FR 2483240 A1 19811204 FR 8012217 A 19800602 La présente invention concerne un dispositif de recentrage et de retenue latérale d'une chaussure sur un ski de fond ou de randonnée. On connait déjà des chaussures de ski de fond ou de randonnée qui sont conçues avec des moyens de recentrage et de retenue latérale du talon permettant un déroulement du pied qui reste autant que possible dans l'axe longitudinal du ski et qui assure ainsi un meilleur guidage du ski lui-même. Dans certaines chaussures de ce genre le talon présente, sur sa face inférieure, une rainure longitudinale à section droite en V, dans laquelle vient se loger, lorsque le talon repose à plat sur le ski, un profil en V complémentaire en relief fixé sur le ski. Un tel dispositif de recentrage et de retenue latérale du talon présente l'inconvénient que le centrage de la chaussure sur le ski ne s'effectue que dans la phase finale du déroulement du pied lorsque celui-ci se repose sur le ski. Ce genre de centrage qui n'a lieu que dans les dix derniers millimètres de-la course, n'empêche pas lesdéroule- mentsdu pied eventuellement décentrés et décalés, dans des terrains particulièrement accidentés, et il peut arriver que le centrage recherché ne puisse avoir lieu du fait des déformations importantes, en torsion notamment,de la semelle dont la rainure en V du talon ne peut, de ce fait, venir coiffer le profil en relief correspondant sur le ski. Au mieux le skieur est amené à rechercher lui-même un centrage de son talon sur le V du ski. Pour essayer de remédier à cet inconvénient on a prévu, à l'entrée de la rainure en V du talon, deux chanfreins disposés- de chaque côté et se raccordant à la surface inférieure du talon. Ces chanfreins permettent un meilleur guidage et un recentrage plus efficace en fin de course. Toutefois la prévision d'une rainure en V sous le talon,même munie de chanfreins latéraux additionnels, ne donne pas toute satisfaction parce qu'il arrive régulièrement que la neige vienne se loger et se tasser dans la rainure en V du talon, en obstruant cette rainure, ce qui entraîne alors l'annulation de l'effet du dispositif de recentrage. Le skieur est alors obligé de gratter la rainure en V de son talon pour avoir à nouveau un recentrage efficace. Par ailleurs, lorsque les chanfreins latéraux sont prévus de part et d'autre de la rainure en V du talon, ces chanfreins réduisent d'une manière très sensible la surface portante du talon si bien que,lors de la marche,le talon ne porte sur le sol que par l'intermédiaire de deux petites zones latérales de faible largeur. Ces zones d'appui latérale très réduites entraînent une mauvaise assise du talon etne pernetcentpasla pose de patins anti-dérapants. En outre elles ont tendance à s'user très rapidement du fait que le poids du skieur est réparti sur deux petites zones au lieu de l'être sur la totalité de la surface du talon. La présente invention vise essentiellement à remédier à ces inconvénients grâce à la prévision de moyens particulièrement simples sur la chaussure et sur le ski lesquels permettent un recentrage efficace de la chaussure en fin de course de déroulement du pied, touten assurant un excellent appui du talon sur le sol lors de la marche. A cet effet ce dispositif de recentrage et de retenue latérale d'une chaussure sur un ski de fond ou de randonnée, cette chaussure étant reliée au ski, à l'avant, par des moyens de liaison permettant la levée du talon de la chaussure à partir de la surface supérieure du ski, ce dispositif comportant des organes de formes complémentaires prévus respectivement sur la semelle de la chaussure et sur le ski et s'engageant l'un dans l'autre lorsque la chaussure repose à plat sur le ski, est caractérisé en ce que l'organe solidaire de la semelle fait saillie .dans le sens transversal vers ie bas, par rapport au reste de la semelle dans la zone d'appui de la voûte plantaire et l'autre organe qui présente