractéristique des étages de vitesses comprises entre 1 et 10 cm/sec Pendant ce déplacement, l'intervalle 30 entre l'extrémité de l'enveloppe et l'ouvrage doit être commandé de façon dynamique dans des limites spécifiées. Si l'intervalle devient trop grand,-le vide dans la z 8 ne sous vide est réduit; et le traitement est interrompu jusqu'à ce que soit de nouveau atteint le niveau de vide nécessaire Les colonnes à faisceaux d'électrons utilisées dans les systèmes de lithographie doivent fonctionner dans une plage de vide moyen à poussé D'une fagon caractéristique on ne dispose pas d'unpassage suffisant pour assurer par pompage un vide à conductivité élevée Dans de tels cas l'intervalle doit 8 tre relativement petit Lorsqu'on peut assurer par pompage un vide à conductivité élevée ou qu'une pression plus faible peut être tolérée pour le traitement on peut utiliser un intervalle plus grand. Inversement, l'intervalle ne peut devenir assez petit pour risquer un contact entre l'extrémité de l'enveloppe et l'ouvrage Un ouvrage tel qu'une pastille de semiconducteur est extrêmement fragile et peut être détérioré de façon définitive ou brisée par un tel contact Bien que les pastilles de semiconducteurssoient d'une fagon générale plates et planes, elles sont sujettes à des variations 15 d'épaisseur, à des irrégularités superficielles, et le traitement produit une déformation, tout ceci pouvant provoquer des variations de l'intervalle pendant le déplacement de la pastille dans le sens latéral En outre, le système de platine qui assure le déplacement latéral de 20 la pastille par rapport à l'extrémité de l'enveloppe est sujet à certaines imperfections et tolérances qui peuvent provoquer une variation de l'intervalle lorsque la pastille est déplacée Ces facteurs rendent nécessaire de commander de façon dynamique l'intervalle existant entre l'extrémité 25 de l'enveloppe et l'ouvrage pendant le traitement. On a décrit dans la demande de brevet des Etats-Unis N 435 178 du 19 Octobre 1982, un système à faisceau chargé de particules assurant un déplacement latéral de l'ouvraqe pendant le traitement sous vide localisé On a également décrit dans la demande de 30 brevet des Etats-Unis N 435 177 du 19 octobre 1982 un système de commande pour traitement sous vide localisé. Un composant critique du système de positionnement de l'ouvrage est le dispositif d'actionnement suivant l'axe des z qui positionne mécaniquement l'ouvrage par 35 rapport à l'extrémité de l'enveloppe de vide, en réponse à un signal de commande dérivé d'un appareil de mesure de 4 2552249 l'intervalle Le dispositif d'actionnement doit être extrêmement précis, du fait que l'intervalle entre l'ouvrage et l'enveloppe de vide doit être maintenu dans une valeur prescrite de quelques microns De plus le dispositif d'ac5 tionnement doit agir rapidement afin de maintenir l'intervalle nécessaire pendant les déplacements latéraux à des vitesses pouvant s'élever jusqu'à 10 cm/sec De plus le dispositif d'actionnement doit déplacer l'ouvrage suivant un axe z sans introduire de mouvements de basculement ou l O de rotation, ce qui aurait pour résultat une déformation et un défaut de positionnement des motifs écrits par le faisceau d'électrons. La demande de brevet des Etats Unis précitée no 435 177 décrit l'utilisation de dispositifs pièzoélec15 triques sur l'axe z, tandis que le dispositif décrit assure habituellement un rendement satisfaisant, les dispositifs d'actionnement piézoélectriques nécessitent des tensions de fonctionnement relativement élevées ainsi que des moyens pour amplifier leur déplacement mécanique relativement faible Lorsque le déplacement est amplifié la force du dispositif d'actionnement est réduite de façon correspondante. Un but général de la présente invention est de fournir un dispositif nouveau pour positionner un ouvrage plan. L'invention a