FR 2487862 A1 19820205 FR 8112666 A 19810626 L'invention concerne un bain de dorure par galvanoplastie pour la formation d'un revêtement d'or avec mélange de métaux courants, qui convienneparticu- lièrement pour la dorure industrielle des petits éléments dans l'électrotechnique. On peut régler la composition du revêtement, au moyen du pH du bain, dans des limites assez larges, depuis un revêtement pratiquement pur jusqu'à des valeurs qui dépassent 50% des masses des métaux communs, la composition du bain étant pour le reste la même. La teneur en métal commun dans les revtments augmente avec ltélévation du pH. La composition des alliages du revêtement est donnée par toute une série de facteurs. C'est généralement la teneur en métaux courants du bain et la densité du courant qui ont l'influence la plus importante sur la composition du revêtement dans les bains utilisés. La composition du revêtement est assez difficile à régler au moyen de la densité du courant pour des raisons pratiques, en particulier si le revêtement métallique s'effectue industriellement dans un tambour où la densité du courant varie sensiblement.Pour cette raison, les bains normalement utilisés pour les revête- ments avec des alliages ne conviennent habituellement pas pour le revêtement en masse, La concentration des différents composants du bain, telle que la concentration de l'or, des métaux courants et des matières formant des complexes ne peut habituellement pas être modifiée dans de larges limites. Les inconvénients que l'on vient de mentionner sont supprimés en utilisant de bain de dorure galvanique suivant l'invention, qui consiste essentiellement en ce que le bain contient de 0,1 à 30 g/l d'or sous la forme d'un sel en solution, i à 50 g/l d'un métal du groupe zinc, nickel, cobalt, sous la forme d'un sel en solution et qui se dépose électrolytiquement en commun avec l'or, 10 à 500 g/l d'un dérivé de l'acide acétique répondant a la formule générale ou d'un de ses sels, R1, R2 et R3 représentant des hydrogènes chlores, bromes ou NH2, 10 à 500 g/l du mélange de l'acide faible et de son sel. Le bain de dorure galvanique est caractérisé en ce que le mélange d'acide faible et de son sel est constitué par de l'acide citrique et ses sels. Il peut être aussi caractérisé en ce que le mélange d'acide faible et de ses sels est formé de dérivés de l'acide acétique répondant à la formule et de leurs sels. La composition du revêtement d'alliage formé est déterminée surto;tpar la valeur du pH qui est facilement maintenue dans un milieu fortement tamponné. L'influence de la densité du courant sur la composition. du revêtement est par suite relativement faible et le bain convient par suite pour la dorure industrielle dans un tambour. La composition du revêtement est aussi influencée par la composition du bain, mais toutefois cette influence est faible comparativement à celle du pH dans une composition choisie de façon appropriée. Il est en conséquence possible, en modifiant le pH, la composition du bain restant cependant la même, d'obtenir un revêtement pratiquement en or pur qui peut toutefois varier jusqu'à un revêtement qui contienne plus de 50 en poids de métal courant. Par une préparation appropriée de la composition du bain, on peut même obtenir des revêtements avec une concentration encore plus forte en métal courant. Les exemples donnés ci-après sont toutefois choisis en tenant compte de la réalisation d'une bonne résistance à la corrosion du revêtement, qui est limitée, suivant les utilisations envisagées, à une teneur maximum en métal commun de 30 à 40% en poids. Les propriétés du bain ressortiront des exemples suivants Exemple 1 Aurocyanure de potassium 12 g Acide citrique 25 g Acide trichloracétique 15 g Sulfate de nickel cristallisé 10 g Eau, Q.S. pour 1000 ml On ajuste la valeur du pH de ce bain, graduellement, au moyen d'hydroxyde de potassium, aux chiffres suivants :- 4; 5,3; 6,7; 7,5, 8,7; 9,4. Avec une densité de courant de 0,5 A/dm2, le revêtement déposé à partir de ce bain présentait la composition suivante Valeur du pH du 4 5,3 6,7 7,5 8,7 9,4 bain % de Ni en poids 0 2,8 12,7 17,2 31,6 40,5 dans le revête- ment. Exemple 2 : L'effet de la con'centration du métal commun dans le bain sur la composition du revêtement a été examiné avec un bain ayant la composition suivante Aurocyanure de potassium 12 g Acide citrique 10 g Acide trichloracétique 15 g Pyrophosphate trisodique 15 g Eau, Q.S. pour 1000 ml pH = 6,5 On a modifié la teneur en nickel par addition de sulfate de nickel cristallisé de 4 à 17 g/l. Les revêtements qui se sont formés avec une densité de courant de 0,5 A/dms à 50 C sont indiqués comme suit g/l de Ni 4 8 12 17 dans le bain % de Ni dans la 3,6 8 9,8 10,5 masse déposée ~ ~~ ose'e Exemple 3 :On a examiné l'effet de la densité du courant sur la composition du revêtement dans des bains ayant la composition suivante Aurocyanure de potassium 12 g Acide citrique 25 g Acide aminoacétique 20 g Sulfate de zinc cristallisé 20 g Eau, Q.S. pour 1000 ml La valeur du pH du bain a été réglée au moyen d'hydroxyde de de potassium à la valeur de 8,5, la température du bain étant de 500C. Le revêtement qui s'est formé avait la composition suivante 1/A/dm 0,3 0,5 0,7 1 1,2 % de Zn dans la 37 35 32 30 28 masse du revêtement Les exemples donnés indiquent que c'est le pH du bain qui a la plus grande influence sur la composition du revêtement, pendant que la concentration du métal courant a une influence relativement faible. La composition au revêtement est aussi relativement peu influencée par la densité du courant1 ce qui fait que le bain convient bien pour la dorure industrielle dans un tambour. REVENDICATIONS 10) Bain pour la dorure galvanoplastique, en particulier pour la dorure industrielle des contacts électriques, destiné à former un.revêtement d'or en mélange avec des métaux courants, caractérisé en ce qu'il contient 0,1 à 30 g/I d!or sous la forme d'une solution d'un sel, 1 à 50 g/l d'un métal du groupe zinc, nickel, cobalt, sous la forme de sels en solution, qui se déposent en commun avec l'or, 10 à 500 g/l d'un dérivé de l'acide acétique répondant à la formule générale ou d'un de ses sels, R1, R2 et R3 étant un hydrogène, un chlore un brome, ou NH2, et/ou 10 à 500 g/;L d'un mélange d'un acide faible et d'un de ses sels. 20) Bain de dorure galvanoplastique suivant la revendication 1, caractérisé en ce que le mélange d'acide faible et de ses sels est constitué par de l'acide citrique et ses sels. 30) Bain de dorure galvanoplastique suivant la revendication 1, caractérisé en ce que le mélange d'acide faible et de ses sels est constitué par des dérivés de l'acide acétique répondant à la formule et leurs sels.