une partie en creux destinée à recevoir l'organe en saillie solidaire de la semelle, est fixé au ski à une distance des moyens de liaison avant correspondant à la position de l'organe en saillie sous la semelle. Suivant une caractéristique complémentaire de l'invention l'organe en saillie solidaire de la semelle est réalisé sous la forme d'un profil s'étendant longitudinalement sur toute la longueur correspondant à la zone d'appui de la voûte plantaire ou bien seulement sur une partie de cette longueur. Le dispositif suivant l'invention offre l'avantage qu'il permet au skieur de marcher dans des conditions optimales étant donné que la totalité de la surface du talon est utilisée pour l'appui au sol. Par ailleurs il permet d'assurer un recentrage important même dans le cas où la chaussure se trouve déviée latéralement sur une grande distance par rapport au plan longitudinal de symétrie, en fin de course de déroulement du pied. L'organe fixé au ski peut en effet s'étendre latéralement sur toute la largeur du ski et même un peu au-delà, en débordant latéralement par rapport aux chants du ski. En outre, si on donne à l'organe en saillie solidaire de la semelle une section droite effilée par exemple une section droite en V, cet organe agit comme une lame de scie en s'engageant dans une rainure de forme similaire prévue dans l'organe fixé au ski, ce qui entraîne automatiquement l'évacuation de la neige hors de cette rainure. L'organe en saillie solidaire de la semelle peut être soit rapporté sur cette semelle soit encore, ce qui est préférable, venir de moulage avec le reste de la semelle lorsque cette dernière est réalisée ,, avgntageusemellte en matière plastique. set organe en saillie peut e-trejctispose aans le prolongement d'une rainure longitudinale prévue dans la partie avant de la semelle qui correspond à la zone d'appui plantaire, cette rainure contribuant au maintien latéral de la semelle dans cette zone pendant la phase du déroulement du pied. Une telle disposition fait l'objet de la demande de brevet français NO 78 35488 déposée par la demanderesse le 11 Décembre 1978. La combinaison d'un profil en creux disposé au niveau de la zone des métatarses suivi d'un profil en saillie situé dans la zone de la voûte plantaire cons tinie trie semelle de cha'ssu pan:ièmrient avaitageuse et perfectiontie. G.. décrira ci-après, à titre d'exemples non limitatifs, diverses formes d'exécution ae la présente invention en référence au dessin annexé sur lequel La figure 1 est une vue en PersPectiVe d'un dispositif de - ou recentrage et de retenue latérale d'une chaussure sur un ski de tond/de randonnée suivant l'invention,la chaussure étant liée au ski à l'avant et etant représentée au cours de la phase du déroulement du pied, c'est à-dire du retour de la chaussure à plat sur le ski. La figure 2 est une vue en coupe verticale et longitudinale dans le plan de symétrie du dispositif de retenue. La figure 3 est une vue de dessous de la semelle de la chaussure de ski. Les figures 4, 5, 6, 7 sont des vues en coupe transversale faites respectivement suivant les lignes IV-IV, V-V, VI-VI et VII-VII de la figure 3. Les figures 8 et 9 sont des vues en coupe transversale illustrant des variantes d'exécution du dispositif de centrage et de retenue suivant l'invention. Le dispositif suivant l'invention qui est représenté sur le dessin est destiné à assurer le recentrage et la retenue latérale d'une chaussure 1 sur un ski de fond ou de randonnée 2. Cette chaussure 1 est reliée,à l'avant, au ski 2 par un dispositif de fixation 3 de tout type connu, lequel permet la levée du talon 4 de la chaussure. Le dispositif suivant l'invention est destiné à assurer le recentrage et la retenue latérale de la chaussure 1 à la fin du déroulement du pied, c'est-à-dire lorsque la chaussure 1 vient reposer à plat sur le ski 2 à la fin du mouvement de déroulement suivant la flèche f de la figure 