écalement Dour but de fournir un dispositif nouveau Dour Dositionner un ouvrage Par rapp D Oort à une elj b dev I& lonbs. L'invention a églement pour but de fournir un dispositif pour maintenir un intervalle prédéterminé entre un ouvrage et une enveloppe de vide localisé pendant le 30 déplacement latéral de l'ouvrage. L'invention a également pour but de fournir un dispositif pour le positionnement d'un ouvrage sur l'axe z, par rapport à une enveloppe de vide localisé sans introduire un déplacement indésirable de 1 'ouvrage latéralement ou en rotation L'invention a également pour but de fournir un dis- positif pour le positionnement hydraulique d'un ouvrage par rapport à une enveloppe de vide localisé. Suivant la présente invention ces buts et avantages sont obtenus dans un dispositif pour positionner un ouvrage suivant l'axe z lorsque l'ouvrage est déplacé latéralement en translation dans un plan x-y Le dispositif comprend une table dans le Plan fomé par le ae x-y Ètée par se d un mode de réalisation préféré de l'invention, le dispositif est utilisé pour positionner une pastille de semiconducteur par rapport à une enveloppe de vide localisé afin de maintenir un intervalle prédéterminé entre l'enveloppe 30 et la pastille. Suivant une autre caractéristique de l'invention, le dispositif comprend en outre des moyens pour empêcher un déplacement latéral et en rotation de la platine par rapport à la table x-y, comprenant un élément plan souple 35 monté parallèle à l'intervalle et relié entre la table x-y et la platine Les organes contenant du fluide peuvent être des soufflets dont chacun est commandé par un cylindre hydraulique avec un soufflet et un piston actionnés par un moteur linéaire pas à pas. D'autres caractéristiques et avantages de l'in5 vention apparaitront au cours de la description qui va suivre faite en se référant aux dessins annexés donnés uniquement à titre d'exemples et dans lesquels: la Fig l est un schéma synoptique d'un système d'exposition à faisceau d'électrons auquel est incorporé 10 un dispositif suivant l'invention; la Fig 2 est une vue en section à plus grande échelle de l'appareil à enveloppe de vide localisé représenté à la Fig l; la Fig 3 est une vue en section du dispositif de 15 positionnement suivant l'invention; la Fig 4 est une vue schématisée de dessus du dispositif représenté à la Fig 3; la Fig 5 montre le contrôleur hydraulique du dispositif de positionnement suivant l'invention. On a représenté sous forme d'un schéma synoptique à la Fig l un appareil à faisceau de particules comportant des moyens de traitement d'un ouvrage sous vide localisé. Un système de lithographie à faisceau d'électrons comprend un appareil 10 à enveloppe de vide localisé, monté sur la sortie d'une colonne 12 à faisceau d'électrons qui comprend une source d'électrons, des moyens optiques de réduction et des moyens optiques de projection et de déviation La colonne 12 comprend également des moyens optiques d'éclairement et mise en forme lorsqu'on utilise un faisceau mis en forme On a décrit dans la demande de brevet des Etats-unis N 354 822 du 4 mars 1982 une colonne 12 à faisceau d'électrons d'un type préféré On peut bien entendu utiliser d'autres colonnes à faisceaux d'électrons appropriées connues dans la technique La sortie de la colonne 35 12 est constituée par un faisceau 14 d'électrons finement focalisé (Fig 2) qui traverse l'enveloppe 10 et frappe un ouvrage tel qu'une pastille 16 de semiconducteur La totalité de la région traversée par le faisceau 14 d'électrons entre la source et la pastille 16 est maintenue sous un vide poussé de l'ordre de 10 Torrs au moyen d'une pompe 5 17 à vide poussé qui est reliée à la colonne 12 Il apparaitra évident aux techniciens que dans un système pratique, les éléments électroniques et optiques sont disposés à l'extérieur de la région sous vide et qu'un tube central traversé par le faisceau d'électrons est maintenu sous un 10 vide poussé L'enveloppe 10 est reliée à une pompe à vide de premier étage et à une pompe à vide 22 de second étage et à la pompe 17 de vide poussé La pastille 16 est supportée et maintenue en position au moyen d'un mandrin 18 à dépression qui est monté sur une platine 24 La pla15 tine 24 est soutenue au-dessus d'une table x y 26 au moyen de dispositifs d'actionnement 28 et comprend des surfaces réfléchissantes 30 auxquelles est relié rigidement le mandrin 18 à dépression pour effectuer une mesure exacte de la position en x et y de la pastille 16 Les 20 pastilles sont disposées sur le mandrin 18 à dépression et retirées de celui-ci par un dispositif automatique de manipulation des pastilles La table 26 x y est déplacée en translation dans le plan défini par ces axes au moyen d'un système 34 d'entrainement x-y La position 25 exacte de la pastille 16 par rapport aux axes x-y est captée par un système 36 d'interférometre à laser qui dirige des signaux optiques sur des surfaces réfl 8 chissantes 30 On comprend que l'axe z 37 coincide dans son ensemble avec le trajet du faisceau 14 d'électrons tandis que 30 les axes x et y forment un plan perpendiculaire à l'axe z 37 et dans lequel la pastille 16 est déplacée Le système complet de lithographie par faisceau d'électrons comprend en outre un contr 8 leur ou un calculateur et un système électronique associé (non représenté à la Fig l) qui com35 mande la colonne 12, le dispositif 34 d'entrainement, le dispositif de vide et le dispositif de manipulation de de pastille, et qui emmagasine des données du motif et fournit des signaux de commande du faisceau. L'extrémité de l'enveloppe 10 et la surface de la pastille 16 sont représentées à plus grande échelle à la 5 Fig 2 L'enveloppe 10 comprend des manchons concentriques a, 40 b et 40 c dont chacun peut avoir une forme conique et comprend une extrémité 42 formée par un positionnement co-planaire des extrémités des manchons 40 a, 40 b, 40 c. L'extrémité 42 est positionnée en cours de traitement légèrement audessus de la pastille 16 Un intervalle G, qui est de façon caractéristique de l'ordre d'environ microns est délimité entre l'extrémité 42 et la surface de la pastille 16 Le manchon 40 a délimite une zone 44 de traitement sous vide poussé En cours de fonctionne15 ment un dispositif de pompage différentiel forme un joint à vide progressif dans la région de l'intervalle entre la zone 44 de vide poussé et l'environnement Une ouverture annulaire 46 qui est concentrique à la zone 44 est délimitée entre les manchons 40 a et,40 b; une ouverture annu20 laire 48 également concentrique à la zone 44 est délimitée entre les manchons 40 b et 40 c L'ouverture annulaire 48 est reliée à la pompe à vide 20 de premier étage qui abaisse la pression autour de la zone 44 à vide poussé à un faible niveau de dépression et produit une première 25 z 8 ne de dépression L'ouverture annulaire 46 est reliée à la pompe à vide 22 de second étage qui abaisse la pression autour de la z 8 ne 44 à un niveau intermédiaire de dépression et forme une seconde zone de dépression La z 8 ne 44 est reliée à la pompe 17 à vide poussé Suivant la pression nécessaire dans un traitement particulier, on peut utiliser plus ou moins d'étages de pompage pour former le joint progressif D'une façon caractéristique, le diametre externe de l'extrémité 42 pour une écriture directe en lithographie par faisceaux d'électrons est d'environ 10 à 15 mm, tandis que le diametre de la zône 44 est d'environ 3 à 5 mm Lorsque l'extrémité de l'enveloppe est disposée au voisinage immédiat de la surface de la pastille 16, un vide poussé est maintenu dans la zone 44. Lorsque la pastille 16 est déplacée au-dessous de l'enveloppe 10, le faisceau 14 d'électrons balaie une région 5 de la surface de la pastille comprise dans la z 8 ne 44 de vide Des informations supplémentaires sur l'enveloppe 10 à vide localisé sont données dans la demande de brevet des Etats-Unis NO 435 179 et dans le dossier N 83-49 de la demanderesse. Le dispositif pour positionner l'ouvrage 16 par rapport à l'enveloppe 10 est représenté de façon plus détaillée aux Fig 3 et 4 Le mandrin 18 à dépression maintient la pastille 16 dans une position fixée par rapport à la platine 24 sur laquelle elle est fixée rigidement. 