1. Ce dispositif comporte essentiellement deux organes de formes complémentaires à savoir-un premier organe 5 solidaire de la semelle 6 de la chaussure 1 et un second organe 7 fixé au ski 2. L'organe 5 fait saillie sous la semelle 6 dans la zone d'appui de la votte plan- taire indiquée par A sur les figures 2 et 3. Cette zone A est située entre une zone antérieure B de la semelle 6 ou zone d'appui plantaire et une zone d'appui postérieure C correspondant au talon 4. L'organe 5 solidaire de la semelle 6 est avantageusement réalisé sous la forme d'un profil à section en V , lequel s'étend longitudinalement. Ce profil constitue donc une sorte de dièdre dont l'arête inférieure 5a se trouve écartée du ski 2 d'une distance d (figure 2) lorsque la chaussure repose à plat sur le ski. L'organe 5 solidaire de la semelle 6 peut être soit rapporté sur le reste de la semelle 6 soit au contraire venir de moulage avec le reste de cette semelle si cette dernière est réalisée en matière plastique. I1 peut s'étendre sur la totalité de la longueur de la zone d'appui de la votive plantaire A, comme il est représenté sur les figures 2 et 3 , ou bien seulement sur une partie de cette zone. Le second organe 7 du dispositif de recentrage et de retenue latérale de la chaussure est constitué par une pièce fixée au ski, laquelle est avantageusement réalisée en matière plastique moulée. Cet organe 7 présente une partie centrale en creux 8 constituée par une rainure s'étendant longitudinalement et débouchant dans les deux faces frontales gauche et droite de l'organe 7. Cette rainure 8 qui est ouverte vers le haut, peut avoir par exemple une section droite enV. Par ailleurs l'organe 7 présente de part et d'autre de la rainure 8, des faces convergente s supérieures/9 et 10 qui sont inclinées légèrement par rapport à l'horizontala de haut en bas et de l'extérieur vers l'intérieur.Ces faces supérieures inclinées 9 et 10 constituent des rampes dé guidage sur lesquelles vient prendre appui le profil en saillie 5 solidaire de la semelle 6 si, lors de la phase finale du déroulement du pied, la chaussure n'est pas correctement centrée. Ces rampes 9 et 10 assurent alors, du fait de leur pente, un guidage du profil en saillie 5 et par conséquent de la chaussure vers la rainure centrale 8 dans laquelle s'engage finalement le profil en saillie 5. A partir de ce moment ce profil ainsi que le reste de la chaussure sont maintenus dans une position correctement centrée. On voit d'apres la description qui précéde que de la surface inférieure 4a du talon 4 est disponible pour l'appui de la chaussure pendant la marche. Cette surface 4a assure donc une bonne stabilité et une pression correctement répartie sur le sol. Par ailleurs, lors de la pratique du ski, la neige pouvant s'introduire dans la rainure centrale 8 de l'organe fixe 7 est automatiquement évacuée de cette rainure sous l'action du profil 5 lorsque ce dernier s'engage dans la rainure, ce profil agissant à la manière d'une lame de scie. La neige peut s'évacuer très librement de part et d'autre de l'organe 7, du fait que la rainure 8 débouche dans ses deux faces frontales. L'organe 7 est fixé sur le ski 2 à une distance de la fixation 3 correspondant à la position du profil en saillie 5 sous la semelle 6, de manière à pouvoir recevoir correctement ce profil en fin de course de déroulement. La position de l'organe fixe 7 dépend naturellement de celle de l'organe en saillie 5 et de la taille de la chaussure. Elle peut être ajustée très aisément en fonction de ces conditions. Les figures 8 et 9 illustrent des variantes d'exécution du dispositif de recentrage suivant l'invention. Dans la variante représentée sur la figure 8 l'organe ll fixé au ski 2 présente une rainure centrale 12 délimitée par deux faces verticales et longitudinales reliées entre elles par un fond courbe.Dans cette rainure 12 s'engage un organe 13 en saillie, solidaire de la