15 Les mandrins à dépression sont connus d'une façon générale pour maintenir les pastilles de semiconducteurs à plat et rigidement et ils présentent l'avantage qu'un contact physique est réalisé au dos de la pastille o des détériorations sont moins probables Le mandrin 18 doit maintenir 20 la pastille 16 à plat pendant le traitement et ne doit pas permettre de déplacements de cette pastille Un mandrin approprié à dépression comprend une pluralité de petites broches entourées par un anneau qui forme un joint à dépression avec la pastille Les broches sont co-planaires 25 avec la surface supérieure de l'anneau Lorsque le volume en arrière de la pastille est évacué, la pastille est attirée en contact avec les broches et aplatie Un tel mandrin à dépression est décrit par Saunders dans la publication; "Wafer Flatness Utilizing the Pin Recess Chuck", Solid State Tech, mai 1982, p 73, et dans le brevet des EtatsUnis N 4 213 698 La platine 24 est constituée par une plaque de métal comportant des rebords 50 dressés le long de deux bords perpendiculaires Des miroirs 30 de précision sont soit fixés sur les rebords 50 soit de préférence for35 més directement par polissage de ces rebords afin d'être utilisés en conjugaison avec le système 36 d'interféromètre à laser pour capter la position de la platine 24 et de la pastille 16 par rapport aux axes x-y De même un coussinet 52 d'alignement est fixé sur la platine 24 au voisinage du mandrin 18, ce coussinet ayant une surface supérieure qui 5 est co-planaire avec la surface supérieure de la pastille 16 Pendant le montage du système et lorsque les pastilles doivent être remplacées, le coussinet 52 est positionné au-dessous de l'extrémité 42 de l'enveloppe 10 afin de maintenir le vide Le coussinet 52 d'alignement comporte de façon caractéristique des repères de mesure et de réglage du faisceau d'électrons avant l'exposition de la pastille 16 La platine 24 est fixée sur une plaque 54 qui sert de plaque supérieure de liaison pour les organes du dispositif d'actionnement suivant l'axe z comme décrit ciaprès. 15 Une plaque 56 fixée sur la surface supérieure de la table 26 xy sert de plaque de liaison inférieure pour les organes du dispositif d'actionnement suivant l'axe z La table 26 soutient la platine 24 par l'intermédiaire du dispositif d'actionnement suivant l'axe z et est entrainée 20 dans le plan x-y par le dispositif d'entrainement 34 Le déplacement selon les axes x-y doit être plan dans la plus grande mesure possible; ce qui signifie qu'il doit être dépourvu de variations sur l'axe z et dépourvu de vibrations Le dispositif d'entrainement 34 peut être un dispo25 sitif quelconque approprié de positionnement dans le plan x-y, et de haute précision Un dispositif d'entrainement 34 approprié utilise des moteurs linéaires ou des dispositifs de translation, comme décrit dans la demande de brevet des Etats-Unis N 435 178 On se reportera par exemple à la publication de B A Sawyer, "Magnetic Position Device", Re 27 289 et J Dunfield et al,"Sawyer Principal Linear Motor Positions Without Feedback", Power Transmission Design, p 72, Juin 1974 Un autre dispositif d'entrainement approprié 34 utilise des moteurs d'entrainement 35 suivant les axes x et y reliés à la table 26 par une vis d'entrainement comme cela est bien connu dans la technique. l Du fait que la table 26 ne se trouve pas dans le vide, aucun soufflet ou autre interface sous vide n'est nécessaire La position latérale de la platine 24 est captée avec précision par l'interféromètre 36 à laser qui dirige des faisceaux laser sur les miroirs perpendiculaires 30. Les signaux de sortie de l'interféromètre 36 sont appliqués à un contrôleur qui comprend de façon caractéristique un calculateur Le contrôleur contrôle la position de la platine 24 et envoie des signaux de commande au dispositif 10 34 d'entrainement qui positionne en continu la pastille 16 pour l'exposer au faisceau d'électrons L'utilisation des interféromètres à laser pour contrôler la position x-y d'une platine mobile est décrite dans le brevet des EtatsUnis N 4 063 103. Comme représenté aux Fig 3 et 4 une pluralité de dispositifs d'actionnement 28 suivant l'axe z, de façon caractéristique au nombre de trois sont reliés entre la plaque 54 et la plaque 56 Chacun des dispositifs 28 d'actionnement comprend un bloc de support supérieur 60 20 fixé sur la plaque 54 et un bloc inférieur de support 62 fixé sur la plaque 56 avec un soufflet souple 64 relié entre les blocs de support 60 et 62 Les soufflets 64 peuvent comporter seulement quelques plis du fait que le déplacement nécessaire suivant l'axe z est faible et de façon caractéristique de l'ordre de 0,127 mm L'intérieur de chacun des soufflets 64 communique par l'intermédiaire d'un passage 66 ménagé dans le bloc inférieur de support 62 et par un conduit 68 avec un contrôleur hydraulique 70. L'intérieur des soufflets 64, le passage 66 et le conduit 30 68 sont remplis d'un fluide hydraulique relativement incompressible tel que de l'huile Dans le cas d'un faisceau chargé de particules le fluide hydraulique préféré est du perfluoropolyether En réponse aux variations du volume qu'ils contiennent, les soufflets 64 se dilatent et se contractent en forçant la platine 24 à se déplacer en montant et en descendant suivant l'axe z. Le contrôleur hydraulique 70 est représenté à la Fig 5 Chacun des conduits 68 provenant des dispositifs 28 est relié à un cylindre hydraulique 72 Chacun des cylindres 72 comprend un cylindre contenant un fluide, un piston 74 et un soufflet 75 L'utilisation des soufflets diminue le frottement et fournit un système hydraulique étanche dans lequel le risque de fuite du fluide hydraulique est réduit En variante, on peut utiliser un piston classique sans soufflet Le piston 74 dans chacun des cylindres 72 est relié au moyen d'une tige de liaison 76 à un bloc 78 de liaison L'arbre extérieur d'un moteur linéaire 80 pas à pas est également relié au bloc 78, ce moteur étant monté dans un bâti approprié 82 sur la plaque 56 Un signal de commande excite le moteur 80 et astreint 15 le bloc 78 de liaison à se déplacer en entrant ou en sortant Les tiges de liaison 76 sont actionnées en parallèle et provoquent des variations du volume du fluide dans les cylindres 72 qui à leur tour provoquent des variations corespondantes du volume de fluide dans les soufflets 64 20 et déplacent la platine 24 en montant ou en descendant suivant l'axe z Le bloc 78 comporte des colliers de réglage 84 qui permettent un réglage indépendant de la hauteur des dispositifs d'actionnement 28 Ceci permet d'amener initialement la platine 24 en alignement parallèlement 25 avec l'extrémité 42 de l'enveloppe de vide 10 et avec le plan de déplacement x-y Ensuite pendant le fonctionnement du système, les dispositifs 28 sont actionnés en parallèle de façon à maintenir l'alignement parallèle entre l'enveloppe de vide l O et l'ouvrage 16 On comprend que le bloc 30 de liaison 78 peut être actionné par un moyen quelconque approprié tel que par exemple par un moteur rotatif classique et un convertisseur de mouvements rotatif/linéaire ou par un dispositif d'actionnement linéaire d'un autre type De même, le dispositif d'actionnement peut être dis35 posé en un point éloigné