semelle 6, cet organe 13 présentant deux faces latérales verticales se rejoignant à leurs extrémités inférieures par l'interméverticales diaire d'un dièdre à arête tournée vers le bas. Les faces latérales/lla de l'organe 11 sont situées dans les plans des chants 2a du ski 2. Au contraire, dans la variante d'exécution représentée sur la figure 9, l'organe 14 fixé au ski 2 présente des faces laterales 14a qui débordent latéralement par rapport aux chants 2a du ski. Plus particulièrement ces faces latérales 14a sont inclinées de bas en haut et de l'intérieur vers l'extérieur. De ce fait les arêtes latérales supérieures 14b de l'organe 14 sont situées dans des plans verticaux qui sont décalés vers l'extérieur par rapport aux plans des chants 2a.On peut ainsi augmenter l'importance du recentrage sans difficulté, c'est-à-dire que le dispositif suivant l'invention permet de ramener en position centrale correcte une chaussure même si elle se trouve très fortement déviée latéralement par rapport au plan longitudinal de symétrie. Le dispositif de recentrage et de retenue latérale suivant l'invention peut être utilisé conjointement avec des moyens permettant de maintenir latéralement la partie antérieure de la semelle 6, c'est-àdire celle qui correspond à la zone d'appui plantaire B. Ces moyens ont été décrits dans la demande de brevet français NO 78 35488 déposée par la demanderesse le 11 Décembre 1978. Ces moyens comprennent essentiellement une rainure longitudinale 15 présentant une section droite en forme de V, s'ouvrant dans la face inférieure de la semelle et qui coopère avec un profil en relief 16, de forme sensiblement complémentaire, lequel est fixé longitudinalement sur le ski dans cette zone.Dans ce cas le profil en saillie 5 prévu suivant l'invention,dans la zone d'appui de la voûte plantaire A, se trouve aligné longitudinalement avec la rainure 15 de la zone d'appui plantaire B. En utilisant en combinaison la retenue latérale dans la zone d'appui plantaire B pendant la phase initiale du déroulement du pied et le recentrage et la retenue latérale dans la zone d'appui de la voûte plantaire A à la fin de cette phase de déroulement,on obtient une retenue globale de la chaussure permettant de pratiquer le ski de fond ou de randonnée dans les meilleures conditions possibles. On ne sortirait pas du cadre de l'invention si,comme cela a été décrit dans la demande de brevet français NO 78 35488,les moyens disposés sous l'avant du pied étaient constitués de plusieurs profils parallèles ou non ou encore constitués par des éléments successifs ne formant pas un profil continu. I1 est à noter que, comme l'organe en saillie 5 est constitué par un profil s'étendant longitudinalement, la position de l'organe fixe 7 peut être identique pour un certain nombre de pointures différentes, ce qui est particulièrement avantageux. REVENDICATIONS 1. Dispositif de recentrage et de retenue latérale d'une chaussure sur un ski de fond ou de randonnée, cette chaussure étant reliée au ski, à l'avant, par des moyens de liaison permettant la levée du talon de la chaussure à partir de la surface supérieure du ski, ce dispo sitif comportant des organe s de formes complémentaires prévus res pectivement sur la semelle de la chaussure et sur le ski et s'enga geant l'un dans l'autre lorsque la chaussure repose à plat sur le ski, caractérisé en ce que l'organe (5) solidaire de la semelle (6) fait saillie vers le bas, par rapport au reste de la semelle dans le sens transversal, dans la zone d'appui de la voûte plantaire et l'autre organe (7) qui présente une partie en creux (8) destinée à recevoir l'organe (5) en saillie solidaire de la semelle (6), est fixé au ski à une distance des moyens de liaison avant (3) corres pondant à la position de l'organe (5) en saillie sous la semelle. 