si nécessaire. En se référant de nouveau à la Fig 3, le dispo- sitif de positionnement comporte des moyens pour empêcher un déplacement de la platine 24 latéralement ou en rotation par rapport à la table 26 Un montant 86 est fixé rigidement à la plaque 56 et s'étend vers le haut vers la 5 platine 24 Un disque souple 88 qui peut de fagon caractéristique être une feuille mince d'un métal du type ressort est fixé dans le plan x-y entre la plaque 54 et le montant 86 Le montant 86 comporte une gorge circulaire qui correspond avec une bague 90 de retenue pour fixer le disque souple 88 sur le montant D'une façon analogue la plaque 54 comporte une gorge circulaire qui correspond avec une bague de retenue 92 pour fixer le disque souple 88 sur la plaque 54 Le disque 88 permet un faible de degré de déplacement de la platine 24 par rapport à la table 26 suivant l'axe z Cependant un déplacement latéral dans le plan x-y et un déplacement en rotation de la platine 24 par rapport à la table 26 sont empêchés. En se référant aux Fig 3 et 4 le dispositif de positionnement comporte une pluralité d'ensembles élas20 tiques 94 qui sont reliés entre les plaques 54 et 56 afin de charger préalablement le dispositif d'actionnement suivant l'axe z vers le bas en direction de la table 26. On a représenté en coupe à la Fig 3 le détail d'un ensemble élastique 94 Un ressort 100 est disposé à l'état comprimé et prend appui contre un élément 96 en godet et une tige 98 comportant une tête, chargeant ainsi préalablement le dispositif d'actionnement vers le bas en direction de la table 26 Le but des ensembles élastiques 94 est d'excercer une force qui compense la force excercée vers le haut par l'enveloppe de vide sur la pastille 16 et pour charger préalablement le système hydraulique. L'utilisation des plaques 54, 56 pour le montage des dispositifs d'actionnement 28, des ensembles élastiques 94, du montant 86 et du disque souple 88 empêche la trans35 mission des contraintes à la platine 24 Ces contraintes pourraient potentiellement déformer la platine 24 et provo- quer des erreurs dans la mesure de la position de la pastille dans le plan x-y, mesure qui repose sur une liaison rigide entre la pastille 16 et les miroirs 30 Lorsque ces contraintes peuvent être tolérées, les plaques 54, 56 peu5 vent être supprimées et les organes du dispositif d'actionnement suivant l'axe z peuvent être reliés directement à la table 26 et à la platine 24. Pour maintenir la dimension de l'intervalle G dans des limites prescrites, il est nécessaire d'utiliser un capteur d'intervalle et un circuit de commande Le capteur d'intervalle capte la distance entre l'extrémité de l'enveloppe de vide 10 et la pastille 16 et fournit un signal représentatif de la dimension de l'intervalle Le circuit de commande répond au signal d'intervalle et détermine si l'intervalle réel est ou non compris dans les limites prescrites et envoie les signaux nécessaires de commande au moteur linéaire pas à pas 80 pour modifier les dimensions de cet intervalle Dans un mode de réalisation préféré on utilise comme capteur d'intervalle un 20 vacuomètre qui est relié au second étage de l'enveloppe de vide La pression régnant dans le second étage de l'enveloppe de vide 10 est liée directement à la dimension de l'intervalle L'avantage d'utiliser unvacuomètre pour mesurer l'intervalle consiste en ce que ce dernier est 25 mesuré suivant un anneau directement adjacent à la zone de vide 44 qui est le point auquel la mesure de l'intervalle est importante Un vacuomètre approprié est un manomètre capacitif tel que par exemple 222 BHS-A-0 5 %-LO fabriqué par la firme MKS Instruments, Inc On peut égale30 ment utiliser d'autres types de capteurs d'intervalles tels que des capteurs capacitifs d'intervalles Le circuit de commande sous saforme la plus simple utilise un comparateur qui détermine si la sortie du capteur est comprise dans une plage prédéterminée Dans cette plage, la dimen35 sion de l'intervalle est acceptable et aucun actionnement suivant l'axe z n'est nécessaire Si le signal du capteur est hors de la limite prescripte, un signal est transmis au moteur linéaire 80 pour forcer la platine 24 à monter ou à descendre et ramener la dimension de l'intervalle dans les limites prescrites. Le dispositif de positionnement suivant l'invention a été décrit cidessus comme étant utilisé dans un système de traitement sous vide localisé Il apparaitra aux techniciens que le dispositif décrit peut être utilisé dans toute application dans laquelle un ouvrage plan tel 10 qu'une pastille de semiconducteur est déplacée dans un plan x-y et qu'une commande précise de la position suivant l'axe z est nécessaire Des exemples de tels systèmes sont les systèmes optiques et à rayon X du type à pas et à répétition dans lesquels une pastille doit être positionnée 15 avec précision par rapport à un système de projection. REVENDICATIONS 1 Dispositif pour positionner un ouvrage par rapport à une enveloppe de vide localisé, dans un système de traitement sous-vide localisé, de façon à maintenir un intervalle prescrit entre ladite enveloppe de vide et ledit 5 ouvrage lorsque celui-ci est déplacé latéralement en translation par rapport à un axe (z) de ladite enveloppe de vide, dispositif caractérisé en ce qu'il comprend une table ( 26)dans le plan formé par les axes (x-y), adaptée pour se déplacer suivant ces axes (x-y) dans un plan perpendiculaire audit axe (z), 10 un ensemble ( 24) de platine mobile suivant l'axe (z) par rapport à ladite table ( 26) ladite platine comprenant des moyens ( 18) pour maintenir ledit ouvrage dans une position de traitement, un dispositif d'actionnement ( 28) suivant l'axe (z) comprenant une pluralité d'organes dilatables ( 64) contenant un fluide et reliés entre ladite table ( 26) et ladite platine ( 24) et pouvant se dilater et se contracter suivant ledit axe (z) en réponse à des variations du volume de fluide qu'ils contiennent, et des moyens ( 70) pour faire varier le volume de fluide dans chacun desdits organes ( 64) en réponse à un signal de commande du dispositif d'actionnement afin de déplacer ledit ensemble de platine suivant ledit axe (z), et des moyens pour capter l'intervalle (G) entre ledit ouvrage et ladite enveloppe de vide ( 10) et pour fournir ledit signal de 25 commande du dispositif d'actionnement qui maintient la dimension dudit intervalle dans une plage prédéterminée. 2 Dispositif suivant la revendication 1, caractérisé en ce que lesdits organes contenant du fluide sont constitués par des soufflets ( 64) qui sont reliés entre 30 ladite table ( 26) et ladite platine ( 24). 3 Dispositif suivant la revendication 2, caractérisé en ce que ledit dispositif d'actionnement ( 28) suivant l'axe (z) comprend en outre des moyens reliés entre la table ( 26) et la platine ( 24) pour empêcher tout dépla- cement de cette dernière latéralement et en rotation par rapport à ladite table ( 26) 4 Dispositif suivant la revendication 3, caractérisé en ce que lesdits moyens pour empêcher un déplace5 ment latéral et en rotation comprennent un organe plan souple ( 88) fixé dans un plan parallèle à celui dudit intervalle et relié entre ladite table ( 26) et ladite platine ( 24). Dispositif suivant la revendication 4, carac10 térisé en ce que ledit organe souple ( 88) est relié par sa périphérie à ladite platine ( 24). 6 Dispositif suivant la revendication 5, caractérisé en ce qu'il comprend un montant ( 86) relié à une extrémité au centre dudit organe souple ( 88) et par son 15 autre extrémité à ladite table ( 26). 7 Dispositif suivant la revendication 1, caractérisé en ce que le dispositif d'actionnement ( 28) suivant l'axe (z) comprend en outre des moyens pour charger préalablement ledit ensemble de platine ( 24) suivant l'axe 20 (z) dans une direction opposée à la force excercée par ladite enveloppe de vide ( 10). 