2. Dispositif suivant la revendication 1, caractérisé en ce que l'or gane (5) en saillie solidaire de la semelle (6) est réalisé sous la forme d'un profil s'étendant longitudinalement sur toute la lon gueur correspondant à la zone (A) d'appui de la voûte plantaire. 3. Dispositif suivant la revendication 1, caractérisé en ce que l'or gane (5) en saillie solidaire de la semelle (6) est réalisé sous la forme d'un profil s'étendant longitudinalement sur une partie de le longueur de la zone (A) d'appui de la voûte plantaire. 4. Dispositif suivant l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que l'organe (5) solidaire de la semelle (6) est rapporté sur cette dernière. 5. Dispositif suivant l'une quelconque des revendications 1 à 3, carac térisé en ce que l'organe (5) solidaire de la semelle vient de mou lage avec le reste de la semelle lorsque cette dernière est réali sée en matière plastique. 6. Dispositif suivant l'une quelconque des revendications 1 à 5, carac térisé en ce que l'organe (7) fixé au ski présente dans sa partie supérieure une rainure (8) ouverte vers le haut et débouchant dans ses deux faces frontales. 7. Dispositif suivant la revendication 6, caractérisé en ce que la rainure (8) présente une section droite en forme de V et l'organe (5) est réalisé sous la forme d'un profil également à section droite en V. 8. Dispositif suivant la revendication 6, caractérisé en ce que l'or gane (11) fixé au ski présente une rainure longitudinale (12) déli mitée par deux faces verticales et longitudinales et l'organe (13) en saillie , solidaire de la semelle ( 6), présente deux faces latérales verticales se rejoignant à leurs extrémités inférieures par l'intermédiaire d'un dièdre à arête tournée vers le bas. 9. Dispositif suivant l'une quelconque des revendications 6 à 8, carac térisée en ce que l'organe (7) fixé au ski présente, de part et d'autre de la rainure (8, 12),des faces supérieures (9, 10) qui sont inclinées légèrement par rapport à l'horizontale de haut en bas et de l'extérieur vers l'intérieur, ces faces supérieures inclinées (9 et 10) constituant des rampes de guidage sur lesquelles vient prendre appui le profil en saillie (5) solidaire de la semelle (6) si, lors de la phase finale du déroulement du pied, la chaussure n'est pas correctement centrée. 10. Dispositif suivant l'une quelconque des revendications 6 à 9, carac térisé en ce que l'organe (11) fixé au ski (2) comporte des faces latérales verticales (île) qui sont situées dans lesplansdes chants (2a) du ski (2). 11. Dispositif suivant l'une quelconque des revendications 6 à 9, carac térisé en ce que l'organe (14) fixé au ski (2) présente des faces latérales (14a) qui débordent latéralement par rapport aux chants (2a) du ski, en étant inclinées de bas en haut et de l'intérieur vers ltextérieur si bien que les arêtes latérales supérieures (14b) de l'organe (14) sont situées dans des plans verticaux qui sont décalés vers l'extérieur par rapport ausplans des chants (2a). 12. Dispositif suivant l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il comprend aussi des moyens (15, 16) de rete nue latérale s'étendant dans la zone située sous l'avant-pied, une partie de ces moyens (15, 16) appartenant à la semelle de la chaus sure, sous cette dernière et l'autre partie desdits moyens étant étant disposée sur la surface supérieure du ski, ces deux parties comportant des profils de formes complémentaires. 13. Dispositif suivant la revenidcation 12, caractérisé par le fait qu'une partie (15) des moyens de retenue latérale est constituée par un profil en creux tandis que l'autre partie est un profil en saillie (16), ces deux profils étant sensiblement complémentaires. 14. Semelle de chaussure de ski de fond destinée à être utilisée dans le dispositif selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisée en ce qu'elle comprend dans la zone située sous l'avant pied au moins un profil en creux (15) s'étendant longitudinalement et dans la zone de la voûte plantaire un profil longitudinal en saillie (5).