8 Dispositif suivant la revendication 7, caractérisé en ce que lesdits moyens pour charger préalablement ledit ensemble de platine comprennent une pluralité de moyens élastiques ( 94) agissant pour charger préalablement ledit ensemble de platine ( 24) dans la direction de la table ( 26). 9 Dispositif suivant la revendication 1, caractérisé en ce que lesdits moyens ( 70) pour modifier le volume du fluide dans lesdits organes ( 64) comprennent un dispositif d'actionnement linéaire et des moyens pour convertir le mouvement linéaire dudit dispositif d'actionnement linéaire en des variations de volume dans chacun desdits organes ( 64) contenant du fluide. 10 Dispositif suivant la revendication 9, caractérisé en ce que le dispositif d'actionnement linéaire comprend un moteur linéaire pas à pas ( 80). 11 Dispositif suivant la revendication 9, caractérisé en ce que lesdits moyens pour convertir le déplacement linéaire comprennent un cylindre hydraulique ( 72) relié à chacun desdits organes ( 64) contenant le fluide et un piston ( 74) pour modifier le volume de fluide dans lesdits cylindres. 12 Dispositif suivant la revendication 11, caractérisé en ce que le piston ( 74) est relié au cylindre par 10 un soufflet ( 75). 13 Dispositif suivant la revendication 11, caractérisé en ce que chacun desdits cylindres hydrauliques ( 72) est réglable individuellement pour permettre la mise à niveau et le réglage dudit ensemble de platine ( 24) sui15 vant l'axe (z). 14 Dispositif suivant la revendication 1, caractérisé en ce que ledit ensemble de platine ( 24) comprend une surface polie ( 50) dans le plan (x-y) et une surface polie ( 50) dans le plan (y-z) destinées à être utilisées 20 pour contrôler la position dudit ouvrage suivant les axes (xy). Dispositif suivant la revendication 1, caractérisé en ce que lesdits moyens pour retenir les ouvrages comprennent un mandrin à dépression ( 18). 16 Dispositif suivant la revendication 1, caractérisé en ce que ledit ensemble de platine ( 24) est relié par l'intermédiaire d'une plaque de liaison ( 54) au dispositif d'actionnement ( 28) suivant l'axe (z) pour empêcher l'application de contraintes audit ensemble de platine par 30 le dispositif d'actionnement suivant l'axe (z). 17 Dispositif suivant la revendication 1, caractérisé en ce que ledit ouvrage est une pastille de semiconducteur et ladite enveloppe de vide localisé ( 10) est fixée à un système ( 12) de lithographie par faisceau 35 d'électrons. 18 Dispositif pour positionner un ouvrage plan suivant un axe (z) lorsque ledit ouvrage est déplacé latéralement en translation dans un plan (x-y), caractérisé en ce qu'il comprend une table ( 26) dans le plan formé par les axes (x-y) adaptée pour se déplacer suivant lesdits axes dans un plan perpendiculaire audit axe (z), un ensemble de platine ( 24) mobile suivant l'axe (z) par rapport à ladite table ( 26), ledit ensemble de platine comprenant des moyens ( 18) pour retenir ledit ouvrage dans une position de traitement, un dispositif d'actionnement ( 28) suivant l'axe (z) comprenant une pluralité d'organes ( 64) dilatables contenant un fluide reliés entre ladite table ( 26) et ledit ensemble de platine et se dilatant et se contractant suivant ledit axe (z) en réponse à des variations du volume du fluide 15 qu'ils contiennent, et des moyens ( 70) pour faire varier le volume de fluide dans chacun desdits organes ( 64) en réponse à un signal de commande du dispositif d'actionnement afin de déplacer ledit ensemble de platine suivant ledit axe (z), et des moyens pour capter la position dudit ouvrage sur l'axe (z) et pour fournir ledit signal de commande du dispositif d'actionnement qui maintient la position dudit ouvrage sur l'axe (z) dans une plage prédéterminée.